JP5926696B2 - Method for producing porous film - Google Patents

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Description

本発明は、多孔フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a manufacturing method of porous fill-time.

疎水性ポリマーを原料とした多孔フィルムについては、細胞培養基材や、創傷被覆材、癒着防止膜、止血剤等の様々な用途が検討されている。こうした検討は、多孔フィルムの微細構造が、細胞の培養効率の向上や、生体との接着等の作用をもつことに着目したものである。このような用途においては、多孔フィルムの孔が多数形成されているフィルム面(以下、多孔面と称する)と生体から採取した細胞とを接触させたり、多孔面を体内や体外に接触させることが想定されている。   Various uses such as cell culture substrates, wound dressings, adhesion-preventing membranes, and hemostatic agents have been studied for porous films made from hydrophobic polymers. These studies focus on the fact that the fine structure of the porous film has effects such as improvement of cell culture efficiency and adhesion to living bodies. In such an application, a film surface (hereinafter referred to as a porous surface) on which a large number of pores of the porous film are formed may be brought into contact with cells collected from a living body, or the porous surface may be brought into contact with the inside or outside of the body. Assumed.

癒着防止膜としての多孔フィルムは、例えば特許文献1のハニカム構造を有する生分解性フィルムとして開示されている。また、例えば特許文献2は、乳酸とカプロラクトンとの共重合体から構成される多孔性の癒着防止剤を提案している。   A porous film as an adhesion preventing film is disclosed as a biodegradable film having a honeycomb structure of Patent Document 1, for example. For example, Patent Document 2 proposes a porous anti-adhesive agent composed of a copolymer of lactic acid and caprolactone.

国際公開第2004/089434号International Publication No. 2004/088944 特開2000−197693号公報JP 2000-197693 A

しかしながら、多孔フィルムを細胞培養基材として用いた場合に、細胞の培養効率が低下する場合がある。また、多孔フィルムを生体内外に接着した場合に、接着した部位に炎症が起こる場合がある。   However, when a porous film is used as a cell culture substrate, cell culture efficiency may decrease. In addition, when the porous film is adhered inside or outside the living body, inflammation may occur at the adhered site.

そこで本発明は、細胞の培養効率を低下させず、生体の接着部位での炎症を抑制する多孔フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention does not reduce the culture efficiency of the cell, and an object thereof is to provide a manufacturing method of inhibiting inflammation porous fill beam in the adhesive part of the living body.

本発明の多孔フィルムの製造方法は、疎水性ポリマーが溶媒に溶けている溶液を流延して流延膜を形成する流延膜形成工程と、複数の孔が一方のフィルム面に形成された多孔フィルムを流延膜から形成するフィルム形成工程と、疎水性ポリマーと流延膜と多孔フィルムとの少なくともいずれか一方から500以下の分子量をもつ低分子物質を除去して多孔フィルムにおける低分子物質の含有率を5質量%以下に抑える除去工程とを有することを特徴として構成されている。   In the method for producing a porous film of the present invention, a casting film forming step of casting a solution in which a hydrophobic polymer is dissolved in a solvent to form a casting film, and a plurality of holes are formed on one film surface. A film forming process for forming a porous film from a cast film, and a low molecular weight material in the porous film by removing a low molecular weight material having a molecular weight of 500 or less from at least one of a hydrophobic polymer, a cast film, and a porous film. And a removal step of suppressing the content of the slag to 5% by mass or less.

除去工程では、多孔フィルムを、水とアルコールとの少なくともいずれか一方に浸漬する工程であることが好ましい。   The removing step is preferably a step of immersing the porous film in at least one of water and alcohol.

多孔フィルムは、複数の孔が一方のフィルム面に沿って並んで形成され、フィルム面を垂直方向から見たときにハニカム構造とされており、フィルム形成工程は、流延膜上に結露させて水滴を形成する工程と、流延膜から溶剤と水滴とを蒸発させることにより多孔フィルムとする蒸発工程とを有することが好ましい。   The porous film is formed with a plurality of holes arranged side by side along one film surface, and has a honeycomb structure when the film surface is viewed from the vertical direction. It is preferable to have a step of forming water droplets, and an evaporation step of forming a porous film by evaporating the solvent and water droplets from the cast film.

本発明の多孔フィルムの製造方法によると、細胞の培養効率を低下させず、生体の接着部位での炎症が抑制される多孔フィルムを製造することができる。 According to the manufacturing method of the present onset Ming porous film, without reducing the culture efficiency of the cell, it is possible to produce a porous film having inflammation in the adhesive part of the living body is suppressed.

多孔フィルムの平面図である。It is a top view of a porous film. 図1のII−II線の沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the II-II line of FIG. 図1のIII−III線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the III-III line of FIG. 多孔フィルムの製造工程である。It is a manufacturing process of a porous film. GPCによる低分子物質の含有率の求め方の説明図である。It is explanatory drawing of how to obtain | require the content rate of the low molecular weight substance by GPC. 多孔フィルムの製造工程である。It is a manufacturing process of a porous film. 多孔フィルムの平面図である。It is a top view of a porous film. 図4のV−V線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VV line of FIG. 多孔フィルムの製造工程である。It is a manufacturing process of a porous film. 得られた多孔フィルムの顕微鏡写真である。It is a microscope picture of the obtained porous film. 実施例で製造した多孔フィルムの分子量分布のグラフである。It is a graph of the molecular weight distribution of the porous film manufactured in the Example. 得られた多孔フィルムの顕微鏡写真である。It is a microscope picture of the obtained porous film. 比較例で製造した多孔フィルムの分子量分布のグラフである。It is a graph of the molecular weight distribution of the porous film manufactured by the comparative example.

多孔フィルム(以下、フィルムと称する)10は、図1〜図3に示すように、複数の孔11が一方のフィルム面10aに沿って並んで形成されており、フィルム面10aの垂直方向からフィルム10を見たときにハニカム構造となっている。ハニカム構造とは、フィルム面10aからフィルム10をみたときの孔11の開口の形状が厳密に6角形である必要はなく、図1に示すような、円形でもよい。また、フィルム面10aの単位面積当たりにおける孔の密度や隣り合う孔同士の距離等に応じて孔11の開口の形状は例えば丸みを帯びた略6角形や略8角形等になる場合もあり、ハニカム構造とはこのような態様も含む。
As shown in FIGS. 1 to 3, the porous film (hereinafter referred to as a film) 10 has a plurality of holes 11 arranged side by side along one film surface 10 a, and the film is viewed from the direction perpendicular to the film surface 10 a. When 10 is seen, it has a honeycomb structure. With the honeycomb structure, the shape of the opening of the hole 11 when the film 10 is viewed from the film surface 10a does not have to be strictly a hexagon, and may be a circle as shown in FIG. In addition, the shape of the opening of the hole 11 may be, for example, a rounded substantially hexagonal shape or a substantially octagonal shape depending on the density of the holes per unit area of the film surface 10a or the distance between adjacent holes. The honeycomb structure includes such an embodiment.

図2及び図3に示すフィルム10では、各孔11が一方のフィルム面10aに窪みとして形成され、厚み方向に貫通していない。しかし、本発明はこの態様に限られない。例えば、各孔11が一方のフィルム面10aから他方のフィルム面10bへの厚み方向に貫通して形成されていてもよい。   In the film 10 shown in FIG.2 and FIG.3, each hole 11 is formed as a hollow in one film surface 10a, and does not penetrate in the thickness direction. However, the present invention is not limited to this aspect. For example, each hole 11 may be formed penetrating in the thickness direction from one film surface 10a to the other film surface 10b.

図2及び図3に示すフィルム10では、隣り合う孔11と孔11との間には隔壁13があり、各孔11は独立している。しかし、後述のような結露法により水滴が流延膜中に形成された際の大きさや密度等によっては、隔壁13がなく、フィルム内部に、フィルム面に沿う連通路が形成されている場合もある。   In the film 10 shown in FIG.2 and FIG.3, the partition 13 exists between the adjacent hole 11 and the hole 11, and each hole 11 is independent. However, depending on the size, density, and the like when water droplets are formed in the casting film by the dew condensation method as described below, there is no partition wall 13 and a communication path along the film surface may be formed inside the film. is there.

以上のような一方のフィルム面10aに沿って複数の孔11が形成されている構造により、フィルム10は、細胞や、生体の所定の部位に接着する。この接着作用は、孔11に細胞や生体の水を毛管力によって保持することによる。   With the structure in which a plurality of holes 11 are formed along one film surface 10a as described above, the film 10 adheres to a predetermined part of a cell or a living body. This adhesive action is due to the retention of cells and biological water in the holes 11 by capillary force.

孔11の径Dは、100nm以上20μm以下の範囲であることが好ましい。これにより、細胞や生体への接着がより確実になる。したがって、接着すべき所定の部位にフィルム10がより確実にとどまり、また、培養すべき細胞がフィルム10から剥がれることなく生存して増殖する。径Dは300nm以上10μm以下の範囲であることが接着力の観点では望ましい。更に望ましくは500nm以上5μm以下の範囲である。フィルム10が生分解性のポリマーから成るときには、接着すべき所定の部位にフィルム10は、一定の期間、より確実にとどまる。   The diameter D of the hole 11 is preferably in the range of 100 nm to 20 μm. Thereby, adhesion to a cell or a living body becomes more reliable. Therefore, the film 10 stays more reliably at a predetermined site to be adhered, and the cells to be cultured survive and proliferate without being detached from the film 10. The diameter D is preferably in the range of 300 nm to 10 μm from the viewpoint of adhesive strength. More desirably, it is in the range of 500 nm to 5 μm. When the film 10 is made of a biodegradable polymer, the film 10 stays more securely at a predetermined site to be bonded for a certain period of time.

フィルム10の厚みT10は、概ね0.5μm以上30μm以下の範囲である。また、孔11の深さL10は、概ね0.3μm以上20μm以下の範囲である。   The thickness T10 of the film 10 is generally in the range of 0.5 μm to 30 μm. Further, the depth L10 of the hole 11 is generally in the range of 0.3 μm to 20 μm.

フィルム10は、疎水性ポリマーから構成される。疎水性ポリマーとしては、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリグリコール酸、ポリジオキサノン、ポリヒドロキシブチレート、ポリブタジエン、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、およびこれらを含む共重合体等が好ましい。   The film 10 is composed of a hydrophobic polymer. As the hydrophobic polymer, polylactic acid, polycaprolactone, polyglycolic acid, polydioxanone, polyhydroxybutyrate, polybutadiene, polyurethane, polystyrene, polymethyl methacrylate, and a copolymer containing these are preferable.

多くのポリマーは、分子量分布をもち、生成する際に重合しなかったモノマーや、重合度が大きくならなかったオリゴマーを含む。また、生成する反応の際に用いた他の成分や、不純物が混在している場合もある。フィルム10は、分子量が0より大きく500以下という低分子量の物質(以下、低分子物質と称する)の含有率が大きくとも5質量%に抑えられている。すなわち、フィルム10においては、フィルム10の質量をX(g)、低分子物質の質量をY(g)とするときに、(Y/X)×100で求める値が5以下である。これにより、フィルム10が生体に接着しても、接着した生体の所定の部位(以下、接着部位と称する)の炎症が抑えられる。また、細胞を培養する基材としてフィルム10を用いる場合においても、細胞の培養が阻害されずに培養効率が低下しない。   Many polymers include monomers that have a molecular weight distribution and that were not polymerized when produced, and oligomers that did not have a high degree of polymerization. In addition, other components used in the reaction to be generated and impurities may be mixed. The film 10 has a content of a low molecular weight substance (hereinafter referred to as a low molecular weight substance) having a molecular weight of more than 0 and 500 or less, and is suppressed to 5% by mass at most. That is, in the film 10, when the mass of the film 10 is X (g) and the mass of the low molecular weight substance is Y (g), the value obtained by (Y / X) × 100 is 5 or less. Thereby, even if the film 10 adhere | attaches on a biological body, the inflammation of the predetermined site | part (henceforth an adhesion site | part) of the adhere | attached biological body is suppressed. Further, even when the film 10 is used as a base material for culturing cells, the cell culture is not inhibited and the culture efficiency does not decrease.

生体は水を含んでおり、細胞とフィルムとを接触させたり、生体内外にフィルムを貼ると、フィルムは水に接触することになる。また、孔11が形成されておらず両フィルム面が平坦ないわゆるフラットフィルムに比べて、孔が多数形成されている多孔フィルムは比表面積が極めて大きい。このため、従来の多孔フィルムは、細胞や生体内外に接触すると、水に溶けやすい低分子物質がフラットフィルムよりも溶け出しやすく、溶け出した低分子物質は生体から異物と認識される。この結果、培養すべき細胞に対し毒性を示して細胞の増殖が抑制されたり、接着部位では炎症が起こったりする。これに対して、フィルム10は、低分子物質の含有率が所定値以下に小さく抑えられている。このため、細胞は効率が下がることなく培養されたり、より効率的に増殖したり、生体の接着部位で炎症が起きなかったり、炎症が起きたとしても極めて軽度に抑えられる。   A living body contains water, and when a cell and a film are brought into contact with each other or when a film is stuck inside or outside the living body, the film comes into contact with water. In addition, a porous film having a large number of holes has a very large specific surface area compared to a so-called flat film in which the holes 11 are not formed and both film surfaces are flat. For this reason, when a conventional porous film is brought into contact with cells or inside or outside a living body, a low molecular substance that is easily dissolved in water is more easily dissolved than a flat film, and the dissolved low molecular substance is recognized as a foreign substance from the living body. As a result, it shows toxicity to the cells to be cultured and suppresses cell growth, or inflammation occurs at the adhesion site. On the other hand, in the film 10, the content rate of the low molecular substance is suppressed to a predetermined value or less. For this reason, the cells can be cultured without decreasing efficiency, proliferate more efficiently, do not cause inflammation at the adhesion site of the living body, or can be suppressed very mildly even if inflammation occurs.

なお、多孔フィルムを生体に接着して用いた場合における接着部位での炎症の程度と、同じ多孔フィルムを細胞培養に用いた場合における細胞の培養効率の低下の度合いとは互いに関連性がみられる。例えば、接着部位で発生する炎症が軽度な多孔フィルムは、細胞の培養効率が低下しにくい。また、接着部位で炎症が認められない多孔フィルムは、細胞の培養効率が維持もしくは向上する傾向がある。したがって、多孔フィルムの評価にあたっては、接着部位での炎症の発生の有無及び発生した炎症の程度を評価すれば、その多孔フィルムを細胞培養基材として用いた場合の培養効率がわかる。また、多孔フィルムを細胞培養基材として用いた場合の培養効率を評価すれば、同じ多孔フィルムを生体に接着した際の炎症の発生の有無や発生する炎症の程度がわかる。   It should be noted that the degree of inflammation at the adhesion site when the porous film is adhered to a living body and the degree of decrease in cell culture efficiency when the same porous film is used for cell culture are mutually related. . For example, a porous film with mild inflammation occurring at an adhesion site is unlikely to reduce cell culture efficiency. In addition, a porous film in which inflammation is not observed at the adhesion site tends to maintain or improve cell culture efficiency. Therefore, in evaluating the porous film, if the presence or absence of inflammation at the adhesion site and the degree of inflammation generated are evaluated, the culture efficiency when the porous film is used as a cell culture substrate can be determined. Moreover, if the culture efficiency when a porous film is used as a cell culture substrate is evaluated, the presence or absence of inflammation when the same porous film is adhered to a living body and the degree of inflammation occurring can be understood.

細胞の培養効率の低下抑制や向上、接着部位における炎症抑制という効果は、孔11の径Dが100nm以上20μm以下の範囲である場合に特に顕著である。   The effects of suppressing and improving cell culture efficiency and suppressing inflammation at the adhesion site are particularly remarkable when the diameter D of the hole 11 is in the range of 100 nm to 20 μm.

細胞の培養効率の低下抑制や向上、接着部位における炎症抑制の効果は、疎水性ポリマーが生分解性を有するものである場合に特に顕著である。疎水性ポリマーの中でも生分解性ポリマーであるものとしては、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリグリコール酸、ポリジオキサノン、ポリヒドロキシブチレートおよびこれらを含む共重合体等が好ましい。なお、生分解性ポリマーは、微生物により分解される性質としての生分解性のみならず、微生物とは無関係な加水分解性や生体吸収性等の性質をもつのが通例である。本発明においては、生分解性ポリマーは、微生物が関与する生分解性を利用するために用いるものではなく、生分解性以外の分解性(例えば加水分解性)や、水への溶解性、水への吸収されやすさ等の性質を利用するために用いる。   The effects of suppressing and improving the cell culture efficiency and suppressing inflammation at the adhesion site are particularly remarkable when the hydrophobic polymer is biodegradable. Among the hydrophobic polymers, those that are biodegradable polymers are preferably polylactic acid, polycaprolactone, polyglycolic acid, polydioxanone, polyhydroxybutyrate, and copolymers containing these. In addition, the biodegradable polymer generally has not only biodegradability as a property that is degraded by microorganisms but also properties such as hydrolyzability and bioabsorbability that are unrelated to microorganisms. In the present invention, the biodegradable polymer is not used for utilizing biodegradability involving microorganisms, but is degradable (for example, hydrolyzable) other than biodegradable, soluble in water, Used to take advantage of properties such as ease of absorption.

また、フィルム10には、両親媒性化合物を含ませてもよい。両親媒性化合物としてはリン脂質が好ましい。   The film 10 may contain an amphiphilic compound. As the amphiphilic compound, a phospholipid is preferable.

フィルム10の製造方法は、例えば以下の通りである。図4に示すように、フィルム10を製造する第1の実施態様としてのフィルム製造工程20は、第1除去工程21と、溶液調製工程22と、流延膜形成工程23と、フィルム形成工程24と、第2除去工程25とを有する。   The manufacturing method of the film 10 is as follows, for example. As shown in FIG. 4, a film manufacturing process 20 as a first embodiment for manufacturing the film 10 includes a first removal process 21, a solution preparation process 22, a cast film forming process 23, and a film forming process 24. And a second removal step 25.

第1除去工程21は、フィルム10を形成する疎水性ポリマー27から低分子物質を除去する疎水性ポリマーの精製工程である。疎水性ポリマー27から低分子物質を除去する方法は、ポリマーの公知の精製方法のいずれを用いてもよく、好ましくは再沈法である。精製すべき疎水性ポリマーは文字通り疎水性を有し、細胞の培養を阻害したり接着部位における炎症の原因とされる低分子物質の多くは前述の通り水に溶け出すものだからである。   The first removal step 21 is a purification step of a hydrophobic polymer that removes low-molecular substances from the hydrophobic polymer 27 that forms the film 10. As a method for removing the low molecular weight substance from the hydrophobic polymer 27, any of known purification methods for polymers may be used, and a reprecipitation method is preferable. This is because the hydrophobic polymer to be purified is literally hydrophobic, and many of the low-molecular substances that inhibit cell culture and cause inflammation at the adhesion site dissolve in water as described above.

再沈法は、周知の通り、ポリマーを再沈殿により精製する方法である。疎水性ポリマー27を、溶媒に溶解し、この溶液に沈殿剤を加えて再び沈殿を生成させる。この溶解と沈殿生成とを繰り返し行ってもよい。沈殿剤としては、水、アルコール等を用いるとよい。この再沈法により、疎水性ポリマー27から低分子物質が除去される。第1除去工程21により、原料である疎水性ポリマー27から低分子物質を除去することにより、この疎水性ポリマー27から得られるフィルム10は、低分子物質の含有率が低いものとなる。   As is well known, the reprecipitation method is a method of purifying a polymer by reprecipitation. The hydrophobic polymer 27 is dissolved in a solvent, and a precipitant is added to this solution to form a precipitate again. This dissolution and precipitation generation may be repeated. As the precipitating agent, water, alcohol or the like may be used. By this reprecipitation method, the low-molecular substance is removed from the hydrophobic polymer 27. By removing the low molecular substance from the hydrophobic polymer 27 that is the raw material in the first removal step 21, the film 10 obtained from the hydrophobic polymer 27 has a low content of the low molecular substance.

溶液調製工程22は、フィルム10を形成するための溶液29を調製する工程である。この実施態様では、第1除去工程21により低分子物質を除去された疎水性ポリマー27を、溶媒28に溶解して溶液29とする。   The solution preparation step 22 is a step of preparing a solution 29 for forming the film 10. In this embodiment, the hydrophobic polymer 27 from which the low molecular weight material has been removed by the first removal step 21 is dissolved in the solvent 28 to obtain a solution 29.

流延膜形成工程23は、溶液29を支持体の上に流下して広げ、流延膜34を形成する工程である。支持体は、予め温度を調整しておき、流延膜34を形成する間も温度を調整していることが好ましい。   The cast film forming step 23 is a step of forming the cast film 34 by spreading and spreading the solution 29 on the support. It is preferable that the temperature of the support is adjusted in advance, and the temperature is also adjusted while the casting film 34 is formed.

フィルム形成工程24は、水滴形成工程32と、蒸発工程33とを有する。水滴形成工程32は、流延膜34の膜面に結露させて水滴を形成する工程である。水滴は、流延膜34の周辺の雰囲気の温度よりも低い温度となるように支持体を冷却することで形成される。ただし、複数の水滴の発生のタイミングを揃えたり、形成される水滴の大きさを均一に揃える観点では、支持体が所定の温度に保持されるように支持体の温度を調整しつつ、加湿した気体(例えば空気)を流延膜34上に供給することが好ましい。   The film forming process 24 includes a water droplet forming process 32 and an evaporation process 33. The water droplet forming step 32 is a step of forming water droplets by condensation on the film surface of the casting film 34. The water droplets are formed by cooling the support so that the temperature is lower than the temperature of the atmosphere around the casting film 34. However, from the viewpoint of aligning the timing of the generation of a plurality of water droplets or uniforming the size of the formed water droplets, the humidification was performed while adjusting the temperature of the support so that the support was maintained at a predetermined temperature. A gas (for example, air) is preferably supplied onto the casting membrane 34.

蒸発工程33は、溶媒28と水滴形成工程32で形成した水滴とを蒸発させる工程である。孔11は、水滴が型となって形成されるものであるので、水滴が流延膜34中に沈むように溶媒28を水滴よりも早く蒸発させる。そのためには、水よりも蒸発速度が大きい溶媒28を用いることが好ましい。ただし、水滴が蒸発し始めるタイミングは、溶媒28のすべてが蒸発し終わった後でなくてもよい。また、形成された孔11が維持される程度であれば、水滴の蒸発が完了した後に多少の溶媒28が流延膜34に残っていてもよく、残存している溶媒28は水滴の蒸発が完了した後に蒸発してもよい。このように、フィルム形成工程24は、多孔フィルムの製造方法として周知である結露法の工程である。   The evaporation step 33 is a step of evaporating the solvent 28 and the water droplets formed in the water droplet formation step 32. Since the holes 11 are formed by forming a water droplet as a mold, the solvent 28 is evaporated earlier than the water droplet so that the water droplet sinks into the casting film 34. For this purpose, it is preferable to use a solvent 28 having a higher evaporation rate than water. However, the timing at which the water droplets start to evaporate may not be after all the solvent 28 has been evaporated. Moreover, as long as the formed holes 11 are maintained, some solvent 28 may remain in the casting film 34 after the evaporation of the water droplets is completed, and the remaining solvent 28 does not evaporate the water droplets. It may evaporate after completion. Thus, the film formation process 24 is a process of a dew condensation method that is well known as a method for producing a porous film.

蒸発工程33を終えて得られたフィルム10は、第2除去工程25に供される。第2除去工程25は、フィルム10から低分子物質を除去するフィルム10の精製工程である。フィルム10から低分子物質を除去する方法としては、フィルム10を親水性の液に浸漬する方法が好ましい。フィルム10は疎水性ポリマー27から成り、細胞の培養を阻害したり接着部位における炎症の原因とされる低分子物質の多くは前述の通り水に溶け出すものだからである。親水性の液としては、水、アルコールが好ましい。水、アルコールの単物質を用いることのみならず、水とアルコールとの混合物や、複数種類のアルコールの混合物であってもよい。   The film 10 obtained after finishing the evaporation step 33 is subjected to the second removal step 25. The second removal step 25 is a purification step of the film 10 that removes low molecular substances from the film 10. As a method for removing the low molecular weight substance from the film 10, a method of immersing the film 10 in a hydrophilic liquid is preferable. This is because the film 10 is composed of the hydrophobic polymer 27, and many of the low-molecular substances that inhibit cell culture and cause inflammation at the adhesion site dissolve in water as described above. As the hydrophilic liquid, water and alcohol are preferable. Not only a single substance of water and alcohol but also a mixture of water and alcohol or a mixture of plural kinds of alcohols may be used.

浸漬を終えた後のフィルム10は、風を当てる等により乾燥する。   The film 10 after dipping is dried by applying wind or the like.

第2除去工程25により、第1除去工程21で除去されない低分子物質が除去され、フィルム10における低分子物質の含有率は5質量%以下になる。ただし、低分子物質の含有率が5質量%以下にならない場合や、含有率をさらに低くする場合には、第2除去工程25を繰り返し実施したり、第1除去工程21を繰り返し実施してもよい。   The second removal step 25 removes the low molecular weight material that is not removed in the first removal step 21, and the content of the low molecular weight material in the film 10 is 5% by mass or less. However, when the content of the low molecular weight substance does not become 5% by mass or less, or when the content is further reduced, the second removal step 25 may be repeated or the first removal step 21 may be repeated. Good.

第1の実施形態では、第1除去工程21と第2除去工程25との両方を実施して低分子物質を除去しているが、いずれか一方のみでも得られたフィルム10における低分子物質の含有率が5質量%になることがあり、この場合にはいずれか一方のみでよい。   In the first embodiment, both the first removal step 21 and the second removal step 25 are performed to remove the low molecular weight material, but the low molecular weight material in the film 10 obtained by only one of them is removed. The content may be 5% by mass, and in this case, only one of them may be used.

フィルム10における低分子物質の含有率は、例えばGPC(Gel permeation Chromatography、ゲル浸透クロマトグラフィ)で求められる。具体的には以下のように求められる。得られるフィルム10について、市販のGPCを用いて分子量分布を求めてグラフ化すると例えば図5のような曲線が得られる。図5において、縦軸はスペクトルの強度であり、横軸は分子量である。なお、この図5において横軸は対数表示としてある。曲線と横軸とで囲まれるエリアAについて面積SAを求める。なお、図5においてエリアAには、斜線でのハッチングを付してある。また、分子量が0以上500以下の範囲の曲線と横軸とで囲まれるエリアBについて面積SBを求める。図5においてエリアBには、点でのハッチングを付してある。低分子物質の含有率(質量%)は、(SB/SA)×100で求められる。   The content rate of the low molecular substance in the film 10 is calculated | required by GPC (Gel permeation Chromatography, gel permeation chromatography), for example. Specifically, it is calculated as follows. When the obtained film 10 is graphed by obtaining the molecular weight distribution using commercially available GPC, a curve as shown in FIG. 5 is obtained, for example. In FIG. 5, the vertical axis represents the spectrum intensity, and the horizontal axis represents the molecular weight. In FIG. 5, the horizontal axis is a logarithmic display. The area SA is obtained for the area A surrounded by the curve and the horizontal axis. In FIG. 5, the area A is hatched with diagonal lines. Further, an area SB is obtained for an area B surrounded by a curve having a molecular weight in the range of 0 to 500 and the horizontal axis. In FIG. 5, the area B is hatched with dots. The content (mass%) of the low molecular weight substance is determined by (SB / SA) × 100.

また、フィルム10は、上記の方法により低分子物質の含有率が予め5質量%以下にされても、使用されるまでの間の処理によって、低分子物質の含有率が高まり5質量%を超えることが想定される。そのような処理においては、低分子物質の含有率が5質量%以下に保持されるように条件設定を行うことが好ましい。   Moreover, even if the content rate of a low molecular substance is previously made into 5 mass% or less by the said method, the content rate of a low molecular substance increases and exceeds 10 mass% by the process until it uses it. It is assumed that In such a treatment, it is preferable to set conditions so that the content of the low-molecular substance is maintained at 5% by mass or less.

低分子物質の含有率が高まる可能性がある処理としては、電子線滅菌がある。電子線滅菌は、フィルム10に電子線を照射することによりフィルム10を滅菌する処理である。電子線滅菌は、有機物に対してダメージを与えるものであるので、疎水性ポリマーが有機物である場合には、電子線照射により疎水性ポリマーの分子鎖が切断されて分子量が500以下の低分子物質が生成してしまう可能性がある。そこで、電子線滅菌においては、電子線の線量を従来設定していた値よりも低い値とすることが好ましい。これにより、低分子物質の新たな生成が抑制され、フィルム10における低分子物質の含有率が5質量%以下に維持される。   An example of treatment that may increase the content of low-molecular substances is electron beam sterilization. Electron beam sterilization is a process of sterilizing the film 10 by irradiating the film 10 with an electron beam. Since electron beam sterilization damages organic matter, when the hydrophobic polymer is organic matter, the molecular chain of the hydrophobic polymer is cleaved by electron beam irradiation and the molecular weight is 500 or less. May be generated. Therefore, in the electron beam sterilization, it is preferable to set the electron beam dose to a value lower than a conventionally set value. Thereby, the new production | generation of a low molecular substance is suppressed and the content rate of the low molecular substance in the film 10 is maintained at 5 mass% or less.

また、フィルム10は、使用中においてもその条件によっては、使用の初期の間に加水分解がすすみすぎて低分子物質が生成してしまう可能性がある。そこで、使用の初期の段階における加水分解での分解速度を低減するために、フィルム10を配した環境の温度を、従来よりも低い温度に設定したり、フィルム10を配したエリアを密閉して水分の過度な供給を遮ったり水分を除去することが好ましい。これにより、フィルム10における低分子物質の含有率が5質量%以下に維持される。   In addition, depending on the conditions, the film 10 may be hydrolyzed during the initial stage of use, and a low-molecular substance may be generated. Therefore, in order to reduce the hydrolysis rate in the initial stage of use, the temperature of the environment where the film 10 is arranged is set to a lower temperature than before, or the area where the film 10 is arranged is sealed. It is preferable to block excessive supply of moisture or remove moisture. Thereby, the content rate of the low molecular substance in the film 10 is maintained at 5 mass% or less.

このように、フィルム10における低分子物質の含有率を5質量%以下に保持した状態で使用に供し、使用の初期段階における低分子物質の生成を抑えることが好ましい。すなわち、フィルム10は、製造した後に、低分子物質の新たな生成を抑えることが好ましい。   As described above, it is preferable to use the film 10 in a state where the content of the low molecular substance in the film 10 is maintained at 5% by mass or less to suppress the generation of the low molecular substance in the initial stage of use. That is, after the film 10 is manufactured, it is preferable to suppress new generation of low-molecular substances.

上記の第1の実施態様では、フィルム形成工程24を終えた、すなわち、蒸発工程33を終えて得られたフィルム10を第2除去工程25に供している。しかし、フィルム10の製造方法は、上記の態様に限られない。例えば、フィルム10は、図6のフィルム製造工程40によっても製造される。フィルム10を製造する第2の実施態様としてのフィルム製造工程40は、第1除去工程21と、溶液調製工程22と、流延膜形成工程23と、フィルム形成工程41とを有する。なお、図6のフィルム製造工程40において、図4のフィルム製造工程20で実施する工程と共通の工程については図4と同じ符号を付し、説明を略す。   In said 1st embodiment, the film 10 obtained by finishing the film formation process 24, ie, finishing the evaporation process 33, is used for the 2nd removal process 25. FIG. However, the manufacturing method of the film 10 is not restricted to said aspect. For example, the film 10 is manufactured also by the film manufacturing process 40 of FIG. A film manufacturing process 40 as a second embodiment for manufacturing the film 10 includes a first removal process 21, a solution preparation process 22, a cast film forming process 23, and a film forming process 41. In addition, in the film manufacturing process 40 of FIG. 6, the same code | symbol as FIG. 4 is attached | subjected about the process common in the film manufacturing process 20 of FIG. 4, and description is abbreviate | omitted.

フィルム形成工程41は、水滴形成工程32と、蒸発工程42とを有する。フィルム形成工程41もフィルム形成工程24と同様に、多孔フィルムの製造方法として周知である結露法の工程を含む。すなわち、蒸発工程42は、溶媒28と水滴形成工程32で形成した水滴とを蒸発させる工程を含む。蒸発工程42は、さらに第3除去工程44を含む。   The film forming process 41 includes a water droplet forming process 32 and an evaporation process 42. Similarly to the film forming step 24, the film forming step 41 includes a step of a condensation method that is well known as a method for producing a porous film. That is, the evaporation step 42 includes a step of evaporating the solvent 28 and the water droplets formed in the water droplet formation step 32. The evaporation step 42 further includes a third removal step 44.

第3除去工程44は、流延膜34から低分子物質を除去する流延膜34の精製工程である。流延膜34から低分子物質を除去する方法としては、流延膜34を親水性の液に浸漬する方法が好ましい。第3除去工程44は、水滴が蒸発し終わって孔11が形成された流延膜34に対して行い、この第3除去工程44に供する流延膜34には、液に浸漬されても形成された孔11が維持される程度であれば、溶媒28が多少残っていても構わない。液への浸漬を終えた流延膜34は、風を当てる等により乾燥する。なお、この第3除去工程44での乾燥により、浸漬した液とともに溶媒28が蒸発する場合には、溶媒28を蒸発させるための乾燥を別途行う必要はない。この第3除去工程44での乾燥により、溶媒28が蒸発しない場合には、第3除去工程44を終えた後に、溶媒28を蒸発させる乾燥を行う。乾燥した流延膜34は支持体から剥がし、フィルム10が得られる。   The third removal step 44 is a purification step of the casting film 34 that removes low-molecular substances from the casting film 34. As a method for removing low molecular weight substances from the casting film 34, a method of immersing the casting film 34 in a hydrophilic liquid is preferable. The third removal step 44 is performed on the casting film 34 in which the water droplets have been evaporated and the holes 11 are formed, and the casting film 34 used for the third removal step 44 is formed even when immersed in a liquid. As long as the formed holes 11 are maintained, some solvent 28 may remain. The cast film 34 that has been immersed in the liquid is dried by applying air or the like. In addition, when the solvent 28 evaporates with the immersed liquid by drying in the third removal step 44, it is not necessary to separately perform drying for evaporating the solvent 28. If the solvent 28 does not evaporate due to the drying in the third removal step 44, the solvent 28 is evaporated after the third removal step 44 is finished. The dried casting film 34 is peeled off from the support, and the film 10 is obtained.

低分子物質をより確実に効率よく除去する観点では、第1の実施態様のように、支持体から剥がしたフィルム10を液に浸漬することが好ましい。ただし、フィルム10の厚みや空隙率等によっては、支持体から剥がしたフィルム10は取り扱いにくい場合がある。このような場合には、第2の実施態様のように、支持体から剥がさずに、支持体とともに流延膜34を液に浸漬するとよい。   From the viewpoint of removing low-molecular substances more reliably and efficiently, it is preferable to immerse the film 10 peeled off from the support in the liquid as in the first embodiment. However, depending on the thickness and porosity of the film 10, the film 10 peeled off from the support may be difficult to handle. In such a case, as in the second embodiment, the casting film 34 may be immersed in the liquid together with the support without being peeled off from the support.

第2の実施態様では、第1除去工程21と第3除去工程44との両方を実施して低分子物質を除去しているが、いずれか一方のみでも得られたフィルム10における低分子物質の含有率が5質量%になることがあり、この場合にはいずれか一方のみでよい。   In the second embodiment, both the first removal step 21 and the third removal step 44 are performed to remove the low molecular weight substance, but the low molecular weight substance in the film 10 obtained by only one of them is removed. The content may be 5% by mass, and in this case, only one of them may be used.

なお、低分子物質の含有率をさらに低くする場合には、フィルム形成工程41の後に、第2除去工程25を行うとよい。   In addition, when making the content rate of a low molecular substance still lower, it is good to perform the 2nd removal process 25 after the film formation process 41. FIG.

フィルム10は、一方のフィルム面10aに沿って規則的に孔11が形成されているハニカム構造を有するが、本発明はこの態様に限られない。例えば、図7及び図8に示すフィルム50のように、一方のフィルム面50aに沿って複数の孔51a〜51hが形成されているが、その配列に規則性が無いものも本発明は含む。また、一方のフィルム面50aに形成されている孔51a〜51fのうち、孔51cのように他方のフィルム面50bに貫通するものと、孔51a,51b,51d,51e,51fのように貫通しないものとがあってもよい。また、いずれのフィルム面50a,50bにも開口していない空隙52a,52bが、フィルム50の内部に形成されていてもよい。さらにまた、孔51aと空隙52aや孔(図示せず)との間に隔壁が無く、孔51aと空隙52aや孔(図示せず)とが互いに連なって形成されていてもよい。以上のように、本発明は、孔の配列のみならず、孔の形状や大きさも不規則であり、また、いずれのフィルム面にも開口していない空隙があるフィルムも含む。   Although the film 10 has a honeycomb structure in which holes 11 are regularly formed along one film surface 10a, the present invention is not limited to this aspect. For example, like the film 50 shown in FIG.7 and FIG.8, although several hole 51a-51h is formed along one film surface 50a, this invention also includes what does not have regularity in the arrangement | sequence. Of the holes 51a to 51f formed in one film surface 50a, the one that penetrates the other film surface 50b like the hole 51c does not penetrate like the holes 51a, 51b, 51d, 51e, 51f. There may be things. In addition, voids 52 a and 52 b that are not open on any of the film surfaces 50 a and 50 b may be formed inside the film 50. Furthermore, there may be no partition between the hole 51a and the gap 52a or the hole (not shown), and the hole 51a and the gap 52a or the hole (not shown) may be formed continuously with each other. As described above, the present invention includes not only the arrangement of the holes but also the film having irregularities in the shape and size of the holes and having voids that are not open on any film surface.

フィルム50の厚みT50、孔51a〜51hの径Dの範囲は、フィルム10における厚みT10、径Dと同じである。   The range of the thickness T50 of the film 50 and the diameter D of the holes 51a to 51h is the same as the thickness T10 and the diameter D of the film 10.

フィルム50における低分子物質の含有率や、フィルム50を構成する材料等についてはフィルム10と同様であるので説明を略す。   Since the content rate of the low molecular substance in the film 50, the material which comprises the film 50, etc. are the same as that of the film 10, description is abbreviate | omitted.

フィルム50の製造方法は以下の通りである。図9に示すように、フィルム50を製造するフィルム製造工程60は、第1除去工程21と、溶液調製工程22と、フィルム形成工程63と、第2除去工程25とを有する。なお、図9のフィルム製造工程60において、図4のフィルム製造工程20で実施する工程と共通の工程については図4と同じ符号を付し、説明を略す。   The manufacturing method of the film 50 is as follows. As shown in FIG. 9, the film manufacturing process 60 for manufacturing the film 50 includes a first removal process 21, a solution preparation process 22, a film formation process 63, and a second removal process 25. In addition, in the film manufacturing process 60 of FIG. 9, the same code | symbol as FIG. 4 is attached | subjected about the process common in the film manufacturing process 20 of FIG. 4, and description is abbreviate | omitted.

溶液調製工程22は、この実施態様では、親水性ポリマー67と第1除去工程21により低分子物質を除去された疎水性ポリマー27とを、溶媒68に溶解して溶液69とする。   In this embodiment, the solution preparation step 22 is a solution 69 in which the hydrophilic polymer 67 and the hydrophobic polymer 27 from which the low molecular weight material has been removed by the first removal step 21 are dissolved in the solvent 68.

親水性ポリマー67としては、ポリエチレングリコール(PEG)やポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレンオキシド(PEO)やそれらと疎水性ポリマー(ポリ乳酸等)の共重合体等が好ましい。溶媒68としては、疎水性ポリマー27と親水性ポリマー67との両方が溶けるものとする。単一物質では疎水性ポリマー27と親水性ポリマー67との両方が溶けない場合には、混合物としてもよい。   The hydrophilic polymer 67 is preferably polyethylene glycol (PEG), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene oxide (PEO), a copolymer of these with a hydrophobic polymer (polylactic acid or the like), or the like. As the solvent 68, both the hydrophobic polymer 27 and the hydrophilic polymer 67 are soluble. When both the hydrophobic polymer 27 and the hydrophilic polymer 67 are not soluble in a single substance, a mixture may be used.

流延膜形成工程23では、溶液69を支持体の上に流下して広げ、流延膜74を形成する。   In the cast film forming step 23, the solution 69 is flowed down and spread on the support to form the cast film 74.

フィルム形成工程63は、乾燥工程72と、溶解工程73とを有する。乾燥工程72は、流延膜74を乾燥する工程である。乾燥は、気体を流延膜74に吹き付ける等により行われる。疎水性ポリマー27及び親水性ポリマー67が溶融しない程度の温度であれば、気体を加熱して高温とし、この高温風を流延膜74に吹き付けてもよい。   The film forming process 63 includes a drying process 72 and a dissolving process 73. The drying process 72 is a process of drying the casting film 74. Drying is performed by blowing gas on the casting film 74 or the like. If the temperature is such that the hydrophobic polymer 27 and the hydrophilic polymer 67 do not melt, the gas may be heated to a high temperature, and this high temperature air may be blown onto the casting film 74.

溶解工程73は、乾燥した流延膜74の親水性ポリマー67を溶かして除去する工程である。溶解工程73では、例えば熱水を収容した水槽に流延膜74を浸漬する。熱水の温度は、疎水性ポリマー27が溶融しない程度の温度にする。流延膜74を熱水に浸漬すると、親水性ポリマー67が熱水に溶け出し、流延膜74から親水性ポリマー67が除去される。孔51a〜51hは、親水性ポリマー67が型となって形成される。このように疎水性ポリマーと親水性ポリマーとを含む流延膜から親水性ポリマーを溶解して除去することにより多孔フィルムを形成する方法を、以下、水抽出法と称する。溶解工程73では、親水性ポリマー67を除去した後に流延膜74を乾燥し、支持体から剥がす。乾燥は、流延膜74に風を当てる等して行う。   The dissolution step 73 is a step of dissolving and removing the hydrophilic polymer 67 of the dried casting film 74. In the melting step 73, for example, the casting film 74 is immersed in a water tank containing hot water. The temperature of the hot water is set to a temperature at which the hydrophobic polymer 27 does not melt. When the casting film 74 is immersed in hot water, the hydrophilic polymer 67 is dissolved in the hot water, and the hydrophilic polymer 67 is removed from the casting film 74. The holes 51a to 51h are formed using the hydrophilic polymer 67 as a mold. The method of forming a porous film by dissolving and removing the hydrophilic polymer from the casting membrane containing the hydrophobic polymer and the hydrophilic polymer in this manner is hereinafter referred to as a water extraction method. In the dissolving step 73, after removing the hydrophilic polymer 67, the cast film 74 is dried and peeled off from the support. Drying is performed by applying air to the casting film 74 or the like.

溶解工程33を終えて得られたフィルム50は、第2除去工程25に供される。   The film 50 obtained after finishing the dissolution step 33 is subjected to the second removal step 25.

なお、この実施態様では、第1除去工程21と第2除去工程25との両方を実施して低分子物質を除去しているが、いずれか一方のみでも得られたフィルム50における低分子物質の含有率が5質量%になることがあり、この場合にはいずれか一方のみでよい。   In this embodiment, both the first removal step 21 and the second removal step 25 are performed to remove the low molecular weight material. However, the low molecular weight material in the film 50 obtained by only one of them is removed. The content may be 5% by mass, and in this case, only one of them may be used.

また、フィルム10を製造する前述の第2の実施態様と同様に、第1除去工程21と第2除去工程25との少なくともいずれか一方に代えて、流延膜74から低分子物質を除去する流延膜74の精製工程としての第3除去工程44(図6参照)を実施してもよい。また、第1除去工程21と第2除去工程25とに加えて、第3除去工程44を実施してもよい。   Further, in the same manner as in the above-described second embodiment for producing the film 10, instead of at least one of the first removal step 21 and the second removal step 25, the low-molecular substance is removed from the casting film 74. You may implement the 3rd removal process 44 (refer FIG. 6) as a refinement | purification process of the cast film 74. FIG. In addition to the first removal step 21 and the second removal step 25, a third removal step 44 may be performed.

以下に本発明の実施例を示すが、詳細は実施例1に記載し、実施例2〜3と本発明に対する比較例1〜2,参考例については、実施例1と異なる条件のみを記載する。   Examples of the present invention will be described below. Details will be described in Example 1, and Examples 2 to 3 and Comparative Examples 1 to 2 and Reference Example for the present invention will be described only for conditions different from those of Example 1. .

フィルム製造工程20により、フィルム10を製造した。ただしフィルム製造工程20における第1除去工程21は実施しなかった。なお、溶液調製工程22には、疎水性ポリマー27と溶媒28と両親媒性化合物とを供し、疎水性ポリマー27と両親媒性化合物とを溶媒28に溶解した。疎水性ポリマー27は、ポリ乳酸(PLLA(製品番号719854)、シグマ アルドリッチ ジャパン社製)であり、溶媒28はクロロホルムであり、両親媒性化合物はリン脂質(ジオレオイルホスファチジルエタノールアミン(DOPE);日油(株)製、COATSOME ME−8181)である。溶液29における疎水性ポリマー27の濃度は、1質量%とした。   The film 10 was manufactured by the film manufacturing process 20. However, the 1st removal process 21 in the film manufacturing process 20 was not implemented. In the solution preparation step 22, the hydrophobic polymer 27, the solvent 28, and the amphiphilic compound were provided, and the hydrophobic polymer 27 and the amphiphilic compound were dissolved in the solvent 28. The hydrophobic polymer 27 is polylactic acid (PLLA (product number 719854), manufactured by Sigma-Aldrich Japan), the solvent 28 is chloroform, and the amphiphilic compound is phospholipid (dioleoylphosphatidylethanolamine (DOPE); NOF Co., Ltd., COATSOME ME-8181). The concentration of the hydrophobic polymer 27 in the solution 29 was 1% by mass.

冷却した支持体としてのガラス板に、溶液29を流延して流延膜34を形成した。流延膜34に加湿した空気を供給しながら流延膜34を乾燥することで、流延膜34の表面に結露させて水滴を形成し、最終的に溶媒28と水滴とを蒸発させた。水滴を蒸発させるために、吹き付ける空気を加湿したものから乾燥したものへと切り替えた。このフィルム形成工程24により、孔11がフィルム面10aに沿って並んだハニカム構造のフィルム10を形成した。このように、本実施例では結露法によりフィルム10を形成したので、表1の「フィルム形成方法」欄には「結露法」と記載する。フィルム形成工程24により得られたフィルム10は、孔径が均一であり、平均孔径(孔径の平均値)は約3μmであった。   The solution 29 was cast on a cooled glass plate as a support to form a cast film 34. The cast film 34 was dried while supplying the humidified air to the cast film 34, thereby dew condensation was formed on the surface of the cast film 34 to form water droplets. Finally, the solvent 28 and the water droplets were evaporated. In order to evaporate the water droplets, the air to be blown was switched from humidified to dry. By this film forming step 24, the film 10 having a honeycomb structure in which the holes 11 are arranged along the film surface 10a was formed. Thus, since the film 10 was formed by the dew condensation method in this example, it is described as “the dew condensation method” in the “film formation method” column of Table 1. The film 10 obtained by the film forming step 24 had a uniform pore diameter, and the average pore diameter (average pore diameter) was about 3 μm.

形成したフィルム10について第2除去工程25を実施した。フィルム10を浸漬した液は、エタノールと水との混合物である。この混合物におけるエタノール濃度は50質量%である。浸漬した時間は、4時間だった。液からフィルム10を取り出して乾燥した。得られたフィルム10は、孔径が略均一であり、平均孔径は約3μmであった。一方のフィルム面10aの垂直方向からこのフィルム10を見た顕微鏡写真を図10に示す。フィルム10の厚みT10は表1の「厚み」欄(単位;μm)に記載する。   A second removal step 25 was performed on the formed film 10. The liquid in which the film 10 is immersed is a mixture of ethanol and water. The ethanol concentration in this mixture is 50% by weight. The immersion time was 4 hours. The film 10 was taken out from the liquid and dried. The obtained film 10 had a substantially uniform pore size and an average pore size of about 3 μm. A photomicrograph of the film 10 viewed from the direction perpendicular to the one film surface 10a is shown in FIG. The thickness T10 of the film 10 is described in the “thickness” column (unit: μm) in Table 1.

第2除去工程25の前と後との両方で、フィルム10における低分子物質の含有率を、GPCを用いて求めた。GPCにより得られた分子量分布のグラフは、図11に示す。求めた低分子物質の含有率(単位;質量%)は、第2除去工程25の前のフィルム10については表1の「第2除去工程前」欄に示し、第2除去工程25の後のフィルム10については表1の「第2除去工程後」欄に示す。   The content ratio of the low-molecular substance in the film 10 was determined using GPC both before and after the second removal step 25. A graph of molecular weight distribution obtained by GPC is shown in FIG. The obtained low molecular weight content (unit: mass%) is shown in the “before the second removal step” column of Table 1 for the film 10 before the second removal step 25, and after the second removal step 25. The film 10 is shown in the column “After the second removal step” in Table 1.

第2除去工程を終えたフィルム10について、生体における炎症の発生の有無と炎症の程度とを以下の方法で評価した。フィルム10を、3cm×3cmの大きさにカットして評価サンプルとした。ウサギを開腹して、腸管の外表面に評価サンプルを貼った。切開した箇所を閉じ、2週間後に再度開腹した。腸管の接着部位を目視で観察し、炎症の有無及びその程度を評価した。評価基準は以下である。評価結果は表1の「評価結果」欄に示す。なお、評価サンプルは、消失していた。
A:接着部位は、評価サンプルが接着されなかった部位と比べても変化は無く、炎症が確認されなかった。
B:接着部位は、薄く赤みを帯びているが、炎症は軽度であった。
C:接着部位に、強い炎症が見られた。
About the film 10 which finished the 2nd removal process, the presence or absence of generation | occurrence | production of inflammation in a biological body, and the grade of inflammation were evaluated with the following method. The film 10 was cut into a size of 3 cm × 3 cm to obtain an evaluation sample. The rabbit was laparotomized and an evaluation sample was attached to the outer surface of the intestinal tract. The incised part was closed, and the abdomen was opened again two weeks later. The adhesion site | part of the intestinal tract was observed visually, and the presence or absence and the degree of inflammation were evaluated. The evaluation criteria are as follows. The evaluation results are shown in the “Evaluation results” column of Table 1. The evaluation sample was lost.
A: The adhesion site was not changed compared with the site where the evaluation sample was not adhered, and inflammation was not confirmed.
B: The adhesion site was thin and reddish, but the inflammation was mild.
C: Strong inflammation was observed at the adhesion site.

フィルム製造工程60により、フィルム50を製造した。ただし、フィルム製造工程60における第1除去工程21は実施しなかった。なお、溶液調製工程22には、疎水性ポリマー27と親水性ポリマー67と溶媒68を供し、疎水性ポリマー27と親水性ポリマー67とを溶媒68に溶解した。疎水性ポリマー27は、ポリ乳酸(PLLA(製品番号719854)、シグマ アルドリッチ ジャパン社製)であり、親水性ポリマー67はポリエチレングリコール(PEG 6000、和光純薬工業株式会社製)であり、溶媒68はクロロホルムである。疎水性ポリマー27の質量:親水性ポリマー67の質量は40:60とした。溶液69におけるポリマー(疎水性ポリマー27と親水性ポリマー67)の濃度は、5質量%とした。   The film 50 was manufactured by the film manufacturing process 60. However, the 1st removal process 21 in the film manufacturing process 60 was not implemented. In the solution preparation step 22, the hydrophobic polymer 27, the hydrophilic polymer 67 and the solvent 68 were provided, and the hydrophobic polymer 27 and the hydrophilic polymer 67 were dissolved in the solvent 68. Hydrophobic polymer 27 is polylactic acid (PLLA (product number 719854), manufactured by Sigma-Aldrich Japan), hydrophilic polymer 67 is polyethylene glycol (PEG 6000, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and solvent 68 is Chloroform. The mass of the hydrophobic polymer 27: The mass of the hydrophilic polymer 67 was 40:60. The concentration of the polymer (hydrophobic polymer 27 and hydrophilic polymer 67) in the solution 69 was 5% by mass.

冷却せずに室温としている支持体としてのガラス板に、溶液69を流延して流延膜74を形成した。流延膜74に乾燥した空気を供給しながら流延膜74を乾燥し、乾燥工程72を実施して溶媒68を蒸発させた。溶媒68が蒸発した流延膜を溶解工程73に供して、80℃の熱水に30分間浸漬し、PEGを選択的に流延膜から抽出して除去した。PEGを除去した流延膜を乾燥した。このフィルム形成工程63により、孔51a〜51hがランダムに配されたフィルム50を形成した。このように、本実施例では水抽出法によりフィルム50を形成したので、表1の「フィルム形成方法」欄には「水抽出法」と記載する。   A cast film 74 was formed by casting the solution 69 on a glass plate as a support that was at room temperature without cooling. The casting film 74 was dried while supplying dried air to the casting film 74, and the drying process 72 was performed to evaporate the solvent 68. The cast film in which the solvent 68 was evaporated was subjected to the dissolution step 73 and immersed in hot water at 80 ° C. for 30 minutes, and PEG was selectively extracted from the cast film and removed. The cast film from which PEG was removed was dried. By this film forming step 63, the film 50 in which the holes 51a to 51h are randomly arranged was formed. Thus, in this example, since the film 50 was formed by the water extraction method, “Water extraction method” is described in the “Film formation method” column of Table 1.

形成したフィルム50について第2除去工程25を実施した。フィルム10を浸漬した液は、水である。浸漬した時間は、12時間だった。液からフィルム50を取り出して乾燥した。得られたフィルム50は、孔径が約500nm以上3μmの範囲であり不均一であった。一方のフィルム面50aの垂直方向からこのフィルム50を見た顕微鏡写真を図12に示す。得られたフィルム50の厚みT50は表1の「厚み」欄(単位;μm)に記載する。   A second removal step 25 was performed on the formed film 50. The liquid in which the film 10 is immersed is water. The immersion time was 12 hours. The film 50 was taken out from the liquid and dried. The obtained film 50 had a pore diameter in the range of about 500 nm to 3 μm and was non-uniform. FIG. 12 shows a photomicrograph of the film 50 viewed from the direction perpendicular to the one film surface 50a. The thickness T50 of the obtained film 50 is described in the “thickness” column (unit: μm) in Table 1.

実施例1と同様に、第2除去工程25の前と後との両方で、フィルム50における低分子物質の含有率を、GPCを用いて求めた。各低分子物質の含有率は、表1に示す。また、第2除去工程25を終えたフィルム50について、生体における炎症の発生の有無と炎症の程度とを実施例1と同様に評価した。評価結果は、表1に示す。   Similar to Example 1, the content of the low molecular weight material in the film 50 was determined using GPC both before and after the second removal step 25. Table 1 shows the content of each low-molecular substance. Further, the presence or absence of inflammation in the living body and the degree of inflammation were evaluated in the same manner as in Example 1 for the film 50 after the second removal step 25. The evaluation results are shown in Table 1.

形成したフィルム10について第2除去工程25を実施した。フィルム10を浸漬した液は、生理食塩水である。浸漬した時間は、1時間だった。液からフィルム10を取り出して乾燥した。その他の条件は実施例1と同じである。得られたフィルム10は、孔径が略均一であり、平均孔径は約3μmであった。フィルム10の厚みT10は表1の「厚み」欄(単位;μm)に記載する。   A second removal step 25 was performed on the formed film 10. The liquid in which the film 10 is immersed is physiological saline. The immersion time was 1 hour. The film 10 was taken out from the liquid and dried. Other conditions are the same as those in the first embodiment. The obtained film 10 had a substantially uniform pore size and an average pore size of about 3 μm. The thickness T10 of the film 10 is described in the “thickness” column (unit: μm) in Table 1.

実施例1と同様に、第2除去工程25の前と後との両方で、フィルム50における低分子物質の含有率を、GPCを用いて求めた。各低分子物質の含有率は、表1に示す。また、第2除去工程25を終えたフィルム50について、生体における炎症の発生の有無と炎症の程度とを実施例1と同様に評価した。評価結果は、表1に示す。   Similar to Example 1, the content of the low molecular weight material in the film 50 was determined using GPC both before and after the second removal step 25. Table 1 shows the content of each low-molecular substance. Further, the presence or absence of inflammation in the living body and the degree of inflammation were evaluated in the same manner as in Example 1 for the film 50 after the second removal step 25. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例1の疎水性ポリマー27をポリ乳酸(PLLA(製品番号81273)Mw=152000、シグマ アルドリッチ ジャパン社製)に代え、また、第2除去工程25においてフィルム10を浸漬した液を生理食塩水に代えた。液に浸漬した時間は、1時間だった。液からフィルム10を取り出して乾燥した。その他の条件は実施例1と同じである。得られたフィルム10は、孔径が略均一であり、平均孔径は約3μmであった。フィルム10の厚みT10は表1の「厚み」欄(単位;μm)に記載する。   The hydrophobic polymer 27 of Example 1 was replaced with polylactic acid (PLLA (product number 81273) Mw = 152000, manufactured by Sigma-Aldrich Japan), and the solution in which the film 10 was immersed in the second removal step 25 was added to physiological saline. Replaced. The time immersed in the liquid was 1 hour. The film 10 was taken out from the liquid and dried. Other conditions are the same as those in the first embodiment. The obtained film 10 had a substantially uniform pore size and an average pore size of about 3 μm. The thickness T10 of the film 10 is described in the “thickness” column (unit: μm) in Table 1.

実施例1と同様に、第2除去工程25の前と後との両方で、フィルム10における低分子物質の含有率を、GPCを用いて求めた。各低分子物質の含有率は、表1に示す。また、第2除去工程25を終えたフィルム10について、生体における炎症の発生の有無と炎症の程度とを実施例1と同様に評価した。評価結果は、表1に示す。   Similar to Example 1, the content of the low molecular weight material in the film 10 was determined using GPC both before and after the second removal step 25. Table 1 shows the content of each low-molecular substance. Further, the film 10 after the second removal step 25 was evaluated in the same manner as in Example 1 for the presence or absence of inflammation in the living body and the degree of inflammation. The evaluation results are shown in Table 1.

[比較例1]
フィルム形成工程24によりフィルムを形成した。このフィルムについて、第2除去工程25は実施しなかった。その他の条件は実施例1と同じである。得られたフィルムの厚みは表1に示す。
[Comparative Example 1]
A film was formed by the film forming step 24. The second removal step 25 was not performed on this film. Other conditions are the same as those in the first embodiment. The thickness of the obtained film is shown in Table 1.

フィルム形成工程24により形成したフィルムについて、低分子物質の含有率を、GPCを用いて求めた。GPCにより得られた分子量分布のグラフは、図13に示す。本比較例では第2除去工程は実施しなかったので、求めた低分子物質の含有率は表1の「第2除去工程前」欄に示し、「第2除去工程後」欄には「−」と記載する。   About the film formed by the film formation process 24, the content rate of the low molecular substance was calculated | required using GPC. A graph of molecular weight distribution obtained by GPC is shown in FIG. In this comparative example, since the second removal step was not performed, the obtained low-molecular-weight substance content is shown in the “Before the second removal step” column of Table 1, and the “After the second removal step” column is “− ".

フィルム形成工程24で形成したフィルムから評価サンプルを切り出した。この評価サンプルについて、生体における炎症の発生の有無と炎症の程度とを実施例1と同様に評価した。評価結果は、表1に示す。   An evaluation sample was cut out from the film formed in the film forming step 24. For this evaluation sample, the presence or absence of inflammation in the living body and the degree of inflammation were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

[参考例]
疎水性ポリマー27を、第1除去工程を経ることなく溶液調製工程22に供した。溶液調製工程において、疎水性ポリマー27を溶媒28に溶かして溶液29を調製した。なお、溶液29を調製するにあたり、両親媒性化合物は用いなかった。疎水性ポリマー27及び溶媒28、及び、溶液29における疎水性ポリマーの濃度は、実施例1と同じである。
[Reference example]
The hydrophobic polymer 27 was subjected to the solution preparation step 22 without going through the first removal step. In the solution preparation step, the hydrophobic polymer 27 was dissolved in the solvent 28 to prepare a solution 29. In preparing the solution 29, no amphiphilic compound was used. The concentration of the hydrophobic polymer in the hydrophobic polymer 27, the solvent 28, and the solution 29 is the same as in Example 1.

冷却せずに室温としている支持体のガラス板に、溶液29を流延して流延膜を形成した。除湿した乾燥風を流延膜に供給することにより、フラットフィルムを形成した。このフィルムについて、第2除去工程25は実施しなかった。得られたフラットフィルムの厚みは表1に示す。   The solution 29 was cast on a glass plate of a support that was at room temperature without cooling to form a cast film. A flat film was formed by supplying dehumidified dry air to the cast film. The second removal step 25 was not performed on this film. The thickness of the obtained flat film is shown in Table 1.

形成したフラットフィルムについて、低分子物質の含有率を、GPCを用いて求めた。本参考例では第2除去工程は実施しなかったので、求めた低分子物質の含有率は表1の「第2除去工程前」欄に示し、「第2除去工程後」欄には「−」と記載する。   About the formed flat film, the content rate of the low molecular substance was calculated | required using GPC. In this reference example, since the second removal step was not performed, the obtained low-molecular-weight substance content is shown in the “Before the second removal step” column of Table 1, and the “After the second removal step” column is “− ".

形成したフラットフィルムから評価サンプルを切り出した。この評価サンプルについて、生体における炎症の発生の有無と炎症の程度とを実施例1と同様に評価した。評価結果は、表1に示す。   An evaluation sample was cut out from the formed flat film. For this evaluation sample, the presence or absence of inflammation in the living body and the degree of inflammation were evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

10,50 多孔フィルム
11,51a〜51h 孔
52 空隙
10, 50 porous film 11, 51a-51h hole 52 gap

Claims (3)

疎水性ポリマーが溶媒に溶けている溶液を流延して流延膜を形成する流延膜形成工程と、
複数の孔が一方のフィルム面に形成された多孔フィルムを前記流延膜から形成するフィルム形成工程と、
前記疎水性ポリマーと前記流延膜と前記多孔フィルムとの少なくともいずれかひとつから500以下の分子量をもつ低分子物質を除去して前記多孔フィルムにおける前記低分子物質の含有率を5質量%以下に抑える除去工程とを有することを特徴とする多孔フィルムの製造方法。
A casting film forming step of casting a solution in which a hydrophobic polymer is dissolved in a solvent to form a casting film;
A film forming step of forming a porous film having a plurality of holes formed on one film surface from the cast film;
A low molecular substance having a molecular weight of 500 or less is removed from at least one of the hydrophobic polymer, the cast film, and the porous film, so that the content of the low molecular substance in the porous film is 5% by mass or less. A method for producing a porous film, comprising: a removing step to suppress.
前記除去工程では、前記多孔フィルムを水とアルコールとの少なくともいずれか一方に浸漬することを特徴とする請求項1記載の多孔フィルムの製造方法。 The method for producing a porous film according to claim 1 , wherein in the removing step, the porous film is immersed in at least one of water and alcohol. 前記多孔フィルムは、複数の孔が一方のフィルム面に沿って並んで形成され、前記フィルム面を垂直方向から見たときにハニカム構造とされており、
前記フィルム形成工程は、
前記流延膜上に結露させて水滴を形成する工程と、
前記流延膜から溶剤と水滴とを蒸発させることにより前記多孔フィルムとする蒸発工程とを有することを特徴とする請求項1または2記載の多孔フィルムの製造方法。
The porous film has a plurality of holes formed side by side along one film surface, and has a honeycomb structure when the film surface is viewed from the vertical direction,
The film forming step includes
Forming water droplets by condensation on the cast film;
Method for producing a porous film according to claim 1 or 2, wherein the having the evaporation step to the porous film by evaporating the solvent and water droplets from said casting film.
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