JP5919299B2 - 漸進的切替の少なくとも1回の工程を含む、切替可能な反応器による重質炭化水素供給原料の水素化処理方法 - Google Patents
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Description
種々の方法で、特に、主要な反応器の上流に設置された保護床を用いることにより、固定床配置のこれらの欠点を解消するための試行があった。保護床の主要な役割は、脱金属の一部を行うことおよび閉塞につながり得る供給原料に含有される粒子をろ過することによって、下流の主要な水素化処理反応器の触媒を保護することである。保護床は、一般的に、重質供給原料の水素化処理方法、一般的には、第1のHDMセクションと、次の、第2のHDTセクションとを含む方法におけるHDMセクションにおいて統合される。保護床は、一般的に、第1の水素化脱金属およびろ過を行うために用いられるが、水素および触媒の存在のために、他の水素化処理反応(HDS、HDN等)が、必然的に、これらの反応器において行われることになる。
a)保護帯域が、それらのいずれか1個の失活時および/または閉塞時に最長でも等しい期間にわたって一緒に全て用いられる、工程、
b)失活および/または閉塞した保護帯域がバイパスされ、それが含有する触媒が、再生され、および/または新鮮な触媒と置換され、その間に、他の保護床(単数または複数)が用いられる、工程、
c)保護帯域が全て一緒に用いられ、先行工程の間に触媒が再生された保護帯域が再接続され、前記工程は、保護帯域のいずれか1個の失活時および/または閉塞時に最長でも等しい期間にわたって続けられる、工程
に規定される工程b)およびc)の連続的な繰り返しからなる。
本発明は、特許FR2681871において記載されたような保護帯域(切替可能な反応器)を用いて行われる水素化処理方法の改善を提供する。FR2681871による保護帯域の操作が図1において記載され、これは、2個の保護帯域(または切替可能な反応器)R1aおよびR1bを含む。この方法は、一連のサイクルを含み、このサイクルは、それぞれ、連続する4工程:
− 供給原料が反応器R1a次いでR1b中を連続的に通過する第1工程(以降「工程a」と呼ばれる)、
− 供給原料が反応器R1b中のみを通過し、反応器R1aは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる第2工程(以降「工程b」と呼ばれる)、
− 供給原料が反応器R1b次いで反応器R1a中を連続的に通過する第3工程(以降「工程c」と呼ばれる)、
− 供給原料が反応器R1a中のみを通過し、反応器R1bは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる第4工程(以降「工程d」と呼ばれる)
を含む。
− 供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活時および/または閉塞時の一部の間に供給原料が全ての保護帯域中を通過する工程a)、
− 供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活時および/または閉塞時に最長でも等しい期間にわたり、供給原料の一部が、供給原料と接触させられる第1の保護帯域中を通過し続け、供給原料の別の部分が、下流の次の保護帯域に導入される工程a’)、
− 失活および/または閉塞した保護帯域がバイパスされ、それが含有する触媒が、再生されおよび/または新鮮な触媒と置換され、その間、他の保護帯域(単数または複数)が用いられる工程b)、
− 供給原料が全ての保護帯域中を通過し、先行工程の間に触媒が再生された保護帯域が、全ての他の保護帯域の下流であるように再接続され、前記工程は、供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活時および/または閉塞時の一部の間にわたって継続される、工程c)
− 供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活時および/または閉塞時に最長でも等しい期間にわたって、供給原料の一部は、供給原料と接触させられる第1の保護帯域中を通過し続け、供給原料の別の部分は、下流の次の保護帯域に導入される、工程c’)
に規定される工程b)、c)およびc’)の連続的な繰り返しからなる、方法に関する。
− 帯域R1aの失活時および/または閉塞時の一部の間に供給原料が保護帯域R1aおよびR1b中を連続的に通過する工程a)、
− 帯域R1aの失活時および/または閉塞時に最長でも等しい期間にわたって、供給原料の一部は、帯域R1a中を通過し続け、供給原料の別の部分は、帯域R1bに導入される工程a’)(移動工程)、
− 供給原料が反応器R1b中のみを通過し、反応器R1aは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる工程b)、
− R1bの失活時および/または閉塞時の一部の間に、供給原料は、帯域R1bおよびR1a中を連続的に通過する工程c)、
− 帯域R1bの失活時および/または閉塞時に最長でも等しい期間にわたり、供給原料の一部は、帯域R1b中を通過し続け、供給原料の別の部分は、帯域R1aに導入される工程c’)(移動工程)、
− 供給原料が反応器Ra1中のみを通過し、反応器R1bは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる工程d)
を有する一連のサイクルを含む。
− 移動工程の開始時、
− 移動工程の開始時における下流の次の保護帯域上に導入される供給原料の量(移動弁の初期の開放)、
− 移動工程の間の下流の次の帯域上に導入される供給原料の量における漸進的な増加(移動弁の漸進的な開放)
に関連する。
− 供給原料が反応器R1a、次いで反応器R1b、最後に反応器R1c中を連続的に通過する工程a)、
− 供給原料の一部が反応器R1a、次いで反応器R1b中を通過し続け、供給原料の別の部分が、反応器R1b中に直接的に導入され、次いで、全体的な供給原料が、反応器R1c中を通過する、工程a’)(移動工程)、
− 供給原料が反応器R1b、次いで、反応器R1c中を通過し、反応器R1aは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる工程b)、
− 供給原料が反応器R1b、次いで、反応器R1c、最後に反応器R1a中を連続的に通過する工程c)、
− 供給原料の一部が反応器R1b、次いで反応器R1c中を通過し続け、供給原料の別の部分が、反応器R1c中に直接的に導入され、次いで、供給原料全体が反応器R1a中を通過する、工程c’)(移動工程)、
− 供給原料が反応器R1c、次いで、反応器R1a中を通過し、反応器R1bは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる工程d)、
− 供給原料が反応器R1c、次いで反応器R1a、最後に反応器R1b中を連続的に通過する工程e)、
− 供給原料の一部が反応器R1c、次いで、反応器R1a中を通過し続け、供給原料の別の部分が反応器R1aに直接的に導入され、次いで、供給原料全体が、反応器R1b中を通過する工程e’)(移動工程)、
− 供給原料が反応器R1a、次いで、反応器R1b中を通過し、反応器R1cは、触媒の再生および/または置換のためにバイパスされる工程f)
を有する一連のサイクルを含むことになる。
供給原料は、中東起源(Arabian Medium)の常圧残渣(AR)および中東起源(Arabian Light)の真空残渣(VR)の混合物(70/30重量%)からなる。この混合物は、周囲温度での高粘度(0.91cP)、密度994kg/m3、コンラドソン炭素(Conradson carbon)(14重量%)およびアスファルテン(6重量%)の高含有率およびニッケル(22重量ppm)、バナジウム(99重量ppm)および硫黄(4.3重量%)の高レベルによって特徴付けられる。
水素化処理方法が、実施例1におけるのと同一の供給原料により、同一の触媒および同一の操作条件下に繰り返されるが、本発明に従って、第1の帯域の失活時および/または閉塞時の80%の時(すなわち、168日(80%×210日))に移動が行われることを例外とする。工程a’)またはc’)の開始時において第2の保護帯域に導入される供給原料の割合(%)は0%であり、失活時および/閉塞時の%当たり0.7%の増加を伴う。HDM度は、60%に維持される。
Claims (13)
- アスファルテン、堆積物、硫黄含有不純物、窒素含有不純物および金属不純物を含有する重質炭化水素フラクションの水素化処理方法であって、炭化水素の供給原料および水素が、水素化処理条件下に、水素化処理触媒上を通され、少なくとも1個の触媒床をそれぞれ含有する少なくとも2個の固定床水素化処理保護帯域において、該保護帯域は、周期的に用いられるように直列に配列させられ、以下:
− 供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活および/または閉塞に至るまでの時間の一部の間にわたり、供給原料は、全ての保護帯域中を通過する工程a)、
− 供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活および/または閉塞に至るまでの時間に等しいかそれより前の時点まで、供給原料の一部が、供給原料と接触させられる第1の保護帯域中を通過し続け、供給原料の別の部分が、下流の次の保護帯域に導入される工程a’)、
− 失活および/または閉塞した保護帯域がバイパスされ、それが含有する触媒が、再生されおよび/または新鮮な触媒により置換され、その間、他の保護帯域(単数または複数)が用いられる、工程b)、
− 供給原料が全ての保護帯域中を通過し、先行工程の間に触媒が再生された保護帯域が、全ての他の保護帯域の下流であるように再接続され、前記工程が、供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活および/または閉塞に至るまでの時間の一部の間にわたって継続される、工程c)、
− 供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活および/または閉塞に至るまでの時間に等しいかそれより前の時点まで、供給原料の一部が、供給原料と接触させられる第1の保護帯域中を通過し続け、供給原料の別の部分が、下流の次の保護帯域に導入される工程c’)
に規定される工程b)、c)およびc’)の連続する繰り返しからなる、方法。 - 工程a’)およびc’)の間に、下流の次の保護帯域に導入される供給原料の前記部分は、全供給原料の50%を超えない、請求項1に記載の方法。
- 工程a’)およびc’)の間に、下流の次の保護帯域に導入される供給原料の前記部分は、徐々に増加する、請求項1または2に記載の方法。
- 漸進的な増加は、連続的にまたは段階的に行われる、請求項3に記載の方法。
- 下流の次の保護帯域に導入される供給原料の前記部分は、失活および/または閉塞に至るまでの時間が1%増えるに伴って0.02〜4%増加する、請求項3または4に記載の方法。
- 下流の次の保護帯域に導入される供給原料の前記部分は、失活および/または閉塞に至るまでの時間が1%増えるに伴って0.02〜1%増加する、請求項3または4に記載の方法。
- 工程a)およびc)は、供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活および/または閉塞に至るまでの時間の30〜95%の期間にわたって行われる、請求項1〜6のいずれか1つに記載の方法。
- 工程a)およびc)は、供給原料と接触させられる第1の保護帯域の失活および/または閉塞に至るまでの時間の60〜90%の期間にわたって行われる、請求項1〜7のいずれか1つに記載の方法。
- 工程a’)およびc’)の始めに、下流の次の保護帯域に導入される供給原料の前記他の部分は、全供給原料の0〜50体積%(ただし0は除く)である、請求項1〜8のいずれか1つに記載の方法。
- 工程a’)およびc’)の始めに下流の次の保護帯域に導入される供給原料の前記他の部分は、全供給原料の20〜40%(体積%で表される)である、請求項1〜9のいずれか1つに記載の方法。
- 水素化処理度は、温度を上げることによって維持される、請求項1〜10のいずれか1つに記載の方法。
- 各保護帯域の入口において、供給原料は、単一段または連続する2段からなるろ過分配器板中を通過し、前記板は、触媒床(単数または複数)の上流に置かれる、請求項1〜11のいずれか1つに記載の方法。
- 固定床または沸騰床の水素化処理方法に先行することを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1つに記載の方法。
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