JP5917335B2 - Method for manufacturing display device - Google Patents

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有機エレクトロルミネッセンス(Electroluminescence、以下ELとも記す)現象を利用した表示装置、及び該表示装置の作製方法に関する。 The present invention relates to a display device using an organic electroluminescence (hereinafter also referred to as EL) phenomenon and a method for manufacturing the display device.

有機EL現象を利用した発光素子(有機EL素子)の研究開発が盛んに行われている。有機EL素子の基本的な構成は、一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層(EL層)を挟んだものであり、薄型軽量化できる、入力信号に高速に応答できる、直流低電圧駆動が可能であるなどの特性から、次世代のフラットパネルディスプレイ素子として注目されている。また、有機EL素子を用いたディスプレイは、コントラストや画質に優れ、視野角が広いという特徴も有している。 Research and development of light-emitting elements (organic EL elements) using the organic EL phenomenon have been actively conducted. The basic structure of an organic EL element is a layer (EL layer) containing a light-emitting organic compound between a pair of electrodes, which can be reduced in thickness and weight, can respond to input signals at high speed, and has a low DC voltage. It has been attracting attention as a next-generation flat panel display element because of its characteristics such as being capable of being driven. In addition, a display using an organic EL element is characterized by excellent contrast and image quality and a wide viewing angle.

フルカラーの画像を表示する装置を作製する場合には、少なくとも赤、緑、青の3色の光を発する発光素子をマトリクス状に配置することが必要となる。その方法としては、色ごとにEL層の必要な部分を塗り分けて発光色が異なる発光素子を設ける方法(以下、塗り分け方式と記す)、すべての発光素子を白色発光とし、それぞれにカラーフィルタを重ねて白色光を透過させることによって各々の色を得る方法(以下、カラーフィルタ方式と記す)や、すべての発光素子を青又は青より短波長の発光とし、それぞれに色変換層を重ねて青色光を透過させることによって各々の色を得る方法(以下、色変換方式と記す)などがある。例えば、特許文献1には、カラーフィルタ方式を用いた有機EL表示装置の記載がある。 In the case of manufacturing a device that displays a full-color image, it is necessary to arrange at least light emitting elements that emit light of three colors of red, green, and blue in a matrix. As the method, a method of providing light emitting elements having different emission colors by separately coating the necessary portions of the EL layer for each color (hereinafter referred to as a coating method), all the light emitting elements emit white light, and each has a color filter. A method of obtaining each color by transmitting white light by overlapping (hereinafter referred to as a color filter method), and all light emitting elements emit light having a wavelength shorter than blue or blue, and a color conversion layer is superimposed on each. There is a method of obtaining each color by transmitting blue light (hereinafter referred to as a color conversion method). For example, Patent Document 1 describes an organic EL display device using a color filter method.

特開2012−38677号公報JP 2012-38677 A

特許文献1では、フォトリソグラフィ工程を用いたカラーフィルタの作製方法が開示されている。フォトリソグラフィ工程を用いたカラーフィルタの作製では、該カラーフィルタが備える色の数と同じ数のフォトマスクを要する。フォトマスクは高価であるため、有機EL表示装置の作製コストが高くなるという問題がある。 Patent Document 1 discloses a method for manufacturing a color filter using a photolithography process. In manufacturing a color filter using a photolithography process, the same number of photomasks as the number of colors included in the color filter are required. Since the photomask is expensive, there is a problem that the manufacturing cost of the organic EL display device is increased.

したがって、本発明の一態様は、安価で簡便な、有機EL素子を用いた表示装置の作製方法を提供することを目的の一とする。 Therefore, an object of one embodiment of the present invention is to provide an inexpensive and simple method for manufacturing a display device using an organic EL element.

本発明の一態様の表示装置は、有機EL素子と、該有機EL素子を覆う封止膜と、該封止膜上の着色層と、を備える。該着色層は、特定の波長域の光を透過する着色材料層を用いて形成される。本発明の一態様の表示装置の作製方法では、有機EL素子の光を用いて着色材料層を硬化する。 A display device of one embodiment of the present invention includes an organic EL element, a sealing film that covers the organic EL element, and a colored layer over the sealing film. The colored layer is formed using a colored material layer that transmits light in a specific wavelength range. In the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, the coloring material layer is cured using light of the organic EL element.

例えば、有機EL素子と、有機EL素子を覆う封止膜と、を設け、該封止膜上に、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を含む着色材料層を設ける。そして、有機EL素子を発光させることで、着色材料層に可視光を照射する。可視光が照射されることで、着色材料層の一部の領域(有機EL素子の発光領域と重なる領域を含む)は硬化する。その後、現像することで、着色材料層のうち未硬化の領域が除去され、有機EL素子の発光領域と重なる領域に、着色層(着色材料層の硬化領域に相当)が形成される。 For example, an organic EL element and a sealing film that covers the organic EL element are provided, and a coloring material including a pigment or a dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator is provided on the sealing film. Provide a layer. And an organic EL element is made to light-emit, and a colored material layer is irradiated with visible light. By irradiation with visible light, a part of the coloring material layer (including a region overlapping with the light emitting region of the organic EL element) is cured. Then, by developing, an uncured region of the coloring material layer is removed, and a colored layer (corresponding to a cured region of the coloring material layer) is formed in a region overlapping with the light emitting region of the organic EL element.

本発明の一態様の表示装置の作製方法では、フォトマスクを用いることなく、着色層を所望の領域に形成することができる。したがって、安価で簡便に有機EL素子を用いた表示装置を提供することができる。 In the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, a colored layer can be formed in a desired region without using a photomask. Therefore, a display device using an organic EL element can be provided inexpensively and easily.

具体的には、本発明の一態様は、第1の電極、発光性の有機化合物を含む層、及び可視光を透過する第2の電極をこの順で形成することで、発光素子を作製する第1のステップと、第2の電極と接し、発光素子を覆う封止膜を形成する第2のステップと、封止膜上に、発光素子の発する光によって硬化する着色材料層を形成する第3のステップと、発光素子を発光させることで、着色材料層の発光素子の発光領域と重なる領域を硬化させる第4のステップと、現像により、着色材料層の未硬化領域を除去する第5のステップと、を有する表示装置の作製方法である。 Specifically, in one embodiment of the present invention, a light-emitting element is manufactured by forming a first electrode, a layer containing a light-emitting organic compound, and a second electrode that transmits visible light in this order. A first step; a second step of forming a sealing film in contact with the second electrode and covering the light emitting element; and a first step of forming a coloring material layer that is cured by light emitted from the light emitting element on the sealing film. And a fourth step of curing the region of the coloring material layer that overlaps the light emitting region of the light emitting device by emitting light, and a fifth step of removing the uncured region of the coloring material layer by development. A display device having a step.

また、本発明の一態様の表示装置の作製方法を用いて、複数の有機EL素子と、該複数の有機EL素子を覆う封止膜と、該封止膜上の複数の着色層と、を備える表示装置を作製できる。該複数の着色層は、それぞれ異なる波長域の光を透過する複数の着色材料層を用いて形成される。着色材料層における硬化させたい領域(着色層を設けたい領域)と重なる有機EL素子を発光させることで、所望の領域に着色層を設けることができる。 In addition, by using the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, a plurality of organic EL elements, a sealing film that covers the plurality of organic EL elements, and a plurality of colored layers over the sealing film, A display device provided can be manufactured. The plurality of colored layers are formed using a plurality of colored material layers that transmit light in different wavelength ranges. A colored layer can be provided in a desired region by emitting light from an organic EL element that overlaps a region to be cured (region where a colored layer is to be provided) in the coloring material layer.

例えば、第1の有機EL素子及び第2の有機EL素子を覆う封止膜を設け、該封止膜上に、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を含む第1の着色材料層を設ける。そして、第1の有機EL素子を発光させることで、第1の着色材料層に可視光を照射する。可視光が照射されることで、第1の着色材料層の一部の領域(第1の有機EL素子の発光領域と重なる領域を含む)は硬化する。その後、現像することで、第1の着色材料層のうち未硬化の領域が除去され、第1の有機EL素子の発光領域と重なる領域に、第1の着色層(第1の着色材料層の硬化領域に相当)が形成される。 For example, a sealing film that covers the first organic EL element and the second organic EL element is provided, and a pigment or dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator are formed on the sealing film. A first coloring material layer is provided. Then, the first coloring material layer is irradiated with visible light by causing the first organic EL element to emit light. By irradiation with visible light, a part of the first coloring material layer (including a region overlapping with the light emitting region of the first organic EL element) is cured. After that, by developing, an uncured region of the first coloring material layer is removed, and the first coloring layer (of the first coloring material layer is overlapped with the light emitting region of the first organic EL element). Corresponding to the hardened region).

次に、該封止膜及び第1の着色層上に、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を含む第2の着色材料層を設ける。ここで、第1の着色材料層と第2の着色材料層では、含まれる顔料(もしくは染料)が異なり、含まれるバインダー及び可視光硬化型の光重合開始剤は同じであっても異なっていても良い。そして、第2の有機EL素子を発光させることで、第2の着色材料層に可視光を照射する。第2の着色材料層の一部の領域(第2の有機EL素子の発光領域と重なる領域を含む)は硬化する。その後、現像することで、第2の着色材料層のうち未硬化の領域が除去され、第2の有機EL素子の発光領域と重なる領域に、第2の着色層(第2の着色材料層の硬化領域に相当)が形成される。 Next, a second colored material layer containing a pigment or dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator is provided on the sealing film and the first colored layer. Here, the first coloring material layer and the second coloring material layer include different pigments (or dyes), and the included binder and the visible light curable photopolymerization initiator are the same or different. Also good. Then, the second coloring material layer is irradiated with visible light by causing the second organic EL element to emit light. A part of the second coloring material layer (including a region overlapping with the light emitting region of the second organic EL element) is cured. Thereafter, by developing, an uncured region of the second coloring material layer is removed, and the second coloring layer (of the second coloring material layer is overlapped with the light emitting region of the second organic EL element). Corresponding to the hardened region).

本発明の一態様の表示装置の作製方法では、フォトマスクを用いることなく、複数の着色層を有機EL素子上に形成することができる。したがって、安価で簡便に有機EL素子を用いた表示装置を提供することができる。 In the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, a plurality of colored layers can be formed over an organic EL element without using a photomask. Therefore, a display device using an organic EL element can be provided inexpensively and easily.

具体的には、本発明の一態様は、第1の電極、発光性の有機化合物を含む層、及び可視光を透過する第2の電極をこの順で形成することで、第1の発光素子及び第2の発光素子を作製する第1のステップと、第2の電極と接し、第1の発光素子及び第2の発光素子を覆う封止膜を形成する第2のステップと、封止膜上に、第1の発光素子の発する光によって硬化する第1の着色材料層を形成する第3のステップと、第1の発光素子を発光させることで、第1の着色材料層の第1の発光素子の発光領域と重なる領域を硬化させる第4のステップと、現像により、第1の着色材料層の未硬化領域を除去する第5のステップと、封止膜上に、第1の着色材料層とは異なる波長域の光を透過し、第2の発光素子の発する光によって硬化する第2の着色材料層を形成する第6のステップと、第2の発光素子を発光させることで、第2の着色材料層の第2の発光素子の発光領域と重なる領域を硬化させる第7のステップと、現像により、第2の着色材料層の未硬化領域を除去する第8のステップと、を有する表示装置の作製方法である。 Specifically, according to one embodiment of the present invention, a first light-emitting element is formed by forming a first electrode, a layer containing a light-emitting organic compound, and a second electrode that transmits visible light in this order. And a first step of manufacturing a second light emitting element, a second step of forming a sealing film in contact with the second electrode and covering the first light emitting element and the second light emitting element, and a sealing film A first step of forming a first coloring material layer that is cured by light emitted from the first light emitting element, and emitting the first light emitting element to emit light of the first coloring material layer. A fourth step of curing a region overlapping the light emitting region of the light emitting element; a fifth step of removing an uncured region of the first coloring material layer by development; and a first coloring material on the sealing film. Second coloring that transmits light in a wavelength region different from that of the layer and is cured by light emitted from the second light emitting element A sixth step of forming the material layer, a seventh step of curing the region overlapping the light emitting region of the second light emitting element of the second coloring material layer by causing the second light emitting element to emit light, and developing Thus, an eighth step of removing the uncured region of the second coloring material layer is a method for manufacturing a display device.

なお、本明細書中において、着色層とは、カラーフィルタや色変換層として機能する層を指す。 Note that in this specification, the colored layer refers to a layer that functions as a color filter or a color conversion layer.

なお、本明細書中では、表示装置にコネクター、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)、TAB(Tape Automated Bonding)テープもしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TABテープやTCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、又は発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て表示装置に含むものとする。 In this specification, a display device is connected to a connector such as an FPC (Flexible Printed Circuit), a TAB (Tape Automated Bonding) tape, or a TCP (Tape Carrier Package), or a printed wiring on the end of a TAB tape or TCP. It is assumed that the display device also includes a module provided with a plate or a module in which an IC (integrated circuit) is directly mounted on a light emitting element by a COG (Chip On Glass) method.

本発明の一態様では、有機EL素子の光を用いて着色材料層を硬化することで、カラーフィルタや色変換層として機能する着色層を形成する。フォトマスクを用いることなく、着色層を有機EL素子上に形成することができるため、安価で簡便に有機EL素子を用いた表示装置を提供できる。 In one embodiment of the present invention, a coloring layer that functions as a color filter or a color conversion layer is formed by curing a coloring material layer using light of an organic EL element. Since a colored layer can be formed on an organic EL element without using a photomask, a display device using the organic EL element can be provided inexpensively and easily.

表示装置及びその作製方法の一例を示す図。4A and 4B illustrate an example of a display device and a manufacturing method thereof. 表示装置の一例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of a display device. 表示装置の作製方法の一例を示す図。4A and 4B illustrate an example of a method for manufacturing a display device. 表示装置の一例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of a display device. 表示装置の作製方法の一例を示す図。4A and 4B illustrate an example of a method for manufacturing a display device. 表示装置の作製方法の一例を示す図。4A and 4B illustrate an example of a method for manufacturing a display device. 発光素子の一例を示す図。FIG. 6 illustrates an example of a light-emitting element. 電子機器の一例を示す図。FIG. 14 illustrates an example of an electronic device.

実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。 Embodiments will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description, and it is easily understood by those skilled in the art that modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments below. Note that in structures of the invention described below, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals in different drawings, and description thereof is not repeated.

(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置の作製方法について図1乃至図6を用いて説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, a method for manufacturing a display device according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

本実施の形態の表示装置は、有機EL素子と、該有機EL素子を覆う封止膜と、該封止膜上の着色層と、を備える。該着色層は、特定の波長域の光を透過する着色材料層を用いて形成される。本発明の一態様の表示装置の作製方法では、有機EL素子の光を用いて着色材料層を硬化する。着色材料層における硬化させたい領域(着色層を設けたい領域)と重なる有機EL素子を発光させることで、所望の領域に着色層を設けることができる。 The display device of the present embodiment includes an organic EL element, a sealing film that covers the organic EL element, and a colored layer on the sealing film. The colored layer is formed using a colored material layer that transmits light in a specific wavelength range. In the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, the coloring material layer is cured using light of the organic EL element. A colored layer can be provided in a desired region by emitting light from an organic EL element that overlaps a region to be cured (region where a colored layer is to be provided) in the coloring material layer.

本発明の一態様の表示装置の作製方法では、フォトマスクを用いることなく、着色層を有機EL素子上に形成することができる。したがって、安価で簡便に有機EL素子を用いた表示装置を提供することができる。 In the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, a colored layer can be formed over an organic EL element without using a photomask. Therefore, a display device using an organic EL element can be provided inexpensively and easily.

本実施の形態では、カラーフィルタとして機能する着色層を備える表示装置を例に挙げて説明する。本発明はこれに限られず、例えば、色変換層として機能する着色層を備える表示装置を作製してもよい。 In this embodiment, a display device including a colored layer functioning as a color filter is described as an example. The present invention is not limited to this. For example, a display device including a colored layer that functions as a color conversion layer may be manufactured.

本発明の一態様の表示装置が備える画素の断面図の一例を図1(A)に示す。図1(A)では、基板101上に発光素子103が設けられている。発光素子103は、トップエミッション(上面射出)構造の発光素子であり、第1の電極131、発光性の有機化合物を含む層(EL層)133、及び可視光を透過する第2の電極135によって構成されている。発光素子103の構成例、材料、作製方法等は、実施の形態2で詳述する。発光素子103は、封止膜107によって覆われている。封止膜107上には、発光素子103と重なる領域にカラーフィルタ109が設けられている。 An example of a cross-sectional view of a pixel included in the display device of one embodiment of the present invention is illustrated in FIG. In FIG. 1A, a light-emitting element 103 is provided over a substrate 101. The light-emitting element 103 is a light-emitting element having a top emission (top emission) structure, and includes a first electrode 131, a layer containing a light-emitting organic compound (EL layer) 133, and a second electrode 135 that transmits visible light. It is configured. A structure example, a material, a manufacturing method, and the like of the light-emitting element 103 will be described in detail in Embodiment 2. The light emitting element 103 is covered with a sealing film 107. A color filter 109 is provided over the sealing film 107 in a region overlapping with the light emitting element 103.

画素が呈する光の色は、該画素が備えるカラーフィルタによって決まる。カラーフィルタの色要素は、特に限定されず、赤、緑、青、イエロー、シアン、マゼンタ等を用いることができる。 The color of light exhibited by a pixel is determined by a color filter included in the pixel. The color element of the color filter is not particularly limited, and red, green, blue, yellow, cyan, magenta, and the like can be used.

本実施の形態の表示装置が備えるカラーフィルタは、可視光硬化型の光重合開始剤と、顔料もしくは染料と、バインダーと、を用いて形成される。可視光硬化型の光重合開始剤としては、チタノセン系化合物、α−ジケトン化合物、トリアジン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、ビスアシルホスフィンオキサイド化合物、カンファーキノン誘導体等を用いることができる。 The color filter included in the display device of this embodiment is formed using a visible light curable photopolymerization initiator, a pigment or dye, and a binder. As the visible light curable photopolymerization initiator, titanocene compounds, α-diketone compounds, triazine compounds, acylphosphine oxide compounds, bisacylphosphine oxide compounds, camphorquinone derivatives, and the like can be used.

カラーフィルタに用いる顔料や染料は、カラーフィルタの色によって異なる。例えば、赤色のカラーフィルタには、赤色の顔料や染料を用いる。赤色の顔料としては、ジケトピロロピロール顔料、アントラキノン顔料等が挙げられる。また、緑色のカラーフィルタには、緑色の顔料や染料を用いる。緑色の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン顔料等が挙げられる。また、調色用として、イソンドリン顔料、ジクロロベンジジン系ジスアゾ顔料、アゾメチン銅錯体顔料、モノアゾニッケル錯体顔料等の黄色の顔料を含んでいても良い。また、青色のカラーフィルタには、青色の顔料や染料を用いる。青色の顔料としては、フタロシアニン顔料等が挙げられる。 The pigment and dye used for the color filter differ depending on the color of the color filter. For example, a red pigment or dye is used for the red color filter. Examples of red pigments include diketopyrrolopyrrole pigments and anthraquinone pigments. A green pigment or dye is used for the green color filter. Examples of the green pigment include halogenated phthalocyanine pigments. For toning, yellow pigments such as isondoline pigments, dichlorobenzidine disazo pigments, azomethine copper complex pigments, monoazo nickel complex pigments may be included. A blue pigment or dye is used for the blue color filter. Examples of blue pigments include phthalocyanine pigments.

また、カラーフィルタに用いることができる染料としては、例えば、アゾ系染料、ベンゾキノン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、メロシアニン系染料、スチルベン系染料、ジアリールメタン系染料、トリアリールメタン系染料、フルオラン系染料、スピロピラン系染料、フタロシアニン系染料、インジゴ系染料、フルギド系染料、ニッケル錯体系染料、及びアズレン系染料が挙げられる。これらの染料は、所望の分光スペクトルを発現させるために、単独で用いても良く、2種類以上を混合して用いても良い。 Examples of the dye that can be used in the color filter include azo dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, croconium dyes, merocyanine dyes, and stilbene dyes. , Diarylmethane dyes, triarylmethane dyes, fluorane dyes, spiropyran dyes, phthalocyanine dyes, indigo dyes, fulgide dyes, nickel complex dyes, and azulene dyes. These dyes may be used alone or in combination of two or more in order to develop a desired spectral spectrum.

バインダーとしては、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、エチルセルロース系樹脂、マレイン酸系樹脂等を用いることができる。カラーフィルタは、バインダーへの顔料や染料の分散性を高めるためのカップリング剤等をさらに用いて形成しても良い。 As the binder, polyimide resin, acrylic resin, ethyl cellulose resin, maleic acid resin, or the like can be used. The color filter may be formed by further using a coupling agent for improving the dispersibility of the pigment or dye in the binder.

なお、発光素子103の構成は上記に限られない。例えば、可視光を反射する第1の電極131と、可視光を透過及び反射する第2の電極135を重ねて微小共振器を構成し、その間にEL層133を設けることで、第2の電極135側から特定の波長の光を効率良く取り出せる。取り出す光の波長は、第1の電極131と第2の電極135の間の距離に依存し、その距離は、第1の電極131と第2の電極135の間に光学調整層を形成することで調整できる。 Note that the structure of the light-emitting element 103 is not limited to the above. For example, a microresonator is formed by stacking a first electrode 131 that reflects visible light and a second electrode 135 that transmits and reflects visible light, and an EL layer 133 is provided therebetween, whereby the second electrode Light of a specific wavelength can be efficiently extracted from the 135 side. The wavelength of the light to be extracted depends on the distance between the first electrode 131 and the second electrode 135, and the distance forms an optical adjustment layer between the first electrode 131 and the second electrode 135. It can be adjusted with.

光学調整層としては、可視光に対して透光性を有する導電膜や、EL層を構成する層を適用できる。例えば、青色の画素は、400nm以上500nm未満の波長の光を強め合うように第1の電極131と第2の電極135の間に光学調整層を形成すれば良い。同様に、緑色の画素は、500nm以上600nm未満の波長の光を強め合うように、また、赤色の画素は、600nm以上800nm未満の波長の光を強め合うように、第1の電極131と第2の電極135の間に光学調整層を形成すれば良い。このような構成を適用することで、発光素子103が発する光は第1の電極131と第2の電極135の間で干渉し合い、400nm以上800nm未満の波長を有する光のうち特定の光が強め合い、さらにカラーフィルタが不要な光を吸収する。 As the optical adjustment layer, a conductive film having a light-transmitting property with respect to visible light or a layer constituting an EL layer can be used. For example, for a blue pixel, an optical adjustment layer may be formed between the first electrode 131 and the second electrode 135 so as to intensify light having a wavelength of 400 nm or more and less than 500 nm. Similarly, the first pixel 131 and the first electrode 131 are arranged so that the green pixel intensifies light having a wavelength of 500 nm or more and less than 600 nm, and the red pixel is intensified by light having a wavelength of 600 nm or more and less than 800 nm. An optical adjustment layer may be formed between the two electrodes 135. By applying such a structure, light emitted from the light-emitting element 103 interferes between the first electrode 131 and the second electrode 135, and specific light among light having a wavelength of 400 nm to less than 800 nm is generated. Strengthen up, and color filters absorb unnecessary light.

本発明の一態様の表示装置の作製方法について、図1(B)を用いて説明する。まず、基板101上に第1の電極131を形成する。次に、第1の電極131上に絶縁層105を形成し、さらに、EL層133及び第2の電極135を形成する。そして、発光素子103を覆う封止膜107を形成する。そして、封止膜107上に、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を含む着色材料層199を設ける。 A method for manufacturing a display device according to one embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. First, the first electrode 131 is formed over the substrate 101. Next, the insulating layer 105 is formed over the first electrode 131, and the EL layer 133 and the second electrode 135 are formed. Then, a sealing film 107 that covers the light emitting element 103 is formed. Then, a coloring material layer 199 including a pigment or dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator is provided over the sealing film 107.

基板101としては、ガラス、石英、有機樹脂などの材料を用いることができる。 As the substrate 101, a material such as glass, quartz, or an organic resin can be used.

基板101として有機樹脂を用いる場合、有機樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル樹脂、ポリアクリルニトリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、ポリエーテルスルフォン(PES)樹脂、ポリアミド樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、又はポリ塩化ビニル樹脂などを用いることができる。また、ガラス繊維に有機樹脂を含浸した基板や、無機フィラーを有機樹脂に混ぜた基板を使用することもできる。 When an organic resin is used as the substrate 101, examples of the organic resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyacrylonitrile resin, polyimide resin, polymethyl methacrylate resin, and polycarbonate (PC). Resin, polyether sulfone (PES) resin, polyamide resin, cycloolefin resin, polystyrene resin, polyamideimide resin, polyvinyl chloride resin, or the like can be used. A substrate in which glass fiber is impregnated with an organic resin or a substrate in which an inorganic filler is mixed with an organic resin can also be used.

絶縁層105は、有機絶縁材料、又は無機絶縁材料を用いて形成する。特に感光性の樹脂材料を用い、その開口部の側壁が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することが好ましい。 The insulating layer 105 is formed using an organic insulating material or an inorganic insulating material. In particular, it is preferable to use a photosensitive resin material so that the side wall of the opening has an inclined surface formed with a continuous curvature.

封止膜107は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム等の防湿性の高い無機絶縁材料や、エポキシ樹脂等の防湿性の高い有機樹脂材料を用いて形成することができる。また、乾燥剤を含む有機樹脂材料を用いても良い。封止膜107は、単層構造であっても積層構造であっても良い。 The sealing film 107 can be formed using a highly moisture-proof inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon nitride, or aluminum oxide, or a highly moisture-proof organic resin material such as an epoxy resin. Alternatively, an organic resin material containing a desiccant may be used. The sealing film 107 may have a single layer structure or a laminated structure.

着色材料層199は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、キャスト法等を用いて形成することができる。着色材料層199は、可視光硬化型の光重合開始剤と、顔料もしくは染料と、バインダーと、を含む。可視光硬化型の光重合開始剤、顔料、染料、バインダーとしては、それぞれ前述の材料を用いることができる。 The coloring material layer 199 can be formed by a spin coating method, a slit coating method, a spray coating method, a casting method, or the like. The coloring material layer 199 includes a visible light curable photopolymerization initiator, a pigment or dye, and a binder. As the visible light curable photopolymerization initiator, pigment, dye, and binder, the aforementioned materials can be used.

本発明の一態様の表示装置の作製方法では、発光素子103の発光により、着色材料層199の所望の領域を硬化させる。したがって、室内の光によって着色材料層199が硬化しないよう、室内の照明等は適宜調整する。例えば、着色材料層199の形成以後の工程をイエロールームで行っても良い。 In the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, a desired region of the coloring material layer 199 is cured by light emission of the light-emitting element 103. Therefore, indoor lighting and the like are adjusted as appropriate so that the coloring material layer 199 is not cured by indoor light. For example, the steps after the formation of the coloring material layer 199 may be performed in a yellow room.

そして、発光素子103を発光させることで、着色材料層199に可視光を照射する。可視光が照射されることで、着色材料層199の一部の領域(発光素子103の発光領域と重なる領域を含む)は硬化する。その後、現像することで、着色材料層のうち未硬化の領域が除去され、発光素子103の発光領域と重なる領域に、カラーフィルタ109(着色材料層199の硬化領域に相当)が形成される(図1(A)参照)。 Then, the coloring material layer 199 is irradiated with visible light by causing the light emitting element 103 to emit light. By irradiation with visible light, a part of the coloring material layer 199 (including a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103) is cured. Thereafter, development is performed to remove an uncured region of the coloring material layer, and a color filter 109 (corresponding to a cured region of the coloring material layer 199) is formed in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 ( (See FIG. 1A).

また、本発明の一態様の表示装置の作製方法を用いて、複数の有機EL素子と、該複数の有機EL素子を覆う封止膜と、該封止膜上の複数の着色層と、を備える表示装置を作製できる。該複数の着色層は、それぞれ異なる波長域の光を透過する複数の着色材料層を用いて形成される。 In addition, by using the method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention, a plurality of organic EL elements, a sealing film that covers the plurality of organic EL elements, and a plurality of colored layers over the sealing film, A display device provided can be manufactured. The plurality of colored layers are formed using a plurality of colored material layers that transmit light in different wavelength ranges.

また、本発明の一態様の表示装置の作製方法は、パッシブマトリクス方式及びアクティブマトリクス方式のどちらの表示装置の作製においても適用できる。 The method for manufacturing a display device according to one embodiment of the present invention can be applied to manufacture of either a passive matrix display device or an active matrix display device.

≪表示装置の構成例1≫
図2にパッシブマトリクス方式の表示装置の例を示す。パッシブマトリクス方式の表示装置は、ストライプ状(帯状)に並列された複数の陽極と、ストライプ状(帯状)に並列された複数の陰極と、が互いに直交するように設けられており、その交差部にEL層が挟まれた構造となっている。したがって、選択された(電圧が印加された)陽極と、選択された陰極との交点にあたる画素が点灯することになる。
<< Configuration Example 1 of Display Device >>
FIG. 2 shows an example of a passive matrix display device. A passive matrix display device includes a plurality of anodes arranged in stripes (bands) and a plurality of cathodes arranged in stripes (bands) so as to be orthogonal to each other. The EL layer is sandwiched between the two. Therefore, the pixel corresponding to the intersection of the selected anode (to which a voltage is applied) and the selected cathode is turned on.

図2(A)は、EL層を形成する前の表示部の平面図であり、基板上に第1の電極131が設けられ、第1の電極131上に、画素の発光領域に対応する開口部を有する絶縁層105が設けられ、絶縁層105上に、第1の電極131と交差する互いに平行な複数の逆テーパ形状の隔壁106が設けられている。 FIG. 2A is a plan view of the display portion before the EL layer is formed. The first electrode 131 is provided over the substrate, and the opening corresponding to the light-emitting region of the pixel is formed over the first electrode 131. An insulating layer 105 having a portion is provided, and a plurality of reverse-tapered partition walls 106 that are parallel to each other and intersect the first electrode 131 are provided over the insulating layer 105.

図2(B)は、図2(A)の一点鎖線A−B間の断面図であり、図2(C)は、図2(A)の一点鎖線C−D間の断面図である。図2(B)(C)では、第1の電極131上にEL層133、第2の電極135を形成することで発光素子103を設け、発光素子103を封止する封止膜107を形成し、封止膜107上にカラーフィルタを形成した後の構成を示している。 2B is a cross-sectional view taken along the dashed-dotted line AB in FIG. 2A, and FIG. 2C is a cross-sectional view taken along the dashed-dotted line CD in FIG. 2B and 2C, the EL layer 133 and the second electrode 135 are formed over the first electrode 131, whereby the light-emitting element 103 is provided, and the sealing film 107 that seals the light-emitting element 103 is formed. In addition, the structure after the color filter is formed on the sealing film 107 is shown.

図2(B)(C)では、基板101上に下地絶縁膜121が設けられ、下地絶縁膜121上にストライプ状の複数の第1の電極131が等間隔で配置されている例を示す。 2B and 2C illustrate an example in which a base insulating film 121 is provided over the substrate 101 and a plurality of stripe-shaped first electrodes 131 are arranged on the base insulating film 121 at equal intervals.

図2(C)に示すように、絶縁層105及び隔壁106の膜厚を、EL層133及び第2の電極135の膜厚より大きくすることで、複数の領域に分離されたEL層133及び第2の電極135が形成される。第2の電極135は、第1の電極131と交差する方向に伸長する互いに平行なストライプ状の電極である。複数に分離された領域は、それぞれ電気的に独立している。なお、隔壁106上にも、EL層133や第2の電極135を構成する材料からなる層が成膜されるが、これらの層は、EL層133及び第2の電極135とは分断されている。 As shown in FIG. 2C, the insulating layer 105 and the partition 106 are made thicker than the EL layer 133 and the second electrode 135 so that the EL layer 133 separated into a plurality of regions and A second electrode 135 is formed. The second electrode 135 is a striped electrode parallel to each other and extending in a direction intersecting the first electrode 131. The areas separated into a plurality are electrically independent from each other. Note that a layer made of a material that forms the EL layer 133 and the second electrode 135 is also formed over the partition wall 106, and these layers are separated from the EL layer 133 and the second electrode 135. Yes.

発光素子103(第1の電極131、EL層133、及び第2の電極135)を覆う封止膜107上には、発光素子103の発光領域と重なる領域にカラーフィルタが設けられている。 On the sealing film 107 covering the light-emitting element 103 (the first electrode 131, the EL layer 133, and the second electrode 135), a color filter is provided in a region overlapping with the light-emitting region of the light-emitting element 103.

本実施の形態では、各色の画素が備える発光素子103は白色を呈する光を発する構成とする。本実施の形態において、各色の画素では、カラーフィルタ以外の構成は同一である。図2(C)に示す表示装置は、赤色の光を呈する赤色の画素180R、緑色の光を呈する緑色の画素180G、及び青色の光を呈する青色の画素180Bを有する。これにより、図2(C)に示す表示装置は、フルカラーの表示を実現できる。 In this embodiment mode, the light-emitting element 103 included in each color pixel emits white light. In the present embodiment, the components other than the color filter are the same in each color pixel. The display device illustrated in FIG. 2C includes a red pixel 180R that exhibits red light, a green pixel 180G that exhibits green light, and a blue pixel 180B that exhibits blue light. Thus, the display device illustrated in FIG. 2C can realize full-color display.

赤色の画素180Rでは、赤色のカラーフィルタ109Rが、発光素子103と重なる領域に設けられている。緑色の画素180Gでは、緑色のカラーフィルタ109Gが、発光素子103と重なる領域に設けられている。青色の画素180Bでは、青色のカラーフィルタ109Bが、発光素子103と重なる領域に設けられている。例えば、赤色のカラーフィルタ109Rは、赤色の光を透過し、それ以外の色の可視光を吸収する。 In the red pixel 180 </ b> R, a red color filter 109 </ b> R is provided in a region overlapping with the light emitting element 103. In the green pixel 180G, a green color filter 109G is provided in a region overlapping with the light emitting element 103. In the blue pixel 180 </ b> B, a blue color filter 109 </ b> B is provided in a region overlapping with the light emitting element 103. For example, the red color filter 109R transmits red light and absorbs visible light of other colors.

図2(D)に、パッシブマトリクス方式の表示装置にFPC(Flexible Printed Circuit)等を実装した場合の平面図を示す。図2(D)の表示部では、複数の第1の電極131と複数の第2の電極135とが互いに直交するように交差している。なお、図2(D)において、一部の構成(EL層133、封止膜107、カラーフィルタ等)の図示は省略している。本明細書における表示装置は、表示装置本体だけでなく、表示装置本体にFPCまたはPWBが取り付けられた状態のものも範疇に含むものとする。 FIG. 2D is a plan view in the case where an FPC (Flexible Printed Circuit) or the like is mounted on a passive matrix display device. In the display portion in FIG. 2D, the plurality of first electrodes 131 and the plurality of second electrodes 135 intersect so as to be orthogonal to each other. Note that in FIG. 2D, illustration of some components (such as the EL layer 133, the sealing film 107, and a color filter) is omitted. The display device in this specification includes not only the display device body but also a display device body in which an FPC or PWB is attached.

複数の第1の電極131は、異方性導電膜(図示しない)を介してFPC1109aに接続される。また、複数の第2の電極135は、配線端で接続配線1108と電気的に接続され、接続配線1108が異方性導電膜(図示しない)を介してFPC1109bに接続される。 The plurality of first electrodes 131 are connected to the FPC 1109a through an anisotropic conductive film (not shown). The plurality of second electrodes 135 are electrically connected to the connection wiring 1108 at the wiring ends, and the connection wiring 1108 is connected to the FPC 1109b through an anisotropic conductive film (not shown).

図2(D)では、駆動回路を基板101上に設けない例を示したが、基板101上に駆動回路を有するICチップを実装させても良い。 Although FIG. 2D illustrates an example in which the driver circuit is not provided over the substrate 101, an IC chip including the driver circuit may be mounted over the substrate 101.

また、本発明の一態様を適用して作製される表示装置では、基板101上の表示部が対向基板を用いて封止されていても良く、例えば、表示部を囲うように枠状に配置されたシール材によって、基板101及び対向基板が貼り合わされていても良い。シール材には、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の有機樹脂や、ガラスフリット等を用いることができる。対向基板としては、基板101に用いることができる材料を適用することができ、例えば、ガラスや有機樹脂を好適に用いることができる。対向基板を用いて封止を行うことで、水分等の不純物が発光素子に混入することを抑制でき、信頼性の高い表示装置を実現でき好ましい。 In the display device manufactured by applying one embodiment of the present invention, the display portion over the substrate 101 may be sealed with a counter substrate, for example, arranged in a frame shape so as to surround the display portion The substrate 101 and the counter substrate may be bonded to each other by the sealing material that has been used. As the sealing material, an organic resin such as a photocurable resin or a thermosetting resin, glass frit, or the like can be used. As the counter substrate, a material that can be used for the substrate 101 can be used. For example, glass or an organic resin can be preferably used. Sealing with the use of the counter substrate is preferable because impurities such as moisture can be prevented from entering the light-emitting element and a highly reliable display device can be realized.

≪表示装置の作製方法例1≫
本発明の一態様の表示装置の作製方法について、図3を用いて説明する。
<< Example 1 of Manufacturing Method of Display Device >>
A method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention is described with reference to FIGS.

[発光素子の作製]
まず、基板101上に下地絶縁膜121を形成し、下地絶縁膜121上に、接続配線1108及び第1の電極131を形成する。次に、第1の電極131上に絶縁層105及び隔壁106を形成し、さらに、EL層133及び第2の電極135を形成する。そして、発光素子103を覆う封止膜107を形成する。
[Production of light-emitting element]
First, the base insulating film 121 is formed over the substrate 101, and the connection wiring 1108 and the first electrode 131 are formed over the base insulating film 121. Next, the insulating layer 105 and the partition wall 106 are formed over the first electrode 131, and the EL layer 133 and the second electrode 135 are formed. Then, a sealing film 107 that covers the light emitting element 103 is formed.

基板101に含まれる不純物が基板101上に設けられる各素子に拡散することを抑制するため、基板101の表面には絶縁材料を用いて下地絶縁膜121を設けることが好ましい。下地絶縁膜121は必要で無ければ設けなくても良い。 In order to prevent impurities contained in the substrate 101 from diffusing into elements provided over the substrate 101, it is preferable to provide a base insulating film 121 on the surface of the substrate 101 using an insulating material. The base insulating film 121 is not necessarily provided if not necessary.

接続配線1108を第1の電極131と同一工程で作製すると、表示装置の作製工程を簡略化できるため、好ましい。本実施の形態では、封止膜107を、発光素子103と接する無機絶縁膜と、乾燥剤を含む有機樹脂膜と、無機絶縁膜と、の3層構造とする。 The connection wiring 1108 is preferably formed in the same process as the first electrode 131 because the manufacturing process of the display device can be simplified. In this embodiment mode, the sealing film 107 has a three-layer structure of an inorganic insulating film in contact with the light-emitting element 103, an organic resin film containing a desiccant, and an inorganic insulating film.

隔壁106は、無機絶縁材料、又は有機絶縁材料を用いて形成することができる。例えば、有機絶縁材料としては、ネガ型やポジ型の感光性を有する樹脂材料、非感光性の樹脂材料などを用いることができる。 The partition wall 106 can be formed using an inorganic insulating material or an organic insulating material. For example, as the organic insulating material, a negative or positive photosensitive resin material, a non-photosensitive resin material, or the like can be used.

[赤色の画素の作製]
次に、封止膜107上に、赤色の着色材料層199Rを形成する(図3(A))。
[Production of red pixels]
Next, a red coloring material layer 199R is formed over the sealing film 107 (FIG. 3A).

次に、第1の電極131及び接続配線1108を覆う赤色の着色材料層199Rを除去する。そして、第1の電極131及び接続配線1108に信号を入力することで、一部の発光素子103のみを選択的に発光させる。赤色の着色材料層199Rにおいて、発光素子103の光が照射された領域は、硬化する。 Next, the red coloring material layer 199 </ b> R covering the first electrode 131 and the connection wiring 1108 is removed. Then, by inputting a signal to the first electrode 131 and the connection wiring 1108, only some of the light-emitting elements 103 are selectively made to emit light. In the red coloring material layer 199R, a region irradiated with light from the light-emitting element 103 is cured.

本実施の形態の表示装置は、パッシブマトリクス方式であるため、第1の電極131及び接続配線1108に入力する信号によって、第1の電極131と第2の電極135の交点に相当する任意の発光素子を発光させることができる。また、該信号を制御することで、複数の発光素子を同時に発光させることができる。ここでは、発光領域上に赤色のカラーフィルタ109Rを設けたい発光素子103のみを選択的に発光させる。このとき発光させた発光素子103は、赤色の画素180Rを構成する発光素子となる。つまり、赤色の画素180Rを構成する発光素子103の発光領域と重なる領域の赤色の着色材料層199Rが、該発光素子103から可視光が照射されることで硬化する。 Since the display device in this embodiment mode is a passive matrix method, arbitrary light emission corresponding to the intersection of the first electrode 131 and the second electrode 135 is generated by a signal input to the first electrode 131 and the connection wiring 1108. The element can emit light. Further, by controlling the signal, a plurality of light emitting elements can emit light simultaneously. Here, only the light emitting element 103 for which the red color filter 109R is to be provided on the light emitting region is selectively caused to emit light. The light-emitting element 103 that emits light at this time becomes a light-emitting element constituting the red pixel 180R. That is, the red coloring material layer 199 </ b> R in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 constituting the red pixel 180 </ b> R is cured by being irradiated with visible light from the light emitting element 103.

着色材料層の形成方法等によっては、第1の電極131及び接続配線1108が着色材料層に覆われ、第1の電極131及び接続配線1108に信号を入力できない場合がある。このような場合は、第1の電極131及び接続配線1108に信号が入力できる程度に、第1の電極131上及び接続配線1108上の着色材料層を除去する。例えば、アセトン等の有機溶媒を用いて第1の電極131上及び接続配線1108上の着色材料層を除去すれば良い。 Depending on the method for forming the coloring material layer, the first electrode 131 and the connection wiring 1108 may be covered with the coloring material layer, and a signal may not be input to the first electrode 131 and the connection wiring 1108. In such a case, the coloring material layer over the first electrode 131 and the connection wiring 1108 is removed to such an extent that a signal can be input to the first electrode 131 and the connection wiring 1108. For example, the coloring material layer over the first electrode 131 and the connection wiring 1108 may be removed using an organic solvent such as acetone.

第1の電極131及び接続配線1108に信号を入力する方法は、特に限定されず、例えば、第1の電極131及び接続配線1108にプローブ(針、探針)を当てる、第1の電極131及び接続配線1108にFPC等の外部入力端子を電気的に接続する等により、第1の電極131及び接続配線1108に信号を入力することができる。本実施の形態では、第1の電極131及び接続配線1108にプローブを当てて、信号を入力する。 A method for inputting a signal to the first electrode 131 and the connection wiring 1108 is not particularly limited. For example, the first electrode 131 and the connection wiring 1108 are contacted with a probe (needle, probe). A signal can be input to the first electrode 131 and the connection wiring 1108 by electrically connecting an external input terminal such as an FPC to the connection wiring 1108. In this embodiment mode, a probe is applied to the first electrode 131 and the connection wiring 1108 to input a signal.

次に、現像を行うことで、赤色の着色材料層199Rの未硬化領域を除去する。これにより、図3(B)に示すように、発光素子103の発光領域と重なる領域に赤色のカラーフィルタ109Rが設けられた赤色の画素180Rが形成される。 Next, development is performed to remove the uncured region of the red coloring material layer 199R. As a result, as shown in FIG. 3B, a red pixel 180R in which a red color filter 109R is provided in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 is formed.

[緑色の画素の作製]
同様に、封止膜107及び赤色のカラーフィルタ109R上に、緑色の着色材料層199Gを形成し、第1の電極131上及び接続配線1108上の緑色の着色材料層199Gを除去する。そして、第1の電極131及び接続配線1108に信号を入力することで、一部の発光素子103のみを選択的に発光させる(図3(C))。緑色の着色材料層199Gにおいて、発光素子103の光が照射された領域は硬化する。
[Production of green pixels]
Similarly, a green coloring material layer 199G is formed over the sealing film 107 and the red color filter 109R, and the green coloring material layer 199G over the first electrode 131 and the connection wiring 1108 is removed. Then, by inputting a signal to the first electrode 131 and the connection wiring 1108, only some of the light-emitting elements 103 are selectively caused to emit light (FIG. 3C). In the green coloring material layer 199G, a region irradiated with light from the light emitting element 103 is cured.

ここでは、発光領域上に緑色のカラーフィルタ109Gを設けたい発光素子103のみを選択的に発光させる。このとき発光させた発光素子103は、緑色の画素180Gを構成する発光素子となる。つまり、緑色の画素180Gを構成する発光素子103の発光領域と重なる領域の緑色の着色材料層199Gが、該発光素子103から可視光が照射されることで硬化する。 Here, only the light emitting element 103 for which the green color filter 109G is to be provided on the light emitting region is selectively caused to emit light. The light-emitting element 103 that emits light at this time becomes a light-emitting element constituting the green pixel 180G. That is, the green coloring material layer 199 </ b> G in a region overlapping the light emitting region of the light emitting element 103 constituting the green pixel 180 </ b> G is cured by being irradiated with visible light from the light emitting element 103.

次に、現像を行うことで、緑色の着色材料層199Gの未硬化領域を除去する。これにより、図3(D)に示すように、発光素子103の発光領域と重なる領域に緑色のカラーフィルタ109Gが設けられた緑色の画素180Gが形成される。 Next, development is performed to remove an uncured region of the green coloring material layer 199G. Accordingly, as illustrated in FIG. 3D, a green pixel 180G in which a green color filter 109G is provided in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 is formed.

[青色の画素の作製]
さらに、封止膜107、赤色のカラーフィルタ109R、及び緑色のカラーフィルタ109G上に、青色の着色材料層199Bを形成し、第1の電極131上及び接続配線1108上の青色の着色材料層199Bを除去する。そして、第1の電極131及び接続配線1108に信号を入力することで、一部の発光素子103のみを選択的に発光させる(図3(D))。青色の着色材料層199Bにおいて、発光素子103の光が照射された領域は硬化する。
[Production of blue pixels]
Further, a blue coloring material layer 199B is formed over the sealing film 107, the red color filter 109R, and the green color filter 109G, and the blue coloring material layer 199B over the first electrode 131 and the connection wiring 1108 is formed. Remove. Then, by inputting a signal to the first electrode 131 and the connection wiring 1108, only some of the light-emitting elements 103 are selectively caused to emit light (FIG. 3D). In the blue coloring material layer 199 </ b> B, the region irradiated with light from the light-emitting element 103 is cured.

ここでは、発光領域上に青色のカラーフィルタ109Bを設けたい発光素子103のみを選択的に発光させる。このとき発光させた発光素子103は、青色の画素180Bを構成する発光素子となる。つまり、青色の画素180Bを構成する発光素子103の発光領域と重なる領域の青色の着色材料層199Bが、該発光素子103から可視光が照射されることで硬化する。 Here, only the light emitting element 103 for which the blue color filter 109B is to be provided on the light emitting region is selectively caused to emit light. The light emitting element 103 that emits light at this time becomes a light emitting element constituting the blue pixel 180B. That is, the blue coloring material layer 199 </ b> B in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 constituting the blue pixel 180 </ b> B is cured by being irradiated with visible light from the light emitting element 103.

次に、現像を行うことで、青色の着色材料層199Bの未硬化領域を除去する。これにより、図2(C)に示すように、発光素子103の発光領域と重なる領域に青色のカラーフィルタ109Bが設けられた青色の画素180Bが形成される。 Next, development is performed to remove the uncured region of the blue coloring material layer 199B. Thus, as shown in FIG. 2C, a blue pixel 180B in which a blue color filter 109B is provided in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 is formed.

そして、第1の電極131と電気的に接続するFPC1109a、及び接続配線1108と電気的に接続するFPC1109bを設ける。なお、先の工程でFPCを設けていた場合、この工程は省略できる。なお、カラーフィルタを覆う封止膜、ブラックマトリクス等をさらに形成しても良い。 Then, an FPC 1109a electrically connected to the first electrode 131 and an FPC 1109b electrically connected to the connection wiring 1108 are provided. Note that this step can be omitted when the FPC is provided in the previous step. Note that a sealing film covering the color filter, a black matrix, or the like may be further formed.

以上により、図2(D)に示す表示装置を作製することができる。 Through the above steps, the display device illustrated in FIG. 2D can be manufactured.

≪表示装置の構成例2≫
図4(A)に、表示装置の平面図を示す。図4(B)に、図4(A)における一点鎖線E−F間の断面図を示す。
<< Display device configuration example 2 >>
FIG. 4A shows a plan view of the display device. FIG. 4B is a cross-sectional view taken along alternate long and short dash line E-F in FIG.

図4(A)に示す表示装置は、基板101上に、表示部4502、駆動回路部4503、駆動回路部4504を有する。 A display device illustrated in FIG. 4A includes a display portion 4502, a driver circuit portion 4503, and a driver circuit portion 4504 over a substrate 101.

基板101上には、駆動回路部4503及び駆動回路部4504に外部からの信号(ビデオ信号、クロック信号、スタート信号、またはリセット信号等)や電位を伝達する外部入力端子を接続するための引き回し配線が設けられる。ここでは、外部入力端子としてFPC4505を設ける例を示している。なお、FPC4505にはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていてもよい。 On the substrate 101, a lead wiring for connecting an external input terminal for transmitting a signal (video signal, clock signal, start signal, reset signal, or the like) or potential from the outside to the driver circuit portion 4503 and the driver circuit portion 4504. Is provided. Here, an example in which an FPC 4505 is provided as an external input terminal is shown. Note that a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC 4505.

駆動回路部4503及び駆動回路部4504は、トランジスタを複数有する。駆動回路部の回路は、種々のCMOS回路、PMOS回路又はNMOS回路で形成することができる。また、本実施の形態では、表示部が形成された基板上に駆動回路が形成されたドライバー一体型を示すが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、表示部が形成された基板とは別の基板に駆動回路を形成することもできる。 The driver circuit portion 4503 and the driver circuit portion 4504 each include a plurality of transistors. The circuit of the driver circuit portion can be formed by various CMOS circuits, PMOS circuits, or NMOS circuits. In this embodiment mode, a driver integrated type in which a drive circuit is formed on a substrate on which a display portion is formed is shown, but the present invention is not limited to this configuration, and the substrate on which the display portion is formed. A driving circuit can be formed on a different substrate.

表示部4502は、スイッチング用のトランジスタと、電流制御用のトランジスタ123と、電流制御用のトランジスタ123の配線(ソース電極またはドレイン電極)に電気的に接続された第1の電極131とを含む複数の画素により形成されている。また、第1の電極131の端部を覆う絶縁層105が形成されている。 The display portion 4502 includes a switching transistor, a current control transistor 123, and a plurality of first electrodes 131 electrically connected to the wiring (source electrode or drain electrode) of the current control transistor 123. This pixel is formed. In addition, an insulating layer 105 is formed to cover the end portion of the first electrode 131.

図4(B)では、下地絶縁膜121上にトランジスタを形成する例を示したが、下地絶縁膜121は必要で無ければ設けなくても良い。 FIG. 4B illustrates an example in which a transistor is formed over the base insulating film 121; however, the base insulating film 121 is not necessarily provided if not necessary.

また、図4(B)では、トランジスタが絶縁膜125及び絶縁膜127で覆われている例を示す。 FIG. 4B illustrates an example in which the transistor is covered with the insulating film 125 and the insulating film 127.

図4(B)では、FPC4505と電気的に接続する配線4509を、第1の電極131と同一工程で(同一の材料で)作製する例を示すが、これに限られない。配線4509は、表示装置を構成する導電膜のいずれかと同一工程で作製すると、表示装置の作製工程を簡略化することができるため好ましい。 FIG. 4B illustrates an example in which the wiring 4509 electrically connected to the FPC 4505 is manufactured in the same process (using the same material) as the first electrode 131; however, the present invention is not limited to this. The wiring 4509 is preferably formed in the same process as any of the conductive films included in the display device because the manufacturing process of the display device can be simplified.

発光素子103(第1の電極131、EL層133、及び第2の電極135)を覆う封止膜107上には、発光素子103の発光領域と重なる領域にカラーフィルタが設けられている。 On the sealing film 107 covering the light-emitting element 103 (the first electrode 131, the EL layer 133, and the second electrode 135), a color filter is provided in a region overlapping with the light-emitting region of the light-emitting element 103.

ここで、発光素子103は、白色の光を発する。赤色の画素180Rは、発光素子103の発光領域と重なる領域に、赤色のカラーフィルタ109Rを有する。緑色の画素180Gは、発光素子103の発光領域と重なる領域に、緑色のカラーフィルタ109Gを有する。青色の画素180Bは、発光素子103の発光領域と重なる領域に、青色のカラーフィルタ109Bを有する。 Here, the light emitting element 103 emits white light. The red pixel 180 </ b> R includes a red color filter 109 </ b> R in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103. The green pixel 180 </ b> G includes a green color filter 109 </ b> G in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103. The blue pixel 180 </ b> B includes a blue color filter 109 </ b> B in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103.

また、本発明の一態様を適用して作製される表示装置では、基板101上の表示部4502が対向基板を用いて封止されていても良く、例えば、表示部4502、駆動回路部4503、及び駆動回路部4504を囲うように枠状に配置されたシール材によって、基板101及び対向基板が貼り合わされていても良い。対向基板を用いて封止を行うことで、水分等の不純物が発光素子に混入することを抑制でき、信頼性の高い表示装置を実現でき好ましい。 In the display device manufactured by applying one embodiment of the present invention, the display portion 4502 over the substrate 101 may be sealed with a counter substrate, for example, a display portion 4502, a driver circuit portion 4503, In addition, the substrate 101 and the counter substrate may be bonded to each other with a sealant arranged in a frame shape so as to surround the drive circuit portion 4504. Sealing with the use of the counter substrate is preferable because impurities such as moisture can be prevented from entering the light-emitting element and a highly reliable display device can be realized.

≪表示装置の作製方法例2≫
本発明の一態様の表示装置の作製方法について、図5及び図6を用いて説明する。表示装置の作製方法1と同様の工程については、詳細な説明を省略する。
<< Example 2 of Manufacturing Method of Display Device >>
A method for manufacturing a display device of one embodiment of the present invention is described with reference to FIGS. Detailed description of the same steps as those of the display device manufacturing method 1 will be omitted.

[トランジスタの作製]
まず、基板101上に下地絶縁膜121を形成し、下地絶縁膜121上にトランジスタ123を形成する。そして、トランジスタ123を覆う絶縁膜125及び絶縁膜127を形成する。
[Fabrication of transistors]
First, the base insulating film 121 is formed over the substrate 101, and the transistor 123 is formed over the base insulating film 121. Then, an insulating film 125 and an insulating film 127 that cover the transistor 123 are formed.

表示装置に用いるトランジスタの構造は特に限定されない。トップゲート型のトランジスタを用いても良いし、逆スタガ型などのボトムゲート型のトランジスタを用いても良い。また、トランジスタに用いる材料についても特に限定されない。 There is no particular limitation on the structure of the transistor used for the display device. A top-gate transistor may be used, or a bottom-gate transistor such as an inverted staggered transistor may be used. There is no particular limitation on the material used for the transistor.

ゲート電極は、例えば、モリブデン、チタン、クロム、タンタル、タングステン、アルミニウム、銅、ネオジム、スカンジウム等の金属材料又はこれらの元素を含む合金材料を用いて、単層で又は積層して形成することができる。 The gate electrode may be formed as a single layer or a stacked layer using a metal material such as molybdenum, titanium, chromium, tantalum, tungsten, aluminum, copper, neodymium, or scandium, or an alloy material containing these elements. it can.

ゲート絶縁層は、例えば、プラズマCVD法やスパッタリング法等を用いて、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン又は酸化アルミニウムを単層で又は積層して形成することができる。 The gate insulating layer can be formed using a single layer or a stack of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon nitride oxide, or aluminum oxide, for example, using a plasma CVD method, a sputtering method, or the like.

半導体層は、シリコン半導体や酸化物半導体を用いて形成することができる。シリコン半導体としては、単結晶シリコンや多結晶シリコンなどがあり、酸化物半導体としては、In−Ga−Zn−O系金属酸化物などを、適宜用いることができる。ただし、半導体層110としては、In−Ga−Zn−O系金属酸化物である酸化物半導体を用いて、オフ電流の低い半導体層とすることで、後に形成される発光素子103のオフ時のリーク電流が抑制できるため、好ましい。 The semiconductor layer can be formed using a silicon semiconductor or an oxide semiconductor. Examples of the silicon semiconductor include single crystal silicon and polycrystalline silicon. As the oxide semiconductor, an In—Ga—Zn—O-based metal oxide or the like can be used as appropriate. Note that as the semiconductor layer 110, an oxide semiconductor that is an In—Ga—Zn—O-based metal oxide is used to form a semiconductor layer with low off-state current, so that the light-emitting element 103 formed later can be turned off. Leakage current can be suppressed, which is preferable.

ソース電極及びドレイン電極としては、例えば、アルミニウム、クロム、銅、タンタル、チタン、モリブデン、タングステンから選ばれた元素を含む金属膜、又は該元素を含む金属窒化物膜(窒化チタン膜、窒化モリブデン膜、窒化タングステン膜)等を用いることができる。また、アルミニウム、銅などの金属膜の下側又は上側の一方又は双方にチタン、モリブデン、タングステンなどの高融点金属膜又はそれらの金属窒化物膜(窒化チタン膜、窒化モリブデン膜、窒化タングステン膜)を積層させた構成としても良い。また、ソース電極及びドレイン電極は、導電性の金属酸化物で形成しても良い。導電性の金属酸化物としては酸化インジウム(In等)、酸化スズ(SnO等)、酸化亜鉛(ZnO)、インジウムスズ酸化物(ITO:Indium Tin Oxide)、酸化インジウム酸化亜鉛(In−ZnO等)又はこれらの金属酸化物材料に酸化シリコンを含ませたものを用いることができる。 As the source electrode and the drain electrode, for example, a metal film containing an element selected from aluminum, chromium, copper, tantalum, titanium, molybdenum, and tungsten, or a metal nitride film containing the element (titanium nitride film, molybdenum nitride film) , Tungsten nitride film) or the like can be used. Further, a refractory metal film such as titanium, molybdenum, tungsten or the like or a metal nitride film thereof (titanium nitride film, molybdenum nitride film, tungsten nitride film) on one or both of the lower side or upper side of a metal film such as aluminum or copper. It is good also as a structure which laminated | stacked. Further, the source electrode and the drain electrode may be formed using a conductive metal oxide. Examples of the conductive metal oxide include indium oxide (In 2 O 3 and the like), tin oxide (SnO 2 and the like), zinc oxide (ZnO), indium tin oxide (ITO: Indium Tin Oxide), and indium zinc oxide (In 2 O 3 —ZnO or the like) or a metal oxide material containing silicon oxide can be used.

絶縁膜125は、トランジスタを構成する半導体への不純物の拡散を抑制する効果を奏する。絶縁膜125としては、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜などの無機絶縁膜を用いることができる。絶縁膜125は不要であれば設けなくても良い。 The insulating film 125 has an effect of suppressing diffusion of impurities into a semiconductor included in the transistor. As the insulating film 125, an inorganic insulating film such as a silicon oxide film, a silicon oxynitride film, or an aluminum oxide film can be used. The insulating film 125 is not necessarily provided if not necessary.

絶縁膜127としては、トランジスタ起因の表面凹凸を低減するために平坦化機能を有する絶縁膜を選択するのが好適である。例えば、ポリイミド、アクリル、ベンゾシクロブテン系樹脂等の有機材料を用いることができる。また、上記有機材料の他に、低誘電率材料(low−k材料)や無機材料等を用いることができる。なお、これらの材料で形成される絶縁膜を複数積層させることで、絶縁膜127を形成してもよい。 As the insulating film 127, it is preferable to select an insulating film having a planarization function in order to reduce surface unevenness due to the transistor. For example, an organic material such as polyimide, acrylic, or benzocyclobutene resin can be used. In addition to the organic material, a low dielectric constant material (low-k material), an inorganic material, or the like can be used. Note that the insulating film 127 may be formed by stacking a plurality of insulating films formed using these materials.

[発光素子の作製]
次に、絶縁膜125及び絶縁膜127上に発光素子103を形成する。そして、発光素子103を覆う封止膜107を形成する。
[Production of light-emitting element]
Next, the light-emitting element 103 is formed over the insulating film 125 and the insulating film 127. Then, a sealing film 107 that covers the light emitting element 103 is formed.

発光素子103は、図4(B)に示す通り、第1の電極131、EL層133、及び第2の電極135を有する。発光素子103は、トップエミッション(上面射出)構造の発光素子である。第2の電極135には、可視光を透過する導電膜を用いる。 The light-emitting element 103 includes a first electrode 131, an EL layer 133, and a second electrode 135 as illustrated in FIG. The light emitting element 103 is a light emitting element having a top emission (top emission) structure. A conductive film that transmits visible light is used for the second electrode 135.

第1の電極131は、絶縁膜125及び絶縁膜127に設けられたコンタクトホールを介してトランジスタ123のソース電極又はドレイン電極と電気的に接続する。第1の電極131の端部は、絶縁層105で覆われている。なお、図5(A)では、第1の電極131と同一工程及び同一材料で配線4509を形成する例を示す。 The first electrode 131 is electrically connected to the source electrode or the drain electrode of the transistor 123 through contact holes provided in the insulating film 125 and the insulating film 127. An end portion of the first electrode 131 is covered with an insulating layer 105. Note that FIG. 5A illustrates an example in which the wiring 4509 is formed using the same process and the same material as the first electrode 131.

[赤色の画素の作製]
次に、封止膜107上に、赤色の着色材料層199Rを形成する(図5(A))。
[Production of red pixels]
Next, a red coloring material layer 199R is formed over the sealing film 107 (FIG. 5A).

次に、配線4509を覆う赤色の着色材料層199Rを除去する。そして、配線4509に信号を入力することで、一部の発光素子103のみを選択的に発光させる。赤色の着色材料層199Rにおいて、発光素子103の光が照射された領域は、硬化する。 Next, the red coloring material layer 199R covering the wiring 4509 is removed. Then, by inputting a signal to the wiring 4509, only some of the light emitting elements 103 are selectively caused to emit light. In the red coloring material layer 199R, a region irradiated with light from the light-emitting element 103 is cured.

ここでは、発光領域上に赤色のカラーフィルタ109Rを設けたい発光素子103のみを選択的に発光させる。このとき発光させた発光素子103は、赤色の画素180Rを構成する発光素子となる。つまり、赤色の画素180Rを構成する発光素子103の発光領域と重なる領域の赤色の着色材料層199Rが、該発光素子103から可視光が照射されることで硬化する。 Here, only the light emitting element 103 for which the red color filter 109R is to be provided on the light emitting region is selectively caused to emit light. The light-emitting element 103 that emits light at this time becomes a light-emitting element constituting the red pixel 180R. That is, the red coloring material layer 199 </ b> R in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 constituting the red pixel 180 </ b> R is cured by being irradiated with visible light from the light emitting element 103.

着色材料層の形成方法等によっては、配線4509が着色材料層に覆われ、配線4509に信号を入力できない場合がある。このような場合は、配線4509に信号が入力できる程度に、配線4509上の着色材料層を除去する。例えば、アセトン等の有機溶媒を用いて配線4509上の着色材料層を除去すれば良い。 Depending on the method for forming the coloring material layer, the wiring 4509 may be covered with the coloring material layer, and a signal may not be input to the wiring 4509. In such a case, the coloring material layer over the wiring 4509 is removed to such an extent that a signal can be input to the wiring 4509. For example, the coloring material layer over the wiring 4509 may be removed using an organic solvent such as acetone.

配線4509に信号を入力する方法は、特に限定されず、例えば、配線4509にプローブ(針、探針)を当てる、配線4509にFPC等の外部入力端子を電気的に接続する等により、配線4509に信号を入力することができる。本実施の形態では、配線4509にプローブを当てて、信号を入力する。 A method for inputting a signal to the wiring 4509 is not particularly limited. For example, the wiring 4509 can be connected to the wiring 4509 by connecting a probe (a needle, a probe), or an external input terminal such as an FPC can be electrically connected to the wiring 4509. A signal can be input to In this embodiment mode, a probe is applied to the wiring 4509 and a signal is input.

次に、現像を行うことで、赤色の着色材料層199Rの未硬化領域を除去する。これにより、図5(C)に示すように、発光素子103の発光領域と重なる領域に赤色のカラーフィルタ109Rが設けられた赤色の画素180Rが形成される。 Next, development is performed to remove the uncured region of the red coloring material layer 199R. Accordingly, as illustrated in FIG. 5C, a red pixel 180R in which a red color filter 109R is provided in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 is formed.

[緑色の画素の作製]
同様に、封止膜107及び赤色のカラーフィルタ109R上に、緑色の着色材料層199Gを形成し、配線4509上の緑色の着色材料層199Gを除去する。そして、配線4509に信号を入力することで、一部の発光素子103のみを選択的に発光させる(図6(A))。緑色の着色材料層199Gにおいて、発光素子103の光が照射された領域は硬化する。
[Production of green pixels]
Similarly, a green coloring material layer 199G is formed over the sealing film 107 and the red color filter 109R, and the green coloring material layer 199G over the wiring 4509 is removed. Then, by inputting a signal to the wiring 4509, only some of the light-emitting elements 103 are selectively caused to emit light (FIG. 6A). In the green coloring material layer 199G, a region irradiated with light from the light emitting element 103 is cured.

ここでは、発光領域上に緑色のカラーフィルタ109Gを設けたい発光素子103のみを選択的に発光させる。このとき発光させた発光素子103は、緑色の画素180Gを構成する発光素子となる。つまり、緑色の画素180Gを構成する発光素子103の発光領域と重なる領域の緑色の着色材料層199Gが、該発光素子103から可視光が照射されることで硬化する。 Here, only the light emitting element 103 for which the green color filter 109G is to be provided on the light emitting region is selectively caused to emit light. The light-emitting element 103 that emits light at this time becomes a light-emitting element constituting the green pixel 180G. That is, the green coloring material layer 199 </ b> G in a region overlapping the light emitting region of the light emitting element 103 constituting the green pixel 180 </ b> G is cured by being irradiated with visible light from the light emitting element 103.

次に、現像を行うことで、緑色の着色材料層199Gの未硬化領域を除去する。これにより、図6(B)に示すように、発光素子103の発光領域と重なる領域に緑色のカラーフィルタ109Gが設けられた緑色の画素180Gが形成される。 Next, development is performed to remove an uncured region of the green coloring material layer 199G. Accordingly, as illustrated in FIG. 6B, a green pixel 180G in which a green color filter 109G is provided in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 is formed.

[青色の画素の作製]
さらに、封止膜107、赤色のカラーフィルタ109R、及び緑色のカラーフィルタ109G上に、青色の着色材料層199Bを形成し、配線4509上の青色の着色材料層199Bを除去する。そして、配線4509に信号を入力することで、一部の発光素子103のみを選択的に発光させる(図6(B))。青色の着色材料層199Bにおいて、発光素子103の光が照射された領域は硬化する。
[Production of blue pixels]
Further, a blue coloring material layer 199B is formed over the sealing film 107, the red color filter 109R, and the green color filter 109G, and the blue coloring material layer 199B over the wiring 4509 is removed. Then, by inputting a signal to the wiring 4509, only some of the light-emitting elements 103 are selectively caused to emit light (FIG. 6B). In the blue coloring material layer 199 </ b> B, the region irradiated with light from the light-emitting element 103 is cured.

ここでは、発光領域上に青色のカラーフィルタ109Bを設けたい発光素子103のみを選択的に発光させる。このとき発光させた発光素子103は、青色の画素180Bを構成する発光素子となる。つまり、青色の画素180Bを構成する発光素子103の発光領域と重なる領域の青色の着色材料層199Bが、該発光素子103から可視光が照射されることで硬化する。 Here, only the light emitting element 103 for which the blue color filter 109B is to be provided on the light emitting region is selectively caused to emit light. The light emitting element 103 that emits light at this time becomes a light emitting element constituting the blue pixel 180B. That is, the blue coloring material layer 199 </ b> B in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 constituting the blue pixel 180 </ b> B is cured by being irradiated with visible light from the light emitting element 103.

次に、現像を行うことで、青色の着色材料層199Bの未硬化領域を除去する。これにより、図6(C)に示すように、発光素子103の発光領域と重なる領域に青色のカラーフィルタ109Bが設けられた青色の画素180Bが形成される。 Next, development is performed to remove the uncured region of the blue coloring material layer 199B. Accordingly, as illustrated in FIG. 6C, a blue pixel 180B in which a blue color filter 109B is provided in a region overlapping with the light emitting region of the light emitting element 103 is formed.

そして、配線4509と電気的に接続するFPC4505を設ける。なお、先の工程でFPCを設けていた場合、この工程は省略できる。なお、カラーフィルタを覆う封止膜をさらに形成しても良い。 Then, an FPC 4505 that is electrically connected to the wiring 4509 is provided. Note that this step can be omitted when the FPC is provided in the previous step. Note that a sealing film covering the color filter may be further formed.

なお、カラーフィルタの形成前、もしくはカラーフィルタの形成後に、ブラックマトリクスを形成しても良い。また、絶縁層105を黒色等に着色しても良い。 Note that a black matrix may be formed before the color filter is formed or after the color filter is formed. Further, the insulating layer 105 may be colored black or the like.

さらに、カラーフィルタやブラックマトリクスを覆う絶縁膜を設けても良い。絶縁膜に用いることができる材料は、封止膜107に用いることができる材料と同様である。 Further, an insulating film covering the color filter or the black matrix may be provided. The material that can be used for the insulating film is similar to the material that can be used for the sealing film 107.

以上により、図4(B)に示す表示装置を作製することができる。 Through the above steps, the display device illustrated in FIG. 4B can be manufactured.

本実施の形態は、他の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment can be freely combined with any of the other embodiments.

(実施の形態2)
本実施の形態では、発光素子の一例について、図7を用いて説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, an example of a light-emitting element will be described with reference to FIGS.

本実施の形態で例示する発光素子は、一対の電極(第1の電極及び第2の電極)と、該一対の電極間に設けられたEL層と、を有する。該一対の電極は、一方が陽極、他方が陰極として機能する。該EL層は、少なくとも発光層を有する。 The light-emitting element exemplified in this embodiment includes a pair of electrodes (a first electrode and a second electrode) and an EL layer provided between the pair of electrodes. One of the pair of electrodes functions as an anode and the other functions as a cathode. The EL layer has at least a light emitting layer.

本発明の一態様を適用して作製できる表示装置は、トップエミッション(上面射出)構造の発光素子を有する。該発光素子では、上部電極に可視光を透過する導電膜を用いる。また、下部電極には、可視光を反射する導電膜を用いることが好ましい。 A display device which can be manufactured according to one embodiment of the present invention includes a light-emitting element having a top emission (top emission) structure. In the light-emitting element, a conductive film that transmits visible light is used for the upper electrode. The lower electrode is preferably a conductive film that reflects visible light.

可視光を透過する導電膜は、例えば、酸化インジウム、ITO、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などを用いて形成することができる。また、金、白金、ニッケル、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、パラジウム、もしくはチタン等の金属材料、又はこれら金属材料の窒化物(例えば、窒化チタン)等も、透光性を有する程度に薄く形成することで用いることができる。また、グラフェン等を用いても良い。 The conductive film that transmits visible light can be formed using, for example, indium oxide, ITO, indium zinc oxide, zinc oxide, zinc oxide to which gallium is added, or the like. In addition, a metal material such as gold, platinum, nickel, tungsten, chromium, molybdenum, iron, cobalt, copper, palladium, or titanium, or a nitride of these metal materials (for example, titanium nitride) has a light-transmitting property. It can be used by forming it as thin as possible. Further, graphene or the like may be used.

可視光を反射する導電膜は、例えば、アルミニウム、金、白金、銀、ニッケル、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、もしくはパラジウム等の金属材料、アルミニウムとチタンの合金、アルミニウムとニッケルの合金、アルミニウムとネオジムの合金等のアルミニウムを含む合金(アルミニウム合金)、又は、銀と銅の合金等の銀を含む合金を用いて形成することができる。銀と銅の合金は、耐熱性が高いため好ましい。また、上記金属材料や合金に、ランタン、ネオジム、又はゲルマニウム等が添加されていても良い。 The conductive film that reflects visible light is, for example, a metal material such as aluminum, gold, platinum, silver, nickel, tungsten, chromium, molybdenum, iron, cobalt, copper, or palladium, an alloy of aluminum and titanium, or aluminum and nickel. An alloy, an alloy containing aluminum such as an alloy of aluminum and neodymium (aluminum alloy), or an alloy containing silver such as an alloy of silver and copper can be used. An alloy of silver and copper is preferable because of its high heat resistance. In addition, lanthanum, neodymium, germanium, or the like may be added to the metal material or alloy.

電極は、それぞれ、真空蒸着法やスパッタリング法を用いて形成すれば良い。また、銀ペースト等を用いる場合には、塗布法やインクジェット法を用いれば良い。 The electrodes may be formed using a vacuum deposition method or a sputtering method, respectively. In addition, when silver paste or the like is used, a coating method or an ink jet method may be used.

また、本発明の別の態様を適用して作製できる表示装置は、デュアルエミッション(両面射出)構造の発光素子を有する。該発光素子では、上部電極及び下部電極の双方に可視光を透過する導電膜を用いる。 In addition, a display device which can be manufactured by applying another embodiment of the present invention includes a light-emitting element having a dual emission (double-sided emission) structure. In the light-emitting element, a conductive film that transmits visible light is used for both the upper electrode and the lower electrode.

図7(A)に示す発光素子は、第1の電極201及び第2の電極205の間にEL層203を有する。本実施の形態では、第1の電極201が陽極として機能し、第2の電極205が陰極として機能する。 The light-emitting element illustrated in FIG. 7A includes an EL layer 203 between the first electrode 201 and the second electrode 205. In this embodiment mode, the first electrode 201 functions as an anode and the second electrode 205 functions as a cathode.

第1の電極201と第2の電極205の間に、発光素子の閾値電圧より高い電圧を印加すると、EL層203に第1の電極201側から正孔が注入され、第2の電極205側から電子が注入される。注入された電子と正孔はEL層203において再結合し、EL層203に含まれる発光物質が発光する。 When a voltage higher than the threshold voltage of the light-emitting element is applied between the first electrode 201 and the second electrode 205, holes are injected from the first electrode 201 side into the EL layer 203, and the second electrode 205 side From which electrons are injected. The injected electrons and holes are recombined in the EL layer 203, and the light-emitting substance contained in the EL layer 203 emits light.

EL層203は、上述の通り、少なくとも発光層を有する。EL層203は、発光層以外の層として、正孔注入性の高い物質、正孔輸送性の高い物質、正孔ブロック材料、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質、又はバイポーラ性の物質(電子輸送性及び正孔輸送性が高い物質)等を含む層をさらに有していても良い。 As described above, the EL layer 203 includes at least a light emitting layer. The EL layer 203 is a layer other than the light-emitting layer, such as a substance having a high hole-injecting property, a substance having a high hole-transporting property, a hole blocking material, a substance having a high electron-transporting property, a substance having a high electron-injecting property A layer containing a substance (a substance having a high electron transporting property and a high hole transporting property) or the like may be further included.

EL層203には公知の物質を用いることができる。低分子系化合物及び高分子系化合物のいずれを用いることもでき、無機化合物を含んでいても良い。EL層203を構成する層は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着法を含む)、転写法、印刷法、インクジェット法、塗布法等の方法で形成することができる。 A known substance can be used for the EL layer 203. Either a low molecular compound or a high molecular compound can be used, and an inorganic compound may be included. The layers constituting the EL layer 203 can be formed by a method such as a vapor deposition method (including a vacuum vapor deposition method), a transfer method, a printing method, an ink jet method, or a coating method.

EL層203の具体的な構成例を、図7(B)に示す。図7(B)に示すEL層203では、正孔注入層301、正孔輸送層302、発光層303、電子輸送層304及び電子注入層305が、第1の電極201側からこの順に積層されている。 A specific structure example of the EL layer 203 is illustrated in FIG. In the EL layer 203 illustrated in FIG. 7B, a hole injection layer 301, a hole transport layer 302, a light-emitting layer 303, an electron transport layer 304, and an electron injection layer 305 are stacked in this order from the first electrode 201 side. ing.

図7(C)(D)に示す発光素子のように、第1の電極201及び第2の電極205の間に複数のEL層が積層されていても良い。この場合、積層されたEL層の間には、中間層207を設けることが好ましい。中間層207は、電荷発生領域を少なくとも有する。 As in the light-emitting element illustrated in FIGS. 7C and 7D, a plurality of EL layers may be stacked between the first electrode 201 and the second electrode 205. In this case, an intermediate layer 207 is preferably provided between the stacked EL layers. The intermediate layer 207 has at least a charge generation region.

例えば、図7(C)に示す発光素子は、第1のEL層203aと第2のEL層203bとの間に、中間層207を有する。また、図7(D)に示す発光素子は、EL層をn層(nは2以上の自然数)有し、各EL層の間には、中間層207を有する。 For example, the light-emitting element illustrated in FIG. 7C includes the intermediate layer 207 between the first EL layer 203a and the second EL layer 203b. In addition, the light-emitting element illustrated in FIG. 7D includes n EL layers (n is a natural number of 2 or more), and includes an intermediate layer 207 between the EL layers.

EL層203(m)とEL層203(m+1)の間に設けられた中間層207における電子と正孔の挙動について説明する。第1の電極201と第2の電極205の間に、発光素子の閾値電圧より高い電圧を印加すると、中間層207において正孔と電子が発生し、正孔は第2の電極205側に設けられたEL層203(m+1)へ移動し、電子は第1の電極201側に設けられたEL層203(m)へ移動する。EL層203(m+1)に注入された正孔は、第2の電極205側から注入された電子と再結合し、当該EL層203(m+1)に含まれる発光物質が発光する。また、EL層203(m)に注入された電子は、第1の電極201側から注入された正孔と再結合し、当該EL層203(m)に含まれる発光物質が発光する。よって、中間層207において発生した正孔と電子は、それぞれ異なる発光ユニットにおいて発光に至る。 The behavior of electrons and holes in the intermediate layer 207 provided between the EL layer 203 (m) and the EL layer 203 (m + 1) will be described. When a voltage higher than the threshold voltage of the light-emitting element is applied between the first electrode 201 and the second electrode 205, holes and electrons are generated in the intermediate layer 207, and the holes are provided on the second electrode 205 side. The electron moves to the EL layer 203 (m + 1), and the electrons move to the EL layer 203 (m) provided on the first electrode 201 side. The holes injected into the EL layer 203 (m + 1) recombine with electrons injected from the second electrode 205 side, and the light-emitting substance contained in the EL layer 203 (m + 1) emits light. Further, electrons injected into the EL layer 203 (m) recombine with holes injected from the first electrode 201 side, so that a light-emitting substance contained in the EL layer 203 (m) emits light. Therefore, holes and electrons generated in the intermediate layer 207 emit light in different light emitting units.

なお、EL層同士を接して設けることで、両者の間に中間層と同じ構成が形成される場合は、発光ユニット同士を接して設けることができる。例えば、EL層の一方の面に電荷発生領域が形成されている場合、その面に接してEL層を設けることができる。 Note that when the same structure as the intermediate layer is formed between the EL layers in contact with each other, the light emitting units can be provided in contact with each other. For example, in the case where a charge generation region is formed on one surface of the EL layer, the EL layer can be provided in contact with the surface.

また、それぞれのEL層の発光色を異なるものにすることで、発光素子全体として、所望の色の発光を得ることができる。例えば、2つのEL層を有する発光素子において、第1のEL層の発光色と第2のEL層の発光色を補色の関係になるようにすることで、発光素子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色とは、混合すると無彩色になる色同士の関係をいう。つまり、補色の関係にある色を発光する物質から得られた光を混合すると、白色発光を得ることができる。また、3つ以上のEL層を有する発光素子の場合でも同様である。 Further, by making the light emission colors of the respective EL layers different, light emission of a desired color can be obtained as the whole light emitting element. For example, in a light-emitting element having two EL layers, a light-emitting element that emits white light as a whole of the light-emitting element by making the emission color of the first EL layer and the emission color of the second EL layer have a complementary relationship It is also possible to obtain The complementary color refers to a relationship between colors that become achromatic when mixed. That is, white light emission can be obtained by mixing light obtained from substances that emit light of complementary colors. The same applies to a light-emitting element having three or more EL layers.

本実施の形態は、他の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment can be freely combined with any of the other embodiments.

(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様を適用した電子機器の一例について、図8を用いて説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, examples of electronic devices to which one embodiment of the present invention is applied will be described with reference to FIGS.

電子機器として、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図8に示す。 As an electronic device, for example, a television device (also referred to as a television or a television receiver), a monitor for a computer, a digital camera, a digital video camera, a digital photo frame, a mobile phone (also referred to as a mobile phone or a mobile phone device). And large game machines such as portable game machines, portable information terminals, sound reproduction apparatuses, and pachinko machines. Specific examples of these electronic devices are shown in FIGS.

図8(A)は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置7100は、筐体7101に表示部7102が組み込まれている。表示部7102では、映像を表示することが可能である。本発明の一態様を適用して作製された表示装置は、表示部7102に用いることができる。また、ここでは、スタンド7103により筐体7101を支持した構成を示している。 FIG. 8A illustrates an example of a television device. In the television device 7100, a display portion 7102 is incorporated in a housing 7101. The display portion 7102 can display an image. A display device manufactured using one embodiment of the present invention can be used for the display portion 7102. Here, a structure in which the housing 7101 is supported by a stand 7103 is shown.

テレビジョン装置7100の操作は、筐体7101が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機7111により行うことができる。リモコン操作機7111が備える操作キーにより、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7102に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機7111に、当該リモコン操作機7111から出力する情報を表示する表示部を設ける構成としてもよい。 The television device 7100 can be operated with an operation switch included in the housing 7101 or a separate remote controller 7111. Channels and volume can be operated with operation keys included in the remote controller 7111, and an image displayed on the display portion 7102 can be operated. Further, the remote controller 7111 may be provided with a display unit that displays information output from the remote controller 7111.

なお、テレビジョン装置7100は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線又は無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)又は双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。 Note that the television device 7100 is provided with a receiver, a modem, and the like. General TV broadcasts can be received by a receiver, and connected to a wired or wireless communication network via a modem, so that it can be unidirectional (sender to receiver) or bidirectional (sender and receiver). It is also possible to perform information communication between each other or between recipients).

図8(B)は、コンピュータの一例を示している。コンピュータ7200は、本体7201、筐体7202、表示部7203、キーボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む。なお、コンピュータは、本発明の一態様を適用して作製された表示装置をその表示部7203に用いることにより作製される。 FIG. 8B illustrates an example of a computer. A computer 7200 includes a main body 7201, a housing 7202, a display portion 7203, a keyboard 7204, an external connection port 7205, a pointing device 7206, and the like. Note that the computer is manufactured using the display device manufactured by applying one embodiment of the present invention for the display portion 7203.

図8(C)は、携帯型ゲーム機の一例を示している。携帯型ゲーム機7300は、筐体7301a及び筐体7301bの2つの筐体で構成されており、連結部7302により、開閉可能に連結されている。筐体7301aには表示部7303aが組み込まれ、筐体7301bには表示部7303bが組み込まれている。また、図8(C)に示す携帯型ゲーム機は、スピーカ部7304、記録媒体挿入部7305、操作キー7306、接続端子7307、センサ7308(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、LEDランプ、マイクロフォン等を備えている。もちろん、携帯型ゲーム機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも表示部7303a、筐体7301bの両方、又は一方に本発明の一態様を適用して作製された表示装置を用いていればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図8(C)に示す携帯型ゲーム機は、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出して表示部に表示する機能や、他の携帯型ゲーム機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお、図8(C)に示す携帯型ゲーム機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができる。 FIG. 8C illustrates an example of a portable game machine. The portable game machine 7300 includes two housings, a housing 7301a and a housing 7301b, which are connected with a joint portion 7302 so that the portable game machine 7300 can be opened and closed. A display portion 7303a is incorporated in the housing 7301a, and a display portion 7303b is incorporated in the housing 7301b. 8C includes a speaker portion 7304, a recording medium insertion portion 7305, operation keys 7306, a connection terminal 7307, and a sensor 7308 (force, displacement, position, velocity, acceleration, angular velocity, rotation speed). , Distance, light, liquid, magnetism, temperature, chemical substance, sound, time, hardness, electric field, current, voltage, power, radiation, flow rate, humidity, gradient, vibration, smell, or infrared) LED lamp, microphone, etc. are provided. Needless to say, the structure of the portable game machine is not limited to the above, and any display device manufactured by applying one embodiment of the present invention to at least the display portion 7303a and the housing 7301b or one of them may be used. It is possible to adopt a configuration in which other accessory equipment is provided as appropriate. The portable game machine shown in FIG. 8C shares information by reading a program or data recorded on a recording medium and displaying the program or data on a display unit, or by performing wireless communication with another portable game machine. It has a function. Note that the function of the portable game machine illustrated in FIG. 8C is not limited to this, and the portable game machine can have a variety of functions.

図8(D)は、携帯電話機の一例を示している。携帯電話機7400は、筐体7401に組み込まれた表示部7402の他、操作ボタン7403、外部接続ポート7404、スピーカ7405、マイク7406などを備えている。なお、携帯電話機7400は、本発明の一態様を適用して作製された表示装置を表示部7402に備える。 FIG. 8D illustrates an example of a mobile phone. A mobile phone 7400 is provided with a display portion 7402 incorporated in a housing 7401, operation buttons 7403, an external connection port 7404, a speaker 7405, a microphone 7406, and the like. Note that the mobile phone 7400 includes a display device manufactured by applying one embodiment of the present invention, in the display portion 7402.

図8(D)に示す携帯電話機7400は、表示部7402を指などで触れることで、情報を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。 Information can be input to the cellular phone 7400 illustrated in FIG. 8D by touching the display portion 7402 with a finger or the like. In addition, operations such as making a call or creating a mail can be performed by touching the display portion 7402 with a finger or the like.

表示部7402の画面は主として3つのモードがある。第1は、画像の表示を主とする表示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。 There are mainly three screen modes of the display portion 7402. The first mode is a display mode mainly for displaying an image. The first is a display mode mainly for displaying images, and the second is an input mode mainly for inputting information such as characters. The third is a display + input mode in which the display mode and the input mode are mixed.

例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部7402を文字の入力を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。 For example, when making a call or creating a mail, the display portion 7402 may be set to a character input mode mainly for inputting characters, and an operation for inputting characters displayed on the screen may be performed.

また、携帯電話機7400内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサを有する検出装置を設けることで、携帯電話機7400の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。 In addition, by providing a detection device having a sensor for detecting inclination, such as a gyroscope or an acceleration sensor, in the mobile phone 7400, the orientation (vertical or horizontal) of the mobile phone 7400 is determined, and the screen display of the display portion 7402 is displayed. Can be switched automatically.

また、画面モードの切り替えは、表示部7402を触れること、又は筐体7401の操作ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。 Further, the screen mode is switched by touching the display portion 7402 or operating the operation button 7403 of the housing 7401. Further, switching can be performed depending on the type of image displayed on the display portion 7402. For example, if the image signal to be displayed on the display unit is moving image data, the mode is switched to the display mode.

また、入力モードにおいて、表示部7402の光センサで検出される信号を検知し、表示部7402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モードから表示モードに切り替えるように制御してもよい。 Further, in the input mode, when a signal detected by the optical sensor of the display unit 7402 is detected and there is no input by a touch operation of the display unit 7402 for a certain period, the screen mode is switched from the input mode to the display mode. You may control.

表示部7402は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部7402に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライト又は近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。 The display portion 7402 can function as an image sensor. For example, personal authentication can be performed by touching the display portion 7402 with a palm or a finger and capturing an image of a palm print, a fingerprint, or the like. In addition, if a backlight that emits near-infrared light or a sensing light source that emits near-infrared light is used for the display portion, finger veins, palm veins, and the like can be imaged.

図8(E)は、2つ折り可能なタブレット型端末(開いた状態)の一例を示している。タブレット型端末7500は、筐体7501a、筐体7501b、表示部7502a、表示部7502bを有する。筐体7501aと筐体7501bは、軸部7503により接続されており、該軸部7503を軸として開閉動作を行うことができる。また、筐体7501aは、電源7504、操作キー7505、スピーカ7506等を備えている。なお、タブレット型端末7500は、本発明の一態様を適用して作製された表示装置を表示部7502a、表示部7502bの両方、又は一方に用いることにより作製される。 FIG. 8E illustrates an example of a tablet terminal that can be folded (opened state). The tablet terminal 7500 includes a housing 7501a, a housing 7501b, a display portion 7502a, and a display portion 7502b. The housing 7501a and the housing 7501b are connected by a shaft portion 7503, and an opening / closing operation can be performed using the shaft portion 7503 as an axis. The housing 7501a includes a power source 7504, operation keys 7505, a speaker 7506, and the like. Note that the tablet terminal 7500 is manufactured using the display device manufactured by applying one embodiment of the present invention for both the display portion 7502a and the display portion 7502b.

表示部7502aや表示部7502bは、少なくとも一部をタッチパネルの領域とすることができ、表示された操作キーにふれることでデータ入力をすることができる。例えば、表示部7502aの全面にキーボードボタンを表示させてタッチパネルとし、表示部7502bを表示画面として用いることができる。 At least part of the display portion 7502a and the display portion 7502b can be a touch panel region, and data can be input by touching displayed operation keys. For example, keyboard buttons can be displayed on the entire surface of the display portion 7502a to form a touch panel, and the display portion 7502b can be used as a display screen.

本実施の形態は、他の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment can be freely combined with any of the other embodiments.

101 基板
103 発光素子
105 絶縁層
106 隔壁
107 封止膜
109 カラーフィルタ
109B 青色のカラーフィルタ
109G 緑色のカラーフィルタ
109R 赤色のカラーフィルタ
110 半導体層
121 下地絶縁膜
123 トランジスタ
125 絶縁膜
127 絶縁膜
131 第1の電極
133 EL層
135 第2の電極
180B 青色の画素
180G 緑色の画素
180R 赤色の画素
199 着色材料層
199B 青色の着色材料層
199G 緑色の着色材料層
199R 赤色の着色材料層
201 第1の電極
203 EL層
203a 第1のEL層
203b 第2のEL層
205 第2の電極
207 中間層
301 正孔注入層
302 正孔輸送層
303 発光層
304 電子輸送層
305 電子注入層
1108 接続配線
1109a FPC
1109b FPC
4502 表示部
4503 駆動回路部
4504 駆動回路部
4505 FPC
4509 配線
7100 テレビジョン装置
7101 筐体
7102 表示部
7103 スタンド
7111 リモコン操作機
7200 コンピュータ
7201 本体
7202 筐体
7203 表示部
7204 キーボード
7205 外部接続ポート
7206 ポインティングデバイス
7300 携帯型ゲーム機
7301a 筐体
7301b 筐体
7302 連結部
7303a 表示部
7303b 表示部
7304 スピーカ部
7305 記録媒体挿入部
7306 操作キー
7307 接続端子
7308 センサ
7400 携帯電話機
7401 筐体
7402 表示部
7403 操作ボタン
7404 外部接続ポート
7405 スピーカ
7406 マイク
7500 タブレット型端末
7501a 筐体
7501b 筐体
7502a 表示部
7502b 表示部
7503 軸部
7504 電源
7505 操作キー
7506 スピーカ
101 Substrate 103 Light-Emitting Element 105 Insulating Layer 106 Partition 107 Sealing Film 109 Color Filter 109B Blue Color Filter 109G Green Color Filter 109R Red Color Filter 110 Semiconductor Layer 121 Base Insulating Film 123 Transistor 125 Insulating Film 127 Insulating Film 131 First Electrode 133 EL layer 135 second electrode 180B blue pixel 180G green pixel 180R red pixel 199 coloring material layer 199B blue coloring material layer 199G green coloring material layer 199R red coloring material layer 201 first electrode 203 EL layer 203a First EL layer 203b Second EL layer 205 Second electrode 207 Intermediate layer 301 Hole injection layer 302 Hole transport layer 303 Light emitting layer 304 Electron transport layer 305 Electron injection layer 1108 Connection wiring 1109a FPC
1109b FPC
4502 Display portion 4503 Drive circuit portion 4504 Drive circuit portion 4505 FPC
4509 Wiring 7100 Television apparatus 7101 Case 7102 Display portion 7103 Stand 7111 Remote control operation device 7200 Computer 7201 Main body 7202 Case 7203 Display portion 7204 Keyboard 7205 External connection port 7206 Pointing device 7300 Portable game machine 7301a Case 7301b Case 7302 Connection Unit 7303a display unit 7303b display unit 7304 speaker unit 7305 recording medium insertion unit 7306 operation key 7307 connection terminal 7308 sensor 7400 mobile phone 7401 case 7402 display unit 7403 operation button 7404 external connection port 7405 speaker 7406 microphone 7500 tablet terminal 7501a case 7501b Housing 7502a Display unit 7502b Display unit 7503 Shaft unit 7504 Power supply 7505 Work key 7506 speaker

Claims (5)

第1の電極、発光性の有機化合物を含む層、及び可視光を透過する第2の電極をこの順で形成することで、発光素子を作製する第1のステップと、
前記第2の電極と接し、前記発光素子を覆う封止膜を形成する第2のステップと、
前記封止膜上に、前記発光素子の発する光によって硬化する着色材料層を形成する第3のステップと、
前記発光素子を発光させることで、前記着色材料層の前記発光素子の発光領域と重なる領域を硬化させる第4のステップと、
現像により、前記着色材料層の未硬化領域を除去する第5のステップと、を有する表示装置の作製方法。
Forming a first electrode, a layer containing a light-emitting organic compound, and a second electrode that transmits visible light in this order, thereby producing a light-emitting element;
A second step of forming a sealing film in contact with the second electrode and covering the light emitting element;
A third step of forming a colored material layer that is cured by light emitted from the light emitting element on the sealing film;
A fourth step of curing the region of the coloring material layer overlapping the light emitting region of the light emitting device by causing the light emitting device to emit light;
And a fifth step of removing an uncured region of the coloring material layer by development.
請求項1において、
前記第3のステップでは、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を用いて前記着色材料層を形成する表示装置の作製方法。
In claim 1,
In the third step, a method for manufacturing a display device, in which the coloring material layer is formed using a pigment or dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator.
第1の電極、発光性の有機化合物を含む層、及び可視光を透過する第2の電極をこの順で形成することで、第1の発光素子及び第2の発光素子を作製する第1のステップと、
前記第2の電極と接し、前記第1の発光素子及び前記第2の発光素子を覆う封止膜を形成する第2のステップと、
前記封止膜上に、前記第1の発光素子の発する光によって硬化する第1の着色材料層を形成する第3のステップと、
前記第1の発光素子を発光させることで、前記第1の着色材料層の前記第1の発光素子の発光領域と重なる領域を硬化させる第4のステップと、
現像により、前記第1の着色材料層の未硬化領域を除去する第5のステップと、
前記封止膜上に、前記第2の発光素子の発する光によって硬化する第2の着色材料層を形成する第6のステップと、
前記第2の発光素子を発光させることで、前記第2の着色材料層の前記第2の発光素子の発光領域と重なる領域を硬化させる第7のステップと、
現像により、前記第2の着色材料層の未硬化領域を除去する第8のステップと、を有する表示装置の作製方法。
The first electrode, the layer containing a light-emitting organic compound, and the second electrode that transmits visible light are formed in this order, whereby the first light-emitting element and the second light-emitting element are manufactured. Steps,
A second step of forming a sealing film in contact with the second electrode and covering the first light emitting element and the second light emitting element;
A third step of forming a first coloring material layer cured on the sealing film by light emitted from the first light emitting element;
A fourth step of curing the region overlapping the light emitting region of the first light emitting element of the first coloring material layer by causing the first light emitting element to emit light;
A fifth step of removing uncured regions of the first coloring material layer by development;
A sixth step of forming a second coloring material layer that is cured by light emitted from the second light emitting element on the sealing film;
A seventh step of curing the region of the second coloring material layer overlapping the light emitting region of the second light emitting device by causing the second light emitting device to emit light;
And an eighth step of removing an uncured region of the second coloring material layer by development.
請求項3において、
前記第3のステップでは、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を用いて前記第1の着色材料層を形成する表示装置の作製方法。
In claim 3,
In the third step, a method for manufacturing a display device, in which the first coloring material layer is formed using a pigment or dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator.
請求項3又は請求項4において、
前記第6のステップでは、顔料もしくは染料と、バインダーと、可視光硬化型の光重合開始剤と、を用いて前記第2の着色材料層を形成する表示装置の作製方法。
In claim 3 or claim 4,
In the sixth step, a method for manufacturing a display device, in which the second coloring material layer is formed using a pigment or dye, a binder, and a visible light curable photopolymerization initiator.
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