JP5873292B2 - Polysilsesquioxane graft copolymer, process for producing the same, pressure-sensitive adhesive, and pressure-sensitive adhesive sheet - Google Patents

Polysilsesquioxane graft copolymer, process for producing the same, pressure-sensitive adhesive, and pressure-sensitive adhesive sheet Download PDF

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Description

本発明は、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を兼ね備えた粘着剤となり得るポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、並びに、当該ポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いる粘着剤及び粘着シートに関する。   The present invention relates to a method for producing a polysilsesquioxane graft copolymer that can be an adhesive having excellent adhesiveness, heat resistance, and cohesion, a polysilsesquioxane graft copolymer, and the polysilsesquioxane graft copolymer. The present invention relates to an adhesive and an adhesive sheet using an oxan graft copolymer.

従来、各種の部材や機器に貼着するラベルシートとして、基材シートに粘着剤を塗布して形成してなる粘着剤層を有する粘着シートが知られている。
この粘着シートは、押圧するだけで直ぐに貼り付けることができるという利便性から、印刷ラベル用、包装貼付用等として多くの産業分野で広く利用されている。例えば、自動車や電気・電子製品の生産ラインにおける生産管理においては、部品にバーコード印字された粘着シート(バーコードラベル)を貼付することが行われている。
Conventionally, a pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer formed by applying a pressure-sensitive adhesive to a base sheet is known as a label sheet to be attached to various members and devices.
This pressure-sensitive adhesive sheet is widely used in many industrial fields for printing labels, packaging, and the like because of the convenience that it can be applied immediately by pressing. For example, in production management in production lines of automobiles and electric / electronic products, sticking an adhesive sheet (barcode label) printed with a barcode on a part is performed.

この自動車や電気・電子製品の生産ラインにおける生産管理等においては、部品によっては熱処理が施される工程があり、使用するラベルに対して耐熱性が求められる。
しかしながら、従来から一般的に用いられている粘着剤は、安価であるものの、貼付後に80〜150℃程度の温度で処理されると、粘着剤が劣化し、凝集力が低下してしまう。その結果、基材の収縮と凝集力の低下により粘着シートが部分的に剥離してしまうという問題がある。
In production control or the like in the production line of automobiles and electric / electronic products, there are processes where heat treatment is performed depending on parts, and heat resistance is required for a label to be used.
However, although the adhesive generally used conventionally is cheap, if it processes at the temperature of about 80-150 degreeC after sticking, an adhesive will deteriorate and cohesive force will fall. As a result, there is a problem that the pressure-sensitive adhesive sheet is partially peeled due to the shrinkage of the base material and the decrease in cohesive force.

このような問題を解決すべく、特許文献1には、ポリエチレンナフタレートフィルムからなる基材の一方の側の面に印字用コート層を有し、かつ該基材の反対側の面に、温度150℃における粘着力が0.5N/25mm以上である耐熱性粘着剤層を有する耐熱性ラベルが提案されている。ここでは、耐熱性粘着剤層を構成する粘着剤として、ゴム系やアクリル系の粘着剤等が使用されている。   In order to solve such a problem, Patent Document 1 discloses that a printing coat layer is provided on one surface of a base material made of a polyethylene naphthalate film, and a temperature is provided on the opposite surface of the base material. A heat-resistant label having a heat-resistant adhesive layer having an adhesive strength at 150 ° C. of 0.5 N / 25 mm or more has been proposed. Here, a rubber-based or acrylic pressure-sensitive adhesive is used as the pressure-sensitive adhesive constituting the heat-resistant pressure-sensitive adhesive layer.

また、特許文献2には、基材シートの少なくとも一方の面に、耐熱性の水系粘着剤を含む感熱性粘着剤層を形成してなる粘着シートが記載されている。耐熱性の水系粘着剤として、アクリル系重合体エマルジョン又はゴム系ラテックスを主成分とし、粘着付与樹脂エマルジョンを配合した一般的な水系粘着剤が用いられている。
しかしながら、これらの文献に記載された粘着シートに用いられる粘着剤であっても、耐熱性等の面からは十分なものとはいいがたく、より耐熱性及び粘着力に優れる新しい粘着剤の開発が求められていた。
Patent Document 2 describes a pressure-sensitive adhesive sheet in which a heat-sensitive pressure-sensitive adhesive layer containing a heat-resistant water-based pressure-sensitive adhesive is formed on at least one surface of a base sheet. As the heat-resistant water-based pressure-sensitive adhesive, a general water-based pressure-sensitive adhesive containing an acrylic polymer emulsion or rubber latex as a main component and a tackifying resin emulsion is used.
However, the pressure-sensitive adhesive used in the pressure-sensitive adhesive sheets described in these documents is not sufficient from the viewpoint of heat resistance and the like, and development of a new pressure-sensitive adhesive that is more excellent in heat resistance and adhesive strength. Was demanded.

本発明に関連して、特許文献3,4に、ビニル化合物をグラフト重合させて得られるポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いる粘着剤が記載されている。   In relation to the present invention, Patent Documents 3 and 4 describe pressure-sensitive adhesives using a polysilsesquioxane graft copolymer obtained by graft polymerization of a vinyl compound.

特開2002−275438号公報JP 2002-275438 A 特開2003−138229号公報JP 2003-138229 A 特許第4566577号Japanese Patent No. 4566577 WO2005/080459パンフレットWO2005 / 080459 brochure

本発明は、このような従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、より優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を兼ね備えた粘着剤となり得るポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、並びに当該ポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いる粘着剤及び粘着シートを提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of such a state of the art, and a method for producing a polysilsesquioxane graft copolymer that can be used as an adhesive having better adhesiveness, heat resistance, and cohesiveness It is an object of the present invention to provide a polysilsesquioxane graft copolymer, and a pressure-sensitive adhesive and pressure-sensitive adhesive sheet using the polysilsesquioxane graft copolymer.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った。その結果、ポリシルセスキオキサン化合物の末端に、ジチオエステル基を導入し、これを反応開始点とし、MADIX法により、アクリルアミドとアクリル酸エステルを所定割合でグラフト重合させることにより、溶剤可溶の無色透明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得た。そして、得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体は、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性をもつ粘着剤成分として有用であることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventor has intensively studied to solve the above problems. As a result, a dithioester group was introduced at the end of the polysilsesquioxane compound, and this was used as a reaction starting point, and acrylamide and acrylate ester were graft-polymerized at a predetermined ratio by the MADIX method. A colorless and transparent polysilsesquioxane graft copolymer was obtained. The obtained polysilsesquioxane graft copolymer was found to be useful as a pressure-sensitive adhesive component having excellent adhesiveness, heat resistance and cohesiveness, and the present invention was completed.

かくして本発明によれば、下記(1)〜(5)のポリシルセスキオキサングラフト共重合体、(6)〜(10)のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、(11)の粘着剤、及び(12)の粘着シートが提供される。   Thus, according to the present invention, the following polysilsesquioxane graft copolymers (1) to (5) and processes for producing the polysilsesquioxane graft copolymers (6) to (10): (11) The pressure-sensitive adhesive and the pressure-sensitive adhesive sheet of (12) are provided.

(1)分子内に、下記の式(i)、(ii)及び/又は(iii) (1) In the molecule, the following formula (i), (ii) and / or (iii)

Figure 0005873292
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〔式中、Dは炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数6〜20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、Rは炭化水素基を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、Rは式(a) [Wherein, D represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, R 1 represents a hydrocarbon group, and R 2 represents a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 2 carbon atoms. 18 represents an alkyl group, and R 3 represents the formula (a)

Figure 0005873292
(rは、炭素数4〜12の炭化水素基を表す。)で表される基、及び式(b)
Figure 0005873292
(Wherein r 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms) and the formula (b)

Figure 0005873292
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(式中、r、rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。また、r、rは一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。)で表される基を表し、式(a)で表される基と式(b)で表される基の存在割合は、モル比で、(式(a)で表される基):(式(b)で表される基)=95:5〜60:40である。Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、総炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2〜20のアシル基を表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。〕で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体(但し、前記式(i)で表される繰り返し単位のみからなるものを除く。)。
(2)前記式(b)で表される基が、前記式(b)中、r、rが一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式(b’)
(Wherein, r 2 and r 3 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Moreover, even if r 2 and r 3 are combined to form a ring, The ring may contain a heteroatom.), And the abundance ratio of the group represented by the formula (a) and the group represented by the formula (b) is a molar ratio. (Group represented by formula (a)) :( group represented by formula (b)) = 95: 5 to 60:40. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and k1, k2, and k3 are each independently Represents any natural number. ] The polysilsesquioxane graft copolymer which has a repeating unit represented by the above (except what consists only of the repeating unit represented by said Formula (i)).
(2) In the formula (b), the group represented by the formula (b) forms a ring which may contain a hetero atom by combining r 2 and r 3 in the formula (b). ')

Figure 0005873292
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で表される基であることを特徴とする(1)に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
(3)数平均分子量が50,000〜500,000である(1)又は(2)に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
(4)前記式(ii)及び(iii)中、下記式
The polysilsesquioxane graft copolymer according to (1), which is a group represented by the formula:
(3) The polysilsesquioxane graft copolymer according to (1) or (2), which has a number average molecular weight of 50,000 to 500,000.
(4) In the above formulas (ii) and (iii), the following formula

Figure 0005873292
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で表される繰り返し単位が、下記式(c−a) The repeating unit represented by the following formula (ca)

Figure 0005873292
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(R、rは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるブロック〔A〕と、下記式(c−b) (R 2 and r 1 represent the same meaning as described above) and a block [A] composed of a repeating unit represented by the following formula (c-b):

Figure 0005873292
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(R、r及びrは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるブロック〔B〕とからなり、ブロック〔A〕とブロック〔B〕とが、式:−CH(R)−D−で表される基のCH部分側から、−〔B〕−〔A〕又は、−〔A〕−〔B〕−〔A〕となるように配列されたブロック共重合体構造を有することを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
(5)前記式(ii)及び(iii)中、下記式
(R 2 , r 2, and r 3 represent the same meaning as described above), and the block [A] and the block [B] are represented by the formula: − From the CH moiety side of the group represented by CH (R 4 ) -D-, the block array arranged so as to be-[B]-[A] or-[A]-[B]-[A] The polysilsesquioxane graft copolymer according to any one of (1) to (3), which has a polymer structure.
(5) In the above formulas (ii) and (iii), the following formula

Figure 0005873292
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で表される繰り返し単位が、下記式(c−a) The repeating unit represented by the following formula (ca)

Figure 0005873292
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(R、rは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位と、下記式(c−b) (R 2 and r 1 represent the same meaning as described above) and the following formula (c-b)

Figure 0005873292
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(R、r及びrは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位とからなるランダム共重合体構造を有することを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
(6)分子内に、下記の式(i)、(ii−a)及び/又は(iii−a)
(R 2 , r 2, and r 3 represent the same meaning as described above), and has a random copolymer structure consisting of a repeating unit represented by any one of (1) to (3) The polysilsesquioxane graft copolymer described in 1.
(6) In the molecule, the following formula (i), (ii-a) and / or (iii-a)

Figure 0005873292
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(式中、Dは、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数6〜20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、Rは炭化水素基を表し、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、総炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2〜20のアシル基を表し、Xは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、又は、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基を表す。)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物(但し、式(i)で表される繰り返し単位のみからなるものを除く。)と、
式(1a):CH=C(R2a)(R3a)〔式中、R2aは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、R3aは、式(a)
(In the formula, D represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, R 1 represents a hydrocarbon group, R 4 represents a hydrogen atom, and 1 carbon atom. Represents an alkyl group having 6 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms in total, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms in total, X is an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, Or a polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by an optionally substituted aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms (represented by the formula (i)). Excluding those consisting only of units)
Formula (1a): CH 2 = C (R 2a ) (R 3a ) [wherein R 2a represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 3a represents formula (a)

Figure 0005873292
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(rは、炭素数4〜12の炭化水素基を表す。)で表される基を示す。〕で表される化合物(1a)、及び、式(1b):CH=C(R2b)(R3b)〔式中、R2bは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、R3bは、式(b) (Wherein r 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms). And the compound (1a) represented by the formula (1b): CH 2 ═C (R 2b ) (R 3b ) [wherein R 2b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, R 3b is a group represented by the formula (b)

Figure 0005873292
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(r、rは、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1〜6の炭化水素基を表す。また、r、rは一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。)で表される基を示す。〕で表される化合物(1b)を、化合物(1a)と化合物(1b)のモル比が、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下に、グラフト重合反応を行うことを特徴とする、
分子内に、式(i)、(ii)及び/又は(iii)
(R 2 and r 3 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Further, r 2 and r 3 may be combined to form a ring, The ring may contain a hetero atom.)). The compound (1b) represented by the formula (1b) is used at a molar ratio of (compound (1a)) :( compound (1b)) = 95: 5 to 60:40. Used in the graft polymerization reaction in the presence of a radical polymerization initiator,
In the molecule, formula (i), (ii) and / or (iii)

Figure 0005873292
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(式中、D、R、R、及びRは前記と同じ意味を表す。Rは、前記R3a又はR3bを表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。k1、k2又はk3が2以上のとき、式:−CH−C(R)(R)−で表される基同士は同一であっても、相異なっていてもよい。)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体(但し、前記式(i)で表される繰り返し単位のみからなるものを除く。)の製造方法。
(7)前記ラジカル重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリルを用いる、(6)に記載の製造方法。
(8)前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物(1b)をグラフト重合させた後、次いで、化合物(1a)をグラフト重合させることを特徴とする(6)又は(7)に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。
(9)前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物(1a)と化合物(1b)のモル比が、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40の割合で含有する化合物(1a)と化合物(1b)との混合物を、グラフト重合させることを特徴とする(6)又は(7)に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。
(10)前記式(1b)で表される化合物として、前記式(1b)中、R2bは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、R3bは、前記式(b)中、r、rが一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式(b’)
(Wherein, D, R 1, R 2, and .R 3 R 4 is representing the same meaning as above, represents the R 3a or R 3b, k1, k2 and k3 are each independently any Represents a natural number, and when k1, k2 or k3 is 2 or more, groups represented by the formula: —CH 2 —C (R 2 ) (R 3 ) — may be the same or different. .) A production method of a polysilsesquioxane graft copolymer having a repeating unit represented by formula (excluding those comprising only the repeating unit represented by formula (i)).
(7) The production method according to (6), wherein azobisisobutyronitrile is used as the radical polymerization initiator.
(8) The polysilsesquioxane compound is graft-polymerized with the compound (1b) in the presence of a radical polymerization initiator, and then the compound (1a) is graft-polymerized (6 ) Or the method for producing a polysilsesquioxane graft copolymer according to (7).
(9) In the polysilsesquioxane compound, in the presence of a radical polymerization initiator, the molar ratio of the compound (1a) to the compound (1b) is (compound (1a)) :( compound (1b)) = The polysilsesquioxane graft according to (6) or (7), wherein a mixture of the compound (1a) and the compound (1b) contained at a ratio of 95: 5 to 60:40 is graft-polymerized. A method for producing a copolymer.
(10) As a compound represented by the formula (1b), in the formula (1b), R 2b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 3b represents the formula (b), The following formula (b ′) in which r 2 and r 3 are combined to form a ring that may contain a hetero atom:

Figure 0005873292
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で表される基である化合物を用いることを特徴とする(6)〜(9)のいずれかに記載の製造方法。
(11)数平均分子量が50,000〜500,000であるポリシルセスキオキサングラフト共重合体を製造するものである(6)〜(10)のいずれかに記載の製造方法。
(12)(1)〜(5)のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含有することを特徴とする粘着剤。
(13)基材シート、及び、該基材シート上に形成された、(12)に記載の粘着剤からなる粘着剤層を有することを特徴とする粘着シート。
(6) The manufacturing method in any one of (9) characterized by using the compound which is group represented by.
(11) The production method according to any one of (6) to (10), wherein a polysilsesquioxane graft copolymer having a number average molecular weight of 50,000 to 500,000 is produced.
(12) A pressure-sensitive adhesive comprising the polysilsesquioxane graft copolymer according to any one of (1) to (5).
(13) A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material sheet and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the base material sheet and comprising the pressure-sensitive adhesive according to (12).

本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体は、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を有するため、特に、熱処理が施される工程を有する電気・電子製品ライン等において、粘着剤成分として好適に用いることができる。
本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法によれば、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を効率よく製造することができる。
本発明の粘着剤、粘着シートは、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いるものであるため、優れた粘着性、耐熱性及び凝集性を有する。
Since the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention has excellent adhesiveness, heat resistance and cohesiveness, it is used as an adhesive component particularly in electrical / electronic product lines having a step where heat treatment is performed. It can be used suitably.
According to the method for producing a polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention, the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention can be efficiently produced.
Since the pressure-sensitive adhesive and pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention use the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention, they have excellent pressure-sensitive adhesiveness, heat resistance and cohesiveness.

以下、本発明を、1)ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、2)ポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法、3)粘着剤、及び、4)粘着シートに項分けして詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention is classified into 1) polysilsesquioxane graft copolymer, 2) method for producing polysilsesquioxane graft copolymer, 3) pressure-sensitive adhesive, and 4) pressure-sensitive adhesive sheet. Explained.

1)ポリシルセスキオキサングラフト共重合体
本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体は、分子内に、前記式(i)、(ii)及び/又は(iii)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体である(但し、前記式(i)で表される繰り返し単位のみからなるポリシルセスキオキサングラフト重合体は除かれる。)。
1) Polysilsesquioxane graft copolymer The polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention is a repeating unit represented by the formula (i), (ii) and / or (iii) in the molecule. (However, the polysilsesquioxane graft polymer consisting only of the repeating unit represented by the formula (i) is excluded).

前記式(ii)、(iii)中、Dは、炭素数1〜20のアルキレン基、アリーレン基、又はこれらの組み合せを表す。   In the formulas (ii) and (iii), D represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group, or a combination thereof.

炭素数1〜20のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
アリーレン基としては、o−フェニレン基、m−フェニレン基、p−フェニレン基、2,6−ナフチレン基、1,5−ナフチレン基、1,4’−ビフェニレン基等が挙げられる。
Examples of the alkylene group having 1 to 20 carbon atoms include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, and a hexamethylene group.
Examples of the arylene group include o-phenylene group, m-phenylene group, p-phenylene group, 2,6-naphthylene group, 1,5-naphthylene group, 1,4′-biphenylene group, and the like.

前記アルキレン基、アリーレン基は、置換基を有していてもよい。
アルキレン基の置換基としては、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基等の置換基を有していてもよいアミノ基;水酸基;メルカプト基;アミド基、N,N−ジメチルアミド基等の置換基を有していてもよいアミド基;カルボキシル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;等が挙げられる。
The alkylene group and arylene group may have a substituent.
As the substituent of the alkylene group, an amino group which may have a substituent such as an amino group, a methylamino group or a dimethylamino group; a hydroxyl group; a mercapto group; an amide group, a N, N-dimethylamide group or the like An amide group which may have a group; a carboxyl group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom; an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group; an alkylthio group such as a methylthio group or an ethylthio group; And alkoxycarbonyl groups such as ethoxycarbonyl group;

前記アリーレン基の置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル基;シアノ基;ニトロ基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基等のアルキルチオ基;等が挙げられる。
これらの置換基は、アルキレン基、アリーレン基の任意の位置に、同一若しくは相異なって複数個が結合していてもよい。
Examples of the substituent for the arylene group include alkyl groups such as methyl group and ethyl group; cyano group; nitro group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; alkoxy groups such as methoxy group and ethoxy group; And alkylthio groups such as ethylthio group; and the like.
A plurality of these substituents may be bonded to an arbitrary position of the alkylene group or arylene group in the same or different manner.

アルキレン基とアリーレン基の組み合せとしては、前記置換基を有していてもよいアルキレン基の少なくとも1種と、前記置換基を有していてもよいアリーレン基の少なくとも1種とが直列に結合してなる基が挙げられる。   As a combination of an alkylene group and an arylene group, at least one kind of the alkylene group which may have the substituent and at least one kind of the arylene group which may have the substituent are bonded in series. The group which consists of.

これらの中でも、本発明においては、簡便に目的とするグラフト共重合体が得られることから、Dとしては、炭素数1〜6のアルキレン基又はアリーレン基が好ましく、アリーレン基がより好ましく、p−フェニレン基が特に好ましい。   Among these, in the present invention, since a desired graft copolymer can be easily obtained, D is preferably an alkylene group or arylene group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably an arylene group, p- A phenylene group is particularly preferred.

前記式(i)、(iii)中、Rは炭化水素基を表す。
の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等の炭素数1〜20のアルキル基;ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、3−ブテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基等の炭素数2〜20のアルケニル基;エチニル基、プロパルギル基、ブチニル基等の炭素数2〜10のアルキニル基;フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等の炭素数6〜20のアリール基;等が挙げられる。
In the formulas (i) and (iii), R 1 represents a hydrocarbon group.
Examples of the hydrocarbon group for R 1 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl group. An alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group; vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, isopropenyl group, 3- C2-C20 alkenyl group such as butenyl group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group; C2-C10 alkynyl group such as ethynyl group, propargyl group, butynyl group; phenyl group, 1-naphthyl group, And aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as 2-naphthyl group.

の炭化水素基は置換基を有していてもよい。Rの炭化水素基がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基であるとき、その置換基としては、前記Dのアルキレン基の置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。Rの炭化水素基がアリール基であるとき、その置換基としては、前記Dのアリーレン基の置換基として例示したものと同様のものが挙げられる。
これらの置換基は、炭化水素基の任意の位置に結合していてもよく、同一又は相異なる複数の置換基が結合していてもよい。
これらの中でも、本発明においては、簡便に目的とするグラフト共重合体が得られることから、Rとしては、炭素数1〜20のアルキル基又は炭素数6〜20のアリール基が好ましく、炭素数6〜20のアリール基がより好ましく、フェニル基が特に好ましい。
The hydrocarbon group for R 1 may have a substituent. When the hydrocarbon group for R 1 is an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, examples of the substituent include the same as those exemplified as the substituent for the alkylene group of D. When the hydrocarbon group for R 1 is an aryl group, examples of the substituent include those exemplified as the substituent for the arylene group of D.
These substituents may be bonded to any position of the hydrocarbon group, and a plurality of the same or different substituents may be bonded.
Among these, in the present invention, since an intended graft copolymer can be easily obtained, R 1 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. An aryl group of 6 to 20 is more preferable, and a phenyl group is particularly preferable.

は、水素原子;又は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等の炭素数1〜18のアルキル基を表す。なかでも、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。 R 2 is a hydrogen atom; or methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group Represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms such as n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group and n-decyl group. Especially, a hydrogen atom and a C1-C6 alkyl group are preferable, and a hydrogen atom and a methyl group are more preferable.

は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、総炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2〜20又はアシル基を表す。炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。総炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられる。アシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
これらの中でも、本発明においては、簡便に目的とするグラフト共重合体が得られることから、Rとしては、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子が特に好ましい。
R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms in total, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms in total. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl group. Examples of the alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a propoxycarbonyl group. Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group.
Among these, in the present invention, since a desired graft copolymer can be easily obtained, R 4 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a hydrogen atom.

k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。k1、k2又はk3が2以上のとき、式:−CH−C(R)(R)−で表される基同士は同一であっても、相異なっていてもよい。 k1, k2, and k3 each independently represent an arbitrary natural number. When k1, k2 or k3 is 2 or more, groups represented by the formula: —CH 2 —C (R 2 ) (R 3 ) — may be the same or different.

は、下記式(a)又は式(b)で表される基を表し、式(a)で表される基と式(b)で表される基の存在割合は、モル比で、(式(a)で表される基):(式(b)で表される基)=95:5〜60:40である。 R 3 represents a group represented by the following formula (a) or formula (b), and the ratio of the group represented by the formula (a) and the group represented by the formula (b) is a molar ratio. (Group represented by formula (a)): (Group represented by formula (b)) = 95: 5 to 60:40.

Figure 0005873292
Figure 0005873292

Figure 0005873292
Figure 0005873292

式(a)中、rは、炭素数4〜12の炭化水素基を表す。炭素数4〜12の炭化水素基としては、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等の炭素数4〜12のアルキル基;フェニル基、4−メチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、ビフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等の炭素数6〜12のアリール基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数3〜12のシクロアルキル基;ベンジル基、フェネチル基等の炭素数7〜12のアラルキル基;等が挙げられる。 In formula (a), r 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms include n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, C4-C12 alkyl groups such as n-nonyl group and n-decyl group; phenyl group, 4-methylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group, biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group and the like An aryl group having 6 to 12 carbon atoms; a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms such as a cyclopentyl group, a cyclohexyl group and a cycloheptyl group; an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms such as a benzyl group and a phenethyl group; It is done.

式(b)中、r、rは、それぞれ独立して、水素原子、又は、炭素数1〜10の炭化水素基を表す。
炭素数1〜10の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜10のアルキル基;フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等のアリール基;を表す。
In formula (b), r 2 and r 3 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
Examples of the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n -An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a hexyl group; an aryl group such as a phenyl group, a 1-naphthyl group, and a 2-naphthyl group.

、rは一緒になって、前記式(b’)で表されるように環を形成していてもよい。また、該環は、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等のヘテロ原子を含んでいてもよく、環は、5員環であっても、6員環であってもよい。
さらに、r、rは、それぞれ独立して、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基等の置換基を有していてもよい。
、rが一緒になって形成していてもよい環の一例を下記に示す。式中、「−」は結合手を表す。
r 2 and r 3 may be combined to form a ring as represented by the formula (b ′). The ring may contain a hetero atom such as an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom, and the ring may be a 5-membered ring or a 6-membered ring.
Furthermore, r 2 and r 3 may each independently have a substituent such as a hydroxyl group, a cyano group, or a nitro group.
An example of a ring that may be formed by combining r 2 and r 3 is shown below. In the formula, “-” represents a bond.

Figure 0005873292
Figure 0005873292

式中、Zは、CH、NCH、O、Sを示す。
これらの中でも、r、rは、より好適な目的化合物が得られることから、
In the formula, Z represents CH 2 , NCH 3 , O, or S.
Among these, since r 2 and r 3 are more suitable target compounds,

Figure 0005873292
Figure 0005873292

で表されるものが好ましく、 Is preferably represented by

Figure 0005873292
Figure 0005873292

で表されるものがより好ましく、上記式中、Zが酸素原子(O)である、モルホリン環を形成しているものが特に好ましい。
また、前記式(ii)、(iii)で表される繰り返し単位において、下記式(c)
More preferably, those having a morpholine ring, in which Z is an oxygen atom (O), are particularly preferred.
In the repeating unit represented by the above formulas (ii) and (iii), the following formula (c)

Figure 0005873292
Figure 0005873292

で表される枝重合部位を示す繰り返し単位は、下記式(c−a) The repeating unit representing a branch polymerization site represented by the following formula (ca)

Figure 0005873292
Figure 0005873292

(R、rは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるブロック〔A〕と、下記式(c−b) (R 2 and r 1 represent the same meaning as described above) and a block [A] composed of a repeating unit represented by the following formula (c-b):

Figure 0005873292
Figure 0005873292

(R、r及びrは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるブロック〔B〕とからなり、ブロック〔A〕とブロック〔B〕とが、前記式(ii)及び(iii)中、式:−CH(R)−D−で表される基のCH部分側から、−〔B〕−〔A〕又は、−〔A〕−〔B〕−〔A〕となるように配列されたブロック共重合体構造を有するものであっても、前記式(c−a)で表される繰り返し単位と式(c−b)で表される繰り返し単位からなるランダム共重合体構造を有するものであってもよい。
これらの中でも、種々の材料に対して優れた粘着力と凝集力を有する粘着剤成分が得られることから、本発明においては、前者のブロック共重合体構造を有するのがより好ましく、ブロック〔A〕とブロック〔B〕とが、式:−CH(R)−D−で表される基のCH部分側から、−〔B〕−〔A〕又は、−〔A〕−〔B〕−〔A〕となるように配列されたブロック共重合体構造を有するものがより好ましい。
(R 2 , r 2, and r 3 represent the same meaning as described above), and the block [A] and the block [B] are represented by the formula ( In ii) and (iii), from the CH moiety side of the group represented by the formula: -CH (R 4 ) -D-,-[B]-[A] or-[A]-[B]-[ A] Even if it has a block copolymer structure arranged so as to be, it is composed of the repeating unit represented by the formula (ca) and the repeating unit represented by the formula (cb). It may have a random copolymer structure.
Among these, since an adhesive component having excellent adhesive strength and cohesive strength with respect to various materials can be obtained, in the present invention, it is more preferable to have the former block copolymer structure. ] And the block [B] are represented by the formula: —CH (R 4 ) —D—, from the CH moiety side,-[B]-[A] or-[A]-[B]- What has the block copolymer structure arranged so that it may become [A] is more preferable.

本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の数平均分子量は、通常、50,000〜500,000、好ましくは、70,000〜200,000である。分子量分布(Mw/Mn)は、通常1.1〜5.0、好ましくは1.5〜3.0の範囲である。前記式(ii)、(iii)中のk1、k2及びk3は、それぞれ独立して任意の自然数であれば特に限定されないが、前記の数平均分子量を満たす範囲で設定することが好ましい。   The number average molecular weight of the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention is usually 50,000 to 500,000, preferably 70,000 to 200,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) is usually 1.1 to 5.0, preferably 1.5 to 3.0. K1, k2 and k3 in the formulas (ii) and (iii) are not particularly limited as long as they are independently an arbitrary natural number, but are preferably set within a range satisfying the number average molecular weight.

本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法としては、特に制約はないが、後述する本発明の製造方法により効率よく製造することができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the polysilsesquioxane graft copolymer of this invention, It can manufacture efficiently with the manufacturing method of this invention mentioned later.

2)ポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法
本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法は、分子内に、前記式(i)、(ii−a)及び/又は(iii−a)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物と、式(1a):CH=C(R2a)(R3a)で表される化合物(1a)、及び、式(1b):CH=C(R2b)(R3b)で表される化合物(1b)とを、化合物(1a)と化合物(1b)のモル比で、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下、グラフト重合反応を行うことを特徴とする、分子内に、前記式(i)、(ii)及び/又は(iii)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法である。
2) Production method of polysilsesquioxane graft copolymer The production method of the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention includes, in the molecule, the above formulas (i), (ii-a) and / or ( a polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by iii-a), a compound (1a) represented by the formula (1a): CH 2 ═C (R 2a ) (R 3a ), and the formula (1a) 1b): a compound (1b) represented by CH 2 ═C (R 2b ) (R 3b ), in a molar ratio of compound (1a) and compound (1b), (compound (1a)): (compound (1) 1b)) = 95: 5 to 60:40, and the graft polymerization reaction is carried out in the presence of a radical polymerization initiator, and the above formula (i), (ii) ) And / or (iii) It is a manufacturing method of a lysyl sesquioxane graft copolymer.

〈ポリシルセスキオキサン化合物(P)〉
本発明の製造方法においては、分子内に、前記式(i)、(ii−a)及び/又は(iii−a)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物(以下、「ポリシルセスキオキサン化合物(P)」ということがある。)を出発原料として用いる。
前記式(ii−a)、(iii−a)中、D、R、Rは前記の項1)で例示したのと同じ意味を表す。
<Polysilsesquioxane compound (P)>
In the production method of the present invention, a polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the formula (i), (ii-a) and / or (iii-a) in the molecule (hereinafter referred to as “polysiloxane”). Rusesquioxane compound (P) ”) is used as a starting material.
In the formulas (ii-a) and (iii-a), D, R 1 and R 4 represent the same meanings as exemplified in the above item 1).

前記式中、Xは、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいアミノ基を表す。   In the above formula, X represents an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, or an amino group which may have a substituent.

置換基を有していてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルキル基;メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、1−メトキシエトキシ基、2−メトキシエトキシ基等の炭素数2〜10のアルコキシアルコキシ基;等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリールオキシ基としては、フェノキシ基、2−クロロフェノキシ基、4−クロロフェノキシ基、3−メチルフェノキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基等が挙げられる。
置換基を有していてもよいアミノ基としては、アミノ基;メチルエチルアミノ基、フェニルアミノ基、アセチルアミノ基等のモノ置換アミノ基;ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、アセチルメチルアミノ基等のジ置換アミノ基;が挙げられる。
これらの中でも、Xとしては、反応性の観点から、アルコキシ基が好ましい。
Examples of the alkoxy group which may have a substituent include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group and a t-butoxy group; Group, an alkoxyalkoxy group having 2 to 10 carbon atoms such as an ethoxymethoxy group, a 1-methoxyethoxy group, and a 2-methoxyethoxy group; and the like.
Examples of the aryloxy group which may have a substituent include a phenoxy group, a 2-chlorophenoxy group, a 4-chlorophenoxy group, a 3-methylphenoxy group, a 1-naphthyloxy group, and a 2-naphthyloxy group. It is done.
Examples of the amino group which may have a substituent include an amino group; a mono-substituted amino group such as a methylethylamino group, a phenylamino group, and an acetylamino group; a dimethylamino group, a diethylamino group, a methylphenylamino group, and an acetylmethyl group. A disubstituted amino group such as an amino group;
Among these, X is preferably an alkoxy group from the viewpoint of reactivity.

ポリシルセスキオキサン化合物(P)は、分子内に、少なくとも(ii−a)又は(iii−a)の繰り返し単位を有するものであって、前記式(i)で表される繰り返し単位のみからなるものは含まない。
ポリシルセスキオキサン化合物(P)は、通常、(ii−a)及び(iii−a)、(i)及び(iii−a)、(ii−a)及び(iii−a)、又は(i)、(ii−a)及び(iii−a)の繰り返し単位を有する共重合体である。この共重合体は、ランダム共重合体、部分ブロック共重合体、完全ブロック共重合体等、どのような共重縮合物であってもよい。
The polysilsesquioxane compound (P) has at least (ii-a) or (iii-a) repeating units in the molecule, and only from the repeating units represented by the formula (i). Does not include.
The polysilsesquioxane compound (P) is usually (ii-a) and (iii-a), (i) and (iii-a), (ii-a) and (iii-a), or (i ), (Ii-a) and (iii-a) having a repeating unit. This copolymer may be any copolycondensate such as a random copolymer, a partial block copolymer, a complete block copolymer, and the like.

ポリシルセスキオキサン化合物(P)は、従来公知の方法、例えば、特許文献4に記載の方法により製造することができる。具体的には、次のようにして製造することができる。   The polysilsesquioxane compound (P) can be produced by a conventionally known method, for example, the method described in Patent Document 4. Specifically, it can be produced as follows.

Figure 0005873292
Figure 0005873292

(上記式においては、便宜上、前記式(i)、(ii−a)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位の記載を省略し、前記(iii−a)で表される繰り返し単位からなるものを記載しているが、これに限定されるものではない。式中、qは、任意の自然数を表す。)
すなわち、式(4):〔Hal−CH(R)D〕Si(ORで表されるアルコキシシラン化合物(4)、及び、該アルコキシシラン化合物(4)1質量部に対し、0〜100倍量の、式(5):RSi(ORで表されるアルコキシシラン化合物(5)を、酸触媒又は塩基触媒の存在下に縮合させて共重縮合物(P’)を得る。
(In the above formula, for the sake of convenience, the description of the repeating unit corresponding to the repeating unit represented by the formulas (i) and (ii-a) is omitted, and the repeating unit represented by the (iii-a) is used. However, the present invention is not limited to this, and q represents an arbitrary natural number.)
That is, 0 with respect to 1 part by mass of the alkoxysilane compound (4) represented by the formula (4): [Hal-CH (R 4 ) D] Si (OR 5 ) 3 and the alkoxysilane compound (4). ˜100 times the amount of the alkoxysilane compound (5) represented by the formula (5): R 1 Si (OR 6 ) 3 is condensed in the presence of an acid catalyst or a base catalyst to form a copolycondensate (P ′ )

前記式中、R、D、X及びRは前記と同じ意味を表す。
Halはフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子を表す。
、Rは、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−へキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基を表す。
In the above formula, R 1 , D, X and R 4 represent the same meaning as described above.
Hal represents a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom.
R 5 and R 6 are each independently a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group, or an isopentyl group. Represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a group, a neopentyl group, and an n-hexyl group.

Mは、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属原子;マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属原子;または鉄、マンガン、亜鉛、銅等の遷移金属原子;を表し、アルカリ金属原子が好ましい。nはMの原子価を表す。   M represents an alkali metal atom such as lithium, sodium or potassium; an alkaline earth metal atom such as magnesium or calcium; or a transition metal atom such as iron, manganese, zinc or copper; and an alkali metal atom is preferred. n represents the valence of M.

アルコキシシラン化合物(4)の具体例としては、p−クロロメチルフェニルトリメトキシシラン、p−クロロメチルフェニルトリエトキシシラン、p−(2−クロロエチル)フェニルトリメトキシシラン、p−(2−クロロエチル)フェニルトリエトキシシラン、p−(3−クロロプロピル)フェニルトリメトキシシラン、p−(3−クロロプロピル)フェニルトリエトキシシラン、p−ブロモメチルフェニルトリメトキシシラン、p−ブロモメチルフェニルトリエトキシシラン、p−(2−ブロモエチル)フェニルトリメトキシシラン、p−(2−ブロモエチル)フェニルトリエトキシシラン、p−(3−ブロモプロピル)フェニルトリメトキシシラン、p−(3−ブロモプロピル)フェニルトリエトキシシラン、   Specific examples of the alkoxysilane compound (4) include p-chloromethylphenyltrimethoxysilane, p-chloromethylphenyltriethoxysilane, p- (2-chloroethyl) phenyltrimethoxysilane, and p- (2-chloroethyl) phenyl. Triethoxysilane, p- (3-chloropropyl) phenyltrimethoxysilane, p- (3-chloropropyl) phenyltriethoxysilane, p-bromomethylphenyltrimethoxysilane, p-bromomethylphenyltriethoxysilane, p- (2-bromoethyl) phenyltrimethoxysilane, p- (2-bromoethyl) phenyltriethoxysilane, p- (3-bromopropyl) phenyltrimethoxysilane, p- (3-bromopropyl) phenyltriethoxysilane,

p−クロロメチルフェニルメチルトリメトキシシラン、p−クロロメチルフェニルメチルトリエトキシシラン、p−(2−クロロエチル)フェニルメチルトリメトキシシラン、p−(2−クロロエチル)フェニルメチルトリエトキシシラン、p−(3−クロロプロピル)フェニルメチルトリメトキシシラン、p−(3−クロロプロピル)フェニルメチルトリエトキシシラン、p−ブロモメチルフェニルメチルトリメトキシシラン、p−ブロモメチルフェニルメチルトリエトキシシラン、p−(2−ブロモエチル)フェニルメチルトリメトキシシラン、p−(2−ブロモエチル)フェニルメチルトリエトキシシラン、p−(3−ブロモプロピル)フェニルメチルトリメトキシシラン、p−(3−ブロモプロピル)フェニルメチルトリエトキシシラン、2−(p−クロロメチルフェニル)エチルトリメトキシシラン、2−(p−クロロメチルフェニル)エチルトリエトキシシラン、2−(p−クロロメチルフェニル)エチルトリプロポキシシラン、2−(p−クロロメチルフェニル)エチルトリブトキシシラン、2−(p−ブロモメチルフェニル)エチルトリメトキシシラン、2−(p−ブロモメチルフェニル)エチルトリエトキシシラン、2−(p−ブロモメチルフェニル)エチルトリプロポキシシラン、   p-chloromethylphenylmethyltrimethoxysilane, p-chloromethylphenylmethyltriethoxysilane, p- (2-chloroethyl) phenylmethyltrimethoxysilane, p- (2-chloroethyl) phenylmethyltriethoxysilane, p- (3 -Chloropropyl) phenylmethyltrimethoxysilane, p- (3-chloropropyl) phenylmethyltriethoxysilane, p-bromomethylphenylmethyltrimethoxysilane, p-bromomethylphenylmethyltriethoxysilane, p- (2-bromoethyl) ) Phenylmethyltrimethoxysilane, p- (2-bromoethyl) phenylmethyltriethoxysilane, p- (3-bromopropyl) phenylmethyltrimethoxysilane, p- (3-bromopropyl) phenylmethyltriethoxysilane 2- (p-chloromethylphenyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (p-chloromethylphenyl) ethyltriethoxysilane, 2- (p-chloromethylphenyl) ethyltripropoxysilane, 2- (p-chloro Methylphenyl) ethyltributoxysilane, 2- (p-bromomethylphenyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (p-bromomethylphenyl) ethyltriethoxysilane, 2- (p-bromomethylphenyl) ethyltripropoxysilane,

2−(m−クロロメチルフェニル)エチルトリメトキシシラン、2−(m−クロロメチルフェニル)エチルトリエトキシシラン、2−(m−クロロメチルフェニル)エチルトリプロポキシシラン、2−(m−クロロメチルフェニル)エチルトリブトキシシラン、2−(m−ブロモメチルフェニル)エチルトリメトキシシラン、2−(m−ブロモメチルフェニル)エチルトリエトキシシラン、2−(m−ブロモメチルフェニル)エチルトリプロポキシシラン、3−(p−クロロメチルフェニル)プロピルトリメトキシシラン、3−(p−クロロメチルフェニル)プロピルトリエトキシシラン、3−(p−クロロメチルフェニル)プロピルトリプロポキシシラン、3−(p−クロロメチルフェニル)プロピルトリブトキシシラン、3−(p−ブロモメチルフェニル)プロピルトリメトキシシラン、3−(p−ブロモメチルフェニル)プロピルトリエトキシシラン、3−(m−ブロモメチルフェニル)プロピルトリプロポキシシラン、3−(m−クロロメチルフェニル)プロピルトリメトキシシラン、3−(m−クロロメチルフェニル)プロピルトリエトキシシラン、3−(m−クロロメチルフェニル)プロピルトリプロポキシシラン、3−(m−クロロメチルフェニル)プロピルトリブトキシシラン、3−(m−ブロモメチルフェニル)プロピルトリメトキシシラン、3−(m−ブロモメチルフェニル)プロピルトリエトキシシラン、3−(m−ブロモメチルフェニル)プロピルトリプロポキシシラン、   2- (m-chloromethylphenyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (m-chloromethylphenyl) ethyltriethoxysilane, 2- (m-chloromethylphenyl) ethyltripropoxysilane, 2- (m-chloromethylphenyl) ) Ethyl tributoxysilane, 2- (m-bromomethylphenyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (m-bromomethylphenyl) ethyltriethoxysilane, 2- (m-bromomethylphenyl) ethyltripropoxysilane, 3- (P-chloromethylphenyl) propyltrimethoxysilane, 3- (p-chloromethylphenyl) propyltriethoxysilane, 3- (p-chloromethylphenyl) propyltripropoxysilane, 3- (p-chloromethylphenyl) propyl Tributoxysilane, 3- (p-Bro Methylphenyl) propyltrimethoxysilane, 3- (p-bromomethylphenyl) propyltriethoxysilane, 3- (m-bromomethylphenyl) propyltripropoxysilane, 3- (m-chloromethylphenyl) propyltrimethoxysilane, 3- (m-chloromethylphenyl) propyltriethoxysilane, 3- (m-chloromethylphenyl) propyltripropoxysilane, 3- (m-chloromethylphenyl) propyltributoxysilane, 3- (m-bromomethylphenyl) ) Propyltrimethoxysilane, 3- (m-bromomethylphenyl) propyltriethoxysilane, 3- (m-bromomethylphenyl) propyltripropoxysilane,

4−(p−クロロメチルフェニル)ブチルトリメトキシシラン、4−(p−クロロメチルフェニル)ブチルトリエトキシシラン、4−(p−クロロメチルフェニル)ブチルトリプロポキシシラン、4−(p−クロロメチルフェニル)ブチルトリブトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)ブチルトリメトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)ブチルトリエトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)ブチルトリプロポキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルトリメトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルトリエトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルトリメトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルトリエトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルメチルトリメトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルメチルトリエトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルトリメトキシシラン、4−(p−ブロモメチルフェニル)フェニルメチルトリエトキシシラン、2−〔4’−(p−ブロモメチルフェニル)フェニル〕エチルトリメトキシシラン、2−〔4’−(p−ブロモメチルフェニル)フェニル〕エチルトリエトキシシラン、2−〔4’−(p−ブロモメチルフェニル)フェニル〕エチルトリメトキシシラン、2−〔4’−(p−ブロモメチルフェニル)フェニル〕エチルトリエトキシシラン、及びこれらの2種以上の組合せ等が挙げられる。   4- (p-chloromethylphenyl) butyltrimethoxysilane, 4- (p-chloromethylphenyl) butyltriethoxysilane, 4- (p-chloromethylphenyl) butyltripropoxysilane, 4- (p-chloromethylphenyl) ) Butyltributoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) butyltrimethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) butyltriethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) butyltripropoxysilane, 4- (P-bromomethylphenyl) phenyltrimethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) phenyltriethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) phenyltrimethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) phenyl Triethoxysilane, 4- (p-bromo Tilphenyl) phenylmethyltrimethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) phenylmethyltriethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) phenyltrimethoxysilane, 4- (p-bromomethylphenyl) phenylmethyltriethoxy Silane, 2- [4 '-(p-bromomethylphenyl) phenyl] ethyltrimethoxysilane, 2- [4'-(p-bromomethylphenyl) phenyl] ethyltriethoxysilane, 2- [4 '-(p -Bromomethylphenyl) phenyl] ethyltrimethoxysilane, 2- [4 '-(p-bromomethylphenyl) phenyl] ethyltriethoxysilane, and combinations of two or more thereof.

アルコキシシラン化合物(5)の具体例としては、フェニルトリメトキシシラン、4−クロロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、2−メトキシフェニルトリエトキシシラン等の(置換)フェニルトリアルコキシシラン類;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン等のアルキルトリアルコキシシラン類;シアノメチルトリメトキシシラン、シアノメチルトリエトキシシラン、2−シアノエチルトリメトキシシラン、2−シアノエチルトリエトキシシラン、3−シアノプロピルトリメトキシシラン、3−シアノプロピルトリエトキシシラン、4−シアノブチルトリメトキシシラン、4−シアノブチルトリエトキシシラン等のシアノアルキルトリアルコキシシラン類;アセトキシメチルトリメトキシシラン、アセトキシメチルトリエトキシシラン、3−アセトキシプロピルトリメトキシシラン、3−アセトキシプロピルトリエトキシシラン等のアセトキシ基を有するシラン類;及びこれら2種以上の組合せ等が挙げられる。   Specific examples of the alkoxysilane compound (5) include (substituted) phenyltrialkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane, 4-chlorophenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and 2-methoxyphenyltriethoxysilane; methyltrimethoxy Alkyltrialkoxysilanes such as silane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane; cyanomethyltrimethoxysilane, cyanomethyltriethoxysilane, 2-cyanoethyltrimethoxysilane, 2-cyanoethyltriethoxysilane, 3-cyanopropyltrimethoxysilane, 3-cyanopropyltriethoxysilane, 4-cyanobutyltrimethoxysilane Cyanoalkyltrialkoxysilanes such as 4-cyanobutyltriethoxysilane; acetoxy groups such as acetoxymethyltrimethoxysilane, acetoxymethyltriethoxysilane, 3-acetoxypropyltrimethoxysilane, 3-acetoxypropyltriethoxysilane And the combination of these two or more.

共重縮合物(P’)を構成するアルコキシシラン化合物(4)とアルコキシシラン化合物(5)との割合は任意に設定することができるが、通常、質量部比で、アルコキシシラン化合物(4):アルコキシシラン化合物(5)=100:0〜1:99の範囲である。   Although the ratio of the alkoxysilane compound (4) and the alkoxysilane compound (5) constituting the copolycondensate (P ′) can be arbitrarily set, usually the alkoxysilane compound (4) is in mass parts ratio. : Alkoxysilane compound (5) = 100: 0 to 1:99.

用いる酸触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸;p−トルエンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸1水和物、スルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、酢酸、蟻酸等の有機酸が挙げられる。   Examples of the acid catalyst used include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid; organic materials such as p-toluenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid monohydrate, sulfonic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, acetic acid, and formic acid. Examples include acids.

また塩基触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどの金属水酸化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムt−ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド;メチルアミン、エチルアミン、ブチルアミン等の1級アミン;ジエチルアミン、ジブチルアミン等の2級アミン;トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の3級アミン;ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ−7−エン(DBU)などの含窒素複素環化合物;等が挙げられる。   As the base catalyst, metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide; sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium t-butoxide, magnesium methoxide, magnesium Metal alkoxides such as ethoxide; primary amines such as methylamine, ethylamine and butylamine; secondary amines such as diethylamine and dibutylamine; tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine; pyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4 0.0] nitrogen-containing heterocyclic compounds such as undec-7-ene (DBU);

酸触媒又は塩基触媒の使用量は、アルコキシシラン化合物(4)に対して、通常、0.001重量%〜10重量%、好ましくは0.01重量%〜5重量%の範囲である。   The usage-amount of an acid catalyst or a base catalyst is 0.001 weight%-10 weight% normally with respect to an alkoxysilane compound (4), Preferably it is the range of 0.01 weight%-5 weight%.

アルコキシシラン化合物(4)とアルコキシシラン化合物(5)との反応に用いる有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール類;水;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the organic solvent used in the reaction between the alkoxysilane compound (4) and the alkoxysilane compound (5) include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, and methyl propionate. Esters such as acetone; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, t-butyl alcohol Alcohols such as; water; and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

反応温度は、通常0℃から用いられる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは40℃〜130℃の範囲である。反応温度があまりに低いと縮合反応の進行が不十分となる場合がある一方で、反応温度が高くなりすぎるとゲル化抑制が困難となる。反応は、通常数分から数時間で完結する。   The reaction temperature is usually in the temperature range from 0 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably in the range of 40 ° C. to 130 ° C. When the reaction temperature is too low, the progress of the condensation reaction may be insufficient. On the other hand, when the reaction temperature is too high, it is difficult to suppress gelation. The reaction is usually completed within minutes to hours.

次いで、得られた共重縮合物(P’)に、式(6):M〔SC(=S)X〕で表される化合物(6)を反応させることにより、ポリシルセスキオキサン化合物(P)を得ることができる。すなわち、得られた共重縮合物(P’)に、化合物(6)を反応させることにより、前記アルコキシシラン化合物(4)由来のハロゲン部分が、式:−SC(=S)−Xで表される基で置換されたポリシルセスキオキサン化合物(P)が得られる。 Next, a polysilsesquioxane compound is obtained by reacting the obtained copolycondensate (P ′) with a compound (6) represented by the formula (6): M [SC (═S) X] n . (P) can be obtained. That is, by reacting the obtained copolycondensate (P ′) with the compound (6), the halogen moiety derived from the alkoxysilane compound (4) is represented by the formula: —SC (═S) —X. The polysilsesquioxane compound (P) substituted with the group to be obtained is obtained.

化合物(6)の具体例としては、エチルキサントゲン酸カリウム、エチルキサントゲン酸ナトリウム等のXがアルコキシ基である化合物;
フェノキシキサントゲン酸カリウム、フェノキシキサントゲン酸ナトリウム等のXがアリールオキシ基である化合物;
これらの中でも、反応性が高く、また得られるポリシルセスキオキサン化合物が、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体の合成を効率よく行うことができることから、式(6)中、Xがアルコキシ基である化合物が好ましく、エチルキサントゲン酸塩がより好ましく、エチルキサントゲン酸カリウムが特に好ましい。
Specific examples of the compound (6) include compounds in which X is an alkoxy group such as potassium ethyl xanthate and sodium ethyl xanthate;
Compounds wherein X is an aryloxy group, such as potassium phenoxyxanthate, sodium phenoxyxanthate;
Among these, since the reactivity is high and the resulting polysilsesquioxane compound can efficiently synthesize a polysilsesquioxane graft copolymer, in formula (6), X is an alkoxy group. Are preferred, ethyl xanthate is more preferred, and potassium ethyl xanthate is particularly preferred.

前記共重縮合物(P’)と化合物(6)との反応は、通常、不活性溶媒中で行うことができる。
用いる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル類;クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセタミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を混合して用いることができる。
The reaction between the copolycondensate (P ′) and the compound (6) can be usually performed in an inert solvent.
Solvents used include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, n-heptane and n-octane; cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclo Alicyclic hydrocarbons such as octane; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, anisole, phenylethyl ether, diphenyl ether; chloroform, carbon tetrachloride, 1, Halogenated hydrocarbons such as 2-dichloroethane and chlorobenzene; esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and methyl propionate; acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone Ketones; amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; It is done. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、特に制約はないが、用いる共重縮合物(P’)1gに対して、通常1〜1000ml、好ましくは5〜100mlである。   Although there is no restriction | limiting in particular in the usage-amount of a solvent, It is 1-1000 ml normally with respect to 1 g of copolycondensates (P ') to be used, Preferably it is 5-100 ml.

反応温度は、特に制約はないが、通常0℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは15〜60℃、より好ましくは室温である。
反応時間は、通常数分から数十時間、好ましくは1〜20時間である。
反応終了後、通常の後処理操作を行うことにより、本発明に用いるポリシルセスキオキサン化合物(P)を得ることができる。
ポリシルセスキオキサン化合物(P)は、ラダー構造を有することがあるが、ラダー型構造を有しているか否かは、例えば、反応生成物の赤外線吸収スペクトルやX線回折測定を行うことによって確認することができる。
The reaction temperature is not particularly limited, but is usually a temperature range from 0 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably 15 to 60 ° C., more preferably room temperature.
The reaction time is usually several minutes to several tens of hours, preferably 1 to 20 hours.
The polysilsesquioxane compound (P) used for this invention can be obtained by performing normal post-processing operation after completion | finish of reaction.
The polysilsesquioxane compound (P) may have a ladder structure, but whether or not it has a ladder structure can be determined by, for example, performing an infrared absorption spectrum or X-ray diffraction measurement of the reaction product. Can be confirmed.

ポリシルセスキオキサン化合物(P)の数平均分子量は、通常1,000〜30,000、好ましくは1,500〜20,000の範囲である。また、ポリシルセスキオキサン化合物(P)の分子量分布(Mw/Mn)は、特に制限されないが、通常1.0〜3.0、好ましくは1.1〜2.0の範囲である。数平均分子量及び分子量分布は、例えば、SEC(サイズ・エクスクルージョン・クロマトグラフィー)により測定し、ポリスチレン換算により求めることができる。   The number average molecular weight of the polysilsesquioxane compound (P) is usually in the range of 1,000 to 30,000, preferably 1,500 to 20,000. The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polysilsesquioxane compound (P) is not particularly limited, but is usually 1.0 to 3.0, preferably 1.1 to 2.0. The number average molecular weight and molecular weight distribution can be measured by, for example, SEC (size exclusion chromatography) and calculated by polystyrene conversion.

次いで、得られたポリシルセスキオキサン化合物(P)に、式(1a):CH=C(R2a)(R3a)で表される化合物(1a)、及び、式(1b):CH=C(R2b)(R3b)で表される化合物(1b)とを、化合物(1a)と化合物(1b)のモル比で、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下、グラフト重合反応(すなわち、MADIX法による反応)を行うことで、目的とするポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。 Next, the resulting polysilsesquioxane compound (P) is added to the compound (1a) represented by the formula (1a): CH 2 ═C (R 2a ) (R 3a ) and the formula (1b): CH 2 = C (R 2b ) (R 3b ) is represented by a compound (1a) :( compound (1b)) = the compound (1a) and the compound (1b) in a molar ratio. Using the ratio of 95: 5 to 60:40 in the presence of a radical polymerization initiator, the graft polymerization reaction (that is, the reaction by the MADIX method) is carried out to obtain the desired polysilsesquioxane graft copolymer Coalescence can be obtained.

〈化合物(1a)〉
本発明に用いる化合物(1a)は、式(1a):CH=C(R2a)(R3a)で表される化合物である。
式(1a)中、R2aは前記Rと同じ意味を表し、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。
3aは、前記式(a)で表される基を示し、式中、rは前記と同じ意味を表す。
<Compound (1a)>
The compound (1a) used in the present invention is a compound represented by the formula (1a): CH 2 ═C (R 2a ) (R 3a ).
In formula (1a), R 2a represents the same meaning as R 2 described above, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 3a represents a group represented by the formula (a), wherein r 1 represents the same meaning as described above.

化合物(1a)としては、例えば、以下の化合物等が挙げられる。
n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクレート、ドデシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸の炭素4〜12のアルキルエステル;
シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸の炭素5〜12のシクロアルキルエステル;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェナシル(メタ)アクリレート、1−ナフチルメチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸の炭素7〜12のアラルキルエステル;

フェニル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸の炭素6〜12のアリールエステル;
ここで、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」であり、「(メタ)アクリル酸」は、「アクリル酸」又は「メタクリル酸」であることを意味する(以下にて同じ。)。
化合物(1a)は、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the compound (1a) include the following compounds.
n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-pentyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) C 4-12 alkyl esters of (meth) acrylic acid such as acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate;
C 5-12 cycloalkyl esters of (meth) acrylic acid such as cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate;
Aralkyl esters of carbon 7-12 of (meth) acrylic acid such as benzyl (meth) acrylate, phenacyl (meth) acrylate, 1-naphthylmethyl (meth) acrylate;
;
Aryl esters of carbon 6-12 of (meth) acrylic acid such as phenyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate;
Here, “(meth) acrylate” means “acrylate” or “methacrylate”, and “(meth) acrylic acid” means “acrylic acid” or “methacrylic acid” (the same applies hereinafter). .)
A compound (1a) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

これらの中でも、化合物(1a)としては、目的とするポリシルセスキオキサン化合物をより簡便に得られる観点から、n−ブチル(メタ)アクリレート等の炭素数4〜12のアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。   Among these, as a compound (1a), C4-C12 alkyl (meth) acrylates, such as n-butyl (meth) acrylate, from a viewpoint which can obtain the target polysilsesquioxane compound more easily. preferable.

〈化合物(1b)〉
本発明に用いる化合物(1b)は、式(1b):CH=C(R2b)(R3b)で表される化合物である。
式(1b)中、R2bは、前記Rと同じ意味を表し、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基がより好ましい。
3bは、前記式(b)で表される基を示し、式中、r、rは、前記と同じ意味を表す。
<Compound (1b)>
The compound (1b) used in the present invention is a compound represented by the formula (1b): CH 2 ═C (R 2b ) (R 3b ).
In formula (1b), R 2b represents the same meaning as R 2 above, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 3b represents a group represented by the formula (b), in which r 2 and r 3 have the same meaning as described above.

化合物(1b)としては、例えば、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−(メタ)アクリロイルモルホリン、N−(メタ)アクリロイルチオモルホリン、N−(メタ)アクリロイルピペリジン、N−(メタ)アクリロイルピロリジン等が挙げられる。
ここで、「(メタ)アクリロイル」は、「アクリロイル」又は「メタクリロイル」を意味する〔以下にて同じ。〕。
化合物(1b)は、1種単独で、或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the compound (1b) include N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, and N- (meta). ) Acryloylmorpholine, N- (meth) acryloylthiomorpholine, N- (meth) acryloylpiperidine, N- (meth) acryloylpyrrolidine and the like.
Here, “(meth) acryloyl” means “acryloyl” or “methacryloyl” [the same applies hereinafter. ].
A compound (1b) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

これらの中でも、化合物(1b)としては、目的とするポリシルセスキオキサン化合物をより簡便に得られる観点から、N−(メタ)アクリロイルモルホリン等の、r、rが一緒になって環を形成した化合物が好ましく、下記式で示す(メタ)アクリロイルモルホリンがより好ましく、アクリロイルモルホリンが特に好ましい。 Among these, as the compound (1b), r 2 and r 3 such as N- (meth) acryloylmorpholine are combined to form a ring from the viewpoint of easily obtaining the desired polysilsesquioxane compound. Is preferred, (meth) acryloylmorpholine represented by the following formula is more preferred, and acryloylmorpholine is particularly preferred.

Figure 0005873292
Figure 0005873292

〈MADIX法による反応〉
本発明においては、前記ポリシルセスキオキサン化合物(P)と、化合物(1a)及び化合物(1b)とを、ラジカル重合開始剤の存在下、グラフト重合反応を行うことにより、目的とするポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。
より詳細には、前記ポリシルセスキオキサン化合物(P)と、化合物(1a)及び化合物(1b)とを、MADIX法により、目的とするポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。
<Reaction by MIXIX method>
In the present invention, the polysilsesquioxane compound (P), the compound (1a) and the compound (1b) are subjected to a graft polymerization reaction in the presence of a radical polymerization initiator, to thereby obtain a target polysil A sesquioxane graft copolymer can be obtained.
More specifically, the desired polysilsesquioxane graft copolymer can be obtained from the polysilsesquioxane compound (P), the compound (1a), and the compound (1b) by the MADIX method. .

ここで、MADIX法は、移行活性キサンテートを用いる、可逆的付加−フラグメンテーション連鎖移行重合法(Macromolecular Design via Interchange of Xanthate)のことである。すなわち、キサンテートをドーマント種(ラジカル反応において休眠種とも呼ばれる安定な化学種)として用い、これとラジカル種との可逆的な付加開裂反応によりラジカル種を発生させる方法である。
本発明においては、MADIX法を用いることにより、化合物(1b)をも効率よくグラフト重合させることができるため、簡便に目的物を得ることができる。
Here, the MADIX method is a reversible addition-fragmentation chain transfer polymerization method (Macromolecular Design via Interchange of Xanthate) using a transfer active xanthate. That is, xanthate is used as a dormant species (a stable chemical species that is also called a dormant species in a radical reaction), and a radical species is generated by a reversible addition-cleavage reaction between this and the radical species.
In the present invention, the compound (1b) can also be efficiently graft-polymerized by using the MADIX method, so that the desired product can be easily obtained.

具体的には、ポリシルセスキオキサン化合物(P)と、化合物(1a)及び化合物(1b)とを、溶媒中で、ラジカル重合開始剤の存在下で撹拌することにより反応を行う。反応は、窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で行うのが好ましい。   Specifically, the reaction is carried out by stirring the polysilsesquioxane compound (P), the compound (1a) and the compound (1b) in a solvent in the presence of a radical polymerization initiator. The reaction is preferably performed in an inert atmosphere such as a nitrogen atmosphere.

本発明においては、前記化合物(1a)と化合物(1b)を、化合物(1a)と化合物(1b)のモル比で、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40となる割合で用いる。このような割合で用いることで、結果として、粘着性、耐熱性及び凝集性に優れた粘着剤成分として有用なポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。   In the present invention, the compound (1a) and the compound (1b) are mixed in a molar ratio of the compound (1a) and the compound (1b) (compound (1a)) :( compound (1b)) = 95: 5-60 : Used at a ratio of 40. As a result, a polysilsesquioxane graft copolymer useful as an adhesive component excellent in adhesiveness, heat resistance and cohesiveness can be obtained by using at such a ratio.

また、ポリシルセスキオキサン化合物(P)と、化合物(化合物(1a)と化合物(1b)との合計)との使用割合は、ポリシルセスキオキサン化合物(P)と化合物のモル比で、通常、(ポリシルセスキオキサン化合物(P)):(化合物)=1:20〜1:100、好ましくは1:40〜1:80である。   Moreover, the use ratio of the polysilsesquioxane compound (P) and the compound (total of the compound (1a) and the compound (1b)) is a molar ratio of the polysilsesquioxane compound (P) and the compound. Usually, (polysilsesquioxane compound (P)) :( compound) = 1: 20 to 1: 100, preferably 1:40 to 1:80.

用いるラジカル重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、2,2’−アゾビス(2−アミノジプロパン)二塩酸塩、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)等のアゾ系開始剤;ベンゾイルペルオキシド等の過酸化物系ラジカル重合開始剤;等が挙げられる。これらの中でも、効率よく目的物を得ることができること等から、AIBNが好ましい。
ラジカル重合開始剤の使用量は、ポリシルセスキオキサン化合物(P)1当量に対して、通常、0.01〜0.3当量である。
Examples of the radical polymerization initiator used include azobisisobutyronitrile (AIBN), 2,2′-azobis (2-aminodipropane) dihydrochloride, 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), and the like. And azo initiators; peroxide radical polymerization initiators such as benzoyl peroxide; and the like. Among these, AIBN is preferable because the target product can be obtained efficiently.
The usage-amount of a radical polymerization initiator is 0.01-0.3 equivalent normally with respect to 1 equivalent of polysilsesquioxane compounds (P).

用いる溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限されない。例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサン、アニソール、フェニルエチルエーテル、ジフェニルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類;クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセタミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。   The solvent to be used is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dibutyl ether, tetrahydrofuran (THF), dioxane, anisole, phenylethyl ether, diphenyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene; aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, n-heptane and n-octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane; chloroform, carbon tetrachloride, 1, Halogenated hydrocarbons such as 2-dichloroethane and chlorobenzene; esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl propionate; acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and the like Ketones; amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; . These solvents can be used alone or in combination of two or more.

溶媒の使用量は、ポリシルセスキオキサン化合物(P)1gあたり、通常、0.1〜1,000ml、好ましくは1〜100mlである。   The amount of the solvent used is usually 0.1 to 1,000 ml, preferably 1 to 100 ml, per 1 g of the polysilsesquioxane compound (P).

反応温度は、通常20℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは40〜100℃である。
反応時間は、反応規模等にもよるが、通常数分から数十時間、好ましくは1〜10時間である。
The reaction temperature is usually in the temperature range from 20 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably 40-100 ° C.
The reaction time is usually several minutes to several tens of hours, preferably 1 to 10 hours, depending on the reaction scale.

本反応においては、化合物(1a)と化合物(1b)の混合物を、ポリシルセスキオキサン化合物(P)と反応させて、グラフト鎖が、化合物(1a)と化合物(1b)のランダム共重合体となるように反応を行ってもよいし、化合物(1a)と化合物(1b)とを段階的に添加することにより、グラフト鎖が、化合物(1a)と化合物(1b)のブロック共重合体となるように反応を行ってもよい。   In this reaction, a mixture of compound (1a) and compound (1b) is reacted with polysilsesquioxane compound (P), and the graft chain is a random copolymer of compound (1a) and compound (1b). The compound (1a) and the compound (1b) may be added stepwise so that the graft chain becomes a block copolymer of the compound (1a) and the compound (1b). You may react so that it may become.

化合物(1a)と化合物(1b)とを段階的に添加する場合においては、化合物(1b)を反応させた後に、化合物(1a)を反応させるのが好ましい。
このように反応させて、グラフト鎖の末端を、化合物(1a)由来の繰り返し単位からなるブロック〔A〕とすることで、種々の材料に対して粘着性の優れたポリシルセスキオキサングラフト共重合体を得ることができる。
When compound (1a) and compound (1b) are added stepwise, it is preferable to react compound (1a) after reacting compound (1b).
By reacting in this way, the end of the graft chain is changed to the block [A] composed of the repeating unit derived from the compound (1a), so that the polysilsesquioxane graft copolymer having excellent adhesion to various materials can be used. A polymer can be obtained.

なお、グラフト鎖のブロック共重合体は、ジブロック体に限らず、トリブロック体、マルチブロック体であってもよい。これらの場合であっても、上記と同じ理由から、グラフト鎖の末端のブロックは、化合物(1a)由来の繰り返し単位からなるブロック〔A〕であるのが好ましい。   The block copolymer of graft chains is not limited to a diblock body but may be a triblock body or a multiblock body. Even in these cases, for the same reason as described above, the terminal block of the graft chain is preferably a block [A] composed of a repeating unit derived from the compound (1a).

段階的に反応させる場合において、反応温度及び反応時間は、前記に記載の反応温度及び反応時間の範囲内で選択すればよい。   In the case of performing the reaction stepwise, the reaction temperature and reaction time may be selected within the range of the reaction temperature and reaction time described above.

反応終了後は、周知の方法に従って、残存モノマー及び/又は溶媒を留去し、適当な溶媒中で再沈殿させ、沈殿した重合体を従来公知の方法で回収して目的とする重合体を単離することができる。   After completion of the reaction, according to a well-known method, the remaining monomer and / or solvent is distilled off, and reprecipitation is performed in an appropriate solvent. The precipitated polymer is recovered by a conventionally known method to obtain a single target polymer. Can be separated.

再沈殿に使用する溶媒としては、水;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、シクロヘキサン等の炭素数5〜8の炭化水素類又は脂環式炭化水素類;メタノール、エタノール、イソプロパノール等の炭素数1〜6のアルコール類;ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類;等が挙げられる。これらの中では、n−ヘキサン、メタノール、水、ジエチルエーテル、又はこれらの混合溶媒が好適である。   Solvents used for reprecipitation include water; hydrocarbons or alicyclic hydrocarbons having 5 to 8 carbon atoms such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, cyclohexane; methanol, ethanol, isopropanol, etc. Examples thereof include alcohols having 1 to 6 carbon atoms; ethers such as diethyl ether and dioxane; Among these, n-hexane, methanol, water, diethyl ether, or a mixed solvent thereof is preferable.

以上のようにして、前記式(i)、(ii)及び/又は(iii)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体(前記式(i)で表される繰り返し単位のみからなるものを除く。)を得ることができる。
前記式(i)、(ii)、(iii)中、D、R、R、R、R、k1、k2及びk3は前記と同じ意味を表す。
As described above, a polysilsesquioxane graft copolymer having a repeating unit represented by the formula (i), (ii) and / or (iii) (the repeating unit represented by the formula (i)) Except those consisting only of).
In the formulas (i), (ii), and (iii), D, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k1, k2, and k3 represent the same meaning as described above.

得られるポリシルセスキオキサングラフト共重合体の数平均分子量は、50,000〜500,000、好ましくは、70,000〜200,000である。前記式(ii)、(iii)中のk1、k2及びk3は、それぞれ独立して任意の自然数であれば特に限定されないが、前記の数平均分子量を満たす範囲で設定することが好ましい。
このものは、粘着性、耐熱性及び凝集性に優れるため、粘着剤として好適に用いることができる。
The number average molecular weight of the resulting polysilsesquioxane graft copolymer is 50,000 to 500,000, preferably 70,000 to 200,000. K1, k2 and k3 in the formulas (ii) and (iii) are not particularly limited as long as they are independently an arbitrary natural number, but are preferably set within a range satisfying the number average molecular weight.
Since this thing is excellent in adhesiveness, heat resistance, and aggregability, it can be used suitably as an adhesive.

3)粘着剤
本発明の粘着剤は、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含有することを特徴とする。
本発明の粘着剤は、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の1種又は2種以上を適当な溶剤に溶解することにより製造してもよい。
3) Adhesive The adhesive of the present invention is characterized by containing the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention.
The pressure-sensitive adhesive of the present invention may be produced by dissolving one or more of the polysilsesquioxane graft copolymers of the present invention in a suitable solvent.

用いる溶剤としては、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を溶解するものであれば特に制限されない。
例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセタミド、N−メチルピロリドン等のアミド類;アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類;ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化水素類;シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の脂環式炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類;クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
The solvent to be used is not particularly limited as long as it dissolves the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention.
For example, esters such as ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylaceta Amides such as amide, N-methylpyrrolidone; nitriles such as acetonitrile and benzonitrile; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; n-pentane, n-hexane, aliphatic hydrocarbons such as n-heptane and n-octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane and cyclooctane; diethyl ether, diisopropyl ether, 1,2-dimethoxyethane, dibutyl ether, Tetrahydrofuran, dioxane and the like; chloroform, carbon tetrachloride, 1,2-dichloroethane, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene; and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

溶剤の使用量は任意であるが、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体100質量部に対して、通常、1〜10,000質量部、好ましくは10〜1,000質量部である。   Although the usage-amount of a solvent is arbitrary, it is 1-10,000 mass parts normally with respect to 100 mass parts of polysilsesquioxane graft copolymers of this invention, Preferably it is 10-1,000 mass parts. .

本発明の粘着剤は、主成分として本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含み、さらに所望により、他の粘着剤、粘着付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、軟化剤、充填剤等を添加することができる。   The pressure-sensitive adhesive of the present invention contains the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention as a main component, and, if desired, other pressure-sensitive adhesives, tackifiers, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, Softeners, fillers and the like can be added.

本発明の粘着剤は、主成分として本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含むものであるため、粘着性、耐熱性に優れ、かつ、凝集性を有している。   Since the pressure-sensitive adhesive of the present invention contains the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention as a main component, it is excellent in adhesiveness and heat resistance and has cohesiveness.

4)粘着シート
本発明の粘着シートは、基材シートと、該基材シート上に形成された、本発明の粘着剤からなる粘着剤層を有することを特徴とする。
用いる基材シートとしては、グラシン紙、コート紙、キャスト紙等の紙基材;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム;ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;ポリ塩化ビニルフィルム;ポリウレタンフィルム;ポリイミド;ポリエーテルイミドフィルム;合成紙、セルロース系シートやフィルム、種々の材料からなる不織布、織布、編布;金属箔;等が挙げられる。また、これらの基材シートは、所望により表面に適当な文字や図柄等の印刷を施しておくこともできる。
4) Adhesive sheet The adhesive sheet of this invention has a base material sheet and the adhesive layer which consists of an adhesive of this invention formed on this base material sheet, It is characterized by the above-mentioned.
As the base sheet to be used, paper base materials such as glassine paper, coated paper and cast paper; polyester films such as polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film; polyolefin films such as polypropylene film and polyethylene film; Polyvinyl chloride film; Polyurethane film; Polyimide; Polyetherimide film; Synthetic paper, cellulosic sheet or film, non-woven fabric, woven fabric, knitted fabric made of various materials; metal foil; Moreover, these base material sheets can also carry out printing of an appropriate character, a pattern, etc. on the surface if desired.

基材シート上に粘着剤層を形成する方法としては、(i)基材シート上に、本発明の粘着剤を所定の厚みとなるように塗工し、40〜150℃で乾燥する方法、(ii)剥離シート(又は工程紙)上に、本発明の粘着剤を所定の厚みとなるように塗工し、該塗工面に基材シートを貼合わせて40〜150℃で乾燥した後、剥離シートを剥離する方法、等により製造することができる。(ii)の方法による場合、剥離シートは、所望により剥離することなくそのまま付着させておいて、粘着シートの使用時に剥離するようにしてもよい。   As a method of forming the pressure-sensitive adhesive layer on the base sheet, (i) a method of applying the pressure-sensitive adhesive of the present invention on the base sheet so as to have a predetermined thickness and drying at 40 to 150 ° C., (Ii) On the release sheet (or process paper), the pressure-sensitive adhesive of the present invention is applied so as to have a predetermined thickness, and the substrate sheet is bonded to the coated surface and dried at 40 to 150 ° C., It can manufacture by the method of peeling a peeling sheet, etc. In the case of the method (ii), the release sheet may be attached as it is without being peeled off if desired, and may be peeled off when the pressure-sensitive adhesive sheet is used.

用いる剥離シートとしては、グラシン紙、コート紙、キャスト紙等の紙基材;ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム;ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等のポリオレフィンフィルム;等が挙げられる。これらの剥離シートは、粘着剤層に面する側の表面にシリコーン樹脂、フッ素樹脂、長鎖アルキル基含有カルバメート樹脂、アルキド樹脂等の剥離剤を塗布したものであってもよい。   Examples of release sheets used include: paper base materials such as glassine paper, coated paper, cast paper; polyester films such as polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film; polyolefin films such as polypropylene film and polyethylene film; Can be mentioned. These release sheets may be obtained by applying a release agent such as a silicone resin, a fluorine resin, a long-chain alkyl group-containing carbamate resin, or an alkyd resin to the surface facing the pressure-sensitive adhesive layer.

粘着剤を基材シート又は剥離シート上に塗工する方法は特に限定されず、公知の塗工方法を採用できる。塗工方法としては、例えば、リバースコート法、グラビアコート法、リバースグラビア法、キスコート法、ナイフコート法、バーコート法、ダイコート法、カーテンコート法などが挙げられる。得られる粘着剤層の厚みは、通常5〜100μm、好ましくは10〜60μmである。   The method for coating the pressure-sensitive adhesive on the base sheet or release sheet is not particularly limited, and a known coating method can be employed. Examples of the coating method include reverse coating, gravure coating, reverse gravure, kiss coating, knife coating, bar coating, die coating, and curtain coating. The thickness of the obtained pressure-sensitive adhesive layer is usually 5 to 100 μm, preferably 10 to 60 μm.

本発明の粘着シートは、粘着性、耐熱性及び凝集性に優れる本発明の粘着剤から形成されてなる粘着剤層を有するため、優れた粘着力と凝集力を有し、高温環境下で使用しても、凝集力(保持力)が低下することがない。
本発明の粘着シートは、SUS等の金属板;ポリメタクリレート(PMMA)等の樹脂板;ソーダライムガラス等のガラス板;等の種々の被着体のみならず、ポリエチレン等の接着性の低い被着体に対しても優れた粘着力及び凝集力を発揮する。
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive of the present invention that is excellent in adhesiveness, heat resistance, and cohesiveness. However, the cohesive force (holding force) does not decrease.
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention includes not only various adherends such as a metal plate such as SUS; a resin plate such as polymethacrylate (PMMA); a glass plate such as soda lime glass; Exhibits excellent adhesion and cohesion on the body.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。但し、本発明は、実施例等によって何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples.

なお、重合体の数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)は、テトラヒドロフラン(THF)を展開溶媒とするサイズ・エクスクルージョン・クロマトグラフィー(SEC)により測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。   The number average molecular weight (Mn) and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polymer were measured by size exclusion chromatography (SEC) using tetrahydrofuran (THF) as a developing solvent, and were converted into standard polystyrene equivalent values. Asked.

(製造例1) ポリシルセスキオキサン化合物(P)の合成 (Production Example 1) Synthesis of polysilsesquioxane compound (P)

Figure 0005873292
Figure 0005873292

(上記式においては、便宜上、前記式(i)で表される繰り返し単位に相当する繰り返し単位の記載を省略し、式(ii−a)と式(iii−a)で表される繰り返し単位に相当するものが式中の上下交互に結合した状態を記載する。式中、nは、任意の自然数を表す。) (In the above formula, for convenience, the description of the repeating unit corresponding to the repeating unit represented by the formula (i) is omitted, and the repeating unit represented by the formula (ii-a) and the formula (iii-a)) (The equivalent is described in the state where the upper and lower sides are combined alternately in the formula, where n represents an arbitrary natural number.)

〈共重縮合物(P’)の合成〉
200mLのナスフラスコに、トルエン/水混合溶液(体積比=2/1)15mL、p−クロロメチルフェニルトリメトキシシラン(アヅマックス社製)4.94g(0.02モル)、フェニルトリメトキシシラン(東京化成工業社製)3.97g(0.02モル)、及びメタンスルホン酸(東京化成工業社製)0.19gを仕込み、室温(25℃)で16時間撹拌した。反応終了後、反応液から有機層を分取し、溶媒を減圧留去し、得られた残留物を大量のn−ヘキサンに滴下した。沈殿した固体を濾別し、乾燥し、前駆体となる共重縮合物(P’)であるp−クロロメチルフェニルトリメトキシシランとフェニルトリメトキシシランの共重縮合物(以下、「BzClPSQ」と略することがある。)を得た(収率:83%)。得られたBzClPSQの数平均分子量(Mn)は2,300、分子量分布(Mw/Mn)は1.52であった。
<Synthesis of copolycondensate (P ')>
In a 200 mL eggplant flask, 15 mL of a toluene / water mixed solution (volume ratio = 2/1), 4.94 g (0.02 mol) of p-chloromethylphenyltrimethoxysilane (manufactured by AMAX Co.), phenyltrimethoxysilane (Tokyo) 3.97 g (0.02 mol) manufactured by Kasei Kogyo Co., Ltd. and 0.19 g of methanesulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) were charged and stirred at room temperature (25 ° C.) for 16 hours. After completion of the reaction, the organic layer was separated from the reaction solution, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the resulting residue was added dropwise to a large amount of n-hexane. The precipitated solid was filtered off, dried, and the copolycondensate (P ′), which is a copolycondensate (P ′) as a precursor, and a copolycondensate of phenyltrimethoxysilane (hereinafter referred to as “BzClPSQ”). (Yield: 83%). The obtained BzClPSQ had a number average molecular weight (Mn) of 2,300 and a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 1.52.

得られたBzClPSQのIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−Ph:698cm−1,737cm−1,Si−O−Si:1129cm−1
IR spectrum data of the obtained BzClPSQ is shown below.
Si—Ph: 698 cm −1 , 737 cm −1 , Si—O—Si: 1129 cm −1

〈ポリシルセスキオキサン化合物(P−1)の合成〉
200mLのナスフラスコに、アセトン50mLと、得られたBzClPSQ 5.58gを仕込み、0℃に保ちながらエチルキサントゲン酸カリウム(東京化成工業社製)3.53g(22mol)のアセトン(30mL)溶液を30分かけて滴下した。その後、室温(25℃)で16時間撹拌した。反応終了後、反応液の沈殿物を吸引濾過により濾別し、濾液を大量のメタノール/水混合溶液(体積比=3/1)に滴下した。沈殿した固体を濾取し、乾燥し、目的とするポリシルセスキオキサン化合物(P)であるキサントゲン酸エステル化合物(以下、「XaPSQ」と略することがある。)を得た(収率:95%)。得られたXaPSQの数平均分子量(Mn)は2,800、分子量分布(Mw/Mn)は1.66であった。
<Synthesis of Polysilsesquioxane Compound (P-1)>
A 200 mL eggplant flask was charged with 50 mL of acetone and 5.58 g of the obtained BzClPSQ, and while maintaining at 0 ° C., a solution of 3.53 g (22 mol) of ethyl xanthate (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 30 mL of acetone (30 mL) It was added dropwise over a period of minutes. Then, it stirred at room temperature (25 degreeC) for 16 hours. After completion of the reaction, the precipitate in the reaction solution was filtered by suction filtration, and the filtrate was added dropwise to a large amount of methanol / water mixed solution (volume ratio = 3/1). The precipitated solid was collected by filtration and dried to obtain the desired polysilsesquioxane compound (P) xanthate compound (hereinafter sometimes abbreviated as “XaPSQ”) (yield: 95%). The number average molecular weight (Mn) of the obtained XaPSQ was 2,800, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 1.66.

得られたXaPSQのIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−Ph:699cm−1,734cm−1,Si−O−Si:1130cm−1,C−S:1221cm−1
IR spectrum data of the obtained XaPSQ is shown below.
Si—Ph: 699 cm −1 , 734 cm −1 , Si—O—Si: 1130 cm −1 , C—S: 1221 cm −1

(実施例1) ポリシルセスキオキサングラフト共重合体1の合成
100mLの2口ナスフラスコに、窒素雰囲気下、製造例1で得たXaPSQ、AIBN、ブチルアクリレート(BA)及びアクリロイルモルホリン(ACMO)を表1に示すモル比で添加した(表1中のXaPSQのモル比は、ジチオエステル基基準である。以下にて同じ。)。さらにアニソールを1.7mol/Lの濃度になる量を加え、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のn−ヘキサンまたはメタノールに滴下し、沈殿物を回収し、乾燥し、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体1を得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体1の収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を表1に示す。なお、表1中、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体、ポリシルセスキオキサングラフト重合体、及び共重合体を総称して、「重合体」と記載する。
Example 1 Synthesis of Polysilsesquioxane Graft Copolymer 1 XaPSQ, AIBN, butyl acrylate (BA) and acryloylmorpholine (ACMO) obtained in Production Example 1 were placed in a 100 mL two-necked eggplant flask under a nitrogen atmosphere. Was added at a molar ratio shown in Table 1 (the molar ratio of XaPSQ in Table 1 is based on a dithioester group. The same applies hereinafter). Further, an anisole was added in an amount to a concentration of 1.7 mol / L, and the whole volume was stirred at the reaction temperature shown in Table 1 for a predetermined time. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to a large amount of n-hexane or methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain polysilsesquioxane graft copolymer 1. Table 1 shows the yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resulting polysilsesquioxane graft copolymer 1. In Table 1, the polysilsesquioxane graft copolymer, the polysilsesquioxane graft polymer, and the copolymer are collectively referred to as “polymer”.

得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1163cm−1,C=O(アミド結合):1645cm−1,C=O(エステル結合):1732cm−1,−CH−:2874cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the resulting polysilsesquioxane graft polymer are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1163 cm −1 , C═O (amide bond): 1645 cm −1 , C═O (ester bond): 1732 cm −1 , —CH 2 −: 2874 cm −1 , 2960 cm -1

(実施例2) ポリシルセスキオキサングラフト共重合体2の合成
100mLの2口ナスフラスコに、窒素雰囲気下、製造例1で得たXaPSQ、AIBN及びBAを下記表1に示すモル比で添加した。さらにアニソールを1.7mol/Lの濃度になる量を加え、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。次に、ACMOを表1に示すモル比で添加し、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のメタノールに滴下し、沈殿物を回収・乾燥し、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体2を得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体2の反応収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を下記表1に示す。
Example 2 Synthesis of Polysilsesquioxane Graft Copolymer 2 XaPSQ, AIBN and BA obtained in Production Example 1 were added to a 100 mL 2-neck eggplant flask in a nitrogen atmosphere at a molar ratio shown in Table 1 below. did. Further, an anisole was added in an amount to a concentration of 1.7 mol / L, and the whole volume was stirred at the reaction temperature shown in Table 1 for a predetermined time. Next, ACMO was added at a molar ratio shown in Table 1, and the whole volume was stirred at the reaction temperature shown in Table 1 for a predetermined time. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to a large amount of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain polysilsesquioxane graft copolymer 2. The reaction yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resulting polysilsesquioxane graft copolymer 2 are shown in Table 1 below.

得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体2のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1163cm−1,C=O(アミド結合):1644cm−1,C=O(エステル結合):1733cm−1,−CH−:2874cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the resulting polysilsesquioxane graft copolymer 2 are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1163 cm −1 , C═O (amide bond): 1644 cm −1 , C═O (ester bond): 1733 cm −1 , —CH 2 —: 2874 cm −1 , 2960 cm -1

(実施例3〜5) ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3〜5の合成
100mLの2口ナスフラスコに、窒素雰囲気下、製造例1で得たXaPSQ、AIBN及びACMOを下記表1に示すモル比で添加した。さらにアニソールを1.7mol/Lの濃度になる量を加え、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。次に、BAを表1に示すモル比で添加し、全容を表1に示す反応温度で、所定時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のメタノールに滴下し、沈殿物を回収・乾燥し、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3〜5を得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体3〜5の反応収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を表1に示す。
Examples 3 to 5 Synthesis of Polysilsesquioxane Graft Copolymers 3 to 5 Table 1 below shows XaPSQ, AIBN, and ACMO obtained in Production Example 1 in a 100 mL two-necked eggplant flask under a nitrogen atmosphere. Added in molar ratio. Further, an anisole was added in an amount to a concentration of 1.7 mol / L, and the whole volume was stirred at the reaction temperature shown in Table 1 for a predetermined time. Next, BA was added at a molar ratio shown in Table 1, and the whole volume was stirred at the reaction temperature shown in Table 1 for a predetermined time. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to a large amount of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain polysilsesquioxane graft copolymers 3 to 5. Table 1 shows the reaction yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained polysilsesquioxane graft copolymers 3 to 5.

得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体3のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1164cm−1,C=O(アミド結合):1641cm−1,C=O(エステル結合):1737cm−1,−CH−:2874cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the obtained polysilsesquioxane graft copolymer 3 are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1164 cm −1 , C═O (amide bond): 1641 cm −1 , C═O (ester bond): 1737 cm −1 , —CH 2 —: 2874 cm −1 , 2960 cm -1

得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体4のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1164cm−1,C=O(アミド結合):1640cm−1,C=O(エステル結合):1737cm−1,−CH−:2874cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the obtained polysilsesquioxane graft copolymer 4 are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1164 cm −1 , C═O (amide bond): 1640 cm −1 , C═O (ester bond): 1737 cm −1 , —CH 2 −: 2874 cm −1 , 2960 cm -1

得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体5のIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1163cm−1,C=O(アミド結合):1640cm−1,C=O(エステル結合):1734cm−1,−CH−:2875cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the obtained polysilsesquioxane graft copolymer 5 are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1163 cm −1 , C═O (amide bond): 1640 cm −1 , C═O (ester bond): 1734 cm −1 , —CH 2 −: 2875 cm −1 , 2960 cm -1

(比較例1) ポリシルセスキオキサングラフト重合体1rの合成
実施例1において、ACMOを使用せず、BAを表1に示すモル比で使用した他は、実施例1と同様にして、ポリシルセスキオキサングラフト重合体1rを得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体1rの収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を表1に示す。
(Comparative Example 1) Synthesis of Polysilsesquioxane Graft Polymer 1r A polysilsesquioxane graft polymer 1r was prepared in the same manner as in Example 1 except that ACMO was not used and BA was used at a molar ratio shown in Table 1. Rusesquioxane graft polymer 1r was obtained. Table 1 shows the yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resulting polysilsesquioxane graft polymer 1r.

得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体1rのIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1163cm−1,C=O(エステル結合):1733cm−1,−CH−:2874cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the obtained polysilsesquioxane graft polymer 1r are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1163 cm −1 , C═O (ester bond): 1733 cm −1 , —CH 2 —: 2874 cm −1 , 2960 cm −1

(比較例2) フリーラジカル重合によるBAとACMOの共重合体2rの製造
1000mLのセパラブルフラスコに、AIBN 0.2g、BA 83.3g、ACMO 16.7g、及び、酢酸エチル230g、トルエン20gを仕込み、窒素雰囲気下、60℃で16時間撹拌した。反応終了後、反応液を大量のメタノールに滴下し、沈殿物を回収し、乾燥して共重合体2rを得た。得られた共重合体2rの反応収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を表1に示す。
(Comparative example 2) Production of copolymer 2r of BA and ACMO by free radical polymerization In a 1000 mL separable flask, 0.2 g of AIBN, 83.3 g of BA, 16.7 g of ACMO, 230 g of ethyl acetate, and 20 g of toluene were added. The mixture was stirred and stirred at 60 ° C. for 16 hours under a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to a large amount of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a copolymer 2r. Table 1 shows the reaction yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the obtained copolymer 2r.

得られた共重合体2rのIRスペクトルデータを以下に示す。
C−O−C:1164cm−1,C=O(アミド結合):1646cm−1,C=O(エステル結合):1733cm−1,−CH−:2874cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the obtained copolymer 2r are shown below.
C—O—C: 1164 cm −1 , C═O (amide bond): 1646 cm −1 , C═O (ester bond): 1733 cm −1 , —CH 2 —: 2874 cm −1 , 2960 cm −1

(比較例3) ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3rの合成
実施例3において、ACMOとBAを下記表1に示すモル比で使用した他は、実施例3と同様にして、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体3rを得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体3rの反応収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を表1に示す。
Comparative Example 3 Synthesis of Polysilsesquioxane Graft Copolymer 3r Polysilsesquioxane was prepared in the same manner as in Example 3 except that ACMO and BA were used in the molar ratio shown in Table 1 below. Oxan graft copolymer 3r was obtained. Table 1 shows the reaction yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resulting polysilsesquioxane graft polymer 3r.

得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体3rのIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1164cm−1,C=O(アミド結合):1646cm−1,C=O(エステル結合):1734cm−1,−CH−:2875cm−1,2960cm−1
IR spectrum data of the obtained polysilsesquioxane graft copolymer 3r are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1164 cm −1 , C═O (amide bond): 1646 cm −1 , C═O (ester bond): 1734 cm −1 , —CH 2 −: 2875 cm −1 , 2960 cm -1

(比較例4) ポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rの合成
実施例2において、ACMOの代わりに、メタクリル酸メチル(MMA)を使用し、表1に示すモル比、反応温度、反応時間で反応を行った他は、実施例2と同様にして、ポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rを得た。得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rの収率(%)、数平均分子量(Mn)及び分子量分布(Mw/Mn)を表1に示す。
(Comparative Example 4) Synthesis of Polysilsesquioxane Graft Copolymer 4r In Example 2, methyl methacrylate (MMA) was used instead of ACMO, and the molar ratio, reaction temperature, and reaction time shown in Table 1 were used. A polysilsesquioxane graft copolymer 4r was obtained in the same manner as in Example 2 except that the reaction was performed. Table 1 shows the yield (%), number average molecular weight (Mn), and molecular weight distribution (Mw / Mn) of the resulting polysilsesquioxane graft copolymer 4r.

得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体4rのIRスペクトルデータを以下に示す。
Si−O−Si、C−O−C:1163cm−1,C=O(エステル結合):1733cm−1,−CH−:2875cm−1,2959cm−1
IR spectrum data of the resulting polysilsesquioxane graft copolymer 4r are shown below.
Si—O—Si, C—O—C: 1163 cm −1 , C═O (ester bond): 1733 cm −1 , —CH 2 —: 2875 cm −1 , 2959 cm −1

Figure 0005873292
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(実施例6〜10、比較例5〜8) 粘着剤1〜5、1r〜4rの調製
実施例1〜5及び比較例1〜4で得た重合体1〜5、1r〜4rに対して、濃度30%となるよう酢酸エチルを加えて十分に混合することにより粘着剤1〜5、1r〜4rをそれぞれ調製した。
(Examples 6-10, Comparative Examples 5-8) Preparation of pressure-sensitive adhesives 1-5, 1r-4r For the polymers 1-5, 1r-4r obtained in Examples 1-5 and Comparative Examples 1-4 Then, pressure-sensitive adhesives 1 to 5 and 1r to 4r were respectively prepared by adding ethyl acetate to a concentration of 30% and mixing well.

(実施例11〜15、比較例9〜12) 粘着シート1〜5、1r〜4rの作製
実施例6〜10及び比較例5〜8で得た粘着剤1〜5、1r〜4rを基材として、厚さ50μmの透明なポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)の片面に、乾燥後の厚さが20μmとなるように塗布し、100℃で1分間加熱して粘着剤層を形成した。次いで、粘着剤層の表面に剥離シート(リンテック社製、製品名「SP−PET381031」、厚み38μm、PETフィルムにシリコーン系剥離剤で表面処理したもの)を貼り付けることにより、粘着シート1〜5、1r〜4rをそれぞれ作製した。
(Examples 11 to 15 and Comparative Examples 9 to 12) Preparation of Adhesive Sheets 1 to 5, 1r to 4r Adhesives 1 to 5 and 1r to 4r obtained in Examples 6 to 10 and Comparative Examples 5 to 8 were used as base materials. As above, it was applied to one side of a transparent polyethylene terephthalate film (PET film) having a thickness of 50 μm so that the thickness after drying was 20 μm and heated at 100 ° C. for 1 minute to form an adhesive layer. Next, by attaching a release sheet (product name “SP-PET381031”, thickness 38 μm, PET film surface-treated with a silicone release agent) to the surface of the adhesive layer, adhesive sheets 1 to 5 1r to 4r were prepared.

(粘着力試験)
得られた粘着シート1〜5、1r〜4rを25mm×300mmの大きさに裁断し、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で、剥離シートを剥がし、下記被着体に貼付した。貼付に際しては、重さ2kgのローラーを用い、1往復させて、被着体に圧着した。その後、23℃、50%RHの環境下で、貼付後24時間放置した後、同環境下で、引張試験機(オリエンテック社製、製品名「テンシロン」)を用いて、剥離速度300mm/分、剥離角度180°の条件で測定した値(N/25mm)を粘着力とした。
(Adhesion test)
The obtained pressure-sensitive adhesive sheets 1 to 5, 1r to 4r were cut into a size of 25 mm × 300 mm, and the release sheet was peeled off in an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity) and attached to the following adherend. . At the time of sticking, a roller having a weight of 2 kg was used to reciprocate once and pressure-bond to the adherend. Then, after being left for 24 hours after being attached in an environment of 23 ° C. and 50% RH, a peeling speed of 300 mm / min was used in the same environment using a tensile tester (product name: “Tensilon”). The value (N / 25 mm) measured under the condition of a peeling angle of 180 ° was defined as the adhesive strength.

粘着力の測定に用いた被着体は以下のとおりである(〔 〕は表2の略称を示す)。
・ステンレス板〔SUS304〕:SUS304鋼板、360番研磨、150mm×70mm×0.7mm。
・ポリメタクリレート板〔PMMA板〕:ユーコウ商会社製、製品名「アクリライトL オパール432」、150mm×70mm×2mm。
・フロートガラス板〔ガラス〕:ユーコウ商会社製、製品名「フロートガラス板 R3202 糸面加工」、150mm×70mm×2mm。
・ポリエチレン板〔PE板〕: ユーコウ商会社製、製品名「PE(コウベポリシート)EL−N−AN」、150mm×70mm×2mm。
結果を下記表2に示す。
なお、表中、「AT」は、粘着剤と基材との間に界面破壊が発生したことを表し、「Cf」は凝集破壊が発生したことを表し、「Zip」は、ジッピング(滑らかに剥離せず剥がした後に横の線が入ったような状態になること)が発生したことを表す。
The adherends used for the measurement of adhesive strength are as follows ([] indicates abbreviations in Table 2).
Stainless plate [SUS304]: SUS304 steel plate, No. 360 polishing, 150 mm × 70 mm × 0.7 mm.
-Polymethacrylate plate [PMMA plate]: manufactured by Yuko Trading Co., Ltd., product name “Acrylite L Opal 432”, 150 mm × 70 mm × 2 mm.
Float glass plate [Glass]: manufactured by Yuko Trading Co., Ltd., product name “float glass plate R3202 thread surface processing”, 150 mm × 70 mm × 2 mm.
Polyethylene plate [PE plate]: manufactured by Yuko Trading Co., Ltd., product name “PE (Kobe Poly Sheet) EL-N-AN”, 150 mm × 70 mm × 2 mm.
The results are shown in Table 2 below.
In the table, “AT” represents that an interfacial fracture has occurred between the adhesive and the substrate, “Cf” represents that cohesive fracture has occurred, and “Zip” represents zipping (smoothly It means that a state in which a horizontal line enters after peeling without peeling) occurs.

(保持力試験)
得られた粘着シート1〜5、1r〜4rを25mm×100mmの大きさに裁断し、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下にて、貼付面積25mm×25mmとなるようにステンレス板(SUS304鋼板、360番研磨)に貼付した。貼付に際しては、重さ2kgのローラーを用い、5往復させて、被着体に圧着した。貼付後20分間放置した後、温度40℃ならびに80℃のオーブン内に移し、1kgの重しを粘着シートに垂直方向に荷重がかかるよう取り付けて、オーブン内に放置し、粘着シートがずれ落ちて被着体から完全に剥がれ落ちるまでの経過時間(秒)を測定した。ただし、70000秒経過してもずれ落ちなかった場合は、ずれ落ちた長さ〔ズレ量(mm)〕を測定した。剥がれ落ちるまでの経過時間が長いほど、及び、ずれ落ちた長さが短いほど保持力が優れている。
なお、表中、「NC」はズレがないことを意味する。
(Retention force test)
The obtained adhesive sheets 1 to 5, 1r to 4r are cut into a size of 25 mm × 100 mm, and a stainless plate so as to have a pasting area of 25 mm × 25 mm in an environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity). It was affixed to (SUS304 steel plate, No. 360 polishing). At the time of pasting, a roller having a weight of 2 kg was used and reciprocated five times so as to be pressure-bonded to the adherend. After leaving for 20 minutes after sticking, it is transferred into an oven at a temperature of 40 ° C. and 80 ° C., a 1 kg weight is attached to the adhesive sheet so that a vertical load is applied, and the adhesive sheet is left in the oven. The elapsed time (seconds) until complete peeling from the adherend was measured. However, when the deviation did not fall out even after 70000 seconds had elapsed, the length of deviation (deviation (mm)) was measured. The longer the elapsed time until peeling off and the shorter the length of slipping off, the better the holding power.
In the table, “NC” means that there is no deviation.

(プローブタック試験)
得られた粘着シート1〜5、1r〜4rを25mm×25mmの大きさに裁断し、23℃、50%RH(相対湿度)の環境下で、プローブタック測定装置(RHESCA社製、製品名「PROBE TACK TESTER model RPT100」)を用い、「JIS Z0237:1991参考5」に準拠して測定した。具体的には、測定用サンプルの剥離シートを剥離し、表出した粘着剤面に直径5mmのステンレス製プローブを1秒間、接触荷重0.98N/cmで接触させた後、プローブを600mm/分の速度で測定用サンプルから離し、その際に剥がれる力〔N〕を測定した。
(Probe tack test)
The obtained pressure-sensitive adhesive sheets 1 to 5 and 1r to 4r were cut into a size of 25 mm × 25 mm, and the probe tack measuring device (manufactured by RHESCA, product name “under the environment of 23 ° C. and 50% RH (relative humidity)”). PROBE TACK TESTER model RPT100 ”) and measured according to“ JIS Z0237: 1991 Reference 5 ”. Specifically, the release sheet of the measurement sample was peeled off, and a stainless steel probe having a diameter of 5 mm was brought into contact with the exposed adhesive surface for 1 second at a contact load of 0.98 N / cm 2. Separated from the measurement sample at a speed of minutes, the force [N] peeled off at that time was measured.

Figure 0005873292
Figure 0005873292

表2より、本発明のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いて作製された粘着シート1〜5は、種々の被着体に対して、架橋剤を使用せずとも優れた粘着力及び高温下での保持力を有することがわかる。
ACMOの後にBAを反応させて得られるポリシルセスキオキサングラフト共重合を用いて作製された粘着シート(実施例3〜5)は、BAの後にACMOを反応させて得られる共重合体を用いて作製された粘着シート(実施例2)よりも、PE板に対して優れた粘着力を示す。
From Table 2, the pressure-sensitive adhesive sheets 1 to 5 produced using the polysilsesquioxane graft copolymer of the present invention have excellent adhesive strength and various adhesives without using a crosslinking agent. It can be seen that it has a holding power at high temperatures.
The pressure-sensitive adhesive sheets (Examples 3 to 5) prepared using polysilsesquioxane graft copolymer obtained by reacting BA after ACMO use a copolymer obtained by reacting ACMO after BA. The adhesive strength superior to the PE plate is exhibited as compared with the pressure-sensitive adhesive sheet produced in Example (Example 2).

一方、ACMOを使用せずに得られたポリシルセスキオキサングラフト重合体を用いた粘着シート1r(比較例9)は、粘着力、保持力に劣っていた。BAとACMOの共重合体を用いた粘着シート2r(比較例10)は、保持力に劣っていた。ACMOを、BAと同量用いて得られたポリシルセスキオキサングラフト共重合体を用いた粘着シート3r(比較例11)は、粘着力を発揮しなかった。ACMOの代わりにMMAを用いた粘着シート4r(比較例12)は、粘着力、高温下での保持力に劣っていた。   On the other hand, the pressure-sensitive adhesive sheet 1r (Comparative Example 9) using the polysilsesquioxane graft polymer obtained without using ACMO was inferior in adhesive strength and holding power. The pressure-sensitive adhesive sheet 2r (Comparative Example 10) using a copolymer of BA and ACMO was inferior in holding power. The pressure-sensitive adhesive sheet 3r (Comparative Example 11) using the polysilsesquioxane graft copolymer obtained by using the same amount of ACMO as that of BA did not exhibit adhesive strength. The pressure-sensitive adhesive sheet 4r using MMA instead of ACMO (Comparative Example 12) was inferior in adhesive strength and holding power at high temperatures.

Claims (13)

分子内に、下記の式(i)及び/又は、(ii)及び/又は(iii)
Figure 0005873292
〔式中、Dは炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数6〜20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、Rは炭化水素基を表し、Rは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、Rは式(a)
Figure 0005873292
(rは、炭素数4〜12の炭化水素基を表す。)で表される基、及び、式(b)
Figure 0005873292
(式中、r、rは、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基を表す。また、r、rは一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。)で表される基を表し、式(a)で表される基と式(b)で表される基の存在割合は、モル比で、(式(a)で表される基):(式(b)で表される基)=95:5〜60:40である。Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、総炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2〜20のアシル基を表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。〕で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体(但し、前記式(ii)及び(iii)で表される繰り返し単位のうち、少なくとも1つの繰り返し単位を含有するものに限る。)
In the molecule, the following formula (i) and / or (ii) and / or (iii)
Figure 0005873292
[Wherein, D represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, R 1 represents a hydrocarbon group, and R 2 represents a hydrogen atom or a carbon atom having 1 to 2 carbon atoms. 18 represents an alkyl group, and R 3 represents the formula (a)
Figure 0005873292
(Wherein r 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms) and the formula (b)
Figure 0005873292
(Wherein, r 2 and r 3 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Moreover, even if r 2 and r 3 are combined to form a ring, The ring may contain a heteroatom.), And the abundance ratio of the group represented by the formula (a) and the group represented by the formula (b) is a molar ratio. (Group represented by formula (a)) :( group represented by formula (b)) = 95: 5 to 60:40. R 4 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and k1, k2, and k3 are each independently Represents any natural number. ] A polysilsesquioxane graft copolymer having a repeating unit represented by the formula (provided that it contains at least one repeating unit among the repeating units represented by the formulas (ii) and (iii)) .)
前記式(b)で表される基が、前記式(b)中、r、rが一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式(b’)
Figure 0005873292
で表される基であることを特徴とする請求項1に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
The group represented by the formula (b) has the following formula (b ′) in which r 2 and r 3 together in the formula (b) form a ring that may contain a hetero atom.
Figure 0005873292
The polysilsesquioxane graft copolymer according to claim 1, wherein the polysilsesquioxane graft copolymer is a group represented by the formula:
数平均分子量が50,000〜500,000である請求項1又は2に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。   The polysilsesquioxane graft copolymer according to claim 1 or 2, which has a number average molecular weight of 50,000 to 500,000. 前記式(ii)及び(iii)中、下記式
Figure 0005873292
で表される繰り返し単位が、下記式(c−a)
Figure 0005873292
(R、rは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるブロック〔A〕と、下記式(c−b)
Figure 0005873292
(R、r及びrは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位からなるブロック〔B〕とからなり、ブロック〔A〕とブロック〔B〕とが、式:−CH(R)−D−で表される基のCH部分側から、−〔B〕−〔A〕又は、−〔A〕−〔B〕−〔A〕となるように配列されたブロック共重合体構造を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
In the formulas (ii) and (iii), the following formula
Figure 0005873292
The repeating unit represented by the following formula (ca)
Figure 0005873292
(R 2 and r 1 represent the same meaning as described above) and a block [A] composed of a repeating unit represented by the following formula (c-b):
Figure 0005873292
(R 2 , r 2, and r 3 represent the same meaning as described above), and the block [A] and the block [B] are represented by the formula: − From the CH moiety side of the group represented by CH (R 4 ) -D-, the block array arranged so as to be-[B]-[A] or-[A]-[B]-[A] It has a polymer structure, The polysilsesquioxane graft copolymer in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
前記式(ii)及び(iii)中、下記式
Figure 0005873292
で表される繰り返し単位が、下記式(c−a)
Figure 0005873292
(R、rは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位と、下記式(c−b)
Figure 0005873292
(R、r及びrは、前記と同じ意味を表す。)で表される繰り返し単位とからなるランダム共重合体構造を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体。
In the formulas (ii) and (iii), the following formula
Figure 0005873292
The repeating unit represented by the following formula (ca)
Figure 0005873292
(R 2 and r 1 represent the same meaning as described above) and the following formula (c-b)
Figure 0005873292
(R 2, r 2 and r 3 represent. The same as defined above) according to claim 1, characterized in that it comprises a random copolymer structure composed of a repeating unit represented by the Polysilsesquioxane graft copolymer.
分子内に、下記の式(i)及び/又は、(ii−a)及び/又は(iii−a)
Figure 0005873292
(式中、Dは、炭素数1〜20のアルキレン基、炭素数6〜20のアリーレン基、又はこれらの組み合せを表し、Rは炭化水素基を表し、Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、総炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、又は総炭素数2〜20のアシル基を表し、Xは置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいアミノ基を表す。)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物(但し、前記式(ii−a)及び(iii−a)で表される繰り返し単位のうち、少なくとも1つの繰り返し単位を含有するものに限る。)と、
式(1a):CH=C(R2a)(R3a)〔式中、R2aは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、R3aは、式(a)
Figure 0005873292
(rは、炭素数4〜12の炭化水素基を表す。)で表される基を示す。〕で表される化合物(1a)、及び、式(1b):CH=C(R2b)(R3b)〔式中、R2bは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、R3bは、式(b)
Figure 0005873292
(r、rは、それぞれ独立して、水素原子、又は炭素数1〜6の炭化水素基を表す。また、r、rは一緒になって環を形成していてもよく、該環にはヘテロ原子を含んでいてもよい。)で表される基を示す。〕で表される化合物(1b)を、化合物(1a)と化合物(1b)のモル比が、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40となる使用割合で用いて、ラジカル重合開始剤の存在下に、グラフト重合反応を行うことを特徴とする、
分子内に、式(i)及び/又は、(ii)及び/又は(iii)
Figure 0005873292
(式中、D、R、R、及びRは前記と同じ意味を表す。Rは、前記R3a又はR3bを表し、k1、k2及びk3は、それぞれ独立して、任意の自然数を表す。k1、k2又はk3が2以上のとき、式:−CH−C(R)(R)−で表される基同士は同一であっても、相異なっていてもよい。)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサングラフト共重合体(但し、前記式(ii)及び(iii)で表される繰り返し単位のうち、少なくとも1つの繰り返し単位を含有するものに限る。)の製造方法。


In the molecule, the following formula (i) and / or (ii-a) and / or (iii-a)
Figure 0005873292
(In the formula, D represents an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms, or a combination thereof, R 1 represents a hydrocarbon group, R 4 represents a hydrogen atom, and 1 carbon atom. Represents an alkyl group having 6 to 6 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms in total, or an acyl group having 2 to 20 carbon atoms in total, X is an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, optionally substituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, or polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the representative.) the amino group which may have a substituent ( However, it is limited to those containing at least one repeating unit among the repeating units represented by the formulas (ii-a) and (iii-a)).
Formula (1a): CH 2 = C (R 2a ) (R 3a ) [wherein R 2a represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 3a represents formula (a)
Figure 0005873292
(Wherein r 1 represents a hydrocarbon group having 4 to 12 carbon atoms). And the compound (1a) represented by the formula (1b): CH 2 ═C (R 2b ) (R 3b ) [wherein R 2b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, R 3b is a group represented by the formula (b)
Figure 0005873292
(R 2 and r 3 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Further, r 2 and r 3 may be combined to form a ring, The ring may contain a hetero atom.)). The compound (1b) represented by the formula (1b) is used at a molar ratio of (compound (1a)) :( compound (1b)) = 95: 5 to 60:40. Used in the graft polymerization reaction in the presence of a radical polymerization initiator,
In the molecule, formula (i) and / or (ii) and / or (iii)
Figure 0005873292
(Wherein, D, R 1, R 2, and .R 3 R 4 is representing the same meaning as above, represents the R 3a or R 3b, k1, k2 and k3 are each independently any Represents a natural number, and when k1, k2 or k3 is 2 or more, groups represented by the formula: —CH 2 —C (R 2 ) (R 3 ) — may be the same or different. A polysilsesquioxane graft copolymer having a repeating unit represented by formula (ii), wherein the repeating unit represented by formulas (ii) and (iii) contains at least one repeating unit. Limited manufacturing method ) .


前記ラジカル重合開始剤として、アゾビスイソブチロニトリルを用いる、請求項6に記載の製造方法。   The production method according to claim 6, wherein azobisisobutyronitrile is used as the radical polymerization initiator. 前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物(1b)をグラフト重合させた後、次いで、化合物(1a)をグラフト重合させることを特徴とする請求項6又は7に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。   8. The polysilsesquioxane compound is graft-polymerized with the compound (1b) in the presence of a radical polymerization initiator, and then the compound (1a) is graft-polymerized. A process for producing the polysilsesquioxane graft copolymer described in 1. 前記ポリシルセスキオキサン化合物に、ラジカル重合開始剤の存在下に、前記化合物(1a)と化合物(1b)のモル比が、(化合物(1a)):(化合物(1b))=95:5〜60:40の割合で含有する化合物(1a)と化合物(1b)との混合物を、グラフト重合させることを特徴とする請求項6又は7に記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体の製造方法。   In the presence of a radical polymerization initiator in the polysilsesquioxane compound, the molar ratio of the compound (1a) to the compound (1b) is (compound (1a)) :( compound (1b)) = 95: 5 The production of the polysilsesquioxane graft copolymer according to claim 6 or 7, wherein a mixture of the compound (1a) and the compound (1b) contained in a ratio of -60: 40 is graft-polymerized. Method. 前記式(1b)で表される化合物として、前記式(1b)中、R2bは水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基を表し、R3bは、前記式(b)中、r、rが一緒になって、ヘテロ原子を含んでいてもよい環を形成した、下記式(b’)
Figure 0005873292
で表される基である化合物を用いることを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載の製造方法。
As a compound represented by the formula (1b), in the formula (1b), R 2b represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and R 3b represents r 2 in the formula (b), The following formula (b ′) in which r 3 together form a ring that may contain a hetero atom:
Figure 0005873292
The production method according to claim 6, wherein a compound that is a group represented by the formula:
数平均分子量が50,000〜500,000であるポリシルセスキオキサングラフト共重合体を製造するものである請求項6〜10のいずれかに記載の製造方法。   The production method according to any one of claims 6 to 10, wherein a polysilsesquioxane graft copolymer having a number average molecular weight of 50,000 to 500,000 is produced. 請求項1〜5のいずれかに記載のポリシルセスキオキサングラフト共重合体を含有することを特徴とする粘着剤。   A pressure-sensitive adhesive comprising the polysilsesquioxane graft copolymer according to claim 1. 基材シート、及び、該基材シート上に形成された、請求項12に記載の粘着剤からなる粘着剤層を有することを特徴とする粘着シート。   A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base material sheet and a pressure-sensitive adhesive layer made of the pressure-sensitive adhesive according to claim 12 formed on the base material sheet.
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