JP5867695B2 - Security medium and authenticity determination method using the same - Google Patents

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Description

本発明は、真贋判定を可能とするセキュリティ媒体、特に、直接目視することでは判別不可能な3次元微細構造物を有するセキュリティ媒体、並びに、その真贋判定方法に関する。   The present invention relates to a security medium capable of determining authenticity, in particular, a security medium having a three-dimensional fine structure that cannot be discriminated by direct visual observation, and an authenticity determining method thereof.

金券やID証など、偽造防止を必要とされている媒体において、特殊な装置を必要とすることなく簡易に真贋判定出来ることが求められている一方で、複製が困難なハイセキュリティ性が求められている。   For media that require anti-counterfeiting such as vouchers and ID certificates, it is required to be able to easily authenticate without requiring a special device, while high security that is difficult to duplicate is required. ing.

従来、パールインキやホログラムなど容易に目視判断出来る偽造防止画像形成物や、印刷物の中に2次元の潜像図柄を組込みマイクロレンズによって潜像を発現させて真贋判定可能な偽造防止画像形成物が知られている。また3次元形状を持つ構造物のシートの上にマイクロレンズシートを接着層で接着し、モアレの効果で拡大像を発現させるものも知られている。   Conventionally, there are anti-counterfeit image formations such as pearl ink and holograms that can be easily visually judged, and anti-counterfeit image formations that can authenticate authenticity by embedding a two-dimensional latent image pattern in the printed matter and expressing the latent image with a microlens Are known. In addition, there is also known a technique in which a microlens sheet is adhered on a sheet of a structure having a three-dimensional shape with an adhesive layer, and an enlarged image is expressed by the moire effect.

特許文献1には、回折構造からなる表示パターンの上側にブレーズド型もしくはバイナリ型のホログラムレンズを重ね合わせることで生じるモアレ効果によって合成像を表示する表示体が開示されている。   Patent Document 1 discloses a display body that displays a composite image by a moire effect generated by superimposing a blazed or binary hologram lens on a display pattern having a diffractive structure.

特許文献2には、マイクロレンズと顕微鏡レベル構造体を組み合わせ、顕微鏡レベル構造体をモアレ効果で拡大させて見るセキュリティ媒体が開示されている。   Patent Document 2 discloses a security medium in which a microlens and a microscope level structure are combined and viewed by enlarging the microscope level structure with a moire effect.

特開2009−186544号公報JP 2009-186544 A 特表2008−529851号公報Special table 2008-529851 gazette

特許文献1、特許文献2に開示されるセキュリティ媒体は、それ自体で真贋判定を行うことのできる、いわゆるオバートなセキュリティ媒体である。このようなオバートなセキュリティ媒体では、セキュリティ媒体自体のみを用い、それに提示される像が所定の像であるか否かを観察することで真贋判定が行うことが可能とされている。   The security media disclosed in Patent Literature 1 and Patent Literature 2 are so-called overt security media that can perform authenticity determination by themselves. In such an overt security medium, only the security medium itself is used, and it is possible to determine the authenticity by observing whether or not the image presented on the security medium is a predetermined image.

真贋判定には、このようなオバートな判定方法のみならず、ルーペ等の簡易な判別具を使用して判定を行うコバートな判定方法、さらには、分析装置などを利用してさらに複雑な判定を行うフォレンジックな判定方法が知られている。コバートな判定方法によれば、判定のための判別具を所有する鑑定者のみが真贋判定を行うことが可能となり、真贋判定における秘匿性のみならず、セキュリティ媒体の偽造や模造を抑制することも可能となる。   For authenticity determination, not only such an overwhelming determination method, but also a covert determination method in which determination is performed using a simple determination tool such as a loupe, and further complicated determination is made using an analysis device or the like. Forensic determination methods to perform are known. According to the covert determination method, only an appraiser who possesses a determination tool for determination can perform authenticity determination, and not only confidentiality in authenticity determination but also suppression of counterfeiting or imitation of a security medium can be suppressed. It becomes possible.

本発明の目的の1つは、このようなコバートな真贋判定を利用する新たなセキュリティ媒体、並びに、セキュリティ媒体を利用した真贋判定方法を提案することにある。   One of the objects of the present invention is to propose a new security medium using such a covert authenticity determination and an authenticity determination method using the security medium.

そのため本発明に係るセキュリティ媒体は、
複数の3次元微細構造物が第1のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有し、
複数のマイクロレンズが前記第1のピッチ(w)とは異なる第2のピッチ(p)で配列されたマイクロレンズアレイを有する判定シートを前記3次元微細構造物アレイに重ねることで、前記マイクロレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させ、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする。
Therefore, the security medium according to the present invention is:
A three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a first pitch (w) ;
A microlens array having a microlens array in which a plurality of microlenses are arranged at a second pitch (p) different from the first pitch (w) is overlaid on the three-dimensional microstructure array, whereby the microlens is located the three-dimensional microstructures at the focal point of, possible the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
W is set so as to satisfy the above condition .

また本発明に係るセキュリティ媒体は、
第1の領域に3次元微細構造物アレイが形成され、第2の領域にマイクロレンズアレイが形成された可撓性を有するシートを備え、
前記3次元微細構造物アレイは、複数の3次元微細構造物が第1のピッチ(w)で配列され、
前記マイクロレンズアレイは、複数のマイクロレンズが前記第1のピッチ(w)とは異なる第2のピッチ(p)で配列され、
前記シートを曲げ、前記マイクロレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする。
Also, the security medium according to the present invention is:
A flexible sheet having a three-dimensional microstructure array formed in a first region and a microlens array formed in a second region;
The three-dimensional microstructure array includes a plurality of three-dimensional microstructures arranged at a first pitch (w) ,
In the microlens array, a plurality of microlenses are arranged at a second pitch (p) different from the first pitch (w) ,
Bending said sheet, said be to position the 3-dimensional microstructures in the focal position of the microlens, can the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
W is set so as to satisfy the above condition .

また本発明に係るセキュリティ媒体は、
複数の3次元微細構造物が第1のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有する第1のシートと、
複数のマイクロレンズが前記第1のピッチ(w)とは異なる第2のピッチ(p)で配列されたマイクロレンズアレイを有する第2のシートと、
前記第1のシートと前記第2のシートは開閉可能に綴じられると共に、閉じた状態において、前記マイクロレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物が位置するように前記第1のシートに前記第2のシートが重なることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
Also, the security medium according to the present invention is:
A first sheet having a three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a first pitch (w) ;
A second sheet having a microlens array in which a plurality of microlenses are arranged at a second pitch (p) different from the first pitch (w) ;
The first sheet and the second sheet are bound so as to be openable and closable, and in the closed state, the first sheet and the second sheet are placed on the first sheet so that the three-dimensional microstructure is located at a focal position of the microlens. by the second sheet overlap, Ri the three-dimensional microstructures that are expanded Do observable,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
It is characterized by setting w to satisfy

また本発明に係るセキュリティ媒体は、
複数のマイクロミラーレンズが第1のピッチ(p)で配列されたマイクロミラーレンズアレイを有し、
複数の3次元微細構造物が前記第1のピッチ(p)とは異なる第2のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有する判定シートを前記マイクロミラーレンズアレイに重ねることで、前記マイクロミラーレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させ、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする。
Also, the security medium according to the present invention is:
A plurality of micromirror lenses having a micromirror lens array arranged at a first pitch (p) ;
A determination sheet having a three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a second pitch (w) different from the first pitch (p) is superimposed on the micromirror lens array. the is located the three-dimensional microstructures at the focal point of the micro-mirror lens, it allows the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
W is set so as to satisfy the above condition .

また本発明に係るセキュリティ媒体は、
第1の領域に3次元微細構造物アレイが形成され、第2の領域にマイクロミラーレンズアレイが形成された可撓性を有するシートを備え、
前記マイクロミラーレンズアレイは、複数のマイクロミラーレンズが第1のピッチ(p)で配列され、
前記3次元微細構造物アレイは、複数の3次元微細構造物が前記第1のピッチ(p)とは異なる第2のピッチ(w)で配列され、
前記シートを曲げ、前記マイクロミラーレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする。
Also, the security medium according to the present invention is:
A flexible sheet having a three-dimensional microstructure array formed in a first region and a micromirror lens array formed in a second region;
The micromirror lens array includes a plurality of micromirror lenses arranged at a first pitch (p) ,
In the three-dimensional microstructure array, a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a second pitch (w) different from the first pitch (p) ,
Bending said sheet, said be to position the 3-dimensional microstructures in the focal position of the micro-mirror lens, allows the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
W is set so as to satisfy the above condition .

また本発明に係るセキュリティ媒体は、
複数のマイクロミラーレンズが第1のピッチ(p)で配列されたマイクロミラーレンズアレイを有する第1のシートと、
複数の3次元微細構造物が前記第1のピッチ(p)とは異なる第2のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有する第2のシートと、
前記第1のシートと前記第2のシートは開閉可能に綴じられると共に、閉じた状態において、前記マイクロミラーレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物が位置するように、前記第1のシートに前記第2のシートが重なることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする。
Also, the security medium according to the present invention is:
A first sheet having a micromirror lens array in which a plurality of micromirror lenses are arranged at a first pitch (p) ;
A second sheet having a three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a second pitch (w) different from the first pitch (p) ;
The first sheet and the second sheet are bound so as to be openable and closable, and in the closed state, the first sheet and the second sheet are placed on the first sheet so that the three-dimensional microstructure is located at the focal position of the micromirror lens. It said second sheet that overlaps, allows the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
W is set so as to satisfy the above condition .

また本発明に係る真贋判定方法は、前述した何れか1つのセキュリティ媒体を用いて真贋判定を行うことを特徴とする。   The authenticity determination method according to the present invention is characterized in that authenticity determination is performed using any one of the security media described above.

本発明は、3次元微細構造物アレイを有するセキュリティ媒体を提供するものであって、特に、マイクロレンズアレイが形成された判定シートを重ねることで、セキュリティ媒体に形成された3次元微細構造物アレイを拡大して観察することを可能としている。判定シートは真贋鑑定者によって所有されるものであって、いわば判定シートを鍵として使用するコバートな判定を可能とするセキュリティ媒体を提供することを可能としている。   The present invention provides a security medium having a three-dimensional fine structure array, and in particular, a three-dimensional fine structure array formed on a security medium by overlapping determination sheets on which microlens arrays are formed. It is possible to enlarge and observe. The determination sheet is owned by the authenticator, and it is possible to provide a security medium that enables a covert determination using the determination sheet as a key.

さらに本発明は、1枚のシートの第1の領域に3次元微細構造物を、第2の領域にマイクロレンズアレイを形成したセキュリティ媒体を提供することとしている。このような構成の場合には、3次元微細構造物に対するマイクロレンズアレイの重ね方を判定方法として真贋判定を行うことが可能となる。そのため、3次元微細構造物、マイクロレンズアレイの形成箇所、判定時における重ね方を鍵として真贋判定を行うことが可能となる。さらには、3次元微細構造物アレイ、マイクロレンズアレイを個別に観察することで真贋判定を行うことも可能となる。   Furthermore, the present invention provides a security medium in which a three-dimensional microstructure is formed in a first area of a sheet and a microlens array is formed in a second area. In the case of such a configuration, the authenticity determination can be performed using the method of overlapping the microlens array on the three-dimensional microstructure as a determination method. Therefore, the authenticity determination can be performed using the three-dimensional fine structure, the location where the microlens array is formed, and the overlapping method at the time of determination as keys. Furthermore, authenticity determination can be performed by individually observing the three-dimensional fine structure array and the microlens array.

さらに本発明は、開閉可能に綴じられた第1のシート、第2のシートのそれぞれに3次元微細構造物アレイ、マイクロレンズアレイを形成したセキュリティ媒体を提供することとしている。このような構成の場合には、ページを閉じて3次元微細構造物アレイ上にマイクレンズアレイを重ね、拡大された3次元微細構造物を観察することによる真贋判定を行うことが可能となる。さらには、ページを開いて3次元微細構造物、マイクロレンズアレイを個別に観察することによる真贋判定も可能とされる。   Furthermore, the present invention provides a security medium in which a three-dimensional microstructure array and a microlens array are formed on each of the first sheet and the second sheet that are bound to be openable and closable. In the case of such a configuration, it is possible to perform authenticity determination by closing the page and overlaying the microphone lens array on the three-dimensional fine structure array and observing the enlarged three-dimensional fine structure. Furthermore, it is possible to determine the authenticity by opening the page and individually observing the three-dimensional microstructure and the microlens array.

以上、3次元微細構造物アレイ、マイクロレンズアレイを用いた場合の効果について言及したが、3次元微細構造物アレイ、マイクロミラーレンズアレイを用いた場合においても同様の効果を奏することとなる。   The effects when the three-dimensional fine structure array and the microlens array are used have been described above, but the same effects can be obtained when the three-dimensional fine structure array and the micromirror lens array are used.

本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体の利用形態を示す斜視図(分離時)The perspective view which shows the utilization form of the security medium based on embodiment of this invention (at the time of isolation | separation) 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体の利用形態を示す斜視図(重畳時)The perspective view which shows the utilization form of the security medium based on embodiment of this invention (at the time of superimposition) 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプA)の観察時の様子を示す模式図The schematic diagram which shows the mode at the time of observation of the security medium (type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係る3次元微細構造物、マイクロレンズの配列を示す図The figure which shows the arrangement | sequence of the three-dimensional fine structure and micro lens which concern on embodiment of this invention 本発明の他の実施形態に係る3次元微細構造物、マイクロレンズの配列を示す図The figure which shows the arrangement | sequence of the three-dimensional microstructure which concerns on other embodiment of this invention, and a micro lens. 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプA)の実像表示原理を示す図The figure which shows the real image display principle of the security medium (type A) which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプA)の虚像表示原理を示す図The figure which shows the virtual image display principle of the security medium (type A) which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプB)の観察時の形態を示す模式図The schematic diagram which shows the form at the time of observation of the security medium (type B) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプB)の実像表示原理を示す図The figure which shows the real image display principle of the security medium (type B) which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプB)の虚像表示原理を示す図The figure which shows the virtual image display principle of the security medium (type B) which concerns on embodiment of this invention. 実像表示時における3次元微細構造物のピッチとピッチ差の関係を示す図The figure which shows the relationship between the pitch of a three-dimensional fine structure at the time of a real image display, and pitch difference 虚像表示時における3次元微細構造物のピッチとピッチ差の関係を示す図The figure which shows the relationship between the pitch of a three-dimensional fine structure at the time of a virtual image display, and pitch difference 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例1:タイプA)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 1: Type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例2:タイプB)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 2: Type B) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例3:タイプA)の形態を示す図The figure which shows the form of the security medium (Example 3: Type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例3:タイプA)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 3: Type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例4:タイプA)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 4: Type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例5:タイプB)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 5: type B) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例6:タイプA)の形態を示す図The figure which shows the form of the security medium (Example 6: Type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例6:タイプA)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 6: type A) which concerns on embodiment of this invention 本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(実施例7:タイプA)の断面を示す図The figure which shows the cross section of the security medium (Example 7: type A) which concerns on embodiment of this invention

本発明に係るセキュリティ媒体の実施形態について図を用いて詳細に説明する。図1は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体を有するセキュリティカードを示す斜視図である。セキュリティ媒体は、クレジットカードやID証、紙幣、金券、有価証券など真贋判定が必要とされる各種カード、紙類などに形成される媒体であって、容易に複製を作製することができないことが必要とされる。   An embodiment of a security medium according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a security card having a security medium according to an embodiment of the present invention. The security medium is a medium formed on various cards, papers, etc. that require authenticity determination such as credit cards, ID certificates, banknotes, cash vouchers, securities, etc., and may not be easily duplicated. Needed.

図1に示すセキュリティ媒体5は、クレジットカードのようなセキュリティカード4に設けられた例となっている。本実施形態のセキュリティ媒体5は、3次元微細構造物が配列された3次元微細構造物アレイ6を有して構成されている。真贋判定を行う際は、図2に示されるように、このセキュリティカード4に設けられたセキュリティ媒体5に判定シート9を重ねることで実行される。本実施形態の判定シート9には、マイクロレンズアレイ7が設けられいる。真贋判定を行う際は、セキュリティ媒体5に判定シート9を重ねた状態において、マイクロレンズアレイ7を介して観察される像(拡大された3次元微細構造物)が所定の像であることをもって真のセキュリティカード4であることを確認可能としている。以後の説明では、図2に示すように、セキュリティカード4の板面をXY平面にとり、XY平面に垂直かつ使用者が観察する方向をZ軸の正の方向にとって説明する。   The security medium 5 shown in FIG. 1 is an example provided in a security card 4 such as a credit card. The security medium 5 according to the present embodiment includes a three-dimensional fine structure array 6 in which three-dimensional fine structures are arranged. When authenticity determination is performed, as shown in FIG. 2, the determination sheet 9 is superimposed on the security medium 5 provided in the security card 4. The determination sheet 9 of the present embodiment is provided with a microlens array 7. When authenticity determination is performed, it is true that an image (enlarged three-dimensional microstructure) observed through the microlens array 7 in a state where the determination sheet 9 is superimposed on the security medium 5 is a predetermined image. The security card 4 can be confirmed. In the following description, as shown in FIG. 2, the plate surface of the security card 4 is taken as the XY plane, and the direction perpendicular to the XY plane and viewed by the user is taken as the positive direction of the Z axis.

図3は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプA)の観察時、すなわち、図2のようにセキュリティ媒体5に対して判定シート9(マイクロレンズアレイ7)が重ねられた状態を示す模式図であって、その状態の一部を拡大した斜視図となっている。本実施形態のセキュリティ媒体5は、複数の3次元微細構造物1がXY平面と平行な面上に配列された3次元微細構造物アレイ6を有して構成されている。一方、判定シート9側には、複数のマイクロレンズ2がXY平面と平行な面上に配列されたマイクロレンズアレイ7を有して構成されている。このマイクロレンズアレイ7によって、拡大された3次元微細構造物1の実像もしくは虚像を観察者に観察させる。これは隣接する3次元微細構造物1間の間隔(ピッチw)と隣接するマイクロレンズ2の間隔(ピッチp)の間にわずかな
ピッチ差を設け、ピッチ差によって発生するモアレ効果を利用したものとなっている。
FIG. 3 shows a state in which the security sheet (type A) according to the embodiment of the present invention is observed, that is, a state in which the determination sheet 9 (microlens array 7) is superimposed on the security medium 5 as shown in FIG. It is a schematic diagram, Comprising: It is the perspective view which expanded a part of the state. The security medium 5 according to the present embodiment includes a three-dimensional microstructure array 6 in which a plurality of three-dimensional microstructures 1 are arranged on a plane parallel to the XY plane. On the other hand, the determination sheet 9 has a microlens array 7 in which a plurality of microlenses 2 are arranged on a plane parallel to the XY plane. The microlens array 7 allows an observer to observe a real or virtual image of the enlarged three-dimensional microstructure 1. This is a technique in which a slight pitch difference is provided between the interval (pitch w) between adjacent three-dimensional microstructures 1 and the interval between adjacent microlenses 2 (pitch p), and the moiré effect generated by the pitch difference is used. It has become.

図4には、図3に記載する3次元微細構造物1のXY平面と平行な面における配列(3次元微細構造物アレイ6)、マイクロレンズ2のXY平面と平行な面における配列(マイクロレンズアレイ7)が、それぞれ図3(a)、(b)に示されている。本実施形態の3次元微細構造物1、マイクロレンズ2の配列は、どちらも格子状に配列されたものとなっている。図3(a)に示されるように隣接する3次元微細構造物1はX軸方向にピッチw、Y軸方向にピッチzを有して配列されている。ピッチwとピッチzを等距離としてもよい。3次元微細構造物1の形状は、任意な形状とすることができるが、後ほど説明する拡大率の関係を分かりやすくするため、直径hで円形の外形を有するものとしている。   FIG. 4 shows an array (three-dimensional microstructure array 6) in the plane parallel to the XY plane of the three-dimensional microstructure 1 shown in FIG. 3 and an array (microlens) in the plane parallel to the XY plane of the microlens 2. An array 7) is shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), respectively. In the present embodiment, the three-dimensional microstructure 1 and the microlenses 2 are both arranged in a lattice pattern. As shown in FIG. 3A, adjacent three-dimensional microstructures 1 are arranged with a pitch w in the X-axis direction and a pitch z in the Y-axis direction. The pitch w and the pitch z may be equidistant. The shape of the three-dimensional microstructure 1 can be an arbitrary shape, but has a circular outer shape with a diameter h for easy understanding of the relationship of the enlargement ratio described later.

一方、図4(b)に示されるようにマイクロレンズ2は、3次元微細構造物1と同様に格子状に配列されている。そして隣接するマイクロレンズ2は、X軸方向にピッチp、Y軸方向にピッチqを有して配列されている。ただし、このピッチpは3次元微細構造物1のピッチwに対して僅かな差(ピッチ差)を有したものとなっている。このピッチpとピッチqも等距離としてもよい。なお、マイクロレンズ2のピッチqについても、3次元微細構造物1のピッチzと僅かな差(ピッチ差)を有して配列されている。   On the other hand, as shown in FIG. 4B, the microlenses 2 are arranged in a lattice like the three-dimensional microstructure 1. The adjacent microlenses 2 are arranged with a pitch p in the X-axis direction and a pitch q in the Y-axis direction. However, the pitch p has a slight difference (pitch difference) with respect to the pitch w of the three-dimensional microstructure 1. The pitch p and the pitch q may also be equidistant. Note that the pitch q of the microlenses 2 is also arranged with a slight difference (pitch difference) from the pitch z of the three-dimensional microstructure 1.

マイクロレンズ2の大きさは、数十〜数百μm程度の大きさに形成される。一方、マイクロレンズ2によって拡大される3次元微細構造物1は、マイクロレンズ2の大きさよりも小さく形成されることとなる。3次元微細構造物1は、秘匿性の都合上、直接目視したときに視認できない程度の大きさとすることが好ましい。   The microlens 2 is formed to have a size of about several tens to several hundreds of μm. On the other hand, the three-dimensional microstructure 1 enlarged by the microlens 2 is formed smaller than the size of the microlens 2. It is preferable that the three-dimensional microstructure 1 has such a size that it cannot be visually recognized when viewed directly for the sake of confidentiality.

3次元微細構造物1とマイクロレンズ2の配列は、図4のような格子状配列に限らず、例えば、図5のような配列であってもよい。図5の例は、3次元微細構造物1、マイクロレンズ2が亀甲状に配列された例である。図5(a)に示されるように、X軸方向に隣接する3次元微細構造物1は、ピッチwを有して配列される。そして、斜め方向に隣接する3次元微細構造物1も同様にピッチwを有して配列されている。マイクロレンズ2も同様であって、図5(b)に示されるようにX軸方向、斜め方向に隣接するマイクロレンズ2間はピッチpを有して配列されている。本実施形態のセキュリティ媒体は、モアレ効果を利用することで複数の3次元微細構造物1の拡大表示像を重ねて観察者に提示することとしている。そのため、単位面積あたりに配置された3次元微細構造物1やマイクロレンズ2が多いほど、表示像を鮮明なものとすることが可能となる。   The arrangement of the three-dimensional fine structure 1 and the microlens 2 is not limited to the lattice arrangement as shown in FIG. 4, but may be an arrangement as shown in FIG. The example of FIG. 5 is an example in which the three-dimensional microstructure 1 and the microlenses 2 are arranged in a turtle shell shape. As shown in FIG. 5A, the three-dimensional microstructures 1 adjacent in the X-axis direction are arranged with a pitch w. The three-dimensional microstructures 1 that are adjacent in the oblique direction are similarly arranged with a pitch w. The microlenses 2 are the same, and as shown in FIG. 5B, the microlenses 2 adjacent in the X-axis direction and the oblique direction are arranged with a pitch p. The security medium of the present embodiment uses the moire effect to superimpose and display an enlarged display image of a plurality of three-dimensional microstructures 1 to the observer. Therefore, the more three-dimensional microstructures 1 and microlenses 2 arranged per unit area, the clearer the display image can be.

では、図3に示した構成のセキュリティ媒体(タイプA)について、その表示原理を図6を用いて説明する。ここではX軸方向に隣接する3次元微細構造物1による表示原理を説明するが、Y軸方向、あるいは、斜め方向に隣接する3次元微細構造物1に対しても同様の表示原理を利用することで、表示像をより鮮明なものとすることが可能となる。   The display principle of the security medium (type A) having the configuration shown in FIG. 3 will be described with reference to FIG. Here, the display principle by the three-dimensional microstructure 1 adjacent in the X-axis direction will be described, but the same display principle is also used for the three-dimensional microstructure 1 adjacent in the Y-axis direction or oblique direction. As a result, the display image can be made clearer.

タイプAのセキュリティ媒体は、真贋判定を行う際、観察者側に近い側にマイクロレンズ2のレンズ面が配置され、観察者から遠い側に3次元微細構造物1が配置されたレイアウトとなる。図6には、マイクロレンズ2によって形成されるレンズ面と、3次元微細構造物1、並びに観察される実像が模式的に示されている。 The type A security medium has a layout in which the lens surface of the microlens 2 is arranged on the side close to the observer side and the three-dimensional microstructure 1 is arranged on the side far from the observer when the authenticity determination is performed. FIG. 6 schematically shows the lens surface formed by the microlens 2, the three-dimensional microstructure 1, and the observed real image.

真贋判定を行う際、3次元微細構造物1は、Z軸方向すなわち観察者の観察方向において、マイクロレンズ1の略焦点位置に位置することとなる。略焦点位置とは、観察者が拡大された3次元微細構造物1を視認できる範囲の位置を意味するものであって、正確な焦点距離に対し約30%範囲以内の位置のことをいう。隣接するマイクロレンズ2間のピッチをp、隣接する3次元微細構造物1間のピッチをw、3次元微細構造物1の直径をh、マイクロレンズ2の曲率半径の中心位置から3次元微細構造物1までの距離をd、3次元
微細構造物1の実像とマイクロレンズ2の曲率半径の中心位置までの距離をLとする。なお、図はZX平面内での主光線の様子を示したものとなっているが、拡大の様子を分かりやすくするため、3次元微細構造物1とその実像についてはXY平面と平行な面の様子を示したものとしている。図2で説明したように、観察者は、Z軸の正方向を観察方向としてセキュリティ媒体の観察することで、拡大された3次元微細構造物1の像を観察することが可能とされる。
When authenticity determination is performed, the three-dimensional microstructure 1 is positioned at a substantially focal position of the microlens 1 in the Z-axis direction, that is, the observation direction of the observer. The substantially focal position means a position in a range where the observer can visually recognize the enlarged three-dimensional microstructure 1 and means a position within a range of about 30% with respect to an accurate focal length. The pitch between adjacent microlenses 2 is p, the pitch between adjacent three-dimensional microstructures 1 is w, the diameter of the three-dimensional microstructure 1 is h, and the three-dimensional microstructure from the center position of the radius of curvature of the microlenses 2 The distance to the object 1 is d, and the distance between the real image of the three-dimensional microstructure 1 and the center position of the radius of curvature of the microlens 2 is L. Although the figure shows the state of the chief ray in the ZX plane, the three-dimensional microstructure 1 and its real image are shown in a plane parallel to the XY plane in order to make the enlargement easier to understand. The situation is shown. As described with reference to FIG. 2, the observer can observe the enlarged image of the three-dimensional microstructure 1 by observing the security medium with the positive direction of the Z axis as the observation direction.

図6のセキュリティ媒体の構成は、マイクロレンズ2のピッチpよりも3次元微細構造物1のピッチwが大きい場合(w>p)の構成となっている。この場合、3次元微細構造物1は、マイクロレンズ2によって拡大像を形成する。所定の距離Lの位置では、ピッチ差(w−p)を起因として、隣接する拡大像が同じ位置あるいは略同じ位置に重なり合うことで実像を形成、すなわち、セキュリティ媒体に対して観察者側に像が形成される。これはいわゆるモアレ効果を利用したものであって、観察者は拡大された3次元微細構造物1を浮いた状態で観察することが可能となる。   6 is configured when the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 is larger than the pitch p of the microlens 2 (w> p). In this case, the three-dimensional microstructure 1 forms an enlarged image by the microlens 2. At a predetermined distance L, a real image is formed by overlapping adjacent enlarged images at the same position or substantially the same position due to the pitch difference (w−p), that is, an image on the observer side with respect to the security medium. Is formed. This utilizes the so-called moire effect, and the observer can observe the enlarged three-dimensional microstructure 1 in a floating state.

このように拡大して観察される3次元微細構造物1の拡大率について検証しておく。図5において幾何学上の相似関係から(1−1)式を導くことができる。
w(L+d)=p/L ・・・(1−1)
(1−1)式を変形すると、
L=dp/(w−p) ・・・(1−2)
The enlargement rate of the three-dimensional microstructure 1 observed in this way is verified. In FIG. 5, the equation (1-1) can be derived from the geometric similarity.
w (L + d) = p / L (1-1)
When formula (1-1) is transformed,
L = dp / (w−p) (1-2)

同様に、幾何学上の相似関係から(1−3)式を導くことができる。
H=Lh/d ・・・(1−3)
(1−3)式を変形すると、
L=Hd/h ・・・(1−4)
Similarly, the expression (1-3) can be derived from the geometric similarity.
H = Lh / d (1-3)
When the equation (1-3) is transformed,
L = Hd / h (1-4)

(1−2)式と(1−4)式から、観察される3次元微細構造物1の拡大率αは(1−5)式にて表すことができる。
α=H/h=p/(w−p)・・・(1−5)
From the formulas (1-2) and (1-4), the magnification α of the observed three-dimensional microstructure 1 can be expressed by the formula (1-5).
α = H / h = p / (w−p) (1-5)

以下に、図6のセキュリティ媒体について、拡大率αと観察される像の大きさCの数値実施例を記載しておく。何れの場合も3次元微細構造物1の大きさh(直径)を90μm、3次元微細構造物のピッチwを98.9μmに固定している。   In the following, numerical examples of the enlargement ratio α and the observed image size C for the security medium of FIG. 6 will be described. In any case, the size h (diameter) of the three-dimensional microstructure 1 is fixed at 90 μm, and the pitch w of the three-dimensional microstructure is fixed at 98.9 μm.

Figure 0005867695
Figure 0005867695

表1から分かるようにピッチ差が小さくなるほど、拡大率α、観察像の大きさは共に大きくなることが分かる。また、1μmのピッチ差が拡大率αに大きく影響を及ぼすこともみてとれる。3次元微細構造物1とマイクロレンズ2とのピッチ差を精密に異ならせて製造することは難しいため、その複製を困難な状態とし、容易に偽造や模造を行うことを防止することが可能となる。   As can be seen from Table 1, the smaller the pitch difference, the larger the enlargement ratio α and the size of the observation image. It can also be seen that a pitch difference of 1 μm greatly affects the enlargement ratio α. Since it is difficult to manufacture the three-dimensional fine structure 1 and the microlens 2 with precisely different pitch differences, it is difficult to duplicate them and prevent forgery or imitation easily. Become.

図7は、図6と同様、観察者側にマイクロレンズ2が配置されているセキュリティ媒体(タイプA)であって、3次元微細構造物1のピッチwよりもマイクロレンズ2のピッチpが大きい場合(p>w)の構成となっている。図7には、マイクロレンズ2によって形成されるレンズ面と、3次元微細構造物1、並びに観察される虚像が模式的に示されている。   FIG. 7 is a security medium (type A) in which the microlenses 2 are arranged on the viewer side, as in FIG. 6, and the pitch p of the microlenses 2 is larger than the pitch w of the three-dimensional microstructure 1. In this case (p> w). FIG. 7 schematically shows the lens surface formed by the microlens 2, the three-dimensional microstructure 1, and the observed virtual image.

真贋判定時、3次元微細構造物1は、Z軸方向すなわち観察者の観察方向において、マイクロレンズ1の略焦点位置に位置する。略焦点位置とは、観察者が拡大された3次元微細構造物1を視認できる範囲の位置を意味するものであって、正確な焦点距離に対し約30%範囲以内の位置のことをいう。隣接するマイクロレンズ2間のピッチをp、隣接する3次元微細構造物1間のピッチをw、3次元微細構造物1の直径をh、マイクロレンズ2の曲率半径の中心位置から3次元微細構造物1までの距離をd、3次元微細構造物1から実像までの距離をLとする。図2で説明したように、観察者は、Z軸の正方向を観察方向としてセキュリティ媒体の観察することで、拡大された3次元微細構造物1の像を観察することが可能とされる。   At the time of authenticity determination, the three-dimensional microstructure 1 is located at a substantially focal position of the microlens 1 in the Z-axis direction, that is, the observation direction of the observer. The substantially focal position means a position in a range where the observer can visually recognize the enlarged three-dimensional microstructure 1 and means a position within a range of about 30% with respect to an accurate focal length. The pitch between adjacent microlenses 2 is p, the pitch between adjacent three-dimensional microstructures 1 is w, the diameter of the three-dimensional microstructure 1 is h, and the three-dimensional microstructure from the center position of the radius of curvature of the microlenses 2 The distance to the object 1 is d, and the distance from the three-dimensional microstructure 1 to the real image is L. As described with reference to FIG. 2, the observer can observe the enlarged image of the three-dimensional microstructure 1 by observing the security medium with the positive direction of the Z axis as the observation direction.

この場合、3次元微細構造物1は、マイクロレンズ2によって拡大像を形成する。このとき所定の距離Lの位置では、ピッチ差(p−w)を起因として、隣接する拡大像が同じ位置あるいは略同じ位置に重なり合うことで虚像を形成する。すなわち、セキュリティ媒体に対して観察者と反対側に像を形成する。観察者は拡大された3次元微細構造物1を沈んだ状態で観察することが可能となる。   In this case, the three-dimensional microstructure 1 forms an enlarged image by the microlens 2. At this time, at a position of the predetermined distance L, a virtual image is formed by overlapping adjacent enlarged images at the same position or substantially the same position due to the pitch difference (p−w). That is, an image is formed on the side opposite to the observer with respect to the security medium. An observer can observe the enlarged three-dimensional microstructure 1 in a submerged state.

このように拡大して観察される3次元微細構造物1の拡大率について検証しておく。図7において幾何学上の相似関係から(2−1)式を導くことができる。
w/L=p/(L+d) ・・・(2−1)
(2−1)式を変形すると、
L=dw/(p−w) ・・・(2−2)
The enlargement rate of the three-dimensional microstructure 1 observed in this way is verified. In FIG. 7, the equation (2-1) can be derived from the geometric similarity.
w / L = p / (L + d) (2-1)
When the equation (2-1) is transformed,
L = dw / (p−w) (2-2)

同様に、幾何学上の相似関係から(2−3)式を導くことができる。
d/h=(d+L)/H ・・・(2−3)
(2−3)式を変形すると、
L=d(H/h−1) ・・・(2−4)
Similarly, equation (2-3) can be derived from the geometric similarity.
d / h = (d + L) / H (2-3)
When the equation (2-3) is transformed,
L = d (H / h-1) (2-4)

(2−2)式と(2−4)式から、観察される3次元微細構造物1の拡大率αは(2−5)式にて表すことができる。
α=H/h=p/(p−w)・・・(2−5)
From the formulas (2-2) and (2-4), the magnification α of the observed three-dimensional microstructure 1 can be expressed by the formula (2-5).
α = H / h = p / (p−w) (2-5)

図3に示されるようなタイプAのセキュリティ媒体では、観察者側に配列されたマイクロレンズ2を介して、観察側に対して反対側(観察者側からみて遠い側)に配列された3次元微細構造物の実像あるいは虚像を拡大観察することが可能とされている。本実施形態のセキュリティ媒体は、このような構成(タイプA)のみならず、次のような構成(タイプB)を採用することもできる。   In the type A security medium as shown in FIG. 3, three-dimensionally arranged on the opposite side (the side far from the observer side) through the microlenses 2 arranged on the observer side. It is possible to enlarge and observe a real image or a virtual image of a fine structure. The security medium of the present embodiment can adopt not only such a configuration (type A) but also the following configuration (type B).

図8は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプB)の観察時の様子を示す
模式図である。本実施形態のセキュリティ媒体は、複数のマイクロミラーレンズ3が配列されたマイクロミラーレンズアレイ8を有して構成されている。一方、判定シート9には、3次元微細構造物アレイ6を有して構成される。真贋判定は、セキュリティ媒体側のマイクロミラーレンズアレイ8に3次元微細構造物アレイ6を重ねた状態とし、マイクロミラーレンズアレイ8で反射した光によって形成される3次元微細構造物1の拡大像を観察することで実行される。
FIG. 8 is a schematic diagram showing a state of observing the security medium (type B) according to the embodiment of the present invention. The security medium according to the present embodiment includes a micromirror lens array 8 in which a plurality of micromirror lenses 3 are arranged. On the other hand, the determination sheet 9 includes a three-dimensional fine structure array 6. For authenticity determination, the three-dimensional microstructure array 6 is placed on the micromirror lens array 8 on the security medium side, and an enlarged image of the three-dimensional microstructure 1 formed by the light reflected by the micromirror lens array 8 is obtained. It is executed by observing.

3次元微細構造物1の配列(3次元微細構造物アレイ6)、マイクロミラーレンズ3の配列(マイクロミラーレンズアレイ8)は、図8、図4に示すように格子状あるいは図5で説明したように亀甲状にて配置される。本実施形態の3次元微細構造物1並びにそれが配置されたシートは透明部材によって構成されている。一方、マイクロミラーレンズ3は、Z軸正の方向に凸面形状を向けた反射面を有し、観察方向(Z軸負側から正側に向かう方向)から入射する光を反射させる。マイクロミラーレンズ3で反射された光は、3次元微細構造物1を透過し、観察者に対して3次元微細構造物1の実像もしくは虚像を拡大表示する。   The arrangement of the three-dimensional fine structure 1 (three-dimensional fine structure array 6) and the arrangement of the micromirror lens 3 (micromirror lens array 8) are described in a lattice form as shown in FIGS. It is arranged in a turtle shell shape. The three-dimensional microstructure 1 of this embodiment and the sheet on which it is arranged are constituted by a transparent member. On the other hand, the micromirror lens 3 has a reflecting surface having a convex shape in the positive Z-axis direction, and reflects light incident from the observation direction (the direction from the negative Z-axis side to the positive side). The light reflected by the micromirror lens 3 passes through the three-dimensional microstructure 1 and enlarges and displays the real image or virtual image of the three-dimensional microstructure 1 to the observer.

図9は、観察者側に3次元微細構造物1を位置させることで真贋判定を実行するセキュリティ媒体(タイプB)であって、3次元微細構造物1のピッチwよりもマイクロミラーレンズ3のピッチpが大きい場合(p>w)の構成となっている。図9には、マイクロミラーレンズ3によって形成されるミラー面と、3次元微細構造物1、並びに観察される実像が模式的に示されている。   FIG. 9 shows a security medium (type B) for executing authenticity determination by positioning the three-dimensional fine structure 1 on the viewer side, and the micromirror lens 3 has a pitch w greater than that of the three-dimensional fine structure 1. This is a configuration when the pitch p is large (p> w). FIG. 9 schematically shows the mirror surface formed by the micromirror lens 3, the three-dimensional microstructure 1, and the observed real image.

真贋判定時、3次元微細構造物1は、Z軸上すなわち観察者の観察方向において、マイクロミラーレンズ3の略焦点位置に位置させることとなる。略焦点位置とは、観察者が拡大された3次元微細構造物1を視認できる範囲の位置を意味するものであって、正確な焦点距離に対し約30%範囲以内の位置のことをいう。隣接するマイクロミラーレンズ3間のピッチをp、隣接する3次元微細構造物1間のピッチをw、3次元微細構造物1の直径をh、マイクロミラーレンズ3の曲率半径の中心位置から3次元微細構造物1までの距離をd、3次元微細構造物1からその実像までの距離をLとする。   At the time of authenticity determination, the three-dimensional microstructure 1 is positioned at a substantially focal position of the micromirror lens 3 on the Z axis, that is, in the observation direction of the observer. The substantially focal position means a position in a range where the observer can visually recognize the enlarged three-dimensional microstructure 1 and means a position within a range of about 30% with respect to an accurate focal length. The pitch between adjacent micromirror lenses 3 is p, the pitch between adjacent three-dimensional microstructures 1 is w, the diameter of the three-dimensional microstructure 1 is h, and the center position of the radius of curvature of the micromirror lens 3 is three-dimensional. The distance to the fine structure 1 is d, and the distance from the three-dimensional fine structure 1 to its real image is L.

この場合、マイクロミラーレンズ3から射出される反射光は、3次元微細構造物1を透過して拡大像を形成する。このとき所定の距離Lの位置では、ピッチ差(p−w)を起因として、隣接する拡大像が同じ位置あるいは略同じ位置に重なり合うことで実像を形成する。これもタイプAのセキュリティ媒体と同様、モアレ効果を利用したものであって、観察者は、拡大された3次元微細構造物1を浮いた状態で観察することが可能となる。   In this case, the reflected light emitted from the micromirror lens 3 passes through the three-dimensional microstructure 1 to form an enlarged image. At this time, at a position of the predetermined distance L, a real image is formed by overlapping adjacent enlarged images at the same position or substantially the same position due to the pitch difference (p−w). Similarly to the type A security medium, this also uses the moire effect, and the observer can observe the enlarged three-dimensional microstructure 1 in a floating state.

このように拡大して観察される3次元微細構造物1の拡大率について検証しておく。図9において幾何学上の相似関係から(3−1)式を導くことができる。
w/L=p/(L+d) ・・・(3−1)
(2−1)式を変形すると、
L=dw/(p−w) ・・・(3−2)
The enlargement rate of the three-dimensional microstructure 1 observed in this way is verified. In FIG. 9, the equation (3-1) can be derived from the geometric similarity.
w / L = p / (L + d) (3-1)
When the equation (2-1) is transformed,
L = dw / (p−w) (3-2)

同様に、幾何学上の相似関係から(3−3)式を導くことができる。
d/h=(d+L)/H ・・・(3−3)
(2−3)式を変形すると、
L=d(H/h−1) ・・・(3−4)
Similarly, the expression (3-3) can be derived from the geometric similarity.
d / h = (d + L) / H (3-3)
When the equation (2-3) is transformed,
L = d (H / h-1) (3-4)

(3−2)式と(3−4)式から、観察される3次元微細構造物1の拡大率αは(3−5)式にて表すことができる。
α=H/h=p/(p−w)・・・(3−5)
From the expressions (3-2) and (3-4), the magnification α of the observed three-dimensional microstructure 1 can be expressed by the expression (3-5).
α = H / h = p / (p−w) (3-5)

一方、図10は、図9と同様、観察者側に3次元微細構造物1を位置させることで真贋判定を行うセキュリティ媒体(タイプB)であって、マイクロミラーレンズ3のピッチpよりも3次元微細構造物1のピッチwが大きい場合(w>p)の構成となっている。図10には、マイクロミラーレンズ3によって形成されるミラー面と、3次元微細構造物1、並びに観察される虚像が模式的に示されている。   On the other hand, FIG. 10 is a security medium (type B) that performs authenticity determination by positioning the three-dimensional microstructure 1 on the viewer side, as in FIG. 9, and is 3 than the pitch p of the micromirror lens 3. This is a configuration when the pitch w of the dimensional fine structure 1 is large (w> p). FIG. 10 schematically shows the mirror surface formed by the micromirror lens 3, the three-dimensional microstructure 1, and the observed virtual image.

3次元微細構造物1は、Z軸上すなわち観察者の観察方向において、マイクロミラーレンズ3の略焦点位置に配置される。略焦点位置とは、観察者が拡大された3次元微細構造物1を視認できる範囲の位置を意味するものであって、正確な焦点距離に対し約30%範囲以内の位置のことをいう。隣接するマイクロミラーレンズミラー3間のピッチをp、隣接する3次元微細構造物1間のピッチをw、3次元微細構造物1の直径をh、マイクロミラーレンズミラー3の曲率半径の中心位置から3次元微細構造物1までの距離をd、3次元微細構造物1からその虚像までの距離をLとする。   The three-dimensional microstructure 1 is arranged at a substantially focal position of the micromirror lens 3 on the Z axis, that is, in the observation direction of the observer. The substantially focal position means a position in a range where the observer can visually recognize the enlarged three-dimensional microstructure 1 and means a position within a range of about 30% with respect to an accurate focal length. The pitch between adjacent micromirror lens mirrors 3 is p, the pitch between adjacent three-dimensional microstructures 1 is w, the diameter of the three-dimensional microstructure 1 is h, and the center position of the radius of curvature of the micromirror lens mirror 3 is The distance to the three-dimensional microstructure 1 is d, and the distance from the three-dimensional microstructure 1 to the virtual image is L.

この場合、マイクロミラーレンズ3から射出された反射光は、3次元微細構造物1を透過して拡大像を形成する。所定の距離Lの位置では、ピッチ差(w−p)を起因として、隣接する拡大像が同じ位置あるいは略同じ位置に重なり合うことで虚像を形成する。観察者は拡大された3次元微細構造物1を沈んだ状態で観察することが可能となる。   In this case, the reflected light emitted from the micromirror lens 3 is transmitted through the three-dimensional microstructure 1 to form an enlarged image. At a position of the predetermined distance L, a virtual image is formed by overlapping adjacent enlarged images at the same position or substantially the same position due to the pitch difference (w−p). An observer can observe the enlarged three-dimensional microstructure 1 in a submerged state.

このように拡大して観察される3次元微細構造物1の拡大率について検証しておく。図10において幾何学上の相似関係から(4−1)式を導くことができる。
w/L=p/(L−d) ・・・(4−1)
(1−1)式を変形すると、
L=dw(w−p) ・・・(4−2)
The enlargement rate of the three-dimensional microstructure 1 observed in this way is verified. In FIG. 10, the equation (4-1) can be derived from the geometric similarity.
w / L = p / (L−d) (4-1)
When formula (1-1) is transformed,
L = dw (w−p) (4-2)

同様に、幾何学上の相似関係から(4−3)式を導くことができる。
h/d=H/(L−d) ・・・(4−3)
(4−3)式を変形すると、
L=d(H/h+1) ・・・(4−4)
Similarly, equation (4-3) can be derived from the geometric similarity.
h / d = H / (L−d) (4-3)
When the equation (4-3) is transformed,
L = d (H / h + 1) (4-4)

(4−2)式と(4−4)式から、観察される3次元微細構造物1の拡大率αは(4−5)式にて表すことができる。
α=H/h=p/(p−w) ・・・(4−5)
From the expressions (4-2) and (4-4), the magnification α of the observed three-dimensional microstructure 1 can be expressed by the expression (4-5).
α = H / h = p / (p−w) (4-5)

タイプA、タイプBのセキュリティ媒体それぞれについて、w>pの場合と、w<pの場合の拡大率について検討したが、次にw>pの場合(ケース1)、w<pの場合(ケース2)のそれぞれについて、3次元微細構造物のピッチwの好適とされる範囲について検討する。ここではマイクロレンズ2を使用したタイプAについて検討するが、マイクロミラーレンズ3を用いたタイプBについても同様である。   For each of the type A and type B security media, we examined the enlargement ratio when w> p and when w <p. Next, when w> p (case 1), when w <p (case) For each of 2), the preferred range of the pitch w of the three-dimensional microstructure will be examined. Here, type A using the microlens 2 is examined, but the same applies to the type B using the micromirror lens 3.

まず、w>pの場合(ケース1)について3次元微細構造物1のピッチwの上限、下限について説明する。
3次元微細構造物1に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
3次元微細構造物1に対するマイクロレンズ2のピッチ差は、
w−p=w×A/100 ・・・(5−1)
で表すことができる。このピッチ差を用いてマイクロレンズ2のピッチpは、
p=w(1−A/100) ・・・(5−2)
と表すことができる。
First, an upper limit and a lower limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 will be described in the case of w> p (case 1).
When the ratio of the pitch difference (w−p) with respect to the three-dimensional microstructure 1 is A [%],
The pitch difference of the microlens 2 with respect to the three-dimensional microstructure 1 is
w−p = w × A / 100 (5-1)
Can be expressed as Using this pitch difference, the pitch p of the microlens 2 is
p = w (1-A / 100) (5-2)
It can be expressed as.

ケース1の場合、拡大率αは(1−5)式で表すことができる。ピッチw内に位置する3次元微細構造物1は、ピッチwと拡大率αの積となる大きさβを上限として観察されることとなる。
β=w×α=w(p/w−p) ・・・(5−3)
In case 1, the enlargement ratio α can be expressed by equation (1-5). The three-dimensional microstructure 1 located in the pitch w is observed with the size β, which is the product of the pitch w and the magnification factor α, as the upper limit.
β = w × α = w (p / w−p) (5-3)

観察時における大きさβを2000[μm](2[mm])以上の大きさに設定することを考えると(5−3)式から
β=w(p/w−p)≧2000 ・・・(5−3)’
の関係が必要となる。(5−3)’式に(5−2)式を代入すると、
100w/(2000+w)≧A ・・・(5−3)’’
なる関係が得られ、3次元微細構造物1に対するピッチ差(w−p)の比率Aは、3次元微細構造物1のピッチwに依存することが分かる。
Considering that the size β at the time of observation is set to 2000 [μm] (2 [mm]) or more, from equation (5-3), β = w (p / w−p) ≧ 2000 (5-3) '
This relationship is required. Substituting equation (5-2) into equation (5-3) ',
100w / (2000 + w) ≧ A (5-3) ''
It can be seen that the ratio A of the pitch difference (w−p) with respect to the three-dimensional microstructure 1 depends on the pitch w of the three-dimensional microstructure 1.

図11は、(5−3)’’をグラフ化した図であって、w>pの場合(ケース1)における3次元微細構造物のピッチwと、ピッチwに対するピッチ差(w−p)の比率Aを示した図である。実線は(5−3)’’において、大きさβがちょうど2000[μm]となる値を示している。この実線よりも下方、図ではドットが付された領域内では大きさβは2000[μm]よりも大きい値となる。   FIG. 11 is a graph of (5-3) ″, and the pitch w of the three-dimensional microstructure in the case of w> p (case 1) and the pitch difference (w−p) with respect to the pitch w. FIG. A solid line indicates a value where the size β is exactly 2000 [μm] in (5-3) ″. Below the solid line, in the drawing, in the region with dots, the size β is greater than 2000 [μm].

3次元微細構造物1のピッチwの上限は300[μm]以下に設定することが好ましい。3次元微細構造物1のピッチwを300[μm]以上とすると、レンズ等の拡大手段を用いなくてもピッチw内に配置される3次元微細構造物1を目視で容易に観察可能となる。したがって、偽造や模造を防止する上では目視で観察できない大きさにピッチwを設けることが好ましい。さらに好ましくは、ピッチwの上限を100[μm]に設定することとする。目視での観察をより困難な状態とし、偽造、模造をさらに抑制することが可能となる。   The upper limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 is preferably set to 300 [μm] or less. When the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 is set to 300 [μm] or more, the three-dimensional microstructure 1 disposed in the pitch w can be easily observed visually without using a magnifying means such as a lens. . Therefore, it is preferable to provide the pitch w in a size that cannot be visually observed in order to prevent forgery or imitation. More preferably, the upper limit of the pitch w is set to 100 [μm]. Visual observation can be made more difficult, and counterfeiting and imitation can be further suppressed.

一方、マイクロレンズ2のピッチpは、3次元微細構造物1のピッチwと同様に300[μm]以下とすることが好ましく、100[μm]以下の大きさに設定することがさらに好ましい。観察される実像または虚像は1個のマイクロレンズ2を1画素として観察される。ピッチpが300[μm]以上になると画素が粗くなり解像度の低い観察像となってしまう。一方、ピッチpが100[μm]以下では画素が目視でほとんど見えなくなり解像度の高い像を提供することが可能となる。   On the other hand, the pitch p of the microlenses 2 is preferably 300 [μm] or less, and more preferably 100 [μm] or less, like the pitch w of the three-dimensional microstructure 1. The observed real image or virtual image is observed using one microlens 2 as one pixel. When the pitch p is 300 [μm] or more, the pixels become coarse and an observation image with low resolution is formed. On the other hand, when the pitch p is 100 [μm] or less, the pixels are almost invisible and a high-resolution image can be provided.

また3次元微細構造物1のピッチwの下限は10[μm]とすることが好ましい。これは、ピッチ差(w−p)の比率Aを理由とするものである。本実施形態ではモアレ効果を利用して像を拡大する関係上、3次元微細構造物1とマイクロレンズ2のピッチ差が重要である。しかしながら、ピッチ差の比率Aは0.5[%]以上の精度で合わせ込むことは困難である。したがって、3次元微細構造物1のピッチwの下限は、β=2000[μm]におけるピッチ差の比率A=0.5[%]としたときの値である10[μm]に設定することが好ましい。   The lower limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 is preferably 10 [μm]. This is because of the ratio A of the pitch difference (w−p). In the present embodiment, the pitch difference between the three-dimensional microstructure 1 and the microlens 2 is important in terms of enlarging an image using the moire effect. However, it is difficult to adjust the pitch difference ratio A with an accuracy of 0.5% or more. Therefore, the lower limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 can be set to 10 [μm], which is a value when the pitch difference ratio A = 0.5 [%] at β = 2000 [μm]. preferable.

次に、w<pの場合(ケース2)について3次元微細構造物1のピッチwの上限、下限について説明する。
3次元微細構造物1に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
3次元微細構造物1に対するマイクロレンズ2のピッチ差は、
p−w=w×A/100 ・・・(6−1)
で表すことができる。このピッチ差を用いてマイクロレンズ2のピッチpは、
p=w(1+A/100) ・・・(6−2)
と表すことができる。
Next, an upper limit and a lower limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 will be described in the case of w <p (case 2).
When the ratio of the pitch difference (w−p) with respect to the three-dimensional microstructure 1 is A [%],
The pitch difference of the microlens 2 with respect to the three-dimensional microstructure 1 is
p−w = w × A / 100 (6-1)
Can be expressed as Using this pitch difference, the pitch p of the microlens 2 is
p = w (1 + A / 100) (6-2)
It can be expressed as.

ケース2の場合、拡大率αは(2−5)式で表すことができる。ピッチw内に位置する3次元微細構造物1は、ピッチwと拡大率αの積となる大きさβを上限として観察されることとなる。
β=w×α=w(p/p−w) ・・・(6−3)
In case 2, the enlargement ratio α can be expressed by equation (2-5). The three-dimensional microstructure 1 located in the pitch w is observed with the size β, which is the product of the pitch w and the magnification factor α, as the upper limit.
β = w × α = w (p / p−w) (6-3)

観察時における大きさβを2000[μm](2[mm])以上の大きさに設定することを考えると(6−3)式から
β=w(p/p−w)≧2000 ・・・(6−3)’
の関係が必要となる。(6−3)’式に(6−2)式を代入すると、
100w/(2000−w)≧A ・・・(6−3)’’
なる関係が得られ、3次元微細構造物1に対するピッチ差(p−w)の比率Aは、ケース1の場合と同様、3次元微細構造物1のピッチwに依存することが分かる。
Considering that the size β at the time of observation is set to 2000 [μm] (2 [mm]) or more, from equation (6-3), β = w (p / p−w) ≧ 2000 (6-3) '
This relationship is required. Substituting (6-2) into (6-3) ',
100w / (2000-w) ≧ A (6-3) ''
It can be seen that the ratio A of the pitch difference (p−w) with respect to the three-dimensional microstructure 1 depends on the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 as in the case 1.

図12は、(6−3)’’をグラフ化した図であって、w<pの場合(ケース2)における3次元微細構造物のピッチwと、ピッチwに対するピッチ差(p−w)の比率Aを示した図である。実線は(6−3)’’において、大きさβがちょうど2000[μm]となる値を示している。この実線よりも下方、図ではドットが付された領域内では大きさβは2000[μm]よりも大きい値となる。   FIG. 12 is a graph of (6-3) ″, and the pitch w of the three-dimensional microstructure in the case of w <p (case 2) and the pitch difference (p−w) with respect to the pitch w. FIG. A solid line indicates a value where the size β is exactly 2000 [μm] in (6-3) ″. Below the solid line, in the drawing, in the region with dots, the size β is greater than 2000 [μm].

ケース1の場合と同様、3次元微細構造物1のピッチwの上限は、偽造や模造抑制の観点から300[μm]以下に設定することが好ましい。さらには100[μm]に設定することが好ましい。   As in the case 1, the upper limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 is preferably set to 300 [μm] or less from the viewpoint of counterfeiting and counterfeiting. Furthermore, it is preferable to set to 100 [μm].

また、ケース1の場合と同様、マイクロレンズ2のピッチpについては、300[μm]以下の大きさに設定することが好ましく、100[μm]以下の大きさに設定することがさらに好ましい。   Similarly to the case 1, the pitch p of the microlenses 2 is preferably set to a size of 300 [μm] or less, and more preferably set to a size of 100 [μm] or less.

また、ケース2の場合、3次元微細構造物1のピッチwの下限は10[μm]とすることが好ましい。これはケース1の場合と同様、ピッチ差の比率Aを0.5[%]以上に合わせ込むことが困難であることを理由としている。したがって、3次元微細構造物1のピッチwの下限は、β=2000[μm]におけるピッチ差の比率A=0.5[%]としたときの値である10[μm]に設定することが好ましい。   In the case 2, the lower limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 is preferably 10 [μm]. This is because, as in the case of Case 1, it is difficult to adjust the pitch difference ratio A to 0.5% or more. Therefore, the lower limit of the pitch w of the three-dimensional microstructure 1 can be set to 10 [μm], which is a value when the pitch difference ratio A = 0.5 [%] at β = 2000 [μm]. preferable.

では、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体の構成について説明する。本実施形態のセキュリティ媒体は、3次元微細構造物アレイの上にマイクロレンズアレイを重ねて観察するタイプ(タイプA)、あるいは、マイクロミラーレンズアレイの上に3次元微細構造物アレイを重ねて観察するタイプ(タイプB)に分けられる。   Now, the configuration of the security medium according to the embodiment of the present invention will be described. The security medium of the present embodiment is a type (type A) in which a microlens array is superposed on a three-dimensional fine structure array, or a three-dimensional fine structure array is superposed on a micromirror lens array. Type (type B).

(実施例1)
図13には、セキュリティ媒体(タイプA)を備えたセキュリティカード4と判定シート9の組からなる真贋判定具の断面図が示されている。この実施例1は、図1、図2で説明したセキュリティカード4と判定シート9の形態に相当したものであって、図13(a)は分離した状態であって図1の状態に相当し、図13(b)は、重畳した状態であって図2の状態に相当している。また各断面は、図2に示すA−A’間のZX平面での断面図)である。
Example 1
FIG. 13 shows a cross-sectional view of an authenticity determination tool composed of a security card 4 having a security medium (type A) and a determination sheet 9. The first embodiment corresponds to the form of the security card 4 and the determination sheet 9 described in FIGS. 1 and 2, and FIG. 13A is in a separated state and corresponds to the state in FIG. 1. FIG. 13B shows a superimposed state, which corresponds to the state of FIG. Each cross-section is a cross-sectional view along the ZX plane between AA ′ shown in FIG.

本実施形態のセキュリティ媒体は、3次元微細構造物シート10として構成され、紙幣や有価証券などのシート類あるいはクレジットカードなどのカード類にラベルとして貼着する形態となっている。以下に3次元微細構造物シート10の製造過程を説明する。   The security medium of the present embodiment is configured as a three-dimensional microstructure sheet 10 and is attached as a label to sheets such as banknotes and securities or cards such as credit cards. The manufacturing process of the three-dimensional microstructure sheet 10 will be described below.

工程1:Si基板の上にポジレジスト(東京応化工業社製PMER P−LA900PM)を20μmの膜厚で塗布し、フォトマスクを介して、ステッパ露光、現像処理、Alスパッタを施し、1つ90μmの大きさ(高さ5μm)の3次元微細構造物1を有する凹凸パターンを20mm×20mmのエリア内にX方向99μm、Y方向99μmピッチで配列したレジスト原版を作製する。   Step 1: A positive resist (PMER P-LA900PM manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied on a Si substrate with a film thickness of 20 μm, and is subjected to stepper exposure, development processing, and Al sputtering through a photomask, one 90 μm. A resist original plate is produced in which a concavo-convex pattern having a three-dimensional microstructure 1 having a size of 5 mm (height: 5 μm) is arranged in a 20 mm × 20 mm area at a pitch of 99 μm in the X direction and 99 μm in the Y direction.

工程2:工程1で作製したレジスト原版の上にUV硬化樹脂12を滴下し、PETなどを材料とする基材11を被せた後、365nmのUV(紫外線)を照射して硬化させ、レジスト原版から剥離することで表面に3次元微細構造物1が形成された複製版を作製する。なお、基材11、UV硬化樹脂12は、使用時において光を透過できるよう透明な材質が選定される。   Step 2: A UV curable resin 12 is dropped on the resist original plate produced in Step 1, and a base material 11 made of PET or the like is placed thereon, and then cured by irradiating 365 nm UV (ultraviolet rays) to obtain a resist original plate. A duplicate plate having a three-dimensional microstructure 1 formed on the surface is prepared by peeling from the surface. The base material 11 and the UV curable resin 12 are selected from transparent materials so that they can transmit light during use.

工程3:工程2の複製版の3次元微細構造物1の表面に反射層13を形成する。本実施形態では、Al(アルミニウム)を約30nmスパッタすることで3次元微細構造物1の表面に反射層13を形成している。反射層13は、このようにAlなどの金属層を設けることなどで完全反射型とする構成以外に、高屈折率層、薄い金属層、あるいは多層膜を設けることで半透過型とすることとしてもよい。   Step 3: The reflective layer 13 is formed on the surface of the three-dimensional microstructure 1 of the duplicated plate in Step 2. In the present embodiment, the reflective layer 13 is formed on the surface of the three-dimensional microstructure 1 by sputtering about 30 nm of Al (aluminum). The reflective layer 13 is made to be a semi-transmissive type by providing a high-refractive index layer, a thin metal layer, or a multilayer film in addition to a configuration that makes it a complete reflective type by providing a metal layer such as Al. Also good.

さらにこのような3次元微細構造物1の裏面、すなわち、観察側とは反対側に反射層13が設けられた構成によれば、マイクロレンズ2から入射する光は、レジスト原版でUV硬化樹脂12に賦形された3次元微細構造物1の表面で直接反射して、観察者に拡大像を提示する。観察者は、賦形時における3次元微細構造物1の形を観察することとなり、エッジなまり等を抑えた先鋭な形状を観察することが可能となる。   Further, according to the configuration in which the reflective layer 13 is provided on the back surface of the three-dimensional microstructure 1, that is, the side opposite to the observation side, the light incident from the microlens 2 is the UV curable resin 12 on the resist original plate. The image is directly reflected on the surface of the three-dimensional microstructure 1 shaped into the shape, and an enlarged image is presented to the observer. The observer observes the shape of the three-dimensional microstructure 1 at the time of shaping, and can observe a sharp shape with reduced edge rounding and the like.

工程4:抜き刃を用いて、工程3で反射層13が形成された複製版を15mm×15mmに打ち抜き、3次元微細構造物シート10が作製される。   Step 4: Using a punching blade, the duplicate plate on which the reflective layer 13 is formed in Step 3 is punched out to 15 mm × 15 mm, and the three-dimensional microstructure sheet 10 is produced.

本実施形態では、このように3次元微細構造物1の形成にあたり、UV硬化樹脂(光硬化性樹脂)を用いることとしたが、このほか、熱硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂を用いて形成することとしてもよい。   In the present embodiment, the UV curable resin (photo curable resin) is used for forming the three-dimensional microstructure 1 as described above, but in addition to this, it is formed using a thermosetting resin or a thermoplastic resin. It is good as well.

このような工程で作製された3次元微細構造物シート10は、ヒートシール61等を介してシート31などの被着体に貼着される。   The three-dimensional microstructure sheet 10 produced in such a process is attached to an adherend such as the sheet 31 via the heat seal 61 or the like.

一方、判定シート9には、プラスチックシートなど透明な基材の片面に、金型加工(熱プレスなど)により賦形されたマイクロレンズ2が形成される。真贋判定は図13(A)の矢印に示されるように3次元微細構造物シート10が貼着されたシート31に、マイクロレンズ2が形成された判定シート9を重ねることで行われる。図13(B)には、重ねた状態が示されている。なお、図は模式的に示したものであって、実際には3次元微細構造物シート10の厚さはごく薄く形成されるため、3次元微細構造物シート10が介在した状態であっても判定シート9とシート31は略接触した状態となる。   On the other hand, the determination lens 9 is formed with a microlens 2 shaped by mold processing (hot pressing or the like) on one side of a transparent substrate such as a plastic sheet. The authenticity determination is performed by overlapping the determination sheet 9 on which the microlenses 2 are formed on the sheet 31 on which the three-dimensional microstructure sheet 10 is adhered, as indicated by the arrow in FIG. FIG. 13B shows an overlapped state. In addition, the figure is shown schematically, and since the thickness of the three-dimensional microstructure sheet 10 is actually formed very thin, even if the three-dimensional microstructure sheet 10 is interposed, The determination sheet 9 and the sheet 31 are substantially in contact with each other.

なお、本実施形態では、判定シート9におけるマイクロレンズ2の形成には、UV硬化樹脂を用いた賦形方法を用いることとしてもよい。   In the present embodiment, the microlens 2 may be formed on the determination sheet 9 by using a shaping method using a UV curable resin.

この状態では、マイクロレンズ2の略焦点位置に3次元微細構造物1が位置することで拡大された3次元微細構造物1を観察することが可能とされる。重ねたときにマイクロレンズ2の略焦点位置に3次元微細構造物1を位置させるため、判定シート9の厚さ、並びに3次元微細構造物シート10の厚さは、マイクロレンズ2の焦点距離を考慮して設定さ
れたものとなる。
In this state, it is possible to observe the enlarged three-dimensional microstructure 1 by positioning the three-dimensional microstructure 1 at a substantially focal position of the microlens 2. Since the three-dimensional microstructure 1 is positioned substantially at the focal position of the microlens 2 when they are stacked, the thickness of the determination sheet 9 and the thickness of the three-dimensional microstructure sheet 10 are determined by the focal length of the microlens 2. It is set with consideration.

(実施例2)
図14には、セキュリティ媒体(タイプB)を備えたセキュリティカード4と判定シート9の組からなる真贋判定具の断面図が示されている。図の形態は実施例1と同様であるが、マイクロミラーレンズ3からの反射光にて3次元微細構造物1を拡大して観察する点において異なっている。図14(a)は、分離した状態の判定シート7と、マイクロミラーレンズシート20が貼付されたシート31が、図14(b)は、重ねた状態の判定シート20とシート31の構成が示されている。以下にマイクロミラーレンズシート20の製造過程を説明する。
(Example 2)
FIG. 14 shows a cross-sectional view of an authenticity determination tool comprising a set of a security card 4 provided with a security medium (type B) and a determination sheet 9. The form shown in the figure is the same as that of the first embodiment, but differs in that the three-dimensional microstructure 1 is enlarged and observed with the reflected light from the micromirror lens 3. FIG. 14A shows the structure of the determination sheet 7 in a separated state and the sheet 31 to which the micromirror lens sheet 20 is attached, and FIG. 14B shows the configuration of the determination sheet 20 and the sheet 31 in an overlapped state. Has been. Hereinafter, the manufacturing process of the micromirror lens sheet 20 will be described.

工程1:Si基板の上にポジレジスト(東京応化工業社製PMER P−LA900PM)を20μmの膜厚で塗布し、フォトマスクを介して、ステッパ露光、現像処理、Alスパッタを施し、20mm×20mmのエリア内に、X方向100μm、Y方向100μmピッチで多数配列したマイクロミラーレンズアレイの原版を作製する。   Step 1: A positive resist (PMER P-LA900PM manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied on a Si substrate with a film thickness of 20 μm, subjected to stepper exposure, development processing, and Al sputtering through a photomask, and is 20 mm × 20 mm. In this area, a master plate of a micromirror lens array arranged in a large number at a pitch of 100 μm in the X direction and 100 μm in the Y direction is manufactured.

工程2:工程1で作製したのマイクロミラーレンズアレイの原版の上にUV硬化樹脂22を滴下し、PETなどを材料とする基材21を被せた後、365nmのUV(紫外線)を照射して硬化させ、レジスト原版から剥離することで表面にマイクロミラーレンズ3の原型を有する複製版を作製する。   Step 2: A UV curable resin 22 is dropped on the original micromirror lens array produced in Step 1, and a substrate 21 made of PET or the like is placed thereon, and then irradiated with 365 nm UV (ultraviolet rays). By curing and peeling from the resist original plate, a replica plate having the original micromirror lens 3 on the surface is produced.

工程3:工程2の複製版のマイクロミラーレンズ3の表面に反射層23を形成する。本実施形態では、Al(アルミニウム)を約30nmスパッタすることで3次元微細構造物1の表面に反射層13を形成している。前述した実施例と同様、反射層13には、完全反射型、半透過型、どちらを採用することとしてもよい。   Step 3: A reflective layer 23 is formed on the surface of the micromirror lens 3 of the duplicate plate in Step 2. In the present embodiment, the reflective layer 13 is formed on the surface of the three-dimensional microstructure 1 by sputtering about 30 nm of Al (aluminum). As in the above-described embodiments, the reflection layer 13 may be either a complete reflection type or a transflective type.

工程4:抜き刃を用いて、工程3で反射層13が形成された複製版を15mm×15mmに打ち抜き、マイクロミラーレンズシート20が作製される。   Step 4: Using a punching blade, the duplicate plate on which the reflective layer 13 is formed in Step 3 is punched out to 15 mm × 15 mm, and the micromirror lens sheet 20 is produced.

このような工程で作製されたマイクロミラーレンズシート20は、ヒートシール61等を介してシート31などの被着体に貼着される。   The micromirror lens sheet 20 produced in such a process is attached to an adherend such as the sheet 31 through the heat seal 61 or the like.

一方、判定シート9には、3次元微細構造物1が賦形されているが、この形成はシートに滴下したUV硬化樹脂上に3次元微細構造物1の原版となる複製版を重ねた状態で、UV光を照射してUV硬化樹脂を硬化させ、複製版を剥離することで形成される。あるいは、シートを用いることなくUV硬化樹脂のみで形成することとしてもよい。3次元微細構造物1の形成方法には、金型を用いた熱プレスを採用することも可能である。   On the other hand, the determination sheet 9 is formed with the three-dimensional microstructure 1, and this formation is a state in which a duplicate plate serving as the original plate of the three-dimensional microstructure 1 is stacked on the UV curable resin dropped on the sheet. Then, UV light is irradiated to cure the UV curable resin, and the duplicate plate is peeled off. Or it is good also as forming only with UV hardening resin, without using a sheet | seat. As a method for forming the three-dimensional microstructure 1, it is also possible to employ a hot press using a mold.

このように作製されたマイクロミラーレンズシート20に判定シート9を重ねることで、マイクロミラーレンズ3からの反射光にて拡大された3次元微細構造物1を観察することができた。   By superimposing the determination sheet 9 on the micromirror lens sheet 20 thus manufactured, the three-dimensional microstructure 1 enlarged by the reflected light from the micromirror lens 3 could be observed.

以上、実施例1、実施例2では、3次元微細構造物シート10あるいはマイクロミラーレンズシート20で構成されるセキュリティ媒体、セキュリティ媒体とは別体の判定シート9を用いることで、いわば判定シート9を鍵としてセキュリティ媒体の真贋判定を行うことを可能としている。   As described above, in Example 1 and Example 2, by using the determination sheet 9 that is separate from the security medium and the security medium that are configured by the three-dimensional fine structure sheet 10 or the micromirror lens sheet 20, the determination sheet 9 It is possible to determine the authenticity of the security medium using as a key.

以降説明する実施例では1つの媒体上に3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7もしくはマイクロミラーレンズアレイが設けられ、3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7(もしくは3次元微細構造物アレイ6とマイクロミラーレンズアレ
イ)とを分離した状態、ならびに重畳した状態で観察可能としている。このような実施例では、分離した状態においても3次元微細構造物6とマイクロレンズアレイ7を観察することが可能となる。3次元微細構造物アレイ6、マイクロレンズアレイ7が分離された状態において、判定対象となる3次元微細構造物アレイ6(マイクロレンズアレイ7あるいはマイクロミラーレンズアレイ)を真の3次元微細構造物アレイ6と対比し、色調などを比較することで、真の3次元微細構造物アレイ6(マイクロレンズアレイ7あるいはマイクロミラーレンズアレイ)であるかを判定することが可能となる。このように重畳した状態に加えて分離した状態においても真贋判定を行うことが可能となるため、真贋判定の精度向上を図ることが可能とされる。
In the embodiments described below, a three-dimensional microstructure array 6 and a microlens array 7 or a micromirror lens array are provided on one medium, and the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 (or three-dimensional microstructure) are provided. The object array 6 and the micromirror lens array) are separated and superposed. In such an embodiment, the three-dimensional microstructure 6 and the microlens array 7 can be observed even in a separated state. In the state where the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 are separated, the three-dimensional microstructure array 6 (microlens array 7 or micromirror lens array) to be determined is a true three-dimensional microstructure array. 6 and comparing the color tone and the like, it is possible to determine whether the array is a true three-dimensional microstructure array 6 (microlens array 7 or micromirror lens array). Since the authenticity determination can be performed in the separated state in addition to the superimposed state in this way, the accuracy of the authenticity determination can be improved.

(実施例3)
図15は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプA)の形態を示す図である。本実施形態は紙幣など可撓性を有するシート32の一面に3次元微細構造物アレイ6が形成され、他面にマイクロレンズアレイ7が形成された構成となっている。図15(a)には紙幣15の上面図が示されている。本実施例では紙幣15の右側表面の一部領域(本発明でいう「第1の領域」)に3次元微細構造物アレイ6が、紙幣15の左側裏面の一部領域にマイクロレンズアレイ7(本発明でいう「第2の領域」)が形成された構成となっている。
(Example 3)
FIG. 15 is a diagram showing a form of a security medium (type A) according to the embodiment of the present invention. In the present embodiment, a three-dimensional microstructure array 6 is formed on one surface of a flexible sheet 32 such as a banknote, and a microlens array 7 is formed on the other surface. FIG. 15A shows a top view of the banknote 15. In the present embodiment, the three-dimensional microstructure array 6 is arranged in a partial area on the right surface of the banknote 15 (the “first area” in the present invention), and the microlens array 7 ( The “second region” in the present invention is formed.

拡大された像を観察することによる真贋判定は、図15(b)のようにシート32を曲げて、3次元微細構造物アレイ6上にマイクロレンズアレイ7を重ねることで実行される。重ねた状態で所定の像、すなわち拡大された3次元微細構造物1が観察されることで真の紙幣15であることが判定される。   The authenticity determination by observing the magnified image is executed by bending the sheet 32 and superimposing the microlens array 7 on the three-dimensional microstructure array 6 as shown in FIG. A true image 15 is determined by observing a predetermined image, that is, an enlarged three-dimensional fine structure 1 in an overlapped state.

図16には、図15で説明した実施例3について、その断面の様子が示されている。図16(a)は、図15(a)のようにシート32を曲げていない状態での断面、図16(b)は、シート32を曲げ3次元微細構造物シート10の上にシート32を重ねた状態での断面を示している。なお、3次元微細構造物シート10の製造方法、並びに、マイクロレンズ2の形成方法は、図13で説明した実施例1と同様の方法で行うことができる。   FIG. 16 shows a cross-sectional view of the third embodiment described in FIG. 16A is a cross-sectional view of the sheet 32 that is not bent as shown in FIG. 15A, and FIG. 16B is a view in which the sheet 32 is bent on the three-dimensional microstructure sheet 10. The cross section in the piled-up state is shown. In addition, the manufacturing method of the three-dimensional fine structure sheet | seat 10 and the formation method of the micro lens 2 can be performed by the method similar to Example 1 demonstrated in FIG.

図16(a)に示されるように、3次元微細構造物シート10はシート32の一面に貼着されるのに対し、マイクロレンズ2は他面に形成されている。図16(b)のように可撓性を有するシート32を曲げることで、マイクロレンズ2が形成されたシート32の部分を、3次元微細構造物シート10に重ね、マイクロレンズ2側から観察することで、3次元微細構造物1を拡大して観察することが可能となる。   As shown in FIG. 16A, the three-dimensional microstructure sheet 10 is adhered to one surface of the sheet 32, while the microlens 2 is formed on the other surface. By bending the flexible sheet 32 as shown in FIG. 16B, the portion of the sheet 32 on which the microlenses 2 are formed is superimposed on the three-dimensional microstructure sheet 10 and observed from the microlens 2 side. Thus, the three-dimensional microstructure 1 can be enlarged and observed.

この実施例3では、3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7が同じシート32に形成され、それらを重ねることで真贋判定を行うことが可能となるものであるが、3次元微細構造物アレイ6、マイクロレンズアレイ7の形成位置、並びに、形成される面を知らない者に対しては真贋判定を行うことができない。いわば、重ね方自体が鍵となる真贋判定が可能となる。図15の形態では、左右略対称に3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7を設け、シート32の中央付近で折り曲げることで真贋判定を行うこととしているが、3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7を設ける領域や位置などを変則的なものとしてもよい。   In the third embodiment, the three-dimensional fine structure array 6 and the microlens array 7 are formed on the same sheet 32, and it is possible to determine the authenticity by overlapping them. The authenticity cannot be determined for a person who does not know the formation position of the array 6 and the microlens array 7 and the surface to be formed. In other words, it is possible to determine the authenticity based on the method of overlapping itself. In the form of FIG. 15, the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 are provided substantially symmetrically, and the authenticity is determined by bending near the center of the sheet 32, but the three-dimensional microstructure array 6 The region and position where the microlens array 7 is provided may be irregular.

なお、本形態では3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7をシート32の異なる面に形成しているが、3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7をシート32の同じ面に形成することとしてもよい。その場合、シートの曲げ方を変更することで、本形態のような3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7の重畳関係を形成し、拡大された3次元微細構造物1の観察を行うことが可能となる。   In this embodiment, the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 are formed on different surfaces of the sheet 32. However, the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 are formed on the same surface of the sheet 32. It is good to do. In that case, by changing the way of bending the sheet, the overlapping relationship between the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 as in this embodiment is formed, and the enlarged three-dimensional microstructure 1 is observed. It becomes possible.

(実施例4)
実施例3では、紙幣など可撓性を有するシートに3次元微細構造物1を設けるため、3次元微細構造物シート10を貼着する構成としたが、図17のように3次元微細構造物1は、マイクロレンズ2と同様、シート32に一体化させる構成としてもよい。このような構成においても、シート32を曲げて3次元微細構造物1上にマイクロレンズ2を位置させて、拡大された3次元微細構造物1を観察することが可能となる。
Example 4
In Example 3, in order to provide the three-dimensional microstructure 1 on a flexible sheet such as a banknote, the three-dimensional microstructure sheet 10 is attached. However, as shown in FIG. Similarly to the microlens 2, 1 may be configured to be integrated with the sheet 32. Even in such a configuration, it is possible to observe the enlarged three-dimensional microstructure 1 by bending the sheet 32 and positioning the microlens 2 on the three-dimensional microstructure 1.

(実施例5)
実施例3あるいは実施例4の構成は、タイプB、すなわち、マイクロミラーレンズ3に3次元微細構造物1を重ねて観察する形態においても利用することが可能である。図18は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプB)の断面を示す図であって、図16と同様の断面が示されている。シート32上にはマイクロミラーレンズシート20がヒートシール61で貼着されているが、このマイクロミラーレンズシート20の製造方法、並びに、3次元微細構造物1の形成方法は、図14で説明した実施例2と同様の方法で行うことができる。
(Example 5)
The configuration of Example 3 or Example 4 can also be used in Type B, that is, in a mode in which the three-dimensional microstructure 1 is superposed on the micromirror lens 3 for observation. FIG. 18 is a view showing a cross section of the security medium (type B) according to the embodiment of the present invention, and shows the same cross section as FIG. The micromirror lens sheet 20 is stuck on the sheet 32 with a heat seal 61. The method for manufacturing the micromirror lens sheet 20 and the method for forming the three-dimensional microstructure 1 have been described with reference to FIG. The same method as in Example 2 can be used.

図18(a)に示されるように、マイクロミラーレンズシート20がシート32の一面の所定領域(本発明における「第2の領域」)に貼着され、3次元微細構造物1は他面の所定領域(本発明における「第1の領域」)に形成される。図18(b)のように可撓性を有するシート32を曲げることで、3次元微細構造物1が形成されたシート32の領域を、マイクロミラーレンズシート20が形成される領域に重ね、3次元微細構造物1側から観察することで、反射光により3次元微細構造物1を拡大して観察することが可能となる。   As shown in FIG. 18 (a), the micromirror lens sheet 20 is adhered to a predetermined region (“second region” in the present invention) on one surface of the sheet 32, and the three-dimensional microstructure 1 is formed on the other surface. It is formed in a predetermined region (“first region” in the present invention). By bending the flexible sheet 32 as shown in FIG. 18B, the region of the sheet 32 on which the three-dimensional microstructure 1 is formed overlaps the region on which the micromirror lens sheet 20 is formed. By observing from the dimensional fine structure 1 side, the three-dimensional fine structure 1 can be enlarged and observed by reflected light.

なお、この実施例5においても実施例4と同様、マイクロミラーレンズシート20をシート32に一体化させる構成としてもよい。また、3次元微細構造物アレイとマイクロミラーレンズアレイは、シート32の同じ面に設けることとしてもよい。   In the fifth embodiment, the micromirror lens sheet 20 may be integrated with the sheet 32 as in the fourth embodiment. The three-dimensional fine structure array and the micromirror lens array may be provided on the same surface of the sheet 32.

(実施例6)
図19は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプA)の形態を示す図である。本実施形態は冊子や本などにおいて隣接するシート(ページ)に3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7が設けられたセキュリティ媒体となっている。図に示す実施例は冊子16に適用した例であって隣り合うページとなる第1のシート33と第2のシート34が綴じて構成されている。第1のシート33には3次元微細構造物アレイ6が設けられ、第2のシート34にはマイクロレンズアレイ7が形成されている。冊子16を閉じた状態とすることで、3次元微細構造物アレイ6上にマイクロレンズアレイ7が重なった状態となり、3次元微細構造物1を拡大観察することが可能となる。
(Example 6)
FIG. 19 is a diagram showing a form of a security medium (type A) according to the embodiment of the present invention. This embodiment is a security medium in which a three-dimensional microstructure array 6 and a microlens array 7 are provided on adjacent sheets (pages) in a booklet, a book, or the like. The embodiment shown in the figure is an example applied to the booklet 16 and is formed by binding a first sheet 33 and a second sheet 34 which are adjacent pages. The first sheet 33 is provided with a three-dimensional microstructure array 6, and the second sheet 34 is provided with a microlens array 7. When the booklet 16 is closed, the microlens array 7 is overlapped on the three-dimensional fine structure array 6 and the three-dimensional fine structure 1 can be enlarged and observed.

本実施形態では、第1のシート33と第2のシート34が綴じられたことで、3次元微細構造物アレイ6とマイクロレンズアレイ7の重なり位置は限定されたものとなってしまうが、3次元微細構造物アレイ6、マイクロレンズアレイ7を個別に観察することも可能となるため、重なった状態で拡大像を観察する真贋判定の他、個別観察による真贋判定を行うことも可能となる。   In the present embodiment, since the first sheet 33 and the second sheet 34 are bound, the overlapping position of the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 is limited. Since the three-dimensional microstructure array 6 and the microlens array 7 can be individually observed, it is possible to perform authenticity determination by individual observation in addition to authenticity determination in which enlarged images are observed in an overlapping state.

図20には、図19で説明した実施例6について、その断面の様子が示されている。図20(a)は、表紙ページとなる第2のシート34を閉じかけた状態での断面が、図20(b)は、第2のシート34を閉じて、3次元微細構造物シート10の上にシート32を重ねた状態での断面を示している。なお、3次元微細構造物シート10の製造方法、並びに、マイクロレンズ2の形成方法は、図13で説明した実施例1と同様の方法で行うこと
ができる。
FIG. 20 shows a cross-sectional view of the sixth embodiment described in FIG. 20A is a cross-sectional view in a state where the second sheet 34 that is a cover page is closed, and FIG. 20B is a cross-sectional view of the three-dimensional microstructure sheet 10 when the second sheet 34 is closed. The cross section in the state which piled up sheet 32 is shown. In addition, the manufacturing method of the three-dimensional fine structure sheet | seat 10 and the formation method of the micro lens 2 can be performed by the method similar to Example 1 demonstrated in FIG.

図20(a)に示されるように、3次元微細構造物シート10は第1のシート33に貼着され、マイクロレンズ2は、第1のシートと隣合ったページとなる第2のシート34に形成される。図20(b)のように第1のシート33に第2のシート34を重ねる、すなわち、第1のシート33を閉じることで、マイクロレンズ2が形成された第2のシート34の部分を、3次元微細構造物シート10に重ね、マイクロレンズ2側から観察することで、3次元微細構造物1を拡大して観察することが可能となる。   As shown in FIG. 20A, the three-dimensional microstructure sheet 10 is attached to the first sheet 33, and the microlens 2 is a second sheet 34 that is a page adjacent to the first sheet. Formed. As shown in FIG. 20B, the second sheet 34 is overlaid on the first sheet 33, that is, by closing the first sheet 33, the portion of the second sheet 34 on which the microlenses 2 are formed is By superimposing on the three-dimensional fine structure sheet 10 and observing from the microlens 2 side, the three-dimensional fine structure 1 can be enlarged and observed.

(実施例7)
実施例6の構成は、タイプB、すなわち、マイクロミラーレンズ3に3次元微細構造物1を重ねて観察する形態においても利用することが可能である。図21は、本発明の実施形態に係るセキュリティ媒体(タイプB)の断面を示す図であって、図20と同様の断面が示されている。第1のシート33上にはマイクロミラーレンズシート20がヒートシール61で貼着されているが、このマイクロミラーレンズシート20の製造方法、並びに、3次元微細構造物1の形成方法は、図14で説明した実施例2と同様の方法で行うことができる。
(Example 7)
The configuration of Example 6 can also be used in Type B, that is, in the form in which the three-dimensional microstructure 1 is superimposed on the micromirror lens 3 and observed. FIG. 21 is a view showing a cross section of the security medium (type B) according to the embodiment of the present invention, and shows the same cross section as FIG. The micromirror lens sheet 20 is stuck on the first sheet 33 with a heat seal 61. The manufacturing method of the micromirror lens sheet 20 and the method of forming the three-dimensional microstructure 1 are shown in FIG. The method can be performed in the same manner as in Example 2 described above.

図21(a)に示されるように、マイクロミラーレンズシート20が第1のシート33上に貼着されるのに対し、3次元微細構造物1は第1のシートと隣合ったページとなる第2のシート34に形成される。図21(b)のように第1のシート33に第2のシート34を重ねる、すなわち、第1のシート33を閉じることで、3次元微細構造物1が形成された第2のシート34の部分を、マイクロミラーレンズシート20に重ね、3次元微細構造物1側から観察することで、反射光により3次元微細構造物1を拡大して観察することが可能となる。   As shown in FIG. 21 (a), the micro mirror lens sheet 20 is stuck on the first sheet 33, whereas the three-dimensional microstructure 1 is a page adjacent to the first sheet. It is formed on the second sheet 34. As shown in FIG. 21B, the second sheet 34 is overlapped on the first sheet 33, that is, the first sheet 33 is closed to close the second sheet 34 on which the three-dimensional microstructure 1 is formed. By superimposing the portion on the micromirror lens sheet 20 and observing from the three-dimensional microstructure 1 side, the three-dimensional microstructure 1 can be enlarged and observed by reflected light.

なお、本発明はこれらの実施形態のみに限られるものではなく、それぞれの実施形態の構成を適宜組み合わせて構成した実施形態も本発明の範疇となるものである。   Note that the present invention is not limited to these embodiments, and embodiments configured by appropriately combining the configurations of the respective embodiments also fall within the scope of the present invention.

1…3次元微細構造物
2…マイクロレンズ
3…マイクロミラーレンズ
4…セキュリティカード
5…セキュリティ媒体
6…3次元微細構造物アレイ
7…マイクロレンズアレイ
8…マイクロミラーレンズアレイ
9…判定シート
10…3次元微細構造物シート
11…基材
12…UV硬化樹脂
13…反射層
15…紙幣
16…冊子
20…マイクロミラーレンズシート
21…基材
22…UV硬化樹脂
23…反射層
31、32…シート
33…第1のシート
34…第2のシート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Three-dimensional fine structure 2 ... Micro lens 3 ... Micro mirror lens 4 ... Security card 5 ... Security medium 6 ... Three-dimensional fine structure array 7 ... Micro lens array 8 ... Micro mirror lens array 9 ... Determination sheet 10 ... 3 Dimensional fine structure sheet 11 ... base material 12 ... UV curable resin 13 ... reflective layer 15 ... bill 16 ... booklet 20 ... micromirror lens sheet 21 ... base material 22 ... UV curable resin 23 ... reflective layer 31, 32 ... sheet 33 ... 1st sheet 34 ... 2nd sheet

Claims (7)

複数の3次元微細構造物が第1のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有し、
複数のマイクロレンズが前記第1のピッチ(w)とは異なる第2のピッチ(p)で配列されたマイクロレンズアレイを有する判定シートを前記3次元微細構造物アレイに重ねることで、前記マイクロレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させ、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
セキュリティ媒体。
A three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a first pitch (w) ;
A microlens array having a microlens array in which a plurality of microlenses are arranged at a second pitch (p) different from the first pitch (w) is overlaid on the three-dimensional microstructure array, whereby the microlens is located the three-dimensional microstructures at the focal point of, possible the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
A security medium characterized by setting w to satisfy
第1の領域に3次元微細構造物アレイが形成され、第2の領域にマイクロレンズアレイが形成された可撓性を有するシートを備え、
前記3次元微細構造物アレイは、複数の3次元微細構造物が第1のピッチ(w)で配列され、
前記マイクロレンズアレイは、複数のマイクロレンズが前記第1のピッチ(w)とは異なる第2のピッチ(p)で配列され、
前記シートを曲げ、前記マイクロレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
セキュリティ媒体。
A flexible sheet having a three-dimensional microstructure array formed in a first region and a microlens array formed in a second region;
The three-dimensional microstructure array includes a plurality of three-dimensional microstructures arranged at a first pitch (w) ,
In the microlens array, a plurality of microlenses are arranged at a second pitch (p) different from the first pitch (w) ,
Bending said sheet, said be to position the 3-dimensional microstructures in the focal position of the microlens, can the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
A security medium characterized by setting w to satisfy
複数の3次元微細構造物が第1のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有する第1のシートと、
複数のマイクロレンズが前記第1のピッチ(w)とは異なる第2のピッチ(p)で配列されたマイクロレンズアレイを有する第2のシートと、
前記第1のシートと前記第2のシートは開閉可能に綴じられると共に、閉じた状態において、前記マイクロレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物が位置するように前記第1のシートに前記第2のシートが重なることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
セキュリティ媒体。
A first sheet having a three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a first pitch (w) ;
A second sheet having a microlens array in which a plurality of microlenses are arranged at a second pitch (p) different from the first pitch (w) ;
The first sheet and the second sheet are bound so as to be openable and closable, and in the closed state, the first sheet and the second sheet are placed on the first sheet so that the three-dimensional microstructure is located at a focal position of the microlens. by the second sheet overlap, Ri the three-dimensional microstructures that are expanded Do observable,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
A security medium characterized by setting w to satisfy
複数のマイクロミラーレンズが第1のピッチ(p)で配列されたマイクロミラーレンズアレイを有し、
複数の3次元微細構造物が前記第1のピッチ(p)とは異なる第2のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有する判定シートを前記マイクロミラーレンズアレイに重ねることで、前記マイクロミラーレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させ、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
セキュリティ媒体。
A plurality of micromirror lenses having a micromirror lens array arranged at a first pitch (p) ;
A determination sheet having a three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a second pitch (w) different from the first pitch (p) is superimposed on the micromirror lens array. the is located the three-dimensional microstructures at the focal point of the micro-mirror lens, it allows the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
A security medium characterized by setting w to satisfy
第1の領域に3次元微細構造物アレイが形成され、第2の領域にマイクロミラーレンズアレイが形成された可撓性を有するシートを備え、
前記マイクロミラーレンズアレイは、複数のマイクロミラーレンズが第1のピッチ(p)で配列され、
前記3次元微細構造物アレイは、複数の3次元微細構造物が前記第1のピッチ(p)とは異なる第2のピッチ(w)で配列され、
前記シートを曲げ、前記マイクロミラーレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物を位置させることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
セキュリティ媒体。
A flexible sheet having a three-dimensional microstructure array formed in a first region and a micromirror lens array formed in a second region;
The micromirror lens array includes a plurality of micromirror lenses arranged at a first pitch (p) ,
In the three-dimensional microstructure array, a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a second pitch (w) different from the first pitch (p) ,
Bending said sheet, said be to position the 3-dimensional microstructures in the focal position of the micro-mirror lens, allows the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
A security medium characterized by setting w to satisfy
複数のマイクロミラーレンズが第1のピッチ(p)で配列されたマイクロミラーレンズアレイを有する第1のシートと、
複数の3次元微細構造物が前記第1のピッチ(p)とは異なる第2のピッチ(w)で配列された3次元微細構造物アレイを有する第2のシートと、
前記第1のシートと前記第2のシートは開閉可能に綴じられると共に、閉じた状態において、前記マイクロミラーレンズの焦点位置に前記3次元微細構造物が位置するように、前記第1のシートに前記第2のシートが重なることで、拡大された前記3次元微細構造物が観察可能となり、
前記3次元微細構造物に対するピッチ差(w−p)の比率をA[%]とすると、
w>pの場合には、
100w/(2000+w)≧A>0
を満たすように、wを設定し、
w<pの場合には、
100w/(2000−w)≧A>0
を満たすように、wを設定することを特徴とする
セキュリティ媒体。
A first sheet having a micromirror lens array in which a plurality of micromirror lenses are arranged at a first pitch (p) ;
A second sheet having a three-dimensional microstructure array in which a plurality of three-dimensional microstructures are arranged at a second pitch (w) different from the first pitch (p) ;
The first sheet and the second sheet are bound so as to be openable and closable, and in the closed state, the first sheet and the second sheet are placed on the first sheet so that the three-dimensional microstructure is located at the focal position of the micromirror lens. It said second sheet that overlaps, allows the three-dimensional microstructures that are expanded observed to Do Ri,
When the ratio of the pitch difference (w−p) to the three-dimensional microstructure is A [%],
If w> p,
100 w / (2000 + w) ≧ A> 0
Set w to satisfy
If w <p,
100w / (2000-w) ≧ A> 0
A security medium characterized by setting w to satisfy
請求項1から請求項6の何れか1項に記載のセキュリティ媒体を用いて真贋判定を行うことを特徴とする
真贋判定方法。
An authenticity determination method comprising: performing authenticity determination using the security medium according to any one of claims 1 to 6.
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