JP5811721B2 - 設計支援装置、設計支援方法および設計支援プログラム - Google Patents
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Description
決定部は、間隙を計測する対象物の断面に現れる所定の形状に対する相対位置によって端点が定義された、指標となる線分を用い、対象物の形状データに基づいて生成した断面図に現れる線分のうち、指標となる線分との間で所定の条件を満たす線分を、間隙の計測箇所の始点を包含する第1の線分に決定する。
<第1の実施の形態>
図1は、第1の実施の形態の設計支援装置を示す図である。
部位検出部1aは、設計者が選択した部位検出パターン4を用いて断面図3内の所定の形状を備える部位を検出する。部位検出パターン4は、格納部7に1つまたは複数記憶されており、例えば設計者が複数の部位検出パターン4から検出を希望する部位に応じて1つの部位検出パターン4を選択することができる。
なお、部位検出部1a、決定部1b、および特定部1cは、設計支援装置1が有するCPU(Central Processing Unit)が備える機能により実現することができる。格納部7、8は、RAM(Random Access Memory)やハードディスクドライブ(HDD:Hard Disk Drive)等が備えるデータ記憶領域により実現することができる。
<第2の実施の形態>
図2は、第2の実施の形態の設計支援装置のハードウェア構成を示す図である。
RAM102は、設計支援装置10の主記憶装置として使用される。RAM102には、CPU101に実行させるOS(Operating System)のプログラムやアプリケーションプログラムの少なくとも一部が一時的に格納される。また、RAM102には、CPU101による処理に使用する各種データが格納される。
図2に示すようなハードウェア構成の設計支援装置10内には、以下のような機能が設けられる。
設計支援装置10は、入力受付部11と、断面図作成部12と、特徴部位検出部13と、クリアランス計測部14と、出力部15とを有している。特徴部位検出部13は、部位検出部の一例である。クリアランス計測部14と出力部15は、決定部と特定部の一例である。
断面図作成部12は、入力受付部11が受け付けた3Dモデルから製品の断面図を作成する。具体的には、断面図作成部12は、3Dモデルに基づいて、3D座標系において、X、Y、Zそれぞれの方向に等間隔に3Dモデルを輪切りにした断面図を作成する。作成した断面図は、複数の線分で構成されている。
図4に示す断面図31は、断面図作成部12が、3DモデルのZ軸方向に向かって複数の断面図を作成したうちの1図を示している。この図4には、断面図31上で検出された特徴パターン22aに一致する部位22bを示している。XY座標系を採用する断面図31の部位22bの原点の座標(X,Y)は、xy座標系を採用する特徴パターン22aの原点の座標(0,0)に対応している。
計測箇所特定パターン23aは、クリアランスを計測する箇所を特定する指標となる線分L1と測定方向を特定する単位ベクトルV1を有する。図5では、単位ベクトルV1の方向は、線分L1に垂直方向である。計測箇所特定パターン23aの座標系は、xy座標系を採用し、特徴パターン22aの座標系に対応している。例えば、計測箇所特定パターン23aの原点の座標(0,0)は、特徴パターン22aの原点の座標(0,0)に対応している。本実施の形態では、計測箇所特定パターン23aの線分L1の両端部の座標を、それぞれ(x1,y1)、(x2,y2)とする。なお、本実施の形態では、設計者が特徴パターン22aと計測箇所特定パターン23aを1対1に関連づけて計測箇所特定パターン格納部23に登録している。すなわち、本実施の形態の計測箇所特定パターン23aは、特徴パターン22aが検出した部位のクリアランスを計測する箇所を特定することに特化したパターンである。このように特徴パターン22aと計測箇所特定パターン23aを1対1に関連づけておき、入力受付部11に入力を受け付けさせることにより、設計者が希望する計測箇所を特定できる精度を高めることができる。しかし、これに限らず、特徴パターン22aと計測箇所特定パターン23aが1対1に対応していなくてもよい。入力受付部11が受け付ける特徴パターン22aと計測箇所特定パターン23aの個数も任意に決定することができる。
次に、設計支援装置10の処理を説明する。
図6は、設計支援装置の処理を示すフローチャートである。
[ステップS3] 断面図作成部12は、未処理の(ステップS4〜S9の処理を行っていない)断面図が存在するか否かを判断する。断面図作成部12は、未処理の断面図が存在すると判断した場合(ステップS3のYes)、未処理の断面図を1つ選択し、特徴部位検出部13に送る。その後、ステップS4に遷移する。未処理の断面図が存在しないと判断した場合(ステップS3のNo)、図6の処理を終了する。
以上で、図6の処理の説明を終了する。
図7は、第1の断面図作成処理を示すフローチャートである。
[ステップS11] 断面図作成部12は、最大外形位置(Z軸方向の始点)に基準面を作成する。その後、ステップS12に遷移する。
[ステップS13] 断面図作成部12は、Z軸方向に走査する。その後、ステップS14に遷移する。
以上で第1の断面図作成処理の説明を終了する。この第1の断面図作成処理によれば、同じ断面図の作成を回避し、断面図の作成数を絞り込むことができる。
図8は、第1の断面図作成処理の具体例を説明する図である。
図8(a)、(b)の左側の図は、Z軸方向を奥行き方向に設定したときの3Dモデル40の正面図を示し、右側の図は、3Dモデル40の側面図を示している。3Dモデル40は、部品41、42、43を備えている。部品41、42,43は、それぞれポリゴン(三角形)の集合で構成されている。
次に、図8(c)に示すように、断面図作成部12は、基準面44の位置での3Dモデル40の断面図41aを作成する。
図9は、新たな面が発生する部分の抽出を説明する図である。
断面図作成部12は、基準面44と同じ方向を向いている各ポリゴンの重心を求める。図9(a)は、求めた重心を示している。ここで、重心g1は、部品41の重心であり、重心g2は、部品42の重心であり、重心g3は、部品43の重心である。
図10は、第2の断面図作成処理を示すフローチャートである。
[ステップS21] 断面図作成部12は、3Dモデルの重心位置を通過し、YZ平面に平行な基準面を作成する。その後、ステップS22に遷移する。
[ステップS23] 断面図作成部12は、作成した断面図上で基準面を回転する。その後、ステップS24に遷移する。
図11および図12は、第2の断面図作成処理の具体例を説明する図である。
図11(a)、(b)の左側の図は、3Dモデル50の上面図を示し、右側の図は、3Dモデル50の側面図を示している。3Dモデル50は、押し出しフィーチャ(Extrude Features)51と、フィーチャ52a〜52dを備えている。フィーチャは、穴、リブ、ボス、フィレット等、CADで形状を作成するときの特徴を持つ形状要素の最小の単位である。
次に、断面図作成部12は、図12(a)に示すように、基準面53のA−A線での断面図51aを作成する。
図13は、回転角度の決定方法を説明する図である。
図13に示す、3Dモデル50は、押し出しフィーチャ54と、フィーチャ52e〜52hを備えている。断面図作成部12は、フィーチャ52e〜52hの重心g5e〜g5hを求める。フィーチャ52e〜52hは3D形状であり、重心g5e〜g5hは、計算により一般的に求まる。
図14は、計測箇所特定処理を示すフローチャートである。
[ステップS31] クリアランス計測部14は、断面図と特徴パターンが一致した座標から断面図での指標となる線分の中心位置を算出する。その後、ステップS32に遷移する。
[ステップS33] クリアランス計測部14は、距離の近い線分を取得する。その後、ステップS34に遷移する。
次に、計測箇所特定処理の具体例を説明する。
クリアランス計測部14は、断面図31とマッチした特徴パターン22aの原点(0,0)のXY座標系での座標(X,Y)から断面図31上での指標となる線分L1の中心座標C0を算出する。具体的には、xy座標系における線分L1の左端部の座標を(x1,y1)、右端部の座標を(x2,y2)とすると、XY座標系における線分L1の左端部の座標は(X+x1,Y+y1)、右端部の座標は(X+x2,Y+y2)となる。従って、中心座標C0は、(X+(x1+x2)/2,Y+(y1+y2)/2)で表すことができる。
次に、クリアランス計測部14は、中心座標C0と断面図31を構成する線分の各中心座標C1との距離を比較する。そして、クリアランス計測部14は、中心座標C0との距離が短い順に、中心座標C1を備える線分を10件抽出する。具体的には、図16(b)に示すように、中心座標C0を中心として同心円状に検索範囲E1を広げていく。そして、検索範囲E1に入った順に10個の中心座標C1を抽出する。なお、10件という件数は一例である。
次に、クリアランス計測部14は、図18(b)に示すように、抽出した線分L6、L7、L8、L9のクリアランス計測範囲A1内での各頂点C2〜C9の座標を求める。
図20は、出力部が出力した計測結果の一例を示す図である。
モニタ104aに表示された画面200は、結果表示部201と操作部202とを有している。
<計測箇所特定処理の他の具体例>
図21は、計測箇所特定処理の他の具体例を説明する図である。
図22に示す断面図71には、部品72と部品73とが示されている。この図22には、断面図71上で検出された特徴パターン22aに一致する部位22cを示している。この部位22cに対し、図22に示す線分L13と単位ベクトルV4を備える計測箇所特定パターン23aを適用することにより、クリアランス計測部14は、部品72と部品73のインロー(印籠)部分のクリアランスL14を計測箇所に特定する。
次に、第3の実施の形態の設計支援装置について説明する。
以下、第3の実施の形態の設計支援装置について、前述した第2の実施の形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
図23は、第3の実施の形態の計測箇所特定処理を示すフローチャートである。
[ステップS41] クリアランス計測部14は、第1の計測箇所の特定を開始する。その後、ステップS42に遷移する。
[ステップS44] クリアランス計測部14は、第2の計測箇所が特定できたか否かを判断する。第2の計測箇所が特定できた場合(ステップS44のYes)、ステップS45に遷移する。第2の計測箇所が特定できなかった場合(ステップS44のNo)、図23の処理を終了する。
次に、第3の実施の形態の計測箇所特定処理の具体例を説明する。
図24は、3Dモデル80の断面図81および第3の実施の形態の特徴パターン22aを示している。3Dモデル80は、2つの板82、83をネジ84とナット85で共締めしたモデルである。ネジ84のおおよその位置は、特徴部位検出部13が特徴パターン22aを参照することにより検出する。
クリアランス計測部14は、計測箇所特定パターン23bを用いて3Dモデル80の断面図81からクリアランスの計測箇所となる線分L16を特定する。特定方法は、第2の実施の形態と同様である。すなわち、図14のステップS31〜S34の処理を行う。
クリアランス計測部14は、計測箇所特定パターン23cを用いて3Dモデル80の断面図81からクリアランスの計測箇所となる線分L18を特定する。特定方法は、第2の実施の形態と同様である。すなわち、図14のステップS31〜S34の処理を行う。
次に、クリアランス計測部14は、図29(a)に示すように、中心点Zaの位置に単位ベクトルV5と同じ方向の計測方向指示ベクトルV7を配置する。
図30は、特定した計測箇所を示す図である。クリアランス計測部14は、特定した箇所のクリアランスL20を計測する。
なお、設計支援装置10が行った処理が、複数の装置によって分散処理されるようにしてもよい。例えば、1つの装置が、特徴部位検出部13の処理を行って特徴部位を検出しておき、他の装置が、特徴部位を用いて計測箇所を特定するようにしてもよい。
なお、上記の処理機能は、コンピュータによって実現することができる。その場合、設計支援装置1、10が有する機能の処理内容を記述したプログラムが提供される。そのプログラムをコンピュータで実行することにより、上記処理機能がコンピュータ上で実現される。処理内容を記述したプログラムは、コンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録しておくことができる。コンピュータで読み取り可能な記録媒体としては、磁気記憶装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリ等が挙げられる。磁気記憶装置には、ハードディスクドライブ、フレキシブルディスク(FD)、磁気テープ等が挙げられる。光ディスクには、DVD、DVD−RAM、CD−ROM/RW等が挙げられる。光磁気記録媒体には、MO(Magneto-Optical disk)等が挙げられる。
1a 部位検出部
1b 決定部
1c 特定部
2 設計対象物
3、31、61、71、81 断面図
4 部位検出パターン
5、23a 計測箇所特定パターン
6a 線分(第1の線分)
6b、6c 線分
7、8 格納部
9 間隙
11 入力受付部
12 断面図作成部
13 特徴部位検出部
14 クリアランス計測部
15 出力部
21 3Dモデル格納部
22 特徴パターン格納部
22a 特徴パターン
23 計測箇所特定パターン格納部
Claims (7)
- 間隙を計測する対象物の断面に現れる所定の形状に対する相対位置によって端点が定義された、指標となる線分を用い、前記対象物の形状データに基づいて生成した断面図に現れる線分のうち、前記指標となる線分との距離が短い順に所定数の線分を抽出し、抽出した線分のうち前記指標となる線分と傾きの差が最も小さい線分を、間隙の計測箇所の始点を包含する第1の線分に決定する決定部と、
間隙を計測する方向を特定するベクトルを用い、前記決定部が決定した前記第1の線分と、前記第1の線分の前記ベクトルの方向に存在する第2の線分との間隙を計測箇所に特定する特定部と、
を有することを特徴とする設計支援装置。 - 間隙を計測する対象物の断面に現れる所定の形状に対する相対位置によって端点が定義された、指標となる線分を用い、前記対象物の形状データに基づいて生成した断面図に現れる線分のうち、前記指標となる線分との間で所定の条件を満たす線分を、間隙の計測箇所の始点を包含する第1の線分に決定する決定部と、
間隙を計測する方向を特定するベクトルを用い、前記決定部が決定した前記第1の線分の前記ベクトルの方向に存在する線分のうち、線分の頂点から前記第1の線分に下ろした垂線が最も短い線分を第2の線分に決定し、前記第1の線分と前記第2の線分との間隙を計測箇所に特定する特定部と、
を有することを特徴とする設計支援装置。 - 間隙を計測する対象物の断面に現れる所定の形状に対する相対位置によって端点が定義された、第1の指標となる線分を用い、前記対象物の形状データに基づいて生成した断面図に現れる線分のうち、前記第1の指標となる線分との間で所定の条件を満たす線分を、間隙の計測箇所の始点を包含する第1の線分に決定する決定部と、
第2の指標となる線分を用い、前記第2の指標となる線分との間で所定の条件を満たす線分を、間隙の計測範囲の始点となる第3の線分に決定し、決定した前記第3の線分と間隙を計測する範囲を特定する第1のベクトルとを用いて前記計測範囲を決定する範囲決定部と、
間隙を計測する方向を特定する第2のベクトルを用い、前記決定部が決定した前記第1の線分の前記第2のベクトルの方向に存在する線分のうち、前記計測範囲内の線分を第2の線分に決定し、前記第1の線分と前記第2の線分との間隙を計測箇所に特定する特定部と、
を有することを特徴とする設計支援装置。 - 前記対象物の3Dモデルから作成した断面それぞれに所定の形状を備える部位を検出する部位検出部をさらに有し、
前記決定部は、前記部位検出部が検出した前記部位から前記第1の線分を決定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の設計支援装置。 - 前記特定部が特定した間隙を計測する計測部をさらに有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の設計支援装置。
- コンピュータが、
間隙を計測する対象物の断面に現れる所定の形状に対する相対位置によって端点が定義された、指標となる線分を用い、前記対象物の形状データに基づいて生成した断面図に現れる線分のうち、前記指標となる線分との距離が短い順に所定数の線分を抽出し、抽出した線分のうち前記指標となる線分と傾きの差が最も小さい線分を、間隙の計測箇所の始点を包含する第1の線分に決定し、
間隙を計測する方向を特定するベクトルを用いて、決定した前記第1の線分の前記ベクトルの方向に存在する第2の線分との間隙を計測箇所に特定する、
ことを特徴とする設計支援方法。 - コンピュータに、
間隙を計測する対象物の断面に現れる所定の形状に対する相対位置によって端点が定義された、指標となる線分を用い、前記対象物の形状データに基づいて生成した断面図に現れる線分のうち、前記指標となる線分との距離が短い順に所定数の線分を抽出し、抽出した線分のうち前記指標となる線分と傾きの差が最も小さい線分を、間隙の計測箇所の始点を包含する第1の線分に決定し、
間隙を計測する方向を特定するベクトルを用いて、決定した前記第1の線分の前記ベクトルの方向に存在する第2の線分との間隙を計測箇所に特定する、
処理を実行させることを特徴とする設計支援プログラム。
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