JP5800754B2 - Lift polishing machine - Google Patents
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Description
この発明は、複数の遊技機が配列された遊技機島に用いられる揚送研磨装置に関する。 The present invention relates to a lifting and polishing apparatus used on a gaming machine island in which a plurality of gaming machines are arranged.
パチンコ球及びメダルなどの遊技媒体は、遊技機島の上部樋を通って各遊技機の上部タンクに供給され、各遊技機の遊技盤に打ち出され、アウト口から下部タンクに貯留され、下部タンクから下部樋を通って、再び使用に供されるように回収される。遊技媒体は、遊技機に使用されるに応じて、塵埃、サビ、脂などの汚れを含む成分が付着する。なお、この成分を「汚れ成分」、「汚れ」、または「成分」という場合がある。 Gaming media such as pachinko balls and medals are supplied to the upper tank of each gaming machine through the upper cage of the gaming machine island, driven into the gaming board of each gaming machine, stored in the lower tank from the outlet, and stored in the lower tank. It is collected for use again through the lower tub. As game media is used in gaming machines, components containing dirt such as dust, rust, and fat adhere to the game media. This component may be referred to as “dirt component”, “dirt”, or “component”.
遊技媒体に付着した汚れにより、遊技媒体が通る所、すなわち、上部樋、上部タンク、遊技盤、下部タンク、下部樋等が汚れ、遊技に支障を来すおそれがあるため、遊技媒体を研磨することにより、遊技媒体から汚れを除去する必要がある。 The place where the game medium passes due to dirt adhering to the game medium, that is, the upper bowl, the upper tank, the game board, the lower tank, the lower bowl, etc., may become dirty and hinder the game. Therefore, it is necessary to remove dirt from the game medium.
遊技媒体を研磨する方法の一つとして、筒体の内部で螺旋体を回転させることにより、筒体内の遊技媒体と研磨材とを混ぜ合わせた状態で上方に移送(揚送)する方法がある(例えば、特許文献1)。 One method of polishing the game medium is a method in which the game medium in the cylinder and the abrasive are transferred (lifted) in a mixed state by rotating the spiral inside the cylinder (see FIG. For example, Patent Document 1).
研磨材の一例としては、ペレット状に形成された樹脂製の研磨材があり、その表面には多数の細かな凹部が設けられている。 As an example of the abrasive, there is a resin-made abrasive formed in a pellet shape, and a large number of fine recesses are provided on the surface thereof.
筒体内の遊技媒体と研磨材とを混ぜ合わせた状態で揚送するとき、遊技媒体と研磨材とが互いに接触する。このとき、研磨材の凹部が遊技媒体から汚れをこすり取るようになる。その結果、遊技媒体から汚れが除去され、遊技媒体が研磨される。 When the game medium in the cylinder and the abrasive are transported in a mixed state, the game medium and the abrasive come into contact with each other. At this time, the concave portions of the abrasive material rub off dirt from the game medium. As a result, the dirt is removed from the game medium, and the game medium is polished.
しかしながら、同文献に記載された揚送研磨装置では、研磨を重ねることで、遊技媒体から研磨材に移った汚れにより、研磨材の洗浄力が低下していくため、定期的に、研磨材を洗浄する必要があった。 However, in the lift polishing apparatus described in the same document, the polishing power decreases due to the dirt transferred from the game medium to the abrasive by repeated polishing. There was a need to wash.
研磨材を洗浄する方法の一例として、揚送研磨装置から研磨材を取り出して専用の洗濯機で研磨材を洗浄し、洗浄された研磨材を揚送研磨装置に戻す一連の方法がある。また、他の例として、揚送研磨装置に設置された研磨材洗浄機により、研磨材に付着している汚れを研磨材ごと削り落として、削られた研磨材を集塵機を用いて回収し、新たな研磨材と交換する一連の方法がある。 As an example of the method for cleaning the abrasive, there is a series of methods in which the abrasive is taken out from the lift polishing apparatus, the abrasive is cleaned with a dedicated washing machine, and the cleaned abrasive is returned to the lift polishing apparatus. Further, as another example, the abrasive cleaning machine installed in the lift polishing apparatus scrapes off the dirt adhering to the abrasive together with the abrasive and collects the scraped abrasive using a dust collector, There are a series of ways to replace with new abrasive.
しかし、これらの方法では、研磨材の取り出し、洗浄、戻しの一連の作業が定期的に必要となり、また、削られた研磨材を回収し、新たな研磨材と交換する一連の作業が定期的に必要となる。このような一連の作業は手間がかかる分だけ、遊技場の運営コストが嵩むことになる。したがって、研磨材の洗浄作業の回数が多くなればなるだけ、遊技場の負担が大きくなるという問題点があった。 However, with these methods, a series of operations for removing, cleaning, and returning the abrasive is required periodically, and a series of operations for collecting the shaved abrasive and replacing it with new abrasive is performed regularly. Is required. Such a series of operations increases the operating cost of the game arcade as much as it takes time. Therefore, there is a problem that the burden on the game hall increases as the number of cleaning operations of the abrasive increases.
この発明は、上記の問題を解決するものであり、研磨材の洗浄作業の回数を減少させることが可能な揚送研磨装置を提供することを目的とする。 The present invention solves the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a lift polishing apparatus that can reduce the number of cleaning operations for an abrasive.
上記課題を解決するため、請求項1に記載された発明は、複数の遊技機が配列された遊技機島に用いられる揚送研磨装置において、移動状態にある研磨剤を水で湿らせる水供給手段と、前記遊技機島に立設される筒体と、前記遊技機の各々で使用された遊技媒体と前記湿らせた前記研磨材とを前記筒体の内部で混ぜ合わせた状態で上方へ移送することにより前記遊技媒体を湿った前記研磨剤で研磨し、さらに、前記遊技媒体、前記研磨材、及び、前記遊技媒体から離された汚れを含む汚れ成分を前記筒体の上部から排出させる移送手段と、前記排出された前記遊技媒体、前記研磨材、及び前記汚れ成分をそれぞれ分離する分離手段と、前記研磨材を前記分離手段から前記水供給手段を経由して前記移送手段に導く戻し通路と、を有することを特徴とする。
また、請求項2に記載された発明は、請求項1に記載の揚送研磨装置であって、前記水供給手段は、前記戻し通路に設けられ、前記戻し通路を通過する前記研磨材を水で湿らせることを特徴とする。
さらに、請求項3に記載された発明は、請求項1または2に記載の揚送研磨装置であって、前記水供給手段は、前記移送手段の下部の直前の前記戻し通路に設けられ、前記研磨剤を水で湿らせることを特徴とする。
さらに、請求項4に記載された発明は、請求項3に記載の揚送研磨装置であって、前記戻し通路は、前記移送手段の下部に向かって傾斜しており、前記水供給手段は傾斜している前記戻し通路に設けられていることを特徴とする。
さらに、請求項5に記載された発明は、請求項1に記載の揚送研磨装置であって、前記水供給手段は、前記筒体の内部を水で湿らせることで、移送中の前記研磨剤を直接に又は間接に水で湿らせることを特徴とする。
さらに、請求項6に記載された発明は、請求項1から請求項5のいずれかに記載の揚送研磨装置であって、前記水供給手段は、前記筒体の上部に移送されてきた前記研磨剤が保水している程度に湿らせることを特徴とする。
さらに、請求項7に記載された発明は、請求項1から請求項6のいずれかに記載の揚送研磨装置であって、前記水供給手段は、水の量を調整する水量調整手段を有し、噴霧または滴下により湿らせることを特徴とする。
さらに、請求項8に記載された発明は、請求項1から請求項7のいずれかに記載の揚送研磨装置であって、前記水は、pH値が8〜12のアルカリ電解水であることを特徴とする。
さらに、請求項9に記載された発明は、請求項1から請求項8のいずれかに記載の揚送研磨装置であって、前記筒体内の湿度を検出する湿度センサを有し、前記水供給手段は、前記湿度センサから検出した前記湿度に応じた信号を受けて、前記湿度が所定範囲になるよう前記研磨剤を水で湿らせることを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention described in claim 1 is a water supply for moistening an abrasive in a moving state with water in a lift polishing apparatus used in a gaming machine island in which a plurality of gaming machines are arranged. Means, a cylinder erected on the gaming machine island, a game medium used in each of the gaming machines, and the wet abrasive material mixed together inside the cylinder The game medium is polished by the wet abrasive by the transfer, and the game medium, the abrasive, and the dirt component including the dirt separated from the game medium are discharged from the upper part of the cylindrical body. A transfer means, a separation means for separating the discharged game medium, the abrasive, and the dirt component, respectively, and a return for guiding the abrasive from the separation means to the transfer means via the water supply means And having a passage And butterflies.
The invention described in
Furthermore, the invention described in
Furthermore, the invention described in claim 4 is the lift polishing apparatus according to
Furthermore, the invention described in
Furthermore, the invention described in
Furthermore, the invention described in
Furthermore, the invention described in
Furthermore, the invention described in claim 9 is the lift polishing apparatus according to any one of claims 1 to 8, further comprising a humidity sensor that detects humidity in the cylinder, and the water supply The means receives the signal according to the humidity detected from the humidity sensor, and wets the abrasive with water so that the humidity falls within a predetermined range.
請求項1に記載された発明によると、遊技媒体と湿った研磨材とを筒体の内部で混ぜ合わせた状態で上方へ移送すると、汚れ成分は、研磨材により遊技媒体から離され、かつ研磨剤に付着しない。研磨材を移動中に湿らせるので、確実に湿らせることができ、そのことにより遊技媒体、研磨材、汚れ成分は、互いに付着せず、共に筒体の上部から排出される。排出された研磨材は、遊技媒体や汚れ成分と分離され、戻し通路を経由して移送手段に導かれる。このように、研磨材は繰り返し使用されるが、汚れ成分を研磨材に付着させないため、研磨材が汚れず、研磨材の洗浄作業の回数を減少させることが可能となる。
また、請求項2に記載された発明によると、研磨材が戻し通路を経由して移送手段に導かれることで、研磨材が繰り返し使用されるが、戻し通路内の研磨材を水で湿らせるので、使用される度に、使用前の研磨材を確実に湿らせることが可能となる。
さらに、請求項3、4に記載された発明によると、移送手段に入って稼動する直前の研磨材を湿らせるので、より確実に湿らせることが可能となる。
さらに、請求項5に記載された発明によると、筒体内で、実際に稼働している研磨剤に対して水で湿らせることで、遊技媒体と研磨材とを筒体の内部で混ぜ合わせた状態で上方へ移送中に生じる摩擦熱などにより、筒体内湿度が低下するのを防止することができる。つまり、研磨材に汚れ成分を付着させるのを防止している。
さらに、請求項6に記載された発明によると、研磨剤が筒体から排泄されるまでの間、最小限の水分を研磨材に残すようにすることで、確実に保水を維持できる。
さらに、請求項7、8に記載された発明によると、筒体内で遊技媒体と研磨材とを混ぜ合わせたとき、汚れが遊技媒体に付着しようとするが、研磨材を湿らせているアルカリ電解水の浸透力により、汚れと研磨材との隙間に浸透し、汚れがとりかこまれて、汚れ成分が研磨材に付着しない上に、汚れうちの脂質が分解して石鹸化される。また、アルカリ電解水が遊技媒体に触れることにより、遊技媒体が除菌される。さらに、アルカリ電解水によって遊技媒体が錆びることがない。pH値を8〜12とすることが望ましい。
さらに、請求項9に記載された発明によると、実際に遊技媒体を研磨している筒体内の湿度を検出して、その検出した湿度に応じて、研磨剤に水分を供給する構成なので、稼働中の研磨剤における湿度を確実に、かつ安定に維持することができる。
According to the first aspect of the present invention, when the game medium and the wet abrasive are mixed upward in the cylindrical body, the dirt component is separated from the game medium by the abrasive and polished. Does not adhere to the agent. Since the abrasive is moistened during the movement, it can be surely moistened, so that the game medium, the abrasive, and the dirt component do not adhere to each other and are discharged from the upper part of the cylinder. The discharged abrasive is separated from the game medium and dirt components, and is guided to the transfer means via the return path. As described above, although the abrasive is repeatedly used, the dirt component does not adhere to the abrasive, so that the abrasive is not contaminated, and the number of cleaning operations of the abrasive can be reduced.
According to the second aspect of the present invention, the abrasive is repeatedly used by being guided to the transfer means via the return path, but the abrasive in the return path is moistened with water. Therefore , every time it is used, the abrasive before use can be reliably moistened.
Furthermore, according to the third and fourth aspects of the present invention, since the abrasive immediately before entering the transfer means and operating is moistened, it is possible to moisten more reliably.
Furthermore, according to the invention described in
Furthermore, according to the invention described in
Furthermore, according to the invention described in
Furthermore, according to the invention described in claim 9, since the humidity in the cylinder that is actually polishing the game medium is detected, and the moisture is supplied to the abrasive according to the detected humidity, The humidity in the inside abrasive can be reliably and stably maintained.
揚送研磨装置10の一実施形態について各図を参照して説明する。図1は、遊技機島1に配置された揚送研磨装置10の正面図、図2は揚送研磨装置10の側面図、図3は加湿手段11の機能ブロック図である。
An embodiment of the
図1〜図3に示すように、揚送研磨装置10は、複数の遊技機が配列された遊技機島1に用いられ、本体2、島上タンク3、加湿手段11、水供給手段20、水量調整手段25、筒体30、移送手段40、分離手段50、及び、戻し通路60を有している。ここで、遊技機をパチンコ機という場合がある。また、遊技機で使用された遊技媒体をパチンコ球またはアウト球という場合がある。
As shown in FIGS. 1 to 3, the lifting and polishing
(本体2)
本体2は、遊技場の所定位置に固定されるベース4と、ベース4に立設される支柱5とを有している。支柱5の上部には、島上タンク3が設けられている。支柱5の上端部には分離手段50及びモータ6が設けられている。
(Main unit 2)
The
移送手段40により研磨材と共に揚送された遊技媒体は、分離手段50により研磨材から分離され、島上樋(図示省略)を通って、各遊技機に供給される。各遊技機に用いられた遊技媒体は、アウト球回収樋7からアウト球投入樋8を通って、移送手段40に導かれる。
The game medium lifted together with the abrasive by the transfer means 40 is separated from the abrasive by the separation means 50, and supplied to each gaming machine through the island ridge (not shown). The game media used for each gaming machine is guided from the out
分離手段50により遊技媒体から分離された研磨材は、戻し通路60により移送手段40に導かれ、移送手段40により遊技媒体と共に揚送される。このように、研磨材は遊技媒体と同様に繰り返し使用される。
The abrasive separated from the game medium by the separation means 50 is guided to the transfer means 40 by the
(島上タンク3)
島上タンク3は、遊技媒体が島上樋に満ちたとき、遊技媒体を一時的に貯留するものである。島上タンク3には、それから溢れ出した遊技媒体を移送手段40に導くためのオーバーフロー通路(図示省略)が接続されている。
(Shimakami tank 3)
The
(加湿手段11)
図1及び図3に示すように、加湿手段11は、湿度センサ12、制御手段13、及び水供給手段20を有している。
(Humidifying means 11)
As shown in FIGS. 1 and 3, the
加湿手段11は、筒体30内の研磨材に汚れを付着させないように構成されている。研磨材に汚れが付着する主な原因は、筒体30内の研磨材が乾いているためである。研磨材に汚れを付着させない手段として、例えば、1)遊技媒体を研磨する前に研磨材を水で湿らせておく手段;2)遊技媒体を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる手段;3)移送手段40を水で湿らせる手段がある。なお、1)及び2)の手段を、研磨材を水で直接的に湿らせる手段という場合がある。また、3)の手段を、研磨材を水で間接的に湿らせる手段という場合がある。 The humidifying means 11 is configured not to allow dirt to adhere to the abrasive in the cylindrical body 30. The main cause of the dirt adhering to the abrasive is that the abrasive in the cylinder 30 is dry. As means for preventing dirt from adhering to the abrasive, for example, 1) means for moistening the abrasive with water before polishing the game medium; 2) moistening the abrasive with water when the game medium is being polished Means; 3) There is means for moistening the transfer means 40 with water. The means 1) and 2) may be referred to as means for directly moistening the abrasive with water. The means 3) may be referred to as means for indirectly moistening the abrasive with water.
以下、遊技媒体を研磨する前に研磨材を水で湿らせる手段について説明し、遊技媒体を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる手段、及び、移送手段40を水で湿らせる手段については、後述する。 Hereinafter, means for moistening the abrasive with water before polishing the game medium will be described, means for moistening the abrasive with water when polishing the game medium, and means for moistening the transfer means 40 with water Will be described later.
加湿手段11は、筒体30内の湿度に基づいて、移送手段40により移送される前の研磨材に対して水を連続的にまたは間欠的に供給することを通して、研磨材を水で湿らせることにより、筒体30の内部を加湿して、筒体30内の湿度を予め定められた範囲に保つように構成されている。なお、遊技媒体を研磨する前(遊技媒体が移送手段40に導かれる直前)までに研磨材を水で湿らせておけば、加湿手段11はどのように構成されてもよい。移送手段40に導かれる直前位置に加湿手段11を配置すれば、研磨材を効果的に水で湿らせることができる。直前位置からある程度離れた位置に加湿手段11を配置すれば、有効な空きスペースに加湿手段11を配置することが可能となる。 The humidifying means 11 wets the abrasive with water by continuously or intermittently supplying water to the abrasive before being transferred by the transfer means 40 based on the humidity in the cylinder 30. Thus, the inside of the cylindrical body 30 is humidified so that the humidity in the cylindrical body 30 is maintained within a predetermined range. Note that the humidifying means 11 may be configured in any way as long as the abrasive is moistened with water before the game medium is polished (immediately before the game medium is guided to the transfer means 40). If the humidifying means 11 is arranged at a position immediately before being guided to the transfer means 40, the abrasive can be effectively moistened with water. If the humidifying means 11 is arranged at a position some distance from the immediately preceding position, the humidifying means 11 can be arranged in an effective empty space.
予め定められた範囲としては、例えば、50%〜60%であることが好ましい。その範囲とした理由は、湿度が50%未満では、研磨材に汚れ成分を付着させない効果が低くなり、また、静電気の発生を抑える効果も低くなる。さらに、湿度が60%を超えると、遊技媒体や研磨材の湿り気により、汚れ成分が遊技媒体や研磨材に付着する傾向が生じ、汚れ成分を分離させ難くなる。 The predetermined range is preferably 50% to 60%, for example. The reason for this range is that when the humidity is less than 50%, the effect of preventing the dirt component from adhering to the abrasive becomes low, and the effect of suppressing the generation of static electricity becomes low. Further, when the humidity exceeds 60%, the dirt component tends to adhere to the game medium or the abrasive due to the wetness of the game medium or the abrasive, making it difficult to separate the dirt component.
湿度センサ12は、筒体30内の湿度に対応する信号を出力する。制御手段13は、湿度センサ12から出力された信号に基づいて、筒体30内の湿度を調整するように、例えば、水供給手段20により供給される時間当たりの水の量を制御する。
The
なお、湿度センサ12は、筒体30の全長にわたって複数箇所に、例えば、始端部(下端部)、中間部、及び、終端部(上端部)にそれぞれ配置されてもよい。このとき、制御手段13は、各湿度センサ12の出力信号に基づき、筒体30内の湿度を細かく調整するように水供給手段20を制御する。
In addition, the
(水供給手段20)
図1に示すように、水供給手段20は戻し通路60の途中に配置されている。水供給手段20は、戻し通路60を通る研磨材を水により湿らせるように構成されている。戻し通路60を通る研磨材の全部を水により湿らせるような構成であれば、どのような構成であってもよい。
(Water supply means 20)
As shown in FIG. 1, the water supply means 20 is disposed in the middle of the
一例としては、戻し通路60内の研磨材に水を噴霧することにより、研磨材を湿らせる構成がある。
As an example, there is a configuration in which the abrasive is moistened by spraying water on the abrasive in the
図4は水供給手段の概念図である。図4に示すように、戻し通路60内の研磨材に水を噴霧する手段は、例えば、ノズル21、ポンプ22、タンク(水槽)23、水量センサ24を有している。ノズル21は戻し通路60の天井部に配置されている。ポンプ22は、タンク23内の水を高圧でノズル21に供給する。水量センサ24は、タンク23内の水量に応じた信号を出力する。出力された信号に基づいて、タンク23内の水量を報知する報知手段を設けてもよい。
FIG. 4 is a conceptual diagram of the water supply means. As shown in FIG. 4, the means for spraying water on the abrasive in the
戻し通路60を通る研磨材の全部を水により湿らせるようにするためには、水を噴霧する範囲が戻し通路60の所定領域(全幅及び所定長)になるように構成すればよい。
In order to wet all of the polishing material passing through the
例えば、水を噴霧する範囲を戻し通路60の所定領域に広げるように構成すればよい。このとき、一度の噴霧により、所定領域内の研磨材の全部を湿らせるようにできるため、水を間欠的に噴霧すればよい。
For example, what is necessary is just to comprise so that the range which sprays water may be extended to the predetermined area | region of the return channel |
また、例えば、水を噴霧する範囲が戻し通路60の全幅に対して狭いとき、噴霧する方向を幅方向に沿って変えるように構成すればよい。それにより、戻し通路60の中央部を通る研磨材ばかりでなく、戻し通路60の端を通る研磨材にも水をかけることができる。
Further, for example, when the range in which water is sprayed is narrow with respect to the entire width of the
さらに、例えば、水を噴霧する範囲が戻し通路60の所定長に対して狭いとき、水を噴霧する範囲に研磨材が長さ方向に沿って流れてくるので、水を連続的に噴霧すれば、流れてくる研磨材を湿らせることができる。
Furthermore, for example, when the range in which water is sprayed is narrower than the predetermined length of the
なお、戻し通路60において、研磨材が上下に重なり合うとき、噴霧された水が研磨材間の隙間に入っていき、下側の研磨材も湿らせることができるものとする。
In the
噴霧される水には、8〜12のpH値を有するアルカリ電解水が用いられことが好ましい。研磨材を湿らせているアルカリ電解水は、その浸透力により、汚れと研磨材との隙間に浸透し、汚れがとりかこまれて、汚れ成分が研磨材に付着しないようになる(浸透、剥離効果)。また、汚れうちの脂質が分解して石鹸化される(石鹸効果)。さらに、アルカリ電解水が遊技媒体に触れることにより、遊技媒体が除菌される(殺菌効果)。さらに、アルカリ電解水によって遊技媒体が錆びることがない(防錆効果)。 The sprayed water is preferably alkaline electrolyzed water having a pH value of 8-12. Alkaline electrolyzed water moistening the abrasive material penetrates into the gap between the dirt and the abrasive material due to its penetrating power, and the dirt is trapped and the dirt component does not adhere to the abrasive material (penetration, peeling) effect). In addition, the lipids in the soil decompose and become soap (soap effect). Furthermore, when the alkaline electrolyzed water touches the game medium, the game medium is sterilized (bactericidal effect). Further, the game medium is not rusted by alkaline electrolyzed water (rust prevention effect).
なお、アルカリ電解水のpH値を高くしていくと、それらの効果が高まるため、汚れの程度に応じたpH値のアルカリ電解水を用いればよい。8未満のpH値のアルカリ電解水では、それぞれの効果を十分に得られない傾向が生じる。12を超えるpH値のアルカリ電解水では、それぞれの効果は高まるものの、過酸化ナトリウムや過酸化水素を加える必要があるため、製造コストが一段と嵩む。 In addition, since the effect will increase when the pH value of alkaline electrolyzed water is increased, alkaline electrolyzed water having a pH value corresponding to the degree of contamination may be used. In alkaline electrolyzed water having a pH value of less than 8, there is a tendency that the respective effects cannot be sufficiently obtained. In alkaline electrolyzed water having a pH value exceeding 12, although the respective effects are enhanced, it is necessary to add sodium peroxide and hydrogen peroxide, so that the production cost is further increased.
(水量調整手段25)
水量調整手段25は、図1における水供給手段20内に配置され、または、水供給手段20に接続されている。水量調整手段25は、例えば、戻し通路60内を流れる研磨材の量に応じて、水の量を調整するように構成されている。
(Water volume adjusting means 25)
The water amount adjusting means 25 is arranged in the water supply means 20 in FIG. 1 or connected to the water supply means 20. The water amount adjusting means 25 is configured to adjust the amount of water according to the amount of abrasive flowing through the
水の量を調整する手段としては、例えば、ノズルの口径を調整可能に構成するもの、あるいは、ポンプによりノズルに供給される水の圧力を調整可能に構成するものがある。ノズル口径や水圧の調整は、手動で行うようにしてもよく、自動で行うようにしてもよい。 As means for adjusting the amount of water, there are, for example, one configured to adjust the nozzle diameter, or one configured to adjust the pressure of water supplied to the nozzle by a pump. Adjustment of the nozzle diameter and water pressure may be performed manually or automatically.
遊技機島1に用いられる遊技媒体の数量は、営業時間や営業日に応じて予測できる。そのため、研磨材の量も予測できるので、営業時間や営業日に応じて、ノズルの口径等を手動により調整すればよい。 The quantity of game media used for the gaming machine island 1 can be predicted according to business hours and business days. Therefore, since the amount of abrasive can also be predicted, the nozzle diameter and the like may be manually adjusted according to business hours and business days.
また、戻し通路60内を流れる研磨材の量を検出するセンサ(図示省略)を設けておき、センサにより出力される信号に基づいて、ノズルの口径等を自動調整すればよい。
Further, a sensor (not shown) for detecting the amount of abrasive flowing in the
以上に、水供給手段20及び水量調整手段25を説明した。次に、これらの手段が組み込まれた揚送研磨装置10について、図を参照して説明する。
The
(筒体30)
図1及び図2に示すように、筒体30は、遊技機島1に立設されている。筒体30は、略水平に延ばされた筒軸を有する下端部と、略上方に延ばされた筒軸を有する上端部と、下端部と上端部との間に設けられ、湾曲した筒軸を有する中間部とを有する。
(Cylinder 30)
As shown in FIGS. 1 and 2, the cylinder 30 is erected on the gaming machine island 1. The cylindrical body 30 is provided between a lower end portion having a cylindrical shaft extending substantially horizontally, an upper end portion having a cylindrical shaft extending substantially upward, and a curved cylinder provided between the lower end portion and the upper end portion. And an intermediate portion having a shaft.
筒体30の下端部には流入口が設けられている。筒体30の上端部には排出口31が設けられている。筒体30の流入口には、アウト球が流下する樋が接続されている。なお、前述するように、遊技機で使用されたアウト球には汚れ成分が付着されている。
An inflow port is provided at the lower end of the cylindrical body 30. A
(移送手段40)
図1及び図2に示すように、移送手段40は、筒体30内に配置されている。移送手段40としては、例えば、筒軸にその軸を沿わせるように配置された螺旋体である。移送手段40は、モータ6により回転する。
(Transfer means 40)
As shown in FIGS. 1 and 2, the transfer means 40 is disposed in the cylinder 30. The transfer means 40 is, for example, a spiral body that is arranged so as to follow the axis of the cylinder axis. The transfer means 40 is rotated by the
移送手段40は、水供給手段20により湿らせた研磨材とアウト球とを筒体30の内部で混ぜ合わせた状態で上方へ移送することにより、アウト球、研磨材、及び、アウト球から離された汚れを含む汚れ成分を筒体30の排出口31から排出させるものである。
The transfer means 40 moves away from the out sphere, the abrasive, and the out sphere by transferring the abrasive and the out sphere moistened by the water supply means 20 upward in a mixed state inside the cylindrical body 30. The dirt component including the dirt is discharged from the
移送手段40をモータ6により回転すると、研磨材とアウト球とが回転しながら混ぜ合わさり洗浄される。そのとき、アウト球に付着された汚れ成分が研磨材により離される。離された汚れ成分が研磨材に付着しようとする。
When the transfer means 40 is rotated by the
研磨材とアウト球とを混ぜ合わせたときに生じる摩擦熱等により、筒体30の内部の湿度は低下し、研磨材が排出口31から排出されるまで、研磨材の水分は失われていく。しかし、水分を失っても、最小限の水分を研磨材に残すように、水供給手段20により研磨材に水を湿らせているので、汚れ成分が研磨材に付着することがない。すなわち、汚れ成分は、アウト球及び研磨材から離された状態で排出口31から排出される。
Due to frictional heat generated when the abrasive and the out-sphere are mixed, the humidity inside the cylindrical body 30 decreases, and the moisture in the abrasive is lost until the abrasive is discharged from the
(分離手段50)
次に、分離手段50について、図1、図2及び図5を参照して説明する。図5は揚送研磨装置10の平面図である。
(Separation means 50)
Next, the separating means 50 will be described with reference to FIGS. FIG. 5 is a plan view of the
分離手段50は排出された遊技媒体、研磨材、及び汚れ成分をそれぞれ分離するように構成されている。分離手段50は、遊技媒体、研磨材、及び汚れ成分を分離できれば、どのような手段であってもよい。遊技媒体、研磨材、及び汚れ成分は、それらの大きさや重さが互いに異なることに基づいて、分離される。 The separation means 50 is configured to separate the discharged game medium, abrasive, and dirt component. The separating means 50 may be any means as long as it can separate the game medium, the abrasive, and the dirt component. The game medium, the abrasive, and the dirt component are separated based on their size and weight being different from each other.
例えば、図1及び図5に示すように、分離手段50は、簀の子51、分別手段52、収集ホース55、分離用通路53、研磨材ストック54を有している。簀の子51は、筒体30の排出口31を臨むように配置されている。図1に、3段の簀の子51を示す。
For example, as shown in FIGS. 1 and 5, the separating means 50 includes a
簀の子51は、所定幅の隙間を空けて並べられた複数のレールを有している。複数のレールは、レールに沿って遊技媒体を導くとともに、隙間から研磨材及び汚れ成分を落下させるように構成されている。
The
分別手段52は、落下する研磨材及び汚れ成分をそれぞれ分けるように構成されている。分別手段52の一例として、汚れ成分が研磨材に比べ極めて軽いことに基づいて、汚れ成分を集塵することにより、汚れ成分と研磨材とを分ける。汚れ成分の集塵は、落下する研磨材及び汚れ成分のうちから、汚れ成分のみを吸い込むことにより行われ、また、汚れ成分のみを吹き飛ばすことにより行われる。図1に、汚れ成分を吸い込むタイプの分別手段52を示す。 The sorting means 52 is configured to separate the falling abrasive and dirt components. As an example of the sorting means 52, the dirt component and the abrasive are separated by collecting the dirt component based on the fact that the dirt component is extremely lighter than the abrasive. The dust collection of the dirt component is performed by sucking only the dirt component out of the falling abrasive and the dirt component, and is performed by blowing only the dirt component. FIG. 1 shows a separation means 52 of the type that sucks dirt components.
図1に示すように、簀の子51により遊技媒体から分離された研磨材及び汚れ成分は、分離用通路53の入口(図1では、分離用通路53の上端)に導かれる。分離用通路53と分別手段52との間には、収集ホース55が配置されていて、汚れ成分は収集ホース55に吸い込まれ、研磨材のみが研磨材ストック54に導かれる。
As shown in FIG. 1, the abrasive and the dirt component separated from the game medium by the
研磨材と汚れ成分とから分離された遊技媒体は遊技機に送られ、遊技に用いられる。遊技媒体と汚れ成分とから分離された研磨材は、移送手段40に導かれ、アウト球の研磨に用いられる。遊技媒体と研磨材とから分離された汚れ成分は、分別手段52により集塵され、遊技機や筒体30に送られないようにされる。 The game medium separated from the abrasive and the dirt component is sent to the gaming machine and used for the game. The abrasive separated from the game medium and the dirt component is guided to the transfer means 40 and used for polishing the out sphere. The dirt component separated from the game medium and the abrasive is collected by the sorting means 52 so as not to be sent to the game machine or the cylinder 30.
(戻し通路60)
次に、戻し通路60について図1及び図5を参照して説明する。
(Return passage 60)
Next, the
図1及び図5に示すように、戻し通路60は下方に傾斜して配置されている。戻し通路60の上端口は、研磨材ストック54に連通している。戻し通路60の下端口は、移送手段40を臨んで開放されている。なお、戻し通路60を分離用通路53及び研磨材ストック54を含むものとして構成してもよい。
As shown in FIGS. 1 and 5, the
戻し通路60の中間部には水供給手段20が設けられている。戻し通路60は、研磨材を分離手段50から水供給手段20を経由して移送手段40に導くように構成されている。
A water supply means 20 is provided in the middle portion of the
水供給手段20を経由することにより、移送手段40に導かれる研磨材に必ず水を湿らせることができ、湿らせた研磨材により、アウト球を研磨することが可能となる。 By passing through the water supply means 20, it is possible to always wet the polishing material guided to the transfer means 40, and the wet balls can be polished with the wet polishing material.
戻し通路60は、研磨材を移送手段40の始端部に導く。その結果、研磨材により遊技媒体を、移送手段40の始端部から終端部までの長い区間研磨することが可能となり、装置の研磨能力を向上させることが可能となる。
The
なお、研磨材を導く位置は、移送手段40の始端部に限らず、移送手段40の始端部から終端部までの区間のいずれかの他の部分であってもよい。それにより、戻し通路60や水供給手段20などを設計するときの自由度を高めることが可能となる。
Note that the position where the abrasive is guided is not limited to the starting end portion of the transfer means 40, but may be any other portion of the section from the start end portion to the end portion of the transfer means 40. Thereby, it is possible to increase the degree of freedom when designing the
また、戻し通路60は、研磨材を移送手段40の始端部及び前記他の部分(例えば、中間部)に導いてもよい。湿らせた研磨材を始端部ばかりでなく、他の部位に導くことを通して、噴霧される水として用いられるアルカリ電解水の説明において述べたような浸透、剥離効果、石鹸効果、殺菌効果、及び、防錆効果を高めることが可能となる。
Further, the
〔作用〕
次に、揚送研磨装置10の作用について説明する。
[Action]
Next, the operation of the
(研磨材の収容)
揚送研磨装置10においては、研磨材は研磨に繰り返し用いられる。研磨材は、研磨材ストック54を含む、揚送研磨装置10の内部に収容されている。
(Housing of abrasive)
In the
(遊技媒体の研磨)
揚送研磨装置10を始動すると、モータ6が回転して、移送手段40の旋回により筒体30の内部で遊技媒体と研磨材とが混ぜ合わされた状態で移送される。遊技媒体と研磨材とを混ぜ合わせているとき、研磨材に水を湿らせているため、汚れ成分が研磨材に付着しない。それにより、研磨材が汚れない。また、遊技媒体、研磨材及び汚れ成分が離れた状態で筒体30の排出口31から排出される。
(Abrasion of game media)
When the
(分離)
遊技媒体、研磨材及び汚れ成分が筒体30の排出口31から排出されると、簀の子51により遊技媒体と、研磨材及び汚れ成分とが分離される。さらに、分別手段52により、研磨材と汚れ成分とが分離される。それにより、分離された遊技媒体を遊技に用いることが可能となり、また、研磨材を研磨に再度用いることが可能となり、さらに、分離された汚れ成分を、遊技媒体や研磨材に接触しないように、回収することが可能となる。
(Separation)
When the game medium, the abrasive and the dirt component are discharged from the
(研磨材に水を湿らせる)
分離された研磨材は、戻し通路60により水供給手段20を経由して移送手段40に導かれる。それにより、研磨材を遊技媒体の研磨に繰り返し用いることができる上に、研磨材を研磨に用いる度に、水供給手段20を経由しているので、確実に研磨材に水を湿らせることができる。それにより、研磨に繰り返し用いたとしても、研磨材が汚れることはなく、研磨材の洗浄回数を少なくすることが可能となる。
(Moisten the abrasive with water)
The separated abrasive is guided to the transfer means 40 via the water supply means 20 by the
(遊技媒体の遊技利用及び回収)
また、研磨材により研磨された遊技媒体は、汚れ成分と離され、所定の通路を通って、各遊技機に供給され、遊技機から再び揚送研磨装置10に回収されるが、研磨により遊技媒体に汚れが付着していないため、また、遊技媒体に遊技1回分の汚れが付着しているため、汚れを起因として、遊技に支障を来すことが回避される。
(Game use and collection of game media)
Further, the game medium polished by the abrasive is separated from the dirt component, supplied to each gaming machine through a predetermined passage, and collected again from the gaming machine to the lifting and polishing
(遊技媒体の再研磨)
遊技機から回収された遊技媒体と、戻し通路60により移送手段40に導かれ、水を湿らせた研磨材とを、筒体30の内部で混ぜ合わせることで、遊技媒体を研磨することが可能となる。
(Re-grinding of game media)
It is possible to polish the game medium by mixing the game medium collected from the gaming machine and the abrasive material, which is guided to the transfer means 40 by the
(水供給手段20等の保守、点検等)
遊技機島1には、移送手段40の保守点検用の開口が設けられ、保守点検時に開けられ、通常には蓋部材(図示省略)で閉じられている。水供給手段20は、移送手段40の始端部(アウト球や研磨材が導かれる所)の近傍に配されている(図1参照)。
(Maintenance and inspection of water supply means 20 etc.)
The gaming machine island 1 is provided with an opening for maintenance and inspection of the transfer means 40, which is opened at the time of maintenance and inspection, and is normally closed by a lid member (not shown). The water supply means 20 is disposed in the vicinity of the starting end of the transfer means 40 (where the out ball and the abrasive are guided) (see FIG. 1).
保守点検用の開口を開くと、開口を通して水供給手段20を見ることができ、移送手段40の保守点検を行う際に、一緒に、水供給手段20の保守点検(ノズル21、ポンプ22、タンク23の水量、水量センサ24等の保守点検)を行うことができる。
When the opening for maintenance and inspection is opened, the water supply means 20 can be seen through the opening, and when performing the maintenance and inspection of the transfer means 40, together with the maintenance and inspection of the water supply means 20 (
以上のように、前記実施形態に係る揚送研磨装置10によれば、研磨材を研磨に繰り返し用いても汚れが付着しないので、研磨材の洗浄作業の回数を減少させることが可能となる。
As described above, according to the
また、研磨材が研磨に用いられる前に、必ず水供給手段20を経由することにより研磨材に確実に水を湿らせるように構成することができる。さらに、分別手段52により、汚れ成分を確実に集塵することが可能となるという効果を奏する。 In addition, before the abrasive is used for polishing, the abrasive can be surely wetted by passing through the water supply means 20. Further, the separation means 52 has an effect that dust components can be reliably collected.
(水供給手段20の他の例)
前記実施形態では、水を噴霧することにより研磨材を湿らせるように構成された水供給手段20について説明したが、これに限らない。
(Other examples of water supply means 20)
Although the said embodiment demonstrated the water supply means 20 comprised so that an abrasive could be moistened by spraying water, it is not restricted to this.
次に、水供給手段20の他の例について図6を参照して説明する。水供給手段20は、戻し通路60内の研磨材に水を滴下することにより、研磨材を湿らせるように構成されている。
Next, another example of the water supply means 20 will be described with reference to FIG. The water supply means 20 is configured to wet the abrasive by dripping water onto the abrasive in the
図6は、水供給手段の他の例を示す概念図である。図6に示すように、水供給手段20は、タンク23、水量センサ24、水量調整手段25、及び、開閉器26を有している。水量調整手段25は、滴下される水の量を調整するものである。開閉器26は、流路を開閉して、水が滴下するのを許容/禁止するものである。
FIG. 6 is a conceptual diagram showing another example of the water supply means. As shown in FIG. 6, the
戻し通路60を通る研磨材の全部を水により湿らせるようにするために、水を滴下する範囲が戻し通路60の所定領域(全幅及び所定長)になるように構成すること、また、滴下される水としてアルカリ電解水を用いることは、水を噴霧する上記実施形態と同様である。
In order to wet all of the polishing material passing through the
さらに、水供給手段20の他の例について図7を参照して説明する。水供給手段20の他の例としては、戻し通路60内を加湿状態にすることにより、研磨材を湿らせるように構成されている。
Furthermore, another example of the water supply means 20 will be described with reference to FIG. Another example of the water supply means 20 is configured to moisten the abrasive by putting the inside of the
図7は、水供給手段20の他の例を示す概念図である。図7に示すように、水供給手段20は、タンク23、水量センサ24、ファン27、及び、超音波発生器28を有している。この水供給手段20は、超音波発生器28の超音波振動によって水を細かく破砕し、それをファン27によって吹き出すものである。戻し通路60の壁(底壁及び側壁)には、吹き出された水の粒を通すための微細穴(図示省略)が設けられている。なお、水供給手段20としては、超音波発生器28に代えて、ヒータ(図示省略)を設け、水を加熱することにより発生させた水蒸気をファン27により吹き出させるものでもよい。
FIG. 7 is a conceptual diagram showing another example of the water supply means 20. As shown in FIG. 7, the water supply means 20 includes a
戻し通路60を通る研磨材の全部を水により湿らせるように、戻し通路60内を加湿状態にすること、また、加湿状態を作るときの水としてアルカリ電解水を用いること、さらに、加湿状態を調整する水量調整手段を設けることは、水を噴霧する上記実施形態と同様である。
The inside of the
以上の実施形態及び変形例において、遊技媒体を研磨する前に研磨材を水で湿らせておく手段について説明した。 In the above embodiment and modifications, the means for moistening the abrasive with water before polishing the game medium has been described.
次に、遊技媒体を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる手段の一例について図8を参照して説明する。 Next, an example of means for moistening the abrasive with water when the game medium is being polished will be described with reference to FIG.
図8は、水供給手段20の他の例を示す概念図である。図8に示すように、水供給手段20は、筒体30の内部に水を噴霧することにより、筒体30の内部を加湿するように構成されている。筒体30の内部に水を噴霧することにより、筒体30の内部の湿度を上昇させるとともに、筒体30内の研磨材を水で湿らせることができる。それにより、研磨材に汚れ成分が付着するのを防止することが可能となる。 FIG. 8 is a conceptual diagram showing another example of the water supply means 20. As shown in FIG. 8, the water supply means 20 is configured to humidify the inside of the cylindrical body 30 by spraying water inside the cylindrical body 30. By spraying water inside the cylinder 30, the humidity inside the cylinder 30 can be increased and the abrasive in the cylinder 30 can be moistened with water. As a result, it is possible to prevent the dirt component from adhering to the abrasive.
また、遊技媒体と研磨材とを混ぜ合わせたときの摩擦熱等により筒体30内の湿度が低下すると、静電気が発生し易くなって、研磨材や汚れ成分に帯電し、研磨材に汚れ成分が付着しようとするが、筒体30の内部に水を噴霧することにより、筒体30内の湿度の低下が抑えられ、静電気の発生を抑えることが可能となる。 Further, when the humidity in the cylindrical body 30 is reduced due to frictional heat or the like when the game medium and the abrasive are mixed, static electricity is easily generated, and the abrasive and the dirt component are charged, and the abrasive is contaminated with the dirt component. However, by spraying water into the cylindrical body 30, a decrease in humidity in the cylindrical body 30 can be suppressed, and generation of static electricity can be suppressed.
筒体30の始端部(下端部)及び中間部に配置された水供給手段20を図8に示す。水供給手段20の上流側には、筒体30内の湿度に対応する信号を出力する湿度センサ12が配置されている。なお、図8では、筒体30の始端部及び中間部に水供給手段20が一つずつ配置されたものを示したが、複数個ずつ(例えば、筒体30の周方向に所定間隔で)配置されてもよい。
The water supply means 20 arrange | positioned at the start end part (lower end part) and intermediate part of the cylinder 30 is shown in FIG. A
噴霧する水としてアルカリ電解水を用いること、また、噴霧する水の量を調整する水量調整手段を設けることは、上記実施形態と同様である。 The use of alkaline electrolyzed water as the water to be sprayed and the provision of a water amount adjusting means for adjusting the amount of water to be sprayed are the same as in the above embodiment.
なお、遊技媒体を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる水供給手段20としては、水を噴霧するものに限らず、水を滴下するものであってもよい。 Note that the water supply means 20 for moistening the abrasive with water when the game medium is being polished is not limited to spraying water, but water dropping means may be used.
図8に示す変形例では、加湿手段11として、遊技媒体を研磨しているときに研磨材を水で直接的に湿らせる手段について説明したが、研磨材を水で間接的に湿らせる手段であってもよい。 In the modification shown in FIG. 8, the humidifying means 11 has been described as means for directly moistening the abrasive with water when the game medium is being polished. However, the humidifying means 11 is means for indirectly moistening the abrasive with water. There may be.
次に、研磨材を水で間接的に湿らせる手段の一例として、移送手段40を水で湿らせる手段について説明する。例えば、移送手段40は保水性を有している。それにより、移送手段40を水で湿らせることが可能となる。例えば、移送手段40において、揚送時に研磨材と接する面(搬送面)は保水性を有している。搬送面を水で湿らせておくと、揚送時に研磨材が搬送面と接することにより、研磨材を間接的に水で湿らせることが可能となる。また、移送手段40を水で湿らせることにより、筒体30の内部を加湿することができ、静電気の発生をし難くすることが可能となる。 Next, as an example of means for indirectly moistening the abrasive with water, means for moistening the transfer means 40 with water will be described. For example, the transfer means 40 has water retention. Thereby, the transfer means 40 can be moistened with water. For example, in the transfer means 40, the surface (conveyance surface) that comes into contact with the abrasive during lifting has water retention. When the conveyance surface is moistened with water, the abrasive can be indirectly moistened with water by the abrasive coming into contact with the conveyance surface at the time of lifting. Moreover, by moistening the transfer means 40 with water, the inside of the cylinder 30 can be humidified, and it becomes difficult to generate static electricity.
移送手段40を湿らせておく水としてアルカリ電解水を用いること、また、水の量を調整する水量調整手段を設けることは、上記実施形態と同様である。 The use of alkaline electrolyzed water as water for moistening the transfer means 40 and the provision of a water amount adjusting means for adjusting the amount of water are the same as in the above embodiment.
前記実施形態では、遊技媒体を研磨する前に研磨材を水で湿らせる水供給手段20を示した。また、図8に示す変形例では、遊技媒体を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる水供給手段20を示したが、これらの水供給手段20を組み合わせたものであってもよい。それにより、研磨材をより適時かつより適所で水で湿らせることが可能となる。 In the said embodiment, the water supply means 20 which wets an abrasive | polishing material with water before grinding | polishing a game medium was shown. Further, in the modification shown in FIG. 8, the water supply means 20 for moistening the abrasive with water when the game medium is being polished is shown, but the water supply means 20 may be combined. . As a result, the abrasive can be moistened with water in a more timely and more appropriate place.
1 遊技機島
2 本体
3 島上タンク
4 ベース
5 支柱
6 モータ
7 アウト球回収樋
8 アウト球投入樋
10 揚送研磨装置
11 加湿手段
12 湿度センサ
13 制御手段
20 水供給手段
25 水量調整手段
30 筒体
31 排出口
40 移送手段
50 分離手段
51 簀の子
52 分別手段
53 分離用通路
54 研磨材ストック
55 収集ホース
60 戻し通路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (9)
移動状態にある研磨剤を水で湿らせる水供給手段と、
前記遊技機島に立設される筒体と、
前記遊技機の各々で使用された遊技媒体と前記湿らせた前記研磨材とを前記筒体の内部で混ぜ合わせた状態で上方へ移送することにより前記遊技媒体を湿った前記研磨剤で研磨し、さらに、前記遊技媒体、前記研磨材、及び、前記遊技媒体から離された汚れを含む汚れ成分を前記筒体の上部から排出させる移送手段と、
前記排出された前記遊技媒体、前記研磨材、及び前記汚れ成分をそれぞれ分離する分離手段と、
前記研磨材を前記分離手段から前記水供給手段を経由して前記移送手段に導く戻し通路と、
を有する
ことを特徴とする揚送研磨装置。 In the lifting and polishing apparatus used in the gaming machine island where a plurality of gaming machines are arranged,
Water supply means for moistening the abrasive in movement with water ;
A cylinder standing on the gaming machine island;
The game medium used in each of the gaming machines and the wet abrasive material are mixed together inside the cylindrical body and transferred upward to polish the game medium with the wet abrasive agent. Further, the game medium, the abrasive, and a transfer means for discharging a dirt component including dirt separated from the game medium from the upper part of the cylindrical body,
Separation means for separating the discharged game media, the abrasive, and the dirt component, respectively.
A return path for guiding the abrasive from the separating means to the transfer means via the water supply means;
A lift polishing apparatus characterized by comprising:
前記水供給手段は、前記湿度センサから検出した前記湿度に応じた信号を受けて、前記湿度が所定範囲になるよう前記研磨剤を水で湿らせることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれかに記載の揚送研磨装置。The said water supply means receives the signal according to the said humidity detected from the said humidity sensor, and wets the said abrasive | polishing agent with water so that the said humidity may become a predetermined range, The Claims 1-8 characterized by the above-mentioned. The lift polishing apparatus according to any one of the above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012112889A JP5800754B2 (en) | 2012-05-16 | 2012-05-16 | Lift polishing machine |
Applications Claiming Priority (1)
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