JP5796905B2 - Tempered glass substrate, glass and method for producing tempered glass substrate - Google Patents

Tempered glass substrate, glass and method for producing tempered glass substrate Download PDF

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Description

本発明は、強化ガラス基板に関するものであり、特に、携帯電話、デジタルカメラ、PDA(携帯端末)、太陽電池のカバーガラス、あるいはタッチパネルディスプレイに好適な強化ガラス基板に関するものである。   The present invention relates to a tempered glass substrate, and more particularly to a tempered glass substrate suitable for a mobile phone, a digital camera, a PDA (mobile terminal), a solar cell cover glass, or a touch panel display.

携帯電話、デジタルカメラ、PDA、あるいはタッチパネルディスプレイといったデバイスは、ますます普及する傾向にある。   Devices such as mobile phones, digital cameras, PDAs, or touch panel displays are becoming increasingly popular.

従来、これらの用途ではディスプレイを保護するための保護部材としてアクリル等の樹脂が用いられていた。しかしアクリル樹脂ではヤング率が低いため、指などでディスプレイが押された場合にアクリル樹脂基板がたわみ、ディスプレイに接触して表示不良が発生する場合があった。また傷がつきやすく、視認性が悪化しやすくなるといった問題があった。これらの問題を解決するひとつの方法は保護部材としてガラス基板を用いる方法である。これらの保護部材に用いられるガラス基板には、(1)高い機械的強度を有すること、(2)低密度であること、(3)安価で多量に供給できること、(4)泡品位に優れることが求められる。(1)の要件を満たすため、従来イオン交換等で強化したガラス基板(所謂、強化ガラス基板)が用いられている(特許文献1、非特許文献1参照)。
特開2006−83045号公報 泉谷徹朗等、「新しいガラスとその物性」、初版、株式会社経営システム研究所、1984年8月20日、p.451−498
Conventionally, in these applications, a resin such as acrylic has been used as a protective member for protecting the display. However, since the Young's modulus of acrylic resin is low, the acrylic resin substrate may bend when the display is pressed with a finger or the like, and display defects may occur due to contact with the display. In addition, there is a problem in that it is easily scratched and visibility is likely to deteriorate. One method for solving these problems is to use a glass substrate as a protective member. The glass substrate used for these protective members has (1) high mechanical strength, (2) low density, (3) can be supplied in large quantities at low cost, and (4) excellent foam quality. Is required. In order to satisfy the requirement of (1), a glass substrate (so-called tempered glass substrate) reinforced by ion exchange or the like is conventionally used (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).
JP 2006-83045 A Tetsuro Izumiya et al., “New Glass and its Properties”, first edition, Management System Research Institute, Inc., August 20, 1984, p. 451-498

非特許文献1には、ガラス組成中のAl含有量を増加させていくと、ガラスのイオン交換性能が向上し、ガラス基板の機械的強度を向上できることが記載されている。 Non-Patent Document 1 describes that when the Al 2 O 3 content in the glass composition is increased, the ion exchange performance of the glass is improved and the mechanical strength of the glass substrate can be improved.

しかし、ガラス組成中のAl含有量を増加させていくと、ガラスの耐失透性が悪化し、成形中にガラスが失透しやすくなり、ガラス基板の製造効率、品位等が悪化する。またガラスの耐失透性が悪いと、ロール成形等の方法でしか成形できず、表面精度の高いガラス板を得ることができない。それ故、ガラス板の成形後、別途研磨工程を付加しなければならない。しかしながらガラス基板を研磨すると、ガラス基板の表面に微小な欠陥が発生しやすくなり、ガラス基板の機械的強度を維持し難くなる。 However, if the Al 2 O 3 content in the glass composition is increased, the devitrification resistance of the glass is deteriorated, and the glass is easily devitrified during molding, so that the production efficiency and quality of the glass substrate are deteriorated. To do. Moreover, when the devitrification resistance of glass is poor, it can be molded only by a method such as roll molding, and a glass plate with high surface accuracy cannot be obtained. Therefore, a separate polishing step must be added after the glass plate is formed. However, when the glass substrate is polished, minute defects are likely to occur on the surface of the glass substrate, and it becomes difficult to maintain the mechanical strength of the glass substrate.

このような事情から、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立することが困難であり、ガラス基板の機械的強度を顕著に向上させることが困難となっていた。また、デバイスの軽量化を図るため、タッチパネルディスプレイ等のデバイスに用いられるガラス基板は、年々薄肉化されてきている。薄板のガラス基板は破損しやすいことから、ガラス基板の機械的強度を向上させる技術は益々重要となってきている。   Under such circumstances, it has been difficult to achieve both ion exchange performance and devitrification resistance of glass, and it has been difficult to significantly improve the mechanical strength of the glass substrate. In addition, in order to reduce the weight of devices, glass substrates used in devices such as touch panel displays are becoming thinner year by year. Since a thin glass substrate is easily damaged, a technique for improving the mechanical strength of the glass substrate has become increasingly important.

そこで、本発明は、ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度が高く、成形性に優れた強化ガラス基板を得ることを技術的課題とする。   Then, this invention makes it a technical subject to obtain the tempered glass board | substrate with high mechanical strength and excellent moldability by making ion exchange performance and devitrification resistance of glass compatible.

本発明者は、種々の検討を行った結果、Bを所定量含有させると共に、NaOとAlの含有量を規制することで、ガラスのイオン交換性能が向上し、表面圧縮応力を高めることができ、かつガラスの失透を抑制できることを見いだし、本発明を提案するに至った。 As a result of various investigations, the inventor of the present invention contains a predetermined amount of B 2 O 3 and regulates the content of Na 2 O and Al 2 O 3 to improve the ion exchange performance of the glass, It has been found that the surface compressive stress can be increased and the devitrification of the glass can be suppressed, and the present invention has been proposed.

即ち、本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜20%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であり、圧縮応力層は深さが27μm以下の化学強化層であり、且つ基板端面の表面に圧縮応力層が存在しないことを特徴とする。なお、特に断りのない限り、以下の説明において「%」は質量%を意味する。 That is, the tempered glass substrate of the present invention is a tempered glass substrate having a compressive stress layer on the surface, a tempered glass substrate having a compressive stress layer on the surface, as a glass composition, in mass%, SiO 2 40 to 75%, Al 2 O 3 10~20 %, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10~20%, 0~10% MgO, CaO 0~4% , SrO + BaO 0 to 10%, Na 2 O / Al 2 O 3 ratio by mass ratio is 0.7 to 2 , the compressive stress layer is a chemically strengthened layer having a depth of 27 μm or less, and the end face of the substrate There is no compressive stress layer on the surface of the film. Unless otherwise specified, “%” means mass% in the following description.

また本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜4%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/KO比が0.8〜2であることが好ましいFurther, the tempered glass substrate of the present invention is a tempered glass substrate having a compressive stress layer on the surface, as a glass composition, in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~4%, Na 2 O 10~20%, 0~6% MgO, CaO 0~4%, SrO + BaO 0~7%, P 2 O 5 0~ 10%, TiO 2 0~10%, containing ZrO 2 0~10%, Na 2 O / K 2 O ratio in the mass ratio is preferably from 0.8 to 2.

また本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜70%、Al 10〜16.5%、B 0.01〜6%、LiO 0〜4%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/KO比が0.8〜1.5であり、基板端面の表面に圧縮応力層が存在しないことが好ましい。 Further, the tempered glass substrate of the present invention is a tempered glass substrate having a compressive stress layer on the surface, as a glass composition, in mass%, SiO 2 40~70%, Al 2 O 3 10~16.5%, B 2 O 3 0.01~6%, Li 2 O 0~4%, Na 2 O 10~20%, 0~6% MgO, CaO 0~4%, SrO + BaO 0~7%, P 2 O 5 0~ 10%, TiO 2 0-10%, ZrO 2 0-10%, the mass ratio of Na 2 O / K 2 O is 0.8-1.5, and a compressive stress layer is formed on the surface of the substrate end face. Is preferably absent .

また本発明の強化ガラス基板は、SnOを0.01〜6%含有することが好ましいThe tempered glass substrate of the present invention preferably contains a SnO 2 0.01 to 6%.

また本発明の強化ガラス基板は、TiO+ZrO 0.1〜15%含有することが好ましいThe tempered glass substrate of the present invention preferably contains TiO 2 + ZrO 2 0.1~15%.

また本発明の強化ガラス基板は、MgO+CaO+SrO+BaO 0.1〜10%を含有することが好ましいMoreover, it is preferable that the tempered glass substrate of this invention contains MgO + CaO + SrO + BaO 0.1 to 10%.

また本発明の強化ガラス基板は、化学的に強化されてなることが好ましいMoreover, it is preferable that the tempered glass substrate of this invention is chemically strengthened.

また本発明の強化ガラス基板は、表面の圧縮応力が300MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが10〜27μmであって、ガラス基板内部の引っ張り応力が200MPa以下であることが好ましい。ここで、「表面の圧縮応力」および「圧縮応力層の厚み」は、表面応力計(株式会社東芝製FSM−6000)を用いて試料を観察した際に、観察される干渉縞の本数とその間隔から算出される値を指す。またガラス基板内部の引っ張り応力は以下の式によって計算されるものを表す。 Further, the tempered glass substrate of the present invention, compressive stress of the surface is more than 300 MPa, and a thickness of 10 ~ 27 mu m of the compressive stress layer, it is preferable tensile stress within the glass substrate is less than 200 MPa. Here, “surface compressive stress” and “thickness of compressive stress layer” are the number of interference fringes observed when a sample is observed using a surface stress meter (FSM-6000 manufactured by Toshiba Corporation) and The value calculated from the interval. Moreover, the tensile stress inside a glass substrate represents what is calculated by the following formula | equation.

“ガラス基板内部の引っ張り応力=(圧縮応力値×応力深さ)/(板厚−応力深さ×2)”
また本発明の強化ガラス基板は、未研磨の表面を有することが好ましい。ここで「未研磨の表面」とはガラス基板の主表面(いわゆる表面と裏面)が研磨されていないということである。言い換えれば両表面が火造り面であるということを意味し、表面の平均表面粗さ(Ra)はSEMI D7−97「FPDガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定した場合に平均表面粗さ(Ra)は10Å以下、好ましくは5Å以下、より好ましくは2Å以下である。なお端面部については、面取り等の研磨処理がなされていてもよい。
“Tensile stress inside glass substrate = (compressive stress value × stress depth) / (plate thickness−stress depth × 2)”
The tempered glass substrate of the present invention preferably has an unpolished surface. Here, “unpolished surface” means that the main surface (so-called front surface and back surface) of the glass substrate is not polished. In other words, it means that both surfaces are fired surfaces, and the average surface roughness (Ra) of the surface is measured by a method according to SEMI D7-97 “Measurement method of surface roughness of FPD glass substrate” Further, the average surface roughness (Ra) is 10 Å or less, preferably 5 Å or less, more preferably 2 Å or less. Note that the end surface portion may be subjected to polishing treatment such as chamfering.

また本発明の強化ガラス基板は、液相温度が1200℃以下であることが好ましい。ここで、「液相温度」とは、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持した後、結晶が析出する温度を指す。 The tempered glass substrate of the present invention preferably has a liquidus temperature of 1200 ° C. or lower. Here, “liquid phase temperature” means that glass is crushed, passed through a standard sieve 30 mesh (500 μm sieve opening), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 μm sieve sieve) is placed in a platinum boat, and the temperature gradient The temperature at which crystals are precipitated after being kept in the furnace for 24 hours.

また本発明の強化ガラス基板は、液相粘度が104.0dPa・s以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」とは、液相温度におけるガラスの粘度を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低いほど、ガラスの耐失透性は優れ、ガラス基板の成形性に優れている。 The tempered glass substrate of the present invention preferably has a liquidus viscosity of 10 4.0 dPa · s or more. Here, “liquidus viscosity” refers to the viscosity of the glass at the liquidus temperature. In addition, the higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance of the glass and the moldability of the glass substrate.

また本発明の強化ガラス基板は、タッチパネルディスプレイに用いることが好ましいThe tempered glass substrate of the present invention is preferably used for a touch panel display.

また本発明の強化ガラス基板は、携帯電話のカバーガラスに用いることが好ましいThe tempered glass substrate of the present invention is preferably used for a cover glass of a mobile phone.

また本発明の強化ガラス基板は、太陽電池のカバーガラスに用いることが好ましいMoreover, it is preferable to use the tempered glass substrate of this invention for the cover glass of a solar cell.

また本発明の強化ガラス基板は、ディスプレイの保護部材として用いられることが好ましいMoreover, it is preferable that the tempered glass substrate of this invention is used as a protective member of a display.

また本発明に係るガラスは、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜20%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/KO比が0.7〜2であり、強化後切断に用いることが好ましいThe glasses according to the invention also, in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10-20%, MgO 0-10%, CaO 0-4%, SrO + BaO 0-10% in mass ratio, Na 2 O / K 2 O ratio is 0.7-2, It is preferable to use it.

また本発明に係るガラスは、SnOを0.01〜6%含有することが好ましい。 The glass according to the present invention preferably contains a SnO 2 0.01 to 6%.

また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜20%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であるガラス組成となるように調合したガラス原料を溶融し、ガラスを板状に成形した後、イオン交換処理を施すことによって、ガラス表面に深さ27μm以下の圧縮応力層を形成した後、得られた強化ガラス基板を所定サイズに切断することを特徴とする。 The method of manufacturing a tempered glass substrate of the present invention, in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5% , Na 2 O 10-20%, MgO 0-10%, CaO 0-4%, SrO + BaO 0-10%, and Na 2 O / Al 2 O 3 ratio is 0.7-2 by mass ratio It was obtained after melting a glass raw material prepared so as to have a glass composition, forming the glass into a plate shape, and then forming a compressive stress layer having a depth of 27 μm or less on the glass surface by performing an ion exchange treatment. The tempered glass substrate is cut into a predetermined size.

また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、SnOを0.01〜6%含有することが好ましいThe method of manufacturing a tempered glass substrate of the present invention preferably contains a SnO 2 0.01 to 6%.

また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、ダウンドロー法にて板状に成形することが好ましいMoreover, it is preferable that the manufacturing method of the tempered glass board | substrate of this invention shape | molds in plate shape with a down draw method.

また本発明の強化ガラス基板の製造方法は、オーバーフローダウンドロー法にて板状に成形することすることが好ましいMoreover, it is preferable that the manufacturing method of the tempered glass board | substrate of this invention shape | molds in plate shape with the overflow down draw method.

本発明の強化ガラス基板は、イオン交換性能の高いガラスにて作製される。また耐失透性に優れるガラスにて作製されるため、オーバーフローダウンドロー法等を採用することが可能である。それゆえ成形後の研磨が不要であり、研磨により生じる微小欠陥がない。それゆえ機械的強度が高いという効果がある。   The tempered glass substrate of the present invention is made of glass having high ion exchange performance. Moreover, since it is made of glass having excellent devitrification resistance, an overflow down draw method or the like can be employed. Therefore, polishing after molding is unnecessary and there are no micro defects caused by polishing. Therefore, there is an effect that the mechanical strength is high.

さらに研磨工程を行うことなく作製可能であるため、製造コストが低減でき、安価に供給することが可能である。   Further, since it can be manufactured without performing a polishing step, the manufacturing cost can be reduced, and it can be supplied at low cost.

それゆえ、本発明の強化ガラス基板は、タッチパネルディスプレイ、携帯電話のカバーガラス、太陽電池のカバーガラス、ディスプレイの保護部材等に好適に使用できる。なおタッチパネルディスプレイは、携帯電話、デジタルカメラ、PDA等に搭載されている。モバイル用途のタッチパネルディスプレイでは、軽量化、薄型化、高強度化の要請が強く、薄型で機械的強度が高いガラス基板が要求されている。その点、本発明の強化ガラス基板は、板厚を薄くしても、実用上、十分な機械的強度を有するため、モバイル用途に好適である。   Therefore, the tempered glass substrate of the present invention can be suitably used for touch panel displays, mobile phone cover glasses, solar cell cover glasses, display protection members, and the like. The touch panel display is mounted on a mobile phone, a digital camera, a PDA, or the like. In the touch panel display for mobile use, there is a strong demand for weight reduction, thinning, and high strength, and a thin and high mechanical strength glass substrate is required. In that respect, the tempered glass substrate of the present invention is suitable for mobile use because it has sufficient mechanical strength for practical use even if the plate thickness is reduced.

また本発明に係るガラスは、高いイオン交換性能を有している。また耐失透性に優れるため、オーバーフローダウンドロー法等で成形可能である。 The glass according to the present invention has high ion exchange performance. Moreover, since it is excellent in devitrification resistance, it can be molded by an overflow down draw method or the like.

それゆえ本発明に係るガラスを用いれば、機械的強度が高い強化ガラス基板を安価に作製可能である。 Therefore, if the glass according to the present invention is used, a tempered glass substrate having high mechanical strength can be produced at low cost.

また本発明の強化ガラスの製造方法は、イオン交換性能が高く、且つ耐失透性に優れるガラスを用いるものであるため、機械的強度が高い強化ガラス基板を安価に作製可能である。   Moreover, since the manufacturing method of the tempered glass of this invention uses the glass which has high ion exchange performance and is excellent in devitrification resistance, the tempered glass board | substrate with high mechanical strength can be produced cheaply.

本発明の強化ガラス基板は、その表面に圧縮応力層を有する。ガラス基板の表面に圧縮応力層を形成する方法には、物理強化法と化学強化法がある。本発明の強化ガラス基板は、化学強化法で圧縮応力層を形成することが好ましい。化学強化法は、ガラスの歪点以下の温度でイオン交換によりガラス基板の表面にイオン半径の大きいアルカリイオンを導入する方法である。化学強化法で圧縮応力層を形成すれば、ガラス基板の板厚が薄くても、良好に強化処理を施すことができ、所望の機械的強度を得ることができる。さらに、ガラス基板に圧縮応力層を形成した後にガラス基板を切断する場合に、風冷強化法等の物理強化法で強化されたガラス基板のように容易に破壊することがない。 The tempered glass substrate of the present invention has a compressive stress layer on its surface. Methods for forming a compressive stress layer on the surface of a glass substrate include a physical strengthening method and a chemical strengthening method. The tempered glass substrate of the present invention preferably forms a compressive stress layer by a chemical tempering method. The chemical strengthening method is a method of introducing alkali ions having a large ion radius into the surface of a glass substrate by ion exchange at a temperature below the strain point of the glass. If the compressive stress layer is formed by the chemical strengthening method, even if the plate thickness of the glass substrate is thin, the strengthening treatment can be performed satisfactorily and a desired mechanical strength can be obtained. Further, when the glass substrate is cut after forming the compressive stress layer on the glass substrate, it is not easily broken unlike a glass substrate reinforced by a physical strengthening method such as an air cooling strengthening method.

イオン交換の条件は、特に限定されず、ガラスの粘度特性等を考慮して決定すればよい。特に、KNO溶融塩中のKイオンをガラス基板中のNa成分とイオン交換すると、ガラス基板の表面に圧縮応力層を効率良く形成することができるため好ましい。 The ion exchange conditions are not particularly limited, and may be determined in consideration of the viscosity characteristics of the glass. In particular, it is preferable to ion-exchange K ions in the KNO 3 molten salt with a Na component in the glass substrate because a compressive stress layer can be efficiently formed on the surface of the glass substrate.

本発明の強化ガラス基板において、ガラス組成を上記範囲に限定した理由を以下に説明する。   The reason for limiting the glass composition to the above range in the tempered glass substrate of the present invention will be described below.

SiOは、ガラスのネットワークを形成する成分であり、その含有量は40〜75%、好ましくは50〜70%、40〜70%、45〜65%、特に49〜60%である。SiOの含有量が多くなり過ぎると、ガラスの溶融、成形が難しくなったり、熱膨張係数が小さくなり過ぎたりして、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。一方、SiOの含有量が少な過ぎると、ガラス化し難くなる。またガラスの熱膨張係数が大きくなり、ガラスの耐熱衝撃性が低下しやすくなる。 SiO 2 is a component that forms a network of glass, and its content is 40 to 75%, preferably 50 to 70%, 40 to 70%, 45 to 65%, particularly 49 to 60%. When the content of SiO 2 is too large, it becomes difficult to melt and mold the glass, or the thermal expansion coefficient becomes too small, and it becomes difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. On the other hand, if the content of SiO 2 is too small, it becomes difficult to vitrify. Moreover, the thermal expansion coefficient of glass becomes large, and the thermal shock resistance of glass tends to decrease.

Alはイオン交換性能を高める成分である。またガラスの歪点およびヤング率を高くする効果もあり、その含有量は10〜20%である。Alの含有量が多過ぎると、ガラスに失透結晶が析出しやすくなってオーバーフローダウンドロー法等による成形が困難になる。またガラスの熱膨張係数が小さくなり過ぎて周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったり、ガラスの高温粘性が高くなり溶融し難くなったりする。Alの含有量が少な過ぎると、十分なイオン交換性能を発揮できない虞が生じる。従ってAlの好適な範囲は、10〜17.5%、さらに10〜16.5%、12〜16.5%、12〜16%、12〜15.5%、特に13〜15%である。 Al 2 O 3 is a component that enhances ion exchange performance. It also has the effect of increasing the strain point and Young's modulus of the glass, and its content is 10 to 20%. When the content of Al 2 O 3 is too large, forming by an overflow down draw method and the like becomes difficult devitrified crystal glass becomes easily deposited. In addition, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too small, making it difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding material, or the high-temperature viscosity of the glass becomes high, making it difficult to melt. When the content of Al 2 O 3 is too small, a possibility arises which can not exhibit a sufficient ion exchange performance. Accordingly, the preferred range of Al 2 O 3 is 10 to 17.5%, further 10 to 16.5%, 12 to 16.5%, 12 to 16%, 12 to 15.5%, particularly 13 to 15%. It is.

は、ガラスの高温粘度及び密度を低下させると共に、ガラスのイオン交換性能、特に圧縮応力値を向上させる効果がある。さらにガラスを安定化させて結晶を析出させにくくし、ガラスの液相温度を低下させる効果がある。しかしながらBが多くなりすぎると、イオン交換によってヤケと呼ばれるガラス表面の着色が発生したり、ガラスの耐水性が低下したり、圧縮応力層の深さが小さくなるため好ましくない。従ってBの含有量は、0.01〜8%、好ましくは0.01〜6%、0.1〜4%、0.5〜4%、特に1〜3%である。 B 2 O 3 is effective in reducing the high temperature viscosity and density of the glass and improving the ion exchange performance of the glass, particularly the compressive stress value. Furthermore, it has the effect of stabilizing the glass, making it difficult to precipitate crystals, and lowering the liquidus temperature of the glass. However, too much B 2 O 3 is not preferable because ion exchange causes coloring of the glass surface called burnt, the water resistance of the glass decreases, and the depth of the compressive stress layer decreases. Therefore, the content of B 2 O 3 is 0.01 to 8%, preferably 0.01 to 6%, 0.1 to 4%, 0.5 to 4%, particularly 1 to 3%.

LiOは、イオン交換成分であるとともに、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させる成分である。さらにLiOは、ガラスのヤング率を向上させる効果がある成分である。またLiOはアルカリ金属酸化物の中では圧縮応力値を高める効果が高い。しかしLiOの含有量が多くなり過ぎると液相粘度が低下してガラスが失透しやすくなる。またガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったりする。さらに、低温粘性が低下しすぎて応力緩和が起こりやすくなると、かえって圧縮応力値が低くなる場合がある。従ってLiOの含有量は0〜5%であり、さらに0〜4%、0〜2%、0〜1%、0〜0.5%、0〜0.1%であることが好ましく、実質的に含有しないこと、つまり0.01%未満に抑えることが最も好ましい。 Li 2 O is an ion exchange component and a component that lowers the high temperature viscosity of the glass and improves meltability and moldability. Further, Li 2 O is a component that has an effect of improving the Young's modulus of glass. Li 2 O is highly effective in increasing the compressive stress value among alkali metal oxides. However, if the Li 2 O content is too large, the liquidus viscosity is lowered and the glass tends to devitrify. In addition, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass is lowered, or it is difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. Furthermore, if the low-temperature viscosity is too low and stress relaxation is likely to occur, the compressive stress value may be lowered. Therefore, the content of Li 2 O is 0 to 5%, more preferably 0 to 4%, 0 to 2%, 0 to 1%, 0 to 0.5%, and 0 to 0.1%. Most preferably, it is not substantially contained, that is, suppressed to less than 0.01%.

NaOは、イオン交換成分であるとともに、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させる効果がある。また、NaOは、ガラスの耐失透性を改善する成分でもある。NaOの含有量は10〜20%であるが、より好適な含有量は、10〜19%、12〜19%、12〜18%、12〜17%、13〜17%、特に14〜17%である。NaOの含有量が多くなり過ぎると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったりする。また歪点が低下しすぎたり、ガラス組成のバランスを欠き、かえってガラスの耐失透性が悪化する傾向がある。一方、NaOの含有量が少ないと、溶融性が悪化したり、熱膨張係数が小さくなりすぎたり、イオン交換性能が悪化したりする。 Na 2 O is an ion exchange component and has the effect of reducing the high temperature viscosity of the glass and improving the meltability and moldability. Na 2 O is also a component that improves the devitrification resistance of the glass. The content of Na 2 O is 10-20%, but more preferable content is 10-19%, 12-19%, 12-18%, 12-17%, 13-17%, especially 14- 17%. When the content of Na 2 O is too large, the thermal expansion coefficient of the glass becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass is lowered, or it is difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. Moreover, there is a tendency that the strain point is excessively lowered or the balance of the glass composition is lost and the devitrification resistance of the glass is deteriorated. On the other hand, when the content of Na 2 O is less deteriorated the meltability, too coefficient of thermal expansion becomes small, the ion exchange performance deteriorates.

MgOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高めたりする成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、イオン交換性能を向上させる効果が高い。MgOの含有量は0〜10%である。しかし、MgOの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったりする傾向がある。したがって、その含有量は、0〜6%、0〜4%、0〜3.5%、0.01〜3.5%、0.5〜3.5%、1〜3.5%とすることが望ましい。   MgO is a component that lowers the high-temperature viscosity of glass to increase meltability and formability, and increases the strain point and Young's modulus. Among alkaline earth metal oxides, MgO has the effect of improving ion exchange performance. Is expensive. The content of MgO is 0 to 10%. However, when the content of MgO increases, the density and thermal expansion coefficient of the glass tend to increase or the glass tends to devitrify. Therefore, the content is 0 to 6%, 0 to 4%, 0 to 3.5%, 0.01 to 3.5%, 0.5 to 3.5%, and 1 to 3.5%. It is desirable.

CaOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高めたり、歪点やヤング率を高めたりする成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、イオン交換性能を向上させる効果が高い。CaOの含有量は0〜4%である。しかし、CaOの含有量が多くなると、ガラスの密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラスが失透しやすくなったり、更にはイオン交換性能が悪化する傾向がある。したがって、その含有量は、0〜3%、0.1〜3%、0.5〜3%、特に1〜3%とすることが望ましい。   CaO is a component that lowers the high-temperature viscosity of glass to improve meltability and formability, and increases the strain point and Young's modulus. Among alkaline earth metal oxides, CaO has the effect of improving ion exchange performance. Is expensive. The content of CaO is 0 to 4%. However, when the content of CaO increases, the density and thermal expansion coefficient of the glass increase, the glass tends to devitrify, and the ion exchange performance tends to deteriorate. Therefore, the content is preferably 0 to 3%, 0.1 to 3%, 0.5 to 3%, particularly 1 to 3%.

SrO及びBaOは、ガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を向上させたり、歪点やヤング率を高めたりする成分であるが、これらの合量を10%以下に抑えることによって、効果的にイオン交換性能を向上させることができる。つまりSrOとBaOは、イオン交換反応を阻害する作用を有するため、これらの成分を多量に含有すると、機械的強度の向上が困難となる。SrO+BaOの好ましい範囲は、0〜5%、0〜3%、0〜2.5%、0〜2%、0〜1%、特に0〜0.1%である。   SrO and BaO are components that lower the high-temperature viscosity of the glass to improve the meltability and formability, and increase the strain point and Young's modulus, but by suppressing the total amount of these to 10% or less, The ion exchange performance can be effectively improved. That is, since SrO and BaO have an action of inhibiting the ion exchange reaction, it is difficult to improve the mechanical strength when these components are contained in a large amount. The preferred range of SrO + BaO is 0-5%, 0-3%, 0-2.5%, 0-2%, 0-1%, especially 0-0.1%.

またSrO及びBaOの含有量は、各々0〜5%にすることが好ましい。SrOやBaOの含有量が多くなると、イオン交換性能が悪化すると共に、ガラスの密度、熱膨張係数が高くなったり、ガラスが失透しやすくなる。SrOの含有量は、2%以下、1.5%以下、1%以下、0.5%以下、特に0.1%以下であることが望ましい。またBaOの含有量は、2.5%以下、2%以下、1%以下、0.8%以下、0.5%以下、特に0.1%以下が望ましい。   The SrO and BaO contents are each preferably 0 to 5%. When the content of SrO or BaO increases, the ion exchange performance deteriorates, the glass density and thermal expansion coefficient increase, and the glass tends to devitrify. The SrO content is desirably 2% or less, 1.5% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less. The BaO content is preferably 2.5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.8% or less, 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less.

TiOは、イオン交換性能を向上させる効果がある成分である。またガラスの高温粘度を低下させる効果があるが、その含有量が多くなりすぎると、ガラスが着色したり、失透しやすくなる。従って、その含有量は、0〜10%、好ましくは0〜8%、0.5〜7%、1〜6%、2〜6%、特に3〜6%である。 TiO 2 is a component that has an effect of improving ion exchange performance. Moreover, although there exists an effect which reduces the high temperature viscosity of glass, when the content increases too much, glass will color or it will become easy to devitrify. Therefore, the content is 0 to 10%, preferably 0 to 8%, 0.5 to 7%, 1 to 6%, 2 to 6%, particularly 3 to 6%.

ZrOは、イオン交換性能を顕著に向上させると共にガラスの液相粘度付近の粘性や歪点を高くする効果があるが、その含有量が多くなりすぎると、耐失透性が著しく低下する。従って、その含有量は、0〜10%、好ましくは0〜8%、0.5〜7%、1〜6%、2〜6%、特に3〜6%である。 ZrO 2 has the effect of remarkably improving the ion exchange performance and increasing the viscosity and strain point in the vicinity of the liquid phase viscosity of the glass. However, if the content is too large, the devitrification resistance is significantly reduced. Therefore, the content is 0 to 10%, preferably 0 to 8%, 0.5 to 7%, 1 to 6%, 2 to 6%, particularly 3 to 6%.

本発明においては、イオン交換性能向上の観点から、ZrOとTiOを合量で0.1〜15%(好ましくは1〜12%、より好ましくは3〜10%)含有させることが望ましいが、TiO源、ZrO源として試薬を用いても良いし原料等に含まれる不純物から含有させても良い。 In the present invention, from the viewpoint of improving ion exchange performance, it is desirable to contain 0.1 to 15% (preferably 1 to 12%, more preferably 3 to 10%) of ZrO 2 and TiO 2 in total. Further, a reagent may be used as the TiO 2 source and the ZrO 2 source, or it may be contained from impurities contained in the raw material.

は、ガラスのイオン交換性能を高める成分であり、特に圧縮応力厚みを大きくする効果を有している。しかし、Pの含有量が多くなると、ガラスが分相したり、耐水性が低下するため、その含有量は10%以下、8%以下、5%以下、4%以下、特に3%以下にすることが望ましい。 P 2 O 5 is a component that enhances the ion exchange performance of the glass, and has an effect of particularly increasing the compressive stress thickness. However, when the content of P 2 O 5 is increased, the glass is phase-separated or the water resistance is lowered. Therefore, the content is 10% or less, 8% or less, 5% or less, 4% or less, particularly 3%. The following is desirable.

また本発明は、質量比でNaO/Alの比が、0.7〜2であることを特徴とする。すなわち、この比が、0.7より小さくなると、ガラスが失透しやすくなる。一方、2より大きくなると、ガラスのイオン交換性能が低下する。また熱膨張係数が大きくなりすぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなる。また歪点が低下したり、ガラス組成のバランスを欠き、ガラスの耐失透性が低下する傾向がある。NaO/Alの比の好ましい範囲は、0.8〜2であり、より好ましくは0.8〜1.5であり、さらに0.85〜1.5、さらに1〜1.4、さらに1.1〜1.4.さらに0.9〜1.4、さらに1〜1.4であり、特に1.1〜1.4の範囲が望ましい。 The present invention, the ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 in mass ratio, characterized in that it is a 0.7 to 2. That is, when this ratio is smaller than 0.7, the glass is easily devitrified. On the other hand, when it becomes larger than 2, the ion exchange performance of the glass is lowered. Further, the thermal expansion coefficient becomes too large, and the thermal shock resistance of the glass is lowered, and it is difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. Moreover, there exists a tendency for a strain point to fall or to lack the balance of a glass composition, and for the devitrification resistance of glass to fall. The preferable range of the ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 is 0.8-2, more preferably 0.8-1.5, further 0.85-1.5, and further 1-1. 4 and 1.1 to 1.4. Furthermore, it is 0.9-1.4, Furthermore, it is 1-1.4, The range of 1.1-1.4 is especially desirable.

本発明の強化ガラス基板は、上記成分から構成されるが、ガラスの特性を損なわない範囲で、以下の成分を添加することができる。   The tempered glass substrate of the present invention is composed of the above components, but the following components can be added within a range not impairing the properties of the glass.

Oは、イオン交換を促進する効果があり、アルカリ金属酸化物の中では圧縮応力層の深さを深くする効果が高い。またガラスの高温粘度を低下させて溶融性や成形性を高める効果がある。また、KOは、耐失透性を改善する成分でもある。しかしながらKOの含有量が多過ぎると、ガラスの熱膨張係数が大きくなり、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったりする。さらに歪点が低下したり、ガラス組成のバランスを欠き、かえってガラスの耐失透性が悪化する傾向がある。従って、その含有量は、0〜15%、好ましくは、0.1〜12%、0.5〜10%、1〜8%、特に1〜6%である。 K 2 O has an effect of promoting ion exchange, and has a high effect of increasing the depth of the compressive stress layer among alkali metal oxides. It also has the effect of reducing the high temperature viscosity of the glass and improving the meltability and formability. K 2 O is also a component that improves devitrification resistance. However, when the content of K 2 O is too large, the thermal expansion coefficient of the glass is increased, or reduced thermal shock resistance of the glass, the peripheral material and thermal expansion coefficient may become less likely matched. Furthermore, there is a tendency that the strain point is lowered or the balance of the glass composition is lost and the devitrification resistance of the glass is deteriorated. Therefore, the content is 0 to 15%, preferably 0.1 to 12%, 0.5 to 10%, 1 to 8%, particularly 1 to 6%.

またアルカリ金属酸化物RO(RはLi、Na、Kから選ばれる1種以上)の含有量が多くなり過ぎると、ガラスが失透しやすくなることに加えて、ガラスの熱膨張係数が大きくなり過ぎて、ガラスの耐熱衝撃性が低下したり、周辺材料と熱膨張係数が整合し難くなったりする。またガラスの歪点が低下し過ぎて、高い圧縮応力値が得られにくくなる場合がある。さらに液相温度付近の粘性が低下し、高い液相粘度を確保することが困難となる場合がある。従ってROは10〜25%、好ましくは13〜22%、さらに15〜20%、特に16.5〜20%含有することが望ましい。 Further, when the content of the alkali metal oxide R 2 O (R is one or more selected from Li, Na, and K) is excessive, the glass tends to be devitrified, and the thermal expansion coefficient of the glass is increased. If it becomes too large, the thermal shock resistance of the glass will decrease, and it will be difficult to match the thermal expansion coefficient with the surrounding materials. In addition, the strain point of the glass is too low, and it may be difficult to obtain a high compressive stress value. Furthermore, the viscosity in the vicinity of the liquidus temperature may decrease, and it may be difficult to ensure a high liquidus viscosity. Accordingly, R 2 O is desirably contained in an amount of 10 to 25%, preferably 13 to 22%, more preferably 15 to 20%, and particularly 16.5 to 20%.

またKO/NaOの質量比の範囲は、0〜2であることが好ましい。KO/NaOの比を変化させることで圧縮応力値の大きさと応力層の深さを変化させることが可能である。圧縮応力値を高く設定したい場合には0〜0.5、好ましくは0〜0.3、より好ましくは0〜0.2の範囲に設定することが望ましい。一方、圧縮応力層の厚みをより深くした場合には0.5〜2、より好ましくは1〜2、さらに好ましくは1.2〜2、最も好ましくは1.5〜2にすることが望ましい。この比が、2より大きくなるとガラスの組成のバランスを欠いて失透しやすくなったり、高温粘度が高くなり、溶融性が低下したり、高い圧縮応力値が得られがたくなる。 The range of K 2 O / Na 2 O weight ratio of is preferably 0-2. It is possible to change the magnitude of the compressive stress value and the depth of the stress layer by changing the ratio of K 2 O / Na 2 O. When it is desired to set the compressive stress value high, it is desirable to set it in the range of 0 to 0.5, preferably 0 to 0.3, more preferably 0 to 0.2. On the other hand, when the thickness of the compressive stress layer is made deeper, it is desired to be 0.5 to 2, more preferably 1 to 2, still more preferably 1.2 to 2, and most preferably 1.5 to 2. When this ratio is greater than 2, the glass composition is not balanced and the glass composition tends to be devitrified, the high-temperature viscosity is increased, the meltability is lowered, and a high compressive stress value is hardly obtained.

アルカリ土類金属酸化物R’O(R’はMg、Ca、Sr、Baから選ばれる1種以上)が多くなると、ガラスの密度や熱膨張係数が高くなったり、耐失透性が悪化したりすることに加えて、イオン交換性能が悪化する傾向がある。それ故、アルカリ土類金属酸化物R’Oの合量は、0.1〜10%、好ましくは1〜8%、より好ましくは1.5〜8%、さらに好ましくは2〜6%、最も好ましくは2〜5%である。   When the alkaline earth metal oxide R′O (R ′ is one or more selected from Mg, Ca, Sr, Ba) increases, the density and thermal expansion coefficient of the glass increase, and the devitrification resistance deteriorates. In addition to this, the ion exchange performance tends to deteriorate. Therefore, the total amount of the alkaline earth metal oxide R′O is 0.1 to 10%, preferably 1 to 8%, more preferably 1.5 to 8%, still more preferably 2 to 6%, most preferably Preferably it is 2 to 5%.

またZnOは、ガラスのイオン交換性能を高める成分であり、特に、圧縮応力値を高くする効果が大きい。またガラスの低温粘性を低下させずに高温粘性を低下させる効果を有する成分である。しかし、ZnOの含有量が多くなると、ガラスが分相したり、失透性が悪化したり、密度が高くなったり、圧縮応力層の厚みが小さくなる傾向がある。従って、その含有量は0〜4%、好ましくは0〜2%、より好ましくは0〜1%、さらに好ましくは0〜0.5%である。   ZnO is a component that enhances the ion exchange performance of the glass, and is particularly effective in increasing the compressive stress value. Moreover, it is a component which has the effect of reducing a high temperature viscosity, without reducing the low temperature viscosity of glass. However, when the content of ZnO increases, the glass tends to undergo phase separation, devitrification deteriorates, the density increases, and the thickness of the compressive stress layer decreases. Therefore, the content is 0 to 4%, preferably 0 to 2%, more preferably 0 to 1%, and still more preferably 0 to 0.5%.

またR’Oの合量をROの合量で除した値が大きくなると、ガラスの耐失透性が悪化する傾向が現れる。それ故、質量分率でR’O/ROの値を0.5以下、0.4以下、0.3以下に規制することが望ましい。 Also the value of the total amount obtained by dividing the total amount of R 2 O of R'O becomes large, it appears a tendency that devitrification resistance of the glass deteriorates. Therefore, it is desirable to regulate the value of R′O / R 2 O to 0.5 or less, 0.4 or less, or 0.3 or less by mass fraction.

またSnOは、ガラスの清澄剤として働くと共に、イオン交換性能をより向上させる効果があるが、その含有量が多くなるとSnOに起因する失透が発生したり、ガラスが着色しやすくなる傾向がある。従って、0.01〜6%、0.01〜3%、特に0.1〜1%含有することが望ましい。 SnO 2 acts as a glass refining agent and has an effect of further improving the ion exchange performance. However, when the content is increased, devitrification due to SnO 2 occurs or the glass tends to be colored. There is. Therefore, it is desirable to contain 0.01 to 6%, 0.01 to 3%, especially 0.1 to 1%.

また清澄剤としてAs、Sb、CeO、SnO、F、Cl、SOの群から選択された一種または二種以上を0〜3%含有させてもよい。ただし、As及びF、特にAsは環境に対する配慮から、使用は極力控えるべきであり、実質的に含有しないことが望ましい。ここで「実質的に含有しない」とは、積極的に原料として用いず、不純物として混入するレベルであることを意味し、含有量としては0.1%未満となる。従って本発明において好ましい清澄剤の含有量はSnO+CeO+Cl 0.001〜1%、好ましくは0.01〜0.5%、より好ましくは0.05〜0.4%である。また上記したようにSnOにはイオン交換性能を向上させる効果もあるため、清澄効果とイオン交換性能向上効果を同時に得るためにSnO 0.01〜3%、好ましくは0.01〜1.5、より好ましくは0.1〜1%含有することが好ましい。ただし清澄剤としてSnO2を使用すると、ガラスが着色する場合がある。そのためガラスの透過率を高く保つ必要がある場合には、清澄剤としてSbやSOを使用しても良い。具体的には、Sb 0.01〜6%、好ましくは0.01〜3%を含有したり、SO 0.001〜6%、好ましくは0.001〜3%を含有すれば良い。またイオン交換性能を向上させながらガラスの着色を抑制するという観点では、SnO+Sb+SOを共存させ、これらを合量で0.01〜10%含有させることが望ましい。 The As 2 O 3 as a fining agent, Sb 2 O 3, CeO 2 , SnO 2, F, Cl, selected from the group of SO 3 was one or two or more may be contained 0-3%. However, As 2 O 3 and F, especially As 2 O 3 should be refrained from use as much as possible from the consideration of the environment, and it is desirable not to contain them substantially. Here, “substantially not containing” means that the material is not actively used as a raw material but is mixed as an impurity, and the content is less than 0.1%. Therefore, the content of the fining agent preferred in the present invention is SnO 2 + CeO 2 + Cl 0.001 to 1%, preferably 0.01 to 0.5%, more preferably 0.05 to 0.4%. In addition, as described above, SnO 2 also has an effect of improving the ion exchange performance, so that SnO 2 0.01 to 3%, preferably 0.01 to 1. 5, more preferably 0.1 to 1%. However, if SnO 2 is used as a fining agent, the glass may be colored. Therefore, when it is necessary to keep the transmittance of the glass high, Sb 2 O 3 or SO 3 may be used as a fining agent. Specifically, Sb 2 O 3 0.01 to 6%, preferably 0.01 to 3%, or SO 3 0.001 to 6%, preferably 0.001 to 3 %. good. Further, from the viewpoint of suppressing the coloring of the glass while improving the ion exchange performance, it is desirable that SnO 2 + Sb 2 O 3 + SO 3 coexist and 0.01 to 10% in total is contained.

またNbやLa等の希土類酸化物は、ガラスのヤング率を高める成分である。しかし、原料自体のコストが高く、また多量に含有させると耐失透性が悪化する。それ故、それらの含有量は、3%以下、2%以下、1%以下、0.5%以下、特に0.1%以下に制限することが望ましい。 Further, rare earth oxides such as Nb 2 O 5 and La 2 O 3 are components that increase the Young's modulus of glass. However, the cost of the raw material itself is high, and if it is contained in a large amount, the devitrification resistance deteriorates. Therefore, it is desirable to limit their content to 3% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly 0.1% or less.

なお、本発明において、Co、Ni等のガラスを強く着色するような遷移金属元素は、ガラス基板の透過率を低下させるため好ましくない。特に、タッチパネルディスプレイ用途に用いる場合、遷移金属元素の含有量が多いと、タッチパネルディスプレイの視認性が損なわれる。具体的には0.5%以下、0.1%以下、特に0.05%以下となるよう、原料あるいはカレットの使用量を調整することが望ましい。   In the present invention, transition metal elements such as Co and Ni that strongly color the glass are not preferable because they reduce the transmittance of the glass substrate. In particular, when used in touch panel display applications, if the content of transition metal elements is large, the visibility of the touch panel display is impaired. Specifically, it is desirable to adjust the amount of raw material or cullet used so that it is 0.5% or less, 0.1% or less, and particularly 0.05% or less.

また、PbO、Bi等の物質は環境に対する配慮から、使用は極力控えるべきであり、実質的に含有しないことが望ましく、その場合の含有量は、各々0.1%未満となる。 Moreover, substances such as PbO and Bi 2 O 3 should be refrained from use as much as possible from the consideration of the environment. It is desirable that they are not substantially contained, and the contents in that case are each less than 0.1%.

本発明の強化ガラス基板は、各成分の好適な含有範囲を適宜選択し、好ましいガラス組成範囲とすることができる。その中でも、より好適なガラス組成範囲の例は以下の通りである。   The tempered glass substrate of the present invention can have a preferable glass composition range by appropriately selecting a suitable content range of each component. Among them, examples of more suitable glass composition ranges are as follows.

(1)質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜4%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%、R′O 1.5〜8%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.8〜2であるガラス組成。 (1) in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~4%, Na 2 O 10~20 %, 0~6% MgO, CaO 0~4 %, SrO + BaO 0~7%, P 2 O 5 0~10%, TiO 2 0~10%, ZrO 2 0~10%, R'O 1.5~ A glass composition containing 8% and having a Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.8 to 2 in terms of mass ratio.

(2)質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜4%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%、R′O 1.5〜8%、SnO 0.01〜6%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.8〜2であるガラス組成。 (2) in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~4%, Na 2 O 10~20 %, 0~6% MgO, CaO 0~4 %, SrO + BaO 0~7%, P 2 O 5 0~10%, TiO 2 0~10%, ZrO 2 0~10%, R'O 1.5~ A glass composition containing 8%, SnO 2 0.01 to 6%, and having a mass ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.8 to 2 .

(3)質量%で、SiO 40〜70%、Al 10〜16%、B 0.1〜4%、LiO 0〜2%、NaO 12〜18%、MgO 0〜3%、CaO 0〜3%、SrO+BaO 0〜4%、ZnO 0〜1%、P 0〜10%、TiO 0〜8%、ZrO 0〜8%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.9〜1.4であるガラス組成。 (3) mass%, SiO 2 40~70%, Al 2 O 3 10~16%, B 2 O 3 0.1~4%, Li 2 O 0~2%, Na 2 O 12~18%, MgO 0-3%, CaO 0-3%, SrO + BaO 0-4%, ZnO 0-1%, P 2 O 5 0-10%, TiO 2 0-8%, ZrO 2 0-8%, glass composition Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.9 to 1.4 in mass ratio.

(4)質量%で、SiO 50〜70%、Al 12〜16%、B 1〜3%、LiO 0〜2%、NaO 14〜18%、KO 1〜5%、MgO 0.5〜3%、CaO 0.5〜3%、SrO+BaO 0〜2%、ZnO 0〜1%、P 0〜5%、TiO 0〜5%、ZrO 0〜5%を含有し、質量比でNaO/Al比が1〜1.3であるガラス組成。 (4) in mass%, SiO 2 50~70%, Al 2 O 3 12~16%, B 2 O 3 1~3%, Li 2 O 0~2%, Na 2 O 14~18%, K 2 O 1-5%, MgO 0.5-3%, CaO 0.5-3%, SrO + BaO 0-2%, ZnO 0-1%, P 2 O 5 0-5%, TiO 2 0-5%, A glass composition containing 0 to 5% of ZrO 2 and having a Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 1 to 1.3 by mass ratio.

(5)質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%、Sb 0.01〜6%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であるガラス組成。 (5) in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10~20 %, 0~6% MgO, CaO 0~4 %, SrO + BaO 0~7%, P 2 O 5 0~10%, TiO 2 0~10%, ZrO 2 0~10%, Sb 2 O 3 0.01 A glass composition containing ˜6% and having a mass ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.7-2.

(6)質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%、SO 0.001〜6%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であるガラス組成。 (6) mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10~20 %, 0~6% MgO, CaO 0~4 %, SrO + BaO 0~7%, P 2 O 5 0~10%, TiO 2 0~10%, ZrO 2 0~10%, SO 3 0.001~6 % containing glass composition Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.7 to 2 at a mass ratio.

(7)質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%、SnO+Sb 0.01〜10%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であるガラス組成。 (7) in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10~20 %, MgO 0-6%, CaO 0-4%, SrO + BaO 0-7%, P 2 O 5 0-10%, TiO 2 0-10%, ZrO 2 0-10%, SnO 2 + Sb 2 O 3 0 A glass composition containing 0.01 to 10% and having a mass ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.7 to 2 .

(8)質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%、SnO+Sb+SO 0.01〜10%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であるガラス組成。 (8) in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10~20 %, MgO 0-6%, CaO 0-4%, SrO + BaO 0-7%, P 2 O 5 0-10%, TiO 2 0-10%, ZrO 2 0-10%, SnO 2 + Sb 2 O 3 + SO 3 A glass composition containing 0.01 to 10% and having a mass ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 ratio of 0.7 to 2 .

本発明の強化ガラス基板は、下記の特性を満足することが好ましい。   The tempered glass substrate of the present invention preferably satisfies the following characteristics.

本発明の強化ガラス基板は、上記ガラス組成を有するとともに、ガラス表面に圧縮応力層を有している。圧縮応力層の圧縮応力は、600MPa以上、800MPa以上が好ましく、1000MPa以上がより好ましく、1200MPa以上が更に好ましく、1300MPa以上が更に好ましい。圧縮応力が大きくなるにつれて、ガラス基板の機械的強度が高くなる。一方、ガラス基板表面に極端に大きな圧縮応力が形成されると、基板表面にマイクロクラックが発生し、かえってガラスの強度が低下する虞がある。また、ガラス基板に内在する引っ張り応力が極端に高くなる恐れがあるため、2500MPa以下とするのが好ましい。なお圧縮応力が大きくなるようにするには、Al、TiO、ZrO、MgO、ZnO、の含有量を増加させたり、SrO、BaOの含有量を低減したりすればよい。またイオン交換に要する時間を短くしたり、イオン交換溶液の温度を下げればよい。 The tempered glass substrate of the present invention has the above glass composition and a compressive stress layer on the glass surface. The compressive stress of the compressive stress layer is preferably 600 MPa or more and 800 MPa or more, more preferably 1000 MPa or more, further preferably 1200 MPa or more, and further preferably 1300 MPa or more. As the compressive stress increases, the mechanical strength of the glass substrate increases. On the other hand, when an extremely large compressive stress is formed on the surface of the glass substrate, microcracks are generated on the surface of the substrate, and the strength of the glass may be lowered. Moreover, since there exists a possibility that the tensile stress which exists in a glass substrate may become extremely high, it is preferable to set it as 2500 Mpa or less. In order to increase the compressive stress, the content of Al 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , MgO, ZnO may be increased, or the content of SrO or BaO may be reduced. Further, the time required for ion exchange may be shortened or the temperature of the ion exchange solution may be lowered.

圧縮応力層の厚みは、10μm以上が好ましく、15μm以上が最も好ましい。圧縮応力層の厚みが大きい程、ガラス基板に深い傷がついても、ガラス基板が割れにくくなる。一方、ガラス基板が切断しにくくなるため、圧縮応力層の厚みは2μm以下とする。なお圧縮応力層の厚みを大きくするには、KO、Pの含有量を増加させたり、SrO、BaOの含有量を低減したりすればよい。またイオン交換に要する時間を長くしたり、イオン交換溶液の温度を高めたりすればよい。 The thickness of the compressive stress layer is preferably 10 μm or more, and most preferably 15 μm or more. The greater the thickness of the compressive stress layer, the more difficult it is to break even if the glass substrate is deeply scratched. Meanwhile, since the glass substrate is less likely to cut, the thickness of the compressive stress layer shall be the 2 7 [mu] m or less. In order to increase the thickness of the compressive stress layer, the contents of K 2 O and P 2 O 5 may be increased or the contents of SrO and BaO may be reduced. Moreover, what is necessary is just to lengthen the time which ion exchange requires, or to raise the temperature of an ion exchange solution.

また“ガラス基板内部の引っ張り応力=(圧縮応力値×応力深さ)/(板厚−応力深さ×2)”で計算されるガラス内部の引っ張り応力は200MPa以下(好ましくは150MPa以下、より好ましくは100MPa以下、より好ましくは59MPa以下、更に好ましくは50MPa以下)である。この値が小さくなるほどガラス基板内部の欠陥によってガラスが破損にいたる恐れが少なくなるが、極端に小さくしすぎると、ガラス表面の圧縮応力値の低下や、応力深さが低下することを意味するため、1MPa以上、10MPa以上、15MPa以上であることが好ましい。 Further, the tensile stress inside the glass calculated by “tensile stress inside glass substrate = (compressive stress value × stress depth) / (plate thickness−stress depth × 2)” is 200 MPa or less (preferably 150 MPa or less, more preferably Is 100 MPa or less, more preferably 59 MPa or less, and still more preferably 50 MPa or less. The smaller this value, the less likely the glass will break due to defects inside the glass substrate, but if it is too small, it means a decrease in the compressive stress value on the glass surface and a decrease in stress depth. It is preferably 1 MPa or more, 10 MPa or more, or 15 MPa or more.

本発明の強化ガラス基板は、板厚が3.0mm、1.5mm以下、0.7mm以下、0.5mm以下、特に0.3mm以下であることが好ましい。ガラス基板の板厚が薄い程、ガラス基板を軽量化することできる。また、本発明の強化ガラス基板は、板厚を薄くしても、ガラス基板が破壊しにくい利点を有している。なおガラスの成形をオーバーフローダウンドロー法で行う場合、ガラスの薄肉化を研磨等を行うことなく達成できるため有利である。   The tempered glass substrate of the present invention preferably has a plate thickness of 3.0 mm, 1.5 mm or less, 0.7 mm or less, 0.5 mm or less, particularly 0.3 mm or less. The thinner the glass substrate, the lighter the glass substrate. Further, the tempered glass substrate of the present invention has an advantage that the glass substrate is not easily broken even if the plate thickness is reduced. When glass is formed by the overflow downdraw method, it is advantageous because the glass can be thinned without polishing or the like.

本発明の強化ガラス基板は、未研磨の表面を有することが好ましく、未研磨の表面の平均表面粗さ(Ra)は10Å以下、好ましくは5Å以下、より好ましくは2Å以下である。尚、表面の平均表面粗さ(Ra)はSEMI D7−97「FPDガラス基板の表面粗さの測定方法」に準拠した方法により測定すればよい。ガラスの理論強度は本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラス基板の表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥がガラスの成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。それ故、強化ガラス基板の表面を未研磨とすれば、本来のガラス基板の機械的強度を損ない難くなり、ガラス基板が破壊し難くなる。また、ガラス基板の表面を未研磨とすれば、ガラス基板の製造工程で研磨工程を省略できるため、ガラス基板の製造コストを下げることができる。本発明の強化ガラス基板において、ガラス基板の両面全体を未研磨とすれば、ガラス基板が更に破壊し難くなる。また、本発明の強化ガラス基板において、ガラス基板の切断面から破壊に至る事態を防止するため、ガラス基板の切断面に面取り加工等を施してもよい。なお、未研磨の表面を得るためには、ガラスの成形をオーバーフローダウンドロー法で行えばよい。   The tempered glass substrate of the present invention preferably has an unpolished surface, and the average surface roughness (Ra) of the unpolished surface is 10 mm or less, preferably 5 mm or less, more preferably 2 mm or less. The average surface roughness (Ra) of the surface may be measured by a method based on SEMI D7-97 “Measurement method of surface roughness of FPD glass substrate”. The theoretical strength of glass is inherently very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow is generated on the surface of the glass substrate in a step after glass molding, for example, a polishing step. Therefore, if the surface of the tempered glass substrate is unpolished, the mechanical strength of the original glass substrate is hardly impaired, and the glass substrate is hardly broken. Further, if the surface of the glass substrate is unpolished, the polishing process can be omitted in the glass substrate manufacturing process, so that the manufacturing cost of the glass substrate can be reduced. In the tempered glass substrate of the present invention, if both surfaces of the glass substrate are unpolished, the glass substrate becomes more difficult to break. Moreover, in the tempered glass substrate of this invention, in order to prevent the situation which breaks from the cut surface of a glass substrate, you may give a chamfering process etc. to the cut surface of a glass substrate. In order to obtain an unpolished surface, glass may be formed by an overflow down draw method.

本発明の強化ガラス基板は、ガラスの液相温度が1200℃以下、1050℃以下、1030℃以下、1010℃以下、1000℃以下であることが好ましく、950℃以下が特に好ましい。ここで、「液相温度」とは、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持した後、結晶が析出する温度を指す。なお液相温度を低下させるには、NaO、KO、Bの含有量を増加させたり、Al、LiO、MgO、ZnO、TiO、ZrOの含有量を低減したりすればよい。 In the tempered glass substrate of the present invention, the liquidus temperature of the glass is preferably 1200 ° C or lower, 1050 ° C or lower, 1030 ° C or lower, 1010 ° C or lower, 1000 ° C or lower, and particularly preferably 950 ° C or lower. Here, “liquid phase temperature” means that glass is crushed, passed through a standard sieve 30 mesh (500 μm sieve opening), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 μm sieve sieve) is placed in a platinum boat, and the temperature gradient The temperature at which crystals are precipitated after being kept in the furnace for 24 hours. In order to lower the liquidus temperature, the content of Na 2 O, K 2 O, B 2 O 3 is increased or the content of Al 2 O 3 , Li 2 O, MgO, ZnO, TiO 2 , ZrO 2 is increased. The amount may be reduced.

本発明の強化ガラス基板は、ガラスの液相粘度は、104.0dPa・s以上が好ましく、104.3dPa・s以上がより好ましく、104.5dPa・s以上が更に好ましく、105.0dPa・s以上が特に好ましく、105.4dPa・s以上が最も好ましい。ここで、「液相粘度」とは、液相温度におけるガラスの粘度を指す。なお液相粘度を上昇させるには、NaO、KOの含有量を増加させたり、Al、LiO、MgO、ZnO、TiO、ZrOの含有量を低減したりすればよい。 The tempered glass substrate of the present invention, the liquidus viscosity of the glass is preferably at least 10 4.0 dPa · s, more preferably at least 10 4.3 dPa · s, more preferably not less than 10 4.5 dPa · s, 10 5.0 dPa · s or more is particularly preferable, and 10 5.4 dPa · s or more is most preferable. Here, “liquidus viscosity” refers to the viscosity of the glass at the liquidus temperature. In order to increase the liquid phase viscosity, the content of Na 2 O, K 2 O is increased, or the content of Al 2 O 3 , Li 2 O, MgO, ZnO, TiO 2 , ZrO 2 is decreased. do it.

なお、液相粘度が高く、液相温度が低いほど、ガラスの耐失透性は優れるとともに、ガラス基板の成形性に優れている。そしてガラスの液相温度が1200℃以下で、ガラスの液相粘度は、104.0dPa・s以上であれば、オーバーフローダウンドロー法で成形可能である。 In addition, the higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance of the glass and the better the moldability of the glass substrate. The liquidus temperature of the glass at 1200 ° C. or less, the liquidus viscosity of the glass, if 10 4.0 dPa · s or more, it can be molded by an overflow down draw method.

本発明の強化ガラス基板は、ガラスの密度が2.8g/cm以下であることが好ましく、2.7g/cm以下がより好ましく、2.6g/cm以下が更に好ましい。ガラスの密度が小さい程、ガラス基板の軽量化を図ることができる。ここで、「密度」とは、周知のアルキメデス法で測定した値を指す。なおガラスの密度を低下させるには、SiO、P、Bの含有量を増加させたり、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ZnO、ZrO、TiOの含有量を低減したりすればよい。 The tempered glass substrate of the present invention preferably has a glass density of 2.8 g / cm 3 or less, more preferably 2.7 g / cm 3 or less, and even more preferably 2.6 g / cm 3 or less. As the glass density is smaller, the glass substrate can be made lighter. Here, “density” refers to a value measured by the well-known Archimedes method. In order to reduce the density of the glass, the content of SiO 2 , P 2 O 5 , B 2 O 3 is increased, alkali metal oxide, alkaline earth metal oxide, ZnO, ZrO 2 , TiO 2 What is necessary is just to reduce content.

本発明の強化ガラス基板は、30〜380℃の温度範囲におけるガラスの熱膨張係数が70〜110×10−7/℃であることが好ましく、75〜100×10−7/℃であることがより好ましく、80〜100×10−7/℃であることが更に好ましく、85〜96×10−7/℃であることが特に好ましい。ガラスの熱膨張係数を上記範囲とすれば、金属、有機系接着剤等の部材と熱膨張係数が整合しやすくなり、金属、有機系接着剤等の部材の剥離を防止することができる。ここで、「熱膨張係数」とは、ディラトメーターを用いて、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定した値を指す。なお熱膨張係数を上昇させるには、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物の含有量を増加さればよく、逆に低下させるには、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物の含有量を低減すればよい。 The tempered glass substrate of the present invention preferably has a glass thermal expansion coefficient of 70 to 110 × 10 −7 / ° C. in a temperature range of 30 to 380 ° C., and preferably 75 to 100 × 10 −7 / ° C. More preferably, it is 80-100 * 10 < -7 > / degreeC, It is still more preferable that it is 85-96 * 10 < -7 > / degreeC. If the thermal expansion coefficient of the glass is in the above range, it becomes easy to match the thermal expansion coefficient with a member such as a metal or an organic adhesive, and peeling of the member such as a metal or an organic adhesive can be prevented. Here, the “thermal expansion coefficient” refers to a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient in a temperature range of 30 to 380 ° C. using a dilatometer. In order to increase the coefficient of thermal expansion, the content of alkali metal oxides and alkaline earth metal oxides may be increased. To decrease the coefficient of thermal expansion, the content of alkali metal oxides and alkaline earth metal oxides is included. The amount may be reduced.

本発明の強化ガラス基板は、歪点が500℃以上であることが好ましく、540℃以上がより好ましく、550℃以上がより好ましく、560℃以上がさらに好ましい。ガラスの歪点が高いほどガラスの耐熱性が優れることなり、強化ガラス基板に熱処理を施したとしても、強化層が消失しがたくなる。またガラスの歪点が高いとイオン交換中に応力緩和が起こりにくくなるため高い圧縮応力値を得ることが可能になる。ガラスの歪点を高くするためにはアルカリ金属酸化物の含有量を低減させたり、アルカリ土類金属酸化物、Al、ZrO、Pの含有量を増加させればよい。 The tempered glass substrate of the present invention preferably has a strain point of 500 ° C or higher, more preferably 540 ° C or higher, more preferably 550 ° C or higher, and further preferably 560 ° C or higher. The higher the strain point of the glass, the better the heat resistance of the glass, and even if the tempered glass substrate is subjected to heat treatment, the tempered layer hardly disappears. Also, if the strain point of the glass is high, stress relaxation is less likely to occur during ion exchange, so a high compressive stress value can be obtained. In order to increase the strain point of glass, the content of alkali metal oxides may be reduced, or the content of alkaline earth metal oxides, Al 2 O 3 , ZrO 2 , P 2 O 5 may be increased. .

本発明の強化ガラス基板は、ガラスの高温粘度102.5dPa・sに相当する温度が1500℃以下が好ましく、1450℃以下がより好ましく、1430℃以下がより好ましく、1420℃以下がより好ましく、1400℃以下が更に好ましい。ガラスの高温粘度102.5dPa・sに相当する温度が低い程、溶融窯等のガラスの製造設備への負担が小さいとともに、ガラス基板の泡品位を向上させることができる。つまり、ガラスの高温粘度102.5dPa・sに相当する温度が低い程、ガラス基板を安価に製造することができる。なお、ガラスの高温粘度102.5dPa・sに相当する温度は、ガラスの溶融温度に相当しており、ガラスの高温粘度102.5dPa・sに相当する温度が低いほど、低温でガラスを溶融することができる。なお102.5dPa・sに相当する温度を低下させるには、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、ZnO、B、TiOの含有量を増加させたり、SiO、Alの含有量を低減すればよい。 In the tempered glass substrate of the present invention, the temperature corresponding to a glass high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s is preferably 1500 ° C. or less, more preferably 1450 ° C. or less, more preferably 1430 ° C. or less, and more preferably 1420 ° C. or less. 1400 degrees C or less is still more preferable. The lower the temperature corresponding to the high-temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s of the glass, the smaller the burden on the glass production equipment such as the melting furnace, and the higher the bubble quality of the glass substrate. That is, the lower the temperature corresponding to the glass high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s, the cheaper the glass substrate can be produced. The temperature corresponding to the glass high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s corresponds to the melting temperature of the glass. The lower the temperature corresponding to the glass high temperature viscosity of 10 2.5 dPa · s, the lower the temperature. Glass can be melted. In order to reduce the temperature corresponding to 10 2.5 dPa · s, the content of alkali metal oxide, alkaline earth metal oxide, ZnO, B 2 O 3 , TiO 2 is increased, or SiO 2 , the content of al 2 O 3 may be reduced.

また本発明に係るガラスは、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜20%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/KO比が0.7〜2であることを特徴とし、好ましくは、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜17.5%、B 0.01〜8%、LiO 0〜4%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/KO比が0.8〜2であることを特徴とし、さらに好ましくは、質量%で、SiO 40〜70%、Al 10〜16.5%、B 0.01〜6%、LiO 0〜4%、NaO 10〜20%、MgO 0〜6%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜7%、P 0〜10%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/KO比が0.8〜1.5であることを特徴とする。 The glasses according to the invention also, in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10 to 20%, MgO 0 to 10%, CaO 0 to 4%, SrO + BaO 0 to 10%, characterized in that the Na 2 O / K 2 O ratio by weight ratio is 0.7 to 2 , preferably, in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~17.5%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~4%, Na 2 O 10~20 %, MgO 0-6%, CaO 0-4%, SrO + BaO 0-7%, P 2 O 5 0-10%, TiO 2 0-10%, ZrO 2 0-10%, and Na by mass ratio 2 O / K 2 O ratio is 0.8-2, more preferably, by mass%, SiO 2 40~70%, Al 2 O 3 10~16.5 %, B 2 O 3 0.01~6%, Li 2 O 0~4%, Na 2 O 10~20%, 0~6% MgO, CaO 0~4%, SrO + BaO 0~7% , P 2 O 5 0~10%, TiO 2 0~10%, containing ZrO 2 0%, the Na 2 O / K 2 O ratio in the mass ratio 0 .8 to 1.5.

本発明に係るガラスにおいて、ガラス組成を上記範囲に限定した理由および好ましい範囲は、既述の強化ガラス基板と同様であるため、ここではその記載を省略する。さらに、本発明に係るガラスは、当然のことながら、既述の強化ガラス基板の特性、効果を有している。 In the glass according to the present invention , the reason why the glass composition is limited to the above range and the preferable range are the same as those of the tempered glass substrate described above, and thus the description thereof is omitted here. Furthermore, the glass according to the present invention naturally has the characteristics and effects of the tempered glass substrate described above.

本発明に係るガラスは、430℃のKNO溶融塩中で4時間イオン交換したとき、表面の圧縮応力が600MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが10〜27μmになることが好ましい。本発明に係るガラスは、ガラス組成を上記範囲に規制しているため、イオン交換性能が良好であり、容易に表面の圧縮応力を600MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みを10〜27μmとすることができる。 The glasses according to the invention, when 4 hours ion exchange in a KNO 3 molten salt at 430 ° C., the compressive stress of the surface is more than 600 MPa, and the thickness of the compression stress layer is preferably formed of a 10 ~ 27 mu m. Glass according to the present invention, since the glass composition is regulated within the above range, the ion exchange performance is good, easily the compressive stress of the surface 600MPa or more and a thickness of the compressive stress layer and 10 ~ 27 mu m can do.

本発明に係るガラスは、上記組成範囲内のガラス組成となるように調合したガラス原料を連続溶融炉に投入し、ガラス原料を1500〜1600℃で加熱溶融し、清澄した後、成形装置に供給した上で溶融ガラスを板状に成形し、徐冷することにより製造することができる。   In the glass according to the present invention, a glass raw material prepared so as to have a glass composition within the above composition range is put into a continuous melting furnace, the glass raw material is heated and melted at 1500 to 1600 ° C., clarified, and then supplied to a molding apparatus Then, the molten glass can be formed into a plate shape and slowly cooled.

成形は、オーバーフローダウンドロー法を採用することが好ましい。オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を成形すれば、未研磨で表面品位が良好なガラス基板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラス基板の表面となるべき面は桶状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されることにより、無研磨で表面品位が良好なガラス基板を成形できるからである。ここで、オーバーフローダウンドロー法は、溶融状態のガラスを耐熱性の桶状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを桶状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス基板を製造する方法である。桶状構造物の構造や材質は、ガラス基板の寸法や表面精度を所望の状態とし、ガラス基板に使用できる品位を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うためにガラス基板に対してどのような方法で力を印加するものであってもよい。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラス基板に接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラス基板の端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。本発明に係るガラスは、耐失透性が優れるとともに、成形に適した粘度特性を有しているため、オーバーフローダウンドロー法による成形を精度よく実行することができる。なお、液相温度が1200℃以下、液相粘度が104.0dPa・s以上であれば、オーバーフローダウンドロー法でガラス基板を製造することができる。 For the molding, it is preferable to employ an overflow downdraw method. If the glass substrate is formed by the overflow down draw method, a glass substrate that is unpolished and has good surface quality can be produced. The reason for this is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface of the glass substrate does not come into contact with the bowl-like refractory, and is molded in a free surface state. This is because it can be molded. Here, the overflow down draw method is to melt the molten glass from both sides of the heat-resistant bowl-like structure and draw the overflowed molten glass downward while joining at the lower end of the bowl-like structure. This is a method for producing a glass substrate. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as the dimensions and surface accuracy of the glass substrate can be set to a desired state and the quality usable for the glass substrate can be realized. Moreover, in order to perform the downward extending | stretching shaping | molding, you may apply force with what kind of method with respect to a glass substrate. For example, a method may be employed in which a heat-resistant roll having a sufficiently large width is rotated and stretched in contact with the glass substrate, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls are only near the end face of the glass substrate. You may employ | adopt the method of making it contact and extending | stretching. Since the glass according to the present invention is excellent in devitrification resistance and has a viscosity characteristic suitable for molding, it is possible to accurately perform molding by the overflow down draw method. If the liquid phase temperature is 1200 ° C. or lower and the liquid phase viscosity is 10 4.0 dPa · s or higher, the glass substrate can be produced by the overflow down draw method.

なおオーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の方法を採用することができる。例えば、ダウンドロー法(スロットダウン法、リドロー法等)、フロート法、ロールアウト法、プレス法等の様々な成形方法を採用することができる。例えばプレス法でガラスを成形すれば、小型のガラス基板を効率良く製造することができる。   In addition to the overflow downdraw method, various methods can be employed. For example, various molding methods such as a downdraw method (slot down method, redraw method, etc.), a float method, a rollout method, a press method, and the like can be employed. For example, if glass is formed by a pressing method, a small glass substrate can be efficiently produced.

本発明の強化ガラス基板を製造するには、まず上記ガラスを用意する。次いで強化処理を施す。ガラス基板を所定サイズに切断するのは、強化処理後に行う。このようにすれば、強化ガラス基板の製造コストを低減することができる。強化処理は、イオン交換処理にて行うことが望ましい。イオン交換処理は、例えば400〜550℃の硝酸カリウム溶液中にガラス板を1〜8時間浸漬することによって行うことができる。イオン交換条件は、ガラスの粘度特性や、用途、板厚、ガラス内部の引っ張り応力等を考慮して最適な条件を選択すればよい。 In order to produce the tempered glass substrate of the present invention, first, the glass is prepared. Next, a strengthening process is performed. For cutting the glass substrate into a predetermined size it is carried out after the strengthening process. In this way, Ru can be reduced and the manufacturing cost of the tempered glass substrate. The strengthening process is desirably performed by an ion exchange process. The ion exchange treatment can be performed, for example, by immersing the glass plate in a potassium nitrate solution at 400 to 550 ° C. for 1 to 8 hours. As ion exchange conditions, optimum conditions may be selected in consideration of the viscosity characteristics of glass, application, plate thickness, tensile stress inside the glass, and the like.

以下、本発明を実施例に基づいて説明する。   Hereinafter, the present invention will be described based on examples.

表1は、本発明の実施例(試料No.1〜9)のガラス組成と特性を示すものである。尚、表中の「未」の表示は、未測定を意味している。   Table 1 shows the glass composition and characteristics of Examples (Sample Nos. 1 to 9) of the present invention. In addition, the display of “not yet” in the table means not measured.

表1の各試料は次のようにして作製した。まず、表中のガラス組成となるように、ガラス原料を調合し、白金ポットを用いて1580℃で8時間溶融した。その後、溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した。得られたガラス基板について、種々の特性を評価した。   Each sample of Table 1 was produced as follows. First, the glass raw material was prepared so that it might become the glass composition in a table | surface, and it melted at 1580 degreeC for 8 hours using the platinum pot. Thereafter, the molten glass was poured onto a carbon plate and formed into a plate shape. Various characteristics were evaluated about the obtained glass substrate.

密度は、周知のアルキメデス法によって測定した。   The density was measured by the well-known Archimedes method.

歪点Ps、徐冷点Taは、ASTM C336の方法に基づいて測定した。   The strain point Ps and the annealing point Ta were measured based on the method of ASTM C336.

軟化点Tsは、ASTM C338の方法に基づいて測定を行った。   The softening point Ts was measured based on the method of ASTM C338.

ガラスの粘度104.0dPa・s、103.0dPa・s、102.5dPa・sに相当する温度は、白金球引き上げ法で測定した。 Temperature corresponding to a viscosity 10 4.0 dPa · s, 10 3.0 dPa · s, 10 2.5 dPa · s of the glass was measured by a platinum ball pulling method.

熱膨張係数αは、ディラトメーターを用いて、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数を測定したものである。   The thermal expansion coefficient α is obtained by measuring an average thermal expansion coefficient in a temperature range of 30 to 380 ° C. using a dilatometer.

液相温度は、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定したものである。   The liquid phase temperature is obtained by crushing glass, passing through a standard sieve 30 mesh (a sieve opening of 500 μm), putting the glass powder remaining in 50 mesh (a sieve opening of 300 μm) into a platinum boat, and keeping it in a temperature gradient furnace for 24 hours. Then, the temperature at which the crystals are deposited is measured.

液相粘度は、液相温度における各ガラスの粘度を示す。   The liquidus viscosity indicates the viscosity of each glass at the liquidus temperature.

その結果、得られたガラス基板は、密度が2.59g/cm以下、熱膨張係数が92〜98×10−7/℃、強化ガラス素材として好適であった。また液相粘度が104.9dPa・s以上と高くオーバーフローダウンドロー成形が可能であり、しかも102.5dPa・sにおける温度が1482℃以下と低いので、生産性が高く安価に大量のガラス基板を供給できるものと考えられる。なお、未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、ガラス基板の表層において微視的にガラス組成が異なっているものの、ガラス基板全体としてガラス組成が実質的に相違していない。したがって、密度、粘度などの特性値については未強化ガラス基板と強化ガラス基板は、上記特性が実質的に相違していない。続いて試料No.1〜9の各ガラス基板の両表面に光学研磨を施した後、イオン交換処理を行った。処理を終えた各試料は表面を洗浄した後、表面応力計(株式会社東芝製FSM−6000)を用いて観察される干渉縞の本数とその間隔から表面の圧縮応力値と圧縮応力層の厚みを算出した。算出に当たり、試料の屈折率は1.53、光学弾性定数は28[(nm/cm)/MPa]とした。 As a result, the obtained glass substrate was suitable as a tempered glass material having a density of 2.59 g / cm 3 or less and a thermal expansion coefficient of 92 to 98 × 10 −7 / ° C. In addition, the liquid phase viscosity is as high as 10 4.9 dPa · s or higher, and overflow downdraw molding is possible, and the temperature at 10 2.5 dPa · s is as low as 1482 ° C. It is considered that a glass substrate can be supplied. In addition, although the glass composition differs microscopically in the surface layer of a glass substrate, the glass composition is not substantially different as the whole glass substrate. Therefore, the characteristic values such as density and viscosity are not substantially different between the untempered glass substrate and the tempered glass substrate. Subsequently, sample no. After subjecting both surfaces of each of the glass substrates 1 to 9 to optical polishing, ion exchange treatment was performed. After finishing the surface of each sample after the treatment, the surface compressive stress value and the thickness of the compressive stress layer are determined from the number of interference fringes observed using a surface stress meter (FSM-6000 manufactured by Toshiba Corporation) and the interval therebetween. Was calculated. In the calculation, the refractive index of the sample was 1.53, and the optical elastic constant was 28 [(nm / cm) / MPa].

その結果、本発明の実施例である試料No.1〜9の各ガラス基板は、その表面に802MPa以上の圧縮応力が発生しており、且つその厚みは15〜27μmであった。また、板厚0.5mmの基板において内部の引っ張り応力は59MPa以下と低かった。
As a result, sample No. Each of the glass substrates 1 to 9 had a compressive stress of 802 MPa or more on the surface thereof, and had a thickness of 15 to 27 μm . Further, the internal tensile stress was as low as 59 MPa or less in the substrate having a thickness of 0.5 mm.

なお、上記実施例は、本発明の説明の便宜上、ガラスを溶融し、流し出しによる成形を行った後、イオン交換処理前に光学研磨を行った。工業的規模で実施する場合には、オーバーフローダウンドロー法等でガラス基板を成形し、ガラス基板の両表面が未研磨の状態でイオン交換処理することが望ましい。   In the above examples, for convenience of explanation of the present invention, glass was melted and cast by casting, followed by optical polishing before ion exchange treatment. When implemented on an industrial scale, it is desirable to form a glass substrate by an overflow down draw method or the like, and to perform ion exchange treatment in a state where both surfaces of the glass substrate are unpolished.

本発明の強化ガラス基板は、携帯電話、デジタルカメラ、PDA等のカバーガラス、あるいはタッチパネルディスプレイ等のガラス基板として好適である。また、本発明の強化ガラス基板は、これらの用途以外にも、高い機械的強度が要求される用途、例えば窓ガラス、磁気ディスク用基板、フラットパネルディスプレイ用基板、太陽電池用カバーガラス、固体撮像素子用カバーガラス、食器への応用が期待できる。   The tempered glass substrate of the present invention is suitable as a glass substrate for a mobile phone, a digital camera, a cover glass such as a PDA, or a touch panel display. In addition to these uses, the tempered glass substrate of the present invention is used for applications requiring high mechanical strength, such as window glass, magnetic disk substrates, flat panel display substrates, solar cell cover glasses, solid-state imaging. Application to cover glass for elements and tableware can be expected.

Claims (13)

表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜20%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であり、圧縮応力層は深さが27μm以下の化学強化層であり、且つ基板端面の表面に圧縮応力層が存在しないことを特徴とする強化ガラス基板。 A tempered glass substrate having a compressive stress layer on the surface, as a glass composition, in mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0 to 5%, Na 2 O 10 to 20%, MgO 0 to 10%, CaO 0 to 4%, SrO + BaO 0 to 10%, and the ratio of Na 2 O / Al 2 O 3 is 0 A tempered glass substrate, wherein the compressive stress layer is a chemically strengthened layer having a depth of 27 μm or less, and no compressive stress layer is present on the surface of the substrate end face . 内部の引っ張り応力が59MPa以下であることを特徴とする請求項1記載の強化ガラス基板。   The tempered glass substrate according to claim 1, wherein an internal tensile stress is 59 MPa or less. SnO 0.01〜6%を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to claim 1 or 2, characterized in that it contains SnO 2 0.01 to 6%. TiO+ZrO 0.1〜15%を含有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 3 , comprising 0.1 to 15% of TiO 2 + ZrO 2 . MgO+CaO+SrO+BaO 0.1〜10%を含有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 MgO + CaO + SrO + BaO 0.1 to 10% is contained, The tempered glass substrate in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 表面の圧縮応力が300MPa以上、且つ圧縮応力層の厚みが10〜27μmであって、ガラス基板内部の引っ張り応力が59MPa以下であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 Compressive stress of the surface at least 300 MPa, and a thickness of 10 ~ 27 mu m of the compressive stress layer, to any one of claims 1 to 5, characterized in that the tensile stress within the glass substrate is less than 59 MPa The tempered glass substrate as described. 未研磨の表面を有することを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 6, characterized in that has an unpolished surface. 液相温度が1200℃以下のガラスからなることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 7, liquidus temperature, comprising the 1200 ° C. or less of the glass. 液相粘度が104.0dPa・s以上のガラスからなることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 8, liquidus viscosity, characterized in that it consists of 10 4.0 dPa · s or more of the glass. タッチパネルディスプレイに用いられることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の強化ガラス基板。 The tempered glass substrate according to any one of claims 1 to 9, characterized in that used in the touch panel display. 質量%で、SiO 40〜75%、Al 10〜20%、B 0.01〜8%、LiO 0〜5%、NaO 10〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜4%、SrO+BaO 0〜10%を含有し、質量比でNaO/Al比が0.7〜2であるガラス組成となるように調合したガラス原料を溶融し、ガラスを板状に成形した後、イオン交換処理を施すことによって、ガラス表面に深さ27μm以下の圧縮応力層を形成した後、得られた強化ガラス基板を所定サイズに切断することを特徴とする強化ガラス基板の製造方法。 By mass%, SiO 2 40~75%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 0.01~8%, Li 2 O 0~5%, Na 2 O 10~20%, MgO 0~ Melting glass raw material containing 10%, CaO 0-4%, SrO + BaO 0-10%, and having a glass composition in which Na 2 O / Al 2 O 3 ratio is 0.7-2 by mass ratio Then, after forming the glass into a plate shape, an ion exchange treatment is performed to form a compressive stress layer having a depth of 27 μm or less on the glass surface, and then the obtained tempered glass substrate is cut into a predetermined size. A method for producing a tempered glass substrate. SnO 0.01〜6%を含有することを特徴とする請求項12記載の強化ガラス基板の製造方法。 The method for producing a tempered glass substrate according to claim 12, comprising 0.01 to 6% of SnO 2 . オーバーフローダウンドロー法にてガラスを板状に成形することを特徴とする請求項12又は13に記載の強化ガラス基板の製造方法。 The method for producing a tempered glass substrate according to claim 12 or 13 , wherein the glass is formed into a plate shape by an overflow down draw method.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6394110B2 (en) * 2013-07-08 2018-09-26 日本電気硝子株式会社 Method for producing tempered glass
JP6741214B2 (en) * 2014-09-03 2020-08-19 日本電気硝子株式会社 Support glass substrate and laminate using the same
JP6465416B2 (en) * 2017-07-19 2019-02-06 日本電気硝子株式会社 Endoscope
CN109694187B (en) * 2019-03-07 2022-03-22 科立视材料科技有限公司 Lithium-containing glass with low softening point

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3212612C2 (en) * 1982-04-05 1985-12-19 Schott Glaswerke, 6500 Mainz Chemically hardenable watch glass with high Knoop hardness in the system SiO &darr; 2 &darr; -Al &darr; 2 &darr; O &darr; 3 &darr; -MgO-Na &darr; 2 &darr; O-K &darr; 2 &darr; O (-B &darr; 2 &darr; O &darr; 3 &darr; La &darr; 2 &darr; O &darr; 3 &darr;)
JP2001151534A (en) * 1999-11-25 2001-06-05 Nippon Electric Glass Co Ltd Glass substrate for liquid crystal display
JP2002174810A (en) * 2000-12-08 2002-06-21 Hoya Corp Glass substrate for display, manufacturing method for the same and display using the same
JP4453240B2 (en) * 2002-05-16 2010-04-21 日本電気硝子株式会社 Non-alkali glass and glass substrate for display using the same
JP2004091244A (en) * 2002-08-30 2004-03-25 Nippon Electric Glass Co Ltd Alkali-free glass substrate and method for manufacturing the same
JP2004131314A (en) * 2002-10-09 2004-04-30 Asahi Glass Co Ltd Chemically strengthened glass substrate with transparent conductive film and its manufacturing process
JP4289931B2 (en) * 2003-06-05 2009-07-01 セントラル硝子株式会社 Method for producing chemically strengthened glass

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210010118A (en) 2019-07-19 2021-01-27 주식회사 케이씨씨글라스 Glass composition and chemically strengthened glass manufactured therefrom

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