JP5782446B2 - 接触面上における1つまたは複数の対象用の接触データの決定 - Google Patents
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Description
本出願は、2009年10月19日出願のスウェーデン特許出願第0950768−2号および2009年10月19日出願の米国仮出願第61/272,665号の利益を主張し、これら両方の出願が、参照により本明細書に援用されている。
Si:空間伝播信号i
Pi、j:空間伝播信号iにおけるピークj
bi、j、l:空間伝播信号iにおけるピークjの左極限
bi、j、r:空間伝播信号iにおけるピークjの右極限
bi、j、m:空間伝播信号iのピークjにおける極小の位置
Ai:空間伝播信号i用の多角形セット
Ai、j:多角形セットiにおける減衰経路j
Di、j:多角形セットiにおける不感帯j
Ai+k:多角形セットAiおよびAkの交点
図1Aは、接触検出機器における例示的な機構の側面図である。この機構には、光透過パネル1、1つまたは複数の光エミッタ2(1つが示されている)、および1つまたは複数の光センサ3(1つが示されている)が含まれる。パネルは、2つの対向する略平行な面4、5を規定し、かつ平面または曲面であってもよい。放射伝播チャネルが、パネルの2つの境界面間に設けられ、境界面4、5の少なくとも1つによって、伝播光は、接触対象6と相互作用することが可能になる。典型的には、エミッタ2からの光は、放射伝播チャネルにおける全内部反射(TIR)によって伝播し、センサ3は、パネル1の周囲に配置されて、受信光のエネルギを示すそれぞれの出力信号を生成する。
図2は、図1に関連して上で記載し説明したような接触検出機器において得られる出力信号に基づいた、接触決定のための例示的な方法の流れ図である。以下で方法ステップを簡潔に説明して、方法の概要、ならびに個別ステップおよび/またはステップの組み合わせのいくつかの利点を提示する。
一実施形態において、空間伝播信号は、特定の閾値を超える減衰を備えたどんなピークも検出するように処理される。閾値は、任意の適切な値に固定し設定してもよいが、一般に0.25未満である。一例において、閾値は、最も弱い接触シグネチャを検出できるように、約0.01〜0.001などの非常に低い値に設定される。一般に、閾値は、空間伝播信号のノイズレベルの上に設定される。したがって、ピーク検出ステップの感度を改善するために、任意の標準フィルタ技術、例えば低域通過フィルタ、メジアンフィルタ、フーリエフィルタ等を用いて、ピーク検出ステップの前に、ノイズ低減用に空間伝播信号を前処理するのが望ましくなり得る。
1.空間伝播信号の左端からスタートする。
2.左から右へ行きながら空間伝播信号Siにおける信号値を繰り返し処理し、減衰が閾値qtより大きくなる位置、および減衰が再び閾値qtより小さくなる位置を見つける。これらの位置をピークPi、jの極限点bi、j、l、bi、j、rとして記憶する。また、各ピークPi、jに対して、ピークに境界があるかないか、すなわち極限点の1つが空間伝播信号Siにおける活性領域(以下を参照)の端部と一致するかどうかの情報を記憶する。
3.各ピークPi、jに対して、極限点bi、j、l、bi、j、rを処理して、それらをピークPi、jからわずかに潜在的に移動させる。例えば、各極限点は、信号値が大きさにおいて減少している限り、ピークから離れるように移動してもよい。このステップは、閾値qtを超える信号値を有する接触シグネチャの狭い領域だけでなく、弱い接触シグネチャが全体として含まれることを保証するように働き得る。次に、結果としての極限点は、後続の計算において極限点として用いられる。
4.全てのピークPi、jに対して、恐らく、極小値の深さが、所定のまたは予め設定されたノイズ閾値を超えなければならないという追加制約と共に任意の適切なアルゴリズムを用いて、極限点間の極小値を探索する。各ピーク用の極小値bi、j、mに関する情報を記憶する。
5.1つまたは複数の極小値を有する全てのピークに対して、ピークを分割する。分割されたピーク用の極限点は、極小値の位置を極限点として用いることによって、または任意の他の適切な技術によって、上記の基底関数を用いて決定してもよい。
多角形セットを生成するステップを説明し例示する目的で、図4Aにおける走査ビーム実施形態を検討する。ここで、6つのビームB1−B6が、接触面にわたって掃引され、この場合に第1のビームセットB1、B3、B4が、第1の入力結合部位10から第1の出力結合部位11への伝播のために導入され、同時に第1の主方向R1において掃引され、第2のビームセットB2、B5、B6が、第2の入力結合部位10から第2の出力結合部位11への伝播のために導入され、同時に第2の主方向R2において掃引される。第1および第2の主方向R1、R2は、相互に直交し、パネルのエッジに平行である。第1のビームセットには、第1の入力結合部位10に垂直な1つのビームB1と、2つの非垂直で非平行なビームB3、B4と、が含まれる。第2のビームセットには、第2の入力結合部位10に垂直な1つのビームB2と、2つの非垂直で非平行なビームB5、B6と、が含まれる。
再構成ステップにおいて、解析領域は、接触点の存在を識別するように処理される。再構成ステップには、典型的には空間分布図を生成することが含まれるが、この空間分布図は、解析領域内におけるエネルギ/減衰/透過率の値の空間分布を示す。かかる空間分布図は、接触面全体にわたる空間分布図を再構成して、局所的に解析領域内だけの空間分布図を生成するために使用できる任意の既存の画像再構成技術を適合させて生成することができる。
1.適切なフィルタを投影に適用する。適切なフィルタは、文献で見つけられるが、しかし例えば、Ram−LakまたはShepp−Logan(シェフ−ローガン)とすることができる。フィルタは、フーリエ平面または空間領域において利用することができる。
2.空間分布図における全ての点/画素に対して、再構成された信号値が、全てのフィルタ補正投影との画素の相互作用の和として計算される。これは、逆投影プロセスである。
局所的な再構成ステップ206の完了後に、空間分布図内の真の(実際の)接触点を分離するために任意の周知技術を用いてもよい。例えば、通常の塊検出および追跡技術を、実際の接触点を見つけるために用いてもよい。しかしながら、先の局所的な再構成ステップが、接触点を抽出するために必要とされる処理を低減することを理解されたい。
上記のように、空間伝播信号は、背景信号を用いた正規化を通じて取得してもよい。背景信号は、典型的には、対象がパネルに接触していない状態での透過エネルギを表し、したがってそれぞれの出力結合部位における光の空間分布を示す。背景信号は、各検出器/出力結合部位または各出力信号に対して一意であってもなくてもよい。背景信号は、予め設定しても、別個の較正ステップ中に導き出しても、または恐らくかかる出力信号のセットを平均することによって1つまたは複数の前の繰り返し中に取得された出力信号(どんな対象もパネルに接触していない)から導き出してもよい。
本出願人は、光散乱効果を考慮するように接触決定プロセスを設計することによって、接触決定を改善し得ることを理解した。
上記のように、分散関数は、特定の接触検出機器用の理論計算によってか、または測定によって得ることができる。図19は、図1Cに示すタイプの走査ビーム実施形態から得られた測定データのグラフであるが、この場合に測定データは、直径が37インチの矩形光透過パネル用に得られた。グラフは、エントリ点(例えば、図1Cにおけるパネルの左側に位置する)と接触対象との間の距離の関数として、接触シグネチャの測定された半値幅を示す。したがって、このグラフは、図15Aにおけるグラフに対応する。接触シグネチャ幅は、エントリ点からの距離(およびまた出力結合点までの距離)に明白に依存する。この特定の例において、接触対象が、出力結合点に接近して位置する場合に、接触シグネチャ幅における減少はない。分散関数は、図15Bに示すように関数への再計算後に、実際の測定データによって適切に提供してもよく、または分散関数は、測定データに適合された適切な関数に基づいて導き出してもよい。かかる適合された関数は、線形、多角形、スプライン等であってもよい。
Claims (14)
- 接触検出機器における方法において、前記機器が、接触面(4)および対向面(5)を画定する光透過パネル(1)と、前記パネル(1)内で光シートを供給するための光源機構(2;8)であって、各シートが、前記接触面(4)と前記対向面(5)との間の内部反射によって、入力結合部位(10)から出力結合部位(11)へ伝播する光を含む光源機構(2;8)と、を含み、前記機器が、前記出力結合部位(11)に達する光を検出するための光センサ機構(3;9)であって、前記接触面(4)に接触する1つまたは複数の対象(6)が少なくとも2つの光シートの局所的減衰を引き起こすように前記接触検出機器が構成された光センサ機構(3;9)をさらに含み、前記方法が、
前記出力結合部位(11)内で、光の空間分布を示す少なくとも1つの投影信号(Si)を取得するステップと、
前記減衰を表す信号プロファイル(Pi、j)の識別のために前記少なくとも1つの投影信号(Si)を処理するステップと、
前記信号プロファイル(Pi、j)に基づいて、前記接触面(4)上の1つまたは複数の候補接触領域を識別するステップと、
前記1つまたは複数の候補接触領域内で、信号値の二次元分布を再構成するために前記少なくとも1つの投影信号(Si)を処理するステップと、
前記候補接触領域内で、前記再構成された信号値を処理することによって、前記または各対象(6)用の接触データを決定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、前記識別ステップが、各信号プロファイル(Pi、j)用に、前記接触面(4)にわたる減衰経路(Ai、j)を決定するステップであって、前記減衰経路が、前記信号プロファイル(Pi、j)に基づいて決定される幅を有するステップと、このように決定された減衰経路(Ai、j)のセットの関数として、前記接触面(4)上の前記1つまたは複数の候補接触領域を識別するステップと、を含むことを特徴とする方法。
- 請求項2に記載の方法において、前記識別ステップが、前記減衰経路(Ai、j)を交差させるステップを含むことを特徴とする方法。
- 請求項3に記載の方法において、前記取得ステップが、複数の投影信号(Si)を取得するステップであって、各投影信号(Si)が、前記接触面(4)の不感帯(Di、j)のセットに関連付けられ、前記投影信号(Si)が、前記接触面(4)に接触する対象(6)に無感応であるステップを含み、かつ前記識別ステップが、前記減衰経路(Ai、j)を前記不感帯(Di、j)と交差させるステップをさらに含むことを特徴とする方法。
- 請求項2に記載の方法において、前記取得ステップが、複数の投影信号(Si)を取得するステップを含み、前記識別ステップが、各投影信号(Si)用に、前記接触面(4)上の関連する減衰経路(Ai、j)の位置を表す経路図(Ai)を生成するステップと、前記生成された経路図(Ai)を交差させるステップと、を含むことを特徴とする方法。
- 請求項5に記載の方法において、各経路図(Ai)が、前記光シートの1つに関連付けられ、かつ前記識別ステップが、前記関連するシートにおける光線間の角度を最小化するように経路図(Ai)ペアを形成するステップと、前記経路図(Ai)ペアを交差させるステップと、を含むことを特徴とする方法。
- 請求項2に記載の方法において、前記取得ステップが、複数の投影信号(Si)を取得するステップを含み、かつ前記識別ステップが、各投影信号(Si)ペア用に、前記投影信号(Si)ペア用に決定された前記減衰経路(Ai、j)の交差を表す経路図(Ai)を生成するステップと、前記生成された経路図(Ai)を交差させるステップと、を含むことを特徴とする方法。
- 請求項5〜7のいずれか一項に記載の方法において、前記交差させるステップが、前記経路図(Ai)を幾何学的に整列させるステップと、前記経路図(Ai)に対して論理積演算を実行するステップと、を含むことを特徴とする方法。
- 請求項5〜8のいずれか一項に記載の方法において、各経路図(Ai)が、前記接触面(4)上の不感帯(Di、j)の位置をさらに表してもよく、前記投影信号(Si)が、前記接触面(4)に接触する対象(6)に無感応であることを特徴とする方法。
- 請求項2〜9のいずれか一項に記載の方法において、前記減衰経路を決定する前記ステップが、多角形、好ましくは凸多角形によって各減衰経路(Ai、j)を表すステップを含むことを特徴とする方法。
- 請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法において、各投影信号(Si)が、前記光シートの1つに関連付けられることを特徴とする方法。
- 請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法において、前記投影信号(Si)を取得する前記ステップが、前記出力結合部位内(11)で、光エネルギの空間分布を表すエネルギ信号を取得するステップと、背景信号(REF)によって前記エネルギ信号を正規化するステップであって、前記背景信号(REF)が、前記接触面(4)に対象(6)が接触していない状態で前記出力結合部位(11)内で前記光エネルギ空間分布を表すステップと、を含むことを特徴とする方法。
- データ処理システム上で実行される場合に、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法を実行するように適合されたコンピュータコードを含むコンピュータプログラムプロダクト。
- 接触検出機器に含まれる、接触面(4)における1つまたは複数の対象(6)用の接触データを決定するための装置において、前記接触検出機器が、前記接触面(4)および対向面(5)を画定する光透過パネル(1)と、前記パネル(1)内で光シートを供給するための光源機構(2;8)であって、各シートが、前記接触面(4)と前記対向面(5)との間の内部反射によって、入力結合部位(10)から出力結合部位(11)へ伝播する光を含む光源機構(2;8)と、前記出力結合部位(11)に達する光を検出するための光センサ機構(3;9)であって、前記接触面(4)に接触する各対象(6)が少なくとも2つの光シートを局所的に減衰させるように、前記接触検出機器が構成される光センサ機構(3;9)と、を含み、前記装置が、
前記出力結合部位(11)内で光の空間分布を示す少なくとも1つの投影信号(Si)を取得するための要素(1300)と、
前記減衰を表す信号プロファイル(Pi、j)の識別のために前記少なくとも1つの投影信号(Si)を処理するための要素(1302)と、
前記信号プロファイル(Pi、j)に基づいて、前記接触面(4)上の1つまたは複数の候補接触領域を識別するための要素(1304)と、
前記1つまたは複数の候補接触領域内で信号値の二次元分布を再構成するために、前記少なくとも1つの投影信号(Si)を処理するための要素(1306)と、
前記候補接触域内で、前記再構成された信号値を処理することによって、前記または各対象(6)用の接触データを決定するための要素(1308)と、を含むことを特徴とする装置。
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