JP5766053B2 - Method for producing biaryl compound - Google Patents

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Description

本発明は、液晶や有機ELなどの電子材料などの分野で有用なビアリール化合物の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a biaryl compound useful in the field of electronic materials such as liquid crystal and organic EL.

ビアリール化合物は、液晶や有機EL(Electro Luminescence)などの電子材料用途において非常に有用な化合物である。これら化合物の製造方法としては、鈴木カップリング反応を用いるのが一般的である(例えば、非特許文献1、非特許文献2参照)。しかしながら、この反応においては、微量副生物や未反応の原料がビアリール化合物中に残存することがあり、特に原料の芳香族ハロゲン化合物が残存した場合、電子材料の性能に影響を与えることが広く一般に知られている。そのため、ビアリール化合物を電子材料用途で使用する場合、残存する芳香族ハロゲン化合物を分離することが強く望まれるという課題があった。   A biaryl compound is a very useful compound for use in electronic materials such as liquid crystal and organic EL (Electro Luminescence). As a method for producing these compounds, a Suzuki coupling reaction is generally used (see, for example, Non-Patent Document 1 and Non-Patent Document 2). However, in this reaction, trace by-products and unreacted raw materials may remain in the biaryl compound, and in particular, when the raw material aromatic halogen compound remains, it generally affects the performance of electronic materials. Are known. Therefore, when the biaryl compound is used for electronic materials, there is a problem that it is strongly desired to separate the remaining aromatic halogen compound.

ビアリール化合物中に残存する芳香族ハロゲン化合物を分離する方法としては、再結晶や昇華などが一般的である(例えば、非特許文献3参照)。しかしながら、芳香族ハロゲン化合物の種類によっては、ビアリール化合物と物理的及び化学的性質が似ているため、精製が困難であった。   As a method for separating the aromatic halogen compound remaining in the biaryl compound, recrystallization, sublimation and the like are common (see, for example, Non-Patent Document 3). However, depending on the type of the aromatic halogen compound, the physical and chemical properties are similar to those of the biaryl compound, and thus purification is difficult.

このため、本発明者らは、上記の精製操作を繰り返していたが、ビアリール化合物の大幅な収率の低下、大量の有機溶媒の使用による廃棄物の増加、高価な昇華装置の導入が必要であるなど、工業的製法としては改善すべき課題があった。そのため、ビアリール化合物中の芳香族ハロゲン化合物を容易に且つ、効果的に分離する手法の開発が強く望まれていた。   For this reason, the present inventors have repeated the above purification operation, but it is necessary to significantly reduce the yield of the biaryl compound, increase the waste due to the use of a large amount of organic solvent, and introduce an expensive sublimation apparatus. For example, there was a problem to be improved as an industrial production method. Therefore, development of a method for easily and effectively separating aromatic halogen compounds in biaryl compounds has been strongly desired.

鈴木章ら,「クロスカップリング反応−基礎と産業応用」,13〜14頁,シーエムシー出版発行,2010年発行Suzuki Akira et al., “Cross Coupling Reaction-Fundamentals and Industrial Applications”, 13-14, published by CMC Publishing, 2010 小谷 正博ら編集,「第5版実験化学講座 有機化合物の合成VI 金属を用いる有機合成」,18巻,339〜340頁,丸善株式会社発行,2004年発行Edited by Masahiro Kotani et al., “5th edition, Experimental Chemistry Course, Synthesis of Organic Compounds VI, Organic Synthesis Using Metals”, 18, 339-340, published by Maruzen, 2004 平山 令明編集,「有機化合物結晶作製ハンドブック―原理とノウハウ―」,37〜55頁,丸善株式会社発行,2008年発行Edited by Noriaki Hirayama, “Organic Compound Crystal Preparation Handbook-Principles and Know-how”, pages 37-55, published by Maruzen Co., Ltd., 2008

本発明は、上記従来の技術の課題を解決すべく、ビアリール化合物に残存する芳香族ハロゲン化合物を容易に、且つ、効果的に分離する手法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a technique for easily and effectively separating an aromatic halogen compound remaining in a biaryl compound in order to solve the problems of the conventional techniques.

本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、芳香族ハロゲン化合物と芳香族ボロン酸を反応させた後、還元剤を加えることにより、残存する未反応の芳香族ハロゲン化合物を還元体に変換し、ビアリール化合物と分離できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have reacted an aromatic halogen compound and an aromatic boronic acid, and then added a reducing agent, thereby remaining unreacted aromatic halogen. The present inventors have found that the compound can be converted into a reduced form and separated from the biaryl compound, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、一般式(1)   That is, the present invention relates to the general formula (1)

(式中、Arは、置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、XはCl、Br又はIを表す。)で表される芳香族ハロゲン化合物(以下「芳香族ハロゲン化合物」ともいう)と、一般式(2) (Wherein Ar 1 represents an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, X represents Cl, Br or I) (hereinafter referred to as “aromatic halogen compound”). And general formula (2)

(式中、Ar2は、置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、Y及びYはそれぞれ独立して同一又は相異なったヒドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表すか、またはYとYが結合して炭素数1〜6のアルキレンジオキシル基又はカテコレート基を表す。)で表される芳香族ボロン酸(以下「芳香族ボロン酸」ともいう)を反応させた後、還元剤を加えることを特徴とする一般式(3) (In the formula, Ar 2 represents an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, and Y 1 and Y 2 each independently represent the same or different hydroxyl group or C 1-4 alkoxy group. Or an aromatic boronic acid (hereinafter also referred to as “aromatic boronic acid”) represented by Y 1 and Y 2 bonded to each other to represent an alkylenedioxyl group or catecholate group having 1 to 6 carbon atoms. A general formula (3) characterized by adding a reducing agent after the reaction.

(式中、Arは一般式(1)に同じ、Arは一般式(2)に同じである。)
で表されるビアリール化合物(以下「ビアリール化合物」ともいう)の製造方法である。
また、本発明は、還元剤を加えて得た、一般式(4)
(In the formula, Ar 1 is the same as the general formula (1), and Ar 2 is the same as the general formula (2).)
A biaryl compound represented by the following (hereinafter also referred to as “biaryl compound”).
In addition, the present invention provides a general formula (4) obtained by adding a reducing agent.

(式中、Arは、一般式(1)に同じである。)
で表される還元体(以下「還元体」ともいう)を、ビアリール化合物と分離する、上記ビアリール化合物の製造方法である。
(In the formula, Ar 1 is the same as the general formula (1).)
Is a method for producing the biaryl compound, wherein the reduced form (hereinafter also referred to as “reduced form”) is separated from the biaryl compound.

本発明によれば、ビアリール化合物に残存する芳香族ハロゲン化合物を容易に、且つ、効果的に分離する手法を提供することができ、これにより、高純度のビアリール化合物を製造することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the method of isolate | separating the aromatic halogen compound which remains in a biaryl compound easily and effectively can be provided, and, thereby, a highly purified biaryl compound can be manufactured.

次に、本発明について更に詳しく説明する。
上記一般式(1)及び(2)において、Ar及びArは、置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、これらは相互に同一又は相異なっていてもよい。XはCl、Br、Iを表す。Y及びYはそれぞれ独立して同一又は相異なったヒドロキシル基又は炭素数1〜4のアルコキシ基を表すか、またはYとYが結合して炭素数1〜6のアルキレンジオキシル基又はカテコレート基を表す。以上の芳香族ハロゲン化合物、あるいは、芳香族ボロン酸の具体例の一部を示せば、以下の化合物を挙げることができる。
Next, the present invention will be described in more detail.
In the general formulas (1) and (2), Ar 1 and Ar 2 represent an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, and these may be the same or different from each other. X represents Cl, Br, or I. Y 1 and Y 2 each independently represent the same or different hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or Y 1 and Y 2 are bonded to each other to represent an alkylenedioxyl group having 1 to 6 carbon atoms. Or represents a catecholate group. The following compounds can be given by showing a part of specific examples of the above aromatic halogen compounds or aromatic boronic acids.

上記一般式(3)の化合物[ビアリール化合物]は、例えば有機化学化学協会誌/Vol.63/No.4/2005年4月号/312頁〜324頁や、クロスカップリング反応−基礎と産業応用/シーエムシー出版/2010刊行/鈴木章ら執筆/13頁〜14頁)に記載の条件により製造できる。   The compound of the general formula (3) [biaryl compound] is described in, for example, Journal of Organic Chemical Chemistry / Vol. 63 / No. 4 / April 2005 issue / pages 312 to 324 and cross coupling reaction-basic and industrial application / CM publication / 2010 publication / Akira Suzuki et al./pages 13 to 14) .

上記還元剤の添加は、カップリング反応終了後の反応液に添加して還元反応を行ってもよいし、カップリング反応終了後に単離した粗結晶に還元剤を反応させてもよい。   The reducing agent may be added to the reaction solution after completion of the coupling reaction to carry out the reduction reaction, or the reducing agent may be reacted with the crude crystal isolated after the coupling reaction.

還元剤は、(1)パラジウム化合物と金属水素化化合物とを組み合わせて用いるか、あるいは、(2)a.パラジウム化合物、b.リン化合物、c.塩基、d.3級を除くアルコール、を組み合わせて用いると良い。   The reducing agent may be (1) a combination of a palladium compound and a metal hydride compound, or (2) a. A palladium compound, b. A phosphorus compound, c. A base, d. It is preferable to use a combination of alcohols other than tertiary.

上記パラジウム化合物は、ビアリール化合物を分解しないものであればよく、0〜2価パラジウム化合物類が挙げられる。具体例の一部を示せば、ヘキサクロロパラジウム酸ナトリウム四水和物、ヘキサクロロパラジウム酸カリウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウム、パラジウムアセチルアセトナート、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ジクロロテトラアンミンパラジウム、ジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム、パラジウムトリフルオロアセテート、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウムクロロホルム錯体、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等が挙げられる。これらのうち、酢酸パラジウム、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウムが好ましい。これらの使用量は、残存する未反応の芳香族ハロゲン化合物1モルに対し、パラジウム換算で、通常、0.01〜20モル%の範囲が好ましい。また、パラジウム化合物は、単一化合物でも2種類以上の化合物を組合せて用いてもよい。   The said palladium compound should just be a thing which does not decompose | disassemble a biaryl compound, and 0-2 divalent palladium compounds are mentioned. Specific examples include sodium hexachloropalladate tetrahydrate, potassium hexachloropalladate, palladium chloride, palladium bromide, palladium acetate, palladium acetylacetonate, dichlorobis (benzonitrile) palladium, dichlorobis (acetonitrile) palladium. Dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorotetraamminepalladium, dichloro (cycloocta-1,5-diene) palladium, palladium trifluoroacetate, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium chloroform complex, Examples include tetrakis (triphenylphosphine) palladium. Of these, palladium acetate, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, and tetrakis (triphenylphosphine) palladium are preferable. The amount of these used is usually preferably in the range of 0.01 to 20 mol% in terms of palladium with respect to 1 mol of the remaining unreacted aromatic halogen compound. The palladium compound may be a single compound or a combination of two or more compounds.

金属水素化化合物は、ビアリール化合物を分解しないものであればよく、ナトリウム化合物類、リチウム化合物類、アルミニウム化合物類を挙げることができる。具体例の一部を示せば、水素化ナトリウム(NaH)、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH)、水素化アルミニウムリチウム(LiAlH)、水素化塩化アルミニウム(AlClH)、水素化アルミニウム(AlH)、スーパーハイドライド(登録商標)、DiBAL−H、レッドAl(登録商標)、K−セレクトライド(登録商標)、L−セレクトライド(登録商標)、KS−セレクトライド(登録商標)、LS−セレクトライド(登録商標)等が挙げられる。これらのうち、水素化ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウムが好ましい。これらの使用量は、残存する芳香族ハロゲン化合物1モルに対して1〜50モルの範囲が好ましい。また、金属水素化化合物は、単一化合物でも2種類以上の化合物を組合せて用いてもよい。 The metal hydride compound is not particularly limited as long as it does not decompose the biaryl compound, and examples thereof include sodium compounds, lithium compounds, and aluminum compounds. Specific examples include sodium hydride (NaH), sodium borohydride (NaBH 4 ), lithium aluminum hydride (LiAlH 4 ), aluminum hydride chloride (AlCl 2 H), and aluminum hydride (AlH 3). ), Superhydride (registered trademark), DiBAL-H, Red Al (registered trademark), K-Selectride (registered trademark), L-Selectride (registered trademark), KS-Selectride (registered trademark), LS-Select Ride (registered trademark) and the like. Of these, sodium hydride, sodium borohydride, and lithium aluminum hydride are preferable. The amount of these used is preferably in the range of 1 to 50 mol with respect to 1 mol of the remaining aromatic halogen compound. The metal hydride compound may be a single compound or a combination of two or more compounds.

リン化合物は、ビアリール化合物を分解しないものであればよく、単座のリン化合物類や2座のリン化合物類が挙げられる。具体例の一部を示せば、トリエチルホスフィン、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリ(n−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン(dppf)、9,9−ジメチル−4,5−ビス(ジフェニルホスフィノ)ザンテン(XANTphos)、ビス[2−(ジフェニルホスフィノ)フェニル]エーテル(DPEphos)等が挙げられる。これらのうち、トリ(tert−ブチル)ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、XANTphos、DPEphosが好ましい。これらの使用量は、パラジウム化合物1モルに対して1〜20モルの範囲が好ましい。また、リン化合物は、単一化合物でも2種類以上の化合物を組合せて用いてもよい。   The phosphorus compound is not particularly limited as long as it does not decompose the biaryl compound, and examples thereof include monodentate phosphorus compounds and bidentate phosphorus compounds. Specific examples include triethylphosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tri (n-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene (dppf ), 9,9-dimethyl-4,5-bis (diphenylphosphino) xanthene (XANTphos), bis [2- (diphenylphosphino) phenyl] ether (DPEphos), and the like. Of these, tri (tert-butyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, XANTphos and DPEphos are preferred. The amount of these used is preferably in the range of 1 to 20 mol with respect to 1 mol of the palladium compound. The phosphorus compound may be a single compound or a combination of two or more compounds.

塩基は、ビアリール化合物を分解しないものであればよく、金属水酸化物類、金属炭酸塩類、金属リン酸塩類、金属硫酸塩類、金属アルコキシラート類が挙げられる。具体例の一部を示せば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸三カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウム、ナトリウム−メトキシド、ナトリウム−エトキシド、カリウム−メトキシド、カリウム−エトキシド、リチウム−tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等を挙げることができる。これらのうち、水酸化カリウム、炭酸カリウム、リン酸三カリウム、ナトリウム−tert−ブトキシドが好ましい。これらの使用量は、残存する芳香族ハロゲン化合物1モルに対して1〜50モルの範囲が好ましい。また、塩基は、単一でも2種類以上を組合せて用いてもよい。   The base is not particularly limited as long as it does not decompose the biaryl compound, and examples thereof include metal hydroxides, metal carbonates, metal phosphates, metal sulfates, and metal alkoxylates. Specific examples include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, rubidium carbonate, cesium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, tripotassium phosphate, sodium sulfate, sodium hydrogen sulfate, sodium. -Methoxide, sodium-ethoxide, potassium-methoxide, potassium-ethoxide, lithium-tert-butoxide, sodium-tert-butoxide, potassium-tert-butoxide and the like. Of these, potassium hydroxide, potassium carbonate, tripotassium phosphate, and sodium-tert-butoxide are preferred. The amount of these used is preferably in the range of 1 to 50 mol with respect to 1 mol of the remaining aromatic halogen compound. Moreover, a base may be used alone or in combination of two or more.

3級を除くアルコールは、ビアリール化合物を分解しないものであればよく、1級アルコール類、2級アルコール類が挙げられる。具体例の一部を示せば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、2−ブタノール等が挙げられる。これらのうち、ブタノールが好ましい。これらの使用量は、残存する芳香族ハロゲン化合物1モルに対して1〜50モルの範囲が好ましい。また、アルコールは、単一でも2種類以上を組合せて用いてもよい。   Any alcohol other than the tertiary alcohol may be used as long as it does not decompose the biaryl compound, and examples thereof include primary alcohols and secondary alcohols. Specific examples include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, 2-butanol and the like. Of these, butanol is preferred. The amount of these used is preferably in the range of 1 to 50 mol with respect to 1 mol of the remaining aromatic halogen compound. Moreover, alcohol may be used alone or in combination of two or more.

還元反応で用いる溶媒としては、反応に影響を与えないものであればよく、エーテル類、芳香族炭化水素類、脂肪族炭化水素類、アミド類が挙げられる。具体例の一部を示せば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、o−キシレン、トルエン、ヘキサン、ヘプタン、1,4−ジオキサン、1,3-ジオキサン、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン(DMI)、N−メチルピロリドン(NMP)等が挙げられる。これらのうち、o−キシレン、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAC)が好ましい。これらの使用量は、カップリング反応終了後に単離した粗結晶(粗ビアリール化合物)1モルに対して1〜100モルの範囲が好ましい。また、溶媒は、単一でも混合して用いてもよい。   The solvent used in the reduction reaction may be any solvent that does not affect the reaction, and examples thereof include ethers, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and amides. Specific examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, o-xylene, toluene, hexane, heptane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, N, N-dimethylacetamide (DMAC), 1,3- Examples thereof include dimethyl-2-imidazolidinone (DMI) and N-methylpyrrolidone (NMP). Of these, o-xylene and N, N-dimethylacetamide (DMAC) are preferred. The amount of these used is preferably in the range of 1 to 100 mol with respect to 1 mol of the crude crystals (crude biaryl compound) isolated after completion of the coupling reaction. Moreover, a solvent may be used alone or in combination.

還元反応の温度は、ビアリール化合物が分解しない温度であればよく、0〜200℃の範囲が好ましいが、50〜150℃の範囲がより好ましい。かくして、未反応の残存する芳香族ハロゲン化合物は、上記一般式(4)で表される還元体に還元される。   The temperature of the reduction reaction may be a temperature at which the biaryl compound does not decompose and is preferably in the range of 0 to 200 ° C, more preferably in the range of 50 to 150 ° C. Thus, the unreacted remaining aromatic halogen compound is reduced to a reduced form represented by the general formula (4).

還元反応終了後、生成した無機塩、及び残留金属分は常法に従い、水洗及びろ過処理を行い除去する。   After completion of the reduction reaction, the produced inorganic salt and residual metal are removed by washing with water and filtration according to a conventional method.

還元反応により得た還元体は、精製により低減することができる。精製法としては、再結晶や昇華精製が好ましい。   The reduced form obtained by the reduction reaction can be reduced by purification. As the purification method, recrystallization or sublimation purification is preferred.

還元反応は、窒素またはアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが望ましく、常圧または加圧下でも行うことができる。   The reduction reaction is desirably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, and can be performed under normal pressure or under pressure.

以下に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、これらの実施例は本発明の概要を示すもので、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, these examples show the outline of the present invention, and the present invention is not limited to these examples.

[測定機器]
反応収率、転化率、純度の算定は、HPLC(高速液体クロマトグラフィー)分析にて行った。用いた装置を以下に示す。
HPLC装置:高速液体クロマトグラフ LC−8020(東ソー製)
カラム:Inertsil ODS−3V(4.6mmI.D.×250mm)(GLサイエンス製)
検出器:紫外可視検出器(測定波長254nm)
[measuring equipment]
The reaction yield, conversion rate, and purity were calculated by HPLC (high performance liquid chromatography) analysis. The apparatus used is shown below.
HPLC apparatus: High performance liquid chromatograph LC-8020 (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: Inertsil ODS-3V (4.6 mm ID × 250 mm) (manufactured by GL Sciences)
Detector: UV-visible detector (measurement wavelength 254 nm)

実施例1(NPD:N,N’−ビス(1−ナフチリル)−N,N’−ジフェニリル)ベンジジン)
温度計及びコンデンサーの付いた200mlのナスフラスコ内を窒素置換した後、N−フェニル−N−(4−ブロモフェニル)−1−ナフチルアミン 3.74g(0.010 mol)、N−フェニル−N−(4−ボロン酸フェニル)−1−ナフチルアミン 3.73g(0.011 mol)、リン酸三カリウム 10.6g(0.050 mol)、純水 20.0g(1.11 mol)、トルエン 50.0g(0.543 mol)、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム 0.046g(0.05 μmol)、トリ―tert―ブチルフォスフィン 0.061g(0.30 μmol)を仕込んだ。
Example 1 (NPD: N, N′-bis (1-naphthylyl) -N, N′-diphenylyl) benzidine)
The inside of a 200 ml eggplant flask equipped with a thermometer and a condenser was purged with nitrogen, and then N-phenyl-N- (4-bromophenyl) -1-naphthylamine (3.74 g, 0.010 mol), N-phenyl-N- (4-boronic acid phenyl) -1-naphthylamine 3.73 g (0.011 mol), tripotassium phosphate 10.6 g (0.050 mol), pure water 20.0 g (1.11 mol), toluene 50. 0 g (0.543 mol), 0.046 g (0.05 μmol) of trisdibenzylideneacetone dipalladium, and 0.061 g (0.30 μmol) of tri-tert-butylphosphine were charged.

反応容器を85℃に加熱した後、24時間攪拌した。水 50.0gを加えた後、温度25℃まで冷却し、濾過することにより生成物である粗NPD 5.83g(単離収率:99%)を得た。   The reaction vessel was heated to 85 ° C. and stirred for 24 hours. After adding 50.0 g of water, the mixture was cooled to a temperature of 25 ° C. and filtered to obtain 5.83 g of the product, crude NPD (isolated yield: 99%).

NPD,及び残存する原料のハロゲン化合物をHPLC分析したところ、純度がそれぞれ、97.7%、1.6%であった。   As a result of HPLC analysis of NPD and the remaining halogen compounds as raw materials, the purity was 97.7% and 1.6%, respectively.

次いで、500mlのナスフラスコ内を窒素置換した後、上記NPDの粗結晶 5.83gとN,N−ジメチルアセトアミド 87.5g[15 wt.r(粗結晶に対する溶媒として15重量倍、以下同様)]とo−キシレン 87.5g(15 wt.r)を仕込んだ。   Subsequently, the inside of the 500 ml eggplant flask was purged with nitrogen, and then 5.83 g of the above NPD crude crystals and 87.5 g of N, N-dimethylacetamide [15 wt. r (15 weight times as a solvent for the crude crystal, the same applies hereinafter)] and 87.5 g (15 wt.r) of o-xylene were charged.

反応容器を温度140℃に加熱した後、酢酸パラジウム 168mg(0.75 mmol)と水素化ホウ素ナトリウム 28.4mg(0.75 mmol)のN,N−ジメチルアセトアミド溶液 5.0 gを添加した後、1時間攪拌した。   After heating the reaction vessel to a temperature of 140 ° C., after adding 5.0 g of N, N-dimethylacetamide solution of 168 mg (0.75 mmol) of palladium acetate and 28.4 mg (0.75 mmol) of sodium borohydride. Stir for 1 hour.

反応液を採取し、HPLC分析したところ、残存する原料ハロゲン化合物は、未検出であった。   The reaction solution was collected and analyzed by HPLC. As a result, the remaining raw material halogen compound was not detected.

反応液を温度25℃まで冷却し、濾過することでNPD 5.59 g(単離収率:95%)を得た。NPD、及び残存する原料のハロゲン化合物をHPLC分析したところ、純度がそれぞれ、97.8%、未検出であった。   The reaction solution was cooled to a temperature of 25 ° C. and filtered to obtain 5.59 g of NPD (isolated yield: 95%). As a result of HPLC analysis of NPD and the remaining halogen compound of the raw material, the purity was 97.8% and not detected, respectively.

次いで、得られたNPDをN,N−ジメチルアセトアミド(15 wt.r)とo−キシレン(15 wt.r)を用いて再結晶を2回実施し、NPD 5.05gを単離収率85%で得た。NPD、及び残存する原料のハロゲン化合物をHPLC分析したところ、純度がそれぞれ、99.9%、未検出であった。これらの結果を表1に示した。   Subsequently, the obtained NPD was recrystallized twice using N, N-dimethylacetamide (15 wt.r) and o-xylene (15 wt.r), and 5.05 g of NPD was isolated at a yield of 85. %. As a result of HPLC analysis of NPD and the remaining halogen compound of the raw material, the purity was 99.9% and not detected, respectively. These results are shown in Table 1.

実施例2
酢酸パラジウムと水素化ホウ素ナトリウムに換えて、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム 6.9mg(0.0075mmol)とトリ―tert―ブチルホスフィン 1.5mg(0.0075mmol)とリン酸三カリウム 159mg(0.75mmol)とn−ブタノール 56mg(0.75mmol)を用いた以外は、実施例1と同一操作で実施した。その結果を表1に示した。
Example 2
In place of palladium acetate and sodium borohydride, 6.9 mg (0.0075 mmol) of trisdibenzylideneacetone dipalladium, 1.5 mg (0.0075 mmol) of tri-tert-butylphosphine, and 159 mg (0.75 mmol) of tripotassium phosphate ) And n-butanol 56 mg (0.75 mmol) were used, and the same operation as in Example 1 was performed. The results are shown in Table 1.

比較例1
酢酸パラジウムと水素化ホウ素ナトリウムを使用しないこと及び再結晶回数を増やしたことを除いて、実施例1と同一操作で実施した。その結果を表1に示した。






Comparative Example 1
The same operation as in Example 1 was carried out except that palladium acetate and sodium borohydride were not used and the number of recrystallizations was increased. The results are shown in Table 1.






なお、表1中、還元処理は、同時に再結晶処理も兼ねている。
以上の実施例及び比較例から、次のことが分かる。
1)実施例1,2は比較例1と比べ、再結晶回数が少なくとも高純度のものが得られる。特に,比較例1においては再結晶を6回繰り返すもののハロゲン原料を未検出となるまでにはできず、実施例での少ない再結晶回数で未検出にまですることとは対照的である。
2)実施例では,比較例よりも収率が高く、効率的に製造できる。
In Table 1, the reduction process also serves as a recrystallization process.
The following can be understood from the above examples and comparative examples.
1) Compared with Comparative Example 1, Examples 1 and 2 can be obtained with at least a high purity in the number of recrystallizations. In particular, in Comparative Example 1, although recrystallization is repeated six times, the halogen raw material cannot be detected until it is undetected, and this is in contrast to the case where detection is not detected with a small number of recrystallizations in the examples.
2) In the example, the yield is higher than that of the comparative example, and it can be efficiently manufactured.

本発明により得られるビアリール化合物は、純度が高いので、液晶や有機ELなどの電子材料用途に有用である。   Since the biaryl compound obtained by this invention has high purity, it is useful for electronic material uses, such as a liquid crystal and organic EL.

Claims (2)

一般式(1)
(式中、Arは、置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、XはCl、Br又はIを表す。)で表される芳香族ハロゲン化合物と、一般式(2)
(式中、Arは、置換されていてもよいアリール基又はヘテロアリール基を表し、Y及びYヒドロキシル基を表す。)で表される芳香族ボロン酸を反応させた後、(1)パラジウム化合物と金属水素化化合物との組み合わせ、あるいは、(2)a.パラジウム化合物、b.リン化合物、c.塩基、d.3級を除くアルコールの組み合わせ、のいずれかである還元剤を加えることを特徴とする一般式(3)
(式中、Arは一般式(1)に同じ、Arは一般式(2)に同じである。)
で表されるビアリール化合物を製造することを特徴とするビアリール化合物の製造方法。
General formula (1)
(Wherein Ar 1 represents an optionally substituted aryl group or heteroaryl group, X represents Cl, Br, or I), and the general formula (2)
(Wherein, Ar 2 is substituted represents an aryl group or a heteroaryl group, Y 1 and Y 2 represents a hydroxyl group.) After reacting aromatic boronic acid represented by ( 1) a combination of a palladium compound and a metal hydride compound, or (2) a. A palladium compound, b. A phosphorus compound, c. A base, d. General formula (3), characterized by adding a reducing agent which is any combination of alcohols excluding tertiary
(In the formula, Ar 1 is the same as the general formula (1), and Ar 2 is the same as the general formula (2).)
The manufacturing method of the biaryl compound characterized by manufacturing the biaryl compound represented by these.
上記還元剤を加えて得た、一般式(4)
(式中、Arは、一般式(1)に同じである。)
で表される還元体を、ビアリール化合物と分離する、請求項1記載のビアリール化合物の製造方法。
Obtained by adding the reducing agent, the general formula (4)
(In the formula, Ar 1 is the same as the general formula (1).)
The manufacturing method of the biaryl compound of Claim 1 which isolate | separates the reductant represented by these with a biaryl compound.
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