JP5757515B2 - Method for manufacturing droplet holding tool having water repellent layer - Google Patents
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Description
本発明は、撥水層を有する液滴保持ツールの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a droplet holding tool having a water repellent layer.
例えば、血液分析、又は、水溶液等を試料としたオンチップ化学分析を実現するために用いられるツールとして、撥水性と親水性との二つの特性を用いたものがある（例えば特許文献１参照）。
特許文献１に記載のツールは、撥水性を有する面上に複数の親水性領域を形成したものであり、親水性領域では、血液や水溶液等の液体による液滴が形成されるが、撥水性領域では液滴が形成されない。このため、ツール上では、親水性領域の形成パターンに従って、微量の液滴を複数配置することが可能となる。
For example, as a tool used for realizing blood analysis or on-chip chemical analysis using an aqueous solution or the like as a sample, there is one using two characteristics of water repellency and hydrophilicity (see, for example, Patent Document 1). .
The tool described in Patent Document 1 has a plurality of hydrophilic regions formed on a surface having water repellency. In the hydrophilic region, liquid droplets such as blood and aqueous solution are formed. No droplets are formed in the region. For this reason, on the tool, it is possible to arrange a plurality of minute amounts of liquid droplets according to the formation pattern of the hydrophilic region.
前記ツールによれば、親水性領域に捉えられた液滴は表面張力によって保持され、血液分析又は化学分析のために、この液滴をそのまま保持したり搬送したりする。しかし、液体の表面張力が低かったり粘性が高かったりする場合、撥水性領域の撥水性が弱いと、親水性領域のみならず、撥水性領域にも液滴が広がって存在するおそれがある。つまり、この場合、液滴を安定して親水性領域に保持できないことがある。 According to the tool, the droplet captured in the hydrophilic region is held by the surface tension, and the droplet is held or transported as it is for blood analysis or chemical analysis. However, when the surface tension of the liquid is low or the viscosity is high, if the water-repellent region is weak in water repellency, there is a possibility that droplets may spread and exist not only in the hydrophilic region but also in the water-repellent region. That is, in this case, the droplet may not be stably held in the hydrophilic region.
そこで、本発明は、撥水性を高めることができる撥水層を有する液滴保持ツールの製造方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a droplet holding tool having a water repellent layer that can improve water repellency.
なお、本発明では、純水の液滴の接触角９０度を境として親水性と撥水性とに区別される。つまり、液滴の接触角が９０度を超える場合を撥水性、接触角が９０度以下である場合を親水性としている。 In the present invention, a distinction is made between hydrophilicity and water repellency at a contact angle of 90 degrees of pure water droplets. In other words, water repellency is obtained when the contact angle of the droplet exceeds 90 degrees, and hydrophilicity when the contact angle is 90 degrees or less.
（１）本発明の撥水層を有する液滴保持ツールの製造方法は、親水層の表面に、親水性を高める凹凸微細構造部を当該表面の全体に広がって形成し、当該凹凸微細構造部を全体に広がって形成した当該親水層の表面上に、非晶質材料からなる撥水層を設け、前記撥水層の表面に、窓部を有するマスクを形成し、前記撥水層の内の前記窓部に対応する位置に、前記凹凸微細構造部を露出させる開口部を形成し、前記マスクを除去した後に、前記非晶質材料のガラス転移点以上の温度で前記撥水層を加熱処理することによって、前記撥水層の表面の撥水性を回復させ、その後、撥水性を回復させた当該撥水層の表面に撥水性を高める凹凸微細構造部を形成し、前記撥水性を高める凹凸微細構造部の形成は、型が有する凹凸微細面を、前記撥水層の表面に転写して行うことを特徴とする。
本発明によれば、親水性を高める凹凸微細構造部が表面に形成された親水層と、この親水層上に設けられ前記凹凸微細構造部を露出させる開口部が形成された撥水層とを備えたツールを得ることができる。
(1) A method of manufacturing a droplet holding tool having a water-repellent layer of the present invention, the surface of the hydrophilic layer, an uneven microstructure unit to increase the hydrophilicity is formed spreads throughout the said surface, the relief microstructure unit A water repellent layer made of an amorphous material is provided on the surface of the hydrophilic layer formed over the entire surface, and a mask having a window portion is formed on the surface of the water repellent layer. An opening that exposes the concavo-convex microstructure is formed at a position corresponding to the window, and after removing the mask, the water repellent layer is heated at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the amorphous material. By performing the treatment, the water repellency of the surface of the water repellent layer is recovered, and thereafter, the surface of the water repellent layer whose water repellency has been recovered is formed with an uneven microstructure that increases water repellency, thereby increasing the water repellency. The formation of the concavo-convex microstructure part is achieved by forming the concavo-convex fine surface of the mold with It is characterized by being transferred to the surface.
According to the present invention, a hydrophilic layer having a concavo-convex microstructure part for enhancing hydrophilicity formed on the surface, and a water-repellent layer provided on the hydrophilic layer and having an opening exposing the concavo-convex microstructure part. You can get the tools you have.
また、撥水層の開口部において親水層の一部（親水性を高める凹凸微細構造部）が露出しているので、開口部から露出した親水層の領域に液滴が捕捉されやすく、これに対して撥水層の表面には液滴が捕捉されない。このため、液滴保持ツール上において、開口部の形成パターンに従って液滴を配置することが可能となる。
そして、マスクを撥水層から除去すると、撥水層の表面はダメージを受け、撥水性が低下するが、マスクの除去後に、撥水層の表面を加熱処理することで前記ダメージを回復させ、撥水性を高い状態に戻すことができる。さらに、前記のとおり、撥水層の表面に撥水性を高める凹凸微細構造部を形成すると、平滑面の場合に比べて実質的な表面積が大きくなり、撥水性をさらに高める（接触角を大きくする）ことが可能となる。
以上より、親水層と撥水層との間で液滴の接触角の差を大きくし、液滴を保持する能力を高めることができる。
また、撥水層の開口部で露出している親水層の領域は凹凸微細構造部であるため、当該領域では、親水性をさらに高める（接触角を小さくする）ことができる。
In addition , since a part of the hydrophilic layer (uneven microscopic structure that enhances hydrophilicity) is exposed at the opening of the water repellent layer, droplets are easily trapped in the region of the hydrophilic layer exposed from the opening. On the other hand, droplets are not captured on the surface of the water repellent layer. For this reason, it becomes possible to arrange | position a droplet according to the formation pattern of an opening part on a droplet holding tool.
And, when the mask is removed from the water repellent layer, the surface of the water repellent layer is damaged and the water repellency decreases, but after removing the mask, the surface of the water repellent layer is heat treated to recover the damage, The water repellency can be returned to a high state. Furthermore, as described above, when the concave and convex fine structure portion that increases the water repellency is formed on the surface of the water repellent layer, the substantial surface area becomes larger than that of the smooth surface, and the water repellency is further increased (the contact angle is increased). ) Is possible.
As described above, the difference in the contact angle of the droplet between the hydrophilic layer and the water repellent layer can be increased, and the ability to hold the droplet can be enhanced.
Moreover, since the area | region of the hydrophilic layer exposed by the opening part of a water repellent layer is an uneven | corrugated fine structure part, hydrophilicity can be further improved (contact angle is made small) in the said area | region.
また、前記撥水性を高める凹凸微細構造部は、様々な方法により形成することができるが、前記発明によれば、型が有する凹凸微細面を、前記撥水層の表面に転写して行うことから、撥水性を高める凹凸微細構造部を簡単に、撥水層の表面に形成することができる。
また、前記撥水層は、非晶質材料からなり、前記加熱処理では、前記撥水層を、前記非晶質材料のガラス転移点以上の温度で加熱する。撥水層の表面のマスクを除去すると、当該表面はダメージを受ける。つまり、撥水層の表面は、官能基により液体との結合が生じ易い状態になると推測される。しかし、前記加熱処理により、撥水層を、当該撥水層を構成する非晶質材料のガラス転移点以上の温度で加熱することで、前記官能器による液体との結合が生じにくいように撥水層の特性を回復させることができる。
Also, uneven microstructure unit to increase the water repellency, can be formed by various methods, according to the prior Symbol onset bright, the uneven fine surface having a type, and transferred to the surface of the water-repellent layer As a result, it is possible to easily form the concavo-convex microstructure that enhances water repellency on the surface of the water repellent layer.
The water repellent layer is made of an amorphous material, and in the heat treatment, the water repellent layer is heated at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the amorphous material. When the mask on the surface of the water repellent layer is removed, the surface is damaged. That is, the surface of the water repellent layer is presumed to be in a state in which the functional group is likely to bond with the liquid. However, by the heat treatment, the water repellent layer is heated at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the amorphous material constituting the water repellent layer, so that the liquid repellent is less likely to be bonded to the liquid by the sensory device. The characteristics of the water layer can be restored.
（２）また、前記型が有する凹凸微細面は、型用のベース材上にプラズマＣＶＤ法によって形成した薄膜の表面の凹凸微細面からなるのが好ましい。この場合、プラズマＣＶＤ法によりナノスケールの凹凸微細面を有する型を得ることが可能となり、この型により撥水層に転写を行うことで、撥水層の表面に、ナノスケールの凹凸微細構造部を形成することができる。(2) Moreover, it is preferable that the uneven | corrugated fine surface which the said type | mold has consists of the uneven | corrugated fine surface of the surface of the thin film formed by the plasma CVD method on the base material for type | molds. In this case, it becomes possible to obtain a mold having a nanoscale uneven fine surface by plasma CVD, and by transferring to the water repellent layer with this mold, a nanoscale uneven microstructure portion is formed on the surface of the water repellent layer. Can be formed.
（３）また、前記マスクは、銅製であるのが好ましい。銅は、撥水層（例えばフッ素系ポリマー）へ分子レベルで入り込みにくいと推測され、マスクを銅製とすることにより、当該マスクを撥水層から除去した際に、撥水層のダメージを低減することができる。 ( 3 ) Moreover, it is preferable that the said mask is copper. Copper is presumed to hardly enter the water repellent layer (for example, a fluorine-based polymer) at the molecular level. By making the mask made of copper, damage to the water repellent layer is reduced when the mask is removed from the water repellent layer. be able to.
本発明の撥水層を有するツール、及び、本発明の製造方法によって得られる撥水層を有するツールによれば、製造途中で撥水層の表面がダメージを受けていても、当該撥水層の表面は加熱処理されていることにより、そのダメージは回復され、撥水性を高い状態に戻すことができる。さらに、撥水層の表面に凹凸微細構造部を形成することで、平滑面の場合に比べて実質的な表面積が大きくなり、撥水性を高めることが可能となる。 According to the tool having the water-repellent layer of the present invention and the tool having the water-repellent layer obtained by the production method of the present invention, even if the surface of the water-repellent layer is damaged during the production, the water-repellent layer Since the surface of this is heat-treated, the damage is recovered and the water repellency can be returned to a high state. Furthermore, by forming the concave and convex fine structure portion on the surface of the water repellent layer, the substantial surface area becomes larger than in the case of a smooth surface, and the water repellency can be increased.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本発明の撥水層を有するツールには、例えば、ベース部材に撥水層が設けられたツール、又は、撥水層の他に更に別の機能を有する層を備えたツール等があり、以下に説明する実施の形態では、撥水層の他に、更に別の機能を有する層として、親水層を備えているツールを説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
Examples of the tool having a water repellent layer of the present invention include a tool having a water repellent layer provided on a base member, or a tool having a layer having another function in addition to the water repellent layer. In the embodiment described below, a tool including a hydrophilic layer as a layer having another function in addition to the water repellent layer will be described.
本実施形態のツールは、撥水性を有する撥水領域と親水性を有する親水領域とを有しており、このツール上において、撥水領域での液滴の接触角と、親水領域での液滴の接触角との差を利用し、液滴を所定のパターンに配置する「液滴保持ツール」である。
このツールは、例えば、血液分析又は水溶液等を液体試料としたオンチップ化学分析を実現することができ、さらに、このために重要となる高精度な分注機能を有することができる。また、このツールは、前記の血液分析又は化学分析のみならず、例えばツール上の所定位置に部品を位置させる自己整合配列（セルフアライメント、セルフアセンブリ）に用いることもできる。
The tool of this embodiment has a water-repellent region having water repellency and a hydrophilic region having hydrophilicity. On this tool, the contact angle of the liquid droplets in the water-repellent region and the liquid in the hydrophilic region. This is a “droplet holding tool” that uses the difference from the contact angle of a droplet to place droplets in a predetermined pattern.
This tool can realize, for example, blood analysis or on-chip chemical analysis using an aqueous solution or the like as a liquid sample, and can have a high-precision dispensing function that is important for this purpose. Further, this tool can be used not only for the blood analysis or the chemical analysis described above, but also for a self-aligned arrangement (self-alignment, self-assembly) for positioning a part at a predetermined position on the tool, for example.
［１． 液滴保持ツールについて］
図１は、撥水層を有する液滴保持ツールを、前記血液分析又は化学分析に用いる場合の図である。この場合、板状である液滴保持ツール１（以下、単にツール１ともいう）上に、流路（マイクロ流路）５２が形成されている流路基板５１が設けられており、これらツール１と流路基板５１とにより液滴分析用構造体５０が構成されている。図１（ａ）は、液滴分析用構造体５０の組み立て図であり、図１（ｂ）は、ツール１と流路基板５１とを分解した図である。
[1. About droplet holding tool]
FIG. 1 is a view when a droplet holding tool having a water repellent layer is used for the blood analysis or chemical analysis. In this case, a flow path substrate 51 in which a flow path (micro flow path) 52 is formed is provided on a plate-like droplet holding tool 1 (hereinafter, also simply referred to as tool 1). The droplet analysis structure 50 is constituted by the flow path substrate 51. FIG. 1A is an assembly diagram of the droplet analysis structure 50, and FIG. 1B is an exploded view of the tool 1 and the flow path substrate 51.
図２は、液滴保持ツール１の一部（図１（ｂ）のａ部）の拡大図である。液滴保持ツール１は、板状であるベース部材４と、このベース部材４上に積層されている親水層２及び撥水層３とを備えている。親水層２の一部（後述の親水性を高める凹凸微細構造部２１）が撥水層３の一部（後述の開口部３１）から露出しており、親水層２と撥水層３とのそれぞれにおける液滴の接触角の差を利用して、このツール１上において、複数の液滴を、所定のパターンに従って配置することができる。液滴の配置は、親水層２の一部を露出させる開口部３１（凹凸微細構造部２１）の配置パターンに依存する。なお、この実施形態では、液滴はドーム形状となる。 FIG. 2 is an enlarged view of a part of the droplet holding tool 1 (a part in FIG. 1B). The droplet holding tool 1 includes a base member 4 having a plate shape, and a hydrophilic layer 2 and a water repellent layer 3 laminated on the base member 4. A part of the hydrophilic layer 2 (an uneven microstructure 21 for enhancing hydrophilicity described later) is exposed from a part of the water repellent layer 3 (an opening 31 described later), and the hydrophilic layer 2 and the water repellent layer 3 A plurality of droplets can be arranged on the tool 1 according to a predetermined pattern by utilizing the difference in contact angle between the droplets. The arrangement of the liquid droplets depends on the arrangement pattern of the openings 31 (concavo-convex microstructure 21) exposing a part of the hydrophilic layer 2. In this embodiment, the droplet has a dome shape.
ベース部材４は、シリコン、石英又はポリマー等からなる。親水層２は、親水性を有する材料からなり、本実施形態では、後にも説明するがプラズマＣＶＤにより製膜したシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）であり、ベース部材４上に積層されている。撥水層３は、撥水性を有する材料からなり、本実施形態では、後にも説明するがスピンコートにより製膜したフッ素系ポリマーであり、親水層２上に積層されている。
なお、本発明では、撥水層３は、その表面３２における純水の液滴の接触角が９０度を超える特性を有しており、親水層２は、その表面２０における純水の液滴の接触角が９０度以下である特性を有している。
The base member 4 is made of silicon, quartz, polymer, or the like. The hydrophilic layer 2 is made of a hydrophilic material. In this embodiment, as will be described later, the hydrophilic layer 2 is a silicon oxide film (SiOx) formed by plasma CVD, and is laminated on the base member 4. The water repellent layer 3 is made of a material having water repellency. In this embodiment, as will be described later, the water repellent layer 3 is a fluoropolymer formed by spin coating and is laminated on the hydrophilic layer 2.
In the present invention, the water-repellent layer 3 has a characteristic that the contact angle of the pure water droplets on the surface 32 exceeds 90 degrees, and the hydrophilic layer 2 has the pure water droplets on the surface 20 thereof. Has a characteristic that the contact angle is 90 degrees or less.
さらに、本実施形態では、親水層２の表面２０側には、親水性を高めるナノスケールの凹凸微細構造部（以下、親水用の微細構造部という）２１が形成されている。親水用の微細構造部２１は、図３に示しているように、微細な凹凸による粗面部であり、プラズマＣＶＤにより親水層２を製膜する際に、表面２０の全体に広がって形成され、後にも説明するが、プラズマＣＶＤ装置において、親水層２を構成するガスを供給し、パルス状の高周波電力を与えることにより得られる。
なお、この親水用の微細構造部２１を有する親水層２は、５度以下の接触角を有することができる。
Furthermore, in this embodiment, the nanoscale uneven | corrugated fine structure part (henceforth a hydrophilic fine structure part) 21 which raises hydrophilicity is formed in the surface 20 side of the hydrophilic layer 2. As shown in FIG. 3, the hydrophilic fine structure portion 21 is a rough surface portion having fine irregularities, and is formed so as to spread over the entire surface 20 when the hydrophilic layer 2 is formed by plasma CVD. As will be described later, the plasma CVD apparatus is obtained by supplying the gas constituting the hydrophilic layer 2 and applying pulsed high-frequency power.
In addition, the hydrophilic layer 2 having the hydrophilic microstructure 21 can have a contact angle of 5 degrees or less.
図２において、撥水層３は、親水層２の表面２０側に積層状に設けられており、撥水層３には、親水用の微細構造部２１の一部を露出させている開口部３１が形成されている。なお、露出している各親水用の微細構造部２１は微少領域である。また、開口部３１は、所定のパターンで複数形成されており、図１の実施形態では、複数の開口部３１が縦横に広がって格子状に形成されている。開口部３１の成形方法については、後に説明する。 In FIG. 2, the water repellent layer 3 is provided in a laminated form on the surface 20 side of the hydrophilic layer 2, and the water repellent layer 3 has an opening that exposes a portion of the hydrophilic microstructure 21. 31 is formed. In addition, each exposed fine structure portion 21 for hydrophilicity is a minute region. A plurality of openings 31 are formed in a predetermined pattern. In the embodiment of FIG. 1, the plurality of openings 31 are formed in a lattice shape extending vertically and horizontally. A method for forming the opening 31 will be described later.
撥水層３の各開口部３１において、親水層２の一部が露出していることから、この親水層２の一部では液滴が形成される。これに対して撥水層３の表面３２には液滴が形成されない。このため、ツール１上において、開口部３１の形成パターンに従って液滴が配置される。しかも、開口部３１では、親水層２の一部として親水用の微細構造部２１が露出しており、表面２０が平滑面の場合に比べて実質的な表面積が大きくなっているので、親水性をさらに高める（接触角を小さくする）ことが可能となる。 Since a part of the hydrophilic layer 2 is exposed in each opening 31 of the water repellent layer 3, a droplet is formed in a part of the hydrophilic layer 2. On the other hand, no droplet is formed on the surface 32 of the water repellent layer 3. For this reason, on the tool 1, a droplet is arrange | positioned according to the formation pattern of the opening part 31. FIG. Moreover, in the opening 31, the hydrophilic fine structure portion 21 is exposed as a part of the hydrophilic layer 2, and the substantial surface area is larger than when the surface 20 is a smooth surface. Can be further increased (the contact angle can be reduced).
また、撥水層３は、加熱処理が施された表面３２を有している。これは、後にも説明するが、ツール１の製造途中で撥水層３の表面３２がダメージを受けていると、完成したツール１の撥水層３の表面３２では撥水性が低下してしまう。しかし、撥水層３がダメージを受けていても、加熱処理が施された表面３２を最終的に有していることで、そのダメージは回復されており、撥水性を高い状態に戻す（接触角を大きくする）ことができる。 The water repellent layer 3 has a surface 32 that has been subjected to heat treatment. As will be described later, if the surface 32 of the water repellent layer 3 is damaged during the manufacture of the tool 1, the water repellency of the surface 32 of the water repellent layer 3 of the completed tool 1 is lowered. . However, even if the water-repellent layer 3 is damaged, the damage is recovered by finally having the heat-treated surface 32, and the water repellency is returned to a high state (contact). To increase the corner).
図４（ａ）は、前記構成を備えたツール１の表面の拡大図であり、（ｂ）は撥水層の表面の拡大図であり、（ｃ）は開口部から露出している親水用の微細構造部及び撥水層の表面（開口部の周囲）の拡大図である。
加熱処理された撥水層３の表面３２には、撥水性を高めるナノスケールの凹凸微細構造部１１（以下、撥水用の微細構造部という）が形成されている。撥水用の微細構造部１１は、微細な凹凸による粗面部であり、表面３２の全体に広がって形成されている。この微細構造部１１の形成方法については、後に説明する。
このように、加熱処理された撥水層３の表面３２に、撥水用の微細構造部１１が形成されているので、表面３２が平滑面の場合に比べて実質的な表面積が大きくなり、撥水性を高める（接触角を大きくする）ことが可能となる。
以上の構成により、親水層２と撥水層３との間で液滴の接触角の差を大きくすることができ、液滴を保持する能力を高めることができる。
4A is an enlarged view of the surface of the tool 1 having the above-described configuration, FIG. 4B is an enlarged view of the surface of the water repellent layer, and FIG. 4C is a hydrophilic surface exposed from the opening. It is an enlarged view of the surface (periphery of an opening part) of a fine structure part and a water-repellent layer.
On the surface 32 of the water-repellent layer 3 that has been heat-treated, a nanoscale uneven microstructure portion 11 (hereinafter referred to as a water-repellent microstructure portion) that enhances water repellency is formed. The fine structure 11 for water repellency is a rough surface portion formed by fine unevenness, and is formed to spread over the entire surface 32. A method for forming the fine structure portion 11 will be described later.
Thus, since the water-repellent microstructure 11 is formed on the surface 32 of the heat-treated water-repellent layer 3, the substantial surface area becomes larger than when the surface 32 is a smooth surface, It becomes possible to increase water repellency (increase the contact angle).
With the above configuration, the difference in the contact angle of the droplets between the hydrophilic layer 2 and the water repellent layer 3 can be increased, and the ability to hold the droplets can be enhanced.
前記流路基板５０について説明する。本実施形態（図１）では、流路基板５１は、例えば、シリコン、ホウケイ酸ガラス、合成石英、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ、シクロオレフィンポリマー等のうちの一つからなり、板状部材である。そして、流路基板５０内に複数の流路（マイクロ流路）５２が形成されている。各流路５２の途中において、撥水層３の列を成す複数の開口部３１が開口している。
各流路５２には入口部５２ａと出口部５２ｂとが形成されており、入口部５２ａから出口部５２ｂへと液体を流すと、図１１に示すように、開口部３１から微少領域として露出している親水層２（親水用の微細構造部２１）において、当該液体の一部が分裂して残留し、残留した液滴が前記微少領域に捕捉される。
なお、各開口部３１の大きさは、変更自在であるが、例えば縦横それぞれが５００μｍの矩形である。そして、図１の流路基板５１の流路５２の寸法は、例えば幅が１ｍｍであり、高さが５００μｍである。
The flow path substrate 50 will be described. In the present embodiment (FIG. 1), the flow path substrate 51 is made of, for example, one of silicon, borosilicate glass, synthetic quartz, polycarbonate, PMMA, cycloolefin polymer, and the like, and is a plate-like member. A plurality of channels (microchannels) 52 are formed in the channel substrate 50. In the middle of each flow path 52, a plurality of openings 31 forming a row of the water repellent layer 3 are opened.
Each channel 52 has an inlet portion 52a and an outlet portion 52b. When a liquid is flowed from the inlet portion 52a to the outlet portion 52b, it is exposed as a minute region from the opening 31 as shown in FIG. In the hydrophilic layer 2 (the hydrophilic fine structure portion 21), a part of the liquid is split and remains, and the remaining droplet is captured in the minute region.
In addition, although the magnitude | size of each opening part 31 is changeable, it is a rectangle of 500 micrometers in each length and width, for example. The dimensions of the flow path 52 of the flow path substrate 51 in FIG. 1 are, for example, a width of 1 mm and a height of 500 μm.
親水用の微細構造部２１の表面粗さに関して説明する。親水性は、Ｗｅｎｚｅｌ則によれば、親水層２（親水用の微細構造部２１）の表面積が寄与する。
親水用の微細構造部２１は、図３に示すように、微細な凹凸が面上に広がって形成されており、プラズマＣＶＤ装置により、ナノスケールの表面モフォロジーが制御され、微細構造部２１の凹凸寸法が１８ｎｍ〜３３５ｎｍ（最大高さ）程度であり、さらに、２５１ｎｍ〜３３５ｎｍ（最大高さ）と、均一性を保つこともできる。また、親水用の微細構造部２１のＲＭＳ粒状度は２ｎｍ〜４０ｎｍ程度に制御することができ、さらに、３５．３５ｎｍ〜３８．５３２ｎｍと、均一性を保つこともできる。本実施形態では、ＲＭＳ粒状度が６．３ｎｍである。
The surface roughness of the hydrophilic fine structure portion 21 will be described. The hydrophilicity is attributed to the surface area of the hydrophilic layer 2 (hydrophilic microstructure 21) according to the Wenzel rule.
As shown in FIG. 3, the hydrophilic fine structure portion 21 is formed with fine irregularities spreading on the surface, and the nano-scale surface morphology is controlled by the plasma CVD apparatus, and the irregularities of the fine structure portion 21 are formed. The dimension is about 18 nm to 335 nm (maximum height), and further, uniformity can be maintained at 251 nm to 335 nm (maximum height). In addition, the RMS granularity of the hydrophilic fine structure portion 21 can be controlled to about 2 nm to 40 nm, and the uniformity can be maintained at 35.35 nm to 38.532 nm. In this embodiment, the RMS granularity is 6.3 nm.
また、図５に示しているように、開口部３１の開口面積（微細構造部２１の投影面積）をＡ１とし、開口部３１において露出している親水用の微細構造部２１の凹凸を含めた表面積をＢ１とした場合、〔（Ｂ１−Ａ１）／Ａ１×１００〕〕の値（エリアパーセントの値という）が、２．５％以上となる表面粗さを、親水用の微細構造部２１は有している。このように、開口部３１から露出している親水用の微細構造部２１は、開口部３１の開口面積３１の少なくとも２．５％増しの面積を有していれば、親水性を効果的に高めることが可能となる。
なお、前記エリアパーセントの値の上限は高い程好ましいが、おおよそ２０％、さらには４０％である。
Further, as shown in FIG. 5, the opening area of the opening 31 (projected area of the fine structure portion 21) is A1, and the irregularities of the hydrophilic fine structure portion 21 exposed in the opening 31 are included. When the surface area is B1, the surface roughness at which the value of [(B1-A1) / A1 × 100]] (referred to as the area percent value) is 2.5% or more, Have. As described above, if the fine structure portion 21 for hydrophilicity exposed from the opening 31 has an area that is at least 2.5% larger than the opening area 31 of the opening 31, the hydrophilicity is effectively improved. It becomes possible to raise.
The upper limit of the area percentage value is preferably as high as possible, but is approximately 20% or even 40%.
撥水用の微細構造部１１の表面粗さに関して説明する。撥水性は、Ｗｅｎｚｅｌ則によれば、撥水層３（撥水用の微細構造部１１）の表面積が寄与する。
撥水用の微細構造部１１は、図４（ｂ）に示すように、微細な凹凸が面上に広がって形成されている。この撥水用の微細構造部１１は、後に説明する型による転写技術（ナノインプリント法）が用いられて形成されるものであり、この型の表面は、例えばプラズマＣＶＤ装置により、ナノスケールの表面モフォロジーが制御され、当該型の表面の凹凸寸法（最大高さ）が１８ｎｍ〜３３５ｎｍ程度である。また、型の表面のＲＭＳ粒状度が２０ｎｍ〜７０ｎｍ程度であり、この型の表面と同等の微細な凹凸が、撥水層３の表面３２に転写され、撥水層３の表面３２に撥水用の微細構造部１１が形成される。図４（ｂ）に示す撥水用の微細構造部１１では、ＲＭＳ粒状度が６７ｎｍである。
The surface roughness of the microstructure 11 for water repellency will be described. The water repellency is attributed to the surface area of the water repellent layer 3 (water repellent microstructure 11) according to the Wenzel rule.
As shown in FIG. 4B, the fine structure 11 for water repellency has fine irregularities spread on the surface. The water-repellent microstructure 11 is formed by using a transfer technique (nanoimprint method) using a mold, which will be described later, and the surface of this mold is nanoscale surface morphology using, for example, a plasma CVD apparatus. Is controlled, and the unevenness dimension (maximum height) of the surface of the mold is about 18 nm to 335 nm. Further, the RMS granularity of the surface of the mold is about 20 nm to 70 nm, and fine irregularities equivalent to the surface of the mold are transferred to the surface 32 of the water repellent layer 3 and the water repellent layer 3 has a water repellent surface. The fine structure portion 11 is formed. In the microstructure 11 for water repellency shown in FIG. 4B, the RMS granularity is 67 nm.
また、撥水層３の表面３２が仮に平滑面であるとした場合の単位面積をＡ２とし、当該単位面積における実際の撥水用の微細構造部１１の凹凸を含めた実面積をＢ２とした場合、〔（Ｂ２−Ａ２）／Ａ２×１００〕〕の値（エリアパーセントの値という）が、２．５％以上となる表面粗さを、撥水用の微細構造部１１は有している。このように、撥水用の微細構造部１１の凹凸を含めた表面積が、仮に撥水層３の表面３２が平滑面であるとした場合の少なくとも２．５％増しの面積を有していれば、撥水性を効果的に高めることが可能となる。
なお、前記エリアパーセントの値の上限は高い程好ましいが、おおよそ４０％である。
Further, the unit area when the surface 32 of the water repellent layer 3 is assumed to be a smooth surface is A2, and the actual area including the unevenness of the actual water repellent microstructure 11 in the unit area is B2. In this case, the water-repellent microstructure 11 has a surface roughness with a value of [(B2-A2) / A2 × 100]] (referred to as area percent) of 2.5% or more. . As described above, the surface area including the unevenness of the water-repellent microstructure 11 may have an area that is at least 2.5% larger than the surface 32 of the water-repellent layer 3 that is a smooth surface. Thus, it is possible to effectively increase the water repellency.
The upper limit of the area percentage value is preferably as high as possible, but is approximately 40%.
このような、加熱処理された表面３２に撥水用の微細構造部１１が形成された撥水層３によれば、当該表面３２では、１０５度〜１５９度の接触角を有することができる。本実施形態では、図６に示すように、１５８度の接触角を有する液滴（４マイクロリットル）を得ることができ、極めて高い撥水性を実現することができる。
そして、以上のような、親水層２及び撥水層３により、親水層２との接触角の差を、９４度〜１５４度と、従来よりも大きくすることができる。
According to the water-repellent layer 3 having the water-repellent microstructure 11 formed on the heat-treated surface 32 as described above, the surface 32 can have a contact angle of 105 to 159 degrees. In this embodiment, as shown in FIG. 6, a droplet (4 microliters) having a contact angle of 158 degrees can be obtained, and extremely high water repellency can be realized.
And by the hydrophilic layer 2 and the water-repellent layer 3 as described above, the difference in contact angle with the hydrophilic layer 2 can be increased to 94 degrees to 154 degrees from the conventional level.
［２． 液滴保持ツールの製造方法について］
図７（ａ）〜（ｇ）及び図８（ｈ）〜（ｊ）は、ツール１の製造方法の説明図である。この製造方法を説明すると、ベース部材４の表面４ａに親水層２を設けると共に、当該親水層２の表面２０に親水用の微細構造部２１を形成し（図７（ａ）：親水層の形成工程）、この親水層２の表面２０上に撥水層３を設け（図７（ｂ）：撥水層の形成工程）、所定パターンの窓部６を有するマスク５を前記撥水層３の表面３２に被せるようにして形成し（図７（ｃ）〜（ｅ）：マスクの形成工程）、撥水層３の内の前記窓部６に対応する位置に前記微細構造部２１を露出させる開口部３１を形成し、前記マスク５を除去する（図７（ｆ）：撥水層の開口部の形成工程）。さらに、マスク５を除去した後、撥水層３の表面３２を加熱処理し（図７（ｇ）：加熱処理の工程）、その後、当該撥水層３の表面３２にナノスケールの撥水用の微細構造部１１を形成する（図８（ｈ）〜（ｊ）：撥水用の微細構造部の形成工程）。
以下、各工程についてさらに説明する。
[2. About manufacturing method of droplet holding tool]
FIGS. 7A to 7G and FIGS. 8H to 8J are explanatory views of a method for manufacturing the tool 1. Explaining this manufacturing method, the hydrophilic layer 2 is provided on the surface 4a of the base member 4, and the hydrophilic microstructure 21 is formed on the surface 20 of the hydrophilic layer 2 (FIG. 7A: Formation of the hydrophilic layer). Step), a water repellent layer 3 is provided on the surface 20 of the hydrophilic layer 2 (FIG. 7B: water repellent layer forming step), and a mask 5 having a window 6 having a predetermined pattern is formed on the water repellent layer 3. It is formed so as to cover the surface 32 (FIGS. 7C to 7E: mask forming step), and the fine structure portion 21 is exposed at a position corresponding to the window portion 6 in the water repellent layer 3. The opening 31 is formed, and the mask 5 is removed (FIG. 7F: step of forming the opening of the water repellent layer). Further, after removing the mask 5, the surface 32 of the water repellent layer 3 is subjected to heat treatment (FIG. 7G: heat treatment step), and then the nanoscale water repellent surface is applied to the surface 32 of the water repellent layer 3. The fine structure portion 11 is formed (FIGS. 8H to 8J: Step of forming a fine structure portion for water repellency).
Hereinafter, each step will be further described.
［２．１ 親水層の形成工程］
シリコン等からなるベース部材４を、プラズマＣＶＤ装置の成長室（図示せず）内に設置し、プラズマＣＶＤ法により、ベース部材４上に、シリコン酸化膜による親水層２を製膜する。このプラズマＣＶＤ法では、発生させるプラズマの電力供給パターンを時間変化させることにより、親水層２が形成されると同時に、その表面２０に微細構造部２１が形成される。特に本実施形態では、図９に示すように、高周波電力をパルス状に供給し、ガスはパルス状に供給するか又は連続供給する。このパルスプラズマによるＣＶＤ法によれば、図７（ａ）に示すように、親水層２が形成されると同時に、その表面２０に微細構造部２１が形成される。
[2.1 Hydrophilic layer forming step]
A base member 4 made of silicon or the like is placed in a growth chamber (not shown) of a plasma CVD apparatus, and a hydrophilic layer 2 made of a silicon oxide film is formed on the base member 4 by plasma CVD. In this plasma CVD method, the power supply pattern of plasma to be generated is changed over time, whereby the hydrophilic layer 2 is formed and at the same time the fine structure 21 is formed on the surface 20 thereof. In particular, in the present embodiment, as shown in FIG. 9, the high frequency power is supplied in a pulse shape, and the gas is supplied in a pulse shape or continuously supplied. According to the CVD method using the pulse plasma, as shown in FIG. 7A, the hydrophilic layer 2 is formed, and at the same time, the fine structure portion 21 is formed on the surface 20 thereof.
［２．２ 撥水層の形成工程］
撥水層３は、アモルファスフッ素樹脂であり、本実施形態では、旭硝子株式会社製の「ＣＹＴＯＰ」（登録商標）である。この撥水層３の形成はスピンコートによる。このアモルファスフッ素樹脂を、５５℃で１５分、８５℃で３０分、１８５℃で１時間の順で加熱し硬化（キュア）させる。このスピンコート法によれば、図７（ｂ）に示すように、撥水層３が形成される。
[2.2 Formation process of water repellent layer]
The water repellent layer 3 is an amorphous fluororesin, and in this embodiment, is “CYTOP” (registered trademark) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. The water repellent layer 3 is formed by spin coating. This amorphous fluororesin is cured by curing in order of 55 minutes at 55 ° C., 30 minutes at 85 ° C., and 1 hour at 185 ° C. According to this spin coating method, the water repellent layer 3 is formed as shown in FIG.
［２．３ マスクの形成工程］
マスク５は、金属製の薄膜からなり、マスク５を形成するために、まず、本実施形態では、図７（ｃ）に示すように、撥水層３の表面３２に対して金属蒸着を行い、金属膜８を形成する。さらに、この金属膜８上にフォトレジスト膜をスピンコートにより形成し、露光、現像、乾燥を行い、図７（ｄ）に示すように、金属膜８の上に、開口９ｂを有するフォトレジストパターン９ａを形成する。このようにして得た中間品を、酸溶液に浸漬することで、図７（ｅ）に示すように、前記開口９ｂにより露出している金属膜８の一部が除去される（ウエットエッチング）。金属膜８の一部が除去されることで、当該除去された部分が、マスク５の窓部６となる。この窓部６は、マスク５を貫通する微少な穴である。前記フォトレジストパターン９ａの開口９ｂ及び窓部６は、後の工程で形成される撥水層３の開口部３１に対応した位置に設けられる。
[2.3 Mask Formation Process]
The mask 5 is made of a metal thin film. In order to form the mask 5, first, in this embodiment, as shown in FIG. 7C, metal deposition is performed on the surface 32 of the water repellent layer 3. Then, the metal film 8 is formed. Further, a photoresist film is formed on the metal film 8 by spin coating, exposed, developed and dried, and a photoresist pattern having an opening 9b on the metal film 8 as shown in FIG. 9a is formed. By immersing the intermediate product thus obtained in an acid solution, a part of the metal film 8 exposed through the opening 9b is removed as shown in FIG. 7E (wet etching). . By removing a part of the metal film 8, the removed part becomes the window part 6 of the mask 5. The window 6 is a minute hole that penetrates the mask 5. The opening 9b and the window 6 of the photoresist pattern 9a are provided at a position corresponding to the opening 31 of the water repellent layer 3 formed in a later step.
マスク５は、アルミニウム、金、クロム又は銅等の金属製とすることができるが、銅製とするのが好ましい。これは、銅は、撥水層３（アモルファスフッ素樹脂）へ分子レベルで入り込みにくいと推測されるためであり、マスク５を銅製とすることにより、後の工程において、マスク５を撥水層３から除去した際に、撥水層３の表面３２でのダメージを低減することができる。 The mask 5 can be made of metal such as aluminum, gold, chrome or copper, but is preferably made of copper. This is because copper is presumed to hardly enter the water repellent layer 3 (amorphous fluororesin) at the molecular level. By making the mask 5 made of copper, the mask 5 is made to be the water repellent layer 3 in a later step. When removed from the surface, damage on the surface 32 of the water repellent layer 3 can be reduced.
［２．４ 撥水層の開口部の形成工程］
図７（ｆ）に示すように、撥水層３の開口部３１の形成は、前記窓部６が形成されているマスク５を用いて、酸素プラズマエッチング（ドライエッチング）により行われる。このプラズマエッチングにより、撥水層３の所定位置に開口部３１が形成され、この開口部３１から、親水層２の微細構造部２１を露出させることができる。そして、エッチングマスクとして用いられたマスク５を、酸溶液に浸漬することで、除去する。
[2.4 Step of forming opening of water repellent layer]
As shown in FIG. 7F, the opening 31 of the water repellent layer 3 is formed by oxygen plasma etching (dry etching) using the mask 5 on which the window 6 is formed. By this plasma etching, an opening 31 is formed at a predetermined position of the water repellent layer 3, and the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 can be exposed from the opening 31. And the mask 5 used as an etching mask is removed by being immersed in an acid solution.
［２．５ 加熱処理の工程］
図７（ｇ）に示すように、マスク５が除去された中間製品をヒータ等で加熱し、撥水層３の表面３２を、再度、加熱処理する。撥水層３は、アモルファスフッ素樹脂（非晶質材料）からなるため、この加熱処理では、撥水層３の表面３２を、当該アモルファスフッ素樹脂（非晶質材料）のガラス転移点以上の温度で加熱する。つまり、表面３２の温度がガラス転移点以上の温度となるように加熱する。
なお、本実施形態では、撥水層３が「ＣＹＴＯＰ」（登録商標）であり、そのガラス転移点は１０８℃であるため、表面３２がこの温度以上となるまで加熱すればよい。しかし、本実施形態では、撥水層３の表面３２のみならず中心部まで加熱処理が可能となるように、表面３２の温度を２３０℃まで加熱している。
[2.5 Heat treatment process]
As shown in FIG. 7G, the intermediate product from which the mask 5 has been removed is heated with a heater or the like, and the surface 32 of the water repellent layer 3 is again heat-treated. Since the water repellent layer 3 is made of an amorphous fluororesin (amorphous material), in this heat treatment, the surface 32 of the water repellent layer 3 has a temperature equal to or higher than the glass transition point of the amorphous fluororesin (amorphous material). Heat with. That is, heating is performed so that the temperature of the surface 32 is equal to or higher than the glass transition point.
In the present embodiment, the water-repellent layer 3 is “CYTOP” (registered trademark), and its glass transition point is 108 ° C., and therefore, the surface 32 may be heated until the temperature becomes equal to or higher than this temperature. However, in this embodiment, the temperature of the surface 32 is heated to 230 ° C. so that not only the surface 32 of the water repellent layer 3 but also the central part can be heat-treated.
ここで、前記のとおり、撥水層３の表面３２に形成した金属蒸着膜からなるマスク５を除去すると、当該表面３２はダメージを受けており、撥水性が低下する。このようなダメージの発生（撥水性の低下）は、撥水層３の表面３２では、官能基により液体との結合が生じ易い状態になっているからであると推測される。
しかし、加熱処理の工程を行い、撥水層３の表面３２をガラス転移点以上の温度で加熱することで、前記官能器による液体との結合が生じにくいように撥水層３の表面３２の特性を回復させることができる。
また、前記のとおり、マスク５の材質として、撥水層３（アモルファスフッ素樹脂）へ入り込みにくいもの（銅）を選択することにより、前記ダメージの発生を抑えることが可能となる。
Here, as described above, when the mask 5 made of a metal vapor deposition film formed on the surface 32 of the water repellent layer 3 is removed, the surface 32 is damaged and the water repellency is lowered. The occurrence of such damage (decrease in water repellency) is presumed to be because the surface 32 of the water repellent layer 3 is in a state in which the functional group is likely to bond with the liquid.
However, by performing a heat treatment step and heating the surface 32 of the water repellent layer 3 at a temperature equal to or higher than the glass transition point, the surface 32 of the water repellent layer 3 is less likely to be bonded to the liquid by the functional unit. Properties can be restored.
Further, as described above, by selecting a material (copper) that is difficult to enter the water repellent layer 3 (amorphous fluororesin) as the material of the mask 5, it is possible to suppress the occurrence of the damage.
図１０は、マスク５の材質（横軸）と、撥水層３の接触角（縦軸）との関係を示す図である。撥水層３の接触角の大小は、撥水性の高低を意味する。マスク５の材質として、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）があり、図１０の左端の「無し」は、マスク５を形成していない撥水層３、つまり、マスク５によるダメージを受けていない場合の撥水層３の接触角である。
図１０中の「○」は、加熱処理を行っていない場合であり、「●」は、１１０℃の加熱処理を行った場合であり、「□」は２３０℃の加熱処理を行った場合である。
FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the material of the mask 5 (horizontal axis) and the contact angle (vertical axis) of the water repellent layer 3. The contact angle of the water repellent layer 3 means the level of water repellency. The material of the mask 5 includes aluminum (Al), gold (Au), chromium (Cr), and copper (Cu). “None” at the left end of FIG. 10 indicates the water repellent layer 3 that does not form the mask 5, That is, it is the contact angle of the water repellent layer 3 when it is not damaged by the mask 5.
In FIG. 10, “◯” indicates a case where heat treatment is not performed, “●” indicates a case where heat treatment is performed at 110 ° C., and “□” indicates a case where heat treatment is performed at 230 ° C. is there.
図１０から明らかなように、撥水層３の表面３２を、ガラス転移点（１０８℃）の温度以上となるまで加熱すればよいが、それよりも十分に高い２３０℃まで加熱するのが好ましい。
特にアルミニウムをマスク５として採用した場合、撥水層３の表面３２はダメージを受けて接触角が（９０度よりも）低くなるが、加熱処理を行うことにより、９０度を超える接触角に回復することができ、撥水層としての機能を果たすことができる。さらに、２３０℃まで加熱する処理を行うことにより、さらに、接触角が大きくなり、撥水層３を回復させることができる。
As is apparent from FIG. 10, the surface 32 of the water repellent layer 3 may be heated to a temperature equal to or higher than the glass transition point (108 ° C.), but is preferably heated to 230 ° C. which is sufficiently higher than that. .
In particular, when aluminum is used as the mask 5, the surface 32 of the water-repellent layer 3 is damaged and the contact angle becomes lower (less than 90 degrees), but the contact angle is restored to 90 degrees or more by heat treatment. And can serve as a water repellent layer. Furthermore, by performing the heating to 230 ° C., the contact angle is further increased and the water repellent layer 3 can be recovered.
また、図１０において、マスク５の材質を銅製とする場合が、撥水層３へのダメージが最も小さく、さらに、前記加熱処理を行うことで、撥水層３の接触角が大きくなり、撥水性を高めることができる。
以上より、マスク５を銅製とし、かつ、このマスク５の除去後は、撥水層３の表面３２を、その温度がガラス転移点（１０８℃）の温度よりも１００℃以上高い温度（２３０℃）となるまで加熱するのが好ましい。この場合、図７の左端の「無し」に相当する「マスク５によるダメージを受けていない場合の撥水層３」と同等の接触角（撥水性）を有することが可能となる。
Further, in FIG. 10, when the material of the mask 5 is made of copper, the damage to the water repellent layer 3 is the least, and further, the contact angle of the water repellent layer 3 is increased by performing the heat treatment. The aqueous property can be increased.
As described above, the mask 5 is made of copper, and after the removal of the mask 5, the surface 32 of the water repellent layer 3 has a temperature (230 ° C.) higher than the glass transition point (108 ° C.) by 100 ° C. or more. It is preferable to heat until In this case, it is possible to have a contact angle (water repellency) equivalent to “the water repellent layer 3 when it is not damaged by the mask 5” corresponding to “none” at the left end of FIG. 7.
［２．６ 撥水用の微細構造部の形成工程］
撥水用の微細構造部１１は、様々な方法により形成することができるが、本実施形態では、図８（ｈ）〜（ｊ）に示すように、型１６が有する凹凸微細面１７を、撥水層３の表面３２に転写（熱転写）することで、当該表面３２に撥水用の微細構造部１１を形成する。つまり、型１６を成型し、この型１６を、前記加熱処理を終えた中間品に対して押し当てて加圧し、さらに、加熱し、型１６の微細凹凸面１７を、撥水層３の表面３２に転写する。なお、本実施形態では、１０ＭＰａの力で型１６を撥水層３へ加圧し、また、加熱温度（型１６及び撥水層３の温度）を１２０℃としている。この加熱温度については、撥水層３となる非晶質材料（アモルファスフッ素樹脂）のガラス転移点（１０８℃）よりも高い温度に設定されている。
[2.6 Steps of forming a fine structure for water repellency]
Although the water-repellent microstructure 11 can be formed by various methods, in the present embodiment, as shown in FIGS. By transferring (thermal transfer) to the surface 32 of the water repellent layer 3, the water-repellent microstructure 11 is formed on the surface 32. That is, the mold 16 is molded, and the mold 16 is pressed against the intermediate product that has been subjected to the heat treatment, pressurized, and further heated, so that the fine uneven surface 17 of the mold 16 becomes the surface of the water repellent layer 3. 32. In the present embodiment, the mold 16 is pressed against the water repellent layer 3 with a force of 10 MPa, and the heating temperature (the temperature of the mold 16 and the water repellent layer 3) is 120 ° C. The heating temperature is set to a temperature higher than the glass transition point (108 ° C.) of the amorphous material (amorphous fluororesin) that becomes the water repellent layer 3.
そして、図８（ｈ）において、この型１６が有する凹凸微細面１７は、型用のベース材１８上（図８（ｈ）の場合は下面）にプラズマＣＶＤ法によって形成した薄膜１９の表面１９ａの凹凸微細面からなる。
型１６のベース材１８は、ツール１の一部であるベース部材４と同じ材質とすることができ、本実施形態では、板状であり、シリコン、石英又はポリマー等からなる。そして、このベース材１８上の薄膜１９は、ツール１の一部である親水層２と同じ材質とすることができ、親水層２の形成と同じパルスプラズマＣＶＤ法によって形成される。つまり、この薄膜１９は、プラズマＣＶＤにより製膜したシリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）であり、ベース部材１８に積層されている。
8 (h), the concave / convex fine surface 17 of the mold 16 has a surface 19a of a thin film 19 formed on the base material 18 for the mold (the lower surface in the case of FIG. 8 (h)) by the plasma CVD method. It consists of uneven surface.
The base material 18 of the mold 16 can be made of the same material as that of the base member 4 that is a part of the tool 1. In the present embodiment, the base material 18 has a plate shape and is made of silicon, quartz, polymer, or the like. The thin film 19 on the base material 18 can be made of the same material as the hydrophilic layer 2 that is a part of the tool 1, and is formed by the same pulse plasma CVD method as the formation of the hydrophilic layer 2. That is, the thin film 19 is a silicon oxide film (SiOx) formed by plasma CVD, and is laminated on the base member 18.
このように、型１６の凹凸微細面１７を、プラズマＣＶＤ法によって形成することで、型１６は、ナノスケールの凹凸微細面１７を有することが可能となり、この型１５により撥水層３に転写を行うことで、撥水層３の表面３２に、ナノスケールの撥水用の微細構造部１１を形成することができる。
なお、撥水層３の撥水用の微細構造部１１を、前記のようなプラズマＣＶＤ法によって得られた型１５を用いて形成する以外に、例えば、電子線リソグラフィ、陽極酸化によるポーラスアルミナ等によりシリコン酸化膜を形成して、撥水用の微細構造部１１を得ても良い。
In this way, by forming the uneven fine surface 17 of the mold 16 by the plasma CVD method, the mold 16 can have the nanoscale uneven fine surface 17, which is transferred to the water repellent layer 3 by the mold 15. By performing the above, the nanoscale water-repellent microstructure 11 can be formed on the surface 32 of the water-repellent layer 3.
In addition to forming the water-repellent microstructure 11 of the water-repellent layer 3 using the mold 15 obtained by the plasma CVD method as described above, for example, electron beam lithography, porous alumina by anodization, or the like Thus, a silicon oxide film may be formed to obtain the fine structure 11 for water repellency.
また、既に終えている前記撥水層の開口部の形成工程において、撥水層３には開口部３１が形成されている。このため、図８（ｉ）に示しているように、開口部３１から撥水層３の下層である親水層２の微細構造部２１が、露出している。しかし、親水層２の微細構造部２１は、撥水層３の表面３２から一段低くなった状態にあるため、型１６の微細凹凸面１７を、撥水層３の表面３２に押し付けても、当該微細凹凸面１７は、開口部３１から露出している親水層２の微細構造部２１には接触せず、当該微細構造部２１を変形させるおそれがない。つまり、このような転写方法（ナノインプリント法）によれば、撥水用の微細構造部１１を形成する際の影響を、撥水層３の下層である親水層２に与えるのを防ぐことができる。 Further, in the already formed process of forming the opening of the water repellent layer, an opening 31 is formed in the water repellent layer 3. For this reason, as shown in FIG. 8I, the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 that is the lower layer of the water repellent layer 3 is exposed from the opening 31. However, since the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 is in a state of being lowered by one step from the surface 32 of the water repellent layer 3, even if the fine uneven surface 17 of the mold 16 is pressed against the surface 32 of the water repellent layer 3, The fine uneven surface 17 does not come into contact with the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 exposed from the opening 31, and there is no possibility of deforming the fine structure portion 21. That is, according to such a transfer method (nanoimprint method), it is possible to prevent the hydrophilic layer 2 that is the lower layer of the water-repellent layer 3 from being affected by the formation of the water-repellent microstructure 11. .
なお、本実施形態では、型１６の薄膜１９及びツール１の一部となる親水層２は、シリコン酸化物からなるが、このシリコン酸化物の融点は、撥水層３となるアモルファスフッ素樹脂のガラス転移点よりも高い。このため、前記のとおり、転写の際、アモルファスフッ素樹脂のガラス転移点よりも高い温度で加熱するが、この加熱温度を、シリコン酸化物（親水層２）の融点未満とすることで、型１６の凹凸微細面１７を、撥水層３の表面３２に転写することができる。 In this embodiment, the thin film 19 of the mold 16 and the hydrophilic layer 2 that is a part of the tool 1 are made of silicon oxide. The melting point of the silicon oxide is that of the amorphous fluororesin that becomes the water repellent layer 3. It is higher than the glass transition point. Therefore, as described above, at the time of transfer, heating is performed at a temperature higher than the glass transition point of the amorphous fluororesin. By setting the heating temperature below the melting point of the silicon oxide (hydrophilic layer 2), the mold 16 is heated. The uneven fine surface 17 can be transferred to the surface 32 of the water repellent layer 3.
以上の製造方法によれば、親水性を高める親水用の微細構造部２１が形成された親水層２と、この親水層２上に設けられ前記親水用の微細構造部２１を露出させる開口部３１が形成された撥水層３とを備えた液滴保持ツール１を製造することができる。
そして、撥水層３の開口部３１において親水層２の一部が露出していることから、露出した親水層２の微少領域に液滴が捕捉され、これに対して加熱処理がされかつ微細構造部１１によって撥水性が高められた撥水層３の表面３１には液滴が捕捉されない。このため、ツール１上において、開口部３１の形成パターンに従って液滴を配置することが可能となる。
According to the above manufacturing method, the hydrophilic layer 2 in which the hydrophilic microstructure 21 for enhancing hydrophilicity is formed, and the opening 31 provided on the hydrophilic layer 2 and exposing the hydrophilic microstructure 21. It is possible to manufacture the droplet holding tool 1 including the water repellent layer 3 on which is formed.
And since a part of hydrophilic layer 2 is exposed in the opening part 31 of the water-repellent layer 3, a droplet is trapped in the minute area of the exposed hydrophilic layer 2, this is heat-processed, and minute No droplets are captured on the surface 31 of the water repellent layer 3 whose water repellency has been enhanced by the structure portion 11. For this reason, on the tool 1, it becomes possible to arrange | position a droplet according to the formation pattern of the opening part 31. FIG.
しかも、撥水層３の開口部３１で露出している親水層２の領域は、微少な凹凸を有する親水用の微細構造部２１であるため、当該領域では、親水性をさらに高めることができ、かつ、撥水層３の表面３２が加熱処理され、さらに、この表面３２に撥水用の微細構造部１１を形成することで、撥水性をより一層高める（接触角を大きくする）ことが可能となる。
このため、親水層２と撥水層３との間で液滴の接触角の差をより一層大きくし、液滴を保持する能力を更に高めることができる。
Moreover, since the region of the hydrophilic layer 2 exposed at the opening 31 of the water repellent layer 3 is a hydrophilic microstructure 21 having minute irregularities, the hydrophilicity can be further enhanced in this region. In addition, the surface 32 of the water-repellent layer 3 is heat-treated, and the water-repellent microstructure 11 is formed on the surface 32 to further increase the water repellency (increase the contact angle). It becomes possible.
For this reason, the difference in the contact angle of the droplet between the hydrophilic layer 2 and the water repellent layer 3 can be further increased, and the ability to hold the droplet can be further enhanced.
この結果、例えば、表面張力の小さい液体や、粘性の高い液体であっても、前記のとおり、親水層２と撥水層３との間で液滴の接触角の差を大きくすることができ、図１１で説明したように、液体をツール１上に沿って流すのみで、当該液体から定量でかつ微量の液滴を分裂させて、ツール上１に捕捉することができる。
また、複数の開口部３１それぞれの大きさ、微細構造部１１，２１の表面粗さ等、親水層２及び撥水層３の各特性を均質化して製造することにより、複数の開口部３１（露出している微細構造部２１）それぞれにおいて、等量の液滴が捕捉される。
そして、このようなツール１を、図１に示すように、液滴分析用構造体５０として用いることで、血液分析又は化学分析を行うために重要となる高精度な分注機能を実現することが可能となる。例えば、微量な血液等の生体標本又は化学物質を含む水溶液等の液体を、図１１に示したように、流路（マイクロ流路）５２内に流せば、当該流路５２内で、容積を精密に規定して液滴として分裂させ、捕捉することができる。
As a result, the difference in the contact angle of the liquid droplets between the hydrophilic layer 2 and the water repellent layer 3 can be increased as described above, for example, even for a liquid having a low surface tension or a liquid having a high viscosity. As described with reference to FIG. 11, only by flowing the liquid along the tool 1, a small amount of liquid droplets can be split from the liquid and captured on the tool 1.
Further, by making the respective characteristics of the hydrophilic layer 2 and the water repellent layer 3 uniform, such as the size of each of the plurality of openings 31 and the surface roughness of the fine structure portions 11 and 21, the plurality of openings 31 ( An equal amount of droplets is captured in each exposed microstructure 21).
And by using such a tool 1 as a structure 50 for droplet analysis as shown in FIG. 1, a highly accurate dispensing function that is important for performing blood analysis or chemical analysis is realized. Is possible. For example, if a liquid such as a trace amount of biological specimen such as blood or an aqueous solution containing a chemical substance is flowed into the flow path (micro flow path) 52 as shown in FIG. It can be precisely defined, broken up as droplets and captured.
また、このようなツール１を備えた液滴分析用構造体５０によれば、捕捉した液滴をハンドリングすることが容易となる。すなわち、例えば、この構造体５０を回転させると、その遠心力によって、流路５２内で捕捉された液滴を離脱させ、他の場所へ移送することができる。又は、流路５２内に設置したスライダ（図示せず）を駆動させることにより、流路５２内で捕捉された液滴を強制的に離脱させ、他の場所へ移送することができる。 Moreover, according to the droplet analysis structure 50 provided with such a tool 1, it becomes easy to handle the captured droplet. That is, for example, when the structure 50 is rotated, the droplets captured in the flow path 52 can be separated by the centrifugal force and transferred to another location. Alternatively, by driving a slider (not shown) installed in the flow path 52, the liquid droplets captured in the flow path 52 can be forcibly separated and transferred to another location.
また、図１２（ａ）に示すように、前記ツール１を、他の構造を有する液滴分析用構造体５５として適用することができる。この構造体５５は、対のツール１を対向させて配置したものであり、両者の間を、液体が流れる流路５６としている。なお、各ツール１における開口部３１の配置パターンは鏡像の関係にある。このため、対のツール１において、開口部３１から露出した親水層２の微細構造部２１は対向した位置関係となり、図１２（ｂ）に示しているように、流路５６内で、一方のツール１から他方のルール１側へと繋がった、柱形状となる液滴が捕捉される。
この場合、ツール１の厚さ方向（図１２では上下方向）から観察（顕微鏡観察）する際、対のツール１間で繋がっている液滴の位置では、当該ツール１間で空気の層が介在しないため、光の屈折の影響が低減される。そして、ツール１は全体として可視光透過性を有していることにより、内部の液滴を観察（顕微鏡観察）するのに好都合となる。
Also, as shown in FIG. 12A, the tool 1 can be applied as a droplet analysis structure 55 having another structure. This structure 55 is a structure in which a pair of tools 1 are arranged to face each other, and a flow path 56 through which a liquid flows is formed between them. The arrangement pattern of the openings 31 in each tool 1 has a mirror image relationship. For this reason, in the pair of tools 1, the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 exposed from the opening portion 31 is in an opposing positional relationship, and as shown in FIG. A droplet having a column shape connected from the tool 1 to the other rule 1 side is captured.
In this case, when observing from the thickness direction of the tool 1 (vertical direction in FIG. 12) (microscopic observation), an air layer is interposed between the tools 1 at the position of the droplet connected between the pair of tools 1. Therefore, the influence of light refraction is reduced. And since the tool 1 has visible light permeability as a whole, it is convenient for observing the internal droplet (microscopic observation).
さらに、図１２に示す液滴分析用構造体５５を用いて、液滴の定量分注が可能となる。図１３は、微量の液滴の定量分注を具体的に説明する説明図である。図１３では、図１２に示す構造体５５のうち、一方（下側）のツール１のみを示し、他方（上側）のツール１を省略している。この構造体５５では、対のツール１間にキャビティ５８が形成されており、このキャビティ５８を挟んで上流側流路５７ａと下流側流路５７ｂとが設けられている。さらに、キャビティ５８には排出流路５７ｃが繋がっている。また、このキャビティ５８において、双方のツール１では、撥水層３には前記開口部が形成されており、親水層２の微細構造部２１が露出している。 Furthermore, the droplet dispensing structure 55 shown in FIG. 12 can be used for quantitative dispensing of droplets. FIG. 13 is an explanatory diagram specifically explaining the quantitative dispensing of a small amount of droplets. In FIG. 13, only one (lower) tool 1 is shown in the structure 55 shown in FIG. 12, and the other (upper) tool 1 is omitted. In this structure 55, a cavity 58 is formed between the pair of tools 1, and an upstream flow path 57 a and a downstream flow path 57 b are provided across the cavity 58. Further, a discharge channel 57 c is connected to the cavity 58. Further, in this cavity 58, in both tools 1, the opening is formed in the water repellent layer 3, and the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 is exposed.
そして、液体を、上流側流路５７ａからキャビティ５８を通過させ下流側流路５７ｂへと流すと（図１３（ａ））、液体の一部が、柱状の液滴となって、対向する微細構造部２１間に捕捉される（図１３（ｂ））。そして、この構造体５５を回転させ遠心力Ｆが柱状の液滴に作用すると（図１３（ｃ））、この液滴は微細構造部２１間から離脱し、排出流路５７ｃへと移動し、柱状であった液滴を、構造体５５から排出することができる。なお、排出流路５７ｃは、キャビティ５８の外周のうち、構造体５５の回転中心から離れる方向の位置で、繋がっている。 Then, when the liquid passes from the upstream flow path 57a through the cavity 58 and flows to the downstream flow path 57b (FIG. 13A), a part of the liquid becomes columnar droplets and is opposed to fine. Captured between the structural parts 21 (FIG. 13B). Then, when the structure 55 is rotated and the centrifugal force F acts on the columnar droplet (FIG. 13C), the droplet is detached from between the fine structure portions 21 and moves to the discharge channel 57c. The columnar droplets can be discharged from the structure 55. The discharge flow path 57c is connected at a position in the direction away from the rotation center of the structure 55 in the outer periphery of the cavity 58.
このように、開口部３１で露出している親水層２（微細構造部２１）では、所定量（例えば１４ナノリットル）の１滴の液滴が捕捉される。前記のような遠心力を用いることにより、この所定量全てを移送することも可能であるが、遠心力を与えてこの１滴の液滴を、さらに、細かく分離して他部へ移送させてもよい。
この場合、図１２（ｂ）に示すように、ツール１間の寸法が一定（例えば２００μｍ）であるため、液滴の高さは一定となる。そこで、遠心力を与えながら、当該遠心力により柱状の液滴の一部が離脱して液滴の投影面積（断面積）が段階的に減少することを確認することにより、１滴（１４ナノリットル）よりも少ない量（例えば２ナノリットル）の定量分注も可能となる。
Thus, in the hydrophilic layer 2 (fine structure portion 21) exposed at the opening 31, one droplet of a predetermined amount (for example, 14 nanoliters) is captured. By using the centrifugal force as described above, it is possible to transfer all of the predetermined amount. However, by applying the centrifugal force, this one drop is further finely separated and transferred to the other part. Also good.
In this case, as shown in FIG. 12B, since the dimension between the tools 1 is constant (for example, 200 μm), the height of the droplet is constant. Therefore, by applying a centrifugal force, by confirming that a part of the columnar droplet is detached by the centrifugal force and the projected area (cross-sectional area) of the droplet is reduced stepwise, one droplet (14 nanometers) Liters) can be dispensed in smaller amounts (for example, 2 nanoliters).
［３． 液体保持ツール１の他の適用例］
本発明ツール１は、前記のような血液分析又は化学分析のみならず、例えば基板（電気基板）上の所定位置に部品（半導体素子）を位置させる自己整合配列（セルフアライメント、セルフアセンブリ）に用いることもできる。
図１４（ａ）は、前記ツール１をセルフアッセンブリに用いる場合の説明図である。ツール１は、前記実施形態とほぼ同一であるが、この場合、撥水層３又は親水層２に導電性を有する配線４０が形成されている。配線４０は、撥水層３に形成された開口部３１と繋がっている。このツール１が電気基板であり、このツール１上の所定位置に、部品として半導体素子４１を自己整合配列させる。
[3. Other application examples of the liquid holding tool 1]
The tool 1 of the present invention is used not only for blood analysis or chemical analysis as described above, but also for self-alignment arrangement (self-alignment, self-assembly) in which components (semiconductor elements) are positioned at predetermined positions on a substrate (electrical substrate), for example. You can also.
FIG. 14A is an explanatory diagram when the tool 1 is used for self-assembly. The tool 1 is almost the same as that of the above embodiment, but in this case, the conductive layer 40 is formed in the water repellent layer 3 or the hydrophilic layer 2. The wiring 40 is connected to the opening 31 formed in the water repellent layer 3. This tool 1 is an electric substrate, and semiconductor elements 41 are arranged in a self-aligned manner as parts at predetermined positions on the tool 1.
図１４（ａ）の場合、前記開口部３１では、親水層２の微細構造部２１が露出しており、この親水層２が露出している領域には液体（水）が捕捉される。そこで、この液体の表面張力により、前記半導体素子４１は自動的に捕捉され開口部３１に位置決めされる（図１４（ｂ）参照）。そして、この液体を例えば蒸発等により除去すればよい。
以上のように、半導体素子４１（部品）を、電気基板（ツール１）上の所定位置に位置決めすることができ、位置決めされた半導体素子４１を、電気基板となるツール１に固定することで、半導体素子４１に配線４０が繋がった基板構造体が得られる。
In the case of FIG. 14A, the fine structure 21 of the hydrophilic layer 2 is exposed in the opening 31, and the liquid (water) is captured in the region where the hydrophilic layer 2 is exposed. Therefore, the semiconductor element 41 is automatically captured and positioned in the opening 31 by the surface tension of the liquid (see FIG. 14B). Then, this liquid may be removed, for example, by evaporation.
As described above, the semiconductor element 41 (component) can be positioned at a predetermined position on the electric board (tool 1), and by fixing the positioned semiconductor element 41 to the tool 1 serving as the electric board, A substrate structure in which the wiring 40 is connected to the semiconductor element 41 is obtained.
また、図１５は、前記ツール１を別のセルフアセンブリに用いる場合の説明図である。ツール１は、図１の実施形態とほぼ同一であり、所定の位置において親水層２の微細構造部２１が、撥水層３の開口部３１から露出している。このツール１を、シャーレ４４内に投入する（図１５（ａ）（ｂ））。このシャーレ４４には、微粒子（ナノ粒子）４５を含むコロイド又は分散液が入れられている。微粒子４５としては、金、パラジウム、プラチナ、銅、銀、カーボンナノチューブ等がある。 FIG. 15 is an explanatory diagram when the tool 1 is used for another self-assembly. The tool 1 is almost the same as that in the embodiment of FIG. 1, and the microstructure 21 of the hydrophilic layer 2 is exposed from the opening 31 of the water repellent layer 3 at a predetermined position. This tool 1 is put into the petri dish 44 (FIGS. 15A and 15B). The petri dish 44 contains a colloid or dispersion liquid containing fine particles (nanoparticles) 45. Examples of the fine particles 45 include gold, palladium, platinum, copper, silver, and carbon nanotubes.
前記ツール１をシャーレ４４から取り出すと、図１５（ｃ）に示すように、当該ツール１において、開口部３１から露出している微細構造部２１には、液滴（コロイド又は分散液）が捕捉される。そして、この捕捉された液滴には、前記微粒子４５が含まれている。図１５（ｄ）に示すように、この液滴の水分を例えば蒸発等により除去すれば、開口部３１から露出している微細構造部２１それぞれには、前記微粒子４５が堆積した状態となる。これに対して、それ以外の撥水層３の表面３２には、液滴が捕捉されない。このように、ツール１上において、局所的に（所望の位置に）微粒子４５を配置することが可能となる。 When the tool 1 is taken out from the petri dish 44, as shown in FIG. 15C, droplets (colloid or dispersion liquid) are trapped in the fine structure portion 21 exposed from the opening 31 in the tool 1. Is done. The trapped droplets contain the fine particles 45. As shown in FIG. 15D, when the water in the droplets is removed by, for example, evaporation, the fine particles 45 are deposited on each of the fine structure portions 21 exposed from the openings 31. On the other hand, droplets are not captured on the surface 32 of the other water repellent layer 3. As described above, the fine particles 45 can be locally arranged (in a desired position) on the tool 1.
また、図１６は、複数の前記ツール１を、セルフアライメントする場合の説明図である。一対のツール１それぞれは、図１の実施形態とほぼ同一であり、所定の位置において親水層２の微細構造部が、撥水層３の開口部３１から露出している。そして、対のツール１における開口部３１のパターンは鏡像の関係にある。このため、対のツール１それぞれにおいて、開口部３１から露出した親水層２の微細構造部２１は、対向した位置関係となり得る。
そこで、各ツール１の露出した微細構造部２１に液滴を保持させた状態で、対のツール１を接近させると、前記液滴の表面張力によって、対のツール１の開口部３１同士が接近し、対向した状態となり、一方のツール１を他方のツール１に自動的に位置合わせすることができる。
FIG. 16 is an explanatory diagram when a plurality of the tools 1 are self-aligned. Each of the pair of tools 1 is substantially the same as the embodiment of FIG. 1, and the fine structure portion of the hydrophilic layer 2 is exposed from the opening 31 of the water repellent layer 3 at a predetermined position. The pattern of the opening 31 in the pair of tools 1 has a mirror image relationship. For this reason, in each of the pair of tools 1, the fine structure portion 21 of the hydrophilic layer 2 exposed from the opening portion 31 can be in an opposed positional relationship.
Therefore, when the pair of tools 1 are brought close to each other while the droplets are held in the exposed fine structure portion 21 of each tool 1, the openings 31 of the pair of tools 1 approach each other due to the surface tension of the droplets. In this state, one tool 1 can be automatically aligned with the other tool 1.
以上のように、本発明のツール１を、セルフアッセンブリ、セルフアライメントの技術に適用することができる。また、前記のとおり、本発明のツール１を、例えば微量分注機能を有するμＴＡＳ（Micro-Total Analysis Systems）デバイスに内蔵することができる。この場合、ＭＥＭＳ技術を用いて、ツール１上に微小な流路や反応室、混合室を設けることもでき、このツール１によって、血液やＤＮＡをはじめさまざまな液体を分析する生化学分析デバイスとすることも可能となる。 As described above, the tool 1 of the present invention can be applied to self-assembly and self-alignment techniques. In addition, as described above, the tool 1 of the present invention can be incorporated in, for example, a μTAS (Micro-Total Analysis Systems) device having a minute dispensing function. In this case, a micro flow path, a reaction chamber, and a mixing chamber can be provided on the tool 1 by using the MEMS technology. With this tool 1, a biochemical analysis device for analyzing various liquids including blood and DNA It is also possible to do.
また、本発明のツール１によれば、例えば図１に示したように、液体が、流路５２内を流れるのみで、１条の当該流路５２内に定量の液滴を複数箇所で生成することが可能となる。さらに、親水及び撥水の特性が高く、接触角の差が大きいことから、液滴の捕捉能力は高く、しかも、定量の液滴を捕捉することができる。そして、ナノリットルスケールの微量分注が簡単な操作により実現可能である。 Further, according to the tool 1 of the present invention, for example, as shown in FIG. 1, the liquid only flows in the flow path 52, and a fixed amount of liquid droplets are generated in a single line in the flow path 52. It becomes possible to do. Further, since the hydrophilic and water repellent properties are high and the difference in contact angle is large, the droplet capturing ability is high, and a fixed amount of droplets can be captured. And nanoliter scale micro-dispensing can be realized by a simple operation.
また、本発明の液滴保持ツールは、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであっても良く、撥水層３の開口部３１の配置パターンは、用途に応じて変更自在であり、また、開口部３１の形状を矩形としたが円形であってもよい。前記実施形態では、親水層２に、親水用の凹凸微細構造部２１が形成された場合を説明したが、この親水用の凹凸微細構造部２１は形成されていなくてもよい。
前記製造方法では、単一の開口部３１を形成する場合を説明したが、複数の開口部３１を形成する場合、当該開口部３１を前記製造方法によって同時に形成することができる。
Further, the droplet holding tool of the present invention is not limited to the illustrated form, and may be of other forms within the scope of the present invention. The arrangement pattern of the openings 31 of the water repellent layer 3 depends on the application. The shape of the opening 31 is rectangular, but it may be circular. In the embodiment, the case where the hydrophilic concavo-convex microstructure portion 21 is formed in the hydrophilic layer 2 has been described, but the hydrophilic concavo-convex microstructure portion 21 may not be formed.
In the manufacturing method, the case where a single opening 31 is formed has been described. However, when a plurality of openings 31 are formed, the openings 31 can be formed simultaneously by the manufacturing method.
１：液滴保持ツール、 ２：親水層、 ３：撥水層、 ５：マスク、 ６：窓部、 １１：撥水用の凹凸微細構造部、 １６：型、 １７：凹凸微細面、 １８：ベース部材、 １９：薄膜、 １９ａ：表面、 ２０：表面、 ２１：親水用の凹凸微細構造部、 ３１：開口部、 ３２：表面
1: droplet holding tool, 2: hydrophilic layer, 3: water repellent layer, 5: mask, 6: window, 11: concavo-convex fine structure for water repellency, 16: mold, 17: concavo-convex fine surface, 18: Base member, 19: thin film, 19a: surface, 20: surface, 21: irregular fine structure for hydrophilicity, 31: opening, 32: surface
Claims (3)
当該凹凸微細構造部を全体に広がって形成した当該親水層の表面上に、非晶質材料からなる撥水層を設け、
前記撥水層の表面に、窓部を有するマスクを形成し、
前記撥水層の内の前記窓部に対応する位置に、前記凹凸微細構造部を露出させる開口部を形成し、
前記マスクを除去した後に、前記非晶質材料のガラス転移点以上の温度で前記撥水層を加熱処理することによって、前記撥水層の表面の撥水性を回復させ、
その後、撥水性を回復させた当該撥水層の表面に撥水性を高める凹凸微細構造部を形成し、
前記撥水性を高める凹凸微細構造部の形成は、型が有する凹凸微細面を、前記撥水層の表面に転写して行うことを特徴とする撥水層を有する液滴保持ツールの製造方法。 On the surface of the hydrophilic layer, an uneven microstructure that enhances hydrophilicity is formed to spread over the entire surface ,
A water-repellent layer made of an amorphous material is provided on the surface of the hydrophilic layer formed by spreading the concavo-convex microstructure part over the whole ,
Forming a mask having a window on the surface of the water-repellent layer;
Forming an opening that exposes the concave-convex microstructure in a position corresponding to the window in the water repellent layer;
After removing the mask, the water-repellent layer is heated at a temperature equal to or higher than the glass transition point of the amorphous material to recover the water repellency of the surface of the water-repellent layer,
Thereafter, an uneven fine structure portion that improves water repellency is formed on the surface of the water-repellent layer that has recovered water repellency,
The method for producing a droplet holding tool having a water repellent layer is characterized in that the formation of the concavo-convex fine structure portion for improving water repellency is performed by transferring the concavo-convex fine surface of a mold onto the surface of the water repellent layer.
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