JP5742594B2 - Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method - Google Patents

Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method Download PDF

Info

Publication number
JP5742594B2
JP5742594B2 JP2011187316A JP2011187316A JP5742594B2 JP 5742594 B2 JP5742594 B2 JP 5742594B2 JP 2011187316 A JP2011187316 A JP 2011187316A JP 2011187316 A JP2011187316 A JP 2011187316A JP 5742594 B2 JP5742594 B2 JP 5742594B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
powder
gas
powder supply
supply
disk
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011187316A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012072491A (en
JP2012072491A5 (en
Inventor
透 大沼
透 大沼
順一 飯坂
順一 飯坂
達也 関本
達也 関本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2011187316A priority Critical patent/JP5742594B2/en
Priority to PCT/JP2012/000255 priority patent/WO2013031042A1/en
Priority to CN201280042531.6A priority patent/CN103781715B/en
Publication of JP2012072491A publication Critical patent/JP2012072491A/en
Priority to US14/189,388 priority patent/US20140178570A1/en
Publication of JP2012072491A5 publication Critical patent/JP2012072491A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5742594B2 publication Critical patent/JP5742594B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/36Selection of substances as active materials, active masses, active liquids
    • H01M4/38Selection of substances as active materials, active masses, active liquids of elements or alloys
    • H01M4/386Silicon or alloys based on silicon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G53/00Conveying materials in bulk through troughs, pipes or tubes by floating the materials or by flow of gas, liquid or foam
    • B65G53/34Details
    • B65G53/40Feeding or discharging devices
    • B65G53/46Gates or sluices, e.g. rotary wheels
    • B65G53/4608Turnable elements, e.g. rotary wheels with pockets or passages for material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/04Processes of manufacture in general
    • H01M4/0402Methods of deposition of the material
    • H01M4/0419Methods of deposition of the material involving spraying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M4/00Electrodes
    • H01M4/02Electrodes composed of, or comprising, active material
    • H01M4/13Electrodes for accumulators with non-aqueous electrolyte, e.g. for lithium-accumulators; Processes of manufacture thereof
    • H01M4/139Processes of manufacture
    • H01M4/1395Processes of manufacture of electrodes based on metals, Si or alloys
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10Energy storage using batteries

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Inert Electrodes (AREA)
  • Nozzles (AREA)

Description

本発明は、粉末供給装置および噴射加工システムに関し、さらには、これらを利用した
電極材料の製造方法に関する。
The present invention relates to a powder supply apparatus and an injection processing system, and further relates to a method for manufacturing an electrode material using them.

ミクロンサイズの粉末をドライ環境で一定量ずつ供給する粉末供給装置は、様々な方式
のものが製品化されている。例えば、スパイラルスプリング方式や、ドラム式、圧送・吸
引式の粉末供給装置(例えば、特許文献1を参照)等が知られている。
Various types of powder supply devices that supply micron-sized powder in a dry environment at a constant rate have been commercialized. For example, a spiral spring type, drum type, pressure feed / suction type powder supply device (see, for example, Patent Document 1) and the like are known.

特開2010−65246号公報JP 2010-65246 A

しかしながら、従来の粉末供給装置では、ミクロンサイズの粉末を微少量で一定量ずつ
供給する場合、粉末が有する凝集性等の特性により、粉末を安定して供給することが難し
かった。
However, in the conventional powder supply apparatus, when supplying micron-sized powder in a small amount by a certain amount, it is difficult to stably supply the powder due to characteristics such as cohesiveness of the powder.

本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、粉末の供給量を安定させた粉
末供給装置、噴射加工システム、負極の製造方法および正極の製造方法を提供することを
目的とする。
This invention is made in view of such a problem, and it aims at providing the powder supply apparatus, the injection processing system, the negative electrode manufacturing method, and the positive electrode manufacturing method which stabilized the supply amount of the powder. .

このような目的達成のため、本発明の態様の粉末供給装置は、外周部上面側に粉末を受容する受容部が形成された円盤状の粉末供給円盤と、前記粉末供給円盤を内部に回転可能に保持する円盤保持槽と、前記粉末供給円盤の一部を覆って、前記粉末供給円盤との間に、前記円盤保持槽において回転する前記粉末供給円盤の回転に応じて前記受容部に受容された粉末が通過可能な間隙部を形成するカバー部材と、前記間隙部に第一の気体を供給する第一の気体供給通路と、前記間隙部に連通し、前記第一の気体により前記受容部から脱離した粉末を排出する粉末排出通路とを備え、前記粉末排出通路および前記第一の気体供給通路はそれぞれ、前記間隙部を介して互いに対向するとともに、前記間隙部に位置する前記受容部の底面に沿って延びるように形成される。 In order to achieve such an object, the powder supply device according to the aspect of the present invention includes a disk-shaped powder supply disk in which a receiving part for receiving powder is formed on the upper surface side of the outer peripheral part, and the powder supply disk can be rotated inside. The powder holding disk is received by the receiving portion according to the rotation of the powder supply disk rotating in the disk holding tank, covering a part of the powder supply disk and covering the part of the powder supply disk. A cover member that forms a gap portion through which the powder can pass, a first gas supply passage that supplies a first gas to the gap portion, and the receiving portion that communicates with the gap portion by the first gas. A powder discharge passage for discharging powder desorbed from the container, wherein the powder discharge passage and the first gas supply passage are opposed to each other through the gap portion, and are located in the gap portion. Extending along the bottom of It is formed so as.

なお、上述の粉末供給装置は、前記粉末排出通路の出口端が内部に開口する粉末供給ポ
ートと、前記粉末供給ポートの内部に第二の気体を供給する第二の気体供給通路とを備え
ることが好ましい。
The above-described powder supply apparatus includes a powder supply port in which an outlet end of the powder discharge passage opens and a second gas supply passage that supplies a second gas into the powder supply port. Is preferred.

また、上述の粉末供給装置において、前記粉末供給ポートは略円形断面を有し、前記第
二の気体供給通路が、前記略円形断面と同軸の気体供給ノズルをもって前記粉末供給ポー
トに開口することが好ましい。
In the above-described powder supply apparatus, the powder supply port may have a substantially circular cross section, and the second gas supply passage may open to the powder supply port with a gas supply nozzle coaxial with the substantially circular cross section. preferable.

また、上述の粉末供給装置において、前記受容部が前記粉末供給円盤の外周部上面側に
テーパ状に形成され、前記粉末排出通路が前記間隙部の斜め下方に延びる直線状に形成さ
れるとともに、前記第一の気体供給通路が前記間隙部の斜め上方に延びる直線状に形成さ
れることが好ましい。
Further, in the above-described powder supply device, the receiving portion is formed in a tapered shape on the upper surface side of the outer periphery of the powder supply disk, and the powder discharge passage is formed in a linear shape extending obliquely below the gap portion, It is preferable that the first gas supply passage is formed in a straight line extending obliquely above the gap portion.

また、上述の粉末供給装置において、粉末が貯留される粉末保持槽を備え、前記粉末保持槽の底部に、前記受容部の上方に位置して穴部が形成されており、前記粉末保持槽に貯留された粉末が前記穴部から落下して前記受容部に受容されることが好ましい。
またこのとき、前記粉末保持槽の内部に、前記粉末保持槽に貯留された粉末を移動させる羽根部材が回転可能に配設され、前記羽根部材の回転により、前記粉末保持槽に貯留された粉末が前記穴部から落下して前記受容部に受容されることが好ましい。
Further, in the above-mentioned powder supplying device comprises a powder holding tank the powder is stored, in the bottom portion of the powder holding tank, the hole located above the receiving portion is formed, the powder holding tank It is preferable that the stored powder falls from the hole and is received by the receiving portion.
Further, at this time, a blade member for moving the powder stored in the powder holding tank is rotatably disposed inside the powder holding tank, and the powder stored in the powder holding tank by the rotation of the blade member. Is preferably dropped from the hole and received by the receiving portion.

また、本発明の態様の噴射加工システムは、粉末を供給する粉末供給装置と、前記粉末
供給装置から供給された粉末を、気体の噴流に混合させて基材に噴射し衝突させることで
、前記基材の表面に膜を形成する噴射加工装置とを備え、前記粉末供給装置として本発明
の態様の粉末供給装置を用いている。
Moreover, the injection processing system according to the aspect of the present invention includes a powder supply device that supplies powder, and the powder supplied from the powder supply device is mixed with a gas jet and injected into a base material to be collided. An injection processing apparatus for forming a film on the surface of the substrate, and the powder supply apparatus according to the aspect of the present invention is used as the powder supply apparatus.

なお、上述の噴射加工システムにおいて、前記噴射加工装置が前記粉末供給装置に直結
されることが好ましい。
In the above-described injection processing system, it is preferable that the injection processing device is directly connected to the powder supply device.

また、本発明の態様の電極材料の製造方法は、二次電池に用いられる電極材料の製造方
法であって、粉末供給装置を用いて、活物質を含む粉末を供給し、前記粉末供給装置から
供給された粉末を、気体の噴流に混合させて電極基材に噴射し衝突させることで、前記電
極基材の表面に膜を形成し、前記粉末供給装置として本発明の態様の粉末供給装置を用い
ている。
Further, the method for producing an electrode material according to an aspect of the present invention is a method for producing an electrode material used for a secondary battery, wherein powder containing an active material is supplied using a powder supply device, and the powder supply device The supplied powder is mixed with a gas jet and injected onto the electrode base material to collide with it to form a film on the surface of the electrode base material. The powder supply device according to the aspect of the present invention is used as the powder supply device. Used.

なお、上述の電極材料の製造方法において、前記活物質がシリコン(Si)であること
が好ましい。
In the above-described electrode material manufacturing method, the active material is preferably silicon (Si).

本発明によれば、粉末の供給量が微少な場合でも、粉末を安定して供給することができ
る。
According to the present invention, even when the amount of powder supplied is small, the powder can be stably supplied.

供給パイプおよび第三槽の断面図である。It is sectional drawing of a supply pipe and a 3rd tank. 第1実施形態に係る噴射加工システムの概要構成図である。1 is a schematic configuration diagram of an injection processing system according to a first embodiment. 第1実施形態に係る粉末供給装置の平面図である。It is a top view of the powder supply apparatus concerning a 1st embodiment. 供給パイプおよび第三槽の斜視図である。It is a perspective view of a supply pipe and a 3rd tank. (a)は第1実施形態の粉末供給装置による粉末噴射量の経時変化を示すグラフであり、(b)は従来の粉末供給装置による粉末噴射量の経時変化を示すグラフである。(A) is a graph which shows the time-dependent change of the powder injection quantity by the powder supply apparatus of 1st Embodiment, (b) is a graph which shows the time-dependent change of the powder injection quantity by the conventional powder supply apparatus. (a)は第1実施形態の粉末供給装置による平均噴射量の経時変化を示すグラフであり、(b)は従来の粉末供給装置による平均噴射量の経時変化を示すグラフである。(A) is a graph which shows the time-dependent change of the average injection quantity by the powder supply apparatus of 1st Embodiment, (b) is a graph which shows the time-dependent change of the average injection quantity by the conventional powder supply apparatus. (a)はリチウムイオン二次電池の概要構成図であり、(b)はリチウムイオン二次電池用負極の概要構成図(断面図)である。(A) is a schematic block diagram of a lithium ion secondary battery, (b) is a schematic block diagram (sectional drawing) of the negative electrode for lithium ion secondary batteries. リチウムイオン二次電池に用いられる負極(もしくは正極)の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the negative electrode (or positive electrode) used for a lithium ion secondary battery. (a)は第2実施形態に係る噴射加工システムの概要構成図であり、(b)は(a)中の矢印IX−IXに沿った断面図である。(A) is a schematic block diagram of the injection processing system which concerns on 2nd Embodiment, (b) is sectional drawing along arrow IX-IX in (a). 第2実施形態に係る噴射加工装置の近傍を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view showing the neighborhood of the injection processing device concerning a 2nd embodiment. 第2実施形態に係る粉末供給円盤の斜視図である。It is a perspective view of the powder supply disk which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係るノズルユニットの斜視図である。It is a perspective view of the nozzle unit which concerns on 2nd Embodiment. 図12中の矢印XIII−XIIIから見た断面図である。It is sectional drawing seen from the arrow XIII-XIII in FIG.

以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。第1実施形態に係る噴射加工シス
テム1を図2に示しており、この噴射加工システム1は、粉末(固体微粒子)PWを供給
する粉末供給装置10と、粉末供給装置10から供給された粉末PWを、気体の噴流に混
合させて基材(例えば、後述の電極基材131)に噴射し衝突させることで、基材の表面
に膜を形成する噴射加工装置60とを備えて構成される。粉末供給装置10は、箱状の筐
体部11と、筐体部11の上部に支持されて粉末PWを貯留する貯留槽20と、貯留槽2
0に貯留された粉末PWを外部の噴射加工装置60に供給する粉末供給ポート55とを備
えて構成される。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. An injection processing system 1 according to the first embodiment is shown in FIG. 2, and this injection processing system 1 includes a powder supply device 10 that supplies powder (solid fine particles) PW and a powder PW supplied from the powder supply device 10. Are mixed with a gas jet and jetted onto a base material (for example, an electrode base material 131 described later) to collide with the jet processing device 60 for forming a film on the surface of the base material. The powder supply apparatus 10 includes a box-shaped casing unit 11, a storage tank 20 that is supported on the upper part of the casing unit 11 and stores the powder PW, and a storage tank 2.
And a powder supply port 55 for supplying the powder PW stored at 0 to the external injection processing device 60.

図2における筐体部11の内部右側には、貯留槽20に設けられた第一羽根車22を回
転駆動する第一ステッピングモータ12が配設される。第一ステッピングモータ12の回
転軸12aは、鉛直上方に延びて、その先端部が第一モータカップリング15と連結され
る。図2における筐体部11の内部中央には、貯留槽20に設けられた第二羽根車32を
回転駆動する第二ステッピングモータ13が配設される。第二ステッピングモータ13の
回転軸13aは、鉛直上方に延びて、その先端部が第二モータカップリング16と連結さ
れる。図2における筐体部11の内部左側には、貯留槽20に設けられた粉末供給円盤4
5を回転駆動する第三ステッピングモータ14が配設される。第三ステッピングモータ1
4の回転軸14aは、鉛直上方に延びて、その先端部が第三モータカップリング17と連
結される。
A first stepping motor 12 that rotationally drives a first impeller 22 provided in the storage tank 20 is disposed on the right side inside the housing portion 11 in FIG. The rotating shaft 12 a of the first stepping motor 12 extends vertically upward, and its tip is connected to the first motor coupling 15. A second stepping motor 13 that rotationally drives a second impeller 32 provided in the storage tank 20 is disposed in the center of the housing 11 in FIG. The rotating shaft 13 a of the second stepping motor 13 extends vertically upward, and its tip is connected to the second motor coupling 16. The powder supply disk 4 provided in the storage tank 20 is on the left side inside the casing 11 in FIG.
A third stepping motor 14 that rotationally drives 5 is disposed. Third stepping motor 1
The rotating shaft 14 a of 4 extends vertically upward, and its tip is connected to the third motor coupling 17.

貯留槽20は、図2および図3に示すように、最上段に位置する第一槽21と、第一槽
21の下側(図2における左下側)に位置する第二槽31と、第二槽31の下側(図2に
おける左下側)に位置する第三槽41とから構成される。第一槽21は、粉末PWを貯留
可能な有底円筒状に形成され、その内部で粉末PWを攪拌するための第一羽根車22を回
転可能に保持している。第一羽根車22は、複数の羽根部材を有して構成され、第一羽根
車22の回転対称軸中心に回転することで、第一槽21に貯留された粉末PWを攪拌して
移動させることができるようになっている。第一羽根車22の下側中央部には、第一槽2
1の底部を貫通して上下に延びる第一駆動軸23の上端部が連結されている。第一駆動軸
23の下端部は第一モータカップリング15と連結され、これにより、第一ステッピング
モータ12の回転駆動力が第一モータカップリング15および第一駆動軸23を介して第
一羽根車22に伝達される。第一槽21の底部外周側には、第二槽31の上方に位置して
穴部25が形成されており、第一羽根車22(羽根部材)の回転により、第一槽21に貯
留された粉末PWがこの穴部25から落下して第二槽31に貯留されるようになっている
As shown in FIGS. 2 and 3, the storage tank 20 includes a first tank 21 positioned at the uppermost stage, a second tank 31 positioned below the first tank 21 (lower left side in FIG. 2), It is comprised from the 3rd tank 41 located in the lower side (lower left side in FIG. 2) of the two tanks 31. FIG. The first tank 21 is formed in a bottomed cylindrical shape capable of storing the powder PW, and rotatably holds a first impeller 22 for stirring the powder PW therein. The first impeller 22 is configured to have a plurality of blade members, and the powder PW stored in the first tank 21 is stirred and moved by rotating about the rotational symmetry axis of the first impeller 22. Be able to. In the lower central part of the first impeller 22, the first tank 2
The upper end portion of the first drive shaft 23 extending through the bottom portion of 1 is extended. The lower end portion of the first drive shaft 23 is coupled to the first motor coupling 15, whereby the rotational driving force of the first stepping motor 12 is transmitted through the first motor coupling 15 and the first drive shaft 23 to the first blade. It is transmitted to the car 22. On the outer peripheral side of the bottom of the first tank 21, a hole 25 is formed above the second tank 31, and is stored in the first tank 21 by the rotation of the first impeller 22 (blade member). The powder PW falls from the hole 25 and is stored in the second tank 31.

第二槽31は、粉末PWを貯留可能な有底円筒状に形成され、その内部で粉末PWを攪
拌するための第二羽根車32を回転可能に保持している。第二羽根車32は、複数の羽根
部材を有して構成され、第二羽根車32の回転対称軸中心に回転することで、第二槽31
に貯留された粉末PWを攪拌して移動させることができるようになっている。第二羽根車
32の下側中央部には、第二槽31の底部を貫通して上下に延びる第二駆動軸33の上端
部が連結されている。第二駆動軸33の下端部は第二モータカップリング16と連結され
、これにより、第二ステッピングモータ13の回転駆動力が第二モータカップリング16
および第二駆動軸33を介して第二羽根車32に伝達される。第二槽31の底部外周側に
は、第三槽41の粉末供給円盤45に形成された受容部47の上方に位置して円弧状の穴
部35が形成されており、第二羽根車32(羽根部材)の回転により、第二槽31に貯留
された粉末PWがこの穴部35から落下して粉末供給円盤45の受容部47に受容される
ようになっている。
The second tank 31 is formed in a bottomed cylindrical shape capable of storing the powder PW, and rotatably holds a second impeller 32 for stirring the powder PW therein. The second impeller 32 is configured to have a plurality of blade members, and rotates around the rotationally symmetric axis of the second impeller 32, whereby the second tank 31.
The powder PW stored in the container can be stirred and moved. Connected to the lower center portion of the second impeller 32 is an upper end portion of a second drive shaft 33 that extends vertically through the bottom of the second tank 31. The lower end portion of the second drive shaft 33 is connected to the second motor coupling 16, so that the rotational driving force of the second stepping motor 13 is applied to the second motor coupling 16.
And transmitted to the second impeller 32 via the second drive shaft 33. On the outer peripheral side of the bottom of the second tank 31, an arc-shaped hole 35 is formed above the receiving part 47 formed in the powder supply disk 45 of the third tank 41, and the second impeller 32. With the rotation of the blade member, the powder PW stored in the second tank 31 falls from the hole 35 and is received by the receiving portion 47 of the powder supply disk 45.

また、第二槽31の内部には、第二槽31に貯留された粉末PWの高さを検出する高さ
検出器(図示せず)が配設されている。高さ検出器の高さ検出信号は、図示しないコント
ローラに出力され、当該コントローラは、高さ検出器に検出された第二槽31内の粉末P
Wの高さが所定の高さより低い場合に、第一羽根車22を回転させて第一槽21から第二
槽31へ粉末PWを落下させるように第一ステッピングモータ12の作動を制御する。こ
れにより、第二槽31内の粉末PWの高さを所定の範囲内に保つことができるため、第二
槽31内の粉末PWの密度(自重)がほぼ一定となり、受容部47に受容される粉末の量
(体積および密度)を常に一定に保つことができる。なお、第二ステッピングモータ13
および第三ステッピングモータ14の作動も、上述のコントローラ(図示せず)により制
御される。
In addition, a height detector (not shown) for detecting the height of the powder PW stored in the second tank 31 is disposed inside the second tank 31. The height detection signal of the height detector is output to a controller (not shown), and the controller detects the powder P in the second tank 31 detected by the height detector.
When the height of W is lower than a predetermined height, the operation of the first stepping motor 12 is controlled so that the first impeller 22 is rotated and the powder PW is dropped from the first tank 21 to the second tank 31. Thereby, since the height of the powder PW in the second tank 31 can be kept within a predetermined range, the density (self-weight) of the powder PW in the second tank 31 becomes substantially constant and is received by the receiving portion 47. The amount of powder (volume and density) can be kept constant at all times. The second stepping motor 13
The operation of the third stepping motor 14 is also controlled by the above-described controller (not shown).

第三槽41は、粉末供給円盤45を受容可能な容器状に形成され、その内部で粉末供給
円盤45を回転対称軸中心に回転可能に保持している。粉末供給円盤45は、第三槽41
の内部で上方を向く円盤状に形成される。粉末供給円盤45の下側中央部には、第三槽4
1の底部を貫通して上下に延びる第三駆動軸46の上端部が連結されている。第三駆動軸
46の下端部は第三モータカップリング17と連結され、これにより、第三ステッピング
モータ14の回転駆動力が第三モータカップリング17および第三駆動軸46を介して粉
末供給円盤45に伝達される。粉末供給円盤45の外周部上面側には、第二槽31から穴
部35を通して第三槽41へ落下した粉末PWを受容するテーパ状の受容部47が形成さ
れる。また、粉末供給円盤45の外周部上面側に複数の仕切壁48が形成され、この仕切
壁48によって受容部47が複数のポケット状に仕切られる。
The 3rd tank 41 is formed in the container shape which can receive the powder supply disk 45, and is holding | maintaining the powder supply disk 45 so that rotation is possible centering around a rotational symmetry axis. The powder supply disk 45 is connected to the third tank 41.
It is formed in a disk shape facing upwards inside. In the lower central part of the powder supply disk 45, there is a third tank 4
The upper end portion of the third drive shaft 46 extending through the bottom portion of 1 is extended. The lower end portion of the third drive shaft 46 is connected to the third motor coupling 17, whereby the rotational driving force of the third stepping motor 14 is supplied to the powder supply disk via the third motor coupling 17 and the third drive shaft 46. 45. On the upper surface side of the outer peripheral portion of the powder supply disk 45, a tapered receiving portion 47 that receives the powder PW that has fallen from the second tank 31 to the third tank 41 through the hole 35 is formed. A plurality of partition walls 48 are formed on the upper surface side of the outer periphery of the powder supply disk 45, and the receiving portions 47 are partitioned into a plurality of pockets by the partition walls 48.

第三槽41には、第三槽41の一部を覆うように天井部42が形成され、この天井部4
2に、粉末供給円盤45の外周部近傍を覆うカバー部材50が取り付けられる。カバー部
材50は、図1および図4に示すように、第三槽41の外周部と天井部42とに跨るブロ
ック状に形成され、粉末供給円盤45との間に、粉末供給円盤45の回転に応じて受容部
47に受容された粉末PWが通過可能な間隙部GPを形成するように構成される。なお、
間隙部GPの断面形状は、粉末供給円盤45の仕切壁48の形状に合わせた直角三角形と
なる。カバー部材50の下部には、間隙部GPを通過する粉末PWを粉末供給ポート55
に導く粉末排出通路51が形成される。粉末排出通路51は、間隙部GPから斜め下方に
延びる直線状に形成され、間隙部GPと粉末供給ポート55とを連通させるようになって
いる。すなわち、粉末排出通路51は、カバー部材50の下部、第三槽41の側部、およ
び粉末供給ポート55の側部に跨って形成され、粉末排出通路51の入口端部が間隙部G
Pに開口するとともに、粉末排出通路51の出口端部が粉末供給ポート55の内部に開口
することになる。
In the third tank 41, a ceiling part 42 is formed so as to cover a part of the third tank 41, and this ceiling part 4
2, a cover member 50 that covers the vicinity of the outer periphery of the powder supply disk 45 is attached. As shown in FIGS. 1 and 4, the cover member 50 is formed in a block shape extending over the outer peripheral portion of the third tank 41 and the ceiling portion 42, and the powder supply disc 45 rotates between the powder supply disc 45. Accordingly, the gap GP is formed so that the powder PW received by the receiving portion 47 can pass therethrough. In addition,
The cross-sectional shape of the gap GP is a right triangle that matches the shape of the partition wall 48 of the powder supply disk 45. Under the cover member 50, the powder PW that passes through the gap GP is supplied to the powder supply port 55.
A powder discharge passage 51 is formed which leads to The powder discharge passage 51 is formed in a straight line extending obliquely downward from the gap GP, and communicates the gap GP with the powder supply port 55. That is, the powder discharge passage 51 is formed across the lower portion of the cover member 50, the side portion of the third tank 41, and the side portion of the powder supply port 55, and the inlet end portion of the powder discharge passage 51 is the gap portion G.
In addition to opening in P, the outlet end of the powder discharge passage 51 opens into the powder supply port 55.

一方、カバー部材50の上部には、上述の間隙部GPに気体を供給する第一の気体供給
通路52が形成される。第一の気体供給通路52の上流側は上下に延びる直線状に形成さ
れ、第一の気体供給通路52の上端部に、第一の気体供給通路52内に気体を供給する第
一の気体供給装置54が接続される。第一の気体供給通路52の下流側は、間隙部GPか
ら斜め上方に延びる直線状に形成され、第一の気体供給通路52が途中で折れ曲がる構成
となっている。このように、第一の気体供給通路52の下流側と粉末排出通路51はそれ
ぞれ、間隙部GPを介して互いに対向するとともに、間隙部GPに位置する受容部47の
底面に沿って延びるように形成される。
On the other hand, a first gas supply passage 52 that supplies gas to the gap GP described above is formed in the upper portion of the cover member 50. The first gas supply passage 52 is formed in a straight line extending in the vertical direction on the upstream side of the first gas supply passage 52 and supplies gas into the first gas supply passage 52 at the upper end portion of the first gas supply passage 52. A device 54 is connected. The downstream side of the first gas supply passage 52 is formed in a straight line extending obliquely upward from the gap portion GP, and the first gas supply passage 52 is bent halfway. Thus, the downstream side of the first gas supply passage 52 and the powder discharge passage 51 are opposed to each other via the gap GP, and extend along the bottom surface of the receiving portion 47 located in the gap GP. It is formed.

これにより、第一の気体供給装置54から供給される第一の気体は、第一の気体供給通
路52を通って間隙部GPに達し、第一の気体供給通路52の開口部に位置する粉末PW
に衝突する。その結果、第一の気体供給通路52の開口部に位置する粉末PWは受容部4
7から切り出され(脱離し)、第一の気体とともに粉末排出通路51から粉末供給ポート
55に導かれる。このとき、第一の気体供給通路52と粉末排出通路51はそれぞれ受容
部47の底面に沿って延びるように形成されているので、受容部47の粉末PWが第一の
気体から受ける力は受容部47の底面に沿って粉末排出通路51の方向へ向かうことにな
り、粉末PWは別段の障害を受けることなく全量が粉末排出通路51に排出される。また
、粉末供給円盤45は、第二糟31の穴部35から気体供給通路52に向かって常に一定
の角速度で回転しているため、第一の気体供給通路52の開口部には常に一定速度で粉末
PWが供給される。その結果、粉末供給円盤45の回転方向の前端部に位置する粉末PW
が連続的に切り出され(脱離し)、一定の排出速度(単位時間当たりの排出量、以下同じ
)で粉末排出通路51に排出されて、粉末の定量供給が実現される。なお、第一の気体供
給通路52の下流側と粉末排出通路51の延伸方向断面はともに、上下に細長く延びた長
方形断面であるため、粉末PWの前端部が常に平面状に維持されるので、受容部47の粉
末PWが予期しない崩壊等を起こすことが抑制され、粉末の安定供給が可能になる。また
、第一の気体供給装置54が供給する第一の気体は、例えば、空気や、窒素ガス、アルゴ
ンガス、ネオンガス、ヘリウムガス等であり、粉末PWの種類等に応じて適宜選択される
As a result, the first gas supplied from the first gas supply device 54 reaches the gap GP through the first gas supply passage 52, and is located at the opening of the first gas supply passage 52. PW
Collide with. As a result, the powder PW located at the opening of the first gas supply passage 52 is transferred to the receiving portion 4.
7 is separated (desorbed) from the powder discharge passage 51 and led to the powder supply port 55 together with the first gas. At this time, since the first gas supply passage 52 and the powder discharge passage 51 are formed so as to extend along the bottom surface of the receiving portion 47, the force received by the powder PW of the receiving portion 47 from the first gas is received. The powder PW is discharged along the bottom surface of the portion 47 in the direction of the powder discharge passage 51, and the entire amount of the powder PW is discharged to the powder discharge passage 51 without any other obstacles. Further, since the powder supply disk 45 is always rotating at a constant angular velocity from the hole 35 of the second rod 31 toward the gas supply passage 52, the powder supply disc 45 is always at a constant speed at the opening of the first gas supply passage 52. The powder PW is supplied. As a result, the powder PW located at the front end in the rotational direction of the powder supply disk 45
Are continuously cut out (desorbed) and discharged into the powder discharge passage 51 at a constant discharge speed (discharge amount per unit time, the same applies hereinafter), thereby realizing a quantitative supply of powder. Since both the downstream side of the first gas supply passage 52 and the cross section in the extending direction of the powder discharge passage 51 are rectangular cross sections extending vertically, the front end of the powder PW is always maintained in a flat shape. It is possible to prevent the powder PW of the receiving portion 47 from being unexpectedly collapsed and to stably supply the powder. The first gas supplied by the first gas supply device 54 is, for example, air, nitrogen gas, argon gas, neon gas, helium gas, or the like, and is appropriately selected according to the type of the powder PW.

粉末供給ポート55は、図1に示すように、内部空間の断面が略円形である上下に延び
る管状に形成され、上端部が気体供給ノズル56を介して粉末供給ポート55内に気体を
供給する第二の気体供給装置59と接続されるとともに、下端部が外部に繋がる接続パイ
プ57(図2を参照)と接続されるようになっている。気体供給ノズル56は、粉末供給
ポート55の内部で上下に延びる短い管状に形成されており、気体供給ノズル56の上部
が粉末供給ポート55の上部と嵌合して、粉末供給ポート55と同軸に配設されるように
なっている。気体供給ノズル56の上端部は第二の気体供給装置59と接続され、気体供
給ノズル56の内部に、第二の気体供給装置59から供給される気体を通過させる第二の
気体供給通路56aが形成される。また、気体供給ノズル56は、粉末供給ポート55の
中腹部(および下部)の内径よりも小さい外径を有しており、気体供給ノズル56の下部
が粉末供給ポート55の内部(中腹部)における粉末排出通路51の開口部近傍に位置す
るようになっている。
As shown in FIG. 1, the powder supply port 55 is formed in a vertically extending tubular shape whose inner space has a substantially circular cross section, and the upper end portion supplies gas into the powder supply port 55 via the gas supply nozzle 56. While being connected with the 2nd gas supply apparatus 59, a lower end part is connected with the connection pipe 57 (refer FIG. 2) connected to the exterior. The gas supply nozzle 56 is formed in a short tubular shape extending vertically within the powder supply port 55, and the upper part of the gas supply nozzle 56 is fitted to the upper part of the powder supply port 55 so as to be coaxial with the powder supply port 55. It is arranged. The upper end portion of the gas supply nozzle 56 is connected to the second gas supply device 59, and a second gas supply passage 56 a that allows the gas supplied from the second gas supply device 59 to pass inside the gas supply nozzle 56. It is formed. The gas supply nozzle 56 has an outer diameter smaller than the inner diameter of the middle part (and lower part) of the powder supply port 55, and the lower part of the gas supply nozzle 56 is inside the powder supply port 55 (middle part). It is located near the opening of the powder discharge passage 51.

これにより、第二の気体供給装置59から供給される第二の気体は、気体供給ノズル5
6内の第二の気体供給通路56aを通って粉末供給ポート55内に達し、前述した第一の
気体によって粉末排出通路51から粉末供給ポート55内に導かれた粉末PWとともに、
粉末供給ポート55および接続パイプ57を通って外部(噴射加工装置60)に導かれる
。なおこのとき、気体供給ノズル56から粉末供給ポート55内に噴出される気体のエジ
ェクタ効果も作用して、粉末排出通路51内の粉末PWが粉末供給ポート55側に吸引さ
れるようになっている。また、第二の気体供給装置59が供給する第二の気体は、例えば
、空気や、窒素ガス、アルゴンガス、ネオンガス、ヘリウムガス等であり、粉末PWの種
類等に応じて適宜選択される。
Thereby, the second gas supplied from the second gas supply device 59 is the gas supply nozzle 5.
Along with the powder PW which has reached the powder supply port 55 through the second gas supply passage 56a in 6 and led into the powder supply port 55 from the powder discharge passage 51 by the first gas described above,
It is guided to the outside (injection processing device 60) through the powder supply port 55 and the connection pipe 57. At this time, the ejector effect of the gas ejected from the gas supply nozzle 56 into the powder supply port 55 also acts to suck the powder PW in the powder discharge passage 51 toward the powder supply port 55. . The second gas supplied by the second gas supply device 59 is, for example, air, nitrogen gas, argon gas, neon gas, helium gas, or the like, and is appropriately selected according to the type of the powder PW.

接続パイプ57は、図2に示すように、基端部が粉末供給ポート55と接続されるとと
もに、先端部が噴射加工装置60(外部装置)と接続され、粉末供給ポート55から供給
される粉末PWを噴射加工装置60に導く。この噴射加工装置60は、パウダー・ジェッ
ト・デポジション(Powder Jet Deposition)法により成膜を行う噴射加工装置であり
、図2に示すように、ノズルユニット61と、加速用のガスをノズルユニット61に供給
する加速ガス供給ユニット65と、ノズルユニット61に対して基材を相対移動させる移
動ユニット(図示せず)と、加速ガス供給ユニット65によるガス供給や移動ユニットに
よる基材の相対移動を制御する制御ユニット(図示せず)などを備え、ノズルユニット6
1に供給された粉末(固体微粒子)PWがノズル内部を流れるガス流により分散・加速さ
れてノズル先端から基材(例えば、後述の電極基材131)に噴射されるように構成され
る。
As shown in FIG. 2, the connection pipe 57 has a base end connected to the powder supply port 55 and a tip connected to the injection processing device 60 (external device), and is supplied from the powder supply port 55. The PW is guided to the injection processing device 60. This injection processing apparatus 60 is an injection processing apparatus that forms a film by a powder jet deposition method. As shown in FIG. 2, a nozzle unit 61 and an acceleration gas are supplied to the nozzle unit 61 as shown in FIG. Acceleration gas supply unit 65 for supplying gas, a moving unit (not shown) for moving the base material relative to the nozzle unit 61, gas supply by the acceleration gas supply unit 65, and relative movement of the base material by the moving unit A control unit (not shown) and the like, and a nozzle unit 6
The powder (solid fine particles) PW supplied to 1 is dispersed and accelerated by a gas flow flowing inside the nozzle, and is sprayed from the tip of the nozzle onto a base material (for example, an electrode base material 131 described later).

ノズルユニット61は、ベースとなるノズルブロック62と、先端部がノズルブロック
62から突出して固定された矩形中空パイプ状の噴射ノズル63と、上下方向の開口寸法
が噴射ノズル63よりも小さい矩形中空パイプ状をなし、先端側が噴射ノズル63の基端
側から同一軸上に挿入された粉末供給ノズル(図示せず)とを有して構成される。すなわ
ち、噴射ノズル63の基端部と粉末供給ノズルの先端部とは一部重なって配設され、この
重複部に、上下方向の流路幅が0.05〜0.3mm程度のスリット状の加速ガス噴流路(
図示せず)が形成される。なお、噴射ノズル63および粉末供給ノズル(図示せず)は、
セラミックス等の耐食性材料を用いて形成される。
The nozzle unit 61 includes a nozzle block 62 serving as a base, a rectangular hollow pipe-shaped injection nozzle 63 whose tip is projected and fixed from the nozzle block 62, and a rectangular hollow pipe whose opening dimension in the vertical direction is smaller than that of the injection nozzle 63. The tip end side has a powder supply nozzle (not shown) inserted on the same axis from the base end side of the injection nozzle 63. That is, the base end portion of the injection nozzle 63 and the tip end portion of the powder supply nozzle are partially overlapped, and the overlapping portion has a slit-like shape with a vertical channel width of about 0.05 to 0.3 mm. Acceleration gas jet channel (
(Not shown) is formed. The injection nozzle 63 and the powder supply nozzle (not shown)
It is formed using a corrosion resistant material such as ceramics.

ノズルブロック62には、噴射ノズル63の基端側で上述した上下の加速ガス噴流路と
繋がる加速ガス導入路(図示せず)が形成され、これらの加速ガス導入路に加速ガス供給
ユニット65が接続される。加速ガス供給ユニット65が供給する気体は、例えば、空気
や、窒素ガス、アルゴンガス、ネオンガス、ヘリウムガス等であり、粉末(固体微粒子)
PWの種類等に応じて適宜選択される。また、ノズルブロック62には、粉末供給ノズル
の基端側と繋がる粉末供給路(図示せず)が形成され、この粉末供給路に接続パイプ57
が接続される。
The nozzle block 62 is formed with an acceleration gas introduction path (not shown) connected to the above-described upper and lower acceleration gas jet paths on the base end side of the injection nozzle 63, and an acceleration gas supply unit 65 is provided in these acceleration gas introduction paths. Connected. The gas supplied by the acceleration gas supply unit 65 is, for example, air, nitrogen gas, argon gas, neon gas, helium gas, etc., and powder (solid fine particles)
It is appropriately selected according to the type of PW. The nozzle block 62 is formed with a powder supply path (not shown) connected to the base end side of the powder supply nozzle, and a connection pipe 57 is connected to the powder supply path.
Is connected.

以上のように構成される噴射加工システム1において、粉末供給装置10では、第一ス
テッピングモータ12の回転駆動によって、第一羽根車22(羽根部材)が図3における
時計回り(もしくは反時計回り)に回転すると、第一槽21に貯留された粉末(固体微粒
子)PWが攪拌されつつ移動し、第一槽21の穴部25から落下して第二槽31に貯留さ
れる。次に、第二ステッピングモータ13の回転駆動によって、第二羽根車32(羽根部
材)が図3における反時計回り(もしくは時計回り)に回転すると、第二槽31に貯留さ
れた粉末PWが攪拌されつつ移動し、第二槽31の穴部35から落下して粉末供給円盤4
5の受容部47に受容される。
In the injection processing system 1 configured as described above, in the powder supply device 10, the first impeller 22 (blade member) is rotated clockwise (or counterclockwise) in FIG. 3 by the rotational drive of the first stepping motor 12. , The powder (solid fine particles) PW stored in the first tank 21 moves while being stirred, falls from the hole 25 of the first tank 21, and is stored in the second tank 31. Next, when the second impeller 32 (blade member) rotates counterclockwise (or clockwise) in FIG. 3 by the rotational drive of the second stepping motor 13, the powder PW stored in the second tank 31 is agitated. It is moved while being dropped, falls from the hole 35 of the second tank 31, and the powder supply disk 4
5 receiving portions 47.

次に、第三ステッピングモータ14の回転駆動によって、粉末供給円盤45が図3にお
ける時計回り(もしくは反時計回り)に回転すると、粉末供給円盤45の受容部47に受
容された粉末PWは、粉末供給円盤45とともに回転移動してカバー部材50と粉末供給
円盤45との間隙部GPに到達する。ここで、図1に示すように、第一の気体供給装置5
4からカバー部材50の第一の気体供給通路52に供給された第一の気体は、当該第一の
気体供給通路52を通って間隙部GPに達し、このとき間隙部GPを通過する粉末PWを
粉末排出通路51側に切り出して(押し出して)、切り出した粉末PWとともに粉末排出
通路51から粉末供給ポート55に導かれる。さらに、第二の気体供給装置59から気体
供給ノズル56に供給された第二の気体は、当該気体供給ノズル56内の第二の気体供給
通路56aを通って粉末供給ポート55内に達し、前述した第一の気体によって粉末排出
通路51から粉末供給ポート55内に導かれた粉末PWとともに、粉末供給ポート55お
よび接続パイプ57を通って噴射加工装置60に導かれる。このとき、気体供給ノズル5
6から粉末供給ポート55内に噴出される気体のエジェクタ効果も作用して、粉末排出通
路51内の粉末PWが粉末供給ポート55側に吸引されて、気体供給ノズル56からの気
体と混合した状態で噴射加工装置60に供給される。
Next, when the powder supply disk 45 is rotated clockwise (or counterclockwise) in FIG. 3 by the rotational drive of the third stepping motor 14, the powder PW received in the receiving portion 47 of the powder supply disk 45 is powdered. It rotates together with the supply disk 45 and reaches the gap GP between the cover member 50 and the powder supply disk 45. Here, as shown in FIG. 1, the first gas supply device 5
The first gas supplied from 4 to the first gas supply passage 52 of the cover member 50 reaches the gap GP through the first gas supply passage 52, and at this time, the powder PW passing through the gap GP. Is cut out (extruded) to the powder discharge passage 51 side, and guided to the powder supply port 55 from the powder discharge passage 51 together with the cut out powder PW. Further, the second gas supplied from the second gas supply device 59 to the gas supply nozzle 56 reaches the powder supply port 55 through the second gas supply passage 56a in the gas supply nozzle 56, and is described above. Together with the powder PW introduced into the powder supply port 55 from the powder discharge passage 51 by the first gas, it is guided to the injection processing device 60 through the powder supply port 55 and the connection pipe 57. At this time, the gas supply nozzle 5
Ejector effect of the gas ejected from 6 into the powder supply port 55 also acts, and the powder PW in the powder discharge passage 51 is sucked to the powder supply port 55 side and mixed with the gas from the gas supply nozzle 56 Is supplied to the injection processing device 60.

ここで、第1実施形態の粉末供給装置10と従来の粉末供給装置との性能比較を行った
結果を図5および図6に示す。図5(a)は、第1実施形態の粉末供給装置10による粉
末噴射量(総供給量)の経時変化を示すグラフであり、図5(b)は、従来の粉末供給装
置による粉末噴射量(総供給量)の経時変化を示すグラフである。なお、実験に用いた粉
末PWはアルミナ粉末である。図5からわかるように、第1実施形態の粉末供給装置10
は、従来の粉末供給装置と比較して、粉末噴射量(総供給量)の経時変化が線形(特に、
供給量が0.05g/sec〜0.3g/secでの線形性が高いグラフ)であり、粉末PWの
供給量が微少な場合でも、粉末PWを一定の供給量で供給することができる。また、従来
の粉末供給装置では、同じ条件でN=4回測定を行ったが、測定結果のばらつきが大きく
、第1実施形態の粉末供給装置10は、従来の粉末供給装置と比較して、粉末噴射量(総
供給量)の再現性も高い。
Here, the result of having performed the performance comparison with the powder supply apparatus 10 of 1st Embodiment and the conventional powder supply apparatus is shown in FIG. 5 and FIG. FIG. 5A is a graph showing a change over time of the powder injection amount (total supply amount) by the powder supply apparatus 10 of the first embodiment, and FIG. 5B is a powder injection amount by the conventional powder supply apparatus. It is a graph which shows a time-dependent change of (total supply amount). The powder PW used in the experiment is an alumina powder. As can be seen from FIG. 5, the powder supply apparatus 10 of the first embodiment.
Compared with the conventional powder supply device, the change over time of the powder injection amount (total supply amount) is linear (especially,
Even if the supply amount is 0.05 g / sec to 0.3 g / sec and the supply amount of the powder PW is very small, the powder PW can be supplied at a constant supply amount. Moreover, in the conventional powder supply apparatus, N = 4 measurements were performed under the same conditions. However, the measurement result greatly varies, and the powder supply apparatus 10 of the first embodiment is compared with the conventional powder supply apparatus. The reproducibility of the powder injection amount (total supply amount) is also high.

図6(a)は、第1実施形態の粉末供給装置による平均噴射量(供給量)の経時変化を
示すグラフであり、図6(b)は、従来の粉末供給装置による平均噴射量(供給量)の経
時変化を示すグラフである。なお、平均噴射量(供給量)は30秒あたりの平均である。
図6からわかるように、第1実施形態の粉末供給装置10は、従来の粉末供給装置と比較
して、供給量が0.05g/sec〜0.3g/secの範囲で、平均噴射量(供給量)のばら
つきが小さく、特に、0.1g/secでの平均噴射量(供給量)が非常に安定している。
FIG. 6A is a graph showing the change over time of the average injection amount (supply amount) by the powder supply device of the first embodiment, and FIG. 6B is the average injection amount (supply by the conventional powder supply device). It is a graph which shows a time-dependent change of quantity. The average injection amount (supply amount) is an average per 30 seconds.
As can be seen from FIG. 6, the powder supply device 10 of the first embodiment has an average injection amount (in the range of 0.05 g / sec to 0.3 g / sec) compared to the conventional powder supply device. The variation in supply amount is small, and in particular, the average injection amount (supply amount) at 0.1 g / sec is very stable.

このように、第1実施形態の粉末供給装置10によれば、粉末供給円盤45の一部を覆
うカバー部材50に形成された粉末排出通路51および第一の気体供給通路52はそれぞ
れ、カバー部材50と粉末供給円盤45との間隙部GPを介して互いに対向するとともに
、当該間隙部GPに位置する受容部47の底面に沿って延びるように形成されるため、間
隙部GPに位置する受容部47に受容された粉末PWを、第一の気体供給通路52から供
給される気体の流れる方向と同じ方向に切り出して(押し出して)粉末排出通路51から
粉末供給ポート55に導くことができ、粉末PWの供給量が微少な場合でも、粉末PWを
安定して供給することができる。
Thus, according to the powder supply device 10 of the first embodiment, the powder discharge passage 51 and the first gas supply passage 52 formed in the cover member 50 that covers a part of the powder supply disk 45 are respectively the cover members. 50 and the powder supply disk 45 are opposed to each other via a gap GP and extend along the bottom surface of the receptacle 47 located in the gap GP, so that the receptacle located in the gap GP. The powder PW received in 47 can be cut out (extruded) in the same direction as the flow direction of the gas supplied from the first gas supply passage 52 and guided from the powder discharge passage 51 to the powder supply port 55. Even when the supply amount of PW is very small, the powder PW can be stably supplied.

さらに、粉末供給円盤45の回転方向の前端部に位置する粉末PWが連続的に切り出さ
れ(脱離し)、一定の排出速度で粉末排出通路51に排出されるため、湿度や凝集性の影
響を受けにくく、凝集性の高い粉末でその供給量が微少な場合でも、粉末PWを安定して
供給することができる。また、粉末供給円盤45の回転数や、受容部47の形状、粉末排
出通路51および第一の気体供給通路52の断面の寸法等を変えることにより、粉末PW
の供給量を容易にコントロールすることができる。
Furthermore, the powder PW located at the front end in the rotational direction of the powder supply disk 45 is continuously cut out (desorbed) and discharged to the powder discharge passage 51 at a constant discharge speed. Even when the amount of supply is small with a powder that is difficult to receive and has high cohesiveness, the powder PW can be stably supplied. Further, by changing the rotational speed of the powder supply disk 45, the shape of the receiving portion 47, the cross-sectional dimensions of the powder discharge passage 51 and the first gas supply passage 52, etc., the powder PW
Can be easily controlled.

また、第二の気体供給通路56aが、粉末供給ポート55の略円形断面と同軸の気体供
給ノズル56をもって粉末供給ポート55内に開口するため、第一の気体供給通路52か
ら供給される気体により粉末PWを粉末排出通路51から粉末供給ポート55へ押し込む
効果と、気体供給ノズル56から粉末供給ポート55内に噴出される気体のエジェクタ効
果(吸引効果)とが相まって、粉末PWを粉末排出通路51から粉末供給ポート55へ、
途中経路での滞留や付着・堆積を生じることなく、効率的に導くことができる。さらに、
粉末排出通路51から粉末供給ポート55へ導かれた粉末PWは、上述の押し込み効果と
エジェクタ効果(吸引効果)による壁面への衝突、および粉末排出通路51から粉末供給
ポート55への急激な拡管による乱流により、気体供給ノズル56から噴出する気体と混
合されるため、粉末PWの分散性を向上させることができる。また、気体供給ノズル56
から噴出する気体の圧力を容易に変えることができるとともに、当該圧力の許容範囲も大
きいため、粉末供給ポート55より下流側の影響(例えば、接続パイプ57および外部装
置での圧力損失等)を受けることなく、柔軟に対応することができる。
Further, since the second gas supply passage 56a opens into the powder supply port 55 with the gas supply nozzle 56 coaxial with the substantially circular cross section of the powder supply port 55, the gas supplied from the first gas supply passage 52 is used. The effect of pushing the powder PW from the powder discharge passage 51 into the powder supply port 55 and the ejector effect (suction effect) of the gas ejected from the gas supply nozzle 56 into the powder supply port 55 are combined. To powder supply port 55,
Efficient guidance can be achieved without causing stagnation or adhesion / deposition on the route. further,
The powder PW guided from the powder discharge passage 51 to the powder supply port 55 is collided with the wall surface by the above-described pushing effect and ejector effect (suction effect), and abrupt expansion from the powder discharge passage 51 to the powder supply port 55. Since it is mixed with the gas ejected from the gas supply nozzle 56 by the turbulent flow, the dispersibility of the powder PW can be improved. Further, the gas supply nozzle 56
Since the pressure of the gas ejected from the gas can be easily changed and the allowable range of the pressure is large, it is influenced downstream of the powder supply port 55 (for example, pressure loss in the connection pipe 57 and the external device). And can respond flexibly.

また、受容部47が粉末供給円盤45の外周部上面側にテーパ状に形成され、粉末排出
通路51が間隙部GPの斜め下方に延びる直線状に形成されるとともに、第一の気体供給
通路52が間隙部GPの斜め上方に延びる直線状に形成されるため、間隙部GPに位置す
る受容部47に受容された粉末PWを、より効率的に、第一の気体供給通路52から供給
される気体の流れる方向と同じ方向に切り出して(押し出して)粉末排出通路51から粉
末供給ポート55に導くことができる。
In addition, the receiving portion 47 is formed in a tapered shape on the upper surface side of the outer peripheral portion of the powder supply disk 45, the powder discharge passage 51 is formed in a straight line extending obliquely below the gap portion GP, and the first gas supply passage 52 is formed. Is formed in a straight line extending obliquely above the gap portion GP, so that the powder PW received in the receiving portion 47 located in the gap portion GP is supplied from the first gas supply passage 52 more efficiently. It can be cut out (extruded) in the same direction as the gas flow direction and guided from the powder discharge passage 51 to the powder supply port 55.

また、第二羽根車32の回転により、第二槽31に貯留された粉末PWが穴部35から
落下して受容部47に受容されるように構成されるため、第二羽根車32の回転数等を調
節することで、粉末PWを受容部47に隙間なく充填することができる。
Further, since the powder PW stored in the second tank 31 falls from the hole 35 and is received by the receiving portion 47 by the rotation of the second impeller 32, the rotation of the second impeller 32 is performed. By adjusting the number and the like, the powder PW can be filled in the receiving portion 47 without a gap.

以上のようにして、粉末供給装置10から噴射加工装置60に粉末(固体微粒子)PW
が供給されると、噴射加工装置60では、粉末供給装置10において気体と混合した粉末
PWがノズルブロック62の粉末供給路(図示せず)および粉末供給ノズル(図示せず)
を通って、噴射ノズル63内に到達する。このとき、制御ユニット(図示せず)により加
速ガス供給ユニット65の作動を制御し、加速ガス供給ユニット65からノズルユニット
61に供給される加速ガスの圧力・流量を制御することにより、粉末供給装置10から供
給されて噴射ノズル63内に到達した粉末PWが加速ガスにより加速されて噴射ノズル6
3の先端から基材(例えば、後述の電極基材131)に向けて噴射される。
As described above, the powder (solid fine particles) PW is transferred from the powder supply device 10 to the injection processing device 60.
In the injection processing device 60, the powder PW mixed with the gas in the powder supply device 10 is supplied to the powder supply path (not shown) and the powder supply nozzle (not shown) of the nozzle block 62.
It passes through and reaches into the injection nozzle 63. At this time, the operation of the acceleration gas supply unit 65 is controlled by a control unit (not shown), and the pressure / flow rate of the acceleration gas supplied from the acceleration gas supply unit 65 to the nozzle unit 61 is controlled. The powder PW supplied from 10 and reaching the injection nozzle 63 is accelerated by the accelerating gas, and the injection nozzle 6
3 is ejected from the tip of 3 toward a base material (for example, an electrode base material 131 described later).

具体的には、加速ガス供給ユニット65からノズルブロック62の加速ガス導入路(図
示せず)に所定圧力(〜2MPa)で加速ガスを供給すると、供給した加速ガスは加速ガ
ス噴流路(図示せず)を通って噴射ノズル63内に噴射され、噴射ノズル63の先端から
噴出する。このとき、噴射ノズル63における加速ガス噴流路の出口領域では、粉末供給
ノズル(図示せず)との断面積差によるエジェクタ効果等により、粉末供給ノズルの出口
前方に大きな乱流が発生し、粉末供給ノズルを通過する粉末PWは、粉末供給ノズルの出
口前方で加速ガス噴流路から噴出する加速ガスの乱流に巻き込まれて分散されるとともに
、ガス流に加速されて噴射ノズル63の先端から基材(例えば、後述の電極基材131)
に向けて噴射される。
Specifically, when the acceleration gas is supplied from the acceleration gas supply unit 65 to the acceleration gas introduction passage (not shown) of the nozzle block 62 at a predetermined pressure (˜2 MPa), the supplied acceleration gas is supplied to the acceleration gas jet passage (not shown). ) And is ejected into the ejection nozzle 63 and ejected from the tip of the ejection nozzle 63. At this time, in the exit region of the accelerating gas jet flow path in the injection nozzle 63, a large turbulent flow is generated in front of the outlet of the powder supply nozzle due to an ejector effect or the like due to a cross-sectional area difference from the powder supply nozzle (not shown). The powder PW passing through the supply nozzle is entrained and dispersed in the turbulent flow of the acceleration gas ejected from the acceleration gas jet flow channel in front of the outlet of the powder supply nozzle, and is accelerated by the gas flow to be released from the tip of the injection nozzle 63. Material (for example, electrode base material 131 described later)
It is injected toward

第1実施形態の噴射加工システム1によれば、粉末(固体微粒子)PWの供給量が微少
な場合でも、粉末PWを安定して供給できる粉末供給装置10を備えているため、粉末P
Wの噴射量が微少な場合でも、粉末PWの噴射量を一定に保つことができ、効率的で安定
的な加工を行うことができる。
According to the injection processing system 1 of the first embodiment, since the powder supply device 10 that can stably supply the powder PW is provided even when the supply amount of the powder (solid fine particles) PW is small, the powder P
Even when the injection amount of W is small, the injection amount of the powder PW can be kept constant, and efficient and stable processing can be performed.

以上、パウダー・ジェット・デポジション(Powder Jet Deposition)法により成膜を
行う噴射加工システム1について説明したが、ノズルユニット61の断面形状は矩形に限
られるものではなく、円形(真円あるいは長円)や多角形、あるいは円形(矩形)ノズル
を千鳥配列するなど適宜な形状にすることができる。また、第一の気体供給装置54およ
び第二の気体供給装置59から供給されるガスや、加速ガス供給ユニット65からノズル
ユニット61に供給される加速ガスは、前述したように、基材や粉末PWなど加工対象に
応じて適宜選択することができる。これらのガスを同種のガスあるいは異なる種類のガス
とすることや、成膜加工の進行に伴いガスの種類や混合比率を変化させることなども任意
である。なお、使用するガスを第18族元素ガス、または窒素ガスのような不活性ガスを
用いることにより、粉末PWの付着プロセスでの酸化作用を抑止することができる。また
、ヘリウムに代表されるように質量の小さいガスを用いれば、粉末PWの衝突速度を高速
化することができ、空気を用いれば、成膜コストを低減することができる。
The spray processing system 1 for forming a film by the powder jet deposition method has been described above. However, the cross-sectional shape of the nozzle unit 61 is not limited to a rectangle, but a circle (perfect circle or ellipse). ), Polygonal, or circular (rectangular) nozzles may be arranged in a staggered manner. Further, as described above, the gas supplied from the first gas supply device 54 and the second gas supply device 59 and the acceleration gas supplied from the acceleration gas supply unit 65 to the nozzle unit 61 are the base material and powder. It can be appropriately selected according to the processing object such as PW. These gases may be the same type or different types of gas, or the type or mixing ratio of the gas may be changed as the film forming process proceeds. By using an inert gas such as a Group 18 element gas or nitrogen gas as the gas to be used, it is possible to suppress the oxidizing action in the process of attaching the powder PW. Further, if a gas having a small mass such as helium is used, the collision speed of the powder PW can be increased, and if air is used, the film formation cost can be reduced.

次に、以上のような構成の噴射加工システム1により、電極基材の表面に活物質を有す
る膜を成膜することで、リチウムイオン二次電池の負極を製造する方法について説明する
。そこでまず、リチウムイオン二次電池の一例について図7を参照しながら説明する。図
7(a)に示すように、リチウムイオン二次電池101は、正極102および負極103
と、正極102と負極103との間に設けられたセパレータ104と、これらを収容する
ラミネートフィルム105とを備えて構成される。正極102、セパレータ104、およ
び負極103は、それぞれ薄板状に形成されるとともにこの順で複数積層された状態で、
電解液(図示せず)とともにラミネートフィルム105内に封入される。この状態で、正
極102が正極端子リード106を介してラミネートフィルム105の外部に露出する正
極タブ107と電気的に接続されるとともに、負極103が負極端子リード108を介し
てラミネートフィルム105の外部に露出する負極タブ109と電気的に接続される。
Next, a method for manufacturing a negative electrode of a lithium ion secondary battery by forming a film having an active material on the surface of the electrode base material by the jet processing system 1 having the above configuration will be described. First, an example of a lithium ion secondary battery will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7A, the lithium ion secondary battery 101 includes a positive electrode 102 and a negative electrode 103.
And a separator 104 provided between the positive electrode 102 and the negative electrode 103, and a laminate film 105 that accommodates the separator 104. The positive electrode 102, the separator 104, and the negative electrode 103 are each formed in a thin plate shape and are stacked in this order,
It is enclosed in a laminate film 105 together with an electrolytic solution (not shown). In this state, the positive electrode 102 is electrically connected to the positive electrode tab 107 exposed to the outside of the laminate film 105 through the positive electrode terminal lead 106, and the negative electrode 103 is connected to the outside of the laminate film 105 through the negative electrode terminal lead 108. It is electrically connected to the exposed negative electrode tab 109.

正極102には、例えば、集電体であるアルミ箔にコバルト酸リチウムなどのリチウム
遷移金属酸化物を正極活物質として付着形成した公知の正極が用いられる。そして、正極
102は、セパレータ104を挟んで負極103と対向し、電解液(図示せず)を介して
負極103と接続される。なお、電解液(図示せず)として、例えば、プロピレンカーボ
ネートやエチレンカーボネート等の公知の溶媒にLiClO4やLiPF6等の公知の電解
質(非水電解質)を溶かしたものが用いられる。
As the positive electrode 102, for example, a known positive electrode in which a lithium transition metal oxide such as lithium cobaltate is attached and formed on an aluminum foil as a current collector as a positive electrode active material is used. The positive electrode 102 faces the negative electrode 103 with the separator 104 interposed therebetween, and is connected to the negative electrode 103 via an electrolytic solution (not shown). As an electrolytic solution (not shown), for example, those obtained by dissolving a known electrolyte LiClO 4 or the like and LiPF 6 in a known solvent such as propylene carbonate and ethylene carbonate (non-aqueous electrolyte) is used.

負極103は、図1(b)に示すように、集電体である電極基材131と、正極102
と対向する電極基材131の一方もしくは両方の表面に成膜された活物質を有する膜13
2とを有して構成される。電極基材131は、例えば、導電性の高い銅箔を用いて薄板状
に形成される。活物質を有する膜132は、負極活物質となるシリコン(Si:ケイ素)
および銅とシリコンの合金であるCu3Siと、結合材となる銅(Cu)とからなり、表
面に凹凸が形成される。
As shown in FIG. 1B, the negative electrode 103 includes an electrode base material 131 that is a current collector, and a positive electrode 102.
A film 13 having an active material formed on one or both surfaces of the electrode substrate 131 facing the electrode 13
2 and configured. The electrode base 131 is formed in a thin plate shape using, for example, a highly conductive copper foil. The film 132 having an active material is silicon (Si: silicon) serving as a negative electrode active material.
And Cu 3 Si, which is an alloy of copper and silicon, and copper (Cu), which is a binder, and unevenness is formed on the surface.

以上のように構成されるリチウムイオン二次電池101の負極103を製造するには、
まず、図8のフローチャートにも示すように、前述の粉末供給装置10を用いて、シリコ
ンと銅を含む粉末(固体微粒子)PWを噴射加工装置60に供給する(ステップS101
)。次に、噴射加工装置60を用いて、常温かつ常圧の環境下において音速以下の噴射速
度で粉末PWを噴射し、集電体である電極基材131上に負極材料の膜132を形成する
(ステップS102)。すなわち、パウダー・ジェット・デポジション法を用いた成膜が
行われる。これにより、加温装置、超音速ノズルや減圧設備等を用いない簡明かつ自由度
の高い構成で、安定した固体材料膜を形成することができる。
To manufacture the negative electrode 103 of the lithium ion secondary battery 101 configured as described above,
First, as shown in the flowchart of FIG. 8, the powder (solid fine particles) PW containing silicon and copper is supplied to the injection processing device 60 using the above-described powder supply device 10 (step S101).
). Next, the powder PW is sprayed at a spray speed equal to or lower than the sonic speed in an environment of normal temperature and normal pressure using the spray processing device 60 to form a film 132 of the negative electrode material on the electrode substrate 131 that is a current collector. (Step S102). That is, film formation using a powder jet deposition method is performed. Thereby, a stable solid material film can be formed with a simple and highly flexible configuration that does not use a heating device, a supersonic nozzle, a decompression facility, or the like.

なお、このような負極材料の成膜に使用される粉末(固体微粒子)PWは、リチウム化
合物の形成能が高い活物質としてのシリコン(Si:ケイ素)と、導電性を有する銅(C
u)を原料として、メカニカルアロイング(Mechanical Alloying)により形成される。
ここで、「リチウム化合物の形成能が高い材料」とは、リチウムとの合金または金属間化
合物を形成しやすい材料をいう。メカニカルアロイングは、機械的プロセスで合金化を行
う粉末の製造方法であり、高エネルギーのボールミル等により原料粉末の混合物に機械的
エネルギーを与え、破砕と冷間圧延の繰り返しにより固体のままで合金化が行われる。本
実施形態では、ボールミル等によりシリコンと銅の混合粉末に機械的エネルギーを与え、
破砕と冷間圧延の繰り返しにより合金化することで、シリコンと、銅と、銅(Cu)とシ
リコン(Si)の合金であるCu3Siの3相を含む粉末(固体微粒子)PWが生成され
る。
In addition, the powder (solid fine particles) PW used for film formation of such a negative electrode material is composed of silicon (Si: silicon) as an active material having a high lithium compound forming ability, and conductive copper (C
It is formed by mechanical alloying using u) as a raw material.
Here, “a material having a high ability to form a lithium compound” refers to a material that easily forms an alloy with lithium or an intermetallic compound. Mechanical alloying is a method for producing powders that are alloyed by a mechanical process. A mechanical energy is applied to a mixture of raw material powders by a high-energy ball mill or the like, and the alloy remains solid by repeated crushing and cold rolling. Is done. In this embodiment, mechanical energy is given to the mixed powder of silicon and copper by a ball mill or the like,
By alloying by repeated crushing and cold rolling, powder (solid fine particles) PW containing three phases of silicon, copper, and Cu 3 Si which is an alloy of copper (Cu) and silicon (Si) is generated. The

このときの粉末PWの噴射速度は、主としてノズルユニット61に供給される加速ガス
の種類及び圧力を制御することにより設定され、例えば、加速ガスが空気の場合には、5
0〜300m/sec程度の音速以下の速度で噴射される。加速ガスとともに噴射された粉
末PWは、ノズル先端から0.5〜2mm程度の距離に配置された電極基材131の被付着
面(粉末PWが衝突して付着する面をいい、成膜前における電極基材(集電体)131の
表面、成膜中における付着した電極材料の膜面をいう)に衝突して付着する。このとき、
粉末PWを噴射させながらノズルユニット61と電極基材131とを相対移動させること
により、常温かつ常圧下で、電極基材131上に負極材料の膜132が形成される。
The injection speed of the powder PW at this time is set mainly by controlling the type and pressure of the acceleration gas supplied to the nozzle unit 61. For example, when the acceleration gas is air, 5P
Injected at a speed of 0 to 300 m / sec or less. The powder PW injected with the accelerating gas is a surface to be adhered (a surface to which the powder PW collides and adheres) of the electrode substrate 131 disposed at a distance of about 0.5 to 2 mm from the nozzle tip. The electrode substrate (current collector) 131 collides with and adheres to the surface of the electrode base material (current collector) 131, which is the film surface of the electrode material adhered during film formation. At this time,
By causing the nozzle unit 61 and the electrode base material 131 to move relative to each other while spraying the powder PW, the negative electrode material film 132 is formed on the electrode base material 131 at normal temperature and normal pressure.

本実施形態のリチウムイオン二次電池101に用いられる負極103の製造方法によれ
ば、粉末(固体微粒子)PWの供給量が微少な場合でも、粉末PWを安定して供給できる
粉末供給装置10が用いられるため、粉末PWの噴射量が微少な場合でも、粉末PWの噴
射量を一定に保つことができ、少ない粉末PWの噴射量で、電極基材131上に負極材料
の膜132を効率的、安定的に形成することができる。
According to the manufacturing method of the negative electrode 103 used in the lithium ion secondary battery 101 of the present embodiment, the powder supply apparatus 10 that can stably supply the powder PW even when the supply amount of the powder (solid fine particles) PW is very small. Therefore, even if the injection amount of the powder PW is very small, the injection amount of the powder PW can be kept constant, and the negative electrode material film 132 can be efficiently formed on the electrode substrate 131 with a small injection amount of the powder PW. , Can be formed stably.

なお、上述の実施形態において、リチウムイオン二次電池101の負極103に形成さ
れた膜132は、シリコンと、銅と、銅とシリコンの合金とから構成されているが、これ
に限られるものではなく、例えば、シリコンと、ニッケル(Ni)と、ニッケルとシリコ
ンの合金とから構成されてもよい。このような構成でも、上述の実施形態の場合と同様の
効果を得ることができる。なお、ニッケルとシリコンの合金は、NiSi、NiSi2
およびNiSiとNiSi2の混合物のうち少なくとも一種類からなることが好ましい。
In the above-described embodiment, the film 132 formed on the negative electrode 103 of the lithium ion secondary battery 101 is composed of silicon, copper, and an alloy of copper and silicon, but is not limited thereto. For example, it may be composed of silicon, nickel (Ni), and an alloy of nickel and silicon. Even with such a configuration, it is possible to obtain the same effect as in the above-described embodiment. Nickel and silicon alloys are NiSi, NiSi 2 ,
And at least one of a mixture of NiSi and NiSi 2 .

また、上述の実施形態において、噴射加工システム1により、電極基材の表面に活物質
を有する膜を成膜することで、リチウムイオン二次電池101の負極103を製造する方
法について説明したが、これに限られるものではなく、リチウムイオン二次電池101の
正極102を製造することも可能である。例えば、負極103の場合と同様に、まず、粉
末供給装置10を用いて、リチウム系の合金材料を含む粉末(固体微粒子)PWを噴射加
工装置60に供給し(ステップS101)、噴射加工装置60を用いて、常温かつ常圧の
環境下において音速以下の噴射速度で粉末PWを噴射することで、電極基材上に正極材料
の膜を形成することができる(ステップS102)。このような正極102の製造方法に
よれば、負極103を製造する場合と同様の効果を得ることができる。
Moreover, in the above-mentioned embodiment, although the injection processing system 1 demonstrated the method of manufacturing the negative electrode 103 of the lithium ion secondary battery 101 by forming the film | membrane which has an active material on the surface of an electrode base material, The present invention is not limited to this, and the positive electrode 102 of the lithium ion secondary battery 101 can be manufactured. For example, as in the case of the negative electrode 103, first, the powder supply device 10 is used to supply powder (solid fine particles) PW containing a lithium-based alloy material to the injection processing device 60 (step S101). Can be used to spray a powder PW at an injection speed equal to or lower than the speed of sound in an environment of normal temperature and normal pressure, whereby a film of a positive electrode material can be formed on the electrode substrate (step S102). According to such a manufacturing method of the positive electrode 102, the same effect as that in the case of manufacturing the negative electrode 103 can be obtained.

なお、正極用の電極基材(図示せず)は、例えば、導電性の高いアルミ箔を用いて薄板
状に形成される。また、正極材料(膜の材料)として、例えば、正極活物質となるコバル
ト酸リチウム(LiCoO2)を用いることができる。さらに、コバルト酸リチウムに限
らず、LiNiO2、LiMn24、LiMnO2、LixTiS2、Lix25、V2Mo
8、MoS2、LiFePO4等を用いることができる。
In addition, the electrode base material (not shown) for positive electrodes is formed in thin plate shape using the highly conductive aluminum foil, for example. Further, as the positive electrode material (film material), for example, lithium cobalt oxide (LiCoO 2 ) serving as a positive electrode active material can be used. Further, not limited to lithium cobaltate, LiNiO 2 , LiMn 2 O 4 , LiMnO 2 , Li x TiS 2 , Li x V 2 O 5 , V 2 Mo
O 8 , MoS 2 , LiFePO 4 or the like can be used.

また、上述の実施形態において、リチウムイオン二次電池101をラミネート型に形成
しているが、これに限られるものではなく、例えば、円筒型や、角型、セル型等であって
もよい。
In the above-described embodiment, the lithium ion secondary battery 101 is formed in a laminate type. However, the present invention is not limited to this, and may be, for example, a cylindrical type, a square type, or a cell type.

また、上述の実施形態において、リチウムイオン二次電池101に用いる正極材料およ
び負極材料の製造方法を例示的に説明したが、本発明の態様の噴射加工システムは、パウ
ダー・ジェット・デポジション法により成膜可能な材料であれば、他の構成の二次電池用
電極材料や一次電池用電極材料、燃料電池電極材料の製造にも同様に用いることができる
Further, in the above-described embodiment, the method for manufacturing the positive electrode material and the negative electrode material used for the lithium ion secondary battery 101 has been exemplarily described. However, the injection processing system according to the aspect of the present invention is based on the powder jet deposition method. Any material that can be formed into a film can be used in the same manner for the production of secondary battery electrode materials, primary battery electrode materials, and fuel cell electrode materials having other configurations.

また、上述の実施形態において、貯留槽20は、第一槽21と、第二槽31と、第三槽
41とを有して構成されているが、これに限られるものではなく、粉末PWの種類等によ
っては、第一槽21を設けなくてもよい。さらには、第二槽31も設けずに、第三槽41
に粉末PWを貯留させるような構成であってもよい。また、第三槽41は、上述の天井部
42やカバー部材50等を用いた構成に限らず、粉末供給円盤45の外周部に一定量の粉
末PWを充填可能な構成であればよい。
Moreover, in the above-mentioned embodiment, although the storage tank 20 has the 1st tank 21, the 2nd tank 31, and the 3rd tank 41, it is not restricted to this, Powder PW Depending on the type of the first tank 21, the first tank 21 may not be provided. Furthermore, the third tank 41 is not provided without the second tank 31.
Alternatively, the powder PW may be stored. The third tank 41 is not limited to the configuration using the above-described ceiling portion 42, the cover member 50, and the like, and may be any configuration as long as a certain amount of powder PW can be filled in the outer peripheral portion of the powder supply disk 45.

また、上述の実施形態において、粉末供給ポート55の内部に気体供給ノズル56が設
けられているが、これに限られるものではなく、粉末PWの種類等によっては、気体供給
ノズル56および第二の気体供給装置59を設けなくてもよい。
In the above-described embodiment, the gas supply nozzle 56 is provided inside the powder supply port 55. However, the present invention is not limited to this, and depending on the type of the powder PW, the gas supply nozzle 56 and the second The gas supply device 59 may not be provided.

続いて、噴射加工システムの第2実施形態について説明する。第2実施形態の噴射加工
システム201は、図9に示すように、粉末(固体微粒子)PWを供給する粉末供給装置
210と、粉末供給装置210から供給された粉末PWを、気体の噴流に混合させて基材
(例えば、前述の電極基材131)に噴射し衝突させることで、基材の表面に膜を形成す
る噴射加工装置260とを備えて構成される。なお、図9および図10において、粉末P
Wの記載を省略している。第2実施形態の粉末供給装置210は、箱状の筐体部211と
、筐体部211の上部に支持されて粉末PWを貯留する貯留槽220と、貯留槽220に
貯留された粉末PWを外部の噴射加工装置260に供給する粉末供給ポート255とを備
えて構成される。
Next, a second embodiment of the injection processing system will be described. As shown in FIG. 9, an injection processing system 201 according to the second embodiment mixes a powder supply device 210 that supplies powder (solid fine particles) PW and a powder PW supplied from the powder supply device 210 into a gas jet. And an injection processing device 260 that forms a film on the surface of the base material by being injected and collided with the base material (for example, the electrode base material 131 described above). In FIGS. 9 and 10, the powder P
The description of W is omitted. The powder supply apparatus 210 according to the second embodiment includes a box-shaped casing unit 211, a storage tank 220 that is supported on the upper part of the casing unit 211 and stores the powder PW, and the powder PW stored in the storage tank 220. And a powder supply port 255 for supplying to an external injection processing device 260.

筐体部211の上部背面側(図9における筐体部211の上部右側)には、貯留槽22
0に設けられた羽根車222および粉末供給円盤245を回転駆動する電気モータ212
が配設される。電気モータ212の回転軸212aは、鉛直下方に延びて、その先端部が
歯車機構213と連結される。歯車機構213は、第1歯車214と、第2歯車215と
、第3歯車216と、第4歯車217とを有して構成される。
On the upper back side of the casing 211 (upper right side of the casing 211 in FIG. 9), the storage tank 22
An electric motor 212 that rotationally drives an impeller 222 and a powder supply disk 245 provided at 0
Is disposed. The rotating shaft 212a of the electric motor 212 extends vertically downward, and its tip is connected to the gear mechanism 213. The gear mechanism 213 includes a first gear 214, a second gear 215, a third gear 216, and a fourth gear 217.

第1歯車214は、電気モータ212の回転軸212aの下端部に結合され、第2歯車
215と噛合される。第2歯車215は、筐体部211の内部に配設された中間軸218
に回転自在に取り付けられ、第1歯車214および第3歯車216と噛合される。第3歯
車216は、羽根車222と繋がる羽根車駆動軸223の下端部に結合され、第2歯車2
15および第4歯車217と噛合される。第4歯車217は、粉末供給円盤245と繋が
る円盤駆動軸246の下端部に結合され、第3歯車216と噛合される。これにより、電
気モータ212の回転駆動力が歯車機構213を介して羽根車222および粉末供給円盤
245に伝達される。
The first gear 214 is coupled to the lower end portion of the rotating shaft 212 a of the electric motor 212 and meshed with the second gear 215. The second gear 215 is an intermediate shaft 218 disposed inside the housing portion 211.
The first gear 214 and the third gear 216 are meshed with each other. The third gear 216 is coupled to the lower end portion of the impeller drive shaft 223 connected to the impeller 222, and the second gear 2
15 and the fourth gear 217 are engaged. The fourth gear 217 is coupled to the lower end portion of the disk drive shaft 246 connected to the powder supply disk 245 and meshed with the third gear 216. As a result, the rotational driving force of the electric motor 212 is transmitted to the impeller 222 and the powder supply disk 245 via the gear mechanism 213.

貯留槽220は、上側に位置する上槽221と、上槽221の下側(図9における左下
側)に位置する下槽231とから構成される。上槽221は、粉末PWを貯留可能な有底
円筒状に形成され、その内部で粉末PWを攪拌するための羽根車222を回転可能に保持
している。羽根車222は、複数の羽根部材を有して構成され、羽根車222の回転対称
軸中心に回転することで、上槽221に貯留された粉末PWを攪拌して移動させることが
できるようになっている。羽根車222の下側中央部には、上槽221の底部を貫通して
上下に延びる羽根車駆動軸223の上端部が連結されている。羽根車駆動軸223の下端
部に第3歯車216が結合され、これにより、電気モータ212の回転駆動力が第1〜第
3歯車214〜216および羽根車駆動軸223を介して羽根車222に伝達される。上
槽221の底部外周側には、図10に示すように、下槽231の粉末供給円盤245に形
成された受容部247の上方に位置して円弧状の穴部225が形成されており、羽根車2
22(羽根部材)の回転により、上槽221に貯留された粉末PWがこの穴部225から
落下して粉末供給円盤245の受容部247に受容されるようになっている。
The storage tank 220 includes an upper tank 221 positioned on the upper side and a lower tank 231 positioned on the lower side (lower left side in FIG. 9) of the upper tank 221. The upper tank 221 is formed in a bottomed cylindrical shape capable of storing the powder PW, and rotatably holds an impeller 222 for stirring the powder PW therein. The impeller 222 is configured to have a plurality of blade members, and the powder PW stored in the upper tank 221 can be stirred and moved by rotating about the rotational symmetry axis of the impeller 222. It has become. An upper end portion of an impeller drive shaft 223 that extends vertically through the bottom portion of the upper tank 221 is connected to the lower center portion of the impeller 222. The third gear 216 is coupled to the lower end of the impeller drive shaft 223, so that the rotational driving force of the electric motor 212 is transmitted to the impeller 222 via the first to third gears 214 to 216 and the impeller drive shaft 223. Communicated. On the outer peripheral side of the bottom of the upper tank 221, an arc-shaped hole 225 is formed above the receiving part 247 formed on the powder supply disk 245 of the lower tank 231, as shown in FIG. Impeller 2
Due to the rotation of the blade 22 (blade member), the powder PW stored in the upper tank 221 falls from the hole 225 and is received by the receiving portion 247 of the powder supply disk 245.

下槽231は、粉末供給円盤245を受容可能な容器状に形成され、その内部で粉末供
給円盤245を回転対称軸中心に回転可能に保持している。粉末供給円盤245は、下槽
231の内部で上方を向く円盤状に形成される。粉末供給円盤245の下側中央部には、
下槽231の底部を貫通して上下に延びる円盤駆動軸246の上端部が連結されている。
円盤駆動軸246の下端部に第4歯車217が結合され、これにより、電気モータ212
の回転駆動力が第1〜第4歯車214〜217および円盤駆動軸246を介して粉末供給
円盤245に伝達される。粉末供給円盤245の外周部上面側には、上槽221から穴部
225を通して下槽231へ落下した粉末PWを受容するテーパ状の受容部247が形成
される。また、図11に示すように、粉末供給円盤245の外周部上面側に複数の仕切壁
248が形成され、この仕切壁248によって受容部247が複数のポケット状に仕切ら
れる。
The lower tank 231 is formed in a container shape capable of receiving the powder supply disk 245, and holds the powder supply disk 245 so as to be rotatable about the rotational symmetry axis. The powder supply disk 245 is formed in a disk shape facing upward in the lower tank 231. In the lower center part of the powder supply disk 245,
The upper end of a disk drive shaft 246 that extends vertically through the bottom of the lower tank 231 is connected.
A fourth gear 217 is coupled to the lower end portion of the disk drive shaft 246, thereby the electric motor 212.
Is transmitted to the powder supply disk 245 via the first to fourth gears 214 to 217 and the disk drive shaft 246. A tapered receiving portion 247 that receives the powder PW that has fallen from the upper tank 221 to the lower tank 231 through the hole 225 is formed on the upper surface of the outer periphery of the powder supply disk 245. As shown in FIG. 11, a plurality of partition walls 248 are formed on the upper surface side of the outer peripheral portion of the powder supply disk 245, and the receiving portions 247 are partitioned into a plurality of pockets by the partition walls 248.

下槽231には、粉末供給円盤245の上部および外周部を覆うカバー部材250が取
り付けられる。カバー部材250は、図10に示すように、下槽231の天井部と外周部
の一部を構成するブロック状に形成され、粉末供給円盤245との間に、粉末供給円盤2
45の回転に応じて受容部247に受容された粉末PWが通過可能な間隙部GP´を形成
するように構成される。なお、間隙部GP´の断面形状は、粉末供給円盤245の仕切壁
248の形状に合わせた直角三角形となる。カバー部材250の側下部には、間隙部GP
´を通過する粉末PWを粉末供給ポート255に導く粉末排出通路251が形成される。
粉末排出通路251は、間隙部GP´から斜め下方に延びる直線状に形成され、間隙部G
P´と粉末供給ポート255とを連通させるようになっている。すなわち、粉末排出通路
251の入口端部が間隙部GP´に開口するとともに、粉末排出通路251の出口端部が
粉末供給ポート255の内部(後述の粉末供給通路256)に開口する。
A cover member 250 that covers the upper part and outer periphery of the powder supply disk 245 is attached to the lower tank 231. As shown in FIG. 10, the cover member 250 is formed in a block shape that constitutes a part of the ceiling part and the outer peripheral part of the lower tank 231, and the powder supply disk 2 between the powder supply disk 245.
According to the rotation of 45, the gap portion GP ′ through which the powder PW received by the receiving portion 247 can pass is formed. The cross-sectional shape of the gap GP ′ is a right triangle that matches the shape of the partition wall 248 of the powder supply disk 245. In the lower part on the side of the cover member 250, the gap GP
A powder discharge passage 251 is formed for guiding the powder PW passing through 'to the powder supply port 255.
The powder discharge passage 251 is formed in a straight line extending obliquely downward from the gap GP ′, and the gap G
P ′ and the powder supply port 255 are communicated with each other. That is, the inlet end of the powder discharge passage 251 opens into the gap GP ′, and the outlet end of the powder discharge passage 251 opens into the powder supply port 255 (a powder supply passage 256 described later).

一方、カバー部材250の上部には、上述の間隙部GP´に気体を供給する第一の気体
供給通路252が形成される。第一の気体供給通路252の上流側は、上下に延びるよう
に形成され、上流端部に設けられた気体供給ポート253を介して、第一の気体供給通路
252内に気体を供給する第一の気体供給装置254と接続される。第一の気体供給通路
252の下流側は、間隙部GP´から斜め上方に延びる直線状に形成され、第一の気体供
給通路252が途中で折れ曲がる構成となっている。このように、第一の気体供給通路2
52の下流側と粉末排出通路251はそれぞれ、間隙部GP´を介して互いに対向すると
ともに、間隙部GP´に位置する受容部247の底面に沿って延びるように形成される。
On the other hand, a first gas supply passage 252 that supplies gas to the above-described gap GP ′ is formed in the upper portion of the cover member 250. An upstream side of the first gas supply passage 252 is formed so as to extend vertically, and a first gas is supplied into the first gas supply passage 252 through a gas supply port 253 provided at the upstream end. The gas supply device 254 is connected. The downstream side of the first gas supply passage 252 is formed in a straight line extending obliquely upward from the gap portion GP ′, and the first gas supply passage 252 is bent halfway. Thus, the first gas supply passage 2
The downstream side of 52 and the powder discharge passage 251 are formed so as to face each other through the gap GP ′ and to extend along the bottom surface of the receiving portion 247 located in the gap GP ′.

これにより、第一の気体供給装置254から供給される第一の気体は、第一の気体供給
通路252を通って間隙部GP´に達し、第一の気体供給通路252の開口部に位置する
粉末PWに衝突する。その結果、第一の気体供給通路252の開口部に位置する粉末PW
は受容部247から切り出され(脱離し)、第一の気体とともに粉末排出通路251から
粉末供給ポート255内に導かれる。このとき、第一の気体供給通路252と粉末排出通
路251はそれぞれ受容部247の底面に沿って延びるように形成されているので、受容
部247の粉末PWが第一の気体から受ける力は受容部247の底面に沿って粉末排出通
路251の方向へ向かうことになり、粉末PWは別段の障害を受けることなく全量が粉末
排出通路251に排出される。また、粉末供給円盤245は、上槽221の穴部225か
ら気体供給通路252に向かって常に一定の角速度で回転しているため、第一の気体供給
通路252の開口部には常に一定速度で粉末PWが供給される。その結果、粉末供給円盤
245の回転方向の前端部に位置する粉末PWが連続的に切り出され(脱離し)、一定の
排出速度で粉末排出通路251に排出されて、粉末の定量供給が実現される。なお、第一
の気体供給通路252の下流側と粉末排出通路251の延伸方向断面はともに、上下に細
長く延びた長方形断面であるため、粉末PWの前端部が常に平面状に維持されるので、受
容部247の粉末PWが予期しない崩壊等を起こすことが抑制され、粉末の安定供給が可
能になる。なお、第一の気体供給装置254が供給する第一の気体は、第1実施形態の場
合と同様であり、粉末PWの種類等に応じて適宜選択される。
Thereby, the first gas supplied from the first gas supply device 254 reaches the gap GP ′ through the first gas supply passage 252 and is located at the opening of the first gas supply passage 252. Collides with powder PW. As a result, the powder PW located at the opening of the first gas supply passage 252
Is cut out (desorbed) from the receiving portion 247 and guided along with the first gas from the powder discharge passage 251 into the powder supply port 255. At this time, since the first gas supply passage 252 and the powder discharge passage 251 are formed so as to extend along the bottom surface of the receiving portion 247, the force that the powder PW of the receiving portion 247 receives from the first gas is received. The powder PW is discharged along the bottom surface of the portion 247 toward the powder discharge passage 251, and the entire amount of the powder PW is discharged to the powder discharge passage 251 without any other obstacles. Further, since the powder supply disk 245 always rotates at a constant angular velocity from the hole 225 of the upper tank 221 toward the gas supply passage 252, the opening of the first gas supply passage 252 is always at a constant speed. Powder PW is supplied. As a result, the powder PW located at the front end in the rotational direction of the powder supply disk 245 is continuously cut out (desorbed) and discharged to the powder discharge passage 251 at a constant discharge speed, thereby realizing a quantitative supply of powder. The Since both the downstream side of the first gas supply passage 252 and the cross section in the extending direction of the powder discharge passage 251 are rectangular cross sections extending vertically, the front end of the powder PW is always maintained flat. The powder PW in the receiving portion 247 is prevented from unexpectedly collapsing, and the powder can be stably supplied. Note that the first gas supplied by the first gas supply device 254 is the same as in the first embodiment, and is appropriately selected according to the type of the powder PW and the like.

粉末供給ポート255は、略水平方向に延びる管状に形成され、下槽231の側部に取
り付けられる。粉末供給ポート255の先端部には、噴射加工装置260のノズルユニッ
ト261が直結される。粉末供給ポート255の内部中央には、略水平方向(粉末供給ポ
ート255の長手方向)に延びる粉末供給通路256が形成され、ノズルユニット261
の粉末供給ノズル264の内部と粉末排出通路251とを連通させる。粉末排出通路25
1の出口端部と粉末供給ノズル264の入口端部とが滑らかに繋がるように、粉末供給通
路256を囲む面が錐面状の曲面で構成されている。粉末供給ポート255の基端側内部
には、粉末供給通路256の基端部から上下に延びる第二の気体供給通路257が形成さ
れ、第二の気体供給通路257内に気体を供給する第二の気体供給装置259と接続され
る。なお、図10において、2つの第二の気体供給装置259が設けられているが、2つ
の第二の気体供給通路257がそれぞれ1つの第二の気体供給装置259と接続される構
成であってもよい。
The powder supply port 255 is formed in a tubular shape extending in a substantially horizontal direction, and is attached to a side portion of the lower tank 231. The nozzle unit 261 of the injection processing device 260 is directly connected to the tip of the powder supply port 255. A powder supply passage 256 extending in a substantially horizontal direction (longitudinal direction of the powder supply port 255) is formed in the center of the powder supply port 255, and the nozzle unit 261 is formed.
The inside of the powder supply nozzle 264 is in communication with the powder discharge passage 251. Powder discharge passage 25
The surface surrounding the powder supply passage 256 is formed as a conical curved surface so that the outlet end of one and the inlet end of the powder supply nozzle 264 are smoothly connected. A second gas supply passage 257 extending vertically from the base end portion of the powder supply passage 256 is formed inside the base end side of the powder supply port 255, and a second gas is supplied into the second gas supply passage 257. The gas supply device 259 is connected. In FIG. 10, two second gas supply devices 259 are provided, but the two second gas supply passages 257 are connected to one second gas supply device 259, respectively. Also good.

これにより、第二の気体供給装置259から供給される第二の気体は、粉末供給ポート
255の第二の気体供給通路257を通って粉末供給通路256に達し、前述した第一の
気体によって粉末排出通路251から粉末供給通路256に導かれた粉末PWとともに、
粉末供給通路256を通って外部(噴射加工装置260のノズルユニット261)に導か
れる。なお、第二の気体供給装置259が供給する第二の気体は、第1実施形態の場合と
同様であり、粉末PWの種類等に応じて適宜選択される。
Thereby, the second gas supplied from the second gas supply device 259 reaches the powder supply passage 256 through the second gas supply passage 257 of the powder supply port 255, and is powdered by the first gas described above. Along with the powder PW guided from the discharge passage 251 to the powder supply passage 256,
It is guided to the outside (nozzle unit 261 of the injection processing device 260) through the powder supply passage 256. The second gas supplied by the second gas supply device 259 is the same as that in the first embodiment, and is appropriately selected according to the type of the powder PW.

第2実施形態の噴射加工装置260は、第1実施形態の噴射加工装置60と同様の構成
であり、図10に示すように、ノズルユニット261や加速ガス供給ユニット265など
を備えて構成される。ノズルユニット261は、図12〜図13に示すように、ベースと
なるノズルブロック262と、先端部がノズルブロック262から突出して固定された矩
形中空パイプ状の噴射ノズル263と、噴射ノズル263の基端側に同一軸上に配設され
た矩形中空パイプ状の粉末供給ノズル264とを有して構成される。粉末供給ノズル26
4の外形寸法は、噴射ノズル263の開口寸法よりも小さく、図13に示すように、粉末
供給ノズル264の先端部が僅かに噴射ノズル263の基端側に挿入される。この噴射ノ
ズル263と粉末供給ノズル264との間隙部に、噴射ノズル263内に供給される加速
ガスの噴出口が形成される。
The injection processing apparatus 260 of the second embodiment has the same configuration as the injection processing apparatus 60 of the first embodiment, and includes a nozzle unit 261, an acceleration gas supply unit 265, and the like as shown in FIG. . As shown in FIGS. 12 to 13, the nozzle unit 261 includes a nozzle block 262 that serves as a base, a rectangular hollow pipe-shaped injection nozzle 263 with a tip protruding from the nozzle block 262, and a base of the injection nozzle 263. It has a rectangular hollow pipe-like powder supply nozzle 264 disposed on the same axis on the end side. Powder supply nozzle 26
4 is smaller than the opening size of the injection nozzle 263, and the tip of the powder supply nozzle 264 is slightly inserted into the base end side of the injection nozzle 263 as shown in FIG. In the gap between the injection nozzle 263 and the powder supply nozzle 264, an outlet for the acceleration gas supplied into the injection nozzle 263 is formed.

ノズルブロック262の内部には、図13に示すように、上述した加速ガスの噴出口に
繋がって上下左右に延びる4つの加速ガス導入路262aが形成される。4つの加速ガス
導入路262aはそれぞれ、各加速ガス導入路262aの上流端部に設けられた加速ガス
供給ポート266を介して加速ガス供給ユニット265と接続される。加速ガス供給ユニ
ット265が供給する気体は、第1実施形態の場合と同様であり、粉末(固体微粒子)P
Wの種類等に応じて適宜選択される。なお、図10および図13において、複数の加速ガ
ス供給ユニット265が設けられているが、4つの加速ガス導入路262aがそれぞれ1
つの加速ガス供給ユニット265と接続される構成であってもよい。噴射ノズル263お
よび粉末供給ノズル264は、セラミックス等の耐食性材料を用いて形成される。そして
、噴射ノズル263の基端部に粉末供給ノズル264が接続され、粉末供給ノズル264
の基端部に粉末供給装置210の粉末供給ポート255が接続される。
Inside the nozzle block 262, as shown in FIG. 13, four acceleration gas introduction passages 262a are formed which are connected to the above-described acceleration gas ejection port and extend vertically and horizontally. Each of the four acceleration gas introduction paths 262a is connected to an acceleration gas supply unit 265 via an acceleration gas supply port 266 provided at the upstream end of each acceleration gas introduction path 262a. The gas supplied by the acceleration gas supply unit 265 is the same as that in the first embodiment, and the powder (solid fine particles) P
It is appropriately selected according to the type of W or the like. 10 and 13, a plurality of acceleration gas supply units 265 are provided, but four acceleration gas introduction paths 262a are each 1
It may be configured to be connected to two acceleration gas supply units 265. The injection nozzle 263 and the powder supply nozzle 264 are formed using a corrosion-resistant material such as ceramics. And the powder supply nozzle 264 is connected to the base end part of the injection nozzle 263, and the powder supply nozzle 264 is connected.
The powder supply port 255 of the powder supply apparatus 210 is connected to the base end of the powder.

以上のように構成される噴射加工システム201において、粉末供給装置210では、
電気モータ212の回転駆動によって、羽根車222(羽根部材)が回転すると、上槽2
21に貯留された粉末(固体微粒子)PWが攪拌されつつ移動し、上槽221の穴部22
5から落下して粉末供給円盤245の受容部247に受容される。
In the injection processing system 201 configured as described above, in the powder supply device 210,
When the impeller 222 (blade member) is rotated by the rotational drive of the electric motor 212, the upper tank 2
The powder (solid fine particles) PW stored in 21 moves while being stirred, and the hole 22 of the upper tank 221 is moved.
5 and is received by the receiving portion 247 of the powder supply disk 245.

このとき、電気モータ212の回転駆動によって、羽根車222と反対方向に粉末供給
円盤245が回転し、粉末供給円盤245の受容部247に受容された粉末PWは、粉末
供給円盤245とともに回転移動してカバー部材250と粉末供給円盤245との間隙部
GP´に到達する。ここで、図10に示すように、第一の気体供給装置254からカバー
部材250の第一の気体供給通路252に供給された第一の気体は、当該第一の気体供給
通路252を通って間隙部GP´に達し、このとき間隙部GP´を通過する粉末PWを粉
末排出通路251側に切り出して(押し出して)、切り出した粉末PWとともに粉末排出
通路251から粉末供給ポート255内の粉末供給通路256に導かれる。さらに、第二
の気体供給装置259から粉末供給ポート255内の第二の気体供給通路257に供給さ
れた第二の気体は、当該第二の気体供給通路257を通って粉末供給通路256に達し、
前述した第一の気体によって粉末排出通路251から粉末供給通路256に導かれた粉末
PWとともに、粉末供給通路256を通って噴射加工装置260に導かれる。
At this time, the rotation of the electric motor 212 causes the powder supply disk 245 to rotate in the opposite direction to the impeller 222, and the powder PW received in the receiving portion 247 of the powder supply disk 245 rotates and moves together with the powder supply disk 245. And reaches the gap GP ′ between the cover member 250 and the powder supply disk 245. Here, as shown in FIG. 10, the first gas supplied from the first gas supply device 254 to the first gas supply passage 252 of the cover member 250 passes through the first gas supply passage 252. The powder PW that has reached the gap GP ′ and passes through the gap GP ′ at this time is cut out (extruded) to the powder discharge passage 251 side, and the powder supplied from the powder discharge passage 251 to the powder supply port 255 together with the cut out powder PW. Guided to passage 256. Further, the second gas supplied from the second gas supply device 259 to the second gas supply passage 257 in the powder supply port 255 reaches the powder supply passage 256 through the second gas supply passage 257. ,
Together with the powder PW guided from the powder discharge passage 251 to the powder supply passage 256 by the first gas, it is guided to the injection processing device 260 through the powder supply passage 256.

以上のようにして、粉末供給装置210から噴射加工装置260に粉末(固体微粒子)
PWが供給されると、噴射加工装置260では、粉末供給装置210において気体と混合
した粉末PWがノズルユニット261の粉末供給ノズル264を通って、噴射ノズル26
3内に到達する。このとき、制御ユニット(図示せず)により加速ガス供給ユニット26
5の作動を制御し、加速ガス供給ユニット265からノズルユニット261の噴射ノズル
263に供給される加速ガスの圧力・流量を制御することにより、粉末供給装置210か
ら供給されて噴射ノズル263内に到達した粉末PWが加速ガスにより加速されて噴射ノ
ズル263の先端から基材(例えば、前述の電極基材131)に向けて噴射される。
As described above, powder (solid fine particles) is transferred from the powder supply device 210 to the injection processing device 260.
When the PW is supplied, in the injection processing device 260, the powder PW mixed with the gas in the powder supply device 210 passes through the powder supply nozzle 264 of the nozzle unit 261, and then the injection nozzle 26.
Reach within 3. At this time, the acceleration gas supply unit 26 is controlled by a control unit (not shown).
5, and the pressure / flow rate of the acceleration gas supplied from the acceleration gas supply unit 265 to the injection nozzle 263 of the nozzle unit 261 is controlled to reach the injection nozzle 263 by being supplied from the powder supply device 210. The powder PW is accelerated by the accelerating gas and sprayed from the tip of the spray nozzle 263 toward the base material (for example, the electrode base material 131 described above).

このように、第2実施形態の噴射加工システム201および粉末供給装置210によれ
ば、第1実施形態の場合と同様の効果を得ることができる。さらに、噴射加工装置260
のノズルユニット261が粉末供給装置210の粉末供給ポート255に直結されるため
、粉末供給装置210から噴射加工装置260までの管路の長さを最小限に抑えることが
でき、粉末PWの噴射量を変化させる際の応答性および安定性を向上させることができる
。なお、ノズルユニット261は、粉末供給ポート255を介さずに、粉末供給装置21
0の粉末排出通路251に直接接続される構成であってもよい。
Thus, according to the injection processing system 201 and the powder supply apparatus 210 of the second embodiment, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. Furthermore, the injection processing apparatus 260
Since the nozzle unit 261 is directly connected to the powder supply port 255 of the powder supply apparatus 210, the length of the pipe line from the powder supply apparatus 210 to the injection processing apparatus 260 can be minimized, and the injection amount of the powder PW Responsiveness and stability at the time of changing can be improved. The nozzle unit 261 is not connected to the powder supply port 255, and the powder supply device 21
It may be configured to be directly connected to the zero powder discharge passage 251.

また、第2実施形態の噴射加工システム201により、第1実施形態の場合と同様にし
て、リチウムイオン二次電池の負極(または正極)を製造することができ、第1実施形態
の場合と同様の効果を得ることができる。
Moreover, the negative electrode (or positive electrode) of a lithium ion secondary battery can be manufactured by the injection processing system 201 of 2nd Embodiment similarly to the case of 1st Embodiment, and it is the same as the case of 1st Embodiment. The effect of can be obtained.

なお、上述の第2実施形態において、ノズルユニット261の断面形状は矩形に限られ
るものではなく、円形(真円あるいは長円)や多角形、あるいは円形(矩形)ノズルを千
鳥配列するなど適宜な形状にすることができる。また、第一の気体供給装置254および
第二の気体供給装置259から供給されるガスや、加速ガス供給ユニット265からノズ
ルユニット261に供給される加速ガスは、第1実施形態の場合と同様に、基材や粉末P
Wなど加工対象に応じて適宜選択することができる。
In the above-described second embodiment, the cross-sectional shape of the nozzle unit 261 is not limited to a rectangle, but may be an appropriate shape such as a circular (perfect circle or oval), polygon, or circular (rectangular) nozzle. It can be shaped. In addition, the gas supplied from the first gas supply device 254 and the second gas supply device 259 and the acceleration gas supplied from the acceleration gas supply unit 265 to the nozzle unit 261 are the same as in the first embodiment. , Substrate and powder P
W or the like can be appropriately selected according to the object to be processed.

また、上述の各実施形態において、受容部47(247)に仕切壁48(248)が設
けられているが、これに限られるものではなく、粉末PWの種類等によっては、仕切壁4
8(248)を設けなくてもよい。
In each of the embodiments described above, the partition wall 48 (248) is provided in the receiving portion 47 (247). However, the partition wall 4 (248) is not limited to this, and depending on the type of the powder PW and the like, the partition wall 4
8 (248) may not be provided.

また、上述の各実施形態において、受容部47(247)は、粉末供給円盤45(24
5)の外周部上面側にテーパ状に形成されているが、これに限られるものではなく、緩や
かに凹んだ曲面状に形成されてもよい。なおこの場合、粉末排出通路および気体供給通路
は、受容部の底面に沿って曲線状に延びるように形成してもよい。
In each of the above-described embodiments, the receiving portion 47 (247) is provided with the powder supply disk 45 (24
5) is formed in a tapered shape on the upper surface side of the outer peripheral portion, but is not limited thereto, and may be formed in a gently concave curved surface. In this case, the powder discharge passage and the gas supply passage may be formed to extend in a curved shape along the bottom surface of the receiving portion.

また、上述の各実施形態において、粉末供給装置10(210)は、パウダー・ジェッ
ト・デポジション法により成膜を行う噴射加工装置60(260)に粉末PWを供給して
いるが、これに限られるものではなく、例えば、セラミックス等の粉末をキャリアガスと
ともにプラズマ中に供給し、当該プラズマにより蒸気化された粉末を容器中に配置された
試料に溶射して蒸着させる溶射装置に対して、キャリアガスを用いた粉末の微量供給を行
うようにしてもよい。
In each of the embodiments described above, the powder supply apparatus 10 (210) supplies the powder PW to the injection processing apparatus 60 (260) that performs film formation by the powder jet deposition method. For example, a carrier for a thermal spraying apparatus in which powder such as ceramics is supplied into a plasma together with a carrier gas, and the powder vaporized by the plasma is sprayed onto a sample placed in a container to deposit the powder. You may make it supply the trace amount of the powder using gas.

1 噴射加工システム(第1実施形態)
10 粉末供給装置
20 貯留槽
21 第一槽(粉末保持槽) 31 第二槽(粉末保持槽)
32 第二羽根車(羽根部材) 35 穴部
41 第三槽(円盤保持槽)
45 粉末供給円盤 47 受容部
50 カバー部材
51 粉末排出通路 52 第一の気体供給通路
55 粉末供給ポート
56 気体供給ノズル(56a 第二の気体供給通路)
60 噴射加工装置
101 リチウムイオン二次電池
102 正極 103 負極
131 電極基材 132 膜
GP 間隙部 PW 粉末
201 噴射加工システム(第2実施形態)
210 粉末供給装置
220 貯留槽
221 上槽(粉末保持槽)
222 羽根車 225 穴部
231 下槽(円盤保持槽)
245 粉末供給円盤 247 受容部
250 カバー部材
251 粉末排出通路 252 第一の気体供給通路
255 粉末供給ポート 257 第二の気体供給通路
260 噴射加工装置
GP´ 間隙部
1 Injection processing system (first embodiment)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Powder supply apparatus 20 Storage tank 21 1st tank (powder holding tank) 31 2nd tank (powder holding tank)
32 Second impeller (blade member) 35 Hole 41 Third tank (disc holding tank)
45 Powder Supply Disk 47 Receiving Portion 50 Cover Member 51 Powder Discharge Passage 52 First Gas Supply Passage 55 Powder Supply Port 56 Gas Supply Nozzle (56a Second Gas Supply Passage)
60 Injection Processing Device 101 Lithium Ion Secondary Battery 102 Positive Electrode 103 Negative Electrode 131 Electrode Base Material 132 Film GP Gap PW Powder 201 Injection Processing System (Second Embodiment)
210 Powder supply device 220 Storage tank 221 Upper tank (powder holding tank)
222 impeller 225 hole 231 lower tank (disk holding tank)
245 Powder supply disk 247 Receiving portion 250 Cover member 251 Powder discharge passage 252 First gas supply passage 255 Powder supply port 257 Second gas supply passage 260 Injection processing device GP ′ gap

Claims (10)

外周部上面側に粉末を受容する受容部が形成された円盤状の粉末供給円盤と、
前記粉末供給円盤を内部に回転可能に保持する円盤保持槽と、
前記粉末供給円盤の一部を覆って、前記粉末供給円盤との間に、前記円盤保持槽において回転する前記粉末供給円盤の回転に応じて前記受容部に受容された粉末が通過可能な間隙部を形成するカバー部材と、
前記間隙部に第一の気体を供給する第一の気体供給通路と、
前記間隙部に連通し、前記第一の気体により前記受容部から脱離した粉末を排出する粉末排出通路とを備え、
前記粉末排出通路および前記第一の気体供給通路はそれぞれ、前記間隙部を介して互いに対向するとともに、前記間隙部に位置する前記受容部の底面に沿って延びるように形成されることを特徴とする粉末供給装置。
A disk-shaped powder supply disk in which a receiving part for receiving powder is formed on the upper surface side of the outer peripheral part;
A disk holding tank for rotatably holding the powder supply disk inside;
A gap part that covers a part of the powder supply disk and allows the powder received in the receiving part to pass between the powder supply disk and the powder supply disk that rotates in the disk holding tank according to the rotation of the powder supply disk. A cover member forming
A first gas supply passage for supplying a first gas to the gap;
A powder discharge passage that communicates with the gap and discharges the powder released from the receiving portion by the first gas;
The powder discharge passage and the first gas supply passage are formed to face each other via the gap and to extend along the bottom surface of the receiving portion located in the gap. Powder feeder.
前記粉末排出通路の出口端が内部に開口する粉末供給ポートと、
前記粉末供給ポートの内部に第二の気体を供給する第二の気体供給通路とを備えることを特徴とする請求項1に記載の粉末供給装置。
A powder supply port in which an outlet end of the powder discharge passage is opened, and
The powder supply apparatus according to claim 1, further comprising a second gas supply passage for supplying a second gas into the powder supply port.
前記粉末供給ポートは略円形断面を有し、
前記第二の気体供給通路が、前記略円形断面と同軸の気体供給ノズルをもって前記粉末供給ポートに開口することを特徴とする請求項2に記載の粉末供給装置。
The powder supply port has a substantially circular cross-section;
The powder supply apparatus according to claim 2, wherein the second gas supply passage opens to the powder supply port with a gas supply nozzle coaxial with the substantially circular cross section.
前記受容部が前記粉末供給円盤の外周部上面側にテーパ状に形成され、
前記粉末排出通路が前記間隙部の斜め下方に延びる直線状に形成されるとともに、前記第一の気体供給通路が前記間隙部の斜め上方に延びる直線状に形成されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の粉末供給装置。
The receiving portion is formed in a tapered shape on the upper surface side of the outer peripheral portion of the powder supply disk,
The powder discharge passage is formed in a straight line extending obliquely below the gap, and the first gas supply passage is formed in a straight line extending obliquely above the gap. The powder supply apparatus as described in any one of 1-3.
粉末が貯留される粉末保持槽を備え、
前記粉末保持槽の底部に、前記受容部の上方に位置して穴部が形成されており、
前記粉末保持槽に貯留された粉末が前記穴部から落下して前記受容部に受容されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の粉末供給装置。
A powder holding tank for storing powder;
At the bottom of the powder holding tank, a hole is formed above the receiving part,
The powder supply apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the powder stored in the powder holding tank falls from the hole and is received by the receiving unit.
前記粉末保持槽の内部に、前記粉末保持槽に貯留された粉末を移動させる羽根部材が回転可能に配設され、
前記羽根部材の回転により、前記粉末保持槽に貯留された粉末が前記穴部から落下して前記受容部に受容されることを特徴とする請求項5に記載の粉末供給装置。
Inside the powder holding tank, a blade member for moving the powder stored in the powder holding tank is rotatably arranged,
The powder supply apparatus according to claim 5, wherein the powder stored in the powder holding tank falls from the hole and is received by the receiving unit by the rotation of the blade member.
粉末を供給する粉末供給装置と、
前記粉末供給装置から供給された粉末を、気体の噴流に混合させて基材に噴射し衝突させることで、前記基材の表面に膜を形成する噴射加工装置とを備え、
前記粉末供給装置が請求項1から6のいずれか一項に記載の粉末供給装置であることを特徴とする噴射加工システム。
A powder supply device for supplying powder;
The powder supplied from the powder supply device is mixed with a gas jet, and injected and collided with the base material, thereby including an injection processing device that forms a film on the surface of the base material,
An injection processing system, wherein the powder supply device is the powder supply device according to any one of claims 1 to 6.
前記噴射加工装置が前記粉末供給装置に直結されることを特徴とする請求項7に記載の噴射加工システム。   The injection processing system according to claim 7, wherein the injection processing apparatus is directly connected to the powder supply apparatus. 二次電池に用いられる電極材料の製造方法であって、
粉末供給装置を用いて、活物質を含む粉末を供給し、
前記粉末供給装置から供給された粉末を、気体の噴流に混合させて電極基材に噴射し衝突させることで、前記電極基材の表面に膜を形成し、
前記粉末供給装置が請求項1から6のいずれか一項に記載の粉末供給装置であることを特徴とする電極材料の製造方法。
A method for producing an electrode material used for a secondary battery,
Using a powder supply device, supply powder containing the active material,
The powder supplied from the powder supply device is mixed with a gas jet and jetted onto the electrode base material to collide, thereby forming a film on the surface of the electrode base material,
The said powder supply apparatus is the powder supply apparatus as described in any one of Claim 1 to 6, The manufacturing method of the electrode material characterized by the above-mentioned.
前記活物質がシリコン(Si)であることを特徴とする請求項9に記載の電極材料の製造方法。   The method for producing an electrode material according to claim 9, wherein the active material is silicon (Si).
JP2011187316A 2010-08-31 2011-08-30 Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method Active JP5742594B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011187316A JP5742594B2 (en) 2010-08-31 2011-08-30 Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method
PCT/JP2012/000255 WO2013031042A1 (en) 2011-08-30 2012-01-18 Powder feeding device, blasting system, and method for manufacturing electrode material
CN201280042531.6A CN103781715B (en) 2011-08-30 2012-01-18 The method of powder feeding device, injection system of processing and manufacture electrode material
US14/189,388 US20140178570A1 (en) 2011-08-30 2014-02-25 Powder feeding device, blasting system, and method for manufacturing electrode material

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010193599 2010-08-31
JP2010193599 2010-08-31
JP2011187316A JP5742594B2 (en) 2010-08-31 2011-08-30 Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2012072491A JP2012072491A (en) 2012-04-12
JP2012072491A5 JP2012072491A5 (en) 2014-07-31
JP5742594B2 true JP5742594B2 (en) 2015-07-01

Family

ID=47755820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011187316A Active JP5742594B2 (en) 2010-08-31 2011-08-30 Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20140178570A1 (en)
JP (1) JP5742594B2 (en)
CN (1) CN103781715B (en)
WO (1) WO2013031042A1 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014112559A1 (en) * 2013-01-17 2014-07-24 株式会社ニコン Spray nozzle, spraying processing device, processing method, method for manufacturing cell material, and secondary cell
US9634327B2 (en) * 2013-03-30 2017-04-25 Tohoku University Negative electrode active material for lithium ion secondary battery, method for producing the same, negative electrode, and battery
GB201409694D0 (en) * 2014-05-31 2014-07-16 Element Six Gmbh Method of coating a body, granules for the method and method of making granules
JP6883318B2 (en) * 2017-02-28 2021-06-09 株式会社アイシンナノテクノロジーズ Quantitative feeder device for powder and granular material
JP7002099B2 (en) * 2017-02-28 2022-01-20 株式会社アイシンナノテクノロジーズ Quantitative feeder device for powder and granular material
JP7168197B2 (en) * 2018-07-10 2022-11-09 株式会社アイシンナノテクノロジーズ Quantitative feeder device for granular materials
CN116492549B (en) * 2023-05-24 2023-11-21 重庆联佰博超医疗器械有限公司 Fine powder spraying device

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3618828A (en) * 1970-06-08 1971-11-09 Humphreys Corp Powder feeder
JPS58192834U (en) * 1982-06-18 1983-12-22 株式会社クボタ Powder quantitative feeding device
JPS6460519A (en) * 1987-08-31 1989-03-07 Sumitomo Precision Prod Co Powdered or granular material feeder
CN2068955U (en) * 1990-02-14 1991-01-09 湖南省衡阳公路总段机械修配厂 Pneumatic conveying apparatus for mineral powders
RU2100474C1 (en) * 1996-11-18 1997-12-27 Общество с ограниченной ответственностью "Обнинский центр порошкового напыления" Apparatus for gasodynamically applying coatings of powdered materials
JP4564153B2 (en) * 2000-09-29 2010-10-20 赤武エンジニアリング株式会社 Powder feeder
JP4463964B2 (en) * 2000-10-04 2010-05-19 赤武エンジニアリング株式会社 Powder feeder
JP2006337035A (en) * 2005-05-31 2006-12-14 Bunji Kaneda Powder weighing/supplying device
JP4579308B2 (en) * 2008-04-25 2010-11-10 株式会社ヨシカワ Powder and particle feeder
CN201864192U (en) * 2010-06-08 2011-06-15 邱辉鹏 Quantitative feeder
CN102088090B (en) * 2010-12-17 2013-06-12 华北电力大学 Method for preparing solid oxide fuel cell SSC cathode by cold spraying technology

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013031042A1 (en) 2013-03-07
CN103781715B (en) 2016-01-13
JP2012072491A (en) 2012-04-12
CN103781715A (en) 2014-05-07
US20140178570A1 (en) 2014-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5742594B2 (en) Powder supply apparatus, injection processing system, and electrode material manufacturing method
US9853303B2 (en) Centrifugal water separator for a fuel cell system
JP6745907B2 (en) Plasma spraying apparatus and method for manufacturing battery electrode
US8337948B2 (en) Method for manufacturing film-formed body
CN103492084B (en) Axial feed type plasma spray plating appts
JP5712954B2 (en) Power storage device and vehicle
JP2004039609A (en) TITANIUM CURRENT COLLECTOR USED FOR NONAQUEOUS Li/CFx BATTERY COATED WITH NOBLE METAL
JP2008117541A (en) Method of manufacturing electrode, and method of manufacturing nonaqueous electrolyte battery
TW201735421A (en) Non-aqueous electrolyte secondary battery positive electrode slurry production method and non-aqueous electrolyte secondary battery positive electrode slurry
WO2018113541A1 (en) Method of preparing cathode material for secondary battery
JP2005332797A (en) Electrode for lithium secondary battery, and lithium secondary battery
US8399045B2 (en) Film formation method and film formation apparatus
KR101462028B1 (en) Powder treating apparatus
WO2023116358A1 (en) Plasma spray apparatus, spray device and solar cell manufacturing device
JP5598752B2 (en) Negative electrode for lithium ion secondary battery and lithium ion secondary battery
JP5590450B2 (en) Electrode material film forming method and electrode material film forming method
US20220181601A1 (en) Pre-lithiation and lithium metal-free anode coatings
JP6593154B2 (en) Powder supply mechanism, powder injection nozzle, film forming method, electrode member manufacturing method, secondary battery manufacturing method, and film forming apparatus
JP2008190014A (en) Aerosol deposition system, and device for producing electrode plate for lithium secondary battery using the same
JP6744569B2 (en) Method for producing slurry for negative electrode of non-aqueous electrolyte secondary battery and slurry for negative electrode of non-aqueous electrolyte secondary battery
TWI836684B (en) System with assisted gas flow inside a reaction chamber and process for manufacturing batteries
US20240075451A1 (en) System and process with assisted gas flow inside a reaction chamber
US20230261234A1 (en) Hydrogen-water separator for fuel cell
JP2008248340A (en) Aerosol deposition system
WO2015069757A1 (en) Material fabricating apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140408

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141219

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150205

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150407

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150420

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5742594

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250