JP5724923B2 - Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト、および、その製造方法に関する。 The present invention, contact of socket or connector for semiconductor devices, and a process for the preparation of it.

従来、半導体素子用ソケットやコネクタに用いられるコンタクトの製造方法としては、ワイヤ放電によって金属板からコンタクトの形状を型取りするワイヤ放電加工、レーザによって金属板からコンタクトの形状を型取りするレーザ加工、金型を用いるプレス加工、製版マスクを用いるエッチング加工などがある。   Conventionally, as a method of manufacturing contacts used for semiconductor element sockets and connectors, wire discharge machining that molds the shape of a contact from a metal plate by wire discharge, laser machining that molds the shape of a contact from a metal plate by a laser, There are press processing using a mold, etching processing using a plate making mask, and the like.

特許文献1には、エッチング加工を用いて接触用ピンを製造する方法が開示されている。   Patent Document 1 discloses a method of manufacturing a contact pin using etching.

特開平10−270140号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-270140

ところで、プレス加工に用いる金型やエッチング加工に用いる製版マスクは高価であるため、少量生産で多品種の部品を製造する場合には、製造コスト上、好ましくない。しかし、ワイヤ放電加工やレーザ加工は、プレス加工やエッチング加工と比べて、寸法精度のばらつきが大きく、また、加工されたコンタクトの表面が粗くなる。   By the way, since a metal mold used for press working and a plate making mask used for etching work are expensive, it is not preferable in terms of manufacturing cost when manufacturing a wide variety of parts in a small amount. However, wire electric discharge machining and laser machining have a large variation in dimensional accuracy compared to press machining and etching, and the surface of the processed contact becomes rough.

コンタクトが半導体素子と接触する部分の表面が粗いと、電気的接触が不良となってしまう。また、コンタクトが基板に位置決めされる部分が粗いと、位置決め精度が低くなってしまう。   If the surface of the portion where the contact contacts the semiconductor element is rough, the electrical contact will be poor. Further, if the portion where the contact is positioned on the substrate is rough, the positioning accuracy is lowered.

本発明は、半導体素子などとの電気的接触が良好である、または、位置決め精度が高い
半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト、および、その製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has good electrical contact with a semiconductor element or the like, or has high positioning accuracy.
Semiconductor device socket or contacts for the connector, and aims to provide a method for producing it.

上記課題を解決することのできる本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法は、プレス加工またはエッチング加工により、金属板に、半導体素子用ソケットまたはコネクタに固定される位置決め固定部と、位置決め固定部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタに収容された半導体素子の端子に対し接離される接点片部と、接点片部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタのカム面により作動される操作片部と、を有するコンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部のうちのいずれかに対応する部分を形成する工程と、コンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部対応する部分が形成された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、コンタクトの接点片部と位置決め固定部とを連結するバネ部に対応する部分を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing a contact for a semiconductor element socket or connector according to the present invention, which can solve the above-described problems, includes a positioning fixing portion fixed to a metal element socket or connector by pressing or etching. A contact piece connected to the semiconductor element socket or the terminal of the semiconductor element housed in the connector connected to the positioning fixing part, and an operation piece connected to the contact piece and operated by the cam surface of the semiconductor element socket or connector vertical positioning sides of the positioning and fixing unit in contact with the part, the horizontal positioning side portions, the operating portion of the operating piece, and a step of forming a portion corresponding to one of the contact portions of the contact piece , Vertical positioning side part of the positioning fixing part in the contact, horizontal positioning side part, operation part of the operation piece part, And, a metal plate portion is formed corresponding to the contact portion of the contact piece portions, the wire electrical discharge machining or laser machining to form a portion corresponding to the spring portion for connecting the positioning fixed portion contact piece of the contact And a process.

本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、前記コンタクトは、他の部品と電気的に接触する接触部を有し、前記形状の一部は、前記接触部を含むことが好ましい。   In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or connector according to the present invention, the contact has a contact portion that is in electrical contact with another component, and a part of the shape includes the contact portion. preferable.

本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、前記コンタクトは、他の部品と接触することで前記接触部の位置を移動させる操作部を有し、前記形状の一部は、前記操作部を含むことが好ましい。   In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or connector according to the present invention, the contact has an operation part that moves the position of the contact part by contacting with another component, and a part of the shape is It is preferable that the operation unit is included.

本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、前記コンタクトは、他の部品に固定されて位置決めされる位置決め部を有し、前記形状の一部は、前記位置決め部を含むことが好ましい。   In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or a connector according to the present invention, the contact has a positioning part that is fixed and positioned to another component, and a part of the shape includes the positioning part. Is preferred.

本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、コンタクトは、弾性変形する本体部を有し、前記残りの形状は、前記本体部を含むことが好ましい。
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトは、上述の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法により製造される。また、本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトは、プレス加工またはエッチング加工により、金属板に第1の寸法精度で形成された半導体素子の端子に電気的に接触する接点片部の接触部と、半導体素子を収容する部材に固定されて位置決めされる位置決め固定部と、プレス加工またはエッチング加工された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、位置決め固定部および接点片部に連なり第1の寸法精度とは異なる第2の寸法精度で形成されたネ部であって、接点片部と位置決め固定部とを連結するバネ部と、を備えて構成される。

In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or a connector according to the present invention, it is preferable that the contact has a body part that is elastically deformed, and the remaining shape includes the body part.
The semiconductor element socket or connector contact of the present invention is manufactured by the above-described method for manufacturing a semiconductor element socket or connector contact. Further, the contact for the semiconductor element socket or connector of the present invention is a contact piece contact that makes electrical contact with the terminal of the semiconductor element formed on the metal plate with the first dimensional accuracy by pressing or etching. A positioning and fixing portion that is fixed and positioned on a member that accommodates a semiconductor element, and a metal plate that has been pressed or etched, and is connected to the positioning and fixing portion and the contact piece by wire electric discharge machining or laser machining. a bus Ne portion formed in a different second dimensional accuracy is one of the dimensional accuracy, and comprises a spring portion for connecting the positioning fixed portion contact piece portion.

本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト、および、その製造方法によれば、プレス加工またはエッチング加工により、金属板に、半導体素子用ソケットまたはコネクタに固定される位置決め固定部と、位置決め固定部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタに収容された半導体素子の端子に対し接離される接点片部と、接点片部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタのカム面により作動される操作片部と、を有するコンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部のうちのいずれかに対応する部分を形成し、コンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部対応する部分が形成された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、コンタクトの接点片部と位置決め固定部とを連結するバネ部に対応する部分を形成する。これにより、寸法のばらつきが少なく、半導体素子の端子などとの電気的接触が良好な位置決め精度が高いコンタクトを安価に製造することができる。 According to the semiconductor element socket or connector contact of the present invention, and the manufacturing method thereof, the positioning fixing portion fixed to the semiconductor element socket or connector on the metal plate by pressing or etching , and positioning fixing A contact piece part connected to and separated from a terminal of a semiconductor element accommodated in a socket or connector for a semiconductor element connected to a part, an operation piece part connected to a contact piece part and operated by a cam surface of the socket for a semiconductor element or connector; vertical positioning sides of the positioning and fixing unit in contact with the horizontal positioning side portions, the operating portion of the operating piece, and, to form the corresponding part to one of the contact portions of the contact piece, positioned and fixed in the contact Vertical positioning side, horizontal positioning side, operating piece operating part, and contact piece connecting part A metal plate portion is formed corresponding to the section, the wire electrical discharge machining or laser machining to form a portion corresponding to the spring portion for connecting the positioning fixed portion contact piece of the contact. As a result, it is possible to manufacture at low cost a contact with high positioning accuracy with little dimensional variation and good electrical contact with the terminal of the semiconductor element.

本発明の製造方法によって製造されるコンタクトを備えた半導体素子用ソケットの一部の断面図である。It is sectional drawing of a part of socket for semiconductor elements provided with the contact manufactured by the manufacturing method of this invention. 半導体素子用ソケットに設けられたコンタクトの側面図である。It is a side view of the contact provided in the socket for semiconductor elements. コンタクトの製造方法を説明する金属板の平面図である。It is a top view of the metal plate explaining the manufacturing method of a contact. コンタクトの製造方法の一部加工工程であるプレス加工が施された金属板の平面図である。It is a top view of the metal plate in which the press processing which is a partial processing process of the manufacturing method of a contact was given. プレス加工に用いられる金型を説明する平面図である。It is a top view explaining the metal mold | die used for press work. コンタクトの製造方法の積層工程で積層させた金属板の斜視図である。It is a perspective view of the metal plate laminated | stacked by the lamination process of the manufacturing method of a contact. コンタクトの製造方法の積層工程で積層させた金属板の斜視図である。It is a perspective view of the metal plate laminated | stacked by the lamination process of the manufacturing method of a contact. コンタクトの製造方法の残部加工工程であるワイヤ放電加工によってコンタクトを金属板から切り出した状態の斜視図である。It is a perspective view of the state where a contact was cut out from a metal plate by wire electric discharge machining which is the remaining machining step of the contact manufacturing method. 変形例1に係るコンタクト及び金型を示す平面図である。10 is a plan view showing a contact and a mold according to Modification 1. FIG. 変形例2に係るコンタクトを示す半導体素子用ソケットに設けられたコンタクトの側面図である。10 is a side view of a contact provided in a socket for a semiconductor element showing a contact according to Modification 2. FIG. 変形例2に係るコンタクト及び金型を示す平面図である。10 is a plan view showing a contact and a mold according to Modification 2. FIG. 変形例3に係るコンタクトを示す半導体素子用ソケットに設けられたコンタクトの側面図である。FIG. 10 is a side view of a contact provided on a semiconductor element socket showing a contact according to Modification 3; 変形例3に係るコンタクト及び金型を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a contact and a mold according to Modification 3.

以下、本発明に係る半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
なお、本実施形態では、半導体素子用ソケットに用いられるコンタクトを製造する場合を例にとって説明する。
Hereinafter, an example of an embodiment of a method of manufacturing a socket for a semiconductor device or a contact for a connector according to the present invention will be described with reference to the drawings.
In the present embodiment, a case where a contact used for a semiconductor element socket is manufactured will be described as an example.

まず、半導体素子用ソケット及びそれに用いられる検査試験用のコンタクトについて説明する。
図1に示すように、半導体素子用ソケット11は、電子機器などに実装される半導体素子DVを検査する際に用いられる。半導体素子DVは、電子機器などに実装される以前の段階で種々の試験が行われその潜在的欠陥が除去される。その試験は、熱的および機械的環境試験などに対応した電圧ストレス印加、高温動作、高温保存などにより非破壊的に実施される。
First, a socket for a semiconductor element and an inspection test contact used therefor will be described.
As shown in FIG. 1, the semiconductor element socket 11 is used when inspecting a semiconductor element DV mounted on an electronic device or the like. The semiconductor element DV is subjected to various tests at a stage before being mounted on an electronic device or the like, and potential defects thereof are removed. The test is performed non-destructively by voltage stress application, high temperature operation, high temperature storage, etc. corresponding to thermal and mechanical environment tests.

このような試験に供される半導体素子用ソケット11は、導電層を有するプリント配線基板12上に配されている。半導体素子用ソケット11は、プリント配線基板12上に固定されて試験する半導体素子DVを、所定の位置に位置決めするとともに収容する収容部13を有するソケット本体部14と、ソケット本体部14の収容部13の周辺に相対向して配されて収容部13に装着された半導体素子DVの複数の端子Tをプリント配線基板12における導電層に電気的に接続する複数のコンタクト21と、コンタクト21の各接触部37を半導体素子DVの各端子Tに対し離隔または近接させる動作を行なわせる駆動手段の一部を構成するカバー部材15とを主な要素として含んで構成されている。   The semiconductor element socket 11 subjected to such a test is disposed on a printed wiring board 12 having a conductive layer. The socket 11 for a semiconductor element includes a socket main body 14 having an accommodating portion 13 for positioning and accommodating a semiconductor element DV to be tested by being fixed on the printed wiring board 12, and an accommodating portion for the socket main body 14. A plurality of contacts 21 electrically connecting a plurality of terminals T of the semiconductor element DV disposed opposite to each other around the periphery of the semiconductor element DV to the conductive layer of the printed wiring board 12; A cover member 15 that constitutes a part of drive means for performing an operation of separating or approaching the contact portion 37 with respect to each terminal T of the semiconductor element DV is constituted as a main element.

なお、図1においては、半導体素子DVの端子Tがコンタクト21により電気的に接続されている状態を示す。
カバー部材15は、ソケット本体部14に対し昇降動可能にソケット本体部14に支持されている。また、カバー部材15は、カム面16を有している。そのカム面16は、下降または上昇するとき、各コンタクト21の操作部39に係合してコンタクト21の接触部37を収容部13に対し離隔、または近接させるものである。
FIG. 1 shows a state in which the terminal T of the semiconductor element DV is electrically connected by the contact 21.
The cover member 15 is supported by the socket body 14 so as to be movable up and down with respect to the socket body 14. The cover member 15 has a cam surface 16. When the cam surface 16 descends or rises, the cam surface 16 engages with the operation portion 39 of each contact 21 to separate or approach the contact portion 37 of the contact 21 with respect to the accommodating portion 13.

ソケット本体部14は、プリント配線基板12上に配置されるベース部17を有しており、このベース部17の上面にコンタクト21が位置決めされて固定される。このベース部17には、位置決め孔18が形成されており、この位置決め孔18に、コンタクト21の固定端子部32が挿入されている。そして、この固定端子部32に形成された接続端子部33が、プリント配線基板12における導電層に半田付け等で電気的に接続される。   The socket body 14 has a base portion 17 disposed on the printed wiring board 12, and a contact 21 is positioned and fixed on the upper surface of the base portion 17. A positioning hole 18 is formed in the base portion 17, and the fixed terminal portion 32 of the contact 21 is inserted into the positioning hole 18. The connection terminal portion 33 formed on the fixed terminal portion 32 is electrically connected to the conductive layer in the printed wiring board 12 by soldering or the like.

コンタクト21は、薄板金属材料で作られている。このコンタクト21の材料としては、例えば、熱処理することで硬化し、バネ性を生じるベリリウム銅などの時効材料を用いるのが好ましい。なお、コンタクト21の材料としては、リン青銅やチタン銅を用いても良い。   The contact 21 is made of a sheet metal material. As the material of the contact 21, for example, an aging material such as beryllium copper which is hardened by heat treatment and generates spring property is preferably used. The material of the contact 21 may be phosphor bronze or titanium copper.

図2に示すように、コンタクト21は、位置決め固定部31を有している。この位置決め固定部31は、ベース部17側が鉛直位置決め辺部(位置決め部の一例)31aとされており、この鉛直位置決め辺部31aがベース部17の上面に当接される。そして、この鉛直位置決め辺部31aがベース部17の上面に当接されることで、コンタクト21が鉛直方向に位置決めされる。   As shown in FIG. 2, the contact 21 has a positioning and fixing portion 31. The positioning fixing portion 31 has a vertical positioning side portion (an example of a positioning portion) 31 a on the base portion 17 side, and the vertical positioning side portion 31 a is in contact with the upper surface of the base portion 17. Then, the vertical positioning side portion 31a is brought into contact with the upper surface of the base portion 17, whereby the contact 21 is positioned in the vertical direction.

コンタクト21の位置決め固定部31には、下方へ向かって延在する固定端子部32が形成されている。この固定端子部32は、ソケット本体部14の収容部13と反対側が水平位置決め辺部(位置決め部の一例)32aとされており、この水平位置決め辺部32aが位置決め孔18の内面に当接される。そして、この水平位置決め辺部32aがベース部17の位置決め孔18の内面に当接されることで、コンタクト21が水平方向に位置決めされる。また、この固定端子部32には、ソケット本体部14の収容部13側に、係止突起32bが形成されており、この係止突起32bがベース部17の位置決め孔18の内面に食い込むことで、コンタクト21がソケット本体部14のベース部17に固定される。   A fixed terminal portion 32 extending downward is formed in the positioning fixing portion 31 of the contact 21. The fixed terminal portion 32 has a horizontal positioning side portion (an example of a positioning portion) 32 a opposite to the housing portion 13 of the socket body portion 14, and the horizontal positioning side portion 32 a is in contact with the inner surface of the positioning hole 18. The Then, the contact 21 is positioned in the horizontal direction by the horizontal positioning side portion 32 a being brought into contact with the inner surface of the positioning hole 18 of the base portion 17. Further, the fixed terminal portion 32 is formed with a locking projection 32 b on the housing portion 13 side of the socket main body portion 14, and the locking projection 32 b bites into the inner surface of the positioning hole 18 of the base portion 17. The contact 21 is fixed to the base portion 17 of the socket main body portion 14.

固定端子部32には、さらに下方へ延在する接続端子部33が形成されている。この接続端子部33は、プリント配線基板12のスルーホール12aに挿入され、プリント配線基板12の導電層に半田付け等で電気的に接続される(図1参照)。
また、コンタクト21は、位置決め固定部31から上方へ延びるバネ部(本体部の一例)34を有している。このバネ部34は、円弧状に湾曲した複数の湾曲部34aが連なる形状に形成されており、これにより、このバネ部34では、弾性変形可能とされている。
The fixed terminal portion 32 is formed with a connection terminal portion 33 that extends further downward. The connection terminal portion 33 is inserted into the through hole 12a of the printed wiring board 12, and is electrically connected to the conductive layer of the printed wiring board 12 by soldering or the like (see FIG. 1).
Further, the contact 21 has a spring portion (an example of a main body portion) 34 extending upward from the positioning fixing portion 31. The spring portion 34 is formed in a shape in which a plurality of curved portions 34a that are curved in an arc shape are connected. Thus, the spring portion 34 can be elastically deformed.

このバネ部34の端部には、可動部35が形成されている。この可動部35は、ソケット本体部14の収容部13側に接点片部36が形成されている。この接点片部36は、下方側へ突出する接触部37を有しており、この接触部37が、収容部13に収容された半導体素子DVの端子Tに対して接離される。また、可動部35には、上方へ延在する操作片部38を有しており、この操作片部38の上端に操作部39が形成されている。そして、カバー部材15が下降または上昇する際に、このカバー部材15のカム面16が操作部39に係合する。これにより、コンタクト21では、バネ部34が弾性変形することで、可動部35が移動し、接触部37が収容部13の半導体素子DVの端子Tに対して接離される。   A movable portion 35 is formed at the end of the spring portion 34. The movable portion 35 has a contact piece portion 36 formed on the side of the accommodating portion 13 of the socket body portion 14. The contact piece portion 36 has a contact portion 37 protruding downward, and the contact portion 37 is brought into contact with and separated from the terminal T of the semiconductor element DV accommodated in the accommodation portion 13. The movable portion 35 has an operation piece portion 38 extending upward, and an operation portion 39 is formed at the upper end of the operation piece portion 38. When the cover member 15 is lowered or raised, the cam surface 16 of the cover member 15 is engaged with the operation portion 39. Thereby, in the contact 21, the spring portion 34 is elastically deformed to move the movable portion 35, and the contact portion 37 is brought into contact with and separated from the terminal T of the semiconductor element DV of the housing portion 13.

このように、カバー部材15のカム面16が操作部39に係合することで接触部37が半導体素子DVの端子Tに対して接離するコンタクト21では、半導体素子DVの端子Tに対して接触部37を高精度に接離させるために、接触部37及び操作部39の鉛直方向及び水平方向の位置を高精度に位置決めする必要がある。したがって、コンタクト21では、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbが精度良く形成されている。特に、半導体素子DVの端子Tと電気的に接触する接触部37では、その表面粗さが極力小さくされている。   Thus, in the contact 21 in which the contact portion 37 contacts and separates from the terminal T of the semiconductor element DV by the cam surface 16 of the cover member 15 engaging the operation portion 39, the contact portion 37 is in contact with the terminal T of the semiconductor element DV. In order to bring the contact portion 37 into and out of contact with high accuracy, the vertical and horizontal positions of the contact portion 37 and the operation portion 39 need to be positioned with high accuracy. Therefore, in the contact 21, the height dimension Ha from the vertical positioning side part 31 a to the contact part 37, the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side part 32 a to the contact part 37, and the height from the vertical positioning side part 31 a to the operation part 39. The dimension Hb and the horizontal dimension Wb from the horizontal positioning side part 32a to the operation part 39 are formed with high accuracy. In particular, the surface roughness of the contact portion 37 that is in electrical contact with the terminal T of the semiconductor element DV is minimized.

次に、上記のコンタクト21を製造する本実施形態に係る製造方法について説明する。
(一部加工工程)
図3に示すように、コンタクト21を形成する金属板41を用意し、この金属板41に対してプレス加工を施す。これにより、図4に示すように、この金属板41に、加工精度が要求される鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39を形成する。また、位置決め孔42及びボルト挿通孔43も形成する。
鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39は、図5に示すように、金型45a,45b,45c,45dを用い、これらの金型45a,45b,45c,45dによって金属板41にプレス加工を施して穴をあけることで形成する。
Next, a manufacturing method according to this embodiment for manufacturing the contact 21 will be described.
(Some processing steps)
As shown in FIG. 3, a metal plate 41 for forming the contact 21 is prepared, and the metal plate 41 is pressed. As a result, as shown in FIG. 4, a vertical positioning side portion 31 a, a horizontal positioning side portion 32 a, a contact portion 37, and an operation portion 39 that require machining accuracy are formed on the metal plate 41. Further, a positioning hole 42 and a bolt insertion hole 43 are also formed.
As shown in FIG. 5, the vertical positioning side part 31a, the horizontal positioning side part 32a, the contact part 37, and the operation part 39 use molds 45a, 45b, 45c, 45d, and these molds 45a, 45b, 45c, It is formed by pressing the metal plate 41 with 45d and making holes.

このように、金型45a,45b,45c,45dによってプレス加工を施すことで、コンタクト21の形状の一部である鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39が高精度に形成され、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbが精度良く形成される。   As described above, the vertical positioning side portion 31a, the horizontal positioning side portion 32a, the contact portion 37, and the operation portion 39, which are a part of the shape of the contact 21, are formed by pressing with the molds 45a, 45b, 45c, and 45d. It is formed with high accuracy, and the height dimension Ha from the vertical positioning side part 31a to the contact part 37, the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side part 32a to the contact part 37, and from the vertical positioning side part 31a to the operation part 39 The height dimension Hb and the horizontal dimension Wb from the horizontal positioning side part 32a to the operation part 39 are accurately formed.

なお、コンタクト21における加工精度が要求される形状の一部である鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39は、金型45a,45b,45c,45dを用いたプレス加工に限らず、製版マスクを用いたエッチング加工によって形成しても良い。このエッチング加工によって鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39を形成しても、これらの鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39を高精度に加工することができ、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbも精度良く形成することができる。   The vertical positioning side part 31a, the horizontal positioning side part 32a, the contact part 37, and the operation part 39, which are a part of the shape that requires machining accuracy in the contact 21, use dies 45a, 45b, 45c, and 45d. You may form by the etching process using not only a press process but a plate-making mask. Even if the vertical positioning side portion 31a, the horizontal positioning side portion 32a, the contact portion 37, and the operation portion 39 are formed by this etching process, the vertical positioning side portion 31a, the horizontal positioning side portion 32a, the contact portion 37, and the operation portion 39 are formed. Can be machined with high accuracy, and the height dimension Ha from the vertical positioning side 31a to the contact part 37, the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side 32a to the contact part 37, and the operation from the vertical positioning side 31a The height dimension Hb to the part 39 and the horizontal dimension Wb from the horizontal positioning side part 32a to the operation part 39 can also be formed with high accuracy.

(積層工程)
複数枚の金属板41に対してプレス加工を施したら、図6に示すように、複数枚の金属板41を重ね、それぞれの位置決め孔42に位置決めピン51を挿通させる。このようにすると、複数枚の金属板41同士が面方向へ位置決めされた状態に積層される。
次に、図7に示すように、積層させた金属板41のボルト挿通孔43にボルト52を挿通してナット53を螺合させることで、これらのボルト52及びナット53によって金属板41を積層させた状態で締結固定する。
(Lamination process)
When the press work is performed on the plurality of metal plates 41, the plurality of metal plates 41 are stacked and the positioning pins 51 are inserted into the respective positioning holes 42 as shown in FIG. 6. If it does in this way, a plurality of metal plates 41 are laminated in the state where they were positioned in the surface direction.
Next, as shown in FIG. 7, the bolts 52 are inserted into the bolt insertion holes 43 of the laminated metal plates 41 and screwed into the nuts 53, so that the metal plates 41 are laminated by the bolts 52 and the nuts 53. Fasten and fix in the state where

(残部加工工程)
次に、図8に示すように、ワイヤ放電加工によって積層させた金属板41を切断し、コンタクト21における鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39以外の残りの形状部分を形成する。これにより、複数枚の金属板41から、位置決め固定部31、固定端子部32、接続端子部33、バネ部34及び可動部35を有する複数のコンタクト21を切り出す。このワイヤ放電加工は、金型や製版マスクが不要であるので低コストに加工することができる。なお、金属板41からコンタクト21を切り出すには、ワイヤ放電加工に限らず、レーザ加工でも良い。このレーザ加工によってコンタクト21を切り出す場合も、金型や製版マスクを用いずに極めて低コストに加工を行うことができる。
(Remaining machining process)
Next, as shown in FIG. 8, the metal plate 41 laminated by wire electric discharge machining is cut, and the remaining portions other than the vertical positioning side portion 31 a, the horizontal positioning side portion 32 a, the contact portion 37, and the operation portion 39 in the contact 21. Form a shape part. As a result, the plurality of contacts 21 having the positioning fixing portion 31, the fixed terminal portion 32, the connection terminal portion 33, the spring portion 34, and the movable portion 35 are cut out from the plurality of metal plates 41. This wire electric discharge machining can be carried out at a low cost because a metal mold and a plate making mask are not required. The contact 21 can be cut out from the metal plate 41 without being limited to wire electric discharge machining and laser machining. Even when the contact 21 is cut out by this laser processing, the processing can be performed at a very low cost without using a mold or a plate making mask.

ところで、半導体素子DVを検査する際に用いられる半導体素子用ソケット11のコンタクト21は、少量生産する場合、このようなコンタクト21を、専用の金型を用いてプレス加工で製造したり、専用の製版マスクを用いてエッチング加工で製造することは製造コスト上困難である。また、コンタクト21を、ワイヤ放電加工やレーザ加工で製造すれば、製造コストを抑えることができるが、表面が粗くなり、半導体素子DVの端子Tとの電気的接触が不十分となって電気抵抗が増加し、検査結果の信頼性が低下してしまう。また、ワイヤ放電加工やレーザ加工では、高い寸法精度でコンタクト21を形成することが困難である。したがって、製造したコンタクト21の位置決め部分の寸法精度も低くなり、コンタクト21を半導体素子用ソケット11のソケット本体14へ位置決めする際の精度が低下し、半導体素子DVの良好な検査が困難となる。また、ワイヤ放電加工やレーザ加工で製造したコンタクト21の表面を研磨したり化学的処理を施すことで表面の粗さを除去することができるが、十分な寸法精度が得られず、また、その作業に多大な労力を要する。   By the way, when the contact 21 of the semiconductor element socket 11 used for inspecting the semiconductor element DV is produced in a small amount, such a contact 21 can be manufactured by press working using a dedicated mold, It is difficult to manufacture by etching using a plate-making mask in terms of manufacturing cost. Further, if the contact 21 is manufactured by wire electric discharge machining or laser machining, the manufacturing cost can be reduced, but the surface becomes rough and the electrical contact with the terminal T of the semiconductor element DV becomes insufficient, resulting in an electrical resistance. Will increase and the reliability of the test results will be reduced. Further, in wire electric discharge machining or laser machining, it is difficult to form the contact 21 with high dimensional accuracy. Therefore, the dimensional accuracy of the positioning portion of the manufactured contact 21 is also lowered, the accuracy when positioning the contact 21 on the socket body 14 of the semiconductor element socket 11 is lowered, and good inspection of the semiconductor element DV is difficult. Further, the surface roughness of the contact 21 manufactured by wire electric discharge machining or laser machining can be removed by polishing or chemical treatment, but sufficient dimensional accuracy cannot be obtained. A lot of labor is required for the work.

これに対して、上記実施形態に係るコンタクトの製造方法によれば、高い寸法精度を要する鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39などのコンタクト21の形状の一部を、プレス加工やエッチング加工によって高精度に形成し、その他のバネ部34などの残りの形状の部分を、金型や製版マスクを用いずに安価にNC加工等で加工できるワイヤ放電加工やレーザ加工で形成する。これにより、寸法のばらつきが少なく、半導体素子DVの端子Tなどとの電気的接触が良好な位置決め精度が高いコンタクト21を安価に製造することができる。   On the other hand, according to the contact manufacturing method according to the above embodiment, one of the shapes of the contacts 21 such as the vertical positioning side portion 31a, the horizontal positioning side portion 32a, the contact portion 37, and the operation portion 39 that requires high dimensional accuracy. Wire discharge machining that can form parts with high precision by press working or etching, and can process the remaining shape parts such as other spring parts 34 at low cost by NC machining or the like without using a mold or a plate-making mask. It is formed by laser processing. As a result, the contact 21 with small positioning variations and good electrical contact with the terminal T of the semiconductor element DV and the like with high positioning accuracy can be manufactured at low cost.

なお、上記実施形態では、高い寸法精度が要求される鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39をプレス加工またはエッチング加工によって形成したが、これらの鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39の少なくとも一つをプレス加工またはエッチング加工によって高い精度で形成しても良い。
また、上記実施形態では、半導体素子用ソケット11に用いられるコンタクト21を例示して説明したが、本発明の製造方法は、コネクタ用のコンタクトを製造する際にも適用可能である。
In the above-described embodiment, the vertical positioning side 31a, the horizontal positioning side 32a, the contact portion 37, and the operation unit 39 that require high dimensional accuracy are formed by pressing or etching. At least one of 31a, horizontal positioning side portion 32a, contact portion 37, and operation portion 39 may be formed with high accuracy by pressing or etching.
Moreover, although the said embodiment demonstrated and demonstrated the contact 21 used for the socket 11 for semiconductor elements, the manufacturing method of this invention is applicable also when manufacturing the contact for connectors.

次に、本実施形態に係る製造方法で製造可能なコンタクトの変形例を説明する。
(変形例1)
図9に示すように、このコンタクト21Aは、上記のコンタクト21と異なる形状のバネ部34を備えている。具体的には、湾曲部34aの曲率半径が大きくされ、バネ部34での弾性力が変えられている。このようなコンタクト21Aの場合も、高い寸法精度を要する鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39などのコンタクト21の形状の一部を、プレス加工やエッチング加工によって高精度に形成し、その他のバネ部34などの残りの形状の部分を、金型や製版マスクを用いずに安価に加工できるワイヤ放電加工やレーザ加工で形成する。これにより、半導体素子DVの端子Tなどとの電気的接触が良好な位置決め精度が高いコンタクト21Aを安価に製造することができる。
Next, modified examples of contacts that can be manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment will be described.
(Modification 1)
As shown in FIG. 9, the contact 21 </ b> A includes a spring portion 34 having a shape different from that of the contact 21. Specifically, the radius of curvature of the curved portion 34a is increased, and the elastic force at the spring portion 34 is changed. Also in the case of such a contact 21A, a part of the shape of the contact 21 such as the vertical positioning side portion 31a, the horizontal positioning side portion 32a, the contact portion 37, and the operation portion 39 that requires high dimensional accuracy is formed by pressing or etching. The remaining portions of the shape such as the spring portion 34 are formed with high precision by wire electric discharge machining or laser machining which can be machined at low cost without using a mold or a plate making mask. As a result, the contact 21A having good positioning accuracy and good electrical contact with the terminal T of the semiconductor element DV can be manufactured at low cost.

また、変形例1のコンタクト21Aを製造する際、図5に示される金型45a,45b,45c,45dを共有して使用して、高い寸法精度を要する鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39などのコンタクト21の形状の一部を形成している。すなわち、バネ部34の形状のみを変更した変形例1のコンタクト21Aを製造する場合は、金型を再作成する必要なく、バネ部34の形状を形成するワイヤ放電加工のワイヤの移動経路を変更するだけで良い。従って、高価な金型を再作成せずにすむため、製造コストを抑えつつ、変形例1のコンタクト21Aを作成することができる。   In addition, when manufacturing the contact 21A of the first modification, the molds 45a, 45b, 45c, and 45d shown in FIG. 5 are shared and used, and the vertical positioning side 31a and the horizontal positioning side that require high dimensional accuracy. A part of the shape of the contact 21 such as the contact portion 37 and the operation portion 39 is formed. That is, when manufacturing the contact 21A of the first modification in which only the shape of the spring part 34 is changed, the wire movement path of the wire electric discharge machining that forms the shape of the spring part 34 is changed without having to re-create the mold. Just do it. Therefore, since it is not necessary to recreate an expensive metal mold, it is possible to create the contact 21 </ b> A of the first modification while suppressing the manufacturing cost.

(変形例2)
図10に示すように、このコンタクト21Bは、位置決め固定部31から下方へ延びる固定端子部32がソケット本体14の収容部13側へ屈曲して延在している。そして、このコンタクト21Bでは、位置決め固定部31と固定端子部32とが、ソケット本体14のベース部17を挟持することでソケット本体14に固定される。
(Modification 2)
As shown in FIG. 10, the contact 21 </ b> B has a fixed terminal portion 32 extending downward from the positioning and fixing portion 31 bent and extended toward the housing portion 13 side of the socket body 14. In the contact 21 </ b> B, the positioning fixing portion 31 and the fixed terminal portion 32 are fixed to the socket body 14 by sandwiching the base portion 17 of the socket body 14.

このコンタクト21Bでは、固定端子部32の鉛直に延びる部分におけるベース部17の端面17aに当接する部分が水平位置決め辺部32aとされており、水平位置決め辺部32aがベース部17の端面17aに当接されることで、コンタクト21Bが水平方向に位置決めされる。また、コンタクト21Bにおいても、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbが精度良く形成されている。   In this contact 21B, a portion of the fixed terminal portion 32 that vertically contacts the end surface 17a of the base portion 17 is a horizontal positioning side portion 32a, and the horizontal positioning side portion 32a contacts the end surface 17a of the base portion 17. By contact, the contact 21B is positioned in the horizontal direction. Also in the contact 21B, the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side part 32a to the contact part 37 and the horizontal dimension Wb from the horizontal positioning side part 32a to the operation part 39 are accurately formed.

図11に示すように、このコンタクト21Bは、金型45c,45dによって接触部37及び操作部39が形成されるとともに、金型45eによって位置決め固定部31と固定端子部32との隙間を打ち抜くことで、鉛直位置決め辺部31a及び水平位置決め辺部32aが形成される。   As shown in FIG. 11, in the contact 21B, the contact portion 37 and the operation portion 39 are formed by the dies 45c and 45d, and the gap between the positioning fixing portion 31 and the fixed terminal portion 32 is punched out by the die 45e. Thus, the vertical positioning side 31a and the horizontal positioning side 32a are formed.

このように、金型45c,45d,45eによってプレス加工を施すことで、コンタクト21Bの形状の一部である接触部37、操作部39、鉛直位置決め辺部31a及び水平位置決め辺部32aを高精度に形成することができ、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbを精度良く形成することができる。   In this way, by pressing the molds 45c, 45d, and 45e, the contact portion 37, the operation portion 39, the vertical positioning side portion 31a, and the horizontal positioning side portion 32a, which are part of the shape of the contact 21B, are highly accurate. In addition, the height dimension Ha from the vertical positioning side part 31a to the contact part 37, the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side part 32a to the contact part 37, and from the vertical positioning side part 31a to the operation part 39 can be formed. The horizontal dimension Wb from the horizontal positioning side part 32a to the operation part 39 can be formed with high accuracy.

また、変形例2のコンタクト21Bを製造する際、図5に示される金型45c,45dを共有して使用して、高い寸法精度を要する接触部37及び操作部39などのコンタクト21Bの形状の一部を形成している。少量多品種のコンタクトを製造する際に金型を共有することができるため、製造コストを抑えることができる。   Further, when manufacturing the contact 21B of the modified example 2, the shapes of the contacts 21B such as the contact portion 37 and the operation portion 39 that require high dimensional accuracy are shared by using the molds 45c and 45d shown in FIG. Forming part. Since the mold can be shared when manufacturing a small amount of various types of contacts, the manufacturing cost can be reduced.

(変形例3)
図12に示すように、このコンタクト21Cは、円弧状に大きく湾曲した一つの湾曲部34aを有するバネ部34を備え、このバネ部34の端部がソケット本体14の収容部13側へ向かって延在し、さらに、上方へ向かって屈曲されている。そして、このバネ部34の端部が接触部37とされている。
(Modification 3)
As shown in FIG. 12, the contact 21 </ b> C includes a spring portion 34 having a single curved portion 34 a that is largely curved in an arc shape, and an end portion of the spring portion 34 is directed toward the housing portion 13 side of the socket body 14. It extends and is bent upward. The end portion of the spring portion 34 is a contact portion 37.

また、このコンタクト21Cでは、固定端子部32におけるソケット本体14の収容部13側が水平位置決め辺部32aとされている。このコンタクト21Cでは、水平位置決め辺部32aがベース部17の位置決め孔18の内面に当接されることで、水平方向に位置決めされ、また、鉛直位置決め辺部31aがベース部17に当接されることで、コンタクト21Cが鉛直方向に位置決めされる。また、コンタクト21Cにおいても、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Waが精度良く形成され、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Haが精度良く形成されている。   In the contact 21 </ b> C, the housing portion 13 side of the socket body 14 in the fixed terminal portion 32 is a horizontal positioning side portion 32 a. In this contact 21 </ b> C, the horizontal positioning side portion 32 a is in contact with the inner surface of the positioning hole 18 of the base portion 17, thereby positioning in the horizontal direction, and the vertical positioning side portion 31 a is in contact with the base portion 17. Thus, the contact 21C is positioned in the vertical direction. Also in the contact 21C, the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side portion 32a to the contact portion 37 is formed with high accuracy, and the height dimension Ha from the vertical positioning side portion 31a to the contact portion 37 is formed with high accuracy.

また、図13に示すように、このコンタクト21Cは、金型45f,45g,45hによって鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a及び接触部37が形成される。
このように、金型45f,45g,45hによってプレス加工を施すことで、コンタクト21Cの形状の一部である鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a及び接触部37を高精度に形成することができ、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Waを精度良く形成することができる。
Further, as shown in FIG. 13, in the contact 21C, a vertical positioning side portion 31a, a horizontal positioning side portion 32a, and a contact portion 37 are formed by dies 45f, 45g, and 45h.
In this way, the vertical positioning side portion 31a, the horizontal positioning side portion 32a, and the contact portion 37, which are part of the shape of the contact 21C, are formed with high precision by performing press working with the molds 45f, 45g, and 45h. Moreover, the height dimension Ha from the vertical positioning side part 31a to the contact part 37 and the horizontal dimension Wa from the horizontal positioning side part 32a to the contact part 37 can be accurately formed.

本発明は上記実施形態に例示したものに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。   The present invention is not limited to those exemplified in the above embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.

11:半導体素子用ソケット、21,21A,21B,21C:コンタクト、31a:鉛直位置決め辺部(位置決め部の一例)、32a:水平位置決め辺部(位置決め部の一例)、34:バネ部(本体部の一例)、37:接触部、39:操作部 11: Socket for semiconductor element, 21, 21A, 21B, 21C: Contact, 31a: Vertical positioning side part (an example of positioning part), 32a: Horizontal positioning side part (an example of positioning part), 34: Spring part (main body part) Example), 37: contact part, 39: operation part

Claims (6)

半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法であって、
プレス加工またはエッチング加工により、金属板に、前記半導体素子用ソケットまたはコネクタに固定される位置決め固定部と、該位置決め固定部に連なり該半導体素子用ソケットまたはコネクタに収容された半導体素子の端子に対し接離される接点片部と、該接点片部に連なり前記半導体素子用ソケットまたはコネクタのカム面により作動される操作片部と、を有するコンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、前記接点片部の接触部のうちのいずれかに対応する部分を形成する工程と、
前記コンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部対応する部分が形成された前記金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、前記コンタクトの前記接点片部と前記位置決め固定部とを連結するバネ部に対応する部分を形成する工程と、を含むことを特徴とする半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法。
A method for producing a socket for a semiconductor element or a contact for a connector,
Positioning and fixing portions fixed to the semiconductor element socket or connector on the metal plate by pressing or etching , and terminals of the semiconductor elements connected to the positioning fixing portion and accommodated in the semiconductor element socket or connector A vertical positioning side part of a positioning fixing part in a contact having a contact piece part to be contacted and separated, and an operation piece part connected to the contact piece part and operated by a cam surface of the socket for a semiconductor element or a connector , a horizontal positioning side part A step of forming a part corresponding to any of the operation part of the operation piece part and the contact part of the contact piece part;
Vertical positioning sides of the positioning and fixing portion in the contact, the horizontal positioning side portions, the operating portion of the operating piece, and the metal plate portion is formed corresponding to the contact portion of the contact piece portions, wire electrical discharge machining or laser Forming a portion corresponding to a spring portion for connecting the contact piece portion of the contact and the positioning fixing portion by processing, and a method for producing a contact for a socket for a semiconductor device or a connector for a connector .
前記バネ部の形状が互いに異なる複数のコンタクトをプレス加工する場合、前記操作片部の操作部、および、前記接点片部の接触部に対応する部分を形成する金型が共用されることを特徴とする請求項1記載の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法。   When a plurality of contacts having different shapes of the spring portion are pressed, the operation portion of the operation piece portion and a mold that forms a portion corresponding to the contact portion of the contact piece portion are shared. A method for manufacturing a socket for a semiconductor element or a contact for a connector according to claim 1. 請求項1または請求項2に記載の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法により製造された半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト。   A socket for a semiconductor element or a contact for a connector manufactured by the method for manufacturing a socket for a semiconductor element or a connector for a connector according to claim 1. プレス加工またはエッチング加工により、金属板に第1の寸法精度で形成された半導体素子の端子に電気的に接触する接点片部の接触部と、前記半導体素子を収容する部材に固定されて位置決めされる位置決め固定部と、
前記プレス加工またはエッチング加工された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、前記位置決め固定部および前記接点片部に連なり前記第1の寸法精度とは異なる第2の寸法精度で形成されたネ部であって、前記接点片部と前記位置決め固定部とを連結するバネ部と、
を具備して構成される半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト。
By pressing or etching, the contact portion of the contact piece portion that is in electrical contact with the terminal of the semiconductor element formed on the metal plate with the first dimensional accuracy and the member that accommodates the semiconductor element are fixed and positioned. Positioning fixing part
A bar formed on the pressed or etched metal plate with a second dimensional accuracy different from the first dimensional accuracy connected to the positioning and fixing portion and the contact piece by wire electric discharge machining or laser machining. a root, and a spring portion for connecting the said contact piece portion and the positioning and fixing unit,
A socket for a semiconductor device or a contact for a connector.
前記プレス加工またはエッチング加工により、金属板に第1の寸法精度で形成された前記接触部の位置を移動させる操作片部の操作部をさらに備えることを特徴とする請求項4記載の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト。   5. The semiconductor device according to claim 4, further comprising an operation portion of an operation piece portion that moves a position of the contact portion formed on the metal plate with the first dimensional accuracy by the pressing process or the etching process. Contact for socket or connector. 前記バネ部の形状が互いに異なる複数のコンタクトをプレス加工する場合、前記操作片部の操作部、および、前記接点片部の接触部に対応する部分を形成する金型が共用されることを特徴とする請求項4記載の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト。   When a plurality of contacts having different shapes of the spring portion are pressed, the operation portion of the operation piece portion and a mold that forms a portion corresponding to the contact portion of the contact piece portion are shared. 5. A socket for a semiconductor element or a contact for a connector according to claim 4.
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