JP5724923B2 - Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof - Google Patents
Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof Download PDFInfo
- Publication number
- JP5724923B2 JP5724923B2 JP2012072121A JP2012072121A JP5724923B2 JP 5724923 B2 JP5724923 B2 JP 5724923B2 JP 2012072121 A JP2012072121 A JP 2012072121A JP 2012072121 A JP2012072121 A JP 2012072121A JP 5724923 B2 JP5724923 B2 JP 5724923B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- contact
- socket
- semiconductor element
- connector
- positioning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 70
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 40
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 34
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 17
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 9
- 238000009763 wire-cut EDM Methods 0.000 claims description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N beryllium copper Chemical compound [Be].[Cu] DMFGNRRURHSENX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUYOGGFTLHZHEG-UHFFFAOYSA-N copper titanium Chemical compound [Ti].[Cu] IUYOGGFTLHZHEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Description
本発明は、半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト、および、その製造方法に関する。 The present invention, contact of socket or connector for semiconductor devices, and a process for the preparation of it.
従来、半導体素子用ソケットやコネクタに用いられるコンタクトの製造方法としては、ワイヤ放電によって金属板からコンタクトの形状を型取りするワイヤ放電加工、レーザによって金属板からコンタクトの形状を型取りするレーザ加工、金型を用いるプレス加工、製版マスクを用いるエッチング加工などがある。 Conventionally, as a method of manufacturing contacts used for semiconductor element sockets and connectors, wire discharge machining that molds the shape of a contact from a metal plate by wire discharge, laser machining that molds the shape of a contact from a metal plate by a laser, There are press processing using a mold, etching processing using a plate making mask, and the like.
特許文献1には、エッチング加工を用いて接触用ピンを製造する方法が開示されている。 Patent Document 1 discloses a method of manufacturing a contact pin using etching.
ところで、プレス加工に用いる金型やエッチング加工に用いる製版マスクは高価であるため、少量生産で多品種の部品を製造する場合には、製造コスト上、好ましくない。しかし、ワイヤ放電加工やレーザ加工は、プレス加工やエッチング加工と比べて、寸法精度のばらつきが大きく、また、加工されたコンタクトの表面が粗くなる。 By the way, since a metal mold used for press working and a plate making mask used for etching work are expensive, it is not preferable in terms of manufacturing cost when manufacturing a wide variety of parts in a small amount. However, wire electric discharge machining and laser machining have a large variation in dimensional accuracy compared to press machining and etching, and the surface of the processed contact becomes rough.
コンタクトが半導体素子と接触する部分の表面が粗いと、電気的接触が不良となってしまう。また、コンタクトが基板に位置決めされる部分が粗いと、位置決め精度が低くなってしまう。 If the surface of the portion where the contact contacts the semiconductor element is rough, the electrical contact will be poor. Further, if the portion where the contact is positioned on the substrate is rough, the positioning accuracy is lowered.
本発明は、半導体素子などとの電気的接触が良好である、または、位置決め精度が高い
半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト、および、その製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has good electrical contact with a semiconductor element or the like, or has high positioning accuracy.
Semiconductor device socket or contacts for the connector, and aims to provide a method for producing it.
上記課題を解決することのできる本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法は、プレス加工またはエッチング加工により、金属板に、半導体素子用ソケットまたはコネクタに固定される位置決め固定部と、位置決め固定部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタに収容された半導体素子の端子に対し接離される接点片部と、接点片部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタのカム面により作動される操作片部と、を有するコンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部のうちのいずれかに対応する部分を形成する工程と、コンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部に対応する部分が形成された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、コンタクトの接点片部と位置決め固定部とを連結するバネ部に対応する部分を形成する工程と、を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing a contact for a semiconductor element socket or connector according to the present invention, which can solve the above-described problems, includes a positioning fixing portion fixed to a metal element socket or connector by pressing or etching. A contact piece connected to the semiconductor element socket or the terminal of the semiconductor element housed in the connector connected to the positioning fixing part, and an operation piece connected to the contact piece and operated by the cam surface of the semiconductor element socket or connector vertical positioning sides of the positioning and fixing unit in contact with the part, the horizontal positioning side portions, the operating portion of the operating piece, and a step of forming a portion corresponding to one of the contact portions of the contact piece , Vertical positioning side part of the positioning fixing part in the contact, horizontal positioning side part, operation part of the operation piece part, And, a metal plate portion is formed corresponding to the contact portion of the contact piece portions, the wire electrical discharge machining or laser machining to form a portion corresponding to the spring portion for connecting the positioning fixed portion contact piece of the contact And a process.
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、前記コンタクトは、他の部品と電気的に接触する接触部を有し、前記形状の一部は、前記接触部を含むことが好ましい。 In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or connector according to the present invention, the contact has a contact portion that is in electrical contact with another component, and a part of the shape includes the contact portion. preferable.
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、前記コンタクトは、他の部品と接触することで前記接触部の位置を移動させる操作部を有し、前記形状の一部は、前記操作部を含むことが好ましい。 In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or connector according to the present invention, the contact has an operation part that moves the position of the contact part by contacting with another component, and a part of the shape is It is preferable that the operation unit is included.
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、前記コンタクトは、他の部品に固定されて位置決めされる位置決め部を有し、前記形状の一部は、前記位置決め部を含むことが好ましい。 In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or a connector according to the present invention, the contact has a positioning part that is fixed and positioned to another component, and a part of the shape includes the positioning part. Is preferred.
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法において、コンタクトは、弾性変形する本体部を有し、前記残りの形状は、前記本体部を含むことが好ましい。
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトは、上述の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法により製造される。また、本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトは、プレス加工またはエッチング加工により、金属板に第1の寸法精度で形成された半導体素子の端子に電気的に接触する接点片部の接触部と、半導体素子を収容する部材に固定されて位置決めされる位置決め固定部と、プレス加工またはエッチング加工された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、位置決め固定部および接点片部に連なり第1の寸法精度とは異なる第2の寸法精度で形成されたバネ部であって、接点片部と位置決め固定部とを連結するバネ部と、を備えて構成される。
In the method for manufacturing a contact for a semiconductor element socket or a connector according to the present invention, it is preferable that the contact has a body part that is elastically deformed, and the remaining shape includes the body part.
The semiconductor element socket or connector contact of the present invention is manufactured by the above-described method for manufacturing a semiconductor element socket or connector contact. Further, the contact for the semiconductor element socket or connector of the present invention is a contact piece contact that makes electrical contact with the terminal of the semiconductor element formed on the metal plate with the first dimensional accuracy by pressing or etching. A positioning and fixing portion that is fixed and positioned on a member that accommodates a semiconductor element, and a metal plate that has been pressed or etched, and is connected to the positioning and fixing portion and the contact piece by wire electric discharge machining or laser machining. a bus Ne portion formed in a different second dimensional accuracy is one of the dimensional accuracy, and comprises a spring portion for connecting the positioning fixed portion contact piece portion.
本発明の半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト、および、その製造方法によれば、プレス加工またはエッチング加工により、金属板に、半導体素子用ソケットまたはコネクタに固定される位置決め固定部と、位置決め固定部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタに収容された半導体素子の端子に対し接離される接点片部と、接点片部に連なり半導体素子用ソケットまたはコネクタのカム面により作動される操作片部と、を有するコンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部のうちのいずれかに対応する部分を形成し、コンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部に対応する部分が形成された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、コンタクトの接点片部と位置決め固定部とを連結するバネ部に対応する部分を形成する。これにより、寸法のばらつきが少なく、半導体素子の端子などとの電気的接触が良好な位置決め精度が高いコンタクトを安価に製造することができる。 According to the semiconductor element socket or connector contact of the present invention, and the manufacturing method thereof, the positioning fixing portion fixed to the semiconductor element socket or connector on the metal plate by pressing or etching , and positioning fixing A contact piece part connected to and separated from a terminal of a semiconductor element accommodated in a socket or connector for a semiconductor element connected to a part, an operation piece part connected to a contact piece part and operated by a cam surface of the socket for a semiconductor element or connector; vertical positioning sides of the positioning and fixing unit in contact with the horizontal positioning side portions, the operating portion of the operating piece, and, to form the corresponding part to one of the contact portions of the contact piece, positioned and fixed in the contact Vertical positioning side, horizontal positioning side, operating piece operating part, and contact piece connecting part A metal plate portion is formed corresponding to the section, the wire electrical discharge machining or laser machining to form a portion corresponding to the spring portion for connecting the positioning fixed portion contact piece of the contact. As a result, it is possible to manufacture at low cost a contact with high positioning accuracy with little dimensional variation and good electrical contact with the terminal of the semiconductor element.
以下、本発明に係る半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
なお、本実施形態では、半導体素子用ソケットに用いられるコンタクトを製造する場合を例にとって説明する。
Hereinafter, an example of an embodiment of a method of manufacturing a socket for a semiconductor device or a contact for a connector according to the present invention will be described with reference to the drawings.
In the present embodiment, a case where a contact used for a semiconductor element socket is manufactured will be described as an example.
まず、半導体素子用ソケット及びそれに用いられる検査試験用のコンタクトについて説明する。
図1に示すように、半導体素子用ソケット11は、電子機器などに実装される半導体素子DVを検査する際に用いられる。半導体素子DVは、電子機器などに実装される以前の段階で種々の試験が行われその潜在的欠陥が除去される。その試験は、熱的および機械的環境試験などに対応した電圧ストレス印加、高温動作、高温保存などにより非破壊的に実施される。
First, a socket for a semiconductor element and an inspection test contact used therefor will be described.
As shown in FIG. 1, the
このような試験に供される半導体素子用ソケット11は、導電層を有するプリント配線基板12上に配されている。半導体素子用ソケット11は、プリント配線基板12上に固定されて試験する半導体素子DVを、所定の位置に位置決めするとともに収容する収容部13を有するソケット本体部14と、ソケット本体部14の収容部13の周辺に相対向して配されて収容部13に装着された半導体素子DVの複数の端子Tをプリント配線基板12における導電層に電気的に接続する複数のコンタクト21と、コンタクト21の各接触部37を半導体素子DVの各端子Tに対し離隔または近接させる動作を行なわせる駆動手段の一部を構成するカバー部材15とを主な要素として含んで構成されている。
The
なお、図1においては、半導体素子DVの端子Tがコンタクト21により電気的に接続されている状態を示す。
カバー部材15は、ソケット本体部14に対し昇降動可能にソケット本体部14に支持されている。また、カバー部材15は、カム面16を有している。そのカム面16は、下降または上昇するとき、各コンタクト21の操作部39に係合してコンタクト21の接触部37を収容部13に対し離隔、または近接させるものである。
FIG. 1 shows a state in which the terminal T of the semiconductor element DV is electrically connected by the
The
ソケット本体部14は、プリント配線基板12上に配置されるベース部17を有しており、このベース部17の上面にコンタクト21が位置決めされて固定される。このベース部17には、位置決め孔18が形成されており、この位置決め孔18に、コンタクト21の固定端子部32が挿入されている。そして、この固定端子部32に形成された接続端子部33が、プリント配線基板12における導電層に半田付け等で電気的に接続される。
The
コンタクト21は、薄板金属材料で作られている。このコンタクト21の材料としては、例えば、熱処理することで硬化し、バネ性を生じるベリリウム銅などの時効材料を用いるのが好ましい。なお、コンタクト21の材料としては、リン青銅やチタン銅を用いても良い。
The
図2に示すように、コンタクト21は、位置決め固定部31を有している。この位置決め固定部31は、ベース部17側が鉛直位置決め辺部(位置決め部の一例)31aとされており、この鉛直位置決め辺部31aがベース部17の上面に当接される。そして、この鉛直位置決め辺部31aがベース部17の上面に当接されることで、コンタクト21が鉛直方向に位置決めされる。
As shown in FIG. 2, the
コンタクト21の位置決め固定部31には、下方へ向かって延在する固定端子部32が形成されている。この固定端子部32は、ソケット本体部14の収容部13と反対側が水平位置決め辺部(位置決め部の一例)32aとされており、この水平位置決め辺部32aが位置決め孔18の内面に当接される。そして、この水平位置決め辺部32aがベース部17の位置決め孔18の内面に当接されることで、コンタクト21が水平方向に位置決めされる。また、この固定端子部32には、ソケット本体部14の収容部13側に、係止突起32bが形成されており、この係止突起32bがベース部17の位置決め孔18の内面に食い込むことで、コンタクト21がソケット本体部14のベース部17に固定される。
A
固定端子部32には、さらに下方へ延在する接続端子部33が形成されている。この接続端子部33は、プリント配線基板12のスルーホール12aに挿入され、プリント配線基板12の導電層に半田付け等で電気的に接続される(図1参照)。
また、コンタクト21は、位置決め固定部31から上方へ延びるバネ部(本体部の一例)34を有している。このバネ部34は、円弧状に湾曲した複数の湾曲部34aが連なる形状に形成されており、これにより、このバネ部34では、弾性変形可能とされている。
The
Further, the
このバネ部34の端部には、可動部35が形成されている。この可動部35は、ソケット本体部14の収容部13側に接点片部36が形成されている。この接点片部36は、下方側へ突出する接触部37を有しており、この接触部37が、収容部13に収容された半導体素子DVの端子Tに対して接離される。また、可動部35には、上方へ延在する操作片部38を有しており、この操作片部38の上端に操作部39が形成されている。そして、カバー部材15が下降または上昇する際に、このカバー部材15のカム面16が操作部39に係合する。これにより、コンタクト21では、バネ部34が弾性変形することで、可動部35が移動し、接触部37が収容部13の半導体素子DVの端子Tに対して接離される。
A
このように、カバー部材15のカム面16が操作部39に係合することで接触部37が半導体素子DVの端子Tに対して接離するコンタクト21では、半導体素子DVの端子Tに対して接触部37を高精度に接離させるために、接触部37及び操作部39の鉛直方向及び水平方向の位置を高精度に位置決めする必要がある。したがって、コンタクト21では、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbが精度良く形成されている。特に、半導体素子DVの端子Tと電気的に接触する接触部37では、その表面粗さが極力小さくされている。
Thus, in the
次に、上記のコンタクト21を製造する本実施形態に係る製造方法について説明する。
(一部加工工程)
図3に示すように、コンタクト21を形成する金属板41を用意し、この金属板41に対してプレス加工を施す。これにより、図4に示すように、この金属板41に、加工精度が要求される鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39を形成する。また、位置決め孔42及びボルト挿通孔43も形成する。
鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39は、図5に示すように、金型45a,45b,45c,45dを用い、これらの金型45a,45b,45c,45dによって金属板41にプレス加工を施して穴をあけることで形成する。
Next, a manufacturing method according to this embodiment for manufacturing the
(Some processing steps)
As shown in FIG. 3, a
As shown in FIG. 5, the vertical
このように、金型45a,45b,45c,45dによってプレス加工を施すことで、コンタクト21の形状の一部である鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39が高精度に形成され、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbが精度良く形成される。
As described above, the vertical
なお、コンタクト21における加工精度が要求される形状の一部である鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39は、金型45a,45b,45c,45dを用いたプレス加工に限らず、製版マスクを用いたエッチング加工によって形成しても良い。このエッチング加工によって鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39を形成しても、これらの鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39を高精度に加工することができ、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbも精度良く形成することができる。
The vertical
(積層工程)
複数枚の金属板41に対してプレス加工を施したら、図6に示すように、複数枚の金属板41を重ね、それぞれの位置決め孔42に位置決めピン51を挿通させる。このようにすると、複数枚の金属板41同士が面方向へ位置決めされた状態に積層される。
次に、図7に示すように、積層させた金属板41のボルト挿通孔43にボルト52を挿通してナット53を螺合させることで、これらのボルト52及びナット53によって金属板41を積層させた状態で締結固定する。
(Lamination process)
When the press work is performed on the plurality of
Next, as shown in FIG. 7, the
(残部加工工程)
次に、図8に示すように、ワイヤ放電加工によって積層させた金属板41を切断し、コンタクト21における鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39以外の残りの形状部分を形成する。これにより、複数枚の金属板41から、位置決め固定部31、固定端子部32、接続端子部33、バネ部34及び可動部35を有する複数のコンタクト21を切り出す。このワイヤ放電加工は、金型や製版マスクが不要であるので低コストに加工することができる。なお、金属板41からコンタクト21を切り出すには、ワイヤ放電加工に限らず、レーザ加工でも良い。このレーザ加工によってコンタクト21を切り出す場合も、金型や製版マスクを用いずに極めて低コストに加工を行うことができる。
(Remaining machining process)
Next, as shown in FIG. 8, the
ところで、半導体素子DVを検査する際に用いられる半導体素子用ソケット11のコンタクト21は、少量生産する場合、このようなコンタクト21を、専用の金型を用いてプレス加工で製造したり、専用の製版マスクを用いてエッチング加工で製造することは製造コスト上困難である。また、コンタクト21を、ワイヤ放電加工やレーザ加工で製造すれば、製造コストを抑えることができるが、表面が粗くなり、半導体素子DVの端子Tとの電気的接触が不十分となって電気抵抗が増加し、検査結果の信頼性が低下してしまう。また、ワイヤ放電加工やレーザ加工では、高い寸法精度でコンタクト21を形成することが困難である。したがって、製造したコンタクト21の位置決め部分の寸法精度も低くなり、コンタクト21を半導体素子用ソケット11のソケット本体14へ位置決めする際の精度が低下し、半導体素子DVの良好な検査が困難となる。また、ワイヤ放電加工やレーザ加工で製造したコンタクト21の表面を研磨したり化学的処理を施すことで表面の粗さを除去することができるが、十分な寸法精度が得られず、また、その作業に多大な労力を要する。
By the way, when the
これに対して、上記実施形態に係るコンタクトの製造方法によれば、高い寸法精度を要する鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39などのコンタクト21の形状の一部を、プレス加工やエッチング加工によって高精度に形成し、その他のバネ部34などの残りの形状の部分を、金型や製版マスクを用いずに安価にNC加工等で加工できるワイヤ放電加工やレーザ加工で形成する。これにより、寸法のばらつきが少なく、半導体素子DVの端子Tなどとの電気的接触が良好な位置決め精度が高いコンタクト21を安価に製造することができる。
On the other hand, according to the contact manufacturing method according to the above embodiment, one of the shapes of the
なお、上記実施形態では、高い寸法精度が要求される鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39をプレス加工またはエッチング加工によって形成したが、これらの鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39の少なくとも一つをプレス加工またはエッチング加工によって高い精度で形成しても良い。
また、上記実施形態では、半導体素子用ソケット11に用いられるコンタクト21を例示して説明したが、本発明の製造方法は、コネクタ用のコンタクトを製造する際にも適用可能である。
In the above-described embodiment, the
Moreover, although the said embodiment demonstrated and demonstrated the
次に、本実施形態に係る製造方法で製造可能なコンタクトの変形例を説明する。
(変形例1)
図9に示すように、このコンタクト21Aは、上記のコンタクト21と異なる形状のバネ部34を備えている。具体的には、湾曲部34aの曲率半径が大きくされ、バネ部34での弾性力が変えられている。このようなコンタクト21Aの場合も、高い寸法精度を要する鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39などのコンタクト21の形状の一部を、プレス加工やエッチング加工によって高精度に形成し、その他のバネ部34などの残りの形状の部分を、金型や製版マスクを用いずに安価に加工できるワイヤ放電加工やレーザ加工で形成する。これにより、半導体素子DVの端子Tなどとの電気的接触が良好な位置決め精度が高いコンタクト21Aを安価に製造することができる。
Next, modified examples of contacts that can be manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment will be described.
(Modification 1)
As shown in FIG. 9, the
また、変形例1のコンタクト21Aを製造する際、図5に示される金型45a,45b,45c,45dを共有して使用して、高い寸法精度を要する鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a、接触部37及び操作部39などのコンタクト21の形状の一部を形成している。すなわち、バネ部34の形状のみを変更した変形例1のコンタクト21Aを製造する場合は、金型を再作成する必要なく、バネ部34の形状を形成するワイヤ放電加工のワイヤの移動経路を変更するだけで良い。従って、高価な金型を再作成せずにすむため、製造コストを抑えつつ、変形例1のコンタクト21Aを作成することができる。
In addition, when manufacturing the
(変形例2)
図10に示すように、このコンタクト21Bは、位置決め固定部31から下方へ延びる固定端子部32がソケット本体14の収容部13側へ屈曲して延在している。そして、このコンタクト21Bでは、位置決め固定部31と固定端子部32とが、ソケット本体14のベース部17を挟持することでソケット本体14に固定される。
(Modification 2)
As shown in FIG. 10, the
このコンタクト21Bでは、固定端子部32の鉛直に延びる部分におけるベース部17の端面17aに当接する部分が水平位置決め辺部32aとされており、水平位置決め辺部32aがベース部17の端面17aに当接されることで、コンタクト21Bが水平方向に位置決めされる。また、コンタクト21Bにおいても、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbが精度良く形成されている。
In this
図11に示すように、このコンタクト21Bは、金型45c,45dによって接触部37及び操作部39が形成されるとともに、金型45eによって位置決め固定部31と固定端子部32との隙間を打ち抜くことで、鉛直位置決め辺部31a及び水平位置決め辺部32aが形成される。
As shown in FIG. 11, in the
このように、金型45c,45d,45eによってプレス加工を施すことで、コンタクト21Bの形状の一部である接触部37、操作部39、鉛直位置決め辺部31a及び水平位置決め辺部32aを高精度に形成することができ、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Wa、鉛直位置決め辺部31aから操作部39までの高さ寸法Hb及び水平位置決め辺部32aから操作部39までの水平寸法Wbを精度良く形成することができる。
In this way, by pressing the
また、変形例2のコンタクト21Bを製造する際、図5に示される金型45c,45dを共有して使用して、高い寸法精度を要する接触部37及び操作部39などのコンタクト21Bの形状の一部を形成している。少量多品種のコンタクトを製造する際に金型を共有することができるため、製造コストを抑えることができる。
Further, when manufacturing the
(変形例3)
図12に示すように、このコンタクト21Cは、円弧状に大きく湾曲した一つの湾曲部34aを有するバネ部34を備え、このバネ部34の端部がソケット本体14の収容部13側へ向かって延在し、さらに、上方へ向かって屈曲されている。そして、このバネ部34の端部が接触部37とされている。
(Modification 3)
As shown in FIG. 12, the
また、このコンタクト21Cでは、固定端子部32におけるソケット本体14の収容部13側が水平位置決め辺部32aとされている。このコンタクト21Cでは、水平位置決め辺部32aがベース部17の位置決め孔18の内面に当接されることで、水平方向に位置決めされ、また、鉛直位置決め辺部31aがベース部17に当接されることで、コンタクト21Cが鉛直方向に位置決めされる。また、コンタクト21Cにおいても、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Waが精度良く形成され、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Haが精度良く形成されている。
In the
また、図13に示すように、このコンタクト21Cは、金型45f,45g,45hによって鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a及び接触部37が形成される。
このように、金型45f,45g,45hによってプレス加工を施すことで、コンタクト21Cの形状の一部である鉛直位置決め辺部31a、水平位置決め辺部32a及び接触部37を高精度に形成することができ、また、鉛直位置決め辺部31aから接触部37までの高さ寸法Ha、水平位置決め辺部32aから接触部37までの水平寸法Waを精度良く形成することができる。
Further, as shown in FIG. 13, in the contact 21C, a vertical
In this way, the vertical
本発明は上記実施形態に例示したものに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。 The present invention is not limited to those exemplified in the above embodiment, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention.
11:半導体素子用ソケット、21,21A,21B,21C:コンタクト、31a:鉛直位置決め辺部(位置決め部の一例)、32a:水平位置決め辺部(位置決め部の一例)、34:バネ部(本体部の一例)、37:接触部、39:操作部 11: Socket for semiconductor element, 21, 21A, 21B, 21C: Contact, 31a: Vertical positioning side part (an example of positioning part), 32a: Horizontal positioning side part (an example of positioning part), 34: Spring part (main body part) Example), 37: contact part, 39: operation part
Claims (6)
プレス加工またはエッチング加工により、金属板に、前記半導体素子用ソケットまたはコネクタに固定される位置決め固定部と、該位置決め固定部に連なり該半導体素子用ソケットまたはコネクタに収容された半導体素子の端子に対し接離される接点片部と、該接点片部に連なり前記半導体素子用ソケットまたはコネクタのカム面により作動される操作片部と、を有するコンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、前記接点片部の接触部のうちのいずれかに対応する部分を形成する工程と、
前記コンタクトにおける位置決め固定部の鉛直位置決め辺部、水平位置決め辺部、操作片部の操作部、および、接点片部の接触部に対応する部分が形成された前記金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、前記コンタクトの前記接点片部と前記位置決め固定部とを連結するバネ部に対応する部分を形成する工程と、を含むことを特徴とする半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクトの製造方法。 A method for producing a socket for a semiconductor element or a contact for a connector,
Positioning and fixing portions fixed to the semiconductor element socket or connector on the metal plate by pressing or etching , and terminals of the semiconductor elements connected to the positioning fixing portion and accommodated in the semiconductor element socket or connector A vertical positioning side part of a positioning fixing part in a contact having a contact piece part to be contacted and separated, and an operation piece part connected to the contact piece part and operated by a cam surface of the socket for a semiconductor element or a connector , a horizontal positioning side part A step of forming a part corresponding to any of the operation part of the operation piece part and the contact part of the contact piece part;
Vertical positioning sides of the positioning and fixing portion in the contact, the horizontal positioning side portions, the operating portion of the operating piece, and the metal plate portion is formed corresponding to the contact portion of the contact piece portions, wire electrical discharge machining or laser Forming a portion corresponding to a spring portion for connecting the contact piece portion of the contact and the positioning fixing portion by processing, and a method for producing a contact for a socket for a semiconductor device or a connector for a connector .
前記プレス加工またはエッチング加工された金属板に、ワイヤ放電加工またはレーザ加工により、前記位置決め固定部および前記接点片部に連なり前記第1の寸法精度とは異なる第2の寸法精度で形成されたバネ部であって、前記接点片部と前記位置決め固定部とを連結するバネ部と、
を具備して構成される半導体素子用ソケットまたはコネクタ用のコンタクト。 By pressing or etching, the contact portion of the contact piece portion that is in electrical contact with the terminal of the semiconductor element formed on the metal plate with the first dimensional accuracy and the member that accommodates the semiconductor element are fixed and positioned. Positioning fixing part
A bar formed on the pressed or etched metal plate with a second dimensional accuracy different from the first dimensional accuracy connected to the positioning and fixing portion and the contact piece by wire electric discharge machining or laser machining. a root, and a spring portion for connecting the said contact piece portion and the positioning and fixing unit,
A socket for a semiconductor device or a contact for a connector.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012072121A JP5724923B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012072121A JP5724923B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013206609A JP2013206609A (en) | 2013-10-07 |
JP2013206609A5 JP2013206609A5 (en) | 2013-11-14 |
JP5724923B2 true JP5724923B2 (en) | 2015-05-27 |
Family
ID=49525512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012072121A Active JP5724923B2 (en) | 2012-03-27 | 2012-03-27 | Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5724923B2 (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000040569A (en) * | 1998-07-21 | 2000-02-08 | Ngk Insulators Ltd | Manufacture of wiring sheet |
JP2003151706A (en) * | 2001-11-09 | 2003-05-23 | Yamaichi Electronics Co Ltd | Ic socket |
JP5623836B2 (en) * | 2010-09-09 | 2014-11-12 | 日本圧着端子製造株式会社 | Manufacturing method of waterproof connector |
-
2012
- 2012-03-27 JP JP2012072121A patent/JP5724923B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013206609A (en) | 2013-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4414017B2 (en) | IC socket | |
TW465148B (en) | Method for making socket connector | |
JP4729346B2 (en) | Socket for electrical parts | |
JP2009294187A (en) | Component for testing device of electronic component, and test method | |
JP2008039496A (en) | Electric contact, method for molding first contact member of the same, and socket for electrical component | |
KR20130096280A (en) | Package | |
JP5724923B2 (en) | Socket for semiconductor element or contact for connector, and manufacturing method thereof | |
JP2004342466A (en) | Method of assembling socket for semiconductor device | |
JP2012181948A (en) | Contact pin and socket for electrical component | |
WO2017047362A1 (en) | Probe pin and inspection tool using same | |
JP2004071240A (en) | Socket for electric components | |
JP2011003423A (en) | Connection device | |
JP2013171985A (en) | Method of manufacturing circuit board used for circuit component, and circuit board | |
JP5276430B2 (en) | Socket for electrical parts | |
JP5788698B2 (en) | Socket for electrical parts | |
JP4359196B2 (en) | Convex spiral contact, connection terminal for electronic component using the same, connector, and manufacturing method thereof | |
KR20100035085A (en) | Connecting terminal structure, connector and assembly method of the connector | |
WO2012086653A1 (en) | Testing system and package retainer | |
JP6987006B2 (en) | Connector terminal shape of electronic control device | |
JP5563911B2 (en) | Socket for electrical parts | |
JP2010192247A (en) | Electric connector | |
US20180337505A1 (en) | Manufacturing process for kelvin contact assembly housing | |
KR20090035680A (en) | Test socket assembly for semiconductor device | |
JP4420720B2 (en) | Socket for electrical parts | |
WO2014014066A1 (en) | Method for bending semiconductor module terminal |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130821 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140507 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140826 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150303 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150316 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5724923 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |