JP5718940B2 - 荷電粒子蓄積リングへのビーム入射方法及びそのシステム - Google Patents
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Landscapes
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Description
102 ビーム取出部
104 RFガイド
108 加速空洞
110 エミッタ(電子銃)
120 基準高周波発振器
122 プリアンプ
124 高電圧パルス電源
126 パルスクライストロン
200 蓄積リング本体
202 ビーム入射部
204 パータベータ
206 加速空洞
208 放射光取出部
220 パータベータパルス電源
230 ターゲット
240 放射光
300 トリガパルス発振器
400 制御信号生成部
402、404、406、408 MOS−FET
410 電源
412 共振用キャパシタ
414 ダンピング抵抗
416 インダクタ(パータベータ)
図5に示すように、ビーム電流波形のピークが、減衰するパータベータの励磁電流波形の各ピークに合うように、電子ビームを蓄積リング装置に入射して実験した。パータベータに電流を供給するパルス発生器の初期充電電圧は+600Vにした。図5において、横軸は時間であり、左側の縦軸は励磁電流を表し、右側の縦軸はビーム電流を表す。上段のグラフは、ビーム電流波形のピークを、励磁電流波形の第1番目のピークに合せた場合を示す。同様に、中断及び下段のグラフはそれぞれ、ビーム電流波形のピークを、励磁電流波形の第2番目及び第3番目のピークに合せた場合を示す。
図5と同じ励磁電流を加えて、励磁電流波形に対するビーム電流波形の位相を変化させて実験した。具体的には、図6に示すように、ビーム電流波形のピークの位置を、減衰する励磁電流波形の第1番目のピークの位置から変化させて実験した。図6の各軸の意味は、図5と同じである。上段のグラフは、ビーム電流波形のピークを、励磁電流波形の第1番目のピークに合せた場合を示す。中断及び下段のグラフはそれぞれ、ビーム電流波形のピークを、励磁電流波形のピークから90度及び180度遅らせた場合を示す。
パータベータに電流を供給するパルス発生器の初期充電電圧を+650Vにし、図7に示すように、ビーム電流波形のピークを、励磁電流波形の第2番目のピークに合せて実験した。その結果、観測されたX線強度を表3に示す。
図8に示すように、ビーム電流幅を広げて、同様に実験を行なった。図8の上段及び下段のグラフはそれぞれ、パータベータへの印加電圧を650V及び600Vに設定した場合を示す。その結果、観測されたX線強度を表4に示す。
Claims (4)
- 外部から入射する荷電粒子を摂動装置によって周回させる蓄積リングに荷電粒子ビームを入射する方法であって、
前記摂動装置に、電流強度がサイン波で変化する電流を連続的に流した状態で、
前記蓄積リングに前記荷電粒子ビームを入射し、
前記摂動装置に前記電流を連続的に流す時間は、前記サイン波の1周期よりも長い時間である、荷電粒子蓄積リングへのビーム入射方法。 - 前記摂動装置に連続的に電流を流す時間は、前記サイン波の周期の2倍以上の時間である、請求項1に記載の荷電粒子蓄積リングへのビーム入射方法。
- 前記サイン波の周期の2倍以上の時間、前記荷電粒子蓄積リングに前記荷電粒子ビームを入射する、請求項2に記載の荷電粒子蓄積リングへのビーム入射方法。
- 外部から入射する荷電粒子を摂動装置によって周回させる蓄積リングと、
前記摂動装置に電流を供給する電源と、
荷電粒子ビーム生成装置とを備え、
前記電源が、前記摂動装置に、電流強度がサイン波で変化する電流を連続的に流した状態で、前記荷電粒子ビーム生成装置が、生成した荷電粒子ビームを前記蓄積リングに入射し、
前記摂動装置に前記電流を連続的に流す時間は、前記サイン波の1周期よりも長い時間である、荷電粒子蓄積システム。
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