JP5692258B2 - Fine bubble generator and bath water heater - Google Patents

Fine bubble generator and bath water heater Download PDF

Info

Publication number
JP5692258B2
JP5692258B2 JP2013042683A JP2013042683A JP5692258B2 JP 5692258 B2 JP5692258 B2 JP 5692258B2 JP 2013042683 A JP2013042683 A JP 2013042683A JP 2013042683 A JP2013042683 A JP 2013042683A JP 5692258 B2 JP5692258 B2 JP 5692258B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid flow
gas
gas introduction
swirl
flow path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013042683A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014168760A (en
Inventor
憲一 逸見
憲一 逸見
史朗 竹内
史朗 竹内
隆志 秦
隆志 秦
悠祐 西内
悠祐 西内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Institute of National Colleges of Technologies Japan
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Institute of National Colleges of Technologies Japan
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp, Institute of National Colleges of Technologies Japan filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2013042683A priority Critical patent/JP5692258B2/en
Publication of JP2014168760A publication Critical patent/JP2014168760A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5692258B2 publication Critical patent/JP5692258B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、導入気体を微細化して液体に混合することにより微細気泡を発生させる微細気泡発生装置およびこれを備えた風呂給湯装置に関する。   The present invention relates to a fine bubble generating device that generates fine bubbles by refining an introduced gas and mixing it with a liquid, and a bath water heater provided with the same.

液中に気体を均一に混合したり、微細気泡を発生したりする装置として、ベンチュリー式、キャビテーション式、加圧溶解式、旋回流式などの装置が知られている。ベンチュリー式は、流路にくびれ部分を設け、該くびれ部分で流速が上がり負圧が形成されることで外部より空気を吸気し、くびれが広がる部分で圧力が上昇するために気泡が微細化される発生原理である。キャビテーション式は、ポンプ内に気液混合体を送り、例えば超音波振動を与えることでキャビテーションを利用して気泡を発生させる。また、加圧溶解式は液体を流れる配管外から導入した外気をコンプレッサ等で加圧して液中に溶解し、減圧開放時に気泡が再析出する方式である。加圧溶解式は、装置が大型化するが、大量の気体を溶解させることが可能である。また、旋回流式では、液体の旋回流を形成し、気体と合一させることで、旋回流により気体がせん断破砕されて微細化される。旋回流式の例として、有機廃液等を旋回させることで有機物分解をする装置や、旋回した水流で空気を破砕した気泡を用いた水浄化装置が知られている。   Venturi-type, cavitation-type, pressure-dissolution-type, swirl-flow-type apparatuses, and the like are known as apparatuses that uniformly mix gas in a liquid or generate fine bubbles. The venturi type has a constricted part in the flow path, the flow rate increases at the constricted part and negative pressure is formed, so that air is sucked in from the outside, and the pressure rises in the part where the constriction spreads, so the bubbles are refined This is the generation principle. In the cavitation type, bubbles are generated using cavitation by feeding a gas-liquid mixture into a pump and applying ultrasonic vibration, for example. The pressure dissolution method is a method in which the outside air introduced from outside the pipe through which the liquid flows is pressurized with a compressor or the like and dissolved in the liquid, and the bubbles reprecipitate when the pressure is released. In the pressure dissolution type, the apparatus becomes large, but a large amount of gas can be dissolved. In the swirl type, a swirl flow of liquid is formed and united with the gas, so that the gas is sheared and pulverized by the swirl flow. As an example of a swirling flow type, a device that decomposes organic matter by swirling organic waste liquid or the like, and a water purification device that uses air bubbles crushed by swirling water flow are known.

有機物分解をする装置や水浄化装置においても、微細かつ多量の気泡を発生することが効果発現の重要要素となる。一般に、多量かつ微細な気泡を低流量で発生させる場合、旋回流式が用いられる。旋回流式には、円錐形状の空間を有する旋回流生成部の底面の接線方向から水流を導入して、円錐形状空間の壁面に沿って旋回させる方式や、水流を翼によって旋回させて旋回流を生成する旋回翼方式がある。旋回流式は、旋回流が流通する配管経路の径を縮径し流速を増大させることで、大気圧との間に圧力差(負圧)が生じ、導入する気体を破砕することで微細気泡を発生させるものである。旋回流式における微細気泡量を向上させる手段としては、次のような手段がある。(1)旋回流の旋回力を向上する。(2)負圧により導入される気体量を増大させる。(3)旋回流と気体との接触面積を増大させる。   Even in a device for decomposing organic matter and a water purification device, the generation of fine and large amount of bubbles is an important factor for manifesting the effect. In general, when a large amount of fine bubbles are generated at a low flow rate, a swirling flow method is used. In the swirling flow method, a water flow is introduced from the tangential direction of the bottom surface of the swirling flow generating section having a conical space, and the water flow is swirled along the wall surface of the conical space, or the swirling flow is swirled by a blade. There is a swirl blade system that generates In the swirling flow type, the diameter of the piping path through which the swirling flow circulates is reduced to increase the flow velocity, so that a pressure difference (negative pressure) is generated with respect to the atmospheric pressure. Is generated. As means for improving the amount of fine bubbles in the swirling flow type, there are the following means. (1) Improve the turning force of the swirling flow. (2) Increase the amount of gas introduced by negative pressure. (3) Increase the contact area between the swirl flow and the gas.

特許文献1には、一端側が壁体で閉口され、他端側が開口している円筒形スペースを有する容器本体と、一端側の壁体に開設された気体導入孔と、円筒形スペースの内壁円周面の一部にその接線方向に開設された加圧液体導入口とからなる微細気泡発生装置が開示されている。   In Patent Literature 1, a container body having a cylindrical space whose one end is closed by a wall and the other end is open, a gas introduction hole formed in the wall on one end, and an inner wall circle of the cylindrical space There is disclosed a fine bubble generating device comprising a pressurized liquid introduction port opened in a tangential direction on a part of a peripheral surface.

特許第4725707号公報Japanese Patent No. 4725707

特許文献1に開示された微細気泡発生装置では、気体導入孔から導入された気体が、円筒形スペース内に形成される旋回流の中心部分のみに接触する構成であり、旋回流と気体の接触面積が小さい。このため、微細気泡の発生量を多くすることが困難である。また、特許文献1に開示された微細気泡発生装置では、加圧液体を加圧液体導入口から円筒形スペースの接線方向に導入することによって円筒形スペース内に旋回流を形成する構成であるため、圧力損失が大きい。   In the microbubble generator disclosed in Patent Document 1, the gas introduced from the gas introduction hole is configured to contact only the central portion of the swirling flow formed in the cylindrical space, and the swirling flow and the gas are in contact with each other. The area is small. For this reason, it is difficult to increase the generation amount of fine bubbles. In addition, the fine bubble generator disclosed in Patent Document 1 is configured to form a swirling flow in the cylindrical space by introducing the pressurized liquid from the pressurized liquid introduction port in the tangential direction of the cylindrical space. The pressure loss is large.

本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、微細気泡の発生量を安定的に増加させることのできる微細気泡発生装置、および当該微細気泡発生装置を備えた風呂給湯装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and a fine bubble generator capable of stably increasing the amount of fine bubbles generated, and a bath water heater provided with the fine bubble generator. The purpose is to provide.

本発明に係る微細気泡発生装置は、液体流路内に旋回液流を生成する旋回液流生成部と、旋回液流の旋回径を縮径させる縮径部と、旋回液流の外周に気体が接触するように液体流路外から旋回液流生成部より液体流路の下流側の位置に気体を取り込む第1の気体導入部と、旋回液流の内周に気体が接触するように液体流路外から旋回液流生成部より液体流路の下流側の位置に気体を取り込む第2の気体導入部と、を備え、旋回液流と、第1の気体導入部から取り込まれた気体と、第2の気体導入部から取り込まれた気体とにより、微細気泡を発生させる。
The fine bubble generating apparatus according to the present invention includes a swirling liquid flow generating section that generates a swirling liquid flow in a liquid flow path, a reduced diameter section that reduces the swirling diameter of the swirling liquid flow, and a gas around the outer periphery of the swirling liquid flow. The first gas introduction part that takes in the gas from the outside of the liquid flow path to the position downstream of the liquid flow path from the outside of the liquid flow path, and the liquid so that the gas contacts the inner periphery of the swirl liquid flow A second gas introduction part that takes in gas from outside the flow path to a position downstream of the liquid flow path from the swirl liquid flow generation part , and the swirl liquid flow and the gas taken in from the first gas introduction part The fine bubbles are generated by the gas taken in from the second gas introduction part.

本発明によれば、旋回液流と気体との接触面積を大きくすることができるので、微細気泡の発生量を安定的に増加させることが可能になる。   According to the present invention, since the contact area between the swirling liquid flow and the gas can be increased, it is possible to stably increase the generation amount of fine bubbles.

本発明の実施の形態1の微細気泡発生装置を示す断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional view) which shows the fine bubble generator of Embodiment 1 of this invention. 図1に示す微細気泡発生装置が備える旋回翼を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the turning blade with which the microbubble generator shown in FIG. 1 is provided. 図1に示す微細気泡発生装置を第1の気体導入部の位置で切断した状態を示す模式的な横断面図である。It is a typical cross-sectional view which shows the state which cut | disconnected the microbubble generator shown in FIG. 1 in the position of the 1st gas introduction part. 図1に示す微細気泡発生装置の変形例を第1の気体導入部の位置で切断した状態を示す模式的な横断面図である。It is a typical cross-sectional view which shows the state which cut | disconnected the modification of the microbubble generator shown in FIG. 1 in the position of the 1st gas introduction part. 図1に示す微細気泡発生装置を第2の気体導入部の位置で切断した状態を示す模式的な横断面図である。It is a typical cross-sectional view which shows the state which cut | disconnected the microbubble generator shown in FIG. 1 in the position of the 2nd gas introduction part. 本発明の実施の形態2の微細気泡発生装置を示す断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional view) which shows the fine bubble generator of Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3の微細気泡発生装置を示す断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional view) which shows the fine bubble generator of Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional drawing) of a part of fine bubble generator of Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional drawing) of a part of fine bubble generator of Embodiment 5 of this invention. 本発明の実施の形態6の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional drawing) of a part of fine bubble generator of Embodiment 6 of this invention. 本発明の実施の形態7の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。It is sectional drawing (longitudinal sectional drawing) of a part of fine bubble generator of Embodiment 7 of this invention. 本発明の微細気泡発生装置を備える風呂給湯装置の実施の形態を示す構成図である。It is a block diagram which shows embodiment of the bath hot-water supply apparatus provided with the microbubble generator of this invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において共通する要素には、同一の符号を付して、重複する説明を省略する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the element which is common in each figure, and the overlapping description is abbreviate | omitted.

実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1の微細気泡発生装置を示す断面図(縦断面図)である。図1に示すように、本実施の形態1の微細気泡発生装置1Aは、旋回翼2と、縮径部3と、第1の気体導入部4と、第2の気体導入部5Aと、気泡生成部6を備えている。微細気泡発生装置1Aは、配管経路等の液体流路の途中に設置される。例えば水などの液体は、図1中の左側から微細気泡発生装置1Aに流入する。
Embodiment 1 FIG.
1 is a cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) showing a fine bubble generating apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. As shown in FIG. 1, the fine bubble generating device 1A according to the first embodiment includes a swirl blade 2, a reduced diameter portion 3, a first gas introduction portion 4, a second gas introduction portion 5A, and bubbles. A generation unit 6 is provided. The microbubble generator 1A is installed in the middle of a liquid flow path such as a piping path. For example, a liquid such as water flows into the fine bubble generating device 1A from the left side in FIG.

図2は、旋回翼2を示す斜視図である。旋回翼2は、液体流路内に旋回液流を生成する旋回液流生成部として機能する。図2に示すように、旋回翼2は、水流などの液流に旋回力を付加する翼7と、翼7を固定する円筒管部8とを備える。翼7は、円弧形状をなす湾曲した構造になっており、翼7の上流側部分は液流に対し略平行方向に配置され、翼7の下流側部分は液流に対し略垂直方向に立ち上がるように配置される。図1に示すように、液流は、旋回翼2の翼7を通過する際に旋回力を付加されることにより、旋回液流SFを形成する。図示の構成では、旋回翼2には、2枚の翼7が設けられているが、翼7の個数は1個または3個以上でも良い。   FIG. 2 is a perspective view showing the swirl vane 2. The swirl vane 2 functions as a swirl liquid flow generator that generates a swirl liquid flow in the liquid flow path. As shown in FIG. 2, the swirl vane 2 includes a vane 7 that applies a swirl force to a liquid flow such as a water flow, and a cylindrical tube portion 8 that fixes the vane 7. The blade 7 has a curved structure having an arc shape. The upstream portion of the blade 7 is arranged in a direction substantially parallel to the liquid flow, and the downstream portion of the blade 7 rises in a direction substantially perpendicular to the liquid flow. Are arranged as follows. As shown in FIG. 1, the liquid flow forms a swirl liquid flow SF by applying a swirl force when passing through the blades 7 of the swirl blade 2. In the illustrated configuration, the swirl vane 2 is provided with two vanes 7, but the number of vanes 7 may be one or three or more.

縮径部3は、旋回翼2により発生させた旋回液流SFの半径を縮小することにより旋回液流SFを高速化する。図1に示すように、縮径部3は、旋回翼2の円筒管部8の下流側に同軸的に設けられている。縮径部3の内部は、下流側に向かって略円錐状に縮径している。   The reduced diameter portion 3 speeds up the swirl liquid flow SF by reducing the radius of the swirl liquid flow SF generated by the swirl vanes 2. As shown in FIG. 1, the reduced diameter portion 3 is provided coaxially on the downstream side of the cylindrical tube portion 8 of the swirl vane 2. The inside of the reduced diameter portion 3 is reduced in a substantially conical shape toward the downstream side.

第1の気体導入部4は、液体流路外の径方向外側から、例えば空気などの気体AR1を取り込み、その気体AR1を縮径部3の下流側の位置に供給する。本実施形態では、第1の気体導入部4は、縮径部3の流出端付近の、最縮径部に気体AR1を供給する。   The first gas introduction unit 4 takes in a gas AR1 such as air from the outside in the radial direction outside the liquid flow path, and supplies the gas AR1 to a position downstream of the reduced diameter unit 3. In the present embodiment, the first gas introduction unit 4 supplies the gas AR <b> 1 to the most reduced diameter part near the outflow end of the reduced diameter part 3.

図3は、図1に示す微細気泡発生装置1Aを第1の気体導入部4の位置で切断した状態を示す模式的な横断面図である。図3に示すように、第1の気体導入部4の出口である気体放出口41は、液体流路の内周面に開口している。第1の気体導入部4内を通って取り込まれた気体AR1は、第1の気体導入部4の気体放出口41から放出されることにより、旋回液流SFの外周に接触する。図3に示す構成例では、旋回液流SFの旋回方向に対して略直交する方向から気体AR1が旋回液流SFに合一するように第1の気体導入部4が形成されている。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the fine bubble generating device 1A shown in FIG. 1 is cut at the position of the first gas introduction part 4. As shown in FIG. As shown in FIG. 3, a gas discharge port 41 that is an outlet of the first gas introduction unit 4 opens on the inner peripheral surface of the liquid flow path. The gas AR1 taken in through the first gas introduction part 4 is discharged from the gas discharge port 41 of the first gas introduction part 4 and thereby contacts the outer periphery of the swirling liquid flow SF. In the configuration example shown in FIG. 3, the first gas introduction part 4 is formed so that the gas AR1 is united with the swirl liquid flow SF from a direction substantially orthogonal to the swirl direction of the swirl liquid flow SF.

図4は、図1に示す微細気泡発生装置1Aの変形例を第1の気体導入部4の位置で切断した状態を示す模式的な横断面図である。第1の気体導入部4は、図3に示す構成例に代えて、図4に示す構成例のようなものでも良い。図4に示す構成例では、旋回液流SFの旋回方向に対して接線方向(旋回方向に対して順方向となる接線方向)から気体AR1が旋回液流SFに合一するように第1の気体導入部4が形成されている。このような構成により、第1の気体導入部4から導入された気体AR1によって旋回液流SFが乱されることを確実に抑制することができるので、旋回液流SFによるせん断力の低下を確実に抑制することができる。その結果、微細気泡をより高い効率で発生させることができる。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the modified example of the fine bubble generating device 1A shown in FIG. 1 is cut at the position of the first gas introduction unit 4. The first gas introduction unit 4 may be the same as the configuration example shown in FIG. 4 instead of the configuration example shown in FIG. 3. In the configuration example shown in FIG. 4, the first gas AR1 is joined to the swirl liquid flow SF from the tangential direction (the tangential direction that is the forward direction with respect to the swirl direction) with respect to the swirl direction of the swirl liquid flow SF. A gas introduction part 4 is formed. With such a configuration, it is possible to reliably suppress the swirl liquid flow SF from being disturbed by the gas AR1 introduced from the first gas introduction unit 4, and thus it is possible to reliably reduce the shear force due to the swirl liquid flow SF. Can be suppressed. As a result, fine bubbles can be generated with higher efficiency.

図1に示すように、第2の気体導入部5Aは、第1の気体導入部4よりも液体流路の下流側に備えられている。第2の気体導入部5Aは、液体流路外の径方向外側から、例えば空気などの気体AR2を取り込み、その気体AR2を旋回液流SFの内周に接触させる。第2の気体導入部5Aは、筒状(または管状)をなしており、その断面形状は例えば円形等が好ましい。第2の気体導入部5Aの一方の端部(先端部)は、旋回液流SFが流通する液体流路の中心部分(中心近傍)に位置し、第2の気体導入部5Aの他方の端部(基端部)は、液体流路外に位置する。気体AR2は、第2の気体導入部5Aの上記他方の端部から吸入され、第2の気体導入部5A内を通り、第2の気体導入部5Aの上記一方の端部に形成された気体放出口51から放出されて、旋回液流SFの内周(中心部分)に接触する。本実施形態における第2の気体導入部5Aの軸方向は、液体流路の軸方向に対して略垂直になっている。   As shown in FIG. 1, the second gas introduction part 5 </ b> A is provided on the downstream side of the liquid flow channel with respect to the first gas introduction part 4. The second gas introduction part 5A takes in the gas AR2 such as air from the outside in the radial direction outside the liquid flow path, and brings the gas AR2 into contact with the inner periphery of the swirling liquid flow SF. The second gas introduction portion 5A has a cylindrical shape (or a tubular shape), and the cross-sectional shape thereof is preferably, for example, a circle. One end (front end) of the second gas introduction part 5A is located at the central part (near the center) of the liquid flow path through which the swirl liquid flow SF flows, and the other end of the second gas introduction part 5A. The part (base end part) is located outside the liquid flow path. The gas AR2 is sucked from the other end portion of the second gas introduction portion 5A, passes through the second gas introduction portion 5A, and is formed at the one end portion of the second gas introduction portion 5A. It is discharged from the discharge port 51 and comes into contact with the inner periphery (center portion) of the swirling liquid flow SF. The axial direction of the second gas introduction part 5A in the present embodiment is substantially perpendicular to the axial direction of the liquid channel.

気泡生成部6は、縮径部3の下流側に同軸的に設けられている。本実施形態では、気泡生成部6は、その内径が、上流側(縮径部3)に向かって略円錐状に縮小する部分を有している。   The bubble generating unit 6 is provided coaxially on the downstream side of the reduced diameter portion 3. In the present embodiment, the bubble generating unit 6 has a portion whose inner diameter decreases in a substantially conical shape toward the upstream side (the reduced diameter portion 3).

次に、図1および図5を参照して、微細気泡発生装置1Aの基本的な動作について説明する。まず、図1に示すように、液体流路内を軸方向に流れる液体が旋回翼2を通過する際に、旋回翼2の作用により、旋回液流SFが発生する。旋回翼2の円筒管部8から流出した旋回液流SFは、縮径部3を通過することにより旋回半径が縮小しつつ、旋回方向の流速が上昇する。この結果、縮径部3と第1の気体導入部4との間には圧力差(負圧)が生じるので、縮径部3の流出端側には、この圧力差により第1の気体導入部4から気体AR1が吸い込まれる。吸い込まれた気体AR1は、旋回液流SFと合一する位置で、旋回液流SFの外周に接触してせん断され、気泡生成部6内に微細気泡を発生させる。   Next, the basic operation of the fine bubble generating device 1A will be described with reference to FIG. 1 and FIG. First, as shown in FIG. 1, when the liquid flowing in the liquid channel in the axial direction passes through the swirl vane 2, a swirl liquid flow SF is generated by the action of the swirl vane 2. The swirl liquid flow SF that has flowed out of the cylindrical tube portion 8 of the swirl vane 2 passes through the diameter-reduced portion 3, and the swirl radius is reduced while the flow velocity in the swirl direction is increased. As a result, a pressure difference (negative pressure) is generated between the reduced diameter portion 3 and the first gas introduction portion 4, so that the first gas introduction is caused on the outflow end side of the reduced diameter portion 3 by this pressure difference. The gas AR1 is sucked from the part 4. The sucked-in gas AR1 is brought into contact with the outer periphery of the swirling liquid flow SF at a position where it is united with the swirling liquid flow SF, and is sheared to generate fine bubbles in the bubble generating unit 6.

図5は、図1に示す微細気泡発生装置1Aを第2の気体導入部5Aの位置で切断した状態を示す模式的な横断面図である。旋回翼2によって生成した旋回液流SFが流通する液体流路の中心近傍は、旋回液流SFの遠心力により、負圧が形成される。第2の気体導入部5Aの先端に形成された気体放出口51が、旋回液流SFが流通する液体流路の中心近傍に位置しているため、この中心近傍の圧力と大気圧との圧力差(負圧)により、第2の気体導入部5Aからは気体AR2が吸引される。このため、図5に示すように、第2の気体導入部5A内を通って導入された気体AR2を、気体放出口51から放出して液体流路の内部に導入し、旋回液流SFの内周に接触させることが可能になる。このようにして導入された気体AR2は、旋回液流SFの内周に接触してせん断され、気泡生成部6内に微細気泡を発生させる。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the microbubble generator 1A shown in FIG. 1 is cut at the position of the second gas introduction part 5A. A negative pressure is formed in the vicinity of the center of the liquid flow path through which the swirl liquid flow SF generated by the swirl vane 2 flows, due to the centrifugal force of the swirl liquid flow SF. Since the gas discharge port 51 formed at the tip of the second gas introduction part 5A is located in the vicinity of the center of the liquid flow path through which the swirling liquid flow SF flows, the pressure between the pressure near the center and the atmospheric pressure. Due to the difference (negative pressure), the gas AR2 is sucked from the second gas introduction part 5A. For this reason, as shown in FIG. 5, the gas AR2 introduced through the second gas introduction part 5A is discharged from the gas discharge port 51 and introduced into the liquid flow path, and the swirling liquid flow SF It is possible to make contact with the inner periphery. The gas AR <b> 2 introduced in this way is brought into contact with the inner periphery of the swirling liquid flow SF and sheared to generate fine bubbles in the bubble generating unit 6.

以上説明したような微細気泡発生装置1Aによれば、旋回液流SFの外周および内周に気体AR1および気体AR2をそれぞれ接触させることができるため、液体(旋回液流SF)と気体との接触面積および接触効率を向上することができる。その結果、微細気泡の発生量を安定して増加させることができる。   According to the fine bubble generating device 1A as described above, the gas AR1 and the gas AR2 can be brought into contact with the outer periphery and the inner periphery of the swirl liquid flow SF, respectively, and therefore the contact between the liquid (swirl liquid flow SF) and the gas. Area and contact efficiency can be improved. As a result, the generation amount of fine bubbles can be stably increased.

ここで、旋回液流と気体とを同じ位置で合一させる複数の吸気口(気体導入部)を備えた構成の場合には、複数の吸気口のうちの一つから導入する気体量が増加すると、他の吸気口から導入される気体量が減少する現象が生じてしまい、微細気泡の生成が不安定になってしまう。これに対し、本実施形態の微細気泡発生装置1Aでは、第1の気体導入部4から取り込まれた気体AR1が液体流路内に放出される位置(気体放出口41)と、第2の気体導入部5Aから取り込まれた気体AR2が液体流路内に放出される位置(気体放出口51)とが、液体流路の軸方向(すなわち旋回液流SFの進行方向)に異なる位置になっている。このため、第1の気体導入部4から導入される気体AR1の量が増加した場合に第2の気体導入部5Aから導入される気体AR2の量が減少する現象が生ずることを抑制することができ、また、その逆に、第2の気体導入部5Aから導入される気体AR2の量が増加した場合に第1の気体導入部4から導入される気体AR1の量が減少する現象が生ずることを抑制することができる。よって、全体としての気体導入量を効率良く増加させることができ、微細気泡の発生量を安定して増加させることが可能になる。   Here, in the case of a configuration provided with a plurality of intake ports (gas introduction portions) that unite the swirling liquid flow and the gas at the same position, the amount of gas introduced from one of the plurality of intake ports increases. As a result, a phenomenon occurs in which the amount of gas introduced from another intake port decreases, and the generation of fine bubbles becomes unstable. On the other hand, in the fine bubble generating device 1A of the present embodiment, the position at which the gas AR1 taken in from the first gas introduction part 4 is discharged into the liquid flow path (gas discharge port 41), and the second gas The position where the gas AR2 taken in from the introduction part 5A is discharged into the liquid flow path (gas discharge port 51) is different from the position in the axial direction of the liquid flow path (that is, the traveling direction of the swirl liquid flow SF). Yes. For this reason, it is possible to suppress a phenomenon in which the amount of the gas AR2 introduced from the second gas introduction unit 5A decreases when the amount of the gas AR1 introduced from the first gas introduction unit 4 increases. On the contrary, when the amount of the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5A increases, a phenomenon occurs in which the amount of the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 decreases. Can be suppressed. Therefore, the gas introduction amount as a whole can be increased efficiently, and the generation amount of fine bubbles can be stably increased.

また、本実施形態の微細気泡発生装置1Aでは、旋回翼2によって旋回液流SFを発生させる構成にしたことにより、液体の圧力損失を低くしつつ、微細気泡を大量に発生させることができる。ただし、本発明では、旋回液流を発生させる旋回液流生成部の構成は、これに限定されるものではなく、例えば、液体流路内に接線方向から液体を流入させ、この液体を液体流路の内周面に沿って旋回させることによって旋回液流を発生させる構成にしてもよい。   Further, in the fine bubble generating apparatus 1A of the present embodiment, the swirl blade 2 generates the swirling liquid flow SF, so that a large amount of fine bubbles can be generated while reducing the pressure loss of the liquid. However, in the present invention, the configuration of the swirling liquid flow generating unit that generates the swirling liquid flow is not limited to this. For example, the liquid is caused to flow into the liquid channel from the tangential direction, and the liquid is allowed to flow. You may make it the structure which generate | occur | produces a turning liquid flow by making it turn along the internal peripheral surface of a path | route.

実施の形態2.
次に、図6を参照して、本発明の実施の形態2について説明するが、上述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分は同一符号を付し説明を省略する。
Embodiment 2. FIG.
Next, the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 6. The description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals. Is omitted.

図6は、本発明の実施の形態2の微細気泡発生装置を示す断面図(縦断面図)である。図6に示すように、本実施の形態2の微細気泡発生装置1Bは、実施の形態1における第2の気体導入部5Aに代えて、第2の気体導入部5Bを備えている。第2の気体導入部5Bは、旋回翼2の上流側の近傍に設置されている。第2の気体導入部5Bは、筒状(または管状)をなしており、先端に気体放出口51を有している。第2の気体導入部5Bの断面形状は例えば円形等が好ましい。また、第2の気体導入部5Bは、その先端側の部分が液体流路の軸方向に対して略平行になり、気体放出口51が液体流路の下流側に向くように、曲がった形状になっている。第2の気体導入部5Bの基端側には、ポンプあるいは圧力タンク等の給気手段(図示省略)が設けられており、この給気手段により供給される気体AR2が第2の気体導入部5B内を通り気体放出口51から放出される。気体放出口51から放出された気体AR2は、液流の中心部分に位置する状態になる。このようにして中心部分に気体AR2を含む液流が旋回翼2を通過して旋回液流SFを形成することにより、旋回液流SFの内周に気体AR2が接触する。   FIG. 6 is a cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) showing the fine bubble generating apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. As shown in FIG. 6, the fine bubble generating device 1B according to the second embodiment includes a second gas introduction unit 5B instead of the second gas introduction unit 5A according to the first embodiment. The second gas introduction part 5 </ b> B is installed in the vicinity of the upstream side of the swirl vane 2. The second gas introduction part 5B has a cylindrical shape (or a tubular shape) and has a gas discharge port 51 at the tip. The cross-sectional shape of the second gas introduction part 5B is preferably, for example, circular. Further, the second gas introduction part 5B has a bent shape so that the tip side portion thereof is substantially parallel to the axial direction of the liquid channel and the gas discharge port 51 faces the downstream side of the liquid channel. It has become. An air supply means (not shown) such as a pump or a pressure tank is provided on the base end side of the second gas introduction part 5B, and the gas AR2 supplied by this air supply means is the second gas introduction part. The gas is discharged from the gas discharge port 51 through 5B. The gas AR2 discharged from the gas discharge port 51 is in a state located at the center of the liquid flow. In this way, the liquid flow containing the gas AR2 in the central portion passes through the swirl vane 2 to form the swirl liquid flow SF, so that the gas AR2 contacts the inner periphery of the swirl liquid flow SF.

本実施の形態2の微細気泡発生装置1Bによれば、旋回液流SFの外周および内周に気体AR1および気体AR2をそれぞれ接触させることができるため、実施の形態1と同様に、液体と気体との接触面積および接触効率を向上することができる。その結果、微細気泡の発生量を安定して増加させることができる。また、本実施の形態2の微細気泡発生装置1Bでは、第2の気体導入部5Bの先端側の部分が液体流路の軸方向に対して略平行になるように第2の気体導入部5Bが曲がった形状をなしていることにより、気体放出口51から放出される気体AR2によって液流が乱されることを確実に抑制することができる。このため、微細気泡をより高い効率で発生させることができる。特に、本実施の形態2の微細気泡発生装置1Bでは、気体放出口51が液体流路の下流側に向いているため、気体放出口51から気体AR2を液流の進行方向に対して順方向に放出することができる。このため、気体放出口51から放出される気体AR2によって液流が乱されることをより確実に抑制することができる。   According to the fine bubble generating device 1B of the second embodiment, the gas AR1 and the gas AR2 can be brought into contact with the outer periphery and the inner periphery of the swirling liquid flow SF, respectively, so that the liquid and the gas are the same as in the first embodiment. It is possible to improve the contact area and the contact efficiency. As a result, the generation amount of fine bubbles can be stably increased. Further, in the fine bubble generating device 1B of the second embodiment, the second gas introduction unit 5B is arranged such that the tip side portion of the second gas introduction unit 5B is substantially parallel to the axial direction of the liquid flow path. Is bent, it is possible to reliably prevent the liquid flow from being disturbed by the gas AR2 discharged from the gas discharge port 51. For this reason, fine bubbles can be generated with higher efficiency. In particular, in the fine bubble generating device 1B of the second embodiment, since the gas discharge port 51 faces the downstream side of the liquid flow path, the gas AR2 is forwarded from the gas discharge port 51 to the forward direction of the liquid flow. Can be released. For this reason, it can suppress more reliably that a liquid flow is disturbed by gas AR2 discharge | released from the gas discharge port 51. FIG.

実施の形態3.
次に、図7を参照して、本発明の実施の形態3について説明するが、上述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分は同一符号を付し説明を省略する。
Embodiment 3 FIG.
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7. The description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals. Is omitted.

図7は、本発明の実施の形態3の微細気泡発生装置を示す断面図(縦断面図)である。図7に示すように、本実施の形態3の微細気泡発生装置1Cは、実施の形態1における第2の気体導入部5Aに代えて、第2の気体導入部5Cを備えている。第2の気体導入部5Cは、第1の気体導入部4よりも液体流路の下流側に備えられている。第2の気体導入部5Cは、筒状(または管状)をなしており、その断面形状は例えば円形等が好ましい。第2の気体導入部5Cは、液体流路内を、液体流路の軸方向に略垂直な方向に伸びるように配置されている。第2の気体導入部5Cの一方の端部は、液体流路の内壁に接触または固定されている。第2の気体導入部5Cの側壁には、気体放出口51が形成されている。気体放出口51は、液体流路の中心部分(中心近傍)に位置している。気体放出口51の形状は、特に限定されないが、円形であることが好ましい。図示の構成では、気体放出口51は、液体流路の上流側に向いているが、下流側に向いていても良い。気体放出口51は、旋回液流SFの中心近傍に位置するため、この位置に生ずる負圧により、第2の気体導入部5C内に外部から気体AR2が吸引される。第2の気体導入部5C内を通って導入された気体AR2は、気体放出口51から液体流路の内部に放出され、旋回液流SFの内周に接触する。このようにして導入された気体AR2は、旋回液流SFの内周に接触してせん断され、微細気泡を発生させる。   FIG. 7 is a cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) showing the microbubble generator of Embodiment 3 of the present invention. As shown in FIG. 7, the fine bubble generating device 1C of the third embodiment includes a second gas introduction unit 5C instead of the second gas introduction unit 5A in the first embodiment. The second gas introduction part 5 </ b> C is provided on the downstream side of the liquid flow channel with respect to the first gas introduction part 4. The second gas introduction portion 5C has a cylindrical shape (or a tubular shape), and the cross-sectional shape thereof is preferably, for example, a circle. The second gas introduction part 5C is disposed so as to extend in the liquid channel in a direction substantially perpendicular to the axial direction of the liquid channel. One end of the second gas introduction part 5C is in contact with or fixed to the inner wall of the liquid flow path. A gas discharge port 51 is formed on the side wall of the second gas introduction part 5C. The gas discharge port 51 is located in the central portion (near the center) of the liquid flow path. The shape of the gas discharge port 51 is not particularly limited, but is preferably circular. In the illustrated configuration, the gas discharge port 51 faces the upstream side of the liquid channel, but may face the downstream side. Since the gas discharge port 51 is located in the vicinity of the center of the swirling liquid flow SF, the gas AR2 is sucked from the outside into the second gas introduction part 5C by the negative pressure generated at this position. The gas AR2 introduced through the second gas introduction part 5C is discharged from the gas discharge port 51 into the liquid flow path, and contacts the inner periphery of the swirling liquid flow SF. The gas AR2 thus introduced comes into contact with the inner periphery of the swirling liquid flow SF and is sheared to generate fine bubbles.

本実施の形態3の微細気泡発生装置1Cによれば、旋回液流SFの外周および内周に気体AR1および気体AR2をそれぞれ接触させることができるため、実施の形態1と同様に、液体と気体との接触面積および接触効率を向上することができる。その結果、微細気泡の発生量を安定して増加させることができる。また、気体放出口51が液体流路の軸方向に向いていることにより、気体放出口51から放出される気体AR2によって旋回液流SFが乱されることを確実に抑制することができる。このため、旋回液流SFによるせん断力の低下を確実に抑制することができ、微細気泡をより高い効率で発生させることができる。特に、本実施の形態3の微細気泡発生装置1Cでは、第2の気体導入部5Cの側壁に気体放出口51を形成したことにより、第2の気体導入部5Cを曲がった形状にすることなく、気体放出口51を液体流路の軸方向に向けることができる。   According to the fine bubble generating device 1C of the third embodiment, the gas AR1 and the gas AR2 can be brought into contact with the outer periphery and the inner periphery of the swirling liquid flow SF, respectively. It is possible to improve the contact area and the contact efficiency. As a result, the generation amount of fine bubbles can be stably increased. Further, since the gas discharge port 51 is directed in the axial direction of the liquid flow path, the swirling liquid flow SF can be reliably prevented from being disturbed by the gas AR2 discharged from the gas discharge port 51. For this reason, the fall of the shear force by the swirl liquid flow SF can be suppressed reliably, and fine bubbles can be generated with higher efficiency. In particular, in the fine bubble generating device 1C of the third embodiment, the gas discharge port 51 is formed on the side wall of the second gas introduction part 5C, so that the second gas introduction part 5C is not bent. The gas discharge port 51 can be directed in the axial direction of the liquid flow path.

旋回翼2によって生成した旋回液流SFは、第1の気体導入部4から導入された気体AR1および第2の気体導入部5Cから導入された気体AR2をせん断することにより、微細気泡を発生させる。本実施の形態3の微細気泡発生装置1Cによれば、気泡生成部6にて生成した微細気泡は、旋回液流SFと共に下流へ流通し、第2の気体導入部5Cの外壁に接触する。第2の気体導入部5Cに微細気泡が接触することで、旋回液流SFのせん断時に生成した微細気泡のうち、比較的径の大きい気泡が再破砕し、より径の小さい微細気泡に細分化される。本実施の形態3では、このような構造により、第1の気体導入部4から導入された気体AR1あるいは第2の気体導入部5Cから導入された気体AR2が旋回液流SFによってせん断されるときにせん断が不十分であった気泡を再破砕することで、微細気泡量を増大させることが可能になる。特に、本実施形態では、気体放出口51が液体流路の上流側を向いていることにより、気体放出口51から放出された気体AR2が旋回液流SFによってせん断されるときにせん断が不十分であった気泡を、第2の気体導入部5Cの外壁に接触させて再破砕することができる。   The swirl liquid flow SF generated by the swirl vanes 2 generates fine bubbles by shearing the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 and the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5C. . According to the fine bubble generating device 1C of the third embodiment, the fine bubbles generated in the bubble generation unit 6 circulate downstream together with the swirl liquid flow SF and contact the outer wall of the second gas introduction unit 5C. When the fine bubbles come into contact with the second gas introduction part 5C, among the fine bubbles generated during the shearing of the swirling liquid flow SF, the relatively large-sized bubbles are crushed again and subdivided into smaller-sized fine bubbles. Is done. In the third embodiment, when the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 or the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5C is sheared by the swirling liquid flow SF by such a structure. It is possible to increase the amount of fine bubbles by re-crushing the bubbles that were insufficiently sheared. In particular, in the present embodiment, since the gas discharge port 51 faces the upstream side of the liquid flow path, the shearing is insufficient when the gas AR2 discharged from the gas discharge port 51 is sheared by the swirling liquid flow SF. The bubbles that have been in contact with the outer wall of the second gas introduction part 5C can be crushed again.

実施の形態4.
次に、図8を参照して、本発明の実施の形態4について説明するが、上述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分は同一符号を付し説明を省略する。
Embodiment 4 FIG.
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 8. The description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals. Is omitted.

図8は、本発明の実施の形態4の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。本実施の形態4の微細気泡発生装置は、実施の形態1の第2の気体導入部5Aに代えて、図8に示す第2の気体導入部5Dを備えていること以外は、実施の形態1と同様である。   FIG. 8 is a partial cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) of the fine bubble generating apparatus according to Embodiment 4 of the present invention. The fine bubble generating device of the fourth embodiment is different from the second gas introducing portion 5A of the first embodiment except that it includes a second gas introducing portion 5D shown in FIG. Same as 1.

第2の気体導入部5Dは、旋回液流生成部(旋回翼2)より液体流路の下流側に配置されている。第2の気体導入部5Dは、筒状(または管状)をなしており、その断面形状は例えば円形等が好ましい。第2の気体導入部5Dは、その先端側の部分53が液体流路の軸方向に対して略平行になるように、液体流路の上流側の方向に曲がった形状になっている。第2の気体導入部5Dの先端部分は、複数(図示の構成では2本)に分岐しており、その分岐した枝54ごとに気体放出口51が形成されている。第2の気体導入部5Dから導入される気体AR2は、各枝54に分岐し、各枝54の先端の気体放出口51からそれぞれ放出される。   The second gas introduction unit 5D is disposed on the downstream side of the liquid flow path from the swirl liquid flow generation unit (swirl blade 2). The second gas introduction part 5D has a cylindrical shape (or a tubular shape), and the cross-sectional shape thereof is preferably, for example, a circle. The second gas introduction part 5D has a shape bent in the upstream direction of the liquid flow path so that the portion 53 on the tip side is substantially parallel to the axial direction of the liquid flow path. The distal end portion of the second gas introduction portion 5D is branched into a plurality (two in the illustrated configuration), and a gas discharge port 51 is formed for each branched branch 54. The gas AR <b> 2 introduced from the second gas introduction part 5 </ b> D branches into each branch 54 and is discharged from the gas discharge port 51 at the tip of each branch 54.

本実施の形態4の微細気泡発生装置によれば、旋回液流SFの外周および内周に気体AR1および気体AR2をそれぞれ接触させることができるため、実施の形態1と同様に、液体と気体との接触面積および接触効率を向上することができる。その結果、微細気泡の発生量を安定して増加させることができる。また、本実施の形態4の微細気泡発生装置では、第2の気体導入部5Dの先端側の部分53が液体流路の軸方向に対して略平行になるように第2の気体導入部5Dが曲がった形状をなしていることにより、気体放出口51から放出される気体AR2によって旋回液流SFが乱されることを確実に抑制することができる。このため、旋回液流SFによるせん断力の低下を確実に抑制することができ、微細気泡をより高い効率で発生させることができる。また、本実施の形態4の微細気泡発生装置によれば、第2の気体導入部5Dの先端部分を複数の枝54に分岐させ、各枝54の気体放出口51から気体AR2をそれぞれ放出することにより、旋回液流SFの内周全体に気体AR2を接触させることができる。このため、旋回液流SFの内周と気体AR2との接触面を更に増大させることができるので、微細気泡の発生量を更に増加させることが可能になる。   According to the fine bubble generating device of the fourth embodiment, the gas AR1 and the gas AR2 can be brought into contact with the outer periphery and the inner periphery of the swirling liquid flow SF, respectively. The contact area and the contact efficiency can be improved. As a result, the generation amount of fine bubbles can be stably increased. Further, in the fine bubble generating device of the fourth embodiment, the second gas introduction part 5D is arranged such that the tip side portion 53 of the second gas introduction part 5D is substantially parallel to the axial direction of the liquid flow path. Since the curved shape is bent, the swirling liquid flow SF can be reliably prevented from being disturbed by the gas AR2 discharged from the gas discharge port 51. For this reason, the fall of the shear force by the swirl liquid flow SF can be suppressed reliably, and fine bubbles can be generated with higher efficiency. Further, according to the fine bubble generating device of the fourth embodiment, the tip portion of the second gas introduction part 5D is branched into the plurality of branches 54, and the gas AR2 is discharged from the gas discharge ports 51 of the branches 54, respectively. Thus, the gas AR2 can be brought into contact with the entire inner periphery of the swirling liquid flow SF. For this reason, since the contact surface of the inner periphery of the swirling liquid flow SF and the gas AR2 can be further increased, the generation amount of fine bubbles can be further increased.

実施の形態5.
次に、図9を参照して、本発明の実施の形態5について説明するが、上述した実施の形態4との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分は同一符号を付し説明を省略する。
Embodiment 5 FIG.
Next, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 9. The description will focus on the differences from the fourth embodiment described above, and the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals. Is omitted.

図9は、本発明の実施の形態5の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。本実施の形態5の微細気泡発生装置は、気泡破砕部11を備えていること以外は、実施の形態4と同様である。   FIG. 9 is a partial cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) of the microbubble generator of Embodiment 5 of the present invention. The fine bubble generator of the fifth embodiment is the same as that of the fourth embodiment except that the bubble crushing unit 11 is provided.

図9に示すように、気泡破砕部11は、液体流路の内壁から液体流路の内部に向かって突出する突出部で構成されている。気泡破砕部11の形状は、特に限定されないが、例えば円柱形等が好ましい。気泡破砕部11は、第1の気体導入部4の気体放出口41および第2の気体導入部5Dの気体放出口51よりも液体流路の下流側に配置される。図9に示す構成では、気泡破砕部11は、液体流路の軸方向の位置が、第2の気体導入部5Dの屈曲部分とほぼ同じ位置になるように配置されている。   As shown in FIG. 9, the bubble crushing part 11 is comprised by the protrusion part which protrudes toward the inside of a liquid flow path from the inner wall of a liquid flow path. Although the shape of the bubble crushing part 11 is not specifically limited, For example, a cylindrical shape etc. are preferable. The bubble crushing unit 11 is disposed on the downstream side of the liquid flow path from the gas discharge port 41 of the first gas introduction unit 4 and the gas discharge port 51 of the second gas introduction unit 5D. In the configuration shown in FIG. 9, the bubble crushing part 11 is arranged so that the axial position of the liquid flow path is substantially the same as the bent part of the second gas introduction part 5D.

本実施の形態5によれば、実施の形態4と同様の効果に加えて、次のような効果が得られる。すなわち、第1の気体導入部4から導入された気体AR1および第2の気体導入部5Dから導入された気体AR2が旋回液流SFによってせん断されて生成した微細気泡が、旋回液流SFと共に下流へ流れ、気泡破砕部11に接触する。これにより、旋回液流SFによるせん断時に生成した微細気泡のうち、比較的径の大きい気泡が再破砕し、より径の小さい微細気泡に細分化される。このようにして、本実施の形態5によれば、第1の気体導入部4から導入された気体AR1および第2の気体導入部5Dから導入された気体AR2が旋回液流SFによってせん断される際のせん断が不十分であった気泡を、気泡破砕部11で再破砕することができるため、微細気泡量を更に増大させることが可能になる。   According to the fifth embodiment, in addition to the same effects as in the fourth embodiment, the following effects can be obtained. In other words, the fine bubbles generated by shearing the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 and the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5D by the swirl liquid flow SF together with the swirl liquid flow SF are downstream. To the bubble crushing portion 11. Thereby, among the fine bubbles generated at the time of shearing by the swirl liquid flow SF, the bubbles having a relatively large diameter are re-crushed and subdivided into fine bubbles having a smaller diameter. Thus, according to the fifth embodiment, the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 and the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5D are sheared by the swirling liquid flow SF. Since the bubbles that have been insufficiently sheared can be crushed again by the bubble crushing portion 11, the amount of fine bubbles can be further increased.

実施の形態6.
次に、図10を参照して、本発明の実施の形態6について説明するが、上述した実施の形態1との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分は同一符号を付し説明を省略する。
Embodiment 6 FIG.
Next, the sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 10. The description will focus on the differences from the first embodiment described above, and the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals. Is omitted.

図10は、本発明の実施の形態6の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。本実施の形態6の微細気泡発生装置は、実施の形態1の第2の気体導入部5Aに代えて、図10に示す第2の気体導入部5Eを備えていること以外は、実施の形態1と同様である。   FIG. 10 is a partial cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) of the microbubble generator according to Embodiment 6 of the present invention. The fine bubble generating apparatus of the sixth embodiment is the same as that of the first embodiment except that the second gas introducing section 5E shown in FIG. 10 is provided instead of the second gas introducing section 5A of the first embodiment. Same as 1.

第2の気体導入部5Eは、旋回液流生成部(旋回翼2)より液体流路の下流側に配置されている。第2の気体導入部5Eは、筒状(または管状)をなしており、その断面形状は例えば円形等が好ましい。第2の気体導入部5Eは、その先端側の部分55が液体流路の軸方向に対して略平行になるように、液体流路の下流側の方向に曲がった形状になっている。第2の気体導入部5Eの先端部分は、複数(図示の構成では2本)に分岐しており、その分岐した枝56ごとに気体放出口51が形成されている。第2の気体導入部5Eから導入される気体AR2は、各枝56に分岐し、各枝56の先端の気体放出口51からそれぞれ放出される。   The second gas introduction part 5E is arranged on the downstream side of the liquid flow path from the swirl liquid flow generation part (swirl blade 2). The second gas introduction part 5E has a cylindrical shape (or a tubular shape), and the cross-sectional shape thereof is preferably, for example, a circle. The second gas introduction part 5E has a shape bent in the downstream direction of the liquid flow path so that the portion 55 on the tip side is substantially parallel to the axial direction of the liquid flow path. The distal end portion of the second gas introduction portion 5E is branched into a plurality (two in the illustrated configuration), and a gas discharge port 51 is formed for each branched branch 56. The gas AR <b> 2 introduced from the second gas introduction part 5 </ b> E branches into each branch 56 and is discharged from the gas discharge port 51 at the tip of each branch 56.

本実施の形態6の微細気泡発生装置によれば、旋回液流SFの外周および内周に気体AR1および気体AR2をそれぞれ接触させることができるため、実施の形態1と同様に、液体と気体との接触面積および接触効率を向上することができる。その結果、微細気泡の発生量を安定して増加させることができる。また、本実施の形態6の微細気泡発生装置では、第2の気体導入部5Eの先端側の部分55が液体流路の軸方向に対して略平行になるように第2の気体導入部5Eが曲がった形状をなしていることにより、気体放出口51から放出される気体AR2によって旋回液流SFが乱されることを確実に抑制することができる。このため、旋回液流SFによるせん断力の低下を確実に抑制することができ、微細気泡をより高い効率で発生させることができる。また、本実施の形態6の微細気泡発生装置によれば、第2の気体導入部5Eの先端部分を複数の枝56に分岐させ、各枝56の気体放出口51から気体AR2をそれぞれ放出することにより、旋回液流SFの内周全体に気体AR2を接触させることができる。このため、旋回液流SFの内周と気体AR2との接触面を更に増大させることができるので、微細気泡の発生量を更に増加させることが可能になる。更に、本実施の形態6では、第2の気体導入部5Eの先端側の部分55が液体流路の下流側の方向に曲がっており、気体放出口51が液体流路の下流側に向いているため、気体放出口51から気体AR2を旋回液流SFの進行方向に対して順方向に放出することができる。このため、旋回液流SFを乱すことなく気体AR2を旋回液流SFの内周に接触させることができるので、旋回液流SFによるせん断力の低下をより確実に抑制することができる。その結果、微細気泡の発生量を更に増加することが可能になる。   According to the fine bubble generating device of the sixth embodiment, the gas AR1 and the gas AR2 can be brought into contact with the outer periphery and the inner periphery of the swirling liquid flow SF, respectively. The contact area and the contact efficiency can be improved. As a result, the generation amount of fine bubbles can be stably increased. In the fine bubble generating device of the sixth embodiment, the second gas introduction part 5E is arranged so that the tip 55 of the second gas introduction part 5E is substantially parallel to the axial direction of the liquid flow path. Since the curved shape is bent, the swirling liquid flow SF can be reliably prevented from being disturbed by the gas AR2 discharged from the gas discharge port 51. For this reason, the fall of the shear force by the swirl liquid flow SF can be suppressed reliably, and fine bubbles can be generated with higher efficiency. Further, according to the fine bubble generating device of the sixth embodiment, the distal end portion of the second gas introduction part 5E is branched into the plurality of branches 56, and the gas AR2 is discharged from the gas discharge ports 51 of each branch 56, respectively. Thus, the gas AR2 can be brought into contact with the entire inner periphery of the swirling liquid flow SF. For this reason, since the contact surface of the inner periphery of the swirling liquid flow SF and the gas AR2 can be further increased, the generation amount of fine bubbles can be further increased. Furthermore, in the sixth embodiment, the tip 55 of the second gas introduction part 5E is bent in the downstream direction of the liquid flow path, and the gas discharge port 51 faces the downstream side of the liquid flow path. Therefore, the gas AR2 can be discharged from the gas discharge port 51 in the forward direction with respect to the traveling direction of the swirl liquid flow SF. For this reason, since the gas AR2 can be brought into contact with the inner periphery of the swirl liquid flow SF without disturbing the swirl liquid flow SF, a decrease in shearing force due to the swirl liquid flow SF can be more reliably suppressed. As a result, it is possible to further increase the generation amount of fine bubbles.

実施の形態7.
次に、図11を参照して、本発明の実施の形態7について説明するが、上述した実施の形態6との相違点を中心に説明し、同一部分または相当部分は同一符号を付し説明を省略する。
Embodiment 7 FIG.
Next, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 11. The description will focus on the differences from the sixth embodiment described above, and the same or corresponding parts will be denoted by the same reference numerals. Is omitted.

図11は、本発明の実施の形態7の微細気泡発生装置の一部分の断面図(縦断面図)である。本実施の形態7の微細気泡発生装置は、気泡破砕部11を備えていること以外は、実施の形態6と同様である。   FIG. 11 is a partial cross-sectional view (longitudinal cross-sectional view) of the fine bubble generating apparatus according to Embodiment 7 of the present invention. The fine bubble generator of the seventh embodiment is the same as that of the sixth embodiment except that the bubble crushing unit 11 is provided.

図11に示すように、気泡破砕部11は、液体流路の内壁から液体流路の内部に向かって突出する突出部で構成されている。気泡破砕部11の形状は、特に限定されないが、例えば円柱形等が好ましい。気泡破砕部11は、第1の気体導入部4の気体放出口41および第2の気体導入部5Eの気体放出口51よりも液体流路の下流側に配置される。   As shown in FIG. 11, the bubble crushing part 11 is configured by a protruding part that protrudes from the inner wall of the liquid channel toward the inside of the liquid channel. Although the shape of the bubble crushing part 11 is not specifically limited, For example, a cylindrical shape etc. are preferable. The bubble crushing unit 11 is disposed on the downstream side of the liquid flow path from the gas discharge port 41 of the first gas introduction unit 4 and the gas discharge port 51 of the second gas introduction unit 5E.

本実施の形態7によれば、実施の形態6と同様の効果に加えて、次のような効果が得られる。すなわち、第1の気体導入部4から導入された気体AR1および第2の気体導入部5Eから導入された気体AR2が旋回液流SFによってせん断されて生成した微細気泡が、旋回液流SFと共に下流へ流れ、気泡破砕部11に接触する。これにより、旋回液流SFによるせん断時に生成した微細気泡のうち、比較的径の大きい気泡が再破砕し、より径の小さい微細気泡に細分化される。このようにして、本実施の形態7によれば、第1の気体導入部4から導入された気体AR1および第2の気体導入部5Eから導入された気体AR2が旋回液流SFによってせん断される際のせん断が不十分であった気泡を、気泡破砕部11で再破砕することができるため、微細気泡量を更に増大させることが可能になる。   According to the seventh embodiment, in addition to the same effects as in the sixth embodiment, the following effects can be obtained. That is, the fine bubbles generated by shearing the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 and the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5E by the swirl liquid flow SF are downstream together with the swirl liquid flow SF. To the bubble crushing portion 11. Thereby, among the fine bubbles generated at the time of shearing by the swirl liquid flow SF, the bubbles having a relatively large diameter are re-crushed and subdivided into fine bubbles having a smaller diameter. Thus, according to the seventh embodiment, the gas AR1 introduced from the first gas introduction part 4 and the gas AR2 introduced from the second gas introduction part 5E are sheared by the swirling liquid flow SF. Since the bubbles that have been insufficiently sheared can be crushed again by the bubble crushing portion 11, the amount of fine bubbles can be further increased.

以上、本発明の微細気泡発生装置の実施の形態について説明したが、本発明の微細気泡発生装置では、上述した複数の実施の形態の特徴を任意の組み合わせで組み合わせて実施しても良い。   As mentioned above, although embodiment of the microbubble generator of this invention was described, in the microbubble generator of this invention, you may implement combining the characteristic of several embodiment mentioned above by arbitrary combinations.

実施の形態8.
次に、図12を参照して、本発明の微細気泡発生装置を備える風呂給湯装置の実施の形態について説明する。図12に示すように、本実施形態の風呂給湯装置150は、熱源機としてのヒートポンプユニット110と、タンクユニット120とを備えている。ヒートポンプユニット110は、圧縮機111と、沸き上げ用熱交換器112と、膨張弁113と、蒸発器114と、これらを環状に接続する循環配管115とによって構成された冷凍サイクル部117を有している。冷凍サイクル部117では、二酸化炭素等の冷媒が圧縮機111で圧縮されて高温、高圧となった後に沸き上げ用熱交換器112で放熱し、膨張弁113で減圧され、蒸発器114で吸熱してガス状態となって圧縮機111に吸入される。
Embodiment 8 FIG.
Next, with reference to FIG. 12, an embodiment of a bath water heater provided with the fine bubble generator of the present invention will be described. As shown in FIG. 12, the bath water heater 150 of the present embodiment includes a heat pump unit 110 as a heat source unit and a tank unit 120. The heat pump unit 110 has a refrigeration cycle unit 117 configured by a compressor 111, a boiling heat exchanger 112, an expansion valve 113, an evaporator 114, and a circulation pipe 115 that connects these in an annular shape. ing. In the refrigeration cycle unit 117, a refrigerant such as carbon dioxide is compressed by the compressor 111 to become high temperature and high pressure, and then radiated by the heating heat exchanger 112, depressurized by the expansion valve 113, and absorbed by the evaporator 114. Then, the gas becomes a gas state and is sucked into the compressor 111.

一方、タンクユニット120は、貯湯タンク20、給水管路30、貯湯用循環管路40、タンク側循環管路50、風呂側循環管路60、追焚き用熱交換器70、第1給湯管路75、風呂側湯水混合弁80a、一般側湯水混合弁80b、第2給湯管路90、第3給湯管路95等を有している。   On the other hand, the tank unit 120 includes a hot water storage tank 20, a water supply line 30, a hot water circulation line 40, a tank side circulation line 50, a bath side circulation line 60, a reheating heat exchanger 70, and a first hot water supply line. 75, a bath-side hot / cold water mixing valve 80a, a general hot-water / water mixing valve 80b, a second hot-water supply line 90, a third hot-water supply line 95, and the like.

貯湯タンク20は、給水管路30から供給される水を貯留すると共にヒートポンプユニット110で沸き上げられた湯を貯留する積層式のタンクである。この貯湯タンク20の下部には、給水管路30が接続される水導入口20aと、貯湯用循環管路40の往き管40aが接続される水導出口20bとが設けられている。貯湯タンク20の上部には、貯湯用循環管路40の戻り管40bが接続される温水導入口20cと、第1給湯管路75が接続される温水導出口20dとが設けられている。貯湯タンク20は、給水管路30からの給水により常に満水状態に保たれる。   The hot water storage tank 20 is a stacked tank that stores water supplied from the water supply pipe 30 and stores hot water boiled by the heat pump unit 110. In the lower part of the hot water storage tank 20, a water inlet 20 a to which the water supply pipe 30 is connected and a water outlet 20 b to which the forward pipe 40 a of the hot water circulation pipe 40 is connected are provided. At the upper part of the hot water storage tank 20, a hot water inlet 20 c to which the return pipe 40 b of the hot water circulation pipe 40 is connected and a hot water outlet 20 d to which the first hot water supply pipe 75 is connected are provided. The hot water storage tank 20 is always kept in a full state by supplying water from the water supply pipe 30.

給水管路30は、市水等の水を貯湯タンク20、風呂側湯水混合弁80a、一般側湯水混合弁80b、および一般給湯先180に供給する管路であり、減圧弁25と第1〜第3給水管部30a〜30cとを有している。減圧弁25は、第1給水管部30aの途中に設けられて、水道等の水源からの水圧を所定値に減じる。第1給水管部30aは、水源と貯湯タンク20の水導入口20aとを繋ぎ、第2給水管部30bは、減圧弁25で第1給水管部30aから分岐して該第1給水管部30aと風呂側湯水混合弁80a、一般側湯水混合弁80bとを繋ぎ、第3給水管部30cは、減圧弁25の上流側で第1給水管部30aから分岐して該第1給水管部30aと一般給湯先180とを繋ぐ。一般給湯先180とは、使用者が手で直接操作して開栓する(センサを感応させて開栓する場合を含む)給湯先であり、例えば、洗面台や流し台の蛇口、浴室のシャワー等である。   The water supply line 30 is a line for supplying water such as city water to the hot water storage tank 20, the bath-side hot / cold water mixing valve 80 a, the general hot water / water mixing valve 80 b, and the general hot water supply destination 180. It has 3rd water supply pipe parts 30a-30c. The pressure reducing valve 25 is provided in the middle of the first water supply pipe section 30a, and reduces the water pressure from a water source such as a water supply to a predetermined value. The 1st water supply pipe part 30a connects the water source and the water inlet 20a of the hot water storage tank 20, and the 2nd water supply pipe part 30b branches from the 1st water supply pipe part 30a with the pressure-reduction valve 25, and this 1st water supply pipe part 30a is connected to the bath-side hot / cold water mixing valve 80a and the general-side hot / cold water mixing valve 80b, and the third water supply pipe 30c is branched from the first water supply pipe 30a upstream of the pressure reducing valve 25. 30a and general hot water supply destination 180 are connected. The general hot water supply 180 is a hot water supply that a user operates directly by hand (including the case where the sensor is opened in response to a sensor), for example, a sink, a sink faucet, a bathroom shower, etc. It is.

貯湯用循環管路40は、貯湯タンク20下部の水導出口20bからヒートポンプユニット110の沸き上げ用熱交換器112を経由して貯湯タンク20上部の温水導入口20cに達する管路であり、貯湯用送水ポンプ33および電動式の三方弁35が設けられた往き管40aと、戻り管40bと、三方弁35で往き管40aから分岐したバイパス管40cとを有している。上記の往き管40aは水導出口20bと沸き上げ用熱交換器112とを繋ぎ、戻り管40bは沸き上げ用熱交換器112と温水導入口20cとを繋ぎ、バイパス管40cは三方弁35と戻り管40bとを繋ぐ。   The hot water storage circulation line 40 is a pipe that reaches from the water outlet 20b at the lower part of the hot water tank 20 to the hot water inlet 20c at the upper part of the hot water tank 20 via the heating heat exchanger 112 of the heat pump unit 110. It has a forward pipe 40a provided with a water supply pump 33 and an electric three-way valve 35, a return pipe 40b, and a bypass pipe 40c branched from the forward pipe 40a by the three-way valve 35. The forward pipe 40a connects the water outlet 20b and the boiling heat exchanger 112, the return pipe 40b connects the boiling heat exchanger 112 and the hot water inlet 20c, and the bypass pipe 40c is connected to the three-way valve 35. The return pipe 40b is connected.

タンク側循環管路50は、貯湯タンク20上部の温水導出口20dから追焚き用熱交換器70を経由して貯湯タンク20下部に達する管路であり、往き管50aと、タンク側送水ポンプ45が設けられた戻り管50bとを有している。往き管50aは温水導出口20dと追焚き用熱交換器70上部の温水導入口70aとを繋ぎ、戻り管50bは追焚き用熱交換器70下部の温水導出口70bと貯湯タンク20の下部とを繋ぐ。   The tank-side circulation pipe 50 is a pipe that reaches the lower part of the hot water storage tank 20 from the hot water outlet 20d at the upper part of the hot water storage tank 20 via the reheating heat exchanger 70. The forward pipe 50a and the tank side water supply pump 45 And a return pipe 50b. The forward pipe 50a connects the hot water outlet 20d and the hot water inlet 70a above the reheating heat exchanger 70, and the return pipe 50b connects the hot water outlet 70b below the reheating heat exchanger 70 and the lower part of the hot water storage tank 20. Connect.

風呂側循環管路60は、浴槽170から追焚き用熱交換器70を経由して浴槽170に戻る管路であり、往き管60aおよび戻り管60bを有している。往き管60aは浴槽170と追焚き用熱交換器70下部の浴水導入口70cとを繋ぎ、戻り管60bは追焚き用熱交換器70上部の浴水導出口70dと浴槽170とを繋ぐ。往き管60aには、追焚き用熱交換器70側から上流側(浴槽170側)に向かって、フロースイッチ58、水位センサ59、および風呂側送水ポンプ57(循環ポンプ)がこの順番で設けられている。風呂側送水ポンプ57は、浴槽170内から浴水を導出して風呂側循環管路60に循環させ、浴槽170内に戻す。往き管60aおよび戻り管60bと、浴槽170との連結部には、浴槽アダプタ165が設けられている。   The bath-side circulation pipe 60 is a pipe that returns from the bathtub 170 to the bathtub 170 via the reheating heat exchanger 70, and has an outward pipe 60a and a return pipe 60b. The forward pipe 60 a connects the bathtub 170 and the bath water introduction port 70 c below the reheating heat exchanger 70, and the return pipe 60 b connects the bath water outlet 70 d above the reheating heat exchanger 70 and the bathtub 170. The forward pipe 60a is provided with a flow switch 58, a water level sensor 59, and a bath-side water supply pump 57 (circulation pump) in this order from the reheating heat exchanger 70 side to the upstream side (tub 170 side). ing. The bath-side water supply pump 57 draws bath water from the bathtub 170, circulates it in the bath-side circulation pipe 60, and returns it to the bathtub 170. A bathtub adapter 165 is provided at a connecting portion between the forward pipe 60 a and the return pipe 60 b and the bathtub 170.

浴槽アダプタ165内には、往き管60aと戻り管60bとが接続できるように2つの配管接続部が備えられている。浴槽アダプタ165と戻り管60bとの接続部付近の戻り管60bの途中には、本発明の微細気泡発生装置1が配置されている。微細気泡発生装置1の構成としては、前述した実施の形態1乃至7の何れかを用いることができる。この微細気泡発生装置1には、第1の気体導入部4および第2の気体導入部5の入口を開閉可能な電磁弁61が設けられている。   In the bathtub adapter 165, two pipe connection portions are provided so that the forward pipe 60a and the return pipe 60b can be connected. In the middle of the return pipe 60b in the vicinity of the connection portion between the bathtub adapter 165 and the return pipe 60b, the fine bubble generator 1 of the present invention is arranged. As the configuration of the microbubble generator 1, any of the first to seventh embodiments described above can be used. The fine bubble generating apparatus 1 is provided with an electromagnetic valve 61 that can open and close the inlets of the first gas introduction unit 4 and the second gas introduction unit 5.

風呂給湯装置150は、制御部100と、浴室や台所の壁等に設置されるリモコン装置101とを更に備えている。使用者は、リモコン装置101にて、給湯温度の設定や各種運転モードの設定等を行うことができる。制御部100は、上述した各センサで検出された情報、および、リモコン装置101から送信された情報に基づいて、ヒートポンプユニット110、貯湯用送水ポンプ33、三方弁35、タンク側送水ポンプ45、風呂側送水ポンプ57、風呂側湯水混合弁80a、一般側湯水混合弁80b、電磁弁61,56,59を制御することにより、風呂給湯装置150の各種の動作制御を行う。   The bath water heater 150 further includes a control unit 100 and a remote control device 101 installed on the wall of a bathroom or kitchen. The user can set the hot water supply temperature and various operation modes using the remote control device 101. Based on the information detected by each of the sensors described above and the information transmitted from the remote control device 101, the control unit 100 performs heat pump unit 110, hot water storage water pump 33, three-way valve 35, tank-side water pump 45, bath By controlling the side water pump 57, the bath-side hot / cold water mixing valve 80a, the general-side hot / cold water mixing valve 80b, and the electromagnetic valves 61, 56, and 59, various operations of the bath hot water supply device 150 are controlled.

浴槽170に給湯する場合には、貯湯タンク20から供給される高温の湯と給水管路30から供給される水とが風呂側湯水混合弁80aにて設定温度となるように混合され、その混合された湯が第2給湯管路90、風呂側循環管路60を通って送られ、浴槽アダプタ165を介して浴槽170内に供給される。   When hot water is supplied to the bathtub 170, the hot water supplied from the hot water storage tank 20 and the water supplied from the water supply pipe 30 are mixed at the bath side hot water mixing valve 80a so as to reach a set temperature, and the mixing is performed. The hot water is sent through the second hot water supply pipe 90 and the bath-side circulation pipe 60 and supplied into the bathtub 170 through the bathtub adapter 165.

一般給湯先180に給湯する場合には、貯湯タンク20から供給される高温の湯と給水管路30から供給される水とが一般側湯水混合弁80bにて設定温度となるように混合され、その混合された湯が第3給湯管路95を通って送られて一般給湯先180に供給される。   When hot water is supplied to the general hot water supply 180, the hot water supplied from the hot water storage tank 20 and the water supplied from the water supply pipe 30 are mixed at the general hot water mixing valve 80b so as to reach a set temperature, The mixed hot water is sent through the third hot water supply pipe 95 and supplied to the general hot water supply destination 180.

浴槽170内の浴水を保温または昇温する追焚き運転時には、タンク側送水ポンプ45および風呂側送水ポンプ57が駆動される。これにより、浴槽170から浴槽アダプタ165を通って往き管60aに吸入された浴水が追焚き用熱交換器70に送られ、貯湯タンク20からはタンク側循環管路50により高温の湯が追焚き用熱交換器70に供給され、追焚き用熱交換器70にて浴水が加熱される。この加熱された浴水は、戻り管60bを通って浴槽170へ戻り、浴槽アダプタ165から浴槽170内に流入する。この際、微細気泡発生装置1に設けられた電磁弁61を開くことにより、空気が第1の気体導入部4および第2の気体導入部5から吸気されて微細気泡発生装置1に導入され、この導入した空気を浴水中に混合して大量の微細気泡を発生させ、この微細気泡を浴槽170内に供給することができる。また、風呂側送水ポンプ57を継続して駆動することにより、微細気泡発生装置1にて連続して微細気泡を発生することができるため、浴槽170内の微細気泡濃度を増大化することができる。この際、タンク側送水ポンプ45を駆動せずに風呂側送水ポンプ57のみを駆動し、追焚き運転を伴わずに微細気泡発生装置1から浴槽170内に微細気泡を供給する運転のみを行っても良い。   During the reheating operation in which the bath water in the bathtub 170 is kept warm or heated, the tank-side water pump 45 and the bath-side water pump 57 are driven. As a result, the bath water drawn from the bathtub 170 through the bathtub adapter 165 to the outgoing pipe 60 a is sent to the reheating heat exchanger 70, and hot water is added from the hot water storage tank 20 through the tank-side circulation line 50. The water is supplied to the soaking heat exchanger 70, and the bath water is heated in the soaking heat exchanger 70. The heated bath water returns to the bathtub 170 through the return pipe 60 b and flows into the bathtub 170 from the bathtub adapter 165. At this time, by opening the electromagnetic valve 61 provided in the fine bubble generating device 1, air is sucked from the first gas introducing portion 4 and the second gas introducing portion 5 and introduced into the fine bubble generating device 1, The introduced air is mixed in the bath water to generate a large amount of fine bubbles, which can be supplied into the bathtub 170. Moreover, since the fine bubble generator 1 can continuously generate fine bubbles by continuously driving the bath-side water supply pump 57, the fine bubble concentration in the bathtub 170 can be increased. . At this time, only the bath-side water pump 57 is driven without driving the tank-side water pump 45, and only the operation of supplying the micro-bubbles from the micro-bubble generating device 1 into the bathtub 170 without the reheating operation is performed. Also good.

上述した実施の形態3では、本発明の微細気泡発生装置を風呂給湯装置に設けた実施の形態について説明したが、本発明の微細気泡発生装置は、このような用途に限らず、例えば、工場の製造工程における部品洗浄装置や、生体活性化を目的とした溶存酸素富化装置などとしても好ましく用いることができる。   In the third embodiment described above, the embodiment in which the fine bubble generating device of the present invention is provided in the bath hot water supply device has been described. However, the fine bubble generating device of the present invention is not limited to such an application. It can also be preferably used as a parts washing apparatus in the manufacturing process of the above, or a dissolved oxygen enrichment apparatus for the purpose of bioactivation.

1,1A,1B,1C 微細気泡発生装置、2 旋回翼、3 縮径部、4 第1の気体導入部、5,5A,5B,5C,5D,5E 第2の気体導入部、6 気泡生成部、7 翼、8 円筒管部、11 気泡破砕部、20 貯湯タンク、20a 水導入口、20b 水導出口、20c 温水導入口、20d 温水導出口、25 減圧弁、30 給水管路、30a 第1給水管部、30b 第2給水管部、30c 第3給水管部、33 貯湯用送水ポンプ、35 三方弁、40 貯湯用循環管路、40a 往き管、40b 戻り管、40c バイパス管、41,51 気体放出口、45 タンク側送水ポンプ、50 タンク側循環管路、50a 往き管、50b 戻り管、53,55 先端側の部分、54,56 枝、57 風呂側送水ポンプ、58 フロースイッチ、59 水位センサ、60 風呂側循環管路、60a 往き管、60b 戻り管、61 電磁弁、70 追焚き用熱交換器、70a 温水導入口、70b 温水導出口、70c 浴水導入口、70d 浴水導出口、75 第1給湯管路、80a 風呂側湯水混合弁、80b 一般側湯水混合弁、90 第2給湯管路、95 第3給湯管路、100 制御部、101 リモコン装置、110 ヒートポンプユニット、111 圧縮機、112 沸き上げ用熱交換器、113 膨張弁、114 蒸発器、115 循環配管、117 冷凍サイクル部、120 タンクユニット、150 風呂給湯装置、165 浴槽アダプタ、170 浴槽、180 一般給湯先 1, 1A, 1B, 1C Fine bubble generator, 2 swirl vanes, 3 reduced diameter part, 4 first gas introduction part, 5, 5A, 5B, 5C, 5D, 5E second gas introduction part, 6 bubble generation Part, 7 blades, 8 cylindrical pipe part, 11 bubble crushing part, 20 hot water storage tank, 20a water inlet, 20b water outlet, 20c hot water inlet, 20d hot water outlet, 25 pressure reducing valve, 30 water supply line, 30a first 1 water supply pipe section, 30b second water supply pipe section, 30c third water supply pipe section, 33 hot water storage water pump, 35 three-way valve, 40 hot water storage circulation pipe, 40a forward pipe, 40b return pipe, 40c bypass pipe, 41, 51 Gas discharge port, 45 Tank side water supply pump, 50 Tank side circulation pipe, 50a Outward pipe, 50b Return pipe, 53, 55 Tip side part, 54, 56 branches, 57 Bath side water supply pump, 58 Flow switch 59 Water level sensor, 60 Bath side circulation line, 60a Outward pipe, 60b Return pipe, 61 Solenoid valve, 70 Heat exchanger for reheating, 70a Hot water inlet, 70b Hot water outlet, 70c Bath water inlet, 70d Bath water Outlet port, 75 first hot water supply line, 80a bath side hot water mixing valve, 80b general side hot water mixing valve, 90 second hot water supply line, 95 third hot water supply line, 100 control unit, 101 remote control device, 110 heat pump unit, 111 compressors, 112 heat exchangers for boiling, 113 expansion valves, 114 evaporators, 115 circulation piping, 117 refrigeration cycle units, 120 tank units, 150 bath water heaters, 165 bathtub adapters, 170 bathtubs, 180 general hot water destinations

Claims (12)

液体流路内に旋回液流を生成する旋回液流生成部と、
前記旋回液流の旋回径を縮径させる縮径部と、
前記旋回液流の外周に気体が接触するように前記液体流路外から前記旋回液流生成部より前記液体流路の下流側の位置に気体を取り込む第1の気体導入部と、
前記旋回液流の内周に気体が接触するように前記液体流路外から前記旋回液流生成部より前記液体流路の下流側の位置に気体を取り込む第2の気体導入部と、
を備え、
前記旋回液流と、前記第1の気体導入部から取り込まれた気体と、前記第2の気体導入部から取り込まれた気体とにより、微細気泡を発生させる微細気泡発生装置。
A swirling liquid flow generating section for generating a swirling liquid flow in the liquid flow path;
A reduced diameter portion for reducing the swirl diameter of the swirl liquid flow;
A first gas introduction part that takes in gas from outside the liquid flow path to the downstream side of the liquid flow path from the swirl liquid flow generation part so that the gas contacts the outer periphery of the swirl liquid flow ;
A second gas introduction part that takes in the gas from outside the liquid flow path to the downstream side of the liquid flow path from the swirl liquid flow generation part so that the gas contacts the inner periphery of the swirl liquid flow ;
With
A fine bubble generating device that generates fine bubbles by the swirling liquid flow, the gas taken in from the first gas introduction unit, and the gas taken in from the second gas introduction unit.
前記第1の気体導入部から取り込まれた気体が前記液体流路内に放出される位置と、前記第2の気体導入部から取り込まれた気体が前記液体流路内に放出される位置とは、前記液体流路の軸方向の位置が異なる請求項1記載の微細気泡発生装置。   The position where the gas taken in from the first gas introduction part is released into the liquid flow path and the position where the gas taken in from the second gas introduction part is released into the liquid flow path The fine bubble generating device according to claim 1, wherein positions of the liquid flow paths in the axial direction are different. 前記第2の気体導入部は、前記液体流路の中心部分に位置する気体放出口を有し、取り込んだ気体を前記気体放出口から放出する請求項1または2記載の微細気泡発生装置。   3. The fine bubble generating device according to claim 1, wherein the second gas introduction unit has a gas discharge port located at a central portion of the liquid flow path, and discharges the taken-in gas from the gas discharge port. 前記第2の気体導入部の先端に前記気体放出口が形成されている請求項3記載の微細気泡発生装置。   The fine bubble generating apparatus according to claim 3, wherein the gas discharge port is formed at a tip of the second gas introduction part. 前記第2の気体導入部は、その先端側の部分が前記液体流路の軸方向に略平行になるように曲がっている請求項4記載の微細気泡発生装置。   The fine bubble generating device according to claim 4, wherein the second gas introduction portion is bent so that a portion on a tip side thereof is substantially parallel to an axial direction of the liquid flow path. 前記気体放出口は、前記液体流路の下流側に向いている請求項3乃至5の何れか1項記載の微細気泡発生装置。   The microbubble generator according to any one of claims 3 to 5, wherein the gas discharge port faces the downstream side of the liquid channel. 前記気体放出口は、前記液体流路の上流側に向いている請求項3乃至5の何れか1項記載の微細気泡発生装置。   The microbubble generator according to any one of claims 3 to 5, wherein the gas discharge port faces an upstream side of the liquid channel. 前記第2の気体導入部は、その先端部分が複数に分岐し、その分岐した枝ごとに前記気体放出口を有する請求項5記載の微細気泡発生装置。   6. The fine bubble generating device according to claim 5, wherein a tip portion of the second gas introduction part is branched into a plurality of branches, and each of the branched branches has the gas discharge port. 前記第2の気体導入部は、筒状をなしており、
前記第2の気体導入部の側壁に前記気体放出口が形成されている請求項3記載の微細気泡発生装置。
The second gas introduction part has a cylindrical shape,
The fine bubble generating device according to claim 3, wherein the gas discharge port is formed in a side wall of the second gas introduction part.
前記旋回液流生成部は、前記液体流路内に配置された翼を有し、該翼により液流を旋回させる請求項1乃至9の何れか1項記載の微細気泡発生装置。   The fine bubble generating device according to any one of claims 1 to 9, wherein the swirling liquid flow generating section includes blades disposed in the liquid flow path, and the liquid flow is swirled by the blades. 発生した微細気泡を再破砕する気泡破砕部を有する請求項1乃至10の何れか1項記載の微細気泡発生装置。   The microbubble generator according to any one of claims 1 to 10, further comprising a bubble crushing section that re-crushes the generated fine bubbles. 請求項1乃至11の何れか1項記載の微細気泡発生装置を備える風呂給湯装置。   A bath hot water supply device comprising the fine bubble generating device according to any one of claims 1 to 11.
JP2013042683A 2013-03-05 2013-03-05 Fine bubble generator and bath water heater Active JP5692258B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013042683A JP5692258B2 (en) 2013-03-05 2013-03-05 Fine bubble generator and bath water heater

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013042683A JP5692258B2 (en) 2013-03-05 2013-03-05 Fine bubble generator and bath water heater

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014168760A JP2014168760A (en) 2014-09-18
JP5692258B2 true JP5692258B2 (en) 2015-04-01

Family

ID=51691599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013042683A Active JP5692258B2 (en) 2013-03-05 2013-03-05 Fine bubble generator and bath water heater

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5692258B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180047246A (en) * 2016-10-31 2018-05-10 주식회사 퓨럭스 The device for gas dissolution

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016083658A (en) * 2014-10-24 2016-05-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 Plasma generation apparatus
JP2016129634A (en) * 2015-01-15 2016-07-21 三菱電機株式会社 Cleaning water generation device
KR102612819B1 (en) * 2016-12-27 2023-12-11 엘지전자 주식회사 Dish Washer

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0757310B2 (en) * 1989-07-05 1995-06-21 奥多摩工業株式会社 Gas blowing device and gas-liquid contact device
JP4725707B2 (en) * 2004-09-27 2011-07-13 株式会社 ナノプラネット研究所 Swivel type fine bubble generator and bubble generation method
JP5025631B2 (en) * 2008-12-25 2012-09-12 株式会社東芝 Microbubble injection system for liquid
WO2010076843A1 (en) * 2008-12-30 2010-07-08 リンコスモス エルエルシー Microbubble generation device
JP2011120974A (en) * 2009-12-08 2011-06-23 Osamu Shiraishi Equipment and method for reduction of carbon dioxide
JP2011152534A (en) * 2010-01-26 2011-08-11 Cavitech Buil-Community Co Ltd Device for generating gas-liquid mixing circulative flow
JP5935969B2 (en) * 2011-08-09 2016-06-15 国立大学法人 筑波大学 Static mixer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180047246A (en) * 2016-10-31 2018-05-10 주식회사 퓨럭스 The device for gas dissolution

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014168760A (en) 2014-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5692259B2 (en) Gas-liquid mixing device and bath water heater
JP5692258B2 (en) Fine bubble generator and bath water heater
CN113041866B (en) Microbubble generating device and water heater
JP2013158652A (en) Fixture for sink
JP5794338B2 (en) Gas-liquid mixing device and bath water heater
JP2015047527A (en) Ejector device and pipe washing device
JP5737363B2 (en) Gas-liquid mixing device and bath water heater
JP5471161B2 (en) Liquid processing system
JP6197179B2 (en) Bath adapter and water heater
JP2014018461A (en) Bathtub adapter and hot water supply using the same
JP2005034624A (en) Micro-bubble bath system and bubble generating nozzle thereof
CN113041924A (en) Microbubble generating device and water heater
JP5578205B2 (en) Gas-liquid mixing device and bath water heater
JP2012239790A (en) Fine bubble generation device and circulating bathtub system
CN112915826A (en) Dissolve gas pitcher and water heater
JP5794245B2 (en) Fine bubble generator and bath water heater
JP5423774B2 (en) Bath water heater
CN215311518U (en) Dissolve gas pitcher and water heater
CN211093879U (en) Liquid inlet system of washing equipment and washing equipment
CN210871405U (en) Liquid inlet system of washing equipment and washing equipment
EP2818805B1 (en) Bath hot water supply device
CN210871408U (en) Liquid inlet system of washing equipment and washing equipment
CN215597754U (en) Water heater
JP5794326B2 (en) Bath water heater
JP2019138505A (en) Water heater

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140805

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140929

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150106

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150119

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5692258

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250