JP5665873B2 - 予測相関によって選択的吸収剤分子を特定するための方法 - Google Patents
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Description
定量的構造特性相関(QSPR)で使用するために1組の記述パラメータ(記述子)を定義する。
既知の選択性(Pに関する別の関係を使用する場合には水溶解度および蒸気圧)を有する既知の分子の集合(又は群)を定義する。
手作業で、または計算ソフトウェアによって、既知の各分子に関して各記述子の値を計算する。
全分子手法または分子フラグメント手法を使用して、H2S吸収剤として有用であるという見込みに強く相関した分子のリストを生成する。
全分子手法または分子フラグメント手法については、以下に詳細に説明する。
http://www.talete.mi.it/help/dragon_help/index.html?IntroducingDRAGON
DRAGONは、1600個を超える記述子を計算するが、いかなる形式の統計的計算も含まず、したがってStatisticaやSystatなどのプログラムが必要である。
http://www.molgen.de/?src=documents/molgenqspr.html
MOLGENは、約700個の算術的、位相的、および幾何学的記述子(しかし量子力学的な記述子は含まない)を計算し、さらに、いくつかの基本的な統計的方法を含む。
http://www.softpedia.com/get/Science-CAD/PRECLAV.shtml
PRECLAVは、約1100個の大域的記述子、局所的記述子、およびグリッド/フィールド記述子を計算するが、訓練およびテスト部分集合に分けられた最大500個の分子を分析する。R2およびクラス関数のみを使用して記述子を選択し、これは、非常に限定された手法である。
http://www.lohninger.com/topix.html
このプログラムは、約130個の位相的および構造的記述子の集合を計算する。
(i)A. R. Katritzky, M. Karelson, U. Maran, Y. Wang Collect. Czech. Chem. Commun., 1999, 64, 1551
(ii)A. R. Katritzky, U. Maran, V.S. Lobanov, M. Karelson J. Chem. Inf. Comput. Sci., 2000 40, 1
(iii)A. R. Katritzky, D. Fara, R. Petrukhin, D. Tatham, U. Maran, A. Lomaka, M. Karelson Curr. Top. Med. Chem., 2002, 2, 1333
既知の分子の集合および考察対象の記述子の完全な集合を仮定すると、選択性(P)の予測において未知の分子を査定するために開発する相関に含めるために、記述子のより小さな部分集合が選択される。特定の相関式に含める記述子値の選択は、統計的基準に基づいていくつかの方法で行うことができる。既知の分子に関する選択性(Pデータ)を、提示された式に当て嵌めて、記述子値の選択された部分集合を選択性(P)に関係付ける。この当て嵌めは、線形回帰または他の計算法によって行うことができる。
1.候補として考察するために、1つまたは複数の潜在的な未知の分子を提示する。
2.これらの分子を描画し、それらの記述子値を手作業でまたはコンピュータで予測する。
3.未知の分子に関する予測される記述子値を相関式に入力し、取り得る選択性Pを推定する。
既知の分子の集合を仮定して、吸収剤になり得る分子を生成するために組み合わせることができる分子フラグメントの2つ以上の集合を生成する。分子フラグメントは、既知の分子中に存在する分子フラグメントに基づくべきであり、それにより、これらの分子フラグメントと、フラグメントを組み合わせて分子にする方法に関して開発された任意の規則とを使用して、既知の分子を再構成することができる。
本明細書に記載の主な態様を以下に示す。
1.供給流からの酸性ガス除去の特性に関して効果的な吸収剤分子を特定するための方法であって、
a)酸性ガス除去に関して効果的な既知の分子の集合を決定するステップ、
b)既知の酸性ガス除去性を有する分子の構造に相関する記述パラメータ(記述子)を定義するステップ、
c)既知の各々の分子に関して各記述子に値を割り当て、定量的構造特性相関(QSPR)を開発するステップ、
d)前記構造特性関係から、酸性ガス除去に関して効果的な分子構造を生成するステップ
を含む方法。
2.前記酸性ガスがH 2 Sである上記1に記載の方法。
3.酸除去に関して効果的な分子の集合を決定するステップが、選択性によるものである上記2に記載の方法。
4.酸除去に関して効果的な分子の集合を決定するステップが、装填率によるものである上記2に記載の方法。
5.酸除去に関して効果的な分子の集合を決定するステップが、容量によるものである上記2に記載の方法。
6.酸除去に関して効果的な分子の集合を決定するステップが、
7.前記分子構造を生成する前記ステップが、全分子手法によるものである上記1に記載の方法。
8.前記分子構造を生成する前記ステップが、分子フラグメント手法によるものである上記1に記載の方法。
吸収剤になり得る分子のH2S選択性に関する定量的構造特性相関(QSPR)分析を行うために、0.1、0.2、0.3、および0.4のCO2/H2S装填率での33種の吸収剤に関して実験から得られた選択性データ(付録A1)を使用し、共通の記述子を用いた4つのモデルセット(表1.〜表4.)を開発した(すべての装填率に関しては表5.)。統計的パラメータは、すべてのモデルに関して許容できるものである。モデルセット#1〜4(表1.〜表4.)からの理論的な分子記述子の物理化学的意義を使用して選択した総計67個(異性体を含む)の新規の可能な吸収剤(付録2)に関するH2S選択性の値も予測した。
モデルセット#1および#2(表1.〜表2.)を同様の方法によって導出した。これらのモデルセットでは1つの記述子のみが異なる。また、統計的パラメータは全く同じである。実験から得られた選択性の値は、装填率が増加するにつれて減少する。しかし、予測にモデルセット#1を使用すると、21例で、装填率0.2よりも装填率0.3で選択性の値が高く、これは現実的でない。セット#1(表1.)でのモデルの比較から、装填率0.3および0.4に関するモデルにおいて、記述子D37(結合H−Cに関する最小交換エネルギー)に関する正の記述子の係数が、それぞれ装填率0.1および0.2に関するモデルよりもかなり大きいことが分かる。
それぞれ4つの記述子を含む最も有望な10個の集合を、性能モデルの開発に用いるために選択し、これらを構築して、前に構築した4つの集合(実施例1)に加えた。
2つのヒューリスティック方法が参考文献で提案されている。すなわち(i)「マクロ構造およびフラグメント記述子ライブラリ」ベースの(“macros structures and fragment descriptors library” based)BESTREG法(Karelsonの手法)[Katritzky, A. R.; Lobanov, V. S.; Karelson, M.; Murugan, R.; Grenoze, M. P.; Toomey, J. E.; Rev. Roum. Chem. 1996, 41, 851-867.]
および(ii)「下部構造分子フラグメント」(“substructural molecular fragments”)法(Varnekの手法)[Solove, A.; Varnek, G.; Wipff, G. J. Chem. Inf. Comp. Sci. 2001, 40, 847-858.]
1.対象の特性と理論的な分子記述子との間のQSPRの開発。これは3つの異なる手法からなる。すなわち、全分子記述子を用いる多重線形手法と、フラグメント記述子を用いる非線形(交差項)手法と、分子記述子とフラグメント記述子の両方を用いるニューラルネットワーク手法とである。すべての場合に、2つのパラメータ表示を使用することができた。すなわち、従来のAustin法1(AM1)と、その変形版の、凝縮相(液相)中での分子の電子構造を記述するAM1−LIQ(CODESSA PROソフトウェアに新たに実装された、構造幾何形状および記述子計算を洗練するための新規の試験段階のルーチン)とである。以下のように、異なるモデルセットが得られた。
logS=F(Di) (a)
logS=f(di) (b)
ここで、Diは全分子記述子であり、diはフラグメント記述子を表す。事前の経験から、分子R1H、R2H、およびHG1Hに関する記述子も関係(b)の開発に適していることが示されている。
2.可能な置換基/フラグメント(Ri)および包括的架橋構造データベース(Gk)の生成。
3.CODESSA PROを使用することによる、RiHおよびHGkHに関する分子記述子としてのフラグメント記述子の計算。
4.RiとGkのすべての組合せに関するlogS値の予測、および最大1,300,000〜9,000,000個の可能な構造の高速スクリーニングによる最高特性値を有する最良候補の選択。
5.分子フラグメントから構築され、最高ターゲット特性値および化学的に可能な構造を有する選択された構造に関する全分子記述子計算。
6.全分子記述子を用いたモデルを使用して、それらの分子に関するターゲット特性(logS)値を予測し、新規の吸収剤化合物としての最も有望な候補として50〜100個の構造を提案した。
7.予測の検証を行った。このとき、モデル開発の最初のステップで、1つまたは複数の分子が抜けている。しかし、それぞれの必要な構造は、フラグメントデータベース、およびそれらに関して成されたlogSの予測に含まれていた。また、これらの予測の質は、新規の化合物に関する予測の質を反映する。
可能な置換基Ri(125個)および包括的架橋構造Gk(94個)のフラグメントデータベースを作製した。これらは付録3(置換基のリスト)および付録4(包括的構造のリスト)に示す。これら125個の可能な置換基および包括的構造に関して、(RiHおよびHGkHに関する分子記述子として)CODESSA PROを使用してフラグメント記述子の計算を行った。次いで、さらなる計算のために、対応するCodessa Proストレージを準備した。
有効になるように、吸収剤は、高い溶解度および低い揮発性を有するべきである。したがって、吸収剤の溶解度(水溶解度)および揮発性を考慮に入れた吸収剤に関する新規の特性を定義した。これらの特性は、式(1)で示されるように計算した。それぞれの値を表7.に列挙する。
Pn=log(選択性*溶解度/蒸気圧), n=0.1〜0.4 (1)
蒸気圧値の事前収集は、SciFinder Scholar 2002 Software(http://www.cas.org/SCIFINDER)から市販されているAdvanced Chemistry Development (ACD) Software Solaris V4.67(O 1994−2004 ACD、http://www.acdlabs.com/)を使用して計算した33種の初期吸収剤のうち29種に関して集めた(表8.参照)。
これら33種の吸収剤に関する利用可能な、実験から得られた溶解度値は、SciFinder Scholar 2002とSigma−Aldrichの両方のデータベースを探索しても見つからなかった。代わりに、本発明者らは、Ostwald溶解度係数を考察した。
Lw=水溶液中の溶質の溶解度/気相中の溶質の平衡濃度
相関係数の2乗は、すべての3パラメータモデルに関して、すべての装填率で0.95よりも良かった。次に、すべての装填率に関して共通の記述子を用いたモデルを構築した。そのような制約は、特に3パラメータモデルに関してR2を減少させると予想される。したがって、4パラメータモデルも作製する。対応するモデル(1〜8)およびプロット(図6〜図13)を以下に示す。
qD−しきい値電荷によって選択される、H結合ドナーH原子での部分電荷
Stot−総計の溶媒露出分子表面積
本発明者らは、他の異なる指数関数的な蒸気圧と溶解度の組合せにおいて予測冪乗数を研究することに価値があると判断した。したがって、式2に基づく一般式(4)を以下のように定義した。
全分子手法−最良実施形態(ベストモード)
記述子とP(または選択性)の相関の特定の一般式は、以下のように記述することができる。集合Mが既知の分子の集合を表し、集合Jが記述子の完全な集合を表すものとする。QSPR全分子相関式に含める記述子のより小さな部分集合をJ’と表し、これはJの部分集合である。線形回帰技法を使用して、以下に表す全分子QSPR式において集合J’の記述子を使用して、集合M内の分子に関するPデータを最良適合させる。Pmは、集合M内で符号mで表される既知の分子それぞれに関するPの値を表す。Djmは、集合M内で符号mで表される既知の分子それぞれに関する、集合J内の記述子jの既知の値を表す。
1.記述子(i,j)の重畳または同様の相関特性を有するすべての直交対が完全な記述子集合内で見つけ出され、対の相関係数Rij 2<0.5を有するものとして定義される。記述子のすべての直交対に関わる2パラメータ回帰式を計算する。最高の線形回帰係数を有するいくらかの事前定義された数の対が、考察対象の記述子部分集合として選択される。
2.前のステップで得た有意な記述子部分集合それぞれに関して、追加の非共線記述子をそれぞれに加え、対応する回帰処理を行う。新たな相関式が、Fisher基準において、1つ少ない記述子での最良の相関の場合よりも小さい所与の確率レベルFで見つかったとき、最良の式は、1つ少ない記述子を有する集合から選択する。そうでなければ、最高の回帰相関係数を有する新規の式をさらに考察する。
3.最後のステップを繰り返すことによって、さらに高次の多重線形相関式を得続けることができる。
1.吸収剤になり得る分子を形成するために組み合わせることができる分子フラグメントの2つの集合を作製する。集合Rは、置換基フラグメントを表し、集合Gは、包括的構造または架橋フラグメントを表し、これらをR1−G−R2の形態で組み合わせることができる。既知の分子の集合内の分子の構造的な類似性を考慮して、それらすべてを、以下の一般的な図に従って異なるフラグメントに分けた。
a)三重項によって定義される分子中に酸素原子が存在しない。
b)三重項によって定義される分子中に窒素原子が存在しない。
元の既知の分子の分子フラグメントに関して、
djk ∀k∈R∪G(ここで添え字jは記述子を表す)
a)「マクロ構造およびフラグメント記述子ライブラリ」ベースの(“macros structures and fragment descriptors library” based)BESTREG法(Karelsonの手法):
A.R. Katritzky, V.S. Lobanov, M. Karelson, R. Murugan, M.P. Grendze, J.E. Toomey, “Comprehensive Descriptors for Structural and Statistical Analysis”, Revue Roumaine de Chimie, 1996, 41, 851-867
b)「下部構造分子フラグメント」(“substructural molecular fragments”)法(Varnekの手法):
V. P. Solov'ev, A. Varnek, G. Wipff, “Modeling of Ion Complexation and Extraction Using Substructural Molecular Fragments”, Journal of Chemical Information and Computer Sciences,2000, 40(3), 847-858
c)参考文献で以前に論じられていない大域的最適化法を、以下の節「記述子集合を選択するための最適化モデル」に示す。
すべての可能な記述子組合せの完全な包括的な列挙はコンピュータで実現可能でないので、QSPRで使用する記述子組合せを選択するための方法を提供するために、BESTREGおよび他のヒューリスティック法が参考文献で開発されている。しかし、高度な数学プログラミング技法の使用により、絶対最良相関を与える記述子の組合せは、コンピュータで扱いやすくなるはずである。前節において概説した詳細な手順のステップ(6)および(7)を、以下のプロセスで置き換える。
・既知のPの分子の集合M
・各分子m∈Mに関する値Pm
・すべての分子フラグメント基の集合RおよびG
・取り得る分子三重項の集合T
・各m∈Mに関する三重項tm
・すべての有用な分子記述子の集合J
・QSPRでの処理に関する記述子の部分集合JADD、JCP、JMIN、およびJMAX
・記述子値
・元の分子に関して、
・仮説のQSPR関数形式
本発明で使用する代表的な記述子
* 0001000000 原子の総計
* 0002000000 C原子の数
* 0003000000 H原子の数
* 0004000000 O原子の数
* 0005000000 N原子の数
* 0006000000 S原子の数
* 0007000000 F原子の数
* 0008000000 Cl原子の数
* 0009000000 Br原子の数
* 0010000000 I原子の数
* 0011000000 P原子の数
* 0012000000 他の原子の数
* 0013000000 C原子の相対数
* 0014000000 H原子の相対数
* 0015000000 O原子の相対数
* 0016000000 N原子の相対数
* 0017000000 S原子の相対数
* 0018000000 F原子の相対数
* 0019000000 Cl原子の相対数
* 0020000000 Br原子の相対数
* 0021000000 I原子の相対数
* 0022000000 P原子の相対数
* 0023000000 他の原子の相対数
* 0024000000 結合の総数
* 0025000000 単結合の数
* 0026000000 二重結合の数
* 0027000000 三重結合の数
* 0028000000 芳香族結合の数
* 0029000000 単結合の相対数
* 0030000000 二重結合の相対数
* 0031000000 三重結合の相対数
* 0032000000 芳香族結合の相対数
* 0033000000 環の数
* 0034000000 ベンゼン環の数
* 0035000000 環の相対数
* 0036000000 ベンゼン環の相対数
* 0037000000 分子量
* 0038000000 平均原子量
* 0039000000 Wiener指数
* 0040000000 Randic指数 (次数0)
* 0041000000 Randic指数 (次数1)
* 0042000000 Randic指数 (次数2)
* 0043000000 Randic指数 (次数3)
* 0044000000 Kier&Hall指数 (次数0)
* 0045000000 Kier&Hall指数 (次数1)
* 0046000000 Kier&Hall指数 (次数2)
* 0047000000 Kier&Hall指数 (次数3)
* 0048000000 情報内容 (次数0)
* 0049000000 情報内容 (次数1)
* 0050000000 情報内容 (次数2)
* 0051000000 平均情報内容 (次数0)
* 0052000000 平均情報内容 (次数1)
* 0053000000 平均情報内容 (次数2)
* 0054000000 構造情報内容 (次数0)
* 0055000000 構造情報内容 (次数1)
* 0056000000 構造情報内容 (次数2)
* 0057000000 平均構造情報内容 (次数0)
* 0058000000 平均構造情報内容 (次数1)
* 0059000000 平均構造情報内容 (次数2)
* 0060000000 補完情報内容 (次数0)
* 0061000000 補完情報内容 (次数1)
* 0062000000 補完情報内容 (次数2)
* 0063000000 平均補完情報内容 (次数0)
* 0064000000 平均補完情報内容 (次数1)
* 0065000000 平均補完情報内容 (次数2)
* 0066000000 結合情報内容 (次数0)
* 0067000000 結合情報内容 (次数1)
* 0068000000 結合情報内容 (次数2)
* 0069000000 平均結合情報内容 (次数0)
* 0070000000 平均結合情報内容 (次数1)
* 0071000000 平均結合情報内容 (次数2)
* 0072000000 Kier形状指数 (次数1)
* 0073000000 Kier形状指数 (次数2)
* 0074000000 Kier形状指数 (次数3)
* 0075000000 Kier柔軟性指数
* 0076000000 Balaban指数
* 0077000000 重力指数 (全結合)
* 0078000000 重力指数 (全原子の対)
* 0079000000 慣性モーメントA
* 0080000000 慣性モーメントB
* 0081000000 慣性モーメントC
* 0082000000 射影面XY
* 0083000000 射影面YZ
* 0084000000 射影面ZX
* 0085000000 XY射影/ XY矩形
* 0086000000 YZ射影/ YZ矩形
* 0087000000 ZX射影/ ZX矩形
* 0088000000 分子体積
* 0089000000 分子体積 / XYZボックス
* 0090000000 分子表面積
* 0091001000 H原子に関する原子の最大部分電荷 (Zefirov)
* 0091006000 C原子に関する原子の最大部分電荷 (Zefirov)
* 0091007000 N原子に関する原子の最大部分電荷 (Zefirov)
* 0091008000 O原子に関する原子の最大部分電荷 (Zefirov)
* 0092001000 H原子に関する原子の最小部分電荷 (Zefirov)
* 0092006000 C原子に関する原子の最小部分電荷 (Zefirov)
* 0092007000 N原子に関する原子の最小部分電荷 (Zefirov)
* 0092008000 O原子に関する原子の最小部分電荷 (Zefirov)
* 0093000000 すべての原子タイプに関する最大部分電荷 (Zefirov)
* 0094000000 すべての原子タイプに関する最小部分電荷 (Zefirov)
* 0095000000 極性パラメータ(Zefirov)
* 0096000000 極性パラメータ/距離の2乗 (Zefirov)
* 0097000000 位相的電子指数 (すべての対)
* 0098000000 位相的電子指数 (全結合)
* 0099000000 TMSA総分子表面積 (Zefirov PC)
* 0100000000 PPSA1 部分正表面積(Zefirov PC)
* 0101000000 PPSA2 総電荷重み付けPPSA (Zefirov PC)
* 0102000000 PPSA3 原子電荷重み付けPPSA (Zefirov PC)
* 0103000000 PNSA1 部分負表面積(Zefirov PC)
* 0104000000 PNSA2 総電荷重み付けPNSA (Zefirov PC)
* 0105000000 PNSA3 原子電荷重み付けPNSA (Zefirov PC)
* 0106000000 DPSA1 CPSAの差 (PPSA1-PNSA1) (Zefirov PC)
* 0107000000 DPSA2 CPSAの差 (PPSA2-PNSA2) (Zefirov PC)
* 0108000000 DPSA3 CPSAの差 (PPSA3-PNSA3) (Zefirov PC)
* 0109000000 FPSA1 Fractional PPSA (PPSA-1/TMSA) (Zefirov PC)
* 0110000000 FPSA2 Fractional PPSA (PPSA-2/TMSA) (Zefirov PC)
* 0111000000 FPSA3 Fractional PPSA (PPSA-3/TMSA) (Zefirov PC)
* 0112000000 FNSA1 Fractional PNSA (PNSA-1/TMSA) (Zefirov PC)
* 0113000000 FNSA2 Fractional PNSA (PNSA-2/TMSA) (Zefirov PC)
* 0114000000 FNSA3 Fractional PNSA (PNSA-3/TMSA) (Zefirov PC)
* 0115000000 WPSA1 重み付けPPSA (PPSA1*TMSA/1000) (Zefirov PC)
* 0116000000 WPSA2 重み付けPPSA (PPSA2*TMSA/1000) (Zefirov PC)
* 0117000000 WPSA3 重み付けPPSA (PPSA3*TMSA/1000) (Zefirov PC)
* 0118000000 WNSA1 重み付けPNSA (PNSA1*TMSA/1000) (Zefirov PC)
* 0119000000 WNSA2 重み付けPNSA (PNSA2*TMSA/1000) (Zefirov PC)
* 0120000000 WNSA3 重み付けPNSA (PNSA3*TMSA/1000) (Zefirov PC)
* 0121000000 RPCG相対正電荷 (QMPOS/QTPLUS) (Zefirov PC)
* 0122000000 RNCG 相対負電荷 (QMNEG/QTMINUS) (Zefirov PC)
* 0123000000 RPCS 相対正帯電SA (SAMPOS*RPCG) (Zefirov PC)
* 0124000000 RNCS 相対負帯電SA (SAMNEG*RNCG) (Zefirov PC)
* 0125000000 HDSA H-ドナー表面積(Zefirov PC)
* 0126000000 HDCA H-ドナー帯電表面積(Zefirov PC)
* 0127000000 FHDSA Fractional HDSA (HDSA/TMSA) (Zefirov PC)
* 0128000000 FHDCA Fractional HDCA (HDCA/TMSA) (Zefirov PC)
* 0129000000 HASA H-アクセプタ表面積(Zefirov PC)
* 0130000000 HACA H-アクセプタ帯電表面積(Zefirov PC)
* 0131000000 FHASA Fractional HASA (HASA/TMSA) (Zefirov PC)
* 0132000000 FHACA Fractional HACA (HACA/TMSA) (Zefirov PC)
* 0133000000 HBSA H-結合表面積(Zefirov PC)
* 0134000000 HBCA H-結合帯電表面積(Zefirov PC)
* 0135000000 FHBSA Fractional HBSA (HBSA/TMSA) (Zefirov PC)
* 0136000000 FHBCA Fractional HBSA (HBSA/TMSA) (Zefirov PC)
* 0137000000 min(#HA, #HD) (Zefirov PC)
* 0138000000 count of H-アクセプタ部位 (Zefirov PC)
* 0139000000 count of H-ドナー部位 (Zefirov PC)
* 0140000000 HA依存HDSA-1 (Zefirov PC)
* 0141000000 HA依存HDSA-1/TMSA (Zefirov PC)
* 0142000000 HA依存HDSA-2 (Zefirov PC)
* 0143000000 HA依存HDSA-2/TMSA (Zefirov PC)
* 0144000000 HA依存HDSA-2/SQRT(TMSA) (Zefirov PC)
* 0145000000 HA依存HDCA-1 (Zefirov PC)
* 0146000000 HA依存HDCA-1/TMSA (Zefirov PC)
* 0147000000 HA依存HDCA-2 (Zefirov PC)
* 0148000000 HA依存HDCA-2/TMSA (Zefirov PC)
* 0149000000 HA依存HDCA-2/SQRT(TMSA) (Zefirov PC)
* 0150000000 HASA-1 (Zefirov PC)
* 0151000000 HASA-1/TMSA (Zefirov PC)
* 0152000000 HASA-2 (Zefirov PC)
* 0153000000 HASA-2/TMSA (Zefirov PC)
* 0154000000 HASA-2/SQRT(TMSA) (Zefirov PC)
* 0155000000 HACA-1 (Zefirov PC)
* 0156000000 HACA-1/TMSA (Zefirov PC)
* 0157000000 HACA-2 (Zefirov PC)
* 0158000000 HACA-2/TMSA (Zefirov PC)
* 0159000000 HACA-2/SQRT(TMSA) (Zefirov PC)
* 0161000000 PPSA-1 部分正表面積(MOPAC PC)
* 0162000000 PPSA-2 総電荷重み付けPPSA (MOPAC PC)
* 0163000000 PPSA-3 原子電荷重み付けPPSA (MOPAC PC)
* 0164000000 PNSA-1 部分負表面積(MOPAC PC)
* 0165000000 PNSA-2 総電荷重み付けPNSA (MOPAC PC)
* 0166000000 PNSA-3 原子電荷重み付けPNSA (MOPAC PC)
* 0167000000 DPSA-1 CPSAの差 (PPSA1-PNSA1) (MOPAC PC)
* 0168000000 DPSA-2 CPSAの差 (PPSA2-PNSA2) (MOPAC PC)
* 0169000000 DPSA-3 CPSAの差 (PPSA3-PNSA3) (MOPAC PC)
* 0170000000 FPSA-1 Fractional PPSA (PPSA-1/TMSA) (MOPAC PC)
* 0171000000 FPSA-2 Fractional PPSA (PPSA-2/TMSA) (MOPAC PC)
* 0172000000 FPSA-3 Fractional PPSA (PPSA-3/TMSA) (MOPAC PC)
* 0173000000 FNSA-1 Fractional PNSA (PNSA-1/TMSA) (MOPAC PC)
* 0174000000 FNSA-2 Fractional PNSA (PNSA-2/TMSA) (MOPAC PC)
* 0175000000 FNSA-3 Fractional PNSA (PNSA-3/TMSA) (MOPAC PC)
* 0176000000 WPSA-1 重み付けPPSA (PPSA1*TMSA/1000) (MOPAC PC)
* 0177000000 WPSA-2 重み付けPPSA (PPSA2*TMSA/1000) (MOPAC PC)
* 0178000000 WPSA-3 重み付けPPSA (PPSA3*TMSA/1000) (MOPAC PC)
* 0179000000 WNSA-1 重み付けPNSA (PNSA1*TMSA/1000) (MOPAC PC)
* 0180000000 WNSA-2 重み付けPNSA (PNSA2*TMSA/1000) (MOPAC PC)
* 0181000000 WNSA-3 重み付けPNSA (PNSA3*TMSA/1000) (MOPAC PC)
* 0182000000 RPCG相対正電荷 (QMPOS/QTPLUS) (MOPAC C)
* 0183000000 RNCG 相対負電荷 (QMNEG/QTMINUS) (MOPAC PC)
* 0184000000 RPCS 相対正帯電SA (SAMPOS*RPCG) (MOPAC PC)
* 0185000000 RNCS 相対負帯電SA (SAMNEG*RNCG) (MOPAC PC)
* 0186000000 HDSA H-ドナー表面積(MOPAC PC)
* 0187000000 HDCA H-ドナー帯電表面積(MOPAC PC)
* 0188000000 FHDSA Fractional HDSA (HDSA/TMSA) (MOPAC PC)
* 0189000000 FHDCA Fractional HDCA (HDCA/TMSA) (MOPAC PC)
* 0190000000 HASA H-アクセプタ表面積(MOPAC PC)
* 0191000000 HACA H-アクセプタ帯電表面積(MOPAC PC)
* 0192000000 FHASA Fractional HASA (HASA/TMSA) (MOPAC PC)
* 0193000000 FHACA Fractional HACA (HACA/TMSA) (MOPAC PC)
* 0194000000 HBSA H-結合表面積(MOPAC PC)
* 0195000000 HBCA H-結合帯電表面積(MOPAC PC)
* 0196000000 FHBSA Fractional HBSA (HBSA/TMSA) (MOPAC PC)
* 0197000000 FHBCA Fractional HBSA (HBSA/TMSA) (MOPAC PC)
* 0198000000 最小(#HA, #HD) (MOPAC PC)
* 0199000000 H-アクセプタ部位のカウント (MOPAC PC)
* 0200000000 H-ドナー部位のカウント (MOPAC PC)
* 0201000000 HA依存HDSA-1 (MOPAC PC)
* 0202000000 HA依存HDSA-1/TMSA (MOPAC PC)
* 0203000000 HA依存HDSA-2 (MOPAC PC)
* 0204000000 HA依存HDSA-2/TMSA (MOPAC PC)
* 0205000000 HA依存HDSA-2/SQRT(TMSA) (MOPAC PC)
* 0206000000 HA依存HDCA-1 (MOPAC PC)
* 0207000000 HA依存HDCA-1/TMSA (MOPAC PC)
* 0208000000 HA依存HDCA-2 (MOPAC PC)
* 0209000000 HA依存HDCA-2/TMSA (MOPAC PC)
* 0210000000 HA依存HDCA-2/SQRT(TMSA) (MOPAC PC)
* 0211000000 HASA-1 (MOPAC PC)
* 0212000000 HASA-1/TMSA (MOPAC PC)
* 0213000000 HASA-2 (MOPAC PC)
* 0214000000 HASA-2/TMSA (MOPAC PC)
* 0215000000 HASA-2/SQRT(TMSA) (MOPAC PC)
* 0216000000 HACA-1 (MOPAC PC)
* 0217000000 HACA-1/TMSA (MOPAC PC)
* 0218000000 HACA-2 (MOPAC PC)
* 0219000000 HACA-2/TMSA (MOPAC PC)
* 0220000000 HACA-2/SQRT(TMSA) (MOPAC PC)
* 0283000000 最終生成熱
* 0284000000 最終生成熱 / 原子の数
* 0285000000 占有された電子レベルの番号
* 0286000000 占有された電子レベルの番号 / 原子の数
* 0287000000 HOMO-1エネルギー
* 0288000000 HOMOエネルギー
* 0289000000 LUMOエネルギー
* 0290000000 LUMO+1エネルギー
* 0291000000 HOMO - LUMOエネルギーギャップ
* 0292006000 C原子に関する最小求核反応指数
* 0292007000 N原子に関する最小求核反応指数
* 0292008000 O原子に関する最小求核反応指数
* 0293006000 C原子に関する最大求核反応指数
* 0293007000 N原子に関する最大求核反応指数
* 0293008000 O原子に関する最大求核反応指数
* 0294006000 C原子に関する平均求核反応指数
* 0294007000 N原子に関する平均求核反応指数
* 0294008000 O原子に関する平均求核反応指数
* 0295006000 C原子に関する最小求電子反応指数
* 0295007000 N原子に関する最小求電子反応指数
* 0295008000 O原子に関する最小求電子反応指数
* 0296006000 C原子に関する最大求電子反応指数
* 0296007000 N原子に関する最大求電子反応指数
* 0296008000 O原子に関する最大求電子反応指数
* 0297006000 C原子に関する平均求電子反応指数
* 0297007000 N原子に関する平均求電子反応指数
* 0297008000 O原子に関する平均求電子反応指数
* 0298006000 C原子に関する最小1-電子反応指数
* 0298007000 N原子に関する最小1-電子反応指数
* 0298008000 O原子に関する最小1-電子反応指数
* 0299006000 C原子に関する最大1-電子反応指数
* 0299007000 N原子に関する最大1-電子反応指数
* 0299008000 O原子に関する最大1-電子反応指数
* 0300006000 C原子に関する平均1-電子反応指数
* 0300007000 N原子に関する平均1-電子反応指数
* 0300008000 O原子に関する平均1-電子反応指数
* 0301000000 分子双極子の総計の点電荷成分
* 0302000000 分子双極子の総計の混成成分
* 0303000000 総計の分子双極子
* 0305000000 Onsager-Kirkwood溶媒和エネルギーのイメージ
* 0306000000 最小原子軌道電子密度
* 0307000000 最大原子軌道電子密度
* 0308000000 最大Σ-Σ結合次数
* 0309000000 最大Σ-PI結合次数
* 0310000000 最大PI-PI結合次数
* 0311000000 1つのMOの最大結合寄与
* 0312000000 1つのMOの最大反結合寄与
* 0313001000 H原子に関する最小原子価
* 0313006000 C原子に関する最小原子価
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Claims (4)
- 供給流からの酸性ガス除去の特性に関して効果的な吸収剤分子を特定するための方法であって、
a)コンピューターを用いて又は手作業で、酸性ガス除去に関して効果的な既知の分子の集合を決定するステップであって、
酸除去に関して効果的な分子の集合を決定するステップは、
b)コンピューターを用いて又は手作業で、既知の酸性ガス除去性を有する分子の構造に相関する記述パラメータ(記述子)を定義するステップ、
c)コンピューターを用いて既知の各々の分子に関して各記述子に値を割り当て、定量的構造特性相関(QSPR)を開発するステップであって、QSPRを開発するステップは、コンピューターを用いることを含むステップ、
d)前記定量的構造特性相関QSPRから、酸性ガス除去に関して効果的な分子構造を生成するステップであって、分子構造を生成するステップは、コンピューターを用いることを含むステップ
を含む方法。 - 前記酸性ガスがH2Sである請求項1に記載の方法。
- 前記分子構造を生成する前記ステップが、全分子手法によるものである請求項1に記載の方法。
- 前記分子構造を生成する前記ステップが、分子フラグメント手法によるものである請求項1に記載の方法。
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