JP5655613B2 - Composition for optical materials - Google Patents

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Description

本発明は、光学材料用組成物等に関し、特に、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学材料、中でもプラスチックレンズに好適である光学材料用組成物等に関する。   The present invention relates to a composition for an optical material and the like, and more particularly to an optical material such as a plastic lens, a prism, an optical fiber, an information recording substrate, and a filter, and more particularly a composition for an optical material suitable for a plastic lens.

プラスチック材料は軽量かつ靭性に富み、また染色が容易であることから、各種光学材料、特に眼鏡レンズに近年多用されている。光学材料、中でも眼鏡レンズに特に要求される性能は、物理的性質としては、低比重、高透明性及び低黄色度、高耐熱性、高強度等であり、光学性能としては高屈折率と高アッベ数である。高屈折率はレンズの薄肉化を可能とし、高アッベ数はレンズの色収差を低減するが、屈折率が上昇するほどアッベ数は低くなるため、両者を同時に向上させる検討が実施されている。これらの検討の中で最も代表的な方法は、エピスルフィド化合物を使用する方法である(特許文献1参照)。   In recent years, plastic materials have been widely used in various optical materials, particularly eyeglass lenses, because they are light and tough and easy to dye. The performance required particularly for optical materials, especially spectacle lenses, is low specific gravity, high transparency and low yellowness, high heat resistance, high strength, etc. as physical properties, and high refractive index and high optical performance. Abbe number. A high refractive index makes it possible to reduce the thickness of the lens, and a high Abbe number reduces chromatic aberration of the lens. However, as the refractive index increases, the Abbe number decreases, and studies are being made to improve both simultaneously. Among these studies, the most typical method is a method using an episulfide compound (see Patent Document 1).

耐酸化性を改善するために、エピスルフィド化合物にチオール化合物を添加した組成が提案されている(特許文献2参照)。さらに高屈折率を目指した検討も行われており、硫黄とエピスルフィドとチオールからなる組成物が提案されている(特許文献3、4参照)。   In order to improve oxidation resistance, a composition in which a thiol compound is added to an episulfide compound has been proposed (see Patent Document 2). Further, studies aiming at a high refractive index have been conducted, and a composition comprising sulfur, episulfide and thiol has been proposed (see Patent Documents 3 and 4).

しかしながら、これらチオールを含む組成物は、重合硬化した際に黄色に変色する場合があった。光学材料用途であるため、硬化後に変色するとすべて不良となり膨大な損失が生じることになる。したがって、硬化前の段階において、硬化後の黄色の変色発生の有無を予測し、良否の判断を可能にする手法が望まれていた。   However, these thiol-containing compositions sometimes turn yellow when polymerized and cured. Since it is an optical material application, if it changes color after curing, it becomes defective and enormous loss occurs. Accordingly, there has been a demand for a method that predicts whether or not yellow discoloration occurs after curing in a stage before curing, and enables determination of quality.

特開平9−110979号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-110979 特開平10−298287号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-298287 特開2001−2783号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-2783 特開2004−137481号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-137482

本発明が解決しようとする課題は、重合硬化前の段階で硬化後の黄色の変色発生の有無を予測、判別し、良否の判断が可能なエピスルフィド化合物もしくはそれを含む組成物からなる光学材料用組成物等を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is for an optical material comprising an episulfide compound or a composition containing the same that predicts and discriminates the occurrence or non-occurrence of yellow discoloration after curing at the stage before polymerization curing. It is to provide a composition or the like.

本発明者らは、このような状況に鑑み鋭意研究を重ねた結果、鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が5.0ppm以下であるエピスルフィド化合物により本課題を解決し、本発明に至った。   As a result of intensive studies in view of such circumstances, the present inventors have solved the problem with an episulfide compound having a total content of iron, chromium, and nickel of 5.0 ppm or less, and have reached the present invention.

すなわち、本発明は以下の通りである。
<1> 鉄、クロムおよびニッケルの合計含有量が5.0ppm以下であるエピスルフィド化合物を重合することにより得られた光学材料。
<2> 鉄、クロムおよびニッケルの合計含有量が5.0ppm以下であるエピスルフィド化合物と、ポリチオール化合物からなる光学材料用組成物。
<3> さらにポリイソシアネート化合物を含有する、上記<2>に記載の光学材料用組成物。
<4> さらに硫黄を含有する、上記<2>または<3>に記載の光学材料用組成物。
<5> 上記<2>〜<4>のいずれかに記載の光学材料用組成物を重合することにより得られた光学材料。
<6> 重合後にアニール処理が施されている、上記<1>または<5>に記載の光学材料。
That is, the present invention is as follows.
<1> An optical material obtained by polymerizing an episulfide compound having a total content of iron, chromium and nickel of 5.0 ppm or less.
<2> A composition for an optical material comprising an episulfide compound having a total content of iron, chromium and nickel of 5.0 ppm or less and a polythiol compound.
<3> The composition for optical materials according to <2>, further containing a polyisocyanate compound.
<4> The composition for optical materials according to <2> or <3>, further containing sulfur.
<5> An optical material obtained by polymerizing the composition for optical materials according to any one of <2> to <4>.
<6> The optical material according to <1> or <5>, wherein an annealing treatment is performed after polymerization.

本発明により、従来技術では困難であった、重合硬化前の段階で硬化後の黄色の変色発生の有無を予測、判別し、良否の判断を可能にする、エピスルフィド化合物またはそれを含む組成物からなる光学材料用組成物等を提供することが可能となった。   From the episulfide compound or a composition containing the same according to the present invention, which is difficult in the prior art, predicts and discriminates the occurrence of yellow discoloration after curing at the stage before polymerization curing, and makes it possible to judge the quality. It became possible to provide the composition for optical materials which becomes.

本発明で用いられるエピスルフィド化合物は、すべてのエピスルフィド化合物を包括するが、具体例として鎖状脂肪族骨格、脂肪族環状骨格、芳香族骨格を有する化合物に分けて列挙する。
鎖状脂肪族骨格を有する化合物としては、下記(1)式で表される化合物が挙げられる。
The episulfide compounds used in the present invention include all episulfide compounds, but as specific examples, they are listed separately as compounds having a chain aliphatic skeleton, an aliphatic cyclic skeleton, and an aromatic skeleton.
Examples of the compound having a chain aliphatic skeleton include compounds represented by the following formula (1).


(ただし、mは0〜4の整数、nは0〜2の整数を表す。)

(However, m represents an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 0 to 2.)

脂肪族環状骨格を有する化合物としては、下記(2)式または(3)式で表される化合物が挙げられる。   Examples of the compound having an aliphatic cyclic skeleton include compounds represented by the following formula (2) or (3).


(p、qはそれぞれ独立して0〜4の整数を表す。)

(P and q each independently represents an integer of 0 to 4)


(p、qはそれぞれ独立して0〜4の整数を表す。)
芳香族骨格を有する化合物としては、下記(4)式で表される化合物が挙げられる。

(P and q each independently represents an integer of 0 to 4)
Examples of the compound having an aromatic skeleton include compounds represented by the following formula (4).


(p、qはそれぞれ独立して0〜4の整数を表す。)

(P and q each independently represents an integer of 0 to 4)

中でも好ましい化合物は、鎖状脂肪族骨格を有する上記(1)式で表される化合物であり、具体的にはビス(β−エピチオプロピル)スルフィド、ビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィド、ビス(β−エピチオプロピル)トリスルフィド、ビス(β−エピチオプロピルチオ)メタン、1,2−ビス(β−エピチオプロピルチオ)エタン、1,3−ビス(β−エピチオプロピルチオ)プロパン、1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ブタン、ビス(β−エピチオプロピルチオエチル)スルフィドである。特に好ましい化合物は、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド(上記(1)式でn=0)、ビス(β−エピチオプロピル)ジスルフィド(上記(1)式でm=0、n=1)であり、最も好ましい化合物は、ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド(上記(1)式でn=0)である。   Among them, preferred compounds are those represented by the above formula (1) having a chain aliphatic skeleton, specifically, bis (β-epithiopropyl) sulfide, bis (β-epithiopropyl) disulfide, bis (Β-epithiopropyl) trisulfide, bis (β-epithiopropylthio) methane, 1,2-bis (β-epithiopropylthio) ethane, 1,3-bis (β-epithiopropylthio) propane 1,4-bis (β-epithiopropylthio) butane, bis (β-epithiopropylthioethyl) sulfide. Particularly preferred compounds are bis (β-epithiopropyl) sulfide (n = 0 in the above formula (1)), bis (β-epithiopropyl) disulfide (m = 0 in the above formula (1), n = 1). The most preferred compound is bis (β-epithiopropyl) sulfide (n = 0 in the above formula (1)).

また、脂肪族環状骨格を有するエピスルフィド化合物としては、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキサン(上記(2)式でp=0、q=0)、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)シクロヘキサン(上記(2)式でp=1、q=1)、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕メタン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)シクロヘキシル〕スルフィド、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオ)−1,4−ジチアン(上記(3)式でp=0、q=0)、2,5−ビス(β−エピチオプロピルチオエチルチオメチル)−1,4−ジチアン等を挙げることができる。   Examples of the episulfide compound having an aliphatic cyclic skeleton include 1,3 and 1,4-bis (β-epithiopropylthio) cyclohexane (p = 0, q = 0 in the above formula (2)), 1,3 And 1,4-bis (β-epithiopropylthiomethyl) cyclohexane (p = 1, q = 1 in the above formula (2), bis [4- (β-epithiopropylthio) cyclohexyl] methane, 2, 2-bis [4- (β-epithiopropylthio) cyclohexyl] propane, bis [4- (β-epithiopropylthio) cyclohexyl] sulfide, 2,5-bis (β-epithiopropylthio) -1, 4-dithiane (p = 0, q = 0 in the above formula (3)), 2,5-bis (β-epithiopropylthioethylthiomethyl) -1,4-dithiane and the like can be mentioned.

また、芳香族骨格を有するエピスルフィド化合物としては、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ベンゼン(上記(4)でp=0、q=0)、1,3および1,4−ビス(β−エピチオプロピルチオメチル)ベンゼン(上記(4)式でp=1、q=1)、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕メタン、2,2−ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕プロパン、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(β−エピチオプロピルチオ)フェニル〕スルフィン、4,4−ビス(β−エピチオプロピルチオ)ビフェニル等を挙げることができる。   Examples of the episulfide compound having an aromatic skeleton include 1,3 and 1,4-bis (β-epithiopropylthio) benzene (p = 0, q = 0 in the above (4)), 1, 3 and 1 , 4-bis (β-epithiopropylthiomethyl) benzene (p = 1, q = 1 in the above formula (4), bis [4- (β-epithiopropylthio) phenyl] methane, 2,2- Bis [4- (β-epithiopropylthio) phenyl] propane, bis [4- (β-epithiopropylthio) phenyl] sulfide, bis [4- (β-epithiopropylthio) phenyl] sulfine, 4, 4-bis (β-epithiopropylthio) biphenyl and the like can be mentioned.

エピスルフィド化合物中の鉄、クロム、ニッケルの合計含有量は、鉄、クロム、ニッケルの合計の含有量を測定できるのであればどのような測定方法でも構わないが、好ましくはICP発光分析装置を用いて測定する。測定は定法に従い、エピスルフィド化合物を硫酸や硝酸等の酸で前処理したのち行う。これら測定を行い、鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が5.0ppm以下であるエピスルフィド化合物が用いられる。好ましくは2.0ppm以下、より好ましくは1.0ppm以下、さらに好ましくは0.5ppm以下、最も好ましくは0.3ppm以下である。   The total content of iron, chromium and nickel in the episulfide compound may be any measuring method as long as the total content of iron, chromium and nickel can be measured, but preferably using an ICP emission spectrometer. taking measurement. The measurement is carried out according to a conventional method after pretreatment of the episulfide compound with an acid such as sulfuric acid or nitric acid. By performing these measurements, an episulfide compound having a total content of iron, chromium, and nickel of 5.0 ppm or less is used. Preferably it is 2.0 ppm or less, More preferably, it is 1.0 ppm or less, More preferably, it is 0.5 ppm or less, Most preferably, it is 0.3 ppm or less.

鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が5.0ppmを超えた場合、これらエピスルフィド化合物もしくはそれを含む組成物は、重合硬化した際に黄色に変色して使用不可となる。したがって、鉄、クロム、ニッケルの合計含有量を測定することで、重合硬化せずに黄色に変色発生の有無を予測、判別し、エピスルフィド化合物の品質の良否の判断が可能となる。   When the total content of iron, chromium, and nickel exceeds 5.0 ppm, these episulfide compounds or compositions containing the same turn yellow and become unusable when polymerized and cured. Therefore, by measuring the total content of iron, chromium, and nickel, it is possible to predict and discriminate the occurrence of discoloration to yellow without polymerization and hardening, and to judge the quality of the episulfide compound.

鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が5.0ppmを超える場合、精製工程を経て5.0ppm以下とすることは有効な手法である。更に精製をかけて好ましい、より好ましい、さらに好ましくい、最も好ましい状態とすることも有効な手法である。精製の手法としては水洗、蒸留、カラム分離操作、吸着剤処理、イオン交換樹脂処理等が挙げられるが、水洗、蒸留が好ましい。 When the total content of iron, chromium, and nickel exceeds 5.0 ppm, it is an effective technique to set the content to 5.0 ppm or less through a purification process. It is also an effective technique to obtain a more preferable, more preferable, and most preferable state by further purification. Examples of the purification method include water washing, distillation, column separation operation, adsorbent treatment, ion exchange resin treatment, and the like, but water washing and distillation are preferred.

水洗は、溶媒を使用してもしなくてもよいが、通常は使用する。溶媒としては該エピスルフィド化合物を溶解するのであればどのような溶媒を用いても構わないが、好ましくは水と分離しやすいエーテル、トルエン、ベンゼン、好ましくはトルエンを用いる。したがって水洗は、通常トルエンに溶解した状態で行い、終了後にトルエンを除去する。   Washing with water may or may not use a solvent, but is usually used. Any solvent may be used as long as it can dissolve the episulfide compound, but ether, toluene, benzene, preferably toluene, which are easily separated from water, are preferably used. Therefore, washing with water is usually performed in a state dissolved in toluene, and toluene is removed after completion.

蒸留は、使用するエピスルフィド化合物により条件が異なるが、該エピスルフィド化合物が蒸留出来るのであればどのような条件でも構わない。好ましくは減圧下であり、より好ましくは0.01〜100Torrである。蒸留温度は分解しない温度であればよいが、好ましくは20〜200℃、より好ましくは50℃〜150℃である。   The conditions for distillation vary depending on the episulfide compound to be used, but any conditions may be used as long as the episulfide compound can be distilled. It is preferably under reduced pressure, more preferably 0.01 to 100 Torr. Although distillation temperature should just be a temperature which does not decompose | disassemble, Preferably it is 20-200 degreeC, More preferably, it is 50 to 150 degreeC.

本発明のエピスルフィド化合物とポリチオール化合物からなる光学材料用組成物で用いられるポリチオール化合物とは、すべてのポリチオール化合物を包含するが、具体的には、メタンジチオール、1,2−ジメルカプトエタン、2,2−ジメルカプトプロパン、1,3−ジメルカプトプロパン、1,2,3−トリメルカプトプロパン、1,4−ジメルカプトブタン、1,6−ジメルカプトヘキサン、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)エタン、1,5−ジメルカプト−3−オキサペンタン、1,8−ジメルカプト−3,6−ジオキサオクタン、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジチオール、3,4−ジメトキシブタン−1,2−ジチオール、2−メルカプトメチル−1,3−ジメルカプトプロパン、2−メルカプトメチル1,4−ジメルカプトプロパン、2−(2−メルカプトエチルチオ)−1,3−ジメルカプトプロパン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパン、1,1,1−トリス(メルカプトメチル)プロパン、テトラキス(メルカプトメチル)メタン、4、8−ジメルカプトメチル−1、11−ジメルカプト−3、6、9−トリチアウンデカン、4、7−ジメルカプトメチル−1、11−ジメルカプト−3、6、9−トリチアウンデカン、5、7−ジメルカプトメチル−1、11−ジメルカプト−3、6、9−トリチアウンデカン、1、1、3、3−テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、エチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、1,4−ブタンジオールビス(2−メルカプトアセテート)、1,4−ブタンジオールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、1,1−ジメルカプトシクロヘキサン、1,2−ジメルカプトシクロヘキサン、1,3−ジメルカプトシクロヘキサン、1,4−ジメルカプトシクロヘキサン、1,3−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、2,5−ビス(メルカプトエチル)−1,4−ジチアン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、ビス(4−メルカプトフェニル)スルフィド、ビス(4−メルカプトフェニル)エーテル、2,2−ビス(4−メルカプトフェニル)プロパン、ビス(4−メルカプトメチルフェニル)スルフィド、ビス(4−メルカプトメチルフェニル)エーテル、2,2−ビス(4−メルカプトメチルフェニル)プロパン等を挙げることができる。 The polythiol compound used in the composition for optical materials comprising the episulfide compound and the polythiol compound of the present invention includes all polythiol compounds. Specifically, methanedithiol, 1,2-dimercaptoethane, 2, 2-dimercaptopropane, 1,3-dimercaptopropane, 1,2,3-trimercaptopropane, 1,4-dimercaptobutane, 1,6-dimercaptohexane, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 1 , 2-bis (2-mercaptoethylthio) ethane, 1,5-dimercapto-3-oxapentane, 1,8-dimercapto-3,6-dioxaoctane, 2,2-dimethylpropane-1,3-dithiol 3,4-dimethoxybutane-1,2-dithiol, 2-mercaptomethyl-1,3-dimer Ptopropane, 2-mercaptomethyl 1,4-dimercaptopropane, 2- (2-mercaptoethylthio) -1,3-dimercaptopropane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) -3-mercaptopropane, 1,1,1-tris (mercaptomethyl) propane, tetrakis (mercaptomethyl) methane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 4,7-dimercapto Methyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane 1,1,3,3- Tetrakis (mercaptomethylthio) propane, ethylene glycol bis (2-mercaptoacetate), ethylene glycol vinyl (3-mercaptopropionate), 1,4-butanediol bis (2-mercaptoacetate), 1,4-butanediol bis (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (2-mercaptoacetate), Trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), 1,1-dimercaptocyclohexane, 1,2-dimercaptocyclohexane 1,3-dimercaptocyclohexane, 1,4-dimercaptocyclohexane, 1,3-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, 2,5-bis (mercaptomethyl) -1,4-dithiane, 2,5-bis (mercaptoethyl) -1,4-dithiane, 1,2-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,4-bis (Mercaptomethyl) benzene, bis (4-mercaptophenyl) sulfide, bis (4-mercaptophenyl) ether, 2,2-bis (4-mercaptophenyl) propane, bis (4-mercaptomethylphenyl) sulfide, bis (4 -Mercaptomethylphenyl) ether, 2,2-bis (4-mercaptomethylphenyl) propane and the like.

以上の中で好ましい化合物の具体例としては、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、2,5−ビス(メルカプトメチル)−1,4−ジチアン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)−3−メルカプトプロパン、4、8−ジメルカプトメチル−1、11−ジメルカプト−3、6、9−トリチアウンデカン、4、7−ジメルカプトメチル−1、11−ジメルカプト−3、6、9−トリチアウンデカン、5、7−ジメルカプトメチル−1、11−ジメルカプト−3、6、9−トリチアウンデカン、1、1、3、3−テトラキス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼンが挙げられる。さらに好ましい化合物の具体例としては、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼンであり、最も好ましい化合物はビス(2−メルカプトエチル)スルフィドである。   Specific examples of preferable compounds among the above include bis (2-mercaptoethyl) sulfide, pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), 2,5-bis (mercapto). Methyl) -1,4-dithiane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) -3-mercaptopropane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane 4,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 1, 1,3,3-tetrakis (mercaptomethylthio) propane, 1,3-bis (mercaptomethyl) Benzene, 1,4-bis (mercaptomethyl) include benzene. More specific examples of the compound are bis (2-mercaptoethyl) sulfide and 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, and the most preferable compound is bis (2-mercaptoethyl) sulfide.

エピスルフィド化合物とポリチオール化合物からなる光学材料用組成物においては、エピスルフィド化合物とポリチオール化合物の合計を100重量部とした場合、エピスルフィド化合物は通常70〜99重量部であるが、好ましくは80〜98重量部、特に好ましくは85〜97重量部である。   In the composition for optical materials composed of an episulfide compound and a polythiol compound, when the total of the episulfide compound and the polythiol compound is 100 parts by weight, the episulfide compound is usually 70 to 99 parts by weight, preferably 80 to 98 parts by weight. Particularly preferred is 85 to 97 parts by weight.

本発明の光学材料用組成物は、更にポリイソシアネート化合物を加えてもよい。該ポリイソシアネート化合物は、イソシアネート基を複数有する総ての化合物を包含するが、具体的には、ジエチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナートメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナートメチル)シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネート、2,6−ビス(イソシアナートメチル)デカヒドロナフタレン、リジントリイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、o−トリジンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、3−(2’−イソシアネートシクロヘキシル)プロピルイソシアネート、トリス(フェニルイソシアネート)チオホスフェート、イソプロピリデンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、2、2’−ビス(4−イソシアナートフェニル)プロパン、トリフェニルメタントリイソシアネート、ビス(ジイソシアナートトリル)フェニルメタン、4,4’,4’’−トリイソシアネート−2,5−ジメトキシフェニルアミン、3,3’−ジメトキシベンジジン−4,4’−ジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、4,4’−ジイソシアナートビフェニル、4,4’−ジイソシアナート−3,3’−ジメチルビフェニル、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、1,1’−メチレンビス(4−イソシアナートベンゼン)、1,1’−メチレンビス(3−メチル−4−イソシアナートベンゼン)、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン、1,4−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−イソシアナート−2−プロピル)ベンゼン、2,6−ビス(イソシアナートメチル)ナフタレン、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ビス(イソシアナートメチル)テトラヒドロジシクロペンタジエン、ビス(イソシアナートメチル)ジシクロペンタジエン、ビス(イソシアナートメチル)テトラヒドロチオフェン、ビス(イソシアナートメチル)ノルボルネン、ビス(イソシアナートメチル)アダマンタン、ダイマー酸ジイソシアネート、1,3,5−トリ(1−イソシアナートヘキシル)イソシアヌル酸、チオジエチルジイソシアネート、チオジプロピルジイソシアネート、チオジヘキシルジイソシアネート、ビス〔(4−イソシアナートメチル)フェニル〕スルフィド、2,5−ジイソシアネート−1,4−ジチアン、2,5−ジイソシアナートメチル−1,4−ジチアン、2,5−ジイソシアナートメチルチオフェン、ジチオジエチルジイソシアネート、ジチオジプロピルジイソシアネート等のポリイソシアネート類、さらには上記のイソシアネート類のイソシアネート基の全部または一部をイソチオシアネート基に変えた化合物等を挙げることができる。また、以上のうちポリイソシアネート類については、ビュレット型反応による二量体、環化三量体およびアルコールまたはチオールの付加物等のイソシアネート類を挙げることができる。以上具体例を示したが、本発明の光学材料用組成物に用いることができるポリイソシアネート化合物はこれらに限定されるわけではなく、また、これらポリイソシアネート化合物は、単独でも2種以上を混合して使用しても構わない。   The composition for optical materials of the present invention may further contain a polyisocyanate compound. The polyisocyanate compound includes all compounds having a plurality of isocyanate groups. Specifically, diethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, 1,3-bis ( Isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, isophorone diisocyanate, 2,6-bis (isocyanatomethyl) decahydronaphthalene, lysine triisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6 -Tolylene diisocyanate, o-tolidine diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 4,4'-diphenyl ether diisocyanate, -(2'-isocyanatocyclohexyl) propyl isocyanate, tris (phenyl isocyanate) thiophosphate, isopropylidenebis (cyclohexyl isocyanate), 2,2'-bis (4-isocyanatophenyl) propane, triphenylmethane triisocyanate, bis ( Diisocyanatotolyl) phenylmethane, 4,4 ′, 4 ″ -triisocyanate-2,5-dimethoxyphenylamine, 3,3′-dimethoxybenzidine-4,4′-diisocyanate, 1,3-phenylene diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, 4,4′-diisocyanatobiphenyl, 4,4′-diisocyanate-3,3′-dimethylbiphenyl, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, 1,1 -Methylenebis (4-isocyanatobenzene), 1,1'-methylenebis (3-methyl-4-isocyanatobenzene), m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, 1,3-bis (1-isocyanate) -1-methylethyl) benzene, 1,4-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene, 1,3-bis (2-isocyanato-2-propyl) benzene, 2,6-bis (isocyanate) Natomethyl) naphthalene, 1,5-naphthalene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) tetrahydrodicyclopentadiene, bis (isocyanatomethyl) dicyclopentadiene, bis (isocyanatomethyl) tetrahydrothiophene, bis (isocyanatomethyl) norbornene, Bis (isocyaner Tomethyl) adamantane, dimer acid diisocyanate, 1,3,5-tri (1-isocyanatohexyl) isocyanuric acid, thiodiethyl diisocyanate, thiodipropyl diisocyanate, thiodihexyl diisocyanate, bis [(4-isocyanatomethyl) phenyl] sulfide 2,5-diisocyanate-1,4-dithiane, 2,5-diisocyanatomethyl-1,4-dithiane, 2,5-diisocyanatomethylthiophene, dithiodiethyl diisocyanate, dithiodipropyl diisocyanate Furthermore, the compound etc. which changed all or one part of the isocyanate group of said isocyanate into the isothiocyanate group can be mentioned. Among the above, polyisocyanates include isocyanates such as dimers, cyclized trimers and adducts of alcohols or thiols by burette type reaction. Specific examples have been shown above, but the polyisocyanate compounds that can be used in the composition for optical materials of the present invention are not limited to these, and these polyisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more. May be used.

以上の中で好ましいポリイソシアネート化合物は、1,3−ビス(イソシアナートメチル)シクロヘキサン、m−キシリレンジイソシアネート、ビス(イソシアナートメチル)ノルボルネン、2,5−ジイソシアナートメチル−1,4−ジチアン、1,3−ビス(1−イソシアナート−1−メチルエチル)ベンゼンであり、最も好ましいポリイソシアネート化合物は、m−キシリレンジイソシアネートである。   Of these, preferred polyisocyanate compounds are 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, m-xylylene diisocyanate, bis (isocyanatomethyl) norbornene, 2,5-diisocyanatomethyl-1,4-dithiane. 1,3-bis (1-isocyanato-1-methylethyl) benzene, and the most preferred polyisocyanate compound is m-xylylene diisocyanate.

上記ポリイソシアネート化合物の添加量は、光学材料用組成物全量に対して、通常は0.1〜30質量部であり、好ましくは0.5〜20質量部であり、より好ましくは1〜15質量部である。   The addition amount of the polyisocyanate compound is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to the total amount of the composition for optical materials. Part.

なお、本発明の光学材料用組成物に硫黄を加えても良い。硫黄を用いる場合は、あらかじめエピスルフィド化合物と硫黄を予備的に反応させておくことが好ましい。この予備的な重合反応の条件は、好ましくは−10℃〜120℃で0.1〜240時間、より好ましくは0〜100℃で0.1〜120時間、特に好ましくは20〜80℃で0.1〜60時間である。予備的な反応を進行させるために触媒を用いることは効果的であり、好ましい例として2−メルカプト−1−メチルイミダゾール、トリフェニルホスフィン、3,5−ジメチルピラゾール、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフィンアミド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、1,2,3−トリフェニルグアニジン、1,3−ジフェニルグアジニン、1,1,3,3−テトラメチレングアニジン、アミノグアニジン尿素、トリメチルチオ尿素、テトラエチルチオ尿素、ジメチルエチルチオ尿素、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ピペコリルジチオカルバミン酸ピペコリウム等が挙げられる。さらには、この予備的な重合反応により硫黄を10%以上(反応前を100%とする)消費させておくことが好ましく、20%以上消費させておくことがより好ましい。予備的な反応は、大気、窒素等の不活性ガス下、常圧もしくは加減圧による密閉下等、任意の雰囲気下で行ってよい。なお、予備的な反応の進行度を検知するために液体クロマトグラフィーや屈折率計を用いることも可能である。   In addition, you may add sulfur to the composition for optical materials of this invention. When sulfur is used, it is preferable to preliminarily react the episulfide compound and sulfur in advance. The conditions for this preliminary polymerization reaction are preferably -10 ° C to 120 ° C for 0.1 to 240 hours, more preferably 0 to 100 ° C for 0.1 to 120 hours, and particularly preferably 20 to 80 ° C for 0 hours. .1 to 60 hours. It is effective to use a catalyst to advance the preliminary reaction, and preferred examples include 2-mercapto-1-methylimidazole, triphenylphosphine, 3,5-dimethylpyrazole, N-cyclohexyl-2-benzothia. Zolylsulfinamide, dipentamethylene thiuram tetrasulfide, tetrabutyl thiuram disulfide, tetraethyl thiuram disulfide, 1,2,3-triphenylguanidine, 1,3-diphenylguanidine, 1,1,3,3-tetramethyleneguanidine Aminoguanidine urea, trimethylthiourea, tetraethylthiourea, dimethylethylthiourea, zinc dibutyldithiocarbamate, zinc dibenzyldithiocarbamate, zinc diethyldithiocarbamate, zinc dimethyldithiocarbamate, Cholyl dithiocarbamate Pipekoriumu the like. Further, it is preferable to consume 10% or more of sulfur by this preliminary polymerization reaction (100% before reaction), and more preferably 20% or more. The preliminary reaction may be performed under any atmosphere such as air, inert gas such as nitrogen, sealed under normal pressure or pressure reduction. It is also possible to use liquid chromatography or a refractometer to detect the progress of the preliminary reaction.

硫黄の添加量は、光学材料用組成物全量に対して、通常は0.01〜40重量部であり、好ましくは0.1〜30重量部であり、より好ましくは0.5〜25重量部である。 The addition amount of sulfur is usually 0.01 to 40 parts by weight, preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 25 parts by weight with respect to the total amount of the composition for optical materials. It is.

本発明では、光学材料用組成物に対し、あらかじめ脱気処理を行うことが好ましい。脱気処理は、組成成分の一部もしくは全部と反応可能な化合物、重合触媒、添加剤の混合前、混合時あるいは混合後に、減圧下で行う。好ましくは、混合時あるいは混合後に、減圧下で行う。処理条件は、0.001〜50torrの減圧下、1分間〜24時間、0℃〜100℃で行う。減圧度は、好ましくは0.005〜25torrであり、より好ましくは0.01〜10torrであり、これらの範囲で減圧度を可変しても構わない。脱気時間は、好ましくは5分間〜18時間であり、より好ましくは10分間〜12時間である。脱気の際の温度は、好ましくは5℃〜80℃であり、より好ましくは10℃〜60℃であり、これらの範囲で温度を可変しても構わない。脱気処理の際に、撹拌、気体の吹き込み、超音波などによる振動などによって、樹脂用組成物の界面を更新することは、脱気効果を高める上で好ましい操作である。脱気処理により、除去される成分は、主に硫化水素等の溶存ガスや低分子量のチオール等の低沸点物等であるが、本発明の効果を発現するのであれば、特に、除去の対象成分の種類は限定されない。   In this invention, it is preferable to deaerate with respect to the composition for optical materials previously. The deaeration treatment is performed under reduced pressure before, during or after mixing the compound capable of reacting with some or all of the composition components, the polymerization catalyst, and the additive. Preferably, it is performed under reduced pressure during or after mixing. The treatment conditions are 0 to 100 ° C. under reduced pressure of 0.001 to 50 torr for 1 minute to 24 hours. The degree of decompression is preferably 0.005 to 25 torr, more preferably 0.01 to 10 torr, and the degree of decompression may be varied within these ranges. The deaeration time is preferably 5 minutes to 18 hours, more preferably 10 minutes to 12 hours. The temperature at the time of deaeration is preferably 5 ° C. to 80 ° C., more preferably 10 ° C. to 60 ° C., and the temperature may be varied within these ranges. In the degassing treatment, renewing the interface of the resin composition by stirring, blowing of gas, vibration by ultrasonic waves or the like is a preferable operation for enhancing the degassing effect. The components removed by the degassing treatment are mainly dissolved gases such as hydrogen sulfide and low-boiling substances such as low molecular weight thiols. The kind of component is not limited.

さらには、これらの光学材料用組成物および/または混合前の各原料を0.05〜10μm程度の孔径を有するフィルターで不純物等を濾過し精製することは、本発明の光学材料の品質をさらに高める上からも好ましい。   Furthermore, by purifying the composition for optical material and / or each raw material before mixing with a filter having a pore size of about 0.05 to 10 μm to purify impurities, the quality of the optical material of the present invention is further improved. It is also preferable from the viewpoint of increasing.

以下、本発明の光学材料用組成物を重合して光学材料を製造する方法について説明する。
本発明の光学材料用組成物を重合硬化する触媒としては、アミン、オニウム塩やホスフィン化合物が用いられる。具体例としてはアミン、第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩、第3級スルホニウム塩、第2級ヨードニウム塩、ホスフィン化合物が挙げられる。中でも組成物との相溶性の良好な第4級アンモニウム塩および第4級ホスホニウム塩、ホスフィン化合物がより好ましく、さらに好ましくは第4級ホスホニウム塩である。より好ましい化合物の具体例としては、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラフェニルアンモニウムブロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、1−n−ドデシルピリジニウムクロライド等の第4級アンモニウム塩、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド等の第4級ホスホニウム塩、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。これらの中で、さらに好ましい化合物は、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイドであり、最も好ましい化合物は、テトラ−n−ブチルホスホニウムブロマイドである。重合触媒は単独でも、2種類以上を混合して使用してもかまわない。
Hereinafter, a method for producing an optical material by polymerizing the composition for optical materials of the present invention will be described.
As the catalyst for polymerizing and curing the composition for optical materials of the present invention, amines, onium salts and phosphine compounds are used. Specific examples include amines, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, tertiary sulfonium salts, secondary iodonium salts, and phosphine compounds. Of these, quaternary ammonium salts, quaternary phosphonium salts, and phosphine compounds having good compatibility with the composition are more preferable, and quaternary phosphonium salts are more preferable. Specific examples of more preferred compounds include quaternary ammonium salts such as tetra-n-butylammonium bromide, tetraphenylammonium bromide, triethylbenzylammonium chloride, cetyldimethylbenzylammonium chloride, 1-n-dodecylpyridinium chloride, tetra- Examples thereof include quaternary phosphonium salts such as n-butylphosphonium bromide and tetraphenylphosphonium bromide, and phosphine compounds such as triphenylphosphine. Of these, more preferred compounds are triethylbenzylammonium chloride and tetra-n-butylphosphonium bromide, and the most preferred compound is tetra-n-butylphosphonium bromide. The polymerization catalyst may be used alone or in combination of two or more.

重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常は光学材料用組成物全量に対して0.001wt%以上5wt%以下、好ましくは、0.01wt%以上1wt%以下、最も好ましくは、0.01wt%以上0.5wt%以下使用する。重合触媒の添加量が5wt%より多いと硬化物の屈折率、耐熱性が低下し、着色する場合がある。また、0.001wt%より少ないと十分に硬化せず耐熱性が不十分となる場合がある。   The addition amount of the polymerization catalyst varies depending on the components of the composition, the mixing ratio and the polymerization curing method, but is not generally determined, but is usually 0.001 wt% or more and 5 wt% or less with respect to the total amount of the optical material composition, Preferably, 0.01 wt% or more and 1 wt% or less is used, and most preferably 0.01 wt% or more and 0.5 wt% or less is used. When the addition amount of the polymerization catalyst is more than 5 wt%, the refractive index and heat resistance of the cured product may be lowered and coloring may occur. On the other hand, if it is less than 0.001 wt%, it may not be cured sufficiently and heat resistance may be insufficient.

光学材料用組成物を重合硬化させる際に、ポットライフの延長や重合発熱の分散化などを目的として、必要に応じて重合調整剤を添加することができる。重合調整剤として好ましい化合物は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロゲン化物であり、より好ましい化合物はアルキル基を有するゲルマニウム、スズ、アンチモンの塩化物である。さらに好ましい化合物は、具体的にはジブチルスズジクロライド、ブチルスズトリクロライド、ジオクチルスズジクロライド、オクチルスズトリクロライド、ジブチルジクロロゲルマニウム、ブチルトリクロロゲルマニウム、ジフェニルジクロロゲルマニウム、フェニルトリクロロゲルマニウム、トリフェニルアンチモンジクロライドであり、最も好ましい化合物の具体例は、ジブチルスズジクロライドである。重合調整剤は、単独でも、2種類以上を混合して使用しても良い。   When the composition for optical material is polymerized and cured, a polymerization regulator can be added as necessary for the purpose of extending the pot life or dispersing the polymerization heat. Preferred compounds as polymerization regulators are halides of silicon, germanium, tin, and antimony, and more preferred compounds are germanium, tin, and antimony chlorides having an alkyl group. More preferred compounds are specifically dibutyltin dichloride, butyltin trichloride, dioctyltin dichloride, octyltin trichloride, dibutyldichlorogermanium, butyltrichlorogermanium, diphenyldichlorogermanium, phenyltrichlorogermanium, triphenylantimony dichloride, and most preferred. A specific example of the compound is dibutyltin dichloride. The polymerization regulator may be used alone or in combination of two or more.

重合調整剤の添加量は、通常は光学材料用組成物全量に対して、0.0001〜5.0wt%であり、好ましくは0.0005〜3.0wt%であり、より好ましくは0.001〜2.0wt%である。   The addition amount of the polymerization regulator is usually 0.0001 to 5.0 wt%, preferably 0.0005 to 3.0 wt%, more preferably 0.001 based on the total amount of the optical material composition. -2.0 wt%.

また、本発明の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を得るに際して、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、ブルーイング剤等の添加剤を加えて、得られる材料の実用性をより向上せしめることはもちろん可能である。   In addition, when the optical material composition of the present invention is polymerized and cured to obtain an optical material, additives such as known antioxidants, ultraviolet absorbers and bluing agents are added to make the resulting material more practical. Of course, it can be improved.

酸化防止剤の好ましい例としてはフェノール誘導体が挙げられる。中でも好ましい化合物は多価フェノール類、ハロゲン置換フェノール類であり、より好ましい化合物はカテコール、ピロガロール、アルキル置換カテコール類であり、最も好ましい化合物はカテコール、ピロガロールである。紫外線防止剤の好ましい例としては、ベンゾトリアゾール系化合物が挙げられる。中でも好ましい化合物の具体例は、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−tert−ペンチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−tert−ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−5−tert−オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールである。ブルーイング剤の好ましい例としてはアントラキノン系化合物が挙げられる。   Preferable examples of the antioxidant include phenol derivatives. Among them, preferred compounds are polyhydric phenols and halogen-substituted phenols, more preferred compounds are catechol, pyrogallol, and alkyl-substituted catechols, and most preferred compounds are catechol and pyrogallol. Preferable examples of the ultraviolet light inhibitor include benzotriazole compounds. Among these, specific examples of preferred compounds include 2- (2-hydroxy-5-methylphenyl) -2H-benzotriazole, 5-chloro-2- (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -2H. -Benzotriazole, 2- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chloro-2H-benzotriazole, 2- (3,5-di-tert-pentyl-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (3,5-di-tert-butyl-2-hydroxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -2H-benzotriazole, 2 -(2-Hydroxy-5-tert-octylphenyl) -2H-benzotriazole. Preferable examples of the bluing agent include anthraquinone compounds.

また、本発明の光学材料用組成物が重合中に型から剥がれやすい場合は、公知の外部および/または内部密着性改善剤を使用または添加して、得られる硬化物と型の密着性を制御、向上せしめることも可能である。密着性改善剤としては、公知のシランカップリング剤やチタネート化合物類などがあげられ、これらは単独でも、2種類以上を混合して用いてもかまわない。添加量は通常、光学材料用組成物全量に対して0.0001〜5wt%である。逆に、本発明の組成物が重合後に型から剥がれにくい場合は、公知の外部および/または内部離型剤を使用または添加して、得られる硬化物の型からの離型性を向上せしめることも可能である。離型剤とは、フッ素系ノニオン界面活性剤、シリコン系ノニオン界面活性剤、燐酸エステル、酸性燐酸エステル、オキシアルキレン型酸性燐酸エステル、酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、オキシアルキレン型酸性燐酸エステルのアルカリ金属塩、高級脂肪酸のアルカリ金属塩、高級脂肪酸エステル、パラフィン、ワックス、高級脂肪族アミド、高級脂肪族アルコール、ポリシロキサン類、脂肪族アミンエチレンオキシド付加物などがあげられ、これらは単独でも、2種類以上を混合して用いてもかまわない。添加量は通常、光学材料用組成物全量に対して0.0001〜5wt%である。   In addition, when the composition for optical materials of the present invention is easily peeled off from the mold during polymerization, a known external and / or internal adhesion improver is used or added to control the adhesion between the obtained cured product and the mold. It is also possible to improve. Examples of the adhesion improving agent include known silane coupling agents and titanate compounds, and these may be used alone or in combination of two or more. The addition amount is usually 0.0001 to 5 wt% with respect to the total amount of the composition for optical materials. Conversely, when the composition of the present invention is difficult to peel off from the mold after polymerization, a known external and / or internal mold release agent may be used or added to improve the mold release properties of the resulting cured product. Is also possible. Release agents include fluorine-based nonionic surfactants, silicon-based nonionic surfactants, phosphate esters, acidic phosphate esters, oxyalkylene-type acidic phosphate esters, alkali metal salts of acidic phosphate esters, and alkalis of oxyalkylene-type acidic phosphate esters. Examples include metal salts, alkali metal salts of higher fatty acids, higher fatty acid esters, paraffins, waxes, higher aliphatic amides, higher aliphatic alcohols, polysiloxanes, aliphatic amine ethylene oxide adducts, and these can be used alone or in two types. A mixture of the above may be used. The addition amount is usually 0.0001 to 5 wt% with respect to the total amount of the composition for optical materials.

本発明の光学材料用組成物を重合硬化して光学材料を製造する方法は、さらに詳しく述べるならば以下の通りである。前述した各組成成分、酸化防止剤、紫外線吸収剤、重合触媒、ラジカル重合開始剤、密着性改善剤、離型剤などの添加剤を、全て同一容器内で同時に撹拌下に混合しても、各原料を段階的に添加混合しても、数成分を別々に混合後さらに同一容器内で再混合しても良い。各原料および副原料はいかなる順序で混合してもかまわない。混合にあたり、設定温度、これに要する時間等は基本的には各成分が十分に混合される条件であれば良い。   The method for producing an optical material by polymerizing and curing the composition for an optical material of the present invention is as follows in detail. Additives such as the above-mentioned composition components, antioxidants, ultraviolet absorbers, polymerization catalysts, radical polymerization initiators, adhesion improvers, mold release agents, etc., all mixed together in the same container under stirring, Each raw material may be added and mixed in stages, or several components may be mixed separately and then remixed in the same container. Each raw material and auxiliary raw material may be mixed in any order. In mixing, the set temperature, the time required for this, and the like may basically be the conditions under which each component is sufficiently mixed.

上述の反応、処理がなされた光学材料用組成物は、ガラスや金属製の型に注入され、加熱や紫外線などの活性エネルギー線の照射によって重合硬化反応が進められた後、型から外される。このようにして、光学材料が製造される。光学材料用組成物は、好ましくは加熱によって重合硬化され、光学材料が製造される。この場合、硬化時間は0.1〜200時間、通常1〜100時間であり、硬化温度は−10〜160℃、通常−10〜140℃である。重合は、所定の重合温度で所定時間のホールド、0.1℃〜100℃/時間の昇温、0.1℃〜100℃/時間の降温およびこれらの組み合わせで行うことができる。また、本発明の光学材料の製造方法において、重合終了後に、硬化物に対して50〜150℃の温度で10分〜5時間程度アニール処理を施すことは、光学材料の歪を除くために好ましい処理である。さらに必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等表面処理を行うことができる。   The composition for optical material subjected to the above reaction and treatment is poured into a glass or metal mold, and after the polymerization and curing reaction is advanced by irradiation with active energy rays such as heating or ultraviolet rays, the composition is removed from the mold. . In this way, an optical material is manufactured. The composition for optical material is preferably polymerized and cured by heating to produce an optical material. In this case, the curing time is 0.1 to 200 hours, usually 1 to 100 hours, and the curing temperature is −10 to 160 ° C., usually −10 to 140 ° C. The polymerization can be carried out by holding at a predetermined polymerization temperature for a predetermined time, raising the temperature by 0.1 ° C. to 100 ° C./hour, lowering the temperature by 0.1 ° C. to 100 ° C./hour, and combinations thereof. In addition, in the method for producing an optical material of the present invention, it is preferable to anneal the cured product at a temperature of 50 to 150 ° C. for about 10 minutes to 5 hours after the completion of polymerization in order to remove distortion of the optical material. It is processing. Furthermore, surface treatments such as dyeing, hard coating, impact resistant coating, antireflection and imparting antifogging properties can be performed as necessary.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、評価は以下の方法で行った。
鉄、クロム、ニッケルの合計含有量:エスアイアイ・ナノテクノロジー社製 ICP発光分析装置 SPS5520 を用い、エピスルフィド化合物の鉄、クロム、ニッケルの合計含有量を測定した。
黄色の測定:下記の重合方法A〜Dにより厚さ5mmの平板を作製し、カラーテクノ社製 色彩計 JS555 を用い、YI値を測定した。
鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が検出限界(0.1ppm)以下のエピスルフィド化合物を用いて作成した平板とのYI値を比較し、差(ΔYI)が0.1以下を◎、0.1〜0.3を○、0.3〜0.5を△、0.5以上を×とした。以上の内、◎○△を合格とした。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Evaluation was performed by the following method.
Total content of iron, chromium and nickel: The total content of iron, chromium and nickel of the episulfide compound was measured using ICP emission analyzer SPS5520 manufactured by SII Nanotechnology.
Measurement of yellow: A flat plate having a thickness of 5 mm was prepared by the following polymerization methods A to D, and the YI value was measured using a color techno JS555.
The YI value was compared with a flat plate prepared using an episulfide compound having a total content of iron, chromium and nickel of the detection limit (0.1 ppm) or less, and the difference (ΔYI) was 0.1 or less. .About.0.3 was .largecircle., 0.3 to 0.5 was .DELTA. Among the above, ◎ ○ △ was accepted.

(重合方法A)
ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド100重量部に、重合触媒としてテトラブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行った。その後1μmのPTFEフィルターにて濾過を行い、モールドへ注入し、20℃から100℃まで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。
(Polymerization method A)
To 100 parts by weight of bis (β-epithiopropyl) sulfide, 0.1 part by weight of tetrabutylphosphonium bromide was added as a polymerization catalyst and mixed uniformly at room temperature, followed by deaeration treatment. Thereafter, the mixture was filtered through a 1 μm PTFE filter, poured into a mold, and heated from 20 ° C. to 100 ° C. over 20 hours for polymerization and curing. Thereafter, the mold was removed to obtain an optical material.

(重合方法B)
ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド95重量部、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド5重量部からなる組成物に、重合触媒としてテトラブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行った。その後1μmのPTFEフィルターにて濾過を行い、モールドへ注入し、20℃から100℃まで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。
(Polymerization method B)
To a composition comprising 95 parts by weight of bis (β-epithiopropyl) sulfide and 5 parts by weight of bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 0.1 part by weight of tetrabutylphosphonium bromide is added as a polymerization catalyst, and uniformly at room temperature. After mixing, deaeration treatment was performed. Thereafter, the mixture was filtered through a 1 μm PTFE filter, poured into a mold, and heated from 20 ° C. to 100 ° C. over 20 hours for polymerization and curing. Thereafter, the mold was removed to obtain an optical material.

(重合方法C)
ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド77重量部、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン14重量部、テトラメチルキシリレンジイソシアネート9重量部に、重合触媒としてテトラブチルホスホニウムブロマイド0.2重量部、ジブチルスズジクロライド0.05重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行った。その後1μmのPTFEフィルターにて濾過を行い、モールドへ注入し、20℃から100℃まで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。
(Polymerization method C)
To 77 parts by weight of bis (β-epithiopropyl) sulfide, 14 parts by weight of 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 9 parts by weight of tetramethylxylylene diisocyanate, 0.2 parts by weight of tetrabutylphosphonium bromide as a polymerization catalyst, After adding 0.05 part by weight of dibutyltin dichloride and uniformly mixing at room temperature, deaeration treatment was performed. Thereafter, the mixture was filtered through a 1 μm PTFE filter, poured into a mold, and heated from 20 ° C. to 100 ° C. over 20 hours for polymerization and curing. Thereafter, the mold was removed to obtain an optical material.

(重合方法D)
ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド79重量部、硫黄14重量部にメルカプトメチルイミダゾール0.5重量部を加え、60℃で予備的に反応させた。その後20℃に冷却したのちビス(2−メルカプトエチル)スルフィド7重量部、ジブチルスズジクロライド0.2重量部、重合触媒としてトリエチルベンジルアンモニウムクロライド0.03重量部の混合液を加え、均一に混合したのち脱気処理を行った。その後1μmのPTFEフィルターにて濾過を行い、モールドへ注入し、20℃から100℃まで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。
(Polymerization method D)
0.5 parts by weight of mercaptomethylimidazole was added to 79 parts by weight of bis (β-epithiopropyl) sulfide and 14 parts by weight of sulfur, and preliminarily reacted at 60 ° C. After cooling to 20 ° C., a mixture of 7 parts by weight of bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 0.2 parts by weight of dibutyltin dichloride and 0.03 parts by weight of triethylbenzylammonium chloride as a polymerization catalyst was added and mixed uniformly. Deaeration treatment was performed. Thereafter, the mixture was filtered through a 1 μm PTFE filter, poured into a mold, and heated from 20 ° C. to 100 ° C. over 20 hours for polymerization and curing. Thereafter, the mold was removed to obtain an optical material.

(重合方法E)
ビス(β−エピチオプロピル)スルフィド80重量部、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド6重量部、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート6重量部、硫黄1重量部、m−キシリレンジイソシアネート7重量部にテトラブチルホスホニウムブロマイド0.1重量部、ジブチルスズジクロライド0.05重量部を添加し、室温で均一に混合したのち脱気処理を行った。その後1μmのPTFEフィルターにて濾過を行い、モールドへ注入し、20℃から100℃まで20時間かけて加熱し重合硬化させた。その後脱型し、光学材料を得た。
(Polymerization method E)
80 parts by weight of bis (β-epithiopropyl) sulfide, 6 parts by weight of bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 6 parts by weight of pentaerythritol tetrakisthiopropionate, 1 part by weight of sulfur, 7 parts by weight of m-xylylene diisocyanate Tetrabutylphosphonium bromide (0.1 parts by weight) and dibutyltin dichloride (0.05 parts by weight) were added and mixed uniformly at room temperature, followed by deaeration treatment. Thereafter, the mixture was filtered through a 1 μm PTFE filter, poured into a mold, and heated from 20 ° C. to 100 ° C. over 20 hours for polymerization and curing. Thereafter, the mold was removed to obtain an optical material.

(ブランクの作成)
鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が検出限界(0.1ppm)以下であったビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法A〜Eの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。
(Create blank)
Using bis (β-epithiopropyl) sulfide whose total content of iron, chromium and nickel was below the detection limit (0.1 ppm), a flat plate having a thickness of 5 mm was prepared using the polymerization methods A to E. Produced.

実施例1〜3
表1に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Aの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表1にまとめた。
Examples 1-3
Using the bis (β-epithiopropyl) sulfide having the total content of iron, chromium and nickel shown in Table 1, a 5 mm thick flat plate was prepared using the method of polymerization method A, and ΔYI was compared with that of the blank. Asked. The results are summarized in Table 1.

実施例4〜6
表1に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Bの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表1にまとめた。
Examples 4-6
A plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method B using bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium and nickel shown in Table 1. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 1.

実施例7〜9
表1に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Cの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表1にまとめた。
Examples 7-9
A bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium and nickel shown in Table 1 is used to prepare a 5 mm thick flat plate using the method of polymerization method C, and ΔYI is compared with a blank. Asked. The results are summarized in Table 1.

実施例10〜12
表2に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Dの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表2にまとめた。
Examples 10-12
Using a bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium, and nickel shown in Table 2, a plate having a thickness of 5 mm was prepared using the polymerization method D. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 2.

実施例13〜15
表2に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Eの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表2にまとめた。
Examples 13-15
A plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method E using bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium and nickel shown in Table 2. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 2.

比較例1
表3に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Aの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表3にまとめた。
Comparative Example 1
Using a bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium, and nickel shown in Table 3, a flat plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method A. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 3.

比較例2
表3に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Bの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表3にまとめた。
Comparative Example 2
Using a bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium, and nickel shown in Table 3, a plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method B. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 3.

比較例3
表3に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Cの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表3にまとめた。
Comparative Example 3
A plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method C using bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium and nickel shown in Table 3. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 3.

比較例4
表3に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Dの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表3にまとめた。
Comparative Example 4
Using a bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium, and nickel shown in Table 3, a flat plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method D. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 3.

比較例5
表3に示す鉄、クロム、ニッケルの合計含有量のビス(β−エピチオプロピル)スルフィドを用いて、重合方法Eの手法を用いて厚さ5mmの平板を作製した。ブランクと比較し、ブランクと比較しΔYIを求めた。結果を表3にまとめた。
Comparative Example 5
A plate having a thickness of 5 mm was prepared using the method of polymerization method E using bis (β-epithiopropyl) sulfide having a total content of iron, chromium and nickel shown in Table 3. Compared with the blank, ΔYI was obtained by comparing with the blank. The results are summarized in Table 3.

上述の実施例においては、鉄、クロム、ニッケルの合計含有量が0.5ppm以下であるという条件を満たすエピスルフィド化合物を用いた光学材料用組成物を重合させることにより、エピスルフィド化合物もしくはそれを含む組成物からなる光学材料用組成物等の硬化後の黄色を防止することができた。従って本発明によれば、重合反応の前に、予め、重合硬化後における黄色発生の有無の予測、良否を判断し、良好な性状の光学材料のみを選択的に製造できる。このため、光学材料用組成物の有効活用と、優れた光学材料の製造とがいずれも可能である。   In the above-described embodiments, the episulfide compound or the composition containing the same is polymerized by polymerizing the composition for optical materials using the episulfide compound that satisfies the condition that the total content of iron, chromium, and nickel is 0.5 ppm or less. It was possible to prevent yellowing after curing of the composition for optical materials made of a product. Therefore, according to the present invention, prior to the polymerization reaction, it is possible to preliminarily predict the presence or absence of yellowing after polymerization and to judge whether it is good or not, and to selectively produce only an optical material with good properties. For this reason, both effective utilization of the composition for optical materials and manufacture of an excellent optical material are possible.

Claims (1)

エピスルフィド化合物とポリチオール化合物とを含有する光学材料用組成物用のエピスルフィド化合物原料を得る方法であって、エピスルフィド化合物中の鉄、クロムおよびニッケルの合計含有量を測定し、その結果、鉄、クロムおよびニッケルの合計含有量が1.0ppm以下であるエピスルフィド化合物を選別して光学材料用組成物用のエピスルフィド化合物原料とする方法。   A method for obtaining an episulfide compound raw material for an optical material composition comprising an episulfide compound and a polythiol compound, the total content of iron, chromium and nickel in the episulfide compound being measured, and as a result, iron, chromium and A method in which an episulfide compound having a total nickel content of 1.0 ppm or less is selected and used as an episulfide compound raw material for an optical material composition.
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