JP5654625B2 - Digital micromirror positioning device - Google Patents
Digital micromirror positioning device Download PDFInfo
- Publication number
- JP5654625B2 JP5654625B2 JP2013041236A JP2013041236A JP5654625B2 JP 5654625 B2 JP5654625 B2 JP 5654625B2 JP 2013041236 A JP2013041236 A JP 2013041236A JP 2013041236 A JP2013041236 A JP 2013041236A JP 5654625 B2 JP5654625 B2 JP 5654625B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotation
- digital micromirror
- attached
- adjusting
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 27
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 2
- 238000003287 bathing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/198—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors with means for adjusting the mirror relative to its support
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/20—Light-tight connections for movable optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
本発明は、デジタルマイクロミラーの位置調節装置に係り、さらに詳しくは、露光装置に取り付けられるデジタルマイクロミラーの位置を調節して所望の場所にデジタルマイクロミラーにより変調されるビームを供給することのできるデジタルマイクロミラーの位置調節装置に関する。 The present invention relates to a position adjusting device for a digital micromirror, and more particularly, can adjust a position of a digital micromirror attached to an exposure apparatus to supply a beam modulated by the digital micromirror to a desired location. The present invention relates to a position adjusting device for a digital micromirror.
最近のプリント回路基板(PCB:Printed Circuit Board)産業は、様々なデジタル機器のさらなる性能向上に応えるために、既存の硬性PCBから軟性PCBをはじめとする各種の分野に拡大される転換期を迎えるようになり、これに伴い、PCBの大幅な性能改善が求められている。 The recent Printed Circuit Board (PCB) industry is entering a turning point in which it expands from existing hard PCBs to various fields including flexible PCBs in order to meet further performance improvements of various digital devices. Accordingly, there is a demand for significant performance improvement of the PCB.
このようなPCBの大幅な性能改善のニーズに積極的に対応すべく、PCBの上に超微細回路線幅を実現し得る新規な方式の露光エンジンが必要となる。 In order to positively respond to such a need for significant performance improvement of PCB, an exposure engine of a new system capable of realizing an ultra fine circuit line width on PCB is required.
また、これは、露光エンジンの低分解能から高分解能への移行による技術革新はもとより、多品種少量生産および大量生産体制にも柔軟に対応し、しかも、露光工程の飛躍的な短縮および生産性の向上を要求する新技術適用の必然性を引き起こす。 In addition to technological innovation by shifting the exposure engine from low resolution to high resolution, it can flexibly handle high-mix low-volume production and mass production systems, while dramatically shortening the exposure process and improving productivity. Causes the necessity of applying new technologies that require improvement.
このために、種々の露光方法が開発されているが、レーザーダイレクトイメージング(LDI:Laser Direct Imaging)を用いたマスクレス方式がその一つである。 For this purpose, various exposure methods have been developed, one of which is a maskless system using laser direct imaging (LDI).
既存のマスク方式の露光エンジンの問題点は、高解像度の微細回路パターンの露光に際してマスク製作コストおよび管理コストが高騰するため、高分解能の露光を行うことが困難であるということである。 The problem with the existing mask-type exposure engine is that it is difficult to perform high-resolution exposure because the mask manufacturing cost and the management cost increase during exposure of a high-resolution fine circuit pattern.
このような既存のマスク方式の問題点を解消するために、最近には、超微細回路線幅を実現し、且つ、工程数を大幅に減らし得る高分解能のマスクレス方式の露光エンジンが脚光を浴びている。 In order to solve such problems of the existing mask method, recently, an exposure engine of a high resolution maskless method that has realized an ultra fine circuit line width and can greatly reduce the number of processes has been highlighted. I'm bathing.
なお、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD:Digital Micromirror Device)を備えた露光エンジンが開発されているが、これは、多数のマイクロミラーが所定の角度をもって入射する光を所望の角度で送り、その他のビームは他の角度で送ることにより、所要の光のみを用いて1枚の画面を作成するといった原理を用いるエンジンである。 An exposure engine equipped with a digital micromirror device (DMD) has been developed. This is because light beams incident at a predetermined angle by a number of micromirrors are transmitted at a desired angle, and other beams are transmitted. Is an engine that uses the principle that a single screen is created using only the required light by sending it at another angle.
すなわち、光源により生成された光をステージ上の基板に伝達する従来の露光エンジンは、図1に示すように、回折光学素子およびフーリエ伝達レンズ101と、ミラー102と、DMD103と、第1プロジェクション光学系104と、ビーム移動デバイス105および第2プロジェクション光学系106などを有する。
That is, a conventional exposure engine that transmits light generated by a light source to a substrate on a stage has a diffractive optical element and Fourier
上述した構成を有する従来の露光エンジンは、光源からの光が進行する経路を設計する際にレンズの強度および長さなどの制限条件が発生するため、DMDの使用空間が手狭くてセット時に難点があった。 In the conventional exposure engine having the above-described configuration, when designing a path through which light from the light source travels, restrictions such as the strength and length of the lens are generated. was there.
また、光源からの光が進行する経路を広げるためにはレンズの強度を高めることを余儀なくされるが、この場合、全体の露光エンジンの強度が高すぎてしまうため好ましくない。関連する技術として、露光装置のビーム位置誤差測定方法およびこれを用いた露光装置(例えば、下記の特許文献1参照)がある。 Further, in order to widen the path through which the light from the light source travels, it is necessary to increase the strength of the lens. However, in this case, the overall exposure engine strength is too high, which is not preferable. As a related technique, there is a beam position error measuring method of an exposure apparatus and an exposure apparatus using the same (for example, refer to Patent Document 1 below).
本発明は上記の問題点を解消するためになされたものであり、その目的は、露光装置に取り付けられるデジタルマイクロミラーの位置を回転調節手段および水平調節手段を用いて簡単に調節することのできるデジタルマイクロミラーの位置調節装置を提供するところにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to easily adjust the position of a digital micromirror attached to an exposure apparatus using a rotation adjusting means and a horizontal adjusting means. A digital micromirror positioning device is being provided.
また、本発明の他の目的は、デジタルマイクロミラーと回転調節手段との間に冷却手段を取り付けて、前記デジタルマイクロミラーを冷却しながら熱による回転調節手段と水平調節手段との間の誤差をなくすことのできるデジタルマイクロミラーの位置調節装置を提供するところにある。 Another object of the present invention is to attach a cooling means between the digital micromirror and the rotation adjusting means to reduce an error between the rotation adjusting means and the level adjusting means due to heat while cooling the digital micromirror. There is a need to provide a position adjustment device for a digital micromirror that can be eliminated.
上記の目的を達成するために、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の一態様は、下部に結合されるデジタルマイクロミラーを回転動作させて方向を調節する回転調節手段と、前記回転調節手段の上部に結合され、前記デジタルマイクロミラーおよび回転調節手段を前後または左右の方向に調節する水平調節手段と、多数のフレームを結合して形成されて地面や装備に取り付けられ、上部水平部には前記水平調節手段が固定される支持枠と、前記回転調節手段30とデジタルマイクロミラーとの間には、前記デジタルマイクロミラーにおいて発生する熱を冷却させる冷却手段と、を備え、前記回転調節手段は、前記冷却手段の上部に固着され、内部には回転動作する回転軸が取り付けられる回転胴体と、前記回転胴体の上部に取り付けられる回転ケースと、前記回転ケースの一方の側に取り付けられ、前記回転軸を回転動作させる回転調節具と、前記回転ケースの一方の側に取り付けられ、前記回転調節具の作動を制限する回転ストッパーと、を備えることを特徴とする。
上記の目的を達成するために、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の他の態様は、下部に結合されるデジタルマイクロミラーを回転動作させて方向を調節する回転調節手段と、前記回転調節手段の上部に結合され、前記デジタルマイクロミラーおよび回転調節手段を前後または左右の方向に調節する水平調節手段と、多数のフレームを結合して形成されて地面や装備に取り付けられ、上部水平部には前記水平調節手段が固定される支持枠と、を備え、前記水平調節手段は、前記回転調節手段の上部に固着され、上部には前後ガイド溝が形成される下部ステージと、前記下部ステージの上部に取り付けられ、下部には前記前後ガイド溝に沿って移動自在に前後ガイドレールが形成され、上部には前記前後ガイド溝と直交する方向に左右ガイド溝が形成される中間ステージと、前記中間ステージの上部に取り付けられ、下部には前記左右ガイド溝に沿って移動自在に左右ガイドレールが形成される上部ステージと、前記中間ステージの一方の側に取り付けられ、前後方向に前記デジタルマイクロミラーおよび回転調節手段を調節する前後調節具と、前記上部ステージの一方の側に取り付けられ、左右方向に前記デジタルマイクロミラーおよび回転調節手段を調節する左右調節具と、を備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, one aspect of a digital micromirror position adjusting device according to the present invention includes a rotation adjusting means for adjusting a direction by rotating a digital micromirror coupled to a lower portion, and the rotation adjustment. It is connected to the upper part of the means, and is formed by combining a horizontal adjusting means for adjusting the digital micromirror and the rotation adjusting means in the front-rear or left-right direction, and a plurality of frames, and is attached to the ground or equipment, and is attached to the upper horizontal part. Comprises a support frame to which the level adjusting means is fixed , and a cooling means for cooling the heat generated in the digital micromirror between the rotation adjusting means 30 and the digital micromirror, and the rotation adjusting means. Is attached to the upper part of the cooling means, and a rotating body to which a rotating shaft is attached is mounted inside, and an upper part of the rotating body. A rotating case attached to one side of the rotating case, and a rotation adjusting tool that rotates the rotating shaft, and a rotating adjuster that is attached to one side of the rotating case and restricts the operation of the rotating adjusting tool. And a rotation stopper .
In order to achieve the above object, another aspect of the apparatus for adjusting the position of a digital micromirror according to the present invention includes a rotation adjusting means for adjusting a direction by rotating a digital micromirror coupled to a lower portion, and the rotation. A horizontal adjustment means that is coupled to the upper part of the adjustment means and adjusts the digital micromirror and the rotation adjustment means in the front-rear or left-right direction, and is formed by combining a number of frames, and is attached to the ground or equipment. And a support frame to which the level adjusting means is fixed. The level adjusting means is fixed to an upper part of the rotation adjusting means, and a lower stage in which front and rear guide grooves are formed in the upper part, and the lower stage The front and rear guide rails are formed at the lower part and are movable along the front and rear guide grooves. The upper part is perpendicular to the front and rear guide grooves. An intermediate stage in which left and right guide grooves are formed; an upper stage that is attached to an upper portion of the intermediate stage and in which a left and right guide rail is formed movably along the left and right guide grooves; and one of the intermediate stages And a front / rear adjuster for adjusting the digital micromirror and the rotation adjusting means in the front-rear direction, and a front / rear adjustment tool attached to one side of the upper stage for adjusting the digital micromirror and the rotation adjusting means in the left-right direction. And a left-right adjuster.
本発明によれば、露光装置に取り付けられるデジタルマイクロミラーの位置を回転調節手段および水平調節手段を用いて簡単に調節することができ、しかも、正確な位置において露光を行うことができるというメリットがある。 According to the present invention, it is possible to easily adjust the position of the digital micromirror attached to the exposure apparatus using the rotation adjusting means and the horizontal adjusting means, and to perform exposure at an accurate position. is there.
また、本発明によれば、簡単に操作される回転調節手段および水平調節手段を用いてデジタルマイクロミラーの位置を微細に調節することができ、しかも、手間およびコストを削減することができるというメリットがある。 In addition, according to the present invention, the position of the digital micromirror can be finely adjusted by using the rotation adjusting means and the level adjusting means that are easily operated, and the labor and cost can be reduced. There is.
さらに、本発明によれば、デジタルマイクロミラーと回転調節手段との間に冷却手段を取り付けて、前記デジタルマイクロミラーを冷却しながら回転調節手段と水平調節手段との間の誤差をなくすことができるというメリットがある。 Further, according to the present invention, a cooling means is attached between the digital micromirror and the rotation adjusting means, and an error between the rotation adjusting means and the horizontal adjusting means can be eliminated while cooling the digital micromirror. There is a merit.
以下、添付図面に基づき、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の構成について説明する。図2は、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置を示す斜視図であり、図3は、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の他の実施形態を示す斜視図であり、図4は、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の要部を示す分解斜視図であり、図5は、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の要部を示す斜視図であり、図6は、本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の作動状態を示す斜視図である。 Hereinafter, a configuration of a position adjusting device for a digital micromirror according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. 2 is a perspective view showing a position adjusting device for a digital micromirror according to the present invention, and FIG. 3 is a perspective view showing another embodiment of the position adjusting device for a digital micromirror according to the present invention. 4 is an exploded perspective view showing the main part of the position adjusting device of the digital micromirror according to the present invention, FIG. 5 is a perspective view showing the main part of the position adjusting device of the digital micromirror according to the present invention, FIG. 6 is a perspective view showing an operating state of the position adjusting device for the digital micromirror according to the present invention.
本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置10は、デジタルマイクロミラー20の回転方向を調節する回転調節手段30と、前記回転調節手段30と結合され、前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を前後または左右方向に調節する水平調節手段40と、地面や装備に固着され、前記水平調節手段40に固着される支持枠50と、前記デジタルマイクロミラー20と回転調節手段30との間に取り付けられる冷却手段60と、を備えてなる。
The digital micromirror
ここで、前記デジタルマイクロミラー20は、公知のデジタルマイクロミラーから構成されるため、別途の説明は省略する。
Here, since the
前記デジタルマイクロミラー20の回転方向を調節する回転調節手段30は、デジタルマイクロミラー20と結合される冷却手段60と結合されて前記デジタルマイクロミラー20の回転角度を調節する。
The
また、前記回転調節手段30は、前記冷却手段60の上部に固着され、内部には回転動作する回転軸32が取り付けられる中空状の回転胴体31と、前記回転胴体31の上部に取り付けられる中空状の回転ケース33と、前記回転ケース33の一方の側に取り付けられて前記回転軸32を回転動作させる回転調節具34と、前記回転ケース33の一方の側に取り付けられて前記回転調節具34の作動を制限する回転ストッパー35と、を備える。
The rotation adjusting means 30 is fixed to the upper part of the cooling means 60, and has a hollow rotating
すなわち、前記回転調節手段30は、内部に回転軸32が取り付けられる回転胴体31の上部に回転ケース33を取り付け、前記回転ケース33の一方の側には回転軸32を回転動作させる回転調節具34を取り付け、前記回転ケース33の他方の側には前記回転調節具34の作動を制限する回転ストッパー35を取り付けてなる。
That is, the rotation adjusting means 30 has a
前記回転調節手段30の上部に取り付けられる水平調節手段40は、支持枠50および回転調節手段30に上下部がそれぞれ結合されて、前記回転調節手段30と、冷却手段60およびデジタルマイクロミラー20を前後または左右方向に調節する。
The horizontal adjustment means 40 attached to the upper part of the rotation adjustment means 30 is coupled to the
また、前記水平調節手段40は、回転調節手段30の上部に固着される下部ステージ41と、前記下部ステージ41の上部に摺動自在に取り付けられる中間ステージ42と、前記中間ステージ42の上部に摺動自在に取り付けられる上部ステージ43と、前記中間ステージ42を調節する前後調節具44と、前記上部ステージ43を調節する左右調節具45と、を備える。
The horizontal adjusting means 40 is slid onto the
より具体的に、前記下部ステージ41は、回転調節手段30の上部に下部が固着され、上部には前後ガイド溝41aが少なくとも2以上形成される。さらに、前記下部ステージ41の上部に取り付けられる中間ステージ42は、下部に前記前後ガイド溝41aに沿って前方や後方に移動自在に前後ガイドレール42aが形成され、上部には前記前後ガイド溝41aと直交する方向に左右ガイド溝42bが少なくとも2以上形成される。
More specifically, the
すなわち、前記中間ステージ42は、下部ステージ41の前後ガイド溝41aに沿って移動しながら左右方向に上部ステージ43を案内する。
That is, the
また、前記中間ステージ42の上部に取り付けられる上部ステージ43は、下部に前記左右ガイド溝42bに沿って左側や右側に移動自在に左右ガイドレール43aが形成される。
The
さらに、前記中間ステージ42の一方の側に取り付けられる前後調節具44は、回転動作により前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を前後方向に移動させ、前記上部ステージ43の一方の側に取り付けられる左右調節具45は、回転動作により前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を調節する左右調節具45を左右方向に移動させる。
Further, a front /
次いで、上記の役割を果たす水平調節手段40には、前記中間ステージ42および下部ステージ41の移動距離が制限可能な移動制限手段70がさらに取り付けられる。
Next, a movement restriction means 70 capable of restricting the movement distance of the
そして、上記の役割を果たす前記移動制限手段70は、中間ステージ42および上部ステージ43に一方の側がそれぞれ固着され、内部には移動空間72が形成される固定板71と、前記固定板71の移動空間72に一方の側が嵌入して中間ステージ42および下部ステージ41に固着される固定ピン73と、を備える。
The movement restricting means 70 that plays the above-described role is fixed to the
すなわち、前記移動制限手段70は、前記中間ステージ42および上部ステージ43に取り付けられる移動空間72と固定ピン73を用いてデジタルマイクロミラー20の移動距離を制限することができる。
That is, the movement limiting means 70 can limit the moving distance of the
前記水平調節手段40に固着される支持枠50は、多数のフレームを結合して形成されて地面や露光装置などの装備に取り付けられる。このとき、前記支持枠50を構成する多数のフレームは一体に形成されてもよい。
The
また、本発明における前記支持枠50は、所定の長さに形成される下部水平部51と、前記下部水平部51の先端に垂直に取り付けられる垂直部52と、前記垂直部52の先端に水平に取り付けられ、前記水平調節手段40と結合される上部水平部53と、を備える場合を例にとって説明する。
In addition, the
前記デジタルマイクロミラー20の上部に結合される冷却手段60は、デジタルマイクロミラー20と回転調節手段30との間に取り付けられて前記デジタルマイクロミラー20を介して伝達される熱を冷却する。
The cooling means 60 coupled to the upper part of the
また、前記冷却手段60は、前記回転調節手段30や水平調節手段40の作動時に前記デジタルマイクロミラー20につれて作動する。
The cooling means 60 operates along with the
ここで、前記デジタルマイクロミラー20の熱を冷却する冷却手段60の例を図2および図3に基づいて説明する。
Here, an example of the cooling means 60 for cooling the heat of the
先ず、図2の冷却手段60は、高い熱伝導率を有する銅、アルミニウムなどから中空状の矩形に形成される。すなわち、前記冷却手段60は、中空状の矩形に形成されて、下部が前記デジタルマイクロミラー20に結合され、上部は回転調節手段30と結合される。
First, the cooling means 60 of FIG. 2 is formed in a hollow rectangular shape from copper, aluminum or the like having a high thermal conductivity. That is, the cooling
次いで、図3の冷却手段60は、高い熱伝導率を有する銅、アルミニウムなどから形成され、ヒートブロック61と、ヒートパイプ62およびヒートブレード63を組み合わせてなる。すなわち、前記冷却手段60は、前記デジタルマイクロミラー20の上部にヒートパイプ62を垂直に取り付けた後、前記ヒートパイプ62の下部にはヒートブロック61を取り付け、上部には間隔をあけてヒートブレード63を取り付けてなる。
Next, the cooling means 60 of FIG. 3 is formed of copper, aluminum or the like having high thermal conductivity, and is formed by combining a
上記の構成を有するデジタルマイクロミラーの位置調節装置の実施形態について説明する。 An embodiment of a position adjusting device for a digital micromirror having the above configuration will be described.
先ず、所定の長さに形成される下部水平部51と、前記下部水平部51の先端に垂直に取り付けられる垂直部52と、前記垂直部52の先端に水平に取り付けられ、前記水平調節手段40と結合される上部水平部53と、を有する支持枠50を形成した後、露光装置に下部水平部51を固着する。
First, a lower
また、用途および目的に応じて選択されたデジタルマイクロミラー20の上部に、所定の高さに形成されるヒートパイプ62と、前記ヒートパイプ62の下部に取り付けられるヒートブロック61と、前記ヒートパイプ62の上部に間隔をあけてヒートブレード63と、を有する冷却手段60を取り付ける。
Also, a
次いで、前記冷却手段60の上部に、内部に回転動作する回転軸32が取り付けられる回転胴体31と、前記回転胴体31の上部に取り付けられる回転ケース33と、前記回転ケース33の一方の側に取り付けられ、前記回転軸32を回転動作させる回転調節具34と、前記回転ケース33の一方の側に取り付けられ、前記回転調節具34の作動を制限する回転ストッパー35と、を有する回転調節手段30を取り付ける。
Next, a rotating
また、前記回転調節手段30の上部に、前記回転調節手段30の上部に固着され、上部には前後ガイド溝41aが形成される下部ステージ41と、前記下部ステージ41の上部に取り付けられ、下部には前記前後ガイド溝41aに沿って移動自在に前後ガイドレール42aが形成され、上部には前記前後ガイド溝41aと直交する方向に左右ガイド溝42bが形成される中間ステージ42と、前記中間ステージ42の上部に取り付けられ、下部には前記左右ガイド溝42bに沿って移動自在に左右ガイドレール43aが形成される上部ステージ43と、前記中間ステージ42の一方の側に取り付けられ、前後方向に前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を調節する前後調節具44と、前記上部ステージ43の一方の側に取り付けられ、左右方向に前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を調節する左右調節具45と、を有する水平調節手段40を取り付ける。
Further, the upper part of the
次いで、前記水平調節手段40を支持枠50の上部水平部53に固着すると、デジタルマイクロミラーの位置調節装置10の組み立てが完了する。
Next, when the horizontal adjusting means 40 is fixed to the upper
ここで、前記デジタルマイクロミラーの位置調節装置の組立順序は上記の順序と異なっていてもよい。次いで、上記の構成を有するデジタルマイクロミラーの位置調節装置の使用状態について説明する。 Here, the assembly order of the digital micromirror position adjustment device may be different from the above order. Next, the use state of the position adjusting device for the digital micromirror having the above configuration will be described.
先ず、前記露光装置に取り付けられるデジタルマイクロミラー20の位置を検査する。次いで、前記デジタルマイクロミラー20の現在の位置を考慮して、回転方向や前後または左右方向を調節する。
First, the position of the
先ず、前記デジタルマイクロミラー20の回転方向に変更するために、回転ケース33に取り付けられる回転調節具34を回転動作させると、前記回転調節具34につれて作動する回転軸32は、前記回転調節具34の回転方向に応じて左側や右側に回転動作され、前記デジタルマイクロミラー20が指定された位置に移動すると、前記回転調節具34の回転動作を止め、前記回転ストッパー35を用いて固定すればよい。
First, when the
次いで、前記デジタルマイクロミラー20を前後方向に調節するために、前記中間ステージ42に取り付けられる前後調節具44を回転動作させると、前記デジタルマイクロミラー20は、冷却手段60と、回転調節手段30および下部ステージ41と共に前方や後方に移動する。
Next, when the front /
さらに、前記デジタルマイクロミラー20を左右方向に調節するために、前記上部ステージ43に取り付けられる左右調節具45を回転動作させると、前記デジタルマイクロミラー20は、冷却手段60と、回転調節手段30と、下部ステージ41および中間ステージ42と共に左側や右側に移動する。
Further, when the left /
このとき、前記中間ステージ42および下部ステージ41は、移動制限手段70を構成する制限板71および固定ピン73によって指定された空間でのみ移動可能になる。
At this time, the
このように、前記デジタルマイクロミラーの位置調節装置10を構成する回転調節手段30および水平調節手段40の作動により所望の場所にデジタルマイクロミラー20の変調済みビームを伝達する。
In this manner, the modulated beam of the
以上、添付図面に基づいて本発明に係るデジタルマイクロミラーの位置調節装置の特定の形状および方向について説明したが、本発明は当業者によって種々な変形および変更が可能であり、このような変形および変更は本発明の権利範囲に含まれるものと解釈さるべきである。 The specific shape and direction of the digital micromirror position adjustment device according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention can be modified and changed in various ways by those skilled in the art. Modifications should be construed as being within the scope of the present invention.
10 デジタルマイクロミラーの位置調節装置
20 デジタルマイクロミラー
30 回転調節手段
31 回転胴体
32 回転軸
33 回転ケース
34 回転調節具
35 回転ストッパー
40 水平調節手段
41 下部ステージ
42 中間ステージ
43 上部ステージ
44 前後調節具
45 左右調節具
50 支持枠
60 冷却手段
70 移動制限手段
DESCRIPTION OF
Claims (3)
前記回転調節手段30の上部に結合され、前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を前後または左右の方向に調節する水平調節手段40と、
多数のフレームを結合して形成されて地面や装備に取り付けられ、上部水平部には前記水平調節手段40が固定される支持枠50と、
前記回転調節手段30とデジタルマイクロミラー20との間には、前記デジタルマイクロミラー20において発生する熱を冷却させる冷却手段60と、を備え、
前記回転調節手段30は、前記冷却手段60の上部に固着され、内部には回転動作する回転軸32が取り付けられる回転胴体31と、前記回転胴体31の上部に取り付けられる回転ケース33と、前記回転ケース33の一方の側に取り付けられ、前記回転軸32を回転動作させる回転調節具34と、前記回転ケース33の一方の側に取り付けられ、前記回転調節具34の作動を制限する回転ストッパー35と、を備えることを特徴とするデジタルマイクロミラーの位置調節装置。 A rotation adjusting means 30 for adjusting the direction by rotating the digital micromirror 20 coupled to the lower part;
A horizontal adjustment means 40 coupled to an upper part of the rotation adjustment means 30 for adjusting the digital micromirror 20 and the rotation adjustment means 30 in the front-rear or left-right direction;
A support frame 50 formed by joining a number of frames and attached to the ground or equipment, and the horizontal adjustment means 40 being fixed to the upper horizontal portion;
Between the rotation adjusting means 30 and the digital micromirror 20, a cooling means 60 for cooling the heat generated in the digital micromirror 20 is provided .
The rotation adjusting means 30 is fixed to the upper part of the cooling means 60, and has a rotating body 31 to which a rotating shaft 32 that rotates is attached, a rotating case 33 attached to the upper part of the rotating body 31, and the rotation. A rotation adjuster 34 that is attached to one side of the case 33 and rotates the rotary shaft 32; a rotation stopper 35 that is attached to one side of the rotation case 33 and restricts the operation of the rotation adjuster 34; the position adjusting device of a digital micromirror, characterized in that it comprises a.
前記回転調節手段30の上部に結合され、前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を前後または左右の方向に調節する水平調節手段40と、
多数のフレームを結合して形成されて地面や装備に取り付けられ、上部水平部には前記水平調節手段40が固定される支持枠50と、を備え、
前記水平調節手段40は、前記回転調節手段30の上部に固着され、上部には前後ガイド溝41aが形成される下部ステージ41と、前記下部ステージ41の上部に取り付けられ、下部には前記前後ガイド溝41aに沿って移動自在に前後ガイドレール42aが形成され、上部には前記前後ガイド溝41aと直交する方向に左右ガイド溝42bが形成される中間ステージ42と、前記中間ステージ42の上部に取り付けられ、下部には前記左右ガイド溝42bに沿って移動自在に左右ガイドレール43aが形成される上部ステージ43と、前記中間ステージ42の一方の側に取り付けられ、前後方向に前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を調節する前後調節具44と、前記上部ステージ43の一方の側に取り付けられ、左右方向に前記デジタルマイクロミラー20および回転調節手段30を調節する左右調節具45と、を備えることを特徴とするデジタルマイクロミラーの位置調節装置。 A rotation adjusting means 30 for adjusting the direction by rotating the digital micromirror 20 coupled to the lower part;
A horizontal adjustment means 40 coupled to an upper part of the rotation adjustment means 30 for adjusting the digital micromirror 20 and the rotation adjustment means 30 in the front-rear or left-right direction;
A support frame 50 that is formed by joining a number of frames and is attached to the ground or equipment, and the horizontal adjustment means 40 is fixed to the upper horizontal portion;
The horizontal adjusting means 40 is fixed to the upper part of the rotation adjusting means 30, and is attached to the upper part of the lower stage 41, the lower stage 41 having the front and rear guide grooves 41a formed in the upper part, and the front and rear guides in the lower part. A front and rear guide rail 42a is formed movably along the groove 41a, and an upper stage is formed with a left and right guide groove 42b in a direction orthogonal to the front and rear guide groove 41a. The lower stage is attached to one side of the intermediate stage 42 and the upper stage 43 in which left and right guide rails 43a are formed so as to be movable along the left and right guide grooves 42b. A front / rear adjuster 44 for adjusting the rotation adjusting means 30 and one side of the upper stage 43; Position adjusting device of a digital micromirror, characterized in that it comprises a left-right regulating device 45 for adjusting the digital micromirror 20 and the rotation regulating means 30 in the right direction.
前記移動制限手段70は、中間ステージ42および上部ステージ43に一方の側がそれぞれ固着され、内部には移動空間72が形成される固定板71と、前記固定板71の移動空間72に一方の側が嵌入して中間ステージ42および下部ステージ41に固着される固定ピン73と、を有することを特徴とする請求項2に記載のデジタルマイクロミラーの位置調節装置。 The horizontal adjustment means 40 is further provided with a movement restriction means 70 so that the movement distance of the intermediate stage 42 and the lower stage 41 can be restricted.
The movement restricting means 70 has one side fixed to the intermediate stage 42 and the upper stage 43, and a fixed plate 71 in which a moving space 72 is formed, and one side fitted into the moving space 72 of the fixed plate 71. The digital micromirror position adjusting device according to claim 2 , further comprising a fixing pin 73 fixed to the intermediate stage 42 and the lower stage 41.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2012-0024377 | 2012-03-09 | ||
KR1020120024377A KR101368443B1 (en) | 2012-03-09 | 2012-03-09 | Position control device of Digital Micro-mirror Device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013187543A JP2013187543A (en) | 2013-09-19 |
JP5654625B2 true JP5654625B2 (en) | 2015-01-14 |
Family
ID=49388673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013041236A Active JP5654625B2 (en) | 2012-03-09 | 2013-03-01 | Digital micromirror positioning device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5654625B2 (en) |
KR (1) | KR101368443B1 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200491352Y1 (en) * | 2019-12-09 | 2020-03-25 | 주식회사 리얼마이크로시스템 | Manual Stage of fixing device |
KR102167529B1 (en) * | 2020-06-30 | 2020-10-19 | 주식회사 리얼마이크로시스템 | Manual stage of fixing device |
WO2023129100A2 (en) * | 2021-12-31 | 2023-07-06 | Orta Dogu Teknik Universitesi | Fast phase modulation with digital micromirror device |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08129227A (en) * | 1994-10-26 | 1996-05-21 | Texas Instr Inc <Ti> | Optical modulator device and projector device |
US7061591B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-06-13 | Asml Holding N.V. | Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays |
JP2007005459A (en) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Shinko Electric Ind Co Ltd | Exposure apparatus and adjusting method thereof |
JP2010014798A (en) * | 2008-07-01 | 2010-01-21 | Nsk Ltd | Micromirror device and optical irradiation apparatus |
KR100995392B1 (en) * | 2009-01-29 | 2010-11-19 | (주)하드램 | Marking apparatus having digital micromirror device |
KR20100117280A (en) * | 2009-04-24 | 2010-11-03 | 주식회사 프로텍 | The micro-control of digital micro-mirror device for beam path setup |
-
2012
- 2012-03-09 KR KR1020120024377A patent/KR101368443B1/en active IP Right Grant
-
2013
- 2013-03-01 JP JP2013041236A patent/JP5654625B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101368443B1 (en) | 2014-03-03 |
JP2013187543A (en) | 2013-09-19 |
KR20130103053A (en) | 2013-09-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5654625B2 (en) | Digital micromirror positioning device | |
JP6465591B2 (en) | Drawing device | |
JP5677025B2 (en) | Placement stage | |
US20090279057A1 (en) | Independent upper side and lower side drive type double-sided simultaneous exposure system | |
KR101130890B1 (en) | Proximity type esposurer | |
KR100824022B1 (en) | Apparatus and method for projection exposure | |
JP7393087B2 (en) | Processing equipment and processing method for ablation processing | |
JP5858085B2 (en) | Exposure apparatus and fixing method thereof | |
CN100518484C (en) | System and method for rapid alignment and accurate placement of electronic components on a printed circuit board | |
JP2014092707A (en) | Exposure apparatus | |
JP2005103244A (en) | Light irradiator, lamp assembly, and fluoroscopic imaging apparatus | |
JP5935294B2 (en) | Proximity exposure apparatus and proximity exposure method | |
JP2017116769A5 (en) | ||
WO2015052618A1 (en) | Drawing device and drawing method | |
JP2009086015A (en) | Maskless exposure apparatus | |
JP7045890B2 (en) | Pattern drawing device and pattern drawing method | |
JP2005129785A (en) | Aligner | |
JP2008224754A (en) | Division sequential proximity exposure method and division sequential proximity exposure device | |
JP2008209632A (en) | Mask attaching method and exposure apparatus unit | |
JP2021526992A (en) | Printhead adjuster | |
JP2013205836A (en) | Exposure apparatus | |
JP2007298656A (en) | Proximity exposure apparatus | |
JP2008209631A (en) | Exposure apparatus, and mask attaching method therefor | |
JP6227347B2 (en) | Exposure apparatus and optical apparatus | |
JP5146417B2 (en) | Exposure equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140509 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141111 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141120 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5654625 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |