JP5641112B2 - Solid-state imaging device and camera system - Google Patents

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Description

本発明は、CMOSイメージセンサに代表される固体撮像素子およびカメラシステムに関するものである。   The present invention relates to a solid-state imaging device represented by a CMOS image sensor and a camera system.

近年、CCDに代わる固体撮像素子(イメージセンサ)として、CMOSイメージセンサが注目を集めている。これは以下の理由による。
CCD画素の製造に専用プロセスを必要とし、また、その動作には複数の電源電圧が必要であり、さらに複数の周辺ICを組み合わせて動作させる必要がある。
これに対して、CMOSイメージセンサは、このようなCCDにおいてシステムが非常に複雑化するといった処々の問題を、克服しているからである。
In recent years, CMOS image sensors have attracted attention as solid-state imaging devices (image sensors) that replace CCDs. This is due to the following reason.
A dedicated process is required for manufacturing a CCD pixel, and a plurality of power supply voltages are required for its operation, and a plurality of peripheral ICs need to be operated in combination.
On the other hand, the CMOS image sensor overcomes various problems such as a very complicated system in such a CCD.

CMOSイメージセンサは、その製造には一般的なCMOS型集積回路と同様の製造プロセスを用いることが可能であり、また単一電源での駆動が可能、さらにCMOSプロセスを用いたアナログ回路や論理回路を同一チップ内に混在させることができる。
このため、周辺ICの数を減らすことができるといった、大きなメリットを複数持ち合わせている。
The CMOS image sensor can be manufactured by using a manufacturing process similar to that of a general CMOS integrated circuit, can be driven by a single power source, and further, an analog circuit or a logic circuit using the CMOS process. Can be mixed in the same chip.
For this reason, it has a plurality of great merits such that the number of peripheral ICs can be reduced.

CCDの出力回路は、浮遊拡散層(FD:Floating Diffusion)を有するFDアンプを用いた1チャネル(ch)出力が主流である。
これに対して、CMOSイメージセンサは各画素毎にFDアンプを持ち合わせており、その出力は、画素アレイの中のある一行を選択し、それらを同時に列方向へと読み出すような列並列出力型が主流である。
これは、画素内に配置されたFDアンプでは十分な駆動能力を得ることは難しく、したがってデータレートを下げることが必要で、並列処理が有利とされているからである。
The output circuit of a CCD is mainly a 1-channel (ch) output using an FD amplifier having a floating diffusion layer (FD).
In contrast, a CMOS image sensor has an FD amplifier for each pixel, and its output is a column parallel output type in which one row in the pixel array is selected and read out in the column direction at the same time. Mainstream.
This is because it is difficult to obtain a sufficient driving capability with an FD amplifier arranged in a pixel, and therefore it is necessary to lower the data rate, and parallel processing is advantageous.

この列並列出力型CMOSイメージセンサの信号出力回路については実に様々なものが提案されている。   Various signal output circuits of this column parallel output type CMOS image sensor have been proposed.

CMOSイメージセンサの画素信号読み出しで用いられる手法としてフォトダイオードなどの光電変換素子で生成した光信号となる信号電荷をその近傍に配置したMOSスイッチを介し、その先の容量に一時的にサンプリングしそれを読み出す方法がある。
サンプリング回路においては、通常サンプリング容量値に逆相関を持つノイズがのる。
画素においては、信号電荷をサンプリング容量に転送する際はポテンシャル勾配を利用し、信号電荷を完全転送するため、このサンプリング過程においてノイズは発生しないが、その前の容量の電圧レベルをある基準値にリセットするときにノイズがのる。
As a technique used for pixel signal readout of a CMOS image sensor, a signal charge, which is an optical signal generated by a photoelectric conversion element such as a photodiode, is temporarily sampled in a capacitor ahead through a MOS switch arranged in the vicinity thereof. There is a method of reading out.
In the sampling circuit, noise having an inverse correlation with the normal sampling capacitance value is carried.
In the pixel, when the signal charge is transferred to the sampling capacitor, the potential gradient is used to completely transfer the signal charge. Therefore, no noise is generated in this sampling process, but the voltage level of the previous capacitor is set to a certain reference value. Noise appears when resetting.

これを除去する一般的な手法として、相関二重サンプリング(CDS;Correlated Double Sampling)がある。これは一度信号電荷をサンプリングする直前の状態(リセットレベル)で読み出して記憶しておき、ついで、サンプリング後の信号レベルを読み出し、それを差し引きすることでノイズを除去する手法である。
CDSの具体的な手法にはさまざまな方法がある。
As a general technique for removing this, there is correlated double sampling (CDS). This is a method of removing noise by reading and storing signal charges in a state (reset level) immediately before sampling once, then reading the signal level after sampling and subtracting it.
There are various specific methods of CDS.

また、列並列出力型CMOSイメージセンサの画素信号読み出し(出力)回路については実に様々なものが提案されている。それらの中で、その最も進んだ形態のひとつが列毎にアナログ−デジタル変換装置(以下、ADC(Analog digital converter)と略す)を備え、デジタル信号として画素信号を取り出すタイプである。   Various pixel signal readout (output) circuits for column parallel output type CMOS image sensors have been proposed. Among them, one of the most advanced forms is a type that includes an analog-digital conversion device (hereinafter abbreviated as ADC (Analog digital converter)) for each column and extracts a pixel signal as a digital signal.

このような列並列型のADCを搭載したCMOSイメージセンサは、たとえば非特許文献1や特許文献1、2、3に開示されている。   A CMOS image sensor equipped with such a column-parallel ADC is disclosed in Non-Patent Document 1, Patent Documents 1, 2, and 3, for example.

特開2005−278135号公報JP-A-2005-278135 特開2005−295346号公報JP 2005-295346 A 特開昭63−209374号公報JP-A 63-209374

W. Yang等 (W. Yang et. Al., “An Integrated 800x600 CMOS Image System,” ISSCC Digest of Technical Papers, pp. 304-305、 Feb., 1999)W. Yang et al. (W. Yang et. Al., “An Integrated 800x600 CMOS Image System,” ISSCC Digest of Technical Papers, pp. 304-305, Feb., 1999)

上述したように、列並列ADC搭載CMOSイメージセンサ(カラムAD方式CMOSイメージセンサ)では、コンパレータはDACからのRAMP波と画素信号の比較をして、後段のカウンタでデジタルCDSを行うことによりAD変換を行う。   As described above, in a column parallel ADC-mounted CMOS image sensor (column AD type CMOS image sensor), the comparator compares the RAMP wave from the DAC with the pixel signal, and performs AD conversion by performing digital CDS with the counter at the subsequent stage. I do.

一般的に、コンパレータは2段アンプ構成になっており、初段で低速信号比較動作を行い、動作帯域を狭くし、2段目のアンプでゲインアップする構成となっている。   In general, the comparator has a two-stage amplifier configuration, which performs a low-speed signal comparison operation at the first stage, narrows the operating band, and increases the gain by the second-stage amplifier.

ところで、固体撮像素子の重要な性能指標にランダムノイズがある。
主なランダムノイズ源として、画素とAD変換器があることが知られている。
Incidentally, random noise is an important performance index of a solid-state imaging device.
It is known that there are a pixel and an AD converter as main random noise sources.

一般的には、ランダムノイズ低減手法として、トランジスタサイズを大きくすることでフリッカノイズ(flicker noise)を低減する、もしくは比較器初段出力に容量を付加し、帯域を落とすことでCDSによるノイズのフィルタ効果を狙う方法が知られている。   Generally, as a random noise reduction method, flicker noise is reduced by increasing the transistor size, or a capacitor is added to the output of the first stage of the comparator, and the noise is filtered by CDS by reducing the bandwidth. A method of aiming at is known.

しかし、それぞれの手法では、面積が増大する、容量増により比較器の反転遅延が悪化し、撮像素子のフレームレートが上げられないという不利益がある。   However, each method has the disadvantage that the area increases, the inversion delay of the comparator deteriorates due to the increase in capacity, and the frame rate of the image sensor cannot be increased.

特許文献2および3には、画素内(垂直信号線前)においてリセットノイズを低減するためにミラー容量を用いているが、AD変換器のノイズは低減できないという不利益がある。   In Patent Documents 2 and 3, a mirror capacitor is used to reduce reset noise within a pixel (before the vertical signal line), but there is a disadvantage that noise of the AD converter cannot be reduced.

本発明は、面積の増大を抑止しつつフレームレートの向上を図れ、AD変換器のノイズを低減することが可能な固体撮像素子およびカメラシステムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a solid-state imaging device and a camera system capable of improving a frame rate while suppressing an increase in area and reducing noise of an AD converter.

本発明の第1の観点の固体撮像素子は、光電変換を行う複数の画素が行列状に配列された画素部と、上記画素部から複数の画素単位で画素信号の読み出しを行う画素信号読み出し部と、を有し、上記画素信号読み出し部は、画素の列配列に対応して配置され、読み出し信号電位と参照電圧とを比較判定し、その判定信号を出力する複数の比較器と、対応する上記比較器の比較時間をカウントする複数のカウンタと、を含み、上記各比較器は、一方のトランジスタのゲートに上記参照電圧を受け、他方のトランジスタのゲートに上記読み出し信号を受けて、当該参照電圧と当該読み出し信号電位との比較動作を行う差動増幅器を含む第1アンプと、上記第1アンプの出力をゲインアップして出力する増幅器を含む第2アンプと、上記第2アンプの増幅器の入出力間に接続されたミラー効果を発現するためのキャパシタと、を有する。   A solid-state imaging device according to a first aspect of the present invention includes a pixel unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in a matrix, and a pixel signal readout unit that reads out pixel signals from the pixel unit in units of a plurality of pixels. The pixel signal readout unit is arranged corresponding to the column arrangement of the pixels, and compares and determines the readout signal potential and the reference voltage, and corresponds to a plurality of comparators that output the determination signal. A plurality of counters for counting the comparison time of the comparator, each of the comparators receiving the reference voltage at the gate of one transistor and receiving the read signal at the gate of the other transistor, A first amplifier including a differential amplifier that performs a comparison operation between the voltage and the read signal potential; a second amplifier including an amplifier that increases the output of the first amplifier and outputs the same; and the second amplifier. Having a capacitor for expressing mirror effect that is connected between the input and output of the amplifier.

本発明の第2の観点のカメラシステムは、固体撮像素子と、上記撮像素子に被写体像を結像する光学系と、を有し、上記固体撮像素子は、光電変換を行う複数の画素が行列状に配列された画素部と、上記画素部から複数の画素単位で画素信号の読み出しを行う画素信号読み出し部と、を有し、上記画素信号読み出し部は、画素の列配列に対応して配置され、読み出し信号電位と参照電圧とを比較判定し、その判定信号を出力する複数の比較器と、対応する上記比較器の比較時間をカウントする複数のカウンタと、を含み、上記各比較器は、一方のトランジスタのゲートに上記参照電圧を受け、他方のトランジスタのゲートに上記読み出し信号を受けて、当該参照電圧と当該読み出し信号電位との比較動作を行う差動増幅器を含む第1アンプと、上記第1アンプの出力をゲインアップして出力する増幅器を含む第2アンプと、上記第2アンプの増幅器の入出力間に接続されたミラー効果を発現するためのキャパシタと、を有する。   A camera system according to a second aspect of the present invention includes a solid-state image sensor and an optical system that forms a subject image on the image sensor, and the solid-state image sensor includes a plurality of pixels that perform photoelectric conversion in a matrix. And a pixel signal readout unit that reads out a pixel signal from the pixel unit in units of a plurality of pixels, and the pixel signal readout unit is arranged corresponding to a column arrangement of pixels. Each of the comparators includes: a plurality of comparators that compare and determine the read signal potential and the reference voltage and output the determination signal; and a plurality of counters that count the comparison time of the corresponding comparator. A first amplifier including a differential amplifier that receives the reference voltage at the gate of one transistor and receives the read signal at the gate of the other transistor and performs a comparison operation between the reference voltage and the read signal potential; It said a second amplifier comprising an amplifier the output of the first amplifier and outputs the gain-up, a capacitor for expressing the connected Miller effect between the input and output of the second amplifier of the amplifier, the.

本発明によれば、キャパシタは、ミラー効果を発現し、たとえばソース接地入力にゲイン倍の容量が接続されたのと等価になる。
第1アンプの出力に見える容量は、増幅器のゲインをAV2とし、キャパシタの容量をCとすると、{C*(1+AV2)}のようにゲイン倍されることからキャパシタの容量値は小さくてよい。
According to the present invention, the capacitor exhibits a mirror effect, which is equivalent to, for example, a gain-doubled capacitor connected to the source ground input.
The capacitance that appears at the output of the first amplifier is multiplied by the gain as {C * (1 + A V2 )} where the gain of the amplifier is A V2 and the capacitance of the capacitor is C. Therefore, the capacitance value of the capacitor is small. Good.

本発明によれば、面積の増大を抑止しつつフレームレートの向上を図れ、AD変換器のノイズを低減することができる。   According to the present invention, it is possible to improve the frame rate while suppressing an increase in area, and to reduce the noise of the AD converter.

本発明の実施形態に係る列並列ADC搭載固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structural example of the solid-state image sensor (CMOS image sensor) mounted with column parallel ADC which concerns on embodiment of this invention. 図2の列並列ADC搭載固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)におけるADC群をより具体的に示すブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing more specifically an ADC group in the solid-state imaging device (CMOS image sensor) mounted with the column parallel ADC of FIG. 2. 本実施形態に係る4つのトランジスタで構成されるCMOSイメージセンサの画素の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the pixel of the CMOS image sensor comprised by four transistors which concern on this embodiment. 本実施形態に係る比較器の構成例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structural example of the comparator which concerns on this embodiment. CDSの動作フローを示す図である。It is a figure which shows the operation | movement flow of CDS. CDS伝達関数の式を示す図である。It is a figure which shows the formula of a CDS transfer function. 周波数対CDSゲイン特性を示す図である。It is a figure which shows a frequency vs. CDS gain characteristic. CDSにおけるフィルタ処理を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the filter process in CDS. CDSのフィルタ効果によるノイズ低減について示す図である。It is a figure shown about the noise reduction by the filter effect of CDS. 図4の回路の比較例としての比較器を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a comparator as a comparative example of the circuit of FIG. 4. 同一遮断周波数に設定した、ミラー効果を用いない図10の既存回路とミラー効果を用いた本発明の実施形態に係る図4の回路との反転遅延の比較結果を示す図である。It is a figure which shows the comparison result of the inversion delay with the circuit of FIG. 4 which concerns on embodiment of this invention using the mirror effect and the existing circuit of FIG. 10 set to the same cut-off frequency and does not use the mirror effect. 図4の比較器のタイミングチャートである。5 is a timing chart of the comparator in FIG. 本発明の実施形態に係る図4の回路と図10の回路の比較器出力の反転遅延を比較して示す図である。FIG. 11 is a diagram showing comparison of inversion delays of comparator outputs of the circuit of FIG. 4 and the circuit of FIG. 本実施形態に係る比較器の変形例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the modification of the comparator which concerns on this embodiment. 本発明の実施形態に係る固体撮像素子が適用されるカメラシステムの構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the camera system with which the solid-state image sensor which concerns on embodiment of this invention is applied.

以下、本発明の実施の形態を図面に関連付けて説明する。
なお、説明は以下の順序で行う。
1.固体撮像素子の全体構成例
2.比較器の構成例
3.CDSについての考察
4.比較器の動作
5.比較器の変形例
6.カメラシステムの構成例
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The description will be given in the following order.
1. 1. Overall configuration example of solid-state imaging device 2. Configuration example of comparator 3. Considerations for CDS 4. Operation of the comparator 5. Modification of comparator Configuration example of camera system

<1.固体撮像素子の全体構成例>
図1は、本発明の実施形態に係る列並列ADC搭載固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)の構成例を示すブロック図である。
図2は、図1の列並列ADC搭載固体撮像素子(CMOSイメージセンサ)におけるADC群をより具体的に示すブロック図である。
<1. Example of overall configuration of solid-state image sensor>
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of a solid-state imaging device (CMOS image sensor) equipped with a column parallel ADC according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram showing more specifically the ADC group in the column-parallel ADC-mounted solid-state image sensor (CMOS image sensor) of FIG.

この固体撮像素子100は、図1および図2に示すように、撮像部としての画素部110、垂直走査回路120、水平転送走査回路130、タイミング制御回路140、および画素信号読み出し部としてのADC群150を有する。
固体撮像素子100は、DAC(デジタル−アナログ変換装置)161を含むDACおよびバイアス回路160、アンプ回路(S/A)170、信号処理回路180、およびラインメモリ190を有する。
これらの構成要素のうち、画素部110、垂直走査回路120、水平転送走査回路130、ADC群150、DACおよびバイアス回路160、並びにアンプ回路(S/A)170はアナログ回路により構成される。
また、タイミング制御回路140、信号処理回路180、およびラインメモリ190はデジタル回路により構成される。
As shown in FIGS. 1 and 2, the solid-state imaging device 100 includes a pixel unit 110 as an imaging unit, a vertical scanning circuit 120, a horizontal transfer scanning circuit 130, a timing control circuit 140, and an ADC group as a pixel signal reading unit. 150.
The solid-state imaging device 100 includes a DAC and bias circuit 160 including a DAC (digital-analog converter) 161, an amplifier circuit (S / A) 170, a signal processing circuit 180, and a line memory 190.
Among these components, the pixel unit 110, the vertical scanning circuit 120, the horizontal transfer scanning circuit 130, the ADC group 150, the DAC and bias circuit 160, and the amplifier circuit (S / A) 170 are configured by analog circuits.
The timing control circuit 140, the signal processing circuit 180, and the line memory 190 are configured by digital circuits.

画素部110は、フォトダイオードと画素内アンプとを含む、たとえば図3に示すような画素がマトリクス状(行列状)に配置されている。   In the pixel unit 110, for example, pixels as shown in FIG. 3 including photodiodes and in-pixel amplifiers are arranged in a matrix (matrix).

図3は、本実施形態に係る4つのトランジスタで構成されるCMOSイメージセンサの画素の一例を示す図である。   FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a pixel of a CMOS image sensor including four transistors according to the present embodiment.

この画素回路110Aは、光電変換素子としてたとえばフォトダイオード111を有している。
画素回路110Aは、この1個の光電変換素子としてのフォトダイオード111を有する。
画素回路110Aは、1個のフォトダイオード111に対して転送素子としての転送トランジスタ112、リセット素子としてのリセットトランジスタ113、増幅トランジスタ114、および選択トランジスタ115の4つのトランジスタを能動素子として有する。
The pixel circuit 110A includes, for example, a photodiode 111 as a photoelectric conversion element.
The pixel circuit 110A includes the photodiode 111 as the one photoelectric conversion element.
The pixel circuit 110 </ b> A has four transistors as active elements, that is, a transfer transistor 112 as a transfer element, a reset transistor 113 as a reset element, an amplification transistor 114, and a selection transistor 115 for one photodiode 111.

フォトダイオード111は、入射光をその光量に応じた量の電荷(ここでは電子)に光電変換する。
転送トランジスタ112は、フォトダイオード111と出力ノードとしてのフローティングディフュージョンFDとの間に接続されている。
転送トランジスタ112は、転送制御線LTxを通じてそのゲート(転送ゲート)に駆動信号TGが与えられることで、光電変換素子111で光電変換された電子をフローティングディフュージョンFDに転送する。
The photodiode 111 photoelectrically converts incident light into charges (here, electrons) in an amount corresponding to the amount of light.
The transfer transistor 112 is connected between the photodiode 111 and the floating diffusion FD as an output node.
The transfer transistor 112 transfers the electrons photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 111 to the floating diffusion FD when a drive signal TG is given to its gate (transfer gate) through the transfer control line LTx.

リセットトランジスタ113は、電源ラインLVDDとフローティングディフュージョンFDとの間に接続されている。
リセットトランジスタ113は、リセット制御線LRSTを通してそのゲートにリセットRSTが与えられることで、フローティングディフュージョンFDの電位を電源ラインLVDDの電位にリセットする。
The reset transistor 113 is connected between the power supply line LVDD and the floating diffusion FD.
The reset transistor 113 resets the potential of the floating diffusion FD to the potential of the power supply line LVDD when a reset RST is given to its gate through the reset control line LRST.

フローティングディフュージョンFDには、増幅トランジスタ114のゲートが接続されている。増幅トランジスタ114は、選択トランジスタ115を介して垂直信号線116に接続され、画素部外の定電流源とソースフォロアを構成している。
そして、選択制御線LSELを通して制御信号(アドレス信号またはセレクト信号)SELが選択トランジスタ115のゲートに与えられ、選択トランジスタ115がオンする。
選択トランジスタ115がオンすると、増幅トランジスタ114はフローティングディフュージョンFDの電位を増幅してその電位に応じた電圧を垂直信号線116に出力する。垂直信号線116を通じて、各画素から出力された電圧は、画素信号読み出し回路としてのADC群150に出力される。
これらの動作は、たとえば転送トランジスタ112、リセットトランジスタ113、および選択トランジスタ115の各ゲートが行単位で接続されていることから、1行分の各画素について同時に行われる。
The gate of the amplification transistor 114 is connected to the floating diffusion FD. The amplification transistor 114 is connected to the vertical signal line 116 via the selection transistor 115, and constitutes a constant current source and a source follower outside the pixel portion.
Then, a control signal (address signal or select signal) SEL is applied to the gate of the selection transistor 115 through the selection control line LSEL, and the selection transistor 115 is turned on.
When the selection transistor 115 is turned on, the amplification transistor 114 amplifies the potential of the floating diffusion FD and outputs a voltage corresponding to the potential to the vertical signal line 116. The voltage output from each pixel through the vertical signal line 116 is output to the ADC group 150 serving as a pixel signal readout circuit.
These operations are performed simultaneously for each pixel for one row because, for example, the gates of the transfer transistor 112, the reset transistor 113, and the selection transistor 115 are connected in units of rows.

画素部110に配線されているリセット制御線LRST、転送制御線LTx、および選択制御線LSELが一組として画素配列の各行単位で配線されている。
これらのリセット制御線LRST、転送制御線LTx、および選択制御線LSELは、画素駆動部としての垂直走査回路120により駆動される。
A reset control line LRST, a transfer control line LTx, and a selection control line LSEL wired to the pixel unit 110 are wired as a set for each row of the pixel array.
These reset control line LRST, transfer control line LTx, and selection control line LSEL are driven by a vertical scanning circuit 120 as a pixel driving unit.

固体撮像素子100は、画素部110の信号を順次読み出すための制御回路として内部クロックを生成するタイミング制御回路140、行アドレスや行走査を制御する垂直走査回路120、そして列アドレスや列走査を制御する水平転送走査回路130が配置される。   The solid-state imaging device 100 controls a timing control circuit 140 that generates an internal clock as a control circuit for sequentially reading signals from the pixel unit 110, a vertical scanning circuit 120 that controls row addresses and row scanning, and column addresses and column scanning. A horizontal transfer scanning circuit 130 is disposed.

タイミング制御回路140は、画素部110、垂直走査回路120、水平転送走査回路130、ADC群(カラムADC回路)150、DACおよびバイアス回路160、信号処理回路180、ラインメモリ190の信号処理に必要なタイミング信号を生成する。
タイミング制御回路140は、ADC群の各比較器の行動作開始時に各カラム毎に動作点を決めるための初期化(オートゼロ:AZ)用スイッチ(以下AZスイッチ)に印加する初期化信号としての制御パルスを生成する。
The timing control circuit 140 is necessary for signal processing of the pixel unit 110, the vertical scanning circuit 120, the horizontal transfer scanning circuit 130, the ADC group (column ADC circuit) 150, the DAC and bias circuit 160, the signal processing circuit 180, and the line memory 190. A timing signal is generated.
The timing control circuit 140 is a control as an initialization signal applied to an initialization (auto zero: AZ) switch (hereinafter referred to as AZ switch) for determining an operation point for each column at the start of row operation of each comparator of the ADC group. Generate a pulse.

画素部110においては、ラインシャッタを使用した光子蓄積、排出により、映像や画面イメージを画素行毎に光電変換し、アナログ信号VSLをADC群に出力する。
ADC群150では、ADCブロック(各カラム部)でそれぞれ、画素部110のアナログ出力をDAC161からのランプ信号RAMPを使用したAPGA対応積分型ADC、およびデジタルCDSを行い、数ビットのデジタル信号を出力する。
The pixel unit 110 photoelectrically converts an image and a screen image for each pixel row by photon accumulation and discharge using a line shutter, and outputs an analog signal VSL to the ADC group.
In the ADC group 150, the ADC block (each column unit) performs an APGA-compatible integral ADC using the ramp signal RAMP from the DAC 161 and digital CDS on the analog output of the pixel unit 110, and outputs a digital signal of several bits. To do.

ADC群150は、ADCが複数列配列されている。
各ADCは、DAC161により生成される参照電圧を階段状に変化させたランプ波形(RAMP)である参照電圧Vslopと、行線毎に画素から垂直信号線を経由し得られるアナログ信号(電位VSL)とを比較する比較器(コンパレータ)151を有する。
さらに、各ADCは、比較時間をカウントするカウンタ152と、カウント結果を保持するラッチ153とを有する。
ADC群150は、nビットデジタル信号変換機能を有し、各垂直信号線(列線)毎に配置され、列並列ADCブロックが構成される。
各ラッチ153の出力は、たとえば2nビット幅の水平転送線LTRFに接続されている。
そして、水平転送線LTRFに対応した2n個のアンプ回路170、および信号処理回路180が配置される。
比較器151の具体的な構成および機能ついては後で詳述する。
In the ADC group 150, a plurality of ADCs are arranged.
Each ADC has a reference voltage Vslop, which is a ramp waveform (RAMP) obtained by changing the reference voltage generated by the DAC 161 in a stepped manner, and an analog signal (potential VSL) obtained from a pixel via a vertical signal line for each row line. The comparator (comparator) 151 is compared.
Further, each ADC includes a counter 152 that counts the comparison time and a latch 153 that holds the count result.
The ADC group 150 has an n-bit digital signal conversion function and is arranged for each vertical signal line (column line) to constitute a column parallel ADC block.
The output of each latch 153 is connected to a horizontal transfer line LTRF having a width of 2n bits, for example.
Then, 2n amplifier circuits 170 and signal processing circuits 180 corresponding to the horizontal transfer lines LTRF are arranged.
The specific configuration and function of the comparator 151 will be described in detail later.

ADC群150においては、垂直信号線116に読み出されたアナログ信号(電位VSL)は列毎(カラム毎)に配置された比較器151で参照電圧Vslop(ある傾きを持った線形に変化するスロープ波形であるランプ信号RAMP)と比較される。
このとき、比較器151と同様に列毎に配置されたカウンタ152が動作しており、ランプ波形のあるランプ信号RAMP(電位Vslop)とカウンタ値が一対一の対応を取りながら変化することで垂直信号線の電位VSLをデジタル信号に変換する。
ADCは、参照電圧Vslop(ランプ信号RAMP)の変化は電圧の変化を時間の変化に変換するものであり、その時間をある周期(クロック)で数えることでデジタル値に変換する。
そして、アナログ信号VSLとランプ信号RAMP(参照電圧Vslop)が交わったとき、比較器151の出力が反転し、カウンタ152の入力クロックを停止し、または、入力を停止していたクロックをカウンタ152に入力し、AD変換を完了させる。
In the ADC group 150, an analog signal (potential VSL) read out to the vertical signal line 116 is a reference voltage Vslop (a linearly changing slope with a certain slope) in a comparator 151 arranged for each column (each column). It is compared with the ramp signal RAMP) which is a waveform.
At this time, the counters 152 arranged for each column are operating similarly to the comparator 151, and the ramp signal RAMP (potential Vslop) having a ramp waveform and the counter value change while taking a one-to-one correspondence to each other. The potential VSL of the signal line is converted into a digital signal.
The ADC converts a change in the reference voltage Vslop (ramp signal RAMP) into a change in time, and converts the time into a digital value by counting the time in a certain period (clock).
Then, when the analog signal VSL and the ramp signal RAMP (reference voltage Vslop) intersect, the output of the comparator 151 is inverted, the input clock of the counter 152 is stopped, or the clock whose input has been stopped is input to the counter 152. Input and complete AD conversion.

以上のAD変換期間終了後、水平転送走査回路130により、ラッチ153に保持されたデータが、水平転送線LTRFに転送され、アンプ170を経て信号処理回路180に入力され、所定の信号処理により2次元画像が生成される。   After the end of the above AD conversion period, the data held in the latch 153 is transferred to the horizontal transfer line LTRF by the horizontal transfer scanning circuit 130, input to the signal processing circuit 180 through the amplifier 170, and 2 by the predetermined signal processing. A dimensional image is generated.

水平転送走査回路130では、転送速度の確保のために数チャンネル同時並列転送を行う。
タイミング制御回路140においては、画素部110、ADC群150等の各ブロックでの信号処理に必要なタイミングが生成される。
後段の信号処理回路180では、ラインメモリ190内に格納された信号より縦線欠陥や点欠陥の補正、信号のクランプを行ったり、パラレル-シリアル変換、圧縮、符号化、加算、平均、間欠動作などデジタル信号処理を行う。
ラインメモリ190には、画素行毎に送信されるデジタル信号が格納される。
本実施形態の固体撮像素子100においては、信号処理回路180のデジタル出力がISPやベースバンド(baseband)LSIの入力として送信される。
The horizontal transfer scanning circuit 130 performs simultaneous parallel transfer of several channels in order to ensure the transfer speed.
In the timing control circuit 140, timing necessary for signal processing in each block such as the pixel unit 110 and the ADC group 150 is generated.
In the subsequent signal processing circuit 180, vertical line defects and point defects are corrected from the signals stored in the line memory 190, the signals are clamped, parallel-serial conversion, compression, encoding, addition, averaging, and intermittent operation. Digital signal processing is performed.
The line memory 190 stores a digital signal transmitted for each pixel row.
In the solid-state imaging device 100 of the present embodiment, the digital output of the signal processing circuit 180 is transmitted as an input of an ISP or a baseband LSI.

そして、本実施形態に係るADC群(画素信号読み出し部)150においては、画素ノイズ、比較器ノイズを低減するため、アンプ型の比較器にミラー効果を用いて帯域を大きく制限している。
本実施形態の比較器151は、以下のように構成されている。
In the ADC group (pixel signal readout unit) 150 according to the present embodiment, the band is largely limited by using a mirror effect in an amplifier type comparator in order to reduce pixel noise and comparator noise.
The comparator 151 of the present embodiment is configured as follows.

<2.比較器の構成例>
カラム毎に配置される各比較器151は、縦続接続された第1アンプと第2アンプを有する。
そして、2段目の第2アンプのソース接地型増幅器の入出力間に容量が接続されている。この容量は、ミラー効果を発現し、ソース接地入力にゲイン倍の容量が接続されたのと等価になる。
これにより、各比較器151の帯域は小さな容量で大きく狭められる。
各比較器151は、行動作開始時に各カラム毎に動作点を決めるために初期化(オートゼロ:AZ)してサンプリングする機能を有する。
<2. Example of comparator configuration>
Each comparator 151 arranged for each column has a first amplifier and a second amplifier connected in cascade.
A capacitor is connected between the input and output of the common source amplifier of the second amplifier in the second stage. This capacitance exhibits a Miller effect and is equivalent to a gain-multiple capacitance connected to the source ground input.
Thereby, the band of each comparator 151 is greatly narrowed with a small capacity.
Each comparator 151 has a function of performing initialization (auto-zero: AZ) and sampling in order to determine an operating point for each column at the start of a row operation.

以下、本実施形態の特徴的な構成を有するADC群(画素信号読み出し部)150の比較器151の構成、機能について詳細に説明する。
なお、本実施形態において、第1導電型はpチャネルまたはnチャネルであり、第2導電型はnチャネルまたはpチャネルである。
以下の比較器は符号200を付して説明する。
Hereinafter, the configuration and function of the comparator 151 of the ADC group (pixel signal readout unit) 150 having the characteristic configuration of the present embodiment will be described in detail.
In the present embodiment, the first conductivity type is p channel or n channel, and the second conductivity type is n channel or p channel.
The following comparator will be described with reference numeral 200.

図4は、本実施形態に係る比較器の構成例を示す回路図である。   FIG. 4 is a circuit diagram illustrating a configuration example of the comparator according to the present embodiment.

比較器200は、図4に示すように、縦続接続された第1アンプ210、第2アンプ220、およびミラー効果を発現するためのキャパシタC230を有している。   As shown in FIG. 4, the comparator 200 includes a first amplifier 210 and a second amplifier 220 that are connected in cascade, and a capacitor C230 that exhibits a mirror effect.

第1アンプ210は、pチャネルMOS(PMOS)トランジスタPT211〜PT214、nチャネルMOS(NMOS)トランジスタNT211〜NT213、およびAZレベルのサンプリング容量としての第1および第2のキャパシタC211,C212を有する。   The first amplifier 210 includes p-channel MOS (PMOS) transistors PT211 to PT214, n-channel MOS (NMOS) transistors NT211 to NT213, and first and second capacitors C211 and C212 as AZ level sampling capacitors.

PMOSトランジスタPT211のソースおよびPMOSトランジスタPT212のソースが電源電位源VDDに接続されている。
PMOSトランジスタPT211のドレインがNMOSトランジスタNT211のドレインに接続され、その接続点によりノードND211が形成されている。また、PMOSトランジスタPT211のドレインとゲートが接続され、その接続点がPMOSトランジスタ212のゲートに接続されている。
PMOSトランジスタPT212のドレインがNMOSトランジスタNT212のドレインに接続され、その接続点により第1アンプ210の出力ノードND212が形成されている。
NMOSトランジスタNT211とNMOSトランジスタNT212のソース同士が接続され、その接続点がNMOSトランジスタNT213のドレインに接続されている。NMOSトランジスタNT213のソースは基準電位源(たとえば接地電位)GNDに接続されている。
The source of the PMOS transistor PT211 and the source of the PMOS transistor PT212 are connected to the power supply potential source VDD.
The drain of the PMOS transistor PT211 is connected to the drain of the NMOS transistor NT211 and a node ND211 is formed by the connection point. Further, the drain and gate of the PMOS transistor PT211 are connected, and the connection point is connected to the gate of the PMOS transistor 212.
The drain of the PMOS transistor PT212 is connected to the drain of the NMOS transistor NT212, and an output node ND212 of the first amplifier 210 is formed by the connection point.
The sources of the NMOS transistor NT211 and the NMOS transistor NT212 are connected to each other, and the connection point is connected to the drain of the NMOS transistor NT213. The source of the NMOS transistor NT213 is connected to a reference potential source (for example, ground potential) GND.

NMOSトランジスタNT211のゲートがキャパシタC211の第1電極に接続され、その接続点によりノードND213が形成されている。そして、キャパシタC211の第2電極がランプ信号RAMPの入力端子TRAMPに接続されている。
NMOSトランジスタNT212のゲートがキャパシタC212の第1電極に接続され、その接続点によりノードND214が形成されている。そして、キャパシタC212の第2電極がアナログ信号VSLの入力端子TVSLに接続されている。
また、NMOSトランジスタNT213のゲートがバイアス信号BIASの入力端子TBIASに接続されている。
PMOSトランジスタPT213のソースがノードND211に接続され、ドレインがノードND213に接続されている。PMOSトランジスタPT214のソースがノードND212に接続され、ドレインがノードND214に接続されている。
そして、PMOSトランジスタPT213およびPT214のゲートがローレベルでアクティブの第1のAZ信号PSELの入力端子TPSELに共通に接続されている。
The gate of the NMOS transistor NT211 is connected to the first electrode of the capacitor C211 and a node ND213 is formed by the connection point. The second electrode of the capacitor C211 is connected to the input terminal TRAMP for the ramp signal RAMP.
The gate of the NMOS transistor NT212 is connected to the first electrode of the capacitor C212, and a node ND214 is formed by the connection point. The second electrode of the capacitor C212 is connected to the input terminal TVSL for the analog signal VSL.
The gate of the NMOS transistor NT213 is connected to the input terminal TBIAS for the bias signal BIAS.
The source of the PMOS transistor PT213 is connected to the node ND211 and the drain is connected to the node ND213. The source of the PMOS transistor PT214 is connected to the node ND212, and the drain is connected to the node ND214.
The gates of the PMOS transistors PT213 and PT214 are commonly connected to the input terminal TPSEL of the first AZ signal PSEL which is active at a low level.

このような構成を有する第1アンプ210において、PMOSトランジスタPT211,PT212によりカレントミラー回路が構成され、NMOSトランジスタNT211,NT212によりNMOSトランジスタNT213を電流源とする差動比較部が構成される。
また、PMOSトランジスタPT213,PT214がAZスイッチとして機能し、キャパシタC211,C212がAZレベルのサンプリング容量として機能する。
そして、第1アンプ210の出力信号1stcompは出力ノードND212から第2アンプ220に出力される。
In the first amplifier 210 having such a configuration, a current mirror circuit is configured by the PMOS transistors PT211 and PT212, and a differential comparison unit using the NMOS transistor NT213 as a current source is configured by the NMOS transistors NT211 and NT212.
The PMOS transistors PT213 and PT214 function as AZ switches, and the capacitors C211 and C212 function as AZ level sampling capacitors.
The output signal 1stcomp of the first amplifier 210 is output from the output node ND212 to the second amplifier 220.

第2アンプ220は、PMOSトランジスタPT221、NMOSトランジスタNT221,NT222、およびAZレベルのサンプリング容量としての第3のキャパシタC221を有する。   The second amplifier 220 includes a PMOS transistor PT221, NMOS transistors NT221 and NT222, and a third capacitor C221 as an AZ level sampling capacitor.

PMOSトランジスタPT221のソースが電源電位VDDに接続され、ゲートが第1アンプ210の出力ノードND212に接続されている。
PMOSトランジスタPT221のドレインがNMOSトランジスタNT221のドレインに接続され、その接続点により出力ノードND221が形成されている。
NMOSトランジスタNT221のソースが接地電位GNDに接続され、ゲートがキャパシタC221の第1電極に接続され、その接続点によりノードND222が形成されている。キャパシタC221の第2電極は接地電位GNDに接続されている。
NMOSトランジスタNT222のドレインがノードND221に接続され、ソースがノードND222に接続されている。
そして、NMOSトランジスタNT222のゲートがハイレベルでアクティブの第2のAZ信号NSELの入力端子TNSELに接続されている。
この第2のAZ信号NSELは、第1アンプ210に供給される第1のAZ信号PSELと相補的なレベルをとる。
The source of the PMOS transistor PT221 is connected to the power supply potential VDD, and the gate is connected to the output node ND212 of the first amplifier 210.
The drain of the PMOS transistor PT221 is connected to the drain of the NMOS transistor NT221, and an output node ND221 is formed by the connection point.
The source of the NMOS transistor NT221 is connected to the ground potential GND, the gate is connected to the first electrode of the capacitor C221, and a node ND222 is formed by the connection point. A second electrode of the capacitor C221 is connected to the ground potential GND.
The drain of the NMOS transistor NT222 is connected to the node ND221, and the source is connected to the node ND222.
The gate of the NMOS transistor NT222 is connected to the input terminal TNSEL of the second AZ signal NSEL which is active at a high level.
The second AZ signal NSEL takes a level complementary to the first AZ signal PSEL supplied to the first amplifier 210.

このような構成を有する第2アンプ220において、PMOSトランジスタPT221により入力および増幅回路が構成されている。
また、NMOSトランジスタNT222がAZスイッチとして機能し、キャパシタC221がAZレベルのサンプリング容量として機能する。
そして、第2アンプ220の出力ノードND221は、比較器200の出力端子TOUTに接続されている。
In the second amplifier 220 having such a configuration, an input and amplifier circuit is configured by the PMOS transistor PT221.
The NMOS transistor NT222 functions as an AZ switch, and the capacitor C221 functions as an AZ level sampling capacitor.
The output node ND221 of the second amplifier 220 is connected to the output terminal TOUT of the comparator 200.

キャパシタC230は、第1電極がソース接地型増幅器としてPMOSトランジスタPT221のゲート(入力)に接続され、第2電極がPMOSトランジスタPT221のドレイン(出力)に接続されている。
このキャパシタC230は、ミラー効果を発現し、ソース接地入力にゲイン倍の容量が接続されたのと等価になる。
第1アンプ210の出力に見える容量は、PMOSトランジスタPT221のゲインをAV2とし、キャパシタC230の容量をCとすると、{C*(1+AV2)}のようにゲイン倍されることからキャパシタC230の容量値は小さくてよい。
これにより、比較器200の帯域は小さな容量で大きく狭められる。
The capacitor C230 has a first electrode connected to the gate (input) of the PMOS transistor PT221 as a common source amplifier, and a second electrode connected to the drain (output) of the PMOS transistor PT221.
This capacitor C230 exhibits a Miller effect, and is equivalent to a capacitor having a gain multiplied by the source ground input.
Capacity visible in the output of the first amplifier 210, the gain of the PMOS transistor PT221 and A V2, and the capacitance of the capacitor C230 is C, the capacitor C230 from being gain-multiplied as {C * (1 + A V2 )} The capacitance value may be small.
As a result, the bandwidth of the comparator 200 is greatly narrowed with a small capacity.

<3.CDSについての考察>
次に、上記構成を有する比較器200(151)を含むADC用いたCDS(相関二重サンプリング)について考察する。
<3. Considerations for CDS>
Next, a CDS (correlated double sampling) using an ADC including the comparator 200 (151) having the above configuration will be considered.

図5は、CDSの動作フローを示す図である。   FIG. 5 is a diagram showing an operation flow of the CDS.

CDSでは、図5に示すように、まず、画素のリセットレベルのAD変換を行い(ST1)、次に実信号のAD変換を行って(ST2)、その差分が最終データとなる(ST3)。   In the CDS, as shown in FIG. 5, first, AD conversion of the reset level of the pixel is performed (ST1), then AD conversion of the actual signal is performed (ST2), and the difference becomes final data (ST3).

図6および図7はCDS伝達関数を示す図であって、図6はCDS伝達関数の式を示し、図7は周波数対CDSゲイン特性を示す図である。
また、図8は、CDSにおけるフィルタ処理を模式的に示す図である。
6 and 7 are diagrams showing a CDS transfer function. FIG. 6 shows an expression of the CDS transfer function, and FIG. 7 is a diagram showing frequency vs. CDS gain characteristics.
FIG. 8 is a diagram schematically showing filter processing in CDS.

CDSは、図6および図7に示すように、バンドパスの伝達特性を示す。
そして、図8に示すように、画素ノイズや比較器自体のノイズはCDSによってフィルタリングされる。
つまり、ミラー効果によって、比較器の遮断周波数ωを下げるほど、CDSの伝達特性によって、固体撮像素子全体のノイズが減ることとなる。
As shown in FIGS. 6 and 7, the CDS shows band-pass transfer characteristics.
Then, as shown in FIG. 8, pixel noise and noise of the comparator itself are filtered by CDS.
That is, as the cutoff frequency ω C of the comparator is lowered due to the mirror effect, the noise of the entire solid-state imaging device is reduced due to the transfer characteristic of the CDS.

図9(A)〜(C)は、CDSのフィルタ効果によるノイズ低減について示す図である。
図9(A)はCDS前入力換算ノイズを示し、図9(B)はCDSゲインを示し、図9(C)はCDS後入力換算ノイズを示している。
図9(B)および(C)において、曲線Aが本発明の実施形態に係る回路の特性を示し、曲線Bが既存回路の特性を示している。
9A to 9C are diagrams illustrating noise reduction due to the CDS filter effect.
FIG. 9A shows input conversion noise before CDS, FIG. 9B shows CDS gain, and FIG. 9C shows input conversion noise after CDS.
9B and 9C, a curve A shows the characteristics of the circuit according to the embodiment of the present invention, and a curve B shows the characteristics of the existing circuit.

画素+ADC(AD変換器)のノイズにCDS伝達特性を掛け合わせたものがCDS後のノイズスペクトラムとなる。
ミラー効果による比較器帯域制限により、ノイズスペクトラムのレベルが下がっていることが分かる。
The noise spectrum after CDS is obtained by multiplying the noise of the pixel + ADC (AD converter) by the CDS transfer characteristic.
It can be seen that the level of the noise spectrum is lowered due to the comparator band limitation due to the mirror effect.

図10は、図4の回路の比較例としての比較器を示している。   FIG. 10 shows a comparator as a comparative example of the circuit of FIG.

図10の比較器200Cは、ミラー効果を用いずに1段目の第1アンプ(差動増幅器)210の出力にキャパシタ(容量)C240が接続され、これにより帯域制限することも可能である。
しかし、この比較器200Cにおいて、大きく帯域制限する場合、容量の大きさが大きくなり、容量への充放電時間がかかるためスルーレートが悪化し、比較器自体の反転遅延が大きくなる問題がある。
In the comparator 200C of FIG. 10, a capacitor (capacitance) C240 is connected to the output of the first amplifier (differential amplifier) 210 in the first stage without using the Miller effect, so that the band can be limited.
However, in the comparator 200C, when the band is largely limited, there is a problem that the capacity increases and the charge / discharge time for the capacity increases, so that the slew rate deteriorates and the inversion delay of the comparator itself increases.

図11は、同一遮断周波数に設定した、ミラー効果を用いない図10の既存回路とミラー効果を用いた本発明の実施形態に係る図4の回路との反転遅延の比較結果を示す図である。   FIG. 11 is a diagram showing a comparison result of inversion delay between the existing circuit of FIG. 10 that does not use the mirror effect and the circuit of FIG. 4 according to the embodiment of the present invention that uses the mirror effect, set to the same cutoff frequency. .

図11のように本発明回路の方が既存回路に比べて反転遅延量が小さい。
この比較器の反転遅延が増大すると、AD変換時間を延ばさなければならず、結果的にフレームレートを落とさざるをえなくなる。
As shown in FIG. 11, the circuit of the present invention has a smaller inversion delay amount than the existing circuit.
When the inversion delay of the comparator increases, the AD conversion time must be extended, and as a result, the frame rate must be reduced.

このように、本実施形態の比較器200では、ミラー効果を用いて帯域制限することで、フレームレートを落とすことなくランダムノイズを低減できる。
さらに、小さな容量の実装で済むため、面積やコストの面で有利となる。
Thus, in the comparator 200 of this embodiment, random noise can be reduced without reducing the frame rate by limiting the band using the mirror effect.
Furthermore, since mounting with a small capacity is sufficient, it is advantageous in terms of area and cost.

<4.比較器の動作>
次に、本実施形態に係る比較器200の動作について図12のタイミングチャートに関連付けて説明する。
なお、図12において、AZ信号としては第2アンプ220に供給される第2のAZ信号NSELのみを示している。第1のAZ信号PSELは前述したように第2のAZ信号NSELと相補的なレベルをとる。すなわち、第2のAZ信号NSELがハイレベルのとき第1のAZ信号PSELはローレベルをとり、第2のAZ信号NSELがローレベルのとき第1のAZ信号PSELはハイレベルをとる。
<4. Operation of comparator>
Next, the operation of the comparator 200 according to the present embodiment will be described with reference to the timing chart of FIG.
In FIG. 12, only the second AZ signal NSEL supplied to the second amplifier 220 is shown as the AZ signal. As described above, the first AZ signal PSEL takes a level complementary to the second AZ signal NSEL. That is, when the second AZ signal NSEL is at a high level, the first AZ signal PSEL is at a low level, and when the second AZ signal NSEL is at a low level, the first AZ signal PSEL is at a high level.

比較器200において、AZ期間に、第1のAZ信号PSELがローレベル、第2のAZ信号NSELはハイレベルで供給される。これにより、第1アンプ210のAZスイッチとしてのPMOSトランジスタPT213、PT214がオンする。同様に、第2アンプ220のAZスイッチとしてのNMOSトランジスタNT222がオンする。
このようにADC群150においては、比較器200を使用し、はじめにDACオフセットレベル、画素リセットレベルと各カラム毎のAZレベルをサンプリングして、AZレベルサンプリング容量であるキャパシタC211,C212,C221に電荷を蓄える。
In the comparator 200, during the AZ period, the first AZ signal PSEL is supplied at a low level and the second AZ signal NSEL is supplied at a high level. As a result, the PMOS transistors PT213 and PT214 as the AZ switch of the first amplifier 210 are turned on. Similarly, the NMOS transistor NT222 as the AZ switch of the second amplifier 220 is turned on.
As described above, the ADC group 150 uses the comparator 200 to sample the DAC offset level, the pixel reset level, and the AZ level for each column, and charge the capacitors C211, C212, and C221 that are AZ level sampling capacitors. Store.

次に、AZ期間を終了するとき、第1のAZ信号PSELがハイレベル、第2のAZ信号NSELはローに切り替えられる。これにより、第1アンプ210のAZスイッチとしてのPMOSトランジスタPT213、PT214がオフする。同様に、第2アンプ220のAZスイッチとしてのNMOSトランジスタNT222がオフする。
これにより、画素リセットレベルの積分型AD変換(以降P相)を開始する。
Next, when the AZ period ends, the first AZ signal PSEL is switched to the high level and the second AZ signal NSEL is switched to the low level. As a result, the PMOS transistors PT213 and PT214 as the AZ switch of the first amplifier 210 are turned off. Similarly, the NMOS transistor NT222 as the AZ switch of the second amplifier 220 is turned off.
Thereby, the integration type AD conversion (hereinafter referred to as P phase) at the pixel reset level is started.

比較器200の第1アンプ210において、P相ではAZ時に蓄積したサンプリング容量であるキャパシタC211、C212のNMOSトランジスタNT211,NT212のゲート側ノードND213,ND214はハイインピーダンス(HiZ)になっている。
このため、DAC161によるランプ信号RAMPのランプ波変化に追従して差動トランジスタを構成するNMOSトランジスタNT211,NT212のゲート入力が変化し、画素信号であるVSLレベルとの比較を開始する。
そして、ランプ信号RAMPと画素信号の交差以降、第1アンプ210の出力信号1stcompが急峻に変化する。
これにより、第2アンプ220のPMOSトランジスタPT221がオンして、電流I1が流れ始め、第2アンプ220の出力2ndOUTがローレベル(L)からハイレベル(H)に変化する。
In the first amplifier 210 of the comparator 200, in the P-phase, the gate-side nodes ND213 and ND214 of the NMOS transistors NT211 and NT212 of the capacitors C211 and C212, which are sampling capacitors accumulated at the time of AZ, are in a high impedance (HiZ).
For this reason, the gate inputs of the NMOS transistors NT211 and NT212 constituting the differential transistor change following the change of the ramp wave of the ramp signal RAMP by the DAC 161, and the comparison with the VSL level as the pixel signal is started.
Then, after the intersection of the ramp signal RAMP and the pixel signal, the output signal 1stcomp of the first amplifier 210 changes sharply.
As a result, the PMOS transistor PT221 of the second amplifier 220 is turned on, the current I1 begins to flow, and the output 2ndOUT of the second amplifier 220 changes from the low level (L) to the high level (H).

D相においても、各カラム毎に比較器200はP相と同じ動作をするため、デジタルCDSの結果、kTCノイズや画素リセットノイズをキャンセルすることができる(図12のタイミングチャート:D相期間)。   Also in the D phase, the comparator 200 performs the same operation as that of the P phase for each column, so that kTC noise and pixel reset noise can be canceled as a result of digital CDS (timing chart of FIG. 12: D phase period). .

図13(A)および(B)は、本発明の実施形態に係る図4の回路と図10の回路の比較器出力の反転遅延を比較して示す図である。
図13(A)が既存回路の比較器出力等を、図13(B)が本発明の実施形態に係る回路の比較器出力等を示している。
FIGS. 13A and 13B are diagrams comparing the inversion delays of the comparator outputs of the circuit of FIG. 4 and the circuit of FIG. 10 according to the embodiment of the present invention.
FIG. 13A shows the comparator output of the existing circuit, and FIG. 13B shows the comparator output of the circuit according to the embodiment of the present invention.

図13(A)は、既存の手法で帯域制限した場合のタイミングチャートを示す。
図13(A)に示すように、反転遅延が大きい場合、P相・D相期間を延ばす必要があり、結果としてフレームレートを落とすことになる。
FIG. 13A shows a timing chart when the band is limited by an existing method.
As shown in FIG. 13A, when the inversion delay is large, it is necessary to extend the P phase / D phase period, and as a result, the frame rate is lowered.

図13(B)は、実施形態に係る図4の回路で帯域制限した場合を示す。
図13(B)の場合、図13(A)に比較して、P相・D相期間が少なくなるため、1Hタイミングを少なくでき、結果としてフレームレートを上げることができる。
FIG. 13B shows a case where the band is limited by the circuit of FIG. 4 according to the embodiment.
In the case of FIG. 13B, since the P-phase / D-phase period is reduced as compared with FIG. 13A, the 1H timing can be reduced, and as a result, the frame rate can be increased.

<5.比較器の変形例>
図14は、本実施形態に係る比較器の変形例を示す回路図である。
<5. Modified Example of Comparator>
FIG. 14 is a circuit diagram showing a modification of the comparator according to the present embodiment.

図14の比較器200Aは、図4の比較器200のトランジスタの極性を逆極性として構成されている。そのため、接続する電源電位と接地電位も回路上逆となっている。
なお、図14においては、理解を容易にするために、ノードとキャパシタの符号は図5と同じ符号を付している。
The comparator 200A of FIG. 14 is configured with the polarity of the transistor of the comparator 200 of FIG. For this reason, the power supply potential to be connected and the ground potential are also reversed in the circuit.
In FIG. 14, the same reference numerals as those in FIG. 5 are assigned to the nodes and capacitors for easy understanding.

第1アンプ210Aにおいて、図4のNMOSトランジスタNT211〜NT213の代わりに、PMOSトランジスタPT215〜PT217を用いて差動比較部および電流源が構成されている。そして、電流源としてのPMOSトランジスタPT217のソースが電源電位VDDに接続されている。
また、図4のPMOSトランジスタPT211,PT212の代わりに、NMOSトランジスタNT214,NT215を用いてカレントミラー回路が構成され、NMOSトランジスタNT214、NT215のソースが接地電位GNDに接続されている。
また、図4のPMOSトランジスタPT213、PT214の代わり、NMOSトランジスタNT216,NT217を用いてAZスイッチが構成されている。この場合、第1アンプ210Aには第2のAZ信号NSELがNMOSトランジスタNT216,NT217のゲートに供給される。
In the first amplifier 210A, a differential comparison unit and a current source are configured using PMOS transistors PT215 to PT217 instead of the NMOS transistors NT211 to NT213 in FIG. The source of the PMOS transistor PT217 as a current source is connected to the power supply potential VDD.
Further, instead of the PMOS transistors PT211 and PT212 of FIG. 4, NMOS transistors NT214 and NT215 are used to form a current mirror circuit, and the sources of the NMOS transistors NT214 and NT215 are connected to the ground potential GND.
Further, an AZ switch is configured using NMOS transistors NT216 and NT217 instead of the PMOS transistors PT213 and PT214 of FIG. In this case, the second amplifier AZ is supplied with the second AZ signal NSEL to the gates of the NMOS transistors NT216 and NT217.

第2アンプ220Aにおいて、図4のPMOSトランジスタPT221の代わりに、NMOSトランジスタNT223を用いて入力および増幅回路が構成されている。NMOSトランジスタNT223のソースが接地電位GNDに接続されている。
図4のNMOSトランジスタNT221の代わりに、PMOSトランジスタPT222を用いてミラー回路を形成するトランジスタが構成されている。そして、PMOSトランジスタPT222のソースが電源電位VDDに接続されている。また、キャパシタC221の第1電極がPMOSトランジスタPT222のゲートに接続されたノードND222に接続され、第2電極が電源電位VDDに接続されている。
また、図4のNMOSトランジスタNT222の代わりに、PMOSトランジスタPT223を用いてAZスイッチが構成されている。この場合、第2アンプ220Aには第1のAZ信号PSELがPMOSトランジスタPT223のゲートに供給される。
In the second amplifier 220A, an input and amplifier circuit is configured using an NMOS transistor NT223 instead of the PMOS transistor PT221 of FIG. The source of the NMOS transistor NT223 is connected to the ground potential GND.
Instead of the NMOS transistor NT221 of FIG. 4, a PMOS transistor PT222 is used to form a transistor that forms a mirror circuit. The source of the PMOS transistor PT222 is connected to the power supply potential VDD. The first electrode of the capacitor C221 is connected to the node ND222 connected to the gate of the PMOS transistor PT222, and the second electrode is connected to the power supply potential VDD.
Further, an AZ switch is configured using a PMOS transistor PT223 instead of the NMOS transistor NT222 of FIG. In this case, the first amplifier AZ is supplied with the first AZ signal PSEL to the gate of the PMOS transistor PT223.

そして、キャパシタC230Aは、第1電極がソース接地型増幅器としてNMOSトランジスタNT223のゲート(入力)に接続され、第2電極がNMOSトランジスタNT223のドレイン(出力)に接続されている。
このキャパシタC230Aは、ミラー効果を発現し、ソース接地入力にゲイン倍の容量が接続されたのと等価になる。
第1アンプ210Aの出力に見える容量は、NMOSトランジスタNT223のゲインをAV2とし、キャパシタC230Aの容量をCとすると、{C*(1+AV2)}のようにゲイン倍されることからキャパシタC230Aの容量値を小さくてよい。
これにより、比較器200Aの帯域は小さな容量で大きく狭められる。
The capacitor C230A has a first electrode connected to the gate (input) of the NMOS transistor NT223 as a common source amplifier, and a second electrode connected to the drain (output) of the NMOS transistor NT223.
This capacitor C230A exhibits a Miller effect, and is equivalent to a capacitor having a gain multiplied by the source ground input.
Capacity visible in the output of the first amplifier 210A has a gain of the NMOS transistors NT223 and A V2, and the capacitance of capacitor C230A and C, {C * (1 + A V2)} from being gain multiple capacitors C230A as The capacitance value may be small.
Thereby, the bandwidth of the comparator 200A is greatly narrowed with a small capacity.

このような構成を有する図14の比較器200Aは、基本的に、図4の比較器200と同様に動作する。ただし、図12のタイミングチャートにおけるRAMP,1st comp, 2nd Ampの波形が反対になる。
そして、図14の比較器200Aによれば、図4の比較器200と同様の効果を得ることができる。
The comparator 200A of FIG. 14 having such a configuration basically operates in the same manner as the comparator 200 of FIG. However, the waveforms of RAMP, 1st comp, and 2nd Amp in the timing chart of FIG.
Then, according to the comparator 200A of FIG. 14, the same effects as those of the comparator 200 of FIG. 4 can be obtained.

以上説明したように、本実施形態によれば、光電変換を行う複数の画素が行列状に配列された画素部110と、画素部110から行単位でデータの読み出しを行う画素信号読み出し部(ADC群)150と、を有する。
ADC群150は、画素の列配列に対応して配置され読み出し信号電位と参照電圧とを比較判定し、その判定信号を出力する複数の比較器151と、対応する上記比較器の比較時間をカウントする複数のカウンタ152と、を有する。
各比較器151は、第1アンプ210と、第1アンプ210に縦続接続され第1アンプ210の出力をゲインアップする第2アンプ220と、第2アンプのソース接地型増幅器の入出力間に接続されたミラー効果を発現するためのキャパシタC230と、を有する。
したがって、本実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
As described above, according to this embodiment, the pixel unit 110 in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in a matrix, and the pixel signal reading unit (ADC) that reads data from the pixel unit 110 in units of rows. Group) 150.
The ADC group 150 is arranged corresponding to the column arrangement of pixels, compares and determines the readout signal potential and the reference voltage, and counts the comparison time of the corresponding comparators that output the determination signal. And a plurality of counters 152.
Each comparator 151 is connected between the input and output of the first amplifier 210, the second amplifier 220 cascaded to the first amplifier 210 and increasing the output of the first amplifier 210, and the source grounded amplifier of the second amplifier. And a capacitor C230 for expressing the mirror effect.
Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

すなわち、キャパシタのミラー効果で比較器の帯域を大きく落とすことで、画素ノイズ、比較器ノイズを低減することができる。
比較器の帯域を落とすためにミラー効果を使用するため、比較器の反転遅延が少ないまま、ノイズ低減が可能となる。反転遅延が悪化しないため、フレームレートを落とすことがない。
比較器の帯域を落とすためにミラー効果を使用するため、小さな容量で大きく帯域を落とせる。同等のノイズ低減効果を実現するのに、既存の手法に比べて、面積、コストを削減することができる。
In other words, pixel noise and comparator noise can be reduced by greatly reducing the bandwidth of the comparator due to the mirror effect of the capacitor.
Since the mirror effect is used to reduce the bandwidth of the comparator, noise can be reduced while the inversion delay of the comparator is small. Since the inversion delay does not deteriorate, the frame rate is not lowered.
Since the mirror effect is used to reduce the bandwidth of the comparator, the bandwidth can be greatly reduced with a small capacity. In order to achieve the same noise reduction effect, the area and cost can be reduced compared to the existing methods.

このような効果を有する固体撮像素子は、デジタルカメラやビデオカメラの撮像デバイスとして適用することができる。   A solid-state imaging device having such an effect can be applied as an imaging device for a digital camera or a video camera.

<6.カメラシステムの構成例>
図15は、本発明の実施形態に係る固体撮像素子が適用されるカメラシステムの構成の一例を示す図である。
<6. Configuration example of camera system>
FIG. 15 is a diagram illustrating an example of a configuration of a camera system to which the solid-state imaging device according to the embodiment of the present invention is applied.

本カメラシステム300は、図15に示すように、本実施形態に係るCMOSイメージセンサ(固体撮像素子)100が適用可能な撮像デバイス310を有する。
カメラシステム300は、撮像デバイス310の画素領域に入射光を導く(被写体像を結像する)光学系、たとえば入射光(像光)を撮像面上に結像させるレンズ320を有する。
カメラシステム300は、撮像デバイス310を駆動する駆動回路(DRV)330と、撮像デバイス310の出力信号を処理する信号処理回路(PRC)340と、を有する。
As shown in FIG. 15, the camera system 300 includes an imaging device 310 to which the CMOS image sensor (solid-state imaging device) 100 according to the present embodiment can be applied.
The camera system 300 includes an optical system that guides incident light (images a subject image) to a pixel region of the imaging device 310, for example, a lens 320 that forms incident light (image light) on an imaging surface.
The camera system 300 includes a drive circuit (DRV) 330 that drives the imaging device 310 and a signal processing circuit (PRC) 340 that processes an output signal of the imaging device 310.

駆動回路330は、撮像デバイス310内の回路を駆動するスタートパルスやクロックパルスを含む各種のタイミング信号を生成するタイミングジェネレータ(図示せず)を有し、所定のタイミング信号で撮像デバイス310を駆動する。   The drive circuit 330 includes a timing generator (not shown) that generates various timing signals including a start pulse and a clock pulse that drive a circuit in the imaging device 310, and drives the imaging device 310 with a predetermined timing signal. .

また、信号処理回路340は、撮像デバイス310の出力信号に対して所定の信号処理を施す。
信号処理回路340で処理された画像信号は、たとえばメモリなどの記録媒体に記録される。記録媒体に記録された画像情報は、プリンタなどによってハードコピーされる。また、信号処理回路340で処理された画像信号を液晶ディスプレイ等からなるモニターに動画として映し出される。
Further, the signal processing circuit 340 performs predetermined signal processing on the output signal of the imaging device 310.
The image signal processed by the signal processing circuit 340 is recorded on a recording medium such as a memory. The image information recorded on the recording medium is hard copied by a printer or the like. The image signal processed by the signal processing circuit 340 is displayed as a moving image on a monitor including a liquid crystal display.

上述したように、デジタルスチルカメラ等の撮像装置において、撮像デバイス310として、先述した固体撮像素子100を搭載することで、高精度なカメラが実現できる。   As described above, a high-precision camera can be realized by mounting the above-described solid-state imaging device 100 as the imaging device 310 in an imaging apparatus such as a digital still camera.

100・・・固体撮像素子、110・・・画素部、120・・・垂直走査回路、130・・・水平転送走査回路、140・・・タイミング制御回路、150・・・ADC群、151・・・比較器、152・・・カウンタ、153・・・ラッチ、160・・・DAC、170・・・アンプ回路、180・・・信号処理回路、190・・・ラインメモリ、LTRF・・・水平転送線、200,200A・・・比較器、210,210A・・・第1アンプ、220,220A・・・第2アンプ、C230,C230A・・・キャパシタ、300・・・カメラシステム、310・・・撮像デバイス、320・・・レンズ、330・・・駆動回路、340・・・信号処理回路。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 ... Solid-state image sensor, 110 ... Pixel part, 120 ... Vertical scanning circuit, 130 ... Horizontal transfer scanning circuit, 140 ... Timing control circuit, 150 ... ADC group, 151 ... Comparator, 152 ... Counter, 153 ... Latch, 160 ... DAC, 170 ... Amplifier circuit, 180 ... Signal processing circuit, 190 ... Line memory, LTRF ... Horizontal transfer Line, 200, 200A ... Comparator, 210, 210A ... First amplifier, 220, 220A ... Second amplifier, C230, C230A ... Capacitor, 300 ... Camera system, 310 ... Imaging device, 320 ... lens, 330 ... drive circuit, 340 ... signal processing circuit.

Claims (9)

光電変換を行う複数の画素が行列状に配列された画素部と、
上記画素部から複数の画素単位で画素信号の読み出しを行う画素信号読み出し部と、を有し、
上記画素信号読み出し部は、
画素の列配列に対応して配置され、読み出し信号電位と参照電圧とを比較判定し、その判定信号を出力する複数の比較器と、
対応する上記比較器の比較時間をカウントする複数のカウンタと、を含み、
上記各比較器は、
非帰還型であり、
一方のトランジスタのゲートに上記参照電圧を受け、他方のトランジスタのゲートに上記読み出し信号を受けて、当該参照電圧と当該読み出し信号電位との比較動作を行い、当該参照電圧と当該読み出し信号電位が同等レベルになったとき出力レベルを反転する差動増幅器を含む第1アンプと、
上記第1アンプの反転出力を、当該反転出力に即応してレベル反転しゲインアップして出力する増幅器を含む第2アンプと、
上記第2アンプの増幅器の入出力間に接続されたミラー効果を発現して比較器の帯域制限をするためのキャパシタと、を有する
固体撮像素子。
A pixel unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in a matrix;
A pixel signal readout unit that reads out pixel signals from the pixel unit in units of a plurality of pixels,
The pixel signal readout unit is
A plurality of comparators that are arranged corresponding to the column arrangement of pixels, compare and determine a read signal potential and a reference voltage, and output a determination signal;
A plurality of counters for counting the comparison time of the corresponding comparators,
Each of the above comparators
Non-feedback type,
The reference voltage is received at the gate of one transistor, the read signal is received at the gate of the other transistor, and the reference voltage and the read signal potential are compared, and the reference voltage and the read signal potential are equal. A first amplifier including a differential amplifier that inverts the output level when the level is reached;
A second amplifier including an amplifier that inverts the level of the inverted output of the first amplifier in response to the inverted output and increases the gain;
A solid-state imaging device comprising: a capacitor connected between the input and output of the amplifier of the second amplifier for expressing a mirror effect and limiting the bandwidth of the comparator .
上記画素信号読み出し部は、
対応する上記比較器と上記カウンタにより上記画素から読み出した画素信号をアナログ信号からデジタル信号に変換するアナログデジタル(AD)変換機能と、
上記画素のリセットレベルの上記画素信号をAD変換する第1AD変換と、上記画素の実信号である上記画素信号をAD変換する第2AD変換を行い、上記第1AD変換によるデータと上記第2AD変換によデータとの差分を最終データとする相関二重サンプリング(CDS)機能と、を有し、
上記キャパシタは、
上記比較器の遮断周波数を下げる機能を有する
請求項1記載の固体撮像素子。

The pixel signal readout unit is
An analog-to-digital (AD) conversion function for converting a pixel signal read from the pixel by the corresponding comparator and the counter from an analog signal to a digital signal;
A first AD conversion for AD conversion of the pixel signal at the reset level of the pixel and a second AD conversion for AD conversion of the pixel signal that is an actual signal of the pixel are performed, and the data and the second AD conversion by the first AD conversion are performed. anda correlated double sampling (CDS) function of the final data the difference between the Ru good data,
The capacitor is
The solid-state imaging device according to claim 1, having a function of lowering a cutoff frequency of the comparator.

上記第2アンプの入出力間に接続されたキャパシタは、上記増幅器のゲインをAV2とし、上記キャパシタの容量をCとすると、上記第1アンプの出力から見て{C*(1+AV2)}のようにゲイン倍される
請求項1または2記載の固体撮像素子。
The capacitor connected between the input and output of the second amplifier is {C * (1 + A V2 )} when viewed from the output of the first amplifier, where A V2 is the gain of the amplifier and C is the capacitance of the capacitor. The solid-state imaging device according to claim 1 or 2, wherein the gain is multiplied as follows.
上記第2アンプの増幅器は、ゲートに上記第1アンプの出力が供給されるソース接地型の電界効果トランジスタにより形成され、
上記キャパシタは、上記ソース接地型電界効果トランジスタのゲートとドレイン間に接続されている
請求項1から3のいずれか一に記載の固体撮像素子。
The amplifier of the second amplifier is formed of a source-grounded field effect transistor whose gate is supplied with the output of the first amplifier,
The solid-state imaging device according to any one of claims 1 to 3, wherein the capacitor is connected between a gate and a drain of the common-source field-effect transistor.
上記第1アンプは、
一方のトランジスタのゲートに上記参照電圧を受け、他方のトランジスタのゲートに上記読み出し信号を受けて、当該参照電圧と当該読み出し信号電位との比較動作を行う上記差動トランジスタと、
上記差動トランジスタのゲートとドレイン間に接続された行動作開始時に各カラム毎に動作点を決めるための初期化用スイッチと、
上記差動トランジスタの各ゲートに接続された初期化時のサンプリング用の第1および第2のキャパシタと、を含む
請求項1から4のいずれか一に記載の固体撮像素子。
The first amplifier is
The differential transistor that receives the reference voltage at the gate of one transistor and the read signal at the gate of the other transistor and performs a comparison operation between the reference voltage and the read signal potential;
An initialization switch for determining an operating point for each column at the start of row operation connected between the gate and drain of the differential transistor;
5. The solid-state imaging device according to claim 1, further comprising: a first capacitor and a second capacitor for sampling connected to each gate of the differential transistor.
上記第2アンプは、
行動作開始時に各カラム毎に動作点を決めるための初期化用スイッチと、
初期化時のサンプリング用の第3のキャパシタと、を含む
請求項5記載の固体撮像素子。
The second amplifier is
An initialization switch to determine the operating point for each column at the start of row operation;
The solid-state imaging device according to claim 5, further comprising: a third capacitor for sampling at initialization.
上記第2アンプは、
上記第1アンプの出力がゲートに入力される第1導電型電界効果トランジスタと、
上記第1導電型電界効果トランジスタと直列に接続され、ゲートとドレイン間に上記初期化用スイッチが配置され、ゲートが上記第3のキャパシタに接続された第2導電型電界効果トランジスタと、を有し、
上記第1導電型電界効果トランジスタと上記第2導電型電界効果トランジスタの接続点により出力ノードが形成され、
上記ミラー効果発現のためのキャパシタは、上記第1導電型電界効果トランジスタのゲートとドレイン間に接続されている
請求項6記載の固体撮像素子。
The second amplifier is
A first conductivity type field effect transistor in which an output of the first amplifier is input to a gate;
A second conductivity type field effect transistor connected in series with the first conductivity type field effect transistor, wherein the initialization switch is disposed between the gate and the drain, and the gate is connected to the third capacitor. And
An output node is formed by a connection point of the first conductivity type field effect transistor and the second conductivity type field effect transistor,
The solid-state imaging device according to claim 6, wherein the capacitor for expressing the mirror effect is connected between a gate and a drain of the first conductivity type field effect transistor.
固体撮像素子と、
上記撮像素子に被写体像を結像する光学系と、を有し、
上記固体撮像素子は、
光電変換を行う複数の画素が行列状に配列された画素部と、
上記画素部から複数の画素単位で画素信号の読み出しを行う画素信号読み出し部と、を有し、
上記画素信号読み出し部は、
画素の列配列に対応して配置され、読み出し信号電位と参照電圧とを比較判定し、その判定信号を出力する複数の比較器と、
対応する上記比較器の比較時間をカウントする複数のカウンタと、を含み、
上記各比較器は、
非帰還型であり、
一方のトランジスタのゲートに上記参照電圧を受け、他方のトランジスタのゲートに上記読み出し信号を受けて、当該参照電圧と当該読み出し信号電位との比較動作を行い、当該参照電圧と当該読み出し信号電位が同等レベルになったとき出力レベルを反転する差動増幅器を含む第1アンプと、
上記第1アンプの反転出力を、当該反転出力に即応してレベル反転しゲインアップして出力する増幅器を含む第2アンプと、
上記第2アンプの増幅器の入出力間に接続されたミラー効果を発現して比較器の帯域制限をするためのキャパシタと、を有する
カメラシステム。
A solid-state image sensor;
An optical system for forming a subject image on the image sensor,
The solid-state imaging device is
A pixel unit in which a plurality of pixels that perform photoelectric conversion are arranged in a matrix;
A pixel signal readout unit that reads out pixel signals from the pixel unit in units of a plurality of pixels,
The pixel signal readout unit is
A plurality of comparators that are arranged corresponding to the column arrangement of pixels, compare and determine a read signal potential and a reference voltage, and output a determination signal;
A plurality of counters for counting the comparison time of the corresponding comparators,
Each of the above comparators
Non-feedback type,
The reference voltage is received at the gate of one transistor, the read signal is received at the gate of the other transistor, and the reference voltage and the read signal potential are compared, and the reference voltage and the read signal potential are equal. A first amplifier including a differential amplifier that inverts the output level when the level is reached;
A second amplifier including an amplifier that inverts the level of the inverted output of the first amplifier in response to the inverted output and increases the gain;
And a capacitor for limiting the bandwidth of the comparator by developing a mirror effect connected between the input and output of the amplifier of the second amplifier.
上記画素信号読み出し部は、
対応する上記比較器と上記カウンタにより上記画素から読み出した画素信号をアナログ信号からデジタル信号に変換するアナログデジタル(AD)変換機能と、
上記画素のリセットレベルの上記画素信号をAD変換する第1AD変換と、上記画素の実信号である上記画素信号をAD変換する第2AD変換を行い、上記第1AD変換によるデータと上記第2AD変換によデータとの差分を最終データとする相関二重サンプリング(CDS)機能と、を有し、
上記キャパシタは、
上記比較器の遮断周波数を下げる機能を有する
請求項8記載のカメラシステム。
The pixel signal readout unit is
An analog-to-digital (AD) conversion function for converting a pixel signal read from the pixel by the corresponding comparator and the counter from an analog signal to a digital signal;
A first AD conversion for AD conversion of the pixel signal at the reset level of the pixel and a second AD conversion for AD conversion of the pixel signal that is an actual signal of the pixel are performed, and the data and the second AD conversion by the first AD conversion are performed. anda correlated double sampling (CDS) function of the final data the difference between the Ru good data,
The capacitor is
The camera system according to claim 8, having a function of reducing a cutoff frequency of the comparator.
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