JP5623190B2 - Plastic lens manufacturing method and plastic lens - Google Patents

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Description

本発明は組成分布を有するプラスチックレンズの製造方法およびプラスチックレンズに関する。 The present invention relates to the production method and plastic lens of the plastic lens having a composition distribution.

カメラ、光ファイバの結像系、複写機、コンパクトディスクのピックアップ光学系などの各種光学系において、球面収差や色収差などの諸収差を補正するためには、複数のレンズが必要である。特に、撮像系や白色光源下で使用される光学系では、色収差を補正するために単色光学系に比べてレンズ枚数が多く必要とされる。   In various optical systems such as a camera, an optical fiber imaging system, a copying machine, and a compact disc pickup optical system, a plurality of lenses are required to correct various aberrations such as spherical aberration and chromatic aberration. In particular, an optical system used under an imaging system or a white light source requires a larger number of lenses than a monochromatic optical system in order to correct chromatic aberration.

そこで、レンズ媒質中に光軸から半径方向に屈折率勾配を有するラジアル型屈折率分布レンズを用いると、特に色収差の補正に優れた効果を示す。そのため、色収差補正用のレンズの枚数を削減でき、ズームレンズの小型化や、広角化や高倍率化などの高機能化を実現することができる。   Therefore, when a radial type refractive index distribution lens having a refractive index gradient in the radial direction from the optical axis is used in the lens medium, the effect particularly excellent in correcting chromatic aberration is exhibited. Therefore, the number of lenses for correcting chromatic aberration can be reduced, and the zoom lens can be miniaturized and enhanced in function such as wide angle and high magnification.

プラスチックレンズの屈折率分布は、例えば、屈折率の異なる2種以上のモノマの共重合比率や、マトリックスの有機成分とは異なる屈折率を有する無機微粒子の濃度分布など、媒質中の組成分布によって形成することができる。   The refractive index distribution of a plastic lens is formed by the composition distribution in the medium, such as the copolymerization ratio of two or more monomers having different refractive indexes, or the concentration distribution of inorganic fine particles having a refractive index different from the organic component of the matrix. can do.

例えば、プラスチックレンズに組成分布を形成する方法としては、固形の高分子重合体をモノマー溶液と接触させ、高分子重合体中に前記モノマーを拡散させる方法が知られている(例えば、特許文献1、特許文献2)。   For example, as a method of forming a composition distribution in a plastic lens, a method is known in which a solid polymer is brought into contact with a monomer solution and the monomer is diffused into the polymer (for example, Patent Document 1). Patent Document 2).

特許第03989035号公報Japanese Patent No. 03989035 特開平7−40357号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-40357

特許文献1に開示された技術は、高分子重合体が自己形状保持性を得るまで光硬化した後、モノマー中で高分子重合体を膨潤させてモノマーを拡散させる方法である。そのため高分子重合体の硬化度が高く、モノマの拡散が遅いため、直径20mmのサンプルで中心部にまでモノマを拡散させるには少なくとも17日を要する。得られた屈折率差は、中心部と周辺部で0.02程度である。   The technique disclosed in Patent Document 1 is a method in which a polymer is photocured until it has self-shape retention, and then the polymer is swollen in the monomer to diffuse the monomer. Therefore, the degree of cure of the high molecular polymer is high and the diffusion of the monomer is slow. Therefore, it takes at least 17 days to diffuse the monomer to the center with a sample having a diameter of 20 mm. The obtained refractive index difference is about 0.02 between the central portion and the peripheral portion.

特許文献2は、注型セルに加圧機構が必要であった。   In Patent Document 2, a pressure mechanism is required for the casting cell.

また、大きな屈折率差を得るためには、屈折率の大きい金属酸化物などの微粒子の濃度分布を形成することが有効である。しかし、特許文献1、2には、モノマーの拡散を用いて組成分布を有するプラスチック部材を製造する方法において、微粒子により濃度分布を形成する方法は開示されていない。   In order to obtain a large refractive index difference, it is effective to form a concentration distribution of fine particles such as a metal oxide having a large refractive index. However, Patent Documents 1 and 2 do not disclose a method of forming a concentration distribution with fine particles in a method of manufacturing a plastic member having a composition distribution by using monomer diffusion.

本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、組成分布を有するプラスチックレンズを、簡便な設備で、工程数が少なく、短時間で得ることができるプラスチックレンズの製造方法を提供するものである。 The present invention has been made in view of such background art, and provides a plastic lens manufacturing method capable of obtaining a plastic lens having a composition distribution in a short time with a simple facility, with a small number of steps. To do.

また、本発明は、上記のプラスチックレンズの製造方法で作製された組成分布を有するプラスチックレンズを提供するものである。 Further, the present invention is to provide a plastic lens having a fabricated composition distribution in the method of manufacturing the plastic lens.

上記課題を解決する組成分布を有するプラスチックレンズの製造方法は、放射線照射面を設けた注型セルに放射線重合可能な第1のモノマーを含有する第1の放射線重合性組成物を充填する第1充填工程と、前記注型セルの放射線照射面に放射線を照射し、前記第1の放射線重合性組成物の一部を重合し第1の組成物の重合体を得る重合工程と、未重合の前記第1の放射線重合性組成物を前記注型セルから除去する除去工程と、除去により生じた前記注型セルの空隙に、放射線重合可能な第2のモノマーを含有する第2の放射線重合性組成物を充填して前記第1の組成物の重合体と接触させる第2充填工程と、前記第2の放射線重合性組成物および前記第1の組成物の重合体の全体を硬化させる全硬化工程と、を有するプラスチックレンズの製造方法において、前記第2充填工程と前記全硬化工程との間に、前記第2の放射線重合性組成物を前記第1の組成物の重合体の中へ拡散させる拡散工程を有し、前記第1の組成物の重合体が、複素粘度が10Pa・s以上10000Pa・s未満のゲル状であり、前記第2の放射線重合性組成物が液状であることを特徴する。 A method for producing a plastic lens having a composition distribution that solves the above-described problem is a first method in which a casting cell provided with a radiation irradiation surface is filled with a first radiation-polymerizable composition containing a first monomer capable of radiation polymerization . A filling step, a polymerization step of irradiating the radiation-irradiated surface of the casting cell, polymerizing a part of the first radiation-polymerizable composition to obtain a polymer of the first composition, and unpolymerized A removal step of removing the first radiation-polymerizable composition from the casting cell, and a second radiation-polymerizable composition containing a second monomer capable of radiation polymerization in the void of the casting cell generated by the removal. A second filling step of filling the composition and contacting the polymer of the first composition; and a total curing for curing the whole of the second radiation-polymerizable composition and the polymer of the first composition. of plastic lens having a step, a In the production method, the method includes a diffusion step of diffusing the second radiation polymerizable composition into the polymer of the first composition between the second filling step and the total curing step, The polymer of the first composition is a gel having a complex viscosity of 10 Pa · s or more and less than 10,000 Pa · s, and the second radiation polymerizable composition is liquid .

上記の課題を解決するプラスチックレンズは、上記のプラスチックレンズの製造方法で作製されたプラスチックレンズである。 Plastic lenses to solve the above problems, a plastic lens produced by the production method of the plastic lens.

本発明によれば、組成分布を有するプラスチックレンズを、簡便な設備で、工程数が少なく、短時間で得ることができるプラスチックレンズの製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the plastic lens which can obtain the plastic lens which has composition distribution with a simple installation with few processes, and a short time can be provided.

また、本発明によれば、上記のプラスチックレンズの製造方法で作製された組成分布を有するプラスチックレンズを提供することができる。また、本発明によれば、微粒子の濃度分布を有するプラスチックレンズを得ることができる。 In addition, according to the present invention, it is possible to provide a plastic lens having a composition distribution produced by the method for producing a plastic lens described above. Moreover, according to the present invention, a plastic lens having a fine particle concentration distribution can be obtained.

本発明のプラスチックレンズの製造方法の一実施態様を示す工程図である。It is process drawing which shows one embodiment of the manufacturing method of the plastic lens of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの屈折率分布を示す図である。It is a figure which shows the refractive index distribution of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの酸化ジルコニウム微粒子の分布を示す図である。It is a figure which shows distribution of the zirconium oxide microparticles | fine-particles of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの酸化ジルコニウム微粒子の分布を示す図である。It is a figure which shows distribution of the zirconium oxide microparticles | fine-particles of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの酸化ケイ素微粒子由来の蛍光X線強度の分布を示す図である。It is a figure which shows distribution of the fluorescent X ray intensity derived from the silicon oxide microparticles | fine-particles of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 本発明の実施例において使用したグレースケールマスクの透過率プロファイルを示す図である。It is a figure which shows the transmittance | permeability profile of the gray scale mask used in the Example of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの屈折率分布を示す図である。It is a figure which shows the refractive index distribution of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの酸化ジルコニウム微粒子の分布を示す図である。It is a figure which shows distribution of the zirconium oxide microparticles | fine-particles of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 本発明の実施例において得られたプラスチックレンズの屈折率分布を示す図である。It is a figure which shows the refractive index distribution of the plastic lens obtained in the Example of this invention. 比較例1及び2のプラスチックレンズの製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the plastic lens of the comparative examples 1 and 2. 本発明の実施例8において得られたプラスチックレンズの屈折率分布を示す図である((a)実施例8−2(b)実施例8−3(c)実施例8−4)。It is a figure which shows the refractive index distribution of the plastic lens obtained in Example 8 of this invention ((a) Example 8-2 (b) Example 8-3 (c) Example 8-4). 本発明の実施例8において、照射した紫外線の露光時間と第1の組成物の重合体の複素粘度の関係を示す図である。In Example 8 of this invention, it is a figure which shows the relationship between the exposure time of the irradiated ultraviolet-ray, and the complex viscosity of the polymer of a 1st composition.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、以下、「プラスチックレンズ」という代わりに「プラスチック部材」という場合がある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the following description, “plastic member” may be used instead of “plastic lens”.

本発明に係る組成分布を有するプラスチック部材の製造方法は、放射線照射面を設けた注型セルに放射線重合可能な第1のモノマーを含有する第1の放射線重合性組成物を充填する工程と、前記注型セルの放射線照射面に放射線を照射し、前記第1の放射線重合性組成物の一部を重合し第1の組成物の重合体を得る工程と、未重合の前記第1の放射線重合性組成物を前記注型セルから除去する工程と、除去により生じた前記注型セルの空隙に、放射線重合可能な第2のモノマーを含有する第2の放射線重合性組成物を充填して前記第1の組成物の重合体と接触させる工程と、前記第2の放射線重合性組成物を前記第1の組成物の重合体の中へ拡散させる工程と、前記注型セル内で拡散した前記第2の放射線重合性組成物および前記第1の組成物の重合体の全体を硬化させる工程と、を有することを特徴する。   The method for producing a plastic member having a composition distribution according to the present invention includes a step of filling a casting cell provided with a radiation irradiation surface with a first radiation-polymerizable composition containing a first monomer capable of radiation polymerization; Irradiating the irradiation surface of the casting cell with radiation, polymerizing a part of the first radiation-polymerizable composition to obtain a polymer of the first composition, and the unpolymerized first radiation. A step of removing the polymerizable composition from the casting cell, and filling the void of the casting cell generated by the removal with a second radiation polymerizable composition containing a second monomer capable of radiation polymerization. Diffusing in the casting cell; contacting the polymer of the first composition; diffusing the second radiation polymerizable composition into the polymer of the first composition; The second radiation-polymerizable composition and the first composition To further comprising a, and curing the whole of the polymer.

本発明のプラスチック部材を製造方法を図面に基づいて説明する。図1は、本発明のプラスチック部材の製造方法の一実施態様を示す工程図である。   A method for producing the plastic member of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram showing an embodiment of a method for producing a plastic member of the present invention.

一対の光学ガラス1の間にガスケット2を設けた注型セル3を用意する。光学ガラス1からなる光照射面を設けた上記の注型セル3のガスケット間に、放射線重合可能な第1のモノマーを含有する第1の放射線重合性組成物4を充填する(図1(a))。   A casting cell 3 in which a gasket 2 is provided between a pair of optical glasses 1 is prepared. A first radiation polymerizable composition 4 containing a first monomer capable of radiation polymerization is filled between the gaskets of the casting cell 3 provided with a light irradiation surface made of the optical glass 1 (FIG. 1 (a). )).

前記注型セルの上部に遮蔽物5を設けて形成された光照射面の一部分に光等の放射線10を照射し、前記注型セル内の前記第1の放射線重合性組成物4の一部を重合して第1の組成物の重合体6を得る(図1(b))。   A part of the first radiation-polymerizable composition 4 in the casting cell is irradiated with a radiation 10 such as light on a part of the light irradiation surface formed by providing the shield 5 on the casting cell. Is polymerized to obtain a polymer 6 of the first composition (FIG. 1B).

未重合の前記第1の放射線重合性組成物を前記注型セルから除去する(図1(c))。   Unpolymerized first radiation-polymerizable composition is removed from the casting cell (FIG. 1 (c)).

除去により生じた前記注型セルの空隙7に、放射線重合可能な第2のモノマーを含有する第2の放射線重合性組成物8を充填して前記第1の組成物の重合体6と接触させる(図1(d))。   The void 7 of the casting cell generated by the removal is filled with a second radiation-polymerizable composition 8 containing a second monomer capable of radiation polymerization and brought into contact with the polymer 6 of the first composition. (FIG. 1 (d)).

所定時間放置して、前記第2の放射線重合性組成物を前記第1の組成物の重合体の中へ拡散させる(図1(e))。   The second radiation polymerizable composition is allowed to stand for a predetermined time to diffuse into the polymer of the first composition (FIG. 1 (e)).

前記注型セル内で拡散した前記第2の放射線重合性組成物および前記第1の組成物の重合体の全体を,放射線照射または加熱により硬化させる(図1(f))。   The whole of the second radiation-polymerizable composition and the polymer of the first composition diffused in the casting cell is cured by irradiation or heating (FIG. 1 (f)).

注型セルから硬化物を取り出し、組成分布を有するプラスチック部材9を得る(図1(g))。   The cured product is taken out from the casting cell to obtain a plastic member 9 having a composition distribution (FIG. 1 (g)).

以下、本発明の製造方法で使用する原料について説明する。   Hereinafter, the raw material used with the manufacturing method of this invention is demonstrated.

(第1の放射線重合性組成物)
第1の放射線重合性組成物(A)は、感放射線重合開始剤(c)と、放射線重合可能な第1のモノマー(d)より構成される。また、第1の放射線重合性組成物は微粒子(e)、光増感剤(f)、熱重合開始剤(g)を含有していても良い。
(First radiation polymerizable composition)
The first radiation-polymerizable composition (A) is composed of a radiation-sensitive polymerization initiator (c) and a radiation-polymerizable first monomer (d). The first radiation polymerizable composition may contain fine particles (e), a photosensitizer (f), and a thermal polymerization initiator (g).

第1のモノマー(d)としては、ラジカル重合性モノマまたはカチオン重合性モノマが例として挙げられる。   Examples of the first monomer (d) include a radical polymerizable monomer or a cationic polymerizable monomer.

ラジカル重合性モノマとしてはアクリロイル基またはメタクリロイル基を1つ以上有する化合物が好ましい。   As the radical polymerizable monomer, a compound having at least one acryloyl group or methacryloyl group is preferable.

カチオン重合性モノマとしてはビニルエーテル基、エポキシ基またはオキセタニル基を1つ以上有する化合物が好ましい。   As the cationic polymerizable monomer, a compound having at least one vinyl ether group, epoxy group or oxetanyl group is preferable.

アクリロイル基またはメタクリロイル基を1つ有する単官能(メタ)アクリル化合物としては、例えば、
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2ーフェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキシドを反応させたp−クミルフェノールの(メタ)アクリレート、2−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを複数モル変性させたフェノキシ(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、へキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド
などが挙げられるが、これらに限定されない。
As a monofunctional (meth) acrylic compound having one acryloyl group or one methacryloyl group, for example,
Phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4 -Phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, (meth) acrylate of p-cumylphenol reacted with ethylene oxide, 2-bromophenoxyethyl (meta) ) Acrylate, 2,4-dibromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, and a phenochrome modified with multiple moles of ethylene oxide and propylene oxide. Xyl (meth) acrylate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (Meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth ) Acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl ( (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( (Meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, Toxidiethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol ( (Meth) acrylate, diacetone (meth) acrylamide, isobutoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate 7-amino-3,7-dimethyloctyl (meth) acrylate, N, N-diethyl (meth) acrylami , N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide include, but are not limited to.

単官能(メタ)アクリル化合物の市販品としては、例えば、
アロニックスM101、M102、M110、M111、M113、M117、M5700、TO−1317、M120、M150、M156(以上、東亞合成製)、LA、IBXA、2−MTA、HPA、ビスコート#150、#155、#158、#190、#192、#193、#220、#2000、#2100、#2150(以上、大阪有機化学工業製)、ライトアクリレートBO−A、EC−A、DMP−A、THF−A、HOP−A、HOA−MPE、HOA−MPL、PO−A、P−200A、NP−4EA、NP−8EA、エポキシエステルM−600A(以上、共栄社化学製)、KAYARAD TC110S、R−564、R−128H (以上、日本化薬製)、NKエステルAMP−10G、AMP−20G(以上、新中村化学工業製)、FA−511A、512A、513A(以上、日立化成製)、PHE、CEA、PHE−2、PHE−4、BR−31、BR−31M、BR−32(以上、第一工業製薬製)、VP(BASF製)、ACMO、DMAA、DMAPAA(以上、興人製)などが挙げられるが、これらに限定されない。
As a commercial item of a monofunctional (meth) acryl compound, for example,
Aronix M101, M102, M110, M111, M113, M117, M5700, TO-1317, M120, M150, M156 (above, manufactured by Toagosei), LA, IBXA, 2-MTA, HPA, Biscote # 150, # 155, # 158, # 190, # 192, # 193, # 220, # 2000, # 2100, # 2150 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry), light acrylate BO-A, EC-A, DMP-A, THF-A, HOP-A, HOA-MPE, HOA-MPL, PO-A, P-200A, NP-4EA, NP-8EA, epoxy ester M-600A (manufactured by Kyoeisha Chemical), KAYARAD TC110S, R-564, R- 128H (above, Nippon Kayaku), NK ester AMP-10G, AMP-20G (above, Nakamura Chemical Co., Ltd.), FA-511A, 512A, 513A (Hitachi Chemical Co., Ltd.), PHE, CEA, PHE-2, PHE-4, BR-31, BR-31M, BR-32 (above, Daiichi Kogyo) (Manufactured by Pharmaceutical), VP (manufactured by BASF), ACMO, DMAA, DMAPAA (manufactured by Kojin), and the like, but are not limited thereto.

アクリロイル基またはメタクリロイル基を2つ以上有する多官能(メタ)アクリル化合物としては、例えば、
トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO, PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−へキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロイルオキシ)イソシアヌレート、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、EO変性2,2−ビス(4−((メタ)アクリロキシ)フェニル)プロパン、PO変性2,2−ビス(4−((メタ)アクリロキシ)フェニル)プロパン、EO,PO変性2,2−ビス(4−((メタ)アクリロキシ)フェニル)プロパン
などが挙げられるが、これらに限定されない。
As a polyfunctional (meth) acryl compound having two or more acryloyl groups or methacryloyl groups, for example,
Trimethylolpropane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, PO modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO, PO modified trimethylolpropane tri (meta) ) Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) Acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di ( (Meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, tris (acryloyloxy) isocyanurate, bis (hydroxymethyl) tricyclodecane di (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, EO-modified 2,2-bis (4-((meth) acryloxy) phenyl) propane, PO-modified 2,2-bis (4-((meth) acryloxy) phenyl) propane, EO, Examples thereof include, but are not limited to, PO-modified 2,2-bis (4-((meth) acryloxy) phenyl) propane.

これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。なお、上記において、(メタ)アクリレートとはアクリレート及びそれに対応するメタクリレートを意味し、(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基及びそれに対応するメタクリロイル基を意味し、EOはエチレンオキサイドを示し、EO変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有するものである。また、POはプロピレンオキサイドを示し、PO変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有するものである。   These can be used alone or in combination of two or more. In the above, (meth) acrylate means acrylate and its corresponding methacrylate, (meth) acryloyl group means acryloyl group and its corresponding methacryloyl group, EO indicates ethylene oxide, and is EO-modified. These compounds have an ethylene oxide group block structure. PO represents propylene oxide, and the PO-modified compound has a block structure of propylene oxide groups.

多官能(メタ)アクリル化合物の市販品としては、例えば、
ユピマーUV SA1002、SA2007(以上、三菱化学製)、ビスコート #195、#230、#215、#260、#335HP、#295、#300、#360、#700、GPT、3PA(以上、大阪有機化学工業製)、ライトアクリレート 4EG−A、9EG−A、NP−A、DCP−A、BP−4EA、BP−4PA、TMP−A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A(以上、共栄社化学製)、KAYARAD PET−30、TMPTA、R−604、DPHA、DPCA−20、−30、−60、−120、HX−620、D−310、D−330(以上、日本化薬製)、アロニックス M208、M210、M215、M220、M240、M305、M309、M310、M315、M325、M400(以上、東亞合成製)、リポキシVR−77、VR−60、VR−90(以上、昭和高分子製)
などが挙げられるが、これらに限定されない。
As a commercial item of a polyfunctional (meth) acryl compound, for example,
Iupimer UV SA1002, SA2007 (Mitsubishi Chemical), Biscote # 195, # 230, # 215, # 260, # 335HP, # 295, # 300, # 360, # 700, GPT, 3PA (above, Osaka Organic Chemical) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), light acrylate 4EG-A, 9EG-A, NP-A, DCP-A, BP-4EA, BP-4PA, TMP-A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A KAYARAD PET-30, TMPTA, R-604, DPHA, DPCA-20, -30, -60, -120, HX-620, D-310, D-330 (above, Nippon Kayaku), Aronix M208, M210, M215, M220, M240, M305, M309, M310, M315, M325, M400 (above, Ltd. 亞 synthesis), Ripoxy VR-77, VR-60, VR-90 (manufactured by Showa High Polymer)
However, it is not limited to these.

ビニルエーテル基を1つ有する化合物としては、例えば、
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、n−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフリフリルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
As a compound having one vinyl ether group, for example,
Methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexyl methyl vinyl ether, 4-methylcyclohexyl methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, di- Cyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexyl methyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloroethoxyethyl vinyl ether, phenylethyl Examples thereof include, but are not limited to, vinyl ether and phenoxy polyethylene glycol vinyl ether.

ビニルエーテル基を2つ以上有する化合物としては、例えば、
エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールAアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールFアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類;トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類などが挙げられるが、これらに限定されない。
As a compound having two or more vinyl ether groups, for example,
Divinyl ethers such as ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, polyethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, butylene glycol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, bisphenol A alkylene oxide divinyl ether, bisphenol F alkylene oxide divinyl ether; trimethylol Ethane trivinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, ditrimethylolpropane tetravinyl ether, glycerin trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether, dipentaerythritol pentavinyl ether, dipentaerythritol hexavinyl ether, ethylene oxide adduct Methylolpropane trivinyl ether, propylene oxide-added trimethylolpropane trivinyl ether, ethylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, propylene oxide-added ditrimethylolpropane tetravinyl ether, ethylene oxide-added pentaerythritol tetravinyl ether, propylene oxide-added pentaerythritol tetravinyl ether, ethylene oxide Examples thereof include polyfunctional vinyl ethers such as addition dipentaerythritol hexavinyl ether and propylene oxide addition dipentaerythritol hexavinyl ether, but are not limited thereto.

エポキシ基を1つ有する化合物としては、例えば、
フェニルグリシジルエーテル、p−tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、1,2−ブチレンオキサイド、1,3−ブタジエンモノオキサイド、1,2−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、1,2−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、3−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、3−ビニルシクロヘキセンオキサイドなどが挙げられるが、これらに限定されない。
As a compound having one epoxy group, for example,
Phenyl glycidyl ether, p-tert-butylphenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 1,2-butylene oxide, 1,3-butadiene monooxide, 1,2-epoxide decane, epi Examples include, but are not limited to, chlorohydrin, 1,2-epoxydecane, styrene oxide, cyclohexene oxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide, and 3-vinylcyclohexene oxide.

エポキシ基を2つ以上有する化合物としては、例えば、
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、1,1,3−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、1,2,7,8−ジエポキシオクタン、1,2,5,6−ジエポキシシクロオクタンなどが挙げられるが、これらに限定されない。
As a compound having two or more epoxy groups, for example,
Bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, epoxy novolac resin, hydrogenated bisphenol A Diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5 , 5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene Oxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy-6'-methylcyclohexanecarboxylate , Methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), epoxy hexahydrophthalic acid Dioctyl, epoxyhexahydrophthalic acid di-2-ethylhexyl, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylo Rupane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ethers, 1,1,3-tetradecadiene dioxide, limonene dioxide, 1,2,7,8-diepoxyoctane, 1,2 , 5,6-diepoxycyclooctane and the like, but not limited thereto.

オキセタニル基を1つ有する化合物としては、例えば、
3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチル−3−エチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−〔1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、4−メトキシ−〔1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、〔1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)エチル〕フェニルエーテル、イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテルなどが挙げられるが、これらに限定されない。
As a compound having one oxetanyl group, for example,
3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3- (meth) allyloxymethyl-3-ethyloxetane, (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene, 4-fluoro- [1- (3-ethyl-3 -Oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 4-methoxy- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethyl] phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-ethylhexyl (3-ethyl- 3-Oxetanylmethyl) ether, ethyldiethylene glycol (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentadiene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl ( 3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrahydrofurfuryl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tetrabromophenoxyethyl (3- Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tribromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tribromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxyethyl (3-ethyl) -3- Xetanylmethyl) ether, 2-hydroxypropyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, butoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentachlorophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentabromo Phenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, bornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether and the like can be mentioned, but not limited thereto.

オキセタニル基を2つ以上有する化合物としては、例えば、
3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル〕ベンゼン、1,2−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等の多官能オキセタンなどが挙げられるが、これらに限定されない。
Examples of the compound having two or more oxetanyl groups include:
3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 3,3 ′-(1,3- (2-methylenyl) propanediylbis (oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane), 1 , 4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bis [(3-ethyl- 3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenylbis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethyleneglycolbis (3-ethyl-3 -Oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, Licyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropane tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, polyethylene glycol Bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipe Taerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ) Ether, ditrimethylolpropane tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ) Ether, EO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, Such as O-modified bisphenol F (3- ethyl-3-oxetanylmethyl) polyfunctional oxetane such as ethers including but not limited to.

なお、第1のモノマー(d)成分は、単官能モノマーと多官能モノマーとを併用して用いることが好ましい。   The first monomer (d) component is preferably used in combination of a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

感放射線重合開始剤(c)は、第1のモノマー(d)成分がラジカル重合性モノマーの場合は感放射線ラジカル発生剤であり、第1のモノマー(d)成分がカチオン重合性モノマーの場合は感放射線酸発生剤である。   The radiation-sensitive polymerization initiator (c) is a radiation-sensitive radical generator when the first monomer (d) component is a radical polymerizable monomer, and when the first monomer (d) component is a cationic polymerizable monomer. It is a radiation sensitive acid generator.

感放射線ラジカル発生剤とは、赤外線、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、電子線等の荷電粒子線など、放射線の照射により化学反応を生じ、ラジカルを生成し、ラジカル重合を開始できる化合物である。   A radiation-sensitive radical generator is a compound capable of initiating radical polymerization by generating a chemical reaction upon irradiation with radiation, such as charged particle beams such as infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, X-rays, and electron beams. It is.

このような化合物としては、例えば、
2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−又はp−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等のような置換されていてもよい2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;
ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノンのようなベンゾフェノン誘導体;
2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1,2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパノン−1−オンなどの芳香族ケトン誘導体;
2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、2−t−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナンタラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン等のキノン類;
ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル誘導体;
ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン、プロピルベンゾインなどのベンゾイン誘導体;
ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体;
9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタンなどのアクリジン誘導体;
N−フェニルグリシンなどのN−フェニルグリシン誘導体;
アセトフェノン、3−メチルアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンなどのアセトフェノン誘導体;
チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントンなどのチオキサントン誘導体:
キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド
などが挙げられるが、これらに限定されない。これらは、単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。
As such a compound, for example,
2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4 2,4,5-triarylimidazole dimer, such as 2,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o- or p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, etc. Mer;
Benzophenone, N, N'-tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenone (Michler ketone), N, N'-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 4-chloro Benzophenone derivatives such as benzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone;
Aromatics such as 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one Ketone derivatives;
2-ethylanthraquinone, phenanthrenequinone, 2-t-butylanthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-benzanthraquinone, 2-phenylanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, Quinones such as 2-methylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-phenantharaquinone, 2-methyl-1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylanthraquinone;
Benzoin ether derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl ether;
Benzoin derivatives such as benzoin, methylbenzoin, ethylbenzoin, propylbenzoin;
Benzyl derivatives such as benzyldimethyl ketal;
Acridine derivatives such as 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9'-acridinyl) heptane;
N-phenylglycine derivatives such as N-phenylglycine;
Acetophenone derivatives such as acetophenone, 3-methylacetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone;
Thioxanthone derivatives such as thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone:
Xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- Phenylpropan-1-one,
Examples include, but are not limited to, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide. These can be used alone or in combination of two or more.

感放射線ラジカル発生剤の市販品としては、例えば、Irgacure184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI−1700、−1750、−1850、CG24−61、Darocur l116、1173(以上、チバ・ジャパン製)、Lucirin TPO、LR8893、LR8970(以上、BASF製)、ユベクリルP36(UCB製)などが挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of commercially available radiation-sensitive radical generators include Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI-1700, -1750, -1850, CG24-61, Darocur l116, 1173 (above, Ciba Japan), Lucirin TPO, LR8883, LR8970 (above, manufactured by BASF), Ubekrill P36 (manufactured by UCB), and the like, but are not limited thereto.

感放射線酸発生剤とは、赤外線、可視光線、紫外線、遠紫外線、X線、電子線等の荷電粒子線など、放射線の照射により化学反応を生じ、酸を生成し、カチオン重合を開始できる化合物である。このような化合物としては、例えば、オニウム塩化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物などが挙げられるが、これらに限定されない。本発明ではオニウム塩化合物を用いることが好ましい。   A radiation-sensitive acid generator is a compound capable of initiating cationic polymerization by generating a chemical reaction upon irradiation with radiation, such as charged particle beams such as infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, X-rays, and electron beams. It is. Examples of such compounds include, but are not limited to, onium salt compounds, sulfone compounds, sulfonic acid ester compounds, sulfonimide compounds, diazomethane compounds, and the like. In the present invention, it is preferable to use an onium salt compound.

オニウム塩化合物としては、例えば、
ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。オニウム塩化合物の具体例としては、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムパーフルオロ−n−ブタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム2−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムピレンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムn−ドデシルベンゼンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムp−トルエンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムベンゼンスルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム10−カンファースルホネート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムn−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−n−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム2−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムn−ドデシルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムp−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム10−カンファースルホネート、ジフェニルヨードニウムn−オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−n−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム2−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムピレンスルホネート、トリフェニルスルホニウムn−ドデシルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムp−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム10−カンファースルホネート、トリフェニルスルホニウムn−オクタンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムパーフルオロ−n−ブタンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウム2−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムピレンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムn−ドデシルベンゼンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムp−トルエンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムベンゼンスルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウム10−カンファースルホネート、ジフェニル(4−t−ブチルフェニル)スルホニウムn−オクタンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムパーフルオロ−n−ブタンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム2−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムピレンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムn−ドデシルベンゼンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムp−トルエンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムベンゼンスルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウム10−カンファースルホネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムn−オクタンスルホネートなどが挙げられるが、これらに限定されない。
Examples of onium salt compounds include:
Examples include iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, ammonium salts, pyridinium salts, and the like. Specific examples of the onium salt compound include bis (4-t-butylphenyl) iodonium perfluoro-n-butanesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate, and bis (4-t-butylphenyl). Iodonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium pyrenesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium n-dodecylbenzenesulfonate, bis (4-t-butylphenyl) iodonium p- Toluene sulfonate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium benzene sulfonate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium 10-camphor sulfonate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium n-oct Sulfonate, diphenyliodonium perfluoro-n-butanesulfonate, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, diphenyliodonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate, diphenyliodonium pyrenesulfonate, diphenyliodonium n-dodecylbenzenesulfonate, diphenyliodonium p-toluenesulfonate, diphenyl Iodonium benzenesulfonate, diphenyliodonium 10-camphorsulfonate, diphenyliodonium n-octanesulfonate, triphenylsulfonium perfluoro-n-butanesulfonate, triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, triphenylsulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfone , Triphenylsulfonium pyrenesulfonate, triphenylsulfonium n-dodecylbenzenesulfonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfoniumbenzenesulfonate, triphenylsulfonium 10-camphorsulfonate, triphenylsulfonium n-octanesulfonate, diphenyl ( 4-t-butylphenyl) sulfonium perfluoro-n-butanesulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) sulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate, diphenyl ( 4-t-butylphenyl) sulfonium pyrenesulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) L) sulfonium n-dodecylbenzenesulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) sulfonium p-toluenesulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) sulfoniumbenzenesulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) sulfonium 10-camphor Sulfonate, diphenyl (4-t-butylphenyl) sulfonium n-octanesulfonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium perfluoro-n-butanesulfonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium trifluoromethanesulfonate, tris (4-methoxy Phenyl) sulfonium 2-trifluoromethylbenzenesulfonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium pyrenesulfonate, tris (4-methoxy) Phenyl) sulfonium n-dodecylbenzenesulfonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium p-toluenesulfonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfoniumbenzenesulfonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium 10-camphorsulfonate, tris (4- Methoxyphenyl) sulfonium n-octane sulfonate and the like, but are not limited thereto.

スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらのα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。スルホン化合物の具体例としては、フェナシルフェニルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス(フェニルスルホニル)メタン、4−トリスフェナシルスルホンなどが挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of the sulfone compound include β-ketosulfone, β-sulfonylsulfone, and α-diazo compounds thereof. Specific examples of the sulfone compound include, but are not limited to, phenacylphenylsulfone, mesitylphenacylsulfone, bis (phenylsulfonyl) methane, 4-trisphenacylsulfone, and the like.

スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。スルホン酸エステル化合物の具体例としては、α−メチロールベンゾインパーフルオロ−n−ブタンスルホネート、α−メチロールベンゾイントリフルオロメタンスルホネート、α−メチロールベンゾイン2−トリフルオロメチルベンゼンスルホネートなどが挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of the sulfonic acid ester compounds include alkyl sulfonic acid esters, haloalkyl sulfonic acid esters, aryl sulfonic acid esters, and imino sulfonates. Specific examples of the sulfonic acid ester compound include α-methylol benzoin perfluoro-n-butane sulfonate, α-methylol benzoin trifluoromethane sulfonate, α-methylol benzoin 2-trifluoromethylbenzene sulfonate, and the like. Not.

スルホンイミド化合物の具体例としては、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(トリフルオロメチルスルホニルオキシ)ナフチルイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)フタルイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(10−カンファースルホニルオキシ)ナフチルイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−メチルフェニルスルホニルオキシ)ナフチルイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)フタルイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(2−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ)ナフチルイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)スクシンイミド、N−(4−フルオロフェニル)フタルイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ジフェニルマレイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン−5,6−オキシ−2,3−ジカルボキシイミド、N−(4−フルオロフェニルスルホニルオキシ)ナフチルイミドなどが挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of the sulfonimide compound include N- (trifluoromethylsulfonyloxy) succinimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) phthalimide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) diphenylmaleimide, N- (trifluoromethylsulfonyl). Oxy) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) -7-oxabicyclo [2.2.1] hept-5-ene -2,3-dicarboximide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] heptane-5,6-oxy-2,3-dicarboximide, N- (trifluoromethylsulfonyloxy) ) Naphthylimide, N- (10-camphorsulfonyloxy) s Synimide, N- (10-camphorsulfonyloxy) phthalimide, N- (10-camphorsulfonyloxy) diphenylmaleimide, N- (10-camphorsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2, 3-dicarboximide, N- (10-camphorsulfonyloxy) -7-oxabicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (10-camphorsulfonyloxy) Bicyclo [2.2.1] heptane-5,6-oxy-2,3-dicarboximide, N- (10-camphorsulfonyloxy) naphthylimide, N- (4-methylphenylsulfonyloxy) succinimide, N- (4-Methylphenylsulfonyloxy) phthalimide, N- (4-methylpheny Sulfonyloxy) diphenylmaleimide, N- (4-methylphenylsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-methylphenylsulfonyloxy) -7 -Oxabicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-methylphenylsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] heptane-5,6-oxy- 2,3-dicarboximide, N- (4-methylphenylsulfonyloxy) naphthylimide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) succinimide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) phthalimide, N -(2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) diphenylmaleimide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) -7-oxabicyclo [ 2.2.1] Hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] heptane-5,6-oxy-2, 3-dicarboximide, N- (2-trifluoromethylphenylsulfonyloxy) naphthylimide, N- (4-fluorophenylsulfonyloxy) succinimide, N- (4-fluorophenyl) phthalimide, N- (4-fluorophenyl) Sulfonyloxy) diphenylmaleimide, N- (4-fluorophenylsulfonyloxy) bi Chlo [2.2.1] hept-5-ene-2,3-dicarboximide, N- (4-fluorophenylsulfonyloxy) -7-oxabicyclo [2.2.1] hept-5-ene- 2,3-dicarboximide, N- (4-fluorophenylsulfonyloxy) bicyclo [2.2.1] heptane-5,6-oxy-2,3-dicarboximide, N- (4-fluorophenylsulfonyl) Examples include, but are not limited to, oxy) naphthylimide.

ジアゾメタン化合物の具体例としては、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン、メチルスルホニルp−トルエンスルホニルジアゾメタン、(シクロヘキシルスルホニル)(1,1−ジメチルエチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(1,1−ジメチルエチルスルホニル)ジアゾメタンなどが挙げられるが、これらに限定されない。       Specific examples of the diazomethane compound include bis (trifluoromethylsulfonyl) diazomethane, bis (cyclohexylsulfonyl) diazomethane, bis (phenylsulfonyl) diazomethane, bis (p-toluenesulfonyl) diazomethane, methylsulfonyl p-toluenesulfonyldiazomethane, (cyclohexyl) Examples include, but are not limited to, sulfonyl) (1,1-dimethylethylsulfonyl) diazomethane, bis (1,1-dimethylethylsulfonyl) diazomethane, and the like.

これらの感放射線酸発生剤のうち、オニウム塩化合物が好ましい。本発明において、酸発生剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。   Of these radiation-sensitive acid generators, onium salt compounds are preferred. In this invention, an acid generator can be used individually or in mixture of 2 or more types.

感放射線重合開始剤(c)成分の配合割合は、本発明の第1の放射線重合性組成物(A)の全量に対して、0.01質量%以上10質量%以下、好ましくは0.1質量%以上3質量%以下である。0.01質量%未満であると、硬化速度が低下して反応効率が低くなることがある。一方、10質量%を超えると、感放射線重合性組成物の硬化特性及び取り扱い性や、硬化物の力学特性及び光学特性の点で劣ることがある。   The mixing ratio of the radiation-sensitive polymerization initiator (c) component is 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, preferably 0.1% with respect to the total amount of the first radiation-polymerizable composition (A) of the present invention. It is from 3% by mass to 3% by mass. If it is less than 0.01% by mass, the curing rate may decrease and the reaction efficiency may decrease. On the other hand, when it exceeds 10 mass%, it may be inferior in the point of the hardening characteristic and handleability of a radiation sensitive polymerizable composition, and the mechanical characteristic and optical characteristic of hardened | cured material.

本発明の第1の放射線重合性組成物(A)には、光増感剤(f)を添加することができる。光増感剤の添加により、より少ない露光量で組成分布の形成が可能となる。ここで、光増感剤は、特定の波長の光を吸収することにより励起され、感放射線重合開始剤(c)成分と相互作用性を有する化合物であり、クマリン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラセン誘導体、カルバゾール誘導体、ペリレン誘導体などが挙げられるが、これらに限定されない。ここでいう相互作用には、励起状態の光増感剤からのエネルギー移動や電子移動などがある。光増感剤(f)成分の露光波長に対するモル吸光係数は感放射線重合開始剤(c)成分のモル吸光係数よりも大きいことが好ましい。   A photosensitizer (f) can be added to the first radiation-polymerizable composition (A) of the present invention. By adding a photosensitizer, a composition distribution can be formed with a smaller exposure amount. Here, the photosensitizer is a compound that is excited by absorbing light of a specific wavelength and has an interaction property with the radiation-sensitive polymerization initiator (c) component, and includes a coumarin derivative, a benzophenone derivative, a thioxanthone derivative, Examples include, but are not limited to, anthracene derivatives, carbazole derivatives, and perylene derivatives. Examples of the interaction include energy transfer and electron transfer from the photosensitizer in the excited state. The molar extinction coefficient of the photosensitizer (f) component with respect to the exposure wavelength is preferably larger than the molar extinction coefficient of the radiation sensitive polymerization initiator (c) component.

(第2の放射線重合性組成物)
第2の放射線重合性組成物(B)には、放射線重合可能な第2のモノマー(d1)を含有する第2の放射線重合性組成物(C)が用いられる。
(Second radiation-polymerizable composition)
As the second radiation polymerizable composition (B), a second radiation polymerizable composition (C) containing a second monomer (d1) capable of radiation polymerization is used.

第2の放射線重合性組成物(C)は、上記の第1の放射線重合性組成物(A)と同様の組成物が用いられる。この場合、第2の放射線重合性組成物(C)と第1の放射線重合性組成物(A)とは、モノマーおよび組成が異なり、硬化後の光学物性や電気物性などの物性が異なる組成物を用いる。   As the second radiation polymerizable composition (C), the same composition as the first radiation polymerizable composition (A) is used. In this case, the second radiation-polymerizable composition (C) and the first radiation-polymerizable composition (A) have different monomers and compositions, and have different physical properties such as optical physical properties and electrical physical properties after curing. Is used.

本発明における第1の放射線重合性組成物および第2の放射線重合性組成物の少なくとも一方が微粒子(e)を含有することができる。本発明で使用される微粒子(e)を構成する材料は、後述する照射光に対して透明で、感放射線重合性組成物中に均一に分散が可能であれば特に限定されず、有機材料、無機材料、あるいは有機−無機複合材料を用いることができる。表面が修飾されていてもよい。   At least one of the first radiation-polymerizable composition and the second radiation-polymerizable composition in the present invention can contain fine particles (e). The material constituting the fine particles (e) used in the present invention is not particularly limited as long as it is transparent to irradiation light described later and can be uniformly dispersed in the radiation-sensitive polymerizable composition. An inorganic material or an organic-inorganic composite material can be used. The surface may be modified.

微粒子(e)を構成する材料としては、例えば、
酸化チタン(TiO)、水酸化チタン、酸化ジルコニウム(ZrO)、酸化タンタル(Ta)、酸化アルミニウム(Al)、酸化ニオブ(Nb)、酸化スズ(SnO)、酸化アンチモン(Sb)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化珪素(SiO)、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム(In)、酸化ランタン(La)、酸化ガドニウム(Gd)、酸化ハフニウム(HfO)、酸化エルビウム(Er)、酸化ネオジウム(Nd)、酸化セリウム(CeO)、酸化ジスプロシウム(Dy)、酸化マグネシウム(MgO)、酸化鉄(Fe)、水酸化鉄(Fe(OH))、酸化ガリウム(Ga)、水酸化ガリウム(Ga(OH))、
とこれらの混合酸化物、混合水酸化物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。安定性の観点から、好ましく酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化ランタン、酸化ガドニウム、酸化ハフニウム、酸化エルビウム、酸化ネオジウム、酸化セリウム、酸化ジスプロシウム、とこれらの混合酸化物、水酸化物を使用する。
As a material constituting the fine particles (e), for example,
Titanium oxide (TiO 2 ), titanium hydroxide, zirconium oxide (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), niobium oxide (Nb 2 O 5 ), tin oxide (SnO 2) ), Antimony oxide (Sb 2 O 5 ), zinc oxide (ZnO), silicon oxide (SiO 2 ), indium tin oxide (ITO), indium oxide (In 2 O 3 ), lanthanum oxide (La 2 O 3 ), oxidation Gadonium (Gd 2 O 3 ), hafnium oxide (HfO 2 ), erbium oxide (Er 2 O 3 ), neodymium oxide (Nd 2 O 3 ), cerium oxide (CeO 2 ), dysprosium oxide (Dy 2 O 3 ), oxide magnesium (MgO), iron oxide (Fe 2 O 3), iron hydroxide (Fe (OH) 3), gallium oxide (Ga 2 O 3), hydroxide Gallium (Ga (OH) 3),
And mixed oxides and mixed hydroxides thereof, but are not limited thereto. From the viewpoint of stability, aluminum oxide, titanium oxide, niobium oxide, tin oxide, zinc oxide, silicon oxide, indium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, lanthanum oxide, gadonium oxide, hafnium oxide, erbium oxide, neodymium oxide, oxidation Cerium, dysprosium oxide, and mixed oxides and hydroxides thereof are used.

微粒子粒径が大きい場合、照射光が散乱されるので、照射光の波長よりも十分に小さい微粒子を使用しなければならない。また、光学レンズのように透明性を必要とするようなプラスチック部材の場合も、粒径が大きいと光散乱の影響で透過率が低下する問題がある。従って、本発明で使用される微粒子の平均粒径は、50nm以下、好ましくは20nm以下である。目的とするプラスチック部材にもよるが、粒径分布は狭いものが好ましい。   When the particle size of the fine particles is large, the irradiation light is scattered, so fine particles sufficiently smaller than the wavelength of the irradiation light must be used. Also, in the case of a plastic member that requires transparency, such as an optical lens, there is a problem that the transmittance decreases due to the influence of light scattering if the particle size is large. Therefore, the average particle size of the fine particles used in the present invention is 50 nm or less, preferably 20 nm or less. Although it depends on the intended plastic member, a narrow particle size distribution is preferable.

微粒子を重合性組成物中に均一分散させるために、微粒子作製時に表面を化学修飾、または微粒子作成後に分散剤添加等の処理を行うのが好ましい。前記の微粒子は単独でも、混合体でも、複合体でも使用できる。また、酸化チタンのように光触媒反応のあるものは、その反応により樹脂が分解されるのを防止するために、必要に応じケイ素化合物等で表面をコーティングするなどの処理を施すこともある。   In order to uniformly disperse the fine particles in the polymerizable composition, it is preferable that the surface is chemically modified at the time of fine particle preparation, or a treatment such as addition of a dispersant is performed after the fine particle preparation. The fine particles can be used alone, in a mixture, or in a complex. In addition, a material having a photocatalytic reaction such as titanium oxide may be subjected to a treatment such as coating the surface with a silicon compound or the like as necessary in order to prevent the resin from being decomposed by the reaction.

微粒子の含有量は、目標とする光学性能や機械的特性によって異なり、また、使用する微粒子や第1のモノマーおよび第2のモノマー(d)成分の種類によっても異なるが、モノマー(d)成分に対して1質量%以上99質量%以下、好ましくは1質量%以上70質量%以下が好ましい。また、分散される微粒子は単一種には限定されず、複数種の微粒子が分散されていてもよい。   The content of the fine particles varies depending on the target optical performance and mechanical characteristics, and also varies depending on the types of the fine particles used, the first monomer, and the second monomer (d) component. On the other hand, 1 mass% or more and 99 mass% or less, Preferably 1 mass% or more and 70 mass% or less are preferable. The fine particles to be dispersed are not limited to a single kind, and plural kinds of fine particles may be dispersed.

前記第1の放射線重合性組成物(A)および第2の放射線重合性組成物(B)が液状であることが好ましい。また、注入、除去時には、液状であることが好ましい。室温、大気圧下で固体ならば、必要に応じて加熱したり、加圧したりしながら注入、除去してもよい。   It is preferable that the first radiation-polymerizable composition (A) and the second radiation-polymerizable composition (B) are liquid. Moreover, it is preferable that it is liquid at the time of injection | pouring and removal. If it is solid at room temperature and atmospheric pressure, it may be injected or removed while heating or pressurizing as necessary.

第1の放射線重合性組成物(A)は、好ましくは、少なくとも1面が照射される放射線に対して透明な注型セル内に封入される。注型セルの内面が球面、非球面または平面でもよく、目的とするデバイスに応じて選択できる。   The first radiation-polymerizable composition (A) is preferably encapsulated in a casting cell that is transparent to radiation irradiated on at least one surface. The inner surface of the casting cell may be spherical, aspherical or flat and can be selected according to the intended device.

注型セルは、少なくとも1枚が照射光に対して透明な2枚の基材の間に、ガスケットなどのスペーサーで空隙を設けることで作製できる。注型セルは必要に応じてバネつきクリップなどで固定し、その空隙内にシリンジなどを用いて、放射線重合性組成物(A)を注入する。透明な基材としては、例えば、石英、ガラス、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド等の透明樹脂、サファイヤ、ダイヤモンド等など公知の素材があげられる。後述する第1の放射線重合性組成物(A)の除去工程及び第2の放射線重合性組成物(B)の注入工程を容易にするため、放射線重合性組成物(A)を注入後もシリンジ針を刺したままにしておくことが好ましい。   The casting cell can be produced by providing a gap with a spacer such as a gasket between two substrates, at least one of which is transparent to the irradiation light. The casting cell is fixed with a clip with a spring as necessary, and the radiation polymerizable composition (A) is injected into the gap using a syringe or the like. Examples of the transparent substrate include known materials such as quartz, glass, silicone resin, fluororesin, acrylic resin, polycarbonate resin, transparent resin such as polyimide, sapphire, diamond, and the like. In order to facilitate the removal step of the first radiation-polymerizable composition (A) and the injection step of the second radiation-polymerizable composition (B), which will be described later, a syringe after injection of the radiation-polymerizable composition (A) It is preferable to leave the needle pierced.

第1の放射線重合性組成物(A)及び第2の放射線重合性組成物(B)を硬化させた後の離型を容易にするために、注型セルの表面を離型剤で処理することが好ましい。離型剤処理は、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、脂肪酸エステル等の離型剤をスプレー、ディッピング、スピンコート法等により塗布し、必要に応じて加熱することで行う。溶剤洗浄や拭き取りで余剰の離型剤を除去しても良い。   In order to facilitate mold release after curing the first radiation-polymerizable composition (A) and the second radiation-polymerizable composition (B), the surface of the casting cell is treated with a mold release agent. It is preferable. The release agent treatment is performed by applying a release agent such as a fluororesin, a silicone resin, or a fatty acid ester by spraying, dipping, spin coating, or the like, and heating as necessary. Excess release agent may be removed by solvent cleaning or wiping.

照射する放射線は、使用する第1の放射線重合性組成物(A)の感度波長に応じて選択されるが、200から400nm程度の波長の紫外光や、X線、電子線などを適宜選択して使用することが好ましい。第1のモノマー(c)成分として紫外光に感度を有する多種多様な感光性化合物が容易に入手可能であることから、紫外光が特に好ましい。紫外光を発する光源としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀灯、Deep−UVランプ、炭素アーク灯、ケミカルランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプなどが挙げられ、超高圧水銀灯が特に好ましい。これら放射線は1つまたは複数で使用できる。   The radiation to be irradiated is selected according to the sensitivity wavelength of the first radiation-polymerizable composition (A) to be used, but ultraviolet light having a wavelength of about 200 to 400 nm, X-rays, electron beams, etc. are appropriately selected. Are preferably used. Ultraviolet light is particularly preferred because a wide variety of photosensitive compounds having sensitivity to ultraviolet light are readily available as the first monomer (c) component. Examples of the light source that emits ultraviolet light include a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a Deep-UV lamp, a carbon arc lamp, a chemical lamp, a metal halide lamp, and a xenon lamp, and an ultra-high pressure mercury lamp is particularly preferable. One or more of these radiations can be used.

注型セルの一部分に放射線を照射し、セル内の第1の放射線重合性組成物(A)の一部を硬化させる。一部分へ照射する方法としては、注型セルの一部を遮蔽部材で覆っても良いし、ビーム状の放射線を走査しながら照射しても良い。   A part of the casting cell is irradiated with radiation to cure a part of the first radiation-polymerizable composition (A) in the cell. As a method of irradiating a part, a part of the casting cell may be covered with a shielding member, or irradiation may be performed while scanning with beam-shaped radiation.

放射線の照射量により、第1の放射線重合性組成物(A)の重合度を制御することができる。放射線照射領域において、照射量分布をつけても良い。   The degree of polymerization of the first radiation-polymerizable composition (A) can be controlled by the radiation dose. A dose distribution may be provided in the radiation irradiation region.

例えば、前記注型セルの放射線照射面に照射する放射線の照射量が一定でないこと、前記注型セルの放射線照射面に照射する放射線の照射量が、外周ほど低照射量であること、または前記注型セルの放射線照射面に照射する放射線の照射量が、外周ほど高照射量であることが好ましい。   For example, the irradiation dose of the radiation irradiated to the radiation irradiation surface of the casting cell is not constant, the irradiation dose of the radiation irradiated to the radiation irradiation surface of the casting cell is lower as the outer periphery, or It is preferable that the irradiation amount of the radiation irradiated to the radiation irradiation surface of the casting cell is higher as the outer circumference is increased.

拡散速度は粘度や架橋密度などにより決まるので、照射量分布をつけることで拡散挙動を制御できる。つまり、屈折率分布プロファイルを制御することができる。   Since the diffusion rate is determined by viscosity, cross-linking density, etc., the diffusion behavior can be controlled by giving an irradiation dose distribution. That is, the refractive index distribution profile can be controlled.

照射量分布をつける方法としては、放射線透過率が場所によって異なるグレースケールマスクをセル上に設置する方法、放射線照射中に遮蔽部材を移動させる方法、ビーム状の放射線を走査する方法、などが挙げられるが、これらに限定されない。   Examples of a method for providing an irradiation distribution include a method in which a gray scale mask having different radiation transmittances is placed on a cell, a method in which a shielding member is moved during radiation irradiation, and a method in which beam-shaped radiation is scanned. However, it is not limited to these.

放射線重合による第1の放射線重合性組成物(A)の重合度は、照射部/非照射部境界面において、注型セルからシリンジ針を用いて未重合の液状の第1の放射線重合性組成物(A)を分離する際に照射部、すなわち硬化部が崩壊しない程度の最低の重合度が好ましい。また、後述する除去工程及び第2の放射線重合性組成物(B)の注入工程においても形状が崩壊しない程度の最低の重合度が好ましい。   The degree of polymerization of the first radiation-polymerizable composition (A) by radiation polymerization is as follows. The first radiation-polymerizable composition is a non-polymerized liquid using a syringe needle from the casting cell at the irradiated / non-irradiated interface. When the product (A) is separated, a minimum degree of polymerization is preferred so that the irradiated portion, that is, the cured portion does not collapse. Moreover, the minimum polymerization degree of the grade which does not collapse | disintegrate also in the removal process mentioned later and the injection | pouring process of a 2nd radiation polymerizable composition (B) is preferable.

放射線を照射することによりできた第1の放射線重合性組成物(A)の重合体(重合体A)の硬化度について説明する。   The degree of cure of the polymer (polymer A) of the first radiation-polymerizable composition (A) produced by irradiation with radiation will be described.

重合体Aの複素粘度は、10Pa・s以上10000Pa・s未満であることが望ましい。複素粘度が10Pa・s未満だと、注型セルからシリンジ針を用いて未重合の液状の第1の放射線重合性組成物(A)を分離する際に照射部、すなわち硬化部が崩壊する。複素粘度が10000Pa・s以上だと、後述する放置工程において、拡散の進行が遅い。   The complex viscosity of the polymer A is desirably 10 Pa · s or more and less than 10,000 Pa · s. When the complex viscosity is less than 10 Pa · s, when the unpolymerized liquid first radiation-polymerizable composition (A) is separated from the casting cell using a syringe needle, the irradiated portion, that is, the cured portion is collapsed. When the complex viscosity is 10,000 Pa · s or more, the progress of diffusion is slow in the leaving step described later.

複素粘度は、動的粘弾性測定装置(例えば、株式会社アントンパール・ジャパン製粘弾性測定装置MCR−301)で測定できる。   The complex viscosity can be measured with a dynamic viscoelasticity measuring device (for example, viscoelasticity measuring device MCR-301 manufactured by Anton Paar Japan Co., Ltd.).

形状が崩壊しない程度のゲル状の重合体を得るには、露光量は波長365nmにおいて、0.01mJ/cm以上1000000mJ/cm以下、好ましくは0.1mJ/cm以上100000mJ/cm以下とする。 The shape obtained a gel-like polymer so as not to collapse, the exposure amount at the wavelength 365 nm, 0.01 mJ / cm 2 or more 1000000mJ / cm 2 or less, preferably 0.1 mJ / cm 2 or more 100000mJ / cm 2 or less And

非照射部分の未重合の第1の放射線重合性組成物(A)を注型セル内から除去する。注入に使用したシリンジ針が残してあれば、シリンジ針から未重合の第1の放射線重合性組成物(A)を吸い出すことが好ましい。必要に応じて加熱したり、加圧したりしながら除去してもよい。
ゲルの端面に接触している放射線重合性組成物(A)は液状であるため、分離される際にゲルの端面を損傷させることがない。
The non-irradiated portion of the unpolymerized first radiation-polymerizable composition (A) is removed from the casting cell. If the syringe needle used for injection remains, it is preferable to suck out the unpolymerized first radiation-polymerizable composition (A) from the syringe needle. You may remove, heating or pressurizing as needed.
Since the radiation-polymerizable composition (A) in contact with the end surface of the gel is in a liquid state, the end surface of the gel is not damaged when separated.

第2の放射線重合性組成物(B)が入ったシリンジをシリンジ針に取り付け、前記除去により生じた注型セル内部の空隙に第1の放射線重合性組成物(A)とは異なる物性を有する液状の第2の放射線重合性組成物(B)を充填する。必要に応じて加熱したり、加圧したりしながら注入してもよい。   A syringe containing the second radiation-polymerizable composition (B) is attached to a syringe needle, and the void inside the casting cell produced by the removal has physical properties different from those of the first radiation-polymerizable composition (A). The liquid second radiation-polymerizable composition (B) is filled. You may inject | pour, heating or pressurizing as needed.

第2の放射線重合性組成物(B)を充填後、注型セルを所定時間放置する。放置工程中に、重合した放射線重合性組成物(A)と重合性組成物(B)との間で拡散による材料の交換が生じ、組成分布が得られる。重合度が低いほど、短時間で拡散が進行する。拡散の加速を目的として、放置工程中に、加熱、電場印加、磁場印加を行っても良いし、注型セルを回転させても良い。前記第2の放射線重合性組成物を前記第1の組成物の重合体の中へ拡散させる工程において、注型セルを室温(23℃)より高い温度に加熱することが好ましい。   After filling with the second radiation polymerizable composition (B), the casting cell is allowed to stand for a predetermined time. During the standing step, exchange of materials occurs by diffusion between the polymerized radiation-polymerizable composition (A) and the polymerizable composition (B), and a composition distribution is obtained. The lower the degree of polymerization, the faster the diffusion. For the purpose of accelerating diffusion, heating, electric field application, and magnetic field application may be performed during the leaving step, or the casting cell may be rotated. In the step of diffusing the second radiation polymerizable composition into the polymer of the first composition, it is preferable to heat the casting cell to a temperature higher than room temperature (23 ° C.).

放置工程後、材料の拡散を停止させるために放射線照射または/及び加熱を行い、重合した放射線重合性組成物(A)と重合性組成物(B)を硬化させる。放射線照射は、前述の放射線を用いることができる。加熱は、オーブン、ホットプレートなどの公知の装置を用いて行うことができる。機械的物性や環境安定性が得られるよう、十分に硬化させることが好ましい。   After the standing step, irradiation or / and heating is performed to stop the diffusion of the material, and the polymerized radiation-polymerizable composition (A) and polymerizable composition (B) are cured. The radiation described above can be used for the radiation irradiation. Heating can be performed using a known apparatus such as an oven or a hot plate. It is preferable to cure sufficiently so as to obtain mechanical properties and environmental stability.

前記第1の放射線重合性組成物および第2の放射線重合性組成物の硬化物が各々異なる屈折率波長分散を有することが好ましい。   The cured products of the first radiation polymerizable composition and the second radiation polymerizable composition preferably have different refractive index wavelength dispersions.

注型セル内から硬化物を取り出し、目的物である組成分布を有するプラスチック部材を得る。   The cured product is taken out from the casting cell to obtain a plastic member having a composition distribution as a target product.

以下、具体的な実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with specific examples.

(d1)成分としてベンジルメタクリレート(共栄社化学製)90重量部及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c1)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部からなる放射線重合性組成物(A1)を調整した。   (D1) 90 parts by weight of benzyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 10 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma Aldrich Japan), and (c1) a photoradical generator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) ) Radiation polymerizable composition (A1) consisting of 0.1 parts by weight was prepared.

(d2)成分として、メチルメタクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)90重量部及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c2)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる重合性組成物(B2)を調整した。   As component (d2), 90 parts by weight of methyl methacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan) and 10 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan), as a component (c2), a photo radical generator (Irgacure 184, A polymerizable composition (B2) comprising 0.1 part by weight of Ciba Japan) was prepared.

ベンジルメタクリレートの硬化物の屈折率は1.568、トリメチロールプロパントリアクリレートの硬化物の屈折率は1.509、メチルメタクリレートの硬化物の屈折率は1.490である。   The refractive index of the cured product of benzyl methacrylate is 1.568, the refractive index of the cured product of trimethylolpropane triacrylate is 1.509, and the refractive index of the cured product of methyl methacrylate is 1.490.

直径70mm、厚さ5mmの2枚の円盤状の光学ガラスに、離型剤としてダイフリーエアゾールタイプGA−6010(ダイキン工業製)をスプレーコートし、光学機器用クリーニングクロスで余剰の離型剤を拭き取った。   Two disc-shaped optical glasses having a diameter of 70 mm and a thickness of 5 mm are spray-coated with die-free aerosol type GA-6010 (manufactured by Daikin Industries) as a release agent, and an excess release agent is applied with a cleaning cloth for optical equipment. Wiped off.

直径35mm、太さ1.5mmのフッ素系ゴムの円型のOリングを、前記の2枚の光学ガラス間の中央部に挟み、バネつきクリップで2箇所向かい合わせの位置で固定して、注型セルとした。ディスポシリンジを用いて、放射線重合性組成物(A1)を注型セル内に、気泡が残留しないよう注意しながら注入した。   A circular O-ring made of fluorine rubber with a diameter of 35 mm and a thickness of 1.5 mm is sandwiched in the center between the two optical glasses, and fixed at two opposite positions with a spring clip. A type cell was used. Using a disposable syringe, the radiation-polymerizable composition (A1) was injected into the casting cell while being careful not to leave bubbles.

放射線照射光源として、250W超高圧水銀ランプを備えたUV光源EX250(HOYA CANDEO OPTRONICS CORPORATION社製)を用いた。遮光物として、最小開口径2mm、最大開口径50mmのアイリス絞り(エドモンド・オプティクス・ジャパン(株)製)を用いた。光源と遮光物との間に、紫外透過可視吸収フィルター(UTVAF−50S−36U)及びフロスト型拡散板(DFSQ1−50C02−800)(いずれもシグマ光機製)を介した。注型セルの照射側の光学ガラス表面における照度は、波長365nmにおいて10mW/cmであった。 As a radiation irradiation light source, a UV light source EX250 (manufactured by HOYA CANDEO OPTRONICS CORPORATION) equipped with a 250 W ultra-high pressure mercury lamp was used. An iris diaphragm (manufactured by Edmund Optics Japan Co., Ltd.) having a minimum opening diameter of 2 mm and a maximum opening diameter of 50 mm was used as a light shield. An ultraviolet transmission visible absorption filter (UTVAF-50S-36U) and a frost type diffusion plate (DFSQ1-50C02-800) (both manufactured by Sigma Kogyo Co., Ltd.) were interposed between the light source and the light shielding object. The illuminance on the optical glass surface on the irradiation side of the casting cell was 10 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm.

アイリス絞りの開口径を20mmとして、注型セルの中央部に対して300秒照射を行った。   Irradiation was performed for 300 seconds with respect to the center of the casting cell with an iris diaphragm having an opening diameter of 20 mm.

シリンジ針に空のディスポシリンジを取り付け、未硬化の放射線重合性組成物(A1)を吸い出した。次に、シリンジ針に、重合性組成物(B1)が充填されたディスポシリンジを取り付け、重合性組成物(B1)を注型セル内にすみやかに注入した。注型セルを、室温で4時間放置した。   An empty disposable syringe was attached to the syringe needle, and the uncured radiation-polymerizable composition (A1) was sucked out. Next, a disposable syringe filled with the polymerizable composition (B1) was attached to the syringe needle, and the polymerizable composition (B1) was immediately injected into the casting cell. The casting cell was left at room temperature for 4 hours.

上記の光源と光学系を用いて、注型セルの全面を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   After irradiating the entire surface of the casting cell for 1 hour using the above light source and optical system, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

光線追跡型屈折率分布測定装置(Index Profile Analyzer:IPA5−C、株式会社アドヴァンストテクノロジ社製)を用いて波長524.3nmにおける屈折率分布を評価した。その結果を図2に示す。直径約27mmの範囲で、約0.056に及ぶ連続的な屈折率分布が得られた。   The refractive index distribution at a wavelength of 524.3 nm was evaluated using a light-tracking type refractive index distribution measuring device (Index Profile Analyzer: IPA5-C, manufactured by Advanced Technology Co., Ltd.). The result is shown in FIG. In the range of about 27 mm in diameter, a continuous refractive index profile reaching about 0.056 was obtained.

(d3)成分として、ベンジルメタクリレート(共栄社化学製)75重量部、(e3)成分として平均粒径7nmの酸化ジルコニウム(住友大阪セメント製)25重量部、(c3)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる放射線重合性組成物(A3)を調整した。   75 parts by weight of benzyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as component (d3), 25 parts by weight of zirconium oxide having an average particle size of 7 nm (manufactured by Sumitomo Osaka Cement) as component (e3), and a photoradical generator (Irgacure as component (c3)) A radiation polymerizable composition (A3) consisting of 0.1 part by weight of 184, manufactured by Ciba Japan) was prepared.

(d4)成分として、ベンジルメタクリレート(共栄社化学製)90重量部及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c4)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる重合性組成物(B4)を調整した。(e3)成分の酸化ジルコニウムの屈折率は2.17である。   As component (d4), 90 parts by weight of benzyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 10 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan), photoradical generator (Irgacure 184, Ciba Japan) as component (c4) A polymerizable composition (B4) consisting of 0.1 parts by weight was prepared. The refractive index of the component (e3) zirconium oxide is 2.17.

実施例1と同様に、放射線重合性組成物(A3)が充填された注型セルを準備した。   As in Example 1, a casting cell filled with the radiation polymerizable composition (A3) was prepared.

実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、アイリス絞りの開口径を16mmとして、注型セルの中央部に対して、50秒照射を行った。 Using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 30 mW / cm 2 , the aperture diameter of the iris diaphragm was 16 mm, and the central portion of the casting cell was irradiated for 50 seconds.

実施例1と同様に、未硬化の放射線重合性組成物(A3)を吸い出した。   As in Example 1, the uncured radiation-polymerizable composition (A3) was sucked out.

実施例1と同様に、重合性組成物(B4)を注型セル内にすみやかに注入した。   In the same manner as in Example 1, the polymerizable composition (B4) was immediately injected into the casting cell.

実施例2−1:注型セルを、室温で2時間放置した。実施例2−2:注型セルを、80℃に保たれたオーブン中で2時間放置した。実施例2−3:注型セルを、80℃に保たれたオーブン中で24時間放置した。   Example 2-1 The casting cell was left at room temperature for 2 hours. Example 2-2: The casting cell was left in an oven maintained at 80 ° C. for 2 hours. Example 2-3: The casting cell was left in an oven maintained at 80 ° C. for 24 hours.

実施例1と同様に、実施例2−1から2−3の注型セルの全面に紫外線を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   Similarly to Example 1, after irradiating the entire surface of the casting cells of Examples 2-1 to 2-3 with ultraviolet rays for 1 hour, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

50μmφの領域の元素分析が可能なエネルギー分散型微小部蛍光X線分析装置μEDX−1300(島津製作所製)を用いて、ジルコニウム原子由来の蛍光X線(15.85keV)のピーク強度を0.2mm間隔でマッピングすることで、硬化物の照射側表面の組成分布を観測した。その結果を図3に示す。   Using an energy dispersive micro fluorescent X-ray analyzer μEDX-1300 (manufactured by Shimadzu Corp.) capable of elemental analysis of a 50 μmφ region, the peak intensity of fluorescent X-rays derived from zirconium atoms (15.85 keV) is 0.2 mm. By mapping at intervals, the composition distribution on the irradiation side surface of the cured product was observed. The result is shown in FIG.

放射線重合性組成物(A3)の硬化物から酸化ジルコニウム粒子が拡散により溶出しゲル界面付近の1.6から3.6mmの範囲に渡って酸化ジルコニウム粒子の濃度が0体積%(0重量%)から5.0体積%(25重量%)まで連続的に変化する分布が得られた。80℃に加熱することにより拡散距離が長くなる挙動が観察された。   Zirconium oxide particles are eluted from the cured product of the radiation-polymerizable composition (A3) by diffusion, and the concentration of zirconium oxide particles is 0% by volume (0% by weight) over the range of 1.6 to 3.6 mm near the gel interface. A distribution varying continuously from 1 to 5.0% by volume (25% by weight) was obtained. The behavior of increasing the diffusion distance by heating to 80 ° C. was observed.

(d5)成分としてベンジルメタクリレート(共栄社化学製)90重量部及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c5)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる放射線重合性組成物(A5)を調整した。   (D5) 90 parts by weight of benzyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 10 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan), and (c5) a photoradical generator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) A radiation-polymerizable composition (A5) comprising 0.1 part by weight was prepared.

(d6)成分としてベンジルメタクリレート(共栄社化学製)90重量部、(c6)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、(e6)成分として平均粒径7nmの酸化ジルコニウム(住友大阪セメント製)10重量部、からなる重合性組成物(B6)を調整した。   90 parts by weight of benzyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) as the component (d6), 0.1 parts by weight of a photo radical generator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) as the component (c6), A polymerizable composition (B6) comprising 10 parts by weight of zirconium oxide (manufactured by Sumitomo Osaka Cement) was prepared.

実施例1と同様に、放射線重合性組成物(A5)が充填された注型セルを準備した。   As in Example 1, a casting cell filled with the radiation-polymerizable composition (A5) was prepared.

実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を10mW/cmとし、アイリス絞りの開口径を16mmとして、注型セルの中央部に対して、450秒照射を行った。 Using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 10 mW / cm 2 , the aperture diameter of the iris diaphragm was 16 mm, and the center portion of the casting cell was irradiated for 450 seconds.

実施例1と同様に、未硬化の放射線重合性組成物(A5)を吸い出した。   As in Example 1, the uncured radiation-polymerizable composition (A5) was sucked out.

実施例1と同様に、重合性組成物(B6)を注型セル内にすみやかに注入した。   In the same manner as in Example 1, the polymerizable composition (B6) was immediately injected into the casting cell.

実施例3−1:注型セルを、室温で4時間放置した。実施例3−2:注型セルを、80℃に保たれたオーブン中で4時間放置した。   Example 3-1: The casting cell was left at room temperature for 4 hours. Example 3-2: The casting cell was left in an oven maintained at 80 ° C. for 4 hours.

実施例1と同様に、実施例3−1から3−2の注型セルの全面に紫外線を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   Similarly to Example 1, after irradiating the entire surface of the casting cells of Examples 3-1 to 3-2 with ultraviolet rays for 1 hour, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

実施例2と同様に、硬化物の照射側表面の組成分布を観測した。その結果を図4示す。   Similar to Example 2, the composition distribution on the irradiation side surface of the cured product was observed. The result is shown in FIG.

放射線重合性組成物(A5)の硬化物に対し、重合性組成物(B6)から酸化ジルコニウム粒子が拡散により浸透し、3.6mmの範囲に渡って酸化ジルコニウム粒子の濃度が0体積%(0重量%)から1.9体積%(10重量%)まで連続的に変化する分布が得られた。   With respect to the cured product of the radiation-polymerizable composition (A5), zirconium oxide particles penetrated from the polymerizable composition (B6) by diffusion, and the concentration of the zirconium oxide particles was 0% by volume (0% over a range of 3.6 mm). A distribution varying continuously from (wt%) to 1.9 vol% (10 wt%) was obtained.

(d7)成分としてベンジルメタクリレート(共栄社化学製)90重量部及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c7)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる放射線重合性組成物(A7)を調整した。   (D7) 90 parts by weight of benzyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 10 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan), and (c7) a photoradical generator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) A radiation polymerizable composition (A7) consisting of 0.1 part by weight was prepared.

(d8)成分としてHighlink NanO G 130−31(クラリアント・ジャパン製、シリカ微粒子のイソボルニルアクリレート分散液、シリカ含有量30重量%)及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c8)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる重合性組成物(B8)を調整した。   (D8) Highlink NanO G 130-31 (manufactured by Clariant Japan, isobornyl acrylate dispersion of silica fine particles, silica content 30% by weight) and trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma Aldrich Japan) 10 weights Part, a polymerizable composition (B8) comprising 0.1 part by weight of a photoradical generator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) as a component (c8) was prepared.

実施例1と同様に、放射線重合性組成物(A7)が充填された注型セルを準備した。   As in Example 1, a casting cell filled with the radiation polymerizable composition (A7) was prepared.

実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を10mW/cmとし、アイリス絞りの開口径を16mmとして、注型セルの中央部に対して、450秒照射を行った。 Using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 10 mW / cm 2 , the aperture diameter of the iris diaphragm was 16 mm, and the center portion of the casting cell was irradiated for 450 seconds.

実施例1と同様に、未硬化の放射線重合性組成物(A7)を吸い出した。   As in Example 1, the uncured radiation-polymerizable composition (A7) was sucked out.

実施例1と同様に、重合性組成物(B8)を注型セル内にすみやかに注入した。   In the same manner as in Example 1, the polymerizable composition (B8) was immediately injected into the casting cell.

実施例4−1:注型セルを、室温で144時間放置した。実施例4−2:注型セルを、室温で4時間放置した。実施例4−3:注型セルを、50℃に保たれたオーブン中で4時間放置した。実施例4−4:注型セルを、80℃に保たれたオーブン中で4時間放置した。   Example 4-1 The casting cell was left at room temperature for 144 hours. Example 4-2: The casting cell was left at room temperature for 4 hours. Example 4-3: The casting cell was left in an oven maintained at 50 ° C. for 4 hours. Example 4-4: The casting cell was left in an oven maintained at 80 ° C. for 4 hours.

実施例1と同様に、実施例4−1から4−4の注型セルの全面に紫外線を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   Similarly to Example 1, after irradiating the entire surface of the casting cells of Examples 4-1 to 4-4 with ultraviolet rays for 1 hour, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

実施例2と同様に、硬化物の照射側表面の、酸化ケイ素微粒子由来の蛍光X線強度分布を観測した。その結果を図5に示す。(A)の硬化物に対し、(B)から酸化ケイ素粒子が拡散により浸透し、3.0から7.0mmの範囲に渡って酸化ケイ素粒子由来の蛍光X線強度が連続的に変化する分布が得られた。   Similarly to Example 2, the fluorescence X-ray intensity distribution derived from the silicon oxide fine particles on the irradiation side surface of the cured product was observed. The result is shown in FIG. Distribution in which silicon oxide particles permeate by diffusion from (B) to the cured product of (A), and the fluorescent X-ray intensity derived from silicon oxide particles continuously changes over a range of 3.0 to 7.0 mm. was gotten.

実施例1と同様に、放射線重合性組成物(A1)が充填された注型セルを準備した。   As in Example 1, a casting cell filled with the radiation-polymerizable composition (A1) was prepared.

中心部に20mm径の円状の透明部位を有する直径50mmのフォトマスクを準備した。前記フォトマスクの遮光材はクロムであり、母材は石英であり、波長365nmにおいて遮光部位の透過率は0.01%以下であり、透明部位の透過率は98%である。   A photomask with a diameter of 50 mm having a circular transparent portion with a diameter of 20 mm at the center was prepared. The light-shielding material of the photomask is chromium, the base material is quartz, the transmittance of the light-shielding portion is 0.01% or less at a wavelength of 365 nm, and the transmittance of the transparent portion is 98%.

図6に示す透過率プロファイルを有するグレースケールマスクを準備した。前記グレースケールマスクの遮光材はインコネルであり、母材は石英である。   A gray scale mask having the transmittance profile shown in FIG. 6 was prepared. The shade material of the gray scale mask is Inconel, and the base material is quartz.

実施例5−1:前記フォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、300秒照射を行った。 Example 5-1 The photomask was placed in the center of the casting cell, and using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 30 mW / cm 2 and irradiation was performed for 300 seconds.

実施例5−2:前記フォトマスク及び前記グレースケールマスクをこの順で注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、300秒照射を行った。 Example 5-2: The photomask and the grayscale mask are installed in this order in the center of the casting cell, and the illuminance is set to 30 mW / cm 2 using the same light source and optical system as in Example 1. Irradiation was performed for 300 seconds.

実施例1と同様に、実施例5−1から5−2の注型セルから、未硬化の放射線重合性組成物(A1)を吸い出した。   Similarly to Example 1, uncured radiation-polymerizable composition (A1) was sucked out from the casting cells of Examples 5-1 to 5-2.

実施例1と同様に、重合性組成物(B2)を実施例5−1から5−2の注型セル内にすみやかに注入した。   In the same manner as in Example 1, the polymerizable composition (B2) was immediately injected into the casting cells of Examples 5-1 to 5-2.

実施例1と同様に、実施例5−1から5−2の注型セルを、室温で4時間放置した。   As in Example 1, the casting cells of Examples 5-1 to 5-2 were left at room temperature for 4 hours.

実施例1と同様に、実施例5−1から5−2の注型セルの全面に紫外線を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   Similarly to Example 1, after irradiating the entire surface of the casting cells of Examples 5-1 to 5-2 with ultraviolet rays for 1 hour, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

実施例1と同様に、実施例5−1から5−2の硬化物の波長524.3nmにおける屈折率分布を評価した。その結果を図7に示す。   Similarly to Example 1, the refractive index distribution at a wavelength of 524.3 nm of the cured products of Examples 5-1 to 5-2 was evaluated. The result is shown in FIG.

グレースケールマスクの適用で、異なった屈折率分布プロファイルが得られることが示された。   Application of a gray scale mask has been shown to yield different refractive index profile.

実施例2と同様に、放射線重合性組成物(A3)が充填された注型セルを準備した。
実施例6−1:実施例5と同一のフォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、50秒照射を行った。
A casting cell filled with the radiation polymerizable composition (A3) was prepared in the same manner as in Example 2.
Example 6-1: The same photomask as that of Example 5 is placed in the center of the casting cell, and the light source and optical system similar to those of Example 1 are used. The illuminance is 30 mW / cm 2 and the irradiation is performed for 50 seconds. Went.

実施例6−2:実施例5と同一のフォトマスク及び実施例5と同一のグレースケールマスクをこの順で注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、50秒照射を行った。 Example 6-2: The same photomask as in Example 5 and the same gray scale mask as in Example 5 are installed in the center of the casting cell in this order, and the same light source and optical system as in Example 1 are used. The illuminance was 30 mW / cm 2 and irradiation was performed for 50 seconds.

実施例1と同様に、実施例6−1から6−2の注型セルから、未硬化の放射線重合性組成物(A3)を吸い出した。   Similarly to Example 1, uncured radiation-polymerizable composition (A3) was sucked out from the casting cells of Examples 6-1 to 6-2.

実施例1と同様に、重合性組成物(B4)を実施例6−1から6−2の注型セル内にすみやかに注入した。   In the same manner as in Example 1, the polymerizable composition (B4) was immediately injected into the casting cells of Examples 6-1 to 6-2.

実施例1と同様に、実施例6−1から6−2の注型セルを、室温で144時間放置した。   As in Example 1, the casting cells of Examples 6-1 to 6-2 were left at room temperature for 144 hours.

実施例1と同様に、実施例6−1から6−2の注型セルの全面に紫外線を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   Similarly to Example 1, after irradiating the entire surface of the casting cells of Examples 6-1 to 6-2 with ultraviolet light for 1 hour, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

実施例2と同様に、硬化物の照射側表面の、ジルコニウム原子由来の蛍光X線(15.85keV)の蛍光X線強度分布を観測した。その結果を図8に示す。   Similarly to Example 2, the fluorescent X-ray intensity distribution of the fluorescent X-rays (15.85 keV) derived from zirconium atoms on the irradiation side surface of the cured product was observed. The result is shown in FIG.

実施例6−1から6−2のいずれも、放射線重合性組成物(A3)の硬化物から酸化ジルコニウム粒子が拡散により溶出しゲル界面付近で酸化ジルコニウム粒子の濃度が0体積%(0重量%)から5.0体積%(25重量%)まで連続的に変化する分布が得られた。グレースケールマスクの適用により、拡散距離が長くなる挙動が観察され、また、異なる濃度分布プロファイルが得られた。   In any of Examples 6-1 to 6-2, the zirconium oxide particles were eluted from the cured product of the radiation polymerizable composition (A3) by diffusion, and the concentration of the zirconium oxide particles was 0% by volume (0% by weight) near the gel interface. ) To 5.0% by volume (25% by weight). By applying the gray scale mask, the behavior of increasing the diffusion distance was observed, and different density distribution profiles were obtained.

(d9)成分として、テトラフルオロプロピルメタクリレート(大阪有機化学製)72重量部、メチルメタクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)18重量部及びトリメチロールプロパントリアクリレート(シグマ・アルドリッチ・ジャパン製)10重量部、(c9)成分として光ラジカル発生剤(イルガキュア184、チバ・ジャパン製)0.1重量部、からなる重合性組成物(B9)を調整した。   As component (d9), 72 parts by weight of tetrafluoropropyl methacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical), 18 parts by weight of methyl methacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan) and 10 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Sigma-Aldrich Japan) A polymerizable composition (B9) comprising 0.1 part by weight of a photoradical generator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan) as a component (c9) was prepared.

実施例1と同様に、放射線重合性組成物(A1)が充填された注型セルを準備した。   As in Example 1, a casting cell filled with the radiation-polymerizable composition (A1) was prepared.

実施例7−1:実施例5と同一のフォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、300秒照射を行った。 Example 7-1: The same photomask as in Example 5 was placed in the central portion of the casting cell, using a light source and an optical system as in Example 1, the illuminance and 30 mW / cm 2, irradiation 300 seconds Went.

実施例7−2:実施例5と同一のフォトマスク及び実施例5と同一のグレースケールマスクをこの順で注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、300秒照射を行った。
実施例1と同様に、実施例7−1から7−2の注型セルから、未硬化の放射線重合性組成物(A1)を吸い出した。
Example 7-2: The same photomask as in Example 5 and the same gray scale mask as in Example 5 are installed in the center of the casting cell in this order, and the same light source and optical system as in Example 1 are used. The illuminance was 30 mW / cm 2 and irradiation was performed for 300 seconds.
Similarly to Example 1, uncured radiation-polymerizable composition (A1) was sucked out from the casting cells of Examples 7-1 to 7-2.

実施例1と同様に、重合性組成物(B9)を実施例7−1から7−2の注型セル内にすみやかに注入した。   In the same manner as in Example 1, the polymerizable composition (B9) was immediately injected into the casting cells of Examples 7-1 to 7-2.

実施例1と同様に、実施例7−1から7−2の注型セルを、室温で4時間放置した。   As in Example 1, the casting cells of Examples 7-1 to 7-2 were left at room temperature for 4 hours.

実施例1と同様に、実施例7−1から7−2の注型セルの全面に紫外線を1時間照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。   Similarly to Example 1, after irradiating the entire surface of the casting cells of Examples 7-1 to 7-2 with ultraviolet rays for 1 hour, the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product.

実施例1と同様に、実施例7−1から7−2の硬化物の波長524.3nmにおける屈折率分布を評価した。その結果を図9に示す。   Similarly to Example 1, the refractive index distribution at a wavelength of 524.3 nm of the cured products of Examples 7-1 to 7-2 was evaluated. The result is shown in FIG.

グレースケールマスクの適用で、異なった屈折率分布プロファイルが得られることが示された。また、グレースケールマスクの適用で、より大きな屈折率差が得られた。   Application of a gray scale mask has been shown to yield different refractive index profile. In addition, a larger refractive index difference was obtained by applying a gray scale mask.

大きな屈折率差が得られた理由としては、放射線重合性組成物(A1)のゲル状硬化物の端部の硬化度が低く、ゲル端部の(B9)成分の濃度が高くなったためと考えられる。   The reason why the large refractive index difference was obtained is that the degree of curing of the gel cured product of the radiation polymerizable composition (A1) was low and the concentration of the component (B9) at the gel end was high. It is done.

まず、実施例1と同様に、放射線重合性組成物(A1)が充填された注型セルを準備した。そして、実施例5と同様に、中心部に20mm径の円状の透明部位を有する直径50mmのフォトマスクを準備した。   First, as in Example 1, a casting cell filled with the radiation polymerizable composition (A1) was prepared. As in Example 5, a photomask with a diameter of 50 mm having a circular transparent portion with a diameter of 20 mm at the center was prepared.

次に、露光時間を次のように変えて、放射線重合性組成物(A1)に対して紫外線の露光を行った。   Next, the exposure time was changed as follows, and the radiation polymerizable composition (A1) was exposed to ultraviolet rays.

(実施例8−1)
前記フォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、150秒露光を行った。
(Example 8-1)
The photomask was placed at the center of the casting cell, and using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 30 mW / cm 2 and exposure was performed for 150 seconds.

(実施例8−2)
前記フォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、200秒露光を行った。
(Example 8-2)
The photomask was placed in the center of the casting cell, and using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 30 mW / cm 2 and exposure was performed for 200 seconds.

(実施例8−3)
前記フォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、300秒露光を行った。
(Example 8-3)
The photomask was placed in the center of the casting cell, and using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 30 mW / cm 2 and exposure was performed for 300 seconds.

(実施例8−4)
前記フォトマスクを注型セルの中央部に設置し、実施例1と同様の光源と光学系を用いて、照度を30mW/cmとし、350秒露光を行った。
(Example 8-4)
The photomask was placed in the center of the casting cell, and using the same light source and optical system as in Example 1, the illuminance was 30 mW / cm 2 and exposure was performed for 350 seconds.

次に、実施例1と同様に、実施例8−1から実施例8−4の注型セルから、未硬化の放射線重合性組成物(A1)を吸い出した。実施例8−1の注型セル内のゲルは崩壊した。   Next, as in Example 1, the uncured radiation-polymerizable composition (A1) was sucked out from the casting cells of Examples 8-1 to 8-4. The gel in the casting cell of Example 8-1 collapsed.

また、実施例1と同様に、重合性組成物(B2)を実施例8−2から実施例8−4の注型セル内にすみやかに注入した。実施例1と同様に、実施例8−2から実施例8−4の注型セルを、室温で4時間放置した。実施例1と同様に、実施例8−2から実施例8−4の注型セルの全面に紫外線により1時間露光した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物を得た。実施例1と同様に、実施例8−2から実施例8−4の硬化物の波長524.3nmにおける屈折率分布を評価した。その結果を図11(a)から図11(c)に示す。露光時間が長いほど、サンプル中心部の屈折率分布プロファイルがフラットな傾向が見られた。このことから、露光時間が長いほど、重合性組成物(B2)のゲルへの拡散の進行が遅かったと言える。   Moreover, like Example 1, the polymeric composition (B2) was rapidly inject | poured in the casting cell of Example 8-2 to Example 8-4. Similarly to Example 1, the casting cells of Examples 8-2 to 8-4 were left at room temperature for 4 hours. Similarly to Example 1, the entire casting cells of Examples 8-2 to 8-4 were exposed to ultraviolet rays for 1 hour, and then the optical glass was peeled off to obtain a flat cured product. In the same manner as in Example 1, the refractive index distribution at a wavelength of 524.3 nm of the cured products of Examples 8-2 to 8-4 was evaluated. The results are shown in FIGS. 11 (a) to 11 (c). The longer the exposure time, the flatter the refractive index profile at the center of the sample. From this, it can be said that the longer the exposure time, the slower the diffusion of the polymerizable composition (B2) into the gel.

(複素粘度)
次に、放射線重合性組成物(A1)に対する紫外線の露光時間と複素粘度の関係を、紫外線照射機構を有する動的粘弾性測定装置(アントンパール社製MCR−301)を用いて調べた。紫外線の照度は、波長365nmにおいて30mW/cmとした。露光時間と複素粘度の関係を図12に示す。
(Complex viscosity)
Next, the relationship between the ultraviolet exposure time and the complex viscosity for the radiation polymerizable composition (A1) was examined using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (MCR-301 manufactured by Anton Paar) having an ultraviolet irradiation mechanism. The illuminance of ultraviolet rays was 30 mW / cm 2 at a wavelength of 365 nm. The relationship between exposure time and complex viscosity is shown in FIG.

その結果、実施例8−1では、複素粘度が4Pa・s、実施例8−2では697Pa・s、実施例8−3では1750Pa・s、実施例8−4では39700Pa・sであった。   As a result, in Example 8-1, the complex viscosity was 4 Pa · s, in Example 8-2, 697 Pa · s, in Example 8-3, 1750 Pa · s, and in Example 8-4, 39700 Pa · s.

(まとめ)
実施例8−1でゲルが崩壊したのは複素粘度が低すぎたためであることがわかった。そして、実施例8−2から実施例8−4で露光時間が長いほど拡散の進行が遅いのは、露光時間が長いほど複素粘度が高いためであることがわかった。
(Summary)
It was found that the gel collapsed in Example 8-1 because the complex viscosity was too low. In Examples 8-2 to 8-4, it was found that the longer the exposure time, the slower the diffusion progresses because the longer the exposure time, the higher the complex viscosity.

<比較例1>
図10に比較例1のプラスチック部材の製造方法を示す。
<Comparative Example 1>
FIG. 10 shows a method for manufacturing the plastic member of Comparative Example 1.

実施例1と同様の放射線重合性組成物(A1)および重合性組成物(B2)を用いてプラスチック部材を製造した。   A plastic member was produced using the same radiation-polymerizable composition (A1) and polymerizable composition (B2) as in Example 1.

実施例1と同様の2枚の光学ガラス21間にスペーサー22を挟み、注型セル23とした。ディスポシリンジを用いて、放射線重合性組成物(A1)を注型セル内に注入した。   A spacer 22 was sandwiched between two optical glasses 21 similar to those in Example 1 to form a casting cell 23. The radiation polymerizable composition (A1) was injected into the casting cell using a disposable syringe.

実施例1と同様の方法で放射線重合性組成物(A1)全域に、10mW/cm、300秒の条件で放射線を照射して、ゲル状の重合性組成物(A1)の重合体26を得た。 In the same manner as in Example 1, the radiation-polymerizable composition (A1) was irradiated with radiation on the entire area under conditions of 10 mW / cm 2 and 300 seconds, and the polymer 26 of the gel-like polymerizable composition (A1) was obtained. Obtained.

注型セル23内のスペーサー22を取り除こうとしたところ、重合体26が崩壊した。   When the spacer 22 in the casting cell 23 was to be removed, the polymer 26 collapsed.

<比較例2>
図10に比較例1のプラスチック部材の製造方法を示す。
<Comparative example 2>
FIG. 10 shows a method for manufacturing the plastic member of Comparative Example 1.

実施例1と同様の放射線重合性組成物(A1)および重合性組成物(B2)を用いてプラスチック部材を製造した。   A plastic member was produced using the same radiation-polymerizable composition (A1) and polymerizable composition (B2) as in Example 1.

実施例1と同様の2枚の光学ガラス21間にスペーサー22を挟み、注型セル23とした。ディスポシリンジを用いて、放射線重合性組成物(A1)を注型セル内に注入した。   A spacer 22 was sandwiched between two optical glasses 21 similar to those in Example 1 to form a casting cell 23. The radiation polymerizable composition (A1) was injected into the casting cell using a disposable syringe.

実施例1と同様の方法で放射線重合性組成物(A1)全域に、10mW/cm、1800秒の条件で放射線を照射して、ゲル状の重合性組成物(A1)の重合体26を得た。 In the same manner as in Example 1, the radiation-polymerizable composition (A1) was irradiated with radiation over the entire area under the conditions of 10 mW / cm 2 and 1800 seconds, and the polymer 26 of gel-like polymerizable composition (A1) was obtained. Obtained.

注型セル23内のスペーサー22を取り除き、重合性組成物(A1)の重合体26の外側に空隙27を設けてスペーサー25を設置して、注型セル23を組み立てた。   The spacer 22 in the casting cell 23 was removed, the void 27 was provided outside the polymer 26 of the polymerizable composition (A1), the spacer 25 was installed, and the casting cell 23 was assembled.

次に、シリンジ針を用いて、注型セル23の空隙27に重合性組成物(B1)28を注入し、ゲル状の重合性組成物(A1)の重合体26と接触させた。注型セルを、室温で4時間放置した。注型セルの全面に放射線を照射した後、光学ガラスを剥離し、平板状の硬化物からなるプラスチック部材29を得た。   Next, the polymerizable composition (B1) 28 was injected into the void 27 of the casting cell 23 using a syringe needle, and contacted with the polymer 26 of the gel-like polymerizable composition (A1). The casting cell was left at room temperature for 4 hours. After irradiating the entire surface of the casting cell with radiation, the optical glass was peeled off to obtain a plastic member 29 made of a flat cured product.

得られたプラスチック部材の屈折率分布を実施例1と同様の方法で測定したが、重合体26の部位には有意な屈折率分布が生じていなかった。   The refractive index distribution of the obtained plastic member was measured by the same method as in Example 1. However, no significant refractive index distribution occurred at the polymer 26 site.

本発明は、組成分布を有するプラスチック部材を、簡便な設備で、工程数が少なく、短時間で得ることができるので、カメラ、光ファイバの結像系、複写機、コンパクトディスクのピックアップ光学系などのレンズの製造方法に利用することができる。   In the present invention, a plastic member having a composition distribution can be obtained in a short time with a simple facility, with a small number of processes, so that a camera, an optical fiber imaging system, a copying machine, a compact disk pickup optical system, etc. It can utilize for the manufacturing method of this lens.

1 光学ガラス
2 ガスケット
3 注型セル
4 第1の放射線重合性組成物
5 遮蔽物
6 第1の組成物の重合体
7 空隙
8 第2の放射線重合性組成物
9 プラスチック部材
10 放射線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical glass 2 Gasket 3 Casting cell 4 1st radiation polymerizable composition 5 Shielding object 6 Polymer of 1st composition 7 Cavity 8 2nd radiation polymerizable composition 9 Plastic member 10 Radiation

Claims (10)

放射線照射面を設けた注型セルに放射線重合可能な第1のモノマーを含有する第1の放射線重合性組成物を充填する第1充填工程と、前記注型セルの放射線照射面に放射線を照射し、前記第1の放射線重合性組成物の一部を重合し第1の組成物の重合体を得る重合工程と、未重合の前記第1の放射線重合性組成物を前記注型セルから除去する除去工程と、除去により生じた前記注型セルの空隙に、放射線重合可能な第2のモノマーを含有する第2の放射線重合性組成物を充填して前記第1の組成物の重合体と接触させる第2充填工程と、前記第2の放射線重合性組成物および前記第1の組成物の重合体の全体を硬化させる全硬化工程と、を有するプラスチックレンズの製造方法において、
前記第2充填工程と前記全硬化工程との間に、前記第2の放射線重合性組成物を前記第1の組成物の重合体の中へ拡散させる拡散工程を有し、
前記第1の組成物の重合体が、複素粘度が10Pa・s以上10000Pa・s未満のゲル状であり、
前記第2の放射線重合性組成物が液状である
ことを特徴する組成分布を有するプラスチックレンズの製造方法。
A first filling step of filling a casting cell provided with a radiation irradiation surface with a first radiation polymerizable composition containing a first monomer capable of radiation polymerization; and irradiating the radiation irradiation surface of the casting cell with radiation. A polymerization step of polymerizing a part of the first radiation-polymerizable composition to obtain a polymer of the first composition, and removing the unpolymerized first radiation-polymerizable composition from the casting cell. A removal step to be performed, and a void of the casting cell generated by the removal is filled with a second radiation-polymerizable composition containing a second monomer capable of radiation polymerization, and the polymer of the first composition In a method for producing a plastic lens , comprising: a second filling step for contacting; and a total curing step for curing the whole of the second radiation-polymerizable composition and the polymer of the first composition .
A diffusion step of diffusing the second radiation polymerizable composition into the polymer of the first composition between the second filling step and the full curing step;
The polymer of the first composition is a gel having a complex viscosity of 10 Pa · s or more and less than 10,000 Pa · s,
A method for producing a plastic lens having a composition distribution, wherein the second radiation-polymerizable composition is liquid .
前記第1の放射線重合性組成物液状であることを特徴する請求項1に記載のプラスチックレンズの製造方法。 The method for producing a plastic lens according to claim 1, wherein the first radiation-polymerizable composition is liquid. 前記第1の放射線重合性組成物および第2の放射線重合性組成物の少なくとも一方が微粒子を含有することを特徴する請求項1または2に記載のプラスチックレンズの製造方法。 The process for producing a plastic lens according to claim 1 or 2 wherein at least one of the first radiation polymerizable composition and the second radiation polymerizable composition is characterized by containing fine particles. 前記第1の放射線重合性組成物および第2の放射線重合性組成物の硬化物が各々異なる屈折率波長分散を有することを特徴する請求項1乃至のいずれかの項に記載のプラスチックレンズの製造方法。 Plastic lens according to any one of claims 1 to 3, wherein a cured product of each different refractive index wavelength dispersion of the first radiation polymerizable composition and the second radiation polymerizable composition Production method. 前記注型セルの放射線照射面に照射する放射線の照射量が一定でないことを特徴とする請求項1乃至のいずれかの項に記載のプラスチックレンズの製造方法。 The method of manufacturing a plastic lens according to any one of claims 1 to 4 , wherein an irradiation amount of radiation irradiated to a radiation irradiation surface of the casting cell is not constant. 前記注型セルの放射線照射面に照射する放射線の照射量が、外周ほど低照射量であることを特徴とする請求項に記載のプラスチックレンズの製造方法。 6. The method of manufacturing a plastic lens according to claim 5 , wherein the irradiation amount of the radiation irradiated to the radiation irradiation surface of the casting cell is such that the irradiation amount is lower toward the outer periphery. 前記注型セルの放射線照射面に照射する放射線の照射量が、外周ほど高照射量であることを特徴とする請求項に記載のプラスチックレンズの製造方法。 6. The method of manufacturing a plastic lens according to claim 5 , wherein the irradiation amount of the radiation irradiated to the radiation irradiation surface of the casting cell is higher toward the outer periphery. 前記第2の放射線重合性組成物を前記第1の組成物の重合体の中へ拡散させる工程において、注型セルを室温より高い温度に加熱することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかの項に記載のプラスチックレンズの製造方法。 8. The casting cell is heated to a temperature higher than room temperature in the step of diffusing the second radiation-polymerizable composition into the polymer of the first composition. A method for producing a plastic lens according to any one of the items. 前記注型セルの内面が球面、非球面または平面であることを特徴とする請求項1乃至のいずれかの項に記載のプラスチックレンズの製造方法。 Method for producing the inner surface of the casting cell is spherical, the plastic lens according to any one of claims 1 to 8, characterized in that a non-spherical surface or plane. 請求項1乃至のいずれかに記載のプラスチックレンズの製造方法で作製されたプラスチックレンズProduced plastic lens manufacturing method for a plastic lens according to any one of claims 1 to 9.
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