JP5611520B2 - Processed pigment, pigment dispersion composition using the same, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, solid-state image sensor, and process pigment manufacturing method - Google Patents

Processed pigment, pigment dispersion composition using the same, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, solid-state image sensor, and process pigment manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、顔料の分散性に優れ、顔料分散組成物および着色感光性組成物の流動性、着色力等に優れ、塗料、印刷インキ、カラー表示板等の広い範囲で好適に使用し得る加工顔料、顔料分散組成物、それを含む着色感光性組成物、該着色感光性組成物を用いて製造されたカラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子に関する。   The present invention is excellent in dispersibility of pigments, excellent in fluidity and coloring power of pigment dispersion compositions and colored photosensitive compositions, and can be suitably used in a wide range of paints, printing inks, color display plates and the like. The present invention relates to a pigment, a pigment dispersion composition, a colored photosensitive composition containing the same, a color filter produced using the colored photosensitive composition, a liquid crystal display device, and a solid-state imaging device.

カラーフィルタは、有機顔料や無機顔料を分散させた顔料分散組成物と、多官能モノマー、重合開始剤、アルカリ可溶性樹脂及びその他の成分とを含有して着色感光性組成物とし、これを用いてフォトリソ法、インクジェット法などにより着色パターンを形成することで製造されている。   The color filter contains a pigment dispersion composition in which an organic pigment or an inorganic pigment is dispersed, a polyfunctional monomer, a polymerization initiator, an alkali-soluble resin, and other components to form a colored photosensitive composition. It is manufactured by forming a colored pattern by a photolithography method, an ink jet method or the like.

近年、カラーフィルタは、液晶表示素子(LCD)用途においてモニターのみならずテレビ(TV)へと用途が拡大する傾向にある。この用途拡大の傾向に伴い、カラーフィルタには、色度、コントラストなどにおいて高度の色特性が要求されるに至っている。また、イメージセンサ(固体撮像素子)用途のカラーフィルタにおいても、同様に色むらの低減、色分解能の向上など色特性の高いものが求められるようになっている。   In recent years, color filters tend to be used not only for monitors but also for televisions (TVs) in liquid crystal display (LCD) applications. Along with this trend of expanding applications, color filters are required to have high color characteristics in terms of chromaticity and contrast. Similarly, color filters for use in image sensors (solid-state imaging devices) are also required to have high color characteristics such as reduction in color unevenness and improvement in color resolution.

上記のような要求に対して、着色感光性組成物に含有される顔料を、より微細な状態で分散させること(良好な分散性)、安定な状態で分散させること(良好な分散安定性)が求められている。顔料の分散性が不充分である場合には、フォトリソ法で形成された着色画素にフリンジ(エッジ部のギザギザ)や表面凹凸が生じ、また基板上の現像残り(残渣)が多く、製造されたカラーフィルタの色度や寸法精度が低下したり、コントラストが著しく劣化したりするという問題がある。また、顔料の分散安定性が不充分である場合には、カラーフィルタの製造工程において、特に、着色硬化性組成物の塗布工程での膜厚の均一性が低下したり、露光工程での感度が低下したり、現像工程でのアルカリ溶解性が低下したりするという問題が生じ易い。さらに、顔料の分散安定性が悪い場合には、時間の経過に伴い、着色硬化性組成物の構成成分が凝集を起こして粘度が上昇し、ポットライフが極めて短くなるという問題もある。カラーフィルタのコントラスト等の色特性の向上には、顔料の粒子径を微細化することが有効であるが、顔料の粒子径を微細化すると顔料粒子の表面積が大きくなるため、顔料粒子間の凝集力が強くなり、高度なレベルでの分散性と分散安定性を両立することは、困難であることが多い。   In response to the above requirements, the pigment contained in the colored photosensitive composition is dispersed in a finer state (good dispersibility), and is dispersed in a stable state (good dispersion stability). Is required. When the dispersibility of the pigment is insufficient, fringes (jagged edges) and surface irregularities occur in the colored pixels formed by the photolithographic method, and there are many undeveloped residues (residues) on the substrate. There are problems that the chromaticity and dimensional accuracy of the color filter are lowered and the contrast is remarkably deteriorated. In addition, when the dispersion stability of the pigment is insufficient, in the color filter manufacturing process, in particular, the uniformity of the film thickness in the coating process of the colored curable composition is reduced, or the sensitivity in the exposure process. Or the alkali solubility in the development process is likely to be reduced. Furthermore, when the dispersion stability of the pigment is poor, there is also a problem that the constituent components of the colored curable composition cause aggregation to increase in viscosity with time and the pot life becomes extremely short. In order to improve color characteristics such as the contrast of color filters, it is effective to reduce the particle diameter of the pigment. However, if the particle diameter of the pigment is reduced, the surface area of the pigment particles increases, so the aggregation between the pigment particles It is often difficult to increase the strength and achieve both a high level of dispersibility and dispersion stability.

顔料粒子の微細化と分散性向上に関しては、以下のことが知られている。
一般に、顔料の1次粒子の微細化は、顔料、水溶性の無機塩、該無機塩を実質的に溶解しない水溶性有機溶剤をニーダー等で機械的に混練する方法(ソルトミリング法)がよく知られている。得られた微細顔料の1次粒子の混合物を水中に投入し、ミキサー等で撹拌しスラリー状とする。次に、このスラリーをろ過、水洗して乾燥することにより、顔料の1次粒子の凝集体である2次凝集体として微細顔料が得られる。サンドミル、ボールミル等の通常の分散機での分散工程は、顔料の1次粒子の凝集体である2次凝集体をほぐして1次粒子に近い状態の分散体を得る工程である。
The following is known regarding the refinement of pigment particles and the improvement of dispersibility.
In general, the primary particles of the pigment are made fine by a method of kneading a pigment, a water-soluble inorganic salt, or a water-soluble organic solvent that does not substantially dissolve the inorganic salt with a kneader (a salt milling method). Are known. The obtained mixture of primary particles of fine pigment is put into water and stirred with a mixer or the like to form a slurry. Next, the slurry is filtered, washed with water, and dried to obtain a fine pigment as a secondary aggregate that is an aggregate of primary particles of the pigment. The dispersion step in a normal disperser such as a sand mill or a ball mill is a step of loosening a secondary aggregate that is an aggregate of primary particles of a pigment to obtain a dispersion close to the primary particles.

しかしながら、顔料の1次粒子を微細化していくと、凝集しやすくなり、スラリーあるいは乾燥時に凝集体(2次凝集体)が生成しやすくなる。また、顔料の1次粒子が微細になるにしたがって、強い2次凝集が起こりやすくなる。そのため、微細化した顔料を1次粒子にまで再分散するのは、一般に非常に困難である。2次凝集体が多く存在する分散体を用いて形成されたカラーフィルタは、光の散乱が大きく、コントラストが著しく低下したり、色濃度ムラを生じるため、顔料分散組成物としては、凝集することなく1次粒子が安定に分散されたものが好ましく、かつ取り扱いが容易な性状であることが望まれる。   However, when the primary particles of the pigment are made finer, aggregation tends to occur, and aggregates (secondary aggregates) are likely to be generated during slurry or drying. Further, as the primary particles of the pigment become finer, strong secondary aggregation tends to occur. For this reason, it is generally very difficult to redisperse the refined pigment to primary particles. A color filter formed using a dispersion containing a large amount of secondary aggregates has a large light scattering, and the contrast is remarkably lowered and color density unevenness occurs. Therefore, the pigment dispersion composition aggregates. It is desirable that the primary particles are stably dispersed and the properties are easy to handle.

この微細化した顔料の強い2次凝集を抑制することを目的として、ソルトミリング工程時に、それぞれロジンまたはロジン誘導体あるいは非水溶性モノマーまたはオリゴマーを添加して顔料を処理し、該顔料の分散体を用いてコントラストの高いカラーフィルタを得る技術が提案されている(例えば、特許文献1、2参照。)。
しかしながら、これらの方法によっても、更に高くなる市場からのコントラストの要求に応じることはできず、微細な顔料における更に高度な分散性、分散安定性が望まれていた。
また、ブロック共重合体を顔料分散剤として使用し、顔料同士の凝集を抑制する技術も提案されている(特許文献3)。しかしながら、この技術では、顔料への分散剤の吸着性とその持続性が不十分であるため、効果的な分散安定性を得ることは困難であり、微細顔料の強い2次凝集を長期間抑制することは困難であった。
特許第3130217号公報 特開2004−233727号公報 特開2006−526670号公報
In order to suppress the strong secondary aggregation of the refined pigment, a rosin, a rosin derivative, or a water-insoluble monomer or oligomer is added in the salt milling process to treat the pigment. There has been proposed a technique for obtaining a color filter having a high contrast by using it (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
However, even these methods cannot meet the demand for higher contrast from the market, and further higher dispersibility and dispersion stability in fine pigments have been desired.
In addition, a technique of using a block copolymer as a pigment dispersant to suppress aggregation of pigments has been proposed (Patent Document 3). However, with this technology, it is difficult to obtain effective dispersion stability because the adsorbability of the dispersant to the pigment and its sustainability are insufficient, and strong secondary aggregation of the fine pigment is suppressed for a long period of time. It was difficult to do.
Japanese Patent No. 3130217 JP 2004-233727 A JP 2006-526670 A

即ち、本発明の課題とするところは、微細化された顔料においても、2次凝集体の形成が抑制され、1次粒子の状態で分散させることができる分散性が向上された加工顔料、さらには、分散させた1次粒子が安定的に維持される分散安定性に優れた加工顔料及びその製造方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、このような加工顔料を用いた、顔料の分散性及び分散安定性に優れた顔料分散組成物、そのような顔料分散組成物を含んでなる硬化性に優れた着色感光性組成物を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、前記本発明の着色感光性組成物をもちいた着色パターンを有する、コントラストが高く、色濃度ムラの小さい良好な色特性のカラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子を提供することにある。
That is, the subject of the present invention is a processed pigment with improved dispersibility that can be dispersed in the form of primary particles while suppressing the formation of secondary agglomerates even in a refined pigment, An object of the present invention is to provide a processed pigment excellent in dispersion stability in which dispersed primary particles are stably maintained and a method for producing the processed pigment.
A further object of the present invention is to provide a pigment dispersion composition having excellent pigment dispersibility and dispersion stability using such a processed pigment, and a colored photosensitivity having excellent curability comprising such a pigment dispersion composition. It is to provide a sex composition.
Another object of the present invention is to provide a color filter, a liquid crystal display element, and a solid having a color pattern using the colored photosensitive composition of the present invention, having high contrast and low color density unevenness, and good color characteristics. The object is to provide an imaging device.

上記課題は以下の方法で達成できることを見出し、本発明に至った。
<1>顔料と、顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体と、水溶性無機塩と、該水溶性無機塩を溶解しない水溶性有機溶剤と、を該顔料の微細化工程において機械的に混練することにより、該顔料を該ブロック共重合体で被覆してなる加工顔料であり、
該ブロック共重合体が、有機色素構造あるいは複素環構造を有する1種以上のモノマーを用いて構成された顔料吸着性ブロックと、有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーを用いて構成された顔料非吸着性ブロックとを有し、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法により製造されたブロック共重合体である加工顔料。
<2>前記ブロック共重合体の重量平均分子量は、1,000以上100,000以下であることを特徴とする上記<1>に記載の加工顔料。
<3>平均1次粒子径が、5nm以上25nm以下であることを特徴とする上記<1>または<2>に記載の加工顔料。
<4>前記顔料の微細化工程が、さらに、顔料の乾燥工程を含むことを特徴とする<1>〜<3>のいずれか1つに記載の加工顔料。
<5>前記顔料の微細化工程における前記無機塩の添加量が、前記顔料に対して5質量倍〜25質量倍であり、前記水溶性有機溶剤の添加量が、前記無機塩に対して15質量%〜35質量%であることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1つに記載の加工顔料。
The present inventors have found that the above problems can be achieved by the following method, and have reached the present invention.
<1> A pigment, a block copolymer having a pigment adsorbing block and a pigment non-adsorbing block, a water-soluble inorganic salt, and a water-soluble organic solvent that does not dissolve the water-soluble inorganic salt, A processed pigment obtained by coating the pigment with the block copolymer by mechanically kneading in the conversion step,
The block copolymer has neither a pigment-adsorbing block composed of one or more monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure, nor an organic dye structure or a heterocyclic structure. ) acrylate ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylamide; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene , Isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, chloromethyl styrene, hydroxy styrene protected with groups deprotectable by acidic substances, vinyl benzoic acid Methyl , And alpha-1 one styrene compound selected from styrene; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and one maleimide de compound selected from phenylmaleimide; and (meth) acrylonitrile anda pigment non-adsorbing blocks configured with one or more monomers selected from the group consisting of anionic living process, or a block copolymer prepared by radical living method processed pigment.
<2> The processed pigment according to <1>, wherein the block copolymer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 100,000 or less.
<3> The processed pigment according to <1> or <2>, wherein the average primary particle size is 5 nm or more and 25 nm or less.
<4> The processed pigment according to any one of <1> to <3>, wherein the pigment refinement step further includes a pigment drying step.
<5> The addition amount of the inorganic salt in the pigment refinement step is 5 to 25 times by mass with respect to the pigment, and the addition amount of the water-soluble organic solvent is 15 to the inorganic salt. <1>-<4> The processed pigment according to any one of <1> to <4>, wherein the processed pigment is from 35% by mass to 35% by mass.

<6>上記<1>から<5>のいずれか1つに記載の加工顔料を、有機溶剤中に分散してなることを特徴とする顔料分散組成物。
<7>さらに顔料分散剤を含む上記<6>に記載の顔料分散組成物。
<8>カラーフィルタにおける着色領域の形成に用いられることを特徴とする上記<6>または<7>に記載の顔料分散組成物。
<9>上記<6>〜<8>のいずれか1つに記載の顔料分散組成物と、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有することを特徴とする着色感光性組成物。
<10>基板上に、上記<9>に記載の着色感光性組成物により形成された着色領域を有するカラーフィルタ。
<11>上記<10>に記載のカラーフィルタを備える液晶表示素子。
<12>上記<10>に記載のカラーフィルタを備える固体撮像素子。
<13>顔料と、水溶性無機塩と、水溶性無機塩を溶解しない水溶性有機溶剤と、有機色素構造あるいは複素環構造を有する1種以上のモノマーを用いて構成された顔料吸着性ブロックと、有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーを用いて構成された顔料非吸着性ブロックとを有し、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法により製造されたブロック共重合体とを、機械的に混練して混合物を調製する工程、及び、
得られた混合物を水中に投入し、攪拌して、該ブロック共重合体により被覆された顔料を含むスラリーを調製する工程、を含む加工顔料の製造方法。
<14>得られたスラリーに含まれる前記ブロック共重合体により被覆された顔料を、乾燥する工程をさらに含む<13>に記載の加工顔料の製造方法。
<6> A pigment dispersion composition, wherein the processed pigment according to any one of <1> to <5> is dispersed in an organic solvent.
<7> The pigment dispersion composition according to <6>, further including a pigment dispersant.
<8> The pigment dispersion composition according to <6> or <7>, which is used for forming a colored region in a color filter.
<9> A colored photosensitive composition comprising the pigment dispersion composition according to any one of the above items <6> to <8>, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator.
<10> A color filter having a colored region formed of the colored photosensitive composition according to <9> on a substrate.
<11> A liquid crystal display device comprising the color filter according to <10>.
<12> A solid-state imaging device including the color filter according to <10>.
<13> pigment and a water-soluble inorganic salt, the water-soluble does not dissolve the inorganic salts water-soluble organic solvent, pigment adsorbing block configured with one or more monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure If not have any of the organic dye structure or a heterocyclic structure, (meth) acrylic acid ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester le; ( meth) acrylamide; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxystyrene, methoxystyrene, butoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichloro styrene, bromostyrene, chloromethylstyrene Deprotectable with acidic substances Selected maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and phenyl maleimide; protected hydroxystyrene group, methyl vinyl benzoate, and one styrene compound selected from α- methylstyrene; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions one maleimide de compound; a and a pigment non-adsorbing blocks configured with one or more monomers selected from the group consisting of (meth) acrylonitrile, manufacturing, living anionic method, or by a radical living method A step of mechanically kneading the prepared block copolymer to prepare a mixture, and
A process for producing a processed pigment, comprising: adding the obtained mixture into water and stirring to prepare a slurry containing the pigment coated with the block copolymer.
<14> The method for producing a processed pigment according to <13>, further comprising a step of drying the pigment coated with the block copolymer contained in the obtained slurry.

本発明は、顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体で、以下に詳述するソルトミリングを用いた顔料の微細化工程を経ることで被覆処理した加工顔料と、その応用に関し、この加工顔料を用いることにより、従来のものより、分散性、および分散安定性に優れ、またコントラストが高く、色濃度ムラの小さい顔料分散組成物、カラーフィルタを得ることができる。
即ち、本発明の有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーの1種以上を用いて構成された顔料吸着性ブロックと有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーの1種以上を用いて構成された顔料非吸着性ブロックと、を有するブロック共重合体(以下、特定共重合体と称する場合がある)を顔料処理に使用すると、顔料の1次粒子の凝集体である2次凝集体の生成を効果的に抑制、あるいは、2次凝集体の凝集力を効果的に弱めることができると考えられる。そのため分散工程において、1次粒子に近い状態の分散体を得ることができ、コントラストの高いカラーフィルタおよび色濃度ムラの小さいカラーフィルタを得ることができる。
本発明の作用は明確ではないが、本発明のブロック共重合体の顔料吸着性ブロックが顔料に吸着することによって、顔料を被覆するブロック共重合体が顔料一次粒子に強力に吸着する。この強力な吸着によって、スラリー、ろ過、水洗時にも被覆たブロック共重合体が脱着することがないため、顔料の1次粒子同士の凝集を効果的に抑制しているものと考えられる。このため、顔料を、顔料吸着性基を有するモノマーと、顔料非吸着性基を有するモノマーと、を共重合してなるランダム共重合体によって被覆する場合よりも、吸着サイトの密度が高いため、いっそうの吸着性の向上を達成するものと考えられる。
The present invention is a block copolymer having a pigment adsorbing block and a pigment non-adsorbing block, and a processed pigment that has been subjected to coating treatment through a finer process of the pigment using salt milling, which will be described in detail below, With regard to application, by using this processed pigment, it is possible to obtain a pigment dispersion composition and a color filter that are superior in dispersibility and dispersion stability, have high contrast, and have small color density unevenness.
That is, the pigment-adsorbing block constituted by using one or more monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure of the present invention, and (meth) acrylic having neither an organic dye structure nor a heterocyclic structure. acid ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylamide; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl Styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, chloromethyl styrene, hydroxy styrene protected with an acid deprotectable group, methyl vinyl benzoate, And α One styrene compound selected from styrene; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and one maleimide de compound selected from phenylmaleimide; than and (meth) the group consisting of acrylonitrile When a block copolymer having a pigment non-adsorptive block composed of one or more selected one or more monomers is used for pigment treatment (hereinafter, may be referred to as a specific copolymer), It is considered that the formation of secondary aggregates, which are aggregates of primary particles of pigment, can be effectively suppressed, or the cohesive force of secondary aggregates can be effectively weakened. Therefore, in the dispersion step, a dispersion in a state close to primary particles can be obtained, and a color filter with high contrast and a color filter with small color density unevenness can be obtained.
Although the action of the present invention is not clear, the block adsorbing block of the block copolymer of the present invention is adsorbed to the pigment, whereby the block copolymer covering the pigment is strongly adsorbed to the primary pigment particles. This powerful suction, slurry, filtered, since the block copolymer was also coated during washing will not be desorbed, it is considered that to effectively suppress the aggregation of the primary particles of the pigment. For this reason, since the density of the adsorption site is higher than when the pigment is coated with a random copolymer obtained by copolymerizing a monomer having a pigment adsorbing group and a monomer having a pigment non-adsorbing group, It is considered that further improvement in adsorptivity is achieved.

本発明においては、顔料を顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体で被覆して加工顔料とすることが特徴のひとつであり、被覆は顔料の1次粒子を微細化する工程と同時に施す。即ち、微細化工程の後の分散工程で、顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体吸着させることよって分散を安定化させる方法に比較し、微細化で生じた表面活性の高い顔料の新界面に、本発明の顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体が強い静電的作用によって吸着し、該ブロック共重合体の強固な被覆層を形成するため、より高い分散安定性を有する加工顔料が得られるものと考えられる。即ち、本発明においては、加工後の顔料は、ブロック共重合体を溶解する有機溶剤で洗浄しても、被覆したブロック共重合体は殆ど遊離しない。これに対し特開2006−526670号公報における顔料では、有機溶剤で洗浄すると、分散剤であるブロック共重合体の多くは、顔料から脱着するので、微細化顔料は凝集しやすくなり、高度な分散安定性が得られない。 One feature of the present invention is that the pigment is coated with a block copolymer having a pigment adsorbing block and a pigment non-adsorbing block to obtain a processed pigment, and the coating refines the primary particles of the pigment. process and to facilities at the same time. That is, in the dispersion step after the micronization step, a block copolymer having a pigment adsorbing block and pigment non-adsorbing block compared to a method of stabilizing a dispersion I'll be adsorbed, resulting in finer surface The block copolymer having the pigment adsorbing block and the pigment non-adsorbing block of the present invention is adsorbed to the new interface of the highly active pigment by a strong electrostatic action, and a strong coating layer of the block copolymer is formed. Therefore, it is considered that a processed pigment having higher dispersion stability can be obtained. That is, in the present invention, the processed block copolymer is hardly released even if it is washed with an organic solvent that dissolves the block copolymer. On the other hand, in the pigment disclosed in JP-A-2006-526670, when washed with an organic solvent, most of the block copolymer, which is a dispersant, is desorbed from the pigment. Stability is not obtained.

また、本発明の顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体(特定共重合体)で被覆処理された加工顔料を用いたカラーフィルタは、高温・高湿度下でカラーフィルタ層が濁る、カラーフィルタ作成時に濁るといった問題も解決できる。これらの問題は、フィルタ中の微細顔料粒子が凝集して結晶成長して起こる現象と考えられ、顔料の1次粒子が微細であるほど起きやすい。本発明の特定共重合体で被覆処理された加工顔料は、特定共重合体が微細顔料に強く吸着しているため、フィルタ中においても、顔料粒子同士の凝集を効果的に抑制しているからだと考えられる。 The color filter using the processed pigment which is coated with the block copolymer (JP Jotomo polymer) having a pigment adsorbing block of the present invention and a pigment non-adsorbing block, color under high temperature and high humidity Problems such as cloudiness of the filter layer and turbidity when creating a color filter can also be solved. These problems are considered to occur as fine pigment particles in the filter aggregate and grow as crystals, and are more likely to occur as the primary particles of the pigment are finer. The processed pigment coated with the specific copolymer of the present invention is because the specific copolymer is strongly adsorbed to the fine pigment, and thus effectively suppresses aggregation of pigment particles even in the filter. it is conceivable that.

さらに本発明の特定共重合体で被覆処理された加工顔料を用いたカラーフィルタは、液晶の電圧保持率に優れる。液晶の電圧保持率の低下は、カラーフィルタ中の金属イオン濃度が高い場合に発生し易い。特にソルトミリング法を用いて顔料を微細化した場合に、起きやすい問題であるが、それは、ソルトミリング工程で使う無機塩(イオン)が、ソルトミリング工程で顔料粒子に吸着し、分散工程、カラーフィルタ製造工程あるいは液晶表示素子を形成した後で、顔料粒子から溶出してくるためと思われる。顔料の1次粒子が微細であるほど、イオン性化合物を包含しやすくなり、水洗・ろ過での除去が難しくなる。本発明の特定共重合体で被覆処理された加工顔料は、前述した理由で、該特定共重合体が微細顔料に強く吸着しているため、分散工程あるいはカラーフィルタ中でのイオンの溶出を効果的に抑制できるからだと考えられる。   Furthermore, the color filter using the processed pigment coated with the specific copolymer of the present invention is excellent in the voltage holding ratio of the liquid crystal. The decrease in the voltage holding ratio of the liquid crystal is likely to occur when the metal ion concentration in the color filter is high. This problem is likely to occur especially when the pigment is refined using the salt milling method. This is because the inorganic salt (ions) used in the salt milling process is adsorbed to the pigment particles during the salt milling process, and the dispersion process, color This is probably because the pigment particles are eluted after the filter manufacturing process or the liquid crystal display element is formed. The finer the primary particles of the pigment, the easier it is to include an ionic compound and the removal by water washing and filtration becomes difficult. The processed pigment coated with the specific copolymer of the present invention has an effect of elution of ions in the dispersion process or in the color filter because the specific copolymer is strongly adsorbed to the fine pigment for the reasons described above. It is thought that it can be suppressed.

また本発明の特定共重合体で被覆処理された加工顔料を用いた着色感光性組成物は、カラーフィルタ製造の現像工程で、現像液に析出物が発生しにくいという利点を有している。析出物は顔料粒子の凝集体であることが多い。析出は、分散剤により分散された顔料分散体がアルカリ現像液により、分散剤が脱着してしまい、微細顔料粒子が凝集して結晶成長して析出する現象であると考えられる。本発明の加工顔料は、該特定共重合体が微細顔料に強く吸着しているため、アルカリ現像液によっても該特定共重合体が脱着することがなく、現像液中に析出物が発生しにくいと考えられる。   In addition, the colored photosensitive composition using the processed pigment coated with the specific copolymer of the present invention has an advantage that precipitates are hardly generated in the developing solution in the development process of color filter production. Precipitates are often aggregates of pigment particles. Precipitation is considered to be a phenomenon in which the pigment dispersion dispersed with the dispersant is desorbed by the alkaline developer, and the fine pigment particles aggregate and crystallize and precipitate. In the processed pigment of the present invention, since the specific copolymer is strongly adsorbed to the fine pigment, the specific copolymer is not desorbed even by an alkaline developer, and precipitates are not easily generated in the developer. it is conceivable that.

本発明によれば、微細化された顔料においても、2次凝集体の形成が抑制され、1次粒子の状態で分散させることができる分散性が向上された加工顔料、分散させた1次粒子が安定的に維持される分散安定性に優れた加工顔料及びその製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、前記本発明の加工顔料を用いることで、顔料の分散性及び分散安定性に優れた顔料分散組成物、及び該顔料分散組成物を含む硬化性に優れた着色感光性組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、前記本発明の着色感光性組成物を用いた着色パターンを有する、コントラストが高く、色濃度ムラの小さい良好な色特性のカラーフィルタを提供することができる。また、このカラーフィルタを備えた液晶表示素子及び固体撮像素子を提供することができる。
According to the present invention, even in a refined pigment, the formation of secondary aggregates is suppressed, and the processed pigment with improved dispersibility that can be dispersed in the form of primary particles, and dispersed primary particles It is possible to provide a processed pigment excellent in dispersion stability and a method for producing the same .
Further, according to the present invention, by using the processed pigment of the present invention, a pigment dispersion composition having excellent dispersibility and dispersion stability of the pigment, and a colored photosensitivity having excellent curability including the pigment dispersion composition. Sex compositions can be provided.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a color filter having a color pattern using the colored photosensitive composition of the present invention, having a high contrast and a small color density unevenness and good color characteristics. In addition, it is possible to provide a liquid crystal display device and a solid-state imaging device provided with this color filter.

以下、本発明を詳細に説明する。
<加工顔料>
本発明の加工顔料は、有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーの1種以上を用いて構成された顔料吸着性ブロックと有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーの1種以上を用いて構成された顔料非吸着性ブロックとを有し、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法により製造されたブロック共重合体で、以下に詳述する顔料の微細化工程において被覆処理されたことを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Processed pigment>
The processed pigment of the present invention has neither a pigment-adsorbing block composed of one or more monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure, nor an organic dye structure or a heterocyclic structure. ) acrylate ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylamide; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene , Isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, chloromethyl styrene, hydroxy styrene protected with groups deprotectable by acidic substances, vinyl benzoic acid Methyl, And one styrene compound selected from α- methylstyrene; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and one maleimide de compound selected from phenylmaleimide; and from (meth) acrylonitrile A non-adsorptive pigment block composed of at least one monomer selected from the group consisting of a block copolymer produced by an anion living method or a radical living method, It is characterized in that it has been coated in the pigment refinement step described in detail.

本発明の加工顔料は、顔料表面が本発明のブロック共重合体により強固に被覆され、このブロック共重合体は有機溶剤に浸漬した場合でも遊離し難いことから、分散性及び分散安定性に優れた加工顔料となり、その応用範囲は広く、特に、顔料分散組成物の調製に有用である。   The processed pigment of the present invention is excellent in dispersibility and dispersion stability because the pigment surface is firmly coated with the block copolymer of the present invention, and this block copolymer is hardly released even when immersed in an organic solvent. The processed pigment has a wide range of applications and is particularly useful for the preparation of pigment dispersion compositions.

このような微細加工顔料の製造は、i)顔料と、ii)水溶性の無機塩と、iii)実質的にii)を溶解しない少量の水溶性の有機溶剤、およびiv)顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体を加え、ニーダー等で機械的に混練する工程(この工程をソルトミリングと称する)、この混合物を水中に投入し、ハイスピードミキサー等で攪拌しスラリー状とする工程、及び、このスラリーを濾過、水洗して必要により乾燥する工程を経て実施される。このような製造方法により、微細でかつ乾燥時の顔料の凝集が少ない本発明の加工顔料が得られる。   The production of such microfabricated pigments comprises i) a pigment, ii) a water-soluble inorganic salt, iii) a small amount of a water-soluble organic solvent that does not substantially dissolve ii), and iv) a pigment-adsorbing block. A step of adding a block copolymer having a non-pigmentable block and mechanically kneading with a kneader or the like (this step is called salt milling), putting this mixture into water, stirring it with a high speed mixer or the like, and slurrying And the slurry is filtered, washed with water, and dried if necessary. By such a production method, the processed pigment of the present invention is obtained which is fine and has little aggregation of the pigment during drying.

上記したソルトミリングについて、さらに具体的に説明する。まず、i)有機顔料とii)水溶性の無機塩の混合物に、湿潤剤として少量のiii)水溶性の有機溶剤を加え,ニーダー等で強く練り込んだ後,この混合物を水中に投入し,ハイスピードミキサー等で攪拌しスラリー状とする。次に,このスラリーを濾過,水洗して必要により乾燥することにより,微細化された顔料が得られる。なお,油性のワニスに分散して用いる場合には,乾燥前の処理顔料(濾過ケーキと呼ぶ)を一般にフラッシングと呼ばれる方法で,水を除去しながら油性のワニスに分散することも可能である。また水系のワニスに分散する場合は,処理顔料は乾燥する必要がなく,濾過ケーキをそのままワニスに分散することができる。
本発明においては、ソルトミリング時に上記iii)有機溶剤に少なくとも一部可溶である樹脂であるiv)を併用することにより、さらに微細で、表面が少なくとも一部可溶な樹脂iv)による被覆された、乾燥時の顔料の凝集が少ない加工顔料が得られる。
乾燥凝集を防ぐ方法として,上記スラリー中にアルカリ水溶液に溶解したアルカリ可溶性樹脂を添加し,充分攪拌混合した後に塩酸または硫酸等の酸性水溶液で中和して樹脂を顔料に沈着させるか,塩化カルシウムまたは塩化バリウム等の水溶性の多価金属塩の水溶液を添加して樹脂を析出させて顔料に沈着さることにより,乾燥凝集を防ぐことも可能である。
なお、iv)顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体を加えるタイミングは、ソルトミリング工程の初期にすべてを添加してもよく、分割して添加してもよい。
The salt milling described above will be described more specifically. First, add a small amount of iii) a water-soluble organic solvent as a wetting agent to a mixture of i) an organic pigment and ii) a water-soluble inorganic salt, knead strongly with a kneader, etc., and then throw this mixture into water. Stir with a high speed mixer or the like to form a slurry. Next, the slurry is filtered, washed with water, and dried if necessary to obtain a finer pigment. When used in an oily varnish, it is possible to disperse the treated pigment before drying (referred to as filter cake) in the oily varnish while removing water by a method generally called flushing. When dispersed in an aqueous varnish, the treated pigment does not need to be dried, and the filter cake can be dispersed in the varnish as it is.
In the present invention, by using iv), which is a resin that is at least partially soluble in an organic solvent, during salt milling, the resin iv) is coated with a finer and at least partially soluble resin. In addition, a processed pigment with little aggregation of the pigment when dried can be obtained.
As a method for preventing dry aggregation, an alkali-soluble resin dissolved in an alkaline aqueous solution is added to the above slurry, and the mixture is sufficiently stirred and then neutralized with an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid or sulfuric acid to deposit the resin on the pigment, or calcium chloride. Alternatively, it is possible to prevent dry aggregation by adding an aqueous solution of a water-soluble polyvalent metal salt such as barium chloride to precipitate the resin and deposit it on the pigment.
In addition, iv) The timing which adds the block copolymer which has a pigment adsorbing block and a pigment non-adsorbing block may add all at the initial stage of a salt milling process, and may add separately.

〔i)顔料〕
本発明で用いる顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を適宜選択して用いることができる。顔料の粒子サイズとしては、本発明の顔料分散組成物が好適に用いられるカラーフィルタが、高透過率であることが好ましいこと等を考慮すると、有機顔料が好ましく、また、なるべく粒子サイズの小さいものを使用することが好ましい。顔料分散組成物及びこれを含有する着色感光性組成物のハンドリング性を考慮すると、顔料の平均1次粒子径としては、100nm以下が好ましく、30nm以下がより好ましく、5〜25nmが最も好ましい。該粒径が前記範囲内であると、透過率が高く、色特性が良好であると共に、高いコントラストのカラーフィルタを形成するのに有効である。平均1次粒子径は、SEMあるいはTEMで観察し、粒子が凝集していない部分で粒子サイズを100個計測し、平均値を算出することによって求める。
前記無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物を挙げることができる。
[I) Pigment]
As the pigment used in the present invention, conventionally known various inorganic pigments or organic pigments can be appropriately selected and used. As the particle size of the pigment, considering that the color filter in which the pigment dispersion composition of the present invention is suitably used preferably has a high transmittance, an organic pigment is preferable, and a pigment having a particle size as small as possible. Is preferably used. Considering the handling properties of the pigment dispersion composition and the colored photosensitive composition containing it, the average primary particle diameter of the pigment is preferably 100 nm or less, more preferably 30 nm or less, and most preferably 5 to 25 nm. When the particle size is within the above range, the transmittance is high, the color characteristics are good, and it is effective for forming a color filter with high contrast. The average primary particle diameter is obtained by observing with an SEM or TEM, measuring 100 particle sizes in a portion where the particles are not aggregated, and calculating an average value.
Examples of the inorganic pigment include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like. Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony And metal oxides such as the above, and complex oxides of the above metals.

前記有機顔料としては、例えば、
C.I.Pigment Red 1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279、
C.I.Pigment Yellow 1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214
C.I. Pigment Orange 2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73
C.I. Pigment Green 7、10、36、37
C.I.Pigment Blue 1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、79のCl置換基をOHに変更したもの、80
C.I.Pigment Violet 1、19、23、27、32、37、42
C.I.Pigment Brown 25、28
C.I.Pigment Black 1、7 等を挙げることができる。
Examples of the organic pigment include:
C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184, 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 226, 242, 246, 254, 255, 264, 270, 272, 279,
C. I. Pigment Yellow 1, 2, 3, 4, 5, 6, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 20, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 42, 43, 53, 55, 60, 61, 62, 63, 65, 73, 74, 77, 81, 83, 86, 93, 94, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 115, 116, 117, 118, 119, 120, 123, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 161, 162, 164, 166, 167, 168, 169, 170, 171, 172, 173, 17 , 175,176,177,179,180,181,182,185,187,188,193,194,199,213,214
C. I. Pigment Orange 2, 5, 13, 16, 17: 1, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 71, 73
C. I. Pigment Green 7, 10, 36, 37
C. I. Pigment Blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64, 66, 79, 79 Cl substituent was changed to OH Stuff, 80
C. I. Pigment Violet 1, 19, 23, 27, 32, 37, 42
C. I. Pigment Brown 25, 28
C. I. Pigment Black 1, 7 and the like.

これらの中で好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し、本発明においてはこれらに限定されるものではない。
C.I.Pigment Yellow 11,24,108,109,110,138,139,150,151,154,167,180,185,
C.I.Pigment Orange 36,71,
C.I.Pigment Red 122,150,171,175,177,209,224,242,254,255,264,
C.I.Pigment Violet 19,23,32,
C.I.Pigment Blue 15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
C.I.Pigment Green 7,36,37;
C.I.Pigment Black 1、7
Among these, the pigments that can be preferably used include the following. However, the present invention is not limited to these.
C. I. Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185
C. I. Pigment Orange 36, 71,
C. I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264
C. I. Pigment Violet 19, 23, 32,
C. I. Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,
C. I. Pigment Green 7, 36, 37;
C. I. Pigment Black 1, 7

これら有機顔料は、単独もしくは色純度を上げるため種々の組合せて用いることができる。上記の組合せの具体例を以下に示す。例えば、赤の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独若しくはそれらの少なくとも1種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料若しくはキノフタロン系黄色顔料と、の混合、又は、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料単独若しくはそれらの少なくとも1種と、ペリレン系赤色顔料、アントラキノン系赤色顔料若しくはジケトピロロピロール系赤色顔料と、の混合などを用いることができる。例えば、アントラキノン系顔料としては、C.I.ピグメント・レッド177が挙げられ、ペリレン系顔料としては、C.I.ピグメント・レッド155、C.I.ピグメント・レッド224が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、C.I.ピグメント・レッド254が挙げられ、色再現性の点でC.I.ピグメント・イエロー83、C.I.ピグメント・イエロー139またはC.I.ピグメント・レッド177との混合が好ましい。また、赤色顔料と他顔料との質量比は、100:5〜100:80が好ましい。赤色顔料と他顔料との質量比が100:5〜100:80であると、400nmから500nmの光透過率を抑えることが出来るとともに色純度を上げることが出来る。また、発色力の低下が抑制される。特に、上記質量比としては、100:10〜100:65の範囲が最適である。尚、赤色顔料同士の組合せの場合は、色度に併せて調整することができる。   These organic pigments can be used alone or in various combinations to increase color purity. Specific examples of the above combinations are shown below. For example, as a red pigment, an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one of them and a disazo yellow pigment, an isoindoline yellow pigment or a quinophthalone yellow pigment, Alternatively, an anthraquinone pigment, a perylene pigment, a diketopyrrolopyrrole pigment alone or at least one of them and a mixture of a perylene red pigment, an anthraquinone red pigment or a diketopyrrolopyrrole red pigment, etc. Can do. For example, as an anthraquinone pigment, C.I. I. Pigment Red 177, and perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, C.I. I. Pigment Red 224, and diketopyrrolopyrrole pigments include C.I. I. Pigment Red 254, and C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 139 or C.I. I. Mixing with Pigment Red 177 is preferred. The mass ratio of the red pigment to the other pigment is preferably 100: 5 to 100: 80. When the mass ratio of the red pigment to the other pigment is 100: 5 to 100: 80, the light transmittance from 400 nm to 500 nm can be suppressed and the color purity can be increased. Further, a decrease in coloring power is suppressed. Particularly, the mass ratio is optimally in the range of 100: 10 to 100: 65. In the case of a combination of red pigments, it can be adjusted in accordance with the chromaticity.

また、緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を1種単独で又は、これとジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料若しくはイソインドリン系黄色顔料との混合を用いることができる。例えば、このような例としては、C.I.ピグメント・グリーン7、36、37とC.I.ピグメント・イエロー83、C.I.ピグメント・イエロー138、C.I.ピグメント・イエロー139、C.I.ピグメント・イエロー150、C.I.ピグメント・イエロー180又はC.I.ピグメント・イエロー185との混合が好ましい。緑顔料と黄色顔料との質量比は、100:5〜100:200が好ましい。光透過率と色純度,NTSC目標色相の観点から前記範囲が好ましい。上記質量比としては100:20〜100:150の範囲が特に好ましい。   Further, as the green pigment, one kind of halogenated phthalocyanine pigment can be used alone or a mixture thereof with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment or an isoindoline yellow pigment can be used. . For example, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180 or C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred. The mass ratio of the green pigment to the yellow pigment is preferably 100: 5 to 100: 200. The above range is preferable from the viewpoints of light transmittance, color purity, and NTSC target hue. The mass ratio is particularly preferably in the range of 100: 20 to 100: 150.

青の顔料としては、フタロシアニン系顔料を1種単独で、若しくはこれとジオキサジン系紫色顔料との混合を用いることができる。特に好適な例として、C.I.ピグメント・ブルー15:6とC.I.ピグメント・バイオレット23との混合を挙げることができる。
青色顔料と紫色顔料との質量比は、100:0〜100:100が好ましく、より好ましくは100:70以下である。
As the blue pigment, a single phthalocyanine pigment or a mixture of this and a dioxazine purple pigment can be used. As a particularly preferred example, C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. A mixture with pigment violet 23 can be mentioned.
The mass ratio of the blue pigment to the violet pigment is preferably 100: 0 to 100: 100, more preferably 100: 70 or less.

また、ブラックマトリックス用途に好適な顔料としては、カーボンブラック、グラファイト、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独又は混合を用いることができ、カーボンブラックとチタンブラックとの組合せが好ましい。また、カーボンブラックとチタンブラックとの質量比は、100:0〜100:60の範囲が好ましい。カーボンブラックとチタンブラックとの質量比は、100:0〜100:60の範囲が好ましい。分散安定性の観点で前記範囲が好ましい。   Moreover, as a pigment suitable for black matrix use, carbon black, graphite, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof can be used, and a combination of carbon black and titanium black is preferable. The mass ratio of carbon black to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60. The mass ratio of carbon black to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60. The above range is preferable from the viewpoint of dispersion stability.

上記挙げられた顔料の中でも、アゾ顔料、及び多環式顔料が好ましく、より好ましくは、不溶性アゾ系、ジオキサジン系顔料、フタロシアニン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、及びペリレン系顔料である。これらの顔料は、特定共重合体と水素結合等の比較的強い相互作用をすると考えられるため、有利である。また、フタロシアニン顔料(例えばPG36、PB15:6等)やアゾメチン顔料(例えばPY150)等の金属錯体の顔料は、特定共重合体の側鎖が持つ窒素原子又は酸素原子が当該金属錯体への配位結合による相互作用も働き、顔料1次粒子に強力に吸着すると考えられることから、好適である。   Among the above-mentioned pigments, azo pigments and polycyclic pigments are preferable, and more preferably, insoluble azo pigments, dioxazine pigments, phthalocyanine pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, anthraquinone pigments, quinacridone pigments, And perylene pigments. These pigments are advantageous because they are considered to have a relatively strong interaction such as hydrogen bonding with the specific copolymer. In addition, a metal complex pigment such as a phthalocyanine pigment (for example, PG36, PB15: 6) or an azomethine pigment (for example, PY150) is coordinated with the nitrogen atom or oxygen atom of the side chain of the specific copolymer to the metal complex. It is preferable because the interaction by bonding also works and is strongly adsorbed on the primary pigment particles.

〔ii)水溶性の無機塩〕
本発明に用いられる水溶性の無機塩は、水に溶解するものであれば特に限定されず、塩化ナトリウム、塩化バリウム、塩化カリウム、硫酸ナトリウム等を用いることができるが、価格の点から塩化ナトリウムまたは硫酸ナトリウムを用いるのが好ましい。
ソルトミリングする際に用いる無機塩の量は、処理効率と生産効率の両面から、有機顔料の1〜30重量倍、特に5〜25重量倍であることが好ましい。有機顔料に対する無機塩の量比が大きいほど微細化効率が高いが、1回の顔料の処理量が少なくなるためである。
[Ii) Water-soluble inorganic salt]
The water-soluble inorganic salt used in the present invention is not particularly limited as long as it is soluble in water, and sodium chloride, barium chloride, potassium chloride, sodium sulfate and the like can be used. Alternatively, it is preferable to use sodium sulfate.
The amount of the inorganic salt used for salt milling is preferably 1 to 30 times by weight, particularly 5 to 25 times by weight of the organic pigment, from the viewpoint of both processing efficiency and production efficiency. This is because the finer efficiency is higher as the amount ratio of the inorganic salt to the organic pigment is larger, but the amount of treatment of one pigment is reduced.

〔iii)実質的にii)を溶解しない少量の水溶性の有機溶剤〕
水溶性有機溶剤は、有機顔料、無機塩を湿潤する働きをするものであり、水に溶解(混和)し、かつ用いる無機塩を実質的に溶解しないものであれば特に限定されない。但し、ソルトミリング時に温度が上昇し、溶剤が蒸発し易い状態になるため、安全性の点から、沸点120℃以上の高沸点溶剤が好ましい。水溶性有機溶剤としては、例えば、2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−(イソペンチルオキシ)エタノール、2−(ヘキシルオキシ)エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、液状のポリエチレングリコール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノール、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、液状のポリプロピレングリコール等が用いられる。
[Iii) A small amount of a water-soluble organic solvent that does not substantially dissolve ii)
The water-soluble organic solvent functions to wet the organic pigment and the inorganic salt, and is not particularly limited as long as it dissolves (mixes) in water and does not substantially dissolve the inorganic salt to be used. However, a high boiling point solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher is preferable from the viewpoint of safety because the temperature rises during salt milling and the solvent easily evaporates. Examples of the water-soluble organic solvent include 2-methoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2- (isopentyloxy) ethanol, 2- (hexyloxy) ethanol, ethylene glycol, diethylene glycol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether. Acetate, diethylene glycol monobutyl ether, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, liquid polyethylene glycol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, dipropylene glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol Monoethyl ether, liquid polypropylene glycol or the like is used.

水溶性有機溶剤の添加量としては、無機塩に対して5質量%〜50質量%が好ましい。より好ましくは無機塩に対して10質量%〜40質量%であり、最適には無機塩に対して15質量%〜35質量%である。添加量が5質量%未満であると、均一な混練が難しくなり、粒子サイズの分布が大きくなって好ましくない。添加量が50質量%を超えると、混練組成物がやわらかくなりすぎ、混練組成物にシェアがかかりにくくなる為に、十分な微細化効果が得られなくなる。
iii)水溶性有機溶剤はソルトミリング初期に全てを添加しても良いし、分割して添加しても良い。水溶性有機溶剤は単独で使用しても良いし、2種以上を併用することも出来る。
The addition amount of the water-soluble organic solvent is preferably 5% by mass to 50% by mass with respect to the inorganic salt. More preferably, it is 10 mass%-40 mass% with respect to an inorganic salt, and optimally it is 15 mass%-35 mass% with respect to an inorganic salt. When the addition amount is less than 5% by mass, uniform kneading becomes difficult, and the particle size distribution becomes large, which is not preferable. When the addition amount exceeds 50% by mass, the kneaded composition becomes too soft, and it becomes difficult to apply shear to the kneaded composition, so that a sufficient refinement effect cannot be obtained.
iii) The water-soluble organic solvent may be added in the initial stage of salt milling, or may be added separately. A water-soluble organic solvent may be used independently and can also use 2 or more types together.

〔iv)有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーにより構成された顔料吸着性ブロックと有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーにより構成された顔料非吸着性ブロックとを有し、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法により製造されたブロック共重合体〕
本発明で使用されるブロック共重合体(特定共重合体)は、以下に詳述する顔料吸着性ブロックと、顔料非吸着性ブロックと、を有している。
顔料吸着性ブロックは、顔料に吸着し得る官能基(以下、吸着基、または顔料吸着基と称する場合がある)を有するモノマーにより構成されている。
このモノマーとしては、具体的には、有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーから選ばれるモノマーであり、酸性基を有するモノマー、塩基性窒素原子を有するモノマーなどを、さらに含んでいてもよい。本発明の特定共重合体は、有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーを必須に用いる。有機色素構造あるいは複素環構造は、顔料の構造と同じであっても異なっていてもよいが、好ましくは、顔料と顔料吸着基との相互作用の観点から、顔料構造と類似していること、また顔料誘導体への吸着の観点から酸塩基性相互作用する官能基を有する点で有利である。
[Iv) an organic dye structure or pigment adsorbing block constituted by a monomer having a heterocyclic structure, no any of the organic dye structure or a heterocyclic structure, (meth) acrylic acid ester le; crotonic acid ester le ; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylamide; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxystyrene, Is methoxystyrene, butoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, chloromethylstyrene, hydroxystyrene protected with groups deprotectable by acidic substances, methyl vinylbenzoate, and α-methylstyrene? One styrene compound selected; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and one maleimide de compound selected from phenylmaleimide; and (meth) 1 selected from the group consisting of acrylonitrile Block copolymer produced by anion living method or radical living method having a pigment non-adsorbing block composed of more than one kind of monomer)
The block copolymer (specific copolymer) used in the present invention has a pigment adsorbing block and a pigment non-adsorbing block described in detail below.
The pigment adsorbing block is composed of a monomer having a functional group that can be adsorbed to the pigment (hereinafter sometimes referred to as an adsorbing group or a pigment adsorbing group).
Specifically, the monomer is a monomer selected from monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure, and may further include a monomer having an acidic group, a monomer having a basic nitrogen atom, and the like. The specific copolymer of the present invention essentially uses a monomer having an organic dye structure or a heterocyclic structure. The organic dye structure or the heterocyclic structure may be the same as or different from the structure of the pigment, but is preferably similar to the pigment structure from the viewpoint of the interaction between the pigment and the pigment adsorbing group. from the viewpoint of adsorption to the pigment derivative, a chromatic advantage in having a acid-base interactions functional group.

有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーとしては、例えば、フタロシアニン系、不溶性アゾ系、アゾレーキ系、アントラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アントラピリジン系、アンサンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、チオインジゴ系の色素構造や、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノン等の複素環構造を有するモノマーを挙げることができる。また、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する、炭素数4以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基、水酸基を有するモノマーを用いることも可能
である。具体的には、以下の構造のモノマーを挙げることができる。
Examples of the monomer having an organic dye structure or a heterocyclic structure include, for example, phthalocyanine series, insoluble azo series, azo lake series, anthraquinone series, quinacridone series, dioxazine series, diketopyrrolopyrrole series, anthrapyridine series, anthanthrone series, Ron, flavanthrone, perinone, perylene, and thioindigo dye structures such as thiophene, furan, xanthene, pyrrole, pyrroline, pyrrolidine, dioxolane, pyrazole, pyrazoline, pyrazolidine, imidazole, oxazole, thiazole, oxadi Azole, triazole, thiadiazole, pyran, pyridine, piperidine, dioxane, morpholine, pyridazine, pyrimidine, piperazine, triazine, trithiane, isoindoline, isoindolino , Mention may be made of benzimidazolone, benzothiazole, succinimide, phthalimide, naphthalimide, hydantoin, indole, quinoline, carbazole, acridine, acridone, a monomer having a heterocyclic structure anthraquinone. Moreover, it is also possible to use a monomer having a urea group, a urethane group, a coordinating oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, or a hydroxyl group. Specific examples include monomers having the following structure.







本発明に用いられる特定共重合体の顔料吸着性ブロックが酸性基を有するモノマーに由来する共重合単位をさらに含むことで、顔料分散組成物を感光性組成物に適用した場合において、未露光部の現像除去性に優れる。
この酸性基は、顔料吸着性を有するとともに、且つアルカリ可溶性の機能を有する。
When the pigment-adsorbing block of the specific copolymer used in the present invention further includes a copolymer unit derived from a monomer having an acidic group, when the pigment dispersion composition is applied to the photosensitive composition, the unexposed area It has excellent development removability.
This acidic group has a pigment adsorptivity and an alkali-soluble function.

酸性基を有するモノマーの例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類;3価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類;こはく酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、こはく酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)、フタル酸モノ(2−アクリロイロキシエチル)、フタル酸モノ(2−メタクリロイロキシエチル)等の2価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイロキシアルキル〕エステル類;ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノメタクリレート等の両末端カルボキシポリマーのモノ(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。本発明のブロック共重合体は、酸基を有するモノマーに由来する共重合単位を、1種のみ含むものであってもよいし、2種以上を含んでもよい。
これらの中でも、カルボキシル基を有するビニルモノマーやスルホン酸基を有するビニルモノマーを用いることが好ましい。
Examples of monomers having an acidic group include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, cinnamic acid; maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, anhydrous Unsaturated dicarboxylic acids such as itaconic acid, citraconic acid, citraconic anhydride and mesaconic acid or their anhydrides; trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acids or their anhydrides; succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) ), Succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) monovalent polyvalent carboxylic acid mono [ (Meth) acryloyloxyalkyl] esters; ω-carboxy-polycaprolactone monoacrylate, ω-carboxy-polycap Mono (meth) acrylates such as both terminal carboxy polymer such as a lactone mono methacrylate. The block copolymer of the present invention may contain only one type of copolymer unit derived from a monomer having an acid group, or may contain two or more types.
Among these, it is preferable to use a vinyl monomer having a carboxyl group or a vinyl monomer having a sulfonic acid group.

カルボキシル基を有するビニルモノマーとして、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。また、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの水酸基を有するモノマーと無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物のような環状無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートなども利用できる。また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸などの無水物含有モノマーを用いてもよい。なおこれらの内では、共重合性やコスト、溶解性などの観点から(メタ)アクリル酸が特に好ましい。   Examples of the vinyl monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, and acrylic acid dimer. Further, an addition reaction product of a monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and a cyclic anhydride such as maleic anhydride, phthalic anhydride, or cyclohexanedicarboxylic anhydride, ω-carboxy-polycaprolactone mono ( A (meth) acrylate etc. can also be utilized. Moreover, you may use anhydride containing monomers, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride, as a precursor of a carboxyl group. Of these, (meth) acrylic acid is particularly preferred from the viewpoints of copolymerizability, cost, solubility, and the like.

また、スルホン酸基を有するビニルモノマーとして、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸などが挙げられ、リン酸基を有するビニルモノマーとして、リン酸モノ(2−アクリロイルオキシエチルエステル)、リン酸モノ(1−メチル−2−アクリロイルオキシエチルエステル)などが挙げられる。   Examples of the vinyl monomer having a sulfonic acid group include 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, and examples of the vinyl monomer having a phosphoric acid group include phosphoric acid mono (2-acryloyloxyethyl ester) and phosphoric acid mono (1-methyl-2-acryloyloxyethyl ester) and the like.

塩基性窒素原子を有するモノマーとしては、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾールなどが挙げられ、(メタ)アクリル酸エステルとして、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノプロピル、(メタ)アクリル酸1−(N,N−ジメチルアミノ)−1,1−ジメチルメチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノヘキシル、(メタ)アクリル酸N,N−ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジイソプロピルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジ−n−ブチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジ−i−ブチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸モルホリノエチル、(メタ)アクリル酸ピペリジノエチル、(メタ)アクリル酸1−ピロリジノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−メチル−2−ピロリジルアミノエチル及び(メタ)アクリル酸N,N−メチルフェニルアミノエチルなどが挙げられ、(メタ)アクリルアミド類として、N−(N’,N’−ジメチルアミノエチル)アクリルアミド、N−(N’,N’−ジメチルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(N’,N’−ジエチルアミノエチル)アクリルアミド、N−(N’,N’−ジエチルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(N’,N’−ジメチルアミノプロピル)アクリルアミド、N−(N’,N’−ジメチルアミノプロピル)メタクリルアミド、N−(N’,N’−ジエチルアミノプロピル)アクリルアミド、N−(N’,N’−ジエチルアミノプロピル)メタクリルアミド、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリルアミド、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル(メタ)アクリルアミド、3−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル(メタ)アクリルアミド、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル(メタ)アクリルアミド、1−(N,N−ジメチルアミノ)−1,1−ジメチルメチル(メタ)アクリルアミド及び6−(N,N−ジエチルアミノ)ヘキシル(メタ)アクリルアミド、モルホリノ(メタ)アクリルアミド、ピペリジノ(メタ)アクリルアミド、N−メチル−2−ピロリジル(メタ)アクリルアミドなどが挙げられ、スチレン類として、N,N−ジメチルアミノスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレン等、が挙げられる。   Examples of the monomer having a basic nitrogen atom include vinyl pyridine, vinyl imidazole, vinyl triazole, and the like as (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylic acid N, N-dimethylaminoethyl, (meth) acrylic acid N , N-dimethylaminopropyl, 1- (N, N-dimethylamino) -1,1-dimethylmethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminohexyl (meth) acrylate, N (meth) acrylic acid, N-diethylaminoethyl, N, N-diisopropylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-di-n-butylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-di-i-butylamino (meth) acrylate Ethyl, morpholinoethyl (meth) acrylate, piperidinoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid -Pyrrolidinoethyl, N, N-methyl-2-pyrrolidylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-methylphenylaminoethyl (meth) acrylate, and the like. (N ′, N′-dimethylaminoethyl) acrylamide, N- (N ′, N′-dimethylaminoethyl) methacrylamide, N- (N ′, N′-diethylaminoethyl) acrylamide, N- (N ′, N '-Diethylaminoethyl) methacrylamide, N- (N', N'-dimethylaminopropyl) acrylamide, N- (N ', N'-dimethylaminopropyl) methacrylamide, N- (N', N'-diethylaminopropyl) ) Acrylamide, N- (N ′, N′-diethylaminopropyl) methacrylamide, 2- (N, N-di) Tilamino) ethyl (meth) acrylamide, 2- (N, N-diethylamino) ethyl (meth) acrylamide, 3- (N, N-diethylamino) propyl (meth) acrylamide, 3- (N, N-dimethylamino) propyl ( (Meth) acrylamide, 1- (N, N-dimethylamino) -1,1-dimethylmethyl (meth) acrylamide and 6- (N, N-diethylamino) hexyl (meth) acrylamide, morpholino (meth) acrylamide, piperidino (meta) ) Acrylamide, N-methyl-2-pyrrolidyl (meth) acrylamide, etc., and styrenes include N, N-dimethylaminostyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene and the like.

更に、顔料吸着性ブロックを構成するモノマーとしては、イオン性官能基を含有するモノマーを利用することができる。イオン性ビニルモノマー(アニオン性ビニルモノマー、カチオン性ビニルモノマー)の例としては、アニオン性ビニルモノマーとして、前記酸性基を有するビニルモノマーのアルカリ金属塩や、有機アミン(例えば、トリエチルアミン、ジメチルアミノエタノール等の3級アミン)との塩などが挙げられ、カチオン性ビニルモノマーとしては、前記含窒素ビニルモノマーを、ハロゲン化アルキル(アルキル基:C1〜18、ハロゲン原子:塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子);塩化ベンジル、臭化ベンジル等のハロゲン化ベンジル;メタンスルホン酸等のアルキルスルホン酸エステル(アルキル基:C1〜18);ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸等のアリールスルホン酸アルキルエステル(アルキル基:C1〜18);硫酸ジアルキル(アルキル基:C1〜4)等で4級化させたもの、ジアルキルジアリルアンモニウム塩などが挙げられる。   Furthermore, as the monomer constituting the pigment adsorbing block, a monomer containing an ionic functional group can be used. Examples of ionic vinyl monomers (anionic vinyl monomers, cationic vinyl monomers) include, as anionic vinyl monomers, alkali metal salts of vinyl monomers having the acidic group, organic amines (for example, triethylamine, dimethylaminoethanol, etc.) As a cationic vinyl monomer, the nitrogen-containing vinyl monomer is an alkyl halide (alkyl group: C1-18, halogen atom: chlorine atom, bromine atom or iodine atom). Benzyl halides such as benzyl chloride and benzyl bromide; alkylsulfonic acid esters such as methanesulfonic acid (alkyl group: C1-18); arylsulfonic acid alkyl esters such as benzenesulfonic acid and toluenesulfonic acid (alkyl group: C1); -18); Dia sulfate Kill (alkyl group: C1 -4) that is quaternized with such, like dialkyl diallyl ammonium salts.

上記顔料に吸着し得る官能基を有するモノマーは、分散する顔料の種類に応じて、適宜選択することができ、これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   The monomer having a functional group that can be adsorbed to the pigment can be appropriately selected according to the type of pigment to be dispersed, and these may be used alone or in combination of two or more.

一方、顔料非吸着性ブロックは、有機色素構造及び複素環構造から選ばれる顔料吸着性基のいずれをも有さないモノマーであって以下に例示するモノマーを構成成分としている。
この顔料非吸着性ブロックを構成するモノマーは、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれるモノマーを挙げることができる。これらのモノマーは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
On the other hand, the non-pigmentable block is a monomer that does not have any pigment-adsorptive group selected from an organic dye structure and a heterocyclic structure, and includes monomers exemplified below as constituent components.
Monomers constituting the pigment non-adsorbing block (meth) acrylic acid ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylamide Styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, chloromethyl styrene protected hydroxy styrene protecting groups, one styrene compound selected from vinyl benzoate, and α- methyl styrene; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, Buchirumare Bromide, cyclohexyl maleimide, and one maleimide de compound selected from phenylmaleimide; can be given as well (meth) monomers selected from the group consisting of acrylonitrile. These monomers may be used independently and may use 2 or more types together.

(メタ)アクリル酸エステル類の例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸アミル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸t−オクチル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸アセトキシエチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸2−エトキシエチル、(メタ)アクリル酸2−(2−メトキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸2−クロロエチル、(メタ)アクリル酸ビニル、(メタ)アクリル酸2−フェニルビニル、(メタ)アクリル酸1−プロペニル、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸2−アリロキシエチル、(メタ)アクリル酸プロパルギル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、(メタ)アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸トリフロロエチル、(メタ)アクリル酸オクタフロロペンチル、(メタ)アクリル酸パーフロロオクチルエチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸トリブロモフェニル、(メタ)アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。   Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and n-butyl (meth) acrylate. , Isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, (Meth) acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth) acrylic acid t-octyl, (meth) acrylic acid dodecyl, (meth) acrylic acid octadecyl, (meth) acrylic acid acetoxyethyl, (meth) acrylic acid phenyl, (meth) 4-hydroxybutyl acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, (meth) a 2-ethoxyethyl laurate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 2-chloroethyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, 2-phenylvinyl (meth) acrylate, (meta ) 1-propenyl acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-allyloxyethyl (meth) acrylate, propargyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, (meth ) Diethylene glycol monoethyl ether acrylate, (meth) acrylic acid triethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene Glycol monoethyl ether, β-phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, (meth) acryl Trifluoroethyl acid, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctyl ethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, tribromo (meth) acrylate Examples thereof include phenyloxyethyl and (meth) acrylic acid γ-butyrolactone.

クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、およびクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、および安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、およびマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、およびフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、およびイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
Examples of crotonic acid esters include butyl crotonate and hexyl crotonate.
Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, and the like.
Examples of maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate.
Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, and dibutyl fumarate.
Examples of itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.

(メタ)アクリルアミド類としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチルアクリル(メタ)アミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−(2−メトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド、N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、ビニル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジアリル(メタ)アクリルアミド、N−アリル(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。   (Meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, and Nn-butyl. Acrylic (meth) amide, Nt-butyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N -Diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-nitrophenyl acrylamide, N-ethyl-N-phenyl acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide, N- Methylo Acrylamide, N- hydroxyethyl acrylamide, vinyl (meth) acrylamide, N, N- diallyl (meth) acrylamide, such as N- allyl (meth) acrylamide.

スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基(例えばt−Bocなど)で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、およびα−メチルスチレンなどが挙げられる。   Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, chloromethyl Examples thereof include styrene, hydroxystyrene protected with a group that can be deprotected by an acidic substance (for example, t-Boc and the like), methyl vinylbenzoate, and α-methylstyrene.

ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルおよびフェニルビニルエーテルなどが挙げられる。   Examples of vinyl ethers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.

ビニルケトン類の例としては、メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが挙げられる。
オレフィン類の例としては、エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどが挙げられる。
マレイミド類の例としては、マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミドなどが挙げられる。
(メタ)アクリロニトリルの例としては、メタクリロニトリル、アクリロニトリルなどが挙げられる。
Examples of vinyl ketones include methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
Examples of olefins include ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene and the like.
Examples of maleimides include maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and phenyl maleimide.
Examples of (meth) acrylonitrile include methacrylonitrile and acrylonitrile.

本発明の特定共重合体は、上記顔料に吸着し得る官能基のうち有機色素構造及び複素環構造から選ばれる顔料吸着を必須に含むものであれば、顔料に吸着し得る官能基の何れか1種のみ含むものであってもよいし、2種以上を含んでもよい。このブロック共重合体における吸着基の含有量は、特に制限はないが、ブロック共重合体に含有される全構造単位を100質量%とした場合に、5質量%以上含有することが好ましく、10質量%以上50質量%以下含有することがより好ましい。
即ち、顔料の1次粒子の凝集体である2次凝集体の生成を効果的に抑制、あるいは、2次凝集体の凝集力を効果的に弱めるためには、吸着基の含有量は5質量%以上であることが好ましい。また、顔料分散組成物を含有する着色感光性組成物によりカラーフィルタを製造する際の現像性の観点からは、顔料吸着基の含有量は50質量%以下であることが好ましい。
The specific copolymer of the present invention has a functional group capable of adsorbing to the pigment as long as it contains a pigment adsorbing group selected from an organic dye structure and a heterocyclic structure among the functional groups capable of adsorbing to the pigment . Any one may be included, and two or more may be included. The content of the adsorptive group in the block copolymer is not particularly limited, is 100 wt% based on the total structural units contained in the block copolymer preferably contains more than 5 wt%, It is more preferable to contain 10 mass% or more and 50 mass% or less.
That is, effectively suppress the formation of secondary aggregate is an aggregate of primary particles of the pigment, or, in order to weaken the cohesive force of secondary aggregate effectively, the content of the adsorptive group 5 It is preferable that it is mass% or more. Further, from the viewpoint of developability in producing a color filter by coloring a photosensitive composition containing a pigment dispersion composition, the content of the pigment adsorbing group is preferably at most 50 mass%.

本発明の特定共重合体において、酸基を有するモノマーに由来する共重合単位の含有量は、好ましくは50mgKOH/g以上200mgKOH/g以下であり、特に好ましくは80mgKOH/g以上200mgKOH/g以下である。より好ましい範囲は100mgKOH/g以上180mgKOH/g以下である。即ち、現像液中での析出物の生成抑制という点では、酸基を有するモノマーに由来する共重合単位の含有量は50mgKOH/g以上であることが好ましい。酸価が200mgKOH/gより大きいと酸基間の凝集が強くなり、加工顔料間の凝集が生じ、分散性が劣化し、となって好ましくない。顔料の1次粒子の凝集体である2次凝集体の生成を効果的に抑制、あるいは、2次凝集体の凝集力を効果的に弱めるためには、酸基を有するモノマーに由来する共重合単位の含有量は上記範囲が好ましい。   In the specific copolymer of the present invention, the content of the copolymer unit derived from the monomer having an acid group is preferably 50 mgKOH / g or more and 200 mgKOH / g or less, particularly preferably 80 mgKOH / g or more and 200 mgKOH / g or less. is there. A more preferable range is 100 mgKOH / g or more and 180 mgKOH / g or less. That is, in terms of suppressing the formation of precipitates in the developer, the content of copolymer units derived from monomers having acid groups is preferably 50 mgKOH / g or more. When the acid value is larger than 200 mgKOH / g, aggregation between acid groups becomes strong, aggregation between processed pigments occurs, and dispersibility deteriorates, which is not preferable. In order to effectively suppress the formation of secondary aggregates, which are aggregates of primary particles of pigment, or to effectively weaken the cohesive force of secondary aggregates, copolymerization derived from monomers having acid groups The unit content is preferably within the above range.

本発明におけるブロック共重合体は、その効果を損なわない範囲において、更に、共重合可能なビニルモノマーに由来する共重合単位を含んでいてもよい。
ここで使用可能なビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、(メタ)アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、(メタ)アクリロニトリルなどが好ましい。このようなビニルモノマーの具体例としては、ブロック共重合体のモノマーは顔料非吸着性ブロックのモノマーと同様の化合物が挙げられる。なお、本明細書において「アクリル、メタクリル」のいずれか或いは双方を示す場合「(メタ)アクリル」と記載することがある。
The block copolymer in the present invention may further contain copolymer units derived from a copolymerizable vinyl monomer as long as the effect is not impaired.
Although it does not restrict | limit especially as a vinyl monomer which can be used here, For example, (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, vinyl esters, maleic acid diesters, fumaric acid diesters, itaconic acid diesters, ( Preference is given to meth) acrylamides, vinyl ethers, esters of vinyl alcohol, styrenes, (meth) acrylonitrile and the like. As a specific example of such a vinyl monomer, the block copolymer monomer may be the same compound as the pigment non-adsorbing block monomer. In addition, in this specification, when showing either or both of "acryl and methacryl", it may describe as "(meth) acryl".

(メタ)アクリル酸エステル類の例としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸t−オクチル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸アセトキシエチル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−メトキシエチル、(メタ)アクリル酸2−エトキシエチル、(メタ)アクリル酸2−(2−メトキシエトキシ)エチル、(メタ)アクリル酸3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸トリエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸トリエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、(メタ)アクリル酸ポリエチレングリコールモノエチルエーテル、(メタ)アクリル酸β−フェノキシエトキシエチル、(メタ)アクリル酸ノニルフェノキシポリエチレングリコール、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸トリフロロエチル、(メタ)アクリル酸オクタフロロペンチル、(メタ)アクリル酸パーフロロオクチルエチル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸トリブロモフェニル、(メタ)アクリル酸トリブロモフェニルオキシエチルなどが挙げられる。   Examples of (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and n-butyl (meth) acrylate. , Isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2- Ethylhexyl, t-octyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, acetoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-Methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Diethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid triethylene glycol monoethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylic acid polyethylene glycol monoethyl ether, ( Β-phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclo (meth) acrylate Pentenyloxyethyl, trifluoroethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate And (meth) acrylic acid tribromophenyloxyethyl.

クロトン酸エステル類の例としては、クロトン酸ブチル、及びクロトン酸ヘキシル等が挙げられる。
ビニルエステル類の例としては、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、及び安息香酸ビニルなどが挙げられる。
マレイン酸ジエステル類の例としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、及びマレイン酸ジブチルなどが挙げられる。
フマル酸ジエステル類の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、及びフマル酸ジブチルなどが挙げられる。
イタコン酸ジエステル類の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、及びイタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
Examples of crotonic acid esters include butyl crotonate and hexyl crotonate.
Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, and the like.
Examples of maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate.
Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, and dibutyl fumarate.
Examples of itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.

(メタ)アクリルアミド類としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−ブチルアクリル(メタ)アミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−(2−メトキシエチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。   (Meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, and Nn-butyl. Acrylic (meth) amide, Nt-butyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N -Diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide, etc. are mentioned.

ビニルエーテル類の例としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、及びメトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。
スチレン類の例としては、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基(例えばt−Bocなど)で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンなどが挙げられる。
Examples of vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and methoxyethyl vinyl ether.
Examples of styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, chloromethyl Examples thereof include styrene, hydroxystyrene protected with a group that can be deprotected by an acidic substance (for example, t-Boc and the like), methyl vinylbenzoate, and α-methylstyrene.

本発明に係る特定共重合体における上記顔料吸着性ブロックとは、少なくとも顔料吸着基(顔料構造と類似している有機色素構造或いは複素環構造)を有する構成単位を1個以上重合することで構成されている。また、上記顔料非吸着性ブロックとは、少なくとも酸性基を有する構成単位を1個以上重合することで構成されている。なお、該酸性基は、現像処理する際の溶解性付与のため導入されている。
また、本発明に係る「ブロック」とは、高分子の一部で、複数の上記構成単位からなり、各ブロックが隣接するブロックには存在しない特徴を少なくとも1種有するものをいう。
The pigment adsorbing block in the specific copolymer according to the present invention is constituted by polymerizing one or more structural units having at least a pigment adsorbing group (an organic dye structure or a heterocyclic structure similar to the pigment structure). Has been. The pigment non-adsorbing block is constituted by polymerizing at least one structural unit having an acidic group. The acidic group has been introduced to impart solubility during development processing.
In addition, the “block” according to the present invention is a part of a polymer, which is composed of a plurality of the above structural units, and each block has at least one kind of characteristic that does not exist in an adjacent block.

本発明に係る特定共重合体の好ましい分子量は、重量平均分子量(Mw)で1,000〜100,000の範囲、数平均分子量(Mn)で400〜50,000の範囲であることが好ましい。重量平均分子量(Mw)で5,000〜50,000の範囲、数平均分子量(Mn)で2,000〜30,000の範囲であることがより好ましい。特に、重量平均分子量(Mw)で8,000〜30,000の範囲、数平均分子量(Mn)で4,000〜12,000の範囲であることが最も好ましい。   The preferred molecular weight of the specific copolymer according to the present invention is preferably in the range of 1,000 to 100,000 in terms of weight average molecular weight (Mw) and in the range of 400 to 50,000 in terms of number average molecular weight (Mn). More preferably, the weight average molecular weight (Mw) is in the range of 5,000 to 50,000, and the number average molecular weight (Mn) is in the range of 2,000 to 30,000. In particular, the weight average molecular weight (Mw) is most preferably in the range of 8,000 to 30,000, and the number average molecular weight (Mn) is in the range of 4,000 to 12,000.

即ち、顔料の1次粒子の凝集体である2次凝集体の生成を効果的に抑制、あるいは、2次凝集体の凝集力を効果的に弱めるための観点からは、本発明のブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)は1,000以上であることが好ましい。また、顔料分散組成物を含有する着色感光性組成物によりカラーフィルタを製造する際の現像性の観点からは、本発明のブロック共重合体の重量平均分子量(Mw)は100,000以下であることが好ましい。
本発明の顔料分散組成物中、本発明に係るiv)特定共重合体の含有量としては質量比で、i)顔料:iv)特定共重合体=1:0.01〜1:2が好ましく、より好ましくは、1:0.05〜1:1であり、さらに好ましくは、1:0.1〜1:0.6である。
That is, from the viewpoint of effectively suppressing the formation of secondary aggregates, which are aggregates of primary particles of pigment, or effectively reducing the cohesive force of secondary aggregates, The combined weight average molecular weight (Mw) is preferably 1,000 or more. From the viewpoint of developability when producing a color filter from a colored photosensitive composition containing a pigment dispersion composition, the block copolymer of the present invention has a weight average molecular weight (Mw) of 100,000 or less. It is preferable.
In the pigment dispersion composition of the present invention, the content of iv) specific copolymer according to the present invention is preferably a mass ratio, i) pigment: iv) specific copolymer = 1: 0.01 to 1: 2. More preferably, it is 1: 0.05 to 1: 1, and still more preferably 1: 0.1 to 1: 0.6.

本発明の特定共重合体は、従来公知の下記重合方法に従って合成することができる。例えば、特開2005−255832に記されている方法により合成できる。ブロック共重合体の重合方法としては、リビング重合、イニファータ法等が知られており、更に他の方法として、顔料吸着基を有するモノマー又は顔料吸着基を有しないモノマーをラジカル重合する際に、チオールカルボン酸又は2−アセチルチオエチルエーテル、10−アセチルチオデカンチオール等の分子内にチオエステルとチオール基とを含有する化合物を共存させて重合して得られた重合体を水酸化ナトリウムやアンモニア等のアルカリで処理して、片末端にチオール基を有する重合体とし、得られた片末端にチオール基を有する重合体の存在下でもう一方のブロックのモノマーをラジカル重合する方法も知られている。この他、例えば、W. J. Burlant, A. S. Hoffman ” Block and Graft polymers” (1960年、Renhald);R. J. Ceresa, ” Block and Graft Polymers” (1962年、Butterworths);D. C. Allport, W. H. James ” Black Copolymers” (1972年、Applied Sci);A. Noshay, J. F. McGvath ” Block Copolymers” (1977年、Academic press.);G. Huvtrez. D. J. Wilson, G. Riess,
“ NATO ASI Sev.Sev E.” 1985、149;V. Percea, ” Applied. Polymer Sci.” 285、95(1985)等の成書、総説に記載されている。
The specific copolymer of the present invention can be synthesized according to a conventionally known polymerization method described below. For example, it can be synthesized by the method described in JP-A-2005-255832. As a polymerization method of the block copolymer, living polymerization, iniferter method, etc. are known, and as another method, thiol is used for radical polymerization of a monomer having a pigment adsorption group or a monomer having no pigment adsorption group. A polymer obtained by polymerizing a compound containing a thioester and a thiol group in a molecule such as carboxylic acid or 2-acetylthioethyl ether or 10-acetylthiodecanethiol is used as a polymer such as sodium hydroxide or ammonia. There is also known a method in which a polymer having a thiol group at one end is treated with an alkali, and the monomer of the other block is radically polymerized in the presence of the resulting polymer having a thiol group at one end. In addition, for example, W.W. J. et al. Burrant, A.M. S. Hoffman "Block and Graft polymers" (1960, Renhard); J. et al. Ceresa, “Block and Graft Polymers” (1962, Butterworths); C. Allport, W.M. H. James "Black Copolymers" (1972, Applied Sci); Noshay, J .; F. McGvath "Block Copolymers" (1977, Academic press); Huvtrez. D. J. et al. Wilson, G.G. Riess,
“NATO ASI Sev. Sev E.” 1985, 149; Percea, “Applied. Polymer Sci.” 285, 95 (1985), and the like.

例えば有機金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプロピルアミド、アルカリ金属アルコラート類、アルキルマグネシウムハライド類、アルキルアルミニウムハライド類等)を重合開始剤とするイオン重合反応については、T. E. Hogeu−Esch, J. Smid, ” Recent Advances in Anionic Polymerization” (1987年、Elsevier New York);岡本佳男、高分子、38、912(1989);澤本光男、「高分子」38、1018(1989);成田正、「高分子」37、252(1988);B. C.Anderson, et al, ” Macromolecules” 14、1601(1981);S. Aoshima, T. Higashimura,
“Macromolecules” 22、1009(1989)等に具体的に記載されている。また、ヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合反応については、T. Higashimura et al, ” Makromol. Chem., Macromol. Symp.” , 13/14、457(1988);東村敏延、沢本光男、「高分子論文集」46、189(1989)等に記載されている。また、グループ移動重合反応については、D. Y. Sogah et al, ” Macromolecules” 20、1473(1987);O. W. Webster, D. Y. Sogah, 「高分子」36、808(1987)等に記載されている更には、ジチオカーバメート化合物あるいはザンテート化合物等を開始剤として用いる光リビング重合反応について、大津隆行、「高分子」37、248(1988);檜森俊一、大津隆一、” Polym. Rep. Jap. ” 37、3508(1988);特開昭64−111号;特開昭64−26619号;M. Niwa, ” Macromolecules
“ ,189、2187(1988)等に記載されている。他方、アゾ基あるいは過酸化基を含有した高分子を開始剤とする。ラジカル重合反応によっても、ブロック共重合体を合成する方法が、上田明等、「高分子論文集」33、931(1976);上田明、「大阪市立工業研究所報告」84、(1989);O. Nuyken et al,
“ Macromol. Chem., Rapid. Commun. ” 9、671(1988)等に記載されている。アクリル系ブロック共重合体を合成するに際しては、特開昭60−89452号公報や、特開平9−62002号公報、P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B. C. Anderson, G. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), 右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366( 1987),東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46、189(1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), 相田卓三、井上祥平、有機合成化学、43,300(1985),D. Y. Sogoh, W. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987) 、, K. Matyaszewski et al, Chem. Rev.2001,101,2921−2990などに記載の公知の方法を採用することができる。
上記方法のうち、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法が本発明の特定共重合体の製造に用いられる。
For example, the ion polymerization reaction using an organometallic compound (for example, alkyllithiums, lithium diisopropylamide, alkali metal alcoholates, alkylmagnesium halides, alkylaluminum halides, etc.) as a polymerization initiator is described in T.W. E. Hogueu-Esch, J.A. Smid, “Recent Advances in Anionic Polymerization” (1987, Elsevier New York); Yoshio Okamoto, Polymer, 38, 912 (1989); Mitsuo Sawamoto, “Polymer” 38, 1018 (1989); Tadashi Narita, “High Molecules "37, 252 (1988); C. Anderson, et al, “Macromolecules” 14, 1601 (1981); Aoshima, T .; Higashimura,
“Macromolecules” 22, 1009 (1989) and the like. Regarding the ion polymerization reaction by hydrogen iodide / iodine system or the like, see T.W. Higashimura et al, “Makromol. Chem., Macromol. Symp.”, 13/14, 457 (1988); Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, “Polymer Papers” 46, 189 (1989), etc. . For group transfer polymerization reaction, see D.C. Y. Sogah et al, “Macromolecules” 20, 1473 (1987); W. Webster, D.D. Y. Sogah, “Polymer” 36, 808 (1987) and the like . Furthermore, regarding the photo-living polymerization reaction using a dithiocarbamate compound or a xanthate compound as an initiator, Takayuki Otsu, “Polymer” 37, 248 (1988); Shunichi Sasamori, Ryuichi Otsu, “Polym. Rep. Jap.” 37 3508 (1988); JP-A 64-111; JP-A 64-26619; Niwa, “Macromolecules
, 189, 2187 (1988), etc. On the other hand, a polymer containing an azo group or a peroxide group is used as an initiator. A method of synthesizing a block copolymer also by a radical polymerization reaction is described below. Ueda Akira et al., “Polymer Papers” 33, 931 (1976); Ueda Akira, “Osaka City Industrial Research Institute Report” 84, (1989); Nuyken et al,
“Macromol. Chem., Rapid. Commun.” 9, 671 (1988) and the like. In synthesizing an acrylic block copolymer, JP-A-60-89452, JP-A-9-62002, P.I. Lutz, P.M. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B.R. C. Anderson, G.M. D. Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. et al. Hatada, K .; Ute, et al, Polym. J. et al. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), Koichi right hand, Koichi Hatada, polymer processing, 36, 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Polymer Journal, 46, 189 (1989), M.M. Kuroki, T .; Aida, J .; Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, 43, 300 (1985), D.C. Y. Sogoh, W.H. R. Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987), K. et al. Matyaszewski et al, Chem. Rev. Known methods described in 2001, 101, 2921-2990, and the like can be employed.
Among the above methods, the anion living method or the radical living method is used for producing the specific copolymer of the present invention .

のような特定重合体を合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合してもよい。また、該ラジカル重合の際、ラジカル重合開始剤を使用することができ、また、さらに連鎖移動剤(例、2−メルカプトエタノールおよびドデシルメルカプタン)を使用することができる。 Examples of the solvent used in the synthesis of the specific polymer such as this, for example, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, propanol, butanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2- Methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, etc. Can be mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more. In the radical polymerization, a radical polymerization initiator can be used, and a chain transfer agent (eg, 2-mercaptoethanol and dodecyl mercaptan) can be further used.

本発明の加工顔料は、有機顔料などの顔料粒子が、顔料の微細化工程であるソルトミリングを行うことにより特定共重合体で被覆されていることを特徴とし、該高分子化合物が顔料粒子表面の一部或いは全部に強固に被覆されることで本発明の効果を奏するものであり、一般的な高分子分散剤が顔料に吸着してなるものとは異なるものである。この被覆状態は以下に示す有機溶剤による洗浄で特定共重合体の遊離量(遊離率)を測定することにより確認できる。即ち、単に特定共重合体が顔料に吸着している場合は、有機溶剤による洗浄により特定共重合体の殆ど、具体的には、65%以上が遊離、除去されるが、本発明の如く特定共重合体で表面被覆された加工顔料の場合には、特定共重合体の遊離率は極めて少なく、例えば、30%以下である。
本発明の加工顔料は、1−メトキシ−2−プロパノールで洗浄して、遊離量を算出する。その方法は、加工顔料10gを1−メトキシ−2−プロパノール100ml中に投入し、振とう機で、室温で3時間、振とうさせる。次に、遠心分離機により80,000rpmで8時間かけて顔料を沈降させ、上澄み液部分の固形分を乾燥法から求める。そして、顔料から遊離した特定共重合体の質量を求め、初期の処理に使用した特定共重合体の質量との比から、遊離率(%)を算出する。
The processed pigment of the present invention is characterized in that a pigment particle such as an organic pigment is coated with a specific copolymer by performing salt milling, which is a process of refining the pigment, and the polymer compound is coated on the surface of the pigment particle. The effect of the present invention is obtained by being firmly coated on a part or all of the above, and is different from that obtained by adsorbing a general polymer dispersant to a pigment. This covering state can be confirmed by measuring the free amount (free rate) of the specific copolymer by washing with an organic solvent shown below. That is, when the specific copolymer is simply adsorbed to the pigment, most of the specific copolymer, specifically, 65% or more is liberated and removed by washing with an organic solvent. In the case of a processed pigment whose surface is coated with a copolymer, the liberation rate of the specific copolymer is extremely small, for example, 30% or less.
The processed pigment of the present invention is washed with 1-methoxy-2-propanol and the free amount is calculated. In this method, 10 g of the processed pigment is put into 100 ml of 1-methoxy-2-propanol and shaken at room temperature for 3 hours with a shaker. Next, the pigment is allowed to settle for 8 hours at 80,000 rpm with a centrifuge, and the solid content of the supernatant is determined from the drying method. Then, the mass of the specific copolymer released from the pigment is obtained, and the liberation rate (%) is calculated from the ratio with the mass of the specific copolymer used in the initial treatment.

市販等の加工顔料の遊離率は、以下の方法で測定できる。即ち、顔料を溶解する溶剤(例えばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、蟻酸、硫酸など)で、加工顔料全体を溶解した後に、高分子化合物と顔料とに、溶解性の差を利用して有機溶剤で分離して、「初期の処理に使用した高分子化合物の質量」として算出する。別途、加工顔料を1−メトキシ−2−プロパノールで洗浄して、得られた上記の遊離量を、この「初期の処理に使用した高分子化合物の質量」で除して遊離率(%)を求める。
遊離率は小さいほど顔料への被覆率が高く、分散性、分散安定性が良好である。遊離率の好ましい範囲は30%以下、より好ましくは20%以下、最も好ましくは15%以下である。理想的には0%である。
The liberation rate of commercially available processed pigments can be measured by the following method. That is, after dissolving the entire processed pigment with a solvent that dissolves the pigment (for example, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, formic acid, sulfuric acid, etc.), the polymer compound and the pigment are separated by an organic solvent using the difference in solubility. Then, it is calculated as “mass of the polymer compound used in the initial treatment”. Separately, the processed pigment was washed with 1-methoxy-2-propanol, and the obtained release amount was divided by this “mass of the polymer compound used in the initial treatment” to obtain the release rate (%). Ask.
The smaller the liberation rate, the higher the coverage of the pigment, and the better the dispersibility and dispersion stability. A preferable range of the liberation rate is 30% or less, more preferably 20% or less, and most preferably 15% or less. Ideally 0%.

また必要に応じて、上述の特定共重合体の他に、他の化合物を同時に使用してもよい。好ましくは室温において固体であり、水不溶性で、かつソルトミリング時の湿潤剤に用いる水溶性有機溶剤に少なくとも一部可溶である必要があり,天然樹脂,変性天然樹脂,合成樹脂,天然樹脂で変性された合成樹脂等が用いられる。
乾燥した処理顔料を用いる場合には,用いる化合物は室温で固体であることが好ましい。天然樹脂としてはロジンが代表的であり,変性天然樹脂としては,ロジン誘導体,繊維素誘導体,ゴム誘導体,タンパク誘導体およびそれらのオリゴマーが挙げられる。合成樹脂としては,エポキシ樹脂,アクリル樹脂,マレイン酸樹脂,ブチラール樹脂,ポリエステル樹脂,メラミン樹脂,フェノール樹脂,ポリウレタン樹脂等が挙げられる。天然樹脂で変性された合成樹脂としては,ロジン変性マレイン酸樹脂,ロジン変性フェノール樹脂等が挙げられる。
Moreover, you may use another compound simultaneously as needed other than the above-mentioned specific copolymer. Preferably, it should be solid at room temperature, insoluble in water, and at least partially soluble in a water-soluble organic solvent used as a wetting agent during salt milling. A modified synthetic resin or the like is used.
When using a dried treated pigment, the compound used is preferably solid at room temperature. The natural resin is typically rosin, and the modified natural resin includes rosin derivatives, fiber derivatives, rubber derivatives, protein derivatives and oligomers thereof. Examples of the synthetic resin include epoxy resin, acrylic resin, maleic acid resin, butyral resin, polyester resin, melamine resin, phenol resin, polyurethane resin, and the like. Examples of the synthetic resin modified with a natural resin include rosin-modified maleic resin and rosin-modified phenol resin.

合成樹脂としては、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物が挙げられる。   Synthetic resins include polyamidoamine and its salt, polycarboxylic acid and its salt, high molecular weight unsaturated acid ester, polyurethane, polyester, poly (meth) acrylate, (meth) acrylic copolymer, naphthalenesulfonic acid formalin condensate Is mentioned.

このようにして得られた本発明の加工顔料は、顔料表面が前記特定共重合体により強固に被覆され、有機溶剤に浸漬した場合でも遊離しないことから、分散性及び分散安定性に優れた加工顔料となり、その応用範囲は広く、特に、顔料分散組成物の調製に有用である。また、本発明の加工顔料は、分散性に優れ、また、本発明の加工顔料を用いた顔料分散組成物および着色感光性組成物は流動性、着色力等に優れる。これらは、塗料、印刷インキ、カラー表示板等の広い範囲で好適に使用し得る。   The processed pigment of the present invention thus obtained has a highly dispersible and stable dispersion because the pigment surface is firmly coated with the specific copolymer and does not release even when immersed in an organic solvent. It becomes a pigment and its application range is wide, and it is particularly useful for the preparation of a pigment dispersion composition. The processed pigment of the present invention is excellent in dispersibility, and the pigment dispersion composition and the colored photosensitive composition using the processed pigment of the present invention are excellent in fluidity, coloring power and the like. These can be suitably used in a wide range of paints, printing inks, color display boards and the like.

<顔料分散組成物>
次に、前記本発明の加工顔料を用いた本発明の顔料分散組成物について説明する。
本発明の顔料分散組成物は、上記本発明の加工顔料を有機溶剤中に分散してなる。
また、本発明の加工顔料を有機溶剤中に分散する際、(A)顔料誘導体、(B)分散剤を適宜必要に応じて使用することも好ましい態様である。
<Pigment dispersion composition>
Next, the pigment dispersion composition of the present invention using the processed pigment of the present invention will be described.
The pigment dispersion composition of the present invention is obtained by dispersing the processed pigment of the present invention in an organic solvent.
Moreover, when dispersing the processed pigment of this invention in the organic solvent, it is also a preferable aspect to use (A) a pigment derivative and (B) a dispersing agent suitably as needed.

〔有機溶剤〕
本発明の顔料分散組成物における溶剤としては、有機溶剤であれば特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルおよびこれらの酢酸エステル類;酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル等の酢酸エステル類;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類、などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、アルキレングリコールモノアルキルエーテル類、およびその酢酸エステル類、酢酸エステル類、メチルエチルケトン、などが好ましい。
〔Organic solvent〕
The solvent in the pigment dispersion composition of the present invention is not particularly limited as long as it is an organic solvent, and can be appropriately selected from known solvents such as 1-methoxy-2-propyl acetate and 1-methoxy-2. -(Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and their acetates Acetates such as ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate and i-butyl acetate; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methyl Ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, diethylene glycol, alcohols such as glycerin, and the like. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together. Among these, alkylene glycol monoalkyl ethers and their acetates, acetates, methyl ethyl ketone, and the like are preferable.

顔料分散組成物における溶剤の含有量は、顔料分散組成物の用途などに応じて適宜選択される。顔料分散組成物が後述する着色感光性組成物の調製に用いられる場合には、取り扱い性の観点から、顔料及び顔料分散剤を含む固形分濃度が5〜50質量%となるように含有することができる。   The content of the solvent in the pigment dispersion composition is appropriately selected according to the use of the pigment dispersion composition. When the pigment dispersion composition is used for the preparation of a colored photosensitive composition to be described later, from the viewpoint of handleability, it should be contained so that the solid content concentration including the pigment and the pigment dispersant is 5 to 50% by mass. Can do.

〔(A)顔料誘導体〕
本発明の顔料分散組成物は、必要に応じて、顔料誘導体が添加される。分散剤と親和性のある部分、あるいは極性基を導入した顔料誘導体を顔料表面に吸着させ、これを分散剤の吸着点として用いることで、顔料を微細な粒子として着色感光性組成物中に分散させ、その再凝集を防止することができ、コントラストが高く、透明性に優れたカラーフィルタを構成するのに有効である。
[(A) Pigment derivative]
A pigment derivative is added to the pigment dispersion composition of the present invention as necessary. The pigment is dispersed in the colored photosensitive composition as fine particles by adsorbing the pigment derivative with a part having affinity with the dispersant or a polar group introduced onto the pigment surface and using this as the adsorption point of the dispersant. Therefore, the reaggregation can be prevented, and it is effective in constructing a color filter having high contrast and excellent transparency.

顔料誘導体は、具体的には有機顔料を母体骨格とし、側鎖に酸性基や塩基性基、芳香族基を置換基として導入した化合物である。有機顔料は、具体的には、キナクリドン系顔料、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、キノフタロン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノリン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ベンゾイミダゾロン顔料等が挙げられる。一般に、色素と呼ばれていないナフタレン系、アントラキノン系、トリアジン系、キノリン系等の淡黄色の芳香族多環化合物も含まれる。色素誘導体としては、特開平11−49974号公報、特開平11−189732号公報、特開平10−245501号公報、特開2006−265528号公報、特開平8−295810号公報、特開平11−199796号公報、特開2005−234478号公報、特開2003−240938号公報、特開2001−356210号公報等に記載されているものを使用できる。   Specifically, the pigment derivative is a compound in which an organic pigment is used as a base skeleton, and an acidic group, a basic group, or an aromatic group is introduced into a side chain as a substituent. Specific examples of organic pigments include quinacridone pigments, phthalocyanine pigments, azo pigments, quinophthalone pigments, isoindoline pigments, isoindolinone pigments, quinoline pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, and benzoimidazolone pigments. Is mentioned. In general, light yellow aromatic polycyclic compounds such as naphthalene series, anthraquinone series, triazine series and quinoline series which are not called pigments are also included. Examples of the dye derivative include JP-A-11-49974, JP-A-11-189732, JP-A-10-245501, JP-A-2006-265528, JP-A-8-295810, and JP-A-11-199796. JP, 2005-234478, JP 2003-240938, JP 2001-356210, etc. can be used.

本発明に係る顔料誘導体の顔料分散組成物中における含有量としては、顔料の質量に対して、1〜30質量%が好ましく、3〜20質量%がより好ましい。該含有量が前記範囲内であると、粘度を低く抑えながら、分散を良好に行なえると共に分散後の分散安定性を向上させることができ、透過率が高く優れた色特性が得られ、カラーフィルタを作製するときには良好な色特性を有する高コントラストに構成することができる。   As content in the pigment dispersion composition of the pigment derivative based on this invention, 1-30 mass% is preferable with respect to the mass of a pigment, and 3-20 mass% is more preferable. When the content is within the above range, the dispersion can be favorably performed while the viscosity is kept low, the dispersion stability after dispersion can be improved, and the color characteristics with high transmittance can be obtained. When producing a filter, it can be configured to have high contrast with good color characteristics.

分散の方法は、例えば、顔料と分散剤を予め混合してホモジナイザー等で予め分散しておいたものを、ジルコニアビーズ等を用いたビーズ分散機(例えばGETZMANN社製のディスパーマット)等を用いて微分散させることによって行なえる。分散時間としては、3〜6時間程度が好適である。   The dispersion method is, for example, using a bead disperser using zirconia beads or the like (for example, a disperse mat made by GETZMANN Co., Ltd.) that has been previously mixed with a pigment and a dispersant and previously dispersed with a homogenizer or the like. This can be done by fine dispersion. The dispersion time is preferably about 3 to 6 hours.

〔(B)分散剤〕
顔料の分散性をより向上させる目的で、従来から公知の顔料分散剤や界面活性剤等の分散剤、その他成分を加えることもできる。
公知の分散剤(顔料分散剤)としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、および、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
[(B) Dispersant]
For the purpose of further improving the dispersibility of the pigment, conventionally known dispersants such as pigment dispersants and surfactants, and other components may be added.
Known dispersants (pigment dispersants) include polymer dispersants such as polyamidoamines and salts thereof, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, and modified poly (meth). Acrylate, (meth) acrylic copolymer, naphthalenesulfonic acid formalin condensate], polyoxyethylene alkyl phosphate ester, polyoxyethylene alkylamine, alkanolamine, pigment derivative, and the like.
The polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer according to the structure.

高分子分散剤は顔料の表面に吸着し、再凝集を防止する様に作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
前記、高分子分散剤は、本発明の顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体と同様に、分散工程において、顔料の表面に吸着し、再凝集を防止する様に作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有するブロック型高分子、グラフト型高分子、末端変性型高分子が好ましい構造として挙げることができる。一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
The polymer dispersant is adsorbed on the surface of the pigment and acts to prevent reaggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer and a block polymer having an anchor site to the pigment surface can be mentioned as preferred structures. On the other hand, the pigment derivative has an effect of promoting the adsorption of the polymer dispersant by modifying the pigment surface.
The polymer dispersant is adsorbed on the surface of the pigment in the dispersion step to prevent reaggregation in the same manner as the block copolymer having the pigment adsorbing block and the pigment non-adsorbing block of the present invention. Works. For this reason, a block polymer, a graft polymer, and a terminal-modified polymer having an anchor site to the pigment surface can be cited as preferred structures. On the other hand, the pigment derivative has an effect of promoting the adsorption of the polymer dispersant by modifying the pigment surface.

(ブロック型高分子)ブロック型高分子としては、上記顔料を被覆するブロック共重合体と同様のものが用いられる。 (Block type polymer) As the block type polymer, the same block copolymer as that for coating the pigment is used.

(グラフト型高分子)グラフト型高分子については、特に制限されないが、特開昭54−37082号公報、特開昭61−174939号公報などに記載のポリアルキレンイミンとポリエステル化合物を反応させた化合物、特開平9−169821号公報に記載のポリアリルアミンの側鎖のアミノ基をポリエステルで修飾した化合物、特開昭60−166318号公報に記載のポリエステルポリオール付加ポリウレタン等が好適に挙げられ、更に、特開平9−171253号公報や、マクロモノマーの化学と工業(アイピーシー出版部、1989年)などにあるように、重合性オリゴマー(以下、マクロモノマーと称する)を共重合成分とするグラフト型高分子も好適に挙げることができる。 (Graft-type polymer) The graft-type polymer is not particularly limited, but is a compound obtained by reacting a polyalkyleneimine and a polyester compound described in JP-A Nos. 54-37082 and 61-174939. Preferable examples include a compound in which the amino group of the side chain of polyallylamine described in JP-A-9-169821 is modified with polyester, a polyester polyol-added polyurethane described in JP-A-60-166318, and the like. As described in JP-A-9-171253 and Macromonomer Chemistry and Industry (IPC Publishing Department, 1989), a graft-type polymer having a polymerizable oligomer (hereinafter referred to as a macromonomer) as a copolymerization component. Molecules can also be preferably mentioned.

グラフト型高分子の枝部は、ポリスチレン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリカプロラクトン等が好適に挙げられるが、下記一般式(5)で表される構成単位を枝部に少なくとも有するグラフト型高分子がより好ましい。   As the branch part of the graft polymer, polystyrene, polyethylene oxide, polypropylene oxide, poly (meth) acrylic acid ester, polycaprolactone, and the like are preferably mentioned. The structural unit represented by the following general formula (5) is a branch part. More preferred is a graft polymer having at least



一般式(5)中、R74は、水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、Qはシアノ基、炭素原子数6〜30のアリール基、または、−COOR75(ここで、R75は水素原子、炭素原子数1〜22のアルキル基、炭素原子数6〜30のアリール基を表す)を表す。 In the general formula (5), R 74 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, Q is a cyano group, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or —COOR 75 (where, R 75 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms).

一般式(5)中、R74で表されるアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素原子数1〜6のアルキル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。アルキル基の置換基としてはハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、等が挙げられる。このようなアルキル基の具体的な例としては、メチル基、エチル基、ヘキシル基、オクチル基、トリフルオロメチル基、カルボキシメチル基、メトキシカルボニルメチル基などが挙げられる。このようなR74のうち、水素原子、メチル基が好ましい。 In general formula (5), the alkyl group represented by R 74 may have a substituent, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a methyl group. Examples of the substituent for the alkyl group include a halogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, and an alkoxy group. Specific examples of such an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a hexyl group, an octyl group, a trifluoromethyl group, a carboxymethyl group, and a methoxycarbonylmethyl group. Of such R 74 , a hydrogen atom and a methyl group are preferable.

一般式(5)中、Qで表されるアリール基は置換基を有していてもよく、炭素原子数6〜20のアリール基が好ましく、特に炭素原子数6〜12のアリール基が好ましい。アリール基の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基等が挙げられる。このようなアリール基の具体的な例としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、等が挙げられる。このようなアリール基のうち、無置換アリール基、又は、ハロゲン原子、アルキル基、若しくはアルコキシ基で置換されたアリール基が好ましく、特に無置換アリール基、又は、アルキル基で置換されたアリール基が好ましい。   In general formula (5), the aryl group represented by Q may have a substituent, preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and particularly preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the substituent for the aryl group include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group. Specific examples of such aryl groups include phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxy. Examples thereof include a phenyl group, a decyloxyphenyl group, a chlorophenyl group, a dichlorophenyl group, a bromophenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, an ethoxycarbonylphenyl group, and a butoxycarbonylphenyl group. Among such aryl groups, an unsubstituted aryl group, or an aryl group substituted with a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group is preferred, and an unsubstituted aryl group or an aryl group substituted with an alkyl group is particularly preferred. preferable.

一般式(5)のQで表される−COOR75中の、R75で表されるアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素原子数1〜12のアルキル基が好ましく、特に炭素原子数1〜8のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としてはハロゲン原子、アルケニル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基等が挙げられる。このようなアルキル基の具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、2−ブロモプロピル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、ビシクロ〔3.2.1〕オクト−2−イル基、1−アダマンチル基、ジメチルアミノプロピル基、アセチルアミノエチル基、N,N−ジブチルアミノカルバモイルメチル基などが挙げられる。このようなアルキル基のうち、無置換アルキル基、又は、ハロゲン原子、アリール基、若しくは水酸基で置換されたアルキル基が好ましく、特に無置換アルキル基が好ましい。 In -COOR 75 represented by Q in the general formula (5), the alkyl group represented by R 75 may have a substituent, preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, particularly carbon. An alkyl group having 1 to 8 atoms is preferred. Examples of the substituent for the alkyl group include a halogen atom, an alkenyl group, an aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an amino group, an acylamino group, and a carbamoyl group. Specific examples of such alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, heptyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl. Group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-bromopropyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl Group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, cyclohexyl Group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, bicyclo [3.2.1] oct-2-yl group, 1-adamantyl group, dimethylaminopropyl group, acetylaminoethyl group, N, N-dibutyl An aminocarbamoylmethyl group etc. are mentioned. Of these alkyl groups, an unsubstituted alkyl group, or an alkyl group substituted with a halogen atom, an aryl group, or a hydroxyl group is preferred, and an unsubstituted alkyl group is particularly preferred.

一般式(5)のQで表される−COOR75中の、R75で表されるアリール基は置換基を有していてもよく、炭素原子数6〜20のアリール基が好ましく、特に炭素原子数6〜12のアリール基が好ましい。アリール基の置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルアミノ基等が挙げられる。このようなアリール基の具体的な例としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基、等が挙げられる。このようなアリール基のうち、無置換アリール基、又は、ハロゲン原子、アルキル基、若しくはアルコキシ基で置換されたアリール基が好ましく、特にアルキル基で置換されたアリール基が好ましい。 In -COOR 75 represented by Q in the general formula (5), the aryl group represented by R 75 may have a substituent, preferably an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, particularly carbon. An aryl group having 6 to 12 atoms is preferred. Examples of the substituent for the aryl group include a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, and an acylamino group. Specific examples of such aryl groups include phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, butoxy. Phenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodeciloylamidophenyl group, Etc. Among such aryl groups, an unsubstituted aryl group or an aryl group substituted with a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group is preferable, and an aryl group substituted with an alkyl group is particularly preferable.

このようなR75のうち、水素原子、炭素原子数1〜22のアルキル基が好ましく、特に、水素原子、炭素原子数1〜12のアルキル基が好ましい。
このような一般式(5)で表される構成単位を枝部に少なくとも有するグラフト型高分子の枝部の具体的な例としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリ−i−ブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレートとベンジル(メタ)アクリレートとの共重合体、メチル(メタ)アクリレートとスチレンとの共重合体、メチル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸との共重合体、メチル(メタ)アクリレートとアクリロニトリルとの共重合体などが挙げられる。
Of such R 75 , a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms are preferable, and a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms are particularly preferable.
Specific examples of the branch part of the graft polymer having at least the structural unit represented by the general formula (5) in the branch part include polymethyl (meth) acrylate and poly-n-butyl (meth) acrylate. , Poly-i-butyl (meth) acrylate, copolymer of methyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate, copolymer of methyl (meth) acrylate and styrene, methyl (meth) acrylate and (meth) Examples thereof include a copolymer with acrylic acid and a copolymer of methyl (meth) acrylate and acrylonitrile.

一般式(5)で表される構成単位を枝部に少なくとも有するグラフト型高分子の合成には、公知のいずれの方法を用いてもよい。
具体的には、一般式(5)で表される構成単位を少なくとも有するマクロモノマーと、該マクロモノマーと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーと、の共重合が挙げられる。
Any known method may be used for the synthesis of the graft polymer having at least the structural unit represented by the general formula (5) in the branch.
Specific examples include copolymerization of a macromonomer having at least a structural unit represented by the general formula (5) and an ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the macromonomer.

一般式(5)で表される構成単位を少なくとも有するマクロモノマーのうち、好ましいものは下記一般式(6)で表されるものである。   Among the macromonomers having at least the structural unit represented by the general formula (5), preferred are those represented by the following general formula (6).


一般式(6)中、R76は、水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、Wは単結合または、以下の連結基から選ばれた単独の連結基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表し、Aは、前記した一般式(5)で表される構成単位を少なくとも有する基を表す。 In the general formula (6), R 76 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and W is a single bond or a single linking group selected from the following linking groups or an arbitrary combination. A represents a group having at least the structural unit represented by the general formula (5).


(Z、Zは水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基を表し、Zは水素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数6〜20のアリール基を表す。)このような一般式(6)で表されるマクロモノマーの具体的な例としては、以下に示すものが挙げられる。 (Z 1 and Z 2 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, and a hydroxyl group, and Z 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and the number of carbon atoms. 6 to 20 aryl groups are represented.) Specific examples of the macromonomer represented by the general formula (6) include those shown below.


前記構造におけるAは、前記一般式(6)におけるAと同義である。
市販品として入手できるこのようなマクロモノマーとしては、片末端メタクリロイル化ポリメチルメタクリレートオリゴマー(Mn=6,000、商品名:AA−6、東亜合成化学工業(株)製)及び片末端メタクリロイル化ポリ−n−ブチルアクリレートオリゴマー(Mn=6,000、商品名:AB−6、東亜合成化学工業(株)製)、片末端メタクリロイル化ポリスチレンオリゴマー(Mn=6,000、商品名:AS−6、東亜合成化学工業(株)製)を挙げることができる。
A in the structure is synonymous with A in the general formula (6).
As such macromonomer available as a commercial product, one-end methacryloylated polymethyl methacrylate oligomer (Mn = 6,000, trade name: AA-6, manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.) and one-end methacryloylated poly -N-butyl acrylate oligomer (Mn = 6,000, trade name: AB-6, manufactured by Toa Gosei Chemical Co., Ltd.), single-end methacryloylated polystyrene oligomer (Mn = 6,000, trade name: AS-6, Toa Gosei Chemical Co., Ltd.).

上記マクロモノマーの分子量としては、ポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)が1,000〜20,000であるのが好ましく、2,000〜15,000であるのがより好ましい。上記数平均分子量が上記範囲内であると、顔料分散剤としての立体反発効果をより効果的に得ることができる。   The molecular weight of the macromonomer is preferably a polystyrene-equivalent number average molecular weight (Mn) of 1,000 to 20,000, and more preferably 2,000 to 15,000. When the number average molecular weight is within the above range, the steric repulsion effect as a pigment dispersant can be more effectively obtained.

上記に記載したマクロモノマーと共重合可能なエチレン性不飽和モノマーとしては、顔料の分散性、分散安定性を向上させるために、前記「顔料吸着ブロックを構成するモノマー」を用いることが好ましい。また、その他の共重合成分として、前記「顔料に吸着しないブロックを構成するモノマー」を共重合させてもよい。   As the ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the macromonomer described above, it is preferable to use the “monomer constituting the pigment adsorption block” in order to improve the dispersibility and dispersion stability of the pigment. Further, as the other copolymerization component, the “monomer constituting a block that is not adsorbed to the pigment” may be copolymerized.

上記グラフト型高分子の重量平均分子量は、特に制限されないが、好ましくは3,000〜100,000の範囲とすることが好ましく、5,000〜50,000の範囲がより好ましい。重量平均分子量が3,000以上であると、安定化効果をより効果的に得ることができ、また、重量平均分子量が100,000以下であると、より効果的に吸着して良好な分散性を発揮することができる。   The weight average molecular weight of the graft polymer is not particularly limited, but is preferably in the range of 3,000 to 100,000, and more preferably in the range of 5,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is 3,000 or more, a stabilizing effect can be obtained more effectively, and when the weight average molecular weight is 100,000 or less, it is more effectively adsorbed and has good dispersibility. Can be demonstrated.

前記グラフト型高分子の市販品としては、ソルスパース24000、同28000、同32000、同38500、同39000、同55000(以上ルーブリゾール社製)、Disperbyk−161、同−171、同−174(以上BYK Chemie社製)等が挙げられる。   Commercially available products of the graft-type polymer include Solsperse 24000, 28000, 32000, 38500, 39000, 35000 (above Lubrizol), Disperbyk-161, -171, -174 (above BYK). Chemie)).

(末端変性型高分子)
末端変性型高分子としては、例えば、特開平9−77994号公報や、特開2002−273191号公報などに記載されているポリマーの末端に官能基を有する高分子を挙げることができる。
(Terminal modified polymer)
Examples of the terminal-modified polymer include polymers having a functional group at the end of the polymer described in JP-A-9-77994, JP-A-2002-273191, and the like.

ポリマーの末端に官能基を有する高分子を合成する方法は、特に限定されないが、例えば、以下の方法およびこれらを組み合わせた方法などを挙げることができる。
1.官能基含有の重合開始剤を用いて重合(例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合など)で合成する方法
2.官能基含有の連鎖移動剤を用いてラジカル重合で合成する方法
ここで導入する官能基は、有機色素構造、複素環構造、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数4以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基、水酸基およびイオン性官能基から選択される部位などが挙げられる。また、これらの吸着部位に誘導できる官能基であっても構わない。
A method for synthesizing a polymer having a functional group at the end of the polymer is not particularly limited, and examples thereof include the following methods and a combination thereof.
1. 1. A method of synthesizing by polymerization (for example, radical polymerization, anionic polymerization, cationic polymerization, etc.) using a functional group-containing polymerization initiator Method of synthesizing by radical polymerization using a functional group-containing chain transfer agent The functional group introduced here is an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, a urethane group, Examples thereof include a group having a coordinated oxygen atom, a hydrocarbon group having 4 or more carbon atoms, an alkoxysilyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a hydroxyl group and an ionic functional group. Moreover, you may be a functional group which can be induced | guided | derived to these adsorption sites.

ポリマー末端に官能基を導入できる連鎖移動剤としては、例えば、メルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メカルプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−メカルプルイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノール、ベンゼンチオール、トルエンチオール、メルカプトアセトフェノン、ナフタレンチオール、ナフタレンメタンチオール等)またはこれらメルカプト化合物の酸化体であるジスルフィド化合物、およびハロゲン化合物(例えば、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸など)が挙げられる。   Examples of the chain transfer agent capable of introducing a functional group at the polymer terminal include mercapto compounds (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, N- ( 2-mercaptopropionyl) glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) carbamoyl] propionic acid, 3- [N- (2-mercaptoethyl) amino] propionic acid, N- (3- Mercaptopropionyl) alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mecaptopropanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol 3-mercapto-2-butano , Mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mecarpurimidazole, 2-mercapto-3-pyridinol, benzenethiol, toluenethiol, mercaptoacetophenone, naphthalenethiol, naphthalenemethanethiol, etc.) or oxidized products of these mercapto compounds Examples thereof include disulfide compounds and halogen compounds (for example, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.).

また、ポリマー末端に官能基を導入できる重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(2−シアノプロパノール)、2,2’−アゾビス(2−シアノペンタノール)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸クロライド)、2,2’−アゾビス〔2−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス〔2−(3,4,5,6−テトラヒドロピリミジン−2−イル)プロパン〕、2,2’−アゾビス{2−〔1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパン}、2,2’−アゾビス〔2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオンアミド〕等又はこれらの誘導体等が挙げられる。   Moreover, as a polymerization initiator which can introduce | transduce a functional group into a polymer terminal, for example, 2,2'-azobis (2-cyanopropanol), 2,2'-azobis (2-cyanopentanol), 4,4'- Azobis (4-cyanovaleric acid), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid chloride), 2,2′-azobis [2- (5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane], 2 , 2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane], 2,2′-azobis [2- (3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl) propane], 2, 2'-azobis {2- [1- (2-hydroxyethyl) -2-imidazolin-2-yl] propane}, 2,2'-azobis [2-methyl-N- (2-hydroxyethyl) -propionamide ] Or this Like derivatives of.

重合に用いられるモノマーとしては、例えば、ラジカル重合性モノマーとしては、前記「顔料に吸着しないブロックを構成するモノマー」を用いることができる。   As the monomer used for the polymerization, for example, the above-mentioned “monomer constituting a block that is not adsorbed to the pigment” can be used as the radical polymerizable monomer.

上記の末端変性型高分子の分子量としては、重量平均分子量1,000〜50,000であることが好ましい。上記重量平均分子量が1,000以上であると、顔料分散剤としての立体反発効果をより効果的に得ることができ、50,000以下であると、より効果的に立体効果を抑制し、顔料への吸着の時間をより短縮できる。   The molecular weight of the terminal-modified polymer is preferably a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000. When the weight average molecular weight is 1,000 or more, the steric repulsion effect as a pigment dispersant can be more effectively obtained, and when it is 50,000 or less, the steric effect is more effectively suppressed, and the pigment The adsorption time can be shortened.

前記末端変性型高分子の市販品としては、ソルスパース3000、同17000、同27000(以上ルーブリゾール社製)等を挙げることができる。
分散剤としては、本発明のブロック共重合体、グラフト型高分子、末端変性型高分子が好ましく、中でも有機色素構造あるいは複素環構造を有するモノマーに由来する共重合単位を含有するグラフト型高分子、末端基として有機色素構造、複素環構造、酸性基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、またはウレタン基を有する末端変性型高分子が特に好ましい。
Examples of commercially available terminal-modified polymers include Solsperse 3000, 17000, 27000 (manufactured by Lubrizol).
As the dispersant, the block copolymer, graft polymer, and terminal-modified polymer of the present invention are preferable, and among them, the graft polymer containing a copolymer unit derived from a monomer having an organic dye structure or a heterocyclic structure. A terminal-modified polymer having an organic dye structure, a heterocyclic structure, an acidic group, a group having a basic nitrogen atom, a urea group, or a urethane group as a terminal group is particularly preferable.

分散剤の添加量は、高分子分散剤の場合は、顔料に対して、0.5〜100重量%となるように添加することが好ましく、3〜100質量%がより好ましく、5〜80質量%が特に好ましい。顔料分散剤の量が前記範囲内であると、十分な顔料分散効果が得られる。ただし、分散剤の最適な添加量は、使用する顔料の種類、溶剤の種類などの組み合わせ等により適宜調整される。
顔料を被覆した本発明のブロック共重合体と分散剤の比率は、特に制限されないが、分散剤が高分子分散剤である場合は、10/90〜90/10質量比が好ましく、特に20/80〜80/20質量比が好ましい。
In the case of a polymer dispersant, the amount of the dispersant added is preferably 0.5 to 100% by weight, more preferably 3 to 100% by weight, and more preferably 5 to 80% by weight with respect to the pigment. % Is particularly preferred. When the amount of the pigment dispersant is within the above range, a sufficient pigment dispersion effect can be obtained. However, the optimum addition amount of the dispersant is appropriately adjusted depending on the combination of the type of pigment used, the type of solvent, and the like.
The ratio of the block copolymer of the present invention coated with the pigment and the dispersant is not particularly limited. However, when the dispersant is a polymer dispersant, a ratio of 10/90 to 90/10 is preferable, and in particular, 20 / An 80-80 / 20 mass ratio is preferred.

−顔料分散組成物の調製−
本発明の好ましい態様は、本発明のブロック共重合体で被覆処理した加工顔料と溶剤とを、さらに必要によって分散剤、もしくはアルカリ可溶性樹脂とを分散してなる顔料分散組成物である。
-Preparation of pigment dispersion composition-
A preferred embodiment of the present invention is a pigment dispersion composition obtained by dispersing the processed pigment coated with the block copolymer of the present invention and a solvent, and if necessary, a dispersant or an alkali-soluble resin.

本発明の加工顔料と溶剤とさらに必要によって分散剤、もしくはアルカリ可溶性樹脂を加えて混練、分散を行なう。分散は主として縦型もしくは横型のサンドグラインダー、ピンミル、スリットミル、超音波分散機等を使用し、0.01〜1mmの粒径のガラス、ジルコニア等でできたビーズで微分散処理し、顔料分散組成物を得る。ビーズ分散を行なう前に、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、トロンミル、ディスパーザー、ニーダー、コニーダー、ホモジナイザー、ブレンダー、単軸もしくは2軸の押出機等を用いて、強い剪断力を与えながら混練分散処理を行なうことも可能である。   The processed pigment of the present invention, a solvent and, if necessary, a dispersant or an alkali-soluble resin are added and kneaded and dispersed. Dispersion is mainly carried out using a vertical or horizontal sand grinder, pin mill, slit mill, ultrasonic disperser, etc., and finely dispersed with beads made of glass having a particle diameter of 0.01 to 1 mm, zirconia, etc., and pigment dispersion A composition is obtained. Kneading with a strong shearing force using a two-roll mill, three-roll mill, ball mill, tron mill, disperser, kneader, kneader, homogenizer, blender, single-screw or twin-screw extruder, etc. before bead dispersion It is also possible to perform distributed processing.

なお、混練、分散についての詳細は、T.C.Patton著”Paint Flow and Pigment Dispersion”(1964年 John Wiley and Sons社刊)等に記載されている。   For details on kneading and dispersing, see T.W. C. “Paint Flow and Pigment Dispersion” by Patton (published by John Wiley and Sons, 1964) and the like.

本発明の感光性組成物は、既述の本発明のブロック共重合体で被覆処理した加工顔料にアルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物、及び光重合開始剤を(好ましくは溶剤と共に)含有させ、これに必要に応じて界面活性剤等の添加剤を混合し、各種の混合機、分散機を使用して混合分散する混合分散工程を経ることによって調製することができる。   The photosensitive composition of the present invention contains an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator (preferably together with a solvent) in the processed pigment coated with the block copolymer of the present invention described above, If necessary, an additive such as a surfactant is mixed, and it can be prepared by a mixing and dispersing step of mixing and dispersing using various mixers and dispersers.

本発明の顔料分散物は、カラーフィルタの製造に用いられる着色感光性組成物に好適に用いられる。   The pigment dispersion of the present invention is suitably used for a colored photosensitive composition used for producing a color filter.

<着色感光性組成物>
本発明の着色感光性組成物は、既述の本発明の顔料分散組成物と、アルカリ可溶性樹脂と、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含んでなり、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。なお、本発明の顔料分散組成物の詳細については既述の通りである。以下、各成分を詳述する。
<Colored photosensitive composition>
The colored photosensitive composition of the present invention comprises the above-described pigment dispersion composition of the present invention, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator, and other components as necessary. May be included. The details of the pigment dispersion composition of the present invention are as described above. Hereinafter, each component will be described in detail.

〈アルカリ可溶性樹脂〉
アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基(例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など)を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。このうち、更に好ましくは、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものである。
<Alkali-soluble resin>
The alkali-soluble resin is a linear organic polymer, and promotes at least one alkali-solubility in a molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer or a styrene copolymer as a main chain). It can be appropriately selected from alkali-soluble resins having a group (for example, carboxyl group, phosphoric acid group, sulfonic acid group, etc.). Of these, more preferred are those which are soluble in an organic solvent and can be developed with a weak alkaline aqueous solution.

アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。   For example, a known radical polymerization method can be applied to the production of the alkali-soluble resin. Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by radical polymerization can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are determined experimentally. It can also be done.

上記の線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、さらに側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。   As said linear organic high molecular polymer, the polymer which has carboxylic acid in a side chain is preferable. For example, it is described in JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-59-71048. Methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, etc., as well as in the side chain Preferred examples include acidic cellulose derivatives having a carboxylic acid, polymers having a hydroxyl group, an acid anhydride added to the polymer, and a polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain.

これらの中では特に、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体やベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。
このほか、2−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの等も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
Of these, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers and multi-component copolymers composed of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers are particularly suitable.
In addition, those obtained by copolymerizing 2-hydroxyethyl methacrylate are also useful. The polymer can be used by mixing in an arbitrary amount.

上記以外に、特開平7−140654号公報に記載の、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクレート/メタクリル酸共重合体などが挙げられる。   In addition to the above, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl methacrylate described in JP-A-7-140654 Macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer Etc.

アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に(メタ)アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が好適である。ここで(メタ)アクリル酸はアクリル酸とメタクリル酸を合わせた総称であり、以下も同様に(メタ)アクリレートはアクリレートとメタクリレートの総称である。   As a specific structural unit of the alkali-soluble resin, a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is particularly suitable. Here, (meth) acrylic acid is a general term that combines acrylic acid and methacrylic acid, and (meth) acrylate is also a general term for acrylate and methacrylate.

前記(メタ)アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。ここで、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
前記アルキル(メタ)アクリレート及びアリール(メタ)アクリレートの具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
Examples of other monomers copolymerizable with the (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds. Here, the hydrogen atom of the alkyl group and the aryl group may be substituted with a substituent.
Specific examples of the alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl ( Examples include meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, and the like. it can.

また、前記ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、CH=CR、CH=C(R)(COOR)〔ここで、Rは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、Rは炭素数6〜10の芳香族炭化水素環を表し、Rは炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数6〜12のアラルキル基を表す。〕、等を挙げることができる。 Examples of the vinyl compound include styrene, α-methylstyrene, vinyl toluene, glycidyl methacrylate, acrylonitrile, vinyl acetate, N-vinyl pyrrolidone, tetrahydrofurfuryl methacrylate, polystyrene macromonomer, polymethyl methacrylate macromonomer, CH 2. = CR 1 R 2 , CH 2 = C (R 1 ) (COOR 3 ) [wherein R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 2 represents an aromatic group having 6 to 10 carbon atoms. Represents a hydrocarbon ring, and R 3 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aralkyl group having 6 to 12 carbon atoms. ], Etc. can be mentioned.

これら共重合可能な他のモノマーは、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。好ましい共重合可能な他のモノマーは、CH=CR、CH=C(R)(COOR)、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート及びスチレンから選択される少なくとも1種であり、特に好ましくは、CH=CR、及び/又はCH=C(R)(COOR)である。 These other copolymerizable monomers can be used singly or in combination of two or more. Preferred other copolymerizable monomers are at least one selected from CH 2 ═CR 1 R 2 , CH 2 ═C (R 1 ) (COOR 3 ), phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and styrene. Seeds, particularly preferably CH 2 ═CR 1 R 2 and / or CH 2 ═C (R 1 ) (COOR 3 ).

アルカリ可溶性樹脂の着色感光性組成物における含有量としては、該組成物の全固形分に対して、1〜15質量%が好ましく、より好ましくは、2〜12質量%であり、特に好ましくは、3〜10質量%である。   As content in the coloring photosensitive composition of alkali-soluble resin, 1-15 mass% is preferable with respect to the total solid of this composition, More preferably, it is 2-12 mass%, Especially preferably, 3 to 10% by mass.

〈光重合性化合物〉
光重合性化合物としては、少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上である化合物が好ましく、中でも4官能以上のアクリレート化合物がより好ましい。
<Photopolymerizable compound>
As the photopolymerizable compound, a compound having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure is preferable, and a tetrafunctional or higher functional acrylate compound is more preferable.

前記少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上である化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート等の単官能のアクリレートやメタアクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、ペンタエリスリトール又はジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレートを挙げることができる。
更に、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用できる。
Examples of the compound having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure include, for example, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, Monofunctional acrylates and methacrylates such as phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) Ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyfunctional alcohols such as glycerin and trimethylolethane, and the addition of ethylene oxide and propylene oxide followed by (meth) acrylate conversion, poly (pentaerythritol or dipentaerythritol poly ( (Meth) acrylate, urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates described in JP-B-52-30490 and epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resins and (meth) acrylic acid can be mentioned.
Furthermore, the Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, what is introduced as a photocurable monomer and oligomer on pages 300 to 308 can also be used.

また、特開平10−62986号公報において一般式(1)及び(2)としてその具体例と共に記載の、前記多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後に(メタ)アクリレート化した化合物も用いることができる。   In addition, a compound which has been (meth) acrylated after adding ethylene oxide or propylene oxide to the polyfunctional alcohol described in JP-A-10-62986 as general formulas (1) and (2) together with specific examples thereof. Can be used.

中でも、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及びこれらのアクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。   Among these, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and a structure in which these acryloyl groups are via ethylene glycol and propylene glycol residues are preferable. These oligomer types can also be used.

光重合性化合物は、1種単独で用いる以外に、2種以上を組み合わせて用いることができる。
光重合性化合物の着色感光性組成物中における含有量としては、該組成物の全固形分100質量部に対して、3〜55質量部が好ましく、より好ましくは10〜50質量部である。光重合性化合物の含有量が前記範囲内であると、硬化反応が充分に行なえる。
The photopolymerizable compound can be used in combination of two or more, in addition to being used alone.
As content in the coloring photosensitive composition of a photopolymerizable compound, 3-55 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of total solid content of this composition, More preferably, it is 10-50 mass parts. When the content of the photopolymerizable compound is within the above range, the curing reaction can be sufficiently performed.

〈光重合開始剤〉
光重合開始剤としては、例えば、特開平57−6096号公報に記載のハロメチルオキサジアゾール、特公昭59−1281号公報、特開昭53−133428号公報等に記載のハロメチル−s−トリアジン等活性ハロゲン化合物、米国特許第4318791、欧州特許公開EP−88050A等の各明細書に記載のケタール、アセタール、又はベンゾインアルキルエーテル類等の芳香族カルボニル化合物、米国特許第4199420明細書に記載のベンゾフェノン類等の芳香族ケトン化合物、仏国特許発明2456741明細書に記載の(チオ)キサントン系又はアクリジン系化合物、特開平10−62986号公報に記載のクマリン系又はビイミダゾール系の化合物、特開平8−015521号公報等のスルホニウム有機硼素錯体等、等を挙げることができる。
<Photopolymerization initiator>
Examples of the photopolymerization initiator include halomethyl oxadiazole described in JP-A-57-6096, halomethyl-s-triazine described in JP-B-59-1281, JP-A-53-133428, and the like. Isoactive halogen compounds, aromatic carbonyl compounds such as ketals, acetals, or benzoin alkyl ethers described in each specification such as US Pat. No. 4,318,791 and European Patent Publication EP-88050A, benzophenones described in US Pat. Aromatic thiol compounds, etc., (thio) xanthone or acridine compounds described in French Patent Invention 2456741, coumarin or biimidazole compounds described in JP-A-10-62986, JP-A-8 -Sulfonium organoboron complexes, etc., such as 015521 It can be mentioned.

前記光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ケタール系、ベンゾフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾイル系、キサントン系、活性ハロゲン化合物(トリアジン系、ハロメチルオキサジアゾール系、クマリン系)、アクリジン系、ビイミダゾール系、オキシムエステル系等の開始剤が好ましい。   Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, ketal, benzophenone, benzoin, benzoyl, xanthone, active halogen compounds (triazine, halomethyloxadiazole, coumarin), acridine, biimidazole Initiators such as oxime esters are preferred.

前記アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、4’−イソプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−トリル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパノン−1などを好適に挙げることができる。   Examples of the acetophenone photopolymerization initiator include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, p-dimethylaminoacetophenone, 4′-isopropyl-2-hydroxy-2-methyl-propiophenone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, Suitable examples include 2-tolyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1. be able to.

前記ケタール系光重合開始剤としては、例えば、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタールなどを好適に挙げることができる。   Preferable examples of the ketal photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal and benzyl-β-methoxyethyl acetal.

前記ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4’−(ビスジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−(ビスジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン等を好適に挙げることができる。   Preferred examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone, 4,4 ′-(bisdimethylamino) benzophenone, 4,4 ′-(bisdiethylamino) benzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, and the like. Can do.

前記ベンゾイン系又はベンゾイル系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ゼンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルo−ベンゾイルベゾエート等を好適に挙げることができる。   Preferred examples of the benzoin-based or benzoyl-based photopolymerization initiator include benzoin isopropyl ether, zenzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, methyl o-benzoyl bezoate, and the like.

前記キサントン系光重合開始剤としては、例えば、ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン、モノイソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、等を好適に挙げることができる。   Preferable examples of the xanthone photopolymerization initiator include diethylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, monoisopropylthioxanthone, chlorothioxanthone, and the like.

前記活性ハロゲン化合物(例えば、トリアジン系、オキサジアゾール系、又はクマリン系化合物)の例としては、例えば、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ビフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メチルビフェニル)−s−トリアジン、p−ヒドロキシエトキシスチリル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、メトキシスチリル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、3,4−ジメトキシスチリル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−ベンズオキソラン−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N,N−(ジエトキシカルボニルアミノ)−フェニル)−2,6−ジ(クロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N,N−(ジエトキシカルボニルアミノ)−フェニル)−2,6−ジ(クロロメチル)−s−トリアジン、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(シアノスチリル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(ナフト−1−イル)−1,3,4−オキソジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(4−スチリル)スチリル−1,3,4−オキソジアゾール、3−メチル−5−アミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−クロロ−5−ジエチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−ブチル−5−ジメチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン等を好適に挙げることができる。   Examples of the active halogen compound (for example, triazine-based, oxadiazole-based, or coumarin-based compound) include, for example, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxyphenyl-s-triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl-s-triazine 2,4-bis (trichloromethyl) -6-biphenyl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methylbiphenyl) -s-triazine, p-hydroxyethoxystyryl-2, 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, methoxystyryl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, , 4-Dimethoxystyryl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4-benzoxolane-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN) , N- (diethoxycarbonylamino) -phenyl) -2,6-di (chloromethyl) -s-triazine, 4- (pN, N- (diethoxycarbonylamino) -phenyl) -2,6- Di (chloromethyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole 2-trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4-oxodiazo 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3 Preferable examples include -phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, and the like.

前記アクリジン系光重合開始剤としては、例えば、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン等を好適に挙げることができる。   Preferable examples of the acridine photopolymerization initiator include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, and the like.

前記ビイミダゾール系光重合開始剤としては、例えば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(2,4−ジメトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体等を好適に挙げることができる。   Examples of the biimidazole photopolymerization initiator include 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer, Preferred examples include 2- (2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazolyl dimer.

上記以外に、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、O−ベンゾイル−4’−(ベンズメルカプト)ベンゾイル−ヘキシル−ケトキシム、2,4,6−トリメチルフェニルカルボニル−ジフェニルフォスフォニルオキサイド、ヘキサフルオロフォスフォロ−トリアルキルフェニルホスホニウム塩等が挙げられる。   In addition to the above, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, O-benzoyl-4 ′-(benzmercapto) benzoyl-hexyl-ketoxime, 2,4,6-trimethylphenyl Examples thereof include carbonyl-diphenyl phosphonyl oxide and hexafluorophospho-trialkylphenyl phosphonium salt.

本発明では、以上の光重合開始剤に限定されるものではなく、他の公知のものも使用することができる。例えば、米国特許第2,367,660号明細書に記載のビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第2,367,661号及び第2,367,670号明細書に記載のα−カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に記載のアシロインエーテル、米国特許第2,722,512号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号及び第2,951,758号明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第3,549,367号明細書に記載のトリアリルイミダゾールダイマー/p−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭51−48516号公報に記載のベンゾチアゾール系化合物/トリハロメチール−s−トリアジン系化合物、J.C.S. Perkin II(1979)1653−1660、J.C.S.PerkinII(1979)156−162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202−232、特開2000−66385号公報記載のオキシムエステル化合物等が挙げられる。
また、これらの光重合開始剤を併用することもできる。
In this invention, it is not limited to the above photoinitiator, Other well-known things can also be used. For example, vicinal polykettle aldonyl compounds described in US Pat. No. 2,367,660, and α-carbonyl compounds described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670. An acyloin ether described in US Pat. No. 2,448,828, an α-hydrocarbon substituted aromatic acyloin compound described in US Pat. No. 2,722,512, US Pat. , 046,127 and 2,951,758, the triarylimidazole dimer / p-aminophenyl ketone combination described in US Pat. No. 3,549,367, Benzothiazole compounds / trihalomethyl-s-triazine compounds described in JP-A-51-48516; C. S. Perkin II (1979) 1653-1660, J. MoI. C. S. Examples include Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, and oxime ester compounds described in JP-A No. 2000-66385.
Moreover, these photoinitiators can also be used together.

光重合開始剤の着色感光性組成物中における含有量としては、該組成物の全固形分に対して、0.1〜10.0質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5.0質量%である。光重合開始剤の含有量が前記範囲内であると、重合反応を良好に進行させて強度の良好な膜形成が可能である。   As content in the coloring photosensitive composition of a photoinitiator, 0.1-10.0 mass% is preferable with respect to the total solid of this composition, More preferably, it is 0.5-5.0. % By mass. When the content of the photopolymerization initiator is within the above range, the polymerization reaction can proceed well to form a film with good strength.

〈増感色素〉
増感色素は、例えば、吸収しうる波長の露光により光重合開始剤のラジカル発生反応や、それによる重合性化合物の重合反応が促進されるものである。このような増感色素としては、公知の分光増感色素又は染料、又は光を吸収して光重合開始剤と相互作用する染料又は顔料が挙げられる。
<Sensitizing dye>
The sensitizing dye is, for example, one that promotes a radical generation reaction of a photopolymerization initiator and a polymerization reaction of a polymerizable compound thereby by exposure at a wavelength that can be absorbed. Examples of such a sensitizing dye include a known spectral sensitizing dye or dye, or a dye or pigment that absorbs light and interacts with a photopolymerization initiator.

(分光増感色素又は染料)
増感色素として好ましい分光増感色素又は染料は、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体(例えば、下記化合物)、アントラキノン類、(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、等が挙げられる。
(Spectral sensitizing dye or dye)
Preferred spectral sensitizing dyes or dyes as sensitizing dyes include polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines ( For example, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), Phthalocyanines (eg, phthalocyanine, metal phthalocyanine), porphyrins (eg, tetraphenylporphyrin, central metal-substituted porphyrin), chlorophylls (eg, chlorophyll, chlorophyllin, Heart metal-substituted chlorophyll), metal complexes (for example, the following compound), anthraquinones (e.g., anthraquinone), squaryliums (e.g., squarylium), and the like.


より好ましい分光増感色素又は染料の例を以下に例示する。
特公平37−13034号公報に記載のスチリル系色素;特開昭62−143044号公報に記載の陽イオン染料;特公昭59−24147号公報記載のキノキサリニウム塩;特開昭64−33104号公報記載の新メチレンブルー化合物;特開昭64−56767号公報記載のアントラキノン類;特開平2−1714号公報記載のベンゾキサンテン染料;特開平2−226148号公報及び特開平2−226149号公報記載のアクリジン類;特公昭40−28499号公報記載のピリリウム塩類;特公昭46−42363号公報記載のシアニン類;特開平2−63053号記載のベンゾフラン色素;特開平2−85858号公報、特開平2−216154号公報の共役ケトン色素;特開昭57−10605号公報記載の色素;特公平2−30321号公報記載のアゾシンナミリデン誘導体;特開平1−287105号公報記載のシアニン系色素;特開昭62−31844号公報、特開昭62−31848号公報、特開昭62−143043号公報記載のキサンテン系色素;特公昭59−28325号公報記載のアミノスチリルケトン;特開平2−179643号公報記載の色素;特開平2−244050号公報記載のメロシアニン色素;特公昭59−28326号公報記載のメロシアニン色素;特開昭59−89303号公報記載のメロシアニン色素;特開平8−129257号公報記載のメロシアニン色素;特開平8−334897号公報記載のベンゾピラン系色素が挙げられる。
The example of a more preferable spectral sensitizing dye or dye is illustrated below.
A styryl dye described in JP-B-37-13034; a cationic dye described in JP-A-62-143044; a quinoxalinium salt described in JP-B-59-24147; described in JP-A-64-33104 A new methylene blue compound; anthraquinones described in JP-A No. 64-56767; benzoxanthene dyes described in JP-A No. 2-1714; acridines described in JP-A Nos. 2-226148 and 2-226149 Pyryllium salts described in JP-B-40-28499; Cyanines described in JP-B-46-42363; Benzofuran dyes described in JP-A-2-63053; JP-A-2-85858, JP-A-2-216154 Conjugated ketone dyes disclosed in Japanese Patent Publication No. 57-10605; Azocinnamylidene derivatives described in Japanese Patent No. 0321; cyanine dyes described in Japanese Patent Laid-Open No. 1-287105; Japanese Patent Laid-Open Nos. 62-31844, 62-31848, 62-1443043 Xanthene dyes described above; aminostyryl ketone described in JP-B-59-28325; dye described in JP-A-2-17943; merocyanine dye described in JP-A-2-244050; described in JP-B-59-28326 Merocyanine dyes described in JP-A-59-89303; merocyanine dyes described in JP-A-8-129257; benzopyran dyes described in JP-A-8-334897.

(350〜450nmに極大吸収波長を有する色素)
増感色素の他の好ましい態様として、以下の化合物群に属しており、且つ、350〜450nmに極大吸収波長を有する色素が挙げられる。
例えば、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)が挙げられる。
(Dye having a maximum absorption wavelength at 350 to 450 nm)
Other preferred embodiments of the sensitizing dye include dyes belonging to the following compound group and having a maximum absorption wavelength at 350 to 450 nm.
For example, polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines (eg, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanine (Eg, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines (eg, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (eg, anthraquinone), squalium (eg, , Squalium).

更に好ましい増感色素の例としては、下記一般式(XIV)〜(XVIII)で表される化合物が挙げられる。   More preferable examples of the sensitizing dye include compounds represented by the following general formulas (XIV) to (XVIII).


(一般式(XIV)中、Aは硫黄原子又はNR50を表し、R50はアルキル基又はアリール基を表し、Lは隣接するA及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R51、R52はそれぞれ独立に水素原子又は一価の非金属原子団を表し、R51、R52は互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよい。Wは酸素原子又は硫黄原子を表す。)
以下に、一般式(XIV)で表される化合物の好ましい具体例〔(F−1)〜(F−5)〕を示す。
(In General Formula (XIV), A 1 represents a sulfur atom or NR 50 , R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 2 represents a basic nucleus of the dye in combination with adjacent A 1 and an adjacent carbon atom. R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and R 51 and R 52 are bonded to each other to form an acidic nucleus of the dye. W represents an oxygen atom or a sulfur atom.)
Preferred specific examples [(F-1) to (F-5)] of the compound represented by the general formula (XIV) are shown below.



(一般式(XV)中、Ar及びArはそれぞれ独立にアリール基を表し、−L−による結合を介して連結している。ここでLは−O−又は−S−を表す。また、Wは一般式(XIV)に示したものと同義である。)
一般式(XV)で表される化合物の好ましい例としては、以下のもの〔(F−6)〜(F−8)〕が挙げられる。
(In the general formula (XV), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group, and are linked via a bond with —L 3 —, where L 3 represents —O— or —S—. W is synonymous with that shown in the general formula (XIV).)
Preferable examples of the compound represented by the general formula (XV) include the following [(F-6) to (F-8)].



(一般式(XVI)中、Aは硫黄原子又はNR59を表し、Lは隣接するA及び炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R53、R54、R55、R56、R57及びR58はそれぞれ独立に一価の非金属原子団の基を表し、R59はアルキル基又はアリール基を表す。)
一般式(XVI)で表される化合物の好ましい例としては、以下のもの〔(F−9)〜(F−11)〕が挙げられる。
(In General Formula (XVI), A 2 represents a sulfur atom or NR 59 , L 4 represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of a dye in combination with adjacent A 2 and a carbon atom, and R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represents a monovalent non-metallic atomic group, and R 59 represents an alkyl group or an aryl group.)
Preferable examples of the compound represented by the general formula (XVI) include the following [(F-9) to (F-11)].



(一般式(XVII)中、A、Aはそれぞれ独立に−S−、又は−NR63を表し、R63は置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基を表し、L、Lはそれぞれ独立に、隣接するA、A及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、R61、R62はそれぞれ独立に一価の非金属原子団であるか又は互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。)
一般式(XVII)で表される化合物の好ましい例としては、以下のもの〔(F−12)〜(F−15)〕が挙げられる。
(In General Formula (XVII), A 3 and A 4 each independently represent —S— or —NR 63 , R 63 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and L 5 and L 6 each independently represent a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of a dye in combination with adjacent A 3 and A 4 and adjacent carbon atoms, and R 61 and R 62 each independently represent a monovalent group. Can be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.)
Preferable examples of the compound represented by the general formula (XVII) include the following [(F-12) to (F-15)].


また、そのほかに、本発明に用いられる好適な増感色素として、下記式(XVIII)で表されるものが挙げられる。   In addition, examples of suitable sensitizing dyes used in the present invention include those represented by the following formula (XVIII).


(一般式(XVIII)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子ないし−N(R)−を表し、Yは酸素原子又は−N(R)−を表す。R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子又は、一価の非金属原子団を表し、R、R、及びRはそれぞれAと結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。) (In General Formula (XVIII), A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, X represents an oxygen atom or a sulfur atom or —N (R 1 ) —, and Y represents an oxygen atom or -N (R 1 )-, wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent non-metallic atomic group, and R 1 , R 2 and R 3 each represent A To form an aliphatic or aromatic ring.)

ここで、R、R、Rが一価の非金属原子団をあらわすとき、好ましくは、置換若しくは無置換のアルキル基又はアリール基を表す。
次に、R、R、Rの好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、及び環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、並びに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Here, when R 1 , R 2 , and R 3 represent a monovalent nonmetallic atomic group, they preferably represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group.
Next, preferred examples of R 1 , R 2 and R 3 will be specifically described. Examples of preferred alkyl groups include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl, eicosyl, isopropyl, isobutyl, s-butyl, Examples thereof include t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

置換アルキル基の置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団の基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルオキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N−アルキルウレイド基、N,N−ジアルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N,N−ジアリールウレイド基、N−アルキル−N−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N−アルキル−N−アルキルウレイド基、N−アルキル−N−アリールウレイド基、N,N−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N,N−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N−アリール−N−アルキルウレイド基、N−アリール−N−アリールウレイド基、N,N−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N,N−ジアリール−N−アリールウレイド基、N−アルキル−N−アリール−N−アルキルウレイド基、N−アルキル−N−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SOH)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基(−PO)及びその共役塩基基(以下、ホスホナト基と称す)、ジアルキルホスホノ基(−PO(alkyl))、ジアリールホスホノ基(−PO(aryl))、アルキルアリールホスホノ基(−PO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−POH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホナト基と称す)、モノアリールホスホノ基(−POH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスホナト基と称す)、ホスホノオキシ基(−OPO2)及びその共役塩基基(以後、ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO(alkyl))、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO(aryl))、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPOH(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPOH(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、シリル基が挙げられる。
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、これらは更に置換基を有していてもよい。
As the substituent of the substituted alkyl group, a monovalent non-metallic atomic group other than hydrogen is used. Preferred examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups, alkoxy groups. Group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diaryl Amino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy Group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy , Arylsulfoxy group, acyloxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N-alkylureido group, N, N-dialkylureido group, N-arylureido Group, N, N-diarylureido group, N-alkyl-N-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N-alkyl-N-alkylureido group, N-alkyl-N-arylureido Group, N, N-dialkyl-N-alkylureido group, N, N-dialkyl-N-arylureido group, N-aryl-N-alkylureido group, N-aryl-N-arylureido group, N, N- Diaryl-N-alkylureido group, N, N-diaryl-N-arylureido group, N- Alkyl-N-aryl-N-alkylureido group, N-alkyl-N-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N- Alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group , Carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group Nyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (hereinafter referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfina Moyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfato group Famoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group), a dialkyl phosphonate Group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonate group). ), A phosphonooxy group (—OPO 3 H 2) and its conjugate base group (hereinafter referred to as phosphonatoxy group), a dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), a diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (—OPO 3 ( aryl) 2), alkylaryl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )), Monoarukiruho Honookishi group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (hereinafter referred to as alkylphosphonato group), monoarylphosphono group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (hereinafter And cyano group, nitro group, aryl group, heteroaryl group, alkenyl group, alkynyl group, and silyl group.
Specific examples of the alkyl group in these substituents include the alkyl groups described above, and these may further have a substituent.

また、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the aryl group include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group. , Ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl Group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl group, phenyl group, cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonopheny Group, and a phosphate Hona preparative phenyl group.

ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、又は多環芳香族環から誘導される基が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基中のヘテロアリール環の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等が挙げられ、これらは、更にベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。   As the heteroaryl group, a group derived from a monocyclic or polycyclic aromatic ring containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms is used, and as a particularly preferred example of the heteroaryl ring in the heteroaryl group, Is, for example, thiophene, thiathrene, furan, pyran, isobenzofuran, chromene, xanthene, phenoxazine, pyrrole, pyrazole, isothiazole, isoxazole, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, indolizine, isoindolizine, indolizine, indazole, indazole, Purine, quinolidine, isoquinoline, phthalazine, naphthyridine, quinazoline, sinoline, pteridine, carbazole, carboline, phenanthrine, acridine, perimidine, phenanthrolin, phthalazine, phenalazine, phenoxazine, flaza , Include phenoxazine and the like, it may be further benzo-fused or may have a substituent.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(GCO−)におけるGとしては、水素、並びに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基のうち、更により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスホナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール基、アルケニル基、アルキリデン基(メチレン基等)が挙げられる。 Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. Examples of G 1 in the acyl group (G 1 CO—) include hydrogen and the above alkyl groups and aryl groups. Among these substituents, even more preferred are halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), alkoxy groups, aryloxy groups, alkylthio groups, arylthio groups, N-alkylamino groups, N, N— Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group Group, N-arylsulfide Moyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonato group, dialkyl phosphono group, diaryl phosphono group, monoalkyl phosphono group, alkyl phosphonato group, monoaryl phosphono group, aryl phospho Examples thereof include a nato group, a phosphonooxy group, a phosphonatoxy group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkylidene group (such as a methylene group).

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状並びに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms.

上記置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるR、R、又はRとして好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトプロピル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of preferred substituted alkyl groups as R 1 , R 2 , or R 3 obtained by combining the above substituents and alkylene groups include chloromethyl group, bromomethyl group, 2-chloroethyl group, trifluoromethyl group, methoxy Methyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N -Cyclohexylcarbamoyloxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxy Rubonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl -N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatopropyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N- Tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, Methyl Phosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p -Methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, etc. Can be mentioned.

、R、又はRとして好ましいアリール基の具体例としては、1個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。 Specific examples of preferred aryl groups as R 1 , R 2 , or R 3 include those in which 1 to 3 benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable. preferable.

、R、又はRとして好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、(水素原子以外の)1価の非金属原子団の基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、並びに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。このような、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフェニル基、1−プロペニルメチルフェニル基、2−ブテニルフェニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。 Specific examples of the preferred substituted aryl group as R 1 , R 2 , or R 3 include a monovalent nonmetallic atomic group (other than a hydrogen atom) as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aryl group. What has is used. Examples of preferred substituents include the aforementioned alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group. Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, cal Xiphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl Methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonophenyl group, allylphenyl group, 1-propenylmethylphenyl group, 2-butenylphenyl group, 2-methylallylphenyl group, Examples include 2-methylpropenylphenyl group, 2-propynylphenyl group, 2-butynylphenyl group, 3-butynylphenyl group, and the like.

なお、R及びRの更に好ましい例としては、置換若しくは無置換のアルキル基が挙げられる。また、Rの更に好ましい例としては、置換若しくは無置換のアリール基が挙げられる。その理由は定かではないが、このような置換基を有することで、光吸収により生じる電子励起状態と開始剤化合物との相互作用が特に大きくなり、開始剤化合物のラジカル、酸又は塩基を発生させる効率が向上するためと推定される。 In addition, more preferable examples of R 2 and R 3 include a substituted or unsubstituted alkyl group. Further, more preferred examples of R 1 include a substituted or unsubstituted aryl group. The reason is not clear, but by having such a substituent, the interaction between the electronically excited state caused by light absorption and the initiator compound becomes particularly large, and the radical, acid or base of the initiator compound is generated. It is estimated that the efficiency is improved.

次に、一般式(XVIII)におけるAについて説明する。Aは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環の具体例としては、一般式(XVIII)におけるR、R、又はRについての前述の説明において例示したものと同様のものが挙げられる。
中でも、好ましいAとしては、アルコキシ基、チオアルキル基、アミノ基を有するアリール基が挙げられ、特に好ましいAとしてはアミノ基を有するアリール基が挙げられる。
Next, A in the general formula (XVIII) will be described. A represents an aromatic ring or a heterocyclic ring which may have a substituent. Specific examples of the aromatic ring or heterocyclic ring which may have a substituent include R 1 and R 2 in the general formula (XVIII). , Or the same as those exemplified in the above description of R 3 .
Among them, preferable A includes an alkoxy group, a thioalkyl group, and an aryl group having an amino group, and particularly preferable A includes an aryl group having an amino group.

次に、一般式(XVIII)におけるYについて説明する。Yは上述のA及び隣接炭素原子と共同して、複素環を形成するのに必要な非金属原子団を表す。このような複素環としては縮合環を有していてもよい5、6、7員の含窒素、或いは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは5、6員の複素環がよい。   Next, Y in the general formula (XVIII) will be described. Y represents a nonmetallic atomic group necessary for forming a heterocyclic ring in cooperation with the above-described A and adjacent carbon atoms. Examples of such a heterocyclic ring include 5-, 6-, and 7-membered nitrogen-containing or sulfur-containing heterocyclic rings that may have a condensed ring, and preferably 5- or 6-membered heterocyclic rings.

含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brookerら著、ジャーナル オブ アメリカンケミカル ソサエティ(J.Am.Chem.Soc.)第73巻(1951年)、p.5326−5358及び参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。
具体例としては、チアゾール類(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、4−フェニルチアゾール、5−メチルチアゾール、5−フェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、4,5−ジフェニルチアゾール、4,5−ジ(p−メトキシフェニルチアゾール)、4−(2−チエニル)チアゾール、4,5−ジ(2−フリル)チアゾール等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾール、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチアゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メチルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、5−ブロモベンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチアゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベンゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾチアゾール、5,6−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシベンゾチアゾール、6ージメチルアミノベンゾチアゾール、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、等)、ナフトチアゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾール、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフト[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1]チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾール、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール、等)、チアナフテノ−7,6,4,5−チアゾール類(例えば、4−メトキシチアナフテノ−7,6,4,5−チアゾール、等)、オキサゾール類(例えば、4−メチルオキサゾール、5−メチルオキサゾール、4−フェニルオキサゾール、4,5−ジフェニルオキサゾール、4−エチルオキサゾール、4,5−ジメチルオキサゾール、5−フェニルオキサゾール等)、ベンゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、5,6−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾール、5−メトキシベンゾオキサゾール、4−エトキシベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6ーメトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾオキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール、等)、
Examples of nitrogen-containing heterocycles include L. G. Brooker et al., Journal of American Chemical Society, J. Am. Chem. Soc., Vol. 73 (1951), p. Any of those known to constitute a basic nucleus in merocyanine dyes described in 5326-5358 and references can be suitably used.
Specific examples include thiazoles (for example, thiazole, 4-methylthiazole, 4-phenylthiazole, 5-methylthiazole, 5-phenylthiazole, 4,5-dimethylthiazole, 4,5-diphenylthiazole, 4,5- Di (p-methoxyphenylthiazole), 4- (2-thienyl) thiazole, 4,5-di (2-furyl) thiazole, etc.), benzothiazoles (for example, benzothiazole, 4-chlorobenzothiazole, 5-chloro Benzothiazole, 6-chlorobenzothiazole, 7-chlorobenzothiazole, 4-methylbenzothiazole, 5-methylbenzothiazole, 6-methylbenzothiazole, 5-bromobenzothiazole, 4-phenylbenzothiazole, 5-phenylbenzothiazole 4-methoxybenzo Azole, 5-methoxybenzothiazole, 6-methoxybenzothiazole, 5-iodobenzothiazole, 6-iodobenzothiazole, 4-ethoxybenzothiazole, 5-ethoxybenzothiazole, tetrahydrobenzothiazole, 5,6-dimethoxybenzothiazole, 5,6-dioxymethylenebenzothiazole, 5-hydroxybenzothiazole, 6-hydroxybenzothiazole, 6-dimethylaminobenzothiazole, 5-ethoxycarbonylbenzothiazole, etc.), naphthothiazoles (for example, naphtho [1,2 ] Thiazole, naphtho [2,1] thiazole, 5-methoxynaphtho [2,1] thiazole, 5-ethoxynaphtho [2,1] thiazole, 8-methoxynaphtho [1,2] thiazole, 7-methoxynaphtho [ , 2] thiazole, etc.), thianaphtheno-7,6,4,5-thiazoles (eg 4-methoxythianaphtheno-7,6,4,5-thiazole etc.), oxazoles (eg 4-methyl Oxazole, 5-methyl oxazole, 4-phenyl oxazole, 4,5-diphenyl oxazole, 4-ethyl oxazole, 4,5-dimethyl oxazole, 5-phenyl oxazole, etc.), benzoxazoles (benzoxazole, 5-chlorobenzoxazole) 5-methylbenzoxazole, 5-phenylbenzoxazole, 6-methylbenzoxazole, 5,6-dimethylbenzoxazole, 4,6-dimethylbenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-methoxybenzoxazole, 4-ethoxyben Zooxazole, 5-chlorobenzoxazole, 6-methoxybenzoxazole, 5-hydroxybenzoxazole, 6-hydroxybenzoxazole, etc.),

ナフトオキサゾール類(例えば、ナフト[1,2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール、等)、セレナゾール類(例えば、4−メチルセレナゾール、4−フェニルセレナゾール、等)、ベンゾセレナゾール類(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾセレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール、等)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]セレナゾール、等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4−メチルチアゾリン、4,5−ジメチルチアゾリン、4−フェニルチアゾリン、4,5−ジ(2−フリル)チアゾリン、4,5−ジフェニルチアゾリン、4,5−ジ(p−メトキシフェニル)チアゾリン等)、2−キノリン類(例えば、キノリン、3−メチルキノリン、5−メチルキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、6−クロロキノリン、8−クロロキノリン、6−メトキシキノリン、6−エトキシキノリン、6ーヒドロキシキノリン、8−ヒドロキシキノリン、等)、4−キノリン類(例えば、キノリン、6−メトキシキノリン、7−メチルキノリン、8−メチルキノリン、等)、1−イソキノリン類(例えば、イソキノリン、3,4−ジヒドロイソキノリン、等)、3−イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、ベンズイミダゾール類(例えば、1,3−ジメチルベンズイミダゾール、1,3−ジエチルベンズイミダゾール、1−エチル−3−フェニルベンズイミダゾール、等)、3,3−ジアルキルインドレニン類(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3,5−トリメチルインドレニン、3,3,7−トリメチルインドレニン、等)、2−ピリジン類(例えば、ピリジン、5−メチルピリジン、等)、4−ピリジン(例えば、ピリジン等)等を挙げることができる。また、これらの環の置換基同士が結合して環を形成していてもよい。   Naphthoxazoles (eg, naphtho [1,2] oxazole, naphtho [2,1] oxazole, etc.), selenazoles (eg, 4-methylselenazole, 4-phenylselenazole, etc.), benzoselenazoles ( For example, benzoselenazole, 5-chlorobenzoselenazole, 5-methoxybenzoselenazole, 5-hydroxybenzoselenazole, tetrahydrobenzoselenazole, etc.), naphthoselenazoles (for example, naphtho [1,2] selenazole, Naphtho [2,1] selenazole, etc.], thiazolines (for example, thiazoline, 4-methylthiazoline, 4,5-dimethylthiazoline, 4-phenylthiazoline, 4,5-di (2-furyl) thiazoline, 4,5 -Diphenylthiazoline, 4,5-di (p-methoxyphenyl) thi Zoline, etc.), 2-quinolines (for example, quinoline, 3-methylquinoline, 5-methylquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, 6-chloroquinoline, 8-chloroquinoline, 6-methoxyquinoline, 6- Ethoxyquinoline, 6-hydroxyquinoline, 8-hydroxyquinoline, etc.), 4-quinolines (eg, quinoline, 6-methoxyquinoline, 7-methylquinoline, 8-methylquinoline, etc.), 1-isoquinolines (eg, Isoquinoline, 3,4-dihydroisoquinoline, etc.), 3-isoquinolines (eg, isoquinoline, etc.), benzimidazoles (eg, 1,3-dimethylbenzimidazole, 1,3-diethylbenzimidazole, 1-ethyl-3) -Phenylbenzimidazole, etc.), 3,3-dialkylin Renins (eg, 3,3-dimethylindolenine, 3,3,5-trimethylindolenine, 3,3,7-trimethylindolenine, etc.), 2-pyridines (eg, pyridine, 5-methylpyridine, Etc.), 4-pyridine (for example, pyridine etc.) and the like. Moreover, the substituents of these rings may combine to form a ring.

また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平3−296759号記載の色素類におけるジチオール部分構造を挙げることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類(例えば、ベンゾジチオール、5−t−ブチルベンゾジチオール、5−メチルベンゾジチオール、等)、ナフトジチオール類(例えば、ナフト[1,2]ジチオール、ナフト[2,1]ジチオール、等)、ジチオール類(例えば、4,5−ジメチルジチオール類、4−フェニルジチオール類、4−メトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジメトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジエトキシカルボニルジチオール類、4,5−ジトリフルオロメチルジチオール、4,5−ジシアノジチオール、4−メトキシカルボニルメチルジチオール、4−カルボキシメチルジチオール、等)等を挙げることができる。
Examples of the sulfur-containing heterocycle include a dithiol partial structure in dyes described in JP-A-3-296759.
Specific examples include benzodithiols (eg, benzodithiol, 5-t-butylbenzodithiol, 5-methylbenzodithiol, etc.), naphthodithiols (eg, naphtho [1,2] dithiol, naphtho [2,1 Dithiols, etc.), dithiols (for example, 4,5-dimethyldithiols, 4-phenyldithiols, 4-methoxycarbonyldithiols, 4,5-dimethoxycarbonyldithiols, 4,5-diethoxycarbonyldithiols) 4,5-ditrifluoromethyldithiol, 4,5-dicyanodithiol, 4-methoxycarbonylmethyldithiol, 4-carboxymethyldithiol, etc.).

以上に述べた一般式(XVIII)における、Yが上述のA及び隣接する炭素原子と共同して形成する含窒素或いは含硫黄複素環の例のうち、下記一般式(XVIII−2)の部分構造式で表される構造を有する色素は、高い増感能を有する上、保存安定性にも非常に優れた感光性組成物を与えるため、特に好ましい。一般式(XVIII−2)で表される構造を有する色素は新規化合物として、特願2003−311253明細書に詳細に記載した化合物である。   Of the examples of the nitrogen-containing or sulfur-containing heterocycle formed by Y in cooperation with the above-mentioned A and the adjacent carbon atom in the general formula (XVIII) described above, the partial structure of the following general formula (XVIII-2) The dye having the structure represented by the formula is particularly preferable because it provides a photosensitive composition having high sensitizing ability and extremely excellent storage stability. The dye having the structure represented by the general formula (XVIII-2) is a compound described in detail in Japanese Patent Application No. 2003-31253 as a novel compound.


(一般式(XVIII−2)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子ないし−N(R)−を表す。R、R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、AとR、R、R、Rは、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。)
一般式(XVIII−2)中、A及びRは一般式(XVIII)におけるのと同義であり、Rは一般式(XVIII)におけるRと、Rは一般式(XVIII)におけるRと、Rは一般式(XVIII)におけるRと、それぞれ同義である。
(In General Formula (XVIII-2), A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom or -N (R 1 )-. R 1 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and A and R 1 , R 4 , R 5 and R 6 are bonded to each other to form an aliphatic group. Or aromatic ring can be formed.)
In formula (XVIII-2), A and R 1 are the same as in the general formula (XVIII), R 4 and R 2 in the general formula (XVIII), R 5 is R 3 in the general formula (XVIII) And R 6 has the same meaning as R 1 in formula (XVIII).

次に本発明に用いられる一般式(XVIII)で表される化合物の好ましい態様である一般式(XVIII−3)で表される化合物について説明する。   Next, the compound represented by formula (XVIII-3), which is a preferred embodiment of the compound represented by formula (XVIII) used in the present invention, will be described.


前記一般式(XVIII−3)中、Aは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子ないし−N(R)−を表す。R、R、Rは、それぞれ独立に、水素原子又は、一価の非金属原子団であり、R、R、及びRはそれぞれAと結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。Arは置換基を有する芳香族環又はヘテロ環を表す。但し、Ar骨格上の置換基は、そのハメット値の総和が0より大きいことを要する。ここでハメット値の総和が0より大きいとは、1つの置換基を有し、その置換基のハメット値が0より大きいものであってもよく、複数の置換基を有し、それらの置換基におけるハメット値の総和が0より大きいものであってもよい。 In the general formula (XVIII-3), A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom or -N (R 1 )-. R 1 , R 4 , and R 5 are each independently a hydrogen atom or a monovalent non-metallic atomic group, and R 1 , R 4 , and R 5 are each bonded to A to be aliphatic or aromatic A family ring can be formed. Ar represents an aromatic ring or a heterocyclic ring having a substituent. However, the substituent on the Ar skeleton needs to have a sum of Hammett values greater than zero. Here, the sum of the Hammett values is greater than 0 means that the substituent has one substituent, and the Hammett value of the substituent may be greater than 0, and has a plurality of substituents. The sum of Hammett values at may be greater than zero.

一般式(XVIII−3)中、A及びRは一般式(XVIII)におけるものと同義であり、Rは一般式(XVIII)におけるRと、Rは一般式(XVIII)におけるRと同義である。また、Arは置換基を有する芳香族環又はヘテロ環を表し、具体例としては、先に一般式(XVIII)におけるAの説明に記載されたもののうち、置換基を有する芳香族環又はヘテロ環に係る具体例が同様に挙げられる。ただし、一般式(XVIII−3)におけるArに導入可能な置換基としては、ハメット値の総和が0以上であることが必須であり、そのような置換基の例としては、トリフルオロメチル基、カルボニル基、エステル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、スルホキシド基、アミド基、カルボキシル基等を挙げることができる。これら置換基のハメット値を以下に示す。トリフルオロメチル基(−CF、m:0.43、p:0.54)、カルボニル基(例えば−COHm:0.36、p:0.43)、エステル基(−COOCH、m:0.37、p:0.45)、ハロゲン原子(例えばCl、m:0.37、p:0.23)、シアノ基(−CN、m:0.56、p:0.66)、スルホキシド基(例えば−SOCH、m:0.52、p:0.45)、アミド基(例えば−NHCOCH、m:0.21、p:0.00)、カルボキシル基(−COOH、m:0.37、p:0.45)等が挙げられる。かっこ内は、その置換基のアリール骨格における導入位置と、そのハメット値を表し、(m:0.50)とは、当該置換基がメタ位に導入された時のハメット値が0.50であることを示す。このうち、Arの好ましい例としては置換基を有するフェニル基を挙げることができ、Ar骨格上の好ましい置換基としてはエステル基、シアノ基が挙げられる。置換の位置としてはAr骨格上のオルト位に位置していることが特に好ましい。 In formula (XVIII-3), A and R 1 have the same meanings as in formula (XVIII), R 4 and R 2 in the general formula (XVIII), R 5 is R 3 in the general formula (XVIII) It is synonymous with. Ar represents an aromatic ring or heterocyclic ring having a substituent, and specific examples thereof include an aromatic ring or heterocyclic ring having a substituent among those previously described in the description of A in the general formula (XVIII). The specific example which concerns is mentioned similarly. However, as a substituent that can be introduced into Ar in the general formula (XVIII-3), it is essential that the sum of Hammett values is 0 or more. Examples of such a substituent include a trifluoromethyl group, Examples include a carbonyl group, an ester group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a sulfoxide group, an amide group, and a carboxyl group. The Hammett values of these substituents are shown below. Trifluoromethyl group (—CF 3 , m: 0.43, p: 0.54), carbonyl group (eg, —COHm: 0.36, p: 0.43), ester group (—COOCH 3 , m: 0 .37, p: 0.45), halogen atom (eg, Cl, m: 0.37, p: 0.23), cyano group (—CN, m: 0.56, p: 0.66), sulfoxide group (For example, —SOCH 3 , m: 0.52, p: 0.45), an amide group (for example, —NHCOCH 3 , m: 0.21, p: 0.00), a carboxyl group (—COOH, m: 0. 37, p: 0.45). The parenthesis represents the introduction position of the substituent in the aryl skeleton and the Hammett value, and (m: 0.50) is the Hammett value of 0.50 when the substituent is introduced at the meta position. Indicates that there is. Among these, preferable examples of Ar include a phenyl group having a substituent, and preferable substituents on the Ar skeleton include an ester group and a cyano group. The substitution position is particularly preferably located at the ortho position on the Ar skeleton.

以下に、本発明に係る一般式(XVIII)で表される増感色素の好ましい具体例〔例示化合物(F1)〜例示化合物(F56)〕を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Preferred specific examples of the sensitizing dye represented by the general formula (XVIII) according to the present invention [Exemplary Compound (F1) to Illustrative Compound (F56)] are shown below, but the present invention is not limited to these. Absent.









本発明に適用可能な前記増感色素の中でも、前記一般式(XVIII)で表される化合物が、深部硬化性の観点から好ましい。   Among the sensitizing dyes applicable to the present invention, the compound represented by the general formula (XVIII) is preferable from the viewpoint of deep part curability.

上記の増感色素に関しては、着色感光性組成物の特性を改良する目的で、以下のような種々の化学修飾を行うことが可能である。例えば、増感色素と、付加重合性化合物構造(例えば、アクリロイル基やメタクリロイル基)とを、共有結合、イオン結合、水素結合等の方法により結合させることで、架橋硬化膜の高強度化や、架橋硬化膜からの色素の不要な析出抑制効果向上を得ることができる。   The above sensitizing dye can be subjected to various chemical modifications as described below for the purpose of improving the characteristics of the colored photosensitive composition. For example, by combining a sensitizing dye and an addition polymerizable compound structure (for example, an acryloyl group or a methacryloyl group) by a method such as a covalent bond, an ionic bond, or a hydrogen bond, An improvement in the effect of suppressing the unnecessary precipitation of the dye from the crosslinked cured film can be obtained.

増感色素の含有量は、着色感光性組成物の全固形分に対し、0.01〜20質量%が好ましく、より好ましくは、0.01〜10質量%であり、更に好ましくは0.1〜5質量%である。
増感色素の含有量がこの範囲であることで、超高圧水銀灯の露光波長に対して高感度であり、膜深部硬化性が得られると共に、現像マージン、パターン形成性の点で好ましい。
The content of the sensitizing dye is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 10% by mass, and still more preferably 0.1% with respect to the total solid content of the colored photosensitive composition. ˜5 mass%.
When the content of the sensitizing dye is within this range, it is highly sensitive to the exposure wavelength of the ultra-high pressure mercury lamp, and it is preferable in terms of development margin and pattern formability as well as deep film curability.

(溶剤)
本発明の着色感光性組成物は、一般に上記成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。
溶剤としては、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチルなどの3−オキシプロピオン酸アルキルエステル類;3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチル等;エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等;ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン、等が挙げられる。
(solvent)
In general, the colored photosensitive composition of the present invention can be suitably prepared using a solvent together with the above components.
Examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, and lactic acid. 3 such as ethyl, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate -Oxypropionic acid alkyl esters; methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, 2-oxypropion Ethyl, propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, 2-oxy-2- Methyl methyl propionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, Methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate and the like; ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether Ter, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol propyl ether acetate, etc .; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc .; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and the like.

これらのうち、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いる以外に2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Of these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethyl carbitol acetate, butyl Carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are suitable.
You may use a solvent in combination of 2 or more types besides using independently.

−その他成分−
本発明の着色感光性組成物には、必要に応じて、連鎖移動剤、フッ素系有機化合物、熱重合開始剤、熱重合成分、熱重合防止剤、その他充填剤、上記のアルカリ可溶性樹脂以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤などの各種添加物を含有することができる。
-Other components-
In the colored photosensitive composition of the present invention, a chain transfer agent, a fluorine-based organic compound, a thermal polymerization initiator, a thermal polymerization component, a thermal polymerization inhibitor, other fillers, and other than the above alkali-soluble resin, if necessary. Various additives such as a polymer compound, a surfactant, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor can be contained.

(連鎖移動剤)
連鎖移動剤としては、例えば、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルなどのN,N−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾールなどの複素環を有するメルカプト化合物、及び脂肪族多官能メルカプト化合物などが挙げられる。
連鎖移動剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Chain transfer agent)
Examples of the chain transfer agent include N, N-dialkylaminobenzoic acid alkyl esters such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2-mercaptobenzimidazole. Examples include a mercapto compound having a heterocyclic ring and an aliphatic polyfunctional mercapto compound.
A chain transfer agent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

<フッ素系有機化合物>
フッ素系有機化合物を含有することで、本発明の着色感光性組成物を塗布液としたときの液特性(特に流動性)を改善でき、塗布厚の均一性や省液性を改善することができる。すなわち、基板と塗布液との界面張力を低下させせることにより基板への濡れ性が改善され、基板への塗布性が向上するので、少量の液量で数μm程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成が可能である点で有効である。
<Fluorine organic compounds>
By containing a fluorinated organic compound, liquid properties (particularly fluidity) when the colored photosensitive composition of the present invention is used as a coating liquid can be improved, and uniformity of coating thickness and liquid-saving property can be improved. it can. That is, by reducing the interfacial tension between the substrate and the coating solution, the wettability to the substrate is improved and the coating property to the substrate is improved, so when a thin film of about several μm is formed with a small amount of liquid. Even in such a case, it is effective in that a film having a uniform thickness with small thickness unevenness can be formed.

フッ素系有機化合物のフッ素含有率は3〜40質量%が好適であり、より好ましくは5〜30質量%であり、特に好ましくは7〜25質量%である。フッ素含有率が前記範囲内であると、塗布厚均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中への溶解性も良好である。   3-40 mass% is suitable for the fluorine content rate of a fluorine-type organic compound, More preferably, it is 5-30 mass%, Most preferably, it is 7-25 mass%. When the fluorine content is within the above range, it is effective in terms of coating thickness uniformity and liquid-saving properties, and the solubility in the composition is also good.

フッ素系有機化合物としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437(以上、大日本インキ化学工業(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)等が挙げられる。
フッソ系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物を好適に用いることができる。具体的市販品としては、例えばメガファックF142D、同F172、同F173、同F176、同F177、同F183、同780、同781、同R30、同R08、同F−472SF、同BL20、同R−61、同R−90(大日本インキ(株)製)、フロラードFC−135、同FC−170C、同FC−430、同FC−431、Novec FC−4430(住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG7105,7000,950,7600、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141、同S−145、同S−382、同SC−101、同SC−102、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC−106(旭硝子(株)製)、エフトップEF351、同352、同801、同802(JEMCO(株)製)などである。
Examples of the fluorinated organic compound include MegaFuck F171, F172, F173, F177, F141, F142, F143, F144, R30, and F437 (above, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Manufactured), FLORARD FC430, FC431, FC171 (above, manufactured by Sumitomo 3M), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, S393, and KH-40 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).
As the fluorosurfactant, a compound having a fluoroalkyl or fluoroalkylene group in at least one of the terminal, main chain and side chain can be suitably used. Specific commercial products include, for example, MegaFuck F142D, F172, F173, F176, F176, F177, F183, 780, 781, R30, R08, F-472SF, BL20, R- 61, R-90 (Dainippon Ink Co., Ltd.), Florard FC-135, FC-170C, FC-430, FC-431, Novec FC-4430 (Sumitomo 3M Limited), Asahi Guard AG7105, 7000, 950, 7600, Surflon S-112, S-113, S-131, S-141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, SC-103, SC-104, SC-105, SC-106 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Ftop EF351, 352, 801, 802 (Manufactured by JEMCO).

フッ素系有機化合物は特に、塗布膜を薄くしたときの塗布ムラや厚みムラの防止に効果的である。また、更には液切れを起こしやすいスリット塗布においても効果的である。   The fluorine-based organic compound is particularly effective in preventing coating unevenness and thickness unevenness when the coating film is thinned. Further, it is also effective in slit coating that is liable to cause liquid breakage.

フッ素系有機化合物の添加量は、着色感光性組成物の全質量に対して、0.001〜2.0質量%が好ましく、より好ましくは0.005〜1.0質量%である。   0.001-2.0 mass% is preferable with respect to the total mass of a coloring photosensitive composition, and, as for the addition amount of a fluorine-type organic compound, More preferably, it is 0.005-1.0 mass%.

<熱重合開始剤>
本発明の着色感光性組成物には、熱重合開始剤を含有させることも有効である。熱重合開始剤としては、例えば、各種のアゾ系化合物、過酸化物系化合物が挙げられ、前記アゾ系化合物としては、アゾビス系化合物を挙げることができ、前記過酸化物系化合物としては、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアルキルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネートなどを挙げることができる。
<Thermal polymerization initiator>
It is also effective to contain a thermal polymerization initiator in the colored photosensitive composition of the present invention. Examples of the thermal polymerization initiator include various azo compounds and peroxide compounds. Examples of the azo compounds include azobis compounds. Examples of the peroxide compounds include ketones. Examples thereof include peroxides, peroxyketals, hydroperoxides, dialkyl peroxides, diacyl peroxides, peroxyesters, peroxydicarbonates, and the like.

<熱重合成分>
本発明の着色感光性組成物には、熱重合成分を含有させることも有効である。必要によっては、塗膜の強度を上げるために、エポキシ化合物を添加することができる。エポキシ化合物の例としては、ビスフェノールA型、クレゾールノボラック型、ビフェニル型、脂環式エポキシ化合物などのエポキシ環を分子中に2個以上有する化合物が挙げられる。例えばビスフェノールA型の化合物の例としては、エポトートYD−115、YD−118T、YD−127、YD−128、YD−134、YD−8125、YD−7011R、ZX−1059、YDF−8170、YDF−170など(以上東都化成製)、デナコールEX−1101、EX−1102、EX−1103など(以上ナガセ化成製)、プラクセルGL−61、GL−62、G101、G102(以上ダイセル化学製)の他に、これらの類似のビスフェノールF型、ビスフェノールS型も挙げることができる。またEbecryl 3700、3701、600(以上ダイセルユーシービー製)などのエポキシアクリレートも使用可能である。クレゾールノボラック型としては、エポトートYDPN−638、YDPN−701、YDPN−702、YDPN−703、YDPN−704など(以上東都化成製)、デナコールEM−125など(以上ナガセ化成製)、ビフェニル型としては3,5,3’,5’−テトラメチル−4,4’ジグリシジルビフェニルなど、脂環式エポキシ化合物としては、セロキサイド2021、2081、2083、2085、エポリードGT−301、GT−302、GT−401、GT−403、EHPE−3150(以上ダイセル化学製)、サントートST−3000、ST−4000、ST−5080、ST−5100など(以上東都化成製)などを挙げることができる。また1,1,2,2−テトラキス(p−グリシジルオキシフェニル)エタン、トリス(p−グリシジルオキシフェニル)メタン、トリグリシジルトリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、o−フタル酸ジグリシジルエステル、テレフタル酸ジグリシジルエステル、他にアミン型エポキシ樹脂であるエポトートYH−434、YH−434L、ビスフェノールA型エポキシ樹脂の骨格中にダイマー酸を変性したグリシジルエステル等も使用できる。
<Thermal polymerization component>
It is also effective to contain a thermal polymerization component in the colored photosensitive composition of the present invention. If necessary, an epoxy compound can be added to increase the strength of the coating film. Examples of the epoxy compound include compounds having two or more epoxy rings in the molecule such as bisphenol A type, cresol novolac type, biphenyl type, and alicyclic epoxy compound. Examples of bisphenol A type compounds include Epototo YD-115, YD-118T, YD-127, YD-128, YD-134, YD-8125, YD-7011R, ZX-1059, YDF-8170, YDF- 170 and the like (manufactured by Tohto Kasei), Denacol EX-1101, EX-1102, EX-1103 and the like (manufactured by Nagase Kasei), Plaxel GL-61, GL-62, G101, G102 (manufactured by Daicel Chemical) These similar bisphenol F type and bisphenol S type can also be mentioned. Epoxy acrylates such as Ebecryl 3700, 3701, 600 (manufactured by Daicel UC) may also be used. As cresol novolak type, Epototo YDPN-638, YDPN-701, YDPN-702, YDPN-703, YDPN-704, etc. (above made by Tohto Kasei), Denacol EM-125, etc. (above made by Nagase Kasei), biphenyl type Examples of cycloaliphatic epoxy compounds such as 3,5,3 ′, 5′-tetramethyl-4,4′diglycidylbiphenyl include Celoxide 2021, 2081, 2083, 2085, Epolide GT-301, GT-302, GT- 401, GT-403, EHPE-3150 (manufactured by Daicel Chemical), Santo Tote ST-3000, ST-4000, ST-5080, ST-5100 (manufactured by Tohto Kasei) and the like. 1,1,2,2-tetrakis (p-glycidyloxyphenyl) ethane, tris (p-glycidyloxyphenyl) methane, triglycidyltris (hydroxyethyl) isocyanurate, o-phthalic acid diglycidyl ester, terephthalic acid diester In addition, glycidyl esters such as Epototo YH-434 and YH-434L, which are amine type epoxy resins, and glycidyl esters in which dimer acid is modified in the skeleton of bisphenol A type epoxy resin can be used.

<界面活性剤>
本発明の着色感光性組成物には、塗布性を改良する観点から、各種の界面活性剤を含むことが好ましく、前述のフッソ系界面活性剤の他にノニオン系、カチオン系、アニオン系の各種界面活性剤を使用できる。中でも、前記のノニオン系界面活性剤でパーフルオロアルキル基を有するフッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤が好ましい。
<Surfactant>
The colored photosensitive composition of the present invention preferably contains various surfactants from the viewpoint of improving coatability. In addition to the above-mentioned fluorosurfactants, various nonionic, cationic and anionic types are available. Surfactants can be used. Of these, fluorine-based surfactants having a perfluoroalkyl group and nonionic surfactants are preferred as the nonionic surfactant.

ノニオン系界面活性剤の例として、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤が特に好ましい。具体的には、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリル化エーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−プロピレンポリスチリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類;ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類、エチレンジアミンポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン縮合物などのノニオン系界面活性剤があり、これらは花王(株)、日本油脂(株)、竹本油脂(株)、(株)ADEKA、三洋化成(株)などから市販されているものが適宜使用できる。上記の他に前述の分散剤も使用可能である。   Examples of nonionic surfactants include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters, and the like. Particularly preferred. Specifically, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene polystyrylated ether, polyoxyethylene triethyl ether Polyoxyethylene aryl ethers such as benzyl phenyl ether, polyoxyethylene-propylene polystyryl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether; polyoxyethylene dialkyl esters such as polyoxyethylene dilaurate and polyoxyethylene distearate, sorbitan fatty acid esters , Polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, ethylenediamine polyoxyethylene-polyoxypropylene Nonionic surfactants such as thione condensates, which are commercially available from Kao Corporation, Nippon Oil & Fats Co., Ltd., Takemoto Oil & Fat Co., Ltd., ADEKA Co., Ltd., Sanyo Kasei Co., Ltd., etc. It can be used as appropriate. In addition to the above, the aforementioned dispersants can also be used.

上記以外に、着色感光性組成物には各種の添加物を添加できる。添加物の具体例としては、2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤、ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤、ガラス、アルミナ等の充填剤;イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの、アルコール可溶性ナイロン、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとから形成されたフェノキシ樹脂などのアルカリ可溶の樹脂などがある。   In addition to the above, various additives can be added to the colored photosensitive composition. Specific examples of additives include ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone, and anti-aggregation agents such as sodium polyacrylate. Fillers such as glass and alumina; itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, acidic cellulose derivatives, and acid anhydrides added to hydroxyl group-containing polymers And alcohol-soluble nylon, alkali-soluble resins such as phenoxy resin formed from bisphenol A and epichlorohydrin.

また、未硬化部のアルカリ溶解性を促進し、着色感光性組成物の現像性の更なる向上を図る場合には、着色感光性組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量1000以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行なうことができる。具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸;トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸;安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸;フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。   Further, when the alkali solubility of the uncured part is promoted and the developability of the colored photosensitive composition is further improved, the colored photosensitive composition contains an organic carboxylic acid, preferably a low molecular weight organic compound having a molecular weight of 1000 or less. Carboxylic acid can be added. Specifically, for example, aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, citraconic acid; Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, camphoric acid; aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, mesitylene acid; phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, Aromatic polycarboxylic acids such as trimesic acid, melophanoic acid, pyromellitic acid; phenylacetic acid Hydratropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenyl succinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, other carboxylic acids such as umbellic acid.

<熱重合防止剤>
本発明の着色感光性組成物には、以上のほかに更に、熱重合防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。
<Thermal polymerization inhibitor>
In addition to the above, a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the colored photosensitive composition of the present invention. For example, hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, etc. Useful.

本発明の着色感光性組成物を、直接又は他の層を介して基板に回転塗布、スリット塗布、流延塗布、ロール塗布、バー塗布等の塗布方法により塗布して、光硬化性の塗布膜を形成し、所定のマスクパターンを介して露光し、露光後に未硬化部を現像液で現像除去することによって、各色(3色あるいは4色)の画素からなるパターン状皮膜を形成し、カラーフィルタとすることができる。
この際、使用する放射線としては、特にg線、h線、i線、j線等の紫外線が好ましい。液晶表示装置用のカラーフィルタは、プロキシミテイ露光機、ミラープロジェクション露光機で主としてh線、i線を使用した露光が好ましく、固体撮像素子用のカラーフィルタでは、ステッパー露光機で主としてi線を使用することが好ましい。
The colored photosensitive composition of the present invention is applied to a substrate directly or via another layer by a coating method such as spin coating, slit coating, cast coating, roll coating, bar coating, etc., and a photocurable coating film The film is exposed through a predetermined mask pattern, and after the exposure, the uncured portion is developed and removed with a developer to form a pattern film composed of pixels of each color (three colors or four colors), and a color filter It can be.
In this case, ultraviolet rays such as g-line, h-line, i-line and j-line are particularly preferable as the radiation to be used. For color filters for liquid crystal display devices, exposure using mainly h-line and i-line is preferable in proximity exposure machines and mirror projection exposure machines. In color filters for solid-state image sensors, i-line is mainly used in stepper exposure machines. It is preferable to do.

本発明のカラーフィルタは、既述の本発明の着色感光性組成物を用いてガラスなどの基板上に形成されるものであり、本発明の着色感光性組成物を直接若しくは他の層を介して基板上に例えばスリット塗布によって塗膜を形成した後、この塗膜を乾燥させ、パターン露光し、現像液を用いた現像処理を順次行なうことによって好適に作製することができる。これにより、液晶表示素子や固体撮像素子に用いられるカラーフィルタをプロセス上の困難性が少なく、高品質でかつ低コストに作製することができる。   The color filter of the present invention is formed on a substrate such as glass using the above-described colored photosensitive composition of the present invention, and the colored photosensitive composition of the present invention is directly or via other layers. Then, after forming a coating film on the substrate by, for example, slit coating, the coating film is dried, subjected to pattern exposure, and development processing using a developer can be sequentially performed. Thereby, the color filter used for a liquid crystal display element and a solid-state image sensor has few process difficulties, and can be manufactured with high quality and low cost.

前記基板としては、例えば、液晶表示素子等に用いられる無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラス、及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等、並びにプラスチック基板が挙げられる。これらの基板上には、通常、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていたり、密着促進等のために透明樹脂層を設けたりしている。   Examples of the substrate include non-alkali glass, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, and those obtained by attaching a transparent conductive film to these substrates, and solid-state imaging devices. Examples thereof include a photoelectric conversion element substrate such as a silicon substrate, and a plastic substrate. On these substrates, a black matrix for isolating each pixel is usually formed, or a transparent resin layer is provided for promoting adhesion.

プラスチック基板には、その表面にガスバリヤー層及び/又は耐溶剤性層を有していることが好ましい。このほかに、薄膜トランジスター(TFT)方式カラー液晶表示装置の薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板(以下、「TFT方式液晶駆動用基板」という。)上にも本発明の着色感光性組成物からなるパターン状皮膜を形成し、カラーフィルタを作成することができる。その際に使用されるフォトマスクには、画素を形成するためのパターンのほか、スルーホールあるいはコの字型の窪みを形成するためのパターンも設けられている。TFT方式液晶駆動用基板における基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。例えば、TFT方式液晶駆動用基板の表面上、あるいは該駆動基板の表面に窒化ケイ素膜等のパッシベーション膜を形成した基板等を挙げることができる。   The plastic substrate preferably has a gas barrier layer and / or a solvent resistant layer on its surface. In addition, the colored photosensitive property of the present invention is also applied to a driving substrate (hereinafter referred to as “TFT type liquid crystal driving substrate”) on which a thin film transistor (TFT) of a thin film transistor (TFT) type color liquid crystal display device is arranged. A color filter can be prepared by forming a patterned film made of the composition. The photomask used at that time is provided with a pattern for forming a through hole or a U-shaped depression in addition to a pattern for forming a pixel. Examples of the substrate in the TFT type liquid crystal driving substrate include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, and polyimide. These substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired. For example, a substrate in which a passivation film such as a silicon nitride film is formed on the surface of a TFT liquid crystal driving substrate or a surface of the driving substrate can be used.

本発明の着色感光性組成物を基板に塗布する方法としては特に限定されるものではないが、スリット・アンド・スピン法、スピンレス塗布法等のスリットノズルを用いる方法(以下スリットノズル塗布法という)が好ましい。スリットノズル塗布法において、スリット・アンド・スピン塗布法とスピンレス塗布法は、塗布基板の大きさによって条件は異なるが、例えばスピンレス塗布法により第五世代のガラス基板(1100mm×1250mm)を塗布する場合、スリットノズルからの着色感光性組成物の吐出量は、通常、500〜2000マイクロリットル/秒、好ましくは800〜1500マイクロリットル/秒であり、また塗工速度は、通常、50〜300mm/秒、好ましくは100〜200mm/秒である。感光性組成物の固形分としては通常、10〜20%、好ましくは13〜18%である。基板上に本発明の感光性組成物による塗膜を形成する場合、該塗膜の厚み(プリベーク処理後)としては、一般に0.3〜5.0μmであり、望ましくは0.5〜4.0μm、最も望ましくは0.5〜3.0μmである。   A method for applying the colored photosensitive composition of the present invention to a substrate is not particularly limited, but a method using a slit nozzle such as a slit-and-spin method or a spinless coating method (hereinafter referred to as a slit nozzle coating method). Is preferred. In the slit nozzle coating method, the slit-and-spin coating method and the spinless coating method have different conditions depending on the size of the coated substrate. For example, when a fifth generation glass substrate (1100 mm × 1250 mm) is coated by the spinless coating method. The discharge amount of the colored photosensitive composition from the slit nozzle is usually 500 to 2000 microliter / second, preferably 800 to 1500 microliter / second, and the coating speed is usually 50 to 300 mm / second. , Preferably it is 100-200 mm / sec. The solid content of the photosensitive composition is usually 10 to 20%, preferably 13 to 18%. When forming the coating film by the photosensitive composition of this invention on a board | substrate, as thickness (after a prebaking process) of this coating film, it is generally 0.3-5.0 micrometers, Preferably it is 0.5-4. It is 0 μm, most preferably 0.5 to 3.0 μm.

通常は塗布後にプリベーク処理を施す。必要によってプリベーク前に真空処理を施すことができる。真空乾燥の条件は、真空度が、通常、0.1〜1.0torr、好ましくは0.2〜0.5torr程度である。
プリベーク処理は、ホットプレート、オーブン等を用いて50〜140℃の温度範囲で、好ましくは70〜110℃程度であり、10〜300秒の条件にて行なうことができる。高周波処理などを併用しても良い。高周波処理は単独でも使用可能である。
Usually, a pre-baking process is performed after application. If necessary, vacuum treatment can be performed before pre-baking. The vacuum drying condition is that the degree of vacuum is usually about 0.1 to 1.0 torr, preferably about 0.2 to 0.5 torr.
The pre-bake treatment is performed at a temperature range of 50 to 140 ° C., preferably about 70 to 110 ° C., using a hot plate, an oven or the like, and can be performed under conditions of 10 to 300 seconds. A high frequency treatment or the like may be used in combination. The high frequency treatment can be used alone.

現像処理では、露光後の未硬化部を現像液に溶出させ、硬化分のみを残存させる。現像温度としては、通常20〜30℃であり、現像時間としては20〜90秒である。
現像液としては、未硬化部における光硬化性の感光性組成物の塗膜を溶解する一方、硬化部を溶解しないものであれば、いずれのものも用いることができる。具体的には、種々の有機溶剤の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
In the development process, the uncured portion after exposure is eluted in the developer, and only the cured portion remains. The development temperature is usually 20 to 30 ° C., and the development time is 20 to 90 seconds.
Any developer may be used as long as it dissolves the coating film of the photocurable photosensitive composition in the uncured portion, while not dissolving the cured portion. Specifically, a combination of various organic solvents or an alkaline aqueous solution can be used.

前記有機溶剤としては、本発明の顔料分散組成物又は着色感光性組成物を調製する際に使用できる既述の溶剤が挙げられる。
前記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−[5,4,0]−7−ウンデセン等のアルカリ性化合物を、濃度が0.001〜10質量%、好ましくは0.01〜1質量%となるように溶解したアルカリ性水溶液が挙げられる。アルカリ性水溶液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。
As said organic solvent, the above-mentioned solvent which can be used when preparing the pigment dispersion composition or colored photosensitive composition of this invention is mentioned.
Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, Concentration of an alkaline compound such as tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene, in a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to An alkaline aqueous solution dissolved so as to be 1% by mass can be mentioned. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkaline aqueous solution.

現像方式は、デイップ方式、シャワー方式、スプレー方式などいずれでもよく、これにスウィング方式、スピン方式、超音波方式などを組み合わせても良い。現像液に触れる前に、被現像面を予め水等で湿しておいて、現像むらを防ぐこともできる。また基板を傾斜させて現像することもできる。
固体撮像素子用の場合はパドル現像も用いられる。
The development method may be any of a dip method, a shower method, a spray method, and the like, and may be combined with a swing method, a spin method, an ultrasonic method, or the like. Before the developer is touched, the surface to be developed can be previously moistened with water or the like to prevent uneven development. In addition, development can be performed with the substrate inclined.
In the case of a solid-state image sensor, paddle development is also used.

現像処理後は、余剰の現像液を洗浄除去するリンス工程を経て、乾燥を施した後、硬化を完全なものとするために、加熱処理(ポストベーク)が施される。
リンス工程は通常は純水で行うが、省液のために、最終洗浄で純水を用い、洗浄はじめは使用済の純水を使用したり、基板を傾斜させて洗浄したり、超音波照射を併用したりできる。
After the development processing, after a rinsing step for washing and removing excess developer, drying is performed, and then heat treatment (post-baking) is performed to complete the curing.
The rinsing process is usually performed with pure water. However, to save liquid, pure water is used in the final cleaning. At the beginning of cleaning, used pure water is used, the substrate is tilted and cleaned, and ultrasonic irradiation is performed. Can be used together.

リンスの後で水切り、乾燥をした後に、通常約200℃〜250℃の加熱処理を行なう。この加熱処理(ポストベーク)は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行なうことができる。
以上の操作を所望の色相数に合わせて各色毎に順次繰り返し行なうことにより、複数色の着色された硬化膜が形成されてなるカラーフィルタを作製することができる。
After rinsing, draining and drying are performed, and then a heat treatment of about 200 ° C. to 250 ° C. is usually performed. In this heat treatment (post-bake), the coating film after development is continuously or batch-treated using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer) or a high-frequency heater so as to satisfy the above conditions. It can be done with an expression.
By sequentially repeating the above operation for each color according to the desired number of hues, a color filter formed with a plurality of colored cured films can be produced.

本発明の着色感光性組成物の用途として、主にカラーフィルタへの用途を中心に説明したが、カラーフィルタを構成する各着色画素を隔離するブラックマトリックスの形成にも適用することができる。
前記ブラックマトリックスは、顔料としてカーボンブラック、チタンブラックなどの黒色顔料を用いた本発明の顔料分散組成物を露光、現像し、その後必要に応じて更にポストベークして膜の硬化を促進させることで形成できる。
<液晶表示素子、及び固体撮像素子>
本発明の液晶表示素子及び固体撮像素子は、本発明のカラーフィルタを備えてなるものである。より具体的には、例えば、カラーフィルタの内面側に配向膜を形成し、電極基板と対向させ、その間隙部に液晶を満たして密封することにより、本発明の液晶表示素子であるパネルが得られる。また、例えば、受光素子上にカラーフィルタを形成することにより、本発明の固体撮像素子が得られる。
The use of the colored photosensitive composition of the present invention has been described mainly focusing on the use for a color filter, but it can also be applied to the formation of a black matrix that isolates each colored pixel constituting the color filter.
The black matrix is formed by exposing and developing the pigment dispersion composition of the present invention using a black pigment such as carbon black or titanium black as a pigment, and then further post-baking as necessary to promote film curing. Can be formed.
<Liquid crystal display element and solid-state image sensor>
The liquid crystal display element and the solid-state image sensor of the present invention comprise the color filter of the present invention. More specifically, for example, by forming an alignment film on the inner surface side of the color filter, facing the electrode substrate, and filling and sealing the liquid crystal in the gap portion, the panel which is the liquid crystal display element of the present invention is obtained. It is done. For example, the solid-state image sensor of this invention is obtained by forming a color filter on a light receiving element.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof. Unless otherwise specified, “part” is based on mass.

<本発明の特定共重合体の合成例>
(特定共重合体P−1の合成)
MMA 12.6g、MAA 2.7g、2,6−ジエチル−2,6−ジメチル−4−オキソ−1−(1−フェネトキシ)ピペリジン70.6g及び1−メトキシ−2−プロパノール 150gを反応温度145℃で60分間撹拌した。MMA 113.4g、MAA 24.3gを2.5時間かけて反応混合物にゆっくりと加えた。次に反応混合物の温度を5時間維持した。残渣モノマーを留去して、MMA−MAA共重合体を135.6g得た。
MMA−MAA共重合体(前記した顔料非吸着性ブロック)及びM−11(前記した顔料吸着性ブロック) 27.0gを、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート460gと一緒に反応温度145℃で2時間加熱攪拌の後、特定共重合体P−1の30%溶液を得た。
得られた特定共重合体の重量平均分子量を、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により測定した結果、22000であった。
また、水酸化ナトリウムを用いた滴定から、固形分あたりの酸価は、98mgKOH/gであった。
<Synthesis Example of Specific Copolymer of the Present Invention>
(Synthesis of specific copolymer P-1)
MMA 12.6 g, MAA 2.7 g, 2,6-diethyl-2,6-dimethyl-4-oxo-1- (1-phenoxy) piperidine 70.6 g and 1-methoxy-2-propanol 150 g were reacted at a reaction temperature of 145. Stir at 60 ° C. for 60 minutes. MMA 113.4 g and MAA 24.3 g were slowly added to the reaction mixture over 2.5 hours. The temperature of the reaction mixture was then maintained for 5 hours. The residual monomer was distilled off to obtain 135.6 g of MMA-MAA copolymer.
MMA-MAA copolymer (pigment non-adsorbing block described above) and M-11 (pigment adsorbing block described above) 27.0 g together with 460 g of diethylene glycol ethyl ether acetate were heated and stirred at a reaction temperature of 145 ° C. for 2 hours. Thereafter, a 30% solution of the specific copolymer P-1 was obtained.
It was 22000 as a result of measuring the weight average molecular weight of the obtained specific copolymer by the gel permeation chromatography method (GPC) which used polystyrene as the standard substance.
From the titration with sodium hydroxide, the acid value per solid content was 98 mgKOH / g.

(特定共重合体P−2の合成)
窒素雰囲気下において、塩化リチウム24ミリモルを含むTHF800gを−40℃に保持し、撹拌下、sec−ブチルリチウム(SBL)52ミリモルを加えて、M−14 25.6gを含むTHF溶液75gを滴下し、30分反応を継続した。
その後、反応系から反応溶液を少量取り出し、ガスクロマトグラフィー(以下、GCと略す。)にて、M−14モノマーが完全に消費したことを確認した。
(Synthesis of specific copolymer P-2)
In a nitrogen atmosphere, 800 g of THF containing 24 mmol of lithium chloride is maintained at −40 ° C., 52 mmol of sec-butyllithium (SBL) is added with stirring, and 75 g of THF solution containing 25.6 g of M-14 is added dropwise. The reaction was continued for 30 minutes.
Thereafter, a small amount of the reaction solution was taken out from the reaction system, and it was confirmed by gas chromatography (hereinafter abbreviated as GC) that the M-14 monomer was completely consumed.

次に、MMA 126.0g、MAA 27.0gのTHF溶液50gを滴下し、30分反応を継続した。その後、反応系から反応溶液を少量取り出し、GCにて、上記のモノマーが完全に消費したことを確認した後、塩酸を含むTHF溶液により反応を停止させた。その後、反応停止液を多量のメタノール中に投入してポリマーを析出させ、ろ過、洗浄後、減圧乾燥して特定共重合体P−2を152g得た。得られた特定共重合体P−2を506gの1−メトキシ−2−プロパノールで溶解することで特定共重合体P−2の30%溶液を得た。
得られた特定共重合体P−2の重量平均分子量を、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により測定した結果、25000であった。
また、水酸化ナトリウムを用いた滴定から、固形分あたりの酸価は、98mgKOH/gであった。
以下同様にして、表1に示されるように、上記P−1〜P−2の顔料吸着部、高分子組成を変更することによって特定共重合体P−3〜P−10を合成した。
Next, 50 g of a THF solution containing 126.0 g of MMA and 27.0 g of MAA was added dropwise, and the reaction was continued for 30 minutes. Thereafter, a small amount of the reaction solution was taken out from the reaction system, and after confirming that the monomer was completely consumed by GC, the reaction was stopped with a THF solution containing hydrochloric acid. Thereafter, the reaction stop solution was poured into a large amount of methanol to precipitate a polymer, filtered, washed and dried under reduced pressure to obtain 152 g of a specific copolymer P-2. The obtained specific copolymer P-2 was dissolved in 506 g of 1-methoxy-2-propanol to obtain a 30% solution of the specific copolymer P-2.
It was 25000 as a result of measuring the weight average molecular weight of the obtained specific copolymer P-2 by the gel permeation chromatography method (GPC) which used the polystyrene as the standard substance.
From the titration with sodium hydroxide, the acid value per solid content was 98 mgKOH / g.
Similarly, as shown in Table 1, specific copolymers P-3 to P-10 were synthesized by changing the pigment adsorbing parts and polymer compositions of P-1 to P-2.


表1で、MAAはメタクリル酸、MMAはメチルメタクリレート、BzMAはベンジルメタクリレートである。   In Table 1, MAA is methacrylic acid, MMA is methyl methacrylate, and BzMA is benzyl methacrylate.

<顔料加工の実施例>
表2〜表7に記載の顔料 50g、塩化ナトリウム 500g、特定共重合体又は比較高分子化合物溶液 25g、およびジエチレングリコール100gをステンレス製1ガロンニーダー(井上製作所製)に仕込み、9時間混練した。次に、この混合物を約3リットルの水中に投入し、ハイスピードミキサーで約1時間撹拌した後に、ろ過、水洗して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、乾燥して特定共重合体又は比較高分子化合物で被覆された加工顔料を得た。
<Examples of pigment processing>
50 g of the pigment described in Tables 2 to 7, 500 g of sodium chloride, 25 g of the specific copolymer or comparative polymer compound solution, and 100 g of diethylene glycol were charged into a stainless steel 1 gallon kneader (manufactured by Inoue Seisakusho) and kneaded for 9 hours. Next, this mixture is poured into about 3 liters of water, stirred for about 1 hour with a high speed mixer, filtered, washed with water to remove sodium chloride and solvent, and dried to give a specific copolymer or comparative polymer compound. A processed pigment coated with was obtained.

(加工顔料の平均1次粒子径の測定)
得られた加工顔料の平均1次粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)にて観察し、粒子が凝集していない部分で粒子サイズを100個計測し、平均値を算出することによって求めた。
(Measurement of average primary particle diameter of processed pigment)
The average primary particle diameter of the obtained processed pigment was obtained by observing with a transmission electron microscope (TEM), measuring 100 particle sizes at a portion where the particles were not aggregated, and calculating the average value. .

(顔料の被覆度の評価)
得られた加工顔料10gを1−メトキシ−2−プロパノール 100mL中に投入し、振とう機にて室温で3時間、振とうさせた。その後、遠心分離機にて、80,000rpm、8時間かけて顔料を沈降させた。上澄み液部分の固形分を乾燥法から求めた。顔料から遊離した特定共重合体または比較高分子化合物の量を求め、処理に使用した特定共重合体または比較高分子化合物との比から、遊離率(%)を算出した。遊離率は小さいほど顔料への被覆度が高い。
(Evaluation of pigment coverage)
10 g of the obtained processed pigment was put into 100 mL of 1-methoxy-2-propanol, and shaken at room temperature for 3 hours with a shaker. Thereafter, the pigment was precipitated with a centrifugal separator at 80,000 rpm for 8 hours. The solid content of the supernatant was determined from the drying method. The amount of the specific copolymer or comparative polymer compound released from the pigment was determined, and the liberation rate (%) was calculated from the ratio with the specific copolymer or comparative polymer compound used in the treatment. The smaller the liberation rate, the higher the degree of coverage on the pigment.


上記表2中の化合物の詳細は下記の通りである。
PR254:C.I.ピグメントレッド254
Q−1 :メチルメタクリレート/メタクリル酸=85/15質量%共重合体、重量平均分子量2万、酸価98mgKOH/g
Q−2 :トリメチロールプロパントリアクリレート
Details of the compounds in Table 2 are as follows.
PR254: C.I. I. Pigment Red 254
Q-1: Methyl methacrylate / methacrylic acid = 85/15% by mass copolymer, weight average molecular weight 20,000, acid value 98 mgKOH / g
Q-2: Trimethylolpropane triacrylate


上記表3中の化合物の詳細は下記の通りである。
PR177:C.I.ピグメントレッド177
Q−2 :トリメチロールプロパントリアクリレート
Q−3 :シクロヘキシルメタクリレート/メタクリル酸=85/15重量%共重合体、重量平均分子量2万、酸価98mgKOH/g
Details of the compounds in Table 3 are as follows.
PR177: C.I. I. Pigment Red 177
Q-2: trimethylolpropane triacrylate Q-3: cyclohexyl methacrylate / methacrylic acid = 85/15 wt% copolymer, weight average molecular weight 20,000, acid value 98 mgKOH / g


上記表4中の化合物の詳細は下記の通りである。
PG36:C.I.ピグメントグリーン36
Q−1:メチルメタクリレート/メタクリル酸=85/15質量%共重合体、重量平均分子量2万、酸価98mgKOH/g
Q−2:トリメチロールプロパントリアクリレート
Details of the compounds in Table 4 are as follows.
PG36: C.I. I. Pigment Green 36
Q-1: Methyl methacrylate / methacrylic acid = 85/15% by weight copolymer, weight average molecular weight 20,000, acid value 98 mgKOH / g
Q-2: Trimethylolpropane triacrylate


上記表5中の化合物の詳細は下記の通りである。
PY150:C.I.ピグメントイエロー150
Q−2:トリメチロールプロパントリアクリレート
Q−3:シクロヘキシルメタクリレート/メタクリル酸=85/15重量%共重合体、重量平均分子量2万、酸価98mgKOH/g
Details of the compounds in Table 5 are as follows.
PY150: C.I. I. Pigment Yellow 150
Q-2: trimethylolpropane triacrylate Q-3: cyclohexyl methacrylate / methacrylic acid = 85/15 wt% copolymer, weight average molecular weight 20,000, acid value 98 mgKOH / g


上記表6中の化合物の詳細は下記の通りである。
PB15:6:C.I.ピグメントブルー15:6
Q−2:トリメチロールプロパントリアクリレート
Q−3:シクロヘキシルメタクリレート/メタクリル酸=85/15重量%共重合体、重量平均分子量2万、酸価98mgKOH/g
Details of the compounds in Table 6 are as follows.
PB15: 6: C.I. I. Pigment Blue 15: 6
Q-2: trimethylolpropane triacrylate Q-3: cyclohexyl methacrylate / methacrylic acid = 85/15 wt% copolymer, weight average molecular weight 20,000, acid value 98 mgKOH / g


上記表7中の化合物の詳細は下記の通りである。
PV23:C.I.ピグメントバイオレット23
Q−1:メチルメタクリレート/メタクリル酸=85/15質量%共重合体、重量平均分子量2万、酸価98mgKOH/g
Q−2:トリメチロールプロパントリアクリレート
Details of the compounds in Table 7 are as follows.
PV23: C.I. I. Pigment Violet 23
Q-1: Methyl methacrylate / methacrylic acid = 85/15% by weight copolymer, weight average molecular weight 20,000, acid value 98 mgKOH / g
Q-2: Trimethylolpropane triacrylate

〔実施例2、比較例2〕
<顔料分散組成物の調製>
下記組成(1)の成分を混合し、ホモジナイザーを用いて回転数3,000r.p.m.で3時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液を調製した。
〔組成(1)〕
・加工顔料(表2記載の顔料) 95部
・誘導体A(下記構造〔化28〕) 5部
・分散剤(表8記載の分散剤の30%1−メトキシ−2−プロピルアセテート溶液) (表8記載の量)
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 750部
続いて、上記より得られた混合溶液を、さらに0.3mmφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ディスパーマット(GETZMANN社製)にて6時間分散処理を行ない、その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、表8の顔料分散組成物を得た。
[Example 2, Comparative Example 2]
<Preparation of pigment dispersion composition>
The components of the following composition (1) are mixed, and using a homogenizer, the rotational speed is 3,000 r. p. m. And mixed for 3 hours to prepare a mixed solution containing the pigment.
[Composition (1)]
・ Processed pigment (pigment described in Table 2) 95 parts ・ Derivative A (the following structure [Chemical Formula 28]) 5 parts ・ Dispersant (30% 1-methoxy-2-propyl acetate solution of dispersant described in Table 8) (Table 8)
750 parts of 1-methoxy-2-propyl acetate Subsequently, the mixed solution obtained above was further subjected to dispersion treatment for 6 hours with a bead disperser Dispermat (manufactured by GETZMANN) using 0.3 mmφ zirconia beads. Thereafter, the dispersion treatment was further performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2,000 kg / cm 3 using a high-pressure disperser NANO-3000-10 with a decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.). This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a pigment dispersion composition shown in Table 8.

<顔料分散組成物の評価>
得られた顔料分散組成物について下記の評価を行った。結果を表8に示す。
(1)粘度の測定、評価
得られた顔料分散組成物について、E型粘度計(20rpm、30℃、東京計器社製社製)を用いて、分散直後の顔料分散組成物の粘度η1、及び分散後(室温にて)1週間経過した後の顔料分散組成物の粘度η2を測定し、増粘の程度を評価した。ここで、粘度が低いことは、分散剤に起因する粘度の上昇が抑制されており、顔料の分散性及び分散安定性が良好であることを示す。
<Evaluation of pigment dispersion composition>
The following evaluation was performed about the obtained pigment dispersion composition. The results are shown in Table 8.
(1) Measurement and Evaluation of Viscosity For the obtained pigment dispersion composition, using an E-type viscometer (20 rpm, 30 ° C., manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.), the viscosity η1 of the pigment dispersion composition immediately after dispersion, and The viscosity η2 of the pigment dispersion composition after 1 week after dispersion (at room temperature) was measured to evaluate the degree of thickening. Here, the low viscosity indicates that the increase in viscosity due to the dispersant is suppressed, and the dispersibility and dispersion stability of the pigment are good.

(2)コントラストの測定、評価
得られた顔料分散組成物をガラス基板上に塗布し、乾燥後の塗布膜の厚さが1μmになるようにサンプルを作製した。2枚の偏光板の間に、塗布した基板を置き、偏光板が平行時の輝度と直行時の輝度を(BM−5 トプコン社製)にて測定し、コントラスト=平行時の輝度/直行時の輝度で求めた。コントラストが高いことは、顔料が高度に微細化された状態で均一に分散されているため、透過率すなわち着色力が高いことを示す。
(2) Measurement and Evaluation of Contrast The obtained pigment dispersion composition was applied on a glass substrate, and a sample was prepared so that the thickness of the coating film after drying was 1 μm. The coated substrate is placed between two polarizing plates, and the luminance when the polarizing plate is parallel and the luminance when orthogonal are measured by BM-5 Topcon Co., Ltd., contrast = luminance when parallel / right luminance when orthogonal. I asked for it. A high contrast indicates that the pigment is uniformly dispersed in a highly miniaturized state, so that the transmittance, that is, the coloring power is high.

(3)析出性の評価
100mm×100mmのガラス基板(商品名:1737 コーニング社製)上に得られた顔料分散組成物を膜厚2.0μmとなるように塗布し、90℃のオーブンで60秒乾燥した。その後、塗布膜を230℃のオーブンで30分間加熱処理(ポストベーク)を施し、光学顕微鏡(オリンパス社製)にて、倍率100で硬化膜上の析出物の有無を確認した。ポストベーク処理を繰り返して、その都度観察した。点数が高いほど、析出しにくく、着色パターンの透明性が良好なことを示す。
4:ポストベーク4回目で析出物の発生
3:ポストベーク3回目で析出物の発生
2:ポストベーク2回目で析出物の発生
1:ポストベーク1回目で析出物の発生
(3) Evaluation of Precipitation The pigment dispersion composition obtained on a 100 mm × 100 mm glass substrate (trade name: 1737 manufactured by Corning) was applied so as to have a film thickness of 2.0 μm, and was subjected to 60 in an oven at 90 ° C. Dried for 2 seconds. Thereafter, the coating film was heat-treated (post-baked) for 30 minutes in an oven at 230 ° C., and the presence or absence of deposits on the cured film was confirmed with an optical microscope (manufactured by Olympus Corporation) at a magnification of 100. The post-baking process was repeated and observed each time. The higher the score, the more difficult it is to precipitate and the better the transparency of the colored pattern.
4: Generation of precipitate at the fourth post-baking 3: Generation of precipitate at the third post-baking 2: Generation of precipitate at the second post-baking 1: Generation of precipitate at the first post-baking


表8の結果より本発明の顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体で被覆した加工顔料を用いた実施例2−1〜実施例2−8の感光性組成物は、比較例2−1〜2−2に比べてコントラストが高く、ポストベークで析出しにくく、また経時での増粘が小さいことがわかる。   From the results of Table 8, the photosensitive compositions of Example 2-1 to Example 2-8 using the processed pigment coated with the block copolymer having the pigment adsorbing block and the pigment non-adsorbing block of the present invention are as follows. It can be seen that the contrast is high compared to Comparative Examples 2-1 to 2-2, it is difficult to deposit by post-baking, and the thickening with time is small.

<顔料分散組成物の調製>
下記組成(2)の成分を混合し、ホモジナイザーを用いて回転数3,000r.p.m.で3時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液を調製した。
〔組成(2)〕
・加工顔料(表4,表6記載の顔料) 100部
・分散剤(表9記載の分散剤の30% 1−メトキシ−2−プロピルアセテート溶液)
(表9記載の量)
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 750部
<Preparation of pigment dispersion composition>
The components of the following composition (2) were mixed, and the rotational speed was 3,000 r.m. using a homogenizer. p. m. And mixed for 3 hours to prepare a mixed solution containing the pigment.
[Composition (2)]
Processed pigment (pigments listed in Tables 4 and 6) 100 parts Dispersant (30% 1-methoxy-2-propyl acetate solution of dispersant listed in Table 9)
(Amounts listed in Table 9)
・ 750 parts of 1-methoxy-2-propyl acetate

続いて、上記より得られた混合溶液を、さらに0.3mmφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ディスパーマット(GETZMANN社製)にて6時間分散処理を行ない、その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000kg/cm3の圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、表9の顔料分散組成物を得た。   Subsequently, the mixed solution obtained above was further subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a bead disperser disperse mat (made by GETZMANN) using 0.3 mmφ zirconia beads, and then further a high-pressure disperser NANO with a decompression mechanism. Dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2,000 kg / cm 3 using −3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.). This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain a pigment dispersion composition shown in Table 9.

<顔料分散組成物の評価>
得られた顔料分散組成物について下記の評価を行った。実験方法、評価方法は、組成(1)と同じである。結果を表9に示す。
(1)粘度の測定、評価
(2)コントラストの測定、評価
(3)析出性の評価
<Evaluation of pigment dispersion composition>
The following evaluation was performed about the obtained pigment dispersion composition. The experimental method and the evaluation method are the same as the composition (1). The results are shown in Table 9.
(1) Viscosity measurement and evaluation (2) Contrast measurement and evaluation (3) Precipitation evaluation


色相によってコントラストの絶対値は異なるので、表9はグリーン同士、ブルー同士で比較する。表9の結果より、本発明の特定共重合体で被覆した加工顔料を用いた本実施例の感光性組成物は経時での増粘が抑えられ、コントラストが高く、またポストベークで析出しにくいことがわかる。   Since the absolute value of contrast varies depending on the hue, Table 9 compares between green and blue. From the results of Table 9, the photosensitive composition of the present example using the processed pigment coated with the specific copolymer of the present invention is suppressed in thickening with time, has high contrast, and does not easily precipitate by post-baking. I understand that.

〔実施例3、比較例3〕
<顔料分散組成物の調製>
下記組成(3)の成分を混合し、ホモジナイザーを用いて回転数3,000r.p.m.で3時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液を調製した。
〔組成(3)〕
・加工顔料(表10に記載の加工顔料) 120部
・分散剤(表10に記載の分散剤の30% 1−メトキシ−2−プロピルアセテート溶液) 250部
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 750部
[Example 3, Comparative Example 3]
<Preparation of pigment dispersion composition>
The components of the following composition (3) were mixed, and the rotational speed was 3,000 r.m. using a homogenizer. p. m. And mixed for 3 hours to prepare a mixed solution containing the pigment.
[Composition (3)]
-Processed pigment (processed pigment described in Table 10) 120 parts-Dispersant (30% 1-methoxy-2-propyl acetate solution of the dispersant described in Table 10) 250 parts-1-methoxy-2-propyl acetate 750 Part

続いて、上記より得られた混合溶液を、さらに0.3mmφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ディスパーマット(GETZMANN社製)にて6時間分散処理を行ない、その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2,000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、表10の顔料分散組成物を得た。 Subsequently, the mixed solution obtained above was further subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a bead disperser disperse mat (made by GETZMANN) using 0.3 mmφ zirconia beads, and then further a high-pressure disperser NANO with a decompression mechanism. Dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2,000 kg / cm 3 using −3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.). This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain pigment dispersion compositions shown in Table 10.


<着色感光性組成物の調製>
得られた顔料分散組成物を用いて、下記の着色感光性組成物を作製した。
・顔料分散液(表11記載の顔料分散液) 2000部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 80部
(光重合性化合物)
・4−[o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニル)アミノフェニル]−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン 30部
(光重合開始剤)
・メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸(=75/25[質量比])共重合体
(重量平均分子量:12,000)のプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート溶液(固形分30%) 300部
(アルカリ可溶性樹脂)
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート(溶剤) 390部
<Preparation of colored photosensitive composition>
Using the obtained pigment dispersion composition, the following colored photosensitive composition was prepared.
Pigment dispersion (pigment dispersion described in Table 11) 2000 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 80 parts (photopolymerizable compound)
4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine 30 parts (photopolymerization initiator)
-Benzyl methacrylate / methacrylic acid (= 75/25 [mass ratio]) copolymer (weight average molecular weight: 12,000) propylene glycol monomethyl ether acetate solution (solid content 30%) 300 parts (alkali-soluble resin)
・ 390 parts of 1-methoxy-2-propyl acetate (solvent)

<着色感光性組成物を用いたカラーフィルタの調製>
得られた着色感光性組成物(カラーレジスト液)を、100mm×100mmのガラス基板(1737、コーニング社製)上に、実施例3−1から3−6及び比較例3−1および3−2は色濃度の指標となるx値が0.650となるように塗布し、実施例3−7、3−8及び比較例3−3および3−4は色濃度の指標となるy値が0.600となるように塗布し、また実施例3−9、3−10及び比較例3−5および3−6は色濃度の指標となるy値が0.100となるように塗布し、90℃のオーブンで60秒間乾燥させた(プリベーク)。その後、塗膜の全面に200mJ/cmにて(照度20mW/cm)露光し、露光後の塗膜をアルカリ現像液CDK−1(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液にて覆い、60秒間静止した。静止後、純水をシャワー状に散布して現像液を洗い流した。そして、上記のように露光及び現像が施された塗膜を220℃のオーブンで1時間加熱処理し(ポストベーク)、ガラス基板上にカラーフィルタ用の着色パターン(着色樹脂被膜)を形成し、着色フィルタ基板(カラーフィルタ)を作製した。
<Preparation of color filter using colored photosensitive composition>
The obtained colored photosensitive composition (color resist solution) was placed on a 100 mm × 100 mm glass substrate (1737, manufactured by Corning), Examples 3-1 to 3-6 and Comparative Examples 3-1 and 3-2. Is applied so that the x value as an index of color density is 0.650, and Examples 3-7 and 3-8 and Comparative Examples 3-3 and 3-4 have a y value of 0 as an index of color density. In the examples 3-9 and 3-10 and in the comparative examples 3-5 and 3-6, the y value serving as an index of color density is 0.100, and 90 It was dried in an oven at 60 ° C. for 60 seconds (pre-baking). Thereafter, the entire surface of the coating film was exposed at 200 mJ / cm 2 (illuminance 20 mW / cm 2 ), and the exposed coating film was 1% aqueous solution of alkali developer CDK-1 (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.). And rested for 60 seconds. After standing still, pure water was sprayed in a shower to wash away the developer. Then, the coating film that has been exposed and developed as described above is heated in an oven at 220 ° C. for 1 hour (post-baking) to form a colored pattern (colored resin film) for the color filter on the glass substrate, A colored filter substrate (color filter) was produced.

<カラーフィルタの評価>
作製した着色フィルタ基板(カラーフィルタ)について、以下のようにして評価を行なった。結果を表11に示す。
<Evaluation of color filter>
The produced colored filter substrate (color filter) was evaluated as follows. The results are shown in Table 11.

(1)コントラスト
上記で得られた着色フィルタ基板の着色樹脂被膜の上に偏光板を置いて着色樹脂被膜を挟み込み、偏光板が平行時の輝度と直交時の輝度とをトプコン社製のBM−5を用いて測定し、平行時の輝度を直交時の輝度で除して得られる値(=平行時の輝度/直交時の輝度)を、コントラストを評価するための指標とした。値が大きいほど高コントラストであることを示す。
(1) Contrast A polarizing plate is placed on the colored resin film of the colored filter substrate obtained above, and the colored resin film is sandwiched between them. The luminance when the polarizing plate is parallel and the luminance when the polarizing plate is orthogonal are BM- manufactured by Topcon Corporation. A value obtained by dividing the luminance at the time of parallel by the luminance at the time of orthogonality (= the luminance at the time of paralleling / the luminance at the time of orthogonality) was used as an index for evaluating the contrast. Larger values indicate higher contrast.

(2)アルカリ現像液可溶性
アルカリ現像液(商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の10%水溶液100gを150mlビーカーに計りとる。この溶液に100mm×100mmのガラス基板(商品名:1737 コーニング社製)上に前記着色感光性組成物を膜厚2.5μmとなるように塗布し、90℃のオーブンで60秒乾燥(プリベーク)したガラス基板を、25mm×100mmとなるようにガラスを切断し、うち2枚を塗布面が外側となるよう重ね合わせ、あらかじめ準備した現像液中に浸しては、抜き上げする上下動作を20回繰り返し、未硬化膜の溶解性とアルカリ現像液中の懸濁物の有無を目視判断した。点数が高いほど、アルカリ溶解性は良好である。
(2) Alkaline developer solubility 100 g of a 10% aqueous solution of an alkali developer (trade name: CDK-1, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials) is weighed into a 150 ml beaker. The colored photosensitive composition is applied to a 100 mm × 100 mm glass substrate (trade name: manufactured by 1737 Corning) to a thickness of 2.5 μm and dried in an oven at 90 ° C. for 60 seconds (prebaking). The glass substrate is cut to 25 mm × 100 mm, and two of them are overlapped so that the coated surface is on the outside, soaked in a pre-prepared developer, and pulled up and down 20 times. Repeatedly, the solubility of the uncured film and the presence or absence of the suspension in the alkaline developer were visually judged. The higher the score, the better the alkali solubility.

*判定法
5:上下動1〜10回で未硬化膜が完溶、かつ、アルカリ現像液中の懸濁物なし
4:上下動11〜20回で未硬化膜が完溶、かつ、アルカリ現像液中の懸濁物なし
3:上下動1〜10回で未硬化膜が完溶するが、アルカリ現像液中に懸濁物あり
2:上下動11〜20回で未硬化膜が完溶するが、アルカリ現像液中に懸濁物あり
1:上下動20回でも未硬化膜が不溶
* Judgment method 5: Uncured film is completely dissolved in up and down movements 1 to 10 times and no suspension in alkaline developer 4: Uncured film is completely dissolved in up and down movements 11 to 20 times and alkali development No suspension in liquid 3: Uncured film is completely dissolved in up and down movements 1 to 10 times, but there is suspension in alkaline developer 2: Uncured film is completely dissolved in up and down movements 11 to 20 times However, there is a suspension in the alkali developer 1: Uncured film is insoluble even after 20 vertical movements

(3)析出性評価
100mm×100mmのガラス基板(商品名:1737 コーニング社製)上に着色感光性組成物を膜厚2.0μmとなるように塗布し、90℃のオーブンで60秒乾燥(プリベーク)した。その後、20μmの線幅をもつマスクで100mJ/cm2の露光(照度は20mW/cm2)をし、アルカリ現像液(商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液を用いて25℃で現像した。
以上のように、光硬化処理及び現像処理を施した塗布膜を230℃のオーブンで30分間加熱処理(ポストベーク)を施し、光学顕微鏡にてパターン上の析出の有無を確認した。これをさらに3回繰り返し同様の評価をした。点数が高いほど、析出しにくいことを示す。
ポストベーク4回目で析出:4
ポストベーク3回目で析出:3
ポストベーク2回目で析出:2
ポストベーク1回目で析出:1
(3) Precipitation evaluation A colored photosensitive composition was applied on a 100 mm × 100 mm glass substrate (trade name: 1737 manufactured by Corning) so as to have a film thickness of 2.0 μm, and dried in an oven at 90 ° C. for 60 seconds ( Pre-baked). Thereafter, exposure was performed at 100 mJ / cm 2 with a mask having a line width of 20 μm (illuminance is 20 mW / cm 2), and a 1% aqueous solution of an alkali developer (trade name: CDK-1, manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) And developed at 25 ° C.
As described above, the coating film subjected to the photocuring treatment and the development treatment was subjected to a heat treatment (post-bake) for 30 minutes in an oven at 230 ° C., and the presence or absence of precipitation on the pattern was confirmed with an optical microscope. This was repeated three more times for the same evaluation. It shows that it is hard to precipitate, so that a score is high.
Precipitation after 4th post-bake: 4
Precipitation after the third post-bake: 3
Precipitation after second bake: 2
Precipitation after first bake: 1


表11はテスト水準によってカラーフィルタの色相が異なっている。特にコントラストは異なる色相間では比較できない。このため同一色相間で、即ちDR同士、DG同士、DB同士で比較することになる。本発明の加工顔料を用いたカラーフィルタである実施例は、比較例に比べて、コントラストが高く、アルカリ現像液可溶性が良好で、またポストベークで析出しにくいことがわかる。   In Table 11, the hue of the color filter varies depending on the test level. In particular, contrast cannot be compared between different hues. For this reason, comparison is made between the same hues, that is, between DRs, DGs, and DBs. It can be seen that the example which is a color filter using the processed pigment of the present invention has higher contrast, better alkali developer solubility than the comparative example, and is less likely to precipitate by post-baking.

〔実施例4、比較例4〕
<顔料分散組成物の調製>
下記組成(4)の成分を混合し、ホモジナイザーを用いて回転数3,000r.p.m.で3時間撹拌して混合し、顔料を含む混合溶液を調製した。
[Example 4, Comparative Example 4]
<Preparation of pigment dispersion composition>
Components of the following composition (4) are mixed, and the number of revolutions is 3,000 r.m. using a homogenizer. p. m. And mixed for 3 hours to prepare a mixed solution containing the pigment.

〔組成(4)〕
・加工顔料(表12記載の加工顔料) 110部
・ 分散剤D−3(30% 1−メトキシ−2−プロピルアセテート溶液)
250部
・顔料誘導体B(下記構造の〔化29〕) 20部
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート 750部
[Composition (4)]
-Processed pigment (processed pigment described in Table 12) 110 parts-Dispersant D-3 (30% 1-methoxy-2-propyl acetate solution)
250 parts ・ Pigment derivative B (the following structure [Chemical Formula 29]) 20 parts ・ 1-methoxy-2-propyl acetate 750 parts

続いて、上記より得られた混合溶液を、さらに0.3mmφジルコニアビーズを用いたビーズ分散機ディスパーマット(GETZMANN社製)にて6時間分散処理を行ない、その後さらに、減圧機構付き高圧分散機NANO−3000−10(日本ビーイーイー(株)製)を用いて、2000kg/cmの圧力下で流量500g/minとして分散処理を行なった。この分散処理を10回繰り返し、表12の顔料分散組成物を得た。 Subsequently, the mixed solution obtained above was further subjected to a dispersion treatment for 6 hours with a bead disperser disperse mat (made by GETZMANN) using 0.3 mmφ zirconia beads, and then further a high-pressure disperser NANO with a decompression mechanism. The dispersion treatment was performed at a flow rate of 500 g / min under a pressure of 2000 kg / cm 3 using −3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.). This dispersion treatment was repeated 10 times to obtain pigment dispersion compositions shown in Table 12.


<着色感光性組成物の調製>
得られた顔料分散組成物を用いて、下記の着色感光性組成物を作製した。
・顔料分散液(表13記載の顔料分散液) 2100部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 90部
(光重合性化合物)
・4−[o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニル)アミノフェニル]−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン 30部
(光重合開始剤)
・メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸(=75/25[質量比])共重合体
(重量平均分子量:10,000)のプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート溶液(固形分30%) 300部
(アルカリ可溶性樹脂)
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート(溶剤) 390部
<Preparation of colored photosensitive composition>
Using the obtained pigment dispersion composition, the following colored photosensitive composition was prepared.
Pigment dispersion (pigment dispersion described in Table 13) 2100 parts Dipentaerythritol hexaacrylate 90 parts (photopolymerizable compound)
4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine 30 parts (photopolymerization initiator)
Benzyl methacrylate / methacrylic acid (= 75/25 [mass ratio]) copolymer (weight average molecular weight: 10,000) propylene glycol monomethyl ether acetate solution (solid content 30%) 300 parts (alkali-soluble resin)
・ 390 parts of 1-methoxy-2-propyl acetate (solvent)

<着色感光性組成物を用いたカラーフィルタの調製>
得られた着色感光性組成物(カラーレジスト液)を、100mm×100mmのガラス基板(1737、コーニング社製)上に、実施例4−1から4−3及び比較例4−1および4−2は色濃度の指標となるx値が0.650となるように塗布し、実施例4−4から4−6及び比較例4−3および4−4は色濃度の指標となるy値が0.600となるように塗布し、また実施例4−7から4−9及び比較例4−5および4−6は色濃度の指標となるy値が0.100となるように塗布し、90℃のオーブンで60秒間乾燥させた(プリベーク)。その後、塗膜の全面に200mJ/cmにて(照度20mW/cm)露光し、露光後の塗膜をアルカリ現像液CDK−1(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液にて覆い、60秒間静止した。静止後、純水をシャワー状に散布して現像液を洗い流した。そして、上記のように露光及び現像が施された塗膜を220℃のオーブンで1時間加熱処理し(ポストベーク)、ガラス基板上にカラーフィルタ用の着色パターン(着色樹脂被膜)を形成し、着色フィルタ基板(カラーフィルタ)を作製した。
<Preparation of color filter using colored photosensitive composition>
The obtained colored photosensitive composition (color resist solution) was placed on Examples 100-1 to 4-3 and Comparative Examples 4-1 and 4-2 on a 100 mm × 100 mm glass substrate (1737, manufactured by Corning). Is applied so that the x value as an index of color density is 0.650, and Examples 4-4 to 4-6 and Comparative Examples 4-3 and 4-4 have a y value of 0 as an index of color density. In addition, Examples 4-7 to 4-9 and Comparative Examples 4-5 and 4-6 were applied so that the y value as an index of color density was 0.100. It was dried in an oven at 60 ° C. for 60 seconds (pre-baking). Thereafter, the entire surface of the coating film was exposed at 200 mJ / cm 2 (illuminance 20 mW / cm 2 ), and the exposed coating film was 1% aqueous solution of alkali developer CDK-1 (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.). And rested for 60 seconds. After standing still, pure water was sprayed in a shower to wash away the developer. Then, the coating film that has been exposed and developed as described above is heated in an oven at 220 ° C. for 1 hour (post-baking) to form a colored pattern (colored resin film) for the color filter on the glass substrate, A colored filter substrate (color filter) was produced.

<カラーフィルタの評価>
作製した着色フィルタ基板(カラーフィルタ)について、コントラストとアルカリ現像液可溶性は前述の表11と同様にして評価を行なった。結果を表13に示す。
(1)コントラスト
(2)アルカリ現像液可溶性
<Evaluation of color filter>
The produced colored filter substrate (color filter) was evaluated for contrast and alkali developer solubility in the same manner as in Table 11 above. The results are shown in Table 13.
(1) Contrast (2) Alkaline developer solubility

(3)電圧保持率
ITO電極付きのガラス基板(商品名:1737 コーニング社製)上に着色感光性組成物を膜厚2.0μmとなるように塗布し、90℃のオーブンで60秒乾燥(プリベーク)した。その後、マスクを介さずに100mJ/cmの露光(照度は20mW/cm)をし、アルカリ現像液(商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液を用いて25℃で現像し、塗布膜を230℃のオーブンで30分間加熱処理(ポストベーク)を施した。次いで、この画素を形成した基板とITO電極を所定形状に蒸着しただけの基板とを、5μmのガラスビーズを混合したシール剤で貼り合わせたのち、メルク(株)社製液晶MJ971189(商品名)を注入して、液晶セルを作製した。
(3) Voltage holding ratio A colored photosensitive composition is applied to a glass substrate with an ITO electrode (trade name: 1737 manufactured by Corning) so as to have a film thickness of 2.0 μm, and dried in an oven at 90 ° C. for 60 seconds ( Pre-baked). Thereafter, exposure is performed at 100 mJ / cm 2 without using a mask (illuminance is 20 mW / cm 2 ), and a 1% aqueous solution of an alkali developer (trade name: CDK-1, manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) is used. The coating film was developed at 25 ° C. and subjected to heat treatment (post-baking) for 30 minutes in an oven at 230 ° C. Next, the substrate on which this pixel is formed and the substrate on which ITO electrodes are simply deposited in a predetermined shape are bonded together with a sealant mixed with 5 μm glass beads, and then liquid crystal MJ971189 (trade name) manufactured by Merck Co., Ltd. Was injected to prepare a liquid crystal cell.

次いで、液晶セルを70℃の恒温層に48時間入れた後、液晶セルの電圧保持率を、東陽テクニカ(株)製液晶電圧保持率測定システムVHR−1A型(商品名)により測定した。点数が高いほど、電圧保持率が高く良好な電気特性を示す。   Next, after putting the liquid crystal cell in a constant temperature layer at 70 ° C. for 48 hours, the voltage holding ratio of the liquid crystal cell was measured by a liquid crystal voltage holding ratio measuring system VHR-1A type (trade name) manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. The higher the score, the higher the voltage holding ratio and the better electrical characteristics.

測定条件
・電極間距離 :約5μm
・印加電圧パルス振幅 :5V
・印加電圧パルス周波数:60Hz
・印加電圧パルス幅 :16.67msec
*電圧保持率:16.7ミリ秒後の液晶セル電位差/0ミリ秒で印加した電圧の値
*判定法
90%以上 :5
85〜90%未満 :4
80〜85%未満 :3
75〜80%未満 :2
75%未満 :1
Measurement conditions / Distance between electrodes: Approximately 5 μm
・ Applied voltage pulse amplitude: 5V
・ Applied voltage pulse frequency: 60 Hz
・ Applied voltage pulse width: 16.67 msec
* Voltage holding ratio: liquid crystal cell potential difference after 16.7 milliseconds / value of voltage applied in 0 milliseconds * judgment method 90% or more: 5
85 to less than 90%: 4
80 to less than 85%: 3
75 to less than 80%: 2
Less than 75%: 1


表13はテスト水準によってカラーフィルタの色相が異なっている。特にコントラストは異なる色相間では比較できない。このため同一色間で、即ちDL同士、DY同士、DV同士で比較することになる。本発明の加工顔料を用いたカラーフィルタである実施例は、比較例に比べて、コントラストが高く、アルカリ現像液可溶性が良好で、また電圧保持率が高いことがわかる。   In Table 13, the hue of the color filter varies depending on the test level. In particular, contrast cannot be compared between different hues. Therefore, comparison is made between the same colors, that is, between DLs, DYs, and DVs. It can be seen that the example which is a color filter using the processed pigment of the present invention has higher contrast, better alkali developer solubility and higher voltage holding ratio than the comparative example.

〔実施例5、比較例5〕
<着色感光性組成物の調製>
先に得られた顔料分散組成物を用いて、下記の着色感光性組成物を作製した。
・顔料分散液A(表14A欄に記載の顔料分散液) 2000部
・顔料分散液B(表14B欄に記載の顔料分散液) 1000部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 120部
(光重合性化合物)
・4−[o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニル)アミノフェニル]−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン 50部
(光重合開始剤)
・メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸(=75/35[質量比])共重合体
(重量平均分子量:10,000)のプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート溶液(固形分30%) 300部
(アルカリ可溶性樹脂)
・1−メトキシ−2−プロピルアセテート(溶剤) 390部
[Example 5, Comparative Example 5]
<Preparation of colored photosensitive composition>
The following colored photosensitive composition was produced using the pigment dispersion composition obtained previously.
-Pigment dispersion A (pigment dispersion described in Table 14A column) 2000 parts-Pigment dispersion B (pigment dispersion described in Table 14B column) 1000 parts-Dipentaerythritol hexaacrylate 120 parts (photopolymerizable compound)
4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine 50 parts (photopolymerization initiator)
Benzyl methacrylate / methacrylic acid (= 75/35 [mass ratio]) copolymer (weight average molecular weight: 10,000) propylene glycol monomethyl ether acetate solution (solid content 30%) 300 parts (alkali-soluble resin)
・ 390 parts of 1-methoxy-2-propyl acetate (solvent)

<着色感光性組成物を用いたカラーフィルタの調製>
得られた着色感光性組成物(カラーレジスト液)を、100mm×100mmのガラス基板(1737、コーニング社製)上に、実施例5−1、5−2及び比較例5−1は色濃度の指標となるx値が0.650となるように塗布し、実施例5−3、5−4及び比較例5−2は色濃度の指標となるy値が0.600となるように塗布し、また実施例5−5、5−6及び比較例5−3は色濃度の指標となるy値が0.100となるように塗布し、90℃のオーブンで60秒間乾燥させた(プリベーク)。その後、塗膜の全面に200mJ/cmにて(照度20mW/cm)露光し、露光後の塗膜をアルカリ現像液CDK−1(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液にて覆い、60秒間静止した。静止後、純水をシャワー状に散布して現像液を洗い流した。そして、上記のように露光及び現像が施された塗膜を220℃のオーブンで1時間加熱処理し(ポストベーク)、ガラス基板上にカラーフィルタ用の着色パターン(着色樹脂被膜)を形成し、着色フィルタ基板(カラーフィルタ)を作製した。
<Preparation of color filter using colored photosensitive composition>
Examples 5-1 and 5-2 and Comparative Example 5-1 have the color density of the obtained colored photosensitive composition (color resist solution) on a 100 mm × 100 mm glass substrate (1737, manufactured by Corning). Application was performed so that the x value as an index was 0.650, and Examples 5-3 and 5-4 and Comparative Example 5-2 were applied so that the y value as an index of color density was 0.600. In Examples 5-5 and 5-6 and Comparative Example 5-3, the y value serving as an index of color density was applied to be 0.100 and dried in an oven at 90 ° C. for 60 seconds (prebaking). . Thereafter, the entire surface of the coating film was exposed at 200 mJ / cm 2 (illuminance 20 mW / cm 2 ), and the exposed coating film was 1% aqueous solution of alkali developer CDK-1 (manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.). And rested for 60 seconds. After standing still, pure water was sprayed in a shower to wash away the developer. Then, the coating film that has been exposed and developed as described above is heated in an oven at 220 ° C. for 1 hour (post-baking) to form a colored pattern (colored resin film) for the color filter on the glass substrate, A colored filter substrate (color filter) was produced.

<カラーフィルタの評価>
作製した着色フィルタ基板(カラーフィルタ)について、以下のようにして評価を行なった。結果を表14に示す。
(1)コントラスト
(2)アルカリ現像液可溶性
(3)結晶析出性
ITO電極つきのガラス基板(商品名:1737 コーニング社製)上に着色感光性組成物を膜厚2.0μmとなるように塗布し、90℃のオーブンで60秒乾燥(プリベーク)した。その後、マスクを介さずに100mJ/cmの露光(照度は20mW/cm)をし、アルカリ現像液(商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液を用いて25℃で現像し、塗布膜を230℃のオーブンで30分間加熱処理(ポストベーク)を施した。次いで、この画素を形成した基板とITO電極を所定形状に蒸着した基板を、70℃、湿度80%の高温層に72時間入れた後、基板上の結晶析出性を目視で評価し、表14にまとめた。点数が高いほど、結晶析出がし難く、着色パターンの透明性があることを示す。
3:結晶析出がみられない
2:わずかに結晶析出がみられる
1:基板面全体に結晶析出がみられる
<Evaluation of color filter>
The produced colored filter substrate (color filter) was evaluated as follows. The results are shown in Table 14.
(1) Contrast (2) Alkali developer soluble (3) A colored photosensitive composition is applied on a glass substrate with a crystal-precipitating ITO electrode (trade name: 1737 manufactured by Corning) to a thickness of 2.0 μm. And drying (pre-baking) for 60 seconds in an oven at 90 ° C. Thereafter, exposure is performed at 100 mJ / cm 2 without using a mask (illuminance is 20 mW / cm 2 ), and a 1% aqueous solution of an alkali developer (trade name: CDK-1, manufactured by Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) is used. The coating film was developed at 25 ° C. and subjected to heat treatment (post-baking) for 30 minutes in an oven at 230 ° C. Next, the substrate on which this pixel was formed and the substrate on which the ITO electrode was deposited in a predetermined shape were placed in a high-temperature layer at 70 ° C. and 80% humidity for 72 hours, and then the crystal precipitation on the substrate was visually evaluated. It was summarized in. The higher the score, the harder the crystals are precipitated and the more transparent the colored pattern.
3: No crystal precipitation is observed 2: Slight crystal precipitation is observed 1: Crystal precipitation is observed on the entire substrate surface


表14はテスト水準によってカラーフィルタの色相が異なっている。特にコントラストは異なる色相間では比較できない。このため同一色間で、即ちDR同士、DG同士、DB同士で比較する。本発明の加工顔料を用いたカラーフィルタである実施例は、比較例に比べて、コントラストが高く、アルカリ現像液可溶性が良好で、またポストベークでの結晶析出がしにくいことがわかる。   In Table 14, the hue of the color filter varies depending on the test level. In particular, contrast cannot be compared between different hues. Therefore, comparison is made between the same colors, that is, between DRs, DGs, and DBs. It can be seen that the example which is a color filter using the processed pigment of the present invention has higher contrast, better alkali developer solubility than the comparative example, and hardly causes crystal precipitation in post-baking.

<実施例中の化合物>


<Compounds in Examples>




D−1:MM−1/A−1/MAA=20/65/15 質量%、重量平均分子量 2.3万、酸価 100mgKOH/gの重合体
D−2:MM−2/A−1/BzMA/MAA=10/58/20/12 質量%、重量平均分子量 2.3万、酸価 100mgKOH/gの重合体
D−3:ルーブリゾール社製「ソルスパース 24000」
D−4:St/MAA=75/15 質量%、重量平均分子量 2.0万、酸価 100mgKOH/gの重合体
D-1: MM-1 / A-1 / MAA = 20/65/15% by mass, polymer having a weight average molecular weight of 23,000 and an acid value of 100 mgKOH / g D-2: MM-2 / A-1 / BzMA / MAA = 10/58/20/12 mass%, weight average molecular weight 23,000, polymer D-3 having an acid value of 100 mgKOH / g: “Solsperse 24000” manufactured by Lubrizol
D-4: St / MAA = 75/15 mass%, polymer having a weight average molecular weight of 20,000 and an acid value of 100 mgKOH / g

D−5:MM−1/BzMA/MAA=20/65/15 質量%、重量平均分子量 2.0万、酸価 100mgKOH/gの重合体
D−6:St/A−1/MAA=30/55/15 質量%、重量平均分子量 2.5万、酸価 100mgKOH/gの重合体
D-5: MM-1 / BzMA / MAA = 20/65/15% by mass, polymer having a weight average molecular weight of 20,000 and an acid value of 100 mgKOH / g D-6: St / A-1 / MAA = 30 / Polymer of 55/15% by mass, weight average molecular weight 25,000, acid value 100 mgKOH / g

A−1:末端メタクリロイル化ポリメチルメタクリレート(数平均分子量6,000)
MAA:メタクリル酸
BzMA:ベンジルメタクリレート
St:スチレン
A-1: Terminal methacryloylated polymethyl methacrylate (number average molecular weight 6,000)
MAA: methacrylic acid BzMA: benzyl methacrylate St: styrene

Claims (14)

顔料と、顔料吸着性ブロックと顔料非吸着性ブロックとを有するブロック共重合体と、水溶性無機塩と、該水溶性無機塩を溶解しない水溶性有機溶剤と、を該顔料の微細化工程において機械的に混練することにより、該顔料を該ブロック共重合体で被覆してなる加工顔料であり、
該ブロック共重合体が、有機色素構造あるいは複素環構造を有する1種以上のモノマーを用いて構成された顔料吸着性ブロックと、有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーを用いて構成された顔料非吸着性ブロックとを有し、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法により製造されたブロック共重合体である加工顔料。
A pigment, a block copolymer having a pigment adsorbing block and a pigment non-adsorbing block, a water-soluble inorganic salt, and a water-soluble organic solvent that does not dissolve the water-soluble inorganic salt, in the refinement step of the pigment A processed pigment formed by mechanically kneading to coat the pigment with the block copolymer,
The block copolymer has neither a pigment-adsorbing block composed of one or more monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure, nor an organic dye structure or a heterocyclic structure. ) acrylate ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylamide; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene , Isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chloro styrene, dichloro styrene, bromo styrene, chloromethyl styrene, hydroxy styrene protected with groups deprotectable by acidic substances, vinyl benzoic acid Methyl , And alpha-1 one styrene compound selected from styrene; Biniruete Le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and one maleimide de compound selected from phenylmaleimide; and (meth) acrylonitrile anda pigment non-adsorbing blocks configured with one or more monomers selected from the group consisting of anionic living process, or a block copolymer prepared by radical living method processed pigment.
前記ブロック共重合体の重量平均分子量は、1,000以上100,000以下であることを特徴とする請求項1に記載の加工顔料。   The processed pigment according to claim 1, wherein the block copolymer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 100,000 or less. 平均1次粒子径が、5nm以上25nm以下であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の加工顔料。   The processed pigment according to claim 1 or 2, wherein the average primary particle diameter is 5 nm or more and 25 nm or less. 前記顔料の微細化工程が、さらに、顔料の乾燥工程を含むことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の加工顔料。   The processed pigment according to any one of claims 1 to 3, wherein the pigment refining step further includes a pigment drying step. 前記顔料の微細化工程における前記無機塩の添加量が、前記顔料に対して5質量倍〜25質量倍であり、前記水溶性有機溶剤の添加量が、前記無機塩に対して15質量%〜35質量%であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の加工顔料。   The addition amount of the inorganic salt in the pigment refinement step is 5 to 25 times by mass with respect to the pigment, and the addition amount of the water-soluble organic solvent is 15 to 15% by mass with respect to the inorganic salt. It is 35 mass%, The processed pigment of any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の加工顔料を、有機溶剤中に分散してなることを特徴とする顔料分散組成物。   A pigment dispersion composition comprising the processed pigment according to any one of claims 1 to 5 dispersed in an organic solvent. さらに顔料分散剤を含む請求項6に記載の顔料分散組成物。   The pigment dispersion composition according to claim 6, further comprising a pigment dispersant. カラーフィルタにおける着色領域の形成に用いられることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の顔料分散組成物。   The pigment dispersion composition according to claim 6 or 7, which is used for forming a colored region in a color filter. 請求項6〜請求項8のいずれか1項に記載の顔料分散組成物と、光重合性化合物、及び光重合開始剤を含有することを特徴とする着色感光性組成物。   A colored photosensitive composition comprising the pigment dispersion composition according to any one of claims 6 to 8, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator. 基板上に、請求項9に記載の着色感光性組成物により形成された着色領域を有することを特徴とするカラーフィルタ。   A color filter comprising a colored region formed of the colored photosensitive composition according to claim 9 on a substrate. 請求項10に記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする液晶表示素子。   A liquid crystal display element comprising the color filter according to claim 10. 請求項10に記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする固体撮像素子。   A solid-state imaging device comprising the color filter according to claim 10. 顔料と、水溶性無機塩と、水溶性無機塩を溶解しない水溶性有機溶剤と、有機色素構造あるいは複素環構造を有する1種以上のモノマーを用いて構成された顔料吸着性ブロックと、有機色素構造あるいは複素環構造のいずれをも有さず、(メタ)アクリル酸エステル;クロトン酸エステル;ビニルエステル;マレイン酸ジエステル;フマル酸ジエステル;イタコン酸ジエステル;(メタ)アクリルアミド;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、及びα−メチルスチレンから選ばれる1種のスチレン化合物;ビニルエーテル;ビニルケトン;オレフィン;マレイミド、ブチルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、及びフェニルマレイミドから選ばれる1種のマレイミド化合物;並びに(メタ)アクリロニトリルからなる群より選ばれる1種以上のモノマーを用いて構成された顔料非吸着性ブロックとを有し、アニオンリビング法、又はラジカルリビング法により製造されたブロック共重合体とを、機械的に混練して混合物を調製する工程、及び、
得られた混合物を水中に投入し、攪拌して、該ブロック共重合体により被覆された顔料を含むスラリーを調製する工程、を含む加工顔料の製造方法。
A pigment, a water-soluble inorganic salt, a water-soluble organic solvent which does not dissolve the water-soluble inorganic salt, a pigment adsorbing block configured with one or more monomers having an organic dye structure or a heterocyclic structure, an organic no any of dye structure or a heterocyclic structure, (meth) acrylic acid ester le; crotonic acid ester le; vinyl ester le; maleic acid diester Le; fumarate diester Le: itaconic acid diester Le; (meth) acrylic Ami de; styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxystyrene, methoxystyrene, butoxystyrene, acetoxystyrene, chlorostyrene, dichloro styrene, bromostyrene, chloromethylstyrene, acidic substance Protected with a deprotectable group Hydroxy styrene, methyl vinyl benzoate, and α- methylstyrene one styrene compound selected from; Biniruete le; Biniruketo emissions; olefin emissions; maleimide, butyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and one selected from phenylmaleimide maleimide de compounds; and (meth) anda pigment non-adsorbing blocks configured with one or more monomers selected from the group consisting of acrylonitrile, anionic living process, or block produced by radical living method A step of mechanically kneading the copolymer to prepare a mixture, and
A process for producing a processed pigment, comprising: adding the obtained mixture into water and stirring to prepare a slurry containing the pigment coated with the block copolymer.
得られたスラリーに含まれる前記ブロック共重合体により被覆された顔料を、乾燥する工程をさらに含む請求項13に記載の加工顔料の製造方法。   The method for producing a processed pigment according to claim 13, further comprising a step of drying the pigment coated with the block copolymer contained in the obtained slurry.
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