JP5581927B2 - Process for producing 4-amino-m-cresol - Google Patents

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本発明は、4−アミノ−m−クレゾールの製造方法に関する。   The present invention relates to a process for producing 4-amino-m-cresol.

4−アミノ−m−クレゾールは、以下の構造:

Figure 0005581927
を有する化合物(別名:4−アミノ−3−メチルフェノール)であり、アミノ基とヒドロキシル基とを有することから、樹脂、染料、酸化防止剤、化学品、化学薬品、農薬、医薬などの合成中間体として、非常に工業的に有用な化合物である。 4-Amino-m-cresol has the following structure:
Figure 0005581927
Compound (also known as: 4-amino-3-methylphenol) having an amino group and a hydroxyl group, it is a synthetic intermediate for resins, dyes, antioxidants, chemicals, chemicals, agricultural chemicals, pharmaceuticals, etc. It is a very industrially useful compound as a body.

また、4−アミノ−m−クレゾールは、それ自体を染毛剤、化粧品、医薬などに直接配合することもできる。
例えば、特許文献1(特開2003−238369号公報)は、4−アミノ−m−クレゾールを含む染毛剤を開示する。より具体的には、特許文献1は、以下の成分A〜C:
A成分として、p−フェニレンジアミン、トルエン−2,5−ジアミン、2−クロロ−p−フェニレンジアミン及びそれらの塩の中から選ばれる1種以上と、
B成分として、「4−アミノ−3−メチルフェノール」及びその塩の中から選ばれる1種以上と、
C成分として、5−アミノ−2−メチルフェノール、5−(2−ヒドロキシエチルアミノ)−2−メチルフェノール、及びそれらの塩の中から選ばれる1種以上を含有するとともに、
剤型が粉末であることを特徴とする染毛剤を開示する。
特許文献1には、B成分として、「4−アミノ−3−メチルフェノール」(すなわち、4−アミノ−m−クレゾール)を開示するが、4−アミノ−m−クレゾールの入手先、製造元および合成方法は、全く開示されていない。
Further, 4-amino-m-cresol itself can be directly blended into hair dyes, cosmetics, medicines and the like.
For example, patent document 1 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-238369) discloses the hair dye containing 4-amino-m-cresol. More specifically, Patent Document 1 discloses the following components A to C:
As the component A, one or more selected from p-phenylenediamine, toluene-2,5-diamine, 2-chloro-p-phenylenediamine and salts thereof;
As the component B, one or more selected from “4-amino-3-methylphenol” and salts thereof,
As C component, it contains at least one selected from 5-amino-2-methylphenol, 5- (2-hydroxyethylamino) -2-methylphenol, and salts thereof,
Disclosed is a hair dye characterized in that the dosage form is a powder.
Patent Document 1 discloses “4-amino-3-methylphenol” (that is, 4-amino-m-cresol) as the component B. However, the source, manufacturer and synthesis of 4-amino-m-cresol are disclosed. No method is disclosed.

特許文献2(特公平6−89115号公報)は、「25℃における粘度が15ポイズ以下である、4−アミノ−m−クレゾールのトリグリシジル誘導体と、硬化剤とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物」を開示する。特許文献2に開示の4−アミノ−m−クレゾールのトリグリシジル誘導体を含むエポキシ樹脂組成物は、耐熱性に優れ、なおかつ、低粘度であるために、その作業性が優れている。しかし、特許文献2においても、4−アミノ−m−クレゾールの入手先、製造元および合成方法は、全く開示されていない。   Patent Document 2 (Japanese Patent Publication No. 6-89115) is characterized by containing a triglycidyl derivative of 4-amino-m-cresol having a viscosity at 25 ° C. of 15 poise or less and a curing agent. An “epoxy resin composition” is disclosed. The epoxy resin composition containing the triglycidyl derivative of 4-amino-m-cresol disclosed in Patent Document 2 is excellent in heat resistance and low in viscosity, and therefore has excellent workability. However, even in Patent Document 2, the source, manufacturer and synthesis method of 4-amino-m-cresol are not disclosed at all.

特許文献3(米国特許第2765342号明細書)は、o−ニトロトルエンから、4−アミノ−m−クレゾールを製造する方法を開示するが、この製造方法では、o−ニトロトルエンのニトロ基をアミノ基に還元すると同時に、バンバーガー(Bamberger)転位反応によって、ニトロ基由来のアミノ基のパラ位に、ヒドロキシル基を導入して、4−アミノ−m−クレゾールを製造している(以下の反応式を参照のこと)。しかし、この方法では、4−アミノ−m−クレゾールの収率は低く、また、不純物として、その除去が困難なo−トルイジンが副生するので、4−アミノ−m−クレゾールの純度も低下する。従って、特許文献3に開示の製造方法では、高純度の4−アミノ−m−クレゾール、特に、電子部品に使用するエポキシ樹脂の中間体として望ましい高純度の4−アミノ−m−クレゾールを得ることはできない。   Patent Document 3 (US Pat. No. 2,765,342) discloses a method for producing 4-amino-m-cresol from o-nitrotoluene. In this production method, the nitro group of o-nitrotoluene is converted to an amino group. Simultaneously with the reduction, 4-amino-m-cresol is produced by introducing a hydroxyl group at the para-position of the amino group derived from the nitro group by the Bamberger rearrangement reaction (see the following reaction formula) ) However, in this method, the yield of 4-amino-m-cresol is low, and o-toluidine, which is difficult to remove as an impurity, is produced as a by-product, so that the purity of 4-amino-m-cresol is also reduced. . Therefore, in the production method disclosed in Patent Document 3, high-purity 4-amino-m-cresol, particularly high-purity 4-amino-m-cresol, which is desirable as an intermediate of an epoxy resin used for electronic parts, is obtained. I can't.

Figure 0005581927
Figure 0005581927

さらに、非特許文献1(Yanqing Peng et al.,Indian Journal of Chemistry,Vol.43B,September 2004,pp.2021−2023)は、還元剤として、過剰量の亜ジチオン酸ナトリウム(Na)の存在下にマイクロ波(MW)を照射して、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸のナトリウム塩から、4−アミノ−m−クレゾールを製造する方法を開示する(以下の反応式を参照のこと)。 Furthermore, Non-Patent Document 1 (Yanqing Peng et al., Indian Journal of Chemistry, Vol. 43B, September 2004, pp. 2021-2023) uses an excessive amount of sodium dithionite (Na 2 S 2 O as a reducing agent). 4 ) Disclosed is a method for producing 4-amino-m-cresol from sodium salt of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid by irradiation with microwave (MW) in the presence of ( See the reaction equation below).

Figure 0005581927
Figure 0005581927

さらに、非特許文献1に開示の製造方法では、還元剤である亜ジチオン酸ナトリウムが再利用不可能であり、しかも、硫黄含有廃液の処理の問題や、原料に使用したスルファニル酸の回収が不可能であるため、4−アミノ−m−クレゾールの製造コストは非常に高くなる。   Furthermore, in the production method disclosed in Non-Patent Document 1, sodium dithionite, which is a reducing agent, is not reusable, and there is no problem with the treatment of the sulfur-containing waste liquid and the recovery of sulfanilic acid used as a raw material. Since it is possible, the production cost of 4-amino-m-cresol is very high.

特開2003−238369号公報JP 2003-238369 A 特公平6−89115号公報Japanese Patent Publication No. 6-89115 米国特許第2765342号明細書U.S. Pat. No. 2,765,342

Yanqing Peng et al.,Indian Journal of Chemistry,Vol.43B,September 2004,pp.2021−2023Yanqing Peng et al. , Indian Journal of Chemistry, Vol. 43B, September 2004, pp. 2021-2023

本発明は、高収率かつ高純度で4−アミノ−m−クレゾールを安価かつ簡便に製造することを課題とする。   An object of the present invention is to produce 4-amino-m-cresol inexpensively and easily with high yield and high purity.

本発明者らは、鋭意研究の結果、水素および遷移金属触媒の存在下での接触還元によって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸のアゾ基(−N=N−)を還元して、高収率かつ高純度で4−アミノ−m−クレゾールだけを選択的に製造する方法を見い出し、本発明を完成するに至った。従って、本発明は以下を提供する。   As a result of intensive studies, the present inventors have determined that the azo group (—N═N—) of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid is obtained by catalytic reduction in the presence of hydrogen and a transition metal catalyst. The inventors have found a method for selectively producing only 4-amino-m-cresol in a high yield and high purity, thereby completing the present invention. Accordingly, the present invention provides the following.

[1]
水素および遷移金属触媒の存在下、反応温度0〜90℃の範囲、および反応圧力0.1〜3.0MPaの範囲で、接触還元によって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、4−アミノ−m−クレゾールを製造する方法において、
前記遷移金属触媒が、Pd/C、Pt/C、Pd(II)X 、Pt(0)L 、Pt(II)X 、Pt(0)L 、ラネーニッケル、NiX およびNi(0)L からなる群から選択される
[式中、X 、X およびX は、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
、L およびL は、それぞれ独立して、dba(ジベンジリデンアセトン)、dppf(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)、dppp(1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)、acac(アセチルアセトナート)、dppb(o−ジフェニルホスフィノベンゾイル)、cod(1,5−シクロオクタジエン)、TPP(トリフェニルホスフィン)、TPB(テトラフェニルボレート)およびBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルからなる群から選択される。]
からなる群から選択される遷移金属触媒であることを特徴とする、4−アミノ−m−クレゾールの製造方法。
[1]
P- (4-Hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid by catalytic reduction in the presence of hydrogen and a transition metal catalyst at a reaction temperature in the range of 0 to 90 ° C. and a reaction pressure in the range of 0.1 to 3.0 MPa. Or a method for producing 4-amino-m-cresol from a salt thereof ,
The transition metal catalyst is Pd / C, Pt / C, Pd (II) X 1 2 , Pt (0) L 1 2 , Pt (II) X 2 2 , Pt (0) L 2 2 , Raney nickel, NiX 3 Selected from the group consisting of 2 and Ni (0) L 3 2
Wherein X 1 , X 2 and X 3 are each independently selected from the group consisting of chlorine, bromine and iodine atoms;
L 1 , L 2 and L 3 are each independently dba (dibenzylideneacetone), dppf (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene), dppp (1,3-bis (diphenylphosphino)) Propane), acac (acetylacetonate), dppb (o-diphenylphosphinobenzoyl), cod (1,5-cyclooctadiene), TPP (triphenylphosphine), TPB (tetraphenylborate) and BINAP (2,2 Selected from the group consisting of '-bis (diphenylphosphino) -1,1'-binaphthyl.]
A process for producing 4-amino-m-cresol, which is a transition metal catalyst selected from the group consisting of:

[2]
前記接触還元後、反応液のpHを4.0〜8.0に調整して4−アミノ−m−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程をさらに含む、上記[1]に記載の方法。
[2]
After the catalytic reduction, further comprising the step of adjusting the pH of the reaction solution to 4.0 to 8.0 to precipitate 4-amino-m-cresol, and then separating the precipitate and the filtrate by filtration. The method according to [1] above.

[3]
前記沈殿物から、再結晶によって、4−アミノ−m−クレゾールの結晶を得る工程をさらに含む、上記[2]に記載の方法。
[3]
The method according to [2] above , further comprising a step of obtaining crystals of 4-amino-m-cresol from the precipitate by recrystallization.

[4]
前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程をさらに含む、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の方法。
[4]
The method according to any one of [1] to [3], further comprising a step of recovering sulfanilic acid from the filtrate.

[5]
前記接触還元の前に、スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、m−クレゾールと反応させることによって、前記p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程を含む、上記[1]〜[4]のいずれかに記載の方法。
[5]
Prior to the catalytic reduction, comprising diazotizing sulfanilic acid and further reacting with m-cresol to prepare the p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof. The method according to any one of [1] to [4] above.


前記接触還元をアルカリ水溶液中で行う、上記[1]〜[5]のいずれかに記載の方法。
[ 6 ]
The method according to any one of [1] to [5] above, wherein the catalytic reduction is performed in an alkaline aqueous solution.

[7]
スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、m−クレゾールと反応させることによって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程、
水素およびPd/C、Pt/C、Pd(II)X 、Pt(0)L 、Pt(II)X 、Pt(0)L 、ラネーニッケル、NiX およびNi(0)L
[式中、X 、X およびX は、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
、L およびL は、それぞれ独立して、dba(ジベンジリデンアセトン)、dppf(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)、dppp(1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)、acac(アセチルアセトナート)、dppb(o−ジフェニルホスフィノベンゾイル)、cod(1,5−シクロオクタジエン)、TPP(トリフェニルホスフィン)、TPB(テトラフェニルボレート)およびBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルからなる群から選択される。]
からなる群から選択される遷移金属触媒の存在下、反応温度0〜90℃の範囲、および反応圧力0.1〜3.0MPaの範囲で、アルカリ水溶液中で、接触還元によって、前記p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、4−アミノ−m−クレゾールを調製する工程、
前記接触還元後、反応液のpHを4.0〜8.0に調整して4−アミノ−m−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程、
前記沈殿物から、再結晶によって、4−アミノ−m−クレゾールの結晶を得る工程、および、
前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程、
を含む、4−アミノ−m−クレゾールの製造において、原料であるスルファニル酸を回収する方法。
[7]
A step of preparing p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof by diazotizing sulfanilic acid and further reacting with m-cresol;
Hydrogen ; and Pd / C, Pt / C, Pd (II) X 1 2 , Pt (0) L 1 2 , Pt (II) X 2 2 , Pt (0) L 2 2 , Raney nickel, NiX 3 2 and Ni (0) L 3 2
Wherein X 1 , X 2 and X 3 are each independently selected from the group consisting of chlorine, bromine and iodine atoms;
L 1 , L 2 and L 3 are each independently dba (dibenzylideneacetone), dppf (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene), dppp (1,3-bis (diphenylphosphino)) Propane), acac (acetylacetonate), dppb (o-diphenylphosphinobenzoyl), cod (1,5-cyclooctadiene), TPP (triphenylphosphine), TPB (tetraphenylborate) and BINAP (2,2 Selected from the group consisting of '-bis (diphenylphosphino) -1,1'-binaphthyl.]
In the presence of a transition metal catalyst selected from the group consisting of : a reaction temperature in the range of 0 to 90 ° C. and a reaction pressure in the range of 0.1 to 3.0 MPa by catalytic reduction in an aqueous alkaline solution. A step of preparing 4-amino-m-cresol from (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof;
After the catalytic reduction, the pH of the reaction solution is adjusted to 4.0 to 8.0 to precipitate 4-amino-m-cresol, and then the precipitate and the filtrate are separated by filtration;
Obtaining crystals of 4-amino-m-cresol from the precipitate by recrystallization, and
Recovering sulfanilic acid from the filtrate,
In the production of 4-amino-m-cresol, comprising: sulfanilic acid as a raw material.

[8]
上記[7]のいずれかに記載の方法で回収したスルファニル酸をジアゾ化して、さらに、m−クレゾールと反応させることによって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を製造する方法。
[8]
The sulfanilic acid recovered by the method according to any one of the above [7] is diazotized and further reacted with m-cresol to obtain p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof. How to manufacture.

本発明によると、水素および遷移金属触媒の存在下での接触還元によって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、高収率かつ高純度で4−アミノ−m−クレゾールだけを選択的にしかも安価かつ簡便に製造することができる。また、本発明では、接触還元後の廃液から、接触還元によって副生したスルファニル酸を高収率かつ高純度で回収することができる。回収したスルファニル酸を再利用することによって、回収したスルファニル酸から、再び、上記p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を再度合成することができ、さらに、大量に4−アミノ−m−クレゾールを製造することができるので、4−アミノ−m−クレゾールの製造コストを大幅に削減することができ、工業生産に適している。また、本発明の方法は、廃液を再利用するので、環境にやさしく、非常に有益である。   According to the present invention, 4-amino-m in high yield and purity is obtained from p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof by catalytic reduction in the presence of hydrogen and a transition metal catalyst. -Only cresol can be produced selectively and inexpensively. In the present invention, sulfanilic acid by-produced by catalytic reduction can be recovered from the waste liquid after catalytic reduction with high yield and high purity. By reusing the recovered sulfanilic acid, the above p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof can be synthesized again from the recovered sulfanilic acid. -Since amino-m-cresol can be manufactured, the manufacturing cost of 4-amino-m-cresol can be reduced significantly and it is suitable for industrial production. In addition, the method of the present invention reuses the waste liquid, so it is environmentally friendly and very useful.

実施例1で製造した4−アミノ−m−クレゾールのHPLCチャートである。2 is an HPLC chart of 4-amino-m-cresol produced in Example 1. FIG. 実施例1で製造した4−アミノ−m−クレゾールのH−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of 4-amino-m-cresol prepared in Example 1. FIG. 実施例1で製造した4−アミノ−m−クレゾールの13C−NMRスペクトルである。2 is a 13 C-NMR spectrum of 4-amino-m-cresol prepared in Example 1. FIG. 比較例1で製造した4−アミノ−m−クレゾールのHPLCチャートである。2 is an HPLC chart of 4-amino-m-cresol produced in Comparative Example 1.

本発明は、4−アミノ−m−クレゾールの製造方法に関し、以下のスキームに従って、本発明を実施するための形態を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Although this invention relates to the manufacturing method of 4-amino-m-cresol, according to the following schemes, the form for implementing this invention is demonstrated in detail, This invention is not limited to these.

Figure 0005581927
Figure 0005581927

上記のスキームに示す通り、本発明は、4−アミノ−m−クレゾールの製造方法に関し、より具体的には、本発明では、水素および遷移金属触媒の存在下、接触還元によって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸から、4−アミノ−m−クレゾールを製造する方法に関する。   As shown in the above scheme, the present invention relates to a process for producing 4-amino-m-cresol, and more specifically, in the present invention, by catalytic reduction in the presence of hydrogen and a transition metal catalyst, p- (4 It relates to a process for producing 4-amino-m-cresol from -hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid.

また、本発明において使用するp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸は、以下の式で表される通り、塩の形態であってもよい。   Moreover, the p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid used in the present invention may be in the form of a salt as represented by the following formula.

Figure 0005581927
Figure 0005581927

(式中、Xは、水素原子、リチウム、ナトリウムまたはカリウムを表すが、特にこれらに限定されない)   (In the formula, X represents a hydrogen atom, lithium, sodium or potassium, but is not particularly limited thereto)

本発明において、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩は、上記のスキームに示す通り、スルファニル酸をジアゾ化し、さらにm−クレゾールとカップリングすること、すなわち、「ジアゾ化カップリング反応」によって得られたものであることが好ましい。   In the present invention, p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof is obtained by diazotizing sulfanilic acid and further coupling with m-cresol as shown in the above scheme, that is, “diazo It is preferable that it was obtained by the "coupling reaction".

ジアゾ化カップリング反応
まず、スルファニル酸を水に加え、さらに、塩基を加えて、スルファニル酸を完全に水中に溶解させる。
Diazotization coupling reaction First, sulfanilic acid is added to water and then a base is added to completely dissolve the sulfanilic acid in water.

水の量は、1モル当量のスルファニル酸に対して、1.0〜5.0L、好ましくは1.2〜2.5Lである。1.0L未満であると、完溶しないなどの問題の恐れがあり、5.0Lを超えると、最終生成物の収率が低下する、廃液量が増えるなどの問題の恐れがある。   The amount of water is 1.0 to 5.0 L, preferably 1.2 to 2.5 L, relative to 1 molar equivalent of sulfanilic acid. If it is less than 1.0 L, there is a risk of problems such as incomplete dissolution, and if it exceeds 5.0 L, there may be a problem that the yield of the final product decreases and the amount of waste liquid increases.

塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩等が挙げられる。   Examples of the base include hydroxides of alkali metals such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide; carbonates of alkali metals such as sodium carbonate, potassium carbonate, and cesium carbonate; sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, and the like And alkali metal hydrogen carbonates of the above.

塩基の添加量は、1モル当量のスルファニル酸に対して、0.5〜1.5モル当量、好ましくは0.5〜1.2モル当量である。0.5モル当量未満であると、完溶しないなどの問題の恐れがあり、1.5モル当量を超えると、酸析時に大量の酸が必要かつ目的物回収量が少なくなるなどの問題の恐れがある。   The addition amount of the base is 0.5 to 1.5 molar equivalents, preferably 0.5 to 1.2 molar equivalents, relative to 1 molar equivalent of sulfanilic acid. If the amount is less than 0.5 molar equivalent, there is a risk of problems such as incomplete dissolution. If the amount exceeds 1.5 molar equivalent, a large amount of acid is required at the time of acid precipitation and the amount of target product recovered is reduced. There is a fear.

スルファニル酸水溶液を0〜10℃、好ましくは0〜5℃に冷却し、この水溶液に、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸塩またはその水溶液を加え、次いで、塩酸、硫酸等の酸を加えて、スルファニル酸をジアゾ化する(すなわち、ジアゾニウム塩の形成)。酸を加える際には、液温が10℃以下、好ましくは5℃以下になるように添加、好ましくは滴下することが望ましい。   An aqueous sulfanilic acid solution is cooled to 0 to 10 ° C., preferably 0 to 5 ° C., and a nitrite such as sodium nitrite and potassium nitrite or an aqueous solution thereof is added to the aqueous solution, and then an acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid is added. Diazotize the sulfanilic acid (ie, formation of a diazonium salt). When the acid is added, it is desirable to add, preferably add dropwise, so that the liquid temperature is 10 ° C. or lower, preferably 5 ° C. or lower.

スルファニル酸水溶液の温度が0℃未満であると、溶媒が凍結したり、シャーベット状になったりするなどの問題の恐れがあり、10℃を超えると、ジアゾニウム塩が分解するなどの問題の恐れがある。   If the temperature of the aqueous sulfanilic acid solution is less than 0 ° C, the solvent may freeze or become a sherbet, and if it exceeds 10 ° C, the diazonium salt may be decomposed. is there.

亜硝酸塩の添加量は、1モル当量のスルファニル酸に対して、1.01〜2.0モル当量、好ましくは1.05〜1.2モル当量である。1.01モル当量未満であるとジアゾ化反応が不完全になるなどの問題の恐れがあり、2.0モル当量を超えると、過剰の亜硝酸塩のために副反応が起こったり、脱亜硝のためのスルファミン酸が大量に必要になるなどの問題の恐れがある。   The amount of nitrite added is 1.01 to 2.0 molar equivalents, preferably 1.05 to 1.2 molar equivalents, relative to 1 molar equivalent of sulfanilic acid. If it is less than 1.01 molar equivalent, there is a risk of problems such as incomplete diazotization reaction. If it exceeds 2.0 molar equivalent, side reactions may occur due to excess nitrite, or denitrification. There is a risk of problems such as the need for large amounts of sulfamic acid.

酸の添加量は、1モル当量のスルファニル酸に対して、2.0〜5.0モル当量、好ましくは2.5〜4.0モル当量である。2.0モル当量未満であると、ジアゾ化反応が不完全になるなどの問題の恐れがあり、5.0モル当量を超えると、副反応が生じるなどの問題の恐れがある。   The amount of acid added is 2.0 to 5.0 molar equivalents, preferably 2.5 to 4.0 molar equivalents, relative to 1 molar equivalent of sulfanilic acid. If the amount is less than 2.0 molar equivalents, the diazotization reaction may be incomplete, and if it exceeds 5.0 molar equivalents, a side reaction may occur.

この温度で撹拌を10分〜1時間、好ましくは20分〜40分間続けて、スルファニル酸のジアゾ化を行い、スルファニル酸のジアゾニウム塩を含む溶液(以下、ジアゾ含有溶液)を得る。ジアゾ含有溶液には、過剰量の亜硝酸塩が存在するので、亜硝酸塩を分解(脱亜硝)するために、例えば、スルファミン酸を加える。このとき、スルファミン酸をジアゾ含有溶液に少量ずつ添加し、ガラス棒で搾取したジアゾ含有溶液をKIデンプン紙に付して、変色しなくなるまでスルファミン酸をジアゾ含有溶液に添加する。   Stirring is continued at this temperature for 10 minutes to 1 hour, preferably 20 minutes to 40 minutes to diazotize sulfanilic acid to obtain a solution containing a diazonium salt of sulfanilic acid (hereinafter referred to as diazo-containing solution). Since an excessive amount of nitrite is present in the diazo-containing solution, for example, sulfamic acid is added to decompose (denitrify) the nitrite. At this time, sulfamic acid is added to the diazo-containing solution little by little, the diazo-containing solution squeezed with a glass rod is applied to KI starch paper, and sulfamic acid is added to the diazo-containing solution until it does not change color.

次に、m−クレゾールとのカップリング反応を行うために、別途に、m−クレゾールを水に加え、さらに、塩基を加えて、m−クレゾールを水中に完全に溶解させて、カップラー溶液を調製する。   Next, in order to perform a coupling reaction with m-cresol, separately, m-cresol is added to water, and further, a base is added to completely dissolve m-cresol in water to prepare a coupler solution. To do.

水の添加量は、1モル当量のm−クレゾールに対して、1.0〜5.0L、好ましくは1.5〜2.5Lである。1.0L未満であると、完溶しないなどの問題の恐れがあり、5.0Lを超えると、酸析時に大量の酸が必要かつ目的物回収量が少なくなるなどの問題の恐れがある。   The amount of water added is 1.0 to 5.0 L, preferably 1.5 to 2.5 L, relative to 1 molar equivalent of m-cresol. If it is less than 1.0 L, there is a risk of problems such as incomplete dissolution, and if it exceeds 5.0 L, a large amount of acid is required at the time of acid precipitation and there is a risk that the amount of target product recovered will be reduced.

塩基としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属の炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属の炭酸水素塩等が挙げられる。   Examples of the base include hydroxides of alkali metals such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide; carbonates of alkali metals such as sodium carbonate, potassium carbonate, and cesium carbonate; sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, and the like And alkali metal hydrogen carbonates of the above.

塩基の添加量は、1モル当量のm−クレゾールに対して、1.0〜1.5モル当量、好ましくは1.0〜1.1モル当量である。1.0モル当量未満であると、完溶しないなどの問題の恐れがあり、1.5モル当量を超えると、酸析時に大量の酸が必要かつ目的物回収量が少なくなるなどの問題の恐れがある。   The addition amount of the base is 1.0 to 1.5 molar equivalents, preferably 1.0 to 1.1 molar equivalents with respect to 1 molar equivalent of m-cresol. If the amount is less than 1.0 molar equivalent, there is a risk of problems such as incomplete dissolution. If the amount exceeds 1.5 molar equivalent, a large amount of acid is required at the time of acid precipitation and the amount of recovered target product is reduced. There is a fear.

次に、カップラー溶液を0〜10℃、好ましくは0〜5℃に冷却する。0℃未満であると、溶媒である水が凍結したり、シャーベット状となったりするなどの問題の恐れがあり、10℃を超えると、ジアゾニウム塩が分解するなどの問題の恐れがある。   The coupler solution is then cooled to 0-10 ° C, preferably 0-5 ° C. If it is lower than 0 ° C., there is a fear that the solvent water freezes or becomes a sherbet, and if it exceeds 10 ° C., there is a possibility that the diazonium salt decomposes.

冷却したカップラー溶液に、上述のスルファニル酸のジアゾ含有溶液を滴下する。滴下の際、反応系の温度を0〜10℃、好ましくは0〜5℃に調整することが望ましい。温度が0℃未満であると、溶媒である水が凍結したり、シャーベット状となるなどの問題の恐れがあり、10℃を超えると、ジアゾニウム塩が分解し、副反応が生じるなどの問題の恐れがある。   The diazo-containing solution of sulfanilic acid described above is added dropwise to the cooled coupler solution. In dropping, it is desirable to adjust the temperature of the reaction system to 0 to 10 ° C, preferably 0 to 5 ° C. If the temperature is less than 0 ° C, water as a solvent may freeze or become a sherbet, and if it exceeds 10 ° C, the diazonium salt decomposes and a side reaction occurs. There is a fear.

また、反応溶液に、アルカリ金属の水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど)、アルカリ金属の炭酸塩(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど)等の塩基の水溶液を適宜加えて、反応系のpHが8〜14、好ましくは9〜11、より好ましくはpH10となるように、反応系のpHを調整することが望ましい。pHが8未満であると、副反応(カップリング位置が違うもの)が生じるなどの問題の恐れがあり、pHが14を超えると、副反応(カップリングが2箇所おこる)、酸析時に大量の酸が必要で回収率が減るなどの問題の恐れがある。   Further, an aqueous solution of a base such as an alkali metal hydroxide (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide) or an alkali metal carbonate (for example, sodium carbonate, potassium carbonate) is appropriately added to the reaction solution, It is desirable to adjust the pH of the reaction system so that the pH of the reaction system is 8 to 14, preferably 9 to 11, more preferably pH 10. If the pH is less than 8, there may be problems such as side reactions (those with different coupling positions). If the pH exceeds 14, side reactions (two couplings occur) and a large amount during acid precipitation. This may cause problems such as reduced acid recovery due to the need for acid.

ジアゾ化カップリング反応において、m−クレゾールの使用量は、1モル当量のスルファニル酸に対して、0.99〜1.01モル当量、好ましくは当モル量である。   In the diazotization coupling reaction, the amount of m-cresol used is 0.99 to 1.01 molar equivalent, preferably an equimolar amount, relative to 1 molar equivalent of sulfanilic acid.

滴下終了後、30分〜5時間、好ましくは1時間〜3時間撹拌し、塩析および/または酸析を行って、ジアゾ化カップリング反応生成物、すなわち、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を析出させる。   After completion of the dropwise addition, the mixture is stirred for 30 minutes to 5 hours, preferably 1 hour to 3 hours, and subjected to salting out and / or aciding out to obtain a diazotized coupling reaction product, that is, p- (4-hydroxy-o- Tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof.

塩析に用いる塩としては、例えば、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム等が挙げられ、塩の添加量は、1モル当量のp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩に対して、1〜20モル当量、好ましくは5〜15モル当量、より好ましくは8〜12モル当量である。1モル当量未満であると、生成物回収率が低くなるなどの問題の恐れがあり、20モル当量を超えると、製品に塩が混入し、純度が下がるなどの問題の恐れがある。   Examples of the salt used for salting out include lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, and the like. The amount of the salt added is 1 molar equivalent of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof. 1 to 20 molar equivalents, preferably 5 to 15 molar equivalents, more preferably 8 to 12 molar equivalents. If it is less than 1 molar equivalent, the product recovery rate may be low, and if it exceeds 20 molar equivalent, salt may be mixed into the product and the purity may be reduced.

酸析に用いる酸としては、塩酸、硫酸等が挙げられる。これらの酸は、反応液のpHが中性付近となるまで添加する。   Examples of the acid used for acid precipitation include hydrochloric acid and sulfuric acid. These acids are added until the pH of the reaction solution becomes near neutral.

塩析および/または酸析を行う際の液温は、析出物の種類にもよるが、特に限定はなく、例えば、0〜30℃、好ましくは5〜15℃であり、0℃未満であると、副生成物も析出するなどの問題の恐れがあり、30℃を超えると、生成物が分解するなどの問題の恐れがある。   The liquid temperature at the time of salting out and / or aciding out depends on the type of precipitate, but is not particularly limited, and is, for example, 0 to 30 ° C., preferably 5 to 15 ° C., and less than 0 ° C. If the temperature exceeds 30 ° C., the product may be decomposed.

塩析および/または酸析を行う際のpHとしては、析出物の種類にもよるが、特に限定はなく、例えば、3〜9、好ましくは6〜9であり、3未満であると、副生成物も析出するなどの問題の恐れがあり、9を超えると、生成物が析出しないなどの問題の恐れがある。   The pH at the time of salting out and / or aciding out depends on the type of precipitate, but is not particularly limited. For example, the pH is 3 to 9, preferably 6 to 9, and less than 3. There is a risk of problems such as precipitation of the product, and if it exceeds 9, there is a risk of problems such as no precipitation of the product.

従って、このような塩析および/または酸析によって析出するp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩は、式:

Figure 0005581927
(式中、Xは、水素原子、リチウム、ナトリウムまたはカリウムを表すが、特にこれらに限定されない)
で表され、遊離酸(X=H)の形態であっても、塩(X=Li、NaまたはKなど)の形態であっても、あるいは、これらの混合物であってもよい。析出したp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩は、必要に応じて、濾取し、水で洗浄し、乾燥してもよく、あるいは、ウェットケーキの状態で次の反応に用いてもよい。 Accordingly, p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof precipitated by such salting out and / or aciding out has the formula:
Figure 0005581927
(In the formula, X represents a hydrogen atom, lithium, sodium or potassium, but is not particularly limited thereto)
And may be in the form of a free acid (X = H), a salt (such as X = Li, Na or K), or a mixture thereof. The precipitated p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof may be collected by filtration, washed with water and dried, if necessary, or in the form of a wet cake. You may use for reaction.

接触還元
次に、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩の接触還元について説明する。
Catalytic reduction Next, catalytic reduction of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof will be described.

本発明では、上記のスキームに示す通り、接触還元によって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩に含まれるアゾ基(−N=N−)を水素および遷移金属触媒の存在下で還元して開裂し、「4−アミノ−m−クレゾール」と「スルファニル酸」とに分解することができる。   In the present invention, as shown in the above-mentioned scheme, an azo group (—N═N—) contained in p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof is converted into hydrogen and a transition metal catalyst by catalytic reduction. Can be cleaved by reduction in the presence of and decomposed into “4-amino-m-cresol” and “sulfanilic acid”.

より具体的には、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩をオートクレーブ等の加圧容器に仕込み、アルカリ性水溶液中、遷移金属触媒存在下、水素を加圧容器に吹き込むことによって、アゾ結合(−N=N−)を還元的に開裂することができる。   More specifically, p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof is charged into a pressure vessel such as an autoclave, and hydrogen is blown into the pressure vessel in an alkaline aqueous solution in the presence of a transition metal catalyst. Thus, the azo bond (—N═N—) can be cleaved reductively.

遷移金属触媒としては、接触水素還元作用を有する金属触媒であれば特に限定はなく、例えば、Pd/C、Pt/C、Pd(II)X 、Pt(0)L 、Pt(II)X 、Pt(0)L 、ラネーニッケル(Raney Ni)、NiX およびNi(0)L からなる群から選択されるものが好ましい。X、XおよびXは、それぞれ独立して、ハロゲン原子を示し、好ましくは、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択される。L、LおよびLは、それぞれ独立して、配位子を示し、好ましくは、dba(ジベンジリデンアセトン)、dppf(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)、dppp(1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)、acac(アセチルアセトナート)、dppb(o−ジフェニルホスフィノベンゾイル)、cod(1,5−シクロオクタジエン)、TPP(トリフェニルホスフィン)、TPB(テトラフェニルボレート)およびBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルからなる群から選択される。遷移金属触媒としては、収率向上の観点から、Pd/Cが特に好ましい。 The transition metal catalyst is not particularly limited as long as it is a metal catalyst having a catalytic hydrogen reduction action. For example, Pd / C, Pt / C, Pd (II) X 1 2 , Pt (0) L 1 2 , Pt ( II) Those selected from the group consisting of X 2 2 , Pt (0) L 2 2 , Raney Nickel (Raney Ni), NiX 3 2 and Ni (0) L 3 2 are preferred. X 1 , X 2 and X 3 each independently represent a halogen atom, and are preferably selected from the group consisting of a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. L 1 , L 2 and L 3 each independently represent a ligand, preferably dba (dibenzylideneacetone), dppf (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene), dppp (1 , 3-bis (diphenylphosphino) propane), acac (acetylacetonate), dppb (o-diphenylphosphinobenzoyl), cod (1,5-cyclooctadiene), TPP (triphenylphosphine), TPB (tetra Phenylborate) and BINAP (2,2′-bis (diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl) As the transition metal catalyst, Pd / C is particularly preferable from the viewpoint of yield improvement. preferable.

遷移金属触媒の使用量としては、接触還元が進行する触媒量であれば特に限定はなく、例えば、1モルのp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩に対して、0.001mol%〜10.0mol%、好ましくは0.01mol%〜5.0mol%、より好ましくは0.01mol%〜1.0mol%であり、0.001mol%未満であると、反応が完結しない可能性などの問題の恐れがあり、10.0mol%を超えると、高価になるなどの問題の恐れがある。   The amount of the transition metal catalyst used is not particularly limited as long as catalytic reduction proceeds, and for example, with respect to 1 mol of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof, 0.001 mol% to 10.0 mol%, preferably 0.01 mol% to 5.0 mol%, more preferably 0.01 mol% to 1.0 mol%, and if it is less than 0.001 mol%, the reaction is not completed. There is a risk of problems such as possibility, and if it exceeds 10.0 mol%, there is a risk of problems such as high cost.

反応温度は、0〜90℃、好ましくは15〜85℃、より好ましくは20〜80℃、特に好ましくは60℃であり、圧力は、0.1〜3.0MPa、好ましくは0.25〜0.75MPa、より好ましくは0.4〜0.6MPaである。この条件で水素の吸収がなくなるまで反応を行うことが望ましい。   The reaction temperature is 0 to 90 ° C, preferably 15 to 85 ° C, more preferably 20 to 80 ° C, particularly preferably 60 ° C, and the pressure is 0.1 to 3.0 MPa, preferably 0.25 to 0. .75 MPa, more preferably 0.4 to 0.6 MPa. It is desirable to carry out the reaction until no hydrogen is absorbed under these conditions.

反応温度が0℃未満であると、反応が進行しないなどの問題の恐れがあり、90℃を超えると、危険である、副反応が生じるなどの問題の恐れがある。   If the reaction temperature is less than 0 ° C., there is a fear that the reaction does not proceed, and if it exceeds 90 ° C., there is a risk that the reaction is dangerous or a side reaction occurs.

また、圧力が0.1MPa未満であると、反応が進行しないなどの問題の恐れがあり、3.0MPaを超えると、危険である、副反応が生じるなどの問題の恐れがある。   Further, if the pressure is less than 0.1 MPa, there is a fear that the reaction does not proceed, and if it exceeds 3.0 MPa, there is a danger that a dangerous side reaction occurs.

本発明において、接触還元は、アルカリ性水溶液中、好ましくは、水酸化ナトリウム水溶液中または水酸化カリウム水溶液中で行うことが望ましい。   In the present invention, the catalytic reduction is preferably performed in an alkaline aqueous solution, preferably in an aqueous sodium hydroxide solution or an aqueous potassium hydroxide solution.

接触還元において使用するアルカリ性水溶液の濃度は、1重量%〜20重量%、好ましくは3重量%〜17重量%、より好ましくは5重量%〜10重量%である。濃度が、1重量%未満であると、原料が均一に溶解・分散せず接触還元反応の効率が低下するなどの問題の恐れがあり、20重量%を超えると、酸析時に大量の酸が必要になるなどの問題の恐れがある。   The concentration of the alkaline aqueous solution used in the catalytic reduction is 1% by weight to 20% by weight, preferably 3% by weight to 17% by weight, and more preferably 5% by weight to 10% by weight. If the concentration is less than 1% by weight, the raw material may not be uniformly dissolved / dispersed, and the efficiency of the catalytic reduction reaction may be reduced. If the concentration exceeds 20% by weight, a large amount of acid is generated during acid precipitation. There is a risk of problems such as need.

アルカリ性水溶液の添加量は、1モル当量のp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩に対して、0.3L〜3.0L、好ましくは0.5L〜1.5Lである。0.3L未満であると、原料が均一に溶解・分散せず接触還元反応の効率が低下するなどの問題の恐れがあり、3.0Lを超えると、酸析時に大量の酸が必要になるなどの問題の恐れがある。   The addition amount of the alkaline aqueous solution is 0.3 L to 3.0 L, preferably 0.5 L to 1.5 L with respect to 1 molar equivalent of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof. is there. If it is less than 0.3 L, the raw material may not be uniformly dissolved / dispersed and the efficiency of the catalytic reduction reaction may be reduced. If it exceeds 3.0 L, a large amount of acid is required during acid precipitation. There is a risk of problems such as.

また、接触還元において、反応液のpHは、7〜12、好ましくは8〜12である。pHが、7未満であると、原料が均一に溶解・分散せず接触還元反応の効率が低下するなどの問題の恐れがあり、12を超えると、酸析時に大量の酸が必要になるなどの問題の恐れがある。   In the catalytic reduction, the pH of the reaction solution is 7 to 12, preferably 8 to 12. If the pH is less than 7, the raw materials may not be uniformly dissolved and dispersed, which may cause problems such as reduced efficiency of the catalytic reduction reaction. If it exceeds 12, a large amount of acid is required during acid precipitation. There is a risk of problems.

接触還元反応終了後、必要に応じて、反応液から触媒を除去することが望ましい。例えば、通常の濾過等の操作によって、反応液から触媒を除去することができる。なお、回収した触媒は、再利用することができるので、非常に経済的である。   After completion of the catalytic reduction reaction, it is desirable to remove the catalyst from the reaction solution as necessary. For example, the catalyst can be removed from the reaction solution by an ordinary operation such as filtration. In addition, since the recovered catalyst can be reused, it is very economical.

また、接触還元反応終了後、反応液のpHを4.0〜8.0、特に好ましくは、pHを7.0に調整することによって、反応液から、4−アミノ−m−クレゾールだけを沈殿させることができる。pHが4.0未満であると、スルファニル酸が共析し目的化合物純度が下がり、スルファニル酸回収率が下がるなどの問題の恐れがあり、pHが8.0を超えると、目的物収率が下がるなどの問題の恐れがある。   Further, after completion of the catalytic reduction reaction, only 4-amino-m-cresol is precipitated from the reaction solution by adjusting the pH of the reaction solution to 4.0 to 8.0, particularly preferably to pH 7.0. Can be made. If the pH is less than 4.0, sulfanilic acid may be co-deposited to lower the purity of the target compound and the recovery rate of sulfanilic acid may decrease, and if the pH exceeds 8.0, the target product yield may be reduced. There is a risk of problems such as lowering.

また、このときの反応液の温度は、0℃〜40℃、好ましくは5℃〜20℃である。0℃未満であると、不純物が析出するなどの問題の恐れがあり、40℃を超えると、4−アミノ−m−クレゾールの回収率が低下するなどの問題の恐れがある。   Moreover, the temperature of the reaction liquid at this time is 0 degreeC-40 degreeC, Preferably it is 5 degreeC-20 degreeC. If the temperature is lower than 0 ° C, there is a risk of problems such as precipitation of impurities, and if it is higher than 40 ° C, there is a risk that the recovery rate of 4-amino-m-cresol is reduced.

反応液のpHを上記範囲内に調整するために、塩酸、硫酸、硝酸などの酸を使用することができるが、使用する酸の量および濃度は、上記範囲にpHを調整することができれば、特に限定はない。   In order to adjust the pH of the reaction solution within the above range, an acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid can be used, but the amount and concentration of the acid used can be adjusted within the above range. There is no particular limitation.

このように、接触還元反応終了後、反応液のpHを4.0〜8.0にすることによって、目的の4−アミノ−m−クレゾールが沈澱し、副生成物として、スルファニル酸が溶液(濾液)中に残存することになる。   Thus, after completion of the catalytic reduction reaction, the target 4-amino-m-cresol is precipitated by adjusting the pH of the reaction solution to 4.0 to 8.0, and sulfanilic acid is used as a by-product in the solution ( In the filtrate).

従って、本発明では、上記のスキームに示す通り、濾過によって、4−アミノ−m−クレゾールを沈殿物として回収し、スルファニル酸を濾液中に回収することができる。なお、濾過温度には特に制限はなく、通常、10〜30℃である。また、濾取した沈澱物を水で洗浄してもよい。   Accordingly, in the present invention, as shown in the above scheme, 4-amino-m-cresol can be recovered as a precipitate and sulfanilic acid can be recovered in the filtrate by filtration. In addition, there is no restriction | limiting in particular in filtration temperature, Usually, it is 10-30 degreeC. Further, the precipitate collected by filtration may be washed with water.

濾過後、沈殿物を50〜150℃、好ましくは70〜120℃で乾燥させることによって、4−アミノ−m−クレゾールを得る。   After filtration, the precipitate is dried at 50-150 ° C., preferably 70-120 ° C., to give 4-amino-m-cresol.

さらに、4−アミノ−m−クレゾールをさらに精製することによって、高純度化することが望ましい。   Furthermore, it is desirable that the 4-amino-m-cresol is further purified by further purification.

まず、乾燥した4−アミノ−m−クレゾールを水に分散して分散体とする。水の使用量は、1モル当量の4−アミノ−m−クレゾールに対して、300〜3000mL、好ましくは500〜2000mLである。300mL未満であると、十分な精製効果が得られないなどの問題の恐れがあり、3000mLを超えると、4−アミノ−m−クレゾールの回収率が低下するなどの問題の恐れがある。   First, dried 4-amino-m-cresol is dispersed in water to obtain a dispersion. The usage-amount of water is 300-3000 mL with respect to 1 molar equivalent of 4-amino-m-cresol, Preferably it is 500-2000 mL. If it is less than 300 mL, there is a fear that a sufficient purification effect cannot be obtained, and if it exceeds 3000 mL, there is a possibility that the recovery rate of 4-amino-m-cresol is lowered.

さらに、少量の還元剤および活性炭を加えて、加熱および撹拌してもよい。   Further, a small amount of reducing agent and activated carbon may be added and heated and stirred.

還元剤は、4−アミノ−m−クレゾールのアミノ基の酸化による着色を防ぎ、白色生成物として目的物を得るためである。この還元剤としては、例えば亜硫酸水素ナトリウム、亜ジチオン酸ナトリウム等が挙げられる。還元剤の使用量は、4−アミノ−m−クレゾールの重量に対して、0.5〜5.0重量%、好ましくは1.0〜3.0重量%である。0.5重量%未満であると、十分な効果が得られないなどの問題の恐れがあり、5.0重量%を超えると、不純物として生成物に混入するなどの問題の恐れがある。   This is because the reducing agent prevents coloring due to oxidation of the amino group of 4-amino-m-cresol and obtains the desired product as a white product. Examples of the reducing agent include sodium bisulfite and sodium dithionite. The amount of the reducing agent used is 0.5 to 5.0% by weight, preferably 1.0 to 3.0% by weight, based on the weight of 4-amino-m-cresol. If it is less than 0.5% by weight, there is a fear that a sufficient effect cannot be obtained, and if it exceeds 5.0% by weight, there is a possibility that it may be mixed into the product as an impurity.

活性炭は、反応系内の着色物や臭気物の除去のために用いるものであり、活性炭の使用量は、4−アミノ−m−クレゾールの重量に対して、0.5〜5.0重量%、好ましくは1.0〜3.0重量%である。0.5重量%未満であると、十分な効果が得られないなどの問題の恐れがあり、5.0重量%を超えると、除去に時間がかかるなどの問題の恐れがある。   Activated carbon is used for removing colored substances and odorous substances in the reaction system, and the amount of activated carbon used is 0.5 to 5.0% by weight based on the weight of 4-amino-m-cresol. It is preferably 1.0 to 3.0% by weight. If it is less than 0.5% by weight, there may be a problem that a sufficient effect cannot be obtained, and if it exceeds 5.0% by weight, there may be a problem that it takes time to remove.

次に、4−アミノ−m−クレゾールの水分散体を80〜100℃、好ましくは85〜95℃で、0.1〜3時間、好ましくは0.5〜2時間、加熱および撹拌し、その後、熱時濾過を行う。   Next, the aqueous dispersion of 4-amino-m-cresol is heated and stirred at 80 to 100 ° C., preferably 85 to 95 ° C. for 0.1 to 3 hours, preferably 0.5 to 2 hours. Filter while hot.

熱時濾過の温度は、60〜100℃、好ましくは70〜80℃であり、60℃未満であると、4−アミノ−m−クレゾールが多量に析出するなどの問題の恐れがあり、100℃を超えると、4−アミノ−m−クレゾールが分解したり、他の基質と反応したりするなどの問題の恐れがある。   The temperature during hot filtration is 60 to 100 ° C., preferably 70 to 80 ° C. If the temperature is less than 60 ° C., there is a possibility that a large amount of 4-amino-m-cresol may be precipitated. If it exceeds 1, 4-amino-m-cresol may be decomposed or may react with other substrates.

熱時濾過後、濾液を0〜40℃、好ましくは10〜25℃に冷却し、望ましくは、上記の温度になるまで、1〜24時間、好ましくは6〜16時間かけて放冷することによって、4−アミノ−m−クレゾールを結晶として得ることができる(すなわち、再結晶精製)。析出した結晶をさらに、必要に応じて、濾過、洗浄および乾燥することによって、純度95〜100%の4−アミノ−m−クレゾール結晶を得ることができる。   After hot filtration, the filtrate is cooled to 0 to 40 ° C., preferably 10 to 25 ° C., and desirably allowed to cool for 1 to 24 hours, preferably 6 to 16 hours until reaching the above temperature. 4-amino-m-cresol can be obtained as crystals (ie, recrystallization purification). The precipitated crystals can be further filtered, washed and dried as necessary to obtain 4-amino-m-cresol crystals having a purity of 95 to 100%.

このように、本発明では、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、4−アミノ−m−クレゾールを高収率かつ高純度で製造することができる。また、本発明によると、上述の通り、4−アミノ−m−クレゾールだけを簡便に選択的に製造することができる。   Thus, in the present invention, 4-amino-m-cresol can be produced from p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof with high yield and high purity. Further, according to the present invention, as described above, only 4-amino-m-cresol can be easily and selectively produced.

さらに、本発明では、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、選択的に4−アミノ−m−クレゾールだけを高収率かつ高純度で製造することができるだけでなく、上述の接触還元反応の副生成物として、原料であるスルファニル酸を回収することができるので、非常に安価に4−アミノ−m−クレゾールを製造することができる。   Furthermore, in the present invention, only 4-amino-m-cresol can be selectively produced in high yield and high purity from p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof. In addition, since sulfanilic acid as a raw material can be recovered as a by-product of the above catalytic reduction reaction, 4-amino-m-cresol can be produced at a very low cost.

スルファニル酸の回収
スルファニル酸は、上記のスキームに示す通り、接触還元の反応液から沈澱した4−アミノ−m−クレゾールを濾別した濾液から回収することができる。
Recovery of sulfanilic acid As shown in the above scheme, sulfanilic acid can be recovered from the filtrate obtained by filtering off 4-amino-m-cresol precipitated from the reaction solution for catalytic reduction.

まず、スルファニル酸を含む濾液を70〜150℃、好ましくは90〜120℃に加熱して濃縮する。   First, the filtrate containing sulfanilic acid is heated to 70 to 150 ° C., preferably 90 to 120 ° C., and concentrated.

次に、濃縮物の温度を50〜70℃、特に好ましくは60℃に調整し、酸を加えてpHを0.1〜2.0、好ましくは0.3〜1.0、特に好ましくは0.5に調整する。酸としては、スルファニル酸よりも強い酸であれば特に限定はないが、例えば、塩酸、硫酸、硝酸などの酸を使用することができる。使用する酸の濃度および量は、上記範囲のpHを達成できれば、特に限定はない。   Next, the temperature of the concentrate is adjusted to 50 to 70 ° C., particularly preferably 60 ° C., and an acid is added to adjust the pH to 0.1 to 2.0, preferably 0.3 to 1.0, particularly preferably 0. Adjust to .5. The acid is not particularly limited as long as it is stronger than sulfanilic acid. For example, acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and nitric acid can be used. The concentration and amount of the acid used are not particularly limited as long as the pH in the above range can be achieved.

その後、20〜30℃、特に好ましくは25℃まで冷却し、スルファニル酸を沈殿させる。   Then, it cools to 20-30 degreeC, Most preferably, it is 25 degreeC, and sulfanilic acid is precipitated.

最後に、沈澱したスルファニル酸を濾取し、さらに、必要に応じて、洗浄および乾燥することによって、スルファニル酸を高純度かつ高収率で回収することができる。   Finally, the precipitated sulfanilic acid is collected by filtration and, if necessary, washed and dried to recover the sulfanilic acid with high purity and high yield.

スルファニル酸の洗浄には、水、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸およびその水溶液、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類などを使用することができるが、スルファニル酸を溶解せずに不純物のみを溶解するという観点から、塩酸とメタノールとを組み合わせて使用することが好ましい。   For washing sulfanilic acid, inorganic acids such as water, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and aqueous solutions thereof, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc. can be used. However, impurities cannot be dissolved without dissolving sulfanilic acid. It is preferable to use hydrochloric acid and methanol in combination from the viewpoint of dissolving the solvent.

スルファニル酸の乾燥温度は、40〜120℃、好ましくは60〜100℃である。40℃未満であると、乾燥に時間がかかるなどの問題の恐れがあり、120℃を超えると、スルファニル酸が分解するなどの問題の恐れがある。   The drying temperature of sulfanilic acid is 40 to 120 ° C, preferably 60 to 100 ° C. If the temperature is lower than 40 ° C., there is a fear that it takes time for drying, and if it exceeds 120 ° C., there is a possibility that the sulfanilic acid is decomposed.

本発明では、このように、スルファニル酸を回収し、さらに、回収したスルファニル酸を上記のスキームに示すように再利用して、m−クレゾールとのジアゾ化カップリング反応に再び用いることができ、非常に経済的である。   In the present invention, sulfanilic acid can be recovered in this way, and further, the recovered sulfanilic acid can be reused as shown in the above scheme and used again for the diazotization coupling reaction with m-cresol, It is very economical.

以下に本発明の具体例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、これらは本発明を限定するものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention, but these do not limit the present invention.

実施例1
1−1 スルファニル酸とm−クレゾールのジアゾ化カップリング反応
スルファニル酸87.0g(0.5mol)を水750mLに撹拌しながら加え、これに炭酸ナトリウム29.0g(0.27mol)を徐々に加えて完全に溶解させた。この溶液を0℃に冷却し、36%亜硝酸ナトリウム水溶液100g(0.525mol)を加えた。この溶液に、液温が5℃を超えないように、35%塩酸180g(1.75mol)を徐々に滴下し、30分撹拌することでスルファニル酸をジアゾ化し、スルファニル酸のジアゾニウム塩を含むジアゾ含有溶液を得た。脱亜硝はスルファミン酸を用いて行った。
Example 1
1-1 Diazotization coupling reaction of sulfanilic acid and m-cresol 87.0 g (0.5 mol) of sulfanilic acid was added to 750 mL of water with stirring, and 29.0 g (0.27 mol) of sodium carbonate was gradually added thereto. And completely dissolved. The solution was cooled to 0 ° C., and 100 g (0.525 mol) of 36% aqueous sodium nitrite solution was added. To this solution, 180 g (1.75 mol) of 35% hydrochloric acid is gradually added dropwise so that the liquid temperature does not exceed 5 ° C., and the mixture is stirred for 30 minutes to diazotize sulfanilic acid, thereby containing diazonium salt of sulfanilic acid. A containing solution was obtained. Denitrification was performed using sulfamic acid.

別途に、m−クレゾール55.0g(0.5mol)を水1.0Lに撹拌しながら懸濁させ、20%水酸化ナトリウム水溶液を100g(0.5mol)加えて完全に溶解させ、0℃に冷却し、m−クレゾールのカップラー溶液を得た。このカップラー溶液に、温度が5℃を超えないように、上記のジアゾ含有溶液を徐々に滴下した。この際、pH 10.0を維持するために、20%水酸化ナトリウム水溶液204gを同時に徐々に滴下した。滴下終了後、2時間撹拌し、塩化ナトリウム300gを加え、液温を10℃まで昇温し、塩酸を用いてpH8.1として沈殿を生成させた。この沈殿を濾取し、水500mLで洗浄し、アゾ化合物のウェットケーキとして、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の遊離の酸体とナトリウム塩との混合物を326.0g(含水率46.0%;換算乾燥収率111%)得た。   Separately, 55.0 g (0.5 mol) of m-cresol was suspended in 1.0 L of water while stirring, and 100 g (0.5 mol) of 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to completely dissolve the solution. Upon cooling, a coupler solution of m-cresol was obtained. The diazo-containing solution was gradually added dropwise to the coupler solution so that the temperature did not exceed 5 ° C. At this time, in order to maintain pH 10.0, 204 g of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was gradually added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 2 hours, 300 g of sodium chloride was added, the temperature of the solution was raised to 10 ° C., and a precipitate was generated at pH 8.1 using hydrochloric acid. This precipitate was collected by filtration, washed with 500 mL of water, and as a wet cake of an azo compound, 326.0 g of a mixture of a free acid form of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid and a sodium salt ( Water content 46.0%; conversion dry yield 111%).

1−2 p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の接触還元反応
ビーカーに実施例1−1で得られたp−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸を含むウェットケーキ326.0gを、60℃に加熱した7.4%水酸化ナトリウム水溶液250mLで均一に懸濁させた後、オートクレーブ(容量1L/SUS製)に移し、5% Pd/C 2.96g(0.25mol%)を加え、60℃に加熱した。その後、水素をオートクレーブ内に充填し、0.4〜0.6MPaの圧力を保ちながら、同温度で水素の吸収がなくなるまで、反応させた。反応液から、Pd/Cを濾別し、10℃程度まで冷却し、塩酸を加えてpHを7.0として生じた沈殿を濾取した(このときの濾液を「濾液1」とする)。得られた沈殿を水500mLで洗浄し、乾燥させて得られた固体を、再度、水600mLに分散し、亜硫酸水素ナトリウム1.0gおよび活性炭1.5gを加え、1〜2時間加熱撹拌し、熱時ろ過し、濾液を一昼夜放冷して、再結晶精製を行った。生じた結晶を濾取し、乾燥させて、4−アミノ−m−クレゾールを黄白色の針状結晶として51.8g得た(収率84.2%、HPLC純度:98.7%)。4−アミノ−m−クレゾールの高速液体クロマトグラフィー(HPLC)のチャートを図1に示す。
1-2 Wet cake containing p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid obtained in Example 1-1 in a catalytic reduction reaction beaker of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid 326.0 g was uniformly suspended in 250 mL of a 7.4% aqueous sodium hydroxide solution heated to 60 ° C., then transferred to an autoclave (volume: 1 L / SUS), and 2.96 g (0. 5% Pd / C). 25 mol%) was added and heated to 60 ° C. Thereafter, hydrogen was charged into the autoclave, and the reaction was continued at the same temperature until hydrogen absorption disappeared while maintaining a pressure of 0.4 to 0.6 MPa. Pd / C was separated from the reaction solution by filtration, cooled to about 10 ° C., and hydrochloric acid was added to adjust the pH to 7.0, and the resulting precipitate was collected by filtration (the filtrate at this time is referred to as “filtrate 1”). The obtained precipitate was washed with 500 mL of water and dried, and the solid obtained was again dispersed in 600 mL of water, 1.0 g of sodium bisulfite and 1.5 g of activated carbon were added, and the mixture was heated and stirred for 1 to 2 hours. The mixture was filtered while hot, and the filtrate was allowed to cool overnight, and recrystallized and purified. The resulting crystals were collected by filtration and dried to obtain 51.8 g of 4-amino-m-cresol as yellowish white needle crystals (yield 84.2%, HPLC purity: 98.7%). FIG. 1 shows a high performance liquid chromatography (HPLC) chart of 4-amino-m-cresol.

4−アミノ−m−クレゾールの高速液体クロマトグラフィー(HPLC)の測定条件は以下の通りである。
カラム:(財)化学物質評価機構製 L−column ODS 4.6×250mm
移動相:アセトニトリル:水=4:6
検出波長:256nm
流速:1.0mL/min
温度:40℃
本条件では、4−アミノ−m−クレゾールは、図1に示す通り、保持時間が3.2分と3.6分とにおいて、2つのピークを与えるが、これは、4−アミノ−m−クレゾールの水酸基またはアミノ基がイオン化して2つのピークを与えているものと考えられる。従って、4−アミノ−m−クレゾールの純度は、これら2つのピーク面積の合計として、計算した(HPLC純度:98.7%)。なお、本発明で製造し、単離した4−アミノ−m−クレゾールが、単一化合物であることは、以下のH−NMR(300MHz)および13C−NMR(75MHz)の測定結果、ならびに、元素分析の結果から明らかであった。
The measurement conditions of high performance liquid chromatography (HPLC) of 4-amino-m-cresol are as follows.
Column: L-column ODS 4.6 × 250 mm manufactured by Chemical Substances Evaluation Organization
Mobile phase: acetonitrile: water = 4: 6
Detection wavelength: 256 nm
Flow rate: 1.0 mL / min
Temperature: 40 ° C
Under this condition, 4-amino-m-cresol gives two peaks at retention times of 3.2 and 3.6 minutes as shown in FIG. It is considered that the hydroxyl group or amino group of cresol is ionized to give two peaks. Therefore, the purity of 4-amino-m-cresol was calculated as the sum of these two peak areas (HPLC purity: 98.7%). It should be noted that the 4-amino-m-cresol produced and isolated in the present invention is a single compound that the following 1 H-NMR (300 MHz) and 13 C-NMR (75 MHz) measurement results, and It was clear from the results of elemental analysis.

H−NMR(300MHz)および13C−NMR(75MHz)の測定は、いずれも、JEOL社製 JNM−AL300を用いて行った。得られた4−アミノ−m−クレゾールのH−NMRおよび13C−NMRのチャートをそれぞれ図2および図3に示す。 Both 1 H-NMR (300 MHz) and 13 C-NMR (75 MHz) measurements were performed using JNM-AL300 manufactured by JEOL. The 1 H-NMR and 13 C-NMR charts of the resulting 4-amino-m-cresol are shown in FIGS. 2 and 3, respectively.

元素分析は、Perkin Elmer社製 Series II CHNS/O Analyzer 2400を用いて行った。以下に本発明の実施例1で製造した4−アミノ−m−クレゾールの元素分析の結果を示す。   Elemental analysis was performed using a Series II CHNS / O Analyzer 2400 manufactured by Perkin Elmer. The results of elemental analysis of 4-amino-m-cresol produced in Example 1 of the present invention are shown below.

Figure 0005581927
Figure 0005581927

1−3 スルファニル酸の回収
1−2で得られた「濾液1」(500mL)を加熱して150mLまで濃縮し、60℃で塩酸23gを加え、pHを0.5に調整し、その後25℃まで冷却して生じた沈殿を濾取した。濾取物を3.5%塩酸75mLで洗浄し続いてメタノール250mLで洗い、乾燥させて、HPLC純度99.5%のスルファニル酸64.4gを回収した(原料として使用したスルファニル酸からの回収率74.0%)。
1-3 Recovery of Sulfanilic Acid “Filtration 1” (500 mL) obtained in 1-2 was heated and concentrated to 150 mL, and 23 g of hydrochloric acid was added at 60 ° C. to adjust the pH to 0.5, and then 25 ° C. The resulting precipitate was collected by filtration. The filtered product was washed with 75 mL of 3.5% hydrochloric acid, followed by 250 mL of methanol and dried to recover 64.4 g of sulfanilic acid having an HPLC purity of 99.5% (recovery from sulfanilic acid used as a raw material). 74.0%).

回収したスルファニル酸の元素分析結果を以下の表に示す。   The elemental analysis results of the recovered sulfanilic acid are shown in the following table.

Figure 0005581927
Figure 0005581927

実施例2
2−1 スルファニル酸とm−クレゾールのジアゾ化カップリング反応
実施例1の1−1と同じ操作に従い、ジアゾ化カップリング反応を行って、アゾ化合物として、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の遊離の酸体とナトリウム塩との混合物を得た。
Example 2
2-1 Diazotization coupling reaction of sulfanilic acid and m-cresol The diazotization coupling reaction was carried out according to the same procedure as 1-1 in Example 1 to obtain p- (4-hydroxy-o-tolylazo as an azo compound. ) A mixture of the free acid form of benzenesulfonic acid and the sodium salt was obtained.

2−2 p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の接触還元反応
実施例1の1−2において、遷移金属触媒をPd/CからPt/C(0.25mol%)に代えたことを除いて、同じ操作を行い、白桃色の針状結晶として、36.4gの4−アミノ−m−クレゾール(収率:29.6%、HPLC純度:99.7%)を得た。HPLCチャートは、実施例1のものと同様であった。
2-2 Catalytic reduction reaction of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid In Example 1-2, the transition metal catalyst was changed from Pd / C to Pt / C (0.25 mol%). Except for the above, 36.4 g of 4-amino-m-cresol (yield: 29.6%, HPLC purity: 99.7%) was obtained as white pink needle-like crystals. The HPLC chart was the same as that of Example 1.

実施例3
3−1 スルファニル酸とm−クレゾールのジアゾ化カップリング反応
実施例1の1−1と同じ操作に従い、ジアゾ化カップリング反応を行って、アゾ化合物として、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の遊離の酸体とナトリウム塩との混合物を得た。
Example 3
3-1 Diazotization coupling reaction of sulfanilic acid and m-cresol The diazotization coupling reaction was performed according to the same operation as 1-1 in Example 1, and p- (4-hydroxy-o-tolylazo) was used as the azo compound. ) A mixture of the free acid form of benzenesulfonic acid and the sodium salt was obtained.

3−2 p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の接触還元反応
実施例1の1−2において、遷移金属触媒をPd/Cからラネーニッケル2.0gに代えたことを除いて、同じ操作を行い、黄白色の針状結晶として、59.3gの4−アミノ−m−クレゾールを得た(収率:48.2%、HPLC純度:99.0%)。HPLCチャートは実施例1のものと同様であった。
3-2 Catalytic reduction reaction of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid In Example 1-2, except that the transition metal catalyst was changed from Pd / C to 2.0 g of Raney nickel, The same operation was performed to obtain 59.3 g of 4-amino-m-cresol as a yellowish white needle crystal (yield: 48.2%, HPLC purity: 99.0%). The HPLC chart was the same as that of Example 1.

比較例1
2−ニトロトルエンのバンバーガー(Bamberger)転位反応
オートクレーブに2−ニトロトルエン165g(1.2mol)と52.6%硫酸水溶液300g、酢酸72gを仕込み、ジメチルスホキシド1滴と3% Pt/C 2.0gを加えた。60℃に加熱し、0.3〜0.5MPaを保ちながら、7.5時間反応させた。Pt/Cを濾去し、撹拌下の50%水酸化ナトリウム水溶液200mL中へ50℃を超えないように滴下した。混合溶液から有機物を抽出し、水層を40℃に保ち、水層に、35%塩酸23mLを滴下し、生じた沈殿を濾取、乾燥させて粗4−アミノ−m−クレゾール136.9gを得た。この粗生成物を実施例1の1−2と同じ再結晶精製を行い、HPLC純度91.7%の薄茶色の針状結晶である4−アミノ−m−クレゾールを30.0g(収率20.3%)得た。HPLCチャートを図4に示す。図4のHPLCチャートでは、保持時間1〜10分にかけて、副生成物に由来する不純物のピークが多く検出された。これは、図1に示す本発明の実施例1と精製方法が同じであるにもかかわらず、比較例1では製造した4−アミノ−m−クレゾールの純度がかなり低いことを示す。その結果、比較例1では、純度だけでなく、収率も著しく低下している。
実施例1:収率84.2%、純度98.7%
比較例1:収率20.3%、純度91.7%
Comparative Example 1
A 2-nitrotoluene Bamberger rearrangement reaction autoclave was charged with 165 g (1.2 mol) of 2-nitrotoluene, 300 g of 52.6% sulfuric acid aqueous solution and 72 g of acetic acid, 1 drop of dimethyl sulfoxide and 2.0 g of 3% Pt / C. Was added. The mixture was heated to 60 ° C. and reacted for 7.5 hours while maintaining 0.3 to 0.5 MPa. Pt / C was removed by filtration and added dropwise to 200 mL of a 50% aqueous sodium hydroxide solution with stirring so as not to exceed 50 ° C. The organic matter was extracted from the mixed solution, the aqueous layer was kept at 40 ° C., 23 mL of 35% hydrochloric acid was dropped into the aqueous layer, and the resulting precipitate was collected by filtration and dried to obtain 136.9 g of crude 4-amino-m-cresol. Obtained. The crude product was recrystallized and purified in the same manner as in Example 1-2, and 30.0 g (yield 20) of 4-amino-m-cresol, which was a light brown needle crystal having an HPLC purity of 91.7%, was obtained. .3%). An HPLC chart is shown in FIG. In the HPLC chart of FIG. 4, many impurity peaks derived from by-products were detected over a retention time of 1 to 10 minutes. This shows that the purity of 4-amino-m-cresol produced in Comparative Example 1 is considerably low, even though the purification method is the same as Example 1 of the present invention shown in FIG. As a result, in Comparative Example 1, not only the purity but also the yield is significantly reduced.
Example 1: Yield 84.2%, purity 98.7%
Comparative Example 1: Yield 20.3%, Purity 91.7%

比較例2
p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸の亜ジチオン酸を用いた還元反応
スルファニル酸87.0g(0.5mol)を水750mLに撹拌しながら加え、これに炭酸ナトリウム29.0g(0.27mol)を徐々に加えて完全に溶解させた。この溶液を0℃に冷却し、36%亜硝酸ナトリウム水溶液100g(0.525mol)を加えた。この溶液に、液温が5℃を超えないように、35%塩酸180g(1.75mol)を徐々に滴下し、30分撹拌することでスルファニル酸をジアゾ化し、スルファニル酸のジアゾニウム塩を含むジアゾ含有溶液を得た。脱亜硝はスルファミン酸を用いて行った。
Comparative Example 2
Reduction reaction of p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid with dithionite 87.0 g (0.5 mol) of sulfanilic acid was added to 750 mL of water with stirring, and 29.0 g of sodium carbonate ( 0.27 mol) was gradually added and completely dissolved. The solution was cooled to 0 ° C., and 100 g (0.525 mol) of 36% aqueous sodium nitrite solution was added. To this solution, 180 g (1.75 mol) of 35% hydrochloric acid is gradually added dropwise so that the liquid temperature does not exceed 5 ° C., and the mixture is stirred for 30 minutes to diazotize sulfanilic acid, thereby containing diazonium salt of sulfanilic acid. A containing solution was obtained. Denitrification was performed using sulfamic acid.

別途に、m−クレゾール55.0g(0.5mol)を水1.0Lに撹拌しながら懸濁させ、20%水酸化ナトリウム水溶液を100g(0.5mol)加えて完全に溶解させ、0℃に冷却し、m−クレゾールのカップラー溶液を得た。このカップラー溶液に、温度が5℃を超えないように、上記のジアゾ含有溶液を徐々に滴下した。この際、pH 10.0を維持するために、20%水酸化ナトリウム水溶液204gを同時に徐々に滴下した。滴下終了後、0℃で2時間撹拌し、45℃まで加熱し、亜ジチオン酸ナトリウム(Na)270g(1.31mol)を加え、1時間撹拌後、20%水酸化ナトリウム水溶液でpH12に調整した。さらに75℃で45分加熱撹拌後、氷浴下冷却し、35%塩酸でpH7とし、生じた沈殿を濾取した(この濾液を「濾液2」とする)。得られた沈殿を乾燥し、実施例1と同様の再結晶精製を行い、12.7gの4−アミノ−m−クレゾールを得た(収率20.6%、HPLC純度:98.8%)。比較例2で製造した4−アミノ−m−クレゾールの元素分析の結果を以下の表に示す。 Separately, 55.0 g (0.5 mol) of m-cresol was suspended in 1.0 L of water while stirring, and 100 g (0.5 mol) of 20% aqueous sodium hydroxide solution was added to completely dissolve the solution. Upon cooling, a coupler solution of m-cresol was obtained. The diazo-containing solution was gradually added dropwise to the coupler solution so that the temperature did not exceed 5 ° C. At this time, in order to maintain pH 10.0, 204 g of a 20% aqueous sodium hydroxide solution was gradually added dropwise. After completion of dropping, the mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours, heated to 45 ° C., 270 g (1.31 mol) of sodium dithionite (Na 2 S 2 O 4 ) was added, and the mixture was stirred for 1 hour, and then 20% aqueous sodium hydroxide solution To pH 12. The mixture was further heated and stirred at 75 ° C. for 45 minutes, cooled in an ice bath, adjusted to pH 7 with 35% hydrochloric acid, and the resulting precipitate was collected by filtration (this filtrate is referred to as “filtrate 2”). The obtained precipitate was dried and recrystallized and purified in the same manner as in Example 1 to obtain 12.7 g of 4-amino-m-cresol (yield 20.6%, HPLC purity: 98.8%). . The results of elemental analysis of 4-amino-m-cresol produced in Comparative Example 2 are shown in the following table.

Figure 0005581927
Figure 0005581927

「濾液2」からスルファミン酸の回収を試みたが、過剰量の亜ジチオン酸ナトリウム(Na)を使用したので、スルファニル酸を回収することができなかった。 An attempt was made to recover sulfamic acid from “filtrate 2”, but an excessive amount of sodium dithionite (Na 2 S 2 O 4 ) was used, and thus sulfanilic acid could not be recovered.

比較例1のバンバーガー(Bamberger)転位反応で得られた最終生成物は、図4のHPLCチャートが示すように、実施例1(図1)よりも不純物が多く、純度が低い(実施例1での純度:98.7%、比較例1での純度:91.7%)。また、比較例1の方法では、副生成物が生成するので反応の選択性が悪く、収率も20%程度であり、工業的製造には適していない(実施例1での収率:84.2%、比較例1での収率:20.3%)。   The final product obtained by the Bamberger rearrangement reaction of Comparative Example 1 has more impurities and lower purity than Example 1 (FIG. 1) as shown in the HPLC chart of FIG. 4 (Example 1). Purity: 98.7%, purity in Comparative Example 1: 91.7%). Further, in the method of Comparative Example 1, since a by-product is generated, the selectivity of the reaction is poor, and the yield is about 20%, which is not suitable for industrial production (yield in Example 1: 84). 0.2%, yield in Comparative Example 1: 20.3%).

比較例2では、HPLCの純度は98.8%と高いが、元素分析の結果をみると、硫黄が検出されていることから、硫黄を含有する無機塩が混入しているので、実際にはその純度が非常に低い。また、このような硫黄を含む無機塩を除去することは、非常に困難である。さらに、比較例2では、還元剤として、亜ジチオン酸ナトリウムが2モル当量以上必要であるので、還元後の濾液(濾液2)から、スルファニル酸を回収することは不可能であり、安価な工業的製法ではない(実施例1でのスルファニル酸の回収率:74.0%、比較例2でのスルファニル酸の回収率:0%)。また、比較例2では、硫黄を含む大量の廃液が発生するので、環境への負荷が増大する。   In Comparative Example 2, the purity of HPLC is as high as 98.8%. However, when the result of elemental analysis is seen, sulfur is detected, and therefore, since an inorganic salt containing sulfur is mixed, Its purity is very low. Moreover, it is very difficult to remove such inorganic salts containing sulfur. Further, in Comparative Example 2, since 2 molar equivalents or more of sodium dithionite is required as the reducing agent, it is impossible to recover sulfanilic acid from the filtrate after the reduction (filtrate 2), and it is an inexpensive industrial product. This is not a typical production method (the recovery rate of sulfanilic acid in Example 1: 74.0%, the recovery rate of sulfanilic acid in Comparative Example 2: 0%). Moreover, in Comparative Example 2, a large amount of waste liquid containing sulfur is generated, so the load on the environment increases.

本発明の製造方法では、高収率かつ高純度で、目的の4−アミノ−m−クレゾールを選択的に製造することができる。比較例1(または特許文献3)において示される通り、バンバーガー(Bamberger)転位反応を利用した4−アミノ−m−クレゾールの製造方法では、副生成物が生じて収率、純度および選択性が著しく低下するので、本発明の製造方法は、バンバーガー(Bamberger)転位反応を利用した4−アミノ−m−クレゾールの製造方法の代替として、非常に有益である。
また、本発明では還元剤として硫黄を用いていないので、硫黄含有廃液を出すことがなく、環境にも優しい製造方法である。例えば、比較例2(または非特許文献1)では、亜ジチオン酸ナトリウム(Na)を還元剤として大量(2モル当量以上)に用いているが、この場合の廃液の処理は、非常に困難であり、工業生産上、望ましくない。また、亜ジチオン酸ナトリウム(Na)は、生成物の純度の低下も引き起こす。さらに、比較例2(または非特許文献1)では、上述の通り、原料であるスルファニル酸の回収が不可能である。従って、本発明の製造方法は、硫黄を含む還元剤を利用した4−アミノ−m−クレゾールの製造方法の代替として、非常に有益である。
このように、本発明では、高収率かつ高純度で目的の4−アミノ−m−クレゾールのみを選択的に製造することができる。また、その製造方法は、非常に簡便であり、なおかつ、原料であるスルファミン酸を簡便に高収率かつ高純度で回収でき、しかも、原料として再利用することができるので、本発明の製造方法によると、全体として、4−アミノ−m−クレゾールを非常に安価に高収率で製造することができる。
In the production method of the present invention, the desired 4-amino-m-cresol can be selectively produced with high yield and high purity. As shown in Comparative Example 1 (or Patent Document 3), in the method for producing 4-amino-m-cresol utilizing the Bamberger rearrangement reaction, a by-product is produced, and yield, purity and selectivity are increased. The production method of the present invention is very useful as an alternative to the production method of 4-amino-m-cresol utilizing a Bamberger rearrangement reaction because it is significantly reduced.
Moreover, since sulfur is not used as a reducing agent in the present invention, it is a production method that is friendly to the environment without producing a sulfur-containing waste liquid. For example, in Comparative Example 2 (or Non-Patent Document 1), sodium dithionite (Na 2 S 2 O 4 ) is used in a large amount (2 molar equivalents or more) as a reducing agent. It is very difficult and undesirable for industrial production. Sodium dithionite (Na 2 S 2 O 4 ) also causes a reduction in product purity. Furthermore, in Comparative Example 2 (or Non-Patent Document 1), as described above, it is impossible to recover the raw material sulfanilic acid. Therefore, the production method of the present invention is very useful as an alternative to the production method of 4-amino-m-cresol using a reducing agent containing sulfur.
Thus, in the present invention, only the target 4-amino-m-cresol can be selectively produced with high yield and high purity. Further, the production method is very simple, and the sulfamic acid as a raw material can be easily recovered with high yield and high purity, and can be reused as a raw material. According to the above, as a whole, 4-amino-m-cresol can be produced in a high yield at a very low cost.

Claims (8)

水素および遷移金属触媒の存在下、反応温度0〜90℃の範囲、および反応圧力0.1〜3.0MPaの範囲で、接触還元によって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、4−アミノ−m−クレゾールを製造する方法において、
前記遷移金属触媒が、Pd/C、Pt/C、Pd(II)X 、Pt(0)L 、Pt(II)X 、Pt(0)L 、ラネーニッケル、NiX およびNi(0)L
[式中、X、XおよびXは、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
、LおよびLは、それぞれ独立して、dba(ジベンジリデンアセトン)、dppf(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)、dppp(1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)、acac(アセチルアセトナート)、dppb(o−ジフェニルホスフィノベンゾイル)、cod(1,5−シクロオクタジエン)、TPP(トリフェニルホスフィン)、TPB(テトラフェニルボレート)およびBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルからなる群から選択される。]
からなる群から選択される遷移金属触媒であることを特徴とする、4−アミノ−m−クレゾールの製造方法。
P- (4-Hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid by catalytic reduction in the presence of hydrogen and a transition metal catalyst at a reaction temperature in the range of 0 to 90 ° C. and a reaction pressure in the range of 0.1 to 3.0 MPa. Or a method for producing 4-amino-m-cresol from a salt thereof,
The transition metal catalyst is Pd / C, Pt / C, Pd (II) X 1 2 , Pt (0) L 1 2 , Pt (II) X 2 2 , Pt (0) L 2 2 , Raney nickel, NiX 3 2 and Ni (0) L 3 2
Wherein X 1 , X 2 and X 3 are each independently selected from the group consisting of chlorine, bromine and iodine atoms;
L 1 , L 2 and L 3 are each independently dba (dibenzylideneacetone), dppf (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene), dppp (1,3-bis (diphenylphosphino)) Propane), acac (acetylacetonate), dppb (o-diphenylphosphinobenzoyl), cod (1,5-cyclooctadiene), TPP (triphenylphosphine), TPB (tetraphenylborate) and BINAP (2,2 Selected from the group consisting of '-bis (diphenylphosphino) -1,1'-binaphthyl.]
A process for producing 4-amino-m-cresol, which is a transition metal catalyst selected from the group consisting of:
前記接触還元後、反応液のpHを4.0〜8.0に調整して4−アミノ−m−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。   After the catalytic reduction, further comprising the step of adjusting the pH of the reaction solution to 4.0 to 8.0 to precipitate 4-amino-m-cresol, and then separating the precipitate and the filtrate by filtration. The method of claim 1. 前記沈殿物から、再結晶によって、4−アミノ−m−クレゾールの結晶を得る工程をさらに含む、請求項に記載の方法。 The method according to claim 2 , further comprising the step of obtaining crystals of 4-amino-m-cresol from the precipitate by recrystallization. 前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程をさらに含む、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。   The method according to claim 1, further comprising a step of recovering sulfanilic acid from the filtrate. 前記接触還元の前に、スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、m−クレゾールと反応させることによって、前記p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。   Prior to the catalytic reduction, comprising diazotizing sulfanilic acid and further reacting with m-cresol to prepare the p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof. The method according to claim 1. 前記接触還元をアルカリ水溶液中で行う、請求項1〜5のいずれかに記載の方法。   The method according to claim 1, wherein the catalytic reduction is performed in an alkaline aqueous solution. スルファニル酸をジアゾ化して、さらに、m−クレゾールと反応させることによって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を調製する工程、
水素;およびPd/C、Pt/C、Pd(II)X 、Pt(0)L 、Pt(II)X 、Pt(0)L 、ラネーニッケル、NiX およびNi(0)L
[式中、X、XおよびXは、それぞれ独立して、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群から選択され、
、LおよびLは、それぞれ独立して、dba(ジベンジリデンアセトン)、dppf(1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)、dppp(1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン)、acac(アセチルアセトナート)、dppb(o−ジフェニルホスフィノベンゾイル)、cod(1,5−シクロオクタジエン)、TPP(トリフェニルホスフィン)、TPB(テトラフェニルボレート)およびBINAP(2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチルからなる群から選択される。]
からなる群から選択される遷移金属触媒;の存在下、反応温度0〜90℃の範囲、および反応圧力0.1〜3.0MPaの範囲で、アルカリ水溶液中で、接触還元によって、前記p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩から、4−アミノ−m−クレゾールを調製する工程、
前記接触還元後、反応液のpHを4.0〜8.0に調整して4−アミノ−m−クレゾールを沈殿させた後、濾過によって、沈殿物と濾液とを分離する工程、
前記沈殿物から、再結晶によって、4−アミノ−m−クレゾールの結晶を得る工程、および、
前記濾液から、スルファニル酸を回収する工程、
を含む、4−アミノ−m−クレゾールの製造において、原料であるスルファニル酸を回収する方法。
A step of preparing p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof by diazotizing sulfanilic acid and further reacting with m-cresol;
Hydrogen; and Pd / C, Pt / C, Pd (II) X 1 2 , Pt (0) L 1 2 , Pt (II) X 2 2 , Pt (0) L 2 2 , Raney nickel, NiX 3 2 and Ni (0) L 3 2
Wherein X 1 , X 2 and X 3 are each independently selected from the group consisting of chlorine, bromine and iodine atoms;
L 1 , L 2 and L 3 are each independently dba (dibenzylideneacetone), dppf (1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene), dppp (1,3-bis (diphenylphosphino)) Propane), acac (acetylacetonate), dppb (o-diphenylphosphinobenzoyl), cod (1,5-cyclooctadiene), TPP (triphenylphosphine), TPB (tetraphenylborate) and BINAP (2,2 Selected from the group consisting of '-bis (diphenylphosphino) -1,1'-binaphthyl.]
In the presence of a transition metal catalyst selected from the group consisting of: a reaction temperature in the range of 0 to 90 ° C. and a reaction pressure in the range of 0.1 to 3.0 MPa by catalytic reduction in an aqueous alkaline solution. A step of preparing 4-amino-m-cresol from (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof;
After the catalytic reduction, the pH of the reaction solution is adjusted to 4.0 to 8.0 to precipitate 4-amino-m-cresol, and then the precipitate and the filtrate are separated by filtration;
Obtaining crystals of 4-amino-m-cresol from the precipitate by recrystallization, and
Recovering sulfanilic acid from the filtrate,
In the production of 4-amino-m-cresol, comprising: sulfanilic acid as a raw material.
請求項7記載の方法で回収したスルファニル酸をジアゾ化して、さらに、m−クレゾールと反応させることによって、p−(4−ヒドロキシ−o−トリルアゾ)ベンゼンスルホン酸またはその塩を製造する方法。   A method for producing p- (4-hydroxy-o-tolylazo) benzenesulfonic acid or a salt thereof by diazotizing the sulfanilic acid recovered by the method according to claim 7 and further reacting with m-cresol.
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