JP5569732B2 - Conductive silver paste, conductive pattern forming method, and printed conductive pattern - Google Patents

Conductive silver paste, conductive pattern forming method, and printed conductive pattern Download PDF

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Description

本発明は、導電性皮膜を形成するための導電性銀ペースト、導電パターンの印刷方法及び導電パターン印刷物に関する。   The present invention relates to a conductive silver paste for forming a conductive film, a conductive pattern printing method, and a printed conductive pattern.

タッチパネル、電子ペーパー、及び各種電子部品に用いられる導電回路、電極等の導電パターン形成方法としては、印刷法またはエッチング法が知られている。
エッチング法により導電パターンを形成する場合、各種金属膜を蒸着した基板上にフォトリソグラフィーによってパターン化されたレジスト膜を形成した後に、不要な蒸着金属膜を化学的あるいは電気化学的に溶解除去し、最後にレジスト膜を除去する必要がありその工程は非常に煩雑で量産性に乏しい。
一方で印刷法では所望のパターンを低コストで大量生産を行うことが可能であり、さらに印刷塗膜を乾燥又は硬化させることによって容易に導電性を付与できる。
これら印刷方式としては形成したいパターンの線幅、厚さ、生産速度に合わせてフレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、グラビアオフセット印刷、インクジェット等が提案されている。
Printing methods or etching methods are known as methods for forming conductive patterns such as conductive circuits and electrodes used in touch panels, electronic paper, and various electronic components.
When forming a conductive pattern by an etching method, after forming a resist film patterned by photolithography on a substrate on which various metal films are vapor-deposited, an unnecessary vapor-deposited metal film is dissolved and removed chemically or electrochemically, Finally, it is necessary to remove the resist film, and the process is very complicated and poor in mass productivity.
On the other hand, in the printing method, a desired pattern can be mass-produced at low cost, and conductivity can be easily imparted by drying or curing the printed coating film.
As these printing methods, flexographic printing, screen printing, gravure printing, gravure offset printing, ink jet printing, and the like have been proposed in accordance with the line width, thickness, and production speed of the pattern to be formed.

印刷パターンとしては電子デバイスの小型化、意匠性向上等の観点から線幅50μm以下の高精細な導電パターンの形成が求められている。
また電子デバイスの薄型化、軽量化、フレキシブル化への要求の高まりや、生産性の高いロール・ツー・ロール印刷に対応するために、プラスチックフィルム上に印刷して低温短時間の焼成で高い導電性、基材密着性、膜硬度などが得られる導電性インキが求められている。さらにプラスチックフィルムの中でも、安価で透明性の高いPETフィルムや、PETフィルムの上にITO膜が形成された透明導電フィルム上に印刷した際に、前記した物性が得られる導電性インキが求められている。
As a printed pattern, formation of a high-definition conductive pattern having a line width of 50 μm or less is required from the viewpoint of miniaturization of an electronic device and improvement in design.
In addition, in order to respond to the increasing demand for thinner, lighter, more flexible electronic devices, and high-productivity roll-to-roll printing, high conductivity is achieved by printing on plastic films and firing at low temperature and short time. There is a need for conductive inks that can provide good properties, substrate adhesion, film hardness, and the like. Furthermore, among plastic films, there is a need for a conductive ink that can provide the above-mentioned physical properties when printed on an inexpensive and highly transparent PET film or a transparent conductive film in which an ITO film is formed on the PET film. Yes.

特許文献1及び2では焼成温度が150℃であり、印刷基材がPETフィルムである場合には基材が変形する問題がある。
特許文献3では、焼成温度は120℃と比較的低温であるものの焼成時間が30分と長く生産性に劣る。また、透明導電フィルムのITO膜への密着性については検討されていない。
特許文献4では、低温短時間の焼成で高い導電性が得られているが、乾燥性の高い有機溶剤を用いているために機上安定性に劣る。また、印刷線幅に関しても3mmと太く、高精細パターニングの検討はされていない。
In Patent Documents 1 and 2, when the baking temperature is 150 ° C. and the printing substrate is a PET film, there is a problem that the substrate is deformed.
In Patent Document 3, although the firing temperature is 120 ° C. and a relatively low temperature, the firing time is as long as 30 minutes and the productivity is poor. Moreover, the adhesiveness of the transparent conductive film to the ITO film has not been studied.
In patent document 4, although high electroconductivity is obtained by baking at low temperature for a short time, since the organic solvent with high drying property is used, it is inferior to on-machine stability. Also, the printed line width is as thick as 3 mm, and high-definition patterning has not been studied.

特開2009−62523公報JP 2009-62523 A 特開2005−56778公報JP 2005-56778 A 特開2006−302825公報JP 2006-302825 A WO2006/095611公報WO2006 / 095611 特開2007−119682公報JP 2007-119682 A

上記した通り、従来の技術においては、基材への密着性に優れた導電性パターンを、150℃未満という低温でも10分以内という短時間で得られる導電性銀ペーストは、未だ得られていないのが実情であった。   As described above, in the prior art, a conductive silver paste that can obtain a conductive pattern excellent in adhesion to a substrate in a short time of 10 minutes or less even at a low temperature of less than 150 ° C. has not been obtained yet. It was the actual situation.

そこで、本発明者らは上記課題を解決すべく、鋭意研究の結果、特定の銀粒子と特定の組成を有した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とを併用することで、上記した欠点が解消されることを見い出し、本発明を完成するに至った。   Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have solved the above-mentioned drawbacks by using specific silver particles and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having a specific composition in combination. As a result, the present invention has been completed.

すなわち本発明は、メジアン径(D50)0.2〜0.9μmの銀粒子(A)と、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体であって共重合体中にビニルアルコール及び/又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位を3〜9重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)と、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)とを必須成分として含有る導電性銀ペーストを提供する。
また本発明は、基材上に、上記記載の導電性銀ペーストでグラビア印刷又はグラビアオフセット印刷する導電性パターンの形成方法を提供する。
さらに本発明は、上記記載の導電性銀ペーストで形成された導電性パターン印刷物を提供する。
That is, the present invention relates to a silver particle (A) having a median diameter (D50) of 0.2 to 0.9 μm, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, and vinyl alcohol and / or (meth) acrylic in the copolymer. A vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) containing 3 to 9% by weight of a polymer unit of acid hydroxyalkyl ester, and the copolymer (B) is dissolved to have reactivity with the copolymer (B). A conductive silver paste containing an organic compound (C) that is liquid at 25 ° C. as an essential component is provided.
Moreover, this invention provides the formation method of the electroconductive pattern which carries out gravure printing or gravure offset printing on the base material with the above-mentioned electroconductive silver paste.
Furthermore, this invention provides the electroconductive pattern printed matter formed with the electroconductive silver paste of the said description.

本発明の導電性銀ペーストは、特定の銀粒子と特定の組成を有した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いているので、基材への密着性に優れた導電性パターンを低温短時間で得られるという格別顕著な効果を奏する。
本発明の導電性パターンの形成方法は、特定の銀粒子と特定の組成を有した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いているので、基材への密着性に優れた導電性パターン及びその印刷物が低温短時間で得られるという格別顕著な効果を奏する。
The conductive silver paste of the present invention uses a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having specific silver particles and a specific composition, so that a conductive pattern having excellent adhesion to a substrate can be obtained at low temperature for a short time. It has a particularly remarkable effect that it can be obtained with
The conductive pattern forming method of the present invention uses a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having specific silver particles and a specific composition, so that the conductive pattern excellent in adhesion to the substrate and its There is an especially remarkable effect that the printed matter can be obtained at low temperature in a short time.

本発明の導電性銀ペーストは、メジアン径(D50)0.2〜0.9μmの銀粒子(A)と、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体であって共重合体中にビニルアルコール及び/又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位を3〜9重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)と、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)とを必須成分として含有する導電性銀ペーストである。   The conductive silver paste of the present invention comprises a silver particle (A) having a median diameter (D50) of 0.2 to 0.9 μm, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl alcohol and / or in the copolymer. A vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) containing 3 to 9% by weight of a polymerization unit of hydroxyalkyl ester (meth) acrylate, and the copolymer (B) by dissolving the copolymer (B) It is a conductive silver paste containing, as an essential component, an organic compound (C) that is not reactive and is liquid at 25 ° C.

本発明の導電性銀ペーストに用いる銀粒子(A)としては、平均粒径としてメジアン粒径(D50)が0.2〜0.9μmである球状銀粉末を用いることができる。
この様な銀粒子(A)としては、例えば、AG2−1C(DOWAエレクトロニクス(株)製、平均粒径D50:0.8μm)、SPQ03S(三井金属鉱山(株)製、平均粒径D50:0.5μm)、EHD(三井金属鉱山(株)製、平均粒径D50:0.5μm)、シルベストC−34((株)徳力化学研究所製、平均粒径D50:0.35μm)などが挙げられる。
As the silver particles (A) used in the conductive silver paste of the present invention, spherical silver powder having a median particle diameter (D50) of 0.2 to 0.9 μm can be used.
As such silver particles (A), for example, AG2-1C (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., average particle diameter D50: 0.8 μm), SPQ03S (manufactured by Mitsui Metal Mining Co., Ltd., average particle diameter D50: 0) .5 μm), EHD (Mitsui Metal Mining Co., Ltd., average particle size D50: 0.5 μm), Sylbest C-34 (Tokuriku Chemical Laboratory Co., Ltd., average particle size D50: 0.35 μm) and the like. It is done.

メジアン径(D50)0.2〜0.9μmの銀粒子(A)は、それ単独で用いることもできるが、メジアン径(D50)1.0〜10.0μmの銀粒子と併用すると、高精細細線の導電性パターン形成と、150℃未満の焼成により十分な導電性付与とを兼備させることができるので好ましい。   Silver particles (A) having a median diameter (D50) of 0.2 to 0.9 μm can be used alone, but when used in combination with silver particles having a median diameter (D50) of 1.0 to 10.0 μm, high definition It is preferable because it is possible to combine the formation of a thin conductive pattern with sufficient conductivity by firing at less than 150 ° C.

このようなメジアン径(D50)1.0〜10.0μmの銀粒子としては、例えば、AG2−1(DOWAエレクトロニクス(株)製、平均粒径D50:1.3μm)、シルベストAgS−050((株)徳力化学研究所製、平均粒径D50:1.4μm)などが挙げられる。   Examples of such silver particles having a median diameter (D50) of 1.0 to 10.0 μm include AG2-1 (manufactured by DOWA Electronics Co., Ltd., average particle diameter D50: 1.3 μm), Sylbest AgS-050 (( For example, manufactured by Tokuru Chemical Laboratory Co., Ltd., average particle diameter D50: 1.4 μm).

質量換算で、メジアン径(D50)1.0〜10.0μmの銀粒子100部当たり、銀粒子(A)50〜200部を併用することで、導電性銀ペーストの流動性を更に良好とすることができ、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、又はグラビアオフセット印刷といった特定印刷方法において、これら印刷機上での連続的に印刷した場合においても、トラブルが起こり難く安定的に良好な導電性パターン印刷物を得やすくなるので、特に好ましい。   By using together 50 to 200 parts of silver particles (A) per 100 parts of silver particles having a median diameter (D50) of 1.0 to 10.0 μm in terms of mass, the flowability of the conductive silver paste is further improved. In a specific printing method such as flexographic printing, screen printing, gravure printing, or gravure offset printing, even when continuously printing on these printing machines, trouble is unlikely to occur and the conductive pattern is stably stable. Since it becomes easy to obtain printed matter, it is especially preferable.

本発明の導電性銀ペーストでは、銀粒子を必須成分として用いるが、必要であれば、その他の単体金属や合金の粒子を併用しても良い。   In the conductive silver paste of the present invention, silver particles are used as an essential component. However, if necessary, other single metal or alloy particles may be used in combination.

導電性パターンを形成する基材としては、狭い筐体内に高密度に電子部品を充填可能となるよう、近年、可とう性の高い(フレキシブルな)プラスチックフィルム素材の使用が求められている。このような需要の下では、反りがある状態で長期間保持されても、導電性パターンが基材から剥離しないような高い密着性が求められる。導電性銀ペーストの導電性パターンを形成する基材が、例えば、ポリエチレンテレフタレート(以下、PET)である場合には、この25℃において固体である樹脂として、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が使用されている。   In recent years, as a base material for forming a conductive pattern, use of a plastic film material having high flexibility (flexible) has been demanded so that electronic parts can be filled in a narrow casing with high density. Under such a demand, high adhesion is required so that the conductive pattern does not peel from the substrate even if it is held for a long time in a warped state. When the base material forming the conductive pattern of the conductive silver paste is, for example, polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET), a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer is used as the resin that is solid at 25 ° C. Has been.

そこで本発明では、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体として、ビニルアルコール及び/又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位を3〜9重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)が選択的に用いるようにした。種種の化学組成の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が導電性銀ペーストの調製に用いられてきているが、本発明者らは、その組成に依存して基材への密着性に顕著な差異が生じること、前記した特定の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体だけが、基材への密着性に著しく優れることを知見した。これにより、水酸基のような親水性基の存在によりそれを有さない場合に比べ、銀粒子の分散性を促進できると共に、特にPETへの密着性より高めることが可能である。   Therefore, in the present invention, as the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) containing 3 to 9% by weight of polymer units of vinyl alcohol and / or hydroxyalkyl ester (meth) acrylate. Was selectively used. Vinyl chloride-vinyl acetate copolymers of various chemical compositions have been used in the preparation of conductive silver pastes, but the inventors differed significantly in adhesion to the substrate depending on their composition. It has been found that only the specific vinyl chloride-vinyl acetate copolymer described above is remarkably excellent in adhesion to the substrate. As a result, the dispersibility of the silver particles can be promoted as compared with the case where the hydrophilic group such as a hydroxyl group is not present, and it is possible to improve the adhesion particularly to the PET.

本発明で用いる塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)において、共重合体中にビニルアルコールの重合単位を含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を必要な量のビニルアルコール重合単位を含むよう部分鹸化することで容易に得ることができるし、共重合体中に(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位を含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は、塩化ビニル、酢酸ビニルに加えて必要な量のヒドロキシエチル(メタ)アクリレートやヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートの様な(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルを共単量体として用い共重合させることで容易に得ることができる。   In the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) used in the present invention, the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer containing a vinyl alcohol polymer unit in the copolymer is, for example, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Can be easily obtained by partial saponification to contain a necessary amount of vinyl alcohol polymerized units, and a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer containing polymerized units of hydroxyalkyl ester (meth) acrylate in the copolymer. In addition to vinyl chloride and vinyl acetate, the polymer is copolymerized using a required amount of hydroxyalkyl (meth) acrylate such as hydroxyethyl (meth) acrylate or hydroxypropyl (meth) acrylate as a comonomer. Can be easily obtained.

塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、日新化学工業株式会社製、ユニオンカーバイド社製、ワッカーポリマー社製が知られており、ストレートな(変性されていない)塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体と、ビニルアルコール及び/又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位を含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体がある。ビニルアルコール及び/又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位を3〜9重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)としては、例えば、ソルバインAL、ソルバインTAO(以上、日新化学工業株式会社製)、VAGD、VAGH(以上、ユニオンカーバイド社製)、LL4310(以上、ワッカーポリマー社製)が挙げられる。   As the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Nisshin Chemical Industry Co., Ltd., Union Carbide Co., and Wacker Polymer Co., Ltd. are known, and straight (unmodified) vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. And vinyl chloride-vinyl acetate copolymer containing polymer units of vinyl alcohol and / or hydroxyalkyl ester (meth) acrylate. Examples of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) containing 3 to 9% by weight of polymer units of vinyl alcohol and / or hydroxyalkyl ester (meth) acrylate include Solvain AL, Solvain TAO (above, Nissin) Chemical Industry Co., Ltd.), VAGD, VAGH (manufactured by Union Carbide), LL4310 (manufactured by Wacker Polymer).

当該塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)は、それ単独でタックフリーの樹脂皮膜を形成可能なものであるが、それ自体25℃において固体であるため、通常は、液媒体に溶解等した上で、基材上に細線パターンを塗布したり印刷したりすることが必要となる。そのため、同共重合体(B)の選択に当たっては、液媒体への溶解性を考慮することが必要である。   The vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) is capable of forming a tack-free resin film by itself, but is itself solid at 25 ° C., and thus usually dissolved in a liquid medium. Above, it is necessary to apply or print a fine line pattern on the substrate. Therefore, in selecting the copolymer (B), it is necessary to consider the solubility in the liquid medium.

この様な観点から、本発明の導電性銀ペーストでは、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)が、この共重合体(B)に併用される。   From such a viewpoint, in the conductive silver paste of the present invention, the organic compound (C), which is liquid at 25 ° C., dissolves the copolymer (B) and has no reactivity with the copolymer (B). , Used in combination with this copolymer (B).

このような有機化合物(C)はいわゆる有機溶剤であり、その種類に制限はなく、エステル系、ケトン系、塩素系、アルコール系、エーテル系、炭化水素系、エーテルエステル系などが挙げられる。具体的には、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、n−ブタノール、iso−ブタノール、イソホロン、γ−ブチロラクトン、DBE(インビスタジャパン製)、N−メチル−2−ピロリドン、エチルカルビトールアセテート、ブチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートなどを挙げることができる。これらは、一種を単独で用いても、二種以上を併用しても良い。中でも、後記する印刷方法の種類にかかわらず、導電性パターンを容易に得るためには、この有機化合物(C)としては、沸点100〜250℃のものを用いることが、乾燥速度の点で好ましい。   Such an organic compound (C) is a so-called organic solvent, and the type thereof is not limited, and examples thereof include ester, ketone, chlorine, alcohol, ether, hydrocarbon, and ether ester. Specifically, for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, n-butanol, iso-butanol, isophorone, γ-butyrolactone, DBE (manufactured by Invista Japan), N-methyl-2-pyrrolidone, ethyl carbitol acetate, butyl cellosolve Examples thereof include acetate and propylene glycol monoalkyl ether acetate. These may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. Among these, in order to easily obtain a conductive pattern regardless of the type of printing method to be described later, it is preferable from the viewpoint of drying speed that the organic compound (C) has a boiling point of 100 to 250 ° C. .

後記するように、グラビア印刷法またはグラビアオフセット印刷法を採用する場合には、このような有機化合物(C)が、シリコーンブランケット膨潤率が5〜20%であることが好ましく、特に好ましくは、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートやジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエーテルエステル系有機溶剤である。   As will be described later, when the gravure printing method or the gravure offset printing method is employed, the organic compound (C) preferably has a silicone blanket swelling ratio of 5 to 20%, particularly preferably diethylene glycol. Ether ester organic solvents such as monobutyl ether acetate and diethylene glycol monoethyl ether acetate.

本発明の導電性銀ペーストは、前記銀粒子(A)と、前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)と、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)とを必須成分として含有していれば良いが、必要であれば、前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)に加えて、その他の、25℃において固体であり、それ単独でタックフリーの樹脂皮膜を形成可能な樹脂を併用することもできる。この様な、その他の樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、二種以上を併用しても良い。   The conductive silver paste of the present invention is a reaction between the silver particles (A), the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B), and the copolymer (B) by dissolving the copolymer (B). However, if necessary, in addition to the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B), other components may be used. A resin that is solid at 25 ° C. and can form a tack-free resin film alone can be used in combination. Examples of such other resins include polyester resins, vinyl chloride resins, acrylic resins, polyester resins, polyurethane resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の導電性銀ペーストは、前記銀粒子(A)と、前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)と、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)とを必須成分として混合することで調製することができる。導電銀ペーストは、上記の原料を必須成分として混練し、均一化することで製造することができる。   The conductive silver paste of the present invention is a reaction between the silver particles (A), the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B), and the copolymer (B) by dissolving the copolymer (B). It can be prepared by mixing a liquid organic compound (C) as an essential component at 25 ° C., which has no properties. The conductive silver paste can be produced by kneading and homogenizing the above raw materials as essential components.

本発明の導電性銀ペーストの調製に当たっては、質量換算で、銀粒子100部当たり、前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)は不揮発分として1〜10部、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)は20〜35部を用いる様にすることが、最終的に得られる導電性パターンの性能を高められる点及び導電性パターン形成条件を緩和できる点から好ましい。   In preparing the conductive silver paste of the present invention, in terms of mass, the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) is 1 to 10 parts as a nonvolatile component per 100 parts of silver particles, and the copolymer (B). It is possible to use 20 to 35 parts of the organic compound (C) that is liquid at 25 ° C., which has no reactivity with the copolymer (B), and the performance of the conductive pattern finally obtained It is preferable from the point which can raise a conductive pattern formation condition and the point which can be improved.

銀粒子の導電性銀ペースト中の含有率は、60〜95質量%が好ましく、70〜90質量%であればさらに好ましい。この範囲であると、皮膜中の銀粒子の密度が十分であり良好な導電性を得ることができ、流動性のある、ペースト状に調製することが容易となる。   The content of silver particles in the conductive silver paste is preferably 60 to 95% by mass, and more preferably 70 to 90% by mass. Within this range, the density of the silver particles in the film is sufficient, good electrical conductivity can be obtained, and it becomes easy to prepare a fluid paste.

前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)の導電性銀ペースト中の含有率は、1〜10質量%が好ましく、2〜7質量%であればさらに好ましい。この範囲が、導電性パターンを設ける基材への密着性をより大きくできる点で好ましい。   The content of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) in the conductive silver paste is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 2 to 7% by mass. This range is preferable in that the adhesion to the substrate on which the conductive pattern is provided can be further increased.

前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)の導電性銀ペースト中の含有率は、10〜40質量%が好ましく、15〜25質量%であればさらに好ましい。この範囲であると、ペースト粘度がより適正になり、特に、グラビア印刷又はグラビアオフセット印刷において、画線のコーナー部分やマトリックスの交差点にピンホール欠陥を起こすことなく、より高精細な導電性パターンを形成することができる。   The content in the conductive silver paste of the organic compound (C), which is liquid at 25 ° C. and dissolves the copolymer (B) and has no reactivity with the copolymer (B), is 10 to 40% by mass. Is preferably 15 to 25% by mass. In this range, the paste viscosity becomes more appropriate, and in gravure printing or gravure offset printing, a higher-definition conductive pattern can be formed without causing pinhole defects at the corners of the image lines or at the intersections of the matrix. Can be formed.

本発明の導電性銀ペーストには、上述の成分以外にも、必要に応じて、硬化剤、分散剤、消泡剤、可塑剤などの各種添加剤を適宜適量配合することができる。   In the conductive silver paste of the present invention, various additives such as a curing agent, a dispersant, an antifoaming agent, and a plasticizer can be appropriately blended as needed in addition to the above-described components.

本発明の導電性銀ペーストには、上記したような、ビニルアルコール及び/又は(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエスエルの重合単位に基づく、水酸基を含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が用いられていることから、同共重合体(B)の水酸基と反応しうる官能基を含有する硬化剤を併用することで、両者を架橋させることができ、得られる導電性パターンの耐溶剤性をより高めることができる。   In the conductive silver paste of the present invention, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer containing a hydroxyl group based on a polymerization unit of vinyl alcohol and / or hydroxyalkyl ester (meth) acrylate as described above is used. Therefore, by using together a curing agent containing a functional group capable of reacting with the hydroxyl group of the copolymer (B), both can be cross-linked, and the solvent resistance of the resulting conductive pattern is further improved. be able to.

このような硬化剤としては、例えば、メチル化メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂などのアミノ樹脂、酸無水物、イミダゾール類、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイソシアネート化合物などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、二種以上を併用してもよい。   Examples of such curing agents include amino resins such as methylated melamine resins, butylated melamine resins, benzoguanamine resins, and urea resins, acid anhydrides, imidazoles, epoxy resins, phenol resins, and polyisocyanate compounds. . These may be used alone or in combination of two or more.

しかしながら、常温において、水酸基を含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)の水酸基と反応しうる官能基を含有する硬化剤を用いたのでは、経時的に硬化反応が徐々に進行し、ペーストが増粘することで、基材への安定的な塗布や印刷が難しくなるので、導電性銀ペーストを調製したら、できるだけ早期に基材へ塗布や印刷を行う必要が出てくる。一方で、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)の水酸基との反応が、高い温度でないと進行しない硬化剤を用いた場合には、用いる基材の種類、形状或いは大きさによっては、反りや変形が発生したり、硬化のための加熱を行う際に多量のエネルギー消費を伴うという不都合が生じやすい。   However, at room temperature, using a curing agent containing a functional group capable of reacting with a hydroxyl group of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) containing a hydroxyl group, the curing reaction gradually proceeds over time, Since the paste thickens, it becomes difficult to stably apply and print on the base material. Therefore, once the conductive silver paste is prepared, it is necessary to apply and print the base material as soon as possible. On the other hand, when a curing agent that does not proceed unless the reaction with the hydroxyl group of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) is performed at a high temperature, warping may occur depending on the type, shape, or size of the substrate used. Inconvenience that a large amount of energy is consumed when heating for curing occurs.

このような観点から、例えば、プラスチックフィルムを基材として、その上に導電性パターンを形成する場合には、例えば、50〜140℃で塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)の水酸基との反応が開始される硬化剤を用いることが好ましい。この様な硬化剤としては、取り扱いがより容易な点で、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物(D)が好ましい。   From such a viewpoint, for example, when a conductive pattern is formed on a plastic film as a base material, for example, at 50 to 140 ° C. with the hydroxyl group of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) It is preferable to use a curing agent that initiates the reaction. As such a curing agent, a blocked polyisocyanate compound (D) in which the blocking agent is thermally dissociated to generate a free isocyanate group is preferable because it is easier to handle.

特に、プラスチックフィルムとして、PETフィルムを基材に用いる場合には、イソシアネート基が生成する際の温度が70〜125℃となる様なブロック剤を用いたブロックポリイソシアネート化合物(D)を導電性銀ペーストに含有させるようにすれば、PETフィルムに反り等を発生させることなく、その上に導電性パターンを形成させることができる。   In particular, when a PET film is used as a plastic film as a plastic film, the block polyisocyanate compound (D) using a blocking agent such that the temperature at which an isocyanate group is generated is 70 to 125 ° C. is used as a conductive silver. If it is made to contain in a paste, a conductive pattern can be formed on it, without generating curvature etc. to a PET film.

用いる前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)中の水酸基量及びブロックポリイソシアネート化合物(D)を構成するブロック剤やポリイソシアネート化合物の組み合わせにより多少異なるが、本発明の導電性銀ペーストの調製に当たって、ブロックポリイソシアネート化合物(D)は、質量換算で、前記塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)の不揮発分100部当たり、20〜30部を用いる様にすることが、最終的に得られる導電性、強靭性、耐溶剤性などの導電性パターンの性能を高められる点から好ましい。   Preparation of the conductive silver paste of the present invention is slightly different depending on the amount of hydroxyl group in the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) used and the combination of the blocking agent and the polyisocyanate compound constituting the blocked polyisocyanate compound (D). Therefore, the block polyisocyanate compound (D) is finally obtained by using 20 to 30 parts in terms of mass per 100 parts of the nonvolatile content of the vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B). From the viewpoint of improving the performance of the conductive pattern such as conductivity, toughness, and solvent resistance.

本発明に用いる、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物(D)は、ブロック剤とポリイソシアネート化合物とから構成されたものである。   The block polyisocyanate compound (D) used in the present invention, in which the blocking agent is thermally dissociated to generate a free isocyanate group, is composed of a blocking agent and a polyisocyanate compound.

ポリイソシアネート化合物の原料として使用されるジイソシアネートは特に限定されないが、芳香族、脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどである。単独で使用しても併用しても良い。芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トリエンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、ジフェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート、ジアニシジンジイソシアネートなどが挙げられる。脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,5−ペンタメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(以下HMDI)、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。脂環族ジイソシアネートとしては、例えば、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(以下IPDI)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)−シクロヘキサン、4,4’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネートなどが挙げられる。   The diisocyanate used as a raw material for the polyisocyanate compound is not particularly limited, and examples thereof include aromatic, aliphatic, and alicyclic diisocyanates. It may be used alone or in combination. Examples of the aromatic diisocyanate include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-triene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diphenylmethane-2,4′-diisocyanate, and dianisidine diisocyanate. Examples of the aliphatic diisocyanate include 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,5-pentamethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate (hereinafter referred to as HMDI), 2,2,4-trimethyl-1,6-hexamethylene. And diisocyanate. Examples of the alicyclic diisocyanate include lysine diisocyanate, isophorone diisocyanate (hereinafter referred to as IPDI), 1,3-bis (isocyanatemethyl) -cyclohexane, 4,4'-dicyclohexylmethane diisocyanate, and the like.

一方、ブロック剤としては例えば、フェノール系、活性メチレン、メルカプタン系、酸アミド系、酸イミド系、イミダゾール系、尿素系、オキシム系、アミン系、イミド系、重亜硫酸系化合物等があり、これらを単独あるいは、混合して使用してもよい。具体的には、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、ジノニルフェノール、スチレン化フェノール、オキシ安息香酸エステル等のフェノール系、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセチルアセトン等の活性メチレン系、ブチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等のメルカプタン系、アセトアニリド、酢酸アミド、ε−カプロラクタム、δ−バレロラクタム、γ−ブチロラクタム等の酸アミド系、コハク酸イミド、マレイン酸イミド等の酸イミド系、イミダゾール、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール系、尿素、チオ尿素、エチレン尿素等の尿素系、ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、シクロヘキサノンオキシム等のオキシム系、ジフェニルアミン、アニリン、カルバゾール等のアミン系、エチレンイミン、ポリエチレンイミン等のイミン系、重亜硫酸ソーダ等の重亜硫酸塩系があるが、ブロック剤としての安定性と解離性のバランスが優れる点で、スチレン化フェノール、オキシ安息香酸エステル、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、ε−カプロラクタムが好ましい。   On the other hand, examples of blocking agents include phenolic, active methylene, mercaptan, acid amide, acid imide, imidazole, urea, oxime, amine, imide, and bisulfite compounds. You may use individually or in mixture. Specifically, phenols such as phenol, cresol, ethylphenol, butylphenol, nonylphenol, dinonylphenol, styrenated phenol, oxybenzoate, dimethyl malonate, diethyl malonate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetylacetone, etc. Active methylenes, mercaptans such as butyl mercaptan, dodecyl mercaptan, acetanilide, acetic acid amide, ε-caprolactam, δ-valerolactam, γ-butyrolactam and other acid amides, succinimide, maleic acid imide and other acid imides Imidazole such as imidazole and 2-methylimidazole, urea such as urea, thiourea and ethyleneurea, formal oxime, acetal oxime, acetoxime, methyl ethyl ketoxy There are oximes such as cyclohexanone oxime, amines such as diphenylamine, aniline and carbazole, imines such as ethyleneimine and polyethyleneimine, and bisulfites such as sodium bisulfite, but stability and dissociation as blocking agents. From the viewpoint of excellent balance, styrenated phenol, oxybenzoic acid ester, acetooxime, methyl ethyl ketoxime, and ε-caprolactam are preferable.

このような、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物(D)は、遊離イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に対して、赤外線吸収スペクトルを監視しながら、イソシアナート基に基づく固有吸収スペクトルが消失するまで、ブロック剤を反応させていくことで、容易に得ることができる。   Such a blocked polyisocyanate compound (D) in which the blocking agent is thermally dissociated to generate a free isocyanate group is converted into an isocyanate group while monitoring the infrared absorption spectrum of the polyisocyanate compound having a free isocyanate group. It can be easily obtained by reacting the blocking agent until the intrinsic absorption spectrum based thereon disappears.

本発明の導電性銀ペーストは、ブロックポリイソシアネート化合物(D)を含有させるか否かを問わず、各種印刷方法に適用可能な粘度となる様に調製することが好ましいが、25℃における粘度3〜30Pa・Sとすることが、グラビア印刷又はグラビアオフセット印刷といった印刷方法への適用を可能とするためには好ましい。本発明における導電性銀ペーストの粘度は、レオメーターにより測定した値とする。   The conductive silver paste of the present invention is preferably prepared so as to have a viscosity applicable to various printing methods regardless of whether the block polyisocyanate compound (D) is contained or not. ˜30 Pa · S is preferable in order to enable application to a printing method such as gravure printing or gravure offset printing. The viscosity of the conductive silver paste in the present invention is a value measured with a rheometer.

本発明の導電性銀ペーストは、任意の方法で、例えば、プラスチックフィルム、セラミックフィルム、ガラス又は金属プレートの何れかの基材上に、塗布または印刷することで導電性パターンを形成することができる。   The conductive silver paste of the present invention can form a conductive pattern by any method, for example, by applying or printing on a plastic film, ceramic film, glass or metal plate substrate. .

本発明の導電性銀ペーストは、任意の基材に、例えば、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、又はグラビアオフセット印刷の印刷方法にて印刷することで、導電性パターンを形成することができる。   The conductive silver paste of the present invention can form a conductive pattern on an arbitrary substrate by, for example, printing by flexographic printing, screen printing, gravure printing, or gravure offset printing.

本発明の導電性銀ペーストからの導電性パターンの形成方法としては、少なくとも、導電性パターンを有する凹版印刷版に導電性インキを供給する工程、シリコーンブランケットを押圧し、導電性インキを該ブランケット上に転移する工程、該ブランケット上の導電性インキを基材に転写する工程を有するグラビアオフセット印刷方法を、好適に採用できる。   The method of forming a conductive pattern from the conductive silver paste of the present invention includes at least a step of supplying a conductive ink to an intaglio printing plate having a conductive pattern, pressing a silicone blanket, and placing the conductive ink on the blanket. A gravure offset printing method having a step of transferring to a substrate and a step of transferring the conductive ink on the blanket to a substrate can be suitably employed.

この際の凹版印刷版としては、通常のグラビア版、ガラス板上の感光性樹脂を露光、現像、洗浄により形成した凹版、ガラス板をケミカルエッチングおよびレーザーエッチングにより形成した凹版が使用できる。   As the intaglio printing plate at this time, an ordinary gravure plate, an intaglio plate formed by exposing, developing and washing a photosensitive resin on a glass plate, and an intaglio plate formed by chemical etching and laser etching can be used.

また、シリコーンブランケットとしては、シリコーンゴム層、PET層、スポンジ層の様な層構造を有するシートである。通常、ブランケット胴と称される剛性のある円筒に巻きつけた状態で使用できる。   The silicone blanket is a sheet having a layer structure such as a silicone rubber layer, a PET layer, or a sponge layer. Usually, it can be used in a state of being wound around a rigid cylinder called a blanket cylinder.

本発明の導電性銀ペーストからの導電性パターン形成方法において、上記グラビアオフセット印刷方法を採用した場合、シリコーンブランケットには、凹版からの転写性、及び、基材への転写性が求められる。基材への十分な転写性を得るためには、ブランケット表面で、導電性銀ペースト中の液体成分を一定割合で吸収することが必要である。吸収が不十分であると基材への転写時に導電性銀ペースト層が層間剥離を起こし易く、逆に、一定割合を超えて吸収するとブランケット表面で導電性銀ペーストが乾燥し、基材への転写不良を起こし易いという問題があった。   In the method for forming a conductive pattern from the conductive silver paste of the present invention, when the gravure offset printing method is employed, the silicone blanket is required to have transferability from the intaglio and transferability to the substrate. In order to obtain sufficient transferability to the substrate, it is necessary to absorb the liquid component in the conductive silver paste at a certain rate on the blanket surface. If the absorption is insufficient, the conductive silver paste layer is likely to delaminate at the time of transfer to the substrate, and conversely if absorbed above a certain percentage, the conductive silver paste dries on the blanket surface, There was a problem that transfer defects were likely to occur.

導電性銀ペーストの25℃に於ける粘度を3〜30Pa・sとすることで、グラビアオフセット印刷法を採用して連続的に導電性パターンの印刷を行う場合においては、画線のコーナー部分やマトリックスの交差点にピンホール欠陥を起こし易く、良好な導電性細線パターンを形成することができ、かつ、凹版へのインキング性、凹版からブランケットへの転移性の問題も生じ難くなる。   By setting the viscosity of the conductive silver paste at 25 ° C. to 3 to 30 Pa · s, when the conductive pattern is continuously printed using the gravure offset printing method, Pinhole defects are likely to occur at the intersections of the matrix, a good conductive fine line pattern can be formed, and problems of inking to the intaglio and transfer from the intaglio to the blanket are less likely to occur.

本発明の導電性銀ペーストから形成させる導電性パターンは、ベタのような太い線幅の画線であっても良いが、本発明の導電性銀ペーストを用いた場合の特徴は、上記した様な従来よりも細い線幅画線を基材上に設ける際に、特に顕著に発揮される。   The conductive pattern formed from the conductive silver paste of the present invention may be a solid line having a solid line width, but the characteristics when the conductive silver paste of the present invention is used are as described above. This is particularly noticeable when a narrower line width than conventional ones is provided on a substrate.

また、本発明の導電性銀ペーストからの導電性パターンは、従来より低温かつ短時間で形成できることから、本発明の導電性銀ペーストの特徴は、セラミックフィルム、ガラス又は金属プレートの様な耐熱性の高い基材よりも、耐熱性がより低く熱変形しやすい、PETのような汎用プラスチックフィルム上に導電性パターンを形成する際に、特に顕著に発揮される。   In addition, since the conductive pattern from the conductive silver paste of the present invention can be formed at a lower temperature and in a shorter time than conventional, the conductive silver paste of the present invention is characterized by heat resistance such as ceramic film, glass or metal plate. When the conductive pattern is formed on a general-purpose plastic film such as PET, which has a lower heat resistance and is more easily thermally deformed than a substrate having a high thickness, it is particularly prominent.

こうして本発明の導電性銀ペーストを用いて、各種基材上に各種印刷方法にて印刷することで導電性パターンが設けられた基材は、導電性パターン印刷物として、必要に応じて配線等を行うことで、各種の電気部品、電子部品とすることができる。具体的に本発明の導電性銀ペーストは、透明ITO電極の様な透明導電フィルムへの密着性に優れている。   Thus, using the conductive silver paste of the present invention, the base material provided with the conductive pattern by printing on various base materials by various printing methods can be used as a printed conductive pattern, with wiring or the like as necessary. By carrying out, it can be set as various electrical components and electronic components. Specifically, the conductive silver paste of the present invention is excellent in adhesion to a transparent conductive film such as a transparent ITO electrode.

最終製品としては、例えばタッチパネルの取り出し電極やディスプレイの取り出し電極、電子ペーパー、太陽電池、その他の配線品等が挙げられる。   Examples of the final product include a touch panel extraction electrode, a display extraction electrode, electronic paper, a solar battery, and other wiring products.

以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。ここで「%」は、特に断らない限り「質量%」である。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. Here, “%” is “% by mass” unless otherwise specified.

銀粒子と、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体と、共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)と、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物(D)を、以下の表1に記載の質量部数となるよう用いて、これら原料を充分に混合して、実施例である本発明の各導電性銀ペースト及び比較例である従来の各導電性銀ペーストを調製した。実施例及び比較例の各導電性銀ペーストは、いずれも、25℃における粘度3〜30Pa・Sの範囲にあった。
これらの各導電性銀ペーストについて、以下の測定項目にて、導電性銀ペースト自体の特性及びそれから得られる導電性パターンの特性を評価した。その評価結果も以下の表1にまとめて示した。
A silver particle, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, an organic compound (C) which is liquid at 25 ° C. at 25 ° C., in which the copolymer (B) is dissolved and has no reactivity with the copolymer (B); The block polyisocyanate compound (D) in which the agent is thermally dissociated by heat dissociation so as to have the mass parts listed in Table 1 below, and these raw materials are sufficiently mixed together, and this is an example. Each conductive silver paste of the invention and each conventional conductive silver paste as a comparative example were prepared. Each of the conductive silver pastes of Examples and Comparative Examples was in the range of a viscosity of 3 to 30 Pa · S at 25 ° C.
About each of these electroconductive silver paste, the characteristic of electroconductive silver paste itself and the electroconductive pattern obtained from it were evaluated in the following measurement items. The evaluation results are also summarized in Table 1 below.

(比抵抗)
比抵抗は、体積抵抗率を意味する。アプリケーターを用いて透明導電フィルム上(ITO膜面)に導電性銀ペーストを乾燥後の膜厚が6μmになるように塗布し120℃10分乾燥させた。該乾燥塗膜を用いて、ロレスタGP MCP−T610(三菱化学(株)製)で四端子法にて測定した。この値が小さいほど、導電性に優れている。
(Specific resistance)
Specific resistance means volume resistivity. Using an applicator, the conductive silver paste was applied onto the transparent conductive film (ITO film surface) so that the film thickness after drying was 6 μm and dried at 120 ° C. for 10 minutes. Using the dried coating film, measurement was performed by a four-terminal method using Loresta GP MCP-T610 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The smaller this value, the better the conductivity.

(基材密着性)
前記の比抵抗の評価と同様にして作製した、ペーストからの乾燥塗膜を用いて、ISO2409(Paints and varnishes−Cross-cut test)の手順で試験を実施し、以下の基準に従って評価をした。
合格: 分類0または分類1(塗膜の剥がれが5%以内)
不合格: 分類2〜5(塗膜の剥がれが5%を超える)
(Base material adhesion)
A test was carried out in accordance with the procedure of ISO 2409 (Paints and varnishes-Cross-cut test) using a dry coating film prepared from the paste, which was produced in the same manner as the evaluation of the specific resistance, and was evaluated according to the following criteria.
Pass: Class 0 or Class 1 (coating peeling is within 5%)
Fail: Classification 2-5 (peeling film exceeds 5%)

(耐溶剤性)
前記の比抵抗の評価と同様にして作製したインキ塗膜を、メチルエチルケトンを含浸させた綿棒で往復30回ラビングした後のインキ塗膜の状態を観察し、以下の基準に従って評価をした。
合格: 塗膜の剥がれなし
不合格: 塗膜の剥がれあり
(Solvent resistance)
The ink coating film produced in the same manner as the evaluation of the specific resistance was rubbed 30 times with a cotton swab impregnated with methyl ethyl ketone, and the state of the ink coating film was observed and evaluated according to the following criteria.
Pass: No peeling of paint film Fail: There is peeling of paint film

Figure 0005569732
Figure 0005569732

尚、表1中、導電性銀ペーストの調製に用いた各原料の詳細は以下の通りである。
・シルベスト AGS−050:
メジアン径(D50)が1.4μmの銀粒子乾燥粉体(徳力化学研究所社製)
・シルベスト C−34:
メジアン径(D50)が0.35μmの銀粒子乾燥粉体(徳力化学研究所社製)
・ソルバインAL:
塩化ビニル/酢酸ビニル/ビニルアルコールの共重合質量比が93/2/5の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(日信化学工業社製)
・ソルバインTAO:
塩化ビニル/酢酸ビニル/ビニルアルコールの共重合質量比が91/2/7の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(日信化学工業社製)
・ソルバインC:
塩化ビニル/酢酸ビニルの共重合質量比が87/13の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(日信化学工業社製)
・ソルバインTA5R:
塩化ビニル/酢酸ビニル/ビニルアルコールの共重合質量比が88/1/11の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(日信化学工業社製)
・デスモジュール BL−3475:
HMDIとIPDIがベースとなった、70〜120℃で熱解離するブロック剤でマスクしたブロックジイソシアネート(住化バイエルウレタン社製)
・BDGAc:
ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート
In Table 1, the details of each raw material used for the preparation of the conductive silver paste are as follows.
・ Silvesto AGS-050:
Silver particle dry powder with a median diameter (D50) of 1.4 μm (manufactured by Tokuri Chemical Laboratory Co., Ltd.)
・ Sylvest C-34:
Silver particle dry powder having a median diameter (D50) of 0.35 μm (manufactured by Tokuru Chemical Laboratory Co., Ltd.)
・ Solvine AL:
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer with a vinyl chloride / vinyl acetate / vinyl alcohol copolymer mass ratio of 93/2/5 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Solvine TAO:
Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer having a vinyl chloride / vinyl acetate / vinyl alcohol copolymer mass ratio of 91/2/7 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Solvine C:
Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer having a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer mass ratio of 87/13 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.)
・ Solvine TA5R:
Vinyl chloride / vinyl acetate copolymer having a vinyl chloride / vinyl acetate / vinyl alcohol copolymer mass ratio of 88/1/11 (manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd.)
Death module BL-3475:
Block diisocyanate (manufactured by Sumika Bayer Urethane Co., Ltd.) masked with a blocking agent that thermally dissociates at 70 to 120 ° C, based on HMDI and IPDI
・ BDGAc:
Diethylene glycol monobutyl ether acetate

表1の評価結果からわかる通り、ビニルアルコールの重合単位を3〜9重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いた実施例1〜2の導電性銀ペーストは、比抵抗及び基材密着性のいずれも満足できる水準にあるのに対して、ビニルアルコールの重合単位を含まない或いは11重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体を用いた比較例1〜2の導電性銀ペーストは、基材密着性が不満足の水準にあることが明白である。
また、実施例1と実施例3との対比から、ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物を用いたものは、それを有さない場合に比べ、耐溶剤性により優れていることは明白である。
As can be seen from the evaluation results in Table 1, the conductive silver pastes of Examples 1 and 2 using a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer containing 3 to 9% by weight of vinyl alcohol polymerized units have a specific resistance and a base material. The conductive silver pastes of Comparative Examples 1 and 2 using a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer that does not contain vinyl alcohol polymerized units or contains 11% by weight, whereas the adhesion is satisfactory. It is clear that the substrate adhesion is at an unsatisfactory level.
Further, from the comparison between Example 1 and Example 3, those using a blocked polyisocyanate compound in which the blocking agent is thermally dissociated to generate a free isocyanate group are more resistant to solvent as compared to the case without it. It is clear that it is excellent.

本発明の導電性銀ペーストは、各種の電気部品・電子部品の導電性パターン形成用の導電性銀ペーストとして利用することができる。   The conductive silver paste of the present invention can be used as a conductive silver paste for forming conductive patterns of various electric parts and electronic parts.

Claims (6)

メジアン径(D50)0.2〜0.9μmの銀粒子(A)と、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体であって共重合体中にビニルアルコールの重合単位を3〜9重量%含有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(B)と、前記共重合体(B)を溶解し共重合体(B)との反応性を有さない25℃において液体の有機化合物(C)とを必須成分として含有る導電性銀ペースト。 A median diameter (D50) 0.2~0.9μm silver particles (A), vinyl chloride - containing 3-9% by weight of polymerized units of vinyl alcohol in a vinyl acetate copolymer copolymer Essentially a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (B) and an organic compound (C) that is liquid at 25 ° C. and dissolves the copolymer (B) and has no reactivity with the copolymer (B). conductive silver paste you containing as components. 共重合体(B)を溶解する25℃において液体の有機化合物(C)が、エーテルエステル系有機溶剤である請求項1記載の導電性銀ペースト。   The conductive silver paste according to claim 1, wherein the organic compound (C) which is liquid at 25 ° C and dissolves the copolymer (B) is an ether ester organic solvent. ブロック剤が熱解離して遊離イソシアネート基を発生するブロックポリイソシアネート化合物(D)を更に含有する、請求項1または2に記載の導電性銀ペースト。 Blocking agent comprises further blocked polyisocyanate compound capable of generating free isocyanate groups to thermally dissociate the (D), according to claim 1 or according to 2 conductive silver paste. 25℃における粘度3〜30Pa・Sである請求項1〜3のいずれか一項に記載の導電性銀ペースト。   The conductive silver paste according to any one of claims 1 to 3, which has a viscosity of 3 to 30 Pa · S at 25 ° C. 基材上に、請求項1〜4のいずれか一項に記載の導電性銀ペーストでグラビア印刷又はグラビアオフセット印刷する導電性パターンの形成方法。   The formation method of the electroconductive pattern which carries out gravure printing or gravure offset printing on the base material with the electroconductive silver paste as described in any one of Claims 1-4. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の導電性銀ペーストで形成された導電性パターン印刷物。   The electroconductive pattern printed matter formed with the electroconductive silver paste as described in any one of Claims 1-4.
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