JP5569287B2 - Camera movable mirror shock absorption mechanism - Google Patents

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本発明は、一眼レフカメラに設けられる可動ミラーの駆動装置に関し、特に可動ミラーの衝撃吸収機構に関する。   The present invention relates to a drive device for a movable mirror provided in a single-lens reflex camera, and more particularly to an impact absorbing mechanism for the movable mirror.

一眼レフカメラの内部には、撮影光路上に挿入されて被写体光をファインダ光学系へ反射させるファインダ導光位置(ダウン位置)と、撮影光路から退避して被写体光をシャッタ側へ通過させる退避位置(アップ位置)に昇降回動可能な可動ミラー(クイックリターンミラー)が設けられている。可動ミラーがファインダ導光位置と退避位置に回動するときの衝撃でバウンド(振動)すると、ファインダの観察像が安定せず観察性能に悪影響を及ぼす。また、可動ミラーを用いて測距用のセンサや測光用のセンサに被写体光を導く構造のカメラでは、可動ミラーがバウンドしている間は正確な測距や測光を行うことができず、連写性能が制限される。そのため、可動ミラーの回動時の衝撃を吸収してバウンドを抑制させる衝撃吸収機構が提案されてきた。   Inside the single-lens reflex camera, a finder light guide position (down position) that is inserted in the photographic optical path and reflects the subject light to the finder optical system, and a retracted position that evacuates from the photographic optical path and passes the subject light to the shutter side. A movable mirror (quick return mirror) that can be turned up and down is provided at (up position). If the movable mirror bounces (vibrates) due to an impact when rotating to the finder light guide position and the retracted position, the observation image of the finder is not stable and adversely affects the observation performance. Also, with a camera that uses a movable mirror to direct the subject light to a distance measuring sensor or a photometric sensor, accurate distance measurement or photometry cannot be performed while the movable mirror is bouncing. Copy performance is limited. For this reason, there has been proposed an impact absorbing mechanism that absorbs an impact when the movable mirror rotates and suppresses a bounce.

特開2000-131755号公報JP 2000-131755 A

本発明は、簡単かつコンパクトな構成で、可動ミラーが回動するときの衝撃吸収性能に優れる可動ミラー衝撃吸収機構を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a movable mirror shock absorbing mechanism that has a simple and compact configuration and is excellent in shock absorbing performance when the movable mirror rotates.

本発明の第1の態様は、撮影光路上に位置して被写体光を観察光学系に反射させるファインダ導光位置と、撮影光路から退避して被写体光を撮像用受光媒体側に通過させる退避位置との間で回動可能に支持された可動ミラーに対する衝撃吸収を行うカメラの可動ミラー衝撃吸収機構であって、可動ミラーがファインダ導光位置から退避位置に回動するとき該可動ミラーに当接して押圧移動される第1のミラー退避緩衝部材;この第1のミラー退避緩衝部材を相対移動可能に支持し、可動ミラーがファインダ導光位置から退避位置に回動するとき、最初に第1のミラー退避緩衝部材を可動ミラーによる押圧方向に単独で移動させ、続いて第1のミラー退避緩衝部材と共に該押圧方向に移動される第2のミラー退避緩衝部材;第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材をそれぞれ、可動ミラーによる押圧移動方向と反対方向に移動付勢する付勢手段;及び、退避位置へ回動する可動ミラーによって第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材を付勢手段の付勢方向と反対方向に押圧移動させたとき、該付勢方向への第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材の移動を制限する保持手段;を備えたことを特徴とする。   The first aspect of the present invention includes a finder light guide position that is positioned on the photographing optical path and reflects the subject light to the observation optical system, and a retreat position that is retracted from the photographing optical path and allows the subject light to pass to the imaging light receiving medium side. The movable mirror shock absorbing mechanism of the camera that absorbs shock to the movable mirror that is rotatably supported between the movable mirror and the movable mirror when the movable mirror rotates from the finder light guide position to the retracted position. A first mirror retracting buffer member that is pressed and moved; the first mirror retracting buffer member is supported so as to be relatively movable, and when the movable mirror rotates from the finder light guide position to the retracted position, first A second mirror retracting buffer member that moves the mirror retracting buffer member alone in the pressing direction by the movable mirror and then moves in the pressing direction together with the first mirror retracting buffer member; An urging means for urging and moving the member and the second mirror retracting buffer member in a direction opposite to the pressing movement direction by the movable mirror; and the first mirror retracting buffer member and the first mirror by the movable mirror rotating to the retracted position. When the second mirror retracting buffer member is pressed and moved in the direction opposite to the biasing direction of the biasing means, the movement of the first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer member in the biasing direction is restricted. Holding means;

保持手段は、可動ミラーが退避位置からファインダ導光位置に回動するときに衝撃吸収を行うミラー進出緩衝部材と、第2のミラー退避緩衝部材に連動して動作する連動ロック部材とにより構成することが好ましい。具体的には、ミラー進出緩衝部材は、可動ミラーが退避位置にあるとき、付勢手段の付勢方向への第2のミラー退避緩衝部材の移動を制限する移動制限位置に保持され、可動ミラーが退避位置からファインダ導光位置に回動するとき、該可動ミラーに当接して移動制限位置から押圧移動され、可動ミラーに対する衝撃吸収を行うと共に第2のミラー退避緩衝部材に対する移動制限を解除する。連動ロック部材は、第2のミラー退避緩衝部材がミラー進出緩衝部材による移動制限を受ける位置にあるときには、該第2のミラー退避緩衝部材に対する第1のミラー退避緩衝部材の相対移動を規制するロック位置に保持され、第2のミラー退避緩衝部材が、ミラー進出緩衝部材による移動制限を受けずに付勢手段の付勢方向へ移動することにより、該第2のミラー退避緩衝部材に対する第1のミラー退避緩衝部材の相対移動を許容するアンロック位置に移動される。   The holding means includes a mirror advance buffer member that absorbs shock when the movable mirror rotates from the retracted position to the finder light guide position, and an interlocking lock member that operates in conjunction with the second mirror retract buffer member. It is preferable. Specifically, when the movable mirror is in the retracted position, the mirror advance buffer member is held at a movement restriction position that restricts the movement of the second mirror retracting buffer member in the biasing direction of the biasing means. Is moved from the retracted position to the viewfinder light guide position, it is brought into contact with the movable mirror and is pressed and moved from the movement restricting position to absorb the impact on the movable mirror and to cancel the movement restriction on the second mirror retracting buffer member. . The interlock lock member is a lock that restricts the relative movement of the first mirror retracting buffer member with respect to the second mirror retracting buffer member when the second mirror retracting buffer member is in a position to be restricted by the mirror advancement buffer member. The second mirror retracting buffer member held in the position moves in the biasing direction of the biasing means without being restricted by the movement of the mirror advance buffer member, so that the first mirror retracting buffer member with respect to the second mirror retracting buffer member is moved. The mirror retracting buffer member is moved to an unlock position that allows relative movement.

第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材はそれぞれ、可動ミラーの回動軸と略直交する平面に沿って略平行に直進移動可能な直進移動部材として構成することができる。また、連動ロック部材は、可動ミラーの回動軸と略平行な回動軸を中心として回動可能な回動部材として構成することができる。この構成では、連動ロック部材がロック位置にあるとき、該連動ロック部材に設けた径方向突出部が、第1のミラー退避緩衝部材に設けた被規制部の移動軌跡上に位置して、該径方向突出部と被規制部の当接によって付勢手段の付勢方向への第1のミラー退避緩衝部材の移動を規制する。連動ロック部材がアンロック位置にあるときには、径方向突出部が被規制部の移動軌跡上から退避して、付勢手段の付勢方向への第1のミラー退避緩衝部材の移動を許す。   Each of the first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer member can be configured as a rectilinearly moving member that can linearly move in a substantially parallel manner along a plane substantially orthogonal to the rotation axis of the movable mirror. Further, the interlocking lock member can be configured as a rotation member that can rotate around a rotation axis that is substantially parallel to the rotation axis of the movable mirror. In this configuration, when the interlocking lock member is in the locked position, the radial protrusion provided on the interlocking lock member is positioned on the movement locus of the restricted portion provided on the first mirror retracting buffer member, and The movement of the first mirror retracting buffer member in the urging direction of the urging means is restricted by the contact between the radial protrusion and the restricted portion. When the interlocking lock member is in the unlock position, the radially projecting portion is retracted from the movement locus of the restricted portion to allow the first mirror retracting buffer member to move in the biasing direction of the biasing means.

第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材は、内部に可動ミラーを支持するミラーボックスの側部に支持されており、該第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材を付勢する付勢手段として、ミラーボックスと第1のミラー退避緩衝部材に係合する第1のばねと、ミラーボックスと第2のミラー退避緩衝部材に係合する第2のばねを設けるとよい。   The first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer member are supported on the side of a mirror box that supports the movable mirror therein, and the first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer are supported. As a biasing means for biasing the member, a first spring that engages with the mirror box and the first mirror retracting buffer member, and a second spring that engages with the mirror box and the second mirror retracting buffer member are provided. Good.

ミラー進出緩衝部材は、可動ミラーの回動と略平行な回動軸を中心として回動可能な回動部材として構成することができる。この場合、ミラー進出緩衝部材を第2のミラー退避緩衝部材に対する移動制限位置に回動付勢する回動付勢部材を備え、可動ミラーがファインダ導光位置に回動するときに、この回動付勢部材の付勢力に抗してミラー進出緩衝部材を押圧するように構成するとよい。   The mirror advance buffer member can be configured as a rotation member that can rotate around a rotation axis that is substantially parallel to the rotation of the movable mirror. In this case, a rotation urging member that urges the mirror advancement buffer member to move to a movement limit position with respect to the second mirror retracting buffer member is provided, and this rotation is performed when the movable mirror rotates to the finder light guide position. The mirror advancement buffer member may be pressed against the urging force of the urging member.

第2のミラー退避緩衝部材は、その移動に応じてミラー進出緩衝部材の回動を規制及び規制解除するように構成することが好ましい。具体的には、固定部材に当接して付勢手段による付勢方向への第2のミラー退避緩衝部材の移動端を決める係止部と、この係止部を固定部材に当接させる移動端に第2のミラー退避緩衝部材が位置するとき、ミラー進出緩衝部材の回動軌跡上に進出して移動制限位置へのミラー進出緩衝部材の回動を規制する回動規制部を第2のミラー退避緩衝部材に備えるとよい。回動規制部は、第2のミラー退避緩衝部材が可動ミラーによって第1のミラー退避緩衝部材と共に付勢手段の付勢方向と反対方向に押圧移動されることにより、ミラー進出緩衝部材の回動軌跡上から退避してその回動を許す。この場合、ミラー進出緩衝部材には、第2のミラー退避緩衝部材の回動規制部に当接して移動制限位置への回動規制を受ける回動規制面と、この回動規制面よりも外径側に位置し、ミラー進出緩衝部材が移動制限位置にあるときに第2のミラー退避緩衝部材と接触して、付勢手段の付勢方向への第2のミラー退避緩衝部材の移動を規制しつつ、ミラー進出緩衝部材の回動を許す回動許容面を形成するとよい。   The second mirror retracting buffer member is preferably configured to restrict and release the rotation of the mirror advance buffer member in accordance with the movement. Specifically, a locking portion that contacts the fixed member and determines a moving end of the second mirror retracting buffer member in the urging direction by the urging means, and a moving end that makes the locking portion contact the fixed member When the second mirror retracting buffer member is positioned on the second mirror, the second mirror is provided with a rotation restricting portion that advances on the rotation locus of the mirror advancement buffer member and restricts the rotation of the mirror advancement buffer member to the movement restriction position. It is good to prepare for a retraction buffer member. The rotation restricting portion rotates the mirror advancement buffer member by pressing and moving the second mirror retracting buffer member together with the first mirror retracting buffer member in the direction opposite to the biasing direction of the biasing means by the movable mirror. Retreat from the trajectory and allow its rotation. In this case, the mirror advancing buffer member includes a rotation restricting surface that abuts against the rotation restricting portion of the second mirror retracting shock absorbing member and receives the rotation restriction to the movement restricting position, and is outside the rotation restricting surface. Positioned on the radial side, when the mirror advancement buffer member is in the movement restriction position, it contacts the second mirror retracting buffer member and restricts the movement of the second mirror retracting buffer member in the biasing direction of the biasing means. However, it is preferable to form a rotation allowing surface that allows the mirror advancement buffer member to rotate.

本発明の第2の態様は、撮影光路上に位置して被写体光を観察光学系に反射させるファインダ導光位置と、撮影光路から退避して被写体光を撮像用受光媒体側に通過させる退避位置との間で回動可能に支持された可動ミラーに対する衝撃吸収を行うカメラの可動ミラー衝撃吸収機構であって、可動ミラーがファインダ導光位置と退避位置の間で一の方向に回動するとき、該可動ミラーに当接して押圧移動される第1緩衝部材;この第1緩衝部材を相対移動可能に支持し、可動ミラーが上記一の方向に回動するとき、最初に第1緩衝部材を可動ミラーによる押圧方向に単独で移動させ、続いて第1緩衝部材と共に該押圧方向に移動される第2緩衝部材;第1緩衝部材と第2緩衝部材をそれぞれ、可動ミラーによる押圧移動方向と反対方向に移動付勢する付勢手段;及び、可動ミラーにより第1緩衝部材と第2緩衝部材を付勢手段の付勢方向と反対方向に押圧移動させたとき、該付勢方向への第1緩衝部材と第2緩衝部材の移動を制限する保持手段;を備えたことを特徴とする。   The second aspect of the present invention includes a finder light guide position that is located on the photographing optical path and reflects the subject light to the observation optical system, and a retreat position that is retracted from the photographing optical path and allows the subject light to pass to the imaging light receiving medium side. Is a movable mirror shock absorbing mechanism of a camera that absorbs shock to a movable mirror that is rotatably supported between the finder and a movable mirror that rotates in one direction between the finder light guide position and the retracted position. A first buffer member that is pressed and moved in contact with the movable mirror; the first buffer member is supported so as to be relatively movable, and when the movable mirror rotates in the one direction, the first buffer member is first A second buffer member that is moved independently in the pressing direction by the movable mirror and then moved in the pressing direction together with the first buffer member; the first buffer member and the second buffer member are respectively opposite to the pressing movement direction by the movable mirror Move in direction Urging means for urging; and when the first buffer member and the second buffer member are pressed and moved in the direction opposite to the urging direction of the urging means by the movable mirror, the first buffer member and the second buffer member in the urging direction And 2 holding means for restricting movement of the buffer member.

この態様の保持手段は、第1緩衝部材及び第2緩衝部材を用いて衝撃吸収される上記一の回動方向とは逆方向への可動ミラーの回動に対して衝撃吸収を行う第3緩衝部材と、第2緩衝部材に連動して動作する連動ロック部材とにより構成することが好ましい。具体的には、第3緩衝部材は、可動ミラーが上記一の方向へ回動して第1緩衝部材と第2緩衝部材を押圧移動させたとき、付勢手段の付勢方向への第2緩衝部材の移動を制限する移動制限位置に保持され、可動ミラーが上記一の方向と逆方向へ回動するとき、該可動ミラーに当接して移動制限位置から押圧移動され、可動ミラーに対する衝撃吸収を行うと共に第2緩衝部材に対する移動制限を解除する。連動ロック部材は、第2緩衝部材が第3緩衝部材による移動制限を受ける位置にあるときには、該第2緩衝部材に対する第1緩衝部材の相対移動を規制するロック位置に保持され、第2緩衝部材が、第3緩衝部材による移動制限を受けずに付勢手段の付勢方向へ移動することにより、該第2緩衝部材に対する第1緩衝部材の相対移動を許容するアンロック位置に移動される。   The holding means of this aspect is a third buffer that absorbs shock with respect to the rotation of the movable mirror in the direction opposite to the one rotation direction that is absorbed by the first buffer member and the second buffer member. It is preferable to configure the member and an interlocking lock member that operates in conjunction with the second buffer member. Specifically, the third buffer member is configured to move the second buffer in the biasing direction of the biasing means when the movable mirror rotates in the one direction and presses and moves the first buffer member and the second buffer member. When the movable mirror is held in a movement restriction position that restricts the movement of the buffer member and rotates in the direction opposite to the one direction, the movable mirror abuts against the movable mirror and is pressed and moved from the movement restriction position to absorb the shock to the movable mirror. And the movement restriction on the second buffer member is released. The interlocking lock member is held at a lock position that restricts the relative movement of the first buffer member with respect to the second buffer member when the second buffer member is in a position subject to movement restriction by the third buffer member. However, by moving in the urging direction of the urging means without being restricted by movement by the third buffer member, the first buffer member is moved to the unlock position that allows relative movement of the first buffer member.

本発明の第1の態様によれば、可動ミラーがファインダ導光位置から退避位置に回動するとき、まず第1のミラー退避緩衝部材が単独で押圧移動され、続いて該第1のミラー退避緩衝部材を支持する第2のミラー退避緩衝部材が共に押圧移動されるため、緩衝部材の移動用スペースを小さく抑えつつ、可動ミラーに対して緩衝部材による衝撃吸収が作用する状態を長く確保することができる。また、可動ミラーが退避位置へ回動した状態では、保持手段によって第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材のバウンド動作が抑えられる。これにより、コンパクトな構成でありながら、可動ミラーがファインダ導光位置から退避位置に回動するときの衝撃吸収性に優れた可動ミラー衝撃吸収機構を得ることができる。また、第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材への付勢力を個別に設定して可動ミラーに対する最適な荷重を与えることが容易であり、衝撃吸収性能の設定自由度が高い。   According to the first aspect of the present invention, when the movable mirror rotates from the finder light guide position to the retracted position, the first mirror retracting buffer member is first pressed and moved, and then the first mirror retracted. Since the second mirror retracting buffering member that supports the buffering member is pressed and moved together, it is possible to secure a long state in which the shock absorbing member acts on the movable mirror while keeping the space for moving the buffering member small. Can do. Further, in a state where the movable mirror is rotated to the retracted position, the bounce operation of the first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer member is suppressed by the holding means. Thereby, it is possible to obtain a movable mirror impact absorbing mechanism that is excellent in impact absorbability when the movable mirror is rotated from the finder light guide position to the retracted position while having a compact configuration. Moreover, it is easy to set the urging force to the first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer member individually to give an optimum load to the movable mirror, and the degree of freedom in setting the shock absorbing performance is high. .

また、第1のミラー退避緩衝部材と第2のミラー退避緩衝部材に対する保持手段を、第2のミラー退避緩衝部材の移動に連動して該第2のミラー退避緩衝部材に対する第1のミラー退避緩衝部材の相対移動を規制及び許容する連動ロック部材と、可動ミラーが退避位置からファインダ導光位置に回動するときに衝撃吸収を行いつつ第2のミラー退避緩衝部材の移動制限を解除するミラー進出緩衝部材とによって構成することで、部品点数の少ない簡略な保持手段とすることができる。   In addition, the holding means for the first mirror retracting buffer member and the second mirror retracting buffer member are connected to the first mirror retracting buffer member in conjunction with the movement of the second mirror retracting buffer member. An interlocking lock member that restricts and allows relative movement of the member, and a mirror advance that releases the movement limitation of the second mirror retracting buffer member while absorbing shock when the movable mirror rotates from the retracted position to the finder light guide position By comprising with a buffer member, it can be set as a simple holding means with few number of parts.

加えて、可動ミラーが退避位置へ回動するときと逆に、可動ミラーがファインダ導光位置へ回動するときには、第2のミラー退避緩衝部材によってミラー進出緩衝部材の回動規制を行うことにより、より一層の構成簡略化が可能となる。   In addition, contrary to when the movable mirror rotates to the retracted position, when the movable mirror rotates to the finder light guide position, the second mirror retracting buffer member restricts the rotation of the mirror advance buffer member. Therefore, the configuration can be further simplified.

本発明の技術思想は、可動ミラーがいずれの方向に回動する場合も適用することが可能であり、第2の態様によれば、可動ミラーの回動方向を第1の態様と逆にしても同様の効果を得ることができる。   The technical idea of the present invention can be applied to the case where the movable mirror rotates in any direction. According to the second aspect, the rotation direction of the movable mirror is reversed from that of the first aspect. The same effect can be obtained.

本発明を適用した一眼レフカメラの光学系の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the optical system of the single-lens reflex camera to which this invention is applied. ミラーダウン状態でのミラーボックスの前方斜視図である。It is a front perspective view of the mirror box in a mirror down state. ミラーアップ状態でのミラーボックスの前方斜視図である。It is a front perspective view of the mirror box in a mirror up state. ミラーダウン状態でのミラーボックスの後方斜視図である。It is a back perspective view of a mirror box in a mirror down state. ミラーダウン状態でのミラーボックスの後方斜視図である。It is a back perspective view of a mirror box in a mirror down state. ミラーアップ状態でのミラーボックスの後方斜視図である。It is a back perspective view of a mirror box in a mirror up state. ダウン吸収レバーの緩衝用ダボにミラーシートの当接部を当接させた状態のミラー緩衝機構の斜視図である。It is a perspective view of the mirror buffer mechanism in a state where the contact portion of the mirror sheet is in contact with the buffer dowel of the down absorption lever. アップ吸収レバーの緩衝用ダボにミラーシートの当接部を当接させた状態のミラー緩衝機構の斜視図である。It is a perspective view of the mirror buffer mechanism in a state where the contact portion of the mirror sheet is in contact with the buffer dowel of the up-absorbing lever. 押さえ板を外してミラー緩衝機構を露出させた状態のミラーボックスの左側面図である。It is a left view of the mirror box of a state where the presser plate is removed and the mirror buffer mechanism is exposed. ミラーダウン状態のミラー緩衝機構の側面図である。It is a side view of the mirror buffer mechanism in the mirror-down state. 可動ミラーがダウン位置からアップ位置に回動する途中の状態のミラー緩衝機構の側面図である。It is a side view of the mirror buffer mechanism in a state in which the movable mirror is rotating from the down position to the up position. 可動ミラーがダウン位置からアップ位置に回動する途中の状態のミラー緩衝機構の側面図である。It is a side view of the mirror buffer mechanism in a state in which the movable mirror is rotating from the down position to the up position. ミラーアップ状態のミラー緩衝機構の側面図である。It is a side view of the mirror buffer mechanism in the mirror up state. 解除レバーがダウン吸収レバーによる移動制限を受け、アップ吸収レバーがロックレバーによる移動制限を受けている状態のミラー緩衝機構の側面図である。It is a side view of the mirror buffer mechanism in a state where the release lever is subjected to movement restriction by the down absorption lever and the up absorption lever is restricted from movement by the lock lever. 可動ミラーがアップ位置からダウン位置への回動を完了し、ダウン吸収レバーがアップ吸収レバーによる回動規制位置よりも先のオーバー位置まで回動された状態のミラー緩衝機構の側面図である。FIG. 10 is a side view of the mirror buffer mechanism in a state where the movable mirror completes the rotation from the up position to the down position, and the down absorption lever is rotated to the over position before the rotation restriction position by the up absorption lever.

図1に示す一眼レフカメラ(以下、カメラ)10は、カメラボディ11の前面に交換式のレンズ鏡筒12を着脱させるレンズマウント13を有し、その内方にミラーボックス14が設けられている。   A single-lens reflex camera (hereinafter referred to as a camera) 10 shown in FIG. 1 has a lens mount 13 for attaching and detaching an interchangeable lens barrel 12 on the front surface of a camera body 11, and a mirror box 14 is provided on the inside thereof. .

ミラーボックス14内には可動ミラー(クイックリターンミラー)15が設けられる。可動ミラー15は、ミラーシート16上にメインミラー15aを固定的に支持し、ミラーシート16の背面側にサブミラー17を回動可能に支持した構造になっており、ミラーシート16の両側に突出する一対のミラーシートヒンジ16xがミラーボックス14の両側壁に軸支されている。可動ミラー15の後方にはフォーカルプレーンシャッタ(以下、シャッタ)18が設けられ、シャッタ18の後方にはイメージセンサ(撮像用受光媒体)19が設けられている。なお、本実施形態のカメラ10は、撮像用受光媒体にイメージセンサ19を用いるデジタルカメラであるが、撮像用受光媒体として銀塩フィルムを用いるカメラに対しても本発明は適用が可能である。   A movable mirror (quick return mirror) 15 is provided in the mirror box 14. The movable mirror 15 has a structure in which the main mirror 15 a is fixedly supported on the mirror sheet 16, and the sub mirror 17 is rotatably supported on the back side of the mirror sheet 16, and protrudes on both sides of the mirror sheet 16. A pair of mirror sheet hinges 16 x are pivotally supported on both side walls of the mirror box 14. A focal plane shutter (hereinafter referred to as shutter) 18 is provided behind the movable mirror 15, and an image sensor (imaging light receiving medium) 19 is provided behind the shutter 18. Note that the camera 10 of the present embodiment is a digital camera that uses the image sensor 19 as an imaging light-receiving medium, but the present invention can also be applied to a camera that uses a silver salt film as the imaging light-receiving medium.

可動ミラー15は、ミラーシートヒンジ16xを軸として、レンズ鏡筒12内の撮影レンズ12aからイメージセンサ19に至る撮影光路上に約45度の角度で斜設されるダウン位置(ファインダ導光位置:図1の実線、図2、図4、図5、図10)と、撮影光路から上方に退避したアップ位置(退避位置:図1の二点鎖線、図3、図6、図13)の間で往復回動される。図4及び図6に示すように、可動ミラー15を挟んで位置するミラーボックス14の両側壁のうち一方の内面からダウン位置決めダボ20が突出しており、このダウン位置決めダボ20に対してミラーシート16の一側部に設けたストッパ部16a(図7、図8)を当接させることで、可動ミラー15のダウン位置が定められる。ダウン位置決めダボ20は、ミラーボックス14に対する取付位置の微調整が可能である。また、ミラーボックス14内には、可動ミラー15をアップ位置に回動させたときミラーシート16の上面が当接可能な上方ストッパ21が設けられている。可動ミラー15の上方には、ペンタプリズムや接眼レンズなどにより構成されるファインダ光学系22が設けられている。   The movable mirror 15 is inclined down at an angle of about 45 degrees on the photographing optical path from the photographing lens 12a in the lens barrel 12 to the image sensor 19 with the mirror sheet hinge 16x as an axis (finder light guide position: 1 between the solid line in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 4, FIG. 5, and FIG. 10) and the up position retracted upward from the imaging optical path (retracted position: two-dot chain line in FIG. 1, FIG. 3, FIG. Is reciprocally rotated. As shown in FIGS. 4 and 6, a down positioning dowel 20 protrudes from the inner surface of one of both side walls of the mirror box 14 positioned with the movable mirror 15 interposed therebetween. The mirror sheet 16 is opposed to the down positioning dowel 20. The down position of the movable mirror 15 is determined by abutting a stopper portion 16a (FIGS. 7 and 8) provided on one side portion of the movable mirror 15. The down positioning dowel 20 can finely adjust the mounting position with respect to the mirror box 14. Also, an upper stopper 21 is provided in the mirror box 14 so that the upper surface of the mirror sheet 16 can come into contact when the movable mirror 15 is rotated to the up position. A finder optical system 22 composed of a pentaprism, an eyepiece, or the like is provided above the movable mirror 15.

レンズマウント13にレンズ鏡筒12を装着した状態でレンズ鏡筒12内の撮影レンズ12aを通してミラーボックス14内に入射する被写体光は、可動ミラー15がダウン位置にあるときには、可動ミラー15のメインミラー15aにより反射されてファインダ光学系22に入り、カメラボディ11後面側のファインダ窓22aを通して被写体像を観察することができる。この状態では、ファインダ光学系22を構成するペンタプリズムの後方に設けた測光ユニット23による測光が可能である。また、可動ミラー15のダウン位置では、サブミラー17はミラーシート16に対して斜め下方に向けて突出し、サブミラー17によって被写体光の一部がミラーボックス14の下方の測距ユニット24に導かれ、被写体距離を検出することができる。一方、可動ミラー15がアップ位置にあるときには、撮影レンズ12aを通してミラーボックス14内に入射する被写体光は可動ミラー15で反射されずにシャッタ18側に進み、シャッタ18を開くことでイメージセンサ19の受光面上に光を入射させることができる。可動ミラー15のアップ位置では、サブミラー17はミラーシート16の背面側に格納される。カメラボディ11の後面に設けたLCDモニタ25には、イメージセンサ19により得られる被写体の電子画像や、電子画像以外の各種の情報を表示することができる。   When the movable mirror 15 is in the down position, subject light that enters the mirror box 14 through the photographing lens 12a in the lens barrel 12 with the lens barrel 12 mounted on the lens mount 13 is the main mirror of the movable mirror 15. The object image can be observed through the finder window 22a on the rear side of the camera body 11 after being reflected by the lens 15a and entering the finder optical system 22. In this state, photometry can be performed by the photometry unit 23 provided behind the pentaprism constituting the finder optical system 22. In the down position of the movable mirror 15, the sub mirror 17 protrudes obliquely downward with respect to the mirror sheet 16, and part of the subject light is guided to the distance measuring unit 24 below the mirror box 14 by the sub mirror 17, The distance can be detected. On the other hand, when the movable mirror 15 is in the up position, the subject light incident into the mirror box 14 through the photographing lens 12a is not reflected by the movable mirror 15 but proceeds to the shutter 18 side, and the shutter 18 is opened to open the image sensor 19. Light can be incident on the light receiving surface. At the up position of the movable mirror 15, the sub mirror 17 is stored on the back side of the mirror sheet 16. The LCD monitor 25 provided on the rear surface of the camera body 11 can display an electronic image of the subject obtained by the image sensor 19 and various types of information other than the electronic image.

図3及び図5に示すように、ミラーボックス14の一側部(前方から見て左側の側部)には、可動ミラー15の昇降回動を行わせるミラー駆動機構30が設けられている。ミラー駆動機構30は、モータ31と、モータ31の駆動力を伝達する減速ギヤ列32と、遊星ギヤ機構を介して減速ギヤ列32からの回転駆動力が伝達されるカムギヤ33と、カムギヤ33によって回動位置が制御されるミラー駆動レバー34を備えている。ミラー駆動レバー34は、ミラーシートヒンジ16xの軸線と略平行な軸34xを中心として往復回動可能にミラーボックス14に支持されており、ミラーシート16の側部に設けたミラーシートボス16bを保持している。このミラー駆動レバー34による保持部分がミラーシートボス16bを下方に押圧することで可動ミラー15をダウン位置に向けて回動させ、ミラーシートボス16bを上方に押圧することで可動ミラー15をアップ位置に向けて回動させる。ミラー駆動レバー34は、可動ミラー15をダウン位置へ押圧する方向へ回動付勢されており、カムギヤ33が特定の回転位置にあるとき、該カムギヤ33に形成したミラー制御カム(周面カム)によって、付勢力に抗してミラー駆動レバー34がミラーアップ方向へ押圧回動される。詳しくは、カムギヤ33は初期位置から一方向にのみ回転される一回転カムギヤであり、カムギヤ33が初期位置にあるときには、該カムギヤ33のミラー制御カムがミラー駆動レバー34を押圧せず、ミラー駆動レバー34に作用する付勢力によって可動ミラー15がダウン位置に保持されている。カムギヤ33が初期位置から途中まで回転されると、カムギヤ33のミラー制御カムがミラー駆動レバー34を押圧回動させ、ミラー駆動レバー34が可動ミラー15をアップ位置に回動させる。この途中位置からカムギヤ33が初期位置に戻るまでの間に、カムギヤ33のミラー制御カムがミラー駆動レバー34に対する押圧を解除して、可動ミラー15がダウン位置に復帰される。   As shown in FIGS. 3 and 5, a mirror drive mechanism 30 that moves the movable mirror 15 up and down is provided on one side (the left side when viewed from the front) of the mirror box 14. The mirror drive mechanism 30 includes a motor 31, a reduction gear train 32 that transmits a drive force of the motor 31, a cam gear 33 that receives a rotational drive force from the reduction gear train 32 via a planetary gear mechanism, and a cam gear 33. A mirror drive lever 34 whose rotation position is controlled is provided. The mirror drive lever 34 is supported by the mirror box 14 so as to be reciprocally rotatable about an axis 34x substantially parallel to the axis of the mirror sheet hinge 16x, and holds a mirror sheet boss 16b provided on the side of the mirror sheet 16. doing. The holding portion by the mirror driving lever 34 presses the mirror sheet boss 16b downward to rotate the movable mirror 15 toward the down position, and presses the mirror sheet boss 16b upward to move the movable mirror 15 to the up position. Rotate toward The mirror drive lever 34 is urged to rotate in a direction to press the movable mirror 15 to the down position, and when the cam gear 33 is in a specific rotation position, a mirror control cam (peripheral cam) formed on the cam gear 33. Thus, the mirror drive lever 34 is pressed and rotated in the mirror up direction against the urging force. Specifically, the cam gear 33 is a one-rotation cam gear that is rotated only in one direction from the initial position. When the cam gear 33 is in the initial position, the mirror control cam of the cam gear 33 does not press the mirror drive lever 34, and the mirror drive. The movable mirror 15 is held in the down position by the urging force acting on the lever 34. When the cam gear 33 is rotated from the initial position to the middle, the mirror control cam of the cam gear 33 presses and rotates the mirror drive lever 34, and the mirror drive lever 34 rotates the movable mirror 15 to the up position. From this midway position until the cam gear 33 returns to the initial position, the mirror control cam of the cam gear 33 releases the pressure on the mirror drive lever 34, and the movable mirror 15 is returned to the down position.

ミラーボックス14の一側部にはさらに、シャッタ18のチャージ動作を行わせるシャッタチャージレバー35が備えられている。カムギヤ33は、上述のミラー駆動カムに加えて、シャッタチャージレバー35の動作を制御するシャッタチャージカムを有し、初期位置から一回転することでシャッタチャージレバー35を往復回動させてシャッタチャージを行わせる。シャッタチャージ機構は本発明の特徴とは関係がないため、詳細な説明を省略する。   A shutter charge lever 35 for charging the shutter 18 is further provided on one side of the mirror box 14. The cam gear 33 has a shutter charge cam that controls the operation of the shutter charge lever 35 in addition to the above-described mirror drive cam, and rotates the shutter charge lever 35 reciprocally by rotating once from the initial position to charge the shutter. Let it be done. Since the shutter charge mechanism is not related to the features of the present invention, detailed description thereof is omitted.

ミラーボックス14の他側部(前方から見て右側の側部)には、可動ミラー15がダウン位置とアップ位置に回動するときの衝撃を吸収して可動ミラー15のバウンド(振動)を抑制させるミラー緩衝機構(可動ミラー衝撃吸収機構)40が備えられている。ミラー緩衝機構40は、ダウン吸収レバー(保持手段、ミラー進出緩衝部材、第3緩衝部材)41、ダウン吸収ばね(回動付勢部材)42、解除レバー(第2のミラー退避緩衝部材、第2緩衝部材)43、解除ばね(付勢手段、第2のばね)44、アップ吸収レバー(第1のミラー退避緩衝部材、第1緩衝部材)45、アップ吸収ばね(付勢手段、第1のばね)46及びロックレバー(保持手段、連動ロック部材)47を備え、これらの各部材は、ミラーボックス14の側部に固定される押さえ板48(図4)によって脱落しないように保持されている。   The other side of the mirror box 14 (the side on the right side when viewed from the front) absorbs an impact when the movable mirror 15 rotates to the down position and the up position, thereby suppressing the bounce (vibration) of the movable mirror 15. A mirror buffer mechanism (movable mirror shock absorbing mechanism) 40 is provided. The mirror buffer mechanism 40 includes a down absorption lever (holding means, a mirror advance buffer member, a third buffer member) 41, a down absorption spring (a rotation biasing member) 42, a release lever (second mirror retract buffer member, second buffer member). Buffer member) 43, release spring (biasing means, second spring) 44, up absorption lever (first mirror retracting buffer member, first buffer member) 45, up absorption spring (biasing means, first spring) ) 46 and a lock lever (holding means, interlocking lock member) 47, and these members are held so as not to drop off by a pressing plate 48 (FIG. 4) fixed to the side of the mirror box 14.

ダウン吸収レバー41は、ミラーボックス14に突設されミラーシートヒンジ16xと略平行な軸41xによって回動可能に支持されている。ダウン吸収レバー41は、軸41xを中心とする略扇形をなし、扇の周縁部に近い位置にミラーボックス14の内方側に向けて突出する緩衝用ダボ41aを有し、軸41xに近い部分に半径方向に向け延設された回動規制面41bを有する。また、回動規制面41bに続けて、該回動規制面41bよりも外径側に位置し、軸41xを中心とする円弧状をなす回動許容面41cが形成されている。ミラーボックス14には軸41xを中心とする円弧状の貫通孔14aが形成されていて、ダウン吸収レバー41の緩衝用ダボ41aは、貫通孔14aに挿通されてミラーボックス14の内部に突出している(図2、図3、図5及び図9参照)。緩衝用ダボ41aは、ミラーシート16の先端部近傍の側部に設けた緩衝当接部16cの移動軌跡上(ミラーシートヒンジ16xを中心とする可動ミラー15の回動軌跡上)に位置しており、緩衝当接部16cの下面側に当接可能となっている。   The down-absorbing lever 41 protrudes from the mirror box 14 and is rotatably supported by a shaft 41x substantially parallel to the mirror seat hinge 16x. The down absorption lever 41 has a substantially sector shape centered on the shaft 41x, and has a buffering dowel 41a protruding toward the inner side of the mirror box 14 at a position close to the peripheral edge of the fan, and a portion close to the shaft 41x Has a rotation restricting surface 41b extending in the radial direction. Further, following the rotation restricting surface 41b, a rotation permitting surface 41c is formed which is positioned on the outer diameter side of the rotation restricting surface 41b and has an arc shape centering on the shaft 41x. The mirror box 14 is formed with an arc-shaped through hole 14a centering on an axis 41x, and the buffer dowel 41a of the down absorption lever 41 is inserted into the through hole 14a and protrudes into the mirror box 14. (See FIG. 2, FIG. 3, FIG. 5 and FIG. 9). The buffer dowel 41a is located on the movement locus of the buffer contact portion 16c provided on the side portion near the front end portion of the mirror sheet 16 (on the rotation locus of the movable mirror 15 around the mirror sheet hinge 16x). Thus, it is possible to contact the lower surface side of the buffer contact portion 16c.

ダウン吸収ばね42は、軸41xを囲むコイル部42aと、ミラーボックス14の側面に形成したばね掛け部14bに係合するばね腕部42bと、ダウン吸収レバー41に形成したばね掛け部41dに係合するばね腕部42cを有するトーションばねであり、ダウン吸収レバー41を図9ないし図15の時計方向に回動付勢する。このダウン吸収ばね42によるダウン吸収レバー41の付勢方向は、ミラーシート16の緩衝当接部16cに対して緩衝用ダボ41aを接近(当接)させる方向であり、当該付勢方向へのダウン吸収レバー41の回動端を定める回動規制突起14cがミラーボックス14の側面に突設されている。この回動規制突起14cに当接するダウン吸収レバー41の回動端を緩衝待機位置(解除レバー43に対する移動制限位置)と呼ぶ。ダウン吸収レバー41は、この緩衝待機位置を一方の回動端として、ダウン吸収ばね42の付勢力に抗して回動規制突起14cから離れる方向に回動することができる。ダウン吸収レバー41は、図13や図14に示す緩衝待機位置を起点として所定の位置までは、ダウン位置方向へ回動する可動ミラー15(ミラーシート16)の緩衝当接部16cによって押圧されながら、ダウン吸収ばね42の付勢力に抗して回動される。この所定の位置とは、可動ミラー15のダウン位置に対応した位置であり、可動ミラー15がダウン位置まで達するとストッパ部16aがダウン位置決めダボ20に当接してそれ以上の回動が規制されるため、ダウン吸収レバー41に対してそれ以上は緩衝当接部16cからの押圧力が及ばなくなる。可動ミラー15による押圧移動力を受けるダウン吸収レバー41の当該回動範囲を緩衝移動域と呼ぶ。ダウン吸収レバー41はさらに、緩衝移動域よりも先のオーバー移動域まで回動可能である。図10、図11、図12及び図15は、ダウン吸収レバー41がオーバー移動域にある状態を示しており、可動ミラー15がダウン位置決めダボ20に当接してダウン位置よりも先への回動が規制されているのに対し、ダウン吸収レバー41は、緩衝用ダボ41aをミラーシート16の緩衝当接部16cから離間させていて、可動ミラー15との間の当接関係が解除されている。   The down absorption spring 42 is associated with a coil portion 42 a surrounding the shaft 41 x, a spring arm portion 42 b that engages with a spring hook portion 14 b formed on the side surface of the mirror box 14, and a spring hook portion 41 d formed on the down absorption lever 41. This is a torsion spring having a mating spring arm portion 42c, and urges the down absorption lever 41 to rotate clockwise in FIGS. The urging direction of the down-absorbing lever 41 by the down-absorbing spring 42 is a direction in which the buffer dowel 41a approaches (contacts) the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16, and the urging direction of the down-absorbing lever 41 is reduced. A rotation restricting protrusion 14 c that defines the rotation end of the absorption lever 41 is provided on the side surface of the mirror box 14. The rotation end of the down-absorbing lever 41 in contact with the rotation restricting protrusion 14c is referred to as a buffer standby position (movement limit position with respect to the release lever 43). The down absorption lever 41 can rotate in a direction away from the rotation restricting projection 14c against the urging force of the down absorption spring 42 with the buffer standby position as one rotation end. The down absorption lever 41 is pressed by the buffer contact portion 16c of the movable mirror 15 (mirror sheet 16) rotating in the down position direction from the buffer standby position shown in FIGS. 13 and 14 to a predetermined position. It is rotated against the urging force of the down absorption spring 42. This predetermined position is a position corresponding to the down position of the movable mirror 15. When the movable mirror 15 reaches the down position, the stopper portion 16a abuts on the down positioning dowel 20 and further rotation is restricted. Therefore, the pressing force from the buffer contact portion 16c does not reach the down absorption lever 41 any more. The rotation range of the down absorption lever 41 that receives the pressing movement force by the movable mirror 15 is called a buffer movement area. The down absorption lever 41 is further rotatable to an over movement area ahead of the buffer movement area. 10, 11, 12, and 15 show a state in which the down absorption lever 41 is in the over movement range, and the movable mirror 15 contacts the down positioning dowel 20 and rotates beyond the down position. However, the down absorption lever 41 separates the buffer dowel 41a from the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16, and the contact relationship with the movable mirror 15 is released. .

解除レバー43は、ミラーボックス14の側面に突設した上下2つのガイドピン14dとガイドピン(固定部材)14eを挿通させる2つのガイド孔43aとガイド孔(係止部)43bを有し、各ガイド孔43a、43bで各ガイドピン14d、14eの案内を受けることによって、上下方向に直進移動可能に支持されている。この解除レバー43の直進移動方向は、ダウン吸収レバー41の回動軸41xの軸線と略直交する平面内に設定されている。換言すれば、ダウン吸収レバー41と解除レバー43は、互いに平行な平面に沿って回動及び移動が可能に支持されている。解除レバー43の側部には、回動規制アーム(回動規制部)43cが突出している。回動規制アーム43cは、解除レバー43の移動方向である上下方向に対して略直交する方向に突出され、その先端部付近が下方に曲げられた鈎状の形状をなしている。アップ吸収レバー43の下端部付近には、ばね掛け部43dが設けられている。   The release lever 43 has two guide holes 43a and guide holes (locking portions) 43b through which the upper and lower two guide pins 14d and a guide pin (fixing member) 14e project from the side surface of the mirror box 14, By being guided by the guide pins 14d and 14e through the guide holes 43a and 43b, the guide holes 43a and 43b are supported so as to be linearly movable in the vertical direction. The rectilinear movement direction of the release lever 43 is set in a plane substantially orthogonal to the axis of the rotation shaft 41x of the down absorption lever 41. In other words, the down absorption lever 41 and the release lever 43 are supported so as to be rotatable and movable along planes parallel to each other. A rotation restricting arm (rotation restricting portion) 43 c protrudes from the side of the release lever 43. The rotation restricting arm 43c protrudes in a direction substantially orthogonal to the up-down direction that is the moving direction of the release lever 43, and has a hook-like shape in which the vicinity of the tip is bent downward. Near the lower end of the up-absorbing lever 43, a spring hook 43d is provided.

解除ばね44は引張ばねからなり、その一端部が解除レバー43に形成したばね掛け部43dに掛けられ、他端部がミラーボックス14の側面に形成したばね掛け部14gに掛けられ、解除レバー43を下方に向けて移動付勢している。この解除ばね44による解除レバー43の付勢方向への移動は、ガイドピン14eに対してガイド孔43bの上端部(係止部)を当接させることで規制される。この解除ばね44の付勢方向(下方)への解除レバー43の移動端を回動規制位置と呼ぶ。解除レバー43の回動規制位置では、ダウン吸収レバー41のうち軸41xを中心とする回動規制面41bの回動軌跡上に回動規制アーム43cが進出し、該回動規制面41bに対して回動規制アーム43cの側面を当接させることで、ダウン吸収ばね42の付勢方向へのダウン吸収レバー41の回動を規制する(図10ないし図12)。より詳しくは、ダウン吸収レバー41の回動規制面41bと解除レバー43の回動規制アーム43cの側面が対向して当接可能となるのは、解除レバー43が回動規制位置にあり、かつダウン吸収レバー41が上述のオーバー移動域にあるという関係を満たした状態である。よって、解除レバー43の回動規制アーム43cに対する回動規制面41bの当接で回動規制されるとき、ダウン吸収レバー41は、緩衝用ダボ41aをミラーシート16の緩衝当接部16cから離間させるオーバー移動域に保持される。一方、回動規制アーム43cの端部が回動規制面41bの回動軌跡から外れた状態(図13)では、ダウン吸収レバー41に対するオーバー移動域での保持が解除され、ダウン吸収レバー41はダウン吸収ばね42による付勢方向(緩衝待機位置)への回動が可能となる。また、回動規制アーム43cの端部が回動許容面41cに当接する状態(図14)では、回動規制アーム43cに対して回動許容面41cを摺接させることで、ダウン吸収レバー41の回動が許される。   The release spring 44 is formed of a tension spring. One end of the release spring 44 is hooked on a spring hook portion 43 d formed on the release lever 43, and the other end portion is hooked on a spring hook portion 14 g formed on the side surface of the mirror box 14. Is biased to move downward. The movement of the release lever 43 in the urging direction by the release spring 44 is restricted by bringing the upper end portion (locking portion) of the guide hole 43b into contact with the guide pin 14e. The moving end of the release lever 43 in the urging direction (downward) of the release spring 44 is called a rotation restricting position. At the rotation restricting position of the release lever 43, the rotation restricting arm 43c advances on the rotation locus of the rotation restricting surface 41b around the shaft 41x of the down absorption lever 41, and the rotation restricting surface 43b is in contact with the rotation restricting surface 41b. Then, the rotation of the down absorption lever 41 in the urging direction of the down absorption spring 42 is restricted by bringing the side surface of the rotation restriction arm 43c into contact (FIGS. 10 to 12). More specifically, the rotation restricting surface 41b of the down absorption lever 41 and the side surface of the rotation restricting arm 43c of the release lever 43 can face each other and come into contact with each other because the release lever 43 is in the rotation restricting position and This is a state satisfying the relationship that the down-absorbing lever 41 is in the above-described over movement range. Thus, when the rotation of the release lever 43 is restricted by the contact of the rotation restricting surface 41b with the rotation restricting arm 43c, the down absorption lever 41 moves the buffer dowel 41a away from the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16. It is held in the over movement area. On the other hand, in a state where the end of the rotation restricting arm 43c deviates from the rotation locus of the rotation restricting surface 41b (FIG. 13), the holding in the over moving area with respect to the down absorbing lever 41 is released, and the down absorbing lever 41 is The down absorption spring 42 can be rotated in the urging direction (buffer standby position). In the state where the end of the rotation restricting arm 43c is in contact with the rotation permitting surface 41c (FIG. 14), the down absorbing lever 41 is brought into sliding contact with the rotation restricting arm 43c. Is allowed to rotate.

解除レバー43には、該解除レバー43の移動方向と略平行に長手方向を向けた長孔である支持ガイド孔43eが形成されている。支持ガイド孔43e内には、その長手方向へ移動可能なようにアップ吸収レバー45が支持されている。アップ吸収レバー45は、ミラーボックス14の内方側に向けて突出する緩衝用ダボ45aを有する。ミラーボックス14には上下方向への長孔である貫通孔14f(図2、図3及び図9)が形成され、解除レバー43には、貫通孔14fと重なる位置に上下方向への長孔である貫通孔43f(図9ないし図15)が形成されている。貫通孔43fは支持ガイド孔43eに連通しており、該支持ガイド孔43eに支持されるアップ吸収レバー45の緩衝用ダボ45aは、貫通孔43fと貫通孔14fに挿通されてミラーボックス14の内部に突出している(図2及び図3参照)。緩衝用ダボ45aは、ミラーシート16の緩衝当接部16cの移動軌跡上(ミラーシートヒンジ16xを中心とする可動ミラー15の回動軌跡上)に位置しており、緩衝当接部16cの上面側に当接可能となっている。アップ吸収レバー45はまた、緩衝用ダボ45aと反対方向に突出するロックピン(被規制部)45bを有する。緩衝用ダボ45aとロックピン45bは略同軸上に位置しており、図9ないし図15では、ロックピン45bの背後に緩衝用ダボ45aが重なって位置している。アップ吸収レバー45にはさらに、緩衝用ダボ45aとロックピン45bの下部に、解除レバー43の支持ガイド孔43eと略平行な方向(すなわち解除レバー43とアップ吸収レバー45の移動方向と平行な方向)に長手方向を向けて、ガイド孔45cが形成されている。ガイド孔45cには、解除レバー43のガイド孔43bを貫通したガイドピン14eが挿入されていて、アップ吸収レバー45が移動するときには、ガイド孔45cとガイドピン14eによる案内を受ける。   The release lever 43 is formed with a support guide hole 43e which is a long hole oriented in the longitudinal direction substantially parallel to the moving direction of the release lever 43. An up absorption lever 45 is supported in the support guide hole 43e so as to be movable in the longitudinal direction. The up-absorption lever 45 has a buffer dowel 45a that protrudes inward of the mirror box 14. The mirror box 14 is formed with a through hole 14f (FIGS. 2, 3 and 9) which is a long hole in the vertical direction, and the release lever 43 is a long hole in the vertical direction at a position overlapping the through hole 14f. A certain through-hole 43f (FIGS. 9 to 15) is formed. The through-hole 43f communicates with the support guide hole 43e, and the buffer dowel 45a of the up-absorbing lever 45 supported by the support guide hole 43e is inserted into the through-hole 43f and the through-hole 14f so that the inside of the mirror box 14 (See FIGS. 2 and 3). The buffer dowel 45a is located on the movement locus of the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 (on the rotation locus of the movable mirror 15 around the mirror sheet hinge 16x), and the upper surface of the buffer contact portion 16c. It can come into contact with the side. The up-absorbing lever 45 also has a lock pin (regulated portion) 45b that protrudes in the opposite direction to the buffer dowel 45a. The buffer dowel 45a and the lock pin 45b are positioned substantially on the same axis. In FIGS. 9 to 15, the buffer dowel 45a is positioned behind the lock pin 45b. The up-absorbing lever 45 further includes a buffer dowel 45a and a lock pin 45b below the support guide hole 43e of the release lever 43 in a direction substantially parallel to the support lever 43e (that is, a direction parallel to the movement direction of the release lever 43 and up-absorption lever 45). ), The guide hole 45c is formed. A guide pin 14e penetrating the guide hole 43b of the release lever 43 is inserted into the guide hole 45c, and when the up absorption lever 45 moves, the guide hole 45c and the guide pin 14e receive guidance.

アップ吸収ばね46は、ミラーボックス14の側面に設けたばね支持突起14h(図9)を囲むコイル部46aと、ミラーボックス14の側面に形成したばね掛け部14iに係合するばね腕部46bと、アップ吸収レバー45の緩衝用ダボ45aの基部に係合するばね腕部46cを有するトーションばねであり、アップ吸収レバー45を図9ないし図15の下方に移動付勢する。このアップ吸収ばね46によるアップ吸収レバー45の付勢方向は、ミラーシート16の緩衝当接部16cに対して緩衝用ダボ45aを接近(当接)させる方向であり、当該付勢方向へのアップ吸収レバー45の移動は、解除レバー43に形成した支持ガイド孔43eの下端部に当接することで規制される。より詳しくは、解除レバー43が上述の回動規制位置にあるときに支持ガイド孔43eの下端部に当接することで、アップ吸収レバー45の下方への移動(アップ吸収ばね46の付勢方向への移動)が規制される。このアップ吸収レバー45の下方移動端を緩衝待機位置と呼ぶ。   The up absorption spring 46 includes a coil portion 46a surrounding a spring support protrusion 14h (FIG. 9) provided on the side surface of the mirror box 14, a spring arm portion 46b that engages with a spring hook portion 14i formed on the side surface of the mirror box 14, The torsion spring has a spring arm portion 46c that engages with the base of the buffer dowel 45a of the up-absorbing lever 45, and urges the up-absorbing lever 45 to move downward in FIGS. The urging direction of the up-absorbing lever 45 by the up-absorbing spring 46 is a direction in which the buffer dowel 45a approaches (contacts) the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16, and is increased in the bias direction. The movement of the absorption lever 45 is restricted by contacting the lower end portion of the support guide hole 43e formed in the release lever 43. More specifically, when the release lever 43 is in the above-described rotation restricting position, it comes into contact with the lower end portion of the support guide hole 43e, thereby moving the up absorption lever 45 downward (in the biasing direction of the up absorption spring 46). Movement) is regulated. The downward movement end of the up absorption lever 45 is referred to as a buffer standby position.

ロックレバー47は、ダウン吸収レバー41の軸41xと略平行な軸47xを中心として回動可能にミラーボックス14の側面に支持されている。ロックレバー47には、軸47xを中心とする外径方向へ向けて突出する連動アーム(径方向突出部)47aが設けられ、連動アーム47aは、解除レバー43に形成したアーム保持部43gの保持を受けている。アーム保持部43gは解除レバー43の進退方向に離間させて設けた一対の突起部からなり、該一対の突起部の間に連動アーム47aを挿入させ、解除レバー43の上下動に応じてロックレバー47を正逆に回動させる。連動アーム47aの先端には、アップ吸収レバー45のロックピン45bの外面形状に沿う保持凹部47bが形成されている。連動アーム47は、解除レバー43が上述の回動規制位置にあるときには、連動アーム47a(保持凹部47b)をロックピン45bの移動軌跡上から退避させるアンロック位置(図10ないし図12、図15)に保持され、解除レバー43が回動規制位置から上方に移動されることで、連動アーム47a(保持凹部47b)をロックピン45bの移動軌跡上に位置させるロック位置(図13及び図14)に回動される。なお、ロックレバー47のスムーズな回動を妨げないように、アーム保持部43gを構成する一対の突起部の間隔は、連動アーム47aの幅よりも若干大きくなっている。   The lock lever 47 is supported on the side surface of the mirror box 14 so as to be rotatable about an axis 47x substantially parallel to the axis 41x of the down absorption lever 41. The lock lever 47 is provided with an interlocking arm (radial protrusion) 47a that protrudes in the outer radial direction centering on the shaft 47x, and the interlocking arm 47a is held by an arm holding portion 43g formed on the release lever 43. Is receiving. The arm holding portion 43g is composed of a pair of protrusions that are spaced apart in the advance / retreat direction of the release lever 43. The interlocking arm 47a is inserted between the pair of protrusions, and the lock lever 43 is moved according to the vertical movement of the release lever 43. 47 is rotated forward and backward. At the tip of the interlocking arm 47a, a holding recess 47b is formed along the outer surface shape of the lock pin 45b of the up-absorbing lever 45. When the release lever 43 is in the above-described rotation restricting position, the interlock arm 47 unlocks the interlock arm 47a (holding recess 47b) from the movement locus of the lock pin 45b (FIGS. 10 to 12, 15). ) And the release lever 43 is moved upward from the rotation restricting position so that the interlocking arm 47a (holding recess 47b) is positioned on the movement locus of the lock pin 45b (FIGS. 13 and 14). Is rotated. In order not to prevent smooth rotation of the lock lever 47, the distance between the pair of protrusions constituting the arm holding portion 43g is slightly larger than the width of the interlocking arm 47a.

図10以下を参照してミラー緩衝機構40の動作を説明する。図10は可動ミラー15がダウン位置にある状態を示している。このとき、ミラー駆動機構30を構成するミラー駆動レバー34によってミラーシートボス16bが下方に押圧され、ミラーシート16のストッパ部16aがダウン位置決めダボ20に当接することで可動ミラー15がダウン位置に保持されている。解除レバー43は、解除ばね44の付勢力によって回動規制位置に保持され、回動規制面41bに回動規制アーム43eを当接させることで、ダウン吸収ばね42の付勢方向(時計方向)へのダウン吸収レバー41の回動を規制している。アップ吸収レバー45は、アップ吸収ばね46の付勢力によって、その下端面を支持ガイド孔43eの下端に当接させた緩衝待機位置に保持されている。また、ロックレバー47は、保持凹部47bをロックピン45bの移動軌跡上から退避させたアンロック位置に保持される。   The operation of the mirror buffer mechanism 40 will be described with reference to FIG. FIG. 10 shows a state where the movable mirror 15 is in the down position. At this time, the mirror sheet boss 16 b is pressed downward by the mirror drive lever 34 constituting the mirror drive mechanism 30, and the movable mirror 15 is held in the down position by the stopper portion 16 a of the mirror sheet 16 contacting the down positioning dowel 20. Has been. The release lever 43 is held at the rotation restriction position by the urging force of the release spring 44, and the rotation restriction arm 43e is brought into contact with the rotation restriction surface 41b, whereby the urging direction (clockwise) of the down absorption spring 42 is achieved. The rotation of the down-absorbing lever 41 is restricted. The up absorption lever 45 is held at a buffer standby position in which the lower end surface thereof is brought into contact with the lower end of the support guide hole 43e by the urging force of the up absorption spring 46. Further, the lock lever 47 is held at the unlock position in which the holding recess 47b is retracted from the movement locus of the lock pin 45b.

図10のミラーダウン状態では、ダウン吸収レバー41は、緩衝用ダボ41aをミラーシート16の緩衝当接部16cから離間させたオーバー移動域にあって、ダウン吸収レバー41は、ミラーシート16の位置決めに関与せず、ダウン位置決めダボ20によるミラーシート16の位置決めを妨げない。より詳しくは、ミラーシート16を側面視している図10では、その一方の側部に設けたストッパ部16aと、他方の側部に設けた緩衝当接部16cが同じ位置にあるものとして示している。そして、解除レバー43によって回動規制されたダウン吸収レバー41は、ダウン位置決めダボ20よりも、ミラーダウン方向(図10の反時計方向)へ進んだ位置に緩衝用ダボ41aを位置させている。このダウン位置決めダボ20と緩衝用ダボ41aの相対位置関係により、ダウン位置決めダボ20がストッパ部16aに当接し、緩衝用ダボ41aが緩衝当接部16cに当接しない状態(オーバー移動域)が得られる。   In the mirror down state of FIG. 10, the down absorption lever 41 is in an over movement region in which the buffer dowel 41 a is separated from the buffer contact portion 16 c of the mirror sheet 16, and the down absorption lever 41 is positioned in the mirror sheet 16. The positioning of the mirror sheet 16 by the down positioning dowel 20 is not hindered. More specifically, in FIG. 10 in which the mirror sheet 16 is viewed from the side, the stopper portion 16a provided on one side and the buffer contact portion 16c provided on the other side are shown as being in the same position. ing. The down absorption lever 41 whose rotation is restricted by the release lever 43 positions the buffering dowel 41a at a position advanced in the mirror down direction (counterclockwise direction in FIG. 10) from the down positioning dowel 20. Due to the relative positional relationship between the down positioning dowel 20 and the buffer dowel 41a, the down positioning dowel 20 is in contact with the stopper portion 16a, and the buffer dowel 41a is not in contact with the buffer contact portion 16c (over movement range). It is done.

ミラー駆動機構30のミラー駆動レバー34により可動ミラー15がダウン位置からアップ位置へ向けて回動されると、やがて、図11に示すように、ミラーシート16の緩衝当接部16cの上面がアップ吸収レバー45の緩衝用ダボ45aに対して当接する。この状態から可動ミラー15がアップ位置方向へ回動すると、ミラーシート16の緩衝当接部16cが緩衝用ダボ45aを押し上げて、アップ吸収ばね46の付勢力に抗してアップ吸収レバー45を緩衝待機位置から上方に押圧移動させる。このアップ吸収レバー45の上方移動の初期段階は、支持ガイド孔43e内をアップ吸収レバー45が摺動移動し、解除レバー43は移動されない。つまり、アップ吸収レバー45が単独で移動し、解除レバー43は、ダウン吸収レバー41の回動を規制する回動規制位置に留まる。続いて、アップ吸収レバー45の上端面が支持ガイド孔43eの上端に当接する図12の状態になると、可動ミラー15による押圧移動力が解除レバー43にも作用するようになり、解除レバー43とアップ吸収レバー45が一体的に上方へ移動される。この段階では、可動ミラー15に対しては、アップ吸収ばね46の付勢力に加えて解除ばね44の付勢力も作用し、この2つのばね44、46による負荷を受けながら可動ミラー15がアップ位置へ向けて回動する。解除レバー43が回動規制位置から上方に移動すると、解除レバー43の回動規制アーム43cがダウン吸収レバー41の回動規制面41bの回動軌跡上から上方に退避する。これにより、ダウン吸収レバー41に対する回動規制が解除され、図13に示すように、ダウン吸収レバー41はダウン吸収ばね42の付勢力によって、回動規制突起14cに当接する緩衝待機位置まで回動される。ダウン吸収レバー41が緩衝待機位置にあるとき、緩衝用ダボ41aは、ダウン位置決めダボ20よりも上方、すなわち可動ミラー15のミラーアップ方向(図13の時計方向)へ進んだ位置(可動ミラー15がダウン位置へ回動する際には、ミラーシート16のストッパ部16aとダウン位置決めダボ20の当接よりも先に、ミラーシート16の緩衝当接部16cと緩衝用ダボ41aの当接が生じる位置)にある。   When the movable mirror 15 is rotated from the down position to the up position by the mirror drive lever 34 of the mirror drive mechanism 30, the upper surface of the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 is eventually raised as shown in FIG. It contacts the buffer dowel 45a of the absorption lever 45. When the movable mirror 15 is rotated in the up position direction from this state, the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 pushes up the buffer dowel 45a and cushions the up absorption lever 45 against the urging force of the up absorption spring 46. Press and move upward from the standby position. In the initial stage of the upward movement of the up absorption lever 45, the up absorption lever 45 slides in the support guide hole 43e, and the release lever 43 is not moved. That is, the up absorption lever 45 moves alone, and the release lever 43 remains in the rotation restricting position that restricts the rotation of the down absorption lever 41. Subsequently, when the upper end surface of the up-absorption lever 45 comes into contact with the upper end of the support guide hole 43e, the pressing movement force by the movable mirror 15 also acts on the release lever 43. The up absorption lever 45 is moved upward integrally. At this stage, in addition to the urging force of the up absorbing spring 46, the urging force of the release spring 44 also acts on the movable mirror 15, and the movable mirror 15 is moved to the up position while receiving the load by the two springs 44, 46. Rotate towards When the release lever 43 moves upward from the rotation restriction position, the rotation restriction arm 43c of the release lever 43 retracts upward from the rotation locus of the rotation restriction surface 41b of the down absorption lever 41. As a result, the rotation restriction on the down absorption lever 41 is released, and as shown in FIG. 13, the down absorption lever 41 is rotated to the buffer standby position in contact with the rotation restriction protrusion 14c by the urging force of the down absorption spring 42. Is done. When the down absorption lever 41 is in the buffer standby position, the buffer dowel 41a is located above the down positioning dowel 20, that is, a position (the movable mirror 15 is moved in the clockwise direction in FIG. 13) of the movable mirror 15. When rotating to the down position, a position where the contact between the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 and the buffer dowel 41a occurs before the contact between the stopper portion 16a of the mirror sheet 16 and the down positioning dowel 20 )It is in.

図13は、アップ位置まで回動された可動ミラー15によって解除レバー43とアップ吸収レバー45が上方に押し上げられた状態を示している。上述のように、アップ位置への可動ミラー15の回動において、緩衝当接部16cが緩衝用ダボ45aへの当接を開始する図11の状態から、アップ吸収レバー45が支持ガイド孔43eの上端に当接する図12の状態までは、可動ミラー15が、アップ吸収ばね46の付勢力に抗してアップ吸収レバー45を押圧移動させる。図12の状態から図13のミラーアップ完了状態までは、可動ミラー15が、解除ばね44とアップ吸収ばね46の付勢力に抗して解除レバー43とアップ吸収レバー45を一体的に押圧移動させる。つまり、可動ミラー15がアップ位置に近付くと、アップ吸収ばね46や解除ばね44の負荷が作用し、可動ミラー15は、アップ吸収レバー45とアップ吸収ばね46、解除レバー43と解除ばね44によって緩衝されながらアップ位置へ達する。これにより、ダウン位置からアップ位置に回動するときの可動ミラー15のバウンド(振動)の発生が軽減される。具体的には、バウンドの発生時間が短くなり、バウンドの回数が少なくなる。可動ミラー15のアップ位置では、ミラーシート16の上面が上方ストッパ21に当接して、それ以上の上方への回動が規制される(図1)。また、図13の状態では、アップ吸収レバー45は、ガイド孔45cの下端部がガイドピン14eに当接して、それ以上の上方への移動が規制される。アップ吸収レバー45がこの上方移動端まで達するよりも前に可動ミラー15が上方ストッパ21に当接するようになっている。すなわち、ダウン吸収レバー41と同様にアップ吸収レバー45も、可動ミラー15(ミラーシート16)の緩衝当接部16cによって緩衝用ダボ45aが押圧される緩衝移動域の先に、上方ストッパ21によりアップ位置に停止された状態の可動ミラー15の緩衝当接部16cから緩衝用ダボ45aを離間させることが可能なオーバー移動域を有している。但し、ダウン吸収レバー41に比して、アップ吸収レバー45のオーバー移動域は狭く設定されている。   FIG. 13 shows a state where the release lever 43 and the up absorption lever 45 are pushed upward by the movable mirror 15 rotated to the up position. As described above, when the movable mirror 15 is rotated to the up position, the up absorption lever 45 is moved from the support guide hole 43e from the state of FIG. 11 in which the buffer contact portion 16c starts to contact the buffer dowel 45a. The movable mirror 15 presses and moves the up absorption lever 45 against the urging force of the up absorption spring 46 until the state shown in FIG. From the state shown in FIG. 12 to the mirror-up completed state shown in FIG. 13, the movable mirror 15 integrally presses and moves the release lever 43 and the up absorption lever 45 against the urging force of the release spring 44 and the up absorption spring 46. . That is, when the movable mirror 15 approaches the up position, loads of the up absorption spring 46 and the release spring 44 act, and the movable mirror 15 is buffered by the up absorption lever 45 and the up absorption spring 46, the release lever 43 and the release spring 44. While reaching the up position. Thereby, the occurrence of bounce (vibration) of the movable mirror 15 when rotating from the down position to the up position is reduced. Specifically, the occurrence time of bounce is shortened and the number of times of bounce is reduced. At the up position of the movable mirror 15, the upper surface of the mirror sheet 16 comes into contact with the upper stopper 21, and further upward rotation is restricted (FIG. 1). In the state of FIG. 13, the up-absorbing lever 45 is restricted from moving further upward by the lower end portion of the guide hole 45c contacting the guide pin 14e. The movable mirror 15 comes into contact with the upper stopper 21 before the up absorption lever 45 reaches the upper moving end. That is, like the down absorption lever 41, the up absorption lever 45 is also raised by the upper stopper 21 at the tip of the buffer movement area where the buffer dowel 45a is pressed by the buffer contact portion 16c of the movable mirror 15 (mirror sheet 16). There is an over-moving range in which the buffer dowel 45a can be separated from the buffer contact portion 16c of the movable mirror 15 in the stopped state. However, compared to the down absorption lever 41, the over movement range of the up absorption lever 45 is set narrower.

図13に示すように、可動ミラー15のミラーアップ回動に応じて解除レバー43が回動規制位置から上方に移動されると、該解除レバー43のアーム保持部43gによって連動アーム47aが押し上げられ、ロックレバー47がアンロック位置からロック位置へ回動される。すると、解除レバー43と共に上方移動されたアップ吸収レバー45のロックピン45bの下方に、ロックレバー47の連動アーム47aが進出し、ロックピン45bが保持凹部47bに嵌合支持される。このとき、緩衝待機位置まで回動されたダウン吸収レバー41の回動許容面41cが、解除レバー43の回動規制アーム43cの下方に位置しており、図14に示すように、回動規制アーム43cが回動許容面41cに当接することで、解除レバー43のそれ以上の下降移動が規制される。換言すれば、解除レバー43の上下移動が、回動規制アーム43cが回動許容面41cに当接するまでのクリアランス分だけに制限される。この制限された解除レバー43の可動範囲では、ロックレバー47の連動アーム47a(保持凹部47b)がロックピン45bの移動軌跡から離脱せず、ロックレバー47はロック位置に保持され続ける。よって、アップ吸収ばね46の付勢方向である下方へアップ吸収レバー45が移動しようとしても、ロックピン45bと保持凹部47bの当接によって規制される。つまり、可動ミラー15がアップ位置に近付くと、解除レバー43とアップ吸収レバー45のそれぞれの可動域がダウン吸収レバー41とロックレバー47によって制限され、ミラーバウンド吸収時の緩衝用ダボ45aの反発移動が小さく抑えられる。その結果、緩衝用ダボ45aを介して与えられる可動ミラー15のバウンドが、図14に実線と二点鎖線で示す範囲に抑えられる。   As shown in FIG. 13, when the release lever 43 is moved upward from the rotation restricting position according to the mirror up rotation of the movable mirror 15, the interlock arm 47a is pushed up by the arm holding portion 43g of the release lever 43. The lock lever 47 is rotated from the unlock position to the lock position. Then, the interlock arm 47a of the lock lever 47 advances below the lock pin 45b of the up absorption lever 45 moved upward together with the release lever 43, and the lock pin 45b is fitted and supported by the holding recess 47b. At this time, the rotation allowing surface 41c of the down absorption lever 41 rotated to the buffer standby position is located below the rotation restricting arm 43c of the release lever 43, and as shown in FIG. When the arm 43c contacts the rotation allowing surface 41c, further downward movement of the release lever 43 is restricted. In other words, the vertical movement of the release lever 43 is limited to the clearance until the rotation restricting arm 43c comes into contact with the rotation allowable surface 41c. In the limited movable range of the release lever 43, the interlock arm 47a (holding recess 47b) of the lock lever 47 does not leave the movement locus of the lock pin 45b, and the lock lever 47 continues to be held at the lock position. Therefore, even if the up absorption lever 45 tries to move downward in the urging direction of the up absorption spring 46, the up absorption lever 45 is restricted by the contact between the lock pin 45b and the holding recess 47b. That is, when the movable mirror 15 approaches the up position, the respective movable ranges of the release lever 43 and the up absorption lever 45 are limited by the down absorption lever 41 and the lock lever 47, and the buffer dowel 45a rebounds when absorbing the mirror bound. Can be kept small. As a result, the bounce of the movable mirror 15 given through the buffer dowel 45a is suppressed to a range indicated by a solid line and a two-dot chain line in FIG.

ミラー駆動機構30のミラー駆動レバー34により可動ミラー15がアップ位置からダウン位置へ向けて回動されると、ミラーシート16の緩衝当接部16cによる押し上げ状態が解除されるため、解除レバー43とアップ吸収レバー45がそれぞれ解除ばね44とアップ吸収ばね46の付勢力によって、下方に移動しようとする。解除レバー43については、図14に示すように、回動規制アーム43cの下端部がダウン吸収レバー41の回動許容面41cに当接することで下降移動が途中で制限される。上述の通り、解除レバー43の当該位置では、ロックレバー47はアンロック位置に保持されているため、保持凹部47bとロックピン45bの嵌合によってアップ吸収レバー45の下降移動も制限される。続いて、可動ミラー15がダウン位置に近付くと、ミラーシート16のストッパ部16aがダウン位置決めダボ20に当接するよりも前に、ミラーシート16の緩衝当接部16cがダウン吸収レバー41の緩衝用ダボ41aに当接する。この時点で、ダウン吸収レバー41はダウン吸収ばね42の付勢力によって緩衝待機位置に保持されており、図15に示すダウン位置まで可動ミラー15が回動する間に、ミラーシート16の緩衝当接部16cが緩衝用ダボ41aを押し下げて、ダウン吸収ばね42の付勢力に抗してダウン吸収レバー41を、図13や図14に示す緩衝待機位置から反時計方向に回動させる。このとき、回動規制アーム43cの端部に対して回動許容面41cを摺接させることにより、ダウン吸収レバー41は、解除レバー43による規制を受けることなく回動することができる。これにより、ダウン吸収レバー41が緩衝待機位置から始まる緩衝移動域を回動している間、可動ミラー15の回動に対してダウン吸収ばね42の負荷が作用し、可動ミラー15は、ダウン吸収レバー41及びダウン吸収ばね42によって緩衝されながらダウン位置へ達する。その結果、アップ位置からダウン位置に回動するときの可動ミラー15のバウンド(振動)の発生が軽減される(バウンドの発生時間が短くなり、バウンドの回数が少なくなる)。   When the movable mirror 15 is rotated from the up position to the down position by the mirror drive lever 34 of the mirror drive mechanism 30, the push-up state by the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 is released, so that the release lever 43 and The up absorption lever 45 tends to move downward by the biasing force of the release spring 44 and the up absorption spring 46, respectively. As for the release lever 43, as shown in FIG. 14, the lowering of the rotation restricting arm 43 c is brought into contact with the rotation permission surface 41 c of the down absorption lever 41, so that the downward movement is restricted on the way. As described above, at the corresponding position of the release lever 43, the lock lever 47 is held in the unlocked position, so that the downward movement of the up-absorbing lever 45 is also limited by the fitting of the holding recess 47b and the lock pin 45b. Subsequently, when the movable mirror 15 approaches the down position, the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 is used for buffering the down absorption lever 41 before the stopper portion 16a of the mirror sheet 16 contacts the down positioning dowel 20. It contacts the dowel 41a. At this time, the down absorption lever 41 is held at the buffer standby position by the urging force of the down absorption spring 42, and the buffer sheet abuts against the mirror sheet 16 while the movable mirror 15 rotates to the down position shown in FIG. The portion 16c pushes down the buffer dowel 41a, and rotates the down absorption lever 41 counterclockwise from the buffer standby position shown in FIGS. 13 and 14 against the urging force of the down absorption spring 42. At this time, the down-absorbing lever 41 can be rotated without being restricted by the release lever 43 by bringing the rotation allowing surface 41 c into sliding contact with the end of the rotation restricting arm 43 c. As a result, while the down absorption lever 41 is rotating in the buffer movement range starting from the buffer standby position, the load of the down absorption spring 42 acts on the rotation of the movable mirror 15, and the movable mirror 15 absorbs the down absorption. It reaches the down position while being buffered by the lever 41 and the down absorption spring 42. As a result, the occurrence of bounce (vibration) of the movable mirror 15 when rotating from the up position to the down position is reduced (the occurrence time of bounce is shortened and the number of bounces is reduced).

図15は、可動ミラー15がダウン位置まで回動された直後の状態を示しており、図10と同様に、ミラーシート16のストッパ部16aがダウン位置決めダボ20に当接して、可動ミラー15のミラーダウン方向(図15の反時計方向)への回動が規制される。ダウン吸収レバー41が緩衝待機位置から押圧回動された結果、回動許容面41cと回動規制アーム43cの当接関係による移動規制が解除され、解除レバー43は、解除ばね44の付勢力によって回動規制位置まで下方移動されている。これにより、回動規制アーム43cが回動規制面41bの回動軌跡上に進出し、緩衝待機位置(図15の時計方向)へのダウン吸収レバー41の回動が規制される。詳細には、可動ミラー15がダウン位置まで回動するとき、図15に示すように、ダウン吸収レバー41は、緩衝移動域を超えて、解除レバー43の回動規制アーム43cから回動規制面41bを離間させる位置、すなわちオーバー移動域まで慣性で回動される。続いて、ダウン吸収レバー41は、ダウン吸収ばね42の付勢力によって、回動規制面41bを解除レバー43の回動規制アーム43cに当接させる図10の位置に戻る。上述のように、図15のみならず図10のダウン吸収レバー41の位置も、緩衝用ダボ41aをミラーシート16の緩衝当接部16cから離間させたオーバー移動域であり、可動ミラー15のダウン位置はダウン位置決めダボ20によって定められる。つまり、ダウン吸収レバー41は、可動ミラー15がダウン位置へ向けて回動するときには、緩衝当接部16cに緩衝用ダボ41aを当接させる緩衝移動域で緩衝部材として機能し、可動ミラー15がダウン位置に達した状態では、解除レバー43によってミラーシート16に対する非当接位置(オーバー移動域)に保持され、ダウン位置決めダボ20による可動ミラー15の位置決めを妨げない。   FIG. 15 shows a state immediately after the movable mirror 15 is rotated to the down position. Similarly to FIG. 10, the stopper portion 16 a of the mirror sheet 16 abuts on the down positioning dowel 20 and the movable mirror 15 is moved. Rotation in the mirror down direction (counterclockwise in FIG. 15) is restricted. As a result of the down absorption lever 41 being pressed and rotated from the buffer standby position, the movement restriction due to the contact relationship between the rotation allowing surface 41 c and the rotation restriction arm 43 c is released, and the release lever 43 is moved by the urging force of the release spring 44. It has been moved downward to the rotation restricting position. Thereby, the rotation restricting arm 43c advances on the rotation locus of the rotation restricting surface 41b, and the rotation of the down absorption lever 41 to the buffer standby position (clockwise in FIG. 15) is restricted. Specifically, when the movable mirror 15 rotates to the down position, as shown in FIG. 15, the down absorption lever 41 moves beyond the buffer movement range from the rotation restricting arm 43 c of the release lever 43 to the rotation restricting surface. It is rotated by inertia up to the position where 41b is separated, that is, the over movement range. Subsequently, the down absorption lever 41 returns to the position of FIG. 10 in which the rotation restricting surface 41 b is brought into contact with the rotation restricting arm 43 c of the release lever 43 by the urging force of the down absorbing spring 42. As described above, not only FIG. 15 but also the position of the down-absorbing lever 41 in FIG. 10 is an over-moving region in which the buffer dowel 41 a is separated from the buffer contact portion 16 c of the mirror sheet 16. The position is determined by down positioning dowels 20. That is, when the movable mirror 15 rotates toward the down position, the down absorption lever 41 functions as a buffer member in a buffer movement area in which the buffer dowel 41a contacts the buffer contact portion 16c. In the state where the down position has been reached, the release lever 43 is held at the non-contact position (over movement range) with respect to the mirror sheet 16 and does not hinder the positioning of the movable mirror 15 by the down positioning dowel 20.

また、解除レバー43が回動規制位置まで移動することにより、アーム保持部43gが連動アーム47aを押し下げ、ロックレバー47がロック位置からアンロック位置に回動される。これにより、連動アーム47aがロックピン45bの移動軌跡上から退避して保持凹部47bとロックピン45bの嵌合が外れ、アップ吸収レバー45が回動規制アーム43e内で下方へ移動可能になる。よって、図15に示すように、アップ吸収ばね46の付勢力によって、アップ吸収レバー45が下方移動端である緩衝待機位置に移動される。   Further, when the release lever 43 moves to the rotation restricting position, the arm holding portion 43g pushes down the interlocking arm 47a, and the lock lever 47 is rotated from the lock position to the unlock position. As a result, the interlocking arm 47a is retracted from the movement locus of the lock pin 45b, the fitting of the holding recess 47b and the lock pin 45b is released, and the up absorption lever 45 can move downward in the rotation restricting arm 43e. Therefore, as shown in FIG. 15, the up absorption lever 45 is moved to the buffer standby position which is the downward movement end by the urging force of the up absorption spring 46.

以上のように、本実施形態のカメラ10では、可動ミラー15がダウン位置とアップ位置の間で回動するときに、ミラー緩衝機構40を構成するダウン吸収レバー41の緩衝用ダボ41aとアップ吸収レバー45の緩衝用ダボ45aをミラーシート16に当接させて可動ミラー15のバウンドを抑制する。これにより、ファインダ光学系22を介して被写体を観察するときの像振れの発生や、測光ユニット23や測距ユニット24を用いての演算処理の遅滞を防ぐことができ、カメラ10におけるファインダの観察性能や連写性能の向上を図ることができる。   As described above, in the camera 10 of the present embodiment, when the movable mirror 15 rotates between the down position and the up position, the buffer dowel 41a of the down absorption lever 41 constituting the mirror buffer mechanism 40 and the up absorption. The buffer dowel 45a of the lever 45 is brought into contact with the mirror sheet 16 to suppress the bounce of the movable mirror 15. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of image shake when observing the subject through the finder optical system 22 and the delay of the arithmetic processing using the photometry unit 23 and the distance measurement unit 24, and the finder observation in the camera 10 can be prevented. Performance and continuous shooting performance can be improved.

ミラー緩衝機構40は、ダウン位置からアップ位置へ回動する可動ミラー15の衝撃吸収を行うとき、最初にアップ吸収レバー45が単独で押圧移動され、続いてアップ吸収レバー45と共に解除レバー43が押圧移動される構造となっている。可動ミラー15に対する負荷は、ミラーシート16の緩衝当接部16cがアップ吸収レバー45の緩衝用ダボ45aに対する押圧を開始する時点(図11)から作用するが、アップ吸収レバー45が解除レバー43と一体移動を開始するまで(図12)の間は、解除レバー43は一定位置に保持されている。つまり、ミラーシート16の緩衝当接部16cと直接的に当接するアップ吸収レバー45の移動ストロークを大きく確保しつつ、アップ吸収レバー45を支持する解除レバー43の移動用スペースは小さく抑えられているので、コンパクトな構造でありながら、可動ミラー15に対する優れた衝撃吸収性能を得ることができる。   When the mirror buffer mechanism 40 absorbs the impact of the movable mirror 15 that rotates from the down position to the up position, the up absorption lever 45 is first pressed and moved, and then the release lever 43 is pressed together with the up absorption lever 45. It has a moving structure. The load on the movable mirror 15 acts from the time (FIG. 11) when the buffer contact portion 16 c of the mirror sheet 16 starts pressing the buffer absorbing dowel 45 a of the up absorbing lever 45, but the up absorbing lever 45 is connected to the release lever 43. Until the integrated movement is started (FIG. 12), the release lever 43 is held at a fixed position. That is, the movement space of the release lever 43 that supports the up absorption lever 45 is kept small while ensuring a large movement stroke of the up absorption lever 45 that directly contacts the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16. Therefore, it is possible to obtain an excellent shock absorbing performance for the movable mirror 15 while having a compact structure.

また、ミラー緩衝機構40では、アップ吸収レバー45と解除レバー43を個別にアップ吸収ばね46と解除ばね44で付勢しており、可動ミラー15がアップ位置に回動するときに、最初はアップ吸収ばね46の負荷が作用し、続いてアップ吸収ばね46に加えて解除ばね44の負荷が作用する。そのため、衝撃吸収の初期段階では負荷が小さく可動ミラー15の回動スピードを落とさず、可動ミラー15がアップ位置に近付くと負荷を強めて確実にミラーバウンドを抑えることができる。さらに、アップ吸収ばね46と解除ばね44の付勢力を調整することで、衝撃吸収性を容易に設定することが容易である。   In the mirror buffer mechanism 40, the up absorption lever 45 and the release lever 43 are individually urged by the up absorption spring 46 and the release spring 44. When the movable mirror 15 rotates to the up position, the up is first increased. The load of the absorption spring 46 acts, and then the load of the release spring 44 acts in addition to the up absorption spring 46. Therefore, at the initial stage of shock absorption, the load is small and the rotational speed of the movable mirror 15 is not reduced, and when the movable mirror 15 approaches the up position, the load can be increased and the mirror bounce can be reliably suppressed. Furthermore, by adjusting the urging force of the up absorption spring 46 and the release spring 44, it is easy to easily set the shock absorption.

また、可動ミラー15がアップ位置へ回動した状態では、ロックレバー47によってアップ吸収レバー45の下方移動が制限されると共に、ダウン吸収レバー41によって解除レバー43の下方移動が制限される。その結果、ミラーシート16の緩衝当接部16cに当接する緩衝用ダボ45aの可動域が制限され、可動ミラー15のバウンドを小さく抑えることができる。また、解除レバー43の下方移動を制限するダウン吸収レバー41は、可動ミラー15がアップ位置からダウン位置に回動するときの衝撃吸収を行う部材であるから、解除レバー43に対する移動規制を行う部材を別途設けるよりも部品点数が少なく、簡略な構成になっている。さらに、アップ吸収レバー45の下方移動を制限するロックレバー47は、該アップ吸収レバー45を支持する解除レバー43の移動に応じてロック位置とアンロック位置に回動される回動部材であるため、簡単な機構で動作させることができる。   When the movable mirror 15 is rotated to the up position, the lock lever 47 restricts the downward movement of the up absorption lever 45 and the down absorption lever 41 restricts the downward movement of the release lever 43. As a result, the movable range of the buffer dowel 45a contacting the buffer contact portion 16c of the mirror sheet 16 is limited, and the bounce of the movable mirror 15 can be suppressed small. Further, the down absorption lever 41 that restricts the downward movement of the release lever 43 is a member that performs shock absorption when the movable mirror 15 rotates from the up position to the down position. The number of parts is smaller than that provided separately, and the configuration is simple. Further, the lock lever 47 that restricts the downward movement of the up-absorbing lever 45 is a rotating member that is rotated to the locked position and the unlocked position in accordance with the movement of the release lever 43 that supports the up-absorbing lever 45. It can be operated with a simple mechanism.

加えて、可動ミラー15がダウン位置からアップ位置へ回動するときとは逆に、可動ミラー15をアップ位置からダウン位置へ回動させたときには、解除レバー43の回動規制アーム43cに対してダウン吸収レバー41の回動規制面41bが当接することで、ダウン吸収ばね42の付勢方向へのダウン吸収レバー41の回動が規制され、ダウン位置決めダボ20による可動ミラー15の位置決めに影響を及ぼさないようになっている。つまり、ダウン吸収レバー41と解除レバー43は、ミラーダウン時とミラーアップ時に相互に位置規制を行う関係にあり、構造の簡略化が達成されている。   In addition, contrary to when the movable mirror 15 is rotated from the down position to the up position, when the movable mirror 15 is rotated from the up position to the down position, the rotation restriction arm 43c of the release lever 43 is controlled. When the rotation restricting surface 41b of the down absorption lever 41 comes into contact, the rotation of the down absorption lever 41 in the urging direction of the down absorption spring 42 is restricted, and the positioning of the movable mirror 15 by the down positioning dowel 20 is affected. It does not reach. That is, the down-absorption lever 41 and the release lever 43 are in a relationship of mutually restricting the position when the mirror is down and when the mirror is up, and the structure is simplified.

また、ダウン吸収ばね42、解除ばね44、アップ吸収ばね46の付勢力は、可動ミラー15に対する緩衝だけでなく、ミラーアップ状態でのアップ吸収レバー45と解除レバー43に対する移動制限や、ミラーダウン状態でのダウン吸収レバー41の保持にも利用されており、これも構造の簡略化に寄与している。   Further, the urging force of the down absorption spring 42, the release spring 44, and the up absorption spring 46 is not only a buffer for the movable mirror 15, but also the movement limitation on the up absorption lever 45 and the release lever 43 in the mirror up state, and the mirror down state. This is also used for holding the down-absorbing lever 41 in this case, which also contributes to the simplification of the structure.

以上の実施形態は、可動ミラー15がダウン位置(ファインダ観察位置)からアップ位置(退避位置)へ回動するときに、2段階の緩衝部材であるアップ吸収レバー45と解除レバー43によって衝撃吸収を行い、このアップ吸収レバー45と解除レバー43におけるバウンド抑制を、可動ミラー15がアップ位置(退避位置)からダウン位置(ファインダ観察位置)へ回動するときの衝撃吸収手段であるダウン吸収レバー41と、ロックレバー47とを用いて行う構成である。これに対し、上記実施形態のミラー緩衝機構40の関連説明部分で「アップ位置」と「ダウン位置」を逆に読み替えることにより、本発明は、可動ミラー15がアップ位置(退避位置)からダウン位置(ファインダ観察位置)へ回動するときに、同様の作用効果を得る構成としても適用が可能である。   In the above embodiment, when the movable mirror 15 rotates from the down position (finder observation position) to the up position (retracted position), the shock absorption is performed by the up absorption lever 45 and the release lever 43 which are two-stage buffer members. The bounce suppression in the up-absorbing lever 45 and the release lever 43 is performed, and the down-absorbing lever 41 that is an impact-absorbing means when the movable mirror 15 rotates from the up position (retracted position) to the down position (finder observation position) In this configuration, the lock lever 47 is used. On the other hand, by reversing “up position” and “down position” in the related explanation part of the mirror buffer mechanism 40 of the above embodiment, the present invention allows the movable mirror 15 to move from the up position (retracted position) to the down position. The present invention can also be applied to a configuration that obtains the same effect when rotating to the (finder observation position).

以上、図示実施形態に基づき説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図示実施形態のミラー緩衝機構40では、ミラーアップ時に機能する第1と第2のミラー退避緩衝部材(第1緩衝部材と第2緩衝部材)を構成する解除レバー43とアップ吸収レバー45が直進移動部材であり、ミラーダウン時に機能するミラー進出緩衝部材(第3緩衝部材)を構成するダウン吸収レバー41が軸41xを回動中心とする回動部材であるが、ミラーアップ時とミラーダウン時に作用するそれぞれの緩衝部材の移動態様(移動方向)は、これと異なる組み合わせであってもよい。   As mentioned above, although demonstrated based on illustration embodiment, this invention is not limited to this. For example, in the mirror buffer mechanism 40 of the illustrated embodiment, the release lever 43 and the up absorption lever 45 that constitute first and second mirror retracting buffer members (first buffer member and second buffer member) that function when the mirror is raised are provided. The down-absorbing lever 41, which is a linearly moving member and functions as a mirror advancement buffer member (third buffer member) that functions when the mirror is down, is a rotary member with the shaft 41x as the center of rotation. The movement modes (movement directions) of the respective buffer members that sometimes act may be a different combination.

また、図示実施形態では、解除レバー43を付勢する付勢手段が引張ばねからなる解除ばね44で、ダウン吸収レバー41とアップ吸収レバー45を付勢する付勢手段がトーションばねからなるダウン吸収ばね42とアップ吸収ばね46であるが、これらの各緩衝部材を付勢する付勢手段の態様はこれに限定されない。例えば、解除レバー43をアップ吸収ばね46のようなトーションばねで付勢したり、逆にアップ吸収レバー45を解除ばね44のような引張ばねで付勢したりすることも可能である。さらにはトーションばねや引張ばね以外の付勢部材を用いることも可能である。   In the illustrated embodiment, the biasing means for biasing the release lever 43 is a release spring 44 made of a tension spring, and the biasing means for biasing the down absorption lever 41 and the up absorption lever 45 is a down absorption made of a torsion spring. Although it is the spring 42 and the up absorption spring 46, the aspect of the urging means for urging each of the buffer members is not limited to this. For example, the release lever 43 can be urged by a torsion spring such as the up absorption spring 46, or the up absorption lever 45 can be urged by a tension spring such as the release spring 44. Furthermore, an urging member other than a torsion spring or a tension spring can be used.

10 一眼レフカメラ
11 カメラボディ
12 レンズ鏡筒
13 レンズマウント
14 ミラーボックス
14a 貫通孔
14b ばね掛け部
14c 回動規制突起
14d ガイドピン
14e ガイドピン(固定部材)
14f 貫通孔
14g ばね掛け部
14h ばね支持突起
14i ばね掛け部
15 可動ミラー(クイックリターンミラー)
15a メインミラー
16 ミラーシート
16a ストッパ部
16b ミラーシートボス
16c 緩衝当接部
16x ミラーシートヒンジ(可動ミラーの回動軸)
17 サブミラー
18 フォーカルプレーンシャッタ
19 イメージセンサ(撮像用受光媒体)
20 ダウン位置決めダボ
21 上方ストッパ
22 ファインダ光学系
22a ファインダ窓
23 測光ユニット
24 測距ユニット
25 LCDモニタ
30 ミラー駆動機構
31 モータ
32 減速ギヤ列
33 カムギヤ
34 ミラー駆動レバー
34x ミラー駆動レバーの軸
35 シャッタチャージレバー
40 ミラー緩衝機構(可動ミラー衝撃吸収機構)
41 ダウン吸収レバー(保持手段、ミラー進出緩衝部材、第3緩衝部材)
41a 緩衝用ダボ
41b 回動規制面
41c 回動許容面
41d ばね掛け部
41x ダウン吸収レバーの軸
42 ダウン吸収ばね(回動付勢部材)
42a コイル部
42b 42c ばね腕部
43 解除レバー(第2のミラー退避緩衝部材、第2緩衝部材)
43a ガイド孔
43b ガイド孔(係止部)
43c 回動規制アーム(回動規制部)
43d ばね掛け部
43e 支持ガイド孔
43f 貫通孔
43g アーム保持部
44 解除ばね(付勢手段、第2のばね)
45 アップ吸収レバー(第1のミラー退避緩衝部材、第1緩衝部材)
45a 緩衝用ダボ
45b ロックピン(被規制部)
45c ガイド孔
46 アップ吸収ばね(付勢手段、第1のばね)
46a コイル部
46b 46c ばね腕部
47 ロックレバー(保持手段、連動ロック部材)
47a 連動アーム(径方向突出部)
47b 保持凹部
47x ロックレバーの軸
48 押さえ板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Single-lens reflex camera 11 Camera body 12 Lens barrel 13 Lens mount 14 Mirror box 14a Through-hole 14b Spring hook part 14c Rotation restricting protrusion 14d Guide pin 14e Guide pin (fixing member)
14f Through hole 14g Spring hook 14h Spring support protrusion 14i Spring hook 15 Movable mirror (quick return mirror)
15a Main mirror 16 Mirror sheet 16a Stopper part 16b Mirror sheet boss 16c Buffer contact part 16x Mirror sheet hinge (rotating shaft of movable mirror)
17 Sub-mirror 18 Focal plane shutter 19 Image sensor (light-receiving medium for imaging)
20 Down positioning dowel 21 Upper stopper 22 Viewfinder optical system 22a Viewfinder window 23 Metering unit 24 Distance measuring unit 25 LCD monitor 30 Mirror drive mechanism 31 Motor 32 Reduction gear train 33 Cam gear 34 Mirror drive lever 34x Mirror drive lever shaft 35 Shutter charge lever 40 Mirror buffer mechanism (movable mirror shock absorption mechanism)
41 Down absorption lever (holding means, mirror advance buffer member, third buffer member)
41a Buffer dowel 41b Rotation restricting surface 41c Rotation permitting surface 41d Spring hook 41x Down absorption lever shaft 42 Down absorption spring (rotation urging member)
42a Coil portion 42b 42c Spring arm portion 43 Release lever (second mirror retracting buffer member, second buffer member)
43a guide hole 43b guide hole (locking part)
43c Rotation restriction arm (rotation restriction part)
43d Spring hook portion 43e Support guide hole 43f Through hole 43g Arm holding portion 44 Release spring (biasing means, second spring)
45 Up absorption lever (first mirror retracting buffer member, first buffer member)
45a Buffer dowel 45b Lock pin (restricted part)
45c guide hole 46 up absorption spring (biasing means, first spring)
46a Coil part 46b 46c Spring arm part 47 Lock lever (holding means, interlocking lock member)
47a Interlocking arm (radial protrusion)
47b Holding recess 47x Lock lever shaft 48 Holding plate

Claims (9)

撮影光路上に位置して被写体光を観察光学系に反射させるファインダ導光位置と、上記撮影光路から退避して上記被写体光を撮像用受光媒体側に通過させる退避位置との間で回動可能に支持された可動ミラー;
上記可動ミラーが上記ファインダ導光位置から上記退避位置に回動するとき該可動ミラーに当接して押圧移動される第1のミラー退避緩衝部材;
上記第1のミラー退避緩衝部材を相対移動可能に支持し、上記可動ミラーが上記ファインダ導光位置から上記退避位置に回動するとき、最初に上記第1のミラー退避緩衝部材を上記可動ミラーによる押圧方向に単独で移動させ、続いて上記第1のミラー退避緩衝部材と共に該押圧方向に移動される第2のミラー退避緩衝部材;
上記第1のミラー退避緩衝部材と上記第2のミラー退避緩衝部材をそれぞれ、上記可動ミラーによる押圧移動方向と反対方向に移動付勢する付勢手段;及び
上記退避位置へ回動する上記可動ミラーにより上記第1のミラー退避緩衝部材と上記第2のミラー退避緩衝部材を上記付勢手段の付勢方向と反対方向に押圧移動させたとき、該付勢方向への上記第1のミラー退避緩衝部材と上記第2のミラー退避緩衝部材の移動を制限する保持手段;
を備えたことを特徴とするカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
A finder light position for reflecting subject light to the observation optical system located photographing optical path, retreats from the photographing optical path pivotable between a retracted position for passing the object light to an imaging photodetecting medium side Movable mirror supported by
The first mirror retraction buffer member the movable mirror is pressed and moved in contact with the movable mirror when rotated to the retreat position from the finder light position;
The first mirror retraction cushioning member relatively movably supported, when the movable mirror is rotated to the retreat position from the finder light position, the first to the first mirror retraction cushioning member by the movable mirror in the pressing direction to move alone, followed by a second mirror retraction cushioning member moved to the pressing pressure direction together with the first mirror retraction cushioning member;
Each said first mirror retraction cushioning member and the second mirror retraction cushioning member, the biasing means moves urging the pressing direction of movement in the opposite direction by the movable mirror; and
When the first mirror retraction cushioning member and the second mirror retraction cushioning member was pressed and moved in the direction opposite to the biasing direction of the biasing means by the movable mirror which rotates to the retracted position, the biasing holding means for limiting movement of the first mirror retraction cushioning member and the second mirror retraction buffer member in the direction;
A movable mirror shock absorbing mechanism of a camera characterized by comprising:
請求項1記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記保持手段は、
上記可動ミラーが上記退避位置にあるとき、上記付勢手段の付勢方向への上記第2のミラー退避緩衝部材の移動を制限する移動制限位置に保持され、上記可動ミラーが上記退避位置から上記ファインダ導光位置に回動するとき、該可動ミラーに当接して上記移動制限位置から押圧移動され、上記可動ミラーに対する衝撃吸収を行うと共に上記第2のミラー退避緩衝部材に対する移動制限を解除するミラー進出緩衝部材;及び
上記第2のミラー退避緩衝部材の移動に連動して、該第2のミラー退避緩衝部材に対する上記第1のミラー退避緩衝部材の相対移動を規制するロック位置と、該相対移動を許容するアンロック位置とに移動される連動ロック部材;
を備え、上記第2のミラー退避緩衝部材が上記ミラー進出緩衝部材による移動制限を受ける位置にあるときには上記連動ロック部材が上記ロック位置に保持され、上記ミラー進出緩衝部材による移動制限が解除された上記第2のミラー退避緩衝部材が上記付勢手段の付勢方向へ移動することにより、上記連動ロック部材が上記アンロック位置に移動されるカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
The movable mirror shock absorbing mechanism for a camera according to claim 1, wherein the holding means is
When the movable mirror is in the retracted position, held by the movement limiting position for limiting the movement of the second mirror retraction cushioning member in the urging direction of said urging means, the said movable mirror from said retracted position when rotating the finder light position, mirror in contact with the movable mirror being pressed and moved from the movement limiting position, to release the movement restriction with respect to the second mirror retraction cushioning member performs shock absorption for the movable mirror An advancing buffer member; and a lock position that regulates relative movement of the first mirror retracting buffer member relative to the second mirror retracting buffer member in conjunction with the movement of the second mirror retracting buffer member; and the relative movement Interlocking locking member that is moved to an unlocking position that allows
The provided, when said second mirror retraction cushioning member is in position to receive the movement restriction by the mirror advancement buffer member the interlocking lock member is held at the lock position, the movement restriction by the mirror advancement cushioning member is released said by the second mirror retraction cushioning member moves to the urging direction of said urging means, said interlocking lock member is movable mirror shock absorbing mechanism of the camera to be moved to the unlock position.
請求項2記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記第1のミラー退避緩衝部材と上記第2のミラー退避緩衝部材はそれぞれ、上記可動ミラーの回動軸と略直交する平面に沿って略平行に直進移動可能であり、
上記連動ロック部材は、上記可動ミラーの回動軸と略平行な回動軸を中心として回動可能であり、該回動軸を中心とする外径方向へ突出する径方向突出部を有し、
上記連動ロック部材が上記ロック位置にあるとき、上記径方向突出部が上記第1のミラー退避緩衝部材に設けた被規制部の移動軌跡上に位置し、上記径方向突出部と上記被規制部の当接によって上記付勢手段の付勢方向への上記第1のミラー退避緩衝部材の移動を規制し、上記連動ロック部材が上記アンロック位置にあるとき、上記径方向突出部が上記被規制部の移動軌跡上から退避して、上記付勢手段の付勢方向への上記第1のミラー退避緩衝部材の移動を許すカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
In the movable mirror shock absorbing mechanism according to claim 2, wherein the camera, each of the first mirror retraction cushioning member and the second mirror retraction cushioning member is substantially along a plane substantially perpendicular to the pivot axis of the movable mirror It can move straight in parallel,
The interlock lock member is rotatable about a rotation axis substantially parallel to the rotation axis of the movable mirror, and has a radial protrusion that protrudes in an outer radial direction centering on the rotation axis. ,
When the interlocking locking member is in the locking position, the radial projections are located on the moving locus of the restricting portion provided on the first mirror retraction cushioning member above, the radial projection and the controlled portion contact by restricting the movement of the first mirror retraction cushioning member in the urging direction of said urging means, when said interlocking lock member is in the unlocked position, the radial projecting portion is above the regulation and retracted from the movement path of the parts, the movable mirror shock absorbing mechanism of the camera to allow movement of the first mirror retraction cushioning member in the urging direction of said urging means.
請求項2または3記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記第1のミラー退避緩衝部材と上記第2のミラー退避緩衝部材は、内部に上記可動ミラーを支持するミラーボックスの側部に支持されており、上記付勢手段は、上記ミラーボックスと上記第1のミラー退避緩衝部材に係合する第1のばねと、上記ミラーボックスと上記第2のミラー退避緩衝部材に係合する第2のばねからなるカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。 In the movable mirror shock absorbing mechanism according to claim 2 or 3, wherein the camera, the first mirror retraction cushioning member and the second mirror retraction cushioning member is supported on the side of the mirror box supporting the movable mirror inside are, the biasing means, a second that engages the first spring and said mirror box and the second mirror retraction cushioning member which engages with the mirror box and the first mirror retraction cushioning member The movable mirror shock absorbing mechanism of the camera consisting of a spring. 請求項2ないし4のいずれか1項記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記ミラー進出緩衝部材は、上記可動ミラーの回動軸と略平行な回動軸を中心として回動可能であり、該ミラー進出緩衝部材を上記移動制限位置へ回動付勢する回動付勢部材を備え、上記可動ミラーが上記ファインダ導光位置に回動するとき、該回動付勢部材の付勢力に抗して上記ミラー進出緩衝部材を押圧するカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。 5. The movable mirror shock absorbing mechanism for a camera according to claim 2, wherein the mirror advancing buffer member is rotatable about a rotation axis substantially parallel to a rotation axis of the movable mirror. , the mirror advancement cushioning member includes a rotation urging member for urging rotation to said movement restriction position, when the movable mirror is rotated to the finder light position, the biasing force of the rotation urging member movable mirror shock absorbing mechanism of the camera to press the mirror advancement cushioning member while resisting. 請求項5記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記第2のミラー退避緩衝部材は、
固定部材に当接して上記付勢手段による付勢方向への上記第2のミラー退避緩衝部材の移動端を決める係止部;及び
上記第2のミラー退避緩衝部材が上記係止部を上記固定部材に当接させる位置にあるとき、上記ミラー進出緩衝部材の回動軌跡上に進出して上記移動制限位置への上記ミラー進出緩衝部材の回動を規制し、上記第2のミラー退避緩衝部材が上記可動ミラーによって上記第1のミラー退避緩衝部材と共に上記付勢手段の付勢方向と反対方向に押圧移動されることにより、上記ミラー進出緩衝部材の回動軌跡上から退避してその回動を許す回動規制部;
を備えているカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
6. The movable mirror shock absorbing mechanism for a camera according to claim 5, wherein the second mirror retracting buffer member is
Engaging portion abuts against the fixing member determines the moving end of said second mirrors retraction cushioning member in the urging direction by the biasing means; and
When the second mirror retraction cushioning member is in a position to abut on the fixing member to the engaging portion, the mirror expansion buffer to said movement restriction position advanced to the rotation path of the mirror advancement cushioning member and restricting the rotation of the member, by the second mirror retraction cushioning member is pressed and moved in the opposite direction biasing direction of the biasing means together with the first mirror retraction cushioning member by said movable mirror, the A rotation restricting portion that retracts from the rotation locus of the mirror advancing buffer member and allows its rotation;
The movable mirror shock absorbing mechanism of the camera equipped with.
請求項6記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記ミラー進出緩衝部材は、
上記第2のミラー退避緩衝部材の上記回動規制部に当接して上記移動制限位置への回動規制を受ける回動規制面;及び
上記回動規制面よりも外径側に位置し、上記ミラー進出緩衝部材が上記移動制限位置にあるときに上記第2のミラー退避緩衝部材と接触して、上記付勢手段の付勢方向への上記第2のミラー退避緩衝部材の移動を規制し、かつ上記ミラー進出緩衝部材の回動を許す回動許容面;
を有するカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
The movable mirror shock absorbing mechanism of the camera according to claim 6, wherein the mirror advancing buffer member is
The contact with the rotation restricting portion of the second mirror retraction cushioning member rotation restricting surface subjected to rotation restriction to the movement restriction position; located on the outer diameter side than and the rotation restricting surface, the mirror advancement cushioning member in contact with said second mirror retraction cushioning member when in the movement restriction position to restrict the movement of the second mirror retraction cushioning member in the urging direction of said urging means, and rotation permitting surface to allow rotation of the mirror advancement cushioning member;
A movable mirror shock absorbing mechanism of a camera having
撮影光路上に位置して被写体光を観察光学系に反射させるファインダ導光位置と、上記撮影光路から退避して上記被写体光を撮像用受光媒体側に通過させる退避位置との間で回動可能に支持された可動ミラー;
上記可動ミラーが上記ファインダ導光位置と上記退避位置の間で一の方向に回動するとき、該可動ミラーに当接して押圧移動される第1緩衝部材;
上記第1緩衝部材を相対移動可能に支持し、上記可動ミラーが上記一の方向に回動するとき、最初に上記第1緩衝部材を上記可動ミラーによる押圧方向に単独で移動させ、続いて上記第1緩衝部材と共に該押圧方向に移動される第2緩衝部材;
上記第1緩衝部材と上記第2緩衝部材をそれぞれ、上記可動ミラーによる押圧移動方向と反対方向に移動付勢する付勢手段;及び
上記可動ミラーにより上記第1緩衝部材と上記第2緩衝部材を上記付勢手段の付勢方向と反対方向に押圧移動させたとき、該付勢方向への上記第1緩衝部材と上記第2緩衝部材の移動を制限する保持手段;
を備えたことを特徴とするカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
A finder light position for reflecting subject light to the observation optical system located photographing optical path, retreats from the photographing optical path pivotable between a retracted position for passing the object light to an imaging photodetecting medium side Movable mirror supported by
When the movable mirror is rotated in one direction between the finder light position and the retracted position, the first buffer member is pressed and moved in contact with the movable mirror;
The first cushioning member and relatively movable supported, when the movable mirror is rotated in the one direction, the first the first cushioning member is moved solely in the pressing direction by the movable mirror, followed by the A second buffer member moved in the pressing direction together with the first buffer member;
Each said first cushioning member and the second cushioning member, the biasing means moves urged in a direction opposite to the pressing direction of movement by the movable mirror; the first cushioning member and the second cushioning member and by the movable mirror when is pressed and moved in the direction opposite to the biasing direction of the biasing means, the holding means for limiting movement of the first cushioning member and the second cushioning member in the biasing direction;
A movable mirror shock absorbing mechanism of a camera characterized by comprising:
請求項8記載のカメラの可動ミラー衝撃吸収機構において、上記保持手段は、
上記可動ミラーが上記一の方向へ回動して上記第1緩衝部材と上記第2緩衝部材を押圧移動させたとき、上記付勢手段の付勢方向への上記第2緩衝部材の移動を制限する移動制限位置に保持され、上記可動ミラーが上記一の方向と逆方向へ回動するとき、該可動ミラーに当接して上記移動制限位置から押圧移動され、上記可動ミラーに対する衝撃吸収を行うと共に上記第2緩衝部材に対する移動制限を解除する第3緩衝部材;及び
上記第2緩衝部材の移動に連動して、該第2緩衝部材に対する上記第1緩衝部材の相対移動を規制するロック位置と、該相対移動を許容するアンロック位置とに移動される連動ロック部材;
を備え、上記第2緩衝部材が上記第3緩衝部材による移動制限を受ける位置にあるときには上記連動ロック部材が上記ロック位置に保持され、上記第3緩衝部材による移動制限が解除された上記第2緩衝部材が上記付勢手段の付勢方向へ移動することにより、上記連動ロック部材が上記アンロック位置に移動されるカメラの可動ミラー衝撃吸収機構。
The movable mirror shock absorbing mechanism for a camera according to claim 8, wherein the holding means is
When the movable mirror is rotated in the direction of the one is pressed and moved to the first buffer member and the second cushioning member, restrict the movement of the second cushioning member in the urging direction of said urging means is held by a movable limit position where, when the movable mirror which rotates to said one direction and opposite direction, in contact with the movable mirror being pressed and moved from the movement restriction position, performs shock absorption for the movable mirror A third buffer member that releases a restriction on movement relative to the second buffer member; and a lock position that regulates relative movement of the first buffer member relative to the second buffer member in conjunction with movement of the second buffer member; An interlocking lock member that is moved to an unlock position that allows the relative movement;
The provided, when said second buffer member is in a position to receive the movement restriction by the third cushioning member is the interlocking lock member is held in the locking position, the third movement restriction by the cushioning member is released the said second by buffering member moves urging direction of said urging means, a camera movable mirror shock absorbing mechanism of the interlocking lock member is moved to the unlock position.
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