JP5568943B2 - ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT AND LIGHTING DEVICE - Google Patents
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Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び照明装置に関する。 The present invention relates to an organic electroluminescence element and a lighting device.
有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子ともいう)は、電極と電極の間を厚さわずか0.1μm程度の有機材料の膜で構成する全固体素子であり、且つ、その発光が2V〜20V程度の比較的低い電圧で達成できることから、次世代の平面ディスプレイや照明として期待されている技術である。 An organic electroluminescence element (hereinafter also referred to as an organic EL element) is an all-solid-state element composed of an organic material film having a thickness of only about 0.1 μm between electrodes, and emits light of 2V to 20V. Since it can be achieved at a relatively low voltage, it is a technology expected as a next-generation flat display and illumination.
リン光発光を利用した有機EL素子の発見により、以前の蛍光発光を利用するそれに比べ原理的に約4倍の発光効率が実現可能であることから、その材料開発を初めとし、発光素子の層構成に関する研究開発が世界中で行われている。(例えば、M.A.Baldo et al.,Nature、395巻、151〜154頁(1998年)、M.A.Baldo et al.,Nature、403巻、17号、750〜753頁(2000年)、米国特許第6,097,147号明細書、S.Lamansky et al.,J.Am.Chem.Soc.,123巻、4304頁(2001年))
近年有機EL素子の面発光光源としての魅力が高まると共に、その商品用途としての機能から「高効率、高輝度、長寿命」の全てを満足させる必要が高まっている。これらの要求に対する、多くの発明がこれまでにも成されているが、一般に有機ELの素子寿命は発光輝度とトレードオフの関係にあり、高輝度と長寿命を両立させることが出来ない(例えば、有機ELのデバイス物理・材料化学・デバイス応用、シーエムシー出版257〜267頁(2007年刊))。このジレンマに対する技術的解決手段として、有機EL素子を直列接続したマルチユニット構造を有する有機EL素子が報告されている(例えば、特許文献1、2)。
The discovery of an organic EL device using phosphorescence emission enables a light emission efficiency of about 4 times in principle compared to the previous method using fluorescence emission. Research and development on composition is conducted all over the world. (For example, MA Baldo et al., Nature, 395, 151-154 (1998), MA Baldo et al., Nature, 403, 17, 750-753 (2000). US Pat. No. 6,097,147, S. Lamansky et al., J. Am. Chem. Soc., 123, 4304 (2001))
In recent years, the attractiveness of organic EL elements as surface-emitting light sources has increased, and the necessity for satisfying all of “high efficiency, high luminance, and long life” has been increased due to their functions as commercial products. Many inventions for these requirements have been made so far, but generally, the element lifetime of organic EL is in a trade-off relationship with light emission luminance, and it is impossible to achieve both high luminance and long lifetime (for example, , Organic EL device physics / material chemistry / device application, CMC Publishing, pages 257-267 (2007)). As a technical solution to this dilemma, organic EL elements having a multi-unit structure in which organic EL elements are connected in series have been reported (for example,
マルチユニット構造を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、電荷発生層材料に起因する駆動初期の輝度劣化や経時での電圧上昇が課題となっており、本発明の目的は、それらの課題を解決することにある。 In an organic electroluminescence device having a multi-unit structure, luminance deterioration at the initial stage of driving due to the charge generation layer material and voltage increase with time are problems, and the object of the present invention is to solve these problems. is there.
本発明の上記目的は以下の手段により達成される。 The above object of the present invention is achieved by the following means.
1.複数の発光ユニット間に、電界をかけることで正孔と電子を発生する電荷発生層を有する有機エレクトロルミネッセンス素子において、
該電荷発生層は、有機ドナーと有機アクセプターとを含み、
該有機ドナー又は該有機アクセプターが、下記一般式(A)で表される部分構造を有する化合物又はその誘導体が多次元架橋した重合体であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
1. In an organic electroluminescence device having a charge generation layer that generates holes and electrons by applying an electric field between a plurality of light emitting units,
The charge generation layer includes an organic donor and an organic acceptor,
Organic donor or organic acceptor, compound or an organic electroluminescence device in which the derivatives are characterized polymer der Rukoto that multidimensional crosslinking having a partial structure represented by the following general formula (A).
(式中、X1,X2,X3,X4は各々独立にN又はCRであり、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。MはH2、金属原子、TiO又はVOを表す。Mで表される金属原子としては、Co、Fe、Mg、Li2、Ru、Zn、Cu、Ni、Na2、Cs2 又はSbである。) (Wherein X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently N or CR, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or a heteroaryl group. M is H 2 , the metal atom represented by .M representing a metal atom, T iO or VO is, Co, Fe, Mg, Li 2, Ru, Zn, Cu, Ni, Na 2, Cs 2 or a Sb.)
2.燐光発光することを特徴とする前記1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 2 . 2. The organic electroluminescence device as described in 1 above, which emits phosphorescence.
3.前記1又は2のいずれか1項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたことを特徴とする照明装置。 3 . 3. An illuminating device using the organic electroluminescence element according to any one of 1 or 2 above.
本発明により、マルチユニット構造を有する有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子において、重要な役割を果たす電荷発生層材料として新規材料を見出し、低電圧化。さらには、駆動初期の輝度劣化抑制と経時での電圧上昇を抑えることに成功した。 According to the present invention, a novel material is found as a charge generation layer material that plays an important role in an organic electroluminescence (EL) device having a multi-unit structure, and the voltage is reduced. Furthermore, it succeeded in suppressing the luminance deterioration at the initial stage of driving and suppressing the voltage rise with time.
本発明の有機EL素子材料を用いると、駆動初期の輝度劣化抑制と経時での電圧上昇を抑えられた有機EL素子を提供することができた。併せて、該素子を具備した表示装置及び照明装置を提供することができた。 When the organic EL element material of the present invention was used, it was possible to provide an organic EL element in which luminance deterioration was suppressed at the initial stage of driving and voltage increase with time was suppressed. In addition, a display device and a lighting device including the element can be provided.
以下、本発明に係る各構成要素の詳細について、順次説明する。 Hereinafter, details of each component according to the present invention will be sequentially described.
《有機EL素子の構成層、有機化合物層》
本発明の有機EL素子の層構成について説明する。本発明の有機EL素子の層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
(1) 陽極/(発光ユニット/CGL)n/発光ユニット/陰極
( )内は繰返し単位を表し、nは繰返し数を表し、1〜100の整数である。
<< Constitutional layer of organic EL element, organic compound layer >>
The layer structure of the organic EL element of the present invention will be described. Although the preferable specific example of the layer structure of the organic EL element of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
(1) Anode / (light emitting unit / CGL) n / light emitting unit / cathode () represents a repeating unit, n represents the number of repetitions, and is an integer from 1 to 100.
本発明の有機EL素子の発光ユニット(有機化合物層ともいう)、その層構成等について説明する。本発明の有機EL素子の発光ユニットの有機化合物層構成の好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 The light-emitting unit (also referred to as an organic compound layer) of the organic EL element of the present invention, its layer configuration and the like will be described. Although the preferable specific example of the organic compound layer structure of the light emission unit of the organic EL element of this invention is shown below, this invention is not limited to these.
(i)正孔輸送層/発光層/電子輸送層
(ii)正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層
(iii)正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極バッファー層
(iv)陽極バッファー層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/陰極
バッファー層
《有機化合物層(有機層ともいう)》
本発明に係る発光ユニットを構成する有機化合物層について説明する。
(I) Hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer (ii) Hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer (iii) Hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron Transport layer / cathode buffer layer (iv) Anode buffer layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / cathode buffer layer << Organic compound layer (also referred to as organic layer) >>
The organic compound layer constituting the light emitting unit according to the present invention will be described.
本発明の有機EL素子は、構成層として複数の有機化合物層を有することが好ましく、該有機化合物層としては、例えば、上記の層構成の中で、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層等が挙げられるが、その他、正孔注入層、電子注入層等、有機EL素子の構成層に含有される有機化合物が含有されていれば、本発明に係る有機化合物層として定義される。更に、陽極バッファー層、陰極バッファー層等に有機化合物が用いられる場合には、陽極バッファー層、陰極バッファー層等も、各々有機化合物層を形成していることになる。 The organic EL device of the present invention preferably has a plurality of organic compound layers as a constituent layer, and examples of the organic compound layer include a hole transport layer, a light emitting layer, and a hole blocking layer in the above-described layer configuration. As the organic compound layer according to the present invention, an organic compound contained in a constituent layer of the organic EL element, such as a hole injection layer or an electron injection layer, is included. Defined. Further, when an organic compound is used for the anode buffer layer, the cathode buffer layer, and the like, the anode buffer layer, the cathode buffer layer, and the like each form an organic compound layer.
尚、前記有機化合物層には、「有機EL素子の構成層に使用可能な有機EL素子材料」等を含有する層も含まれる。 The organic compound layer includes a layer containing “organic EL element material that can be used for a constituent layer of an organic EL element” or the like.
本発明の有機EL素子においては、青色発光層の発光極大波長は430nm〜480nmにあるものが好ましく、緑色発光層は発光極大波長が510nm〜550nm、赤色発光層は発光極大波長が600nm〜640nmの範囲にある単色発光層であることが好ましく、これらを用いた表示装置であることが好ましい。 In the organic EL device of the present invention, the light emitting maximum wavelength of the blue light emitting layer is preferably 430 nm to 480 nm, the green light emitting layer has a light emitting maximum wavelength of 510 nm to 550 nm, and the red light emitting layer has a light emitting maximum wavelength of 600 nm to 640 nm. A monochromatic light emitting layer in the range is preferable, and a display device using these is preferable.
また、これらの少なくとも3層の発光層を積層して白色発光層としたものであってもよい。更に、発光層間には非発光性の中間層を有していてもよい。 Alternatively, a white light emitting layer may be formed by laminating at least three light emitting layers. Further, a non-light emitting intermediate layer may be provided between the light emitting layers.
本発明の有機EL素子としては白色発光層であることが好ましく、これらを用いた照明装置であることが好ましい。 The organic EL element of the present invention is preferably a white light emitting layer, and is preferably a lighting device using these.
本発明の有機EL素子を構成する各層について説明する。 Each layer which comprises the organic EL element of this invention is demonstrated.
〈電荷発生層(CGL)〉
《電荷発生層の層構成》
本発明の電荷発生層の層構成について説明する。下記(1)〜(10)に示した層を単独、もしくは任意に複数層組み合わせることで、本発明の電荷発生層として使用できる。
<Charge generation layer (CGL)>
<< Layer structure of charge generation layer >>
The layer structure of the charge generation layer of the present invention will be described. The layers shown in the following (1) to (10) can be used as the charge generation layer of the present invention singly or arbitrarily in combination.
本発明において電荷発生層は少なくとも1層以上から形成される。 In the present invention, the charge generation layer is formed of at least one layer.
電荷発生層は半導体以上の導電性を有することが望ましいが、それに限定するものではない。 The charge generation layer desirably has a conductivity higher than that of a semiconductor, but is not limited thereto.
電荷発生層とは電界が形成されるときに、正孔と電子を発生する層であるが、その発生界面は、電荷発生層内でもよく、また電荷発生層と他層の界面もしくはその近傍でも良い。 The charge generation layer is a layer that generates holes and electrons when an electric field is formed, but the generation interface may be in the charge generation layer, or at or near the interface between the charge generation layer and another layer. good.
例えば、電荷発生層が1層である場合、電子とホールの電荷発生は電荷発生層内でも良く、もしくは隣接する層と電荷発生層界面でも良い。 For example, when the charge generation layer is a single layer, the charge generation of electrons and holes may be within the charge generation layer, or may be at the interface between the adjacent layer and the charge generation layer.
本発明において、更に好ましくは、電荷発生層は2層以上からなり、p型半導体層、n型半導体層の一方もしくは両方を含むことが好ましい。 In the present invention, more preferably, the charge generation layer comprises two or more layers, and preferably includes one or both of a p-type semiconductor layer and an n-type semiconductor layer.
電荷発生層は正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層として機能しても良く、同一の層として用いることが出来るが、電荷発生層とは正孔と電子が発生する層、もしくは界面を持つ層を指す。 The charge generation layer may function as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, or an electron injection layer and can be used as the same layer, but the charge generation layer generates holes and electrons. A layer or a layer having an interface.
本発明における電荷発生層の構成は下記の通りである。
1.発光ユニット/バイポーラ層(一層)/発光ユニット
2.発光ユニット/n型層/p型層/発光ユニット
3.発光ユニット/n型層/中間層/p型層/発光ユニット
上記バイポーラ層とは外部電界により、層内部で正孔、電子を発生・輸送することが出来る層である。
The structure of the charge generation layer in the present invention is as follows.
1. 1. Light emitting unit / bipolar layer (one layer) / light emitting unit 2. Light emitting unit / n-type layer / p-type layer / light emitting unit Light emitting unit / n-type layer / intermediate layer / p-type layer / light emitting unit The bipolar layer is a layer capable of generating and transporting holes and electrons inside the layer by an external electric field.
n型層とは、多数キャリアが電子である電荷輸送層であり、半導体以上の導電性を有していることが好ましい。 The n-type layer is a charge transport layer in which majority carriers are electrons, and preferably has conductivity higher than that of a semiconductor.
p型層とは、多数キャリアが正孔である電荷輸送層であり、半導体以上の導電性を有していることが好ましい。 The p-type layer is a charge transport layer in which majority carriers are holes, and preferably has conductivity higher than that of a semiconductor.
中間層とは、電荷発生能および、長期安定性を向上する上で、必要であれば設けてよく、例えば、n型層およびp型層の拡散防止層やp−n間の反応抑制層、p型層とn型層の電荷準位を調整する準位調整層などが挙げられる。 The intermediate layer may be provided if necessary for improving the charge generation ability and long-term stability. For example, the diffusion prevention layer of n-type layer and p-type layer or the reaction suppression layer between pn, Examples include a level adjusting layer that adjusts the charge level of the p-type layer and the n-type layer.
発光ユニットと電荷発生層の間に、更にバイポーラ層、p型層、n型層を有しても良い。 A bipolar layer, a p-type layer, and an n-type layer may be further provided between the light emitting unit and the charge generation layer.
これは発生した電荷を速やかに発光ユニットに注入する場合、必要であれば設けてもよいが、本発明においてこれらの層は発光ユニットに含まれ、電荷発生層とは見なさない。 In the present invention, these layers are included in the light emitting unit and are not regarded as charge generating layers, although they may be provided if necessary when the generated charge is quickly injected into the light emitting unit.
本発明において電荷発生層とは、少なくとも二層以上の層から形成されていることが好ましく、電圧印加時、素子の陰極方向に正孔を、陽極方向に電子を注入する機能を有する層を指す。 In the present invention, the charge generation layer is preferably formed of at least two layers, and refers to a layer having a function of injecting holes in the cathode direction and electrons in the anode direction when a voltage is applied. .
二層以上の層から成る電荷発生層の層界面は、界面(ヘテロ界面、ホモ界面)を有していても良く、またバルクヘテロ構造、島状、相分離等の多次元的な界面を形成していても良い。 The layer interface of the charge generation layer consisting of two or more layers may have an interface (heterointerface, homointerface), and form a multidimensional interface such as a bulk heterostructure, islands, or phase separation. May be.
二つの層それぞれの厚さは、1nm以上100nm以下が望ましく、さらに望ましくは10nm以上50nm以下である。 The thickness of each of the two layers is preferably 1 nm or more and 100 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 50 nm or less.
本発明の電荷発生層の光透過率は、発光層から放出される光に対して高い透過率を有することが望ましい。十分に光を取り出し、十分な輝度を得るためには、波長550nmでの透過率が50%以上であることが望ましく、さらに好ましくは80%以上である。 As for the light transmittance of the charge generation layer of the present invention, it is desirable to have a high transmittance for the light emitted from the light emitting layer. In order to sufficiently extract light and obtain sufficient luminance, the transmittance at a wavelength of 550 nm is desirably 50% or more, and more preferably 80% or more.
前記二層以上の層から成る電荷発生層の内の1層には、仕事関数が3.0eV以下の無機化合物、または有機化合物、且つ他の1層には、仕事関数が4.0eV以上の無機化合物、または有機化合物が好ましく用いることが出来る。 One of the two or more charge generation layers includes an inorganic compound or an organic compound having a work function of 3.0 eV or less, and the other layer has a work function of 4.0 eV or more. An inorganic compound or an organic compound can be preferably used.
より好ましくは、前記二層以上の層から成る電荷発生層の一層は、仕事関数が3.0eV以下の金属、もしくは無機酸化物、無機塩、有機金属錯体、有機塩であり、且つ他の1層は、仕事関数が4.0eV以上の金属、もしくは無機酸化物、無機塩、有機金属錯体、有機塩である。 More preferably, one of the charge generation layers composed of two or more layers is a metal having a work function of 3.0 eV or less, or an inorganic oxide, an inorganic salt, an organometallic complex, or an organic salt. The layer is a metal having a work function of 4.0 eV or more, or an inorganic oxide, an inorganic salt, an organometallic complex, or an organic salt.
本発明の有機化合物としては、ナノカーボン材料、一般式(A)、(D)、(F)、(G)、(H)、(J)で表される化合物、イミダゾールラジカル類、メタロセン誘導体、ポリシアノ誘導体、ポリニトロ誘導体があげられる。 Examples of the organic compound of the present invention include nanocarbon materials, compounds represented by general formulas (A), (D), (F), (G), (H), and (J), imidazole radicals, metallocene derivatives, Examples thereof include polycyano derivatives and polynitro derivatives.
本発明の電荷発生層を構成する材料として、以下に具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the material constituting the charge generation layer of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
〈ナノカーボン材料〉
ナノカーボン材料とは粒子径が1ナノメートルから500ナノメートルのカーボン材料を指し、その代表例としては、カーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、フラーレン及びその誘導体、カーボンナノコイル、カーボンオニオンフラーレン及びその誘導体、ダイヤモンド、ダイヤモンド状カーボン、グラファイトが挙げられる。
<Nanocarbon material>
The nanocarbon material refers to a carbon material having a particle diameter of 1 nanometer to 500 nanometers, and representative examples thereof include carbon nanotubes, carbon nanofibers, fullerenes and derivatives thereof, carbon nanocoils, carbon onion fullerenes and derivatives thereof, Examples include diamond, diamond-like carbon, and graphite.
特にフラーレン及びフラーレン誘導体が好適に使用できる、本発明におけるフラーレンとは、20個以上の炭素原子から成る12面の五角面と(n/2−10)枚の六角面を持つ閉多面体かご型分子を示し、その誘導体をフラーレン誘導体という。フラーレン骨格の炭素数は20個以上であれば特に限定しないが、好ましくは炭素数60、70、84である。フラーレン及びフラーレン誘導体の例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 In particular, fullerenes and fullerene derivatives can be preferably used. The fullerene in the present invention is a closed polyhedral cage molecule having 12 pentagonal planes composed of 20 or more carbon atoms and (n / 2-10) hexagonal planes. The derivative is called a fullerene derivative. Although it will not specifically limit if carbon number of a fullerene skeleton is 20 or more, Preferably it is C60, 70, 84. Examples of fullerene and fullerene derivatives are shown below, but the present invention is not limited thereto.
Rは水素原子または置換基を表し、nは1〜12の整数を表す。 R represents a hydrogen atom or a substituent, and n represents an integer of 1 to 12.
Rで表される好ましい置換基としては、アルキル基(メチル基、エチル基、i−プロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、ヘテロアリール基(ピロール基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、チエニル基、カルバゾリル基等)、アルケニル基(ビニル基、プロペニル基、スチリル基等)、アルキニル基(エチニル基等)、アルキルオキシ基(メトキシ基、エトキシ基、i−プロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基、i−プロピルキオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、アミノ基、アルキルアミノ基(ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等)、アリールアミノ基(アニリノ基、ジフェニルアミノ基等)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、シアノ基、ニトロ基、非芳香族性複素環基(ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、等)、シリル基(トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、トリフェニルシリル基等)等が挙げられ、それぞれの置換基は更に置換基を有していてもよい。 Preferred substituents represented by R include alkyl groups (methyl group, ethyl group, i-propyl group, hydroxyethyl group, methoxymethyl group, trifluoromethyl group, t-butyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, benzyl group). Group), aryl group (phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl group, etc.), heteroaryl group (pyrrole group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, benzooxa Zolyl group, triazolyl group, oxadiazolyl group, thiadiazolyl group, thienyl group, carbazolyl group, etc.), alkenyl group (vinyl group, propenyl group, styryl group etc.), alkynyl group (ethynyl group etc.), alkyloxy group (methoxy group, Ethoxy group, i-propoxy group, butoxy group, etc.) Aryloxy group (phenoxy group etc.), alkylthio group (methylthio group, ethylthio group, i-propylchio group etc.), arylthio group (phenylthio group etc.), amino group, alkylamino group (dimethylamino group, diethylamino group, ethylmethylamino) Group), arylamino group (anilino group, diphenylamino group, etc.), halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom, etc.), cyano group, nitro group, non-aromatic heterocyclic group (pyrrolidyl group) , Pyrazolyl group, imidazolyl group, etc.), silyl group (trimethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, dimethylphenylsilyl group, triphenylsilyl group, etc.), etc., and each substituent further has a substituent. It may be.
ここにおいて、R1、R2、R3は、前記Rと同様にそれぞれ独立して水素または置換基を表し、また、Xは−(CR1R2)m−、または−CH2−NR1−CH2−等で表される二価の基を表す。ここにおいて、R1、R2、R3等の基は水素原子または置換基を表し、nは1〜12の整数を表し、mは1〜4の整数を表す。置換基としては前記Rで表される置換基と同義である。 Here, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent hydrogen or a substituent similarly to R, and X represents — (CR 1 R 2 ) m— or —CH 2 —NR 1. Represents a divalent group represented by —CH 2 — and the like. Here, groups such as R 1 , R 2 and R 3 represent a hydrogen atom or a substituent, n represents an integer of 1 to 12, and m represents an integer of 1 to 4. As a substituent, it is synonymous with the substituent represented by said R.
ここにおいて、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9〜R13はそれぞれ水素原子または置換基を表し、R1〜R13で表される置換基は前記Rと同義である。またnは1〜4の整数を表す。また、Mは遷移金属原子を表し、Lはこの金属原子に配位する配位子を表す。配位子としては、通常の金属錯体において配位子を構成する分子或いはイオンであれば限定はない。また、ここでmは1〜5の整数を表す。 Here, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 to R 13 each represent a hydrogen atom or a substituent, and are represented by R 1 to R 13. The substituent is as defined for R. N represents an integer of 1 to 4. M represents a transition metal atom, and L represents a ligand coordinated to the metal atom. The ligand is not limited as long as it is a molecule or ion constituting the ligand in a normal metal complex. Here, m represents an integer of 1 to 5.
以下に、これらフラーレン及びフラーレン誘導体について具体例を例示するが、これらに限定されない。 Specific examples of these fullerenes and fullerene derivatives are illustrated below, but are not limited thereto.
本発明に係る本発明の電荷発生層を構成する有機化合物等の例を以下に示す。 Examples of organic compounds and the like constituting the charge generation layer of the present invention according to the present invention are shown below.
(1)本発明の電荷発生層を構成する材料として、一般式(A)で表される化合物が挙げられる。一般式(A)において、X1,X2,X3,X4は各々独立にN又は−CRであり、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基を表す。Mは金属原子、H2、またTiO、VOを表す。またポルフィリン環上には置換基を有してもよい。Mで表される金属としては、Co、Fe、Mg、Li2、Ru、Zn、Cu、Ni、Na2、Cs2またはSbである。X1,X2,X3,X4は好ましくは、Nまたは−CArであり(Ar=芳香族炭化水素、芳香族複素環)、更に好ましくは、−CPhである。Mは好ましくは、Co、Li2、Zn、Cu、Ni、Na2、Cs2であり、更に好ましくは、Coである。 (1) As a material constituting the charge generation layer of the present invention, a compound represented by the general formula (A) may be mentioned. In the general formula (A), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently N or —CR, and R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or a heteroaryl group. M represents a metal atom, H 2 , TiO, or VO. Moreover, you may have a substituent on a porphyrin ring. The metal represented by M, a Co, Fe, Mg, Li 2 , Ru, Zn, Cu, Ni, Na 2, Cs 2 or Sb. X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 are preferably N or —CAr (Ar = aromatic hydrocarbon, aromatic heterocycle), and more preferably —CPh. M is preferably Co, Li 2 , Zn, Cu, Ni, Na 2 , or Cs 2 , and more preferably Co.
ポルフィリン誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the porphyrin derivative are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(2)本発明の電荷発生層を構成する材料であるイミダゾールラジカル類としては、光又は熱によりイミダゾールラジカルを生成する化合物であり、具体的には、前記一般式(E)で表される化合物であり、R1,R2,R3は水素原子又は置換を表し、R2とR3は環を形成してもよい。 (2) The imidazole radicals, which are materials constituting the charge generation layer of the present invention, are compounds that generate imidazole radicals by light or heat, specifically, compounds represented by the general formula (E) R 1 , R 2 and R 3 may represent a hydrogen atom or a substitution, and R 2 and R 3 may form a ring.
一般式(E)で表されるイミダゾールラジカル誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the imidazole radical derivative represented by the general formula (E) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(3)本発明の電荷発生層を構成する材料として、一般式(D)で表される化合物が挙げられる。一般式(D)で表される化合物において、X1,X2,X3,X4は各々独立にS,Se,TeまたはNRである。Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基を表す。また、R1,R2,R3,R4は各々独立に水素原子又は置換基であり、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成してもよい。Mは、H2、Co、Fe、Mg、Li2、Ru、Zn、Cu、Ni、Na2、Cs2またはSbである。 (3) As a material constituting the charge generation layer of the present invention, a compound represented by the general formula (D) may be mentioned. In the compound represented by the general formula (D), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently S, Se, Te or NR. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a heteroaryl group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or a substituent, and R 1 and R 2 , or R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring. M is H 2, Co, Fe, Mg , Li 2, Ru, Zn, Cu, Ni, Na 2, Cs 2 or Sb.
X1,X2,X3,X4は好ましくはSである。R1,R2,R3,R4は好ましくは、芳香族炭化水素、芳香族複素環であり、更に好ましくは芳香族炭化水素である。Mは好ましくは、Co、Fe、Zn、Cu、Niであり、更に好ましくは、Niである。 X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are preferably S. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are preferably aromatic hydrocarbons or aromatic heterocycles, and more preferably aromatic hydrocarbons. M is preferably Co, Fe, Zn, Cu, or Ni, and more preferably Ni.
一般式(D)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Although the specific example of a compound represented by general formula (D) is shown below, this invention is not limited to these.
(4)本発明の電荷発生層を構成する材料として、一般式(G)で表される化合物が挙げられる。一般式(G)において、式中、X1,X2,X3,X4は各々独立にS,Se,TeまたはNRである。X5,X6,X7,X8は各々独立にO,S,Se,Teであり、MはH2、Co、Fe、Mg、Li2、Ru、Zn、Cu、Ni、Na2、Cs2またはSbである。 (4) As a material constituting the charge generation layer of the present invention, a compound represented by the general formula (G) can be given. In the general formula (G), X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 are each independently S, Se, Te, or NR. X 5 , X 6 , X 7 , X 8 are each independently O, S, Se, Te, and M is H 2 , Co, Fe, Mg, Li 2 , Ru, Zn, Cu, Ni, Na 2 , Cs 2 or Sb.
Mは好ましくは、Co、Fe、Mg、Zn、Cu、Niであり、更に好ましくは、Niである。 M is preferably Co, Fe, Mg, Zn, Cu, or Ni, and more preferably Ni.
以下、一般式(G)で表される化合物の具体例を挙げる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (G) are given below.
(5)本発明の電荷発生層を構成する材料として、一般式(F)で表される化合物が挙げられる。一般式(F)において、R1,R2,R3,R4は水素原子又は置換基であり、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成してもよい。 (5) Examples of the material constituting the charge generation layer of the present invention include a compound represented by the general formula (F). In the general formula (F), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are hydrogen atoms or substituents, and R 1 and R 2 , and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring. .
一般式(F)で表されるDCNQI誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the DCNQI derivative represented by the general formula (F) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(6)本発明の電荷発生層を構成する材料として、一般式(H)で表される化合物が挙げられる。一般式(H)において、X1,X2,X3,X4,X5,X6,X7,X8は各々独立にN又はCRである。Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基を表す。R1は水素原子又は置換基である。 (6) As a material constituting the charge generation layer of the present invention, a compound represented by the general formula (H) can be given. In the general formula (H), X 1 , X 2 , X 3 , X 4 , X 5 , X 6 , X 7 , X 8 are each independently N or CR. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a heteroaryl group. R 1 is a hydrogen atom or a substituent.
一般式(H)で表されるアザカルバゾール誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the azacarbazole derivative represented by the general formula (H) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(7)本発明の電荷発生層を構成する材料として、下記一般式(J)で表される化合物が挙げられ、一般式(J)において、a,b,c,d,eは−NRn1−,−CRc1Rc2−であり、ここにおいて、Rn1,Rc1,Rc2は各々独立に水素原子又は置換基であり、EはN、−CRc3−であり、Rc3は水素原子又は置換基である。MはMo,Wであり、n,mは0〜5を表す。 (7) As a material constituting the charge generation layer of the present invention, a compound represented by the following general formula (J) can be given. In the general formula (J), a, b, c, d, and e are —NR n1. —, —CR c1 R c2 —, wherein R n1 , R c1 and R c2 are each independently a hydrogen atom or a substituent, E is N, —CR c3 —, and R c3 is a hydrogen atom. Or it is a substituent. M represents Mo and W, and n and m represent 0 to 5.
一般式(J)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Although the specific example of a compound represented by general formula (J) is shown below, this invention is not limited to these.
(8)メタロセン誘導体の例としては、フェロセン、コバルトセン、ニッケロセンがあげられ、これらは置換基を有してもよい。メタロセン誘導体の例としては以下のもの亜挙げられる。好ましくはフェロセンである。 (8) Examples of the metallocene derivative include ferrocene, cobaltcene, and nickelocene, and these may have a substituent. Examples of metallocene derivatives include the following: Ferrocene is preferable.
(9)ポリシアノ誘導体の例としては、以下の例があげられる。 (9) Examples of polycyano derivatives include the following.
(10)ポリニトロ誘導体の例としては、トリニトロベンゼン、ピクリン酸、ジニトロフェノール、ジニトロビフェニル、2,4,7−トリニトロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン、9−ジシアノメチレン2,4,7−トリニトロフルオレノン、9−ジシアノメチレン2,4,5,7−テトラニトロフルオレノン等があげられる。
(10) Examples of polynitro derivatives include trinitrobenzene, picric acid, dinitrophenol, dinitrobiphenyl, 2,4,7-trinitro-9-fluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, 9- Examples thereof include dicyanomethylene 2,4,7-trinitrofluorenone and 9-
(11)ナノカーボン材料の例としては、前述のナノカーボン材料を使用できる。好ましくは前述のフラーレン誘導体が上げられる。 (11) As an example of the nanocarbon material, the above-mentioned nanocarbon material can be used. Preferably, the above-mentioned fullerene derivative is raised.
電荷発生層としては、上記の材料を単独もしくは2種以上併用する事ができる。 As the charge generation layer, the above materials can be used alone or in combination of two or more.
二種以上併用する場合は、有機ドナー性の化合物と有機アクセプター性の化合物を併用する事が好ましい。 When using 2 or more types together, it is preferable to use an organic donor compound and an organic acceptor compound in combination.
有機ドナーとしては、一般式(A)、一般式(D)、一般式(J)、イミダゾールラジカル類、メタロセン誘導体、ナノカーボン誘導体があげられる。 Examples of the organic donor include general formula (A), general formula (D), general formula (J), imidazole radicals, metallocene derivatives, and nanocarbon derivatives.
有機アクセプターとしては、一般式(F)、一般式(G)、一般式(H)、ポリシアノ誘導体、ポリニトロ誘導体があげられる。 Examples of the organic acceptor include general formula (F), general formula (G), general formula (H), polycyano derivatives, and polynitro derivatives.
また、二種以上併用する場合は、本発明の化合物と更に組み合わせで本発明の化合物以外の化合物を使用することができる。 Moreover, when using 2 or more types together, compounds other than the compound of this invention can be used in further combination with the compound of this invention.
本発明の化合物以外で用いられる化合物の具体例としては、以下のものがあげられる。 Specific examples of the compound used other than the compound of the present invention include the following.
(1)フタロシアニン誘導体が挙げられ、フタロシアニン誘導体の例としては、下記一般式(1)で表される化合物であり、X1,X2,X3,X4は各々独立にN又は−CRであり、Rは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基を表す。MはH2又は金属原子を表す。またフタロシアニン環上に置換基を有してもよい。Mは好ましくは、H2、Co、Fe、Mg、Li2、Ru、Zn、Cu、Ni、Na2、Cs2またはSbである。 (1) A phthalocyanine derivative is exemplified, and examples of the phthalocyanine derivative are compounds represented by the following general formula (1), and X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 are each independently N or —CR. Yes, R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a heteroaryl group. M represents H 2 or a metal atom. Moreover, you may have a substituent on a phthalocyanine ring. M is preferably, H 2, Co, Fe, Mg, Li 2, Ru, Zn, Cu, Ni, Na 2, Cs 2 or Sb.
フタロシアニン誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the phthalocyanine derivative are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(2)一般式(2)で表される化合物が挙げられる。一般式(B)において、X1,X2,X3,X4は各々独立にS,Se、またはTeであり、R1,R2,R3,R4は水素原子又は置換基であり、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成してもよい。X1,X2,X3,X4は好ましくは、S、Seである。 (2) The compound represented by General formula (2) is mentioned. In the general formula (B), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently S, Se or Te, and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are a hydrogen atom or a substituent. , R 1 and R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring. X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are preferably S and Se.
一般式(2)で表されるTTT誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the TTT derivative represented by the general formula (2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(3)一般式(3)で表されるテトラチアフルバレン(TTF)誘導体が挙げられ、一般式(3)において、X1,X2,X3,X4は各々独立にS,Se、またはTeであり、R1,R2,R3,R4は水素原子又は置換基であり、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成してもよい。 (3) A tetrathiafulvalene (TTF) derivative represented by the general formula (3) is exemplified, and in the general formula (3), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 are each independently S, Se, or Te, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are hydrogen atoms or substituents, and R 1 and R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.
一般式(3)で表されるTTF誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the TTF derivative represented by the general formula (3) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(4)縮合多環芳香族炭化水素の例としては、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、トリフェニレン、クリセン、テトラセン、ペンタセン、ぺリレン、オバレン、サーカムアントラセン、アンスアンスレン、ピラセンスレン、ルブレンがあげられる。 (4) Examples of the condensed polycyclic aromatic hydrocarbon include naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, triphenylene, chrysene, tetracene, pentacene, perylene, obalene, circumanthracene, anthanthrene, pyranthrene, and rubrene.
(5)アリールアミン誘導体の例としては、ジエチルアミノベンゼン、アニリン、トルイジン、アニシジン、クロロアニリン、ジフェニルアミン、インドール、スカトール、p−フェニレンジアミン、デュレンジアミン、N,N,N,Nテトラメチル−p−フェニレンジアミン、ベンジジン、N,N,N,Nテトラメチルベンジジン、テトラキスジメチルアミノピレン、テトラキスジメチルアミノエチレン、ビイミダゾール、m−MDTATA、α−NPDがあげられる。 (5) Examples of arylamine derivatives include diethylaminobenzene, aniline, toluidine, anisidine, chloroaniline, diphenylamine, indole, skatole, p-phenylenediamine, durenediamine, N, N, N, N tetramethyl-p-phenylene. Examples thereof include diamine, benzidine, N, N, N, N tetramethylbenzidine, tetrakisdimethylaminopyrene, tetrakisdimethylaminoethylene, biimidazole, m-MDTATA, and α-NPD.
(6)アジン誘導体の例としては、シアニン色素、カルバゾール、アクリジン、フェナジン、N,N−ジヒドロジメチルフェナジン、フェノキサジン、フェノチアジンである。 (6) Examples of azine derivatives are cyanine dyes, carbazole, acridine, phenazine, N, N-dihydrodimethylphenazine, phenoxazine, and phenothiazine.
(7)トリアールアミン誘導体の例を以下に示す。 (7) Examples of trialamine derivatives are shown below.
(8)キノン誘導体の例としては、一般式(4)で表される化合物であり、R1,R2,R3,R4は水素原子又は置換基であり、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成してもよい。R1,R2,R3,R4はハロゲン原子、シアノ基が好ましい。
(8) Examples of the quinone derivative is a compound represented by the general formula (4), R 1, R 2,
キノン誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the quinone derivative are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(9)テトラシノアキノジメタン誘導体の例としては、下記一般式(5)で表される化合物であり、R1,R2,R3,R4は水素原子又は置換基であり、R1とR2、R3とR4は互いに結合して環を形成してもよい。 (9) An example of a tetracinoaquinodimethane derivative is a compound represented by the following general formula (5), wherein R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are a hydrogen atom or a substituent, and R 1 And R 2 , R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.
一般式(5)で表されるテトラシノアキノジメタン誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the tetracinoaquinodimethane derivative represented by the general formula (5) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(10)フェナントロリン誘導体の例としては、下記一般式(6)で表される化合物であり、R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7,R8は水素原子又は置換基である。 (10) Examples of the phenanthroline derivative are compounds represented by the following general formula (6), and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are hydrogen atoms. Or it is a substituent.
一般式(6)で表されるフェナントロリン誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the phenanthroline derivative represented by the general formula (6) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(11)キノリノール金属錯体誘導体の例としては、一般式(7)の部分構造をもつ化合物であり、MはAl、Co、Fe、Mg、Ru、Zn、Cu、Niが好ましい。 (11) Examples of quinolinol metal complex derivatives are compounds having a partial structure of the general formula (7), and M is preferably Al, Co, Fe, Mg, Ru, Zn, Cu, or Ni.
一般式(7)で表されるキノリノール金属錯体誘導体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the quinolinol metal complex derivative represented by the general formula (7) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
(12)複素芳香族炭化水素化合物(本発明中、複素芳香族炭化水素化合物は、芳香族炭化水素化合物において炭素原子のうち、ひとつ以上の原子が酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素などのヘテロ原子で置換されたものを指す。)のうち、特に窒素原子で置換されたピリジン誘導体が使用でき、その具体例を以下に示す。 (12) Heteroaromatic hydrocarbon compounds (In the present invention, heteroaromatic hydrocarbon compounds are heteroaromatic compounds in which one or more of the carbon atoms in the aromatic hydrocarbon compound are heterogeneous such as oxygen, sulfur, nitrogen, phosphorus, boron, etc. In particular, pyridine derivatives substituted with a nitrogen atom can be used, and specific examples thereof are shown below.
《発光層》
本発明に係る発光層は、電極または電子輸送層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
<Light emitting layer>
The light emitting layer according to the present invention is a layer that emits light by recombination of electrons and holes injected from the electrode, the electron transport layer, or the hole transport layer, and the light emitting portion is in the layer of the light emitting layer. May be the interface between the light emitting layer and the adjacent layer.
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性や、発光時に不必要な高電圧を印加するのを防止し、且つ、駆動電流に対する発光色の安定性向上の観点から、2nm〜5μmの範囲に調整することが好ましく、さらに好ましくは2nm〜200nmの範囲に調整され、特に好ましくは、10nm〜20nmの範囲である。 The total thickness of the light emitting layer is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the uniformity of the film, preventing unnecessary application of a high voltage during light emission, and improving the stability of the emission color with respect to the drive current. It is preferable to adjust in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 nm to 200 nm, and particularly preferably in the range of 10 nm to 20 nm.
発光層の作製には、後述する発光ドーパントやホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法、インクジェット法等の公知の薄膜化法により成膜して形成することができる。 For the production of the light-emitting layer, a light-emitting dopant or a host compound, which will be described later, is formed by a known thinning method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, an LB method, or an ink-jet method. it can.
本発明の有機EL素子の発光層には、発光ホスト化合物と、発光ドーパント(リン光発光性ドーパント(リン光発光性ドーパントともいう)や蛍光ドーパント等)の少なくとも1種類とを含有することが好ましい。 The light emitting layer of the organic EL device of the present invention preferably contains a light emitting host compound and at least one kind of light emitting dopant (phosphorescent dopant (also referred to as phosphorescent dopant) or fluorescent dopant). .
(ホスト化合物(発光ホスト等ともいう))
本発明に用いられるホスト化合物について説明する。
(Host compound (also called luminescent host))
The host compound used in the present invention will be described.
ここで、本発明においてホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内でその層中での質量比が20%以上であり、且つ室温(25℃)においてリン光発光のリン光量子収率が、0.1未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が0.01未満である。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での質量比が20%以上であることが好ましい。 Here, the host compound in the present invention is a phosphorescent quantum yield of phosphorescence emission at a room temperature (25 ° C.) having a mass ratio of 20% or more in the compound contained in the light emitting layer. Is defined as a compound of less than 0.1. The phosphorescence quantum yield is preferably less than 0.01. Moreover, it is preferable that the mass ratio in the layer is 20% or more among the compounds contained in a light emitting layer.
本発明では、上記のカルバゾール環を部分構造として有する化合物、重合性基を有し、且つ、カルバゾール環を部分構造として有する化合物、該化合物の重合体が、ホスト化合物として特に好ましく用いられる。 In the present invention, the compound having the carbazole ring as a partial structure, the compound having a polymerizable group and having the carbazole ring as a partial structure, and a polymer of the compound are particularly preferably used as the host compound.
尚、ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を併用で用いてもよく、または複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機EL素子を高効率化することができる。また、後述する発光ドーパントを複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。 In addition, as a host compound, a well-known host compound may be used together, and may be used in combination of multiple types. By using a plurality of types of host compounds, it is possible to adjust the movement of charges, and the organic EL element can be made highly efficient. Moreover, it becomes possible to mix different light emission by using multiple types of light emission dopants mentioned later, and, thereby, arbitrary luminescent colors can be obtained.
併用してもよい従来公知のホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ、発光の長波長化を防ぎ、なお且つ高Tg(ガラス転移温度)である化合物が好ましい。 A conventionally known host compound that may be used in combination is preferably a compound that has a hole transporting ability and an electron transporting ability, prevents the emission of light from becoming longer, and has a high Tg (glass transition temperature). .
従来公知のホスト化合物の具体例としては、以下に示した化合物もしくは以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。 Specific examples of conventionally known host compounds include the compounds shown below or the compounds described in the following documents.
特開2001−257076号公報、同2002−308855号公報、同2001−313179号公報、同2002−319491号公報、同2001−357977号公報、同2002−334786号公報、同2002−8860号公報、同2002−334787号公報、同2002−15871号公報、同2002−334788号公報、同2002−43056号公報、同2002−334789号公報、同2002−75645号公報、同2002−338579号公報、同2002−105445号公報、同2002−343568号公報、同2002−141173号公報、同2002−352957号公報、同2002−203683号公報、同2002−363227号公報、同2002−231453号公報、同2003−3165号公報、同2002−234888号公報、同2003−27048号公報、同2002−255934号公報、同2002−260861号公報、同2002−280183号公報、同2002−299060号公報、同2002−302516号公報、同2002−305083号公報、同2002−305084号公報、同2002−308837号公報等。 JP-A-2001-257076, 2002-308855, 2001-313179, 2002-319491, 2001-357777, 2002-334786, 2002-8860, 2002-334787, 2002-15871, 2002-334788, 2002-43056, 2002-334789, 2002-75645, 2002-338579, 2002-105445 gazette, 2002-343568 gazette, 2002-141173 gazette, 2002-352957 gazette, 2002-203683 gazette, 2002-363227 gazette, 2002-231453 gazette, No. 003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002-255934, No. 2002-286061, No. 2002-280183, No. 2002-299060, No. 2002. -302516, 2002-305083, 2002-305084, 2002-308837, and the like.
(発光ドーパント)
本発明に係る発光ドーパントについて説明する。
(Luminescent dopant)
The light emitting dopant according to the present invention will be described.
発光ドーパントとしては、蛍光ドーパント(蛍光性化合物ともいう)、リン光発光性ドーパント(リン光発光体、リン光性化合物、リン光発光性化合物等ともいう)を用いることができるが、より発光効率の高い有機EL素子を得る観点からは、本発明の有機EL素子の発光層や発光ユニットに使用される発光ドーパント(単に、発光材料ということもある)としては、上記のホスト化合物を含有すると同時に、リン光発光性ドーパントを含有することが好ましい。 As the light-emitting dopant, a fluorescent dopant (also referred to as a fluorescent compound) or a phosphorescent dopant (also referred to as a phosphorescent emitter, a phosphorescent compound, or a phosphorescent compound) can be used. From the viewpoint of obtaining an organic EL device having a high thickness, the light-emitting dopant used in the light-emitting layer or light-emitting unit of the organic EL device of the present invention (sometimes simply referred to as a light-emitting material) contains the above host compound at the same time. It is preferable to contain a phosphorescent dopant.
(リン光発光性化合物(リン光発光性ドーパント))
リン光発光性化合物(リン光発光性ドーパント)について説明する。
(Phosphorescent compound (phosphorescent dopant))
The phosphorescent compound (phosphorescent dopant) will be described.
リン光発光性化合物は、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温(25℃)にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、25℃において0.01以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は0.1以上である。 A phosphorescent compound is a compound in which light emission from an excited triplet is observed. Specifically, it is a compound that emits phosphorescence at room temperature (25 ° C.), and the phosphorescence quantum yield is 25 ° C. Although defined as 0.01 or more compounds, the preferred phosphorescence quantum yield is 0.1 or more.
上記リン光量子収率は、第4版実験化学講座7の分光IIの398頁(1992年版、丸善)に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に係るリン光発光性化合物は、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率(0.01以上)が達成されればよい。 The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in Spectroscopic II, page 398 (1992 edition, Maruzen) of Experimental Chemistry Course 4 of the 4th edition. Although the phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, the phosphorescence emitting compound according to the present invention achieves the above phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any solvent. It only has to be done.
リン光発光性化合物の発光は原理としては2種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上でキャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光発光性化合物に移動させることでリン光発光性化合物からの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光発光性化合物がキャリアトラップとなり、リン光発光性化合物上でキャリアの再結合が起こり、リン光発光性化合物からの発光が得られるというキャリアトラップ型が挙げられる。 There are two types of emission of phosphorescent compounds in principle. One is the recombination of carriers on the host compound to which carriers are transported to generate an excited state of the host compound. Energy transfer type to obtain light emission from the phosphorescent compound by transferring to the phosphorescent compound, the other is that the phosphorescent compound becomes a carrier trap, carrier recombination occurs on the phosphorescent compound, Examples include a carrier trap type in which light emission from a phosphorescent compound can be obtained.
上記のいずれの場合においても、リン光発光性化合物の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。 In any of the above cases, it is a condition that the excited state energy of the phosphorescent compound is lower than the excited state energy of the host compound.
リン光発光性化合物は、有機EL素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。 The phosphorescent compound can be appropriately selected from known compounds used for the light emitting layer of the organic EL device.
本発明に係るリン光発光性化合物としては、好ましくは元素周期表で8族〜10族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物(Ir錯体)、オスミウム化合物、または白金化合物(白金錯体系化合物)、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物(Ir錯体)である。 The phosphorescent compound according to the present invention is preferably a complex compound containing a group 8-10 metal in the periodic table, more preferably an iridium compound (Ir complex), an osmium compound, or a platinum compound. (Platinum complex compounds) and rare earth complexes, with iridium compounds (Ir complexes) being most preferred among them.
以下に、リン光発光性化合物として用いられる化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。これらの化合物は、例えば、Inorg.Chem.40巻、1704〜1711に記載の方法等により合成できる。 Specific examples of the compound used as the phosphorescent compound are shown below, but the present invention is not limited thereto. These compounds are described, for example, in Inorg. Chem. 40, 1704-1711, and the like.
以下、本発明に係るリン光発光性ドーパントの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, although the specific example of the phosphorescence-emitting dopant which concerns on this invention is shown, this invention is not limited to these.
(蛍光ドーパント(蛍光性化合物ともいう))
蛍光ドーパント(蛍光性化合物)としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、または希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
(Fluorescent dopant (also called fluorescent compound))
Fluorescent dopants (fluorescent compounds) include coumarin dyes, pyran dyes, cyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, oxobenzanthracene dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyrylium dyes, perylene dyes Examples thereof include dyes, stilbene dyes, polythiophene dyes, and rare earth complex phosphors.
次に、本発明の有機EL素子の構成層として用いられる、注入層、阻止層、電子輸送層等について説明する。 Next, an injection layer, a blocking layer, an electron transport layer, and the like used as a constituent layer of the organic EL element of the present invention will be described.
《注入層:電子注入層、正孔注入層》
注入層は必要に応じて設け、電子注入層と正孔注入層があり、上記の如く陽極と発光層または正孔輸送層の間、及び陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。
<< Injection layer: electron injection layer, hole injection layer >>
The injection layer is provided as necessary, and there are an electron injection layer and a hole injection layer, and as described above, it exists between the anode and the light emitting layer or the hole transport layer and between the cathode and the light emitting layer or the electron transport layer. May be.
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の第2編第2章「電極材料」(123〜166頁)に詳細に記載されており、正孔注入層(陽極バッファー層)と電子注入層(陰極バッファー層)とがある。 An injection layer is a layer provided between an electrode and an organic layer in order to reduce drive voltage and improve light emission luminance. “Organic EL element and its forefront of industrialization (issued by NTT Corporation on November 30, 1998) 2), Chapter 2, “Electrode Materials” (pages 123 to 166) in detail, and includes a hole injection layer (anode buffer layer) and an electron injection layer (cathode buffer layer).
陽極バッファー層(正孔注入層)は、特開平9−45479号公報、同9−260062号公報、同8−288069号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン(エメラルディン)やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。 The details of the anode buffer layer (hole injection layer) are described in JP-A-9-45479, JP-A-9-260062, JP-A-8-288069 and the like. As a specific example, copper phthalocyanine is used. Examples thereof include a phthalocyanine buffer layer represented by an oxide, an oxide buffer layer represented by vanadium oxide, an amorphous carbon buffer layer, and a polymer buffer layer using a conductive polymer such as polyaniline (emeraldine) or polythiophene.
陰極バッファー層(電子注入層)は、特開平6−325871号公報、同9−17574号公報、同10−74586号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層(注入層)はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は0.1nm〜5μmの範囲が好ましい。 The details of the cathode buffer layer (electron injection layer) are described in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specifically, strontium, aluminum, etc. Metal buffer layer typified by lithium, alkali metal compound buffer layer typified by lithium fluoride, alkaline earth metal compound buffer layer typified by magnesium fluoride, oxide buffer layer typified by aluminum oxide, etc. . The buffer layer (injection layer) is preferably a very thin film, and the film thickness is preferably in the range of 0.1 nm to 5 μm although it depends on the material.
《阻止層:正孔阻止層、電子阻止層》
阻止層は、上記の如く有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載されている正孔阻止(ホールブロック)層がある。
<Blocking layer: hole blocking layer, electron blocking layer>
The blocking layer is provided as necessary in addition to the basic constituent layer of the organic compound thin film as described above. For example, it is described in JP-A Nos. 11-204258, 11-204359, and “Organic EL elements and their forefront of industrialization” (issued by NTT, Inc. on November 30, 1998). There is a hole blocking (hole blocking) layer.
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。 The hole blocking layer has a function of an electron transport layer in a broad sense, and is made of a hole blocking material that has a function of transporting electrons and has a remarkably small ability to transport holes. The probability of recombination of electrons and holes can be improved by blocking.
また、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることができる。 Moreover, the structure of the electron carrying layer mentioned later can be used as a hole-blocking layer concerning this invention as needed.
本発明の有機EL素子の正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。 The hole blocking layer of the organic EL device of the present invention is preferably provided adjacent to the light emitting layer.
正孔阻止層には、前述のホスト化合物として挙げたアザカルバゾール誘導体を含有することが好ましい。 The hole blocking layer preferably contains the azacarbazole derivative mentioned as the host compound.
また、本発明においては、複数の発光色の異なる複数の発光層を有する場合、その発光極大波長が最も短波にある発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましいが、このような場合、該最短波層と該層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設けることが好ましい。 In the present invention, when a plurality of light emitting layers having different light emission colors are provided, the light emitting layer having the shortest wavelength of light emission is preferably closest to the anode among all the light emitting layers. In this case, it is preferable to additionally provide a hole blocking layer between the shortest wave layer and the light emitting layer next to the anode next to the anode.
更には、該位置に設けられる正孔阻止層に含有される化合物の50質量%以上が、前記最短波発光層のホスト化合物に対しそのイオン化ポテンシャルが0.3eV以上大きいことが好ましい。 Furthermore, it is preferable that 50% by mass or more of the compound contained in the hole blocking layer provided at the position has an ionization potential of 0.3 eV or more larger than the host compound of the shortest wave emitting layer.
イオン化ポテンシャルは化合物のHOMO(最高被占分子軌道)レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることができる。 The ionization potential is defined by the energy required to emit an electron at the HOMO (highest occupied molecular orbital) level of the compound to the vacuum level, and can be obtained by the following method, for example.
(1)米国Gaussian社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるGaussian98(Gaussian98、Revision A.11.4,M.J.Frisch,et al,Gaussian,Inc.,Pittsburgh PA,2002.)を用い、キーワードとしてB3LYP/6−31G*を用いて構造最適化を行うことにより算出した値(eV単位換算値)の小数点第2位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることができる。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。 (1) Using Gaussian 98 (Gaussian 98, Revision A.11.4, MJ Frisch, et al, Gaussian, Inc., Pittsburgh PA, 2002.), a molecular orbital calculation software manufactured by Gaussian, USA The ionization potential can be obtained as a value obtained by rounding off the second decimal place of the value (eV unit converted value) calculated by performing structural optimization using B3LYP / 6-31G *. This calculation value is effective because the correlation between the calculation value obtained by this method and the experimental value is high.
(2)イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることもできる。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Model AC−1」を用いて、あるいは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることができる。 (2) The ionization potential can also be obtained by a method of directly measuring by photoelectron spectroscopy. For example, a method known as ultraviolet photoelectron spectroscopy can be suitably used by using a low energy electron spectrometer “Model AC-1” manufactured by Riken Keiki Co., Ltd.
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。 On the other hand, the electron blocking layer has a function of a hole transport layer in a broad sense, and is made of a material that has a function of transporting holes and has an extremely small ability to transport electrons, and transports electrons while transporting holes. By blocking, the recombination probability of electrons and holes can be improved.
また、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に係る正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては、好ましくは3nm〜100nmであり、更に好ましくは5nm〜30nmである。 Moreover, the structure of the positive hole transport layer mentioned later can be used as an electron blocking layer as needed. The film thickness of the hole blocking layer and the electron transport layer according to the present invention is preferably 3 nm to 100 nm, and more preferably 5 nm to 30 nm.
《正孔輸送層》
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Hole transport layer》
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, a hole injection layer and an electron blocking layer are also included in the hole transport layer. The hole transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。 The hole transport material has any one of hole injection or transport and electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. For example, triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, Examples thereof include stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline copolymers, and conductive polymer oligomers, particularly thiophene oligomers.
正孔輸送材料としては上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第3級アミン化合物を用いることが好ましい。 The above-mentioned materials can be used as the hole transport material, but it is preferable to use a porphyrin compound, an aromatic tertiary amine compound and a styrylamine compound, particularly an aromatic tertiary amine compound.
芳香族第3級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノフェニル;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(TPD);2,2−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)プロパン;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン;N,N,N′,N′−テトラ−p−トリル−4,4′−ジアミノビフェニル;1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン;ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)フェニルメタン;ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)フェニルメタン;N,N′−ジフェニル−N,N′−ジ(4−メトキシフェニル)−4,4′−ジアミノビフェニル;N,N,N′,N′−テトラフェニル−4,4′−ジアミノジフェニルエーテル;4,4′−ビス(ジフェニルアミノ)クオードリフェニル;N,N,N−トリ(p−トリル)アミン;4−(ジ−p−トリルアミノ)−4′−〔4−(ジ−p−トリルアミノ)スチリル〕スチルベン;4−N,N−ジフェニルアミノ−(2−ジフェニルビニル)ベンゼン;3−メトキシ−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン;N−フェニルカルバゾール、更には米国特許第5,061,569号明細書に記載されている2個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、4,4′−ビス〔N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ〕ビフェニル(NPD)、特開平4−308688号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4′,4″−トリス〔N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン(MTDATA)等が挙げられる。 Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl; N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (TPD); 2,2-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) propane; 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane; N, N, N ′, N′-tetra-p-tolyl-4,4′-diaminobiphenyl; 1,1-bis (4-di-p-tolyl) Aminophenyl) -4-phenylcyclohexane; bis (4-dimethylamino-2-methylphenyl) phenylmethane; bis (4-di-p-tolylaminophenyl) phenylmethane; N, N'-diphenyl-N, N ' − (4-methoxyphenyl) -4,4'-diaminobiphenyl; N, N, N ', N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether; 4,4'-bis (diphenylamino) quadriphenyl; N, N, N-tri (p-tolyl) amine; 4- (di-p-tolylamino) -4 '-[4- (di-p-tolylamino) styryl] stilbene; 4-N, N-diphenylamino- (2-diphenylvinyl) benzene; 3-methoxy-4′-N, N-diphenylaminostilbenzene; N-phenylcarbazole, and also two of those described in US Pat. No. 5,061,569. Having a condensed aromatic ring in the molecule, for example, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (NPD), JP-A-4-3086 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine in which three triphenylamine units described in Japanese Patent No. 8 are linked in a starburst type ( MTDATA) and the like.
更に、これらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、p型−Si、p型−SiC等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。 Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used. In addition, inorganic compounds such as p-type-Si and p-type-SiC can also be used as the hole injection material and the hole transport material.
また、特開平11−251067号公報、J.Huang et.al.著文献(Applied Physics Letters 80(2002),p.139)に記載されているような、所謂p型正孔輸送材料を用いることもできる。さらには後述する重合性化合物または該重合性化合物から導かれる構造単位を有する高分子化合物を含有する本発明の有機EL素子材料を用いることができる、また、上記の材料を併用してもよい。 JP-A-11-251067, J. Org. Huang et. al. A so-called p-type hole transport material as described in a book (Applied Physics Letters 80 (2002), p. 139) can also be used. Furthermore, the organic EL element material of the present invention containing a polymerizable compound described later or a polymer compound having a structural unit derived from the polymerizable compound can be used, and the above materials may be used in combination.
以下、本発明に係る正孔輸送材料の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, representative specific examples of the hole transport material according to the present invention are shown, but the present invention is not limited thereto.
正孔輸送層は上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができるが、本発明においては塗布法(塗布プロセス)により作製されることが好ましい。正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5nm〜200nmである。この正孔輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。 The hole transport layer can be formed by thinning the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method. However, in the present invention, it is preferably produced by a coating method (coating process). Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of a positive hole transport layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5 nm-200 nm. The hole transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.
また、不純物をドープしたp性の高い正孔輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報の各公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。 Alternatively, a hole transport layer having a high p property doped with impurities can be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J. Pat. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.
本発明においては、このようなp性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。 In the present invention, it is preferable to use a hole transport layer having such a high p property because a device with lower power consumption can be produced.
《電子輸送層》
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
《Electron transport layer》
The electron transport layer is made of a material having a function of transporting electrons, and in a broad sense, an electron injection layer and a hole blocking layer are also included in the electron transport layer. The electron transport layer can be provided as a single layer or a plurality of layers.
従来、単層の電子輸送層、及び複数層とする場合は発光層に対して陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。 Conventionally, in the case of a single electron transport layer and a plurality of layers, an electron transport material (also serving as a hole blocking material) used for an electron transport layer adjacent to the light emitting layer on the cathode side is injected from the cathode. Any material may be used as long as it has a function of transferring electrons to the light-emitting layer, and any material can be selected from conventionally known compounds.
例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。 Examples include nitro-substituted fluorene derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, carbodiimides, fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, and the like.
更に上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。 Furthermore, in the above oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative in which the oxygen atom of the oxadiazole ring is substituted with a sulfur atom, and a quinoxaline derivative having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group can also be used as an electron transport material. Furthermore, a polymer material in which these materials are introduced into a polymer chain or these materials are used as a polymer main chain can also be used.
また、8−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス(8−キノリノール)アルミニウム(Alq)、トリス(5,7−ジクロロ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−キノリノール)アルミニウム、ビス(8−キノリノール)亜鉛(Znq)等、及びこれらの金属錯体の中心金属がIn、Mg、Cu、Ca、Sn、GaまたはPbに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。 In addition, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum (Alq), tris (5,7-dichloro-8-quinolinol) aluminum, tris (5,7-dibromo-8-quinolinol) aluminum Tris (2-methyl-8-quinolinol) aluminum, tris (5-methyl-8-quinolinol) aluminum, bis (8-quinolinol) zinc (Znq), and the like, and the central metals of these metal complexes are In, Mg, Metal complexes replaced with Cu, Ca, Sn, Ga or Pb can also be used as the electron transport material.
その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、またはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料として例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができるし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にn型−Si、n型−SiC等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。 In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those having terminal ends substituted with an alkyl group or a sulfonic acid group can be preferably used as the electron transporting material. In addition, the distyrylpyrazine derivative exemplified as the material of the light emitting layer can also be used as an electron transport material, and an inorganic semiconductor such as n-type-Si, n-type-SiC, etc. as in the case of the hole injection layer and the hole transport layer. Can also be used as an electron transporting material.
以下、本発明に係る電子輸送材料の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, although the specific example of the electron transport material which concerns on this invention is shown, this invention is not limited to these.
電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。 The electron transport layer can be formed by thinning the electron transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a printing method including an ink jet method, or an LB method.
電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は5nm〜5μm程度、好ましくは5nm〜200nmである。電子輸送層は上記材料の1種または2種以上からなる一層構造であってもよい。 Although there is no restriction | limiting in particular about the film thickness of an electron carrying layer, Usually, 5 nm-about 5 micrometers, Preferably it is 5 nm-200 nm. The electron transport layer may have a single layer structure composed of one or more of the above materials.
また、不純物をドープしたn性の高い電子輸送層を用いることもできる。その例としては、特開平4−297076号公報、同10−270172号公報、特開2000−196140号公報、同2001−102175号公報、J.Appl.Phys.,95,5773(2004)等に記載されたものが挙げられる。 Further, an electron transport layer having a high n property doped with impurities can also be used. Examples thereof include JP-A-4-297076, JP-A-10-270172, JP-A-2000-196140, 2001-102175, J.A. Appl. Phys. 95, 5773 (2004), and the like.
本発明においては、このようなn性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。 In the present invention, it is preferable to use an electron transport layer having such a high n property because an element with lower power consumption can be manufactured.
《陽極》
有機EL素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。
"anode"
As the anode in the organic EL element, an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a high work function (4 eV or more) is preferably used.
このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。 Specific examples of such electrode materials include metals such as Au, and conductive transparent materials such as CuI, indium tin oxide (ITO), SnO 2 , and ZnO.
また、IDIXO(In2O3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。 Alternatively, an amorphous material such as IDIXO (In 2 O 3 —ZnO) capable of forming a transparent conductive film may be used. For the anode, these electrode materials may be formed into a thin film by a method such as vapor deposition or sputtering, and a pattern having a desired shape may be formed by a photolithography method, or when pattern accuracy is not so high (about 100 μm or more) A pattern may be formed through a mask having a desired shape at the time of vapor deposition or sputtering of the electrode material.
あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。 Or when using the substance which can be apply | coated like an organic electroconductivity compound, wet film-forming methods, such as a printing system and a coating system, can also be used.
この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常10nm〜1000nm、好ましくは10nm〜200nmの範囲で選ばれる。 When light emission is extracted from the anode, it is desirable that the transmittance be greater than 10%, and the sheet resistance as the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, although the film thickness depends on the material, it is usually selected in the range of 10 nm to 1000 nm, preferably 10 nm to 200 nm.
《陰極》
一方、陰極としては仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。
"cathode"
On the other hand, as the cathode, a material having a low work function (4 eV or less) metal (referred to as an electron injecting metal), an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof as an electrode material is used. Specific examples of such electrode materials include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) Mixtures, indium, lithium / aluminum mixtures, rare earth metals and the like.
これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、銀ナノインク等金属ナノ粒子の分散液を塗布成膜し、その後の加熱焼成によって形成した金属箔膜を使用しても良い。 Among these, from the point of durability against electron injection and oxidation, etc., a mixture of an electron injecting metal and a second metal which is a stable metal having a larger work function than this, for example, a magnesium / silver mixture, Magnesium / aluminum mixtures, magnesium / indium mixtures, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixtures, lithium / aluminum mixtures, aluminum and the like are preferred. The cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. Alternatively, a metal foil film formed by coating a dispersion of metal nanoparticles such as silver nano ink and then heating and baking may be used.
陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50nm〜200nmの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機EL素子の陽極または陰極のいずれか一方が透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。 The sheet resistance as the cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually selected in the range of 10 nm to 5 μm, preferably 50 nm to 200 nm. In order to transmit the emitted light, if either one of the anode or the cathode of the organic EL element is transparent or translucent, the light emission luminance is improved, which is convenient.
また、陰極に上記金属を1nm〜20nmの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。 Moreover, after producing the said metal by the film thickness of 1 nm-20 nm to a cathode, the transparent or semi-transparent cathode can be produced by producing the electroconductive transparent material quoted by description of the anode on it, By applying this, an element in which both the anode and the cathode are transmissive can be manufactured.
《支持基板》
本発明の有機EL素子に用いることのできる支持基板(以下、基体、基板、基材、支持体等とも言う)としては、ガラス、プラスチック等の種類には特に限定はなく、また透明であっても不透明であってもよい。支持基板側から光を取り出す場合には、支持基板は透明であることが好ましい。
《Support substrate》
As a support substrate (hereinafter also referred to as a substrate, substrate, substrate, support, etc.) that can be used in the organic EL device of the present invention, there is no particular limitation on the type of glass, plastic, etc., and it is transparent. May be opaque. When extracting light from the support substrate side, the support substrate is preferably transparent.
好ましく用いられる透明な支持基板としては、ガラス、石英、透明樹脂フィルムを挙げることができる。特に好ましい支持基板は、有機EL素子にフレキシブル性を与えることが可能な樹脂フィルムである。 Examples of the transparent support substrate preferably used include glass, quartz, and a transparent resin film. A particularly preferable support substrate is a resin film capable of giving flexibility to the organic EL element.
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)、セルロースアセテートフタレート(TAC)、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリルあるいはポリアリレート類、アートン(商品名JSR社製)あるいはアペル(商品名三井化学社製)といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。 Examples of the resin film include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP), Cellulose esters such as cellulose acetate phthalate (TAC) and cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide , Polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones Cycloolefin resins such as polyetherimide, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethylmethacrylate, acrylic or polyarylate, Arton (trade name, manufactured by JSR) or Appel (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals) Can be mentioned.
樹脂フィルムの表面には、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよく、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が0.01g/(m2・24h)以下のバリア性フィルムであることが好ましく、更には、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が、10−3ml/(m2・24h・MPa)以下、水蒸気透過度が、10−5g/(m2・24h)以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。 On the surface of the resin film, an inorganic film, an organic film, or a hybrid film of both may be formed. Water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C.) measured by a method according to JIS K 7129-1992. , Relative humidity (90 ± 2)% RH) is preferably 0.01 g / (m 2 · 24 h) or less, and further, oxygen measured by a method according to JIS K 7126-1987. A high barrier film having a permeability of 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · MPa) or less and a water vapor permeability of 10 −5 g / (m 2 · 24 h) or less is preferable.
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。 As a material for forming the barrier film, any material may be used as long as it has a function of suppressing entry of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like can be used. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is more preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and organic material layers.
無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。 Although there is no restriction | limiting in particular about the lamination | stacking order of an inorganic layer and an organic layer, It is preferable to laminate | stack both alternately several times.
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができるが、特開2004−68143号公報に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。 The method for forming the barrier film is not particularly limited. For example, the vacuum deposition method, sputtering method, reactive sputtering method, molecular beam epitaxy method, cluster ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma weight A combination method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, and the like can be used. However, an atmospheric pressure plasma polymerization method as described in JP-A-2004-68143 is particularly preferable.
不透明な支持基板としては、例えば、アルミ、ステンレス等の金属板、フィルムや不透明樹脂基板、セラミック製の基板等が挙げられる。 Examples of the opaque support substrate include metal plates such as aluminum and stainless steel, films, opaque resin substrates, and ceramic substrates.
本発明の有機EL素子の発光の室温における外部取り出し効率は、1%以上であることが好ましく、より好ましくは5%以上である。 The external extraction efficiency at room temperature of light emission of the organic EL device of the present invention is preferably 1% or more, more preferably 5% or more.
ここに、外部取り出し量子効率(%)=有機EL素子外部に発光した光子数/有機EL素子に流した電子数×100である。 Here, the external extraction quantum efficiency (%) = the number of photons emitted to the outside of the organic EL element / the number of electrons sent to the organic EL element × 100.
また、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機EL素子からの発光色を、蛍光体を用い多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機EL素子の発光のλmaxは480nm以下が好ましい。 In addition, a hue improvement filter such as a color filter may be used in combination, or a color conversion filter that converts the emission color from the organic EL element into multiple colors using a phosphor may be used in combination. In the case of using a color conversion filter, the λmax of light emission of the organic EL element is preferably 480 nm or less.
《封止》
本発明に用いられる封止手段としては、例えば、封止部材と電極、支持基板とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
<Sealing>
As a sealing means used for this invention, the method of adhere | attaching a sealing member, an electrode, and a support substrate with an adhesive agent can be mentioned, for example.
封止部材としては、有機EL素子の表示領域を覆うように配置されておればよく、凹板状でも平板状でもよい。また透明性、電気絶縁性は特に問わない。 As a sealing member, it should just be arrange | positioned so that the display area | region of an organic EL element may be covered, and concave plate shape or flat plate shape may be sufficient. Further, transparency and electrical insulation are not particularly limited.
具体的には、ガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属または合金からなるものが挙げられる。 Specific examples include a glass plate, a polymer plate / film, and a metal plate / film. Examples of the glass plate include soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz. Examples of the polymer plate include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, and polysulfone. Examples of the metal plate include those made of one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.
本発明においては、素子を薄膜化できるということからポリマーフィルム、金属フィルムを好ましく使用することができる。更には、ポリマーフィルムは、JIS K 7126−1987に準拠した方法で測定された酸素透過度が1×10−3ml/(m2・24h・MPa)以下、JIS K 7129−1992に準拠した方法で測定された、水蒸気透過度(25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)が1×10−3g/(m2・24h)以下のものであることが好ましい。 In the present invention, a polymer film and a metal film can be preferably used because the element can be thinned. Furthermore, the polymer film has a oxygen permeability measured by a method according to JIS K 7126-1987 of 1 × 10 −3 ml / (m 2 · 24 h · MPa) or less, and a method according to JIS K 7129-1992. It is preferable that the water vapor permeability (25 ± 0.5 ° C., relative humidity (90 ± 2)% RH) measured in (1) is 1 × 10 −3 g / (m 2 · 24 h) or less.
封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等が使われる。 For processing the sealing member into a concave shape, sandblasting, chemical etching, or the like is used.
接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、2−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。 Specific examples of the adhesive include photocuring and thermosetting adhesives having reactive vinyl groups such as acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and moisture curing adhesives such as 2-cyanoacrylates. be able to.
また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型(二液混合)を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。 Moreover, heat | fever and chemical curing types (two-component mixing), such as an epoxy type, can be mentioned. Moreover, hot-melt type polyamide, polyester, and polyolefin can be mentioned. Moreover, a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive can be mentioned.
なお、有機EL素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から80℃までに接着硬化できるものが好ましい。また、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。 In addition, since an organic EL element may deteriorate by heat processing, what can be adhesive-hardened from room temperature to 80 degreeC is preferable. A desiccant may be dispersed in the adhesive. Application | coating of the adhesive agent to a sealing part may use commercially available dispenser, and may print like screen printing.
また、有機層を挟み支持基板と対向する側の電極の外側に、該電極と有機層を被覆し、支持基板と接する形で、無機物、有機物の層を形成し封止膜とすることも好適にできる。この場合、該膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。 It is also preferable to form an inorganic or organic layer as a sealing film by coating the electrode and the organic layer on the outer side of the electrode facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween, and in contact with the support substrate. Can be. In this case, the material for forming the film may be any material that has a function of suppressing intrusion of elements that cause deterioration of elements such as moisture and oxygen. For example, silicon oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like may be used. it can. Further, in order to improve the brittleness of the film, it is preferable to have a laminated structure of these inorganic layers and layers made of organic materials.
これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることができる。 The method for forming these films is not particularly limited. For example, vacuum deposition, sputtering, reactive sputtering, molecular beam epitaxy, cluster-ion beam method, ion plating method, plasma polymerization method, atmospheric pressure plasma A polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used.
封止部材と有機EL素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また真空とすることも可能である。また、内部に吸湿性化合物を封入することもできる。 In the gap between the sealing member and the display area of the organic EL element, an inert gas such as nitrogen or argon, or an inert liquid such as fluorinated hydrocarbon or silicon oil can be injected in the gas phase and liquid phase. preferable. A vacuum is also possible. Moreover, a hygroscopic compound can also be enclosed inside.
吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物(例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等)、硫酸塩(例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等)、金属ハロゲン化物(例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等)、過塩素酸類(例えば、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等)等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。 Examples of the hygroscopic compound include metal oxides (for example, sodium oxide, potassium oxide, calcium oxide, barium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide) and sulfates (for example, sodium sulfate, calcium sulfate, magnesium sulfate, cobalt sulfate). Etc.), metal halides (eg calcium chloride, magnesium chloride, cesium fluoride, tantalum fluoride, cerium bromide, magnesium bromide, barium iodide, magnesium iodide etc.), perchloric acids (eg perchloric acid) Barium, magnesium perchlorate, and the like), and anhydrous salts are preferably used in sulfates, metal halides, and perchloric acids.
《保護膜、保護板》
有機層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜、あるいは前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために保護膜、あるいは保護板を設けてもよい。
《Protective film, protective plate》
In order to increase the mechanical strength of the element, a protective film or a protective plate may be provided on the outer side of the sealing film on the side facing the support substrate with the organic layer interposed therebetween or on the sealing film.
特に封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量且つ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。 In particular, when the sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength is not necessarily high, and thus it is preferable to provide such a protective film and a protective plate. As a material that can be used for this, the same glass plate, polymer plate / film, metal plate / film, and the like used for the sealing can be used, but the polymer film is light and thin. Is preferably used.
《光取り出し》
有機EL素子は空気よりも屈折率の高い(屈折率が1.7〜2.1程度)層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち15%から20%程度の光しか取り出せないことが一般的にいわれている。
《Light extraction》
The organic EL element emits light inside a layer having a refractive index higher than that of air (refractive index is about 1.7 to 2.1) and can extract only about 15% to 20% of the light generated in the light emitting layer. It is generally said.
これは、臨界角以上の角度θで界面(透明基板と空気との界面)に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として光が素子側面方向に逃げるためである。 This is because light incident on the interface (interface between the transparent substrate and air) at an angle θ greater than the critical angle causes total reflection and cannot be taken out of the device, or between the transparent electrode or light emitting layer and the transparent substrate. This is because the light is totally reflected between the light and the light is guided through the transparent electrode or the light emitting layer, and as a result, the light escapes in the direction of the element side surface.
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法(米国特許第4,774,435号明細書)、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法(特開昭63−314795号公報)、素子の側面等に反射面を形成する方法(特開平1−220394号公報)、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法(特開昭62−172691号公報)、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法(特開2001−202827号公報)、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法(特開平11−283751号公報)等がある。 As a method for improving the light extraction efficiency, for example, a method of forming irregularities on the surface of the transparent substrate to prevent total reflection at the interface between the transparent substrate and the air (US Pat. No. 4,774,435), A method of improving efficiency by providing a light collecting property to a substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 63-314795), a method of forming a reflective surface on a side surface of an element (Japanese Patent Laid-Open No. 1-220394), and light emission from a substrate A method of forming an antireflection film by introducing a flat layer having an intermediate refractive index between the bodies (Japanese Patent Laid-Open No. 62-172691), a flat having a lower refractive index between the substrate and the light emitter than the substrate A method of introducing a layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-202827), a method of forming a diffraction grating between any one of a substrate, a transparent electrode layer and a light emitting layer (including between the substrate and the outside) (Japanese Patent Laid-Open No. 11-283951) Gazette).
これらの方法を有機EL素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、あるいは基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間(含む、基板と外界間)に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。 These methods can be used in combination with an organic EL device, but either a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter, or any of the substrate, the transparent electrode layer, and the light emitting layer A method of forming a diffraction grating between these layers (including between the substrate and the outside) can be suitably used.
これらの手段を組み合わせることにより、更に高輝度あるいは耐久性に優れた素子を得ることができる。 By combining these means, it is possible to obtain an element having higher luminance or durability.
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど外部への取り出し効率が高くなる。 When a medium having a low refractive index is formed between the transparent electrode and the transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the light extracted from the transparent electrode has a higher extraction efficiency to the outside as the refractive index of the medium is lower.
低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマー等が挙げられる。透明基板の屈折率は一般に1.5〜1.7程度であるので、低屈折率層は屈折率がおよそ1.5以下であることが好ましい。また、更に1.35以下であることが好ましい。 Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, and a fluorine-based polymer. Since the refractive index of the transparent substrate is generally about 1.5 to 1.7, the low refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.5 or less. Further, it is preferably 1.35 or less.
また、低屈折率媒質の厚みは媒質中の波長の2倍以上となるのが望ましい。これは低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。 The thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium. This is because the effect of the low refractive index layer is diminished when the thickness of the low refractive index medium is about the wavelength of light and the electromagnetic wave that has exuded by evanescent enters the substrate.
全反射を起こす界面もしくはいずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。 The method of introducing a diffraction grating into an interface or any medium that causes total reflection is characterized by a high effect of improving light extraction efficiency.
この方法は回折格子が1次の回折や2次の回折といった所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間もしくは、媒質中(透明基板内や透明電極内)に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。 This method uses the property that the diffraction grating can change the direction of light to a specific direction different from refraction by so-called Bragg diffraction such as first-order diffraction and second-order diffraction. Light that cannot be emitted due to total internal reflection between layers is diffracted by introducing a diffraction grating in any layer or medium (in a transparent substrate or transparent electrode), and the light is removed. I want to take it out.
導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な1次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。 The introduced diffraction grating desirably has a two-dimensional periodic refractive index. This is because light emitted from the light-emitting layer is randomly generated in all directions, so in a general one-dimensional diffraction grating having a periodic refractive index distribution only in a certain direction, only light traveling in a specific direction is diffracted. Therefore, the light extraction efficiency does not increase so much.
しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。 However, by making the refractive index distribution a two-dimensional distribution, light traveling in all directions is diffracted, and light extraction efficiency is increased.
回折格子を導入する位置としては前述の通り、いずれかの層間もしくは媒質中(透明基板内や透明電極内)でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。 As described above, the position where the diffraction grating is introduced may be in any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or in the transparent electrode), but is preferably in the vicinity of the organic light emitting layer where light is generated.
このとき、回折格子の周期は媒質中の光の波長の約1/2〜3倍程度が好ましい。 At this time, the period of the diffraction grating is preferably about 1/2 to 3 times the wavelength of light in the medium.
回折格子の配列は正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状等、2次元的に配列が繰り返されることが好ましい。 The arrangement of the diffraction grating is preferably two-dimensionally repeated such as a square lattice, a triangular lattice, or a honeycomb lattice.
《集光シート》
本発明の有機EL素子は基板の光取り出し側に、例えば、マイクロレンズアレイ状の構造を設けるように加工したり、あるいは所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば、素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
<Condenser sheet>
The organic EL device of the present invention is processed on the light extraction side of the substrate so as to provide, for example, a microlens array structure, or combined with a so-called condensing sheet, for example, with respect to a specific direction, for example, the light emitting surface By condensing in the front direction, the luminance in a specific direction can be increased.
マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が30μmでその頂角が90度となるような四角錐を2次元に配列する。一辺は10μm〜100μmが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。 As an example of the microlens array, quadrangular pyramids having a side of 30 μm and an apex angle of 90 degrees are two-dimensionally arranged on the light extraction side of the substrate. One side is preferably 10 μm to 100 μm. If it becomes smaller than this, the effect of diffraction will generate | occur | produce and color, and if too large, thickness will become thick and is not preferable.
集光シートとしては、例えば、液晶表示装置のLEDバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして、例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム(BEF)等を用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば、基材に頂角90度、ピッチ50μmの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。 As the condensing sheet, for example, a sheet that is put into practical use in an LED backlight of a liquid crystal display device can be used. As such a sheet, for example, a brightness enhancement film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M Limited can be used. As the shape of the prism sheet, for example, the base material may be formed by forming a △ -shaped stripe having a vertex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm, or the vertex angle is rounded and the pitch is changed randomly. Other shapes may be used.
また、発光素子からの光放射角を制御するために、光拡散板・フィルムを集光シートと併用してもよい。例えば、(株)きもと製拡散フィルム(ライトアップ)等を用いることができる。 Moreover, in order to control the light emission angle from a light emitting element, you may use together a light diffusing plate and a film with a condensing sheet. For example, a diffusion film (light-up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. can be used.
〈不溶化〉
本発明のウエットプロセスよるマルチユニット構造を有する有機EL素子においては、真空蒸着法に代表されるドライプロセスでの製造では生じない固有の問題、特に、積層成膜時に上層の塗布液溶媒による下層のダメージが生じることが課題となる。ウエットプロセスによる積層方法については、これまでにも多くの発明が成されており、例えば、下層の主材料の溶解度パラメータの可溶範囲外の溶媒に上層の材料を溶解させ、下層薄膜表面を乱れさせることなく、積層する技術等が開示されている(例えば、特開2002−299061号公報)。本発明においては、このような公知技術を、マルチユニット構造を形成する際に使用することが出来るが、以下に示すような積極的な不溶化技術を使用することが好ましい。
<Insolubilization>
In the organic EL device having a multi-unit structure according to the wet process of the present invention, there is an inherent problem that does not occur in the production by a dry process typified by a vacuum deposition method. The problem is that damage occurs. Many inventions have been made so far regarding the lamination method by the wet process. For example, the upper layer material is dissolved in a solvent outside the solubility range of the solubility parameter of the lower layer main material to disturb the lower layer thin film surface. A technique for laminating the film without disposing it is disclosed (for example, JP-A-2002-299061). In the present invention, such a known technique can be used when forming a multi-unit structure, but it is preferable to use a positive insolubilization technique as described below.
本発明で用いる不溶化とは、塗布プロセスで成膜した後、以下に示す不溶化処理を行うことで、後述するテスト溶媒に対して、イナートな状態に変化させることをいう。 The insolubilization used in the present invention refers to changing to an inert state with respect to a test solvent to be described later by performing the insolubilization treatment described below after film formation by a coating process.
本発明での不溶化処理について説明する。
(1)溶媒和の抑制
溶解とは溶質が溶媒和され、溶媒中に拡散する現象を指すが、ここでは溶媒和の抑制、もしくは拡散の抑制することによって不溶化を図る。以下に不溶化処理方法の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
The insolubilization process in the present invention will be described.
(1) Inhibition of Solvation Dissolution refers to a phenomenon in which a solute is solvated and diffuses into the solvent. Here, insolubilization is achieved by suppressing solvation or suppressing diffusion. Although the specific example of the insolubilization processing method is shown below, this invention is not limited to these.
1.高分子量材料もしくは高分子重合体材料の使用:溶媒和の割合比率を小さくし、溶媒和を抑制すると共に、溶質の拡散性(運動性)を低下させることで、溶媒中への溶質の拡散の抑制を行う。本発明での高分子量材料とは、分子量800以上1500以下の芳香族縮合環誘導体もしくは複素芳香族縮合環誘導体、より好ましくは分子量800以上1200以下の芳香族縮合環誘導体もしくは複素芳香族縮合環誘導体である。また、高分子重合体材料としては、数平均分子量10,000から1,000,000のビニルポリマー、ポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスルフィド、ポリイミド、ポリアリーレンである。 1. Use of high molecular weight material or high molecular weight polymer material: Decreasing the proportion of solvation, suppressing solvation and reducing solute diffusivity (mobility) Do suppression. The high molecular weight material in the present invention is an aromatic condensed ring derivative or heteroaromatic condensed ring derivative having a molecular weight of 800 or more and 1500 or less, more preferably an aromatic condensed ring derivative or heteroaromatic condensed ring derivative having a molecular weight of 800 or more and 1200 or less. It is. Examples of the polymer material include vinyl polymers having a number average molecular weight of 10,000 to 1,000,000, polyesters, polyamides, polyethers, polysulfides, polyimides, and polyarylenes.
2.膜表面改質:電子線、紫外線、コロナ、プラズマ等による表面改質処理や、Macromolecules 1996,29,1229−1234、あるいはDIC Technical Review No.7/2001等記載の置換基の表面局在化等を利用した表面自由エネルギーのコントロールにより、溶媒の溶質中への拡散を抑制する。
(2)不溶体への化学的変化の利用
溶液からの塗布・成膜後、熱・光・電磁波等々の内部あるいは外部刺激による化学的、あるいは物理的変化を伴って、再溶解が不可能な状態にする。以下に不溶化処理方法の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
2. Film surface modification: surface modification treatment by electron beam, ultraviolet ray, corona, plasma, etc., Macromolecules 1996, 29, 1229-1234, or DIC Technical Review No. By controlling surface free energy using surface localization of substituents described in 7/2001, etc., diffusion of the solvent into the solute is suppressed.
(2) Utilization of chemical changes to insoluble materials After application and film formation from solution, re-dissolution is impossible due to chemical or physical changes caused by internal or external stimuli such as heat, light, electromagnetic waves, etc. Put it in a state. Although the specific example of the insolubilization processing method is shown below, this invention is not limited to these.
1.架橋反応:低分子量材料、高分子量材料、あるいは高分子重合体中に複数個存在する架橋基(重合成反応基)を利用して、塗布・成膜後に、熱・光・電磁波等々の刺激により多次元架橋を行い不溶化する方法。熱・光重合開始剤や、架橋剤を併用しても構わない。 1. Cross-linking reaction: Using low molecular weight materials, high molecular weight materials, or multiple cross-linking groups (polysynthetic reactive groups) present in a polymer, after application / film formation, by heat, light, electromagnetic waves, etc. A method of insolubilizing by multidimensional crosslinking. A thermal / photopolymerization initiator or a crosslinking agent may be used in combination.
以下、本発明で使用可能な架橋基としては、一般式(100)で示される部分構造があげられる。各々の架橋基は単独もしくは複数を組み合わせて用いても構わない。 Hereinafter, examples of the crosslinking group that can be used in the present invention include a partial structure represented by the general formula (100). Each crosslinking group may be used alone or in combination.
一般式(100)
L−P
Lは単なる結合手または2価の連結基を表し、Pは下記で表される重合性置換基を表す。本発明で用いられる2価の連結基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、−O−、−S−、−NR−、−CO−、−COO−、−NRCO−、−SO2−またはこれらの組み合わせからなる群より選択される2価の連結基を表す。ここで、Rはアルキル基を表す。
General formula (100)
L-P
L represents a simple bond or a divalent linking group, and P represents a polymerizable substituent represented by the following. Examples of the divalent linking group used in the present invention include an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, a heteroarylene group, —O—, —S—, —NR—, —CO—, —COO—, —NRCO—, It represents a divalent linking group selected from the group consisting of —SO 2 — or a combination thereof. Here, R represents an alkyl group.
なお、*はLとの結合点を示す。 In addition, * shows the coupling | bonding point with L.
以上で、*−M(OR)xByにおいて、Rはアルキル基を表し、xは2以上の整数で、金属Mの価数を満足するようにy個の置換基Bが結合する。置換基は前述の通り。Bが複数個存在する場合は互いに異なっていてもよい。 In the above, in * -M (OR) x By, R represents an alkyl group, x is an integer of 2 or more, and y substituents B are bonded so as to satisfy the valence of the metal M. The substituent is as described above. When a plurality of B are present, they may be different from each other.
なお、本発明で用いられる置換基としては、前記一般式(A)〜(J)も含め、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、ヘテロアリール基、ヘテロアリール基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、ヘテロアリールアルキル基、ヘテロアリールアルコキシ基、ヘテロアリールアルキルチオ基、ヘテロアリールアルケニル基、ヘテロアリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基またはニトロ基、ハロゲニル基等があげられる。またアリール基とは、芳香族炭化水素から、水素原子1個を除いたものであり、芳香族炭化水素としては、芳香族単環式炭化水素、縮合多環式炭化水素、独立した複数の芳香族単環式炭化水素または縮合多環式炭化水素が結合したものも含まれる。例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フルオレニル基、ビナフチル基等を挙げることができる。ヘテロアリール基とは、複素芳香族炭化水素から、水素原子1個を除いたものであり、複素芳香族炭化水素としては、前述の芳香族炭化水素環を構成する元素が炭素原子のうち、1つ以上の原子が酸素、硫黄、窒素、リン、ホウ素などのヘテロ原子で置換されたものを指し、複素芳香族単環式炭化水素、複素縮合多環式炭化水素、独立した複数の複素芳香族単環式炭化水素または複素縮合多環式炭化水素が結合したものも含まれる。例えば、ピリジル基、チオフェニル基、ビピリジル基、フェニルピリジニル基、カルバゾリル基、アザカルバゾリル基、イミダゾリル基、ジベンゾフラニル基、イソキノリル基、ジベンゾホスホニル基等を挙げることができる。 In addition, as a substituent used by this invention, including the said general formula (A)-(J), an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, Arylalkyl group, arylalkoxy group, arylalkylthio group, arylalkenyl group, arylalkynyl group, heteroaryl group, heteroaryl group, heteroaryloxy group, heteroarylthio group, heteroarylalkyl group, heteroarylalkoxy group, heteroaryl Alkylthio group, heteroarylalkenyl group, heteroarylalkynyl group, amino group, substituted amino group, silyl group, substituted silyl group, halogen atom, acyl group, acyloxy group, imine residue, amide group, acid imide group, monovalent Heterocyclic group, carboxy Group, substituted carboxyl group, a cyano group or a nitro group, halogenyl group and the like. An aryl group is an aromatic hydrocarbon in which one hydrogen atom is removed, and examples of aromatic hydrocarbons include aromatic monocyclic hydrocarbons, condensed polycyclic hydrocarbons, and a plurality of independent aromatics. Also included are those in which a group monocyclic hydrocarbon or condensed polycyclic hydrocarbon is bonded. Examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a biphenyl group, a fluorenyl group, and a binaphthyl group. A heteroaryl group is one obtained by removing one hydrogen atom from a heteroaromatic hydrocarbon. As the heteroaromatic hydrocarbon, the element constituting the aromatic hydrocarbon ring is 1 of carbon atoms. Refers to one or more atoms substituted with heteroatoms such as oxygen, sulfur, nitrogen, phosphorus, boron, heteroaromatic monocyclic hydrocarbons, heterocondensed polycyclic hydrocarbons, independent heteroaromatics Also included are monocyclic hydrocarbons or heterocondensed polycyclic hydrocarbons bonded together. Examples include pyridyl group, thiophenyl group, bipyridyl group, phenylpyridinyl group, carbazolyl group, azacarbazolyl group, imidazolyl group, dibenzofuranyl group, isoquinolyl group, dibenzophosphonyl group and the like.
前記一般式(100)で表される架橋基は、前述の発光ユニット、または電荷発生層を構成する材料の任意な水素原子と置換して用いることが出来る。置換数については、繰り返し単位を持たない非ポリマー化合物の場合、1から10、好ましくは1から4であり、繰り返し構造を有するポリマー化合物の場合、数平均分子量10,000当たりの架橋基の数が1から100、好ましくは1から10である。数平均分子量10,000当たりの架橋基の数とは、例えば、数平均分子量50,000のポリマー中の架橋性基の数は5から500、好ましくは5から50となる。 The bridging group represented by the general formula (100) can be used by substituting with any hydrogen atom of the material constituting the light emitting unit or the charge generation layer. The number of substitutions is 1 to 10, preferably 1 to 4, in the case of a non-polymer compound having no repeating unit, and in the case of a polymer compound having a repeating structure, the number of crosslinking groups per 10,000 number average molecular weight is 10,000. 1 to 100, preferably 1 to 10. For example, the number of crosslinkable groups in a polymer having a number average molecular weight of 50,000 is 5 to 500, preferably 5 to 50.
以下、本発明で使用可能な低分子量材料、高分子量材料、あるいは高分子重合体の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of the low molecular weight material, high molecular weight material, or high molecular polymer that can be used in the present invention will be given below, but the present invention is not limited thereto.
更に、本発明において併用可能な低分子量材料、高分子量材料、あるいは高分子重合体の具体例を挙げる。 Furthermore, specific examples of low molecular weight materials, high molecular weight materials, or high molecular polymers that can be used in the present invention will be given.
(3)不溶性材料の塗布成膜
1.分散体の成膜:不溶性材料を微粒子化して溶媒分散型とする方法、あるいは溶媒中での可溶性プレカーサーの不溶微粒子形成に伴う分散化によって調整する方法等によって、不溶性材料分散液を製造し、次いで、この分散液の塗布・成膜によって不溶化薄膜を製造することが出来る。可溶性プレカーサーの不溶微粒子形成は、溶媒中での可溶性プレカーサー化合物の塗布・成膜後、熱・光・電磁波等々の内部あるいは外部刺激による化学的変化によって、形成することが可能である。
(3) Coating film formation of insoluble material Film formation of dispersion: An insoluble material dispersion liquid is produced by a method of making an insoluble material into a fine particle in a solvent dispersion method, or a method of adjusting by dispersion associated with the formation of an insoluble fine particle of a soluble precursor in a solvent. An insolubilized thin film can be produced by coating and film-forming this dispersion. The formation of insoluble fine particles of the soluble precursor can be formed by chemical change due to internal or external stimulation such as heat, light, electromagnetic waves, etc., after coating / film formation of the soluble precursor compound in a solvent.
また本発明でいう溶媒とは、固体や液体を溶かす液体の呼称であるが、特にテスト溶媒と記述した場合は、芳香族炭化水素類(トルエン、クロロベンゼン、ピリジン)、飽和炭化水素類(シクロヘキサン、デカン、パーフルオロオクタン)、アルコール類(イソプロピルアルコール、ヘキサフルオロイソプロパノール)、ケトン類(メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エステル類(酢酸ブチル、酢酸フェニル)、ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルを指す。また、イナートな状態とは、i)UV吸収変化による膜厚の変化、ii)PL(フォトルミネッセンス)変化による発光層の状態変化、iii)整流比の少なくとも1項目が所定の評価基準値を満たしている状態を指す。 The solvent as used in the present invention is a name for a liquid that dissolves a solid or a liquid. However, when specifically described as a test solvent, aromatic hydrocarbons (toluene, chlorobenzene, pyridine), saturated hydrocarbons (cyclohexane, Decane, perfluorooctane), alcohols (isopropyl alcohol, hexafluoroisopropanol), ketones (methyl ethyl ketone, cyclohexanone), esters (butyl acetate, phenyl acetate), dichloroethane, tetrahydrofuran, acetonitrile. Inert state means i) change in film thickness due to UV absorption change, ii) change in state of light emitting layer due to change in PL (photoluminescence), iii) at least one item of rectification ratio satisfies a predetermined evaluation standard value Refers to the state.
《有機EL素子の作製方法》
本発明の有機EL素子の作製方法の一例として、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子注入層/陰極からなる単一の発光ユニットをもつ有機EL素子の作製法を説明する。
<< Method for producing organic EL element >>
As an example of the method for producing the organic EL device of the present invention, a single light emitting unit comprising an anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode is prepared. A method for manufacturing the organic EL element will be described.
まず適当な基体上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは10nm〜200nmの膜厚になるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ陽極を作製する。 First, a desired electrode material, for example, a thin film made of an anode material is formed on a suitable substrate so as to have a film thickness of 1 μm or less, preferably 10 nm to 200 nm, to form an anode.
次に、この上に有機EL素子材料である正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層の有機化合物薄膜を形成させる。 Next, an organic compound thin film of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, which are organic EL element materials, is formed thereon.
これら各層の形成方法としては、前記の如く蒸着法、塗布プロセス(スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、印刷法)等があるが、均質な膜が得られやすく、且つ、ピンホールが生成しにくい等の点から、本発明においてはスピンコート法、インクジェット法、印刷法等の塗布法による成膜が好ましい。 As methods for forming each of these layers, there are a vapor deposition method and a coating process (spin coating method, casting method, ink jet method, printing method) as described above, but it is easy to obtain a uniform film and a pinhole is generated. In view of difficulty, etc., film formation by a coating method such as a spin coating method, an ink jet method, or a printing method is preferable in the present invention.
特に、本発明に係るカルバゾール環を部分構造として有する化合物、重合性基を有する該化合物、前記化合物の重合体を含有する層は、上記の塗布法により形成されることが好ましく、更に、該層が発光層であることが好ましい。 In particular, the layer containing a compound having a carbazole ring as a partial structure according to the present invention, the compound having a polymerizable group, and a polymer of the compound is preferably formed by the above-described coating method. Is preferably a light emitting layer.
また、陽極と陰極の間に存在する層(有機EL素子の構成層である)の全層数を100%とした時、該全層数の50%以上が塗布法で形成されることが好ましい。 Further, when the total number of layers (the constituent layers of the organic EL element) existing between the anode and the cathode is 100%, 50% or more of the total number of layers is preferably formed by a coating method. .
例えば、上記の有機EL素子の一例として挙げられた、陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子注入層/陰極においては、正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子輸送層/電子注入層という全層数が6の場合には、少なくとも3層が塗布法により形成されることが好ましい。 For example, in the anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer / cathode mentioned as an example of the organic EL element, the hole injection layer In the case where the total number of layers / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron transport layer / electron injection layer is 6, it is preferable that at least three layers are formed by a coating method.
本発明の有機EL素子の構成層を塗布により形成する場合、塗布に用いる各種の有機EL材料を溶解または分散する液媒体としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ等のケトン類、酢酸エチル等の脂肪酸エステル類、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族炭化水素類、DMF、DMSO等の有機溶媒を用いることができる。 When forming the constituent layers of the organic EL element of the present invention by coating, examples of the liquid medium for dissolving or dispersing various organic EL materials used for coating include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexano, and fatty acids such as ethyl acetate. Esters, halogenated hydrocarbons such as dichlorobenzene, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene and cyclohexylbenzene, aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, decalin and dodecane, organic solvents such as DMF and DMSO Can be used.
また分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。 Moreover, as a dispersion method, it can disperse | distribute by dispersion methods, such as an ultrasonic wave, high shear force dispersion | distribution, and media dispersion | distribution.
これらの層を形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を1μm以下、好ましくは、50nm〜200nmの範囲の膜厚になるように、例えば、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、陰極を設けることにより所望の有機EL素子が得られる。 After these layers are formed, a thin film made of a cathode material is formed thereon by 1 μm or less, preferably by a method such as vapor deposition or sputtering so that the film thickness is in the range of 50 nm to 200 nm. By providing, a desired organic EL element can be obtained.
また作製順序を逆にして、陰極、電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、陽極の順に作製することも可能である。 Further, it is also possible to reverse the production order and produce the cathode, the electron injection layer, the electron transport layer, the hole blocking layer, the light emitting layer, the hole transport layer, the hole injection layer, and the anode in this order.
このようにして得られた多色の表示装置に、直流電圧を印加する場合には陽極を+、陰極を−の極性として電圧2〜40V程度を印加すると発光が観測できる。また交流電圧を印加してもよい。なお、印加する交流の波形は任意でよい。 When a DC voltage is applied to the multicolor display device thus obtained, light emission can be observed by applying a voltage of about 2 to 40 V with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode. An alternating voltage may be applied. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.
《用途》
本発明の有機EL素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源として、例えば、照明装置(家庭用照明、車内照明)、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。
<Application>
The organic EL element of the present invention can be used as a display device, a display, and various light emission sources. For example, lighting devices (home lighting, interior lighting), clock and liquid crystal backlights, billboard advertisements, traffic lights, light sources of optical storage media, light sources of electrophotographic copying machines, light sources of optical communication processors, light Although the light source of a sensor etc. are mentioned, It is not limited to this, Especially, it can use effectively for the use as a backlight of a liquid crystal display device, and a light source for illumination.
本発明の有機EL素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。 In the organic EL element of the present invention, patterning may be performed by a metal mask, an ink jet printing method, or the like as needed during film formation.
パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。 In the case of patterning, only the electrode may be patterned, the electrode and the light emitting layer may be patterned, or the entire layer of the device may be patterned. Can do.
本発明の有機EL素子や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」(日本色彩学会編、東京大学出版会、1985)の108頁の図4.16において、分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)で測定した結果をCIE色度座標に当てはめたときの色で決定される。
The light emission color of the organic EL device of the present invention and the compound according to the present invention is shown in FIG. 4.16 on
また、本発明の有機EL素子が白色素子の場合には、白色とは、2度視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、1000cd/m2でのCIE1931表色系における色度がX=0.33±0.07、Y=0.33±0.1の領域内にあることを言う。 When the organic EL element of the present invention is a white element, white means that the chromaticity in the CIE1931 color system at 1000 cd / m 2 is X when the 2 ° viewing angle front luminance is measured by the above method. = 0.33 ± 0.07 and Y = 0.33 ± 0.1.
《表示装置》
本発明の表示装置について説明する。本発明の表示装置は、本発明の有機EL素子を具備したものである。
<Display device>
The display device of the present invention will be described. The display device of the present invention comprises the organic EL element of the present invention.
本発明の表示装置は単色でも多色でもよいが、ここでは多色表示装置について説明する。多色表示装置の場合は発光層形成時のみシャドーマスクを設け、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で膜を形成できる。 Although the display device of the present invention may be single color or multicolor, the multicolor display device will be described here. In the case of a multicolor display device, a shadow mask is provided only at the time of forming a light emitting layer, and a film can be formed on one surface by vapor deposition, casting, spin coating, ink jet, printing, or the like.
発光層のみパターニングを行う場合、その方法に限定はないが、好ましくは蒸着法、インクジェット法、スピンコート法、印刷法である。 In the case of patterning only the light emitting layer, the method is not limited. However, the vapor deposition method, the ink jet method, the spin coating method, and the printing method are preferable.
表示装置に具備される有機EL素子の構成は、必要に応じて上記の有機EL素子の構成例の中から選択される。 The configuration of the organic EL element provided in the display device is selected from the above-described configuration examples of the organic EL element as necessary.
また、有機EL素子の製造方法は、上記の本発明の有機EL素子の製造の一態様に示したとおりである。 Moreover, the manufacturing method of an organic EL element is as having shown to the one aspect | mode of manufacture of the organic EL element of said invention.
得られた多色表示装置に直流電圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性として電圧2V〜40V程度を印加すると発光が観測できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流は流れずに発光は全く生じない。更に交流電圧を印加する場合には、陽極が+、陰極が−の状態になったときのみ発光する。尚、印加する交流の波形は任意でよい。 In the case of applying a DC voltage to the obtained multicolor display device, light emission can be observed by applying a voltage of about 2V to 40V with the positive polarity of the anode and the negative polarity of the cathode. Further, even when a voltage is applied with the opposite polarity, no current flows and no light emission occurs. Further, when an AC voltage is applied, light is emitted only when the anode is in the + state and the cathode is in the-state. The alternating current waveform to be applied may be arbitrary.
多色表示装置は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。表示デバイス、ディスプレイにおいて、青、赤、緑発光の3種の有機EL素子を用いることによりフルカラーの表示が可能となる。 The multicolor display device can be used as a display device, a display, and various light emission sources. In a display device or display, full-color display is possible by using three types of organic EL elements of blue, red, and green light emission.
表示デバイス、ディスプレイとしては、テレビ、パソコン、モバイル機器、AV機器、文字放送表示、自動車内の情報表示等が挙げられる。特に静止画像や動画像を再生する表示装置として使用してもよく、動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。 Examples of the display device and display include a television, a personal computer, a mobile device, an AV device, a character broadcast display, and an information display in an automobile. In particular, it may be used as a display device for reproducing still images and moving images, and the driving method when used as a display device for reproducing moving images may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method.
発光光源としては家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Light sources include home lighting, interior lighting, clock and liquid crystal backlights, billboard advertisements, traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copying machines, light sources for optical communication processors, light sources for optical sensors, etc. The present invention is not limited to these examples.
以下、本発明の有機EL素子を有する表示装置の一例を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, an example of a display device having the organic EL element of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は有機EL素子から構成される表示装置の一例を示した模式図である。有機EL素子の発光により画像情報の表示を行う、例えば、携帯電話等のディスプレイの模式図である。 FIG. 1 is a schematic view showing an example of a display device composed of organic EL elements. It is a schematic diagram of a display such as a mobile phone that displays image information by light emission of an organic EL element.
ディスプレイ1は複数の画素を有する表示部A、画像情報に基づいて表示部Aの画像走査を行う制御部B等からなる。
The
制御部Bは表示部Aと電気的に接続され、複数の画素それぞれに外部からの画像情報に基づいて走査信号と画像データ信号を送り、走査信号により走査線毎の画素が画像データ信号に応じて順次発光して画像走査を行って画像情報を表示部Aに表示する。 The control unit B is electrically connected to the display unit A, and sends a scanning signal and an image data signal to each of a plurality of pixels based on image information from the outside, and the pixels for each scanning line respond to the image data signal by the scanning signal. The image information is sequentially emitted to scan the image and display the image information on the display unit A.
図2は表示部Aの模式図である。 FIG. 2 is a schematic diagram of the display unit A.
表示部Aは基板上に、複数の走査線5及びデータ線6を含む配線部と複数の画素3等とを有する。表示部Aの主要な部材の説明を以下に行う。
The display unit A includes a wiring unit including a plurality of
図においては、画素3の発光した光が白矢印方向(下方向)へ取り出される場合を示している。
In the figure, the light emitted from the
配線部の走査線5及び複数のデータ線6はそれぞれ導電材料からなり、走査線5とデータ線6は格子状に直交して、直交する位置で画素3に接続している(詳細は図示していない)。
The
画素3は走査線5から走査信号が印加されると、データ線6から画像データ信号を受け取り、受け取った画像データに応じて発光する。
When a scanning signal is applied from the
発光の色が赤領域の画素、緑領域の画素、青領域の画素を適宜同一基板上に並置することによって、フルカラー表示が可能となる。 Full-color display is possible by appropriately arranging pixels in the red region, the green region, and the blue region on the same substrate.
次に、画素の発光プロセスを説明する。 Next, the light emission process of the pixel will be described.
図3は画素の模式図である。 FIG. 3 is a schematic diagram of a pixel.
画素は有機EL素子10、スイッチングトランジスタ11、駆動トランジスタ12、コンデンサ13等を備えている。複数の画素に有機EL素子10として、赤色、緑色、青色発光の有機EL素子を用い、これらを同一基板上に並置することでフルカラー表示を行うことができる。
The pixel includes an
図3において、制御部Bからデータ線6を介してスイッチングトランジスタ11のドレインに画像データ信号が印加される。そして、制御部Bから走査線5を介してスイッチングトランジスタ11のゲートに走査信号が印加されると、スイッチングトランジスタ11の駆動がオンし、ドレインに印加された画像データ信号がコンデンサ13と駆動トランジスタ12のゲートに伝達される。
In FIG. 3, an image data signal is applied from the control unit B to the drain of the switching
画像データ信号の伝達により、コンデンサ13が画像データ信号の電位に応じて充電されるとともに、駆動トランジスタ12の駆動がオンする。駆動トランジスタ12は、ドレインが電源ライン7に接続され、ソースが有機EL素子10の電極に接続されており、ゲートに印加された画像データ信号の電位に応じて電源ライン7から有機EL素子10に電流が供給される。
By transmitting the image data signal, the
制御部Bの順次走査により走査信号が次の走査線5に移ると、スイッチングトランジスタ11の駆動がオフする。しかし、スイッチングトランジスタ11の駆動がオフしてもコンデンサ13は充電された画像データ信号の電位を保持するので、駆動トランジスタ12の駆動はオン状態が保たれて、次の走査信号の印加が行われるまで有機EL素子10の発光が継続する。順次走査により次に走査信号が印加されたとき、走査信号に同期した次の画像データ信号の電位に応じて駆動トランジスタ12が駆動して有機EL素子10が発光する。
When the scanning signal is moved to the
即ち、有機EL素子10の発光は、複数の画素それぞれの有機EL素子10に対して、アクティブ素子であるスイッチングトランジスタ11と駆動トランジスタ12を設けて、複数の画素3それぞれの有機EL素子10の発光を行っている。このような発光方法をアクティブマトリクス方式と呼んでいる。
That is, the light emission of the
ここで、有機EL素子10の発光は複数の階調電位を持つ多値の画像データ信号による複数の階調の発光でもよいし、2値の画像データ信号による所定の発光量のオン、オフでもよい。また、コンデンサ13の電位の保持は次の走査信号の印加まで継続して保持してもよいし、次の走査信号が印加される直前に放電させてもよい。
Here, the light emission of the
本発明においては、上述したアクティブマトリクス方式に限らず、走査信号が走査されたときのみデータ信号に応じて有機EL素子を発光させるパッシブマトリクス方式の発光駆動でもよい。 In the present invention, not only the active matrix method described above, but also a passive matrix light emission drive in which the organic EL element emits light according to the data signal only when the scanning signal is scanned.
図4はパッシブマトリクス方式による表示装置の模式図である。図4において、複数の走査線5と複数の画像データ線6が画素3を挟んで対向して格子状に設けられている。
FIG. 4 is a schematic diagram of a passive matrix display device. In FIG. 4, a plurality of
順次走査により走査線5の走査信号が印加されたとき、印加された走査線5に接続している画素3が画像データ信号に応じて発光する。
When the scanning signal of the
パッシブマトリクス方式では画素3にアクティブ素子が無く、製造コストの低減が計れる。
In the passive matrix system, the
《照明装置》
本発明の照明装置について説明する。本発明の照明装置は上記有機EL素子を有する。
《Lighting device》
The lighting device of the present invention will be described. The illuminating device of this invention has the said organic EL element.
本発明の有機EL素子に共振器構造を持たせた有機EL素子として用いてもよく、このような共振器構造を有した有機EL素子の使用目的としては、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるが、これらに限定されない。また、レーザ発振をさせることにより上記用途に使用してもよい。 The organic EL element of the present invention may be used as an organic EL element having a resonator structure. The purpose of use of the organic EL element having such a resonator structure is as follows. The light source of a machine, the light source of an optical communication processing machine, the light source of a photosensor, etc. are mentioned, However, It is not limited to these. Moreover, you may use for the said use by making a laser oscillation.
また、本発明の有機EL素子は照明用や露光光源のような一種のランプとして使用してもよいし、画像を投影するタイプのプロジェクション装置や、静止画像や動画像を直接視認するタイプの表示装置(ディスプレイ)として使用してもよい。 Further, the organic EL element of the present invention may be used as a kind of lamp for illumination or exposure light source, a projection device for projecting an image, or a display for directly viewing a still image or a moving image. It may be used as a device (display).
動画再生用の表示装置として使用する場合の駆動方式は、単純マトリクス(パッシブマトリクス)方式でもアクティブマトリクス方式でもどちらでもよい。または、異なる発光色を有する本発明の有機EL素子を2種以上使用することにより、フルカラー表示装置を作製することが可能である。 The driving method when used as a display device for moving image reproduction may be either a simple matrix (passive matrix) method or an active matrix method. Alternatively, a full-color display device can be manufactured by using two or more organic EL elements of the present invention having different emission colors.
また本発明の有機EL材料は照明装置として、実質白色の発光を生じる有機EL素子に適用できる。複数の発光材料により複数の発光色を同時に発光させて混色により白色発光を得る。複数の発光色の組み合わせとしては、青色、緑色、青色の3原色の3つの発光極大波長を含有させたものでもよいし、青色と黄色、青緑と橙色等の補色の関係を利用した2つの発光極大波長を含有したものでもよい。 The organic EL material of the present invention can be applied as an illumination device to an organic EL element that emits substantially white light. A plurality of light emitting colors are simultaneously emitted by a plurality of light emitting materials to obtain white light emission by color mixing. The combination of a plurality of emission colors may include three emission maximum wavelengths of the three primary colors of blue, green, and blue, or two using the relationship of complementary colors such as blue and yellow, blue green and orange, etc. The thing containing the light emission maximum wavelength may be used.
また複数の発光色を得るための発光材料の組み合わせは、複数のリン光または蛍光で発光する材料を複数組み合わせたもの、蛍光またはリン光で発光する発光材料と、発光材料からの光を励起光として発光する色素材料との組み合わせたもののいずれでもよいが、本発明に係る白色有機EL素子においては、発光ドーパントを複数組み合わせ混合するだけでよい。 In addition, a combination of light emitting materials for obtaining a plurality of emission colors is a combination of a plurality of phosphorescent or fluorescent materials, a light emitting material that emits fluorescence or phosphorescence, and light from the light emitting material as excitation light. Any of those combined with a dye material that emits light may be used, but in the white organic EL device according to the present invention, only a combination of a plurality of light-emitting dopants may be mixed.
発光層、正孔輸送層あるいは電子輸送層等の形成時のみマスクを設け、マスクにより塗り分ける等単純に配置するだけでよく、他層は共通であるのでマスク等のパターニングは不要であり、一面に蒸着法、キャスト法、スピンコート法、インクジェット法、印刷法等で例えば電極膜を形成でき、生産性も向上する。 It is only necessary to provide a mask only when forming a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, etc., and simply arrange them separately by coating with the mask. Since other layers are common, patterning of the mask or the like is not necessary. In addition, for example, an electrode film can be formed by a vapor deposition method, a cast method, a spin coating method, an ink jet method, a printing method, or the like, and productivity is also improved.
この方法によれば、複数色の発光素子をアレー状に並列配置した白色有機EL装置と異なり、素子自体が発光白色である。 According to this method, unlike a white organic EL device in which light emitting elements of a plurality of colors are arranged in parallel in an array, the elements themselves are luminescent white.
発光層に用いる発光材料としては特に制限はなく、例えば、液晶表示素子におけるバックライトであれば、CF(カラーフィルター)特性に対応した波長範囲に適合するように、本発明に係る金属錯体、また公知の発光材料の中から任意のものを選択して組み合わせて白色化すればよい。 There is no restriction | limiting in particular as a luminescent material used for a light emitting layer, For example, if it is a backlight in a liquid crystal display element, the metal complex which concerns on this invention so that it may suit the wavelength range corresponding to CF (color filter) characteristic, Any one of known luminescent materials may be selected and combined to whiten.
《本発明の照明装置の一態様》
本発明の有機EL素子を具備した、本発明の照明装置の一態様について説明する。
<< One Embodiment of Lighting Device of the Present Invention >>
One aspect of the lighting device of the present invention that includes the organic EL element of the present invention will be described.
本発明の有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚み300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを陰極上に重ねて透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止し、図5、図6に示すような照明装置を形成することができる。 The non-light emitting surface of the organic EL device of the present invention is covered with a glass case, a glass substrate having a thickness of 300 μm is used as a sealing substrate, and an epoxy-based photocurable adhesive (LUX TRACK manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is used as a sealing material. LC0629B) is applied, and this is overlaid on the cathode and brought into close contact with the transparent support substrate, irradiated with UV light from the glass substrate side, cured and sealed, and an illumination device as shown in FIGS. Can be formed.
図5は、照明装置の概略図を示し、本発明の有機EL素子201はガラスカバー202で覆われている(尚、ガラスカバーでの封止作業は、有機EL素子201を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスの雰囲気下)で行った。)。 FIG. 5 shows a schematic diagram of a lighting device, and the organic EL element 201 of the present invention is covered with a glass cover 202 (in addition, the sealing operation with the glass cover is to bring the organic EL element 201 into contact with the atmosphere. And a glove box under a nitrogen atmosphere (in an atmosphere of high-purity nitrogen gas having a purity of 99.999% or more).
図6は、照明装置の断面図を示し、図6において、205は陰極、206は有機EL層、207は透明電極付きガラス基板を示す。尚、ガラスカバー202内には窒素ガス208が充填され、捕水剤209が設けられている。 6 shows a cross-sectional view of the lighting device. In FIG. 6, reference numeral 205 denotes a cathode, 206 denotes an organic EL layer, and 207 denotes a glass substrate with a transparent electrode. The glass cover 202 is filled with nitrogen gas 208 and a water catching agent 209 is provided.
以下実施例により本発明を具体的に説明するが本発明はこれにより限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1
〈n型層/p型層からなる二層CGL〉
〈第一ユニット〉
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
Example 1
<Two-layer CGL consisting of n-type layer / p-type layer>
<First unit>
After patterning on a substrate (NH-Techno Glass NA-45) formed by depositing 100 nm of ITO (indium tin oxide) on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate as an anode, this ITO transparent electrode was provided. The transparent support substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes.
この透明支持基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液をスリットコート法により成膜した後、200℃にて1時間乾燥し、膜厚30nmの第一正孔輸送層を設けた。 On this transparent support substrate, a solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer, Baytron P Al 4083) to 70% with pure water by a slit coating method. After film formation, the film was dried at 200 ° C. for 1 hour to provide a first hole transport layer having a film thickness of 30 nm.
第一正孔輸送層から以下の作製は水分・酸素濃度1ppm以下に管理されたグローブボックス内にて有機EL素子を作製した。 In the following production from the first hole transport layer, an organic EL device was produced in a glove box controlled to have a moisture / oxygen concentration of 1 ppm or less.
第1正孔輸送層上に、Poly−N,N′−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N′−ビス(フェニル)ベンジジン(American Dye Source社製、ADS−254)のクロロベンゼン溶液をスリットコート法により成膜した。150℃で1時間加熱乾燥し、膜厚40nmの第二正孔輸送層を設けた。 A slit of a chlorobenzene solution of Poly-N, N′-bis (4-butylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) benzidine (manufactured by American Dye Source, ADS-254) on the first hole transport layer A film was formed by a coating method. It heat-dried at 150 degreeC for 1 hour, and provided the 2nd hole transport layer with a film thickness of 40 nm.
この第2正孔輸送層上に、OC−25、D−1、D−20(各比率は83.5w質量%:16質量%:0.5質量%)の酢酸ブチル溶液をスリットコート法により成膜した。120℃で1時間加熱乾燥し、膜厚40nmの発光層を設けた。 On this second hole transport layer, a butyl acetate solution of OC-25, D-1, and D-20 (each ratio is 83.5 w mass%: 16 mass%: 0.5 mass%) is obtained by a slit coating method. A film was formed. Heat-dried at 120 ° C. for 1 hour to provide a light-emitting layer having a thickness of 40 nm.
この発光層上に、OC−107の1,1,1−3,3,3−ヘキサフルオロイソプロパノールの溶液をスリットコート法により成膜し、成膜後、低圧水銀灯(15mW/cm2)を30秒、130℃でUV照射することで、OC−107の重合基を光硬化し、膜厚20nmの不溶化した電子輸送層を設けた。 On this light emitting layer, a 1,1,1-3,3,3-hexafluoroisopropanol solution of OC-107 was formed by a slit coating method, and after the film formation, a low-pressure mercury lamp (15 mW / cm 2 ) was applied for 30. The polymerized group of OC-107 was photocured by UV irradiation at 130 ° C. for 2 seconds to provide an insolubilized electron transport layer having a thickness of 20 nm.
次に、この電子輸送層上に、以下のようにいずれかの作成方法により電荷発生層を形成した。 Next, a charge generation layer was formed on the electron transport layer by one of the following production methods.
〈電荷発生層〉
〈電荷発生層作成方法1〉
この電子輸送層上に、CGL(n型)1、CGL(n型)2(表に記載)のクロロベンゼン溶液をスリットコート法により成膜し、成膜後、低圧水銀灯(15mW/cm2)を30秒、130℃でUV照射することで、化合物がもつ重合基を光硬化し、膜厚20nmの不溶化n型層(CGL)を設けた。
<Charge generation layer>
<
A chlorobenzene solution of CGL (n-type) 1 and CGL (n-type) 2 (described in the table) is formed on this electron transport layer by a slit coating method, and a low-pressure mercury lamp (15 mW / cm 2 ) is formed after the film formation. By UV irradiation at 130 ° C. for 30 seconds, the polymerizable group of the compound was photocured to provide an insolubilized n-type layer (CGL) having a thickness of 20 nm.
さらに、このn型層(CGL)上に、CGL(p型)1、CGL(p型)2(表に記載)のクロロベンゼン溶液をスリットコート法により成膜し、成膜後、低圧水銀灯(15mW/cm2)を30秒、130℃でUV照射することで、化合物がもつ重合基を光硬化し、膜厚20nmの不溶化p型層(CGL)を設けた。 Further, a chlorobenzene solution of CGL (p-type) 1 and CGL (p-type) 2 (described in the table) was formed on the n-type layer (CGL) by a slit coating method, and after the film formation, a low-pressure mercury lamp (15 mW) / Cm 2 ) for 30 seconds at 130 ° C. for UV irradiation to photocur the polymerizable group of the compound and provide a 20 nm thick insolubilized p-type layer (CGL).
上記の作成において、電荷発生層の、CGL(n型)からなる層、また、CGL(p型)からなる層において、表中( : )は、CGL(n型)1:CGL(n型)2、また、CGL(p型)1:CGL(p型)2の混合材料層であることを示し、また( / )はCGL(n型)からなる層とCGL(p型)からなる層を積層したことを示す。2成分のとき混合したときの各材料の比率は全て(50質量%:50質量%)とした。 In the above production, in the layer of CGL (n-type) or CGL (p-type) in the charge generation layer, (:) in the table is CGL (n-type) 1: CGL (n-type) 2 and CGL (p-type) 1: CGL (p-type) 2 mixed material layer, and (/) indicates a layer made of CGL (n-type) and a layer made of CGL (p-type). It shows that it laminated | stacked. The ratio of each material when mixed in the case of two components was all set to (50% by mass: 50% by mass).
〈第二ユニット〉
さらに、このp型層(CGL)上に、ADS−254のクロロベンゼン溶液をスリットコート法により成膜した。150℃で1時間加熱乾燥し、膜厚40nmの第二正孔輸送層を設けた。
<Second unit>
Furthermore, a chlorobenzene solution of ADS-254 was formed on the p-type layer (CGL) by a slit coating method. It heat-dried at 150 degreeC for 1 hour, and provided the 2nd hole transport layer with a film thickness of 40 nm.
この第二正孔輸送層上に、OC−25、D−1、D−20(各比率は83.5質量%:16質量%:0.5質量%)の酢酸ブチル溶液をスリットコート法により成膜した。120℃で1時間加熱乾燥し、膜厚40nmの発光層を設けた。 On this second hole transport layer, a butyl acetate solution of OC-25, D-1, D-20 (each ratio is 83.5% by mass: 16% by mass: 0.5% by mass) is obtained by slit coating. A film was formed. Heat-dried at 120 ° C. for 1 hour to provide a light-emitting layer having a thickness of 40 nm.
この発光層上に、OC−107の1,1,1−3,3,3−ヘキサフルオロイソプロパノールの溶液をスリットコート法により成膜し、成膜後、低圧水銀灯(15mW/cm2)を30秒、130℃でUV照射することで、OC−107の重合基を光硬化し、膜厚20nmの不溶化した電子輸送層を設けた。 On this light emitting layer, a 1,1,1-3,3,3-hexafluoroisopropanol solution of OC-107 was formed by a slit coating method, and after the film formation, a low-pressure mercury lamp (15 mW / cm 2 ) was applied for 30. The polymerized group of OC-107 was photocured by UV irradiation at 130 ° C. for 2 seconds to provide an insolubilized electron transport layer having a thickness of 20 nm.
これを、真空蒸着装置に取付け、真空槽を4×10−4Paまで減圧した。次いで、電子注入層としてフッ化セシウム1.0nm、陰極としてアルミニウム110nmを蒸着し、二つの発光ユニットと一つのCGLを有する有機EL素子を製造した。 This was attached to a vacuum deposition apparatus, and the vacuum chamber was depressurized to 4 × 10 −4 Pa. Subsequently, 1.0 nm of cesium fluoride was vapor-deposited as an electron injection layer, and 110 nm of aluminum was vapor-deposited as a cathode, and the organic EL element which has two light emission units and one CGL was manufactured.
CGL(n型)、CGL(p型)それぞれの材料を表に示した様に変化させ有機EL素子をそれぞれ作成した。 Organic EL elements were produced by changing the materials of CGL (n-type) and CGL (p-type) as shown in the table.
また、比較の素子を以下のように作成した(比較例1)。 Further, a comparative element was prepared as follows (Comparative Example 1).
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。 After patterning on a substrate (NH-Techno Glass NA-45) formed by depositing 100 nm of ITO (indium tin oxide) on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate as an anode, this ITO transparent electrode was provided. The transparent support substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes.
この透明支持基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液をスリットコート法により成膜した後、200℃にて1時間乾燥し、膜厚30nmの第1正孔輸送層を設けた。 On this transparent support substrate, a solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, Bayer, Baytron P Al 4083) to 70% with pure water by a slit coating method. After the film formation, the film was dried at 200 ° C. for 1 hour to provide a first hole transport layer having a thickness of 30 nm.
第一正孔輸送層から以下の作製は水分・酸素濃度1ppm以下に管理されたグローブボックス内にて有機EL素子を作製した。 In the following production from the first hole transport layer, an organic EL device was produced in a glove box controlled to have a moisture / oxygen concentration of 1 ppm or less.
この第1正孔輸送層上に、ADS−254のクロロベンゼン溶液をスリットコート法により成膜した。150℃で1時間加熱乾燥し、膜厚40nmの第二正孔輸送層を設けた。 A chlorobenzene solution of ADS-254 was formed on the first hole transport layer by a slit coating method. It heat-dried at 150 degreeC for 1 hour, and provided the 2nd hole transport layer with a film thickness of 40 nm.
この第二正孔輸送層上に、OC−25、D−1、D−20、(各比率は83.5質量%:16質量%:0.5質量%)の酢酸ブチル溶液をスリットコート法により成膜した。120℃で1時間加熱乾燥し、膜厚40nmの発光層を設けた。 On this second hole transport layer, a butyl acetate solution of OC-25, D-1, D-20 (each ratio is 83.5% by mass: 16% by mass: 0.5% by mass) is slit coated. Was formed. Heat-dried at 120 ° C. for 1 hour to provide a light-emitting layer having a thickness of 40 nm.
この発光層上に、OC−107の1,1,1−3,3,3−ヘキサフルオロイソプロパノールの溶液をスリットコート法により成膜し、成膜後、低圧水銀灯(15mW/cm2)を30秒、130℃でUV照射することで、OC−107の重合基を光硬化し、膜厚20nmの不溶化した電子輸送層を設けた。 On this light emitting layer, a 1,1,1-3,3,3-hexafluoroisopropanol solution of OC-107 was formed by a slit coating method, and after the film formation, a low-pressure mercury lamp (15 mW / cm 2 ) was applied for 30. The polymerized group of OC-107 was photocured by UV irradiation at 130 ° C. for 2 seconds to provide an insolubilized electron transport layer having a thickness of 20 nm.
〈電荷発生層作成方法(蒸着法)〉
その後、これを、真空蒸着装置に取付け、真空槽を4×10−4Paまで減圧した。
<Creation method of charge generation layer (evaporation method)>
Then, this was attached to the vacuum evaporation apparatus and the vacuum chamber was pressure-reduced to 4 * 10 <-4> Pa.
次いで、BCP:Li共蒸着膜(99:1vol%)を20nm真空蒸着し、n型層とした。Li蒸着はサエスゲッター製Liソースボートを用いた。 Subsequently, a BCP: Li co-deposited film (99: 1 vol%) was vacuum-deposited by 20 nm to form an n-type layer. Li deposition used a Saesgetter Li source boat.
n型層(CGL)上に、m−MTDATA:F4−TCNQ(AG−6)を共蒸着膜(90:10vol%)を10nm真空蒸着し、p型層とした。 On the n-type layer (CGL), m-MTDATA: F4-TCNQ (AG-6) was co-deposited (90:10 vol%) by vacuum deposition to a thickness of 10 nm to form a p-type layer.
更に、第二正孔輸送層としてα−NPD(DAm−1)を40nm蒸着した。 Furthermore, 40 nm of α-NPD (DAm-1) was deposited as a second hole transport layer.
α−NPD(DAm−1)上にOC−25、D−1、D−20(各比率は83.5質量%:16質量%:0.5質量%)を三元蒸着し40nmの第二発光層を得た。 OC-25, D-1, and D-20 (each ratio is 83.5 mass%: 16 mass%: 0.5 mass%) are vapor-deposited on α-NPD (DAm-1), and the second 40 nm is deposited. A light emitting layer was obtained.
更に、第二発光層上にOC−105を20nm蒸着にて形成した。 Furthermore, OC-105 was formed by 20 nm vapor deposition on the 2nd light emitting layer.
次いで、電子注入層としてフッ化セシウム1.0nm、陰極としてアルミニウム110nmを蒸着し、2つの発光ユニットと1つのCGLを有する有機EL素子(比較例)を製造した。 Subsequently, cesium fluoride 1.0 nm was vapor-deposited as an electron injection layer, and aluminum 110 nm was vapor-deposited as a cathode, and the organic EL element (comparative example) which has two light emission units and one CGL was manufactured.
本発明における、蒸着した発光ユニットと、塗布で作製した発光ユニットには、有機ELとしての性能差はほとんど無く、本発明における効果は、以下の表に示すとおりであり、塗布・蒸着における性能差ではない。 In the present invention, there is almost no difference in performance as an organic EL between the vapor-deposited light-emitting unit and the light-emitting unit produced by coating, and the effects in the present invention are as shown in the following table. is not.
比較例2としてさらに、上記蒸着法による電荷発生層材料を用いて、塗布による作成を試みたが塗布できなかった。 Further, as Comparative Example 2, an attempt was made to create by coating using the charge generation layer material produced by the vapor deposition method, but the coating could not be performed.
なお素子の評価は以下のように行った。 The element was evaluated as follows.
《評価》
得られた各有機EL素子の評価に際しては、製造後の各有機EL素子の非発光面をガラスケースで覆い、厚み300μmのガラス基板を封止用基板として用いて、周囲にシール材として、エポキシ系光硬化型接着剤(東亞合成社製ラックストラックLC0629B)を適用し、これを上記陰極上に重ねて前記透明支持基板と密着させ、ガラス基板側からUV光を照射して、硬化させて、封止して、図5、図6に示すような照明装置を形成し、外部取り出し量子効率、駆動電圧、初期の輝度変化、駆動時の電圧上昇を評価した。また、各々の評価項目における条件を以下に示す。
<Evaluation>
When evaluating each organic EL element obtained, the non-light emitting surface of each organic EL element after production was covered with a glass case, a glass substrate having a thickness of 300 μm was used as a sealing substrate, and an epoxy was used as a sealing material around. Applying a photo-curing adhesive (Lux Track LC0629B manufactured by Toagosei Co., Ltd.), stacking it on the cathode and bringing it into close contact with the transparent support substrate, irradiating it with UV light from the glass substrate side, curing it, Sealing was performed to form an illumination device as shown in FIGS. 5 and 6, and external extraction quantum efficiency, driving voltage, initial luminance change, and voltage increase during driving were evaluated. Moreover, the conditions in each evaluation item are shown below.
初期の輝度変化ΔL;
初期輝度3000cd/m2での定電流駆動において、100hr後の輝度変化を以下で表した。
Initial luminance change ΔL;
In constant current driving at an initial luminance of 3000 cd / m 2 , the luminance change after 100 hours is expressed as follows.
ΔL=100hr時間後の輝度/初期輝度(3000cd/m2)×100
比較の素子における輝度の変化(ΔL)を100として、それぞれの素子の輝度の変化(ΔL)を相対値で表した。
ΔL = luminance after 100 hours / initial luminance (3000 cd / m 2 ) × 100
The change in luminance (ΔL) in the comparative element was taken as 100, and the change in luminance (ΔL) in each element was expressed as a relative value.
駆動時の電圧上昇ΔV;
初期輝度3000cd/m2での定電流駆動における電圧と、輝度半減時における電圧の比で評価した。
Voltage rise ΔV during driving;
Evaluation was based on the ratio of the voltage at constant current driving at an initial luminance of 3000 cd / m 2 and the voltage at half luminance.
ΔV=輝度半減時の電圧/初期電圧×100
《外部取りだし量子効率(EQE)》
有機EL素子について、23℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で2.5mA/cm2定電流を印加した時の外部取り出し量子効率(%)を測定した。尚、測定には分光放射輝度計CS−1000(コニカミノルタセンシング社製)を用いた。
ΔV = voltage at half brightness / initial voltage × 100
《External extraction quantum efficiency (EQE)》
For the organic EL element, the external extraction quantum efficiency (%) was measured when a constant current of 2.5 mA / cm 2 was applied at 23 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere. For the measurement, a spectral radiance meter CS-1000 (manufactured by Konica Minolta Sensing) was used.
《駆動電圧(V)》
有機EL素子について、23℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で2.5mA/cm2定電流を印加した時の電圧を測定した。比較例1での値を100とした時の相対評価を行った。
<< Drive voltage (V) >>
With respect to the organic EL element, a voltage was measured when a 2.5 mA / cm 2 constant current was applied at 23 ° C. in a dry nitrogen gas atmosphere. Relative evaluation was performed when the value in Comparative Example 1 was set to 100.
得られた結果を表1〜10に示す。 The obtained results are shown in Tables 1-10.
本発明の素子が外部取り出し量子効率が大きく、また、駆動電圧も低く、駆動による電圧上昇が小さい。また、初期の輝度変化からも輝度の低下について比較ほど大きくなく本発明の素子が優れていることがわかる。 The device of the present invention has a large external extraction quantum efficiency, a low driving voltage, and a small voltage increase due to driving. It can also be seen from the initial luminance change that the reduction in luminance is not as great as the comparison, and the element of the present invention is superior.
実施例2
〈蒸着によるn型層/p型層からなる二層CGL〉
〈第一ユニット〉
陽極として100mm×100mm×1.1mmのガラス基板上にITO(インジウムチンオキシド)を100nm成膜した基板(NHテクノグラス社製NA−45)にパターニングを行った後、このITO透明電極を設けた透明支持基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。
Example 2
<Double-layer CGL consisting of n-type layer / p-type layer by vapor deposition>
<First unit>
After patterning on a substrate (NH-Techno Glass NA-45) formed by depositing 100 nm of ITO (indium tin oxide) on a 100 mm × 100 mm × 1.1 mm glass substrate as an anode, this ITO transparent electrode was provided. The transparent support substrate was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes.
透明支持基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS、Bayer社製、Baytron P Al 4083)を純水で70%に希釈した溶液をスリットコート法により成膜した後、200℃にて1時間乾燥し、膜厚30nmの第一正孔輸送層を設けた。 A solution obtained by diluting poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS, manufactured by Bayer, Baytron P Al 4083) to 70% with pure water on a transparent support substrate was formed by a slit coat method. After film-forming, it dried at 200 degreeC for 1 hour, and provided the 1st positive hole transport layer with a film thickness of 30 nm.
この透明支持基板を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートにα−NPD(DAm−1)を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにホスト化合物としてH−1を200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートにBAlqを200mg入れ、別のモリブデン製抵抗加熱ボートに発光ドーパント化合物としてD−1を100mg、D−21を100mg、入れ、更に別のモリブデン製抵抗加熱ボートにAlq3を200mg入れ、真空蒸着装置に取付けた。 This transparent support substrate is fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum evaporation apparatus, while 200 mg of α-NPD (DAm-1) is placed in a molybdenum resistance heating boat, and H— is added as a host compound to another molybdenum resistance heating boat. 1 200 mg, 200 mg of BAlq in another molybdenum resistance heating boat, 100 mg of D-1 and 100 mg of D-21 as luminescent dopant compounds in another molybdenum resistance heating boat, and another molybdenum resistance 200 mg of Alq 3 was placed in a heating boat and attached to a vacuum deposition apparatus.
次いで、真空槽を4×10−4Paまで減圧した後、α−NPDの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で透明支持基板に蒸着し、膜厚40nmの正孔輸送層を設けた。 Next, after reducing the vacuum chamber to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing α-NPD was heated by heating, and deposited on the transparent support substrate at a deposition rate of 0.1 nm / sec. The hole transport layer was provided.
更に、H−1、D−1、D−21の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度0.2nm/秒、0.012nm/秒、0.0012nm/秒で前記正孔輸送層上に共蒸着して、膜厚40nmの発光層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。 Further, the heating boat containing H-1, D-1, and D-21 was energized and heated, and the holes were deposited at a deposition rate of 0.2 nm / second, 0.012 nm / second, and 0.0012 nm / second, respectively. A 40 nm-thick luminescent layer was provided by co-evaporation on the transport layer. In addition, the substrate temperature at the time of vapor deposition was room temperature.
更に、BAlqの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で前記発光層の上に蒸着して膜厚10nmの正孔阻止層を設けた。 Further, the heating boat containing BAlq was energized and heated, and was deposited on the light emitting layer at a deposition rate of 0.1 nm / second to provide a 10 nm thick hole blocking layer.
その上に、更に、Alq3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して更に膜厚40nmの電子輸送層を設けた。尚、蒸着時の基板温度は室温であった。 In addition, the heating boat containing Alq 3 is further energized and heated, and deposited on the hole blocking layer at a deposition rate of 0.1 nm / second to further provide an electron transport layer having a thickness of 40 nm. It was. In addition, the substrate temperature at the time of vapor deposition was room temperature.
(CGL)
次いで、BCP:Li共蒸着膜(99:1vol%)を20nm真空蒸着し、n型層とした。Li蒸着はサエスゲッター製Liソースボートを用いた。
(CGL)
Subsequently, a BCP: Li co-deposited film (99: 1 vol%) was vacuum-deposited by 20 nm to form an n-type layer. Li deposition used a Saesgetter Li source boat.
n型層(CGL)上に、m−MTDATA:F4−TCNQを共蒸着膜(90:10vol%)を10nm真空蒸着し、p型層とした。 On the n-type layer (CGL), m-MTDATA: F4-TCNQ was co-deposited (90:10 vol%) by vacuum deposition to a thickness of 10 nm to form a p-type layer.
〈第二ユニット〉
次いで、α−NPDの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で透明支持基板に蒸着し、膜厚40nmの正孔輸送層を設けた。
<Second unit>
Next, the heating boat containing α-NPD was energized and heated, and deposited on a transparent support substrate at a deposition rate of 0.1 nm / second to provide a hole transport layer having a thickness of 40 nm.
更に、H−1、D−1、D−21の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、それぞれ蒸着速度0.2nm/秒、0.012nm/秒、0.0012nm/秒で前記正孔輸送層上に共蒸着して、膜厚40nmの発光層を設けた。なお、蒸着時の基板温度は室温であった。 Further, the heating boat containing H-1, D-1, and D-21 was energized and heated, and the holes were deposited at a deposition rate of 0.2 nm / second, 0.012 nm / second, and 0.0012 nm / second, respectively. A 40 nm-thick luminescent layer was provided by co-evaporation on the transport layer. In addition, the substrate temperature at the time of vapor deposition was room temperature.
更に、BAlqの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で前記発光層の上に蒸着して膜厚10nmの正孔阻止層を設けた。 Further, the heating boat containing BAlq was energized and heated, and was deposited on the light emitting layer at a deposition rate of 0.1 nm / second to provide a 10 nm thick hole blocking layer.
その上に、更に、Alq3の入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒で前記正孔阻止層の上に蒸着して更に膜厚40nmの電子輸送層を設けた。 In addition, the heating boat containing Alq 3 is further energized and heated, and deposited on the hole blocking layer at a deposition rate of 0.1 nm / second to further provide an electron transport layer having a thickness of 40 nm. It was.
次いで、電子注入層としてフッ化セシウム1.0nm、陰極としてアルミニウム110nmを蒸着し、二つの発光ユニットと一つのCGLを有する有機EL素子を製造した。 Subsequently, 1.0 nm of cesium fluoride was vapor-deposited as an electron injection layer, and 110 nm of aluminum was vapor-deposited as a cathode, and the organic EL element which has two light emission units and one CGL was manufactured.
次いで、上記有機EL素子において、(CGL)のみ、n型層のBCP:Li共蒸着膜に代えてCGL(n型)1、CGL(n型)2(それぞれ表に記載)の共蒸着膜を、また、p型層についてm−MTDATA:F4−TCNQの共蒸着膜に代えてCGL(p型)1、CGL(p型)2の共蒸着膜(これもそれぞれ表に記載)に変更し、同様に各表に示す有機EL素子を作成した。 Next, in the organic EL element, only (CGL) is replaced with the co-deposited film of CGL (n-type) 1 and CGL (n-type) 2 (respectively described in the table) instead of the n-type BCP: Li co-deposited film. In addition, the p-type layer was changed to a co-deposited film of CGL (p-type) 1 and CGL (p-type) 2 instead of the co-deposited film of m-MTDATA: F4-TCNQ (this is also described in the table). Similarly, organic EL elements shown in each table were prepared.
なお、電荷発生層において、( : )n型層またはp型層が、複数種の材料の混合からなることを示し、また( / )はCGL(n型)からなる層とCGL(p型)からなる層を積層したことを示す。また、混合したときの各材料の比率は(50質量%:50質量%)とした。 In the charge generation layer, (:) indicates that the n-type layer or the p-type layer is made of a mixture of a plurality of materials, and (/) indicates a layer made of CGL (n-type) and CGL (p-type). It shows that the layer which consists of was laminated | stacked. Moreover, the ratio of each material when it mixed was set to (50 mass%: 50 mass%).
各有機EL素子について、それぞれ評価を行った。評価法は前記実施例1と同様の方法を用いた。 Each organic EL element was evaluated. As the evaluation method, the same method as in Example 1 was used.
結果を表11〜24に示す。 The results are shown in Tables 11-24.
参考例の化合物を用いたCGLは蒸着による作成においても好ましい結果を示した。 CGL using the compound of the reference example showed a preferable result even in preparation by vapor deposition.
1 ディスプレイ
3 画素
5 走査線
6 データ線
7 電源ライン
10 有機EL素子
11 スイッチングトランジスタ
12 駆動トランジスタ
13 コンデンサ
A 表示部
B 制御部
101 ガラス基板
102 ITO透明電極
103 隔壁
104 正孔注入層
105B、105G、105R 発光層
207 透明電極付きガラス基板
206 有機EL層
205 陰極
202 ガラスカバー
208 窒素ガス
209 捕水剤
DESCRIPTION OF
Claims (3)
該電荷発生層は、有機ドナーと有機アクセプターとを含み、
該有機ドナー又は該有機アクセプターが、下記一般式(A)で表される部分構造を有する化合物又はその誘導体が多次元架橋した重合体であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
The charge generation layer includes an organic donor and an organic acceptor,
Organic donor or organic acceptor, compound or an organic electroluminescence device in which the derivatives are characterized polymer der Rukoto that multidimensional crosslinking having a partial structure represented by the following general formula (A).
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