JP5568832B2 - Curable resin composition and hard coat film - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたディスプレイ等の表面を保護するためのハードコートフィルムに関する。   The present invention relates to a curable resin composition and a hard coat film for protecting the surface of a display or the like using the same.

液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の画像表示装置における画像表示面は、取り扱い時に傷がつかないように、耐擦傷性を付与することが要求される。そのために、基材フィルムにハードコート(HC)層を形成させたハードコートフィルムや、反射防止性や防眩性等光学機能を付与したハードコートフィルム(光学積層体)を用いて、画像表示面の耐擦傷性を向上させることが一般になされている。   An image display surface in an image display device such as a liquid crystal display, a CRT display, a projection display, a plasma display, or an electroluminescence display is required to be provided with scratch resistance so as not to be damaged during handling. Therefore, an image display surface is obtained by using a hard coat film in which a hard coat (HC) layer is formed on a base film or a hard coat film (optical laminate) having optical functions such as antireflection and antiglare properties. In general, the scratch resistance is improved.

ハードコート層は、通常、熱硬化型樹脂、或いは紫外線硬化型樹脂等の光重合性樹脂を用いて、光透過性基材上に3〜50μm程度の薄い塗膜として形成される。しかしながら、その塗膜厚が薄いと下地の基材の変形による影響で機械的強度(鉛筆硬度)が充分に高いものが得られない。例えば、厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム上に、3〜50μm程度の薄い塗膜を形成した場合は、鉛筆硬度で4H以上の機械的強度を達成するのは困難であった。   The hard coat layer is usually formed as a thin coating film of about 3 to 50 μm on a light-transmitting substrate using a photopolymerizable resin such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin. However, when the coating film thickness is thin, a film having sufficiently high mechanical strength (pencil hardness) cannot be obtained due to the influence of deformation of the underlying base material. For example, when a thin coating film having a thickness of about 3 to 50 μm is formed on a triacetyl cellulose film having a thickness of 80 μm, it is difficult to achieve a mechanical strength of 4H or higher in pencil hardness.

ハードコート層の硬度を向上させる方法として、ハードコート層の厚みを単純に増加させることが考えられる。しかしながら、厚みを増加させると硬度は向上するものの、ハードコート層のひび割れ(クラック)が生じやすくなったり、ハードコート層の成分の硬化収縮による積層体全体の反り(所謂カール)が発生したりして、該積層体をディスプレイに貼り付ける際に作業性を著しく損なうという問題があった。
また、ハードコート層の硬度を向上させる方法として、シリカ微粒子を添加する方法もあるが、当該微粒子は凝集しやすく、表面に凝集物の凹凸が生じることもあった。
As a method for improving the hardness of the hard coat layer, it is conceivable to simply increase the thickness of the hard coat layer. However, when the thickness is increased, the hardness is improved, but the hard coat layer is liable to be cracked or the entire laminate is warped (so-called curl) due to curing shrinkage of the components of the hard coat layer. Thus, there is a problem that workability is remarkably impaired when the laminate is attached to a display.
In addition, as a method for improving the hardness of the hard coat layer, there is a method of adding silica fine particles, but the fine particles are likely to aggregate, and irregularities of aggregates may occur on the surface.

これらの課題に対応するため、特許文献1には、プラスチックフィルム基材を使用した場合も膜剥がれやひび割れが生じ難く、カールの問題を回避し、充分な硬度を有するハードコートフィルムとして、エチレン性二重結合を有する単量体を重合させた重合体の側鎖に開環重合性基を有する架橋性化合物と、同一分子内に2個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物の両方を含有し、架橋性化合物中の開環重合性基とエチレン性不飽和基の両方を重合させる硬化性組成物を、基材上に塗布硬化させることが示されている。
しかしながら、特許文献1のハードコート層は、実施例に示されたように厚み188μmのポリエチレンテレフタレートのような厚い基材では効果が得られるものの、比較例7に示された薄い基材を用いた場合は、充分な硬度を得られず、カールを抑制することも困難である。また、ハードコートフィルムをきれいに切断できず復元性に乏しい。
In order to cope with these problems, Patent Document 1 discloses that even when a plastic film substrate is used, film peeling and cracking hardly occur, a curling problem is avoided, and a hard coat film having sufficient hardness is ethylenic. Contains both a crosslinkable compound having a ring-opening polymerizable group in the side chain of a polymer obtained by polymerizing a monomer having a double bond and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in the same molecule. It has been shown that a curable composition that polymerizes both the ring-opening polymerizable group and the ethylenically unsaturated group in the crosslinkable compound is applied and cured on a substrate.
However, although the hard coat layer of Patent Document 1 is effective with a thick substrate such as polyethylene terephthalate having a thickness of 188 μm as shown in the Examples, the thin substrate shown in Comparative Example 7 was used. In such a case, sufficient hardness cannot be obtained, and curling is difficult to suppress. In addition, the hard coat film cannot be cut cleanly and has poor restoration properties.

特許文献2には、高硬度を有し、かつ、割れやカールを抑制したハードコートフィルムとして、ハードコート層がウレタンアクリレート(A)、イソシアヌル酸アクリレート(B)、および無機の超微粒子(C)を含む硬化塗膜層である、ハードコートフィルムが示されている。
しかしながら、特許文献2のハードコート層は、無機の超微粒子が架橋性を有するものではない。また、実施例に記載されているように、光硬化時の光照射量を多くしなければならず、トリアセチルセルロースフィルムのような熱ダメージを受けやすい基材を用いると、ハードコートフィルムを重合させる際の重合熱により、基材が熱ダメージを受けて、目視でも明らかな皺が生じるという問題がある。また、特許文献2のハードコート層によっても、硬度を維持しつつ、カールやひび割れの発生を抑制することはできない。
In Patent Document 2, as a hard coat film having high hardness and suppressing cracking and curling, the hard coat layer has urethane acrylate (A), isocyanuric acid acrylate (B), and inorganic ultrafine particles (C). A hard coat film is shown which is a cured coating layer containing.
However, in the hard coat layer of Patent Document 2, inorganic ultrafine particles are not crosslinkable. In addition, as described in the examples, the amount of light irradiation at the time of photocuring must be increased, and if a substrate that is susceptible to thermal damage such as a triacetyl cellulose film is used, the hard coat film is polymerized. Due to the heat of polymerization, the base material is damaged by heat, and there is a problem that wrinkles that are apparent even when visually observed. Further, even the hard coat layer of Patent Document 2 cannot suppress the occurrence of curling and cracking while maintaining the hardness.

近年の表示装置の需要拡大に伴って、ハードコートフィルムの需要が拡大しており、高品質なハードコートフィルムを高い生産性で製造することが求められている。しかしながら、硬化性樹脂組成物の硬化工程において長い光照射時間を必要とし、これが律速となって生産性を向上することが困難であった。
このように、充分な耐擦傷性を有し、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じ難く、かつ、高い生産速度で製造可能なハードコートフィルムを得ることはできなかった。
特開2003−147017号公報 特開2006−106427号公報
With the recent increase in demand for display devices, the demand for hard coat films is increasing, and it is required to produce high-quality hard coat films with high productivity. However, a long light irradiation time is required in the curing step of the curable resin composition, which is rate-limiting and it is difficult to improve productivity.
Thus, it is possible to obtain a hard coat film that has sufficient scratch resistance, does not cause cracks, curls are suppressed, does not easily cause shrinkage of the substrate during curing, and can be manufactured at a high production rate. could not.
JP 2003-147017 A JP 2006-106427 A

本発明は上記課題を解決するもので、充分な耐擦傷性を有し、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、且つ高い生産速度でハードコートフィルムを形成可能な、硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたハードコートフィルムを提供するものである。   The present invention solves the above problems, has a sufficient scratch resistance, does not cause cracks, curls are suppressed, hardly causes shrinkage of the base material during curing, and is a hard coat film at a high production rate. Is provided, and a hard coat film using the same is provided.

上記課題を解決するために、本発明は、
(A)式(1):

Figure 0005568832
(式中、Aは炭素原子を含む環状構造と炭素原子数が4以上の鎖状構造の組合せ、X、YはNCO、水素または炭化水素基を示す)
で表され、末端に2つ以上の反応性官能基を有する分子量が3,000以上の化合物、
(B)2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物、及び、
(C)少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子からなる硬化性樹脂組成物を提供する。 In order to solve the above problems, the present invention provides:
(A) Formula (1):
Figure 0005568832
(In the formula, A represents a combination of a cyclic structure containing carbon atoms and a chain structure having 4 or more carbon atoms, and X and Y represent NCO, hydrogen, or a hydrocarbon group)
A compound having a molecular weight of 3,000 or more and having two or more reactive functional groups at its ends,
(B) a compound having two or more reactive functional groups and a molecular weight of less than 10,000, and
(C) Provided is a curable resin composition comprising inorganic fine particles having a reactive functional group introduced on the surface thereof, the organic component being coated on at least a part of the surface, and having a reactive functional group introduced on the surface.

本発明によれば、上記末端に2つ以上の反応性官能基を有する分子量が3,000以上の化合物(A)、2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物(B)、及び、表面に反応性官能基を有する無機微粒子(C)を含有し、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)が互いに反応することにより、充分な耐擦傷性を有しつつ、クラックを生じず、カールが抑えられるハードコート層を得ることができる。   According to the present invention, the compound (A) having a molecular weight of 3,000 or more having two or more reactive functional groups at the terminal, and a compound having a molecular weight of less than 10,000 having two or more reactive functional groups ( B) and inorganic fine particles (C) having reactive functional groups on the surface, and the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) are sufficiently reacted with each other. It is possible to obtain a hard coat layer that has scratch resistance, does not cause cracks, and curl is suppressed.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)が反応性官能基として重合性不飽和基を有することが、硬化膜の硬度向上の点から好ましい。   In the curable resin composition of the present invention, the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) have a polymerizable unsaturated group as a reactive functional group, thereby improving the hardness of the cured film. From the point of view, it is preferable.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記化合物(A)の含有量が、前記化合物(B)100重量部に対して5〜100重量部であり、且つ、前記無機微粒子(C)の含有量が前記化合物(A)と前記化合物(B)の合計量100重量部に対して10〜60重量部であることが、硬化膜の硬度とクラックのバランスをとる点から好ましい。   In the curable resin composition of the present invention, the content of the compound (A) is 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (B), and the content of the inorganic fine particles (C). Is preferably 10 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound (A) and the compound (B) from the viewpoint of balancing the hardness and cracks of the cured film.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記無機微粒子(C)の平均粒子径が20〜500nmであることが、硬化膜の硬度を向上させる点から好ましい。   In the curable resin composition of the present invention, the average particle size of the inorganic fine particles (C) is preferably 20 to 500 nm from the viewpoint of improving the hardness of the cured film.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記無機微粒子(C)を被覆している前記有機成分が、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり1.00×10-3g/m2以上含まれることが、硬化膜の硬度を向上させる点から好ましい。 In the curable resin composition of the present invention, the organic component covering the inorganic fine particles (C) is contained in an amount of 1.00 × 10 −3 g / m 2 or more per unit area of the inorganic fine particles before coating. Is preferable from the viewpoint of improving the hardness of the cured film.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記無機微粒子(C)が、飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β−ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の分子量500以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び/又は有機溶媒の中に無機微粒子を分散させることにより得られることが、有機成分含量が少なくても膜強度を向上できる点から好ましい。
また、前記表面修飾化合物が、少なくとも1種の水素結合形成基を有する化合物であることが、有機成分を効率よく表面修飾できる点から好ましい。
更に、前記表面修飾化合物が重合性不飽和基を有することが好ましい。この場合、導入された無機微粒子(C)は架橋結合を形成しやすいため、硬化膜の硬度を向上することができる。
In the curable resin composition of the present invention, the inorganic fine particles (C) are saturated or unsaturated carboxylic acids, acid anhydrides, acid chlorides, esters and acid amides corresponding to the carboxylic acids, amino acids, imines, nitriles, In the presence of one or more surface modification compounds having a molecular weight of 500 or less selected from the group consisting of isonitriles, epoxy compounds, amines, β-dicarbonyl compounds, silanes, and functional metal compounds, water as a dispersion medium and It is preferable that it is obtained by dispersing inorganic fine particles in an organic solvent because the film strength can be improved even if the organic component content is small.
In addition, it is preferable that the surface modification compound is a compound having at least one hydrogen bond forming group from the viewpoint that the organic component can be surface modified efficiently.
Furthermore, the surface modification compound preferably has a polymerizable unsaturated group. In this case, since the introduced inorganic fine particles (C) are easy to form a cross-linked bond, the hardness of the cured film can be improved.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記無機微粒子(C)が、粒子径500nm以下の無機微粒子を疎水性ビニルモノマーに分散したモノマーを、親水化された多孔質膜を通して水中に吐出し、無機微粒子が分散したモノマー液滴の水分散体とした後、重合することにより得られることが、粒径分布を狭くし、単分散性を高める点から好ましい。   In the curable resin composition of the present invention, the inorganic fine particles (C) are formed by discharging a monomer in which inorganic fine particles having a particle diameter of 500 nm or less are dispersed in a hydrophobic vinyl monomer into water through a hydrophilicized porous film. It is preferable to obtain an aqueous dispersion of monomer droplets in which fine particles are dispersed, followed by polymerization from the viewpoint of narrowing the particle size distribution and improving monodispersibility.

本発明の硬化性樹脂組成物は、前記無機微粒子(C)が、当該無機微粒子表面に導入される反応性官能基、式(2):
−Q1−C(=Q2)−NH− (2)
(式中、Q1は、NH、O(酸素原子)、またはS(硫黄原子)を示し、Q2はO又はSを示す)
に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られることが、有機成分への分散性、及び膜強度が向上する点から好ましい。
In the curable resin composition of the present invention, the inorganic fine particle (C) is a reactive functional group introduced into the surface of the inorganic fine particle, formula (2):
-Q 1 -C (= Q 2) -NH- (2)
(Wherein Q 1 represents NH, O (oxygen atom), or S (sulfur atom), and Q 2 represents O or S).
And a compound containing a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis, and the metal oxide fine particles can be obtained, thereby improving dispersibility in organic components and film strength. It is preferable from the point.

本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化膜を形成した時の、JIS5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験によるハードコート層表面の硬度が、厚み80μmのトリアセチルセルロース基材上で、4H以上であることが、耐擦傷性、引っかき傷防止の点から好ましい。   The curable resin composition of the present invention is a triacetylcellulose base material having a hard coat layer surface hardness of 80 μm by a pencil hardness test specified in JIS 5600-5-4 (1999) when a cured film is formed. From the viewpoint of scratch resistance and scratch prevention, 4H or more is preferable.

また、上記課題を解決するために本発明は、光透過性樹脂基材上に、上記に記載の硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層を備えるハードコートフィルムを提供する。   Moreover, in order to solve the said subject, this invention provides a hard-coat film provided with the hard-coat layer which consists of hardened | cured material of the curable resin composition as described above on a light-transmitting resin base material.

本発明のハードコートフィルムは、基材上に、硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層を備えることにより、充分な耐擦傷性を有しつつ、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、且つ高い生産速度で生産可能である。   The hard coat film of the present invention is provided with a hard coat layer made of a cured product of the curable resin composition on the base material, so that it has sufficient scratch resistance and does not cause cracks and curling can be suppressed. It is difficult to cause shrinkage of the base material at the time of curing, and it can be produced at a high production rate.

本発明のハードコートフィルムは、前記ハードコート層が帯電防止剤および/または防眩剤を含んでも良い。
また、本発明のハードコートフィルムは、前記光透過性樹脂基材と前記ハードコート層との間及び/又は前記ハードコート層の上に、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、及び防汚層よりなる群から選択される1種以上の層を形成してなるものでも良い。
In the hard coat film of the present invention, the hard coat layer may contain an antistatic agent and / or an antiglare agent.
Further, the hard coat film of the present invention is an antistatic layer, an antiglare layer, a low refractive index layer, and / or between the light transmissive resin substrate and the hard coat layer and / or on the hard coat layer. It may be formed by forming one or more layers selected from the group consisting of antifouling layers.

本発明の硬化性樹脂組成物は、充分な耐擦傷性を有し、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、且つ高い生産速度でハードコートフィルムを形成可能である。
従って、本発明の硬化性樹脂組成物を用いたハードコートフィルムは、充分な耐擦傷性を有しつつ、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じ難く、且つ高い生産速度で製造可能であるという効果を奏する。
The curable resin composition of the present invention has sufficient scratch resistance, does not cause cracks, curls are suppressed, does not easily cause shrinkage of the base material during curing, and can produce a hard coat film at a high production rate. It can be formed.
Therefore, the hard coat film using the curable resin composition of the present invention has sufficient scratch resistance, does not generate cracks, curl is suppressed, and does not easily cause shrinkage of the substrate during curing, and There is an effect that it can be manufactured at a high production speed.

本発明は、硬化性樹脂組成物、及びこれを用いたハードコートフィルムに関するものである。以下、硬化性樹脂組成物、ハードコートフィルムについて順に説明する。   The present invention relates to a curable resin composition and a hard coat film using the same. Hereinafter, the curable resin composition and the hard coat film will be described in order.

I.硬化性樹脂組成物
本発明の硬化性樹脂組成物は、
(A)式(1):

Figure 0005568832
(式中、Aは炭素原子を含む 環状構造と炭素原子数が4以上の鎖状構造の組合せ、X、YはNCO、水素または炭化水素基を示す)
で表され、末端に2つ以上の反応性官能基を有する分子量が3,000以上の化合物、
(B)2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物、及び、
(C)少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子を含有し、
前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)が互いに反応することが可能であることを特徴とする。 I. Curable resin composition The curable resin composition of the present invention,
(A) Formula (1):
Figure 0005568832
(In the formula, A is a combination of a cyclic structure containing a carbon atom and a chain structure having 4 or more carbon atoms, and X and Y are NCO, hydrogen or a hydrocarbon group)
A compound having a molecular weight of 3,000 or more and having two or more reactive functional groups at its ends,
(B) a compound having two or more reactive functional groups and a molecular weight of less than 10,000, and
(C) containing inorganic fine particles having a reactive functional group on the surface thereof, the organic component being coated on at least a part of the surface and introduced by the organic component;
The compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) can react with each other.

本発明の硬化性樹脂組成物は、上記末端に2つ以上の反応性官能基を有する分子量が3,000以上の化合物(A)、2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物(B)、及び、表面に反応性官能基を有する無機微粒子(C)を含有し、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)が互いに反応可能であることにより、充分な耐擦傷性を有しつつ、クラックを生じず、カールが抑えられるハードコート層を得ることができる。   The curable resin composition of the present invention has a compound (A) having a molecular weight of 3,000 or more having two or more reactive functional groups at the terminal and a molecular weight of 10,000 or more having two or more reactive functional groups. Less than the compound (B) and inorganic fine particles (C) having reactive functional groups on the surface, the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) can react with each other. As a result, it is possible to obtain a hard coat layer that has sufficient scratch resistance, does not cause cracks, and curl is suppressed.

本発明においては薄膜での充分な硬度を達成するために、ハードコート層においてハードセグメント成分として機能する上記2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物(B)に加えて、当該化合物(B)よりも硬いハードセグメント成分として機能する、上記化合物(B)と反応可能な無機微粒子(C)を組み合わせて用いる。
しかしながら、上記化合物(B)及び上記無機微粒子(C)のみを組み合わせると、硬度は高くなるものの、少し曲げただけでクラックを生じる上、密着性も低下し実用上問題がある。また、クラック発生防止のため更に可撓性を付与するようにソフトセグメント成分を追加すると、使用上問題になるほど硬度が低下する。
また、特許文献1のようなエチレン性二重結合を有する単量体を重合させた重合体の側鎖に重合性基を有する架橋性化合物を組み合わせると、当該重合体の比較的硬い主鎖構造により、可撓性は付与されても復元性が出ないため、切断時のクラック発生を防止できない。
これに対し、本発明においては、上記化合物(B)と無機微粒子(C)に、更に、上記化合物(B)と無機微粒子(C)と反応可能な上記末端に2つ以上の反応性官能基を有する分子量が3,000以上の化合物(A)を組み合わせて用いるため、薄膜であっても所望の硬度を維持しつつ、可撓性及び復元性を付与できるため、曲げたり切断する際のクラック発生を防止できる。
すなわち、上記化合物(A)は、分子中に嵩高く、ハードセグメント成分の環状構造を持つことで可撓性及び復元性を付与可能になる。一方で化合物(A)は、末端の反応性官能基により、ハードセグメント成分である上記化合物(B)及び無機微粒子(C)の両方と架橋できることから、薄膜であっても所望の硬度を達成することが可能になる。
In the present invention, in order to achieve sufficient hardness in the thin film, in addition to the compound (B) having a molecular weight of less than 10,000 and having two or more reactive functional groups that function as hard segment components in the hard coat layer. The inorganic fine particles (C) that can react with the compound (B) and function as a hard segment component harder than the compound (B) are used in combination.
However, when only the compound (B) and the inorganic fine particles (C) are combined, the hardness is increased, but cracking occurs only by bending a little, and the adhesion is lowered, which causes a practical problem. In addition, when a soft segment component is added so as to give more flexibility in order to prevent cracks from occurring, the hardness decreases as it becomes a problem in use.
Further, when a crosslinkable compound having a polymerizable group is combined with a side chain of a polymer obtained by polymerizing a monomer having an ethylenic double bond as in Patent Document 1, a relatively hard main chain structure of the polymer is obtained. As a result, even if flexibility is imparted, the restoration does not occur, so that it is not possible to prevent the occurrence of cracks during cutting.
On the other hand, in the present invention, the compound (B) and the inorganic fine particles (C) further have two or more reactive functional groups at the terminal capable of reacting with the compound (B) and the inorganic fine particles (C). Since a compound (A) having a molecular weight of 3,000 or more is used in combination, flexibility and resilience can be imparted while maintaining the desired hardness even in a thin film, so cracks when bending or cutting Occurrence can be prevented.
That is, the compound (A) is bulky in the molecule, and can have flexibility and resilience by having a cyclic structure of a hard segment component. On the other hand, the compound (A) can be crosslinked with both the compound (B) and the inorganic fine particles (C), which are the hard segment components, by the reactive functional group at the terminal, and thus achieves a desired hardness even in a thin film. It becomes possible.

また、本発明の硬化性樹脂組成物は、前記特定の化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)を含有し、これら全てが互いに反応可能であることにより、低照射量で短時間に硬化できる。そのため、本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化時の重合熱により基材に与える熱ダメージが小さくなり、基材の収縮皺を生じさせ難く、さらにハードコート層のカールを抑制でき、且つ高い生産速度でハードコートフィルムを形成することができる。
したがって、本発明により、充分な耐擦傷性を有し、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、且つ高い生産速度でハードコートフィルムを形成可能な、硬化性樹脂組成物を得ることができる。
Further, the curable resin composition of the present invention contains the specific compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C), all of which are capable of reacting with each other, thereby reducing low irradiation. It can be cured in a short amount of time. Therefore, the curable resin composition of the present invention reduces heat damage to the base material due to the heat of polymerization at the time of curing, hardly causes shrinkage of the base material, can further suppress curling of the hard coat layer, and is high. A hard coat film can be formed at a production rate.
Therefore, according to the present invention, it has sufficient scratch resistance, does not cause cracking, curl is suppressed, it is difficult to cause shrinkage of the base material during curing, and a hard coat film can be formed at a high production rate. A curable resin composition can be obtained.

以下、本発明の硬化性樹脂組成物の各構成について順に説明する。
なお、本明細書中において(メタ)アクリロイルは、アクリロイル及びメタクリロイルを表し、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを表し、(メタ)アクリルは、アクリル及びメタクリルを表す。また、本明細書中の光には、可視及び非可視領域の波長の電磁波だけでなく、電子線のような粒子線、及び、電磁波と粒子線を総称する放射線又は電離放射線が含まれる。
Hereinafter, each structure of the curable resin composition of this invention is demonstrated in order.
In the present specification, (meth) acryloyl represents acryloyl and methacryloyl, (meth) acrylate represents acrylate and methacrylate, and (meth) acryl represents acryl and methacryl. In addition, the light in this specification includes not only electromagnetic waves having wavelengths in the visible and non-visible regions, but also particle beams such as electron beams, and radiation or ionizing radiation that collectively refers to electromagnetic waves and particle beams.

本明細書中の反応性官能基には、光硬化性官能基及び熱硬化性官能基が含まれる。光硬化性官能基とは、光照射により重合反応または架橋反応等を進行させて塗膜を硬化させることができる官能基を意味し、例えば、光ラジカル重合、光カチオン重合、光アニオン重合のような重合反応、あるいは、光二量化を経て進行する付加重合または縮重合等の反応形式により反応が進行するものが挙げられる。
また、本明細書中の熱硬化性官能基とは、加熱によって同じ官能基同士または他の官能基との間で重合反応または架橋反応等を進行させて塗膜を硬化させることができる官能基を意味し、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基等を挙げられる。
本発明に用いられる反応性官能基としては、特に、反応性の点から、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基(CH2=CH−)、CH2=CR−(ここでRは炭化水素基)、シンナモイル基、マレエート基、アクリルアミド基、エチニル基等の重合性不飽和基が好適に用いられる。
The reactive functional group in this specification includes a photocurable functional group and a thermosetting functional group. The photo-curable functional group means a functional group capable of curing a coating film by proceeding a polymerization reaction or a crosslinking reaction by light irradiation, such as photo radical polymerization, photo cation polymerization, and photo anion polymerization. And a reaction that proceeds by a reaction method such as addition polymerization or condensation polymerization that proceeds via photodimerization.
In addition, the thermosetting functional group in the present specification is a functional group capable of curing a coating film by causing a polymerization reaction or a crosslinking reaction to proceed between the same functional groups or other functional groups by heating. And examples thereof include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, and an isocyanate group.
As the reactive functional group used in the present invention, (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group, vinyl group (CH 2 ═CH—), CH 2 ═CR— (here, particularly from the viewpoint of reactivity) And R is a hydrocarbon group), a polymerizable unsaturated group such as a cinnamoyl group, a maleate group, an acrylamide group, and an ethynyl group is preferably used.

また、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)の反応性官能基がそれぞれ互いに反応可能であるとは、各反応性官能基同士が直接反応可能なものの組み合わせを有する場合の他、他の架橋成分を介して前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)の反応性官能基の3成分が互いに反応可能になる態様も含まれる。前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)の3成分が互いに反応可能であることから、本発明の樹脂組成物により形成された硬化膜中においては、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)の3成分が架橋した網目構造を形成することができる。   In addition, the reactive functional groups of the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) can react with each other means a combination of those in which the reactive functional groups can directly react with each other. In addition to the case where it has, an embodiment in which the three components of the reactive functional group of the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) can react with each other via another crosslinking component is also included. Since the three components of the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) can react with each other, in the cured film formed by the resin composition of the present invention, the compound ( A network structure in which the three components of A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) are crosslinked can be formed.

また、本明細書において、分子量とは、分子量分布を有する場合には、ゲル浸透クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である重量平均分子量をいい、分子量分布を有しない場合には、化合物そのものの分子量をいう。   In addition, in the present specification, the molecular weight means a weight average molecular weight which is a polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography when having a molecular weight distribution, and when there is no molecular weight distribution, the molecular weight of the compound itself. Say.

<式(1)で表わされる化合物(A)>
本発明において用いられる化合物(A)は、式(1):

Figure 0005568832
(式中、Aは炭素原子を含む環状構造と炭素原子数が4以上の鎖状構造の組合せ、X、YはNCO、水素または炭化水素基を示す)
で表され、末端に2つ以上の反応性官能基を有する分子量が3,000以上の化合物である。分子量が3,000より小さい化合物であると、得られた樹脂に充分な柔軟性が与えられず、クラック発生の原因となることから好ましくない。 <Compound (A) Represented by Formula (1)>
The compound (A) used in the present invention has the formula (1):
Figure 0005568832
(In the formula, A represents a combination of a cyclic structure containing carbon atoms and a chain structure having 4 or more carbon atoms, and X and Y represent NCO, hydrogen, or a hydrocarbon group)
And a compound having a molecular weight of 3,000 or more having two or more reactive functional groups at its ends. A compound having a molecular weight smaller than 3,000 is not preferable because the obtained resin is not sufficiently flexible and causes cracks.

上記化合物Aの環状構造の好適な例としては、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メタフェニレンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、ジメチルベンゼンジイソシアネート、エチルベンゼンジイソシアネート、イソプロピルベンゼンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、1,4−ナフタレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、2,6−ナフタレンジイソシアネート、2,7−ナフタレンジイソシアネート、1,3−アダマンタンジオール、1,6−ヘキサンジイソシアネート等が挙げられる。   Preferable examples of the cyclic structure of the compound A include xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, metaphenylene diisocyanate, paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, dimethylbenzene diisocyanate, ethylbenzene diisocyanate. , Isopropylbenzene diisocyanate, tolidine diisocyanate, 1,4-naphthalene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,6-naphthalene diisocyanate, 2,7-naphthalene diisocyanate, 1,3-adamantanediol, 1,6-hexane diisocyanate, etc. Is mentioned.

上記化合物Aの炭素原子数が4以上の鎖状構造の好適な例としては、1,4−ブタンジオール、1,5−ヘプタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−ブタンジイソシアネート、1,5−ヘプタンイソシアネート、1,6−ヘキサンイソシアネート、1,6−ヘプタンジイソシアネート等が挙げられる。   Preferred examples of the chain structure of the compound A having 4 or more carbon atoms include 1,4-butanediol, 1,5-heptanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-butanediisocyanate, 1,5-heptane isocyanate, 1,6-hexane isocyanate, 1,6-heptane diisocyanate and the like.

鎖状構造の主鎖の炭素数について検討すると、主鎖の原子数が4未満であると、最終的に得られたハードコート層の可撓性が不充分となる。   Examining the number of carbon atoms in the main chain of the chain structure, if the number of atoms in the main chain is less than 4, the flexibility of the finally obtained hard coat layer becomes insufficient.

環状構造と鎖状構造とを組み合わせることで、嵩高い環状構造のハードセグメント成分により、膜硬度を低下させることなくカールを防止し、さらに鎖状構造部分を介することにより環状構造の立体障害が緩和される。結果反応性に優れ、ハードコートフィルムの膜硬度が向上する。   Combining a ring structure and a chain structure prevents curling without reducing the film hardness due to the bulky structure of the hard segment, and further reduces the steric hindrance of the ring structure via the chain structure. Is done. As a result, the reactivity is excellent and the film hardness of the hard coat film is improved.

上記式(1)で表される化合物に反応性官能基を導入する方法として化合物中のイソシアネートと、反応する水酸基を含む(メタ)アクリレートとのウレタン重合体を形成させる方法が有効である。   As a method for introducing a reactive functional group into the compound represented by the formula (1), a method of forming a urethane polymer of an isocyanate in the compound and a (meth) acrylate containing a reactive hydroxyl group is effective.

上記式(1)で表される化合物と結合する(メタ)アクリレートとしては、具体的にはペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、2−ヒドロキシ−1−アクリロキシ−3−メタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−アクリルロイルオキシブチルイソシアネート等が挙げられる。   Specific examples of the (meth) acrylate bonded to the compound represented by the above formula (1) include pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, 2-hydroxy-1-acryloxy-3-methacrylate, 4-hydroxy Examples include butyl acrylate and 4-acryloyloxybutyl isocyanate.

また、本発明に用いられる化合物(A)の分子量は、硬化膜に柔軟性を与えクラックを防止する点から3,000以上であり、さらに好ましくは4,000以上である。   The molecular weight of the compound (A) used in the present invention is 3,000 or more, more preferably 4,000 or more, from the viewpoint of imparting flexibility to the cured film and preventing cracks.

上記式(1)で表される化合物(A)を含有する市販品としては、例えば、商品名KRM7804、KRM8321(ダイセル・サイテック製)、商品名A−6M(根上工業製)、商品名HMP−2M(根上工業製)等が挙げられる。   As a commercial item containing the compound (A) represented by the said Formula (1), brand name KRM7804, KRM8321 (made by Daicel Cytec), brand name A-6M (made by Negami Kogyo), brand name HMP-, for example. 2M (manufactured by Negami Kogyo) and the like.

前記化合物(A)の含有量は、前記化合物(B)100重量部に対して5〜100重量部であることが好ましく、10〜50重量部であることが更に好ましい。前記化合物(A)の含有量は、前記化合物(B)100重量部に対して5重量部以上であれば、硬化膜に柔軟性と復元性を付与でき、100重量部以下であれば、硬化膜の硬さを維持できる。
また、前記無機微粒子(C)の含有量が、前記化合物(A)と前記化合物(B)の合計量100重量部に対して10〜60重量部であることが望ましく、更に、20〜40重量部であることが望ましい。成分(C)の含有量が10重量部以下であるとハードコート層に充分な硬度が得られず、また、60重量部以上になると、ハードコート層中の無機微粒子の量が多すぎて脆くなり、その結果、硬度の低下やクラックの発生を引き起こすため望ましくない。
The content of the compound (A) is preferably 5 to 100 parts by weight, and more preferably 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (B). If the content of the compound (A) is 5 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the compound (B), the cured film can be given flexibility and restorability, and if it is 100 parts by weight or less, it is cured. The film hardness can be maintained.
In addition, the content of the inorganic fine particles (C) is preferably 10 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound (A) and the compound (B), and further 20 to 40 parts by weight. Part is desirable. If the content of the component (C) is 10 parts by weight or less, sufficient hardness cannot be obtained in the hard coat layer, and if it is 60 parts by weight or more, the amount of inorganic fine particles in the hard coat layer is too large and brittle. As a result, it causes a decrease in hardness and occurrence of cracks, which is not desirable.

<2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物(B)>
本発明の硬化性樹脂組成物は、前記2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物(B)が、無機微粒子(C)と相俟って、樹脂組成物の硬化膜の硬度を向上させ、充分な耐擦傷性を付与するものである。なお、上記化合物(A)の構造を有するものは、2つ以上の反応性官能基を有する分子量が10,000未満の化合物(B)から除かれる。
<Compound (B) having two or more reactive functional groups and a molecular weight of less than 10,000>
In the curable resin composition of the present invention, the compound (B) having two or more reactive functional groups and a molecular weight of less than 10,000 is combined with the inorganic fine particles (C) to cure the resin composition. The film hardness is improved and sufficient scratch resistance is imparted. In addition, what has the structure of the said compound (A) is remove | excluded from the compound (B) which has a molecular weight less than 10,000 which has a 2 or more reactive functional group.

本発明において上記化合物(B)は、上記化合物(A)と反応性無機微粒子(C)との組み合わせにおいて、互いに反応可能な反応性官能基を有する。そして、充分な耐擦傷性を有し、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、且つ高い生産速度でハードコートフィルムを形成可能なように、広範な化合物から適宜選択して用いることができる。当該化合物(B)は、1種単独で用いても良いが、2種以上を混合して用いても良い。   In the present invention, the compound (B) has reactive functional groups that can react with each other in the combination of the compound (A) and the reactive inorganic fine particles (C). And it has enough scratch resistance, no cracks, curling is suppressed, it is difficult to cause shrinkage of the base material during curing, and a hard coat film can be formed at a high production rate. It can be used by appropriately selecting from compounds. Although the said compound (B) may be used individually by 1 type, you may mix and use 2 or more types.

前記化合物(B)は、1分子中に含まれる反応性官能基が3個以上であることが、硬化膜の架橋密度をあげて、硬度を付与する点から好ましい。ここで化合物(B)が分子量分布を有する化合物の場合、反応性官能基数は平均の個数で表される。   The compound (B) preferably has 3 or more reactive functional groups in one molecule from the viewpoint of imparting hardness by increasing the crosslinking density of the cured film. Here, when the compound (B) is a compound having a molecular weight distribution, the number of reactive functional groups is represented by an average number.

また、化合物(B)の分子量は10,000未満であることが望ましく、10,000以上であると、得られた樹脂は柔軟になりすぎて充分な硬度が得られない。そして硬度向上の観点からは、化合物(B)の分子量は5,000未満であることが好ましい。   Further, the molecular weight of the compound (B) is preferably less than 10,000, and if it is 10,000 or more, the obtained resin becomes too soft and sufficient hardness cannot be obtained. And from a viewpoint of a hardness improvement, it is preferable that the molecular weight of a compound (B) is less than 5,000.

以下に具体例を挙げるが、本発明に用いられる化合物(B)は、これらに限定されるものではない。
重合性不飽和基を有する具体例として、重合性不飽和基を1分子内に2つ以上有する多官能(メタ)アクリレート系モノマーとしては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリレート化合物;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、及びそのEO(エチレンオキサイド、以下EOという)、PO(プロピレンオキサイド、以下POという)、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、及びそのEO、PO、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌール酸EO変性トリ(メタ)アクリレート(東亞合成製アロニックスM−315等)、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−(2,2,2−トリ−(メタ)アクリロイルオキシメチル)エチル、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、及びそのEO、PO、エピクロルヒドリン変性品等の3官能(メタ)アクリレート化合物;ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及びそのEO、PO、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の4官能(メタ)アクリレート化合物;ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及びそのEO、PO、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品等の5官能(メタ)アクリレート化合物;ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、及びそのEO、PO、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、及びそのEO、PO、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル、ウレタン変性品等の6官能(メタ)アクリレート化合物が挙げられる。
Specific examples are given below, but the compound (B) used in the present invention is not limited thereto.
As specific examples having a polymerizable unsaturated group, polyfunctional (meth) acrylate monomers having two or more polymerizable unsaturated groups in one molecule include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl. Bifunctional (meth) acrylate compounds such as glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and EO (ethylene oxide) , Hereinafter referred to as EO), PO (propylene oxide, hereinafter referred to as PO), epichlorohydrin modified product, pentaerythritol tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, and EO, PO, epichlorohydrin modified product, isocyanur Luric acid EO-modified tri (meth) acrylate (Aronix M-315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, hydrogen phthalate- (2,2,2-tri- (meth) acryloyloxymethyl) Trifunctional (meth) acrylate compounds such as ethyl, glycerol tri (meth) acrylate and its EO, PO, and epichlorohydrin modified products; pentaerythritol tetra (meth) acrylate and its EO, PO, epichlorohydrin modified products, ditrimethylolpropane tetra Tetrafunctional (meth) acrylate compounds such as (meth) acrylates; Dipentaerythritol penta (meth) acrylates and pentafunctional (meth) acrylate compounds such as EO, PO, epichlorohydrin, fatty acids, alkyls, urethane modified products; Intererythritol hexa (meth) acrylate and its EO, PO, epichlorohydrin, fatty acid, alkyl, urethane modified product, sorbitol hexa (meth) acrylate and its EO, PO, epichlorohydrin, fatty acid, alkyl, urethane modified product, etc. A (meth) acrylate compound is mentioned.

(メタ)アクリレート系化合物(乃至プレ化合物)としては、グリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸若しくはカルボン酸塩基を持つモノマーとの付加反応によって得られるエポキシ(メタ)アクリレート類;ポリオールとポリイソシアネートとの反応物と水酸基を含有する(メタ)アクリレートとの付加反応によって得られるウレタン(メタ)アクリレート類;ポリオールと多塩基酸から成るポリエステルポリオールと、(メタ)アクリル酸とのエステル化によって得られるポリエステルアクリレート類;ポリブタジエン又は水添ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリル化合物であるポリブタジエン(メタ)アクリレート等が挙げられる。本発明における必須成分の反応性官能基が重合性不飽和基の場合、ウレタン(メタ)アクリレートは、硬化膜に硬度と柔軟性を与える点から好適に用いられる。   As (meth) acrylate compounds (or pre-compounds), epoxy (meth) acrylates obtained by addition reaction of glycidyl ether and a monomer having (meth) acrylic acid or carboxylic acid group; reaction of polyol and polyisocyanate (Meth) acrylates obtained by addition reaction of a product with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate; polyester acrylates obtained by esterification of a polyester polyol composed of a polyol and a polybasic acid and (meth) acrylic acid A polybutadiene (meth) acrylate which is a (meth) acrylic compound having a polybutadiene or hydrogenated polybutadiene skeleton. When the reactive functional group of the essential component in the present invention is a polymerizable unsaturated group, urethane (meth) acrylate is preferably used from the viewpoint of imparting hardness and flexibility to the cured film.

上記エポキシ(メタ)アクリレート類に用いられるグリシジルエーテルとして、1,6−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールグリシジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ナフタレン系エポキシ樹脂、カルドエポキシ樹脂、グリセロールトリグリシジルエーテル、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、上記ウレタン(メタ)アクリレート類に用いられるポリオールとして、1,6−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンポリオール、ポリエステルジオール等が挙げられる。上記ウレタン(メタ)アクリレート類に用いられるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフエニルメタンジイソシアネート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、ヘキサメレチンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等が挙げられる。上記ウレタン(メタ)アクリレート類に用いられる水酸基を含有する(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記ポリエステルアクリレート類に用いられるポリエステルポリオールを形成するためのポリオールとして、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,4−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等が挙げられ、多塩基酸として、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸等が挙げられる。
As the glycidyl ether used in the above epoxy (meth) acrylates, 1,6-hexane diglycidyl ether, polyethylene glycol glycidyl ether, bisphenol A type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, cardo epoxy resin, glycerol triglycidyl ether, phenol novolac Type epoxy resin and the like.
Examples of the polyol used in the urethane (meth) acrylates include 1,6-hexanediglycidyl ether, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polycaprolactone diol, polycarbonate diol, polybutadiene polyol, and polyester diol. It is done. Examples of the polyisocyanate used in the urethane (meth) acrylates include tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, tetramethylxylene diisocyanate, hexamelletin diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, and the like. Examples of the (meth) acrylate containing a hydroxyl group used in the urethane (meth) acrylates include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and pentaerythritol. (Meth) acrylate, caprolactone-modified 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and the like.
Examples of the polyol for forming the polyester polyol used in the polyester acrylates include ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-butanediol, trimethylolpropane, and pentaerythritol. Examples of the polybasic acid include succinic acid, adipic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, and pyromellitic acid.

また、本発明に用いられる化合物(B)としては、分子量が10,000未満である下記一般式(3):

Figure 0005568832
(式中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、qは0又は1を表す。Rは水素原子又はメチル基を表す。Aは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、単一成分であっても複数の成分で構成されていてもよい。o、pは各重合単位のモル%である。pは0であっても良い)
で表される重合体を用いることもできる。 The compound (B) used in the present invention has the following general formula (3) having a molecular weight of less than 10,000:
Figure 0005568832
(In the formula, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, q represents 0 or 1, R represents a hydrogen atom or a methyl group, A represents a polymerization unit of any vinyl monomer, and a single component. Or o and p are mol% of each polymer unit. P may be 0)
It is also possible to use a polymer represented by

一般式(3)中のLは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐鎖構造を有していてもよく、環状構造を有していてもよく、O、N、Sから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
一般式(3)中の連結基Lの好ましい例としては、*−(CH22−O−**、*−(CH22−NH−**、*−(CH24−O−**、*−(CH26−O−**、*−(CH22−O−(CH)2−O−**、*−CONH−(CH23−O−**、*−CH2CH(OH)CH2−O−**、*−CH2CH2OCONH(CH23−O−**等が挙げられる。ここで、*は、化合物主鎖側の連結部位を表し、**は、(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。
L in the general formula (3) represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms. Alternatively, it may have a branched chain structure, may have a cyclic structure, or may have a heteroatom selected from O, N, and S.
Preferable examples of the linking group L in the general formula (3) include * — (CH 2 ) 2 —O — **, * — (CH 2 ) 2 —NH — **, * — (CH 2 ) 4 —. O — **, * — (CH 2 ) 6 —O — **, * — (CH 2 ) 2 —O— (CH) 2 —O — **, * —CONH— (CH 2 ) 3 —O— **, * —CH 2 CH (OH) CH 2 —O — **, * —CH 2 CH 2 OCONH (CH 2 ) 3 —O — **, and the like. Here, * represents a linking site on the compound main chain side, and ** represents a linking site on the (meth) acryloyl group side.

一般式(3)中、Rは水素原子又はメチル基を表すが、硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula (3), R represents a hydrogen atom or a methyl group, and is more preferably a hydrogen atom from the viewpoint of curing reactivity.

一般式(3)中、oは100モル%、すなわち単独の重合体であっても良い。また、oが100モル%であっても、oモル%で表された(メタ)アクリロイル基を含有する重合単位が2種以上混合して用いられた共重合体であってもよい。oとpの比は、硬度や、溶剤への溶解性、透明性等種々の観点から適宜選択することができる。   In the general formula (3), o may be 100 mol%, that is, a single polymer. Moreover, even if o is 100 mol%, the copolymer in which 2 or more types of polymerization units containing the (meth) acryloyl group represented by o mol% were used may be used. The ratio of o and p can be appropriately selected from various viewpoints such as hardness, solubility in a solvent, and transparency.

一般式(3)中、Aは任意のビニルモノマーの重合単位を表し、特に制限はなく、硬度や、溶剤への溶解性、透明性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。   In the general formula (3), A represents a polymerization unit of any vinyl monomer, and is not particularly limited, and can be appropriately selected from various viewpoints such as hardness, solubility in a solvent, transparency, and the like. It may be composed of a single or a plurality of vinyl monomers.

例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができる。   For example, vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, etc. (Meth) acrylates such as vinyl esters, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, Styrene derivatives such as styrene and p-hydroxymethyl styrene, and unsaturated hydrocarbons such as crotonic acid, maleic acid and itaconic acid. Mention may be made of carbon acids and derivatives thereof.

また、重量平均分子量が10,000末端である、末端や側鎖にエチレン性二重結合基を有する反応性化合物を用いることもできる。当該反応性化合物として、骨格成分がポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリ(アクリロニトリル/スチレン)、ポリ((メタ)アクリル酸2−ヒドロキシメチル/(メタ)アクリル酸メチル)、ポリ((メタ)アクリル酸2−ヒドロキシメチル/(メタ)アクリル酸ブチル)、及び、これらの樹脂とシリコーン樹脂との共重合体等が挙げられる。   Moreover, the reactive compound which has an ethylenic double bond group in the terminal and side chain whose weight average molecular weight is 10,000 terminal can also be used. As the reactive compound, the skeleton component is poly (meth) acrylate methyl, polystyrene, poly (meth) acrylate butyl, poly (acrylonitrile / styrene), poly ((meth) acrylate 2-hydroxymethyl / (meth) acrylic Acid methyl), poly (2-hydroxymethyl (meth) acrylate / butyl (meth) acrylate), and copolymers of these resins and silicone resins.

以上の化合物については市販品を用いることができる。重量平均分子量が10,000未満であり、且つ、2つ以上の重合性不飽和基を有するウレタンアクリレートとして、共栄社製 商品名AH−600、AT−600、UA−306H、UA−306T、UA−306I等;日本合成化学製 商品名UV−1700B、UV−3000B、UV−3200B、UV−6300B、UV−6330B、UV−7000B等;荒川化学工業製 商品名ビームセット500シリーズ(502H、504H、550B等);新中村化学工業製 商品名U−6HA、U−15HA、UA−32P、U−324A等;東亞合成製 商品名M−9050等が挙げられる。
中でも、本発明の前記化合物(A)との組み合わせにおいて好適に用いられるウレタン(メタ)アクリレートとして、イソホロンジイソシアネートの単量体又は多量体とペンタエリスリトール多官能アクリレートとジペンタエリスリトール多官能アクリレートとを反応して得られるウレタン(メタ)アクリレートが挙げられる。当該ウレタン(メタ)アクリレートの市販品としては、例えば、商品名UV−1700B(日本合成化学製)が挙げられる。
Commercially available products can be used for the above compounds. As urethane acrylates having a weight average molecular weight of less than 10,000 and having two or more polymerizable unsaturated groups, trade names AH-600, AT-600, UA-306H, UA-306T, UA- manufactured by Kyoeisha 306I, etc .; manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. Product names UV-1700B, UV-3000B, UV-3200B, UV-6300B, UV-6330B, UV-7000B, etc .; Arakawa Chemical Industries, Ltd. Product name Beam Set 500 series (502H, 504H, 550B) Etc.); Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. trade names U-6HA, U-15HA, UA-32P, U-324A, etc .; Toagosei Co., Ltd. trade names M-9050 and the like.
Among them, as urethane (meth) acrylate suitably used in combination with the compound (A) of the present invention, a monomer or multimer of isophorone diisocyanate, pentaerythritol polyfunctional acrylate, and dipentaerythritol polyfunctional acrylate are reacted. The urethane (meth) acrylate obtained by doing this. As a commercial item of the said urethane (meth) acrylate, brand name UV-1700B (made by Nippon Synthetic Chemical) is mentioned, for example.

また、重量平均分子量が10,000未満であり、且つ、2つ以上の重合性不飽和基を有するエポキシアクリレートとして、昭和高分子製 商品名SPシリーズ(SP−4060、1450等)、VRシリーズ(VR−60、1950;VR−90、1100等)等;日本合成化学製 商品名UV−9100B、UV−9170B等;新中村化学工業製 商品名EA−6320/PGMAc、EA−6340/PGMAc等が挙げられる。   Moreover, as epoxy acrylates having a weight average molecular weight of less than 10,000 and having two or more polymerizable unsaturated groups, trade names SP series (SP-4060, 1450, etc.), VR series ( VR-60, 1950; VR-90, 1100, etc.); manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade names UV-9100B, UV-9170B, etc .; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade names EA-6320 / PGMAc, EA-6340 / PGMAc, etc. Can be mentioned.

また、重量平均分子量が10,000未満であり、且つ、2つ以上の重合性不飽和基を有する反応性化合物として、東亞合成製 商品名マクロモノマーシリーズ AA−6、AS−6、AB−6、AA−714SK等が挙げられる。   In addition, as a reactive compound having a weight average molecular weight of less than 10,000 and having two or more polymerizable unsaturated groups, Toagosei's product name Macromonomer Series AA-6, AS-6, AB-6 , AA-714SK and the like.

一方、反応性官能基の中でも、エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さく、硬化膜のカール性が低いという点から好ましい。
2つ以上のエポキシ基を有する樹脂として、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモ化合物、コ化合物などの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
On the other hand, among reactive functional groups, cyclic ether groups such as an epoxy group and an oxetanyl group are preferable in that the shrinkage caused by the polymerization reaction is small and the curl property of the cured film is low.
Epoxidation of polyglycidyl ether of polyhydric alcohol having alicyclic ring or cyclohexene ring or cyclopentene ring-containing compound as a resin having two or more epoxy groups with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid Aliphatic polyhydric alcohol or polyglycidyl ether of an alkylene oxide adduct thereof, polyglycidyl ester of aliphatic long-chain polybasic acid, homo compound of glycidyl (meth) acrylate, co-compound Aliphatic epoxy resins such as bisphenol A, bisphenols such as bisphenol F and hydrogenated bisphenol A, or derivatives thereof such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts, and glycidyl ethers produced by the reaction of epichlorohydrin, and Novola Epoxy resins and are glycidyl ether type epoxy resins derived from bisphenols are exemplified.

<反応性官能基を表面に有する無機微粒子(C)>
本発明においては、充分な耐擦傷性を有するように硬度を著しく向上させることを第一の目的として、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子(C)を含有する。当該無機微粒子(C)は、ハードコート層に更に機能を付与するものであっても良く、目的に合わせて適宜選択して用いる。
<Inorganic fine particles (C) having a reactive functional group on the surface>
In the present invention, for the primary purpose of remarkably improving the hardness so as to have sufficient scratch resistance, at least a part of the surface is coated with an organic component, and the reactive functional group introduced by the organic component. Inorganic fine particles (C) having a surface thereof. The inorganic fine particles (C) may further impart functions to the hard coat layer, and are appropriately selected and used according to the purpose.

無機微粒子としては、例えば、シリカ、酸化アルミニウム、ジルコニア、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子などが挙げられる。金属微粒子、金属硫化物微粒子、金属窒化物微粒子等を用いても良い。   Examples of the inorganic fine particles include metal oxide fine particles such as silica, aluminum oxide, zirconia, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, and fluoride. Examples thereof include metal fluoride fine particles such as magnesium and sodium fluoride. Metal fine particles, metal sulfide fine particles, metal nitride fine particles and the like may be used.

硬度が高い点からは、シリカ、酸化アルミニウムが好ましい。また、相体的に高屈折率層とするためには、ジルコニア、チタニア、酸化アンチモン等の膜形成時に屈折率が高くなる微粒子を適宜選択して用いることができる。同様に、相対的に低屈折率層とするためには、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物微粒子や、中空シリカ微粒子などの膜形成時に屈折率が低くなる微粒子を適宜選択して用いることができる。更に、帯電防止性、導電性を付与したい場合には、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化スズ等を適宜選択して用いることができる。これらは、1種単独で又は2種以上組み合わせて用いることができる。   From the viewpoint of high hardness, silica and aluminum oxide are preferable. In addition, in order to form a high refractive index layer in phase, fine particles having a high refractive index when a film such as zirconia, titania or antimony oxide is formed can be appropriately selected and used. Similarly, in order to obtain a relatively low refractive index layer, metal fluoride fine particles such as magnesium fluoride and sodium fluoride, and fine particles having a low refractive index during film formation such as hollow silica fine particles are appropriately selected. Can be used. Furthermore, when it is desired to impart antistatic properties and conductivity, indium tin oxide (ITO), tin oxide, or the like can be appropriately selected and used. These can be used alone or in combination of two or more.

無機微粒子の表面には通常、無機微粒子内ではこの形態で存在できない基を有する。これら表面の基は通常、相対的に反応しやすい官能基である。例えば金属酸化物の場合には、水酸基及びオキシ基、例えば金属硫化物の場合には、チオール基及びチオ基、又は例えば窒化物の場合には、アミノ基、アミド基及びイミド基を有する。   The surface of the inorganic fine particles usually has groups that cannot exist in this form in the inorganic fine particles. These surface groups are usually relatively reactive functional groups. For example, a metal oxide has a hydroxyl group and an oxy group, such as a metal sulfide, a thiol group and a thio group, or a nitride such as an amino group, an amide group, and an imide group.

本発明に用いられる無機微粒子(C)は、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する。ここで、有機成分とは、炭素を含有する成分である。また、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆されている態様としては、例えば金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基にシランカップリング剤等の有機成分を含む化合物が反応して、表面の一部に有機成分が結合した態様のほか、例えば金属酸化物微粒子の表面に存在する水酸基に水素結合等の相互作用により有機成分を付着させた態様や、化合物粒子中に1個又は2個以上の無機微粒子を含有する態様などが含まれる。   The inorganic fine particles (C) used in the present invention are coated with an organic component on at least a part of the surface, and have a reactive functional group introduced by the organic component on the surface. Here, the organic component is a component containing carbon. Further, as an aspect in which at least a part of the surface is coated with an organic component, for example, a compound containing an organic component such as a silane coupling agent reacts with a hydroxyl group present on the surface of the metal oxide fine particles, thereby In addition to the mode in which the organic component is bonded to the part, for example, the mode in which the organic component is adhered to the hydroxyl group present on the surface of the metal oxide fine particles by an interaction such as hydrogen bonding, or one or two or more in the compound particle An embodiment containing inorganic fine particles is included.

当該被覆している有機成分は、無機微粒子同士の凝集を抑制し、且つ無機微粒子表面への反応性官能基数を多く導入して膜の硬度を向上させる点から、粒子表面のほぼ全体を被覆していることが好ましい。このような観点から、無機微粒子(C)を被覆している前記有機成分は、無機微粒子(C)中に、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり1.00×10-3g/m2以上含まれることが好ましい。無機微粒子表面に有機成分を付着乃至結合させた態様においては、無機微粒子(C)を被覆している前記有機成分が、無機微粒子(C)中に、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり2.00×10-3g/m2以上含まれることが更に好ましく、3.50×10-3g/m2以上含まれることが特に好ましい。化合物粒子中に無機微粒子を含有する態様においては、無機微粒子(C)を被覆している前記有機成分が、無機微粒子(C)中に、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり3.50×10-3g/m2以上含まれることが更に好ましく、5.50×10-3g/m2以上含まれることが特に好ましい。 The coating organic component covers almost the entire particle surface from the viewpoint of suppressing aggregation of the inorganic fine particles and increasing the number of reactive functional groups on the surface of the inorganic fine particles to improve the hardness of the film. It is preferable. From such a viewpoint, the organic component covering the inorganic fine particles (C) is 1.00 × 10 −3 g / m 2 or more per unit area of the inorganic fine particles before coating in the inorganic fine particles (C). It is preferably included. In an embodiment in which an organic component is attached to or bonded to the surface of the inorganic fine particles, the organic component covering the inorganic fine particles (C) is 2. 2. per unit area of the inorganic fine particles before coating in the inorganic fine particles (C). More preferably, it is contained in an amount of 00 × 10 −3 g / m 2 or more, and particularly preferably 3.50 × 10 −3 g / m 2 or more. In the embodiment in which the inorganic fine particles are contained in the compound particles, the organic component covering the inorganic fine particles (C) is 3.50 × 10 5 per unit area of the inorganic fine particles before coating in the inorganic fine particles (C). -3 g / m 2 or more is more preferable, and 5.50 × 10 −3 g / m 2 or more is particularly preferable.

当該被覆している有機成分の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少%の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800℃までの熱重量分析により求めることができる。
なお、単位面積当りの有機成分量は、以下の方法により求めたものである。まず、示差熱重量分析(TGA)により、有機成分重量/無機成分重量を測定する。次に、重量と用いた無機微粒子の比重から無機成分全体の体積を計算する。また、被覆前の無機微粒子が真球状であると仮定し、被覆前の無機微粒子の平均粒径から被覆前の無機微粒子1個当りの体積を計算する。無機成分全体の体積と被覆前の無機微粒子1個当たりの体積から、被覆前の無機微粒子の個数を求める。次に、無機微粒子(C)1個当たりの有機成分重量を、被覆前の無機微粒子1個当たりの表面積で割ることにより、被覆前の無機微粒子の単位面積当たりの有機成分量を求めることができる。
The ratio of the organic component to be coated is usually determined by a thermogravimetric analysis in the air from room temperature to usually 800 ° C., for example, as a constant weight value when the dry powder is completely burned in the air. Can be sought.
The amount of organic component per unit area is determined by the following method. First, the organic component weight / inorganic component weight is measured by differential thermogravimetric analysis (TGA). Next, the volume of the entire inorganic component is calculated from the weight and the specific gravity of the used inorganic fine particles. Further, assuming that the inorganic fine particles before coating are spherical, the volume per inorganic fine particle before coating is calculated from the average particle diameter of the inorganic fine particles before coating. From the volume of the whole inorganic component and the volume per inorganic fine particle before coating, the number of inorganic fine particles before coating is obtained. Next, by dividing the organic component weight per inorganic fine particle (C) by the surface area per inorganic fine particle before coating, the amount of organic component per unit area of the inorganic fine particle before coating can be obtained. .

本発明においては、無機微粒子(C)の粒子径と含有量を規定することにより、無機微粒子(C)に対し適度に有機成分(反応性官能基)が導入され、また、バインダーとの相溶性も優れたものとなる。そしてこの範囲をはずれると、無機微粒子(C)とバインダーとの相溶性が低下し、フィルムの光学物性(ヘイズ値等)が悪くなり、バインダーと架橋点を形成しないため硬度が低下する等の問題が生じることとなる。   In the present invention, by defining the particle size and content of the inorganic fine particles (C), an organic component (reactive functional group) is appropriately introduced into the inorganic fine particles (C), and the compatibility with the binder. Will also be excellent. If it is out of this range, the compatibility between the inorganic fine particles (C) and the binder is lowered, the optical properties (haze value, etc.) of the film are deteriorated, and the hardness is lowered because a crosslinking point is not formed with the binder. Will occur.

無機微粒子(C)の平均粒子径は硬度の点から20〜500nmであることが好ましいが、更に好ましくは30〜250nmであり、特に好ましくは30〜150nmである。また、透明性を損なうことなく、樹脂のみを用いた場合の復元率を維持しつつ、硬度を著しく向上させる点から、前記無機微粒子(C)は粒径分布が狭く、単分散であることが好ましい。
なお、ここでの平均粒子径は、50%平均粒子径であり、例えば、日機装(株)社製Microtrac粒度分析計を用いて求めることができる。
The average particle size of the inorganic fine particles (C) is preferably 20 to 500 nm from the viewpoint of hardness, more preferably 30 to 250 nm, and particularly preferably 30 to 150 nm. In addition, the inorganic fine particles (C) have a narrow particle size distribution and are monodispersed from the viewpoint of significantly improving the hardness while maintaining the restoration rate when only the resin is used without impairing the transparency. preferable.
The average particle diameter here is a 50% average particle diameter, and can be determined using, for example, a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd.

少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子(C)を調製する方法としては、当該無機微粒子の種類と導入したい反応性官能基により、従来公知の方法を適宜選択して用いることができる。
中でも、本発明においては、被覆している有機成分が無機微粒子(C)中に、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり1.00×10-3g/m2以上含まれることが可能で、無機微粒子同士の凝集を抑制し、膜の硬度を向上させる点から、以下の(i)(ii)(iii)の無機微粒子のいずれかを適宜選択して用いることが好ましい。
(i)飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β−ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の分子量500以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び/又は有機溶媒の中に無機微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
(ii)粒子径500nm以下の無機微粒子を疎水性ビニルモノマーに分散したモノマーを、親水化された多孔質膜を通して水中に吐出し、無機微粒子が分散したモノマー液滴の水分散体とした後、重合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
(iii)当該無機微粒子に導入したい反応性官能基、式(2):
−Q1−C(=Q2)−NH− (2)
(式中、Q1は、NH、O(酸素原子)、またはS(硫黄原子)を示し、Q2はO又はSを示す)
に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
As a method for preparing inorganic fine particles (C) having an organic component coated on at least a part of the surface and having a reactive functional group introduced by the organic component on the surface, the kind of the inorganic fine particles and the reactive function to be introduced are used. A conventionally known method can be appropriately selected and used depending on the group.
Among them, in the present invention, the organic component to be coated can be contained in the inorganic fine particles (C) at least 1.00 × 10 −3 g / m 2 per unit area of the inorganic fine particles before coating, From the viewpoint of suppressing aggregation of inorganic fine particles and improving the hardness of the film, it is preferable to select and use any of the following inorganic fine particles (i), (ii) and (iii).
(I) Saturated or unsaturated carboxylic acid, acid anhydride, acid chloride, ester and acid amide corresponding to the carboxylic acid, amino acid, imine, nitrile, isonitrile, epoxy compound, amine, β-dicarbonyl compound, silane, And by dispersing inorganic fine particles in water and / or an organic solvent as a dispersion medium in the presence of one or more surface modification compounds having a molecular weight of 500 or less selected from the group consisting of metal compounds having functional groups. Inorganic fine particles having a reactive functional group on the surface.
(Ii) A monomer in which inorganic fine particles having a particle diameter of 500 nm or less are dispersed in a hydrophobic vinyl monomer is discharged into water through a hydrophilicized porous membrane to obtain an aqueous dispersion of monomer droplets in which inorganic fine particles are dispersed. Inorganic fine particles having reactive functional groups on the surface, obtained by polymerization.
(Iii) Reactive functional group to be introduced into the inorganic fine particles, formula (2):
-Q 1 -C (= Q 2) -NH- (2)
(Wherein Q 1 represents NH, O (oxygen atom), or S (sulfur atom), and Q 2 represents O or S).
And inorganic fine particles having a reactive functional group on the surface, obtained by bonding a compound containing a group shown in 1) and a compound containing a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis with metal oxide fine particles.

以下、上記本発明において好適に用いられる無機微粒子を順に説明する。
(i)飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β−ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の分子量500以下の表面修飾化合物の存在下、分散媒としての水及び/又は有機溶媒の中に無機微粒子を分散させることにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
上記(i)の無機微粒子を用いる場合には、有機成分含量が少なくても膜強度を向上できるというメリットがある。
Hereinafter, the inorganic fine particles suitably used in the present invention will be described in order.
(I) Saturated or unsaturated carboxylic acid, acid anhydride, acid chloride, ester and acid amide corresponding to the carboxylic acid, amino acid, imine, nitrile, isonitrile, epoxy compound, amine, β-dicarbonyl compound, silane, And by dispersing inorganic fine particles in water and / or an organic solvent as a dispersion medium in the presence of one or more surface modification compounds having a molecular weight of 500 or less selected from the group consisting of metal compounds having functional groups. Inorganic fine particles having a reactive functional group on the surface.
When the inorganic fine particles (i) are used, there is an advantage that the film strength can be improved even if the organic component content is small.

上記(i)の無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、カルボキシル基、酸無水物基、酸塩化物基、酸アミド基、エステル基、イミノ基、ニトリル基、イソニトリル基、水酸基、チオール基、エポキシ基、第一級、第二級及び第三級アミノ基、Si−OH基、シランの加水分解性残基、又はβ−ジカルボニル化合物のようなC−H酸基等の、分散条件下において上記無機微粒子の表面に存在する基と化学結合可能な官能基を有する。ここでの化学結合は、好ましくは、共有結合、イオン結合又は配位結合が含まれるが、水素結合も含まれる。配位結合は錯体形成であると考えられる。例えば、ブレンステッド又はルイスに従う酸性/塩基反応、錯体形成又はエステル化が、上記表面修飾化合物の官能基と無機微粒子表面の基の間で生じる。上記(i)の無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。   The surface modifying compound used for the inorganic fine particles of (i) is a carboxyl group, an acid anhydride group, an acid chloride group, an acid amide group, an ester group, an imino group, a nitrile group, an isonitrile group, a hydroxyl group, a thiol group, Dispersion conditions such as epoxy groups, primary, secondary and tertiary amino groups, Si-OH groups, hydrolysable residues of silanes, or C-H acid groups such as β-dicarbonyl compounds In the above-mentioned inorganic fine particles have a functional group capable of chemically bonding with a group present on the surface. The chemical bond here preferably includes a covalent bond, an ionic bond or a coordinate bond, but also includes a hydrogen bond. The coordination bond is considered to be complex formation. For example, acidic / base reaction, complex formation or esterification according to Bronsted or Lewis occurs between the functional group of the surface modifying compound and the group on the surface of the inorganic fine particle. The said surface modification compound used for the inorganic fine particle of said (i) can be used 1 type or in mixture of 2 or more types.

上記表面修飾化合物は通常、無機微粒子の表面の基との化学結合に関与できる少なくとも1つの官能基(以下、第1の官能基という)に加えて、分子残基を有する。当該分子残基は、前記化学結合に関与できる官能基を介して無機微粒子に結びついた後に、無機微粒子の特性を改質する。分子残基又はその一部は疎水性又は親水性であり、例えば無機微粒子の安定化、融和化、又は活性化させる。
例えば、疎水性分子残基としては、不活性化又は反発作用をもたらす、アルキル、アリール、アルカリル、アラルキル又はフッ素含有アルキル基等が挙げられる。親水性基としてはヒドロキシ基、アルコキシ基又はポリエステル基等が挙げられる。
The surface modifying compound usually has a molecular residue in addition to at least one functional group (hereinafter referred to as a first functional group) that can participate in chemical bonding with a group on the surface of the inorganic fine particle. The molecular residue modifies the properties of the inorganic fine particles after being bound to the inorganic fine particles via the functional group capable of participating in the chemical bond. The molecular residue or a part thereof is hydrophobic or hydrophilic and, for example, stabilizes, integrates, or activates inorganic fine particles.
For example, examples of the hydrophobic molecular residue include an alkyl, aryl, alkaryl, aralkyl, or fluorine-containing alkyl group that causes inactivation or repulsion. Examples of the hydrophilic group include a hydroxy group, an alkoxy group, and a polyester group.

無機微粒子(C)が上記化合物(A)や上記化合物(B)と反応できるように表面に導入される反応性官能基は、上記化合物(A)や上記化合物(B)に応じて、適宜選択される。当該反応性官能基としては、重合性不飽和基が好適に用いられ、好ましくは光硬化性不飽和基であり、特に好ましくは電離放射線硬化性不飽和基である。その具体例としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合及びエポキシ基等が挙げられる。
上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、上記化合物(A)や上記化合物(B)と反応できる反応性官能基が含まれる場合には、上記表面修飾化合物中に含まれる第1の官能基を無機微粒子の表面に反応させることによって、上記(i)の無機微粒子の表面に上記化合物(A)や上記化合物(B)と反応できる反応性官能基を導入することが可能である。例えば、第1の官能基のほかに、更に重合性不飽和基を有する表面修飾化合物が、好適なものとして挙げられる。
一方で、上記表面修飾化合物の上記分子残基中に、第2の反応性官能基を含有させ、当該第2の反応性官能基を足掛かりにして、上記(i)の無機微粒子の表面に上記化合物(A)や上記化合物(B)と反応できる反応性官能基が導入されても良い。例えば、第2の反応性官能基として水酸基及びオキシ基のような水素結合が可能な基(水素結合形成基)を導入し、当該微粒子表面上に導入された水素結合形成基に、更に別の表面修飾化合物の水素結合形成基が反応することにより、上記化合物(A)や上記化合物(B)と反応できる反応性官能基を導入されることが好ましい。すなわち、表面修飾化合物として、水素結合形成基を有する化合物と、重合性不飽和基などの上記化合物(A)や上記化合物(B)と反応できる反応性官能基と水素結合形成基を有する化合物とを併用して用いることが好適な例として挙げられる。水素結合形成基の具体例としては、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、グリシジル基、アミド基といった官能基、もしくはアミド結合を示すものである。ここで、アミド結合とは、−NHC(O)や>NC(O)−を結合単位に含むものを示す旨である。本発明の表面修飾化合物に用いられる水素結合形成基としては、中でもカルボキシル基、水酸基、アミド基が好ましい。
The reactive functional group introduced on the surface so that the inorganic fine particles (C) can react with the compound (A) or the compound (B) is appropriately selected according to the compound (A) or the compound (B). Is done. As the reactive functional group, a polymerizable unsaturated group is suitably used, preferably a photocurable unsaturated group, and particularly preferably an ionizing radiation curable unsaturated group. Specific examples thereof include an ethylenic double bond such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group, and an epoxy group.
When a reactive functional group capable of reacting with the compound (A) or the compound (B) is contained in the molecular residue of the surface modification compound, the first functional group contained in the surface modification compound It is possible to introduce a reactive functional group capable of reacting with the compound (A) or the compound (B) onto the surface of the inorganic fine particles of (i) above by reacting with the surface of the inorganic fine particles. For example, in addition to the first functional group, a surface modification compound further having a polymerizable unsaturated group is preferable.
On the other hand, in the molecular residue of the surface modification compound, a second reactive functional group is contained, and the second reactive functional group is used as a foothold to the surface of the inorganic fine particles of (i). A reactive functional group capable of reacting with the compound (A) or the compound (B) may be introduced. For example, a group capable of hydrogen bonding (hydrogen bond forming group) such as a hydroxyl group and an oxy group is introduced as the second reactive functional group, and another hydrogen bond forming group introduced on the surface of the fine particles It is preferable that a reactive functional group capable of reacting with the compound (A) or the compound (B) is introduced by the reaction of the hydrogen bond forming group of the surface modification compound. That is, as a surface modification compound, a compound having a hydrogen bond forming group, a compound having a reactive functional group capable of reacting with the compound (A) such as a polymerizable unsaturated group or the compound (B), and a hydrogen bond forming group It is mentioned as a suitable example to use together. Specific examples of the hydrogen bond-forming group indicate a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, a glycidyl group, an amide group, or an amide bond. Here, the amide bond indicates that the bond unit contains —NHC (O) or> NC (O) —. Among the hydrogen bond forming groups used in the surface modification compound of the present invention, among them, a carboxyl group, a hydroxyl group, and an amide group are preferable.

上記(i)の無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は500以下、より好ましくは400、特に200を超えない分子量を有する。このような低分子量を有するため、無機微粒子表面を急速に占有し、無機微粒子同士の凝集を妨げることが可能であると推定される。
上記(i)の無機微粒子に用いられる上記表面修飾化合物は、表面修飾のための反応条件下で好ましくは液体であり、分散媒中で溶解性又は少なくとも乳化可能であるのが好ましい。中でも分散媒中で溶解し、分散媒中で離散した分子又は分子イオンとして一様に分布して存在することが好ましい。
The surface modifying compound used in the inorganic fine particles (i) has a molecular weight of 500 or less, more preferably 400, and particularly 200. Since it has such a low molecular weight, it is presumed that the surface of the inorganic fine particles can be rapidly occupied and aggregation of the inorganic fine particles can be prevented.
The surface modification compound used in the inorganic fine particles (i) is preferably a liquid under the reaction conditions for surface modification, and is preferably soluble or at least emulsifiable in a dispersion medium. Among these, it is preferable that the polymer is dissolved in the dispersion medium and uniformly distributed as discrete molecules or molecular ions in the dispersion medium.

飽和又は不飽和カルボン酸としては、1〜24の炭素原子を有しており、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、クエン酸、アジピン酸、琥珀酸、グルタル酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸及びステアリン酸、並びに対応する酸無水物、塩化物、エステル及びアミド、例えばカプロラクタム等が挙げられる。前記カルボン酸には、炭素鎖がO−基、S−基又はNH−基により遮断されるものも含まれる。特に好ましいものとしては、カルボン酸モノエーテルやカルボン酸ポリエーテルなどのカルボン酸エーテル、並びに対応する酸水化物、エステル及びアミド(例えば、メトキシ酢酸、3,6−ジオキサヘプタン酸及び3,6,9−トリオキサデカン酸)等が挙げられる。また、不飽和カルボン酸を用いると、重合性不飽和基を導入することができる。   Saturated or unsaturated carboxylic acids have 1 to 24 carbon atoms, such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, citric acid, adipine Examples include acids, succinic acid, glutaric acid, oxalic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and stearic acid, and the corresponding acid anhydrides, chlorides, esters and amides such as caprolactam. The carboxylic acid includes those having a carbon chain blocked by an O-group, S-group or NH-group. Particularly preferred are carboxylic acid ethers such as carboxylic acid monoethers and carboxylic acid polyethers, and the corresponding acid hydrates, esters and amides (eg, methoxyacetic acid, 3,6-dioxaheptanoic acid and 3,6, 9-trioxadecanoic acid) and the like. Further, when an unsaturated carboxylic acid is used, a polymerizable unsaturated group can be introduced.

好ましいアミンの例は、一般式Q3-nNHn(n=0、1又は2)を有するものであり、残基Qは独立して1〜12、特に1〜6、更に好ましくは1〜4の炭素原子を有するアルキル(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル及びブチル)、並びに6〜24の炭素原子を有するアリール、アルカリル又はアラルキル(例えば、フェニル、ナフチル、トリル及びベンジル)を表す。また、好ましいアミンの例としては、ポリアルキレンアミンが挙げられ、具体例は、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、アニリン、N−メチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、トルイジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミンである。 Examples of preferred amines are those having the general formula Q 3-n NH n (n = 0, 1 or 2), wherein the residues Q are independently 1 to 12, in particular 1 to 6, more preferably 1 to Alkyl having 4 carbon atoms (eg, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl and butyl) and aryl, alkaryl or aralkyl having 6-24 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, tolyl and benzyl) Represents. Examples of preferred amines include polyalkyleneamines, and specific examples are methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, aniline, N-methylaniline, diphenylamine, triphenylamine, toluidine, ethylenediamine, and diethylenetriamine. .

好ましいβ−ジカルボニル化合物は4〜12、特に5〜8の炭素原子を有するものであり、例えば、ジケトン(アセチルアセトンなど)、2,3−ヘキサンジオン、3,5−ヘプタンジオン、アセト酢酸、アセト酢酸−C1−C4−アルキルエステル(アセト酢酸エチルエステルなど)、ジアセチル及びアセトニルアセトンが挙げられる。
アミノ酸の例としては、β−アラニン、グリシン、バリン、アミノカプロン酸、ロイシン及びイソロイシンが挙げられる。
Preferred β-dicarbonyl compounds are those having 4 to 12, especially 5 to 8 carbon atoms, such as diketones (such as acetylacetone), 2,3-hexanedione, 3,5-heptanedione, acetoacetic acid, acetoacetate. Examples include acetic acid-C 1 -C 4 -alkyl esters (such as ethyl acetoacetate), diacetyl and acetonyl acetone.
Examples of amino acids include β-alanine, glycine, valine, aminocaproic acid, leucine and isoleucine.

好ましいシランは、少なくとも1つの加水分解性基又はヒドロキシ基と、少なくとも1つの非加水分解性残基を有する加水分解性オルガノシランである。ここで加水分解性基としては、例えば、ハロゲン、アルコキシ基及びアシルオキシ基が挙げられる。非加水分解性残基としては、反応性官能基を有する及び/又は反応性官能基を有しない非加水分解性残基が用いられる。また、フッ素で置換されている有機残基を少なくとも部分的に有するシランを使用しても良い。
用いられるシランとしては特に限定されないが、例えば、CH2=CHSi(OOCCH33、CH2=CHSiCl3、CH2=CH−Si(OC253、CH2=CHSi(OC253、CH2=CH−Si(OC24OCH33、CH2=CH−CH2−Si(OC253、CH2=CH−CH2−Si(OC253、CH2=CH−CH2−Si(OOCCH33、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン(GPTS)、γ−グリシジルオキシプロピルジメチルクロロシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン(APTS)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン(APTES)、N−(2−アミノエチル)−3アミノプロピルトリメトキシシラン、N−[N'−(2'−アミノエチル)−2−アミノエチル]−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ヒドロキシメチルトリメトキシシラン、2−[メトキシ(ポリエチレンオキシ)プロピル]トリメトキシシラン、ビス−(ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−ヒドロキシエチル−N−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン及び3−(メタ)アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
Preferred silanes are hydrolyzable organosilanes having at least one hydrolyzable group or hydroxy group and at least one non-hydrolyzable residue. Here, examples of the hydrolyzable group include a halogen, an alkoxy group, and an acyloxy group. As the non-hydrolyzable residue, a non-hydrolyzable residue having a reactive functional group and / or not having a reactive functional group is used. Silanes having at least partially organic residues substituted with fluorine may also be used.
As the silane used is not particularly limited, for example, CH 2 = CHSi (OOCCH 3 ) 3, CH 2 = CHSiCl 3, CH 2 = CHSi (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CHSi (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CH -Si (OC 2 H 4 OCH 3) 3, CH 2 = CH-CH 2 -Si (OC 2 H 5) 3, CH 2 = CH-CH 2 -Si (OC 2 H 5 ) 3 , CH 2 ═CH—CH 2 —Si (OOCCH 3 ) 3 , γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (GPTS), γ-glycidyloxypropyldimethylchlorosilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane (APTS), 3-aminopropyltriethoxysilane (APTES), N- (2-aminoethyl) -3aminopropyltrimethoxysilane, N- [N ′-(2′-aminoethyl)- -Aminoethyl] -3-aminopropyltrimethoxysilane, hydroxymethyltrimethoxysilane, 2- [methoxy (polyethyleneoxy) propyl] trimethoxysilane, bis- (hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- Examples thereof include hydroxyethyl-N-methylaminopropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, and 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane.

官能基を有する金属化合物としては、元素周期表の第1群III〜V及び/又は第2群II〜IVからの金属Mの金属化合物が挙げられる。ジルコニウム及びチタニウムのアルコキシド、M(OR)4(M=Ti、Zr)、(式中、OR基の一部はβ−ジカルボニル化合物又はモノカルボン酸などの錯生成剤により置換される。)が挙げられる。重合性不飽和基を有する化合物(メタクリル酸など)が錯生成剤として使用される場合には、重合性不飽和基を導入することができる。 Examples of the metal compound having a functional group include metal compounds of metal M from the first group III to V and / or the second group II to IV of the periodic table. Zirconium and titanium alkoxides, M (OR) 4 (M = Ti, Zr), wherein part of the OR group is replaced by a complexing agent such as a β-dicarbonyl compound or a monocarboxylic acid. Can be mentioned. When a compound having a polymerizable unsaturated group (such as methacrylic acid) is used as a complexing agent, a polymerizable unsaturated group can be introduced.

分散媒として、水及び/又は有機溶媒が好適に使用される。特に好ましい分散媒は、蒸留された(純粋な)水である。有機溶媒として、極性及び非極性及び非プロトン性溶媒が好ましい。それらの例として、炭素数1〜6の脂肪族アルコール(特にメタノール、エタノール、n−及びi−プロパノール及びブタノール)等のアルコール、アセトン及びブタノン等のケトン類、酢酸エチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びテトラヒドロピランなどのエーテル類;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類;スルホラン及びジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類及びスルホン類;及びペンタン、ヘキサン及びシクロヘキサン等の脂肪族(任意にハロゲン化された)炭化水素類が挙げられる。これらの分散媒は混合物として使用することができる。
分散媒は、蒸留(任意に減圧下)により容易に除去できる沸点を有することが好ましく、沸点が200℃以下、特に150℃以下の溶媒が好ましい。
As the dispersion medium, water and / or an organic solvent is preferably used. A particularly preferred dispersion medium is distilled (pure) water. As the organic solvent, polar, nonpolar and aprotic solvents are preferred. Examples thereof include alcohols such as aliphatic alcohols having 1 to 6 carbon atoms (particularly methanol, ethanol, n- and i-propanol and butanol), ketones such as acetone and butanone, esters such as ethyl acetate; , Ethers such as tetrahydrofuran and tetrahydropyran; amides such as dimethylacetamide and dimethylformamide; sulfoxides and sulfones such as sulfolane and dimethylsulfoxide; and aliphatic (optionally halogenated) such as pentane, hexane and cyclohexane And hydrocarbons. These dispersion media can be used as a mixture.
The dispersion medium preferably has a boiling point that can be easily removed by distillation (optionally under reduced pressure), and a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, particularly 150 ° C. or lower is preferable.

(i)の無機微粒子の調製に際し、分散媒の濃度は、通常40〜90、好ましくは50〜80、特に55〜75重量%である。分散液の残りは、未処理の無機微粒子および上記表面修飾化合物から構成される。ここで、無機微粒子/表面修飾化合物の重量比は、100:1〜4:1とすることが好ましく、更に50:1〜8:1、より更に25:1〜10:1とすることが好ましい。   In preparing the inorganic fine particles (i), the concentration of the dispersion medium is usually 40 to 90, preferably 50 to 80, particularly 55 to 75% by weight. The rest of the dispersion is composed of untreated inorganic fine particles and the surface modifying compound. Here, the weight ratio of the inorganic fine particles / surface modification compound is preferably 100: 1 to 4: 1, more preferably 50: 1 to 8: 1, and even more preferably 25: 1 to 10: 1. .

(i)の無機微粒子の調製は、好ましくは室温(約20℃)〜分散媒の沸点で行われる。特に好ましくは、分散温度は50〜100℃である。分散時間は、特に使用される材料のタイプに依存するが、一般に数分から数時間、例えば1〜24時間である。   The inorganic fine particles (i) are preferably prepared at room temperature (about 20 ° C.) to the boiling point of the dispersion medium. Particularly preferably, the dispersion temperature is 50 to 100 ° C. The dispersion time depends in particular on the type of material used, but is generally from a few minutes to a few hours, for example 1 to 24 hours.

上記(i)の無機微粒子の調製を行う際には、無機微粒子が表面修飾化合物の存在する分散媒において機械反応粉砕を受け、表面修飾化合物が粉砕されたコロイド無機微粒子と少なくとも部分的に化学結合する態様も好適に用いられる。
この場合の機械粉砕は一般的にミル、ニーダー(混練機)、シリンダーミル又は例えば高速度分散機で行われる。機械粉砕に適する粉砕機械は、ホモジナイザー、ターボ撹拌機、離れた粉砕工具を有するミル(ボールミル、ロッドミル、ドラムミル、コーンミル、チューブミル、自生粉砕ミル、遊星ミル、振動ミル及び撹拌機ミル)、ヘビーローラーニーダー、コロイドミル及びシリンダーミルである。中でも特に好ましいミルは、運動撹拌機と粉砕手段としての粉砕ボールを有する撹拌ボールミルである。
粉砕及びホモジナイジングを有する粉砕は好ましくは室温で行われる。所要時間は混合の種類と用いられる粉砕機により適宜調製する。
When the inorganic fine particles (i) are prepared, the inorganic fine particles are subjected to mechanical reaction pulverization in a dispersion medium in which the surface modifying compound is present, and at least partially chemically bonded to the colloidal inorganic fine particles obtained by pulverizing the surface modifying compound. This embodiment is also preferably used.
In this case, the mechanical pulverization is generally performed by a mill, a kneader (kneader), a cylinder mill or, for example, a high-speed disperser. Grinding machines suitable for machine grinding are homogenizer, turbo stirrer, mill with remote grinding tool (ball mill, rod mill, drum mill, cone mill, tube mill, self-pulverizing mill, planetary mill, vibration mill and stirrer mill), heavy roller Kneader, colloid mill and cylinder mill. Among them, a particularly preferable mill is a stirring ball mill having a motion stirrer and pulverized balls as pulverizing means.
Milling with grinding and homogenizing is preferably performed at room temperature. The required time is appropriately adjusted according to the type of mixing and the grinder used.

(ii)粒子径500nm以下の無機微粒子を疎水性ビニルモノマーに分散したモノマーを、親水化された多孔質膜を通して水中に吐出し、無機微粒子が分散したモノマー液滴の水分散体とした後、重合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
上記(ii)の無機微粒子を用いる場合には、粒度分布の点から単分散性がより高まり、粗大粒子を含む場合のイレギュラーな性能の発現を抑えられるというメリットがある。
(Ii) A monomer in which inorganic fine particles having a particle diameter of 500 nm or less are dispersed in a hydrophobic vinyl monomer is discharged into water through a hydrophilicized porous membrane to obtain an aqueous dispersion of monomer droplets in which inorganic fine particles are dispersed. Inorganic fine particles having reactive functional groups on the surface, obtained by polymerization.
When the inorganic fine particles (ii) are used, there are merits that monodispersity is further enhanced from the viewpoint of particle size distribution, and irregular performance can be suppressed when coarse particles are included.

本発明に用いられる無機微粒子(C)は、少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された反応性官能基を表面に有する無機微粒子であるため、重合に用いられる疎水性ビニルモノマー中には、反応性官能基を有するものであるか、或いは後から所望の反応性官能基を導入可能とする別の反応性官能基を有するものを少なくとも含有させる。例えば、疎水性ビニルモノマーに予めカルボキシル基を有するものを使用し、重合させた後、当該カルボキシル基にグリシジルメタクリレートを反応させて、重合性不飽和基を導入することが挙げられる。   The inorganic fine particles (C) used in the present invention are inorganic fine particles that have at least a part of the surface coated with an organic component and have reactive functional groups introduced by the organic component on the surface. The reactive vinyl monomer contains at least one having a reactive functional group or having another reactive functional group that allows a desired reactive functional group to be introduced later. For example, after using a hydrophobic vinyl monomer having a carboxyl group in advance and polymerizing it, the carboxyl group is reacted with glycidyl methacrylate to introduce a polymerizable unsaturated group.

疎水性ビニルモノマーの具体例を挙げると、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼンなどの芳香族ビニル化合物;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(ポリ)エチレングリコールのモノあるいはジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールのモノあるいはジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールのモノ−あるいはジ−(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンのモノ−、ジ−あるいはトリ−(メタ)アクリレートなどの不飽和カルボン酸エステル類;ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテートなどのアリル化合物;(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。また、ブタジエン、イソプレン、クロロプレンなどの共役ジエン化合物。さらに、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、グリシジルメタクリレート、ビニルピリジン、ジエチルアミノエチルアクリレート、N−メチルメタクリルアミド、アクリロニトリルなどの反応性官能基含有モノマーが挙げられる。これらのなかでアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など水溶性の高いモノマーはモノマー全体としての水溶解度が高くなって水中油滴型モノマーエマルジョンができなくなることのない範囲で使用できる。   Specific examples of the hydrophobic vinyl monomer include aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyl toluene, α-methylstyrene, divinylbenzene; methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) T-butyl acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid Stearyl, benzyl (meth) acrylate, mono or di (meth) acrylate of (poly) ethylene glycol, mono or di (meth) acrylate of (poly) propylene glycol, mono- or di- (1,4-butanediol) (Meth) acrylate, trimethylolpropane mono- Unsaturated carboxylic acid esters such as di- or tri- (meth) acrylate; allyl compounds such as diallyl phthalate, diallyl acrylamide, triallyl (iso) cyanurate, triallyl trimellitate; (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate And (poly) oxyalkylene glycol di (meth) acrylates such as (poly) propylene glycol di (meth) acrylate. In addition, conjugated diene compounds such as butadiene, isoprene and chloroprene. Furthermore, reactive functional group-containing monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, glycidyl methacrylate, vinylpyridine, diethylaminoethyl acrylate, N-methylmethacrylamide, acrylonitrile and the like can be mentioned. Among these, highly water-soluble monomers such as acrylic acid, methacrylic acid, and itaconic acid can be used as long as the water solubility of the whole monomer is high and an oil-in-water monomer emulsion cannot be formed.

(ii)で用いられる無機微粒子は粒子径が小さいことと、疎水性ビニルモノマーによく分散することが必要である。ここで用いられる無機物粒子の粒子径は500nm以下であり、好ましくは300nm以下、さらに好ましくは150nm以下である。また、無機微粒子が疎水性ビニルモノマーとなじみが悪いときは、無機微粒子表面を予め表面することが好ましい。当該表面処理には顔料分散剤を無機物表面に吸着させる分散剤処理、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤等によるカップリング剤処理あるいはカプセル重合等による化合物コート処理など既知の方法を適用することができる。   The inorganic fine particles used in (ii) must have a small particle size and be well dispersed in the hydrophobic vinyl monomer. The particle size of the inorganic particles used here is 500 nm or less, preferably 300 nm or less, more preferably 150 nm or less. In addition, when the inorganic fine particles are not familiar with the hydrophobic vinyl monomer, it is preferable to previously surface the surface of the inorganic fine particles. For the surface treatment, a known method such as a dispersant treatment for adsorbing a pigment dispersant on the inorganic surface, a coupling agent treatment with a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or a compound coating treatment by capsule polymerization may be applied. it can.

(ii)においては無機微粒子を分散した疎水性ビニルモノマーを水中に乳化するために、親水化された多孔質膜を通して水中に吐出する。この多孔質細孔は平均細孔径0.01〜5μmでかつ均一な孔径であり、さらに膜の表裏を貫通するものである必要がある。膜の材質としてはガラスが好ましく、具体例としては火山灰シラスを主原料として焼成したSiO2−Al23−B23−CaO系のガラスを熱処理でミクロ相分離させ、ホウ酸に富む相を酸で溶解除去して得る多孔質ガラス(SPGと称される)が好ましい。 In (ii), in order to emulsify the hydrophobic vinyl monomer in which the inorganic fine particles are dispersed in water, the hydrophobic vinyl monomer is discharged into the water through the hydrophilicized porous membrane. These porous pores must have an average pore diameter of 0.01 to 5 μm, a uniform pore diameter, and must penetrate the front and back of the membrane. Glass is preferable as the material of the film. As a specific example, SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 —CaO-based glass fired using volcanic ash shirasu as the main raw material is microphase-separated by heat treatment to be rich in boric acid. Porous glass (referred to as SPG) obtained by dissolving and removing the phase with an acid is preferred.

(ii)においては、多孔質膜を通して無機微粒子を含有する疎水性ビニルモノマーを押し出す水相には、モノマー液滴の安定剤として界面活性剤あるいは水溶性高分子を存在させる必要がある。安定化剤がないと膜を通して吐出したモノマー液滴は互いに融合して幅広い粒径分布となる。好ましい安定化剤としては、モノマー液滴が1μm程度以上の場合はポリビニルアルコール、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリビニルピロリドンなどの水溶性高分子系の安定化剤がよく、これに少量のアニオン系界面活性剤あるいは非イオン系乳化剤を添加することも好ましい。例えばラウリル硫酸ナトリウムを乳化剤、1−ヘキサデカノールを共乳化剤とする組み合わせは液滴表面に強く吸着し安定化効果が大きく、(ii)における安定化剤として特に好ましい。   In (ii), a surfactant or a water-soluble polymer needs to be present as a monomer droplet stabilizer in the aqueous phase for extruding the hydrophobic vinyl monomer containing inorganic fine particles through the porous membrane. Without the stabilizer, the monomer droplets ejected through the film merge with each other and have a wide particle size distribution. A preferable stabilizer is a water-soluble polymer stabilizer such as polyvinyl alcohol, hydroxypropylcellulose, polyvinylpyrrolidone or the like when the monomer droplets are about 1 μm or more, and a small amount of anionic surfactant or It is also preferable to add a nonionic emulsifier. For example, a combination of sodium lauryl sulfate as an emulsifier and 1-hexadecanol as a co-emulsifier is particularly preferable as the stabilizer in (ii) because it strongly adsorbs to the droplet surface and has a large stabilizing effect.

(ii)において、乳化された無機微粒子を含むモノマー液滴の水分散体を重合するには、主に油溶性ラジカル開始剤を使用する。油溶性ラジカル開始剤として使用できる開始剤を例示すると、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ系開始剤、ベンゾイルペルオキシド、2、4−ジクロルベンゾイルペルオキシドなどの芳香物過酸化物、イソブチルペルオキシド、ジイソプロピルペルオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルペルオキシ)ジカーボネートなどの脂肪族系過酸化物が挙げられる。これらは乳化の前にあらかじめモノマー相に溶解して使用することができる。また、ハイドロキノン、塩化鉄などの水溶性ラジカル重合禁止剤を添加しても良い。   In (ii), in order to polymerize the aqueous dispersion of monomer droplets containing emulsified inorganic fine particles, an oil-soluble radical initiator is mainly used. Examples of initiators that can be used as oil-soluble radical initiators include azo initiators such as azobisisobutyronitrile, aromatic peroxides such as benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, isobutyl peroxide, diisopropyl Examples thereof include aliphatic peroxides such as peroxydicarbonate and di (2-ethylhexylperoxy) dicarbonate. These can be used by dissolving in the monomer phase in advance before emulsification. Moreover, you may add water-soluble radical polymerization inhibitors, such as hydroquinone and iron chloride.

(iii)当該無機微粒子に導入したい反応性官能基、式(2):
−Q1−C(=Q2)−NH− (2)
(式中、Q1は、NH、O(酸素原子)、またはS(硫黄原子)を示し、Q2はO又はSを示す)に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物と、金属酸化物微粒子とを結合することにより得られる、表面に反応性官能基を有する無機微粒子。
上記(iii)の無機微粒子を用いる場合には、有機成分量が高まり、分散性、および膜強度がより高まるというというメリットがある。
(Iii) Reactive functional group to be introduced into the inorganic fine particles, formula (2):
-Q 1 -C (= Q 2) -NH- (2)
(Wherein Q 1 represents NH, O (oxygen atom), or S (sulfur atom), and Q 2 represents O or S), and a silanol group or a silanol group is generated by hydrolysis. Inorganic fine particles having reactive functional groups on the surface, obtained by bonding a compound containing a group and metal oxide fine particles.
When the inorganic fine particles (iii) are used, there are merits that the amount of organic components is increased, dispersibility and film strength are further increased.

まず、当該無機微粒子に導入したい反応性官能基、上記式(2)に示す基、及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を含む化合物(以下、反応性官能基修飾加水分解性シランという場合がある。)について説明する。
上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、当該無機微粒子に導入したい反応性官能基は、上記化合物(A)及び化合物(B)と反応可能なように適宜選択すれば特に限定されない。上述したような重合性不飽和基を導入するのに適している。
First, a compound containing a reactive functional group to be introduced into the inorganic fine particles, a group represented by the above formula (2), and a silanol group or a group that generates a silanol group by hydrolysis (hereinafter, reactive functional group-modified hydrolyzable silane Will be explained).
In the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, the reactive functional group to be introduced into the inorganic fine particles is not particularly limited as long as it is appropriately selected so that it can react with the compound (A) and the compound (B). Suitable for introducing polymerizable unsaturated groups as described above.

上記反応性官能基修飾加水分解性シランにおいて、上記式(2)[−Q1−C(=Q2)−NH−]に示す基は、具体的には、[−O−C(=O)−NH−]、[−O−C(=S)−NH−]、[−S−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=O)−NH−]、[−NH−C(=S)−NH−]、及び[−S−C(=S)−NH−]の6種である。これらの基は、1種単独で又は2種以上を組合わせて用いることができる。中でも、熱安定性の観点から、[−O−C(=O)−NH−]基と、[−O−C(=S)−NH−]基及び[−S−C(=O)−NH−]基の少なくとも1種を併用することが好ましい。前記式(2)[−Q1−C(=Q2)−NH−]に示す基は、分子間において水素結合による適度の凝集力を発生させ、硬化物にした場合、優れた機械的強度、基材との密着性及び耐熱性等の特性を付与することが可能になると考えられる。 In the reactive functional group-modified hydrolyzable silane, the group represented by the formula (2) [—Q 1 —C (= Q 2 ) —NH—] is specifically [—O—C (═O ) —NH—], [—O—C (═S) —NH—], [—S—C (═O) —NH—], [—NH—C (═O) —NH—], [— NH-C (= S) -NH-] and [-S-C (= S) -NH-]. These groups can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among them, from the viewpoint of thermal stability, [—O—C (═O) —NH—] group, [—O—C (═S) —NH—] group and [—S—C (═O) — It is preferable to use at least one NH-] group in combination. The group represented by the formula (2) [—Q 1 —C (= Q 2 ) —NH—] generates an appropriate cohesive force due to hydrogen bonding between molecules and has excellent mechanical strength when formed into a cured product. It is considered that properties such as adhesion to the substrate and heat resistance can be imparted.

また、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基としては、ケイ素原子上にアルコキシ基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等を有する基を挙げることができ、アルコキシシリル基又はアリールオキシシリル基が好ましい。シラノール基又は、加水分解によってシラノ−ル基を生成する基は、縮合反応又は加水分解に続いて生じる縮合反応によって、金属酸化物微粒子と結合することができる。   Examples of the group that generates a silanol group by hydrolysis include groups having an alkoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, a halogen atom, etc. on the silicon atom. An oxysilyl group is preferred. A silanol group or a group that forms a silanol group by hydrolysis can be combined with the metal oxide fine particles by a condensation reaction or a condensation reaction that occurs following hydrolysis.

上記反応性官能基修飾加水分解性シランの好ましい具体例としては、例えば、下記式(3):

Figure 0005568832
に示す化合物を挙げることができる。 Preferable specific examples of the reactive functional group-modified hydrolyzable silane include, for example, the following formula (3):
Figure 0005568832
The compound shown to can be mentioned.

Figure 0005568832
式(4)中、Ra、Rbは同一でも異なっていてもよいが、水素原子又はC1からC8のアルキル基若しくはアリール基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、フェニル、キシリル基等を挙げることができる。ここでmは1、2又は3である。
[(RaO)mb 3-mSi−]で示される基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、トリフェノキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、ジメチルメトキシシリル基等を挙げることができる。このような基のうち、トリメトキシシリル基又はトリエトキシシリル基等が好ましい。
Figure 0005568832
In formula (4), R a and R b may be the same or different, but are a hydrogen atom or a C 1 to C 8 alkyl group or aryl group, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, Examples thereof include phenyl and xylyl groups. Here, m is 1, 2 or 3.
Examples of the group represented by [(R a O) m R b 3-m Si—] include a trimethoxysilyl group, a triethoxysilyl group, a triphenoxysilyl group, a methyldimethoxysilyl group, and a dimethylmethoxysilyl group. Can be mentioned. Of these groups, a trimethoxysilyl group or a triethoxysilyl group is preferable.

cはC1からC12の脂肪族又は芳香族構造を有する2価の有機基であり、鎖状、分岐鎖状又は環状の構造を含んでいてもよい。そのような有機基としては例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、シクロヘキシレン、フェニレン、キシリレン、ドデカメチレン等を挙げることができる。これらのうち好ましい例は、メチレン、プロピレン、シクロヘキシレン、フェニレン等である。
また、Rdは2価の有機基であり、通常、分子量14〜1万、好ましくは分子量76〜500の2価の有機基の中から選ばれる。例えば、ヘキサメチレン、オクタメチレン、ドデカメチレン等の鎖状ポリアルキレン基;シクロヘキシレン、ノルボルニレン等の脂環式又は多環式の2価の有機基;フェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ポリフェニレン等の2価の芳香族基;及びこれらのアルキル基置換体、アリール基置換体を挙げることができる。また、これら2価の有機基は炭素及び水素原子以外の元素を含む原子団を含んでいてもよく、ポリエーテル結合、ポリエステル結合、ポリアミド結合、ポリカーボネート結合、さらには前記式(2)に示す基を含むこともできる。
R c is a divalent organic group having a C 1 to C 12 aliphatic or aromatic structure, and may contain a chain, branched chain or cyclic structure. Examples of such an organic group include methylene, ethylene, propylene, butylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene, xylylene, and dodecamethylene. Among these, preferred examples are methylene, propylene, cyclohexylene, phenylene and the like.
R d is a divalent organic group, and is usually selected from divalent organic groups having a molecular weight of 14 to 10,000, preferably a molecular weight of 76 to 500. For example, chain polyalkylene groups such as hexamethylene, octamethylene, dodecamethylene; alicyclic or polycyclic divalent organic groups such as cyclohexylene and norbornylene; divalent groups such as phenylene, naphthylene, biphenylene and polyphenylene Aromatic group; and these alkyl group-substituted and aryl group-substituted products. Further, these divalent organic groups may contain an atomic group containing an element other than carbon and hydrogen atoms, and include a polyether bond, a polyester bond, a polyamide bond, a polycarbonate bond, and a group represented by the formula (2). Can also be included.

eは(n+1)価の有機基であり、好ましくは鎖状、分岐鎖状又は環状の飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基の中から選ばれる。
Y’は反応性官能基を有する1価の有機基を示す。上述のような反応性官能基そのものであっても良い。例えば反応性官能基を重合性不飽和基から選択する場合、(メタ)アクリロイル(オキシ)基、ビニル(オキシ)基、プロペニル(オキシ)基、ブタジエニル(オキシ)基、スチリル(オキシ)基、エチニル(オキシ)基、シンナモイル(オキシ)基、マレエート基、(メタ)アクリルアミド基等を挙げることができる。また、nは好ましくは1〜20の正の整数であり、さらに好ましくは1〜10、特に好ましくは1〜5である。
R e is an (n + 1) -valent organic group, and is preferably selected from a chain, branched chain, or cyclic saturated hydrocarbon group or unsaturated hydrocarbon group.
Y ′ represents a monovalent organic group having a reactive functional group. The reactive functional group itself as described above may be used. For example, when the reactive functional group is selected from a polymerizable unsaturated group, (meth) acryloyl (oxy) group, vinyl (oxy) group, propenyl (oxy) group, butadienyl (oxy) group, styryl (oxy) group, ethynyl (Oxy) group, cinnamoyl (oxy) group, maleate group, (meth) acrylamide group and the like can be mentioned. N is preferably a positive integer of 1 to 20, more preferably 1 to 10, particularly preferably 1 to 5.

本発明で用いられる反応性官能基修飾加水分解性シランの合成は、例えば特開平9−100111号公報に記載された方法を用いることができる。すなわち、例えば重合性不飽和基を導入したい場合、(イ)メルカプトアルコキシシランと、ポリイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応可能な活性水素基含有重合性不飽和化合物との付加反応により行うことができる。また、(ロ)分子中にアルコキシシリル基及びイソシアネート基を有する化合物と、活性水素基含有重合性不飽和化合物との直接的反応により行うことができる。さらに、(ハ)分子中に重合性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、メルカプトアルコキシシラン又はアミノシランとの付加反応により直接合成することもできる。   For the synthesis of the reactive functional group-modified hydrolyzable silane used in the present invention, for example, a method described in JP-A-9-100111 can be used. That is, for example, when it is desired to introduce a polymerizable unsaturated group, (i) it can be carried out by an addition reaction of a mercaptoalkoxysilane, a polyisocyanate compound, and an active hydrogen group-containing polymerizable unsaturated compound capable of reacting with an isocyanate group. . Further, (b) the reaction can be carried out by a direct reaction between a compound having an alkoxysilyl group and an isocyanate group in the molecule and an active hydrogen group-containing polymerizable unsaturated compound. Furthermore, (c) it can also be directly synthesized by an addition reaction of a compound having a polymerizable unsaturated group and an isocyanate group in the molecule with mercaptoalkoxysilane or aminosilane.

例えば、メルカプトアルコキシシランとしては、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリエトキシシラン等を好適に用いることができる。
また、ポリイソシアネ−ト化合物としては、2,4−トリレンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネア−ト)、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等を好適に用いることができる。
また、活性水素含有重合性不飽和化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパンジ(メタ)アクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリ(メタ)アクリレ−ト、ジペンタエリスルト−ルペンタ(メタ)アクリレ−ト等を挙げることができる。また、アルキルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレ−ト等のグリシジル基含有化合物と、(メタ)アクリル酸との付加反応により得られる化合物を用いることができる。
For example, mercaptopropyltrimethoxysilane, mercaptopropyltriethoxysilane, or the like can be suitably used as the mercaptoalkoxysilane.
Examples of the polyisocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, methylene bis (4-cyclohexyl isocyanate), 1,3-bis (isocyanate methyl) cyclohexane, and the like. It can be used suitably.
Examples of the active hydrogen-containing polymerizable unsaturated compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, and pentaerythritol. -Lutri (meth) acrylate, dipentaerythritol rupenta (meth) acrylate and the like. Moreover, the compound obtained by addition reaction with glycidyl group containing compounds, such as alkyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid can be used.

(iii)の無機微粒子(C)の製造においては、反応性官能基修飾加水分解性シランを別途加水分解操作を行った後、これと無機微粒子を混合し、加熱、撹拌操作を行う方法、もしくは反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解を無機微粒子の存在下に行う方法、また、他の成分、例えば多価不飽和有機化合物、単価不飽和有機化合物、放射線重合開始剤等の存在下、無機微粒子の表面処理を行う方法を選ぶことができるが、反応性官能基修飾加水分解性シランの加水分解を無機微粒子の存在下行う方法が好ましい。(iii)の無機微粒子(C)を製造する際、その温度は、通常20℃以上150℃以下であり、また処理時間は5分〜24時間の範囲である。   In the production of the inorganic fine particles (C) in (iii), a reactive functional group-modified hydrolyzable silane is separately hydrolyzed and then mixed with the inorganic fine particles, followed by heating and stirring, or A method of hydrolyzing a reactive functional group-modified hydrolyzable silane in the presence of inorganic fine particles, and in the presence of other components such as polyunsaturated organic compounds, monounsaturated organic compounds, radiation polymerization initiators, etc. A method of performing surface treatment of inorganic fine particles can be selected, but a method of hydrolyzing a reactive functional group-modified hydrolyzable silane in the presence of inorganic fine particles is preferable. When the inorganic fine particles (C) (iii) are produced, the temperature is usually 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and the treatment time is in the range of 5 minutes to 24 hours.

加水分解反応を促進するため、触媒として酸、塩もしくは塩基を添加してもよい。酸としては有機酸および不飽和有機酸;塩基としては3級アミンまたは4級アンモニウムヒドロキシドが好適な物として挙げられる。これら酸もしくは塩基触媒の添加量は反応性官能基修飾加水分解性シランに対して0.001〜1.0重量%、好ましくは0.01〜0.1重量%である。   In order to accelerate the hydrolysis reaction, an acid, salt or base may be added as a catalyst. Preferable examples of the acid include organic acids and unsaturated organic acids; examples of the base include tertiary amines or quaternary ammonium hydroxides. The amount of the acid or base catalyst added is 0.001 to 1.0% by weight, preferably 0.01 to 0.1% by weight, based on the reactive functional group-modified hydrolyzable silane.

無機微粒子(C)としては、分散媒を含有しない粉末状の微粒子を用いてもよいが、分散工程を省略でき、生産性が高い点から微粒子を溶剤分散ゾルとしたものを用いることが好ましい。
無機微粒子(C)の含有量は前記化合物(A)と前記化合物(B)の合計量100重量部に対し、10〜60重量部、更に25〜40重量部であることが好ましい。10重量部未満の場合、ハードコート層表面の硬度が不充分となる恐れがあり、60重量部超過の場合、ハードコート層と基材の界面の密着性が不充分となる恐れがある。
As the inorganic fine particles (C), powdery fine particles not containing a dispersion medium may be used. However, it is preferable to use a fine particle in a solvent dispersion sol from the viewpoint of high productivity because the dispersion step can be omitted.
The content of the inorganic fine particles (C) is preferably 10 to 60 parts by weight, and more preferably 25 to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound (A) and the compound (B). If it is less than 10 parts by weight, the hardness of the hard coat layer surface may be insufficient, and if it exceeds 60 parts by weight, the adhesion at the interface between the hard coat layer and the substrate may be insufficient.

<その他の成分>
本発明の硬化性樹脂組成物は、上記必須成分のほかに、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤、溶剤を含有しても良い。更に、反応性又は非反応性レベリング剤、各種増感剤等の各種添加剤が混合されていても良い。帯電防止剤及び/又は防眩剤を含む場合には、本発明の硬化性樹脂組成物は、更に帯電防止性及び/又は防眩性を付与できる。
(重合開始剤)
本発明においては、上記ラジカル重合性官能基やカチオン重合性官能基の開始又は促進させるために、必要に応じてラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等を用いても良い。これらの重合開始剤は、光照射及び/又は加熱により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合やカチオン重合を進行させるものである。
<Other ingredients>
The curable resin composition of the present invention may contain a polymerization initiator, an antistatic agent, an antiglare agent, and a solvent in addition to the above essential components. Furthermore, various additives, such as a reactive or non-reactive leveling agent and various sensitizers, may be mixed. When it contains an antistatic agent and / or an antiglare agent, the curable resin composition of the present invention can further impart antistatic properties and / or antiglare properties.
(Polymerization initiator)
In the present invention, in order to initiate or promote the radical polymerizable functional group or the cationic polymerizable functional group, a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and a cationic polymerization initiator may be used as necessary. good. These polymerization initiators are decomposed by light irradiation and / or heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization or cationic polymerization.

ラジカル重合開始剤は、光照射及び/又は加熱によりラジカル重合を開始させる物質を放出する。光ラジカル重合開始剤としては、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、N−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、具体的には、1,3−ジ(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラキス(tert−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3−フェニル−5−イソオキサゾロン、2−メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム)(商品名イルガキュア784、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)等が挙げられる。 The radical polymerization initiator releases a substance that initiates radical polymerization by light irradiation and / or heating. Examples of the photo radical polymerization initiator include imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-aryl glycine derivatives, organic azide compounds, titanocenes, aluminate complexes, organic peroxides, N-alkoxypyridinium salts, thioxanthone derivatives, and the like. Specifically, 1,3-di (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetrakis (tert-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3-phenyl-5-isoxazolone, 2-mercaptobenzimidazole, bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name Irgacure 651, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) ), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (quotient Name Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one (trade name Irgacure 369, Ciba Specialty Chemicals) Manufactured by Co., Ltd.), bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium) (trade name) Irgacure 784, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and the like.

また、カチオン重合開始剤は、光照射及び/又は加熱によりカチオン重合を開始させる物質を放出する。カチオン重合開始剤としては、スルホン酸エステル、イミドスルホネート、ジアルキル−4−ヒドロキシスルホニウム塩、アリールスルホン酸−p−ニトロベンジルエステル、シラノール−アルミニウム錯体、(η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)等が例示され、具体的には、ベンゾイントシレート、2,5−ジニトロベンジルトシレート、N−トシフタル酸イミド等が挙げられる。 The cationic polymerization initiator releases a substance that initiates cationic polymerization by light irradiation and / or heating. Examples of the cationic polymerization initiator include sulfonic acid ester, imide sulfonate, dialkyl-4-hydroxysulfonium salt, arylsulfonic acid-p-nitrobenzyl ester, silanol-aluminum complex, (η 6 -benzene) (η 5 -cyclopentadidi). Enyl) iron (II) and the like, and specific examples include benzoin tosylate, 2,5-dinitrobenzyl tosylate, N-tosicphthalimide and the like.

ラジカル重合開始剤としても、カチオン重合開始剤としても用いられるものとしては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物、鉄アレーン錯体等が例示され、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−クロロフェニル)ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、4−tert−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等の2,4,6−置換−1,3,5トリアジン化合物等が挙げられる。   Examples of radical polymerization initiators that can be used as cationic polymerization initiators include aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, iron arene complexes, and the like. More specifically, iodonium chloride such as diphenyliodonium, ditolyliodonium, bis (p-tert-butylphenyl) iodonium, bis (p-chlorophenyl) iodonium, bromide, borofluoride, hexafluorophosphate salt, hexafluoro Iodonium salts such as antimonate salts, chlorides of sulfonium such as triphenylsulfonium, 4-tert-butyltriphenylsulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, bromides, borofluorides, hexaf Sulfonium salts such as orophosphate salts and hexafluoroantimonate salts, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1, Examples include 2,4,6-substituted-1,3,5 triazine compounds such as 3,5-triazine and 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine.

(帯電防止剤(導電剤))
帯電防止層を形成する帯電防止剤のとしては、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物及びそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、且つ、電離放射線により重合可能なモノマーまたは化合物、或いは電離放射線により重合可能な重合可能な官能基を有する且つ、カップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
(Antistatic agent (conductive agent))
Antistatic agents for forming the antistatic layer include quaternary ammonium salts, pyridinium salts, various cationic compounds having a cationic group such as primary to tertiary amino groups, sulfonate groups, sulfate ester bases, Anionic compounds having an anionic group such as phosphate ester base and phosphonate base, amphoteric compounds such as amino acid series and amino sulfate ester series, nonionic compounds such as amino alcohol series, glycerin series and polyethylene glycol series, tin and titanium And metal chelate compounds such as acetylacetonate salts thereof, and compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above. Further, it has a tertiary amino group, a quaternary ammonium group, or a metal chelate portion, and has a monomer or compound that can be polymerized by ionizing radiation, or a polymerizable functional group that can be polymerized by ionizing radiation, and Polymerizable compounds such as organometallic compounds such as coupling agents can also be used as antistatic agents.

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子としては、金属酸化物からなるものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。)、CeO2(1.95)、Sb22(1.71)、SnO2(1.997)、ITOと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫(1.95)、In23(2.00)、Al23(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称;ATO、2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO、2.0)等を挙げることができる。微粒子とは、1ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒子径が0.1nm〜0.1μmのものである。
帯電防止剤は、上記化合物(A)と上記化合物(B)の合計量100重量部に対し、1〜30重量部、好ましくは3〜15重量部含有させる。
Moreover, electroconductive ultrafine particles are mentioned. Examples of the conductive fine particles include those made of a metal oxide. Examples of such metal oxides include ZnO (refractive index 1.90, the numerical value in parentheses below represents the refractive index), CeO 2 (1.95), Sb 2 O 2 (1.71), SnO. 2 (1.997), indium tin oxide (1.95), In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), antimony-doped tin oxide (abbreviation), often abbreviated as ITO ATO, 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation: AZO, 2.0), and the like. The fine particles refer to those having a so-called submicron size of 1 micron or less, and preferably those having an average particle size of 0.1 nm to 0.1 μm.
The antistatic agent is contained in an amount of 1 to 30 parts by weight, preferably 3 to 15 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the compound (A) and the compound (B).

(防眩剤)
防眩剤としては、後記する防眩層の項で説明する防眩剤と同様のものを、上記化合物(A)と上記化合物(B)の合計量100重量部に対し、20〜30重量部、好ましくは10〜25重量部含有させる。
(Anti-glare agent)
As an anti-glare agent, the thing similar to the anti-glare agent demonstrated by the term of the anti-glare layer mentioned later is 20-30 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of the said compound (A) and the said compound (B). , Preferably 10 to 25 parts by weight.

(溶剤)
溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ニトロメタン、N―メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等のその他の物;またはこれらの混合物が挙げられる。より好ましい溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。
(solvent)
Solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, isobutyl alcohol, methyl glycol, methyl glycol acetate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, etc. Ketones; esters such as methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, butyl acetate; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide; diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dioxolane, etc. Ethers; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, trichloroethane, tetrachloroethane; dimethyl sulfoxide, Other materials such as propylene carbonate; or mixtures thereof. More preferred solvents include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone and the like.

<樹脂組成物の調製>
本発明の硬化性樹脂組成物は、一般的な調製法に従って、上記成分を混合し分散処理することにより調製される。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を用いることができる。無機微粒子(C)が溶剤中に分散された状態で得られる場合には、その分散状態のまま、上記化合物(A)、上記化合物(B)、溶剤を含むその他成分を適宜加え、混合し分散処理することにより調製される。
<Preparation of resin composition>
The curable resin composition of the present invention is prepared by mixing and dispersing the above components according to a general preparation method. A paint shaker or a bead mill can be used for mixing and dispersing. When the inorganic fine particles (C) are obtained in a state of being dispersed in a solvent, the compound (A), the compound (B), and other components including the solvent are appropriately added, mixed and dispersed in the dispersed state. It is prepared by processing.

硬化性樹脂組成物の固形分の濃度は、特に限定されるものではないが、通常5重量%〜40重量%の範囲内、特に15重量%〜30重量%の範囲内であることが好ましい。   The concentration of the solid content of the curable resin composition is not particularly limited, but it is usually preferably in the range of 5 to 40% by weight, particularly preferably in the range of 15 to 30% by weight.

II.ハードコートフィルム
本発明のハードコートフィルムは、基材上、好ましくは光透過性樹脂基材上に、前記の硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層を備える。
本発明のハードコートフィルムは、基材、好ましくは光透過性樹脂基材上に、前記硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層を備えることにより、充分な耐擦傷性を有しつつ、クラックを生じず、カールが抑えられ、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、且つ高い生産速度で生産可能である。
すなわち、本発明においてはハードコート層を形成するための硬化性樹脂組成物が、上記化合物(B)と無機微粒子(C)に、更に、上記化合物(B)と無機微粒子(C)と反応可能な上記末端に3つ以上の反応性官能基を有するポリアルキレンオキシド鎖含有化合物(A)を含有する。当該ポリアルキレンオキシド鎖含有化合物(A)は、主鎖が短く、櫛状のポリアルキレンオキシド鎖の末端の反応性官能基によりハードセグメント成分である上記化合物(B)及び無機微粒子(C)の両方と架橋できることから、本発明のハードコート層は、薄膜であっても所望の硬度を維持しつつ、可撓性及び復元性を付与できるため、曲げたり切断する際のクラック発生を防止できる。
II. Hard coat film The hard coat film of this invention is equipped with the hard-coat layer which consists of hardened | cured material of the said curable resin composition on a base material, Preferably a transparent resin base material.
The hard coat film of the present invention has sufficient scratch resistance by providing a hard coat layer comprising a cured product of the curable resin composition on a base material, preferably a light-transmitting resin base material. In addition, no cracks are generated, curling is suppressed, shrinkage of the base material hardly occurs during curing, and production is possible at a high production rate.
That is, in the present invention, the curable resin composition for forming the hard coat layer can react with the compound (B) and the inorganic fine particles (C), and further with the compound (B) and the inorganic fine particles (C). And a polyalkylene oxide chain-containing compound (A) having three or more reactive functional groups at the terminal. The polyalkylene oxide chain-containing compound (A) has a short main chain, and both the compound (B) and the inorganic fine particles (C) which are hard segment components due to the reactive functional group at the end of the comb-like polyalkylene oxide chain Since the hard coat layer of the present invention can provide flexibility and resilience while maintaining the desired hardness even if it is a thin film, it can prevent cracks from being generated during bending or cutting.

また、本発明のハードコート層を形成する硬化性樹脂組成物は、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)を含有し、これら全てが互いに反応することにより、低照射量且つ短時間で硬化できる。そのため、本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化時の重合熱により基材に与える熱ダメージが小さくなり、硬化時に基材の収縮皺を生じさせ難く、ハードコート層のカールを抑制でき、且つ高い生産速度でハードコートフィルムを製造できる。   Moreover, the curable resin composition forming the hard coat layer of the present invention contains the compound (A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C), and these all react with each other, It can be cured in a low dose and in a short time. Therefore, the curable resin composition of the present invention reduces thermal damage to the substrate due to the heat of polymerization during curing, hardly causes shrinkage of the substrate during curing, can suppress curling of the hard coat layer, and Hard coat film can be manufactured at high production speed.

図1及び図2は、本発明のハードコートフィルムの一例を示す断面図である。図1に示す例では、光透過性樹脂基材1の一方の表面側に、硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層2が積層されている。図2に示す例では、光透過性樹脂基材1の一方の表面側に、硬化性樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層2が積層され、当該ハードコート層2上に更に低屈折率層3が積層されている。   FIG.1 and FIG.2 is sectional drawing which shows an example of the hard coat film of this invention. In the example shown in FIG. 1, a hard coat layer 2 made of a cured product of a curable resin composition is laminated on one surface side of a light transmissive resin substrate 1. In the example shown in FIG. 2, a hard coat layer 2 made of a cured product of the curable resin composition is laminated on one surface side of the light transmissive resin base material 1, and a lower refractive index is further formed on the hard coat layer 2. Layer 3 is laminated.

図2に示されるように、本発明のハードコートフィルムは、ハードコートフィルムとしての機能又は用途を加味して、前記光透過性樹脂基材と前記ハードコート層との間及び/又は前記ハードコート層の上に、その他の層、例えば、帯電防止層、防眩層、低屈折率層、及び防汚層よりなる群から選択される1種又は2種以上の層を形成してもよい。
また、本発明のハードコートフィルムは、前記ハードコート層が帯電防止剤および/または防眩剤を含むことにより、帯電防止機能や防眩機能が付与されるものであってもよい。
以下、本発明のハードコートフィルムを構成する各層について順に説明する。
As shown in FIG. 2, the hard coat film of the present invention is added between the light-transmitting resin substrate and the hard coat layer and / or the hard coat film in consideration of the function or use as the hard coat film. Other layers, for example, one or more layers selected from the group consisting of an antistatic layer, an antiglare layer, a low refractive index layer, and an antifouling layer may be formed on the layer.
The hard coat film of the present invention may be provided with an antistatic function or an antiglare function when the hard coat layer contains an antistatic agent and / or an antiglare agent.
Hereinafter, each layer which comprises the hard coat film of this invention is demonstrated in order.

1.基材
基材は、光を透過するものであれば、透明、半透明、無色または有色を問わないが、可視光域380〜780nmにおける平均光透過率は50%以上、好ましくは70%以上、より好ましくは85%以上である。なお、光透過率の測定は、紫外可視分光光度計(例えば、(株)島津製作所製 UV−3100PC)を用い、室温、大気中で測定した値を用いる。これらの光透過性樹脂基材は、薄さ、軽さ、割れにくさ、フレキシブル性等の点で優れている。
1. Base material The base material may be transparent, translucent, colorless or colored as long as it transmits light, but the average light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is 50% or more, preferably 70% or more, More preferably, it is 85% or more. In addition, the measurement of light transmittance uses the value measured in room temperature and the air | atmosphere using the ultraviolet visible spectrophotometer (For example, Shimadzu Corporation UV-3100PC). These light-transmitting resin substrates are excellent in terms of thinness, lightness, resistance to cracking, flexibility, and the like.

基材として、トリアセテートセルロース(TAC)、ジアセチルセルロース、アセテートプロピオネートセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエチレンテレフタレート(PET)、環状ポリオレフィン、ポリエーテルサルホン、(メタ)アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリロニトリル等により形成したフィルム又はシート等が挙げられる。   Triacetate cellulose (TAC), diacetyl cellulose, acetate propionate cellulose, acetate butyrate cellulose, polyethylene terephthalate (PET), cyclic polyolefin, polyethersulfone, (meth) acrylic resin, polyurethane resin, polyester , A film or sheet formed of polycarbonate, polysulfone, polyether, trimethylpentene, polyetherketone, (meth) acrylonitrile, or the like.

本発明においては、ハードコートフィルムが用いられる態様によって、基材を適宜選択する。例えば、目的とするハードコートフィルムに光学的等方性が要求される場合は、透明基材として、トリアセテートセルロース(TAC)、ジアセチルセルロース、アセテートプロピオネートセルロース、アセテートブチレートセルロース等のようなセルロースエステル、ポリノルボルネン系透明樹脂の製品名アートン(JSR(株)製)やゼオノア(日本ゼオン(株)製)等のような環状ポリオレフィン、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテル樹脂による易接着処理がされたPET等を用いる。液晶ディスプレイ用途に用いる場合には、トリアセテートセルロース(TAC)、環状ポリオレフィンが好ましい。   In the present invention, the substrate is appropriately selected depending on the mode in which the hard coat film is used. For example, when optical isotropy is required for the target hard coat film, a transparent substrate such as cellulose such as triacetate cellulose (TAC), diacetyl cellulose, acetate propionate cellulose, acetate butyrate cellulose, etc. Ester, polynorbornene-based transparent resin product name Arton (manufactured by JSR Co., Ltd.), ZEONOR (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.), etc., easy adhesion treatment with cyclic polyolefin, polyester resin, acrylic resin, polyether resin PET or the like is used. When used for a liquid crystal display, triacetate cellulose (TAC) and cyclic polyolefin are preferable.

また、本発明においては、光透過性樹脂基材に表面処理(例、鹸化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線(UV)処理、火炎処理)を施してもよく、プライマー層(接着剤層)を形成してもよい。本発明における光透過性樹脂基材は、これらの表面処理及びプライマー層も含めたものをいう。   In the present invention, the light-transmitting resin substrate may be subjected to surface treatment (eg, saponification treatment, glow discharge treatment, corona discharge treatment, ultraviolet (UV) treatment, flame treatment), and primer layer (adhesive) Layer) may be formed. The light-transmitting resin substrate in the present invention refers to those including these surface treatments and primer layers.

光透過性樹脂基材の厚さは、通常、30μm〜200μm程度であり、好ましくは40μm〜200μmである。本発明においては、特にカール防止性に優れるため、光透過性樹脂基材が薄くてもカールが防止でき、40μm〜80μm程度の厚さであっても好適に用いることが可能である。   The thickness of the light-transmitting resin substrate is usually about 30 μm to 200 μm, preferably 40 μm to 200 μm. In the present invention, curl prevention is particularly excellent, so curling can be prevented even when the light-transmitting resin substrate is thin, and even a thickness of about 40 μm to 80 μm can be suitably used.

本発明においては、特定のハードコート層を有することにより、ハードコート層の硬化時に発生する重合熱による基材の熱ダメージに基づく畳模様の収縮皺の発生を抑制できる。したがって、TACのような耐熱性が比較的低い基材であっても、このような収縮皺を生じない。
また、ハードコート層を積層した後の表面粗さ(Ra)は、0.1μm以下であることが好ましい。ここで表面粗さ(Ra)は、JIS B0601に準拠して測定する。
In the present invention, by having the specific hard coat layer, it is possible to suppress the occurrence of shrinkage wrinkles of the tatami pattern based on the thermal damage of the base material due to the heat of polymerization generated when the hard coat layer is cured. Therefore, even a base material having a relatively low heat resistance such as TAC does not cause such shrinkage wrinkles.
Moreover, it is preferable that the surface roughness (Ra) after laminating | stacking a hard-coat layer is 0.1 micrometer or less. Here, the surface roughness (Ra) is measured according to JIS B0601.

2.ハードコート層
本発明に用いられるハードコート層は、前記硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層である。
本発明において「ハードコート層」とは、上述のように、JIS5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものである。当該硬度は、上記基材の種類や厚みに依存する値であり、用途や要求性能に合わせて適宜選択されるが、本発明のハードコート層は、好ましくは鉛筆硬度試験で2H以上、更に好ましくは3H以上、特に好ましくは4H以上である。
2. Hard coat layer The hard coat layer used in the present invention is a layer comprising a cured product of the curable resin composition.
In the present invention, the “hard coat layer” indicates a hardness of “H” or higher in the pencil hardness test specified in JIS 5600-5-4 (1999) as described above. The hardness is a value that depends on the type and thickness of the base material and is appropriately selected according to the use and required performance. The hard coat layer of the present invention is preferably 2H or more, more preferably in a pencil hardness test. Is 3H or more, particularly preferably 4H or more.

本発明のハードコート層は、前記硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層であるから、当該樹脂組成物に添加される成分によって、防眩層、低屈折率層、高屈折率層、帯電防止層、防汚層等のような機能層を兼ねるものとなり得る。   Since the hard coat layer of the present invention is a layer composed of a cured product of the curable resin composition, an antiglare layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer, a charging layer are added depending on the components added to the resin composition. It can also serve as a functional layer such as a preventive layer or an antifouling layer.

本発明のハードコートフィルムにおいて、ハードコート層は、単層であっても複数層で構成されていても良い。この場合の単層とは、同一組成物で形成されるハードコート層であって、塗布、乾燥後の組成が同一組成のものであれば、複数回の塗布で形成されていても良い。一方、複数層とは、組成の異なる複数の組成物から形成されていることを表す。例えば、専ら耐擦傷性を向上させることを目的とした本発明のハードコート層上に、更に低屈折率層としても機能する本発明のハードコート層を積層したような構成であっても良い。
また、本発明のハードコートフィルムにおいて、前記ハードコート層は必須であるが、他の硬化性樹脂組成物からなるハードコート層を更に含んでいても良い。
In the hard coat film of the present invention, the hard coat layer may be a single layer or a plurality of layers. The single layer in this case is a hard coat layer formed of the same composition, and may be formed by a plurality of coatings as long as the composition after coating and drying is the same composition. On the other hand, the term “multiple layers” means that the layers are formed from a plurality of compositions having different compositions. For example, a configuration in which the hard coat layer of the present invention that also functions as a low refractive index layer is further laminated on the hard coat layer of the present invention exclusively for the purpose of improving scratch resistance.
In the hard coat film of the present invention, the hard coat layer is essential, but may further include a hard coat layer made of another curable resin composition.

ハードコート層の膜厚(硬化時)は、上記基材の強度や要求性能に応じて適宜選択することができる。例えば、1〜100μm、好ましくは5〜30μmである。
ハードコート層が薄すぎると、ハードコート層の耐擦傷性が不充分であり、一方、ハードコート層が厚すぎると硬度は向上するものの、クラックやカールが発生しやすくなるため、上記基材の強度や要求性能に応じて適宜選択する。
The film thickness (at the time of curing) of the hard coat layer can be appropriately selected according to the strength and required performance of the substrate. For example, it is 1-100 micrometers, Preferably it is 5-30 micrometers.
If the hard coat layer is too thin, the scratch resistance of the hard coat layer is insufficient. On the other hand, if the hard coat layer is too thick, the hardness is improved, but cracks and curls are likely to occur. Select appropriately according to strength and required performance.

また、ハードコート層の表面を、#0000番のスチールウールを用いて、所定の摩擦荷重で10往復摩擦し、その後のハードコート層の剥がれの有無を目視した場合に、1000g以上の摩擦荷重に耐えられることが好ましく、更に1500g以上の摩擦荷重に耐えられることが好ましい。   Further, when the surface of the hard coat layer is subjected to 10 reciprocating frictions with a predetermined friction load using # 0000 steel wool, and the presence or absence of subsequent peeling of the hard coat layer is visually observed, the friction load becomes 1000 g or more. It is preferable to withstand, and it is preferable to withstand a friction load of 1500 g or more.

また、ハードコートフィルムのカールは、基材を10cm×10cmにカットしたサンプル片を水平な台の上に置き、端部の浮き上がりを測定した場合に、3cm以下であることが好ましい。   Further, the curl of the hard coat film is preferably 3 cm or less when a sample piece obtained by cutting the base material to 10 cm × 10 cm is placed on a horizontal base and the lift of the end portion is measured.

3.その他の層
本発明によるハードコートフィルムは、光透過性樹脂基材とハードコート層とにより構成されてなる。しかしながら、ハードコートフィルムとしての機能または用途を加味して、本発明のハードコート層の他に、更に下記のような一又は二以上の層を含有していてもよい。また更に、中屈折率層や高屈折率層を含んで形成しても良い。
3. Other Layers The hard coat film according to the present invention is composed of a light-transmitting resin substrate and a hard coat layer. However, in consideration of the function or use as a hard coat film, in addition to the hard coat layer of the present invention, one or more layers as described below may be further contained. Furthermore, you may form including a middle refractive index layer and a high refractive index layer.

(1)帯電防止層
帯電防止層は、帯電防止剤と樹脂を含んでいる。帯電防止剤は、ハードコート層の欄で説明したものと同様である。帯電防止層の厚さは、30nm〜1μm程度であることが好ましい。
(1) Antistatic layer The antistatic layer contains an antistatic agent and a resin. The antistatic agent is the same as that described in the column of the hard coat layer. The thickness of the antistatic layer is preferably about 30 nm to 1 μm.

帯電防止層に含まれる樹脂として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは光硬化性樹脂もしくは光硬化性化合物(有機反応性ケイ素化合物を含む)を使用することができる。樹脂としては、熱可塑性の樹脂も使用できるが、熱硬化性樹脂を使用することが好ましく、より好ましくは、光硬化性樹脂または光硬化性化合物を含む光硬化性組成物である。
光硬化性組成物としては、分子中に重合性不飽和基または、エポキシ基を有するプレ化合物、化合物、及び/又はモノマーを適宜に混合したものである。
光硬化性組成物中のプレ化合物、化合物、及びモノマーとしては、前記ハードコート層の化合物(B)で挙げたのと同様のものを用いることができる。
As the resin contained in the antistatic layer, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a photocurable compound (including an organic reactive silicon compound) can be used. As the resin, a thermoplastic resin can be used, but a thermosetting resin is preferably used, and a photocurable composition containing a photocurable resin or a photocurable compound is more preferable.
As a photocurable composition, the pre-compound, compound, and / or monomer which have a polymerizable unsaturated group or an epoxy group in a molecule | numerator are mixed suitably.
As the pre-compound, compound and monomer in the photocurable composition, the same compounds as those mentioned for the compound (B) of the hard coat layer can be used.

通常、光硬化性組成物中のモノマーとしては、必要に応じて、1種若しくは2種以上を混合して用いるが、光硬化性組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレ化合物又は化合物を5重量%以上、前記モノマー及び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするのが好ましい。   Usually, as a monomer in a photocurable composition, 1 type, or 2 or more types are mixed and used as needed, but in order to give a normal application | coating suitability to a photocurable composition, the said pre-compound Alternatively, the compound is preferably 5% by weight or more, and the monomer and / or polythiol compound is preferably 95% by weight or less.

(2)防眩層
防眩層は、透過性樹脂基材とハードコート層または低屈折率層との間に形成されてよい。防眩層は樹脂と防眩剤とを含んでなるものであり、樹脂は、上記帯電防止層の項で説明したのと同様であってよい。
(2) Antiglare layer The antiglare layer may be formed between the transparent resin substrate and the hard coat layer or the low refractive index layer. The antiglare layer comprises a resin and an antiglare agent, and the resin may be the same as that described in the section of the antistatic layer.

本発明の好ましい態様によれば、防眩層は微粒子の平均粒子径をR(μm)とし、防眩層の凹凸の凸部分の鉛直方向での基材面からの最大値をHmax(μm)とし、防眩層の凹凸平均間隔をSm(μm)とし、凹凸部の平均傾斜角をθaとした場合に、下記式:
8R≦Sm≦30R
R<Hmax<3R
1.3≦θa≦2.5
1≦R≦8
全てを同時に満たすものが好ましい。
According to a preferred aspect of the present invention, the antiglare layer has an average particle diameter of R (μm), and the maximum value from the substrate surface in the vertical direction of the convex and concave portions of the antiglare layer is Hmax (μm). And the average interval between the irregularities of the antiglare layer is Sm (μm), and the average inclination angle of the irregularities is θa, the following formula:
8R ≦ Sm ≦ 30R
R <Hmax <3R
1.3 ≦ θa ≦ 2.5
1 ≦ R ≦ 8
What satisfies all simultaneously is preferable.

また、本発明の別の好ましい様態によれば、微粒子と透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、n1、n2とした場合に、Δn=│n1−n2│<0.1を満たすものであり、且つ、防眩層内部のヘイズ値が55%以下である防眩層が好ましい。   According to another preferred embodiment of the present invention, when the refractive indexes of the fine particles and the transparent resin composition are n1 and n2, respectively, Δn = | n1-n2 | <0.1 is satisfied. And the anti-glare layer whose haze value inside an anti-glare layer is 55% or less is preferable.

(防眩剤)
防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.59)、メラミンビーズ(屈折率1.57)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、樹脂組成物100重量部に対し、2〜30重量部、好ましくは10〜25重量部程度である。
(Anti-glare agent)
Examples of the antiglare agent include fine particles, and the shape of the fine particles may be a true sphere or an ellipse, and preferably a true sphere. The fine particles may be inorganic or organic, but those formed of an organic material are preferred. The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include plastic beads, and more preferably those having transparency. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads. The addition amount of the fine particles is about 2 to 30 parts by weight, preferably about 10 to 25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin composition.

防眩層用組成物を調整する際に沈降防止剤を添加することが好ましい。沈降防止剤を添加することにより、防眩剤の沈殿を抑制し、溶媒内に均一に分散させることができるからである。沈降防止剤の具体例としては、平均粒子径が0.5μm以下、好ましくは0.1〜0.25μm程度のシリカビーズが挙げられる。
防眩層の膜厚(硬化時)は0.1〜100μm、好ましくは0.8〜20μmの範囲にあることが好ましい。膜厚がこの範囲にあることにより、防眩層としての機能を充分に発揮することができる。
It is preferable to add an antisettling agent when adjusting the composition for the antiglare layer. This is because, by adding an anti-settling agent, precipitation of the anti-glare agent can be suppressed and the anti-glare agent can be uniformly dispersed in the solvent. Specific examples of the anti-settling agent include silica beads having an average particle size of 0.5 μm or less, preferably about 0.1 to 0.25 μm.
The film thickness (when cured) of the antiglare layer is 0.1 to 100 μm, preferably 0.8 to 20 μm. When the film thickness is within this range, the function as an antiglare layer can be sufficiently exhibited.

(3)低屈折率層
低屈折率層は、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有する樹脂、低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂から構成され、屈折率が1.46以下の、やはり30nm〜1μm程度の薄膜、または、シリカ、もしくはフッ化マグネシウムの化学蒸着法もしくは物理蒸着法による薄膜で構成することができる。フッ素樹脂以外の樹脂については、帯電防止層を構成するのに用いる樹脂と同様である。
(3) Low refractive index layer The low refractive index layer is composed of a resin containing silica or magnesium fluoride, a fluorine resin which is a low refractive index resin, silica or a fluorine resin containing magnesium fluoride, It can be composed of a thin film having a refractive index of 1.46 or less, which is also about 30 nm to 1 μm, or a thin film formed by chemical vapor deposition or physical vapor deposition of silica or magnesium fluoride. The resin other than the fluororesin is the same as the resin used for constituting the antistatic layer.

低屈折率層は、より好ましくは、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体で構成することができる。このシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体は、具体的には、フッ化ビニリデンが30〜90%、ヘキサフルオロプロピレンが5〜50%(以降も含め、百分率は、いずれも重量基準)を含有するモノマー組成物を原料とした共重合により得られるもので、フッ素含有割合が60〜70%であるフッ素含有共重合体100部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物80〜150部とからなる樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用いて、膜厚200nm以下の薄膜であって、且つ耐擦傷性が付与された屈折率1.60未満(好ましくは1.46以下)の低屈折率層を形成する。   More preferably, the low refractive index layer can be composed of a silicone-containing vinylidene fluoride copolymer. This silicone-containing vinylidene fluoride copolymer is specifically a monomer containing 30 to 90% vinylidene fluoride and 5 to 50% hexafluoropropylene (including percentages below, all in terms of weight). It is obtained by copolymerization using the composition as a raw material, and comprises 100 parts of a fluorine-containing copolymer having a fluorine content of 60 to 70% and 80 to 150 parts of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group. A low refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) having a refractive index of less than 1.60 (preferably 1.46 or less) which is a thin film having a film thickness of 200 nm or less and is provided with scratch resistance. Form a layer.

このほか、低屈折率層は、SiO2からなる薄膜で構成することもでき、蒸着法、スパッタリング法、もしくはプラズマCVD法等により、またはSiO2ゾルを含むゾル液からSiO2ゲル膜を形成する方法によって形成されたものであってもよい。なお、低屈折率層は、SiO2以外にも、MgF2の薄膜や、その他の素材でも構成し得るが、下層に対する密着性が高い点で、SiO2薄膜を使用することが好ましい。 In addition, the low refractive index layer also can be formed of a thin film made of SiO 2, an evaporation method, a sputtering method, or a plasma CVD method or the like, or to form a SiO 2 gel film from the sol solution containing SiO 2 sol It may be formed by a method. The low refractive index layer, in addition to SiO 2 also, the or a thin film MgF 2, but may be configured in other materials, in terms of high adhesion to the lower layer, it is preferable to use a SiO 2 thin film.

本発明の低屈折率層の好ましい態様によれば、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。
「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
According to a preferred embodiment of the low refractive index layer of the present invention, it is preferable to use “fine particles having voids”.
The “fine particles having voids” can reduce the refractive index while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. “Fine particles with voids” means a structure in which fine particles are filled with gas and / or a porous structure containing gas, and is inversely proportional to the gas occupancy in the fine particles compared to the original refractive index of the fine particles. Thus, it means a fine particle having a reduced refractive index. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state of the fine particles inside the coating film. It is.

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であり、好ましくは下限が8nm以上であり上限が100nm以下であり、より好ましくは下限が10nm以上であり上限が80nm以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、低屈折率層に優れた透明性を付与することが可能となる。   The average particle diameter of the “fine particles having voids” is 5 nm or more and 300 nm or less, preferably the lower limit is 8 nm or more and the upper limit is 100 nm or less, more preferably the lower limit is 10 nm or more and the upper limit is 80 nm or less. When the average particle diameter of the fine particles is within this range, excellent transparency can be imparted to the low refractive index layer.

(4)防汚層
本発明の好ましい態様によれば、低屈折率層の最表面の汚れ防止を目的として防汚層を設けてもよい。防汚層は、ハードコートフィルムに対して防汚性と耐擦傷性のさらなる改善を図ることが可能となる。
(4) Antifouling layer According to a preferred embodiment of the present invention, an antifouling layer may be provided for the purpose of preventing contamination on the outermost surface of the low refractive index layer. The antifouling layer can further improve the antifouling property and scratch resistance of the hard coat film.

防汚剤の具体例としては、分子中にフッ素原子を有する光硬化型樹脂組成物への相溶性が低く、低屈折率層中に添加することが困難とされるフッ素系化合物および/またはケイ素系化合物、分子中にフッ素原子を有する光硬化型樹脂組成物および微粒子に対して相溶性を有するフッ素系化合物および/またはケイ系化合物が挙げられる。   Specific examples of the antifouling agent include a fluorine-based compound and / or silicon that has low compatibility with a photocurable resin composition having a fluorine atom in the molecule and is difficult to add to the low refractive index layer. And a fluorine-based compound and / or a siliceous compound having compatibility with fine particles, a photocurable resin composition having a fluorine atom in the molecule, and fine particles.

4.用途
本発明のハードコートフィルムは、ハードコート積層体として、好ましくは反射防止積層体として利用される。また、本発明のハードコートフィルムは、透過型表示装置に利用される。特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、CRT、液晶パネル、プラズマディスプレイなどのディスプレイの表面に用いられる。
4). Use The hard coat film of the present invention is used as a hard coat laminate, preferably as an antireflection laminate. In addition, the hard coat film of the present invention is used for a transmissive display device. In particular, it is used for display displays of televisions, computers, word processors and the like. In particular, it is used on the surface of displays such as CRTs, liquid crystal panels, and plasma displays.

以下、本発明のハードコートフィルムの製造方法について説明する。
まず、上述のハードコート層の説明において挙げた透過性樹脂基材を準備する。
次に、本発明の硬化性樹脂組成物を準備する。
次に、得られた硬化性樹脂組成物を透明基材上に塗布、乾燥する。
塗布方法は、基材フィルム表面にハードコート層形成用樹脂組成物を均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の各種方法を用いることができる。
また、光透過性樹脂基材上への塗工量としては、得られるハードコートフィルムが要求される性能により異なるものであるが、乾燥後の塗工量が1g/m2〜30g/m2の範囲内、特に5g/m2〜25g/m2の範囲内であることが好ましい。
Hereinafter, the manufacturing method of the hard coat film of this invention is demonstrated.
First, the transparent resin base material mentioned in the description of the hard coat layer is prepared.
Next, the curable resin composition of the present invention is prepared.
Next, the obtained curable resin composition is applied on a transparent substrate and dried.
The coating method is not particularly limited as long as it can uniformly coat the resin composition for forming a hard coat layer on the surface of the base film, and is not limited to spin coating, dipping, spraying, and slide coating. Various methods such as a bar coating method, a roll coater method, a meniscus coater method, a flexographic printing method, a screen printing method, and a speed coater method can be used.
The coating amount on the light-transmitting resin base material varies depending on the performance required of the obtained hard coat film, but the coating amount after drying is 1 g / m 2 to 30 g / m 2. in the range of, particularly preferably in the range of 5g / m 2 ~25g / m 2 .

乾燥方法としては、例えば、減圧乾燥又は加熱乾燥、更にはこれらの乾燥を組み合わせる方法等が挙げられる。例えば、溶媒としてケトン系溶剤を用いる場合は、通常室温〜80℃、好ましくは40℃〜60℃の範囲内の温度で、20秒〜3分、好ましくは30秒〜1分程度の時間で乾燥工程が行われる。   Examples of the drying method include reduced-pressure drying or heat drying, and a method combining these drying methods. For example, when a ketone solvent is used as the solvent, it is usually dried at a temperature in the range of room temperature to 80 ° C., preferably 40 ° C. to 60 ° C., for 20 seconds to 3 minutes, preferably 30 seconds to 1 minute. A process is performed.

次に、ハードコート層形成用樹脂組成物を塗布、乾燥させた塗膜に対し、当該樹脂組成物に含まれる反応性官能基に応じて、光照射及び/又は加熱して塗膜を硬化させることにより、ハードコート層形成用樹脂組成物の硬化物からなるハードコート層が形成され、本発明のハードコートフィルムが得られる。
光照射には、主に、紫外線、可視光、電子線、電離放射線等が使用される。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、50〜5000mJ/cm2程度である。本発明においては、ハードコート層用樹脂組成物に含まれる上記必須成分の化合物(A)、化合物(B)、無機微粒子(C)の全てが反応性官能基を有し、塗膜中のほぼ全成分が架橋するため、低いエネルギーでも有効に硬化させることが可能である。例えば、エネルギー線源の照射量は、紫外線波長365nmでの積算露光量として、100〜200mJ/cm2とすることができる。その結果、短時間硬化が可能となり、生産効率を高めることが可能である。また、電子線硬化の場合には、100keV〜300keVのエネルギーを有する電子線等を使用する。
加熱する場合は、通常40℃〜120℃の温度にて処理する。また、室温(25℃)で24時間以上放置することにより反応を行っても良い。
Next, according to the reactive functional group contained in the resin composition, the coating film is cured by applying light and / or heating to the coating film on which the resin composition for forming a hard coat layer has been applied and dried. Thereby, the hard-coat layer which consists of hardened | cured material of the resin composition for hard-coat layer formation is formed, and the hard-coat film of this invention is obtained.
For light irradiation, ultraviolet rays, visible light, electron beams, ionizing radiation, etc. are mainly used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light such as an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp are used. The irradiation amount of the energy ray source is about 50 to 5000 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. In the present invention, all of the essential components (A), (B), and inorganic fine particles (C) contained in the hard coat layer resin composition have a reactive functional group, Since all components are cross-linked, it can be effectively cured even at low energy. For example, the irradiation amount of the energy ray source can be set to 100 to 200 mJ / cm 2 as an integrated exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm. As a result, curing can be performed for a short time, and production efficiency can be increased. In the case of electron beam curing, an electron beam having energy of 100 keV to 300 keV is used.
When heating, it processes at the temperature of 40 to 120 degreeC normally. Moreover, you may react by leaving it to stand for 24 hours or more at room temperature (25 degreeC).

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention. In the examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.

後述する実施例において行った評価方法は以下のとおりである。
(1)鉛筆硬度
得られたハードコートフィルムのハードコート層表面の鉛筆硬度をJISK5600−5−4(1999)に準じて評価した。4Hの鉛筆を用いて、500g荷重で5本線を引きその後のハードコート層の傷の有無を目視し下記の基準にて評価した。
<評価基準>
評価◎:傷は0〜1本であった。
評価○:傷は2〜3本であった。
評価×:傷は4〜5本であった。
The evaluation method performed in the Example mentioned later is as follows.
(1) Pencil hardness Pencil hardness of the hard coat layer surface of the obtained hard coat film was evaluated according to JISK5600-5-4 (1999). Using a 4H pencil, five lines were drawn with a load of 500 g, and the subsequent hard coat layer was visually checked for scratches and evaluated according to the following criteria.
<Evaluation criteria>
Evaluation A: The number of scratches was 0 to 1.
Evaluation ○: There were 2 to 3 scratches.
Evaluation x: There were 4 to 5 scratches.

(2)カール性試験
ハードコートフィルムを10×10cmの大きさに切り取ったシートをハードコート層を上にして平らなところに置いて、両端の浮き上がり状態を観察し、平面からの4角の浮いた高さの平均値を測定することで評価した。
<評価基準>
評価◎:30mmより少なかった。
評価○:30〜50mmであった。
評価×:50mmを超えた。
(2) Curling test A sheet obtained by cutting a hard coat film to a size of 10 × 10 cm is placed on a flat place with the hard coat layer facing upward, and the floating state of both ends is observed, and the four corners are lifted from the plane. It was evaluated by measuring the average value of the height.
<Evaluation criteria>
Evaluation A: Less than 30 mm.
Evaluation (circle): It was 30-50 mm.
Evaluation x: It exceeded 50 mm.

(3)クラック発生曲率
10×2cmの大きさに切り取ったハードコートフィルムを、ハードコート面を上にして曲率のある円柱に巻きつけ、ひび割れが発生し始める曲率直径を測定することで評価した。
<評価基準>
評価◎:10mmより少なかった。
評価○:10〜20mmであった。
評価×:20mmを超えた。
(3) Crack generation curvature The hard coat film cut to a size of 10 × 2 cm was wound around a cylinder with a curvature with the hard coat surface facing upward, and the curvature diameter at which cracking started to occur was measured.
<Evaluation criteria>
Evaluation A: Less than 10 mm.
Evaluation (circle): It was 10-20 mm.
Evaluation x: exceeded 20 mm.

(合成例1:化合物(A)−1の合成)
撹拌機、温度計、冷却管及び窒素ガス導入管を装備した反応容器に空気ガスを導入させた後、1,4−ブタンジオール(原料1)10.0重量部、p−メトキシフェノール0.05重量部、ジブチルチンジラウレート0.05重量部及びメチルエチルケトン50.0重量部を仕込み、窒素流下で50℃まで撹拌しながら昇温した。一方、滴下容器にイソホロンジイソシアネート(原料2)49.3重量部を仕込み、1時間かけて反応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を50±3℃に保った。撹拌しながら1時間保温した後、p−メトキシフェノール0.05重量部、ジブチルチンジラウレート0.05重量部を更に追加で添加し、窒素気流下で60℃まで撹拌しながら昇温した。その後、滴下容器に仕込んだ4−ヒドロキシブチルアクリレート(原料3)32.0重量部を撹拌しながら1時間かけて反応容器に均一滴下した。
滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケトン50.0重量部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容器にそのまま投入した。さらに撹拌しながら2時間保温した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクトルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75±3℃で撹拌保温を続けた。およそ4〜6時間でイソシアナート由来のピークが消失した。このピークの消失を確認後60℃まで降温し、メタノール3.5重量部を添加し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチルケトンを60.4重量部添加し、透明な樹脂溶液を得た。最後にエバポレーターを用いて溶剤を除去し、72.5重量部の化合物(A)−1を得た。
(Synthesis Example 1: Synthesis of Compound (A) -1)
After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and nitrogen gas introduction pipe, 10.0 parts by weight of 1,4-butanediol (raw material 1), p-methoxyphenol 0.05 Part by weight, 0.05 part by weight of dibutyltin dilaurate and 50.0 parts by weight of methyl ethyl ketone were charged, and the temperature was raised to 50 ° C. with stirring under a nitrogen stream. On the other hand, 49.3 parts by weight of isophorone diisocyanate (raw material 2) was charged in a dropping container and uniformly dropped into the reaction container over 1 hour. At that time, the reaction vessel temperature was kept at 50 ± 3 ° C. After keeping the temperature for 1 hour with stirring, 0.05 parts by weight of p-methoxyphenol and 0.05 parts by weight of dibutyltin dilaurate were further added, and the temperature was raised to 60 ° C. with stirring under a nitrogen stream. Thereafter, 32.0 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (raw material 3) charged in the dropping vessel was uniformly dropped into the reaction vessel over 1 hour with stirring.
After completion of the dropping, the dropping container was washed with 50.0 parts by weight of methyl ethyl ketone, and the washed solution was put into the reaction container as it was. The mixture was further kept warm for 2 hours with stirring, and then heated to 75 ° C. Thereafter, stirring and heating were continued at 75 ± 3 ° C. until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappeared. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 4 to 6 hours. After confirming the disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 3.5 parts by weight of methanol was added, and the mixture was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 60.4 parts by weight of methyl ethyl ketone was added to obtain a transparent resin solution. Finally, the solvent was removed using an evaporator to obtain 72.5 parts by weight of Compound (A) -1.

(合成例2〜4:化合物(A)−2〜4の合成)
化合物(A)−1と同様の方法で以下の原料を用い、目的の化合物を得た。

Figure 0005568832
(Synthesis Examples 2 to 4: Synthesis of Compound (A) -2 to 4)
The target compound was obtained using the following raw materials in the same manner as for compound (A) -1.
Figure 0005568832

(合成例5:化合物(A)−5の合成)
撹拌機、温度計、冷却管及び空気ガス導入管を装備した反応容器に空気ガスを導入させた後、1,6−ヘキサンジイソシアネートの三量体10.0重量部、ジブチルチンジラウレート0.05重量部及びメチルエチルケトン50.0重量部を仕込み、空気気流下で65℃まで撹拌しながら昇温した。滴下容器にペンタエリスリトールトリアクリレート21.2重量部を仕込み、3時間かけて反応容器に均一滴下した。その際、反応容器温度を65±3℃に保った。
滴下終了後、滴下容器をメチルエチルケトン50.0重量部を用いて洗浄し、洗浄後の溶液は反応容器にそのまま投入した。さらに撹拌しながら2時間保温した後、75℃に昇温した。その後、赤外吸収スペクトルのイソシアナート由来のピークが消失するまで、75±3℃で撹拌保温を続けた。およそ4〜6時間でイソシアナート由来のピークが消失した。このピークの消失を確認後60℃まで降温し、メタノール5.0重量部を添加し、60±3℃で30分保温した。その後メチルエチルケトンを50.0重量部添加し、透明な樹脂溶液を得た。最後にエバポレーターを用いて溶剤を除去し、29.3重量部の化合物(A)−5を得た。
(Synthesis Example 5: Synthesis of Compound (A) -5)
After introducing air gas into a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, cooling pipe and air gas introduction pipe, 10.0 parts by weight of 1,6-hexane diisocyanate trimer, 0.05 weight of dibutyltin dilaurate And 50.0 parts by weight of methyl ethyl ketone were charged, and the temperature was raised to 65 ° C. with stirring under an air stream. 21.2 parts by weight of pentaerythritol triacrylate was charged into the dropping container and uniformly dropped into the reaction container over 3 hours. At that time, the reaction vessel temperature was kept at 65 ± 3 ° C.
After completion of the dropping, the dropping container was washed with 50.0 parts by weight of methyl ethyl ketone, and the washed solution was put into the reaction container as it was. The mixture was further kept warm for 2 hours with stirring, and then heated to 75 ° C. Thereafter, stirring and heating were continued at 75 ± 3 ° C. until the peak derived from the isocyanate in the infrared absorption spectrum disappeared. The peak derived from the isocyanate disappeared in about 4 to 6 hours. After confirming the disappearance of this peak, the temperature was lowered to 60 ° C., 5.0 parts by weight of methanol was added, and the mixture was kept at 60 ± 3 ° C. for 30 minutes. Thereafter, 50.0 parts by weight of methyl ethyl ketone was added to obtain a transparent resin solution. Finally, the solvent was removed using an evaporator to obtain 29.3 parts by weight of Compound (A) -5.

(合成例6:化合物(A)−6の合成)
1,6−ヘキサンジイソシアネートの三量体10.0重量部の代わりに1,6−ヘキサンジイソシアネートの二量体10.0重量部を用い、ペンタエリスリトールトリアクリレートを17.7重量部用いた以外は合成例5と同様の手法で化合物(A)−6を26.7重量部を得た。
(Synthesis Example 6: Synthesis of Compound (A) -6)
Except for using 10.0 parts by weight of 1,6-hexane diisocyanate dimer instead of 10.0 parts by weight of 1,6-hexane diisocyanate trimer, and 17.7 parts by weight of pentaerythritol triacrylate. In the same manner as in Synthesis Example 5, 26.7 parts by weight of Compound (A) -6 was obtained.

(製造例1:無機微粒子(C)−1の調製)
(1)表面吸着イオン除去
粒子径90nmの水分散コロイダルシリカ(スノーテックスZL、商品名、日産化学工業(株)製、固形分濃度40重量%、pH9〜10)を陽イオン交換樹脂(ダイヤイオンSK1B、三菱化学(株)製)400gを用いて3時間イオン交換を行い、次いで、陰イオン交換樹脂(ダイヤイオンSA20A、三菱化学(株)製)200gを用いて3時間イオン交換を行った後、洗浄し固形分濃度20重量%のシリカ微粒子の水分散液を得た。
この時、シリカ微粒子の水分散液のNa2O含有量は、シリカ微粒子当たり各7ppmであった。
(Production Example 1: Preparation of inorganic fine particles (C) -1)
(1) Removal of surface adsorbed ions Water-dispersed colloidal silica having a particle diameter of 90 nm (Snowtex ZL, trade name, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., solid content concentration 40% by weight, pH 9 to 10) is exchanged with a cation exchange resin (Diaion) After performing ion exchange for 3 hours using 400 g of SK1B (Mitsubishi Chemical Corporation) and then performing ion exchange for 3 hours using 200 g of anion exchange resin (Diaion SA20A, Mitsubishi Chemical Corporation) To obtain an aqueous dispersion of silica fine particles having a solid content concentration of 20% by weight.
At this time, the Na 2 O content of the aqueous dispersion of silica fine particles was 7 ppm for each silica fine particle.

(2)表面処理(単官能モノマーの導入)
上記(1)の処理を行ったシリカ微粒子の水分散液10gに150mlのイソプロパノール、4.0gの3,6,9−トリオキサデカン酸、及び4.0gのメタクリル酸を加え、30分間撹拌し混合した。
得られた混合液を、60℃で5時間加熱しながら撹拌する事で、シリカ微粒子表面にメタクリロイル基が導入されたシリカ微粒子分散液を得た。得られたシリカ微粒子分散液をロータリーエバポレーターを用いて蒸留水、及びイゾプロパノールを留去させ、乾固させないようにメチルエチルケトンを加えながら、最終的に残留する水やイソプロパノールを0.1重量%とし、固形分50重量%のシリカ分散メチルエチルケトン溶液を得た。
このようにして得られた無機微粒子(C)−1は、日機装(株)社製Microtrac粒度分析計により測定した結果、d50=92nmの平均粒子径を有していた。また、シリカ微粒子表面を被覆する有機成分量は、熱重量分析法により測定した結果4.05×10−3g/m2であった。
(2) Surface treatment (introduction of monofunctional monomer)
150 g of isopropanol, 4.0 g of 3,6,9-trioxadecanoic acid, and 4.0 g of methacrylic acid are added to 10 g of the silica fine particle aqueous dispersion subjected to the treatment (1), and the mixture is stirred for 30 minutes. Mixed.
The obtained mixed liquid was stirred while heating at 60 ° C. for 5 hours to obtain a silica fine particle dispersion in which a methacryloyl group was introduced on the surface of the silica fine particles. Distilled water and izopropanol were distilled off from the obtained silica fine particle dispersion using a rotary evaporator, and while adding methyl ethyl ketone so as not to dry, the final remaining water and isopropanol were adjusted to 0.1% by weight, A silica-dispersed methyl ethyl ketone solution having a solid content of 50% by weight was obtained.
The inorganic fine particles (C) -1 thus obtained had an average particle diameter of d50 = 92 nm as a result of measurement with a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. Further, the amount of the organic component covering the surface of the silica fine particles was 4.05 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

(製造例2:無機微粒子(C)−2の調製)
(1)表面吸着イオン除去
製造例1と同様に、表面吸着イオンを除去したシリカ微粒子の水分散液を得た。
(2)表面処理(多官能モノマーの導入)
製造例1におけるメタクリル酸を、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR399、商品名、サートマー(株)製)に変更した以外は製造例1と同様の手法で表面処理を行った。
このようにして得られた無機微粒子(C)−2は、上記粒度分析計により測定した結果、d50=93nmの平均粒子径を有していた。また、シリカ表面を被覆する有機成分量は熱重量分析法により測定した結果3.84×10−3g/m2であった。
(Production Example 2: Preparation of inorganic fine particles (C) -2)
(1) Surface Adsorbed Ion Removal As in Production Example 1, an aqueous dispersion of silica fine particles from which surface adsorbed ions were removed was obtained.
(2) Surface treatment (introduction of polyfunctional monomer)
Surface treatment was performed in the same manner as in Production Example 1 except that methacrylic acid in Production Example 1 was changed to dipentaerythritol pentaacrylate (SR399, trade name, manufactured by Sartomer Co., Ltd.).
The inorganic fine particles (C) -2 thus obtained had an average particle diameter of d50 = 93 nm as a result of measurement by the particle size analyzer. The amount of the organic component covering the silica surface was 3.84 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

(製造例3:無機微粒子(C)−3の調製)
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン7.8部、ジブチルスズジラウレート0.2部からなる溶液に対し、イソフォロンジイソシアネート20.6部を撹拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間撹拌した。これにペンタエリスリトールトリアクリレート71.4部を30℃で1時間かけて滴下後、60℃で3時間加熱撹拌することで化合物(1)を得た。
(Production Example 3: Preparation of inorganic fine particles (C) -3)
To a solution consisting of 7.8 parts of mercaptopropyltrimethoxysilane and 0.2 part of dibutyltin dilaurate in dry air, 20.6 parts of isophorone diisocyanate was added dropwise at 50 ° C. over 1 hour with stirring, then at 60 ° C. Stir for 3 hours. To this, 71.4 parts of pentaerythritol triacrylate was added dropwise at 30 ° C. over 1 hour, and then heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours to obtain Compound (1).

窒素気流下、メタノールシリカゾル(日産化学工業(株)製、商品名、メタノール溶剤コロイダルシリカ分散液(数平均粒子径0.012μm、シリカ濃度30%))88.5部(固形分26.6部)、上記で合成した化合物(1)8.5部、p−メトキシフェノール0.01部の混合液を、60℃、4時間撹拌した。続いて、この混合溶液に化合物(2)としてメチルトリメトキシシラン3部を添加し、60℃、1時間撹拌した後、オルト蟻酸メチルエステル9部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱撹拌することで架橋性無機微粒子を得た。このようにして得られた無機微粒子(C)−3は、上記粒度分析計により測定した結果、d50=63nmの平均粒子径を有していた。また、表面を被覆する有機成分量は熱重量分析法により測定した結果7.08×10−3g/m2であった。 Under nitrogen flow, methanol silica sol (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name, methanol solvent colloidal silica dispersion (number average particle size 0.012 μm, silica concentration 30%)) 88.5 parts (solid content 26.6 parts) ), 8.5 parts of the compound (1) synthesized above and 0.01 part of p-methoxyphenol were stirred at 60 ° C. for 4 hours. Subsequently, 3 parts of methyltrimethoxysilane as compound (2) is added to this mixed solution, and after stirring for 1 hour at 60 ° C., 9 parts of methyl orthoformate is added, and further heated and stirred at the same temperature for 1 hour. Thus, crosslinkable inorganic fine particles were obtained. The inorganic fine particles (C) -3 thus obtained had an average particle diameter of d50 = 63 nm as a result of measurement by the particle size analyzer. The amount of the organic component covering the surface was 7.08 × 10 −3 g / m 2 as a result of measurement by thermogravimetric analysis.

参考例1]
(1)硬化性樹脂組成物の調製
以下の各成分を混合し、溶剤で固形分50重量%に調整し、硬化性樹脂組成物を調製した。
<硬化性樹脂組成物の組成>
・KRM7804(商品名、ダイセル・サイテック製;上記化合物(A)に該当、9官能、分子量3,000):20重量部(固形分量換算値)
・UV1700B(商品名、日本合成化学製;上記化合物(B)に該当、10官能、分子量2,000):50重量部(固形分量換算値)
・製造例1の無機微粒子(C)−1:30重量部(固形分量換算値)
・メチルエチルケトン:100重量部
・イルガキュア184(商品名、チバスペシャルティケミカルズ製、ラジカル重合開始剤):0.4重量部
[ Reference Example 1]
(1) Preparation of curable resin composition The following components were mixed and adjusted to a solid content of 50% by weight with a solvent to prepare a curable resin composition.
<Composition of curable resin composition>
-KRM7804 (trade name, manufactured by Daicel-Cytec; corresponding to the above compound (A), 9 functional, molecular weight 3,000): 20 parts by weight (in terms of solid content)
UV1700B (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical; corresponding to the above compound (B), 10 functional, molecular weight 2,000): 50 parts by weight (in terms of solid content)
-Inorganic fine particles (C) -1 in Production Example 1: 30 parts by weight (in terms of solid content)
・ Methyl ethyl ketone: 100 parts by weight ・ Irgacure 184 (trade name, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, radical polymerization initiator): 0.4 parts by weight

(2)ハードコートフィルムの作製
光透過性樹脂基材として80μmセルローストリアセテートフィルムを用い、当該基材上に、(1)で調製された硬化性樹脂組成物をWET重量40g/m2(乾燥重量20g/m2)を塗布した。50℃にて30秒乾燥し、紫外線200mJ/cm2を照射して参考例1のハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
(2) Production of Hard Coat Film Using a 80 μm cellulose triacetate film as the light-transmitting resin base material, the curable resin composition prepared in (1) was placed on the base material with a WET weight of 40 g / m 2 (dry weight). 20 g / m 2 ) was applied. The hard coat film of Reference Example 1 was prepared by drying at 50 ° C. for 30 seconds and irradiating with ultraviolet rays of 200 mJ / cm 2 . Table 1 also shows the evaluation results.

参考例2]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)としてKRM8321(商品名、ダイセル・サイテック製;9官能、分子量3,000)を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[ Reference Example 2]
In the curable resin composition of Reference Example 1, instead of 20 parts by weight of KRM7804, 20 parts by weight of KRM8321 (trade name, manufactured by Daicel Cytec; 9-functional, molecular weight 3,000) was used as the compound (A). Except for the above, a curable resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 1.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

参考例3]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)としてHMP−2M(商品名、根上工業製;9官能、分子量8400)を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[ Reference Example 3]
In the curable resin composition of Reference Example 1, instead of 20 parts by weight of KRM7804, 20 parts by weight of HMP-2M (trade name, manufactured by Negami Kogyo; 9 functional, molecular weight 8400) was used as the compound (A). In the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition was prepared.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

参考例4]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)−1を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[ Reference Example 4]
Preparation In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, compound (A) -1, except for using 20 parts by weight, in the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition did.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

参考例5]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)−2を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[ Reference Example 5]
Preparation In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, compound (A) -2 except for using 20 parts by weight, in the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition did.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[実施例
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)−3を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Example 1 ]
Preparation In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, compound (A) -3, except for using 20 parts by weight, in the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition did.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[実施例
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)−4を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Example 2 ]
Preparation In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, compound (A) -4, except for using 20 parts by weight, in the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition did.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[実施例
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)−5を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Example 3 ]
Preparation In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, compound (A) -5 Except for using 20 parts by weight, in the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition did.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[実施例
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、化合物(A)−6を20重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Example 4 ]
Preparation In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, compound (A) -6, except for using 20 parts by weight, in the same manner as in Reference Example 1, a curable resin composition did.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

参考6〜10
さらに、上記硬化性樹脂組成物において、化合物(A)、化合物(B)、無機微粒子(C)の各成分を、表1の参考6〜10に記載のものとして、参考例2と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果を示す。
[ Reference Examples 6 to 10 ]
Furthermore, in the said curable resin composition, each component of a compound (A), a compound (B), and an inorganic fine particle (C) is made into the thing of the reference examples 6-10 of Table 1, and is the same as that of the reference example 2. A curable resin composition was prepared.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 shows the evaluation results.

[比較例1]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物におけるKRM7804(上記化合物(A))を用いず、UV1700−Bを70重量部とした以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Comparative Example 1]
A curable resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except that KRM7804 (the above compound (A)) in the curable resin composition of Reference Example 1 was not used and UV1700-B was 70 parts by weight. .
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[比較例2]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、式(1)で示される化合物でAは炭素原子数が6の鎖状構造であるUN−904(商品名、根上工業製;10官能、分子量5,000)を20重量部とした以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Comparative Example 2]
In the curable resin composition of Reference Example 1, instead of 20 parts by weight of KRM7804, the compound represented by the formula (1) and A is a chain structure having 6 carbon atoms, UN-904 (trade name, A curable resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except that Negami Industries, Ltd .; 10 functional, molecular weight 5,000) was 20 parts by weight.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[比較例3]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、KRM7804を20重量部の代わりに、式(1)で示される化合物でAが環状構造であるUV−7605B(商品名、日本合成製;6官能、分子量1200)を20重量部とした以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。
[Comparative Example 3]
In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 20 parts by weight of KRM7804, UV-7605B (trade name, manufactured by Nihon Gosei; hexafunctional, which is a compound represented by the formula (1) and A is a cyclic structure, A curable resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except that the molecular weight 1200) was 20 parts by weight.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.

[比較例4]
前記参考例1の硬化性樹脂組成物において、製造例1の無機微粒子(C)−1を固形分換算で30重量部用いた代わりに、未処理のシリカ微粒子(スノーテックスYL、商品名、日産化学工業(株)製、固形分濃度30重量%)を固形分換算で30重量部用いた以外は、参考例1と同様に、硬化性樹脂組成物を調製した。
また、参考例1と同様に、ハードコートフィルムを作製した。表1に、上記評価結果についても併せて示す。

Figure 0005568832
[Comparative Example 4]
In the curable resin composition of Reference Example 1, in place of 30 parts by weight of inorganic fine particles (C) -1 of Production Example 1 in terms of solid content, untreated silica fine particles (Snowtex YL, trade name, Nissan A curable resin composition was prepared in the same manner as in Reference Example 1 except that 30 parts by weight in terms of solid content was used.
Moreover, the hard coat film was produced similarly to the reference example 1. Table 1 also shows the evaluation results.
Figure 0005568832

本発明に係るハードコートフィルムの基本的な層構成を示す図である。It is a figure which shows the basic layer structure of the hard coat film which concerns on this invention. 本発明に係るハードコートフィルムの他の基本的な層構成を示す図である。It is a figure which shows the other basic layer structure of the hard coat film which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 光透過性樹脂基材
2 ハードコート層
3 低屈折率層
1 light transmissive resin base material 2 hard coat layer 3 low refractive index layer

Claims (8)

(A)以下の(1)〜(4)のいずれかの化合物、
(1)ペンタエリスリトールトリアクリレートと1,4−ブタンジオールとイソホロンジイソシアネートとから合成した、末端に2つ以上の反応性官能基を有する重量平均分子量が3,000以上の化合物
(2)ペンタエリスリトールトリアクリレートと1,4−ブタンジオールとキシリレンジイソシアネートとから合成した、末端に2つ以上の反応性官能基を有する重量平均分子量が3,000以上の化合物
(3)ペンタエリスリトールトリアクリレートと1,6−ヘキサンジイソシアネートの二量体とから合成した、末端に2つ以上の反応性官能基を有する化合物
(4)ペンタエリスリトールトリアクリレートと1,6−ヘキサンジイソシアネートの三量体とから合成した、末端に2つ以上の反応性官能基を有する化合物
(B)上記成分(A)の化合物を除くウレタン(メタ)アクリレート、または、エポキシ(メタ)アクリレートから選択した、2つ以上の反応性官能基を有する重量平均分子量が10,000未満の化合物、及び、
(C)少なくとも表面の一部に有機成分が被覆され、当該有機成分により導入された(メタ)アクリロイル基を表面に有する無機微粒子、
からなる硬化性樹脂組成物。
(A) below (1) to either of compound (4),
(1) was synthesized from pentaerythritol triacrylate and 1,4-butane diol and isophorone diisocyanate Natick DOO, weight average molecular weight of 3,000 or more compounds having two or more reactive functional groups at the ends (2) was synthesized from pentaerythritol triacrylate 1,4-butanediol and a xylylene diisocyanate Natick DOO, weight average molecular weight having two or more reactive functional groups at the ends 3,000 or more compounds (3) pentaerythritol acrylate and were synthesized from a dimer of 1,6-hexane diisocyanate, a compound having two or more reactive functional groups at the ends (4) and the trimer of pentaerythritol triacrylate and 1,6-hexane diisocyanate synthesized, compounds having two or more reactive functional groups at the ends (B) above ingredients Urethane (meth) acrylates with the exception of compounds of A), or selected from epoxy (meth) acrylate compound weight average molecular weight of less than 10,000 with more than one reactive functional group, and,
(C) Inorganic fine particles having a (meth) acryloyl group introduced on the surface thereof, the organic component being coated on at least a part of the surface,
A curable resin composition comprising:
前記化合物(A)の含有量が、前記化合物(B)100重量部に対して5〜100重量部であり、且つ、前記無機微粒子(C)の含有量が前記化合物(A)と前記化合物(B)の合計量100重量部に対して10〜60重量部である、請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。   The content of the compound (A) is 5 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (B), and the content of the inorganic fine particles (C) is the compound (A) and the compound ( The curable resin composition of Claim 1 which is 10-60 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of B). 前記無機微粒子(C)の平均粒子径が20〜500nmである、請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein the inorganic fine particles (C) have an average particle size of 20 to 500 nm. 前記無機微粒子(C)を被覆している前記有機成分が、被覆前の無機微粒子の単位面積当たり1.00×10-3g/m2以上含まれる、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物。 The organic component that coats the inorganic fine particles (C) is contained in an amount of 1.00 × 10 −3 g / m 2 or more per unit area of the inorganic fine particles before coating. The curable resin composition described in 1. 基材の少なくとも片面に、ハードコート層を有するハードコートフィルムであって、ハードコート層形成材料が、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の硬化性樹脂組成物からなり、前記化合物(A)、前記化合物(B)、及び前記無機微粒子(C)を、互いに反応させることを特徴とするハードコートフィルム。   A hard coat film having a hard coat layer on at least one surface of a substrate, wherein the hard coat layer forming material comprises the curable resin composition according to any one of claims 1 to 4, and the compound ( A hard coat film, wherein A), the compound (B), and the inorganic fine particles (C) are reacted with each other. 前記基材が、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、アクリレート系ポリマー、又はポリエステルを主体とする、請求項5に記載のハードコートフィルム。   The hard coat film according to claim 5, wherein the substrate is mainly composed of cellulose acylate, cycloolefin polymer, acrylate polymer, or polyester. 光学素子の面に、請求項5または6に記載のハードコートフィルムを有する光学素子。   An optical element having the hard coat film according to claim 5 or 6 on a surface of the optical element. 請求項5または6に記載のハードコートフィルムを有する画像表示装置。   An image display device comprising the hard coat film according to claim 5.
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