JP5567458B2 - Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same - Google Patents

Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same Download PDF

Info

Publication number
JP5567458B2
JP5567458B2 JP2010264253A JP2010264253A JP5567458B2 JP 5567458 B2 JP5567458 B2 JP 5567458B2 JP 2010264253 A JP2010264253 A JP 2010264253A JP 2010264253 A JP2010264253 A JP 2010264253A JP 5567458 B2 JP5567458 B2 JP 5567458B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
particles
polymer particles
polymer
dent
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010264253A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012111908A (en
Inventor
和明 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Shokubai Co Ltd
Original Assignee
Nippon Shokubai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Shokubai Co Ltd filed Critical Nippon Shokubai Co Ltd
Priority to JP2010264253A priority Critical patent/JP5567458B2/en
Publication of JP2012111908A publication Critical patent/JP2012111908A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5567458B2 publication Critical patent/JP5567458B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、粒子表面に所定形状を有する1つの凹みが形成された重合体粒子に関するものである。   The present invention relates to polymer particles in which one recess having a predetermined shape is formed on the particle surface.

従来、特異な機械的特性、光学的特性を有する粒子として、球形粒子表面に凹凸を形成した粒子、碁石状粒子、凸レンズ状粒子、扁平状粒子等が提案されている。
このような表面に凹凸を有する球形粒子を製造する方法として、例えば、極性溶媒中に、極性溶媒と相溶しない非極性溶剤滴及び高分子微粒子を分散させる第1工程と、分散液を撹拌することにより高分子微粒子表面に窪みを形成する工程とを含む異形高分子微粒子の製造方法(特許文献1参照);架橋剤の不存在下で、重合性ビニルモノマーにこの重合性ビニルモノマーと共重合性を有さず、所定粘度を有する疎水性のフッ素系液状有機化合物を混合溶解し、水系懸濁重合することにより、粒子表面に椀状の窪みを有し、所定形状を有する球状樹脂粒子を得る製造方法(特許文献2参照);架橋剤の不存在下で、重合性ビニルモノマーにこの重合性ビニルモノマーと共重合性を有さず、所定粘度を有する疎水性の液状化合物としてのポリシロキサン又は炭化水素を混合溶解し、水系懸濁重合することにより、粒子表面に椀状の窪みを有し、所定形状を有する球状樹脂粒子を得る製造方法(特許文献3(請求項6)参照);等が提案されている。
Conventionally, as particles having unique mechanical properties and optical properties, particles having irregularities formed on the surface of spherical particles, meteorite particles, convex lens particles, flat particles, and the like have been proposed.
As a method for producing spherical particles having irregularities on the surface, for example, a first step of dispersing nonpolar solvent droplets and polymer fine particles incompatible with a polar solvent in a polar solvent, and stirring the dispersion liquid And forming a depression on the surface of the polymer fine particle (see Patent Document 1); in the absence of a crosslinking agent, the polymerizable vinyl monomer is copolymerized with the polymerizable vinyl monomer. A spherical fluorine-containing resin particle having a predetermined shape is obtained by mixing and dissolving a hydrophobic fluorine-based liquid organic compound having a predetermined viscosity and subjecting it to aqueous suspension polymerization. Production method (see Patent Document 2): In the absence of a crosslinking agent, the polymerizable vinyl monomer does not have a copolymerizability with the polymerizable vinyl monomer and has a predetermined viscosity as a hydrophobic liquid compound. A production method for obtaining spherical resin particles having a predetermined shape having a bowl-shaped depression on the particle surface by mixing and dissolving xylene or hydrocarbons and subjecting to aqueous suspension polymerization (see Patent Document 3 (Claim 6)) ; Etc. have been proposed.

また、碁石状等の異形粒子を製造する方法として、例えば、重合性単官能ビニルモノマーと重合性多官能ビニルモノマーとを、両ビニルモノマーと共重合しない疎水性の液状媒体とリン酸エステルとの存在下で水系懸濁重合させた後、水及び疎水性の液状媒体を除去して異形状樹脂粒子を得る異形状樹脂粒子の製造方法(特許文献4参照);ビニル系重合体粒子からなる種粒子の存在下に、(メタ)アクリル酸エステル系単量体、架橋性ビニル系単量体を含む単量体混合物を、水溶性重合開始剤を用いて、水性媒体中で乳化重合させる偏平状異形微粒子の製造方法(特許文献5参照);無機化合物微粒子を粘度10cps以下のスラリーとし、それを噴霧造粒した後焼成する実質的に尖端を有しない形状からなる異形微粒子の製法(特許文献6参照);等が提案されている。   In addition, as a method for producing irregularly shaped particles such as meteorite, for example, a polymerizable monofunctional vinyl monomer and a polymerizable polyfunctional vinyl monomer are mixed with a hydrophobic liquid medium that does not copolymerize with both vinyl monomers and a phosphate ester. A method for producing irregularly shaped resin particles obtained by carrying out aqueous suspension polymerization in the presence and then removing water and a hydrophobic liquid medium to obtain irregularly shaped resin particles (see Patent Document 4); seeds comprising vinyl polymer particles A flat form in which a monomer mixture containing a (meth) acrylic acid ester monomer and a crosslinkable vinyl monomer is emulsion-polymerized in an aqueous medium using a water-soluble polymerization initiator in the presence of particles. Method for producing irregularly shaped fine particles (see Patent Document 5); making inorganic compound fine particles into a slurry having a viscosity of 10 cps or less, and spray-granulating them, followed by firing; See); and the like have been proposed.

特開2007−217616号公報JP 2007-217616 A 特開2002−088102号公報JP 2002-088102 A 特開2002−003517号公報JP 2002-003517 A 特開2004−027008号公報JP 2004-027008 A 特開平11−181037号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-181037 特開昭62−096537号公報JP-A-62-096537

従来、重合体粒子の外形が、該重合体粒子の機械的特性、光学的特性等に影響を与えることが知られている。しかしながら、特異な表面形状を有する重合体粒子は、提案されている数が少なく、未だ検討の余地があった。そこで、本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、従来にない、新たな外形を有する重合体粒子を提供することを目的とする。
特に、本発明では、粒子表面に形成された凹みの形状を制御することにより、圧縮荷重に対して特異な変形挙動を示し、導電性微粒子の基材粒子として用いた際に、低圧接続においても低い電気抵抗値を達成し得る重合体粒子を提供することを目的とする。
Conventionally, it is known that the outer shape of polymer particles affects the mechanical properties, optical properties, and the like of the polymer particles. However, the number of polymer particles having a specific surface shape has not been proposed, and there is still room for investigation. Then, this invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing the polymer particle which has a new external shape which is not in the past.
In particular, in the present invention, by controlling the shape of the dent formed on the particle surface, it exhibits a unique deformation behavior with respect to the compressive load, and even when used as a base particle for conductive fine particles, even in a low-pressure connection. An object of the present invention is to provide polymer particles capable of achieving a low electric resistance value.

本発明者らは、新たな表面形状を有する重合体粒子を提供すべく、シード重合法によって得られる重合体粒子について詳細に検討した結果、極めて特異な条件で重合を行うことにより、従来にない、新たな外形を有する重合体粒子が得られることを見出し、本発明を完成した。   As a result of examining the polymer particles obtained by the seed polymerization method in detail in order to provide polymer particles having a new surface shape, the present inventors have found that by performing polymerization under extremely specific conditions, it has never been achieved before. The present inventors have found that polymer particles having a new external shape can be obtained and completed the present invention.

上記課題を解決することができた本発明の重合体粒子は、球に下記(a)〜(d)を満足する凹みが1つ形成された外形を有し、その体積が元の球の半分以上であることを特徴とする。(a)凹みの外周形状が多角形である。(b)凹みの長径(L1)と粒子径(D)との比(L1/D)が0.3以上1.0未満である。(c)凹みの短径(L2)と粒子径(D)との比(L2/D)が0.05以上1.0未満である。(d)長径(L1)と短径(L2)との比(L2/L1)が1.0未満である。   The polymer particle of the present invention that has solved the above problems has an outer shape in which one dent satisfying the following (a) to (d) is formed in a sphere, and its volume is half that of the original sphere. It is the above. (A) The outer peripheral shape of the dent is a polygon. (B) The ratio (L1 / D) of the major axis (L1) of the dent to the particle diameter (D) is 0.3 or more and less than 1.0. (C) The ratio (L2 / D) of the minor axis (L2) of the dent to the particle diameter (D) is 0.05 or more and less than 1.0. (D) The ratio (L2 / L1) of the major axis (L1) to the minor axis (L2) is less than 1.0.

重合体粒子を形成するための全単量体成分中、架橋性単量体の含有量は5質量%以上が好ましい。重合体粒子の個数平均粒子径は0.5μm〜50μmが好ましく、粒子径の変動係数は40%以下が好ましい。前記凹みの深さ(H)と粒子径(D)との比(H/D)は0.5以下であることが好ましい。また、重合体粒子表面における凹みの面積は、重合体微粒子が凹みを有していないと仮定した場合の全表面積の25%以下であることが好ましい。   In all monomer components for forming polymer particles, the content of the crosslinkable monomer is preferably 5% by mass or more. The number average particle diameter of the polymer particles is preferably 0.5 μm to 50 μm, and the coefficient of variation of the particle diameter is preferably 40% or less. The ratio (H / D) between the depth (H) of the dent and the particle diameter (D) is preferably 0.5 or less. Moreover, it is preferable that the area of the dent in the polymer particle surface is 25% or less of the total surface area when it is assumed that the polymer fine particles have no dent.

本発明には、前記重合体粒子表面に導電性金属層を有する導電性微粒子、及び該導電性微粒子を含有する異方性導電材料も含まれる。   The present invention also includes conductive fine particles having a conductive metal layer on the surface of the polymer particles, and an anisotropic conductive material containing the conductive fine particles.

本発明の重合体粒子は、粒子表面に所定の形状を有する凹みが形成された外形を有するため、従来の重合体粒子とは異なる機械的特定、光学的特性等を示す。特に、本発明の重合体粒子は、粒子表面に所定の形状を有する凹みが形成されていることにより、圧縮荷重に対して特異な変形挙動、具体的には、低圧でも大きな変形を示し、所謂、低圧変形性に優れる。よって、該重合体粒子を導電性微粒子の基材粒子として用いることで、低圧接続においても低い電気抵抗値を達成しうる導電性微粒子が得られる。   Since the polymer particle of the present invention has an outer shape in which a dent having a predetermined shape is formed on the particle surface, it exhibits mechanical identification, optical characteristics, and the like that are different from those of conventional polymer particles. In particular, the polymer particles of the present invention exhibit a specific deformation behavior with respect to a compressive load, specifically, a large deformation even at a low pressure due to the formation of a dent having a predetermined shape on the particle surface. Excellent low-pressure deformability. Therefore, by using the polymer particles as base particles of conductive fine particles, conductive fine particles that can achieve a low electric resistance value even in low-pressure connection can be obtained.

重合体粒子の凹みについて説明する図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の矢視A−A線断面図である。It is a figure explaining the dent of a polymer particle, (a) is a top view, (b) is the arrow AA sectional view taken on the line of (a). 製造例1で得られた重合体粒子のSEM画像である。2 is an SEM image of polymer particles obtained in Production Example 1. 製造例1で得られた重合体粒子の凹みの長径等の測定に用いたSEM画像である。3 is an SEM image used for measuring the major axis of the dent of the polymer particles obtained in Production Example 1. 製造例1で得られた重合体粒子の断面のFE−SEM像である。3 is an FE-SEM image of a cross section of the polymer particles obtained in Production Example 1. FIG. 製造例1で得られた重合体粒子と製造例2で得られた重合体粒子の圧縮変形挙動を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing compression deformation behavior of polymer particles obtained in Production Example 1 and polymer particles obtained in Production Example 2.

1.重合体粒子
本発明の重合体粒子は、球に所定の要件を満足する凹みが1つ形成された外形を有し、その体積が元の球の半分以上であることを特徴とする。球に所定形状の凹みを有することで、低い圧縮荷重でも、多角形の頂点部分を基点として変形し得る。また、重合体粒子の体積が元の球の半分以上であるため、通常の中実粒子と同様に反発力を残している。よって、本発明の重合体粒子を導電性微粒子の基材粒子として用いれば、加圧接続時において、低い加圧力でも粒子が容易に変形して電極間を電気的に接続することができる。なお、粒子の反発力の観点からは、重合体粒子の半球部分が中実であることが好ましい。すなわち、重合体粒子を元の球の中心を通る平面で分割したとき、一方の半球に所定形状の凹みを1つ有し、他方の半球が所定形状の凹みを有さず且つ中実であることが好ましい。また、本発明の重合体粒子は従来にない外形を有するため、光学部材として用いれば新たな光散乱性能を発揮する。
1. Polymer Particles The polymer particles of the present invention are characterized in that the sphere has an outer shape in which one dent satisfying a predetermined requirement is formed, and the volume thereof is more than half of the original sphere. By having a dent of a predetermined shape in the sphere, it can be deformed with the apex portion of the polygon as a base point even with a low compressive load. Further, since the volume of the polymer particles is more than half of the original sphere, repulsive force remains as in the case of normal solid particles. Therefore, when the polymer particles of the present invention are used as the base particles of conductive fine particles, the particles can be easily deformed and electrically connected between the electrodes even at a low applied pressure during pressure connection. From the viewpoint of the repulsive force of the particles, the hemispherical portion of the polymer particles is preferably solid. That is, when the polymer particles are divided by a plane passing through the center of the original sphere, one hemisphere has one dent of a predetermined shape, and the other hemisphere does not have a dent of a predetermined shape and is solid. It is preferable. Moreover, since the polymer particles of the present invention have an unprecedented outer shape, they exhibit new light scattering performance when used as an optical member.

なお、本発明において「凹み」とは、粒子表面が割れることにより形成される亀裂や、粒子表面が欠けることにより形成される欠損箇所のように、重合体が破断することにより形成されるものとは異なるものである。すなわち本発明における「凹み」とは、重合体粒子を製造する工程において、粒子表面が粒子内方へと引っ張られることにより形成される凹部であり、その表面は滑らかなものである。例えば、粒子が破断する時には対向する破断面同士が相補的形状を有しており、向かい合わせると破断面の凹凸曲線が重なるが、本発明の凹みにはこのような相補性の面が存在しない。   In the present invention, the “dent” means that the polymer is ruptured, such as a crack formed by cracking the particle surface or a defect formed by chipping the particle surface. Are different. That is, the “dent” in the present invention is a recess formed by pulling the particle surface inward in the process of producing polymer particles, and the surface is smooth. For example, when the particle breaks, the opposing fracture surfaces have complementary shapes, and when facing each other, the concave and convex curves of the fracture surface overlap, but there is no such complementary surface in the recess of the present invention. .

ここで、図1を参照して、凹みの長径、短径等について説明する。図1は、重合体粒子の凹みについて説明する図であり、(a)は平面図、(b)は(a)の矢視A−A線断面図である。粒子径Dとは、重合体粒子1の直径である。凹みの長径L1とは、凹み2を正面視した場合において、凹みの最も長い部分の長さである。凹みの短径L2とは、凹み2を正面視した場合において、前記長径L1の方向に対して直交する方向において、凹みの最も長い部分の長さである。凹みの深さHとは、重合体粒子の断面において、凹みの起点S1とS2とを結ぶ直線B上から、凹みの底部へと垂線を下ろしたとき、最も長い垂線の長さである。   Here, with reference to FIG. 1, the major axis, minor axis, etc. of the dent will be described. 1A and 1B are diagrams for explaining a dent of polymer particles, in which FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. The particle diameter D is the diameter of the polymer particle 1. The major axis L1 of the dent is the length of the longest part of the dent when the dent 2 is viewed from the front. The minor axis L2 of the dent is the length of the longest part of the dent in the direction orthogonal to the direction of the major axis L1 when the dent 2 is viewed from the front. The depth H of the dent is the length of the longest perpendicular when the perpendicular is drawn from the straight line B connecting the dent starting points S1 and S2 to the bottom of the dent in the cross section of the polymer particle.

前記凹みの正面視の外周形状は多角形である。凹みの外周形状が多角形であれば、重合体粒子に圧縮荷重を負荷した際に、多角形の頂点部分が基点となり凹みを折りたたむ様に変形し易くなり、低い圧力でも容易に変形することができる。よって、重合体粒子を基材粒子として用いた導電性微粒子は、低い加圧圧力でも接続が可能となる。前記多角形としては、凸多角形、凹多角形でもよいが、凸多角形が好ましい。なお、多角形を構成する各辺は直線でも、曲線でもよい。   The outer peripheral shape of the dent in a front view is a polygon. If the outer peripheral shape of the dent is a polygon, when a compressive load is applied to the polymer particles, it becomes easy to deform so that the vertex of the polygon becomes the base point and the dent is folded, and it can be easily deformed even at low pressure. it can. Therefore, the conductive fine particles using the polymer particles as the base particles can be connected even at a low pressure. The polygon may be a convex polygon or a concave polygon, but is preferably a convex polygon. Each side constituting the polygon may be a straight line or a curved line.

前記凹みの長径(L1)と、粒子径(D)との比(L1/D)は0.3以上1.0未満である。前記比(L1/D)が0.3以上であれば、低い圧力で粒子を十分に変形できる。前記比(L1/D)は0.4以上が好ましく、より好ましくは0.5以上であり、0.9以下が好ましく、より好ましくは0.8以下、さらに好ましくは0.7以下である。前記比(L1/D)が0.9以下であれば、凹みが大きくなりすぎず、重合体粒子が破断しにくくなる。   The ratio (L1 / D) of the major axis (L1) of the dent to the particle diameter (D) is 0.3 or more and less than 1.0. If the ratio (L1 / D) is 0.3 or more, the particles can be sufficiently deformed at a low pressure. The ratio (L1 / D) is preferably 0.4 or more, more preferably 0.5 or more, preferably 0.9 or less, more preferably 0.8 or less, and still more preferably 0.7 or less. When the ratio (L1 / D) is 0.9 or less, the dent does not become too large and the polymer particles are difficult to break.

前記凹みの短径(L2)と、粒子径(D)との比(L2/D)は0.05以上1.0未満である。前記比(L2/D)が0.05以上であれば、低い圧力で粒子を十分に変形できる。前記比(L2/D)は0.1以上が好ましく、より好ましくは0.2以上であり、0.5以下が好ましく、より好ましくは0.4以下である。前記比(L2/D)が0.5以下であれば、凹みが大きくなりすぎず、重合体粒子が破断しにくくなる。   The ratio (L2 / D) between the minor diameter (L2) of the dent and the particle diameter (D) is 0.05 or more and less than 1.0. If the ratio (L2 / D) is 0.05 or more, the particles can be sufficiently deformed at a low pressure. The ratio (L2 / D) is preferably 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, preferably 0.5 or less, and more preferably 0.4 or less. When the ratio (L2 / D) is 0.5 or less, the dent does not become too large, and the polymer particles are difficult to break.

前記凹みの長径(L1)と短径(L2)との比(L2/L1)は1.0未満である。前記比(L2/L1)が1.0では、凹みの形状が等方性に近くなり、重合体粒子が低い圧力で変形し難くなる。前記比(L2/L1)は0.1以上が好ましく、より好ましくは0.2以上であり、0.9以下が好ましく、より好ましくは0.8以下である。前記比(L2/L1)が0.1以上であれば、凹みの面積が大きくなり、低い圧力でも容易により変形することができ、0.9以下であれば、凹みの形状がより非等方性となり、重合体粒子がより低い圧力で変形できるようになる。   The ratio (L2 / L1) of the major axis (L1) to the minor axis (L2) of the recess is less than 1.0. When the ratio (L2 / L1) is 1.0, the shape of the recess is close to isotropic, and the polymer particles are hardly deformed at a low pressure. The ratio (L2 / L1) is preferably 0.1 or more, more preferably 0.2 or more, preferably 0.9 or less, more preferably 0.8 or less. If the ratio (L2 / L1) is 0.1 or more, the area of the dent becomes large and can be easily deformed even at a low pressure, and if it is 0.9 or less, the shape of the dent is more anisotropic. And the polymer particles can be deformed at a lower pressure.

前記凹みの深さ(H)と粒子径(D)との比(H/D)は0.05以上が好ましく、より好ましくは0.07以上、さらに好ましくは0.1以上であり、0.5以下が好ましく、より好ましくは0.4以下、さらに好ましくは0.3以下である。前記比(H/D)が0.05以上であれば、低い圧力でも容易により変形することができ、0.5以下であれば凹みが大きくなりすぎず、重合体粒子が破断しにくくなる。   The ratio (H / D) of the depth (H) of the dent to the particle diameter (D) is preferably 0.05 or more, more preferably 0.07 or more, still more preferably 0.1 or more. 5 or less is preferable, more preferably 0.4 or less, and still more preferably 0.3 or less. If the ratio (H / D) is 0.05 or more, it can be easily deformed even at a low pressure. If the ratio (H / D) is 0.5 or less, the dent does not become too large and the polymer particles are difficult to break.

重合体粒子表面における凹みの面積は、元の球の全表面積の1%以上が好ましく、より好ましくは3%以上、さらに好ましくは5%以上であり、25%以下が好ましく、より好ましくは20%以下、さらに好ましくは15%以下である。凹みの面積が1%以上であれば、凹みの面積が大きくなり、低い圧力でも容易により変形することができ、25%以下であれば、凹みが大きくなりすぎず、重合体粒子が破断しにくくなる。   The area of the dents on the surface of the polymer particles is preferably 1% or more of the total surface area of the original sphere, more preferably 3% or more, still more preferably 5% or more, preferably 25% or less, more preferably 20%. Hereinafter, it is more preferably 15% or less. If the area of the dent is 1% or more, the area of the dent becomes large and can be easily deformed even at a low pressure. If the area is 25% or less, the dent does not become too large and the polymer particles are difficult to break. Become.

なお、本発明の重合体粒子は、全ての粒子がそれぞれ一つの前記所定形状の凹みを有するものであるが、本発明の効果を損なわない程度であれば、前述の所定形状の凹みを有さない粒子が存在してもよい。この場合、前述の所定形状の凹みを有さない粒子の個数は、全粒子個数の50%以下であることが好ましく、より好ましくは35%以下、さらに好ましくは10%以下、5%以下(特に、凹みを有さない粒子が存在しないこと)が最も好ましい。また、本発明の重合体粒子は、本発明の効果を損なわない程度であれば、前述の所定形状の凹み以外の凹みを有していてもよく、粒子表面に微細な凹凸が存在していてもよい。   The polymer particles of the present invention are all particles each having one dent of the predetermined shape, but have the dent of the predetermined shape as long as the effect of the present invention is not impaired. There may be no particles. In this case, the number of particles having no dent of the predetermined shape is preferably 50% or less of the total number of particles, more preferably 35% or less, still more preferably 10% or less, and 5% or less (particularly Most preferably, there are no particles having no dents). Further, the polymer particles of the present invention may have dents other than the above-mentioned dents as long as the effects of the present invention are not impaired, and fine irregularities exist on the particle surface. Also good.

重合体粒子の個数平均粒子径は0.5μm以上が好ましく、より好ましくは0.6μm以上、さらに好ましくは1.0μm以上、特に好ましくは1.5μm以上であり、50μm以下が好ましく、より好ましくは30μm以下、さらに好ましくは20μm以下である。前記個数平均粒子径が0.6μm以上であれば重合体粒子を作製する際に、所定形状の凹みを有さない粒子の生成をより抑制することができ、50μm以下であれば所定形状の凹みによる効果がより顕著になる。特に、重合体粒子を導電性微粒子の基材粒子として用いる場合には、重合体粒子の個数平均粒子径は、0.5μm以上が好ましく、より好ましくは1.0μm以上、さらに好ましくは1.6μm以上、特に好ましくは2.0μm以上であり、4.0μm以下が好ましく、より好ましくは3.5μm以下、さらに好ましくは3.2μm以下である。   The number average particle diameter of the polymer particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 0.6 μm or more, further preferably 1.0 μm or more, particularly preferably 1.5 μm or more, and preferably 50 μm or less, more preferably It is 30 μm or less, more preferably 20 μm or less. When the number average particle diameter is 0.6 μm or more, it is possible to further suppress the generation of particles having no predetermined shape when producing polymer particles, and when the number average particle size is 50 μm or less, the predetermined shape is used. The effect by becomes more remarkable. In particular, when polymer particles are used as the base particles of conductive fine particles, the number average particle diameter of the polymer particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, and even more preferably 1.6 μm. As described above, the thickness is particularly preferably 2.0 μm or more, preferably 4.0 μm or less, more preferably 3.5 μm or less, and still more preferably 3.2 μm or less.

粒子径の変動係数は40%以下が好ましい。粒子径の変動係数が40%以下であれば、粒子径及び所定形状の凹みサイズのばらつきが抑えられ、光拡散挙動や圧縮変形挙動等の特性もより均一となる。粒子径の変動係数は、より好ましくは20%以下、さらに好ましくは8%以下である。特に、重合体粒子を導電性微粒子の基材粒子として用いる場合には、圧縮変形挙動のばらつきのない、低圧変形性に優れる導電性微粒子となるため、異方導電材料として優れた性能を発揮する。   The variation coefficient of the particle diameter is preferably 40% or less. If the variation coefficient of the particle diameter is 40% or less, variations in the particle diameter and the dent size of the predetermined shape are suppressed, and characteristics such as light diffusion behavior and compression deformation behavior become more uniform. The variation coefficient of the particle diameter is more preferably 20% or less, still more preferably 8% or less. In particular, when polymer particles are used as the base particles of conductive fine particles, the conductive fine particles are excellent in low-pressure deformability without variation in compression deformation behavior, and thus exhibit excellent performance as anisotropic conductive materials. .

重合体粒子を構成する材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン;スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、あるいはスチレン−アクリル樹脂等のビニル重合体;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル;ポリカーボネート;ポリアミド;ポリイミド;フェノールホルムアルデヒド樹脂;メラミンホルムアルデヒド樹脂;メラミンベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂;尿素ホルムアルデヒド樹脂;シリコーン樹脂等の有機材料:ポリシロキサン骨格とビニル重合体が複合化されてなる有機無機複合材料;等が挙げられる。これらの基材粒子を構成する材料は、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the material constituting the polymer particles include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polytetrafluoroethylene, polyisobutylene, and polybutadiene; vinyl heavy resins such as styrene resins, acrylic resins, and styrene-acrylic resins. Polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polycarbonate; polyamide; polyimide; phenol formaldehyde resin; melamine formaldehyde resin; melamine benzoguanamine formaldehyde resin; urea formaldehyde resin; Organic-inorganic composite materials obtained by compounding; The material which comprises these base particle | grains may be used independently, and 2 or more types may be used together.

本発明の重合体粒子は、重合体粒子を形成するための全単量体成分中、架橋性単量体の含有量が5質量%以上であることが好ましく、より好ましくは10質量%以上、さらに好ましくは15質量%以上であり、80質量%以下が好ましく、より好ましくは70質量%以下、さらに好ましくは60質量%以下である。前記架橋性単量体の含有量が5質量%以上であれば、重合体粒子の耐溶剤性をより高めることができ、80質量%以下であれば、重合体粒子が硬くなりすぎず、低い圧力でより容易に変形できるようになる。   In the polymer particles of the present invention, the content of the crosslinkable monomer is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, in all monomer components for forming the polymer particles. More preferably, it is 15 mass% or more, 80 mass% or less is preferable, More preferably, it is 70 mass% or less, More preferably, it is 60 mass% or less. If the content of the crosslinkable monomer is 5% by mass or more, the solvent resistance of the polymer particles can be further improved, and if it is 80% by mass or less, the polymer particles are not too hard and low. It becomes easier to deform with pressure.

前記架橋性単量体としては、例えば、架橋性ビニル系単量体、架橋性シラン系単量体等が挙げられる。
前記架橋性ビニル系単量体とは、1分子中に2個以上のビニル基を有する架橋性単量体である。具体的には、アリル(メタ)アクリレート等のアリル(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレンジ(メタ)アクリレート等のアルカンジオールジ(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、デカエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタデカエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタコンタヘクタエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート類;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート類;ジビニルベンゼン、ジビニルナフタレン、及び、これらの誘導体等の架橋性スチレン系単量体;N,N−ジビニルアニリン、ジビニルエーテル、ジビニルサルファイド、ジビニルスルホン酸等の架橋剤;ポリブタジエン、ポリイソプレン不飽和ポリエステル等が挙げられる。これらの架橋性単量体は単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、1分子中に2以上のビニル基を有する架橋性単量体が好ましく、より好ましくは1分子中に2以上の(メタ)アクリロイル基を有する架橋性単量体である。
Examples of the crosslinkable monomer include a crosslinkable vinyl monomer and a crosslinkable silane monomer.
The crosslinkable vinyl monomer is a crosslinkable monomer having two or more vinyl groups in one molecule. Specifically, allyl (meth) acrylates such as allyl (meth) acrylate; ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, alkanediol di (meth) acrylate such as 1,3-butylene di (meth) acrylate; diethylene glycol di (meth) acrylate , Triethylene glycol di (meth) acrylate, decaethylene glycol di (meth) acrylate, pentadecaethylene glycol di (meth) acrylate, pentacontactor ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate Di (meth) acrylates such as relate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, etc .; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra Trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates such as (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; crosslinkable styrenic monomers such as divinylbenzene, divinylnaphthalene and derivatives thereof; N, Cross-linking agents such as N-divinylaniline, divinyl ether, divinyl sulfide, divinyl sulfonic acid; polybutadiene, polyisoprene unsaturated polyester, and the like. These crosslinkable monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these, a crosslinkable monomer having two or more vinyl groups in one molecule is preferable, and a crosslinkable monomer having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule is more preferable.

前記架橋性シラン系単量体とは、ケイ素原子を有し、架橋構造を形成し得るものである。架橋性シラン系単量体により形成される架橋構造としては、有機重合体骨格(例えば、ビニル系重合体骨格)と有機重合体骨格とを架橋するもの(第一の形態);ポリシロキサン骨格とポリシロキサン骨格とを架橋するもの(第二の形態);有機重合体骨格とポリシロキサン骨格とを架橋するもの(第三の形態);が挙げられる。   The crosslinkable silane monomer has a silicon atom and can form a crosslinked structure. The cross-linked structure formed by the cross-linkable silane monomer includes one that cross-links an organic polymer skeleton (for example, a vinyl polymer skeleton) and an organic polymer skeleton (first form); One that crosslinks a polysiloxane skeleton (second form); one that crosslinks an organic polymer skeleton and a polysiloxane skeleton (third form).

第一の形態を形成し得るものとしては、例えば、ジメチルジビニルシラン、メチルトリビニルシラン、テトラビニルシラン等が挙げられる。第二の形態を形成し得るものとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等の4官能性シラン系単量体;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等の3官能性シラン系単量体等が挙げられる。   Examples of those that can form the first form include dimethyldivinylsilane, methyltrivinylsilane, and tetravinylsilane. Examples of what can form the second form include tetrafunctional silane monomers such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, and tetrabutoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane And trifunctional silane monomers such as ethyltrimethoxysilane and ethyltriethoxysilane.

第三の形態を形成し得るものとしては、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシエトキシプロピルトリメトキシシラン等の;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン等のビニル基を有するもの;等が挙げられる。   Examples of those that can form the third form include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, Such as 3-methacryloxyethoxypropyltrimethoxysilane; those having a vinyl group such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane; and the like.

これらの中でも、架橋性単量体として架橋性シラン系単量体を含有することが好ましく、より好ましくは、前記第二の形態の架橋構造を形成し得る架橋性シラン系単量体(好ましくは4官能性シラン系単量体、より好ましくはテトラエトキシシラン)、前記第三の形態の架橋構造を形成し得る架橋性シラン系単量体(好ましくは(メタ)アクリロイル基を有するもの、より好ましくは3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン)を含有することが好ましい。   Among these, it is preferable to contain a crosslinkable silane monomer as the crosslinkable monomer, and more preferably, a crosslinkable silane monomer that can form the crosslinked structure of the second form (preferably A tetrafunctional silane monomer, more preferably tetraethoxysilane, a crosslinkable silane monomer capable of forming the crosslinked structure of the third form (preferably having a (meth) acryloyl group, more preferably Preferably contains 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane).

重合体粒子を構成する単量体成分として使用し得る非架橋性単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸又はその塩;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート等のアルキル(好ましくは炭素数1〜4のアルキル)(メタ)アクリレート類;シクロプロピル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロへキシル(メタ)アクリレート、シクロへプチル(メタ)アクリレート、シクロオクチル(メタ)アクリレート、シクロウンデシル(メタ)アクリレート、シクロドデシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、4−t−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート等のシクロアルキル(好ましくは炭素数3〜5のアルキル)(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(好ましくは炭素数2〜3のアルキル)(メタ)アクリレート類;フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、フェネチル(メタ)アクリレート等の芳香環含有(メタ)アクリレート類;等の(メタ)アクリル系単官能モノマー;スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−t−ブチルスチレン等のアルキルスチレン類;p−メトキシスチレン等のアルコキシスチレン類;p−フェニルスチレン等の芳香環含有スチレン類;o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン等のハロゲン基含有スチレン類;p−ヒドロキシスチレン等のヒドロキシ基含有スチレン類;等のスチレン系単官能モノマー;等のように1分子中に1個のビニル基を有するものが挙げられる。   Examples of the non-crosslinkable monomer that can be used as a monomer component constituting the polymer particles include (meth) acrylic acid or a salt thereof; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2- Alkyl (preferably alkyl having 1 to 4 carbon atoms) (meth) acrylates such as ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate; cyclo Propyl (meth) acryl , Cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl (meth) acrylate, cycloundecyl (meth) acrylate, cyclododecyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, cycloalkyl (preferably alkyl having 3 to 5 carbon atoms) (meth) acrylates such as 4-t-butylcyclohexyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) Hydroxyalkyl (preferably C2-C3 alkyl) (meth) acrylates such as acrylate and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate; phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) Aromatic ring-containing (meth) acrylates such as acrylate and phenethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic monofunctional monomers such as styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, α-methylstyrene Alkyl styrenes such as p-t-butylstyrene; alkoxystyrenes such as p-methoxystyrene; aromatic ring-containing styrenes such as p-phenylstyrene; o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, etc. And those having one vinyl group in one molecule such as styrene monofunctional monomers such as hydroxy group-containing styrenes such as p-hydroxystyrene;

また、非架橋性単量体として、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等のジアルキルシラン等の2官能性シラン系単量体;トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等のトリアルキルシラン等の1官能性シラン系単量体等も使用し得る。これらの非架橋性単量体は単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、スチレン系単官能モノマーが好ましく、スチレンがより好ましい。   Further, as the non-crosslinkable monomer, for example, a bifunctional silane monomer such as dialkylsilane such as dimethyldimethoxysilane or dimethyldiethoxysilane; 1 such as trialkylsilane such as trimethylmethoxysilane or trimethylethoxysilane; Functional silane monomers can also be used. These non-crosslinkable monomers may be used alone or in combination of two or more. Among these, styrene monofunctional monomers are preferable, and styrene is more preferable.

本発明の重合体微粒子としては、上述した有機質重合体微粒子、有機無機複合体粒子等が挙げられるが、これらの中でも有機無機複合体粒子が好ましい。そして、有機無機複合体粒子の中でも、ビニル重合体骨格とポリシロキサン骨格とを含む有機無機複合粒子が好ましい。特に、ビニル基等の重合性基を有する架橋性シラン単量体を加水分解、縮合反応を行って重合性ポリシロキサン粒子を調製した後、該重合性ポリシロキサン粒子にシラン系単量体以外の単量体成分を吸収させ重合してなるものが好ましい。   Examples of the polymer fine particles of the present invention include the organic polymer fine particles and organic-inorganic composite particles described above. Among these, organic-inorganic composite particles are preferable. Among the organic / inorganic composite particles, organic / inorganic composite particles including a vinyl polymer skeleton and a polysiloxane skeleton are preferable. In particular, after a crosslinkable silane monomer having a polymerizable group such as a vinyl group is hydrolyzed and subjected to a condensation reaction to prepare a polymerizable polysiloxane particle, the polymerizable polysiloxane particle is made of a material other than a silane monomer. Those obtained by absorbing and polymerizing monomer components are preferred.

1−1.重合体粒子の製造方法
本発明の重合体粒子の製造方法としては、例えば、アルコキシシランの加水分解縮合反応により得られたポリシロキサン粒子の懸濁液に、さらにアルコキシシランを添加した後、単量体成分を吸収させて、所定量の重合禁止剤の存在化で重合を行う方法;等が挙げられる。
1-1. Production method of polymer particles Examples of the production method of the polymer particles of the present invention include, after adding alkoxysilane to a suspension of polysiloxane particles obtained by hydrolysis condensation reaction of alkoxysilane, And a method of polymerizing in the presence of a predetermined amount of a polymerization inhibitor.

以下、本発明の重合体粒子の製造方法の一例として、重合性ポリシロキサン粒子を調製した後、さらにシラン系単量体を添加した後、シラン系単量体以外の単量体成分を吸収させ重合するゾルゲルシード重合法について説明する。なお、ゾルゲルシード重合法とは、シード重合の一態様であって、特に、シード粒子がゾルゲル法により合成される場合を意味する。例えば、アルコキシシランの加水分解縮合反応により得られたポリシロキサンをシード粒子とする場合等が挙げられる。   Hereinafter, as an example of the method for producing polymer particles of the present invention, after preparing polymerizable polysiloxane particles, after further adding a silane monomer, the monomer components other than the silane monomer are absorbed. A sol-gel seed polymerization method for polymerization will be described. The sol-gel seed polymerization method is an embodiment of seed polymerization, and particularly refers to a case where seed particles are synthesized by the sol-gel method. For example, the case where polysiloxane obtained by the hydrolysis condensation reaction of alkoxysilane is used as seed particles can be used.

ゾルゲルシード重合法は、加水分解縮合工程と、重合工程とを含むことが好ましく、加水分解、縮合工程後、重合工程前に、重合性単量体を吸収させる吸収工程を含めることがより好ましい。吸収工程を含めることにより、重合体粒子中のビニル重合体骨格成分の含有量を容易に調整できる。   The sol-gel seed polymerization method preferably includes a hydrolysis-condensation step and a polymerization step, and more preferably includes an absorption step for absorbing the polymerizable monomer after the hydrolysis and condensation step and before the polymerization step. By including an absorption step, the content of the vinyl polymer skeleton component in the polymer particles can be easily adjusted.

前記加水分解縮合工程とは、シラン系単量体(重合性基を有する架橋性シラン系単量体を含む)を、水を含む溶媒中で加水分解して縮重合させる反応を行う工程である。加水分解縮合工程により、重合性基とポリシロキサン骨格を有する粒子(重合性ポリシロキサン粒子)を得ることができる。加水分解と縮重合は、一括、分割、連続等、任意の方法を採用できる。加水分解し、縮重合させるにあたっては、触媒としてアンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物等の塩基性触媒を好ましく用いることができる。   The hydrolysis-condensation step is a step in which a silane monomer (including a crosslinkable silane monomer having a polymerizable group) is hydrolyzed in a solvent containing water to undergo a condensation polymerization. . By the hydrolysis condensation step, particles having a polymerizable group and a polysiloxane skeleton (polymerizable polysiloxane particles) can be obtained. Hydrolysis and polycondensation can employ any method such as batch, split, and continuous. For hydrolysis and condensation polymerization, basic catalysts such as ammonia, urea, ethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, hexadecyltrimethylammonium bromide, alkali metal hydroxide, alkaline earth metal hydroxide, etc. are used as catalysts. It can be preferably used.

前記水を含む溶媒中には、水や触媒以外に有機溶剤を含めることができる。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル等のエステル類;イソオクタン、シクロへキサン等の(シクロ)パラフィン類;ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。   In the solvent containing water, an organic solvent can be contained in addition to water and the catalyst. Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol; acetone, Examples thereof include ketones such as methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate; (cyclo) paraffins such as isooctane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene. These may be used alone or in combination of two or more.

加水分解縮合工程ではまた、アニオン性、カチオン性、非イオン性の界面活性剤や、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の高分子分散剤を併用することもできる。これらは単独で用いても2種以上を併用してもよい。   In the hydrolysis-condensation step, anionic, cationic and nonionic surfactants and polymer dispersants such as polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone can be used in combination. These may be used alone or in combination of two or more.

加水分解縮合は、原料となるシラン系単量体と、触媒や水及び有機溶剤を含む溶媒を混合した後、温度0℃以上100℃以下、好ましくは0℃以上70℃以下で、30分以上100時間以下撹拌することにより行うことができる。これによりポリシロキサン粒子が得られる。   Hydrolytic condensation is performed by mixing a silane monomer as a raw material and a solvent containing a catalyst, water, and an organic solvent, and then at a temperature of 0 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 70 ° C., for 30 minutes or more. It can carry out by stirring for 100 hours or less. Thereby, polysiloxane particles are obtained.

続いて、所望の程度まで加水分解縮合反応を行ってポリシロキサン粒子を製造した後、これを種粒子として、反応系にさらにシラン系単量体を添加する。添加されたシラン系単量体はポリシロキサン粒子に吸収又はポリシロキサン粒子表面のシラノール基と反応することによりポリシロキサン粒子に取り込まれると考えられる。次段階において単量体成分が吸収されやすくなる点から、該シラン系単量体はポリシロキサン粒子に吸収されることが好ましい。ここで、さらに添加するシラン系単量体としては、少なくともポリシロキサン骨格とポリシロキサン骨格とを架橋するものを用いる必要がある。このようなシラン系単量体としては、上述した3官能性シラン系単量体、4官能性シラン系単量体が挙げられ、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、より架橋度が高い4官能性シラン系単量体(例えば、テトラエトキシシラン)が好ましい。また、ここで使用されるシラン系単量体は、ポリシロキサン粒子内部への浸透性の観点から、分子量が500以下が好ましく、より好ましくは400以下、さらに好ましくは300以下である。分子量の下限は特に限定されないが、通常150である。   Subsequently, after carrying out a hydrolytic condensation reaction to a desired degree to produce polysiloxane particles, this is used as seed particles, and a silane monomer is further added to the reaction system. The added silane monomer is considered to be absorbed into the polysiloxane particles or taken into the polysiloxane particles by reacting with the silanol groups on the surface of the polysiloxane particles. The silane monomer is preferably absorbed by the polysiloxane particles because the monomer component is easily absorbed in the next stage. Here, as the silane monomer to be further added, it is necessary to use at least one that crosslinks the polysiloxane skeleton and the polysiloxane skeleton. Examples of such silane monomers include the above-described trifunctional silane monomers and tetrafunctional silane monomers, which may be used alone or in combination of two or more. Also good. Among these, a tetrafunctional silane monomer (for example, tetraethoxysilane) having a higher degree of crosslinking is preferable. The silane monomer used here has a molecular weight of preferably 500 or less, more preferably 400 or less, and still more preferably 300 or less, from the viewpoint of penetrability into the polysiloxane particles. The lower limit of the molecular weight is not particularly limited, but is usually 150.

さらに添加するシラン系単量体の使用量は、種粒子100質量部に対して3質量部以上(より好ましくは5質量部以上、さらに好ましくは10質量部以上)が好ましく、50質量部以下(より好ましくは40質量部以上、さらに好ましくは30質量部以上)が好ましい。シラン系単量体の使用量が上記範囲内であれば、所望とするサイズの凹みを形成できる。   Further, the amount of the silane monomer to be added is preferably 3 parts by mass or more (more preferably 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more) with respect to 100 parts by mass of the seed particles, and 50 parts by mass or less ( More preferably, it is 40 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass or more. If the amount of the silane monomer used is within the above range, a dent having a desired size can be formed.

反応系にさらにシラン系単量体を添加した後、再度加水分解縮合を行う。加水分解縮合は、さらなるシラン系単量体を添加した後、温度0℃以上100℃以下、好ましくは0℃以上70℃以下で、5分以上300分以下撹拌することにより行うことができる。   After further adding a silane monomer to the reaction system, hydrolysis condensation is performed again. Hydrolytic condensation can be performed by adding a further silane monomer and then stirring at a temperature of 0 ° C. to 100 ° C., preferably 0 ° C. to 70 ° C. for 5 minutes to 300 minutes.

吸収工程は、ポリシロキサン粒子の存在下に、シラン系単量体以外の単量体成分を存在させた状態で進行するものであれば特に限定されない。したがって、ポリシロキサン粒子を分散させた溶媒中に単量体成分を加えてもよいし、単量体成分を含む溶媒中にポリシロキサン粒子を加えてもよい。なかでも、前者のように、予めポリシロキサン粒子を分散させた溶媒中に、単量体成分を加えるのが好ましい。特に、加水分解、縮合工程で得られたポリシロキサン粒子を反応液(ポリシロキサン粒子分散液)から取り出すことなく、この反応液に単量体成分を加える方法は、工程が複雑にならず、生産性に優れるため好ましい。   The absorption process is not particularly limited as long as it proceeds in the presence of the monomer component other than the silane monomer in the presence of the polysiloxane particles. Therefore, the monomer component may be added to the solvent in which the polysiloxane particles are dispersed, or the polysiloxane particles may be added to the solvent containing the monomer component. Especially, it is preferable to add a monomer component in the solvent which disperse | distributed polysiloxane particle | grains previously like the former. In particular, the method of adding the monomer component to the reaction liquid without taking out the polysiloxane particles obtained in the hydrolysis and condensation process from the reaction liquid (polysiloxane particle dispersion) does not complicate the process. It is preferable because of its excellent properties.

前記吸収工程において、単量体成分の添加のタイミングは特に限定されず、一括で加えてもよいし、数回に分けて加えてもよいし、任意の速度でフィードしてもよい。また、単量体成分を加えるにあたっては、単量体成分のみを添加しても単量体成分の溶液を添加してもいずれでもよいが、単量体成分を予め乳化剤で水又は水性媒体に乳化分散させた乳化液をポリシロキサン粒子に混合することが、ポリシロキサン粒子への吸収がより効率よく行われるため好ましい。   In the absorption step, the timing of adding the monomer component is not particularly limited, and may be added all at once, may be added in several times, or may be fed at an arbitrary rate. In addition, when adding the monomer component, either the monomer component alone or the monomer component solution may be added, but the monomer component is previously added to water or an aqueous medium with an emulsifier. It is preferable to mix the emulsified and emulsified liquid into the polysiloxane particles because the polysiloxane particles can be more efficiently absorbed.

前記乳化剤は特に限定されないが、例えば、アニオン性界面活性剤や、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチレン−オキシプロピレンブロックポリマー等のノニオン性界面活性剤が、重合性ポリシロキサン粒子、単量体成分を吸収した後の重合性ポリシロキサン粒子の分散状態を安定化させることもできるので好ましい。これら乳化剤は、1種のみを使用しても2種以上を併用してもよい。
また、単量体成分を乳化剤で乳化分散させる際には、単量体成分の質量に対して0.3倍以上10倍以下の水や水溶性有機溶剤を使用するのが好ましい。前記水溶性有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n‐ブタノール、イソブタノール、sec‐ブタノール、t‐ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4‐ブタンジオール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル等のエステル類等が挙げられる。
The emulsifier is not particularly limited. For example, an anionic surfactant, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxysorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl Nonionic surfactants such as amines, glycerin fatty acid esters and oxyethylene-oxypropylene block polymers stabilize the dispersion state of the polymerizable polysiloxane particles after absorbing the polymerizable polysiloxane particles and monomer components. This is also preferable. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, when emulsifying and dispersing the monomer component with an emulsifier, it is preferable to use water or a water-soluble organic solvent that is 0.3 to 10 times the mass of the monomer component. Examples of the water-soluble organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol; acetone And ketones such as methyl ethyl ketone; esters such as ethyl acetate;

吸収工程は、0℃以上60℃以下の温度範囲で、5分間以上720分間以下、撹拌しながら行うのが好ましい。これらの条件は、用いるポリシロキサン粒子や単量体の種類等によって、適宜設定すればよく、これらの条件は1種のみ、あるいは2種以上を合わせて採用してもよい。   The absorption step is preferably performed in the temperature range of 0 ° C. to 60 ° C. with stirring for 5 minutes to 720 minutes. These conditions may be set as appropriate depending on the type of polysiloxane particles and monomers to be used, and these conditions may be used alone or in combination of two or more.

吸収工程において、単量体成分がポリシロキサン粒子に吸収されたかどうかの判断については、例えば、単量体成分を加える前及び吸収段階終了後に、顕微鏡により粒子を観察し、単量体成分の吸収により粒子径が大きくなっていることを確認することで容易に判断できる。   In the absorption process, for determining whether the monomer component is absorbed by the polysiloxane particles, for example, before adding the monomer component and after completion of the absorption step, observe the particles with a microscope to absorb the monomer component. Thus, it can be easily determined by confirming that the particle size is increased.

重合工程は、単量体成分を重合反応させて、ビニル重合体骨格を有する粒子を得る工程である。具体的には、吸収させた単量体成分、又は吸収させた単量体成分とポリシロキサン骨格が有する重合性基とを重合させて有機重合体骨格(例えば、ビニル(系)重合体骨格)を形成する工程である。   The polymerization step is a step of obtaining particles having a vinyl polymer skeleton by polymerizing a monomer component. Specifically, the absorbed monomer component or the absorbed monomer component and the polymerizable group of the polysiloxane skeleton are polymerized to form an organic polymer skeleton (for example, a vinyl (system) polymer skeleton). Is a step of forming.

重合法は特に限定されないが、例えば、ラジカル重合開始剤を用いる方法、紫外線や放射線を照射する方法、熱を加える方法等、いずれも採用可能である。前記ラジカル重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、過酸化物系開始剤や、アゾ系開始剤等が使用可能である。これらラジカル重合開始剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。   The polymerization method is not particularly limited. For example, any of a method using a radical polymerization initiator, a method of irradiating ultraviolet rays or radiation, a method of applying heat, and the like can be adopted. Although it does not specifically limit as said radical polymerization initiator, For example, a peroxide type initiator, an azo type initiator, etc. can be used. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合を行う際の反応温度は40℃以上が好ましく、より好ましくは50℃以上であり、100℃以下が好ましく、より好ましくは80℃以下である。反応温度が低すぎる場合には、重合度が十分に上がらず複合粒子の機械的特性が不充分となる傾向があり、一方、反応温度が高すぎる場合には、重合中に粒子間の凝集が起こりやすくなる傾向がある。なお、ラジカル重合を行う際の反応時間は、用いる重合開始剤の種類に応じて適宜変更すればよいが、通常、5分以上が好ましく、より好ましくは10分以上であり、600分以下が好ましく、より好ましくは300分以下である。反応時間が短すぎる場合には、重合度が十分に上がらない場合があり、反応時間が長すぎる場合には、粒子間で凝集が起こり易くなる傾向がある。   The reaction temperature at the time of performing radical polymerization is preferably 40 ° C or higher, more preferably 50 ° C or higher, preferably 100 ° C or lower, more preferably 80 ° C or lower. If the reaction temperature is too low, the degree of polymerization does not increase sufficiently and the mechanical properties of the composite particles tend to be insufficient. On the other hand, if the reaction temperature is too high, aggregation between particles occurs during the polymerization. It tends to happen easily. The reaction time for performing radical polymerization may be appropriately changed according to the type of polymerization initiator to be used, but is usually preferably 5 minutes or more, more preferably 10 minutes or more, and preferably 600 minutes or less. More preferably, it is 300 minutes or less. When the reaction time is too short, the degree of polymerization may not be sufficiently increased, and when the reaction time is too long, aggregation tends to occur between particles.

ここで、ラジカル重合を行う際に、重合禁止剤を所定量共存させておくことにより、所定形状の凹みを有する重合体粒子が得られる。重合禁止剤を共存効果は明らかではないが、凹みの形成には、重合速度も関係しており、所定量の重合禁止剤が存在することによって、ラジカル重合速度を制御(抑制)し、その結果、凹みが形成された重合体粒子が得られるものと考えられる。   Here, when carrying out radical polymerization, a predetermined amount of a polymerization inhibitor is allowed to coexist, whereby polymer particles having a recess having a predetermined shape are obtained. The coexistence effect of the polymerization inhibitor is not clear, but the formation rate of the dent is also related to the polymerization rate, and the presence of a predetermined amount of polymerization inhibitor controls (suppresses) the radical polymerization rate. It is considered that polymer particles having dents are obtained.

共存させる重合禁止剤の使用量は、重合体粒子を構成する重合体形成成分、すなわち、ポリシロキサン粒子、シラン系単量体成分、シラン系単量体以外の単量体成分の合計量100質量部に対して0.05質量部以上であることが好ましい。0.05質量部未満では、凹みが形成されない虞がある。重合禁止剤の使用量は0.1質量部以上がより好ましく、0.15質量部以上がさらに好ましく、0.2質量部以上が特に好ましい。また、共存させる重合禁止剤の使用量の上限は特に制限されるものではないが、重合体粒子を構成する重合体形成成分100質量部に対して1質量%以下が好ましい。重合禁止剤の使用量が1質量部を越えると、水媒体中で可能な温度条件(通常100℃以下)で重合が進まず、取扱いに必要な強度を有する重合体粒子が得られない虞がある。なお、重合禁止剤の使用量には、重合体粒子を製造するために使用する単量体に予め添加されている重合禁止剤も含まれる。   The amount of the polymerization inhibitor to be coexisted is the polymer forming component constituting the polymer particle, that is, the total amount of the monomer component other than the polysiloxane particle, the silane monomer component, and the silane monomer is 100 mass. It is preferable that it is 0.05 mass part or more with respect to a part. If it is less than 0.05 parts by mass, there is a possibility that no dent will be formed. The amount of the polymerization inhibitor used is more preferably 0.1 parts by mass or more, further preferably 0.15 parts by mass or more, and particularly preferably 0.2 parts by mass or more. The upper limit of the amount of the polymerization inhibitor used is not particularly limited, but is preferably 1% by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer forming component constituting the polymer particles. If the amount of the polymerization inhibitor used exceeds 1 part by mass, the polymerization does not proceed under the temperature conditions (usually 100 ° C. or lower) possible in an aqueous medium, and polymer particles having the strength required for handling may not be obtained. is there. The amount of the polymerization inhibitor used includes a polymerization inhibitor that has been added in advance to the monomer used to produce the polymer particles.

前記重合禁止剤は、ラジカル重合を抑制するものであれば特に限定されず従来公知の重合禁止剤を用いることができる。前記重合禁止剤としては、例えば、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、2,2,6,6−テトラメチル−4−ベンゾイルオキシピペリジン−N−オキシル、4−アセチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−N−オキシル、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−N−オキシルピペリジル)スクシネート、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−(2,3−ジヒドロキシプロポキシ)ピペリジン、1−オキシル−2,2,6,6−テトラメチル−4−グリシジルオキシピペリジン等のN−オキシル化合物系;4−ターシャリーブチルカテコール、4−オクチルフェノール、4−ターシャリーブチルフェノール等のアルキルフェノール系:などが挙げられる。これらの中でも、本発明の所定形状の凹みを有する重合体粒子を水性媒体中で得ることができ、凹みの形状等が比較的揃った重合体粒子が得られる点から、N−オキシル化合物系(好ましくは4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル)が好適である。   The polymerization inhibitor is not particularly limited as long as it inhibits radical polymerization, and a conventionally known polymerization inhibitor can be used. Examples of the polymerization inhibitor include 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 2,2,6,6-tetramethyl-4-benzoyloxypiperidine-N-oxyl, 4-acetylamino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxyl, bis (2,2,6,6-tetramethyl-N-oxylpiperidyl) succinate, 1-oxyl-2,2,6 N-oxyl compound systems such as 1,6-tetramethyl-4- (2,3-dihydroxypropoxy) piperidine, 1-oxyl-2,2,6,6-tetramethyl-4-glycidyloxypiperidine; 4-tertiary And alkylphenols such as butylcatechol, 4-octylphenol, 4-tertiarybutylphenol, and the like. Among these, N-oxyl compound-based (from the point that polymer particles having a dent of a predetermined shape of the present invention can be obtained in an aqueous medium, and polymer particles having a relatively uniform dent shape and the like can be obtained. 4-Hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl) is preferred.

前記重合禁止剤を添加するタイミングは特に制限されない。ポリシロキサン粒子を製造する段階;シラン系単量体成分を添加する段階;シラン系単量体以外の単量体成分を添加、吸収させる段階;シラン系単量体以外の単量体成分を添加、吸収させた後の段階;のいずれのタイミングで添加してもよい。これらの中でも、重合禁止剤は、シラン系単量体以外の単量体成分を添加、吸収させた後の段階で添加することが好ましい。前記重合禁止剤の添加方法は特に限定されない。本発明の重合体粒子を製造するための単量体成分に溶解させた状態で添加してもよいし、重合禁止剤を単独で添加してもよい。   The timing for adding the polymerization inhibitor is not particularly limited. The step of producing polysiloxane particles; the step of adding a silane monomer component; the step of adding and absorbing a monomer component other than the silane monomer; the addition of a monomer component other than the silane monomer , A stage after absorption, and may be added at any timing. Among these, the polymerization inhibitor is preferably added at a stage after adding and absorbing a monomer component other than the silane monomer. The method for adding the polymerization inhibitor is not particularly limited. You may add in the state dissolved in the monomer component for manufacturing the polymer particle of this invention, and you may add a polymerization inhibitor independently.

上述した製法によれば、前記所定形状の凹みを有する重合体粒子が得られる。本発明の重合体粒子は、特異な機械的特性を有しているため、導電性微粒子の基材粒子として有用である。また、本発明の重合体粒子は、架橋構造を有しており耐溶剤性に優れ、且つ、凹みにより優れた光散乱性を有しているので、光学部材用材料として有用である。   According to the above-described production method, polymer particles having the predetermined shape of the recess are obtained. Since the polymer particles of the present invention have unique mechanical properties, they are useful as base particles for conductive fine particles. In addition, the polymer particles of the present invention have a crosslinked structure, are excellent in solvent resistance, and have excellent light scattering properties due to the dents, so that they are useful as optical member materials.

2.導電性微粒子
重合体粒子の用途の一例として導電性微粒子について説明する。
本発明の導電性微粒子は、上記重合体粒子の表面を被覆する導電性金属層を有するものである。したがって、本発明の導電性微粒子は、上述の重合体粒子の特性を備えたものである。上記導電性金属層を構成する金属としては特に限定されないが、例えば、金、銀、銅、白金、鉄、鉛、アルミニウム、クロム、パラジウム、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム、スズ、コバルト、インジウム及びニッケル−リン、ニッケル−ホウ素等の金属や金属化合物、及び、これらの合金等が挙げられる。これらの中でも、金、ニッケル、パラジウム、銀が導電性に優れており好ましい。また、安価な点で、ニッケル、ニッケル合金(Ni−Au、Ni−Pd、Ni−Pd−Au、Ni−Ag)等が好ましい。また、導電性金属層は、単層でもよいし複層であってもよく、複層の場合には、例えば、ニッケル−金、ニッケル−パラジウム、ニッケル−パラジウム−金、ニッケル−銀等の組合せが好ましく挙げられる。
2. Conductive fine particles As an example of the use of polymer particles, conductive fine particles will be described.
The conductive fine particles of the present invention have a conductive metal layer that covers the surface of the polymer particles. Therefore, the conductive fine particles of the present invention have the characteristics of the polymer particles described above. The metal constituting the conductive metal layer is not particularly limited. For example, gold, silver, copper, platinum, iron, lead, aluminum, chromium, palladium, nickel, rhodium, ruthenium, antimony, bismuth, germanium, tin, Examples thereof include metals such as cobalt, indium, nickel-phosphorus, and nickel-boron, metal compounds, and alloys thereof. Among these, gold, nickel, palladium, and silver are preferable because of excellent conductivity. Moreover, nickel, nickel alloy (Ni-Au, Ni-Pd, Ni-Pd-Au, Ni-Ag) etc. are preferable at an inexpensive point. The conductive metal layer may be a single layer or multiple layers. In the case of multiple layers, for example, a combination of nickel-gold, nickel-palladium, nickel-palladium-gold, nickel-silver, etc. Is preferred.

上記導電性金属層の厚さは、0.01μm以上が好ましく、より好ましくは0.03μmであり、0.20μm以下が好ましく、より好ましくは0.15μm以下である。導電性金属層の厚さが上記範囲内であれは、導電性微粒子を異方性導電材料として用いる際に、安定した電気的接続が維持でき、且つ、凹みを有する重合体粒子の機械的特性を十分に生かすことができる。   The thickness of the conductive metal layer is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.03 μm, preferably 0.20 μm or less, and more preferably 0.15 μm or less. When the thickness of the conductive metal layer is within the above range, when the conductive fine particles are used as an anisotropic conductive material, stable electrical connection can be maintained and the mechanical characteristics of the polymer particles having dents can be maintained. Can be fully utilized.

本発明の導電性微粒子は、導電性金属層の表面に、さらに絶縁性樹脂層を有するものであってもよい。上記絶縁性樹脂層としては、導電性微粒子の粒子間における絶縁性が確保でき、一定の圧力及び/又は加熱により容易にその絶縁性樹脂層が崩壊あるいは剥離するものであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレン等のポリオレフィン類;ポリメチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート重合体及び共重合体;ポリスチレン;等の熱可塑性樹脂や特にその架橋物;エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリビニルアルコール等の水溶性樹脂及びこれらの混合物等が挙げられる。   The conductive fine particles of the present invention may further have an insulating resin layer on the surface of the conductive metal layer. The insulating resin layer is not particularly limited as long as the insulating property between the particles of the conductive fine particles can be ensured, and the insulating resin layer can be easily collapsed or peeled off by a constant pressure and / or heating. For example, polyolefins such as polyethylene; (meth) acrylate polymers and copolymers such as polymethyl (meth) acrylate; thermoplastic resins such as polystyrene; and particularly cross-linked products thereof; heat such as epoxy resins, phenol resins, and melamine resins Curable resins; water-soluble resins such as polyvinyl alcohol and mixtures thereof.

但し、基材となる重合体粒子に比べて絶縁性樹脂層が硬過ぎる場合には、絶縁性樹脂層の破壊よりも先に重合体粒子自体が破壊してしまう虞がある。したがって、絶縁性樹脂層には、未架橋又は比較的架橋度の低い樹脂を用いることが好ましい。   However, when the insulating resin layer is too hard as compared with the polymer particles serving as the base material, the polymer particles themselves may be destroyed before the insulating resin layer is destroyed. Therefore, it is preferable to use uncrosslinked or relatively low degree of crosslinking resin for the insulating resin layer.

上記絶縁性樹脂層は、単層であっても、複数の層からなるものであってもよい。例えば、単一又は複数の皮膜状の層;絶縁性を有する粒状、球状、塊状、鱗片状その他の形状の粒子を導電性微粒子の表面に付着した層;さらに、導電性微粒子の表面を化学修飾することにより形成された層;であってもよい。上記樹脂絶縁層の厚さは0.01μm〜1μmが好ましく、より好ましくは0.1μm〜0.5μmである。樹脂絶縁層の厚さが前記範囲内であれば、導電性粒子による導通特性を良好に維持しつつ、粒子間の電気絶縁性が良好となる。   The insulating resin layer may be a single layer or a plurality of layers. For example, single or multiple film-like layers; layers with insulating particles, spheres, lumps, scales and other shapes attached to the surface of the conductive fine particles; and the surface of the conductive fine particles is chemically modified Or a layer formed by doing so. The thickness of the resin insulating layer is preferably 0.01 μm to 1 μm, more preferably 0.1 μm to 0.5 μm. If the thickness of the resin insulating layer is within the above range, the electrical insulation between the particles becomes good while maintaining the conduction property by the conductive particles well.

2−1.導電性微粒子の製造方法
本発明の導電性微粒子は、上記重合体粒子の表面に導電性金属層を形成することにより得られる。重合体粒子表面に導電性金属層を被覆する方法は特に限定されず、例えば、無電解めっき、置換めっき等めっきによる方法;金属微粉を単独、又は、バインダーに混ぜ合わせて得られるペーストを重合体微粒子にコーティングする方法;真空蒸着、イオンプレーティング、イオンスパッタリング等の物理的蒸着方法が挙げられる。これらの中でも、無電解めっき法は、大掛かりな装置を必要とせず、容易に導電性金属層を形成できるため好ましい。
2-1. Method for Producing Conductive Fine Particles The conductive fine particles of the present invention can be obtained by forming a conductive metal layer on the surface of the polymer particles. The method for coating the surface of the polymer particles with the conductive metal layer is not particularly limited. For example, a method using electroless plating, displacement plating or the like; a paste obtained by mixing metal fine powder alone or in a binder with a polymer. Methods for coating fine particles; physical vapor deposition methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, ion sputtering and the like. Among these, the electroless plating method is preferable because a conductive metal layer can be easily formed without requiring a large-scale apparatus.

本発明の導電性微粒子が絶縁性樹脂層を有するものである場合、上記無電解めっき工程の後に、導電性金属層の表面に樹脂等による絶縁処理を行う。絶縁性樹脂層を形成する方法としては特に限定されず、例えば、無電解めっき処理後の導電性微粒子の存在下で、絶縁性樹脂層の原料の界面重合、懸濁重合、乳化重合を行い、絶縁性樹脂により導電性微粒子をマイクロカプセル化する方法;絶縁性樹脂を有機溶媒に溶解した絶縁性樹脂溶液中に導電性微粒子を分散させた後、乾燥させるディッピング法;スプレードライ法、ハイブリダイゼーションによる方法等、従来公知の方法はいずれも用いることができる。   When the conductive fine particles of the present invention have an insulating resin layer, the surface of the conductive metal layer is subjected to insulation treatment with a resin or the like after the electroless plating step. The method for forming the insulating resin layer is not particularly limited, for example, in the presence of conductive fine particles after the electroless plating treatment, interfacial polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization of the raw material of the insulating resin layer is performed, A method of microencapsulating conductive fine particles with an insulating resin; a dipping method in which conductive fine particles are dispersed in an insulating resin solution in which an insulating resin is dissolved in an organic solvent and then dried; a spray drying method, by hybridization Any conventionally known method such as a method can be used.

3.異方性導電材料
本発明の導電性微粒子は、異方性導電材料の構成材料としても好適であり、本発明の導電性微粒子を用いてなる異方性導電材料もまた、本発明の好ましい実施態様の1つである。上記異方性導電材料は、本発明の導電性微粒子を用いてなるものであればその形態は特に限定されず、例えば、異方性導電フィルム、異方性導電ペースト、異方性導電接着剤、異方性導電インク等、様々な形態が挙げられる。すなわち、これらの異方性導電材料を相対向する基材同士や電極端子間に設けることで、電気的に接続することができる。なお、本発明の導電性微粒子を用いた異方性導電材料には、液晶表示素子用導通材料(導通スペーサー及びその組成物)も含まれる。
3. Anisotropic Conductive Material The conductive fine particle of the present invention is also suitable as a constituent material of the anisotropic conductive material, and the anisotropic conductive material using the conductive fine particle of the present invention is also preferable implementation of the present invention. This is one aspect. The form of the anisotropic conductive material is not particularly limited as long as the conductive fine particles of the present invention are used. For example, an anisotropic conductive film, an anisotropic conductive paste, an anisotropic conductive adhesive is used. And various forms such as anisotropic conductive ink. That is, electrical connection can be achieved by providing these anisotropic conductive materials between opposing substrates or between electrode terminals. The anisotropic conductive material using the conductive fine particles of the present invention includes a conductive material for a liquid crystal display element (conductive spacer and composition thereof).

上記異方性導電材料は、絶縁性のバインダー樹脂中に、本発明の導電性微粒子を分散させ、所望の形態とすることで製造されるが、もちろん、絶縁性のバインダー樹脂と導電性微粒子とを別々に使用して、基材間あるいは電極端子間を接続してもかまわない。上記バインダー樹脂としては、特に限定されず、例えば、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、スチレン−ブタジエンブロック共重合体等の熱可塑性樹脂;グリシジル基を有するモノマーやオリゴマー及びイソシアネート等の硬化剤との反応により硬化する硬化性樹脂組成物や、光や熱により硬化する硬化性樹脂組成物等が挙げられる。   The anisotropic conductive material is produced by dispersing the conductive fine particles of the present invention in an insulating binder resin to obtain a desired form. Of course, the insulating binder resin and the conductive fine particles May be used separately to connect between substrates or between electrode terminals. The binder resin is not particularly limited, and is, for example, a thermoplastic resin such as an acrylic resin, an ethylene-vinyl acetate resin, a styrene-butadiene block copolymer; a monomer or oligomer having a glycidyl group, and a curing agent such as isocyanate. Examples thereof include a curable resin composition that is cured by reaction and a curable resin composition that is cured by light and heat.

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例によって限定されるものではなく、前・後記の趣旨に適合しうる範囲で適宜変更して実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断らない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and may be appropriately modified and implemented within a range that can meet the purpose described above and below. All of which are within the scope of the present invention. In the following, “part” means “part by mass” and “%” means “% by mass” unless otherwise specified.

1.評価方法
1−1.平均粒子径、粒子径の変動係数
精密粒度分布測定装置(商品名「コールターマルチサイザーIII」、ベックマンコールター株式会社製)を用いて、重合体粒子の30000個の粒子の粒子径を測定し、個数基準での平均粒子径、標準偏差を測定した。また、得られた測定結果から、下記式を用いて重合体粒子の粒子径の変動係数を算出した。
変動係数(%)=100×(標準偏差/平均粒子径)
1. Evaluation method 1-1. Average particle diameter, coefficient of variation of particle diameter Using a precision particle size distribution analyzer (trade name “Coulter Multisizer III”, manufactured by Beckman Coulter, Inc.), the particle diameter of 30000 polymer particles is measured and The average particle diameter and standard deviation at the reference were measured. Further, from the measurement results obtained, the coefficient of variation of the particle diameter of the polymer particles was calculated using the following formula.
Coefficient of variation (%) = 100 × (standard deviation / average particle size)

1−2.凹み
走査型電子顕微鏡(SEM、日立社製:「S−3500N」)を用いて、重合体粒子20個を観察して、凹みの有無及び凹みの外周形状を確認した。また、凹みが存在するものについては、凹みの長径(L1)、短径(L2)を測定し、粒子20個の平均値を求めた。
凹みの深さは、重合体粒子をエポキシ樹脂に包埋し、ミクロトームで薄切片(厚さ10nm)を作製した後、電界放出形走査電子顕微鏡(FE−SEM、日立ハイテクノロジーズ社製)で断面の透過像を観察することにより測定した。具体的には、凹みの基点となる2点を結んだ直線から、凹みの底部へ下ろした垂線の長さが最も長い部分の深さを、凹み深さ(H)とした。
また、凹みを有する粒子について、比(L1/D)、比(L2/D)、比(L2/L1)及び比(H/D)を測定し、それぞれ粒子20個の平均値を求めた。
1-2. Recess Using a scanning electron microscope (SEM, manufactured by Hitachi, Ltd .: “S-3500N”), 20 polymer particles were observed to confirm the presence or absence of a recess and the outer peripheral shape of the recess. Moreover, about the thing with a dent, the major axis (L1) and the minor axis (L2) of the dent were measured, and the average value of 20 particles was obtained.
The depth of the recess is embedded in polymer resin in an epoxy resin, a thin section (thickness 10 nm) is prepared with a microtome, and then cross-sectioned with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). This was measured by observing the transmission image. Specifically, the depth of the longest part of the perpendicular line extending from the straight line connecting the two points serving as the base point of the dent to the bottom of the dent was defined as the dent depth (H).
Moreover, about the particle | grains which have a dent, ratio (L1 / D), ratio (L2 / D), ratio (L2 / L1), and ratio (H / D) were measured and the average value of 20 particle | grains was calculated | required, respectively.

1−3.機械的特性
微小圧縮試験機(島津製作所社製、「MCT−W500」)を用いて、室温(25℃)において、試料台(材質:SKS材平板)上に散布した粒子1個について、直径50μmの円形平板圧子(材質:ダイヤモンド)を用いて、粒子の中心方向へ一定の負荷速度(2.2295mN/秒)で荷重をかけた。
1-3. Mechanical properties Using a micro compression tester (manufactured by Shimadzu Corporation, “MCT-W500”) at room temperature (25 ° C.), one particle dispersed on a sample table (material: SKS flat plate) has a diameter of 50 μm. Using a circular flat plate indenter (material: diamond), a load was applied at a constant load speed (2.2295 mN / sec) toward the center of the particle.

1−4.耐溶剤試験
重合体粒子1.0部をトルエン10部に加え10分間撹拌した後、メンブランフィルターで濾過し、得られた粒子を120℃で2時間乾燥させ、電界放出形走査電子顕微鏡(FE−SEM、日立ハイテクノロジーズ社製、倍率5万倍)で粒子表面を観察した。粒子表面状態がトルエンに浸漬する前と同じであれば「○」、変形や空洞化が生じていれば「×」と評価した。
1-4. Solvent resistance test After adding 1.0 part of polymer particles to 10 parts of toluene and stirring for 10 minutes, the mixture was filtered through a membrane filter, and the resulting particles were dried at 120 ° C. for 2 hours to obtain a field emission scanning electron microscope (FE-). The surface of the particles was observed with SEM (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, magnification 50,000 times). If the particle surface state was the same as before immersion in toluene, it was evaluated as “◯”, and if deformation or cavitation occurred, it was evaluated as “x”.

1−5.異方性導電材料評価
導電性接着ペースト0.1mgを、アルミニウム電極が形成された2枚のガラス基板で挟み、180℃で熱圧着を行い、試験片(導電性接着剤硬化物からなる異方導電シートが電極間に挟まれた構造の接続構造体)を得た。得られた試験片について接続抵抗値(Ω)を四端子法により測定した。
1-5. Evaluation of Anisotropic Conductive Material 0.1 mg of conductive adhesive paste is sandwiched between two glass substrates on which aluminum electrodes are formed, thermocompression bonded at 180 ° C., and a test piece (anisotropic made of conductive adhesive cured product) A connection structure having a structure in which a conductive sheet is sandwiched between electrodes was obtained. The connection resistance value (Ω) of the obtained test piece was measured by the four probe method.

2.重合体粒子の製造
2−1.製造例1
冷却管、温度計、滴下口を備えた四つ口フラスコに、イオン交換水804部と、25%アンモニア水1.2部、メタノール336.6部を入れ、攪拌下、滴下口から3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、「KBM503」)50部及びメタノール59.4部の混合液を添加して、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランの加水分解、縮合反応を行って、メタクリロイル基を有するポリシロキサン粒子(重合性ポリシロキサン粒子)の乳濁液を調製した。反応開始から2時間後、得られたポリシロキサン粒子の乳濁液をサンプリングし、粒子径を測定したところ、個数平均粒子径は2.20μmであった。
2. 2. Production of polymer particles 2-1. Production Example 1
In a four-necked flask equipped with a condenser, a thermometer, and a dripping port, 804 parts of ion-exchanged water, 1.2 parts of 25% aqueous ammonia and 336.6 parts of methanol are placed under stirring and 3-methacrylic acid is added from the dripping port. A mixed solution of 50 parts of roxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., “KBM503”) and 59.4 parts of methanol was added to conduct hydrolysis and condensation reaction of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, An emulsion of polysiloxane particles having methacryloyl groups (polymerizable polysiloxane particles) was prepared. Two hours after the start of the reaction, the obtained emulsion of polysiloxane particles was sampled and the particle size was measured. The number average particle size was 2.20 μm.

続いて、一次ポリシロキサン粒子の乳濁液に、テトラエトキシシラン(信越化学工業社製、「LS−2430」)10.0部を添加し、25℃で30分撹拌し、二次ポリシロキサン粒子の乳濁液を調整した。   Subsequently, 10.0 parts of tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., “LS-2430”) is added to the emulsion of the primary polysiloxane particles, and the mixture is stirred at 25 ° C. for 30 minutes. The emulsion was adjusted.

次いで、乳化剤としてポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム塩(第一工業製薬社製:「ハイテノール(登録商標)NF−08」)の20%水溶液0.9部をイオン交換水35.0部で溶解した溶液に、単量体としてのスチレン(4−ターシャリーブチルカテコール 30ppm含有)35.0部、重合開始剤としての2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業社製:「V−65」)0.9部を溶解した溶液を加え、乳化分散させて単量体成分の乳化液を調製した。   Next, 0.9 part of a 20% aqueous solution of ammonium polyoxyethylene styrenated phenyl ether sulfate (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd .: “Hytenol (registered trademark) NF-08”) as an emulsifier was added to 35.0 ion-exchanged water. 35.0 parts of styrene (containing 30 ppm of 4-tertiarybutylcatechol) as a monomer, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) as a polymerization initiator (sum) A solution prepared by dissolving 0.9 part of Kojunkaku Kogyo Co., Ltd .: “V-65”) was added and emulsified and dispersed to prepare an emulsion of monomer components.

得られた乳化液を、二次ポリシロキサン粒子の乳濁液中に添加して、さらに攪拌を行った。乳化液の添加から1時間後、混合液をサンプリングして顕微鏡で観察を行ったところ、二次ポリシロキサン粒子が単量体を吸収して肥大化していることが確認された。   The obtained emulsion was added to an emulsion of secondary polysiloxane particles and further stirred. One hour after the addition of the emulsified liquid, the mixed liquid was sampled and observed with a microscope. As a result, it was confirmed that the secondary polysiloxane particles absorbed the monomer and enlarged.

最後に、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル10質量%水溶液(伯東社製「ポリストップ7010」)2.1質量部、及びイオン交換水27.9質量部を加え、反応液を窒素雰囲気下で65℃に昇温させて、65℃で2時間保持し単量体組成物のラジカル重合を行った。ラジカル重合後の反応液を固液分離し、得られたケーキをイオン交換水、メタノールで洗浄した後、120℃で2時間乾燥させて重合体粒子No.1を得た。   Finally, 2.1 parts by mass of a 10% by mass aqueous solution of 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl (“Polystop 7010” manufactured by Hakutosha) and 27.9 masses of ion-exchanged water The reaction solution was heated to 65 ° C. under a nitrogen atmosphere and held at 65 ° C. for 2 hours to perform radical polymerization of the monomer composition. The reaction solution after radical polymerization was subjected to solid-liquid separation, and the resulting cake was washed with ion-exchanged water and methanol, and then dried at 120 ° C. for 2 hours to obtain polymer particles No. 1 was obtained.

2−2.製造例2
製造例1において、テトラエトキシシランを、テトラエトキシシランの4量体(多摩化学工業株式会社社製、シリケート40)10部に変更したこと以外は製造例1と同様にして重合体粒子No.2を得た。
2-2. Production Example 2
In Production Example 1, the same procedure as in Production Example 1 was conducted except that the tetraethoxysilane was changed to 10 parts of tetraethoxysilane tetramer (manufactured by Tama Chemical Co., Ltd., silicate 40). 2 was obtained.

2−3.製造例3
製造例1において、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル10質量%溶液(伯東社製「ポリストップ7010」)を添加しなかったこと以外は製造例1と同様にして重合体粒子No.3を得た。
2-3. Production Example 3
In Production Example 1, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl 10% by mass solution (“Polystop 7010” manufactured by Hakutosha) was not added, and Production Example 1 In the same manner, polymer particle no. 3 was obtained.

2−4.製造例4
製造例1において、テトラエトキシシラン添加しなかった以外は、製造例1と同様にして重合体粒子No.4を得た。
2-4. Production Example 4
In Production Example 1, polymer particles No. 1 were produced in the same manner as in Production Example 1 except that tetraethoxysilane was not added. 4 was obtained.

3.導電性粒子の製造
重合体粒子に水酸化ナトリウムによるエッチング処理を行った後、二塩化スズ溶液によるセンシタイジングを行った。さらに二塩化パラジウム溶液によるアクチベーティングを行い、パラジウム核を形成させた。次いで、パラジウム核を形成させた重合体粒子を無電解ニッケルメッキ浴に浸漬し、膜厚が0.1μmになるまでニッケルメッキ層を形成させた後、金置換メッキを行い0.02μmの金層を形成させた。その後、イオン交換水で洗浄後、アルコール置換を行って真空乾燥を行い、導電性微粒子を得た。
3. Production of Conductive Particles After polymer particles were etched with sodium hydroxide, sensitizing with a tin dichloride solution was performed. Further, activation with a palladium dichloride solution was performed to form palladium nuclei. Next, the polymer particles with palladium nuclei formed are immersed in an electroless nickel plating bath to form a nickel plating layer until the film thickness becomes 0.1 μm, and then gold substitution plating is performed to obtain a 0.02 μm gold layer. Formed. Then, after washing with ion exchange water, alcohol substitution was performed and vacuum drying was performed to obtain conductive fine particles.

4.異方性導電材料の製造
上記で得た導電性微粒子2gをエポキシ樹脂(三井化学製:「ストラクトボンド(登録商標)XN−5A」)100gに混ぜて分散させ、導電性接着ペーストを作製した。
4). Production of Anisotropic Conductive Material 2 g of the conductive fine particles obtained above were mixed and dispersed in 100 g of an epoxy resin (manufactured by Mitsui Chemicals: “Struct Bond (registered trademark) XN-5A”) to prepare a conductive adhesive paste.

製造例1〜4で得られた重合体粒子についての評価結果を表1に示し、製造例1で得られた重合体粒子No.1のSEM画像を図2に、該重合体粒子No.1の凹みの測定に用いたSEM画像の一例を図3に、該重合体粒子No.1の断面のFE−SEM像を図4に示した。製造例1で得られた重合体粒子と製造例2で得られた重合体粒子の圧縮変形挙動を図5に示した。また、製造例1〜4で得られた重合体粒子を基材粒子として用いた導電性微粒子についての評価を表1に合わせて示した。   The evaluation results for the polymer particles obtained in Production Examples 1 to 4 are shown in Table 1, and the polymer particles No. 1 obtained in Production Example 1 were obtained. The SEM image of No. 1 is shown in FIG. An example of the SEM image used for the measurement of the dent of No. 1 is shown in FIG. The FE-SEM image of the cross section of 1 is shown in FIG. The compression deformation behavior of the polymer particles obtained in Production Example 1 and the polymer particles obtained in Production Example 2 is shown in FIG. Moreover, evaluation about the electroconductive fine particles which used the polymer particle obtained by manufacture example 1-4 as a base material particle was combined with Table 1, and was shown.

製造例1〜4で得られた重合体粒子を観察したところ、重合体粒子No.1は所定形状の凹みを有していたが、重合体粒子No.2〜4は所定形状の凹みを有していなかった。これは製造例2ではエトキシシランの4量体を用いたため、一次ポリシロキサン粒子内部に充分に浸透できないため、粒子表面に所定形状の凹みが形成されなかったと考えられる。また、製造例3では重合禁止剤を添加しておらず、シラン系単量体以外の単量体成分が急速に重合し、単量体吸収工程での形状を維持したため粒子表面に所定形状の凹みが形成されなかったと考えられる。また、重合体粒子No.1における所定形状の凹みを有する粒子の個数は、全粒子の71%以上であった。   When the polymer particles obtained in Production Examples 1 to 4 were observed, the polymer particles No. 1 had a dent of a predetermined shape. 2 to 4 did not have a predetermined shape of dent. In Production Example 2, since the tetramer of ethoxysilane was used, it was not possible to sufficiently penetrate the primary polysiloxane particles, so that it was considered that dents having a predetermined shape were not formed on the particle surfaces. In addition, in Production Example 3, a polymerization inhibitor was not added, and monomer components other than the silane monomer rapidly polymerized, and the shape in the monomer absorption process was maintained. It is considered that no dent was formed. In addition, polymer particle No. The number of particles having a predetermined shape in 1 was 71% or more of all particles.

また、図5に示すように製造例1で得られた重合体粒子No.1は、粒子表面に所定形状の凹みを有しているため、低い圧縮荷重(試験力)で変形することがわかる。これに対して製造例2で得られた重合体粒子No.2は粒子表面に所定形状の凹みを有さないため、粒子を変形するために高い圧縮荷重が必要であることがわかる。そして、これらの重合体粒子No.1〜4を基材粒子として用いた導電性微粒子では、基材粒子表面に凹みを有さない場合(製造例2〜4)よりも、基材粒子表面に凹みを有する場合(製造例1)の方が、接続抵抗値が大きく低下していることがわかる。   In addition, as shown in FIG. It can be seen that No. 1 is deformed with a low compressive load (test force) because it has dents of a predetermined shape on the particle surface. On the other hand, the polymer particle No. obtained in Production Example 2 was obtained. Since No. 2 does not have a dent of a predetermined shape on the particle surface, it can be seen that a high compressive load is required to deform the particle. These polymer particles No. In the conductive fine particles using 1-4 as the base particles, the surface of the base material particles has a dent compared to the case where the surface of the base material particles does not have a dent (Production Examples 2 to 4) (Production Example 1). It can be seen that the connection resistance value is greatly reduced.

本発明の重合体粒子は、導電性微粒子の基材粒子、光拡散用途に利用できる。また、本発明の導電性微粒子は、例えば、異方性導電フィルム、異方性導電ペースト、異方性導電接着剤、異方性導電インク等の異方性導電材料に好適に用いられる。   The polymer particles of the present invention can be used for conductive fine particles and light diffusion applications. The conductive fine particles of the present invention are suitably used for anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive films, anisotropic conductive pastes, anisotropic conductive adhesives, anisotropic conductive inks, and the like.

1:重合体粒子、2:凹み、D:粒子径、L1:長径、L2:短径、H:深さ 1: polymer particle, 2: dent, D: particle diameter, L1: major axis, L2: minor axis, H: depth

Claims (7)

重合体粒子表面に導電性金属層を有する導電性微粒子であって、
前記重合体粒子が、球に下記()〜(d)を満足する凹みが1つ形成された外形を有し、その体積が元の球の半分以上であることを特徴とする導電性微粒子
b)凹みの長径(L1)と粒子径(D)との比(L1/D)が0.3以上1.0未満である。
(c)凹みの短径(L2)と粒子径(D)との比(L2/D)が0.05以上1.0未満である。
(d)長径(L1)と短径(L2)との比(L2/L1)が1.0未満である。
Conductive fine particles having a conductive metal layer on the surface of the polymer particles,
The polymer particles are spherical in having a contour recess is satisfied formed one below (b) ~ (d), conductivity, characterized in that its volume is equal to or more than half of the original sphere fine Particles .
( B) The ratio (L1 / D) of the major axis (L1) of the dent to the particle diameter (D) is 0.3 or more and less than 1.0.
(C) The ratio (L2 / D) of the minor axis (L2) of the dent to the particle diameter (D) is 0.05 or more and less than 1.0.
(D) The ratio (L2 / L1) of the major axis (L1) to the minor axis (L2) is less than 1.0.
重合体粒子を形成するための全単量体成分中、架橋性単量体の含有量が5質量%以上である請求項1に記載の導電性微粒子。 Total monomer component, the conductive fine particles according to claim 1, wherein the content of the crosslinkable monomer is 5% by mass or more to form a polymer particle. 重合体粒子の個数平均粒子径が0.5μm〜50μmである請求項1又は2に記載の導電性微粒子。 Conductive fine particle according to claim 1 or 2 number average particle size of the polymer particles is 0.5 to 50 .mu.m. 重合体粒子の粒子径の変動係数が40%以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の導電性微粒子。 Any conductive fine particles according to one of claims 1 to 3 variation coefficient of the particle size of the polymer particles is 40% or less. 重合体粒子の凹みの深さ(H)と、粒子径(D)との比(H/D)が0.5以下である請求項1〜4のいずれか一項に記載の導電性微粒子。 The depth of the depression in the polymer particles (H), conductive fine particles according to any one of claims 1 to 4 ratio of the particle diameter (D) (H / D) is 0.5 or less . 重合体粒子表面における凹みの面積が、重合体粒子が凹みを有していないと仮定した場合の全表面積の25%以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載の導電性微粒子。 The area of the recess in the polymer particle surface, conductive fine particles according to any one of claims 1 to 5 is 25% or less of the total surface area when it is assumed that the polymer particles do not have a recess . 請求項1〜6のいずれか一項に記載の導電性微粒子を含有することを特徴とする異方性導電材料。 Anisotropic conductive material characterized by containing a conductive particle according to any one of claims 1 to 6.
JP2010264253A 2010-11-26 2010-11-26 Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same Active JP5567458B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010264253A JP5567458B2 (en) 2010-11-26 2010-11-26 Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010264253A JP5567458B2 (en) 2010-11-26 2010-11-26 Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012111908A JP2012111908A (en) 2012-06-14
JP5567458B2 true JP5567458B2 (en) 2014-08-06

Family

ID=46496480

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010264253A Active JP5567458B2 (en) 2010-11-26 2010-11-26 Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5567458B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104325148B (en) * 2014-12-01 2017-02-08 北京矿冶研究总院 Preparation method of low-resistance spherical metal powder for cold spraying and spherical metal powder
TW201718663A (en) * 2015-08-28 2017-06-01 Nippon Catalytic Chem Ind Organic polymer fine particles
JP6651321B2 (en) * 2015-10-01 2020-02-19 株式会社日本触媒 Polymer fine particles

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2969094B2 (en) * 1997-05-02 1999-11-02 株式会社日本触媒 Method for producing silicon-containing polymer
JP3739264B2 (en) * 2000-09-18 2006-01-25 積水化成品工業株式会社 Method for producing spherical resin particles
JP4095293B2 (en) * 2001-12-19 2008-06-04 株式会社日本触媒 Method for producing polymer particles
JP4986124B2 (en) * 2006-10-19 2012-07-25 株式会社ジェイエスピー Method for producing vinyl resin particles
KR101910812B1 (en) * 2009-03-30 2018-10-24 세키스이가세이힝코교가부시키가이샤 Irregularly shaped particles and method for producing same
JP5390239B2 (en) * 2009-03-31 2014-01-15 株式会社日本触媒 Organic-inorganic composite fine particles and method for producing the same
JP5562721B2 (en) * 2009-05-28 2014-07-30 根上工業株式会社 Method for producing irregular shaped resin particles
JP2011070944A (en) * 2009-09-25 2011-04-07 Sekisui Chem Co Ltd Manufacturing method for conductive particulates, and the conductive particulates

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012111908A (en) 2012-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5245011B2 (en) Polymer fine particles, conductive fine particles, and anisotropic conductive materials
JP5140209B2 (en) Conductive fine particles, resin particles and anisotropic conductive material using the same
JP5563232B2 (en) Core-shell type organic-inorganic composite particle production method, core-shell type organic-inorganic composite particle, and conductive fine particle
JP5583647B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP2012036335A (en) Polymer fine particle and conductive fine particle
JP5599674B2 (en) Polymer fine particles and conductive fine particles
JP5583712B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP6131383B2 (en) Resin particles, conductive fine particles, and anisotropic conductive materials using the same
JP5567458B2 (en) Polymer particles, and conductive fine particles and anisotropic conductive materials using the same
JP2014192051A (en) Electroconductive particulates and anisotropic electroconductive material using the same
JP5998048B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5956906B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP6014438B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5856379B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5583714B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP6498505B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5583654B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP6397552B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP5998018B2 (en) Conductive fine particles and anisotropic conductive material using the same
JP7241526B2 (en) Substrate Particles for Conductive Particles, Use and Production Method Thereof
JP7220548B2 (en) Substrate particles for conductive particles and use thereof
JP5581291B2 (en) Conductive fine particles
JP7414404B2 (en) Base material particles for conductive particles, their use and manufacturing method
JP5581276B2 (en) Conductive fine particles
JP2020193239A (en) Resin particle for conductive fine particle

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120525

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130905

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130917

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140527

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140619

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5567458

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150