JP5545051B2 - Intermediate transfer member - Google Patents

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Description

本発明は電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体に関する。   The present invention relates to an intermediate transfer member used in an electrophotographic image forming apparatus.

複写機、レーザープリンタなどの画像形成装置における画像形成方法として、感光ドラム上に小径トナーを用い形成されたトナー画像を、中間転写体へ一次転写後、中間転写体から転写材(例えば紙)へ二次転写する転写方式が知られている。   As an image forming method in an image forming apparatus such as a copying machine or a laser printer, a toner image formed using a small diameter toner on a photosensitive drum is primarily transferred to an intermediate transfer member, and then transferred from the intermediate transfer member to a transfer material (for example, paper). A transfer system for secondary transfer is known.

又、近年ではカラー化が進められており、特にカラー画像形成装置では、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの4色のトナーを使用し、感光体に形成された各トナー画像を中間転写体へ一次転写し形成された4色のトナー画像を、4色同時に転写材(例えば紙)へ二次転写するため、高画質化、高速化が求められている。中間転写体としては、基材に無端のベルトを使用した中間転写体ベルト及び、基材に金属ロールを使用した中間転写体ロールが知られている。   In recent years, colorization has been promoted. In particular, in a color image forming apparatus, toners of four colors of yellow, magenta, cyan, and black are used, and each toner image formed on the photoreceptor is primarily transferred to the intermediate transfer member. Since the four-color toner images transferred and formed are secondarily transferred onto a transfer material (for example, paper) simultaneously, there is a demand for higher image quality and higher speed. As an intermediate transfer body, an intermediate transfer body belt using an endless belt as a base material and an intermediate transfer body roll using a metal roll as a base material are known.

転写方式の場合、中間転写体は高画質化、高速化を達成するための代表的な項目として以下に示す項目が知られている。   In the case of the transfer method, the following items are known as typical items for achieving high image quality and high speed of the intermediate transfer member.

1)中間転写体の表面に感光体から転写されて形成されたトナー画像の転写材への高転写率が要求されている。   1) A high transfer rate of a toner image formed on a surface of an intermediate transfer member by transfer from a photosensitive member to a transfer material is required.

転写率とは、中間転写体の表面に形成されたトナー画像の転写材への割合を言う。転写率が低いと転写材へ転写された画像に抜けが生じたり、濃度ムラが発生し高画質化が出来ない。   The transfer rate refers to the ratio of the toner image formed on the surface of the intermediate transfer member to the transfer material. If the transfer rate is low, the image transferred to the transfer material may be missing, or density unevenness may occur, resulting in poor image quality.

2)中間転写体の高耐久性が要求されている。   2) High durability of the intermediate transfer member is required.

耐久性とは、長時間の転写材への転写が可能となる性能を言う。中間転写体の表面は転写材(例えば紙)へ二次転写した後、残存するトナーを除去するためクリーニングブレードで擦りクリーニングされるのである、クリーニングブレードとの接触で表面の平滑性がなくなったり、ヒビ割れが発生し感光体からの安定したトナー画像の転写が出来なくなる。又、中間転写体が無端のベルトの場合は、引き回しでクラック(ヒビ割れ)が発生する。   Durability refers to the performance that enables transfer to a transfer material for a long time. The surface of the intermediate transfer body is secondarily transferred to a transfer material (for example, paper) and then cleaned by rubbing with a cleaning blade to remove the remaining toner. Cracks occur and stable transfer of the toner image from the photoconductor becomes impossible. Further, when the intermediate transfer member is an endless belt, cracks (cracks) are generated by the drawing.

3)フィルミングが発生しないことが要求されている。   3) It is required that filming does not occur.

フィルミングとは、転写材(例えば紙)へ二次転写した後、中間転写体の表面をクリーニングブレードでクリーニングを行うのであるが、除去されずに残るトナーが徐々に集積される現象を言う。トナーが残る原因としては、中間転写体の表面に発生したクラックにトナーが入り込む、クリーニングブレードとの接触等で表面に出来た凹部に溜まったトナーが残る。フィルミングが発生した場所では転写率が低下したり、画像スジやムラが発生し高画質化が出来ない。更に、省エネルギーという観点から、近年、低温定着トナーが用いられるようになってきた。低温定着トナーはガラス転移点が低いことからよりフィルミングが発生し易く、フィルミング発生が大きな問題となってきている。フィルミングが発生した場所では転写率が低下したり、画像スジやムラが発生し問題となる。   Filming refers to a phenomenon in which, after secondary transfer onto a transfer material (for example, paper), the surface of the intermediate transfer member is cleaned with a cleaning blade, and toner remaining without being removed is gradually accumulated. As the cause of the toner remaining, the toner enters a crack generated on the surface of the intermediate transfer member, or the toner accumulated in the concave portion formed on the surface due to contact with the cleaning blade or the like remains. In a place where filming occurs, the transfer rate decreases, image streaks and unevenness occur, and image quality cannot be improved. Further, from the viewpoint of energy saving, a low-temperature fixing toner has recently been used. The low temperature fixing toner has a low glass transition point, so that filming is more likely to occur, and filming has become a big problem. In places where filming occurs, the transfer rate decreases, image streaks and unevenness occur, and this becomes a problem.

4)ブリードが発生しないことが要求されている。   4) It is required that bleeding does not occur.

ブリードとは、中間転写体を構成している下層に含まれている親油性分(例えば、可塑剤等)が表面層に浸み出してくる現象を言う。中間転写体の表面に親油性分が浸み出した場合、中間転写体と接触している感光体へ親油性分が転写し、感光体のトナー像形成に影響が出る。又、中間転写体にクラック発生した場合は、クラックに沿って親油性分が浸み出してくる。   Bleed refers to a phenomenon in which a lipophilic component (for example, a plasticizer) contained in the lower layer constituting the intermediate transfer member oozes out into the surface layer. When the oleophilic component oozes out on the surface of the intermediate transfer member, the oleophilic component is transferred to the photosensitive member in contact with the intermediate transfer member, which affects the toner image formation on the photosensitive member. Further, when a crack occurs in the intermediate transfer member, the lipophilic component oozes out along the crack.

中間転写体は感光体から感光体の表面に形成されているトナー画像を中間転写体表面に転写される時及び、中間転写体表面に形成されているトナー画像を転写材(例えば紙)へ転写する時の転写率を上げ、トナー画像を均一に転写するためトナー画像への集中荷重が掛けられることで発生する像抜けを防止するため、集中荷重防止策が採られている。集中荷重防止策は、クリーニングブレードによるクリーニング時の中間転写体表面への応力分散、中間転写ベルトの引き回し時に中間転写ベルトに掛かる応力分散にも効果を示すとされている。   The intermediate transfer member transfers the toner image formed on the surface of the photosensitive member from the photosensitive member to the surface of the intermediate transfer member and transfers the toner image formed on the surface of the intermediate transfer member to a transfer material (for example, paper). In order to increase the transfer rate when transferring the toner image and to uniformly transfer the toner image, a concentrated load prevention measure is taken in order to prevent image loss caused by a concentrated load applied to the toner image. The concentrated load prevention measure is said to be effective for the stress dispersion on the surface of the intermediate transfer member during cleaning by the cleaning blade and the stress dispersion applied to the intermediate transfer belt when the intermediate transfer belt is routed.

集中荷重防止策としては、例えば中間転写体ベルトの場合は基材に弾性体を使用したり、基材の上に弾性層を設けたりする方法、中間転写体ロールの場合は基材の上に弾性層を設ける方法が知られている。   As a measure against concentrated load, for example, in the case of an intermediate transfer belt, an elastic body is used for the base material, or an elastic layer is provided on the base material. A method of providing an elastic layer is known.

中間転写体への1)〜4)の要求に対してこれまでに多くの検討が成されて来た。   Many studies have been made to meet the requirements 1) to 4) for the intermediate transfer member.

例えば、ブリードの発生防止、高耐久性、高品質の画像形成のため、ベルト基材に弾性材であるクロロプレンゴム(CR)とエチレン−プロピレンゴムに第3成分としてジエン系モノマーを添加したEPDM(Ethylene Propylene Diene Monomer)を使用し、表層にダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜を形成した中間転写体が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   For example, in order to prevent bleed generation, high durability, and high-quality image formation, EPDM (a diene monomer added as a third component to chloroprene rubber (CR), which is an elastic material, and ethylene-propylene rubber as a belt base material) An intermediate transfer member is known in which a diamond-like carbon (DLC) film is formed on the surface layer using Ethylene Propylene Diene Monomer (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1の中間転写体は、確かに短時間の間ではブリードの発生防止、高耐久性、高品質の画像形成には効果を示すが、特許文献1の中間転写体が中間転写体ベルトの場合では、表層が硬いため基材との間に中間層を設けても長時間(例えば、30万枚コピー)使用した場合、表層にクラックが発生し、発生したクラックが原因でフィルミング、ブリードが発生し高品質の画像形成が出来ないことが判った。   The intermediate transfer member of Patent Document 1 is effective for preventing bleeding, forming high durability and high quality images for a short period of time. In some cases, since the surface layer is hard, even if an intermediate layer is provided between the substrate and the substrate is used for a long time (for example, 300,000 copies), cracks occur on the surface layer, and the generated cracks cause filming and bleeding. It was found that high quality image formation was not possible.

基体としてポリアミド系樹脂を使用し、その上に弾性層/酸化ケイ素を設けてトナー離型性を向上させる中間転写ベルトが知られている(例えば、特許文献2参照。)。   An intermediate transfer belt is known in which a polyamide-based resin is used as a substrate and an elastic layer / silicon oxide is provided thereon to improve toner releasability (see, for example, Patent Document 2).

特許文献2の中間転写ベルトは、表面層を酸化ケイ素層で構成することで、中間転写ベルトから転写材へのトナー画像の転写率はよいが、表層が硬いため長時間使用した場合、表層にクラックが発生し、発生したクラックが原因でフィルミング、ブリードが発生し高品質の画像形成が出来ないことが判った。   In the intermediate transfer belt of Patent Document 2, the surface layer is composed of a silicon oxide layer, so that the transfer rate of the toner image from the intermediate transfer belt to the transfer material is good. It was found that cracks occurred and filming and bleeding occurred due to the cracks, and high quality image formation was not possible.

特許文献3の中間転写体は、弾性層を有する中間転写体であって、該弾性層上に樹脂層、無機表面層を形成し、クラックを防止する技術が開示されている。しかし単に積層しただけではクラックは大幅に減少するもののフィルミングは完全に解消したとは言えず、また高温高湿環境下では、表層の膜剥がれが生じるケースがあった。   The intermediate transfer body of Patent Document 3 is an intermediate transfer body having an elastic layer, and discloses a technique for preventing cracks by forming a resin layer and an inorganic surface layer on the elastic layer. However, simply laminating greatly reduces cracks, but it cannot be said that filming has completely disappeared. In addition, there are cases where surface peeling occurs in a high temperature and high humidity environment.

この様な状況から、長時間の使用で、クラックの発生、クリーニングブレードによる表面の劣化がなく、フィルミングの発生がない高転写効率、高耐久性の電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体高耐久性を有する中間転写体を開発することが望まれている。   Under these circumstances, there is no generation of cracks, surface deterioration due to the cleaning blade, and no filming after a long period of use, and it is an intermediate used for an electrophotographic image forming apparatus with high transfer efficiency and high durability. It is desired to develop an intermediate transfer member having high durability.

特開2006−259581号公報JP 2006-259581 A 特開2001−347593号公報JP 2001-347593 A 特開2010−2567号公報JP 2010-2567 A

本発明は上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は転写効率、耐久性が高く、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体を提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide an intermediate transfer member used in an electrophotographic image forming apparatus having high transfer efficiency and durability and no filming.

本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。   The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.

1.基体と弾性層を有する中間転写体であって、
弾性層上に3次元架橋性樹脂層、無機化合物層をこの順に有し、かつ3次元架橋性樹脂層表面には、応力調整手段が施されており、前記応力調整手段が、前記3次元架橋性樹脂層の表面近傍に偏在して無機微粒子を含有させることにあることを特徴とする中間転写体。
1. An intermediate transfer member having a substrate and an elastic layer,
Three-dimensionally crosslinked resin layer on the elastic layer has an inorganic compound layer in this order, and the three-dimensionally crosslinked resin layer surface has been subjected to stress adjusting means, said stress adjusting means, the three-dimensional cross-linking An intermediate transfer member characterized in that it is unevenly distributed near the surface of the conductive resin layer and contains inorganic fine particles .

2.前記3次元架橋性樹脂層中の無機微粒子含有濃度が、無機化合物層との界面に向かって段階的または連続的に増加していることを特徴とする前記1に記載の中間転写体2. 2. The intermediate transfer member according to 1 above, wherein the concentration of inorganic fine particles in the three-dimensional crosslinkable resin layer increases stepwise or continuously toward the interface with the inorganic compound layer .

3.基体と弾性層を有する中間転写体であって、弾性層上に3次元架橋性樹脂層、無機化合物層をこの順に有し、かつ3次元架橋性樹脂層表面には、応力調整手段が施されており、前記応力調整手段が、前記3次元架橋性樹脂層の表面近傍にシランカップリング剤を導入することにあることを特徴とする中間転写体。 3. An intermediate transfer member having a substrate and an elastic layer, comprising a three-dimensional crosslinkable resin layer and an inorganic compound layer in this order on the elastic layer, and stress adjusting means is applied to the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer. The intermediate transfer member , wherein the stress adjusting means is to introduce a silane coupling agent in the vicinity of the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer .

4.基体と弾性層を有する中間転写体であって、弾性層上に3次元架橋性樹脂層、無機化合物層をこの順に有し、かつ3次元架橋性樹脂層表面には、応力調整手段が施されており、前記応力調整手段が、3次元架橋性樹脂をコーティング後、硬化処理前に無機化合物層をコーティングし、この後、硬化処理を行うことにあることを特徴とする中間転写体。 4). An intermediate transfer member having a substrate and an elastic layer, comprising a three-dimensional crosslinkable resin layer and an inorganic compound layer in this order on the elastic layer, and stress adjusting means is applied to the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer. An intermediate transfer member , wherein the stress adjusting means comprises coating an inorganic compound layer after coating with a three-dimensional crosslinkable resin and before curing, and thereafter performing curing .

5.前記3次元架橋性樹脂層がアクリレート系樹脂を含有することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体5. 5. The intermediate transfer member according to any one of 1 to 4, wherein the three-dimensional crosslinkable resin layer contains an acrylate resin .

6.前記無機化合物層が、酸化珪素または炭素含有酸化珪素と酸化珪素の積層、からなることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体6). 5. The intermediate transfer member according to any one of 1 to 4, wherein the inorganic compound layer is made of silicon oxide or a laminate of carbon-containing silicon oxide and silicon oxide .

7.前記無機化合物層が、大気圧プラズマ法により形成されたことを特徴とする前記1〜6のいずれか1項に記載の中間転写体7). 7. The intermediate transfer member according to any one of 1 to 6, wherein the inorganic compound layer is formed by an atmospheric pressure plasma method .

8.前記無機化合物層が、ポリシラザンコーティング層から形成されることを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体8). 5. The intermediate transfer member according to any one of 1 to 4, wherein the inorganic compound layer is formed from a polysilazane coating layer .

9.前記無機化合物層の上に更にアルキルシランまたはフッ素含有シラン化合物を含有する保護層を設けたことを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体9. 5. The intermediate transfer member according to any one of 1 to 4, wherein a protective layer containing an alkylsilane or a fluorine-containing silane compound is further provided on the inorganic compound layer .

転写効率、耐久性が高く、フィルミングの発生がない電子写真方式の画像形成装置に使用する中間転写体を提供することが出来た。   An intermediate transfer member used in an electrophotographic image forming apparatus having high transfer efficiency and durability and no filming can be provided.

中間転写体として中間転写ベルトを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。1 is a schematic cross-sectional configuration diagram illustrating an example of an electrophotographic image forming apparatus that uses an intermediate transfer belt as an intermediate transfer member. 中間転写体として中間転写ロールを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。1 is a schematic cross-sectional configuration diagram illustrating an example of an electrophotographic image forming apparatus that uses an intermediate transfer roll as an intermediate transfer member. 本発明の中間転写体の中間転写ベルトの拡大概略断面図である。FIG. 3 is an enlarged schematic cross-sectional view of an intermediate transfer belt of the intermediate transfer member of the present invention. ベルト状の中間転写体である中間転写ベルトの無機化合物層を大気圧プラズマCVD法により形成する製造装置の模式図である。It is a schematic diagram of a manufacturing apparatus for forming an inorganic compound layer of an intermediate transfer belt, which is a belt-shaped intermediate transfer body, by an atmospheric pressure plasma CVD method.

本発明の実施の形態を図1〜図4を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   The embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4, but the present invention is not limited to this.

図1は、中間転写体として中間転写ベルトを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。尚、本図はフルカラー画像形成装置の場合を示している。   FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of an electrophotographic image forming apparatus using an intermediate transfer belt as an intermediate transfer member. This figure shows the case of a full-color image forming apparatus.

図中、1はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置1は、複数組の画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Kと、転写部としての無端ベルト状中間転写体形成ユニット7と、記録媒体Pを搬送する無端ベルト状の給紙搬送手段21及び定着手段としてのベルト式定着装置24とを有する。フルカラー画像形成装置1の本体Aの上部には、原稿画像読み取り装置SCが配置されている。   In the figure, reference numeral 1 denotes a full-color image forming apparatus. The full-color image forming apparatus 1 includes a plurality of sets of image forming units 10Y, 10M, 10C, and 10K, an endless belt-shaped intermediate transfer body forming unit 7 as a transfer unit, and an endless belt-shaped paper feeding conveyance for conveying a recording medium P. And a belt type fixing device 24 as fixing means. A document image reading device SC is arranged on the upper part of the main body A of the full-color image forming apparatus 1.

各感光体1Y、1M、1C、1Kに形成される異なる色のトナー像の1つとして、イエロー色の画像を形成する画像形成ユニット10Yは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1Y、感光体1Yの周囲に配置された帯電手段2Y、露光手段3Y、現像手段4Y、一次転写手段としての一次転写ローラ5Y、クリーニング手段6Yを有する。   An image forming unit 10Y that forms a yellow image as one of different color toner images formed on each of the photoreceptors 1Y, 1M, 1C, and 1K is a drum-like photoreceptor as a first image carrier. 1Y, a charging unit 2Y disposed around the photoreceptor 1Y, an exposure unit 3Y, a developing unit 4Y, a primary transfer roller 5Y as a primary transfer unit, and a cleaning unit 6Y.

又、別の異なる色のトナー像の1つとして、マゼンタ色の画像を形成する画像形成ユニット10Mは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1M、感光体1Mの周囲に配置された帯電手段2M、露光手段3M、現像手段4M、一次転写手段としての一次転写ローラ5M、クリーニング手段6Mを有する。   An image forming unit 10M that forms a magenta image as another different color toner image is disposed around a drum-shaped photoconductor 1M as a first image carrier, and the photoconductor 1M. A charging unit 2M, an exposure unit 3M, a developing unit 4M, a primary transfer roller 5M as a primary transfer unit, and a cleaning unit 6M.

又、更に別の異なる色のトナー像の1つとして、シアン色の画像を形成する画像形成ユニット10Cは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1C、感光体1Cの周囲に配置された帯電手段2C、露光手段3C、現像手段4C、一次転写手段としての一次転写ローラ5C、クリーニング手段6Cを有する。   Further, an image forming unit 10C for forming a cyan image as one of different toner images of different colors is disposed around a drum-shaped photoreceptor 1C as a first image carrier, and the photoreceptor 1C. The charging unit 2C, the exposure unit 3C, the developing unit 4C, the primary transfer roller 5C as the primary transfer unit, and the cleaning unit 6C are provided.

又、更に他の異なる色のトナー像の1つとして、黒色画像を形成する画像形成ユニット10Kは、第1の像担持体としてのドラム状の感光体1K、感光体1Kの周囲に配置された帯電手段2K、露光手段3K、現像手段4K、一次転写手段としての一次転写ローラ5K、クリーニング手段6Kを有する。   In addition, an image forming unit 10K that forms a black image as one of other different color toner images is disposed around a drum-shaped photosensitive member 1K as a first image carrier, and the photosensitive member 1K. It has a charging unit 2K, an exposure unit 3K, a developing unit 4K, a primary transfer roller 5K as a primary transfer unit, and a cleaning unit 6K.

無端ベルト状中間転写体ユニット7は、複数のローラにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第2の像担持体として無端の中間転写ベルト70を有する。   The endless belt-shaped intermediate transfer body unit 7 has an endless intermediate transfer belt 70 as a semiconductive endless belt-shaped second image carrier that is wound around a plurality of rollers and rotatably supported.

画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Kより形成された各色の画像は、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5Kにより、回動する無端の中間転写ベルト70上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット20内に収容された記録媒体として用紙等の記録媒体Pは、給紙搬送手段21により給紙され、複数の中間ローラ22A、22B、22C、22D、レジストローラ23を経て、二次転写手段としての二次転写ローラ5Aに搬送され、記録媒体P上にカラー画像が一括転写される。   Each color image formed by the image forming units 10Y, 10M, 10C, and 10K is sequentially transferred and synthesized on the rotating endless intermediate transfer belt 70 by the primary transfer rollers 5Y, 5M, 5C, and 5K. A color image is formed. A recording medium P such as paper as a recording medium accommodated in the paper feeding cassette 20 is fed by the paper feeding / conveying means 21, passes through a plurality of intermediate rollers 22 A, 22 B, 22 C, 22 D, and a registration roller 23, and is secondary. A color image is transferred onto the recording medium P at a time by being conveyed to a secondary transfer roller 5A as a transfer means.

カラー画像が転写された記録媒体Pは、熱ローラ定着器270が装着された定着装置24により定着処理され、排紙ローラ25に挟持されて機外の排紙トレイ26上に載置される。   The recording medium P onto which the color image has been transferred is fixed by the fixing device 24 to which the heat roller fixing device 270 is attached, is sandwiched between the paper discharge rollers 25 and is placed on the paper discharge tray 26 outside the apparatus.

一方、二次転写ローラ5Aにより記録媒体Pにカラー画像を転写した後、記録媒体Pを曲率分離した無端の中間転写ベルト70は、クリーニング手段6Aにより残留トナーが除去される。   On the other hand, after the color image is transferred to the recording medium P by the secondary transfer roller 5A, the residual toner is removed by the cleaning means 6A from the endless intermediate transfer belt 70 that has separated the curvature of the recording medium P.

画像形成処理中、一次転写ローラ5Kは常時、感光体1Kに圧接している。他の一次転写ローラ5Y、5M、5Cはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体1Y、1M、1Cに圧接する。   During the image forming process, the primary transfer roller 5K is always in pressure contact with the photoreceptor 1K. The other primary transfer rollers 5Y, 5M, and 5C are in pressure contact with the corresponding photoreceptors 1Y, 1M, and 1C, respectively, only during color image formation.

二次転写ローラ5Aは、ここを記録媒体Pが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端ベルト状中間転写体70に圧接する。   The secondary transfer roller 5A comes into pressure contact with the endless belt-shaped intermediate transfer body 70 only when the recording medium P passes through the secondary transfer roller 5A and secondary transfer is performed.

又、装置本体Aから筐体8を支持レール82L、82Rを介して引き出し可能にしてある。筐体8は、画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Kと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット7とを有する。   Further, the housing 8 can be pulled out from the apparatus main body A through the support rails 82L and 82R. The housing 8 includes image forming units 10Y, 10M, 10C, and 10K, and an endless belt-shaped intermediate transfer body forming unit 7.

画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Kは、垂直方向に縦列配置されている。感光体1Y、1M、1C、1Kの図示左側方には無端ベルト状中間転写体ユニット7が配置されている。無端ベルト状中間転写体ユニット7は、ローラ71、72、73、74、76を巻回して回動可能な無端の中間転写ベルト70、一次転写ローラ5Y、5M、5C、5K及びクリーニング手段6Aとを有している。   The image forming units 10Y, 10M, 10C, and 10K are arranged in tandem in the vertical direction. An endless belt-shaped intermediate transfer body unit 7 is disposed on the left side of the photoreceptors 1Y, 1M, 1C, and 1K in the figure. The endless belt-shaped intermediate transfer body unit 7 includes an endless intermediate transfer belt 70 that can be rotated by winding rollers 71, 72, 73, 74, and 76, primary transfer rollers 5Y, 5M, 5C, and 5K, and a cleaning unit 6A. have.

筐体8の引き出し操作により、画像形成ユニット10Y、10M、10C、10Kと、無端ベルト状中間転写体ユニット7とは、一体となって、本体Aから引き出される。   The image forming units 10Y, 10M, 10C, and 10K and the endless belt-shaped intermediate transfer body unit 7 are integrally pulled out from the main body A by the drawer operation of the housing 8.

この様に感光体1Y、1M、1C、1Kの外周面上を帯電、露光し外周面上に潜像を形成した後、現像によりトナー像(顕像)を形成し、無端ベルト状の中間転写体70上で各色のトナー像を重ね合わせ、一括して記録媒体Pに転写し、ベルト式定着装置24で加圧及び加熱により固定して定着する。尚、本発明で像形成時とは潜像形成、トナー像(顕像)を記録媒体Pに転写し最終画像を形成することを含む。   In this manner, the outer peripheral surfaces of the photoreceptors 1Y, 1M, 1C, and 1K are charged and exposed to form a latent image on the outer peripheral surface, and then a toner image (developed image) is formed by development, and an endless belt-like intermediate transfer The toner images of the respective colors are superposed on the body 70, transferred to the recording medium P in a lump, and fixed and fixed by the belt-type fixing device 24 by pressure and heating. In the present invention, the time of image formation includes latent image formation and transfer of a toner image (developed image) to a recording medium P to form a final image.

トナー像を記録媒体Pに転移させた後の感光体1Y、1M、1C、1Kは、各感光体1Y、1M、1C、1Kに配設されたクリーニング手段6Y、6M、6C、6Kで転写時に感光体に残されたトナーを清掃した後、上記の帯電、露光、現像のサイクルに入り、次の像形成が行われる。   The photoreceptors 1Y, 1M, 1C, and 1K after the toner image is transferred to the recording medium P are transferred by the cleaning units 6Y, 6M, 6C, and 6K disposed on the photoreceptors 1Y, 1M, 1C, and 1K. After cleaning the toner remaining on the photoreceptor, the charging, exposure and development cycle described above is entered, and the next image formation is performed.

上記カラー画像形成装置では、中間転写体をクリーニングするクリーニング手段6Aのクリーニング部材として、弾性ブレードを用いる。又、各感光体に脂肪酸金属塩を塗布する手段(11Y、11M、11C、11K)を設けている。尚、脂肪酸金属塩としては、トナーで用いたと同じものを用いることが出来る。   In the color image forming apparatus, an elastic blade is used as a cleaning member of the cleaning unit 6A for cleaning the intermediate transfer member. Further, means (11Y, 11M, 11C, 11K) for applying a fatty acid metal salt to each photoconductor is provided. As the fatty acid metal salt, the same fatty acid metal salt as used in the toner can be used.

図2は中間転写体として中間転写ロールを使用した電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。   FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of an electrophotographic image forming apparatus using an intermediate transfer roll as an intermediate transfer member.

1′はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置1′は、現像ユニット2′と、感光体3′と、転写ユニット4′と、定着器5′と、給紙カセット6′とを有している。現像ユニット2′はマゼンタトナーMを有するマゼンタ現像ユニット2′Mと、シアントナーCを有するシアン現像ユニット2′Cと、イエロートナーYを有するイエロー現像ユニット2′Yと、ブラックトナーKを有するブラック現像ユニット黒2′Kとを有し、感光体3′の周囲に配設されている。   Reference numeral 1 'denotes a full-color image forming apparatus. The full-color image forming apparatus 1 ′ has a developing unit 2 ′, a photoreceptor 3 ′, a transfer unit 4 ′, a fixing device 5 ′, and a paper feed cassette 6 ′. The developing unit 2 'includes a magenta developing unit 2'M having magenta toner M, a cyan developing unit 2'C having cyan toner C, a yellow developing unit 2'Y having yellow toner Y, and a black having black toner K. And a developing unit black 2'K, which is disposed around the photoreceptor 3 '.

感光体3′は矢示の方向に所定の周速度で回転駆動される様に配設されている。感光体3′は回転過程で、感光体3′の周囲に配設された一次帯電器(コロナ放電器)7′により所定の極性・電位に一様に帯電処理され、次いで画像露光手段(不図示)による画像露光8′を受けることにより目的のカラー画像の第1の色成分像、例えばマゼンタ成分像に対応した静電潜像が形成される。次いでその静電潜像がマゼンタ現像ユニット2′Mにより第1色であるマゼンタトナーMにより現像される。   The photoconductor 3 'is disposed so as to be rotationally driven at a predetermined peripheral speed in the direction of the arrow. In the course of rotation, the photosensitive member 3 'is uniformly charged to a predetermined polarity and potential by a primary charger (corona discharger) 7' disposed around the photosensitive member 3 '. By receiving the image exposure 8 'according to the figure, an electrostatic latent image corresponding to a first color component image of the target color image, for example, a magenta component image is formed. Next, the electrostatic latent image is developed by the magenta toner M, which is the first color, by the magenta developing unit 2'M.

転写ユニット4′は中間転写ローラ401′と、中間転写ローラクリーナ402と、転写ローラ403とを有している。中間転写ローラ401′は感光体3′と逆方向(図中の矢印方向)に感光体3′と同じ周速度をもって回転駆動される様になっている。   The transfer unit 4 ′ includes an intermediate transfer roller 401 ′, an intermediate transfer roller cleaner 402, and a transfer roller 403. The intermediate transfer roller 401 'is driven to rotate at the same peripheral speed as the photoconductor 3' in the opposite direction (arrow direction in the figure) to the photoconductor 3 '.

感光体3′の上に形成担持された上記第1色のマゼンタトナー画像は、感光体3′と中間転写ローラ401′とのニップ部N1(一次転写部)を通過する過程で、電源(不図示)から中間転写ローラ401′に印加される一次転写バイアスにより形成される電界により、中間転写ローラ401′の外周面に順次中間転写されていく。   The magenta toner image of the first color formed and supported on the photosensitive member 3 'passes through a nip portion N1 (primary transfer portion) between the photosensitive member 3' and the intermediate transfer roller 401 'in the process of power The intermediate transfer is sequentially performed on the outer peripheral surface of the intermediate transfer roller 401 ′ by an electric field formed by a primary transfer bias applied to the intermediate transfer roller 401 ′.

中間転写ローラ401′に対する第1色のマゼンタトナー画像の転写を終えた感光体3′表面は、感光体3′の周囲に配設されたクリーニング装置(不図示)により清掃される。以下同様に、第2色目のシアントナー画像、第3色目のイエロートナー画像、第4色目のブラックトナー画像が感光体3′に順次に形成され、それらのナトー画像が順次に中間転写ローラ401′の上に重畳転写され、中間転写ローラ401′の上に第1〜第4色のトナー画像が重ね合わせられ、目的のカラー画像に対応した合成カラートナー画像が形成される。   The surface of the photoreceptor 3 ′ after the transfer of the first color magenta toner image to the intermediate transfer roller 401 ′ is cleaned by a cleaning device (not shown) disposed around the photoreceptor 3 ′. Similarly, a cyan toner image of the second color, a yellow toner image of the third color, and a black toner image of the fourth color are sequentially formed on the photosensitive member 3 ′, and these NATO images are sequentially formed on the intermediate transfer roller 401 ′. The toner images of the first to fourth colors are superimposed on the intermediate transfer roller 401 ′ to form a composite color toner image corresponding to the target color image.

中間転写ローラ401′の上に重畳転写された合成カラートナー画像の、転写材9′への転写(二次転写)は、それまで離間していた転写ローラ402′がシフト手段(不図示)により中間転写ローラ401′に当接されると共に、給紙カセット6′から転写材9′が給紙ローラ601′により1枚分離給送され、レジストローラ602′により中間転写ローラ401′と転写ローラ403′との当接ニップ部N2(二次転写部)に所定のタイミングで給送され、同時に二次転写バイアスがバイアス電源(不図示)から転写ローラ403′に印加される。この二次転写バイアスにより中間転写ローラ401′から転写材9′へ合成カラートナー画像が転写される。   The composite color toner image superimposed and transferred onto the intermediate transfer roller 401 'is transferred to the transfer material 9' (secondary transfer) by the transfer roller 402 'that has been separated until then by a shift means (not shown). While being in contact with the intermediate transfer roller 401 ′, the transfer material 9 ′ is separated and fed from the paper feed cassette 6 ′ by the paper feed roller 601 ′, and the intermediate transfer roller 401 ′ and the transfer roller 403 are fed by the registration roller 602 ′. To the abutting nip portion N2 (secondary transfer portion) with ′, and at the same time, a secondary transfer bias is applied to the transfer roller 403 ′ from a bias power source (not shown). The composite color toner image is transferred from the intermediate transfer roller 401 ′ to the transfer material 9 ′ by the secondary transfer bias.

合成カラートナー画像が転写された転写材9′は中間転写ローラ401′から分離されてガイドで定着器5′へ導入され熱ローラ501′と加圧ローラ502′により加熱定着される。   The transfer material 9 'on which the composite color toner image has been transferred is separated from the intermediate transfer roller 401', introduced into the fixing device 5 'by a guide, and heated and fixed by the heat roller 501' and the pressure roller 502 '.

転写材9′への合成カラートナー画像が転写終了後、中間転写ローラ401′の上の転写残トナーは中間転写ローラ401′に対して中間転写ローラクリーナ402′がシフト手段(不図示)により当接(図中の矢印方向)されることで除去される。   After the transfer of the composite color toner image onto the transfer material 9 ', the transfer residual toner on the intermediate transfer roller 401' is applied to the intermediate transfer roller 401 'by an intermediate transfer roller cleaner 402' by a shift means (not shown). It is removed by contact (in the direction of the arrow in the figure).

本発明において中間転写体とは図1に示す無端の中間転写ベルト70及び図2に示す中間転写ロール401′を言い、本発明は図1に示す無端の中間転写ベルト70及び図2に示す中間転写ロール401′に関するものである。   In the present invention, the intermediate transfer member refers to the endless intermediate transfer belt 70 shown in FIG. 1 and the intermediate transfer roll 401 ′ shown in FIG. 2, and the present invention refers to the endless intermediate transfer belt 70 shown in FIG. This relates to the transfer roll 401 '.

図3は本発明の中間転写体の中間転写ベルトの拡大概略断面図である。   FIG. 3 is an enlarged schematic cross-sectional view of the intermediate transfer belt of the intermediate transfer member of the present invention.

図中、70は中間転写体を示す。中間転写体は、基体70aの上に順次弾性層70bと、3次元架橋性樹脂層70cと、無機化合物層70dとを積層した構成を有しており、更に本発明では3次元架橋性樹脂層70cと、無機化合物層70dとの境界に応力調整手段70eを設けたことを特徴としている。   In the figure, reference numeral 70 denotes an intermediate transfer member. The intermediate transfer member has a structure in which an elastic layer 70b, a three-dimensional crosslinkable resin layer 70c, and an inorganic compound layer 70d are sequentially laminated on a substrate 70a. Further, in the present invention, a three-dimensional crosslinkable resin layer is used. A stress adjusting means 70e is provided at the boundary between 70c and the inorganic compound layer 70d.

基体70aの厚さは、機械的強度、画質、製造コスト等を考慮し、50μm〜1000μmが好ましい。弾性層の厚さは、50μm〜500μmが、また100〜300μが更に好ましい。3次元架橋性樹脂層の膜厚は、1μm〜100μmが好ましく、更に2μm〜30μmが好ましい。樹脂層の弾性率は弾性層よりも高く、0.1GPa〜5GPaであることが好ましい。無機化合物層の厚さは、耐久性、表面強度、樹脂層との密着性、屈曲耐性、成膜時間等を考慮し、10nm〜1000nmが好ましい。より好ましくは200nm〜500nmである。   The thickness of the substrate 70a is preferably 50 μm to 1000 μm in consideration of mechanical strength, image quality, manufacturing cost, and the like. The thickness of the elastic layer is preferably 50 μm to 500 μm, and more preferably 100 to 300 μm. The film thickness of the three-dimensional crosslinkable resin layer is preferably 1 μm to 100 μm, and more preferably 2 μm to 30 μm. The elastic modulus of the resin layer is higher than that of the elastic layer, and is preferably 0.1 GPa to 5 GPa. The thickness of the inorganic compound layer is preferably 10 nm to 1000 nm in consideration of durability, surface strength, adhesion to the resin layer, bending resistance, film formation time, and the like. More preferably, it is 200 nm-500 nm.

これまでの弾性層/樹脂層/無機化合物層の層構成にては、長期間の運転あるいは高温高湿環境下での保存により無機化合物層に通常目視で観察されるクラックよりも微細な欠陥が発生することにより、フィルミングが発生すること、また無機化合物層と樹脂層の密着性が不十分なために耐久性が劣化することがわかった。   In the conventional layer structure of elastic layer / resin layer / inorganic compound layer, the inorganic compound layer has finer defects than the cracks that are usually observed visually by long-term operation or storage in a high temperature and high humidity environment. As a result, it was found that filming occurs and durability deteriorates due to insufficient adhesion between the inorganic compound layer and the resin layer.

上記課題を鋭意検討した結果、弾性層と無機化合物層間の応力調整手段、すなわち樹脂層に加えて樹脂層と無機化合物層間の応力バランスを弾性バランスにより調整する手段を設けることで、これが微細な欠陥発生に影響すること、および樹脂層として3次元架橋性樹脂を使用すると、高温高湿下でも無機表層の膜剥がれなどが発生せず、密着性が良好であることを見出し、本発明にいたった。本発明は、耐摩耗性、転写性に優れる表層無機化合物層を有するとともに、弾性層、3次元架橋性樹脂層、無機化合物層の弾性バランスにより無機化合物層の微細な欠陥を抑止できる。更に無機化合物層上に低摩擦性の保護層を設けることで無機化合物層の耐久性向上及びクリーニング性の向上に大きな効果があることがわかった。   As a result of diligent examination of the above problems, by providing a means for adjusting the stress between the elastic layer and the inorganic compound layer, that is, a means for adjusting the stress balance between the resin layer and the inorganic compound layer by the elastic balance in addition to the resin layer, this is a fine defect. It has been found that the influence on the generation and the use of a three-dimensional crosslinkable resin as the resin layer does not cause film peeling of the inorganic surface layer even under high temperature and high humidity, and the adhesiveness is good. . The present invention has a surface inorganic compound layer excellent in wear resistance and transferability, and can suppress fine defects in the inorganic compound layer by the elastic balance of the elastic layer, the three-dimensional crosslinkable resin layer, and the inorganic compound layer. Furthermore, it has been found that providing a low-friction protective layer on the inorganic compound layer has a great effect on improving the durability and cleaning properties of the inorganic compound layer.

以下各構成要件について説明する。   Each component will be described below.

〔3次元架橋性樹脂層(ハードコート(HC)層)の構成材料〕
本発明に係る3次元架橋性樹脂として活性光線硬化樹脂を用いることが好ましい。
[Constituent material of three-dimensional crosslinkable resin layer (hard coat (HC) layer)]
It is preferable to use an actinic ray curable resin as the three-dimensional crosslinkable resin according to the present invention.

(活性光線硬化樹脂)
本発明に適用可能な活性光線硬化樹脂としては、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよいが、特には紫外線硬化樹脂であることが好ましい。
(Actinic ray curable resin)
Typical examples of the actinic ray curable resin applicable to the present invention include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, but a resin that is cured by irradiation with an active ray other than an ultraviolet ray or an electron beam may be used. In particular, an ultraviolet curable resin is preferable.

本発明に係る3次元架橋性樹脂の例としては、1分子中に3個以上(メタ)アクリロイル基を含有する多官能(メタ)アクリレートを挙げることができ、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、EO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられる。なお、前記の多官能(メタ)アクリレートは単独、または2種以上を混合して用いることができる。   Examples of the three-dimensional crosslinkable resin according to the present invention include polyfunctional (meth) acrylates containing 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule, such as pentaerythritol tri (meth) acrylate. , Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, EO modified trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, PO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, EO-modified phosphate tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, caprolactone-modified tris (a Rirokishiechiru) isocyanurate and the like. In addition, the said polyfunctional (meth) acrylate can be used individually or in mixture of 2 or more types.

また紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等も挙げることが出来る。   In addition, an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy resin, and the like can be given.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートと記載した場合、メタクリレートを包含するものとする)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151110号等を参照)。   In general, UV-curable acrylic urethane-based resins are obtained by further reacting 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate, methacrylate) with a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. Can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate (for example, see JP-A-59-151110).

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151112号を参照)。   The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer (see, for example, JP-A-59-151112). .

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることができる(例えば、特開平1−105738号)。   Specific examples of ultraviolet curable epoxy acrylate resins include those obtained by reacting epoxy acrylate with an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto (for example, JP-A-1- No. 105738).

具体的には、
(1)分子中に含有する(メタ)アクリロイル基の数が少ない、すなわち、硬化収縮の小さい樹脂を用いる。具体的には、イソブチル(メタ)アクリレートやヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレートや、1、6−ヘキサンジオール−ジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール−ジ(メタ)アクリレートなどの二官能(メタ)アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレートなどが挙げられる。
(2)1分子中に3個以上(メタ)アクリロイル基を含有し、かつ硬化後の収縮率が10%未満であるウレタン(メタ)アクリレートが挙げられ、これらは工業的に入手可能であり、例えば、日本合成化学工業社製UV−7600B、UV−7640B、大日本インキ化学工業社製ユニディック17−806、ユニディック17−813、V−4030、V−4000BA、ダイセルUCB社製EB−1290Kなどが挙げられる。
(3)開環重合性環状エーテル化合物しては、エポキシ誘導体、オキセタン誘導体、テトラヒドロフラン誘導体、オキサゾリン誘導体などの環状イミノエーテル類などが挙げられ、特にエポキシ誘導体、オキセタン誘導体、オキサゾリン誘導体が好ましい。
In particular,
(1) A resin having a small number of (meth) acryloyl groups contained in the molecule, that is, a resin having small curing shrinkage is used. Specifically, monofunctional (meth) acrylates such as isobutyl (meth) acrylate and hydroxypropyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol-di (meth) acrylate, neopentyl glycol-di (meth) acrylate, etc. Bifunctional (meth) acrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, and the like.
(2) Urethane (meth) acrylates containing 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule and having a shrinkage ratio after curing of less than 10%, which are industrially available, For example, UV-7600B, UV-7640B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Unidic 17-806, Unidic 17-813, V-4030, V-4000BA manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. EB-1290K manufactured by Daicel UCB Etc.
(3) Ring-opening polymerizable cyclic ether compounds include cyclic imino ethers such as epoxy derivatives, oxetane derivatives, tetrahydrofuran derivatives, oxazoline derivatives, and the like, and epoxy derivatives, oxetane derivatives, and oxazoline derivatives are particularly preferable.

これらの開環重合性環状エーテル化合物は、上記のような環状構造を2個以上好ましくは3個以上同一分子内に有する化合物が好ましい。例えば3官能グリシジルエーテルとしてはトリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートなど、4官能以上のグリシジルエーテルとしてはソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、3官能以上のエポキシ類としてはエポリードGT−301、エポリードGT−401、EHPE(以上、ダイセル化学工業(株)製)、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、3官能以上のオキセタン類としてはOX−SQ、PNOX−1009(以上、東亞合成(株)製)などが挙げられる。
(4)単官能のモノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートなどのアクリル酸のアルキルエステル、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレートなどの極性基含有のアクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミドなどのアクリルアミド、N−ビニルピロリドン、スチレン、ビニルアセテート、無水マレイン酸などの既存のモノマーが挙げられる。
(5)同一分子内に1個もしくは2個の開環重合性基を有する化合物も必要に応じて併用することができ、好ましい化合物としては単官能または2官能のグリシジルエーテル類、単官能または2官能の脂環式エポキシ類、単官能または2官能のオキセタン類が挙げられ、種々の市販もしくは公知の化合物を使用することができる。
These ring-opening polymerizable cyclic ether compounds are preferably compounds having 2 or more, preferably 3 or more of the above cyclic structures in the same molecule. For example, trimethylol ethane triglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether, triglycidyl trishydroxyethyl isocyanurate, etc. as trifunctional glycidyl ether, sorbitol tetraglycidyl ether, pentaerythritol as tetrafunctional or higher glycidyl ether Examples of tri- or more functional epoxies such as tetraglycyl ether, polyglycidyl ether of cresol novolac resin, polyglycidyl ether of phenol novolac resin include Epolide GT-301, Epolide GT-401, EHPE (above, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) ), Tri- or higher functional oxetanes such as phenol novolac resin polycyclohexyl epoxy methyl ether The Te OX-SQ, PNOX-1009 (manufactured by Toagosei Co.), and the like.
(4) Monofunctional monomers include alkyl esters of acrylic acid such as methyl (meth) acrylate and butyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, etc. Examples include polar monomers-containing acrylic acid esters, acrylamides such as (meth) acrylamide and N-methylol (meth) acrylamide, and existing monomers such as N-vinylpyrrolidone, styrene, vinyl acetate and maleic anhydride.
(5) A compound having one or two ring-opening polymerizable groups in the same molecule can be used in combination as needed. Preferred compounds are monofunctional or bifunctional glycidyl ethers, monofunctional or 2 Functional alicyclic epoxies, monofunctional or bifunctional oxetanes can be mentioned, and various commercially available or known compounds can be used.

(光重合開始剤)
本発明に係る3次元架橋性樹脂層には、上記光重合性樹脂を光照射により硬化するため、重合開始剤、光酸発生剤等を用いる。
(Photopolymerization initiator)
In the three-dimensional crosslinkable resin layer according to the present invention, a polymerization initiator, a photoacid generator, or the like is used in order to cure the photopolymerizable resin by light irradiation.

硬化樹脂がラジカル重合型硬化樹脂である場合には、光ラジカル重合開始剤を用い、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーのケトン、ベンゾイルベンゾエート、ベンゾイン類、α−アシロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、およびチオキサントンなどが含まれる。光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例には、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、およびチオキサントンなどが含まれる。   When the curable resin is a radical polymerization curable resin, a photo radical polymerization initiator is used. For example, acetophenones, benzophenones, Michler's ketone, benzoylbenzoate, benzoins, α-acyloxime ester, tetramethylthiuram mono Sulfide, thioxanthone and the like are included. In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, triethanolamine, tri-n-butylphosphine, and thioxanthone.

また、硬化樹脂がカチオン重合型硬化樹脂である場合には、カチオンを発生させる光酸発生剤として、トリアリールスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩やスルホン酸のニトロベンジルエステルなど化合物が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」ぶんしん出版社刊(1997)などに記載されている化合物など種々の公知の光酸発生剤が使用できる。この中で特に好ましくはジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのスルホニウム塩もしくはジフェニルヨードニウム塩であり、対イオンとしてはPF 、SbF 、AsF 、B(C などが挙げられる。 When the cured resin is a cationic polymerization type cured resin, compounds such as triarylsulfonium salts, diaryliodonium salts, and nitrobenzyl esters of sulfonic acids can be cited as photoacid generators that generate cations. Various known photoacid generators such as compounds described in the study group, “Organic Materials for Imaging” published by Bunshin Publishing Co., Ltd. (1997) can be used. Among them, a sulfonium salt such as diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate or a diphenyliodonium salt is particularly preferable, and PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , B (C 6 F 5) 4 -, and the like.

(基材上への3次元架橋性樹脂層付与方法)
本発明において、3次元架橋性樹脂層を樹脂基材上に形成する方法としては、薄膜を形成する公知の方法を適用することができるが、特に、湿式塗布法により形成することが好ましい。
(Method for providing a three-dimensional crosslinkable resin layer on a substrate)
In the present invention, as a method for forming the three-dimensional crosslinkable resin layer on the resin base material, a known method for forming a thin film can be applied, and it is particularly preferable to form the thin film by a wet coating method.

湿式塗布法とは、硬化樹脂、光重合開始剤等を溶媒、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒に溶解して、3次元架橋性樹脂層塗布液を調製し、この塗布液を用いて、ウェット状態の薄膜を基材上に形成する方法である。   The wet coating method refers to a three-dimensional crosslinkable resin layer obtained by dissolving a cured resin, a photopolymerization initiator, etc. in a solvent such as a hydrocarbon, alcohol, ketone, ester, glycol ether, or other solvent. In this method, a coating solution is prepared, and a wet thin film is formed on the substrate using the coating solution.

この様な湿式塗布法に用いられる塗布方式としては、例えば、スピンコート塗布、ディップ塗布、エクストルージョン塗布、ロールコート塗布スプレー塗布、グラビア塗布、ワイヤーバー塗布、エアナイフ塗布、スライドポッパー塗布、カーテン塗布等の公知の溶液を用いた塗布方法(塗布装置)を適用することができる。   Examples of coating methods used in such wet coating methods include spin coating, dip coating, extrusion coating, roll coating coating spray coating, gravure coating, wire bar coating, air knife coating, slide popper coating, and curtain coating. A coating method (coating apparatus) using a known solution can be applied.

上記の塗布方式により基材上に形成した3次元架橋性樹脂層は、膜を硬化する目的で、活性光線が照射される。   The three-dimensional crosslinkable resin layer formed on the substrate by the above coating method is irradiated with actinic rays for the purpose of curing the film.

3次元架橋性樹脂層を硬化するのに使用する活性エネルギー線としては、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線などが挙げられるが、紫外線が好ましく、紫外線によりラジカルもしくはカチオンを発生させる上記重合開始剤を添加し、紫外線により硬化させる方法が特に好ましい。   Examples of the active energy rays used to cure the three-dimensional crosslinkable resin layer include radiation, gamma rays, alpha rays, electron beams, ultraviolet rays, and the like. Ultraviolet rays are preferable, and the radicals or cations are generated by the ultraviolet rays. A method of adding a polymerization initiator and curing with ultraviolet rays is particularly preferable.

3次元架橋性樹脂層を光硬化反応により硬化して硬化皮膜層を形成するための紫外線を発生する光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を挙げることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm程度あればよく、好ましくは、50〜2000mJ/cmである。近紫外線領域〜可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用出来る。 Examples of a light source that generates ultraviolet rays for curing a three-dimensional crosslinkable resin layer by a photocuring reaction to form a cured coating layer include a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, A metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be mentioned. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated may be any degree 20~10000mJ / cm 2, preferably from 50~2000mJ / cm 2. It can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in the near ultraviolet region to the visible light region.

硬化樹脂を含む塗布液は塗布、乾燥された後、紫外線光源による紫外線照射により硬化するが、照射時間は0.5秒〜5分がよく、硬化樹脂の硬化効率、作業効率とから3秒〜2分がより好ましい。   The coating liquid containing the cured resin is coated and dried, and then cured by ultraviolet irradiation with an ultraviolet light source. The irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes, and from the curing efficiency and working efficiency of the cured resin, 3 seconds to Two minutes is more preferable.

無端ベルト状の基体の上に形成された弾性体層の上に3次元硬化樹脂層を形成する方法としては、例えば樹脂層用の塗布液が収容されている槽中に、円筒の芯材に弾性層までが形成された環状の無端ベルト状の樹脂基体をセットし、垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、塗布液中から引上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理(例えば60℃×60分間〜150℃×60分間)及び硬化処理を行い、3次元架橋性樹脂層を作製する。   As a method of forming a three-dimensional cured resin layer on an elastic body layer formed on an endless belt-like substrate, for example, in a tank containing a coating solution for the resin layer, a cylindrical core material is used. An annular endless belt-like resin substrate formed up to the elastic layer is set, put in a vertically standing state, and immersed. At this time, after dipping is repeated several times to form a coating film having a predetermined thickness, the coating solution is pulled up. Next, after drying and removing the solvent, heat treatment (for example, 60 ° C. × 60 minutes to 150 ° C. × 60 minutes) and curing treatment are performed to produce a three-dimensional crosslinkable resin layer.

3次元架橋性樹脂層の膜厚は、1μm〜100μmが好ましく、更に2μm〜30μmが好ましい。   The film thickness of the three-dimensional crosslinkable resin layer is preferably 1 μm to 100 μm, and more preferably 2 μm to 30 μm.

(応力調整手段)
本発明では3次元架橋性樹脂層の形成中または形成後に表面に応力調整手段を設けることを特徴とする。これについて説明する。
(1)無機微粒子含有層を設ける方法
応力調整手段として3次元架橋性樹脂層の表面近傍に無機微粒子含有層を設けることができる。
(Stress adjustment means)
The present invention is characterized in that stress adjusting means is provided on the surface during or after the formation of the three-dimensional crosslinkable resin layer. This will be described.
(1) Method of providing inorganic fine particle-containing layer As a stress adjusting means, an inorganic fine particle-containing layer can be provided in the vicinity of the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer.

表面近傍とは全3次元架橋性樹脂層の表面から厚みで30%以内の層が無機微粒子含有層であることをいう。   The vicinity of the surface means that the layer within 30% by thickness from the surface of the entire three-dimensional crosslinkable resin layer is an inorganic fine particle-containing layer.

具体的には無機微粒子を含有する3次元架橋性樹脂を下層である3次元架橋性樹脂層の形成後に重層または同時に重層することで得られる。   Specifically, it is obtained by forming a three-dimensional crosslinkable resin containing inorganic fine particles after the formation of the lower layer of the three-dimensional crosslinkable resin layer, or by layering simultaneously.

本発明に係る3次元架橋性樹脂層に適用できる無機微粒子としては、例えば、Si、Ti、Mg、Ca、Zr、Sn、Sb、As、Zn、Nb、In、Alから選択される金属の酸化物微粒子が好ましく、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、本発明においては、無機粒子として、酸化珪素を用いることが好ましい。   Examples of inorganic fine particles applicable to the three-dimensional crosslinkable resin layer according to the present invention include oxidation of a metal selected from Si, Ti, Mg, Ca, Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, and Al. In particular, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined Mention may be made of calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. In particular, in the present invention, it is preferable to use silicon oxide as the inorganic particles.

本発明に好ましく適用することができる酸化珪素微粒子は、富士シリシア化学(株)製のサイリシア、日本シリカ(株)製のNipsil E、日本アエロジル(株)製のアエロジルシリーズ、日産化学工業(株)製のコロイダルシリカ、オルガノシリカゾル等を適用することができる。   The silicon oxide fine particles that can be preferably applied to the present invention include: Silicia manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., Nippon Sil manufactured by Nippon Silica Co., Ltd., Aerosil series manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., Nissan Chemical Industries, Ltd. Colloidal silica, organosilica sol and the like manufactured by the method can be applied.

本発明に係る3次元架橋性樹脂層に適用できる無機微粒子の平均粒子径としては、5nm以上、1.0μm以下であることが好ましく、更に好ましくは5nm以上、500nm以下である。無機微粒子の平均粒子径は、無機微粒子を電子顕微鏡で観察し、100個の任意の一次粒子の粒径を求め、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子径はその投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。   The average particle size of the inorganic fine particles applicable to the three-dimensional crosslinkable resin layer according to the present invention is preferably 5 nm or more and 1.0 μm or less, more preferably 5 nm or more and 500 nm or less. The average particle diameter of the inorganic fine particles is obtained as a simple average value (number average) by observing the inorganic fine particles with an electron microscope and determining the particle diameter of 100 arbitrary primary particles. Here, each particle diameter is expressed by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

本発明に係る3次元架橋性樹脂層において、無機微粒子含有層における無機微粒子の含有量は、3次元架橋性樹脂(紫外線硬化樹脂)に対して0.1〜50質量%とすることが好ましく、更には10〜30質量%が予路好ましい。微粒子含有3次元架橋性樹脂層は下層の3次元架橋性樹脂層の膜厚の1〜30%以下、より好ましくは5〜10%で設けることが好ましい。   In the three-dimensional crosslinkable resin layer according to the present invention, the content of the inorganic fine particles in the inorganic fine particle-containing layer is preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the three-dimensional crosslinkable resin (ultraviolet curable resin). Furthermore, 10-30% by mass is preferable. The fine particle-containing three-dimensional crosslinkable resin layer is preferably provided at 1 to 30% or less, more preferably 5 to 10% of the film thickness of the lower three-dimensional crosslinkable resin layer.

また微粒子含有層は多層構造としても良く、微粒子含有率の異なる層を複数層設けることが好ましい。また微粒子含有率を連続的に変化させても良い。微粒子含有率は表層ほど高くなることが好ましい。
(2)酸化チタン層を設ける方法
本発明の別の形態として、酸化チタン系薄膜層を応力調整手段とすることができる。
The fine particle-containing layer may have a multilayer structure, and it is preferable to provide a plurality of layers having different fine particle contents. The fine particle content may be continuously changed. It is preferable that the fine particle content increases as the surface layer increases.
(2) Method of providing a titanium oxide layer As another embodiment of the present invention, a titanium oxide thin film layer can be used as a stress adjusting means.

酸化チタン層は気相法、液相法いずれの方法でも形成することができる。気相法の場合、特に好ましくはプラズマCVD法が好ましい。   The titanium oxide layer can be formed by either a vapor phase method or a liquid phase method. In the case of the gas phase method, the plasma CVD method is particularly preferable.

チタン化合物としては、テトラジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどを用いることが好ましいがこれらに限定されない。   Titanium compounds include organometallic compounds such as tetradimethylaminotitanium, metal hydrogen compounds such as monotitanium and dititanium, metal halogen compounds such as titanium dichloride, titanium trichloride, and titanium tetrachloride, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium It is preferable to use a metal alkoxide such as tetrabutoxytitanium, but is not limited thereto.

また塗布により形成する場合は金属成分がTiであるアルコキシドを使用して公知のゾルゲル法により形成しても良い。チタニウムアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシチタニウムTi(O−CH、テトラエトキシチタニウムTi(O−C、テトライソプロポキシチタニウムTi(O−iso−C、テトラnブトキシチタニウムTi(O−C等を適宜使用できる。 Moreover, when forming by application | coating, you may form by the well-known sol-gel method using the alkoxide whose metal component is Ti. Specific examples of the titanium alkoxide include tetramethoxytitanium Ti (O—CH 3 ) 4 , tetraethoxytitanium Ti (O—C 2 H 5 ) 4 , tetraisopropoxytitanium Ti (O-iso-C 3 H 7 ) 4. Tetra n-butoxy titanium Ti (O—C 4 H 9 ) 4 or the like can be used as appropriate.

ここで酸化チタン層には原料由来の有機成分が残っていても構わない。
(3)シランカップリング剤含有層を設ける方法
本発明の別の実施態様として、応力調整手段として3次元架橋性樹脂層の表面近傍にシランカップリング剤含有層を設けることができる。
Here, the organic component derived from the raw material may remain in the titanium oxide layer.
(3) Method of providing silane coupling agent-containing layer As another embodiment of the present invention, a silane coupling agent-containing layer can be provided near the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer as a stress adjusting means.

ここでも表面近傍とは全3次元架橋性樹脂層の表面から厚みで30%以内の層がシランカップリング剤含有層であることをいう。   Here, the vicinity of the surface means that a layer within 30% by thickness from the surface of the all three-dimensional crosslinkable resin layer is a silane coupling agent-containing layer.

具体的にはシランカップリング剤を含有する3次元架橋性樹脂を下層である3次元架橋性樹脂層形成後に重層または同時に重層することで得られる。   Specifically, it is obtained by forming a three-dimensional crosslinkable resin containing a silane coupling agent in layers or simultaneously after forming a three-dimensional crosslinkable resin layer as a lower layer.

シランカップリング剤としては特に限定はなく反応基として、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などを有するシランカップリング剤を適宜選定することができるが、本発明においては特にアミノ系シランカップリング剤が好ましい。   There is no particular limitation on the silane coupling agent, and a silane coupling agent having a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, or the like as a reactive group can be appropriately selected. A silane coupling agent is preferred.

アミノ系シランカップリング剤の具体例としては、
N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(ビニルベンジル)−β−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩などが挙げられる。
Specific examples of amino silane coupling agents include:
N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β- (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, γ- Examples thereof include aminopropyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and N- (vinylbenzyl) -β-aminoethyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride.

また、本発明に係るアミノ系シランカップリング剤はエポキシシランカップリング剤と混合して使用することができる。エポキシシランカップリング剤の具体例としてはβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。   The amino silane coupling agent according to the present invention can be used by mixing with an epoxy silane coupling agent. Specific examples of the epoxy silane coupling agent include β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and γ-glycid. Examples include xylpropyltriethoxysilane.

本発明において、シランカップリング剤含有層における3次元架橋性樹脂に対するシランカップリング剤の添加量は、層総量の0.1〜10質量%とされる。これは、シランカップリング剤添加量が0.1質量%未満では接着力に乏しいし、10質量%を越えると、均一に塗膜が形成しにくくなるためである。   In this invention, the addition amount of the silane coupling agent with respect to the three-dimensional crosslinkable resin in a silane coupling agent content layer shall be 0.1-10 mass% of a layer total amount. This is because when the addition amount of the silane coupling agent is less than 0.1% by mass, the adhesive strength is poor, and when it exceeds 10% by mass, it is difficult to form a coating film uniformly.

シランカップリング剤含有3次元架橋性樹脂層は下層の3次元架橋性樹脂層の膜厚の1〜30%以下、より好ましくは5〜10%で設けることが好ましい。   The silane coupling agent-containing three-dimensional crosslinkable resin layer is preferably provided at 1 to 30% or less, more preferably 5 to 10% of the film thickness of the lower three-dimensional crosslinkable resin layer.

またシランカップリング剤含有層は多層構造としても良く、微粒子含有率の異なる層を複数層設けることが好ましい。微粒子含有率は表層ほど高くなることが好ましい。
(4)3次元架橋性樹脂層の硬化前に無機化合物層のコーティングを行う方法
本発明の別の実施態様として、応力調整手段として3次元架橋性樹脂層形成後、硬化処理前または硬化処理途中の段階で無機化合物含有層をコーティングし、その後2次的な硬化処理を行うことにより応力調整手段とすることができる。
The silane coupling agent-containing layer may have a multilayer structure, and it is preferable to provide a plurality of layers having different fine particle contents. It is preferable that the fine particle content increases as the surface layer increases.
(4) Method of coating inorganic compound layer before curing of three-dimensional crosslinkable resin layer As another embodiment of the present invention, after forming a three-dimensional crosslinkable resin layer as a stress adjusting means, before curing treatment or during curing treatment By coating the inorganic compound-containing layer at the stage, and then performing a secondary curing treatment, a stress adjusting means can be obtained.

更に好ましくは3次元架橋性樹脂層形成後(硬化後)に応力調整用として3次元架橋性樹脂層を積層し、硬化前に後述する表層(無機化合物層)の一部を形成することができる。界面において硬化処理時に相互作用が起こるため、3次元架橋性樹脂層と無機化合物層との接着性が強固となり、上下層間の応力緩和作用をもたらす。   More preferably, a three-dimensional crosslinkable resin layer is laminated for stress adjustment after the three-dimensional crosslinkable resin layer is formed (after curing), and a part of a surface layer (inorganic compound layer) described later can be formed before curing. . Since the interaction occurs at the interface during the curing process, the adhesion between the three-dimensional crosslinkable resin layer and the inorganic compound layer is strengthened, and the stress relaxation action between the upper and lower layers is brought about.

具体的な態様としては、3次元架橋性樹脂層塗布液を塗布・乾燥後、硬化前に、例えば無機化合物層を、大気圧プラズマ法、スパッタ法等によって形成する。これにより3次元架橋性樹脂塗布層も一部硬化するが、界面における両層の相互作用が同時に起こり、界面近傍においての相互の混合が起こると考えられ、3次元架橋性樹脂層富む基化合物層との接着性が向上する。   As a specific embodiment, for example, an inorganic compound layer is formed by an atmospheric pressure plasma method, a sputtering method or the like after applying / drying the three-dimensional crosslinkable resin layer coating solution and before curing. This also partially cures the three-dimensional crosslinkable resin coating layer, but it is considered that the interaction of both layers at the interface occurs at the same time and the mutual mixing occurs in the vicinity of the interface. Adhesiveness is improved.

無機化合物層の形成は後述する無機化合物層と同様に作製すればよく、スパッタ法、またプラズマCVD法等でよいが、これに限らず、例えば、テトラアルコキシシラン等の金属化合物を用いたゾルゲル法によって形成しても良い。その後、光照射により架橋処理を行って、3次元架橋性樹脂層を形成する。   The inorganic compound layer may be formed in the same manner as the inorganic compound layer described later, and may be a sputtering method, a plasma CVD method, or the like, but is not limited thereto, for example, a sol-gel method using a metal compound such as tetraalkoxysilane May be formed. Thereafter, a crosslinking treatment is performed by light irradiation to form a three-dimensional crosslinkable resin layer.

(無機化合物層)
無機化合物層はIn、Sn、Cd、Zn、Al、Sb、Ge、W、Mo、Si、Zr、Ce、Mg、Tiから選ばれる少なくとも1種の金属酸化物、金属窒化物もしくは金属酸化窒化物から形成されていることが好ましく、特にAl、Si、Tiが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化チタン、酸化窒化チタン、窒化チタン、酸化アルミニウム等が挙げられる。更に酸化珪素または炭素を含有する酸化珪素が最も好ましい。
(Inorganic compound layer)
The inorganic compound layer is at least one metal oxide, metal nitride, or metal oxynitride selected from In, Sn, Cd, Zn, Al, Sb, Ge, W, Mo, Si, Zr, Ce, Mg, and Ti. Preferably, Al, Si, and Ti are preferable. Specific examples include silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, titanium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, and aluminum oxide. Furthermore, silicon oxide or silicon oxide containing carbon is most preferable.

無機化合物層の厚さは、耐久性、表面強度、樹脂層との密着性、屈曲耐性、成膜時間等を考慮し、50nm〜1000nmが好ましい。より好ましくは200nm〜500nmである。   The thickness of the inorganic compound layer is preferably 50 nm to 1000 nm in consideration of durability, surface strength, adhesion to the resin layer, bending resistance, film formation time, and the like. More preferably, it is 200 nm-500 nm.

無機化合物層の膜厚は、「MXP21」(マックサイエンス社製)を用いて測定して得られた値である。具体的な膜厚の測定は、以下の方法で行うことができる。X線源のターゲットには銅を用い、42kV、500mAで作動させる。インシデントモノクロメータには多層膜パラボラミラーを用いる。入射スリットは0.05mm×5mm、受光スリットは0.03mm×20mmを用いる。2θ/θスキャン方式で0から5°をステップ幅0.005°、1ステップ10秒のFT法にて測定を行う。得られた反射率曲線に対し、マックサイエンス社製Reflectivity Analysis Program Ver.1を用いてカーブフィッティングを行い、実測値とフィッティングカーブの残差平方和が最小になるように各パラメータを求める。各パラメータから積層膜の膜厚を求める。   The film thickness of the inorganic compound layer is a value obtained by measurement using “MXP21” (manufactured by Mac Science). A specific measurement of the film thickness can be performed by the following method. Copper is used as the target of the X-ray source and it is operated at 42 kV and 500 mA. A multilayer parabolic mirror is used for the incident monochromator. The incident slit is 0.05 mm × 5 mm, and the light receiving slit is 0.03 mm × 20 mm. Measurement is performed by the FT method with a step width of 0.005 ° and a step of 10 seconds from 0 to 5 ° in the 2θ / θ scan method. With respect to the obtained reflectance curve, Reflectivity Analysis Program Ver. Curve fitting is performed using 1, and each parameter is obtained so that the residual sum of squares of the actual measurement value and the fitting curve is minimized. The film thickness of the laminated film is obtained from each parameter.

無機化合物層の形成方法は特に限定はなく、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のPVD法(物理蒸着法)、CVD法(化学蒸着法)、プラズマCVD法、大気圧プラズマCVD法等が挙げられる。これらの形成方法の中で樹脂層との密着性を考慮し大気圧プラズマCVD法が特に好ましい。
(1)大気圧プラズマCVD法による無機化合物層の形成
ベルト状の本発明の中間転写体に係る無機化合物層を大気圧プラズマCVD法により形成する装置について次に説明する。本発明でいう大気圧もしくはその近傍の圧力というのは、20kPa〜200kPaの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るためには90kPa〜110kPa程度であり、特に93kPa〜104kPaが好ましい。
The method for forming the inorganic compound layer is not particularly limited. For example, PVD method (physical vapor deposition method) such as sputtering method, vacuum vapor deposition method, ion plating method, CVD method (chemical vapor deposition method), plasma CVD method, atmospheric pressure plasma CVD. Law. Among these forming methods, the atmospheric pressure plasma CVD method is particularly preferable in consideration of adhesion to the resin layer.
(1) Formation of Inorganic Compound Layer by Atmospheric Pressure Plasma CVD Method Next, an apparatus for forming an inorganic compound layer according to the belt-like intermediate transfer member of the present invention by the atmospheric pressure plasma CVD method will be described. The atmospheric pressure in the present invention or a pressure in the vicinity thereof represents a pressure of 20 kPa to 200 kPa, but is preferably about 90 kPa to 110 kPa, and particularly preferably 93 kPa to 104 kPa in order to obtain the effects described in the present invention.

図4は、ベルト状の中間転写体である中間転写ベルトの無機化合物層を大気圧プラズマCVD法により形成する製造装置の模式図である。   FIG. 4 is a schematic view of a manufacturing apparatus for forming an inorganic compound layer of an intermediate transfer belt, which is a belt-shaped intermediate transfer body, by an atmospheric pressure plasma CVD method.

図中、9は製造装置を示す。製造装置9は大気圧プラズマCVD装置9aと材料供給装置9bとを有している。大気圧プラズマCVD装置9aは、ロール電極9a1と、ロール電極9a1の外周に沿って配列された少なくとも1式の固定電極9a2と、混合ガス供給装置9a3と、放電容器9a4と、高周波電源9a5と、排気管9a6とを有している。9a7は固定電極9a2とロール電極9a1との対向領域で、且つ放電が行われる放電空間を示す。図示しないが、安定な放電を行うために固定電極9a2、ロール電極9a1のうち少なくとも一方の放電領域に対する表面には誘電体を配置することが必要であり、両方に配置することがより好ましい。誘電体は酸化アルミニウムや、酸化チタンなどのセラミックを適宜選定することができる。尚、固定電極9a2のロール電極9a1と対向する面はロール電極9a1との距離を一定にするためロール電極9a1の表面の曲率と同じにすることが好ましい。   In the figure, 9 indicates a manufacturing apparatus. The manufacturing apparatus 9 includes an atmospheric pressure plasma CVD apparatus 9a and a material supply apparatus 9b. The atmospheric pressure plasma CVD apparatus 9a includes a roll electrode 9a1, at least one set of fixed electrodes 9a2 arranged along the outer periphery of the roll electrode 9a1, a mixed gas supply device 9a3, a discharge vessel 9a4, a high-frequency power source 9a5, And an exhaust pipe 9a6. Reference numeral 9a7 denotes a discharge space where discharge is performed in a region where the fixed electrode 9a2 and the roll electrode 9a1 face each other. Although not shown, it is necessary to dispose a dielectric on the surface of at least one of the fixed electrode 9a2 and the roll electrode 9a1 in order to perform stable discharge, and it is more preferable to dispose them on both. As the dielectric, a ceramic such as aluminum oxide or titanium oxide can be appropriately selected. The surface of the fixed electrode 9a2 facing the roll electrode 9a1 is preferably the same as the curvature of the surface of the roll electrode 9a1 in order to keep the distance from the roll electrode 9a1 constant.

混合ガス供給装置9a3からは、少なくとも原料ガスと放電ガスとの混合ガスGを生成して放電容器9a4に混合ガスGが供給される。放電容器9a4により放電空間9a8等に空気の流入することが軽減されている。   From the mixed gas supply device 9a3, a mixed gas G of at least a raw material gas and a discharge gas is generated, and the mixed gas G is supplied to the discharge vessel 9a4. The discharge vessel 9a4 reduces the inflow of air into the discharge space 9a8.

高周波電源9a5は固定電極9a2に接続され、排気管9a7からは使用済みの排ガスG′が排気される。   The high-frequency power source 9a5 is connected to the fixed electrode 9a2, and the used exhaust gas G 'is exhausted from the exhaust pipe 9a7.

混合ガス供給装置9a3からは無機化合物層の膜を形成する原料ガスと、窒素ガス或いはアルゴンガス等の希ガスを混合した混合ガスが放電容器9a4に供給される。又、酸化還元反応による反応促進のための酸素ガス又は水素ガスを混合することがより好ましい。   From the mixed gas supply device 9a3, a mixed gas obtained by mixing a raw material gas for forming an inorganic compound layer film and a rare gas such as nitrogen gas or argon gas is supplied to the discharge vessel 9a4. Moreover, it is more preferable to mix oxygen gas or hydrogen gas for promoting the reaction by the oxidation-reduction reaction.

高周波電源に電圧を印加することにより、固定電極9a2とロール電極9a1との電極間に混合ガスGがプラズマ化(励起)され、混合ガスGに含まれる原料ガスに応じた膜(無機化合物層70d(図3参照))が材料Fの樹脂層の上に堆積され、図3に示すベルト状の中間転写体である中間転写ベルト70が製造される。この様にして形成される無機化合物層は、炭素含有率が、最下層から最上層にかけて順次減少した複数層を形成することも可能である。   By applying a voltage to the high-frequency power source, the mixed gas G is turned into plasma (excited) between the electrodes of the fixed electrode 9a2 and the roll electrode 9a1, and a film (inorganic compound layer 70d) corresponding to the source gas contained in the mixed gas G (See FIG. 3) is deposited on the resin layer of the material F, and the intermediate transfer belt 70 which is a belt-like intermediate transfer member shown in FIG. 3 is manufactured. The inorganic compound layer formed in this way can also form a plurality of layers in which the carbon content gradually decreases from the lowermost layer to the uppermost layer.

利用可能な高周波電源9a5としては特に限定はなく、例えばパール工業製CF−5000−13M等を使用することができる。   There is no limitation in particular as the high frequency power supply 9a5 which can be utilized, For example, CF-5000-13M by the pearl industry etc. can be used.

高周波電源9a5に供給する電力は、固定電極9a2に1W/cm以上の電力(出力密度)を供給し、放電ガスを励起してプラズマを発生させ、薄膜を形成する。固定電極9a2に供給する電力の上限値としては、好ましくは50W/cm、より好ましくは20W/cmである。下限値は、好ましくは1.2W/cmである。尚、放電面積(cm)は、電極において放電が起こる範囲の面積のことを指す。 The power supplied to the high-frequency power source 9a5 supplies power (output density) of 1 W / cm 2 or more to the fixed electrode 9a2, excites the discharge gas to generate plasma, and forms a thin film. The upper limit value of the power supplied to the fixed electrode 9a2 is preferably 50 W / cm 2 , more preferably 20 W / cm 2 . The lower limit is preferably 1.2 W / cm 2 . The discharge area (cm 2 ) refers to an area in a range where discharge occurs in the electrode.

ここで高周波電界の波形としては、特に限定されない。連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続発振モードと、パルスモードと呼ばれるON/OFFを断続的に行う断続発振モード等があり、そのどちらを採用してもよいが、連続サイン波の方がより緻密で良質な膜が得られるので好ましい。   Here, the waveform of the high-frequency electric field is not particularly limited. There are a continuous sine wave continuous oscillation mode called continuous mode and an intermittent oscillation mode called ON / OFF intermittently called pulse mode. Either of them can be used, but continuous sine wave is more precise It is preferable because a good quality film can be obtained.

尚、複数の固定電極9a2の内、ロール電極9a1の回転方向下流側に位置する複数の固定電極9a2と混合ガス供給装置9a3で無機化合物層を積み重ねるように堆積し、無機化合物層の厚さを調整するようにしてもよい。   Of the plurality of fixed electrodes 9a2, the plurality of fixed electrodes 9a2 positioned on the downstream side in the rotation direction of the roll electrode 9a1 and the mixed gas supply device 9a3 are stacked so that the inorganic compound layers are stacked, and the thickness of the inorganic compound layer is set. You may make it adjust.

又、図示しないが、混合ガス供給装置9a3からの混合ガスを直接放電空間9a8に供給するようにし、ロール電極9a1の回転方向最下流側に位置する固定電極9a2と混合ガス供給装置9a3で無機化合物層を堆積し、より上流に位置する他の固定電極9a2と混合ガス供給装置9a3で、例えば無機化合物層と樹脂層との接着性を向上させる接着層等、他の層を形成してもよい。   Although not shown, the mixed gas from the mixed gas supply device 9a3 is directly supplied to the discharge space 9a8, and the fixed electrode 9a2 positioned on the most downstream side in the rotation direction of the roll electrode 9a1 and the mixed gas supply device 9a3 Other layers such as an adhesive layer that improves the adhesion between the inorganic compound layer and the resin layer, for example, may be formed by depositing the layers and using the other fixed electrode 9a2 and the mixed gas supply device 9a3 located further upstream. .

又、無機化合物層70d(図3参照)と樹脂層70c(図3参照)との接着性を向上させるために、無機化合物層70d(図2参照)を形成する固定電極9a2と混合ガス供給装置9a3の上流に、アルゴンや酸素などのガスを供給するガス供給装置と固定電極を設けてプラズマ処理を行い、樹脂層70c(図3参照)の表面を活性化させるようにしてもよい。   Further, in order to improve the adhesion between the inorganic compound layer 70d (see FIG. 3) and the resin layer 70c (see FIG. 3), the fixed electrode 9a2 for forming the inorganic compound layer 70d (see FIG. 2) and the mixed gas supply device A gas supply device that supplies a gas such as argon or oxygen and a fixed electrode may be provided upstream of 9a3 to perform plasma treatment to activate the surface of the resin layer 70c (see FIG. 3).

材料供給装置9bは、従動ローラ9b1と、従動ローラ9b1を牽引(図中の矢印方向)する張力付与手段9b2とを有している。無端のベルト状の材料Fはロール電極9a1と従動ローラ9b1とで保持され、張力付与手段9b2により所定の張力が掛けられ、ロール電極9a1の回動(図中の矢印方向)に伴い従動ローラ9b1を介して回転するように張架された状態になっている。張力付与手段9b2は材料Fの掛け替え時等は張力の付与を解除し、材料Fの掛け替え等を容易にしている。本図に示す材料Fは、図3に示す中間転写ベルト70の応力調整手段迄が形成(基体70a/弾性層70b/樹脂層70c/応力調整手段70e)された状態の材料を示す。   The material supply device 9b includes a driven roller 9b1 and tension applying means 9b2 that pulls the driven roller 9b1 (in the direction of the arrow in the drawing). The endless belt-shaped material F is held by the roll electrode 9a1 and the driven roller 9b1, is applied with a predetermined tension by the tension applying means 9b2, and is driven by the rotation of the roll electrode 9a1 (in the direction of the arrow in the drawing). It is in a state where it is stretched so as to rotate through. The tension applying means 9b2 cancels the application of the tension at the time of changing the material F, etc., so that the material F is easily changed. The material F shown in this figure shows a material in a state where the layers up to the stress adjusting means of the intermediate transfer belt 70 shown in FIG. 3 are formed (base 70a / elastic layer 70b / resin layer 70c / stress adjusting means 70e).

図4に示す大気圧プラズマCVD法により形成する製造装置で使用する放電ガスとは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等及びそれらの混合物などが挙げられる。これらの中でも窒素、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられ、特に窒素がコストも安く好ましい。   The discharge gas used in the manufacturing apparatus formed by the atmospheric pressure plasma CVD method shown in FIG. 4 means a gas that is plasma-excited under the above conditions, such as nitrogen, argon, helium, neon, krypton, xenon, and the like. A mixture etc. are mentioned. Among these, nitrogen, helium, and argon are preferably used, and nitrogen is particularly preferable because of low cost.

又、無機層を形成するための原料ガスとしては、常温で気体又は液体の有機金属化合物、特にアルキル金属化合物や金属アルコキシド化合物、有機金属錯体化合物が用いられる。これら原料における相状態は常温常圧において必ずしも気相である必要はなく、混合ガス供給装置で加熱或いは減圧等により溶融、蒸発、昇華等を経て気化し得るものであれば、液相でも固相でも使用可能である。   As the raw material gas for forming the inorganic layer, a gaseous or liquid organometallic compound, particularly an alkyl metal compound, a metal alkoxide compound, or an organometallic complex compound is used at room temperature. The phase state in these raw materials does not necessarily need to be a gas phase at normal temperature and normal pressure, and any liquid phase or solid phase can be used as long as it can be vaporized through heating, decompression, etc. through melting, evaporation, sublimation, etc. But it can be used.

原料ガスとしては、放電空間でプラズマ状態となり、薄膜を形成する成分を含有するものであり、有機金属化合物、有機化合物、無機化合物等である。   The source gas contains a component that is in a plasma state in the discharge space and forms a thin film, and is an organometallic compound, an organic compound, an inorganic compound, or the like.

例えば、ケイ素化合物として、シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン(TEOS)、テトラn−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−ブトキシシラン、テトラt−ブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、ビス(ジメチルアミノ)ジメチルシラン、ビス(ジメチルアミノ)メチルビニルシラン、ビス(エチルアミノ)ジメチルシラン、N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(トリメチルシリル)カルボジイミド、ジエチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノジメチルシラン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘプタメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、テトラキスジメチルアミノシラン、テトライソシアナートシラン、テトラメチルジシラザン、トリス(ジメチルアミノ)シラン、トリエトキシフルオロシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、ベンジルトリメチルシラン、ビス(トリメチルシリル)アセチレン、1,4−ビストリメチルシリル−1,3−ブタジイン、ジ−t−ブチルシラン、1,3−ジシラブタン、ビス(トリメチルシリル)メタン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、フェニルジメチルシラン、フェニルトリメチルシラン、プロパルギルトリメチルシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシリルアセチレン、1−(トリメチルシリル)−1−プロピン、トリス(トリメチルシリル)メタン、トリス(トリメチルシリル)シラン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルシクロテトラシロキサン、Mシリケート51などが挙げられるがこれらに限定されない。   For example, as a silicon compound, silane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane (TEOS), tetra n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra n-butoxysilane, tetra t-butoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane , Diethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl) trimethoxysilane, hexamethyldisiloxane, bis (dimethylamino) dimethyl Silane, bis (dimethylamino) methylvinylsilane, bis (ethylamino) dimethylsilane, N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide, bis (trimethylsilyl) carbodiimi , Diethylaminotrimethylsilane, dimethylaminodimethylsilane, hexamethyldisilazane, hexamethylcyclotrisilazane, heptamethyldisilazane, nonamethyltrisilazane, octamethylcyclotetrasilazane, tetrakisdimethylaminosilane, tetraisocyanatosilane, tetramethyldisilazane , Tris (dimethylamino) silane, triethoxyfluorosilane, allyldimethylsilane, allyltrimethylsilane, benzyltrimethylsilane, bis (trimethylsilyl) acetylene, 1,4-bistrimethylsilyl-1,3-butadiyne, di-t-butylsilane, 1,3-disilabutane, bis (trimethylsilyl) methane, cyclopentadienyltrimethylsilane, phenyldimethylsilane, phenyltrimethylsila , Propargyltrimethylsilane, tetramethylsilane, trimethylsilylacetylene, 1- (trimethylsilyl) -1-propyne, tris (trimethylsilyl) methane, tris (trimethylsilyl) silane, vinyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, octamethylcyclotetrasiloxane, tetramethyl Examples include, but are not limited to, cyclotetrasiloxane, hexamethylcyclotetrasiloxane, M silicate 51, and the like.

チタン化合物としては、テトラジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシドなどが挙げられるがこれらに限定されない。   Titanium compounds include organometallic compounds such as tetradimethylaminotitanium, metal hydrogen compounds such as monotitanium and dititanium, metal halogen compounds such as titanium dichloride, titanium trichloride, and titanium tetrachloride, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium And metal alkoxides such as tetrabutoxytitanium, but are not limited thereto.

アルミニウム化合物としては、アルミニウムn−ブトキシド、アルミニウムs−ブトキシド、アルミニウムt−ブトキシド、アルミニウムジイソプロポキシドエチルアセトアセテート、アルミニウムエトキシド、アルミニウムヘキサフルオロペンタンジオネート、アルミニウムイソプロポキシド、4−ペンタンジオネート、ジメチルアルミニウムクロライドなどが挙げられるがこれらに限定されない。   As aluminum compounds, aluminum n-butoxide, aluminum s-butoxide, aluminum t-butoxide, aluminum diisopropoxide ethyl acetoacetate, aluminum ethoxide, aluminum hexafluoropentanedionate, aluminum isopropoxide, 4-pentanedionate Dimethylaluminum chloride and the like, but are not limited thereto.

又、これらの原料は、単独で用いてもよいが、2種以上の成分を混合して使用するようにしてもよい。   These raw materials may be used alone, or two or more kinds of components may be mixed and used.

本発明においては、これらの大気圧プラズマ法により形成される酸化珪素を無機化合物層として用いることが好ましい。   In the present invention, it is preferable to use silicon oxide formed by these atmospheric pressure plasma methods as the inorganic compound layer.

無機化合物層は少なくとも2層で形成してもよい。2層の場合、上層の厚さは、10nm〜300nmであることが好ましい。下層の厚さは、10nm〜500nmであることが好ましい。この様にすることで、更なる耐久効果が得られる。   The inorganic compound layer may be formed of at least two layers. In the case of two layers, the thickness of the upper layer is preferably 10 nm to 300 nm. The thickness of the lower layer is preferably 10 nm to 500 nm. In this way, a further durability effect can be obtained.

無機化合物層が2層から構成されている場合、下層の炭素含有率(炭素原子数濃度)は0.5原子数濃度%〜10原子数濃度%、最上層の炭素含有率(炭素原子数濃度)は0.1原子数濃度%以下であることが好ましい。   When the inorganic compound layer is composed of two layers, the lower layer carbon content (carbon atom number concentration) is 0.5 atom concentration% to 10 atom concentration%, and the uppermost layer carbon content (carbon atom concentration). ) Is preferably 0.1 atomic percent concentration% or less.

本発明でいう炭素含有率を示す原子数濃度とは、下記のXPS法によって算出されるもので、以下に定義される。   The atomic number concentration indicating the carbon content in the present invention is calculated by the following XPS method and is defined below.

原子数濃度%(atomic concentration)=炭素原子の個数/全原子の個数×100
XPS表面分析装置は、本発明では、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200Rを用いた。具体的には、X線アノードにはMgを用い、出力600W(加速電圧15kV、エミッション電流40mA)で測定した。エネルギー分解能は、清浄なAg3d5/2ピークの半値幅で規定したとき、1.5eV〜1.7eVとなるように設定した。
Atomic concentration% = number of carbon atoms / number of all atoms × 100
In the present invention, the XPS surface analyzer used ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific. Specifically, Mg was used for the X-ray anode, and measurement was performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA). The energy resolution was set to be 1.5 eV to 1.7 eV when defined by the half width of a clean Ag3d5 / 2 peak.

測定としては、先ず、結合エネルギー0eV〜1100eVの範囲を、データ取り込み間隔1.0eVで測定し、いかなる元素が検出されるかを求めた。   As a measurement, first, the range of the binding energy of 0 eV to 1100 eV was measured at a data acquisition interval of 1.0 eV to determine what elements were detected.

次に、検出された、エッチングイオン種を除く全ての元素について、データの取り込み間隔を0.2eVとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンをおこない、各元素のスペクトルを測定した。   Next, with respect to all the detected elements except the etching ion species, the data acquisition interval was set to 0.2 eV, and the photoelectron peak giving the maximum intensity was subjected to narrow scan, and the spectrum of each element was measured.

得られたスペクトルは、測定装置、あるいは、コンピュータの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、VAMAS−SCA−JAPAN製のCOMMON DATA PROCESSING SYSTEM(Ver.2.3以降が好ましい)上に転送した後、同ソフトで処理をおこない、各分析ターゲットの元素(炭素、酸素、ケイ素、チタン等)の含有率の値を原子数濃度(atomic concentration:at%)として求めた。   The obtained spectrum is COMMON DATA PROCESSING SYSTEM manufactured by VAMAS-SCA-JAPAN (preferably Ver. 2.3 or later) in order not to cause a difference in the content calculation result due to a difference in measuring apparatus or computer. After being transferred to the top, the processing was performed with the same software, and the content value of each analysis target element (carbon, oxygen, silicon, titanium, etc.) was determined as the atomic concentration (at%).

定量処理をおこなう前に、各元素についてCount Scaleのキャリブレーションをおこない、5ポイントのスムージング処理をおこなった。定量処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強度(cps*eV)を用いた。バックグラウンド処理には、Shirleyによる方法を用いた。このShirley法については、D.A.Shirley,Phys.Rev.,B5,4709(1972)を参考にすることができる。   Before performing the quantitative process, a calibration of the Scale Scale was performed for each element, and a 5-point smoothing process was performed. In the quantitative process, the peak area intensity (cps * eV) from which the background was removed was used. For the background treatment, the method by Shirley was used. For the Shirley method, see D.C. A. Shirley, Phys. Rev. , B5, 4709 (1972).

これら大気圧プラズマCVD法により形成する酸化珪素は、条件を選択することで、原料由来の炭素を含有する酸化珪素膜(炭素含有率(炭素原子数濃度)は0.5原子数濃度%〜10原子数濃度%)、また、炭素含有率(炭素原子数濃度)は0.1原子数濃度%以下の酸化珪素膜を形成することができる。   The silicon oxide formed by these atmospheric pressure plasma CVD methods can be selected by selecting conditions so that the silicon oxide film containing carbon derived from the raw material (carbon content (carbon atom number concentration) is 0.5 atom number concentration% to 10%. A silicon oxide film having an atomic number concentration%) and a carbon content (carbon atom number concentration) of 0.1 atomic number concentration% or less can be formed.

無機化合物層としては、酸化珪素と炭素含有酸化珪素層との2層膜のみでなくこれを複数層交互に積層した無機化合物層を用いても良い。   As the inorganic compound layer, not only a two-layer film of a silicon oxide and a carbon-containing silicon oxide layer but also an inorganic compound layer obtained by alternately laminating a plurality of layers may be used.

炭素含有酸化珪素と酸化珪素の積層からなるものはクラックなどが発生しにくく、耐久性に優れる。
(2)ポリシラザン膜からの無機化合物層の形成
本発明に係る無機化合物層は、加水分解性珪素化合物としてポリシラザン化合物を含有する塗布液を塗布することによって形成することもできる。好ましくはポリシラザンを溶解した溶液を塗布した中間転写体を、大気中もしくは、酸化雰囲気中で処理することにより得ることができる。本発明では好ましくは(SiN(a=1〜3、b=0〜1)の構造をもつペルヒドロポリシラザンが好ましい。該ポリシラザンは、ベンゼン、トルエン、キシレン、エーテル、THF、塩化メチレン、四塩化炭素等の溶媒に溶解でき、該ポリシラザンを溶解した後に塗布し、加熱することにより珪素酸化物層を得ることができる。この際、アミンや遷移金属等の触媒を添加することにより低温の処理をおこなうことができる。具体的には、AZエレクトロニックマテリアルズ(株)製 アクアミカ NAX120−20、NL110A、NL120A、NL150A、NP110、NP140、SP140などが挙げられる。
Those made of a laminate of carbon-containing silicon oxide and silicon oxide are less prone to cracks and have excellent durability.
(2) Formation of Inorganic Compound Layer from Polysilazane Film The inorganic compound layer according to the present invention can also be formed by applying a coating liquid containing a polysilazane compound as a hydrolyzable silicon compound. Preferably, the intermediate transfer member coated with a solution in which polysilazane is dissolved can be obtained by treatment in air or in an oxidizing atmosphere. In the present invention, perhydropolysilazane having a structure of (SiN a H b ) n (a = 1 to 3, b = 0 to 1) is preferable. The polysilazane can be dissolved in a solvent such as benzene, toluene, xylene, ether, THF, methylene chloride, carbon tetrachloride, and the silicon oxide layer can be obtained by coating and heating after dissolving the polysilazane. At this time, a low-temperature treatment can be performed by adding a catalyst such as amine or transition metal. Specific examples include Aquamica NAX120-20, NL110A, NL120A, NL150A, NP110, NP140, and SP140 manufactured by AZ Electronic Materials.

ポリシラザンの分子量(Mn)は100〜数万の範囲で使用することができるが、塗布用には分子量が5000以下のものが好ましい。   The molecular weight (Mn) of polysilazane can be used in the range of 100 to tens of thousands, but those having a molecular weight of 5000 or less are preferable for coating.

ポリシラザンを含む溶液から形成される無機化合物層の膜厚は、0.1〜2μmが好ましく、より好ましくは、0.2〜1μmである。膜厚が、0.1μmよりもあまり薄いと、均一な珪素酸化物層を得ることができず、また、2μmよりもあまり厚い膜は、膜の内部応力のために膜に亀裂が入るために好ましくない。   As for the film thickness of the inorganic compound layer formed from the solution containing polysilazane, 0.1-2 micrometers is preferable, More preferably, it is 0.2-1 micrometers. If the film thickness is much thinner than 0.1 μm, a uniform silicon oxide layer cannot be obtained, and a film thicker than 2 μm is cracked due to internal stress of the film. It is not preferable.

塗布方法としては、特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、スプレーコート法、ディップコート法等が挙げられる。   The coating method is not particularly limited, and examples thereof include spin coating, roll coating, spray coating, and dip coating.

(3)ゾルゲル法による形成
本発明の無機化合物層はゾルゲル法で形成しても良い。
(3) Formation by Sol-Gel Method The inorganic compound layer of the present invention may be formed by a sol-gel method.

ゾルゲル法は、金属の水酸化物の水和錯体(ゾル)を、酸触媒により加水分解及び/または加水分解及び重縮合させることにより得られるものである。まずチタン、ジルコニウム、鉛、亜鉛などの金属のメトキシド、エトキシド、プロポキシド、もしくはブトキシドなどのアルコキシドまたはアセテート化合物を酸などで加水分解して、ゾルを調製する。   The sol-gel method is obtained by hydrolyzing and / or hydrolyzing and polycondensing a hydration complex (sol) of a metal hydroxide with an acid catalyst. First, a sol is prepared by hydrolyzing an alkoxide or acetate compound such as methoxide, ethoxide, propoxide, or butoxide of a metal such as titanium, zirconium, lead, or zinc with an acid or the like.

次いで調製したゾルを塗布する。ゾルを塗布した後、これを一定温度下にて一定時間乾燥させ、ゾルの溶媒を蒸発させる。乾燥温度は100℃以上、200℃以下であることが好ましく、乾燥時間は5分以上、120分以下であることが好ましい。   The prepared sol is then applied. After applying the sol, it is dried at a constant temperature for a certain period of time to evaporate the solvent of the sol. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more and 200 ° C. or less, and the drying time is preferably 5 minutes or more and 120 minutes or less.

以下、ゾルゲル反応によって得られる金属酸化物について説明する。   Hereinafter, the metal oxide obtained by the sol-gel reaction will be described.

ゾルゲル反応では、アルコキシシラン及び/またはアルコキシシラン以外の金属アルコキシドを使用する。アルコキシシラン以外の金属アルコキシドは、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、アルミニウムアルコキシドなどを使用することが好ましい。これらは組み合わせて使用することもでき、好ましい組合せとしては、例えば、アルコキシシラン単独の場合、アルコキシシランとアルコキシジルコニウムの場合、及びそれらにアルミニウムアルコキシド及び/またはチタンアルコキシドを配合した場合等が挙げられる。   In the sol-gel reaction, alkoxysilane and / or metal alkoxide other than alkoxysilane is used. As the metal alkoxide other than alkoxysilane, it is preferable to use zirconium alkoxide, titanium alkoxide, aluminum alkoxide or the like. These can also be used in combination. Examples of preferable combinations include, for example, alkoxysilane alone, alkoxysilane and alkoxyzirconium, and a combination of aluminum alkoxide and / or titanium alkoxide.

ゾルゲル反応で用いられる酸触媒としては、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、及び酢酸、酒石酸等の有機酸であることが好ましい。酸触媒の使用量は、金属アルコキシド(アルコキシシラン及び他の金属アルコキシドを含有する場合には、アルコキシシラン+他の金属アルコキシド)1モル当たり、0.001〜0.005モルであり、好ましくは約0.01モルである。   The acid catalyst used in the sol-gel reaction is preferably a mineral acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid or nitric acid, and an organic acid such as acetic acid or tartaric acid. The amount of the acid catalyst used is 0.001 to 0.005 mol per 1 mol of metal alkoxide (alkoxysilane and other metal alkoxide, when alkoxysilane and other metal alkoxide are contained), preferably about 0.01 mole.

金属化合物の金属アルコキシドとしては、アルコキシシラン及び/またはアルコキシシラン以外の金属アルコキシドを好ましく使用することができる。アルコキシシラン以外の金属アルコキシドとしては、ジルコニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド、アルミニウムアルコキシド等が好ましい。   As the metal alkoxide of the metal compound, alkoxysilane and / or metal alkoxide other than alkoxysilane can be preferably used. As the metal alkoxide other than alkoxysilane, zirconium alkoxide, titanium alkoxide, aluminum alkoxide and the like are preferable.

また、ゾルゲル反応時に併用するポリマーとしては、水素結合形成基を有していることが好ましい。   Further, the polymer used in combination during the sol-gel reaction preferably has a hydrogen bond forming group.

水素結合形成基を有する樹脂の例としては、ヒドロキシル基を有するポリマーとその誘導体(ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、フェノール樹脂、メチロールメラミン等とその誘導体);カルボキシル基を有するポリマーとその誘導体(ポリ(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独または共重合体と、これらのポリマーのエステル化物(酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸メチル等の(メタ)アクリル酸エステル等の単位を含む単独または共重合体)等);エーテル結合を有するポリマー(ポリアルキレンオキサイド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリビニルエーテル、硅素樹脂等);アミド結合を有するポリマー(>N(COR)−結合(式中、Rは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す)を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミンのN−アシル化物);>NC(O)−結合を有するポリビニルピロリドンとその誘導体;ウレタン結合を有するポリウレタン;尿素結合を有するポリマー等を挙げることができる。また、シリル基含有ポリマーを用いてもよい。シリル基含有ポリマーは、主鎖重合体からなり、末端あるいは側鎖に加水分解性基及び/または水酸基と結合した硅素原子を有するシリル基を重合体1分子中に少なくとも1個、好ましくは2個以上含有するものである。シリル基含有ポリマーとして特に好ましいのは主鎖がビニルポリマーからなるシリル基含有ビニルポリマーである。   Examples of resins having hydrogen bond-forming groups include hydroxyl group-containing polymers and derivatives thereof (polyvinyl alcohol, polyvinyl acetal, ethylene-vinyl alcohol copolymers, phenol resins, methylol melamine, and derivatives thereof); carboxyl groups Polymers and derivatives thereof (mono or copolymers containing units of polymerizable unsaturated acids such as poly (meth) acrylic acid, maleic anhydride, itaconic acid, and esterified products of these polymers (vinyl esters such as vinyl acetate, Homo- or copolymers containing units such as (meth) acrylic acid esters such as methyl methacrylate)); polymers having an ether bond (polyalkylene oxide, polyoxyalkylene glycol, polyvinyl ether, silicon resin, etc.); amide bond Having a polymer (> N COR) -bond (wherein R represents a hydrogen atom, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent) N- of polyoxazoline or polyalkyleneimine Acylated product);> polyvinylpyrrolidone having a NC (O) -bond and derivatives thereof; polyurethane having a urethane bond; polymer having a urea bond, and the like. A silyl group-containing polymer may also be used. The silyl group-containing polymer is composed of a main chain polymer, and at least one, preferably two silyl groups having a hydrolyzable group and / or a silicon atom bonded to a hydroxyl group at the terminal or side chain in one molecule of the polymer. It contains above. Particularly preferred as the silyl group-containing polymer is a silyl group-containing vinyl polymer whose main chain is a vinyl polymer.

《保護層》
本発明の更なる態様として、無機化合物層上に保護層(低摩擦層)を有することができる。保護層は、アルキルシランまたはフッ素含有シラン化合物を含有することが好ましい。
《Protective layer》
As a further aspect of the present invention, a protective layer (low friction layer) can be provided on the inorganic compound layer. The protective layer preferably contains an alkyl silane or a fluorine-containing silane compound.

先ず、保護層に用いられるアルキルシラン化合物について説明する。   First, the alkylsilane compound used for the protective layer will be described.

(アルキルシラン化合物)
保護層に防汚性を付与する為には、特に膜の最表面にアルキル基を存在させることが好ましく、層形成(膜形成ともいう)に用いる原材料にアルキル基を有した珪素化合物(アルキルシラン化合物)を用いることが好ましい。またアルキル基については、低価であること、膜の硬度を保ち得ることが重要であり、この意味で好ましくはエチル基またはメチル基、さらにはメチル基であることが好ましい。また、上記の官能基が付与されていれば、化合物中に珪素原子が複数含まれていてもよい。
(Alkylsilane compound)
In order to impart antifouling properties to the protective layer, it is particularly preferable that an alkyl group is present on the outermost surface of the film, and a silicon compound (alkylsilane) having an alkyl group as a raw material used for layer formation (also referred to as film formation) Compound) is preferably used. In addition, it is important for the alkyl group to be low in price and to maintain the hardness of the film. In this sense, it is preferably an ethyl group or a methyl group, and more preferably a methyl group. Moreover, as long as said functional group is provided, the compound may contain two or more silicon atoms.

また、より好ましくは、加水分解性基とアルキル基を共に有する有機珪素化合物を用いることである。加水分解性基は特に限定されないが、好ましくはアルコキシ基が挙げられるが、エトキシ基を有することが、反応性や原料の物性調整の観点から特に好ましい。   More preferably, an organosilicon compound having both a hydrolyzable group and an alkyl group is used. The hydrolyzable group is not particularly limited, and preferably includes an alkoxy group, but having an ethoxy group is particularly preferable from the viewpoint of reactivity and adjustment of physical properties of the raw material.

この有機珪素化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、δ−グリキドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリキドキシブチルトリエトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリプロポキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリブトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシエトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリフェノキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシラン、δ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)ブチルトリメトキシシランなどのトリアルコキシシラン、トリアシルオキシシラン、トリフェノキシシラン類;ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシレン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジブトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン、ジフェノキシシラン、ジアシルオキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジシロキサン類等が挙げられるが、これらに限定されない。   Specific examples of the organosilicon compound include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane. , Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltri Ethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Pyrtriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, β-cyanoethyltriethoxysilane, methyltriphenoxysilane, Chloromethyltrimethoxysilane, chloromethyltriethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, α-glycidoxyethyltrimethoxysilane, α-glycidoxyethyltriethoxysilane, β- Glycidoxyethyltrimethoxysilane, β-glycidoxyethyltriethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane , Β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltripropoxysilane, γ-glycidoxypropyltributoxysilane , Γ-glycidoxypropyltrimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriphenoxysilane, α-glycidoxybutyltrimethoxysilane, α-glycidoxybutyltriethoxysilane, β-glycidoxybutyltrimethoxy Silane, β-glycidoxybutyltriethoxysilane, γ-glycidoxybutyltrimethoxysilane, γ-glycidoxybutyltriethoxysilane, δ-glyoxydoxybutyltrimethoxysilane, δ-glyoxydoxybutyltriethoxy Silane, (3,4-epoxy Cyclohexyl) methyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltripropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltributoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxyethoxysilane, γ- (3 , 4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriphenoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, γ- (3,4-epoxycyclohexyl) )Professional Trialkoxysilanes such as rutriethoxysilane, δ- (3,4-epoxycyclohexyl) butyltrimethoxysilane, triacyloxysilanes, triphenoxysilanes; dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldi Ethoxysilane, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxy Silane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, Ruvinyldimethoxysilene, methylvinyldiethoxysilane, glycidoxymethylmethyldimethoxysilane, glycidoxymethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, β -Glycidoxyethylmethyldimethoxysilane, β-glycidoxyethylmethyldiethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, α-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane , Β-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldipropoxysilane, γ-glycid Xylpropylmethyldibutoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxyethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiphenoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiacetoxysilane, γ-glycidoxypropylethyldimethoxysilane Γ-glycidoxypropylethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyl Dialkoxysilanes such as diethoxysilane, diphenoxysilane, diacyloxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, hexamethyldisilane, hexamethyldisiloxanes, etc. , But it is not limited to these.

また、上記の化合物は、単独で使用しても異なる2種以上を同時に使用することもできる。また、上記の各化合物以外の有機珪素化合物を併用することもできる。   Moreover, even if it uses said compound independently, 2 or more types which are different can also be used simultaneously. In addition, organosilicon compounds other than the above compounds can be used in combination.

上記化合物の中でも、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシランなど好ましく、更には珪素に対してアルキル基を2つ有する化合物が好ましく、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン等が特に好ましい例として挙げられる。   Among the above compounds, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, butyltrimethoxysilane, trimethylethoxysilane, etc. are preferred, and further against silicon. A compound having two alkyl groups is preferred, and dimethyldiethoxysilane, dimethyldimethoxysilane and the like are particularly preferred examples.

(フッ素含有シラン化合物)
フッ素含有シラン化合物を含有する保護層に用いられるものとしては、フッ素原子を含有する有機基を有する有機珪素化合物がこのましい。
(Fluorine-containing silane compound)
An organic silicon compound having an organic group containing a fluorine atom is preferable as a protective layer containing a fluorine-containing silane compound.

フッ素原子を含有する有機基を有する有機珪素化合物において、フッ素原子を含有する有機基としては、フッ素原子を有するアルキル基、アルケニル基、アリール基等を有する有機基が挙げられるが、これらのフッ素原子を含有する有機基は、例えば、シロキサン等複数の珪素原子を有する化合物が、これらの有機基を有する場合、少なくとも1つの珪素原子がフッ素原子を含有する有機基を有していれば良く、またその位置も問わない。   In the organic silicon compound having an organic group containing a fluorine atom, examples of the organic group containing a fluorine atom include an organic group having an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, etc. having a fluorine atom. For example, when the compound having a plurality of silicon atoms such as siloxane has these organic groups, at least one silicon atom may have an organic group containing a fluorine atom. The position does not matter.

上記のフッ素原子を含有する有機基を有する有機珪素化合物を用いた保護層の形成方法によると、フッ素原子を含有する有機基を有する有機珪素化合物が、保護層下の無機化合物層との結合を形成し易く、本発明の優れた効果を奏することができると推定している。   According to the method for forming a protective layer using an organic silicon compound having an organic group containing a fluorine atom, the organic silicon compound having an organic group containing a fluorine atom is bonded to an inorganic compound layer under the protective layer. It is presumed that it is easy to form and that the excellent effects of the present invention can be achieved.

本発明において用いられるフッ素原子を含有する有機基を有する有機珪素化合物としては、特に制限はないが、下記一般式(1)で表される化合物が好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as an organosilicon compound which has an organic group containing the fluorine atom used in this invention, The compound represented by following General formula (1) is preferable.

Figure 0005545051
Figure 0005545051

式中、MはSiを表す。また、R〜Rは各々水素原子または一価の基を表し、R〜Rで表される基の少なくとも1つは、フッ素原子を含有する有機基であり、例えば、フッ素原子を含有するアルキル基、アルケニル基またはアリール基を有する有機基が好ましく、フッ素原子を含有するアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、1,1,2,2,3,3,4,4−オクタフルオロブチル基等の基が、フッ素原子を含有するアルケニル基としては、例えば、3,3,3−トリフルオロ−1−プロペニル基等の基が、また、フッ素原子を含有するアリール基としては、例えば、ペンタフルオロフェニル基等の基が挙げられる。また、これらフッ素原子を含有するアルキル基、アルケニル基、またアリール基から形成されるアルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基等なども用いることができる。 In the formula, M represents Si. R 1 to R 6 each represents a hydrogen atom or a monovalent group, and at least one of the groups represented by R 1 to R 6 is an organic group containing a fluorine atom. An organic group having an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group is preferred. Examples of the alkyl group containing a fluorine atom include a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluorobutyl group, 1 , 1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group and the like, as the alkenyl group containing a fluorine atom, for example, 3,3,3-trifluoro-1-propenyl group, etc. Examples of the aryl group containing a fluorine atom include groups such as a pentafluorophenyl group. In addition, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group formed from an aryl group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, or the like can also be used.

また、フッ素原子は、前記アルキル基、アルケニル基、アリール基等においては、骨格中の炭素原子のどの位置に任意の数だけ結合していてもよいが、少なくとも1個以上結合していることが好ましい。また、アルキル基、アルケニル基骨格中の炭素原子は、例えば、酸素、窒素、硫黄等他の原子、また、酸素、窒素、硫黄等を含む2価の基、例えば、カルボニル基、チオカルボニル基等の基で置換されていてもよい。   In the alkyl group, alkenyl group, aryl group, etc., any number of fluorine atoms may be bonded to any position of the carbon atoms in the skeleton, but at least one or more fluorine atoms may be bonded. preferable. The carbon atom in the skeleton of the alkyl group or alkenyl group includes, for example, other atoms such as oxygen, nitrogen and sulfur, and divalent groups containing oxygen, nitrogen and sulfur, such as a carbonyl group and a thiocarbonyl group. It may be substituted with a group.

更に好ましくは、本発明の保護層は、少なくとも反応性シリル基を有するフルオロエーテル系高分子ケイ素化合物を含有することが好ましい。   More preferably, the protective layer of the present invention contains at least a fluoroether polymer silicon compound having a reactive silyl group.

以下、本発明に係る保護層を形成する反応性シリル基を有するフルオロエーテル系高分子ケイ素化合物(以下、単に含フッ素ポリマーともいう)について説明する。   Hereinafter, a fluoroether polymer silicon compound having a reactive silyl group (hereinafter also simply referred to as a fluorine-containing polymer) that forms the protective layer according to the present invention will be described.

本発明に係るフルオロエーテル高分子ケイ素化合物は、フルオロ炭化水素がエーテル結合されており、反応性シリル基を有することを特徴とする。含フッ素ポリマーの重量平均分子量は1500以上であることが好ましく、1500〜200000が好ましく、2000〜100000がより好ましい。また、分子内に好ましくは2〜50個の反応性シリル基を有する。重量平均分子量Mwは、例えば、標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=500〜1000000迄の13サンプルによる校正曲線を使用し、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定することができる。   The fluoroether polymer silicon compound according to the present invention is characterized in that a fluorohydrocarbon is ether-bonded and has a reactive silyl group. The weight average molecular weight of the fluoropolymer is preferably 1500 or more, preferably 1500 to 200000, and more preferably 2000 to 100000. Moreover, it preferably has 2 to 50 reactive silyl groups in the molecule. The weight average molecular weight Mw can be measured by gel permeation chromatography using, for example, a calibration curve with 13 samples of standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation) Mw = 500 to 1000000.

反応性シリル基を有するフルオロエーテル高分子珪素化合物は、例えば、ヒドロキシ基を有するフロロエーテル系ポリマーにシラン変性剤を反応させて反応性シリル基を導入することによって得られる。ヒドロキシ基を有するフルオロエーテル系ポリマーは、フルオロオレフィンとヒドロキシアルキルビニルエーテルまたはアリルアルコール等のヒドロキシ基含有モノマーとをモノマー主成分として共重合させることによって得られるが、この場合、これらの成分に加えてアルキルビニルエーテル、ビニルエステル、アリルエーテル、イソプロペニルエーテル等のその他のモノマー成分を配合したものを共重合させて得られたものであっても差支えない。   The fluoroether high molecular silicon compound having a reactive silyl group can be obtained, for example, by introducing a reactive silyl group by reacting a fluoroether polymer having a hydroxy group with a silane modifier. A fluoroether-based polymer having a hydroxy group is obtained by copolymerizing a fluoroolefin and a hydroxy group-containing monomer such as hydroxyalkyl vinyl ether or allyl alcohol as a main monomer component. In this case, in addition to these components, an alkyl group is used. It may be obtained by copolymerizing a mixture of other monomer components such as vinyl ether, vinyl ester, allyl ether, isopropenyl ether and the like.

フルオロオレフィンとしては、特に限定されることなく、フッ素樹脂用モノマーとして通常用いられるものが使用されるが、パーフルオロオレフィンが好適であり、中でもクロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロプロピルビニルエーテル及びこれらの混合物が特に好ましい。   The fluoroolefin is not particularly limited, and those commonly used as monomers for fluororesins are used, and perfluoroolefin is preferred, and among them, chlorotrifluoroethylene, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoroolefin, Fluoropropyl vinyl ether and mixtures thereof are particularly preferred.

前記反応性シリル基としては、アルコキシ基、クロル基、イソシアネート基、シラザン基、カルボキシル基、水酸基及びエポキシ基から選ばれる反応性シリル基が好ましい。中でもアルコキシ基が好ましい。   The reactive silyl group is preferably a reactive silyl group selected from an alkoxy group, a chloro group, an isocyanate group, a silazane group, a carboxyl group, a hydroxyl group and an epoxy group. Of these, an alkoxy group is preferred.

本発明に係るフッ素含有シラン化合物としては、下記一般式(2)で表される反応性シリル基を有するフルオロエーテル高分子珪素化合物が好ましく用いられる。   As the fluorine-containing silane compound according to the present invention, a fluoroether high molecular silicon compound having a reactive silyl group represented by the following general formula (2) is preferably used.

Figure 0005545051
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上記一般式(2)において、Rは炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Xはヨウ素原子または水素原子、Yは水素原子または低級アルキル基、Zはフッ素原子またはトリフルオロメチル基、Rは加水分解可能な基、Rは水素原子または不活性な一価の有機基、a、b、c、dは0〜200の整数、eは0または1、fは0〜10の整数、mおよびnはそれぞれ0〜2の整数、及びpは1〜10の整数を表す。 In the general formula (2), R f is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, X is an iodine atom or a hydrogen atom, Y is a hydrogen atom or a lower alkyl group, and Z is a fluorine atom or A trifluoromethyl group, R 1 is a hydrolyzable group, R 2 is a hydrogen atom or an inert monovalent organic group, a, b, c, d are integers from 0 to 200, e is 0 or 1, f Represents an integer of 0 to 10, m and n each represents an integer of 0 to 2, and p represents an integer of 1 to 10.

本発明に好ましく用いられる前記一般式(2)で表される反応性シリル基を有するフルオロエーテル高分子珪素化合物としては、例えば、特許第2874715号公報等に記載の方法により製造することが可能であり、また下記のような化合物を市販品として入手することができる。   The fluoroether polymer silicon compound having a reactive silyl group represented by the general formula (2) preferably used in the present invention can be produced by, for example, the method described in Japanese Patent No. 28747715. In addition, the following compounds can be obtained as commercial products.

例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツールAES−2(平均分子量約2000)、オプツールAES−4(平均分子量約4000)、オプツールAES−4E(平均分子量約4000)、オプツールAES−6(平均分子量約6000)等、東レ・ダウコーニング株式会社製のDOW CORNING 2603 COATING(平均分子量約約2000)、DOW CORNING 2604 COATING(平均分子量約4000)、DOW CORNING 2634 COATING(平均分子量約4000)、DOW CORNING 2606 COATING(平均分子量約6000)等を挙げることができる。   For example, OPTOOL AES-2 (average molecular weight of about 2000), OPTOOL AES-4 (average molecular weight of about 4000), OPTOOL AES-4E (average molecular weight of about 4000), OPTOOL AES-6 (average molecular weight of about 6000) manufactured by Daikin Industries, Ltd. DOW CORNING 2603 COATING (average molecular weight of about 2000), DOW CORNING 2604 COATING (average molecular weight of about 4000), DOW CORNING 2634 COATING (average molecular weight of about 4000), DOW CORNING 260 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. Average molecular weight of about 6000).

これらの反応性シリル基を有するフルオロエーテル高分子珪素化合物を用いて、無機化合物層上に保護層を形成する方法としては、これらの材料をそのまま或いは溶剤に溶解してディップ法、スプレー法やスピンコート法等の湿式法で塗布し、加熱、乾燥等を行った後、溶剤で処理することにより過剰のフルオロエーテル系高分子Si化合物を除去する方法である。   As a method of forming a protective layer on an inorganic compound layer using a fluoroether high molecular silicon compound having such a reactive silyl group, these materials are used as they are or dissolved in a solvent, and a dip method, a spray method or a spin method is used. This is a method of removing excess fluoroether-based polymeric Si compound by applying with a wet method such as a coating method, heating and drying, and then treating with a solvent.

本発明に係る保護層の膜厚は、下記に示すX線反射率法により測定することができる。   The film thickness of the protective layer according to the present invention can be measured by the X-ray reflectivity method shown below.

具体的には、測定装置としては、マックサイエンス社製MXP21を用いて行い、X線源のターゲットには銅を用い、42kV、500mAで作動させる。インシデントモノクロメータには多層膜パラボラミラーを用いる。入射スリットは0.05mm×5mm、受光スリットは0.03mm×20mmを用い、2θ/θスキャン方式で0から5°をステップ幅0.005°、1ステップ10秒のFT法にて測定を行う。得られた反射率曲線に対し、マックサイエンス社製Reflectivity Analysis Program Ver.1を用いてカーブフィッティングを行い、実測値とフィッティングカーブの残差平方和が最小になるように各パラメータを求め、各パラメータから膜厚を求めることができる。   Specifically, as a measuring apparatus, MXP21 manufactured by Mac Science Co., Ltd. is used, copper is used as a target of the X-ray source, and it is operated at 42 kV and 500 mA. A multilayer parabolic mirror is used for the incident monochromator. The incident slit is 0.05 mm × 5 mm, the light receiving slit is 0.03 mm × 20 mm, and the 2θ / θ scan method is used to measure from 0 to 5 ° by the FT method with a step width of 0.005 ° and a step of 10 seconds. . With respect to the obtained reflectance curve, Reflectivity Analysis Program Ver. 1 is used to obtain the parameters such that the residual sum of squares of the actual measurement value and the fitting curve is minimized, and the film thickness can be obtained from each parameter.

上記と同様の方法で、保護層の膜厚も測定することができる。本発明に係る保護層の膜厚としては、特に制限はないが、1.0nm以上、50nm以下であることが好ましい。   The film thickness of the protective layer can also be measured by the same method as described above. The film thickness of the protective layer according to the present invention is not particularly limited, but is preferably 1.0 nm or more and 50 nm or less.

また、本発明に係る保護層においては、保護層の表面動摩擦係数μが、0.3以下であることが好ましい態様である。   Moreover, in the protective layer which concerns on this invention, it is a preferable aspect that the surface dynamic friction coefficient (micro | micron | mu) of a protective layer is 0.3 or less.

動摩擦係数は、JIS−K−7125(1987)に準じて測定できる。   The dynamic friction coefficient can be measured according to JIS-K-7125 (1987).

新東科学社製の往復摩耗試験機(HEIDON−14DR)を用いて、荷重100g/cm、速度1cm/secの条件で、保護層表面を基準物質としてはポリエステル繊維を用いて、サンプル移動速度100mm/分、接触面積80mm×200mmの条件で水平引っ張り、ポリエステル繊維が移動中の平均荷重(F)を測定し、下記式より動摩擦係数(μ)を求める。 Using a reciprocating wear tester (HEIDON-14DR) manufactured by Shinto Kagaku Co., under the conditions of a load of 100 g / cm 2 and a speed of 1 cm / sec, the protective layer surface is polyester fiber as a reference material, and the sample moving speed Horizontal pulling is performed under the conditions of 100 mm / min and a contact area of 80 mm × 200 mm, the average load (F) while the polyester fiber is moving is measured, and the dynamic friction coefficient (μ) is obtained from the following formula.

動摩擦係数=F(gf)/重りの重さ(gf)
(弾性層)
弾性層としては、特に限定されるものではなく、任意のゴム材料、熱可塑性エラストマーを用いることができる。例えばスチレン−ブタジエンゴム(SBR)、ハイスチレンゴム、ポリブタジエンゴム(BR)、ポリイソプレンゴム(IIR)、エチレン−プロピレン共重合体、ニトリルブタジエンゴム、クロロプレンゴム(CR)、エチレン−プロピレン−ジエンゴム(EPDM)、ブチルゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、アクリルゴム(ACM、ANM)、エピクロロヒドリンゴム及びノルボルネンゴム等から選ぶことができる。これらは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
Coefficient of dynamic friction = F (gf) / weight of weight (gf)
(Elastic layer)
The elastic layer is not particularly limited, and any rubber material or thermoplastic elastomer can be used. For example, styrene-butadiene rubber (SBR), high styrene rubber, polybutadiene rubber (BR), polyisoprene rubber (IIR), ethylene-propylene copolymer, nitrile butadiene rubber, chloroprene rubber (CR), ethylene-propylene-diene rubber (EPDM) ), Butyl rubber, silicone rubber, fluorine rubber, nitrile rubber, urethane rubber, acrylic rubber (ACM, ANM), epichlorohydrin rubber, norbornene rubber, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

一方、熱可塑性エラストマーとしては、ポリエステル系、ポリウレタン系、スチレン−ブタジエントリブロック系、ポリオレフィン系などを用いることができる。   On the other hand, as the thermoplastic elastomer, polyester, polyurethane, styrene-butadiene triblock, polyolefin, or the like can be used.

又、弾性層は基体に使用する樹脂材料と弾性材料とをブレンドした材料を用いて形成した層でもよい。   The elastic layer may be a layer formed using a material obtained by blending a resin material used for the substrate and an elastic material.

例えばシリコーンゴムの素材としては、ビニル基を含有したポリオルガノシロキサン組成物が用いられる。シリコーンゴムとしては、付加反応触媒により硬化可能な2液性の液状シリコーンゴムや過酸化物からなる加硫剤により加硫(硬化)可能な熱加硫型シリコーンゴムが用いられる。又、弾性体層には、シームレスベルトの使用目的、設計目的などに応じて、充填剤、増量充填剤、加硫剤、着色剤、導電性物質、耐熱剤、顔料等の種々の配合剤を添加することができる。また、配合剤の添加量などにより合成樹脂の可塑度は変化するが、硬化前の剛性樹脂の可塑度としては、120以下のものが好適に用いられる。   For example, as a material for silicone rubber, a polyorganosiloxane composition containing a vinyl group is used. As the silicone rubber, a two-component liquid silicone rubber that can be cured by an addition reaction catalyst or a heat vulcanized silicone rubber that can be vulcanized (cured) by a vulcanizing agent made of a peroxide is used. In addition, the elastic layer may contain various compounding agents such as a filler, an extended filler, a vulcanizing agent, a colorant, a conductive material, a heat-resistant agent, and a pigment depending on the purpose of use and design of the seamless belt. Can be added. Moreover, although the plasticity of a synthetic resin changes with the addition amount etc. of a compounding agent, the thing of 120 or less is used suitably as a plasticity of the rigid resin before hardening.

弾性層は、弾性材料に導電性物質を分散させて、電気抵抗値(体積抵抗率)を10〜1011Ω・cmに調製することができる。 The elastic layer can be prepared to have an electric resistance value (volume resistivity) of 10 5 to 10 11 Ω · cm by dispersing a conductive substance in the elastic material.

弾性層に添加する導電性物質としては、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化スズ、炭化ケイ素等を使用することができる。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することができる。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが弾性層の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すれば良く、通常、弾性材料100質量部に対して10〜20質量部、好ましくは10〜16質量部である。   Carbon black, zinc oxide, tin oxide, silicon carbide, etc. can be used as the conductive substance added to the elastic layer. As carbon black, neutral or acidic carbon black can be used. The amount of the conductive material used varies depending on the type of the conductive material to be used, but may be added so that the volume resistance value and the surface resistance value of the elastic layer are within a predetermined range. It is 10-20 mass parts with respect to it, Preferably it is 10-16 mass parts.

弾性体層の形成方法
弾性体層は、公知の塗布方法、例えば特開2006−255615号公報に記載の浸漬塗布、特開平10−104855号公報に記載の円形量規制型塗布、特開2007−136423号公報に記載の環状塗布方法、或いは浸漬塗布と円形量規制型塗布を組み合わせて塗膜を設けて作製することが出来るが、これに限定されるものではない。
Method for forming elastic body layer The elastic body layer may be formed by a known coating method, for example, dip coating described in JP-A No. 2006-255615, circular amount regulation type coating described in JP-A No. 10-104855, JP-A 2007- Although it can be produced by providing a coating film by combining the annular coating method described in Japanese Patent No. 136423 or the dip coating and the circular amount regulation type coating, it is not limited thereto.

具体的には、無端ベルト状の樹脂基体の上に弾性体層を形成する方法としては、例えば弾性層用の塗布液が収容されている槽中に、円筒の芯材に環状の無端ベルト状の樹脂基体をセットし、垂直に立てた状態で入れて浸漬させる。この時、浸漬を数回繰り返して所定の厚さの塗膜を形成させた後、塗布液中から引上げる。次に、乾燥し溶剤を除去した後、加熱処理(例えば60〜150℃×60分間)を行い、弾性層を作製する。   Specifically, as a method of forming an elastic body layer on an endless belt-shaped resin substrate, for example, in a tank in which a coating liquid for an elastic layer is stored, a cylindrical endless belt-shaped cylindrical core material is used. The resin substrate is set and immersed in a vertically standing state. At this time, after dipping is repeated several times to form a coating film having a predetermined thickness, the coating solution is pulled up. Next, after drying and removing a solvent, heat processing (for example, 60-150 degreeC x 60 minutes) are performed, and an elastic layer is produced.

金属円筒状の基体の上に弾性体層を形成する方法も無端ベルト状の樹脂基体の場合と同様に、ゴム、エラストマー、樹脂等を金属ロール上に溶融成形、注入成形、浸漬塗工あるいはスプレー塗工等により成形することによって設けることが可能である。   The method of forming an elastic body layer on a metal cylindrical substrate is the same as in the case of an endless belt-shaped resin substrate, such as melt molding, injection molding, dip coating or spraying on a metal roll. It can be provided by molding by coating or the like.

弾性層の厚さは、50μm〜500μmが好ましい。また100〜300mμが更に好ましい。   The thickness of the elastic layer is preferably 50 μm to 500 μm. Further, 100 to 300 mμ is more preferable.

(中間転写体の基体)
本発明に用いられる基体としては、樹脂に導電剤を分散させてなるシームレスのベルトを用いることが好ましい。
(Substrate of intermediate transfer member)
As the substrate used in the present invention, it is preferable to use a seamless belt in which a conductive agent is dispersed in a resin.

〈樹脂基体〉
樹脂基体は、クリーニング部材であるクリーニングブレードから中間転写ベルトに加わる負荷で中間転写体が変形することを回避し、転写部への影響を低減させる剛性を有するものである。樹脂基体は、ナノインデンテーション法により測定したヤング率が5.0GPa〜15.0GPaの範囲内の材料を用いて形成することが好ましく、8.0GPa〜15.0GPaの範囲内の材料がより好ましい。
<Resin substrate>
The resin substrate has rigidity that prevents the intermediate transfer body from being deformed by a load applied to the intermediate transfer belt from the cleaning blade as a cleaning member, and reduces the influence on the transfer portion. The resin base is preferably formed using a material having a Young's modulus measured by the nanoindentation method in the range of 5.0 GPa to 15.0 GPa, and more preferably in the range of 8.0 GPa to 15.0 GPa. .

また、機械的強度、画質、製造コスト等を考慮し、基体の厚さは、50μm〜1000μmの範囲が好ましい。   In consideration of mechanical strength, image quality, manufacturing cost, etc., the thickness of the substrate is preferably in the range of 50 μm to 1000 μm.

この様な性能を発現する材料として、例えば、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリフッ化ビニリデン、ポリイミド、ポリエーテル、エーテルケトン、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体、ポリアミド及びポリフェニレンサルファイド等のいわゆるエンジニアリングプラスチック材料を用いることが出来、等の樹脂材料が挙げられ、これらの中ではポリイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイドが好ましい。これらの樹脂材料のナノインデンテーション法により測定したヤング率は5.0GPaを超えるものであり、厚み50〜200μmで、樹脂基体としての機械特性を満足する。更に、前述の樹脂材料と下記の弾性材料とをブレンドした材料を使用することも可能である。前記弾性材料としては、例えば、ポリウレタン、塩素化ポリイソプレン、NBR、クロロピレンゴム、EPDM、水素添加ポリブタジエン、ブチルゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。これらは1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   As materials that exhibit such performance, for example, so-called engineering plastic materials such as polycarbonate, polyphenylene sulfide, polyvinylidene fluoride, polyimide, polyether, ether ketone, ethylene tetrafluoroethylene copolymer, polyamide, and polyphenylene sulfide are used. In these, polyimide, polycarbonate, and polyphenylene sulfide are preferable. The Young's modulus of these resin materials measured by the nanoindentation method exceeds 5.0 GPa, and has a thickness of 50 to 200 μm and satisfies the mechanical properties as a resin substrate. Furthermore, it is also possible to use a material obtained by blending the above-mentioned resin material and the following elastic material. Examples of the elastic material include polyurethane, chlorinated polyisoprene, NBR, chloropyrene rubber, EPDM, hydrogenated polybutadiene, butyl rubber, and silicone rubber. These may be used alone or in combination of two or more.

この中でも、ポリフェニレンサルファイド或いはポリイミド樹脂を含有することが好ましい。ポリイミド樹脂は、ポリイミド樹脂の前駆体であるポリアミック酸の加熱により形成される。又、ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物や、その誘導体とジアミンのほぼ等モル混合物を有機極性溶媒に溶解させ、溶液状態で反応させることにより得られる。   Among these, it is preferable to contain polyphenylene sulfide or a polyimide resin. The polyimide resin is formed by heating polyamic acid that is a precursor of the polyimide resin. The polyamic acid can be obtained by dissolving tetracarboxylic dianhydride or an approximately equimolar mixture of its derivative and diamine in an organic polar solvent and reacting in a solution state.

尚、本発明では、樹脂基体にポリイミド系樹脂を使用する場合、樹脂基体におけるポリイミド系樹脂の含有率が51%以上であることが好ましい。   In the present invention, when a polyimide resin is used for the resin substrate, the content of the polyimide resin in the resin substrate is preferably 51% or more.

本発明に係る樹脂基体は、樹脂材料に導電性物質を添加して、電気抵抗値(体積抵抗率)を10Ω・cm〜1011Ω・cmに調整したシームレスベルトやドラムが好ましい。 The resin substrate according to the present invention is preferably a seamless belt or drum in which a conductive substance is added to a resin material and an electric resistance value (volume resistivity) is adjusted to 10 5 Ω · cm to 10 11 Ω · cm.

樹脂材料に添加する導電性物質としては、カーボンブラックを使用することが出来る。カーボンブラックとしては、中性又は酸性カーボンブラックを使用することが出来る。導電性物質の使用量は、使用する導電性物質の種類によっても異なるが中間転写体の体積抵抗値及び表面抵抗値が所定の範囲になるように添加すればよく、通常、樹脂材料100質量部に対して10質量部〜20質量部、好ましくは10質量部〜16質量部である。   Carbon black can be used as the conductive substance added to the resin material. As carbon black, neutral or acidic carbon black can be used. The amount of the conductive material used varies depending on the type of the conductive material used, but may be added so that the volume resistance value and the surface resistance value of the intermediate transfer member are within a predetermined range. 10 parts by mass to 20 parts by mass, preferably 10 parts by mass to 16 parts by mass.

本発明に用いられる基体は、従来公知の一般的な方法により作製することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイを使用したインフレーション法により筒状に成形した後、輪切りにすることで環状の無端ベルト状の基体を作製することが出来る。   The substrate used in the present invention can be produced by a conventionally known general method. For example, a resin as a material can be melted by an extruder, formed into a cylindrical shape by an inflation method using an annular die, and then cut into a ring to produce an annular endless belt-like substrate.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
(中間転写ベルトの作製)
(無端ベルト状基体1の準備)
厚さ100μmの導電性物質を含有するポリイミド(PI)からなるシームレスレスベルトを準備し無端ベルト状基体1とした。
Example 1
(Preparation of intermediate transfer belt)
(Preparation of endless belt-like substrate 1)
A seamless-less belt made of polyimide (PI) containing a conductive material having a thickness of 100 μm was prepared as an endless belt-like substrate 1.

(弾性層の作製)
準備した無端ベルト状基体1の外周に、クロロプレンゴムからなる厚さ150μmの弾性層をディッピング塗布法により設け弾性層を形成し無端ベルト状基体No.1−aとした。
(Production of elastic layer)
An elastic layer made of chloroprene rubber having a thickness of 150 μm is provided on the outer periphery of the prepared endless belt-shaped substrate 1 by dipping coating to form an elastic layer. 1-a.

〈中間転写ベルト1の作製〉
(樹脂表層の形成)
準備した無端ベルト状基体No.1−aに芯材をはめ込み、フッ素系コート剤(大日本インキ工業社製「TR304」をMEK/酢酸ブチル混合溶剤で希釈し、ディッピング塗工した。塗工後130℃で1時間加熱乾燥させ厚さ5μmの樹脂表層を形成し中間転写ベルト1とした。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 1>
(Formation of resin surface)
The prepared endless belt-shaped substrate No. 1-a was fitted with a core material, and a fluorine-based coating agent ("TR304" manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was diluted with a MEK / butyl acetate mixed solvent and dipped. It was dried by heating at 130 ° C for 1 hour. A resin surface layer having a thickness of 5 μm was formed to obtain an intermediate transfer belt 1.

〈中間転写ベルト2の作製〉
無端ベルト状基体No.1−aに下記のとおり無機化合物層を形成し、中間転写ベルト2とした。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 2>
Endless belt base No. An inorganic compound layer was formed on 1-a as described below to obtain an intermediate transfer belt 2.

(無機化合物層の形成)
準備した無端ベルト状基体No.1−aの上に、図4に示す大気圧プラズマCVDによる製造装置を使用し以下に示す条件で厚さ150nmの1層の無機化合物(酸化珪素)層を形成し中間転写ベルト2を作製した。尚、無機化合物(酸化ケイ素)層の膜厚は、「MXP21」(マックサイエンス社製)を用いて明細書本文中に記載の方法で測定して得られた値である。
(Formation of inorganic compound layer)
The prepared endless belt-shaped substrate No. The intermediate transfer belt 2 was produced by forming a single inorganic compound (silicon oxide) layer having a thickness of 150 nm on the 1-a using a manufacturing apparatus based on atmospheric pressure plasma CVD shown in FIG. . In addition, the film thickness of an inorganic compound (silicon oxide) layer is a value obtained by measuring by the method described in the specification text using “MXP21” (manufactured by Mac Science).

無機化合物(酸化ケイ素)層の炭素含有率(炭素原子数濃度)は0.1原子数濃度%であった。   The carbon content (carbon atom number concentration) of the inorganic compound (silicon oxide) layer was 0.1 atom number concentration%.

炭素含有率(炭素原子数濃度)は、VGサイエンティフィックス社製ESCALAB−200RXPS表面分析装置を使用して測定した値を示す。   The carbon content (carbon atom number concentration) indicates a value measured using an ESCALAB-200RXPS surface analyzer manufactured by VG Scientific.

大気圧プラズマCVD条件
無機化合物層の形成材料としては、酸化ケイ素を用いた。この時のプラズマ放電処理装置の各電極を被覆する誘電体は対向する両電極共に、セラミック溶射加工によりアルミナを被覆したものを使用した。又誘電体を被覆した金属母材は、冷却水による冷却機能を有するステンレス製ジャケット仕様であり、放電中は冷却水による電極温度コントロールを行いながら実施した。
Atmospheric pressure plasma CVD conditions Silicon oxide was used as a material for forming the inorganic compound layer. As the dielectric covering each electrode of the plasma discharge processing apparatus at this time, both electrodes facing each other were coated with alumina by ceramic spraying. The metal base material coated with a dielectric has a stainless steel jacket specification having a cooling function by cooling water, and was performed while controlling the electrode temperature with cooling water during discharge.

各原料ガスは、加熱することで蒸気を生成し、予め原料が凝集しないように余熱を行った放電ガス及び反応ガスと混合・希釈した後、放電空間への供給を行った。   Each source gas was heated to generate steam, mixed and diluted with a discharge gas and a reaction gas that had been preheated so that the source material did not aggregate in advance, and then supplied to the discharge space.

放電ガス:Arガス 98.6体積%
反応ガス:Oガスを全ガスに対し1.0体積%
原料ガス:テトラエトキシシラン(TEOS)を全ガスに対し0.4体積%
高周波電源電力(パール工業製高周波電源(13.56MHz)):10W/cm
〈中間転写ベルト3の作製〉
無端ベルト状基体No.1−aに下記のとおり3次元架橋性樹脂層、無機化合物層を形成し、中間転写ベルト3とした。
Discharge gas: Ar gas 98.6% by volume
Reaction gas: 1.0% by volume of O 2 gas with respect to the total gas
Source gas: Tetraethoxysilane (TEOS) 0.4% by volume with respect to the total gas
High frequency power supply (Pearl Industries high frequency power supply (13.56 MHz)): 10 W / cm 2
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 3>
Endless belt base No. As shown below, a three-dimensional crosslinkable resin layer and an inorganic compound layer were formed on 1-a to obtain an intermediate transfer belt 3.

3次元架橋性樹脂層用塗布液の調製
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部
ジエトキシベンゾフェノン(UV光開始剤) 2質量部
メチルエチルケトン 50質量部
酢酸エチル 50質量部
イソプロピルアルコール 50質量部
上記組成物を撹拌しながら溶解し3次元架橋性樹脂層用塗布液No.1とした。この塗布液No.1を乾燥膜厚が5μmとなるように押し出し塗布し、80℃にて5分間乾燥した。次に80W/cm高圧水銀灯を12cmの距離から4秒間照射して硬化させた。
Preparation of coating solution for three-dimensional crosslinkable resin layer Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or higher component 20 parts by mass Diethoxybenzophenone (UV photoinitiator) 2 parts by mass Methyl ethyl ketone 50 parts by mass Ethyl acetate 50 parts by mass Isopropyl alcohol 50 parts by mass The above composition was dissolved while stirring to obtain a coating solution No. 3 for the three-dimensional crosslinkable resin layer. It was set to 1. This coating solution No. 1 was applied by extrusion so that the dry film thickness was 5 μm, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. Next, an 80 W / cm high pressure mercury lamp was irradiated for 4 seconds from a distance of 12 cm to be cured.

引き続き、中間転写ベルト2の無機化合物層と同じ方法で3次元架橋性樹脂層上に無機化合物層を形成し、中間転写ベルト3とした。   Subsequently, an inorganic compound layer was formed on the three-dimensional crosslinkable resin layer by the same method as the inorganic compound layer of the intermediate transfer belt 2 to obtain an intermediate transfer belt 3.

〈中間転写ベルト4の作製〉
3次元架橋性樹脂層を形成するまでは、中間転写ベルト3と同様に行なった。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 4>
The same procedure as that for the intermediate transfer belt 3 was performed until the three-dimensional crosslinkable resin layer was formed.

続いて
酢酸エチル 50質量部
メチルエチルケトン 50質量部
イソプロピルアルコール 50質量部
アエロジルR972V(平均粒径16nm 日本アエロジル(株)製) 4質量部
以上を高速攪拌機(TKホモミキサー、特殊機化工業(株)製)で攪拌し、その後衝突型分散機(マントンゴーリン、ゴーリン(株)製)で分散した後、下記の成分を添加し、塗布組成物No.2を調製した。
Subsequently, ethyl acetate 50 parts by mass methyl ethyl ketone 50 parts by mass isopropyl alcohol 50 parts by mass Aerosil R972V (average particle size 16 nm, made by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 4 parts by mass High-speed stirrer (TK Homomixer, Special Machine Industries, Ltd.) ) And then dispersed with a collision-type disperser (Manton Gorin, manufactured by Gorin Co., Ltd.), the following components were added, and the coating composition No. 2 was prepared.

ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 60質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 20質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 20質量部
ジエトキシベンゾフェノン(UV光開始剤) 4質量部
この塗布液No.2を乾燥膜厚が1μmとなるように押し出し塗布し、80℃にて5分間乾燥した。次に80W/cm高圧水銀灯を12cmの距離から2秒間照射して硬化させた。
Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 60 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or higher component 20 parts by weight Diethoxybenzophenone (UV photoinitiator) 4 parts by weight This coating Liquid No. 2 was applied by extrusion so that the dry film thickness was 1 μm, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. Next, an 80 W / cm high-pressure mercury lamp was irradiated for 2 seconds from a distance of 12 cm to be cured.

引き続き、中間転写ベルト2の無機化合物層と同じ方法で3次元架橋性樹脂層上に無機化合物層を形成し、中間転写ベルト4とした。   Subsequently, an inorganic compound layer was formed on the three-dimensional crosslinkable resin layer by the same method as the inorganic compound layer of the intermediate transfer belt 2 to obtain an intermediate transfer belt 4.

〈中間転写ベルト5の作製〉
3次元架橋性樹脂層を形成するまでは、中間転写ベルト3と同様に行なった。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 5>
The same procedure as that for the intermediate transfer belt 3 was performed until the three-dimensional crosslinkable resin layer was formed.

続いてこの層の上に、下記の応力調整層用組成物をバーコーターで塗布し、次いで80℃で5分乾燥した後、300mJ/cmの照射強度で紫外線照射し応力調整手段(層)を設けた。応力調整手段(層)の乾燥膜厚は0.1μm、屈折率は1.85であった。 Subsequently, on this layer, the following composition for stress adjusting layer was applied with a bar coater, then dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then irradiated with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 300 mJ / cm 2 , stress adjusting means (layer) Was provided. The dry thickness of the stress adjusting means (layer) was 0.1 μm, and the refractive index was 1.85.

(応力調整層用組成物)
チタンテトラブトキシド 14.5g
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 0.25g
カチオン性硬化樹脂(KR566−39 旭電化工業社製) 0.25g
1−ブタノール 75ml
ジメチルホルムアミド 3ml
10質量%塩酸 3ml
(無機化合物層の形成)
上記応力調整層上に、下記の方法に従って、最表層(無機化合物層)としてポリシラザンコーティング層を形成し、中間転写ベルト5とした。
(Stress adjusting layer composition)
Titanium tetrabutoxide 14.5g
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 0.25 g
Cationic curable resin (KR56-39 manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 0.25 g
1-butanol 75ml
Dimethylformamide 3ml
10% hydrochloric acid 3ml
(Formation of inorganic compound layer)
On the stress adjusting layer, a polysilazane coating layer was formed as the outermost layer (inorganic compound layer) in accordance with the following method to obtain an intermediate transfer belt 5.

即ち、応力調整層上に、ポリシラザン(AZエレクトロニックマテリアルズ社製、アクアミカ NAX−120−20)を、硬化後の膜厚が1.0μmとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布した。塗布、乾燥した後、40℃の環境で7日間放置し、シロキサン結合の層として硬化させた。   That is, polysilazane (manufactured by AZ Electronic Materials, Aquamica NAX-120-20) was applied on the stress adjusting layer using a micro gravure coater so that the film thickness after curing was 1.0 μm. After coating and drying, it was allowed to stand for 7 days in an environment of 40 ° C. and cured as a siloxane bond layer.

〈中間転写ベルト6の作製〉
〈ポリマー層の形成〉
無端ベルト状基体No.1−a上に下記表1の組成の塗布液を塗布した。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 6>
<Formation of polymer layer>
Endless belt base No. A coating solution having the composition shown in Table 1 below was applied onto 1-a.

塗布方法としては、硬化後の膜厚が5μmとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布した。溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて0.4J/cmの紫外線照射により硬化させ3次元架橋性樹脂層を形成した。 As a coating method, a microgravure coater was used so that the film thickness after curing was 5 μm. After evaporating and drying the solvent, the solvent was cured by irradiation with ultraviolet rays of 0.4 J / cm 2 using a high pressure mercury lamp to form a three-dimensional crosslinkable resin layer.

Figure 0005545051
Figure 0005545051

続いて応力調整層用塗布液として、JSR Z7535(JSR株式会社製)の光硬化樹脂のポリマー液に、シランカップリング剤として、KBM−903(信越シリコーン製)を0.5質量%を添加して、応力調整層塗布液を調製した。硬化後の膜厚が5μmとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布した。溶剤を蒸発乾燥した後、高圧水銀灯を用いて0.4J/cmの紫外線照射により硬化させポリマー層1(応力調整層)を形成した。 Subsequently, 0.5% by mass of KBM-903 (manufactured by Shin-Etsu Silicone) is added as a silane coupling agent to a polymer liquid of a photocurable resin of JSR Z7535 (manufactured by JSR Corporation) as a coating liquid for a stress adjustment layer. Thus, a stress adjusting layer coating solution was prepared. It applied using the micro gravure coater so that the film thickness after hardening might be set to 5 micrometers. After the solvent was evaporated and dried, the polymer layer 1 (stress adjusting layer) was formed by curing with 0.4 J / cm 2 ultraviolet irradiation using a high-pressure mercury lamp.

(無機化合物層の形成)
上記応力調整層上に、下記の方法に従って、最表層としてポリシラザンコーティング層を形成した。
(Formation of inorganic compound layer)
On the stress adjusting layer, a polysilazane coating layer was formed as the outermost layer according to the following method.

ポリマー層1上に、中間転写ベルト5の作製時と同様の方法で無機化合物層を形成した。これを中間転写ベルト6とした。   An inorganic compound layer was formed on the polymer layer 1 in the same manner as in the production of the intermediate transfer belt 5. This was designated as an intermediate transfer belt 6.

〈中間転写ベルト7の作製〉
中間転写ベルト3の作製で用いた3次元架橋性樹脂層塗布液を、乾燥膜厚が5μmとなるように押し出し塗布し、80℃にて5分間乾燥した。続いて硬化処理前に下記塗布組成物を乾燥膜厚が1μmとなるように押し出し塗布し、更に80℃にて5分間乾燥した。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 7>
The three-dimensional crosslinkable resin layer coating solution used in the production of the intermediate transfer belt 3 was applied by extrusion so that the dry film thickness was 5 μm, and dried at 80 ° C. for 5 minutes. Subsequently, the following coating composition was extruded and applied to a dry film thickness of 1 μm before the curing treatment, and further dried at 80 ° C. for 5 minutes.

〈塗布組成物〉
合成シリカ微粒子(平均粒径16nm) 13部
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂 99部
(ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)
コロネートL 100部
(ポリイソシアネート化合物、日本ポリウレタン(株)製)
光重合開始剤(イルガキュア184、チバガイギー社製) 3部
を溶剤(メチルエチルケトン)にてホモジナイザーにより混合して揮発分60質量%の均質な分散液を調製した。
<Coating composition>
Synthetic silica fine particles (average particle size 16 nm) 13 parts UV curable acrylic urethane resin 99 parts (Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.)
Coronate L 100 parts (polyisocyanate compound, manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.)
3 parts of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd.) was mixed with a solvent (methyl ethyl ketone) by a homogenizer to prepare a homogeneous dispersion having a volatile content of 60% by mass.

塗布組成物を塗布した後、90W/cm高圧水銀灯を12cmの距離から5秒間照射して硬化処理をおこない、応力調整手段(層)を形成した。   After coating the coating composition, a 90 W / cm high-pressure mercury lamp was irradiated for 5 seconds from a distance of 12 cm to perform a curing treatment, thereby forming a stress adjusting means (layer).

(無機化合物層の形成)
上記応力調整手段(層)上に、下記の方法に従って、最表層(無機化合物層)としてポリシラザンコーティング層を形成した。
(Formation of inorganic compound layer)
On the stress adjusting means (layer), a polysilazane coating layer was formed as the outermost layer (inorganic compound layer) according to the following method.

上記応力調整手段(層)上に、最表層としてポリシラザンコーティング層を形成した。   A polysilazane coating layer was formed as the outermost layer on the stress adjusting means (layer).

ポリマー層1上に、中間転写ベルト5の作製時と同様の方法で無機化合物層を形成した。これを中間転写ベルト7とした。   An inorganic compound layer was formed on the polymer layer 1 in the same manner as in the production of the intermediate transfer belt 5. This was designated as an intermediate transfer belt 7.

〈中間転写ベルト8の作製〉
中間転写ベルト7において3次元架橋樹脂層塗布後に塗布した塗布組成物の代わりにポリシラザン(AZエレクトロニックマテリアルズ社製、アクアミカ NAX−120−20) 100部とメチルエチルケトン 30部の混合溶液を、硬化後の膜厚が1.0μmとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布した。その後90W/cm高圧水銀灯を12cmの距離から5秒間照射して硬化処理をおこない、応力調整手段とした。この後さらに中間転写ベルト7と同様にポリシラザンコーティング層を形成した。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 8>
Instead of the coating composition applied after the application of the three-dimensional cross-linked resin layer on the intermediate transfer belt 7, a mixed solution of 100 parts of polysilazane (manufactured by AZ Electronic Materials, Aquamica NAX-120-20) and 30 parts of methyl ethyl ketone was cured. It applied using the micro gravure coater so that a film thickness might be set to 1.0 micrometer. Thereafter, a 90 W / cm high-pressure mercury lamp was irradiated for 5 seconds from a distance of 12 cm to perform a curing treatment, and used as a stress adjusting means. Thereafter, a polysilazane coating layer was further formed in the same manner as the intermediate transfer belt 7.

〈中間転写ベルト9の作製〉
応力調整手段(層)の形成まで、中間転写ベルト4と同様に行った。次いで表層(無機化合物層)の形成について以下の様に行った。
<Preparation of intermediate transfer belt 9>
The process was the same as that for the intermediate transfer belt 4 until the formation of the stress adjusting means (layer). Subsequently, formation of the surface layer (inorganic compound layer) was performed as follows.

(無機化合物層の形成)
応力調整層手段(層)の上に、図4に示す大気圧プラズマCVDによる製造装置を使用し、上層と下層とで炭素含有率(炭素原子数濃度)を変えた酸化ケイ素層を形成し中間転写ベルトを作製し試料とした。上層の膜厚は150nm、下層の膜厚は200nmとした。膜厚は実施例1と同じ方法で測定した値を示す。
(Formation of inorganic compound layer)
On the stress adjustment layer means (layer), a manufacturing apparatus using atmospheric pressure plasma CVD shown in FIG. 4 is used to form a silicon oxide layer in which the carbon content (carbon atom number concentration) is changed between the upper layer and the lower layer. A transfer belt was prepared and used as a sample. The film thickness of the upper layer was 150 nm, and the film thickness of the lower layer was 200 nm. The film thickness indicates a value measured by the same method as in Example 1.

尚、無機化合物層を2層に分ける方法は下層を形成した後に、上層を積層することで形成した。又、炭素含有率(炭素原子数濃度)を変えた酸化ケイ素層は放電ガス、反応ガス、原料ガスの比を変えず、全ガスの供給速度を変えた他は中間転写ベルト4の無機化合物層の形成と同じ方法で形成した。   The method of dividing the inorganic compound layer into two layers was formed by laminating the upper layer after forming the lower layer. In addition, the silicon oxide layer in which the carbon content (carbon atom number concentration) is changed does not change the ratio of the discharge gas, the reaction gas, and the raw material gas, and the supply rate of all the gases is changed. Formed in the same manner as

次いで保護層の形成(アルキルシラン保護層)を行った。   Next, a protective layer (alkylsilane protective layer) was formed.

(メチルトリエトキシシラン加水分解物の調製)
メチルトリエトキシシラン250部にエタノール380部を加え、この溶液に4部の濃塩酸を235部の水で希釈した塩酸水溶液を、室温でゆっくり滴下した。滴下後、3時間室温で攪拌してメチルトリエトキシシラン加水分解物を調製した。
(Preparation of methyltriethoxysilane hydrolyzate)
380 parts of ethanol was added to 250 parts of methyltriethoxysilane, and an aqueous hydrochloric acid solution prepared by diluting 4 parts of concentrated hydrochloric acid with 235 parts of water was slowly added dropwise to this solution at room temperature. After dropping, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours to prepare a methyltriethoxysilane hydrolyzate.

〈保護層組成物〉
メチルトリエトキシシラン加水分解物 180部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 5部
シクロヘキサノン 3200部
バーコーターで塗布し、80℃で30分間乾燥させ、中間転写ベルト9を作製した。
<Protective layer composition>
Methyltriethoxysilane hydrolyzate 180 parts γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane 5 parts Cyclohexanone 3200 parts Coating with a bar coater and drying at 80 ° C. for 30 minutes to produce an intermediate transfer belt 9.

〈中間転写ベルト10の作製〉
応力調整手段(層)形成までは、中間転写ベルト6と同じに行った。
<Preparation of Intermediate Transfer Belt 10>
The process was the same as that of the intermediate transfer belt 6 until the stress adjusting means (layer) was formed.

また表層(無機化合物層)の形成は、中間転写ベルト9と同じに行った。   The surface layer (inorganic compound layer) was formed in the same manner as the intermediate transfer belt 9.

次いで、中間転写ベルト9の保護層(アルキルシラン保護層)から以下の保護層に変更した。   Subsequently, the protective layer (alkylsilane protective layer) of the intermediate transfer belt 9 was changed to the following protective layer.

(保護層の形成)
フルオロエーテル高分子Si化合物としてオプツールAES(ダイキン工業社製)の1gをノベックHFE7100(住友3M社製)100gで希釈して固形分濃度を0.2%に調整し保護層塗布液を作製した。次いで、表層にディッピング法により前記撥水層塗布液1を塗布し、乾燥させ、常温常湿環境下に1昼夜保管した後、アルコール洗浄により撥水層余剰分を取り除き、中間転写ベルト10を得た。
(Formation of protective layer)
As a fluoroether polymer Si compound, 1 g of OPTOOL AES (manufactured by Daikin Industries) was diluted with 100 g of Novec HFE7100 (manufactured by Sumitomo 3M) to adjust the solid concentration to 0.2% to prepare a protective layer coating solution. Next, the water repellent layer coating solution 1 is applied to the surface layer by a dipping method, dried, stored in a room temperature and humidity environment for one day and night, and then the excess water repellent layer is removed by alcohol washing to obtain an intermediate transfer belt 10. It was.

《評価》
〈画像形成装置〉
上記で作製した中間転写体の評価は、画像形成装置「bizhub PRO C6500(コニカミノルタビジネステクノロジーズ社製)」に装着して行った。
<Evaluation>
<Image forming device>
The intermediate transfer member produced above was evaluated by attaching it to an image forming apparatus “bizhub PRO C6500 (manufactured by Konica Minolta Business Technologies)”.

尚、画像形成には体積基準におけるメディアン粒径(D50)が4.5μmのトナーと60μmのコートキャリアよりなる2成分現像剤を使用した。   For image formation, a two-component developer comprising a toner having a median particle diameter (D50) of 4.5 μm on a volume basis and a coat carrier of 60 μm was used.

プリント環境は、低温低湿(10℃、20%RH)と高温高湿(33℃、80%RH)で16万枚のプリントを行った。転写材は、A4版の上質紙(64g/m)を用いた。 The printing environment was 160,000 printed at low temperature and low humidity (10 ° C., 20% RH) and high temperature and high humidity (33 ° C., 80% RH). As the transfer material, high-quality paper (64 g / m 2 ) of A4 size was used.

プリント原稿は、印字率が7%の文字画像(3ポイント文字と5ポイント文字がそれぞれ50%)、カラー人物顔画像(ハーフトーンを含むドット画像)、ベタ白画像、ベタ画像がそれぞれ1/4等分にあるオリジナル画像(A4版)を用いた。   A printed document has a character image with a printing rate of 7% (3 point characters and 5 point characters are 50% each), a color human face image (dot image including a halftone), a solid white image, and a solid image each 1/4. The original image (A4 version) in equal parts was used.

〈評価〉
(クラックの発生)
クラックの発生は、常温常湿(20℃、50%RH)環境で、中間転写体の裏側に径の異なる丸棒に中間転写体の樹脂基体側の裏面を沿わせ、中間転写体の表面層側の表面を顕微鏡で観察し、クラックの発生状況で評価した。尚、レベル1とレベル2を合格とする。
<Evaluation>
(Occurrence of cracks)
Cracks are generated in a room temperature and humidity environment (20 ° C., 50% RH) by placing the back surface of the intermediate transfer body on the resin substrate side of the intermediate transfer body on a round bar having a different diameter on the back side of the intermediate transfer body. The surface on the side was observed with a microscope and evaluated based on the occurrence of cracks. Level 1 and level 2 are acceptable.

レベル1:棒の径15mmでクラック発生せず
レベル2:棒の径15mmでクラック発生、25mmでクラック発生せず
レベル3:棒の径25mmでクラック発生、45mmでクラック発生せず
レベル4:棒の径45mmでクラック発生
レベル5:平面でクラック発生。
Level 1: No crack at 15 mm rod diameter Level 2: No crack at 15 mm rod diameter, no crack at 25 mm Level 3: No crack at 25 mm rod diameter, no crack at 45 mm Level 4: Rod Crack generation at a diameter of 45 mm Level 5: Crack generation on a flat surface.

(微小なクラックの発生)
上記画像形成装置でプリントを行った後、走査型電子顕微鏡(日立製 S−5000)を用いて中間転写ベルトの表面を観察し、直径が1〜50μ程度の甲羅状のクラックの有無を確認した。
(Generation of minute cracks)
After printing with the image forming apparatus, the surface of the intermediate transfer belt was observed using a scanning electron microscope (S-5000 manufactured by Hitachi), and the presence or absence of a shell-like crack having a diameter of about 1 to 50 μm was confirmed. .

○:微細クラックは見られない
△:微細クラックの発生領域あり
×:ほぼ全面に微細クラック有り
(クリーニング性)
クリーニング性の評価は、低温低湿(10℃、20%RH)環境でプリントを行い、クリーニングした後の中間転写体の表面を目視観察し、その表面に残存するトナーの程度と、プリントして得られたプリント画像にクリーニング不良に起因する画像汚れの発生程度で評価した。
○: No microcracks are observed △: Microcracks are present in the region ×: Microcracks are present on almost the entire surface (cleaning property)
Evaluation of the cleaning property is obtained by performing printing in a low-temperature and low-humidity (10 ° C., 20% RH) environment, visually observing the surface of the intermediate transfer member after cleaning, and printing the degree of toner remaining on the surface. Evaluation was made based on the degree of occurrence of image contamination due to poor cleaning on the printed image.

評価基準
◎:16万枚まで、中間転写体上にクリーニング残トナーが認められず、プリント画像にもクリーニング不良に起因する画像汚れなし
○:16万枚で、中間転写体上にクリーニング残トナーが認められるが、プリント画像にクリーニング不良に起因する画像汚れなし
×:10万枚で、中間転写体上にクリーニング残トナーが認められ、プリント画像にもクリーニング不良に起因する画像汚れが有り実用上問題。
Evaluation Criteria A: Up to 160,000 sheets, no cleaning residual toner is observed on the intermediate transfer body, and there is no image contamination due to poor cleaning in the printed image. ○: At 160,000 sheets, residual cleaning toner is present on the intermediate transfer body. Although it is recognized, there is no image contamination due to poor cleaning in the printed image ×: 100,000 remaining sheets, cleaning residual toner is recognized on the intermediate transfer body, and there is image contamination due to poor cleaning in the printed image, which is a practical problem .

(トナーフィルミング)
トナーフィルミングの評価は、高温高湿(33℃、90%RH)の環境下で16万枚のプリントを行った後、中間転写体表面を目視観察しトナーフィルミングの状態と、16万枚プリント時のプリント画像に発生したかぶりと白すじで評価した。
(Toner filming)
The evaluation of toner filming was performed by printing 160,000 sheets in an environment of high temperature and high humidity (33 ° C., 90% RH), and then visually observing the surface of the intermediate transfer member to determine the state of toner filming and 160,000 sheets. The fog and white streaks generated in the printed image at the time of printing were evaluated.

評価基準
◎:トナーフィルミングによる中間転写体表面の光沢むらが全く認められず、プリント画像にトナーフィルミングによるかぶりや白すじは発生しなかった
○:トナーフィルミングによる中間転写体表面の光沢むらがかすかに認められたか、それに対応した場所にかぶりや白すじの発生が認められなかった
×:トナーフィルミングによる中間転写体表面の光沢むらが認められ、それに対応した場所にかぶりや白すじが発生した。
Evaluation criteria A: No gloss unevenness on the surface of the intermediate transfer member due to toner filming was observed, and no fogging or white streaks due to toner filming occurred in the printed image. No fogging or white streaks were observed in a place corresponding to the fading, or no occurrence of fogging or white streaks was observed on the surface of the intermediate transfer member due to toner filming. Occurred.

(耐久性)
耐久性の評価は、高温高湿(33℃、80%RH)で16万枚プリント終了時の画像濃度で評価した。
(durability)
The durability was evaluated by the image density at the end of printing 160,000 sheets at high temperature and high humidity (33 ° C., 80% RH).

画像濃度は、べた黒画像部の濃度を反射濃度計「RD−918」(マクベス社製)を用いて12点測定して評価した。   The image density was evaluated by measuring the density of a solid black image portion at 12 points using a reflection densitometer “RD-918” (manufactured by Macbeth).

評価基準
◎:画像濃度が、1.35以上で優れている
○:画像濃度が、1.20以上、1.35未満で実用上問題ないレベル
×:画像濃度が、1.20未満で実用上問題となるレベル。
Evaluation criteria A: Excellent when image density is 1.35 or more B: Practical problem when image density is 1.20 or more and less than 1.35 ×: Practical value when image density is less than 1.20 The level at issue.

Figure 0005545051
Figure 0005545051

本発明の応力調整手段を有するものはいずれの評価においても良好であることがわかる。   It can be seen that those having the stress adjusting means of the present invention are good in any evaluation.

1、1′ フルカラー画像形成装置
10Y、10M、10C、10K 画像形成ユニット
4′ 転写ユニット
401′ 中間転写ローラ
7 無端ベルト状中間転写体ユニット
70 中間転写ベルト
70a 基体
70b 弾性層
70c 樹脂層
70d 無機化合物層
70e 応力調整手段
9 製造装置
9a 大気圧プラズマCVD装置
9a1 ロール電極
9a2 固定電極
9a3 混合ガス供給装置
9a4 放電容器
9a5 第1電源(高周波電源)
9a6 第2電源(高周波電源)
9a7 排気管
9a8 放電空間
9b 材料供給装置
1, 1 'full-color image forming apparatus 10Y, 10M, 10C, 10K image forming unit 4' transfer unit 401 'intermediate transfer roller 7 endless belt-like intermediate transfer body unit 70 intermediate transfer belt 70a substrate 70b elastic layer 70c resin layer 70d inorganic compound Layer 70e Stress adjusting means 9 Manufacturing device 9a Atmospheric pressure plasma CVD device 9a1 Roll electrode 9a2 Fixed electrode 9a3 Mixed gas supply device 9a4 Discharge vessel 9a5 First power source (high frequency power source)
9a6 Second power supply (high frequency power supply)
9a7 Exhaust pipe 9a8 Discharge space 9b Material supply device

Claims (9)

基体と弾性層を有する中間転写体であって、
弾性層上に3次元架橋性樹脂層、無機化合物層をこの順に有し、かつ3次元架橋性樹脂層表面には、応力調整手段が施されており、
前記応力調整手段が、前記3次元架橋性樹脂層の表面近傍に偏在して無機微粒子を含有させることにあることを特徴とする中間転写体。
An intermediate transfer member having a substrate and an elastic layer,
The elastic layer has a three-dimensional crosslinkable resin layer and an inorganic compound layer in this order, and the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer is subjected to stress adjusting means ,
The intermediate transfer member , wherein the stress adjusting means is unevenly distributed near the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer to contain inorganic fine particles .
前記3次元架橋性樹脂層中の無機微粒子含有濃度が、無機化合物層との界面に向かって段階的または連続的に増加していることを特徴とする請求項1に記載の中間転写体。 2. The intermediate transfer member according to claim 1 , wherein the concentration of the inorganic fine particles in the three-dimensional crosslinkable resin layer increases stepwise or continuously toward the interface with the inorganic compound layer. 基体と弾性層を有する中間転写体であって、
弾性層上に3次元架橋性樹脂層、無機化合物層をこの順に有し、かつ3次元架橋性樹脂層表面には、応力調整手段が施されており、
前記応力調整手段が、前記3次元架橋性樹脂層の表面近傍にシランカップリング剤を導入することにあることを特徴とする中間転写体。
An intermediate transfer member having a substrate and an elastic layer,
The elastic layer has a three-dimensional crosslinkable resin layer and an inorganic compound layer in this order, and the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer is subjected to stress adjusting means,
The intermediate transfer member , wherein the stress adjusting means is to introduce a silane coupling agent in the vicinity of the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer .
基体と弾性層を有する中間転写体であって、
弾性層上に3次元架橋性樹脂層、無機化合物層をこの順に有し、かつ3次元架橋性樹脂層表面には、応力調整手段が施されており、
前記応力調整手段が、3次元架橋性樹脂をコーティング後、硬化処理前に無機化合物層をコーティングし、この後、硬化処理を行うことにあることを特徴とする中間転写体。
An intermediate transfer member having a substrate and an elastic layer,
The elastic layer has a three-dimensional crosslinkable resin layer and an inorganic compound layer in this order, and the surface of the three-dimensional crosslinkable resin layer is subjected to stress adjusting means,
An intermediate transfer member , wherein the stress adjusting means comprises coating an inorganic compound layer after coating with a three-dimensional crosslinkable resin and before curing, and thereafter performing curing .
前記3次元架橋性樹脂層がアクリレート系樹脂を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体。 The intermediate transfer member according to claim 1, wherein the three-dimensional crosslinkable resin layer contains an acrylate resin. 前記無機化合物層が、酸化珪素または炭素含有酸化珪素と酸化珪素の積層、からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体。 The intermediate transfer member according to any one of claims 1 to 4, wherein the inorganic compound layer comprises silicon oxide or a laminate of carbon-containing silicon oxide and silicon oxide. 前記無機化合物層が、大気圧プラズマ法により形成されたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の中間転写体。 The intermediate transfer member according to claim 1, wherein the inorganic compound layer is formed by an atmospheric pressure plasma method. 前記無機化合物層が、ポリシラザンコーティング層から形成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体。 The intermediate transfer member according to claim 1, wherein the inorganic compound layer is formed of a polysilazane coating layer. 前記無機化合物層の上に更にアルキルシランまたはフッ素含有シラン化合物を含有する保護層を設けたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の中間転写体。 The intermediate transfer member according to any one of claims 1 to 4, wherein a protective layer containing an alkylsilane or a fluorine-containing silane compound is further provided on the inorganic compound layer.
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