JP5522356B2 - Hologram thread and hologram thread paper - Google Patents
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Description
本発明はホログラムスレッドに係り、特に偽造防止用のホログラムスレッド及びホログラムスレッド用紙に関する。 The present invention relates to a hologram thread, and more particularly to a hologram thread and hologram thread paper for preventing counterfeiting.
従来、乗車券、商品券等の用紙に使用可能とした偽造防止用スレッドとして、ホログラムを利用したホログラムスレッドが開示されている(特許文献1及び特許文献2参照)。 Conventionally, hologram threads using holograms have been disclosed as anti-counterfeit threads that can be used for paper such as tickets and gift certificates (see Patent Document 1 and Patent Document 2).
また、高コストのためホログラムを形成せず、液晶層を有する偽造防止用スレッドが開示されている(特許文献3参照)。 Further, a forgery prevention thread having a liquid crystal layer without forming a hologram due to high cost is disclosed (see Patent Document 3).
しかしながら、ホログラム層と液晶層を有し、偽造防止効果の高いスレッドとするには、従来、エンボスホログラムのアルミ蒸着層を部分的に取り除いて文字やパターンに加工するデメタライズ加工を用いたホログラムフィルムと液晶フィルムを重ね合わせて作成されたものがあり、アルミ蒸着層で液晶層が見えなくなってしまう場合があった。その結果、偽造防止のための液晶層を確認することが困難となっていた。 However, in order to make a thread having a hologram layer and a liquid crystal layer and having a high anti-counterfeiting effect, conventionally, a hologram film using a demetalization process in which an aluminum vapor deposition layer of an embossed hologram is partially removed and processed into characters and patterns In some cases, the liquid crystal film is formed by superimposing the liquid crystal film, and the liquid crystal layer may become invisible in the aluminum vapor deposition layer. As a result, it has been difficult to confirm a liquid crystal layer for preventing forgery.
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、偽造防止効果が高く、安価で大量に作成可能なホログラムスレッド及びホログラムスレッド用紙を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a hologram thread and hologram thread paper that have a high anti-counterfeit effect and can be produced in large quantities at low cost.
上記目的を達成する本発明のホログラムスレッドは、基材フィルムと、前記基材フィルムの一方に配置された液晶層と、前記液晶層の前記基材フィルムとは反対側に配置されたプライマー層と、前記プライマー層に印刷されたEPC用ラインと、前記プライマー層の前記液晶層とは反対側に配置されEPC用ラインを覆うハードコート層と、前記基材フィルムの他方に配置されたホログラム層と、前記ホログラム層の前記基材フィルムとは反対側に配置された蒸着層と、前記蒸着層の前記ホログラム層とは反対側に配置されたUVアンカー層と、前記UVアンカー層の前記蒸着層とは反対側に配置された印刷層と、前記印刷層の前記UVアンカー層とは反対側に配置された蛍光層と、前記蛍光層の前記印刷層とは反対側に配置された第1ヒートシール層と、前記ハードコート層の前記プライマー層とは反対側に配置された第2ヒートシール層と、を有することを特徴とする。 The hologram thread of the present invention that achieves the above object comprises a base film, a liquid crystal layer disposed on one side of the base film, and a primer layer disposed on the opposite side of the liquid crystal layer from the base film. An EPC line printed on the primer layer, a hard coat layer disposed on the opposite side of the primer layer from the liquid crystal layer and covering the EPC line, and a hologram layer disposed on the other side of the substrate film; A deposition layer disposed on the opposite side of the hologram layer from the base film, a UV anchor layer disposed on the deposition layer opposite to the hologram layer, and the deposition layer of the UV anchor layer. Is a printed layer disposed on the opposite side of the printed layer, a fluorescent layer disposed on the printed layer opposite to the UV anchor layer, and a first heat disposed on the fluorescent layer on the opposite side of the printed layer. A seal layer, wherein the said primer layer of the hard coat layer and having a second heat sealing layer disposed on the opposite side.
また、前記印刷層は、黒の磁気インキを用いたオフセット印刷により形成することを特徴とする。 The printed layer is formed by offset printing using black magnetic ink.
また、前記印刷層は、細線文字による反転文字抜きパターンにより形成することを特徴とする。 The printed layer is formed by a reversed character removal pattern using thin line characters.
さらに、本発明のホログラムスレッド用紙は、前記ホログラムスレッドを紙にすき込みし作成することを特徴とする。 Furthermore, the hologram thread paper of the present invention is characterized in that the hologram thread is formed by scribing into the paper.
本発明によれば、偽造防止効果が高く、安価で大量に作成可能なホログラムスレッド及びホログラムスレッド用紙を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a hologram thread and hologram thread paper that have a high anti-counterfeit effect and can be produced in large quantities at low cost.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は本発明のホログラム転写箔の一実施形態を示す概略断面図である。図1において、ホログラムスレッド1は、基材フィルム2と、基材フィルム2の一方に配置された液晶層3と、液晶層3の基材フィルム2とは反対側に配置されたプライマー層4と、プライマー層4に印刷されたEPC用ライン5と、プライマー層4の液晶層3とは反対側に配置されEPC用ライン5を覆うハードコート層6と、基材フィルム2の他方に配置されたホログラム層7と、ホログラム層7の基材フィルム2とは反対側に配置された蒸着層7と、蒸着層8のホログラム層7とは反対側に配置されたUVアンカー層9と、UVアンカー層9の蒸着層8とは反対側に配置された印刷層10と、印刷層10のUVアンカー層9とは反対側に配置された蛍光層11と、蛍光層11の印刷層10とは反対側に配置された第1ヒートシール層11と、ハードコート層6のプライマー層4とは反対側に配置された第2ヒートシール層13とを有する。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the hologram transfer foil of the present invention. In FIG. 1, a hologram thread 1 includes a
次に、ホログラムスレッドの製造方法について説明する。図2〜図4は、本実施形態のホログラムスレッドの製造方法を示す図である。 Next, a method for manufacturing a hologram thread will be described. 2-4 is a figure which shows the manufacturing method of the hologram thread | sled of this embodiment.
図2(a)は、基材フィルム2を示す図である。
FIG. 2A is a diagram showing the
基材フィルム2は、寸法安定性、耐熱性、強靭性等を有するものを使用することができ、例えば、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ナイロン(登録商標)、ポリノルボルネン、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリカーボネート、セロファン、ビニロン(登録商標)、アセテート、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリアミドイミド等の樹脂フィルム、コンデンサペーパー等の紙、これらの複合体等を使用することができる。基材フィルム2の厚みは、使用する材質を考慮して適宜設定することができ、例えば、6〜50μm程度の範囲で設定することができる。特に、16〜25μm程度の範囲が好ましい。
The
本実施形態では、厚さ16μmのポリエチレンテレフタレート(PET)を使用し、フェルトラビングローラーに通して、液晶塗布表面に液晶配向用ラビング処理を施し、表面に液晶塗膜接着用のコロナ処理を行う。 In the present embodiment, polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 16 μm is used, passed through a felt rubbing roller, a rubbing treatment for liquid crystal alignment is performed on the liquid crystal coating surface, and a corona treatment for adhering a liquid crystal coating film is performed on the surface.
図2(b)は、基材フィルム2の一方に液晶層3を形成した図である。
FIG. 2B is a diagram in which the
本実施形態の液晶層3は、コロナ処理後の基材フィルム2にUV硬化樹脂を含む液晶塗液を塗布し、80℃で30秒乾燥後、UV照射装置により硬化させ、厚さ2.5μmで形成する。液晶塗液は、以下の成分である。
BF−C−20R(インクテック) 100重量部
シクロヘキサノン 20重量部
MEK 20重量部
In the
BF-C-20R (Inktec) 100 parts by weight Cyclohexanone 20 parts by weight MEK 20 parts by weight
図2(c)は、液晶層3の基材フィルム2とは反対側にプライマー層4を形成した図である。
FIG. 2C is a diagram in which a
本実施形態のプライマー層4は、液晶層3上に塗液を塗布し、100℃で20秒乾燥後、イソシア架橋硬化のため、3日間の常温エージングを行う。プライマー層4の厚さは1μmである。プライマー層4に使用する塗液は、以下の成分である。
LCアンカー 100重量部
硬化剤D 5重量部
KT−11 150重量部
The
LC anchor 100 parts by weight
図2(d)は、プライマー層4の液晶層3とは反対側にEPC(エッジラインセンサ)用墨ライン5を形成した図である。
FIG. 2D is a diagram in which a
本実施形態のEPC用ライン5は、複製EPC、オフセット印刷EPC及びスリットEPCのすべてを制御し、柄の位置合わせを行うために重要である。EPC用ライン5は、後述するホログラム層7を塗布する前に、印刷され、常温で1日エージング硬化する。
The
図5は、本実施形態のホログラムスレッドに墨ラインを入れた図である。図中a−a線の断面図が図1のホログラムスレッド原反の図に相当する。EPC用ライン5は、トラバース巻き制御のために入れる本数を決める。UV硬化の際にシワを発生するようであれば、墨ラインを用いず、UVランプから発生する赤外線帯域の吸収が少ない赤ライン又は可視光線中央帯域の吸収が少ない緑ラインを使用して、カラーセンサーを用いてこれらをEPC制御に使用してもよい。EPC用ライン5の幅は、3〜10mmで、好ましくは3〜5mmが良い。
FIG. 5 is a diagram in which a black line is added to the hologram thread of this embodiment. A cross-sectional view taken along the line aa in the figure corresponds to the view of the original hologram thread in FIG. The number of
EPC用ライン5は、以下の成分からなる。
着色OPニス墨((株)昭和インク工業所製) 100重量部
硬化剤D 5重量部
KT−11 30重量部
The
Colored OP Varnish (made by Showa Ink Industries Co., Ltd.) 100 parts by weight
図2(e)は、プライマー層4の液晶層3とは反対側にEPC用ライン5を覆うハードコート層6を形成した図である。
FIG. 2E is a diagram in which a
ハードコート層6は、EPC用ライン5をコートすると共に、後述する第2ヒートシール層13に対してブロッキングするものである。例えば、帯電防止性のあるUVインキにすべり性を持たせるためマイクロシリカを分散させたものが好ましい。バックコート層7の膜厚は、約2〜3μmが好ましい。
The
本実施形態のハードコート層6は、エージング後のプライマー層4上にUV硬化型のハードコート層を塗布し、100℃で20秒乾燥後、UV照射装置により硬化し、厚さ3μmで形成される。ハードコート層6は、以下の成分からなる。
KIZ044マット(ザ・インクテック(株)製) 100重量部
KT−11 120重量部
The
KIZ044 mat (manufactured by The Inktec Co., Ltd.) 100 parts by weight KT-11 120 parts by weight
図3(a)は、基材フィルム2の他方にホログラム層7を形成した図である。
FIG. 3A is a diagram in which a hologram layer 7 is formed on the other side of the
ホログラム層7におけるホログラムとは、立体画像に限らず、一定の連続パターンあるいは不連続パターンを形成した光学素子、例えば、回折格子やモスアイと呼ばれる反射防止素子も含まれる。例えば、ホログラム層7は、レリーフ型のホログラム層とすることができる。 The hologram in the hologram layer 7 is not limited to a three-dimensional image, but includes an optical element in which a constant continuous pattern or a discontinuous pattern is formed, for example, an antireflection element called a diffraction grating or a moth eye. For example, the hologram layer 7 can be a relief-type hologram layer.
ホログラム層7は、紫外線硬化型架橋構造の樹脂からなることが好ましい。また、その樹脂には、架橋数を調整する架橋構造調整添加剤を含むことが好ましい。 The hologram layer 7 is preferably made of an ultraviolet curable crosslinked resin. The resin preferably contains a cross-linking structure adjusting additive that adjusts the number of cross-links.
ホログラム層7がレリーフ型のホログラムの場合は、微細な凹凸パターンを形成するために、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等を用いて形成され、厚みは0.1〜20μm、好ましくは0.5〜10μmの範囲で設定することができる。1〜2μm程度の範囲がさらに好ましい。特に、電離放射線硬化性樹脂の場合、1.7〜3.0μmが好ましい。この場合、下限を下回ると、放射線硬化の硬化疎外限界となり、上限を上回ると、転写時の切れ性が悪化してしまう恐れがある。 When the hologram layer 7 is a relief hologram, it is formed using a thermosetting resin, a thermoplastic resin, an ionizing radiation curable resin, etc. in order to form a fine uneven pattern, and the thickness is 0.1 to 20 μm. Preferably, it can set in the range of 0.5-10 micrometers. A range of about 1 to 2 μm is more preferable. In particular, in the case of ionizing radiation curable resin, 1.7 to 3.0 μm is preferable. In this case, if it is below the lower limit, it becomes the curing alienation limit of radiation curing, and if it exceeds the upper limit, the cutting property at the time of transfer may be deteriorated.
熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、セルロース樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリアセタール樹脂等、有機成分とゾルゲル反応可能な金属アルコキシド基を含有した有機−無機ハイブリッド樹脂等が挙げられる。また、熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ナイロン(登録商標)、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独あるいは2種以上の組み合わせで使用することができ、また、各種イソシアネート樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を配合してもよい。 Examples of thermosetting resins include unsaturated polyester resins, acrylic urethane resins, epoxy resins, urethane resins, epoxy-modified acrylic resins, epoxy-modified unsaturated polyester resins, alkyd resins, melamine resins, urea resins, phenol resins, and cellulose resins. Organic-inorganic hybrid resins containing metal alkoxide groups capable of sol-gel reaction with organic components, such as diallyl phthalate resin and polyacetal resin. Thermoplastic resins include acrylic resin, acrylamide resin, polystyrene resin, polyester resin, polyolefin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyurethane, nylon (registered trademark), polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, polycarbonate, silicone. Examples thereof include resins. These resins can be used alone or in combination of two or more kinds, and various isocyanate resins, metal soaps such as cobalt naphthenate and zinc naphthenate, peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, Thermal or ultraviolet curing agents such as benzophenone, acetophenone, anthraquinone, naphthoquinone, azobisisobutyronitrile, and diphenyl sulfide may be blended.
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合をもつモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用することができる。モノマーとしては、例えば、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂が挙げられ、特に耐熱性や加工性の観点から、特開2000−63459号公報に記載されているようなウレタン変性アクリル樹脂が好ましく用いられる。 In addition, as the ionizing radiation curable resin, a monomer, oligomer, polymer, or the like having an ethylenically unsaturated bond can be used. Examples of the monomer include 1,6-hexanediol, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like. . Examples of the oligomer include epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyester acrylate. Examples of the polymer include urethane-modified acrylic resins and epoxy-modified acrylic resins. From the viewpoints of heat resistance and processability, urethane-modified acrylic resins as described in JP-A No. 2000-63459 are preferably used.
また、ホログラム層7に使用する光硬化性樹脂として、特開昭61−98751号公報、特開昭63−23909号公報、特開昭63−23910号公報に記載されているような光硬化性樹脂を挙げることができる。 Further, as the photocurable resin used for the hologram layer 7, photocurable resins as described in JP-A-61-98751, JP-A-63-23909, and JP-A-63-23910 are disclosed. Resins can be mentioned.
また、レリーフホログラムの凹凸パターン形状を正確に形成するために、反応性をもたないアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のポリマーを添加することができる。 Moreover, in order to form the uneven | corrugated pattern shape of a relief hologram correctly, polymers, such as a non-reactive acrylic resin, polyester resin, a urethane resin, an epoxy resin, can be added.
また、光カチオン重合を利用する場合には、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用することができる。 Moreover, when utilizing photocationic polymerization, an epoxy group-containing monomer, oligomer, polymer, oxetane skeleton-containing compound, and vinyl ethers can be used.
また、上記の電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型(ハイブリッド型)を選定することができる。 Further, when the ionizing radiation curable resin is cured by light such as ultraviolet rays, a photopolymerization initiator can be added. Depending on the resin, a radical photopolymerization initiator, a cationic photopolymerization initiator, or a combination thereof (hybrid type) can be selected.
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を挙げることができる。 Examples of the photo radical polymerization initiator include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether, anthraquinone compounds such as anthraquinone and methylanthraquinone, acetophenone, diethoxyacetophenone, benzophenone, hydroxyacetophenone, and 1-hydroxycyclohexyl. Examples include phenyl ketone compounds such as phenyl ketone, α-aminoacetophenone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, benzyldimethyl ketal, thioxanthone, acylphosphine oxide, Michler's ketone, and the like. be able to.
光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用することができる。 As a photocationic polymerization initiator when using a compound capable of photocationic polymerization, aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic phosphonium salts, mixed ligand metal salts, etc. should be used. Can do.
光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用することができ、また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用することができる。 In the case of so-called hybrid type materials that use both radical photopolymerization and cationic photopolymerization, each polymerization initiator can be mixed and used, and a fragrance that has the function of initiating polymerization of both with a single initiator. Group iodonium salts, aromatic sulfonium salts, and the like can be used.
さらに、ホログラム層7には、ホログラムの凹凸パターンの形成を容易とするために、離型剤を添加することができる。離型剤としては、公知の離型剤や界面活性剤、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス等の固形ワックス、フッ素化合物、フッ素ポリマー、リン酸エステル、シリコーンオイル、シリコーン樹脂等が挙げられる。 Furthermore, a release agent can be added to the hologram layer 7 in order to facilitate the formation of the concavo-convex pattern of the hologram. Examples of the release agent include known release agents and surfactants, for example, solid waxes such as polyethylene wax and amide wax, fluorine compounds, fluorine polymers, phosphate esters, silicone oils, and silicone resins.
また、レリーフの凹凸形状を正確なものとしたり、硬度、耐熱性を付与するために、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機酸化物微粒子や金属アルコキシド、金属アルコキシドオリゴマー等を添加することもできる。 Moreover, in order to make the uneven shape of the relief accurate, or to impart hardness and heat resistance, inorganic oxide fine particles such as silica, titania and alumina, metal alkoxide, metal alkoxide oligomer and the like can be added.
さらに、ホログラム層7には、重合防止剤、酸化防止剤、増感剤、紫外線吸収剤、安定化剤、可塑剤、消泡剤等を添加することができる。 Furthermore, a polymerization inhibitor, an antioxidant, a sensitizer, an ultraviolet absorber, a stabilizer, a plasticizer, an antifoaming agent, and the like can be added to the hologram layer 7.
本実施形態のホログラム層7は、まず、ホログラム形成用塗液を塗布し、100℃で20秒乾燥し、厚さ2μmでホログラム形成層が形成される。ホログラム形成用塗液は以下の成分からなる。
光硬化性樹脂(ザ・インクテック(株)製 MHX405) 100重量部
(ザ・インクテック(株)製 MIBK) 150重量部
The hologram layer 7 of the present embodiment is first coated with a hologram forming coating solution and dried at 100 ° C. for 20 seconds to form a hologram forming layer with a thickness of 2 μm. The hologram-forming coating liquid comprises the following components.
100 parts by weight of photocurable resin (MHX405, manufactured by The Inktec Co., Ltd.)
(The Inktec Co., Ltd. MIBK) 150 parts by weight
その後、ホログラム形成層にエンボスホログラム及び回折格子柄の凹凸が形成されたホログラムを押圧し、複製エンボスホログラム及び回折格子柄の複製ホログラムを形成する。 Thereafter, the hologram having the embossed hologram and the diffraction grating pattern unevenness formed thereon is pressed on the hologram forming layer to form a replication embossed hologram and a diffraction grating pattern replication hologram.
そして、複製後、UV照射装置により、UV硬化し、架橋硬化すると共に、100℃で30秒のアフターベークを行い、硬化残さを除去する。アフターベークにより硬化残さを除去することで、後述する蒸着層8の接着性が良くなる。
Then, after duplication, UV curing and crosslinking curing are performed by a UV irradiation apparatus, and after-baking is performed at 100 ° C. for 30 seconds to remove the residual residue. The adhesiveness of the
なお、ホログラム材料としては、特開2002−268523号公報、特開2000−272295号公報、特許3357013号公報、特許3357014号公報、特開2005−55473号公報、特開2001−329031号公報又は特開2005−115264号公報等に記載された材料を参考にするとよい。 In addition, as a hologram material, JP-A-2002-268523, JP-A-2000-272295, JP-A-3357013, JP-A-33557014, JP-A-2005-55473, JP-A-2001-329031 or special Reference may be made to the materials described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-115264.
図3(b)は、ホログラム層7の基材フィルム2とは反対側に蒸着層8を形成した図である。
FIG. 3B is a diagram in which a
本実施形態の蒸着層8は、ホログラム層7と組み合わされてホログラムを発現し、しかも下層を隠蔽させないホログラム効果薄膜が用いられる。蒸着層8は、コロナ処理を行ったホログラム層7に易接着処理を行った後、物理蒸着装置により、TiO2又はZnSで厚さ50nm〜100nmの薄膜を形成することで透明反射層として形成される。
The
なお、蒸着層8の材料に関しては、特公平5−87835号公報に記載された材料を参考にするとよい。特に、高耐久性のためには酸化劣化しないTiO2が好ましいが、安価で高輝度のためにはZnSが好ましい。
In addition, regarding the material of the
図3(c)は、蒸着層8のホログラム層7とは反対側にUVアンカー層9を形成した図である。
FIG. 3C is a diagram in which a
UVアンカー層9は、蒸着層8上に塩酢ビ系樹脂のUVオフセット印刷により形成され、100℃で20秒乾燥後、1日間常温エージングを行う。UVアンカー層9の厚さは、2μmである。UVアンカー層9は、以下の成分からなる。
RLプライマー 100重量部
硬化剤D 5重量部
KT−11 150重量部
The
RL primer 100 parts by weight Curing
図3(d)は、UVアンカー層9の蒸着層8とは反対側に印刷層10を形成した図である。
FIG. 3D is a diagram in which a
印刷層10は、UVアンカー層9上にMICR用UV磁気インキ黒を用いて細線文字による反転文字抜きパターンのオフセット印刷を120m/分の速度でロールtoロール印刷し、UV照射装置にてUV硬化して、薄膜磁性印刷層を形成したものである。印刷層10の厚さは2μmである。印刷層10のオフセット磁性インキは、磁性粉の色が酸化鉄の茶色なので、カーボン墨で着色している。カーボン墨は、重量比5%程度を添加することにより、盛量1g/m2でも分光透過率を紫外・可視・赤外領域で0%にできる。この黒の磁気インキを用いたオフセット印刷にて黒背景層を安価に形成することで、パターン印刷としながらも透明蒸着層の反射光の強さを、光透過によるロスを抑えて2倍〜10倍まで増大させることができる。本実施形態の印刷層10のオフセット磁性インキは、以下のものである。
・T&K TOKA UV MICR用磁気インキ黒SE
The printed
・ T & K TOKA UV MICR magnetic ink black SE
なお、本インキが透明蒸着部の光透過を抑制し、光を反射する効率が高ければ、黒に限らずダークトーン色や原色系の赤や緑、青等の濃色でも良く、また同様の効果が保持できれば磁気インキを用いないことも可能である。 In addition, if this ink suppresses light transmission of the transparent vapor deposition part and reflects light efficiently, it is not limited to black, and dark colors such as dark tones and primary colors such as red, green and blue may be used. If the effect can be maintained, it is possible not to use magnetic ink.
また、印刷層10の印刷は、オフセット印刷に限らず、フレキシブル印刷、グラビア印刷、シルク印刷等でもよい。
Further, the printing of the
図4(a)は、印刷層10のUVアンカー層9とは反対側に蛍光層11を形成した図である。
FIG. 4A is a diagram in which a
本実施形態の蛍光層11は、印刷層10のUV硬化後の磁気オフセット印刷面に透明蛍光オフセット印刷で全面ベタ版により、120m/分の速度でロールtoロール印刷し、透明蛍光発光層を形成したものである。蛍光層11の厚さは、2μmである。蛍光層11のオフセットインキは、以下のものである。
・透明蛍光UVオフセット縁(ザ・インクテック(株)製)
The
・ Transparent fluorescent UV offset edge (The Inktec Co., Ltd.)
図4(b)は、蛍光層11の印刷層10とは反対側に第1ヒートシール層12を形成した図である。
FIG. 4B is a diagram in which a first
本実施形態の第1ヒートシール層12は、蛍光層11のオフセット印刷後、低温接着性をよくし、紙に接着しやすくするため、シリカ入りエチレン−アクリル酸共重合体エマルジョンを塗布し、120℃で1分間乾燥して紙にすき込まれた際にスレッドが接着する層を形成する。塗布量は、耐ブロッキングのため、6〜9g/m2である。
The first
図4(c)は、ハードコート層6のプライマー層4とは反対側に第2ヒートシール層13を形成した図である。
FIG. 4C is a diagram in which the second
本実施形態の第2ヒートシール層13は、低温接着性をよくし、紙に接着しやすくするため、シリカ入りエチレン−アクリル酸共重合体エマルジョンを塗布し、120℃で1分間乾燥して紙にすき込まれた際にスレッドが接着する層を形成する。塗布量は、耐ブロッキングのため、6〜9g/m2である。
The second
第1ヒートシール層12及び第2ヒートシール層13としては、熱可塑性樹脂を使用するのが好ましい。また、熱可塑性樹脂としては、従来からヒートシール剤として使用されている熱可塑性樹脂を使用することができる。例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、スチレン−ブタジエンゴム、スチレン−イソプレンゴム等のゴム系、ポリメチル(メタ)アクリル酸、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリエチル(メタ)アクリレート、ポリプロピル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート、ポリ(2−エチルヘキシル)(メタ)アクリレート等のアクリル樹脂系、ポリスチレン、アクリル−スチレン共重合体等のポリスチレン系、ポリイソブチルエーテル等のポリビニルエーテル系、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン等のポリオレフィン系、その他、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリルアミド、ポリメチロールアクリルアミド、ポリエステル系、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、ポリエチレンオキシド等が使用できる。また、共重合体として、例えば、酢酸ビニル−ブチル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル−オクチル(メタ)アクリレート等の酢酸ビニルとアクリル樹脂の共重合体、塩化ビニル−ブチル(メタ)アクリレート、塩化ビニリデン−ブチル(メタ)アクリレート等の共重合体、エチレン−ブチル(メタ)アクリレート、エチレン−メチル(メタ)アクリレート等の共重合体等を使用することができる。また、これらの樹脂は2種以上を用いてもよい。軟化温度、密着性の観点から、エチレン−(メタ)アクリル酸、エチレン−メチル(メタ)アクリレート等の、オレフィン樹脂とアクリル樹脂の共重合体、または、オレフィン樹脂とアクリル樹脂のブレンド物が特に好ましい。
As the first
なお、本発明では第1ヒートシール層12及び第2ヒートシール層13に、箔切れ性を向上させるために、公知のフィラー、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、コロイド状微粒子等を添加してもよい。但し、これらの微粒子は、通常、転写時の熱で軟化することはないため、低温シール性の観点から、第1ヒートシール層12及び第2ヒートシール層13中の含有量を10重量%以下とすることが好ましい。
In the present invention, a known filler such as silica fine particles, alumina fine particles, colloidal fine particles, etc. may be added to the first
なお、ヒートシール層6の材料に関しては、特許第3140820号公報、特開平4−185498号公報、特開平9−39391号公報、に記載された材料を参考にするとよい。
In addition, regarding the material of the
図1〜図4で説明した本実施形態のホログラムスレッド原反は、80mm幅にスリットした後、EPC用スリットラインを元に、3mmの細線にスリットされ、トラバース巻きを行う。 The hologram thread original fabric of the present embodiment described with reference to FIGS. 1 to 4 is slit to 80 mm width, and then slit to a 3 mm thin line based on the EPC slit line, and traverse winding is performed.
トラバース巻きされたスレッド糸を紗紙時に紙にすき込みを行い、液晶ホロ磁気蛍光スレッド用紙を作成する。 The traverse-wound thread thread is squeezed into the paper during paper cutting to create a liquid crystal holomagnetic fluorescent thread paper.
以上、本発明のホログラムスレッドを実施形態に基づいて説明してきたが、本発明はこれら実施形態に限定されず種々の変形が可能である。 As described above, the hologram thread of the present invention has been described based on the embodiments. However, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications are possible.
1…ホログラムスレッド
2…基材フィルム
3…液晶層
4…プライマー層
5…EPC用ライン
6…ハードコート層
7…ホログラム層
8…蒸着層
9…UVアンカー層
10…印刷層
11…蛍光層
12…第1ヒートシール層
13…第2ヒートシール層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
Claims (4)
前記基材フィルムの一方に配置された液晶層と、
前記液晶層の前記基材フィルムとは反対側に配置されたプライマー層と、
前記プライマー層に印刷されたEPC用ラインと、
前記プライマー層の前記液晶層とは反対側に配置されEPC用ラインを覆うハードコート層と、
前記基材フィルムの他方に配置されたホログラム層と、
前記ホログラム層の前記基材フィルムとは反対側に配置された蒸着層と、
前記蒸着層の前記ホログラム層とは反対側に配置されたUVアンカー層と、
前記UVアンカー層の前記蒸着層とは反対側に配置された印刷層と、
前記印刷層の前記UVアンカー層とは反対側に配置された蛍光層と、
前記蛍光層の前記印刷層とは反対側に配置された第1ヒートシール層と、
前記ハードコート層の前記プライマー層とは反対側に配置された第2ヒートシール層と、
を有することを特徴とするホログラムスレッド。 A base film;
A liquid crystal layer disposed on one side of the base film;
A primer layer disposed on the opposite side of the liquid crystal layer from the substrate film,
An EPC line printed on the primer layer;
A hard coat layer disposed on the opposite side of the primer layer from the liquid crystal layer and covering the EPC line;
A hologram layer disposed on the other side of the base film;
A vapor deposition layer disposed on the opposite side of the hologram layer from the substrate film;
A UV anchor layer disposed on the opposite side of the vapor deposition layer from the hologram layer;
A printed layer disposed on the opposite side of the UV anchor layer from the deposited layer;
A fluorescent layer disposed on the opposite side of the printed layer from the UV anchor layer;
A first heat seal layer disposed on the opposite side of the fluorescent layer from the printed layer;
A second heat seal layer disposed on the opposite side of the hard coat layer from the primer layer;
A hologram thread characterized by comprising:
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