JP5493587B2 - Discharge phenomenon analysis device, particle behavior analysis device, particle behavior analysis system, program - Google Patents

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Description

本発明は、放電現象解析装置、粒子挙動解析装置、粒子挙動解析システム、プログラムに関する。   The present invention relates to a discharge phenomenon analysis device, a particle behavior analysis device, a particle behavior analysis system, and a program.

各種の装置において発生する放電現象をシミュレーションにより解析する仕組みが考えられている。   A mechanism for analyzing a discharge phenomenon occurring in various apparatuses by simulation is considered.

たとえば、特許文献1では、画像形成装置における転写ブロセスでの放電現象をシミュレーション解析する手法において、対向する面に電荷を有する粒子が堆積しているシミュレーションモデルの場合には、粒子の表層部分に位置する節点を電位差の算出の対象とする仕組みが提案されている。   For example, in Patent Document 1, in a simulation analysis method of a discharge phenomenon in a transfer process in an image forming apparatus, in the case of a simulation model in which charged particles are deposited on opposing surfaces, a position on the surface layer portion of the particles is determined. A mechanism has been proposed in which potential nodes are subject to potential difference calculation.

特開2005−345120号公報JP-A-2005-345120

本発明は、放電現象のシミュレーションによる解析において、解析精度が向上する仕組みを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a mechanism for improving analysis accuracy in an analysis by simulation of a discharge phenomenon.

請求項1に記載の発明は、第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、を備えた放電現象解析装置である。 The invention according to claim 1 includes a boundary setting unit that sets a boundary between the first surface and the second surface in the analysis target region sandwiched between the first surface and the second surface. Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit are included in the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon with the one belonging to the region, the region belonging to the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit belongs to the region on the first surface side And a discharge analysis unit for analyzing a discharge phenomenon between the two.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明において、前記境界設定部は、前記第1の面と前記第2の面との間の幾何学的な中間位置を前記境界に設定する。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the boundary setting unit sets a geometric intermediate position between the first surface and the second surface as the boundary. To do.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明において、前記境界設定部は、前記第1の面や前記第2の面に電荷を有する粒子が堆積している場合には、前記堆積している粒子の内で最上層の粒子と、前記堆積している粒子に対向する面もしくは当該対向する面に堆積している粒子の内で最上層の粒子との間の幾何学的な中間位置を前記境界に設定する。 According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the boundary setting unit is configured so that the charged particles are deposited on the first surface and the second surface. The geometrical relationship between the uppermost particle of the deposited particles and the surface facing the deposited particle or the uppermost particle of the particles deposited on the opposite surface. An intermediate position is set to the boundary.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明において、前記境界設定部は、前記堆積している粒子の内の最上層の粒子の表面を基準にして幾何学的な中間位置を前記境界に設定する。 According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the boundary setting section has a geometric intermediate position with respect to the surface of the uppermost particle among the deposited particles. Set to the boundary.

請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明において、前記境界設定部は、前記第1の面と前記第2の面との間の電気的な中間位置を前記境界に設定する。 According to a fifth aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the boundary setting unit sets an electrical intermediate position between the first surface and the second surface as the boundary. .

請求項に記載の発明は、請求項に記載の発明において、前記境界設定部は、前記第1の面や前記第2の面に電荷を有する粒子が堆積している場合には、前記堆積している粒子の内で最上層の粒子と、前記堆積している粒子に対向する面もしくは当該対向する面に堆積している粒子の内で最上層の粒子との間の電気的な中間位置を前記境界に設定する。 According to a sixth aspect of the present invention, in the invention of the fifth aspect, the boundary setting unit is configured such that when particles having a charge are deposited on the first surface or the second surface, An electrical intermediate between the top layer particle among the deposited particles and the surface facing the deposited particle or the top layer particle among the particles deposited on the opposite surface Set the position to the boundary.

請求項に記載の発明は、請求項またはに記載の発明において、前記境界設定部は、前記第1の面と前記第2の面の間の電界に対する、前記解析対象領域内に浮遊している粒子による変化分を反映させて前記境界を設定する。 According to a seventh aspect of the invention, in the invention of the fifth or sixth aspect, the boundary setting section floats in the analysis target region with respect to an electric field between the first surface and the second surface. The boundary is set by reflecting the amount of change caused by the particles.

請求項に記載の発明は、請求項の内の何れか一項に記載の発明において、前記放電解析部は、着目する放電探索箇所の電位変化が単調でないときには、その放電探索箇所を放電解析の対象から除外する。 According to an eighth aspect of the present invention, in the invention according to any one of the fifth to seventh aspects, when the potential change at the discharge search point of interest is not monotonous, the discharge analysis unit Are excluded from discharge analysis.

請求項に記載の発明は、請求項1〜の内の何れか一項に記載の発明において、前記放電解析部は、前記浮遊している粒子の内で、前記第1の面側の領域に属するものについてはさらに前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記第2の面側の領域に属するものについてはさらに前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する。 The invention according to a ninth aspect is the invention according to any one of the first to eighth aspects, wherein the discharge analysis section is arranged on the first surface side in the floating particles. For those belonging to the region, the discharge phenomenon is further analyzed between those belonging to the region on the first surface side, and those belonging to the region on the second surface side are further analyzed on the second surface side. Analyze the discharge phenomenon between those belonging to the region.

請求項1に記載の発明は、請求項に記載の発明において、前記放電解析部は、前記解析対象領域内に浮遊している粒子を前記第1の面側の部分と前記第2の面側の部分とに分け、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては、さらに、前記第1の面側の部分と前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては、さらに、前記第2の面側の部分と前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する。 The invention according to claim 1 0, in the invention described in claim 9, wherein the discharge analysis unit, the analysis of the floating to have particles in the target area first surface portion and the second The first surface side portion and the first surface are further divided into the surface side portion, and those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit. Analyzing the discharge phenomenon with the one belonging to the region on the side, and for the one belonging to the region on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit, the second surface The discharge phenomenon between the portion on the side and the portion belonging to the region on the second surface side is analyzed.

請求項1に記載の発明は、請求項または1に記載の発明において、前記放電解析部は、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の前記第1の面側の表面と前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の前記第2の面側の表面と前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する。 The invention of claim 1 1, in the invention described in claim 9 or 1 0, the discharge analysis unit, and the first surface of the surfaces of the particles suspended in the analysis target area Analyzing a discharge phenomenon between the particles belonging to the first surface side region, the second surface side surface and the second surface side region of particles floating in the analysis target region Analyze the discharge phenomenon between the two.

請求項1に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、前記放電解析部は、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の表面で生じる放電現象を解析する。 The invention according to claim 1 2 is the invention according to claim 1, wherein the discharge analyzer analyzes a discharge phenomenon occurring at the surface of the particles suspended in the analysis target area.

請求項1に記載の発明は、第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、前記放電解析部による放電現象の解析結果後の粒子の物性情報に基づき、前記解析対象領域内に存在する各粒子の運動を解析する運動解析部と、を備えた粒子挙動解析装置である。 The invention according to claim 1 3, in the analysis target area sandwiched between the first surface and a second surface, the first surface and the intermediate boundary setting unit for setting a boundary of the second surface Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit are the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon with respect to those belonging to the area, and those belonging to the area on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit belong to the area on the first surface side A discharge analysis unit for analyzing a discharge phenomenon between the first and second particles, and a motion for analyzing the motion of each particle existing in the analysis target region based on the physical property information of the particle after the discharge phenomenon analysis result by the discharge analysis unit A particle behavior analysis apparatus comprising: an analysis unit.

請求項1に記載の発明は、分配された解析対象要素を受け付ける受付部および前記受付部が受け付けた解析対象粒子の物性情報に基づき予め決められた並行処理の分割法に従って粒子挙動計算を行なう複数の粒子挙動計算部と、解析対象範囲内の解析対象要素を、前記分割法に従って前記複数の粒子挙動解析装置のそれぞれに分配する分配処理部と、を備え、前記粒子挙動計算部は、第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、前記放電解析部による放電現象の解析結果後の粒子の物性情報に基づき、前記解析対象領域内に存在する各粒子の運動を解析する運動解析部と、を備えている粒子挙動解析システムである。 The invention according to claim 1 4, performs particle behavior calculated according division method of predetermined parallel processing based on the property information of the analyzed particles receiving unit and said receiving unit has received that accepts distributed analyzed elements A plurality of particle behavior calculation units, and a distribution processing unit that distributes the analysis target element within the analysis target range to each of the plurality of particle behavior analysis devices according to the division method. A boundary setting unit for setting a boundary between the first surface and the second surface in the analysis target region sandwiched between the first surface and the second surface; and floating in the analysis target region Among particles that belong to the region on the first surface side across the boundary set by the boundary setting unit, discharge phenomenon between the particles belonging to the region on the second surface side is performed. By analyzing the boundary setting unit A discharge analysis unit for analyzing a discharge phenomenon between the first surface side region and the one belonging to the second surface side region across the set boundary; and the discharge analysis unit The particle behavior analysis system includes a motion analysis unit that analyzes the motion of each particle existing in the analysis target region based on the physical property information of the particle after the analysis result of the discharge phenomenon due to.

請求項1に記載の発明は、第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、して電子計算装置を機能させるプログラムである。 The invention according to claim 1 5, in the analysis target area sandwiched between the first surface and a second surface, the first surface and the intermediate boundary setting unit for setting a boundary of the second surface Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit are the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon with respect to those belonging to the area, and those belonging to the area on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit belong to the area on the first surface side And a program that causes the electronic computer to function as a discharge analysis unit that analyzes the discharge phenomenon between the two.

請求項1,1に記載の発明によれば、放電現象のシミュレーションによる解析において、解析対象領域内の浮遊粒子を放電解析の対象としない場合よりも解析精度が向上する。 According to the invention described in claims 1 and 15 , in the analysis by the simulation of the discharge phenomenon, the analysis accuracy is improved as compared with the case where the suspended particles in the analysis target region are not the target of the discharge analysis.

請求項に記載の発明によれば、中間位置の領域境界に対する浮遊粒子が帰属する領域に応じて放電解析を行なうことができる。 According to the first aspect of the present invention, the discharge analysis can be performed according to the region to which the suspended particles belong to the region boundary at the intermediate position.

請求項に記載の発明によれば、領域境界を簡単に設定することができる。 According to the second aspect of the present invention, the region boundary can be easily set.

請求項に記載の発明によれば、 堆積粒子による実質的な電荷面の変動分を考慮しない場合よりも、浮遊粒子と堆積粒子との間の放電解析の精度が向上する。 According to the third aspect of the present invention, the accuracy of the discharge analysis between the floating particles and the deposited particles is improved as compared with the case where the substantial charge surface fluctuation due to the deposited particles is not taken into consideration.

請求項に記載の発明によれば、堆積粒子の最上層の粒子の表面以外を適用する場合よりも、浮遊粒子と堆積粒子との間の放電解析の精度が向上する。 According to the fourth aspect of the present invention, the accuracy of the discharge analysis between the floating particles and the deposited particles is improved as compared with the case where the surface other than the surface of the uppermost layer of the deposited particles is applied.

請求項に記載の発明によれば、幾何学的な中間位置と電気的な中間位置が一致しない場合に、本請求項に係る発明を採用しない場合と比較して放電解析の精度が向上する。 According to the invention described in claim 5 , when the geometric intermediate position and the electrical intermediate position do not coincide with each other, the accuracy of the discharge analysis is improved as compared with the case where the invention according to claim 5 is not adopted. To do.

請求項に記載の発明によれば、幾何学的な中間位置と電気的な中間位置が一致しない要因が堆積粒子にある場合に、本請求項に係る発明を採用しない場合と比較して放電解析の精度が向上する。 According to the invention described in claim 6, when the factors geometrical intermediate position and electrical intermediate position does not match it is in the deposition particles, as compared with the case not employing the invention according to the claims 6 The accuracy of discharge analysis is improved.

請求項に記載の発明によれば、幾何学的な中間位置と電気的な中間位置が一致しない要因が浮遊粒子にある場合に、本請求項に係る発明を採用しない場合と比較して放電解析の精度が向上する。 According to the invention described in claim 7 , when the suspended particle has a factor that the geometric intermediate position and the electrical intermediate position do not coincide with each other, as compared with the case where the invention according to claim 7 is not adopted. The accuracy of discharge analysis is improved.

請求項に記載の発明によれば、着目する放電探索箇所の電位変化が単調でないときに、その放電探索箇所を放電解析の対象とする場合よりも実態に即した解析ができる。 According to the eighth aspect of the present invention, when the potential change at the discharge search location of interest is not monotonous, an analysis that is more realistic than the case where the discharge search location is the target of the discharge analysis can be performed.

請求項に記載の発明によれば、本請求項に係る発明を採用しない場合と比較して放電解析の精度が向上する。 According to the invention described in claim 9, as compared with the case not employing the invention according to the present claim 9 to improve the accuracy of the discharge analysis.

請求項1に記載の発明によれば、浮遊粒子を第1の面側の部分と第2の面側の部分とに分ける処理を、本請求項1に係る発明を採用しない場合よりも簡単にできる。 According to the invention of claim 1 0, than without employing the process of dividing the suspended particles to a first surface side portion and the second surface side portion, according to the claim 1 0 invention Easy to do.

請求項1に記載の発明によれば、請求項または1の発明を実施する場合に、浮遊粒子の表面以外を適用する場合よりも、放電解析の精度が向上する。 According to the invention of claim 1 1, when carrying out the invention of claim 9 or 1 0, than when applying the other surface of the suspended particles, the accuracy of the discharge analysis is improved.

請求項1に記載の発明によれば、浮遊粒子の表面以外を適用する場合よりも、放電解析の精度が向上する。 According to the invention of claim 1 2, than the case of applying the non-surface of the suspended particles, the accuracy of the discharge analysis is improved.

請求項1に記載の発明によれば、解析対象領域内の浮遊粒子も対象とした放電解析結果を反映させた粒子挙動解析ができる。 According to the invention described in claims 1 to 3, it is particle behavior analysis suspended particles also reflect the discharge analysis results of the object of the analysis target area.

請求項1に記載の発明によれば、解析対象領域内の浮遊粒子も対象とした放電解析結果を反映させた粒子挙動解析が、本請求項1に係る発明を採用しない場合よりも短時間で行なえる。 According to the invention described in claim 1 4, particle behavior analysis suspended particles also reflect the discharge analysis results of the object of the analysis target area is than without adopting the invention according to the claims 1 4 short You can do it in time.

本実施形態の放電現象解析処理や粒子挙動解析処理で対象とする解析対象粒子が存在する装置の一例である電子写真方式の画像形成装置の一構成例を示す図である。It is a figure which shows the example of 1 structure of the electrophotographic image forming apparatus which is an example of the apparatus in which the analysis object particle | grains made into object by the discharge phenomenon analysis process and particle behavior analysis process of this embodiment exist. 粒子挙動解析システムの基本構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the basic composition of a particle behavior analysis system. 主粒子挙動解析装置の構成例を説明する図である。It is a figure explaining the structural example of a main particle behavior analysis apparatus. 副粒子挙動解析装置の構成例を説明する図である。It is a figure explaining the structural example of a secondary particle behavior analysis apparatus. 粒子挙動解析装置の構成例を説明する図である。It is a figure explaining the example of composition of a particle behavior analysis device. 数値演算処理部(粒子挙動計算部)の構成例を説明する図である。It is a figure explaining the example of composition of a numerical operation processing part (particle behavior calculation part). 本実施形態の放電解析処理を含む粒子挙動解析処理の処理手順の一例を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining an example of the process sequence of the particle behavior analysis process containing the discharge analysis process of this embodiment. 本実施形態の放電解析処理の基本的な考え方を示した概要図である。It is the schematic which showed the basic view of the discharge analysis process of this embodiment. 第1実施形態の放電解析処理を説明する図である。It is a figure explaining the discharge analysis process of 1st Embodiment. 第2実施形態の放電解析処理を説明する図である。It is a figure explaining the discharge analysis process of 2nd Embodiment. 第3実施形態の放電解析処理を説明する図(その1)である。It is FIG. (1) explaining the discharge analysis process of 3rd Embodiment. 第3実施形態の放電解析処理を説明する図(その2)である。It is FIG. (2) explaining the discharge analysis process of 3rd Embodiment. 第4実施形態の放電解析処理を説明する図である。It is a figure explaining the discharge analysis process of 4th Embodiment. 粒子挙動解析装置を、電子計算機を利用して構成するときの構成例を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structural example when comprising a particle behavior analyzer using an electronic computer.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。各機能要素について実施形態別に区別する際には、A,B,C,…などのように大文字の英語の参照子を付して記載し、特に区別しないで説明する際にはこの参照子を割愛して記載する。図面においても同様である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. When distinguishing each functional element according to the embodiment, an uppercase English reference such as A, B, C,... Is added and described. Omitted and listed. The same applies to the drawings.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下においては、粒子挙動解析装置の解析対象粒子が存在する装置としては、たとえば、プリンタ装置、ファクシミリ装置、またはそれらの機能を有する複合機などの画像形成装置を例に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, as an apparatus in which particles to be analyzed by the particle behavior analysis apparatus exist, an image forming apparatus such as a printer apparatus, a facsimile apparatus, or a multifunction machine having these functions will be described as an example.

解析対象粒子との関係においては、トナー粒子のみまたはキャリア粒子とトナー粒子からなる現像剤を用いる電子写真方式による画像形成装置における現像剤粒子の挙動解析に着目する。ただしこれは一例であって、解析対象粒子が存在する装置は画像形成装置に限定されない。特に、本実施形態で着目する放電解析との関係では、着目粒子と他の部材(他の粒子を含む)との間で放電現象が起こる装置であれば、どのようなものであっても、後述の実施形態を適用し得る。   In relation to the analysis target particles, attention is paid to behavior analysis of developer particles in an electrophotographic image forming apparatus that uses only toner particles or a developer composed of carrier particles and toner particles. However, this is only an example, and the apparatus in which the particles to be analyzed exist is not limited to the image forming apparatus. In particular, in relation to the discharge analysis focused on in the present embodiment, any device that causes a discharge phenomenon between the focused particle and other members (including other particles), The embodiments described below can be applied.

<画像形成装置の概要>
図1は、本実施形態の放電現象解析処理や粒子挙動解析処理にて対象とする解析対象粒子が存在する装置の一例である電子写真方式の画像形成装置の一構成例を示す図である。
<Outline of image forming apparatus>
FIG. 1 is a diagram illustrating a configuration example of an electrophotographic image forming apparatus that is an example of an apparatus in which target analysis target particles exist in a discharge phenomenon analysis process and a particle behavior analysis process of the present embodiment.

本構成では、カラー画像形成用を想定して、画像形成に関わる主要部の構成としては、転写装置にて直接に用紙に像保持体のトナー像を転写体である用紙に転写させるのではなく、出力色ごとの画像形成部(出力エンジン)を一列に配置したタンデム型の構成を採る。たとえば、K(黒),Y(イエロー),M(マゼンタ),C(シアン)の出力色に対応する複数の出力エンジンを、たとえばK→Y→M→Cの順にインライン状に配列し、K,Y,M,Cの画像を4つの出力エンジンで並行的(同時進行的)に処理する。配置位置に応じた時間を隔てて、1色ずつ中間転写体に像保持体のトナー像を転写(特に一次転写という)させ、その後、中間転写体上のトナー像を用紙に転写(特に二次転写という)させるように構成する。図は、その一部を示している。   In this configuration, assuming that it is for color image formation, the configuration of the main part related to image formation is not to transfer the toner image of the image carrier onto the paper as the transfer body directly onto the paper with the transfer device. A tandem configuration is adopted in which image forming units (output engines) for each output color are arranged in a line. For example, a plurality of output engines corresponding to output colors of K (black), Y (yellow), M (magenta), and C (cyan) are arranged in-line in the order of K → Y → M → C, for example. , Y, M, C images are processed in parallel (simultaneously) by four output engines. The toner image on the image carrier is transferred to the intermediate transfer member for each color at a time corresponding to the arrangement position (especially referred to as primary transfer), and then the toner image on the intermediate transfer member is transferred to the paper (particularly secondary transfer). It is configured to transfer). The figure shows a part of it.

図示のように、画像形成装置1は、像保持体の一例である感光体10(感光体ドラム)を中心として、帯電装置20、露光装置30、図示しない攪拌機構を備えた現像装置40、転写装置50(一次転写装置50aおよび二次転写装置50b)、中間転写体の一例である中間転写ベルト58、ブレード機構を持つクリーニング装置60、定着装置70を備えている。   As shown in the figure, the image forming apparatus 1 is centered on a photoreceptor 10 (photoreceptor drum) that is an example of an image carrier, and includes a charging device 20, an exposure device 30, a developing device 40 that includes a stirring mechanism (not shown), and a transfer device. The apparatus 50 (a primary transfer device 50a and a secondary transfer device 50b), an intermediate transfer belt 58 as an example of an intermediate transfer member, a cleaning device 60 having a blade mechanism, and a fixing device 70 are provided.

帯電装置20は、感光体10の近傍に配された直流電源22、交流バイアス電源24、および帯電部26を具備している。露光装置30は、レーザ光源32やポリゴンミラー34やモータ36を具備している。転写装置50は、転写電源52および転写部54を具備している。   The charging device 20 includes a DC power source 22, an AC bias power source 24, and a charging unit 26 disposed in the vicinity of the photoconductor 10. The exposure apparatus 30 includes a laser light source 32, a polygon mirror 34, and a motor 36. The transfer device 50 includes a transfer power source 52 and a transfer unit 54.

現像装置40には、現像剤粒子102が充填されている。図では、1つの現像剤粒子102を便宜的に1つの丸で示している。実際には、現像剤粒子102はたとえば、それぞれ物性や粒径の異なる磁性体から構成された(磁性を持つ)キャリア粒子と非磁性のトナー粒子(たとえば各色のトナー粒子)を主成分として含有する2成分方式のものである。キャリア粒子とトナー粒子の対によって、全体として磁性粉体が形成されるようにしている。トナー粒子は、キャリア粒子に静電力により互いに吸着されている。一般的には、キャリア粒子の粒径の方がトナー粒子の粒径よりも大きい。なお、トナー粒子としては、磁性トナーを使用してもよく、この場合はキャリア粒子を使用しなくてもよい。現像剤粒子102は、実際にはさらに、外添剤などの他の粒子も含む。   The developing device 40 is filled with developer particles 102. In the figure, one developer particle 102 is indicated by one circle for convenience. Actually, the developer particles 102 contain, for example, carrier particles (having magnetic properties) and non-magnetic toner particles (for example, toner particles of each color) composed of magnetic materials having different physical properties and particle sizes as main components. Two-component system. The pair of carrier particles and toner particles forms a magnetic powder as a whole. The toner particles are adsorbed to the carrier particles by electrostatic force. In general, the particle size of the carrier particles is larger than the particle size of the toner particles. As the toner particles, magnetic toner may be used, and in this case, carrier particles may not be used. The developer particles 102 actually further include other particles such as external additives.

現像装置40は、収納容器101内に、表面に現像剤粒子102を引き連れて回転する回転ロールの一例である現像ロール140(マグロール、マグネットローラ、磁気搬送ローラとも言われる)を、周面が開口部101aから少し突き出すように備える。現像ロール140内には、その内周縁に沿って、予め決められた間隔で予め決められた数のマグネット142が配置されている。   The developing device 40 has a developing roll 140 (also referred to as a mag roll, a magnet roller, or a magnetic transport roller), which is an example of a rotating roll that rotates with the developer particles 102 on the surface, in the storage container 101, and a peripheral surface that is open. Prepare to protrude slightly from the portion 101a. A predetermined number of magnets 142 are arranged in the developing roll 140 at predetermined intervals along the inner periphery.

また、現像装置40は、現像ロール140の近傍に、高さ規制部材や層形成部材や層規制部材として機能する規制トリマー150を備え、マグネット142による磁力線に沿ってできた現像剤粒子102の磁気ブラシの高さを規制するようになっている。   Further, the developing device 40 includes a regulating trimmer 150 that functions as a height regulating member, a layer forming member, and a layer regulating member in the vicinity of the developing roll 140, and the magnetic force of the developer particles 102 formed along the magnetic lines of force by the magnet 142. The height of the brush is regulated.

図示を割愛するが、収納容器101内には、現像剤粒子102を攪拌するとともに現像ロール140側に搬送する攪拌搬送ロールが設けられる。攪拌搬送ロールは、その回転動作によって、現像剤粒子102を現像ロール140側に攪拌しながら搬送する。   Although illustration is omitted, in the storage container 101, an agitating and conveying roll that agitates the developer particles 102 and conveys the developer particles 102 to the developing roll 140 side is provided. The agitating and conveying roll conveys the developer particles 102 to the developing roll 140 side while agitating by the rotating operation.

現像ロール140は、矢印X方向に回転される感光体10とともに、感光体10と対向する側のその表面の回転移動方向が、感光体10の移動方向Xと同じ向き(矢印Y方向)に回転される。感光体10の移動方向Xと逆向きに回転駆動するようにしてもよい。   The developing roll 140 rotates together with the photoconductor 10 rotated in the direction of arrow X, and the rotational movement direction of the surface on the side facing the photoconductor 10 rotates in the same direction as the movement direction X of the photoconductor 10 (arrow Y direction). Is done. The photosensitive member 10 may be driven to rotate in the direction opposite to the moving direction X.

現像剤粒子102は、攪拌機能を持つ攪拌搬送ロール(図示せず)により攪拌され摩擦帯電されつつ現像ロール140側に搬送される。規制トリマー150によって現像剤粒子102の現像ロール140への吸着量が規制され一定の高さで現像ロール140の周縁に現像剤粒子102が付着する。キャリア粒子は、現像ロール140に内蔵されたマグネット142からの磁場により磁気ブラシを構成する。トナー粒子はキャリア粒子とともに、感光体10に対向する部分まで搬送される。   The developer particles 102 are conveyed to the developing roll 140 side while being agitated and frictionally charged by an agitating and conveying roll (not shown) having an agitating function. The regulation trimmer 150 regulates the amount of the developer particles 102 adsorbed to the developing roll 140, and the developer particles 102 adhere to the periphery of the developing roll 140 at a certain height. The carrier particles constitute a magnetic brush by a magnetic field from a magnet 142 built in the developing roll 140. The toner particles are transported together with the carrier particles to a portion facing the photoreceptor 10.

画像形成装置1を複写装置として構成する場合、帯電装置20によって、直流電源22からの直流電圧に交流バイアス電源24からの交流バイアス電圧を重畳させて帯電電位(初期電位)を生成し、この帯電電位で感光体10の表面を一様な表面電位に帯電させる。   When the image forming apparatus 1 is configured as a copying apparatus, the charging device 20 generates a charging potential (initial potential) by superimposing the AC bias voltage from the AC bias power source 24 on the DC voltage from the DC power source 22, and this charging. The surface of the photoconductor 10 is charged to a uniform surface potential with an electric potential.

この後、原稿を図示しない読取装置によってスキャンして得た画像データに従って感光体10の表面に露光装置30に備えられるレーザ光源32から発せられるレーザ・ビームをモータ36により回転駆動されるポリゴンミラー34でスキャンすることによって、感光体10表面を露光して潜像電位からなる静電潜像を形成する。   After that, a polygon mirror 34 that is rotated by a motor 36 with a laser beam emitted from a laser light source 32 provided on the exposure device 30 on the surface of the photoreceptor 10 in accordance with image data obtained by scanning the original with a reading device (not shown). Scanning, the surface of the photoconductor 10 is exposed to form an electrostatic latent image having a latent image potential.

続いて、現像装置40は、図示しない攪拌機構において出力色のトナー粒子やキャリア粒子などでなる現像剤粒子102を混合しながら、その現像剤粒子102中のトナー粒子を感光体10の表面に形成されている静電潜像に重畳することでトナー像を感光体10の表面に形成させる。   Subsequently, the developing device 40 forms the toner particles in the developer particles 102 on the surface of the photoconductor 10 while mixing the developer particles 102 such as output color toner particles and carrier particles in a stirring mechanism (not shown). A toner image is formed on the surface of the photoconductor 10 by being superimposed on the electrostatic latent image.

すなわち、現像ロール140は、感光体10に対向して設けられており、現像ロール140に吸着された現像剤粒子102のうちトナー粒子は、帯電されており、静電気力により感光体10に吸着される。このとき、感光体10の表面は、記録画像に応じて露光されることで静電潜像が形成されており、トナー粒子は、感光体10に形成された静電潜像に応じて吸着される。これによって、感光体10の表面に形成された潜像は現像化される。現像処理後のキャリア粒子と、感光体10側に飛翔されなかったトナー粒子とは、収納容器101内に回収される。   That is, the developing roller 140 is provided to face the photoconductor 10, and the toner particles among the developer particles 102 adsorbed to the developing roller 140 are charged and are adsorbed to the photoconductor 10 by electrostatic force. The At this time, an electrostatic latent image is formed on the surface of the photoreceptor 10 by exposure according to a recorded image, and toner particles are adsorbed according to the electrostatic latent image formed on the photoreceptor 10. The As a result, the latent image formed on the surface of the photoconductor 10 is developed. The carrier particles after the development processing and the toner particles that have not been ejected to the photoconductor 10 are collected in the storage container 101.

この後、一次転写装置50aは、感光体10の表面に形成されているトナー像を中間転写ベルト58上に転写する。感光体10と転写部54aとが対向する予め決められた範囲を一次転写領域と称する。   Thereafter, the primary transfer device 50 a transfers the toner image formed on the surface of the photoreceptor 10 onto the intermediate transfer belt 58. A predetermined range in which the photosensitive member 10 and the transfer portion 54a face each other is referred to as a primary transfer region.

一方、クリーニング装置60は、転写装置50による転写後の感光体10の表面に残留する残留トナーを除去する。清掃後の感光体10の表面には残留電位が残っているが、帯電装置20で初期電位を印加してから次の電子写真プロセスに利用される。   On the other hand, the cleaning device 60 removes residual toner remaining on the surface of the photoreceptor 10 after being transferred by the transfer device 50. Although the residual potential remains on the surface of the photoreceptor 10 after cleaning, it is used in the next electrophotographic process after the initial potential is applied by the charging device 20.

中間転写ベルト58上のトナー像は、二次転写装置50bの転写部54b側に送られる。この動作と同期して、給紙トレイからピックアップローラで用紙がピックアップされ、その用紙はさらに用紙搬送ロールで二次転写装置50bの転写部54b側に搬送される。これによって、中間転写ベルト58上のトナー像は、二次転写装置50b(転写部54b)により用紙上に転写される。中間転写ベルト58と転写部54bとが対向する予め決められた範囲を二次転写領域と称する。   The toner image on the intermediate transfer belt 58 is sent to the transfer unit 54b side of the secondary transfer device 50b. In synchronization with this operation, the paper is picked up from the paper feed tray by the pick-up roller, and the paper is further transported to the transfer section 54b side of the secondary transfer device 50b by the paper transport roll. As a result, the toner image on the intermediate transfer belt 58 is transferred onto the sheet by the secondary transfer device 50b (transfer unit 54b). A predetermined range in which the intermediate transfer belt 58 and the transfer portion 54b face each other is referred to as a secondary transfer region.

転写済の用紙は定着装置70側に搬送され、定着装置70にて加熱溶融・圧着作用によりトナー像を転写体としての印刷用紙上に定着する。定着済の用紙は、図示しない排出装置によって、画像形成装置1の外に排紙される。   The transferred sheet is conveyed to the fixing device 70 side, and the fixing device 70 fixes the toner image onto a printing sheet as a transfer body by heating, melting and pressing. The fixed paper is discharged out of the image forming apparatus 1 by a discharge device (not shown).

このような電子写真プロセスは、感光体10に対する帯電、原稿イメージの露光、現像すなわち感光体10へのトナー重畳、転写部材(中間転写ベルト58や用紙)へのトナー転写およびトナー定着、感光体10のクリーニングという複数の工程からなる。   Such an electrophotographic process includes charging the photosensitive member 10, exposing a document image, developing, that is, superimposing toner on the photosensitive member 10, transferring toner to a transfer member (intermediate transfer belt 58 and paper), and fixing the toner. It consists of a plurality of steps of cleaning.

電子写真プロセスでは、たとえば、攪拌、現像、転写などの各プロセスにおいて粉体挙動解析シミュレーションを適用することで、現実に画像形成実験を行なうことなく、形成される画像を予測し評価する。このとき、特に、キャリア粒子やトナー粒子の挙動の解析が、電子写真装置本体や現像装置40の開発にとって重要な要素となる。   In the electrophotographic process, for example, by applying a powder behavior analysis simulation in each process such as stirring, development, and transfer, an image to be formed is predicted and evaluated without actually performing an image forming experiment. At this time, in particular, analysis of the behavior of carrier particles and toner particles becomes an important factor for the development of the electrophotographic apparatus main body and the developing apparatus 40.

たとえば、転写装置50における転写プロセスでは、感光体表面粗さや、感光体・中間転写ベルトや用紙などの転写体間の速度差、転写体の接触幅などの転写プロセスにおける条件パラメータを変更しながら、粉体挙動解析シミュレーションを繰り返し行なっていくことで、転写プロセスを再現しながら形成される画質の評価を行なう。因みに、転写プロセスについての粒子挙動解析では、現像剤粒子102(特にトナー粒子)に作用する電場および重力場を考慮する。そして、たとえば、電場(電界)中の粒子同士や粒子と面との間の放電現象を解析することが行なわれる。   For example, in the transfer process in the transfer device 50, while changing the condition parameters in the transfer process such as the surface roughness of the photoreceptor, the speed difference between the transfer bodies such as the photoreceptor / intermediate transfer belt and paper, and the contact width of the transfer body, By repeating the powder behavior analysis simulation, the image quality formed is evaluated while reproducing the transfer process. Incidentally, in the particle behavior analysis for the transfer process, an electric field and a gravitational field acting on the developer particles 102 (particularly toner particles) are considered. For example, a discharge phenomenon between particles in an electric field (electric field) or between a particle and a surface is analyzed.

<粒子挙動解析システム>
図2は、粒子挙動解析システムの基本構成を示すブロック図である。基本構成の粒子挙動解析システム200は、粒子挙動解析処理の時間短縮のため、複数の粒子挙動解析装置による並列処理を行なうように、それぞれ粒子挙動解析機能を有する複数台の粒子挙動解析装置202がネットワーク接続されて構成されている。
<Particle behavior analysis system>
FIG. 2 is a block diagram showing the basic configuration of the particle behavior analysis system. The particle behavior analysis system 200 having a basic configuration includes a plurality of particle behavior analysis devices 202 each having a particle behavior analysis function so that parallel processing by a plurality of particle behavior analysis devices is performed in order to shorten the time of the particle behavior analysis processing. It is configured with a network connection.

各粒子挙動解析装置202は、主要の処理データを相互にネットワーク208を介して伝達し合い、粒子挙動解析処理を並列的に実行可能になっており、粒子挙動解析システム200としては、事実上の並列型計算装置(クラスタ計算機)として構成されている。ネットワーク208は、通信状態がルーティング機能を持つネットワーク管理装置208aで管理されるようになっている。   Each particle behavior analysis device 202 communicates main processing data to each other via a network 208, and can perform particle behavior analysis processing in parallel. It is configured as a parallel computing device (cluster computer). The network 208 is managed by a network management device 208a whose communication state has a routing function.

各粒子挙動解析装置202は、一例として、一般の電子計算機と同様のもので構成するのがよい。ここで、図示した例では、粒子挙動解析システム200を構成する各粒子挙動解析装置202の内の1台が全体を統括する計算管理ノードの機能を持つ主粒子挙動解析装置202aとして機能するようになっている。主粒子挙動解析装置202aに対して残りの粒子挙動解析装置202が、主粒子挙動解析装置202aにより制御される副粒子挙動解析装置202bとしてネットワーク接続されている。   As an example, each particle behavior analysis device 202 may be configured by the same as a general electronic computer. Here, in the illustrated example, one of the particle behavior analysis apparatuses 202 constituting the particle behavior analysis system 200 functions as a main particle behavior analysis apparatus 202a having a function of a calculation management node that controls the whole. It has become. The remaining particle behavior analysis device 202 is connected to the main particle behavior analysis device 202a as a sub particle behavior analysis device 202b controlled by the main particle behavior analysis device 202a.

なお、図では便宜的に、ネットワーク管理装置208aから1本のネットワーク線を出し、そのネットワーク線上に主粒子挙動解析装置202aと副粒子挙動解析装置202bとを接続する態様で示しているが、実際には、ネットワーク管理装置208aに備えられる個別のポートに各粒子挙動解析装置202が接続され、各粒子挙動解析装置202間の通信は、このネットワーク管理装置208aを介してなされるようになっている。   In the figure, for convenience, one network line is drawn from the network management device 208a, and the main particle behavior analysis device 202a and the secondary particle behavior analysis device 202b are connected to the network line. Each particle behavior analysis device 202 is connected to an individual port provided in the network management device 208a, and communication between each particle behavior analysis device 202 is performed via the network management device 208a. .

主粒子挙動解析装置202aには、粒子挙動解析処理用の各種の操作を行なうためのキーボードやマウスなどの指示入力装置210と、処理結果を操作者に画像情報として提示する表示装置212とが接続されている。指示入力装置210と表示装置212を纏めてGUI(Graphical User Interface)と称し、表示装置212の表示画面をGUI画面と称する。   Connected to the main particle behavior analysis device 202a are an instruction input device 210 such as a keyboard and a mouse for performing various operations for particle behavior analysis processing, and a display device 212 for presenting the processing results as image information to the operator. Has been. The instruction input device 210 and the display device 212 are collectively referred to as a GUI (Graphical User Interface), and the display screen of the display device 212 is referred to as a GUI screen.

このような基本構成のシステム構成により、複数種類の粒子間相互作用がある系について粒子挙動解析処理を行なうに当たり、予め定められた分割法を適用して並列処理にて挙動解析を実行する。粒子挙動解析処理としては、たとえば、誘電率解析、電荷解析、放電解析、運動解析などが該当する。   With such a basic system configuration, when performing a particle behavior analysis process for a system having a plurality of types of interparticle interactions, a behavior analysis is performed in parallel processing by applying a predetermined division method. Examples of the particle behavior analysis processing include dielectric constant analysis, charge analysis, discharge analysis, and motion analysis.

ここで、粒子挙動解析の並列計算のアルゴリズム(分割法)としては、たとえば、領域分割法、粒子分割法、力分割法などが知られている。本実施形態では、その何れを採用してもよい。   Here, as an algorithm (division method) for parallel calculation of particle behavior analysis, for example, a region division method, a particle division method, a force division method and the like are known. In this embodiment, any of them may be adopted.

なお、図2に示した粒子挙動解析システム200の基本構成では、事実上の並列型計算装置(クラスタ計算機)の構成で示したが、これは一例に過ぎない。図示を割愛するが、それぞれ粒子挙動解析機能を有する複数台の粒子挙動解析装置を第1ネットワークにてネットワーク接続されて並列型計算装置として構成されている複数の粒子挙動解析システムを、さらに、別の第2ネットワークで接続して構成されたものとしてもよい。この場合、各粒子挙動解析システムは、主要の処理データを相互に外部ネットワーク(第2ネットワーク)を介して伝達し合い、それぞれ対象の異なる粒子挙動解析処理を並列的に実行するようになり、このような変形例の粒子挙動解析システムとしては、事実上の並列型計算装置をネットワーク接続してなるグリッド型計算装置として構成される。   In the basic configuration of the particle behavior analysis system 200 shown in FIG. 2, the configuration of a virtual parallel computer (cluster computer) is shown, but this is only an example. Although not shown in the figure, a plurality of particle behavior analysis systems each configured with a plurality of particle behavior analysis devices each having a particle behavior analysis function connected to the first network as a parallel computer are further separated. It is good also as what was connected and comprised by the 2nd network. In this case, each particle behavior analysis system communicates main processing data to each other via an external network (second network), and executes different particle behavior analysis processing for each target in parallel. The particle behavior analysis system of such a modified example is configured as a grid type computing device formed by connecting virtually parallel computing devices over a network.

<粒子挙動解析装置>
図3〜図3Bは、粒子挙動解析装置202を説明する図である。図3は、粒子挙動解析システム200における計算管理ノードの機能を具備した主粒子挙動解析装置202aに着目したブロック図である。図3Aは、粒子挙動解析システム200における一般ノードの機能を具備した副粒子挙動解析装置202bに着目したブロック図である。主粒子挙動解析装置202aは、副粒子挙動解析装置202bを含んで構成されている。図3Bは、並列化処理ではなく、1台の粒子挙動解析装置202にて粒子挙動解析処理を行なう場合の構成例である。
<Particle behavior analyzer>
3 to 3B are diagrams for explaining the particle behavior analysis apparatus 202. FIG. 3 is a block diagram focusing on the main particle behavior analysis apparatus 202a having the function of a calculation management node in the particle behavior analysis system 200. FIG. 3A is a block diagram focusing on the secondary particle behavior analysis apparatus 202b having the function of a general node in the particle behavior analysis system 200. The main particle behavior analysis device 202a includes a sub particle behavior analysis device 202b. FIG. 3B is a configuration example in the case where the particle behavior analysis processing is performed by one particle behavior analysis device 202 instead of the parallel processing.

図3に示すように、主粒子挙動解析装置202aは、指示入力装置210などを利用して処理対象データを取り込むデータ入力部220と、粒子挙動解析処理を行なうデータ処理部230と、処理結果を表示装置212などを利用して操作者に提示する情報提示部240を備えている。データ入力部220と情報提示部240は、主粒子挙動解析装置202aの計算管理ノードに相当する部分に設けられている。図3Aにも示すように、副粒子挙動解析装置202bは、このデータ処理部230のみで構成すればよい。   As shown in FIG. 3, the main particle behavior analysis device 202a uses a command input device 210 or the like to input data to be processed 220, a data processing unit 230 for performing particle behavior analysis processing, and a processing result. An information presenting unit 240 that presents to the operator using the display device 212 or the like is provided. The data input part 220 and the information presentation part 240 are provided in the part corresponded to the calculation management node of the main particle behavior analysis apparatus 202a. As shown in FIG. 3A, the secondary particle behavior analysis apparatus 202b may be configured by only the data processing unit 230.

各粒子挙動解析装置202のデータ処理部230は、個々の粒子の挙動を運動方程式に基づいて追跡する個別要素法を適用した粒子挙動解析手法を適用する。また、少なくとも、個別要素法を適用する際には、領域分割法、力分割法、粒子分割法、またはこれらを任意に組み合わせた方法、さらにはその他の分割法の何れかを適用した複数の粒子挙動解析装置202による並行処理を適用する。   The data processing unit 230 of each particle behavior analysis apparatus 202 applies a particle behavior analysis method to which an individual element method for tracking the behavior of individual particles based on the equation of motion is applied. In addition, at least when applying the individual element method, a plurality of particles to which any of the region division method, force division method, particle division method, a combination of these, or any other division method is applied. Parallel processing by the behavior analysis device 202 is applied.

領域分割法は、処理対象要素である解析領域(計算対象領域)を分割して、分割した領域別にその領域内に存在する全粒子を各プロセッサ(粒子挙動解析装置202)に割り当てていく手法である。粒子分割法は、処理対象要素である計算対象粒子を予め決められた数ずつ分割してマトリックス配置した各プロセッサ(粒子挙動解析装置202)に割り当てていく手法である。力分割法は、力マトリックスを用いたアルゴリズムを利用する手法である。力分割法は、マトリックス配置した各プロセッサの解析対象粒子を割り当てるという点では粒子分割法に似通っているが、解析対象粒子の割り当て方や計算処理時の通信相手の考え方が異なる。   The region division method is a method in which an analysis region (calculation target region) that is a processing target element is divided, and all particles existing in the region are allocated to each processor (particle behavior analysis device 202) for each divided region. is there. The particle division method is a method of dividing a calculation target particle, which is a processing target element, into a predetermined number and assigning it to each processor (particle behavior analysis device 202) arranged in a matrix. The force division method is a method using an algorithm using a force matrix. The force division method is similar to the particle division method in that the analysis target particles of each processor arranged in a matrix are assigned, but the method of assigning the analysis target particles and the concept of the communication partner at the time of calculation processing are different.

主粒子挙動解析装置202aの計算管理ノード側の筐体内には、処理対象要素を各種の分割法に従って分割し、分割した各解析対象要素(分割部分)を、予め決められた分割法に従って粒子挙動解析を行なう各計算システム(プロセッサとも称する:図の粒子挙動解析装置202)に割り当てる(分配する)分割処理部250(分配処理部)が設けられている。   In the casing on the calculation management node side of the main particle behavior analysis apparatus 202a, the processing target element is divided according to various division methods, and each divided analysis target element (divided portion) is subjected to particle behavior according to a predetermined division method. A division processing unit 250 (distribution processing unit) that is allocated (distributed) to each calculation system (also referred to as a processor: particle behavior analysis apparatus 202 in the figure) that performs analysis is provided.

複数の粒子挙動解析装置202を用いた並列処理により粒子挙動解析を行なう際には、解析対象の装置の全体について、纏めて分割対象とするのではなく、解析対象領域を複数の領域に分割し、この分割した各解析対象領域の別に、さらに予め決められた分割法を適用するのがよい。   When performing particle behavior analysis by parallel processing using a plurality of particle behavior analysis devices 202, the entire analysis target device is not collectively divided into division targets, but the analysis target region is divided into a plurality of regions. In addition, it is preferable to apply a predetermined division method to each of the divided analysis target areas.

データ入力部220は、指示入力装置210を構成するキーボードやマウスを介して操作者より入力されるコマンドやデータを受け付け、データ処理部230に渡す。   The data input unit 220 accepts commands and data input by the operator via the keyboard and mouse constituting the instruction input device 210 and passes them to the data processing unit 230.

データ処理部230は、データ入力部220から入力されたデータに基づいて粒子挙動解析処理を行なう。そのため、データ処理部230は、データ受付部232と、数値演算処理部234と、バスインタフェース部235と、メモリアクセス制御部237と、データ記憶部238とを有している。データ処理部230は、副粒子挙動解析装置202bに含まれる。   The data processing unit 230 performs a particle behavior analysis process based on the data input from the data input unit 220. Therefore, the data processing unit 230 includes a data receiving unit 232, a numerical operation processing unit 234, a bus interface unit 235, a memory access control unit 237, and a data storage unit 238. The data processing unit 230 is included in the secondary particle behavior analysis apparatus 202b.

なお、数値演算処理部234、バスインタフェース部235、一時記憶部238aを同一パッケージ(筐体)に具備するプロセッサコア部239として構成してもよい。プロセッサコア部239は、数値演算処理を行なう1個のプロセッサコア(単に「コア」とも称する)と内蔵メモリ(一時記憶部238a)を具備したシングルコアコアCPUで構成されるものである。プロセッサコア部239には、数値演算処理部234と一時記憶部238aの他に、出力データ処理部として機能するバスインタフェース部235を有する。   Note that the numerical operation processing unit 234, the bus interface unit 235, and the temporary storage unit 238a may be configured as a processor core unit 239 provided in the same package (housing). The processor core unit 239 is configured by a single core core CPU including a single processor core (also simply referred to as “core”) that performs numerical calculation processing and a built-in memory (temporary storage unit 238a). The processor core unit 239 includes a bus interface unit 235 that functions as an output data processing unit in addition to the numerical operation processing unit 234 and the temporary storage unit 238a.

数値演算処理部234は、分割処理部250による分割処理により割り当てられた分割部分について、決められた分割法に従ってデータ記憶部238との間でデータ(情報)の入出力(メモリアクセス)を行ないながら計算を行なう粒子挙動計算部として機能する。   The numerical arithmetic processing unit 234 performs input / output (memory access) of data (information) to and from the data storage unit 238 in accordance with the determined division method for the divided portion assigned by the division processing by the division processing unit 250. It functions as a particle behavior calculator that performs calculations.

バスインタフェース部235は、データの数値演算処理部234への入出力を行なうもので、解析過程のデータを他の粒子挙動解析装置202との間で受け渡しする機能の他に、数値演算処理部234で取得される解析結果(途中経過を含む)を情報提示部240に出力する出力データ処理部としても機能する。   The bus interface unit 235 inputs / outputs data to / from the numerical operation processing unit 234. In addition to the function of transferring data in the analysis process to / from the other particle behavior analysis apparatus 202, the bus interface unit 235 performs the numerical operation processing unit 234. It also functions as an output data processing unit that outputs the analysis result (including intermediate progress) acquired in step (b) to the information presentation unit 240.

データ記憶部238は、相互作用を計算するためのパラメータ表のデータを記憶する装置であり、数値演算処理部234に接続される。ここで、データ記憶部238は、一時記憶部238aと外部記憶装置238bを含む。一時記憶部238aは、いわゆるCPUと同一の半導体基板上に内蔵される内蔵メモリ(キャッシュメモリ:Cache Memoryとも称される)と同様の一時記憶部238aであり、メモリバス(MBUS)を介して数値演算処理部234と接続される。外部記憶装置238bは、いわゆるメインメモリとも称される外部の半導体製の記憶媒体(たとえば数100MB〜数GB程度の容量のもの)やメインメモリより大容量(数100GB以上)のハードディスク装置(HDD)などであり、メモリバスとは異なるバスで数値演算処理部234と接続される。   The data storage unit 238 is a device that stores data of a parameter table for calculating the interaction, and is connected to the numerical operation processing unit 234. Here, the data storage unit 238 includes a temporary storage unit 238a and an external storage device 238b. The temporary storage unit 238a is a temporary storage unit 238a similar to a built-in memory (also referred to as a cache memory) built on the same semiconductor substrate as the so-called CPU, and numerical values are transmitted via a memory bus (MBUS). Connected to the arithmetic processing unit 234. The external storage device 238b is an external semiconductor storage medium called a so-called main memory (for example, having a capacity of several hundred MB to several GB) or a hard disk device (HDD) having a larger capacity (several hundred GB or more) than the main memory. The numerical arithmetic processing unit 234 is connected to a bus different from the memory bus.

データ受付部232は、データ入力部220から入力されたデータをデータ記憶部238の外部記憶装置238bに記憶する。たとえば、解析の対象としている粒子を扱う装置の構成、計算に必要な各種物理パラメータ(物性値に関するデータ)や粒子の初期配置、解析対象粒子数やシミュレーションの収束条件などの計算条件が外部記憶装置238bに記憶される。   The data receiving unit 232 stores the data input from the data input unit 220 in the external storage device 238b of the data storage unit 238. For example, the configuration of the device that handles the particles to be analyzed, various physical parameters (data related to physical property values) necessary for the calculation, the initial arrangement of the particles, the number of particles to be analyzed, the convergence conditions of the simulation, etc. Stored in 238b.

数値演算処理部234は、データ受付部232からデータ記憶部238に供給されたデータに基づき、解析対象粒子について、たとえば、誘電率解析、電荷解析、放電解析、運動解析などを、予め決められた分割法を適用してシミュレーション処理にて解析する。計算途中では適宜、一時記憶部238aとの間でデータの記憶と読出しを行なう。数値演算処理部234は、その解析結果をバスインタフェース部235(出力データ処理部の機能部)を介して情報提示部240に供給する。   Based on the data supplied from the data receiving unit 232 to the data storage unit 238, the numerical calculation processing unit 234 performs, for example, dielectric constant analysis, charge analysis, discharge analysis, motion analysis, and the like on the analysis target particles. Analysis is performed by simulation processing by applying the division method. During the calculation, data is stored and read with the temporary storage unit 238a as appropriate. The numerical arithmetic processing unit 234 supplies the analysis result to the information presenting unit 240 via the bus interface unit 235 (functional unit of the output data processing unit).

情報提示部240は、数値演算処理部234での計算結果を受け取り、数値演算処理部234での計算結果を表示データに変換し、表示装置212に供給する。たとえば、数値演算処理部234で取得された解析対処領域の電位分布、電荷量分布、粒子の挙動、電荷分布、放電分布など結果を示す表示情報が表示装置212に供給される。表示装置212は、情報提示部240から供給された表示情報に基づく処理結果画像を表示する。実際には確認困難な現像剤粒子102の挙動を視覚的に把握できるように、現像剤粒子102の挙動予測を可視化して表示装置212上に表示するのである。   The information presentation unit 240 receives the calculation result in the numerical calculation processing unit 234, converts the calculation result in the numerical calculation processing unit 234 into display data, and supplies the display data to the display device 212. For example, display information indicating results such as potential distribution, charge amount distribution, particle behavior, charge distribution, and discharge distribution of the analysis coping area acquired by the numerical calculation processing unit 234 is supplied to the display device 212. The display device 212 displays a processing result image based on the display information supplied from the information presentation unit 240. The behavior prediction of the developer particle 102 is visualized and displayed on the display device 212 so that the behavior of the developer particle 102 that is actually difficult to confirm can be visually grasped.

ここでは、分割処理部250を、計算管理ノードとして機能する主粒子挙動解析装置202aに設け、この主粒子挙動解析装置202aも粒子挙動解析システム200の一部を構成する粒子挙動解析装置202として説明したが、このことは必須ではない。粒子挙動解析を行なう複数の粒子挙動解析装置202(計算機)とは別の情報処理装置に分割処理部250を設けたシステム構成にしてもよい。その場合、各粒子挙動解析装置が扱う解析対象要素を分配する専用の装置が必要となるので、ここで示した構成例よりも、専用の情報処理装置(計算機)が1つ増えることになる。   Here, the division processing unit 250 is provided in the main particle behavior analysis apparatus 202a functioning as a calculation management node, and the main particle behavior analysis apparatus 202a is also described as the particle behavior analysis apparatus 202 that constitutes a part of the particle behavior analysis system 200. However, this is not essential. A system configuration in which the division processing unit 250 is provided in an information processing device different from the plurality of particle behavior analysis devices 202 (computers) that perform particle behavior analysis may be employed. In that case, a dedicated device that distributes the analysis target element handled by each particle behavior analysis device is required, so that there is one more dedicated information processing device (computer) than the configuration example shown here.

なお、図3および図3Aでは、粒子挙動解析処理の時間短縮のため、複数の粒子挙動解析装置202による並列処理を行なうように、主粒子挙動解析装置202aと副粒子挙動解析装置202bについて示した。しかしながら、粒子挙動解析処理を並列処理により行なうことは必須でなく、単一の粒子挙動解析装置202にて行なってもよい。たとえば、図3Bに示すように、主粒子挙動解析装置202aから分割処理部250を取り外して1台の粒子挙動解析装置202を構成すればよく、その場合は、その1台の粒子挙動解析装置202が粒子挙動解析システム200と等価である。   3 and 3A, the main particle behavior analysis device 202a and the secondary particle behavior analysis device 202b are shown to perform parallel processing by a plurality of particle behavior analysis devices 202 in order to shorten the time of the particle behavior analysis processing. . However, it is not indispensable to perform the particle behavior analysis processing by parallel processing, and may be performed by the single particle behavior analysis device 202. For example, as shown in FIG. 3B, the single particle behavior analysis apparatus 202 may be configured by removing the division processing unit 250 from the main particle behavior analysis apparatus 202 a, and in that case, the single particle behavior analysis apparatus 202. Is equivalent to the particle behavior analysis system 200.

<数値演算処理部の構成>
図3Cは、粒子挙動解析装置202に備えられる数値演算処理部234(粒子挙動計算部)の構成例を説明する図である。
<Configuration of numerical arithmetic processing unit>
FIG. 3C is a diagram illustrating a configuration example of a numerical calculation processing unit 234 (particle behavior calculation unit) provided in the particle behavior analysis apparatus 202.

数値演算処理部234は、詳細には、導体中電荷移動解析処理部420、境界設定部430、放電解析部440、運動解析部460、および、電荷移動解析部470を備える。これらの内の運動解析部460を除いた部分で放電現象解析装置402が構成される。   Specifically, the numerical calculation processing unit 234 includes a conductor charge transfer analysis processing unit 420, a boundary setting unit 430, a discharge analysis unit 440, a motion analysis unit 460, and a charge transfer analysis unit 470. The discharge phenomenon analysis apparatus 402 is configured by a portion excluding the motion analysis unit 460 among these.

電界計算を行なう手法としては有限要素法や差分法があり、本実施形態ではその何れをも採用し得るが、以下では、特段の断りのない限り、有限要素法を適用するものとして説明する。   There are a finite element method and a difference method as a method for calculating the electric field, and any of them can be adopted in the present embodiment. However, the following description will be made assuming that the finite element method is applied unless otherwise specified.

導体中電荷移動解析処理部420は、誘電率解析部422、電荷解析部424、および、電荷移動解析部426を有する。   The in-conductor charge transfer analysis processing unit 420 includes a dielectric constant analysis unit 422, a charge analysis unit 424, and a charge transfer analysis unit 426.

誘電率解析部422は、各トナー粒子の位置・形状・径・誘電率などの情報に基づき、メッシュデータ中の誘電率の分布にトナー粒子の誘電率を考慮したデータを算出する。   The dielectric constant analysis unit 422 calculates data that takes into account the dielectric constant of the toner particles in the distribution of the dielectric constant in the mesh data based on information such as the position, shape, diameter, and dielectric constant of each toner particle.

電荷解析部424は、メッシュデータ中の真電荷の分布に、トナー粒子が持つ電荷の分布を考慮したデータを算出する。   The charge analysis unit 424 calculates data in consideration of the charge distribution of the toner particles in the distribution of the true charge in the mesh data.

電荷移動解析部426は、導体中の電荷移動をオームの法則に従って算出する。   The charge transfer analysis unit 426 calculates the charge transfer in the conductor according to Ohm's law.

境界設定部430は、予め決められた手法に従って対向する2つの境界(電荷面)間に別の境界を設定する。   The boundary setting unit 430 sets another boundary between two opposing boundaries (charge planes) according to a predetermined method.

放電解析部440は、放電の発生を判定して放電による電荷の移動や放電後の電位分布を算出するもので、詳しくは、対向面間放電抽出部442、尖頭部材間放電抽出部444、放電電荷量算出部446、電荷更新部448を有する。   The discharge analysis unit 440 determines the occurrence of discharge and calculates the movement of charges due to discharge and the potential distribution after discharge. Specifically, the discharge extraction unit 442 between the opposing surfaces, the discharge extraction unit 444 between the peak members, A discharge charge amount calculation unit 446 and a charge update unit 448 are included.

対向面間放電抽出部442は、パッシェンの放電則に従って2つの対向する平面間における放電発生の有無を検索し、放電する部分を抽出する。対向面間放電抽出部442は、境界設定部430で設定された境界の情報も使って、放電する部分を抽出する。   The counter-surface discharge extraction unit 442 searches for the presence or absence of discharge between two opposing planes according to Paschen's discharge rule, and extracts a portion to be discharged. The counter-surface discharge extraction unit 442 uses the boundary information set by the boundary setting unit 430 to extract a portion to be discharged.

放電発生の検索は、メッシュデータの未知変数としての電位を定義している部分(電位定義セグメントまたは単にセグメントと称する)の内、放電を検索する面上または面に近接するものを使用し、各電位定義セグメントに対して最もパッシェン電圧を上回る対向面の放電定義セグメントを抽出することで実現する。検索に使用した面上または面に近接したセグメントを放電検索セグメント、抽出された電位定義セグメントを放電セグメント、放電相手との組を放電セグメント対と称する。パッシェン電圧としては、それを近似曲線で示したものが種々提案されており、その何れを使用してもよい。   The search for the occurrence of discharge uses the part of the mesh data defining the potential as an unknown variable (referred to as a potential definition segment or simply a segment) on or near the surface where the discharge is searched. This is realized by extracting the discharge definition segment on the opposite surface that exceeds the Paschen voltage most with respect to the potential definition segment. A segment on or near the surface used for the search is called a discharge search segment, the extracted potential definition segment is called a discharge segment, and a set with a discharge partner is called a discharge segment pair. As the Paschen voltage, various types of the approximation of the Paschen voltage indicated by an approximate curve have been proposed, and any of them may be used.

ここで、対向面間放電抽出部442は、面がその上に堆積したトナー粒子の層(以下、トナー層とも称する)で覆われている場合は、その覆われた部分の電位定義セグメントは検索から除外する。その代りに、面上に堆積したトナー層の内で表層に位置したトナー粒子に対して、そのトナー粒子に近接する電位定義セグメント(特にトナーセグメントと称する)を対応させ、トナーセグメントを放電発生の検索に使用する。   Here, when the surface is covered with a layer of toner particles deposited on the surface (hereinafter also referred to as a toner layer), the opposed surface discharge extraction unit 442 searches for the potential definition segment of the covered portion. Exclude from Instead, the toner particles positioned on the surface of the toner layer deposited on the surface are made to correspond to potential definition segments (particularly referred to as toner segments) close to the toner particles, and the toner segments are discharged. Used for searching.

尖頭部材間放電抽出部444は、除電針のようにパッシェンの放電則に従わない2体間について、ギャップ長と放電開始電圧の関係を示す実験結果に基づいて放電セグメント対を抽出する。   The peak member discharge extraction unit 444 extracts a discharge segment pair based on the experimental result indicating the relationship between the gap length and the discharge start voltage between two bodies that do not follow Paschen's discharge rule, such as a static elimination needle.

放電電荷量算出部446は予め決められている算出式(ここではその説明を割愛する:特許文献1の式2〜4を参照)に従って、放電発生後の電位と放電電荷量を算出する。トナーセグメント以外の放電セグメントの電荷量については、ここで得られた放電電荷量を加算して更新する。   The discharge charge amount calculation unit 446 calculates the potential after the discharge and the discharge charge amount according to a predetermined calculation formula (here, description thereof is omitted: see Formulas 2 to 4 in Patent Document 1). The charge amount of the discharge segment other than the toner segment is updated by adding the discharge charge amount obtained here.

電荷更新部448は、放電電荷量算出部446で算出された放電電荷量の内で放電が発生している電位定義セグメントがトナーセグメントであった場合にトナーセグメント抽出の元となったトナー粒子に対して電荷量を放電電荷分だけ加算して更新する。   The charge update unit 448 converts the toner particle that is the source of toner segment extraction when the potential definition segment in which discharge is generated in the discharge charge amount calculated by the discharge charge amount calculation unit 446 is a toner segment. On the other hand, the charge amount is updated by the amount corresponding to the discharge charge.

運動解析部460は、静電気力、重力、付着力、空気抵抗力など、転写領域でトナー粒子に働く力に基づいてニュートンの運動方程式を解いてトナー粒子の座標を計算刻み時間後の位置に更新する。   The motion analysis unit 460 solves Newton's equation of motion based on the force acting on the toner particles in the transfer area, such as electrostatic force, gravity, adhesion force, and air resistance force, and updates the coordinates of the toner particles to the position after the calculation interval. To do.

電荷移動解析部470は、物体の運動に伴う電荷の移動を解析する。たとえば、電荷は、一般に物体の表面にのみ存在する。このように電荷が蓄積される可能性のある物体の表面を電荷面と称する。ここで、物体の運動を考慮する場合、電荷面を構成する節点間で物体の運動方向に電荷を移動させればよい。   The charge transfer analysis unit 470 analyzes the charge transfer accompanying the movement of the object. For example, charge is generally present only on the surface of an object. The surface of the object on which charges can be accumulated is referred to as a charge surface. Here, when considering the motion of the object, the charge may be moved in the direction of motion of the object between the nodes constituting the charge surface.

画像形成装置1における転写プロセスでの挙動を解析する場合の電荷面としては、たとえば、一次転写領域では感光体10と中間転写ベルト58の表面が該当し、二次転写領域では中間転写ベルト58と用紙の表面が該当する。それらの間は実際には密着していることがあるが、電荷移動解析部470は、微小なギャップがあるものとして、電荷面上の真電荷を物体の運動方向に移動させることによりシミュレーションを実行する。   As the charge surface when analyzing the behavior in the transfer process in the image forming apparatus 1, for example, the surface of the photoreceptor 10 and the intermediate transfer belt 58 corresponds in the primary transfer region, and the intermediate transfer belt 58 in the secondary transfer region. Applicable to the front side of the paper. Although they may actually be in close contact with each other, the charge transfer analysis unit 470 executes the simulation by moving the true charge on the charge surface in the direction of movement of the object, assuming that there is a minute gap. To do.

<粒子挙動解析処理の概要>
図4〜図4Aは、本実施形態の粒子挙動解析処理を説明する図である。ここで、図4は、本実施形態の放電解析処理を含む粒子挙動解析処理の処理手順の一例を説明するフローチャートである。図4Aは、本実施形態の放電解析処理の基本的な考え方を示した概要図である。
<Outline of particle behavior analysis processing>
4A to 4A are diagrams for explaining the particle behavior analysis processing of the present embodiment. Here, FIG. 4 is a flowchart for explaining an example of the processing procedure of the particle behavior analysis process including the discharge analysis process of the present embodiment. FIG. 4A is a schematic diagram showing a basic concept of the discharge analysis processing of the present embodiment.

本実施形態では、電界計算を行なう手法として有限要素法を採用する。なお、有限要素法では節点で電位が定義されることから、電位定義セグメントは節点ということになる。この点を踏まえて、以下では、放電セグメントを「放電節点」とし、放電の解析対象となる放電検索セグメントを「放電検索節点」、放電セグメント対を「放電節点対」、トナーセグメントを「トナー節点」と称する。   In the present embodiment, a finite element method is adopted as a technique for performing electric field calculation. In the finite element method, since the potential is defined by a node, the potential definition segment is a node. Based on this point, in the following, the discharge segment is referred to as “discharge node”, the discharge search segment to be analyzed for discharge is “discharge search node”, the discharge segment pair is “discharge node pair”, and the toner segment is “toner node”. ".

また、本実施形態の放電解析処理では、最初に放電が発生しないとしたときの電位分布を求め、その結果から放電発生箇所(放電節点対)を抽出し、放電開始電圧(たとえばパッシェン電圧)を超えないようにするにはどれだけの電荷を移動すればよいかを求める。特許文献1に示されている式2〜4(式3,4は放電が発生しないとしたときの電位分布から作成されるもの)に基づき、それらの式を電界計算の式に連成させて解析する。   Further, in the discharge analysis processing of the present embodiment, the potential distribution when the discharge does not occur first is obtained, the discharge occurrence location (discharge node pair) is extracted from the result, and the discharge start voltage (for example, Paschen voltage) is obtained. It is determined how much charge should be transferred so as not to exceed. Based on Formulas 2 to 4 shown in Patent Document 1 (Formulas 3 and 4 are created from the potential distribution when no discharge occurs), these formulas are combined with formulas for electric field calculation. To analyze.

[粒子挙動解析処理]
なお、本実施形態では、粒子挙動解析処理の時間短縮のため、複数の粒子挙動解析装置202による並列処理を行なう。そのために、粒子分割法、領域分割法、力分割法などの各種の並列化アルゴリズムを適用するが、その際には分割処理部250が各粒子挙動解析装置202に担当部分を割り当てる。以下では、一例として、力分割法を適用する場合で説明する。
[Particle behavior analysis processing]
In this embodiment, parallel processing by a plurality of particle behavior analysis devices 202 is performed in order to shorten the time of the particle behavior analysis processing. For this purpose, various parallel algorithms such as a particle division method, a region division method, and a force division method are applied. In this case, the division processing unit 250 assigns a responsible portion to each particle behavior analysis apparatus 202. Hereinafter, as an example, a case where the force division method is applied will be described.

先ず、主粒子挙動解析装置202a(の分割処理部250は)、現時点において並列化処理を適用した粒子挙動解析処理に使用可能な粒子挙動解析システム200を構成する粒子挙動解析装置202の数(プロセッサ数)を特定する(S102)。   First, the number of particle behavior analysis devices 202 constituting the particle behavior analysis system 200 that can be used for the particle behavior analysis processing to which the parallelization processing is applied at present (processors). Number) is specified (S102).

この後、主粒子挙動解析装置202aは、計算に必要な各種物理パラメータや粒子の初期配置や各種の分割法で必要となる解析対象粒子数などの計算条件を指示入力装置210やデータ入力部220を介して読み込み、関連する粒子挙動解析装置202へデータを配布する(S104)。このとき、データ入力部220や分割処理部250は、感光体10における潜像など、初期電荷分布の設定も同時に行なうとともに、入力データの条件に従って現像剤粒子102(放電解析との関係では特にトナー粒子)を初期位置に設定する(S106)。   Thereafter, the main particle behavior analysis apparatus 202a indicates the calculation conditions such as various physical parameters necessary for the calculation, the initial arrangement of the particles, and the number of particles to be analyzed necessary for various division methods, and the instruction input device 210 and the data input unit 220. And distribute the data to the related particle behavior analysis apparatus 202 (S104). At this time, the data input unit 220 and the division processing unit 250 simultaneously set the initial charge distribution such as a latent image on the photoconductor 10 and at the same time set the developer particles 102 (particularly in terms of the discharge analysis in relation to the discharge analysis). Particles) are set at the initial position (S106).

物理パラメータは、シミュレーションの計算モデルで用いる設定値であり、特に、本実施形態で着目する転写プロセスの粒子挙動解析に必要なメッシュデータや各種パラメータが含まれる。メッシュデータは、差分メッシュや有限要素メッシュなど、電界計算を行なう手法に応じて誘電体や抵抗体からなる転写装置50の解析領域を微小領域に分割したデータを意味する。各種パラメータには、構造体(たとえば感光体10、現像ロール140、その他の現像剤粒子102にとって壁として機能するものなど)のヤング率、各部材の誘電率、導電率、電荷分布、境界条件としての電位、移動する物体の速度、電荷の蓄積する可能性のある面(電荷面と称する)の指定、放電の起こる面の指定、現像剤粒子102(キャリア粒子やトナー粒子)の径・初期配置・帯電量・誘電率、計算刻み時間、計算終了条件(シミュレーションの収束条件)などが含まれる。   The physical parameter is a set value used in a simulation calculation model, and particularly includes mesh data and various parameters necessary for the particle behavior analysis of the transfer process focused in the present embodiment. The mesh data means data obtained by dividing the analysis region of the transfer device 50 made of a dielectric or a resistor into minute regions, such as a difference mesh or a finite element mesh, according to a technique for performing electric field calculation. Various parameters include the Young's modulus of the structure (for example, the photoreceptor 10, the developing roll 140, and other developer particles 102 that function as a wall), the dielectric constant, conductivity, charge distribution, and boundary conditions of each member. Potential, the speed of the moving object, designation of the surface where charges can accumulate (referred to as charge surface), designation of the surface where discharge occurs, diameter and initial arrangement of developer particles 102 (carrier particles and toner particles) -Charge amount, dielectric constant, calculation step time, calculation end condition (simulation convergence condition), etc. are included.

次に、計算管理ノードの分割処理部250は、ステップS102にて特定した各粒子挙動解析装置202(プロセッサ)を、力分割法に従って、力マトリクスの各マトリクス要素に配置し、また、各解析対象粒子(現像剤粒子102を構成するキャリア粒子やトナー粒子)に番号を付与し、行列で対応付けられた各プロセッサに計算対象の解析対象粒子を割り当てる(S108)。各番号のプロセッサ(各粒子挙動解析装置202)をノード#Nとも呼ぶ。   Next, the division processing unit 250 of the calculation management node arranges each particle behavior analysis device 202 (processor) identified in step S102 in each matrix element of the force matrix according to the force division method, and also analyzes each analysis target. Numbers are assigned to the particles (carrier particles and toner particles constituting the developer particles 102), and analysis target particles to be calculated are assigned to each processor associated with the matrix (S108). Each numbered processor (each particle behavior analysis device 202) is also called a node #N.

次に、複数種類の粒子間相互作用力を、力マトリクス中の自身を中心とする行方向および列方向に存在する通信を必要とするカットオフの設定情報に従った範囲内の粒子を担当するプロセッサ(特に特定プロセッサと呼ぶ)に分散して、数値演算処理部234が粒子挙動計算処理を開始する。なお、カットオフは、解析対象範囲内の全粒子を実際の解析対象とするのではなく、計算効率を高めるべく、その対象を距離に基づき制限する指標である解析対象制限値を意味する。   Next, a plurality of types of inter-particle interaction forces are assigned to particles in a range according to the cutoff setting information that requires communication existing in the row direction and the column direction centered on itself in the force matrix. The numerical calculation processing unit 234 starts the particle behavior calculation process in a distributed manner to processors (particularly referred to as a specific processor). The cut-off means an analysis target limit value that is an index for limiting the target based on the distance in order to increase the calculation efficiency, instead of setting all particles in the analysis target range as actual analysis targets.

たとえば、導体中電荷移動解析処理部420(誘電率解析部422、電荷解析部424、電荷移動解析部426)にて、導体中電荷移動解析処理を行なう(S120)。具体的には、誘電率解析部422は、トナー粒子を考慮した誘電率分布設定を行なう(S122)。電荷解析部424は、トナー電荷を考慮した真電荷分布設定を行なう(S124)。電荷移動解析部426は、誘電率解析部422により得られた誘電率分布と、電荷解析部424により得られた真電荷分布、および予め設定されている誘電分極分布に基づき、導体中の電荷移動計算を行なう(S126)。   For example, in-conductor charge transfer analysis processing unit 420 (dielectric constant analysis unit 422, charge analysis unit 424, charge transfer analysis unit 426) performs in-conductor charge transfer analysis processing (S120). Specifically, the dielectric constant analysis unit 422 performs dielectric constant distribution setting in consideration of toner particles (S122). The charge analysis unit 424 performs true charge distribution setting in consideration of the toner charge (S124). The charge transfer analysis unit 426 performs charge transfer in the conductor based on the dielectric constant distribution obtained by the dielectric constant analysis unit 422, the true charge distribution obtained by the charge analysis unit 424, and a preset dielectric polarization distribution. Calculation is performed (S126).

次に、放電解析部440は、自身の各機能部を用いて、放電解析を行なう(S140)。たとえば、対向面間放電抽出部442は、平行面間の放電箇所と放電先を組とした放電セグメント対の抽出処理を行なう(S142)。ここで、本実施形態の放電解析処理では、対向面間放電抽出部442は、解析対象領域の電界中において、電荷面に堆積しておらず浮いている電荷を持った粒子(浮遊粒子と称する)についても放電解析の対象とする点に特徴がある。この点については後で詳しく説明する。   Next, the discharge analysis unit 440 performs a discharge analysis using its own functional units (S140). For example, the counter-surface discharge extraction unit 442 performs a discharge segment pair extraction process in which discharge portions between parallel surfaces and discharge destinations are paired (S142). Here, in the discharge analysis processing according to the present embodiment, the inter-surface discharge extraction unit 442 performs a floating particle (hereinafter referred to as a floating particle) that is not deposited on the charge surface in the electric field of the analysis target region. ) Also has a feature in that it is subject to discharge analysis. This point will be described in detail later.

尖頭部材間放電抽出部444は、尖頭部材間の放電箇所と放電先を組とした放電セグメント対の抽出処理を行なう(S144)。放電電荷量算出部446は、全電位定義セグメントの電荷を求める(S146)。電荷更新部448は、放電が発生したトナー粒子の電荷量を更新する(S148)。   The peak member discharge extraction unit 444 performs discharge segment pair extraction processing in which the discharge points between the peak members and the discharge destinations are grouped (S144). The discharge charge amount calculation unit 446 calculates the charge of all potential definition segments (S146). The charge update unit 448 updates the charge amount of the toner particles that have been discharged (S148).

次に、運動解析部460は、解析対象粒子の運動解析を行なう。たとえば、運動解析部460は、予め決められた時間経過後のトナーの挙動計算を行ない、その計算結果によって得られたトナーの位置を求められた位置に更新する(S160)。この際には、放電現象と関係するトナー粒子に関しては、放電解析結果後のトナー粒子情報(放電解析結果を反映したトナー粒子に与えられている物性情報)が、解析対象領域内のトナー粒子同士や他の粒子(たとえばキャリア粒子)や壁などとの間の相互作用力計算に反映されるようにする。   Next, the motion analysis unit 460 performs motion analysis of the analysis target particle. For example, the motion analysis unit 460 calculates the behavior of the toner after a lapse of a predetermined time, and updates the toner position obtained from the calculation result to the obtained position (S160). At this time, for the toner particles related to the discharge phenomenon, the toner particle information after the discharge analysis result (physical property information given to the toner particle reflecting the discharge analysis result) is changed between the toner particles in the analysis target region. It is made to be reflected in the calculation of interaction force between particles and other particles (for example, carrier particles) or walls.

また、複数種類の多体粒子間相互作用に対しては、それぞれ別の力マトリックスを用いて計算する。たとえば、担当マトリクス中の相手粒子との間における磁気相互作用を、当該磁気相互作用解析用の力マトリックスを用いて解析処理する。次に、特定プロセッサコア間で通信し、磁気相互作用について、分配して計算した磁気相互作用力の総和値を求める。同様にして、担当マトリクス中の相手粒子との間における静電相互作用を、当該静電相互作用解析用の力マトリックスを用いて解析処理する。   In addition, a plurality of types of interaction between many-body particles are calculated using different force matrices. For example, the magnetic interaction with the partner particle in the assigned matrix is analyzed using the force matrix for the magnetic interaction analysis. Next, communication is performed between specific processor cores, and the total value of magnetic interaction forces calculated by distributing the magnetic interaction is obtained. Similarly, the electrostatic interaction with the partner particle in the assigned matrix is analyzed using the force matrix for the electrostatic interaction analysis.

次に、特定プロセッサコア間で通信し、静電相互作用について、分配して計算した静電相互作用力の総和値を求める。また、担当マトリクス中の相手粒子との間における機械的相互作用(接触力)を、当該機械的相互作用解析用の力マトリックスを用いて解析処理する。次に、特定プロセッサコア間で通信し、機械的相互作用について、分配して計算した機械的相互作用力の総和値を求める。   Next, communication is performed between the specific processor cores, and the total value of electrostatic interaction forces calculated by distributing the electrostatic interaction is obtained. Further, the mechanical interaction (contact force) with the partner particle in the assigned matrix is analyzed using the force matrix for analyzing the mechanical interaction. Next, communication is performed between specific processor cores, and the total value of the mechanical interaction forces calculated by distributing the mechanical interaction is obtained.

さらに、磁気相互作用、静電相互作用、および機械的相互作用(接触力)のそれぞれについて求めた各総和値を加算して全総和値を求める。次に、磁気相互作用、静電相互作用、および機械的相互作用(接触力)の全総和値を使用して、各粒子の運動方程式を解き、位置座標を計算する。そして、このようにして求めた各粒子の位置座標を、相互作用マトリクスに関係する特定プロセッサコアに送り(通信し)、計算情報を更新する。   Furthermore, the sum total value calculated | required about each of a magnetic interaction, an electrostatic interaction, and a mechanical interaction (contact force) is added, and a total sum value is calculated | required. Next, using the total sum of the magnetic interaction, electrostatic interaction, and mechanical interaction (contact force), the equation of motion of each particle is solved and the position coordinates are calculated. Then, the position coordinates of each particle obtained in this way are sent (communication) to a specific processor core related to the interaction matrix, and the calculation information is updated.

電荷移動解析部470は、物体の運動に伴う電荷の移動を解析する(S180)。   The charge transfer analysis unit 470 analyzes the charge transfer accompanying the movement of the object (S180).

この後、予め設定されたシミュレーションの終了時間(または処理ステップ数)に達するまで、ステップS120に戻って同様の処理を繰り返す(S190)。   Thereafter, the process returns to step S120 and the same processing is repeated until the preset simulation end time (or the number of processing steps) is reached (S190).

バスインタフェース部235は、各計算ステップでの計算データの受け渡しを他の粒子挙動解析装置202の数値演算処理部234の間で行なう以外に、予め決められた計算ステップごとに、数値演算処理部234での計算結果の出力ファイルを受け取り、情報提示部240に渡す。   The bus interface unit 235 transfers the calculation data at each calculation step between the numerical calculation processing units 234 of the other particle behavior analysis apparatuses 202, and for each predetermined calculation step, the bus calculation unit 234 The calculation result output file is received and passed to the information presentation unit 240.

情報提示部240は、各粒子挙動解析装置202からのデータを集約して、表示データに変換し、表示装置212に供給する。また、情報提示部240は、一連のシミュレーション処理が完了したら、シミュレーション結果のファイル出力を行なう。たとえば、得られた計算領域の電位分布、電荷量分布、トナーの挙動、トナーの電荷分布、放電分布などの結果を出力する。   The information presentation unit 240 aggregates data from each particle behavior analysis device 202, converts it into display data, and supplies it to the display device 212. In addition, the information presentation unit 240 outputs a simulation result file after a series of simulation processing is completed. For example, results such as potential distribution, charge amount distribution, toner behavior, toner charge distribution, and discharge distribution in the obtained calculation region are output.

表示装置212は、情報提示部240から供給された表示データに基づく処理結果画像を表示する。実際には確認困難な現像剤粒子102の挙動を視覚的に把握できるように、現像剤粒子102の挙動予測を可視化して表示装置212上に表示するのである。   The display device 212 displays a processing result image based on the display data supplied from the information presentation unit 240. The behavior prediction of the developer particle 102 is visualized and displayed on the display device 212 so that the behavior of the developer particle 102 that is actually difficult to confirm can be visually grasped.

[放電解析処理:基本概念]
本実施形態の放電解析処理における特徴点(基本概念)が図4Aに示されている。ここで、本実施形態の放電解析処理は、解析対象領域(たとえば転写領域)の電界中において、電荷面に堆積しておらず浮いている粒子(浮遊粒子と称する)についても放電現象解析の対象とする点に特徴がある。なお、放電現象を解析することを、「放電計算を行なう」とも称する。電荷面上に堆積していない浮遊粒子も放電計算の対象とすることで、浮遊粒子を放電計算の対象としない場合よりも、放電計算の精度が向上する。
[Discharge analysis processing: basic concept]
The characteristic points (basic concept) in the discharge analysis processing of this embodiment are shown in FIG. 4A. Here, the discharge analysis processing of the present embodiment is also subject to discharge phenomenon analysis for particles that are not deposited on the charge surface and are floating (referred to as floating particles) in the electric field of the analysis target region (for example, the transfer region). It is characterized by the point. The analysis of the discharge phenomenon is also referred to as “performing discharge calculation”. By making floating particles that are not deposited on the charge surface also subject to discharge calculation, the accuracy of discharge calculation is improved as compared with the case where floating particles are not subject to discharge calculation.

浮遊粒子を放電解析の対象とするべく、本実施形態では、先ず、解析対象領域の対向する電荷面間に、予め決められた規則に従って電荷面に挟まれた解析対象領域を分割する領域境界(2次元の場合は分割線、3次元の場合は分割面)を設定する。そして、解析対象の浮遊粒子が、領域境界を挟んで対向する電荷面のどちら側に属するかを判別する。浮遊粒子が属する側の領域を帰属領域と称し、電荷面も含むものとする。   In this embodiment, in order to make suspended particles a target for discharge analysis, first, a region boundary (dividing an analysis target region sandwiched between charge surfaces according to a predetermined rule between opposing charge surfaces of the analysis target region ( A dividing line is set in the case of two dimensions, and a dividing plane is set in the case of three dimensions. Then, it is determined which side of the charge surface facing the suspended particle to be analyzed is located across the region boundary. The region to which the suspended particles belong is called the belonging region and includes the charge surface.

そして、境界を挟んで一方の面側の帰属領域に属する浮遊粒子については、他方の面側の領域に属するもの(電荷面も含む)との間での放電現象を解析する。好ましくは、帰属領域側の電荷面との間の放電現象も解析するようにする。電荷面同士や堆積粒子に関する放電現象の解析は特許文献1と同様に行なう。纏めると、帰属領域の浮遊粒子やその浮遊粒子が属する側の電荷面、および領域境界を挟んで反対側の領域(別領域)に属する浮遊粒子およびその浮遊粒子が属する側の電荷面を対象として放電現象を解析する。端的には、特許文献1の仕組みとの対比として、浮遊粒子についても放電現象の解析対象とすると言うことである。   And about the suspended particle which belongs to the belonging area | region of one surface side on both sides of a boundary, the discharge phenomenon between what belongs to the area | region of the other surface side (a charge surface is also included) is analyzed. Preferably, a discharge phenomenon between the charge surface on the attribution region side is also analyzed. The analysis of the discharge phenomenon relating to the charge surfaces and the deposited particles is performed in the same manner as in Patent Document 1. In summary, the suspended particles in the belonging region, the charge surface to which the suspended particle belongs, the suspended particle belonging to the opposite region (different region) across the region boundary, and the charged surface to which the suspended particle belongs are targeted. Analyze the discharge phenomenon. In short, in contrast to the mechanism of Patent Document 1, suspended particles are also subject to analysis of discharge phenomena.

なお、領域境界の設定手法としては、幾何学的(物理的な距離)な観点から規定する考え方と電気的な観点から規定する考え方に大別できるが、何れの手法を使うかで優劣がある。この点については、第1〜第3実施形態で詳しく説明する。   In addition, the method of setting the region boundary can be broadly divided into the concept defined from the geometric (physical distance) viewpoint and the concept defined from the electrical viewpoint. . This point will be described in detail in the first to third embodiments.

また、本願発明者の検討によれば、粒子のどの部分を対象として放電現象を解析するかによって、放電計算の精度に影響を与えるということが分かった。たとえば、粒子の中心(内部)に位置する節点を放電探索節点にして解析した場合と、粒子の表面(表層部分)に位置する節点を放電探索節点にして解析した場合とでは明らかな差が生じ、表面を対象とする方が実態に即する、つまり、表面の方が放電計算の精度が向上すると言うことが分かった。これは電荷分布や放電は、物質表面に存在・発生するためであると考えられる。   Further, according to the study by the present inventor, it has been found that the accuracy of the discharge calculation is affected depending on which part of the particle is subjected to the discharge phenomenon analysis. For example, there is a clear difference between the case where the node located at the center (inside) of the particle is analyzed as a discharge search node and the case where the node located on the surface of the particle (surface layer portion) is analyzed as a discharge search node. It has been found that the surface is more realistic, that is, the surface improves the accuracy of the discharge calculation. This is presumably because charge distribution and discharge are present / generated on the material surface.

そこで、本実施形態では、粒子の表面(表層部)を対象として放電現象の解析を行なうことにする。たとえば、属する側の領域(帰属領域と称する)の浮遊粒子やその浮遊粒子が属する側の電荷面、および領域境界を挟んで反対側の領域(別領域)に属する浮遊粒子およびその浮遊粒子が属する側の電荷面を対象として、放電現象を解析する。   Therefore, in this embodiment, the discharge phenomenon is analyzed for the surface (surface layer portion) of the particle. For example, the suspended particles in the region to which they belong (referred to as the belonging region), the charge surface to which the suspended particles belong, the suspended particles in the opposite region (different region) across the region boundary, and the suspended particles belong to The discharge phenomenon is analyzed for the charge surface on the side.

放電現象の解析手法自体は公知の手法を適用してよく、本実施形態では、特許文献1に記載の仕組みを利用して、電荷面間の電位分布に基づいて、その2面間での放電の発生する可能性がある箇所を抽出する。その際に、前述のように領域境界を設定し、電荷面に堆積している堆積粒子だけでなく、浮遊粒子についても、後述の実施形態のようにして、領域境界を挟んだどちらの面側に属するかを勘案して放電探索節点を付与する。放電探索節点に対しての電荷量は粒子の電荷量をそのまま適用する。あるいは、放電探索節点に対しての電荷量は粒子の電荷量を粒子が含む節点へ分配した値を適用する。   As a method for analyzing the discharge phenomenon itself, a known method may be applied. In this embodiment, a discharge between the two surfaces is performed based on the potential distribution between the charge surfaces using the mechanism described in Patent Document 1. Extract possible locations where At that time, the region boundary is set as described above, and not only the deposited particles deposited on the charge surface, but also the floating particles, either surface side across the region boundary as in the embodiment described later. A discharge search node is given in consideration of whether it belongs to. As the charge amount with respect to the discharge search node, the charge amount of the particle is applied as it is. Alternatively, a value obtained by distributing the charge amount of the particles to the nodes included in the particles is applied to the charge amount for the discharge search node.

たとえば、図4Aにおいて、対向配置された電荷面A,Bに挟まれた解析対象領域(粒子運動領域)内に、電荷面A,Bに堆積してない浮遊粒子a,bが存在する場合に、その浮遊粒子a,bを放電解析の対象とする。このため、先ず、境界設定部430は、後述の第1〜第3実施形態のようにして解析対象領域内に境界C(領域境界610)を設定する。領域境界610を挟んで電荷面A側の領域を帰属領域A、電荷面B側の領域を帰属領域Bとする。   For example, in FIG. 4A, when suspended particles a and b that are not deposited on the charge surfaces A and B exist in the analysis target region (particle motion region) sandwiched between the charge surfaces A and B arranged opposite to each other. The suspended particles a and b are the objects of discharge analysis. Therefore, first, the boundary setting unit 430 sets the boundary C (region boundary 610) in the analysis target region as in the first to third embodiments described later. A region on the charge surface A side across the region boundary 610 is referred to as a belonging region A, and a region on the charge surface B side is referred to as a belonging region B.

対向面間放電抽出部442は、境界設定部430が設定した領域境界610に基づき、解析対象の浮遊粒子aが、領域境界610を挟んで対向する電荷面A,Bのどちら側に(つまり帰属領域A,Bのどちらに)属するかを判別する。この例では、浮遊粒子aは帰属領域Aに属し、浮遊粒子bは帰属領域Bに属すると判別することになる。   Based on the region boundary 610 set by the boundary setting unit 430, the opposed inter-surface discharge extraction unit 442 has the suspended particles a to be analyzed located on either side of the charge surfaces A and B facing each other across the region boundary 610 (that is, belonging to It is determined whether it belongs to (region A or B). In this example, it is determined that the suspended particles a belong to the belonging region A and the suspended particles b belong to the belonging region B.

ここで、浮遊粒子に関しての放電解析に当たっては、主たる解析対象の放電現象と、従たる解析対象の放電現象とに分けて考える。主たる解析対象の放電現象とは、帰属領域の浮遊粒子に関して、その浮遊粒子が帰属しない側の電荷面やその電荷面に堆積する堆積粒子との間での放電現象を解析することを意味する。従たる解析対象の放電現象とは、帰属領域の浮遊粒子に関して、その浮遊粒子が帰属する側の電荷面やその電荷面に堆積する堆積粒子との間での放電現象や浮遊粒子同士での放電現象を解析することを意味する。   Here, in the discharge analysis regarding the suspended particles, the main phenomenon to be analyzed is divided into the discharge phenomenon to be analyzed. The main phenomenon of the discharge phenomenon is to analyze the discharge phenomenon between the floating particles in the assigned region and the charge surface to which the floating particles do not belong or the deposited particles deposited on the charge surface. The discharge phenomenon that is subject to analysis is the discharge phenomenon between the floating particles in the assigned region, the discharge phenomenon between the charged surface to which the suspended particle belongs and the deposited particles deposited on the charge surface, or the discharge between the floating particles. It means analyzing the phenomenon.

たとえば、主たる解析対象の放電現象として、帰属領域Aに属する浮遊粒子aに関しては、浮遊粒子aと、浮遊粒子aが属しない側の電荷面Bとの間の放電a1を解析する。「浮遊粒子aと電荷面Bとの間の放電a1を解析する」に当たっては、たとえば、先ず、メッシュ分割されたシミュレーションモデルの電荷面Bの電位と浮遊粒子aに関しての電位の差(電位差ΔVa1)を、予め定められた放電前の電荷量およびシミュレーションモデルによって定義される誘電率に基づいて算出する。そして、算出された電位差ΔVa1が、浮遊粒子aと電荷面Bとの間の距離から定まる放電開始電圧(たとえばパッシェン電圧)を上回るか否かを判定する。   For example, as a discharge phenomenon to be analyzed as a main analysis target, for the suspended particle a belonging to the belonging region A, the discharge a1 between the suspended particle a and the charge surface B on the side to which the suspended particle a does not belong is analyzed. In “analyzing the discharge a1 between the floating particle a and the charge surface B”, for example, first, the difference between the electric potential of the charge surface B of the mesh-divided simulation model and the electric potential of the floating particle a (potential difference ΔVa1). Is calculated based on a predetermined charge amount before discharge and a dielectric constant defined by a simulation model. Then, it is determined whether or not the calculated potential difference ΔVa1 exceeds a discharge start voltage (for example, Paschen voltage) determined from the distance between the suspended particle a and the charge surface B.

同様にして、主たる解析対象の放電現象として、帰属領域bに属する浮遊粒子bに関しては、浮遊粒子bと、浮遊粒子bが属しない側の電荷面Aとの間の放電b1を解析する。「浮遊粒子bと電荷面Aとの間の放電b1を解析する」に当たっては、たとえば、先ず、メッシュ分割されたシミュレーションモデルの電荷面Aの電位と浮遊粒子bに関しての電位の差(電位差ΔVb1)を、予め定められた放電前の電荷量およびシミュレーションモデルによって定義される誘電率に基づいて算出する。そして、算出された電位差ΔVb1が、浮遊粒子bと電荷面Aとの間の距離から定まる放電開始電圧(たとえばパッシェン電圧)を上回るか否かを判定する。   Similarly, for the suspended particle b belonging to the attribution region b, the discharge b1 between the suspended particle b and the charge surface A on the side to which the suspended particle b does not belong is analyzed as a main analysis target discharge phenomenon. In “analyzing the discharge b1 between the floating particle b and the charge surface A”, for example, first, the difference between the electric potential of the charge surface A of the mesh-divided simulation model and the electric potential of the floating particle b (potential difference ΔVb1). Is calculated based on a predetermined charge amount before discharge and a dielectric constant defined by a simulation model. Then, it is determined whether or not the calculated potential difference ΔVb1 exceeds a discharge start voltage (for example, Paschen voltage) determined from the distance between the suspended particle b and the charge surface A.

また、従たる解析対象の放電現象として、帰属領域Aに属する浮遊粒子aに関しては、浮遊粒子aと、浮遊粒子aが属する側の電荷面Aとの間の放電a2を解析する。「浮遊粒子aと電荷面Aとの間の放電a2を解析する」に当たっては、「浮遊粒子aと電荷面Bとの間の放電a1を解析する」場合と同様にして、電荷面Aの電位と浮遊粒子aに関しての電位の差(電位差ΔVa2)を、予め定められた放電前の電荷量およびシミュレーションモデルによって定義される誘電率に基づいて算出する。そして、算出された電位差ΔVa2が、浮遊粒子aと電荷面Aとの間の距離から定まる放電開始電圧(たとえばパッシェン電圧)を上回るか否かを判定する。   As a discharge phenomenon to be analyzed, with respect to the suspended particles a belonging to the belonging region A, the discharge a2 between the suspended particles a and the charge surface A to which the suspended particles a belong is analyzed. In “analyzing the discharge a2 between the floating particle a and the charge surface A”, the potential of the charge surface A is similar to the case of “analyzing the discharge a1 between the floating particle a and the charge surface B”. The potential difference (potential difference ΔVa2) with respect to the floating particles a is calculated based on a predetermined charge amount before discharge and a dielectric constant defined by a simulation model. Then, it is determined whether or not the calculated potential difference ΔVa2 exceeds a discharge start voltage (for example, Paschen voltage) determined from the distance between the suspended particle a and the charge surface A.

同様にして、従たる解析対象の放電現象として、帰属領域Bに属する浮遊粒子bに関しては、浮遊粒子bと、浮遊粒子bが属する側の電荷面Bとの間の放電b2を解析する。「浮遊粒子bと電荷面Bとの間の放電b2を解析する」に当たっては、「浮遊粒子bと電荷面Aとの間の放電b1を解析する」場合と同様にして、電荷面Bの電位と浮遊粒子bに関しての電位の差(電位差ΔVb2)を、予め定められた放電前の電荷量およびシミュレーションモデルによって定義される誘電率に基づいて算出する。そして、算出された電位差ΔVb2が、浮遊粒子bと電荷面Bとの間の距離から定まる放電開始電圧(たとえばパッシェン電圧)を上回るか否かを判定する。   Similarly, for the suspended particles b belonging to the belonging region B, the discharge b2 between the suspended particles b and the charge surface B to which the suspended particles b belong is analyzed as a discharge phenomenon to be analyzed. In “analyzing the discharge b2 between the floating particle b and the charge surface B”, the potential of the charge surface B is the same as in the case of “analyzing the discharge b1 between the floating particle b and the charge surface A”. The potential difference (potential difference ΔVb2) between the floating particle b and the floating particle b is calculated based on a predetermined charge amount before discharge and a dielectric constant defined by a simulation model. Then, it is determined whether or not the calculated potential difference ΔVb2 exceeds a discharge start voltage (for example, Paschen voltage) determined from the distance between the suspended particle b and the charge surface B.

図示しないが、一方の浮遊粒子と他方の浮遊粒子との間の放電を解析するに当たっては、一方の浮遊粒子に関しての電位と他方の浮遊粒子に関しての電位との差(電位差ΔVc2)を、予め定められた放電前の電荷量およびシミュレーションモデルによって定義される誘電率に基づいて算出する。そして、算出された電位差ΔVc2が、浮遊粒子bと電荷面Bとの間の距離から定まる放電開始電圧(たとえばパッシェン電圧)を上回るか否かを判定する。   Although not shown, in analyzing the discharge between one suspended particle and the other suspended particle, a difference (potential difference ΔVc2) between the potential of one suspended particle and the potential of the other suspended particle is determined in advance. Calculation is based on the amount of charge before discharge and the dielectric constant defined by the simulation model. Then, it is determined whether or not the calculated potential difference ΔVc2 exceeds a discharge start voltage (for example, Paschen voltage) determined from the distance between the suspended particle b and the charge surface B.

電荷面A,B同士の放電解析や、電荷面A,Bに堆積している堆積粒子についての放電解析は、たとえば、特許文献1に記載されている仕組みなど、公知の解析手法を同様に適用してよい。   For the discharge analysis between the charge surfaces A and B and the discharge analysis for the deposited particles deposited on the charge surfaces A and B, for example, a well-known analysis method such as the mechanism described in Patent Document 1 is similarly applied. You can do it.

以下、具体的に説明する。なお、以下では、特に特許文献1に記載の仕組みと異なる放電解析部440における放電解析処理(特に放電探索節点の付与の仕方)について着目し、その他の誘電率解析部422、電荷解析部424、電荷移動解析部426、運動解析部460、電荷移動解析部470についての詳細説明は割愛する。   This will be specifically described below. In the following, the discharge analysis process (especially how to provide a discharge search node) in the discharge analysis unit 440 different from the mechanism described in Patent Document 1 will be noted, and the other dielectric constant analysis unit 422, charge analysis unit 424, Detailed descriptions of the charge transfer analysis unit 426, the motion analysis unit 460, and the charge transfer analysis unit 470 are omitted.

<放電解析処理:第1実施形態>
図5は、第1実施形態の放電解析処理を説明する図である。
<Discharge Analysis Processing: First Embodiment>
FIG. 5 is a diagram for explaining the discharge analysis process of the first embodiment.

第1実施形態の放電解析処理は、前述の放電解析処理の基本を踏まえた上で、さらに、分割線を何処に設定するかという点において、対向する2つの境界(電荷面)の幾何学的な中間位置を領域境界610(2次元で考えるときは分割線、3次元で考えるときは分割面)として用いる点に特徴がある。また、対向面間に浮遊している堆積していない粒子と、その粒子が属さない側の電荷面との間での放電解析を行なう点に特徴がある。この考え方は、空間的な中間位置は、電気的な中間位置(放電節点対間の電位の中点)と一致しているとみなした処理である。図5は、理解を容易にするため2次元で示している。   The discharge analysis process of the first embodiment is based on the basics of the above-described discharge analysis process, and further, in terms of where the dividing line is set, the geometrical relationship between two opposing boundaries (charge planes). This method is characterized in that an intermediate position is used as a region boundary 610 (a dividing line when considered in two dimensions, a dividing surface when considered in three dimensions). Another feature is that a discharge analysis is performed between the non-deposited particles floating between the opposing surfaces and the charge surface to which the particles do not belong. This concept is processing in which the spatial intermediate position is regarded as being coincident with the electrical intermediate position (the midpoint of the potential between the discharge node pair). FIG. 5 is shown in two dimensions for ease of understanding.

たとえば、感光体10と中間転写ベルト58が対向している一次転写領域での解析に着目する。この場合、感光体10と中間転写ベルト58が、対向する電荷面に対応し、感光体10側の電荷面を電荷面602、中間転写ベルト58側の電荷面を電荷面604とする。この事例は、中間転写方式を採らない画像形成装置1における、感光体10と用紙が対向している転写領域での解析に着目することと等価である。この場合、感光体10と用紙が、対向する電荷面に対応し、感光体10側の電荷面を電荷面602、用紙側の電荷面を電荷面604とすればよい。また、一次転写領域での解析に限らず、二次転写装置50bにて形成される二次転写領域での解析の場合でもよい。この場合、中間転写ベルト58と用紙が、対向する電荷面に対応し、中間転写ベルト58側の電荷面を電荷面602、用紙側の電荷面を電荷面604とすればよい。   For example, attention is paid to the analysis in the primary transfer region where the photoconductor 10 and the intermediate transfer belt 58 face each other. In this case, the photoconductor 10 and the intermediate transfer belt 58 correspond to the opposite charge surfaces, the charge surface on the photoconductor 10 side is the charge surface 602, and the charge surface on the intermediate transfer belt 58 side is the charge surface 604. This case is equivalent to paying attention to the analysis in the transfer region where the photoreceptor 10 and the sheet face each other in the image forming apparatus 1 that does not employ the intermediate transfer method. In this case, the photoconductor 10 and the paper correspond to the opposite charge surfaces, the charge surface on the photoconductor 10 side may be the charge surface 602, and the charge surface on the paper side may be the charge surface 604. Further, the analysis is not limited to the analysis in the primary transfer area, but may be the case in the analysis in the secondary transfer area formed by the secondary transfer apparatus 50b. In this case, the intermediate transfer belt 58 and the paper correspond to the opposite charge surfaces, the charge surface on the intermediate transfer belt 58 side may be the charge surface 602, and the charge surface on the paper side may be the charge surface 604.

電荷面上にトナー粒子が堆積しているシミュレーションを行なう場合、トナー粒子が堆積している部分では、電荷面上の節点に代えて、トナー粒子の最表層部分に位置する節点を放電検索節点とする。加えて、堆積している状態ではなく、両電荷面602,604に挟まれた空間中に浮遊しているトナー粒子についても、そのトナー粒子が領域境界610を境に、電荷面602側と電荷面604側のどちらの領域に属するかに応じてそのトナー粒子に放電検索節点を設定し、電荷面602,604との間の放電解析も行なうようにする。   When performing a simulation in which toner particles are deposited on the charge surface, in a portion where the toner particles are deposited, a node located on the outermost layer portion of the toner particle is used as a discharge search node instead of a node on the charge surface. To do. In addition, toner particles floating in a space sandwiched between both charge surfaces 602 and 604, not in the accumulated state, are also charged with the charge surface 602 side from the region boundary 610. A discharge search node is set for the toner particle according to which region on the surface 604 side belongs, and a discharge analysis between the charge surfaces 602 and 604 is also performed.

以下では、堆積している状態のトナー粒子を堆積粒子、浮遊している状態(堆積していない状態)のトナー粒子を浮遊粒子と称する。トナー粒子は球と仮定して図面中では円で表示する。   Hereinafter, the toner particles in a deposited state are referred to as deposited particles, and the toner particles in a suspended state (not deposited) are referred to as suspended particles. The toner particles are assumed to be spheres and are displayed as circles in the drawing.

[堆積粒子について]
堆積粒子に対しては、特許文献1の段落69〜71と同様の方法で放電検索節点を抽出する。たとえば、対向面間放電抽出部442は、次のような処理を行なう。
[About sediment particles]
For deposited particles, discharge search nodes are extracted by the same method as in paragraphs 69 to 71 of Patent Document 1. For example, the counter-surface discharge extraction unit 442 performs the following processing.

1)電荷面上の全ての節点は放電検索節点として登録する。   1) All nodes on the charge surface are registered as discharge search nodes.

2)電荷面602,604に堆積したトナー粒子の内で表面に位置するトナー粒子を抽出する。たとえば、図中において、黒丸で示すトナー粒子は、感光体10側に堆積しているものを示す。白丸で示すトナー粒子は、電荷面604側に堆積しているものを示す。梨地で示すトナー粒子とハッチングで示すトナー粒子は浮遊粒子である。感光体10側に堆積しているトナー粒子(黒丸)の放電面は電荷面602となり、中間転写ベルト58側に堆積しているトナー粒子(白丸)の放電面は電荷面604となる。   2) Toner particles located on the surface among the toner particles deposited on the charge surfaces 602 and 604 are extracted. For example, in the figure, toner particles indicated by black circles are those deposited on the photoreceptor 10 side. Toner particles indicated by white circles are those deposited on the charge surface 604 side. The toner particles indicated by satin and the toner particles indicated by hatching are floating particles. The discharge surface of toner particles (black circles) deposited on the photoreceptor 10 side becomes a charge surface 602, and the discharge surface of toner particles (white circles) deposited on the intermediate transfer belt 58 side becomes a charge surface 604.

3)各トナー粒子の表面の節点の内で、電荷面602,604から最も離れた位置に最も近接した節点をトナー節点として抽出する。そして、抽出されたトナー節点を放電検索節点として追加する。   3) Of the nodes on the surface of each toner particle, the node closest to the position farthest from the charge surfaces 602 and 604 is extracted as a toner node. Then, the extracted toner node is added as a discharge search node.

[浮遊粒子について]
浮遊粒子に対しては、次のような方法で放電検索節点を抽出する。たとえば、対向面間放電抽出部442は、次のような処理を行なう。
[About suspended particles]
For suspended particles, discharge search nodes are extracted by the following method. For example, the counter-surface discharge extraction unit 442 performs the following processing.

1)浮遊粒子に対して、電荷面602と電荷面604のどちらに属するかを検討するために、境界設定部430は、電荷面602,604の幾何学的な中間位置に領域境界610の一例としての第1空間的放電分割線612を設定する。電荷面602,604の幾何学的な中間位置に第1空間的放電分割線612を設定すればよく、距離計算だけで第1空間的放電分割線612が求まるので、その設定が簡易であり、本実施形態を適用しない領域境界610の設定手法よりも計算時間が短縮される。   1) In order to examine whether the charge particle 602 or the charge surface 604 belongs to the suspended particle, the boundary setting unit 430 is an example of the region boundary 610 at a geometric intermediate position between the charge surfaces 602 and 604. The first spatial discharge dividing line 612 is set. It is only necessary to set the first spatial discharge dividing line 612 at a geometric intermediate position between the charge surfaces 602 and 604. Since the first spatial discharge dividing line 612 can be obtained only by distance calculation, the setting is simple. The calculation time is shortened compared with the setting method of the region boundary 610 to which this embodiment is not applied.

2)対向面間放電抽出部442は、境界設定部430により設定された第1空間的放電分割線612の情報を使って、浮遊粒子の中心座標が、第1空間的放電分割線612を基準に、電荷面602と電荷面604のどちらに近いかで、浮遊粒子の属する放電面を決定する。具体的には、第1空間的放電分割線612よりも浮遊粒子の中心が電荷面602側の粒子の放電面は電荷面602であり、第1空間的放電分割線612よりも浮遊粒子の中心が電荷面604側の粒子の放電面は電荷面604である。   2) The inter-surface discharge extraction unit 442 uses the information of the first spatial discharge dividing line 612 set by the boundary setting unit 430, and the center coordinates of the suspended particles are based on the first spatial discharge dividing line 612. In addition, the discharge surface to which the suspended particles belong is determined depending on which of the charge surface 602 and the charge surface 604 is closer. Specifically, the center of the suspended particle from the first spatial discharge dividing line 612 is the charge surface 602 and the discharge surface of the particle on the charge surface 602 side is the center of the suspended particle from the first spatial discharge dividing line 612. The discharge surface of the particle on the charge surface 604 side is the charge surface 604.

3)対向面間放電抽出部442は、特許文献1の段落69〜70に準じて、浮遊粒子を含む各粒子表面の節点の内で、属する側の電荷面602,604から最も離れた位置に最も近接した節点を粒子節点として抽出し、抽出された粒子節点を放電検索節点として追加する。対象の浮遊粒子に複数の節点が存在する場合でも、表面に近い側の(つまり粒子の表層部分に位置する)節点で、かつ、浮遊粒子が属する側とは反対側の電荷面602,604に近接した節点が電位差算出の対象となる放電検索節点として抽出される。   3) According to paragraphs 69 to 70 of Patent Document 1, the inter-surface discharge extracting unit 442 is located at a position farthest from the charge surfaces 602 and 604 on the side to which it belongs, among the nodes on the surface of each particle including suspended particles. The closest node is extracted as a particle node, and the extracted particle node is added as a discharge search node. Even when there are a plurality of nodes on the target suspended particles, the nodes on the side close to the surface (that is, located on the surface layer portion of the particles) and on the opposite side of the surface to which the suspended particles belong are charged surfaces 602 and 604. Adjacent nodes are extracted as discharge search nodes for potential difference calculation.

この結果、電荷面602,604上の節点に対する法線(メッシュ線)と浮遊粒子との領域境界610(第1空間的放電分割線612)側の交点に最も近い浮遊粒子に属する節点が電荷面602,604上の節点の代わりに放電候補節点とされる。これにより、電荷面602,604上に堆積していない浮遊粒子も放電計算の対象となる。   As a result, the node belonging to the floating particle closest to the intersection on the region boundary 610 (first spatial discharge dividing line 612) between the normal (mesh line) to the node on the charge surfaces 602 and 604 and the suspended particle is the charge surface. Instead of the nodes on 602 and 604, discharge candidate nodes are used. As a result, suspended particles not deposited on the charge surfaces 602 and 604 are also subject to discharge calculation.

[その他]
1)堆積粒子に覆われた電荷面602,604上の節点は放電検索節点から除外する。
2)以上のようにして抽出した放電検索節点に基づき、放電節点対を抽出する。
[Others]
1) Nodes on the charge surfaces 602 and 604 covered with deposited particles are excluded from discharge search nodes.
2) A discharge node pair is extracted based on the discharge search nodes extracted as described above.

3)そして、浮遊粒子に関して設定された放電探索節点と、その浮遊粒子が属さない側の電荷面に属する放電探索節点との間での放電解析を行なう。たとえば、浮遊粒子の電荷面602側の領域に属する放電探索節点に関しては、電荷面604側の領域に属する放電探索節点(電荷面604に設定される放電探索節点やその電荷面604に堆積される堆積粒子に関して設定される放電探索節点)との間での放電現象を解析する。また、浮遊粒子の電荷面604側の領域に属する放電探索節点に関しては、電荷面602側の領域に属する放電探索節点(電荷面602に設定される放電探索節点やその電荷面602に堆積される堆積粒子に関して設定される放電探索節点)との間での放電現象を解析する。   3) Then, a discharge analysis is performed between the discharge search node set for the suspended particle and the discharge search node belonging to the charge surface to which the suspended particle does not belong. For example, regarding the discharge search node belonging to the region on the charge surface 602 side of the suspended particles, the discharge search node belonging to the region on the charge surface 604 side (the discharge search node set on the charge surface 604 or the charge search node 604 is deposited. The discharge phenomenon is analyzed with respect to the discharge search node set for the deposited particles. In addition, regarding the discharge search node belonging to the region on the charge surface 604 side of the suspended particles, the discharge search node belonging to the region on the charge surface 602 side (the discharge search node set on the charge surface 602 or the charge search node 602 is deposited. The discharge phenomenon is analyzed with respect to the discharge search node set for the deposited particles.

なお、放電解析の手法そのものは特許文献1と同様でよい。ここでは、その詳細説明を割愛する。   Note that the method of the discharge analysis itself may be the same as that of Patent Document 1. Here, the detailed explanation is omitted.

<放電解析処理:第2実施形態>
図6は、第2実施形態の放電解析処理を説明する図である。ここで、図6(1)は、第1・第2実施形態の対比を説明する図であり、図6(2)は、第2実施形態の手法の詳細を説明する図である。
<Discharge Analysis Processing: Second Embodiment>
FIG. 6 is a diagram for explaining the discharge analysis process of the second embodiment. Here, FIG. 6 (1) is a diagram for explaining the comparison between the first and second embodiments, and FIG. 6 (2) is a diagram for explaining the details of the technique of the second embodiment.

第2実施形態の放電解析処理は、前述の放電解析処理の基本を踏まえた上で、さらに、分割線を何処に設定するかという点において、対向する2つの境界(電荷面)だけでなく堆積粒子の分も加味した幾何学的な中間位置を領域境界610として用いる点に特徴がある。電荷面602,602上に堆積粒子が存在することによる、実質的な電荷面の変動分を考慮する趣旨である。また、第1実施形態と同様に、対向面間に浮遊している堆積していない粒子と、その粒子が属さない側の電荷面との間での放電解析を行なう点に特徴がある。図6(1)も、理解を容易にするため2次元で示している。   The discharge analysis process according to the second embodiment is based on the basics of the above-described discharge analysis process, and in addition to depositing not only two opposing boundaries (charge planes), but also where to set the dividing line. A feature is that a geometrical intermediate position including the amount of particles is used as the region boundary 610. This is intended to take into account the substantial fluctuation of the charge surface due to the presence of deposited particles on the charge surfaces 602 and 602. Further, as in the first embodiment, there is a feature in that a discharge analysis is performed between a non-deposited particle floating between opposed surfaces and a charge surface to which the particle does not belong. FIG. 6A is also shown in two dimensions for easy understanding.

「堆積粒子の分も加味」とは、堆積粒子が存在する場所では、電荷面の位置を堆積粒子の表面位置に置き換えて領域境界610を求めることを意味する。この考え方も、第1実施形態と同様に、空間的な中間位置は、電気的な中間位置と一致しているとみなした処理である。   “In consideration of the amount of deposited particles” means that the region boundary 610 is obtained by replacing the position of the charge surface with the surface position of the deposited particles where the deposited particles exist. Similar to the first embodiment, this concept is a process in which the spatial intermediate position is regarded as coincident with the electrical intermediate position.

図6(1)に示すように、電荷面604側に堆積粒子が存在しており、図中の堆積粒子表面線622は、その堆積粒子の最も外側(電荷面602側)の表面の概略位置を示している。このとき、第1実施形態のようにして第1空間的放電分割線612を設定する手法を適用すると、第1空間的放電分割線612が設定される。その手法は、第1空間的放電分割線612の設定が簡易であるものの、図6(1)に示すように、堆積粒子が第1空間的放電分割線612を越える場合、堆積粒子および粒子Dに対する放電計算の正確性が失われてしまう。   As shown in FIG. 6 (1), deposited particles are present on the charge surface 604 side, and the deposited particle surface line 622 in the figure is the approximate position of the outermost surface (charge surface 602 side) of the deposited particles. Is shown. At this time, when the method of setting the first spatial discharge dividing line 612 is applied as in the first embodiment, the first spatial discharge dividing line 612 is set. In this method, although the setting of the first spatial discharge dividing line 612 is simple, as shown in FIG. 6A, when the deposited particles exceed the first spatial discharge dividing line 612, the deposited particles and the particles D The accuracy of the discharge calculation for is lost.

そこで、第2実施形態では、堆積粒子が存在する場所では、電荷面の位置を堆積粒子の表面位置に置き換えて領域境界610を求めることで、この問題点を解消する。たとえば、対向面間放電抽出部442は、次のような処理を行なう。   Therefore, in the second embodiment, in the place where the deposited particles exist, this problem is solved by obtaining the region boundary 610 by replacing the position of the charge surface with the surface position of the deposited particles. For example, the counter-surface discharge extraction unit 442 performs the following processing.

1)堆積している粒子に対しては、第1実施形態と同様の方法で放電検索節点を抽出する。   1) For the deposited particles, a discharge search node is extracted by the same method as in the first embodiment.

2)電荷面604に対する法線624を電荷面602の方向へ引き、各法線624に最も近い電荷面602,604に属する放電検索節点をそれぞれ抽出する。この2つの放電検索節点を放電節点対と呼ぶ。因みに、メッシュ分割する際の線(メッシュ線、要素境界)と法線624は独立である(図6(2)参照)。また、法線624と電荷面602,604の交点に最も近い節点が放電検索節点となる。また、法線624と粒子表面の交点がある場合はこれに最も近い節点を放電検索節点とする。   2) A normal line 624 with respect to the charge surface 604 is drawn in the direction of the charge surface 602, and discharge search nodes belonging to the charge surfaces 602 and 604 closest to each normal line 624 are extracted. These two discharge search nodes are called discharge node pairs. Incidentally, the line (mesh line, element boundary) and the normal line 624 when dividing the mesh are independent (see FIG. 6B). The node closest to the intersection of the normal line 624 and the charge surfaces 602 and 604 is the discharge search node. If there is an intersection between the normal line 624 and the particle surface, the node closest to this is set as the discharge search node.

3)その後に、放電節点対間の距離の中点を求めることで、第1空間的放電分割線612を設定する。つまり、電荷面602に属する放電検索節点と電荷面604に属する放電検索節点との間の幾何学的な中間位置に、堆積粒子の影響を加味した第2空間的放電分割線614を設定する。   3) Thereafter, the first spatial discharge dividing line 612 is set by obtaining the midpoint of the distance between the discharge node pairs. In other words, the second spatial discharge dividing line 614 taking into account the effect of the deposited particles is set at a geometric intermediate position between the discharge search node belonging to the charge surface 602 and the discharge search node belonging to the charge surface 604.

「面に属する放電検索節点」と記載したのは、「堆積粒子の分も加味」するため、電荷面602,604上の放電検索節点だけでなく、堆積粒子について特定された放電検索節点も対象とすることに基づいている。   “Discharge search nodes belonging to the surface” is described in order to “include the amount of deposited particles”, so that not only the discharge search nodes on the charge surfaces 602 and 604 but also the discharge search nodes specified for the deposited particles are targeted. And is based on that.

図6(1)の例であれば、電荷面602と堆積粒子表面線622との幾何学的な中間位置に第2空間的放電分割線614が設定されることになり、発生し得る堆積粒子に対する放電計算の精度が第1実施形態の手法よりも向上する。   In the example of FIG. 6A, the second spatial discharge dividing line 614 is set at a geometric intermediate position between the charge surface 602 and the deposited particle surface line 622, and the generated deposited particles can be generated. The accuracy of the discharge calculation with respect to is improved compared to the method of the first embodiment.

図6(2)を参照して、2)〜3)について詳細に説明する。   2) to 3) will be described in detail with reference to FIG.

[法線の引き方のルール]
メッシュ線と法線624は独立であり、たとえば図6(2)に示すように、節点間隔よりも十分小さい間隔で電荷面604に対して垂直に引く。この垂線を法線624とする。
[Rules for drawing normals]
The mesh line and the normal line 624 are independent, and for example, as shown in FIG. This perpendicular is defined as a normal 624.

[放電検索節点の抽出]
1)法線624A:電荷面602側の堆積粒子(たとえば図中のA)に着目した法線624を法線624Aと記す。境界設定部430は、電荷面602側にて最も電荷面604側に近い堆積粒子(トナー粒子)との交点(図中小黒丸)を求める。次に、求めた交点に最も近い節点を調べる。図の例では、小黒丸の右にある星a1が選択される。そして、この法線624Aに関する電荷面604に属する放電探索節点として、図中の星a2が選択される。結果、法線624Aに関しては、電荷面602に属する放電検索節点が星a1であり、電荷面604に属する放電検索節点が星a2であり、2つの放電検索節点a1,a2が法線624Aに関しての放電節点対aとなる。
[Discharge search node extraction]
1) Normal 624A: A normal 624 focused on the deposited particles on the charge surface 602 side (for example, A in the figure) is referred to as a normal 624A. The boundary setting unit 430 obtains an intersection (small black circle in the figure) with the deposited particle (toner particle) closest to the charge surface 604 side on the charge surface 602 side. Next, the node closest to the obtained intersection is examined. In the illustrated example, the star a1 on the right of the small black circle is selected. Then, the star a2 in the figure is selected as the discharge search node belonging to the charge surface 604 with respect to the normal 624A. As a result, for the normal 624A, the discharge search node belonging to the charge surface 602 is the star a1, the discharge search node belonging to the charge surface 604 is the star a2, and the two discharge search nodes a1 and a2 are related to the normal 624A. It becomes discharge node pair a.

2)法線624B:電荷面604側の堆積粒子(たとえば図中のB)に着目した法線624を法線624Bと記す。境界設定部430は、電荷面604側にて最も電荷面602側に近い堆積粒子(トナー粒子)との交点(図中小黒丸)を求める。次に、求めた交点に最も近い節点を調べる。図の例では、小黒丸の右下にある星b1が選択される。そして、この法線624Bに関する電荷面602に属する放電探索節点として、図中の三角b2が選択される。結果、法線624Bに関しては、電荷面604に属する放電検索節点が星b1であり、電荷面602に属する放電検索節点が三角b2であり、2つの放電検索節点b1,b2が法線624Bに関しての放電節点対bとなる。   2) Normal line 624B: A normal line 624 focusing on deposited particles on the charge surface 604 side (for example, B in the figure) is referred to as a normal line 624B. The boundary setting unit 430 obtains an intersection (small black circle in the figure) with the deposited particle (toner particle) closest to the charge surface 602 side on the charge surface 604 side. Next, the node closest to the obtained intersection is examined. In the example in the figure, the star b1 at the lower right of the small black circle is selected. Then, the triangle b2 in the figure is selected as the discharge search node belonging to the charge surface 602 with respect to the normal line 624B. As a result, regarding the normal 624B, the discharge search node belonging to the charge surface 604 is the star b1, the discharge search node belonging to the charge surface 602 is the triangle b2, and the two discharge search nodes b1 and b2 are related to the normal 624B. It becomes a discharge node pair b.

3)境界設定部430は、1)や2)のような処理を他の位置の法線624に関しても同様にして行なうことで、各法線624に関しての放電節点対を特定する。   3) The boundary setting unit 430 identifies the discharge node pair for each normal 624 by performing the same processing as 1) and 2) for the normal 624 at other positions in the same manner.

4)境界設定部430は、各放電節点対の幾何学的な中間位置を幾何学的放電分割点とする。たとえば、法線624Aに関しては点a3が幾何学的放電分割点であり、法線624Bに関しては点b3が幾何学的放電分割点である。境界設定部430は、複数の法線624から得られた各幾何学的放電分割点を連結することで、第2空間的放電分割線614を特定する。   4) The boundary setting unit 430 sets a geometric intermediate position of each discharge node pair as a geometric discharge division point. For example, for the normal 624A, the point a3 is a geometric discharge division point, and for the normal 624B, the point b3 is a geometric discharge division point. The boundary setting unit 430 identifies the second spatial discharge dividing line 614 by connecting the geometric discharge dividing points obtained from the plurality of normal lines 624.

5)以下、第1実施形態と同様である。   5) Hereinafter, the same as in the first embodiment.

<放電解析処理:第3実施形態>
図7〜図7Aは、第3実施形態の放電解析処理を説明する図である。
<Discharge Analysis Processing: Third Embodiment>
7 to 7A are diagrams for explaining the discharge analysis processing of the third embodiment.

第3実施形態の放電解析処理は、前述の放電解析処理の基本を踏まえた上で、さらに、分割線を何処に設定するかという点において、電気的な中間位置を領域境界610として用いる点に特徴がある。また、第1・第2実施形態と同様に、対向面間に浮遊している堆積していない粒子と、その粒子が属さない側の電荷面との間での放電解析を行なう点に特徴がある。第3実施形態は、空間的な中間位置が、電気的な中間位置と一致しない場合への対処の事例である。以下では、第2実施形態をベースに説明するが、第1実施形態に対しても同様の手法を適用し得る。   The discharge analysis process according to the third embodiment is based on the basics of the above-described discharge analysis process, and further uses an electrical intermediate position as the region boundary 610 in terms of where to set the dividing line. There are features. Further, as in the first and second embodiments, a feature is that a discharge analysis is performed between a non-deposited particle floating between opposing surfaces and a charge surface on the side to which the particle does not belong. is there. The third embodiment is an example of dealing with a case where the spatial intermediate position does not coincide with the electrical intermediate position. The following description is based on the second embodiment, but the same technique can be applied to the first embodiment.

たとえば、第1・第2実施形態では、空間的な中間位置が電気的な中間位置と一致しているとみなして、空間的な中間位置に基づいて領域境界610を設定していた。しかしながら、たとえば、堆積していない電荷を持った粒子(浮遊粒子)が放電節点対の間に存在する場合や、電荷面602,604上の電荷分布が一様でない場合には、図7(1)に示すように、放電節点対間の電位勾配が一定ではなくなる。この場合、空間的な中間位置と電気的な中間位置は一致しなくなり、放電計算の精度が低下する。   For example, in the first and second embodiments, the region boundary 610 is set based on the spatial intermediate position on the assumption that the spatial intermediate position coincides with the electrical intermediate position. However, for example, when uncharged particles having a charge (floating particles) exist between the discharge node pairs or when the charge distribution on the charge surfaces 602 and 604 is not uniform, FIG. ), The potential gradient between the discharge node pairs is not constant. In this case, the spatial intermediate position and the electrical intermediate position do not coincide with each other, and the accuracy of the discharge calculation is lowered.

そこで、第3実施形態では、電気的な中間位置を実際に特定することで、この問題点を解消する。たとえば、対向面間放電抽出部442は、次のような処理を行なう。   Therefore, in the third embodiment, this problem is solved by actually specifying the electrical intermediate position. For example, the counter-surface discharge extraction unit 442 performs the following processing.

1)先ず、第2実施形態における1)〜3)に従って、各法線624に関しての放電節点対を特定する。   1) First, according to 1) to 3) in the second embodiment, a discharge node pair for each normal 624 is specified.

2)次に、着目する放電節点対に関して、放電節点対間の電位の状況を特定する。たとえば、本実施形態で適用している有限要素法では、たとえば、特許文献1と同様に、電位は節点の値として定義されるので、放電節点対間のメッシュ線の各交点(節点)の電位から電位カーブを特定すればよい。すなわち、第2実施形態を適用して特定される電荷面602に属する放電探索節点と電荷面604に属する放電探索節点はメッシュ線上に存在し、両放電探索節点間の各節点の電位そのものから、放電節点対間の電位カーブを特定する。そして、両放電探索節点の電位(VaとVb:Va>Vb)の中点電位((Va+Vb)/2)となる点を電気的な中間位置にすればよい。   2) Next, regarding the discharge node pair of interest, the state of the potential between the discharge node pairs is specified. For example, in the finite element method applied in the present embodiment, since the potential is defined as the value of a node, for example, as in Patent Document 1, the potential of each intersection (node) of the mesh line between the discharge node pairs is defined. What is necessary is just to specify an electric potential curve from. That is, the discharge search node belonging to the charge surface 602 specified by applying the second embodiment and the discharge search node belonging to the charge surface 604 exist on the mesh line, and from the potential of each node between both discharge search nodes, The potential curve between the discharge node pairs is specified. Then, a point that is the midpoint potential ((Va + Vb) / 2) of the potentials of both discharge search nodes (Va and Vb: Va> Vb) may be set to an electrical intermediate position.

3)境界設定部430は、2)のような処理を他の位置の放電節点対に関しても同様にして行なうことで、各放電節点対に関しての電気的な中間位置を特定する。   3) The boundary setting unit 430 specifies the electrical intermediate position for each discharge node pair by performing the process of 2) in the same manner for the discharge node pairs at other positions.

4)境界設定部430は、複数の放電節点対に関して得られた各電気的な中間位置を連結することで、電気的放電分割線616を特定する(図7(2)を参照)。   4) The boundary setting unit 430 identifies the electrical discharge dividing line 616 by connecting the electrical intermediate positions obtained for the plurality of discharge node pairs (see FIG. 7B).

5)以下、第1・第2実施形態と同様である。   5) The following is the same as in the first and second embodiments.

なお、図7(3)に示すように、放電節点対間の電位変化の状況(電位カーブ)が単調変化(単調増加や単調減少)でない場合にも放電解析を行なうことは、好ましい解析結果にならない(実態に即さない)ということが分かった。よって、対向面間放電抽出部442は、解析対象としている放電探索対間の電位カーブが単調増加や単調減少でない場合には、放電解析の対象から除外する(放電させない)。第1・第2実施形態の手法では、放電節点対間の電位カーブの状況を特定する手法でないので、このような対処はできない。この点でも、第3実施形態の方が第1・第2実施形態の手法よりも有効な手法であると言える。   As shown in FIG. 7 (3), it is preferable to perform the discharge analysis even when the potential change state (potential curve) between the discharge node pairs is not monotonous (monotonic increase or monotonic decrease). I understood that it was not (does not match the actual situation). Therefore, when the potential curve between the discharge search pairs to be analyzed is not monotonically increasing or monotonically decreasing, the opposed inter-surface discharge extracting unit 442 excludes (does not discharge) the target from the discharge analysis. Since the method of the first and second embodiments is not a method of specifying the state of the potential curve between the discharge node pairs, such a countermeasure cannot be performed. Also in this respect, it can be said that the third embodiment is a more effective technique than the techniques of the first and second embodiments.

図7(2)では、第2実施形態に対する変形例で示しており、堆積粒子の存在(図では電荷面604側)により電荷面604上の電荷分布が一様でないために、放電節点対間の電位勾配が一定でなくなる場合を例示しているが、放電節点対間の電位勾配が一定でなくなる要因はこのような場合に限らない。   FIG. 7 (2) shows a modification to the second embodiment, and the charge distribution on the charge surface 604 is not uniform due to the presence of the deposited particles (on the charge surface 604 side in the figure), so that there is a gap between the discharge node pairs. However, the reason why the potential gradient between the discharge node pairs is not constant is not limited to this case.

たとえば、図7A(1)に示すように、電荷面602,604に堆積粒子が存在しているか否かに関わらず、浮遊粒子が存在することで電位分布(電界分布)が一様にならない。そのため、極端な場合、着目する放電節点対間に浮遊粒子が存在する場合には、その放電節点対間の電位勾配が一定ではなくなる。もちろん、着目する放電節点対間に浮遊粒子が存在しない場合でも、近傍に電荷を持った浮遊粒子が存在する場合には、その浮遊粒子の影響を受けてその放電節点対間の電位勾配が一定ではなくなる。このような場合にも、電荷面602と電荷面604の間の電界に対する、解析対象領域内に浮遊している浮遊粒子Eによる変化分を反映させて電気的放電分割線616を設定する。幾何学的な中間位置を領域境界610(空間的放電分割線612,614)に設定するよりも、電気的な中間位置を領域境界610(電気的放電分割線616)に設定する方が、解析精度が向上する。   For example, as shown in FIG. 7A (1), the potential distribution (electric field distribution) is not uniform due to the presence of floating particles regardless of whether or not the deposited particles are present on the charge surfaces 602 and 604. Therefore, in an extreme case, when floating particles exist between the discharge node pairs of interest, the potential gradient between the discharge node pairs is not constant. Of course, even when there are no suspended particles between the pair of discharge nodes of interest, if there are suspended particles with electric charges nearby, the potential gradient between the discharge node pairs is constant under the influence of the suspended particles. Is not. Even in such a case, the electric discharge dividing line 616 is set by reflecting the change caused by the suspended particles E floating in the analysis target region with respect to the electric field between the charge surface 602 and the charge surface 604. Rather than setting the geometric intermediate position to the region boundary 610 (spatial discharge dividing line 612, 614), setting the electrical intermediate position to the region boundary 610 (electrical discharge dividing line 616) is an analysis. Accuracy is improved.

因みに、非構造格子の場合は、放電節点対間の電位の状況を特定する代わりに、各法線624上の電位の状況を法線周囲の各節点から特定してもよい。この場合、図7A(2)に示すように処理するのがよい。たとえば、同図中の点線を法線624とし、四角を要素とする。法線624上に、節点間隔より十分小さい間隔で、電荷面602側から電荷面604側まで三角点を打つ。   Incidentally, in the case of an unstructured grid, instead of specifying the potential state between the discharge node pairs, the potential state on each normal line 624 may be specified from each node around the normal line. In this case, processing is preferably performed as shown in FIG. 7A (2). For example, a dotted line in the figure is a normal 624 and a square is an element. Triangular points are formed on the normal line 624 from the charge surface 602 side to the charge surface 604 side at an interval sufficiently smaller than the node interval.

そして、それぞれの三角点に対して、最も近い節点の電位を三角点の電位として与える。たとえば、図中の白三角は、最も近い節点である図中○印の電位が与えられる。他の三角点に対しても同様の方法で電位を求め、最も電気的中点に近い三角点を、法線624に関しての電気的な中間位置とする。   Then, for each triangular point, the potential of the nearest node is given as the potential of the triangular point. For example, a white triangle in the figure is given the potential indicated by a circle in the figure, which is the closest node. A potential is obtained by the same method for other triangular points, and a triangular point closest to the electrical middle point is set as an electrical intermediate position with respect to the normal 624.

境界設定部430は、同様のことを、他の位置の法線624に関しても行なうことで、各法線624に関しての電気的な中間位置を特定する。境界設定部430は、複数の法線624に関して得られた各電気的な中間位置を連結することで、電気的放電分割線616を特定する(図7(2)を参照)。   The boundary setting unit 430 specifies the electrical intermediate position with respect to each normal 624 by performing the same with respect to the normals 624 at other positions. The boundary setting unit 430 identifies the electrical discharge dividing line 616 by connecting the electrical intermediate positions obtained with respect to the plurality of normals 624 (see FIG. 7B).

なお、法線624上の電位は、法線624が通過する要素の持つ電位から内挿して求めるとよい。たとえば、三角点を法線624上に打つ。各三角点は必ず要素の中に含まれているので、要素内の三角点の位置から要素の持つ電位を線形補間することで、三角点の位置の電位が求まる。   Note that the potential on the normal line 624 may be obtained by interpolating from the potential of the element through which the normal line 624 passes. For example, a triangular point is hit on the normal 624. Since each triangular point is always included in the element, the potential at the position of the triangular point can be obtained by linearly interpolating the potential of the element from the position of the triangular point in the element.

<放電解析処理:第4実施形態>
図8は、第4実施形態の放電解析処理を説明する図である。
<Discharge Analysis Processing: Fourth Embodiment>
FIG. 8 is a diagram for explaining the discharge analysis process of the fourth embodiment.

第4実施形態の放電解析処理は、前述の放電解析処理の基本を踏まえた上で、さらに、浮遊粒子と、その浮遊粒子が属する側の電荷面602,604との間での放電解析も行なうようにする点に特徴がある。   The discharge analysis process of the fourth embodiment is based on the basics of the above-described discharge analysis process, and further performs a discharge analysis between the suspended particles and the charge surfaces 602 and 604 on the side to which the suspended particles belong. The point is to do.

前述の第1〜第3実施形態の放電解析処理では、対向面間の浮遊粒子と、その浮遊粒子が属さない側の電荷面との間での放電解析を行なうので、浮遊粒子とその粒子が属する側の面との間や浮遊粒子同士での放電解析はなされない。しかしながら、電位差や空間的距離などによっては、このような位置関係でも放電する可能性があるので、放電解析の対象にするのが望まれる。   In the discharge analysis processing of the first to third embodiments described above, since the discharge analysis is performed between the floating particles between the opposing surfaces and the charge surface to which the floating particles do not belong, the floating particles and the particles are Discharge analysis between the surface to which it belongs and between suspended particles is not performed. However, depending on the potential difference, the spatial distance, etc., there is a possibility of discharging even in such a positional relationship.

第4実施形態はこのようなことに対処する事例であり、電荷面602,604に堆積していない浮遊粒子(の表面)と、両側の電荷面602,604の間や浮遊粒子同士での放電解析を行なうものである。すなわち、第4実施形態は、着目する浮遊粒子から、両側の境界、堆積粒子、自身を除く他の浮遊粒子への放電を考慮する仕組みである。浮遊粒子に対して両側の電荷面602,604や他の粒子(堆積粒子や浮遊粒子)への放電をさせることで、第1〜第3実施形態よりも放電計算の精度が向上する。   The fourth embodiment is an example of dealing with such a case, and the discharge between the floating particles (the surface thereof) not deposited on the charge surfaces 602 and 604 and between the charge surfaces 602 and 604 on both sides or between the floating particles. Analyze. In other words, the fourth embodiment is a mechanism that takes into account the discharge from the suspended particles of interest to the boundary on both sides, the deposited particles, and other suspended particles other than itself. By discharging the floating particles to the charge surfaces 602 and 604 on both sides and other particles (deposited particles and floating particles), the accuracy of the discharge calculation is improved as compared with the first to third embodiments.

対向面間放電抽出部442は、基本的な考え方として、浮遊粒子の中心よりも電荷面602側の表層部と電荷面602に属するものとの間での放電解析を行ない、浮遊粒子の中心よりも電荷面604側の表層部と電荷面604に属するものとの間での放電解析を行なうようにする。このため、たとえば、対向面間放電抽出部442は、次のようにして放電検索節点を求める。   As a basic idea, the inter-surface discharge extraction unit 442 performs a discharge analysis between the surface layer portion on the charge surface 602 side of the center of the suspended particles and the one belonging to the charge surface 602, and from the center of the suspended particles. In addition, the discharge analysis is performed between the surface layer portion on the charge surface 604 side and the member belonging to the charge surface 604. For this reason, for example, the inter-surface discharge extracting unit 442 obtains the discharge search node as follows.

1)堆積粒子に関しては、第1実施形態で述べたように、特許文献1の段落69〜71と同様の方法で放電検索節点を抽出する。   1) As for the deposited particles, as described in the first embodiment, discharge search nodes are extracted by the same method as paragraphs 69 to 71 of Patent Document 1.

2)浮遊粒子に関しては、その浮遊粒子内にある節点を全て調べ、それらの内で電荷面602に近い節点を電荷面604に属する放電検索節点として選び、逆に、電荷面604に近い節点を電荷面602に属する放電検索節点として選ぶ。   2) With respect to suspended particles, all nodes in the suspended particles are examined, and nodes close to the charge surface 602 are selected as discharge search nodes belonging to the charge surface 604, and conversely, nodes close to the charge surface 604 are selected. A discharge search node belonging to the charge surface 602 is selected.

このとき、電荷面602,604の何れに近い節点かを簡易的に求めるため、図8に示すような手法を採るとよい。すなわち、浮遊粒子の中心座標を通り、電荷面604と平行な直線を各浮遊粒子に引き、その直線を、その浮遊粒子に関しての粒子分割線618とする。そして、浮遊粒子ごとに、粒子分割線618よりも電荷面602側に近い節点は電荷面604に属しているとし、電荷面604側に近い節点は電荷面602に属しているとする。   At this time, a method as shown in FIG. 8 may be adopted in order to easily determine which node of the charge surfaces 602 and 604 is closest to. That is, a straight line passing through the center coordinates of the suspended particle and parallel to the charge surface 604 is drawn to each suspended particle, and the straight line is defined as a particle dividing line 618 for the suspended particle. For each suspended particle, a node closer to the charge surface 602 side than the particle dividing line 618 belongs to the charge surface 604, and a node closer to the charge surface 604 side belongs to the charge surface 602.

3)そして、電荷面602側に属するとされた放電検索節点(電荷面604に近い表層側の節点)に関しては電荷面604との間での放電計算を行ない、電荷面604側に属するとされた放電検索節点(電荷面602に近い表層側の節点)に関しては電荷面602との間での放電計算を行なう。また、浮遊粒子同士での放電計算を行なうようにしてもよい。   3) With respect to the discharge search node (node on the surface layer side close to the charge surface 604) which is supposed to belong to the charge surface 602 side, the discharge calculation with the charge surface 604 is performed, and the charge search node belongs to the charge surface 604 side. With respect to the discharge search node (node on the surface layer side close to the charge surface 602), the discharge calculation with the charge surface 602 is performed. Moreover, you may make it perform the discharge calculation between floating particles.

このような手法を採ることで、第1〜第3実施形態と同様な考え方で、浮遊粒子の電荷面602側の領域に属する放電探索節点と電荷面604側の領域に属する放電探索節点(電荷面604に設定される放電探索節点やその電荷面604に堆積される堆積粒子に関して設定される放電探索節点)との間での放電現象を解析すると言う手法をそのまま適用してもよくなる。また、浮遊粒子の電荷面604側の領域に属する放電探索節点と電荷面602側の領域に属する放電探索節点(電荷面602に設定される放電探索節点やその電荷面602に堆積される堆積粒子に関して設定される放電探索節点)との間での放電現象を解析すると言う手法をそのまま適用してもよくなる。   By adopting such a method, the discharge search node belonging to the region on the charge surface 602 side of the floating particle and the discharge search node (charge) belonging to the region on the charge surface 604 side in the same way as in the first to third embodiments. The method of analyzing the discharge phenomenon between the discharge search node set on the surface 604 and the discharge search node set for the deposited particles deposited on the charge surface 604 may be applied as it is. Further, the discharge search nodes belonging to the region on the charge surface 604 side of the suspended particles and the discharge search nodes belonging to the region on the charge surface 602 side (discharge search nodes set on the charge surface 602 and deposited particles deposited on the charge surface 602) It is also possible to apply the technique of analyzing the discharge phenomenon with respect to the discharge search node set with respect to the above as it is.

<粒子挙動解析装置;計算機構成>
図9は、粒子挙動解析装置202の他の構成例を示すブロック図である。この構成は、ソフトウェアを実行するマイクロプロセッサなどから構築されるパーソナルコンピュータなどの電子計算機を利用したもので、粒子挙動解析を行なう粒子挙動解析装置202のより現実的なハードウェア構成を示している。
<Particle behavior analyzer; computer configuration>
FIG. 9 is a block diagram illustrating another configuration example of the particle behavior analysis apparatus 202. This configuration uses an electronic computer such as a personal computer constructed from a microprocessor or the like that executes software, and shows a more realistic hardware configuration of the particle behavior analysis apparatus 202 that performs particle behavior analysis.

たとえば、CPU(中央制御部)、読出専用の記憶部であるROM(Read Only Memory)、または随時読出し・書込みが可能なメモリであるRAM(Random Access Memory)などを具備して構成されたコンピュータシステムにおいて、ソフトウェア処理で粒子挙動解析処理を行なうためのシステム構成図である。   For example, a computer system including a CPU (Central Control Unit), a ROM (Read Only Memory) that is a read-only storage unit, or a RAM (Random Access Memory) that is a memory that can be read / written as needed FIG. 3 is a system configuration diagram for performing particle behavior analysis processing by software processing.

すなわち、本実施形態において、粒子の挙動を解析する仕組みは、ハードウェア処理回路により構成することに限らず、その機能を実現するプログラムコードに基づき電子計算機(コンピュータ)を用いてソフトウェア的に実現することも可能である。よって、本実施形態に係る仕組みを、電子計算機(コンピュータ)を用いてソフトウェアで実現するために好適なプログラムあるいはこのプログラムを格納したコンピュータ読取可能な記録媒体(記憶媒体)が発明として抽出される。ソフトウェアにより実行させる仕組みとすることで、既存のコンピュータシステムのハードウェアの変更を伴うことなく、粒子挙動解析の計算処理手順などが容易に変更されることとなる。   That is, in this embodiment, the mechanism for analyzing the behavior of particles is not limited to being configured by a hardware processing circuit, but is realized by software using a computer (computer) based on a program code that realizes the function. It is also possible. Therefore, a program suitable for realizing the mechanism according to the present embodiment by software using an electronic computer (computer) or a computer-readable recording medium (storage medium) storing this program is extracted as an invention. By adopting a mechanism that is executed by software, the calculation process procedure of the particle behavior analysis can be easily changed without changing the hardware of the existing computer system.

一連の粒子挙動解析処理はハードウェアまたはソフトウェアの単独に限らずその両者の複合構成によっても実現され得る。ソフトウェアによる処理を実行する場合、処理手順を示したプログラムを、ハードウェアに組み込まれたコンピュータ内の記憶媒体に組み込んで(インストールして)実行させたり、各種処理が実行可能な汎用の電子計算機にプログラムを組み込んで実行させる。   A series of particle behavior analysis processing can be realized not only by hardware or software alone but also by a combined configuration of both. When executing processing by software, a program showing the processing procedure is installed (installed) in a storage medium in a computer embedded in hardware and executed, or a general-purpose electronic computer capable of executing various types of processing is used. Incorporate and execute the program.

粒子挙動解析処理機能をコンピュータに実行させるプログラムは、たとえば可搬型の記録媒体を通じて配布・提供される。たとえばプログラムは、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory )やFD(フレキシブルディスク)に格納されて配布・提供されてもよい。また、MO(Magneto Optical Disk)ドライブを設け、MOに前記プログラムを格納してもよく、またフラッシュメモリなどの不揮発性の半導体メモリを利用したカード型の記憶媒体など、その他の記録媒体にプログラムを格納して配布・提供してもよい。   A program for causing a computer to execute the particle behavior analysis processing function is distributed and provided through, for example, a portable recording medium. For example, the program may be distributed and provided by being stored on a CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory) or FD (flexible disc). Also, an MO (Magneto Optical Disk) drive may be provided to store the program in the MO, and the program may be stored in another recording medium such as a card-type storage medium using a non-volatile semiconductor memory such as a flash memory. It may be stored and distributed / provided.

ソフトウェアを構成するプログラムは、記録媒体を介して配布・提供されることに限らず、通信手段(有線・無線は不問)を介して配布・提供されてもよい。たとえば、他のサーバなどからインターネットなどのネットワークを経由してプログラムをダウンロードして取得したり、または更新したりしてもよい。   The program constituting the software is not limited to being distributed / provided via a recording medium, but may be distributed / provided via communication means (wired / wireless is not required). For example, the program may be obtained by downloading or updating from another server via a network such as the Internet.

粒子挙動解析処理を行なう機能を実現するプログラムコードを記述したファイルとしてプログラムが提供されるが、この場合、一括のプログラムファイルとして提供されることに限らず、コンピュータで構成されるシステムのハードウェア構成に応じて、個別のプログラムモジュールとして提供されてもよい。   The program is provided as a file describing a program code that realizes the function of performing particle behavior analysis processing. In this case, the program is not limited to being provided as a batch program file, and the hardware configuration of a system configured by a computer Depending on the case, it may be provided as an individual program module.

たとえば、コンピュータシステム900は、コントローラ部901と、ハードディスク装置、FDドライブ、CD−ROMドライブ、半導体メモリコントローラなどの、記録媒体からデータを読み出したり記録したりするための記録・読取制御部902を有する。   For example, the computer system 900 includes a controller unit 901 and a recording / reading control unit 902 for reading and recording data from a recording medium such as a hard disk device, an FD drive, a CD-ROM drive, and a semiconductor memory controller. .

また、コンピュータシステム900は、ユーザインタフェースをなす機能部としての操作部903と、各機能部との間のインタフェース機能をなすインタフェース部909(IF部)を有する。なお、解析処理結果を印刷出力してユーザに提示する構成とするべく、処理結果を出力媒体(たとえば印刷用紙)に出力する画像形成部を設けてもよい。   In addition, the computer system 900 includes an operation unit 903 as a functional unit that forms a user interface, and an interface unit 909 (IF unit) that performs an interface function between the functional units. Note that an image forming unit that outputs the processing result to an output medium (for example, printing paper) may be provided so that the analysis processing result is printed out and presented to the user.

コントローラ部901は、CPU912、読出専用の記憶部であるROM913、随時書込みや読出しが可能であるとともに揮発性の記憶部の一例であるRAM915、および不揮発性の記憶部の一例であるRAM(NVRAMと記述する)916を有している。   The controller unit 901 includes a CPU 912, a ROM 913 that is a read-only storage unit, a RAM 915 that is an example of a volatile storage unit that can be written and read at any time, and a RAM (NVRAM) that is an example of a nonvolatile storage unit. 916).

操作部903は、操作者による操作を受け付けたり、表示装置を具備し各種の情報を提示したりするためのものである。操作部903の指示入力装置としてはたとえば、操作パネルの操作キーを利用してもよいし、キーボードやマウスなどを利用してもよい。操作部903の表示装置としてはたとえば、たとえば、操作パネルを利用してもよいし、CRTやLCDなどでなるその他のディスプレイ部を利用してもよい。なお、表示面上にタッチパネルを有するディスプレイ部とすることで、表示だけでなく、指先やペンなどで情報を入力する構成としてもよい。   The operation unit 903 is for accepting an operation by an operator or for providing various types of information with a display device. As an instruction input device of the operation unit 903, for example, an operation key on the operation panel may be used, or a keyboard, a mouse, or the like may be used. As a display device of the operation unit 903, for example, an operation panel may be used, or another display unit such as a CRT or LCD may be used. In addition, by setting it as the display part which has a touchscreen on a display surface, it is good also as a structure which inputs information not only with a display but with a fingertip or a pen.

インタフェース部909としては、処理データや制御データの転送経路であるシステムバス991の他、たとえば、ネットワークとの間の通信データの受け渡しを仲介する通信IF部999を有している。   The interface unit 909 includes, for example, a communication IF unit 999 that mediates transfer of communication data with a network in addition to a system bus 991 that is a transfer path of processing data and control data.

通信IF部999は、インターネット、LAN、WANなどの外部のネットワーク網に接続されることにより、他のコンピュータシステム900とデータ送受信を行なう。これにより、予め定められた分割法を適用して、複数のコンピュータシステム900の協働処理による並列処理を実行することで、解析時間を短縮する。インタフェース部909は、図示しないがこの他にもたとえば、画像形成部や他のプリンタとのインタフェース機能をなすプリンタIF部などを備える。   The communication IF unit 999 performs data transmission / reception with another computer system 900 by being connected to an external network such as the Internet, LAN, and WAN. Thus, by applying a predetermined division method and executing parallel processing by cooperative processing of a plurality of computer systems 900, the analysis time is shortened. Although not shown, the interface unit 909 includes, for example, a printer IF unit that functions as an interface with an image forming unit and other printers.

記録・読取制御部902は、CD−ROMやメモリカードなどの可搬型の外部記録媒体を挿脱可能に構成され、可搬型の外部記録媒体の情報を読み込む外部データ読出部の機能を持つ。   The recording / reading control unit 902 is configured to be removable from a portable external recording medium such as a CD-ROM or a memory card, and has a function of an external data reading unit that reads information from the portable external recording medium.

記録・読取制御部902(外部データ読出部)を備えることで、外部記録媒体からプログラムのインストールや更新を行ない得るようになる。通信IF部999を備えることで、通信網を介しプログラムのインストールや更新を行ない得るようになる。   By providing the recording / reading control unit 902 (external data reading unit), the program can be installed or updated from an external recording medium. By including the communication IF unit 999, the program can be installed or updated via the communication network.

このような構成により、操作部903を介した操作者による指令にて、粒子挙動解析処理を実行するプログラムが記憶されているCD−ROMなどの読取可能な記録媒体からRAM915に粒子挙動解析プログラムがインストールされ、また操作部903を介した操作者による指令や自動処理にて粒子挙動解析プログラムが起動される。   With such a configuration, the particle behavior analysis program is stored in the RAM 915 from a readable recording medium such as a CD-ROM in which a program for executing the particle behavior analysis processing is stored in accordance with an instruction from the operator via the operation unit 903. The particle behavior analysis program is activated by an instruction or automatic processing by an operator via the operation unit 903.

CPU912は、システムバス991を介してシステム全体の制御を行ない、粒子挙動解析プログラムに従って粒子挙動解析方法に伴う計算処理を行なう。ROM913は、CPU912の制御プログラムなどを格納する。RAM915は、SRAMやフラッシュメモリなどで構成され、プログラム制御変数や各種処理のためのデータなどを格納する。また、RAM915は、アプリケーションプログラムに従って演算して得たデータや外部から取得したデータなどを一時的に格納する領域を含んでいる。処理結果はRAM915やハードディスクなどの記憶装置に格納され、また、処理結果の情報などが操作パネルやCRTやLCDなどの表示装置に出力される。   The CPU 912 controls the entire system via the system bus 991 and performs calculation processing associated with the particle behavior analysis method according to the particle behavior analysis program. The ROM 913 stores a control program for the CPU 912 and the like. The RAM 915 is configured by SRAM, flash memory, or the like, and stores program control variables, data for various processes, and the like. The RAM 915 includes an area for temporarily storing data obtained by calculation according to an application program, data obtained from the outside, and the like. The processing result is stored in a storage device such as a RAM 915 or a hard disk, and information on the processing result is output to an operation panel, a display device such as a CRT or LCD.

なお、ここでは、粒子挙動解析装置202の制御構成をコンピュータにてソフトウェア上で実現する構成例で説明しているが、本実施形態の粒子挙動解析を実現するための制御構成の各部(機能ブロックを含む)の具体的手段は、ハードウェア、ソフトウェア、通信手段、これらの組み合わせ、その他の手段を用いてよく、このこと自体は当業者において自明である。また、機能ブロック同士が複合して1つの機能ブロックに集約されてもよい。また、コンピュータにプログラム処理を実行させるソフトウェアは、ハードウェアや通信手段などの組み合わせの態様に応じて個別のプログラムモジュールとして分配してインストールされ得る。   Here, the control configuration of the particle behavior analysis apparatus 202 is described as a configuration example that is realized by software on a computer. However, each part (functional block) of the control configuration for realizing the particle behavior analysis of the present embodiment. The specific means (including the above) may be hardware, software, communication means, a combination thereof, or other means, and this is obvious to those skilled in the art. Moreover, the functional blocks may be combined and integrated into one functional block. Also, software that causes a computer to execute program processing can be distributed and installed as individual program modules according to the combination of hardware, communication means, and the like.

たとえば、粒子挙動解析処理のための各機能部分の全ての処理をソフトウェアで行なうのではなく、これら機能部分の一部を専用のハードウェアにて行なう処理回路908を設けてもよい。ソフトウェアで行なう仕組みは、並列処理や連続処理に柔軟に対処し得るものの、その処理が複雑になるに連れ、処理時間が長くなるため、処理速度の低下が問題となる。これに対して、ハードウェア処理回路で構築すると、処理が複雑であっても、処理速度の低下を防ぐことができ、高いスループットを得ることができる高速化を図ったアクセラレータシステムが構築される。   For example, a processing circuit 908 may be provided in which not all processing of each functional part for particle behavior analysis processing is performed by software, but a part of these functional parts is performed by dedicated hardware. Although the mechanism performed by software can flexibly cope with parallel processing and continuous processing, the processing time becomes longer as the processing becomes complicated, so that a reduction in processing speed becomes a problem. On the other hand, when constructed with a hardware processing circuit, even if the process is complicated, a reduction in processing speed can be prevented, and an accelerator system capable of achieving high throughput can be constructed.

たとえば、処理回路908としては、それぞれ図3〜図3Bに示したデータ処理部230を構成する、データ受付部232に相当するデータ受付部908a、数値演算処理部234に相当する数値演算処理部908b、バスインタフェース部235の出力データ処理部の機能部分に相当する出力データ処理部908c、分割処理部250に相当する分割処理部908x、などの何れかをハードウェアで構成するとよい。   For example, as the processing circuit 908, a data receiving unit 908 a corresponding to the data receiving unit 232 and a numerical operation processing unit 908 b corresponding to the numerical operation processing unit 234, respectively, constituting the data processing unit 230 shown in FIGS. 3 to 3B. Any one of the output data processing unit 908c corresponding to the functional part of the output data processing unit of the bus interface unit 235 and the division processing unit 908x corresponding to the division processing unit 250 may be configured by hardware.

1…画像形成装置、10…感光体、20…帯電装置、30…露光装置、40…現像装置、50…転写装置、58…中間転写ベルト、60…クリーニング装置、70…定着装置、102…現像剤粒子、200…粒子挙動解析システム、202…粒子挙動解析装置、202a…主粒子挙動解析装置、202b…副粒子挙動解析装置、204…情報出力装置、210…指示入力装置、212…表示装置、220…データ入力部、230…データ処理部、232…データ受付部、234…数値演算処理部(粒子挙動計算部)、238…データ記憶部、240…情報提示部、250…分割処理部、402…放電現象解析装置、420…導体中電荷移動解析処理部、422…誘電率解析部、424…電荷解析部、426…電荷移動解析部、430…境界設定部、440…放電解析部、442…対向面間放電抽出部、444…尖頭部材間放電抽出部、446…放電電荷量算出部、448…電荷更新部、460…運動解析部、470…電荷移動解析部、602,604…電荷面、610…領域境界、612…第1空間的放電分割線、614…第2空間的放電分割線、616…電気的放電分割線、618…粒子分割線   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Image forming apparatus, 10 ... Photoconductor, 20 ... Charging apparatus, 30 ... Exposure apparatus, 40 ... Developing apparatus, 50 ... Transfer apparatus, 58 ... Intermediate transfer belt, 60 ... Cleaning apparatus, 70 ... Fixing apparatus, 102 ... Development Agent particle 200 ... Particle behavior analysis system 202 ... Particle behavior analysis device 202a ... Main particle behavior analysis device 202b ... Secondary particle behavior analysis device 204 ... Information output device 210 ... Instruction input device 212 ... Display device 220 ... Data input unit, 230 ... Data processing unit, 232 ... Data reception unit, 234 ... Numerical calculation processing unit (particle behavior calculation unit), 238 ... Data storage unit, 240 ... Information presentation unit, 250 ... Division processing unit, 402 ... Discharge phenomenon analysis device 420. Conductor charge transfer analysis processing unit 422. Dielectric constant analysis unit 424 Charge analysis unit 426 Charge transfer analysis unit 430 Boundary setting 440 ... Discharge analysis unit 442 ... Inter-surface discharge extraction unit 444 ... Point member discharge extraction unit 446 ... Discharge charge amount calculation unit 448 ... Charge update unit 460 ... Motion analysis unit 470 ... Charge Movement analysis unit, 602, 604 ... charge plane, 610 ... region boundary, 612 ... first spatial discharge dividing line, 614 ... second spatial discharge dividing line, 616 ... electrical discharge dividing line, 618 ... particle dividing line

Claims (15)

第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、
前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、
を備えた放電現象解析装置。
A boundary setting unit for setting a boundary between the first surface and the second surface in the analysis target region sandwiched between the first surface and the second surface ;
Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit belong to the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon between them and those belonging to the region on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit are those belonging to the region on the first surface side A discharge analysis unit for analyzing the discharge phenomenon between
Discharge phenomenon analysis device equipped with.
前記境界設定部は、前記第1の面と前記第2の面との間の幾何学的な中間位置を前記境界に設定する
請求項に記載の放電現象解析装置。
The discharge phenomenon analyzing apparatus according to claim 1 , wherein the boundary setting unit sets a geometric intermediate position between the first surface and the second surface as the boundary.
前記境界設定部は、前記第1の面や前記第2の面に電荷を有する粒子が堆積している場合には、前記堆積している粒子の内で最上層の粒子と、前記堆積している粒子に対向する面もしくは当該対向する面に堆積している粒子の内で最上層の粒子との間の幾何学的な中間位置を前記境界に設定する
請求項に記載の放電現象解析装置。
In the case where particles having an electric charge are deposited on the first surface and the second surface, the boundary setting unit includes the uppermost particle among the deposited particles, The discharge phenomenon analyzing apparatus according to claim 1 , wherein a geometric intermediate position between a particle facing a particle and a particle deposited on the surface facing the uppermost layer is set as the boundary. .
前記境界設定部は、前記堆積している粒子の内の最上層の粒子の表面を基準にして幾何学的な中間位置を前記境界に設定する
請求項に記載の放電現象解析装置。
The discharge phenomenon analyzing apparatus according to claim 3 , wherein the boundary setting unit sets a geometric intermediate position to the boundary based on a surface of the uppermost particle among the deposited particles.
前記境界設定部は、前記第1の面と前記第2の面との間の電気的な中間位置を前記境界に設定する
請求項に記載の放電現象解析装置。
The discharge phenomenon analyzing apparatus according to claim 1 , wherein the boundary setting unit sets an electrical intermediate position between the first surface and the second surface as the boundary.
前記境界設定部は、前記第1の面や前記第2の面に電荷を有する粒子が堆積している場合には、前記堆積している粒子の内で最上層の粒子と、前記堆積している粒子に対向する面もしくは当該対向する面に堆積している粒子の内で最上層の粒子との間の電気的な中間位置を前記境界に設定する
請求項に記載の放電現象解析装置。
In the case where particles having an electric charge are deposited on the first surface and the second surface, the boundary setting unit includes the uppermost particle among the deposited particles, The discharge phenomenon analyzing apparatus according to claim 5 , wherein an electrical intermediate position between a particle facing the existing particle or an uppermost particle among the particles deposited on the facing surface is set as the boundary.
前記境界設定部は、前記第1の面と前記第2の面の間の電界に対する、前記解析対象領域内に浮遊している粒子による変化分を反映させて前記境界を設定する
請求項またはに記載の放電現象解析装置。
The boundary setting unit is configured for the first surface and the electric field between the second surface, said to reflect the change due to particles suspended in the analysis target area for setting the boundaries claim 5 or 6. The discharge phenomenon analyzing apparatus according to 6 .
前記放電解析部は、着目する放電探索箇所の電位変化が単調でないときには、その放電探索箇所を放電解析の対象から除外する
請求項の内の何れか一項に記載の放電現象解析装置。
The discharge phenomenon analyzing device according to any one of claims 5 to 7 , wherein the discharge analysis unit excludes the discharge search point from the object of discharge analysis when the potential change at the discharge search point of interest is not monotonous. .
前記放電解析部は、前記浮遊している粒子の内で、前記第1の面側の領域に属するものについてはさらに前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記第2の面側の領域に属するものについてはさらに前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する
請求項1〜の内の何れか一項に記載の放電現象解析装置。
The discharge analysis unit analyzes a discharge phenomenon between the floating particles belonging to the first surface side region and those belonging to the first surface side region. and, in any one of claims 1-8 for analyzing a discharge phenomenon between the ones belonging to further the second surface areas for those belonging to the area of the second surface The described discharge phenomenon analyzer.
前記放電解析部は、
前記解析対象領域内に浮遊している粒子を前記第1の面側の部分と前記第2の面側の部分とに分け、
前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては、さらに、前記第1の面側の部分と前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、
前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては、さらに、前記第2の面側の部分と前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する
請求項に記載の放電現象解析装置。
The discharge analysis unit
Dividing the particles floating in the analysis target region into a portion on the first surface side and a portion on the second surface side,
For those belonging to the region on the first surface side across the boundary set by the boundary setting unit, the portion belonging to the first surface side and the region belonging to the region on the first surface side The discharge phenomenon between
For those belonging to the region on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit, the portion belonging to the second surface side and the region belonging to the region on the second surface side The discharge phenomenon analysis apparatus according to claim 9 , wherein the discharge phenomenon is analyzed.
前記放電解析部は、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の前記第1の面側の表面と前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の前記第2の面側の表面と前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する
請求項または10に記載の放電現象解析装置。
The discharge analysis unit analyzes a discharge phenomenon between the surface on the first surface side of the particles floating in the analysis target region and the one belonging to the region on the first surface side, discharge according to claim 9 or 10 for analyzing a discharge phenomenon between the belonging analyzed area on the second surface side of the surface of the floating to have particles on the second surface side of the region Phenomenon analysis device.
前記放電解析部は、前記解析対象領域内に浮遊している粒子の表面で生じる放電現象を解析する
請求項1に記載の放電現象解析装置。
The discharge phenomenon analysis apparatus according to claim 1, wherein the discharge analysis unit analyzes a discharge phenomenon that occurs on a surface of particles floating in the analysis target region.
第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、
前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、
前記放電解析部による放電現象の解析結果後の粒子の物性情報に基づき、前記解析対象領域内に存在する各粒子の運動を解析する運動解析部と、
を備えた粒子挙動解析装置。
A boundary setting unit for setting a boundary between the first surface and the second surface in the analysis target region sandwiched between the first surface and the second surface ;
Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit belong to the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon between them and those belonging to the region on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit are those belonging to the region on the first surface side A discharge analysis unit for analyzing the discharge phenomenon between
Based on the physical property information of the particles after the analysis result of the discharge phenomenon by the discharge analysis unit, a motion analysis unit that analyzes the motion of each particle present in the analysis target region;
Particle behavior analysis device equipped with.
分配された解析対象要素を受け付ける受付部および前記受付部が受け付けた解析対象粒子の物性情報に基づき予め決められた並行処理の分割法に従って粒子挙動計算を行なう複数の粒子挙動計算部と、
解析対象範囲内の解析対象要素を、前記分割法に従って前記複数の粒子挙動解析装置のそれぞれに分配する分配処理部と、
を備え、
前記粒子挙動計算部は、
第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、
前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、
前記放電解析部による放電現象の解析結果後の粒子の物性情報に基づき、前記解析対象領域内に存在する各粒子の運動を解析する運動解析部と、
を備えている粒子挙動解析システム。
A receiving unit that receives the distributed analysis target element, and a plurality of particle behavior calculation units that perform particle behavior calculation according to a predetermined parallel processing division method based on physical property information of the analysis target particle received by the receiving unit;
A distribution processing unit that distributes the analysis target element within the analysis target range to each of the plurality of particle behavior analysis devices according to the division method;
With
The particle behavior calculator
A boundary setting unit for setting a boundary between the first surface and the second surface in the analysis target region sandwiched between the first surface and the second surface ;
Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit belong to the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon between them and those belonging to the region on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit are those belonging to the region on the first surface side A discharge analysis unit for analyzing the discharge phenomenon between
Based on the physical property information of the particles after the analysis result of the discharge phenomenon by the discharge analysis unit, a motion analysis unit that analyzes the motion of each particle present in the analysis target region;
Particle behavior analysis system equipped with
第1の面と第2の面に挟まれた解析対象領域内に、前記第1の面および前記第2の面の中間に境界を設定する境界設定部と、
前記解析対象領域内に浮遊している粒子の内で、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第1の面側の領域に属するものについては前記第2の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析し、前記境界設定部により設定された境界を挟んで前記第2の面側の領域に属するものについては前記第1の面側の領域に属するものとの間での放電現象を解析する放電解析部と、
して電子計算装置を機能させるプログラム。
A boundary setting unit for setting a boundary between the first surface and the second surface in the analysis target region sandwiched between the first surface and the second surface ;
Among the particles floating in the analysis target region, those belonging to the first surface side region across the boundary set by the boundary setting unit belong to the second surface side region. Analyzing the discharge phenomenon between them and those belonging to the region on the second surface side across the boundary set by the boundary setting unit are those belonging to the region on the first surface side A discharge analysis unit for analyzing the discharge phenomenon between
Program to make the electronic computer function.
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