JP5481794B2 - Method for producing molded product for laser processing, molded product for laser processing, and flexographic printing plate - Google Patents

Method for producing molded product for laser processing, molded product for laser processing, and flexographic printing plate Download PDF

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本発明は、レーザーによる彫刻性に優れたレーザー加工用成形品の製造方法、その製造方法により製造されるレーザー加工用成形品、及びフレキソ印刷版に関する。   The present invention relates to a method for producing a molded article for laser processing excellent in engraving by laser, a molded article for laser processing produced by the production method, and a flexographic printing plate.

ポリマー材料の表面に凹凸を形成して印刷版を製造する方法としては、加硫ゴムシートに印刀で彫刻する方法が一般的である。しかし、この印刀で彫刻する方法には、高度な手彫り技術が必要とされる。従って、熟練を要することに加え、微細で複雑な文字や図形を彫刻するには限界がある。更に、フレキソ印刷版を作製するに際して、手彫りで作製した各パーツをPET等の樹脂シート上に正確に位置決めし、接着剤で貼り付ける作業が必要である。このため、手間と時間がかかるという問題がある。   As a method for producing a printing plate by forming irregularities on the surface of a polymer material, a method of engraving a vulcanized rubber sheet with a stamp is common. However, this method of engraving with a sword requires advanced hand-carving techniques. Therefore, in addition to skill, there is a limit to engraving fine and complicated characters and figures. Furthermore, when producing a flexographic printing plate, it is necessary to accurately position each part produced by hand engraving on a resin sheet such as PET and affix it with an adhesive. For this reason, there is a problem that it takes time and effort.

一方、レーザー加工機を使用し、樹脂材料からなる印材に対してレーザーを照射して所望とする形状等を彫刻する方法が近年開発されている。関連する従来技術として、エチレン系の重合体、又は共重合体を架橋したレーザー加工用重合体材料や、それを用いたレーザー加工用積層体が開示されている(例えば、特許文献1及び2参照)。また、シンジオタクチック1,2−ポリブタジエン等の熱可塑性エラストマーとシリカ粒子を所定の割合で含有するレーザー加工用組成物を用いて作製されたレーザー加工用シートが開示されている(例えば、特許文献3参照)。   On the other hand, a method of engraving a desired shape or the like by irradiating a laser on a printing material made of a resin material using a laser processing machine has been developed recently. As related prior art, polymer materials for laser processing obtained by crosslinking an ethylene-based polymer or copolymer, and laminates for laser processing using the same are disclosed (for example, see Patent Documents 1 and 2). ). Also disclosed is a laser processing sheet produced by using a laser processing composition containing a predetermined amount of thermoplastic elastomer such as syndiotactic 1,2-polybutadiene and silica particles (for example, Patent Documents). 3).

また、SIS(スチレン−イソプレン−スチレン)ブロックコポリマー等のエラストマー材料を架橋剤で強化した、少なくとも一層のレーザー彫刻可能なエラストマー層を有するフレキソグラフ印刷エレメントが開示されている(例えば、特許文献4及び5参照)。   Also disclosed are flexographic printing elements having at least one laser-engravable elastomeric layer in which an elastomeric material such as a SIS (styrene-isoprene-styrene) block copolymer is reinforced with a crosslinking agent (e.g. 5).

特開2002−3665号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-3665 特開2002−103539号公報JP 2002-103539 A 特開2006−206872号公報JP 2006-206872 A 特許第2846954号公報Japanese Patent No. 2846954 特許第2846955号公報Japanese Patent No. 2846955

しかしながら、上記の特許文献において開示されたレーザー加工用シート等であっても、その加工性や透明性については未だ十分なレベルにあるとはいえず、更なる改良の余地があった。また、レーザー加工時の熱によりエッジ部分が溶融し易く、彫刻性(パターン形成性)が不十分となる等の場合もあるため、更なる改良を図る必要性がある。   However, even the laser processing sheet disclosed in the above-mentioned patent document is still not at a sufficient level in terms of workability and transparency, and there is room for further improvement. Further, since the edge portion is easily melted by heat at the time of laser processing and the engraving property (pattern forming property) may be insufficient, there is a need for further improvement.

本発明は、このような従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、柔軟であるとともに、良好な加工性と透明性を有し、且つレーザーによる彫刻性に優れたレーザー加工用成形品を簡便に製造可能なレーザー加工用成形品の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems of the prior art, and the problem is that it is flexible, has good workability and transparency, and is engraved by laser. Another object of the present invention is to provide a method for producing a molded product for laser processing, which can easily produce a molded product for laser processing excellent in the above.

また、本発明の課題とするところは、良好な柔軟性と透明性を有するとともに、レーザーによる彫刻性に優れたレーザー加工用成形品を提供することにある。更に、本発明の課題とするところは、レーザーで容易且つ高精度に彫刻された印刷パターンを有するフレキソ印刷版を提供することにある。   Moreover, the place made into the subject of this invention is providing the molded article for laser processing which has the favorable softness | flexibility and transparency, and was excellent in the engraving property by a laser. Furthermore, an object of the present invention is to provide a flexographic printing plate having a printing pattern engraved with a laser easily and with high accuracy.

本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、熱可塑性重合体及び特定の架橋剤等を含有する架橋性の組成物を調製し、この組成物の一部を動的に熱架橋した後、更に放射線架橋することによって、上記課題を達成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors prepared a crosslinkable composition containing a thermoplastic polymer and a specific cross-linking agent, and a part of this composition was thermally cross-linked dynamically. After that, it was found that the above problem can be achieved by further radiation crosslinking, and the present invention has been completed.

即ち、本発明によれば、以下に示すレーザー加工用成形品の製造方法、レーザー加工用成形品、及びフレキソ印刷版が提供される。   That is, according to this invention, the manufacturing method of the molded article for laser processing shown below, the molded article for laser processing, and a flexographic printing plate are provided.

[1](A)1,2−ビニル結合含量が70%以上、結晶化度が5〜50%であるシンジオタクチック1,2−ポリブタジエン、スチレン・イソプレン共重合体、及びスチレン・ブタジエン共重合体からなる群より選択される少なくとも一種である熱可塑性重合体100質量部、(B)シリカ粒子0〜50質量部、(C)粘度比重恒数(V.G.C.値)が0.790〜0.999である伸展油0〜200質量部、(D)光重合開始剤0〜10質量部、及び(E)多官能アクリレート0〜20質量部を含み、更に、(F)有機過酸化物0.01〜0.1質量部又は(G)硫黄若しくは硫黄化合物0.01〜1.0質量部を含む架橋性組成物を、動的に熱架橋した後、更に放射線架橋することを含むレーザー加工用成形品の製造方法。 [1] (A) Syndiotactic 1,2-polybutadiene having a 1,2-vinyl bond content of 70% or more and a crystallinity of 5 to 50%, a styrene / isoprene copolymer, and a styrene / butadiene copolymer 100 parts by mass of a thermoplastic polymer that is at least one selected from the group consisting of a coalescence, (B) 0 to 50 parts by mass of silica particles, and (C) a viscosity specific gravity constant (VGC value) of 0. Including 0 to 200 parts by weight of an extending oil that is 790 to 0.999, (D) 0 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator, and (E) 0 to 20 parts by weight of a polyfunctional acrylate , after the oxide 0.01 parts by weight or crosslinking composition comprising (G) sulfur or a sulfur compound 0.01 to 1.0 parts by weight, and dynamically heat crosslinking, further radiation crosslinking Of manufacturing molded article for laser processing including

]前記(B)シリカ粒子が、その平均一次粒子径が0.005μm以上、0.1μm未満の無水粒子である前記[1]に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。 [ 2 ] The method for producing a molded article for laser processing according to [1 ], wherein the (B) silica particles are anhydrous particles having an average primary particle diameter of 0.005 μm or more and less than 0.1 μm.

]前記(C)伸展油が、パラフィン系伸展油とナフテン系伸展油の少なくともいずれかである前記[1]又は[2]に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。 [ 3 ] The method for producing a molded article for laser processing according to [1] or [2] , wherein (C) the extending oil is at least one of a paraffinic extending oil and a naphthenic extending oil.

]前記(D)光重合開始剤が、アシルホスフィンオキサイド系化合物である前記[1]〜[]のいずれかに記載のレーザー加工用成形品の製造方法。 [ 4 ] The method for producing a molded article for laser processing according to any one of [1] to [ 3 ], wherein the (D) photopolymerization initiator is an acylphosphine oxide compound.

]前記(E)多官能アクリレートが、トリメチロールプロパントリメタクリレートとトリメチロールプロパントリアクリレートの少なくともいずれかである前記[1]〜[]のいずれかに記載のレーザー加工用成形品の製造方法。 [ 5 ] Production of a molded article for laser processing according to any one of [1] to [ 4 ], wherein the (E) polyfunctional acrylate is at least one of trimethylolpropane trimethacrylate and trimethylolpropane triacrylate. Method.

]前記(F)有機過酸化物が、その半減期が1分となる温度が、90℃以上、180℃未満のものである前記[1]〜[]のいずれかに記載のレーザー加工用成形品の製造方法。 [ 6 ] The laser according to any one of [1] to [ 5 ], wherein the organic peroxide (F) has a half-life of 1 minute at a temperature of 90 ° C or higher and lower than 180 ° C. A method for manufacturing a molded article for processing.

]前記放射線架橋に使用する放射線が、紫外線又は電子線である前記[1]〜[]のいずれかに記載のレーザー加工用成形品の製造方法。 [ 7 ] The method for producing a molded article for laser processing according to any one of [1] to [ 6 ], wherein the radiation used for the radiation crosslinking is an ultraviolet ray or an electron beam.

]前記[1]〜[]のいずれかに記載のレーザー加工用成形品の製造方法により製造される、少なくとも一方の面にレーザー彫刻可能な加工面を有するシート状の成形品であるレーザー加工用成形品。 [ 8 ] A sheet-shaped molded article having a machined surface capable of laser engraving on at least one surface, produced by the method for producing a molded article for laser processing according to any one of [1] to [ 7 ]. Molded product for laser processing.

]一方の面上にシート状の基材層が積層された前記[]に記載のレーザー加工用成形品。 [ 9 ] The molded product for laser processing according to [ 8 ], wherein a sheet-like base material layer is laminated on one surface.

[10]前記[8]又は[9]に記載のレーザー加工用成形品の前記加工面がレーザーで彫刻加工され、所定の印刷パターンが形成されたフレキソ印刷版。
[11]前記[1]〜[7]のいずれかに記載のレーザー加工用成形品の製造方法に用いる架橋性組成物であり、(A)1,2−ビニル結合含量が70%以上、結晶化度が5〜50%であるシンジオタクチック1,2−ポリブタジエン、スチレン・イソプレン共重合体、及びスチレン・ブタジエン共重合体からなる群より選択される少なくとも一種である熱可塑性重合体100質量部、(B)シリカ粒子0〜50質量部、(C)粘度比重恒数(V.G.C.値)が0.790〜0.999である伸展油0〜200質量部、(D)光重合開始剤0〜10質量部、及び(E)多官能アクリレート0〜20質量部を含み、更に、(F)有機過酸化物0.01〜0.1質量部又は(G)硫黄若しくは硫黄化合物0.01〜1.0質量部を含む架橋性組成物。
[10] A flexographic printing plate in which the processed surface of the molded article for laser processing according to [8] or [9] is engraved with a laser to form a predetermined printing pattern.
[11] A crosslinkable composition used in the method for producing a molded article for laser processing according to any one of [1] to [7], wherein (A) a 1,2-vinyl bond content is 70% or more, a crystal 100 parts by mass of a thermoplastic polymer that is at least one selected from the group consisting of syndiotactic 1,2-polybutadiene, styrene / isoprene copolymer, and styrene / butadiene copolymer having a degree of conversion of 5 to 50% (B) 0 to 50 parts by mass of silica particles, (C) 0 to 200 parts by mass of an extension oil having a viscosity specific gravity constant (VGC value) of 0.790 to 0.999, and (D) light. 0-10 parts by weight polymerization initiator, and includes (E) a polyfunctional acrylate 0-20 parts by weight, further, (F) an organic peroxide 0.01 to 0.1 parts by weight or (G) sulfur or a sulfur Crosslinkable group containing 0.01 to 1.0 part by mass of compound Adult.

本発明のレーザー加工用成形品の製造方法によれば、柔軟であるとともに、良好な加工性と透明性を有し、且つレーザーによる彫刻性に優れたレーザー加工用成形品を簡便に製造することができる。   According to the method for producing a molded article for laser processing of the present invention, it is possible to easily produce a molded article for laser machining that is flexible, has good processability and transparency, and has excellent engraving properties by laser. Can do.

本発明のレーザー加工用成形品は、良好な柔軟性と透明性を有するとともに、レーザーによる彫刻性に優れているといった効果を奏するものである。また、本発明のフレキソ印刷版は、レーザーで容易且つ高精度に彫刻された印刷パターンを有するといった効果を奏するものである。   The molded article for laser processing according to the present invention has excellent flexibility and transparency, and has an effect of being excellent in engraving by a laser. Further, the flexographic printing plate of the present invention has an effect of having a printing pattern engraved easily and with high precision by a laser.

以下、本発明の実施の最良の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、以下の実施の形態に対し適宜変更、改良等が加えられたものも本発明の範囲に入ることが理解されるべきである。   BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The best mode for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following embodiment, and is based on the ordinary knowledge of those skilled in the art without departing from the gist of the present invention. It should be understood that modifications and improvements as appropriate to the following embodiments also fall within the scope of the present invention.

1.レーザー加工用成形品及びその製造方法:
本発明のレーザー加工用成形品の製造方法は、(A)熱可塑性重合体100質量部、(B)シリカ粒子0〜50質量部、(C)粘度比重恒数(V.G.C.値)が0.790〜0.999である伸展油0〜200質量部、(D)光重合開始剤0〜10質量部、及び(E)多官能アクリレート0〜20質量部と、(F)有機過酸化物0.01〜0.1質量部、又は(G)硫黄若しくは硫黄化合物0.01〜1.0質量部と、を含む架橋性組成物を、動的に熱架橋した後、更に放射線架橋することを含む製造方法である。以下、その詳細について説明する。
1. Molded product for laser processing and manufacturing method thereof:
The method for producing a molded article for laser processing according to the present invention comprises (A) 100 parts by mass of a thermoplastic polymer, (B) 0 to 50 parts by mass of silica particles, and (C) a viscosity specific gravity constant (VGC value). ) Is 0.790-0.999 parts of extended oil 0-200 parts by weight, (D) photopolymerization initiator 0-10 parts by weight, (E) polyfunctional acrylate 0-20 parts by weight, and (F) organic Radiation after further thermally cross-linking a crosslinkable composition containing 0.01 to 0.1 part by mass of a peroxide or 0.01 to 1.0 part by mass of (G) sulfur or a sulfur compound, and further radiation. It is a manufacturing method including bridge | crosslinking. The details will be described below.

(A)熱可塑性重合体
架橋性組成物には、(A)熱可塑性重合体(以下、「(A)成分」ともいう)が含まれる。この(A)成分としては、(A−1)シンジオタクチック1,2−ポリブタジエン、(A−2)スチレン・イソプレン共重合体、及び(A−3)スチレン・ブタジエン共重合体を好適例として挙げることができる。なお、これらの熱可塑性重合体は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
(A) Thermoplastic polymer The crosslinkable composition includes (A) a thermoplastic polymer (hereinafter also referred to as “component (A)”). Preferred examples of the component (A) include (A-1) syndiotactic 1,2-polybutadiene, (A-2) styrene / isoprene copolymer, and (A-3) styrene / butadiene copolymer. Can be mentioned. In addition, these thermoplastic polymers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(A−1)シンジオタクチック1,2−ポリブタジエン
シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの1,2−ビニル結合含量は、70%以上であることが好ましく、80%以上であることが更に好ましく、90%以上であることが特に好ましい。シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの1,2−ビニル結合含量を70%以上とすることにより、柔軟性をはじめとする熱可塑性エラストマーとしての特性が良好に発揮される。なお、本明細書にいう「1,2−ビニル結合含量」は、赤外吸収スペクトル法(モレロ法)によって求めた値である。
(A-1) Syndiotactic 1,2-polybutadiene The 1,2-vinyl bond content of the syndiotactic 1,2-polybutadiene is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, 90% or more is particularly preferable. By setting the 1,2-vinyl bond content of the syndiotactic 1,2-polybutadiene to 70% or more, the properties as a thermoplastic elastomer including flexibility are exhibited well. The “1,2-vinyl bond content” referred to in the present specification is a value determined by an infrared absorption spectrum method (Morello method).

シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの結晶化度は、5〜50%であることが好ましく、10〜40%であることが更に好ましい。また、シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの融点(Tm)は、50〜150℃であることが好ましく、60〜140℃であることが更に好ましい。結晶化度及び融点がこれらの範囲内であるシンジオタクチック1,2−ポリブタジエンを用いることにより、引張強度や引裂強度等の力学強度と柔軟性とのバランスに優れたレーザー加工用成形品を製造することができる。なお、本明細書にいう「結晶化度」は、結晶化度0%の1,2−ポリブタジエンの密度を0.889g/cm、結晶化度100%の1,2−ポリブタジエンの密度を0.963g/cmとして、水中置換法により測定した密度から換算した値である。 The crystallinity of the syndiotactic 1,2-polybutadiene is preferably 5 to 50%, and more preferably 10 to 40%. Further, the melting point (Tm) of syndiotactic 1,2-polybutadiene is preferably 50 to 150 ° C, and more preferably 60 to 140 ° C. By using syndiotactic 1,2-polybutadiene whose crystallinity and melting point are within these ranges, it is possible to produce molded products for laser processing that have a good balance between mechanical strength such as tensile strength and tear strength and flexibility. can do. As used herein, “crystallinity” refers to the density of 1,2-polybutadiene having a crystallinity of 0% of 0.889 g / cm 3 and the density of 1,2-polybutadiene having a crystallinity of 100% of 0. .963 g / cm 3 is a value converted from the density measured by the underwater substitution method.

シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの重量平均分子量(Mw)は、1万〜500万であることが好ましく、1万〜150万であることが更に好ましく、5万〜100万であることが特に好ましい。Mwが1万未満であると、流動性が高くなり過ぎるために加工が困難になるとともに、得られるレーザー加工用成形品がべたつく傾向にある。一方、Mwが500万超であると、流動性が低くなり過ぎるために加工が困難になる傾向にある。   The weight average molecular weight (Mw) of syndiotactic 1,2-polybutadiene is preferably 10,000 to 5,000,000, more preferably 10,000 to 1,500,000, and particularly preferably 50,000 to 1,000,000. preferable. If the Mw is less than 10,000, the fluidity becomes too high and the processing becomes difficult, and the resulting molded product for laser processing tends to be sticky. On the other hand, when Mw exceeds 5 million, the fluidity tends to be too low and the processing tends to be difficult.

シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンは、ブタジエン以外の共役ジエンが少量共重合したものであってもよい。ブタジエン以外の共役ジエンとしては、1,3−ペンタジエン、高級アルキル基で置換された1,3−ブタジエン誘導体、2−アルキル置換−1,3−ブタジエン等を挙げることができる。高級アルキル基で置換された1,3−ブタジエン誘導体の具体例としては、1−ペンチル−1,3−ブタジエン、1−ヘキシル−1,3−ブタジエン、1−ヘプチル−1,3−ブタジエン、1−オクチル−1,3−ブタジエン等を挙げることができる。   The syndiotactic 1,2-polybutadiene may be obtained by copolymerizing a small amount of a conjugated diene other than butadiene. Examples of conjugated dienes other than butadiene include 1,3-pentadiene, 1,3-butadiene derivatives substituted with higher alkyl groups, and 2-alkyl substituted-1,3-butadiene. Specific examples of 1,3-butadiene derivatives substituted with a higher alkyl group include 1-pentyl-1,3-butadiene, 1-hexyl-1,3-butadiene, 1-heptyl-1,3-butadiene, 1 -Octyl-1,3-butadiene and the like can be mentioned.

2−アルキル置換−1,3−ブタジエンの具体例としては、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2−エチル−1,3−ブタジエン、2−プロピル−1,3−ブタジエン、2−イソプロピル−1,3−ブタジエン、2−ブチル−1,3−ブタジエン、2−イソブチル−1,3−ブタジエン、2−アミル−1,3−ブタジエン、2−イソアミル−1,3−ブタジエン、2−ヘキシル−1,3−ブタジエン、2−シクロヘキシル−1,3−ブタジエン、2−イソヘキシル−1,3−ブタジエン、2−ヘプチル−1,3−ブタジエン、2−イソヘプチル−1,3−ブタジエン、2−オクチル−1,3−ブタジエン、2−イソオクチル−1,3−ブタジエン等を挙げることができる。   Specific examples of 2-alkyl-substituted-1,3-butadiene include 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2-ethyl-1,3-butadiene, 2-propyl-1,3-butadiene, 2 -Isopropyl-1,3-butadiene, 2-butyl-1,3-butadiene, 2-isobutyl-1,3-butadiene, 2-amyl-1,3-butadiene, 2-isoamyl-1,3-butadiene, 2 -Hexyl-1,3-butadiene, 2-cyclohexyl-1,3-butadiene, 2-isohexyl-1,3-butadiene, 2-heptyl-1,3-butadiene, 2-isoheptyl-1,3-butadiene, 2 -Octyl-1,3-butadiene, 2-isooctyl-1,3-butadiene and the like can be mentioned.

これらのブタジエン以外の共役ジエンのなかでも、イソプレン、1,3−ペンタジエンが好ましい。なお、重合に供される単量体成分中のブタジエンの含有量は、50モル%以上であることが好ましく、70モル%以上であることが更に好ましい。   Of these conjugated dienes other than butadiene, isoprene and 1,3-pentadiene are preferred. The content of butadiene in the monomer component to be polymerized is preferably 50 mol% or more, and more preferably 70 mol% or more.

シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンは、例えば、コバルト化合物及びアルミノオキサンを含有する触媒の存在下、ブタジエンを重合して得ることができる。コバルト化合物としては、好ましくは炭素数4以上の有機酸とコバルトとの有機酸塩を挙げることができる。有機酸塩の具体例としては、酪酸塩、ヘキサン酸塩、ヘプチル酸塩、2−エチルヘキシル酸等のオクチル酸塩、デカン酸塩や、ステアリン酸、オレイン酸、エルカ酸等の高級脂肪酸塩、安息香酸塩、トリル酸塩、キシリル酸塩、エチル安息香酸等のアルキル、アラルキル、アリル置換安息香酸塩やナフトエ酸塩、アルキル、アラルキル又はアリル置換ナフトエ酸塩を挙げることができる。これらのうち、2−エチルヘキシル酸等のいわゆるオクチル酸塩や、ステアリン酸塩、安息香酸塩が、炭化水素溶媒に対する優れた溶解性を有するものであるために好ましい。   Syndiotactic 1,2-polybutadiene can be obtained, for example, by polymerizing butadiene in the presence of a catalyst containing a cobalt compound and an aluminoxane. As a cobalt compound, Preferably, the organic acid salt of C4 or more organic acid and cobalt can be mentioned. Specific examples of organic acid salts include butyrate, hexanoate, heptylate, octylate such as 2-ethylhexylic acid, decanoate, higher fatty acid salts such as stearic acid, oleic acid, erucic acid, benzoic acid, etc. Examples thereof include alkyl, aralkyl, allyl-substituted benzoate, naphthoate, alkyl, aralkyl, and allyl-substituted naphthoate such as acid salt, tolylate, xylate, and ethylbenzoate. Of these, so-called octylates such as 2-ethylhexylic acid, stearates, and benzoates are preferable because they have excellent solubility in hydrocarbon solvents.

アルミノオキサンとしては、例えば、下記一般式(1)又は(2)で表されるものを挙げることができる。   As an aluminoxane, what is represented by the following general formula (1) or (2) can be mentioned, for example.

Figure 0005481794
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Figure 0005481794
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前記一般式(1)及び(2)中、Rはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭化水素基であり、好ましくはメチル基、エチル基であり、特に好ましくはメチル基である。また、mは、2以上、好ましくは5以上、更に好ましくは10〜100の整数である。アルミノオキサンの具体例としては、メチルアルミノオキサン、エチルアルミノオキサン、プロピルアルミノオキサン、ブチルアルミノオキサン等を挙げることができる。なかでも、メチルアルミノオキサンが好ましい。   In the general formulas (1) and (2), R is a hydrocarbon group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group. . M is an integer of 2 or more, preferably 5 or more, more preferably 10 to 100. Specific examples of aluminoxane include methylaluminoxane, ethylaluminoxane, propylaluminoxane, butylaluminoxane and the like. Of these, methylaluminoxane is preferable.

重合触媒には、前記コバルト化合物と前記アルミノオキサン以外に、ホスフィン化合物を含有させることが極めて好ましい。ホスフィン化合物は、重合触媒の活性化、ビニル結合構造及び結晶性の制御に有効な成分である。好適なホスフィン化合物としては、下記一般式(3)で表される有機リン化合物を挙げることができる。
P(Ar)(R’)3−n (3)
It is extremely preferable that the polymerization catalyst contains a phosphine compound in addition to the cobalt compound and the aluminoxane. The phosphine compound is an effective component for activating the polymerization catalyst, controlling the vinyl bond structure and crystallinity. Suitable phosphine compounds include organophosphorus compounds represented by the following general formula (3).
P (Ar) n (R ′) 3-n (3)

前記一般式(3)中、R’はシクロアルキル基又はアルキル置換シクロアルキル基であり、nは0〜3の整数であり、Arは下記一般式(4)で表される基である。   In the general formula (3), R ′ is a cycloalkyl group or an alkyl-substituted cycloalkyl group, n is an integer of 0 to 3, and Ar is a group represented by the following general formula (4).

Figure 0005481794
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前記一般式(4)中、R、R、及びRは、各々同一又は異なってもよく、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、又はアリール基である。R、R、及びRで表されるアルキル基としては、炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。また、R、R、及びRで表されるアルコキシ基としては、炭素数1〜6のアルコキシ基が好ましい。更に、R、R、及びRで表されるアリール基としては、炭素数6〜12のアリール基が好ましい。 In the general formula (4), R 1 , R 2 , and R 3 may be the same or different and are a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, or an aryl group. As the alkyl group represented by R 1 , R 2 , and R 3 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. As the alkoxy group represented by R 1, R 2, and R 3, preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. Furthermore, the aryl group represented by R 1 , R 2 , and R 3 is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.

前記一般式(3)で表されるホスフィン化合物の具体例としては、トリス(3−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(3−エチルフェニル)ホスフィン、トリス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(3,4−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(3−イソプロピルフェニル)ホスフィン、トリス(3−t−ブチルフェニル)ホスフィン、トリス(3,5−ジエチルフェニル)ホスフィン、トリス(3−メチル−5−エチルフェニル)ホスフィン)、トリス(3−フェニルフェニル)ホスフィン、トリス(3,4,5−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−エトキシ−3,5−ジエチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−ブトキシ−3,5−ジブチルフェニル)ホスフィン、トリ(p−メトキシフェニルホスフィン)、トリシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、トリベンジルホスフィン、トリ(4−メチルフェニルホスフィン)、トリ(4−エチルフェニルホスフィン)等を挙げることができる。これらのうち、特に好ましいものとしては、トリフェニルホスフィン、トリス(3−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphine compound represented by the general formula (3) include tris (3-methylphenyl) phosphine, tris (3-ethylphenyl) phosphine, tris (3,5-dimethylphenyl) phosphine, tris (3 , 4-Dimethylphenyl) phosphine, Tris (3-isopropylphenyl) phosphine, Tris (3-t-butylphenyl) phosphine, Tris (3,5-diethylphenyl) phosphine, Tris (3-methyl-5-ethylphenyl) Phosphine), tris (3-phenylphenyl) phosphine, tris (3,4,5-trimethylphenyl) phosphine, tris (4-methoxy-3,5-dimethylphenyl) phosphine, tris (4-ethoxy-3,5- Diethylphenyl) phosphine, tris (4-butoxy-3,5- Butylphenyl) phosphine, tri (p- methoxyphenyl) phosphine, tricyclohexylphosphine, dicyclohexylphenylphosphine, tribenzylphosphine, tri (4-methylphenyl) phosphine, tri (4-ethylphenyl) phosphine and the like. Of these, triphenylphosphine, tris (3-methylphenyl) phosphine, tris (4-methoxy-3,5-dimethylphenyl) phosphine and the like are particularly preferable.

前記コバルト化合物としては、下記一般式(5)で表される化合物を用いることができる。   As the cobalt compound, a compound represented by the following general formula (5) can be used.

Figure 0005481794
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前記一般式(5)で表される化合物は、塩化コバルトに対して、前記一般式(3)においてnが3であるホスフィン化合物を配位子に持つ錯体である。このコバルト化合物の使用に際しては、予め合成したものを使用してもよいし、又は重合系中に塩化コバルトとホスフィン化合物を接触させる方法で使用してもよい。錯体中のホスフィン化合物を種々選択することにより、得られるシンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの1,2−結合含量、結晶化度の制御を行うことができる。   The compound represented by the general formula (5) is a complex having a phosphine compound in which n is 3 in the general formula (3) as a ligand with respect to cobalt chloride. In using this cobalt compound, a pre-synthesized one may be used, or a method in which cobalt chloride and a phosphine compound are brought into contact with each other in the polymerization system. By selecting various phosphine compounds in the complex, the 1,2-bond content and crystallinity of the resulting syndiotactic 1,2-polybutadiene can be controlled.

前記一般式(5)で表されるコバルト化合物の具体例としては、コバルトビス(トリフェニルホスフィン)ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−メチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−エチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−メチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3,5−ジメチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3,4−ジメチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−イソプロピルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−t−ブチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3,5−ジエチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−メチル−5−エチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−フェニルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3,4,5−トリメチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−エトキシ−3,5−ジエチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−ブトキシ−3,5−ジブチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−メトキシフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−メトキシフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−ドデシルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−エチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド等を挙げることができる。   Specific examples of the cobalt compound represented by the general formula (5) include cobalt bis (triphenylphosphine) dichloride, cobalt bis [tris (3-methylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3-ethylphenyl). Phosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (4-methylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3,5-dimethylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3,4-dimethylphenylphosphine)] dichloride , Cobalt bis [tris (3-isopropylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3-t-butylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3,5-diethylphenylphosphine) Dichloride, cobalt bis [tris (3-methyl-5-ethylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3-phenylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3,4,5-trimethylphenylphosphine)] Dichloride, cobalt bis [tris (4-methoxy-3,5-dimethylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (4-ethoxy-3,5-diethylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (4-butoxy -3,5-dibutylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (4-methoxyphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3-methoxyphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [to Scan (4-dodecylphenyl) phosphine] dichloride, cobalt bis [tris (4-ethylphenyl) phosphine] dichloride, and the like.

これらのうち、特に好ましいものとしては、コバルトビス(トリフェニルホスフィン)ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3−メチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(3,5−ジメチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド、コバルトビス〔トリス(4−メトキシ−3,5−ジメチルフェニルホスフィン)〕ジクロライド等を挙げることができる。   Among these, cobalt bis [triphenylphosphine) dichloride, cobalt bis [tris (3-methylphenylphosphine)] dichloride, cobalt bis [tris (3,5-dimethylphenylphosphine)] dichloride, cobalt are particularly preferable. Bis [tris (4-methoxy-3,5-dimethylphenylphosphine)] dichloride and the like can be mentioned.

ブタジエン単独重合の場合は、ブタジエン1モル当たり、共重合する場合はブタジエンとブタジエン以外の共役ジエンとの合計量1モル当たり、コバルト化合物を、コバルト原子換算で0.001〜1ミリモル触媒として使用することが好ましく、0.01〜0.5ミリモル使用することが更に好ましい。また、ホスフィン化合物の使用量は、コバルト原子に対するリン原子の比(P/Co)として、通常0.1〜50であり、0.5〜20であることが好ましく、1〜20であることが更に好ましい。更に、アルミノオキサンの使用量は、コバルト化合物のコバルト原子に対するアルミニウム原子の比(Al/Co)として、通常4〜10であり、10〜10であることが好ましい。なお、前記一般式(5)で表される錯体を用いる場合は、ホスフィン化合物の使用量がコバルト原子に対するリン原子の比(P/Co)が2であるとし、アルミノオキサンの使用量は、上記の記載に従う。 In the case of butadiene homopolymerization, a cobalt compound is used as a catalyst in an amount of 0.001 to 1 mmol in terms of cobalt atom per mol of butadiene, or in the case of copolymerization, per mol of the total amount of butadiene and conjugated diene other than butadiene. It is preferable to use 0.01 to 0.5 mmol. Moreover, the usage-amount of a phosphine compound is 0.1-50 normally as a ratio (P / Co) of the phosphorus atom with respect to a cobalt atom, it is preferable that it is 0.5-20, and it is 1-20. Further preferred. Furthermore, the usage-amount of aluminoxane is 4-10 < 7 > normally as a ratio (Al / Co) of the aluminum atom with respect to the cobalt atom of a cobalt compound, and it is preferable that it is 10-10 < 6 >. In addition, when using the complex represented by the said General formula (5), the usage-amount of a phosphine compound assumes that the ratio (P / Co) of the phosphorus atom with respect to a cobalt atom is 2, and the usage-amount of aluminoxane is as follows. Follow the above description.

重合溶媒として用いられる不活性有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素溶媒、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ブタン等の脂肪族炭化水素溶媒、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環族炭化水素溶媒、及びこれらの混合物を挙げることができる。   Examples of the inert organic solvent used as the polymerization solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, xylene and cumene, aliphatic hydrocarbon solvents such as n-pentane, n-hexane and n-butane, and cyclopentane. , Alicyclic hydrocarbon solvents such as methylcyclopentane and cyclohexane, and mixtures thereof.

重合温度は、通常、−50〜120℃、好ましくは−20〜100℃である。重合反応は、回分式でも、連続式でもよい。なお、溶媒中の単量体濃度は、通常、5〜50質量%、好ましくは10〜35質量%である。また、重合体を製造するために、触媒及び重合体を失活させないために、重合系内に酸素、水、又は炭酸ガス等の失活作用のある化合物の混入を極力なくすような配慮が必要である。重合反応が所望の段階まで進行したら反応混合物をアルコール、その他の重合停止剤、老化防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加し、次いで、通常の方法に従って生成重合体を分離、洗浄、乾燥すれば、シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンを得ることができる。   The polymerization temperature is usually −50 to 120 ° C., preferably −20 to 100 ° C. The polymerization reaction may be batch or continuous. In addition, the monomer density | concentration in a solvent is 5-50 mass% normally, Preferably it is 10-35 mass%. In addition, in order to prevent the catalyst and the polymer from being deactivated in order to produce the polymer, it is necessary to consider that the mixing of compounds having a deactivating action such as oxygen, water, or carbon dioxide gas is minimized in the polymerization system. It is. When the polymerization reaction proceeds to a desired stage, the reaction mixture is added with alcohol, other polymerization terminator, anti-aging agent, antioxidant, ultraviolet absorber, etc., and then the produced polymer is separated and washed according to the usual method. If dried, syndiotactic 1,2-polybutadiene can be obtained.

(A−2)スチレン・イソプレン共重合体
スチレン・イソプレン共重合体(SIS)の分子量に特に限定はないが、重量平均分子量(Mw)が1万〜500万のものが好ましく、1万〜150万のものが更に好ましい。SISの市販品としては、JSR社製SIS5200P、SIS5229P(いずれも商品名)、日本ゼオン社製クインタック3433(商品名)等を挙げることができる。
(A-2) Styrene / isoprene copolymer The molecular weight of the styrene / isoprene copolymer (SIS) is not particularly limited, but the weight average molecular weight (Mw) is preferably 10,000 to 5,000,000, and preferably 10,000 to 150. Even more preferred is. Examples of commercially available SIS products include SIS5200P and SIS5229P (both are trade names) manufactured by JSR Corporation, and Quintac 3433 (trade name) manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.

(A−3)スチレン・ブタジエン共重合体
スチレン・ブタジエン共重合体(SBS)の分子量に特に限定はないが、重量平均分子量(Mw)が1万〜500万のものが好ましく、1万〜150万のものが更に好ましい。SBSの市販品としては、JSR社製TR1600、TR2000、TR2827(いずれも商品名)、旭化成ケミカルズ社製タフプレン125、タフプレン126(いずれも商品名)等を挙げることができる。
(A-3) Styrene-butadiene copolymer The molecular weight of the styrene-butadiene copolymer (SBS) is not particularly limited, but preferably has a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 5,000,000, preferably 10,000 to 150. Even more preferred is. Examples of commercially available products of SBS include TR1600, TR2000, TR2827 (all trade names) manufactured by JSR Corporation, Tufplen 125, Tufprene 126 (all trade names) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, and the like.

(A−1)シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンと、(A−2)スチレン・イソプレン共重合体及び(A−3)スチレン・ブタジエン共重合体の少なくともいずれかと、を組み合わせて使用した場合には、得られるレーザー加工用成形体の柔軟性向上するために好ましい。(A−1)シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンと、(A−2)スチレン・イソプレン共重合体及び(A−3)スチレン・ブタジエン共重合体の少なくともいずれかと、を組み合わせて使用する場合には、(A−1):{(A−2)+(A−3)}は、質量比で、80:20〜20:80であることが好ましく、70:30〜30:70であることが更に好ましい。(A−1):{(A−2)+(A−3)}をこの範囲に規定することにより、より柔軟性と加工性に優れたレーザー加工用成形体を製造することができる。   When (A-1) syndiotactic 1,2-polybutadiene is used in combination with (A-2) at least one of styrene / isoprene copolymer and (A-3) styrene / butadiene copolymer Is preferable in order to improve the flexibility of the obtained molded article for laser processing. When (A-1) syndiotactic 1,2-polybutadiene is used in combination with at least one of (A-2) a styrene / isoprene copolymer and (A-3) a styrene / butadiene copolymer. (A-1): {(A-2) + (A-3)} is a mass ratio of preferably 80:20 to 20:80, and 70:30 to 30:70. Is more preferable. By defining (A-1): {(A-2) + (A-3)} within this range, it is possible to produce a molded article for laser processing that is more excellent in flexibility and workability.

(B)シリカ粒子
架橋性組成物には、(B)シリカ粒子(以下、「(B)成分」ともいう)を含有させることが好ましい。(B)成分を含有させることで、レーザー加工後の残渣がべたつくことのない、加工性に優れたレーザー加工用成形品を製造することができる。(B)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、0〜50質量部であることが好ましく、0.1〜50質量部であることが更に好ましく、1〜45質量部であることが特に好ましく、5〜40質量部であることが最も好ましい。(B)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して50質量部超であると、製造されるレーザー加工用成形品の柔軟性及び加工性が損なわれる傾向にある。
(B) Silica Particles It is preferable for the crosslinkable composition to contain (B) silica particles (hereinafter also referred to as “component (B)”). By containing the component (B), it is possible to produce a molded article for laser processing that is excellent in workability and does not have a residue after laser processing. The content of the component (B) is preferably 0 to 50 parts by mass, more preferably 0.1 to 50 parts by mass, and 1 to 45 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Particularly preferred is 5 to 40 parts by mass. When the content of the component (B) is more than 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), the flexibility and workability of the manufactured molded product for laser processing tend to be impaired.

シリカ粒子としては、様々な種類のものを挙げることができるが、レーザー加工時に生ずる発炎を更に抑制し、加工表面のべたつきを更に抑えてレーザー彫刻精度を向上させるといった観点からは、無水シリカ粒子が好ましい。また、シリカ粒子の平均一次粒子径は、0.005μm以上、0.1μm未満であることが好ましく、0.01以上、0.1μm未満であることが更に好ましく、0.01〜0.05μmであることが特に好ましい。シリカ粒子の平均一次粒子径が0.1μm以上であると、レーザー彫刻精度が劣る傾向にある。一方、0.005μm未満であると、実質的に入手が困難となる傾向にある。なお、本実施形態のレーザー加工用組成物に含まれる好適なシリカ粒子のより具体的な一例としては、アエロジル(商品名(デグサ社製))等を挙げることができる。なお、シリカ粒子は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。   As silica particles, various types can be mentioned. From the viewpoint of further suppressing the flame generated during laser processing and further suppressing the stickiness of the processed surface to improve the laser engraving accuracy, anhydrous silica particles. Is preferred. The average primary particle diameter of the silica particles is preferably 0.005 μm or more and less than 0.1 μm, more preferably 0.01 or more and less than 0.1 μm, and preferably 0.01 to 0.05 μm. It is particularly preferred. When the average primary particle diameter of the silica particles is 0.1 μm or more, the laser engraving accuracy tends to be inferior. On the other hand, when it is less than 0.005 μm, it tends to be substantially difficult to obtain. In addition, as a more specific example of suitable silica particles contained in the composition for laser processing of the present embodiment, Aerosil (trade name (manufactured by Degussa)) and the like can be mentioned. In addition, a silica particle can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(C)伸展油
架橋性組成物には、その粘度比重恒数(又は「粘度比重定数」ともいう。以下、「V.G.C.」という)が0.790〜0.999、好ましくは0.790〜0.949、更に好ましくは0.790〜0.912である(C)伸展油(以下、「(C)成分」ともいう)を含有させることが好ましい。(C)成分を含有させることで、柔軟性と加工性を向上させることができる。(C)成分の具体例としては、アロマティック系伸展油、ナフテン系伸展油、パラフィン系伸展油等を挙げることができる。なかでも、ナフテン系伸展油、パラフィン系伸展油が好ましく、ナフテン系伸展油とパラフィン系伸展油を併用することも好ましい。
(C) Extending oil The crosslinkable composition has a viscosity specific gravity constant (also referred to as “viscosity specific gravity constant”, hereinafter referred to as “VGC”) of 0.790 to 0.999, preferably It is preferable to contain (C) extended oil (hereinafter also referred to as “component (C)”) of 0.790 to 0.949, more preferably 0.790 to 0.912. By including the component (C), flexibility and workability can be improved. Specific examples of the component (C) include an aromatic extending oil, a naphthenic extending oil, and a paraffin extending oil. Of these, naphthenic extender oil and paraffinic extender oil are preferable, and it is also preferable to use naphthenic extender oil and paraffinic extender oil in combination.

上記のV.G.C.の数値範囲を満たすアロマティック系伸展油の具体例としては、商品名「ダイアナプロセスオイルAC−12」、「同AC460」、「同AH−16」、「同AH−58」(以上、出光興産社製);商品名「モービルゾールK」、「同22」、「同130」(以上、エクソンモービル社製);商品名「共石プロセスX50」、「同X100」、「同X140」(以上、日鉱共石社製);商品名「レゾックスNo.3」、「デュートレックス729UK」(以上、シェル化学社製);商品名「コウモレックス200」、「同300」、「同500」、「同700」(以上、日本石油社製);商品名「エッソプロセスオイル110」、「同120」(以上、エクソンモービル社製);商品名「三菱34ヘビープロセス油」、「三菱44ヘビープロセス油」、「三菱38ヘビープロセス油」、「三菱39ヘビープロセス油」(以上、三菱石油社製);等を挙げることができる。   V. above. G. C. Specific examples of aromatic extender oils satisfying the numerical range of “Diana Process Oil AC-12”, “AC460”, “AH-16”, “AH-58” (above, Idemitsu Kosan Co., Ltd.) Product names “Mobil Sol K”, “Same 22”, “Same 130” (exxon Mobil Corp.); Product names “Kyoishi Process X50”, “X100”, “X140” (above) Trade names “Rezox No. 3”, “Dutrex 729UK” (above, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.); trade names “Komolex 200”, “300”, “500”, “ 700 ”(above, manufactured by Nippon Oil Co., Ltd.); Trade names“ Esso Process Oil 110 ”,“ 120 ”(above, ExxonMobil Corp.); Trade names“ Mitsubishi 34 Heavy Process Oil ”,“ Mitsubishi 44 Heavy Pro ” Scan oil "," Mitsubishi 38 heavy process oil "," Mitsubishi 39 heavy process oil "(above, Mitsubishi Oil Co., Ltd.); and the like can be given.

また、上記のV.G.C.の数値範囲を満たすナフテン系伸展油の具体例としては、商品名「ダイアナプロセスオイルNS−24」、「同NS−100」、「同NM−26」、「同NM−280」、「同NP−2」(以上、出光興産社製);商品名「ナプレックス38」(以上、エクソンモービル社製);商品名「フッコールFLEX#1060N」、「同#1150N」、「同#1400N」、「同#2040N」、「同#2050N」(以上、富士興産社製);商品名「共石プロセスR25」、「同R50」、「同R200」、「同R1000」(以上、日鉱共石社製);商品名「シェルフレックス371JY」、「同371N」、「同451」、「同N−40」、「同22」、「同22R」、「同32R」、「同100R」、「同100S」、「同100SA」、「同220RS」、「同220S」、「同260」、「同320R」、「同680」(以上、シェル化学社製);商品名「コウモレックス2号プロセスオイル」(以上、日本石油社製);商品名「エッソプロセスオイルL−2」、「同765」(以上、エクソンモービル社製);商品名「三菱20ライトプロセス油」(以上、三菱石油社製);等を挙げることができる。   In addition, V. G. C. Specific examples of naphthenic extender oils satisfying the numerical value ranges of “Diana Process Oil NS-24”, “NS-100”, “NM-26”, “NM-280”, “NP” -2 "(above, manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.); trade name" Naplex 38 "(above, manufactured by ExxonMobil Corp.); trade names" Fukkor FLEX # 1060N "," same # 1150N "," same # 1400N "," # 2040N "," # 2050N "(Fuji Kosan Co., Ltd.); trade names" Kyoishi Process R25 "," R50 "," R200 "," R1000 "(Nippon Kyoishi Co., Ltd.) Product names “Shelf Rex 371JY”, “Same 371N”, “Same 451”, “Same N-40”, “Same 22”, “Same 22R”, “Same 32R”, “Same 100R”, “Same 100S” ", 100 SA" “Same 220RS”, “Same 220S”, “Same 260”, “Same 320R”, “Same 680” (above, manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.); ); Trade names “Esso Process Oil L-2”, “same 765” (exxon Mobil, Inc.); trade names “Mitsubishi 20 Light Process Oil” (ex, Mitsubishi Petroleum); .

更に、上記のV.G.C.の数値範囲を満たすパラフィン系伸展油の具体例としては、商品名「ダイアナプロセスオイルPW−90」、「同PW−380」、「同PS−32」、「同PS−90」、「同PS−430」(以上、出光興産社製);商品名「フッコールプロセスP−100」、「同P−200」、「同P−300」、「同P400」、「同P−500」(以上、富士興産社製);商品名「共石プロセスP−200」、「同P−300」、「同P−500」、「共石EPT750」、「同1000」、「共石プロセスS90」(以上、日鉱共石社製);商品名「ルブレックス26」、「同100」、「同460」(以上、シェル化学社製);商品名「エッソプロセスオイル815」、「同845」、「同B−1」、「ナプレックス32」(以上、エクソンモービル社製);商品名「三菱10ライトプロセス油」(以上、三菱石油社製);等を挙げることができる。   Furthermore, V. G. C. Specific examples of the paraffinic extender oil satisfying the numerical value range of “Diana Process Oil PW-90”, “PW-380”, “PS-32”, “PS-90”, “PS” -430 "(manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.); trade names" Fukkor Process P-100 "," P-200 "," P-300 "," P400 "," P-500 "(and above) Product names “Kyoishi Process P-200”, “P-300”, “P-500”, “Kyoishi EPT750”, “1000”, “Kyoishi Process S90” As above, trade names “Lebrex 26”, “100”, “460” (above, manufactured by Shell Chemical); trade names “Esso Process Oil 815”, “845”, “ B-1 ”,“ Naplex 32 ”(exxonmo Building Co., Ltd.); trade name "Mitsubishi 10 light process oil" (above, Mitsubishi Oil Co., Ltd.); and the like can be given.

(C)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、200質量部以下であることが好ましく、150質量部以下であることが更に好ましく、100質量部以下であることが特に好ましい。(C)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して200質量部超であると、製造されるレーザー加工用成形品の加工性が損なわれる傾向にある。なお、加工表面にべたつきが生じ難く、十分な彫刻精度を有するフレキソ印刷版を提供可能になるといった観点からは、(C)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、5質量部以上であることが好ましい。   The content of the component (C) is preferably 200 parts by mass or less, more preferably 150 parts by mass or less, and particularly preferably 100 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the component (A). preferable. When the content of the component (C) is more than 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), the processability of the manufactured molded product for laser processing tends to be impaired. In addition, from the viewpoint that a flexographic printing plate having sufficient engraving accuracy can be provided with less stickiness on the processed surface, the content of the component (C) is 5 with respect to 100 parts by mass of the component (A). It is preferable that it is more than a mass part.

(D)光重合開始剤
架橋性組成物には、(D)光重合開始剤(以下、「(D)成分」ともいう)を含有させることが好ましい。(D)成分を含有させることで、低エネルギー線量の紫外線で架橋することができる。(D)成分の種類に特に制限はないが、具体例としては、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、オキシムエステル類、アシルホスフィンオキサイド系化合物を挙げることができる。なかでも、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、アシルホスフィンオキサイド系化合物が好ましく、アシルホスフィンオキサイド系化合物が特に好ましい。これらの光重合開始剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
(D) Photopolymerization initiator The crosslinkable composition preferably contains (D) a photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as “component (D)”). (D) By containing a component, it can bridge | crosslink with the ultraviolet-ray of a low energy dose. Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of (D) component, As a specific example, a benzophenone, a benzyl dimethyl ketal, (alpha) -hydroxy ketones, (alpha) -amino ketones, oxime esters, and an acyl phosphine oxide type compound can be mentioned. Of these, α-hydroxyketones, α-aminoketones, and acylphosphine oxide compounds are preferable, and acylphosphine oxide compounds are particularly preferable. These photoinitiators can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

α−ヒドロキシケトン類としては、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン等を挙げることができる。α−アミノケトン類としては、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1等を挙げることができる。オキシムエステル類としては、1,2−オクタンジオン、1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)]等を挙げることができる。   Examples of the α-hydroxy ketones include 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one. As α-amino ketones, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone- 1 etc. can be mentioned. Examples of oxime esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], and the like.

また、アシルホスフィンオキサイド系化合物としては、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。   Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide.

(D)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、10質量部以下であることが好ましく、0.1〜10質量部であることが更に好ましく、0.1〜7質量部であることが特に好ましい。(D)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して10質量部超であると、製造されるレーザー加工用成形品の表面にブリードする傾向にある。なお、(D)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して0.1質量部未満であると、低エネルギー線量の紫外線で架橋促進効果が十分に得られないために、放射線架橋が紫外線架橋の場合に彫刻精度が劣る場合がある。   The content of the component (D) is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, and 0.1 to 7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Part is particularly preferred. When the content of the component (D) is more than 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), there is a tendency to bleed on the surface of the manufactured molded article for laser processing. In addition, since content of (D) component is less than 0.1 mass part with respect to 100 mass parts of (A) component, since crosslinking promotion effect is not fully acquired with the low energy dose of ultraviolet rays, radiation When the crosslinking is ultraviolet crosslinking, the engraving accuracy may be inferior.

(E)多官能アクリレート
架橋性組成物には、(E)多官能アクリレート(以下、「(E)成分」ともいう)を含有させることが好ましい。(E)成分を含有させることで、放射線架橋による架橋効率が向上して、製造されるレーザー加工用成形品の彫刻精度を向上させることができる。
(E) Polyfunctional acrylate The crosslinkable composition preferably contains (E) a polyfunctional acrylate (hereinafter also referred to as “component (E)”). By including the component (E), the crosslinking efficiency by radiation crosslinking can be improved, and the engraving accuracy of the manufactured product for laser processing can be improved.

(E)成分の種類に特に制限はないが、具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリシクロデカンジイルジメタノールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等を挙げることができる。なかでも、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレートが好ましく、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートが特に好ましい。これらの多官能アクリレートは、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。   (E) Although there is no restriction | limiting in particular in the kind of component, As a specific example, a trimethylol propane triacrylate, a trimethylol propane trimethacrylate, a trimethylol propane trioxyethyl methacrylate, a pentaerythritol trimetallate, ethylene glycol dimethacrylate, a trimethylol Ethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, tricyclodecanediyl dimethanol dimethacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, tri Examples include propylene glycol dimethacrylate and neopentyl glycol dimethacrylate. Among these, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane trioxyethyl methacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and triethylene glycol diacrylate are preferable, and trimethylolpropane triacrylate and trimethylolpropane are preferred. Trimethacrylate is particularly preferred. These polyfunctional acrylates can be used singly or in combination of two or more.

(D)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、10質量部以下であることが好ましく、0.1〜7質量部であることが更に好ましく、0.1〜4質量部であることが特に好ましい。(D)成分の含有量が、(A)成分100質量部に対して10質量部超であると、製造されるレーザー加工用成形品の表面にブリードする傾向にある。なお、(D)成分の含有量が、(A)成分合計100質量部に対して0.1質量部未満であると、架橋促進効果が十分に得られないために、放射線架橋が紫外線架橋の場合に彫刻精度が劣る場合がある。   The content of the component (D) is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 0.1 to 7 parts by mass, and 0.1 to 4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). Part is particularly preferred. When the content of the component (D) is more than 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A), there is a tendency to bleed on the surface of the manufactured molded article for laser processing. If the content of component (D) is less than 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component (A), the effect of promoting crosslinking cannot be sufficiently obtained. In some cases, the engraving accuracy may be inferior.

(F)有機過酸化物
架橋性組成物には、(F)有機過酸化物(以下、「(F)成分」ともいう)を含有させることが好ましい。この(F)成分は架橋剤として作用する成分であり、具体例としては、エラストマーの架橋剤として一般的に用いられるものを挙げることができる。なお、有機過酸化物は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
(F) Organic peroxide The crosslinkable composition preferably contains (F) an organic peroxide (hereinafter also referred to as “component (F)”). This component (F) is a component that acts as a crosslinking agent, and specific examples thereof include those commonly used as elastomer crosslinking agents. In addition, an organic peroxide can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

(F)成分を架橋性組成物に含有させる場合における(F)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、0.01〜0.1質量部であることが好ましく、0.01〜0.05質量部であることが更に好ましく、0.01〜0.03質量部であることが特に好ましい。(F)の含有量が0.01質量部未満であると、架橋反応性が低く、得られるレーザー加工用成形品の架橋密度が低くなり、好適な彫刻精度を示さなくなる傾向にある。一方、(F)の含有量が0.1質量部超であると、安定した状態で架橋を制御し難く加工性が悪くなる傾向にある。   When the component (F) is contained in the crosslinkable composition, the content of the component (F) is preferably 0.01 to 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). The amount is more preferably 0.01 to 0.05 parts by mass, and particularly preferably 0.01 to 0.03 parts by mass. When the content of (F) is less than 0.01 parts by mass, the crosslinking reactivity is low, the crosslinking density of the obtained molded article for laser processing is low, and there is a tendency that suitable engraving accuracy is not exhibited. On the other hand, when the content of (F) is more than 0.1 parts by mass, it is difficult to control the crosslinking in a stable state, and the processability tends to deteriorate.

(F)成分は、その半減期が1分となる温度が、90℃以上、180℃未満のものであることが好ましい。このような(F)成分を用いると、動的な熱架橋が可能となり、組み合わせる放射線架橋が低エネルギー線量であっても高い架橋密度が得られ、加工性を向上させるとともに、製造されるレーザー加工用成形品の彫刻精度を向上することができる。このような(F)成分の具体例としては、1,1−ビス(t−ブチルパ−オキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(4,4−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシアセテート、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、ジ−t−ブチルパーオキシイソフタレート、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、p−メンタンヒドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、t−ヘキシルヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド等を挙げることができる。   The component (F) preferably has a temperature at which its half-life is 1 minute, 90 ° C. or more and less than 180 ° C. When such a component (F) is used, dynamic thermal cross-linking is possible, and even when the combined cross-linking radiation is a low energy dose, a high cross-linking density is obtained, and the laser processing to be manufactured is improved. The engraving accuracy of the molded product can be improved. Specific examples of such component (F) include 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 2,2-bis (4,4-di-t-butylperoxycyclohexyl) propane, 1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butyl Peroxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy 2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylper Oxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butyl Luperoxyacetate, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, t-butylperoxybenzoate, n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, di-t-butylperoxy Isophthalate, α, α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumyl peroxide , Di-t-butyl peroxide, p-menthane hydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, diisopropylbenzene hydroperoxide, t-butyltrimethylsilyl peroxide 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, cumene hydro Over oxide, t-hexyl hydroperoxide, may be mentioned t-butyl hydroperoxide and the like.

(G)硫黄・硫黄化合物
架橋性組成物には、(G)硫黄又は硫黄化合物(以下、「(G)成分」ともいう)を含有させることが好ましい。この(G)成分は、架橋剤として作用する成分である。(G)成分を架橋性組成物に含有させる場合における(G)成分の含有量は、(A)成分100質量部に対して、0.01〜1質量部であることが好ましく、0.01〜0.5質量部であることが更に好ましく、0.01〜0.3質量部であることが特に好ましい。(G)の含有量が0.01質量部未満であると、架橋反応性が低く、得られるレーザー加工用成形品の架橋密度が低くなり、好適な彫刻精度を示さなくなる傾向にある。一方、(G)の含有量が1質量部超であると、安定した状態で架橋を制御し難く加工性が悪くなる傾向にある。
(G) Sulfur / sulfur compound The crosslinkable composition preferably contains (G) sulfur or a sulfur compound (hereinafter also referred to as “component (G)”). This (G) component is a component which acts as a crosslinking agent. When the component (G) is contained in the crosslinkable composition, the content of the component (G) is preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A). It is more preferable that it is -0.5 mass part, and it is especially preferable that it is 0.01-0.3 mass part. When the content of (G) is less than 0.01 parts by mass, the crosslinking reactivity is low, the crosslinking density of the obtained molded article for laser processing is low, and there is a tendency that a suitable engraving accuracy is not exhibited. On the other hand, when the content of (G) is more than 1 part by mass, it is difficult to control crosslinking in a stable state, and the processability tends to deteriorate.

硫黄の具体例としては、粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、不溶性硫黄、高分散性硫黄等を挙げることができる。なお、二種以上の硫黄を組み合わせて用いることもできる。また、硫黄化合物の具体例としては、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等のチウラム系化合物;チアゾール系化合物等を挙げることができる。なお、二種以上の硫黄化合物を組み合わせて用いることもできる。   Specific examples of sulfur include powdered sulfur, precipitated sulfur, colloidal sulfur, insoluble sulfur, and highly dispersible sulfur. Two or more kinds of sulfur can be used in combination. Specific examples of the sulfur compound include thiuram compounds such as tetramethyl thiuram monosulfide, tetramethyl thiuram disulfide, tetraethyl thiuram disulfide, tetrabutyl thiuram disulfide, dipentamethylene thiuram tetrasulfide; thiazole compounds and the like. it can. Two or more sulfur compounds may be used in combination.

(その他の成分)
架橋性組成物には、必要に応じて、架橋助剤、活性剤、難燃剤、老化防止剤、顔料、液状ゴム、その他の重合体等を配合することもできる。
(Other ingredients)
If necessary, the crosslinkable composition may contain a crosslinking aid, an activator, a flame retardant, an antiaging agent, a pigment, a liquid rubber, other polymers, and the like.

(動的熱架橋)
本発明のレーザー加工用成形品の製造方法では、架橋性組成物を、先ず動的に熱処理して架橋(動的熱架橋)する。ここで、「動的に熱処理する」とは、剪断力を加えること、及び加熱することの両方を行うことをいう。架橋性組成物には、(A)成分とともに、(F)成分又は(G)成分が含有されているため、動的に熱処理することで(A)成分をはじめとする重合体成分が架橋される。但し、(A)成分の配合量に対する、(F)成分又は(G)成分の配合量が少なく設定されているために、この動的な熱処理によって、(A)成分の一部のみが架橋されることとなり、ある程度の流動性を保持した状態の一部架橋物を得ることができる。
(Dynamic thermal crosslinking)
In the method for producing a molded article for laser processing of the present invention, the crosslinkable composition is first dynamically heat-treated and crosslinked (dynamic thermal crosslinking). Here, “dynamically heat-treating” refers to both applying a shearing force and heating. Since the crosslinkable composition contains the component (F) or the component (G) together with the component (A), the polymer component including the component (A) is crosslinked by dynamic heat treatment. The However, since the blending amount of the component (F) or the component (G) is set to be small relative to the blending amount of the component (A), only a part of the component (A) is crosslinked by this dynamic heat treatment. As a result, a partially cross-linked product having a certain degree of fluidity can be obtained.

なお、動的な熱処理による(A)成分の架橋の有無については、熱処理後に高分子の架橋体が生成しているか否かをGPC分析することによって確認することができる。このGPC分析の方法については後述する。   The presence or absence of crosslinking of the component (A) by dynamic heat treatment can be confirmed by GPC analysis as to whether or not a crosslinked polymer has been formed after heat treatment. This GPC analysis method will be described later.

動的熱架橋を実施するための装置としては、溶融混練装置等を好適例として挙げることができる。この溶融混練装置による処理は、連続式及びバッチ式のいずれの方式でもよい。溶融混練装置の具体例としては、開放型のミキシングロール、非開放型のバンバリーミキサ、一軸押出機、二軸押出機、連続式混練機、加圧ニーダー等を挙げることができる。また、型式が同一の又は異なる連続式の溶融混練装置を二台以上組み合わせて用いてもよい。   As an apparatus for carrying out dynamic thermal crosslinking, a melt kneading apparatus or the like can be cited as a suitable example. The treatment by the melt kneader may be either a continuous type or a batch type. Specific examples of the melt kneader include an open type mixing roll, a non-open type Banbury mixer, a single screw extruder, a twin screw extruder, a continuous kneader, and a pressure kneader. Further, two or more continuous melt-kneading apparatuses of the same type or different types may be used in combination.

動的熱架橋を実施するに際しての処理温度は、90〜180℃とすることが好ましく、120〜150℃とすることが更に好ましい。処理時間は、10秒間〜30分間とすることが好ましく、20秒間〜20分間とすることが更に好ましい。また、負荷する剪断力は、ずり速度で10〜20000/秒とすることが好ましく、100〜10000/秒とすることが更に好ましい。   The treatment temperature for carrying out dynamic thermal crosslinking is preferably 90 to 180 ° C, more preferably 120 to 150 ° C. The treatment time is preferably 10 seconds to 30 minutes, more preferably 20 seconds to 20 minutes. Further, the shearing force to be applied is preferably 10 to 20000 / second in terms of shear rate, and more preferably 100 to 10,000 / second.

(放射線架橋)
本発明のレーザー加工用成形品の製造方法では、動的熱架橋に次いで、放射線架橋を実施する。即ち、前述の動的熱架橋によって得られた一部架橋物について、放射線架橋を行う。この放射線架橋により、レーザー加工するに際して、加工面における彫刻されない周囲の部分(残す部分)が溶け難くなり、高い彫刻精度で印刷パターンを形成することが可能なレーザー加工用成形品を得ることができる。なお、放射線架橋の前に成形を行うことにより、所望とする形状のレーザー加工用成形品を製造することができる。
(Radiation crosslinking)
In the method for producing a molded article for laser processing according to the present invention, radiation crosslinking is carried out following dynamic thermal crosslinking. That is, radiation crosslinking is performed on the partially crosslinked product obtained by the above-described dynamic thermal crosslinking. By this radiation cross-linking, when laser processing is performed, a peripheral portion (a portion to be left) that is not engraved on the processed surface is hardly melted, and a molded product for laser processing capable of forming a print pattern with high engraving accuracy can be obtained. . In addition, the molded product for laser processing of a desired shape can be manufactured by shape | molding before radiation bridge | crosslinking.

製造するレーザー加工用成形品が、少なくとも一方の面にレーザー彫刻可能な加工面を有するシート状の成形品(レーザー加工用シート)である場合には、動的熱架橋によって得た一部架橋物を押出成形、カレンダー成形、プレス成形等することによって、所望とするシート状に成形することができる。なお、押出成形によってレーザー加工用シートを製造する場合には、押出成形後に連続にて放射線架橋することも可能であり、製造効率の観点から好ましい。   When the molded product for laser processing is a sheet-shaped molded product (laser processing sheet) having a processed surface capable of laser engraving on at least one surface, a partially crosslinked product obtained by dynamic thermal crosslinking Can be formed into a desired sheet shape by extrusion molding, calendar molding, press molding or the like. In addition, when manufacturing the sheet | seat for laser processing by extrusion molding, it is also possible to carry out radiation bridge | crosslinking continuously after extrusion molding, and it is preferable from a viewpoint of manufacturing efficiency.

EB架橋を行う場合には、電子線の照射(吸収)線量は、20〜500kGyであることが好ましく、50〜200kGyであることが更に好ましい。電子線の照射(吸収)線量が20kGy未満であると、架橋が不十分となる場合がある。一方、電子線の照射(吸収)線量が500kGy超であると、得られるレーザー加工用成形品が硬く、フレキシビリティが不足する傾向にある。また、電子線の加速電圧は800kV以下であることが好ましい。電子線の加速電圧が800kV超であると、電子線照射装置が非常に高価となり、実用性に欠ける傾向にある。   When EB crosslinking is performed, the electron beam irradiation (absorption) dose is preferably 20 to 500 kGy, and more preferably 50 to 200 kGy. If the electron beam irradiation (absorption) dose is less than 20 kGy, crosslinking may be insufficient. On the other hand, when the irradiation (absorption) dose of the electron beam exceeds 500 kGy, the obtained molded article for laser processing tends to be hard and the flexibility tends to be insufficient. The acceleration voltage of the electron beam is preferably 800 kV or less. If the acceleration voltage of the electron beam exceeds 800 kV, the electron beam irradiation apparatus becomes very expensive and tends to lack practicality.

一方、UV架橋を行う場合には、照射する紫外線の波長は、100〜500nmの範囲であることが好ましい。また、紫外線の照射(露光)量は、200〜5000mJ/cmであることが好ましく、500〜2000mJ/cmであることが更に好ましい。紫外線の照射(露光)量が100mJ/cm未満であると、架橋が不十分となる場合がある。一方、紫外線の照射(露光)量が5000mJ/cm超であると、得られるレーザー加工用成形品が硬く、フレキシビリティが不足する傾向にある。 On the other hand, when UV crosslinking is performed, the wavelength of ultraviolet rays to be irradiated is preferably in the range of 100 to 500 nm. The irradiation (exposure) of the ultraviolet is preferably 200~5000mJ / cm 2, further preferably 500~2000mJ / cm 2. If the irradiation (exposure) amount of ultraviolet rays is less than 100 mJ / cm 2 , crosslinking may be insufficient. On the other hand, when the irradiation (exposure) amount of ultraviolet rays is more than 5000 mJ / cm 2 , the obtained molded article for laser processing tends to be hard and the flexibility tends to be insufficient.

本発明のレーザー加工用成形品が、シート状の成形品(レーザー加工用シート)である場合には、その一方の面上にシート状の基材層が積層されていることが好ましい。このような積層体とすることにより、レーザー加工用成形品の変形を防ぐとともに、印刷の際に要する印圧を低くすることができる。また、レーザー加工用シート全体を軽量化することもでき、比較的大型のシートとする場合に好適である。なお、基材層を構成する材料としては、PET樹脂、アクリル樹脂、ABS樹脂等の合成樹脂材料;スチール、アルミニウム等の金属材料等を挙げることができる。なかでも、レーザー加工用シートに透明性を付与したい場合、PET樹脂、アクリル樹脂等の透明性に優れる合成樹脂材料が好ましい。   When the molded product for laser processing of the present invention is a sheet-shaped molded product (laser processing sheet), a sheet-like base material layer is preferably laminated on one surface thereof. By setting it as such a laminated body, while preventing the deformation | transformation of the molded article for laser processing, the printing pressure required in the case of printing can be made low. In addition, the entire laser processing sheet can be reduced in weight, which is suitable for a relatively large sheet. In addition, as a material which comprises a base material layer, synthetic resin materials, such as PET resin, an acrylic resin, and ABS resin; Metal materials, such as steel and aluminum, etc. can be mentioned. Among these, when it is desired to impart transparency to the laser processing sheet, a synthetic resin material having excellent transparency such as PET resin and acrylic resin is preferable.

基材層の厚みは、0.02mm〜1mmであることが好ましく、0.03mm〜0.5mmであることが更に好ましく、0.04mm〜0.2mmであることが特に好ましい。基材層の厚みが0.02mm未満であると、基材として十分な強度及び特性が発揮され難くなる傾向にある。一方、1mm超であると、版が硬くなり過ぎて作業性が低下する傾向にある。   The thickness of the base material layer is preferably 0.02 mm to 1 mm, more preferably 0.03 mm to 0.5 mm, and particularly preferably 0.04 mm to 0.2 mm. When the thickness of the base material layer is less than 0.02 mm, sufficient strength and characteristics as a base material tend to be hardly exhibited. On the other hand, if it exceeds 1 mm, the plate tends to be too hard and workability tends to decrease.

レーザー加工用シートの厚みは、0.3mm〜7mmであることが好ましく、0.5mm〜3mmであることが更に好ましい。0.5mm未満であると、照射されるレーザーの強度等にもよるが、レーザーが突き抜けてしまい易くなる傾向にある。一方、7mm超であると厚過ぎるために、取り扱い性が低下するのみならず、UVやEBを使用した架橋性が低下する傾向にある。   The thickness of the laser processing sheet is preferably 0.3 mm to 7 mm, and more preferably 0.5 mm to 3 mm. If it is less than 0.5 mm, the laser tends to penetrate easily, although it depends on the intensity of the irradiated laser. On the other hand, if it exceeds 7 mm, it is too thick, so that not only the handleability is lowered but also the crosslinkability using UV or EB tends to be lowered.

2.フレキソ印刷版:
本発明のフレキソ印刷版は、前述のレーザー加工用成形品の加工面がレーザーで彫刻され、所定の印刷パターンが形成されたものである。即ち、本発明のフレキソ印刷版は、前述のレーザー加工用成形品の加工面をレーザーで彫刻加工することにより、この加工面に所定の印刷パターンを形成して製造することができる。従って、本発明のフレキソ印刷版は、優れた彫刻精度で容易に製造され得るものであり、十分な彫刻深度を備えたものである。
2. Flexographic printing plate:
The flexographic printing plate of the present invention is obtained by engraving a processed surface of the above-described molded product for laser processing with a laser to form a predetermined printing pattern. That is, the flexographic printing plate of the present invention can be manufactured by forming a predetermined printing pattern on the processed surface by engraving the processed surface of the molded article for laser processing with a laser. Therefore, the flexographic printing plate of the present invention can be easily manufactured with excellent engraving accuracy and has a sufficient engraving depth.

レーザー加工用成形品(シート)の加工面を彫刻加工するに際して用いるレーザー照射装置としては、主として炭酸ガスレーザーを挙げることができる。レーザーの強度は、使用するレーザー加工用シートの厚みや、所望とする彫刻深度にもよるが、1光源当たりで10〜500Wであることが好ましく、10〜300Wであることが更に好ましい。10W未満であると、十分な彫刻深度で印刷パターンを形成することが困難となる傾向にある。一方、500W超であると、強度が強過ぎるため、彫刻精度が低下する傾向にある。一般的に、レーザー加工速度を上げるためには1光源当たりの強度を増すよりも、光源数を増やして多点を同時並行して加工することが好ましい。   As a laser irradiation apparatus used when engraving a processed surface of a molded product (sheet) for laser processing, a carbon dioxide laser can be mainly mentioned. The laser intensity is preferably 10 to 500 W, more preferably 10 to 300 W per light source, although it depends on the thickness of the laser processing sheet used and the desired engraving depth. If it is less than 10 W, it tends to be difficult to form a print pattern at a sufficient engraving depth. On the other hand, if it exceeds 500 W, the strength is too strong and the engraving accuracy tends to decrease. In general, in order to increase the laser processing speed, it is preferable to increase the number of light sources and simultaneously process multiple points rather than increasing the intensity per light source.

レーザーによる彫刻加工は、レーザー加工用シートを平らに配置した状態で行うことができるが、例えば金属等からなるロール上にレーザー加工用シートを配設した状態で行うこともできる。レーザーによる彫刻加工を行った後は、生じた灰(残査)を除去すべく、加工面を洗浄することが好ましい。加工面の洗浄は、水や有機溶媒や界面活性剤溶液を用いた洗浄の他、空気流の吹き付けまたは吸引による洗浄によって行うことができる。   Engraving by laser can be performed in a state where the sheet for laser processing is arranged flat, but can also be performed in a state where the sheet for laser processing is arranged on a roll made of metal or the like. After engraving with a laser, it is preferable to clean the processed surface in order to remove the generated ash (residue). The processing surface can be cleaned by cleaning with water or an organic solvent or a surfactant solution, or by blowing or sucking an air flow.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例、比較例中の「部」及び「%」は、特に断らない限り質量基準である。また、各種物性値の測定方法、及び諸特性の評価方法を以下に示す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. In the examples and comparative examples, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified. Moreover, the measuring method of various physical-property values and the evaluation method of various characteristics are shown below.

[高分子架橋体生成の有無]:GPC測定装置(Viscotek社製、商品名「GPC TDA−302」)を使用し、示差屈折計及び光散乱検出器を検知器として用いて以下の条件で測定し、混練前の溶出曲線及び混練後の溶出曲線をLALLS法により作成した。
カラム:東ソー社製、商品名「GMHHR−H」
カラム温度:40℃
移動相:テトラヒドロフラン
流速:1.0ml/min
サンプル濃度:50mg/20ml
[Presence / absence of polymer crosslinked product]: Measured under the following conditions using a differential refractometer and a light scattering detector as a detector using a GPC measuring device (trade name “GPC TDA-302” manufactured by Viscotek). Then, an elution curve before kneading and an elution curve after kneading were prepared by the LALLS method.
Column: manufactured by Tosoh Corporation, trade name “GMHHR-H”
Column temperature: 40 ° C
Mobile phase: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 ml / min
Sample concentration: 50 mg / 20 ml

混練前の溶出曲線と混練後の溶出曲線を対比し、混練後の溶出曲線における、保持容量の小さい領域(高分子領域)のピーク成長の有無に基づき、以下に示す基準に従って高分子架橋体生成の有無を確認した。
有:ピーク成長を確認可能
無:ピーク成長を確認不可能
Comparing the elution curve before kneading with the elution curve after kneading, based on the presence or absence of peak growth in the low retention capacity region (polymer region) in the elution curve after kneading, the polymer cross-linked product is generated according to the following criteria The presence or absence was confirmed.
Yes: Peak growth can be confirmed No: Peak growth cannot be confirmed

[メルトフローレート(MFR(g/10min))]:JIS K7210に準拠し、230℃、21.2N荷重の条件下で測定した。   [Melt flow rate (MFR (g / 10 min))]: Measured under conditions of 230 ° C. and 21.2 N load according to JIS K7210.

[100%モジュラス(M100(MPa))]:JIS K6251に準拠して測定した。   [100% modulus (M100 (MPa))]: Measured according to JIS K6251.

[引張破断伸び(%)]:JIS K6251に準拠して測定した。   [Tensile breaking elongation (%)]: Measured according to JIS K6251.

[硬度(デュロA)]:JIS K6253に準拠し、高分子計器社製、「アスカー CL150/DD2 DUROMETER」(商品名)を使用して測定した。   [Hardness (Duro A)]: Measured using “Asker CL150 / DD2 DURMETER” (trade name) manufactured by Kobunshi Keiki Co., Ltd. in accordance with JIS K6253.

[レーザー加工性(彫刻性)評価]:密閉型炭酸ガスレーザー発振器(米国シンラッド社製、出力=25W)が搭載されたレーザー加工機(Great Computer Corporation製、商品名「Laser Pro」)を、その設定を、SPEED30(%)、POWER95(%)、及び解像度1000(dpi)として使用して、レーザー加工用シートの加工面に対してレーザー加工を行った。レーザー加工後の加工面を、表面観察装置(キーエンス社製)を使用して観察し、以下に示す基準に従ってレーザー加工性(彫刻性)を評価した。
◎:彫刻面に粘着はなく、小さい凸部のエッジも鮮明である。
○:彫刻面に粘着はないが、小さい凸部のエッジが部分的に鮮明でない。
△:彫刻面に粘着はないが、大きい凸部のエッジが鮮明でない。
×:彫刻面に粘着があり、彫刻不可。
[Evaluation of laser processability (engraving)]: A laser processing machine (manufactured by Great Computer Corporation, trade name “Laser Pro”) equipped with a closed carbon dioxide laser oscillator (manufactured by Thinrad, USA, output = 25 W) Using the settings as SPEED 30 (%), POWER 95 (%), and resolution 1000 (dpi), laser processing was performed on the processed surface of the laser processing sheet. The processed surface after laser processing was observed using a surface observation device (manufactured by Keyence Corporation), and laser processing property (engraving property) was evaluated according to the following criteria.
A: There is no adhesion on the engraving surface, and the edge of the small convex part is clear.
○: There is no adhesion on the engraved surface, but the edges of the small convex portions are not partially clear.
Δ: There is no adhesion on the engraving surface, but the edge of the large convex portion is not clear.
X: Adhesive on the engraving surface, not engraving.

(実施例1)
シンジオタクチック1,2−ポリブタジエン(商品名「RB820」、JSR社製、1,2−ビニル結合含量:92%、結晶化度:25%)100部、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド(商品名「イルガキュア819」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)0.5部、及びトリメチロールプロパントリメタリレート(新中村化学工業社製)0.5部、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド(商品名「サンセラーTRA」、三新化学工業社製)0.3部、活性亜鉛華(堺化学工業社製)0.2部、及びステアリン酸(花王社製)0.2部を、120℃に調温されたニーダーに投入して3分間混練した後、150℃に昇温させて15分間混練しながら動的架橋を行って架橋物を得た。得られた架橋物のMFRは8g/10min、M100は5.3MPa、引張破断伸びは650%、及び硬度(デュロA)は91であった。また、GPC−LALLS法による高分子架橋体生成の確認結果は「有」であった。架橋物のGPCチャートを図1に示す。
Example 1
Syndiotactic 1,2-polybutadiene (trade name “RB820”, manufactured by JSR, 1,2-vinyl bond content: 92%, crystallinity: 25%), 100 parts, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) ) -Phenylphosphine oxide (trade name “Irgacure 819”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.5 part, and trimethylolpropane trimetallate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) 0.5 part, dipentamethylene thiuram Tetrasulfide (trade name “Sunseller TRA”, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) 0.3 part, activated zinc white (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 0.2 part, and stearic acid (produced by Kao Corporation) 0.2 part The mixture was put into a kneader adjusted to 120 ° C. and kneaded for 3 minutes, then heated to 150 ° C. and dynamically cross-linked while kneading for 15 minutes to obtain a cross-linked product. The obtained crosslinked product had an MFR of 8 g / 10 min, an M100 of 5.3 MPa, a tensile elongation at break of 650%, and a hardness (duro A) of 91. Moreover, the confirmation result of the polymer crosslinked body formation by GPC-LALLS method was “Yes”. A GPC chart of the crosslinked product is shown in FIG.

得られた架橋物を温度150℃に設定した押出成形機にてペレット形状として、このペレットを温度150℃に設定した押出成形機にて厚さ1.0mmのシート形状として、更に紫外線照射装置(商品名「アイグランデージECS301G1」(アイグラフィクス社製)にて紫外線照射を行い、レーザー加工用シートを作製した。なお、紫外線照射面をレーザー加工面とした。作製したシートのM100は5.9MPa、引張破断伸びは560%、及び硬度(デュロA)は90であった。また、レーザー加工性(彫刻性)評価結果は「○」であった。   The obtained cross-linked product was formed into a pellet shape with an extruder set at a temperature of 150 ° C., and the pellet was formed into a sheet shape with a thickness of 1.0 mm with an extruder set at a temperature of 150 ° C. Ultraviolet irradiation was carried out under the product name “Eye Grandage ECS301G1” (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) to produce a laser processing sheet, where the ultraviolet irradiation surface was used as the laser processed surface, and M100 of the prepared sheet was 5.9 MPa. The tensile elongation at break was 560%, and the hardness (duro A) was 90. The laser processability (engraving property) evaluation result was “◯”.

(実施例2〜8、比較例1〜10)
表1及び2に示す配合処方及び動的熱架橋の有無としたこと以外は、前述の実施例1の場合と同様にしてレーザー加工用シートを作製した。各種物性値の測定結果及び特性の評価結果を表1及び2に示す。また、表1及び2に示す各成分の詳細を以下に示す。また、比較例3で得た架橋性組成物のGPCチャートを図1に示す。
(Examples 2-8, Comparative Examples 1-10)
A laser processing sheet was prepared in the same manner as in Example 1 except that the formulation shown in Tables 1 and 2 and the presence or absence of dynamic thermal crosslinking were used. Tables 1 and 2 show measurement results of various physical properties and evaluation results of characteristics. Moreover, the detail of each component shown to Table 1 and 2 is shown below. A GPC chart of the crosslinkable composition obtained in Comparative Example 3 is shown in FIG.

(1)RB820:シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの商品名(JSR社製)
(2)SIS5200P:スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の商品名(JSR社製)
(3)アエロジルR972:無水シリカ粒子の商品名(日本アエロジル社製、平均一次粒子径=0.017μm)
(4)ダイアナプロセスオイルPW90:パラフィン系伸展油の商品名(出光興産社製、V.G.C.値=0.802)
(5)イルガキュア819:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイドの商品名(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
(6)パーヘキサ3M−40V:1,1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンの商品名(日油社製、半減期が1分となる温度=145℃)
(7)サンセラーTRA:ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィドの商品名(三新化学工業社製)
(1) RB820: trade name of syndiotactic 1,2-polybutadiene (manufactured by JSR)
(2) SIS5200P: trade name of styrene-isoprene-styrene block copolymer (manufactured by JSR)
(3) Aerosil R972: trade name of anhydrous silica particles (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., average primary particle size = 0.017 µm)
(4) Diana process oil PW90: trade name of paraffinic extension oil (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd., VGC value = 0.802)
(5) Irgacure 819: trade name of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
(6) Perhexa 3M-40V: trade name of 1,1-di-t-butylperoxy-3,3,5-trimethylcyclohexane (manufactured by NOF Corporation, temperature at which half-life is 1 minute = 145 ° C.)
(7) Sunseller TRA: trade name of dipentamethylene thiuram tetrasulfide (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)

Figure 0005481794
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表1及び2に示すように、実施例1〜8で作製したレーザー加工用シートは、比較例1〜6で作製したレーザー加工用シートに比して、良好な伸びと柔軟性を有するとともに、レーザーによる彫刻性に優れたものであることが明らかである。なお、比較例7〜10では、動的熱架橋により、架橋度が高く、流動性の低い架橋物が得られたため、シート状に成形することができなかった。   As shown in Tables 1 and 2, the laser processing sheets prepared in Examples 1 to 8 have better elongation and flexibility than the laser processing sheets prepared in Comparative Examples 1 to 6, It is clear that the engraving property by laser is excellent. In Comparative Examples 7 to 10, a crosslinked product having a high degree of crosslinking and low fluidity was obtained by dynamic thermal crosslinking, and thus could not be formed into a sheet.

本発明のレーザー加工用成形品の製造方法によって製造されるレーザー加工用成形品は、主として凸版印刷用のフレキソ印刷版を作製するために用いられるレーザー加工用シートとして好適である。   The molded product for laser processing produced by the method for producing a molded product for laser processing of the present invention is suitable as a sheet for laser processing used mainly for producing a flexographic printing plate for letterpress printing.

高分子架橋体生成の有無を確認するために測定したGPCチャートである。It is the GPC chart measured in order to confirm the presence or absence of polymeric crosslinked body production | generation.

Claims (11)

(A)1,2−ビニル結合含量が70%以上、結晶化度が5〜50%であるシンジオタクチック1,2−ポリブタジエン、スチレン・イソプレン共重合体、及びスチレン・ブタジエン共重合体からなる群より選択される少なくとも一種である熱可塑性重合体100質量部、(B)シリカ粒子0〜50質量部、(C)粘度比重恒数(V.G.C.値)が0.790〜0.999である伸展油0〜200質量部、(D)光重合開始剤0〜10質量部、及び(E)多官能アクリレート0〜20質量部を含み、
更に、(F)有機過酸化物0.01〜0.1質量部又は(G)硫黄若しくは硫黄化合物0.01〜1.0質量部を含む架橋性組成物を、
動的に熱架橋した後、更に放射線架橋することを含むレーザー加工用成形品の製造方法。
(A) It consists of syndiotactic 1,2-polybutadiene, styrene / isoprene copolymer, and styrene / butadiene copolymer having a 1,2-vinyl bond content of 70% or more and a crystallinity of 5 to 50%. 100 parts by mass of at least one thermoplastic polymer selected from the group, (B) 0 to 50 parts by mass of silica particles, and (C) a viscosity specific gravity constant (VGC value) of 0.790 to 0 0 to 200 parts by weight of an extending oil that is 999, (D) 0 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator, and (E) 0 to 20 parts by weight of a polyfunctional acrylate ,
Furthermore, the (F) an organic peroxide 0.01 to 0.1 parts by weight or crosslinking composition comprising (G) sulfur or a sulfur compound 0.01 to 1.0 parts by weight,
A method for producing a molded article for laser processing, comprising dynamically thermal crosslinking followed by radiation crosslinking.
前記(B)シリカ粒子が、その平均一次粒子径が0.005μm以上、0.1μm未満の無水粒子である請求項1に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。   The method for producing a molded article for laser processing according to claim 1, wherein the silica particles (B) are anhydrous particles having an average primary particle diameter of 0.005 µm or more and less than 0.1 µm. 前記(C)伸展油が、パラフィン系伸展油とナフテン系伸展油の少なくともいずれかである請求項1又は2に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。   The method for producing a molded article for laser processing according to claim 1 or 2, wherein the (C) extending oil is at least one of a paraffinic extending oil and a naphthenic extending oil. 前記(D)光重合開始剤が、アシルホスフィンオキサイド系化合物である請求項1〜3のいずれか一項に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。   The said (D) photoinitiator is an acylphosphine oxide type compound, The manufacturing method of the molded article for laser processing as described in any one of Claims 1-3. 前記(E)多官能アクリレートが、トリメチロールプロパントリメタクリレートとトリメチロールプロパントリアクリレートの少なくともいずれかである請求項1〜4のいずれか一項に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。   The method for producing a molded article for laser processing according to any one of claims 1 to 4, wherein the (E) polyfunctional acrylate is at least one of trimethylolpropane trimethacrylate and trimethylolpropane triacrylate. 前記(F)有機過酸化物が、その半減期が1分となる温度が、90℃以上、180℃未満のものである請求項1〜5のいずれか一項に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。   The molded article for laser processing according to any one of claims 1 to 5, wherein the organic peroxide (F) has a half-life of 1 minute at a temperature of 90 ° C or higher and lower than 180 ° C. Manufacturing method. 前記放射線架橋に使用する放射線が、紫外線又は電子線である請求項1〜6のいずれか一項に記載のレーザー加工用成形品の製造方法。   The method for producing a molded article for laser processing according to any one of claims 1 to 6, wherein the radiation used for the radiation crosslinking is an ultraviolet ray or an electron beam. 請求項1〜7のいずれか一項に記載のレーザー加工用成形品の製造方法により製造される、少なくとも一方の面にレーザー彫刻可能な加工面を有するシート状の成形品であるレーザー加工用成形品。   Laser processing molding, which is a sheet-like molded product having a processed surface capable of laser engraving on at least one surface, produced by the method for producing a molded product for laser processing according to any one of claims 1 to 7. Goods. 一方の面上にシート状の基材層が積層された請求項8に記載のレーザー加工用成形品。   The molded product for laser processing according to claim 8, wherein a sheet-like base material layer is laminated on one surface. 請求項8又は9に記載のレーザー加工用成形品の前記加工面がレーザーで彫刻され、所定の印刷パターンが形成されたフレキソ印刷版。   A flexographic printing plate in which the processed surface of the molded article for laser processing according to claim 8 or 9 is engraved with a laser to form a predetermined printing pattern. 請求項1〜7のいずれか一項に記載のレーザー加工用成形品の製造方法に用いる架橋性組成物であり、
(A)1,2−ビニル結合含量が70%以上、結晶化度が5〜50%であるシンジオタクチック1,2−ポリブタジエン、スチレン・イソプレン共重合体、及びスチレン・ブタジエン共重合体からなる群より選択される少なくとも一種である熱可塑性重合体100質量部、(B)シリカ粒子0〜50質量部、(C)粘度比重恒数(V.G.C.値)が0.790〜0.999である伸展油0〜200質量部、(D)光重合開始剤0〜10質量部、及び(E)多官能アクリレート0〜20質量部を含み、更に、(F)有機過酸化物0.01〜0.1質量部又は(G)硫黄若しくは硫黄化合物0.01〜1.0質量部を含む架橋性組成物。
A crosslinkable composition used in the method for producing a molded article for laser processing according to any one of claims 1 to 7,
(A) It consists of syndiotactic 1,2-polybutadiene, styrene / isoprene copolymer, and styrene / butadiene copolymer having a 1,2-vinyl bond content of 70% or more and a crystallinity of 5 to 50%. 100 parts by mass of at least one thermoplastic polymer selected from the group, (B) 0 to 50 parts by mass of silica particles, and (C) a viscosity specific gravity constant (VGC value) of 0.790 to 0 0 to 200 parts by weight of an extending oil that is 999, (D) 0 to 10 parts by weight of a photopolymerization initiator, and (E) 0 to 20 parts by weight of a polyfunctional acrylate , and (F) an organic peroxide 0 .01~0.1 parts by or (G) sulfur or a sulfur compound 0.01 to 1.0 parts by weight crosslinkable composition comprising a.
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