JP5458725B2 - Coating apparatus, liquid filling method, and organic layer manufacturing method - Google Patents

Coating apparatus, liquid filling method, and organic layer manufacturing method Download PDF

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Description

本発明は、塗布装置、液体の充填方法及び有機層の製造方法に関する。   The present invention relates to a coating apparatus, a liquid filling method, and an organic layer manufacturing method.

例えば、EL(Electro Luminescence)パネルに用いられるEL素子の製造プロセスでは、塗布装置のノズルから液体状のEL材料液を基板に向けて連続的に吐出しつつ、ノズルと基板を相対的に移動させて、基板上に所定の形状のキャリア輸送層を形成することが行われている(例えば、特許文献1参照)。
EL材料液はタンクに貯留されており、タンクからノズルを有するノズルヘッドにかけて供給管が配管されており、ポンプ等によってタンク内のEL材料液がノズルヘッドに供給される(例えば、特許文献1参照)。
For example, in the manufacturing process of an EL element used for an EL (Electro Luminescence) panel, a liquid EL material liquid is continuously discharged from a nozzle of a coating device toward the substrate, and the nozzle and the substrate are relatively moved. Thus, a carrier transport layer having a predetermined shape is formed on a substrate (see, for example, Patent Document 1).
The EL material liquid is stored in a tank, and a supply pipe is provided from the tank to a nozzle head having a nozzle. The EL material liquid in the tank is supplied to the nozzle head by a pump or the like (see, for example, Patent Document 1). ).

特開2002−75640号公報JP 2002-75640 A

ところで、塗布装置を用いてEL材料液を塗布する前に、塗布装置を初期セッティングしなければならない。具体的には、当初は供給管内が空であるから、ポンプ等によってタンクからEL材料液を供給管に送り出し、供給管内及びノズルヘッド内にEL材料液を充填させる必要がある。
しかし、供給管内全体にEL材料液を充填させるのに時間を要していた。
また、供給管内にEL材料液を充填させる際に、充填された液体内に気泡が発生することがあった。
By the way, before applying the EL material liquid using the coating apparatus, the coating apparatus must be initially set. Specifically, since the inside of the supply pipe is initially empty, the EL material liquid needs to be sent from the tank to the supply pipe by a pump or the like, and the EL material liquid needs to be filled in the supply pipe and the nozzle head.
However, it took time to fill the entire supply pipe with the EL material liquid.
Further, when the EL material liquid is filled in the supply pipe, bubbles may be generated in the filled liquid.

そこで、本発明の課題は、EL材料液等の液体を供給管に充填させる時間を短縮できるようにするとともに、供給管内に充填される液体に気泡が発生しないようにすることである。   Accordingly, an object of the present invention is to reduce the time for filling a supply pipe with a liquid such as an EL material liquid, and to prevent bubbles from being generated in the liquid filled in the supply pipe.

以上の課題を解決するため、本発明によれば、塗布装置が、液体が貯留された液体貯留部と、前記液体を吐出するノズルを有する吐出部と、前記液体貯留部から前記吐出部にまで配管された供給管と、前記供給管又は前記吐出部に設けられた切替部と、前記切替部に接続され、前記供給管内を減圧するための第1の減圧装置と、前記吐出部が待機位置にあるときに一端が前記ノズル孔に連通するように設けられたドレイン管と、前記ドレイン管の他端に接続された第2の減圧装置と、を備え、前記切替部前記吐出部が前記待機位置にあるときに、前記供給管を前記第1の減圧装置に連通させた状態に切り替えられ前記吐出部が前記待機位置にないときに、前記供給管を前記第1の減圧装置から遮断した状態に切り替えられ、前記吐出部が前記待機位置にあり、前記供給管内及び前記吐出部内に前記液体が充填される前に、前記第1の減圧装置は前記切替部を介して前記供給管内を減圧し、前記第2の減圧装置は前記ノズル孔及び前記ドレイン管を介して前記供給管内及び前記吐出部内を減圧することとした。 In order to solve the above-described problems, according to the present invention, a coating apparatus includes a liquid storage section in which liquid is stored, a discharge section having a nozzle hole for discharging the liquid, and the liquid storage section to the discharge section. A supply pipe that is connected to the supply pipe or the discharge section, a first pressure reduction device that is connected to the switch section and depressurizes the supply pipe, and the discharge section is on standby A drain pipe provided so that one end communicates with the nozzle hole when in position, and a second decompression device connected to the other end of the drain pipe, and the switching unit includes the discharge unit when there is in said waiting position, the switch the supply pipe to the state in which communication with the first pressure reducing device, the when the discharge unit is not in the standby position, the first pressure reducing device the supply pipe It switched to a state of being cut off from the discharge Is in the standby position, and before the liquid is filled in the supply pipe and the discharge part, the first pressure reducing device reduces the pressure in the supply pipe via the switching unit, and the second pressure reducing device The pressure in the supply pipe and the discharge section is reduced through the nozzle hole and the drain pipe .

好ましくは、前記切替部は、前記供給管のうち前記切替部の近傍に液体が充填されていると、前記供給管を前記第1の減圧装置から遮断した状態に切り替えられることとした。
好ましくは、前記塗布装置が、前記液体貯留部内の前記液体を前記供給管に送り出す供給器を備え、前記吐出部が前記待機位置にあるとき、前記切替部が前記供給管を前記第1の減圧装置に連通させた状態に切り替えられ、前記供給器前記第1の減圧装置及び前記第2の減圧装置が作動することとした。
好ましくは、前記塗布装置が、前記供給器、前記第1の減圧装置、前記第2の減圧装置及び前記切替部を制御する制御部を更に備え、前記吐出部が前記待機位置にあるとき、前記制御部が、前記切替部を、前記供給管を前記第1の減圧装置に連通させた状態にするとともに、前記供給器前記第1の減圧装置及び前記第2の減圧装置を作動させることとした。
好ましくは、前記塗布装置が、前記切替部の近傍において前記供給管内に液体が存することを検出する検出器を更に備え、前記制御部が、前記検出器によって前記液体を検出したら、前記切替部を、前記供給管を前記第1の減圧装置から遮断した状態に切り替えることとした。
好ましくは、前記切替部が、前記液体貯留部から前記吐出部にかけて複数設けられていることとした。
Preferably, when the liquid is filled in the vicinity of the switching unit in the supply pipe , the switching unit is switched to a state in which the supply pipe is blocked from the first pressure reducing device.
Preferably, the coating device includes a supply device that sends the liquid in the liquid storage unit to the supply pipe, and when the discharge unit is in the standby position, the switching unit controls the supply pipe to the first pressure reduction. The supply device , the first pressure reducing device, and the second pressure reducing device are activated by switching to a state where they are communicated with the device .
Preferably, the coating device further includes a control unit that controls the feeder , the first decompression device , the second decompression device, and the switching unit, and when the discharge unit is in the standby position, A control unit causing the switching unit to communicate the supply pipe with the first pressure reducing device and operating the supply unit , the first pressure reducing device, and the second pressure reducing device ; did.
Preferably, the coating apparatus further comprises a detector for detecting that the liquid existing in the supply tube in the vicinity of the switching section, the control section, upon detecting the liquid by said detector, said switching unit The supply pipe is switched to a state where it is cut off from the first pressure reducing device.
Preferably, a plurality of the switching units are provided from the liquid storage unit to the discharge unit.

本発明に係る液体の充填方法において、液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、前記液体貯留部から液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うこととした。 In the liquid filling method according to the present invention, while supplying the liquid from the liquid storage section to the supply pipe that is piped from the liquid storage section in which the liquid is stored to the discharge section having the nozzle holes for discharging the liquid. The pressure in the region not filled with the liquid in the supply pipe is reduced at a portion closer to the discharge part than the liquid storage part, and the liquid in the supply pipe and the discharge part is filled through the nozzle hole. It was decided to depressurize the area that was not .

本発明に係る液体の充填方法において、液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、前記液体貯留部から前記液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分の複数の箇所で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行い、前記液体貯留部から前記供給管に送り出された液体が前記供給管内を前記吐出部側へ充填されていくに従って、前記供給管内の減圧をしている前記複数の箇所の各々の前記減圧の停止を前記液体貯留部寄りから順次行うこととした。 In the liquid filling method according to the present invention, the liquid is delivered from the liquid reservoir to a supply pipe that is piped from a liquid reservoir where the liquid is stored to a discharge portion having a nozzle hole for discharging the liquid. while, the row of vacuum of the area where the liquid is not filled in the supply pipe at a plurality of locations of the portion of the discharge portion nearer the liquid reservoir Utotomoni, the supply pipe and the discharge through the nozzle aperture There line decompression of region where the liquid portion is not filled, in accordance with the liquid fed to the supply pipe from the liquid storing portion is gradually filled with the supply pipe to the discharge side, pressure reduction of the supply pipe The depressurization of each of the plurality of locations that are being performed is sequentially performed from the liquid storage portion side.

本発明に係る有機層の製造方法において、有機材料を含む液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、供給器によって前記液体貯留部から前記液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行い、前記液体貯留部から前記減圧をしている部分まで前記液体を充填したら、前記減圧を停止し、前記吐出部内まで前記液体を充填したら前記供給器を停止せずに、前記吐出部を基板に対して相対的に前記基板上で移動させつつ、前記吐出部から連続的に吐出された前記液体を前記基板に塗布することとした。 In the method for producing an organic layer according to the present invention, the supply pipe that is piped from a liquid storage part in which a liquid containing an organic material is stored to a discharge part having a nozzle hole for discharging the liquid is provided by a feeder. while the liquid storage portion feeding the liquid, said line decompression of region in which the liquid is not filled in the liquid storing portion and the supply pipe in the portion of the discharge portion nearer Utotomoni, the supply through the nozzle hole There line vacuum region where the liquid in the pipe and in the discharge section is not filled, after filling the liquid from the liquid reservoir to the part that the decompression stops the vacuum, the to said discharge portion When the liquid is filled, the liquid continuously discharged from the discharge unit is moved to the substrate while moving the discharge unit relative to the substrate without stopping the supply unit. It was decided to cloth.

本発明に係る有機層の製造方法において、有機材料を含む液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、供給器によって前記液体貯留部から前記液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分の複数の箇所で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行い、前記液体貯留部から前記供給管に送り出された液体が前記供給管内を前記吐出部側へ充填されていくに従って、前記供給管内の減圧をしている前記複数の箇所の各々の前記減圧の停止を前記液体貯留部寄りから順次行い、前記吐出部内まで前記液体を充填したら、前記供給器を停止せずに、前記吐出部を基板に対して相対的に前記基板上で移動させつつ、前記吐出部から連続的に吐出された前記液体を前記基板に塗布することとした。 In the method for producing an organic layer according to the present invention, the supply pipe that is piped from a liquid storage part in which a liquid containing an organic material is stored to a discharge part having a nozzle hole for discharging the liquid is provided by a feeder. while feeding the liquid from the liquid reservoir portion, the row reduced pressure of the area where the liquid is not filled in the supply pipe at a plurality of locations of the portion of the discharge portion nearer the liquid reservoir Utotomoni, the nozzle hole the have rows decompression of the region in which the liquid is not filled in the supply pipe and in the discharge portion, the liquid fed to the supply pipe from the liquid reservoir is filled with the supply pipe to the discharge side via toward Once the decompression stop of each of the plurality of locations has a reduced pressure of the supply pipe is sequentially performed from the liquid reservoir closer, filling the liquid to said discharge portion, said test Without stopping the vessel, while moving relatively the substrate the discharge portion to the substrate, the liquid was continuously discharged from the discharge portion was be applied to the substrate.

本発明によれば、短時間で供給管内に液体を充填することができるとともに、供給管内に充填される液体に気泡が発生することを抑えることができる。また液体の充填前に供給管内から水分を除去することが可能で、液体への水分の混入を防ぐことがでる。 According to the present invention, it is possible to fill the supply pipe with the liquid in a short time, and it is possible to suppress the generation of bubbles in the liquid filled in the supply pipe. Also it is possible to remove water from the feed tube prior to filling of the liquid, that Ki out to prevent contamination of water into the liquid.

塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows a coating device roughly. ノズルヘッドの縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of a nozzle head. 供給管と排気管の接続部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the connection part of a supply pipe and an exhaust pipe. 供給管と排気管の接続部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the connection part of a supply pipe and an exhaust pipe. 供給管と排気管の接続部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the connection part of a supply pipe and an exhaust pipe. 供給管と排気管の接続部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the connection part of a supply pipe and an exhaust pipe. 供給管と排気管の接続部を概略的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows schematically the connection part of a supply pipe and an exhaust pipe. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. ノズルヘッドにバキュームポンプを接続した状態を示す図面である。It is drawing which shows the state which connected the vacuum pump to the nozzle head. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. 制御部の処理の流れを示したフローチャートである。It is the flowchart which showed the flow of the process of a control part. 変形例の塗布装置を概略的に示す図面である。It is drawing which shows the coating device of a modification schematically. ELパネルの画素の配置構成を示す平面図である。It is a top view which shows the arrangement configuration of the pixel of an EL panel. ELパネルの概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of EL panel. ELパネルの1画素に相当する回路を示した回路図である。It is a circuit diagram showing a circuit corresponding to one pixel of an EL panel. ELパネルの1画素を示した平面図である。It is the top view which showed 1 pixel of EL panel. 図20のXXI−XXI線に沿った面の矢視断面図である。It is arrow sectional drawing of the surface along the XXI-XXI line of FIG. ELパネルのバンク間に露出する画素電極を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the pixel electrode exposed between the banks of EL panel. ELパネルを表示部に用いた携帯電話機の正面図である。It is a front view of a mobile phone using an EL panel as a display unit. ELパネルを表示部に用いたデジタルカメラの斜視図である。It is a perspective view of a digital camera using an EL panel as a display unit. ELパネルを表示部に用いたデジタルカメラの斜視図である。It is a perspective view of a digital camera using an EL panel as a display unit. ELパネルを表示部に用いたパーソナルコンピュータの斜視図である。It is a perspective view of a personal computer using an EL panel as a display unit.

以下に、本発明を実施するための形態について図面を用いて説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。   EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, the form for implementing this invention is demonstrated using drawing. However, although various technically preferable limitations for implementing the present invention are given to the embodiments described below, the scope of the invention is not limited to the following embodiments and illustrated examples.

〔1〕塗布装置の構成
図1は、塗布装置100を示した図面である。この塗布装置100は、発光パネルである有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの有機層(例えば、正孔注入層、発光層、電子注入層等)、有機トランジスタの有機層、液晶ディスプレイのカラーフィルタの有機発色層(例えば、有機材料を含むRGBの発色層、有機材料を含むブラックマトリックスおよび隔壁材料等)、各種電子デバイスの有機導電層(例えば、有機材料を含む導電性配線)その他の有機層、あるいは溶液中に金属微粒子等の無機材料を分散、または溶解させた材料を含む機能層を形成するために用いられるものである。
[1] Configuration of Coating Device FIG. 1 is a drawing showing a coating device 100. The coating apparatus 100 includes an organic layer (for example, a hole injection layer, a light emitting layer, an electron injection layer) of an organic electroluminescence display panel which is a light emitting panel, an organic layer of an organic transistor, and an organic color forming layer of a color filter of a liquid crystal display. (For example, RGB coloring layer containing organic material, black matrix containing organic material and barrier rib material, etc.) Organic conductive layer of various electronic devices (for example, conductive wiring containing organic material) Other organic layers, or in solution It is used for forming a functional layer containing a material in which an inorganic material such as metal fine particles is dispersed or dissolved.

ワークテーブル101は、移動装置102上に搭載されており、移動装置102に対して水平面に沿って一直線状にスライド可能に設けられている。このワークテーブル101上には、基板121が載置される。ワークテーブル101の移動方向を副走査方向という。   The work table 101 is mounted on the moving device 102 and is slidable in a straight line along the horizontal plane with respect to the moving device 102. A substrate 121 is placed on the work table 101. The moving direction of the work table 101 is referred to as a sub-scanning direction.

移動装置102は、ワークテーブル101及びそれに載置された基板121を一直線状に移動させるものである。例えば、移動装置102は、ワークテーブル101を案内するレールと、レールに沿ってワークテーブル101を駆動する駆動機構とを有する。この移動装置102は、制御部119によって制御される。制御部119が移動装置102を間欠的に駆動し、移動装置102がワークテーブル101及び基板121を間欠的に移動させる。つまり、移動装置102は、制御部119の制御によって、ワークテーブル101及び基板121の移動及びその移動の停止を繰り返すように動作する。   The moving device 102 moves the work table 101 and the substrate 121 placed thereon in a straight line. For example, the moving device 102 includes a rail that guides the work table 101 and a drive mechanism that drives the work table 101 along the rail. The moving device 102 is controlled by the control unit 119. The control unit 119 drives the moving device 102 intermittently, and the moving device 102 moves the work table 101 and the substrate 121 intermittently. That is, the moving device 102 operates to repeat the movement of the work table 101 and the substrate 121 and the stop of the movement under the control of the control unit 119.

ワークテーブル101の上方には、案内部としてのレール103が設けられている。このレール103は、上から見て、ワークテーブル101の移動方向に対して直交するよう設けられている。レール103は、機枠104に取り付けられて、機枠104に支持されている。   Above the work table 101, a rail 103 is provided as a guide. The rail 103 is provided so as to be orthogonal to the moving direction of the work table 101 when viewed from above. The rail 103 is attached to the machine casing 104 and supported by the machine casing 104.

レール103には、ノズル移動機構としてのキャリッジ105が搭載されている。このキャリッジ105は、レール103に沿って案内される。キャリッジ105は、レール103に沿って移動可能に設けられている。以下、キャリッジ105の移動方向を主走査方向という。
また、キャリッジ105には、モータ等の駆動源が内蔵されており、キャリッジ105はその駆動源によってレール103に沿って移動する。キャリッジ105は、制御部119によって制御される。制御部119が移動装置102の間欠的な停止に合わせてキャリッジ105を駆動し、キャリッジ105が移動装置102の停止中に主走査方向に移動する。
A carriage 105 as a nozzle moving mechanism is mounted on the rail 103. The carriage 105 is guided along the rail 103. The carriage 105 is provided so as to be movable along the rail 103. Hereinafter, the moving direction of the carriage 105 is referred to as a main scanning direction.
The carriage 105 incorporates a drive source such as a motor, and the carriage 105 moves along the rail 103 by the drive source. The carriage 105 is controlled by the control unit 119. The control unit 119 drives the carriage 105 in accordance with the intermittent stop of the moving device 102, and the carriage 105 moves in the main scanning direction while the moving device 102 is stopped.

キャリッジ105にはノズルヘッド(吐出部)106が搭載されている。このノズルヘッド106は、その先端が下に向くようにしてキャリッジ105に搭載されている。図2は、ノズルヘッド106の断面図である。図2に示すように、このノズルヘッド106においては、略円筒状のノズルヘッド本体部161の上端に設けられた注入口162に供給管107が接続されている。ノズルヘッド本体部161の下端に底面165が設けられ、底面165の中央に開口166が形成されている。中空163内の下部にノズルプレート167が配設され、開口166がノズルプレート167によって閉塞されている。ノズルプレート167の中央には、微小なノズル孔(ノズル)168が形成されている。ノズル孔168の径は、10〜20μmである。このノズル孔168から液体120が吐出される。ノズルヘッド本体部161の中空163内にフィルタ164が配設されている。ノズルヘッド本体部161の中空163が、フィルタ164によって注入口162側の領域とノズル孔168側の領域とに仕切られている。   A nozzle head (ejection unit) 106 is mounted on the carriage 105. The nozzle head 106 is mounted on the carriage 105 with the tip thereof facing downward. FIG. 2 is a cross-sectional view of the nozzle head 106. As shown in FIG. 2, in the nozzle head 106, a supply pipe 107 is connected to an inlet 162 provided at the upper end of a substantially cylindrical nozzle head main body 161. A bottom surface 165 is provided at the lower end of the nozzle head main body 161, and an opening 166 is formed at the center of the bottom surface 165. A nozzle plate 167 is disposed in the lower part of the hollow 163, and the opening 166 is closed by the nozzle plate 167. A minute nozzle hole (nozzle) 168 is formed in the center of the nozzle plate 167. The diameter of the nozzle hole 168 is 10 to 20 μm. The liquid 120 is discharged from the nozzle hole 168. A filter 164 is disposed in the hollow 163 of the nozzle head main body 161. The hollow 163 of the nozzle head main body 161 is partitioned by the filter 164 into a region on the inlet 162 side and a region on the nozzle hole 168 side.

図1に示すように、供給管107がノズルヘッド106から液体タンク108にかけて配管されており、供給管107の一端がノズルヘッド106に接続され、供給管107の他端が液体タンク108に接続されている。供給管107としては、液体タンク108内に貯留された液体120に対して耐性のある材料からなるチューブを用いる。具体的には、供給管107は、シリコーン樹脂からなるチューブである。供給管107の内径は1〜7mmである。供給管107の内径は、液体タンク108からノズルヘッド106にかけて一様であってもよいし、不均一であってもよい。例えば、供給管107の内径は、液体タンク108寄りの部分で大きく、ノズルヘッド106寄りの部分で小さい。   As shown in FIG. 1, a supply pipe 107 is piped from a nozzle head 106 to a liquid tank 108, one end of the supply pipe 107 is connected to the nozzle head 106, and the other end of the supply pipe 107 is connected to the liquid tank 108. ing. As the supply pipe 107, a tube made of a material resistant to the liquid 120 stored in the liquid tank 108 is used. Specifically, the supply pipe 107 is a tube made of silicone resin. The inner diameter of the supply pipe 107 is 1 to 7 mm. The inner diameter of the supply pipe 107 may be uniform from the liquid tank 108 to the nozzle head 106 or may be non-uniform. For example, the inner diameter of the supply pipe 107 is large near the liquid tank 108 and small near the nozzle head 106.

液体貯留部としての液体タンク108内には、液体120が貯留されている。液体120は、例えば、有機材料を含むものである。液体120は、塗布装置100の用途に応じて適宜選択される。   A liquid 120 is stored in a liquid tank 108 as a liquid storage unit. The liquid 120 includes, for example, an organic material. The liquid 120 is appropriately selected according to the application of the coating apparatus 100.

液体タンク108には、供給器116が設けられている。この供給器116は、液体タンク108内の液体120を供給管107に送り出すものである。より好ましくは、供給器116は、送り出す液体120の圧力を一定に保った状態で液体120を供給管107に圧送するものである。供給器116はポンプであり、具体的には、ピストン式圧送ポンプ又はガス式圧送ポンプである。ピストン式圧送ポンプとは、シリンジ状の液体タンク108内に可動式ピストンが収容され、可動式ピストンがモータ、エアシリンダ又はソレノイド等の駆動源によって押し込まれることで、液体タンク108内の液体120を供給管107に押し出すものである。ガス式圧送ポンプとは、密閉された液体タンク108内にガス(主に不活性ガス(例えば、窒素ガス))を送り込んで液体タンク108内の液面を加圧して、液体タンク108内の液体120を供給管107に押し出すものである。勿論、ピストン式圧送ポンプ、ガス式圧送ポンプ以外の種類のポンプを供給器116に用いてもよい。   The liquid tank 108 is provided with a supply device 116. The supplier 116 sends out the liquid 120 in the liquid tank 108 to the supply pipe 107. More preferably, the supply unit 116 supplies the liquid 120 to the supply pipe 107 in a state where the pressure of the liquid 120 to be sent out is kept constant. The supply device 116 is a pump, specifically, a piston-type pump or a gas-type pump. The piston-type pressure feed pump has a movable piston housed in a syringe-like liquid tank 108, and the movable piston is pushed by a driving source such as a motor, an air cylinder, or a solenoid, so that the liquid 120 in the liquid tank 108 is discharged. It pushes out to the supply pipe 107. The gas pressure pump is a gas (mainly inert gas (for example, nitrogen gas)) that is fed into a sealed liquid tank 108 to pressurize the liquid surface in the liquid tank 108, and the liquid in the liquid tank 108. 120 is pushed out to the supply pipe 107. Of course, a pump other than the piston-type pump and the gas-type pump may be used for the feeder 116.

この供給器116は、制御部119によって制御される。制御部119がキャリッジ105の移動に合わせて供給器116を駆動し、供給器116がキャリッジ105の移動中に供給動作をする。   The feeder 116 is controlled by the control unit 119. The control unit 119 drives the supply device 116 in accordance with the movement of the carriage 105, and the supply device 116 performs a supply operation while the carriage 105 is moving.

供給管107の中途部には、マスフローコントローラ109が設けられている。マスフローコントローラ109は、供給管107を流れる液体120の流量を計測したり、供給管107を流れる液体120の流量を制御したりする。マスフローコントローラ109によって計測された流量は、制御部119に出力される。
また、制御部119は、マスフローコントローラ109による流量を設定する(以下、設定された流量を設定流量という。)。マスフローコントローラ109が、供給管107を流れる液体120の流量をその設定流量に維持するよう定流量制御をする。
A mass flow controller 109 is provided in the middle of the supply pipe 107. The mass flow controller 109 measures the flow rate of the liquid 120 flowing through the supply pipe 107 and controls the flow rate of the liquid 120 flowing through the supply pipe 107. The flow rate measured by the mass flow controller 109 is output to the control unit 119.
Further, the control unit 119 sets a flow rate by the mass flow controller 109 (hereinafter, the set flow rate is referred to as a set flow rate). The mass flow controller 109 performs constant flow control so as to maintain the flow rate of the liquid 120 flowing through the supply pipe 107 at the set flow rate.

また、排気管114の一端が、切替部としてのバルブ110を介して供給管107の中途部に接続されている。排気管114の他端が、捕捉器112のインレットに接続されている。捕捉器112のアウトレットが排気管115の一端に接続され、排気管115の他端がバキュームポンプ(減圧装置)113に接続されている。   Further, one end of the exhaust pipe 114 is connected to the middle part of the supply pipe 107 via a valve 110 as a switching part. The other end of the exhaust pipe 114 is connected to the inlet of the trap 112. An outlet of the trap 112 is connected to one end of the exhaust pipe 115, and the other end of the exhaust pipe 115 is connected to a vacuum pump (decompression device) 113.

バルブ110は、排気管114と供給管107の接続部を開閉するものである。バルブ110が開いた状態では、排気管114が供給管107に連通した状態となり、供給管107が排気管114,115及び捕捉器112を介してバキュームポンプ113に連通した状態になる。バルブ110が閉じた状態では、供給管107がバキュームポンプ113及び排気管114から遮断された状態となる。バルブ110は、機械弁あってもよいし、手動弁であってもよい。
バルブ110が機械弁の場合、例えば、バルブ110が通常時に閉じたノーマリークローズ型の弁であり、排気管114内が負圧になると、バルブ110が開く。
The valve 110 opens and closes a connection portion between the exhaust pipe 114 and the supply pipe 107. When the valve 110 is open, the exhaust pipe 114 communicates with the supply pipe 107, and the supply pipe 107 communicates with the vacuum pump 113 via the exhaust pipes 114 and 115 and the trap 112. When the valve 110 is closed, the supply pipe 107 is disconnected from the vacuum pump 113 and the exhaust pipe 114. The valve 110 may be a mechanical valve or a manual valve.
When the valve 110 is a mechanical valve, for example, the valve 110 is a normally closed valve that is normally closed. When the pressure in the exhaust pipe 114 becomes negative, the valve 110 is opened.

図3は、供給管107と排気管114の接続部の一例を示した図面である。図3に示すように、バルブ110が閉じた状態では、バルブ110の弁体110fが排気管114の端部の開口を閉塞している。弁体110fによって排気管114の端部開口が閉塞されている場合、供給管107内における弁体110fの表面110gが供給管107の内面107aと面一となっており、弁体110fの表面110gと供給管107の内面107aの間に段差が形成されていない。バルブ110が開く場合には、弁体110fが回転したり、スライドしたりすることによって、弁体110fが排気管114の端部開口を開放する。   FIG. 3 is a view showing an example of a connection portion between the supply pipe 107 and the exhaust pipe 114. As shown in FIG. 3, when the valve 110 is closed, the valve body 110 f of the valve 110 closes the opening at the end of the exhaust pipe 114. When the end opening of the exhaust pipe 114 is closed by the valve body 110f, the surface 110g of the valve body 110f in the supply pipe 107 is flush with the inner surface 107a of the supply pipe 107, and the surface 110g of the valve body 110f. And no step is formed between the inner surface 107a of the supply pipe 107. When the valve 110 is opened, the valve body 110f opens or opens the end portion of the exhaust pipe 114 by rotating or sliding.

供給管107と排気管114の接続部を図4のようにしてもよい。供給管107の内面107aに錐面107bが形成されている。錐面107bは、供給管107の内側から見て、凹んだ状態に設けられた面である。錐面107bが供給管107の内面に対して傾斜している。錐面107bと供給管107の内面107aの成す外角が90°以上である。排気管114の端部開口が錐面107bの頭頂部側開口に接続されている。バルブ110が閉じた状態では、バルブ110の弁体110fが排気管114の端部の開口を閉塞している。弁体110fによって排気管114の端部開口が閉塞されている場合、供給管107内における弁体110fの表面110gが錐面107bと排気管114の境界部に揃っている。バルブ110が開く場合には、弁体110fが回転したり、スライドしたりすることによって、弁体110fが排気管114の端部開口を開放する。   The connecting portion between the supply pipe 107 and the exhaust pipe 114 may be as shown in FIG. A conical surface 107 b is formed on the inner surface 107 a of the supply pipe 107. The conical surface 107 b is a surface provided in a recessed state when viewed from the inside of the supply pipe 107. The conical surface 107 b is inclined with respect to the inner surface of the supply pipe 107. The outer angle formed by the conical surface 107b and the inner surface 107a of the supply pipe 107 is 90 ° or more. The end opening of the exhaust pipe 114 is connected to the top side opening of the conical surface 107b. When the valve 110 is closed, the valve body 110f of the valve 110 closes the opening at the end of the exhaust pipe 114. When the end opening of the exhaust pipe 114 is closed by the valve body 110f, the surface 110g of the valve body 110f in the supply pipe 107 is aligned with the boundary between the conical surface 107b and the exhaust pipe 114. When the valve 110 is opened, the valve body 110f opens or opens the end portion of the exhaust pipe 114 by rotating or sliding.

供給管107と排気管114の接続部を図5に示すようにしてもよい。図5に示す場合でも、図4に示す場合と同様に、供給管107の内面107aに錐面107bが形成されている。また、供給管107の内面であって排気管114の端部開口に対向する部分には、突起107cが設けられている。この突起107cが錐状に設けられており、突起107cの断面形状が三角形となっている。図6に示すように、突起107cが錘台状に設けられていて、その断面形状が台形となっていてもよい。また、図7に示すように、突起107cの錐面107dが錐面107bに対して平行に設けられていてもよい。   The connecting portion between the supply pipe 107 and the exhaust pipe 114 may be as shown in FIG. Also in the case shown in FIG. 5, the conical surface 107 b is formed on the inner surface 107 a of the supply pipe 107 as in the case shown in FIG. 4. A protrusion 107 c is provided on the inner surface of the supply pipe 107 and facing the end opening of the exhaust pipe 114. The protrusion 107c is provided in a cone shape, and the cross-sectional shape of the protrusion 107c is a triangle. As shown in FIG. 6, the protrusion 107c may be provided in a frustum shape, and the cross-sectional shape thereof may be a trapezoid. Moreover, as shown in FIG. 7, the conical surface 107d of the protrusion 107c may be provided in parallel to the conical surface 107b.

図1に示すように、バキュームポンプ113は例えば真空ポンプ又は減圧ポンプであり、排気管115、捕捉器112、排気管114及びバルブ110を介して供給管107内の気体を吸引して、供給管107内の減圧を行うものである。   As shown in FIG. 1, the vacuum pump 113 is, for example, a vacuum pump or a decompression pump, and sucks the gas in the supply pipe 107 through the exhaust pipe 115, the trap 112, the exhaust pipe 114, and the valve 110, thereby supplying the supply pipe The pressure inside 107 is reduced.

捕捉器112は、例えば冷却トラップであり、バキュームポンプ113によって吸引される気体中に含まれる水等の不純物および液体120中に含まれる揮発成分を捕捉するものである。例えば、バキュームポンプ113による吸引によって、供給管107内の空気中に含まれる水分と、液体タンク108や供給管107内の液体120の揮発成分が気化した状態で捕捉器112に流れ込むと、その揮発成分は捕捉器112によって冷却される。そのため、その揮発成分が液化して、捕捉器112に捕捉される。これにより供給管107内の空気中に含まれる水分を除去することで、液体120への水分の混入を防ぐことができる。   The trap 112 is, for example, a cold trap, and traps impurities such as water and volatile components contained in the liquid 120 contained in the gas sucked by the vacuum pump 113. For example, when the moisture contained in the air in the supply pipe 107 and the volatile components of the liquid 120 in the liquid tank 108 or the supply pipe 107 are vaporized into the trap 112 by suction by the vacuum pump 113, the volatilization occurs. The component is cooled by trap 112. Therefore, the volatile component is liquefied and captured by the trap 112. As a result, the moisture contained in the air in the supply pipe 107 is removed, thereby preventing the moisture from entering the liquid 120.

図1では、バルブ110が液体タンク108とマスフローコントローラ109の間に設けられている。
一方、図8に示すように、バルブ110がマスフローコントローラ109とノズルヘッド106の間に設けられていてもよい。また、バルブ110が供給管107に設けられる場合には、出来る限りノズルヘッド106寄りに設けられることが望ましい。
また、図9に示すように、バルブ110がノズルヘッド106に設けられていてもよい。
In FIG. 1, a valve 110 is provided between the liquid tank 108 and the mass flow controller 109.
On the other hand, as shown in FIG. 8, the valve 110 may be provided between the mass flow controller 109 and the nozzle head 106. Further, when the valve 110 is provided in the supply pipe 107, it is desirable to provide it as close to the nozzle head 106 as possible.
Further, as shown in FIG. 9, the valve 110 may be provided in the nozzle head 106.

なお、図1、図8、図9では、キャリッジ105に搭載されているノズルヘッド106の数が1つであったが、複数のノズルヘッド106がキャリッジ105に搭載されていてもよい。この場合、これらのノズルヘッド106は、副走査方向に沿って配列された状態でキャリッジ105に搭載されている。また、キャリッジ105に複数のノズルヘッド106が搭載されている場合、供給管107、液体タンク108、マスフローコントローラ109、バルブ110、捕捉器112、バキュームポンプ113及び排気管114,115は、それぞれのノズルヘッド106に対して設けられている。   1, 8, and 9, the number of nozzle heads 106 mounted on the carriage 105 is one, but a plurality of nozzle heads 106 may be mounted on the carriage 105. In this case, these nozzle heads 106 are mounted on the carriage 105 in a state of being arranged along the sub-scanning direction. When a plurality of nozzle heads 106 are mounted on the carriage 105, the supply pipe 107, the liquid tank 108, the mass flow controller 109, the valve 110, the trap 112, the vacuum pump 113, and the exhaust pipes 114 and 115 It is provided for the head 106.

また、キャリッジ105が主走査方向に移動するものとしたが、主走査方向及び副走査方向に移動するものとしてもよい。また、ノズルヘッド106がその中心線を中心に回転するものとしてもよい。また、ワークテーブル101が移動装置102によって副走査方向に移動するものとしたが、移動装置102によって主走査方向及び副走査方向に移動するものとしてもよい。また、ワークテーブル101が移動装置102によってその中心回りに回転するものとしてもよい。つまり、移動装置102及びキャリッジ105の両方又は片方からなる移動部によって、ノズルヘッド106がワークテーブル101に対して相対的に移動させるものとすればよい。   Further, although the carriage 105 is moved in the main scanning direction, it may be moved in the main scanning direction and the sub scanning direction. Further, the nozzle head 106 may rotate around its center line. Although the work table 101 is moved in the sub-scanning direction by the moving device 102, it may be moved in the main scanning direction and the sub-scanning direction by the moving device 102. Further, the work table 101 may be rotated around its center by the moving device 102. That is, the nozzle head 106 may be moved relative to the work table 101 by a moving unit including both or one of the moving device 102 and the carriage 105.

また、バルブ110が開閉バルブであったが、三方弁であってもよい。バルブ110が三方弁である場合、そのバルブ110は、液体タンク108の出口側をバキュームポンプ113側に連通させた状態と、液体タンク108の出口側をノズルヘッド106側に連通させた状態に選択的に切り替わるように構成されている。   Further, although the valve 110 is an open / close valve, it may be a three-way valve. When the valve 110 is a three-way valve, the valve 110 is selected between a state in which the outlet side of the liquid tank 108 is in communication with the vacuum pump 113 side and a state in which the outlet side of the liquid tank 108 is in communication with the nozzle head 106 side. It is configured to switch automatically.

〔2〕塗布装置の動作及び塗布方法
以下、塗布装置100の動作及びこの塗布装置100を用いた塗布方法等について説明する。
[2] Operation of Coating Apparatus and Coating Method Hereinafter, the operation of the coating apparatus 100 and the coating method using the coating apparatus 100 will be described.

〔2−1〕塗布装置の初期動作、塗布装置のセッティング工程及び液体の充填工程
まず、液体タンク108内に液体120を充填する。液体タンク108が取り替え式の場合には、液体120が充填された液体タンク108を供給管107に組み付け、液体タンク108に供給器116を組み付ける。なお、この時点では、供給管107は空の状態であり、液体120が供給管107内に充填されていない。
[2-1] Initial operation of coating apparatus, setting process of coating apparatus, and liquid filling process First, the liquid 120 is filled in the liquid tank 108. When the liquid tank 108 is replaceable, the liquid tank 108 filled with the liquid 120 is assembled to the supply pipe 107, and the supply device 116 is assembled to the liquid tank 108. At this time, the supply pipe 107 is empty, and the liquid 120 is not filled in the supply pipe 107.

次に、キャリッジ105を所定の待機位置に移動させる。
ここで、図10に示すように、待機位置には密閉キャップ150が配設されている。キャリッジ105が待機位置に移動すると、ノズルヘッド106の下端が密閉キャップ150で塞がれる。これにより、ノズルヘッド106のノズル孔168が冷却トラップ130を介してバキュームポンプ140に接続される。密閉キャップ150にはドレイン管151の端部が取り付けられている。密閉キャップ150でノズルヘッド106の下端を塞ぐことによって、ノズルヘッド106のノズル孔168がドレイン管151に通じる。そのドレイン管151の他端が冷却トラップ130に接続されている。冷却トラップ130とバキュームポンプ140がドレイン管152によって接続されている。冷却トラップ130は、外容器131、密閉容器132及び冷媒133を有する。密閉容器132が外容器131内に収容されている。冷媒133は、密閉容器132の外側であって、外容器131の内側に収容されている。ドレイン管151及びドレイン管152が密閉容器132の上面を貫通している。密閉容器132内において、ドレイン管152の端部がドレイン管151の端部よりも高い位置にある。
なお、図1、図8、図9に示された捕捉器112が冷却トラップである場合、その捕捉器112は図10に示された冷却トラップ130と同様に設けられている。
また、図1、図8、図9に示された捕捉器112を図10に示された冷却トラップ130と共用してもよい。また、図1、図8、図9に示されたバキュームポンプ113を図10に示されたバキュームポンプ140と共用してもよい。つまり、図10に示されたドレイン管151を冷却トラップ130に接続するのではなく、排気管114に接続してもよい。
Next, the carriage 105 is moved to a predetermined standby position.
Here, as shown in FIG. 10, a sealing cap 150 is disposed at the standby position. When the carriage 105 moves to the standby position, the lower end of the nozzle head 106 is closed with the sealing cap 150. As a result, the nozzle hole 168 of the nozzle head 106 is connected to the vacuum pump 140 via the cooling trap 130. The end of the drain tube 151 is attached to the sealing cap 150. By closing the lower end of the nozzle head 106 with the sealing cap 150, the nozzle hole 168 of the nozzle head 106 communicates with the drain pipe 151. The other end of the drain pipe 151 is connected to the cooling trap 130. The cooling trap 130 and the vacuum pump 140 are connected by a drain pipe 152. The cooling trap 130 includes an outer container 131, a sealed container 132, and a refrigerant 133. A sealed container 132 is accommodated in the outer container 131. The refrigerant 133 is stored outside the sealed container 132 and inside the outer container 131. The drain pipe 151 and the drain pipe 152 penetrate the upper surface of the sealed container 132. In the sealed container 132, the end of the drain tube 152 is located higher than the end of the drain tube 151.
In addition, when the trap 112 shown in FIGS. 1, 8, and 9 is a cold trap, the trap 112 is provided in the same manner as the cold trap 130 shown in FIG.
Further, the trap 112 shown in FIGS. 1, 8, and 9 may be shared with the cooling trap 130 shown in FIG. Further, the vacuum pump 113 shown in FIGS. 1, 8, and 9 may be shared with the vacuum pump 140 shown in FIG. That is, the drain pipe 151 shown in FIG. 10 may be connected to the exhaust pipe 114 instead of being connected to the cooling trap 130.

バキュームポンプ113及びバキュームポンプ140を作動させる。バキュームポンプ113が作動することで、排気管114及び排気管115内の減圧がバキュームポンプ113によって行われ、排気管114及び排気管115内が負圧になる。そのため、バルブ110がノーマリークローズ型の開閉弁である場合には、バルブ110が開く。そうすると、供給管107内の減圧がバキュームポンプ113によって行われる。
バルブ110が手動式の開閉弁である場合には、バルブ110を手動で開く。そうすると、供給管107内の減圧がバキュームポンプ113によって行われる。
バルブ110が三方弁である場合には、バルブ110を、液体タンク108の出口側をバキュームポンプ113側に連通させた状態にする。そうすると、供給管107内の減圧がバキュームポンプ113によって行われる。
The vacuum pump 113 and the vacuum pump 140 are operated. By operating the vacuum pump 113, the vacuum in the exhaust pipe 114 and the exhaust pipe 115 is reduced by the vacuum pump 113, and the exhaust pipe 114 and the exhaust pipe 115 become negative pressure. Therefore, when the valve 110 is a normally closed on-off valve, the valve 110 is opened. Then, the pressure in the supply pipe 107 is reduced by the vacuum pump 113.
When the valve 110 is a manual open / close valve, the valve 110 is manually opened. Then, the pressure in the supply pipe 107 is reduced by the vacuum pump 113.
When the valve 110 is a three-way valve, the valve 110 is brought into a state where the outlet side of the liquid tank 108 is communicated with the vacuum pump 113 side. Then, the pressure in the supply pipe 107 is reduced by the vacuum pump 113.

その後、供給器116が制御部119によって作動する。液体タンク108内の液体120が供給管107内に送り出される。これにより、液体120が液体タンク108側から次第に供給管107内に充填されていく。この際、供給管107内の減圧がバキュームポンプ113,140によって行われているので、液体120が速く充填されていく。また、供給管107内の減圧がされているから、供給管107内に充填された液体120に気泡が発生することを防止することができる。更に、供給管107内に充填された液体120内に発生した気泡をバキュームポンプ113側に吸引することができる。これにより、気泡の除去をすることができる。なお、液体120の一部がバキュームポンプ113による吸引によって排気管114側に流れてしまっても、その液体120が捕捉器112で捕捉されるから、バキュームポンプ113に悪影響を及ぼすことを防止することができる。   Thereafter, the feeder 116 is operated by the control unit 119. The liquid 120 in the liquid tank 108 is sent out into the supply pipe 107. As a result, the liquid 120 is gradually filled into the supply pipe 107 from the liquid tank 108 side. At this time, since the vacuum in the supply pipe 107 is performed by the vacuum pumps 113 and 140, the liquid 120 is quickly filled. Further, since the pressure in the supply pipe 107 is reduced, it is possible to prevent bubbles from being generated in the liquid 120 filled in the supply pipe 107. Further, bubbles generated in the liquid 120 filled in the supply pipe 107 can be sucked to the vacuum pump 113 side. Thereby, bubbles can be removed. Even if a part of the liquid 120 flows to the exhaust pipe 114 side due to suction by the vacuum pump 113, the liquid 120 is captured by the trap 112, thereby preventing adverse effects on the vacuum pump 113. Can do.

そして、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面がバルブ110にまで至ったことを目視で確認したら、バルブ110の操作をする。つまり、バルブ110が開閉弁である場合には、バルブ110を閉じる。一方、バルブ110が三方弁である場合には、バルブ110を、液体タンク108の出口側をノズルヘッド106側に連通させた状態にする。これにより、バルブ110を介した供給管107内の減圧が停止される。そのため、供給管107内に充填された液体120がバキュームポンプ113側へ流れることを防止することができる。   Then, when it is visually confirmed that the liquid level of the liquid 120 near the nozzle head 106 reaches the valve 110 in the supply pipe 107, the valve 110 is operated. That is, when the valve 110 is an on-off valve, the valve 110 is closed. On the other hand, when the valve 110 is a three-way valve, the valve 110 is brought into a state where the outlet side of the liquid tank 108 is communicated with the nozzle head 106 side. Thereby, the pressure reduction in the supply pipe 107 via the valve 110 is stopped. Therefore, the liquid 120 filled in the supply pipe 107 can be prevented from flowing to the vacuum pump 113 side.

その後も、供給器116の作動が継続し、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面がノズルヘッド106まで至ると、供給管107の全体に液体120が充填される。その後、液体120がノズルヘッド106の注入口162を通じてノズルヘッド本体部161の中空163内に供給され、更に、液体120がノズルヘッド本体部161の中空163内に充填されたら、制御部119によって供給器116が停止される。
そして、バキュームポンプ140を停止させるとともに密閉キャップ150をノズルヘッド106から外す。
なお、供給器116が制御部119によって停止されずに、後述する塗布工程に移行してもよい。
Thereafter, the operation of the supply device 116 continues, and when the liquid surface in the supply pipe 107 near the nozzle head 106 reaches the nozzle head 106, the entire supply pipe 107 is filled with the liquid 120. Thereafter, the liquid 120 is supplied into the hollow 163 of the nozzle head main body 161 through the inlet 162 of the nozzle head 106, and further supplied by the control unit 119 when the liquid 120 is filled into the hollow 163 of the nozzle head main body 161. The instrument 116 is stopped.
Then, the vacuum pump 140 is stopped and the sealing cap 150 is removed from the nozzle head 106.
In addition, the supply device 116 may be shifted to a coating process described later without being stopped by the control unit 119.

以上に説明したように、バキュームポンプ113によって供給管107内の気体を吸引しつつ、液体タンク108内の液体120を供給器116によって供給管107に送り出しているから、供給管107やノズルヘッド106内に液体120を充填するのに要する時間を短縮化することができる。
また、供給管107内が減圧された状態又は真空となっているから、供給管107内に充填されていく液体120に気泡が発生することを防止することができる。
また、供給管107内に充填された液体120内に気泡が発生しても、その気泡はバキュームポンプ113側に吸引されるから、気泡の除去をすることができる。
As described above, the liquid 120 in the liquid tank 108 is sent out to the supply pipe 107 by the supply device 116 while the gas in the supply pipe 107 is sucked by the vacuum pump 113. The time required to fill the liquid 120 inside can be shortened.
In addition, since the inside of the supply pipe 107 is in a reduced pressure state or a vacuum, it is possible to prevent bubbles from being generated in the liquid 120 filling the supply pipe 107.
Even if bubbles are generated in the liquid 120 filled in the supply pipe 107, the bubbles can be removed because they are sucked to the vacuum pump 113 side.

〔2−2〕塗布装置の塗布動作及び塗布工程
以上のようにセッティングされた塗布装置100の塗布動作及びその塗布動作に基づく有機層のパターニング方法について説明する。
まず、基板121をワークテーブル101の上に載置する。
次に、制御部119がキャリッジ105を動作させ、キャリッジ105が移動範囲の端に移動する。
次に、制御部119が、マスフローコントローラ109の設定流量を設定する。
次に、制御部119が、供給器116及びキャリッジ105を作動させる。なお、上記セッティング工程において、供給器116が停止されていなければ、供給器116が引き続き作動することになる。
キャリッジ105が作動すると、キャリッジ105が主走査方向に移動する。その際、供給器116が作動しているので、液体タンク108内の液体120がノズルヘッド106へと送り出され、供給管107を流れる液体120の流量がマスフローコントローラ109によって一定の設定流量に制御される。そのため、キャリッジ105の移動中において、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出される。そのため、吐出された液体120が基板121上に線状に塗布され、主走査方向に沿った線状の有機層パターンが基板121上に形成される。
ここで、供給管107内やノズルヘッド106内に液体120を充填する際において、液体120内に気泡が発生しないから、ノズル孔168から吐出される液体120が途切れることを防止することができる。特に、供給管107内やノズルヘッド106内に液体120を充填する工程において供給器116が停止されずに、この塗布工程に移行すれば、塗布工程において吐出される液体120の途切れを確実に防止することができる。
[2-2] Application Operation and Application Process of Application Apparatus The application operation of the application apparatus 100 set as described above and the organic layer patterning method based on the application operation will be described.
First, the substrate 121 is placed on the work table 101.
Next, the control unit 119 operates the carriage 105, and the carriage 105 moves to the end of the movement range.
Next, the control unit 119 sets the set flow rate of the mass flow controller 109.
Next, the control unit 119 operates the supply device 116 and the carriage 105. In the setting step, if the supply device 116 is not stopped, the supply device 116 continues to operate.
When the carriage 105 operates, the carriage 105 moves in the main scanning direction. At this time, since the supply device 116 is operating, the liquid 120 in the liquid tank 108 is sent out to the nozzle head 106, and the flow rate of the liquid 120 flowing through the supply pipe 107 is controlled to a constant set flow rate by the mass flow controller 109. The Therefore, the liquid 120 is continuously discharged from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106 during the movement of the carriage 105. Therefore, the discharged liquid 120 is applied linearly on the substrate 121, and a linear organic layer pattern along the main scanning direction is formed on the substrate 121.
Here, when the liquid 120 is filled into the supply pipe 107 or the nozzle head 106, bubbles are not generated in the liquid 120, so that the liquid 120 discharged from the nozzle hole 168 can be prevented from being interrupted. In particular, if the supply unit 116 is not stopped in the process of filling the liquid 120 in the supply pipe 107 or the nozzle head 106 and the process proceeds to this application process, the liquid 120 discharged in the application process is reliably prevented from being interrupted. can do.

キャリッジ105が移動範囲の反対の端まで移動したら、制御部119がキャリッジ105を停止する。
次に、制御部119が移動装置102を制御して、ワークテーブル101及び基板121が移動装置102によって副走査方向に所定距離だけ移動される。この際も、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出される。そのため、副走査方向に沿った線状の有機層パターンが基板121上に形成される。その後、移動装置102が停止する。
次に、制御部119が、キャリッジ105を作動させる。これにより、キャリッジ105が逆方向に移動する。この際も、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出される。そのため、主走査方向に沿った線状の有機層パターンが基板121上に形成される。
キャリッジ105が移動範囲の反対の端まで移動したら、制御部119がキャリッジ105を停止する。
次に、制御部119が移動装置102を制御して、ワークテーブル101及び基板121が移動装置102によって副走査方向に所定距離だけ移動される。この際も、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出される。そのため、主走査方向に沿った線状の有機層パターンが基板121上に形成される。
When the carriage 105 moves to the opposite end of the movement range, the control unit 119 stops the carriage 105.
Next, the control unit 119 controls the moving device 102, and the work table 101 and the substrate 121 are moved by a predetermined distance in the sub-scanning direction by the moving device 102. Also at this time, the liquid 120 is continuously discharged from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106. Therefore, a linear organic layer pattern along the sub-scanning direction is formed on the substrate 121. Thereafter, the moving device 102 stops.
Next, the control unit 119 operates the carriage 105. As a result, the carriage 105 moves in the reverse direction. Also at this time, the liquid 120 is continuously discharged from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106. Therefore, a linear organic layer pattern along the main scanning direction is formed on the substrate 121.
When the carriage 105 moves to the opposite end of the movement range, the control unit 119 stops the carriage 105.
Next, the control unit 119 controls the moving device 102, and the work table 101 and the substrate 121 are moved by a predetermined distance in the sub-scanning direction by the moving device 102. Also at this time, the liquid 120 is continuously discharged from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106. Therefore, a linear organic layer pattern along the main scanning direction is formed on the substrate 121.

以後、制御部119が上記制御を繰り返す。そのため、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出されながらキャリッジ105が移動範囲の端から端まで移動することが繰り返されるとともに、キャリッジ105が端に移動した際に移動装置102によってワークテーブル101及び基板121が所定距離だけ副走査方向に移動される。これにより、葛折り状の有機層パターンが基板121上に形成される。   Thereafter, the control unit 119 repeats the above control. Therefore, the carriage 105 is repeatedly moved from end to end in the movement range while the liquid 120 is continuously ejected from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106, and when the carriage 105 moves to the end, the moving device 102 The work table 101 and the substrate 121 are moved in the sub-scanning direction by a predetermined distance. As a result, a twisted organic layer pattern is formed on the substrate 121.

液体120が供給管107内を流れている際には、供給管107と排気管114の接続部が図3〜図7のように構成されているから、液体120の流れの乱れを抑えることができる(矢印参照)。そのため、液体120内にキャビテーションの発生を抑えることができる。よって、供給管107と排気管114の接続部において気泡が発生しにくい。そのため、ノズルヘッド106のノズル孔168から吐出される液体120が途切れることがない。そのため、液体120をノズル孔168から連続して吐出することができる。   When the liquid 120 is flowing through the supply pipe 107, the connection portion between the supply pipe 107 and the exhaust pipe 114 is configured as shown in FIGS. Yes (see arrow). Therefore, the occurrence of cavitation in the liquid 120 can be suppressed. Therefore, bubbles are unlikely to occur at the connection portion between the supply pipe 107 and the exhaust pipe 114. Therefore, the liquid 120 ejected from the nozzle hole 168 of the nozzle head 106 is not interrupted. Therefore, the liquid 120 can be continuously discharged from the nozzle hole 168.

〔3〕塗布装置の変形例1
〔3−1〕構成
図11、図12及び図13は、図1に示された塗布装置100の一部構成を変更した変形例の図面である。
この塗布装置100Aにおいては、バルブ110が電磁駆動式のバルブである。バルブ110が電磁駆動式のバルブであるので、バルブ110がソレノイド、モータその他の駆動源を有する。その駆動源が図3、図4、図5、図6、図7に示された弁体110fを駆動し、それにより弁体110fが開閉動作する。バルブ110の動作が制御部119によって制御される。具体的には、制御部119はバルブ110の駆動源を制御する。
また、供給管107の中途部には、検出器111が設けられている。この検出器111は、バルブ110の近傍であってバルブ110よりも僅かに液体タンク108寄りに設けられている。この検出器111は、バルブ110の近傍において供給管107内に液体120が存するか否かを検出するものである。検出器111による検出結果は、制御部119に出力される。
また、バキュームポンプ113及びバキュームポンプ140の動作が制御部119によって制御される。
上述したことを除いて、塗布装置100Aは、図1に示された塗布装置100と同様に設けられている。
[3] Modification 1 of coating apparatus
[3-1] Configuration FIGS. 11, 12, and 13 are drawings of modifications in which a partial configuration of the coating apparatus 100 shown in FIG. 1 is changed.
In the coating apparatus 100A, the valve 110 is an electromagnetically driven valve. Since the valve 110 is an electromagnetically driven valve, the valve 110 includes a solenoid, a motor, and other driving sources. The drive source drives the valve body 110f shown in FIGS. 3, 4, 5, 6, and 7, thereby opening and closing the valve body 110f. The operation of the valve 110 is controlled by the control unit 119. Specifically, the control unit 119 controls the drive source of the valve 110.
A detector 111 is provided in the middle of the supply pipe 107. The detector 111 is provided near the valve 110 and slightly closer to the liquid tank 108 than the valve 110. This detector 111 detects whether or not the liquid 120 exists in the supply pipe 107 in the vicinity of the valve 110. A detection result by the detector 111 is output to the control unit 119.
The operations of the vacuum pump 113 and the vacuum pump 140 are controlled by the control unit 119.
Except as described above, the coating apparatus 100A is provided in the same manner as the coating apparatus 100 shown in FIG.

図11では、バルブ110及び検出器111が液体タンク108とマスフローコントローラ109の間に設けられている。
一方、図12に示すように、バルブ110及び検出器111がマスフローコントローラ109とノズルヘッド106の間に設けられていてもよい。
また、図13に示すように、バルブ110及び検出器111がノズルヘッド106に設けられていてもよい。
In FIG. 11, the valve 110 and the detector 111 are provided between the liquid tank 108 and the mass flow controller 109.
On the other hand, as shown in FIG. 12, the valve 110 and the detector 111 may be provided between the mass flow controller 109 and the nozzle head 106.
Further, as shown in FIG. 13, a valve 110 and a detector 111 may be provided in the nozzle head 106.

〔3−2〕塗布装置の初期動作、塗布装置のセッティング工程及び液体の充填工程
この塗布装置100Aの初期動作及び塗布装置100Aのセッティング工程について説明する。
まず、液体タンク108内に液体120を充填する。この時点では、供給管107は空の状態であり、液体120が供給管107内に充填されていない。
制御部119がキャリッジ105を制御し、キャリッジ105が所定の待機位置に移動する。そうすると、図10に示すように、ノズルヘッド106の下端が密閉キャップ150によって塞がれ、ノズルヘッド106のノズル孔168が冷却トラップ130を介してバキュームポンプ140に接続される。
[3-2] Initial Operation of Coating Apparatus, Setting Process of Coating Apparatus, and Liquid Filling Process An initial operation of the coating apparatus 100A and a setting process of the coating apparatus 100A will be described.
First, the liquid 120 is filled in the liquid tank 108. At this time, the supply pipe 107 is empty, and the liquid 120 is not filled in the supply pipe 107.
The control unit 119 controls the carriage 105, and the carriage 105 moves to a predetermined standby position. Then, as shown in FIG. 10, the lower end of the nozzle head 106 is closed by the sealing cap 150, and the nozzle hole 168 of the nozzle head 106 is connected to the vacuum pump 140 via the cooling trap 130.

その後、制御部119によってバキュームポンプ113,140及び供給器116が作動する。この際、バルブ110が開閉弁である場合、バルブ110が制御部119に制御されることによって、バルブ110が開く。一方、バルブ110が三方弁である場合、バルブ110が制御部119によって制御されることによって、バルブ110が液体タンク108の出口側をバキュームポンプ113側に連通させた状態になる。   Thereafter, the vacuum pumps 113 and 140 and the feeder 116 are operated by the control unit 119. At this time, when the valve 110 is an on-off valve, the valve 110 is opened by the control of the valve 110 by the control unit 119. On the other hand, when the valve 110 is a three-way valve, the valve 110 is controlled by the control unit 119 so that the valve 110 communicates the outlet side of the liquid tank 108 to the vacuum pump 113 side.

供給器116が作動しているので、液体タンク108内の液体120が供給管107に送り出される。この際、供給管107内の減圧がバキュームポンプ113,140によって行われているので、液体120が速く充填されていく。供給管107内に充填された液体120に気泡が発生することを防止することができる。   Since the supply device 116 is operating, the liquid 120 in the liquid tank 108 is sent out to the supply pipe 107. At this time, since the vacuum in the supply pipe 107 is performed by the vacuum pumps 113 and 140, the liquid 120 is quickly filled. It is possible to prevent bubbles from being generated in the liquid 120 filled in the supply pipe 107.

そして、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面が検出器111にまで至ると、検出器111によって液体120が検出される。その時には、供給管107内のうち液体タンク108からバルブ110までの間に液体120が充填されている。   Then, when the liquid level of the liquid 120 near the nozzle head 106 reaches the detector 111 in the supply pipe 107, the liquid 120 is detected by the detector 111. At that time, the liquid 120 is filled between the liquid tank 108 and the valve 110 in the supply pipe 107.

検出器111によって液体120が検出されると、その旨の検出信号が制御部119に出力される。検出信号を入力した制御部119がバルブ110を制御する。つまり、バルブ110が開閉弁である場合には、制御部119がバルブ110を制御して、バルブ110が閉じる。一方、バルブ110が三方弁である場合には、制御部119がバルブ110を制御して、バルブ110が液体タンク108の出口側をノズルヘッド106側に連通させた状態になる。
その後も、供給器116の作動が継続し、液体120が供給管107及びノズルヘッド本体部161の中空163内に充填されたら、制御部119によって供給器116が停止される。なお、供給器116が停止されずに、そのまま液体120がノズルヘッド106に供給され、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出されてもよい。
When the liquid 111 is detected by the detector 111, a detection signal to that effect is output to the control unit 119. The control unit 119 that has input the detection signal controls the valve 110. That is, when the valve 110 is an on-off valve, the control unit 119 controls the valve 110 to close the valve 110. On the other hand, when the valve 110 is a three-way valve, the control unit 119 controls the valve 110 so that the valve 110 communicates the outlet side of the liquid tank 108 with the nozzle head 106 side.
After that, when the operation of the supply device 116 continues and the liquid 120 is filled in the hollow 163 of the supply pipe 107 and the nozzle head main body portion 161, the supply device 116 is stopped by the control unit 119. Note that the liquid 120 may be supplied to the nozzle head 106 as it is without stopping the supply device 116, and the liquid 120 may be continuously discharged from the nozzle hole 168 of the nozzle head 106.

なお、その後の塗布工程における塗布装置100Aの塗布動作は図1、図8、図9に示された塗布装置100の塗布動作と同様である。   Note that the coating operation of the coating apparatus 100A in the subsequent coating process is the same as the coating operation of the coating apparatus 100 shown in FIG. 1, FIG. 8, and FIG.

〔4〕塗布装置の変形例2
〔4−1〕構成
図14は、変形例における塗布装置100Bを示した図面である。
図14に示すように、複数のバルブ110a,110b及び検出器111a,111bが供給管107に設けられているとともに、バルブ110c及び検出器111cがノズルヘッド106に設けられている。バルブ110a及び検出器111aは、液体タンク108とマスフローコントローラ109の間に設けられている。バルブ110b及び検出器111bは、マスフローコントローラ109とノズルヘッド106の間に設けられている。
また、バルブ110c及び検出器111cがノズルヘッド106に設けられていている。バルブ110a,110b、110cは電磁弁である。これらバルブ110a,110b,110cは制御部119によって制御される。
この検出器111a,111b,111cは、それぞれのバルブ110a,110b,110cの近傍において供給管107内に液体120が存するか否かを検出するものである。
[4] Modification 2 of coating apparatus
[4-1] Configuration FIG. 14 is a view showing a coating apparatus 100B according to a modification.
As shown in FIG. 14, a plurality of valves 110 a and 110 b and detectors 111 a and 111 b are provided in the supply pipe 107, and a valve 110 c and a detector 111 c are provided in the nozzle head 106. The valve 110 a and the detector 111 a are provided between the liquid tank 108 and the mass flow controller 109. The valve 110 b and the detector 111 b are provided between the mass flow controller 109 and the nozzle head 106.
A valve 110 c and a detector 111 c are provided in the nozzle head 106. The valves 110a, 110b, and 110c are electromagnetic valves. These valves 110a, 110b, and 110c are controlled by the control unit 119.
The detectors 111a, 111b, and 111c detect whether or not the liquid 120 exists in the supply pipe 107 in the vicinity of the valves 110a, 110b, and 110c.

これらバルブ110a,110b,110cが排気管114aを介して捕捉器112に接続されている。以上に説明したことを除いて、図14に示された塗布装置100Bは、図1に示された塗布装置100と同様に設けられている。   These valves 110a, 110b, and 110c are connected to the trap 112 through the exhaust pipe 114a. Except as described above, the coating apparatus 100B shown in FIG. 14 is provided in the same manner as the coating apparatus 100 shown in FIG.

〔4−2〕塗布装置の初期動作、塗布装置のセッティング工程及び液体の充填工程
この塗布装置100Bの初期動作及び塗布装置100Bのセッティング工程について図15を参照して説明する。図15は、制御部119のシーケンス制御の流れを示したフローチャートである。
[4-2] Initial Operation of Coating Apparatus, Setting Process of Coating Apparatus, and Liquid Filling Process An initial operation of the coating apparatus 100B and a setting process of the coating apparatus 100B will be described with reference to FIG. FIG. 15 is a flowchart showing a sequence control flow of the control unit 119.

まず、液体タンク108内に液体120を充填する。この時点では、供給管107は空の状態であり、液体120が供給管107内に充填されていない。   First, the liquid 120 is filled in the liquid tank 108. At this time, the supply pipe 107 is empty, and the liquid 120 is not filled in the supply pipe 107.

そして、制御部119がキャリッジ105を制御し、キャリッジ105が所定の待機位置に移動する(ステップS1)。そうすると、図10に示すように、ノズルヘッド106の下端が密閉キャップ150によって塞がれ、ノズルヘッド106のノズル孔168が冷却トラップ130を介してバキュームポンプ140に接続される。   Then, the control unit 119 controls the carriage 105, and the carriage 105 moves to a predetermined standby position (step S1). Then, as shown in FIG. 10, the lower end of the nozzle head 106 is closed by the sealing cap 150, and the nozzle hole 168 of the nozzle head 106 is connected to the vacuum pump 140 via the cooling trap 130.

次に、塗布装置100を起動する。次に、制御部119がバルブ110a,110b,110cを制御し、バルブ110a,110b,110cが開く(ステップS2)。
その後、制御部119によってバキュームポンプ113,140及び供給器116が作動する(ステップS3)。
Next, the coating apparatus 100 is started. Next, the control unit 119 controls the valves 110a, 110b, and 110c, and the valves 110a, 110b, and 110c are opened (step S2).
Thereafter, the vacuum pumps 113 and 140 and the feeder 116 are operated by the control unit 119 (step S3).

供給器116が作動しているので、液体タンク108内の液体120が供給管107に送り出される。これにより、供給管107内には、液体120が液体タンク108側から次第に充填されていく。この際、バキュームポンプ113が作動しているので、供給管107内の減圧がバルブ110a,110b,110cを介して行われているので、液体120が速く充填されていく。そして、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面が検出器111aにまで至ると、検出器111aによって液体120が検出される(ステップS4:Yes)。その時には、供給管107内のうち液体タンク108からバルブ110aまでの間に液体120が充填されている。   Since the supply device 116 is operating, the liquid 120 in the liquid tank 108 is sent out to the supply pipe 107. As a result, the liquid 120 is gradually filled into the supply pipe 107 from the liquid tank 108 side. At this time, since the vacuum pump 113 is operating, the pressure in the supply pipe 107 is reduced through the valves 110a, 110b, and 110c, so that the liquid 120 is quickly filled. When the liquid level in the supply pipe 107 near the nozzle head 106 reaches the detector 111a, the detector 111a detects the liquid 120 (step S4: Yes). At that time, the liquid 120 is filled in the supply pipe 107 between the liquid tank 108 and the valve 110a.

検出器111aによって液体120が検出されると、その旨の検出信号が制御部119に出力される。制御部119は、検出器111aから検出信号を入力したら、バルブ110aを閉じる(ステップS5)。これにより、バルブ110aを介した供給管107内の減圧が停止される。   When the liquid 111 is detected by the detector 111a, a detection signal to that effect is output to the control unit 119. When receiving the detection signal from the detector 111a, the control unit 119 closes the valve 110a (step S5). Thereby, the pressure reduction in the supply pipe 107 via the valve 110a is stopped.

その後も、供給器116及びバキュームポンプ113の動作が継続する。そして、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面が検出器111bにまで至ると、検出器111bによって液体120が検出される(ステップS6:Yes)。検出器111bによって液体120が検出されると、その旨の検出信号が制御部119に出力される。制御部119は、検出器111bから検出信号を入力したら、バルブ110bを閉じる(ステップS7)。これにより、バルブ110bを介した供給管107内の減圧が停止される。   Thereafter, the operation of the feeder 116 and the vacuum pump 113 continues. When the liquid level in the supply pipe 107 near the nozzle head 106 reaches the detector 111b, the detector 111b detects the liquid 120 (step S6: Yes). When the liquid 111 is detected by the detector 111b, a detection signal to that effect is output to the control unit 119. When receiving the detection signal from the detector 111b, the control unit 119 closes the valve 110b (step S7). Thereby, the pressure reduction in the supply pipe 107 via the valve 110b is stopped.

その後も、供給器116及びバキュームポンプ113の動作が継続する。そして、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面が検出器111cにまで至ると、検出器111cによって液体120が検出される(ステップS8:Yes)。検出器111cによって液体120が検出されると、その旨の検出信号が制御部119に出力される。制御部119は、検出器111cから検出信号を入力したら、バルブ110cを閉じる(ステップS9)。これにより、バルブ110cを介した供給管107内の減圧が停止される。   Thereafter, the operation of the feeder 116 and the vacuum pump 113 continues. When the liquid level of the liquid 120 in the supply pipe 107 close to the nozzle head 106 reaches the detector 111c, the liquid 111 is detected by the detector 111c (Step S8: Yes). When the liquid 111 is detected by the detector 111c, a detection signal to that effect is output to the control unit 119. When receiving the detection signal from the detector 111c, the control unit 119 closes the valve 110c (step S9). Thereby, the decompression in the supply pipe 107 via the valve 110c is stopped.

その後も、供給器116の作動が継続する。そして、液体120がノズルヘッド106の中空163内に充填されたら、制御部119によって供給器116が停止される。なお、供給器116が停止されずに、そのまま液体120がノズルヘッド106に供給され、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出されてもよい。   Thereafter, the operation of the feeder 116 continues. When the liquid 120 is filled into the hollow 163 of the nozzle head 106, the supply unit 116 is stopped by the control unit 119. Note that the liquid 120 may be supplied to the nozzle head 106 as it is without stopping the supply device 116, and the liquid 120 may be continuously discharged from the nozzle hole 168 of the nozzle head 106.

上述では、制御部119のシーケンス制御によって、バルブ110a,110b,110c、バキュームポンプ113及び供給器116が自動的に動作している。それに対し、作業者がバルブ110a,110b,110c、バキュームポンプ113,140及び供給器116を手動で動作させてもよい。また、図16に示すように、検出器111a,111b、111cが設けられていなくてもよい。以下、手動で塗布装置100Bのセッティングを行う場合について具体的に説明する。   In the above description, the valves 110a, 110b, and 110c, the vacuum pump 113, and the feeder 116 are automatically operated by the sequence control of the control unit 119. On the other hand, an operator may manually operate the valves 110a, 110b, and 110c, the vacuum pumps 113 and 140, and the feeder 116. Further, as shown in FIG. 16, the detectors 111a, 111b, and 111c may not be provided. Hereinafter, a case where the setting of the coating apparatus 100B is manually performed will be specifically described.

キャリッジ105を所定の待機位置に移動させる。図10に示すように、ノズルヘッド106のノズル孔168を冷却トラップ130を介してバキュームポンプ140に接続する。
次に、液体タンク108内に液体120を充填する。次に、バルブ110a,110b,110cを手動で開く。
次に、バキュームポンプ113,140及び供給器116を作動させる。これにより、液体タンク108内の液体120が供給管107に送り出されるとともに、供給管107内の液体がバキュームポンプ113によって引かれる。これにより、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面がバルブ110aの直前にまで至ったことを目視で確認したら、バルブ110aを閉じる。
その後、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面がバルブ110bの直前にまで至ったことを目視で確認したら、バルブ110bを閉じる。
その後、供給管107内における液体120のノズルヘッド106寄りの液面がバルブ110cの直前にまで至ったことを目視で確認したら、バルブ110cを閉じる。
その後も、供給器116を作動しつづけ、液体120がノズルヘッド106の中空163内に充填されたら、供給器116を停止する。
The carriage 105 is moved to a predetermined standby position. As shown in FIG. 10, the nozzle hole 168 of the nozzle head 106 is connected to the vacuum pump 140 via the cooling trap 130.
Next, the liquid 120 is filled in the liquid tank 108. Next, the valves 110a, 110b, and 110c are manually opened.
Next, the vacuum pumps 113 and 140 and the feeder 116 are operated. As a result, the liquid 120 in the liquid tank 108 is sent out to the supply pipe 107, and the liquid in the supply pipe 107 is drawn by the vacuum pump 113. Thus, when it is visually confirmed that the liquid level of the liquid 120 in the supply pipe 107 close to the nozzle head 106 has reached just before the valve 110a, the valve 110a is closed.
Thereafter, when it is visually confirmed that the liquid level of the liquid 120 near the nozzle head 106 in the supply pipe 107 has reached just before the valve 110b, the valve 110b is closed.
Thereafter, when it is visually confirmed that the liquid level of the liquid 120 near the nozzle head 106 in the supply pipe 107 has reached just before the valve 110c, the valve 110c is closed.
Thereafter, the supply device 116 is continuously operated, and when the liquid 120 is filled in the hollow 163 of the nozzle head 106, the supply device 116 is stopped.

なお、その後の塗布工程における塗布装置100Bの塗布動作は図1、図8、図9に示された塗布装置100の塗布動作と同様である。   Note that the coating operation of the coating apparatus 100B in the subsequent coating process is the same as the coating operation of the coating apparatus 100 shown in FIG. 1, FIG. 8, and FIG.

以上のように、液体120が供給管107に充填されていくに従って、バルブ110a,110b,110cが順次閉じていくから、ノズルヘッド106内に液体120が供給される直前まで、供給管107内を減圧状態又は真空にすることができる。   As described above, since the valves 110a, 110b, and 110c are sequentially closed as the liquid 120 is filled into the supply pipe 107, the inside of the supply pipe 107 is immediately before the liquid 120 is supplied into the nozzle head 106. It can be a reduced pressure state or a vacuum.

〔5〕塗布装置を用いて製造される有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの構成
図1、図8〜図9、図11〜図14、図16に示された塗布装置100,100A,100Bを用いて製造されるELパネル1について、図17〜図21を用いて説明する。
[5] Configuration of Organic Electroluminescence Display Panel Manufactured Using Coating Apparatus Manufactured using coating apparatuses 100, 100A, and 100B shown in FIGS. 1, 8 to 9, 11 to 14, and 16. The EL panel 1 to be performed will be described with reference to FIGS.

図17は、発光パネルであるELパネル1における複数の画素Pの配置構成を示す平面図である。図18は、ELパネル1の概略構成を示す平面図である。図19は、アクティブマトリクス駆動方式で動作するELパネル1の1画素に相当する回路を示した回路図である。図20は、ELパネル1の1画素Pに相当する平面図であり、図21は、図20のXXI−XXI線に沿った面の矢視断面図である。   FIG. 17 is a plan view showing an arrangement configuration of a plurality of pixels P in the EL panel 1 which is a light emitting panel. FIG. 18 is a plan view showing a schematic configuration of the EL panel 1. FIG. 19 is a circuit diagram showing a circuit corresponding to one pixel of the EL panel 1 operating in the active matrix driving method. 20 is a plan view corresponding to one pixel P of the EL panel 1, and FIG. 21 is a cross-sectional view taken along the line XXI-XXI in FIG.

図17、図18に示すように、ELパネル1には、R(赤),G(緑),B(青)をそれぞれ発光する複数の画素Pが所定のパターンでマトリクス状に配置されている。
このELパネル1には、複数の走査線2及び複数の信号線3が設けられている。これら走査線2は、行方向に沿って互いに略平行となるよう配列されている。これら信号線3が、列方向に沿って互いに略平行となるよう配列されている。走査線2と信号線3が、平面視して走査線2と略直交している。また、ELパネル1には、複数の電圧供給線4が設けラテいる。電圧供給線4は、平面視して、走査線2に対して平行に設けられている。電圧供給線4は、隣り合う走査線2の間において走査線2に沿って設けられている。画素Pは、一組の走査線2及び電圧供給線4並びに隣り合う二本の信号線3によって囲われる範囲に相当する。画素Pがマトリクス状に配列されている。ここでは、R(赤)を発光する複数の画素Pが信号線3に沿って配列されている。G(緑)を発光する複数の画素Pも信号線3に沿って配列されている。B(青)を発光する複数の画素Pも信号線3に沿って配列されている。走査線2に沿う方向の複数の画素Pの列は、R(赤)を発光する画素P、G(緑)を発光する画素P、B(青)を発光する画素Pの順の配列となっている。
As shown in FIGS. 17 and 18, on the EL panel 1, a plurality of pixels P that respectively emit R (red), G (green), and B (blue) are arranged in a matrix with a predetermined pattern. .
The EL panel 1 is provided with a plurality of scanning lines 2 and a plurality of signal lines 3. These scanning lines 2 are arranged so as to be substantially parallel to each other along the row direction. These signal lines 3 are arranged so as to be substantially parallel to each other along the column direction. The scanning line 2 and the signal line 3 are substantially orthogonal to the scanning line 2 in plan view. The EL panel 1 is provided with a plurality of voltage supply lines 4. The voltage supply line 4 is provided in parallel to the scanning line 2 in plan view. The voltage supply line 4 is provided along the scanning line 2 between the adjacent scanning lines 2. The pixel P corresponds to a range surrounded by a pair of scanning lines 2 and voltage supply lines 4 and two adjacent signal lines 3. Pixels P are arranged in a matrix. Here, a plurality of pixels P that emit R (red) are arranged along the signal line 3. A plurality of pixels P that emit G (green) are also arranged along the signal line 3. A plurality of pixels P that emit B (blue) are also arranged along the signal line 3. A plurality of columns of pixels P in the direction along the scanning line 2 are arranged in the order of a pixel P that emits R (red), a pixel P that emits G (green), and a pixel P that emits B (blue). ing.

また、ELパネル1には、隔壁であるバンク13が設けられている。バンク13は、信号線3に沿う方向に延在している。このバンク13によって挟まれた範囲に所定のキャリア輸送層(後述する正孔注入層8b、発光層8c)が設けられ、その範囲が画素Pの発光領域となる。つまり、このバンク13が、R(赤),G(緑),B(青)の各色毎に画素Pを仕切っている。なお、キャリア輸送層とは、電圧が印加されることによって正孔又は電子を輸送する層である。   Further, the EL panel 1 is provided with a bank 13 which is a partition wall. The bank 13 extends in a direction along the signal line 3. Predetermined carrier transport layers (a hole injection layer 8b and a light emitting layer 8c, which will be described later) are provided in a range sandwiched between the banks 13, and the range becomes a light emitting region of the pixel P. That is, the bank 13 partitions the pixel P for each color of R (red), G (green), and B (blue). The carrier transport layer is a layer that transports holes or electrons when a voltage is applied.

図18、図19に示すように、このELパネル1の1画素Pにつき、薄膜トランジスタであるスイッチトランジスタ5と、薄膜トランジスタである駆動トランジスタ6と、キャパシタ7と、EL素子8とが設けられている。   As shown in FIGS. 18 and 19, for each pixel P of the EL panel 1, a switch transistor 5, which is a thin film transistor, a driving transistor 6, which is a thin film transistor, a capacitor 7, and an EL element 8 are provided.

各画素Pにおいては、スイッチトランジスタ5のゲートが走査線2に接続されている。スイッチトランジスタ5のドレインとソースのうちの一方が信号線3に接続されている。スイッチトランジスタ5のドレインとソースのうちの他方がキャパシタ7の一方の電極及び駆動トランジスタ6のゲートに接続されている。駆動トランジスタ6のソースとドレインのうちの一方が電圧供給線4に接続されている。駆動トランジスタ6のソースとドレインのうち他方がキャパシタ7の他方の電極及びEL素子8のアノードに接続されている。なお、全ての画素PのEL素子8のカソードは、一定電圧Vcomに保たれている(例えば、接地されている)。   In each pixel P, the gate of the switch transistor 5 is connected to the scanning line 2. One of the drain and the source of the switch transistor 5 is connected to the signal line 3. The other of the drain and source of the switch transistor 5 is connected to one electrode of the capacitor 7 and the gate of the driving transistor 6. One of the source and drain of the driving transistor 6 is connected to the voltage supply line 4. The other of the source and drain of the driving transistor 6 is connected to the other electrode of the capacitor 7 and the anode of the EL element 8. Note that the cathodes of the EL elements 8 of all the pixels P are kept at a constant voltage Vcom (for example, grounded).

また、このELパネル1の周囲において各走査線2が走査ドライバに接続されている。各電圧供給線4が、定電圧源又は適宜電圧信号を出力するドライバに接続されている。各信号線3が、データドライバに接続されている。これらドライバによってELパネル1がアクティブマトリクス駆動方式で駆動される。電圧供給線4には、定電圧源又はドライバによって所定の電力が供給される。   In addition, each scanning line 2 is connected to a scanning driver around the EL panel 1. Each voltage supply line 4 is connected to a constant voltage source or a driver that outputs a voltage signal as appropriate. Each signal line 3 is connected to a data driver. The EL panel 1 is driven by these drivers by an active matrix driving method. The voltage supply line 4 is supplied with predetermined power by a constant voltage source or a driver.

次に、ELパネル1と、その画素Pの回路構造について、図20、図21を用いて説明する。図20に示すように、スイッチトランジスタ5及び駆動トランジスタ6は、信号線3に沿うように配列されている。キャパシタ7が、スイッチトランジスタ5の近傍に配置されている。EL素子8が、駆動トランジスタ6の近傍に配置されている。また、スイッチトランジスタ5、駆動トランジスタ6、キャパシタ7及びEL素子8が、走査線2と電圧供給線4の間に配置されている。   Next, the circuit structure of the EL panel 1 and the pixel P will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 20, the switch transistor 5 and the drive transistor 6 are arranged along the signal line 3. A capacitor 7 is disposed in the vicinity of the switch transistor 5. An EL element 8 is disposed in the vicinity of the drive transistor 6. Further, the switch transistor 5, the drive transistor 6, the capacitor 7, and the EL element 8 are disposed between the scanning line 2 and the voltage supply line 4.

駆動トランジスタ6は、図21に示すように、ゲート電極6a、半導体膜6b、チャネル保護膜6d、不純物半導体膜6f,6g、ドレイン電極6h、ソース電極6i等を有するものである。
また、スイッチトランジスタ5は、以下に詳述する駆動トランジスタ6と同様の薄膜トランジスタであって、ゲート電極5a、半導体膜、チャネル保護膜、不純物半導体膜、ドレイン電極5h、ソース電極5i等を有するものであるので、その詳細については省略する。
図20、図21に示すように、ゲート絶縁膜となる層間絶縁膜11が基板10上の一面に成膜されている。その層間絶縁膜11の上には、層間絶縁膜12が成膜されている。信号線3は、層間絶縁膜11と基板10との間に形成されている。走査線2及び電圧供給線4は、層間絶縁膜11と層間絶縁膜12との間に形成されている。
As shown in FIG. 21, the drive transistor 6 includes a gate electrode 6a, a semiconductor film 6b, a channel protective film 6d, impurity semiconductor films 6f and 6g, a drain electrode 6h, a source electrode 6i, and the like.
The switch transistor 5 is a thin film transistor similar to the drive transistor 6 described in detail below, and includes a gate electrode 5a, a semiconductor film, a channel protective film, an impurity semiconductor film, a drain electrode 5h, a source electrode 5i, and the like. Details are omitted here.
As shown in FIGS. 20 and 21, an interlayer insulating film 11 to be a gate insulating film is formed on one surface of the substrate 10. An interlayer insulating film 12 is formed on the interlayer insulating film 11. The signal line 3 is formed between the interlayer insulating film 11 and the substrate 10. The scanning line 2 and the voltage supply line 4 are formed between the interlayer insulating film 11 and the interlayer insulating film 12.

ゲート電極6aは、基板10と層間絶縁膜11の間に形成されている。このゲート電極6aは、例えば、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlTiNd合金膜からなる。また、ゲート電極6aの上には、絶縁性の層間絶縁膜11が成膜されている。ゲート電極6aが、その層間絶縁膜11によって被覆されている。
層間絶縁膜11は、例えば、シリコン窒化物又はシリコン酸化物からなる。この層間絶縁膜11上であってゲート電極6aに対応する位置には、真性な半導体膜6bが形成されている。半導体膜6bは、層間絶縁膜11を挟んでゲート電極6aと相対している。
半導体膜6bは、例えば、アモルファスシリコン又は多結晶シリコンからなる。この半導体膜6bにチャネルが形成される。また、半導体膜6bの中央部上には、絶縁性のチャネル保護膜6dが形成されている。このチャネル保護膜6dは、例えば、シリコン窒化物又はシリコン酸化物からなる。
また、半導体膜6bの一端部の上には、不純物半導体膜6fが一部チャネル保護膜6dに重なるようにして形成されている。半導体膜6bの他端部の上には、不純物半導体膜6gが一部チャネル保護膜6dに重なるようにして形成されている。そして、不純物半導体膜6f,6gは、それぞれ半導体膜6bの両端側に互いに離間して形成されている。なお、ここでは不純物半導体膜6f,6gはn型半導体であるが、これに限らず、p型半導体であってもよい。
不純物半導体膜6fの上には、ドレイン電極6hが形成されている。不純物半導体膜6gの上には、ソース電極6iが形成されている。ドレイン電極6h,ソース電極6iは、例えば、Cr膜、Al膜、Cr/Al積層膜、AlTi合金膜又はAlTiNd合金膜からなる。
チャネル保護膜6d、ドレイン電極6h及びソース電極6iの上には、保護膜となる絶縁性の層間絶縁膜12が成膜されている。チャネル保護膜6d、ドレイン電極6h及びソース電極6iが、層間絶縁膜12によって被覆されている。そして、駆動トランジスタ6は、層間絶縁膜12によって覆われるようになっている。層間絶縁膜12は、例えば、厚さが100nm〜200nm窒化シリコン又は酸化シリコンからなる。
The gate electrode 6 a is formed between the substrate 10 and the interlayer insulating film 11. The gate electrode 6a is made of, for example, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film, or an AlTiNd alloy film. An insulating interlayer insulating film 11 is formed on the gate electrode 6a. Gate electrode 6 a is covered with interlayer insulating film 11.
The interlayer insulating film 11 is made of, for example, silicon nitride or silicon oxide. An intrinsic semiconductor film 6b is formed on the interlayer insulating film 11 at a position corresponding to the gate electrode 6a. The semiconductor film 6b is opposed to the gate electrode 6a with the interlayer insulating film 11 interposed therebetween.
The semiconductor film 6b is made of, for example, amorphous silicon or polycrystalline silicon. A channel is formed in the semiconductor film 6b. An insulating channel protective film 6d is formed on the central portion of the semiconductor film 6b. The channel protective film 6d is made of, for example, silicon nitride or silicon oxide.
Further, an impurity semiconductor film 6f is formed on one end portion of the semiconductor film 6b so as to partially overlap the channel protective film 6d. Over the other end of the semiconductor film 6b, an impurity semiconductor film 6g is formed so as to partially overlap the channel protective film 6d. The impurity semiconductor films 6f and 6g are formed on both ends of the semiconductor film 6b so as to be separated from each other. Here, the impurity semiconductor films 6f and 6g are n-type semiconductors, but the present invention is not limited thereto, and may be p-type semiconductors.
A drain electrode 6h is formed on the impurity semiconductor film 6f. A source electrode 6i is formed on the impurity semiconductor film 6g. The drain electrode 6h and the source electrode 6i are made of, for example, a Cr film, an Al film, a Cr / Al laminated film, an AlTi alloy film, or an AlTiNd alloy film.
An insulating interlayer insulating film 12 serving as a protective film is formed on the channel protective film 6d, the drain electrode 6h, and the source electrode 6i. The channel protective film 6d, the drain electrode 6h, and the source electrode 6i are covered with the interlayer insulating film 12. The drive transistor 6 is covered with an interlayer insulating film 12. The interlayer insulating film 12 is made of, for example, silicon nitride or silicon oxide having a thickness of 100 nm to 200 nm.

キャパシタ7は、駆動トランジスタ6のゲート電極6aとソース電極6iとの間に接続されている。図21に示すように、キャパシタ7の一方の電極7aが基板10と層間絶縁膜11との間に形成されている。キャパシタ7の他方の電極7bが、層間絶縁膜11と層間絶縁膜12との間に形成されている。電極7aと電極7bが誘電体である層間絶縁膜11を挟んで相対している。これにより、キャパシタ7が構成されている。   The capacitor 7 is connected between the gate electrode 6 a and the source electrode 6 i of the driving transistor 6. As shown in FIG. 21, one electrode 7 a of the capacitor 7 is formed between the substrate 10 and the interlayer insulating film 11. The other electrode 7 b of the capacitor 7 is formed between the interlayer insulating film 11 and the interlayer insulating film 12. The electrodes 7a and 7b are opposed to each other with the interlayer insulating film 11 that is a dielectric interposed therebetween. Thereby, the capacitor 7 is configured.

信号線3、キャパシタ7の電極7a、スイッチトランジスタ5のゲート電極5a及び駆動トランジスタ6のゲート電極6aは、基板10に一面に成膜された導電膜をフォトリソグラフィー法及びエッチング法等によって形状加工することで一括して形成されたものである。
また、走査線2、電圧供給線4、キャパシタ7の電極7b、スイッチトランジスタ5のドレイン電極5h,ソース電極5i及び駆動トランジスタ6のドレイン電極6h,ソース電極6iは、層間絶縁膜11に一面に成膜された導電膜をフォトリソグラフィー法及びエッチング法等によって形状加工することで形成されたものである。
The signal line 3, the electrode 7a of the capacitor 7, the gate electrode 5a of the switch transistor 5, and the gate electrode 6a of the driving transistor 6 are formed by processing the conductive film formed on the entire surface of the substrate 10 by a photolithography method, an etching method, or the like. It is formed in a lump.
The scanning line 2, the voltage supply line 4, the electrode 7 b of the capacitor 7, the drain electrode 5 h and source electrode 5 i of the switch transistor 5, and the drain electrode 6 h and source electrode 6 i of the driving transistor 6 are formed on the interlayer insulating film 11. The formed conductive film is formed by shape processing by a photolithography method, an etching method, or the like.

また、層間絶縁膜11には、ゲート電極5aと走査線2とが重なる領域に、コンタクトホール11aが形成されている。ドレイン電極5hと信号線3とが重なる領域に、コンタクトホール11bが形成されている。ゲート電極6aとソース電極5iとが重なる領域に、コンタクトホール11cが形成されている。コンタクトホール11a〜11c内にコンタクトプラグ20a〜20cがそれぞれ埋め込まれている。コンタクトプラグ20aによってスイッチトランジスタ5のゲート電極5aと走査線2が電気的に導通する。コンタクトプラグ20bによってスイッチトランジスタ5のドレイン電極5hと信号線3が電気的に導通する。コンタクトプラグ20cによってスイッチトランジスタ5のソース電極5iとキャパシタ7の電極7aが電気的に導通するとともに、スイッチトランジスタ5のソース電極5iと駆動トランジスタ6のゲート電極6aが電気的に導通する。コンタクトプラグ20a〜20cを介することなく、走査線2が直接ゲート電極5aと接触し、ドレイン電極5hが信号線3と接触し、ソース電極5iがゲート電極6aと接触してもよい。
駆動トランジスタ6のゲート電極6aが、キャパシタ7の電極7aに一体に連なっている。駆動トランジスタ6のドレイン電極6hが、電圧供給線4に一体に連なっている。駆動トランジスタ6のソース電極6iが、キャパシタ7の電極7bに一体に連なっている。
In the interlayer insulating film 11, a contact hole 11a is formed in a region where the gate electrode 5a and the scanning line 2 overlap. A contact hole 11b is formed in a region where the drain electrode 5h and the signal line 3 overlap. A contact hole 11c is formed in a region where the gate electrode 6a and the source electrode 5i overlap. Contact plugs 20a to 20c are embedded in the contact holes 11a to 11c, respectively. The gate electrode 5a of the switch transistor 5 and the scanning line 2 are electrically connected by the contact plug 20a. The contact plug 20b electrically connects the drain electrode 5h of the switch transistor 5 and the signal line 3. The contact plug 20c electrically connects the source electrode 5i of the switch transistor 5 and the electrode 7a of the capacitor 7, and electrically connects the source electrode 5i of the switch transistor 5 and the gate electrode 6a of the drive transistor 6. The scanning line 2 may be in direct contact with the gate electrode 5a, the drain electrode 5h may be in contact with the signal line 3, and the source electrode 5i may be in contact with the gate electrode 6a without using the contact plugs 20a to 20c.
The gate electrode 6 a of the driving transistor 6 is integrally connected to the electrode 7 a of the capacitor 7. A drain electrode 6 h of the drive transistor 6 is integrally connected to the voltage supply line 4. A source electrode 6 i of the driving transistor 6 is integrally connected to an electrode 7 b of the capacitor 7.

画素電極8aは、層間絶縁膜11を介して基板10上に設けられている。画素電極8aは、画素Pごとに独立して形成されている。この画素電極8aは透明電極であって、例えば、錫ドープ酸化インジウム(ITO)、亜鉛ドープ酸化インジウム、酸化インジウム(In23)、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)又はカドミウム−錫酸化物(CTO)からなる。画素電極8aは一部、駆動トランジスタ6のソース電極6iに重なり、画素電極8aとソース電極6iが接続している。
そして、図20、図21に示すように、層間絶縁膜12が、走査線2、信号線3、電圧供給線4、スイッチトランジスタ5、駆動トランジスタ6、画素電極8aの周縁部、キャパシタ7の電極7b及び層間絶縁膜11を覆うように形成されている。
層間絶縁膜12には、各画素電極8aの中央部が露出するように開口部12aが形成されている。この層間絶縁膜12は、平面視して格子状に形成されている。
The pixel electrode 8 a is provided on the substrate 10 via the interlayer insulating film 11. The pixel electrode 8a is formed independently for each pixel P. The pixel electrode 8a is a transparent electrode, for example, tin-doped indium oxide (ITO), zinc-doped indium oxide, indium oxide (In 2 O 3 ), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), or cadmium − It consists of tin oxide (CTO). The pixel electrode 8a partially overlaps the source electrode 6i of the drive transistor 6, and the pixel electrode 8a and the source electrode 6i are connected.
20 and 21, the interlayer insulating film 12 includes the scanning line 2, the signal line 3, the voltage supply line 4, the switch transistor 5, the driving transistor 6, the peripheral portion of the pixel electrode 8a, and the electrode of the capacitor 7. 7b and the interlayer insulating film 11 are formed.
An opening 12a is formed in the interlayer insulating film 12 so that the center of each pixel electrode 8a is exposed. The interlayer insulating film 12 is formed in a lattice shape in plan view.

バンク13は、図20、図21に示すように、信号線3に沿う方向に延在しているとともに、互いに平行に設けられている。そのため、これらバンク13は、縞状を成している。また、バンク13は、層間絶縁膜12を介してスイッチトランジスタ5や駆動トランジスタ6を覆う位置に形成されている。バンク13の側壁13aは、層間絶縁膜12の開口部12aより内側に位置している。また、隣り合うバンク13の間には、画素電極8aの中央側が露出している。また、隣り合うバンク13の間にある複数の画素電極8aは、バンク13に沿って配列されている。
そして、バンク13は、後述する正孔注入層8bや発光層8cを湿式法により形成するに際して、正孔注入層8bや発光層8cとなる材料が溶媒に溶解または分散された液状体が隣接する画素Pに滲み出ないようにする隔壁として機能する。
As shown in FIGS. 20 and 21, the bank 13 extends in the direction along the signal line 3 and is provided in parallel to each other. Therefore, these banks 13 are striped. The bank 13 is formed at a position covering the switch transistor 5 and the drive transistor 6 with the interlayer insulating film 12 interposed therebetween. The side wall 13 a of the bank 13 is located inside the opening 12 a of the interlayer insulating film 12. Further, between the adjacent banks 13, the center side of the pixel electrode 8 a is exposed. A plurality of pixel electrodes 8 a between adjacent banks 13 are arranged along the banks 13.
In the bank 13, when a hole injection layer 8b or a light emitting layer 8c described later is formed by a wet method, a liquid material in which a material for forming the hole injection layer 8b or the light emitting layer 8c is dissolved or dispersed in a solvent is adjacent. It functions as a partition wall that prevents the pixel P from bleeding.

EL素子8は、図20、図21に示すように、アノードとなる第一電極としての画素電極8aと、画素電極8aの上に形成された化合物膜である正孔注入層8bと、正孔注入層8bの上に形成された化合物膜である発光層8cと、発光層8cの上に形成された第二電極としての対向電極8dとを備えている。対向電極8dは全画素Pに共通の単一電極であって、全画素Pに連続して形成されている。   As shown in FIGS. 20 and 21, the EL element 8 includes a pixel electrode 8a as a first electrode serving as an anode, a hole injection layer 8b that is a compound film formed on the pixel electrode 8a, and a hole. A light emitting layer 8c, which is a compound film formed on the injection layer 8b, and a counter electrode 8d as a second electrode formed on the light emitting layer 8c are provided. The counter electrode 8d is a single electrode common to all the pixels P, and is continuously formed in all the pixels P.

正孔注入層8bは、例えば、導電性高分子であるPEDOT(poly(ethylenedioxy)thiophene;ポリエチレンジオキシチオフェン)及びドーパントであるPSS(polystyrene sulfonate;ポリスチレンスルホン酸)からなるキャリア輸送層である。正孔注入層8bは、画素電極8aから発光層8cに向けて正孔を注入する層である。
発光層8cは、画素P毎にR(赤),G(緑),B(青)のいずれかを発光する材料を含む。発光層8cは、例えば、ポリフルオレン系発光材料やポリフェニレンビニレン系発光材料からなるキャリア輸送層である。発光層8cは、対向電極8dから供給される電子と、正孔注入層8bから注入される正孔との再結合に伴い発光する層である。このため、R(赤)を発光する画素P、G(緑)を発光する画素P、B(青)を発光する画素Pは互いに発光層8cの発光材料が異なる。画素PのR(赤),G(緑),B(青)のパターンは、縦方向に同色画素が配列されるストライプパターンである。
The hole injection layer 8b is a carrier transport layer made of, for example, PEDOT (poly (ethylenedioxy) thiophene) that is a conductive polymer and PSS (polystyrene sulfonate) that is a dopant. The hole injection layer 8b is a layer that injects holes from the pixel electrode 8a toward the light emitting layer 8c.
The light emitting layer 8c includes a material that emits one of R (red), G (green), and B (blue) for each pixel P. The light emitting layer 8c is a carrier transport layer made of, for example, a polyfluorene light emitting material or a polyphenylene vinylene light emitting material. The light emitting layer 8c is a layer that emits light in association with recombination of electrons supplied from the counter electrode 8d and holes injected from the hole injection layer 8b. For this reason, the pixel P that emits R (red), the pixel P that emits G (green), and the pixel P that emits B (blue) have different light emitting materials for the light emitting layer 8c. The R (red), G (green), and B (blue) pattern of the pixel P is a stripe pattern in which the same color pixels are arranged in the vertical direction.

対向電極8dは、画素電極8aよりも仕事関数の低い材料で形成されている。対向電極8dは、例えば、インジウム、マグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム、希土類金属の少なくとも一種を含む単体又は合金で形成されている。
この対向電極8dは、全ての画素Pに共通した電極であり、発光層8cなどの化合物膜とともにバンク13を被覆している。
The counter electrode 8d is formed of a material having a work function lower than that of the pixel electrode 8a. The counter electrode 8d is made of, for example, a simple substance or an alloy containing at least one of indium, magnesium, calcium, lithium, barium, and a rare earth metal.
The counter electrode 8d is an electrode common to all the pixels P, and covers the bank 13 together with the compound film such as the light emitting layer 8c.

また、正孔注入層8b及び発光層8cは、隣り合うバンク13の間においてバンク13に沿う方向に帯状に設けられているとともに、バンク13に沿う方向に連続して設けられている。そのため、正孔注入層8b及び発光層8cは、バンク13に沿う方向には、画素Pごとに区切られていない。つまり、正孔注入層8b及び発光層8cは、隣り合うバンク13の間において配列された複数の画素電極8aに共通して設けられている。一方、正孔注入層8b及び発光層8cは、バンク13に直交する方向には、バンク13によって区切られている。
そして、層間絶縁膜12の開口部12a内におけるバンク13の側壁13a間において、キャリア輸送層としての正孔注入層8b及び発光層8cが、画素電極8a上に積層されている(図21参照)。つまり、画素電極8aと対向電極8dの間に電圧が印加されたら、正孔注入層8b及び発光層8cは画素電極8aに重なる部分においてキャリア輸送層として機能し、その部分において発光層8cにおいて発光する。
具体的には、層間絶縁膜12の上に設けられたバンク13の側壁13aは、層間絶縁膜12の開口部12aより内側に形成されている。
そして、開口部12aに囲まれて側壁13aで挟まれた画素電極8a上に、正孔注入層8bとなる材料が含有される液状体を塗布し、基板10ごと加熱してその液状体を乾燥させ成膜させた化合物膜が、第1のキャリア輸送層である正孔注入層8bとなる。
さらに、開口部12aに囲まれて側壁13aで挟まれた正孔注入層8b上に、発光層8cとなる材料が含有される液状体を塗布し、基板10ごと加熱してその液状体を乾燥させ成膜させた化合物膜が、第2のキャリア輸送層である発光層8cとなる。
なお、この発光層8cとバンク13を被覆するように対向電極8dが設けられている(図21参照)。
Further, the hole injection layer 8 b and the light emitting layer 8 c are provided in a band shape in the direction along the bank 13 between the adjacent banks 13, and are provided continuously in the direction along the bank 13. Therefore, the hole injection layer 8 b and the light emitting layer 8 c are not divided for each pixel P in the direction along the bank 13. That is, the hole injection layer 8 b and the light emitting layer 8 c are provided in common to the plurality of pixel electrodes 8 a arranged between the adjacent banks 13. On the other hand, the hole injection layer 8 b and the light emitting layer 8 c are partitioned by the bank 13 in the direction orthogonal to the bank 13.
A hole injection layer 8b and a light emitting layer 8c as a carrier transport layer are stacked on the pixel electrode 8a between the sidewalls 13a of the bank 13 in the opening 12a of the interlayer insulating film 12 (see FIG. 21). . That is, when a voltage is applied between the pixel electrode 8a and the counter electrode 8d, the hole injection layer 8b and the light emitting layer 8c function as a carrier transport layer in a portion overlapping the pixel electrode 8a, and light emission occurs in the light emitting layer 8c in that portion. To do.
Specifically, the sidewall 13 a of the bank 13 provided on the interlayer insulating film 12 is formed inside the opening 12 a of the interlayer insulating film 12.
Then, a liquid material containing a material to be the hole injection layer 8b is applied on the pixel electrode 8a surrounded by the opening 12a and sandwiched between the side walls 13a, and the substrate 10 is heated to dry the liquid material. The compound film thus formed becomes the hole injection layer 8b which is the first carrier transport layer.
Further, a liquid material containing a material to be the light emitting layer 8c is applied on the hole injection layer 8b surrounded by the opening 12a and sandwiched by the side walls 13a, and the substrate 10 is heated to dry the liquid material. The compound film thus formed becomes the light emitting layer 8c which is the second carrier transport layer.
A counter electrode 8d is provided so as to cover the light emitting layer 8c and the bank 13 (see FIG. 21).

そして、このELパネル1においては、画素電極8a、基板10及び層間絶縁膜11が透明であり、発光層8cから発した光が画素電極8a、層間絶縁膜11及び基板10を透過して出射する。そのため、基板10の裏面が表示面となる。
なお、基板10側ではなく、反対側が表示面となってもよい。この場合、対向電極8dを透明電極とし、画素電極8aを反射電極として、発光層8cから発した光が対向電極8dを透過して出射するようにする。
In this EL panel 1, the pixel electrode 8a, the substrate 10 and the interlayer insulating film 11 are transparent, and the light emitted from the light emitting layer 8c is transmitted through the pixel electrode 8a, the interlayer insulating film 11 and the substrate 10 and emitted. . Therefore, the back surface of the substrate 10 becomes a display surface.
The display surface may be the opposite side instead of the substrate 10 side. In this case, the counter electrode 8d is a transparent electrode, the pixel electrode 8a is a reflective electrode, and light emitted from the light emitting layer 8c is transmitted through the counter electrode 8d and emitted.

図17に示すELパネル1において、基板10の一方の面の中央側で、並設されたバンク13に挟まれて複数の画素Pが升目状に並んでいる領域が、第一領域としての発光領域R1であり、その発光領域R1の周囲を囲う領域が、第二領域としての非発光領域R2である。   In the EL panel 1 shown in FIG. 17, a region where a plurality of pixels P are arranged in a grid shape between the banks 13 arranged side by side on the center side of one surface of the substrate 10 is a light emission as a first region. The region that is the region R1 and surrounds the light emitting region R1 is a non-light emitting region R2 as a second region.

このELパネル1は、次のように駆動されて発光する。
全ての電圧供給線4に所定レベルの電圧が印加された状態で、走査ドライバによって走査線2に順次電圧が印加されることで、これら走査線2が順次選択される。
各走査線2が選択されている時に、データドライバによって階調に応じたレベルの電圧が全ての信号線3に印加される。そうすると、その選択されている走査線2に対応するスイッチトランジスタ5がオンになっていることから、その階調に応じたレベルの電圧が駆動トランジスタ6のゲート電極6aに印加される。
この駆動トランジスタ6のゲート電極6aに印加された電圧に応じて、駆動トランジスタ6のゲート電極6aとソース電極6iとの間の電位差が定まって、駆動トランジスタ6におけるドレイン−ソース電流の大きさが定まり、EL素子8がそのドレイン−ソース電流に応じた明るさで発光する。
その後、その走査線2の選択が解除されると、スイッチトランジスタ5がオフとなる。そのため、駆動トランジスタ6のゲート電極6aに印加された電圧にしたがった電荷がキャパシタ7に蓄えられ、駆動トランジスタ6のゲート電極6aとソース電極6i間の電位差は保持される。このため、駆動トランジスタ6は選択時と同じ電流値のドレイン−ソース電流を流し続け、EL素子8の輝度を維持するようになっている。
The EL panel 1 is driven as follows to emit light.
In a state where a predetermined level of voltage is applied to all the voltage supply lines 4, the scanning driver sequentially applies voltages to the scanning lines 2, thereby sequentially selecting the scanning lines 2.
When each scanning line 2 is selected, a voltage of a level corresponding to the gradation is applied to all the signal lines 3 by the data driver. Then, since the switch transistor 5 corresponding to the selected scanning line 2 is turned on, a voltage having a level corresponding to the gradation is applied to the gate electrode 6a of the drive transistor 6.
The potential difference between the gate electrode 6a and the source electrode 6i of the drive transistor 6 is determined according to the voltage applied to the gate electrode 6a of the drive transistor 6, and the magnitude of the drain-source current in the drive transistor 6 is determined. The EL element 8 emits light with brightness according to the drain-source current.
Thereafter, when the selection of the scanning line 2 is released, the switch transistor 5 is turned off. Therefore, the electric charge according to the voltage applied to the gate electrode 6a of the drive transistor 6 is stored in the capacitor 7, and the potential difference between the gate electrode 6a and the source electrode 6i of the drive transistor 6 is maintained. For this reason, the drive transistor 6 keeps flowing the drain-source current having the same current value as that at the time of selection, and maintains the luminance of the EL element 8.

〔6〕塗布装置を用いた有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法
次に、ELパネル1の製造方法について説明する。
[6] Method for Manufacturing Organic Electroluminescence Display Panel Using Coating Device Next, a method for manufacturing the EL panel 1 will be described.

〔6−1〕塗布装置を使用する前の工程
まず、基板10上にゲートメタル層をスパッタリングで堆積させる。そして、そのゲートメタル層をフォトリソグラフィー及びエッチング等によりパターニングする。これによって、そのゲートメタル層から信号線3、キャパシタ7の電極7a、スイッチトランジスタ5のゲート電極5a及び駆動トランジスタ6のゲート電極6aを形成する。
次いで、プラズマCVDによって窒化シリコン等のゲート絶縁膜となる層間絶縁膜11を堆積する。ELパネル1の一辺に位置する走査ドライバに接続するための各走査線2の外部接続端子(例えば、走査線2の端部)上において開口するコンタクトホール(図示せず)を層間絶縁膜11に形成する。
次いで、半導体膜6b(5b)となるアモルファスシリコン等の半導体層、チャネル保護膜6d(5d)となる窒化シリコン等の絶縁層を連続して堆積する。その後、その絶縁層をフォトリソグラフィー及びエッチング等によってパターニングする。これにより、その絶縁膜からチャネル保護膜6d(5d)を形成する。
その後、不純物半導体膜6f,6g(5f,5g)となる不純物層を堆積した後、フォトリソグラフィー及びエッチング等によって不純物層及び半導体層を連続してパターニングする。これにより、その不純物層から不純物半導体膜6f,6g(5f,5g)を形成するとともに、その半導体層から半導体膜6b(5b)を形成する。
そして、フォトリソグラフィー及びエッチングによってコンタクトホール11a〜11cを形成する。次いで、コンタクトホール11a〜11c内にコンタクトプラグ20a〜20cを形成する。この工程は省略されてもよい。
スイッチトランジスタ5のドレイン電極5h,ソース電極5i及び駆動トランジスタ6のドレイン電極6h,ソース電極6iとなるソース・ドレインメタル層を堆積し、そのソース・ドレインメタル層をパターニングする。これにより、そのソース・ドレインメタル層から走査線2、電圧供給線4、キャパシタ7の電極7b、スイッチトランジスタ5のドレイン電極5h,ソース電極5i及び駆動トランジスタ6のドレイン電極6h,ソース電極6iを形成する。こうしてスイッチトランジスタ5及び駆動トランジスタ6が形成される。その後、ITO膜を堆積した後、そのITO膜をパターニングすることによって、そのITO膜から画素電極8aを形成する。
[6-1] Step Before Using Coating Device First, a gate metal layer is deposited on the substrate 10 by sputtering. Then, the gate metal layer is patterned by photolithography and etching. Thus, the signal line 3, the electrode 7a of the capacitor 7, the gate electrode 5a of the switch transistor 5 and the gate electrode 6a of the drive transistor 6 are formed from the gate metal layer.
Next, an interlayer insulating film 11 to be a gate insulating film such as silicon nitride is deposited by plasma CVD. A contact hole (not shown) opened on the external connection terminal (for example, the end of the scanning line 2) of each scanning line 2 for connecting to a scanning driver located on one side of the EL panel 1 is formed in the interlayer insulating film 11. Form.
Next, a semiconductor layer such as amorphous silicon to be the semiconductor film 6b (5b) and an insulating layer such as silicon nitride to be the channel protective film 6d (5d) are successively deposited. Thereafter, the insulating layer is patterned by photolithography and etching. Thereby, a channel protective film 6d (5d) is formed from the insulating film.
Thereafter, an impurity layer to be the impurity semiconductor films 6f and 6g (5f and 5g) is deposited, and then the impurity layer and the semiconductor layer are successively patterned by photolithography and etching. Thereby, impurity semiconductor films 6f and 6g (5f and 5g) are formed from the impurity layer, and a semiconductor film 6b (5b) is formed from the semiconductor layer.
Then, contact holes 11a to 11c are formed by photolithography and etching. Next, contact plugs 20a to 20c are formed in the contact holes 11a to 11c. This step may be omitted.
A source / drain metal layer to be the drain electrode 5h and source electrode 5i of the switch transistor 5 and the drain electrode 6h and source electrode 6i of the driving transistor 6 is deposited, and the source / drain metal layer is patterned. Thus, the scanning line 2, the voltage supply line 4, the electrode 7b of the capacitor 7, the drain electrode 5h of the switch transistor 5, the source electrode 5i, the drain electrode 6h of the driving transistor 6, and the source electrode 6i are formed from the source / drain metal layer. To do. Thus, the switch transistor 5 and the drive transistor 6 are formed. Then, after depositing an ITO film, the ITO film is patterned to form a pixel electrode 8a from the ITO film.

そして、スイッチトランジスタ5や駆動トランジスタ6等を覆うように、気相成長法により絶縁膜を成膜する。その後、その絶縁膜をフォトリソグラフィー及びエッチングでパターニングする。これにより、その絶縁膜に複数の開口部12aを形成して、層間絶縁膜12を形成する。開口部12aの形成位置は各画素電極8aの中央部上とし、各開口部12a内において、画素電極8aの中央部を露出される。また、これら開口部12aとともに、図示しない走査線2の外部接続端子、ELパネル1の一辺に位置するデータドライバに接続するための各信号線3の外部接続端子(例えば、信号線3の端部)及び電圧供給線4の外部接続端子(例えば、電圧供給線4の端部)上において開口する複数のコンタクトホールを形成する。   Then, an insulating film is formed by vapor deposition so as to cover the switch transistor 5, the drive transistor 6, and the like. Thereafter, the insulating film is patterned by photolithography and etching. Thus, a plurality of openings 12a are formed in the insulating film, and the interlayer insulating film 12 is formed. The opening 12a is formed at the center of each pixel electrode 8a, and the center of the pixel electrode 8a is exposed in each opening 12a. In addition to these openings 12a, the external connection terminals of the scanning lines 2 (not shown) and the external connection terminals of the signal lines 3 for connection to the data driver located on one side of the EL panel 1 (for example, the end portions of the signal lines 3) And a plurality of contact holes opened on the external connection terminals of the voltage supply line 4 (for example, end portions of the voltage supply line 4).

次いで、ポリイミド等の感光性樹脂を堆積後にその感光性樹脂を露光して、互いに平行な縞状のバンク13を形成する。この際、バンク13の側壁13aが画素電極8a上に位置するように、バンク13を形成する。なお、このバンク13は、上記外部接続端子を開口するコンタクトホール(図示せず)を露出している。   Next, after depositing a photosensitive resin such as polyimide, the photosensitive resin is exposed to form striped banks 13 parallel to each other. At this time, the bank 13 is formed so that the side wall 13a of the bank 13 is positioned on the pixel electrode 8a. The bank 13 exposes a contact hole (not shown) that opens the external connection terminal.

以上の工程により、図22に示すように、各画素電極8aは層間絶縁膜12のそれぞれの開口部12a内において露出する。また、縞状のバンク13間の凹部内において複数の画素電極8aが露出しているとともに、これら画素電極8aがバンク13に沿って配列される。   Through the above steps, each pixel electrode 8a is exposed in each opening 12a of the interlayer insulating film 12, as shown in FIG. A plurality of pixel electrodes 8 a are exposed in the recesses between the striped banks 13, and the pixel electrodes 8 a are arranged along the banks 13.

〔6−2〕塗布工程
上記〔2−1〕、〔3−2〕、〔4−2〕で説明したように、塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bを4台分セッティングする。この際、1台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bの液体タンク108内の液体120には、正孔注入層8bの材料を用いる。2台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bの液体タンク108内の液体120には、赤の発光層8cの材料を用いる。3台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bの液体タンク108内の液体120には、緑の発光層8cの材料を用いる。4台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bの液体タンク108内の液体120には、青の発光層8cの材料を用いる。
[6-2] Coating Step As described in [2-1], [3-2], and [4-2] above, four coating apparatuses 100, coating apparatuses 100A, or coating apparatuses 100B are set. At this time, the material of the hole injection layer 8b is used for the liquid 120 in the liquid tank 108 of the first coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. The material of the red light emitting layer 8c is used for the liquid 120 in the liquid tank 108 of the second coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. The material of the green light emitting layer 8c is used for the liquid 120 in the liquid tank 108 of the third coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. The material of the blue light emitting layer 8c is used for the liquid 120 in the liquid tank 108 of the fourth coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B.

次に、以上の工程により得られた基板10を1台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bのワークテーブル101上に載置する。この際、バンク13が主走査方向に沿うようにして、基板10をワークテーブル101上に載置する。   Next, the substrate 10 obtained by the above process is placed on the work table 101 of the first coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. At this time, the substrate 10 is placed on the work table 101 so that the bank 13 is along the main scanning direction.

次に、制御部119の制御によって、キャリッジ105が移動範囲の端に移動する。次に、マスフローコントローラ109の設定流量が制御部119によって設定される。次に、供給器116及びキャリッジ105が制御部119によって作動され、キャリッジ105が主走査方向に移動するとともに、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出される。そのため、吐出された液体120が、隣り合うバンク13の間に塗布される。これにより、帯状の正孔注入層8bがその隣り合うバンク13の間に形成され、その隣り合うバンク13の間に配列された画素電極8aが正孔注入層8bによって覆われる。   Next, under the control of the control unit 119, the carriage 105 moves to the end of the movement range. Next, the set flow rate of the mass flow controller 109 is set by the control unit 119. Next, the supply device 116 and the carriage 105 are operated by the control unit 119, the carriage 105 moves in the main scanning direction, and the liquid 120 is continuously discharged from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106. Therefore, the discharged liquid 120 is applied between the adjacent banks 13. As a result, a band-shaped hole injection layer 8b is formed between the adjacent banks 13, and the pixel electrodes 8a arranged between the adjacent banks 13 are covered with the hole injection layer 8b.

キャリッジ105が移動範囲の反対の端まで移動したら、キャリッジ105が制御部119によって停止される。そして、制御部119が移動装置102を制御し、ワークテーブル101及び基板10が移動装置102によって副走査方向に1画素分だけ移動され、その後、移動装置102が制御部119によって停止される。
次に、制御部119がキャリッジ105を作動させる。これにより、キャリッジ105が逆方向に移動するとともに、ノズルヘッド106のノズル孔168から液体120が連続的に吐出される。これにより、帯状の正孔注入層8bが形成される。
そして、キャリッジ105が移動範囲の反対の端まで移動したら、キャリッジ105、マスフローコントローラ109及び供給器116が停止する。
When the carriage 105 moves to the opposite end of the movement range, the carriage 105 is stopped by the control unit 119. Then, the control unit 119 controls the moving device 102, the work table 101 and the substrate 10 are moved by one pixel in the sub-scanning direction by the moving device 102, and then the moving device 102 is stopped by the control unit 119.
Next, the control unit 119 operates the carriage 105. As a result, the carriage 105 moves in the reverse direction, and the liquid 120 is continuously discharged from the nozzle holes 168 of the nozzle head 106. Thereby, the strip-shaped hole injection layer 8b is formed.
When the carriage 105 moves to the opposite end of the movement range, the carriage 105, the mass flow controller 109, and the feeder 116 are stopped.

以後、以上の動作が繰り返されることによって、帯状の正孔注入層8bが順次形成され、全ての画素電極8aが正孔注入層8bによって覆われる。   Thereafter, by repeating the above operation, the band-shaped hole injection layer 8b is sequentially formed, and all the pixel electrodes 8a are covered with the hole injection layer 8b.

そして、正孔注入層8bの乾燥後、基板10を2台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bのワークテーブル101上に載置する。そして、2台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bが同様に動作することによって、帯状の赤の発光層8cが正孔注入層8b上に形成される。ここで、ワークテーブル101及び基板10が移動装置102によって間欠的に副走査方向に移動されるが、その移動距離は3画素分である。   Then, after the hole injection layer 8b is dried, the substrate 10 is placed on the work table 101 of the second coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. Then, the second coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B operates in the same manner, whereby a strip-shaped red light emitting layer 8c is formed on the hole injection layer 8b. Here, the work table 101 and the substrate 10 are intermittently moved in the sub-scanning direction by the moving device 102, and the moving distance is three pixels.

次に、基板10を3台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bのワークテーブル101上に載置する。そして、3台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bが同様に動作することによって、帯状の緑の発光層8cが正孔注入層8b上に形成される。ここで、ワークテーブル101及び基板10が移動装置102によって間欠的に副走査方向に移動されるが、その移動距離は3画素分である。   Next, the substrate 10 is placed on the work table 101 of the third coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. Then, the third coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B operates in the same manner, whereby a strip-shaped green light emitting layer 8c is formed on the hole injection layer 8b. Here, the work table 101 and the substrate 10 are intermittently moved in the sub-scanning direction by the moving device 102, and the moving distance is three pixels.

次に、基板10を4台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bのワークテーブル101上に載置する。そして、4台目の塗布装置100、塗布装置100A又は塗布装置100Bが同様に動作することによって、帯状の青の発光層8cが正孔注入層8b上に形成される。ここで、ワークテーブル101及び基板10が移動装置102によって間欠的に副走査方向に移動されるが、その移動距離は3画素分である。   Next, the substrate 10 is placed on the work table 101 of the fourth coating apparatus 100, the coating apparatus 100A, or the coating apparatus 100B. Then, the fourth coating device 100, the coating device 100A, or the coating device 100B operates in the same manner, so that a belt-like blue light emitting layer 8c is formed on the hole injection layer 8b. Here, the work table 101 and the substrate 10 are intermittently moved in the sub-scanning direction by the moving device 102, and the moving distance is three pixels.

以上のようにして、全ての正孔注入層8b上に発光層8cが形成される。同様にしてモノカラーパネルの塗布も行えるが、発光層塗布時の副走査方向の移動距離は1画素となり、2台目の塗布装置110のみが発光層塗布用途して必要となる。   As described above, the light emitting layer 8c is formed on all the hole injection layers 8b. Similarly, the mono-color panel can be applied, but the moving distance in the sub-scanning direction when applying the light emitting layer is one pixel, and only the second coating device 110 is necessary for the application of the light emitting layer.

〔6−3〕塗布装置を使用した後の工程
続いて、対向電極8dを成膜し、対向電極8dによって発光層8c及びバンク13を被覆する。
以上により、ELパネル1が完成する。
[6-3] Step after Using Coating Device Subsequently, the counter electrode 8d is formed, and the light emitting layer 8c and the bank 13 are covered with the counter electrode 8d.
Thus, the EL panel 1 is completed.

〔7〕ELパネルの用途
発光パネルの塗布装置100によって、以上のように形成されて製造されたELパネル1は、各種電子機器の表示パネルとして用いられる。
例えば、図23に示す携帯電話機200の表示パネル1aにELパネル1を適用することができる。また、図24、図25に示すデジタルカメラ300の表示パネル1bにELパネル1を適用することができる。また、図26に示すパーソナルコンピュータ400の表示パネル1cにELパネル1を適用することができる。
[7] Use of EL Panel The EL panel 1 formed and manufactured as described above by the light emitting panel coating apparatus 100 is used as a display panel of various electronic devices.
For example, the EL panel 1 can be applied to the display panel 1a of the mobile phone 200 shown in FIG. In addition, the EL panel 1 can be applied to the display panel 1b of the digital camera 300 shown in FIGS. Further, the EL panel 1 can be applied to the display panel 1c of the personal computer 400 shown in FIG.

100,100A,100B 塗布装置
106 ノズルヘッド(吐出部)
107 供給管
108 液体タンク(液体貯留部)
110、110a、110b、110c バルブ(切替部)
111、111a、111b、111c 検出器
113 バキュームポンプ(減圧装置)
116 供給器
119 制御部
120 液体
121 基板
100, 100A, 100B Coating device 106 Nozzle head (ejection unit)
107 Supply pipe 108 Liquid tank (liquid storage part)
110, 110a, 110b, 110c Valve (switching unit)
111, 111a, 111b, 111c Detector 113 Vacuum pump (pressure reduction device)
116 Supply Unit 119 Control Unit 120 Liquid 121 Substrate

Claims (10)

液体が貯留された液体貯留部と、
前記液体を吐出するノズルを有する吐出部と、
前記液体貯留部から前記吐出部にまで配管された供給管と、
前記供給管又は前記吐出部に設けられた切替部と、
前記切替部に接続され、前記供給管内を減圧するための第1の減圧装置と、
前記吐出部が待機位置にあるときに一端が前記ノズル孔に連通するように設けられたドレイン管と、
前記ドレイン管の他端に接続された第2の減圧装置と、を備え、
前記切替部前記吐出部が前記待機位置にあるときに、前記供給管を前記第1の減圧装置に連通させた状態に切り替えられ前記吐出部が前記待機位置にないときに、前記供給管を前記第1の減圧装置から遮断した状態に切り替えられ、
前記吐出部が前記待機位置にあり、前記供給管内及び前記吐出部内に前記液体が充填される前に、前記第1の減圧装置は前記切替部を介して前記供給管内を減圧し、前記第2の減圧装置は前記ノズル孔及び前記ドレイン管を介して前記供給管内及び前記吐出部内を減圧することを特徴とする塗布装置。
A liquid reservoir in which liquid is stored;
A discharge portion having a nozzle hole for discharging the liquid;
A supply pipe piped from the liquid storage part to the discharge part;
A switching unit provided in the supply pipe or the discharge unit;
A first decompression device connected to the switching unit for decompressing the inside of the supply pipe;
A drain pipe provided so that one end communicates with the nozzle hole when the discharge unit is in the standby position;
A second decompression device connected to the other end of the drain pipe ,
The switching unit, when the discharge unit is in the standby position, to switch the supply pipe to the state in which communication with the first pressure reducing device, when the discharge unit is not in the standby position, said feed Switched to a state where the tube is disconnected from the first pressure reducing device ;
Before the discharge unit is in the standby position and the liquid is filled in the supply pipe and the discharge unit, the first decompression device decompresses the supply pipe via the switching unit, and the second The depressurizing apparatus depressurizes the inside of the supply pipe and the inside of the discharge section through the nozzle hole and the drain pipe .
前記切替部は、前記供給管のうち前記切替部の近傍に液体が充填されていると、前記供給管を前記第1の減圧装置から遮断した状態に切り替えられることを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 The switching unit can be switched to a state in which the supply pipe is shut off from the first decompression device when a liquid is filled in the vicinity of the switching unit in the supply pipe. The coating apparatus as described. 前記液体貯留部内の前記液体を前記供給管に送り出す供給器を備え、
前記吐出部が前記待機位置にあるとき、前記切替部が前記供給管を前記第1の減圧装置に連通させた状態に切り替えられ、前記供給器前記第1の減圧装置及び前記第2の減圧装置が作動することを特徴とする請求項1又は2に記載の塗布装置。
A feeder for feeding the liquid in the liquid reservoir to the supply pipe;
When the discharge unit is in the standby position, is switched to a state in which the switching portion is communicated with the supply pipe to the first pressure reducing device, said feeder, said first pressure reducing device and the second pressure reduction The coating apparatus according to claim 1, wherein the apparatus operates.
前記供給器、前記第1の減圧装置、前記第2の減圧装置及び前記切替部を制御する制御部を更に備え、
前記吐出部が前記待機位置にあるとき、前記制御部が、前記切替部を、前記供給管を前記第1の減圧装置に連通させた状態にするとともに、前記供給器前記第1の減圧装置及び前記第2の減圧装置を作動させることを特徴とする請求項3に記載の塗布装置。
A controller for controlling the feeder , the first decompressor , the second decompressor, and the switching unit;
When it said discharge unit is in the standby position, the control unit, the switching unit, while in a state of communicated with the said feed pipe the first pressure reducing device, said feeder, said first decompressor The coating apparatus according to claim 3, wherein the second decompression device is operated.
前記切替部の近傍において前記供給管内に液体が存することを検出する検出器を更に備え、
前記制御部が、前記検出器によって前記液体を検出したら、前記切替部を、前記供給管を前記第1の減圧装置から遮断した状態に切り替えることを特徴とする請求項4に記載の塗布装置。
A detector for detecting the presence of liquid in the supply pipe in the vicinity of the switching unit;
Wherein the control unit, the When the detector detects the liquid, the switching unit, coating apparatus according to the supply pipe to claim 4, characterized in that switching to the state of being cut off from the first pressure reducing device.
前記切替部が、前記液体貯留部から前記吐出部にかけて複数設けられていることを特徴とする請求項1から5の何れか一項に記載の塗布装置。   6. The coating apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the switching units are provided from the liquid storage unit to the discharge unit. 液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、前記液体貯留部から液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記液体が充填されていない前記供給管内及び前記吐出部内の減圧を行うことを特徴とする液体の充填方法。 With respect to a supply pipe piped from a liquid storage part in which liquid is stored to a discharge part having a nozzle hole for discharging the liquid, the discharge part is more than the liquid storage part while sending the liquid from the liquid storage part The pressure in the area not filled with the liquid in the supply pipe is reduced at a near portion, and the pressure in the supply pipe and the discharge section not filled with the liquid is reduced through the nozzle hole. Liquid filling method. 液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、前記液体貯留部から前記液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分の複数の箇所で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行い、
前記液体貯留部から前記供給管に送り出された液体が前記供給管内を前記吐出部側へ充填されていくに従って、前記供給管内の減圧をしている前記複数の箇所の各々の前記減圧の停止を前記液体貯留部寄りから順次行うことを特徴とする液体の充填方法。
With respect to a supply pipe piped from a liquid storage part in which liquid is stored to a discharge part having a nozzle hole for discharging the liquid, the liquid is supplied from the liquid storage part, and the discharge is performed more than the liquid storage part. part closer line decompression of the said liquid in the supply pipe is not filled region at a plurality of locations of partial Utotomoni, a region where the liquid is not filled in the nozzle hole of the supply pipe and in the discharge part via There line of vacuum,
As the liquid sent out from the liquid storage part to the supply pipe is filled in the supply pipe toward the discharge part, the decompression is stopped at each of the plurality of places where the pressure in the supply pipe is reduced. A liquid filling method, which is performed sequentially from the liquid reservoir.
有機材料を含む液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、供給器によって前記液体貯留部から前記液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行い、
前記液体貯留部から前記減圧をしている部分まで前記液体を充填したら、前記減圧を停止し、
前記吐出部内まで前記液体を充填したら前記供給器を停止せずに、前記吐出部を基板に対して相対的に前記基板上で移動させつつ、前記吐出部から連続的に吐出された前記液体を前記基板に塗布することを特徴とする有機層の製造方法。
While supplying the liquid from the liquid storage part by a feeder to the supply pipe piped from the liquid storage part in which the liquid containing the organic material is stored to the discharge part having a nozzle hole for discharging the liquid, line decompression of region in which the liquid is not filled in the supply pipe at a portion of the discharge portion nearer the liquid reservoir Utotomoni, through the nozzle hole is the liquid in the supply pipe and the discharge portion is filled There line under reduced pressure of not area,
Once the liquid is filled from the liquid reservoir to the portion where the pressure is reduced, the pressure reduction is stopped,
When the liquid is filled into the discharge part, the liquid continuously discharged from the discharge part is moved while moving the discharge part relative to the substrate without stopping the supply unit. A method for producing an organic layer, which is applied to the substrate.
有機材料を含む液体が貯留された液体貯留部から前記液体を吐出するノズルを有する吐出部にまで配管された供給管に対して、供給器によって前記液体貯留部から前記液体を送り出しつつ、前記液体貯留部よりも前記吐出部寄りの部分の複数の箇所で前記供給管内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行うとともに、前記ノズル孔を介して前記供給管内及び前記吐出部内の前記液体が充填されていない領域の減圧を行い、
前記液体貯留部から前記供給管に送り出された液体が前記供給管内を前記吐出部側へ充填されていくに従って、前記供給管内の減圧をしている前記複数の箇所の各々の前記減圧の停止を前記液体貯留部寄りから順次行い、
前記吐出部内まで前記液体を充填したら、前記供給器を停止せずに、前記吐出部を基板に対して相対的に前記基板上で移動させつつ、前記吐出部から連続的に吐出された前記液体を前記基板に塗布することを特徴とする有機層の製造方法。
While supplying the liquid from the liquid storage part by a feeder to the supply pipe piped from the liquid storage part in which the liquid containing the organic material is stored to the discharge part having a nozzle hole for discharging the liquid, line decompression of the region where liquid is not filled in the supply pipe at a plurality of locations of the portion of the discharge portion nearer the liquid reservoir Utotomoni, the of the supply pipe and in the discharge portion through the nozzle hole liquid have rows vacuum in the region not filled,
As the liquid sent out from the liquid storage part to the supply pipe is filled in the supply pipe toward the discharge part, the decompression is stopped at each of the plurality of places where the pressure in the supply pipe is reduced. Sequentially from the liquid storage part,
When the liquid is filled into the discharge unit, the liquid continuously discharged from the discharge unit while moving the discharge unit relative to the substrate without stopping the supply unit. Is applied to the substrate.
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