JP5457627B2 - Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method - Google Patents

Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method Download PDF

Info

Publication number
JP5457627B2
JP5457627B2 JP2007243652A JP2007243652A JP5457627B2 JP 5457627 B2 JP5457627 B2 JP 5457627B2 JP 2007243652 A JP2007243652 A JP 2007243652A JP 2007243652 A JP2007243652 A JP 2007243652A JP 5457627 B2 JP5457627 B2 JP 5457627B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
fluid
gas
reaction
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007243652A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009072688A (en
Inventor
邦男 渡邉
忍 箱崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kureha Ecology Management Co Ltd
Original Assignee
Kureha Ecology Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kureha Ecology Management Co Ltd filed Critical Kureha Ecology Management Co Ltd
Priority to JP2007243652A priority Critical patent/JP5457627B2/en
Priority to PCT/JP2008/063912 priority patent/WO2009037923A1/en
Priority to CN200880107964.9A priority patent/CN101801524B/en
Publication of JP2009072688A publication Critical patent/JP2009072688A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5457627B2 publication Critical patent/JP5457627B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23GCREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
    • F23G7/00Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
    • F23G7/04Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste liquors, e.g. sulfite liquors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/26Nozzle-type reactors, i.e. the distribution of the initial reactants within the reactor is effected by their introduction or injection through nozzles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/181Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
    • C01B33/183Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23DBURNERS
    • F23D11/00Burners using a direct spraying action of liquid droplets or vaporised liquid into the combustion space
    • F23D11/10Burners using a direct spraying action of liquid droplets or vaporised liquid into the combustion space the spraying being induced by a gaseous medium, e.g. water vapour
    • F23D11/108Burners using a direct spraying action of liquid droplets or vaporised liquid into the combustion space the spraying being induced by a gaseous medium, e.g. water vapour medium and fuel intersecting downstream of the burner outlet
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00049Controlling or regulating processes
    • B01J2219/00051Controlling the temperature
    • B01J2219/00074Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
    • B01J2219/00119Heat exchange inside a feeding nozzle or nozzle reactor

Description

本発明は、2種類の流体を噴出して反応させる反応ノズル、該ノズルを備える気相加水分解処理装置および気相加水分解処理方法に関する。   The present invention relates to a reaction nozzle that ejects and reacts two types of fluids, a gas-phase hydrolysis treatment apparatus including the nozzle, and a gas-phase hydrolysis treatment method.

シリコーン製造設備からは、テトラメトキシシランSi(OCH、ヘキサメチルジシロキサン(CHSiOSi(CHなどを含むシリコーンの液体が排出され、これを焼却処理するのが一般的である。焼却処理する際、焼却炉内で液体をノズルから噴霧するが、液体から生成するシリカがノズルに付着し、ノズルを閉塞する等の問題が生ずる。そこで、シリコーンを含有する液体を噴出する中心管と、中心管の外側から支燃性/不燃性気体を噴出する第2の外管と、第2の外管の外側から支燃性/不燃性気体を供給する流路とを備える同心円多重管構造を用い、中心管から噴出された液体を第2の外管からの支燃性/不燃性気体により噴霧燃焼させると共に、発生した火炎をその外側に配された流路から供給される支燃性/不燃性気体で覆うようにして閉塞を防止するバーナーが提案されている(特許文献1参照)。
特許第3346266号公報(第4頁、図2)
Silicone production equipment discharges a liquid of silicone containing tetramethoxysilane Si (OCH 3 ) 4 , hexamethyldisiloxane (CH 3 ) 3 SiOSi (CH 3 ) 3, etc., and this is generally incinerated. It is. When incineration is performed, a liquid is sprayed from a nozzle in an incinerator, but there arises a problem that silica generated from the liquid adheres to the nozzle and closes the nozzle. Therefore, a center tube that ejects a liquid containing silicone, a second outer tube that ejects a flame-supporting / incombustible gas from the outside of the center tube, and a flame-supporting / incombustible property from the outside of the second outer tube. Using a concentric multiple tube structure including a gas supply channel, the liquid ejected from the central tube is spray-combusted by the combustion-supporting / incombustible gas from the second outer tube, and the generated flame There has been proposed a burner that prevents clogging by covering it with a combustion-supporting / non-combustible gas supplied from a flow path disposed in (see Patent Document 1).
Japanese Patent No. 3346266 (page 4, FIG. 2)

一方、半導体用シリコン製造設備からは、テトラクロルシランSiClを始めとする各種クロルシランを含有する液体が排出され、これらの液体には若干の有機物が含まれる。しかし、有機珪素化合物であるシリコーンを含有する液体とは異なり、燃焼熱が低く自燃しないため、上記のバーナーを使用することはできず、水蒸気を供給して加水分解をさせることが多い。この場合にもテトラクロルシランを始めとするシラン系化合物含有液体を加水分解することによりシリカが生成するので、シリカのノズルへの付着を防止することが要求される。そこで、本発明は、2種類の流体を反応させつつ、反応により生ずる固体成分により閉塞されにくいノズル、該ノズルを備えたクロルシラン含有液体を処理するための気相加水分解処理装置、および、2種類の流体を反応させつつ、反応により生ずる固体成分により閉塞されにくい方法で流体を噴出する気相加水分解処理方法を提供することを目的とする。なお、ここで言う「気相加水分解」とは、気相中で加水分解反応が進行することを指しており、反応がシラン系化合物含有液体の蒸発気化後に起こると限定したものではない。 On the other hand, liquids containing various chlorosilanes including tetrachlorosilane SiCl 4 are discharged from the semiconductor silicon manufacturing facility, and these liquids contain some organic substances. However, unlike a liquid containing silicone, which is an organosilicon compound, the combustion heat is low and self-combustion does not occur. Therefore, the above burner cannot be used, and water vapor is often supplied to cause hydrolysis. Also in this case, since silica is produced by hydrolyzing a silane compound-containing liquid such as tetrachlorosilane, it is required to prevent the silica from adhering to the nozzle. Accordingly, the present invention provides a nozzle that is less likely to be blocked by a solid component generated by the reaction while reacting two kinds of fluids, a gas phase hydrolysis treatment apparatus for treating a chlorosilane-containing liquid, and 2 It is an object of the present invention to provide a gas phase hydrolysis treatment method in which a fluid is ejected in a manner that is difficult to be blocked by a solid component generated by the reaction while reacting various types of fluid. The term “gas phase hydrolysis” as used herein means that the hydrolysis reaction proceeds in the gas phase, and is not limited to the reaction occurring after evaporation of the silane compound-containing liquid.

上記目的を達成するために、本発明の第1の態様としての反応ノズルは、例えば図1に示すように、液状の第1の流体を噴出する第1のノズル10と;第1のノズル10の外側に第1のノズル10と同心円状に配置され、第1の流体を微細化する第1の気体を噴出する第2のノズル20と;第1のノズル10および第2のノズル20より下流側で、かつ、第1の流体および第1の気体の流れの外側に開口部を有し、第1の流体と反応する第2の流体を噴出する第3のノズル30とを備える。   In order to achieve the above object, the reaction nozzle according to the first aspect of the present invention includes, for example, a first nozzle 10 for ejecting a liquid first fluid, as shown in FIG. A second nozzle 20 that is concentrically arranged outside the first nozzle 10 and ejects a first gas that refines the first fluid; downstream from the first nozzle 10 and the second nozzle 20 And a third nozzle 30 that has an opening on the side and outside the flow of the first fluid and the first gas and ejects a second fluid that reacts with the first fluid.

このように構成すると、第1のノズルから噴出された第1の流体は、第2のノズルから噴出された第1の気体により微細化され、第3のノズルから噴出された第2の流体と反応し易くなる。また、第3のノズルが、第1のノズルおよび第2のノズルより下流側で、かつ、第1の流体および第1の気体の流れの外側に開口部を有するので、第1の流体と第2の流体とは第1のノズルおよび第3のノズルの開口部から離れた位置で反応することになり、反応の結果生ずる固体成分はノズルに付着しにくくなる。なお、単に「流体」というときは、気体、液体、あるいは、ノズルから噴出される程度あるいは液体若しくは気体に同伴される程度に微粉化された固体、あるいはこれらの混合体を指し、「液状の流体」というときは、液体、あるいは液体と固体の混合流体を指す。   With this configuration, the first fluid ejected from the first nozzle is refined by the first gas ejected from the second nozzle, and the second fluid ejected from the third nozzle It becomes easy to react. Further, since the third nozzle has an opening on the downstream side of the first nozzle and the second nozzle and outside the flow of the first fluid and the first gas, The second fluid reacts at a position away from the openings of the first nozzle and the third nozzle, and the solid component resulting from the reaction is less likely to adhere to the nozzle. The term “fluid” simply refers to a gas, liquid, or a solid that has been finely divided to such an extent that it is ejected from a nozzle or accompanied by a liquid or gas, or a mixture thereof. "Refers to a liquid or a fluid mixture of liquid and solid.

また、本発明の第2の態様としての反応ノズルは、例えば図1に示すように、第1の態様としての反応ノズル1において、第2のノズル20の外側に第2のノズル20と同心円状に配置され、第1の流体と第2の流体とが反応した流体を覆う第2の気体を噴出する第4のノズル40を備える。ここで、「第1の流体と第2の流体とが反応した流体」とは、第1の流体と第2の流体との混合流体であって、少なくとも第1の流体の一部と第2の流体の一部とが反応している流体をいう。   Further, the reaction nozzle as the second aspect of the present invention is concentric with the second nozzle 20 outside the second nozzle 20 in the reaction nozzle 1 as the first aspect, for example, as shown in FIG. And a fourth nozzle 40 that ejects a second gas that covers the fluid in which the first fluid and the second fluid have reacted. Here, the “fluid in which the first fluid and the second fluid have reacted” is a mixed fluid of the first fluid and the second fluid, and at least a part of the first fluid and the second fluid. A fluid that reacts with a part of the fluid.

このように構成すると、第4のノズルから第1の流体と第2の流体とが反応した流体を覆う第2の気体が噴出されるので、第1の流体と第2の流体とが反応した流体が循環して、第1のノズルや第2のノズルの開口部付近に流れることを防止することができる。   If comprised in this way, since the 2nd gas which covers the fluid which the 1st fluid and the 2nd fluid reacted from the 4th nozzle is ejected, the 1st fluid and the 2nd fluid reacted It is possible to prevent the fluid from circulating and flowing near the opening of the first nozzle or the second nozzle.

また、本発明の第3の態様としての反応ノズルは、例えば図1に示すように、第1または第2の態様としての反応ノズル1において、第3のノズル30を放射状に複数備え;第3のノズル30から、第2の流体が、第1の気体により微細化された第1の流体に向けて噴出される。   Moreover, the reaction nozzle as the third aspect of the present invention includes, for example, a plurality of third nozzles 30 in a radial manner in the reaction nozzle 1 as the first or second aspect as shown in FIG. The second fluid is ejected from the nozzle 30 toward the first fluid refined by the first gas.

このように構成すると、第3のノズルを放射状に複数備えるので、第2の流体を第1の流体に均一に混合し易い。   If comprised in this way, since the 3rd nozzle is provided with two or more radially, it is easy to mix a 2nd fluid with a 1st fluid uniformly.

また、本発明の第4の態様としての反応ノズルは、第1ないし第3のいずれかの態様の反応ノズルにおいて、第1の流体がクロルシランを含み;第2の流体が水蒸気であり;第1の流体と前記第2の流体との反応により、シリカ微粒子が生成される。   A reaction nozzle according to a fourth aspect of the present invention is the reaction nozzle according to any one of the first to third aspects. The first fluid contains chlorosilane; the second fluid is water vapor; Silica fine particles are generated by the reaction between the second fluid and the second fluid.

このように構成すると、水蒸気を用いたクロルシランの加水分解時に生成されるシリカ微粒子により、ノズルが閉塞されにくい反応ノズルとなる。   If comprised in this way, it will become a reaction nozzle with which a nozzle is hard to be obstruct | occluded with the silica fine particle produced | generated at the time of the hydrolysis of chlorosilane using water vapor | steam.

上記目的を達成するために、本発明の第5の態様としての気相加水分解処理装置は、例えば図4に示すように、クロルシランと有機化合物を含む液体を処理する気相加水分解処理装置6であって:前記液体を第1の流体として噴出する第4の態様の反応ノズルを備え、第1の流体と第2の流体とが反応した流体を排出する加水分解炉60と;加水分解炉60から排出された流体を燃焼する燃焼炉70と;シリカ微粒子を捕集する捕集装置85とを備える。   In order to achieve the above object, a gas phase hydrolysis treatment apparatus according to a fifth aspect of the present invention comprises a gas phase hydrolysis treatment for treating a liquid containing chlorosilane and an organic compound, for example, as shown in FIG. An apparatus 6 comprising: a hydrolysis nozzle 60 comprising a reaction nozzle according to a fourth aspect for ejecting the liquid as a first fluid, and discharging a fluid obtained by reacting the first fluid and the second fluid; A combustion furnace 70 for burning the fluid discharged from the decomposition furnace 60; and a collection device 85 for collecting silica fine particles.

このように構成すると、加水分解炉では上記の反応ノズルを備えるので、クロルシランと水蒸気とが反応して生成したシリカ微粒子が反応ノズルに付着しにくく、ノズルは閉塞されにくい。また、燃焼炉を備えて第1の流体と第2の流体とが反応した流体を燃焼するので、反応した流体中の可燃性物を完全燃焼することができる。さらに、固体成分を捕集する捕集装置を備えるので、気相加水分解処理装置から排出されるガスを清浄化できる。   If comprised in this way, since a hydrolysis furnace is equipped with said reaction nozzle, the silica fine particle produced | generated by the reaction of chlorosilane and water vapor | steam is hard to adhere to a reaction nozzle, and a nozzle is hard to be obstruct | occluded. Moreover, since the combustion furnace is provided and the fluid which the 1st fluid and the 2nd fluid reacted is burned, the combustible substance in the reacted fluid can be burned completely. Furthermore, since the collection apparatus which collects a solid component is provided, the gas discharged | emitted from a gaseous-phase hydrolysis processing apparatus can be cleaned.

また本発明の第6の態様としての気相加水分解処理装置は、第5の態様の気相加水分解処理装置において、加水分解炉60内の温度が200℃以上600℃以下に温度制御され;燃焼炉70内の温度が850℃以上1100℃以下に温度制御される。   Further, the gas phase hydrolysis treatment apparatus as the sixth aspect of the present invention is the gas phase hydrolysis treatment apparatus according to the fifth aspect, wherein the temperature in the hydrolysis furnace 60 is controlled to 200 ° C. or more and 600 ° C. or less. The temperature in the combustion furnace 70 is controlled to 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower.

このように構成すると、加水分解炉内の温度が200℃以上600℃以下に温度制御されるので、反応して生成した固体成分の粒子が大きくなる。さらに、加水分解炉から排出された流体を燃焼炉内において850℃以上1100℃以下で燃焼するので、加水分解炉から排出される固形酸化物を含む可燃性物を完全に燃焼することができる。   If comprised in this way, since the temperature in a hydrolysis furnace is temperature-controlled to 200 to 600 degreeC, the particle | grains of the solid component produced | generated by reaction will become large. Furthermore, since the fluid discharged from the hydrolysis furnace is burned at 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower in the combustion furnace, the combustible material containing the solid oxide discharged from the hydrolysis furnace can be completely burned.

上記目的を達成するために、本発明の第7の態様としての気相加水分解処理方法では、例えば図6に示すように、クロルシランと有機化合物を含む液体を処理する気相加水分解処理方法であって:前記液体を噴出し(ステップS10)、噴出された液体に略平行して、前記噴出された液体の周囲に第1の気体を噴出することにより、前記液体を微細化し(ステップ12)、微細化された液体に水蒸気を混合して、200℃以上600℃以下の温度でクロルシランを加水分解し、シリカ微粒子を生成する(ステップS14)工程と;液体と水蒸気の混合した流体であって、クロルシランが加水分解された流体を850℃以上1100℃以下の温度で燃焼する工程(ステップS20)と;シリカ微粒子を捕集する工程(ステップS50)とを備える。   In order to achieve the above object, in the gas phase hydrolysis treatment method according to the seventh aspect of the present invention, for example, as shown in FIG. 6, a gas phase hydrolysis treatment for treating a liquid containing chlorosilane and an organic compound. The method includes: ejecting the liquid (step S10), and finely subtracting the liquid by ejecting a first gas around the ejected liquid substantially in parallel with the ejected liquid (step S10). 12) A process of mixing water vapor with the refined liquid to hydrolyze chlorosilane at a temperature of 200 ° C. or higher and 600 ° C. or lower to produce silica fine particles (Step S14); And a step of burning the hydrolyzed fluid of chlorosilane at a temperature of 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower (step S20); and a step of collecting silica fine particles (step S50). .

このように構成すると、クロルシランと有機化合物を含む液体を噴出し、噴出された液体に略平行して噴出された液体の周囲に第1の気体を噴出することにより前記液体を微細化し、微細化された液体に水蒸気を混合してクロルシランを加水分解するので、加水分解により生成されたシリカ微粒子により閉塞されにくい方法でクロルシランと有機化合物を含む液体を噴出することができる。また、クロルシランを200℃以上600℃以下で加水分解するので、反応して生成した固体成分の粒子が大きくなる。また、加水分解された液体を850℃以上1100℃以下で燃焼するので、加水分解炉から排出される固形酸化物を含む可燃性物を完全に燃焼することができる。さらに、加水分解により生じた粒子の大きなシリカを捕集するので、捕集しやすく、排出ガスを清浄化できる。   If comprised in this way, the liquid containing chlorosilane and an organic compound will be ejected, and the said liquid will be refined | miniaturized by ejecting a 1st gas around the ejected liquid substantially parallel to the ejected liquid. Since water vapor is mixed with the resulting liquid to hydrolyze chlorosilane, a liquid containing chlorosilane and an organic compound can be ejected by a method that is less likely to be blocked by silica fine particles generated by hydrolysis. Further, since chlorosilane is hydrolyzed at 200 ° C. or more and 600 ° C. or less, the particles of solid components produced by the reaction become large. Further, since the hydrolyzed liquid is burned at 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower, the combustible material containing the solid oxide discharged from the hydrolysis furnace can be burned completely. Furthermore, since silica with large particles generated by hydrolysis is collected, it is easy to collect and exhaust gas can be purified.

本発明によれば、反応ノズルが、液状の第1の流体を噴出する第1のノズルと、第1のノズルの外側に第1のノズルと同心円状に配置され第1の流体を微細化する第1の気体を噴出する第2のノズルと、第1のノズルおよび第2のノズルより下流側で、かつ、第1の流体および第1の気体の流れの外側に開口部を有し、第1の流体と反応する第2の流体を噴出する第3のノズルとを備えるので、第1のノズルから噴出された第1の流体は、第2のノズルから噴出された第1の気体により微細化され、第3のノズルから噴出された第2の流体と反応し易く、また、第1の流体と第2の流体とは第1のノズルおよび第3のノズルの開口部から離れた位置で反応することになり、反応の結果生ずる固体成分はノズルに付着しにくい。したがって、2種類の流体を反応させつつ、反応により生ずる固体成分がノズルに付着しにくく、閉塞されにくい反応ノズルが提供される。   According to the present invention, the reaction nozzle is disposed concentrically with the first nozzle on the outside of the first nozzle and the first nozzle that ejects the liquid first fluid, and refines the first fluid. A second nozzle that ejects the first gas; an opening on the downstream side of the first nozzle and the second nozzle and outside the flow of the first fluid and the first gas; And the third nozzle that ejects the second fluid that reacts with the first fluid, so that the first fluid ejected from the first nozzle is finer by the first gas ejected from the second nozzle. Easily react with the second fluid ejected from the third nozzle, and the first fluid and the second fluid are separated from the openings of the first nozzle and the third nozzle. The solid component resulting from the reaction is less likely to adhere to the nozzle. Accordingly, there is provided a reaction nozzle in which two kinds of fluids are reacted while a solid component generated by the reaction is difficult to adhere to the nozzle and is not easily blocked.

本発明によれば、クロルシランと有機化合物を含む液体を処理する気相加水分解処理装置が、クロルシランと有機化合物を含む液体を第1の流体として噴出する上記の反応ノズルを備え第1の流体と第2の流体とが反応した流体を排出する加水分解炉と、加水分解炉から排出された流体を燃焼する燃焼炉と、シリカ微粒子を捕集する捕集装置とを備えるので、クロルシランと水蒸気とが反応して生成したシリカ微粒子が反応ノズルに付着しにくく、ノズルは閉塞されにくい。したがって、2種類の流体を反応させつつ、反応により生ずる固体成分により閉塞されにくいノズルを備えたクロルシラン含有液体を処理するための気相加水分解処理装置が提供される。   According to the present invention, a gas-phase hydrolysis treatment apparatus for treating a liquid containing chlorosilane and an organic compound includes the above-described reaction nozzle that ejects a liquid containing chlorosilane and an organic compound as a first fluid. And a second fluid, a hydrolysis furnace that discharges the fluid, a combustion furnace that burns the fluid discharged from the hydrolysis furnace, and a collection device that collects silica fine particles. The silica fine particles produced by the reaction of the silica hardly adhere to the reaction nozzle, and the nozzle is not easily blocked. Accordingly, there is provided a gas phase hydrolysis treatment apparatus for treating a chlorosilane-containing liquid provided with a nozzle that is not easily blocked by a solid component generated by the reaction while reacting two kinds of fluids.

本発明によれば、クロルシランと有機化合物を含む液体を処理する気相加水分解処理方法が、クロルシランと有機化合物を含む液体を噴出し、噴出された液体に略平行して、噴出された液体の周囲に第1の気体を噴出することにより液体を微細化し、微細化された液体に水蒸気を混合して200℃以上600℃以下の温度でクロルシランを加水分解し、シリカ微粒子を生成する工程と、液体と水蒸気の混合した流体であってクロルシランが加水分解された流体を850℃以上1100℃以下の温度で燃焼する工程と、シリカ微粒子を捕集する工程とを備えるので、加水分解により生成されたシリカ微粒子により閉塞されにくい方法でクロルシランと有機化合物を含む液体を噴出することができる。したがって、2種類の流体を反応させつつ、反応により生ずる固体成分により閉塞されにくい方法で流体を噴出する気相加水分解処理方法が提供される。   According to the present invention, a gas phase hydrolysis treatment method for treating a liquid containing chlorosilane and an organic compound ejects a liquid containing chlorosilane and an organic compound, and the ejected liquid is substantially parallel to the ejected liquid. A step of generating a fine silica particle by spraying a first gas around the substrate to refine the liquid, mixing water vapor with the refined liquid, and hydrolyzing chlorosilane at a temperature of 200 ° C. to 600 ° C. , A fluid in which liquid and water vapor are mixed, and a fluid in which chlorosilane is hydrolyzed is combusted at a temperature of 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower, and a step of collecting silica fine particles. A liquid containing chlorosilane and an organic compound can be ejected by a method that is difficult to be blocked by fine silica particles. Accordingly, there is provided a gas phase hydrolysis treatment method in which a fluid is ejected in a manner that is less likely to be blocked by a solid component generated by the reaction while reacting two kinds of fluid.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において、互いに同一又は相当する装置には同一符号を付し、重複した説明は省略する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each figure, the same or equivalent devices are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

先ず、図1を参照して、反応ノズル1の構成を説明する。図1は、反応ノズル1の構成を説明する図で、(a)は反応ノズル1を先端側から見た正面図、(b)は反応ノズル1の軸に沿った断面図である。反応ノズル1は、第1のノズル10と、第2のノズル20と、第3のノズル30と、第4のノズル40とを備える。第1のノズル10と第2のノズル20と第4のノズル40とは、同心円状に構成されており、第1のノズル10が内側に、その外側に第2のノズル20が、その外側に第4のノズル40が配置されている。第1のノズル10の先端12より、第2のノズル20の先端22は後退している。第4のノズル40の先端42は、第2のノズル20の先端22より後退している。各ノズル10、20、40の開口部が先端12、先端22、先端42の順で流体の流れの下流側から配置されることにより、各ノズル10、20、40への流体の逆流を防ぐことができる。   First, the configuration of the reaction nozzle 1 will be described with reference to FIG. 1A and 1B are diagrams for explaining the configuration of the reaction nozzle 1. FIG. 1A is a front view of the reaction nozzle 1 viewed from the tip side, and FIG. The reaction nozzle 1 includes a first nozzle 10, a second nozzle 20, a third nozzle 30, and a fourth nozzle 40. The first nozzle 10, the second nozzle 20, and the fourth nozzle 40 are configured concentrically, with the first nozzle 10 on the inside and the second nozzle 20 on the outside. A fourth nozzle 40 is arranged. The tip 22 of the second nozzle 20 is retracted from the tip 12 of the first nozzle 10. The tip 42 of the fourth nozzle 40 is retracted from the tip 22 of the second nozzle 20. The opening of each nozzle 10, 20, 40 is arranged from the downstream side of the fluid flow in the order of the tip 12, the tip 22, and the tip 42, thereby preventing backflow of fluid to each nozzle 10, 20, 40. Can do.

第1のノズル10は、先端12の近傍が細い直管14となっており、ノズルの根元(図1(b)において右側)方向は、先端12近傍より太い直管16で、その間に外表面が傾斜している傾斜部分18を有する。細い直管14と、太い直管16とでは、内径も異なり、先端12近傍で細くなっている。   The first nozzle 10 is a straight pipe 14 in the vicinity of the tip 12, and the nozzle base (right side in FIG. 1B) is a straight pipe 16 that is thicker than the vicinity of the tip 12, and the outer surface therebetween. Has an inclined portion 18 which is inclined. The thin straight pipe 14 and the thick straight pipe 16 have different inner diameters and are narrow in the vicinity of the tip 12.

第2のノズル20は、先端22近傍がすぼまった形状に形成されている。第2のノズル20の内径は、第1のノズル10が太い直管16から細い直管14に傾斜する傾斜部分18にほぼ対応する位置に細くなり始める縮径開始部分24を有し、先端22に至るまで一様に細くなる傾斜26を有する。第2のノズル20の先端22は、第1のノズル10の細い直管14に対応する位置、すなわち細い直管14の外側に配置される。よって、第2のノズル20により形成される流路(第2のノズル20の内面と第1のノズル10の外面との間)は、先端22近傍で、狭くなっている。   The second nozzle 20 is formed in a shape in which the vicinity of the tip 22 is sunk. The inner diameter of the second nozzle 20 has a reduced diameter starting portion 24 where the first nozzle 10 starts to narrow at a position substantially corresponding to the inclined portion 18 inclined from the thick straight tube 16 to the thin straight tube 14, and the tip 22 It has the inclination 26 which becomes thin uniformly until it reaches. The tip 22 of the second nozzle 20 is disposed at a position corresponding to the thin straight pipe 14 of the first nozzle 10, that is, outside the thin straight pipe 14. Therefore, the flow path formed by the second nozzle 20 (between the inner surface of the second nozzle 20 and the outer surface of the first nozzle 10) is narrow in the vicinity of the tip 22.

第4のノズル40は、その先端42が第2のノズル20が縮径開始部分24に対応する位置に配置され、先端42近傍ですぼまった形状をしている。第4のノズル40の内径は第2のノズル20の外径がすぼまり始める縮径開始部分28に略対応する位置で、あるいは、すぼまり始めるより太い管の側で細くなり始め、一様に先端42に至る傾斜44を有する。第4のノズル40により形成される流路(第4のノズル40の内面と第2のノズル20の外面との間)は、先端42近傍で狭くなってもよいが、必ずしも狭くなってなくてもよい。   The tip of the fourth nozzle 40 is disposed at a position where the second nozzle 20 corresponds to the diameter reduction start portion 24 and has a shape that is constricted near the tip 42. The inner diameter of the fourth nozzle 40 starts to become narrower at a position substantially corresponding to the reduced diameter starting portion 28 where the outer diameter of the second nozzle 20 begins to shrink, or on the side of the thicker tube where it begins to shrink. Similarly, it has an inclination 44 that reaches the tip 42. The flow path formed by the fourth nozzle 40 (between the inner surface of the fourth nozzle 40 and the outer surface of the second nozzle 20) may be narrow in the vicinity of the tip 42, but is not necessarily narrow. Also good.

第3のノズル30は、第4のノズル40の外側に配置された小径のパイプで構成されているが、第3のノズル30を構成するパイプの本数は4本に限られず、1本でも、2本、3本、5本、6本などでもよい。複数のパイプを備える方が、より均一に第2の流体(後述)が第1の流体(後述)に混合し易い。また図1では、第3のノズル30の各パイプは、第1、第2および第4のノズル10・20・40の中心軸に対し対称な位置に配置されているが、対称ではない位置に配置されてもよい。ただし、パイプを対称な位置に配置する方が、より均一に第2の流体が第1の流体に混合し易い。第3のノズル30を構成するパイプの断面は、楕円形、矩形、六角形等、任意の形状でよいが、典型的には、強度に優れ、汎用されている円形断面とする。第3のノズル30は、第4のノズル40側から延伸し、第4のノズル40がすぼまる部分46に対応する位置に中心軸方向に折れ曲がる曲がり部34を有する。第3のノズル30では、第1のノズル10の先端12を超えた位置に先端32が配置され、そこに開口部を有している。第3のノズル30の先端32は、第1のノズル10から噴出された第1の流体の流れおよび第2のノズル20から噴出されたガスの流れの外側に開口部を有する。第1の流体の流れの外側とは、第1の流体が第1のノズル10の先端12の開口部から噴出されるので、先端12の開口部から中心軸に平行に配置した面の外側となる。また、先端12よりも流れの下流側となる。同様に、第2のノズル20から噴出されたガスの流れの外側とは、第2のノズル20の先端22の開口部から中心軸に平行に配置した面の外側となる。また、先端12および先端22よりも流れの下流側となる。   The third nozzle 30 is composed of a small-diameter pipe disposed outside the fourth nozzle 40, but the number of pipes constituting the third nozzle 30 is not limited to four, and even with one, Two, three, five, six, etc. may be used. It is easier to mix the second fluid (described later) into the first fluid (described later) by providing a plurality of pipes. Further, in FIG. 1, the pipes of the third nozzle 30 are arranged at symmetrical positions with respect to the central axes of the first, second and fourth nozzles 10, 20, and 40, but are not symmetrical positions. It may be arranged. However, it is easier to mix the second fluid into the first fluid more uniformly when the pipes are arranged at symmetrical positions. The cross section of the pipe constituting the third nozzle 30 may be any shape such as an ellipse, a rectangle, and a hexagon, but typically has a circular cross section that has excellent strength and is widely used. The third nozzle 30 has a bent portion 34 that extends from the fourth nozzle 40 side and bends in the central axis direction at a position corresponding to the portion 46 in which the fourth nozzle 40 is recessed. In the third nozzle 30, a tip 32 is disposed at a position beyond the tip 12 of the first nozzle 10 and has an opening there. The tip 32 of the third nozzle 30 has an opening outside the flow of the first fluid ejected from the first nozzle 10 and the flow of the gas ejected from the second nozzle 20. The outside of the flow of the first fluid means that the first fluid is ejected from the opening of the tip 12 of the first nozzle 10, and therefore the outside of the surface arranged in parallel to the central axis from the opening of the tip 12. Become. Further, it is on the downstream side of the flow from the tip 12. Similarly, the outside of the flow of the gas ejected from the second nozzle 20 is the outside of the surface arranged in parallel to the central axis from the opening of the tip 22 of the second nozzle 20. Further, it is downstream of the flow from the tip 12 and the tip 22.

第3のノズル30の先端32は、第1、第2および第4のノズル10・20・40の中心軸を延長した方向、すなわち流れの中心方向を向かず、偏心した方向を向いて巴形に配置されている。このように先端32を巴形に配置することにより、第3のノズル30から噴出された第2の流体は、第1のノズル10から噴出された第1の流体等に対し、偏心して混入することになり、その結果スパイラル状に流れる。第2の流体がスパイラル状に流れることにより、第1の流体と、より混合し易くなる。なお、第3のノズル30の先端32を、第1、第2および第4のノズル10・20・40の中心軸を延長した方向に向けてもよく、特に第2の流体の流速あるいは運動エネルギが大きいときには、第1の流体に偏心して混入させると第1の流体を突き抜けてしまうことがあるので、第1の流体の中心に向けて噴出する方が好ましい。   The tip 32 of the third nozzle 30 is saddle-shaped with the central axis of the first, second, and fourth nozzles 10, 20, 40 extended from the center axis, that is, not toward the center of the flow but toward the eccentric direction. Is arranged. By disposing the tip 32 in a bowl shape in this way, the second fluid ejected from the third nozzle 30 is eccentrically mixed with the first fluid ejected from the first nozzle 10 and the like. As a result, it flows spirally. When the second fluid flows in a spiral shape, it becomes easier to mix with the first fluid. The tip 32 of the third nozzle 30 may be directed in the direction in which the central axes of the first, second, and fourth nozzles 10, 20, and 40 are extended, and in particular, the flow velocity or kinetic energy of the second fluid. Is large, it is preferable that the first fluid is ejected toward the center of the first fluid because the first fluid may penetrate through the first fluid.

図2に示すように、第3のノズル30は、第4のノズル40により形成される流路に配置してもよい。図2は、第3のノズル30を第4のノズル40により形成される流路に設置した反応ノズル2の構成を説明する図で、(a)は反応ノズル2を先端側から見た正面図、(b)は反応ノズル2の軸に沿った断面図である。図2(b)に示すように、第3のノズル30を第4のノズル40の内側で第2のノズル20の外側に配置する。その際には、第3のノズル30は第4のノズル40により形成される流路に設置可能な小径のパイプで構成する。第3のノズル30を第4のノズル40中に配置することにより、第4のノズル40の外周を第3のノズル30による凸部がない、一様な曲面とすることができる。しかし、第3のノズル30を第4のノズル40の外側に配置することにより、第3のノズル30を第4のノズル40により形成される流路の幅より太いパイプで構成することが可能となる。また、第1、第2および第4のノズル10・20・40を形成した後に、第3のノズル30を配置することができるので、反応ノズル1の製造が容易になる。   As shown in FIG. 2, the third nozzle 30 may be disposed in a flow path formed by the fourth nozzle 40. FIG. 2 is a diagram for explaining the configuration of the reaction nozzle 2 in which the third nozzle 30 is installed in the flow path formed by the fourth nozzle 40, and (a) is a front view of the reaction nozzle 2 viewed from the front end side. (B) is sectional drawing along the axis | shaft of the reaction nozzle 2. FIG. As shown in FIG. 2B, the third nozzle 30 is arranged inside the fourth nozzle 40 and outside the second nozzle 20. In that case, the third nozzle 30 is configured by a small-diameter pipe that can be installed in the flow path formed by the fourth nozzle 40. By disposing the third nozzle 30 in the fourth nozzle 40, the outer periphery of the fourth nozzle 40 can be made a uniform curved surface without the convex portion due to the third nozzle 30. However, by disposing the third nozzle 30 outside the fourth nozzle 40, the third nozzle 30 can be configured with a pipe that is thicker than the width of the flow path formed by the fourth nozzle 40. Become. Moreover, since the 3rd nozzle 30 can be arrange | positioned after forming the 1st, 2nd and 4th nozzle 10 * 20 * 40, manufacture of the reaction nozzle 1 becomes easy.

続いて、図3を参照して、反応ノズル1の作用について説明する。図3は、反応ノズル1から噴出された流体の動きを模式的に説明する模式図である。第1のノズル10からは第1の流体A(図中の黒丸)が、第2のノズル20からは第1の気体B(図中の×)が、第3のノズル30からは第2の流体C(図中の白丸)が、第4のノズル40からは第2の気体D(図中の太い矢印)が噴出される。第1の流体Aと第2の流体Cとは反応し、反応生成物である固体成分(図中の三角)を生成する。   Next, the operation of the reaction nozzle 1 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic diagram for schematically explaining the movement of the fluid ejected from the reaction nozzle 1. From the first nozzle 10, the first fluid A (black circle in the figure), from the second nozzle 20, the first gas B (x in the figure), from the third nozzle 30, the second fluid The fluid C (white circle in the figure) is ejected from the fourth nozzle 40 by the second gas D (thick arrow in the figure). The first fluid A and the second fluid C react to generate a solid component (triangle in the figure) that is a reaction product.

第1のノズル10から噴出された第1の流体Aは、噴出されてすぐの領域(図中の領域X)では第1のノズル10の開口部と同一の断面を維持する。一方、第2のノズル20から噴出された第1の気体Bも、第2のノズル20の開口部と同一断面を維持する。ここで、第2のノズル20から噴出された第1の気体Bの流速を早くすると乱流となり、流れの周囲の雰囲気ガス等を巻き込みながら流れ、すぐ近くを流れる第1の流体Aを巻き込むようになる。すなわち、第1の気体Bと第1の流体Aとが混合し始める。例えば、第1の流体Aが液体であって、第1の気体Bが空気であれば、液体と空気とが混合し、第1の流体Aは微細な粒子となる。すなわち、第1の流体Aは、第1の気体Bにアトマイジングされる(図中の領域Y)。その結果、第1の流体Aは、第1の気体Bと混合して流れる。なお、第1の気体Bの流速が速くなくても、第1の流体Aと第1の気体Bとが接して流れることにより第1の流体と第1の気体Bとが混合すればよい。   The first fluid A ejected from the first nozzle 10 maintains the same cross section as the opening of the first nozzle 10 in a region (region X in the drawing) immediately after being ejected. On the other hand, the first gas B ejected from the second nozzle 20 also maintains the same cross section as the opening of the second nozzle 20. Here, when the flow velocity of the first gas B ejected from the second nozzle 20 is increased, turbulent flow is caused, and the first fluid A flowing in the immediate vicinity is entrained by entraining the ambient gas around the flow. become. That is, the first gas B and the first fluid A start to be mixed. For example, if the first fluid A is a liquid and the first gas B is air, the liquid and air are mixed, and the first fluid A becomes fine particles. That is, the first fluid A is atomized into the first gas B (region Y in the figure). As a result, the first fluid A flows while being mixed with the first gas B. Even if the flow rate of the first gas B is not fast, the first fluid A and the first gas B may be mixed by flowing in contact with the first fluid A and the first gas B.

第1の流体Aと第1の気体Bとが混合して流れる流れに、第3のノズル30から噴出された第2の流体Cが流れ込む(図中の領域Z)。前述のように、第1の流体Aは、第1の気体Bと混合し、例えば微細な粒子となっているので、広い表面積で第2の流体Cと接することになる。よって、第1の流体Aと第2の流体Cとの反応が促進される。さらに、前述のように第3のノズル30が巴形に配置され、第2の流体Cが、スパイラル状になって第1の流体Aおよび第1の気体Bとの混合した流れと混合するので、より混合がし易く、反応が促進される。   The second fluid C ejected from the third nozzle 30 flows into the flow in which the first fluid A and the first gas B are mixed and flow (region Z in the figure). As described above, since the first fluid A is mixed with the first gas B and is, for example, fine particles, the first fluid A comes into contact with the second fluid C with a large surface area. Therefore, the reaction between the first fluid A and the second fluid C is promoted. Further, as described above, the third nozzle 30 is arranged in a bowl shape, and the second fluid C becomes spiral and mixes with the mixed flow of the first fluid A and the first gas B. , Mixing is easier and the reaction is promoted.

第1の流体Aと第2の流体Cとの反応により固体成分が生成した場合に、反応がノズル出口で生ずると、固体成分がノズルに付着しノズルの閉塞等の弊害を生ずる。しかし、上述のように、第1のノズル10から噴出した第1の流体Aおよび第2のノズル20から噴出した第1の気体Bとは、ノズル近傍の領域Xでは、単独で流れ、領域Yに至り混合する。そして、第1のノズル10および第2のノズル20の開口部12・22より下流側に開口部32を有する第3のノズル30から噴出した第2の流体Cは、第1の流体Aと第1の気体Bとが混合したその下流側の領域Zに流れ込むので、反応は、第1のノズル10、第2のノズル20、第3のノズル30から離れた領域Zで生ずる。すなわち、第1の流体Aと第2の流体Cとの反応により固体成分が生成されても、第1のノズル10、第2のノズル20、第3のノズル30に付着することはない。特に、第3のノズル30が第1の流体Aの流れの外側に開口部を有するので、第3のノズル30の開口部に第1の流体Aが到達せず、第3のノズル30の開口部で第1の流体Aと第2の流体Cとが反応することがない。さらに、第3のノズル30が第1の気体Bの流れの外側に開口部を有するので、第1の流体Aの流れと第3のノズル30の開口部との間に第1の気体Bの流れが形成され、第1の流体Aが何らかの原因で飛散しても第3のノズル30の開口部に到達することが防止され、第3のノズル30の開口部で第1の流体Aと第2の流体Cとが反応する可能性がさらに低くなる。よって、ノズルの閉塞の弊害も生じない。例えば、第1の流体Aをクロルシランを含有するシラン系化合物含有液体とし、第2の流体Cを水蒸気として、加水分解反応させる場合には、加水分解反応の結果生ずるシリカによるノズルの閉塞を防止できる。   When a solid component is generated by the reaction between the first fluid A and the second fluid C, if the reaction occurs at the nozzle outlet, the solid component adheres to the nozzle and causes problems such as blocking of the nozzle. However, as described above, the first fluid A ejected from the first nozzle 10 and the first gas B ejected from the second nozzle 20 flow independently in the region X near the nozzle, and the region Y To mix. And the 2nd fluid C spouted from the 3rd nozzle 30 which has the opening part 32 in the downstream from the opening parts 12 * 22 of the 1st nozzle 10 and the 2nd nozzle 20 is the 1st fluid A and the 1st The reaction occurs in the region Z away from the first nozzle 10, the second nozzle 20, and the third nozzle 30 because it flows into the region Z on the downstream side where the one gas B is mixed. That is, even if a solid component is generated by the reaction between the first fluid A and the second fluid C, it does not adhere to the first nozzle 10, the second nozzle 20, and the third nozzle 30. In particular, since the third nozzle 30 has an opening outside the flow of the first fluid A, the first fluid A does not reach the opening of the third nozzle 30, and the opening of the third nozzle 30. The first fluid A and the second fluid C do not react with each other. Furthermore, since the third nozzle 30 has an opening on the outside of the flow of the first gas B, the first gas B flows between the flow of the first fluid A and the opening of the third nozzle 30. Even if the flow is formed and the first fluid A is scattered for some reason, it is prevented from reaching the opening of the third nozzle 30, and the first fluid A and the first fluid A are prevented from reaching the opening of the third nozzle 30. The possibility of reacting with the second fluid C is further reduced. Therefore, the adverse effect of nozzle blockage does not occur. For example, when the first fluid A is a silane compound-containing liquid containing chlorosilane and the second fluid C is water vapor, the nozzle can be prevented from being clogged with silica resulting from the hydrolysis reaction. .

また、第4のノズルから第2の気体Dが噴出され、第2のノズル20の先端22近くの外面に沿って流れ、また、第1の気体B、および第1の流体A・第1の気体Bと第2の流体Cが混合し始めあるいは混合する部分を覆うように流れる。そのため、第1の流体Aと第2の流体Cとの反応生成物である固体成分が反応ノズル1、特に第1のノズル10、第2のノズル20に付着することを防止できる。反応ノズル1では、第1の流体Aと第2の流体Cとが反応した後の流体(第1の気体Bも混合している)の一部は、循環流(図中の細い矢印)となり、反応ノズル1の近くに流れ込むことがある。しかし、第2のノズル20の表面に沿って流れる第2の気体Dのために、流れの弱い循環流は第2の気体Dの流れに同伴され、第2のノズル20の外表面に到達することはなく、第1のノズル10および第2のノズル20が反応後の流体からシールされる。したがって、第2のノズル20の表面に固体成分が付着することが防止される。なお、第4のノズル40は最外面であり、例え固体成分が第4のノズル40の外表面に付着しても除去し易く、また、第4のノズル40の開口部は他のノズル10・20・30の開口部に比べ大きく形成されるのが一般的であり、多少の固体成分の付着による影響は小さく、問題とならない場合が多い。   Further, the second gas D is ejected from the fourth nozzle and flows along the outer surface near the tip 22 of the second nozzle 20, and the first gas B and the first fluid A / first The gas B and the second fluid C start to mix or flow so as to cover the part to be mixed. Therefore, it is possible to prevent the solid component that is a reaction product of the first fluid A and the second fluid C from adhering to the reaction nozzle 1, particularly the first nozzle 10 and the second nozzle 20. In the reaction nozzle 1, a part of the fluid (the first gas B is also mixed) after the first fluid A and the second fluid C have reacted becomes a circulating flow (thin arrow in the figure). , It may flow into the vicinity of the reaction nozzle 1. However, because of the second gas D flowing along the surface of the second nozzle 20, the weak circulation flow is accompanied by the flow of the second gas D and reaches the outer surface of the second nozzle 20. The first nozzle 10 and the second nozzle 20 are sealed from the fluid after the reaction. Therefore, the solid component is prevented from adhering to the surface of the second nozzle 20. The fourth nozzle 40 is the outermost surface, and even if a solid component adheres to the outer surface of the fourth nozzle 40, it is easy to remove. The opening of the fourth nozzle 40 has other nozzles 10. In general, it is formed larger than the opening 20/30, and the influence of the adhesion of some solid components is small, and there is often no problem.

次に、図4を参照して、反応ノズル1を備え、クロルシランと有機化合物を含むシラン系化合物含有液体(以下、単に「液体」ともいう。)中のシラン系化合物の処理装置としての気相加水分解処理装置6について説明する。図4は、シラン系化合物および有機化合物などの可燃性物を含む液体を加水分解および燃焼処理する気相加水分解処理装置6の構成を説明するブロック図である。気相加水分解処理装置6は、反応ノズル1を備え、第1の流体としての液体を第2の流体としての水蒸気で加水分解し、反応後の流体を排出する加水分解炉60と、加水分解炉60から排出される流体を完全に燃焼させる、すなわち流体中の可燃性物を完全に燃焼させる燃焼炉70と、燃焼炉70から排出された高温のガス(固体成分を同伴している)を冷却する急冷装置としての急冷塔75と、急冷塔75から排出されるガスに含まれる酸性ガスを中和除去する中和装置としてのスクラバー80と、スクラバー80から排出されたガスに同伴されている固体成分を液中に捕集し除去する除去装置すなわち捕集装置としてのミストコットレル85と、ガスを吸引し上記の順に流れるようにしつつ不図示のスタックから大気中に放出する吸引装置としてのファン90とを備える。なお、燃焼炉70としては、ジェットファーネスとも称される旋回流式燃焼炉を用いるのが典型である。   Next, referring to FIG. 4, a gas phase as a processing apparatus for a silane compound in a silane compound-containing liquid (hereinafter also simply referred to as “liquid”) provided with reaction nozzle 1 and containing chlorosilane and an organic compound. The hydrolysis treatment apparatus 6 will be described. FIG. 4 is a block diagram illustrating the configuration of a gas phase hydrolysis treatment apparatus 6 that hydrolyzes and burns a liquid containing a combustible material such as a silane compound and an organic compound. The gas-phase hydrolysis treatment apparatus 6 includes a reaction nozzle 1, hydrolyzes a liquid as a first fluid with water vapor as a second fluid, and discharges the fluid after the reaction. Combustion furnace 70 that completely burns the fluid discharged from the cracking furnace 60, that is, burns the combustible material in the fluid completely, and high-temperature gas discharged from the combustion furnace 70 (along with a solid component) A quenching tower 75 as a quenching device for cooling the water, a scrubber 80 as a neutralization device for neutralizing and removing acid gas contained in the gas discharged from the quenching tower 75, and a gas discharged from the scrubber 80. A removal device that collects and removes the solid components in the liquid, that is, a mist cotrel 85 as a collection device, and a suction device that sucks the gas and flows it in the above order while discharging it to the atmosphere from a stack (not shown) And a fan 90 as. As the combustion furnace 70, a swirl type combustion furnace, also called a jet furnace, is typically used.

ここで、図5を参照して加水分解炉60の構成を説明する。図5は加水分解炉60の構成を説明する模式的断面図である。加水分解炉60は、円筒形の縦型容器62と、縦型容器62に配置される反応ノズル1と、燃料ガスが導入され燃焼するバーナー65とを備える。縦型容器62の上流側の端面52の中心には高温ガスノズル64が接続する。なお、図5では、加水分解炉60を実際に設置する向きに図示しており、図中の上方が、実際に設置される鉛直上方となり、また、上流側となる。反応ノズル1は、端面52の肩部に配置される。縦型容器62の下流側、すなわち下端に、ガス出口66が形成される。高温ガスノズル64から縦型容器62に、バーナー65により生成された高温の燃焼ガスが流入する。反応ノズル1から噴出された第1の流体A、第1の気体B、第2の気体D、第2の流体C(図3参照)は、高温ガスノズル64から流入した高温の燃焼ガスで加熱されつつ、縦型容器62内で反応し、ガス出口66を通って下流側に送られる。反応ノズル1の前方に第1の流体Aと第1の気体Bとが混合するための領域Y(図3参照)が、また、第1の流体Aと第2の流体Cとが反応する領域Z(図3参照)が適切に形成されるように、縦型容器62は反応ノズル1の下方に十分な空間を有する。さらに、第1の流体Aと第2の流体Cとの反応が縦型容器62内で完了するのに十分な滞留時間が確保されるように、第1の流体A、第1の気体B、第2の流体C、第2の気体Dの混合したガス(反応生成物である固体を同伴している。以降、これらを総称して「混合ガス」とする。)の流速が決められる。混合ガスは、ファン90(図4参照)で吸引されることにより加水分解炉60から下流側に送出される。図5に示すように、一つの加水分解炉60には、複数の反応ノズル1が備えられてもよいし、一つの反応ノズル1だけが備えられてもよい。いずれの場合にも、反応ノズル1は、縦型容器62の上流側端部近くであって、高温ガスノズル64の近くに配置される。   Here, the configuration of the hydrolysis furnace 60 will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view illustrating the configuration of the hydrolysis furnace 60. The hydrolysis furnace 60 includes a cylindrical vertical container 62, a reaction nozzle 1 disposed in the vertical container 62, and a burner 65 into which fuel gas is introduced and burned. A hot gas nozzle 64 is connected to the center of the upstream end surface 52 of the vertical container 62. In FIG. 5, the hydrolysis furnace 60 is illustrated in the direction in which it is actually installed, and the upper side in the figure is the vertically upper side where it is actually installed, and is the upstream side. The reaction nozzle 1 is disposed on the shoulder portion of the end face 52. A gas outlet 66 is formed at the downstream side of the vertical container 62, that is, at the lower end. The high-temperature combustion gas generated by the burner 65 flows from the high-temperature gas nozzle 64 into the vertical container 62. The first fluid A, the first gas B, the second gas D, and the second fluid C (see FIG. 3) ejected from the reaction nozzle 1 are heated by the high-temperature combustion gas flowing from the high-temperature gas nozzle 64. However, it reacts in the vertical container 62 and is sent downstream through the gas outlet 66. A region Y (see FIG. 3) for mixing the first fluid A and the first gas B in front of the reaction nozzle 1, and a region where the first fluid A and the second fluid C react with each other. The vertical container 62 has a sufficient space below the reaction nozzle 1 so that Z (see FIG. 3) is appropriately formed. Further, the first fluid A, the first gas B, and the residence time sufficient for the reaction between the first fluid A and the second fluid C to be completed in the vertical container 62 are secured. The flow rate of the gas in which the second fluid C and the second gas D are mixed (which is accompanied by a solid as a reaction product. These are collectively referred to as “mixed gas” hereinafter) is determined. The mixed gas is sucked out by the fan 90 (see FIG. 4) and then sent out from the hydrolysis furnace 60 to the downstream side. As shown in FIG. 5, one hydrolysis furnace 60 may be provided with a plurality of reaction nozzles 1 or only one reaction nozzle 1. In any case, the reaction nozzle 1 is arranged near the upstream end of the vertical container 62 and near the hot gas nozzle 64.

ここで、加水分解炉60では、第1の流体はクロルシランを含むシラン系化合物と有機化合物などの可燃性物とを含有する液体で、第2の流体は水蒸気で、第1の気体および第2の気体は空気であるのが典型的である。すなわち反応ノズル1から、第1の流体であるシラン系化合物および有機化合物などの可燃性物を含む液体を噴出し、シラン系化合物を第2の流体である水蒸気と反応させる。液体が空気によってアトマイジングされ、アトマイジングされた液体中のシラン系化合物と水蒸気とが反応し、気相における加水分解により固体成分としてのシリカSiOを微粒子として生ずる。ここで、「微粒子」とは、例えば、捕集した粒子の走査型電子顕微鏡を用いた画像解析法による粒径が10μm以下である粒径の小さな粒子であって、ガスに同伴されるような粒子をいう。 Here, in the hydrolysis furnace 60, the first fluid is a liquid containing a silane compound containing chlorosilane and a combustible material such as an organic compound, the second fluid is water vapor, the first gas, and the second gas The gas is typically air. That is, a liquid containing a combustible material such as a silane compound and an organic compound that is the first fluid is ejected from the reaction nozzle 1, and the silane compound is reacted with water vapor that is the second fluid. The liquid is atomized by air, the silane compound in the atomized liquid reacts with water vapor, and silica SiO 2 as a solid component is generated as fine particles by hydrolysis in the gas phase. Here, the “fine particles” are, for example, small particles having a particle size of 10 μm or less by an image analysis method using a scanning electron microscope of the collected particles, and are accompanied by a gas. Refers to particles.

なおここで、加水分解炉60での加水分解の反応温度を200℃以上600℃以下に制御するのが好適である。加水分解の反応温度が200℃より低温であると、生成されたシリカ微粒子が加水分解炉60の炉壁に付着し、安定運転が困難となる。また、600℃より高温であると、加水分解により生ずるシリカ微粒子の粒径が小さくなり、後段のミストコットレル85でシリカ微粒子を捕集しにくくなる。なお、加水分解の反応温度を400℃以上500℃以下とすると、更にシリカ微粒子の大きさを大きく保ちつつ、炉壁への付着を少なくできるので、より好適である。加水分解の反応温度を200℃以上600℃以下の温度に保つには、バーナー65で燃料を燃焼して熱源とする。なお、熱源としては、バーナー65を備えて燃焼させる方法に限られず、高温の過熱蒸気あるいは高温空気を導入したり、電気ヒータで加水分解炉60を加熱してもよく、他の周知の方法でもよい。特に、高温の過熱蒸気を導入すると、第3のノズル30(図1参照)から供給される水蒸気に加え、加水分解のための水蒸気を供給することにもなるので、好適である。反応ノズル1にて、液体、水蒸気、および空気を噴出し、加水分解および燃焼を生じるので、シリカは反応ノズル1から離隔した位置で生成され、反応ノズル1に付着することが防止される。   Here, it is preferable to control the reaction temperature of hydrolysis in the hydrolysis furnace 60 to 200 ° C. or more and 600 ° C. or less. When the hydrolysis reaction temperature is lower than 200 ° C., the generated silica fine particles adhere to the furnace wall of the hydrolysis furnace 60, and stable operation becomes difficult. On the other hand, when the temperature is higher than 600 ° C., the particle size of the silica fine particles generated by hydrolysis becomes small, and it becomes difficult to collect the silica fine particles by the mist cotrel 85 at the subsequent stage. In addition, when the reaction temperature of hydrolysis is 400 ° C. or more and 500 ° C. or less, it is more preferable because adhesion to the furnace wall can be reduced while keeping the size of the silica fine particles larger. In order to maintain the hydrolysis reaction temperature at a temperature of 200 ° C. or higher and 600 ° C. or lower, the fuel is burned by the burner 65 to be a heat source. Note that the heat source is not limited to the method of combusting with the burner 65, high-temperature superheated steam or high-temperature air may be introduced, the hydrolysis furnace 60 may be heated with an electric heater, or other known methods may be used. Good. In particular, when high-temperature superheated steam is introduced, it is preferable to supply steam for hydrolysis in addition to steam supplied from the third nozzle 30 (see FIG. 1). Since liquid, water vapor, and air are ejected from the reaction nozzle 1 to cause hydrolysis and combustion, silica is generated at a position separated from the reaction nozzle 1 and is prevented from adhering to the reaction nozzle 1.

図4に戻って、気相加水分解処理装置6についての説明を続ける。加水分解炉60において残留した可燃性物を燃焼させるために、加水分解炉60の下流に燃焼炉70が備えられる。燃焼炉70は、燃料Fを導入して、典型的には850℃以上1100℃以下で燃焼をさせる装置である。燃料としては、廃油、重油、その他が使用され、不図示の燃焼用空気を容器内で旋回するように導入して、燃焼させる。850℃より低温の燃焼では、可燃性物を燃焼しきれない。また、1100℃より高温で燃焼させると、燃料Fを余分に消費し不経済となるばかりではなく、高温になることで塩化水素HClから平衡的に生成する塩素ガスClの量が増大し、後段のスクラバー80で処理できなくなる。すなわち、加水分解で生じた塩化水素HClが酸素Oと反応し、塩素ガスClと水HOとを生ずる反応が速くなることにより増大した塩素ガスClを処理しきれなくなる。なお、燃焼温度を900℃以上950℃以下とすると、完全燃焼させつつ、燃料を節約できると共に塩素ガスClの量を少なくできるので、より好適である。液体中の可燃性物を完全燃焼させ、あるいは、有害成分を分解するために、混合ガスの燃焼炉70での滞留時間が例えば2秒以上となるように、燃焼炉70の容量およびファン90での吸引速度あるいは燃焼用空気の流速と流入方向(旋回の仕方)が設計される。 Returning to FIG. 4, the description of the gas phase hydrolysis treatment device 6 will be continued. In order to burn the combustible material remaining in the hydrolysis furnace 60, a combustion furnace 70 is provided downstream of the hydrolysis furnace 60. The combustion furnace 70 is a device that introduces the fuel F and typically burns at 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower. As the fuel, waste oil, heavy oil, or the like is used, and combustion air (not shown) is introduced so as to swirl within the container and burned. In the combustion at a temperature lower than 850 ° C., the combustible material cannot be combusted. Further, if the combustion is performed at a temperature higher than 1100 ° C., not only is the fuel F consumed excessively, it becomes uneconomical, but also the amount of chlorine gas Cl 2 that is generated in equilibrium from hydrogen chloride HCl increases due to the high temperature, The subsequent scrubber 80 cannot be processed. That is, hydrogen chloride HCl generated by hydrolysis reacts with oxygen O 2, and the reaction of generating chlorine gas Cl 2 and water H 2 O becomes faster, so that the increased chlorine gas Cl 2 cannot be treated. A combustion temperature of 900 ° C. or higher and 950 ° C. or lower is more preferable because fuel can be saved and the amount of chlorine gas Cl 2 can be reduced while completely burning. In order to completely burn the combustibles in the liquid or to decompose harmful components, the capacity of the combustion furnace 70 and the fan 90 are set so that the residence time of the mixed gas in the combustion furnace 70 is, for example, 2 seconds or more. Suction speed or combustion air flow velocity and inflow direction (how to swirl) are designed.

燃焼炉70から排出された混合ガスは、急冷塔75に導かれる。急冷塔75は、冷却水Wを導入し、冷却水Wをノズル(不図示)からシャワーのように噴出しつつ混合ガスに接触させることにより、高温の混合ガスを冷却する装置である。燃焼炉70で燃焼された混合ガスは、後段のスクラバー80およびミストコットレル85での処理に不都合を生じない温度、例えば85℃に冷却される。なおこの際、ダイオキシン類の再合成を生ずることがないよう、400〜200℃の温度域の通過時間をできるだけ短くすることが好ましい。典型的には、急冷塔75に導入された冷却水Wを、急冷塔75の底部に集め、再度急冷塔75に導入する冷却水循環流路が備えられる。   The mixed gas discharged from the combustion furnace 70 is guided to the quenching tower 75. The quenching tower 75 is a device that cools the high-temperature mixed gas by introducing the cooling water W and bringing the cooling water W into contact with the mixed gas while ejecting it from a nozzle (not shown) like a shower. The mixed gas combusted in the combustion furnace 70 is cooled to a temperature that does not cause inconvenience in the processing in the subsequent scrubber 80 and the mist cot rel 85, for example, 85 ° C. At this time, it is preferable to make the passage time in the temperature range of 400 to 200 ° C. as short as possible so as not to cause resynthesis of dioxins. Typically, the cooling water W introduced into the quenching tower 75 is collected at the bottom of the quenching tower 75 and is provided with a cooling water circulation passage for introducing it into the quenching tower 75 again.

急冷塔75で冷却された混合ガスは、スクラバー80に導入される。スクラバー80は、例えば水酸化マグネシウム、苛性ソーダなどのアルカリ性物質と混合ガスとを接触させ、混合ガス中の酸性成分、例えば塩化水素HCl、塩素Cl、二酸化硫黄SOを中和・除去する装置である。スクラバー80では、アルカリ性物質のスラリーまたは水溶液をノズル(不図示)からシャワーのように噴出しつつ混合ガスに接触させることにより、混合ガス中の酸性成分を中和する。 The mixed gas cooled by the quenching tower 75 is introduced into the scrubber 80. The scrubber 80 is a device that neutralizes and removes acidic components such as hydrogen chloride HCl, chlorine Cl 2 , and sulfur dioxide SO 2 by bringing an alkaline substance such as magnesium hydroxide and caustic soda into contact with the mixed gas. is there. The scrubber 80 neutralizes acidic components in the mixed gas by bringing the slurry or aqueous solution of an alkaline substance into contact with the mixed gas while ejecting from a nozzle (not shown) like a shower.

ミストコットレル(湿式電気集塵機)85は、対をなす並行平板に高電圧を印加し、クーロン力を利用して一の平板に微細な煤塵を集める。一般的に、バグフィルタ等の乾式集塵機より湿式集塵機の方が効率的に集塵することができる。ミストコットレル85にて煤塵が除去された混合ガスは、ファン90に吸引され、スタック(不図示)から大気に放出される。   A mist cot rel (wet electrostatic precipitator) 85 applies a high voltage to a pair of parallel flat plates and collects fine dust on one flat plate using Coulomb force. In general, a wet dust collector can collect dust more efficiently than a dry dust collector such as a bag filter. The mixed gas from which the dust is removed by the mist cot rel 85 is sucked into the fan 90 and released from the stack (not shown) to the atmosphere.

ここで、図6を参照して、クロルシランと有機化合物を含むシラン系化合物含有液体の処理方法をまとめて説明する。図6は、クロルシランと有機化合物を含むシラン系化合物含有液体の処理方法を説明するフローチャートである。まず、クロルシランと有機化合物を含むシラン系化合物含有液体をノズルから噴出する(ステップS10)。同時に液体と平行方向に空気を噴出して、液体をアトマイジングする(ステップS12)。ここで、液体と平行方向とは、厳密な意味での平行ではなく、液体と同じ方向、例えば角度で30度あるいは15度以内に噴出されることをいう。次に空気でアトマイジングされた液体に水蒸気を混合する(ステップS14)。すると、液体中のシラン系化合物は水蒸気により加水分解され、シリカ微粒子を生ずる。ここで、加水分解をする温度を、200℃以上600℃以下に保つのが好ましい。200℃以上600℃以下で加水分解することにより、生成するシリカ微粒子が大きくなり、かつ、シリカ微粒子が周囲の機器等に付着せず安定運転ができる。そして、液体中のシラン系化合物が加水分解された混合ガスの流れの周囲を覆うように空気を流して、混合ガスがノズル方向に逆流するのを防止する(ステップS16)。ここまでが、液体の加水分解に係る工程である。   Here, with reference to FIG. 6, the processing method of the silane type compound containing liquid containing a chlorosilane and an organic compound is demonstrated collectively. FIG. 6 is a flowchart illustrating a method for treating a silane compound-containing liquid containing chlorosilane and an organic compound. First, a silane compound-containing liquid containing chlorosilane and an organic compound is ejected from the nozzle (step S10). At the same time, air is jetted in a direction parallel to the liquid to atomize the liquid (step S12). Here, the direction parallel to the liquid means that the liquid is not parallel in a strict sense but is ejected in the same direction as the liquid, for example, within 30 degrees or 15 degrees in angle. Next, water vapor is mixed with the liquid atomized with air (step S14). Then, the silane compound in the liquid is hydrolyzed by water vapor to produce silica fine particles. Here, it is preferable to keep the hydrolysis temperature at 200 ° C. or more and 600 ° C. or less. By hydrolyzing at 200 ° C. or more and 600 ° C. or less, the generated silica fine particles become large, and the silica fine particles do not adhere to surrounding devices and the like, and stable operation can be performed. And air is flowed so that the circumference | surroundings of the flow of the mixed gas by which the silane type compound in the liquid was hydrolyzed may be prevented, and mixed gas is prevented from flowing back to a nozzle direction (step S16). This is the process related to the hydrolysis of the liquid.

次に混合ガスを典型的には850℃以上1100℃以下で燃焼し、混合ガスに残存している可燃性物を完全燃焼させる(ステップS20)。850℃以上1100℃以下で燃焼すると、残存している可燃性物が完全燃焼しつつ、過度に温度上昇させないので燃料の無駄が省け、かつ、塩化水素HClからの塩素ガスClの生成も抑えられる。続いて、混合ガスを急冷し(ステップS30)、混合ガスを中和処理し(ステップS40)、混合ガス中のシリカ微粒子を含む固体成分を捕集・除去する(ステップS50)。そして、中和処理され固体成分が除去された混合ガスを排出する(S60)。200℃以上600℃以下の温度で加水分解を行なっているので、生成するシリカ微粒子が大きく、捕集・除去し易い。また、850℃以上1100℃以下で燃焼し塩素ガスClの発生が抑えられているので、中和処理がし易い。 Next, the mixed gas is typically burned at 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower, and the combustible material remaining in the mixed gas is completely burned (step S20). Combustion at 850 ° C or higher and 1100 ° C or lower completely burns the remaining combustible material, and does not increase the temperature excessively, so that fuel is not wasted and generation of chlorine gas Cl 2 from hydrogen chloride HCl is suppressed. It is done. Subsequently, the mixed gas is rapidly cooled (step S30), the mixed gas is neutralized (step S40), and solid components including silica fine particles in the mixed gas are collected and removed (step S50). And the mixed gas from which the solid component was removed by the neutralization process is discharged | emitted (S60). Since hydrolysis is performed at a temperature of 200 ° C. or more and 600 ° C. or less, the silica fine particles to be produced are large and easy to collect and remove. Further, since combustion occurs chlorine gas Cl 2 at 850 ° C. or higher 1100 ° C. or less are suppressed easily neutralization is.

これまでの説明では、第1の流体をシラン系化合物含有液体と、第2の流体を水蒸気として説明したが、本発明に係る反応ノズル1および加水分解炉60は、他の用途に用いることができる。特に、第1の流体と第2の流体とが反応し固体成分を生ずる場合に、固体成分によるノズルの閉塞が防止されるので、好適に用いられる。   In the above description, the first fluid has been described as a silane compound-containing liquid and the second fluid as water vapor. However, the reaction nozzle 1 and the hydrolysis furnace 60 according to the present invention can be used for other purposes. it can. In particular, when the first fluid and the second fluid react to generate a solid component, the clogging of the nozzle by the solid component is prevented, so that the first fluid and the second fluid are preferably used.

図7に示す実験装置を用いて、反応ノズル1からシラン系化合物含有液体と水蒸気を噴出し、シラン系化合物含有液体を気相加水分解させ、反応生成物であるシリカ微粒子の反応ノズル1への付着を調べる実験を行った。図7は、産業廃棄物焼却装置100のブロック図であり、産業廃棄物焼却装置100は、ロータリーキルン110、加水分解炉に相当しロータリーキルン110に続いて燃え殻を分離する後室120、燃焼炉に相当し未燃物を完全燃焼させる旋回流式二次燃焼炉130、高温の排ガスを湿式冷却する急冷塔140、塩化水素などの酸性ガスを吸収除去するスクラバー150、煤塵を完全に除去するミストコットレル(湿式電気集塵機)160、誘引ファン170および煙突180を備えている。後室120には、図1に示す反応ノズル1を備え、反応ノズル1からシラン系化合物含有液体を噴出する。なお、産業廃棄物焼却装置100は、最大焼却量267トン/日の能力を有する装置である。   Using the experimental apparatus shown in FIG. 7, a silane compound-containing liquid and water vapor are ejected from the reaction nozzle 1 to hydrolyze the silane compound-containing liquid to the reaction nozzle 1 for silica fine particles as a reaction product. An experiment was conducted to examine the adhesion of the. FIG. 7 is a block diagram of the industrial waste incinerator 100. The industrial waste incinerator 100 corresponds to the rotary kiln 110 and the hydrolysis furnace, and corresponds to the rear chamber 120 and the combustion furnace for separating the burning husk following the rotary kiln 110. Swirling type secondary combustion furnace 130 that completely burns unburned materials, quench tower 140 that wet-cools high-temperature exhaust gas, scrubber 150 that absorbs and removes acidic gases such as hydrogen chloride, and mistcotrel that completely removes soot and dust ( Wet electrostatic precipitator) 160, induction fan 170 and chimney 180. The rear chamber 120 includes the reaction nozzle 1 shown in FIG. 1, and a silane compound-containing liquid is ejected from the reaction nozzle 1. The industrial waste incinerator 100 is an apparatus having a maximum incineration amount of 267 tons / day.

上記の産業廃棄物焼却装置100のロータリーキルン110に8トン/時間の産業廃棄物IWを助燃油AO1と共に供給して焼却し、後室120において、図1に示す反応ノズル1の第1のノズル10から220kg/時間のシラン系化合物含有液体SW、第2のノズル20から25Nm/時間のアトマイジング用空気AR1、第3のノズル30から70kg/時間の水蒸気ST、第4のノズル40から30Nm/時間のシール用空気AR2を噴出した。水蒸気STの噴出量は、シラン系化合物含有液体SWの噴出量に対する理論当量のおおよそ2倍の当量となっている。シラン系化合物含有液体SWの組成は、テトラクロルシラン69wt%、その他のクロルシラン類30wt%、芳香族系有機物1wt%。であった。 8 ton / hour of industrial waste IW is supplied to the rotary kiln 110 of the industrial waste incinerator 100 together with the auxiliary combustion oil AO1 and incinerated. In the rear chamber 120, the first nozzle 10 of the reaction nozzle 1 shown in FIG. To 220 kg / hr of silane compound-containing liquid SW, second nozzle 20 to 25 Nm 3 / hr of atomizing air AR1, third nozzle 30 to 70 kg / hr of steam ST, and fourth nozzle 40 to 30 Nm 3 / Hour sealing air AR2 was ejected. The amount of water vapor ST ejected is approximately twice the theoretical equivalent of the amount ejected of the silane compound-containing liquid SW. The composition of the silane compound-containing liquid SW is tetrachlorosilane 69 wt%, other chlorosilanes 30 wt%, and aromatic organic substances 1 wt%. Met.

図1に示す反応ノズル1を使用して上記のシラン系化合物含有液体SW、アトマイジング用空気AR1、水蒸気ST、シール用空気AR2を、合計20時間の間噴出したが、反応ノズル1は閉塞等の問題を生ずることなく使用することができた。また、実験終了後に反応ノズル1を点検したところ、シリカ微粒子の付着は見られなかった。すなわち、反応ノズル1が、2種類の流体を反応させつつ、反応により生ずる固体成分により閉塞されにくいことが確認された。   The above-described silane compound-containing liquid SW, atomizing air AR1, water vapor ST, and sealing air AR2 were ejected for a total of 20 hours using the reaction nozzle 1 shown in FIG. It was possible to use it without causing any problems. Further, when the reaction nozzle 1 was inspected after the experiment was completed, no silica fine particles were found attached. That is, it was confirmed that the reaction nozzle 1 was not easily blocked by the solid component generated by the reaction while reacting two kinds of fluids.

また、シラン系化合物含有液体SWが水蒸気STと加水分解反応を生じ、その結果、シリカ微粒子が生成されたことを確認するため、産業廃棄物IWと助燃油AO1との供給量を調整して、後室120の温度を660〜800℃と970〜1150℃に制御しつつ運転した。また、旋回流式二次燃焼炉130には助燃油AO2を供給し、温度を900〜930℃に維持し、可燃物を完全燃焼させた。ミストコットレル160で捕集された固体成分を観測した結果、シリカ微粒子SPであることが確認された。すなわち、シラン系化合物含有液体SWと水蒸気STとが加水分解反応し、シリカ微粒子を生成していることが確認された。   Further, in order to confirm that the silane-based compound-containing liquid SW undergoes a hydrolysis reaction with the water vapor ST, and as a result, silica fine particles are generated, the supply amounts of the industrial waste IW and the auxiliary combustion oil AO1 are adjusted, The operation was performed while controlling the temperature of the rear chamber 120 at 660 to 800 ° C and 970 to 1150 ° C. Moreover, auxiliary combustion oil AO2 was supplied to the swirl type secondary combustion furnace 130, the temperature was maintained at 900 to 930 ° C, and combustibles were completely burned. As a result of observing the solid components collected by the mistcot rel 160, it was confirmed to be silica fine particles SP. That is, it was confirmed that the silane compound-containing liquid SW and the water vapor ST were hydrolyzed to generate silica fine particles.

なお、シリカ微粒子SPの平均粒径を測定したところ、後室120の温度が660〜800℃に制御された場合には143nm、後室120の温度が970〜1150℃に制御された場合には96nmであった。ここで、平均粒径は走査型電子顕微鏡を用いた画像解析法により測定した。よって、加水分解反応の結果生成されるシリカ微粒子SPの粒径が、反応温度の影響を受けることが確認された。なお、産業廃棄物焼却装置100では、後室120の温度を600℃以下に下げることは難しいので、加水分解温度とシリカ微粒子径との関係は、実施例2で詳しく調べた。   In addition, when the average particle diameter of the silica fine particles SP was measured, when the temperature of the rear chamber 120 was controlled to 660 to 800 ° C., it was 143 nm, and when the temperature of the rear chamber 120 was controlled to 970 to 1150 ° C. It was 96 nm. Here, the average particle diameter was measured by an image analysis method using a scanning electron microscope. Therefore, it was confirmed that the particle size of the silica fine particles SP generated as a result of the hydrolysis reaction is affected by the reaction temperature. In the industrial waste incinerator 100, it is difficult to lower the temperature of the rear chamber 120 to 600 ° C. or less, so the relationship between the hydrolysis temperature and the silica fine particle diameter was examined in detail in Example 2.

図8に示す試験装置200を用いて、加水分解温度に対するシリカ微粒子径と塩素ガスClの副生量とを調べた。図8は、試験装置200を説明するブロック図である。試験装置200は、テトラクロルシランを内管に、加熱されたスチーム・空気混合体SAを外管に流す二重管式ノズル250と、二重管式ノズル250から流出するテトラクロルシランおよびスチーム・空気混合体SAとが流れる石英管252と、石英管252を加熱する電熱式縦型管状炉254とを備える。さらに、石英管252の出口から流出する混合ガスMxの一部を吸引するノズル260と、ノズル260で吸引した混合ガスMxから塩化水素HClを除去しつつ混合ガスMxを冷却する水トラップ262と、水トラップ262から流出する混合ガスMyから煤塵を捕集する円筒ろ紙煤塵捕集器270と、円筒ろ紙煤塵捕集器270で煤塵を捕集した後の混合ガスMzの塩素ガスClの濃度を測定する検知管280と、ノズル260から混合ガスMzを吸引する真空ポンプ290とを備える。さらに、試験装置200は、石英管252の内部の温度を測定する温度計Tを備える。なお、試験装置200は、図4に示す加水分解炉60に相当する。 Using the test apparatus 200 shown in FIG. 8, the silica fine particle diameter and the by-product amount of chlorine gas Cl 2 with respect to the hydrolysis temperature were examined. FIG. 8 is a block diagram illustrating the test apparatus 200. The test apparatus 200 includes a double tube nozzle 250 for flowing tetrachlorosilane into the inner tube and a heated steam / air mixture SA into the outer tube, and tetrachlorosilane and steam flowing out from the double tube nozzle 250. A quartz tube 252 through which the air mixture SA flows and an electrothermal vertical tubular furnace 254 for heating the quartz tube 252 are provided. Furthermore, a nozzle 260 that sucks a part of the mixed gas Mx flowing out from the outlet of the quartz tube 252; a water trap 262 that cools the mixed gas Mx while removing hydrogen chloride HCl from the mixed gas Mx sucked by the nozzle 260; Cylindrical filter paper dust collector 270 that collects soot from mixed gas My flowing out of water trap 262, and the concentration of chlorine gas Cl 2 in mixed gas Mz after collecting dust with cylindrical filter paper dust collector 270 A detection tube 280 for measurement and a vacuum pump 290 for sucking the mixed gas Mz from the nozzle 260 are provided. Furthermore, the test apparatus 200 includes a thermometer T that measures the temperature inside the quartz tube 252. The test apparatus 200 corresponds to the hydrolysis furnace 60 shown in FIG.

二重管式ノズル250の内管には流量4.7g/分のテトラクロルシランを、外管には流量2g/分のスチームとノルマル流量4.2dm/分の空気とのスチーム・空気混合体SAを流した。なお水の量は、理論当量の2倍とした。二重管式ノズル250から、テトラクロルシランとスチーム・空気混合体SAを石英管252に流し、加温し、加水分解反応をさせた。なお、石英管252の内径は35mm、長さは1000mmで、電熱式縦型管状炉254の長さは420mmである。ここで、電熱式縦型管状炉254により石英管252の内部温度を変化させ、二重管式ノズル250から流出したテトラクロルシランとスチーム・空気混合体SAとが流れる石英管252の内部温度を加水分解反応温度として測定した。二重管式ノズル250のテトラクロルシランとスチーム・空気混合体SAを流出する先端は、電熱式縦型管状炉254の上流(二重管式ノズル250)側端部から150mmに位置する。内部温度は、石英管252中の最高温度となる電熱式縦型管状炉254の上流側端部から210mmの位置で測定した。そして、円筒ろ紙煤塵捕集器270で捕集したシリカ微粒子の粒径を測定し、検知管280で塩素ガスClの濃度を測定した。 Steam / air mixing of tetrachlorosilane with a flow rate of 4.7 g / min for the inner tube of the double tube nozzle 250 and steam with a flow rate of 2 g / min for the outer tube and a normal flow rate of 4.2 dm 3 / min. Body SA was washed away. The amount of water was twice the theoretical equivalent. From the double-tube nozzle 250, tetrachlorosilane and steam / air mixture SA were passed through the quartz tube 252 and heated to cause a hydrolysis reaction. The inner diameter of the quartz tube 252 is 35 mm, the length is 1000 mm, and the length of the electrothermal vertical tubular furnace 254 is 420 mm. Here, the internal temperature of the quartz tube 252 is changed by the electrothermal vertical tubular furnace 254, and the internal temperature of the quartz tube 252 through which the tetrachlorosilane and the steam / air mixture SA flowing out of the double tube nozzle 250 flow is changed. The hydrolysis reaction temperature was measured. The tip of the double tube nozzle 250 that flows out the tetrachlorosilane and the steam / air mixture SA is located 150 mm from the upstream (double tube nozzle 250) side end of the electrothermal vertical tubular furnace 254. The internal temperature was measured at a position 210 mm from the upstream end of the electrothermal vertical tubular furnace 254 that is the highest temperature in the quartz tube 252. Then, the particle diameter of the silica fine particles collected by the cylindrical filter paper dust collector 270 was measured, and the concentration of the chlorine gas Cl 2 was measured by the detector tube 280.

加水分解反応温度を200℃、500℃、800℃、1000℃、1300℃と変化させた場合のシリカ微粒子の粒径と塩素ガスClの濃度の測定結果を図9にまとめて示す。なお、シリカ微粒子の粒径は、捕集したシリカ微粒子を走査型電子顕微鏡を用いた画像解析法により測定し、測定されたシリカ微粒子の粒径の範囲を測定結果として示している。
図9に示す測定結果から、加水分解反応温度が低いほど、シリカ微粒子の粒径が大きくなることがわかる。すなわち、加水分解反応温度を低くした方が、後段のミストコットレルでのシリカ微粒子の捕集が容易になる。特に500℃以下とすると、シリカ微粒子の粒径が300nm以上となるので、捕集し易い。
また加水分解反応温度が低いほど、塩素ガスの副生量も少なくなることがわかる。すなわち、加水分解反応温度を低くした方が、後段のスクラバーの負担が軽くなる。
The measurement results of the particle diameter of silica fine particles and the concentration of chlorine gas Cl 2 when the hydrolysis reaction temperature is changed to 200 ° C., 500 ° C., 800 ° C., 1000 ° C., and 1300 ° C. are collectively shown in FIG. In addition, the particle size of the silica fine particles is obtained by measuring the collected silica fine particles by an image analysis method using a scanning electron microscope, and showing the measured particle size range of the silica fine particles as a measurement result.
From the measurement results shown in FIG. 9, it can be seen that the lower the hydrolysis reaction temperature, the larger the particle size of the silica fine particles. That is, the lower the hydrolysis reaction temperature, the easier it is to collect the silica fine particles in the latter mist cotrel. In particular, when the temperature is 500 ° C. or less, the particle diameter of the silica fine particles is 300 nm or more, so that it is easy to collect.
It can also be seen that the lower the hydrolysis reaction temperature, the smaller the amount of chlorine gas by-produced. That is, lowering the hydrolysis reaction temperature reduces the burden on the subsequent scrubber.

反応ノズルの構成を説明する図で、(a)は反応ノズルを先端側から見た正面図、(b)は反応ノズルの軸に沿った断面図である。It is a figure explaining the structure of a reaction nozzle, (a) is the front view which looked at the reaction nozzle from the front end side, (b) is sectional drawing along the axis | shaft of the reaction nozzle. 第3のノズルを第4のノズルにより形成される流路に設置した反応ノズルの構成を説明する図で、(a)は反応ノズルを先端側から見た正面図、(b)は反応ノズルの軸に沿った断面図である。It is a figure explaining the structure of the reaction nozzle which installed the 3rd nozzle in the flow path formed by the 4th nozzle, (a) is the front view which looked at the reaction nozzle from the front end side, (b) is the reaction nozzle It is sectional drawing along an axis. 反応ノズルから噴出された流体あるいはガスの動きを模式的に説明する模式図である。It is a schematic diagram which illustrates typically the motion of the fluid or gas ejected from the reaction nozzle. シラン系化合物および有機化合物などの可燃性物を含む液体を加水分解および燃焼処理する気相加水分解処理装置の構成を説明するブロック図である。It is a block diagram explaining the structure of the gaseous-phase hydrolysis processing apparatus which hydrolyzes and burns the liquid containing combustible substances, such as a silane type compound and an organic compound. 加水分解炉の構成を説明する模式的断面図である。It is typical sectional drawing explaining the structure of a hydrolysis furnace. クロルシランと有機化合物を含むシラン系化合物含有液体の処理方法を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the processing method of the silane type compound containing liquid containing chlorosilane and an organic compound. 出願人が所有する産業廃棄物焼却装置のブロック図であり、本発明に係る反応ノズルを用いて反応生成物のノズルへの付着を調べた実験装置である。It is a block diagram of the industrial waste incinerator which an applicant owns, and is an experimental device which investigated adhesion of the reaction product to the nozzle using the reaction nozzle concerning the present invention. 加水分解温度に対するシリカ微粒子の粒径と塩素ガスの副生量とを調べた試験装置を説明するブロック図である。It is a block diagram explaining the test apparatus which investigated the particle size of the silica particle with respect to a hydrolysis temperature, and the byproduct amount of chlorine gas. 加水分解反応温度を200℃、500℃、800℃、1000℃、1300℃と変化させた場合のシリカ微粒子の粒径と塩素ガスの濃度の測定結果をまとめて示す図である。It is a figure which shows collectively the measurement result of the particle size of silica fine particle at the time of changing a hydrolysis reaction temperature with 200 degreeC, 500 degreeC, 800 degreeC, 1000 degreeC, and 1300 degreeC, and the density | concentration of chlorine gas.

符号の説明Explanation of symbols

1、2 反応ノズル
6 気相加水分解処理装置
10 第1のノズル
12 第1のノズルの先端
14 細い直管
16 太い直管
18 傾斜部分
20 第2のノズル
22 第2のノズルの先端
24 縮径開始部分
26 傾斜
28 縮径開始部分
30 第3のノズル
32 第3のノズルの先端
34 曲がり部
40 第4のノズル
42 第4のノズルの先端
44 傾斜
46 すぼまる部分
52、54、58 端面
56 側面
60 加水分解炉
62 縦型容器
64 高温ガスノズル
65 バーナー
66 ガス出口
70 燃焼炉
75 急冷塔
80 スクラバー
85 ミストコットレル(捕集装置)
90 ファン
100 産業廃棄物焼却装置
110 ロータリーキルン
120 後室
130 旋回流式二次燃焼炉
140 急冷塔
150 スクラバー
160 ミストコットレル(湿式電気集塵機)
170 誘引ファン
180 煙突
200 試験装置
250 二重管式ノズル
252 石英管
254 電熱式縦型管状炉
260 ノズル
262 水トラップ
270 円筒ろ紙煤塵捕集器
280 検知管
290 真空ポンプ
A 第1の流体
B 第1の気体
C 第2の流体
D 第2の気体
F 燃料
Mx、My、Mz 混合ガス
SA スチーム・空気混合体
T 温度計
W 冷却水
1, 2 Reaction nozzle 6 Gas phase hydrolysis treatment apparatus 10 First nozzle 12 First nozzle tip 14 Thin straight pipe 16 Thick straight pipe 18 Inclined portion 20 Second nozzle 22 Second nozzle tip 24 Diameter start portion 26 Inclination 28 Diameter reduction start portion 30 Third nozzle 32 Third nozzle tip 34 Bent portion 40 Fourth nozzle 42 Fourth nozzle tip 44 Inclination 46 Constricted portions 52, 54, 58 End face 56 Side 60 Hydrolysis furnace 62 Vertical vessel 64 High-temperature gas nozzle 65 Burner 66 Gas outlet 70 Combustion furnace 75 Quenching tower 80 Scrubber 85 Mist cotrel (collector)
90 Fan 100 Industrial waste incinerator 110 Rotary kiln 120 Rear chamber 130 Swirl secondary combustion furnace 140 Quench tower 150 Scrubber 160 Mist cot rel (wet electric dust collector)
170 Induction Fan 180 Chimney 200 Test Equipment
250 Double tube type nozzle 252 Quartz tube 254 Electric heating vertical tube furnace 260 Nozzle 262 Water trap 270 Cylindrical filter paper dust collector 280 Detector tube 290 Vacuum pump A First fluid B First gas C Second fluid D Second gas F Fuel Mx, My, Mz Mixed gas SA Steam / air mixture T Thermometer W Cooling water

Claims (7)

液状の第1の流体を噴出する第1のノズルと;
前記第1のノズルの外側に前記第1のノズルと同心円状に配置され、前記第1の流体を微細化する第1の気体を噴出する第2のノズルと;
前記第1のノズルおよび前記第2のノズルより下流側で、かつ、前記第1の流体および前記第1の気体の流れの外側に開口部を有し、前記第1の流体と反応する第2の流体を噴出する第3のノズルと
前記第2のノズルの外側に前記第2のノズルと同心円状に配置され、前記第1の流体と前記第2の流体とが反応した流体を覆う第2の気体を噴出する第4のノズルを備える;
反応ノズル。
A first nozzle for ejecting a liquid first fluid;
A second nozzle that is arranged concentrically with the first nozzle outside the first nozzle and that ejects a first gas that refines the first fluid;
The second nozzle that has an opening on the downstream side of the first nozzle and the second nozzle and outside the flow of the first fluid and the first gas and reacts with the first fluid. A third nozzle for ejecting a fluid of ;
A fourth nozzle that is disposed concentrically with the second nozzle outside the second nozzle and that ejects a second gas that covers a fluid obtained by reacting the first fluid and the second fluid ; Comprising:
Reaction nozzle.
前記第3のノズルを放射状に複数備え;
前記第3のノズルから、前記第2の流体が、前記第1の気体により微細化された前記第1の流体に向けて噴出される;
請求項1に記載の反応ノズル。
A plurality of the third nozzles radially provided;
The second fluid is ejected from the third nozzle toward the first fluid refined by the first gas;
The reaction nozzle according to claim 1.
液状の第1の流体を噴出する第1のノズルと;
前記第1のノズルの外側に前記第1のノズルと同心円状に配置され、前記第1の流体を微細化する第1の気体を噴出する第2のノズルと;
前記第1のノズルおよび前記第2のノズルより下流側で、かつ、前記第1の流体および前記第1の気体の流れの外側に開口部を有し、前記第1の流体と反応する第2の流体を噴出する第3のノズルとを備え;
前記第1の流体がクロルシランを含み;
前記第2の流体が水蒸気であり;
前記第1の流体と前記第2の流体との反応により、シリカ微粒子が生成される;
反応ノズル。
A first nozzle for ejecting a liquid first fluid;
A second nozzle that is arranged concentrically with the first nozzle outside the first nozzle and that ejects a first gas that refines the first fluid;
The second nozzle that has an opening on the downstream side of the first nozzle and the second nozzle and outside the flow of the first fluid and the first gas and reacts with the first fluid. A third nozzle for ejecting a fluid of
The first fluid comprises chlorosilane;
The second fluid is water vapor;
Silica fine particles are generated by the reaction of the first fluid and the second fluid;
Reaction nozzle.
前記第1の流体がクロルシランを含み;
前記第2の流体が水蒸気であり;
前記第1の流体と前記第2の流体との反応により、シリカ微粒子が生成される;
請求項1または請求項2に記載の反応ノズル。
The first fluid comprises chlorosilane;
The second fluid is water vapor;
Silica fine particles are generated by the reaction of the first fluid and the second fluid;
The reaction nozzle according to claim 1 or 2 .
クロルシランと有機化合物を含む液体を処理する気相加水分解処理装置であって:
前記液体を前記第1の流体として噴出する請求項3または請求項4に記載の反応ノズルを備え、前記第1の流体と前記第2の流体とが反応した流体を排出する加水分解炉と;
前記加水分解炉から排出された流体を燃焼する燃焼炉と;
前記シリカ微粒子を捕集する捕集装置とを備える;
気相加水分解処理装置。
A gas phase hydrolysis treatment apparatus for treating a liquid containing chlorosilane and an organic compound:
A hydrolysis furnace comprising the reaction nozzle according to claim 3 or 4 for ejecting the liquid as the first fluid, and discharging a fluid obtained by reacting the first fluid and the second fluid;
A combustion furnace for burning the fluid discharged from the hydrolysis furnace;
A collection device for collecting the silica fine particles;
Gas phase hydrolysis treatment equipment.
前記加水分解炉内の温度が200℃以上600℃以下に温度制御され;
前記燃焼炉内の温度が850℃以上1100℃以下に温度制御される;
請求項5に記載の気相加水分解処理装置。
The temperature in the hydrolysis furnace is controlled to 200 ° C. or more and 600 ° C. or less;
The temperature in the combustion furnace is controlled to be 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower;
The gas phase hydrolysis treatment apparatus according to claim 5.
クロルシランと有機化合物を含む液体を処理する気相加水分解処理方法であって:
前記液体を噴出し、
前記噴出された液体に略平行して、前記噴出された液体の周囲に第1の気体を噴出することにより、前記液体を微細化し、
前記微細化された液体に水蒸気を混合して200℃以上600℃以下の温度で前記クロルシランを加水分解し、シリカ微粒子を生成する工程と;
前記液体と前記水蒸気の混合した流体であって、前記クロルシランが加水分解された流体を850℃以上1100℃以下の温度で燃焼する工程と;
前記シリカ微粒子を捕集する工程とを備える;
気相加水分解処理方法。
A gas phase hydrolysis treatment method for treating a liquid containing chlorosilane and an organic compound comprising:
Spouting the liquid,
The liquid is refined by ejecting a first gas around the ejected liquid substantially in parallel with the ejected liquid,
Mixing water vapor with the finely divided liquid and hydrolyzing the chlorosilane at a temperature of 200 ° C. or higher and 600 ° C. or lower to produce silica fine particles;
Combusting a fluid in which the liquid and the water vapor are mixed and the chlorosilane is hydrolyzed at a temperature of 850 ° C. or higher and 1100 ° C. or lower;
Collecting the silica fine particles;
Gas phase hydrolysis treatment method.
JP2007243652A 2007-09-20 2007-09-20 Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method Expired - Fee Related JP5457627B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007243652A JP5457627B2 (en) 2007-09-20 2007-09-20 Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method
PCT/JP2008/063912 WO2009037923A1 (en) 2007-09-20 2008-08-01 Reaction nozzle, vapor-phase hydrolysis apparatus, and vapor-phase hydrolysis method
CN200880107964.9A CN101801524B (en) 2007-09-20 2008-08-01 Reaction nozzle, vapor-phase hydrolysis apparatus, and vapor-phase hydrolysis method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007243652A JP5457627B2 (en) 2007-09-20 2007-09-20 Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009072688A JP2009072688A (en) 2009-04-09
JP5457627B2 true JP5457627B2 (en) 2014-04-02

Family

ID=40467747

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007243652A Expired - Fee Related JP5457627B2 (en) 2007-09-20 2007-09-20 Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP5457627B2 (en)
CN (1) CN101801524B (en)
WO (1) WO2009037923A1 (en)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5440766B2 (en) 2009-07-29 2014-03-12 日立工機株式会社 Impact tools
CN101941707B (en) * 2010-03-11 2012-12-05 赤峰盛森硅业科技发展有限公司 Preparation method and device of fumed silica by combustion of small molecular alkane
CN103442794A (en) * 2010-12-29 2013-12-11 艾芬豪能源有限公司 Improved reactor feed nozzle
CN102042603B (en) * 2010-12-31 2012-06-06 中国航天科技集团公司第六研究院第十一研究所 Adjustable high-efficient waste acid combined burner
US8593634B1 (en) * 2012-06-15 2013-11-26 Larry Y Igarashi Custom cosmetic blending machine
CN104379260B (en) * 2012-05-10 2016-08-24 康涅狄格州大学 For the method and apparatus manufacturing catalyst film
WO2015002281A1 (en) * 2013-07-04 2015-01-08 コニカミノルタ株式会社 Scintillator panel and production method therefor
CN106345622B (en) * 2016-11-22 2018-07-06 镇江市和云工业废水处置有限公司 A kind of liquid waste incineration system liquid discharging head
CN110290864B (en) * 2017-02-23 2021-07-30 瓦克化学股份公司 Method and apparatus for hydrolysis of a compound
CN108126644B (en) * 2018-01-19 2023-08-29 德山化工(浙江)有限公司 Chlorosilane liquid neutralization treatment device and treatment method
KR101906495B1 (en) * 2018-03-21 2018-10-10 (주)청도이엔피 Apparatus of Coarsening Particulate Matter and Method for Removing Particulate Matter Using Thereof
CN108190898B (en) * 2018-03-27 2019-07-23 乐山师范学院 A kind of reactor preparing silica
CN108644600A (en) * 2018-05-18 2018-10-12 东莞安默琳机械制造技术有限公司 Micro lubricating nozzle
JP7024646B2 (en) * 2018-07-24 2022-02-24 日本製鉄株式会社 Ultrasonic processing equipment and fine bubble supply method
JP6533859B1 (en) * 2018-10-29 2019-06-19 株式会社アサカ理研 Lithium carbonate production equipment
JP7190338B2 (en) * 2018-11-21 2022-12-15 太平洋セメント株式会社 Method for producing inorganic oxide particles
CN113181852B (en) * 2021-05-25 2023-03-24 湖北理工学院 Method and equipment for preparing micronized medicine by using microreactor
CN113457869B (en) * 2021-09-01 2021-11-16 苏州好博医疗器械股份有限公司 Spray head protection device of steam injection equipment

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5217703A (en) * 1991-08-28 1993-06-08 United Technologies Corporation Method of manufacture of iron oxide particles
JPH06226085A (en) * 1993-02-03 1994-08-16 Asahi Glass Co Ltd Device for producing oxide fine particles and its production
JP3395284B2 (en) * 1993-10-05 2003-04-07 宇部興産株式会社 Method for producing high-purity magnesia fine powder
JP3480083B2 (en) * 1994-10-11 2003-12-15 信越化学工業株式会社 Method for producing fine silica
DE19725955C1 (en) * 1997-06-19 1999-01-21 Heraeus Quarzglas Quartz glass preform production for optical fibre manufacture
JP4420690B2 (en) * 2004-02-04 2010-02-24 ホソカワミクロン株式会社 Fine particle production method and fine particle production apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
WO2009037923A1 (en) 2009-03-26
CN101801524A (en) 2010-08-11
CN101801524B (en) 2014-04-16
JP2009072688A (en) 2009-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5457627B2 (en) Reaction nozzle, gas-phase hydrolysis treatment apparatus, and gas-phase hydrolysis treatment method
JP6599392B2 (en) Vapor plasma arc hydrolysis of ozone depleting substances.
EP3270058B1 (en) Exhaust-gas treatment apparatus and method
KR100644994B1 (en) Exhaust gas treating device
TW539828B (en) Cooling method and apparatus of emission gas with high temperature, and burning handling apparatus
JP2642140B2 (en) Method for treating gaseous effluent associated with production of electronic components and incineration apparatus for performing the method
RU2158391C2 (en) Waste gas cleaner
JP6047652B1 (en) Integrated semiconductor exhaust gas purification system
KR101417233B1 (en) Method for incinerating waste by two-stage swirling flow fluidized bed incinerator
JP2009018290A (en) Exhaust gas washing device
CN1997439A (en) Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants
WO2007102288A1 (en) Method of making hcd gas harmless and apparatus therefor
JPH0268414A (en) Combustion treatment of poisonous gas and its device
TW201219106A (en) capable of generating cyclonic flame for burning waste gas and washing away harmful substances completely
JP6393473B2 (en) Gas treatment apparatus and exhaust gas treatment method
JP2005315563A (en) Exhaust gas treatment device and its method
CN206198979U (en) The liquid collector of ozone and waste gas mixing reactor
US10744456B2 (en) Wet electrostatic gas cleaning system with non-thermal plasma for NOx reduction in exhaust
JPH02103311A (en) Method of treatment of poisonous flue gas by combustion
JPH02126014A (en) Method and apparatus for burning and processing toxic gas
KR20030004721A (en) Semi-Dry Scrubber Using Vortex Flue Gas and Apparatus for Removal with Hazardous Gas for its
KR200407845Y1 (en) Device for purifying exhausted gas
JPH10300060A (en) Method and apparatus for processing incinerator waste gas
KR102087776B1 (en) Sulfur compounds abatement apparatus for waste burning furnace
JP5656535B2 (en) Venturi scrubber

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100624

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20120403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20120403

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130129

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130322

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140110

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5457627

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees