JP5423416B2 - Conductive composition, conductive film using the same, and laminate having the conductive film - Google Patents

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本発明は、導電性組成物に関するものであり、その導電性組成物は、塗膜の均一性が非常に高く、さらには導電性の高い膜を形成することが出来る。これらの特徴を利用し、タッチパネル、有機エレクトロルミネッセンスパネル、無機エレクトロルミネッセンスパネル、液晶パネル等の透明電極として好適に使用することが出来る。   The present invention relates to a conductive composition, and the conductive composition has a very high uniformity of a coating film and can form a film having high conductivity. Utilizing these characteristics, it can be suitably used as a transparent electrode for touch panels, organic electroluminescence panels, inorganic electroluminescence panels, liquid crystal panels, and the like.

従来、透明電極材料として、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛等の無機酸化物材料を中心に開発が行われてきた。中でも、酸化インジウムと酸化スズの混合焼成体であるITO(スズドープ酸化インジウム)が、その導電性の高さ等の理由により、一般的に使用されている。   Conventionally, as transparent electrode materials, development has been performed mainly on inorganic oxide materials such as indium oxide, tin oxide, and zinc oxide. Among them, ITO (tin-doped indium oxide), which is a mixed fired body of indium oxide and tin oxide, is generally used because of its high conductivity.

また、近年では、太陽電池や有機エレクトロルミネッセンス素子向けに、FTO(フッ素ドープ酸化スズ)やIZO(酸化インジウム、酸化亜鉛混合焼成体)などが開発されている。   In recent years, FTO (fluorine-doped tin oxide), IZO (indium oxide and zinc oxide mixed fired body), and the like have been developed for solar cells and organic electroluminescence elements.

これら、無機酸化物を中心とした透明電極は、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ、イオンプレーティング法等の乾式成膜法を用いて成膜が行われる。高温成膜や高温焼成などの過程が必要となることから、主にガラスが基材として利用されている。   These transparent electrodes centered on inorganic oxides are formed using a dry film forming method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, plasma, or an ion plating method. Since processes such as high-temperature film formation and high-temperature firing are required, glass is mainly used as a base material.

ガラスを基材として用いた場合、折り曲げることが出来ない、割れる、重いなどという点が、モバイル用途を想定した場合に問題点となる。   When glass is used as a base material, it cannot be bent, cracked, or heavy, which is a problem when mobile applications are assumed.

一方、近年「プリンタブルエレクトロニクス」といわれる領域の技術開発が積極的に行われている。これまでの高価な設備や、複雑な工程を駆使して生産されてきた高価な電子部品を、プロセス廃棄物が少なく、材料の利用効率が高く低コストで環境にやさしい印刷法を用いて製造するというものである。これにより、ローコスト・ハイスループットで電子部品を生産することが可能になるといわれている。さらには、低温プロセスを利用することができることから、基材にプラスチックフィルムを用いることが出来る。これにより、フレキシブルな導電膜が作成できる。しかしながら、電子部品の信頼性や性能が犠牲になるといった問題も抱えている。   On the other hand, technology development in the area called “printable electronics” has been actively carried out in recent years. Production of expensive electronic parts that have been produced using expensive equipment and complicated processes by using printing methods that are low in process waste, have high material utilization efficiency, and are low in cost and are environmentally friendly That's it. It is said that this makes it possible to produce electronic components at low cost and high throughput. Furthermore, since a low temperature process can be used, a plastic film can be used for the base material. Thereby, a flexible electrically conductive film can be created. However, there is a problem that the reliability and performance of electronic components are sacrificed.

前述のドライプロセスによってプラスチックフィルム上に無機酸化物からなる導電膜を作成することも可能であるが、その性質ゆえ、折り曲げ時にクラック等が入り、その可撓性が大幅に失われる。しかしながら、導電性高分子を導電剤とした導電膜は、その膜自身に柔軟性があり、クラック等の発生は大幅に抑えることができ、可撓性に優れた導電フィルムを作製することが出来る。このため、印刷法(湿式成膜法)に適した、導電インキの開発が急務となっている。   Although it is possible to produce a conductive film made of an inorganic oxide on a plastic film by the above-mentioned dry process, due to its nature, cracks and the like are generated at the time of bending, and its flexibility is greatly lost. However, a conductive film using a conductive polymer as a conductive agent has flexibility in the film itself, can greatly suppress the occurrence of cracks and the like, and can produce a conductive film excellent in flexibility. . For this reason, there is an urgent need to develop a conductive ink suitable for the printing method (wet film formation method).

特開2006−152203号公報JP 2006-152203 A 特開2009−070789号公報JP 2009-070789 A

日経エレクトロニクス 2009年8月10日号 89頁Nikkei Electronics, August 10, 2009, 89 pages

本発明は、透明性、導電性、及び、可撓性に優れ、しかもプラスチック基材に塗布成膜することが可能であり、さらには均一な塗膜が得られる導電性組成物を提供することを課題とする。   The present invention provides a conductive composition that is excellent in transparency, conductivity, and flexibility, can be applied and formed on a plastic substrate, and can provide a uniform coating film. Is an issue.

本発明は、導電性高分子(A)、ドーパント(B)、及び、下記一般式[1]で表される化合物(C)を含み、導電性高分子(A)とドーパント(B)総量100重量部に対し、下記一般式[1]で表される化合物(C)を1から100重量部含むことを特徴とする導電性組成物に関する。
一般式[1]
−Si(OR
(式中、Rは、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、メトキシ基、または、エトキシ基を表し、Rは、メチル基、または、エチル基を表す。)
The present invention includes a conductive polymer (A), a dopant (B), and a compound (C) represented by the following general formula [1], and the total amount of conductive polymer (A) and dopant (B) is 100. The present invention relates to a conductive composition comprising 1 to 100 parts by weight of a compound (C) represented by the following general formula [1] with respect to parts by weight.
General formula [1]
R 1 —Si (OR 2 ) 3
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a benzyl group, a methoxy group, or an ethoxy group, and R 2 represents a methyl group or an ethyl group.)

また、本発明は、導電性高分子(A)が、チオフェン、アニリン、ピロール、及び、それらの誘導体からなる群から選択された、少なくとも一つを単量体成分としてなることを特徴とする前記の導電性組成物に関する。   In the present invention, the conductive polymer (A) is characterized in that at least one selected from the group consisting of thiophene, aniline, pyrrole, and derivatives thereof is used as a monomer component. It relates to a conductive composition.

また、本発明は、導電性高分子(A)が、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)であることを特徴とする前記の導電性組成物に関する。   The present invention also relates to the above conductive composition, wherein the conductive polymer (A) is poly (3,4-ethylenedioxythiophene).

また、本発明は、ドーパント(B)が、スルホ基、または、そのアルカリ金属塩を有する化合物であることを特徴とする前記の導電性組成物に関する。   In addition, the present invention relates to the above conductive composition, wherein the dopant (B) is a compound having a sulfo group or an alkali metal salt thereof.

また、本発明は、ドーパント(B)が、水酸基を有する樹脂(B1)と、スルトン(B2)との反応により得られることを特徴とする前記の導電性組成物に関する。   In addition, the present invention relates to the conductive composition, wherein the dopant (B) is obtained by a reaction between a resin (B1) having a hydroxyl group and sultone (B2).

また、本発明は、前記の導電性組成物から形成されてなる導電膜に関する。   Moreover, this invention relates to the electrically conductive film formed from the said electrically conductive composition.

また、本発明は、基材と前記の導電膜とを有する積層体に関する。   Moreover, this invention relates to the laminated body which has a base material and the said electrically conductive film.

本発明を実施することにより、透明性、導電性、及び、可撓性に優れ、しかもプラスチック基材に塗布成膜することが可能であり、さらには均一な塗膜が得られる導電性組成物を提供することができる。   By carrying out the present invention, a conductive composition that is excellent in transparency, conductivity, and flexibility, can be applied to a plastic substrate, and can provide a uniform coating film. Can be provided.

まず、本発明の導電性高分子(A)について説明する。
本発明における導電性高分子とは、π共役系が全体にひろがった高分子を意味する。例えば、ポリチオフェン類、ポリピロ−ル類、ポリアニリン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリアセン類、ポリチエニレンビニレン類、及びこれらの共重合体等を挙げられる。
First, the conductive polymer (A) of the present invention will be described.
The conductive polymer in the present invention means a polymer having a π-conjugated system spread throughout. Examples thereof include polythiophenes, polypyrroles, polyanilines, polyphenylene vinylenes, polyacetylenes, polyphenylenes, polyacenes, polythienylene vinylenes, and copolymers thereof.

これら導電性高分子は、導電性の向上、バインダー樹脂への相溶性向上などの目的で、アルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、水酸基、スルホ基等の官能基を置換基として導入することがある。   These conductive polymers may introduce a functional group such as an alkyl group, an alkoxyl group, a carboxyl group, a hydroxyl group, or a sulfo group as a substituent for the purpose of improving conductivity and compatibility with the binder resin. .

導電性高分子(A)の具体例としては、
ポリ(チオフェン)、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリ(3−エチルチオフェン)、ポリ(3−プロピルチオフェン)、ポリ(3−ブチルチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルチオフェン)、ポリ(3−ヘプチルチオフェン)、ポリ(3−オクチルチオフェン)、ポリ(3−(2−エチルヘキシル)チオフェン)、ポリ(3−ドデシルチオフェン)、ポリ(3−オクタデシルチオフェン)、ポリ(3,4−ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4−ジブチルチオフェン)、ポリ(3−フルオロチオフェン)、ポリ(3−クロロチオフェン)、ポリ(3−ブロモチオフェン)、ポリ(3−ヨードチオフェン)、ポリ(3,4−ジブロモチオフェン)、ポリ(3−シアノチオフェン)、ポリ(3−フェニルチオフェン)、ポリ(3−ビフェニルチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−スルホニルチオフェン)、ポリ(3−ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3−メトキシチオフェン)、ポリ(3−エトキシチオフェン)、ポリ(3−ブトキシチオフェン)、ポリ(3−ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3−ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3−オクタデシルオキシチオフェン)、ポリ(3−(2−エチルヘキシル)オキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−メトキシチオフェン)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−エトキシチオフェン)、ポリ(3−カルボキシチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシチオフェン)、若しくはポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルチオフェン)等のポリチオフェン類;
ポリ(ピロール)、ポリ(3−メチルピロール)、ポリ(3−エチルピロール)、ポリ(3−プロピルピロール)、ポリ(3−ブチルピロール)、ポリ(3−ヘキシルピロール)、ポリ(3−ヘプチルピロール)、ポリ(3−オクチルピロール)、ポリ(3−(2−エチルヘキシル)ピロール)、ポリ(3−ドデシルピロール)、ポリ(3−オクタデシルピロール)、ポリ(3,4−ジメチルピロール)、ポリ(3,4−ジブチルピロール)、ポリ(3−フルオロピロール)、ポリ(3−クロロピロール)、ポリ(3−ブロモピロール)、ポリ(3−ヨードピロール)、ポリ(3,4−ジブロモピロール)、ポリ(3−シアノピロール)、ポリ(3−フェニルピロール)、ポリ(3−ビフェニルピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−スルホニルピロール)、ポリ(3−ヒドロキシピロール)、ポリ(3−メトキシピロール)、ポリ(3−エトキシピロール)、ポリ(3−ブトキシピロール)、ポリ(3−ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3−オクチルオキシピロール)、ポリ(3−ドデシルオキシピロール)、ポリ(3−オクタデシルオキシピロール)、ポリ(3−(2−エチルヘキシル)オキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−メトキシピロール)、ポリ(エチレンジオキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−エトキシピロール)、ポリ(3−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシエチルピロール)、ポリ(3−メチル−4−カルボキシブチルピロール)等のポリピロール類; 又は、
ポリアニリン、メチルポリアニリン、ジメチルポリアニリン、ヘキシルポリアニリン、ジヘキシルポリアニリン、メトキシポリアニリン、エトキシポリアニリン、ヘキシルオキシポリアニリン等のポリアニリン類; 等が挙げられるがこれらに限定されない。またこれらは、単独で、若しくは2種類以上組み合わせて用いることができる。
上記化合物の中でも、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が好ましく用いられる。
As a specific example of the conductive polymer (A),
Poly (thiophene), poly (3-methylthiophene), poly (3-ethylthiophene), poly (3-propylthiophene), poly (3-butylthiophene), poly (3-hexylthiophene), poly (3-heptyl) Thiophene), poly (3-octylthiophene), poly (3- (2-ethylhexyl) thiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-octadecylthiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthiophene), poly (3-fluorothiophene), poly (3-chlorothiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3-iodothiophene), poly (3,4-dibromothiophene) , Poly (3-cyanothiophene), poly (3-phenylthiophene), poly (3-biphenylthio) Phen), poly (3-carboxythiophene), poly (3-sulfonylthiophene), poly (3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene), poly (3-butoxythiophene) , Poly (3-hexyloxythiophene), poly (3-octyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3-octadecyloxythiophene), poly (3- (2-ethylhexyl) oxythiophene), Poly (3-methyl-4-methoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3-methyl-4-ethoxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3-methyl- 4-carboxythiophene) or poly (3-methyl-4-carbo) Phenoxyethyl thiophene), poly (3-methyl-4-carboxybutyl thiophene) polythiophenes such as;
Poly (pyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-ethylpyrrole), poly (3-propylpyrrole), poly (3-butylpyrrole), poly (3-hexylpyrrole), poly (3-heptyl) Pyrrole), poly (3-octylpyrrole), poly (3- (2-ethylhexyl) pyrrole), poly (3-dodecylpyrrole), poly (3-octadecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole), poly (3-fluoropyrrole), poly (3-chloropyrrole), poly (3-bromopyrrole), poly (3-iodopyrrole), poly (3,4-dibromopyrrole) , Poly (3-cyanopyrrole), poly (3-phenylpyrrole), poly (3-biphenylpyrrole), poly (3-carboxypyrrole) Poly (3-sulfonylpyrrole), poly (3-hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), poly (3-ethoxypyrrole), poly (3-butoxypyrrole), poly (3-hexyloxypyrrole), poly (3-octyloxypyrrole), poly (3-dodecyloxypyrrole), poly (3-octadecyloxypyrrole), poly (3- (2-ethylhexyl) oxypyrrole), poly (3-methyl-4-methoxypyrrole) , Poly (ethylenedioxypyrrole), poly (3-methyl-4-ethoxypyrrole), poly (3-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxyl) Ethylpyrrole), polypyrroles such as poly (3-methyl-4-carboxybutylpyrrole); It is,
And polyanilines such as polyaniline, methylpolyaniline, dimethylpolyaniline, hexylpolyaniline, dihexylpolyaniline, methoxypolyaniline, ethoxypolyaniline, hexyloxypolyaniline; and the like. Moreover, these can be used individually or in combination of 2 or more types.
Among the above compounds, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) is preferably used.

次に、ドーパント(B)について説明する。
一般に導電性高分子は、ドーピングすることにより、キャリア密度を増大させ導電性が向上することが知られている。ドーピングに用いるドーパントは、ドーピングするキャリアの種類により、ドナー性ドーパントとアクセプター性ドーパントに分類できる。
Next, the dopant (B) will be described.
In general, it is known that a conductive polymer increases carrier density and improves conductivity by doping. The dopant used for doping can be classified into a donor dopant and an acceptor dopant depending on the type of carrier to be doped.

ドナー性ドーパントの具体例としては、
リチウム、ナトリウム、若しくはカリウム等のアルカリ金属;
カルシウム、若しくはマグネシウム等のアルカリ土類金属; 又は、
テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラプロピルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム、エチルジイソプロピルアンモニウム、メチルトリエチルアンモニウム、トリオクチルメチルアンモニウム、若しくはセチルトリメチルアンモニウム等のアンモニウム塩等の4級アンモニウムカチオン等が挙げられるがこれらに限定されない。またこれらは、単独で、もしくは2種類以上組み合わせて用いることができる。
As a specific example of the donor dopant,
Alkali metals such as lithium, sodium or potassium;
Alkaline earth metals such as calcium or magnesium; or
Examples include, but are not limited to, quaternary ammonium cations such as tetramethylammonium, tetraethylammonium, tetrapropylammonium, tetrabutylammonium, ethyldiisopropylammonium, methyltriethylammonium, trioctylmethylammonium, or ammonium salts such as cetyltrimethylammonium. Not. Moreover, these can be used individually or in combination of 2 or more types.

アクセプター性ドーパントの具体例としては、
塩素、臭素、ヨウ素、ICI、ICl、IBr、若しくはIF等のハロゲン化合物;
HF、HCl、HNO、HSO、HClO、FSOH、若しくはClSOH等の無機プロトン酸;
ギ酸、酢酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸、酒石酸、クエン酸、乳酸、コハク酸、セバシン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ニトロ酢酸、若しくはトリフェニル酢酸等の有機カルボン酸;
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、1−プロパンスルホン酸、1−ブタンスルホン酸、1−ヘキサンスルホン酸、1−オクタンスルホン酸、1−ドデカンスルホン酸、1−テトラデカンスルホン酸、2−ブロモエタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リグニンスルホン酸、コリスチンメタンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、3−アミノプロパンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、プロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸、へキサデシルベンゼンスルホン酸、カンファースルホン酸、2,4−ジメチルベンゼンスルホン酸、ジプロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、4−アミノベンゼンスルホン酸 、p−クロロベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、若しくはナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物等の有機スルホン酸;
テトラシアノエチレン(TCNE)、テトラシアノエチレンオキサイド、テトラシアノベンゼン、テトラシアノキノジメタン(TCNQ)、フッ素化テトラシアノキノジメタン(F4−TCNQ)、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)、クロラニル、若しくはテトラシアノアザナフタレン等の電子欠乏性有機化合物類;PF、AsF、SbF、BF、BCl、BBr、若しくはSO等のルイス酸; 又は、
FeCl、FeOCl、TiCl、AlCl、ZrCl、HfCl、TaCl、MoCl、WF、若しくはWCl等の遷移金属化合物等が挙げられるがこれらに限定されない。またこれらは、単独で、もしくは2種類以上組み合わせて用いることができる。
As a specific example of the acceptor dopant,
Halogen compounds such as chlorine, bromine, iodine, ICI, ICl 3 , IBr, or IF;
Inorganic protonic acids such as HF, HCl, HNO 3 , H 2 SO 4 , HClO 4 , FSO 3 H, or ClSO 3 H;
Formic acid, acetic acid, oxalic acid, benzoic acid, phthalic acid, maleic acid, fumaric acid, malonic acid, tartaric acid, citric acid, lactic acid, succinic acid, sebacic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, nitroacetic acid Or organic carboxylic acids such as triphenylacetic acid;
Methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, 1-propanesulfonic acid, 1-butanesulfonic acid, 1-hexanesulfonic acid, 1-octanesulfonic acid, 1-dodecanesulfonic acid, 1-tetradecanesulfonic acid, 2-bromoethanesulfonic acid , Trifluoromethanesulfonic acid, ligninsulfonic acid, colistin methanesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 3-aminopropanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, ethylbenzenesulfonic acid , Propylbenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, hexylbenzenesulfonic acid, heptylbenzenesulfonic acid, octylbenzenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, pentadecylbenzenesulfonic acid, hexadeci Benzenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, 2,4-dimethylbenzenesulfonic acid, dipropylbenzenesulfonic acid, butylbenzenesulfonic acid, 4-aminobenzenesulfonic acid, p-chlorobenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, methylnaphthalenesulfonic acid, Or an organic sulfonic acid such as naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate;
Tetracyanoethylene (TCNE), tetracyanoethylene oxide, tetracyanobenzene, tetracyanoquinodimethane (TCNQ), fluorinated tetracyanoquinodimethane (F4-TCNQ), 2,3-dichloro-5,6-dicyano- electron-deficient organic compounds such as p-benzoquinone (DDQ), chloranil, or tetracyanoazanaphthalene; Lewis acids such as PF 5 , AsF 5 , SbF 5 , BF 3 , BCl 3 , BBr 3 , or SO 3 ; ,
Examples include, but are not limited to, transition metal compounds such as FeCl 3 , FeOCl, TiCl 4 , AlCl 3 , ZrCl 4 , HfCl 4 , TaCl 5 , MoCl 5 , WF 6 , or WCl 6 . Moreover, these can be used individually or in combination of 2 or more types.

さらに、アクセプター性ドーパントとして、ポリアニオンを挙げることができる。ポリアニオンとは、前述のカルボン酸やスルホン酸のユニットを有する高分子化合物の総称である。   Furthermore, a polyanion can be mentioned as an acceptor type dopant. The polyanion is a general term for polymer compounds having the aforementioned carboxylic acid and sulfonic acid units.

ポリアニオンの具体例としては、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、4−スルホブチルメタクリレート、メタリルオキシベンゼンスルホン酸、アリルオキシベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、α−メチルスチレンスルホン酸、若しくはアクリルアミド−t−ブチルスルホン酸などの単独重合体もしくは共重合体、又は、それらのナトリウム塩、若しくはカリウム塩等が挙げられる。これらの市販品としては、例えば日本合成化学工業(株)社製ゴーセランL−3288、同L−0301、若しくは同L−0302等が挙げられるが、これらに限定されない。またこれらは、単独で、もしくは2種類以上組み合わせて用いることができる。   Specific examples of polyanions include vinyl sulfonic acid, allyl sulfonic acid, methallyl sulfonic acid, 4-sulfobutyl methacrylate, methallyloxybenzene sulfonic acid, allyloxybenzene sulfonic acid, styrene sulfonic acid, α-methylstyrene sulfonic acid, Alternatively, a homopolymer or copolymer such as acrylamide-t-butylsulfonic acid, or a sodium salt or potassium salt thereof may be used. Examples of these commercially available products include, but are not limited to, Goseiran L-3288, L-0301, or L-0302 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Moreover, these can be used individually or in combination of 2 or more types.

本発明においては、ドーパント(B)として、スルホ基、または、そのアルカリ金属塩を有する化合物が好ましく用いられる。   In the present invention, a compound having a sulfo group or an alkali metal salt thereof is preferably used as the dopant (B).

スルホ基を有するドーパントは、水酸基を有する樹脂(B1)とスルトン(B2)を反応させることによっても得られる。このとき、水酸基を有する樹脂(B1)は、例えば、水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を重合する、あるいは、保護された水酸基を有するエチレン性不飽和単量体を重合した後、全部または一部を脱保護することにより得られる。また、重合時に前述のエチレン性不飽和単量体以外のエチレン性不飽和単量体と共重合してもよい。   A dopant having a sulfo group can also be obtained by reacting a hydroxyl group-containing resin (B1) and sultone (B2). At this time, the resin (B1) having a hydroxyl group is, for example, polymerized with an ethylenically unsaturated monomer having a hydroxyl group, or after polymerizing an ethylenically unsaturated monomer having a protected hydroxyl group, It is obtained by deprotecting a part. Moreover, you may copolymerize with ethylenically unsaturated monomers other than the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer at the time of superposition | polymerization.

水酸基を有するエチレン性不飽和単量体の具体例としては、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、エチル−α−(ヒドロキシメチル)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、1,4−シクロヘキサンジメタノールモノ(メタ)アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、若しくはp−ヒドロキシフェニルエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート類; 又は、
ビニルアルコール、1−ヒドロキシ−3−ブテン、1−ヒドロキシ−4−ペンテン、1−ヒドロキシ−5−ヘキセン、1−ヒドロキシ−7−オクテン、1−ヒドロキシ−9−デセン、若しくは1−ヒドロキシ−3−メチル−3−ブテンなどのヒドロキシル基含有オレフィン類が挙げられるがこれらに限定されない。
保護された水酸基を有するエチレン性不飽和単量体としては、前述の水酸基を有するエチレン性不飽和単量体中の水酸基を、アセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基、パラメトキシベンジル基、メトキシメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、又はトリチル基などで保護してなるエチレン性不飽和単量体等が挙げられるがこれらに限定されない。
水酸基を有するエチレン性不飽和単量体および保護された水酸基を有するエチレン性不飽和単量体以外の、共重合可能なエチレン性不飽和単量体の具体例としては、
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2,2,4−トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロぺンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロ−(5,2,1,0、2.6)−デカニル(メタ)アクリレート、若しくはトリシクロ−(5,2,1,0、2.6)−デカニルオキシエチル(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート類;
フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、若しくはロジンアクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート類;
(メタ)アクリル酸、アクリル酸ダイマー、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、α−(ヒドロキシメチル)アクリル酸、若しくはα−(ヒドロキシメチル)メタクリル酸等のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体;
グリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジエーテル、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3−メチル−3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3−エチル−3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、4−メチル−4,5−エポキシペンチル(メタ)アクリレート、5−メチル−5,6−エポキシヘキシル(メタ)アクリレート、α−エチルアクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、クロトニルグリシジルエール、(イソ)クロトン酸グリシジルエーテル、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、N−(3,5−ジメチル−4−グリシジル)ベンジルアクリルアミド、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α-メチル−m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、2,3−ジグリシジルオキシメチルスチレン、2,4−ジグリシジルオキシメチルスチレン、2,5−ジグリシジルオキシメチルスチレン、2,6−ジグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,4−トリグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,5−トリグリシジルオキシメチルスチレン、2,3,6−トリグリシジルオキシメチルスチレン、3,4,5−トリグリシジルオキシメチルスチレン、2,4,6−トリグリシジルオキシメチルスチレンなどが挙げられ、好ましくはグリシジル(メタ)アクリレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、オキセタン(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリール(メタ)アクリレート、(2−エチル−2−メチル−1,3−ジオキソラン−4−イル)メチル(メタ)アクリレート、1,4−ジオキサスピロ[4,5]デカー2−イル)メチル(メタ)アクリレート、2−メタクリロイルオキシ−γ−ブチロラクトン、3−メタクリロイルオキシ−γ−ブチロラクトン、若しくはN−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等の複素環式(メタ)アクリレート類;
メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、若しくはエトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のアルコキシポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート類;
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、イソブチル(メタ)アクリルアミド、t−ブチル(メタ)アクリルアミド、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、若しくはアクリロイルモルホリン等のN置換型(メタ)アクリルアミド類;
N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、若しくはN,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のアミノ基を有する(メタ)アクリレート類;
及び、(メタ)アクリロニトリル等のニトリル類; 又は、
片末端メタクリロイル化ポリメチルメタクリレートオリゴマー、片末端メタクリロイル化ポリスチレンオリゴマー、若しくは片末端メタクリロイル化ポリエチレングリコール等の重合性オリゴマー等があげられる。
As a specific example of an ethylenically unsaturated monomer having a hydroxyl group,
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, ethyl-α- (hydroxymethyl) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol mono (meth) acrylate, monohydroxyethyl (meth) acrylate phthalate, 2-hydroxy (Meth) acrylates such as -3-phenoxypropyl (meth) acrylate or p-hydroxyphenylethyl (meth) acrylate; or
Vinyl alcohol, 1-hydroxy-3-butene, 1-hydroxy-4-pentene, 1-hydroxy-5-hexene, 1-hydroxy-7-octene, 1-hydroxy-9-decene, or 1-hydroxy-3- Examples include, but are not limited to, hydroxyl group-containing olefins such as methyl-3-butene.
As the ethylenically unsaturated monomer having a protected hydroxyl group, the hydroxyl group in the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer having a hydroxyl group is an acetyl group, a benzoyl group, a benzyl group, a paramethoxybenzyl group, a methoxymethyl group. , Triethylsilyl group, triethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, or an ethylenically unsaturated monomer protected with a trityl group, and the like, but is not limited thereto.
As specific examples of the copolymerizable ethylenically unsaturated monomer other than the ethylenically unsaturated monomer having a hydroxyl group and the ethylenically unsaturated monomer having a protected hydroxyl group,
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2- Ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2,2,4-trimethylcyclohexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, di Cyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclo- (5,2,1,0,2.6) -decanyl (meth) acrylate, or tricyclo- (5, 2,1,0,2.6) -aliphatic (meth) acrylates such as decanyloxyethyl (meth) acrylate;
Aromatic (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, or rosin acrylate;
(Meth) acrylic acid, acrylic acid dimer, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, α- (hydroxymethyl) acrylic acid or α- (hydroxymethyl) methacrylic acid and other ethylenic unsaturated Monomer;
Glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 3-methyl-3,4-epoxybutyl (meth) acrylate , 3-ethyl-3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 4-methyl-4,5-epoxypentyl (meth) acrylate, 5-methyl-5,6-epoxyhexyl (meth) acrylate, α-ethylacryl Acid glycidyl, allyl glycidyl ether, crotonyl glycidyl ale, (iso) crotonic acid glycidyl ether, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, N- (3,5-dimethyl-4-glycidyl) benzylacrylamide, o-Vinylbenzylglyce Jyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether, α-methyl-o-vinyl benzyl glycidyl ether, α-methyl-m-vinyl benzyl glycidyl ether, α-methyl-p-vinyl benzyl glycidyl ether, 2,3-diglycidyloxymethylstyrene, 2,4-diglycidyloxymethylstyrene, 2,5-diglycidyloxymethylstyrene, 2,6-diglycidyloxymethylstyrene, 2,3,4-triglycidyloxymethyl Styrene, 2,3,5-triglycidyloxymethylstyrene, 2,3,6-triglycidyloxymethylstyrene, 3,4,5-triglycidyloxymethylstyrene, 2,4,6-triglycidyloxymethylstyrene, etc. Is preferred Is glycidyl (meth) acrylate, methyl glycidyl (meth) acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, oxetane (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, (2-ethyl-2- Methyl-1,3-dioxolan-4-yl) methyl (meth) acrylate, 1,4-dioxaspiro [4,5] deca-2-yl) methyl (meth) acrylate, 2-methacryloyloxy-γ-butyrolactone, 3- Heterocyclic (meth) acrylates such as methacryloyloxy-γ-butyrolactone or N- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide;
Alkoxypolyalkylene glycol (meth) acrylates such as methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate or ethoxypolyethylene glycol (meth) acrylate;
(Meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, isobutyl (meth) acrylamide, t-butyl N-substituted (meth) acrylamides such as (meth) acrylamide, t-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, or acryloylmorpholine;
(Meth) acrylates having an amino group such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate or N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate;
And nitriles such as (meth) acrylonitrile; or
Examples thereof include polymerizable oligomers such as one-end methacryloylated polymethyl methacrylate oligomer, one-end methacryloylated polystyrene oligomer, or one-end methacryloylated polyethylene glycol.

また、さらには、
エチレン、プロピレン、1−ブテン、イソブテン、若しくは1−ヘキセンなどのα−オレフィン類;
スチレン、α−メチルスチレン、p−ヒドロキシスチレン、p−ビニル安息香酸、クロロメチルスチレン、ビニルトルエン、若しくはインデン等のスチレン類;
エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、若しくはイソブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類; 又は、
N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、若しくはN−フェニルマレイミド等のN置換マレイミド類があげられる。
In addition,
Α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, isobutene, or 1-hexene;
Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-vinylbenzoic acid, chloromethylstyrene, vinyltoluene, or indene;
Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, or isobutyl vinyl ether;
Examples thereof include N-substituted maleimides such as N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, and N-phenylmaleimide.

水酸基を有するエチレン性不飽和単量体の重合、あるいは保護された水酸基を有するエチレン性不飽和単量体の重合は、公知の方法で行うことができる。すなわち、エチレン性不飽和単量体を任意で重合開始剤と混合して加熱することで行うことができる。重合温度は、40〜150℃、好ましくは50〜120℃である。   Polymerization of an ethylenically unsaturated monomer having a hydroxyl group or polymerization of an ethylenically unsaturated monomer having a protected hydroxyl group can be carried out by a known method. That is, it can be carried out by optionally mixing an ethylenically unsaturated monomer with a polymerization initiator and heating. The polymerization temperature is 40 to 150 ° C, preferably 50 to 120 ° C.

重合の際、エチレン性不飽和単量体100重量部に対して、任意に0.001〜15重量部の重合開始剤を使用することができる。重合開始剤としては、アゾ系化合物、又は有機過酸化物を用いることができる。
アゾ系化合物の例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチル−4−メトキシバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリック酸)、2,2’−アゾビス(2−ヒドロキシメチルプロピオニトリル)、又は2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]等が挙げられる。
有機過酸化物の例としては、過酸化ベンゾイル、t−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ(2−エトキシエチル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシビバレート、(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、又はジアセチルパーオキシド等が挙げられる。
これらの重合開始剤は、単独で、もしくは2種類以上組み合わせて用いることができる。
In the polymerization, 0.001 to 15 parts by weight of a polymerization initiator can be arbitrarily used with respect to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated monomer. As the polymerization initiator, an azo compound or an organic peroxide can be used.
Examples of the azo compounds include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexane 1-carbonitrile), 2 , 2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile), dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate) 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2′-azobis (2-hydroxymethylpropionitrile), or 2,2′-azobis [2- (2-imidazolin-2-yl ) Propane] and the like.
Examples of organic peroxides include benzoyl peroxide, t-butyl perbenzoate, cumene hydroperoxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di (2-ethoxyethyl) peroxy Examples include dicarbonate, t-butyl peroxyneodecanoate, t-butyl peroxybivalate, (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dipropionyl peroxide, or diacetyl peroxide.
These polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

重合の際、分子量を調整する目的で連鎖移動剤を用いてもよい。エチレン性不飽和単量体100重量部に対して、任意に0.001〜15重量部の連鎖移動剤を使用することができる。   During the polymerization, a chain transfer agent may be used for the purpose of adjusting the molecular weight. 0.001 to 15 parts by weight of a chain transfer agent can be arbitrarily used with respect to 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated monomer.

連鎖移動剤としては、分子量の調節ができる化合物であれば特に制限されず、公知の連鎖移動剤が使用できる。
例えば、
オクチルメルカプタン,n−ドデシルメルカプタン,t−ドデシルメルカプタン,n−ヘキサデシルメルカプタン,n−テトラデシルメルカプタン、メルカプトエタノール、チオグリセロール、チオグリコール酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、チオリンゴ酸、チオグリコール酸オクチル、3−メルカプトプロピオン酸オクチル、2−メルカプトエタンスルホン酸、若しくはブチルチオグリコレートなどのメルカプタン;
ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジエチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサンチゲンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、若しくはテトラブチルチウラムジスルフィドなどのジスルフィド;
四塩化炭素,塩化メチレン、ブロモホルム、ブロモトリクロロエタン、四臭化炭素,若しくは臭化エチレンなどのハロゲン化炭化水素;
イソプロパノール、若しくはグリセリン等の第2級アルコール;
亜リン酸、次亜リン酸、およびその塩(次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウム等)や、亜硫酸、亜硫酸水素、亜二チオン酸、メタ重亜硫酸、若しくはそれらの塩(亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜二チオン酸ナトリウム、亜二チオン酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム等)等の低級酸化物およびその塩; 又は
アリルアルコール、2−エチルヘキシルチオグリコレート、α−メチルスチレンダイマー、ターピノーレン、α−テルピネン、γ−テルピネン、ジペンテン、又はアニソールなどを挙げることができる。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用いられる。
The chain transfer agent is not particularly limited as long as it is a compound capable of adjusting the molecular weight, and a known chain transfer agent can be used.
For example,
Octyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, t-dodecyl mercaptan, n-hexadecyl mercaptan, n-tetradecyl mercaptan, mercaptoethanol, thioglycerol, thioglycolic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, thiomalic acid, Mercaptans such as octyl thioglycolate, octyl 3-mercaptopropionate, 2-mercaptoethanesulfonic acid, or butylthioglycolate;
Disulfides such as dimethylxanthogen disulfide, diethylxanthogen disulfide, diisopropylxanthogen disulfide, tetramethylthiuram disulfide, tetraethylthiuram disulfide, or tetrabutylthiuram disulfide;
Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, methylene chloride, bromoform, bromotrichloroethane, carbon tetrabromide, or ethylene bromide;
Secondary alcohols such as isopropanol or glycerin;
Phosphorous acid, hypophosphorous acid, and salts thereof (sodium hypophosphite, potassium hypophosphite, etc.), sulfurous acid, hydrogen sulfite, dithionite, metabisulfite, or salts thereof (sodium hydrogen sulfite) , Potassium oxide bisulfite, sodium dithionite, potassium dithionite, sodium metabisulfite, potassium metabisulfite, etc.) and the like; or allyl alcohol, 2-ethylhexyl thioglycolate, α- Examples thereof include methylstyrene dimer, terpinolene, α-terpinene, γ-terpinene, dipentene, and anisole. These may be used alone or in combination of two or more.

また、重合の際、重合溶媒として有機溶剤を使用することができる。有機溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、又はジエトキシジエチレングリコール等が用いられるが特にこれらに限定されるものではない。これらの重合溶媒は、2種類以上混合して用いても良いが、最終用途で使用する溶剤であることが好ましい。   In the polymerization, an organic solvent can be used as a polymerization solvent. Examples of the organic solvent include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, toluene, xylene, acetone, hexane, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, or diethoxydiethylene glycol, but are not particularly limited thereto. It is not something. These polymerization solvents may be used as a mixture of two or more kinds, but are preferably used for final use.

スルトン(B2)の具体例としては、プロパンスルトン、ブタンスルトン、ペンタンスルトン、又は1,8−ナフタレンスルトン等が挙げられるがこれらに限定されない。   Specific examples of sultone (B2) include, but are not limited to, propane sultone, butane sultone, pentane sultone, 1,8-naphthalene sultone, and the like.

次に、化合物(C)について説明する。化合物(C)は、導電性高分子(A)とドーパント(B)との総量100重量部に対し、1から100重量部含むことが好ましい。1重量部より少ない場合は、その塗工膜にハジキが生じ、均質な塗膜を得ることが出来ない。また、100重量部より多い場合は、塗膜の可とう性が損なわれるだけでなく、導電性も低下する。   Next, the compound (C) will be described. The compound (C) preferably contains 1 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the conductive polymer (A) and the dopant (B). When the amount is less than 1 part by weight, the coating film is repelled and a uniform coating film cannot be obtained. Moreover, when more than 100 weight part, not only the flexibility of a coating film is impaired but electroconductivity also falls.

化合物(C)の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシラン、又はテトラエトキシシラン等が挙げられるがこれらに限定されない。またこれらは、単独で、もしくは2種類以上組み合わせて用いることができる。   Specific examples of the compound (C) include methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, benzyltrimethoxysilane, Tetramethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltriethoxysilane, isopropyltriethoxysilane, butyltriethoxysilane, hexyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, benzyltriethoxysilane, or tetraethoxysilane Although it is mentioned, it is not limited to these. Moreover, these can be used individually or in combination of 2 or more types.

本発明の導電性組成物は、化合物(C)以外のシラン化合物を含んでいても良い。例えば、
ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルトリエトキシシラン、若しくはビニルトリメトキシシラン等のビニルシラン類;
γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、若しくはγ−(メタ)アクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン等の(メタ)アクリロキシシラン類;
β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、若しくはγ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類;
N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジエトキシシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、若しくはN−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシラン類;又は、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、若しくはγ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のチオシラン類;等が挙げられる。
The conductive composition of the present invention may contain a silane compound other than the compound (C). For example,
Vinylsilanes such as vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, vinyltriethoxysilane, or vinyltrimethoxysilane;
(meth) acryloxysilanes such as γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, or γ- (meth) acryloxypropyldimethoxymethylsilane;
β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3, 4-epoxycyclohexyl) epoxysilanes such as methyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, or γ-glycidoxypropyltriethoxysilane;
N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-amino Aminosilanes such as propyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, or N-phenyl-γ-aminopropyltriethoxysilane; or
and thiosilanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane or γ-mercaptopropyltriethoxysilane;

本発明の導電性組成物は、それの塗膜を形成するなどの目的に応じて溶剤を含んでいてもよい。このとき用いられる溶剤は、本発明の導電性組成物を溶解または分散させることができる溶媒であれば特に限定されることはないが、水; メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、若しくは3−ヘプタノン等のケトン類; エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、若しくはプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類; エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、若しくはトリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類; 酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸エチル、酪酸イソプロピル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、若しくは2−オキソブタン酸エチル等のエステル類; トルエン、若しくはキシレン等の芳香族炭化水素類; 又は、N−メチルピロリドン、若しくはN,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等を挙げることができる。これらの溶剤は単独あるいは2種以上を適宜混合して用いることが可能である。   The conductive composition of the present invention may contain a solvent depending on the purpose such as forming a coating film thereof. The solvent used at this time is not particularly limited as long as it is a solvent that can dissolve or disperse the conductive composition of the present invention, but water; methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, etc. (Poly) alkylene glycol monoalkyl such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, or propylene glycol monoethyl ether acetate Ether acetates; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene Glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene Glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono -N-propyl ether, dipropylene glycol (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethyl mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, or tripropylene glycol monoethyl ether; ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, propion Butyl acid, ethyl butyrate, isopropyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, Methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropyl Ethyl pionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, 2-ethoxypropion Acid methyl, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, 2-methoxy-2-methyl Esters such as ethyl propionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate or ethyl 2-oxobutanoate; aromatic carbonization such as toluene or xylene Hydrogens; or - methylpyrrolidone, or N, and the like can be given amides such as N- dimethylacetamide. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.

次に、調製した導電性組成物を用いて導電膜を形成する方法について説明する。導電膜の形成には、主に湿式成膜法が用いられる。具体的には、スピンコート法、スプレー法、ローラーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、コンマコート法、ロールコート法、カーテンコート法、又はバーコート法等各種の手段を用いた方法がある。それらの方法は、塗布する厚み、粘度等に応じて適宜利用できる。   Next, a method for forming a conductive film using the prepared conductive composition will be described. A wet film forming method is mainly used for forming the conductive film. Specifically, there are methods using various means such as spin coating, spraying, roller coating, gravure coating, die coating, comma coating, roll coating, curtain coating, or bar coating. These methods can be appropriately used depending on the thickness, viscosity, and the like to be applied.

また、本発明の導電性組成物を成膜する際の基材として、ポリエチレン、ポリエチレンテレフテレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリプロピレン、ポリイミド、ボリカーボネート、若しくはセルローストリアセテートなどのプラスチックフィルム、又は、ガラスなどを用いることができる。
基材上に、本発明の導電性組成物を用いて導電膜を形成することにより、積層体を得ることができる。
In addition, as a base material for forming the conductive composition of the present invention, a plastic film such as polyethylene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, polypropylene, polyimide, polycarbonate, or cellulose triacetate, Alternatively, glass or the like can be used.
A laminated body can be obtained by forming a conductive film on a substrate using the conductive composition of the present invention.

一般に、これら基材と導電膜との密着性を向上させる目的で、基材表面に様々な処理を行うことができる。具体的には、UVオゾン処理、コロナ処理、プラズマ処理、易接着処理などを挙げることができる。   In general, various treatments can be performed on the surface of the base material for the purpose of improving the adhesion between the base material and the conductive film. Specific examples include UV ozone treatment, corona treatment, plasma treatment, and easy adhesion treatment.

以下、実施例により、本発明をより具体的に説明する。なお、例中、「部」とあるのは「重量部」を、「%」とあるのは「重量%」をそれぞれ意味するものとする。また、「Mn」は、数平均分子量を表す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. In the examples, “parts” means “parts by weight”, and “%” means “% by weight”. “Mn” represents a number average molecular weight.

[合成例1]
100mLの脱イオン水中に、0.56gの3,4−エチレンジオキシチオフェン、2gのポリスチレンスルホン酸(Mn40,000)、0.27gの過硫酸アンモニウムおよび2.5mgの硫酸鉄(III)を加え、室温にて24時間攪拌することにより、樹脂(1)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 1]
In 100 mL deionized water, add 0.56 g 3,4-ethylenedioxythiophene, 2 g polystyrene sulfonic acid (Mn 40,000), 0.27 g ammonium persulfate and 2.5 mg iron (III) sulfate, By stirring at room temperature for 24 hours, an aqueous dispersion of resin (1) was obtained (solid content: 2.8%).

[合成例2]
ポリスチレンスルホン酸の代わりに、ドデシルベンゼンスルホン酸を用いた以外は、合成例1と同様にして樹脂(2)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 2]
An aqueous dispersion of resin (2) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that dodecylbenzenesulfonic acid was used instead of polystyrenesulfonic acid (solid content: 2.8%).

[合成例3]
3,4−エチレンジオキシチオフェンの代わりに、ピロールを用いた以外は、合成例1と同様にして樹脂(3)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 3]
An aqueous dispersion of resin (3) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that pyrrole was used instead of 3,4-ethylenedioxythiophene (solid content 2.8%).

[合成例4]
ポリスチレンスルホン酸の代わりに、p−トルエンスルホン酸ナトリウムを用いた以外は、合成例3と同様にして樹脂(4)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 4]
An aqueous dispersion of resin (4) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 3 except that sodium p-toluenesulfonate was used instead of polystyrenesulfonic acid (solid content: 2.8%).

[合成例5]
3,4−エチレンジオキシチオフェンの代わりに、アニリンを用いた以外は、合成例2と同様にして樹脂(5)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 5]
An aqueous dispersion of resin (5) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 2 except that aniline was used instead of 3,4-ethylenedioxythiophene (solid content 2.8%).

[合成例6]
ドデシルベンゼンスルホン酸の代わりに、AOT(ナトリウム ビス(2−エチルヘキシル)スルホサクシネート)を用いた以外は、合成例5と同様にして樹脂(6)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 6]
An aqueous dispersion of resin (6) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 5 except that AOT (sodium bis (2-ethylhexyl) sulfosuccinate) was used instead of dodecylbenzenesulfonic acid (solid content 2. 8%).

[合成例7]
ポリビニルアルコール(クラレ社製、PVA102)10gをジメチルスルホキシド200gに溶解させた。室温にて、プロパンスルトン10gを添加し、さらに24時間攪拌した。その後、500gのメタノール中へ加え沈殿物をろ取することにより、ドーパント(7)を白色固体として得た。
ポリスチレンスルホン酸の代わりに、ドーパント(7)を用いた以外は、合成例1と同様にして樹脂(7)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 7]
10 g of polyvinyl alcohol (PVA102 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was dissolved in 200 g of dimethyl sulfoxide. At room temperature, 10 g of propane sultone was added and further stirred for 24 hours. Then, the dopant (7) was obtained as a white solid by adding to 500 g of methanol and collecting the precipitate by filtration.
An aqueous dispersion of resin (7) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1 except that dopant (7) was used instead of polystyrene sulfonic acid (solid content: 2.8%).

[合成例8]
ポリビニルアルコール(クラレ社製、PVA102)の代わりに、ポリビニルアルコール(クラレ社製、PVA120)を用いた以外は、合成例7と同様にして樹脂(8)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 8]
An aqueous dispersion of resin (8) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 7 except that polyvinyl alcohol (Pura120, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was used instead of polyvinyl alcohol (PVA102, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) (solid content 2 .8%).

[合成例9]
ガス導入管、コンデンサー、攪拌翼、および温度計を備え付けた反応槽に、水200部と、2−ヒドロキシエチルアクリルアミド20部および2−メルカプトエタノール0.1部とを仕込み60℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、過硫酸アンモニウム0.05部を添加し、その後3時間、同じ温度で攪拌を続け、重合した。室温に冷却後、水を除去することによりポリ(2−ヒドロキシエチルアクリルアミド)を得た。
ポリビニルアルコール(クラレ社製、PVA102)の代わりに、ポリ(2−ヒドロキシエチルアクリルアミド)を用いた以外は、合成例7と同様にして樹脂(9)の水分散液を得た(固形分2.8%)。
[Synthesis Example 9]
A reaction vessel equipped with a gas introduction tube, a condenser, a stirring blade, and a thermometer was charged with 200 parts of water, 20 parts of 2-hydroxyethylacrylamide and 0.1 part of 2-mercaptoethanol, and the temperature was raised to 60 ° C. After replacing the inside of the reaction vessel with nitrogen, 0.05 part of ammonium persulfate was added, and then the polymerization was continued for 3 hours at the same temperature for polymerization. After cooling to room temperature, water was removed to obtain poly (2-hydroxyethylacrylamide).
An aqueous dispersion of resin (9) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 7 except that poly (2-hydroxyethylacrylamide) was used instead of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., PVA102) (solid content 2. 8%).

[実施例1]
表1に示す配合組成で、混合物を攪拌混合した後、バーコーター(#14)を用いて、未処理、または、易接着処理PET上に塗布した。80℃にて2分間乾燥させた後、全光線透過率、折り曲げ性試験、塗膜のハジキ、導電性の変化を測定した結果を表2に示す。
[Example 1]
After the mixture was stirred and mixed with the composition shown in Table 1, it was applied onto untreated or easy adhesion treated PET using a bar coater (# 14). Table 2 shows the results of measuring the total light transmittance, the bendability test, the repellency of the coating film, and the change in conductivity after drying at 80 ° C. for 2 minutes.

[実施例2]〜[実施例10]、[比較例1]〜[比較例4]
表1に示す配合組成で混合物を攪拌混合した後、実施例1と同様にして全光線透過率、折り曲げ性試験、塗膜のハジキ、導電性の変化を測定した結果を表2に示す。
[Example 2] to [Example 10], [Comparative Example 1] to [Comparative Example 4]
After stirring and mixing the mixture with the composition shown in Table 1, the results of measuring the total light transmittance, the bendability test, the repellency of the coating film, and the conductivity in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

Figure 0005423416
Figure 0005423416

PhSi(OEt): フェニルトリエトキシシラン
EtSi(OEt): エチルトリエトキシシラン
PhCHSi(OMe): ベンジルトリメトキシシラン
EtOSi(OEt): テトラエトキシシシラン
HexSi(OEt): n−ヘキシルトリエトキシシラン
MeOSi(OMe): テトラメトキシシラン
PrSi(OMe): n−プロピルトリメトキシシラン
MeSi(OMe): メチルトリメトキシシラン
17Si(OEt): n−オクチルトリエトキシシラン
PhSi (OEt) 3 : Phenyltriethoxysilane EtSi (OEt) 3 : Ethyltriethoxysilane PhCH 2 Si (OMe) 3 : Benzyltrimethoxysilane EtOSi (OEt) 3 : Tetraethoxysilane SiHexSi (OEt) 3 : n- hexyltriethoxysilane MeOSi (OMe) 3: tetramethoxysilane PrSi (OMe) 3: n- propyltrimethoxysilane MeSi (OMe) 3: methyltrimethoxysilane C 8 H 17 Si (OEt) 3: n- octyltriethoxysilane Silane

Figure 0005423416
Figure 0005423416

表中、「折り曲げ性試験」とは、基材と一緒に乾燥塗膜を180度折り曲げ、元の状態に戻す試験のことであり、○: ウキ、ハガレが見られない、 △: 一部ウキ、ハガレが見られる、×: 完全に剥れる と評価した。また、「塗膜のハジキ」とは、塗工乾燥後の塗膜を無作為に、10×10cmに切り出したときのハジキの数を示し、ハジキの数により◎: 0個、 ○: 1〜3個、 △: 4〜6個、×: 7個以上、または、全体的にはじいてしまい塗膜にならない と評価した。また、「導電性の変化」とは、化合物(C)を添加していない塗工膜の表面抵抗値を100としたときの、実施例における塗膜の表面抵抗値の相対値を示す。   In the table, the “foldability test” is a test in which the dried coating film is bent 180 degrees together with the base material to return it to the original state. ○: No excitement or peeling, △: Partial excitement , Peeled off, x: evaluated as completely peeled. The “coating repellency” means the number of cissings when the coated and dried coatings are randomly cut out to 10 × 10 cm. Depending on the number of cissings, ◎: 0, ○: 1 to Three, Δ: 4-6, x: 7 or more, or evaluated that it was totally repelled and did not form a coating film. Further, “change in conductivity” refers to the relative value of the surface resistance value of the coating film in the example when the surface resistance value of the coating film to which the compound (C) is not added is 100.

表2において、実施例1から10、および、比較例1の比較より、化合物(C)を用いたことにより、基材の折り曲げにも強く、ハジキを大幅に抑制することができ、透明性と導電性も兼ね備えた塗膜を提供することができる。   In Table 2, from the comparison of Examples 1 to 10 and Comparative Example 1, by using the compound (C), it was strong against bending of the base material, and repelling could be greatly suppressed. A coating film having electrical conductivity can also be provided.

比較例2では、化合物(C)の添加量が少な過ぎたため、実施例1と比較して、特に塗膜のハジキの数が多く観察された。   In Comparative Example 2, since the amount of the compound (C) added was too small, a larger number of repellency of the coating film was observed as compared with Example 1.

比較例3では、化合物(C)の添加量が多過ぎたため、実施例1と比較して、折り曲げ性も悪く、さらには、導電性も大幅に悪化する結果となった。また、この時の塗液は、1日後白色の沈殿が生じ、塗液の安定性も低いことが分かった。   In Comparative Example 3, since the amount of the compound (C) added was too large, the bending property was poor as compared with Example 1, and the conductivity was also greatly deteriorated. In addition, it was found that the coating liquid at this time produced a white precipitate after one day and the stability of the coating liquid was low.

比較例4では、化合物(C)の代わりに、炭素数8のアルキル基を有するシラン化合物を用いているが、実施例に比べて折り曲げ性、塗膜のハジキ、及び、導電性が悪化する結果となっている。   In Comparative Example 4, a silane compound having an alkyl group having 8 carbon atoms is used instead of the compound (C), but the bending property, the repellency of the coating film, and the conductivity are deteriorated as compared with the Example. It has become.

本発明に係る導電性組成物は、有機エレクトロルミネッセンス、太陽電池、タッチパネル、液晶パネル、電子ペーパー等への透明導電膜、及び、熱線反射ガラス、電磁波シールド、帯電防止膜として使用することができ、透明性、導電性、及び、可撓性に優れ、しかもプラスチック基材に塗布成膜することが可能であり、さらには均一な塗膜を形成することができる。   The conductive composition according to the present invention can be used as a transparent conductive film to organic electroluminescence, solar cells, touch panels, liquid crystal panels, electronic paper, etc., and heat ray reflective glass, electromagnetic wave shields, antistatic films, It is excellent in transparency, conductivity, and flexibility, and can be applied and formed on a plastic substrate. Furthermore, a uniform coating film can be formed.

Claims (7)

導電性高分子(A)、ドーパント(B)、及び、下記一般式[1]で表される化合物(C)を含み、導電性高分子(A)とドーパント(B)との総量100重量部に対し、下記一般式[1]で表される化合物(C)を1から100重量部含むことを特徴とする導電性組成物。
一般式[1]
1−Si(OR23
(式中、R1は、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、メトキシ基、または、エトキシ基を表し、R2は、メチル基、または、エチル基を表す。)
100 parts by weight of the total amount of the conductive polymer (A) and the dopant (B) including the conductive polymer (A), the dopant (B), and the compound (C) represented by the following general formula [1] In contrast, a conductive composition comprising 1 to 100 parts by weight of the compound (C) represented by the following general formula [1].
General formula [1]
R 1 —Si (OR 2 ) 3
(In the formula, R 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a benzyl group, a methoxy group, or an ethoxy group, and R 2 represents a methyl group or an ethyl group.)
導電性高分子(A)が、チオフェン、アニリン、ピロール、及びそれらの誘導体からなる群から選択された、少なくとも一つ単量体成分を重合してなるものであることを特徴とする請求項1記載の導電性組成物。 Conductive polymer (A) is, claims thiophene, aniline, pyrrole, and selected from the group consisting of their derivatives, characterized in that obtained by polymerizing at least one monomer component 1. The conductive composition according to 1. 導電性高分子(A)が、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)であることを特徴とする請求項1または2記載の導電性組成物。 The conductive composition according to claim 1 or 2, wherein the conductive polymer (A) is poly (3,4-ethylenedioxythiophene). ドーパント(B)が、スルホ基、または、そのアルカリ金属塩を有する化合物であることを特徴とする請求項1ないし3いずれか記載の導電性組成物。 The conductive composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the dopant (B) is a compound having a sulfo group or an alkali metal salt thereof. ドーパント(B)が、水酸基を有する樹脂(B1)と、スルトン(B2)との反応により得られることを特徴とする請求項1ないし4いずれか記載の導電性組成物。 The conductive composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein the dopant (B) is obtained by a reaction between a resin (B1) having a hydroxyl group and a sultone (B2). 請求項1ないし5いずれか記載の導電性組成物から形成されてなる導電膜。 A conductive film formed from the conductive composition according to claim 1. 基材と請求項6記載の導電膜とを有する積層体。
The laminated body which has a base material and the electrically conductive film of Claim 6.
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