JP5365055B2 - Molded body and molding method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molded body in which a molding base material composed of polyarylene sulfide resin composition and an orientation layer are integrated without using an adhesive. <P>SOLUTION: A molded film is a molded body in which a molding base material (A) made of the polyarylene sulfide resin composition and an orientation layer (B) composed essentially of the polyarylene sulfide resin composition are integrated without using an adhesive. On at least one side of a biaxial orientation polyphenylene sulfide film composed essentially of p-phenylene sulfide, the orientation layer (B) of a laminated biaxial orientation polyphenylene sulfide film in which a copolymerized polyphenylene sulfide layer having at least one or more copolymerized components other than the p-phenylene sulfide is laminated, is preliminarily shaped. Then, the orientation layer (B) is arranged in a metallic die and, on the side of the copolymerized polyphenylene sulfide layer of the orientation layer (B), the molding base material (A) made of resin composition composed essentially of polyarylene sulfide is integrated by injection molding. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、樹脂組成物からなる成形基材と配向層とが接着剤を介することなく一体化された成形体に関し、さらに詳しくは、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなる成形基材と、ポリアリーレンスルフィドを主成分とする樹脂組成物からなる配向層が接着剤を介することなく一体化されてなる成形体に関する。   The present invention relates to a molded body in which a molded substrate made of a resin composition and an alignment layer are integrated without using an adhesive, and more specifically, a molded substrate made of a polyarylene sulfide resin composition, and a polyarylene. The present invention relates to a molded body in which an alignment layer composed of a resin composition containing sulfide as a main component is integrated without an adhesive.

従来、ポリフェニレンスルフィド(以下、PPSと略称することがある。)は、優れた耐熱性、難燃性、剛性、耐薬品性、電気絶縁性および低吸湿性などの性質を有しており、特に電気・電子機器、機械部品および自動車部品などに好適に使用されている。例えば、(1)ポリフェニレンスルフィドの樹脂組成物が開示されている(特許文献1)。また、(2)ポリフェニレンスルフィドの二軸配向フィルムが開示されている(特許文献2)。PPSは射出成形等の溶融成形法により種々の形状に成形することが可能であるが、強度を保つには肉厚を厚くする必要があった。一方、ポリフェニレンスルフィドは、二軸配向することにより靭性、強度が向上でき、肉厚を低減することができるが、膜厚が一定であり、かつ、その厚みの上限があるため、複雑な形状の加工に関して制限があった。そして、両者の利点を生かして、二軸配向PPSフィルムと、PPS基材とを熱融着しようとするとき、フィルムの外観(平滑性)や、機械物性(靭性、強度)を保つと熱不足で十分な接着強度が得られず、一方、熱融着できるまで十分加熱すると、フィルムの特性や外観を損なう場合があった。   Conventionally, polyphenylene sulfide (hereinafter sometimes abbreviated as PPS) has excellent properties such as heat resistance, flame retardancy, rigidity, chemical resistance, electrical insulation and low hygroscopicity. It is suitably used for electrical / electronic equipment, machine parts, automobile parts and the like. For example, (1) a resin composition of polyphenylene sulfide is disclosed (Patent Document 1). Further, (2) a polyphenylene sulfide biaxially oriented film is disclosed (Patent Document 2). PPS can be molded into various shapes by a melt molding method such as injection molding, but it has been necessary to increase the thickness in order to maintain strength. Polyphenylene sulfide, on the other hand, can improve toughness and strength by being biaxially oriented, and can reduce wall thickness. However, since the film thickness is constant and there is an upper limit for the thickness, it has a complicated shape. There were restrictions on processing. And, taking advantage of both, when trying to heat-seal a biaxially oriented PPS film and a PPS base material, heat is insufficient if the appearance (smoothness) of the film and mechanical properties (toughness, strength) are maintained. However, sufficient adhesive strength cannot be obtained. On the other hand, if the film is sufficiently heated until it can be heat-sealed, the properties and appearance of the film may be impaired.

従来、接着性を向上する方法としては、(3)コロナ処理を行うことが開示されているが(特許文献3)、未処理に比べて若干の向上は認められるもののほとんど改良は認められなかった。さらに、(4)接着剤を塗布することも提案されているが(特許文献4)、接着剤が耐熱性や耐加水分解性に劣る場合、例えば、コンプレッサーモータ絶縁材などでは使用できない場合があった。また、オイル中や、溶剤中に浸漬する用途など、接着剤が使用できない場合があり用途が制限されていた。
特開2007−246883号公報 特開昭54-142275号公報 特開平2−228333号公報 特開昭62-292431号公報
Conventionally, as a method for improving the adhesiveness, (3) corona treatment has been disclosed (Patent Document 3), but a slight improvement was observed compared to untreated, but almost no improvement was observed. . Furthermore, although it has also been proposed to apply (4) an adhesive (Patent Document 4), when the adhesive is inferior in heat resistance and hydrolysis resistance, for example, it may not be used with a compressor motor insulating material or the like. It was. In addition, there are cases where the adhesive cannot be used, such as the use in oil or in a solvent, and the use has been limited.
JP 2007-246883 A JP 54-142275 A JP-A-2-228333 JP 62-292431 A

ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなる成形基材と配向層とが接着剤を用いることなく一体化させた成形体、およびその成形方法を提供することを目的とするものである。   It is an object of the present invention to provide a molded body in which a molding substrate made of a polyarylene sulfide resin composition and an alignment layer are integrated without using an adhesive, and a molding method thereof.

本発明の成形フィルムは、脱イオン処理を施されたポリアリーレンスルフィドを含有する樹脂組成物からなる成形基材(A)と、p−フェニレンスルフィドを主成分とする樹脂組成物からなる配向層(B)からなる成形体であり、配向層(B)がp−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)の少なくとも片側に、p−フェニレンスルフィド以外の少なくとも1種以上の共重合成分を有する共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)が積層され、破断伸度が100%以上、150%以下で、配向層(B)のレーザーラマン分光により得られる配向パラメータが2.0〜8.0である積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムからなり、成形基材(A)と配向層(B)とが接着剤を介することなくインサート成形法により一体化されてなることを特徴とする成形体である。また、p−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)の少なくとも片側に、p−フェニレンスルフィド以外の少なくとも1種以上の共重合成分を有する共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)が積層された破断伸度が100%以上、150%以下で、配向層(B)のレーザーラマン分光により得られる配向パラメータが2.0〜8.0である積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムである配向層(B)をあらかじめ賦形したのち金型に配置し、配向層(B)の共重合ポリフェニレンスルフィド層側にポリアリーレンスルフィドを含有する樹脂組成物からなる成形基材(A)を射出成形して一体化するインサート成形方法である。
The molded film of the present invention comprises a molded substrate (A) comprising a resin composition containing polyarylene sulfide subjected to deionization treatment, and an orientation layer comprising a resin composition comprising p-phenylene sulfide as a main component ( B), and the alignment layer (B) has at least one type other than p-phenylene sulfide on at least one side of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) whose main component is p-phenylene sulfide. A copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2) having a copolymer component is laminated, the elongation at break is 100% or more and 150% or less, and the orientation parameter obtained by laser Raman spectroscopy of the orientation layer (B) is 2.0 to 8. consists .0 a is laminated biaxially oriented polyphenylene sulfide film, via an adhesive molding substrate (a) and an orientation layer (B) is A molded body characterized by comprising integrated by Rukoto without insert molding method. Further, a copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2) having at least one copolymer component other than p-phenylene sulfide on at least one side of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) mainly composed of p-phenylene sulfide. Is a laminated biaxially oriented polyphenylene sulfide film in which the elongation at break is 100% or more and 150% or less, and the orientation parameter obtained by laser Raman spectroscopy of the orientation layer (B) is 2.0 to 8.0. An alignment layer (B) is shaped in advance and then placed in a mold, and a molding substrate (A) made of a resin composition containing polyarylene sulfide on the copolymerized polyphenylene sulfide layer side of the alignment layer (B) is injection molded. It is an insert molding method that integrates.


本発明によれば、以下に説明するとおり、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなる成形基材と、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物を主成分とする配向層が接着剤を介することなく一体化された成形体を得ることができる。

According to the present invention, as will be described below, a molding substrate made of a polyarylene sulfide resin composition and a molding in which an alignment layer containing the polyarylene sulfide resin composition as a main component is integrated without an adhesive. You can get a body.

本発明の成形体は、電気絶縁用、回路基板用、一般工業用等に幅広く用いることが可能であり、特に電気絶縁用として用いるとその効果が一層顕著に発現する。   The molded product of the present invention can be widely used for electrical insulation, circuit boards, general industrial use, and the like, and the effect is more prominent when used especially for electrical insulation.

本発明の成形基材(A)および配向層(B)を構成するポリアリーレンスルフィドは、−(Ar−S)−の繰り返し単位を有するホモポリマーあるいはコポリマーである。Arとしては下記の式(A)〜式(K)などで表される構成単位などが挙げられる。   The polyarylene sulfide constituting the molding substrate (A) and the alignment layer (B) of the present invention is a homopolymer or copolymer having a repeating unit of-(Ar-S)-. Ar includes structural units represented by the following formulas (A) to (K).

Figure 0005365055
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(R1,R2は、水素、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基から選ばれた置換基であり、R1とR2は同一でも異なっていてもよい。)
本発明で用いるポリアリーレンスルフィドの繰り返し単位としては、上記の式(A)で表される構造式が好ましく、これらの代表的なものとして、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンスルフィドスルホン、ポリフェニレンスルフィドケトン、これらのランダム共重合体、ブロック共重合体及びそれらの混合物などが挙げられる。特に好ましいポリアリーレンスルフィドとしては、耐熱性と経済性の観点から、ポリフェニレンスルフィド(PPS)が好ましく例示される。本発明の成形基材(A)を構成する樹脂組成物に用いるポリアリーレンスルフィドとしては、ポリマーの主要構成単位として下記構造式で示されるp−フェニレンスルフィド単位を好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上含むPPS樹脂であることが好ましい。かかるp−フェニレンスルフィド単位が80モル%未満では、ポリマーの結晶性やガラス転移温度などが低く、PPSの特徴である耐熱性、寸法安定性、機械特性および誘電特性などを損なうことがある。
(R1 and R2 are substituents selected from hydrogen, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen group, and R1 and R2 may be the same or different.)
As the repeating unit of polyarylene sulfide used in the present invention, the structural formula represented by the above formula (A) is preferable, and representative examples thereof include polyphenylene sulfide, polyphenylene sulfide sulfone, polyphenylene sulfide ketone, and random thereof. Examples thereof include copolymers, block copolymers, and mixtures thereof. Particularly preferred polyarylene sulfide is preferably polyphenylene sulfide (PPS) from the viewpoint of heat resistance and economy. The polyarylene sulfide used in the resin composition constituting the molded substrate (A) of the present invention is preferably a p-phenylene sulfide unit represented by the following structural formula as the main structural unit of the polymer, more preferably 80 mol% or more. Is preferably a PPS resin containing 90 mol% or more. When the p-phenylene sulfide unit is less than 80 mol%, the crystallinity and glass transition temperature of the polymer are low, and the heat resistance, dimensional stability, mechanical properties, dielectric properties, etc., which are the characteristics of PPS, may be impaired.

Figure 0005365055
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本発明の配向層(B)は、p−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムであることが好ましい。
さらに配向層(B)がp−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)の少なくとも片側に、p−フェニレンスルフィド以外の少なくとも1種以上の共重合成分を有する共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)が積層された積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムであることが好ましい。p−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムあるいは積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを構成する配向層(B1)のPPS樹脂は、上記PPS樹脂中繰り返し単位の8モル%未満、好ましくは5モル%未満であれば、共重合可能な他のスルフィド結合を含有する単位が含まれていても差し支えない。また、積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを構成する共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)においては、上記PPS樹脂中繰り返し単位の8モル%以上、20モル%以下であれば、共重合可能な他のスルフィド結合を含有する単位が含まれていても差し支えない。共重合可能なスルフィド結合を含有する単位としては、例えば、3官能単位、エーテル単位、スルホン単位、ケトン単位、メタ結合単位、アルキル基などの置換基を有するアリール単位、ビフェニル単位、ターフェニレン単位、ビニレン単位およびカーボネート単位などが例として挙げられる。これらのうち一つまたは二つ以上共存させて構成することができる。この場合、該構成単位は、ランダム型またはブロック型のいずれの共重合方法であってもよい。
The alignment layer (B) of the present invention is preferably a biaxially oriented polyarylene sulfide film containing p-phenylene sulfide as a main component.
The alignment layer (B) further has at least one copolymer component other than p-phenylene sulfide on at least one side of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) containing p-phenylene sulfide as a main component. A laminated biaxially oriented polyphenylene sulfide film in which the sulfide layer (B2) is laminated is preferred. The PPS resin of the alignment layer (B1) constituting the biaxially oriented polyphenylene sulfide film containing p-phenylene sulfide as a main component or the laminated biaxially oriented polyphenylene sulfide film is less than 8 mol% of the repeating unit in the PPS resin, preferably If it is less than 5 mol%, it does not matter even if units containing other sulfide bonds capable of copolymerization are contained. Further, in the copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2) constituting the laminated biaxially oriented polyphenylene sulfide film, other sulfides that can be copolymerized are used as long as they are 8 mol% or more and 20 mol% or less of the repeating units in the PPS resin. Units containing bonds may be included. Examples of units containing a copolymerizable sulfide bond include trifunctional units, ether units, sulfone units, ketone units, meta bond units, aryl units having substituents such as alkyl groups, biphenyl units, terphenylene units, Examples include vinylene units and carbonate units. One or more of these can coexist. In this case, the structural unit may be either a random type or a block type copolymerization method.

PPS樹脂の溶融粘度は、溶融混練が可能であれば特に限定されないが、温度315℃で剪断速度1,000(1/sec)のもとで、100〜2000Pa・sの範囲であることが好ましく、さらに好ましくは200〜1,000Pa・sの範囲である。   The melt viscosity of the PPS resin is not particularly limited as long as melt kneading is possible, but it is preferably in the range of 100 to 2000 Pa · s at a temperature of 315 ° C. and a shear rate of 1,000 (1 / sec). More preferably, it is in the range of 200 to 1,000 Pa · s.

上記で得られたPPS樹脂を、空気中加熱による架橋/高分子量化、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下での熱処理、有機溶媒、熱水および酸水溶液などによる洗浄、酸無水物、アミン、イソシアネートおよび官能基ジスルフィド化合物などの官能基含有化合物による活性化など、種々の処理を施した上で使用することも可能である。   The PPS resin obtained above is subjected to crosslinking / polymerization by heating in air, heat treatment under an inert gas atmosphere such as nitrogen or reduced pressure, washing with an organic solvent, hot water and an aqueous acid solution, an acid anhydride, It can also be used after various treatments such as activation with functional group-containing compounds such as amines, isocyanates and functional group disulfide compounds.

次に、PPS樹脂の製造法を例示するが、本発明では特にこれに限定されない。例えば、硫化ナトリウムとp−ジクロロベンゼンをN-メチル-2ーピロリドン(NMP)などのアミド系極性溶媒中で、高温高圧下で反応させる。必要に応じて、トリハロベンゼンなどの共重合成分を含ませることも可能である。重合度調整剤として苛性カリやカルボン酸アルカリ金属塩などを添加し230〜280℃で重合反応させる。重合後にポリマーを冷却し、ポリマーを水スラリーとしてフィルターで濾過後、粒状ポリマーを得る。これを酢酸塩などの水溶液中で30〜100℃、10〜60分攪拌処理し、イオン交換水にて30〜80℃で数回洗浄、乾燥してPPS粉末を得る。この粉末ポリマーを酸素分圧10トール以下、好ましくは5トール以下でNMPにて洗浄後、30〜80℃のイオン交換水で数回洗浄し、5トール以下の減圧下で乾燥する。   Next, although the manufacturing method of PPS resin is illustrated, in this invention, it is not limited to this in particular. For example, sodium sulfide and p-dichlorobenzene are reacted in an amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) at high temperature and high pressure. If necessary, a copolymer component such as trihalobenzene can be included. Caustic potash or alkali metal carboxylate is added as a polymerization degree adjusting agent, and a polymerization reaction is performed at 230 to 280 ° C. After the polymerization, the polymer is cooled, and the polymer is filtered as a water slurry through a filter to obtain a granular polymer. This is stirred in an aqueous solution such as acetate at 30 to 100 ° C. for 10 to 60 minutes, washed several times with ion exchange water at 30 to 80 ° C. and dried to obtain a PPS powder. The powder polymer is washed with NMP at an oxygen partial pressure of 10 torr or less, preferably 5 torr or less, then washed several times with ion exchange water at 30 to 80 ° C., and dried under a reduced pressure of 5 torr or less.

PPS樹脂の加熱による架橋/高分子量化する場合の具体的方法としては、空気や酸素などの酸化性ガス雰囲気下あるいは前記酸化性ガスと窒素やアルゴンなどの不活性ガスとの混合ガス雰囲気下で、加熱容器中で所定の温度において希望する溶融粘度が得られるまで加熱を行う方法を例示することができる。加熱処理温度は、通常170〜280℃が選択され、より好ましくは200〜270℃であり、また、加熱処理時間は、通常0.5〜100時間が選択され、より好ましくは2〜50時間であるが、この両者を制御することにより目標とする粘度レベルを得ることができる。加熱処理の装置は、通常の熱風乾燥機でもまた回転式あるいは攪拌翼つきの加熱装置であってもよいが、効率よくしかも均一に処理するためには、回転式あるいは攪拌翼つきの加熱装置を用いることが好ましい。   As a specific method for crosslinking / high molecular weight by heating PPS resin, under an oxidizing gas atmosphere such as air or oxygen or a mixed gas atmosphere of the oxidizing gas and an inert gas such as nitrogen or argon. A method of heating until a desired melt viscosity is obtained at a predetermined temperature in a heating container can be exemplified. The heat treatment temperature is usually selected from 170 to 280 ° C, more preferably from 200 to 270 ° C, and the heat treatment time is usually selected from 0.5 to 100 hours, more preferably from 2 to 50 hours. However, by controlling both of these, a target viscosity level can be obtained. The heat treatment apparatus may be a normal hot air dryer or a heating apparatus with a rotary type or a stirring blade, but in order to efficiently and uniformly perform the treatment, use a heating apparatus with a rotary type or a stirring blade. Is preferred.

PPS樹脂を窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下で熱処理する場合の具体的方法としては、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは減圧下で、加熱処理温度150〜280℃、好ましくは200〜270℃、加熱時間は0.5〜100時間、好ましくは2〜50時間加熱処理する方法を例示することができる。加熱処理の装置は、通常の熱風乾燥機でもまた回転式あるいは攪拌翼つきの加熱装置でもよいが、効率よく、しかもより均一に処理するためには回転式あるいは攪拌翼つきの加熱装置を用いることが好ましい。本発明で用いるPPS樹脂は、引張破断伸度の向上の目標を達成するために熱酸化架橋処理による高分子量化を行わない実質的に直鎖状のPPSであることが好ましい。   As a specific method for heat-treating the PPS resin under an inert gas atmosphere such as nitrogen or under reduced pressure, a heat treatment temperature of 150 to 280 ° C., preferably 200 to 200 ° C. under an inert gas atmosphere such as nitrogen or under reduced pressure. A method of heat treatment at 270 ° C. and a heating time of 0.5 to 100 hours, preferably 2 to 50 hours can be exemplified. The heat treatment apparatus may be a normal hot air drier or a heating apparatus with a rotary or stirring blade, but it is preferable to use a heating apparatus with a rotary or stirring blade for efficient and more uniform treatment. . The PPS resin used in the present invention is preferably a substantially linear PPS that does not undergo high molecular weight by thermal oxidative crosslinking treatment in order to achieve the goal of improving tensile elongation at break.

本発明で用いられるPPS樹脂は、脱イオン処理を施されたPPS樹脂を少なくとも含んでいることが必要である。脱イオン処理の具体的方法としては、酸水溶液洗浄処理、熱水洗浄処理、および有機溶剤洗浄処理などを例示することができ、これらの処理は2種以上の方法を組み合わせて用いてもよい。 The PPS resin used in the present invention needs to contain at least a PPS resin that has been subjected to deionization treatment. Specific examples of the deionization treatment include an acid aqueous solution washing treatment, a hot water washing treatment, and an organic solvent washing treatment, and these treatments may be used in combination of two or more methods.

PPS樹脂の有機溶剤洗浄処理の具体的方法としては、以下の方法を例示することができる。すなわち、有機溶剤としては、PPS樹脂を分解する作用などを有していないものであれば特に制限はなく、例えば、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどの含窒素極性溶媒、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホンなどのスルホキシド・スルホン系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセトフェノンなどのケトン系溶媒、ジメチルエーテル、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエチレン、2塩化エチレン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、フェノール、クレゾール、ポリエチレングリコールなどのアルコール・フェノール系溶媒、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。これらの有機溶媒の中で、N−メチルピロリドン、アセトン、ジメチルホルムアミドおよびクロロホルムが特に好ましく用いられる。また、これらの有機溶媒は、1種類または2種類以上の混合で使用される。   The following method can be illustrated as a specific method for the organic solvent cleaning treatment of the PPS resin. That is, the organic solvent is not particularly limited as long as it does not have an action of decomposing the PPS resin. For example, nitrogen-containing polar solvents such as N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, Sulfoxide / sulfone solvents such as dimethylsulfone, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, acetophenone, ether solvents such as dimethyl ether, dipropyl ether, tetrahydrofuran, chloroform, methylene chloride, trichloroethylene, ethylene chloride, dichloroethane, Halogen solvents such as tetrachloroethane, chlorobenzene, methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, ethylene glycol, propylene glycol, Phenol, cresol, alcohol phenol based solvents such as polyethylene glycol, benzene, and aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene. Among these organic solvents, N-methylpyrrolidone, acetone, dimethylformamide and chloroform are particularly preferably used. These organic solvents are used alone or in combination of two or more.

有機溶媒による洗浄の方法としては、有機溶媒中にPPS樹脂を浸漬せしめるなどの方法があり、必要に応じて適宜攪拌または加熱することも可能である。有機溶媒でPPS樹脂を洗浄する際の洗浄温度について特に制限はなく、常温〜300℃の範囲で任意の温度を選択することができる。洗浄温度が高くなるほど、洗浄効率が高くなる傾向があるが、通常は常温〜150℃の温度で十分効果が得られる。また、有機溶媒洗浄を施されたPPS樹脂は残留している有機溶媒を除去するため、水または温水で数回洗浄することが好ましい。   As a method of washing with an organic solvent, there is a method of immersing a PPS resin in an organic solvent, and it is possible to appropriately stir or heat as necessary. There is no restriction | limiting in particular about the washing | cleaning temperature at the time of wash | cleaning PPS resin with an organic solvent, Arbitrary temperature can be selected in the range of normal temperature-300 degreeC. As the cleaning temperature increases, the cleaning efficiency tends to increase, but usually a sufficient effect is obtained at a temperature of room temperature to 150 ° C. The PPS resin that has been washed with an organic solvent is preferably washed several times with water or warm water in order to remove the remaining organic solvent.

PPS樹脂の熱水洗浄処理の具体的方法としては、以下の方法を例示することができる。すなわち、熱水洗浄によるPPS樹脂の好ましい化学変性の効果を発現するために、使用する水は蒸留水あるいは脱イオン水であることが好ましい。熱水処理の操作は、通常、所定量の水に所定量のPPS樹脂を投入し、常圧であるいは圧力容器内で加熱し攪拌することにより行われる。PPS樹脂と水との割合は、水の方が多い方が好ましいが、通常、水1リットルに対し、PPS樹脂200g以下の浴比が選択される。   The following method can be illustrated as a specific method of the hot water washing process of PPS resin. That is, it is preferable that the water to be used is distilled water or deionized water in order to exhibit a preferable chemical modification effect of the PPS resin by hot water washing. The operation of the hot water treatment is usually performed by adding a predetermined amount of PPS resin to a predetermined amount of water, and heating and stirring at normal pressure or in a pressure vessel. The ratio of the PPS resin to water is preferably larger, but usually a bath ratio of 200 g or less of PPS resin is selected for 1 liter of water.

PPS樹脂の酸水溶液洗浄処理の具体的方法としては、以下の方法を例示することができる。すなわち、酸または酸の水溶液にPPS樹脂を浸漬せしめるなどの方法があり、必要に応じて適宜攪拌または加熱することも可能である。用いられる酸は、PPS樹脂を分解する作用を有しないものであれば特に制限はなく、ギ酸、酢酸、プロピオン酸および酪酸などの脂肪族飽和モノカルボン酸、クロロ酢酸やジクロロ酢酸などのハロゲン置換脂肪族飽和カルボン酸、アクリル酸やクロトン酸などの脂肪族不飽和モノカルボン酸、安息香酸やサリチル酸などの芳香族カルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、フタル酸およびフマル酸などのジカルボンン酸、硫酸、リン酸、塩酸、炭酸および珪酸などの無機酸性化合物などが挙げられる。中でも酢酸と塩酸が好ましく用いられる。酸処理を施されたPPS樹脂は、残留している酸または塩などを除去するため、水または温水で数回洗浄することが好ましい。また、洗浄に用いられる水は、酸処理によりPPS樹脂の好ましい化学的変性の効果を損なわない意味で、蒸留水または脱イオン水であることが好ましい。   The following method can be illustrated as a specific method of the acid aqueous solution washing treatment of the PPS resin. That is, there is a method of immersing the PPS resin in an acid or an acid aqueous solution, and it is possible to appropriately stir or heat as necessary. The acid to be used is not particularly limited as long as it does not have an action of decomposing PPS resin. For example, aliphatic saturated monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and butyric acid, and halogen-substituted fatty acids such as chloroacetic acid and dichloroacetic acid. Saturated carboxylic acids, aliphatic unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid and crotonic acid, aromatic carboxylic acids such as benzoic acid and salicylic acid, dicarboxylic acids such as oxalic acid, malonic acid, succinic acid, phthalic acid and fumaric acid And inorganic acidic compounds such as sulfuric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, carbonic acid and silicic acid. Of these, acetic acid and hydrochloric acid are preferably used. It is preferable to wash the acid-treated PPS resin several times with water or warm water in order to remove the remaining acid or salt. The water used for washing is preferably distilled water or deionized water in the sense that the effect of the preferred chemical modification of the PPS resin is not impaired by the acid treatment.

本発明を構成する成形基材(A)は、上記PPS樹脂を含有する樹脂組成物からなり、上記PPS樹脂を30重量%以上含有していることが好ましい。30重量%未満であれば、PPS樹脂以外のポリマ、無機充填材などを含むことができる。PPS樹脂以外のポリマは、例えば、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリエーテルエーテルケトンなどの各種ポリマおよびこれらのポリマの少なくとも1種を含むブレンド物を挙げることができる。   The molded substrate (A) constituting the present invention is preferably composed of a resin composition containing the PPS resin, and preferably contains 30% by weight or more of the PPS resin. If it is less than 30% by weight, polymers other than PPS resin, inorganic fillers, and the like can be included. Examples of the polymer other than the PPS resin include various polymers such as polyetherimide, polyethersulfone, polysulfone, polyphenylene ether, polyester, polyarylate, polyamideimide, polycarbonate, polyolefin, and polyetheretherketone, and at least one of these polymers. Can be mentioned.

また、PPS樹脂以外の無機充填材としては、例えば、繊維状、板状、粉末状、粒状などを使用することができる。具体的には、例えば、炭素繊維、チタン酸カリウィスカ、酸化亜鉛ウィスカ、アルミナ繊維、炭化珪素繊維、セラミック繊維、アスベスト繊維、石ユウ繊維などの繊維状充填剤、ワラステナイト、フロゴパイト、マスコバイト、ゼオライト、セリサイト、カオリン、マイカ、クレー、ベントナイト、アスベスト、タルク、アルミナシリケートなどの珪酸塩、モンモリロナイト、合成雲母などの膨潤性の層状珪酸塩、アルミナ、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化鉄などの金属化合物、炭酸カルシウム、ドロマイトなどの炭酸塩、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどの硫酸塩、セラミックビーズ、窒化硼素、炭化珪素、グラファイト、パイロフィライト、リン酸カルシウムなどの非繊維状充填剤が挙げられる。これらは、中空であってもよく、さらにはこれらの充填剤を2種類以上併用することも可能である。   Moreover, as inorganic fillers other than PPS resin, a fibrous form, plate shape, powder form, granular form etc. can be used, for example. Specifically, for example, fibrous fillers such as carbon fiber, potassium titanate whisker, zinc oxide whisker, alumina fiber, silicon carbide fiber, ceramic fiber, asbestos fiber, and stone fiber, wollastonite, phlogopite, muscovite, zeolite Swellable layered silicate such as sericite, kaolin, mica, clay, bentonite, asbestos, talc, alumina silicate, montmorillonite, synthetic mica, alumina, silicon oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, Non-fibrous fillers such as metal compounds such as iron oxide, carbonates such as calcium carbonate and dolomite, sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate, ceramic beads, boron nitride, silicon carbide, graphite, pyrophyllite and calcium phosphate Can be mentioned. These may be hollow, and two or more of these fillers may be used in combination.

本発明の成形体は、上記PPS樹脂組成物からなる成形基材(A)と、ポリアリーレンスルフィドを主成分とする樹脂組成物からなる配向層(B)とが接着剤を介することなく一体化された成形体である。上記接着剤とは、ポリアリーレンスルフィド樹脂以外の組成を有するものであり、特に限定されないが、ポリウレタン系、エポキシ系、ポリエステル系、シリコーン系などを挙げることができる。   In the molded product of the present invention, the molded substrate (A) composed of the PPS resin composition and the alignment layer (B) composed of the resin composition containing polyarylene sulfide as a main component are integrated without using an adhesive. This is a molded product. The adhesive has a composition other than the polyarylene sulfide resin and is not particularly limited, and examples thereof include polyurethane, epoxy, polyester, and silicone.

本発明の配向層(B)2層以上から構成される、配向層(B)を構成するp−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)とは、p−フェニレンスルフィド単位を主成分とするポリフェニレンスルフィド樹脂組成物を溶融成形してシート状とし、少なくとも一軸延伸、好ましくは二軸延伸した後、熱処理してなるフィルムである。含有するp−フェニレンスルフィド単位は好ましくは92モル%以上、より好ましくは95モル%以上であることが好ましい。p−フェニレンスルフィド単位が92モル%未満では、二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムの結晶性が低下し、フィルムの耐熱性、熱寸法安定性などが損なわれる場合がある。p−フェニレンスルフィドを主成分とするポリフェニレンスルフィド樹脂組成物は、p−フェニレンスルフィドを主成分とするポリフェニレンスルフィド樹脂を90重量%以上含有していることが好ましく、10重量%未満では、ポリフェニレンスルフィド樹脂以外のポリマを含むことができる。ポリフェニレンスルフィド樹脂以外のポリマは、例えば、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリエーテルエーテルケトンなどの各種ポリマおよびこれらのポリマの少なくとも1種を含むブレンド物を挙げることができる。本発明の場合、ポリエーテルイミドが成形性向上の観点から好ましい。

本発明に用いられるポリエーテルイミドとしては、脂肪族、脂環族または芳香族系のエーテル単位と環状イミド基を繰り返し単位として含有するポリマであり、溶融成形性を有するポリマであれば、特に限定されない。例えば、米国特許第4141927号、特許第2622678号、特許第2606912号、特許第2606914号、特許第2596565号、特許第2596566号、特許第2598478号のポリエーテルイミド、特許第2598536号、特許第2599171号、特開平9−48852号公報、特許第2565556号、特許第2564636号、特許第2564637号、特許第2563548号、特許第2563547号、特許第2558341号、特許第2558339号、特許第2834580号に記載のポリマである。本発明の効果を阻害しない範囲であれば、ポリエーテルイミドの主鎖に環状イミド、エーテル単位以外の構造単位、例えば、芳香族、脂肪族、脂環族エステル単位、オキシカルボニル単位等が含有されていても良い。本発明では、2,2−ビス[4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物とm−フェニレンジアミンまたはp−フェニレンジアミンとの縮合物が、溶融成型性等の観点から好ましい。このポリエーテルイミドは、“Ultem”(登録商標)の商標名で、General Electric社より入手可能である。
Orientation layer (B) of the present invention is composed of two or more layers, and the orientation layer biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B) constituting the p- phenylene sulfide as a main component (B1) is, p- A film obtained by melt-molding a polyphenylene sulfide resin composition containing a phenylene sulfide unit as a main component to form a sheet, stretching at least uniaxially, preferably biaxially, and then heat-treating. The p-phenylene sulfide unit contained is preferably 92 mol% or more, more preferably 95 mol% or more. When the p-phenylene sulfide unit is less than 92 mol%, the crystallinity of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film is lowered, and the heat resistance and thermal dimensional stability of the film may be impaired. The polyphenylene sulfide resin composition containing p-phenylene sulfide as a main component preferably contains 90% by weight or more of a polyphenylene sulfide resin containing p-phenylene sulfide as a main component. Other polymers can be included. Examples of the polymer other than the polyphenylene sulfide resin include various polymers such as polyetherimide, polyethersulfone, polysulfone, polyphenylene ether, polyester, polyarylate, polyamideimide, polycarbonate, polyolefin, polyetheretherketone, and at least one of these polymers. Mention may be made of blends containing seeds. In the present invention, polyetherimide is preferred from the viewpoint of improving moldability.

The polyetherimide used in the present invention is a polymer containing an aliphatic, alicyclic or aromatic ether unit and a cyclic imide group as repeating units, and is particularly limited as long as it is a polymer having melt moldability. Not. For example, U.S. Pat. Nos. 4,141,927, 2,262,678, 2,606,912, 2,606,914, 2,596,565, 2,596,566 and 2,598,566, polyether imide, 2,259,536, 2,599,171. No. 9, JP-A-9-48852, Japanese Patent No. 2565556, Japanese Patent No. 2564636, Japanese Patent No. 2564737, Japanese Patent No. 2563548, Japanese Patent No. 2563547, Japanese Patent No. 2558341, Japanese Patent No. 2558339, Japanese Patent No. 2835580 The described polymer. As long as the effect of the present invention is not impaired, the main chain of polyetherimide contains a structural unit other than cyclic imide and ether units, for example, aromatic, aliphatic, alicyclic ester units, oxycarbonyl units, and the like. May be. In the present invention, a condensate of 2,2-bis [4- (2,3-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride and m-phenylenediamine or p-phenylenediamine is used from the viewpoint of melt moldability and the like. preferable. This polyetherimide is available from General Electric under the trade name “Ultem” ®.

さらに、ポリフェニレンスルフィド樹脂中にポリエーテルイミドを添加する際には、相溶化剤を添加することが好ましく、好ましい相溶化剤の例としては、例えば、エポキシ基、アミノ基、イソシアネ−ト基から選択される一種以上の官能基を有するアルコキシシランが挙げられる。かかる化合物の具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有アルコキシシラン化合物、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシシラン、γ−(2−ウレイドエチル)アミノプロピルトリメトキシシランなどのウレイド基含有アルコキシシラン化合物、γ−イソシアネ−トプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルエチルジメトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルエチルジエトキシシラン、γ−イソシアナネ−トプロピルトリクロロシランなどのイソシアネ−ト基含有アルコキシシラン化合物、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどのアミノ基含有アルコキシシラン化合物などが挙げられる。中でも、γ−イソシアネ−トプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルエチルジメトキシシラン、γ−イソシアネ−トプロピルエチルジエトキシシラン、γ−イソシアナネ−トプロピルトリクロロシランなどのイソシアネ−ト基含有アルコキシシラン化合物を用いると、ポリエーテルイミドの分散性を向上させることができるため好ましく用いられる。   Further, when adding polyetherimide to the polyphenylene sulfide resin, it is preferable to add a compatibilizing agent. Examples of preferable compatibilizing agents are selected from, for example, an epoxy group, an amino group, and an isocyanate group. And alkoxysilanes having one or more functional groups. Specific examples of such compounds include epoxy group-containing alkoxysilanes such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Compounds, ureido group-containing alkoxysilane compounds such as γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-ureidopropyltrimethoxysilane, γ- (2-ureidoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane Γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldimethoxysilane, γ-isocyanate pro Isocyanate group-containing alkoxysilane compounds such as ruethyldiethoxysilane, γ-isocyanate-propyltrichlorosilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltri Examples include amino group-containing alkoxysilane compounds such as methoxysilane and γ-aminopropyltrimethoxysilane. Among them, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldimethoxysilane, γ-isocyanatopropylmethyldiethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyl The use of an isocyanate group-containing alkoxysilane compound such as dimethoxysilane, γ-isocyanatopropylethyldiethoxysilane, γ-isocyanate-propyltrichlorosilane is preferable because the dispersibility of the polyetherimide can be improved. Used.

また、無機または有機フィラー、滑剤、着色剤、紫外線吸収剤、相溶化剤などの添加剤を含むこともできる。   Moreover, additives, such as an inorganic or organic filler, a lubricant, a coloring agent, a ultraviolet absorber, a compatibilizing agent, can also be included.


本発明においては、上記二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)の少なくとも片側に、p−フェニレンスルフィド単位以外の少なくとも1種以上の共重合単位が共重合された共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)が積層されている。これは成形基材との接着性向上の観点から好ましい態様である。本発明で用いる共重合ポリフェニレンスルフィドとは、好ましくは繰り返し単位の80モル%以上92モル%以下が主成分としてp−フェニレンスルフィド単位で構成されていることが好ましい。かかる主成分が80モル%未満では、フィルムの耐熱性低下が著しくなる場合があり、92モル%を超えると樹脂組成物からなる成形体との接着性を十分高められない場合がある。

In the present invention, a copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2) in which at least one copolymer unit other than the p-phenylene sulfide unit is copolymerized on at least one side of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1). Are stacked . This is a preferred embodiment from the viewpoint of improving adhesiveness with the molding substrate. The copolymerized polyphenylene sulfide used in the present invention is preferably composed of p-phenylene sulfide units having 80 to 92 mol% of repeating units as a main component. When the main component is less than 80 mol%, the heat resistance of the film may be significantly reduced, and when it exceeds 92 mol%, the adhesiveness with the molded body made of the resin composition may not be sufficiently improved.

共重合単位としては、下記式に示すm−フェニレンスルフィド単位、   As the copolymer unit, m-phenylene sulfide unit represented by the following formula,

Figure 0005365055
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Figure 0005365055
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(ここでXは、アルキレン、CO、SO単位を示す。) (Here, X represents an alkylene, CO, or SO 2 unit.)

Figure 0005365055
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(ここでRはアルキル、ニトロ、フェニレン、アルコキシ基を示す。)が挙げられ、これらの複合の単位が存在してもかまわない。好ましい共重合単位は、m−フェニレンスルフィド単位である。これらの単位の共重合量は、8モル%以上20モル%以下が好ましく、より好ましくは10モル%以上18モル%以下である。かかる共重合成分が8モル%未満では、樹脂組成物との一体成形時、樹脂組成物との接着性が十分高められない場合があり、20モル%を超えると配向層の耐熱性が低下する場合がある。 (Wherein R represents an alkyl, nitro, phenylene, or alkoxy group), and these complex units may be present. Preferred copolymerized units are m-phenylene sulfide units. The copolymerization amount of these units is preferably 8 mol% or more and 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or more and 18 mol% or less. If the copolymerization component is less than 8 mol%, the adhesiveness with the resin composition may not be sufficiently improved during integral molding with the resin composition, and if it exceeds 20 mol%, the heat resistance of the alignment layer is reduced. There is a case.

本発明で用いられる共重合ポリフェニレンスルフィドの上記主成分と共重合成分との共重合の態様は特に限定はないが、ランダムコポリマーであることが好ましい。   The mode of copolymerization of the above-mentioned main component and copolymer component of the copolymerized polyphenylene sulfide used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a random copolymer.

本発明においては、共重合ポリフェニレンスルフィドを構成する共重合体の繰り返し単位の残りの部分においては、さらに他の共重合可能な構成単位で構成されてもよいが、例えば、下記式に代表される3官能性フェニルスルフィドは、共重合体全体の1モル%以下であることが好ましい。   In the present invention, the remaining part of the repeating unit of the copolymer constituting the copolymerized polyphenylene sulfide may be composed of other copolymerizable structural units. For example, it is represented by the following formula: The trifunctional phenyl sulfide is preferably 1 mol% or less of the entire copolymer.

Figure 0005365055
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本発明の共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)を構成する共重合ポリフェニレンスルフィドの融点は、二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)を構成するポリアリーレンスルフィドの融点より1〜100℃低いことが好ましく、より好ましくは、10℃〜50℃であり、さらに好ましくは、20℃〜40℃である。共重合ポリフェニレンスルフィドの融点と二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)を構成するポリアリーレンスルフィドの融点との差が1℃未満の場合、二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)との接着性が十分高められなかったり、配向層(B)の平面性の悪化や熱収縮する場合があり、共重合ポリフェニレンスルフィドの融点と二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)を構成するポリアリーレンスルフィドの融点との差が100℃を超える場合、配向層(B)の耐熱性の低下が著しくなる場合がある。共重合ポリフェニレンスルフィドの融点は、共重合成分のモル比によって適宜調製できる。例えば、共重合ポリフェニレンスルフィドの融点を210℃とする場合は、共重合成分のモル比を20モル%とすることにより得ることができる。   The melting point of the copolymer polyphenylene sulfide constituting the copolymer polyphenylene sulfide layer (B2) of the present invention is preferably 1 to 100 ° C. lower than the melting point of the polyarylene sulfide constituting the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1). More preferably, it is 10-50 degreeC, More preferably, it is 20-40 degreeC. When the difference between the melting point of the copolymerized polyphenylene sulfide and the melting point of the polyarylene sulfide constituting the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) is less than 1 ° C., the adhesiveness with the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) is The alignment layer (B) may not be sufficiently enhanced, or the planarity of the alignment layer (B) may deteriorate or heat shrink. The melting point of the copolymerized polyphenylene sulfide and the melting point of the polyarylene sulfide constituting the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) If the difference exceeds 100 ° C., the heat resistance of the alignment layer (B) may be significantly reduced. The melting point of the copolymerized polyphenylene sulfide can be appropriately adjusted depending on the molar ratio of the copolymerization components. For example, when the melting point of the copolymerized polyphenylene sulfide is 210 ° C., it can be obtained by setting the molar ratio of the copolymer components to 20 mol%.

本発明においては、上記共重合ポリフェニレンスルフィドを、溶融成形してシート状とし、二軸延伸、熱処理して用いることが好ましい。共重合ポリフェニレンスルフィド層を二軸配向することで、耐熱性、靭性を向上することができる。共重合ポリフェニレンスルフィド層を積層する方法は、特に限定されないが、p−フェニレンスルフィド単位を主成分とするポリフェニレンスルフィド樹脂組成物と共押出する方法が好ましく用いられる。   In the present invention, the copolymerized polyphenylene sulfide is preferably melt-molded into a sheet, biaxially stretched and heat-treated. By biaxially orienting the copolymerized polyphenylene sulfide layer, heat resistance and toughness can be improved. A method of laminating the copolymerized polyphenylene sulfide layer is not particularly limited, but a method of co-extrusion with a polyphenylene sulfide resin composition containing a p-phenylene sulfide unit as a main component is preferably used.

上記共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)の厚みは、特に限定されないが、5μm以上、50μm以下であることが好ましい。より好ましくは10μm以上30μm以下である。共重合ポリフェニレンスルフィド層の厚みが5μm未満の場合、樹脂組成物からなる成形体との接着性を十分高められない場合があり、50μmを超えると、配向層の耐熱性が低下する場合がある。   The thickness of the copolymer polyphenylene sulfide layer (B2) is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 50 μm or less. More preferably, they are 10 micrometers or more and 30 micrometers or less. When the thickness of the copolymerized polyphenylene sulfide layer is less than 5 μm, the adhesion to the molded body made of the resin composition may not be sufficiently improved, and when it exceeds 50 μm, the heat resistance of the alignment layer may be lowered.

本発明の配向層(B)は、必要に応じて、熱処理、成形、表面処理、ラミネート、コーティング、印刷、エンボス加工およびエッチングなどの任意の加工を行ってもよい。   The alignment layer (B) of the present invention may be subjected to any processing such as heat treatment, molding, surface treatment, laminating, coating, printing, embossing and etching, as necessary.

本発明の配向層(B)を構成する二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)あるいは共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)の配向は、レーザーラマン分光により測定することができる配向パラメータによって確認することができる。本発明においては、配向層(B)の配向パラメータが1.1以上である場合、配向層(B)が配向しているものと判断する。また、配向層(B)が(B1)と(B2)から構成される場合、少なくともいずれかの配向パラメータが1.1以上であれば、配向層(B)は配向しているものと判断する。レーザーラマン分光により得られる配向パラメータは、2.0〜8.0の範囲であ。配向パラメータのより好ましい範囲は、2.5〜6.0である。レーザーラマン分光による配向パラメータは、分子配向や結晶量を反映する。配向パラメータが8.0を超えると、分子鎖配向が進み過ぎたり、結晶化が進行しすぎたりして、引張破断伸度が小さくなり、フィルムの加工時や使用時に破損したり、実用上使用に耐えないことがあったりすることがある。また、配向パラメータが2.0未満の場合、分子鎖配向が不十分であったり、結晶化の進行が不十分であったりして、配向層の耐熱性が低下する場合がある。配向層B1あるいはB2のレーザーラマン分光による配向パラメータは、例えば、縦延伸における延伸温度や延伸倍率、横延伸前の予熱温度、横延伸における延伸温度や延伸倍率、さらに、延伸後の熱固定温度を本発明の好ましい範囲にすることにより、本発明の範囲にすることができる。 The orientation of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) or copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2) constituting the orientation layer (B) of the present invention can be confirmed by orientation parameters that can be measured by laser Raman spectroscopy. it can. In the present invention, when the alignment parameter of the alignment layer (B) is 1.1 or more, it is determined that the alignment layer (B) is aligned. When the alignment layer (B) is composed of (B1) and (B2), it is determined that the alignment layer (B) is oriented if at least one of the orientation parameters is 1.1 or more. . Orientation parameter obtained by laser Raman spectroscopy, area by der of 2.0 to 8.0. A more preferable range of the orientation parameter is 2.5 to 6.0. Orientation parameters by laser Raman spectroscopy reflect molecular orientation and crystal content. When the orientation parameter exceeds 8.0, the molecular chain orientation is excessively advanced or crystallization is excessively advanced, and the tensile elongation at break is reduced. Or may not be able to withstand On the other hand, when the orientation parameter is less than 2.0, the molecular chain orientation may be insufficient or the progress of crystallization may be insufficient, which may reduce the heat resistance of the alignment layer. The alignment parameters of the alignment layer B1 or B2 by laser Raman spectroscopy include, for example, the stretching temperature and stretching ratio in longitudinal stretching, the preheating temperature before transverse stretching, the stretching temperature and stretching ratio in transverse stretching, and the heat setting temperature after stretching. By making it the preferred range of the present invention, it can be made the range of the present invention.

上記レーザーラマン分光による測定方法は特に限定されないが、例えば、レーザーラマン装置(PDP320(フォトンデザイン社製))を用い、マイクロプロ−ブ対物レンズ100倍、対物レンズは、近赤外域(1064〜1300nm)に透過性を有し、NA0.95、色収差補正されているものを使用することができる。クロススリット1mm、スポット径1μm、光源Nd−YAG(波長1064nm、出力:1W)、回折格子 Spectrograph300g/mm、スリット:100μm、検出器InGaAs(Roper Scientific 512)が好ましく用いられる。   The measurement method by the laser Raman spectroscopy is not particularly limited. For example, a laser Raman apparatus (PDP320 (manufactured by Photon Design)) is used, the microprobe objective lens is 100 times, and the objective lens is in the near infrared region (1064 to 1300 nm). ) Having transparency, NA of 0.95, and chromatic aberration correction can be used. Cross slit 1 mm, spot diameter 1 μm, light source Nd-YAG (wavelength 1064 nm, output: 1 W), diffraction grating Spectrograph 300 g / mm, slit: 100 μm, detector InGaAs (Roper Scientific 512) is preferably used.

測定に用いるフィルムは、サンプリングしてエポキシ樹脂に包理後、ミクロト−ムでフィルム 断面を出した。フィルム断面がフィルム長手方向または幅方向に平行なものを調整し、各試料の 中央点を測定点として、長手方向および幅方向のそれぞれに対して5個の試料を測定して平均値 をとった。測定は、入射光の偏光方向に平行な偏光方向に配置した偏光子を通して検出し、試料 を回転させ、レーザー光の偏光方向に対して、フィルム面に平行な偏光方向と垂直な偏光方向を でスペクトルを得た。配向パラメータは、
(配向パラメータ)=(I1575/I740)(平行)/(I1575/I740)(垂直)
I1575/I740(平行):フィルム面に平行な偏光方向で測定したラマンスペクトルにおいて、1575cm-1付近のラマンバンドを740cm-1付近のラマンバンド強度で除したもの。
I1575/I740(垂直):フィルム面に垂直な偏光方向で測定したラマンスペクトルにおいて、1575cm-1付近のラマンバンドを740cm-1付近のラマンバンド強度で除したもの。
The film used for measurement was sampled and embedded in an epoxy resin, and then the film cross section was taken out with a microtome. The film cross-section was adjusted to be parallel to the film longitudinal direction or width direction, and the average value was obtained by measuring 5 samples for each of the longitudinal direction and width direction with the central point of each sample as the measurement point. . The measurement is performed through a polarizer placed in a polarization direction parallel to the polarization direction of incident light, the sample is rotated, and a polarization direction perpendicular to the polarization direction parallel to the film surface is displayed with respect to the polarization direction of the laser light. A spectrum was obtained. The orientation parameter is
(Orientation parameter) = (I1575 / I740) (Parallel) / (I1575 / I740) (Vertical)
I1575 / I740 (parallel): In the Raman spectrum measured in the polarization direction parallel to the film surface, the Raman band near 1575 cm-1 is divided by the Raman band intensity near 740 cm-1.
I1575 / I740 (perpendicular): A Raman spectrum measured in the polarization direction perpendicular to the film surface, obtained by dividing the Raman band near 1575 cm-1 by the Raman band intensity near 740 cm-1.

本発明の配向層(B)の破断伸度は、100%以上150%以下であることが本発明のインサート成形における金型状賦形の観点から必要である。より好ましくは120%以上150%以下であり、さらに好ましくは130%以上150%以下である。破断伸度が100%未満の場合、金型賦形の際、フィルム割れが発生する場合があり、破断伸度の上限は特に設けないが150%を超えるためには製膜における面積延伸倍率を低下させる必要があり、フィルムの平面性および製膜安定性が悪化する場合がある。破断伸度を上記範囲とするためには、本願規定の製膜延伸条件、および熱固定条件とすることにより得ることができる。 Elongation at break of the oriented layer (B) of the present invention, it is necessary from the viewpoint of mold-like shaping in insert molding of the present invention is 150% or more and 100% or less. More preferably, they are 120% or more and 150% or less, More preferably, they are 130% or more and 150% or less. If the elongation at break is less than 100%, film cracking may occur during mold shaping, and there is no particular upper limit on the elongation at break, but in order to exceed 150%, the area stretch ratio in film formation must be increased. It is necessary to reduce, and the flatness and film forming stability of the film may deteriorate. In order to make the breaking elongation within the above range, it can be obtained by setting the film-forming stretching condition and the heat setting condition defined in the present application.

本発明の配向層(B)の厚みは、5μm以上1000μm以下が好ましい。より好ましくは、10μm以上500μm以下であり、さらに好ましくは、20μm以上300μm以下である。厚みが5μm未満の場合、機械強度が十分でない場合があり、厚みが1000μmを超えるとインサート成形性が低下する場合がある。   The thickness of the alignment layer (B) of the present invention is preferably 5 μm or more and 1000 μm or less. More preferably, they are 10 micrometers or more and 500 micrometers or less, More preferably, they are 20 micrometers or more and 300 micrometers or less. When the thickness is less than 5 μm, the mechanical strength may not be sufficient, and when the thickness exceeds 1000 μm, the insert moldability may deteriorate.

上記配向層(B)とポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなる成形基材(A)とを一体化する方法は、特に限定されないが、あらかじめ成形した成形基材(A)表面に賦形した配向層(B)を共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)の融点―20℃以上、二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)融点未満に加熱し、B1層の平面性が損なわれない程度に加熱し、圧力をかけて熱圧着させる方法あるいは、金型にあらかじめ賦形したフィルムをインサートした射出成形法による一体化の方法が好ましく用いられ、特に後者の方法は、経済的観点から好ましく用いられる。   The method for integrating the orientation layer (B) and the molded base material (A) comprising the polyarylene sulfide resin composition is not particularly limited, but the orientation layer shaped on the surface of the molded base material (A) that has been molded in advance. (B) is heated to a melting point of the copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2) —20 ° C. or higher and below the melting point of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1), and heated to such an extent that the flatness of the B1 layer is not impaired. The method of thermocompression bonding by applying or the method of integration by injection molding method in which a pre-shaped film is inserted into a mold is preferably used, and the latter method is particularly preferably used from the economical viewpoint.

本発明においては、共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)側に成形基材(A)が接触するように射出成形を行うことが、成形基材と配向層との接着性向上の観点から好ましい。   In the present invention, it is preferable from the viewpoint of improving the adhesion between the molding substrate and the alignment layer that injection molding is performed so that the molding substrate (A) is in contact with the copolymerized polyphenylene sulfide layer (B2).

本発明においては、ポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなる成形基材(A)と、配向層(B)とが一体化されていることが重要であるが、成形基材(A)と配向層(B)が一体化されているとは、配向層Bが材料破壊する以上の強度で基材Aに接着していることを言い、配向層Bを剥がそうとしたとき、配向層Bの表面が元々の表面として現れる場合、一体化していないとみなす。   In the present invention, it is important that the molding substrate (A) composed of the polyarylene sulfide resin composition and the alignment layer (B) are integrated, but the molding substrate (A) and the alignment layer ( B) being integrated means that the alignment layer B is adhered to the base material A with a strength higher than that of material destruction. When the alignment layer B is peeled off, the surface of the alignment layer B is If it appears as the original surface, it is considered unintegrated.

次いで、本発明の成形体を製造する方法について説明するが、本発明は、下記の記載に限定されないことは無論である。   Subsequently, although the method to manufacture the molded object of this invention is demonstrated, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the following description.

ポリフェニレンスルフィド樹脂(PPS)の製造方法としては、例えば、次のような方法が挙げられる。硫化ナトリウムとp−ジクロロベンゼンを、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)などのアミド系極性溶媒中で高温高圧下で反応させる。必要によって、トリハロベンゼンなどの共重合成分を含ませることもできる。重合度調整剤として、苛性カリやカルボン酸アルカリ金属塩などを添加し、230〜280℃の温度で重合反応させる。重合後にポリマを冷却し、ポリマを水スラリーとしてフィルターで濾過後、粒状ポリマを得る。これを酢酸塩などの水溶液中で30〜100℃の温度で10〜60分間攪拌処理し、イオン交換水にて30〜80℃の温度で数回洗浄、乾燥してPPS粒状ポリマを得る。得られた粒状ポリマを、酸素分圧10トール以下、好ましくは5トール以下でNMPにて洗浄後、30〜80℃の温度のイオン交換水で数回洗浄し、副生塩、重合助剤および未反応モノマ等を分離しPPS樹脂を得る。上記で得られたPPS樹脂に必要に応じて、他のポリマ、あるいは無機または有機の添加剤等を本発明の目的に支障を与えない程度添加し、PPS樹脂組成物を得る。   Examples of the method for producing the polyphenylene sulfide resin (PPS) include the following methods. Sodium sulfide and p-dichlorobenzene are reacted in an amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) under high temperature and high pressure. If necessary, a copolymer component such as trihalobenzene may be included. As a polymerization degree adjusting agent, caustic potash or alkali metal carboxylate is added, and a polymerization reaction is performed at a temperature of 230 to 280 ° C. After the polymerization, the polymer is cooled, and the polymer is filtered as a water slurry through a filter to obtain a granular polymer. This is stirred in an aqueous solution such as acetate at a temperature of 30 to 100 ° C. for 10 to 60 minutes, washed several times with ion exchange water at a temperature of 30 to 80 ° C. and dried to obtain a PPS granular polymer. The obtained granular polymer was washed with NMP at an oxygen partial pressure of 10 torr or less, preferably 5 torr or less, and then washed several times with ion-exchanged water at a temperature of 30 to 80 ° C. to form a by-product salt, a polymerization aid, and Unreacted monomers and the like are separated to obtain a PPS resin. If necessary, another polymer, an inorganic or organic additive, or the like is added to the PPS resin obtained as described above to the extent that the object of the present invention is not hindered to obtain a PPS resin composition.

共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂の製造方法としては、例えば、次のような方法がある。硫化ナトリウムとp−ジクロロベンゼンおよび副成分モノマを本発明でいう比率で配合し、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)などのアミド系極性溶媒中で重合助剤の存在下、高温高圧下で反応させる。副成分モノマとしては、   Examples of the method for producing the copolymerized polyphenylene sulfide resin include the following methods. Sodium sulfide, p-dichlorobenzene, and the accessory component monomer are blended in the ratios referred to in the present invention, and in the presence of a polymerization aid in an amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) under high temperature and high pressure. React. As an accessory component monomer,

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(ここでXは、アルキレン、CO、SO単位を示す。) (Here, X represents an alkylene, CO, or SO 2 unit.)

Figure 0005365055
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(ここでRは、アルキル、ニトロ、フェニレン、アルコキシ基を示す。)が挙げられ、これらの複数の副成分モノマが存在してもかまわない。好ましい副成分モノマは、化14である。 (Wherein R represents an alkyl, nitro, phenylene, or alkoxy group), and a plurality of these subcomponent monomers may be present. A preferred accessory component monomer is

Figure 0005365055
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上記で得られたポリマに必要に応じて、あるいは無機または有機の添加剤等を本発明の目的に支障を与えない程度添加し、共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂を得る。   A copolymerized polyphenylene sulfide resin is obtained by adding an inorganic or organic additive or the like to the above-obtained polymer as necessary or to the extent that does not interfere with the object of the present invention.

次に、本発明の配向層(B)の製造方法について説明する。上記のPPS樹脂組成物と、共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂を別々の溶融押出装置に供給し、個々の原料の融点以上に加熱する。加熱により溶融された各原料は、溶融押出装置と口金出口の間に設けられた合流装置で溶融状態で2層または3層に積層され、スリット状の口金出口から押し出される。かかる溶融積層体を冷却ドラム上でPPS樹脂のガラス転移点以下に冷却し、実質的に非晶状態の2層積層シートを得る。溶融押出装置は周知の装置が適用可能であるが、1軸または2軸のエクストルーダが簡便であり好ましく用いられる。   Next, the manufacturing method of the orientation layer (B) of this invention is demonstrated. The PPS resin composition and the copolymerized polyphenylene sulfide resin are supplied to separate melt extrusion apparatuses and heated to the melting point or higher of each raw material. Each raw material melted by heating is laminated in two or three layers in a molten state by a merging device provided between the melt extrusion device and the die outlet, and is extruded from the slit-like die outlet. Such a molten laminate is cooled on the cooling drum to below the glass transition point of the PPS resin to obtain a substantially amorphous two-layer laminate sheet. Although a well-known apparatus can be applied to the melt extrusion apparatus, a uniaxial or biaxial extruder is simple and preferably used.

次に、この未延伸フィルムを一軸延伸し、一軸配向、もしくは、二軸延伸し、二軸配向させる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法(長手方向に延伸した後に幅方向に延伸を行う方法などの一方向ずつの延伸を組み合わせた延伸法)、同時二軸延伸法(長手方向と幅方向を同時に延伸する方法)、又はそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ここでは、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延伸法を用いる。   Next, this unstretched film is uniaxially stretched and uniaxially oriented or biaxially stretched to be biaxially oriented. Stretching methods include sequential biaxial stretching methods (stretching methods that combine stretching in each direction, such as a method of stretching in the width direction after stretching in the longitudinal direction), and simultaneous biaxial stretching methods (in the longitudinal direction and the width direction). The method of extending | stretching simultaneously), or the method which combined them can be used. Here, a sequential biaxial stretching method in which stretching in the longitudinal direction and then in the width direction is performed first is used.

未延伸ポリフェニレンスルフィドフィルムを加熱ロール群で加熱し、延伸倍率は電気特性向上させる観点から長手方向(MD方向)に3〜4倍、好ましくは3.0〜3.5倍に1段もしくは2段以上の多段で延伸する(MD延伸)。延伸温度は、Tg(ガラス転移温度)〜(Tg+40)℃、好ましくは(Tg+5)〜(Tg+30)℃の範囲である。ここで、Tgとはポリフェニレンスルフィドのガラス転移温度を表すが、配向層(B)が積層フィルムの場合、すなわち、(B1)層と(B2)層から構成される場合、Tgが高い(B1)層に合わせて上記範囲で延伸することが好ましい。その後20〜50℃の冷却ロール群で冷却する。   An unstretched polyphenylene sulfide film is heated with a heated roll group, and the stretching ratio is 3 to 4 times in the longitudinal direction (MD direction), preferably 3.0 to 3.5 times, preferably 1 or 2 steps from the viewpoint of improving electrical properties. Stretching in the above multistage (MD stretching). The stretching temperature is in the range of Tg (glass transition temperature) to (Tg + 40) ° C., preferably (Tg + 5) to (Tg + 30) ° C. Here, Tg represents the glass transition temperature of polyphenylene sulfide, but when the alignment layer (B) is a laminated film, that is, when it is composed of (B1) and (B2) layers, Tg is high (B1). It is preferable to stretch in the above range according to the layer. Thereafter, it is cooled by a cooling roll group of 20 to 50 ° C.

MD延伸に続く幅方向(TD方向)の延伸方法としては、例えば、テンターを用いる方法が一般的である。このフィルムの両端部をクリップで把持して、テンターに導き、幅方向の延伸を行う(TD延伸)。延伸温度はTg〜(Tg+40)℃が好ましく、より好ましくは(Tg+5)〜(Tg+30)℃の範囲である。延伸倍率は破断伸度を向上させる観点から3〜4倍、好ましくは3.0〜3.5倍に1段もしくは2段以上の多段で延伸する(TD延伸)。   As a stretching method in the width direction (TD direction) following MD stretching, for example, a method using a tenter is common. The both ends of this film are gripped with clips, guided to a tenter, and stretched in the width direction (TD stretching). The stretching temperature is preferably Tg to (Tg + 40) ° C., more preferably (Tg + 5) to (Tg + 30) ° C. From the viewpoint of improving the elongation at break, the draw ratio is 3 to 4 times, preferably 3.0 to 3.5 times, and stretched in one or more stages (TD stretching).

次に、この延伸フィルムを緊張下で熱固定する。1段熱固定の場合の好ましい熱固定温度は240〜280℃であり、熱固定工程と緩和処理工程の合計時間は1〜10秒、好ましくは3〜8秒である。より好ましい熱処理は多段熱固定である。この場合、1段目の熱固定温度は160〜220℃、好ましくは180〜220℃であり、処理時間は1〜15秒、好ましくは1〜8秒である。続いて行う後段の熱固定の最高温度は240〜280℃、好ましくは、260〜280℃である。さらにこのフィルムを240〜280℃、より好ましく260〜280℃で幅方向に弛緩処理する。弛緩率は、0.1〜8%であることが好ましく、より好ましくは2〜5%の範囲である。240℃以上の後段の熱固定工程および弛緩処理工程の合計時間は1〜15秒が好ましく、さらに好ましくは2〜10秒である。   Next, this stretched film is heat-set under tension. The preferred heat setting temperature in the case of one-stage heat setting is 240 to 280 ° C., and the total time of the heat setting process and the relaxation treatment process is 1 to 10 seconds, preferably 3 to 8 seconds. A more preferable heat treatment is multistage heat setting. In this case, the heat setting temperature at the first stage is 160 to 220 ° C., preferably 180 to 220 ° C., and the treatment time is 1 to 15 seconds, preferably 1 to 8 seconds. Subsequently, the maximum temperature of the subsequent heat setting is 240 to 280 ° C, preferably 260 to 280 ° C. Furthermore, this film is subjected to a relaxation treatment in the width direction at 240 to 280 ° C, more preferably 260 to 280 ° C. The relaxation rate is preferably 0.1 to 8%, more preferably 2 to 5%. The total time of the subsequent heat setting step and the relaxation treatment step at 240 ° C. or higher is preferably 1 to 15 seconds, and more preferably 2 to 10 seconds.

さらに、フィルムを室温まで、必要ならば、長手および幅方向に弛緩処理を施しながら、フィルムを冷やして巻き取り、目的とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを得る。   Further, the film is cooled and rolled up to room temperature, if necessary, in the longitudinal and width directions, if necessary, to obtain the desired biaxially oriented polyphenylene sulfide film.

本発明で用いられる二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムはより強固な接着性を付与する観点から、共重合ポリフェニレンスルフィド層にコロナ放電処理やプラズマ処理を施すことも本発明の好ましい態様に含まれる。   From the viewpoint of imparting stronger adhesiveness to the biaxially oriented polyphenylene sulfide film used in the present invention, a preferred embodiment of the present invention includes subjecting the copolymerized polyphenylene sulfide layer to corona discharge treatment or plasma treatment.

上記で得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを金型に合わせて円形にカットし、直径150mm×厚み3mmの円盤状金型(中心部、ダイレクトゲート)にインサートした。次に射出成形機(住友重機製SE−100DU)にペレット状のポリアリーレンスルフィド樹脂組成物からなる成形基材(A)を導入し、上記金型に射出成形を行い、フィルムと射出成形樹脂の複合体を得た(金型温度、130℃、成形機樹脂温300〜350℃)。   The biaxially oriented polyphenylene sulfide film obtained above was cut into a circle according to the mold and inserted into a disk-shaped mold (center, direct gate) having a diameter of 150 mm and a thickness of 3 mm. Next, a molding base material (A) made of a pellet-like polyarylene sulfide resin composition is introduced into an injection molding machine (SE-100DU manufactured by Sumitomo Heavy Industries), injection molding is performed on the mold, and the film and the injection molding resin are made. A composite was obtained (mold temperature, 130 ° C., molding machine resin temperature 300-350 ° C.).

[特性の測定方法]
(1)樹脂およびフィルムの融解温度
JIS K7121―1987に準じて示差走査熱量計セイコーインスツルメンツ社製DSC(RDC220)、データ解析装置として同社製ディスクステーション(SSC/5200)を用いて、試料5mgをアルミニウム製受皿上で室温から340℃まで昇温速度20℃/分で昇温し、340℃で5分間溶融保持し、急冷固化して5分間保持した後、室温から昇温速度20℃/分で昇温した。そのとき、観測される融解の吸熱ピークのピーク温度を融解温度(Tm)とした。
(2)ガラス転移温度
JIS K7121−1987に準じて測定した。示差走査熱量計セイコーインスツルメンツ社製DSC(RDC220)、データ解析装置として同社製ディスクステーション(SSC/5200)を用いて、試料5mgをアルミニウム製受皿上350℃で5分間溶融保持し、急冷固化した後、室温から昇温速度20℃/分で昇温した。なお、ガラス転移温度(Tg)は下記式により算出した。
ガラス転移温度=(補外ガラス転移開始温度+補外ガラス転移終了温度)/2
(3)溶融粘度
溶融粘度はキャピログラフ1C(東洋精機(株)社製、ダイス長10mm、孔直径0.5〜1mm)を用い、310℃、剪断速度1000/秒の条件で測定した。
(4)灰分
白金皿を純水で洗浄後、700℃で1時間焼成しデシケーター内で乾燥する。本白金皿の重量を、化学天秤を用いて0.1mgまで精秤し、この値をAgとする。次に、ボリマー試料を白金皿の中におよそ5g採り、白金皿と試料の合計量を化学天秤で0.1mgまで精秤した。この値をBgとする。その後、ステンレスバットにボリマー試料の入った白金皿を乗せ、440℃にセットされた高温オーブン内に入れ5時間焼成し、次いで高温オーブン設定を500℃に上げ、500℃に達してから5時間焼成した。処理後、高温オーブン温度が300℃以下になるまで冷却し、300℃以下に達した後白金皿を乗せたステンレスバットを取り出し、デシケーター内で処理後の白金皿を12時間保管した。その後、白金皿をデシケーター中から取り出し、538℃で安定しているマッフル炉に入れ、6時間焼成した。処理後、白金皿をマッフル炉から取り出し、試料中に炭化物(黒色)が完全に無くなっていることを確認した。なお、僅かでも炭化物が認められる場合は、焼成をさらに実施する。焼成終了後、マッフル炉から白金皿を取りだし、汚れのないステンレスバットに乗せデシケーター内で30分冷却した後、白金皿の重量を化学天秤で0.1mgまで精秤した。この値をCgとする。以上の方法で測定した重量A、B、Cを用い、以下式に従って灰分を算出した。
灰分(重量%)=(C−A)/(B−A)×100
(5)ナトリウム濃度
白金皿を純水で洗浄後、700℃で1時間焼成しデシケーター内で乾燥した。本白金皿の重量を、化学天秤を用いて0.1mgまで精秤した。この値をAgとする。次に、ボリマー試料を白金皿の中におよそ5g採り、白金皿と試料の合計量を化学天秤で0.1mgまで精秤した。この値をBgとする。その後、ステンレスバットにボリマー試料の入った白金皿を乗せ、440℃にセットされた高温オーブン内に入れ5時間焼成し、次いで高温オーブン設定を500℃に上げ、500℃に達してから5時間焼成した。処理後、高温オーブン温度が300℃以下になるまで冷却し、300℃以下に達した後白金皿を乗せたステンレスバットを取り出し、デシケーター内で処理後の白金皿を12時間保管した。その後、白金皿をデシケーター中から取り出し、538℃で安定しているマッフル炉に入れ、6時間焼成した。処理後、白金皿をマッフル炉から取り出し、試料中に炭化物(黒色)が完全に無くなっていることを確認した。なお、僅かでも炭化物が認められる場合は、焼成をさらに実施する。焼成終了後、マッフル炉から白金皿を取りだし、汚れのないステンレスバットに乗せデシケーター内で30分冷却した。次いで、白金皿内に純水:塩酸=1:1(以下1:1塩酸と称する)の液体を約2ml加えた。塩酸は特級品を使用した。その後、ホットプレートを用い1:1塩酸の入った白金皿を加熱した。加熱は溶液が緩く沸騰する程度で実施した。蒸発乾固近くまでになったら加熱を止め、白金皿を室温に冷却した。その後、TPX製50mlメスフラスコにTPX製ロートを用いて白金皿の内容物をイオン交換水で洗浄しながら数回に分けメスフラスコ内に入れ、メスフラスコの標線をイオン交換水で合わせた。このように調整した試料液を用い、イオン交換水をブランクとして原子吸光測定装置を用いて測定実施する。具体的には、測定前にナトリウムを含む標準液を用い検量線を作成し、試料液をXml採取し、イオン交換水で希釈しYmlにし、検量線の範囲に来るよう濃度を調整し、本試料液を用い測定実施した。得られた値をCppmとする。以上の数値を用い、以下に従って金属濃度を算出した。
濃度[ppm]=C/(B−A)×50×Y/X
(6)インサート射出成形性
射出成形機(住友重機械工業株式会社製)を用い、直径150mmの円板型金型を用い、射出/冷却速度12/15秒で加工し、得られた一体成形品の配向層(B)を剥離し、配向層(B)が材料破壊することなく、元々の表面を有して剥離した場合、また、成形基材(A)と配向層(B)の界面に1mm以上の気泡が存在し、ふくれ、剥がれが発生し、界面剥離した場合は不良品とした。不良品発生率を次の基準で評価した。なお、加工個数は各試料100個ずつとする。
○:不良率が0%を超え5%以下
△:不良率が6%を超え20%以下
×:不良率が20%を超える。
[Measurement method of characteristics]
(1) Melting temperature of resin and film Using a differential scanning calorimeter DSC (RDC220) manufactured by Seiko Instruments Inc. according to JIS K7121-1987 and a disk station (SSC / 5200) manufactured by the same company as a data analysis device, 5 mg of a sample was made of aluminum. The temperature was raised from room temperature to 340 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min on a tray, melted and held at 340 ° C. for 5 minutes, rapidly solidified and held for 5 minutes, and then from room temperature at a heating rate of 20 ° C./min. The temperature rose. At that time, the peak temperature of the endothermic peak of melting observed was defined as the melting temperature (Tm).
(2) Glass transition temperature It was measured according to JIS K7121-1987. Using a differential scanning calorimeter DSC (RDC220) manufactured by Seiko Instruments Inc. and a disk station (SSC / 5200) manufactured by Seiko Instruments Inc. as a data analysis device, 5 mg of the sample was melted and held at 350 ° C. for 5 minutes on an aluminum tray, and rapidly cooled and solidified. The temperature was raised from room temperature at a heating rate of 20 ° C./min. The glass transition temperature (Tg) was calculated by the following formula.
Glass transition temperature = (extrapolated glass transition start temperature + extrapolated glass transition end temperature) / 2
(3) Melt Viscosity Melt viscosity was measured using Capillograph 1C (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., die length 10 mm, hole diameter 0.5 to 1 mm) under the conditions of 310 ° C. and shear rate 1000 / sec.
(4) After washing the ash platinum dish with pure water, it is fired at 700 ° C. for 1 hour and dried in a desiccator. The weight of the platinum dish is precisely weighed to 0.1 mg using an analytical balance, and this value is defined as Ag. Next, about 5 g of the polymer sample was taken in a platinum dish, and the total amount of the platinum dish and the sample was precisely weighed to 0.1 mg with an analytical balance. This value is Bg. After that, place a platinum dish containing a polymer sample on a stainless steel bat and place it in a high-temperature oven set at 440 ° C. and bake for 5 hours, then raise the high-temperature oven setting to 500 ° C. and bake for 5 hours after reaching 500 ° C. did. After the treatment, it was cooled until the high-temperature oven temperature became 300 ° C. or lower, and after reaching 300 ° C. or lower, the stainless steel vat on which the platinum plate was placed was taken out, and the treated platinum plate was stored in a desiccator for 12 hours. Thereafter, the platinum dish was taken out from the desiccator and placed in a muffle furnace stable at 538 ° C. and baked for 6 hours. After the treatment, the platinum dish was taken out of the muffle furnace, and it was confirmed that the carbide (black) was completely eliminated in the sample. If even a small amount of carbide is observed, firing is further performed. After the completion of firing, the platinum dish was taken out of the muffle furnace, placed on a clean stainless steel bat and cooled in a desiccator for 30 minutes, and then the weight of the platinum dish was precisely weighed to 0.1 mg with an analytical balance. This value is Cg. Using weights A, B, and C measured by the above method, ash content was calculated according to the following formula.
Ash content (% by weight) = (C−A) / (B−A) × 100
(5) After washing the sodium-plated platinum dish with pure water, it was fired at 700 ° C. for 1 hour and dried in a desiccator. The weight of the platinum dish was precisely weighed to 0.1 mg using an analytical balance. This value is Ag. Next, about 5 g of the polymer sample was taken in a platinum dish, and the total amount of the platinum dish and the sample was precisely weighed to 0.1 mg with an analytical balance. This value is Bg. After that, place a platinum dish containing a polymer sample on a stainless steel bat and place it in a high-temperature oven set at 440 ° C. and bake for 5 hours, then raise the high-temperature oven setting to 500 ° C. and bake for 5 hours after reaching 500 ° C. did. After the treatment, it was cooled until the high-temperature oven temperature became 300 ° C. or lower, and after reaching 300 ° C. or lower, the stainless steel vat on which the platinum plate was placed was taken out, and the treated platinum plate was stored in a desiccator for 12 hours. Thereafter, the platinum dish was taken out from the desiccator and placed in a muffle furnace stable at 538 ° C. and baked for 6 hours. After the treatment, the platinum dish was taken out of the muffle furnace, and it was confirmed that the carbide (black) was completely eliminated in the sample. If even a small amount of carbide is observed, firing is further performed. After firing, the platinum dish was taken out of the muffle furnace, placed on a clean stainless steel bat and cooled in a desiccator for 30 minutes. Next, about 2 ml of pure water: hydrochloric acid = 1: 1 (hereinafter referred to as 1: 1 hydrochloric acid) liquid was added to the platinum dish. Hydrochloric acid was a special grade product. Thereafter, a platinum dish containing 1: 1 hydrochloric acid was heated using a hot plate. Heating was performed to such an extent that the solution boiled gently. When it was nearly evaporated to dryness, the heating was stopped and the platinum dish was cooled to room temperature. Thereafter, the contents of the platinum dish were washed with ion-exchanged water using a TPX funnel in a TPX-made 50 ml volumetric flask in several times while being placed in the volumetric flask, and the marked line of the volumetric flask was aligned with ion-exchanged water. Using the sample solution thus adjusted, measurement is performed using an atomic absorption measuring apparatus with ion-exchanged water as a blank. Specifically, prepare a calibration curve using a standard solution containing sodium before measurement, collect Xml of the sample solution, dilute with ion-exchanged water to make Yml, adjust the concentration so that it falls within the range of the calibration curve, Measurement was performed using the sample solution. Let the obtained value be Cppm. Using the above numerical values, the metal concentration was calculated according to the following.
Concentration [ppm] = C / (BA) × 50 × Y / X
(6) Insert injection moldability Using an injection molding machine (manufactured by Sumitomo Heavy Industries, Ltd.), processing was performed at an injection / cooling rate of 12/15 seconds using a disk mold having a diameter of 150 mm, and the resulting integral molding was obtained. When the orientation layer (B) of the product is peeled off and the orientation layer (B) is peeled off with the original surface without material destruction, the interface between the molding substrate (A) and the orientation layer (B) When bubbles of 1 mm or more existed in the surface, blistering and peeling occurred, and the interface peeled, it was regarded as a defective product. The defect rate was evaluated according to the following criteria. The number of processed samples is 100 for each sample.
○: The defect rate exceeds 0% and 5% or less. Δ: The defect rate exceeds 6% and 20% or less. X: The defect rate exceeds 20%.

(参考例1)成形基材(A)PPS樹脂組成物の製造方法
[使用原材料](A)PPS−1:撹拌機および底栓弁付きの70リットルオートクレーブに、47.5%水硫化ナトリウム8.27kg(70.00モル)、96%水酸化ナトリウム2.94kg(70.63モル)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)11.45kg(115.50モル)、酢酸ナトリウム0.513kg(6.25モル)、及びイオン交換水3.82kgを仕込み、常圧で窒素を通じながら245℃まで約3時間かけて徐々に加熱し、水8.09kgおよびNMP0.28kgを留出した後、反応容器を200℃に冷却した。仕込みアルカリ金属硫化物1モル当たりの系内残存水分量は、NMPの加水分解に消費された水分を含めて1.06モルであった。また、硫化水素の飛散量は、仕込みアルカリ金属硫化物1モル当たり0.02モルであった。その後200℃まで冷却し、p−ジクロロベンゼン10.34kg(70.32モル)、NMP9.37kg(94.50モル)を加え、反応容器を窒素ガス下に密封し、240rpmで撹拌しながら0.6℃/分の速度で200℃から270℃まで昇温し、270℃で140分反応した。その後、270℃から250℃まで15分かけて冷却しながら水2.67kg(148.4モル)を圧入した。ついで250℃から220℃まで75分かけて徐々に冷却した後、室温近傍まで急冷し内容物を取り出した。内容物を約35リットルのNMPで希釈しスラリーとして85℃で30分撹拌後、80メッシュ金網(目開き0.175mm)で濾別して固形物を得た。得られた固形物を同様にNMP約35リットルで洗浄濾別した。得られた固形物を70リットルのイオン交換水で希釈し、70℃で30分撹拌後、80メッシュ金網で濾過して固形物を回収する操作を合計3回繰り返した。得られた固形物および酢酸32gを70リットルのイオン交換水で希釈し、70℃で30分撹拌後、80メッシュ金網で濾過し、更に得られた固形物を70リットルのイオン交換水で希釈し、70℃で30分撹拌後、80メッシュ金網で濾過して固形物を回収した。このようにして得られた固形物を窒素気流下、120℃で乾燥することにより、乾燥PPSを得た。得られたPPSは、溶融粘度が45Pa・s、灰分が0.02重量%、ナトリウム濃度85ppmであった。
このように重合したPPS樹脂100重量部にガラス繊維を67重量部配合し、2軸押出機で
溶融混練/ペレタイズを行った。
(参考例2)共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂の製造
オートクレ−ブに100モルの硫化ナトリウム9水塩、45モルの酢酸ナトリウムおよび25リットルのN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと略称する。)を仕込み、撹拌しながら徐々に220℃の温度まで昇温して、含有されている水分を蒸留により除去した。脱水の終了した系内に、主成分モノマとして91モルのp−ジクロベンゼン、副成分モノマとして10モルのm−ジクロロベンゼン、および0.2モルの1,2,4−トリクロルベンゼンを5リットルのNMPとともに添加し、170℃の温度で窒素を3kg/cmで加圧封入後、昇温し、260℃の温度にて4時間重合した。重合終了後冷却し、蒸留水中にポリマを沈殿させ、150メッシュ目開きを有する金網によって、小塊状ポリマを採取した。このようにして得られた小塊状ポリマを90℃の蒸留水により5回洗浄した後、減圧下120℃の温度にて乾燥して、溶融粘度が100Pa・sであり、融点が250℃の共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂を得た。次いで、平均粒径1.2μmの炭酸カルシウム粉末0.3重量%を添加し均一に分散配合して、320℃の温度にて30mmφ2軸押出機によりガット状に押出し、共重合ポリフェニレンスルフィドのペレットを得た。
(参考例3)PPS樹脂の製造
p−フェニレンスルフィド単位を主成分とするPPS樹脂は、主成分モノマとして101モルのp−ジクロベンゼンを用い、副成分モノマを用いないこと以外は参考例(2)の共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂の製造と同様に実施して、PPS樹脂を製造した。なお、PPS樹脂の溶融粘度は、300Pa・sであり、融点は283℃であった。
(実施例1)
参考例(2)および(3)で得られた共重合ポリフェニレンスルフィド樹脂およびPPS樹脂を、それぞれ180℃の温度で3時間、1mmHgの減圧下で乾燥後、別々のエクストルーダに供給し、溶融状態で口金上部にある二重管型の積層装置で2層になるように導き、続いて設けられたTダイ型口金から吐出させ、25℃の温度の冷却ドラムで急冷し、実質的に共重合ポリフェニレンスルフィド/PPSの2層積層シートを得た。次いで、得られた各積層シートを、表面温度95℃の複数の加熱ロールに接触走行させ、加熱ロールの次に設けられた周速の異なる30℃の冷却ロールとの間で長手方向に3.5倍延伸した。このようにして得られた1軸延伸シートを、テンターを用いて長手方向と直交方向に100℃の温度で3.7倍に延伸し、引き続いて温度200℃で4秒間熱処理(1段目熱処理)を行い、続いて260℃4秒間熱処理(2段目熱処理)を行った。引き続き、260℃の弛緩処理ゾーンで4秒間横方向に5%弛緩処理を行った後、室温まで冷却した後、フィルムエッジを除去し、共重合ポリフェニレンスルフィド/PPS(10/65μm)の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを得た。
Reference Example 1 Molded Substrate (A) Production Method of PPS Resin Composition [Raw Materials Used] (A) PPS-1: In a 70 liter autoclave with a stirrer and a bottom plug valve, 47.5% sodium hydrosulfide 8 .27 kg (70.00 mol), 96% sodium hydroxide 2.94 kg (70.63 mol), N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) 11.45 kg (115.50 mol), sodium acetate 0.513 kg ( 6.25 mol), and 3.82 kg of ion-exchanged water, and gradually heated to 245 ° C. over about 3 hours through nitrogen at normal pressure to distill water 8.09 kg and NMP 0.28 kg, followed by reaction. The vessel was cooled to 200 ° C. The residual water content in the system per 1 mol of the charged alkali metal sulfide was 1.06 mol including the water consumed for the hydrolysis of NMP. The amount of hydrogen sulfide scattered was 0.02 mol per mol of the charged alkali metal sulfide. Thereafter, the mixture was cooled to 200 ° C., 10.34 kg (70.32 mol) of p-dichlorobenzene and 9.37 kg (94.50 mol) of NMP were added, the reaction vessel was sealed under nitrogen gas, and stirred at 240 rpm. The temperature was raised from 200 ° C. to 270 ° C. at a rate of 6 ° C./min, and reacted at 270 ° C. for 140 minutes. Thereafter, 2.67 kg (148.4 mol) of water was injected while cooling from 270 ° C. to 250 ° C. over 15 minutes. Next, the mixture was gradually cooled from 250 ° C. to 220 ° C. over 75 minutes, and then rapidly cooled to near room temperature, and the contents were taken out. The contents were diluted with about 35 liters of NMP, stirred as a slurry at 85 ° C. for 30 minutes, and then filtered through an 80 mesh wire mesh (aperture 0.175 mm) to obtain a solid. The obtained solid was similarly washed and filtered with about 35 liters of NMP. The operation of diluting the obtained solid with 70 liters of ion-exchanged water, stirring at 70 ° C. for 30 minutes, and filtering through an 80 mesh wire net to collect the solid was repeated a total of 3 times. The obtained solid and 32 g of acetic acid were diluted with 70 liters of ion exchange water, stirred at 70 ° C. for 30 minutes, filtered through an 80 mesh wire mesh, and further obtained solids were diluted with 70 liters of ion exchange water. The mixture was stirred at 70 ° C. for 30 minutes and then filtered through an 80 mesh wire net to collect a solid. The solid material thus obtained was dried at 120 ° C. under a nitrogen stream to obtain dry PPS. The obtained PPS had a melt viscosity of 45 Pa · s, an ash content of 0.02% by weight, and a sodium concentration of 85 ppm.
67 parts by weight of glass fiber was blended with 100 parts by weight of the polymerized PPS resin and melt kneaded / pelletized with a twin screw extruder.
Reference Example 2 Production of Copolymerized Polyphenylene Sulfide Resin Autoclave with 100 moles of sodium sulfide nonahydrate, 45 moles of sodium acetate and 25 liters of N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP) Was gradually heated to a temperature of 220 ° C. while stirring, and the contained water was removed by distillation. In the system after dehydration, 5 liters of 91 mol of p-dichlorobenzene as a main component monomer, 10 mol of m-dichlorobenzene as a secondary component monomer, and 0.2 mol of 1,2,4-trichlorobenzene were added. It was added together with NMP, nitrogen was pressurized and sealed at 3 ° C./cm 2 at a temperature of 170 ° C., the temperature was raised, and polymerization was carried out at a temperature of 260 ° C. for 4 hours. After completion of the polymerization, the mixture was cooled, the polymer was precipitated in distilled water, and a small block polymer was collected with a wire mesh having a 150 mesh opening. The small block polymer thus obtained was washed five times with distilled water at 90 ° C. and then dried under reduced pressure at a temperature of 120 ° C. to obtain a melt viscosity of 100 Pa · s and a melting point of 250 ° C. A polymerized polyphenylene sulfide resin was obtained. Next, 0.3% by weight of calcium carbonate powder having an average particle size of 1.2 μm was added, uniformly dispersed and blended, and extruded into a gut shape at a temperature of 320 ° C. with a 30 mmφ twin-screw extruder, to produce copolymer polyphenylene sulfide pellets. Obtained.
Reference Example 3 Production of PPS Resin A PPS resin mainly composed of a p-phenylene sulfide unit uses 101 moles of p-dichlorobenzene as a main component monomer, except that no secondary component monomer is used. The PPS resin was produced in the same manner as in the production of the copolymer polyphenylene sulfide resin. The PPS resin had a melt viscosity of 300 Pa · s and a melting point of 283 ° C.
Example 1
The copolymerized polyphenylene sulfide resin and PPS resin obtained in Reference Examples (2) and (3) were each dried at a temperature of 180 ° C. for 3 hours under a reduced pressure of 1 mmHg, and then supplied to separate extruders in a molten state. The double pipe type laminating device at the top of the die is led to have two layers, then discharged from the T-die die provided, rapidly cooled with a cooling drum at a temperature of 25 ° C., and substantially copolymerized polyphenylene A two-layer laminate sheet of sulfide / PPS was obtained. Next, each obtained laminated sheet is caused to travel in contact with a plurality of heating rolls having a surface temperature of 95 ° C., and in the longitudinal direction between 30 ° C. cooling rolls having different peripheral speeds provided next to the heating roll. Stretched 5 times. The uniaxially stretched sheet thus obtained was stretched 3.7 times at a temperature of 100 ° C. in a direction perpendicular to the longitudinal direction using a tenter, and subsequently heat treated at 200 ° C. for 4 seconds (first stage heat treatment). Followed by heat treatment (second-stage heat treatment) at 260 ° C. for 4 seconds. Subsequently, after 5% relaxation treatment in the transverse direction for 4 seconds in a 260 ° C. relaxation treatment zone, the film edge was removed after cooling to room temperature, and biaxial orientation of copolymerized polyphenylene sulfide / PPS (10/65 μm) A polyarylene sulfide film was obtained.

得られた二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムの共重合ポリフェニレンスルフィド側を射出成形側にくるようにインサートし、参考例1で得られたPPS樹脂を射出温度330℃、射出圧力40MPaで射出し、金型80℃、PPS樹脂組成物成形基材−フィルムの一体成形体を作製した。得られた成形体の不良率は、成形体100個中3個であり、不良率が5%未満であった。
(実施例2)
実施例1と同様にしてあらかじめ射出成形して得られた成形基材の表面に、実施例1で用いた共重合ポリフェニレンスルフィド/PPS(10/65μm)の二軸配向ポリアリーレンスルフィドフィルムを260℃、300kg/cm2の圧力をかけて熱プレスして、PPS樹脂組成物成形基材−フィルムの一体成形体を作製した。得られた成形体の不良率は、成形体100個中10個であり、不良率が10%であった。
(実施例3)
参考例3のPPS樹脂のみを用いること以外は実施例1と同様にして二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを得た。得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムを参考例5と同様にしてインサート射出成形し、PPS樹脂組成物成形体−フィルムの成形体を作製した。得られた成形体の不良率は、成形体100個中50個であり、不良率が50%であった。
(比較例1)
接着剤:ウレタン系接着剤、“アドコート”76P1
上記の接着剤の主剤と硬化剤の混合比を主剤/硬化剤=100/8とし酢酸エチルで固形分濃度が32%になるように調整し、グラビアロール法で実施例3で得られた二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムのコロナ放電処理面に塗布した。乾燥条件は、80℃で3分間であり、塗布厚みは乾燥後で8μmにように調整した。また、実施例1でPPS樹脂組成物成形基材のみを射出成形して作製したものを、接着剤層側が成形基材側となるよう配置し、PPS樹脂組成物成形体−接着剤フィルムの成形体を80℃、10MPaでプレス圧着して作製した。得られた成形体を60℃の温度で50時間加熱し、接着剤を硬化させた。成形体の不良率は、成形体100個中100個であり、不良率100%であった。
(比較例2)
接着剤:“ケミットエポキシ”TE5920(東レ(株)社製)固形分濃度30wt%
接着剤の配合:A剤/B剤=15/100
グラビアロール法で比較例1と同様に二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムのコロナ放電処理面に塗布したのち、乾燥条件を100℃、3分とする以外は比較例1と同様にしてPPS樹脂組成物成形体−フィルムの成形体を作製した。得られた成形体を150℃の温度で1時間加熱し、接着剤を硬化させた。成形体の不良率は、成形体100個中100個であり、不良率100%であった。
Insert the copolymer polyphenylene sulfide side of the obtained biaxially oriented polyarylene sulfide film so as to be on the injection molding side, and inject the PPS resin obtained in Reference Example 1 at an injection temperature of 330 ° C. and an injection pressure of 40 MPa. An integral molded body of a mold at 80 ° C. and a PPS resin composition molded substrate-film was produced. The defective rate of the obtained molded body was 3 out of 100 molded bodies, and the defective rate was less than 5%.
(Example 2)
The biaxially oriented polyarylene sulfide film of copolymerized polyphenylene sulfide / PPS (10/65 μm) used in Example 1 was applied to the surface of the molding substrate obtained by injection molding in the same manner as in Example 1 at 260 ° C. The PPS resin composition molded substrate-film integral molded body was produced by hot pressing under a pressure of 300 kg / cm 2. The defective rate of the obtained molded body was 10 out of 100 molded bodies, and the defective rate was 10%.
(Example 3)
A biaxially oriented polyphenylene sulfide film was obtained in the same manner as in Example 1 except that only the PPS resin of Reference Example 3 was used. The obtained biaxially oriented polyphenylene sulfide film was subjected to insert injection molding in the same manner as in Reference Example 5 to prepare a PPS resin composition molded body-film molded body. The defective rate of the obtained molded body was 50 out of 100 molded bodies, and the defective rate was 50%.
(Comparative Example 1)
Adhesive: Urethane adhesive, “Ad Coat” 76P1
The mixing ratio of the main agent and the curing agent of the above-mentioned adhesive was adjusted so that the main agent / curing agent = 100/8, and the solid content concentration was adjusted to 32% with ethyl acetate. It applied to the corona discharge treatment surface of the axially oriented polyphenylene sulfide film. The drying conditions were 80 ° C. for 3 minutes, and the coating thickness was adjusted to 8 μm after drying. Moreover, what was produced by injection-molding only the PPS resin composition molded substrate in Example 1 was placed so that the adhesive layer side was the molded substrate side, and the PPS resin composition molded article-adhesive film was molded. The body was produced by press-bonding at 80 ° C. and 10 MPa. The obtained molded body was heated at a temperature of 60 ° C. for 50 hours to cure the adhesive. The defective rate of the molded body was 100 out of 100 molded bodies, and the defective rate was 100%.
(Comparative Example 2)
Adhesive: “Chemit Epoxy” TE5920 (manufactured by Toray Industries, Inc.) Solid content concentration 30 wt%
Adhesive formulation: Agent A / Agent B = 15/100
The PPS resin composition was molded in the same manner as in Comparative Example 1 except that it was applied to the corona discharge-treated surface of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film by the gravure roll method in the same manner as in Comparative Example 1, and then the drying conditions were 100 ° C. and 3 minutes. A body-film compact was produced. The obtained molded body was heated at a temperature of 150 ° C. for 1 hour to cure the adhesive. The defective rate of the molded body was 100 out of 100 molded bodies, and the defective rate was 100%.

本発明の成形体は、樹脂組成物成形基材とフィルムとが接着剤を介することなく一体化された成形体であり、電気絶縁用、回路基板用、一般工業用等に幅広く用いることが可能であり、特に電気絶縁用途に好適であり、産業上有用である。   The molded article of the present invention is a molded article in which the resin composition molding substrate and the film are integrated without using an adhesive, and can be widely used for electrical insulation, circuit boards, general industrial use, etc. It is particularly suitable for electrical insulation and is industrially useful.

Claims (2)

脱イオン処理を施されたポリアリーレンスルフィドを含有する樹脂組成物からなる成形基(A)と、p−フェニレンスルフィドを主成分とする樹脂組成物からなる配向層(B)からなる成形体であり、配向層(B)がp−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)の少なくとも片側に、p−フェニレンスルフィド以外の少なくとも1種以上の共重合成分を有する共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)が積層され、破断伸度が100%以上、150%以下で、配向層(B)のレーザーラマン分光により得られる配向パラメータが2.0〜8.0である積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムからなり、成形基材(A)と配向層(B)とが接着剤を介することなくインサート成形法により一体化されてなることを特徴とする成形体。 A molded body comprising a molding group (A) comprising a resin composition containing polyarylene sulfide subjected to deionization treatment and an alignment layer (B) comprising a resin composition comprising p-phenylene sulfide as a main component. Copolymer polyphenylene in which the alignment layer (B) has at least one copolymer component other than p-phenylene sulfide on at least one side of the biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) mainly composed of p-phenylene sulfide. Laminated biaxial orientation in which the sulfide layer (B2) is laminated, the elongation at break is 100% or more and 150% or less, and the orientation parameter obtained by laser Raman spectroscopy of the orientation layer (B) is 2.0 to 8.0. It is made of polyphenylene sulfide film, and the molding substrate (A) and orientation layer (B) are insert molded without any adhesive. Molded body characterized by comprising integrated by. p−フェニレンスルフィドを主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム層(B1)の少なくとも片側に、p−フェニレンスルフィド以外の少なくとも1種以上の共重合成分を有する共重合ポリフェニレンスルフィド層(B2)が積層された破断伸度が100%以上、150%以下で、配向層(B)のレーザーラマン分光により得られる配向パラメータが2.0〜8.0である積層二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルムである配向層(B)をあらかじめ賦形したのち金型に配置し、配向層(B)の共重合ポリフェニレンスルフィド層側にポリアリーレンスルフィドを含有する樹脂組成物からなる成形基材(A)を射出成形して一体化するインサート成形方法。 A copolymer polyphenylene sulfide layer (B2) having at least one copolymer component other than p-phenylene sulfide is laminated on at least one side of a biaxially oriented polyphenylene sulfide film layer (B1) mainly composed of p-phenylene sulfide. An alignment layer which is a laminated biaxially oriented polyphenylene sulfide film having a fracture elongation of 100% or more and 150% or less and an alignment parameter obtained by laser Raman spectroscopy of the alignment layer (B) of 2.0 to 8.0 (B) is pre-shaped and then placed in a mold, and a molding substrate (A) made of a resin composition containing polyarylene sulfide on the copolymer polyphenylene sulfide layer side of the orientation layer (B) is injection molded. Integrated insert molding method.
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