JP5363087B2 - 不飽和炭化水素系前駆体を安定化するための安定剤 - Google Patents
不飽和炭化水素系前駆体を安定化するための安定剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5363087B2 JP5363087B2 JP2008318896A JP2008318896A JP5363087B2 JP 5363087 B2 JP5363087 B2 JP 5363087B2 JP 2008318896 A JP2008318896 A JP 2008318896A JP 2008318896 A JP2008318896 A JP 2008318896A JP 5363087 B2 JP5363087 B2 JP 5363087B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- oxyl
- nbde
- combinations
- stabilizer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 title claims abstract description 106
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 title claims abstract description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title abstract description 47
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 title abstract description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 34
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- YLFIGGHWWPSIEG-UHFFFAOYSA-N aminoxyl Chemical compound [O]N YLFIGGHWWPSIEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- NBBQQQJUOYRZCA-UHFFFAOYSA-N diethoxymethylsilane Chemical compound CCOC([SiH3])OCC NBBQQQJUOYRZCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 39
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 34
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 23
- -1 4-tert-butylbenzoic acid 1-oxyl-2,2,6,6-tetramethylpiperidine- -Yl Chemical class 0.000 claims description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 21
- UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-TEMPO Chemical group CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1[O] UZFMOKQJFYMBGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 17
- SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N norbornadiene Chemical compound C1=CC2C=CC1C2 SJYNFBVQFBRSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 16
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 12
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 claims description 11
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 11
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 claims description 11
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 11
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 claims description 11
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 11
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N TEMPO Chemical group CC1(C)CCCC(C)(C)N1[O] QYTDEUPAUMOIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical group OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000004213 tert-butoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(O*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N (4-dodecoxy-2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ARVUDIQYNJVQIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KMEUSKGEUADGET-UHFFFAOYSA-N 1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)N1O KMEUSKGEUADGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JPHYFFRXJKGOED-UHFFFAOYSA-N 3-dodecyl-1-(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)pyrrolidine-2,5-dione Chemical compound O=C1C(CCCCCCCCCCCC)CC(=O)N1C1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 JPHYFFRXJKGOED-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BGLKXHNUOPUFCL-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-1-[2-(4-hydroxy-3,3,5,5-tetramethyl-2-oxopiperazin-1-yl)ethyl]-3,3,5,5-tetramethylpiperazin-2-one Chemical compound O=C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CN1CCN1C(=O)C(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 BGLKXHNUOPUFCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 3
- MYKPPUUOBUFFML-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC2CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C2)C=C1 MYKPPUUOBUFFML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZXDIQRGIYADNBI-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) butanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CC1OC(=O)CCC(=O)OC1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 ZXDIQRGIYADNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl nitroxide Chemical group CC(C)(C)N([O])C(C)(C)C CKJMHSMEPSUICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DRFYZAIGLPMIOS-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzoate Chemical compound C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1 DRFYZAIGLPMIOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 4-t-Butylbenzoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KDVYCTOWXSLNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L isophthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC(C([O-])=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 claims description 2
- ZLYAGALLESTDLY-UHFFFAOYSA-N 2-butylpropanedioic acid 1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CCCCC(C(=O)O)C(=O)O.ON1C(CCCC1(C)C)(C)C ZLYAGALLESTDLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WJZRRMYMGWLZDY-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 WJZRRMYMGWLZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SXPLGYBFGPYAHS-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 SXPLGYBFGPYAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SIXHNVLZVKYFOR-UHFFFAOYSA-N bis(1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) hexanedioate Chemical compound C1C(C)(C)N(O)C(C)(C)CC1OC(=O)CCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 SIXHNVLZVKYFOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims 2
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 claims 2
- IYKZUARSRNSVTC-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)N(O)C(C)(C)C1 IYKZUARSRNSVTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VUZNLSBZRVZGIK-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethyl-1-piperidinol Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1O VUZNLSBZRVZGIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 claims 1
- QRXHWEDOVMXHKT-UHFFFAOYSA-N C(C=1C(C(=O)O)=CC=CC1)(=O)O.ON1C(CCCC1(C)C)(C)C Chemical compound C(C=1C(C(=O)O)=CC=CC1)(=O)O.ON1C(CCCC1(C)C)(C)C QRXHWEDOVMXHKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 claims 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 51
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 73
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 63
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 63
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 59
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 40
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 32
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 30
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 27
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 27
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 27
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 25
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 24
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 23
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 23
- 239000010408 film Substances 0.000 description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 18
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 18
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000004322 Butylated hydroxytoluene Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 12
- 239000003361 porogen Substances 0.000 description 12
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 11
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 10
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylcatechol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N (2,3-dihydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O DEQUKPCANKRTPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 5
- 238000000005 dynamic secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 4
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 4
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 4
- 0 *c1c(*)c(*)c(C(c2c(*)c(*)c(*)c(*)c2*)=O)c(*)c1* Chemical compound *c1c(*)c(*)c(C(c2c(*)c(*)c(*)c(*)c2*)=O)c(*)c1* 0.000 description 3
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical group 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000009533 lab test Methods 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100504388 Arabidopsis thaliana GFS12 gene Proteins 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- CRPUJAZIXJMDBK-UHFFFAOYSA-N camphene Chemical compound C1CC2C(=C)C(C)(C)C1C2 CRPUJAZIXJMDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 2
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 2
- YHQGMYUVUMAZJR-UHFFFAOYSA-N α-terpinene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)CC1 YHQGMYUVUMAZJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYOGZVTWMZNTGL-UDRCNDPASA-N (1z,5z)-1,5-dimethylcycloocta-1,5-diene Chemical compound C\C1=C\CC\C(C)=C/CC1 RYOGZVTWMZNTGL-UDRCNDPASA-N 0.000 description 1
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- TXNWMICHNKMOBR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylcyclohexene Chemical compound CC1=C(C)CCCC1 TXNWMICHNKMOBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQBKAYONUCKYKT-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butylcyclohexene Chemical compound CC(C)(C)C1=CCCCC1 GQBKAYONUCKYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-L 2-butylpropanedioate Chemical compound CCCCC(C([O-])=O)C([O-])=O MCRZWYDXIGCFKO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KCAZSAYYICOMMG-UHFFFAOYSA-N 6-hydroperoxy-6-oxohexanoic acid Chemical compound OOC(=O)CCCCC(O)=O KCAZSAYYICOMMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSTYNZDAOAEEKG-UHFFFAOYSA-N Mayol Natural products CC1=C(O)C(=O)C=C2C(CCC3(C4CC(C(CC4(CCC33C)C)=O)C)C)(C)C3=CC=C21 WSTYNZDAOAEEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNYFCZHZIDFZMZ-UHFFFAOYSA-N ON1C(CC(CC1(C)C)N1C(CCCCC1)=O)(C)C.C(CCCCC(=O)N)(=O)N Chemical compound ON1C(CC(CC1(C)C)N1C(CCCCC1)=O)(C)C.C(CCCCC(=O)N)(=O)N WNYFCZHZIDFZMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXRCIOIWVGAZEP-UHFFFAOYSA-N Primaeres Camphenhydrat Natural products C1CC2C(O)(C)C(C)(C)C1C2 PXRCIOIWVGAZEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N alpha-Fenchene Natural products C1CC2C(=C)CC1C2(C)C XCPQUQHBVVXMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 229940095259 butylated hydroxytoluene Drugs 0.000 description 1
- 229930006739 camphene Natural products 0.000 description 1
- ZYPYEBYNXWUCEA-UHFFFAOYSA-N camphenilone Natural products C1CC2C(=O)C(C)(C)C1C2 ZYPYEBYNXWUCEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N caproic acid ethyl ester Natural products CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000009614 chemical analysis method Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002443 hydroxylamines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/01—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C7/00—Purification; Separation; Use of additives
- C07C7/20—Use of additives, e.g. for stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/32—Compounds containing nitrogen bound to oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2602/00—Systems containing two condensed rings
- C07C2602/36—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common
- C07C2602/42—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common the bicyclo ring system containing seven carbon atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
Description
(a)ヒドロキシベンゾフェノン系安定剤、ニトロキシルラジカル系安定剤及びヒドロキノン系安定剤からなる群から選択された安定剤を不飽和炭化水素系前駆体に加える工程、並びに
(b)工程(a)の混合物を少なくとも1つの極性溶媒と接触させる工程
を含む方法である。
R1〜R4は独立して、NO基に対して立体障害を起こす程の鎖長を有する、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル又はアルケニル基(ただし、置換基は、ヒドロキシル基、カルボニル基、アルコキシド基、及びカルボキシル基からなる群から選択された酸素含有基を含む)から選択され、
R5及びR6は独立して、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル基又はアルケニル基から選択される)
で表される。
これらの2種類の物質は、ヒドロキシベンゾフェノン及びニトロキシルラジカルである。キノン又はフェノール酸化防止剤と違って、これら2種類の防止剤には、最適に利用するために酸素が存在する必要が無い。
中点「●」は1つの不対電子を示し、
さらに窒素原子は2つの炭素原子と結合していて、
R1〜R4は、同一又は異なった、NO基に立体障害を起こす程の鎖長の、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル又はアルケニル基(ただし、置換基はヒドロキシル基、カルボニル基、アルコキシド基、カルボキシル基、これらの置換基などのような酸素含有基を含んでよい)であり、
R5及びR6は同一の又は異なる、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル又はアルケニル基であり、さらに様々な架橋基により結合して環状構造を形成してよく、例えば、別の飽和、部分的に不飽和若しくは芳香族の環と縮合していてよく、前述の環状構造又は環構造のいずれかは、例えば、直鎖若しくは分岐鎖アルキル基、又はヒドロキシル基、カルボニル基、アルコキシド基、カルボキシル基のような酸素含有基、これらの置換体などのような、環の置換基を有してよい。
直前に蒸留したNBDEの残留物量の評価
回転式エバポレーターを用いて、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留物をGCにより分析すると、分析上の純度は99.4%であった。空の、洗浄されている1.2L石英製バブラーの風袋質量を排気後に記録した。先にバブラーにガス吸気口及び排気口(いずれもテフロン(登録商標)弁を取り付けられている)を取り付けた。バブラーの吸気口は、容器の底から1/8インチ以内まで達する浸漬管を有する。約600gのNBDEを窒素含有乾燥ボックス内の石英製バブラーに加えた。バブラーを再秤量してNBDEの質量を決めた。研究品質のHeのシリンダーをバブラー吸気管につないだ。バブラー温度を35℃に上げてNBDEの蒸気圧を上げた。Heをバブラーによって3.0SLPM(標準L/分)の流速で4時間パージしてNBDEを蒸発させた。この時点で、バブラー温度を80℃に上げ、バブラーを2.0時間排気して安定質量を得た。本実験を2回行なった。この2回の不揮発性残留物の質量は0.59g及び<0.01gであり、0.05質量%の平均残留物量に相当した。実験結果を表1にまとめる。
外気温度で保管されたNBDEの分解速度の評価
13.0LのNBDEのサンプルを大気圧蒸留で精製した。蒸留したサンプルをGCにより分析すると、分析上の純度は99.4%であった。サンプルは薬品保管庫内に計287日間保管した。この時点で、実施例1で説明したように、前洗浄して事前に風袋測定したバブラーの中に約200gのNBDEを入れた。バブラーを35℃において3.0SLPMで4.0時間動かして、NBDEを蒸発させた。バブラー温度を80℃に上げ、バブラーを2.0時間排気して安定質量を得た。排気工程後にバブラーの最終質量を記録して、不揮発性残留物の質量を決定した。本実験を2回行なった。この2回の不揮発性残留物の質量は2.29g及び2.24gであり、1.12質量%の平均残留物量に相当した。これは、残留物の質量と287日間の経時変化を基準にすると、1.63ppm/時間の分解速度と等しい。実験結果を表1にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの安定化されていないNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。約150〜200gの蒸留したNBDEを、実施例1で説明したような洗浄済みの事前に風袋測定したバブラーに入れた。バブラーをオーブンの中に入れて80℃で7日間保持した。本研究では次の2つの理由から80℃の温度を選択した。
(1)分解速度が、10℃の温度上昇ごとに倍増する単純なアレニウス型挙動に従うと仮定して、80℃での7日間は、サンプルを外気温度で1年間経時変化させると起こるであろう分解の量を想定するように意図されている。
(2)化学気相成長ハードウェア内の混ぜ鉢及び/又は堆積室より前で前駆体を蒸発させるのに使われる加熱された連結管の常温が、80℃である。
7日間後に石英製バブラーを80℃のオーブンから出した。Heを3SLPMで6時間パージしながら、バブラーを35℃に保持した。この時点で、バブラー温度を80℃に上げ、バブラーを2.0時間排気して安定質量を得た。排気工程後にバブラーの最終質量を記録して、不揮発性残留物の質量を決定した。各種の安定剤を評価する「対照」に使うので、本実験を計6回行った。これらの平均不揮発性残留物量は4.33質量%であり、258ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmのBHTで安定化されたNBDEの分解速度の評価
典型的には、NBDEの市販サンプルは、BHTで安定化されている。本実施例では、比較実験を行なって、安定剤としてBHTを用いたときのNBDEの分解速度を評価した。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmのTBCで安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmのTBC(p‐tert‐ブチルカテコール)安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は2.64質量%であり、157ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が39.1%減少したことを示す。実験結果を表1及び図3にまとめる。
容器の上部に酸素を8体積%含むときの200ppmのTBCで安定化されたNBDEの分解速度の評価
典型的には、安定剤と併用した酸素の利用は、化学物質の輸送中及び保管中の安定性を高めるために行なわれる。酸素が、保管されている液体の上部にあるガスの5〜20%を占めている容器中に、重合性化学物質を保管することにより実現できる。この態様では、酸素は炭化水素液に溶けるので、重合反応の抑制を促進できる。酸素を窒素又はヘリウムなどの不活性ガスで希釈して、容器の上部のガス中に好ましい酸素含有量を与えることができる。一般に、材料が安定化される不燃性の環境を確保するために使われる。また、好ましいガス状酸素含有量にするために、適切な量の外気を容器の中に入れてよい。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmのMHQで安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmのMHQ(メチルヒドロキノン)安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.79質量%であり、47ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が81.7%減少したことを示す。実験結果を表1及び図3にまとめる。
容器の上部に酸素を5体積%含むときの200ppmのMHQで安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmのMHQ安定剤を混ぜた。実施例1で説明したように、MHQで安定化されたNBDE約150g(約180mL)を窒素乾燥ボックス内の500mL石英製バブラーに加えた。バブラーを乾燥ボックスから取り出した。シリンジを使って、16sccm(標準立方センチメートル)の窒素をバブラー上部から抜いた。その後に、酸素ガスをバブラーの中に再注入することにより、16sccmの研究品質の酸素を容器の上部に加えた。このように調製されたNBDEのバブラーの上部には、形式上5体積%の酸素がある。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.39質量%であり、23ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が91.1%減少したことを示す。実験結果を表1及び図3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmのHQMMEで安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmのHQMME(ヒドロキノンモノメチルエーテル)安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.90質量%であり、53ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が79.3%減少したことを示す。実験結果を表1及び図3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの50ppmのHQMMEで安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに50質量ppmのHQMME安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。2回分の111g及び130gのNBDEを用いて、この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は1.42質量%であり、84ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が67.3%減少したことを示す。実験結果を表1及び図3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの500ppmのHQMMEで安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに500質量ppmのHQMME安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDE(209g)を加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。その不揮発性残留物量を測定すると1.73質量%であり、103ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が60.1%減少したことを示す。実験結果を表1及び図3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmの2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(2H4MB)で安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmの2H4MB安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.33質量%であり、20ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が92.3%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmの2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)で安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmの24DHB安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.21質量%であり、12ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が95.2%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmの2、2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)で安定化されたNBDEの分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmの22DH4MB安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.21質量%であり、13ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が95.1%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの80℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.02質量%であり、1ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が99.4%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの50ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの80℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに50質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.04質量%であり、3ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が99.0%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの20ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの80℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに20質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.10質量%であり、6ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が97.7%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの5ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの80℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに5質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で6日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。その不揮発性残留物量は0.13質量%であり、9ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が96.5%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmの4H‐TEMPOで安定化されたNBDEの80℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmの4H‐TEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で6日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.10質量%であり、7ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が97.2%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの20ppmの4H‐TEMPOで安定化されたNBDEの80℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに20質量ppmの4H‐TEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、80℃で6日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.08質量%であり、6ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が97.8%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの200ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの60℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに200質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、60℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.02質量%であり、1ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が99.5%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの50ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの60℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに50質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、60℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.06質量%であり、3ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が98.7%減少したこと示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
加速経時変化条件を用いたときの20ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの60℃における分解速度の評価
実施例1で説明したように、NBDEのサンプルをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。蒸留したNBDEに20質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、60℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝して、次にHeをパージして不揮発性残留物の量を決定した。この試験を2回行なった。これら2回の平均不揮発性残留物量は0.03質量%であり、2ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。安定化されていないNBDEと比べて、分解速度が99.3%減少したことを示す。実験結果を表1並びに図2及び3にまとめる。
経時変化した、安定化されていないNBDEと極性溶媒のDEMSとの混合
本実施例では、徐々に溶媒の実質的な極性を高めることにより、非極性オリゴマーを強制的に沈殿させる。窒素含有乾燥ボックス内で作業しながら、102.0gの安定化されていないNBDE(ただし、外気温度で287日間経時変化させたもの)を200mLパイレックス(登録商標)ボトルの中に入れた。同質量のDEMSを、2本目の同型のパイレックス(登録商標)ボトルの中に入れた。NBDEとDEMSは両方ともに、残留物や沈殿の兆候の無い透明、無色の液体であった。DEMSをNBDEに静かに加えて、2つの液体を混合した。約20gのDEMSを追加した後に、DEMS‐NBDE混合物には少量の白色の完全な沈殿物が見られた。DEMSの残りをNBDEに加えるにつれて、この沈殿物はより目立つようになった。白色沈殿物は、徐々にパイレックス(登録商標)容器の底に沈んだ。パイレックス(登録商標)容器の中身をシュレンク管に移した。このフラスコを室温で4時間、動的真空状態にしてから、1.20gの白色固体を残して、DEMSとNBDEの液を取り出した。この不揮発性固体残留物の質量は、NBDEの初期質量の1.18質量%に相当する。これは、1.71ppm/時間の外気温度における分解速度に等しい。この方法で決定した残留物の質量%は、図2及び3に示したHeパージ不揮発性残留物量試験によって測定された残留物の量とよく一致している。
経時変化した、安定化されていないNBDEをDEMSと混合したときの沈殿物の評価
実施例1で説明したように、回転式エバポレーターを用いて、NBDEをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。GCにより蒸留物を分析すると、分析上の純度は99.4%であった。安定剤はNBDEに加えなかった。実施例3で説明したように、石英製バブラー内で、80℃で7日間加熱することにより、安定化されていないNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。2回分の87.64g及び90.23gのNBDEを用いて、この試験を2回行なった。80℃のオーブンから2つのバブラーを取り出したときに、NBDE液の沈殿や変退色の兆候は見られなかった。NBDEを室温に冷却した後に、溶解しているオリゴマー分解生成物を沈殿させるために、注入管を通してDEMSを各バブラーに静かに入れた。35〜40gのDEMSを安定化されていないNBDEに加えた後に、最初の完全な沈殿が見られた。各バブラーのDEMSに対するNBDEの質量比が1になるまで、追加のDEMSを加えた。この時点で、大量の白沈が見られ、かなりの量のオリゴマー分解生成物が存在することを示唆した。バブラーを30℃で4時間、動的真空状態にして、次に最後の排気を80℃で1時間行なうと、0.73gと1.04gの白色の固体残留物が残った。この量は、NBDEの初期質量を基準として平均不揮発性残留物量が1.00%であることを示し、59ppm/時間の80℃での分解速度に相当する。
200ppmのHQMMEで安定化された、経時変化したNBDEとDEMSとを混合したときの沈殿物の減少量の評価
実施例1で説明したように、回転式エバポレーターを用いて、NBDEをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。GCにより蒸留物を分析すると、分析上の純度は99.4%であった。NBDEに200質量ppmのHQMME安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、石英製バブラー内で、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。2回分の98.77gと71.93gのNBDEを用いて、この試験を2回行なった。80℃のオーブンから2つのバブラーを取り出したとき、NBDE液の沈殿や変退色の兆候は見られなかった。NBDEを室温に冷却した後に、溶解しているオリゴマー分解生成物を沈殿させるために、注入管を通してDEMSを各バブラーに静かに加えた。各バブラーのDEMSに対するNBDEの質量比が1になるまで、DEMSを加え続けた。2つのバブラーのそれぞれに、かすかに濁った溶液ができたので、溶液から少量のオリゴマーが沈殿したことが分かった。バブラーを30℃で4時間、動的真空状態にして、次に最後の排気を80℃で1時間行なうと、0.17gと0.14gの白色の固体残留物が残った。この量は、NBDEの初期質量を基準として平均不揮発性残留物量が0.18質量%であることを示し、11ppm/時間の80℃での分解速度に相当した。実施例13で説明したものと同じ経時変化条件の安定化されていないNBDEを沈殿させたときと比べて、分解速度が82%減少したことを示す。実験結果を表2にまとめる。
200ppmのMHQで安定化された、経時変化したNBDEとDEMSとを混合したときの沈殿物の減少量の評価
実施例1で説明したように、回転式エバポレーターを用いて、NBDEをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。GCにより蒸留物を分析すると、分析上の純度は99.4%であった。NBDEに200質量ppmのMHQ安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、石英製バブラー中で80℃において7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。2回分の105.17gと98.53gのNBDEを用いて、この試験を2回行なった。80℃のオーブンから2つのバブラーを取り出したとき、NBDE液の沈殿や変退色の兆候は見られなかった。NBDEを室温に冷却した後に、溶解しているオリゴマー分解生成物を沈殿させるために、注入管を通してDEMSを各バブラーに静かに加えた。各バブラーのDEMSに対するNBDEの質量比が1になるまで、DEMSを加え続けた。生成したNBDE‐DEMS混合物は、沈殿の兆候の見られない無色透明のままであった。バブラーを30℃で4時間、動的真空状態にして、次に最後の排気を80℃で1時間行なうと、0.10gと0.03gの白色の固体残留物が残った。この量は、NBDEの初期質量を基準として平均不揮発性残留物量が0.06質量%であることを示し、4ppm/時間の分解速度に相当した。実施例13で説明したものと同じ経時変化条件の安定化されていないNBDEを沈殿させたときと比べて、分解速度が94%減少することを示す。実験結果を表2にまとめる。
200ppmの22DH4MBで安定化された、経時変化したNBDEとDEMSとを混合したときの沈殿物の減少量の評価
実施例1で説明したように、回転式エバポレーターを用いて、NBDEをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。GCにより蒸留物を分析すると、分析上の純度は99.4%であった。NBDEに200質量ppmの22DH4MB安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、石英製バブラー中で80℃において7日間加熱して、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。2回分の111.53gと106.22gのNBDEを用いて、この試験を2回行なった。80℃のオーブンから2つのバブラーを取り出したとき、NBDE液の沈殿や変退色の兆候は見られなかった。NBDEを室温に冷却した後に、溶解しているオリゴマー分解生成物を沈殿させるために、注入口を通してDEMSを各バブラーに静かに加えた。各バブラーのDEMSに対するNBDEの質量比が1になるまで、DEMSを加え続けた。こうして2つのバブラーのそれぞれに、濁った溶液が生じ、溶液から少量のオリゴマーが沈殿したことが分かった。バブラーを30℃で4時間、動的真空状態にして、次に最後の排気を80℃で1時間行なうと、0.51gと0.65gの白色の固体残留物が残った。これは、NBDEの初期質量を基準とした0.53質量%の平均不揮発性残留物量と一致し、32ppm/時間の80℃での分解速度に相当する。実施例25で説明したものと同じ経時変化条件の安定化されていないNBDEを沈殿させたときと比較して、分解速度が46%減少したことを示す。実験結果を表2にまとめる。
200ppmのTEMPOで安定化された、経時変化したNBDEとDEMSとを混合したときの沈殿物の減少量の評価
実施例1で説明したように、NBDEをフラッシュ蒸留して、不揮発性不純物を除去した。GCにより蒸留物を分析すると、分析上の純度は99.4%であった。NBDEに200質量ppmのTEMPO安定剤を混ぜた。実施例3で説明したように、石英製バブラー中で、80℃で7日間加熱することにより、安定化されたNBDEを加速経時変化試験の条件下に曝した。2回分の94.77gと110.56gのNBDEを用いて、この試験を2回行なった。80℃のオーブンから2つのバブラーを取り出したとき、沈殿の兆候は見られなかった。NBDEを室温に冷却した後に、溶解しているオリゴマー分解生成物を沈殿させるために、注入口を通してDEMSを各バブラーに静かに加えた。各バブラーのDEMSに対するNBDEの質量比が1になるまで、DEMSを加え続けた。生成したNBDE‐DEMS混合物は、濁りや沈殿の兆候が見られず、透明なままだった。バブラーを30℃で4時間、動的真空状態にして、次に最後の排気を80℃で1時間行なうと、0.11gと0.10gの黄色がかった残留物が残った。これは、NBDEの初期質量を基準とした0.10質量%の平均不揮発性残留物量と一致し、6ppm/時間の分解速度に相当する。実施例25で説明したものと同じ経時変化条件の安定化されていないNBDEを沈殿させたときと比較して、分解速度が90%減少したことを示す。実験結果を表2にまとめる。
経時変化した、安定化されていないNBDEと極性溶媒との混合
実施例24と同様に、窒素含有乾燥ボックス内で作業して、2.0mL(1.6g)のイソプロピルアルコール(IPA)を2.0mLの安定化されていないNBDE(1.7g)に静かに加えた。本試験に使用したNBDEを外気温度で287日間、経時変化させた。本実験に使用したNBDEとIPAは両方ともに、沈殿物や残留物の兆候のない無色透明の液体であった。最初に数滴のイソプロパノールを、経時変化させたNBDEに加えた後、すぐに完全な沈殿が見られた。沈殿物の量は、2.0mLのIPAの残りを加えるにつれて顕著になった。本実施例は、溶媒の実質的な極性を高めることによって非極性オリゴマーの大部分が沈殿することを再確認するものである。
NBDE分解生成物の特性化
室温で数ヶ月間保管した、安定化されていないNBDEのサンプル50gを、テフロン(登録商標)弁を備えた100mL石英製アンプルの中に入れた。アンプルを室温で2時間排気すると、灰色がかった不揮発性残留物が生じた。生成した固体を集めて、固体ブローブ・マススペクトル分析法で分析した。この分析によって、二量体、三量体、四量体、五量体、六量体などのような、NBDEの様々なオリゴマーの存在が確認された。本分析による固体プローブ・マススペクトルを図1に示す。
安定化されていない、経時変化したNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留した。次に、室温での1年を想定して、この液体を80℃で1週間加熱した(加速経時変化)。実施例3の結果を基準にすると、予想される不揮発性オリゴマー濃度は約4質量%であり、その機構は図4に示されている。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を70℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の200sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を8torrにセットした。流速は1000mg/分であった。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。かなりの量の固体を注入面上及び出口の内側で見つけた。
安定化されていない、新たに蒸留したNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留した。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を80℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。蒸発前には不揮発性残留物が存在しないので、形成された残留物のいずれも、注入器内で、その場で生じた筈であり、図5に示した機構と一致する。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。かなりの量の固体を注入面上及び出口の内側で見つけた。
60℃の注入器温度における100ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して100ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を60℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の200sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を8torrにセットした。流速は1000mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。かなりの量の固体を注入面上及び出口の内側で見つけた。100ppmのTEMPOは室温安定性を伸ばすのに十分であるが、工業的条件でのDLI中の動的安定性を得るには不十分である。
70℃の注入器温度における100ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して100ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を70℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の200sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を8torrにセットした。流速は1000mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。かなりの量の固体を注入面上及び出口の内側で見つけた。100ppmのTEMPOは室温安定性を伸ばすのに十分であるが、工業的条件でのDLI中の動的安定性を得るには不十分である。結果を表3にまとめた。
70℃の注入器温度における200ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して、200ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体を、エア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を70℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の200sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を8torrにセットした。流速は1000mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器には何もなかった。結果を表3にまとめた。
80℃の注入器温度における200ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して、200ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を80℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器には残留物が軽く粉化していることが分かった。結果を表3にまとめた。
85℃の注入器温度における200ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して200ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を85℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器にかなりの残留物が見つかった。結果を表3にまとめた。
80℃の注入器温度における400ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して400ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を80℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。目視によると注入器には何もなかったが、ルーペで確認すると蒸気口の周りに僅かな粒子が見えた。結果を表3にまとめた。
85℃の注入器温度における400ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して400ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を85℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器から測定可能な量の粘性残留物が見つかった。結果を表3にまとめた。
90℃の注入器温度における1000ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して1000ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を90℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器には何もなかった。結果を表3にまとめた。
90℃の注入器温度における1000ppmのTEMPOで安定化されたNBDEの流れ試験
100gのNBDEを新たに蒸留して1000ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製、Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を90℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器には何もなかった。結果を表3にまとめた。
90℃の注入器温度におけるDEMS/NBDE膜の堆積
アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームPECVDシステムとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器を用いて、多孔質膜を堆積させて、次に広帯域UV照射によってポロジェン種を除去した。堆積の条件としては、90℃の注入器温度、275℃のチャンバー温度、600Wの電力、350ミルの電極間隔、8torrのチャンバー圧、450mg/分のDEMS流速と450mg/分のNBDE流速、及び400sccmのヘリウム流量が挙げられる。UV硬化の条件としては、12分の広帯域照射時間が挙げられる。400ppmと1000ppmのTEMPO安定剤の処方を用いて、膜を堆積させた。TEMPOが9質量%の窒素を含むので、窒素が混和した膜を調べるために、ダイナミック二次イオン質量分析(dSIMS)を行なった。結果を図6にまとめる。前駆体溶液の安定剤濃度には2倍を超える差があるとはいえ、dSIMS分析結果では窒素濃度に検出可能な差はない。
90℃の注入器温度でさらに持続させたときの1800ppmのTEMPOで安定化させたNBDEの流れ試験
500gのNBDE(前の流れ試験の体積の5倍)を新たに蒸留して、1800ppmのTEMPOを加えた。予想される不揮発性オリゴマー濃度は0であった。不活性雰囲気下でこの液体をエア プロダクツ アンド ケミカルズ社(ペンシルバニア州アレンタウン)製Chemguard(登録商標)液体貯蔵システムに移した。アプライド マテリアルズ社製Precision(登録商標)5000プラットフォームとホリバエステック(登録商標)2410蒸気注入器をプラットフォーム動的流れ試験に使用した。注入器温度を90℃にセットした。ヘリウムガスを30psiの圧力で使用して、この液体を蒸気注入器に押し出した。追加の400sccmのヘリウムを、注入面を横切る不活性キャリヤーとして使用した。下流のチャンバー圧を10torrにセットした。流速は1800mg/分であった。製造条件を想定して、3分稼動、2分休止というサイクルで流した。流れ試験を終えた後に、注入器に残留物があるかどうか検査した。注入器には何もなかった。
Claims (40)
- ノルボルネン、2,5‐ノルボルナジエン及びそれらの組み合わせから成る群から選択される物質;並びに
以下の:
(a)下記構造:
を有するヒドロキシベンゾフェノン、及び
(b)下記構造:
R 1 〜R 4 のそれぞれは独立して、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基及びペンテニル基からなる群から選択され、
R5及びR6は独立して、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル基又はアルケニル基から選択され、前記R 5 及びR 6 中のアルキル基又はアルケニル基は、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成してもよい。}
を有するニトロキシルラジカル
から成る群から選択される安定剤;
から成る、安定化された組成物。 - 前記物質が、2,5‐ノルボルナジエン(NBDE)である、請求項1に記載の組成物。
- 前記構造(a)において、前記残りのR1〜R10のそれぞれが、水素、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert‐ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert‐ブトキシ基及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記ヒドロキシベンゾフェノンが、2‐ヒドロキシ‐4‐(n‐オクチルオキシ)ベンゾフェノン、2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(2H4MB)、2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)、2‐ヒドロキシ‐4‐(n‐ドデシルオキシ)ベンゾフェノン、2,2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)、2,2’‐ジヒドロキシ‐4,4’‐ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、4‐ヒドロキシベンゾフェノン及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記構造(b)において、前記R5及びR6中のアルキル基又はアルケニル基が、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成している、請求項1に記載の組成物。
- 前記構造(b)において、前記R5及びR6のそれぞれが、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、並びに6員環ピペリジン又は5員環ピロリドンの環状構造及びその置換環状構造の一部分からなる群から選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)、4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)、ジ‐tert‐ブチルニトロキシル、1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐オン、酢酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、2‐エチルヘキサン酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、ステアリン酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、安息香酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、4‐tert‐ブチル安息香酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、コハク酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、アジピン酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、セバシン酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、n‐ブチルマロン酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、フタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、イソフタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、テレフタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、ヘキサヒドロテレフタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、N,N’‐ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)アジポアミド、N‐(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)‐カプロラクタム、N‐(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)‐ドデシルスクシンイミド、イソシアヌル酸2,4,6‐トリス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、2,4,6‐トリス‐[N‐ブチル‐N‐(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル]‐s‐トリアジン、4,4’‐エチレンビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペラジン‐3‐オン)及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)及び4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)からなる群から選択される、請求項1に記載の組成物。
- 前記安定剤が1〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項1に記載の組成物。
- 前記安定剤が200〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項9に記載の組成物。
- 前記安定剤が1000〜5,000ppmの範囲内で存在する、請求項10に記載の組成物。
- 2,5‐ノルボルナジエン(NBDE);並びに
以下の:
(a)下記構造:
を有するヒドロキシベンゾフェノン、及び
(b)下記構造:
R 1 〜R 4 のそれぞれは独立して、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基及びペンテニル基からなる群から選択され、
R5及びR6は独立して、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル基又はアルケニル基から選択され、前記R 5 及びR 6 中のアルキル基又はアルケニル基は、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成してもよい。}
を有するニトロキシルラジカル
から成る群から選択される安定剤;
から成る、安定化された組成物。 - 前記安定剤が1〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項12に記載の組成物。
- 前記安定剤が200〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項13に記載の組成物。
- 前記安定剤が1000〜5,000ppmの範囲内で存在する、請求項14に記載の組成物。
- 前記構造(a)において、前記R1〜R10のそれぞれが独立して、水素、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert‐ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基及びtert‐ブトキシ基からなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- 前記ヒドロキシベンゾフェノンが、2‐ヒドロキシ‐4‐(n‐オクチルオキシ)ベンゾフェノン、2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(2H4MB)、2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)、2‐ヒドロキシ‐4‐(n‐ドデシルオキシ)ベンゾフェノン、2,2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)、2,2’‐ジヒドロキシ‐4,4’‐ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、4‐ヒドロキシベンゾフェノン及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- 前記構造(b)において、さらに、前記R5及びR6中のアルキル基又はアルケニル基が、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成している、請求項12に記載の組成物。
- 前記構造(b)において、前記R5及びR6のそれぞれが独立して、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、並びに6員環ピペリジン又は5員環ピロリドンの環状構造及びその置換環状構造の一部分からなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- 前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)、4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)、ジ‐tertブチルニトロキシル、1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐オン、酢酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、2‐エチルヘキサン酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、ステアリン酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、安息香酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、4‐tert‐ブチル安息香酸1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、コハク酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、アジピン酸ビス(1‐オキシル2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、セバシン酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、n‐ブチルマロン酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、フタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、イソフタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、テレフタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、ヘキサヒドロテレフタル酸ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)、N,N’‐ビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)アジポアミド、N‐(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)‐カプロラクタム、N‐(1‐オキシル2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル)‐ドデシルスクシンイミド、イソシアヌル酸2,4,6‐トリス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル、2,4,6‐トリス‐[N‐ブチル‐N‐(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペリジン‐4‐イル]‐s‐トリアジン、4,4’‐エチレンビス(1‐オキシル‐2,2,6,6‐テトラメチルピペラジン‐3‐オン)及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- 前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)及び4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)からなる群から選択される、請求項12に記載の組成物。
- ノルボルネン、2,5‐ノルボルナジエン及びそれらの組み合わせから成る群から選択される物質;
少なくとも1つの極性溶媒;並びに
以下の:
(a)下記構造:
を有するヒドロキシベンゾフェノン、
(b)下記構造:
R 1 〜R 4 のそれぞれは独立して、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基及びペンテニル基からなる群から選択され、
R5及びR6は独立して、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル基又はアルケニル基から選択され、前記R 5 及びR 6 中のアルキル基又はアルケニル基は、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成してもよい。}
を有するニトロキシルラジカル、及び
メチルヒドロキノン(MHQ)、ヒドロキノンモノメチルエーテル(HQMME)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択されるヒドロキノン
から成る群から選択される安定剤;
を含む、安定化された組成物。 - 前記安定剤が1〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項22に記載の組成物。
- 前記安定剤が200〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項23に記載の組成物。
- 前記安定剤が1000〜5,000ppmの範囲内で存在する、請求項24に記載の組成物。
- 前記物質が、2,5‐ノルボルナジエン(NBDE)であり、
前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)、4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
前記ヒドロキシベンゾフェノンが、2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシ‐ベンゾフェノン(2H4MB)、2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)、2,2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
前記少なくとも1つの極性溶媒がジエトキシメチルシラン(DEMS)、イソプロパノール(IPA)及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項22に記載の組成物。 - さらに、前記ヒドロキノンと併用して、NO、NO2、N2O、CO2、O2、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された酸化ガスを含む、請求項22に記載の組成物。
- 以下の:
(a)下記構造:
を有するヒドロキシベンゾフェノン、及び
(b)下記構造:
R 1 〜R 4 のそれぞれは独立して、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基及びペンテニル基からなる群から選択され、
R5及びR6は独立して、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル基又はアルケニル基から選択され、前記R 5 及びR 6 中のアルキル基又はアルケニル基は、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成してもよい。}
を有するニトロキシルラジカル
から成る群から選択される安定剤を与える工程を含む、
ノルボルネン、2,5‐ノルボルナジエン及びそれらの組み合わせから成る群から選択される物質が重合しないように該物質を安定化する方法。 - 前記安定剤が1〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項28に記載の方法。
- 前記安定剤が200〜10,000ppmの範囲内で存在する、請求項29に記載の方法。
- 前記安定剤が1000〜5,000ppmの範囲内で存在する、請求項30に記載の方法。
- 前記物質が、2,5‐ノルボルナジエン(NBDE)であり、
前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)、4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
前記ヒドロキシベンゾフェノンが、2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシ‐ベンゾフェノン(2H4MB)、2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)、2,2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項28に記載の方法。 - 2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシ‐ベンゾフェノン(2H4MB)、2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)、2,2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)及びこれらの組み合わせからなる群から選択されるヒドロキシベンゾフェノン、並びに
2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)、4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)及びこれらの組み合わせからなる群から選択されるニトロキシルラジカル
からなる群から選択される安定剤を与える工程を含む、2,5‐ノルボルナジエン(NBDE)が重合しないように2,5‐ノルボルナジエン(NBDE)を安定化する方法。 - ノルボルネン、2,5‐ノルボルナジエン及びそれらの組み合わせから成る群から選択される物質が少なくとも1つの極性溶媒と接触したことによって固体が沈殿しないように、該物質を安定化する方法であって、
(i)以下の:
(a)下記構造:
を有するヒドロキシベンゾフェノン、
(b)下記構造:
R 1 〜R 4 のそれぞれは独立して、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基及びペンテニル基からなる群から選択され、
R5及びR6は独立して、直鎖若しくは分岐鎖の、置換若しくは非置換の、アルキル基又はアルケニル基から選択され、前記R 5 及びR 6 中のアルキル基又はアルケニル基は、架橋基により結合して、飽和、部分的不飽和又は芳香族環の環状構造を形成してもよい。}
を有するニトロキシルラジカル、及び
(c)メチルヒドロキノン(MHQ)、ヒドロキノンモノメチルエーテル(HQMME)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択されるヒドロキノン
から成る群から選択される安定剤を該物質に加える工程、並びに
(ii)前記工程(i)の混合物を該少なくとも1つの極性溶媒と接触させる工程
を含む、前記方法。 - 前記物質が、2,5‐ノルボルナジエン(NBDE)であり、
前記ニトロキシルラジカルが、2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(TEMPO)、4‐ヒドロキシ‐2,2,6,6‐テトラメチル‐1‐ピペリジニルオキシ(4H‐TEMPO)及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
前記ヒドロキシベンゾフェノンが、2‐ヒドロキシ‐4‐メトキシ‐ベンゾフェノン(2H4MB)、2,4‐ジヒドロキシベンゾフェノン(24DHB)、2,2’‐ジヒドロキシ‐4‐メトキシベンゾフェノン(22DH4MB)及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、
前記少なくとも1つの極性溶媒が、ジエトキシメチルシラン(DEMS)、イソプロパノール(IPA)及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、
請求項34に記載の方法。 - さらに、前記ヒドロキノンと併用して、NO、NO2、N2O、CO2、O2、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された酸化ガスを前記物質に加える工程を含む、請求項34に記載の方法。
- 前記構造(a)において、前記残りのR1〜R10のそれぞれが、水素、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert‐ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert‐ブトキシ基及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項22に記載の組成物。
- 前記構造(b)において、前記R5及びR6のそれぞれが、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、並びに6員環ピペリジン又は5員環ピロリドンの環状構造及びその置換環状構造の一部分からなる群から選択される、請求項22に記載の組成物。
- 前記構造(a)において、前記残りのR1〜R10のそれぞれが、水素、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert‐ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert‐ブトキシ基及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項28又は34に記載の方法。
- 前記構造(b)において、前記R5及びR6のそれぞれが、メチル基、エチル基、n‐プロピル基、n‐ブチル基、n‐ペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、tert‐ブチル基、ネオ‐ペンチル基、オクタデシル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、並びに6員環ピペリジン又は5員環ピロリドンの環状構造及びその置換環状構造の一部分からなる群から選択される、請求項28又は34に記載の方法。
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US1502807P | 2007-12-19 | 2007-12-19 | |
US61/015,028 | 2007-12-19 | ||
US12/038,409 | 2008-02-27 | ||
US12/038,409 US7968001B2 (en) | 2007-12-19 | 2008-02-27 | Stabilizers for the stabilization of unsaturated hydrocarbon-based precursor |
US12/128,381 US8440099B2 (en) | 2007-12-19 | 2008-05-28 | Stabilizers for the stabilization of unsaturated hydrocarbon-based precursor |
US12/128,381 | 2008-05-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009149641A JP2009149641A (ja) | 2009-07-09 |
JP5363087B2 true JP5363087B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=40787499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008318896A Active JP5363087B2 (ja) | 2007-12-19 | 2008-12-15 | 不飽和炭化水素系前駆体を安定化するための安定剤 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8440099B2 (ja) |
JP (1) | JP5363087B2 (ja) |
KR (2) | KR101141794B1 (ja) |
CN (1) | CN103804115A (ja) |
TW (1) | TWI375668B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7871536B2 (en) | 2005-09-12 | 2011-01-18 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Additives to prevent degradation of cyclic alkene derivatives |
KR101378826B1 (ko) * | 2005-09-12 | 2014-03-28 | 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨. | 사이클릭 알켄 유도체의 분해를 방지하기 위한 첨가제 |
TWI411639B (zh) * | 2005-09-12 | 2013-10-11 | Fujifilm Electronic Materials | 防止環烯烴衍生物降解之添加劑(一) |
US20100143580A1 (en) * | 2008-05-28 | 2010-06-10 | American Air Liquide, Inc. | Stabilization of Bicycloheptadiene |
EP2319821A1 (en) | 2009-11-06 | 2011-05-11 | L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Stabilization of bicycloheptadiene |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3322705A (en) | 1966-02-15 | 1967-05-30 | Argus Chem | Polyolefins stabilized with mixtures comprising a 2-hydroxy, 4-benzyloxy benzophenone, thiodipropionate and metal salt of a monocarboxylic acid |
GB1221003A (en) * | 1968-11-11 | 1971-02-03 | Ici Ltd | Production of a polycyclic diene |
US3923733A (en) * | 1973-04-13 | 1975-12-02 | American Cyanamid Co | Polyolefin light stabilizers |
US5545786C1 (en) | 1994-11-28 | 2001-10-16 | Ciba Geigy Corp | Method for inhibiting premature polymerization of vinyl aromatic monomers |
US5912106A (en) | 1996-09-10 | 1999-06-15 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Method for improving photoimage quality |
DE19651307A1 (de) | 1996-12-10 | 1998-06-18 | Basf Ag | Stoffmischungen, enthaltend vinylgruppenhaltige Verbindungen und Stabilisatoren |
US6121358A (en) * | 1997-09-22 | 2000-09-19 | The Dexter Corporation | Hydrophobic vinyl monomers, formulations containing same, and uses therefor |
US6024839A (en) * | 1997-11-06 | 2000-02-15 | Shell Oil Company | Hydroquinone to inhibit fouling of epichlorohydrin equipment |
US6287483B1 (en) | 1998-05-26 | 2001-09-11 | Uniroyal Chemical Company, Inc. | Method of stabilizing unsaturated organic compounds from polymerization |
DE19926758A1 (de) * | 1999-06-11 | 2000-12-14 | Basf Ag | Verfahren zur Verhinderung unerwünschter Polymerisation in einem ethylenisch ungesättigte Verbindungen enthaltenden Stoffgemisch |
DE19938841A1 (de) | 1999-08-17 | 2001-02-22 | Basf Ag | Inhibitorkomposition zur Stabilisierung von radikalisch polymerisierbaren Substanzen |
EP1233937B1 (en) * | 1999-12-02 | 2005-10-26 | Crompton Corporation | Inhibition of polymerization of unsaturated monomers |
DE60125067T2 (de) | 2001-04-30 | 2007-05-03 | Baker-Hughes Inc., Houston | Verhinderung des popcorn-effekts während des polymerwachstums |
KR101378826B1 (ko) | 2005-09-12 | 2014-03-28 | 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨. | 사이클릭 알켄 유도체의 분해를 방지하기 위한 첨가제 |
US7968001B2 (en) * | 2007-12-19 | 2011-06-28 | Air Products And Chemicals, Inc. | Stabilizers for the stabilization of unsaturated hydrocarbon-based precursor |
-
2008
- 2008-05-28 US US12/128,381 patent/US8440099B2/en active Active
- 2008-12-15 JP JP2008318896A patent/JP5363087B2/ja active Active
- 2008-12-18 TW TW097149508A patent/TWI375668B/zh active
- 2008-12-18 KR KR1020080129309A patent/KR101141794B1/ko active IP Right Grant
- 2008-12-19 CN CN201410042842.3A patent/CN103804115A/zh active Pending
-
2012
- 2012-02-24 KR KR1020120019348A patent/KR20120062647A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090067077A (ko) | 2009-06-24 |
US20090159844A1 (en) | 2009-06-25 |
KR20120062647A (ko) | 2012-06-14 |
US8440099B2 (en) | 2013-05-14 |
TWI375668B (en) | 2012-11-01 |
KR101141794B1 (ko) | 2012-05-24 |
CN103804115A (zh) | 2014-05-21 |
JP2009149641A (ja) | 2009-07-09 |
TW200927726A (en) | 2009-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8092709B2 (en) | Stabilizers for the stabilization of unsaturated hydrocarbon-based precursor | |
JP5363087B2 (ja) | 不飽和炭化水素系前駆体を安定化するための安定剤 | |
TWI411663B (zh) | 防止環烯烴衍生物降解之添加劑(二) | |
US9670116B2 (en) | Process and composition for inhibiting the polymerization of cyclopentadiene compounds | |
EP1321469B1 (en) | Stabilizers to inhibit the polymerization of substituted cyclotetrasiloxanes | |
Al Mulla et al. | Kinetics and mechanisms for the reactions of ozone with unsaturated oxygenated compounds | |
TWI247755B (en) | Stabilizers to inhibit the polymerization of substituted cyclotetrasiloxane | |
TWI471306B (zh) | 防止環烯烴衍生物降解之添加劑 | |
KR101478636B1 (ko) | 사이클릭 알켄 유도체의 분해를 방지하기 위한 첨가제 | |
EP2072485B1 (en) | Stabilizers for the stabilization of unsaturated hydrocarbon-based precursor | |
Steel et al. | 197. Kinetics of the thermal decomposition of azomethane | |
TWI386390B (zh) | 使用具取代基的酚穩定劑來改善nbde的操作穩定性 | |
US20100143580A1 (en) | Stabilization of Bicycloheptadiene | |
EP2319821A1 (en) | Stabilization of bicycloheptadiene | |
TW200916475A (en) | Stabilizers to inhibit the polymerization of substituted cyclotetrasiloxane | |
KR20110058933A (ko) | 비시클로헵타디엔의 안정화 | |
JP2010280652A (ja) | ビシクロヘプタジエンの安定化 | |
US8053375B1 (en) | Super-dry reagent compositions for formation of ultra low k films | |
Howarth | Photochemistry of 3, 3, 3,-trifluoropropyne.-- |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090427 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120409 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120412 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120710 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130604 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130717 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130806 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130905 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5363087 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |