JP5362658B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device Download PDF

Info

Publication number
JP5362658B2
JP5362658B2 JP2010145817A JP2010145817A JP5362658B2 JP 5362658 B2 JP5362658 B2 JP 5362658B2 JP 2010145817 A JP2010145817 A JP 2010145817A JP 2010145817 A JP2010145817 A JP 2010145817A JP 5362658 B2 JP5362658 B2 JP 5362658B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
resin package
internal lead
semiconductor
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2010145817A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010212736A (en
Inventor
佳孝 堀江
雅秀 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP2010145817A priority Critical patent/JP5362658B2/en
Publication of JP2010212736A publication Critical patent/JP2010212736A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5362658B2 publication Critical patent/JP5362658B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16245Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1203Rectifying Diode
    • H01L2924/12032Schottky diode
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device capable of enhancing the heat dissipation characteristics of a semiconductor chip mounted on an inner lead. <P>SOLUTION: The semiconductor device includes: a semiconductor chip 5; a chip-mounting inner lead 1 for mounting the semiconductor chip 5; a chip-connecting inner lead 2 electrically directly connected to the upper surface of the semiconductor chip 5; and a resin package 7 enclosing the semiconductor chip 5 and each inner lead 1, 2 and being made rectangular in plan view. The chip-mounting inner lead 1 contains an end part formed in a long-rectangular shape, extending along a longitudinal direction of the resin package 7, or formed substantially in a long-rectangular shape. The resin package 7 has a pair of side surfaces separated longitudinally mutually. The end part of the chip-mounting inner lead 1 has a pair of end edges separated in the longitudinal direction of the resin package 7. The end edges more approaches the corresponding side surface of the resin package 7 than the semiconductor chip 5, and an area of the chip-mounting inner lead 1 in a plan view is made to be about 50% or above with respect to a bottom area of the resin package 7. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&amp;INPIT

Description

本願発明は、ダイオードやトランジスタ等として用いられる面実装型の半導体装置に関する。   The present invention relates to a surface-mount type semiconductor device used as a diode, a transistor, or the like.

従来より、ダイオードやトランジスタ等として用いられ、面実装可能な半導体装置が提案されている。図16ないし図18は、上記半導体装置の一例を示す図である。この半導体装置Sは、たとえばトランジスタとして機能するものであり、ベース端子に相当する内部リード91と、コレクタ端子に相当する内部リード92と、エミッタ端子に相当する内部リード93とを備えている。   2. Description of the Related Art Conventionally, semiconductor devices that can be surface-mounted and used as diodes, transistors, and the like have been proposed. 16 to 18 are diagrams illustrating an example of the semiconductor device. The semiconductor device S functions as a transistor, for example, and includes an internal lead 91 corresponding to a base terminal, an internal lead 92 corresponding to a collector terminal, and an internal lead 93 corresponding to an emitter terminal.

各内部リード91,92,93は、各表面がほぼ同一平面上になるように並設されており、内部リード91の端部に形成された略直方形状のアイランド94には、半導体チップ95(「ペレット」ともいう)がダイボンディングされて搭載されている。半導体チップ95は、金線W等によってワイヤボンディングされて各チップ接続用内部リード92,93に電気的に接続されている。そして、半導体チップ95、金線W、各内部リード91,92,93は、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂によりパッケージングされて樹脂パッケージ97が形成されている。各内部リード91,92,93は折り曲げられ、樹脂パッケージ97の外部において、外部リード11,12,13とそれぞれ連続させられている。   The internal leads 91, 92, and 93 are arranged side by side so that their surfaces are substantially on the same plane, and a substantially rectangular island 94 formed at the end of the internal lead 91 has a semiconductor chip 95 ( (Also called “pellet”) is die-bonded and mounted. The semiconductor chip 95 is wire-bonded by a gold wire W or the like and electrically connected to the chip connecting internal leads 92 and 93. The semiconductor chip 95, the gold wire W, and the internal leads 91, 92, and 93 are packaged by a thermosetting resin such as an epoxy resin to form a resin package 97. The internal leads 91, 92, and 93 are bent and are continuous with the external leads 11, 12, and 13, respectively, outside the resin package 97.

この半導体装置Sがたとえばパワートランジスタ等として用いられた場合、半導体チップ95から発せられる熱を、樹脂パッケージ97の外部に効率的に放出させる必要がある。上記構成の半導体装置Sでは、半導体チップ95はアイランド94に搭載されているため、このアイランド94が放熱体として機能し、内部リード91を通じて、あるいは内部リード91に接する樹脂パッケージ97を通じて熱が放出される。この場合、放熱効果を上げるためには、アイランド94の表面積が大きいことが望ましい。また、半導体チップ95内に集積されている電子回路の機能向上を図るため、半導体チップ95の大きさを大きくしたいとの要請があり、このことからも、アイランド94の表面積が大きいことが所望されている。   When this semiconductor device S is used as, for example, a power transistor or the like, it is necessary to efficiently release the heat generated from the semiconductor chip 95 to the outside of the resin package 97. In the semiconductor device S configured as described above, since the semiconductor chip 95 is mounted on the island 94, the island 94 functions as a heat radiator, and heat is released through the internal lead 91 or the resin package 97 in contact with the internal lead 91. The In this case, it is desirable that the surface area of the island 94 is large in order to increase the heat dissipation effect. In addition, in order to improve the function of the electronic circuit integrated in the semiconductor chip 95, there is a demand for increasing the size of the semiconductor chip 95. From this reason, it is desired that the surface area of the island 94 is large. ing.

上記構成において、アイランド94の表面積を大きくするためには、各内部リード92,93を小さく形成することが考えられる。しかしながら、アイランド94と、各内部リード92,93とは、金線W等によって接続される関係上、ほぼ同一平面上に配置されるため、アイランド94の表面積を大きくするには、おのずと限界がある。現状では、平面視における内部リード91の面積の、樹脂パッケージ97の底面積に対する割合が、せいぜい40%程度であり、放熱性を向上させる上で上記割合の値を上げることが望まれていた。   In the above configuration, in order to increase the surface area of the island 94, it is conceivable to form the internal leads 92 and 93 small. However, since the island 94 and the internal leads 92 and 93 are disposed on substantially the same plane because they are connected by the gold wire W or the like, there is a natural limit to increasing the surface area of the island 94. . At present, the ratio of the area of the internal lead 91 in plan view to the bottom area of the resin package 97 is at most about 40%, and it has been desired to increase the ratio in order to improve heat dissipation.

本願発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、内部リードに搭載された半導体チップの放熱性を向上させることができる半導体装置を提供することを、その課題とする。   The present invention has been conceived under the above circumstances, and an object thereof is to provide a semiconductor device capable of improving the heat dissipation of a semiconductor chip mounted on an internal lead.

上記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。   In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means.

本願発明により提供される半導体装置によれば、第1および第2半導体チップと、上記各半導体チップをそれぞれ搭載する第1および第2チップ搭載用内部リードと、上記半導体チップの上面に電気的にそれぞれ接続された複数のチップ接続用内部リードと、上記半導体チップおよび上記各内部リードを包み込むとともに平面視長矩形状とした樹脂パッケージとを備え、上記チップ搭載用内部リードの端部は、全体として平面視において上記樹脂パッケージの長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状になるように形成されており、上記チップ搭載用内部リードの端部は、全体として平面視において上記樹脂パッケージの底面積全体に対して約50%以上を占有し、かつ、上記各半導体チップは、その上下面が互に逆となるように上記樹脂パッケージ内に配され、上記第1チップ搭載用内部リードの端部は、上記樹脂パッケージの下面近傍に配され、上記第2チップ搭載用内部リードの端部は、上記樹脂パッケージの上面近傍に配されていることを特徴とする。 According to the semiconductor device further is provided herein onset bright, and the first and second semiconductor chips, and the first and second inner lead chip mounting for mounting each said respective semiconductor chips, on the upper surface of each semiconductor chip comprising electrically plurality of inner leads chip connections, each connected, and a resin package in plan view elongated rectangular shape with wrap each of the above semiconductor chips and the respective inner lead, an end portion of each chip mounting internal lead Is formed in a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape extending along the longitudinal direction of the resin package in plan view as a whole, and the end portion of the chip mounting internal lead is in the plan view as a whole. The semiconductor chip occupies about 50% or more of the entire bottom area of the package, and the upper and lower surfaces of the semiconductor chips are opposite to each other. Disposed in the resin package, the end of the first chip mounting internal lead is disposed near the lower surface of the resin package, and the end of the second chip mounting internal lead is the upper surface of the resin package. characterized in that it is distribution in the vicinity.

本願発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。   Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

本願発明の第1実施形態に係る半導体装置の上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface of the semiconductor device which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1に示す半導体装置の側面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the side of the semiconductor device shown in FIG. 平面視におけるチップ搭載用内部リードの、樹脂パッケージの底面積に対する割合を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the ratio with respect to the bottom area of a resin package of the chip | tip internal lead in planar view. 半導体装置の変形例を示す上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface which shows the modification of a semiconductor device. 半導体装置の他の変形例を示す上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface which shows the other modification of a semiconductor device. 半導体装置の他の変形例を示す側面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the side which shows the other modification of a semiconductor device. 本願発明の第2実施形態に係る半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図7に示す半導体装置の上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface of the semiconductor device shown in FIG. 図7に示す半導体装置のX1−X1から見た断面図である。It is sectional drawing seen from X1-X1 of the semiconductor device shown in FIG. 半導体装置の変形例を示す上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface which shows the modification of a semiconductor device. 図10の変形例のX2−X2から見た断面図である。It is sectional drawing seen from X2-X2 of the modification of FIG. 半導体装置の他の変形例を示す上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface which shows the other modification of a semiconductor device. 図12の変形例のX3−X3から見た断面図である。It is sectional drawing seen from X3-X3 of the modification of FIG. 第2実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment. 第2実施形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment. 従来の半導体装置の斜視図である。It is a perspective view of the conventional semiconductor device. 従来の半導体装置の上面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the upper surface of the conventional semiconductor device. 従来の半導体装置の正面から見た内部構成図である。It is an internal block diagram seen from the front of the conventional semiconductor device.

以下、本願発明の好ましい実施の形態を、添付図面を参照して具体的に説明する。なお、以下の説明においては、従来の技術の欄で説明した図16を再び参照する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. In the following description, reference is again made to FIG. 16 described in the section of the prior art.

<第1実施形態>
図1および図2は、本願発明の第1実施形態に係る半導体装置Sの内部構成を示す図である。この半導体装置Sは、半導体チップ5を搭載するチップ搭載用内部リード1と、半導体チップ5の上面に電気的に接続された一方のチップ接続用内部リード2および他方のチップ接続用内部リード3とを備えている。この半導体装置Sは、たとえばトランジスタとして用いられる場合、チップ搭載用内部リード1がたとえばベース端子(あるいはゲート端子)に相当し、一方のチップ接続用内部リード2がたとえばコレクタ端子(あるいはドレイン端子)に相当し、他方のチップ接続用内部リード3がたとえばエミッタ端子(あるいはソース端子)に相当する。
<First Embodiment>
1 and 2 are diagrams showing an internal configuration of the semiconductor device S according to the first embodiment of the present invention. The semiconductor device S includes a chip mounting internal lead 1 for mounting the semiconductor chip 5, one chip connecting internal lead 2 and the other chip connecting internal lead 3 electrically connected to the upper surface of the semiconductor chip 5. It has. When this semiconductor device S is used as a transistor, for example, the chip mounting internal lead 1 corresponds to, for example, a base terminal (or gate terminal), and one chip connecting internal lead 2 serves as, for example, a collector terminal (or drain terminal). The other chip connecting internal lead 3 corresponds to, for example, an emitter terminal (or source terminal).

チップ搭載用内部リード1の一端には、半導体チップ5が搭載されるアイランド4が形成されている。そして、半導体チップ5および各内部リード1,2,3がエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂により所定の金型等を用いて封止されて、平面視長矩形状の樹脂パッケージ7が形成されている。樹脂パッケージ7の外部には、各内部リード1,2,3と連続させられた外部リード11,12,13がそれぞれ設けられている。なお、半導体装置Sの外形は、図16に示す半導体装置Sと同様である。   An island 4 on which the semiconductor chip 5 is mounted is formed at one end of the chip mounting internal lead 1. Then, the semiconductor chip 5 and the internal leads 1, 2, and 3 are sealed with a predetermined mold or the like by a thermosetting resin such as an epoxy resin to form a resin package 7 having a rectangular shape in plan view. . Outside the resin package 7, external leads 11, 12, 13 connected to the internal leads 1, 2, 3 are respectively provided. The external shape of the semiconductor device S is the same as that of the semiconductor device S shown in FIG.

チップ搭載用内部リード1は、他端側が折り曲げられ、樹脂パッケージ7の外部に露出された外部リード11と連続させられている。チップ搭載用内部リード1および外部リード11は、良好な熱伝導性を有する銅等からなる。チップ搭載用内部リード1の一端に形成されたアイランド4は、放熱効果を高めるために樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状にされ、その表面積が大きく形成されている。半導体チップ5は、樹脂パッケージ7の長手方向に延びた上記アイランド4の中間部に搭載されている。   The other end of the chip mounting internal lead 1 is bent, and is continued to the external lead 11 exposed to the outside of the resin package 7. The chip mounting internal lead 1 and the external lead 11 are made of copper or the like having good thermal conductivity. The island 4 formed at one end of the chip mounting internal lead 1 has a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape extending along the longitudinal direction of the resin package 7 in order to enhance the heat dissipation effect, and has a large surface area. The semiconductor chip 5 is mounted on an intermediate portion of the island 4 extending in the longitudinal direction of the resin package 7.

各チップ接続用内部リード2,3は、その一端に各チップ接続用内部リード2,3に対してやや幅広の平坦部2a,3aがそれぞれ形成され、他端に外部リード12および外部リード13とそれぞれ連続させられている。各チップ接続用内部リード2,3および各外部リード12,13は、チップ搭載用内部リード1および外部リード11と同様に、良好な熱伝導性を有する銅等からなる。   Each of the chip connecting internal leads 2 and 3 is formed with flat portions 2a and 3a that are slightly wider than the chip connecting internal leads 2 and 3 at one end, and the external lead 12 and the external lead 13 at the other end. Each is made continuous. Each of the chip connecting internal leads 2 and 3 and each of the external leads 12 and 13 is made of copper or the like having good thermal conductivity, like the chip mounting internal lead 1 and the external lead 11.

各チップ接続用内部リード2,3の平坦部2a,3aは、アイランド4に搭載された半導体チップ5の上方から臨むように配され、半導体チップ5の上面とバンプ6を介して電気的に接続されている。すなわち、本実施形態では、半導体チップ5と、各チップ接続用内部リード2,3との接続が、従来の構成のようにワイヤを用いるものではなく、いわゆるワイヤレス構造とされている。換言すれば、半導体チップ5がチップ搭載用内部リード1に搭載され、半導体チップ5の上面に各チップ接続用内部リード2,3が接続されていることにより、各内部リード1,2,3によって半導体チップ5の上下から挟み込む立体的な構成とされている。   The flat portions 2a and 3a of the chip connecting internal leads 2 and 3 are arranged so as to face from above the semiconductor chip 5 mounted on the island 4, and are electrically connected to the upper surface of the semiconductor chip 5 via the bumps 6. Has been. That is, in the present embodiment, the connection between the semiconductor chip 5 and each of the chip connecting internal leads 2 and 3 does not use a wire as in the conventional configuration, but has a so-called wireless structure. In other words, the semiconductor chip 5 is mounted on the chip mounting internal lead 1, and each chip connecting internal lead 2, 3 is connected to the upper surface of the semiconductor chip 5. The three-dimensional structure is sandwiched from above and below the semiconductor chip 5.

上記のようなワイヤレス構造を採用することにより、チップ搭載用内部リード1の表面積を可能な限り大きくしてチップ搭載用内部リード1を配置することができる。たとえば、上記したようにアイランド4の形状を、樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状に形成することができ、たとえば、平面視におけるチップ搭載用内部リード1の面積を、樹脂パッケージ7の底面積に対して50%以上(詳細は後述)とすることができる。そのため、面積を大きくされたチップ搭載用内部リード1を通じて、あるいはチップ搭載用内部リード1に接する樹脂パッケージ7を通じて、半導体チップ5から発せられる熱を外部に効果的に放出することができ、この半導体装置Sの放熱性を向上させることができる。   By adopting the wireless structure as described above, the chip mounting internal lead 1 can be arranged with the surface area of the chip mounting internal lead 1 as large as possible. For example, as described above, the shape of the island 4 can be formed in a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape extending along the longitudinal direction of the resin package 7. For example, the area of the chip mounting internal lead 1 in a plan view is It can be 50% or more with respect to the bottom area of the resin package 7 (details will be described later). Therefore, heat generated from the semiconductor chip 5 can be effectively released to the outside through the chip mounting internal lead 1 whose area has been increased or through the resin package 7 in contact with the chip mounting internal lead 1. The heat dissipation of the device S can be improved.

また、半導体チップ5は、樹脂パッケージ7の長手方向に延びたチップ搭載用内部リード1の中間部に搭載されているので、半導体チップ5から発せられる熱がチップ搭載用内部リード1を通じて樹脂パッケージ7の長手方向に広がるように伝達される。そのため、半導体チップ5がチップ搭載用内部リード1の偏った部位に搭載される場合に比べ、放熱性の効率を上げることができる。   Further, since the semiconductor chip 5 is mounted on the middle portion of the chip mounting internal lead 1 extending in the longitudinal direction of the resin package 7, the heat generated from the semiconductor chip 5 passes through the chip mounting internal lead 1. It is transmitted so as to spread in the longitudinal direction. Therefore, compared with the case where the semiconductor chip 5 is mounted on an uneven part of the chip mounting internal lead 1, the efficiency of heat dissipation can be increased.

さらに、各チップ接続用内部リード2,3は、直接、半導体チップ5に接して繋がれているので、この各内部リード2,3を通じても半導体チップ5から発せられる熱を外部に放出することができる。そのため、半導体チップ5における放熱性を、主にチップ搭載用内部リード1に依存していた従来の構成に比べ、高めることができる。   Further, since each of the chip connecting internal leads 2 and 3 is directly connected to and connected to the semiconductor chip 5, the heat generated from the semiconductor chip 5 can be released to the outside through the internal leads 2 and 3. it can. Therefore, the heat dissipation in the semiconductor chip 5 can be enhanced as compared with the conventional configuration mainly depending on the chip mounting internal leads 1.

ここで、上記した本実施形態における効果を、より具体的な数値を示して説明する。詳細には、平面視におけるチップ搭載用内部リード1の面積と、樹脂パッケージ7の底面積とを比較することにより、放熱性の度合いを評価することにする。なお、以下の説明では、チップ搭載用内部リード1の面積の値を、アイランド4の面積と、アイランド4に接続され、半導体装置S内で延びている部分(以下「接続リード14」という)の面積とを加えた値としている。また、以下では、チップ搭載用内部リード1は折り曲げられているため、厳密には、実際の面積と異なるが、ここでは折り曲げられていないものとして評価する。   Here, the effects of the above-described embodiment will be described with more specific numerical values. Specifically, the degree of heat dissipation is evaluated by comparing the area of the chip mounting internal lead 1 in plan view with the bottom area of the resin package 7. In the following description, the area value of the chip mounting internal lead 1 is the area of the island 4 and the portion connected to the island 4 and extending in the semiconductor device S (hereinafter referred to as “connection lead 14”). The value is obtained by adding the area. In the following description, since the chip mounting internal lead 1 is bent, strictly speaking, it is different from the actual area, but here it is evaluated as not bent.

図3は、平面視におけるチップ搭載用内部リード1の、樹脂パッケージ7の底面積に対する割合を説明するための図であり、同図によれば、樹脂パッケージ7の底面積は、樹脂パッケージ7の奥行きA×幅Bで求められる。一方、平面視におけるチップ搭載用内部リード1の面積は、アイランド4の面積と接続リード14の面積とを加えることにより求められる。すなわち、アイランド4の面積は、アイランド4の奥行きC×幅Dで求められ、接続リード14の面積は、接続リード14の奥行きE×幅Fでそれぞれ求められる。   FIG. 3 is a view for explaining the ratio of the chip mounting internal leads 1 to the bottom area of the resin package 7 in a plan view. According to FIG. It is obtained by depth A × width B. On the other hand, the area of the chip mounting internal lead 1 in a plan view is obtained by adding the area of the island 4 and the area of the connection lead 14. That is, the area of the island 4 is obtained by the depth C × width D of the island 4, and the area of the connection lead 14 is obtained by depth E × width F of the connection lead 14.

表1に、各辺の長さA〜Fの具体的な数値を示す。表1によれば、樹脂パッケージ7の底面積S1は、4.56mm2 である。また、接続リード14の幅Fが0.4mmであるので、チップ搭載用内部リード1の面積S2は2.38mm2 である。したがって、チップ搭載用内部リード1の面積S2の、樹脂パッケージ7の底面積S1に対する割合S2/S1は、51.9%である。このように、チップ搭載用内部リード1の面積S2は、40%程度であった従来の構成における面積の割合に比べ、約10%も大きくなっており、このことから放熱性の向上が図られたことがわかる。また、実験により、本実施形態における構成の半導体装置Sでは、長矩形状に形成されたアイランド4によって、チップ搭載用内部リード1がワイヤで接続された従来の構成に比べ、放熱量(放熱のパワー)が約2倍になったことが求められており、放熱特性が約2倍に向上されたことが立証されている。 Table 1 shows specific numerical values of the lengths A to F of each side. According to Table 1, the bottom area S1 of the resin package 7 is 4.56 mm 2 . Further, since the width F of the connection lead 14 is 0.4 mm, the area S2 of the chip mounting internal lead 1 is 2.38 mm 2 . Therefore, the ratio S2 / S1 of the area S2 of the chip mounting internal lead 1 to the bottom area S1 of the resin package 7 is 51.9%. Thus, the area S2 of the chip mounting internal lead 1 is about 10% larger than the ratio of the area in the conventional configuration which was about 40%, and this improves the heat dissipation. I understand that. In addition, as a result of experiments, in the semiconductor device S having the configuration according to the present embodiment, the heat dissipation amount (heat dissipation power) is larger than that in the conventional configuration in which the chip mounting internal leads 1 are connected by wires by the islands 4 formed in a long rectangular shape. ) Is required to be approximately doubled, and it has been proved that the heat dissipation characteristics have been improved approximately twice.

Figure 0005362658
Figure 0005362658

図4は、半導体装置Sの変形例(以下「変形例1」という)を示す内部構成図である。同図によれば、アイランド4に繋がれている接続リード14の幅Fが、図1に示す半導体装置Sの接続リード14の幅に比べて大きくなって、チップ搭載用内部リード1が形成されている。   FIG. 4 is an internal configuration diagram showing a modified example of the semiconductor device S (hereinafter referred to as “modified example 1”). According to the figure, the width F of the connection lead 14 connected to the island 4 is larger than the width of the connection lead 14 of the semiconductor device S shown in FIG. 1, and the chip mounting internal lead 1 is formed. ing.

すなわち、この変形例1では、表1によると、接続リード14の幅Fが1.2mmであり、チップ搭載用内部リード1の面積S2は2.57mm2 である。したがって、チップ搭載用内部リード1の面積S2の、樹脂パッケージ7の底面積S1に対する割合S2/S1は56.4%になっており、図1に示す半導体装置Sに比べ、チップ搭載用内部リード1の面積がさらに大きくなっている。 That is, according to Table 1, according to Table 1, the width F of the connection lead 14 is 1.2 mm, and the area S2 of the chip mounting internal lead 1 is 2.57 mm 2 . Therefore, the ratio S2 / S1 of the area S2 of the chip mounting internal lead 1 to the bottom area S1 of the resin package 7 is 56.4%, which is compared with the semiconductor device S shown in FIG. The area of 1 is further increased.

図5は、半導体装置Sの他の変形例(以下「変形例2」という)を示す内部構成図である。同図によれば、接続リード14の幅Fが、図1および図4に示す半導体装置Sの接続リード14の幅に比べてさらに幅広になって、アイランド4の幅と同等になるように、チップ搭載用内部リード1が形成されている。   FIG. 5 is an internal configuration diagram illustrating another modified example of the semiconductor device S (hereinafter referred to as “modified example 2”). According to the figure, the width F of the connection lead 14 is wider than the width of the connection lead 14 of the semiconductor device S shown in FIGS. 1 and 4 so as to be equal to the width of the island 4. A chip mounting internal lead 1 is formed.

すなわち、この変形例2では、表1によれば、アイランド4の幅Fがチップ搭載用内部リード1の横幅Dと同じ2.45mmであり、チップ搭載用内部リード1の面積S2は2.89mm2 である。したがって、チップ搭載用内部リード1の面積S2の、樹脂パッケージ7の底面積S1に対する割合S2/S1は63.4%になっており、図1および図4に示す半導体装置Sに比べ、チップ搭載用内部リード1の面積がさらに大きくなっている。このように、アイランド4の幅と接続リード14との幅を同等にすれば、上記割合S2を大きくすることができるとともに、外部に露出する外部リード11の部分をより一層大きくすることができ、放熱性の大幅な向上を図ることができる。 That is, in this modification 2, according to Table 1, the width F of the island 4 is 2.45 mm, which is the same as the lateral width D of the chip mounting internal lead 1, and the area S2 of the chip mounting internal lead 1 is 2.89 mm. 2 . Therefore, the ratio S2 / S1 of the area S2 of the chip mounting internal lead 1 to the bottom area S1 of the resin package 7 is 63.4%, which is compared with the semiconductor device S shown in FIGS. The area of the internal lead 1 is further increased. Thus, if the width of the island 4 and the width of the connection lead 14 are made equal, the ratio S2 can be increased, and the portion of the external lead 11 exposed to the outside can be further increased. A significant improvement in heat dissipation can be achieved.

また、このように、面積が大きなアイランド4、各チップ接続用内部リード2,3が半導体装置S内に備えられることにより、これらは、いわゆる補強材として機能する。そのため、半導体装置Sの曲げ強度が向上し、たとえば、外部のプリント基板に実装する際の機械的な強度を高めることができるといった利点がある。   In addition, since the island 4 having a large area and the internal leads 2 and 3 for chip connection are provided in the semiconductor device S, they function as a so-called reinforcing material. Therefore, there is an advantage that the bending strength of the semiconductor device S is improved and, for example, the mechanical strength when mounted on an external printed board can be increased.

また、以下に示すような各内部リード1,2,3に構造的な変形を施すことによっても、放熱性を向上させることができる。すなわち、上述した半導体装置Sによれば、各外部リード11,12,13は、樹脂パッケージ7の底面の外縁付近から外部に延びている。そのため、チップ搭載用内部リード1のアイランド4を、その面積を広げるために各チップ接続用内部リード2,3側に延ばそうとしても、各チップ接続用内部リード2,3が障害になり延ばすことが困難となる。   Moreover, heat dissipation can also be improved by structurally deforming the internal leads 1, 2, and 3 as described below. That is, according to the semiconductor device S described above, the external leads 11, 12, 13 extend to the outside from the vicinity of the outer edge of the bottom surface of the resin package 7. Therefore, even if the island 4 of the chip mounting internal lead 1 is extended to the chip connecting internal leads 2 and 3 in order to increase the area, the chip connecting internal leads 2 and 3 are obstructed. It becomes difficult.

これに対し、図6に示す半導体装置Sによれば、外部リード12,13は、樹脂パッケージ7の側面の上部から外部に露出するようにされている。これにより、チップ搭載用内部リード1のアイランド4を樹脂パッケージ7内の範囲で水平方向に延ばすことができ、上述した実施形態に比べ、平面視におけるチップ搭載用内部リード1の面積S2の、樹脂パッケージ7の底面積S1に対する割合を上げることができる。   On the other hand, according to the semiconductor device S shown in FIG. 6, the external leads 12 and 13 are exposed to the outside from the upper part of the side surface of the resin package 7. As a result, the island 4 of the chip mounting internal lead 1 can be extended in the horizontal direction within the range of the resin package 7, and compared with the above-described embodiment, the resin of the area S2 of the chip mounting internal lead 1 in plan view The ratio with respect to the bottom area S1 of the package 7 can be increased.

さらに、図6に示す半導体装置Sでは、半導体チップ5が樹脂パッケージ7内の上部に位置する構成とされるので、樹脂パッケージ7内にある接続リード14が、上記実施形態の半導体装置Sに比べ長く形成される。これにより、折り曲げられた接続リード14の長さが上述した実施形態に比べ、充分長くなり、その分、チップ搭載用内部リード1の表面積が大きくなり、放熱性の向上に寄与することができる。   Furthermore, in the semiconductor device S shown in FIG. 6, the semiconductor chip 5 is positioned at the upper part in the resin package 7, so that the connection leads 14 in the resin package 7 are compared with the semiconductor device S of the above embodiment. Long formed. Thereby, the length of the bent connection lead 14 is sufficiently longer than that of the above-described embodiment, and the surface area of the chip mounting internal lead 1 is increased correspondingly, which can contribute to improvement of heat dissipation.

次に、この半導体装置の製造方法について簡単に説明する。まず、チップ搭載用内部リード1を、銅製の薄板に打ち抜きプレス加工を施した後、所定のフォーミング加工を施すことにより作製する。この場合、チップ搭載用内部リード1は、端部に矩形状のアイランド4を備えるように形成する。この状態では、チップ搭載用内部リード1は、タイバーにより複数連なって一定方向に延びた長尺状の構成とされる。また、一方のチップ接続用内部リード2および他方のチップ接続用内部リード3も、チップ搭載用内部リード1と同様に、銅製の薄板に打ち抜きプレス加工を施した後、所定のフォーミング加工を施すことにより作製する。この場合、各内部リード2,3の端部には、平坦部2a,3aを備えるように形成する。   Next, a method for manufacturing this semiconductor device will be briefly described. First, the chip mounting internal lead 1 is manufactured by punching a thin copper plate and performing a predetermined forming process. In this case, the chip mounting internal lead 1 is formed so as to have a rectangular island 4 at the end. In this state, the chip mounting internal lead 1 has a long configuration extending in a certain direction by a plurality of tie bars. In addition, the chip connecting internal lead 2 and the other chip connecting internal lead 3 are also subjected to a predetermined forming process after punching and pressing a copper thin plate in the same manner as the chip mounting internal lead 1. To make. In this case, the end portions of the internal leads 2 and 3 are formed to have flat portions 2a and 3a.

次いで、チップ搭載用内部リード1のアイランド4の上面に半導体チップ5を、たとえば接着剤を用いて接続する。そして、半導体チップ5の上面に一方のチップ接続用内部リード2および他方のチップ接続用内部リード3を接続する。具体的には、半導体チップ5の上面に電解メッキによりAgからなるバンプ6を形成し成長させる。バンプ6は、半導体チップ5の上面において、長手方向の端部の対称となる位置に2つ形成する。その後、一方のバンプ6に、ハンダペーストを溶融させることによって一方のチップ接続用内部リード2の平坦部2aを接続し、他方のバンプ6に、同様にハンダペーストを溶融させることによって他方のチップ接続用内部リード3の平坦部3aを接続する。   Next, the semiconductor chip 5 is connected to the upper surface of the island 4 of the chip mounting internal lead 1 using, for example, an adhesive. Then, one chip connecting internal lead 2 and the other chip connecting internal lead 3 are connected to the upper surface of the semiconductor chip 5. Specifically, bumps 6 made of Ag are formed on the upper surface of the semiconductor chip 5 by electrolytic plating and grown. Two bumps 6 are formed on the upper surface of the semiconductor chip 5 at positions symmetrical to the end portions in the longitudinal direction. Thereafter, the solder paste is melted to one bump 6 to connect the flat portion 2a of one chip connecting internal lead 2, and the solder paste is similarly melted to the other bump 6 to connect the other chip. The flat portion 3a of the internal lead 3 is connected.

半導体チップ5に上記第2、他方のチップ接続用内部リード2,3の接続が終了した後、半導体チップ5、各内部リード1,2,3を所定の金型を用いてエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂によりパッケージングを行い、樹脂パッケージ7を形成する。そして、外部に露出している各外部リード11,12,13をハンダメッキし、タイバー等の不要な部位を除去する等の工程を経て、図1、図2および図16に示すような半導体装置Sを得る。   After the connection of the second and other chip connecting internal leads 2 and 3 to the semiconductor chip 5 is completed, the semiconductor chip 5 and each of the internal leads 1, 2 and 3 are bonded to heat such as epoxy resin using a predetermined mold. Packaging is performed with a curable resin to form a resin package 7. Then, the semiconductor devices as shown in FIGS. 1, 2 and 16 are subjected to processes such as solder plating of the external leads 11, 12, 13 exposed to the outside and removing unnecessary parts such as tie bars. Get S.

<第2実施形態>
図7は、本願発明の第2実施形態に係る半導体装置の斜視図である。図8は、図7に示す半導体装置の内部構成を示す図である。また、図9は、図8のX1−X1から見た断面図である。
Second Embodiment
FIG. 7 is a perspective view of a semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. FIG. 8 is a diagram showing an internal configuration of the semiconductor device shown in FIG. FIG. 9 is a cross-sectional view as viewed from X1-X1 in FIG.

この第2実施形態に係る半導体装置Sは、たとえばダイオードからなる第1半導体チップ21と、トランジスタからなる第2半導体チップ22とを備えている。第1半導体チップ21は、第1チップ搭載用内部リード24上に搭載されている。詳細には、第1チップ搭載用内部リード24の一端には、略矩形状のアイランド34が形成され、このアイランド34上に第1半導体チップ21が搭載されている。   The semiconductor device S according to the second embodiment includes a first semiconductor chip 21 made of, for example, a diode and a second semiconductor chip 22 made of a transistor. The first semiconductor chip 21 is mounted on the first chip mounting internal lead 24. Specifically, a substantially rectangular island 34 is formed at one end of the first chip mounting internal lead 24, and the first semiconductor chip 21 is mounted on the island 34.

また、第1半導体チップ21の上面には、第1チップ接続用内部リード25が接続されている。詳細には、第1チップ接続用内部リード25の一端には、略矩形状の平坦部25aが形成され、平坦部25aは、第1半導体チップ21を上方から臨むように配されるとともに、第1半導体チップ21の上面とバンプ35を介して電気的に接続されている。   A first chip connecting internal lead 25 is connected to the upper surface of the first semiconductor chip 21. Specifically, a substantially rectangular flat portion 25a is formed at one end of the first chip connecting internal lead 25, and the flat portion 25a is arranged so as to face the first semiconductor chip 21 from above, and 1 It is electrically connected to the upper surface of the semiconductor chip 21 via bumps 35.

一方、第2半導体チップ22は、第2チップ搭載用内部リード26上に搭載されている。詳細には、第2チップ搭載用内部リード26の一端には、樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないしは略長矩形状のアイランド36が形成されている。このアイランド36上に、第2半導体チップ22が搭載されている。   On the other hand, the second semiconductor chip 22 is mounted on the second chip mounting internal lead 26. Specifically, a long rectangular or substantially rectangular island 36 extending along the longitudinal direction of the resin package 7 is formed at one end of the second chip mounting internal lead 26. On the island 36, the second semiconductor chip 22 is mounted.

また、第2半導体チップ22の上面には、第2チップ接続用内部リード27および第3チップ接続用内部リード28が接続されている。詳細には、第2チップ接続用内部リード27の一端には、略矩形状の平坦部27aが形成され、平坦部27aは、第2半導体チップ22の上面においてほぼ半分の領域に対して上方から臨むように配されるとともに、第2半導体チップ22の上面とバンプ37を介して電気的に接続されている。また、第3チップ接続用内部リード28の一端には、平坦部28aが形成され、平坦部28aは、第2半導体チップ22の上面において上記領域と異なるほぼ半分の領域に対して上方から臨むように配されるとともに、第2半導体チップ22の上面とバンプ38を介して電気的に接続されている。   Further, the second chip connecting internal lead 27 and the third chip connecting internal lead 28 are connected to the upper surface of the second semiconductor chip 22. Specifically, a substantially rectangular flat portion 27 a is formed at one end of the second chip connecting internal lead 27, and the flat portion 27 a is viewed from above with respect to a substantially half region on the upper surface of the second semiconductor chip 22. It is arranged so as to face, and is electrically connected to the upper surface of the second semiconductor chip 22 via the bumps 37. Further, a flat portion 28a is formed at one end of the third chip connecting internal lead 28, and the flat portion 28a faces from above the substantially half of the upper surface of the second semiconductor chip 22 which is different from the above region. And is electrically connected to the upper surface of the second semiconductor chip 22 via the bumps 38.

なお、上記第1チップ搭載用内部リード24は、ダイオードの、たとえばアノード端子に相当し、第1チップ接続用内部リード25は、ダイオードのカソード端子に相当する。また、第2チップ搭載用内部リード26は、トランジスタのコレクタ端子に相当し、第2チップ接続用内部リード27は、トランジスタのベース端子に相当し、第3チップ接続用内部リード28は、トランジスタのエミッタ端子にそれぞれ相当する。   The first chip mounting internal lead 24 corresponds to, for example, an anode terminal of a diode, and the first chip connecting internal lead 25 corresponds to a cathode terminal of the diode. The second chip mounting internal lead 26 corresponds to the collector terminal of the transistor, the second chip connecting internal lead 27 corresponds to the base terminal of the transistor, and the third chip connecting internal lead 28 corresponds to the transistor terminal. Each corresponds to an emitter terminal.

そして、各半導体チップ21,22および各内部リード24〜28は、エポキシ樹脂等により封止されて平面視略長矩形状の樹脂パッケージ7が形成されている。   The semiconductor chips 21 and 22 and the internal leads 24 to 28 are sealed with an epoxy resin or the like to form a resin package 7 having a substantially long rectangular shape in plan view.

各内部リード24〜28は、他端側が折り曲げられ、樹脂パッケージ7から外部に露出された外部リード29〜33にそれぞれ連続させられている。上記第1チップ搭載用内部リード24および第1チップ接続用内部リード25は、樹脂パッケージ7の長手方向一端部Sa近傍の両側面Scから外部に露出された外部リード29,30に連続させられている。また、第2チップ搭載用内部リード26および第2チップ接続用内部リード27は、樹脂パッケージ7の長手方向他端部Sb近傍の両側面Scから露出された外部リード31,32にそれぞれ連続させられている。外部リード33は、外部リード30および外部リード32の間の側面Scから外部に露出されている。   Each of the internal leads 24 to 28 is bent at the other end, and is continuous with the external leads 29 to 33 exposed to the outside from the resin package 7. The first chip mounting internal lead 24 and the first chip connecting internal lead 25 are connected to the external leads 29 and 30 exposed to the outside from both side surfaces Sc in the vicinity of one end Sa of the resin package 7 in the longitudinal direction. Yes. The second chip mounting internal lead 26 and the second chip connecting internal lead 27 are respectively connected to the external leads 31 and 32 exposed from both side surfaces Sc near the other end Sb in the longitudinal direction of the resin package 7. ing. The external lead 33 is exposed to the outside from the side surface Sc between the external lead 30 and the external lead 32.

各チップ搭載用内部リード24,26のアイランド34,36は、樹脂パッケージ7内で同一平面上に配置されている。そのため、第1および第2半導体チップ21,22も、同一平面上に並設される。   The islands 34 and 36 of the chip mounting internal leads 24 and 26 are arranged on the same plane in the resin package 7. Therefore, the first and second semiconductor chips 21 and 22 are also arranged on the same plane.

上記半導体装置Sによれば、各半導体チップ21,22が各チップ搭載用内部リード24,26のアイランド34,36に搭載され、各半導体チップ21,22の上面に各チップ接続用内部リード25,27,28を接続するといった、ワイヤレス構造が採用されている。また、第1チップ搭載用内部リード24のアイランド34は、第1半導体チップ21を搭載できる充分な面積を有し、一方、第2チップ搭載用内部リード25のアイランド36は、略長矩形状に形成されている。そのため、両アイランド34,36は、全体として平面視において樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状になるように形成される。より具体的には、両アイランド34,36は、全体として平面視において樹脂パッケージ7の底面積全体に対して約50%以上を占有するよう形成される。したがって、両アイランド34,36において面積の拡大化が図られ、各内部リード24〜28を通じて、あるいは各内部リード24〜28に接する樹脂パッケージ7を通じて、第1および第2半導体チップ21,22から発せられる熱を外部に効果的に放出することができる。   According to the semiconductor device S, the semiconductor chips 21 and 22 are mounted on the islands 34 and 36 of the chip mounting internal leads 24 and 26, and the chip connecting internal leads 25 and 26 are formed on the upper surfaces of the semiconductor chips 21 and 22, respectively. A wireless structure such as connecting 27 and 28 is employed. The island 34 of the first chip mounting internal lead 24 has a sufficient area for mounting the first semiconductor chip 21, while the island 36 of the second chip mounting internal lead 25 is formed in a substantially long rectangular shape. Has been. Therefore, both islands 34 and 36 are formed to have a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape that extends along the longitudinal direction of the resin package 7 as a whole in plan view. More specifically, both islands 34 and 36 are formed so as to occupy about 50% or more of the entire bottom area of the resin package 7 in plan view. Therefore, the area of each of the islands 34 and 36 is increased, and the first and second semiconductor chips 21 and 22 emit light through the internal leads 24 to 28 or through the resin package 7 in contact with the internal leads 24 to 28. The generated heat can be effectively released to the outside.

また、従来の構成のように、各内部リードをほぼ同一平面上に配すれば、半導体チップを複数設けた場合、半導体装置Sの大きさが平面方向に沿って広がることになる。しかし、上記のように、第1および第2半導体チップ21,22は同一平面上に配されているが、上記のようにワイヤレス構造を適用すれば、装置の平面方向への広がりを抑えつつ、樹脂パッケージ7内において複数の第1半導体チップ21,22を配置することが可能となる。そのため、半導体装置S自体の大きさを実質的に小型化することができる。   If each internal lead is arranged on substantially the same plane as in the conventional configuration, when a plurality of semiconductor chips are provided, the size of the semiconductor device S spreads in the plane direction. However, as described above, the first and second semiconductor chips 21 and 22 are arranged on the same plane, but if the wireless structure is applied as described above, the spread in the plane direction of the device is suppressed, A plurality of first semiconductor chips 21 and 22 can be arranged in the resin package 7. Therefore, the size of the semiconductor device S itself can be substantially reduced.

図10は、図8に示す半導体装置の変形例(以下、「変形例3」という。)を示す内部構成図である。図11は、図10のX2−X2から見た断面図である。この変形例3の半導体装置では、2つのトランジスタからなる第1および第2半導体チップ41,42がそれぞれ備えられ、2つのトランジスタのエミッタ端子が1つの端子で共通とされている。   FIG. 10 is an internal configuration diagram illustrating a modified example (hereinafter referred to as “modified example 3”) of the semiconductor device illustrated in FIG. 8. 11 is a cross-sectional view as viewed from X2-X2 in FIG. In the semiconductor device of Modification 3, the first and second semiconductor chips 41 and 42 each including two transistors are provided, and the emitter terminals of the two transistors are shared by one terminal.

第1半導体チップ41は、第1チップ搭載用内部リード43上に搭載されている。詳細には、第1チップ搭載用内部リード43の一端には、樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状のアイランド51が形成され、アイランド51上には、第1半導体チップ41が搭載されている。第1半導体チップ41の上面には、第1チップ接続用内部リード44が接続されている。詳細には、第1チップ接続用内部リード44の一端には、平坦部44aが形成され、平坦部44aは、第1半導体チップ41を上方から臨むように配されるとともに、第1半導体チップ41の上面とバンプ53を介して電気的にそれぞれ接続されている。   The first semiconductor chip 41 is mounted on the first chip mounting internal lead 43. Specifically, an elongated rectangular or substantially rectangular island 51 extending along the longitudinal direction of the resin package 7 is formed at one end of the first chip mounting internal lead 43, and the first semiconductor chip is formed on the island 51. 41 is mounted. A first chip connecting internal lead 44 is connected to the upper surface of the first semiconductor chip 41. Specifically, a flat portion 44 a is formed at one end of the first chip connecting internal lead 44, and the flat portion 44 a is arranged so as to face the first semiconductor chip 41 from above, and the first semiconductor chip 41. Are electrically connected to each other via bumps 53.

同様に、第2半導体チップ42は、第2チップ搭載用内部リード45上に搭載されている。詳細には、第2チップ搭載用内部リード45の一端には、樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状のアイランド52が形成され、アイランド52上には、第2半導体チップ42が搭載されている。第2半導体チップ42の上面には、第2チップ接続用内部リード45が接続されている。詳細には、第2チップ接続用内部リード45の一端には、平坦部45aが形成され、平坦部45aは、第2半導体チップ42を上方から臨むように配されるとともに、第2半導体チップ42の上面とバンプ54を介して電気的に接続されている。   Similarly, the second semiconductor chip 42 is mounted on the second chip mounting internal lead 45. Specifically, an elongated rectangular or substantially rectangular island 52 extending along the longitudinal direction of the resin package 7 is formed at one end of the second chip mounting internal lead 45, and the second semiconductor chip is formed on the island 52. 42 is mounted. A second chip connecting internal lead 45 is connected to the upper surface of the second semiconductor chip 42. Specifically, a flat portion 45 a is formed at one end of the second chip connecting internal lead 45, and the flat portion 45 a is arranged so as to face the second semiconductor chip 42 from above, and the second semiconductor chip 42. Are electrically connected to each other via bumps 54.

各チップ搭載用内部リード43,45のアイランド51,52は、樹脂パッケージ7内で同一平面上に配置され、かつアイランド51,52の互いの端部が接近して並設されている。これにより、第1および第2半導体チップ41,42も、同一平面上に並設される。   The islands 51 and 52 of the chip mounting internal leads 43 and 45 are arranged on the same plane in the resin package 7, and the ends of the islands 51 and 52 are arranged close to each other. Thereby, the first and second semiconductor chips 41 and 42 are also arranged on the same plane.

両半導体チップ41,42の上面には、第3チップ接続用内部リード47が接続されている。詳細には、第3チップ接続用内部リード47の一端には、略矩形状の平坦部47aが形成され、平坦部47aは、各半導体チップ41,42を上方から臨むように配されるとともに、各半導体チップ41,42の上面とそれらを跨ぐようにしてバンプ55,56を介して電気的に接続されている。すなわち、上記したように、アイランド51,52は、樹脂パッケージ7内で同一平面上に配置されるため、第1および第2半導体チップ41,42も、同一平面上に並設される結果、それらの上面に第3チップ接続用内部リード47を接続することが可能となる。   A third chip connecting internal lead 47 is connected to the upper surfaces of both the semiconductor chips 41, 42. Specifically, a substantially rectangular flat portion 47a is formed at one end of the third chip connecting internal lead 47, and the flat portion 47a is arranged so as to face the semiconductor chips 41 and 42 from above, The semiconductor chips 41 and 42 are electrically connected to the upper surfaces of the semiconductor chips 41 and 42 via bumps 55 and 56 so as to straddle them. That is, as described above, since the islands 51 and 52 are arranged on the same plane in the resin package 7, the first and second semiconductor chips 41 and 42 are also arranged on the same plane. It is possible to connect the third chip connecting internal lead 47 to the upper surface of the first chip.

なお、第1チップ搭載用内部リード43は、一方のトランジスタの、たとえばコレクタ端子に相当し、第1チップ接続用内部リード44は、ベース端子に相当し、第2チップ搭載用内部リード45は、他方のトランジスタのコレクタ端子に相当し、第2チップ接続用内部リード46は、ベース端子に相当し、第3チップ接続用内部リード47は、一方および他方のトランジスタのエミッタ端子に相当する。すなわち、本変形例3では、第3チップ接続用内部リード47によって両トランジスタのエミッタ端子を共通化して用いている。   The first chip mounting internal lead 43 corresponds to, for example, a collector terminal of one transistor, the first chip connecting internal lead 44 corresponds to a base terminal, and the second chip mounting internal lead 45 is The second chip connecting internal lead 46 corresponds to the base terminal, and the third chip connecting internal lead 47 corresponds to the emitter terminal of one and the other transistors. That is, in the third modification, the emitter terminals of both transistors are shared by the third chip connecting internal lead 47.

上記構成によれば、各搭載用内部リード43,45のアイランド51,52は、略長矩形状に形成されるため、全体として平面視において樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状になるように形成される。したがって、上記実施形態と同様に、両アイランド51,52において面積の拡大化が図られ、半導体チップ41,42から発せられる熱を外部に効果的に放出することができる。また、上記のようなワイヤレス構造を適用するようにすれば、たとえば□約0.9mmの半導体チップからなる2つのトランジスタを収納することができる。   According to the above configuration, since the islands 51 and 52 of the mounting internal leads 43 and 45 are formed in a substantially long rectangular shape, as a whole, the long rectangular shape or the substantially rectangular shape extending along the longitudinal direction of the resin package 7 in a plan view. It is formed to have a shape. Accordingly, as in the above embodiment, the area of both islands 51 and 52 is increased, and the heat generated from the semiconductor chips 41 and 42 can be effectively released to the outside. Further, if the wireless structure as described above is applied, for example, two transistors made of a semiconductor chip of about 0.9 mm can be accommodated.

さらに、トランジスタのエミッタ端子を共通化することにより、半導体装置Sの外部に露出する端子数を減らすことができるので、部品コストの削減を図ることができる。なお、上記半導体装置Sにおいては、2つのトランジスタの共通となる端子は、エミッタ端子に限らず、コレクタ端子やベース端子でもよい。   Further, by sharing the emitter terminal of the transistor, the number of terminals exposed to the outside of the semiconductor device S can be reduced, so that the component cost can be reduced. In the semiconductor device S, the common terminal of the two transistors is not limited to the emitter terminal, but may be a collector terminal or a base terminal.

図12は、図8に示す半導体装置Sの他の変形例(以下、「変形例4」という。)を示す内部構成図である。図13は、図12のX3−X3から見た断面図である。この変形例4の半導体装置では、上記変形例3の半導体装置と同様に、2つのトランジスタからなる第1および第2半導体チップ61,62をそれぞれ備えられているが、第1および第2半導体チップ61,62は、その上下面が互に逆となるように樹脂パッケージ7内に配されている。   FIG. 12 is an internal configuration diagram illustrating another modified example (hereinafter, referred to as “modified example 4”) of the semiconductor device S illustrated in FIG. 8. 13 is a cross-sectional view as seen from X3-X3 in FIG. Similar to the semiconductor device of Modification Example 3, the semiconductor device of Modification Example 4 includes first and second semiconductor chips 61 and 62 each including two transistors, but the first and second semiconductor chips are provided. 61 and 62 are arranged in the resin package 7 so that their upper and lower surfaces are opposite to each other.

すなわち、第1半導体チップ61は、第1チップ搭載用内部リード64の一端に形成された、樹脂パッケージ7の長手方向に延びる長矩形状のアイランド71上に搭載されている。第1半導体チップ61の上面には、第1チップ接続用内部リード65および第2チップ接続用内部リード66の一端にそれぞれ形成された平坦部65a,66aが、半導体チップ61を上方から臨むように配されるとともに、半導体チップ61の上面とバンプ73,74を介して電気的にそれぞれ接続されている。   That is, the first semiconductor chip 61 is mounted on a long rectangular island 71 formed at one end of the first chip mounting internal lead 64 and extending in the longitudinal direction of the resin package 7. On the upper surface of the first semiconductor chip 61, flat portions 65a and 66a formed at one ends of the first chip connecting internal lead 65 and the second chip connecting internal lead 66 respectively face the semiconductor chip 61 from above. In addition, the upper surface of the semiconductor chip 61 and the bumps 73 and 74 are electrically connected to each other.

一方、第2半導体チップ62は、第2チップ搭載用内部リード67に搭載されているが、本変形例4では、半導体チップ62のアイランド72に対する搭載方向が、半導体チップ61のそれと異なっている。すなわち、半導体チップ61は、アイランド71の上面にダイボンディング等で接続されているが、半導体チップ62は、アイランド72の下面にダイボンディング等で接続されている。   On the other hand, the second semiconductor chip 62 is mounted on the second chip mounting internal lead 67, but in the fourth modification, the mounting direction of the semiconductor chip 62 with respect to the island 72 is different from that of the semiconductor chip 61. That is, the semiconductor chip 61 is connected to the upper surface of the island 71 by die bonding or the like, while the semiconductor chip 62 is connected to the lower surface of the island 72 by die bonding or the like.

また、第2半導体チップ62の下面に第3チップ接続用内部リード68および第4チップ接続用内部リード69が電気的に接続されている。すなわち、チップ接続用内部リード68,69の一端には、平坦部68a,69aが形成され、平坦部68a,69aは、半導体チップ62の下面を下方から見上げるように配されるとともに、半導体チップ62の下面にバンプ75,76を介して電気的にそれぞれ接続されている。   The third chip connecting internal lead 68 and the fourth chip connecting internal lead 69 are electrically connected to the lower surface of the second semiconductor chip 62. That is, flat portions 68a and 69a are formed at one ends of the chip connecting internal leads 68 and 69, and the flat portions 68a and 69a are arranged so that the lower surface of the semiconductor chip 62 is looked up from below, and the semiconductor chip 62 is provided. Are electrically connected via bumps 75 and 76, respectively.

すなわち、各半導体チップ61,62は、その上下面が互に逆となるように樹脂パッケージ7内に配され、第1チップ搭載用内部リード64のアイランド71は、樹脂パッケージ7の下面近傍に配され、第2チップ搭載用内部リード67のアイランド72は、樹脂パッケージ7の上面近傍に配されている。   That is, the semiconductor chips 61 and 62 are arranged in the resin package 7 so that their upper and lower surfaces are opposite to each other, and the island 71 of the first chip mounting internal lead 64 is arranged near the lower surface of the resin package 7. The island 72 of the second chip mounting internal lead 67 is disposed in the vicinity of the upper surface of the resin package 7.

なお、第1チップ搭載用内部リード64は、一方のトランジスタのたとえばコレクタ端子に相当し、第1チップ接続用内部リード65は、ベース端子に相当し、第2チップ接続用内部リード66は、エミッタ端子に相当し、第2チップ搭載用内部リード67は、他方のトランジスタのコレクタ端子に相当し、第3チップ接続用内部リード68は、ベース端子に相当し、第4チップ接続用内部リード69は、エミッタ端子に相当する。   The first chip mounting internal lead 64 corresponds to, for example, a collector terminal of one transistor, the first chip connecting internal lead 65 corresponds to a base terminal, and the second chip connecting internal lead 66 is an emitter. The second chip mounting internal lead 67 corresponds to the terminal, the third chip connecting internal lead 68 corresponds to the base terminal, and the fourth chip connecting internal lead 69 corresponds to the collector terminal of the other transistor. Corresponds to the emitter terminal.

各内部リード64〜68は、樹脂パッケージ7の外部に露出された外部リード29〜33にそれぞれ連続させられ、また、第4チップ接続用内部リード69は、外部リード29と外部リード31との間の側面Scから外部に延びた外部リード70に連続させられている。   The internal leads 64 to 68 are respectively connected to the external leads 29 to 33 exposed to the outside of the resin package 7, and the fourth chip connecting internal lead 69 is between the external lead 29 and the external lead 31. It is made to continue with the external lead 70 extended outside from the side surface Sc.

この変形例4においては、各半導体チップ61,62は、その上下面が互に逆となるように樹脂パッケージ7内に配されている。しかし、各搭載用内部リード64,67のアイランド71,72は、全体として平面視において樹脂パッケージ7の長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状になるように形成される。したがって、上記実施形態と同様に、両アイランド71,72において面積の拡大化が図られ、各半導体チップ61,62から発せられる熱を外部に効果的に放出することができる。   In the fourth modification, the semiconductor chips 61 and 62 are arranged in the resin package 7 so that their upper and lower surfaces are opposite to each other. However, the islands 71 and 72 of the mounting internal leads 64 and 67 are formed so as to have a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape extending along the longitudinal direction of the resin package 7 as a whole in plan view. Therefore, as in the above embodiment, the area of both islands 71 and 72 is increased, and the heat generated from each semiconductor chip 61 and 62 can be effectively released to the outside.

しかも、この変形例4によれば、第1チップ搭載用内部リード64のアイランド71は、樹脂パッケージ7の下面近傍に配され、第2チップ搭載用内部リード67のアイランド72は、樹脂パッケージ7の上面近傍に配されているため、各半導体チップ61,62が樹脂パッケージ7内で上下に離れて配されることになる。そのため、内部リード64〜69が偏って樹脂パッケージ7内に配される構成に比べ、半導体チップ61,62の各チップ搭載用内部リード64,67による放熱性をより高めることができる。   Moreover, according to the fourth modification, the island 71 of the first chip mounting internal lead 64 is arranged near the lower surface of the resin package 7, and the island 72 of the second chip mounting internal lead 67 is connected to the resin package 7. Since the semiconductor chips 61 and 62 are arranged in the vicinity of the upper surface, the semiconductor chips 61 and 62 are arranged apart from each other in the resin package 7. Therefore, the heat dissipation by the chip mounting internal leads 64 and 67 of the semiconductor chips 61 and 62 can be further improved as compared with the configuration in which the internal leads 64 to 69 are biased and arranged in the resin package 7.

以上のように、本第2実施形態においては、内部リードによって半導体チップを上下方向から挟み込む立体的な構成とすることにより、放熱性に優れ、かつ半導体チップを複数備えることが可能な半導体装置Sを提供することができる。なお、樹脂パッケージ7内に設けられる半導体チップの数は、上記2個に限らず、それ以上の数の半導体チップを備えるようにしてもよい。また、それに応じて半導体装置Sから外部に露出する端子数は、2端子あるいは7端子以上の端子を有するようにしてもよい。   As described above, in the second embodiment, the semiconductor device S is excellent in heat dissipation and can include a plurality of semiconductor chips by adopting a three-dimensional configuration in which the semiconductor chip is sandwiched from above and below by the internal leads. Can be provided. The number of semiconductor chips provided in the resin package 7 is not limited to the above two, and a larger number of semiconductor chips may be provided. Further, the number of terminals exposed from the semiconductor device S to the outside may have two terminals or seven or more terminals.

次に、上記第2実施形態に係る半導体装置の製造方法を、変形例4の半導体装置に基づいて簡単に説明する。上記半導体装置の製作には、たとえば、図14に示すように、一定方向に延びた長尺状の、たとえば銅からなる薄板81に対して打ち抜きプレス加工を施した後、所定のフォーミング加工を施すことにより、各内部リード64〜69および外部リード29〜33,70の原型となる部分を形成する。この場合、各チップ搭載用内部リード64,67は、その端部に矩形状のアイランド71,72を備えるように形成する。なお、図中、82は送り穴を示す。   Next, a method for manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment will be briefly described based on the semiconductor device of Modification 4. In the manufacture of the semiconductor device, for example, as shown in FIG. 14, a long thin plate 81 made of copper, for example, extending in a certain direction is punched and subjected to a predetermined forming process. As a result, the original portions of the internal leads 64 to 69 and the external leads 29 to 33 and 70 are formed. In this case, the chip mounting internal leads 64 and 67 are formed so as to have rectangular islands 71 and 72 at their ends. In the figure, 82 indicates a feed hole.

次いで、各チップ搭載用内部リード64,67のアイランド71,72の上面に半導体チップ61,62を、たとえば接着剤を用いて接続する。そして、半導体チップ61,62の上面に、たとえば、Agからなるバンプ73〜76を形成し成長させる。   Next, the semiconductor chips 61 and 62 are connected to the upper surfaces of the islands 71 and 72 of the chip mounting internal leads 64 and 67 using, for example, an adhesive. Then, bumps 73 to 76 made of, for example, Ag are formed and grown on the upper surfaces of the semiconductor chips 61 and 62.

その後、薄板81の長手方向に延びる一点破線で示す折り返しラインL1に沿って、図15に示すように、薄板81の個片83を反転軸Cを中心にして反転させる。これにより、半導体チップ62のバンプ75,76は、チップ接続用内部リード68,69の各平坦部68a,69aに接続される。同様に、半導体チップ61のバンプ73,74も、チップ接続用内部リード65,66の各平坦部65a,66aに接続される。なお、上記個片83の大きさは、個片8を折り返したときに各半導体チップ61,62が各バンプ73〜76を介して適切に各平坦部65a,66a,68a,69aに接続されるように、予め設定されて形成されている。   Thereafter, the individual piece 83 of the thin plate 81 is reversed about the reversal axis C as shown in FIG. 15 along a folding line L1 indicated by a one-dot broken line extending in the longitudinal direction of the thin plate 81. Thereby, the bumps 75 and 76 of the semiconductor chip 62 are connected to the flat portions 68a and 69a of the chip connecting internal leads 68 and 69, respectively. Similarly, the bumps 73 and 74 of the semiconductor chip 61 are also connected to the flat portions 65a and 66a of the chip connecting internal leads 65 and 66, respectively. The size of the piece 83 is such that when the piece 8 is folded, the semiconductor chips 61 and 62 are appropriately connected to the flat portions 65a, 66a, 68a, and 69a via the bumps 73 to 76, respectively. In this way, it is preset and formed.

次に、各半導体チップ61,62、各内部リード64〜69を所定の金型を用いて熱硬化性樹脂によりパッケージングを行い、樹脂パッケージ7を形成する。そして、外部に露出している各外部リード29〜33,70をハンダメッキし、タイバー等の不要な部位を除去する等の工程を経て、図12および図13に示すような半導体装置Sを得る。   Next, the semiconductor chips 61 and 62 and the internal leads 64 to 69 are packaged with a thermosetting resin using a predetermined mold, and the resin package 7 is formed. Then, the semiconductor leads S as shown in FIGS. 12 and 13 are obtained through processes such as solder plating of the external leads 29 to 33 and 70 exposed to the outside and removing unnecessary parts such as tie bars. .

このように、薄板81の個片83を折り返すことにより、半導体チップ61,62を各内部リード65,66,68,69の平坦部65a,66a,68a,69aに対して精度よく接続することができる。なお、上記方法は、上述した第1および第2実施形態に示した半導体装置Sに適用することが可能である。   In this way, by folding back the individual piece 83 of the thin plate 81, the semiconductor chips 61, 62 can be accurately connected to the flat portions 65a, 66a, 68a, 69a of the internal leads 65, 66, 68, 69. it can. The method can be applied to the semiconductor device S shown in the first and second embodiments described above.

もちろん、この発明の範囲は上述した実施の形態に限定されるものではない。たとえば、半導体チップとしては、上記したダイオードやトランジスタに限らない。また、ダイオードの種類としては、たとえばスイッチングダイオードやショットキーバリアダイオード等を適用することができるが、これらに限定されるものではない。また、トランジスタとしては、たとえばMOS FETやバイポーラトランジスタ等が適用できるが、同様に、これらに限定されるものではない。   Of course, the scope of the present invention is not limited to the embodiment described above. For example, the semiconductor chip is not limited to the above-described diode or transistor. Moreover, as a kind of diode, although a switching diode, a Schottky barrier diode, etc. can be applied, for example, it is not limited to these. Further, as the transistor, for example, a MOS FET or a bipolar transistor can be applied, but it is not limited to these as well.

1 チップ搭載用内部リード
2 一方のチップ接続用内部リード
3 他方のチップ接続用内部リード
4 アイランド
5 半導体チップ
7 樹脂パッケージ
S 半導体装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Internal lead for chip mounting 2 Internal lead for one chip connection 3 Internal lead for the other chip connection 4 Island 5 Semiconductor chip 7 Resin package S Semiconductor device

Claims (2)

第1および第2半導体チップと、上記各半導体チップをそれぞれ搭載する第1および第2チップ搭載用内部リードと、上記各半導体チップの上面に電気的にそれぞれ接続された複数のチップ接続用内部リードと、上記各半導体チップおよび上記各内部リードを包み込むとともに平面視長矩形状とした樹脂パッケージとを備え、
上記各チップ搭載用内部リードの端部は、全体として平面視において上記樹脂パッケージの長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状になるように形成されており、
上記チップ搭載用内部リードの端部は、全体として平面視において上記樹脂パッケージの底面積全体に対して約50%以上を占有し、かつ、
上記各半導体チップは、その上下面が互に逆となるように上記樹脂パッケージ内に配され、
上記第1チップ搭載用内部リードの端部は、上記樹脂パッケージの下面近傍に配され、
上記第2チップ搭載用内部リードの端部は、上記樹脂パッケージの上面近傍に配されていることを特徴とする、半導体装置。
First and second semiconductor chips, first and second chip mounting internal leads for mounting each of the semiconductor chips, and a plurality of chip connecting internal leads electrically connected to the top surfaces of the semiconductor chips, respectively. And a resin package enclosing each semiconductor chip and each internal lead and having a rectangular shape in plan view,
The end of each chip mounting internal lead is formed in a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape extending along the longitudinal direction of the resin package as a whole in plan view,
The end of the chip mounting internal lead occupies about 50% or more of the entire bottom area of the resin package in plan view as a whole, and
Each of the semiconductor chips is arranged in the resin package so that the upper and lower surfaces thereof are opposite to each other,
The end of the first chip mounting internal lead is disposed near the lower surface of the resin package,
An end of the second chip mounting internal lead is disposed in the vicinity of the upper surface of the resin package.
半導体チップと、この半導体チップを搭載するチップ搭載用内部リードと、上記半導体チップの上面に電気的に直接接続されたチップ接続用内部リードと、上記半導体チップおよび上記各内部リードを包み込むとともに平面視長矩形状とした樹脂パッケージとを備え、
上記チップ搭載用内部リードは、上記樹脂パッケージの長手方向に沿って延びる長矩形状ないし略長矩形状に形成された端部を含んでおり、
上記チップ搭載用内部リードには、上記樹脂パッケージの短手方向に向けて上記樹脂パッケージの外部に延出する外部リードが連続しており、
平面視における上記チップ搭載用内部リードの面積は、上記樹脂パッケージの底面積に対して約50%以上とされており、かつ、
上記外部リードの上記樹脂パッケージの長手方向に沿う幅は、上記チップ搭載用内部リードの上記樹脂パッケージの長手方向に沿う幅と同等であることを特徴とする、半導体装置。
A semiconductor chip, a chip mounting internal lead for mounting the semiconductor chip, a chip connecting internal lead electrically connected directly to the upper surface of the semiconductor chip, and enveloping the semiconductor chip and each internal lead and in plan view A long rectangular resin package,
The chip mounting internal lead includes an end portion formed in a long rectangular shape or a substantially long rectangular shape extending along a longitudinal direction of the resin package,
The lead for mounting the chip is continuous with an external lead extending outside the resin package in the short direction of the resin package.
The area of the chip mounting internal lead in plan view is about 50% or more with respect to the bottom area of the resin package, and
The width of the external lead along the longitudinal direction of the resin package is equal to the width of the internal lead for chip mounting along the longitudinal direction of the resin package.
JP2010145817A 1999-10-28 2010-06-28 Semiconductor device Expired - Lifetime JP5362658B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010145817A JP5362658B2 (en) 1999-10-28 2010-06-28 Semiconductor device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30634199 1999-10-28
JP1999306341 1999-10-28
JP2010145817A JP5362658B2 (en) 1999-10-28 2010-06-28 Semiconductor device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000126742A Division JP4651153B2 (en) 1999-10-28 2000-04-27 Semiconductor device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010212736A JP2010212736A (en) 2010-09-24
JP5362658B2 true JP5362658B2 (en) 2013-12-11

Family

ID=42972521

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010145817A Expired - Lifetime JP5362658B2 (en) 1999-10-28 2010-06-28 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5362658B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023100663A1 (en) * 2021-12-01 2023-06-08 ローム株式会社 Semiconductor device

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60101958A (en) * 1983-11-08 1985-06-06 Rohm Co Ltd Manufacture of diode device
JPS62185340A (en) * 1986-02-10 1987-08-13 Hitachi Micro Comput Eng Ltd Semiconductor device
JP2512441Y2 (en) * 1989-07-11 1996-10-02 ローム 株式会社 Synthetic resin sealed semiconductor device
JPH0613157U (en) * 1991-12-09 1994-02-18 新電元工業株式会社 Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010212736A (en) 2010-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4651153B2 (en) Semiconductor device
US9589868B2 (en) Packaging solutions for devices and systems comprising lateral GaN power transistors
US7208818B2 (en) Power semiconductor package
US7511361B2 (en) DFN semiconductor package having reduced electrical resistance
US7633140B2 (en) Inverted J-lead for power devices
JPH0758277A (en) Semiconductor device
CN102693953A (en) Semiconductor apparatus and method for manufacturing the same
US20020179994A1 (en) Power semiconductor device manufactured using a chip-size package
US7102211B2 (en) Semiconductor device and hybrid integrated circuit device
US20020121683A1 (en) Encapsulated die package with improved parasitic and thermal performance
JP5362658B2 (en) Semiconductor device
US20120181677A1 (en) Semiconductor device package with two component lead frame
US20060145312A1 (en) Dual flat non-leaded semiconductor package
JPS6180842A (en) Semiconductor device
JP4207791B2 (en) Semiconductor device
GB2362991A (en) Power MOSFET package
CN218632028U (en) Semiconductor packaging structure
JP5145596B2 (en) Semiconductor device
JP2990645B2 (en) Lead frame for semiconductor integrated circuit and semiconductor integrated circuit
US7951651B2 (en) Dual flat non-leaded semiconductor package
JP3670636B2 (en) Electronic device with electronic components mounted
JP2016197636A (en) Molded package
US6472731B2 (en) Solder clad lead frame for assembly of semiconductor devices and method
EP1357594A1 (en) Power semiconductor device manufactured using a chip-size package
KR101016715B1 (en) Semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100628

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121127

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130128

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130430

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130531

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20130701

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130903

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130904

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5362658

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term