JP5354309B2 - Epoxy resin composition, cured product thereof, semiconductor sealing material, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof - Google Patents

Epoxy resin composition, cured product thereof, semiconductor sealing material, novel polyvalent hydroxy compound, and production method thereof Download PDF

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Abstract

An epoxy resin composition that can be hardened rapidly, excelling in the flame retardance of a hardening product thereof obtainable even without the use of any halogen flame retardant, and that further excels in heat resistance. There are provided a hardening product thereof; a semiconductor sealing material comprising the epoxy resin composition; a novel epoxy resin and novel hydroxyl compound that can be used in the epoxy resin composition; and a process for producing the same.

Description

本発明は硬化性に優れ、得られる硬化物の難燃性や耐熱性が良好であり、半導体封止材、プリント回路基板、塗料、注型用途等に好適に用いる事が出来るエポキシ樹脂組成物、その硬化物、及び該エポキシ樹脂組成物が硬化剤として含有する新規多価ヒドロキシ化合物及びその製造方法に関する。 The present invention is excellent in curability, the cured product obtained has good flame retardancy and heat resistance, and can be suitably used for semiconductor encapsulants, printed circuit boards, paints, casting applications, etc. , A cured product thereof, a novel polyvalent hydroxy compound contained in the epoxy resin composition as a curing agent , and a method for producing the same.

従来、エポキシ樹脂組成物は得られる硬化物の密着性、耐食性、電気特性等に優れる事から、塗料、接着性、電気電子など種々の産業分野で広く使用されている。これらの中でも、半導体やプリント配線基板などのエレクトロニクス材料分野においては、封止材や基板材料等として用いられており、これらの分野における技術革新に伴って、高性能化への要求が高まっている。   Conventionally, epoxy resin compositions have been widely used in various industrial fields such as paints, adhesive properties, and electrical and electronic properties because they are excellent in adhesion, corrosion resistance, electrical properties, and the like of the cured products obtained. Among these, in the field of electronic materials such as semiconductors and printed wiring boards, they are used as sealing materials and substrate materials, and demands for higher performance are increasing with technological innovation in these fields. .

例えば、半導体用パッケージの小型・薄型化は急速に進展し、高密度実装性に優れるBGA型半導体装置が開発され、ICやLSIチップのパッケージの主流となってきている。このパッケージは成形後の反りが大きな問題となっており、その解決策としてパッケージ材料のガラス転移温度を高める手法が採られている。また、成形サイクル短縮のため、硬化性に優れることが樹脂組成物に求められている。   For example, semiconductor packages have been rapidly reduced in size and thickness, and BGA type semiconductor devices with excellent high-density mounting have been developed, and have become the mainstream of IC and LSI chip packages. In this package, warpage after molding has become a major problem, and as a solution to this problem, a technique for increasing the glass transition temperature of the package material has been adopted. Moreover, in order to shorten the molding cycle, the resin composition is required to have excellent curability.

また、エポキシ樹脂組成物を半導体の封止材料に用いる場合には、難燃性を付与するために臭素等のハロゲン系難燃剤がアンチモン化合物とともに配合されている。しかし、近年の環境・安全への取り組みのなかで、ダイオキシン発生が懸念されるハロゲン系難燃剤を用いず、且つ発ガン性が疑われているアンチモン化合物を用いない環境・安全対応型の難燃化方法の開発が強く要求されている。また半導体封止材料の非ハロゲン化は半導体装置の高温放置信頼性の改良にも大きく貢献する技術と期待されている。   In addition, when the epoxy resin composition is used as a semiconductor sealing material, a halogen-based flame retardant such as bromine is blended together with an antimony compound in order to impart flame retardancy. However, in recent environmental and safety efforts, environmentally and flame-resistant flame retardants that do not use halogen-based flame retardants that may cause dioxins and do not use antimony compounds that are suspected of carcinogenicity. There is a strong demand for the development of a conversion method. Further, non-halogenation of the semiconductor sealing material is expected to be a technology that greatly contributes to improvement of the reliability of the semiconductor device left at high temperature.

かかる難燃性の問題に対応可能な半導体のパッケージ材料として、例えばチオエーテル基変性フェノール樹脂を用いる技術が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかし乍ら該樹脂を用いて得られる硬化物は、難燃性指標であるUL−94のV−0クラスに到達するものの、硬化性に劣り、満足できるレベルに達しないものであった。   As a semiconductor package material that can cope with such a flame-retardant problem, for example, a technique using a thioether group-modified phenol resin is known (for example, see Patent Document 1). However, the cured product obtained using the resin reached the V-0 class of UL-94, which is a flame retardance index, but was inferior in curability and did not reach a satisfactory level.

また、これに類似するポリマー構造を有する半導体封止材用のチオエーテル基変性フェノール樹脂としてフェノールノボラックの芳香核をチオエーテル化したものが知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかし乍ら、該樹脂を用いて得られる硬化物の耐湿性と接着性の改良効果は認められるものの、硬化物の難燃性や樹脂組成物の速硬化性を満足できるものではなかった。   Moreover, what thioether-ized the aromatic nucleus of the phenol novolak is known as a thioether group modification phenol resin for semiconductor sealing materials which has a polymer structure similar to this (for example, refer patent document 2). However, although the effects of improving the moisture resistance and adhesion of the cured product obtained using the resin are recognized, the flame retardancy of the cured product and the rapid curability of the resin composition are not satisfactory.

更に、非ハロゲン系エポキシ樹脂組成物で難燃性を得る方法としては、例えば、使用するエポキシ樹脂中の芳香族性を高めることが提案されている(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、前記特許文献1記載のエポキシ樹脂組成物を用いて得られる硬化物では、難燃性指標であるUL−94のV−0クラスに到達するものの、硬化性に劣り、また得られる硬化物のガラス転移温度が低く、高いガラス転移温度が必要とされる前述のBGAには適用することができない。   Furthermore, as a method for obtaining flame retardancy with a non-halogen epoxy resin composition, for example, it has been proposed to increase the aromaticity in the epoxy resin used (see, for example, Patent Document 3). However, the cured product obtained by using the epoxy resin composition described in Patent Document 1 reaches the V-0 class of UL-94, which is a flame retardant index, but is inferior in curability, and is also obtained. This glass transition temperature is low and cannot be applied to the aforementioned BGA, which requires a high glass transition temperature.

また、耐熱性に優れる樹脂材料として芳香族環変性フェノールアラルキル樹脂が(例えば、特許文献4参照)。しかしながら、この芳香族環変性フェノールアラルキル樹脂を用いた、エポキシ樹脂硬化物も耐湿性、耐熱性、耐衝撃性の改良効果が認められるものの、硬化性に劣り、かつ難燃性も十分満足できるレベルには至っていないものであった。   An aromatic ring-modified phenol aralkyl resin is a resin material having excellent heat resistance (see, for example, Patent Document 4). However, the epoxy resin cured product using this aromatic ring-modified phenol aralkyl resin is also inferior in curability and sufficiently satisfactory in flame retardancy, although the effect of improving moisture resistance, heat resistance and impact resistance is recognized. It was something that was not reached.

すなわち、非ハロゲン系のエポキシ樹脂組成物を用いて充分な難燃性を発揮できる硬化物が得られ、且つ、樹脂組成物の速硬化性、硬化物の耐熱性の特性全てをバランス良く兼備する該組成物はいまだ提示されていないのが現状であった。   That is, a cured product capable of exhibiting sufficient flame retardancy can be obtained using a non-halogen epoxy resin composition, and the resin composition has all of the properties of quick curing and heat resistance of the cured product in a well-balanced manner. The current situation is that the composition has not yet been presented.

特開2004−339277号公報JP 2004-339277 A 特開2004−244526号公報JP 2004-244526 A 特開平11−140277号公報(第3−4頁)JP-A-11-140277 (page 3-4) 特開平8−301980号公報(第3−5頁)JP-A-8-301980 (page 3-5)

本発明が解決しようとする課題は、上記のような実情に鑑みなされたもので、速硬化性で、ハロゲン系難燃剤を使用しなくても得られる硬化物の難燃性に優れ、かつ耐熱性が良好であるエポキシ樹脂組成物、その硬化物、該エポキシ樹脂組成物が硬化剤として含有する新規多価ヒドロキシ化合物及びその製造方法を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention has been made in view of the above-described circumstances, and is fast-curing, excellent in flame retardancy of a cured product obtained without using a halogen-based flame retardant, and heat resistant. It is in providing the epoxy resin composition which has favorable property, its hardened | cured material, the novel polyvalent hydroxy compound which this epoxy resin composition contains as a hardening | curing agent , and its manufacturing method.

本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討した結果、下記特定の構造を有する多価ヒドロキシ化合物が前記課題を解決することを見出し、更に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物とチオエーテル基含有芳香族系化合物とカルボニル基含有化合物とを用いて反応を行うと、チオエーテル基含有芳香族系化合物が分子中に効率よく導入された多価ヒドロキシ化合物が得られる事を見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a polyvalent hydroxy compound having the following specific structure solves the above problems, and further, hydroxy group-containing aromatic compounds and thioether groups. The present invention was completed by finding that a polyhydric hydroxy compound in which a thioether group-containing aromatic compound was efficiently introduced into the molecule could be obtained by carrying out a reaction using a compound containing an aromatic compound and a carbonyl group-containing compound. It came to do.

即ち、本発明は、1分子中に下記一般式(That is, the present invention relates to the following general formula ( 1 ) in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、Gはグリシジル基又は置換基含有グリシジル基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, a methylene group substituted with a naphthyl group, a methylene group substituted with a biphenyl group, 9 A methylene group substituted with a fluorenyl group, or a methylene group in which an alkyl group is further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group, G is a glycidyl group or a substituent-containing glycidyl group, m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 2 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B)とエポキシ樹脂(A)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物(以下、これを「エポキシ樹脂組成物()」と略記する)に関する。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and X 2 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, or naphthyl. A methylene group substituted with a group, a methylene group substituted with a biphenyl group, a methylene group substituted with a 9-fluorenyl group, or an alkyl group further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group A methylene group and n is 1 or 2; ]
And an epoxy resin composition (hereinafter referred to as “epoxy resin composition ( I )”), which contains a polyvalent hydroxy compound (B 1 ) having a structural unit represented by formula ( I ) and an epoxy resin (A). Abbreviated).

本発明は、更に、1分子中に下記一般式(The present invention further provides the following general formula ( 3 ) in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Ar 3 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton in which a hydrocarbon group is substituted, and Y 1 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms And m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 4 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B2)とエポキシ樹脂(A)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物(以下、これを「エポキシ樹脂組成物(II)」と略記する)に関する。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Ar 4 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton having a hydrocarbon group substituted thereon, and Y 2 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and n is 1 or 2. ]
An epoxy resin composition (hereinafter, abbreviated as “epoxy resin composition (II)”), which contains a polyvalent hydroxy compound (B2) having a structural unit represented by formula (B2) and an epoxy resin (A). ).

本発明は、更に無機質充填材(C)を含有する前記エポキシ樹脂組成物からなることを特徴とする半導体封止材料に関する。 The present invention relates to a semiconductor sealing material characterized by comprising the epoxy resin composition further be contained inorganic filler (C).

本発明は、更に、前記したエポキシ樹脂組成物を硬化させてなるエポキシ樹脂硬化物に関する。   The present invention further relates to an epoxy resin cured product obtained by curing the above-described epoxy resin composition.

本発明は、更に、1分子中に下記一般式(The present invention further includes the following general formula ( 1 ) in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, a methylene group substituted with a naphthyl group, a methylene group substituted with a biphenyl group, 9 -A methylene group substituted with a fluorenyl group, or a methylene group in which an alkyl group is further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group, and m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 2 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有し、水酸基当量が100〜500g/eq.であり、且つICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲にあることを特徴とする新規多価ヒドロキシ化合物(B)に関する。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and X 2 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, or naphthyl. A methylene group substituted with a group, a methylene group substituted with a biphenyl group, a methylene group substituted with a 9-fluorenyl group, or an alkyl group further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group A methylene group and n is 1 or 2; ]
The hydroxyl group equivalent is 100-500 g / eq. Further, the present invention relates to a novel polyvalent hydroxy compound (B 1 ) characterized in that the melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI viscometer is in the range of 0.2 to 5.0 dPa · s.

本発明は、更に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)とを酸触媒下に反応させることを特徴とする多価ヒドロキシ化合物(B)の製造方法に関する。 In the present invention, the hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the carbonyl group-containing compound (a3) are further reacted in the presence of an acid catalyst. The present invention relates to a method for producing a hydroxy compound (B 1 ).

本発明は、更に、1分子中に下記一般式(The present invention further provides the following general formula ( 3 ) in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Ar 3 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton in which a hydrocarbon group is substituted, and Y 1 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms And m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 4 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有し、水酸基当量が150〜500g/eq.であり、且つICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲にあることを特徴とする新規多価ヒドロキシ化合物(B2)に関する。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Ar 4 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton having a hydrocarbon group substituted thereon, and Y 2 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and n is 1 or 2. ]
The hydroxyl group equivalent is 150-500 g / eq. In addition, the present invention relates to a novel polyvalent hydroxy compound (B2) characterized in that the melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI viscometer is in the range of 0.2 to 5.0 dPa · s.

本発明は、更に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)と芳香族系架橋剤(a3)とを酸触媒下に反応させることを特徴とする多価ヒドロキシ化合物(B)の製造方法に関する。 In the present invention, the hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the aromatic crosslinking agent (a3) are further reacted in the presence of an acid catalyst. The present invention relates to a method for producing a monovalent hydroxy compound (B 2 ).

本発明の多価ヒドロキシ化合物(B又は(B2)をエポキシ樹脂の硬化剤として用いた場合、本実施例から判るように、従来の硬化剤と比較して、硬化物の難燃性、硬化性、硬化物の高ガラス転移温度を兼備させる事が出来る。従って、該多価ヒドロキシ化合物(B)を用いることによって、ハロゲン系難燃剤を使用しなくても高度な難燃性が発現できる環境に安心なエポキシ樹脂材料を得ることができる。またその優れた硬化物の高ガラス転移温度はBGAにおいて成形後の反りを抑えることができる。さらに、その優れた硬化性により、成形サイクル短縮を実現できる。また、該多価ヒドロキシ化合物(B及び(B2)は、本発明の製造方法にて容易に効率よく製造する事が出来、目的とする前述の性能のレベルに応じた分子設計が可能となり、前記用途のほか、半導用フォトレジスト等の感光性材料用途や顕色材料用途等にも好適に用いることが出来る。 When the polyvalent hydroxy compound (B 1 ) or (B2) of the present invention is used as a curing agent for an epoxy resin, as can be seen from this example, compared with a conventional curing agent, the flame retardancy of a cured product, It can have both curability and high glass transition temperature of the cured product. Therefore, by using the polyvalent hydroxy compound (B), it is possible to obtain an epoxy resin material that is safe in an environment where high flame retardancy can be expressed without using a halogen-based flame retardant. Moreover, the high glass transition temperature of the hardened | cured material can suppress the curvature after shaping | molding in BGA. Furthermore, due to its excellent curability, the molding cycle can be shortened. In addition, the polyvalent hydroxy compounds (B 1 ) and (B2) can be easily and efficiently manufactured by the manufacturing method of the present invention, and a molecular design according to the target level of performance described above becomes possible. In addition to the above applications, it can also be suitably used for photosensitive material applications such as semiconductor photoresists and color developer materials.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明のエポキシ樹脂組成物()に用いる多価ヒドロキシ化合物(B)は、1分子中に下記一般式(The polyvalent hydroxy compound (B 1 ) used in the epoxy resin composition ( I ) of the present invention has the following general formula ( 1 ) in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, a methylene group substituted with a naphthyl group, a methylene group substituted with a biphenyl group, 9 -A methylene group substituted with a fluorenyl group, or a methylene group in which an alkyl group is further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group, and m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 2 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有するものである。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and X 2 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, or naphthyl. A methylene group substituted with a group, a methylene group substituted with a biphenyl group, a methylene group substituted with a 9-fluorenyl group, or an alkyl group further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group A methylene group and n is 1 or 2; ]
It has a structural unit represented by these.

前記一般式()中のArとしては、原料の工業的入手が容易である点、及び得られる硬化物の難燃性と硬化性に優れる点から、ベンゼン環、ナフタレン環、又は、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基、アラルキル基若しくは炭素数1〜3のアルコキシ基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環であることが好ましい。また、前記一般式(2)におけるRがメチル基、エチル基又はフェニル基であり、mが1であり、Arが置換基を有していてもよいベンゼン環又はナフタレン環、又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基である事が得られる硬化物の難燃性に優れる点から好ましい。 As Ar 1 in the general formula ( 1 ), a benzene ring, a naphthalene ring, or carbon is preferable because it is easy to obtain industrial raw materials and is excellent in flame retardancy and curability of the obtained cured product. It is preferably a benzene ring or a naphthalene ring substituted with a C 1-3 alkyl group, aryl group, aralkyl group or C 1-3 alkoxy group. In the general formula (2), R 1 is a methyl group, an ethyl group or a phenyl group, m is 1, and Ar 2 may have a substituent, a benzene ring or a naphthalene ring, or a carbon atom It is preferable from the point which is excellent in the flame retardance of the hardened | cured material obtained that it is an aromatic hydrocarbon group substituted by the C1-C10 alkyl group, aryl group, aralkyl group, or C1-C10 alkoxy group.

また、前記一般式()における下記一般式(’) Further, the following general formula in the formula (1) (1 ')

Figure 0005354309
(式中、Ar、mは前記一般式()と同義である。)
で表される構造単位と、
Figure 0005354309
(In formula, Ar < 1 >, m is synonymous with the said general formula ( 1 ).)
A structural unit represented by

前記一般式()における下記一般式(’) The following general formula in the formula (2) (2 ')

Figure 0005354309
(式中、Ar、R、nは前記一般式()と同義である。)
で表される構造単位とのモル比率が前者/後者=30/70〜99/1の範囲であることが好ましく、特に50/50〜99/1であることが好ましく、特に70/30〜99/1であることが最も好ましい。
Figure 0005354309
(In the formula, Ar 2 , R 1 and n have the same meanings as in the general formula ( 2 ).)
Is preferably in the range of the former / the latter = 30/70 to 99/1, particularly preferably 50/50 to 99/1, particularly 70/30 to 99. / 1 is most preferred.

また該多価ヒドロキシ化合物(B)の水酸基当量としては、難燃性と硬化性が優れる点から、100〜500g/eq.の範囲のものが好ましく、特に100〜400g/eqであることが好ましく、100〜300g/eqであることが最も好ましい。さらにはICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲であるのものが、成形時の流動性や硬化物の耐熱性などが優れる点で好ましい。 As the hydroxyl group equivalent of polyvalent hydroxy compounds (B 1), from the viewpoint of excellent curability flame retardancy, 100 to 500 g / eq. In the range of 100 to 400 g / eq, 100 to 300 g / eq is most preferable. Furthermore, the thing whose melt viscosity in 150 degreeC measured with the ICI viscometer is the range of 0.2-5.0 dPa * s is preferable at the point which is excellent in the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding, the heat resistance of hardened | cured material, etc.

従って、好ましい多価ヒドロキシ化合物(B)は、本発明の新規多価ヒドロキシ化合物(B1)である、1分子中に下記一般式(Accordingly, a preferred polyvalent hydroxy compound (B 1 ) is the novel polyvalent hydroxy compound (B1) of the present invention, and the following general formula ( 1 ) is contained in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, a methylene group substituted with a naphthyl group, a methylene group substituted with a biphenyl group, 9 -A methylene group substituted with a fluorenyl group, or a methylene group in which an alkyl group is further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group, and m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 2 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有し、水酸基当量が100〜500g/eq.であり、且つICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲にあることを特徴とするものが好ましい。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and X 2 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, or naphthyl. A methylene group substituted with a group, a methylene group substituted with a biphenyl group, a methylene group substituted with a 9-fluorenyl group, or an alkyl group further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group A methylene group and n is 1 or 2; ]
The hydroxyl group equivalent is 100-500 g / eq. It is preferable that the melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI viscometer is in the range of 0.2 to 5.0 dPa · s.

前記一般式()の具体例としては、下記構造式にて表されるものを挙げる事が出来るが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the general formula ( 1 ) include those represented by the following structural formula, but are not limited thereto.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

また前記一般式()の具体例としては、下記構造式にて表されるものを挙げる事が出来るが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the general formula ( 2 ) include those represented by the following structural formulas, but are not limited thereto.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

なお、前記した本発明の多価ヒドロキシ化合物(B)は、GPC(ゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー)チャートにおいて2核体成分に着目した場合、1)フェノールとフェノールとが架橋剤を介して結合した化合物、2)フェノールとチオエーテル類とが架橋剤を介して結合した化合物、3)チオエーテル基含有骨格とチオエーテル基含有骨格とが架橋剤を介して結合した化合物を確認することができるため、これらの2核体化合物を含むものであってもよい。但し、これらの内、無官能成分(3)チオエーテル基含有骨格とチオエーテル基含有骨格とが架橋剤を介して結合した化合物=フェノール性水酸基を持たない)、1官能成分(2)フェノールとチオエーテル基含有骨格とが架橋剤を介して結合した化合物=フェノール性水酸基を1個のみ持つ)は、成形性(金型汚れや成形硬度など)、耐熱性(ガラス転移温度)を考慮するとこれらの成分は少ない方が好ましく、よって、本発明の多価ヒドロキシ化合物(B)には、前記2)の無官能成分の含有率が0〜10質量%、2)の1官能成分の含有率が1〜20質量%であることが好ましい。 In addition, when the polyvalent hydroxy compound (B 1 ) of the present invention described above pays attention to a binuclear component in a GPC (gel permeation chromatography) chart, 1) phenol and phenol are bonded via a crosslinking agent. Compound, 2) a compound in which phenol and thioether are bonded through a crosslinking agent, and 3) a compound in which a thioether group-containing skeleton and a thioether group-containing skeleton are bonded through a crosslinking agent can be confirmed. A binuclear compound may be included. However, among these, the non-functional component (3) a compound in which a thioether group-containing skeleton and a thioether group-containing skeleton are bonded via a crosslinking agent = does not have a phenolic hydroxyl group) The compound in which the containing skeleton is bonded via a crosslinking agent = has only one phenolic hydroxyl group), these components are in consideration of moldability (such as mold contamination and molding hardness) and heat resistance (glass transition temperature). Therefore, the polyfunctional hydroxy compound (B 1 ) of the present invention has a monofunctional component content of 0 to 10% by mass of 2) and a monofunctional component of 1 to 2 in the polyvalent hydroxy compound (B 1 ) of the present invention. It is preferably 20% by mass.

前記多価ヒドロキシ化合物(B1)は、下記に詳述する製造方法によって、容易に得る事が出来る。得られた多価ヒドロキシ化合物(B)は、単独でも2種以上の混合物としても用いても良く、半導体用フォトレジスト等の感光性材料用途や顕色材料用途等にも用いることができる。 The polyvalent hydroxy compound (B1) can be easily obtained by the production method described in detail below. The obtained polyvalent hydroxy compound (B 1 ) may be used singly or as a mixture of two or more kinds, and can also be used for photosensitive material applications such as a photoresist for semiconductors, and for development material applications.

以下、この製造方法(以下これを「製造方法(1)」と略記する)について詳述する。製造方法(1)はヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)とを酸触媒の存在下に反応させることを特徴としている。 Hereinafter, this production method (hereinafter abbreviated as “production method (1)”) will be described in detail. The production method (1) is characterized by reacting a hydroxy group-containing aromatic compound (a1), a thioether group-containing aromatic compound (a2), and a carbonyl group-containing compound (a3) in the presence of an acid catalyst. Yes.

ここで、前記ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)は、例えば、フェノール、レゾルシノール、ヒドロキノンなどの無置換フェノール類、クレゾール、エチルフェノール、n−プロピルフェノール、iso−プロピルフェノール、t−ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、フェニルフェノールなどの一置換フェノール類、キシレノール、メチルプロピルフェノール、メチルブチルフェノール、メチルヘキシルフェノール、ジプロピルフェノール、ジブチルフェノールなどの二置換フェノール類、メシトール、2,3,5−トリメチルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール等の三置換フェノール類、1−ナフトール、2−ナフトール、メチルナフトールなどのナフトール類、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコールなどのジヒドロキシベンゼン類、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールSなどのビスフェノール類等が例示できるが、これらに限定されるものではない。またこれらの中から2種類以上を混合して使用することもできる。これらのなかでも、得られる硬化物の硬化性に特に優れる観点から、フェノール類又は置換基含有フェノール類、ナフトール類又は置換基含有ナフトール類が好ましく、難燃性に特に優れる硬化物が得られるという観点からは、1−ナフトール、2−ナフトール、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基或いはベンジル基を置換基として有するフェノールが好ましい。   Here, the hydroxy group-containing aromatic compound (a1) is, for example, unsubstituted phenols such as phenol, resorcinol, hydroquinone, cresol, ethylphenol, n-propylphenol, iso-propylphenol, t-butylphenol, octylphenol. Monosubstituted phenols such as nonylphenol and phenylphenol, disubstituted phenols such as xylenol, methylpropylphenol, methylbutylphenol, methylhexylphenol, dipropylphenol and dibutylphenol, mesitol, 2,3,5-trimethylphenol, 2 Trisubstituted phenols such as 1,3,6-trimethylphenol, naphthols such as 1-naphthol, 2-naphthol and methylnaphthol, hydroquinone, resorcinol Dihydroxybenzenes such as catechol, biphenol, tetramethyl biphenol, bisphenol A, bisphenol F, although bisphenols such as bisphenol S or the like can be exemplified, but the invention is not limited thereto. Two or more of these can also be mixed and used. Among these, from the viewpoint of particularly excellent curability of the resulting cured product, phenols or substituent-containing phenols, naphthols or substituent-containing naphthols are preferable, and a cured product particularly excellent in flame retardancy can be obtained. From the viewpoint, phenol having 1-naphthol, 2-naphthol, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group as a substituent is preferable.

前記チオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)は、チオアニソール類又は置換基含有チオアニソール類、エチルフェニルスルフィド類又は置換基含有エチルフェニルスルフィド類、ジフェニルスルフィド類又は置換基含有ジフェニルスルフィド類(但し、それぞれ置換基は炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素数1〜10のアルコキシ基である。)が挙げられ、例えば、チオアニソール、エチルフェニルスルフィド、t−ブチルフェニルスルフィド、2−メチルチオアニソール、3−メチルチオアニソール、4−メチルチオアニソール、2−エチルチオアニソール、3−エチルチオアニソール、4−エチルチオアニソール、ジフェニルスルフィド、1−メトキシ−2−(メチルチオ)ベンゼン、1−メトキシ−4−(メチルチオ)ベンゼン、2−チオメチルナフタレン、2−チオエチルナフタレン、1,2−ベンゼンジメタンチオール等が例示できるが、これらに限定されるものではない。またこれらの中から2種類以上を混合して使用することもできる。このように本発明で用いるチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)は、1分子中に1個ないし2個のチオエーテル基を有し、チオエーテル基を有する芳香環上にヒドロキシ基とアルデヒド基を有しない芳香族系化合物であることが好ましい。これらのなかでも、得られる硬化物の難燃性と硬化性に優れる観点から、チオアニソール、エチルチオスルフィド、ジフェニルスルフィドが好ましく、中でもチオアニソールが特に好ましい。   The thioether group-containing aromatic compound (a2) is a thioanisole or a substituent-containing thioanisole, an ethylphenyl sulfide or a substituent-containing ethylphenyl sulfide, a diphenyl sulfide or a substituent-containing diphenyl sulfide (provided that Each of the substituents is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.), For example, thioanisole, ethylphenyl sulfide, t-butylphenyl sulfide, 2-methylthioanisole, 3-methylthioanisole, 4-methylthioanisole, 2-ethylthioanisole, 3-ethylthioanisole, 4-ethylthioanisole, diphenyl sulfide, 1-methoxy-2- (methylthio) benzene, 1-methoxy − - (methylthio) benzene, 2-thio-methylnaphthalene, 2-thioethyl-naphthalene, 1,2-benzene dimethane thiol as exemplified, but not limited thereto. Two or more of these can also be mixed and used. Thus, the thioether group-containing aromatic compound (a2) used in the present invention has 1 to 2 thioether groups in one molecule, and has a hydroxy group and an aldehyde group on the aromatic ring having a thioether group. It is preferable that the aromatic compound does not. Of these, thioanisole, ethylthiosulfide, and diphenylsulfide are preferable from the viewpoint of excellent flame retardancy and curability of the obtained cured product, and thioanisole is particularly preferable.

前記カルボニル基含有化合物(a3)は、前記化合物(a1)と化合物(a2)とを架橋できる化学構造を有していればよく、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、4−メチルベンズアルデヒド、3,4−ジメチルベンズアルデヒド、4−ビフェニルアルデヒド、ナフチルアルデヒド等のアルデヒド化合物、ベンゾフェノン、フルオレノン、インダノン等のケトン化合物が挙げられる。これらの中でも得られる硬化物の難燃性に優れる点からホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、4−ビフェニルアルデヒド、ナフチルアルデヒドが好ましい。   The carbonyl group-containing compound (a3) may have a chemical structure capable of crosslinking the compound (a1) and the compound (a2). For example, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, 4-methylbenzaldehyde, 3,4 -Aldehyde compounds such as dimethylbenzaldehyde, 4-biphenylaldehyde and naphthylaldehyde, and ketone compounds such as benzophenone, fluorenone and indanone. Among these, formaldehyde, benzaldehyde, 4-biphenylaldehyde, and naphthylaldehyde are preferable because the cured product obtained has excellent flame retardancy.

更に、本発明の製造方法(1)につき詳述すれば、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)とを、酸触媒の存在下で加熱撹拌することによって、目的の多価ヒドロキシ化合物(B1)を得ることができる。ここで酸触媒は、塩酸、硫酸、リン酸などの無機酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、シュウ酸などの有機酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛などのルイス酸などが挙げられる。その使用量としては仕込み原料の総質量に対して、0.1〜5質量%の範囲が好ましい。   Further, the production method (1) of the present invention will be described in detail. The hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the carbonyl group-containing compound (a3) are converted into an acid catalyst. The target polyvalent hydroxy compound (B1) can be obtained by heating and stirring in the presence of. Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and oxalic acid, Lewis acids such as boron trifluoride, anhydrous aluminum chloride and zinc chloride. Is mentioned. The amount used is preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the charged raw materials.

ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)との反応仕込み比率としては、特に限定されないが、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とのモル比(a1)/(a2)が30/70〜99/1であり、且つ、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)との合計モル数とカルボニル基含有化合物(a3)のモル数との比{(a1)+(a2)}/(a3)が51/49〜97/3であることが好ましい。この条件を満足することによって、一層、難燃性と硬化性等に優れた硬化物を得ることができる。   The reaction charge ratio of the hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the carbonyl group-containing compound (a3) is not particularly limited, but the hydroxy group-containing aromatic compound ( The molar ratio (a1) / (a2) between a1) and the thioether group-containing aromatic compound (a2) is 30/70 to 99/1, and the hydroxy group-containing aromatic compound (a1) and the thioether group The ratio {(a1) + (a2)} / (a3) of the total number of moles of the containing aromatic compound (a2) to the number of moles of the carbonyl group-containing compound (a3) is 51/49 to 97/3. It is preferable. By satisfying these conditions, it is possible to obtain a cured product that is further excellent in flame retardancy and curability.

前記製造方法(1)の反応を行う際には、必要に応じて有機溶剤を使用することができる。使用できる有機溶剤の具体例としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。有機溶剤の使用量としては、仕込み原料の総質量に対して通常10〜500質量%、好ましくは30〜250質量%である。また反応温度としては通常40〜250℃であり、100〜200℃の範囲がより好ましい。また反応時間としては通常1〜10時間である。 When the reaction of the production method (1) is performed, an organic solvent can be used as necessary. Specific examples of the organic solvent that can be used include, but are not limited to, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, and methyl isobutyl ketone. As usage-amount of an organic solvent, it is 10-500 mass% normally with respect to the total mass of a charging raw material, Preferably it is 30-250 mass%. Moreover, as reaction temperature, it is 40-250 degreeC normally, and the range of 100-200 degreeC is more preferable. The reaction time is usually 1 to 10 hours.

また得られる該多価ヒドロキシ化合物の着色が大きい場合は、それを抑制するために、酸化防止剤や還元剤を添加しても良い。前記酸化防止剤としては特に限定されないが、例えば2,6−ジアルキルフェノール誘導体などのヒンダードフェノール系化合物や2価のイオウ系化合物や3価のリン原子を含む亜リン酸エステル系化合物などを挙げることができる。前記還元剤としては特に限定されないが、例えば次亜リン酸、亜リン酸、チオ硫酸、亜硫酸、ハイドロサルファイトまたはこれらの塩や亜鉛などが挙げられる。   Further, when the resulting polyvalent hydroxy compound is highly colored, an antioxidant or a reducing agent may be added to suppress it. The antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include hindered phenol compounds such as 2,6-dialkylphenol derivatives, divalent sulfur compounds, and phosphite compounds containing trivalent phosphorus atoms. be able to. Although it does not specifically limit as said reducing agent, For example, hypophosphorous acid, phosphorous acid, a thiosulfuric acid, a sulfurous acid, hydrosulfite, or these salts, zinc, etc. are mentioned.

反応終了後、反応混合物のpH値が3〜7、好ましくは4〜7になるまで中和あるいは水洗処理を行う。中和処理や水洗処理は常法にしたがって行えばよい。例えば酸触媒を用いた場合は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、トリエチレンテトラミン、アニリン等の塩基性物質を中和剤として用いることができる。中和の際には、事前にリン酸等のバッファーを入れておいても良いし、また、一旦塩基サイドにしたのちシュウ酸などでpH値が3〜7としてもよい。中和あるいは水洗処理を行った後、減圧加熱下で、主にヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)を含む未反応原料や有機溶剤、副生物を留去することによって生成物の濃縮を行い、目的の多価ヒドロキシ化合物を得ることが出来る。ここで回収した未反応原料は再利用することもできる。反応終了後の処理操作のなかに、精密濾過工程を導入すると、無機塩や異物類を精製除去することができるのでより好ましい方法である。   After completion of the reaction, the reaction mixture is neutralized or washed with water until the pH value of the reaction mixture becomes 3 to 7, preferably 4 to 7. What is necessary is just to perform a neutralization process and a water washing process in accordance with a conventional method. For example, when an acid catalyst is used, basic substances such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, triethylenetetramine, and aniline can be used as the neutralizing agent. At the time of neutralization, a buffer such as phosphoric acid may be added in advance, or the pH may be adjusted to 3 to 7 with oxalic acid after the base side is once used. After neutralization or washing with water, unreacted raw materials, organic solvents and by-products mainly containing hydroxy group-containing aromatic compound (a1) and thioether group-containing aromatic compound (a2) are heated under reduced pressure. By distilling off the product, the product can be concentrated to obtain the target polyvalent hydroxy compound. The unreacted raw material recovered here can be reused. Introducing a microfiltration step into the processing operation after the completion of the reaction is a more preferable method because inorganic salts and foreign substances can be purified and removed.

また上記の様に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)とを予め混合しておき、その後、当該混合物を加熱することによって反応を行っても良いし、また、チオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)1モルに対して、0.05〜30モル、好ましくは2〜30モルのカルボニル基含有化合物(a3)を実質的に完全に反応させた後に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)を仕込んで反応させる方法も採用できる。後者の方法においてチオエーテル基含有芳香族系化合物に対し、カルボニル基含有化合物を過剰に用いると、該多価ヒドロキシ化合物の構造を、交互共重合体化することができ、より効率的にチオエーテル基を分子構造中に導入することが可能になる。なお、後者の方法において実質的に完全に反応させるという意味は、定量的にチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)が消失しているということではなく、過剰のカルボニル基含有化合物(a3)を用いて、十分な反応時間、反応温度をかけていることを意味するものである。   Further, as described above, the hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the carbonyl group-containing compound (a3) are mixed in advance, and then the mixture is heated. In addition, the reaction may be carried out by adding 0.05 to 30 mol, preferably 2 to 30 mol, of the carbonyl group-containing compound (a3) with respect to 1 mol of the thioether group-containing aromatic compound (a2). A method in which the hydroxy group-containing aromatic compound (a1) is charged and reacted after substantially completely reacting can also be employed. In the latter method, when an excessive amount of a carbonyl group-containing compound is used relative to a thioether group-containing aromatic compound, the structure of the polyvalent hydroxy compound can be converted into an alternating copolymer, and the thioether group can be more efficiently converted. It can be introduced into the molecular structure. In the latter method, the meaning that the reaction is substantially complete does not mean that the thioether group-containing aromatic compound (a2) has disappeared quantitatively, but an excess of the carbonyl group-containing compound (a3). It means that sufficient reaction time and reaction temperature are applied.

本発明のエポキシ樹脂組成物()において、前記多価ヒドロキシ化合物(B)は後述するエポキシ樹脂(A)の硬化剤として作用し、この場合、本発明の前記多価ヒドロキシ化合物(B1)を単独で、または本発明の効果を損なわない範囲で他の硬化剤と併用して用いることが出来る。併用する場合には、本発明の多価ヒドロキシ化合物(B)の全硬化剤中に占める割合は30質量%以上が好ましく、特に40質量%以上が好ましい。 In the epoxy resin composition ( I ) of the present invention, the polyvalent hydroxy compound (B 1 ) acts as a curing agent for the epoxy resin (A) described later. In this case, the polyvalent hydroxy compound (B1) of the present invention. Can be used alone or in combination with other curing agents as long as the effects of the present invention are not impaired. When used in combination, the proportion of the polyvalent hydroxy compound (B 1 ) of the present invention in the total curing agent is preferably 30% by mass or more, particularly preferably 40% by mass or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物()で用いる多価ヒドロキシ化合物(B)と併用されうる他の硬化剤としては、例えばアミン系化合物、アミド系化合物、酸無水物系化合物、フェノ−ル系化合物などの種々の硬化剤を用いることができる。例えば、アミン系化合物としてはジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾール、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられ、アミド系化合物としては、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられ、酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられ、フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂(通称、ザイロック樹脂)、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミンやベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物)等の多価フェノール化合物、及びこれらの変性物等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、また、2種以上併用してもよい。 Examples of other curing agents that can be used in combination with the polyvalent hydroxy compound (B 1 ) used in the epoxy resin composition ( I ) of the present invention include amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, and phenol compounds. Various curing agents such as compounds can be used. Examples of amine compounds include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF 3 -amine complexes, guanidine derivatives, and the like. Examples of amide compounds include dicyandiamide and linolenic acid. Polyamide resin synthesized from a monomer and ethylenediamine, and the like, and acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydroanhydride Examples thereof include phthalic acid, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc. Examples of phenolic compounds include phenol novolac resin, cresol novolac resin, Aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin, dicyclopentadiene phenol addition type resin, phenol aralkyl resin (commonly known as zylock resin), naphthol aralkyl resin, trimethylol methane resin, tetraphenylol ethane resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol Condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolac resin, biphenyl-modified phenol resin (polyhydric phenol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group), biphenyl-modified naphthol resin (polyvalent naphthol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group) ), Polyphenol compounds such as aminotriazine-modified phenol resins (polyphenol compounds in which phenol nuclei are linked with melamine, benzoguanamine, etc.), and These modified products are exemplified. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂が難燃性に優れることから好ましく、特にフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂等の高芳香族性、高水酸基当量の多価ヒドロキシ化合物や窒素原子を含有するアミノトリアジン変性フェノール樹脂等の化合物を用いることが、得られる硬化物の難燃性や誘電特性が優れる点から好ましい。   Among these, phenol novolak resin, cresol novolak resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, Biphenyl-modified phenolic resin, biphenyl-modified naphthol resin, aminotriazine-modified phenolic resin are preferred because of excellent flame retardancy, especially high aromaticity such as phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, biphenyl-modified phenol resin, biphenyl-modified naphthol resin, The use of a compound such as a polyhydroxy compound having a high hydroxyl equivalent weight or an aminotriazine-modified phenol resin containing a nitrogen atom results in a hard resin obtained. From the viewpoint of flame retardancy and dielectric characteristics of the object it is excellent.

本発明のエポキシ樹脂組成物()で用いるエポキシ樹脂(A)は、特に制限されるものではなく、種々のエポキシ樹脂を用いることができ、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特にビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、キサンテン型エポキシ樹脂が、難燃性や耐熱性に優れる点から特に好ましい。 The epoxy resin (A) used in the epoxy resin composition ( I ) of the present invention is not particularly limited, and various epoxy resins can be used, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin. Biphenyl type epoxy resin, tetramethyl biphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene- Phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolak type epoxy resin, Futoru - cresol co-condensed novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin type epoxy resin, a biphenyl novolak type epoxy resins and the like. Among these, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, phenol aralkyl type epoxy resin, a biphenyl novolak type epoxy resin, a xanthene-type epoxy resins are particularly preferred from the viewpoint of excellent flame retardancy and heat resistance.

本発明のエポキシ樹脂組成物()における前記多価ヒドロキシ化合物(B1)を含む硬化剤と、前記エポキシ樹脂(A)との配合量は、特に制限されるものではないが、得られる硬化物特性が良好である点から、エポキシ樹脂(A)のエポキシ基の合計1当量に対して、前記多価ヒドロキシ化合物(B1)を含む硬化剤中の活性基が0.7〜1.5当量になる量が好ましい。 Although the compounding quantity of the hardening | curing agent containing the said polyhydric hydroxy compound (B1) in the epoxy resin composition ( I ) of this invention and the said epoxy resin (A) is not restrict | limited in particular, Hardened | cured material obtained From the point that the characteristics are good, the active group in the curing agent containing the polyvalent hydroxy compound (B1) is 0.7 to 1.5 equivalents with respect to a total of 1 equivalent of the epoxy groups of the epoxy resin (A). Is preferred.

次に、本発明のエポキシ樹脂組成物(IIについて説明する。該樹脂組成物(II)において硬化剤として用いる多価ヒドロキシ化合物(B)は、1分子中に下記一般式(Next, the epoxy resin composition ( II ) of the present invention will be described. The polyvalent hydroxy compound (B 2 ) used as a curing agent in the resin composition (II) is represented by the following general formula ( 3 ) in one molecule.

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Ar 3 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton in which a hydrocarbon group is substituted, and Y 1 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms And m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 4 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有するものである。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Ar 4 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton having a hydrocarbon group substituted thereon, and Y 2 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and n is 1 or 2. ]
It has a structural unit represented by these.

前記一般式(1)中のAr は、原料の工業的入手が容易である点、及び得られる硬化物の難燃性と硬化性に優れる点から、ベンゼン環、ナフタレン環、又は、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基、アラルキル基若しくは炭素数1〜3のアルコキシ基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環であることが好ましい。 Ar 1 in the general formula (1) is a benzene ring, a naphthalene ring, or a carbon number from the viewpoint of easy industrial availability of raw materials and excellent flame retardancy and curability of the resulting cured product. A benzene ring or a naphthalene ring substituted with an alkyl group of 1 to 3, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group of 1 to 3 carbon atoms is preferable.

また、前記一般式(2)中のRとしては、得られる硬化物の難燃性に優れる点からメチル基、エチル基又はフェニル基である事が好ましく、同様にXとしては原料の工業的入手が容易である点、及び硬化性と得られる硬化物の難燃性に優れる点から、ベンゼン環、ナフタレン環、又は、炭素数1〜3のアルキル基、アリール基、アラルキル基若しくは炭素数1〜3のアルコキシ基で置換されたベンゼン環若しくはナフタレン環であること
が好ましい。
In addition, R 1 in the general formula (2) is preferably a methyl group, an ethyl group, or a phenyl group from the viewpoint of excellent flame retardancy of the obtained cured product. Similarly, X 2 is a raw material industry. Benzene ring, naphthalene ring, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, aryl group, aralkyl group, or carbon number from the point of easy acquisition and the point of excellent curability and flame retardancy of the resulting cured product A benzene ring or a naphthalene ring substituted with 1 to 3 alkoxy groups is preferable.

また、前記多価ヒドロキシ化合物(B2)中の、前記一般式(3)における下記一般式(3’) Moreover, the following general formula (3 ′) in the general formula (3) in the polyvalent hydroxy compound ( B2 ).

Figure 0005354309
(式中、Ar、mは前記一般式()と同義である。)
で表される構造単位と、
Figure 0005354309
(In formula, Ar < 1 >, m is synonymous with the said general formula ( 3 ).)
A structural unit represented by

前記一般式()における下記一般式(’) The following general formula in the formula (4) (4 ')

Figure 0005354309
(式中、Ar、R、nは前記一般式()と同義である。)
で表される構造単位とのモル比率が前者/後者=30/70〜99/1の範囲であることが好ましく、特に50/50〜99/1であることが好ましく、60/40〜99/1であることが最も好ましい。
Figure 0005354309
(In the formula, Ar 2 , R 1 and n have the same meanings as in the general formula ( 4 ).)
Is preferably in the range of the former / the latter = 30/70 to 99/1, particularly preferably 50/50 to 99/1, and 60/40 to 99 /. Most preferred is 1.

また該多価ヒドロキシ化合物(B2)の水酸基当量としては、150〜500g/eq.の範囲のものが、難燃性と硬化性が優れる上で好ましく、特に170〜400g/eqであることが好ましく、180〜350g/eqであることが最も好ましい。さらにはICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲であるのものが、成形時の流動性や硬化物の耐熱性などが優れる点で好ましい。 The hydroxyl equivalent of the polyvalent hydroxy compound ( B2 ) is 150 to 500 g / eq. Those in the range are preferable in terms of excellent flame retardancy and curability, particularly preferably 170 to 400 g / eq, and most preferably 180 to 350 g / eq. Furthermore, the thing whose melt viscosity in 150 degreeC measured with the ICI viscometer is the range of 0.2-5.0 dPa * s is preferable at the point which is excellent in the fluidity | liquidity at the time of shaping | molding, the heat resistance of hardened | cured material, etc.

従って、本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる多価ヒドロキシ化合物(B2)は、本発明の新規多価ヒドロキシ化合物(B2)である、1分子中に下記一般式(Therefore, polyhydroxy compound used in the epoxy resin composition of the present invention (B2) is a novel polyhydroxy compounds of the present invention (B2), the following formula in one molecule (3)

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Ar 3 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton in which a hydrocarbon group is substituted, and Y 1 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms And m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by

下記一般式(The following general formula ( 4 )

Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、nは1又は2である。〕
〔で表される構造単位を有し、水酸基当量が150〜500g/eq.であり、且つICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲にあることを特徴とするものが最も好ましい。
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Ar 4 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton having a hydrocarbon group substituted thereon, and Y 2 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and n is 1 or 2. ]
Wherein the hydroxyl group equivalent is 150 to 500 g / eq. Most preferably, the melt viscosity at 150 ° C. measured by an ICI viscometer is in the range of 0.2 to 5.0 dPa · s.

前記一般式()の具体例としては、下記構造式にて表されるものを挙げる事が出来るが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the general formula ( 3 ) include those represented by the following structural formulas, but are not limited thereto.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

Figure 0005354309
Figure 0005354309

また前記一般式()の具体例としては、下記構造式にて表されるものを挙げる事が出来るが、これらに限定されるものではない。 Specific examples of the general formula ( 4 ) include those represented by the following structural formula, but are not limited thereto.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

Figure 0005354309
Figure 0005354309

なお、前記した本発明の多価ヒドロキシ化合物(B)は、GPC(ゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー)チャートにおいて2核体成分に着目した場合、1)フェノールとフェノールとが架橋剤を介して結合した化合物、2)フェノールとチオエーテル類とが架橋剤を介して結合した化合物、3)チオエーテル基含有骨格とチオエーテル基含有骨格とが架橋剤を介して結合した化合物を確認することができるため、これらの2核体化合物を含むものであってもよい。但し、これらの内、無官能成分(3)チオエーテル基含有骨格とチオエーテル基含有骨格とが架橋剤を介して結合した化合物=フェノール性水酸基を持たない)、1官能成分(2)フェノールとチオエーテル基含有骨格とが架橋剤を介して結合した化合物=フェノール性水酸基を1個のみ持つ)は、成形性(金型汚れや成形硬度など)、耐熱性(ガラス転移温度)を考慮するとこれらの成分は少ない方が好ましく、よって、本発明の多価ヒドロキシ化合物(B)には、前記3)の無官能成分の含有率が0〜10質量%、2)の1官能成分の含有率が1〜20質量%であることが好ましい。 In addition, when the polyvalent hydroxy compound (B 2 ) of the present invention described above focuses on a binuclear component in a GPC (gel permeation chromatography) chart, 1) phenol and phenol are bonded via a crosslinking agent. Compound, 2) a compound in which phenol and thioether are bonded through a crosslinking agent, and 3) a compound in which a thioether group-containing skeleton and a thioether group-containing skeleton are bonded through a crosslinking agent can be confirmed. A binuclear compound may be included. However, among these, the non-functional component (3) a compound in which a thioether group-containing skeleton and a thioether group-containing skeleton are bonded via a crosslinking agent = has no phenolic hydroxyl group), one functional component (2) phenol and thioether group The compound in which the containing skeleton is bonded via a crosslinking agent = has only one phenolic hydroxyl group), these components are in consideration of moldability (such as mold contamination and molding hardness) and heat resistance (glass transition temperature). Therefore, the content of the non-functional component of 3) is 0 to 10% by mass, and the content of the monofunctional component of 2) is 1 to 20 in the polyvalent hydroxy compound (B) of the present invention. It is preferable that it is mass%.

前記多価ヒドロキシ化合物(B2)は、下記に詳述する製造方法によって、容易に得る事が出来る。得られた多価ヒドロキシ化合物(B)は、単独でも2種以上の混合物としても用いても良く、半導体用フォトレジスト等の感光性材料用途や顕色材料用途等にも用いることができる。 The polyvalent hydroxy compound (B2) can be easily obtained by the production method described in detail below. The obtained polyvalent hydroxy compound (B 2 ) may be used singly or as a mixture of two or more kinds, and can also be used for photosensitive materials such as a photoresist for semiconductors and for developers.

以下、この製造方法(以下これを「製造方法(2)」と略記する)について詳述する。該製造方法(2)は、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)と芳香族系架橋剤(3)とを反応させて多価ヒドロキシ化合物を得る工程からなることを特徴としている。 Hereinafter, this production method (hereinafter abbreviated as “production method (2)”) will be described in detail. The production method (2) comprises reacting a hydroxy group-containing aromatic compound ( b 1), a thioether group-containing aromatic compound ( b 2), and an aromatic crosslinking agent ( b 3) to produce a polyvalent hydroxy compound. It is characterized by comprising the step of obtaining

ここで前記ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)は、前記した製造方法(1)で用いるヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)と同様のものが挙げられ、特に得られる硬化物の難燃性に特に優れる観点から、置換基を有していてもよいフェノール類、置換基を有していてもよいナフトール類が好ましく、硬化性に特に優れる硬化物が得られるという観点からは、1−ナフトール、2−ナフトール、炭素数1〜6のアルキル基或いはフェニル基或いはベンジル基が置換されたフェノールが特に好ましい。 Wherein said hydroxy group-containing aromatic compound (b 1), the flame of the above hydroxy group-containing aromatic compound used in the production method (1) (a1) the like can be mentioned a cured product obtained especially From the viewpoint of being particularly excellent in flammability, phenols which may have a substituent and naphthols which may have a substituent are preferable, and from the viewpoint that a cured product having particularly excellent curability can be obtained. -Naphthol, 2-naphthol, phenols substituted with alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, phenyl groups or benzyl groups are particularly preferred.

前記チオエーテル基含有芳香族系化合物(2)は、前記した製造方法(1)で用いる前記チオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)と同一のものが挙げられ、特に得られる硬化物の難燃性と硬化性に優れる観点から、チオアニソール、エチルチオスルフィド、ジフェニルスルフィドが好ましく、中でもチオアニソールが特に好ましい。 The thioether group-containing aromatic compound (b 2), the flame retardant of the above-said thioether group-containing aromatic compound used in the production method (1) (a2) the same as the the like, the cured product obtained in particular From the viewpoint of excellent properties and curability, thioanisole, ethylthiosulfide, and diphenylsulfide are preferable, and thioanisole is particularly preferable.

芳香族系架橋剤(3)としては、前記化合物(1)と前記化合物(2)とを架橋できる構造を有する芳香族系化合物であればなんら制限されるものではないが、下記一般式()、()、()で示されるものが好ましい。 As the aromatic crosslinking agent (b 3), but not in any way limited as long as the aromatic compound having a compound (b 1) and the compound (b 2) and capable of cross-linking structure represented by the following general Those represented by the formulas ( 5 ), ( 6 ) and ( 7 ) are preferable.

Figure 0005354309
(式中、Arは炭化水素基を置換基として有していてもよいベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格であり、Rはハロゲン原子であり、Rは水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基である。)
Figure 0005354309
(In the formula, Ar is a benzene skeleton, biphenyl skeleton or naphthalene skeleton which may have a hydrocarbon group as a substituent, R 2 is a halogen atom, and R 3 is a hydrogen atom or a C 1-6 carbon atom. It is a hydrocarbon group.)

前記一般式()で表される化合物は、例えば、1,2−ジ(クロロメチル)ベンゼン、1,2−ジ(ブロモメチル)ベンゼン、1,3−ジ(クロロメチル)ベンゼン、1,3−ジ(フルオロメチル)ベンゼン、1,4−ジ(クロロメチル)ベンゼン、1,4−ジ(ブロモメチル)ベンゼン、1,4−ジ(フルオロメチル)ベンゼン、1,4−ジ(クロロメチル)−2,5−ジメチルベンゼン、1,3−ジ(クロロメチル)−4,6−ジメチルベンゼン、1,3−ジ(クロロメチル)−2,4−ジメチルベンゼン、4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、2,2’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、2,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、2,3’−ビス(クロロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(ブロモメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(クロロメチル)ジフェニルエーテル、2,7−ジ(クロロメチル)ナフタレン等が挙げられる。 Examples of the compound represented by the general formula ( 5 ) include 1,2-di (chloromethyl) benzene, 1,2-di (bromomethyl) benzene, 1,3-di (chloromethyl) benzene, 1,3. -Di (fluoromethyl) benzene, 1,4-di (chloromethyl) benzene, 1,4-di (bromomethyl) benzene, 1,4-di (fluoromethyl) benzene, 1,4-di (chloromethyl)- 2,5-dimethylbenzene, 1,3-di (chloromethyl) -4,6-dimethylbenzene, 1,3-di (chloromethyl) -2,4-dimethylbenzene, 4,4′-bis (chloromethyl) ) Biphenyl, 2,2′-bis (chloromethyl) biphenyl, 2,4′-bis (chloromethyl) biphenyl, 2,3′-bis (chloromethyl) biphenyl, 4,4′-bis (bromomethyl) biphenyl, 4,4′-bis (chloromethyl) diphenyl ether, 2,7-di (chloromethyl) naphthalene and the like can be mentioned.

前記一般式()で表される化合物は、例えば、p−キシリレングリコール、m−キシレングリコール、1,4−ジ(2−ヒドロキシ−2−エチル)ベンゼン、4,4’−ビス(ジメチロール)ビフェニル、2,4’−ビス(ジメチロール)ビフェニル、4,4’−ビス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、2,4’−ビス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、1,4’−ジ(メトキシメチル)ベンゼン、1,4’−ジ(エトキシメチル)ベンゼン、1,4’−ジ(イソプロポキシ)ベンゼン、1,4’−ジ(ブトキシ)ベンゼン、1,3’−ジ(メトキシメチル)ベンゼン、1,3’−ジ(エトキシメチル)ベンゼン、1,3’−ジ(イソプロポキシ)ベンゼン、1,3’−ジ(ブトキシ)ベンゼン、1,4−ジ(2−メトキシ−2−エチル)ベンゼン、1,4−ジ(2−ヒドロキシ−2−エチル)ベンゼン、1,4−ジ(2−エトキシ−2−エチル)ベンゼン、4,4’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル、2,4’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル、2,2’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル、2,3’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル、3,3’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル、3,4’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(エトキシメチル)ビフェニル、2,4’−ビス(エトキシメチル)ビフェニル、4,4’−ビス(イソプロポキシ)メチルビフェニル、2,4’−ビス(イソプロポキシ)メチルビフェニル、ビス(1−メトキシ−1−エチル)ビフェニル、ビス(1−メトキシ−1−エチル)ビフェニル、ビス(1−イソプロポキシ−1−エチル)ビフェニル、ビス(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、ビス(2−メトキシ−2−プロピル)ビフェニル、ビス(2−イソプロポキシ−2−プロピル)ビフェニル等が挙げられる。 Examples of the compound represented by the general formula ( 6 ) include p-xylylene glycol, m-xylene glycol, 1,4-di (2-hydroxy-2-ethyl) benzene, 4,4′-bis (dimethylol). ) Biphenyl, 2,4′-bis (dimethylol) biphenyl, 4,4′-bis (2-hydroxy-2-propyl) biphenyl, 2,4′-bis (2-hydroxy-2-propyl) biphenyl, 1, 4'-di (methoxymethyl) benzene, 1,4'-di (ethoxymethyl) benzene, 1,4'-di (isopropoxy) benzene, 1,4'-di (butoxy) benzene, 1,3'- Di (methoxymethyl) benzene, 1,3′-di (ethoxymethyl) benzene, 1,3′-di (isopropoxy) benzene, 1,3′-di (butoxy) benzene, 1,4-di (2- Methoxy-2 Ethyl) benzene, 1,4-di (2-hydroxy-2-ethyl) benzene, 1,4-di (2-ethoxy-2-ethyl) benzene, 4,4′-bis (methoxymethyl) biphenyl, 2, 4′-bis (methoxymethyl) biphenyl, 2,2′-bis (methoxymethyl) biphenyl, 2,3′-bis (methoxymethyl) biphenyl, 3,3′-bis (methoxymethyl) biphenyl, 3,4 ′ -Bis (methoxymethyl) biphenyl, 4,4'-bis (ethoxymethyl) biphenyl, 2,4'-bis (ethoxymethyl) biphenyl, 4,4'-bis (isopropoxy) methylbiphenyl, 2,4'- Bis (isopropoxy) methylbiphenyl, bis (1-methoxy-1-ethyl) biphenyl, bis (1-methoxy-1-ethyl) biphenyl, bis (1-isopropoxy) 1-ethyl) biphenyl, bis (2-hydroxy-2-propyl) biphenyl, bis (2-methoxy-2-propyl) biphenyl, bis (2-isopropoxy-2-propyl) biphenyl, and the like.

前記一般式()で表される化合物は、例えば、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼン、4,4’−ビス(ビニル)ビフェニルなどのビス(ビニル)ビフェニル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of the compound represented by the general formula ( 7 ) include bis (vinyl) biphenyl such as p-divinylbenzene, m-divinylbenzene, and 4,4′-bis (vinyl) biphenyl. It is not limited.

製造方法(2)の反応条件に関して詳述すれば、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)と芳香族系架橋剤(3)とを、適当な重合触媒の存在下で加熱撹拌することによって、本願発明の多価ヒドロキシ化合物(B2)を得ることができる。この重合触媒としては、特に限定されるものではないが、酸触媒が好ましい。酸触媒としては、塩酸、硫酸、リン酸などの無機酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、シュウ酸などの有機酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛などのルイス酸などが挙げられる。その使用量は仕込み原料の総質量に対して、0.1〜5質量%の範囲が好ましい。 If specifically with respect to the reaction conditions of the production method (2), hydroxy group-containing aromatic compound (b 1) and a thioether group-containing aromatic compound (b 2) and an aromatic crosslinking agent and (b 3), The polyvalent hydroxy compound ( B2 ) of the present invention can be obtained by heating and stirring in the presence of a suitable polymerization catalyst. The polymerization catalyst is not particularly limited, but an acid catalyst is preferable. Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and phosphoric acid, organic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and oxalic acid, and Lewis acids such as boron trifluoride, anhydrous aluminum chloride, and zinc chloride. Can be mentioned. The amount used is preferably in the range of 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the charged raw materials.

ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)と芳香族系架橋剤(3)との反応仕込み比率としては、特に限定されないが、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(b2)とのモル比(1)/(2)が30/70〜99/1であり、且つ、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)との合計モル数と芳香族系架橋剤(3)のモル数との比{(1)+(2)}/(3)が51/49〜97/3であることが好ましい。この条件を満足することによって、一層、難燃性と硬化性等に優れた硬化物を得ることができる。 The reaction charge ratio of the hydroxy group-containing aromatic compound ( b 1), the thioether group-containing aromatic compound ( b 2), and the aromatic cross-linking agent ( b 3) is not particularly limited. family compounds (b 1) and a thioether group containing aromatic compound (b2) and the molar ratio of (b 1) / (b 2 ) is 30 / 70-99 / 1, and a hydroxy group-containing aromatic Ratio of the total number of moles of the compound ( b 1) and the thioether group-containing aromatic compound ( b 2) to the number of moles of the aromatic crosslinking agent ( b 3) {( b 1) + ( b 2)} / (b 3) is preferably a 51 / 49-97 / 3. By satisfying these conditions, it is possible to obtain a cured product that is further excellent in flame retardancy and curability.

この反応を行う際には、必要に応じて有機溶剤を使用することができる。使用できる有機溶剤の具体例としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられるがこれらに限定されるものではない。有機溶剤の使用量としては仕込み原料の総質量に対して通常10〜500質量%、好ましくは30〜250質量%である。また反応温度としては通常40〜250℃であり、100〜200℃の範囲がより好ましい。また反応時間としては通常1〜10時間である。   In carrying out this reaction, an organic solvent can be used as necessary. Specific examples of the organic solvent that can be used include, but are not limited to, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, toluene, xylene, and methyl isobutyl ketone. The amount of the organic solvent used is usually 10 to 500% by mass, preferably 30 to 250% by mass, based on the total mass of the charged raw materials. Moreover, as reaction temperature, it is 40-250 degreeC normally, and the range of 100-200 degreeC is more preferable. The reaction time is usually 1 to 10 hours.

また芳香族系架橋剤(3)として前記一般式()で表される化合物を用いた場合には、反応は縮合反応系になり、反応の進行に伴って塩酸等のハロゲン化水素ガスが発生するので、速やかに系外に排出して、アルカリ処理等で系外トラップすることが好ましい。また前記一般式()で表される化合物を用いた場合も縮合系になり、反応の進行に伴って、水やメタノール等が発生するので、速やかに系外に排出することは、反応速度を速める上で好ましい。また前記一般式()で表される化合物を用いた場合は、付加反応系になるので、特に副生物の処理は不要である。 When the compound represented by the general formula ( 5 ) is used as the aromatic crosslinking agent ( b3 ), the reaction becomes a condensation reaction system, and a hydrogen halide gas such as hydrochloric acid as the reaction proceeds. Therefore, it is preferable to quickly discharge out of the system and trap outside the system by alkali treatment or the like. In addition, when the compound represented by the general formula ( 6 ) is used, a condensation system is formed, and water, methanol, and the like are generated as the reaction proceeds. It is preferable in speeding up In addition, when the compound represented by the general formula ( 7 ) is used, since it becomes an addition reaction system, it is not particularly necessary to treat by-products.

また得られる該多価ヒドロキシ化合物(B2)の着色が大きい場合は、それを抑制するために、酸化防止剤や還元剤を添加しても良い。前記酸化防止剤としては特に限定されないが、例えば2,6−ジアルキルフェノール誘導体などのヒンダードフェノール系化合物や2価のイオウ系化合物や3価のリン原子を含む亜リン酸エステル系化合物などを挙げることができる。前記還元剤としては特に限定されないが、例えば次亜リン酸、亜リン酸、チオ硫酸、亜硫酸、ハイドロサルファイトまたはこれら塩や亜鉛などが挙げられる。 Further, when the obtained polyvalent hydroxy compound ( B2 ) is highly colored, an antioxidant or a reducing agent may be added to suppress it. The antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include hindered phenol compounds such as 2,6-dialkylphenol derivatives, divalent sulfur compounds, and phosphite compounds containing trivalent phosphorus atoms. be able to. Although it does not specifically limit as said reducing agent, For example, hypophosphorous acid, phosphorous acid, thiosulfuric acid, sulfurous acid, hydrosulfite, these salts, zinc, etc. are mentioned.

反応終了後、反応混合物のpH値が3〜7、好ましくは4〜7になるまで中和あるいは水洗処理を行う。中和処理や水洗処理は常法にしたがって行えばよい。例えば酸触媒を用いた場合は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、トリエチレンテトラミン、アニリン等の塩基性物質を中和剤として用いることができる。中和の際には、事前にリン酸等のバッファーを入れておいても良いし、また、一旦塩基サイドにしたのちシュウ酸などでpH値が3〜7としてもよい。中和あるいは水洗処理を行った後、減圧加熱下で、主にヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)を含む未反応原料や有機溶剤、副生物を留去し生成物の濃縮を行い、目的の多価ヒドロキシ化合物(B2)を得ることが出来る。ここで回収した未反応原料は再利用することもできる。反応終了後の処理操作のなかに、精密濾過工程を導入すると、無機塩や異物類を精製除去することができるのでより好ましい方法である。 After completion of the reaction, the reaction mixture is neutralized or washed with water until the pH value of the reaction mixture becomes 3 to 7, preferably 4 to 7. What is necessary is just to perform a neutralization process and a water washing process in accordance with a conventional method. For example, when an acid catalyst is used, basic substances such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, triethylenetetramine, and aniline can be used as the neutralizing agent. At the time of neutralization, a buffer such as phosphoric acid may be added in advance, or the pH may be adjusted to 3 to 7 with oxalic acid after the base side is once used. After neutralization or washing treatment under reduced pressure at a heating mainly unreacted starting material and organic solvent containing a hydroxy group-containing aromatic compound (b 1) and a thioether group-containing aromatic compound (b 2), sub The target polyvalent hydroxy compound ( B2 ) can be obtained by distilling off the organism and concentrating the product. The unreacted raw material recovered here can be reused. Introducing a microfiltration step into the processing operation after the completion of the reaction is a more preferable method because inorganic salts and foreign substances can be purified and removed.

また上記の様に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)と芳香族系架橋剤(3)とを予め混合しておき、その後、当該混合物を加熱することによって反応を行っても良いし、また、チオエーテル基含有芳香族系化合物(2)1モルに対して、2〜30モルの芳香族系架橋剤(3)を反応させ、チオエーテル基含有芳香族系化合物(2)を実質的に完全に反応させて消費した後に、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(1)を仕込んで反応させる方法も採用できる。後者の方法によると、該多価ヒドロキシ化合物の構造を、交互共重合体化することができ、より効率的にチオエーテル基を分子構造中に導入することが可能になる。尚、後者の方法において実質的に完全に反応させるという意味は、定量的にチオエーテル基含有芳香族系化合物(2)が消失しているということではなく、過剰の芳香族系架橋剤(3)を用いて、十分な反応時間、反応温度をかけていることを意味するものである。 Further, as described above, the hydroxy group-containing aromatic compound ( b 1), the thioether group-containing aromatic compound ( b 2), and the aromatic crosslinking agent ( b 3) are mixed in advance, may be performed and the reaction by heating the mixture, also a thioether group-containing aromatic compound (b 2) with respect to 1 mol of reacted 2 to 30 moles of an aromatic crosslinking agent (b 3) Further, after the thioether group-containing aromatic compound ( b2 ) is substantially completely reacted and consumed, the hydroxy group-containing aromatic compound ( b1 ) is charged and reacted. According to the latter method, the structure of the polyvalent hydroxy compound can be converted into an alternating copolymer, and a thioether group can be more efficiently introduced into the molecular structure. In the latter method, the meaning that the reaction is substantially complete does not mean that the thioether group-containing aromatic compound ( b2 ) has disappeared quantitatively, but an excess of the aromatic crosslinking agent ( b 3) means that sufficient reaction time and reaction temperature are applied.

本発明のエポキシ樹脂組成物(II)における前記多価ヒドロキシ化合物(B)は後述するエポキシ樹脂(A)の硬化剤として作用し、この場合、本発明の前記多価ヒドロキシ化合物(B2)を単独で、または本発明の効果を損なわない範囲で他の硬化剤と併用して用いることが出来る。併用する場合には、本発明の多価ヒドロキシ化合物(B2)の全硬化剤中に占める割合は30質量%以上が好ましく、特に40質量%以上が好ましい。 The polyvalent hydroxy compound (B 2 ) in the epoxy resin composition ( II ) of the present invention acts as a curing agent for the epoxy resin (A) described later. In this case, the polyvalent hydroxy compound (B2 ) of the present invention It can be used alone or in combination with other curing agents as long as the effects of the present invention are not impaired. When used in combination, the proportion of the polyvalent hydroxy compound ( B2 ) of the present invention in the total curing agent is preferably 30% by mass or more, and particularly preferably 40% by mass or more.

本発明の多価ヒドロキシ化合物(B)と併用されうる他の硬化剤としては、特に制限されるものではなく、例えばアミン系化合物、アミド系化合物、酸無水物系化合物、フェノ−ル系化合物などの種々の硬化剤を用いることができる。例えば、アミン系化合物としてはジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体等が挙げられ、アミド系化合物としては、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられ、酸無水物系化合物としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等が挙げられ、フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂(通称、ザイロック樹脂)、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物)、ビフェニル変性ナフトール樹脂(ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物)、アミノトリアジン変性フェノール樹脂(メラミンやベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物)等の多価フェノール化合物、及びこれらの変性物等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。 The other curing agent that can be used in combination with the polyvalent hydroxy compound (B 2 ) of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include amine compounds, amide compounds, acid anhydride compounds, phenol compounds. Various curing agents such as can be used. Examples of amine compounds include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, imidazole, BF 3 -amine complexes, guanidine derivatives, and the like, and amide compounds include dicyandiamide and linolenic acid. And polyamide resins synthesized from ethylenediamine. Examples of acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl Examples include tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, etc. Examples of phenolic compounds include phenol novolac resins, cresol novolac resins, Aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin, dicyclopentadiene phenol addition type resin, phenol aralkyl resin (commonly known as zylock resin), naphthol aralkyl resin, trimethylol methane resin, tetraphenylol ethane resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol Condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolac resin, biphenyl-modified phenol resin (polyhydric phenol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group), biphenyl-modified naphthol resin (polyvalent naphthol compound in which phenol nucleus is linked by bismethylene group) ), Polyphenol compounds such as aminotriazine-modified phenol resins (polyphenol compounds in which phenol nuclei are linked with melamine, benzoguanamine, etc.), and Examples of these modified products include, but are not limited to, these. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂が難燃性に優れることから好ましく、特にフェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、ビフェニル変性ナフトール樹脂等の高芳香族性、高水酸基当量の多価ヒドロキシ化合物や窒素原子を含有するアミノトリアジン変性フェノール樹脂等の化合物を用いることが、得られる硬化物の難燃性や硬化性が優れる点から好ましい。   Among these, phenol novolak resin, cresol novolak resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenol resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, naphthol novolak resin, naphthol-phenol co-condensed novolak resin, naphthol-cresol co-condensed novolak resin, Biphenyl-modified phenolic resin, biphenyl-modified naphthol resin, aminotriazine-modified phenolic resin are preferred because of excellent flame retardancy, especially high aromaticity such as phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, biphenyl-modified phenol resin, biphenyl-modified naphthol resin, The use of a compound such as a polyhydroxy compound having a high hydroxyl equivalent weight or an aminotriazine-modified phenol resin containing a nitrogen atom results in a hard resin obtained. From the viewpoint of flame retardancy and curing of the objects it is excellent.

本発明のエポキシ樹脂組成物(II)で用いるエポキシ樹脂(A)は、特に制限されるものではなく、種々のエポキシ樹脂を用いることができるが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。またこれらのエポキシ樹脂は単独で用いてもよく、2種以上を混合してもよい。これらの中でも特に、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂及び特開2003−201333号記載のキサンテン型エポキシ樹脂が、難燃性や硬化性に優れる点から特に好ましい。 The epoxy resin (A) used in the epoxy resin composition ( II ) of the present invention is not particularly limited, and various epoxy resins can be used. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy Resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane type epoxy resin, dicyclopentadiene -Phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolak type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolak type epoxy resin Fat, naphthol - cresol co-condensed novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resin type epoxy resin, a biphenyl novolak type epoxy resins. Moreover, these epoxy resins may be used independently and may mix 2 or more types. Among these, biphenyl type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, phenol aralkyl type epoxy resin, a xanthene-type epoxy resins of the biphenyl novolac type epoxy resin and JP 2003-201333 Patent described, excellent flame retardancy and curing It is particularly preferable from the viewpoint.

本発明のエポキシ樹脂組成物(II)におけるエポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の配合量としては、特に制限されるものではないが、得られる硬化物特性が良好である点から、エポキシ樹脂(A)のエポキシ基の合計1当量に対して、前記多価ヒドロキシ化合物(B1)を含む硬化剤(B)中の活性基が0.7〜1.5当量になる量が好ましい。 The blending amount of the epoxy resin (A) and the curing agent (B) in the epoxy resin composition (II) of the present invention is not particularly limited. The amount of active groups in the curing agent (B) containing the polyvalent hydroxy compound (B1) is preferably 0.7 to 1.5 equivalents relative to a total of 1 equivalent of epoxy groups in the resin (A).

以上詳述した本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)には、更に硬化促進剤を適宜併用することもできる。硬化促進剤としては種々のものが使用できるが、例えば、リン系化合物、第3級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。特に半導体封止材料用途として使用する場合には、硬化性、耐熱性、電気特性、耐湿信頼性等に優れる点から、リン系化合物ではトリフェニルフォスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラキスフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウムテトラキス(4−メチルフェニル)ボレート、ホスフィン化合物とキノン化合物の付加物、第3級アミンでは1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−ウンデセン(DBU)が好ましい。 The epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention described in detail above can be used in combination with a curing accelerator as appropriate. Various curing accelerators can be used, and examples thereof include phosphorus compounds, tertiary amines, imidazoles, organic acid metal salts, Lewis acids, and amine complex salts. In particular, when used as a semiconductor sealing material application, triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetrakisphenylborate, tetraphenylphosphonium are used as phosphorus compounds because of their excellent curability, heat resistance, electrical properties, moisture resistance reliability, etc. For tetrakis (4-methylphenyl) borate, an adduct of a phosphine compound and a quinone compound, and a tertiary amine, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -undecene (DBU) is preferred.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)は、硬化剤として用いる前記多価ヒドロキシ化合物(A)自身が難燃性付与効果を有するものである事から、硬化物の難燃性を付与させるために従来用いられている難燃剤を配合しなくても、硬化物の難燃性が良好である。然し乍ら、より高度な難燃性を発揮させるために、封止工程での成形性や半導体装置の信頼性を低下させない範囲で、実質的にハロゲン原子を含有しない非ハロゲン系難燃剤(C)をエポキシ樹脂組成物(又はII)に配合して、当該脂組成物を非ハロゲン系難燃性樹脂組成物として利用することができる。 The epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention has a flame retardancy imparting effect because the polyvalent hydroxy compound (A) itself used as a curing agent has an effect of imparting flame retardancy. Even if a conventionally used flame retardant is not blended for imparting, the cured product has good flame retardancy. However, in order to exhibit a higher degree of flame retardancy, a non-halogen flame retardant (C) that substantially does not contain a halogen atom is used as long as the moldability in the sealing process and the reliability of the semiconductor device are not deteriorated. It can mix | blend with an epoxy resin composition ( I ) or ( II ), and the said fat composition can be utilized as a non-halogen-type flame-retardant resin composition.

ここでいう実質的にハロゲン原子を含有しない難燃性樹脂組成物とは、難燃性付与の目的でハロゲン系の化合物を配合しなくても充分な難燃性を示す樹脂組成物を意味するものであり、例えばエポキシ樹脂に含まれるエピハロヒドリン由来の5000ppm以下程度の微量の不純物によるハロゲン原子は含まれていても良い。   The flame retardant resin composition substantially not containing a halogen atom as used herein means a resin composition exhibiting sufficient flame retardancy without blending a halogen-based compound for the purpose of imparting flame retardancy. For example, halogen atoms due to a small amount of impurities of about 5000 ppm or less derived from epihalohydrin contained in an epoxy resin may be contained.

前記非ハロゲン系難燃剤(C)としては、塩素や臭素などのハロゲン原子を実質的に含有しない化合物であって、難燃剤、或いは難燃助剤としての機能を有するものであれば何等制限されるものではなく、例えば、リン系難燃剤、窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤、無機系難燃剤、有機金属塩系難燃剤等が挙げられ、それらの使用に際しても何等制限されるものではなく、単独で使用しても、同一系の難燃剤を複数用いても良く、また、異なる系の難燃剤を組み合わせて用いることも可能である。   The non-halogen flame retardant (C) is a compound that does not substantially contain a halogen atom such as chlorine or bromine and has a function as a flame retardant or a flame retardant aid. For example, phosphorus-based flame retardants, nitrogen-based flame retardants, silicone-based flame retardants, inorganic flame retardants, organometallic salt-based flame retardants, and the like are not limited in any way. Even if it is used alone, a plurality of flame retardants of the same type may be used, or different types of flame retardants may be used in combination.

前記リン系難燃剤としては、燐原子を含有する化合物であれば、無機系、有機系のいずれも使用することができる。無機系化合物としては、例えば、加水分解等の防止を目的として表面処理が施されていてもよい赤リン、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、リン酸三アンモニウム、ポリリン酸アンモニウム等のリン酸アンモニウム類、リン酸アミド等の無機系含窒素リン化合物が挙げられる。   As the phosphorus flame retardant, both inorganic and organic compounds can be used as long as they are compounds containing phosphorus atoms. Examples of the inorganic compound include phosphoric acids such as red phosphorus, monoammonium phosphate, diammonium phosphate, triammonium phosphate, and ammonium polyphosphate, which may be surface-treated for the purpose of preventing hydrolysis and the like. Examples thereof include inorganic nitrogen-containing phosphorus compounds such as ammonium and phosphoric acid amide.

前記赤リンの表面処理方法としては、例えば、(i)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン、酸化ビスマス、水酸化ビスマス、硝酸ビスマス又はこれらの混合物等の無機化合物で被覆処理する方法、(ii)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物、及びフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂の混合物で被覆処理する方法、(iii)水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化亜鉛、水酸化チタン等の無機化合物の被膜の上にフェノール樹脂等の熱硬化性樹脂で二重に被覆処理する方法等があり、(i)〜(iii)の何れの方法で処理されたものも使用できる。   Examples of the surface treatment method of red phosphorus include (i) coating with an inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide, titanium hydroxide, bismuth oxide, bismuth hydroxide, bismuth nitrate, or a mixture thereof. A method of treating, (ii) a method of coating with a mixture of an inorganic compound such as magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, zinc hydroxide and titanium hydroxide, and a thermosetting resin such as a phenol resin, (iii) magnesium hydroxide And a method of double coating with a thermosetting resin such as phenol resin on a coating of an inorganic compound such as aluminum hydroxide, zinc hydroxide or titanium hydroxide, and any of (i) to (iii) What was processed by the method of can also be used.

前記有機リン系化合物としては、例えば、リン酸エステル化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、ホスフィンオキシド化合物、ホスホラン化合物、有機系含窒素リン化合物等が挙げられる。   Examples of the organic phosphorus compounds include phosphate ester compounds, phosphonic acid compounds, phosphinic acid compounds, phosphine oxide compounds, phospholane compounds, and organic nitrogen-containing phosphorus compounds.

前記リン酸エステル化合物としての具体例としては、トリフェニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニルホスフェート)、レゾルシノールビス(ジ−2,6−キシレノールホスフェート)、ビスフェノールAビス(ジフェニルホスフェート)、ビスフェノールAビス(ジクレジルホスフェート)、レゾルシニルジフェニルホスフェート等が挙げられる。   Specific examples of the phosphoric ester compound include triphenyl phosphate, resorcinol bis (diphenyl phosphate), resorcinol bis (di-2,6-xylenol phosphate), bisphenol A bis (diphenyl phosphate), bisphenol A bis (dicresyl). Phosphate), resorcinyl diphenyl phosphate, and the like.

前記ホスホン酸化合物は、例えば、ジフェニルホスフィン酸、メチルエチルホスフィン酸、9,10−ジヒドロ−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド、10−(2,5―ジヒドロオキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド、10−(2,7−ジヒドロオキシナフチル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナントレン=10−オキシド等の環状有機リン化合物、及びそれをエポキシ樹脂やフェノール樹脂等の化合物と反応させた誘導体等が挙げられる。   Examples of the phosphonic acid compound include diphenylphosphinic acid, methylethylphosphinic acid, 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H. Cyclic organic phosphorus compounds such as -9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, 10- (2,7-dihydrooxynaphthyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene = 10-oxide, and A derivative obtained by reacting it with a compound such as an epoxy resin or a phenol resin can be used.

前記ホスフィンオキシド化合物の具体例としては、トリフェニルホスフィンオキシド、トリス(3−ヒドロキシプロピル)ホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィニルハイドロキノン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphine oxide compound include triphenylphosphine oxide, tris (3-hydroxypropyl) phosphine oxide, diphenylphosphinyl hydroquinone and the like.

有機系窒素含有リン化合物としてはホスファゼン化合物類等が挙げられる。   Examples of the organic nitrogen-containing phosphorus compound include phosphazene compounds.

それらの配合量としては、リン系難燃剤の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100質量部中、赤リンを非ハロゲン系難燃剤として使用する場合は0.1〜2.0質量部の範囲で配合することが好ましく、有機リン化合物を使用する場合は同様に0.1〜10.0質量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.5〜6.0質量部の範囲で配合することが好ましい。   The blending amount thereof is appropriately selected depending on the type of the phosphorus-based flame retardant, the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, epoxy resin, curing agent, non-halogen In 100 parts by mass of the epoxy resin composition containing all of the flame retardant and other fillers and additives, when using red phosphorus as a non-halogen flame retardant, in the range of 0.1 to 2.0 parts by mass It is preferable to mix, and when using an organophosphorus compound, it is also preferable to mix in the range of 0.1 to 10.0 parts by mass, particularly in the range of 0.5 to 6.0 parts by mass. Is preferred.

前記窒素系難燃剤としては、窒素原子を含有する化合物であれば特に制限されるものではなく、例えば、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物、フェノチアジン等が挙げられ、トリアジン化合物、シアヌル酸化合物、イソシアヌル酸化合物が好ましい。   The nitrogen-based flame retardant is not particularly limited as long as it is a compound containing a nitrogen atom. Examples thereof include triazine compounds, cyanuric acid compounds, isocyanuric acid compounds, phenothiazines, and the like. Triazine compounds, cyanuric acid compounds An isocyanuric acid compound is preferred.

前記トリアジン化合物の具体例としては、例えば、メラミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、メロン、メラム、サクシノグアナミン、エチレンジメラミン、ポリリン酸メラミン、トリグアナミン等、及びその誘導体が挙げられ、前記誘導体としては、例えば、(i)硫酸グアニルメラミン、硫酸メレム、硫酸メラムなどの硫酸アミノトリアジン化合物、(ii)フェノール、クレゾール、キシレノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール等のフェノール類と、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン、ホルムグアナミン等のメラミン類およびホルムアルデヒドとの共縮合物、(iii)前記(ii)の共縮合物とフェノールホルムアルデヒド縮合物等のフェノール樹脂類との混合物、(iv)前記(ii)、(iii)を更に桐油、異性化アマニ油等で変性したもの等が挙げられる。   Specific examples of the triazine compound include, for example, melamine, acetoguanamine, benzoguanamine, melon, melam, succinoguanamine, ethylene dimelamine, melamine polyphosphate, triguanamine, and derivatives thereof. For example, (i) aminotriazine sulfate compounds such as guanylmelamine sulfate, melem sulfate, melam sulfate, (ii) phenols such as phenol, cresol, xylenol, butylphenol, nonylphenol, and melamine, benzoguanamine, acetoguanamine, formguanamine, etc. A co-condensate of melamines and formaldehyde, (iii) a mixture of the co-condensate of (ii) and a phenol resin such as a phenol formaldehyde condensate, (iv) the above (ii), (iii) Furthermore tung, such as those modified with isomerized linseed oil, and the like.

前記シアヌル酸化合物の具体例としては、例えば、シアヌル酸、シアヌル酸メラミン等を挙げることができる。   Specific examples of the cyanuric acid compound include cyanuric acid and cyanuric acid melamine.

前記イソシアヌル酸化合物の具体例としては、例えば、トリス(β―シアノエチル)イソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌル酸、モノアリルジグリシジルイソシアヌル酸等を挙げることができる。   Specific examples of the isocyanuric acid compound include tris (β-cyanoethyl) isocyanurate, diallyl monoglycidyl isocyanuric acid, monoallyl diglycidyl isocyanuric acid, and the like.

また前記窒素原子を含有する化合物に、―OH、−NH、−NCO、−COOH、−CHO、−SH、メチロール、アクリレート、メタクリレート、シリル、グリシジル基又はエポキシ基等の官能基を有していてもよい。 Further, the compound containing a nitrogen atom has a functional group such as —OH, —NH 2 , —NCO, —COOH, —CHO, —SH, methylol, acrylate, methacrylate, silyl, glycidyl group or epoxy group. May be.

前記窒素系難燃剤の配合量としては、窒素系難燃剤の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100質量部中、0.05〜10質量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.1〜5質量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the nitrogen-based flame retardant is appropriately selected depending on the type of the nitrogen-based flame retardant, the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. It is preferable to mix in the range of 0.05 to 10 parts by mass, especially in the range of 0.05 to 10 parts by mass, in 100 parts by mass of the epoxy resin composition containing all of the agent, non-halogen flame retardant and other fillers and additives. It is preferable to mix in the range of 5 parts by mass.

前記シリコーン系難燃剤としては、ケイ素原子を含有する有機化合物であれば特に制限がなく使用でき、例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、シリコーン樹脂等が挙げられる。   The silicone flame retardant is not particularly limited as long as it is an organic compound containing a silicon atom, and examples thereof include silicone oil, silicone rubber, and silicone resin.

前記シリコーンオイルの具体例としては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジエンシリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル等を挙げることができる。   Specific examples of the silicone oil include dimethyl silicone oil, methylphenyl silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, polyether-modified silicone oil, and the like.

前記シリコーンゴムの具体例としては、例えば、メチルシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム等を挙げることができる。   Specific examples of the silicone rubber include methyl silicone rubber and methylphenyl silicone rubber.

前記シリコーン樹脂の具体例としては、例えば、メチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、フェニルシリコーン等を挙げることができる。   Specific examples of the silicone resin include methyl silicone, methyl phenyl silicone, and phenyl silicone.

また前記ケイ素原子を含有する有機化合物としては、―OH、−NH、−NCO、−COOH、−CHO、−SH、メチロール、アクリレート、メタクリレート、シリル、グリシジル基又はエポキシ基等の官能基を有していてもよい。 The organic compound containing a silicon atom has a functional group such as —OH, —NH 2 , —NCO, —COOH, —CHO, —SH, methylol, acrylate, methacrylate, silyl, glycidyl group or epoxy group. You may do it.

前記シリコーン系難燃剤の配合量としては、シリコーン系難燃剤の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100質量部中、0.05〜20質量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the silicone flame retardant is appropriately selected according to the type of the silicone flame retardant, the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. It is preferable to mix in the range of 0.05 to 20 parts by mass in 100 parts by mass of the epoxy resin composition containing all of the agent, non-halogen flame retardant and other fillers and additives.

前記無機系難燃剤としては、例えば、金属水酸化物、金属酸化物、金属炭酸塩化合物、金属粉、ホウ素化合物、低融点ガラス等が挙げられる。   Examples of the inorganic flame retardant include metal hydroxide, metal oxide, metal carbonate compound, metal powder, boron compound, and low melting point glass.

前記金属水酸化物の具体例としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ドロマイト、ハイドロタルサイト、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、水酸化ジルコニウム、及び複合金属水酸化物等を挙げることができる。   Specific examples of the metal hydroxide include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, dolomite, hydrotalcite, calcium hydroxide, barium hydroxide, zirconium hydroxide, and composite metal hydroxide. it can.

前記金属酸化物の具体例としては、例えば、モリブデン酸亜鉛、三酸化モリブデン、スズ酸亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化モリブデン、酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化タングステン等を挙げることができる。   Specific examples of the metal oxide include, for example, zinc molybdate, molybdenum trioxide, zinc stannate, tin oxide, aluminum oxide, iron oxide, titanium oxide, manganese oxide, zirconium oxide, zinc oxide, molybdenum oxide, and cobalt oxide. Bismuth oxide, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, tungsten oxide and the like.

前記金属炭酸塩化合物の具体例としては、例えば、炭酸亜鉛、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、塩基性炭酸マグネシウム、炭酸アルミニウム、炭酸鉄、炭酸コバルト、炭酸チタン等を挙げることができる。   Specific examples of the metal carbonate compound include zinc carbonate, magnesium carbonate, calcium carbonate, barium carbonate, basic magnesium carbonate, aluminum carbonate, iron carbonate, cobalt carbonate, and titanium carbonate.

前記金属粉の具体例としては、例えば、アルミニウム、鉄、チタン、マンガン、亜鉛、モリブデン、コバルト、ビスマス、クロム、ニッケル、銅、タングステン、スズ等を挙げることができる。   Specific examples of the metal powder include aluminum, iron, titanium, manganese, zinc, molybdenum, cobalt, bismuth, chromium, nickel, copper, tungsten, and tin.

前記ホウ素化合物の具体例としては、例えば、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸、ホウ砂等を挙げることができる。   Specific examples of the boron compound include zinc borate, zinc metaborate, barium metaborate, boric acid, and borax.

前記低融点ガラスの具体例としては、例えば、シープリー(ボクスイ・ブラウン社)、水和ガラスSiO−MgO−HO、PbO−B系、ZnO−P−MgO系、P−B−PbO−MgO系、P−Sn−O−F系、PbO−V−TeO系、Al−HO系、ホウ珪酸鉛系等のガラス状化合物を挙げることができる。 Specific examples of the low-melting-point glass include, for example, Ceeley (Bokusui Brown), hydrated glass SiO 2 —MgO—H 2 O, PbO—B 2 O 3 system, ZnO—P 2 O 5 —MgO system, P 2 O 5 —B 2 O 3 —PbO—MgO, P—Sn—O—F, PbO—V 2 O 5 —TeO 2 , Al 2 O 3 —H 2 O, lead borosilicate, etc. The glassy compound can be mentioned.

前記無機系難燃剤の配合量としては、無機系難燃剤の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100質量部中、0.05〜20質量部の範囲で配合することが好ましく、特に0.5〜15質量部の範囲で配合することが好ましい。   The blending amount of the inorganic flame retardant is appropriately selected according to the type of the inorganic flame retardant, the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. For example, epoxy resin, cured It is preferable to mix in the range of 0.05 to 20 parts by mass in 100 parts by mass of the epoxy resin composition in which all of the agent, non-halogen flame retardant and other fillers and additives are blended. It is preferable to mix in the range of 15 parts by mass.

前記有機金属塩系難燃剤としては、例えば、フェロセン、アセチルアセトナート金属錯体、有機金属カルボニル化合物、有機コバルト塩化合物、有機スルホン酸金属塩、金属原子と芳香族化合物又は複素環化合物がイオン結合又は配位結合した化合物等が挙げられる。   Examples of the organic metal salt flame retardant include ferrocene, acetylacetonate metal complex, organic metal carbonyl compound, organic cobalt salt compound, organic sulfonic acid metal salt, metal atom and aromatic compound or heterocyclic compound or an ionic bond or Examples thereof include a coordinated compound.

前記有機コバルト塩化合物の具体例としては、例えば、コバルトナフテン酸錯体、コバルトエチレンジアミン錯体、コバルトアセトアセトナート錯体、コバルトピペリジン錯体、コバルトシクロヘキサンジアミン錯体、コバルトテトラアザシクロテトラドデカン錯体、コバルトエチレンジアミン四酢酸錯体、コバルトテトラエチレングリコール錯体、コバルトアミノエタノール錯体、コバルトシクロヘキサジアミン錯体、コバルトグリシン錯体、コバルトトリグリシン錯体、コバルトナフチジリン錯体、コバルトフェナントロリン錯体、コバルトペンタンジアミン錯体、コバルトピリジン錯体、コバルトサリチル酸錯体、コバルトサリチルアルデヒド錯体、コバルトサリチリデンアミン錯体、コバルト錯体ポリフィリン、コバルトチオ尿素錯体等を挙げることができる。   Specific examples of the organic cobalt salt compound include, for example, a cobalt naphthenic acid complex, a cobalt ethylenediamine complex, a cobalt acetoacetonate complex, a cobalt piperidine complex, a cobalt cyclohexanediamine complex, a cobalt tetraazacyclotetradodecane complex, and a cobalt ethylenediaminetetraacetic acid complex. , Cobalt tetraethylene glycol complex, cobalt aminoethanol complex, cobalt cyclohexadiamine complex, cobalt glycine complex, cobalt triglycine complex, cobalt naphthidylline complex, cobalt phenanthroline complex, cobalt pentanediamine complex, cobalt pyridine complex, cobalt salicylic acid complex, cobalt Salicylaldehyde complex, cobalt salicylideneamine complex, cobalt complex porphyrin, cobalt thiourea complex And the like can be given.

前記有機スルホン酸金属塩の具体例としては、例えば、ジフェニルスルホン−3−スルホン酸カリウム等を挙げることができる。   Specific examples of the organic sulfonic acid metal salt include potassium diphenylsulfone-3-sulfonate.

前記有機金属塩系難燃剤の配合量としては、有機金属塩系難燃剤の種類、エポキシ樹脂組成物の他の成分、所望の難燃性の程度によって適宜選択されるものであるが、例えば、エポキシ樹脂、硬化剤、非ハロゲン系難燃剤及びその他の充填材や添加剤等全てを配合したエポキシ樹脂組成物100質量部中、0.005〜10質量部の範囲で配合することが好ましい。   The amount of the organometallic salt-based flame retardant is appropriately selected depending on the type of the organometallic salt-based flame retardant, the other components of the epoxy resin composition, and the desired degree of flame retardancy. It is preferable to mix in the range of 0.005 to 10 parts by mass in 100 parts by mass of the epoxy resin composition containing all of the epoxy resin, the curing agent, the non-halogen flame retardant, and other fillers and additives.

本発明のエポキシ樹脂組成物()又は(II)には、必要に応じて無機質充填材を配合することができる。前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。前記無機充填材の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いることが好ましい。前記溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は難燃性を考慮して、高い方が好ましく、エポキシ樹脂組成物の全体量に対して65質量%以上が特に好ましい。また導電ペーストなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。 An inorganic filler can be mix | blended with the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of this invention as needed. Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, and aluminum hydroxide. When particularly increasing the blending amount of the inorganic filler, it is preferable to use fused silica. The fused silica can be used in either a crushed shape or a spherical shape. However, in order to increase the blending amount of the fused silica and suppress an increase in the melt viscosity of the molding material, it is preferable to mainly use a spherical shape. In order to further increase the blending amount of the spherical silica, it is preferable to appropriately adjust the particle size distribution of the spherical silica. The filling rate is preferably higher in consideration of flame retardancy, and particularly preferably 65% by mass or more with respect to the total amount of the epoxy resin composition. Moreover, when using for uses, such as an electrically conductive paste, electroconductive fillers, such as silver powder and copper powder, can be used.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)には、必要に応じて、シランカップリング剤、離型剤、顔料、乳化剤等の種々の配合剤を添加することができる。 Various compounding agents, such as a silane coupling agent, a mold release agent, a pigment, an emulsifier, can be added to the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention as necessary.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)は、各成分を均一に混合することにより得られる。本発明のエポキシ樹脂、硬化剤、更に必要により硬化促進剤の配合された本発明のエポキシ樹脂組成物は従来知られている方法と同様の方法で容易に硬化物とすることができる。該硬化物としては積層物、注型物、接着層、塗膜、フィルム等の成形硬化物が挙げられる。 Epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of this invention is obtained by mixing each component uniformly. The epoxy resin composition of the present invention, in which the epoxy resin of the present invention, a curing agent and, if necessary, a curing accelerator are blended, can be easily made into a cured product by a method similar to a conventionally known method. Examples of the cured product include molded cured products such as laminates, cast products, adhesive layers, coating films, and films.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)の使用用途としては、半導体封止材料、積層板や電子回路基板等に用いられる樹脂組成物、樹脂注型材料、接着剤、ビルドアップ基板用層間絶縁材料、絶縁塗料等のコーティング材料等が挙げられ、これらの中でも、半導体封止材料に好適に用いることができる。以下、本発明の半導体封止材料につき詳述する。 The epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention can be used as a semiconductor sealing material, a resin composition used for a laminated board or an electronic circuit board, a resin casting material, an adhesive, and a build-up board. Interlayer insulating materials for coating, coating materials such as insulating paints, and the like can be mentioned. Among these, it can be suitably used for semiconductor sealing materials. Hereinafter, the semiconductor sealing material of the present invention will be described in detail.

即ち、本発明の半導体封止材料は、前記エポキシ樹脂組成物(I)又は(II)における前記エポキシ樹脂(A)及び前記硬化剤(B)に加え、更に無機質充填材を含有する組成物からなることを特徴としている。 That is, the semiconductor encapsulating material of the present invention, in addition to the epoxy resin composition (I) or (II) in the epoxy resin (A) and the curing agent (B), further or composition containing an inorganic filler It is characterized by

かかる半導体封止材用を作製するためには、上記各成分を押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分に混合して溶融混合型のエポキシ樹脂組成物を得ればよい。その際、無機質充填剤としては、通常シリカが用いられるが、その充填率はエポキシ樹脂組成物100質量部当たり、充填剤を30〜95質量%の範囲が用いることが好ましく、中でも、難燃性や耐湿性や耐ハンダクラック性の向上、線膨張係数の低下を図るためには、70質量部以上が特に好ましく、それらの効果を格段に上げるためには、80質量部以上が一層その効果を高めることができる。半導体パッケージ成形としては、該組成物を注型、或いはトランスファー成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに50〜200℃で2〜10時間に加熱することにより成形物である半導体装置を得る方法がある。   In order to produce such a semiconductor encapsulant, the above-described components are sufficiently mixed until uniform using an extruder, kneader, roll, etc. to obtain a melt-mixed epoxy resin composition. Just do it. At that time, silica is usually used as the inorganic filler, and the filler is preferably used in a range of 30 to 95% by mass per 100 parts by mass of the epoxy resin composition. 70 parts by mass or more is particularly preferable in order to improve the moisture resistance and solder crack resistance and decrease the linear expansion coefficient, and 80 parts by mass or more is more effective in order to significantly increase these effects. Can be increased. For semiconductor package molding, the composition is molded by casting, using a transfer molding machine, an injection molding machine or the like, and further heated at 50 to 200 ° C. for 2 to 10 hours to form a semiconductor device which is a molded product. There is a way to get it.

本発明の半導体封止材料には、樹脂成分と無機充填剤との接着性を高めるために、必要に応じて、カップリング剤を用いてもよい。カップリング剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウム系化合物、ジルコニウム系化合物、アルミニウムキレート類等が挙げられる。   In the semiconductor sealing material of the present invention, a coupling agent may be used as necessary in order to improve the adhesion between the resin component and the inorganic filler. Examples of the coupling agent include various silane compounds such as epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, and vinyl silane, titanium compounds, aluminum compounds, zirconium compounds, and aluminum chelates.

上記カップリング剤の配合量は、無機充てん剤に対して0.01〜5質量%であることが好ましく、0.05〜2.5質量%がより好ましい。0.01質量%未満では各種パッケージ構成部材との接着性が低下する傾向があり、5質量%を超えるとボイド等の成形不良が発生し易い傾向がある。   The amount of the coupling agent is preferably 0.01 to 5% by mass and more preferably 0.05 to 2.5% by mass with respect to the inorganic filler. If it is less than 0.01% by mass, the adhesiveness with various package components tends to decrease, and if it exceeds 5% by mass, molding defects such as voids tend to occur.

さらに、本発明の半導体封止材料には、その他の添加剤として、離型剤、着色剤、応力緩和剤、密着性向上剤、界面活性剤などを必要に応じて配合することができる。   Furthermore, in the semiconductor sealing material of the present invention, as other additives, a mold release agent, a colorant, a stress relaxation agent, an adhesion improver, a surfactant and the like can be blended as necessary.

離型剤としては、例えば、カルナバワックスや炭化水素系、脂肪族系、アミド系、エステル系、高級アルコール系、高級脂肪酸金属塩系等が挙げられる。   Examples of the mold release agent include carnauba wax, hydrocarbon, aliphatic, amide, ester, higher alcohol, and higher fatty acid metal salt.

前記炭化水素系としては、パラフィンワックス、ポリオレフィン系ワックス等が挙げられる。ポリオレフィン系ワックスは、酸化されていない無極性のポリオレフィンワックスと酸化ポリオレフィンワックスに大別され、それぞれにポリエチレン系,ポリプロピレン系、および酢ビ−エチレン共重合系がある。   Examples of the hydrocarbon type include paraffin wax and polyolefin wax. Polyolefin waxes are roughly classified into non-polarized non-polar polyolefin waxes and oxidized polyolefin waxes, and there are polyethylene-based, polypropylene-based, and vinyl acetate-ethylene copolymer systems, respectively.

脂肪酸系としては、モンタン酸、ステアリン酸、へベニン酸、12-ヒドロキシステアリン酸、アミド系としては、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、メチレンビスステアリン酸アミド、エステル系としては、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ステアリル、高級アルコール系としては、ステアリルアルコール、高級脂肪酸金属塩としてはステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム等が挙げられる。   As the fatty acid system, montanic acid, stearic acid, hebenic acid, 12-hydroxystearic acid, as the amide system, stearic acid amide, oleic acid amide, methylenebisstearic acid amide, as the ester system, butyl stearate, stearic acid Examples of acid monoglycerides, stearyl stearate, and higher alcohols include stearyl alcohol, and examples of higher fatty acid metal salts include calcium stearate, zinc stearate, and magnesium stearate.

着色剤としては、ベンガラ、カーボンブラック、ガラス組成物等の無機系着色剤やフタロシアニン系化合物、アントラキノン系、メチン系、インジゴイド系、アゾ系の有機化合物の色素がいずれも使用可能であるが、着色効果に優れることからカーボンブラックが好ましい。   As the colorant, inorganic colorants such as bengara, carbon black, glass compositions, and phthalocyanine-based compounds, anthraquinone-based, methine-based, indigoid-based, and azo-based organic compound pigments can be used. Carbon black is preferred because of its excellent effect.

低応力化剤(応力緩和剤)としては、特に制限はなく、例えば、シリコーンオイル、液状ゴム、ゴム粉末、熱可塑性樹脂等のアクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレン共重合体などのブタジエン系共重合体ゴムやシリコーン系化合物に記載されたもの等が挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a low stress agent (stress relaxation agent), For example, silicone oil, liquid rubber, rubber powder, a methyl acrylate-butadiene-styrene copolymer, such as a thermoplastic resin, methyl methacrylate-butadiene- Examples include butadiene copolymer rubbers such as styrene copolymers and those described in silicone compounds.

さらに、耐湿信頼性テストにおける信頼性向上を目的として、ハイドロタルサイト類や、水酸化ビスマスなどのイオントラップ剤を配合してもよい。密着性向上剤としては、特に制限はなく、例えば、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルファンアミド、N−オキシジエチレン−2−ベンゾチアゾリルスルファンアミド、N,N−ジシクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルファンアミド、N−t−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルファンアミド、ベンゾチアゾール骨格を有する化合物、インデン樹脂、架橋したジアリルフタレート樹脂粉末およびブタジエン系ゴム粒子等が挙げられる。   Further, hydrotalcites and ion trapping agents such as bismuth hydroxide may be blended for the purpose of improving the reliability in the moisture resistance reliability test. The adhesion improver is not particularly limited, and examples thereof include N-cyclohexyl-2-benzothiazolylsulfanamide, N-oxydiethylene-2-benzothiazolylsulfanamide, N, N-dicyclohexyl-2-benzo Examples thereof include thiazolylsulfanamide, Nt-butyl-2-benzothiazolylsulfanamide, a compound having a benzothiazole skeleton, an indene resin, a crosslinked diallyl phthalate resin powder, and butadiene rubber particles.

界面活性剤としては、例えば、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等が挙げられる。   Examples of the surfactant include polyethylene glycol fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, fatty acid monoglyceride and the like.

本発明の半導体封止材料は、各種原材料を均一に分散混合できるのであればいかなる手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練した後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化すると使いやすい。   The semiconductor encapsulating material of the present invention can be prepared by any method as long as various raw materials can be uniformly dispersed and mixed. As a general method, however, a predetermined amount of raw materials are sufficiently mixed by a mixer or the like. And a method of cooling and pulverizing after melt-kneading with a mixing roll, an extruder or the like. It is easy to use if it is tableted with dimensions and mass that match the molding conditions.

本発明で得られる半導体封止材料により封止した素子を備えた電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の半導体封止材料で封止した電子部品装置などが挙げられる。このような電子部品装置としては、具体的には、1)リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明の半導体封止材料を用いてトランスファー成形等により封止してなる、DIP、PLCC、QFP、SOP、SOJ、TSOP、TQFP等の一般的な樹脂封止型IC、2)テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明の半導体封止材料で封止したTCP、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、3)トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明の半導体封止材料で封止したCOBモジュール、4)ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、マザーボード接続用の端子を形成したインターポーザ基板に半導体チップを搭載し、バンプまたはワイヤボンディングにより半導体チップとインターポーザ基板に形成された配線を接続した後、本発明の半導体封止材料で半導体チップ搭載側を封止したBGA、CSP、MCPなどの片面封止パッケージが挙げられる。なかでも本発明で得られる半導体封止材料で封止した素子を備えた片面封止型パッケージは反り量が小さいという特徴を有する。   As an electronic component device including an element sealed with a semiconductor sealing material obtained in the present invention, a lead frame, a wired tape carrier, a wiring board, glass, a support member such as glass, a silicon wafer, a semiconductor chip, a transistor, Examples include an electronic component device in which active elements such as diodes and thyristors, and passive elements such as capacitors, resistors, and coils are mounted and necessary portions are sealed with the semiconductor sealing material of the present invention. As such an electronic component device, specifically, 1) a semiconductor element is fixed on a lead frame, a terminal part of an element such as a bonding pad and a lead part are connected by wire bonding or bump, DIP, PLCC, QFP, SOP, SOJ, TSOP, TQFP, and other general resin-encapsulated ICs that are encapsulated by transfer molding using a semiconductor encapsulation material, and 2) connected to the tape carrier by bumps A semiconductor chip in which a semiconductor chip is sealed with a semiconductor sealing material of the present invention, a wiring formed on a wiring board or glass by wire bonding, flip chip bonding, solder, or the like. 3) Transistor, diode, thyristor Active elements such as capacitors or passive elements such as capacitors, resistors, and coils are sealed with the semiconductor sealing material of the present invention. OB module, 4) A semiconductor chip is mounted on an interposer substrate on which terminals for connecting a hybrid IC, a multi-chip module, and a mother board are formed, and after connecting the semiconductor chip and the wiring formed on the interposer substrate by bump or wire bonding, One-side sealed packages such as BGA, CSP, MCP, etc., in which the semiconductor chip mounting side is sealed with the semiconductor sealing material of the invention, can be mentioned. Among these, a single-side sealed package including an element sealed with a semiconductor sealing material obtained by the present invention has a feature that the amount of warpage is small.

上記リードフレームとしては、銅(銅合金も含む)のリードレーム、銅板等の表面にメッキ等の方法でNi層を形成しているNiメッキしたリードフレーム 、42アロイ製のリードレームを使用することができる。   As the lead frame, a copper (including copper alloy) lead frame, a Ni-plated lead frame in which a Ni layer is formed on the surface of a copper plate or the like by a method such as plating, or a 42 alloy lead frame should be used. Can do.

本発明の半導体封止材料を用いて素子を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。   As a method for sealing an element using the semiconductor sealing material of the present invention, a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method, a compression molding method, or the like may be used.

次に、本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)をプリント回路基板用組成物に加工するには、例えばプリプレグ用樹脂組成物とすることができる。該エポキシ樹脂組成物の粘度によっては無溶媒で用いることもできるが、有機溶剤を用いてワニス化することでプリプレグ用樹脂組成物とすることが好ましい。前記有機溶剤としては、メチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド等の沸点が160℃以下の極性溶剤を用いることが好ましく、単独でも2種以上の混合溶剤としても使用することができる。得られた該ワニスを、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などの各種補強基材に含浸し、用いた溶剤種に応じた加熱温度、好ましくは50〜170℃で加熱することによって、硬化物であるプリプレグを得ることができる。ここで用いるエポキシ樹脂組成物(又はII)と補強基材の質量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20〜60質量%となるように調製することが好ましい。また該エポキシ樹脂組成物を用いて銅張り積層板を製造する場合は、上記のようにして得られたプリプレグを積層し、適宜銅箔を重ねて、1〜10MPaの加圧下に170〜250℃で10分〜3時間、加熱圧着させることにより、銅張り積層板を得ることができる。 Next, in order to process the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention into a printed circuit board composition, for example, a resin composition for prepreg can be obtained. Although it can be used without a solvent depending on the viscosity of the epoxy resin composition, it is preferable to obtain a resin composition for prepreg by varnishing using an organic solvent. As the organic solvent, it is preferable to use a polar solvent having a boiling point of 160 ° C. or lower such as methyl ethyl ketone, acetone, dimethylformamide, etc., and it can be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds. The obtained varnish is impregnated into various reinforcing substrates such as paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat, and glass roving cloth, and the heating temperature according to the solvent type used, preferably 50 By heating at ˜170 ° C., a prepreg that is a cured product can be obtained. Although it does not specifically limit as a mass ratio of the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) used here and a reinforcement base material, Usually, it prepares so that the resin content in a prepreg may be 20-60 mass%. preferable. Moreover, when manufacturing a copper clad laminated board using this epoxy resin composition, the prepreg obtained as mentioned above is laminated | stacked, copper foil is laminated | stacked suitably, 170-250 degreeC under the pressure of 1-10 MPa. A copper-clad laminate can be obtained by heating and pressure bonding for 10 minutes to 3 hours.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)をレジストインキとして使用する場合には、常法によりレジストインキ用組成物とした後、スクリーン印刷方式にてプリント基板上に塗布した後、レジストインキ硬化物とする方法が挙げられる。 When the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention is used as a resist ink, a resist ink composition is prepared by a conventional method, and then applied to a printed circuit board by a screen printing method. The method of using an ink cured product is mentioned.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)を導電ペーストとして使用する場合には、微細導電性粒子を該樹脂組成物中に分散させ異方性導電膜用組成物とする方法、室温で液状である回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とする方法が挙げられる。 When using the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of the present invention as a conductive paste, a method of dispersing fine conductive particles in the resin composition to obtain a composition for anisotropic conductive film, room temperature And a liquid paste resin composition for circuit connection and an anisotropic conductive adhesive.

本発明のエポキシ樹脂組成物(又はII)からビルドアップ基板用層間絶縁材料を得る方法としては特に限定されないが、具体的には、ゴム、フィラーなどを適宜配合した当該硬化性樹脂組成物を、回路を形成した配線基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって、凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する。前記めっき方法としては、無電解めっき、電解めっき処理が好ましく、また前記粗化剤としては酸化剤、アルカリ、有機溶剤等が挙げられる。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成することにより、ビルドアップ基盤を得ることができる。但し、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170〜250℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。 Although it does not specifically limit as a method of obtaining the interlayer insulation material for buildup boards from the epoxy resin composition ( I ) or ( II ) of this invention, Specifically, the said curable resin composition which mix | blended rubber | gum, a filler, etc. suitably. An object is applied to a wiring board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, or the like, and then cured. Then, after drilling a predetermined through-hole part etc. as needed, it treats with a roughening agent, forms the unevenness | corrugation by washing the surface with hot water, and metal-treats, such as copper. As the plating method, electroless plating or electrolytic plating treatment is preferable, and examples of the roughening agent include an oxidizing agent, an alkali, and an organic solvent. Such operations are sequentially repeated as desired, and a build-up base can be obtained by alternately building up and forming the resin insulating layer and the conductor layer having a predetermined circuit pattern. However, the through-hole portion is formed after the outermost resin insulating layer is formed. In addition, a resin-coated copper foil obtained by semi-curing the resin composition on the copper foil is thermocompression-bonded at 170 to 250 ° C. on a circuit board on which a circuit is formed, thereby forming a roughened surface and plating treatment. It is also possible to produce a build-up substrate by omitting the process.

本発明の硬化物を得る方法としては、一般的なエポキシ樹脂組成物の硬化方法に準拠すればよく、例えば加熱温度条件は、組み合わせる硬化剤の種類や用途等によって、適宜選択すればよい。例えば、上記方法によって得られた組成物を、室温〜250℃程度の温度範囲で加熱する方法が挙げられる。成形方法などもエポキシ樹脂組成物の一般的な方法を用いることができる。   The method for obtaining the cured product of the present invention may be based on a general method for curing an epoxy resin composition. For example, the heating temperature condition may be appropriately selected depending on the type and application of the curing agent to be combined. For example, the method of heating the composition obtained by the said method in the temperature range of about room temperature-250 degreeC is mentioned. A general method of the epoxy resin composition can also be used as the molding method.

本発明のエポキシ樹脂組成物(I)又はII)にイオントラップ剤(イオン交換体,イオン捕捉剤)配合することができる。イオントラップ剤としては、例えば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマスから選ばれる元素の含水酸化物等が挙げられる。イオントラップ剤の配合量は、ハロゲンイオンなどの陰イオンを捕捉できる十分量であれば特に制限はないが、流動性及び曲げ強度の観点から(A)エポキシ樹脂に対して0.1〜30質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましく、1〜5質量%がさらに好ましい。 An ion trap agent (ion exchanger, ion scavenger) can be blended in the epoxy resin composition (I) or ( II ) of the present invention. Examples of the ion trapping agent include hydrotalcites and hydrated oxides of elements selected from magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth. The amount of the ion trapping agent is not particularly limited as long as it is a sufficient amount capable of trapping anions such as halogen ions, but from the viewpoint of fluidity and bending strength, 0.1 to 30 mass with respect to (A) the epoxy resin. % Is preferable, 0.5 to 10% by mass is more preferable, and 1 to 5% by mass is more preferable.

次に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、以下において「部」及び「%」は特に断わりのない限り質量基準である。尚、150℃における溶融粘度及びGPC測定、NMR、MSスペクトルは以下の条件にて測定した。
1)150℃における溶融粘度:ASTM D4287に準拠
2)軟化点測定法:JIS K7234
3)GPC:
・装置:東ソー株式会社製 HLC−8220 GPC、カラム:東ソー株式会社製 TSK−GEL G2000HXL+G2000HXL+G3000HXL+G4000HXL
・溶媒:テトラヒドロフラン
・流速:1ml/min
・検出器:RI
4)NMR:日本電子株式会社製 NMR GSAR270
5)MS :日本電子株式会社製 二重収束型質量分析装置 AX505H(FD505H)
Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. In the following, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified. The melt viscosity at 150 ° C., GPC measurement, NMR, and MS spectrum were measured under the following conditions.
1) Melt viscosity at 150 ° C .: in accordance with ASTM D4287 2) Softening point measurement method: JIS K7234
3) GPC:
・ Device: HLC-8220 GPC manufactured by Tosoh Corporation, Column: TSK-GEL G2000HXL + G2000HXL + G3000HXL + G4000HXL manufactured by Tosoh Corporation
・ Solvent: Tetrahydrofuran ・ Flow rate: 1 ml / min
・ Detector: RI
4) NMR: NMR GSAR270 manufactured by JEOL Ltd.
5) MS: Double Density Mass Spectrometer AX505H (FD505H) manufactured by JEOL Ltd.

実施例1 〔多価ヒドロキシ化合物(−1)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール376.4g(4.00モル)とチオアニソール248.38g(2.00モル)とシュウ酸7.2gを仕込み70℃に昇温した。70℃から100℃まで60分で昇温しながら、92%パラホルム 90.1g(ホルムアルデヒド単位で2.76モル)を5分割添加した。添加後100℃で1時間反応させ、60分で150℃まで昇温し、更に1時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン700gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 1 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound ( B- 1)]
A flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, and stirrer was charged with 376.4 g (4.00 mol) of phenol, 248.38 g (2.00 mol) of thioanisole, and 7.2 g of oxalic acid at 70 ° C. The temperature was raised to. While increasing the temperature from 70 ° C. to 100 ° C. in 60 minutes, 90.1 g of 92% paraform (2.76 mol in terms of formaldehyde) was added in 5 portions. After the addition, the mixture was reacted at 100 ° C. for 1 hour, heated to 150 ° C. in 60 minutes, and further reacted for 1 hour. After completion of the reaction, 700 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309
で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−1)328gを得た。これの軟化点は83℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は3.1dPa・s、水酸基当量は115g/eq.であった。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基当量の測定結果から、化合物中における前記一般式(1’)で表される構造単位と前記一般式(2’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=95/5であった。
Figure 0005354309
328 g of a polyvalent hydroxy compound (B-1) having a structural unit represented by The softening point is 83 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 3.1 dPa · s, and the hydroxyl equivalent is 115 g / eq. Met. From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole and the measurement results of the hydroxyl equivalent of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula (1 ′) in the compound and the general The molar ratio with the structural unit represented by the formula (2 ′) was the former / the latter = 95/5.

実施例2 〔多価ヒドロキシ化合物(B−2)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール188.2g(2.00モル)とチオアニソール124.2g(1.00モル)と92%パラホルムアルデヒド49.0g(ホルムアルデヒド単位で1.50モル)を仕込み、シュウ酸7.2gを加えて、100℃まで1時間で昇温した。昇温後100℃で1時間反応、更に150℃で1時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン500gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 2 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (B-2)]
In a flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, and stirrer, 188.2 g (2.00 mol) of phenol, 124.2 g (1.00 mol) of thioanisole, and 49.0 g of 92% paraformaldehyde (formaldehyde) 1.50 mol) was charged, 7.2 g of oxalic acid was added, and the temperature was raised to 100 ° C. over 1 hour. After raising the temperature, the reaction was carried out at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, 500 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−2)160gを得た。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基の測定結果から、化合物中における前記一般式(1’)で表される構造単位と前記一般式(2’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=95/5であった。これの軟化点は78℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は2.1dPa・s、水酸基当量は114g/eq.であった。これのGPCチャートを図1に、13C−NMRチャートを図2に、MSスペクトルを図3に示す。 160 g of a polyvalent hydroxy compound (B-2) having a structural unit represented by From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole, and the measurement results of the hydroxyl group of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula ( 1 ′ ) in the compound and the general formula The molar ratio with the structural unit represented by ( 2 ′ ) was the former / the latter = 95/5. The softening point is 78 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 2.1 dPa · s, and the hydroxyl equivalent is 114 g / eq. Met. FIG. 1 shows the GPC chart, FIG. 2 shows the 13 C-NMR chart, and FIG. 3 shows the MS spectrum.

実施例3 〔多価ヒドロキシ化合物(B−3)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール564.7g(6.00モル)とチオアニソール372.6g(3.00モル)と92%パラホルムアルデヒド97.9g(ホルムアルデヒド単位で3.00モル)を仕込み、シュウ酸20.7gを加えて、100℃まで1時間で昇温した。昇温後100℃で1時間反応、更に150℃で1時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン500gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 3 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (B-3)]
In a flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, and stirrer, 564.7 g (6.00 mol) of phenol, 372.6 g (3.00 mol) of thioanisole, and 97.9 g of 92% paraformaldehyde (formaldehyde) 3.00 mol) was added, 20.7 g of oxalic acid was added, and the temperature was raised to 100 ° C. over 1 hour. After raising the temperature, the reaction was carried out at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, 500 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−3)332gを得た。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基の測定結果から、化合物中における前記一般式(1’)で表される構造単位と前記一般式(2’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=96/4であった。これの軟化点は61℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は0.5dPa・s、水酸基当量は107g/eq.であった。これのGPCチャートを図4に示す。
Figure 0005354309

332 g of a polyvalent hydroxy compound (B-3) having a structural unit represented by From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole, and the measurement results of the hydroxyl group of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula ( 1 ′ ) in the compound and the general formula The molar ratio with the structural unit represented by ( 2 ′ ) was the former / the latter = 96/4. The softening point thereof is 61 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 0.5 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent is 107 g / eq. Met. A GPC chart of this is shown in FIG.

実施例4 〔多価ヒドロキシ化合物(B−4)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール94.1g(1.00モル)とチオアニソール248.4g(2.00モル)と92%パラホルムアルデヒド49.0g(ホルムアルデヒド単位で1.50モル)を仕込み、シュウ酸7.8gを加えて、100℃まで1時間で昇温した。昇温後100℃で1時間反応、更に150℃で1時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン300gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 4 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (B-4)]
In a flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, and stirrer, 94.1 g (1.00 mol) of phenol, 248.4 g (2.00 mol) of thioanisole, and 49.0 g of 92% paraformaldehyde (formaldehyde) 1.50 mol) was charged, 7.8 g of oxalic acid was added, and the temperature was raised to 100 ° C. over 1 hour. After raising the temperature, the reaction was carried out at 100 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, 300 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−4)110gを得た。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基の測定結果から、化合物中における前記一般式(1’)で表される構造単位と前記一般式(2’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=89/11であった。これの軟化点は58℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は1.0dPa・s、水酸基当量は124g/eq.であった。これのGPCチャートを図5に示す。
Figure 0005354309

110 g of a polyvalent hydroxy compound (B-4) having a structural unit represented by From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole, and the measurement results of the hydroxyl group of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula (1 ′) in the compound and the general formula The molar ratio with the structural unit represented by (2 ′) was the former / the latter = 89/11. The softening point was 58 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) was 1.0 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent was 124 g / eq. Met. A GPC chart of this is shown in FIG.

実施例5 〔多価ヒドロキシ化合物(B−5)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、窒素ガス導入管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール314.3g(3.34モル)とチオアニソール206.2g(1.66モル)とパラキシレンジメトキサイド332.4g(ホルムアルデヒド単位で2.00モル)を仕込み、トルエンスルホン酸8.5g(0.045モル)を加えて、150℃まで昇温した後に、副生するメタノールを分留管で捕集しながら6時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン5000gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 5 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (B-5)]
In a flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, nitrogen gas inlet, and stirrer, 314.3 g (3.34 mol) of phenol, 206.2 g (1.66 mol) of thioanisole and paraxylene dimethoxy were added. After charging 332.4 g of side (2.00 mol in terms of formaldehyde), adding 8.5 g (0.045 mol) of toluenesulfonic acid, raising the temperature to 150 ° C., and collecting methanol as a by-product with a fractionating tube. The reaction was performed for 6 hours while collecting. After completion of the reaction, 5000 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309
で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−5)397gを得た。これの軟化点は68℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は1.9dPa・s、水酸基当量は204g/eq.であった。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基当量の測定結果から、化合物中における前記一般式(3’)で表される構造単位と前記一般式(4’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=88/12であった。
Figure 0005354309
397 g of a polyvalent hydroxy compound (B-5) having a structural unit represented by Its softening point is 68 ° C. (B & R method), melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 1.9 dPa · s, and hydroxyl equivalent is 204 g / eq. Met. From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole, and the measurement results of the hydroxyl equivalent of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula (3 ′) in the compound and the general formula The molar ratio with the structural unit represented by the formula (4 ′) was the former / the latter = 88/12.

実施例6 〔多価ヒドロキシ化合物(B−6)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、窒素ガス導入管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール157.2g(1.67モル)とチオアニソール103.08g(0.83モル)とパラキシレンジメトキサイド166.2g(1.00モル)を仕込み、トルエンスルホン酸4.3g(0.023モル)を加えて、150℃まで昇温した後に、副生するメタノールを分留管で捕集しながら6時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン1500gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 6 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (B-6)]
A flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, nitrogen gas inlet, and stirrer was charged with 157.2 g (1.67 mol) of phenol, 103.08 g (0.83 mol) of thioanisole and paraxylene dimethoxy. 166.2 g (1.00 mol) of side was added, 4.3 g (0.023 mol) of toluenesulfonic acid was added, the temperature was raised to 150 ° C., and methanol produced as a by-product was collected with a fractionating tube. The reaction was performed for 6 hours. After completion of the reaction, 1500 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−6)198gを得た。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基の測定結果から、化合物中における前記一般式(3’)で表される構造単位と前記一般式(4’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=88/12であった。これの軟化点は67℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は1.8dPa・s、水酸基当量は212g/eq.であった。これのGPCチャートを図に、C13 NMRチャートを図に、MSスペクトルを図に示す。チオエーテル基の残存は、NMRにおける15ppmに観測されるチオエーテル基のシグナル、及び水酸基当量から化合物中のチオエーテル基は分解していないことを確認した。 198 g of a polyvalent hydroxy compound (B-6) having a structural unit represented by the formula: From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole, and the measurement results of the hydroxyl group of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula (3 ′) in the compound and the general formula The molar ratio with the structural unit represented by (4 ′) was the former / the latter = 88/12. The softening point thereof is 67 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 1.8 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent is 212 g / eq. Met. FIG. 6 shows the GPC chart, FIG. 7 shows the C 13 NMR chart, and FIG. 8 shows the MS spectrum. The residual thioether group confirmed that the thioether group in the compound was not decomposed from the signal of the thioether group observed at 15 ppm in NMR and the hydroxyl group equivalent.

実施例7 〔多価ヒドロキシ化合物(B−7)の合成〕
温度計、冷却管、分留管、窒素ガス導入管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール141.2g(1.50モル)とチオアニソール186.3g(1.50モル)とパラキシレンジメトキサイド166.2g(1.00モル)を仕込み、トルエンスルホン酸4.9g(0.023モル)を加えて、150℃まで昇温した後に、副生するメタノールを分留管で捕集しながら6時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン1500gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノールとチオアニソール、及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Example 7 [Synthesis of polyvalent hydroxy compound (B-7)]
A flask equipped with a thermometer, a condenser tube, a fractionating tube, a nitrogen gas inlet tube, and a stirrer was charged with 141.2 g (1.50 mol) of phenol, 186.3 g (1.50 mol) of thioanisole and paraxylene dimethoxy. 166.2 g (1.00 mol) of side was added, 4.9 g (0.023 mol) of toluenesulfonic acid was added, the temperature was raised to 150 ° C., and methanol produced as a by-product was collected with a fractionating tube. The reaction was performed for 6 hours. After completion of the reaction, 1500 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol, thioanisole, and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B−7)209gを得た。回収した未反応のフェノール及びチオアニソールの質量測定の結果、及び得られた多価ヒドロキシ化合物の水酸基の測定結果から、化合物中における前記一般式(3’)で表される構造単位と前記一般式(4’)で表される構造単位とのモル比率は、前者/後者=80/20であった。これの軟化点は70℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は2.0dPa・s、水酸基当量は252g/eq.であった。これのGPCチャートを図9に示す。 209 g of a polyvalent hydroxy compound (B-7) having a structural unit represented by From the results of mass measurement of the recovered unreacted phenol and thioanisole, and the measurement results of the hydroxyl group of the obtained polyvalent hydroxy compound, the structural unit represented by the general formula (3 ′) in the compound and the general formula The molar ratio with the structural unit represented by (4 ′) was the former / the latter = 80/20. The softening point is 70 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 2.0 dPa · s, and the hydroxyl equivalent is 252 g / eq. Met. A GPC chart of this is shown in FIG.

合成例1
特開2004−244526号公報の実施例1に準拠し、下記の構造式
Synthesis example 1
In accordance with Example 1 of JP 2004-244526 A, the following structural formula

Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B’−1)を得た。これの軟化点は75℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法,測定温度:150℃)は2.6dPa・s、水酸基当量は153g/eq.であった。
Figure 0005354309

The polyvalent hydroxy compound (B'-1) which has a structural unit represented by this was obtained. The softening point is 75 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 2.6 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent is 153 g / eq. Met.

合成例2
特開2004−339277号公報の実施例1に準拠し、下記の構造式
Synthesis example 2
In accordance with Example 1 of JP 2004-339277 A, the following structural formula

Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B’−2)を得た。これの軟化点は92℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法,測定温度:150℃)は3.4dPa・s、水酸基当量は173g/eq.であった。
Figure 0005354309

The polyvalent hydroxy compound (B'-2) which has a structural unit represented by this was obtained. The softening point is 92 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 3.4 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent is 173 g / eq. Met.

合成例3
温度計、滴下ロート、冷却管、撹拌機を取り付けたフラスコに、窒素ガスパージを施しながら、三井化学株式会社製ミレックスXLC−4L168部、エピクロルヒドリン463g(5.0モル)、n−ブタノール139g、テトラエチルベンジルアンモニウムクロライド2gを仕込み溶解させた。65℃に昇温した後、共沸する圧力まで減圧して、49%水酸化ナトリウム水溶液90g(1.1モル)を5時間かけて滴下した。その後、同条件で0.5時間撹拌を続けた。この間、共沸によって留出してきた留出分をディーンスタークトラップで分離し、水層を除去し、油層を反応系内に戻しながら、反応を行った。その後、未反応のエピクロルヒドリンを減圧蒸留によって留去させた。それで得られた粗エポキシ樹脂にメチルイソブチルケトン590gとn−ブタノール177gとを加え溶解した。更にこの溶液に10%水酸化ナトリウム水溶液10gを添加して80℃で2時間反応させた後に洗浄液のPHが中性となるまで水150gで水洗を3回繰り返した。次いで共沸によって系内を脱水し、精密濾過を経た後に、溶媒を減圧下で留去して、下記構造式
Synthesis example 3
While subjecting a flask equipped with a thermometer, a dropping funnel, a condenser, and a stirrer to nitrogen gas purge, Mitsui Chemicals Co., Ltd. Millex XLC-4L168 parts, epichlorohydrin 463 g (5.0 mol), n-butanol 139 g, tetraethylbenzyl 2 g of ammonium chloride was charged and dissolved. After raising the temperature to 65 ° C., the pressure was reduced to an azeotropic pressure, and 90 g (1.1 mol) of a 49% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise over 5 hours. Thereafter, stirring was continued for 0.5 hours under the same conditions. During this time, the distillate distilled by azeotropic distillation was separated with a Dean-Stark trap, the water layer was removed, and the reaction was carried out while returning the oil layer to the reaction system. Thereafter, unreacted epichlorohydrin was distilled off under reduced pressure. 590 g of methyl isobutyl ketone and 177 g of n-butanol were added to the crude epoxy resin thus obtained and dissolved. Further, 10 g of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added to this solution and reacted at 80 ° C. for 2 hours, and then washing with water 150 g was repeated three times until the pH of the washing solution became neutral. Next, the system was dehydrated by azeotropic distillation, and after passing through microfiltration, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the following structural formula.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有するエポキシ樹脂(A−1)を得た。該エポキシ樹脂のエポキシ当量は241g/eqであった。 The epoxy resin ( A-1 ) which has a structural unit represented by this was obtained. The epoxy equivalent of the epoxy resin was 241 g / eq.

合成例4
温度計、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、フェノール470.5g(5.0モル)と4,4’−ビス(メトキシメチル)ビフェニル242.3を仕込み、パラトルエンスルホン酸2.5gを加えて、140℃まで昇温した後に、副生するメタノールを分留管で捕集しながら3時間反応させた。反応終了後、更にメチルイソブチルケトン1500gを加え、分液ロートに移し水洗した。次いで洗浄水が中性を示すまで水洗後、有機層から未反応のフェノール及びメチルイソブチルケトンを加熱減圧下に除去し、下記構造式
Synthesis example 4
A flask equipped with a thermometer, condenser, fractionator, and stirrer was charged with 470.5 g (5.0 mol) of phenol and 242.3 of 4,4′-bis (methoxymethyl) biphenyl, and paratoluenesulfonic acid. After 2.5 g was added and the temperature was raised to 140 ° C., the reaction was carried out for 3 hours while collecting by-product methanol with a fractionating tube. After completion of the reaction, 1500 g of methyl isobutyl ketone was further added, transferred to a separatory funnel and washed with water. Next, after washing with water until the washing water shows neutrality, unreacted phenol and methyl isobutyl ketone are removed from the organic layer under heating and reduced pressure, and the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B’−3)360gを得た。これの軟化点は61℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法,測定温度:150℃)は1.0dPa・s、水酸基当量は200g/eq.であった。 360 g of a polyvalent hydroxy compound (B′-3) having a structural unit represented by The softening point thereof is 61 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 1.0 dPa · s, and the hydroxyl equivalent is 200 g / eq. Met.

合成例5
特開平8-301980号公報の実施例1に準拠し、下記構造式
Synthesis example 5
In accordance with Example 1 of JP-A-8-301980, the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B’−4)を得た。これの軟化点は84℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法,測定温度:150℃)は4.4dPa・s、水酸基当量は252g/eq.であった。 The polyvalent hydroxy compound (B'-4) which has a structural unit represented by this was obtained. The softening point thereof is 84 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 4.4 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent is 252 g / eq. Met.

合成例6
特開平8−301980号公報の実施例4に準拠し、下記構造式
Synthesis Example 6
In accordance with Example 4 of JP-A-8-301980, the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B’−5)を得た。これの軟化点は100℃(B&R法)、溶融粘度(測定法:ICI粘度計法、測定温度:150℃)は19dPa・s、水酸基当量は249g/eq.であった。 The polyvalent hydroxy compound (B'-5) which has a structural unit represented by this was obtained. The softening point is 100 ° C. (B & R method), the melt viscosity (measurement method: ICI viscometer method, measurement temperature: 150 ° C.) is 19 dPa · s, and the hydroxyl group equivalent is 249 g / eq. Met.

合成例7
特開平8−301980号公報の実施例1及び実施例7に準拠し、下記構造式
Synthesis example 7
In accordance with Example 1 and Example 7 of JP-A-8-301980, the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有するエポキシ樹脂(A−2)を得た。これの軟化点は61℃(B&R法)、エポキシ当量は324g/eq.であった。 The epoxy resin ( A-2 ) which has a structural unit represented by this was obtained. The softening point of this was 61 ° C. (B & R method), and the epoxy equivalent was 324 g / eq. Met.

合成例8
特開平8−301980号公報の実施例4及び実施例10に準拠し、下記構造式
Synthesis example 8
In accordance with Example 4 and Example 10 of JP-A-8-301980, the following structural formula

Figure 0005354309
Figure 0005354309

で表される構造単位を有するエポキシ樹脂(A−3)を得た。これの軟化点は79℃(B&R法)、エポキシ当量は421g/eq.であった。 The epoxy resin ( A-3 ) which has a structural unit represented by this was obtained. The softening point is 79 ° C. (B & R method), and the epoxy equivalent is 421 g / eq. Met.

比較例1、2
ポキシ樹脂として特許文献1、実施例1に記載されているものと同一の構造を有する日本化薬株式会社製NC−3000(ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量:274g/eq)、硬化剤(B)として三井化学株式会社製XLC−3L(フェノールアラルキル樹脂、水酸基当量:176g/eq)、明和化成株式会社製MEH−7851SS(ビフェニルノボラック樹脂,水酸基当量:200g/eq)を用い、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)、難燃剤として縮合燐酸エステル(大八化学工業株式会社製PX−200)、水酸化マグネシウム(エア・ウォーター株式会社製エコーマグZ−10)、無機充填材として球状シリカ(株式会社マイクロン製S−COL)、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシトリエトキシキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−403)、カルナウバワックス(株式会社セラリカ野田製PEARL WAX No.1−P)、カーボンブラックを用いて表1に示した組成で配合し、2本ロールを用いて85℃の温度で5分間溶融混練して目的の組成物を得た。硬化物の物性は、上記組成物を用いて、評価用サンプルを下記の方法で作成し、難燃性、硬化性(ゲルタイム)、ガラス転移温度を下記の方法で測定し結果を表1に示した。
Comparative Examples 1 and 2
Patent Document 1 as a d epoxy resin, examples Nippon Kayaku Co., Ltd. NC-3000 having the same structure as those described in 1 (a biphenyl aralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent: 274 g / eq), a curing agent ( B) and to Mitsui chemical Co., Ltd. XLC-3L (phenol aralkyl resin, hydroxyl equivalent: 176 g / eq), Meiwa Kasei Co., Ltd. MEH-7851SS (biphenyl novolac resin, hydroxyl equivalent: 200 g / eq) using the curing Triphenylphosphine (TPP) as an accelerator, condensed phosphate ester (PX-200 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.), magnesium hydroxide (Echo Mug Z-10 manufactured by Air Water Co., Ltd.), spherical as an inorganic filler Silica (S-COL manufactured by Micron Corporation), γ- as silane coupling agent Compounded in the composition shown in Table 1 using lysidoxytriethoxyxysilane (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), carnauba wax (PEARL WAX No.1-P manufactured by Celarica Noda Co., Ltd.), carbon black, It melt-kneaded for 5 minutes at the temperature of 85 degreeC using 2 rolls, and obtained the target composition. The physical properties of the cured product were prepared by using the above composition to prepare a sample for evaluation by the following method, measuring flame retardancy, curability (gel time), and glass transition temperature by the following method, and the results are shown in Table 1. It was.

硬化性(ゲルタイム)
エポキシ樹脂組成物0.15gを150℃に加熱したキュアプレート(THERMO ELECTRIC社製)上に載せ、ストップウォッチで計時を開始する。棒の先端にて試料を均一に攪拌し、糸状に試料が切れてプレートに残るようになった時、ストップウォッチを止める。この試料が切れてプレートに残るようになるまでの時間をゲルタイムとした。
Curability (gel time)
0.15 g of the epoxy resin composition is placed on a cure plate (made by THERMO ELECTRIC) heated to 150 ° C., and time measurement is started with a stopwatch. Stir the sample evenly with the tip of the rod and stop the stopwatch when the sample breaks into a string and remains on the plate. The time until this sample was cut and remained on the plate was defined as the gel time.

ガラス転移温度
粘弾性測定装置(レオメトリック社製固体粘弾性測定装置RSAII、二重カレンチレバー法;周波数1Hz、昇温速度3℃/min)を用いて測定した。
Glass transition temperature Viscoelasticity was measured using a viscoelasticity measuring device (solid viscoelasticity measuring device RSAII manufactured by Rheometric Co., Ltd., double currant lever method; frequency 1 Hz, temperature rising rate 3 ° C./min).

難燃性
幅12.7mm、長さ127mm、厚み1.6mmの評価用サンプルを、トランスファー成形機を用い175℃の温度で90秒成形した後、175℃の温度で5時間後硬化して作成した。作成した試験片を用いUL−94試験法に準拠し、厚さ1.6mmの試験片5本を用いて、燃焼試験を行った。





















Flame Retardancy Create a sample for evaluation with a width of 12.7mm, a length of 127mm, and a thickness of 1.6mm by molding for 90 seconds at a temperature of 175 ° C using a transfer molding machine and then post-curing at a temperature of 175 ° C for 5 hours. did. A combustion test was performed using five test pieces having a thickness of 1.6 mm in accordance with the UL-94 test method using the prepared test pieces.





















Figure 0005354309
Figure 0005354309

表1の脚注:
*1:1回の接炎における最大燃焼時間(秒)
*2:試験片5本の合計燃焼時間(秒)
Footnotes in Table 1:
* 1: Maximum combustion time (seconds) in one flame contact
* 2: Total burning time of 5 test pieces (seconds)

実施例13と比較例3、4
エポキシ樹脂として上記A−1及び、日本化薬株式会社製NC−3000(ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量:274g/eq)、多価フェノール化合物として(B−2)〜(B−4)、比較用の硬化剤として(B’−1)〜(B’−2)を用い、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)、難燃剤として縮合燐酸エステル(大八化学工業株式会社製PX−200)、水酸化マグネシウム(エア・ウォーター株式会社製エコーマグZ−10)、無機充填材として球状シリカ(株式会社マイクロン製S−COL)、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシトリエトキシキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−403)、カルナウバワックス(株式会社セラリカ野田製PEARL WAX No.1−P)、カーボンブラックを用いて表1に示した組成で配合し、2本ロールを用いて85℃の温度で5分間溶融混練して目的の組成物を得た。硬化物の物性は、上記組成物を用いて、評価用サンプルを下記の方法で作成し、難燃性、硬化性(ゲルタイム)、ガラス転移温度を実施例8と同様の方法で測定し結果を表1に示した。
Examples 8 to 13 and Comparative Examples 3 and 4
The above A-1 as an epoxy resin and NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (biphenylaralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent: 274 g / eq), (B-2) to (B-4) as polyhydric phenol compounds, (B′-1) to (B′-2) were used as comparative curing agents, triphenylphosphine (TPP) as a curing accelerator, and condensed phosphate ester (PX-200 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.) as a flame retardant. ), Magnesium hydroxide (Echo Mug Z-10 manufactured by Air Water Co., Ltd.), spherical silica (S-COL manufactured by Micron Co., Ltd.) as the inorganic filler, and γ-glycidoxytriethoxyxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as the silane coupling agent. KBM-403 manufactured by Kogyo Co., Ltd., Carnauba wax (Pearl Wax No. 1-P manufactured by Celalica Noda Co., Ltd.), With over carbon black were blended in the composition shown in Table 1, to obtain the desired composition was 5 minutes melt-kneaded at a temperature of 85 ° C. using two rolls. The physical properties of the cured product were prepared by preparing a sample for evaluation by the following method using the above composition and measuring the flame retardancy, curability (gel time), and glass transition temperature in the same manner as in Example 8. It is shown in Table 1.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

表1の脚注:
*1:1回の接炎における最大燃焼時間(秒)
*2:試験片5本の合計燃焼時間(秒)
Footnotes in Table 1:
* 1: Maximum combustion time (seconds) in one flame contact
* 2: Total burning time of 5 test pieces (seconds)

較例5、6
エポキシ樹脂としてA−2〜A−3を用い、硬化剤として三井化学製XLC−3L(ザイロック樹脂、水酸基当量:176g/eq)を、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)、難燃剤として縮合燐酸エステル(大八化学工業株式会社製PX−200)、水酸化マグネシウム(エア・ウォーター株式会社製エコーマグZ−10)、無機充填材として球状シリカ(株式会社マイクロン製S−COL)、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシトリエトキシキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−403)、カルナバワックス(株式会社セラリカ野田製PEARL WAX No.1−P)、カーボンブラックを用いて表1に示した組成で配合し、2本ロールを用いて85℃の温度で5分間溶融混練して本発明のエポキシ樹脂組成物を得た。硬化物の物性は、上記組成物を用いて、評価用サンプルを下記の方法で作成し、難燃性、硬化性を下記の方法で測定した。
Ratio Comparative Examples 5 and 6
A-2 to A-3 are used as epoxy resins, XLC-3L manufactured by Mitsui Chemicals as a curing agent (Zylock resin, hydroxyl group equivalent: 176 g / eq), triphenylphosphine (TPP) as a curing accelerator, and condensation as a flame retardant. Phosphoric ester (PX-200 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.), magnesium hydroxide (Echo Mug Z-10 manufactured by Air Water Co., Ltd.), spherical silica (S-COL manufactured by Micron Co., Ltd.) as an inorganic filler, silane coupling Composition shown in Table 1 using γ-glycidoxytriethoxyxysilane (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), carnauba wax (PEARL WAX No. 1-P manufactured by Celerica Noda Co., Ltd.) and carbon black as agents. And then melted and kneaded for 5 minutes at a temperature of 85 ° C. using two rolls. A resin composition was obtained. For the physical properties of the cured product, a sample for evaluation was prepared by the following method using the above composition, and the flame retardancy and curability were measured by the following method.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

表1の脚注:
*1:1回の接炎における最大燃焼時間(秒)
*2:試験片5本の合計燃焼時間(秒)
Footnotes in Table 1:
* 1: Maximum combustion time (seconds) in one flame contact
* 2: Total burning time of 5 test pieces (seconds)

実施例1418と比較例7〜9
エポキシ樹脂として上記A−1及び、日本化薬株式会社製NC−3000(ビフェニルアラルキル型エポキシ樹脂、エポキシ当量:274g/eq)、多価ヒドロキシ化合物としてB−5〜B−6、比較用の硬化剤としてB’−3〜B’−5を用い、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)、難燃剤として縮合燐酸エステル(大八化学工業株式会社製PX−200)、水酸化マグネシウム(エア・ウォーター株式会社製エコーマグZ−10)、無機充填材として球状シリカ(株式会社マイクロン製S−COL)、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシトリエトキシキシシラン(信越化学工業株式会社製KBM−403)、カルナウバワックス(株式会社セラリカ野田製PEARL WAX No.1−P)、カーボンブラックを用いて表1に示した組成で配合し、2本ロールを用いて85℃の温度で5分間溶融混練して目的の組成物を得た。硬化物の物性は、上記組成物を用いて、評価用サンプルを下記の方法で作成し、難燃性、硬化性を下記の方法で測定し結果を表4に示した。
Comparative Example 14 to 18 cases 7-9
The above A-1 as an epoxy resin, NC-3000 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (biphenylaralkyl type epoxy resin, epoxy equivalent: 274 g / eq), B-5 to B-6 as a polyvalent hydroxy compound, and comparative curing B′-3 to B′-5 are used as agents, triphenylphosphine (TPP) as a curing accelerator, condensed phosphate ester (PX-200 manufactured by Daihachi Chemical Industry Co., Ltd.), magnesium hydroxide (air Echo Mug Z-10 manufactured by Water Co., Ltd., spherical silica (S-COL manufactured by Micron Co., Ltd.) as an inorganic filler, and γ-glycidoxytriethoxyxysilane (KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a silane coupling agent , Carnauba wax (Pearl Wax No. 1-P manufactured by Celalica Noda Co., Ltd.), carbon black Used were blended at the composition shown in Table 1, to obtain the desired composition was 5 minutes melt-kneaded at a temperature of 85 ° C. using two rolls. Regarding the physical properties of the cured product, an evaluation sample was prepared by the following method using the above composition, the flame retardancy and curability were measured by the following method, and the results are shown in Table 4.

Figure 0005354309
Figure 0005354309

表1の脚注:
*1:1回の接炎における最大燃焼時間(秒)
*2:試験片5本の合計燃焼時間(秒)





















Footnotes in Table 1:
* 1: Maximum combustion time (seconds) in one flame contact
* 2: Total burning time of 5 test pieces (seconds)





















は実施例2で得られた多価ヒドロキシ化合物のGPCチャートである。 1 is a GPC chart of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 2. FIG. は実施例2で得られた多価ヒドロキシ化合物の13C−NMRスペクトルである。FIG. 2 is a 13 C-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 2. は実施例2で得られた多価ヒドロキシ化合物のマススペクトルである。FIG. 3 is a mass spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 2. は実施例3で得られた多価ヒドロキシ化合物のGPCチャートである。 4 is a GPC chart of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 3. FIG. は実施例4で得られた多価ヒドロキシ化合物のGPCチャートである。FIG. 5 is a GPC chart of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 4. は実施例6で得られた多価ヒドロキシ化合物のGPCチャートである。 6 is a GPC chart of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 6. FIG. は実施例6で得られた多価ヒドロキシ化合物の13C−NMRスペクトルである。FIG. 7 is a 13 C-NMR spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 6. は実施例6で得られた多価ヒドロキシ化合物のマススペクトルである。FIG. 8 is a mass spectrum of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 6. は実施例7で得られた多価ヒドロキシ化合物のGPCチャートである。FIG. 9 is a GPC chart of the polyvalent hydroxy compound obtained in Example 7.

Claims (15)

1分子中に下記一般式(1)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、下記一般式(2)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B1)とエポキシ樹脂(A)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
The following general formula (1) per molecule
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, a methylene group substituted with a naphthyl group, a methylene group substituted with a biphenyl group, 9 -A methylene group substituted with a fluorenyl group, or a methylene group in which an alkyl group is further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group, and m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by the following general formula (2)
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and X 2 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, or naphthyl. A methylene group substituted with a group, a methylene group substituted with a biphenyl group, a methylene group substituted with a 9-fluorenyl group, or an alkyl group further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group A methylene group and n is 1 or 2; ]
An epoxy resin composition comprising a polyvalent hydroxy compound (B1) having a structural unit represented by formula (B1) and an epoxy resin (A).
前記多価ヒドロキシ化合物(B1)中の、前記一般式(1)における下記一般式(1’)
Figure 0005354309
(式中、Ar、mは前記一般式(1)と同義である。)
で表される構造単位と、前記一般式(2)における下記一般式(2’)
Figure 0005354309
(式中、Ar、R、nは前記一般式(2)と同義である。)
で表される構造単位とのモル比率が前者/後者=30/70〜99/1の範囲である請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
The following general formula (1 ′) in the general formula (1) in the polyvalent hydroxy compound (B1)
Figure 0005354309
(In formula, Ar < 1 >, m is synonymous with the said General formula (1).)
And the following general formula (2 ′) in the general formula (2)
Figure 0005354309
(In the formula, Ar 2 , R 1 and n have the same meanings as in the general formula (2).)
The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the molar ratio of the structural unit represented by the formula is in the range of the former / the latter = 30/70 to 99/1.
1分子中に下記一般式(3)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、下記一般式(4)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有する多価ヒドロキシ化合物(B2)とエポキシ樹脂(A)とを含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
The following general formula (3) per molecule
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Ar 3 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton in which a hydrocarbon group is substituted, and Y 1 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms And m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by the following general formula (4):
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Ar 4 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton having a hydrocarbon group substituted thereon, and Y 2 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and n is 1 or 2. ]
An epoxy resin composition comprising a polyvalent hydroxy compound (B2) having a structural unit represented by formula (B2) and an epoxy resin (A).
多価ヒドロキシ化合物(B2)中の、前記一般式(3)における下記一般式(3’)
Figure 0005354309
(式中、Ar、mは前記一般式(3)と同義である。)
で表される構造単位と、前記一般式(4)における下記一般式(4’)
Figure 0005354309
(式中、Ar、R、nは前記一般式(4)と同義である。)
で表される構造単位とのモル比率が前者/後者=30/70〜99/1の範囲である請求項3記載のエポキシ樹脂組成物。
The following general formula (3 ′) in the general formula (3) in the polyvalent hydroxy compound (B2)
Figure 0005354309
(In the formula, Ar 1 and m have the same meaning as in the general formula (3).)
And the following general formula (4 ′) in the general formula (4):
Figure 0005354309
(In the formula, Ar 2 , R 1 and n have the same meanings as in the general formula (4).)
The epoxy resin composition according to claim 3, wherein the molar ratio with the structural unit represented by the formula is in the range of the former / the latter = 30/70 to 99/1.
更に非ハロゲン系難燃剤を含有する請求項1〜4の何れか1つに記載のエポキシ樹脂組成物。 Furthermore, the epoxy resin composition as described in any one of Claims 1-4 containing a non-halogen-type flame retardant. 更に無機質充填材を含有する請求項1〜4の何れか1つに記載のエポキシ樹脂組成物からなることを特徴とする半導体封止材料。   Furthermore, the semiconductor sealing material which consists of an epoxy resin composition as described in any one of Claims 1-4 containing an inorganic filler. 請求項1〜5の何れかに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化物。 A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 1. 1分子中に下記一般式(1)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、下記一般式(2)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、Xはメチレン基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたメチレン基、フェニル基で置換されたメチレン基、ナフチル基で置換されたメチレン基、ビフェニル基で置換されたメチレン基、9−フルオレニル基で置換されたメチレン基、又は該フェニル基、該ナフチル基若しくは該ビフェニル基上に更にアルキル基が芳香核置換したメチレン基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有し、水酸基当量が100〜500g/eq.であり、且つICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲にあることを特徴とする新規多価ヒドロキシ化合物(B1)。
The following general formula (1) per molecule
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; X 1 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, a methylene group substituted with a naphthyl group, a methylene group substituted with a biphenyl group, 9 -A methylene group substituted with a fluorenyl group, or a methylene group in which an alkyl group is further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group, and m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by the following general formula (2)
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and X 2 is a methylene group, a methylene group substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a methylene group substituted with a phenyl group, or naphthyl. A methylene group substituted with a group, a methylene group substituted with a biphenyl group, a methylene group substituted with a 9-fluorenyl group, or an alkyl group further substituted with an aromatic nucleus on the phenyl group, the naphthyl group or the biphenyl group A methylene group and n is 1 or 2; ]
The hydroxyl group equivalent is 100-500 g / eq. And having a melt viscosity at 150 ° C. measured by an ICI viscometer in the range of 0.2 to 5.0 dPa · s, a novel polyvalent hydroxy compound (B1).
ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)とを酸触媒下に反応させることを特徴とする前記多価ヒドロキシ化合物(B1)の製造方法。 The polyvalent hydroxy compound (B1), wherein the hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the carbonyl group-containing compound (a3) are reacted in the presence of an acid catalyst. Manufacturing method. ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とのモル比(a1)/(a2)が30/70〜99/1であり、且つ、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)との合計モル数とカルボニル基含有化合物(a3)のモル数との比{(a1)+(a2)}/(a3)が50/50〜97/3である請求項9記載の製造方法。 The molar ratio (a1) / (a2) between the hydroxy group-containing aromatic compound (a1) and the thioether group-containing aromatic compound (a2) is 30/70 to 99/1, and the hydroxy group-containing aromatic The ratio {(a1) + (a2)} / (a3) of the total number of moles of the compound (a1) and the thioether group-containing aromatic compound (a2) to the number of moles of the carbonyl group-containing compound (a3) is 50. The production method according to claim 9, which is / 50 to 97/3. ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とカルボニル基含有化合物(a3)とを混合した後、該混合物を加熱して反応を行う請求項9又は10記載の製造方法。 11. The hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the carbonyl group-containing compound (a3) are mixed, and then the mixture is heated to react. Manufacturing method. 1分子中に下記一般式(3)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、mは1又は2である。〕
で表わされる構造単位と、下記一般式(4)
Figure 0005354309
〔式中、Arは芳香族炭化水素基又は炭素原子数1〜10のアルキル基、アリール基、アラルキル基又は炭素原子数1〜10のアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基であり、Arはベンゼン骨格、ビフェニル骨格、ナフタレン骨格、またはこれらに炭化水素基が置換された芳香族骨格であり、Yは同一でも異なっていてもよい水素原子又は炭素原子数1〜6の炭化水素基であり、Rは炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基であり、nは1又は2である。〕
で表される構造単位を有し、水酸基当量が150〜500g/eq.であり、且つICI粘度計で測定した150℃における溶融粘度が0.2〜5.0dPa・sの範囲にあることを特徴とする新規多価ヒドロキシ化合物(B2)。
The following general formula (3) per molecule
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 1 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Ar 3 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton in which a hydrocarbon group is substituted, and Y 1 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms And m is 1 or 2. ]
A structural unit represented by the following general formula (4):
Figure 0005354309
[In the formula, Ar 2 is an aromatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group substituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, Ar 4 is a benzene skeleton, a biphenyl skeleton, a naphthalene skeleton, or an aromatic skeleton having a hydrocarbon group substituted thereon, and Y 2 is the same or different hydrogen atom or hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group, and n is 1 or 2. ]
The hydroxyl group equivalent is 150-500 g / eq. And having a melt viscosity at 150 ° C. measured with an ICI viscometer in the range of 0.2 to 5.0 dPa · s, a novel polyvalent hydroxy compound (B2).
ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)と芳香族系架橋剤(a3)とを酸触媒下に反応させることを特徴とする前記多価ヒドロキシ化合物(B2)の製造方法。 The polyvalent hydroxy compound (B2), wherein the hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the aromatic crosslinking agent (a3) are reacted in the presence of an acid catalyst. ) Manufacturing method. ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)とのモル比(a1)/(a2)が30/70〜99/1であり、且つ、ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)との合計モル数と芳香族系架橋剤(a3)のモル数との比{(a1)+(a2)}/(a3)が51/49〜97/3である請求項13記載の製造方法。 The molar ratio (a1) / (a2) between the hydroxy group-containing aromatic compound (a1) and the thioether group-containing aromatic compound (a2) is 30/70 to 99/1, and the hydroxy group-containing aromatic The ratio {(a1) + (a2)} / (a3) of the total number of moles of the aromatic compound (a1) and the thioether group-containing aromatic compound (a2) and the number of moles of the aromatic crosslinking agent (a3) is The production method according to claim 13, which is 51/49 to 97/3. ヒドロキシ基含有芳香族系化合物(a1)とチオエーテル基含有芳香族系化合物(a2)と芳香族系架橋剤(a3)とを混合した後、該混合物を加熱して反応を行う請求項13又は14記載の製造方法。 The hydroxy group-containing aromatic compound (a1), the thioether group-containing aromatic compound (a2), and the aromatic crosslinking agent (a3) are mixed, and then the mixture is heated to react. The manufacturing method as described.
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