JP5296416B2 - Antithrombotic material - Google Patents

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Description

本発明は、抗血栓性材料に関し、特に血液と直接接触する医療器具等に用いる抗血栓性材料に関する。   The present invention relates to an antithrombotic material, and more particularly to an antithrombotic material used for a medical instrument or the like that comes into direct contact with blood.

医療技術の進歩に伴い、医療器具と血液とが接触する機会が増加している。このため、血液及び生体組織との適合性(生体適合性)の重要度が高くなっている。中でも、血液の凝固を防ぐ抗血栓性が、血液と接触する医療器具においては非常に重要である。医療器具に抗血栓性を付与する方法として、現在のところ親水性の高分子材料による医療器具の被覆が主に行われている。また、医療器具の表面にヘパリン等の抗血栓性の材料を固定したり、ヘパリンを除放する高分子材料を固定したりする方法も知られている。   With advances in medical technology, opportunities for contact between medical devices and blood are increasing. For this reason, the importance of compatibility (biocompatibility) with blood and living tissue is increasing. Among these, antithrombogenicity that prevents blood coagulation is very important in medical devices that come into contact with blood. At present, as a method for imparting antithrombogenicity to a medical device, the medical device is mainly covered with a hydrophilic polymer material. There are also known methods of fixing an antithrombotic material such as heparin on the surface of a medical instrument or a polymer material that releases heparin.

しかし、医療器具を高分子材料により被覆する場合には、医療器具と高分子材料とを十分密着させることが困難であるという問題がある。医療器具の基材は金属製である場合が多く、基材から高分子材料が剥がれ落ちてしまうことが多い。また、ヘパリン等を固定する場合にも同じ問題が生じる。特に、ヘパリンを用いる場合には、動物由来のため感染症の問題が生じたり、過剰投与による血量の増大等の問題が生じたりすることが知られている。   However, when a medical instrument is covered with a polymer material, there is a problem that it is difficult to sufficiently adhere the medical instrument and the polymer material. In many cases, the base material of the medical device is made of metal, and the polymer material is often peeled off from the base material. The same problem occurs when fixing heparin or the like. In particular, when heparin is used, it is known that problems of infectious diseases occur due to animal origin, and problems such as an increase in blood volume due to overdose occur.

これらの問題を解決する方法として、ダイヤモンド様薄膜(DLC膜)に代表される炭素質膜による医療器具の被覆が注目を集めている。炭素質膜は、金属及びその他の材料の表面に強固な皮膜として形成できる。このため、高分子材料と比べて医療器具の基材から剥がれにくいという効果が得られる。さらに、炭素質膜は、耐摩耗性及び耐蝕性に優れているため、医療器具の耐久性を向上させることができるという特徴を有している。   As a method for solving these problems, coating of medical devices with a carbonaceous film typified by a diamond-like thin film (DLC film) has attracted attention. The carbonaceous film can be formed as a strong film on the surface of metals and other materials. For this reason, the effect that it is hard to peel from the base material of a medical device compared with a polymeric material is acquired. Furthermore, since the carbonaceous film is excellent in wear resistance and corrosion resistance, it has a feature that the durability of the medical device can be improved.

炭素質膜は、平滑で不活性な材料であるため、それ自体もある程度の生体適合性を有している。炭素質膜の抗血栓性をさらに向上させる方法として、医療器具を被覆する炭素質膜にプラズマを照射することにより、炭素質膜に反応性の部位を形成し、形成した反応性の部位を用いて炭素質膜に親水性を付与する方法が知られている(例えば、特許文献1を参照。)。
国際公開第2005/97673号パンフレット
Since the carbonaceous film is a smooth and inert material, it itself has a certain degree of biocompatibility. As a method to further improve the antithrombogenicity of the carbonaceous film, a reactive site is formed in the carbonaceous film by irradiating the carbonaceous film covering the medical device with plasma, and the formed reactive site is used. A method of imparting hydrophilicity to a carbonaceous film is known (see, for example, Patent Document 1).
International Publication No. 2005/97673 Pamphlet

しかしながら、前記従来の炭素質膜を親水性とすることによる抗血栓性の向上には、以下のような問題があることを本願発明者らは見いだした。   However, the present inventors have found that the improvement of antithrombogenicity by making the conventional carbonaceous film hydrophilic has the following problems.

血栓の原因となる血液の凝固は、血小板の凝集による血液凝固因子の活性化と、異物による血液凝固因子の活性化とが関係している。このため、医療器具に抗血栓性を付与するためには、医療器具の表面への血小板の粘着の防止と、医療器具による血液凝固因子の活性化の防止とが必要となる。   Coagulation of blood that causes thrombosis is related to activation of blood coagulation factors by platelet aggregation and activation of blood coagulation factors by foreign substances. For this reason, in order to impart antithrombogenicity to a medical device, it is necessary to prevent adhesion of platelets to the surface of the medical device and to prevent activation of blood coagulation factors by the medical device.

本願発明者らの検討の結果、カルボキシル基の導入により親水性を付与した炭素質膜は、血小板の粘着数を低減する効果は非常に高いが、血液凝固因子の活性化を防止する効果が低いことが明らかとなった。   As a result of the study by the present inventors, a carbonaceous membrane imparted with hydrophilicity by introducing a carboxyl group has a very high effect of reducing the number of platelet adhesion, but has a low effect of preventing activation of blood coagulation factors. It became clear.

本発明は、本願発明者らが見いだした前記の知見に基づいてなされたものであり、血小板の粘着及び血液凝固因子の活性化の両方を低減した抗血栓性材料を実現できるようにすることを目的とする。   The present invention has been made based on the above findings found by the inventors of the present application, and is intended to realize an antithrombotic material in which both adhesion of platelets and activation of blood coagulation factors are reduced. Objective.

前記の目的を達成するため、本発明は抗血栓性材料を、表面におけるゼータ電位が−8mV以上である炭素質膜により構成する。   In order to achieve the above object, the present invention comprises an antithrombotic material by a carbonaceous film having a zeta potential on the surface of −8 mV or more.

具体的に、本発明に係る抗血栓性材料は、基材の表面に形成された炭素質膜からなる抗血栓性材料を対象とし、炭素が互いに結合して形成された膜本体と、膜本体に導入された窒素性官能基及びカルボキシル基とを備え、膜本体の表面におけるゼータ電位が−8mV以上であることを特徴とする。   Specifically, the antithrombogenic material according to the present invention is directed to an antithrombogenic material composed of a carbonaceous film formed on the surface of a substrate, and a membrane body formed by bonding carbon to each other, and a membrane body And a zeta potential on the surface of the membrane body is −8 mV or more.

炭素質膜の膜表面のゼータ電位は、抗血栓性に大きく影響を与え、ゼータ電位が低い場合には、TAT生成量が増大する。しかし、本発明に係る抗血栓性材料は、アミノ基とカルボキシル基との両方を備えており、膜本体の表面におけるゼータ電位が−8mV以上である。このため、TAT生成量を抑えることができ且つ血小板の粘着数も低減することができる。   The zeta potential of the carbonaceous membrane surface greatly affects the antithrombogenicity, and when the zeta potential is low, the amount of TAT generated increases. However, the antithrombotic material according to the present invention has both an amino group and a carboxyl group, and the zeta potential on the surface of the membrane body is −8 mV or more. For this reason, the amount of TAT produced can be suppressed and the number of platelet adhesion can also be reduced.

本発明の抗血栓性材料において、窒素性官能基とカルボキシル基との比率は、2.5以上且つ4以下であることが好ましい。   In the antithrombogenic material of the present invention, the ratio of the nitrogenous functional group to the carboxyl group is preferably 2.5 or more and 4 or less.

本発明の抗血栓性材料において、膜本体の表面における接触角は、60度以上且つ70度以下であることが好ましい。   In the antithrombogenic material of the present invention, the contact angle on the surface of the membrane body is preferably 60 degrees or more and 70 degrees or less.

本発明に係る抗血栓性材料によれば、血小板の粘着及び血液凝固因子の活性化の両方を低減した抗血栓性材料を実現できる。   The antithrombotic material according to the present invention can realize an antithrombotic material in which both adhesion of platelets and activation of blood coagulation factors are reduced.

本発明に係る抗血栓性材料は、基材の表面に形成された炭素質膜である。炭素質膜は、SP2(グラファイト)結合した炭素及びSP3(ダイヤモンド)結合した炭素を含む炭素骨格を主成分とし、いわゆるダイヤモンド様薄膜(DLC膜)に代表される薄膜である。   The antithrombogenic material according to the present invention is a carbonaceous film formed on the surface of a substrate. The carbonaceous film is a thin film typified by a so-called diamond-like thin film (DLC film) mainly composed of a carbon skeleton containing carbon bonded with SP2 (graphite) and carbon bonded with SP3 (diamond).

炭素質膜にプラズマを照射することにより、炭素−炭素結合等が開裂し、反応性の部位ができる。この反応性の部位と酸素とが反応することによりカルボキシル基が生成する。これにより、炭素質膜の表面は親水性となる。従来は、炭素質膜の表面を親水性とすることにより、抗血栓性を向上させようとしていた。   By irradiating the carbonaceous film with plasma, a carbon-carbon bond or the like is cleaved to form a reactive site. This reactive site and oxygen react to generate a carboxyl group. Thereby, the surface of the carbonaceous film becomes hydrophilic. Conventionally, attempts have been made to improve antithrombogenicity by making the surface of the carbonaceous film hydrophilic.

炭素質膜の表面を親水性とすることにより、血小板の粘着を抑えることができ、血小板に対する適合性は向上する。しかし、本願発明者らの検討の結果、炭素質膜にカルボキシル基を導入すると、炭素質膜の表面におけるゼータ電位が低下し、トロンビン−アンチトロンビンIII複合体(TAT)の産生量が増大し、血液凝固因子に対する適合性が低下してしまうことが明らかとなった。   By making the surface of the carbonaceous film hydrophilic, adhesion of platelets can be suppressed, and compatibility with platelets is improved. However, as a result of the study by the present inventors, when a carboxyl group is introduced into the carbonaceous membrane, the zeta potential on the surface of the carbonaceous membrane is reduced, and the amount of thrombin-antithrombin III complex (TAT) produced is increased. It became clear that the compatibility with blood coagulation factors was reduced.

以下に、本発明に係る抗血栓性材料について、実施例を用いてさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the antithrombotic material according to the present invention will be described in more detail using examples.

(一実施例)
−炭素質膜の形成−
本実施例において基材には、ステンレス(SUS316)板を用いた。血小板粘着試験用には、6mm角の試料を作成し、トロンビン・アンチトロンビンIII複合体の定量用には、直径46mmの試料を作成した。
(Example)
-Formation of carbonaceous film-
In this example, a stainless steel (SUS316) plate was used as the base material. A 6 mm square sample was prepared for the platelet adhesion test, and a 46 mm diameter sample was prepared for quantification of the thrombin / antithrombin III complex.

基材をイオン化蒸着装置のチャンバ内にセットし、チャンバーにアルゴンガス(Ar)を圧力が10-1Pa〜10-3Pa(10-3Torr〜10-5Torr)となるように導入した後、放電を行うことによりArイオン発生させ、発生したArイオンを基材の表面に衝突させるボンバードクリーニングを約30分間行った。 Set the substrate into the chamber of the ionization vapor deposition apparatus, after introducing to argon gas (Ar) pressure becomes 10 -1 Pa~10 -3 Pa (10 -3 Torr~10 -5 Torr) in the chamber Then, Ar ions were generated by discharging, and bombard cleaning was performed for about 30 minutes to cause the generated Ar ions to collide with the surface of the substrate.

続いて、チャンバにテトラメチルシラン(Si(CH34)を3分間導入し、珪素(Si)及び炭素(C)を主成分とするアモルファス状で膜厚が20nmの中間層を形成した。 Subsequently, tetramethylsilane (Si (CH 3 ) 4 ) was introduced into the chamber for 3 minutes to form an amorphous intermediate layer having a thickness of 20 nm with silicon (Si) and carbon (C) as main components.

中間層を形成した後、C66ガスをチャンバーに導入し、ガス圧を10-1Paとした。C66を30ml/分の速度で連続的に導入しながら放電を行うことによりC66をイオン化し、イオン化蒸着を約2分間行った。厚さ30nmのDLC膜である炭素質膜を基材の表面に形成した。 After forming the intermediate layer, C 6 H 6 gas was introduced into the chamber, and the gas pressure was adjusted to 10 −1 Pa. The C 6 H 6 ionized by performing continuously introduced while discharging the C 6 H 6 at 30ml / min, it was ionized evaporation for about 2 minutes. A carbonaceous film, which is a DLC film having a thickness of 30 nm, was formed on the surface of the substrate.

炭素質膜を形成する際のターゲット電圧は1.5kV、ターゲット電流は50mA、フィラメント電圧は14V、フィラメント電流は30A、アノード電圧は50V、アノード電流は0.6A、リフレクタ電圧は50V、リフレクタ電流は6mAとした。また、形成時における基材の温度は約160℃であった。   When forming the carbonaceous film, the target voltage is 1.5 kV, the target current is 50 mA, the filament voltage is 14 V, the filament current is 30 A, the anode voltage is 50 V, the anode current is 0.6 A, the reflector voltage is 50 V, and the reflector current is The current was 6 mA. Moreover, the temperature of the base material at the time of formation was about 160 ° C.

なお、中間層は基材と炭素質膜との密着性を向上させるために設けており、基材とDLC膜との密着性を十分に確保できる場合には省略してもよい。   The intermediate layer is provided in order to improve the adhesion between the substrate and the carbonaceous film, and may be omitted if sufficient adhesion between the substrate and the DLC film can be secured.

本実施例においては、基材に金属を用いたが、どのような材質であってもよい。具体的には、特に限定されるものではないが例えば、鉄、ニッケル、クロム、銅、チタン、白金、タングステン又はタンタル等の金属を基材として用いることができる。また、これらの合金である、SUS316L等のステンレス鋼、Ti−Ni合金若しくはCu−Al−Mn合金等の形状記憶合金、Cu−Zn合金、Ni−Al合金、チタン合金、タンタル合金、プラチナ合金又はタングステン合金等の合金を用いることもできる。また、アルミ、シリコン若しくはジルコン等の酸化物、窒化物若しくは炭化物等の生体不活性なセラミックス又はアパタイト若しくは生体ガラス等の生体活性を有するセラミックスでもよい。さらに、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、高密度ポリエチレン若しくはポリアセタール等の高分子樹脂又はポリジメチルシロキサン等のシリコンポリマー若しくはポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系ポリマー等であってもよい。   In this embodiment, metal is used for the base material, but any material may be used. Specifically, although not particularly limited, for example, a metal such as iron, nickel, chromium, copper, titanium, platinum, tungsten, or tantalum can be used as the base material. Further, these alloys are stainless steel such as SUS316L, shape memory alloy such as Ti—Ni alloy or Cu—Al—Mn alloy, Cu—Zn alloy, Ni—Al alloy, titanium alloy, tantalum alloy, platinum alloy or An alloy such as a tungsten alloy can also be used. Moreover, bioactive ceramics, such as oxides, such as aluminum, a silicon | silicone, or a zircon, nitride, or a carbide | carbonized_material, or ceramics which have bioactivity, such as apatite or a biological glass, may be sufficient. Further, it may be a polymer resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), high-density polyethylene or polyacetal, a silicon polymer such as polydimethylsiloxane, or a fluorine polymer such as polytetrafluoroethylene.

また、形状も板状に限らずどのような形状であってもよく、医療器具等の状態に成形されたものであっても、成形前の材料の状態であってもよい。   Further, the shape is not limited to a plate shape, and may be any shape. The shape may be a state of a medical instrument or the like, or a state of a material before being formed.

炭素質膜の形成は、スパッタ法に代えて、DCマグネトロンスパッタ法、RFマグネトロンスパッタ法、化学気相堆積法(CVD法)、プラズマCVD法、プラズマイオン注入法、重畳型RFプラズマイオン注入法、イオンプレーティング法、アークイオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法又はレーザーアブレーション法等を用いてもよい。   For the formation of the carbonaceous film, instead of sputtering, DC magnetron sputtering, RF magnetron sputtering, chemical vapor deposition (CVD), plasma CVD, plasma ion implantation, superimposed RF plasma ion implantation, An ion plating method, an arc ion plating method, an ion beam evaporation method, a laser ablation method, or the like may be used.

炭素質膜の膜厚は、特に限定されるものではないが、0.005μm〜3μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.01μm〜1μmの範囲である。   Although the film thickness of a carbonaceous film is not specifically limited, The range of 0.005 micrometer-3 micrometers is preferable, More preferably, it is the range of 0.01 micrometer-1 micrometer.

また、炭素質膜は、シリコン(Si)を含有していてもよい。炭素質膜を形成する際に、炭素源に加えてシリコン源を同時に供給すれば、Siを含む炭素質膜が形成できる。   The carbonaceous film may contain silicon (Si). When forming a carbonaceous film, if a silicon source is simultaneously supplied in addition to a carbon source, a carbonaceous film containing Si can be formed.

また、炭素質膜は、フッ素(F)を含有していてもよい。炭素質膜を形成する際に、炭素源に加えてフッ素源を同時に供給すれば、Fを含む炭素質膜が形成できる。   The carbonaceous film may contain fluorine (F). When forming a carbonaceous film, if a fluorine source is simultaneously supplied in addition to a carbon source, a carbonaceous film containing F can be formed.

中間層は、基材の種類に応じて種々のものを用いることができるが、シリコン(Si)と炭素(C)、チタン(Ti)と炭素(C)又はクロム(Cr)と炭素(C)からなるアモルファス膜等の公知のものを用いることができる。その厚みは特に限定されるものではないが、0.005μm〜0.3μmの範囲が好ましく、より好ましくは0.01μm〜0.1μmの範囲である。   Various intermediate layers can be used depending on the type of substrate, but silicon (Si) and carbon (C), titanium (Ti) and carbon (C), or chromium (Cr) and carbon (C). A known film such as an amorphous film can be used. Although the thickness is not specifically limited, the range of 0.005 micrometer-0.3 micrometer is preferable, More preferably, it is the range of 0.01 micrometer-0.1 micrometer.

中間層はスパッタ法に代えて、CVD法、プラズマCVD法、溶射法、イオンプレーティング法又はアークイオンプレーティング法等を用いて形成してもよい。   The intermediate layer may be formed using a CVD method, a plasma CVD method, a thermal spraying method, an ion plating method, an arc ion plating method, or the like instead of the sputtering method.

−プラズマ照射−
次に、得られた炭素質膜の抗血栓性を向上させるため、プラズマ照射を行った。プラズマ照射は、図1に示すような平行平板型のプラズマ照射装置により行った。プラズマ照射装置のチャンバ10内に炭素質膜を形成した基材11をセットした後、チャンバ10内の圧力を所定の圧力まで排気した。チャンバ10内の圧力を高真空状態とする場合には、ターボ分子ポンプを用いて排気を行った。次に、チャンバ10内にガスを所定の流量で導入し、平行平板電極12Aと12Bとの間に高周波電力を印加することによりプラズマを発生させた。高周波電力は、マッチングボックス14を介して接続された高周波電源15を用いて印加した。ガス流量の調整はマスフローコントローラ13により行った。
-Plasma irradiation-
Next, in order to improve the antithrombogenicity of the obtained carbonaceous film, plasma irradiation was performed. Plasma irradiation was performed using a parallel plate type plasma irradiation apparatus as shown in FIG. After setting the base material 11 on which the carbonaceous film was formed in the chamber 10 of the plasma irradiation apparatus, the pressure in the chamber 10 was exhausted to a predetermined pressure. When the pressure in the chamber 10 was changed to a high vacuum state, the turbo molecular pump was used for evacuation. Next, a gas was introduced into the chamber 10 at a predetermined flow rate, and plasma was generated by applying high-frequency power between the parallel plate electrodes 12A and 12B. High frequency power was applied using a high frequency power supply 15 connected via a matching box 14. The gas flow rate was adjusted by the mass flow controller 13.

本実施例においては、アルゴン(Ar)、酸素(O2)、アセチレン(C22)、アンモニア(NH3)及びC22とO2との混合ガス(C22/O2)の5種類のガスを用いて表1に示すような5種類の条件についてプラズマ照射を行った。なお、プラズマの照射時間は1つのガスにつき15秒とした。 In this embodiment, argon (Ar), oxygen (O 2 ), acetylene (C 2 H 2 ), ammonia (NH 3 ), and a mixed gas of C 2 H 2 and O 2 (C 2 H 2 / O 2 The plasma irradiation was performed under the five types of conditions shown in Table 1 using the five types of gases. Note that the plasma irradiation time was 15 seconds per gas.

表1において、高真空とは、ターボ分子ポンプを用いて一旦チャンバ内を高真空状態とした後、ガスを導入したことを示している。本実施例においては、高真空状態の場合における到達真空度は5×10-3Paであり、通常のプラズマ照射における到達真空度は2Paであった。 In Table 1, “high vacuum” indicates that the gas was introduced after the inside of the chamber was once brought into a high vacuum state using a turbo molecular pump. In this example, the ultimate vacuum in a high vacuum state was 5 × 10 −3 Pa, and the ultimate vacuum in normal plasma irradiation was 2 Pa.

なお、プラズマ照射装置は、どのような構造のものを用いてもよい。また、放電形式についても、どのようなものを用いてもよく、例えば平行平板方式、アフターグロー放電方式、電磁誘導型及び有磁場型等を用いればよい。プラズマ照射条件は特に限定されない。例えば、プラズマ発生用の電源としては、商用周波数(50Hz又は60Hz)、高周波(ラジオ周波数)又はマイクロ波領域等の各種の電源周波数を用いることができる。さらに、原料ガスの圧力制御方法や供給構造についても特に限定するものではない。しかし、であまりエッチングレートが大きいプラズマ照射条件を用いると、炭素質膜にダメージを与えるおそれがある。   Note that a plasma irradiation apparatus having any structure may be used. Also, any type of discharge may be used. For example, a parallel plate method, an after glow discharge method, an electromagnetic induction type, a magnetic field type, or the like may be used. Plasma irradiation conditions are not particularly limited. For example, as the power source for generating plasma, various power source frequencies such as a commercial frequency (50 Hz or 60 Hz), a high frequency (radio frequency), or a microwave region can be used. Furthermore, the pressure control method and supply structure of the source gas are not particularly limited. However, if plasma irradiation conditions with a very high etching rate are used, the carbonaceous film may be damaged.

−接触角の測定−
接触角の測定には、Erma社製ゴニオメーター式接触角測定機G−I型を用い、医療用材料の表面上に15μlの水滴を置き、50秒後に左の接触角、70秒後に右の接触角を測定した。なお、測定値は10点の平均値である。
-Measurement of contact angle-
The contact angle was measured using an Erma goniometer-type contact angle measuring machine GI type. A 15 μl water droplet was placed on the surface of the medical material, the left contact angle after 50 seconds, and the right contact angle after 70 seconds. The contact angle was measured. The measured value is an average value of 10 points.

−組成評価−
得られた、プラズマ照射炭素質膜の組成は、X線光電子分光分析(XPS)法を用いて評価した。測定には、日本電子株式会社製の光電子分光装置JPS−9010MCを用いた。X線源にはAlを用い、加速電圧が12.5kVで、エミッション電流が17.5mAの条件でX線を発生させた。試料中から任意に選択した直径5mmのエリアについて測定を行った。また、X線を試料に対して垂直に入射させ、検出角度を0度とすることにより、5nm程度の深さまでの組成を測定している。
-Composition evaluation-
The composition of the obtained plasma-irradiated carbonaceous film was evaluated using an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) method. For the measurement, a photoelectron spectrometer JPS-9010MC manufactured by JEOL Ltd. was used. Al was used as the X-ray source, and X-rays were generated under the conditions of an acceleration voltage of 12.5 kV and an emission current of 17.5 mA. Measurement was performed on an area of 5 mm in diameter arbitrarily selected from the sample. Further, the composition up to a depth of about 5 nm is measured by making X-rays incident on the sample perpendicularly and setting the detection angle to 0 degree.

結合エネルギーの測定領域は、274eV〜294eV、389eV〜409eV及び522eV〜542eVとし、それぞれC1s、N1s及びO1sのピークを得た。得られたピークの面積比を比較することにより炭素に対する酸素の存在比O/C及び炭素に対する窒素の存在比N/Cを求めた。また、C1sピークは、カーブフィッティングによりC−C成分、C−O成分、C=O成分及びO=C−O成分に分割した。O=C−O成分のC1sピークに対する面積比を求めることによりカルボキシル基成分(O=C−O)の全炭素に対する存在比O=C−O/Cを求めた。   The binding energy measurement region was 274 eV to 294 eV, 389 eV to 409 eV, and 522 eV to 542 eV, and peaks of C1s, N1s, and O1s were obtained, respectively. By comparing the area ratios of the obtained peaks, the abundance ratio of oxygen to carbon O / C and the abundance ratio of nitrogen to carbon N / C were determined. In addition, the C1s peak was divided into a C—C component, a C—O component, a C═O component, and an O═C—O component by curve fitting. The abundance ratio O = C—O / C of the carboxyl group component (O═C—O) with respect to the total carbon was determined by determining the area ratio of the O═C—O component to the C1s peak.

−血小板に対する適合性評価−
血小板に対する適合性は、血小板を材料表面に所定時間接触させ、試料表面に粘着した血小板数の大小により適合性の良否を判定した。
-Evaluation of compatibility with platelets-
The suitability for platelets was determined based on the number of platelets adhered to the surface of the sample for a predetermined period of time and the quality of the suitability.

血小板の試料への粘着数は、以下のようにして測定した。まず、6mm×6mmに調整した試料の表面に血小板浮遊血漿130μlを置く。続いて、プラスチックシャーレで蓋をした常態で、37℃にて60分間インキュベートした。インキュベート終了後、試料をpH7.4のリン酸バッファー(PBS)にて3回洗浄した。次いで1%グルタルアルデヒド/PBSに試料を浸漬し、4℃にて60分間静置することにより、粘着した血小板を固定した。続いてこの試料をPBS、PBS/蒸留水(75/25)、PBS/蒸留水(50/50)、PBS/蒸留水(25/75)及び蒸留水を順に用いて3回ずつ洗浄した。洗浄済みの試料を凍結乾燥した後、試料に対し白金蒸着を行った。白金蒸着を行った試料の表面を走査型電子鏡(日本電子、SEM−840)を用い拡大率1000倍にてランダムに5視野について写真撮影し、5視野の粘着血小板数を合計し、単位面積あたりの血小板数を求めた。   The number of platelets adhered to the sample was measured as follows. First, 130 μl of platelet suspension plasma is placed on the surface of a sample adjusted to 6 mm × 6 mm. Subsequently, the cells were incubated at 37 ° C. for 60 minutes in a normal state covered with a plastic petri dish. After completion of the incubation, the sample was washed 3 times with a phosphate buffer (PBS) having a pH of 7.4. Subsequently, the sample was immersed in 1% glutaraldehyde / PBS and allowed to stand at 4 ° C. for 60 minutes to fix the adhered platelets. Subsequently, the sample was washed three times using PBS, PBS / distilled water (75/25), PBS / distilled water (50/50), PBS / distilled water (25/75) and distilled water in this order. After lyophilizing the washed sample, platinum vapor deposition was performed on the sample. Using a scanning electron mirror (JEOL, SEM-840), the surface of the platinum-deposited sample was randomly photographed for 5 fields of view at a magnification of 1000 times. Per platelet count was determined.

血小板浮遊血漿は、以下のようにして調整した。健常者から採取した全血を、クエン酸加血(全血/3.8%クエン酸ナトリウム溶液=95/5vol/vol)とし、これを室温にて1500rpmで10分間遠心し、上澄から血小板多血漿(PRP)を1ml採取した。残りの血液をさらに3000rpmで10分間遠心し、上澄から血小板貧血漿(PPR)を1mlを採取した。次いで血球カウンター(シスメックス社、Sysmex K-1000)にてPRP及びPPP中の血小板数を計測した。PRPをPPPにより希釈することにより血小板数が10万個/μlの血小板浮遊血漿を調製した。   Platelet suspension plasma was prepared as follows. Whole blood collected from healthy individuals was citrated (whole blood / 3.8% sodium citrate solution = 95/5 vol / vol), centrifuged at 1500 rpm for 10 minutes at room temperature, and platelets were collected from the supernatant. 1 ml of multi-plasma (PRP) was collected. The remaining blood was further centrifuged at 3000 rpm for 10 minutes, and 1 ml of platelet poor plasma (PPR) was collected from the supernatant. Subsequently, the number of platelets in PRP and PPP was measured with a blood cell counter (Sysmex K-1000). Platelet suspension plasma having a platelet count of 100,000 / μl was prepared by diluting PRP with PPP.

−血液凝固因子に対する適合性評価−
血液凝固因子に対する適合性は、トロンビン・アンチトロンビンIII複合体(TAT)の生成量を定量することにより行った。
-Evaluation of compatibility with blood coagulation factors-
The suitability for blood coagulation factors was determined by quantifying the amount of thrombin / antithrombin III complex (TAT) produced.

血液凝固因子(凝固系)が活性化することにより産生され、血液凝固反応を主に司る酵素となるトロンビンはアンチトロンビンIIIによって速やかにトロンビン・アンチトロンビンIII複合体(TAT)となって失活する。そのため、産生トロンビン量を直接定量することは困難なことが知られており、TATの血中濃度を求めることで、産生トロンビン量を見積もることが一般的に行われている。従って、凝固系に対する適合性は、試料と全血とを所定時間接触させた際のTATの産生量から判断した。   Thrombin, which is produced by the activation of blood coagulation factor (coagulation system) and is the enzyme mainly responsible for blood coagulation reaction, is quickly deactivated by antithrombin III as thrombin / antithrombin III complex (TAT). . Therefore, it is known that it is difficult to directly quantify the amount of thrombin produced, and it is generally performed to estimate the amount of thrombin produced by determining the blood concentration of TAT. Therefore, the suitability for the coagulation system was judged from the amount of TAT produced when the sample and whole blood were contacted for a predetermined time.

アクリル製のC形スペーサ(内径:40mm、外径:46mm、厚さ:0.8mm)の片面にpoly(2-methoxyethyl acrylate)をコートしたポリエチレンテレフタレート(PET)製のシート(φ=46mm)を両面接着テープにより接着する。C型スペーサのもう一方の面には、直径46mmの試料を両面接着テープにより貼り付け、容積1000μlの試料チャンバを作製する。   A polyethylene terephthalate (PET) sheet (φ = 46 mm) coated with poly (2-methoxyethyl acrylate) on one side of an acrylic C-shaped spacer (inner diameter: 40 mm, outer diameter: 46 mm, thickness: 0.8 mm) Adhere with double-sided adhesive tape. A sample with a diameter of 46 mm is attached to the other surface of the C-shaped spacer with a double-sided adhesive tape to produce a sample chamber with a volume of 1000 μl.

健常人より採血したヘパリン化全血(2IU/ml)を試料チャンバに1000μl注入し、セロファンテープにて封をした。血球沈降を防ぐため、このチャンバーを垂直回転ローターに取り付けて回転(約4.7rpm)させながら37℃で120分間インキュベートした。インキュベート終了後、チャンバーから全血を回収し3.8%クエン酸Na水溶液110μlを加え、10℃、3000rpm、10分の条件で遠心分離した。   1000 μl of heparinized whole blood (2 IU / ml) collected from a healthy person was injected into the sample chamber and sealed with cellophane tape. In order to prevent blood cell sedimentation, this chamber was attached to a vertical rotating rotor and incubated at 37 ° C. for 120 minutes while rotating (about 4.7 rpm). After the incubation was completed, whole blood was collected from the chamber, added with 110 μl of 3.8% Na citrate aqueous solution, and centrifuged at 10 ° C., 3000 rpm, and 10 minutes.

上澄みとして得られた血漿中のTAT濃度を市販のTAT用酵素免疫定量法キット(Enzyme Research Laboratories社製TAT−EIA)とマイクロプレートリーダー(Molecular Device社製、Thermo Max)とを用いて定量した。ELISAの操作はキット付属のマニュアルに従って実施した(測定波長450nm)。なお、C型スペーサの両面にpoly(2-methoxyethyl acrylate)をコートしたPETフィルムを接着した場合をコントロールとした。   The TAT concentration in plasma obtained as the supernatant was quantified using a commercially available enzyme immunoassay kit for TAT (TAT-EIA manufactured by Enzyme Research Laboratories) and a microplate reader (Thermo Max manufactured by Molecular Device). The ELISA operation was performed according to the manual attached to the kit (measurement wavelength: 450 nm). In addition, the case where the PET film which coated poly (2-methoxyethyl acrylate) on both surfaces of the C-type spacer was adhered was used as a control.

−表面電位の評価−
得られた、プラズマ照射炭素質膜について、以下のようにして表面電位を測定した。測定には、大塚電子株式会社製のゼータ電位・粒径測定システムELS−Zを用いた。得られたプラズマ照射炭素質膜を平板試料用セルに密着させ、セル内にモニタ用粒子を注入した。モニタ用粒子は10mMの塩化ナトリウム(NaCl)溶液中に分散させた大塚電子株式会社製のものを用いた。セル深さ方向の各レベルについてモニタ粒子の電気泳動を行い、セル内部の見かけの速度分布を測定した。電気泳動は、平均電場が17.33V/cmで、平均電流が1.02mAの条件で行った。得られた見かけの速度分布を森・岡本の式に基づいて解析することにより、プラズマ照射炭素質膜表面の表面電位を求めた。なお、平板試料用セルは、セル表面の電荷の影響を抑えるため、ポリアクリルアミドによりコーティング処理して用いた。
-Evaluation of surface potential-
About the obtained plasma irradiation carbonaceous film, the surface potential was measured as follows. For the measurement, a zeta potential / particle size measurement system ELS-Z manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. was used. The obtained plasma-irradiated carbonaceous film was brought into close contact with a plate sample cell, and monitoring particles were injected into the cell. The monitoring particles used were those manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. dispersed in a 10 mM sodium chloride (NaCl) solution. The monitor particles were electrophoresed at each level in the cell depth direction, and the apparent velocity distribution inside the cell was measured. Electrophoresis was performed under the conditions of an average electric field of 17.33 V / cm and an average current of 1.02 mA. By analyzing the apparent velocity distribution obtained based on the Mori-Okamoto equation, the surface potential of the plasma-irradiated carbonaceous film surface was determined. The plate sample cell was used after being coated with polyacrylamide in order to suppress the influence of the charge on the cell surface.

−炭素質膜の評価結果−
まず、プラズマ照射後の炭素質膜について水に対する接触角を測定し、どの程度親水性となっているかを評価した。図2は、得られたプラズマ照射炭素質膜の水に対する接触角の値の経時変化を示している。図2に示すように大部分のサンプルにおいては、接触角の値は経時的に変化し、プラズマを照射した後、接触角の値が安定するまでに10日程度かかることが明らかになった。
-Evaluation results of carbonaceous films-
First, the contact angle with respect to water was measured about the carbonaceous film after plasma irradiation, and it was evaluated how hydrophilic it was. FIG. 2 shows the change with time of the contact angle value of the obtained plasma-irradiated carbonaceous film with respect to water. As shown in FIG. 2, in most of the samples, the contact angle value changed with time, and it became clear that it took about 10 days for the contact angle value to stabilize after the plasma irradiation.

このように、接触角が経時的に変化する理由は明確ではない。しかし、プラズマを照射した後、大気中に暴露されたサンプルの表面において、さらに何らかの反応が進行するためであると考えられる。プラズマ照射を行った炭素質膜を医療器具等に用いる場合、プラズマ照射直後に使用されることはない。従って、プラズマ照射を行った炭素質膜を評価する場合には、安定状態となった後のサンプルについて評価することが非常に重要である。以後の評価は、接触角の値が安定するプラズマ照射後10日以上経過したサンプルを用いて行った。   Thus, the reason why the contact angle changes with time is not clear. However, it is considered that some reaction further proceeds on the surface of the sample exposed to the atmosphere after irradiation with plasma. When a carbonaceous film that has been subjected to plasma irradiation is used in a medical instrument or the like, it is not used immediately after plasma irradiation. Therefore, when evaluating a carbonaceous film that has been subjected to plasma irradiation, it is very important to evaluate a sample after it has reached a stable state. Subsequent evaluation was performed using a sample that had passed 10 days or more after the plasma irradiation in which the value of the contact angle was stable.

図3は、プラズマ照射後の炭素質膜のゼータ電位と、血液適合性との関係を示している。図3に示すように、血小板の粘着数はゼータ電位が低い場合に低く、ゼータ電位が高くなるに従い徐々に上昇した。しかし、ゼータ電位が+2mV程度の場合においても、血小板の粘着数は20×104μm2程度であり、ポリエチレンテレフタレート(PET)及びステンレス(SUS316)と同程度の適合性を示した。一方、TATの生成量はゼータ電位が低い場合には非常に高く、ゼータ電位が高くなると急激に低下した。 FIG. 3 shows the relationship between the zeta potential of the carbonaceous film after plasma irradiation and blood compatibility. As shown in FIG. 3, the platelet adhesion number was low when the zeta potential was low, and gradually increased as the zeta potential increased. However, even when the zeta potential was about +2 mV, the adhesion number of platelets was about 20 × 10 4 μm 2 , which was compatible with polyethylene terephthalate (PET) and stainless steel (SUS316). On the other hand, the amount of TAT produced was very high when the zeta potential was low, and rapidly decreased as the zeta potential increased.

以上の結果は、血小板だけでなく血液凝固因子に対しても適合性を示すためには、ゼータ電位がある程度以上高いことが必要であり、−8mV以上であることが好ましいことを示している。また、ゼータ電位が高くなると血小板に対する適合性が徐々に悪化するが、他の材料に比べて十分に高い適合性を示し、少なくとも+2mV程度であれば問題ない。   The above results indicate that in order to show compatibility not only with platelets but also with blood coagulation factors, the zeta potential needs to be higher than a certain level and is preferably −8 mV or higher. In addition, as the zeta potential increases, the compatibility with platelets gradually deteriorates, but the compatibility is sufficiently higher than other materials, and there is no problem if it is at least about +2 mV.

ゼータ電位が高く、TATの生成量が低いサンプルは、O2プラズマ照射後にNH3プラズマを照射した場合(O2+NH3:約−8mV)及びNH3プラズマを照射した場合(約+2mV)である。このことから、ゼータ電位の上昇は、炭素質膜の表面にイオン化した際に正に帯電する官能基が導入されたことによるのではないかと考えられる。 Samples having a high zeta potential and a low TAT generation amount are obtained when NH 3 plasma is irradiated after O 2 plasma irradiation (O 2 + NH 3 : about −8 mV) and when irradiated with NH 3 plasma (about +2 mV). . This suggests that the increase in zeta potential may be due to the introduction of a functional group that is positively charged when ionized on the surface of the carbonaceous film.

プラズマ照射後の炭素質膜に導入された窒素がどのような状態となっているかは明確ではない。しかし、アミノ基、アミド基及びアミン基等の窒素を含む官能基(窒素性官能基)を形成していると考えられる。窒素性官能基の詳細な分析は困難であるが、XPS測定においてN1sピークは、398.9eVに出現した。これは、アミン及びアミドのN1sの束縛エネルギー(400±1eV)からずれており、今回のサンプルにおいては、窒素性官能基のうちの少なくとも一部はアミノ基となっていると考えられる。   The state of nitrogen introduced into the carbonaceous film after plasma irradiation is not clear. However, it is considered that functional groups containing nitrogen (nitrogenous functional groups) such as amino groups, amide groups, and amine groups are formed. Although detailed analysis of the nitrogenous functional group is difficult, the N1s peak appeared at 398.9 eV in the XPS measurement. This is deviated from the binding energy (400 ± 1 eV) of N1s of amine and amide, and it is considered that at least a part of the nitrogenous functional groups is an amino group in this sample.

図4は、プラズマ照射後の炭素質膜の表面に形成された官能基とゼータ電位との関係を示している。図4において、横軸は炭素に対する窒素の存在比N/Cと、炭素に対するO=C−O成分の存在比O=C−O/Cとの比を示している。先に述べたように、炭素質膜中の窒素は、窒素性官能基となっていると推測される。従って、N/O=C−Oは、窒素性官能基とカルボキシル基との比率を表している。窒素性官能基の存在比率が高くなると、ゼータ電位の値が高くなっていことが明らかである。   FIG. 4 shows the relationship between the functional group formed on the surface of the carbonaceous film after plasma irradiation and the zeta potential. In FIG. 4, the horizontal axis represents the ratio of the abundance ratio N / C of nitrogen to carbon and the abundance ratio O = C—O / C of the O═C—O component to carbon. As described above, nitrogen in the carbonaceous film is presumed to be a nitrogenous functional group. Therefore, N / O = C—O represents the ratio of the nitrogenous functional group to the carboxyl group. It is clear that the zeta potential increases as the abundance ratio of nitrogenous functional groups increases.

このように、炭素質膜の表面におけるゼータ電位の値は、窒素性官能基とカルボキシル基との比率によって決まる。従って、血小板及び血液凝固因子の両方に対して適合性を示すためには、窒素性官能基とカルボキシル基との比率が2.5以上であることが好ましい。窒素性官能基の導入量は多い方が好ましいと考えられるが、あまりに高くなるとゼータ電位が上昇し、血小板に対する適合性が悪化するおそれがある。また、炭素質膜の表面に導入できる窒素性官能基の理論的な上限も考慮すると、窒素性官能基とカルボキシル基の比率は、4程度が上限になると考えられる。   Thus, the value of the zeta potential on the surface of the carbonaceous film is determined by the ratio between the nitrogenous functional group and the carboxyl group. Therefore, in order to show compatibility with both platelets and blood coagulation factors, the ratio of the nitrogenous functional group to the carboxyl group is preferably 2.5 or more. A larger amount of the nitrogenous functional group is considered to be preferable, but if it is too high, the zeta potential increases and the compatibility with platelets may deteriorate. Considering the theoretical upper limit of the nitrogenous functional group that can be introduced on the surface of the carbonaceous film, the ratio of the nitrogenous functional group to the carboxyl group is considered to be about 4 as an upper limit.

ゼータ電位が高いO2+NH3又はNH3を照射した場合には、プラズマ照射後10日以上経過した際の接触角が60°以上であった。一方、ゼータ電位が低い他のサンプルについては、いずれも接触角が50°以下であった。このことから、ゼータ電位が高い炭素質膜は、親水性のカルボキシル基が過度に導入されていないと考えられる。 In the case of irradiation with O 2 + NH 3 or NH 3 having a high zeta potential, the contact angle when 10 days or more passed after plasma irradiation was 60 ° or more. On the other hand, the contact angle of the other samples having a low zeta potential was 50 ° or less. From this, it is considered that the carbonaceous film having a high zeta potential does not have excessive introduction of hydrophilic carboxyl groups.

このように、炭素質膜の表面には、ゼータ電位を低下させるカルボキシル基が過度に導入されていないことが好ましく、接触角が60°以上であることが好ましい。一方、プラズマ照射していない炭素質膜は接触角が80°程度ある。プラズマ照射していない炭素質膜は、血小板の粘着数が55×104μm2程度あり、プラズマ照射した炭素質膜よりも遙かに血小板に対する適合性に劣る。従って、炭素質膜の接触角はあまり高すぎない方がよく、70°以下であることが好ましい。 Thus, it is preferable that a carboxyl group that lowers the zeta potential is not excessively introduced on the surface of the carbonaceous film, and the contact angle is preferably 60 ° or more. On the other hand, the carbonaceous film not irradiated with plasma has a contact angle of about 80 °. The carbonaceous film not irradiated with plasma has a platelet adhesion number of about 55 × 10 4 μm 2 and is much less compatible with platelets than the carbonized film irradiated with plasma. Therefore, the contact angle of the carbonaceous film should not be too high, and is preferably 70 ° or less.

以上のような、カルボキシル基と窒素性官能基との両方が形成され、ゼータ電位の値が高い炭素質膜は、アンモニアのプラズマを照射することにより形成すればよい。また、他のプラズマを照射した後に、アンモニアのプラズマを照射してもよい。プラズマ照射時におけるチャンバ内の到達真空度が高い方が、空気中の酸素の影響を受けることがなく好ましい。   The carbonaceous film having both a carboxyl group and a nitrogenous functional group and having a high zeta potential value may be formed by irradiating ammonia plasma. Further, after irradiating with another plasma, the plasma of ammonia may be irradiated. A higher ultimate vacuum in the chamber during plasma irradiation is preferable because it is not affected by oxygen in the air.

なお、アンモニアに代えて他の塩基性窒素含有化合物を用いることも可能である。塩基性窒素含有化合物としては、一般式がNR123により示される有機アミン類(但し、R1、R2及びR3は水素、−CH3、−C25、−C37又は−C48であり、R1、R2及びR3は互いに同一であっても、異なっていてもよい。)又はベンジルアミン及びその2級、3級アミン等が挙げられる。但し、アンモニアがコスト、取り扱いの容易さから好ましい。 It is also possible to use other basic nitrogen-containing compounds instead of ammonia. Examples of the basic nitrogen-containing compound include organic amines represented by the general formula NR 1 R 2 R 3 (where R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen, —CH 3 , —C 2 H 5 , —C 3 H 7 or —C 4 H 8 , and R 1 , R 2 and R 3 may be the same or different from each other.) Or benzylamine and its secondary and tertiary amines. However, ammonia is preferable because of cost and ease of handling.

本発明に係る抗血栓性材料は、血小板の粘着及び血液凝固因子の活性化の両方を低減でき、特に血液と直接接触する医療器具等に用いる抗血栓性材料等として有用である。   The antithrombotic material according to the present invention can reduce both the adhesion of platelets and the activation of blood coagulation factors, and is particularly useful as an antithrombotic material used for a medical instrument that is in direct contact with blood.

本発明の一実施例において用いたプラズマ照射装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the plasma irradiation apparatus used in one Example of this invention. 本発明の一実施例に係る炭素質膜の接触角の変動を示すグラフである。It is a graph which shows the fluctuation | variation of the contact angle of the carbonaceous film which concerns on one Example of this invention. 本発明の一実施例に係る炭素質膜のゼータ電位と血液適合性との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the zeta potential of the carbonaceous film which concerns on one Example of this invention, and blood compatibility. 本発明の一実施例に係る炭素質膜に形成された官能基とゼータ電位との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the functional group formed in the carbonaceous film which concerns on one Example of this invention, and zeta potential.

符号の説明Explanation of symbols

10 チャンバ
11 基材
12A 平行平板電極
13 マスフローコントローラ
14 マッチングボックス
15 高周波電源
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Chamber 11 Base material 12A Parallel plate electrode 13 Mass flow controller 14 Matching box 15 High frequency power supply

Claims (3)

基材の表面に形成された炭素質膜からなる抗血栓性材料であって、
炭素が互いに結合して形成された膜本体と、
前記膜本体に導入されたアミノ基及びカルボキシル基とを備え、
前記膜本体の表面におけるゼータ電位が−8mV以上、+2mV以下であることを特徴とする抗血栓性材料。
An antithrombotic material consisting of a carbonaceous film formed on the surface of a substrate,
A film body formed by bonding carbon to each other;
Comprising an amino group and a carboxyl group introduced into the membrane body,
Antithrombotic material to feature the zeta potential at the surface of the film body or -8 mV, or less + 2 mV.
前記アミノ基とカルボキシル基との比率は、2.5以上且つ4以下であることを特徴とする請求項1に記載の抗血栓性材料。 The antithrombogenic material according to claim 1, wherein the ratio of the amino group to the carboxyl group is 2.5 or more and 4 or less. 前記膜本体の表面における接触角は、60度以上且つ70度以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の抗血栓性材料。   The antithrombogenic material according to claim 1 or 2, wherein a contact angle on the surface of the membrane body is 60 degrees or more and 70 degrees or less.
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