JP5261151B2 - Package manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は周囲の環境に敏感な電子部品等を保護するための封止された空間を有するパッケージの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a package having a sealed space for protecting electronic components and the like that are sensitive to the surrounding environment.

従来から、色素増感型太陽電池素子や、有機EL素子など、周囲の環境に敏感な電子部品を保護するパッケージの製造方法として、上下2枚のガラス間にフリットをリング状に設置し、このフリットで溶着する方法が知られている。   Conventionally, as a method of manufacturing a package for protecting electronic components sensitive to the surrounding environment such as a dye-sensitized solar cell element and an organic EL element, a frit is installed in a ring shape between two upper and lower glasses. A method of welding with a frit is known.

例えば、電子部品として、有機EL素子や色素増感型太陽電池素子がある。これらは有機物質であるため、熱に弱く、一般的には、130℃程度の温度にしか耐えられない。これに対して、フリットの融点は低融点のものであっても400℃程度であり、全体を均一に加熱する方法では素子を破壊してしまうため、局所的な加熱が求められる。この局所的な加熱の方法としてフリット部分にのみレーザを短時間照射し、局所的に温度を上昇させることで、素子部を高温とならないようにしながら封止するレーザ溶着の方法が提案されている。   For example, there are organic EL elements and dye-sensitized solar cell elements as electronic components. Since these are organic substances, they are vulnerable to heat and generally can only withstand temperatures of about 130 ° C. On the other hand, the melting point of the frit is about 400 ° C. even if it has a low melting point, and the method of heating the whole uniformly destroys the element, so that local heating is required. As this local heating method, there has been proposed a laser welding method in which only the frit portion is irradiated with a laser for a short time and the temperature is locally increased so that the element portion is sealed without being heated to a high temperature. .

従来のパッケージの製造方法を図4を用いて説明する。図4はパッケージの要部平面図である、なお、封止すべき電子部品の図示を省略している。   A conventional package manufacturing method will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a plan view of an essential part of the package, and illustration of electronic components to be sealed is omitted.

上ガラス101、下ガラス102をリング上のフリット103を介して積層し、a部からb部,c部,d部を経てa部に戻るように上ガラス101上からレーザを照射しながら移動させ、フリットを溶融させることで上ガラス101と下ガラス102とを溶着させ、フリット103が固化することでフリット103に囲まれた領域に封止された空間を有するパッケージを製造することができる。   The upper glass 101 and the lower glass 102 are laminated via the frit 103 on the ring, and moved while irradiating a laser from the upper glass 101 so as to return from the a part to the a part through the b part, the c part, and the d part. By melting the frit, the upper glass 101 and the lower glass 102 are welded, and the frit 103 is solidified, whereby a package having a sealed space in a region surrounded by the frit 103 can be manufactured.

ここで、レーザをa点に戻し溶着が完了する直前にガラス基板101,102やフリット103にクラックが多発するため、その対策として、レーザの出力を弱めたり、フォーカスをぼかしたり、移動速度を遅くする方法等が提案されていた。
特開2008−527655号公報
Here, since the laser is returned to point a and cracks frequently occur on the glass substrates 101 and 102 and the frit 103 immediately before the welding is completed, as countermeasures, the laser output is weakened, the focus is blurred, or the moving speed is slowed down. The method of doing was proposed.
JP 2008-527655 A

しかしながら、従来の方法では、クラックを回避しようとして、レーザの出力を弱めるとフリットをその融点まで高めるのに時間がかかり、その間に熱が電子部品にまで伝わり、電子部品を熱損傷させてしまうという問題がある。また、レーザのフォーカスをぼかしたり、レーザの移動速度を遅くしたりすると、フリット103やガラス基板101,102のクラックは防止できるが、電子部品の温度も上昇してしまい、電子部品を熱損傷させてしまうという問題がある。つまり、電子部品の熱損傷を防ぐ方法と、フリット103やガラス基板101,102のクラックを防ぐ方法とは、同時に満たされないという問題を有していた。このように、従来の方法では、内部に収容する電子部品によっては適用できない場合があるという問題点があった。   However, in the conventional method, if the laser output is weakened in an attempt to avoid cracks, it takes time to raise the frit to its melting point, and during that time heat is transferred to the electronic component, causing the electronic component to be thermally damaged. There's a problem. Also, if the laser focus is defocused or the laser moving speed is slowed, cracking of the frit 103 and the glass substrates 101 and 102 can be prevented, but the temperature of the electronic component also rises, causing thermal damage to the electronic component. There is a problem that it ends up. That is, the method for preventing thermal damage of the electronic component and the method for preventing the frit 103 and the cracks of the glass substrates 101 and 102 are not satisfied at the same time. Thus, the conventional method has a problem in that it may not be applied depending on the electronic components housed inside.

本発明は上記事情に鑑みて案出されたものであり、その目的は、クラックの発生を抑制した、信頼性の高く汎用性の高いパッケージの製造方法を提供することにある。   The present invention has been devised in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a highly reliable and highly versatile package manufacturing method that suppresses the occurrence of cracks.

本発明のパッケージの製造方法は、(1)対向配置させた2枚の基体の間に封止された空間を有するパッケージを製造する方法であって、前記2枚の基体の間に、前記2枚の基体が重なる方向からみたときに、リング状の1部分が第1端と第2端とで途切れたパターンを形成するようにフリットを配置するフリット配置工程と、前記フリットをトレースするようにレーザを照射し、前記フリットを溶融させて前記2枚の基体を接合するレーザ照射工程と、前記フリットの前記パターンと合わせて閉空間を形成するように、前記フリットの前記第1端と前記第2端との間に封止部材を配置して、前記2枚の基体の間に封止された空間を形成する封止工程と、を含むものである。   The method for manufacturing a package according to the present invention is (1) a method for manufacturing a package having a sealed space between two substrates arranged opposite to each other. A frit arranging step of arranging a frit so that a ring-shaped part forms a discontinuous pattern between the first end and the second end when viewed from the direction in which the substrates overlap, and so as to trace the frit A laser irradiation step of irradiating a laser to melt the frit and joining the two substrates; and combining the first end of the frit and the first so as to form a closed space together with the pattern of the frit A sealing step of disposing a sealing member between the two ends to form a sealed space between the two substrates.

また、本発明のパッケージの製造方法は、(2)上記(1)の方法において、前記封止工程において、前記封止部材としてガラス部材を用い、溶融させた前記ガラス部材を前記フリットの前記第1端と前記第2端との間に流し込んだ後に固化させるものである。   The package manufacturing method of the present invention is (2) the method of (1), wherein, in the sealing step, a glass member is used as the sealing member, and the molten glass member is the first part of the frit. It solidifies after pouring between one end and the second end.

また、本発明のパッケージの製造方法は、(3)上記(2)の方法において、前記封止工程は、前記レーザ照射工程において前記第1端または前記第2端の前記フリットが溶融されてから固化される間に行なうものである。   The package manufacturing method of the present invention is (3) in the above method (2), wherein the sealing step is performed after the frit at the first end or the second end is melted in the laser irradiation step. This is done during solidification.

本発明の(1)のパッケージの製造方法によれば、フリットと封止部材とで閉空間を形成するので、これにより2枚の基体を接合するとともに、フリットと封止部材と2枚の基体とで囲まれた領域に封止された空間(以後、単に封止空間という)を形成することができる。   According to the package manufacturing method of (1) of the present invention, the closed space is formed by the frit and the sealing member, so that the two substrates are joined together, and the frit, the sealing member, and the two substrates are joined. A sealed space (hereinafter simply referred to as a sealed space) can be formed in a region surrounded by.

ここで、従来のパッケージの製造方法においてクラックが発生するメカニズムについて、鋭意検討を重ねた結果、クラックの発生は、レーザを走査させて図4のa部に戻る直前の、レーザを中心としたフリット103における温度分布が原因であることを突き止めた。つまり、レーザ照射部のフリット103は高温で、その周囲は同心円上に温度分布を有し、照射部に比べ低温となる。この温度の高いレーザ照射部ではフリット103が膨張し、温度が低くなる周囲ではフリット103が収縮しようとする。すなわち、レーザ照射部の周囲のフリット103には、同心円状に引っ張り応力が高く働く。ここで、レーザ照射部の後方(レーザ走査方向に対して後方)では、フリット103が溶融した状態でまだ完全に固化していないのでクラックは生じないが、すでに溶着されたレーザ照射のスタート地点であるa部ではフリット103は温度が低下し完全に固化されているので変形することができず、引っ張り応力によりクラックが発生してしまっていることが分かった。つまり、レーザ照射において、一度固化したフリットに再度レーザによる温度分布が生じて引っ張り応力が生じることが原因であり、それはレーザ照射の始点及び終点で発生することが分かった。そして、このような現象は、レーザにより局所的な温度分布が発生する場合に特有なものであることが分かった。   Here, as a result of intensive investigations on the mechanism of crack generation in the conventional package manufacturing method, the occurrence of the crack is caused by the frit centered on the laser just before returning to the part a in FIG. The temperature distribution at 103 was found to be the cause. In other words, the frit 103 of the laser irradiation part is high temperature, and the periphery thereof has a temperature distribution on a concentric circle, which is lower than the irradiation part. The frit 103 expands in the laser irradiating portion having this high temperature, and the frit 103 tends to contract in the vicinity where the temperature becomes low. That is, a high tensile stress acts concentrically on the frit 103 around the laser irradiation portion. Here, at the rear of the laser irradiation part (rear with respect to the laser scanning direction), since the frit 103 is not yet completely solidified in the melted state, no crack is generated, but at the start point of the laser irradiation already welded. In a part a, the frit 103 was not completely deformed because the temperature was lowered and completely solidified, and it was found that cracks were generated due to tensile stress. In other words, in laser irradiation, it was found that the temperature distribution due to the laser was generated again in the frit once solidified, and tensile stress was generated, which occurred at the start and end points of laser irradiation. It has been found that such a phenomenon is peculiar when a local temperature distribution is generated by the laser.

上述のようなメカニズムの判明を受けて、本発明においては、レーザ照射により溶融・固化することにより2枚の基体を接合するフリットのパターンは第1端と第2端とで途切れているため、レーザ照射の終点においても既に2枚の基体を接合して固化しているフリットに再度レーザが照射されることがない。したがって、レーザ照射の終点においても、一度固化したフリットに再度レーザ照射による温度分布が生じることはなく、それに伴う引っ張り応力が発生することもない。そして、別工程により封止部材を第1端と第2端との間に配置することで封止空間を形成する。このため、フリットおよび2枚の基体におけるクラックの発生を抑制することができ、信頼性の高いパッケージの製造方法を提供することができる。   In response to the elucidation of the mechanism as described above, in the present invention, the frit pattern for joining two substrates by melting and solidifying by laser irradiation is interrupted at the first end and the second end. Even at the end point of the laser irradiation, the laser is not irradiated again to the frit which has already been bonded and solidified by two substrates. Therefore, even at the end point of the laser irradiation, the temperature distribution due to the laser irradiation does not occur again in the frit once solidified, and the accompanying tensile stress does not occur. And sealing space is formed by arrange | positioning a sealing member between a 1st end and a 2nd end by another process. For this reason, generation | occurrence | production of the frit and the crack in two base | substrates can be suppressed, and the manufacturing method of a reliable package can be provided.

また、従来のようにレーザの出力を弱めたり、焦点をぼかしたり、走査速度を遅くしたりするなど、レーザの照射時間や照射面積を必要以上に設ける必要がなくなるので、レーザによる熱がフリットを中心とした局所的な部分のみに伝達され、中に収容すべき電子部品が熱損傷を受けることを抑制することができる。このため、中に収容する電子部品によらず、クラックの発生を抑制したパッケージを製造することができるので、汎用性の高いパッケージの製造方法を提供することができる。   In addition, it is not necessary to provide more laser irradiation time and irradiation area, such as weakening the laser output, blurring the focus, and slowing the scanning speed as in the past. It is transmitted only to the central local part, and it is possible to suppress thermal damage to the electronic component to be accommodated therein. For this reason, since the package which suppressed generation | occurrence | production of a crack can be manufactured irrespective of the electronic component accommodated in, the manufacturing method of a highly versatile package can be provided.

また、本発明の(2)のパッケージの製造方法によれば、封止工程を、溶融させたガラス部材を流し込むだけでよいので、生産性の高いパッケージの製造方法を提供することができる。   In addition, according to the package manufacturing method of (2) of the present invention, since the molten glass member only needs to be poured into the sealing step, a highly productive package manufacturing method can be provided.

また、本発明の(3)のパッケージの製造方法によれば、第1端または第2端においてフリットと封止部材との接合強度を高めることができるとともに、溶融した封止部材による熱が第1端または第2端のフリットに伝達しても、まだ固化していないことから変形するなどして温度分布による応力を緩和することができるので、さらに信頼性の高いパッケージの製造方法を提供することができる。   According to the package manufacturing method of (3) of the present invention, the bonding strength between the frit and the sealing member can be increased at the first end or the second end, and the heat generated by the molten sealing member is increased. Even if it is transmitted to the frit of the first end or the second end, stress due to temperature distribution can be relieved by deformation because it is not yet solidified, and therefore a more reliable package manufacturing method is provided. be able to.

以下、本発明のパッケージの製造方法について、図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the package of this invention is demonstrated in detail, referring drawings.

図1は、本発明のパッケージの製造方法により製造したパッケージの(a)は上方透視図,(b)は(a)のI―I線による断面図である。図1において、1、2は、2枚の基体である第1基体,第2基体、3は2枚の基体1,2間に配置されたフリット、4は封止部材である。ここで、フリット3は、リング状の一部が第1端3a,第2端3bとで途切れたパターンとなっており、封止部材4はこの第1端3a,第2端3bとの間に配置され、フリット3と封止部材4とで閉空間を形成している。フリット3と封止部材4と第1および第2の基体1,2との間の封止空間には、色素増感型太陽電池素子や、有機EL素子等の電子部品が配設されているが、図示を省略している。なお、理解を容易にするために、フリット3および封止部材4に網掛けパターンを付している。また、以下の図面についても同様であるが、同様の箇所には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。   1A is a top perspective view of a package manufactured by the method for manufacturing a package of the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line II of FIG. In FIG. 1, 1 and 2 are a first substrate and a second substrate which are two substrates, 3 is a frit disposed between the two substrates 1 and 2, and 4 is a sealing member. Here, the frit 3 has a pattern in which part of the ring shape is interrupted at the first end 3a and the second end 3b, and the sealing member 4 is between the first end 3a and the second end 3b. The frit 3 and the sealing member 4 form a closed space. Electronic components such as a dye-sensitized solar cell element and an organic EL element are disposed in a sealing space between the frit 3, the sealing member 4, and the first and second substrates 1 and 2. However, illustration is abbreviate | omitted. In order to facilitate understanding, the frit 3 and the sealing member 4 are shaded. Moreover, although it is the same also about the following drawings, the same code | symbol is attached | subjected to the same location and the overlapping description is abbreviate | omitted.

本発明のパッケージの製造方法は大きく分けて3つの工程からなる。以下、各工程について詳述する。   The package manufacturing method of the present invention is roughly divided into three steps. Hereinafter, each process is explained in full detail.

〔フリット配置工程〕
基体1,2の間にフリット3を配置する。
[Frit placement process]
A frit 3 is disposed between the substrates 1 and 2.

第1基体1は、封止空間を保つ強度を有していれば特に限定されず、セラミック基板,ガラス基板,有機樹脂基板等を用いることができる。   The 1st base | substrate 1 will not be specifically limited if it has the intensity | strength which keeps sealing space, A ceramic substrate, a glass substrate, an organic resin substrate, etc. can be used.

第2基体2は、封止空間を保つ強度を有しているとともに、レーザ照射による熱を後述するフリット3に伝達することができれば特に限定されず、例えば、ガラス基板等を用いることができる。第2基体2は、第1基体1と同じ材料でもよいし、異なる材料でもよいが、両者の熱膨張係数が近いことが好ましい。また、図では、第2基体2は、第1基体1と同一形状であるが、両者の間に封止空間を形成できれば異なる形状であってもよい。   The second base 2 is not particularly limited as long as it has strength to maintain the sealed space and can transfer heat generated by laser irradiation to the frit 3 described later. For example, a glass substrate or the like can be used. The second substrate 2 may be the same material as the first substrate 1 or may be a different material, but it is preferable that the thermal expansion coefficients of both are close. In the figure, the second substrate 2 has the same shape as the first substrate 1, but may have a different shape as long as a sealing space can be formed therebetween.

また、第1および第2基体1,2は、内部に収容する電子部品に応じて選択すればよい。例えば、電子部品として色素増感型太陽電池素子や、有機EL素子を用いる場合には、透光性を有するものを選択し、第1または第2基体1,2を電子部品を形成する基板として用いる場合には、電子部品の製造に適したものを選択する。   Moreover, what is necessary is just to select the 1st and 2nd base | substrates 1 and 2 according to the electronic component accommodated in an inside. For example, when a dye-sensitized solar cell element or an organic EL element is used as an electronic component, a light-transmitting material is selected, and the first or second substrate 1 or 2 is used as a substrate for forming the electronic component. In the case of use, one suitable for manufacturing electronic parts is selected.

フリット3は、ガラス技術分野では、添加剤が含まれたパウダー状のガラス原料を指すが、ガラス技術分野以外では、一般的にガラス原料が溶融されて形成されたガラスを指すので、本明細書では、この両方を示すものとする。フリット3は、レーザを効率よく吸収して、溶融、あるいは軟化するために、光吸収材が含まれることが望ましい。また、低融点であることが望ましく、第1及び第2基体1,2との熱膨張差を小さくするよう組成を調整してもよい。とくにフリット3の材料や、その組成は、レーザ照射により加熱され溶融し、その後固化することで第1および第2基体1、2を接合できれば特に限定はされず、例えば低融点のはんだガラスなどを用いることができる。   The frit 3 refers to a powdery glass raw material containing an additive in the glass technical field, but generally refers to a glass formed by melting a glass raw material outside the glass technical field. Let us show both. It is desirable that the frit 3 includes a light absorbing material in order to efficiently absorb the laser and melt or soften it. Moreover, it is desirable that it has a low melting point, and the composition may be adjusted to reduce the difference in thermal expansion between the first and second substrates 1 and 2. In particular, the material and composition of the frit 3 are not particularly limited as long as the first and second substrates 1 and 2 can be joined by being heated and melted by laser irradiation and then solidified. For example, a low melting point solder glass or the like can be used. Can be used.

フリット3は第1基体1,第2基体2の間にリング状の一部が途切れたパターンに配置されればよく、第1基体1上に配置しても、第2基体2上に配置してもよい。また、図面では略直方形状であるが、楕円状でも多角形状でもよい。   The frit 3 only needs to be arranged in a pattern in which a part of the ring shape is interrupted between the first base 1 and the second base 2, and even if it is arranged on the first base 1, it is arranged on the second base 2. May be. Moreover, although it is substantially rectangular shape in drawing, elliptical shape or polygonal shape may be sufficient.

このフリット3の第1端3aと第2端3bとは、一方にレーザが照射されたときにレーザにより生じる温度分布が他方のフリット3を溶融させない程度に間隔をあけて互いに近接配置されていれば、その間隔は自由に設定できるが、例えば、後述するレーザの径と同程度から3倍以内とすればよい。   The first end 3a and the second end 3b of the frit 3 are arranged close to each other with an interval so that the temperature distribution generated by the laser when one of the frit 3 is irradiated with the laser does not melt the other frit 3. For example, the interval can be freely set. For example, the interval may be set to be about the same as the laser diameter described later or within three times.

さらに詳述すると、このフリット3の第1端3aと第2端3bとは、一方にレーザが照射されたときにレーザにより発生した温度勾配が、他方に影響を与えない位置まで離す事が望ましい。レーザ照射部は高温で、その周囲は低温となり、低温部には、引っ張り応力が発生するが、この応力は、温度勾配に比例する。よって、レーザを照射する一方の端部と、レーザが照射されない他方の端部の位置関係は、レーザを照射されない他方の端部での温度勾配が小さくなる距離まで、隔てて設けることが、クラックを回避する上で望ましい。レーザによって発生する温度勾配は、レーザの出力、レーザの照射面積、第1、第2基体1,2の厚みや材質、表面状態、雰囲気状態等により変化し、一概に距離と温度勾配の関係を規定できないが、一般的にレーザによる温度勾配は、レーザ照射部近辺で強くなり、ある程度離れると小さくなる。よって、概してレーザ照射径と同一から、レーザ照射径の10倍くらいの距離を隔てて、第1端3aと第2端3bを設けることが望ましい。   More specifically, it is desirable that the first end 3a and the second end 3b of the frit 3 are separated to a position where the temperature gradient generated by the laser when one of the frit 3 is irradiated with the laser does not affect the other. . The laser irradiation part is hot and the surroundings are cold, and tensile stress is generated in the low temperature part, but this stress is proportional to the temperature gradient. Therefore, the positional relationship between one end where the laser is irradiated and the other end where the laser is not irradiated is separated from the other end until the temperature gradient at the other end where the laser is not irradiated is small. It is desirable to avoid this. The temperature gradient generated by the laser varies depending on the laser output, the laser irradiation area, the thickness and material of the first and second substrates 1 and 2, the surface condition, the atmosphere condition, etc., and the relationship between the distance and the temperature gradient is generally determined. Although it cannot be specified, the temperature gradient due to the laser generally becomes strong in the vicinity of the laser irradiation portion, and becomes smaller after a certain distance. Therefore, it is desirable to provide the first end 3a and the second end 3b at a distance of about 10 times the laser irradiation diameter, generally the same as the laser irradiation diameter.

また、フリット3の幅は、0.3mmから3.0mmであることが望ましい。フリット3の幅が0.3mm以上の場合には、十分な接着面積を確保できるので、フリット3に不連続部や隙間が発生することにより封止が不完全となることに起因する密閉不良の発生を抑制することができる。また、十分な接着力で確実に基体1,2と接続されるので、信頼性の高いパッケージを提供できる。フリット3の幅が3.0mm以下であることから、溶融に多くの熱を必要としないため好ましい。特に、熱に弱い電子部品を封止空間に収容する場合にも、フリット3の周辺部分が高温にならないので、フリット3溶融時の熱が電子部品に伝達してしまうことを抑制することができる。よって、フリット3の幅は、0.3mmから3.0mmの範囲が望ましい。また、フリット3の高さは、3μmから500μmの間が望ましい。フリット3の高さが3μm以上であれば、基体1,2を間隔を開けて保持することができると共に、フリット3における隙間や不連続部分の発生を抑制することで安定して封止空間を保持することができる。一方、高さが500μm以下であれば、レーザ照射による熱が厚み方向にも伝達しやすく、溶融に必要な熱量を抑制することができる。これにより、熱に弱い電子部品を封止空間に収容する場合においても、フリット3の周辺部分が高温にならず、レーザ照射による熱が電子部品に伝達することを抑制できるので、収容する電子部品によらず適用可能な汎用性の高いパッケージの製造方法を提供できる。従って、フリット3の高さは3μmから500μmの間が望ましい。   The width of the frit 3 is preferably 0.3 mm to 3.0 mm. When the width of the frit 3 is 0.3 mm or more, a sufficient adhesion area can be ensured. Therefore, the sealing failure due to incomplete sealing due to the generation of discontinuous portions or gaps in the frit 3. Occurrence can be suppressed. In addition, since it is securely connected to the bases 1 and 2 with sufficient adhesive force, a highly reliable package can be provided. Since the width of the frit 3 is 3.0 mm or less, a large amount of heat is not required for melting, which is preferable. In particular, even when an electronic component that is sensitive to heat is accommodated in the sealed space, the peripheral portion of the frit 3 does not reach a high temperature, so that it is possible to suppress the transfer of heat to the electronic component when the frit 3 melts. . Therefore, the width of the frit 3 is desirably in the range of 0.3 mm to 3.0 mm. The height of the frit 3 is preferably between 3 μm and 500 μm. If the height of the frit 3 is 3 μm or more, the bases 1 and 2 can be held at an interval, and a sealed space can be stably formed by suppressing generation of gaps and discontinuous portions in the frit 3. Can be held. On the other hand, if the height is 500 μm or less, heat by laser irradiation can be easily transmitted in the thickness direction, and the amount of heat necessary for melting can be suppressed. As a result, even when an electronic component that is sensitive to heat is accommodated in the sealed space, the peripheral portion of the frit 3 does not become high temperature, and heat from the laser irradiation can be suppressed from being transmitted to the electronic component. Regardless of this, it is possible to provide a highly versatile package manufacturing method that can be applied. Therefore, the height of the frit 3 is preferably between 3 μm and 500 μm.

〔レーザ照射工程〕
このように第1基体1,第2基体2を、フリット3を介して積層した状態で、第2基体2を介してフリット3にレーザが照射されるようにレーザを走査する。レーザ照射によりフリット3を溶融した後固化することで、第1基体1と第2基体2とを接合する。
[Laser irradiation process]
In this state, the first base 1 and the second base 2 are stacked via the frit 3, and the laser is scanned so that the laser is irradiated to the frit 3 via the second base 2. The frit 3 is melted by laser irradiation and then solidified to join the first base 1 and the second base 2 together.

ここで、照射するレーザの径は、フリット3の幅全体を十分に発熱させ、幅全体において溶融させるために、フリット3の幅をD1、レーザの径をD2とすれば、1.01D1<D2<3.0D1の範囲が望ましい。D2が1.01D1よりも大きければ、レーザ照射の位置ずれや、フリット3の寸法誤差は発生しても、レーザをフリット3幅全体に当てることができ、部分的に未溶着となることに起因する密閉不良の発生を抑制できる。また、D2が、3.0D1より小さければ、照射したエネルギーを効率的に利用できるとともに、フリット3の外側に漏洩するレーザ照射面を小さく抑えることができるので、レーザ漏洩部による周囲部材の高温化を抑制し、熱的な不安定の発生を抑制することができる。よって、レーザ径D2は1.01D1<D2<3.0D1の範囲が望ましい。   Here, the diameter of the laser to be irradiated is 1.01D1 <D2 when the width of the frit 3 is D1 and the diameter of the laser is D2 in order to sufficiently generate heat and melt the entire width of the frit 3. A range of <3.0D1 is desirable. If D2 is larger than 1.01D1, the laser can be applied to the entire width of the frit 3 even if a laser beam misalignment or a dimensional error of the frit 3 occurs, resulting in partial unwelding. The occurrence of poor sealing can be suppressed. Further, if D2 is smaller than 3.0D1, the irradiated energy can be used efficiently, and the laser irradiation surface leaking to the outside of the frit 3 can be kept small. And the occurrence of thermal instability can be suppressed. Therefore, the laser diameter D2 is preferably in the range of 1.01D1 <D2 <3.0D1.

レーザの走査方法は、1本のレーザで行なっても、複数のレーザで行なってもよいが、一度レーザ照射により溶融し固化したフリットに再度レーザ照射されないように、個々のレーザの軌跡が重複しないように設定する。例えば、1本のレーザで行なう場合には、第1端3aから第2端3bまでフリット3のパターンをトレースさせればよい。2本のレーザで行なう場合には、例えば、フリット3のパターンを2区間に分割し、分割点A点から第1端3a,第2端3bまで互いに離れるように走査させればよい。   The laser scanning method may be performed by a single laser or a plurality of lasers, but the trajectories of the individual lasers do not overlap so that the frit once melted and solidified by laser irradiation is not irradiated again. Set as follows. For example, in the case of using a single laser, the pattern of the frit 3 may be traced from the first end 3a to the second end 3b. In the case of using two lasers, for example, the pattern of the frit 3 may be divided into two sections and scanned so as to be separated from the division point A to the first end 3a and the second end 3b.

このようにレーザを走査することで、レーザ照射の終点において熱が伝達する範囲内に一度固化したフリット3が存在しないため、レーザ照射に起因するフリット3及び基体1,2のクラック発生を抑制することができる。   By scanning the laser in this manner, the frit 3 once solidified does not exist in the range where heat is transferred at the end point of laser irradiation, so that the generation of cracks in the frit 3 and the substrates 1 and 2 due to laser irradiation is suppressed. be able to.

〔封止工程〕
次に、フリット3の第1端3aと第2端3bとの間の未溶着部分に封止部材4を配置して基体1,2とフリット3,封止部材4で囲まれる封止空間を形成する。
[Sealing process]
Next, the sealing member 4 is disposed in the unwelded portion between the first end 3 a and the second end 3 b of the frit 3 to form a sealing space surrounded by the bases 1, 2, the frit 3, and the sealing member 4. Form.

封止部材4は、フリット3のパターンと合わせて閉空間を形成するように配置されれば、特にその形状に限定はない。図1(a)に示すように、フリット3の第1端3aと第2端3bとの間にフリット3の幅と等しい幅で配置してもよいし、図2(a)に示すようにフリット3の幅よりも太くてもよい。また、閉空間を実現できればフリット3の幅よりも細くてもよい。さらに、図2(b)に示すように、フリット3の第1端3a,第2端3bを覆うような形状としてもよいし、図2(c)に示すように、平面視でフリット3のパターンの外側から第1端3aと第2端3bとの間を塞いでもよい。   The shape of the sealing member 4 is not particularly limited as long as the sealing member 4 is arranged so as to form a closed space together with the pattern of the frit 3. As shown in FIG. 1A, it may be arranged between the first end 3a and the second end 3b of the frit 3 with a width equal to the width of the frit 3, or as shown in FIG. It may be thicker than the width of the frit 3. Further, if the closed space can be realized, the width of the frit 3 may be narrower. Further, as shown in FIG. 2 (b), the frit 3 may be configured to cover the first end 3a and the second end 3b, or as shown in FIG. You may block | close between the 1st end 3a and the 2nd end 3b from the outer side of a pattern.

この封止部材4の配置方法は、フリット3と共に封止空間を封止することができればその方法に限定はないが、例えば以下のような方法を用いればよい。   The arrangement method of the sealing member 4 is not limited as long as the sealing space can be sealed together with the frit 3. For example, the following method may be used.

第1の方法
レーザ照射工程の後、溶融したガラス部材からなる封止部材4を第1端3aと第2端3bとの微小な間隙をつなぐように流し込んで固化する。
First Method After the laser irradiation step, the sealing member 4 made of a molten glass member is poured and solidified so as to connect a minute gap between the first end 3a and the second end 3b.

溶融した封止部材4の供給方法は、例えば、フリット配置工程において、封止部材4の予備パターン4’を形成しておき、レーザ照射工程の後、続いて封止部材4を構成するための予備パターン4’にレーザを照射して溶融させればよい。封止部材4の予備パターン4’としては、フリット3のパターンと一体化したパターンでもよいし、分離したパターンでもよい。例えば、図3(a)に示すようにドット状のパターンをフリット3の第1端3aと第2端3bとの間に両者から間隔をあけて設けてもよいし、図3(b)に示すように、フリット3の第1端3aまたは第2端3bに連続して設けてもよいし、図3(c)に示すように、平面視でフリット3のパターンの外周部側に第1端3aと第2端3bとの間隔に対応するように配置してもよい。   The method for supplying the molten sealing member 4 is, for example, for forming a preliminary pattern 4 ′ of the sealing member 4 in the frit arranging step, and subsequently configuring the sealing member 4 after the laser irradiation step. The preliminary pattern 4 ′ may be melted by irradiating a laser. The preliminary pattern 4 ′ of the sealing member 4 may be a pattern integrated with the pattern of the frit 3 or a separated pattern. For example, as shown in FIG. 3 (a), a dot-like pattern may be provided between the first end 3a and the second end 3b of the frit 3 with a gap therebetween, or in FIG. 3 (b). As shown in FIG. 3, the first end 3a or the second end 3b of the frit 3 may be provided continuously, or as shown in FIG. You may arrange | position so that it may respond | correspond to the space | interval of the end 3a and the 2nd end 3b.

このようにして供給された溶融した封止部材4を流し込むための推進力は、基体1,2を傾けることで発生する重力を用いてもよいし、温風やプローブを用いた外力を用いてもよい。例えば、重力を用いる場合には、図3(a)では左右の辺が順に下になるように傾ければよいし、図3(b)では左側が下になるように、図3(c)では上側が下になるように、それぞれ傾ければよい。   As the propulsive force for pouring the molten sealing member 4 supplied in this way, gravity generated by tilting the substrates 1 and 2 may be used, or an external force using warm air or a probe is used. Also good. For example, in the case of using gravity, in FIG. 3 (a), the left and right sides may be inclined in order, and in FIG. 3 (b), the left side is down, FIG. 3 (c). Then, it is sufficient to tilt each so that the upper side is down.

ここで、この封止部材4の配置を、レーザ照射工程による第1端3aまたは第2端3cにおけるフリット3が溶融している状態で行なうことが好ましい。このようにすることで、溶融したフリット3と封止部材4とが強固に接合し、両者の接続部分においても隙間なく接続することができるので、安定した封止空間を実現できる。また、溶融した封止部材4による熱がフリット3の第1端3aまたは第2端3cに伝達しても、フリット3は溶融しているので変形するなどして封止部材4による応力を緩和することができ、より信頼性の高い製造方法を提供することができる。なお、この封止部材4による熱の伝達は、そもそも必要量が極少量のため熱容量も小さく、かつ、レーザ照射による熱の伝達に比べれば極めて小さいものなので、第1端3aまたは第2端3cのフリット3が固化していても、従来技術のような大きな問題とはならない。   Here, the sealing member 4 is preferably arranged in a state where the frit 3 at the first end 3a or the second end 3c is melted by the laser irradiation process. By doing in this way, since the melted frit 3 and the sealing member 4 are firmly joined and can be connected without a gap at the connecting portion between them, a stable sealing space can be realized. Further, even if heat from the melted sealing member 4 is transmitted to the first end 3a or the second end 3c of the frit 3, the frit 3 is melted so that the stress caused by the sealing member 4 is relieved by deformation. Therefore, a more reliable manufacturing method can be provided. The heat transfer by the sealing member 4 is small in the first place because the necessary amount is extremely small, and is extremely small compared to the heat transfer by laser irradiation, so the first end 3a or the second end 3c. Even if the frit 3 is solidified, it does not become a big problem as in the prior art.

なお、図3(b)に示すように、封止部材4の予備パターン4’がフリット3のパターンに連続して配置されて一体化している場合には、予備パターン4’へのレーザ照射時の温度分布が、予備パターン4’と連続しているフリット3(図では第2端3b)にも伝達するので、フリット3の予備パターン4’と連続している部分(図では第2端3b)が溶融して状態で行なうことが好ましい。   As shown in FIG. 3B, when the preliminary pattern 4 ′ of the sealing member 4 is continuously arranged and integrated with the pattern of the frit 3, the preliminary pattern 4 ′ is irradiated with laser. Is also transmitted to the frit 3 (second end 3b in the figure) that is continuous with the preliminary pattern 4 ', and therefore, the portion (second end 3b in the figure) that is continuous with the preliminary pattern 4'. ) Is preferably melted.

第2の方法
外部から封止部材4を供給して、フリット3の第1端3aと第2端3bとの間に配置する。例えば、溶融したガラス部材を注入後固化することで封止部材4を配置してもよいし、有機樹脂からなる封止部材4を注入して配置してもよい。
Second Method The sealing member 4 is supplied from the outside and disposed between the first end 3 a and the second end 3 b of the frit 3. For example, the sealing member 4 may be disposed by solidifying the molten glass member after pouring, or the sealing member 4 made of an organic resin may be poured and disposed.

このようにして配置される封止部材4の材料は、その配置方法によって多少の制約が生じるが、基本的にはフリット3と共に封止空間を封止することができればその材料に限定はない。例えば、封止部材4の配置方法として第1の方法を採用する場合には、フリット3と同じ材料を用いることもできる。また、第2の方法を採用する場合には、有機樹脂材料などを用いることができるが、基体1,2と熱膨張係数が近い材料を用いることが好ましい。   Although the material of the sealing member 4 arranged in this way is somewhat restricted depending on the arrangement method, the material is basically not limited as long as the sealing space can be sealed together with the frit 3. For example, when the first method is adopted as the arrangement method of the sealing member 4, the same material as the frit 3 can be used. When the second method is adopted, an organic resin material or the like can be used, but a material having a thermal expansion coefficient close to that of the substrates 1 and 2 is preferably used.

上記3つの工程を経ることで、基体1,2,フリット3,封止部材4とで囲まれる封止空間を有するパッケージを提供することができる。   By passing through the above three steps, a package having a sealed space surrounded by the bases 1, 2, frit 3, and sealing member 4 can be provided.

このようにして、フリット3による基体1,2の接合と封止部材4による基体1,2の接合との2段階で封止空間を形成することで、従来のように、一度固化したフリット3が再溶融することに起因するフリット3及び基体1,2に生じるクラック発生を抑制しつつ、封止空間を形成することができるので、信頼性の高いパッケージの製造方法を提供することができる。   In this way, the sealing space is formed in two stages, that is, the joining of the bases 1 and 2 by the frit 3 and the joining of the bases 1 and 2 by the sealing member 4. Since the sealing space can be formed while suppressing the generation of cracks in the frit 3 and the bases 1 and 2 resulting from remelting, it is possible to provide a highly reliable package manufacturing method.

特に、従来のようにレーザの出力を弱めたり、焦点をぼかしたり、走査速度を遅くしたりするなど、レーザの照射時間や照射面積を必要以上に長くしたり、広範囲にしたりするなどする必要がなくなるので、必要最小限のレーザ照射によりパッケージを製造することができる。すなわち、レーザによる熱がフリット3を中心とした局所的な部分のみに伝達され、中に収容すべき電子部品が熱損傷を受けることを抑制することができる。このため、例え、熱に弱い有機物を用いた電子部品、例えば、有機EL素子や色素増感型胎動電池素子などを封止空間の内部に収容した場合においても、レーザ照射の熱が電子部品に伝達することなく、パッケージを製造することができる。つまり、熱に対する耐性の低い電子部品に対しても、電子部品が熱損傷を受けることなくパッケージを製造することができるので、このような電子部品の封止に適している。このように、内部に収容する電子部品によらずクラックの発生を抑制した、汎用性の高いパッケージの製造方法を提供できる。   In particular, it is necessary to make the laser irradiation time and irradiation area longer than necessary, or to widen the range, such as weakening the laser output, blurring the focus, slowing the scanning speed as in the past. Therefore, the package can be manufactured with the minimum necessary laser irradiation. In other words, heat from the laser is transmitted only to a local portion centered on the frit 3, and it is possible to prevent the electronic component to be accommodated therein from being damaged by heat. For this reason, even when an electronic component using an organic substance that is weak against heat, for example, an organic EL element or a dye-sensitized embryonic battery element is accommodated in the sealed space, the heat of laser irradiation is applied to the electronic component. The package can be manufactured without transmission. That is, even for an electronic component having low heat resistance, the package can be manufactured without causing the electronic component to be damaged by heat, which is suitable for sealing such an electronic component. As described above, it is possible to provide a highly versatile package manufacturing method that suppresses the generation of cracks regardless of the electronic components housed inside.

本発明のパッケージの製造方法は、レーザの軌跡の終点をフリットの途切れる部分に設定することで、既に固化したフリット3を再溶融させることを防ぐことが重要であり、用いるレーザの本数や、各レーザの軌跡の始点および終点、封止部材4の配置方法は自由に設定できる。   In the manufacturing method of the package of the present invention, it is important to prevent remelting of the already solidified frit 3 by setting the end point of the laser trajectory to a portion where the frit is interrupted. The start and end points of the laser trajectory and the arrangement method of the sealing member 4 can be freely set.

例えば、図1(a)では、フリット3のパターンを2区間に分ける分割点Aをその分割区間の長さが等しくなるようにしているが、異なるようにしてもよい。   For example, in FIG. 1A, the division points A that divide the frit 3 pattern into two sections are made equal in length, but may be different.

さらに、また、図1〜3では、フリット3の途切れる部分(第1端3aと第2端3bとの間)を封止空間の平面形状の角部に設けたが、直線部分に設けてもよい。各レーザの始点、および、終点をフリット3の直線部分に設けた場合には、始点、終点で発生する熱応力が、フリット3の角部の形状的な要因による応力の集中が付加される影響を回避でき、より安定に封止を行う事ができる。   Furthermore, in FIGS. 1 to 3, the portion where the frit 3 is interrupted (between the first end 3 a and the second end 3 b) is provided at the corner of the planar shape of the sealing space. Good. In the case where the start point and end point of each laser are provided in the straight line portion of the frit 3, the thermal stress generated at the start point and end point is affected by the stress concentration due to the shape factor of the corner of the frit 3. Can be avoided, and sealing can be performed more stably.

また、図1では、第1基体1,第2基体2として平らな基板状のものを例に説明したが、一方がキャップ状となっていてもよい。この場合には、基板状の一方の基体が、キャップ状の他方の基体の蓋をするように両者を対向させ、キャップ状の基体の開口部側上面にフリット3や封止部材4を配置すればよい。   In FIG. 1, the first substrate 1 and the second substrate 2 are described as examples of flat substrates, but one of them may be a cap. In this case, the substrate-like base is placed opposite to each other so as to cover the cap-like base, and the frit 3 and the sealing member 4 are disposed on the upper surface of the cap-like base. That's fine.

外形寸法60×60×厚み1.1mmのガラス基板2枚を第1及び第2基体1,2として、図1(a)に示すようなリング状の一部分が途切れたパターンのフリット3を介して積層し、このガラスフリット3をレーザで溶着することで、パッケージを製造した。フリット3は上下ガラス間の30×30mmの領域に幅1mmでほぼリング状に形成した。途切れた部分(第1端3aと第2端3b)の間隔は1mmとした。この基本条件のもと、第1端3aから第2端3bまでフリット3のパターンをトレースするようにレーザ照射を行ない、その後溶融したガラス部材からなる封止部材4を第1端3aと第2端3bとの間に流し込んでパッケージを100個製造した。その結果、100個すべてのパッケージにクラックが発生することはなかった。   Two glass substrates having outer dimensions of 60 × 60 × 1.1 mm in thickness are used as first and second bases 1 and 2 through a frit 3 having a pattern in which a ring-shaped part is broken as shown in FIG. The glass frit 3 was laminated and welded with a laser to produce a package. The frit 3 was formed in a ring shape with a width of 1 mm in a 30 × 30 mm region between the upper and lower glasses. The interval between the interrupted portions (the first end 3a and the second end 3b) was 1 mm. Under this basic condition, laser irradiation is performed so that the pattern of the frit 3 is traced from the first end 3a to the second end 3b, and then the sealing member 4 made of a molten glass member is connected to the first end 3a and the second end. 100 packages were manufactured by pouring between the ends 3b. As a result, no cracks occurred in all 100 packages.

比較のため、従来と同一の製造方法で100個のパッケージを製造した。なお、フリット3のパターンは、途切れた部分のないリング状とした。その結果、100個すべてのパッケージにクラックの発生が見られた。   For comparison, 100 packages were manufactured by the same manufacturing method as before. In addition, the pattern of the frit 3 was made into the ring shape without a broken part. As a result, cracks were observed in all 100 packages.

(a),(b)はそれぞれ、フリットにより封止されたパッケージを示す平面図および断面図である。(A), (b) is the top view and sectional drawing which show the package sealed by the frit, respectively. (a)〜(c)は、それぞれ本発明のパッケージの製造方法における封止部材の配置例を示す平面図である。(A)-(c) is a top view which shows the example of arrangement | positioning of the sealing member in the manufacturing method of the package of this invention, respectively. (a)〜(c)は、それぞれ本発明のパッケージの製造方法における封止部材の予備パターンの配置例を示す平面図である。(A)-(c) is a top view which shows the example of arrangement | positioning of the preliminary pattern of the sealing member in the manufacturing method of the package of this invention, respectively. 従来のパッケージの製造方法を示す平面図である。It is a top view which shows the manufacturing method of the conventional package.

符号の説明Explanation of symbols

1 第1基体
2 第2基体
3 フリット
3a 第1端
3b 第2端
4 封止部材
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st base | substrate 2 2nd base | substrate 3 Frit 3a 1st end 3b 2nd end 4 Sealing member

Claims (4)

対向配置させた2枚の基体の間に封止された空間を有するパッケージを製造する方法であって、
前記2枚の基体の間に、前記2枚の基体が重なる方向からみたときに、リング状の1部分が第1端と第2端とで途切れたパターンを形成するようにフリットを配置するフリット配置工程と、
前記フリットをトレースするようにレーザを照射し、前記フリットを溶融させて前記2枚の基体を接合するレーザ照射工程と、
前記フリットの前記パターンと合わせて閉空間を形成するように、前記フリットの前記第1端と前記第2端との間に封止部材を配置して、前記2枚の基体の間に封止された空間を形成する封止工程と、を含み、
前記フリット配置工程において、前記第1端と前記第2端とが、前記レーザ照射工程において照射するレーザの径以上3倍以下の間隔をあけて近接配置されるよう前記フリットを配置するパッケージの製造方法。
A method of manufacturing a package having a sealed space between two substrates disposed opposite to each other,
A frit arranged between the two bases so that a ring-shaped part of the first base and the second end forms a discontinuous pattern when viewed from the direction in which the two bases overlap. The placement process;
A laser irradiation step of irradiating a laser so as to trace the frit, melting the frit and joining the two substrates;
A sealing member is disposed between the first end and the second end of the frit so as to form a closed space together with the pattern of the frit, and sealed between the two substrates. Forming a sealed space, and
In the frit arranging step, said second end and said first end, a laser on the diameter or irradiating in the laser irradiation step, a package for arranging the frit to be close spaced three times or less Production method.
前記封止工程において、前記封止部材として前記フリットと同一材料を用いる、請求項1に記載のパッケージの製造方法。 The package manufacturing method according to claim 1, wherein in the sealing step, the same material as the frit is used as the sealing member. 対向配置させた2枚の基体の間に封止された空間を有するパッケージを製造する方法であって、
前記2枚の基体の間に、前記2枚の基体が重なる方向からみたときに、リング状の1部分が第1端と第2端とで途切れたパターンを形成するようにフリットを配置するフリット配置工程と、
前記フリットをトレースするようにレーザを照射し、前記フリットを溶融させて前記2枚の基体を接合するレーザ照射工程と、
前記フリットの前記パターンと合わせて閉空間を形成するように、前記フリットの前記第1端と前記第2端との間に封止部材を配置して、前記2枚の基体の間に封止された空間を形成する封止工程と、を含み、
前記封止工程において、前記封止部材としてガラス部材を用い、溶融させた前記ガラス部材を前記フリットの前記第1端と前記第2端との間に流し込んだ後に固化させるパッケージの製造方法。
A method of manufacturing a package having a sealed space between two substrates disposed opposite to each other,
A frit arranged between the two bases so that a ring-shaped part of the first base and the second end forms a discontinuous pattern when viewed from the direction in which the two bases overlap. The placement process;
A laser irradiation step of irradiating a laser so as to trace the frit, melting the frit and joining the two substrates;
A sealing member is disposed between the first end and the second end of the frit so as to form a closed space together with the pattern of the frit, and sealed between the two substrates. Forming a sealed space, and
In the sealing step, a method for manufacturing a package, wherein a glass member is used as the sealing member, and the molten glass member is poured between the first end and the second end of the frit and then solidified.
前記封止工程は、前記レーザ照射工程において前記第1端または前記第2端の前記フリットが溶融されてから固化される間に行なう、請求項3に記載のパッケージの製造方法。 The package manufacturing method according to claim 3, wherein the sealing step is performed while the frit at the first end or the second end is melted and solidified in the laser irradiation step.
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