JP5260279B2 - Process for the preparation of 2,5-2 substituted tetrahydropyran derivatives by reductive elimination of the corresponding 4-halogen derivatives - Google Patents
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- 150000003527 tetrahydropyrans Chemical class 0.000 title claims description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 42
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 title claims description 24
- 238000006894 reductive elimination reaction Methods 0.000 title description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 12
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 37
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 34
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 29
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 claims description 27
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 claims description 25
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 24
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 19
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical group CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 11
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 10
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 5
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000005725 cyclohexenylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 75
- -1 preferably F Chemical compound 0.000 description 54
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 49
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 42
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 35
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 31
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 27
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 23
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 22
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 19
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 16
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 16
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 16
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical class C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 12
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 11
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 10
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 10
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 0 C*CC(C)*N=C1CC(*N)C1 Chemical compound C*CC(C)*N=C1CC(*N)C1 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 9
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 9
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 9
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 9
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 9
- SCHZCUMIENIQMY-UHFFFAOYSA-N tris(trimethylsilyl)silicon Chemical compound C[Si](C)(C)[Si]([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C SCHZCUMIENIQMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 229940035637 spectrum-4 Drugs 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 7
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 6
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 6
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 5
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000002815 homogeneous catalyst Substances 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004309 pyranyl group Chemical class O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 4
- QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M rhodium;triphenylphosphane;chloride Chemical compound [Cl-].[Rh].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QBERHIJABFXGRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-non-5-ene Chemical compound C1CCN=C2CCCN21 SGUVLZREKBPKCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 3-Buten-1-ol Chemical compound OCCC=C ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 3
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 3
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 3
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 3
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006187 phenyl benzyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 3
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 3
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 3
- DBGVGMSCBYYSLD-UHFFFAOYSA-N tributylstannane Chemical compound CCCC[SnH](CCCC)CCCC DBGVGMSCBYYSLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011995 wilkinson's catalyst Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- 125000004955 1,4-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[*:2] 0.000 description 2
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 2
- OEBXWWBYZJNKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,3,4,6,7,8-hexahydropyrimido[1,2-a]pyrimidine Chemical compound C1CCN=C2N(C)CCCN21 OEBXWWBYZJNKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSVBQUZNVUWORE-UHFFFAOYSA-N 2-bromooxane Chemical compound BrC1CCCCO1 WSVBQUZNVUWORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVBVKTPDEWDNRW-UHFFFAOYSA-N 4-bromooxane Chemical compound BrC1CCOCC1 IVBVKTPDEWDNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHRSKOBIDIDMJZ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorooxane Chemical class ClC1CCOCC1 DHRSKOBIDIDMJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150009585 GEP3 gene Proteins 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N TMG Natural products CNC(N)=NC LINDOXZENKYESA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 2
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005686 cross metathesis reaction Methods 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002638 heterogeneous catalyst Substances 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical group [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 description 2
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- KXCAEQNNTZANTK-UHFFFAOYSA-N stannane Chemical class [SnH4] KXCAEQNNTZANTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JABYJIQOLGWMQW-UHFFFAOYSA-N undec-4-ene Chemical compound CCCCCCC=CCCC JABYJIQOLGWMQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- KDFRADWZKMRRPJ-UHFFFAOYSA-N (4-methoxybenzoyl) 4-methoxybenzenecarboperoxoate Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(OC)C=C1 KDFRADWZKMRRPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylguanidine Chemical compound CN(C)C(=N)N(C)C KYVBNYUBXIEUFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 18-crown-6 Chemical compound C1COCCOCCOCCOCCOCCO1 XEZNGIUYQVAUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTJGCGBAGAZNLA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3,4-dihydro-2h-pyran Chemical compound CC1CCC=CO1 YTJGCGBAGAZNLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- DFRWCJYSXGNOFD-UHFFFAOYSA-N 4,6,11-tri(propan-2-yl)-1,4,6,11-tetraza-5-phosphabicyclo[3.3.3]undecane Chemical compound C1CN(C(C)C)P2N(C(C)C)CCN1CCN2C(C)C DFRWCJYSXGNOFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEOLMEORHAQVCW-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-(4-bromophenyl)-5-methyloxane Chemical compound C1C(Br)C(C)COC1C1=CC=C(Br)C=C1 LEOLMEORHAQVCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RINYIJCHDOFBCO-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-(4-bromophenyl)oxane Chemical compound C1C(Br)CCOC1C1=CC=C(Br)C=C1 RINYIJCHDOFBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSABXGSPJAPCHJ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2-methyloxane Chemical compound CC1CC(Cl)CCO1 XSABXGSPJAPCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 8-[3-(1-cyclopropylpyrazol-4-yl)-1H-pyrazolo[4,3-d]pyrimidin-5-yl]-3-methyl-3,8-diazabicyclo[3.2.1]octan-2-one Chemical class C1(CC1)N1N=CC(=C1)C1=NNC2=C1N=C(N=C2)N1C2C(N(CC1CC2)C)=O HBAQYPYDRFILMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DMAVLONMRZZKEX-UHFFFAOYSA-N CCC(COC(C1)c(cc2)ccc2C(OC)=O)C1Br Chemical compound CCC(COC(C1)c(cc2)ccc2C(OC)=O)C1Br DMAVLONMRZZKEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZAMOKYEOIXTPF-UHFFFAOYSA-N CCC1=CCC(c(cc2)ccc2C(OC)=O)OC1 Chemical compound CCC1=CCC(c(cc2)ccc2C(OC)=O)OC1 RZAMOKYEOIXTPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDYLGUHJSHIZAW-UHFFFAOYSA-N CCCC(CC1)CCC1C(COC(C1)C2CCC(CCC)CC2)C1Br Chemical compound CCCC(CC1)CCC1C(COC(C1)C2CCC(CCC)CC2)C1Br FDYLGUHJSHIZAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTWWIMXQGGQOSC-UHFFFAOYSA-N CCCC(CC1)CCC1C1C=CC(C2CCC(CCC)CC2)OC1 Chemical compound CCCC(CC1)CCC1C1C=CC(C2CCC(CCC)CC2)OC1 JTWWIMXQGGQOSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBRWMMGXGSWXCC-UHFFFAOYSA-N CCCC(CC1)CCC1C1OCC(C(CC2)CCC2C(C)CC)=CC1 Chemical compound CCCC(CC1)CCC1C1OCC(C(CC2)CCC2C(C)CC)=CC1 BBRWMMGXGSWXCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006952 Enyne metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- NRWASVHONKTFJI-UHFFFAOYSA-N FC(c(c(F)cc(C(C1)OCCC1Br)c1)c1F)(Oc(cc1F)cc(F)c1F)F Chemical compound FC(c(c(F)cc(C(C1)OCCC1Br)c1)c1F)(Oc(cc1F)cc(F)c1F)F NRWASVHONKTFJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBYCHSUISYDNFR-UHFFFAOYSA-N FC(c(c(F)cc(C1OCC=CC1)c1)c1F)(Oc(cc1F)cc(F)c1F)F Chemical compound FC(c(c(F)cc(C1OCC=CC1)c1)c1F)(Oc(cc1F)cc(F)c1F)F BBYCHSUISYDNFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010082 LiAlH Inorganic materials 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 238000006680 Reformatsky reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004990 Smectic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- PQLVXDKIJBQVDF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;hydrate Chemical compound O.CC(O)=O PQLVXDKIJBQVDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012445 acidic reagent Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005865 alkene metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNPBGYBHLCEVMK-UHFFFAOYSA-N benzylidene(dichloro)ruthenium;tricyclohexylphosphanium Chemical compound Cl[Ru](Cl)=CC1=CC=CC=C1.C1CCCCC1[PH+](C1CCCCC1)C1CCCCC1.C1CCCCC1[PH+](C1CCCCC1)C1CCCCC1 PNPBGYBHLCEVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCDPQMAOJARMTG-UHFFFAOYSA-M benzylidene-[1,3-bis(2,4,6-trimethylphenyl)imidazolidin-2-ylidene]-dichlororuthenium;tricyclohexylphosphanium Chemical compound C1CCCCC1[PH+](C1CCCCC1)C1CCCCC1.CC1=CC(C)=CC(C)=C1N(CCN1C=2C(=CC(C)=CC=2C)C)C1=[Ru](Cl)(Cl)=CC1=CC=CC=C1 FCDPQMAOJARMTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M bis(2-methylpropyl)alumanylium;chloride Chemical compound CC(C)C[Al](Cl)CC(C)C HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical group 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000001212 derivatisation Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013213 extrapolation Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000043 hydrogen iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004996 licristal® Substances 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- KEGSPXXFQCWAKY-UHFFFAOYSA-N methyl 8-(4-chloro-6-hexyloxan-3-yl)octanoate Chemical compound CCCCCCC1CC(Cl)C(CCCCCCCC(=O)OC)CO1 KEGSPXXFQCWAKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005650 substituted phenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000083 tin tetrahydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
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- C07D309/08—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/06—Radicals substituted by oxygen atoms
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- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
本発明は、ハロゲン化されたテトラヒドロピラン誘導体およびその前駆体からテトラヒドロピラン誘導体を調製する方法に関する。 The present invention relates to a method for preparing tetrahydropyran derivatives from halogenated tetrahydropyran derivatives and precursors thereof.
分子の中心的構成要素としてテトラヒドロピラン環を有する化合物類は、例えば、天然または合成芳香物質、薬剤またはメソゲン性または液晶化合物の成分として、またはこれらの物質を合成するための前駆体として、有機化学において重要な役割を演じている。 Compounds having a tetrahydropyran ring as the central component of the molecule can be used, for example, as a component of natural or synthetic fragrances, drugs or mesogenic or liquid crystal compounds, or as precursors for the synthesis of these substances. Plays an important role.
ここで特に興味深いものは、2位および/または5位に適切な(メソゲン性)置換基、環および/または環系を有するメソゲン性または液晶テトラヒドロピラン誘導体であるが、それらは液晶媒体中での使用にとって幾つかの有利な電気光学的および更に物理的特性を有しているからである。従って、基本的に、構造的多様性の大きい各種の2,5−2置換テトラヒドロピラン誘導体の入手方法の途を加えて開く非常に単純で有効な合成方法に対する要求がある。加えて、テトラヒドロピラン誘導体は既に所望の立体化学を完全または部分的に調製の間に有していなければならない。 Of particular interest here are mesogenic or liquid-crystalline tetrahydropyran derivatives having suitable (mesogenic) substituents, rings and / or ring systems in the 2- and / or 5-position, which are It has several advantageous electro-optical and further physical properties for use. Therefore, there is basically a need for a very simple and effective synthetic method that opens up the way to obtain various 2,5-2 substituted tetrahydropyran derivatives with great structural diversity. In addition, the tetrahydropyran derivative must already have the desired stereochemistry completely or partially during preparation.
2つの既知のこの型の合成方法は、金属アルキリデン錯体触媒によるオレフィンメタセシス反応の使用に基づく。これらの方法の助けで、2,5−2置換ジヒドロピラン誘導体が、閉環交差メタセシス(DE102004021338A1;特許文献1)またはエニンメタセシスおよび更に交差メタセシスしてもよい(DE102004022891A1;特許文献2)ことにより入手でき、それぞれの場合で、適当な金属カルベン錯体(金属アルキリデン錯体)(例えば、Grubbs第一世代またはGrubbs第二世代または関連する触媒、とりわけWO96/04289(特許文献3);WO97/06185(特許文献4);T.M.Trnkaら、Acc.Chem.Res.2001、34、18(非特許文献1);S.K.Armstrong、J.Chem.Soc.、Perkin Trans.I、1998、371(非特許文献2);J.Renaudら、Angew.Chem.2000、112、3231(非特許文献3)参照)。2つの方法の概略がスキーム1aおよびスキーム1bにそれぞれ示されており、「radical1」および「radical2」は、それぞれ適当な(メソゲン性)置換基、環および環系を表す。よって、所望の2,5−2置換テトラヒドロピラン誘導体も入手可能なジヒドロピランより(触媒的)水素化によって調製できる。 Two known methods of this type of synthesis are based on the use of olefin metathesis reactions with metal alkylidene complex catalysts. With the aid of these methods, 2,5-2 substituted dihydropyran derivatives can be obtained by ring-closing cross-metathesis (DE102004021338A1; patent document 1) or enyne metathesis and further cross-metathesis (DE102004022891A1; patent document 2). In each case, a suitable metal carbene complex (metal alkylidene complex) (for example Grubbs first generation or Grubbs second generation or related catalysts, in particular WO 96/04289 (Patent Document 3); WO 97/06185 (Patent Document 4) TM Trnka et al., Acc. Chem. Res. 2001, 34, 18 (Non-patent Document 1); SK Armstrong, J. Chem. Soc., Perkin Trans. I, 1998, 371 (Non-Patent Document 1); Patent Document 2 J. Renaud et al., Angew. Chem. 2000, 112, 3231 (Non-patent Document 3)). An overview of the two methods is shown in Scheme 1a and Scheme 1b, respectively, where “radical 1 ” and “radical 2 ” represent appropriate (mesogenic) substituents, rings and ring systems, respectively. Thus, the desired 2,5-2 substituted tetrahydropyran derivatives can also be prepared by (catalytic) hydrogenation from available dihydropyrans.
J.O.MetzgerおよびU.Biermann、Bull.Soc.Belg.、103、1994、393〜397(非特許文献4)には、4−塩素置換テトラヒドロピラン誘導体の形成を伴う、塩化アルミニウムが導入されたホルムアルデヒドの置換アルケン上への付加反応が記載されており、引き続きBu3SnHを使用するフリーラジカル法により対応するハロゲンを含まないテトラヒドロピラン誘導体に転化できる。それらには、2位および5位に2つの置換基を有する1種類の4−クロロテトラヒドロピラン誘導体の合成例が1つ記載されており、出発化合物としてこれらの置換基の両方を有するホモアリルアルコールが必要である。しかしながら、この合成方法は転化率および転用性が低く、2置換ホモアリルアルコールを使用するため、非常に限られた構造的範囲のみを有する2,5−2置換テトラヒドロピラン誘導体の前駆体の調製ができるのみである。ハロゲンを含まないテトラヒドロピランの立体化学についても言及されていない。 J. et al. O. Metzger and U.S. Biermann, Bull. Soc. Belg. , 103, 1994, 393-397 (Non-Patent Document 4) describes an addition reaction of formaldehyde introduced with aluminum chloride onto a substituted alkene accompanied by formation of a 4-chlorine-substituted tetrahydropyran derivative. It can then be converted to the corresponding halogen-free tetrahydropyran derivative by the free radical method using Bu 3 SnH. They describe one synthesis example of one kind of 4-chlorotetrahydropyran derivative having two substituents at the 2-position and 5-position, and a homoallyl alcohol having both of these substituents as a starting compound. is necessary. However, this synthesis method has a low conversion rate and divertability, and uses disubstituted homoallyl alcohol. Therefore, preparation of a precursor of a 2,5-2 substituted tetrahydropyran derivative having only a very limited structural range is required It can only be done. No mention is made of the stereochemistry of halogen-free tetrahydropyrans.
E.Hanschke、Chem.Ber.88、1955、1053〜1061(非特許文献5)には、無置換ホモアリルアルコールをホルムアルデヒドとハロゲン化水素存在下で無置換のC1〜4−アルカニルアルデヒドおよびクロチルアルデヒドと共に塩酸存在下高い気圧で反応させることが記載されており、更なる反応に望ましい4−ハロゲン置換テトラヒドロピラン誘導体は、更なる生成物を伴って選択性なく低収率で得られるのみである。KOHを使用する2−メチル−4−クロロテトラヒドロピランを脱水素化して、2−メチルジヒドロピランを得る。
従って、テトラヒドロピラン誘導体の単純で有効な調製方法を示すことを目的とし、それ自身は(更なる)メソゲン性または液晶性2,5−2置換テトラヒロドピラン誘導体を合成するための出発化合物として機能する。加えて、テトラヒドロピラン誘導体は、合成の中ですでに完全にまたは部分的に、望まれるトランス−立体化学性を有しているべきである。 Therefore, the aim is to show a simple and effective preparation method of tetrahydropyran derivatives, which itself is a starting compound for the synthesis of (further) mesogenic or liquid crystalline 2,5-2 substituted tetrahydropyran derivatives. Function. In addition, the tetrahydropyran derivative should have the desired trans-stereochemistry already fully or partially in the synthesis.
この目的は、本発明に従い、式IIのテトラヒドロピラン誘導体から置換基X1を還元的に脱離し、式Iのテトラヒドロピラン誘導体類またはそれの前駆体を得ることを特徴とする式Iのテトラヒドロピラン誘導体類の調製方法により達成される。 This object is achieved according to the invention by the reductive elimination of the substituent X 1 from a tetrahydropyran derivative of formula II to obtain tetrahydropyran derivatives of formula I or precursors thereof, characterized in that This is achieved by a method of preparing derivatives.
a、b、c、d、e、fは、それぞれ互いに独立に、0または1を表し、ただし、a+b+c+d+e+fは、1、2、3または4に等しく、
R1は、それぞれの場合で独立に、H、ハロゲン、−CN、1〜15個のC原子を有するアルキル基で、該基は無置換であるか、−CNにより1置換されているか、ハロゲンにより1置換または多置換されており、ただし加えて、これらの基中の1個以上のCH2基は、鎖中の酸素原子が互いに直接結合しないようにして、−C≡C−、−CH=CH−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−O−または−O−CO−で置き換えられていてもよく、
R2は、それぞれの場合で独立に、H、ハロゲン、−CN、−NCS、−NO2、−OH、−SF5、−O−アラルキル、1〜15個のC原子を有するアルキル基で、該基は無置換であるか、−CNにより1置換されているか、ハロゲン、OHまたは−O−アラルキルにより1置換または多置換されており、ただし加えて、これらの基中の1個以上のCH2基は、鎖中の酸素原子が互いに直接結合しないようにして、−C≡C−、−CH=CH−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO−O−または−O−CO−で置き換えられていてもよく、
A1、A2、A3、A4、A5、A6は、それぞれ互いに独立に、回転されたものまたは鏡像のものでもよく、以下を表し、
a, b, c, d, e, f each independently represents 0 or 1, provided that a + b + c + d + e + f is equal to 1, 2, 3 or 4;
R 1 is independently in each case H, halogen, —CN, an alkyl group having 1 to 15 C atoms, which group is unsubstituted, 1-substituted by —CN, halogen In addition to one or more of the CH 2 groups in these groups in such a way that the oxygen atoms in the chain are not directly bonded to one another so that —C≡C—, —CH ═CH—, —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —CO—O— or —O—CO— may be substituted,
R 2 is independently in each case H, halogen, —CN, —NCS, —NO 2 , —OH, —SF 5 , —O-aralkyl, an alkyl group having 1 to 15 C atoms, The group is unsubstituted, monosubstituted by —CN, or monosubstituted or polysubstituted by halogen, OH or —O-aralkyl, in addition to one or more CH in these groups The two groups are formed so that oxygen atoms in the chain are not directly bonded to each other, so that —C≡C—, —CH═CH—, —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —CO— , -CO-O- or -O-CO-
A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , A 6 , independently of each other, may be rotated or mirror images, and represent the following:
Z2は、それぞれの場合で独立に、単結合、1〜6個の炭素原子を有し無置換かFおよび/またはClで1置換または多置換されているアルキレン架橋を表し、
Z3、Z4、Z5およびZ6は、それぞれ互いに独立に、単結合、1〜6個の炭素原子を有し無置換かFおよび/またはClで1置換または多置換されているアルキレン架橋を表すか、または−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−を表し、ただし、−CF2O−架橋はシクロヘキシレンまたはシクロヘキセニレン環にそのO原子を介して直接結合しておらず、
n1、n2およびn3は、それぞれ互いに独立に、0、1、2、3または4であり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5およびY6は、それぞれ互いに独立に、H、ハロゲン、−CN、C1〜6−アルカニル、C2〜6−アルケニル、C2〜6−アルキニル、−OC1〜6−アルカニル、−OC2〜6−アルケニルおよび−OC2〜6−アルキニルを表し、ただし、脂肪族基は無置換であるか、ハロゲンにより1置換または多置換されており、好ましくはHまたはFであり、および
W1は、それぞれの場合で独立に、−CH2−、−CF2−または−O−を表し、
および式II中では、
X1は、塩素、臭素またはヨウ素を表し、
ただし、式IIの化合物は、4−クロロ−2−ヘキシル−5−(7−メトキシカルボニルヘプチル)テトラヒドロピランではない。
Z 2 independently in each case represents a single bond, an alkylene bridge having 1 to 6 carbon atoms, unsubstituted or mono- or polysubstituted with F and / or Cl;
Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 are each independently a single bond, an alkylene bridge having 1 to 6 carbon atoms, unsubstituted or mono- or polysubstituted with F and / or Cl. or represents, or -CH 2 O -, - OCH 2 -, - CF 2 O- to represent, however, -CF 2 O-bridge directly linked via its O atoms in cyclohexylene or cyclohexylene ring Not
n1, n2 and n3 are each independently 0, 1, 2, 3 or 4;
Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , Y 5 and Y 6 are each independently H, halogen, —CN, C 1-6 -alkanyl, C 2-6 -alkenyl, C 2-6 — Represents alkynyl, —OC 1-6 -alkanyl, —OC 2-6 -alkenyl and —OC 2-6 -alkynyl, provided that the aliphatic group is unsubstituted or mono- or polysubstituted by halogen , Preferably H or F, and W 1 in each case independently represents —CH 2 —, —CF 2 — or —O—,
And in Formula II:
X 1 represents chlorine, bromine or iodine,
However, the compound of formula II is not 4-chloro-2-hexyl-5- (7-methoxycarbonylheptyl) tetrahydropyran.
特に、その方法は、式IIの誘導体から式Iの誘導体を直接調製することを包含し、即ち、式Iの誘導体を与える式IIの誘導体の還元的脱離である。しかしながら、さらに、より広い意味で、液晶化合物および式Iの液晶混合物用のメソゲン性成分の調製も含み、直接還元的脱離から基本的に既知の方法で得る。式Iの誘導体の調製のための本発明による方法は、したがって、式IIの化合物から置換基X1を還元的に脱離することを特徴とする少なくとも1つまたは2つの工程を含む。テトラヒドロピラン環の他の置換基は、原理的に既知の反応による誘導化により異なる意味を有する。2つの式IおよびII中の基R1、R2、A1〜6、Z1〜6、a〜fは、したがって、同一または異なる意味を有する。還元的脱離は、それ自身1工程か、または置換基X1の脱離と、形成されたジヒドロピランの二重結合の引き続く還元の2工程により実施することができる。 In particular, the method involves directly preparing a derivative of formula I from a derivative of formula II, ie reductive elimination of a derivative of formula II to give a derivative of formula I. However, in a broader sense, it also includes the preparation of mesogenic components for liquid crystal compounds and liquid crystal mixtures of the formula I, which are obtained in a known manner from direct reductive elimination. The process according to the invention for the preparation of derivatives of formula I thus comprises at least one or two steps, characterized in that the substituent X 1 is reductively eliminated from the compound of formula II. The other substituents of the tetrahydropyran ring have different meanings by derivatization in principle by known reactions. The two groups R 1 , R 2 , A 1-6 , Z 1-6 , af in the formulas I and II thus have the same or different meanings. The reductive elimination can be carried out in one step per se or in two steps: elimination of the substituent X 1 and subsequent reduction of the double bond of the formed dihydropyran.
簡単のため、式IおよびII中のテトラヒドロピラン環の位置の番号は、−他に明らかに示さない限り−、本記載中では以下の通りである。 For simplicity, the numbers of the positions of the tetrahydropyran ring in formulas I and II are as follows in this description-unless explicitly indicated otherwise.
中央のテトラヒドロピラン環に加えて、本発明の方法により調製できる式Iの化合物は更なる環を有していなくてもよく、1つ、2つ、3つまたは4つのさらなる環(または環系)を有していてもよく、つまり指数a、b、c、d、eおよびfの和は、0、1、2、3または4に等しい。(a+b+c+d+e+f)は、好ましくは1より大きく、特に1、2または3、そして非常に特に、1または2である。式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピラン誘導体およびさらに式Iのテトラヒドロピラン誘導体が、環を有していないかまたは5位に1つ環を有していることがここでは好ましく、即ち、a+bは好ましくは0または1である。更に、式IIのテトラヒドロピラン誘導体およびさらに式Iのテトラヒドロピラン誘導体が、環を更に有していないかまたは2位に1つ、2つまたは3つの更なる環を有していることが好ましく、即ち、c+d+e+fは0、1、2または3に等しく、特に1または2である。 In addition to the central tetrahydropyran ring, compounds of formula I that can be prepared by the process of the present invention may have no further rings, one, two, three or four additional rings (or ring systems). ), That is, the sum of the indices a, b, c, d, e and f is equal to 0, 1, 2, 3 or 4. (A + b + c + d + e + f) is preferably greater than 1, in particular 1, 2 or 3, and very particularly 1 or 2. It is preferred here that the halogenated tetrahydropyran derivative of the formula II and also the tetrahydropyran derivative of the formula I have no ring or one ring at the 5-position, ie a + b is preferred Is 0 or 1. Furthermore, it is preferred that the tetrahydropyran derivative of the formula II and further the tetrahydropyran derivative of the formula I have no further rings or have one, two or three additional rings in the 2-position, That is, c + d + e + f is equal to 0, 1, 2, or 3, and in particular 1 or 2.
R1は、好ましくはH、アルカニル、アルケニル、アルコキシまたはアルケニルオキシであり、それぞれ1〜10個の炭素原子を有しており、無置換であるか、1つ以上のフッ素および/または塩素原子によって置換されており、そしてaおよび/またはbが1の場合、塩素、フッ素または臭素を表すことも好ましい。R1は、特に好ましくはH、アルカニルまたはアルコキシを表し、それぞれ1〜8個の炭素原子を有しており、無置換であるか、それぞれ1個以上のフッ素および/または塩素原子によって置換されており、特に好ましくは1個、2個、3個、4個、5個または6個の炭素原子を有する直鎖状のアルカニルで、無置換であるか、1個以上のフッ素原子で置換されている。 R 1 is preferably H, alkanyl, alkenyl, alkoxy or alkenyloxy, each having from 1 to 10 carbon atoms, unsubstituted or by one or more fluorine and / or chlorine atoms It is also preferred if it is substituted and a and / or b is 1, it represents chlorine, fluorine or bromine. R 1 particularly preferably represents H, alkanyl or alkoxy, each having from 1 to 8 carbon atoms, unsubstituted or substituted each by one or more fluorine and / or chlorine atoms. Particularly preferably straight-chain alkanyl having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms, unsubstituted or substituted by one or more fluorine atoms. Yes.
R2は、好ましくはH、Cl、F、Br、−OH、−CO2−C1〜6−アルカニル、−O−アラルキル、CH(CH2O−「保護基」)2またはアルカニル、アルケニル、アルコキシまたはアルケニルオキシで、それぞれ1〜8個の炭素原子を有しており、無置換であるか、1個以上のフッ素原子、塩素原子またはOH基で置換されており、特に好ましくはF、Cl、−OH、−CO2−C1〜6−アルカニル、−OCH2−フェニル、−CH(CH2OCH2−アリル)2、CH(CH2OH)2またはアルカニルまたはアルコキシで、それぞれ1〜8個の炭素原子を有しており、無置換であるか、1個以上のフッ素および/または塩素原子によって置換されており、および特にF、Cl、−CO2−メチル、−エチル、−n−プロピル、−i−プロピル、−n−ブチル、−t−ブチルもしくは−n−ヘキシル、−OCH2−フェニル、−CH(CH2OCH2−フェニル)2、で置換されているか、または1個、2個、3個、4個、5個または6個の炭素原子を有する直鎖状アルカニルまたはアルコキシで、それぞれは無置換であるか、1個以上のフッ素原子によって置換されている。 R 2 is preferably H, Cl, F, Br, —OH, —CO 2 —C 1-6 -alkanyl, —O-aralkyl, CH (CH 2 O— “protecting group”) 2 or alkanyl, alkenyl, Alkoxy or alkenyloxy, each having 1 to 8 carbon atoms, unsubstituted or substituted by one or more fluorine, chlorine or OH groups, particularly preferably F, Cl , —OH, —CO 2 —C 1-6 -alkanyl, —OCH 2 -phenyl, —CH (CH 2 OCH 2 -allyl) 2 , CH (CH 2 OH) 2, alkanyl or alkoxy, 1 to 8 respectively. Having 1 carbon atom, unsubstituted or substituted by one or more fluorine and / or chlorine atoms, and in particular F, Cl, —CO 2 -methyl, -ethyl ,-N-propyl,-i-propyl,-n-butyl,-t-butyl or-n-hexyl, -OCH 2 - phenyl, -CH (CH 2 OCH 2 - phenyl) 2, in either substituted, Or linear alkanyl or alkoxy having 1, 2, 3, 4, 5 or 6 carbon atoms, each unsubstituted or substituted by one or more fluorine atoms .
R1およびR2はさらに前記要素によってCH2基による複数の置換を経て生じる基も包含し、それらが通常の場合、例えばR2については、アリール硫酸エステル−O(SO2)−Arまたは−O(SO2)−CH3も含まれ、引き続く合成において保護基または脱離基として役立つ。アルキル基のすべてのCH2基を示された基で置換することも可能である。この目的のためには、S−Sの直接結合および−S−O−鎖は一般に通常ではなく、好ましくはR1またはR2の一部ではない。 R 1 and R 2 further include groups resulting from multiple substitutions with CH 2 groups by the above elements, where they are usually, for example, for R 2 , arylsulfuric acid ester —O (SO 2 ) —Ar or — O (SO 2 ) —CH 3 is also included and serves as a protecting or leaving group in subsequent synthesis. It is also possible to substitute all CH 2 groups of the alkyl group with the indicated groups. For this purpose, the S—S direct bond and the —S—O— chain are generally unusual and preferably not part of R 1 or R 2 .
(a+b)=0の場合、R1は好ましくは水素、ハロゲンおよびCNを表さない。(c+d+e+f)=0の場合に、R2は好ましくは水素、−CN、−NCS、−NO2、−OH、−SF5、−O−アラルキルまたはアルコキシを表さない。
環A1およびA2は、好ましくは互いに独立に、1,4−シクロヘキシレンまたは1,4−フェニレンを表し、1〜4個のフッ素原子によって置換されていてもよく、および特に好ましくは
When (a + b) = 0, R 1 preferably does not represent hydrogen, halogen and CN. When (c + d + e + f) = 0, R 2 preferably does not represent hydrogen, —CN, —NCS, —NO 2 , —OH, —SF 5 , —O-aralkyl or alkoxy.
Rings A 1 and A 2 preferably represent, independently of one another, 1,4-cyclohexylene or 1,4-phenylene, which may be substituted by 1 to 4 fluorine atoms, and particularly preferably
環A3、A4、A5およびA6、好ましくは、互いに独立に、1,4−シクロヘキシルエンまたは1,4−フェニレンを表し、0〜4個のフッ素原子によって置換されており、および特に好ましくは
The rings A 3 , A 4 , A 5 and A 6 , preferably independently of one another, represent 1,4-cyclohexylene or 1,4-phenylene and are substituted by 0 to 4 fluorine atoms, and in particular Preferably
Z1およびZ2は、好ましくは互いに独立に、単結合または2個、4個または6個の炭素原子を有するアルキレン架橋を表わし、1つ以上のフッ素原子によって置換されてもよい。Z1およびZ2は、特に好ましくは両方とも単結合である。 Z 1 and Z 2 preferably, independently of one another, represent a single bond or an alkylene bridge having 2, 4 or 6 carbon atoms and may be substituted by one or more fluorine atoms. Z 1 and Z 2 are particularly preferably both single bonds.
Z3、Z4、Z5およびZ6は、好ましくは互いに独立に、単結合、−CH2O−または−CF2O−を表わし、ただし、−CF2O−架橋は、好ましくはシクロヘキシレンまたはシクロヘキセニレンにそのO原子を介して直接連結されていない。特に好ましくは、互いに独立に、単結合、−CF2O−または−CH2O−であり、非常に特に好ましくは、それぞれの場合で、Z3、Z4、Z5およびZ6のうちの1つは単結合ではない。架橋要素であるZ3、Z4、Z5またはZ6が酸素原子を含んでいる場合、これは、式IまたはII中のテトラヒドロピラン環へ好ましくは直接接合されない。対応する状況は、式IIの化合物を調製するための出発物質にも当てはまる。 Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 preferably independently of one another represent a single bond, —CH 2 O— or —CF 2 O—, wherein the —CF 2 O— bridge is preferably cyclohexylene Or it is not directly linked to the cyclohexenylene via its O atom. Particularly preferably, independently of one another, is a single bond, —CF 2 O— or —CH 2 O—, very particularly preferably in each case of Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 . One is not a single bond. If the bridging element Z 3 , Z 4 , Z 5 or Z 6 contains an oxygen atom, it is preferably not directly joined to the tetrahydropyran ring in formula I or II. The corresponding situation also applies to the starting materials for preparing the compounds of formula II.
本発明による還元的脱離方法は式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピラン誘導体から出発して行なわれる。ここで、X1は、塩素、臭素またはヨウ素を、好ましくは塩素または臭素を、および特には臭素を表わす。 The reductive elimination process according to the invention is carried out starting from a halogenated tetrahydropyran derivative of the formula II. X 1 here represents chlorine, bromine or iodine, preferably chlorine or bromine and in particular bromine.
式IIの特に好ましい化合物は、式II−1〜II−5から選択される。 Particularly preferred compounds of formula II are selected from formulas II-1 to II-5.
本発明の還元的脱離のこの実施形態は、好ましくは水素化有機スズまたは水素化有機ケイ素の存在下で行う。ここで、好ましい水素化有機スズは水素化トリアルキルおよびアラルキルジアルキルスズ、特に好ましくは水素化トリアルキルスズ、特には水素化トリ−n−ブチルスズ(Bu3SnH)である。典型的には、還元されるべき式Iの化合物に基づき1〜10等量および好ましくは2〜4等量の水素化スズを使用する。更に、固体、好ましくは固体有機担体に結合している水素化有機スズの使用が好ましく、非常に特に好ましい固体担体に結合している水素化有機スズは、Bu2SnHLi(Buはn−ブチル)(その場で形成されたもの)をα−ハロアルキルポリスチレンと反応させて得られるものである(例えば、U.Gerigkら、Synthesis(1990)、448〜452およびG.Dumartinら、Synlett.(1994)、952〜954参照)。固体担体に結合した水素化有機スズは、通常、式IIの化合物に基づき2〜4等量で使用される。 This embodiment of the reductive elimination of the present invention is preferably performed in the presence of organotin hydride or organosilicon hydride. Preferred organotin hydrides here are trialkyl hydrides and aralkyl dialkyl tins, particularly preferably trialkyl tin hydrides, in particular tri-n-butyltin hydride (Bu 3 SnH). Typically 1 to 10 equivalents and preferably 2 to 4 equivalents of tin hydride are used based on the compound of formula I to be reduced. Furthermore, the use of organotin hydride bound to a solid, preferably a solid organic support is preferred, and the organotin hydride bound to a very particularly preferred solid support is Bu 2 SnHLi (Bu is n-butyl). (Formed in situ) with α-haloalkylpolystyrene (eg, U. Gerigk et al., Synthesis (1990), 448-452 and G. Dumartin et al., Synlett. (1994)). 952-954). Organotin hydride bound to a solid support is usually used in 2 to 4 equivalents based on the compound of formula II.
好ましい水素化有機ケイ素は置換シランで特に好ましくはトリス(トリアルキルシリル)シラン、特にトリス(トリメチルシリル)シラン(TTMSS)である(例えば、M.Ballestriら、J.Org.Chem.1991、56、678〜683参照)。水素化有機ケイ素は、普通、還元されるべき式IIの化合物に基づき1〜3等量、好ましくは1.1〜1.5等量の量で使用される。TTMSSを、例えば、水素化ホウ素ナトリウムNaBH4の水素化金属錯体(例えば、M.Lesageら、Tetrahedron Lett.(1989)、30、2733〜2734参照)のような更なる還元剤と組み合わせて使用することが非常に特に好ましい。この変法では半化学量論的な量の実際の還元剤TTMSSを使用でき、水素化ホウ素ナトリウムによって反応サイクルの過程中に再形成され、よって、より安価なNaBH4を使用することにより、比較的高価なTTMSSの相当量を節約できる。典型的な混合比は、式IIの化合物を基礎として2〜10倍量、好ましくは約5倍量のNaBH4および5〜20mol%、好ましくは約10mol%のTTMSSである。 Preferred organosilicon hydrides are substituted silanes, particularly preferably tris (trialkylsilyl) silanes, in particular tris (trimethylsilyl) silane (TTMSS) (eg M. Ballestri et al., J. Org. Chem. 1991, 56, 678). ~ 683)). The organosilicon hydride is usually used in an amount of 1 to 3 equivalents, preferably 1.1 to 1.5 equivalents, based on the compound of formula II to be reduced. TTMSS is used in combination with a further reducing agent such as, for example, a metal hydride complex of sodium borohydride NaBH 4 (see, eg, M. Lesage et al., Tetrahedron Lett. (1989), 30, 2733-2734). It is very particularly preferred. In this variation, a substoichiometric amount of the actual reducing agent TTMSS can be used, which is reformed during the course of the reaction cycle by sodium borohydride, and thus compared by using the cheaper NaBH 4 A considerable amount of expensive TTMSS can be saved. Typical mixing ratios are 2 to 10 times, preferably about 5 times NaBH 4 and 5 to 20 mol%, preferably about 10 mol% TTMSS based on the compound of formula II.
水素化有機スズまたは水素化有機ケイ素を使用する本発明の好ましい実施形態は、例えばAIBN(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル)またはtert−ブチルヒドロパーオキサイドの適当なアゾまたはペルオキシ化合物のような少なくとも1種類のフリーラジカル鎖反応開始剤(「フリーラジカル開始剤」)存在下で、UV光存在下で通常行われる。フリーラジカル開始剤はこの型の反応の従来量で使用され、好ましくは1〜20mol%の量である。フリーラジカル開始剤の代わりかこれに加えて、UV照射の作用により反応を開始することもできる。 Preferred embodiments of the present invention using organotin hydride or organosilicon hydride are suitable for example of suitable azo or peroxy compounds of AIBN (2,2′-azobisisobutyronitrile) or tert-butyl hydroperoxide. In the presence of UV light in the presence of at least one free radical chain initiator ("free radical initiator"). Free radical initiators are used in conventional amounts for this type of reaction, preferably in amounts of 1 to 20 mol%. Instead of or in addition to the free radical initiator, the reaction can also be initiated by the action of UV irradiation.
本発明の好ましい実施形態に適当な溶媒は、ヘプタン、ベンゼン、キシレンのような炭化水素およびジメトキシエタンまたはメトキシエタノールのようなエーテルである。反応は20〜140℃で通常行われる。反応時間は一般的に2〜24時間である。 Suitable solvents for the preferred embodiment of the present invention are hydrocarbons such as heptane, benzene, xylene and ethers such as dimethoxyethane or methoxyethanol. The reaction is usually carried out at 20 to 140 ° C. The reaction time is generally 2 to 24 hours.
本発明の更なる好ましい実施形態において式II中のX1は臭素であり、還元的脱離は水素と水素化触媒および塩基、好ましくはアミンの存在下で行う。水素化触媒は、均一系触媒(例えば、アルキル−および/またはアリール−置換ホスフィンまたはホスファイト配位子のPd(0)またはPd(II)またはNi(0)またはNi(II)錯体)または好ましくは不均一系遷移金属触媒である。水素化触媒は、特に好ましくは不均一系パラジウム、白金またはニッケル触媒、特にはパラジウムである。炭素上パラジウムまたは酸化アルミニウム上パラジウムが特に好ましい。塩基は、好ましくは窒素性塩基またはアミン、特には3級アミンである。 In a further preferred embodiment of the invention, X 1 in formula II is bromine and the reductive elimination is carried out in the presence of hydrogen and a hydrogenation catalyst and a base, preferably an amine. The hydrogenation catalyst is a homogeneous catalyst (eg Pd (0) or Pd (II) or Ni (0) or Ni (II) complex of an alkyl- and / or aryl-substituted phosphine or phosphite ligand) or preferably Is a heterogeneous transition metal catalyst. The hydrogenation catalyst is particularly preferably a heterogeneous palladium, platinum or nickel catalyst, in particular palladium. Particular preference is given to palladium on carbon or palladium on aluminum oxide. The base is preferably a nitrogenous base or an amine, in particular a tertiary amine.
アミンは、好ましくはトリアルキルアミン、特に好ましくはジイソプロピルエチルアミンまたはトリエチルアミンであり、特にはトリエチルアミンである。 The amine is preferably a trialkylamine, particularly preferably diisopropylethylamine or triethylamine, in particular triethylamine.
反応は3〜20倍の量のTHF中で行なわれ、1および50barの間の水素圧で、1〜24時間の過程に渡り、約20〜約120℃の温度である。 The reaction is carried out in 3 to 20 times the amount of THF, at a hydrogen pressure between 1 and 50 bar and at a temperature of about 20 to about 120 ° C. over a period of 1 to 24 hours.
この好ましい実施形態の場合、基および置換基が適切に選択されていれば、本発明の還元的脱離の性能の結果、対応する脱ハロゲン化されたテトラヒドロピラン環へのハロゲン化されたテトラヒドロピラン環の転化のみならず、特定の保護基を還元的に除去できる。とりわけ、このことは、R2がO−アラルキル基、特に置換されていてもよいO−ベンジル基を表わす式Iの化合物に当てはまる。 In this preferred embodiment, if the groups and substituents are appropriately selected, the reductive elimination performance of the present invention results in the halogenated tetrahydropyran to the corresponding dehalogenated tetrahydropyran ring. In addition to ring conversion, certain protecting groups can be reductively removed. In particular, this applies to compounds of the formula I in which R 2 represents an O-aralkyl group, in particular an optionally substituted O-benzyl group.
上記本発明の2つの好ましい実施形態は、とりわけ、式Iのテトラヒドロピラン誘導体を与える式Iのテトラヒドロピラン誘導体の還元的脱離が、テトラヒドロピラン環の2位および5位の中で置換基の配置を保って起こるという事実によってとりわけ識別される。したがって、2位の置換基が5位の置換基に対してトランスを向いているように、2位、4位および5位の3つすべての置換基がエカトリアル配列である式Iのハロゲン化されたテトラヒドロピランを、立体化学を保ったままで、トランス2,5−2置換を備えた式Iの対応するヒドロピラン誘導体を与える。 The two preferred embodiments of the present invention described above show that, inter alia, the reductive elimination of the tetrahydropyran derivative of formula I to give the tetrahydropyran derivative of formula I is the placement of substituents in the 2 and 5 positions of the tetrahydropyran ring. Specifically identified by the fact that it happens to keep. Thus, the halogenated compound of formula I in which all three substituents at positions 2, 4 and 5 are equatorial sequences such that the substituent at position 2 is oriented trans to the substituent at position 5 Tetrahydropyran gives the corresponding hydropyran derivative of formula I with trans 2,5-2 substitution while retaining stereochemistry.
本発明の更に好ましい実施形態において、式Iのテトラヒドロピラン誘導体を与える式Iの還元的脱離は2工程で行われ、ただし、第1工程(A)において、式IIのテトラヒドロピラン誘導体がジヒドロピラン誘導体、特に式IIIaおよび/またはIIIbに転化され、
および、第2工程(B)において、この方法で形成されたジヒドロピラン誘導体またはジヒドロピラン誘導体の混合物を、式Iのテトラヒドロピラン誘導体に転化する。
In a further preferred embodiment of the invention, the reductive elimination of formula I giving the tetrahydropyran derivative of formula I is carried out in two steps, provided that in step 1 (A) the tetrahydropyran derivative of formula II is dihydropyran. Converted to a derivative, in particular of formula IIIa and / or IIIb,
And in the second step (B), the dihydropyran derivative or mixture of dihydropyran derivatives formed in this way is converted into a tetrahydropyran derivative of formula I.
式Iのテトラヒドロピラン誘導体からのHX1(脱ハロゲン化水素)の脱離は、強塩基を使用して実行される。とりわけ、適切な塩基はアルコキシドであると分かり、ナトリウムエトキシドまたはカリウムtert−ブトキシドのような例えばアルカリ金属アルコキシドであり、および強力な非イオンの窒素塩基、特に20より大きいpKaの値を有するものである。これらの強力な非イオンの窒素塩基の例はJ.G.Verkade、Topics in Current Chemistry 220、3〜44で言及されているものであり、とりわけ、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン(DBN);1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン(DBU);および1,1,3,3−テトラメチルグアニジン(TMG);7−メチル−1,5,7−トリアザビシクロ[4.4.0]デカ−5−エン(MTBD)および2,8,9−トリイソプロピル−2,5,8,9−テトラアザ−1−ホスファビシクロ[3.3.3]ウンデカン(TTPU)である(S.Arumugam、J.G.Verkade、J.Org.Chem.1997、62、4827も参照)。 The elimination of HX 1 (dehydrohalogenation) from the tetrahydropyran derivative of formula I is carried out using a strong base. In particular, suitable bases are found to be alkoxides, such as alkali metal alkoxides such as sodium ethoxide or potassium tert-butoxide, and strong nonionic nitrogen bases, especially those having a pKa value greater than 20. is there. Examples of these strong nonionic nitrogen bases are described in J. Am. G. Verkade, Topics in Current Chemistry 220, 3-44, among others 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene (DBN); 1,8-diazabicyclo [5 4.0] undec-7-ene (DBU); and 1,1,3,3-tetramethylguanidine (TMG); 7-methyl-1,5,7-triazabicyclo [4.4.0] Deca-5-ene (MTBD) and 2,8,9-triisopropyl-2,5,8,9-tetraaza-1-phosphabicyclo [3.3.3] undecane (TTPU) (S. Arumugam) , JG Verkade, J. Org. Chem. 1997, 62, 4827).
脱離は適切な不活性溶媒または溶媒混合物中で実行され、例えば芳香族炭化水素で、例えばトルエンまたはエーテル、例えば1,4−ジオキサン、ジメトキシエタンおよびテトラヒドロフランである。非極性溶剤の使用は特に好まれる。一般に、反応は室温と沸点の間の温度で行われ、好ましくは約60℃から沸点、特に好ましくは約80℃から沸点までの高温である。第1工程(A)の反応時間は一般に約1時間から約48時間、好ましくは約4時間から約16時間である。 The elimination is carried out in a suitable inert solvent or solvent mixture, for example aromatic hydrocarbons such as toluene or ethers such as 1,4-dioxane, dimethoxyethane and tetrahydrofuran. The use of nonpolar solvents is particularly preferred. In general, the reaction is carried out at a temperature between room temperature and boiling point, preferably at a high temperature from about 60 ° C. to the boiling point, particularly preferably from about 80 ° C. to the boiling point. The reaction time for the first step (A) is generally about 1 hour to about 48 hours, preferably about 4 hours to about 16 hours.
本発明のこの好ましい実施例の工程(A)を実行する場合、式IIIaおよびIIIbの2つのジヒドロピラン誘導体の混合物が通常形成され、ほとんどの場合、約2:1の異性体比率である。異性体は一般に、−僅かでも生じるのであれば−二次的な量で生じる。さらなる工程(B)の前で、クロマトグラフィーのような従来の分別法を使用して異性体を分離することは原理的には可能であるが、これは一般に実行されない。本発明によるこの実施形態に従って入手可能な式IIIbの化合物は、テトラヒドロピラン環の2位および5位の置換基のコンフィギュレーションに関して式IIの出発化合物と同じコンフィギュレーションを有している。よって、全エカトリアル配置を有する式IIのテトラヒドロピラン誘導体は、式IIIbの対応するトランス−2,5−2置換テトラヒドロピラン誘導体を容易に与える。 When carrying out step (A) of this preferred embodiment of the present invention, a mixture of two dihydropyran derivatives of formula IIIa and IIIb is usually formed, most often with an isomer ratio of about 2: 1. Isomers are generally produced in secondary quantities—if any. Prior to further step (B), it is possible in principle to separate the isomers using conventional fractionation methods such as chromatography, but this is generally not performed. The compound of formula IIIb available according to this embodiment according to the invention has the same configuration as the starting compound of formula II with respect to the configuration of the substituents at the 2 and 5 positions of the tetrahydropyran ring. Thus, a tetrahydropyran derivative of formula II having a full equatorial configuration readily provides the corresponding trans-2,5-2 substituted tetrahydropyran derivative of formula IIIb.
式Iのテトラヒドロピラン誘導体の形成用の工程(B)は、触媒的水素化で実行される。ここで水素化は均一系触媒または不均一系触媒で実行することができる。式IIIbのジヒドロピラン誘導体に関して、水素化自身および水素化が実行される条件の選択は、複素環の2位および5位の置換基の立体化学的方向性に影響しない。よって、通常および好ましくは存在している式IIIbのトランス−2,5−2置換化合物は、立体化学性を保持して、式Iの対応するトランス−2,5−2置換テトラヒドロピランを与える。しかしながら、式IIIaのジヒドロピラン誘導体に関しては、式Iのテトラヒドロピラン誘導体の形成のための更なる反応手段は、一般に、互いに関連のある複素環酸素の2位および5位の置換基の配置に影響を及ぼす。よって、不均一系の触媒作用による水素化は、例えば不均一系のパラジウム、白金またはニッケル触媒上で、シス−2,5−コンフィギュレーションの式Iのテトラヒドロピランを、主にまたは排他的に生成する。その異性化はカリウムtert−ブトキシドのような例えば強塩基を使用し、酸を使用し、またはCsFまたはフッ化テトラブチルアンモニウムのようなフッ素を含有する化合物を使用し、所望の2,5−トランス−コンフィギュレーションの式Iの異性体を得ることができる。対照的に水素化を均一系触媒で行うとすれば、例えば、Wilkinson触媒であるクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)(Cl−Rh[P(C6H5)3]3)の存在下、10〜100barの水素圧、約80℃〜約120℃の温度、約6〜約48時間の反応時間に渡り、適切な溶媒(例えばトルエン)中(ドイツ国特許出願DE102004036068A1参照)の場合、式Iの化合物の所望の2,5−トランス異性体が過剰に得られる−通常、シス異性体に対するトランス異性体の比率は3:1である。式Iの所望のトランス−2,5−2置換テトラヒドロピラン誘導体を、良好な収率で入手できる。 Step (B) for the formation of the tetrahydropyran derivative of formula I is carried out by catalytic hydrogenation. Here, the hydrogenation can be carried out with homogeneous or heterogeneous catalysts. For the dihydropyran derivatives of formula IIIb, the hydrogenation itself and the choice of conditions under which the hydrogenation is carried out do not affect the stereochemical orientation of the substituents at the 2- and 5-positions of the heterocycle. Thus, normally and preferably present trans-2,5-2 substituted compounds of formula IIIb retain the stereochemistry to give the corresponding trans-2,5-2 substituted tetrahydropyrans of formula I. However, with respect to dihydropyran derivatives of formula IIIa, further reaction means for the formation of tetrahydropyran derivatives of formula I generally affect the configuration of the substituents at the 2- and 5-positions of the heterocyclic oxygen relative to each other. Effect. Thus, heterogeneous catalyzed hydrogenation produces, for example, predominantly or exclusively tetrahydropyrans of formula I in cis-2,5-configuration over heterogeneous palladium, platinum or nickel catalysts. To do. The isomerization uses, for example, a strong base such as potassium tert-butoxide, an acid, or a fluorine-containing compound such as CsF or tetrabutylammonium fluoride and the desired 2,5-trans An isomer of formula I in the configuration can be obtained. If as opposed to performing the hydrogenation in the homogeneous catalysts, for example, a Wilkinson catalyst chlorotris (triphenylphosphine) in the presence of a rhodium (I) (Cl-Rh [ P (C 6 H 5) 3] 3) In a suitable solvent (eg toluene) (see German patent application DE102004036068A1) over a hydrogen pressure of 10 to 100 bar, a temperature of about 80 ° C. to about 120 ° C., a reaction time of about 6 to about 48 hours, The desired 2,5-trans isomer of compound I is obtained in excess—usually the ratio of trans isomer to cis isomer is 3: 1. The desired trans-2,5-2 substituted tetrahydropyran derivatives of formula I are available in good yield.
引き続いて式Iの所望のテトラヒドロピラン誘導体に転化される式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピラン誘導体の合成法に関し、本発明の更なる好ましい実施形態では、式IIの化合物は、式IVのホモアリルアルコールを、式Vのアルデヒドまたはそれのアセタールまたは水和物と、少なくとも1個の塩素、臭素またはヨウ素原子を含む少なくとも1種類のルイス酸の存在下および/または少なくとも1個の塩素、臭素またはヨウ素イオンを含むブレンステッド酸の存在下で得られることを特徴とする。 In connection with a process for the synthesis of a halogenated tetrahydropyran derivative of formula II which is subsequently converted to the desired tetrahydropyran derivative of formula I, in a further preferred embodiment of the invention, the compound of formula II is a homoallyl of formula IV Alcohol in the presence of an aldehyde of formula V or an acetal or hydrate thereof and at least one Lewis acid containing at least one chlorine, bromine or iodine atom and / or at least one chlorine, bromine or iodine; It is obtained in the presence of Bronsted acid containing ions.
本発明のこの実施形態は、少なくとも1つの塩素、臭素またはヨウ素原子を含んでいる少なくとも1種類のルイス酸の存在下、または少なくとも1つのクロリド、ブロミドまたはヨウ化物陰イオンを含んでいる少なくとも1種類のブレンステッド酸(プロトン酸)の存在下、または上に定義される少なくとも1種類のルイス酸および上に定義される少なくとも1種類のブレンステッド酸の混合物の存在下で実行することができる。本発明による実施形態は1種類以上の異なるルイスおよび/またはブレンステッド酸を使用して実行することができ、3種類以下の異なる酸を使用することが好ましい。本発明の方法において、1種類のみのルイス酸またはブレンステッド酸またはルイス酸とブレンステッド酸の混合物の使用が特に好ましい。上および下において「酸」と言う場合、−他に示さない場合−、単一の酸および複数の異なる酸の両方を意味する。1種類より多い酸の使用においては、それらが互いに化学上互換性をもち、好ましくない副反応を引き起こさない限り、複数の酸を選択することは特に制限されない。 This embodiment of the invention is in the presence of at least one Lewis acid containing at least one chlorine, bromine or iodine atom, or at least one containing at least one chloride, bromide or iodide anion. In the presence of a Bronsted acid (protic acid) or a mixture of at least one Lewis acid as defined above and at least one Bronsted acid as defined above. Embodiments according to the present invention can be carried out using one or more different Lewis and / or Bronsted acids, preferably using up to three different acids. In the process according to the invention, the use of only one Lewis acid or Bronsted acid or a mixture of Lewis and Bronsted acids is particularly preferred. Reference to “acid” above and below—when not otherwise indicated—means both a single acid and a plurality of different acids. In the use of more than one acid, the choice of multiple acids is not particularly limited as long as they are chemically compatible with each other and do not cause undesirable side reactions.
本発明のこの実施例の第1の好ましい変法では、式Vのアルデヒドとの式IVのホモアリルアルコールの反応は、少なくとも1つの塩素、臭素またはヨウ素原子を含んでいる少なくとも1種類のルイス酸がある状態で行なわれる。それぞれの場合で、ルイス酸がこれらのハロゲン原子の1つの型のみ、即ち、任意の非ハロゲン基または配位子の存在に加えて、塩素原子だけまたは臭素原子だけまたはヨウ素原子だけを含むことが望ましい。式Iのテトラヒドロピラン誘導体のハロゲン置換基X1は、少なくとも1種類のルイス酸のこのハロゲン原子に対応する。ルイス酸は、非常に特に好ましくは、臭素原子を含む。 In a first preferred variant of this embodiment of the invention, the reaction of the homoallylic alcohol of formula IV with the aldehyde of formula V comprises at least one Lewis acid containing at least one chlorine, bromine or iodine atom. It is done in a state. In each case, the Lewis acid may contain only one type of these halogen atoms, i.e. in addition to the presence of any non-halogen groups or ligands, only chlorine atoms or only bromine atoms or only iodine atoms. desirable. The halogen substituent X 1 of the tetrahydropyran derivative of formula I corresponds to this halogen atom of at least one Lewis acid. The Lewis acid very particularly preferably contains a bromine atom.
少なくとも1種類のルイス酸は、式M(X1)nおよびR3M(X1)n−1の化合物を含む群から好ましくは選ばれ、ただし
Mは、B、Al、In、Ga、In、Sn、Ti、Fe、Zn、Nb、Zr、AuおよびBiを表し、
X1は、Cl、BrまたはIを表し、
R3は、1〜10個の炭素原子を有する直鎖状または枝分状のアルキル基を表し、および
nは2、3、4または5の整数で、それがMの形式上の酸化数と等しいように選択される。
The at least one Lewis acid is preferably selected from the group comprising compounds of formula M (X 1 ) n and R 3 M (X 1 ) n-1 , where M is B, Al, In, Ga, In , Sn, Ti, Fe, Zn, Nb, Zr, Au and Bi,
X 1 represents Cl, Br or I;
R 3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 2, 3, 4 or 5, which represents an oxidation number in the form of M Selected to be equal.
これらのルイス酸の例は、塩化ジイソブチルアルミニウムおよびBIII(X1)3、AlIII(X1)3、GaIII(X1)3、InIII(X1)3、SnIV(X1)4、TiIV(X1)4、FeIII(X1)3、ZnII(X1)2、ZrIV(X1)4、NbV(X1)5、AuIII(X1)3およびBiIII(X1)3であり、ただし、X1は塩素、臭素またはヨウ素で、好ましくは塩素または臭素で、特には臭素である。臭素は、塩素より容易に脱離できる。 Examples of these Lewis acids are diisobutylaluminum chloride and B III (X 1 ) 3 , Al III (X 1 ) 3 , Ga III (X 1 ) 3 , In III (X 1 ) 3 , Sn IV (X 1 ) 4 , Ti IV (X 1 ) 4 , Fe III (X 1 ) 3 , Zn II (X 1 ) 2 , Zr IV (X 1 ) 4 , Nb V (X 1 ) 5 , Au III (X 1 ) 3 and Bi III (X 1 ) 3 provided that X 1 is chlorine, bromine or iodine, preferably chlorine or bromine, in particular bromine. Bromine can be easily removed from chlorine.
使用されるルイス酸の正確な量は広範囲において変化させることができ、−特に使用される最低量に関して−とりわけ、ルイス酸の分子1つ当たりのハロゲン原子X1の数に依存する。よって、原子Mの形式上の酸化数が4(IV)であるルイス酸で、反応させる式IVのホモアリルアルコールに基づいて25mol%ほどの少量で、反応物の完全な転換を保証するのに十分である。一般に、ルイス酸は約20mol%〜約300mol%の量で使用され、好ましくは約34mol%〜約250mol%の量および特に好ましくは約50mol%〜約200mol%の量であり、ただし、量は、各場合において式IVのホモアリルアルコールに基づく。 The exact amount of Lewis acid used can vary over a wide range, - in particular with respect to the minimum amount to be used - among other things, it depends on the number of halogen atoms X 1 per one molecule of the Lewis acid. Thus, a Lewis acid with a formal oxidation number of atom M of 4 (IV), in as little as 25 mol% based on the homoallylic alcohol of formula IV to be reacted, guarantees complete conversion of the reactants. It is enough. Generally, the Lewis acid is used in an amount of about 20 mol% to about 300 mol%, preferably in an amount of about 34 mol% to about 250 mol%, and particularly preferably in an amount of about 50 mol% to about 200 mol%, provided that the amount is In each case based on the homoallylic alcohol of the formula IV.
反応温度は一般に約−80℃および+40℃の間で、ただし反応温度の正確な選択は選択されたそれぞれのルイス酸の性質に依存する。したがって、好ましい温度範囲は、ホウ素ハロゲン化物で−70〜−40℃、Al、In、SnおよびTiハロゲン化物で−50℃〜0℃、およびZnおよびBiハロゲン化物で0℃〜+40℃である。反応時間は一般に1時間および72時間の間、好ましくは2時間および36時間の間および特に好ましくは4時間および24時間の間である。本発明による反応はルイス酸を、固体または溶液で、式IVのホモアリルアルコールおよび式Vのアルデヒドの適切な溶媒に溶解または懸濁された混合物に加えることができる。またはルイス酸を最初に導入し、例えば引き続きアルデヒドおよびホモアリルアルコールを加えてもよく、その逆の順序でもよい。 The reaction temperature is generally between about −80 ° C. and + 40 ° C., but the exact choice of the reaction temperature depends on the nature of the respective Lewis acid selected. Accordingly, preferred temperature ranges are -70 to -40 ° C for boron halides, -50 ° C to 0 ° C for Al, In, Sn and Ti halides, and 0 ° C to + 40 ° C for Zn and Bi halides. The reaction time is generally between 1 and 72 hours, preferably between 2 and 36 hours and particularly preferably between 4 and 24 hours. The reaction according to the invention can add a Lewis acid, in solid or solution, to a mixture dissolved or suspended in a suitable solvent of homoallylic alcohol of formula IV and aldehyde of formula V. Alternatively, the Lewis acid may be introduced first, for example followed by the addition of aldehyde and homoallylic alcohol, and vice versa.
少なくとも1種類のルイス酸は特に好ましくは式M(X1)nの化合物で、ただし、Mは、B、Al、Fe、ZnまたはBiであり、X1は特にBrを表わす。ルイス酸は特にAlBr3、ZnBr2またはBiBr3である。 The at least one Lewis acid is particularly preferably a compound of the formula M (X 1 ) n , where M is B, Al, Fe, Zn or Bi, and X 1 in particular represents Br. The Lewis acid is in particular AlBr 3 , ZnBr 2 or BiBr 3 .
さらに本発明のこの実施形態の好ましい変法において、方法は少なくとも1つの塩素、臭素またはヨウ素陰イオンを含むブレンステッド酸の存在下で行なわれる。ブレンステッド酸の例は塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素である。ブレンステッド酸は例えばガスとして使用することができ、本発明による方法の他の反応物を含む例えば適切な溶媒の中の混合物に通し、また、ブレンステッド酸を含む溶液を使用することも可能で、例えば、氷酢酸中のHBrである。本発明の方法で使用されるブレンステッド酸は、特に好ましくは臭化水素である。ブレンステッド酸は、−特にハロゲン化水素酸の場合−、化学量論的または化学量論を超える量(式IVのホモアリルアルコールに基づいた)で使用され、好ましくは約100mol%〜約350mol%の量、非常に好ましくは約100mol%〜約225mol%の量、特には約150mol%以下の量である。 Furthermore, in a preferred variant of this embodiment of the invention, the process is carried out in the presence of a Bronsted acid containing at least one chlorine, bromine or iodine anion. Examples of Bronsted acids are hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide. The Bronsted acid can be used, for example, as a gas, can be passed through, for example, a mixture in a suitable solvent containing other reactants of the process according to the invention, or a solution containing Bronsted acid can be used. For example, HBr in glacial acetic acid. The Bronsted acid used in the process of the present invention is particularly preferably hydrogen bromide. Bronsted acid is used, especially in the case of hydrohalic acid, in stoichiometric or over stoichiometric amounts (based on homoallylic alcohol of formula IV), preferably from about 100 mol% to about 350 mol%. In an amount of about 100 mol% to about 225 mol%, in particular an amount of about 150 mol% or less.
この実施形態中の反応温度は、一般に約0℃および約+70℃の間の温度、好ましくは約10℃および約40℃の間、特に好ましくは室温近傍(18〜25℃)である。反応時間は一般に1時間および72時間の間、好ましくは2時間および36時間の間および特に好ましくは4時間および24時間の間であり、選択された溶媒によっても影響を受け、例えば、その反応は、一般に水より氷酢酸の中でより速く進む。本発明による反応は、適切な溶媒に溶解または懸濁された式IVのホモアリルアルコールおよび式Vのアルデヒドの化合物に、ブレンステッド酸を溶液として加えるか、また、ガスとしてブレンステッド酸を通過させることにより行うことができる。 The reaction temperature in this embodiment is generally between about 0 ° C. and about + 70 ° C., preferably between about 10 ° C. and about 40 ° C., particularly preferably around room temperature (18-25 ° C.). The reaction time is generally between 1 and 72 hours, preferably between 2 and 36 hours and particularly preferably between 4 and 24 hours, also influenced by the chosen solvent, for example the reaction In general, it proceeds faster in glacial acetic acid than water. The reaction according to the present invention involves adding Bronsted acid as a solution or passing the Bronsted acid as a gas to a homoallylic alcohol of formula IV and an aldehyde compound of formula V dissolved or suspended in a suitable solvent. Can be done.
さらに本発明のこの実施形態の好ましい変法において、式Vのアルデヒドとの式IVのホモアリルアルコールの反応は、少なくとも1種類のルイス酸および少なくとも1種類のブレンステッド酸の混合物の存在下で実行される。それらが互いに化学的に相溶性をもち、好ましくない副反応に結びつかないように、これらの酸が選択される。ルイス酸がブレンステッド酸と同じハロゲン原子を有することが有利で、即ち、例えば、臭化水素酸に加えM(Br)nのルイス酸ブロミドが使用される。好ましい組み合わせはHBrとBiBr3またはAuBr3とである。反応が対応する方法(即ち、約0℃および約50℃の間の反応温度および約100:約0.5:約2のルイス酸に対するブレンステッド酸のモル比)で行なわれる場合、ルイス酸は容易にブレンステッド酸とは異なっているハロゲン原子を含むことができる。例えばFeCl3およびHBrの組み合わせの場合である。そして、この変法によって調製された式IIの化合物は、X1としてブレンステッド酸のハロゲンを含んでおり、よってFeCl3およびHBrを備えた前記例では、X1はBrである。 Furthermore, in a preferred variant of this embodiment of the invention, the reaction of the homoallylic alcohol of the formula IV with the aldehyde of the formula V is carried out in the presence of a mixture of at least one Lewis acid and at least one Bronsted acid. Is done. These acids are selected so that they are chemically compatible with each other and do not lead to undesirable side reactions. It is advantageous for the Lewis acid to have the same halogen atom as the Bronsted acid, i.e. for example, M (Br) n Lewis acid bromide is used in addition to hydrobromic acid. Preferred combinations are HBr and BiBr 3 or AuBr 3 . When the reaction is carried out in a corresponding manner (ie a reaction temperature between about 0 ° C. and about 50 ° C. and a molar ratio of Bronsted acid to Lewis acid of about 100: about 0.5: about 2), the Lewis acid is It can easily contain halogen atoms that are different from Bronsted acids. For example, this is the case of a combination of FeCl 3 and HBr. And the compound of formula II prepared by this variant contains the Brönsted acid halogen as X 1 , so in the example with FeCl 3 and HBr, X 1 is Br.
原則として、ルイス酸およびブレンステッド酸は、互いへの任意の所望の混合比の中で使用することができる。しかしながら、ブレンステッド酸に対してルイス酸は、好ましくは約0.1mol%〜約20mol%の量、特に好ましくは約0.3mol%〜約10mol%の量、特には約0.5mol%〜約2mol%の量で使用される。ここで、ブレンステッド酸は、式IVのホモアリルアルコールに対して少なくとも化学量論的(約100mol%)〜化学量論を超える量(約350mol%)量で好ましくは使用される。本発明のこの変法中の反応温度は一般に約−10℃および約+70℃の間である。式Vのアルデヒドおよび式IVのホモアリルアルコールを第1に最初に適切な溶媒に導入することが好ましく、ルイス酸を約−10℃〜約+35℃で加え、ブレンステッド酸をガスとして約0℃〜約+50℃で−好ましくは外部から冷却して−反応媒体が飽和するまで続いて通過させる。ブレンステッド酸の適切な溶液も使用することができる。反応時間は一般に数分および24hの間、好ましくは10分および6時間の間および特に好ましくは15分および3時間の間である。 In principle, Lewis acid and Bronsted acid can be used in any desired mixing ratio with each other. However, the Lewis acid relative to the Bronsted acid is preferably in an amount of about 0.1 mol% to about 20 mol%, particularly preferably in an amount of about 0.3 mol% to about 10 mol%, in particular about 0.5 mol% to about Used in an amount of 2 mol%. Here, the Bronsted acid is preferably used in an amount of at least stoichiometric (about 100 mol%) to more than stoichiometric (about 350 mol%) relative to the homoallylic alcohol of formula IV. The reaction temperature during this variant of the invention is generally between about -10 ° C and about + 70 ° C. Preferably, the aldehyde of formula V and the homoallylic alcohol of formula IV are first introduced into a suitable solvent, the Lewis acid is added at about -10 ° C to about + 35 ° C and the Bronsted acid is used as a gas at about 0 ° C. At about + 50 ° C.-preferably cooled externally-followed by passage until the reaction medium is saturated. A suitable solution of Bronsted acid can also be used. The reaction time is generally between a few minutes and 24 h, preferably between 10 minutes and 6 hours and particularly preferably between 15 minutes and 3 hours.
式Vのアルデヒドとの式IVのホモアリルアルコールの反応は、各変法の中で溶媒なしのやり方および好ましくは溶媒または溶媒混合物中で原理的に行える。ここで、適切な溶媒は、それら自身が酸として働かないものか、少しの程度だけそうであるものであり、使用される酸に対して不活性なものである。媒体の正確な選択は特に反応物の溶解挙動および酸に依存する。適切な溶媒で、それらは反応媒体として単独でまたは2種類または3種類の溶媒の混合物で使用することができるものは、例えば水;ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエン、キシレンのような炭化水素;トリクロロエチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムおよび特にはジクロロメタンのような塩素化炭化水素;メタノール、エタノール、2−プロパノール、n−プロパノール、n−ブタノールのようなアルコール;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)または1,4−ジオキサンのようなエーテル;エチレングリコールモノメチルまたはモノエチルエーテル(メチルグリコール、エチルグリコールまたはポリエチレングリコール)、エチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)のようなグリコールエーテル類;二硫化炭素;ニトロメタンまたはニトロベンゼンのようなニトロ化合物で、ただし、本発明で使用される酸としてルイス酸(単独でまたはブレンステッド酸と一緒に)の使用においては、水とアルコールは溶媒または溶媒の成分としては使用されない。脂肪族および塩素化炭化水素、特に好ましくは塩素化炭化水素、特にはジクロロメタンである。 The reaction of the homoallylic alcohol of the formula IV with the aldehyde of the formula V can be carried out in principle in a solvent-free manner and preferably in a solvent or solvent mixture. Suitable solvents here are those which themselves do not act as acids or to some extent are inert to the acid used. The exact choice of medium depends in particular on the dissolution behavior of the reactants and on the acid. Suitable solvents, which can be used as reaction medium alone or in a mixture of two or three solvents are, for example, water; hydrocarbons such as hexane, petroleum ether, benzene, toluene, xylene; Chlorinated hydrocarbons such as trichlorethylene, 1,2-dichloroethane, chloroform and especially dichloromethane; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, n-propanol, n-butanol; diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (THF) ) Or ethers such as 1,4-dioxane; ethylene glycol monomethyl or monoethyl ether (methyl glycol, ethyl glycol or polyethylene glycol), ethylene glycol dimethyl ether (digly Glycol ethers such as); carbon disulfide; nitro compounds such as nitromethane or nitrobenzene, but in the use of Lewis acids (alone or together with Bronsted acids) as acids used in the present invention, Water and alcohol are not used as solvents or solvent components. Aliphatic and chlorinated hydrocarbons, particularly preferably chlorinated hydrocarbons, especially dichloromethane.
驚くべきことに、本発明による方法のこの実施形態が実行される場合、式Iのテトラヒドロピラン誘導体の2位および5位の置換基が互いにトランス配置にある立体異性体が、主にまたは排他的に形成されることが分かった。この状況は、本発明に従って還元的脱離によって式Iのテトラヒドロピラン誘導体を調製するためのこれらの化合物を更に使用するために非常に利点である。2位および5位の置換基のトランス配置により、伸ばされた分子の形状を有するビスエカトリアルコンフォーメンションが可能となるからであって、メソゲン性の特性には重要である。更に驚くべきことに、本発明による方法のこの実施形態によって調製される式IIの化合物の4位のハロゲン置換基X1も、主にまたは排他的に5位の置換基に対してトランス配置をとることが分かった。よって、本発明によるこの方法工程にて、2位、4位および5位の3つの置換基が、全エカトリアル配置の配向のテトラヒドロピラン誘導体が、高い選択性で形成される。少なくとも1種類のルイス酸、−単独または少なくとも1種類のブレンステッド酸と組み合わせて−が反応に関与する場合、本発明による反応の高選択率は特に明らかとなる。 Surprisingly, when this embodiment of the method according to the invention is carried out, the stereoisomers in which the substituents at positions 2 and 5 of the tetrahydropyran derivative of formula I are in trans configuration with respect to each other are predominantly or exclusively It was found to be formed. This situation is very advantageous for further use of these compounds to prepare tetrahydropyran derivatives of formula I by reductive elimination according to the present invention. This is important for mesogenic properties because the trans configuration of substituents at the 2 and 5 positions allows for bis-equatorial conformation with elongated molecular shapes. Even more surprising, the halogen substituent X 1 at the 4-position of the compound of formula II prepared by this embodiment of the method according to the invention also has a trans configuration mainly or exclusively with respect to the substituent at the 5-position. I understood that I would take it. Thus, in this method step according to the present invention, tetrahydropyran derivatives in which the three substituents at the 2-position, 4-position and 5-position are oriented in all equatorial configurations are formed with high selectivity. The high selectivity of the reaction according to the invention is particularly evident when at least one Lewis acid, alone or in combination with at least one Bronsted acid, is involved in the reaction.
高い立体化学の選択性に加えて、式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピラン誘導体の本発明による調製は、さらなる利点によって識別される。式IIのテトラヒドロピラン誘導体を良好から非常に良好な収率で入手できる。加えて、式Vのアルデヒドとの式IVのホモアリルアルコールの反応は、高い化学的選択性で起こる、つまり、好ましくない副生成物が生成されないか、非常に少量のみ生成されるかであり、式IIのテトラヒドロピラン誘導体の更なる使用に影響しない。本発明による方法で使用される酸試薬は容易に通常商業的および安価に入手でき、それを取り扱うには如何なる特別または通常でない予防も必要としない。本方法は、高い構造的多様性で、更なる特に式Iのテトラヒドロピラン誘導体を調製するための集中的な合成の方策の途を開くことが、特に利点であることが示され、特に式IVのホモアリルアルコールから出発して、式Vのアルデヒドの基を変化させることで、式IIの種々に置換されたテトラヒドロピラン誘導体および引き続き対応する式Iのテトラヒドロピラン誘導体の広範囲な調製が可能となる。同じことが相補的な手法にもあてはまり、即ち、特に式Vのアルデヒドより出発して、式IVのホモアリルアルコールの基を変化させることで、高い構造的多様性をもって、式IIおよびIのテトラヒドロピラン誘導体を調製できる。 In addition to the high stereochemical selectivity, the preparation according to the invention of halogenated tetrahydropyran derivatives of the formula II is distinguished by further advantages. Tetrahydropyran derivatives of formula II are available in good to very good yields. In addition, the reaction of the homoallylic alcohol of the formula IV with the aldehyde of the formula V takes place with high chemical selectivity, ie no unwanted by-products are produced or only very small amounts are produced, It does not affect further use of the tetrahydropyran derivative of formula II. The acid reagent used in the method according to the invention is usually readily available commercially and inexpensively and does not require any special or unusual prevention to handle it. The method has been shown to be particularly advantageous to open up intensive synthetic strategies to prepare further tetrahydropyran derivatives of formula I, especially with high structural diversity, in particular formula IV Starting from the homoallylic alcohols of the formula, changing the group of the aldehyde of the formula V allows for the extensive preparation of variously substituted tetrahydropyran derivatives of the formula II and subsequently the corresponding tetrahydropyran derivatives of the formula I. . The same applies to the complementary approach, i.e. starting from the aldehyde of formula V, especially by changing the group of the homoallylic alcohol of formula IV, with high structural diversity, the tetrahydro of formulas II and I. A pyran derivative can be prepared.
式II、III、IVおよびVの化合物でa、b、c、d、e、f、R1、R2、A1、A2、A3、A4、A5、A6、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6およびX1は、式Iの化合物と同じ好ましい意味を有する。 A, b, c, d, e, f, R 1 , R 2 , A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , A 6 , Z 1 , in compounds of formula II, III, IV and V; Z 2 , Z 3 , Z 4 , Z 5 , Z 6 and X 1 have the same preferred meaning as the compounds of formula I.
本発明による方法によって入手可能な式Iのテトラヒドロピラン誘導体は、それ自身通常先行技術から既知であり、メソゲン性または液晶的特性を有し、液晶媒体の要素として使用され、例えば、電気光学的ディスプレイ素子および/またはテトラヒドロピラン構造要素を含む更なるメソゲン性または液晶性化合物を調製するための出発化合物としてである。 The tetrahydropyran derivatives of the formula I obtainable by the process according to the invention are generally known per se from the prior art and have mesogenic or liquid crystalline properties and are used as elements of liquid-crystalline media, for example electro-optical displays As a starting compound for the preparation of further mesogenic or liquid crystalline compounds comprising devices and / or tetrahydropyran structural elements.
本発明による方法の工程の中で使用される試薬と溶媒は文献より既知で、通常商業的に入手できる。また、文献(例えば、Houben−Weyl、Methoden der organischen Chemie[Methods of Organic Chemistry]、Georg−Thieme−Verlag、Stuttgartのような合成有機化学の標準的な著作)に記載されているようにそれ自身既知の方法により調製でき、既知で前記反応に適当な反応条件下で正確に行われる。しかしながら、それ自身既知で詳細には述べられていない変法を行うこともできる。 The reagents and solvents used in the process steps according to the invention are known from the literature and are usually commercially available. It is also described in the literature (for example, standard works of synthetic organic chemistry such as Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [Methods of Organic Chemistry], Georg-Thieme-Verlag, Stuttgart). And can be accurately carried out under reaction conditions known and appropriate for the above reaction. However, it is also possible to carry out variants which are known per se and are not described in detail.
式Vのアルデヒドは、商業的に入手可能かまたは先行技術の中で既知の反応による他のアルデヒドから入手可能である。よって、シクロヘキシル環(例えば、式Vでcが1に等しく、Z3は単結合を表わし、A3がシクロヘキシレン基を表す場合)へホルミル基が接合される式Vのアルデヒドは、DE19612814A1で示された方法によって調製することができる。ホルミル基が、置換されていてもよいフェニレン基に例えば単結合を介して連結されているか(例えば、式V中のcが1に等しく、Z3が単結合を表しおよびA3がフェニレン基を表す場合)、アルキレン架橋、−CH2O−、−OCH2−または−CF2O−介して環基に結合されている(例えば、式V中のcが1に等しく、Z3がアルキレン架橋、−CH2O−、−OCH2−または−CF2O−を表しおよびA3が請求項1および上の記載で示される意味の1つを有する場合)さらなる式Vのアルデヒドは、、対応するカルボン酸エステルまたはカルボン酸誘導体から調製することができ、これは水素化ジイソブチルアルミニウム(DIBAL−H)等の適当な還元剤を使用して文献より既知の方法および/または商業的に入手できる(とりわけ、ドイツ国特許出願DE102004021334A1参照)。 Aldehydes of formula V are commercially available or are available from other aldehydes by reactions known in the prior art. Thus, an aldehyde of formula V to which a formyl group is conjugated to a cyclohexyl ring (for example when c is equal to 1 in formula V, Z 3 represents a single bond and A 3 represents a cyclohexylene group) is shown in DE19612814A1 Can be prepared by Whether the formyl group is linked to an optionally substituted phenylene group, for example via a single bond (eg c in formula V is equal to 1, Z 3 represents a single bond and A 3 represents a phenylene group) To the cyclic group via an alkylene bridge, —CH 2 O—, —OCH 2 — or —CF 2 O— (eg, c in formula V is equal to 1 and Z 3 is an alkylene bridge) , —CH 2 O—, —OCH 2 — or —CF 2 O— and when A 3 has one of the meanings indicated in claim 1 and above, further aldehydes of the formula V Can be prepared from carboxylic acid esters or carboxylic acid derivatives which are known from the literature and / or commercially using suitable reducing agents such as diisobutylaluminum hydride (DIBAL-H). Available (see inter alia German patent application DE102004021334A1).
ホルミル基が単結合を介してテトラヒドロピラニル基の5位へ結合されており、2位が置換されている式Vのアルデヒドも、同様にして入手できる。ここで、出発材料は例えば対応するカルボン酸エステルまたはニトリル前駆体で、例えばスキーム1aに示されるメタセシス法(ただし、例えばradical1は−CO2−アルキルまたは−CN)および引き続く触媒的水素化、例えばWilkinson触媒のような均一系触媒を使用して得ることができ、これを水素化ジイソブチルアルミニウム(DIBAL−H)と反応させて、ホルミル誘導体を得る。 An aldehyde of the formula V in which the formyl group is bonded to the 5-position of the tetrahydropyranyl group via a single bond and the 2-position is substituted is likewise available. Here, the starting materials are, for example, the corresponding carboxylic acid esters or nitrile precursors, for example the metathesis method shown in Scheme 1a (for example where radical 1 is —CO 2 -alkyl or —CN) and subsequent catalytic hydrogenation, for example It can be obtained using a homogeneous catalyst such as a Wilkinson catalyst, which is reacted with diisobutylaluminum hydride (DIBAL-H) to give a formyl derivative.
同様に、式IVのホモアリルアルコールは先行技術より既知か、商業的に入手できるか、それ自身文献より既知の合成方法により容易に調製できる。スキーム2に、式Aのアリルハライド誘導体から出発する合成経路の概要を示す。 Similarly, homoallylic alcohols of the formula IV are known from the prior art, are commercially available or can be readily prepared by synthetic methods known per se from the literature. Scheme 2 outlines a synthetic route starting from an allyl halide derivative of formula A.
式IVのホモアリルアルコールの更なる入手を、スキーム3に示すように行い、「Hal」はスキーム2中の上と同じ意味を有し、「Met」は好ましくはCuである(A.Carpita、R.Rossi、Synthesis(1982)、469参照)。 Further acquisition of the homoallylic alcohol of formula IV is carried out as shown in Scheme 3, where “Hal” has the same meaning as above in Scheme 2 and “Met” is preferably Cu (A. Carpita, R. Rossi, Synthesis (1982), 469).
更に、R1−[A1−Z1]a−[A2−Z2]b−がアルキル基を表す式IVのホモアリルアルコールも、クロトン酸のジアニオンのアルキル塩化物R1−[A1−Z1]a−[A2−Z2]b−Halを使用する対応するアルキル化およびLiAlH4を使用する引き続く還元により入手できる。このジアニオンは、例えばリチウムジイソプロピルアミド(LDA)の2等量との反応よりクロトン酸から得る(P.E.Pfeffer、L.S.Silbert、J.Org.Chem.(1971)、36、3290;R.H.van der Veen、H.Cerfountain、J.Org.Chem.(1985)、50、342参照)。 Furthermore, the homoallylic alcohol of the formula IV in which R 1- [A 1 -Z 1 ] a- [A 2 -Z 2 ] b- represents an alkyl group is also an alkyl chloride R 1- [A 1 of the dianion of crotonic acid. -Z 1] a - [available by subsequent reduction using the a 2 -Z 2] alkylation and LiAlH 4 corresponding to use b -Hal. This dianion is obtained, for example, from crotonic acid by reaction with 2 equivalents of lithium diisopropylamide (LDA) (PE Pfeffer, LS Silbert, J. Org. Chem. (1971), 36, 3290; R. H. van der Veen, H. C. Fountain, J. Org. Chem. (1985), 50, 342).
本発明との関係において、用語「アルキル」は、−明細書または特許請求の範囲において別に定義されなければ−、その最も一般的な意味において、直鎖状または分岐状で、飽和または不飽和で、1〜15個(即ち、1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14または15個)の炭素原子を有する脂肪族炭化水素基を示し、この基は無置換またはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素、カルボキシル、ニトロ、NH2、N(アルカニル)2および/またはシアノで1置換または多置換されており、ただし、同一または異なる置換基により多置換されていてもよい。脂肪族炭化水素鎖中のアルキル基も、それ自身、官能基化されていてもよい。 In the context of the present invention, the term “alkyl” —unless otherwise defined in the description or in the claims—is in its most general sense linear or branched, saturated or unsaturated. An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 (ie 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14 or 15) carbon atoms. This group is unsubstituted or mono- or polysubstituted by fluorine, chlorine, bromine, iodine, carboxyl, nitro, NH 2 , N (alkanyl) 2 and / or cyano, provided that the same or different substituents It may be polysubstituted. The alkyl group in the aliphatic hydrocarbon chain may itself be functionalized.
このアルキル基が飽和している基の場合、「アルカニル」とも呼ばれる。更に、「アルキル」との語は、置換されていないかまたは対応して同一または異なって、特にF、Cl、Br、Iおよび/またはCNによって1置換または多置換された炭化水素基も含み、1個以上のCH2基は、鎖中のヘテロ原子(OまたはS)が互いに直接結合しないように、−O−(「アルコキシ」、「オキサアルキル」)、−S−(「チオアルキル」)、−SO2−、−CH=CH−(「アルケニル」)、−C≡C−(「アルキニル」)、−(CO)O−または−O(CO)−で置き換えられていてもよい。好ましくは、アルキルは直鎖または分岐しており、無置換または置換された、1、2、3、4、5、6、7または8個の炭素原子を有するアルカニル、アルケニルまたはアルコキシ基である。アルキルがアルカニル基を表す場合、これは、好ましくは、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、CF3、CHF2、CH2F、CF2CF3である。アルカニル基は、特に好ましくは直鎖で無置換かFで置換されている。 When the alkyl group is saturated, it is also called “alkanyl”. Furthermore, the term “alkyl” also includes hydrocarbon groups which are unsubstituted or correspondingly the same or different, in particular mono- or polysubstituted by F, Cl, Br, I and / or CN, one or more CH 2 groups, as hetero atoms in the chain (O or S) are not linked directly to one another, -O- ( "alkoxy", "oxaalkyl"), - S- ( "thioalkyl"), —SO 2 —, —CH═CH — (“alkenyl”), —C≡C — (“alkynyl”), — (CO) O— or —O (CO) — may be substituted. Preferably, alkyl is a straight or branched, unsubstituted or substituted alkanyl, alkenyl or alkoxy group having 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8 carbon atoms. Where alkyl represents an alkanyl group, this is preferably methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, i-butyl, t-butyl, n-pentyl, neopentyl, n-hexyl, n- heptyl, n- octyl, CF 3, CHF 2, CH 2 F, CF 2 CF 3. The alkanyl group is particularly preferably straight-chain, unsubstituted or substituted with F.
アルキル基中の1個以上のCH2基を−O−で置き換える場合もあるため、「アルキル」との語は、「アルコキシ」または「オキサアルキル」基も含む。アルコキシは、酸素原子がアルコキシ基で換基された基または置換された環に直接結合しているO−アルキル基を意味し、アルキルは上に定義される通りであるが;アルキルは好ましくはアルカニルまたはアルケニルである。好ましいアルコキシ基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよびオクチルオキシであり、ただし、これらの基のそれぞれも、好ましくは1個以上のフッ素原子によって置換されていてよい。特に好ましくは、アルコキシは、−OCH3、−OC2H5、−O−n−C3H7、−O−n−C4H9、−O−t−C4H9、−OCF3、−OCHF2、−OCHFまたは−OCHFCHF2である。本発明との関連において、「オキサアルキル」との語は、隣接しているヘテロ原子(OまたはS)がないように末端でないCH2基の少なくとも1個が−O−で置き換えられているアルキル基を意味する。好ましくは、オキサアルキルは式CaH2a+1−O−(CH2)b−の直鎖の基を含み、aおよびbは、それぞれ互いに独立に、1、2、3、4、5、6、7、8、9または10を表し、特に好ましくは、aは1〜6の整数で、bは1または2である。 The term “alkyl” also includes “alkoxy” or “oxaalkyl” groups, as one or more CH 2 groups in an alkyl group may be replaced by —O—. Alkoxy means an O-alkyl group in which the oxygen atom is substituted by an alkoxy group or directly attached to a substituted ring, where alkyl is as defined above; alkyl is preferably alkanyl Or alkenyl. Preferred alkoxy groups are methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentoxy, hexyloxy, heptyloxy and octyloxy, although each of these groups is preferably substituted by one or more fluorine atoms. Particularly preferably, alkoxy is —OCH 3 , —OC 2 H 5 , —O—N—C 3 H 7 , —O—N—C 4 H 9 , —Ot—C 4 H 9 , —OCF 3. , -OCHF 2, is a -OCHF or -OCHFCHF 2. In the context of the present invention, the term “oxaalkyl” refers to an alkyl in which at least one non-terminal CH 2 group is replaced by —O— so that there are no adjacent heteroatoms (O or S). Means group. Preferably, the oxaalkyl comprises a linear group of formula C a H 2a + 1 —O— (CH 2 ) b —, wherein a and b are each independently 1, 2, 3, 4, 5, 6, Represents 7, 8, 9 or 10, and particularly preferably, a is an integer of 1 to 6 and b is 1 or 2.
上で定義されるようなアルキル基中の1個以上のCH2基が硫黄に置き換えられている場合、「チオアルキル」基が存在する。「チオアルキル」は、好ましくは、式CaH2a+1−S−(CH2)b−の直鎖の基を含み、aは、1、2、3、4、5、6、7、8、9または10で、bは、1、2、3、4、5、6、7、8、9または10で、特に好ましくは、aは1〜6の整数で、bは1または2である。同様に、チオアルキル基はF、Cl、Br、Iおよび/または−CNで置換されていてもよく、好ましくは、無置換である。 A “thioalkyl” group is present when one or more CH 2 groups in an alkyl group as defined above are replaced by sulfur. “Thioalkyl” preferably comprises a straight chain group of the formula C a H 2a + 1 —S— (CH 2 ) b —, where a is 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 Or 10 and b is 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10, and particularly preferably, a is an integer of 1 to 6 and b is 1 or 2. Similarly, a thioalkyl group may be substituted with F, Cl, Br, I and / or —CN, and is preferably unsubstituted.
本発明との関連において、「アルケニル」との語は、1個以上の−CH=CH−基が存在する上で定義されたアルキル基を意味する。この基中に2個の−CH=CH−基が存在する場合、「アルカジエニル」と呼ぶこともできる。アルケニル基は2〜15個(即ち、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14または15個)の炭素原子を含むことができ、および分岐または好ましくは直鎖である。この基は置換されていないかまたは同一または異なって1置換または多置換されており、特にF、Cl、Br、Iおよび/またはCN、即ち、−CH=CH−単位の一方または両方の水素および/またはアルケニル基の更なるCH2またはCH3基の水素が対応する置換基で置き換えられていてもよい。更に、1個以上のCH2基がそれぞれ互いに独立に、ヘテロ原子(OまたはS)が互いに直接結合しないように、−O−(「アルケニルオキシ」)、−S−、−C≡C−、−CO−、−(CO)O−、−O(CO)−で置き換えられていてもよい。CH=CH基の両方の炭素原子上に水素以外がある場合、例えば、末端基でない場合、CH=CHには2種類の立体配置、即ち、E異性体およびZ異性体が存在する。対応する状態を、ハロゲンおよび/または−CNで置換されたC=C二重結合に適用する。一般に、E異性体(トランス)が好ましい。好ましくは、アルケニル基は2、3、4、5、6または7個の炭素原子を含み、ビニル、アリル、1E−プロペニル、2−プロペニル、1E−ブテニル、1E−ペンテニル、1E−ヘキセニル、1E−ヘプテニル、2−プロペニル、2E−ブテニル、2E−ペンテニル、2E−ヘキセニル、2E−ヘプテニル、3−ブテニル、3E−ペンテニル、3E−ヘキセニル、3E−ヘプテニル、4−ペンテニル、4Z−ヘキセニル、4E−ヘキセニル、4Z−ヘプテニル、5−ヘキセニルまたは6−ヘプテニルを意味する。特に好ましいアルケニル基は、ビニル、アリル、1E−プロペニル、2−プロペニルおよび3E−ブテニルである。 In the context of the present invention, the term “alkenyl” means an alkyl group as defined above in which one or more —CH═CH— groups are present. If there are two —CH═CH— groups in this group, they can also be referred to as “alkadienyl”. An alkenyl group can contain 2 to 15 (ie 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14 or 15) carbon atoms and can be branched Or it is preferably a straight chain. This group is unsubstituted or identically or differently mono- or polysubstituted, in particular F, Cl, Br, I and / or CN, ie hydrogen of one or both of the —CH═CH— units and A further CH 2 or CH 3 group hydrogen of the alkenyl group may be replaced by a corresponding substituent. Furthermore, —O— (“alkenyloxy”), —S—, —C≡C—, so that one or more CH 2 groups are independent of each other and heteroatoms (O or S) are not directly bonded to each other. -CO-,-(CO) O-, and -O (CO)-may be substituted. When there are other than hydrogen on both carbon atoms of the CH═CH group, for example, when it is not a terminal group, there are two configurations of CH═CH: the E isomer and the Z isomer. The corresponding state applies to C═C double bonds substituted with halogen and / or —CN. In general, the E isomer (trans) is preferred. Preferably, the alkenyl group contains 2, 3, 4, 5, 6 or 7 carbon atoms and is vinyl, allyl, 1E-propenyl, 2-propenyl, 1E-butenyl, 1E-pentenyl, 1E-hexenyl, 1E- Heptenyl, 2-propenyl, 2E-butenyl, 2E-pentenyl, 2E-hexenyl, 2E-heptenyl, 3-butenyl, 3E-pentenyl, 3E-hexenyl, 3E-heptenyl, 4-pentenyl, 4Z-hexenyl, 4E-hexenyl, Mean 4Z-heptenyl, 5-hexenyl or 6-heptenyl. Particularly preferred alkenyl groups are vinyl, allyl, 1E-propenyl, 2-propenyl and 3E-butenyl.
アルキル基中の1個以上のCH2基が−C≡C−で置き換えられている場合、アルキニル基が存在する。1個以上のCH2基を−(CO)O−または−O(CO)−で置き換えることも可能である。ここで、好ましいこれらの基は次の通りである:アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチル、2−アセトキシエチル、2−プロピオニルオキシエチル、2−ブチリルオキシエチル、2−アセトキシプロピル、3−プロピオニルオキシプロピル、4−アセトキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(エトキシカルボニル)エチル、2−(プロポキシカルボニル)エチル、3−(メトキシカルボニル)プロピル、3−(エトキシカルボニル)プロピルおよび4−(メトキシカルボニル)ブチル。 An alkynyl group is present when one or more CH 2 groups in an alkyl group are replaced with —C≡C—. It is also possible to replace one or more CH 2 groups with — (CO) O— or —O (CO) —. Preferred groups here are: acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, pentanoyloxy, hexanoyloxy, acetoxymethyl, propionyloxymethyl, butyryloxymethyl, pentanoyloxymethyl, 2-acetoxyethyl 2-propionyloxyethyl, 2-butyryloxyethyl, 2-acetoxypropyl, 3-propionyloxypropyl, 4-acetoxybutyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentoxycarbonyl, methoxycarbonylmethyl, Ethoxycarbonylmethyl, propoxycarbonylmethyl, butoxycarbonylmethyl, 2- (methoxycarbonyl) ethyl, 2- (ethoxycarbonyl) ethyl, 2- (propyl Po alkoxycarbonyl) ethyl, 3- (methoxycarbonyl) propyl, 3- (ethoxycarbonyl) propyl and 4- (methoxycarbonyl) butyl.
アルキル基のCH2基が無置換または置換された−CH=CH−で置き換えられており、隣接するCH2基がCO、−CO−O−または−O−CO−で置き換えられている場合、この基は直鎖または分岐していてもよい。好ましくは直鎖で4〜12個のC原子を有している。従って、特に好ましくは、アクリロイルオキシメチル、2−アクリロイルオキシエチル、3−アクリロイルオキシプロピル、4−アクリロイルオキシブチル、5−アクリロイルオキシペンチル、6−アクリロイルオキシヘキシル、7−アクリロイルオキシヘプチル、8−アクリロイルオキシオクチル、9−アクリロイルオキシノニル、メタアクリロイルオキシメチル、2−メタアクリロイルオキシエチル、3−メタアクリロイルオキシプロピル、4−メタアクリロイルオキシブチル、5−メタアクリロイルオキシペンチル、6−メタアクリロイルオキシヘキシル、7−メタアクリロイルオキシヘプチルまたは8−メタアクリロイルオキシオクチルを意味する。 When the CH 2 group of the alkyl group is replaced with unsubstituted or substituted —CH═CH—, and the adjacent CH 2 group is replaced with CO, —CO—O— or —O—CO—, This group may be linear or branched. Preferably it is straight-chain and has 4 to 12 C atoms. Therefore, particularly preferred are acryloyloxymethyl, 2-acryloyloxyethyl, 3-acryloyloxypropyl, 4-acryloyloxybutyl, 5-acryloyloxypentyl, 6-acryloyloxyhexyl, 7-acryloyloxyheptyl, 8-acryloyloxy. Octyl, 9-acryloyloxynonyl, methacryloyloxymethyl, 2-methacryloyloxyethyl, 3-methacryloyloxypropyl, 4-methacryloyloxybutyl, 5-methacryloyloxypentyl, 6-methacryloyloxyhexyl, 7- Means methacryloyloxyheptyl or 8-methacryloyloxyoctyl.
アルキル基、アルカニル基、アルケニル基またはアルコキシ基が少なくとも1個のハロゲンで置き換えられている場合、好ましくは、この基は直鎖である。ハロゲンは、好ましくは、FまたはClである。多置換の場合、好ましくは、ハロゲンはFである。得られる基は、ペルフルオロ化された基も含む。1置換の場合、フッ素または塩素置換は任意の所望の位置で構わないが、好ましくはω位である。 When an alkyl group, alkanyl group, alkenyl group or alkoxy group is replaced by at least one halogen, preferably this group is straight-chain. Halogen is preferably F or Cl. In the case of polysubstitution, preferably the halogen is F. The resulting groups also include perfluorinated groups. In the case of monosubstitution, fluorine or chlorine substitution may be at any desired position, but is preferably at the ω position.
本発明との関係において、「アルキレン」または「アルキレン架橋」は、−明細書または特許請求の範囲において別に定義されなければ−、鎖中に1、2、3、4、5、6、7、8個の炭素原子を有する2価の脂肪族炭化水素基を表し、ハロゲン、CN、カルボキシル、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、−NH2または−N(アルカニル)2で1置換または多置換されていてもよく、ただし、同一または異なる置換基により多置換されていてもよい。「アルキレン」または「アルキレン架橋」は、好ましくは、直鎖で1、2、3、4、5、6個の炭素原子を有する飽和脂肪族基を意味し、無置換であるかフッ素により1置換または多置換されており、特に、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−(CH2)4−、−CF2CF2−または−(CF2)4−を意味する。 In the context of the present invention, “alkylene” or “alkylene bridge” —unless otherwise defined in the specification or in the claims—is in the chain 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, Represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 8 carbon atoms, and may be mono- or polysubstituted by halogen, CN, carboxyl, nitro, alkanyl, alkoxy, —NH 2 or —N (alkanyl) 2 However, it may be polysubstituted by the same or different substituents. “Alkylene” or “alkylene bridge” preferably means a straight chain saturated aliphatic group having 1, 2, 3, 4, 5, 6 carbon atoms, unsubstituted or monosubstituted by fluorine Or a polysubstituted group, in particular, —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, — (CH 2 ) 4 —, —CF 2 CF 2 — or — (CF 2 ) 4 —. .
本発明との関係において、用語「アラルキル」はアリールアルキル基、即ち、アリール置換基がアルキル架橋を介して、原子、鎖、他の基または官能基に連結されている基を表す。そのアルキル架橋は、好ましくは、飽和2価炭化水素基(「アルキレン」)、特に、メチレン(−CH2−)またはエチレン(−CH2−CH2−)である。アラルキル基の好ましい例は、ベンジルおよびフェネチルである。本発明の目的のためには、「アラルキル−O−ラジカル」は、アルキル架橋に結合している酸素原子を介して更なる原子、鎖、他の基または官能基に連結されているアラルキル基である。アラルキル−O−ラジカルの好ましい例は、O−ベンジルおよびO−CH2−CH2−フェニルである。このアラルキル基中のメチレン基は、今度は−O−、−SO2−、−(CO)−などのようなヘテロ架橋で置き換えられてもよく、従来の脱離および保護基を与える。 In the context of the present invention, the term “aralkyl” refers to an arylalkyl group, ie a group in which an aryl substituent is connected to an atom, chain, other group or functional group via an alkyl bridge. The alkyl bridge is preferably a saturated divalent hydrocarbon group (“alkylene”), in particular methylene (—CH 2 —) or ethylene (—CH 2 —CH 2 —). Preferred examples of aralkyl groups are benzyl and phenethyl. For the purposes of the present invention, an “aralkyl-O-radical” is an aralkyl group that is linked to an additional atom, chain, other group or functional group through an oxygen atom bonded to the alkyl bridge. is there. Preferred examples of aralkyl-O-radicals are O-benzyl and O—CH 2 —CH 2 -phenyl. The methylene group in the aralkyl group may in turn be replaced with a heterobridge such as —O—, —SO 2 —, — (CO) —, etc., to provide conventional leaving and protecting groups.
本発明との関係において、用語「アリール」は芳香族または部分的に芳香族環系を表し、狭義にはベンゼン環を表し、それの電子的特性を修正するか立体的にスクリーニングするために(例えば、tert−ブチル)、例えば1〜5Cのアルキル、ハロゲン、ニトロ、シアノなどのような単純な基で1置換、2置換または3置換されていてもよい。アリール基は好ましくはフェニル基またはp−トリル基である。 In the context of the present invention, the term “aryl” represents an aromatic or partially aromatic ring system, in a narrow sense represents a benzene ring, to modify or electronically screen its electronic properties ( For example, tert-butyl) may be mono-, di- or tri-substituted with simple groups such as 1-5C alkyl, halogen, nitro, cyano and the like. The aryl group is preferably a phenyl group or a p-tolyl group.
本発明との関係において、「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表す。 In the context of the present invention, “halogen” represents fluorine, chlorine, bromine or iodine.
本発明で使用する化合物の基または置換基または本発明で使用する化合物自身が光学活性または立体異性でもよい基、置換基または化合物として存在し得る場合、例えば不斉中心を有するために、これらも本発明に含まれる。これらの化合物は、異性体的に純粋な状態、例えば、純粋な鏡像異性体、ジアステレオマー、EまたはZ異性体、トランスまたはシス異性体、または任意の所望の比率の異性体の混合物、例えば、ラセミ体、E/Z異性体混合物またはシス/トランス異性体混合物で存在しうることは言うまでもない。 When the group or substituent of the compound used in the present invention or the compound itself used in the present invention can exist as a group, substituent or compound which may be optically active or stereoisomeric, for example, since it has an asymmetric center, these It is included in the present invention. These compounds are in isomerically pure state, e.g. pure enantiomers, diastereomers, E or Z isomers, trans or cis isomers, or mixtures of isomers in any desired ratio, e.g. Needless to say, it can exist in racemic, E / Z isomer mixtures or cis / trans isomer mixtures.
本発明の方法で使用される化合物に存在する任意の反応し得る官能基または置換基を、本発明の反応および/または前または引き続く反応および/または一連の作業における好ましくない反応から保護するために、反応が完了した時に再び開裂して除ける保護基を使用できる。適当な保護基の使用方法は当業者に公知であり、例えば、T.W.Green、P.G.M.Wuts:Protective 基s in Organic Synthesis、第3版、John Wiley&Sons(1999)に記載されている。 In order to protect any reactive functional groups or substituents present in the compounds used in the methods of the invention from the reactions of the invention and / or from previous or subsequent reactions and / or undesired reactions in a series of operations. , Protecting groups that can be cleaved off again when the reaction is complete can be used. Methods of using suitable protecting groups are known to those skilled in the art and are described, for example, in T.W. W. Green, P.M. G. M.M. Wuts: Protective group s in Organic Synthesis, 3rd edition, John Wiley & Sons (1999).
以下の例は、本発明を制限することなく、本発明を説明するものである。 The following examples illustrate the present invention without limiting it.
式図において、基−CnH2n+1はn−アルキル基を表し、ただしnは2より大きい。 In the formulas, the group —C n H 2n + 1 represents an n-alkyl group, where n is greater than 2.
普通で良く知られている略称に加え、以下の略称を用いる。 In addition to the common and well-known abbreviations, the following abbreviations are used.
Cは結晶状態、Nはネマチック相、Smはスメクティック相およびIは等方相である。これらの記号間のデータは特定の物質の相転移温度を示す。温度データは、特に他に示さない限り℃である。 C is a crystalline state, N is a nematic phase, Sm is a smectic phase, and I is an isotropic phase. Data between these symbols indicates the phase transition temperature of a particular material. Temperature data is in degrees Celsius unless otherwise indicated.
物理的、物理化学的または電気光学的パラメータは一般に既知の方法で決定され、とりわけ、冊子「Merck Liquid Crystals−Licristal(登録商標)−Physical Properties of Liquid Crystals−Description of the Measurement Methods、1998、Merck社、Darmstadt」に記載されるようにしてである。 The physical, physicochemical or electro-optical parameters are generally determined by known methods, among others, the booklet “Merck Liquid Crystals-Licristal®-Physical Properties of Liquid Crystals-Descriptor of the Mess. , “Darmstadt”.
上および下で、Δnは光学異方性(589nm、20℃)を表わし、Δεは誘電異方性(1kHz、20℃)を表す。誘電異方性Δεは20℃および1kHzで決定される。光学異方性Δnは20℃および波長589.3nmで決定する。 Above and below, Δn represents optical anisotropy (589 nm, 20 ° C.) and Δε represents dielectric anisotropy (1 kHz, 20 ° C.). The dielectric anisotropy Δε is determined at 20 ° C. and 1 kHz. The optical anisotropy Δn is determined at 20 ° C. and a wavelength of 589.3 nm.
個々の化合物のΔnおよびΔεの値および透明点(cl.p.)は、5〜10%の本発明の特定の化合物と、90〜95%の商業的に入手可能な液晶混合物ZLI−4792(メルク社、ダルムスタット市)とから成る液晶混合物から直線外挿して得られる。 The Δn and Δε values and clearing points (cl.p.) of the individual compounds are determined by 5-10% of a particular compound of the invention and 90-95% of the commercially available liquid crystal mixture ZLI-4792 ( Obtained by linear extrapolation from a liquid crystal mixture consisting of Merck, Darmstadt City).
<例1:GWP1−不均一触媒およびトリアルキルアミンがある状態での還元的脱離>
式IIの臭素化された物質を適当量のテトラヒドロフラン(式IIの化合物の体積または重量の約4倍および12倍の間)に溶解し、5%の炭素上パラジウム(55%の水)の10〜30重量%、好ましくは20重量%(IIに基づく約0.5〜6mol%に対応)、2.5モル等量のトリエチルアミンおよび2倍量(物質に基づいて)の水を加え、圧力オートクレーブ中で、4〜6barの圧力の水素を使用し、理論量の水素が取り込まれるまで混合物を水素化する。冷却の後、反応混合物を濾過し、濾液を氷上に注ぎ、濃塩酸を使用してpHを1に調節する。混合物をそれぞれヘプタンおよびヘプタン/トルエン混合物で1回抽出する。合わせた有機相を水で4回洗浄し、乾燥し、蒸発させる。更なる精製を、−生成物の性質に依存して−結晶化、クロマトグラフィーおよび/または蒸留で行う。
<Example 1: GWP1-reductive elimination in the presence of a heterogeneous catalyst and a trialkylamine>
The brominated material of formula II is dissolved in an appropriate amount of tetrahydrofuran (between about 4 and 12 times the volume or weight of the compound of formula II) and 10% of 5% palladium on carbon (55% water). ˜30% by weight, preferably 20% by weight (corresponding to about 0.5-6 mol% based on II), 2.5 molar equivalents of triethylamine and twice the amount (based on the substance) of water, pressure autoclave In, hydrogen at a pressure of 4-6 bar is used and the mixture is hydrogenated until a theoretical amount of hydrogen is taken up. After cooling, the reaction mixture is filtered, the filtrate is poured onto ice and the pH is adjusted to 1 using concentrated hydrochloric acid. The mixture is extracted once with each heptane and heptane / toluene mixture. The combined organic phases are washed 4 times with water, dried and evaporated. Further purification is performed-depending on the nature of the product-by crystallization, chromatography and / or distillation.
GWP1によって得られた式Iのテトラヒドロピラン誘導体の反応条件上の詳細なデータおよび収率を表1に示す。 Detailed data and yields on the reaction conditions of the tetrahydropyran derivatives of formula I obtained by GWP1 are shown in Table 1.
<例2−水素化トリブチルスズを使用する還元的脱離> <Example 2—Reductive elimination using tributyltin hydride>
<例3:トリス(トリメチルシリル)シラン(TTMSS)を使用する還元的脱離> Example 3: Reductive elimination using tris (trimethylsilyl) silane (TTMSS)
<例4−式IIIaおよび/またはIIIbの化合物を与える式Iの化合物の脱ハロゲン化水素>
<例4.1>
Example 4 Dehydrohalogenation of a Compound of Formula I to give a Compound of Formula IIIa and / or IIIb
<Example 4.1>
<例4.2> <Example 4.2>
あるいは、HBrの脱離を、溶媒なしで130℃で3時間で実行することもできる。 Alternatively, HBr desorption can be performed at 130 ° C. for 3 hours without solvent.
<例4.3> <Example 4.3>
49.7g(0.15mol)の異性体的に純粋な全エカトリアル配置の4−ブロモ−2−(4−ブロモフェニル)−5−メチルテトラヒドロピラン4−5を、20mlのトルエン中の27.8g(0.225mol)のDBNと共に、還流下、4時間、攪拌する。そして、混合物を0℃に冷却し、塩の沈殿を濾過して取り除き、濾液を濃縮し、トルエン/ヘプタン(1:1)でシリカゲルを通して濾過する。濾液を蒸発させ、残渣をエタノールより結晶化する。得られた唯一の異性体は4,5−ジヒドロ−5−メチルテトラヒドロピラン4−6a;収率(最適化していない):15.6g(73%)。
49.7 g (0.15 mol) of isomerically pure all equatorial configuration of 4-bromo-2- (4-bromophenyl) -5-methyltetrahydropyran 4-5 was dissolved in 27.8 g of 20 ml of toluene. Stir with refluxing (0.225 mol) DBN for 4 hours. The mixture is then cooled to 0 ° C., the salt precipitate is filtered off, the filtrate is concentrated and filtered through silica gel with toluene / heptane (1: 1). The filtrate is evaporated and the residue is crystallized from ethanol. The only isomer obtained was 4,5-dihydro-5-methyltetrahydropyran 4-6a; yield (not optimized): 15.6 g (73%).
<例4.4> <Example 4.4>
<例4.5> <Example 4.5>
<例4.6> <Example 4.6>
23.0g(0.0556mol)の4−ブロモテトラヒドロピラン4−11(異性体混合物)を、60mlのトルエン中の10.36g(0.0834mol)のDBNと共に、還流下、3時間、攪拌する。そして、混合物を室温まで冷却し、400mlの水を加え、そして希硫酸を使用して攪拌しながら混合物を酸性とする。乾燥およびトルエン/ヘプタン混合物(1:1)でシリカゲルを通して濾過後、分離された有機相を濾液より、4−12a、4−12bおよび4−12aが主な異性体である更なるジヒドロピラン誘導体を含む異性体混合物17.8g(96%)を与える。
23.0 g (0.0556 mol) of 4-bromotetrahydropyran 4-11 (mixture of isomers) is stirred under reflux with 10.36 g (0.0834 mol) of DBN in 60 ml of toluene for 3 hours. The mixture is then cooled to room temperature, 400 ml of water is added, and the mixture is acidified with stirring using dilute sulfuric acid. After drying and filtration through silica gel with a toluene / heptane mixture (1: 1), the separated organic phase is separated from the filtrate by further dihydropyran derivatives with the main isomers 4-12a, 4-12b and 4-12a. 17.8 g (96%) of the isomer mixture containing are obtained.
<例4.7> <Example 4.7>
<例4.8> <Example 4.8>
<例4.9> <Example 4.9>
22.3g(0.05mol)の4−17(異性体混合物2,5−シス:2,5−トランス=42:58)を、75mlのトルエン中の9.31g(0.075mol)のDBNと共に、還流下、3時間、加熱する。希硫酸およびトルエンで水系の作業後、有機相をNaHCO3溶液および水で洗浄し、乾燥し、蒸発させる。残渣をトルエンでシリカゲルを通して濾過し、10.43g(57%)のジヒドロピラン4−18aを得る。
22.3 g (0.05 mol) 4-17 (isomer mixture 2,5-cis: 2,5-trans = 42: 58) together with 9.31 g (0.075 mol) DBN in 75 ml toluene. Heat at reflux for 3 hours. After working aqueous with dilute sulfuric acid and toluene, the organic phase is washed with NaHCO 3 solution and water, dried and evaporated. The residue is filtered through silica gel with toluene to give 10.43 g (57%) of dihydropyran 4-18a.
<例4.10> <Example 4.10>
22.5g(0.04mol)の4−19(異性体混合物2,5−シス:2,5−トランス=25:75)を、100mlのトルエン中の7.5g(0.06mol)のDBNと共に、還流下、4時間、攪拌する。希硫酸およびトルエンで水系の作業後に乾燥し、シリカゲルを通して有機相を濾過し、蒸発させる。残渣をエタノールより再結晶する。4−20aの収率(最適化していない):10.7g(55%)。
22.5 g (0.04 mol) of 4-19 (isomer mixture 2,5-cis: 2,5-trans = 25: 75) together with 7.5 g (0.06 mol) of DBN in 100 ml of toluene Stir at reflux for 4 hours. Dry after working with dilute sulfuric acid and toluene and filter the organic phase through silica gel and evaporate. The residue is recrystallized from ethanol. Yield of 4-20a (not optimized): 10.7 g (55%).
<例4.11> <Example 4.11>
窒素下で、100g(219mmol)のブロモテトラヒドロピラン4−21を165mlのトルエンに溶解し、38.5mlのDBNを加え、混合物を5時間、煮沸で加熱する。200mlの水を冷却された反応物に引き続き加え、希硫酸を使用して酸性化する。有機相を300mlのヘプタンで希釈し、分離し、炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、蒸発させる。得られる残渣をシリカゲル(トルエン)を通し、57.1gの化合物4−22(含有量:60%;収率:41%)を得る。
Under nitrogen, 100 g (219 mmol) of bromotetrahydropyran 4-21 are dissolved in 165 ml of toluene, 38.5 ml of DBN are added and the mixture is heated at boiling for 5 hours. 200 ml of water is subsequently added to the cooled reaction and acidified using dilute sulfuric acid. The organic phase is diluted with 300 ml heptane, separated, washed with sodium hydrogen carbonate solution and evaporated. The obtained residue is passed through silica gel (toluene) to obtain 57.1 g of compound 4-22 (content: 60%; yield: 41%).
<例5−GWP2:例4.1〜4.10から式IIIのジヒドロピランの水素化>
6mmolのジヒドロピランIIIa(および/またはIIIb)(例4.1〜4.11から)を、0.6mmolの塩化トリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)(Wilkinsonの触媒)およびトルエン、エタノールまたはメタノールの混合物と一緒に圧力オートクレーブへ導入する。10barの窒素を導入してガス置換し3回ガス抜き後、60barの水素ガスを注入し、混合物を80℃に加熱する。約20時間後、混合物を放冷し、テトラヒドロピランIを量論的収率で得る。式Iのシス−2,5−異性体に対するトランス−2,5−異性体の異性体比は、それぞれの場合で約3:1である。
Example 5-GWP2: Hydrogenation of dihydropyran of formula III from Examples 4.1 to 4.10
6 mmol of dihydropyran IIIa (and / or IIIb) (from Examples 4.1 to 4.11), 0.6 mmol of tris (triphenylphosphine) rhodium (I) chloride (Wilkinson's catalyst) and toluene, ethanol or methanol Into a pressure autoclave together with a mixture of After introducing 10 bar of nitrogen and replacing the gas, and degassing three times, 60 bar of hydrogen gas is injected, and the mixture is heated to 80 ° C. After about 20 hours, the mixture is allowed to cool and tetrahydropyran I is obtained in quantitative yield. The isomer ratio of trans-2,5-isomer to cis-2,5-isomer of formula I is about 3: 1 in each case.
GWP2によって得られた式IIのテトラヒドロピラン誘導体の反応条件上の詳細なデータおよび収率を表6に示す。 Detailed data and yields on the reaction conditions of the tetrahydropyran derivative of formula II obtained by GWP2 are shown in Table 6.
<例6−GWP3:式IIのハロゲン化されたジヒドロピランの調製>
最初に、0.1molの式Vのアルデヒドおよび0.1molの式IVのホモアリルアルコールを100mlのジクロロメタンに導入する。0.05mol〜0.06molの固体形態のルイス酸を、この混合物に加える。反応が完了(TLCチェック)すれば、反応混合物をシリカゲルを通して濾過するか、または水系の作業を行う。この場合、100mlの水を混合物に滴下で加え、そして30mlの濃塩酸を加える。相分離が完了するまで、混合物を撹拌する。水、塩酸およびヘプタンを有機相に加え、攪拌後、水相を分離し除去する。水相をジクロロメタンで抽出し、有機相を混合し、蒸発させる。残渣を更にシリカゲル上のクロマトグラフィー、結晶化または蒸留により精製する。
Example 6 GWP3: Preparation of Halogenated Dihydropyran of Formula II
First, 0.1 mol of an aldehyde of formula V and 0.1 mol of homoallylic alcohol of formula IV are introduced into 100 ml of dichloromethane. 0.05 mol to 0.06 mol of solid form Lewis acid is added to the mixture. When the reaction is complete (TLC check), the reaction mixture is filtered through silica gel or an aqueous work is performed. In this case, 100 ml water is added dropwise to the mixture and 30 ml concentrated hydrochloric acid is added. The mixture is stirred until phase separation is complete. Water, hydrochloric acid and heptane are added to the organic phase and, after stirring, the aqueous phase is separated and removed. The aqueous phase is extracted with dichloromethane, the organic phases are combined and evaporated. The residue is further purified by chromatography on silica gel, crystallization or distillation.
GWP3によって得られた式IIのテトラヒドロピラン誘導体の反応条件上の詳細なデータおよび収率を表2に示す。 Detailed data and yields on the reaction conditions of the tetrahydropyran derivative of formula II obtained by GWP3 are shown in Table 2.
<例7−GWP4:式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピランの調製>
最初に、0.05mol〜0.055molのルイス酸を100mlのジクロロメタンに導入し、懸濁液を攪拌する。そして、式Vのアルデヒド(0.1mol)を数回に分けて導入する。引き続き、式IVのホモアリルアルコール(0.1〜0.11mol)を加える。反応が完了(TLCチェック)すれば、反応混合物をシリカゲルを通して濾過するか、または水系の作業を行う−GEP3で上に記載したようである。
Example 7-GWP4: Preparation of halogenated tetrahydropyran of formula II
First, 0.05 mol to 0.055 mol of Lewis acid is introduced into 100 ml of dichloromethane and the suspension is stirred. The aldehyde of formula V (0.1 mol) is then introduced in several portions. Subsequently, homoallylic alcohol of formula IV (0.1 to 0.11 mol) is added. When the reaction is complete (TLC check), the reaction mixture is filtered through silica gel or an aqueous work-up as described above in GEP3.
GWP4によって得られた式Iのテトラヒドロピラン誘導体の反応条件上の詳細なデータおよび収率を表3に示す。 Detailed data and yields on the reaction conditions of the tetrahydropyran derivative of formula I obtained by GWP4 are shown in Table 3.
<例8−GWP5:式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピランの調製>
最初に、0.1molの式Vのアルデヒド、0.1molの式IVのホモアリルアルコールおよび0.5〜5mol%のルイス酸を、100mlのジクロロメタンに0℃〜室温の温度で導入する。そして、ガス状ハロゲン化水素酸を、外部より冷却しながら飽和するまで通す。そして、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に攪拌しながら加える。有機相を分離し除去して、乾燥し、蒸発させる。残渣をシリカゲル上のクロマトグラフィー、結晶化または蒸留で精製する。
Example 8-GWP5: Preparation of halogenated tetrahydropyran of formula II
First, 0.1 mol of an aldehyde of formula V, 0.1 mol of homoallylic alcohol of formula IV and 0.5-5 mol% of a Lewis acid are introduced into 100 ml of dichloromethane at a temperature between 0 ° C. and room temperature. Then, gaseous hydrohalic acid is passed through while being cooled from outside until it is saturated. The reaction mixture is then added to a saturated aqueous sodium bicarbonate solution with stirring. The organic phase is separated and removed, dried and evaporated. The residue is purified by chromatography on silica gel, crystallization or distillation.
GWP5によって得られた式IIのテトラヒドロピラン誘導体の反応条件上の詳細なデータおよび収率を表4に示す。 Detailed data and yields on the reaction conditions of the tetrahydropyran derivative of formula II obtained by GWP5 are shown in Table 4.
<例9−GWP6:式IIのハロゲン化されたテトラヒドロピランの調製>
水または氷酢酸中の1.5モル等量の飽和ハロゲン化水素酸を、式Vのアルデヒドおよび式IVのホモアリルアルコールのジクロロメタン中の0.1M溶液に、攪拌しながら加え、0.5〜5mol%のルイス酸を添加してもよい。反応が完了(TLCチェック)すれば、反応混合物をGEP3で記載したように処理する。
Example 9-GWP6: Preparation of halogenated tetrahydropyran of formula II
1.5 molar equivalents of saturated hydrohalic acid in water or glacial acetic acid are added with stirring to a 0.1 M solution of aldehyde of formula V and homoallylic alcohol of formula IV in dichloromethane, 5 mol% of Lewis acid may be added. When the reaction is complete (TLC check), the reaction mixture is processed as described in GEP3.
GWP6によって得られた式IIのテトラヒドロピラン誘導体の反応条件上の詳細なデータおよび収率を表5に示す。 Detailed data on the reaction conditions and yield of the tetrahydropyran derivative of formula II obtained by GWP6 are shown in Table 5.
<表1からのテトラヒドロピラン誘導体>
信号の位置はテトラメチルシラン(=0)に関するppmで引用され、結合定数Jの大きさはヘルツ(Hz)で示される。信号の略称は、sが一重項、dが二重項、tが三重項、qが四重項およびmが多重項を表わす。これらのデータは、さらに他の表に列記されたNMRスペクトルにも当てはまる。他に示されないかぎり、使用された溶媒はCDCl3である。
<Tetrahydropyran derivatives from Table 1>
The signal position is quoted in ppm with respect to tetramethylsilane (= 0) and the magnitude of the coupling constant J is given in hertz (Hz). Signal abbreviations are s for singlet, d for doublet, t for triplet, q for quartet and m for multiplet. These data also apply to NMR spectra listed in other tables. Unless otherwise indicated, the solvent used is CDCl 3 .
1a/b)250MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q、中心6.89、テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.10 J=8;フェノール基に対する2o−H:d6.52 J=8;
H2a:dd4.28 J=12,2;H6e:dm3.97 J=12,4;H6a:t3.15 J=12;H3e,H4e,H5aおよびH3a:m1.57−1.94;H4a:dq1.22 J=12,4;CH3:d0.75 J=7。
融点:91℃。
1a / b) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 4 aromatic H: AB-q, center 6.89, 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.10 J = 8; 2o-H for phenol group: d6.52 J = 8;
H 2a: dd4.28 J = 12,2; H 6e: dm3.97 J = 12,4; H 6a: t3.15 J = 12; H 3e, H 4e, H 5a and H 3a: m1.57- 1.94; H 4a : dq1.22 J = 12, 4; CH 3 : d0.75 J = 7.
Melting point: 91 ° C.
2a/b)300MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q、中心6.88、テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.15 J=8;フェノールOH基に対する2o−H:dd6.60 J=8;
H2a:dd4.20 J=12,2;H6e:dm4.07 J=12,4;H6a:t3.20 J=12,?;H3e:dm1.99J=12,?;H4edm1.80J=12;H3a,H5a:m1.50−1.75;側鎖CH2およびH4a:m1.1−1.3;CH3:t0.92J=7。
融点:92℃。
2a / b) 300 MHz 1 H-NMR spectrum 4 Aromatic H: AB-q, center 6.88, 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.15 J = 8; 2o-H for phenol OH group: dd6. 60 J = 8;
H 2a: dd4.20 J = 12,2; H 6e: dm4.07 J = 12,4; H 6a: t3.20 J = 12 ,? H 3e : dm 1.99J = 12,? ; H 4e dm1.80J = 12; H 3a, H 5a: m1.50-1.75; side chain CH 2 and H 4a: m1.1-1.3; CH 3: t0.92J = 7.
Melting point: 92 ° C.
3)250MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q、中心6.95、テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.20 J=8;フェノールOH基に対する2o−H:d6.70 J=8;H2a:dd4.20 J=12,2;H6e:dm4.07 J=12,4;H2add4.20;H6a:t3.20 J=12;H3e:dm1.99 J=12;H4e:dm1.80 J=12,3;H3aおよびH5am1.50−1.75;2側鎖の4H,CH2およびH4a:m1.10−1.30;CH3:t0.92 J=7。
融点:94℃。
3) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 4 Aromatic H: AB-q, center 6.95, 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.20 J = 8; 2o-H for phenol OH group: d6.70 J = 8; H 2a : dd 4.20 J = 12, 2; H 6e : dm 4.07 J = 12, 4; H 2a dd 4.20; H 6a : t 3.20 J = 12; H 3e : dm 1.99 J = 12; H 4e: dm1.80 J = 12,3; H 3a and H 5a m1.50-1.75; 2 side chains 4H, CH 2 and H 4a: m1.10-1.30; CH 3 : T0.92 J = 7.
Melting point: 94 ° C.
4a/b)250MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q、中心6.95、テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.20 J=8;フェノールOH基に対する2o−H:d6.70 J=8;H2add4.20 J=12,2;H6e:dm4.06 J=12,4;H6a:t3.18 J=12;H3e:dm1.97 J=12;H4e:dm1.82 J=12;H5aおよびH3a:m1.53−1.74;3CH2基の6側鎖HsおよびH4a:m1.05−1.45;CH3:t0.90 J=7。
融点:87℃。
4a / b) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 4 Aromatic H: AB-q, center 6.95, 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.20 J = 8; 2o-H for phenol OH group: d6. 70 J = 8; H 2a dd4.20 J = 12, 2; H 6e : dm4.06 J = 12, 4; H 6a : t3.18 J = 12; H 3e : dm1.97 J = 12; H 4e : dm1.82 J = 12; H 5a and H 3a: m1.53-1.74; 3CH 2 group of 6 side chains Hs and H 4a: m1.05-1.45; CH 3: t0.90 J = 7.
Melting point: 87 ° C.
6)400MHz1H−NMRスペクトル 6) 400 MHz 1 H-NMR spectrum
t7.32 J=8(o−Hおよびm−Fカップリング)、その他の4芳香族H:m7.18;H2a:dd4.28 J=12,2;H6e:dm4.04 J=12,?;H6a:t3.18 J=12;H3eおよびH4e:m1.86−2.0;H5a:m1.78;H3a:dq1.60 J=12,4;H4a:dq1.32 J=12,4;CH3:d0.86 J=7。
t7.32 J = 8 (o-H and m-F couplings), the other four aromatic H: m7.18; H 2a: dd4.28 J = 12,2; H 6e: dm4.04 J = 12 ,? ; H 6a: t3.18 J = 12 ; H 3e and H 4e: m1.86-2.0; H 5a: m1.78; H 3a: dq1.60 J = 12,4; H 4a: dq1.32 J = 12,4; CH 3: d0.86 J = 7.
7)250MHz1H−NMRスペクトル 7) 250 MHz 1 H-NMR spectrum
<表2からのテトラヒドロピラン誘導体II>
1a/b)250MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q、中心7.33;臭素置換に対する2o−H:d7.46 J=8;テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.19 J=8;H2a,H4a,H6e:m4.08−4.33;H6a:dt3.57 J=12,2;H3e:ddd2.44 J=12,4,2;H5e,H5a:m2.08−2.28;H3a:q1.98 J=12。
<Tetrahydropyran derivative II from Table 2>
1a / b) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 4 Aromatic H: AB-q, center 7.33; 2o-H for bromine substitution: d7.46 J = 8; 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.19 J = 8; H 2a, H 4a, H 6e: m4.08-4.33; H 6a: dt3.57 J = 12,2; H 3e: ddd2.44 J = 12,4,2; H 5e, H 5a: m2.08-2.28; H 3a: q1.98 J = 12.
2)500MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q;中心7.09;テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.15 J=8;フェノールOH基に対する2o−H:d6.75 J=8;H2a:dd4.25 J=12,2;H6e:dd4.18 J=12,4;H4a:dt4.02 J=12,4;H6a:t3.27 J=12;H3e:ddd2.47 J=12,4,2;H3a:q2.22 J=12;H5aおよびCH2側鎖の1H:m1.93;側鎖の更に1つのH:m1.23;CH3:t0.93 J=7。
2) 500 MHz 1 H-NMR spectrum 4 Aromatic H: AB-q; Center 7.09; 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.15 J = 8; 2o-H for phenol OH group: d6.75 J = 8; H 2a : dd 4.25 J = 12, 2; H 6e : dd 4.18 J = 12, 4; H 4a : dt 4.02 J = 12, 4; H 6a : t 3.27 J = 12; H 3e: ddd2.47 J = 12,4,2; H 3a: q2.22 J = 12; H 5a and CH 2 of sidechain 1H: m1.93; of one another 1 side chain H: m1.23; CH 3 : t0.93 J = 7.
3)250MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q;中心6.95;テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.15 J=8;フェノールOH基に対する2o−H:d6.75 J=8;H2a:dd4.27 J=12,2;H4a:dt4.15 J=12,4;H6e:dd4.08 J=12,2;H6a:t3.26 J=12;H3e:ddd2.45 J=12,4,2;H3a:q2.10( J=12);CH2側鎖のH5aおよび1H:m1.68−1.98;2側鎖CH2基の更なる3Hs:m1.10−1.53;CH3:t0.90 J=7。
融点:104℃。
3) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 4 Aromatic H: AB-q; Center 6.95; 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.15 J = 8; 2o-H for phenol OH group: d6.75 J = 8; H 2a : dd 4.27 J = 12, 2; H 4a : dt 4.15 J = 12, 4; H 6e : dd 4.08 J = 12, 2; H 6a : t 3.26 J = 12; H 3e : ddd 2.45 J = 12, 4, 2; H 3a : q2.10 (J = 12); CH 2 side chain H 5a and 1H: m1.68-1.98; 2 side chain CH 2 group further 3Hs: m1.10-1.53; CH 3: t0.90 J = 7.
Melting point: 104 ° C.
4)250MHz1H−NMRスペクトル
4芳香族H:AB−q;中心6.99;テトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.20 J=8;フェノールOH基に対する2o−H:d6.78 J=8;H2a:dd4.30 J=12,2;H6eおよびH4a:m4.10−4.25;H6a:t3.28 J=12;H3e:ddd2.48 J=12,4,2;H3a:q2.17 J=12;H5aおよびCH2側鎖の1H:m1.72−2.00;3側鎖CH2基の更なる5Hs:m1.15−1.50;CH3:t0.95 J=7。
4) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 4 aromatic H: AB-q; center 6.99; 2o-H for tetrahydropyranyl substitution: d7.20 J = 8; 2o-H for phenol OH group: d6.78 J = 8; H 2a : dd 4.30 J = 12, 2; H 6e and H 4a : m 4.10-4.25; H 6a : t 3.28 J = 12; H 3e : ddd 2.48 J = 1,4 , 2; H 3a: q2.17 J = 12; H 5a and CH 2 sidechain 1H: m1.72-2.00; 3 additional side chain CH 2 groups 5Hs: m1.15-1.50; CH 3: t0.95 J = 7.
6)250MHz1H−NMRスペクトル
フェニリックベンジル基の5芳香族H:m7.28−7.45、第2のフェニル環の4芳香族H:AB−q;中心7.10;その中のテトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.26 J=8;O−ベンジル基に対する2o−H:d6.94 J=8;ベンジルの2CH2基:s5.06;H2a:dd4.28 J=12,2;H6e:dd4.07 J=12,4;H4a:dt3.98 J=12,4;H6a:t3.22 J=12;H3e:ddd2.48 J=12,4,2;H3a:q2.18 J=12;H5a:m2.07;CH3:d1.03 J=7。
6) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 5 aromatic H of phenylbenzyl group: m 7.28-7.45, 4 aromatic H of second phenyl ring: AB-q; center 7.10; tetrahydro in it 2o-H for pyranyl substituted: d7.26 J = 8; O- benzyl against group 2o-H: d6.94 J = 8 ; 2CH 2 groups benzyl: s5.06; H 2a: dd4.28 J = 12 H 6e : dd 4.07 J = 12,4; H 4a : dt 3.98 J = 1,4; H 6a : t 3.22 J = 12; H 3e : ddd 2.48 J = 12,4,2 ; H 3a: q2.18 J = 12 ; H 5a: m2.07; CH 3: d1.03 J = 7.
7)250MHz1H−NMRスペクトル
フェニリックベンジル基の5芳香族H:m7.30−7.47、第2のフェニル環の4芳香族H:AB−q;中心7.09;その中のテトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.25 J=8;O−ベンジル基に対する2o−H:d6.93 J=8;ベンジルの2CH2基:s5.05;H2a:dd4.27 J=12,2;H6e:dd4.19 J=12,4;H4a:dt4.03 J=12,4;H6a:t3.26 J=12;H3e:ddd2.50 J=12,4,2;H3a:q2.18 J=12;CH2側鎖のH5aおよび1H:m1.83−2.0;CH2側鎖の第2のH:m1.12−1.38;CH3:t0.93 J=7。
7) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 5 aromatic H of phenylbenzyl group: m 7.30-7.47, 4 aromatic H of second phenyl ring: AB-q; center 7.09; tetrahydro in it 2o-H for pyranyl substituted: d7.25 J = 8; O- benzyl against group 2o-H: d6.93 J = 8 ; 2CH 2 groups benzyl: s5.05; H 2a: dd4.27 J = 12 H 6e : dd 4.19 J = 12, 4; H 4a : dt 4.03 J = 12, 4; H 6a : t 3.26 J = 12; H 3e : ddd 2.50 J = 12, 4, 2 ; H 3a: q2.18 J = 12 ; the CH 2 sidechain H 5a and 1H: m1.83-2.0; second H of CH 2 sidechain: m1.12-1.38; CH 3: t0.93 J = 7.
8)250MHz1H−NMRスペクトル
フェニリックベンジル基の5芳香族H:m7.29−7.44、第2のフェニル環の4芳香族H:AB−q;中心7.09;その中のテトラヒドロピラニル置換に対する2o−H:d7.25 J=8;O−ベンジル基に対する2o−H:d6.93 J=8;ベンジルの2CH2基:s5.05;H2a:dd4.26 J=12,2;H6e:dd4.17 J=12,4;H4a:dt4.02 J=12,4;H6a:t3.25 J=12;H3e:ddd2.48 J=12,4,2;H3a:q2.20 J=12;CH2側鎖のH5aおよび1H:m1.78−2.05;3側鎖CH2基の5Hs:m1.10−1.45;CH3:t0.90 J=7。
8) 250 MHz 1 H-NMR spectrum 5 aromatic H of phenyl benzyl group: m 7.29-7.44, 4 aromatic H of second phenyl ring: AB-q; center 7.09; tetrahydro in it 2o-H for pyranyl substituted: d7.25 J = 8; O- benzyl against group 2o-H: d6.93 J = 8 ; 2CH 2 groups benzyl: s5.05; H 2a: dd4.26 J = 12 H 6e : dd 4.17 J = 12, 4; H 4a : dt 4.02 J = 1, 4; H 6a : t 3.25 J = 12; H 3e : ddd 2.48 J = 12, 4, 2 ; H 3a: q2.20 J = 12 ; the CH 2 sidechain H 5a and 1H: m1.78-2.05; 3 sidechain CH 2 groups 5Hs: m1.10-1.45; CH 3: t0 .90 J = 7.
9)400MHz1H−NMRスペクトル 9) 400 MHz 1 H-NMR spectrum
11)400MHz1H−NMRスペクトル 11) 400 MHz 1 H-NMR spectrum
t7.38 J=8(カップリングおよびm−Fカップリング)、その他の4芳香族H:m7.10−7.23;H2a:dd4.37 J=12,2;H6e:dd4.12 J=12,4;H4a:dt3.93 J=12,4;H6a:t3.25 J=12;H3e:ddd2.55 J=12,4,2;H3a:q2.14 J=12;H5a:m2.08;CH3:d1.07 J=7。
t7.38 J = 8 (coupling and m-F coupling), other 4 aromatics H: m 7.10-7.23; H 2a : dd 4.37 J = 12, 2; H 6e : dd 4.12. J = 12,4; H 4a: dt3.93 J = 12,4; H 6a: t3.25 J = 12; H 3e: ddd2.55 J = 12,4,2; H 3a: q2.14 J = 12; H 5a: m2.08; CH 3: d1.07 J = 7.
12)質量スペクトル
分子ピークM(+)60、462:不明確;369、371:(M−91)(+)−ベンジル;290:369、371−Br;289:369、371−HBr;91:Ph−CH2(+)(基底ピーク)。
12) Mass spectrum molecular peaks M (+) 60, 462: unclear; 369, 371: (M-91) (+)-benzyl; 290: 369, 371-Br; 289: 369, 371-HBr; 91: Ph-CH 2 (+) (base peak).
<表3からのテトラヒドロピラン誘導体II>
1)1H−NMRスペクトルは、No.9/表2のものと一致。
<Tetrahydropyran derivative II from Table 3>
1) 1 H-NMR spectrum is No. 9 / according to Table 2.
2)1H−NMRスペクトルは、No.4/表2のものと一致。 2) The 1 H-NMR spectrum is No. 4 / according to Table 2.
<表4からのテトラヒドロピラン誘導体II>
1a)1H−NMRスペクトルは、No.1a/表2のものと一致。
<Tetrahydropyran derivative II from Table 4>
1a) The 1 H-NMR spectrum is no. 1a / according to Table 2.
1b)1H−NMRスペクトルは、No.1a/表4のものと一致。 1b) The 1 H-NMR spectrum is no. 1a / according to Table 4.
3)250MHz1H−NMRスペクトル 3) 250 MHz 1 H-NMR spectrum
5)質量スペクトル
414、412:分子ピーク;333:M(+)−Br;332:M(+)−HBr
5) Mass spectrum 414, 412: Molecular peak; 333: M (+)-Br; 332: M (+)-HBr
<表5からのテトラヒドロピラン誘導体II>
表5からの1a、1b、1cの1H−NMRスペクトルは、表2のNo.1aものと一致。
<Tetrahydropyran derivative II from Table 5>
The 1 H-NMR spectra of 1a, 1b and 1c from Table 5 are shown in No. 2 of Table 2. Match with 1a.
<表6からのテトラヒドロピラン誘導体I>
表6からの例14〜23をこの表の化合物1〜13に類似して調製する。それらは3個または4個の環を分子構造中に有しているため、結晶化でき、よって結晶化による精製で99.5%より高い含有量とできる。ここで、結晶の収率よりも純度について注意が向けられた。よって、複雑なNMRのスペクトルの解読なしで、これらの化合物の溶融および相挙動より明瞭な同定ができる。これらの化合物のNMRは入手可能であり、示された構造に一致する。
<Tetrahydropyran derivative I from Table 6>
Examples 14-23 from Table 6 are prepared analogously to compounds 1-13 in this table. Since they have 3 or 4 rings in the molecular structure, they can be crystallized and can therefore have a content higher than 99.5% by purification by crystallization. Here, attention was directed to purity rather than crystal yield. Thus, a clearer identification than the melting and phase behavior of these compounds is possible without interpretation of complex NMR spectra. NMR for these compounds is available and is consistent with the structure shown.
Claims (9)
a、b、c、d、e、fは、それぞれ互いに独立に、0または1を表し、ただし、a+b+c+d+e+fは、1、2、3または4に等しく、
R1は、それぞれの場合で独立に、ハロゲン、−CN、1〜15個のC原子を有するアルキル基で、該基は無置換であるか、−CNにより1置換されているか、ハロゲンにより1置換または多置換されており、ただし加えて、これらの基中の1個以上のCH2基は、鎖中の酸素原子が互いに直接結合しないようにして、−C≡C−、−CH=CH−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−O−または−O−CO−で置き換えられていてもよく、
R2は、それぞれの場合で独立に、ハロゲン、−CN、−NCS、−NO2、−OH、−SF5、−O−アラルキル、1〜15個のC原子を有するアルキル基で、該基は無置換であるか、−CNにより1置換されているか、ハロゲン、OHまたは−O−アラルキルにより1置換または多置換されており、ただし加えて、これらの基中の1個以上のCH2基は、鎖中の酸素原子が互いに直接結合しないようにして、−C≡C−、−CH=CH−、−O−、−S−、−SO−、−SO2−、−CO−、−CO−O−または−O−CO−で置き換えられていてもよく、
A1、A2、A3、A4、A5、A6は、それぞれ互いに独立に、回転されたものまたは鏡像のものでもよく、
Z1は、それぞれの場合で独立に、単結合、1〜6個の炭素原子を有し無置換かFおよび/またはClで1置換または多置換されているアルキレン架橋、または−CH2O−、−OCH2−、およびA2がシクロヘキシレンおよびシクロヘキセニレン環ではない場合、−CF2O−も表してよく、
Z2は、それぞれの場合で独立に、単結合、1〜6個の炭素原子を有し無置換かFおよび/またはClで1置換または多置換されているアルキレン架橋を表し、
Z3、Z4、Z5およびZ6は、それぞれ互いに独立に、単結合、1〜6個の炭素原子を有し無置換かFおよび/またはClで1置換または多置換されているアルキレン架橋を表すか、または−CH2O−、−OCH2−、−CF2O−を表し、ただし、−CF2O−架橋はシクロヘキシレンまたはシクロヘキセニレン環にそのO原子を介して直接結合しておらず、
n1、n2およびn3は、それぞれ互いに独立に、0、1、2、3または4であり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5およびY6は、それぞれ互いに独立に、H、ハロゲン、−CN、C1〜6−アルカニル、C2〜6−アルケニル、C2〜6−アルキニル、−OC1〜6−アルカニル、−OC2〜6−アルケニルおよび−OC2〜6−アルキニルを表し、ただし、脂肪族基は無置換であるか、ハロゲンにより1置換または多置換されており、および
W1は、それぞれの場合で独立に、−CH2−、−CF2−または−O−を表し、
および式II中では、
X1は、臭素を表し、
ただし、
aおよびbが同時に0の場合、R 1 はハロゲンまたはCNを表さず、および
c、d、eおよびfの全てが同時に0の場合、R 2 は、ハロゲン、−CN、−NCS、−NO 2 、−OH、−SF 5 、−O−アラルキルまたはアルコキシを表さない。) A process for preparing tetrahydropyran derivatives of the formula I, characterized in that the substituent X 1 is reacted from the tetrahydropyran derivative of the formula II with a catalyst in the presence of a base with hydrogen in the presence of a base and reductively eliminated.
a, b, c, d, e, f each independently represents 0 or 1, provided that a + b + c + d + e + f is equal to 1, 2, 3 or 4;
R 1 is independently in each case halogen, —CN, an alkyl group having 1 to 15 C atoms, which group is unsubstituted, 1-substituted by —CN, or 1 by halogen. Substituted or polysubstituted, but in addition one or more of the CH 2 groups in these groups is such that the oxygen atoms in the chain are not directly bonded to each other, so that —C≡C—, —CH═CH -, - O -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - CO-O- or may be replaced by -O-CO-,
R 2 is independently in each case halogen, —CN, —NCS, —NO 2 , —OH, —SF 5 , —O-aralkyl, an alkyl group having 1 to 15 C atoms, Is unsubstituted, monosubstituted by —CN, monosubstituted or polysubstituted by halogen, OH or —O-aralkyl, but in addition, one or more CH 2 groups in these groups In such a manner that the oxygen atoms in the chain are not directly bonded to each other, and —C≡C—, —CH═CH—, —O—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —CO—, — CO—O— or —O—CO— may be substituted,
A 1 , A 2 , A 3 , A 4 , A 5 , A 6 may each be independently of each other rotated or mirror image,
Z 1 is independently in each case a single bond, an alkylene bridge having 1 to 6 carbon atoms, unsubstituted or mono- or polysubstituted with F and / or Cl, or —CH 2 O— , —OCH 2 —, and A 2 are not cyclohexylene and cyclohexenylene rings, may also represent —CF 2 O—,
Z 2 independently in each case represents a single bond, an alkylene bridge having 1 to 6 carbon atoms, unsubstituted or mono- or polysubstituted with F and / or Cl;
Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 are each independently a single bond, an alkylene bridge having 1 to 6 carbon atoms, unsubstituted or mono- or polysubstituted with F and / or Cl. or represents, or -CH 2 O -, - OCH 2 -, - CF 2 O- to represent, however, -CF 2 O-bridge directly linked via its O atoms in cyclohexylene or cyclohexylene ring Not
n1, n2 and n3 are each independently 0, 1, 2, 3 or 4;
Y 1 , Y 2 , Y 3 , Y 4 , Y 5 and Y 6 are each independently H, halogen, —CN, C 1-6 -alkanyl, C 2-6 -alkenyl, C 2-6 — Represents alkynyl, —OC 1-6 -alkanyl, —OC 2-6 -alkenyl and —OC 2-6 -alkynyl, provided that the aliphatic group is unsubstituted or mono- or polysubstituted by halogen , And W 1 each independently represents —CH 2 —, —CF 2 — or —O—,
And in Formula II:
X 1 is to table a bromine,
However,
when a and b are simultaneously 0, R 1 does not represent halogen or CN; and
When all of c, d, e and f are simultaneously 0, R 2 does not represent halogen, —CN, —NCS, —NO 2 , —OH, —SF 5 , —O-aralkyl or alkoxy . )
A3、A4、A5およびA6は、互いに独立に、
Z3、Z4、Z5およびZ6は、互いに独立に、単結合、−CF2O−または−OCH2−を表すことを特徴とする請求項1または2記載の方法。 Z 1 and Z 2 are each a single bond, and Z 3 , Z 4 , Z 5 and Z 6 each independently represent a single bond, —CF 2 O— or —OCH 2 —. The method according to claim 1 or 2.
ただし、
a+bは、0、1または2に等しく、
c+d+e+fは、0、1、2、3または4に等しい。) The compound of formula II is a homoallylic alcohol of formula IV, an aldehyde of formula V or an acetal or hydrate thereof and the presence of at least one Lewis acid containing at least one bromine atom and / or at least 1 The method according to claim 1, which is obtained by reacting in the presence of a Bronsted acid containing one bromine ion.
However,
a + b is equal to 0, 1 or 2;
c + d + e + f is equal to 0, 1, 2, 3 or 4 . )
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP05011323.2 | 2005-05-25 | ||
EP05011323 | 2005-05-25 | ||
PCT/EP2006/004387 WO2006125526A1 (en) | 2005-05-25 | 2006-05-10 | Method for producing 2,5-substituted tetrahydropyran derivatives by reductive elimination of the corresponding 4-halogen derivative |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008545667A JP2008545667A (en) | 2008-12-18 |
JP5260279B2 true JP5260279B2 (en) | 2013-08-14 |
Family
ID=36954429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008512720A Expired - Fee Related JP5260279B2 (en) | 2005-05-25 | 2006-05-10 | Process for the preparation of 2,5-2 substituted tetrahydropyran derivatives by reductive elimination of the corresponding 4-halogen derivatives |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5260279B2 (en) |
KR (1) | KR101393783B1 (en) |
CN (1) | CN101180287B (en) |
DE (1) | DE112006000984A5 (en) |
WO (1) | WO2006125526A1 (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5259391B2 (en) * | 2005-05-25 | 2013-08-07 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Process for the preparation of tetrahydropyran derivatives |
EP1908813B1 (en) * | 2006-10-04 | 2010-11-03 | Merck Patent GmbH | Liquid crystalline medium |
JP5444723B2 (en) | 2009-01-16 | 2014-03-19 | Jnc株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal display element |
JP2012111717A (en) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Ne Chemcat Corp | Method for producing compound containing dichloromethyl group |
DE102011122559A1 (en) | 2011-01-25 | 2012-07-26 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystalline compounds and liquid crystalline media |
JP6627515B2 (en) * | 2015-02-06 | 2020-01-08 | Jnc株式会社 | Liquid crystal compound having negative dielectric anisotropy having 3,6-dihydro-2H-pyran, liquid crystal composition, and liquid crystal display device |
JP6511975B2 (en) * | 2015-06-09 | 2019-05-15 | Jnc株式会社 | Liquid crystal composition and liquid crystal display device containing dihydropyran compound |
EP4100383A4 (en) * | 2020-02-06 | 2024-03-20 | Agan Aroma&fine Chemicals Ltd. | Mixture of 3-hexen-1-ol isomers and a process of preparing same |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1565540B1 (en) * | 2002-11-27 | 2007-09-26 | MERCK PATENT GmbH | Liquid crystalline compounds |
DE10318420A1 (en) * | 2003-04-24 | 2004-11-11 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystalline compounds for use in media for electro-optical displays, e.g. in cars or aircraft, comprise compounds with tetrahydropyran-3,6- diyl and oxydifluoromethylene linking groups |
EP1482019B1 (en) * | 2003-05-27 | 2006-09-27 | MERCK PATENT GmbH | Pyran derivatives |
EP1482021B1 (en) * | 2003-05-27 | 2007-01-24 | MERCK PATENT GmbH | Pyrans as liquid crystals |
EP1639121A4 (en) * | 2003-06-30 | 2008-04-16 | Idenix Cayman Ltd | Synthesis of beta -l-2-deoxy nucleosides |
US7704566B2 (en) * | 2003-08-04 | 2010-04-27 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystalline medium |
DE102004036068B4 (en) * | 2003-08-18 | 2023-05-17 | Merck Patent Gmbh | Process for hydrogenation |
DE602004012873T2 (en) * | 2003-08-25 | 2009-08-20 | Merck Patent Gmbh | LIQUID CRYSTALLINE MEDIUM |
JP5259391B2 (en) * | 2005-05-25 | 2013-08-07 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Process for the preparation of tetrahydropyran derivatives |
-
2006
- 2006-05-10 WO PCT/EP2006/004387 patent/WO2006125526A1/en active Application Filing
- 2006-05-10 CN CN2006800179689A patent/CN101180287B/en active Active
- 2006-05-10 JP JP2008512720A patent/JP5260279B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-05-10 DE DE112006000984T patent/DE112006000984A5/en active Pending
- 2006-05-10 KR KR1020077030162A patent/KR101393783B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008545667A (en) | 2008-12-18 |
WO2006125526A1 (en) | 2006-11-30 |
DE112006000984A5 (en) | 2008-04-10 |
CN101180287B (en) | 2011-10-19 |
KR101393783B1 (en) | 2014-05-14 |
KR20080019018A (en) | 2008-02-29 |
CN101180287A (en) | 2008-05-14 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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