JP5256751B2 - Diffraction structure transfer foil and diffraction structure transfer medium - Google Patents

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本発明は、改竄を容易に検知するための機能を備えた回折構造物転写箔に関する。   The present invention relates to a diffractive structure transfer foil having a function for easily detecting tampering.

従来より、物品の偽造を防止するために、物品そのものを模倣が困難な物にすることがなされ、あるいは、真正品と偽造品を識別することに関しては、模倣することが困難な物を真正品の証明として物品に取り付けることがなされてきた。例えば、紙幣や株券等の有価証券に関しては、そのもの自体に微細な印刷加工や透かし加工を施すこと、及び色再現が困難な彩色を施すこと等によって、印刷技術、複写機もしくはスキャナー等を使用した複製による偽造を困難なものとしてきた。   Conventionally, in order to prevent forgery of an article, the article itself has been made difficult to imitate, or with respect to distinguishing between genuine and counterfeit goods, an article that is difficult to imitate is genuine. It has been made to attach to goods as proof of. For example, for securities such as banknotes and stock certificates, printing technology, copiers, scanners, etc. were used by subjecting themselves to fine printing and watermarking, and coloring that makes color reproduction difficult. It has been difficult to forge by duplication.

ところが、従来は偽造が困難であった微細な印刷加工や色彩の付与も、現在では、デジタル技術の進歩により、容易にカラーコピーやスキャナー等で再現出来るようになった。そのため、偽造防止策としての印刷加工も一段と高微細化するに到り、単純な複製や偽造は困難なものとなっている。他方では、このように高微細化が進んだ結果、一目で真偽判定を行い物品の真贋を判定することが容易でないという弊害も生じている。   However, with the advancement of digital technology, it has now become possible to easily reproduce fine printing processes and color assignments that were difficult to counterfeit by color copying and scanners. For this reason, the printing process as a forgery prevention measure has been further refined, and simple copying and forgery are difficult. On the other hand, as a result of such high miniaturization, there is a problem that it is not easy to determine authenticity at a glance and determine the authenticity of an article.

このため、真偽判定及び取り扱いが容易な回折格子パターンを記録した回折構造物を物品(偽造防止対象物)に取り付けることが、偽造防止手段として、広く行われることとなった。このような偽造防止手段として採用される回折構造物は、一般には、支持体上に剥離性を持つ剥離層、回折格子パターンが形成された回折構造形成層、金属光沢を持つ反射層、接着層等を順次積層して転写箔化したものである(例えば、特許文献1参照)。   For this reason, attaching a diffractive structure in which a diffraction grating pattern, which is easy to determine and handle authenticity, to an article (an anti-counterfeit object) has been widely used as a forgery prevention means. In general, diffractive structures employed as such anti-counterfeiting means generally include a release layer having a releasability on a support, a diffraction structure forming layer having a diffraction grating pattern formed thereon, a reflective layer having a metallic luster, and an adhesive layer. Etc. are sequentially laminated to form a transfer foil (for example, see Patent Document 1).

上記回折構造物中の回折格子パターンを形成する製造方法は幾つかあるが、本明細書では、一例としてレリーフ型回折構造物の製造方法についてのみ記載するが、本発明は、この製造方法に限定されるものではない。   Although there are several manufacturing methods for forming the diffraction grating pattern in the diffractive structure, in this specification, only the manufacturing method of the relief type diffractive structure is described as an example, but the present invention is limited to this manufacturing method. Is not to be done.

レリーフ型回折構造物とは、回折構造形成層に、所望の画像情報が凹凸を有する回折格子パターンとして記録形成されたものである。回折構造形成層に光を当てると、入射光がこの回折格子によって干渉を起こし、入射光に対してある一定の角度もしくはある一定の範囲内の角度方向に、原画像情報が再生される。このレリーフ型回折構造形成層は、画像情報を回折格子パターンとして記録した原版を作製し、この原版で回折構造形成層として好適な材料をエンボス加工することによって大量生産することができるため、現在多くの回折構造物に採用されている。
特開昭61−190369号公報 特開2004−101647号公報 特開2000−218908号公報
The relief-type diffractive structure is formed by recording desired image information as a diffraction grating pattern having irregularities on a diffractive structure forming layer. When light is applied to the diffractive structure forming layer, the incident light causes interference by the diffraction grating, and the original image information is reproduced at a certain angle with respect to the incident light or an angular direction within a certain range. This relief type diffractive structure forming layer can be mass-produced by producing an original plate on which image information is recorded as a diffraction grating pattern and embossing a material suitable as the diffractive structure forming layer with this original plate. It is adopted for diffractive structures.
JP-A-61-190369 JP 2004-101647 A JP 2000-218908 A

しかしながら、レリーフ型回折構造物は、回折光を観察するための反射層を具備するために問題が生じている(図1を参照のこと)。この回折構造部分2は、紙やフィルム等の被転写媒体(図示せず)に接着層17を介して転写された後においては、反射層15にレーザ光や熱線、電子線等を照射して、反射層、もしくは反射層から上の層の全てを除去することが可能となる。その場合、故意に、除去という改竄がなされたレリーフ型回折構造物は、目視による観察では、あたかも製造工程上で発生したエラー品の様に見えるため、このエラー品が希少価値を有するものとして高額で取引の対象になっているという事実である。   However, the relief type diffractive structure has a problem because it includes a reflective layer for observing diffracted light (see FIG. 1). After the diffraction structure portion 2 is transferred to a transfer medium (not shown) such as paper or film via the adhesive layer 17, the reflection layer 15 is irradiated with laser light, heat rays, electron beams, or the like. , The reflective layer, or all of the layers above the reflective layer can be removed. In that case, the relief type diffractive structure that has been deliberately tampered with removed appears to be an error product generated in the manufacturing process by visual observation. Therefore, this error product has a high value as a rare value. It is the fact that it is the object of trading.

従来からの偽造防止対策としては、反射層15と接着層17との間に、特定波長の励起光照射で可視光を発生させるための波長変換層を設けた回折構造物が開示されている(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、レーザ光や熱線を使用して反射層を故意に改竄する行為に対しては、改竄の前後で外観が変化せず、また、改竄後に特定波長の励起光を照射しても、反射層が除去されて改竄された箇所であっても、残存した波長変換層が発光してしまうため改竄を発見することは困難であった。   As a conventional anti-counterfeiting measure, a diffractive structure is disclosed in which a wavelength conversion layer for generating visible light by irradiation with excitation light of a specific wavelength is provided between the reflective layer 15 and the adhesive layer 17 ( For example, see Patent Document 2). However, for the act of intentionally falsifying the reflective layer using laser light or heat rays, the appearance does not change before and after the falsification. It was difficult to find falsification because the remaining wavelength conversion layer emits light even in the place where the light is removed and falsified.

また、支持体上に剥離層、着色層、回折構造形成層、反射性薄膜層、接着層を順次形成した回折構造物が開示されているが(例えば、特許文献3参照)、この場合の着色層は、回折構造物により表現される画像の意匠性を向上させるために、樹脂に色材を混ぜ合わせた層であって、記載されている染料や顔料等の色材では、レーザ光や熱による反射層の改竄を検知することができない。   Further, a diffractive structure in which a release layer, a colored layer, a diffractive structure forming layer, a reflective thin film layer, and an adhesive layer are sequentially formed on a support is disclosed (for example, see Patent Document 3). The layer is a layer in which a coloring material is mixed with a resin in order to improve the design of an image expressed by a diffractive structure. In the coloring material such as a dye or pigment described, a laser beam or heat It is not possible to detect tampering of the reflective layer.

本発明は、かかる状況に鑑みてなされたものであって、その課題は、偽造防止効果を保持しつつ反射層の改竄を容易に検知できる回折構造物及びその転写箔を提供することである。また、その回折構造転写箔を、実用上、十分な耐久性及び耐薬品性を有するものとすることである。さらに、そのような偽造防止機能を有する回折構造物を、紙、フィルム及びプラスチック基材等の媒体に転写した回折構造被転写媒体それ自体である。   This invention is made | formed in view of this condition, The subject is providing the diffraction structure which can detect the alteration of a reflection layer easily, and its transfer foil, maintaining the forgery prevention effect. In addition, the diffraction structure transfer foil has practically sufficient durability and chemical resistance. Furthermore, the diffractive structure transferred medium itself is a diffractive structure transferred medium transferred to a medium such as paper, film and plastic substrate.

本発明において上記課題を達成するための、請求項1の発明は、支持体上に、少なくとも、剥離保護層、示温性材料を含む光吸収変色層、回折構造形成層、反射層、及び接着層をこの順に積層したことを特徴とする回折構造転写箔である。 In order to achieve the above-mentioned object in the present invention, the invention of claim 1 is provided on a support, at least a peeling protective layer, a light absorption discoloration layer containing a temperature indicating material , a diffraction structure forming layer, a reflective layer, and an adhesive layer Is a diffractive structure transfer foil characterized by laminating layers in this order.

この構成の場合、故意に、レーザ光、熱線、あるいは電子線等を反射層に照射して反射層を除去しようとすると、光吸収変色層に含有されている光吸収材が照射エネルギーを吸収して温度が上昇する結果、光吸収材を含む樹脂成分等が変質し変色・帯色するので、改竄があったことを目視で容易に検知できる。   In this configuration, if the reflective layer is intentionally irradiated with laser light, heat rays, or electron beams to remove the reflective layer, the light absorbing material contained in the light absorption discoloration layer absorbs the irradiation energy. As a result of the temperature rise, the resin component including the light absorbing material is altered and discolored / colored, so that it can be easily detected visually that the falsification has occurred.

示温性材料を添加した構成とすることで、発熱及び加熱による着色効果が増強されるかもしくは全く異なる色彩を呈するため、検知が一段と容易になる。   By adopting a configuration in which a temperature indicating material is added, the coloring effect due to heat generation and heating is enhanced, or a completely different color is exhibited, so that detection becomes easier.

請求項の発明は、前記反射層がパタニングされており、該反射層が、同一形状にパタニングされた耐薬品性保護層により被覆されていることを特徴とする回折構造転写箔である。 The invention according to claim 2 is the diffractive structure transfer foil, wherein the reflective layer is patterned, and the reflective layer is covered with a chemical-resistant protective layer patterned in the same shape.

この構成であれば、反射層を所望の形状にパタニングできるため外観及び意匠の自由度ドが高まり、かつ、耐久性のある回折構造物が得られる。   If it is this structure, since a reflective layer can be patterned to a desired shape, the freedom degree of an external appearance and a design will increase, and a durable diffraction structure will be obtained.

請求項の発明は、密着補助層もしくは印刷層を含むことを特徴とする回折構造転写箔である。 The invention of claim 3 is a diffractive structure transfer foil characterized in that it comprises an adhesion auxiliary layer or a printing layer.

この構成であれば、請求項の発明とあいまって、紙、プラスチック等の媒体に転写した後の、薬品浸漬試験、耐熱試験等において十分な耐性を有する回折構造物が得られる。 With this configuration, in combination with the invention of claim 2 , a diffractive structure having sufficient resistance in a chemical immersion test, a heat test, etc. after being transferred to a medium such as paper or plastic can be obtained.

請求項の発明は、上記の回折構造物転写箔を被転写媒体に接着し、支持基材を剥離したことを特徴とする回折構造被転写媒体である。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a diffractive structure transfer medium characterized in that the diffractive structure transfer foil is bonded to the transfer medium and the supporting substrate is peeled off.

本発明になる回折構造物を、紙に転写して製造した商品券、紙幣、機密書類等もしくはプラスチックに転写したカード類及び証明書類等の回折構造被転写媒体にあっては、光や熱線を使用した改竄行為が容易に検知できるため、意図的にエラー品を製造し、エラー品と偽った改竄品を高額な取引の対象とする不正行為を防止できる。また、実用上十分な耐久性を有し、かつ、外観意匠性に対する自由度の高い回折構造被転写媒体が得られる。   For diffractive structure transfer media such as gift certificates, banknotes, confidential documents, etc., or cards and certificates transferred to plastic produced by transferring the diffractive structure of the present invention to paper, light or heat rays are used. Since it is possible to easily detect the tampering used, it is possible to intentionally manufacture an error product, and to prevent fraudulent acts that target a tampered product that is false as an error product. In addition, a diffractive structure transfer medium having practically sufficient durability and a high degree of freedom in appearance design can be obtained.

以下、本発明になる回折構造転写箔及び回折構造被転写媒体の一例である偽造防止用紙の構造等について、その最良の形態を、図面を用いて詳細に説明する。   Hereinafter, the best mode of the structure of the anti-counterfeit paper as an example of the diffraction structure transfer foil and the diffraction structure transfer medium according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明第1及び第2の事例を示す回折構造転写箔3(以下、単に転写箔と記す)を、図2におけるA−Aで切断した場合の断面の状態として、模式的に示す図である。図2は転写箔3を図1の矢印側から見た様子を示したものである。転写箔3は、支持体1上に回折構造物2(以下、単に転写層と記す)が積層されたもので、接着層17を紙やフィルムなどの被転写媒体(図示せず)に密着し固定させた後、支持体1を剥離して転写層2だけを被転写媒体に転写するものである。転写箔3は、転写層2を摩擦による傷や各種薬品などから保護するための剥離保護層11と、レーザ光や熱線などの光線を吸収して熱に変換する光吸収材や温度によって色が変化する示温性材料を含有する光吸収変色層12と、剥離保護層11側からの入射光によって回折光を発生させる回折構造形成層13と、回折光を反射する反射層15、及び被転写媒体に接着する機能を有する接着層17を有する。回折構造形成層13の一方の側には、エンボス加工により回折格子パターンとしてのエンボス形状14が設けられており、その上に反射層15が回折格子に咬合的に密着しているものである。これが本発明になる回折構造物の基本構成である。   FIG. 1 schematically shows a diffractive structure transfer foil 3 (hereinafter simply referred to as a transfer foil) showing the first and second examples of the present invention as a cross-sectional state taken along line AA in FIG. FIG. FIG. 2 shows the transfer foil 3 as viewed from the arrow side in FIG. The transfer foil 3 is obtained by laminating a diffractive structure 2 (hereinafter simply referred to as a transfer layer) on a support 1, and adheres an adhesive layer 17 to a transfer medium (not shown) such as paper or film. After fixing, the support 1 is peeled off and only the transfer layer 2 is transferred to the transfer medium. The transfer foil 3 has a color depending on a peeling protection layer 11 for protecting the transfer layer 2 from scratches caused by friction, various chemicals, etc., a light absorbing material that absorbs light such as laser light and heat rays, and converts the heat into heat. Light-absorbing discoloration layer 12 containing a temperature-indicating material that changes, a diffraction structure forming layer 13 that generates diffracted light by incident light from the side of the peeling protection layer 11, a reflective layer 15 that reflects diffracted light, and a medium to be transferred It has the adhesive layer 17 which has the function to adhere | attach. On one side of the diffractive structure forming layer 13, an embossed shape 14 as a diffraction grating pattern is provided by embossing, and a reflective layer 15 is in occlusal contact with the diffraction grating. This is the basic configuration of the diffractive structure according to the present invention.

また、図2は本発明第1及び第2の事例を示す転写箔3の平面図で、図1において支持体1側から転写層2を見た状態を示している。図2の例では、光吸収変色層12が“10000”という数字形状で形成され、反射層15は転写層2の全面に形成されている。また六角形の星型やアルファベットの小文字は回折構造形成層13のエンボス加工面14による回折光画像を示している。   FIG. 2 is a plan view of the transfer foil 3 showing the first and second examples of the present invention, and shows a state in which the transfer layer 2 is viewed from the support 1 side in FIG. In the example of FIG. 2, the light absorption color changing layer 12 is formed in a numerical shape “10000”, and the reflective layer 15 is formed on the entire surface of the transfer layer 2. Further, the hexagonal star shape and the lower case letters of the alphabet indicate the diffracted light image by the embossed surface 14 of the diffractive structure forming layer 13.

次に、図3は、本発明第3の事例を示す転写箔5を、図4におけるB−Bで切断した場合の断面の状態として、模式的に示した図である。転写箔5における転写層4も、剥離保護層11と、レーザ光や熱線などの光線を吸収して熱に変換する光吸収材や温度によって色が変化する示温性材料を含有する光吸収変色層12と、剥離保護層11側からの入射光によって回折光を発生させる回折構造形成層13と、回折構造であるエンボス加工面14と回折光を反射する反射層15、反射層15を部分的に設けるために必要な耐薬品保護層16、そして被転写媒体に接着するための接着層17を有している。   Next, FIG. 3 is a diagram schematically showing a transfer foil 5 showing a third example of the present invention as a cross-sectional state when cut along BB in FIG. The transfer layer 4 in the transfer foil 5 also includes a release protective layer 11, a light absorbing material that absorbs light such as laser light and heat rays and converts it into heat, and a light absorbing discoloration layer that includes a temperature indicating material that changes color depending on temperature. 12, a diffractive structure forming layer 13 that generates diffracted light by incident light from the peeling protection layer 11 side, an embossed surface 14 that is a diffractive structure, a reflective layer 15 that reflects diffracted light, and a reflective layer 15 are partially It has a chemical-resistant protective layer 16 necessary for providing, and an adhesive layer 17 for adhering to a transfer medium.

また、図4は本発明第3の事例を示す転写箔5の平面図であって、図3の断面図において支持体1側から転写層4を見た場合を示している。図4の例では、耐薬品保護層16と同一形状の反射層15は、両端が円状の横長形状をしている部分と“Security”の小さな文字形状とがあり、その横長形状の内部では六角形の星型の回折光画像を観察することができ、また、“Security”の文字については同形状の回折光画像を観察することができる。一方、それ以外の反射層15が無い部分については、エンボス加工面14で発生する回折光が反射されないため、観察者は回折光画像を見ることはできない。反射層15のパタニングは、耐薬品保護層16を所望の形状にエッチング加工し、これを
マスクとして開口部の反射層を除去することで行う。これらにより、偽造防止効果を一段と向上させた構成となっている。
FIG. 4 is a plan view of the transfer foil 5 showing a third example of the present invention, and shows a case where the transfer layer 4 is viewed from the support 1 side in the cross-sectional view of FIG. In the example of FIG. 4, the reflective layer 15 having the same shape as the chemical-resistant protective layer 16 has a portion having a horizontally long shape at both ends and a small character shape of “Security”. A hexagonal star-shaped diffracted light image can be observed, and a diffracted light image of the same shape can be observed for the letters “Security”. On the other hand, since the diffracted light generated on the embossed surface 14 is not reflected at the other portions where the reflective layer 15 is not present, the observer cannot see the diffracted light image. Patterning of the reflective layer 15 is performed by etching the chemical-resistant protective layer 16 into a desired shape, and using this as a mask to remove the reflective layer in the opening. As a result, the anti-counterfeiting effect is further improved.

次に図5は、前記図1及び図2に示した本発明の転写箔3の転写層2を、被転写媒体6である紙に転写して後、支持体1を剥離して作製した偽造防止用紙7に対し、反射層15の一部を除去する改竄を行った結果の一例を、模式的に説明する断面図であって、図6のC−C部に対応するものである。また、図6は図5を剥離保護層11側から観察した時の平面図であって、図6の例では、商品券に本発明になる転写箔3の転写層2を帯状に転写した後に、反射層15を除去する改竄を行った例を示したものである。“10000”の数字形状をした白色の光吸収変色層12が、光を照射された部分だけ黒色に発色しているのが観察されたことから、反射層15が改竄されたことを容易に確認することができた。   Next, FIG. 5 shows a counterfeit produced by transferring the transfer layer 2 of the transfer foil 3 of the present invention shown in FIGS. 1 and 2 to paper as a transfer medium 6 and then peeling the support 1. FIG. 7 is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a result of falsification of the prevention paper 7 by removing a part of the reflective layer 15, and corresponds to a CC section in FIG. 6. FIG. 6 is a plan view when FIG. 5 is observed from the side of the peeling protection layer 11. In the example of FIG. 6, after the transfer layer 2 of the transfer foil 3 according to the present invention is transferred to a gift certificate in a band shape. This shows an example of tampering to remove the reflective layer 15. It was easily confirmed that the reflective layer 15 was falsified because it was observed that the white light-absorbing discoloration layer 12 having the number shape of “10000” was colored black only in the irradiated portion. We were able to.

一方、図7は、前記図3及び図4に示した本発明になる転写箔5の転写層4を、被転写媒体6である紙に転写して支持体1を剥離して作製した偽造防止用紙8(商品券)に対し、部分的に形成されている反射層15の一部を除去する改竄を行った結果を示す平面図であって、図7は図8のD−D部に対応する部分である。反射層の除去部21を観察すると、“10000”の数字形状をした白色の光吸収変色層12であって、除去した部分の一部が黒色に変色した変色部22が観察された。このことは、転写箔の製造時に反射層15が誤って除去されたのではなく、商品券に転写層4を転写した後に反射層15の一部が除去されたことを示しており、これは、改竄を容易に検知することが可能な偽造防止用紙であるということを示唆している。   On the other hand, FIG. 7 shows the forgery prevention produced by transferring the transfer layer 4 of the transfer foil 5 according to the present invention shown in FIGS. 3 and 4 onto the paper as the transfer medium 6 and peeling the support 1. FIG. 7 is a plan view showing a result of falsification that removes a part of the reflection layer 15 that is partially formed on the paper 8 (gift certificate), and FIG. 7 corresponds to the DD section of FIG. It is a part to do. When the removal portion 21 of the reflection layer was observed, a white light absorption discoloration layer 12 having a numeral shape of “10000”, and a discoloration portion 22 in which a part of the removed portion was changed to black was observed. This indicates that the reflective layer 15 was not removed by mistake during the manufacture of the transfer foil, but a part of the reflective layer 15 was removed after the transfer layer 4 was transferred to the gift certificate. This suggests that the paper is a forgery-preventing paper that can easily detect tampering.

以下に、本発明の回折構造物転写箔とそれを用いた回折構造被転写媒体の一例である偽造防止用紙を構成する各層の材質や形成方法等について説明する。   Hereinafter, the materials and forming methods of the layers constituting the anti-counterfeit paper which is an example of the diffraction structure transfer foil of the present invention and the diffraction structure transfer medium using the same will be described.

(支持体)
まず、支持体1としては樹脂フィルムが使用できる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、耐熱塩化ビニルフィルム等が使用できる。これらの樹脂の中で、耐熱性が高く厚みが安定している事から、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムが好ましく使用できる。
(Support)
First, a resin film can be used as the support 1. As the resin film, a polyethylene terephthalate resin film, a polyethylene naphthalate resin film, a polyimide resin film, a polyethylene resin film, a polypropylene resin film, a heat-resistant vinyl chloride film, or the like can be used. Among these resins, since the heat resistance is high and the thickness is stable, a polyethylene terephthalate resin film can be preferably used.

また、これら樹脂フィルムには、帯電防止処理、マット加工、エンボス処理、文字や絵柄の印刷、レーザーマーキング等の加工を施したフィルムも使用する事ができる。   Moreover, the film which processed antistatic treatment, mat processing, embossing, printing of a character and a pattern, laser marking etc. can also be used for these resin films.

(剥離保護層)
剥離保護層11としては、樹脂に滑剤を添加したものが使用できる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂である。また、滑剤としてはポリエチレンパウダーや、カルナバロウ等のワックスを使用する事ができ、20重量部まで添加する事が可能である。これらは剥離保護層11として、支持体1上にグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。
(Peeling protection layer)
As the peeling protection layer 11, a resin added with a lubricant can be used. As the resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a moisture curable resin, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like can be used. For example, acrylic resin, polyester resin, and polyamideimide resin. As the lubricant, wax such as polyethylene powder or carnauba wax can be used, and it can be added up to 20 parts by weight. These are formed as the peeling protective layer 11 on the support 1 by a known coating method such as a gravure printing method or a micro gravure method.

(光吸収変色層)
光吸収変色層12としては、樹脂に光吸収材を添加したもの、もしくは樹脂に光吸収材と示温性材料の両方を添加したものが使用できる。樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、アクリル樹脂やポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等である。また、光吸収材としては赤外線吸収剤や紫外線吸収剤が使用可能であり、光吸収剤の配合割合は、光吸収変色層12を構成する樹脂等からなる組成物100重量部に対して0.1〜20重量部添加されることが好ましいが、密着性や耐久性等に影響がなければ、これに限定されるものではない。また、前記樹脂や光吸収材と合わせて使用される示温性材料としては、転写箔が加工される温度や通常使用される環境温度では変色せずに、反射層15を除去する改竄を行う場合に変色する必要があるため、変色温度が200℃以上の、例えばビスマス化合物等の示温性材料を使用することが望ましい。これら光吸収剤や示温性材料は単独、若しくは2種以上を組み合わせて用いることも可能である。光吸収変色層12は、剥離保護層11上の一部分に文字や画像等、任意の形状でグラビア印刷法やマイクログラビア法等、公知の塗布方法によって形成される。
(Light absorption discoloration layer)
As the light absorption discoloration layer 12, one obtained by adding a light absorbing material to a resin or one obtained by adding both a light absorbing material and a temperature indicating material to a resin can be used. As the resin, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, a moisture curable resin, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, or the like can be used. For example, acrylic resin, polyester resin, polyamideimide resin, urethane resin, epoxy resin, and the like. In addition, an infrared absorber or an ultraviolet absorber can be used as the light absorbing material, and the blending ratio of the light absorbing agent is set to 0. 0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the composition comprising the resin constituting the light absorbing discoloration layer 12. It is preferable to add 1 to 20 parts by weight, but it is not limited to this as long as the adhesion and durability are not affected. In addition, as a temperature indicating material used in combination with the resin and the light absorbing material, when the tampering is performed to remove the reflective layer 15 without changing the color at the temperature at which the transfer foil is processed or the environment temperature at which it is normally used. Therefore, it is desirable to use a temperature indicating material having a color change temperature of 200 ° C. or higher, such as a bismuth compound. These light absorbers and temperature indicating materials can be used alone or in combination of two or more. The light-absorbing discoloration layer 12 is formed on a part of the peeling protection layer 11 in any shape such as characters and images by a known coating method such as a gravure printing method or a micro gravure method.

(回折構造形成層)
回折構造形成層13は、レリーフ型回折格子や体積型回折格子等の回折構造体が利用でき、その表面に微細な凹凸パターン14を形成する事により回折格子として記録したものである。
(Diffraction structure forming layer)
The diffraction structure forming layer 13 can be a diffraction structure such as a relief type diffraction grating or a volume type diffraction grating, and is recorded as a diffraction grating by forming a fine uneven pattern 14 on the surface thereof.

前記レリーフ型回折格子は、例えば、二光束干渉法を使用して感光性樹脂の表面に互いに可干渉の2本の光線を照射してこの感光性樹脂表面に干渉縞を生成させ、この干渉縞を凹凸の形態で感光性樹脂に記録することで形成できる。尚、この二光束性干渉法によって形成された干渉縞も回折格子であり、前記2本の光線の選択によって任意の立体画像を回折格子パターンとして記録することが可能である。また、観察する角度に応じて異なる画像(以下、チェンジング画像と記す)が見られるように記録することも可能である。   The relief type diffraction grating, for example, uses the two-beam interference method to irradiate the surface of the photosensitive resin with two coherent light beams to generate interference fringes on the surface of the photosensitive resin. Can be formed on the photosensitive resin in the form of irregularities. The interference fringes formed by the two-beam interferometry are also diffraction gratings, and any three-dimensional image can be recorded as a diffraction grating pattern by selecting the two light beams. It is also possible to record so that different images (hereinafter referred to as changing images) can be seen depending on the viewing angle.

本発明に用いられる回折格子構造物による画像パターンを記録する方法については、前記二光束干渉法の他にもイメージホログラムやリップマンホログラム、レインボーホログラム、インテグラルホログラムなど、従来から知られているホログラムの製造方法により作製することが可能である。   Regarding the method of recording an image pattern by the diffraction grating structure used in the present invention, in addition to the two-beam interference method, conventionally known holograms such as an image hologram, a Lippmann hologram, a rainbow hologram, and an integral hologram are used. It can be manufactured by a manufacturing method.

また、レリーフ型回折格子の凹凸パターンは、電子線硬化型樹脂の表面に電子線を照射して、回折格子となる縞状パターンに露光することによって回折構造物を形成することも可能である。この場合には、その干渉縞を1本ごとに制御することができるため、ホログラムと同様に任意の立体画像やチェンジング画像を記録することができる。また、画像をドット状の画素領域に分割し、この画素領域ごとに異なる回折格子を記録し、これら画素の集合で全体の画像を表現することも可能である。画素は円形のドットの他、星形のドットでも良い。   In addition, the concave / convex pattern of the relief type diffraction grating can form a diffraction structure by irradiating the surface of the electron beam curable resin with an electron beam and exposing it to a striped pattern to be a diffraction grating. In this case, since the interference fringes can be controlled for each line, an arbitrary three-dimensional image or changing image can be recorded in the same manner as the hologram. It is also possible to divide the image into dot-like pixel areas, record different diffraction gratings for each pixel area, and express the entire image with a set of these pixels. The pixel may be a circular dot or a star-shaped dot.

また、誘起表面レリーフ形成法によって、前記凹凸パターンを形成する事も可能である。すなわち、アゾベンゼンを鎖側に持つポリマーのアモルファス薄膜に対して、青色〜緑色に渡る範囲の或る波長を有した数十mW/cm2程度の比較的弱い光を照射することによって、数μmスケールでポリマー分子の移動を起こし、結果、薄膜表面に凹凸によるレリーフを形成することができる。 It is also possible to form the concavo-convex pattern by an induced surface relief forming method. That is, by irradiating an amorphous thin film of a polymer having azobenzene on the chain side with a relatively weak light of about several tens mW / cm 2 having a certain wavelength in a range from blue to green, several μm scale As a result, movement of polymer molecules is caused, and as a result, a relief due to unevenness can be formed on the surface of the thin film.

そして、このように形成された凹凸パターンを有するレリーフ型のマスター版の表面に電気メッキ法で金属膜を形成する事によって、レリーフ型マスター版の凹凸パターンを複製し、これをプレス版とする。そして、支持体1上に積層される樹脂層にこのプレス版を熱圧着し、この樹脂層の表面に微細な凹凸パターン14を転写することにより、回折構造形成層13とすることができる。   Then, by forming a metal film on the surface of the relief-type master plate having the uneven pattern formed in this way by electroplating, the uneven pattern of the relief-type master plate is duplicated and used as a press plate. Then, the press plate is thermocompression bonded to the resin layer laminated on the support 1, and the fine concavo-convex pattern 14 is transferred to the surface of the resin layer, whereby the diffraction structure forming layer 13 can be obtained.

前記レリーフ型回折格子による回折構造形成13に適用される樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂等が使用できる。例えば、熱可塑性樹脂では、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。また、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイ
ソシアネートを架橋剤として添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミ樹脂、フェノール樹脂等が使用できる。また、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂としては、エポキシ(メタ)アクリル、ウレタン(メタ)アクリレート等が使用できる。
As the resin applied to the diffraction structure formation 13 by the relief type diffraction grating, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet ray, an electron beam curable resin, or the like can be used. For example, in a thermoplastic resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a cellulose resin, a vinyl resin, etc. are mentioned. In addition, urethane resins, melamine resins, phenol resins, and the like obtained by adding polyisocyanate as a crosslinking agent to an acrylic polyol or polyester polyol having a reactive hydroxyl group and the like can be used. Further, as the ultraviolet ray or electron beam curable resin, epoxy (meth) acryl, urethane (meth) acrylate, or the like can be used.

(反射層)
反射層15は、回折構造形成層13に直接接触して設ける必要はないが、回折構造形成層13がレリーフ型回折格子の場合には、その凹凸パターン14に反射層15を直接接触して設けられる必要がある。この場合、反射層15によって反射した光は回折光である。
(Reflective layer)
The reflection layer 15 does not need to be provided in direct contact with the diffraction structure forming layer 13, but when the diffraction structure formation layer 13 is a relief type diffraction grating, the reflection layer 15 is provided in direct contact with the concavo-convex pattern 14. Need to be done. In this case, the light reflected by the reflective layer 15 is diffracted light.

また、反射層15として、反射輝度が高い点で金属薄膜が好ましく利用できる。この金属としては、例えば、Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au、真鍮等が挙げられる。そして、真空製膜法を利用してこの金属薄膜を形成することができる。真空製膜法としては、真空蒸着法、スパッタリング法等が適用でき、厚みは5〜1000nm程度に制御できれば良い。   Moreover, as the reflective layer 15, a metal thin film can be preferably used in terms of high reflection luminance. Examples of the metal include Al, Sn, Cr, Ni, Cu, Au, and brass. And this metal thin film can be formed using a vacuum film-forming method. As the vacuum film forming method, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like can be applied, and the thickness may be controlled to about 5 to 1000 nm.

また、この反射層15は次のような方法で加工する事により、耐薬品保護層16と同一形状の画像パターンや文字パターンとすることができる。   Further, the reflective layer 15 can be formed into an image pattern or a character pattern having the same shape as the chemical resistant protective layer 16 by processing in the following manner.

まず、その第1の方法は、全面一様に反射層15を形成してこの反射層15上に着色剤によって着色した耐薬品性の樹脂層を耐薬品保護層16として画像パターン状に設け、アルカリ性または酸性のエッチング液を適用して露出している反射層を溶解して除去して反射層15を形成する方法である。本発明では、耐薬品保護層をそのまま残存させて耐薬品性を持たせるための保護層として利用している。   First, the first method is to form a reflective layer 15 uniformly on the entire surface, and provide a chemical resistant resin layer colored with a colorant on the reflective layer 15 as a chemical resistant protective layer 16 in an image pattern. In this method, the reflective layer 15 is formed by dissolving and removing the exposed reflective layer by applying an alkaline or acidic etching solution. In the present invention, the chemical-resistant protective layer is used as a protective layer for leaving the chemical-resistant protective layer as it is to provide chemical resistance.

また、その第2の方法は、全面一様に形成された反射層15上に耐薬品保護層16として感光性樹脂層を形成し、画像パターン状に露光・現像した後、アルカリ性または酸性のエッチング液を適用して露出した反射層を溶解して除去する方法である。   In the second method, a photosensitive resin layer is formed as a chemical-resistant protective layer 16 on the reflective layer 15 formed uniformly on the entire surface, exposed and developed into an image pattern, and then subjected to alkaline or acidic etching. This is a method of dissolving and removing the exposed reflective layer by applying a liquid.

尚、反射層15や耐薬品保護層16の画像パターンとしては明確な意味を持たないランダムなパターンでも良いが、絵柄、図形、模様、文字、数字、記号等、認知可能な情報を付与させることも可能である。   Note that the image pattern of the reflective layer 15 and the chemical-resistant protective layer 16 may be a random pattern having no clear meaning. However, recognizable information such as a pattern, a figure, a pattern, a character, a number, a symbol, etc. is given. Is also possible.

(耐薬品保護層)
耐薬品保護層17としては、水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬するエッチング法を用いても塗膜に変化が生じないものが望ましい。エッチング法の具体的な方法の例としては、全面均一に形成した反射層15上に耐薬品保護層16を形成し、前記水酸化ナトリウム水溶液を40〜50℃に保持し、1.5Nとした溶液をエッチング液として使用し、このエッチング液中に5〜30秒間浸漬することにより、反射層14を画像パターン状に加工することができる。
また、耐薬品保護層17は、ガラス転移温度150℃以上の樹脂を使用する事が望ましい。この場合には、酸やアルカリから保護するだけでなく、高温から反射層15の変形を守ることも可能となる。このような、耐薬品・耐熱性の樹脂としては、ポリカーボネート樹脂(Tg.140〜150℃)、ポリアリレート樹脂(Tg.193℃)、ポリスルホン樹脂(Tg.190℃)、ポリエーテルスルホン樹脂(Tg.225℃)、ポリエーテルイミド樹脂(Tg.200℃以上)、環状ポリオレフィン共重合体(Tg.171℃)、変性ノルボルネン系樹脂(Tg.171℃)、ポリアミドイミド樹脂(Tg.200℃以上)、ポリイミド樹脂(Tg.250℃以上)等が挙げられる。この他、熱硬化性樹脂、湿気硬化性樹脂、紫外線硬化性または電子線硬化性の樹脂を使用しても良い。
尚、これらの樹脂100重量部に対して40重量部を上限として、フィラーや充填剤、着色剤等を添加することができる。40重量部を超えて添加した場合には、分散性が悪くな
って塗膜強度が低下して耐熱性が劣ることがある。また、塗液の流動性が低くなって版上で乾燥してしまって印刷適性が悪化する事や、塗液中のそれら添加剤が、保存中または塗工中に沈降または凝集してしまうことことがある。
(Chemical-resistant protective layer)
As the chemical-resistant protective layer 17, it is desirable that the coating film does not change even when an etching method immersed in an aqueous sodium hydroxide solution is used. As a specific example of the etching method, the chemical-resistant protective layer 16 is formed on the reflective layer 15 formed uniformly on the entire surface, and the sodium hydroxide aqueous solution is kept at 40 to 50 ° C. to 1.5 N. The reflective layer 14 can be processed into an image pattern by using the solution as an etchant and immersing in this etchant for 5 to 30 seconds.
The chemical resistant protective layer 17 is preferably made of a resin having a glass transition temperature of 150 ° C. or higher. In this case, it is possible not only to protect from acid and alkali, but also to protect the deformation of the reflective layer 15 from high temperatures. Such chemical and heat resistant resins include polycarbonate resin (Tg. 140-150 ° C.), polyarylate resin (Tg. 193 ° C.), polysulfone resin (Tg. 190 ° C.), polyether sulfone resin (Tg .225 ° C.), polyetherimide resin (Tg. 200 ° C. or higher), cyclic polyolefin copolymer (Tg. 171 ° C.), modified norbornene resin (Tg. 171 ° C.), polyamideimide resin (Tg. 200 ° C. or higher) And polyimide resin (Tg. 250 ° C. or higher). In addition, a thermosetting resin, a moisture curable resin, an ultraviolet curable resin, or an electron beam curable resin may be used.
In addition, a filler, a filler, a colorant, etc. can be added up to 40 parts by weight with respect to 100 parts by weight of these resins. When added in excess of 40 parts by weight, the dispersibility is deteriorated, the coating film strength is lowered, and the heat resistance may be inferior. In addition, the fluidity of the coating liquid becomes low and it dries on the plate, so that the printability deteriorates, and those additives in the coating liquid settle or aggregate during storage or coating. Sometimes.

(接着層)
接着層17としては、熱及び圧力によって被転写媒体に接着するものであれば良く、公知の感熱性接着材料を使用することができる。
(Adhesive layer)
Any adhesive layer 17 may be used as long as it adheres to the transfer medium by heat and pressure, and a known heat-sensitive adhesive material can be used.

(その他の層)
その他の層としては、各層間の密着性をより強固なものとするためにアンカー層を設けたり、文字や絵柄を印刷したり、部分的に隠蔽や可視光の不透過率を向上させるために印刷層を追加することができ、これらのインキも周知の密着向上剤や接着剤、印刷インキをそれぞれ使用することができる。
(Other layers)
As other layers, in order to strengthen the adhesion between each layer, to provide an anchor layer, to print characters and designs, to partially improve concealment and visible light opacity A printing layer can be added, and these inks can also use well-known adhesion improvers, adhesives, and printing inks, respectively.

(偽造防止用紙及び偽造防止媒体)
本発明に係る転写箔を被転写媒体6に重ね、熱圧着により接着した後、支持体1を剥離除去する事により、転写層2や4を転写して偽造防止用紙7や8を製造する事ができる。被転写媒体6には、紙やプラスチック、合成紙等、所望の材料が利用できる。
(Anti-counterfeit paper and anti-counterfeit media)
After the transfer foil according to the present invention is stacked on the transfer medium 6 and bonded by thermocompression bonding, the support 1 is peeled and removed, whereby the transfer layers 2 and 4 are transferred to produce anti-counterfeit papers 7 and 8. Can do. For the transfer medium 6, a desired material such as paper, plastic, or synthetic paper can be used.

次に、実施例によって本発明を説明する。   Next, the present invention will be described by way of examples.

(実施例1)
まず、前述第1の例である転写箔3について説明する。支持体1として、厚さ25μmの透明なポリエチレンテレフタレート(通称PET)フィルムを使用した。
Example 1
First, the transfer foil 3 as the first example will be described. As the support 1, a transparent polyethylene terephthalate (commonly known as PET) film having a thickness of 25 μm was used.

この支持体1の片面に、下記組成物からなるインキを塗布・乾燥し、膜厚2μmの剥離保護層11形成した。   On one side of this support 1, an ink comprising the following composition was applied and dried to form a release protective layer 11 having a thickness of 2 μm.

次に、保護層11上の一部分に、下記組成物からなるインキを数字の形状に塗布・乾燥し、膜厚1.5μmの光吸収変色層12形成した。   Next, an ink composed of the following composition was applied to a part of the protective layer 11 in a numerical shape and dried to form a light absorption discoloration layer 12 having a thickness of 1.5 μm.

次に、下記組成物からなるインキを塗布・乾燥し、膜厚1μmの層を形成した後、ロールエンボス法により回折格子形成用のプレス版を熱圧してその表面に回折格子を発生させるためのエンボス形状14を形成し、回折構造形成層13とした。   Next, an ink comprising the following composition is applied and dried to form a layer having a thickness of 1 μm, and then a press plate for forming a diffraction grating is hot-pressed by a roll embossing method to generate a diffraction grating on the surface. An embossed shape 14 was formed to form a diffraction structure forming layer 13.

また、この回折構造形成層13の全面に、真空蒸着法にてアルミニウム蒸着膜を膜厚50nmにて均一に製膜し、反射層15を形成した。   In addition, an aluminum vapor deposition film was uniformly formed with a film thickness of 50 nm on the entire surface of the diffractive structure forming layer 13 by a vacuum vapor deposition method to form a reflective layer 15.

最後に下記組成物からなるインキを塗布・乾燥させて厚さ3μmの接着層17を形成し、本発明の第1の事例の転写箔3を製造した。   Finally, ink composed of the following composition was applied and dried to form an adhesive layer 17 having a thickness of 3 μm, and the transfer foil 3 of the first example of the present invention was manufactured.

「剥離保護層インキ組成物」
ポリアミドイミド樹脂(Tg.250℃) 19.2重量部
ポリエチレンパウダー 0.8重量部
ジメチルアセトアミド 45.0重量部
トルエン 35.0重量部
「光吸収変色層インキ組成物」
ウレタン樹脂 20.0重量部
赤外線吸収材(第二銅含有リン酸塩系組成物) 1.0重量部
示温性材料(ビスマス化合物) 2.5重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「回折構造形成層インキ組成物」
ウレタン樹脂 20.0重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「接着層インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂 15.0重量部
アクリル樹脂(Tg.20℃) 10.0重量部
シリカ 1.0重量部
メチルエチルケトン 44.0重量部
トルエン 30.0重量部
この転写箔3を、予め文字や絵柄など所望の印刷を行った紙の媒体6に重ね、温度120℃に熱した円型の熱ロールタイプの転写機を用いて紙媒体6に熱転写してすぐに支持体1を剥離除去し、偽造防止用紙7を製造した。
"Peeling protective layer ink composition"
Polyamideimide resin (Tg. 250 ° C.) 19.2 parts by weight Polyethylene powder 0.8 part by weight Dimethylacetamide 45.0 parts by weight Toluene 35.0 parts by weight “Light Absorption Discoloration Layer Ink Composition”
Urethane resin 20.0 parts by weight Infrared absorbing material (cupric-containing phosphate-based composition) 1.0 part by weight Thermosensitive material (bismuth compound) 2.5 parts by weight Methyl ethyl ketone 50.0 parts by weight Ethyl acetate 30.0 Weight part "Diffraction structure forming layer ink composition"
Urethane resin 20.0 parts by weight Methyl ethyl ketone 50.0 parts by weight Ethyl acetate 30.0 parts by weight “Adhesive layer ink composition”
Vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin 15.0 parts by weight Acrylic resin (Tg. 20 ° C.) 10.0 parts by weight Silica 1.0 part by weight Methyl ethyl ketone 44.0 parts by weight Toluene 30.0 parts by weight The support 1 is peeled and removed immediately after being thermally transferred to the paper medium 6 using a circular heat roll type transfer machine heated to a temperature of 120 ° C. The anti-counterfeit paper 7 was manufactured.

(実施例2)
次に、前述第3の例である転写箔5について説明する。支持体1として、厚さ25μmの透明なポリエチレンテレフタレート(通称PET)フィルムを使用した。
(Example 2)
Next, the transfer foil 5 as the third example will be described. As the support 1, a transparent polyethylene terephthalate (commonly known as PET) film having a thickness of 25 μm was used.

この支持体1の片面に、下記組成物からなるインキを塗布・乾燥し、膜厚2μmの剥離保護層11を形成した。   On one side of this support 1, an ink comprising the following composition was applied and dried to form a release protective layer 11 having a thickness of 2 μm.

次に、保護層11上の一部分に、下記組成物からなるインキを数字の形状に塗布・乾燥し、膜厚1.5μmの光吸収変色層12形成した。尚、転写箔5では反射層15は部分的に形成されるため、光吸収変色層12はその全体もしくは一部分が必ず反射層15と重なるように形成する必要があり、本実施例では、光吸収変色層12は数字“10000”の形状にて、図4に示したように楕円状の反射層15の側に重なるように配置した。   Next, an ink composed of the following composition was applied to a part of the protective layer 11 in a numerical shape and dried to form a light absorption discoloration layer 12 having a thickness of 1.5 μm. In addition, since the reflective layer 15 is partially formed in the transfer foil 5, it is necessary to form the light absorption discoloration layer 12 so that the whole or a part of the light absorption discoloration layer 12 always overlaps with the reflection layer 15. In this embodiment, the light absorption layer The discoloration layer 12 has the shape of the number “10000” and is arranged so as to overlap the elliptical reflection layer 15 as shown in FIG.

次に、下記組成物からなるインキを塗布・乾燥し、膜厚1μmの層を形成した後、ロールエンボス法により回折格子形成用のプレス版を熱圧してその表面に回折格子を発生させるためのエンボス形状14を形成し、回折構造形成層13とした。   Next, an ink comprising the following composition is applied and dried to form a layer having a thickness of 1 μm, and then a press plate for forming a diffraction grating is hot-pressed by a roll embossing method to generate a diffraction grating on the surface. An embossed shape 14 was formed to form a diffractive structure forming layer 13.

次に、この回折構造形成層13の全面に、真空蒸着法にてアルミニウム蒸着膜を膜厚50nmにて均一に形成し、更に、アルミニウム蒸着膜上に厚さ1μmの耐薬品保護層16を前記光吸収変色層12と位置が重なるように形成した。そして、50℃に保温された1.5Nの水酸化ナトリウム水溶液が入った浴槽に10秒間浸し、前記耐薬品保護層16がマスクとなり、耐薬品保護層16が存在せずにアルミニウム蒸着膜が露出している部位をエッチングで除去した。更に、0.1Nの塩酸水溶液に浸して中和処理を行い、その後、水洗、乾燥した。こうして、独立した画像パターン状にアルミニウム蒸着膜から構成される反射層15と、この反射層15に重ねられ、且つ、この反射層15と同一形状を有する耐薬品保護層16を形成した。   Next, an aluminum vapor deposition film is uniformly formed with a film thickness of 50 nm on the entire surface of the diffractive structure forming layer 13 by a vacuum vapor deposition method, and the chemical-resistant protective layer 16 having a thickness of 1 μm is further formed on the aluminum vapor deposition film. It formed so that the position might overlap with the light absorption discoloration layer 12. Then, it is immersed for 10 seconds in a bath containing 1.5N sodium hydroxide aqueous solution kept at 50 ° C., and the chemical-resistant protective layer 16 becomes a mask, and the aluminum deposited film is exposed without the chemical-resistant protective layer 16 being present. The part which has been removed was removed by etching. Furthermore, it was immersed in a 0.1N hydrochloric acid aqueous solution for neutralization treatment, then washed with water and dried. Thus, the reflective layer 15 composed of an aluminum vapor deposition film in an independent image pattern, and the chemical-resistant protective layer 16 which is superimposed on the reflective layer 15 and has the same shape as the reflective layer 15 were formed.

最後に下記組成物からなるインキを塗布・乾燥させて厚さ3μmの接着層17を形成し、本発明の第3の事例の転写箔5を製造した。   Finally, an ink composed of the following composition was applied and dried to form an adhesive layer 17 having a thickness of 3 μm, and the transfer foil 5 of the third example of the present invention was manufactured.

「剥離保護層インキ組成物」
ポリアミドイミド樹脂(Tg.250℃) 19.2重量部
ポリエチレンパウダー 0.8重量部
ジメチルアセトアミド 45.0重量部
トルエン 35.0重量部
「光吸収変色層インキ組成物」
ウレタン樹脂 20.0重量部
赤外線吸収材(第二銅含有リン酸塩系組成物) 1.0重量部
示温性材料(ビスマス化合物) 2.5重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「回折構造形成層インキ組成物」
ウレタン樹脂 20.0重量部
メチルエチルケトン 50.0重量部
酢酸エチル 30.0重量部
「耐薬品保護層インキ組成物」
変性ノルボルネン樹脂(Tg.171℃) 20.0重量部
沈降性硫酸バリウム(比重5.5) 10.0重量部
メチルエチルケトン 40.0重量部
トルエン 30.0重量部
「接着層インキ組成物」
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂 15.0重量部
アクリル樹脂(Tg.20℃) 10.0重量部
シリカ 1.0重量部
メチルエチルケトン 44.0重量部
トルエン 30.0重量部
次に、この転写箔5を、予め文字や絵柄など所望の印刷を行った紙の媒体6に重ね、温度120℃に熱した円型の熱ロールタイプの転写機を用いて媒体6に熱転写してすぐに支持体1を剥離除去し、偽造防止用紙8を製造した。
"Peeling protective layer ink composition"
Polyamideimide resin (Tg. 250 ° C.) 19.2 parts by weight Polyethylene powder 0.8 part by weight Dimethylacetamide 45.0 parts by weight Toluene 35.0 parts by weight “Light Absorption Discoloration Layer Ink Composition”
Urethane resin 20.0 parts by weight Infrared absorbing material (cupric-containing phosphate-based composition) 1.0 part by weight Thermosensitive material (bismuth compound) 2.5 parts by weight Methyl ethyl ketone 50.0 parts by weight Ethyl acetate 30.0 Weight part "Diffraction structure forming layer ink composition"
Urethane resin 20.0 parts by weight Methyl ethyl ketone 50.0 parts by weight Ethyl acetate 30.0 parts by weight “Chemical-resistant protective layer ink composition”
Modified norbornene resin (Tg. 171 ° C.) 20.0 parts by weight Precipitating barium sulfate (specific gravity 5.5) 10.0 parts by weight Methyl ethyl ketone 40.0 parts by weight Toluene 30.0 parts by weight “Adhesive layer ink composition”
Vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin 15.0 parts by weight Acrylic resin (Tg. 20 ° C.) 10.0 parts by weight Silica 1.0 part by weight Methyl ethyl ketone 44.0 parts by weight Toluene 30.0 parts by weight Next, this transfer foil 5 Is placed on a paper medium 6 on which a desired print such as a character or a pattern has been printed in advance, and the substrate 1 is immediately transferred to the medium 6 using a circular hot roll type transfer machine heated to a temperature of 120 ° C. The anti-counterfeit paper 8 was manufactured by peeling off.

こうして製造された偽造防止用紙7と8にストライプ状に転写された転写層2や4を観察すると、観察する角度に応じて回折光による異なる色彩や画像を発生させており、また、反射層15を変造や改竄しない場合には、数字の“10000”の文字が白色に見え、従来と同様の偽造防止効果を持った用紙であることが分かった。   When the transfer layers 2 and 4 transferred in stripes on the anti-counterfeit papers 7 and 8 manufactured in this way are observed, different colors and images are generated by the diffracted light depending on the observation angle, and the reflection layer 15 is also generated. When the paper is not altered or tampered with, the numeral “10000” appears white, indicating that the paper has the same anti-counterfeit effect as before.

また、本発明による方法で製造された偽造防止用紙7と8の転写層2や4における反射層15の一部を出力2W、波長1064nmのレーザ光によって除去したところ、両者ともレーザ光を照射した箇所(改竄部21)の反射層が除去され、且つ、光吸収変色層12において、レーザ光が照射された部分だけが黒く変色しており、改竄を容易に判別することが可能であることが分かった。   Further, when a part of the reflection layer 15 in the transfer layers 2 and 4 of the anti-counterfeit papers 7 and 8 manufactured by the method according to the present invention was removed by laser light having an output of 2 W and a wavelength of 1064 nm, both were irradiated with laser light. The reflection layer of the portion (tampered portion 21) is removed, and only the portion irradiated with the laser light is discolored black in the light absorption discoloration layer 12, so that it is possible to easily determine the tampering. I understood.

本発明に係る第1の例を示す回折構造物転写箔の断面図(図2のA−A断面)。Sectional drawing (AA cross section of FIG. 2) of the diffraction structure transfer foil which shows the 1st example which concerns on this invention. 本発明に係る第1の例を示す回折構造物転写箔の平面図The top view of the diffraction structure transfer foil which shows the 1st example which concerns on this invention 本発明に係る第3の例を示す回折構造物転写箔の断面図(図4のB−B断面)Sectional drawing of the diffraction structure transfer foil which shows the 3rd example which concerns on this invention (BB cross section of FIG. 4) 本発明に係る第3の例を示す回折構造物転写箔の平面図Top view of diffraction structure transfer foil showing a third example of the present invention 本発明に係る第1の例を示す回折構造物転写箔を用いて作製された偽造防止用 紙の反射層の一部を改竄によって除去した事を示す断面図(図6のC−C断面 )Sectional drawing which shows that a part of reflection layer of the forgery prevention paper produced using the diffraction structure transfer foil which shows the 1st example which concerns on this invention was removed by falsification (CC cross section of FIG. 6) 本発明に係る第1の例を示す回折構造物転写箔を用いて作製された偽造防止用 紙の反射層の一部を改竄によって除去した事を示す平面図The top view which shows having removed a part of reflection layer of the forgery prevention paper produced using the diffraction structure transfer foil which shows the 1st example which concerns on this invention by tampering 本発明に係る第3の例を示す回折構造物転写箔を用いて作製された偽造防止用 紙の反射層の一部を改竄によって除去した事を示す断面図(図8のD−D断面 )Sectional drawing which shows that a part of reflection layer of the anti-counterfeit paper produced using the diffraction structure transfer foil which shows the 3rd example which concerns on this invention was removed by tampering (DD section of FIG. 8) 本発明に係る第3の例を示す回折構造物転写箔を用いて作製された偽造防止用 紙の反射層の一部を改竄によって除去した事を示す平面図The top view which shows having removed a part of reflection layer of the forgery prevention paper produced using the diffraction structure transfer foil which shows the 3rd example which concerns on this invention by tampering

符号の説明Explanation of symbols

1 ・・・・支持体
2、4 ・・・・回折構造物(又は、単に転写層)
3、5 ・・・・回折構造物転写箔(又は単に、転写箔)
6 ・・・・被転写媒体
7、8 ・・・・偽造防止用紙
10 ・・・・観察方向(矢印)
11 ・・・・剥離保護層
12 ・・・・光吸収変色層
13 ・・・・回折構造形成層
14 ・・・・エンボス形状部(凹凸部)
15 ・・・・反射層(回折構造による画像が観察できる箇所)
16 ・・・・耐薬品保護層
17 ・・・・接着層
21 ・・・・改竄部(不正に反射層が除去された箇所)
22 ・・・・変色部(改竄によって変色した箇所)
1 ··· Supports 2 and 4 ··· Diffraction structure (or simply transfer layer)
3, 5... Diffraction structure transfer foil (or simply transfer foil)
6 ... Media to be transferred 7, 8 ... Anti-counterfeit paper 10 ... Observation direction (arrow)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Detachment protective layer 12 ... Light absorption discoloration layer 13 ... Diffraction structure formation layer 14 ... Embossed shape part (concavo-convex part)
15 ····· Reflecting layer
16 ··· Chemical-resistant protective layer 17 ··· Adhesive layer 21 ··· Tampered portion (where the reflective layer has been removed illegally)
22 ··· Color change part (location changed by tampering)

Claims (4)

支持体上に、少なくとも、剥離保護層、示温性材料を含む光吸収変色層、回折構造形成層、反射層、及び接着層を、この順に積層したことを特徴とする回折構造転写箔。 1. A diffractive structure transfer foil, wherein at least a peeling protective layer, a light absorption discoloration layer containing a temperature indicating material , a diffractive structure forming layer, a reflective layer, and an adhesive layer are laminated in this order on a support. 前記反射層がパタニングされており、該反射層が、同一形状にパタニングされた耐薬品性保護層により被覆されていることを特徴とする請求項1に記載の回折構造転写箔。 The diffractive structure transfer foil according to claim 1, wherein the reflective layer is patterned, and the reflective layer is covered with a chemical-resistant protective layer patterned in the same shape. 密着補助層もしくは印刷層を含むことを特徴とする請求項1又は請求項に記載の回折構造転写箔。 Diffraction structure transfer foil according to claim 1 or claim 2, characterized in that it comprises an adhesion auxiliary layer or printing layer. 請求項1から請求項のいずれか一項に記載の回折構造転写箔を被転写媒体に接着し、前記支持体を剥離したことを特徴とする回折構造被転写媒体。 A diffraction structure transfer medium, wherein the diffraction structure transfer foil according to any one of claims 1 to 3 is adhered to a transfer medium, and the support is peeled off.
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