JP5242943B2 - Active vibration isolator - Google Patents
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Description
本発明は、例えば半導体関連の製造装置や試験器機、或いは電子顕微鏡のような精密機器を床振動から概ね絶縁した状態で設置するための除振装置に関し、特に、それらの機器の振動状態に基づいてアクチュエータを駆動し、その振動を減殺するような制御力を付加するようにしたアクティブタイプのものに係る。 The present invention relates to a vibration isolator for installing a precision apparatus such as a semiconductor-related manufacturing apparatus, a test instrument, or an electron microscope in a state generally insulated from floor vibration, and in particular, based on the vibration state of these apparatuses. This is an active type that drives the actuator and applies a control force to reduce the vibration.
従来より、この種のアクティブ除振装置としては、例えば特許文献1に開示されるように、除振対象物を基礎に対し複数の空気ばねにより支持するとともに、その除振対象物や基礎の振動状態をそれぞれセンサにより検出して、コントローラによりアクチュエータを駆動することにより、除振対象物の振動を減殺するような制御力を付加するようにしたものが知られている。
Conventionally, as an active vibration isolator of this type, for example, as disclosed in
このものではアクチュエータとして空気ばね自体を利用するようにしており、その空気ばねに対する空気の給排系に配設したサーボ弁によって、空気ばねの内圧を高速且つ高精度に変化させて、制御力を発生させる。
ところで、前記従来例のように空気ばね自体をアクチュエータとして用いる場合には、これにより制御力を直接、付加する部位が限定されることから、除振対象物を擬似的に剛体とみなして制御を行うことになるが、機器には局所的に剛性の低い部位が存在することが多く、それを載置する定盤も厳密には空気ばねによる支持点間で撓むことから、局所的に例えば100Hz以下といった比較的低い周波数の共振が発生することがある。 By the way, when the air spring itself is used as an actuator as in the conventional example, the part to which the control force is directly applied is limited by this, so that the vibration isolation object is regarded as a pseudo rigid body and control is performed. Although there are many local low rigidity parts in the equipment, and the surface plate on which the equipment is placed also bends between the support points by the air spring, Resonance at a relatively low frequency such as 100 Hz or less may occur.
こうして発生する局所的な共振は機器全体を強く加振するものではないので、それが機器において特に振動を嫌う部位の近くで発生するのでなければ、従来、あまり問題にされることはなかったが、本願の発明者は、前記のように空気ばねをアクチュエータとして用いるアクティブ制御の効果を高めるために、そのゲインの設定等に関する実験研究を重ねた結果、機器の振動を打ち消すための制御力(空気ばねによって発生する制御力)によって共振点付近で却って振動が増幅されることがあり、これにより制御の安定性が損なわれることを見出した。 The local resonance that occurs in this way does not vibrate the entire device strongly, so unless it occurs in the vicinity of a portion that particularly dislikes vibration in the device, it has not been a problem in the past. In order to enhance the effect of active control using an air spring as an actuator as described above, the inventor of the present application has conducted experimental research on gain setting and the like. As a result, the control force (air) It has been found that vibration may be amplified in the vicinity of the resonance point due to the control force generated by the spring, thereby impairing control stability.
すなわち、前記従来例のようなアクティブ除振装置において除振対象物の振動を検出し、これに基づいて空気ばねの内圧を制御するフィードバックループの開ループ伝達関数には、概略60〜100Hzにピークを示す共振点が現れ(図4の符号Rを参照)、この共振点付近のゲインが大きいと発振してしまうことから、フィードバックゲインを十分に大きく設定することができないのである。 That is, in the active vibration isolator as in the conventional example, the vibration of the vibration isolation object is detected, and the open loop transfer function of the feedback loop that controls the internal pressure of the air spring based on this is peaked at about 60 to 100 Hz (See reference R in FIG. 4), and if the gain in the vicinity of the resonance point is large, oscillation occurs, so that the feedback gain cannot be set sufficiently large.
本発明は斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、アクティブ制御を行うようにした除振装置において除振対象物の局所的な共振を抑制し、もってアクティブ制御の性能を十分に発揮できるようにすることにある。 The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to suppress local resonance of a vibration isolation object in a vibration isolation device configured to perform active control, thereby sufficiently improving the performance of active control. It is to be able to demonstrate.
前記の目的を達成するために、本発明では、除振対象物の所定部位に所謂アクティブ・マス・ダンパを取り付けて、局所的な共振を抑えるようにした。すなわち、請求項1の発明では、除振対象物を複数のばね要素によって支持するとともに、その複数のばね要素のうちの少なくとも1つに第1のアクチュエータを設け、この第1アクチュエータを前記除振対象物の振動状態に基づいて制御することにより、当該除振対象物にその振動を減殺するような制御力を付加するようにしたアクティブ除振装置を対象とする。 In order to achieve the above object, in the present invention, a so-called active mass damper is attached to a predetermined part of the vibration isolation object to suppress local resonance. That is, according to the first aspect of the present invention, the object to be isolated is supported by a plurality of spring elements, and at least one of the plurality of spring elements is provided with a first actuator, and the first actuator is attached to the vibration isolation element. By controlling based on the vibration state of the object, the object is an active vibration isolation device that applies a control force that attenuates the vibration to the vibration isolation object.
そして、前記除振対象物は、機器と、当該機器が搭載される定盤とを備え、除振対象物の振動状態を検出する第1振動センサと、除振対象物の支持されている基礎側の振動状態を検出する第2振動センサと、前記機器の局所的な共振状態を検出するための第3振動センサと、前記第1振動センサからの信号を受けて、前記除振対象物の振動を減殺する制御力を付加するように、且つ、前記第2振動センサからの信号を受けて、前記基礎側から除振対象物に伝達する振動を減殺する制御力を付加するように、第1アクチュエータを制御する制御手段と、を備え、前記機器において局所的な共振の生じる部位乃至その近傍には、可動質量と、第3振動センサにより検出された機器の局所的な共振状態に応じて、該機器の共振を抑えるように、該可動質量を駆動してその反力を前記機器に作用させる第2のアクチュエータと、を備えた制振機構(所謂アクティブ・マス・ダンパ)を配設したものである。尚、局所的な共振の生じる部位というのは、除振対象物において共振による振幅の大きくなる部位を指し、必ずしも共振現象が局所的なものであることを意味しない。 The vibration isolation object includes a device and a surface plate on which the device is mounted, and includes a first vibration sensor that detects a vibration state of the vibration isolation object, and a foundation on which the vibration isolation object is supported. A second vibration sensor for detecting a vibration state on the side, a third vibration sensor for detecting a local resonance state of the device , and a signal from the first vibration sensor, In order to add a control force that attenuates vibrations, and to receive a signal from the second vibration sensor and add a control force that attenuates vibrations transmitted from the foundation side to the vibration isolation object. A control means for controlling one actuator, and in a region where the local resonance occurs in the device or in the vicinity thereof, according to the movable mass and the local resonance state of the device detected by the third vibration sensor. , so as to suppress the resonance of the equipment, movable Driving the mass in which is disposed a second actuator for applying a reactive force to the device, the damping mechanism having a (so-called active mass damper). In addition, the site where local resonance occurs refers to a site where the amplitude of the vibration isolation object increases due to resonance, and does not necessarily mean that the resonance phenomenon is local.
前記構成のアクティブ除振装置では、まず、例えば除振対象物に配設されたセンサによりその振動状態が検出され、これに基づいて第1のアクチュエータが制御されることで、前記除振対象物にその全体的な振動を減殺するような制御力が付加される。但し、前記第1アクチュエータが除振対象物を支持するばね要素に設けられているため、これにより制御力を直接、付加できる部位が限定され、局所的な共振を抑えることは難しい。 In the active vibration isolation device having the above-described configuration, first, for example, a vibration state is detected by a sensor disposed on the vibration isolation object, and the first actuator is controlled based on the detected vibration state. Control force is added to reduce the overall vibration. However, since the first actuator is provided in the spring element that supports the object to be isolated, this restricts the part where the control force can be directly applied, and it is difficult to suppress local resonance.
この点、前記の構成では、局所的な共振の生じる部位乃至その近傍に制振機構が配設されており、例えば制振機構に配置された振動センサにより検出された振動(共振)の状態に応じて第2アクチュエータが制御され、これにより可動質量を駆動する反力が、除振対象物にその振動を減殺するような制御力として付加される。 In this regard, in the above-described configuration, the vibration suppression mechanism is disposed in a region where the local resonance occurs or in the vicinity thereof. For example, the vibration (resonance) state detected by the vibration sensor disposed in the vibration suppression mechanism. Accordingly, the second actuator is controlled, and thereby the reaction force that drives the movable mass is added to the vibration isolation object as a control force that attenuates the vibration.
こうして制振機構から付加される制御力により除振対象物の前記局所的な共振を効果的に抑制することができ、その共振の影響で前記第1アクチュエータによるアクティブ制御が不安定化する心配はなくなるから、その分、制御ゲインを大きく設定して、アクティブ制御の性能を十分に発揮させることができるようになる。 Thus, the local resonance of the object to be isolated can be effectively suppressed by the control force applied from the vibration damping mechanism, and there is a concern that the active control by the first actuator may become unstable due to the influence of the resonance. As a result, the control gain can be set to a large value, and the performance of the active control can be fully exhibited.
好ましいのは、除振対象物を支持するばね要素が気体ばねである場合に、この気体ばねを第1アクチュエータとして用い、その内圧を変更することによって除振対象物に制御力を付加することである。こうすれば、大きな機器や定盤のような除振対象物に十分な制御力を付加する強力なアクチュエータを、比較的低コストで実現できる。 Preferably, when the spring element supporting the vibration isolation object is a gas spring, this gas spring is used as the first actuator, and the control force is applied to the vibration isolation object by changing its internal pressure. is there. By doing so, it is possible to realize a powerful actuator that applies a sufficient control force to a vibration isolation object such as a large device or a surface plate at a relatively low cost.
また、前記の制振機構として好ましいのは、ケース内に可動質量と第2アクチュエータとを収容するとともに、機器の振動状態を検出するための第3振動センサも収容した制振ユニットとすることである(請求項2)。こうすれば、制振ユニットを除振対象物における局所的な共振の生じる部位乃至その近傍に取り付けるだけで、別途、振動センサを配設する必要もなく、前記請求項1の発明の作用が容易且つ確実に得られる。尚、振動センサは、第2アクチュエータによる可動質量の駆動軸線上に設けるのがよい。
In addition, the vibration suppression mechanism preferably includes a vibration suppression unit that houses a movable mass and a second actuator in a case, and also a third vibration sensor for detecting the vibration state of the device. (Claim 2). In this case, the vibration control unit is simply attached to a site where the local resonance occurs in the vibration isolation object or in the vicinity thereof, and there is no need to separately provide a vibration sensor, and the operation of the invention of
以上、説明したように、本発明に係るアクティブ除振装置によると、除振対象物に配設した制振機構によって局所的な共振を効果的に抑制し、それによるアクティブ制御への悪影響を抑えることによって、ばね要素に設けたアクチュエータの制御ゲインを大きく設定できるようになり、その発生する制御力によって振動を十分に減殺することができる。 As described above, according to the active vibration isolation device of the present invention, local resonance is effectively suppressed by the vibration suppression mechanism disposed on the vibration isolation object, thereby suppressing the adverse effect on the active control. As a result, the control gain of the actuator provided in the spring element can be set large, and the vibration can be sufficiently reduced by the generated control force.
また、前記制振機構を振動センサまで備えた一体のユニットして構成すれば、これを除振対象物に取り付けるだけで、容易且つ確実に前記発明の効果が得られる。 In addition, if the vibration damping mechanism is configured as an integral unit including a vibration sensor, the effect of the present invention can be obtained easily and reliably by simply attaching the vibration damping mechanism to a vibration isolation object.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the following description of the preferred embodiment is merely illustrative in nature, and is not intended to limit the present invention, its application, or its use.
図1には、本発明に係るアクティブ除振装置の一実施形態である精密除振台Aの構成を模式的に示す。この除振台Aは、例えば半導体関連の製造装置、試験機器や電子顕微鏡、レーザ顕微鏡等の精密計測機器のように、振動の影響を受けやすい精密な機器Dを搭載して、それらを床の振動から極力、絶縁した状態で設置するためのものである。 FIG. 1 schematically shows a configuration of a precision vibration isolation table A that is an embodiment of an active vibration isolation device according to the present invention. This vibration isolation table A is equipped with precision equipment D that is easily affected by vibrations, such as semiconductor-related manufacturing equipment, test equipment, electron microscopes, laser microscopes, and other precision measuring equipment. It is for installation in an insulated state as much as possible from vibration.
図示の除振台Aは、前記のような機器Dの搭載される定盤1を通常は3個(4個以上でもよい)の空気ばねユニット2,2,…(図には2つのみ示す)によって弾性的に支持するものであり、その定盤1及び搭載機器Dが除振対象物となる。空気ばねユニット2,2,…は、以下に説明するように、除振対象物にその振動を減殺するような制御力を付加するアクチュエータ(第1アクチュエータ)として用いられる。また、機器Dの上部には制振ユニット3が取り付けられており、詳しくは後述するが、機器Dの局所的な共振を抑制するようになっている。
The vibration isolation table A shown in FIG. 1 normally has three (or four or more)
−空気ばねユニットの構成−
まず、空気ばねユニット2の構成について説明する。この空気ばねユニット2には、図2に模式的に示すように、上下方向の荷重を支持する空気ばね20と、センサ24〜26、コントローラ27、サーボ弁28等が設けられており、上下方向の振動及び高さ位置を制御するようになっている。また、同様の構成が水平方向の振動及び位置制御のためにも設けられているが、以下では便宜上、上下方向の空気ばね20等の構成のみを説明する。
-Air spring unit configuration-
First, the configuration of the
図示の如く、空気ばね20の空気室の上方開口にはダイヤフラムを介して気密状にピストン21が内挿されており、このピストン21の上面にはトッププレート22が配置されている。一方、空気ばね20のケース下端のベースプレート23は、基礎上に配置されている。こうして空気ばね20により静荷重を支持することから、空気ばねユニット2,2,…は、基本的に優れた除振性能を有するものであるが、さらにこの実施形態では、空気ばね20の内圧を制御して、除振対象物に適切な制御力を付加するようにしている。
As shown in the figure, a
そのために前記空気ばねユニット2には、まず、トッププレート22の上下方向の加速度z″と、ベースプレート23に対するトッププレート22の相対変位z−z0とを、それぞれ検出するように加速度センサ24(第1振動センサ)及び変位センサ25が設けられている。また、ベースプレート23の上下方向の加速度z0″(基礎側の振動状態)を検出する加速度センサ26(基礎側の第2振動センサ)も設けられており、それら各センサ24〜26からの出力信号がそれぞれコントローラ27に入力されるようになっている。
For this purpose, first, the
また、空気ばね20の空気室には配管を介してサーボ弁28が接続されており、このサーボ弁28の作動によって、リザーバタンク29から空気室に供給する圧縮空気の流量を調整し、反対に空気室から排気する空気の流量を調整する。尚、前記リザーバタンク29には、図示しないがコンプレッサが接続されていて、その作動によりリザーバタンク29内の空気圧を設定値に維持するようになっている。
In addition, a
そして、前記サーボ弁28がコントローラ27により制御されて、空気ばね20に対する圧縮空気の供給乃至排気の流量を調整することにより、当該空気ばね20の内圧を調整して、除振対象物に付加する制御力を発生させることができる。よって、コントローラ27及びサーボ弁28は、空気ばね20の内圧を変更することによって除振対象物に制御力を付加する制御手段を構成する。尚、コントローラ27は、詳細は図示しないが、マイクロコンピュータ、I/Oインタフェース、データバスの他、RAM、ROM、或いはHDD等のメモリを備えた従来周知の構造のものである。
Then, the
−空気ばねの内圧の制御−
前記空気ばねユニット2毎の空気圧の制御は概ね図3のブロック図に示すようになり、主に除振対象物1,Dの振動を低減するための制御が、図の下部右側に示すフィードバック振動制御部27aと、上部に示すフィードフォワード振動制御部27bとによって行われ、主に除振対象物1,Dの高さを維持するための制御が図の下部左側に示す変位制御部27cによって行われる。尚、同図には、上述した空気ばねユニット2の構成の説明と同様に便宜上、上下方向の空気ばね20の制御についてのみ示しているが、これと同様の制御は水平方向の空気ばねについても行われる。
-Control of internal pressure of air spring-
The air pressure control for each
まず、フィードバック振動制御部27aによる制御について説明すると、これは、加速度センサ24により検出される除振対象物1,Dの振動状態、即ちトッププレート22の加速度z″に基づいて、その振動を減殺するような制御力を空気ばね20により発生させるものである。すなわち、検出された加速度z″に対応するフィードバックゲインをGc、この加速度z″の微分に対応するフィードバックゲインをGm、また、加速度z″の積分に対応するフィードバックゲインをGk、としてそれぞれフィードバック制御量を演算し、これらを加算した後に反転して、サーボ弁28への制御量U1を決定する。
First, the control by the feedback
この制御量U1に対応してサーボ弁28の開度が変更されることで、空気ばね20への圧縮空気の供給又は排気が行われ、その内圧が変化することによって除振対象物1,Dに制御力が付加されて、これにより振動が減殺される。そうして減殺された除振対象物1,Dの振動状態(加速度z″)が再び加速度センサ24により検出されて、フィードバックされる。
By changing the opening of the
尚、前記のように加速度z″、その微分値及び積分値にそれぞれ制御ゲインGc、Gm、Gkを乗じてフィードバックすることで、見かけ上、空気ばね20の系の減衰係数、質量及びばね定数が増加し、除振性能が向上する。すなわち、この実施形態のようにアクチュエータとして空気ばね20を利用する場合、制御量U1に比例するのはサーボ弁28の開度であり、空気ばね20の内圧は制御量U1の積分に比例することになるから、前記のように加速度z″に制御ゲインGcを乗算してフィードバックすれば、この分の制御量が空気系で積分されて、絶対速度に比例する空気圧の変化を生じることになり、いわゆるスカイフックダンパの効果が得られるものである。
As mentioned above, the acceleration z ″, its differential value and integral value are respectively multiplied by the control gains Gc, Gm, Gk and fed back, so that the damping coefficient, mass and spring constant of the system of the
続いてフィードフォワード振動制御部27bによる制御について説明すると、これは、加速度センサ26により基礎側の振動状態(加速度z0″)を検出し、この振動が空気ばねユニット2を介して除振対象物1,Dに伝達されるのに対して、その伝達振動を打ち消すような逆位相の制御力を発生させるものである。すなわち、加速度センサ26の検出値z0″に基づいて、例えばデジタルフィルタ(アナログフィルタでもよい)によりフィードフォワード制御量U2を演算し、これを反転してサーボ弁28への入力に加える。
Next, the control by the feedforward
前記のように演算されるフィードフォワード制御量U2は、一例として以下の式(1)を満たすものとすればよい。すなわち、
U2 = α×{(Cs+K)/s2}×z0″ ・・・ 式(1)
但し、定数αは、サーボ弁28の特性を反映するものであり、サーボ弁28のゲインKv、時定数Tvと空気ばね20の受圧面積Amとを用いて、
α = (1+Tvs)/(KvAm ) ・・・ 式(2) と表される。
The feedforward control amount U2 calculated as described above may satisfy the following formula (1) as an example. That is,
U2 = α × {(Cs + K) / s 2 } × z0 ″ (1)
However, the constant alpha, is intended to reflect the characteristics of the
α = (1 + T vs ) / (K v Am ) (2)
換言すれば、フィードフォワード振動制御部27bのデジタルフィルタは、前記式(1)、(2)と等価なものであり、従来周知のZ変換の手法を適用することで、設定することができる。尚、フィードフォワード振動制御部27bをアナログ回路にて構成する場合でも、回路を構成する素子の容量等の変更により、同様の設定を行える。
In other words, the digital filter of the feedforward
次に変位制御部27cによる制御について説明すると、これは、変位センサ25により検出されるトッププレート22の変位(基礎側に対する相対変位)z−z0に基づいて、この変位が小さくなるように空気ばね20の内圧を調整するものである。すなわち、図示の如く、検出した相対変位z−z0を高さの制御目標値、即ち零(0)から減算した後に、PID制御則に従って制御量U3を求める。
Next, the control by the
この制御量U3に対応してサーボ弁28の開度が変更されると、圧縮空気が空気ばね20に対し供給又は排気され、その内圧が変化することによって除振対象物1,Dの高さは、基準となる高さからのずれが小さくなるように、即ち所期の設定高さになるように変更される。そうして変更された除振対象物1,Dの高さが再び変位センサ25により検出されて、フィードバックされる。
When the opening degree of the
ところで、上述の如く除振対象物の荷重を受ける空気ばね20,20,…をアクチュエータとして用いる場合には、これにより制御力を直接、付加できる部位が限定されることから、除振対象物を擬似的に剛体とみなして制御を行うことになる。しかし、実際には機器Dや定盤1は剛体ではなく、その剛性があまり高くない場合には例えば100Hz以下といった比較的低い周波数の共振が発生して、局所的に振幅が大きくなることがある。また、除振対象物に局所的に剛性の低い部位が存在して、その付近に共振が発生することもある。
By the way, when the air springs 20, 20,... That receive the load of the vibration isolation object are used as actuators as described above, the parts to which the control force can be directly applied are limited. Control is performed by regarding it as a pseudo rigid body. However, in reality, the device D and the
具体的に、図1に示す機器Dにおいては横長の下部d1の上に塔部d2が存在し、これが下端部を中心に揺動して低周波の共振を起こす。図4には、前記したフィードバック振動制御部27aによるフィードバック制御の開ループ伝達関数を示し、図示のように60〜70Hzにピークを示す共振点Rが現れている。こうして比較的低い周波数域で共振が起きると、空気ばね20,20,…により付加する制御力によって却って振動が増幅されることがあり、制御の安定性が損なわれる虞れがある。
Specifically, in the device D shown in FIG. 1, a tower portion d2 exists on the horizontally long lower portion d1, and this swings around the lower end portion to cause low-frequency resonance. FIG. 4 shows an open loop transfer function of feedback control by the feedback
すなわち、前記図4のように共振点Rにおける振幅が大きい場合には、フィードバックゲインを大きくすると発振してしまうので、図の例でもゲインはかなり小さく設定しており、位相交点(位相が−180°になる点)におけるゲイン余裕が約30dBと非常に大きくなっている。このことは、空気ばね20によって発生する制御力が小さく、これによる振動の減殺効果が不足することを意味する。
That is, when the amplitude at the resonance point R is large as shown in FIG. 4, oscillation occurs when the feedback gain is increased. Therefore, the gain is set to be quite small in the example shown in FIG. The gain margin at the point (°) becomes very large at about 30 dB. This means that the control force generated by the
これに対し、この実施形態では、制振ユニット3を機器Dの塔部d2に横向きに取り付けて、その塔部d2の揺動による共振を減殺するような逆位相の制御力を付加するようにしており、これにより共振点Rの振幅、即ち共振倍率を低下させることができる。制振ユニット3は一般にアクティブ・マス・ダンパ(Active Mass Damper:AMD)と呼ばれるもので、可動質量33をリニアモータ32により駆動し、その反力を機器Dに付加するようになっている。
On the other hand, in this embodiment, the damping
−制振ユニット−
以下に、制振ユニット3の構造について詳しく説明する。図5に拡大して断面で示すように、この実施形態の制振ユニット3は、円筒状ケース30の基端(図の左端)に例えば矩形状の基板30aが配設されて、機器Dの塔部d2の周壁に締結される一方、ケース30の先端には円板状の蓋部材30bが取り付けられている。ケース30の周壁部分は、基端側の概略半分である基半部材30cと、残りの半分のうちの先端側を構成する先端部材30dと、それらの中間の中間部材30eとに3分割されている。
-Vibration control unit-
Below, the structure of the damping
また、ケース30の内部は2つの区画壁30f,30gによって中心軸線Xの方向に概略3等分されており、図では左側の第1区画壁30fと基板30aとの間の第1区分空間に加速度センサ31(第3振動センサ)が収容されている。この加速度センサ31は、基板30aに固定されて、機器Dの塔部d2の水平方向の加速度x″を直接的に検出するようになっている。
Further, the inside of the
また、前記第1区画壁30fと第2区画壁30gとの間の第2区分空間にはリニアモータ32が収容されている。このリニアモータ32のケースは第2区画壁30gに固設されており、この第2区画壁30gの貫通穴に挿通されたロッドがケース30の中心軸線Xに沿って反対側の、即ち第2区画壁30gと蓋部材30bとの間の第3区分空間に突出している。
A
そうしてリニアモータ32のロッドが突出する第3区分空間には、可動質量33が収容されて、2枚の板ばね34,34によりケース30に対して軸線X方向に移動可能に保持されている。可動質量33は、略円筒状の本体部とそれを貫通する軸部とからなり、この軸部の両端がそれぞれ板ばね34,34の中心部に貫通状態で固定されている。特に第2区画壁30gに近い方(図の左方)では可動質量33の軸端がリニアモータ32のロッドの先端に連結されている。
Thus, a
尚、板ばね34は、詳細は図示しないが円盤状をなし、中心部及び外周部の所定範囲を除いた径方向の中間部位に複数の貫通溝が形成されたものである。可動質量33は、2枚の板ばね34,34によってケース30の軸線X方向には移動可能に、また、軸線Xに直交する方向には殆ど移動しないように支持されており、リニアモータ32によって軸線x方向に駆動されるときにも殆ど揺動することはない。
Although not shown in detail, the
前記の如く構成された制振ユニット3の作動、即ちリニアモータ32による可動質量33の駆動は、この実施形態では制振ユニット3とは別体のAMDコントローラ4によって行われる。具体的には、図6に一例を示すようにAMDコントローラ4は、加速度センサ31からの信号(加速度x″)を入力し、これを2回積分して得られる変位xに対しゲインB1を乗算するとともに、加速度x″を1回積分した速度x′にゲインB2を乗算し、また、加速度x″に制御ゲインB3を乗算した上で、それらを合算して求めた制御量を増幅して、リニアモータ32へ入力する。
The operation of the damping
つまり、機器Dの塔部d2の局所的な共振の状態が加速度センサ31により検出され、その出力信号を受けたAMDコントローラ4により加速度x″、速度x′及び変位xに基づいてリニアモータ32が制御され、このリニアモータ32の作動により可動質量33が駆動されて、その反力がリニアモータ32及びケース30を介して機器Dに付加される。
That is, the local resonance state of the tower part d2 of the device D is detected by the
前記の制御においては速度x′のフィードバックが基本であり、これは制振ユニット3によって主振動系に減衰を付加するという意味を持つ。制振ユニット3を付加することによって除振台Aは2自由度の振動系になるが、速度x′のフィードバック制御によって減衰が加わり、機器Dの塔部d2の共振を抑えることができる。また、加速度x″のフィードバックによって高周波側の性能が向上し、さらに変位xのフィードバックによって低周波数側でも性能が向上する。
In the above control, feedback of the speed x ′ is fundamental, which means that damping is added to the main vibration system by the damping
したがって、この実施形態に係る除振台Aでは、定盤1に上載した機器Dの塔部d2、即ち局所的な共振の生じる部位に制振ユニット3を取り付けて、これにより塔部d2の共振を効果的に抑制することができる。すなわち、制振ユニット3を取り付けた場合のフィードバック制御の開ループ伝達関数は、図7に破線のグラフで示すようになり、制振ユニット3のないもの(図4参照)に比べて共振点Rにおける振幅が大幅に小さくなっていることが分かる。
Therefore, in the vibration isolation table A according to this embodiment, the
よって、同図に実線のグラフで示すようにフィードバックゲインを大きくしても発振する虞れはなく、この図の例では、位相交点におけるゲイン余裕が約5〜10dBと適切な値になるまで、フィードバックゲインを大きく設定している。こうしてフィードバックゲインを大きくすれば、空気ばね20によって発生する制御力も大きくなり、この制御力によって除振対象物の振動を効果的に減殺することが、即ちアクティブ制御の性能を十分に発揮させることができる。
Therefore, there is no risk of oscillation even if the feedback gain is increased as shown by the solid line graph in the same figure. In the example of this figure, until the gain margin at the phase intersection becomes an appropriate value of about 5 to 10 dB, A large feedback gain is set. If the feedback gain is increased in this way, the control force generated by the
また、この実施形態では、機器Dの塔部d2の共振を抑えるための制振ユニット3に一体に加速度センサ31を配設しており、このユニットを塔部d2に取り付ければ、別途、センサを配置する必要もなく、前記した効果が容易且つ確実に得られるものである。
In this embodiment, the
−他の実施形態−
尚、本発明に斯かる除振台Aや制振ユニット3の構成は、前記した実施形態のものに限定されず、それ以外の種々の構成も包含する。すなわち、前記の制振ユニット3には加速度センサ31も一体に設けているが、これは制振ユニット3とは別に例えば機器Dに直接、配置することもできる。振動状態を検出するためのセンサとしては、加速度センサに限らず、例えば速度センサや変位センサを用いることもできる。
-Other embodiments-
Note that the configurations of the vibration isolation table A and the
また、前記制振ユニット3では可動質量33を板ばね34,34によってケース30に保持しているが、これに限らず、例えば金属製及びゴム製の環状部材を径方向に交互に積層してなる積層弾性体を用いることもできるし、磁気ベアリングやエアベアリング等を利用することもできる。
In the damping
また、制振ユニット3は、必ずしも図1のように水平方向に配置する必要はなく、その長手方向、即ち制振方向を上下方向としてもよいし、斜めにすることもできる。
Further, the
さらに、図示しないが、制振ユニット3のケース30に位置センサを配設して可動質量33の位置を検出し、この位置を加味してリニアモータ32を制御するようにしてもよい。例えば中立位置からの変位量に応じて可動質量33を駆動するようにすれば、この駆動力によって制振ユニット3の振動系(主系に対する付加振動系)のばね定数を見かけ上、変えることができ、その固有振動数を最適化することも可能になる。
Further, although not shown, a position sensor may be provided in the
さらにまた、前記の実施形態の除振台Aは、定盤1を空気ばねユニット2,2,…により支持しているが、空気ばねに代えて空気以外の気体を封入した気体ばねを用いることもできるし、コイルばね等、気体ばね以外のばね要素を用いることもできる。また、第1アクチュエータとして空気ばねを利用する必要もなく、例えばリニアモータ等、電磁式のアクチュエータを設けてもよい。
Furthermore, although the vibration isolation table A of the above-described embodiment supports the
また、前記実施形態では、図3に示すように、空気ばね20を用いた振動や高さの制御をPID制御則のような古典制御の手法によって実現しているが、これに限らず、現代制御理論(状態フィードバック、LQ制御やH∞制御等)の手法を適用することもできる。
In the embodiment, as shown in FIG. 3, vibration and height control using the
一例として図8に変位制御部27cを変更した例を示すと、まず、フィードバック振動制御部27aを含めた制御対象(サーボ弁28、空気ばね20及び除振対象物1,D)のノミナルモデルPnを設定し、このノミナルモデルの逆関数Pn−1に変位センサ25からの信号を入力して、制御量U3の位置での外乱を推定する。
As an example, FIG. 8 shows an example in which the
そして、前記外乱の推定入力値から元々の制御量の分を減算して外乱のみを抽出し、さらに相補感度関数Tを通過させて安定化した上で、フィードバックする。こうすれば、変位制御部27cは、制御対象からの出力に基づいて該制御対象への外乱入力を推定する外乱オブザーバとしての機能を有し、この変位制御部27cにより演算される制御量U3は、外乱をちょうど打ち消すようなものとなる。よって、このようなフィードバック制御を行うことで、前記実施形態のものと同等、或いはそれ以上に適切な制御力を発生させることができる。
Then, only the disturbance is extracted by subtracting the amount of the original control amount from the estimated input value of the disturbance, and further fed back after being stabilized by passing through the complementary sensitivity function T. In this way, the
以上、説明したように、本発明に係るアクティブ除振装置は、除振対象物の所定部位に制振ユニットを取り付けて局所的な共振を抑制することで、気体ばねの内圧等の制御による本来のアクティブ制御の効果を十分に高めることができるものであり、例えば半導体関連の装置や電子顕微鏡等の精密機器を搭載する精密除振台に好適である。 As described above, the active vibration isolator according to the present invention is inherently controlled by controlling the internal pressure of the gas spring by attaching a vibration suppression unit to a predetermined part of the vibration isolation object and suppressing local resonance. The effect of the active control can be sufficiently enhanced, and for example, it is suitable for a precision vibration isolation table on which a precision device such as a semiconductor-related device or an electron microscope is mounted.
A 除振台(アクティブ除振装置)
D 機器(除振対象物)
1 定盤(除振対象物)
2 空気ばねユニット
20 空気ばね(第1のアクチュエータ)
24 加速度センサ
25 変位センサ
26 加速度センサ(基礎側の第2振動センサ)
27 コントローラ(制御手段)
28 サーボ弁(制御手段)
3 制振ユニット(制振機構)
31 加速度センサ(第3振動センサ)
32 リニアモータ(第2のアクチュエータ)
33 可動質量
A Vibration isolation table (active vibration isolation device)
D equipment (objects for vibration isolation)
1 Surface plate (object for vibration isolation)
2
24
27 Controller (control means)
28 Servo valve (control means)
3 Damping unit (damping mechanism)
31 Acceleration sensor (third vibration sensor)
32 Linear motor (second actuator)
33 Moving mass
Claims (2)
前記除振対象物は、機器と、当該機器が搭載される定盤とを備えるものであり、
除振対象物の振動状態を検出する第1振動センサと、
除振対象物の支持されている基礎側の振動状態を検出する第2振動センサと、
前記機器の局所的な共振状態を検出するための第3振動センサと、
前記第1振動センサからの信号を受けて、前記除振対象物の振動を減殺する制御力を付加するように、且つ、前記第2振動センサからの信号を受けて、前記基礎側から除振対象物に伝達する振動を減殺する制御力を付加するように、第1アクチュエータを制御する制御手段と、を備え、
前記機器において局所的な共振の生じる部位乃至その近傍には、可動質量と、第3振動センサにより検出された機器の局所的な共振状態に応じて、該機器の共振を抑えるように、該可動質量を駆動してその反力を前記機器に作用させる第2のアクチュエータと、を備えた制振機構が配設されていることを特徴とするアクティブ除振装置。 The vibration isolation object is supported by a plurality of spring elements, and at least one of the plurality of spring elements is provided with a first actuator, and the first actuator is controlled based on the vibration state of the vibration isolation object. An active vibration isolator that adds control force to the vibration isolation object to attenuate the vibration,
The vibration isolation object includes a device and a surface plate on which the device is mounted,
A first vibration sensor for detecting a vibration state of the vibration isolation object;
A second vibration sensor for detecting the vibration state of the foundation side on which the vibration isolation object is supported;
A third vibration sensor for detecting a local resonance state of the device ;
In response to the signal from the first vibration sensor, the control force for reducing the vibration of the vibration isolation object is added, and the signal from the second vibration sensor is received to remove vibration from the base side. Control means for controlling the first actuator so as to add a control force for reducing vibration transmitted to the object,
The site or near the results of local resonance in the device, and a movable mass, depending on the local resonance state of the apparatus detected by the third vibration sensor, so as to suppress the resonance of the device, the movable active anti-vibration apparatus is characterized in that the damping mechanism including a second actuator, the exerting reactive force to drive the mass in the apparatus is disposed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007124277A JP5242943B2 (en) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | Active vibration isolator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007124277A JP5242943B2 (en) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | Active vibration isolator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008281048A JP2008281048A (en) | 2008-11-20 |
JP5242943B2 true JP5242943B2 (en) | 2013-07-24 |
Family
ID=40142044
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007124277A Active JP5242943B2 (en) | 2007-05-09 | 2007-05-09 | Active vibration isolator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5242943B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5453054B2 (en) * | 2009-10-29 | 2014-03-26 | 倉敷化工株式会社 | Control method and control apparatus for active mass damper |
JP5603706B2 (en) * | 2010-08-19 | 2014-10-08 | 倉敷化工株式会社 | Active vibration isolator |
JP7294491B1 (en) | 2022-04-18 | 2023-06-20 | 三菱電機株式会社 | elevator controller |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3876084B2 (en) * | 1998-12-03 | 2007-01-31 | 三菱重工業株式会社 | Active shaking table |
JP3726207B2 (en) * | 1999-07-14 | 2005-12-14 | 株式会社日立製作所 | Active vibration isolator |
JP3856676B2 (en) * | 2001-09-28 | 2006-12-13 | 倉敷化工株式会社 | Active vibration isolation method |
JP2003130128A (en) * | 2001-10-30 | 2003-05-08 | Canon Inc | Active vibration-free apparatus |
-
2007
- 2007-05-09 JP JP2007124277A patent/JP5242943B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008281048A (en) | 2008-11-20 |
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Legal Events
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