JP5238126B2 - Display device and driving method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、発光素子や液晶素子などを備えた表示装置、およびその駆動方法に関する。   The present invention relates to a display device including a light emitting element, a liquid crystal element, and the like, and a driving method thereof.

近年、中、大型のディスプレイ装置のみならず、携帯情報端末の表示部にも広く用いられるようになったフラットパネル型の表示装置は、その高精細化に伴って画素数が増加している。このため、各画素毎に画像データを保持することができるアクティブマトリクス構造の画素へ、1行ごとに同時にデータを書き込む(データを入力する)線順次方式を採用する駆動により、画素数が多い場合にも十分な時間を用いて映像信号を各画素に書き込むことが必要となっている。   2. Description of the Related Art In recent years, flat panel display devices that are widely used not only for medium and large display devices but also for display units of portable information terminals have increased the number of pixels as their definition increases. For this reason, when the number of pixels is large due to a drive that employs a line sequential method in which data is simultaneously written (input data) to each pixel in an active matrix structure that can hold image data for each pixel. In addition, it is necessary to write a video signal to each pixel using a sufficient time.

アクティブマトリクス構造の画素を有する表示装置の階調方式には大きく分けてアナログ階調方式とデジタル階調方式の2つがある。このうちデジタル階調方式には時分割階調方式と、面積階調方式と、時分割階調方式と面積階調方式の混合した方式等がある。どのデジタル階調方式においても、各画素あるいはサブ画素をon状態あるいはoff状態の2値で駆動する。このため薄膜トランジスタ(以下TFTと記す)の閾値電圧(Vth)のばらつきによる画質の低下をアナログ階調方式に比べて低減させることができる利点がある。なお、デジタルの時分割方式で階調表示を行うことについては特許文献1にも開示されている。   The gradation method of a display device having an active matrix pixel is roughly divided into an analog gradation method and a digital gradation method. Among these, the digital gradation method includes a time division gradation method, an area gradation method, a method in which a time division gradation method and an area gradation method are mixed, and the like. In any digital gradation method, each pixel or sub-pixel is driven with a binary value of an on state or an off state. For this reason, there is an advantage that a reduction in image quality due to variations in threshold voltage (Vth) of a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) can be reduced as compared with the analog gradation method. In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-228688 discloses that gradation display is performed using a digital time-division method.

図5は、アクティブマトリクス構造の画素へ、線順次方式により2値のデータを入力するデジタル階調方式型の表示装置の構成例を示している。画素部はM行N列の画素を有している(M、Nはそれぞれ自然数)。画素部501の周辺部には、シフトレジスタ504、第1のラッチ回路505、第2のラッチ回路506、レベルシフタ507および、バッファ508を有するソース線駆動回路502と、シフトレジスタ509、レベルシフタ510および、バッファ511を有するゲート線駆動回路503が配置されている。   FIG. 5 shows a configuration example of a digital gray scale display device in which binary data is input to pixels having an active matrix structure by a line sequential method. The pixel portion has M rows and N columns of pixels (M and N are natural numbers, respectively). In the periphery of the pixel portion 501, a shift register 504, a first latch circuit 505, a second latch circuit 506, a level shifter 507, a source line driver circuit 502 including a buffer 508, a shift register 509, a level shifter 510, A gate line driver circuit 503 having a buffer 511 is provided.

シフトレジスタ509は、クロック信号(GCK)、スタートパルス(GSP)にしたがって、1段目から順次選択パルスを出力する。その後、レベルシフタ510によって振幅変換をし、バッファ511により1行目からm行目、M行目と順次ゲート線が選択される(2≦m≦M、mは自然数)。   The shift register 509 sequentially outputs selection pulses from the first stage according to the clock signal (GCK) and the start pulse (GSP). After that, amplitude conversion is performed by the level shifter 510, and gate lines are sequentially selected from the first row to the m-th row and the M-th row by the buffer 511 (2 ≦ m ≦ M, where m is a natural number).

ゲート線が選択される行において、シフトレジスタ504は、クロック信号(SCK)、スタートパルス(SSP)にしたがって、1段目から順次サンプリングパルスを出力する。第1のラッチ回路505は、サンプリングパルスが入力されるタイミングで、映像信号(Video)の取り込みを行い、各段で取り込まれた映像信号は第1のラッチ回路505において保持される。   In the row where the gate line is selected, the shift register 504 sequentially outputs sampling pulses from the first stage according to the clock signal (SCK) and the start pulse (SSP). The first latch circuit 505 captures a video signal (Video) at a timing when a sampling pulse is input, and the video signal captured at each stage is held in the first latch circuit 505.

1行分の映像信号の取り込みが完了した後、ラッチパルス(LAT)が入力されると、第1のラッチ回路505において保持されていた映像信号は、一斉に第2のラッチ回路506へと転送され、全てのソース線が一斉に充放電される。したがって第m行目においても第m行目の映像信号の取り込みが完了した後ラッチパルス(LAT)が入力されると、第1のラッチ回路において保持されていた映像信号は、一斉に第2のラッチ回路506へと転送され、全てのソース線がレベルシフタ507とバッファ508を通じて一斉に充放電される。   When a latch pulse (LAT) is input after the capture of the video signal for one row is completed, the video signals held in the first latch circuit 505 are transferred to the second latch circuit 506 all at once. All the source lines are charged / discharged all at once. Therefore, when the latch pulse (LAT) is input after the capture of the video signal of the m-th row is completed also in the m-th row, the video signals held in the first latch circuit are The data is transferred to the latch circuit 506, and all the source lines are charged / discharged simultaneously through the level shifter 507 and the buffer 508.

以上の動作が1行目から最終行(ここではM行)まで繰り返され、全画素への書き込みが完了する。同様の動作を繰り返し、映像の表示を行う。
特開2001−5426号公報
The above operation is repeated from the first row to the last row (here, M rows), and writing to all pixels is completed. The same operation is repeated to display an image.
JP 2001-5426 A

アナログ階調方式では1フレームに最低1回のソース線へのデータ入力を行えば階調表現が可能である。   In the analog gradation method, gradation expression is possible by inputting data to the source line at least once per frame.

これに対して、各画素をon状態あるいはoff状態の2値で駆動する時間階調方式や面積階調方式や時間+面積階調方式等のデジタル階調方式においては、階調表現をするためには1フレームに複数回のソース線へのデータ入力が必要となる。表示装置において、画素部に設けられた複数のTFTや寄生容量は、バッファが動かす必要があるソース線に付いた負荷容量になっている。デジタル階調方式において、ソース線へ入力されるデータがLow電位(m−1行目)からHigh電位(m行目)に変わるときには、外部の正電源は前記バッファのPchTFTを通じてLow電位(m−1行目)からHigh電位(m行目)まで負荷容量に充電をする。逆に、ソース線へ入力されるデータがHigh電位(m−1行目)からLow電位(m行目)に変わるときには、外部の負電源は前記バッファのNchTFTを通じてHigh電位からLow電位まで負荷容量から放電をする。これらの電力はソース線の電位の変化時に消費されるので、出力の変化がたびたび起これば、外部電源の電力消費は大きくなる。このためデジタル階調方式においては、自然画のように多くの階調数が必要な画像や論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンではソース線へのデータ入力における電圧変化の回数が多いため、外部電源の消費電力が増大してしまう。   On the other hand, in a digital gradation method such as a time gradation method, an area gradation method, or a time + area gradation method in which each pixel is driven with a binary value of an on state or an off state, gradation representation is performed. In this case, it is necessary to input data to the source line a plurality of times per frame. In a display device, a plurality of TFTs and parasitic capacitances provided in a pixel portion are load capacitances attached to source lines that need to be moved by a buffer. In the digital gray scale method, when the data input to the source line changes from the low potential (m−1 line) to the high potential (m line), the external positive power source is connected to the low potential (m−) through the Pch TFT of the buffer. The load capacity is charged from the first line) to the high potential (mth line). On the other hand, when the data input to the source line changes from the High potential (m-1 row) to the Low potential (m row), the external negative power source is connected to the load capacitance from the High potential to the Low potential through the Nch TFT of the buffer. Discharge from. Since these electric powers are consumed when the potential of the source line changes, the power consumption of the external power source increases if the output changes frequently. For this reason, in the digital gradation method, an image that requires a large number of gradations, such as a natural image, or a special pattern in which the logic is frequently reversed, has a large number of voltage changes in data input to the source line. The power consumption of the external power supply will increase.

このためデジタル階調方式において、ソース線へデータの入力に要する消費電力は、低消費電力を必要とする携帯端末向けの小型表示装置には大きな問題となっている。また、テレビ等の表示装置においても大型化に伴うソース線の寄生容量の増加を避けることは困難であり小型表示装置同様、消費電力の減少が課題となっている。   Therefore, in the digital gray scale method, power consumption required for inputting data to the source line is a big problem for a small display device for a portable terminal that requires low power consumption. In addition, in a display device such as a television, it is difficult to avoid an increase in parasitic capacitance of a source line due to an increase in size, and a reduction in power consumption is a problem as in a small display device.

本発明は前述の課題に鑑みてなされたものであり、デジタル階調方式において、ソース線の充放電に要する電源の消費電力低減を実現する表示装置及びその駆動方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and provides a display device and a driving method thereof for realizing a reduction in power consumption of a power source required for charging and discharging a source line in a digital gradation method.

前述の課題を解決するために、本発明においては以下のような手段を講じた。   In order to solve the above-described problems, the following measures are taken in the present invention.

本発明はM行N列(M、Nはそれぞれ自然数)の画素と、
M本のゲート線と、
N本のソース線と、
(m−1)行目(2≦m≦M、mは自然数)のデータ信号を記憶する回路と、
m行目のデータ信号を該ソース線に入力する前に、m行目のデータ信号と(m−1)行目のデータ信号とを比較する回路と、
前記ソース線を電源回路に電気的に接続するスイッチと、前記N本のソース線同士を電気的に接続するスイッチと、を有するものである。
The present invention includes M rows and N columns (M and N are natural numbers),
M gate lines,
N source lines,
A circuit for storing a data signal of the (m−1) th row (2 ≦ m ≦ M, where m is a natural number);
a circuit that compares the m-th row data signal with the (m−1) -th row data signal before inputting the m-th row data signal to the source line;
A switch that electrically connects the source line to a power supply circuit; and a switch that electrically connects the N source lines.

M行N列(M、Nはそれぞれ自然数)の画素を有し、
M本のゲート線と、N本のソース線を有するアクティブマトリクス表示装置において、
(m−1)行目(2≦m≦M、mは自然数)のデータ信号をソース線に入力し、
前記ソース線を電源回路から電気的に遮断し、
m行目のデータ信号を該ソース線に入力する前に、m行目のデータ信号と(m−1)行目のデータ信号とを比較し、
前記N本のソース線のうち、m行目のデータ信号が(m−1)行目のデータ信号と異なるソース線同士を電気的に接続し、
前記接続されたソース線をそれぞれ電気的に遮断した後、電源回路に電気的に接続してm行目のデータ信号をソース線へ入力するものである。
It has pixels of M rows and N columns (M and N are natural numbers, respectively)
In an active matrix display device having M gate lines and N source lines,
(M-1) The data signal of the line (2 ≦ m ≦ M, m is a natural number) is input to the source line,
Electrically disconnecting the source line from the power supply circuit;
Before inputting the m-th row data signal to the source line, the m-th row data signal is compared with the (m−1) -th row data signal,
Among the N source lines, the m-th row data signal is electrically connected to different source lines from the (m−1) -th row data signal,
Each of the connected source lines is electrically disconnected and then electrically connected to a power supply circuit to input an m-th row data signal to the source line.

またM行N列(M、Nはそれぞれ自然数)の画素を有し、M本のゲート線と、N本のソース線を有するアクティブマトリクス表示装置において、
(m−1)行目(2≦m≦M、mは自然数)のデータ信号をソース線に入力し、
m行目のデータ信号を該ソース線に入力する前に、m行目のデータ信号と(m−1)行目のデータ信号とを比較し、
m行目のデータ信号と(m−1)行目のデータ信号とが異なる場合に該m行目のデータ信号が入力されるソース線を電源回路から電気的に遮断し、
前記N本のソース線のうち、m行目のデータ信号が(m−1)行目のデータ信号と異なるソース線同士を電気的に接続し、
前記接続されたソース線をそれぞれ電気的に遮断し、電源回路に電気的に接続してm行目のデータ信号をソース線へ入力するものである。
In an active matrix display device having pixels of M rows and N columns (M and N are natural numbers, respectively), and having M gate lines and N source lines,
(M-1) The data signal of the line (2 ≦ m ≦ M, m is a natural number) is input to the source line,
Before inputting the m-th row data signal to the source line, the m-th row data signal is compared with the (m−1) -th row data signal,
When the data signal of the m-th row is different from the data signal of the (m−1) -th row, the source line to which the m-th row data signal is input is electrically disconnected from the power supply circuit,
Among the N source lines, the m-th row data signal is electrically connected to different source lines from the (m−1) -th row data signal,
Each of the connected source lines is electrically cut off and electrically connected to a power supply circuit to input an m-th row data signal to the source line.

データ信号を比較する前に(m−1)行目(2≦m≦M、mは自然数)のデータ信号を保持し、(m−1)行目のデータ信号をソース線に入力する工程を有していてもよい。また本発明は線順次駆動において用いられる。比較は排他的論理和回路を用いることができる。またソース線はバッファ回路を介して電源回路に接続されていてもよい。   Before comparing the data signals, a step of holding the data signal of the (m−1) th row (2 ≦ m ≦ M, where m is a natural number) and inputting the data signal of the (m−1) th row to the source line is performed. You may have. The present invention is also used in line sequential driving. For the comparison, an exclusive OR circuit can be used. The source line may be connected to the power supply circuit through a buffer circuit.

また画素部においてゲート線とソース線の交差部にはTFT、画素電極、発光素子又は液晶素子等が設けられている。   In the pixel portion, a TFT, a pixel electrode, a light emitting element, a liquid crystal element, or the like is provided at an intersection of the gate line and the source line.

M行N列(M,Nはそれぞれ自然数)のアクティブマトリクス構造の画素と、M本のゲート線とN本のソース線を有し、線順次方式によりデータ入力をし、デジタル階調方式型駆動を行う表示装置においては、前述のとおり、1行ごとに2値のデータを各ソース線へ入力している。このうち前行(m−1行、2≦m≦M、mは自然数)のデータ入力が完了した後から当行(m行)のデータ入力が行われる前の期間において、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線を外部電源から電気的に遮断し、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線同士を電気的に接続する。   It has M rows and N columns (M and N are natural numbers), an active matrix structure pixel, M gate lines and N source lines. In the display device that performs the above, as described above, binary data is input to each source line for each row. Among these, in the period before the data input of the current row (m row) is performed after the data input of the previous row (m−1 row, 2 ≦ m ≦ M, m is a natural number) is completed, the previous row (m−1 The source line in which the data in the row (m) and the data in the row (m row) are electrically disconnected from the external power supply, and the source lines in which the data in the previous row (m-1 row) and the data in the row (m row) are different Connect electrically.

上記構成により、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線のうち、前行(m−1行)でHigh電位であったソース線の負荷容量から前行(m−1行)で論理がLow電位であったソース線の負荷容量へ、それぞれの電位が等しくなる中間電位まで電荷が移動する。このときソース線と外部電源は電気的に遮断されているので中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しない。また、このときの中間電位は、前行(m−1行)High電位でかつ当行(m行)Low電位となるソース線の本数と、前行(m−1行)Low電位でかつ当行(m行)High電位となるソース線の数の比で理想的には決まる。   With the above configuration, out of the source lines in which the data in the previous row (m−1 row) and the data in the current row (m row) are different, the load capacitance of the source line that was at the high potential in the previous row (m−1 row) The charges move to the load capacitance of the source line whose logic is the low potential in the row (m−1 row) to an intermediate potential where the respective potentials are equal. At this time, since the source line and the external power source are electrically cut off, the power of the external power source is not consumed for charging and discharging up to the intermediate potential. In addition, the intermediate potential at this time is the number of source lines that are the previous row (m-1 row) High potential and this row (m row) Low potential, and the previous row (m-1 row) Low potential and this row ( m row) It is ideally determined by the ratio of the number of source lines that are high potentials.

前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線の中間電位充放電後に当行(m行)のデータ入力を行う。このとき、外部電源は中間電位からHigh電位あるいはLow電位となるまでの充放電のみを行えばよい。このため、従来の方式よりも少ない電力でソース線のデータ書き換えが可能になる。   Data of the current row (m row) is input after the intermediate potential charge / discharge of the source line in which the previous row (m-1 row) data and the current row (m row) data are different. At this time, the external power supply only needs to charge and discharge from the intermediate potential to the High potential or Low potential. For this reason, data rewriting of the source line can be performed with less power than the conventional method.

本発明により、前述のとおり、前行(m−1行)のデータ入力が完了した後から当行(m行)のデータ入力が行われる前の期間において、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線のうち、前行(m−1行)でHigh電位であったソース線の負荷容量から前行(m−1行)で論理がLow電位であったソース線の負荷容量へ、それぞれの電位が等しくなる中間電位まで電荷が移動する。このときソース線と外部電源は電気的に遮断されているので中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しない。その後、m行のデータ入力期間においては、外部電源は前記中間電位からHigh電位あるいはLow電位となるまでの充放電のみを行えばよい。このため、従来の方式よりも少ない電力でソース線のデータ書き換えが可能になる。   As described above, according to the present invention, the data of the previous row (m-1 row) in the period before the data input of the current row (m row) is performed after the data input of the previous row (m-1 row) is completed. Among the source lines having different data for this row (m row), the logic in the previous row (m-1 row) is low in potential from the load capacity of the source line that was High potential in the previous row (m-1 row). The charge moves to the load capacitance of the source line to an intermediate potential at which the respective potentials are equal. At this time, since the source line and the external power source are electrically cut off, the power of the external power source is not consumed for charging and discharging up to the intermediate potential. Thereafter, in the data input period of m rows, the external power supply only needs to charge and discharge from the intermediate potential to the High potential or Low potential. For this reason, data rewriting of the source line can be performed with less power than the conventional method.

上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、従来の表示装置では多くの消費電力がかかっていた自然画のように多くの階調数が必要な画像や1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンであっても、中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しないので少ない電力で表示することが可能となる。   According to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, an image or a line that requires a large number of gradations, such as a natural image, in which a large amount of power is consumed in the conventional display device. Even in a special pattern in which the logic is frequently reversed, it is possible to display with a small amount of power because the power of the external power source is not consumed for charging and discharging up to the intermediate potential.

以下に発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は本実施例の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、各図面において共通の部分は同じ符号を付して詳しい説明を省略する。   The best mode for carrying out the invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments. In the drawings, common portions are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

(実施の形態1)
図1は、本発明の表示装置に用いる線順次方式のソース線駆動回路のブロック図を示している。図5に示した従来の線順次方式のものと同様、シフトレジスタ101、第1のラッチ回路102、第2のラッチ回路103、第2のレベルシフタ回路108、バッファ回路109を有する。また図示していないが画素部にはM行N列の画素を有し、M本のゲート線と、N本のソース線とを有している。また図5に示したものと同様にシフトレジスタ、レベルシフタ、バッファを有するゲート線駆動回路も有している。また画素部においてゲート線とソース線の交差部にはTFTや画素電極、発光素子又は液晶素子が設けられている。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a block diagram of a line-sequential source line driver circuit used in the display device of the present invention. Similar to the conventional line-sequential type shown in FIG. 5, the shift register 101, the first latch circuit 102, the second latch circuit 103, the second level shifter circuit 108, and the buffer circuit 109 are included. Although not shown, the pixel portion has pixels of M rows and N columns, and has M gate lines and N source lines. Similarly to the circuit shown in FIG. 5, it also has a gate line driver circuit having a shift register, a level shifter, and a buffer. In the pixel portion, a TFT, a pixel electrode, a light emitting element, or a liquid crystal element is provided at an intersection of the gate line and the source line.

第2のラッチ回路103の出力端子は第2のレベルシフタ回路108との接続の他に、第3のラッチ回路104と排他的論理和(exclusive OR、XORともいう。以下、排他的論理和という)回路105と接続される。第3のラッチ回路104の出力端子は排他的論理和回路105と接続される。排他的論理和回路105の出力端子は第1のレベルシフタ回路107と接続される。第1のレベルシフタ回路107の出力端子は第2のトランスミッションゲート113のNchTFT側ゲート端子に接続される。バッファ回路109の出力端子は第1のトランスミッションゲート112を介しソース線114と電気的に接続される。すなわち第1のトランスミッションゲート112はソース線とバッファ回路を電気的に接続するスイッチの機能を有することになる。バッファ回路は外部の電源回路である正電源110と負電源111と接続されている。
第1のトランスミッションゲート112はSWE信号(ソース・ライト・イネーブル信号:バッファ回路とソース線との接続及び遮断を指示し、ソース線への信号入力の可・不可を制御する信号)に従ってバッファ回路109とソース線114を接続および遮断する。SWE信号は第1のトランスミッションゲート112のPchTFT側ゲート端子に入力される。それぞれのソース線114(S1,S2,S3,,,,,Sn−1,Sn)同士は第2のトランスミッションゲート113を介し電気的に接続される。すなわち第2のトランスミッションゲート113はソース線同士を電気的に接続するスイッチの機能を有することになる。
In addition to the connection to the second level shifter circuit 108, the output terminal of the second latch circuit 103 is exclusive to the third latch circuit 104 (also referred to as exclusive OR or XOR; hereinafter referred to as exclusive OR). Connected to the circuit 105. The output terminal of the third latch circuit 104 is connected to the exclusive OR circuit 105. The output terminal of the exclusive OR circuit 105 is connected to the first level shifter circuit 107. The output terminal of the first level shifter circuit 107 is connected to the Nch TFT side gate terminal of the second transmission gate 113. The output terminal of the buffer circuit 109 is electrically connected to the source line 114 via the first transmission gate 112. That is, the first transmission gate 112 has a function of a switch for electrically connecting the source line and the buffer circuit. The buffer circuit is connected to a positive power supply 110 and a negative power supply 111 which are external power supply circuits.
The first transmission gate 112 receives the buffer circuit 109 according to the SWE signal (source write enable signal: a signal for instructing connection / disconnection between the buffer circuit and the source line and controlling the enable / disable of the signal input to the source line). And the source line 114 are connected and disconnected. The SWE signal is input to the Pch TFT side gate terminal of the first transmission gate 112. The source lines 114 (S 1, S 2, S 3,..., Sn−1, Sn) are electrically connected through the second transmission gate 113. That is, the second transmission gate 113 has a function of a switch for electrically connecting the source lines.

なおここでは、排他的論理和回路、トランスミッションゲートを用いたがこれに限定されるものではない。比較機能を有する回路、スイッチの機能を有する回路を用いることができる。   Although an exclusive OR circuit and a transmission gate are used here, the present invention is not limited to this. A circuit having a comparison function or a circuit having a switch function can be used.

動作について説明する。まずは、図5に示した従来の線順次方式のものと同様の動作をするシフトレジスタ101、第1のラッチ回路102、第2のラッチ回路103、第2のレベルシフタ回路108、バッファ回路109について図1、2を用いて説明をする。シフトレジスタ101は、スタートパルス(SSP)にしたがって1段目から順次、最終段までサンプリングパルスを出力する。第1のラッチ回路102においては、前記サンプリングパルスが出力された段から順次、映像信号(Video)の取り込みを行う。ここで取り込まれた映像信号は、次にシフトレジスタ101から出力されるサンプリングパルスが入力されるまでの間、第1のラッチ回路102において保持される。第2のラッチ回路103においては、第1のラッチ回路102の1段目から最終段(ここではN段目)、つまり1行分全てに映像信号の取り込みが完了された後、ラッチパルス(LATa)が入力され、1行分全ての映像信号(LAT2−1,LAT2−2,LAT2−3,LAT2−4,,, ,,,LAT2−N)が出力される。図2においては、映像信号(LAT2−1,LAT2−2,LAT2−3、LAT2−4〜LAT2−N)が示す波形を出力した場合について記述してある。なお、図2の映像信号(LAT2−4〜LAT2−N)においては、いずれもHigh電位固定かLow電位固定のいずれかであったことを示している。第2のレベルシフタ回路108においては、第2のラッチ回路103から出力される映像信号を所望の振幅に変換する。バッファ回路109においては、ソース線114へ入力する2値のデータを出力する。   The operation will be described. First, the shift register 101, the first latch circuit 102, the second latch circuit 103, the second level shifter circuit 108, and the buffer circuit 109, which operate in the same manner as those of the conventional line sequential method shown in FIG. A description will be given using 1 and 2. The shift register 101 outputs sampling pulses sequentially from the first stage to the final stage according to the start pulse (SSP). In the first latch circuit 102, the video signal (Video) is captured sequentially from the stage where the sampling pulse is output. The video signal captured here is held in the first latch circuit 102 until the next sampling pulse output from the shift register 101 is input. In the second latch circuit 103, after the capture of the video signal is completed from the first stage to the last stage (here, the N stage) of the first latch circuit 102, that is, all of one row, the latch pulse (LATa ) Is input, and all video signals (LAT2-1, LAT2-2, LAT2-3, LAT2-4,..., LAT2-N) for one line are output. FIG. 2 shows a case where the waveform indicated by the video signals (LAT2-1, LAT2-2, LAT2-3, LAT2-4 to LAT2-N) is output. Note that the video signals (LAT2-4 to LAT2-N) in FIG. 2 indicate that either the High potential is fixed or the Low potential is fixed. The second level shifter circuit 108 converts the video signal output from the second latch circuit 103 into a desired amplitude. The buffer circuit 109 outputs binary data input to the source line 114.

次に、本実施の形態において新たに追加した回路、第3のラッチ回路104、排他的論理和回路105、第1のレベルシフタ回路107、第1のトランスミッションゲート112、第2のトランスミッションゲート113について説明をする。   Next, the circuit newly added in this embodiment, the third latch circuit 104, the exclusive OR circuit 105, the first level shifter circuit 107, the first transmission gate 112, and the second transmission gate 113 will be described. do.

第3のラッチ回路104においては、第2のラッチ回路103にラッチパルス(LATa)が入力された後、ラッチパルス(LATb) が入力され、映像信号(LAT3−1,LAT3−2,LAT3−3,LAT3−4,,, ,,,LAT3−N)が出力される。第3のラッチ回路104の出力データは第2のラッチ回路103の出力データをラッチパルス(LATa)からラッチパルス(LATb)までの遅延時間とほぼ同じ時間だけ遅延したものと等しい。第2のラッチ回路103の出力を当行(m行)のデータとすると、ラッチパルス(LATa)の入力からラッチパルス(LATb)の入力までの期間では第3のラッチ回路104は前行(m−1行)のデータを出力することになる。   In the third latch circuit 104, after the latch pulse (LATa) is input to the second latch circuit 103, the latch pulse (LATb) is input and the video signals (LAT3-1, LAT3-2, LAT3-3) are input. , LAT3-4,..., LAT3-N) are output. The output data of the third latch circuit 104 is equal to the output data of the second latch circuit 103 delayed by approximately the same time as the delay time from the latch pulse (LATa) to the latch pulse (LATb). Assuming that the output of the second latch circuit 103 is the current row (m row) data, the third latch circuit 104 is in the previous row (m−) during the period from the latch pulse (LATa) input to the latch pulse (LATb) input. 1 line) of data is output.

排他的論理和回路105においては、第2のラッチ回路103の出力信号と第3のラッチ回路104の出力信号を比較し、信号(Ex.OR−1, Ex.OR −2, Ex.OR −3, Ex.OR −4,,, ,,, Ex.OR −N)を出力する。信号(Ex.OR−1, Ex.OR −2, Ex.OR −3, Ex.OR −4,,, ,,, Ex.OR −N)は第2のラッチ回路103の出力信号と第3のラッチ回路104の出力信号がHigh電位とLow電位、あるいはLow電位とHigh電位のように異なる場合はHigh電位となり、High電位とHigh電位、あるいはLow電位とLow電位のように同じ場合はLow電位となる。   In the exclusive OR circuit 105, the output signal of the second latch circuit 103 and the output signal of the third latch circuit 104 are compared, and signals (Ex.OR-1, Ex.OR-2, Ex.OR--) are compared. 3, Ex.OR −4,,,,, Ex.OR −N). The signals (Ex.OR-1, Ex.OR-2, Ex.OR-3, Ex.OR-4,,,,, Ex.OR-N) are output signals of the second latch circuit 103 and the third signal. When the output signal of the latch circuit 104 is different, such as a high potential and a low potential, or a low potential and a high potential, it becomes a high potential, and when the output signal is the same, such as a high potential and a high potential, or a low potential and a low potential, the low potential. It becomes.

前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータを比較する回路106は、第3のラッチ回路104と排他的論理和回路105からなる。ラッチパルス(LATa)の入力からラッチパルス(LATb)の入力までの期間において、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータを比較する回路106は、前行(m−1行)のデータから当行(m行)のデータがHigh電位からLow電位あるいは、Low電位からHigh電位のように変わった場合にはHigh電位を出力する。逆に、ラッチパルス(LATa)の入力からラッチパルス(LATb)の入力までの期間において、前行(m−1行)のデータから当行(m行)のデータがHigh電位からHigh電位あるいは、Low電位からLow電位のように変わらない場合にはLow電位を出力する。また、ラッチパルス(LATb)の入力から次のラッチパルス(LATa)の入力までの期間において、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータを比較する排他的論理和回路105は、常にLow電位を出力することになる。   A circuit 106 that compares the data in the previous row (m−1 row) and the data in the current row (m row) includes a third latch circuit 104 and an exclusive OR circuit 105. In the period from the input of the latch pulse (LATa) to the input of the latch pulse (LATb), the circuit 106 that compares the data of the previous row (m−1 row) and the data of the current row (m row) is the previous row (m− When the data of the present row (m-th row) changes from the High potential to the Low potential or from the Low potential to the High potential, the High potential is output. On the contrary, in the period from the input of the latch pulse (LATa) to the input of the latch pulse (LATb), the data of the previous row (m−1 row) to the data of this row (m row) are changed from the High potential to the High potential or Low. When the potential does not change like the low potential, the low potential is output. Also, an exclusive OR circuit that compares the data of the previous row (m−1 row) and the data of this row (m row) in the period from the input of the latch pulse (LATb) to the input of the next latch pulse (LATa). 105 always outputs a low potential.

第1のレベルシフタ回路107においては、信号(Ex.OR−1, Ex.OR −2, Ex.OR −3, Ex.OR −4,,, ,,, Ex.OR −N)を所望の振幅に変換する。   In the first level shifter circuit 107, the signal (Ex.OR-1, Ex.OR-2, Ex.OR-3, Ex.OR-4,,,,,, Ex.OR-N) is transmitted to a desired amplitude. Convert to

第1のトランスミッションゲート112によるソース線114とバッファ回路109を遮断するタイミングについて説明する。全てのソース線114とバッファ回路109とは前行(m−1行)の書込みが終了した後、第1のトランスミッションゲート112によって、一端遮断する。これにより各ソース線は外部の正電源110、負電源111と遮断される。ソース線114とバッファ回路109を接続するタイミングについては後に述べる。   The timing for cutting off the source line 114 and the buffer circuit 109 by the first transmission gate 112 will be described. All the source lines 114 and the buffer circuit 109 are interrupted once by the first transmission gate 112 after the writing of the previous row (m−1 row) is completed. As a result, each source line is disconnected from the external positive power source 110 and negative power source 111. The timing for connecting the source line 114 and the buffer circuit 109 will be described later.

前記ソース線114とバッファ回路109との遮断タイミングの後、ラッチパルス(LATa)の入力からラッチパルス(LATb)の入力までの期間において、第2のトランスミッションゲート113は、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータとが異なるソース線114(S1,S2,S3,,,,,SN−1,SN)同士を接続する。このとき、図2に示すS1のように前行(m−1行)のデータがHigh電位で当行(m行)のデータがLow電位となるソース線114と、S2のように前行(m−1行)のデータがLow電位で当行(m行)のデータがHigh電位となるソース線114とがある場合にはそれぞれの負荷容量115には、外部電源であるバッファ回路の正電源110とバッファ回路の負電源111を使用することなくある程度の中間電位がプリチャージされることになる。逆に、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータとが同じ場合には、第2のトランスミッションゲート113は、ソース線114同士(S1,S2,S3,,,,,SN−1,SN)を接続しない。またラッチパルス(LATb)の入力から次のラッチパルス(LATa)の入力までの期間において、第2のトランスミッションゲート113は、接続されていたソース線114同士(S1,S2,S3,,,,,SN−1,SN)を遮断する。   In the period from the input of the latch pulse (LATa) to the input of the latch pulse (LATb) after the cutoff timing of the source line 114 and the buffer circuit 109, the second transmission gate 113 is connected to the previous row (m−1 row). ) And the source line 114 (S1, S2, S3,..., SN-1, SN) in which the data of this bank (m line) are different are connected. At this time, the source line 114 in which the data in the previous row (m−1 row) is the High potential and the data in the current row (m row) is the Low potential as shown in S1 in FIG. −1 row) data is low potential and the current (m row) data is high potential source line 114 and each load capacitor 115 has a positive power source 110 of a buffer circuit as an external power source. Some intermediate potential is precharged without using the negative power supply 111 of the buffer circuit. On the contrary, when the data of the previous row (m−1 row) and the data of this row (m row) are the same, the second transmission gate 113 is connected to the source lines 114 (S1, S2, S3,. , SN-1, SN) are not connected. In the period from the input of the latch pulse (LATb) to the input of the next latch pulse (LATa), the second transmission gate 113 is connected to the source lines 114 (S1, S2, S3,. SN-1, SN) is blocked.

前記プリチャージが行われた後に、第1のトランスミッションゲート112によって、ソース線114とバッファ回路109を接続する。これにより各ソース線は外部の正電源110、負電源111と電気的に接続される。この接続と同時にソース線114へ当行(m行)のデータを入力する。このとき、予めある程度の中間電位までプリチャージされているため、充電に消費する電力が従来の構成に比べて低減されることになる。   After the precharge is performed, the source line 114 and the buffer circuit 109 are connected by the first transmission gate 112. Thereby, each source line is electrically connected to the external positive power source 110 and the negative power source 111. Simultaneously with this connection, the current line (m line) data is input to the source line 114. At this time, since the battery is precharged to a certain intermediate potential in advance, the power consumed for charging is reduced as compared with the conventional configuration.

以上の動作を毎行ごと繰り返すことにより任意の画像を表示することができる。   An arbitrary image can be displayed by repeating the above operation for each row.

上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、従来の表示装置では多くの消費電力がかかっていた自然画のように多くの階調数が必要な画像や1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンであっても、中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しないので少ない電力で表示することが可能となる。   According to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, an image or a line that requires a large number of gradations, such as a natural image, in which a large amount of power is consumed in the conventional display device. Even in a special pattern in which the logic is frequently reversed, it is possible to display with a small amount of power because the power of the external power source is not consumed for charging and discharging up to the intermediate potential.

特殊パターンの例を図6に示す。601、604、607は画素部、602、605,608はソース線駆動回路、603,606,609はゲート線駆動回路を表している。   An example of the special pattern is shown in FIG. Reference numerals 601, 604, and 607 denote pixel portions, 602, 605, and 608 denote source line driver circuits, and 603, 606, and 609 denote gate line driver circuits.

前記、1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンのうち、図6(A)に示す上下左右に隣接する画素の表示が反転する1dot格子においては、1行ごとに全てのソース線は前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なり、全てのソース線のうち半数が前行(m−1行)でHigh電位であり、残りの半数のソース線が前行(m−1行)でLow電位である。このため、上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、1行ごとに中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しないので少ない電力で1dot格子のような特殊なパターンを表示することが可能となる。   Among the special patterns in which the logic is frequently inverted for each row, in the 1 dot lattice shown in FIG. The line is different from the data in the previous row (m-1 row) and the data in this row (m row), and half of all the source lines are high potential in the previous row (m-1 row), and the remaining half of the sources The line is at the low potential in the previous row (m−1 row). For this reason, according to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, the power of the external power source is not consumed for charging / discharging up to the intermediate potential for each row. A special pattern can be displayed.

前記、1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンのうち、図6(B)に示すゲート線と平行な直線のみで表示された横ストライプのような表示においては、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線は前行(m−1行)ですべて同一電位である。このため上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法であっても中間電位までの充放電はおこなわれないが、従来の表示装置と消費する電力に変わりはないので問題ではない。   Among the special patterns in which the logic is frequently reversed for each row, in the display such as the horizontal stripe displayed only by the straight line parallel to the gate line shown in FIG. The source lines in which the data in the (m-1 row) and the data in the current row (m row) are different are all at the same potential in the previous row (m-1 row). For this reason, even with the display device and the driving method of the present invention configured as described above, charging / discharging up to an intermediate potential is not performed, but there is no problem because power consumption is the same as that of a conventional display device.

前記、図6(C)に示す自然画のように多くの階調数が必要な画像においては、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線が存在することが多い。また、自然画のように多くの階調数が必要な画像においては、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線のうち少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でHigh電位であり、かつ、少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でLow電位であることが多い。上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線のうち少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でHigh電位であり、かつ、少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でLow電位である場合には、中間電位までの充放電に外部電源の電力を消費しない。逆に、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線が存在しない場合や、前行(m−1行)のデータから当行(m行)のデータがHigh電位からLow電位へ変わるソース線のみしか存在しない場合や、前行(m−1行)のデータから当行(m行)のデータがLow電位からHigh電位へ変わるソース線のみしか存在しない場合は、中間電位までの充放電はおこなわれないが、従来の表示装置と消費する電力に変わりはない。このため、上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、自然画のように多くの階調数が必要な画像においては少ない電力で表示することが可能となる。   In an image that requires a large number of gradations such as the natural image shown in FIG. 6C, there are source lines in which the data of the previous row (m-1 row) and the data of this row (m row) are different. Often to do. Further, in an image that requires a large number of gradations such as a natural image, at least one source line of the source lines in which the data in the previous row (m−1 row) and the data in the current row (m row) are different is the previous one. In many cases, the row (m−1 row) has a high potential, and at least one source line has a low potential in the previous row (m−1 row). According to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, at least one of the source lines in which the data in the previous row (m−1 row) and the data in the current row (m row) are different is the previous one. When the row (m−1 row) has a high potential and at least one source line has a low potential in the previous row (m−1 row), the power of the external power source is used for charging and discharging up to the intermediate potential. Do not consume. Conversely, when there is no source line in which the data of the previous row (m-1 row) and the data of this row (m row) are different, or the data of this row (m row) is changed from the data of the previous row (m-1 row). When there is only a source line that changes from a High potential to a Low potential, or when there is only a source line that changes data from the previous row (m−1 row) to the current row (m row) from a Low potential to a High potential. However, charging / discharging up to the intermediate potential is not performed, but power consumption is the same as that of the conventional display device. Therefore, according to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, an image that requires a large number of gradations such as a natural image can be displayed with less power.

(実施の形態2)
図3は、本発明の表示装置に用いる線順次方式のソース線駆動回路であって実施の形態1とは異なる構成としたブロック図を示している。図5に示した従来の線順次方式のものと同様、シフトレジスタ301、第1のラッチ回路302、第2のラッチ回路303、第2のレベルシフタ回路308、バッファ回路309を有する。また図示していないが画素部にはM行N列の画素を有し、M本のゲート線と、N本のソース線とを有している。また図5に示したものと同様にシフトレジスタ、レベルシフタ、バッファを有するゲート線駆動回路も有している。また画素部においてゲート線とソース線の交差部にはTFTや画素電極、発光素子又は液晶素子が設けられている。
(Embodiment 2)
FIG. 3 is a block diagram showing a line-sequential source line driver circuit used in the display device of the present invention and having a configuration different from that of the first embodiment. Similar to the conventional line-sequential type shown in FIG. 5, the shift register 301, the first latch circuit 302, the second latch circuit 303, the second level shifter circuit 308, and the buffer circuit 309 are provided. Although not shown, the pixel portion has pixels of M rows and N columns, and has M gate lines and N source lines. Similarly to the circuit shown in FIG. 5, it also has a gate line driver circuit having a shift register, a level shifter, and a buffer. In the pixel portion, a TFT, a pixel electrode, a light emitting element, or a liquid crystal element is provided at an intersection of the gate line and the source line.

第2のラッチ回路303の出力端子は第2のレベルシフタ回路308との接続の他に、第3のラッチ回路304と排他的論理和回路305と接続される。前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータを比較する回路306は、第3のラッチ回路304と排他的論理和回路305からなる。第3のラッチ回路304の出力端子は排他的論理和回路305と接続される。排他的論理和回路305の出力端子は第1のレベルシフタ回路307と接続される。第1のレベルシフタ回路307の出力端子は第1のトランスミッションゲート312のPchTFT側ゲート端子と、第2のトランスミッションゲート313のNchTFT側ゲート端子に接続される。バッファ回路309の出力端子は第1のトランスミッションゲート312を介しソース線314と電気的に接続される。それぞれのソース線314(S1,S2,S3,,,,,Sn−1,Sn)同士は第2のトランスミッションゲート313を介し電気的に接続することができる。   The output terminal of the second latch circuit 303 is connected to the third latch circuit 304 and the exclusive OR circuit 305 in addition to the connection to the second level shifter circuit 308. A circuit 306 for comparing the data of the previous row (m−1 row) and the data of this row (m row) is composed of a third latch circuit 304 and an exclusive OR circuit 305. The output terminal of the third latch circuit 304 is connected to the exclusive OR circuit 305. The output terminal of the exclusive OR circuit 305 is connected to the first level shifter circuit 307. The output terminal of the first level shifter circuit 307 is connected to the Pch TFT side gate terminal of the first transmission gate 312 and the Nch TFT side gate terminal of the second transmission gate 313. The output terminal of the buffer circuit 309 is electrically connected to the source line 314 through the first transmission gate 312. The respective source lines 314 (S1, S2, S3,..., Sn-1, Sn) can be electrically connected via the second transmission gate 313.

動作について説明する。シフトレジスタ301、第1のラッチ回路302、第2のラッチ回路303、第3のラッチ回路304、第1のレベルシフタ回路307、第2のレベルシフタ回路308、バッファ回路309、排他的論理和回路305、第2のトランスミッションゲート313については、実施の形態1と同様に動作をする。   The operation will be described. Shift register 301, first latch circuit 302, second latch circuit 303, third latch circuit 304, first level shifter circuit 307, second level shifter circuit 308, buffer circuit 309, exclusive OR circuit 305, The second transmission gate 313 operates in the same manner as in the first embodiment.

なおここでは、排他的論理和回路、トランスミッションゲートを用いたがこれに限定されるものではない。任意の比較機能を有する回路、スイッチの機能を有する回路を用いることができる。   Although an exclusive OR circuit and a transmission gate are used here, the present invention is not limited to this. A circuit having an arbitrary comparison function and a circuit having a switch function can be used.

ラッチパルス(LATa)の入力からラッチパルス(LATb)の入力までの期間において、第1のトランスミッションゲート312は、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータとが異なるソース線314とバッファ回路309のみを遮断する。これによりソース線は電源回路と遮断されることになる。これと同時に、ラッチパルス(LATa)の入力からラッチパルス(LATb)の入力までの期間において、第2のトランスミッションゲート313は、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータとが異なるソース線314同士(S1,S2,S3,,,,,SN−1,SN)を接続する。このとき、図4に示すS1のように前行(m−1行)のデータがHigh電位で当行(m行)のデータがLow電位となるソース線314と、S2のように前行(m−1行)のデータがLow電位で当行(m行)のデータがHigh電位となるソース線314とがある場合、それぞれの負荷容量315には、外部電源であるバッファ回路の正電源310とバッファ回路の負電源311を使用することなくある程度の中間電位がプリチャージされることになる。逆に、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータとが同じ場合には、第1のトランスミッションゲート312は、ソース線314とバッファ回路309とを接続し、第2のトランスミッションゲート313は、ソース線314同士(S1,S2,S3,,,,,SN−1,SN)を接続しない。ラッチパルス(LATb)の入力から次のラッチパルス(LATa)の入力までの期間において、第1のトランスミッションゲート312はソース線314とバッファ回路309とを接続した状態を保つ。これと同時に、ラッチパルス(LATb)の入力から次のラッチパルス(LATa)の入力までの期間において、第2のトランスミッションゲート313は、ソース線314同士(S1,S2,S3,,,,,SN−1,SN)を接続しない。   In the period from the input of the latch pulse (LATa) to the input of the latch pulse (LATb), the first transmission gate 312 has different sources for the previous row (m−1 row) data and the current row (m row) data. Only the line 314 and the buffer circuit 309 are cut off. As a result, the source line is disconnected from the power supply circuit. At the same time, in the period from the input of the latch pulse (LATa) to the input of the latch pulse (LATb), the second transmission gate 313 has the previous row (m-1 row) data and the current row (m row) data. Are connected to each other (S1, S2, S3,..., SN-1, SN). At this time, the source line 314 in which the data in the previous row (m−1 row) is the high potential and the data in the current row (m row) is the low potential as shown in S1 in FIG. -1 row) data and the source line 314 in which the current row (m row) data is at a high potential, and the load capacitor 315 has a positive power supply 310 and a buffer of a buffer circuit as an external power supply. Some intermediate potential is precharged without using the negative power supply 311 of the circuit. On the contrary, when the data of the previous row (m−1 row) and the data of this row (m row) are the same, the first transmission gate 312 connects the source line 314 and the buffer circuit 309, and the second The transmission gate 313 does not connect the source lines 314 (S1, S2, S3,..., SN-1, SN). In the period from the input of the latch pulse (LATb) to the input of the next latch pulse (LATa), the first transmission gate 312 keeps the source line 314 and the buffer circuit 309 connected. At the same time, in the period from the input of the latch pulse (LATb) to the input of the next latch pulse (LATa), the second transmission gate 313 is connected to the source lines 314 (S1, S2, S3,. -1, SN) is not connected.

前記プリチャージが行われた後に、ソース線314へ当行(m行)のデータを入力する。このとき、予めある程度の中間電位までプリチャージされているため、外部電源が充電に消費する電力が従来の構成に比べて低減されることになる。   After the precharge, the current row (m row) data is input to the source line 314. At this time, since the battery is precharged to a certain intermediate potential in advance, the power consumed by the external power supply for charging is reduced as compared with the conventional configuration.

以上の動作を毎行ごと繰り返すことにより任意の画像を表示することができる。   An arbitrary image can be displayed by repeating the above operation for each row.

本実施の形態では、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータを比較する回路106の出力にしたがい、第1のトランスミッションゲート312を制御する構成を有している。このため、第1のトランスミッションゲート312を制御する信号を外部入力する必要がない。このため、パネルへの入力ピン数の減少に貢献できる。携帯情報端末等に用いられる表示装置においては、入力ピン数の減少はパネルサイズ縮小に大変有効である。   In the present embodiment, the first transmission gate 312 is controlled in accordance with the output of the circuit 106 that compares the data of the previous row (m−1 row) and the data of this row (m row). Therefore, it is not necessary to externally input a signal for controlling the first transmission gate 312. This contributes to a reduction in the number of input pins to the panel. In a display device used for a portable information terminal or the like, the reduction in the number of input pins is very effective for reducing the panel size.

上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、従来の表示装置では多くの消費電力がかかっていた自然画のように多くの階調数が必要な画像や1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンであっても、中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しないので少ない電力で表示することが可能となる。   According to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, an image or a line that requires a large number of gradations, such as a natural image, in which a large amount of power is consumed in the conventional display device. Even in a special pattern in which the logic is frequently reversed, it is possible to display with a small amount of power because the power of the external power source is not consumed for charging and discharging up to the intermediate potential.

前記、1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンのうち、図6(A)に示す上下左右に隣接する画素の表示が反転する1dot格子においては、1行ごとに全てのソース線は前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なり、全てのソース線のうち半数が前行(m−1行)でHigh電位であり、残りの半数のソース線が前行(m−1行)でLow電位である。このため、上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、1行ごとに中間電位までの充放電には外部電源の電力を消費しないので少ない電力で1dot格子のような特殊なパターンを表示することが可能となる。   Among the special patterns in which the logic is frequently inverted for each row, in the 1 dot lattice shown in FIG. The line is different from the data in the previous row (m-1 row) and the data in this row (m row), and half of all the source lines are high potential in the previous row (m-1 row), and the remaining half of the sources The line is at the low potential in the previous row (m−1 row). For this reason, according to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, the power of the external power source is not consumed for charging / discharging up to the intermediate potential for each row. A special pattern can be displayed.

前記、1行ごとに論理が頻繁に逆転するような特殊なパターンのうち、図6(B)に示すゲート線と平行な直線のみで表示された横ストライプのような表示においては、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線は前行(m−1行)ですべて同一電位である。このため上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法であっても中間電位までの充放電はおこなわれないが、従来の表示装置と消費する電力に変わりはないので問題ではない。   Among the special patterns in which the logic is frequently reversed for each row, in the display such as the horizontal stripe displayed only by the straight line parallel to the gate line shown in FIG. The source lines in which the data in the (m-1 row) and the data in the current row (m row) are different are all at the same potential in the previous row (m-1 row). For this reason, even with the display device and the driving method of the present invention configured as described above, charging / discharging up to an intermediate potential is not performed, but there is no problem because power consumption is the same as that of a conventional display device.

前記、図6(C)に示す自然画のように多くの階調数が必要な画像においては、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線が存在することが多い。また、自然画のように多くの階調数が必要な画像においては、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線のうち少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でHigh電位であり、かつ、少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でLow電位であることが多い。上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線のうち少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でHigh電位であり、かつ、少なくとも1つのソース線が前行(m−1行)でLow電位である場合には、中間電位までの充放電に外部電源の電力を消費しない。逆に、前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータが異なるソース線が存在しない場合や、前行(m−1行)のデータから当行(m行)のデータがHigh電位からLow電位へ変わるソース線のみしか存在しない場合や、前行(m−1行)のデータから当行(m行)のデータがLow電位からHigh電位へ変わるソース線のみしか存在しない場合は、中間電位までの充放電はおこなわれないが、従来の表示装置と消費する電力に変わりはない。このため、上記のように構成された本発明の表示装置と駆動方法によれば、自然画のように多くの階調数が必要な画像においては少ない電力で表示することが可能となる。   In an image that requires a large number of gradations such as the natural image shown in FIG. 6C, there are source lines in which the data of the previous row (m-1 row) and the data of this row (m row) are different. Often to do. Further, in an image that requires a large number of gradations such as a natural image, at least one source line of the source lines in which the data in the previous row (m−1 row) and the data in the current row (m row) are different is the previous one. In many cases, the row (m−1 row) has a high potential, and at least one source line has a low potential in the previous row (m−1 row). According to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, at least one of the source lines in which the data in the previous row (m−1 row) and the data in the current row (m row) are different is the previous one. When the row (m−1 row) has a high potential and at least one source line has a low potential in the previous row (m−1 row), the power of the external power source is used for charging and discharging up to the intermediate potential. Do not consume. Conversely, when there is no source line in which the data of the previous row (m-1 row) and the data of this row (m row) are different, or the data of this row (m row) is changed from the data of the previous row (m-1 row). When there is only a source line that changes from a High potential to a Low potential, or when there is only a source line that changes data from the previous row (m−1 row) to the current row (m row) from a Low potential to a High potential. However, charging / discharging up to the intermediate potential is not performed, but power consumption is the same as that of the conventional display device. Therefore, according to the display device and the driving method of the present invention configured as described above, an image that requires a large number of gradations such as a natural image can be displayed with less power.

(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明に用いることができる両面射出型表示装置を作製する例を示す。
(Embodiment 3)
In this embodiment mode, an example of manufacturing a dual emission display device that can be used in the present invention will be described.

まず図7(A)に示すように、基板1500上に下地膜1501を成膜する。基板1500には、例えばバリウムホウケイ酸ガラスや、アルミノホウケイ酸ガラスなどのガラス基板、石英基板、ステンレス基板等を用いることができる。また、PET、PES、PENに代表されるプラスチックや、アクリル等の可撓性を有する合成樹脂からなる基板を用いることも可能である。   First, as shown in FIG. 7A, a base film 1501 is formed over a substrate 1500. As the substrate 1500, for example, a glass substrate such as barium borosilicate glass or alumino borosilicate glass, a quartz substrate, a stainless steel substrate, or the like can be used. It is also possible to use a substrate made of a plastic such as PET, PES, or PEN, or a flexible synthetic resin such as acrylic.

下地膜1501は基板1500中に含まれるNaなどのアルカリ金属やアルカリ土類金属が、半導体膜中に拡散し、半導体素子の特性に悪影響を及ぼすのを防ぐために設ける。よってアルカリ金属やアルカリ土類金属の半導体膜への拡散を抑えることができる窒化珪素、窒素を含む酸化珪素などの絶縁膜を用いて形成する。本実施の形態では、プラズマCVD法を用いて窒素を含む酸化珪素膜を10nm〜400nm(好ましくは50nm〜300nm)の膜厚になるように成膜する。   The base film 1501 is provided to prevent alkali metal such as Na or alkaline earth metal contained in the substrate 1500 from diffusing into the semiconductor film and adversely affecting the characteristics of the semiconductor element. Therefore, an insulating film such as silicon nitride or silicon oxide containing nitrogen that can suppress diffusion of alkali metal or alkaline earth metal into the semiconductor film is used. In this embodiment, a silicon oxide film containing nitrogen is formed to a thickness of 10 nm to 400 nm (preferably 50 nm to 300 nm) by a plasma CVD method.

なお下地膜1501は窒化珪素、窒素を含む酸化珪素、酸素を含む窒化珪素などの絶縁膜単層であっても、酸化珪素、窒化珪素、窒素を含む酸化珪素、酸素を含む窒化珪素などの絶縁膜を複数積層したものであっても良い。   Note that even though the base film 1501 is a single layer of an insulating film such as silicon nitride, silicon oxide containing nitrogen, or silicon nitride containing oxygen, insulation such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxide containing nitrogen, or silicon nitride containing oxygen is used. A plurality of laminated films may be used.

次に下地膜1501上に半導体膜1502を形成する。半導体膜1502の膜厚は25nm〜100nm(好ましくは30nm〜60nm)とする。なお半導体膜1502は、非晶質半導体であっても良いし、多結晶半導体であっても良い。また半導体はシリコン(Si)だけではなくシリコンゲルマニウム(SiGe)も用いることができる。シリコンゲルマニウムを用いる場合、ゲルマニウムの濃度は0.01〜4.5atomic%程度であることが好ましい。   Next, a semiconductor film 1502 is formed over the base film 1501. The thickness of the semiconductor film 1502 is 25 nm to 100 nm (preferably 30 nm to 60 nm). Note that the semiconductor film 1502 may be an amorphous semiconductor or a polycrystalline semiconductor. As the semiconductor, not only silicon (Si) but also silicon germanium (SiGe) can be used. When silicon germanium is used, the concentration of germanium is preferably about 0.01 to 4.5 atomic%.

次に図7(B)に示すように、半導体膜1502に線状レーザ1499を照射し、結晶化を行なう。レーザ結晶化を行なう場合、レーザ結晶化の前に、レーザに対する半導体膜1502の耐性を高めるために、500℃、1時間の加熱処理を該半導体膜1502に加えてもよい。   Next, as shown in FIG. 7B, the semiconductor film 1502 is irradiated with a linear laser 1499 to be crystallized. In the case of performing laser crystallization, heat treatment for 1 hour at 500 ° C. may be applied to the semiconductor film 1502 in order to increase the resistance of the semiconductor film 1502 to the laser before laser crystallization.

結晶化させる方法としては、レーザ光を照射する方法、半導体膜の結晶化を助長させる元素を用いて加熱して結晶化させる方法、半導体膜の結晶化を助長させる元素を用いて加熱して結晶化させた後、レーザ光を照射する方法を用いることができる。ここではレーザ光を照射して結晶化する。   As a method for crystallizing, a method of irradiating with laser light, a method of crystallizing by heating with an element that promotes crystallization of a semiconductor film, a crystal by heating with an element that promotes crystallization of a semiconductor film Then, a method of irradiating with laser light can be used. Here, it is crystallized by irradiation with laser light.

レーザ結晶化は、連続発振のレーザ、または擬似CWレーザとして、発振周波数が10MHz以上、好ましくは80MHz以上のパルス発振レーザを用いることができる。   For laser crystallization, a pulsed laser having an oscillation frequency of 10 MHz or more, preferably 80 MHz or more can be used as a continuous wave laser or a pseudo CW laser.

具体的には、連続発振のレーザとして、Arレーザ、Krレーザ、COレーザ、YAGレーザ、YVOレーザ、YLFレーザ、YAlOレーザ、GdVOレーザ、Yレーザ、ルビーレーザ、アレキサンドライトレーザ、Ti:サファイアレーザ、ヘリウムカドミウムレーザなどが挙げられる。 Specifically, as a continuous wave laser, Ar laser, Kr laser, CO 2 laser, YAG laser, YVO 4 laser, YLF laser, YAlO 3 laser, GdVO 4 laser, Y 2 O 3 laser, ruby laser, alexandrite laser Ti: sapphire laser, helium cadmium laser, and the like.

また擬似CWレーザとして、発振周波数が10MHz以上、好ましくは80MHz以上のパルス発振させることができるのであれば、Arレーザ、Krレーザ、エキシマレーザ、COレーザ、YAGレーザ、YVO4レーザ、YLFレーザ、YAlOレーザ、GdVOレーザ、Yレーザ、ルビーレーザのようなパルス発振レーザを用いることができる。 As a pseudo CW laser, an Ar laser, a Kr laser, an excimer laser, a CO 2 laser, a YAG laser, a YVO4 laser, a YLF laser, a YAlO can be used as long as it can oscillate a pulse having an oscillation frequency of 10 MHz or more, preferably 80 MHz or more. A pulsed laser such as a 3 laser, a GdVO 4 laser, a Y 2 O 3 laser, or a ruby laser can be used.

このようなパルス発振レーザは、発振周波数を増加させていくと、いずれは連続発振レーザと同等の効果を示すものである。   Such a pulsed laser has an effect equivalent to that of a continuous wave laser as the oscillation frequency is increased.

例えば連続発振が可能な固体レーザを用いる場合、第2高調波〜第4高調波のレーザ光を照射することで、大粒径の結晶を得ることができる。代表的には、YAGレーザ(基本波1064nm)の第2高調波(532nm)や第3高調波(355nm)を用いるのが望ましい。パワー密度は0.01〜100MW/cm程度(好ましくは0.1〜10MW/cm)とすれば良い。 For example, when a solid-state laser capable of continuous oscillation is used, a crystal having a large grain size can be obtained by irradiating laser light of second to fourth harmonics. Typically, it is desirable to use the second harmonic (532 nm) or the third harmonic (355 nm) of a YAG laser (fundamental wave 1064 nm). Power density may be about 0.01 to 100 MW / cm 2 (preferably 0.1~10MW / cm 2).

上述した半導体膜1502へのレーザ光の照射により、結晶性の高い結晶性半導体膜1504が形成される。   By irradiation of the semiconductor film 1502 with laser light, the crystalline semiconductor film 1504 with high crystallinity is formed.

次に、図7(C)に示すように結晶性半導体膜1504をエッチングすることで、島状半導体膜1507〜1509が形成される。   Next, as illustrated in FIG. 7C, the crystalline semiconductor film 1504 is etched, so that island-shaped semiconductor films 1507 to 1509 are formed.

次に、島状半導体膜1507〜1509にTFTのしきい値制御のための不純物を導入する。本実施の形態においてはジボラン(B)をドープすることによってボロン(B)を島状半導体膜中に導入する。 Next, impurities for controlling the threshold value of the TFT are introduced into the island-shaped semiconductor films 1507 to 1509. In this embodiment mode, boron (B) is introduced into the island-shaped semiconductor film by doping diborane (B 2 H 6 ).

次に島状半導体膜1507〜1509を覆うように絶縁膜1700を成膜する(図8(A))。絶縁膜1700には、例えば酸化珪素、窒化珪素、または窒素を含んだ酸化珪素等を用いることができる。また成膜方法は、プラズマCVD法、スパッタ法などを用いることができる。   Next, an insulating film 1700 is formed so as to cover the island-shaped semiconductor films 1507 to 1509 (FIG. 8A). For the insulating film 1700, for example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxide containing nitrogen, or the like can be used. As a film formation method, a plasma CVD method, a sputtering method, or the like can be used.

次に、絶縁膜1700上に導電膜を成膜した後、導電膜をエッチングすることで、ゲート電極1707〜1709を形成する。   Next, after a conductive film is formed over the insulating film 1700, the conductive film is etched, so that gate electrodes 1707 to 1709 are formed.

ゲート電極1707〜1709は、導電膜を単層または2層以上積層させた構造を用いて形成する。導電膜を2層以上積層させている場合は、タンタル(Ta)、タングステン(W)、チタン(Ti)、モリブデン(Mo)、アルミニウム(Al)から選ばれた元素、または前記元素を主成分とする合金材料、若しくは化合物材料を積層させてゲート電極1707〜1709を形成してもよい。また、リン(P)等の不純物元素をドーピングした多結晶シリコン膜に代表される半導体膜を用いてゲート電極を形成してもよい。   The gate electrodes 1707 to 1709 are formed using a structure in which a single conductive film or two or more conductive films are stacked. In the case where two or more conductive films are stacked, an element selected from tantalum (Ta), tungsten (W), titanium (Ti), molybdenum (Mo), and aluminum (Al), or the element as a main component The gate electrodes 1707 to 1709 may be formed by stacking alloy materials or compound materials to be stacked. Alternatively, the gate electrode may be formed using a semiconductor film typified by a polycrystalline silicon film doped with an impurity element such as phosphorus (P).

本実施の形態では、窒化タンタルとタングステン(W)をそれぞれ、30nm、370nm積層した積層膜を用いて、ゲート電極1707〜1709を形成する。本実施の形態では、タングステン(W)を用いて上層ゲート電極1701〜1703を形成し、窒化タンタルを用いて下層ゲート電極1704〜1706を形成する。   In this embodiment, gate electrodes 1707 to 1709 are formed using a stacked film in which tantalum nitride and tungsten (W) are stacked to have a thickness of 30 nm and 370 nm, respectively. In this embodiment mode, upper layer gate electrodes 1701 to 1703 are formed using tungsten (W), and lower layer gate electrodes 1704 to 1706 are formed using tantalum nitride.

ゲート電極1707〜1709は、ゲート配線の一部として形成してもよいし、別にゲート配線を形成して、そのゲート配線にゲート電極1707〜1709を接続してもよい。   The gate electrodes 1707 to 1709 may be formed as part of the gate wiring, or a gate wiring may be formed separately and the gate electrodes 1707 to 1709 may be connected to the gate wiring.

そして、ゲート電極1707〜1709や、あるいはレジストを成膜して選択的に露光したものをマスクとして用い、島状半導体膜1507〜1509にn型またはp型の導電性を付与する不純物を添加し、ソース領域、ドレイン領域、さらには低濃度不純物領域等を形成する。   Then, an impurity imparting n-type or p-type conductivity is added to the island-shaped semiconductor films 1507 to 1509 using the gate electrodes 1707 to 1709 or a resist film formed and selectively exposed as a mask. Then, a source region, a drain region, a low concentration impurity region, and the like are formed.

まず、フォスフィン(PH)を用いてリン(P)を、加速電圧を60〜120kV、ドーズ量を1×1013〜1×1015atoms・cm−2として島状半導体膜中に導入する。 First, phosphorus (P) is introduced into the island-shaped semiconductor film using phosphine (PH 3 ) with an acceleration voltage of 60 to 120 kV and a dose of 1 × 10 13 to 1 × 10 15 atoms · cm −2 .

またpチャネル型TFTを作製するために、ジボラン(B)を印加電圧60〜100kV、例えば80kV、ドーズ量1×1013〜5×1015atoms・cm−2、例えば3×1015atoms・cm−2の条件で、島状半導体膜中にボロン(B)を導入する。これによりpチャネル型TFT1763のソース領域又はドレイン領域1717、また、チャネル形成領域1718が形成される(図8(B))。 Further, in order to manufacture a p-channel TFT, diborane (B 2 H 6 ) is applied with an applied voltage of 60 to 100 kV, for example, 80 kV, and a dose amount of 1 × 10 13 to 5 × 10 15 atoms · cm −2 , for example, 3 × 10 15. Boron (B) is introduced into the island-shaped semiconductor film under the condition of atoms · cm −2 . Thus, a source region or a drain region 1717 of the p-channel TFT 1763 and a channel formation region 1718 are formed (FIG. 8B).

次に絶縁膜1700をエッチングしてゲート絶縁膜1721〜1723を形成する。これにより半導体膜の一部が露出する。   Next, the insulating film 1700 is etched to form gate insulating films 1721 to 1723. As a result, a part of the semiconductor film is exposed.

nチャネル型TFT1761及び1762となる島状半導体膜1507及び1508に、フォスフィン(PH)を用いて、印加電圧40〜80kV、例えば50kV、ドーズ量1.0×1015〜2.5×1016atoms・cm−2、例えば3.0×1015atoms・cm−2で、リン(P)を導入する。これによりnチャネル型TFT1761及び1762のチャネル形成領域1713及び1716、低濃度不純物領域1712及び1715、ソース領域又はドレイン領域1711及び1714が形成される(図8(B))。 An applied voltage of 40 to 80 kV, for example, 50 kV, a dose of 1.0 × 10 15 to 2.5 × 10 16 is applied to the island-shaped semiconductor films 1507 and 1508 to be the n-channel TFTs 1761 and 1762 by using phosphine (PH 3 ). Phosphorus (P) is introduced at atoms · cm −2 , for example, 3.0 × 10 15 atoms · cm −2 . Thus, channel formation regions 1713 and 1716, low-concentration impurity regions 1712 and 1715, and source or drain regions 1711 and 1714 of n-channel TFTs 1761 and 1762 are formed (FIG. 8B).

本実施の形態においては、nチャネル型TFT1761及び1762のソース領域又はドレイン領域1711及び1714のそれぞれには、1×1019〜5×1021atoms・cm−3の濃度でリン(P)が含まれることとなる。またnチャネル型TFT1761及び1762の低濃度不純物領域1712及び1715のそれぞれには、1×1018〜5×1019atoms・cm−3の濃度でリン(P)が含まれる。さらに、pチャネル型TFT1763のソース領域又はドレイン領域1717には、1×1019〜5×1021atoms・cm−3の濃度でボロン(B)が含まれる。 In this embodiment mode, the source or drain regions 1711 and 1714 of the n-channel TFTs 1761 and 1762 each contain phosphorus (P) at a concentration of 1 × 10 19 to 5 × 10 21 atoms · cm −3. Will be. Each of the low-concentration impurity regions 1712 and 1715 of the n-channel TFTs 1761 and 1762 contains phosphorus (P) at a concentration of 1 × 10 18 to 5 × 10 19 atoms · cm −3 . Further, the source region or the drain region 1717 of the p-channel TFT 1763 contains boron (B) at a concentration of 1 × 10 19 to 5 × 10 21 atoms · cm −3 .

本実施の形態においては、pチャネル型TFT1763は本両面射出型表示装置の画素TFTとして用いられる。またnチャネル型TFT1761及び1762は、画素TFT1763を駆動する駆動回路のTFTとして用いられる。ただし画素TFTは必ずしもpチャネル型TFTである必要はなく、nチャネル型TFTを用いてもよい。また駆動回路も複数のnチャネル型TFTを組み合わせた回路である必要はなく、nチャネル型TFTとpチャネル型TFTを相補的に組み合わせた回路、もしくは複数のpチャネル型TFTを組み合わせた回路であってもよい。   In this embodiment mode, the p-channel TFT 1762 is used as a pixel TFT of the dual emission display device. Further, the n-channel TFTs 1761 and 1762 are used as TFTs of a driving circuit that drives the pixel TFT 1762. However, the pixel TFT is not necessarily a p-channel TFT, and an n-channel TFT may be used. In addition, the driving circuit does not have to be a circuit in which a plurality of n-channel TFTs are combined. May be.

次に水素を含む絶縁膜1730を成膜する。水素を含む絶縁膜は、PCVD法により得られる窒素を含む酸化珪素膜を用いる。もしくは酸素を含む窒化珪素膜(SiNO膜)を用いてもよい。なお、水素を含む絶縁膜1730は、第1層間絶縁膜であり、酸化珪素を含んでいる透光性を有する絶縁膜である。   Next, an insulating film 1730 containing hydrogen is formed. As the insulating film containing hydrogen, a silicon oxide film containing nitrogen obtained by a PCVD method is used. Alternatively, a silicon nitride film containing oxygen (SiNO film) may be used. Note that the insulating film 1730 containing hydrogen is a first interlayer insulating film and a light-transmitting insulating film containing silicon oxide.

その後島状半導体膜に添加された不純物元素の活性化を行う。この不純物元素の活性化はレーザ光照射、RTA又は窒素雰囲気中550℃で4時間加熱して、不純物を活性化してもよい。また、結晶化を助長する金属元素、代表的にはニッケルを用いて半導体膜を結晶化させている場合、活性化と同時にチャネル形成領域におけるニッケルの低減を行うゲッタリングをも行うことができる。   Thereafter, the impurity element added to the island-like semiconductor film is activated. The activation of the impurity element may be performed by laser beam irradiation, RTA, or heating in a nitrogen atmosphere at 550 ° C. for 4 hours to activate the impurity. In the case where the semiconductor film is crystallized using a metal element that promotes crystallization, typically nickel, gettering that reduces nickel in the channel formation region at the same time as activation can be performed.

その後全体を410℃で1時間加熱することにより、島状半導体膜の水素化を行う。ただし上述のように窒素雰囲気中550℃で4時間などの加熱処理を行った場合には不要である。   Thereafter, the whole is heated at 410 ° C. for 1 hour to hydrogenate the island-shaped semiconductor film. However, it is not necessary when heat treatment is performed at 550 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere as described above.

次いで、第2層間絶縁膜1731となる平坦化膜を形成する。平坦化膜としては、透光性を有する無機材料(酸化珪素、窒化珪素、酸素を含む窒化珪素など)、感光性または非感光性の有機材料(ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、レジストまたはベンゾシクロブテン)、またはこれらの積層などを用いる。また、平坦化膜に用いる他の透光性を有する膜としては、塗布法によって得られるアルキル基を含むSiO膜からなる絶縁膜、例えばシリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシルセスキオキサンポリマー、水素化シルセスキオキサンポリマー、水素化アルキルシルセスキオキサンポリマーなどを用いて形成された絶縁膜を用いることができる。シロキサン系ポリマーの一例としては、東レ製塗布絶縁膜材料であるPSB−K1、PSB−K31や触媒化成製塗布絶縁膜材料であるZRS−5PHが挙げられる。 Next, a planarization film to be the second interlayer insulating film 1731 is formed. As the planarizing film, a light-transmitting inorganic material (silicon oxide, silicon nitride, silicon nitride containing oxygen, etc.), a photosensitive or non-photosensitive organic material (polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, resist or benzo Cyclobutene) or a laminate of these. In addition, other light-transmitting films used for the planarizing film include insulating films made of SiO x films containing alkyl groups obtained by a coating method, such as silica glass, alkylsiloxane polymers, alkylsilsesquioxane polymers, An insulating film formed using a hydrogenated silsesquioxane polymer, a hydrogenated alkylsilsesquioxane polymer, or the like can be used. Examples of the siloxane polymer include PSB-K1 and PSB-K31, which are Toray-made coating insulating film materials, and ZRS-5PH, which is a catalytic chemical coating insulating film material.

次いで、透光性を有する第3層間絶縁膜1732を形成する。第3層間絶縁膜1732は、後の工程で透明電極1750をエッチングする際、第2層間絶縁膜1731である平坦化膜を保護するためのエッチングストッパー膜として設けるものである。ただし、透明電極1750をエッチングする際、第2層間絶縁膜1731がエッチングストッパー膜となるのであれば第3層間絶縁膜1732は不要である。   Next, a third interlayer insulating film 1732 having a light-transmitting property is formed. The third interlayer insulating film 1732 is provided as an etching stopper film for protecting the planarizing film that is the second interlayer insulating film 1731 when the transparent electrode 1750 is etched in a later step. However, when the transparent electrode 1750 is etched, the third interlayer insulating film 1732 is not necessary if the second interlayer insulating film 1731 becomes an etching stopper film.

次いで、新たなマスクを用いて第1層間絶縁膜1730、第2層間絶縁膜1731及び第3層間絶縁膜1732にコンタクトホールを形成する。次いで、マスクを除去し、導電膜(窒化チタン、アルミニウム及び窒化チタンの積層膜)を形成した後、また別のマスクを用いてエッチング(BClとClとの混合ガスでのドライエッチング)を行い、電極又は配線1741〜1745(TFTのソース配線及びドレイン配線や、電流供給配線など)を形成する(図8(C))。ただし、本実施の形態では電極と配線を一体形成するが、電極と配線を別々に形成して、電気的に接続させてもよい。なお、窒化チタンは、高耐熱性平坦化膜との密着性が良好な材料の一つである。加えて、TFTのソース領域またはドレイン領域と良好なオーミックコンタクトを取るために窒化チタンのN含有量は44atomic%より少なくすることが好ましい。 Next, contact holes are formed in the first interlayer insulating film 1730, the second interlayer insulating film 1731, and the third interlayer insulating film 1732 using a new mask. Next, after removing the mask and forming a conductive film (a laminated film of titanium nitride, aluminum and titanium nitride), etching (dry etching with a mixed gas of BCl 3 and Cl 2 ) is performed using another mask. Then, electrodes or wirings 1741 to 1745 (TFT source wiring and drain wiring, current supply wiring, and the like) are formed (FIG. 8C). However, although the electrode and the wiring are integrally formed in this embodiment mode, the electrode and the wiring may be separately formed and electrically connected. Titanium nitride is one of materials that have good adhesion to the high heat resistant planarization film. In addition, the N content of titanium nitride is preferably less than 44 atomic% in order to make good ohmic contact with the source region or drain region of the TFT.

次いで、新たなマスクを用いて透明電極1750、即ち、有機発光素子の陽極を膜厚10nm〜800nmの範囲で形成する。透明電極1750としては、インジウム錫酸化物(ITO)の他、例えば、Si元素を含むインジウム錫酸化物や酸化インジウムに2〜20wt%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したターゲットを用いて形成されたIZO(Indium Zinc Oxide)などの仕事関数の高い(仕事関数4.0eV以上)透明導電材料を用いることができる(図9(A))。   Next, the transparent electrode 1750, that is, the anode of the organic light emitting element is formed in a thickness of 10 nm to 800 nm using a new mask. The transparent electrode 1750 was formed using, in addition to indium tin oxide (ITO), for example, a target in which 2 to 20 wt% zinc oxide (ZnO) was mixed with indium tin oxide containing Si element or indium oxide. A transparent conductive material having a high work function (work function of 4.0 eV or more) such as IZO (Indium Zinc Oxide) can be used (FIG. 9A).

次いで、新たなマスクを用いて透明電極1750の端部を覆う絶縁物1733(隔壁、障壁などと呼ばれる)を形成する。絶縁物1733としては、塗布法により得られる感光性または非感光性の有機材料(ポリイミド、アクリル、ポリアミド、ポリイミドアミド、レジストまたはベンゾシクロブテン)、またはSOG膜(例えば、アルキル基を含むSiO膜)を膜厚0.8μm〜1μmの範囲で用いる。 Next, an insulator 1733 (referred to as a partition wall, a barrier, or the like) that covers an end portion of the transparent electrode 1750 is formed using a new mask. As the insulator 1733, a photosensitive or non-photosensitive organic material (polyimide, acrylic, polyamide, polyimide amide, resist or benzocyclobutene) obtained by a coating method, or an SOG film (for example, an SiO x film containing an alkyl group) ) Is used in a thickness range of 0.8 μm to 1 μm.

次いで、発光素子を形成する第1の層1751、第2の層1752、第3の層1753、第4の層1754及び第5の層1755を、蒸着法または塗布法を用いて形成する。なお、発光素子の信頼性を向上させるため、有機化合物を含む層1751の形成前に真空加熱を行って脱気を行うことが好ましい。例えば、有機化合物材料の蒸着を行う前に、基板に含まれるガスを除去するために減圧雰囲気や不活性雰囲気で200℃〜300℃の加熱処理を行うことが望ましい。なお、層間絶縁膜と隔壁とを高耐熱性を有するSiO膜で形成した場合には、さらに高い加熱処理(例えば410℃)を加えることもできる。 Next, a first layer 1751, a second layer 1752, a third layer 1753, a fourth layer 1754, and a fifth layer 1755 that form a light-emitting element are formed by an evaporation method or a coating method. Note that in order to improve the reliability of the light-emitting element, it is preferable to perform deaeration by performing vacuum heating before the formation of the layer 1751 containing an organic compound. For example, before vapor deposition of the organic compound material, it is desirable to perform a heat treatment at 200 ° C. to 300 ° C. in a reduced pressure atmosphere or an inert atmosphere in order to remove gas contained in the substrate. In the case where the interlayer insulating film and the partition wall are formed of SiO x films having high heat resistance, higher heat treatment (for example, 410 ° C.) can be applied.

蒸着マスクを用いて選択的に透明電極1750上にモリブデン酸化物(MoOx)と、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(α−NPD)と、ルブレンとを共蒸着して有機化合物を含む層(第1の層)1751を形成する。   Molybdenum oxide (MoOx), 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (α-NPD) selectively on the transparent electrode 1750 using a vapor deposition mask Then, rubrene is co-evaporated to form a layer (first layer) 1751 containing an organic compound.

なお、MoOxの他、銅フタロシアニン(CuPC)やバナジウム酸化物(VOx)、
ルテニウム酸化物(RuOx)、タングステン酸化物(WOx)等の正孔注入性の高い材料を用いることができる。また、ポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)水溶液(PEDOT/PSS)等の正孔注入性の高い高分子材料を塗布法によって成膜したものを第1の層1751として用いてもよい。
In addition to MoOx, copper phthalocyanine (CuPC), vanadium oxide (VOx),
A material having a high hole-injection property such as ruthenium oxide (RuOx) or tungsten oxide (WOx) can be used. In addition, a material in which a high hole-injection polymer material such as poly (ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulfonic acid) aqueous solution (PEDOT / PSS) is used as a first layer 1751 is formed by a coating method. Also good.

次いで、蒸着マスクを用いて選択的にα−NPDを蒸着し、第1の層1751の上に正孔輸送層(第2の層)1752を形成する。なお、α−NPDの他、4,4’−ビス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−ビフェニル(略称:TPD)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニル−アミノ]−トリフェニルアミン(略称:MTDATA)等の芳香族アミン系化合物に代表される正孔輸送性の高い材料を用いることができる。   Next, α-NPD is selectively deposited using a deposition mask, so that a hole-transporting layer (second layer) 1752 is formed over the first layer 1751. In addition to α-NPD, 4,4′-bis [N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -biphenyl (abbreviation: TPD), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N , N-diphenyl-amino) -triphenylamine (abbreviation: TDATA), 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenyl-amino] -triphenylamine (abbreviation: A material having a high hole transporting property typified by an aromatic amine compound such as MTDATA) can be used.

次いで、選択的に発光層1753(第3の層)を形成する。フルカラー表示装置とするためには発光色(R、G、B)ごとに蒸着マスクのアライメントを行ってそれぞれ選択的に蒸着する。   Next, a light-emitting layer 1753 (third layer) is selectively formed. In order to obtain a full-color display device, the vapor deposition mask is aligned for each of the emission colors (R, G, B) to selectively deposit each.

赤色の発光を示す発光層1753Rとしては、Alq:DCM、またはAlq:ルブレン:BisDCJTMなどの材料を用いる。また、緑色の発光を示す発光層1753Gとしては、Alq:DMQD(N,N’−ジメチルキナクリドン)、またはAlq:クマリン6などの材料を用いる。また、青色の発光を示す発光層1753Bとしては、α―NPD、またはtBu−DNAなどの材料を用いる。 For the light-emitting layer 1753R that emits red light, a material such as Alq 3 : DCM or Alq 3 : rubrene: BisDCJTM is used. For the light-emitting layer 1753G that emits green light, a material such as Alq 3 : DMQD (N, N′-dimethylquinacridone) or Alq 3 : coumarin 6 is used. For the light-emitting layer 1753B that emits blue light, a material such as α-NPD or tBu-DNA is used.

次いで、蒸着マスクを用いて選択的にAlq(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム)を蒸着し、発光層1753上に電子輸送層(第4の層)1754を形成する。なお、Alqの他、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]−キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−4−フェニルフェノラト−アルミニウム(略称:BAlq)等のキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等に代表される電子輸送性の高い材料を用いることができる。また、この他ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX))、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)−ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ))などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)なども電子輸送性が高いため、電子輸送層1754として用いることができる。 Next, Alq 3 (tris (8-quinolinolato) aluminum) is selectively evaporated using an evaporation mask, so that an electron-transporting layer (fourth layer) 1754 is formed over the light-emitting layer 1753. In addition to Alq 3 , tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h] -quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl) A material having a high electron transport property typified by a metal complex having a quinoline skeleton such as -8-quinolinolato) -4-phenylphenolato-aluminum (abbreviation: BAlq) or a benzoquinoline skeleton can be used. In addition, bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzoxazolate] zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) -benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn ( A metal complex having an oxazole-based or thiazole-based ligand such as BTZ) 2 ) can also be used. In addition to metal complexes, 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (abbreviation: PBD), 1,3-bis [5 -(P-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5 (4-Biphenylyl) -1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2 1, 4-triazole (abbreviation: p-EtTAZ), bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), bathocuproin (abbreviation: BCP), and the like can also be used as the electron-transport layer 1754 because of their high electron-transport properties.

次いで、4,4−ビス(5−メチルベンズオキサゾル−2−イル)スチルベン(略称:BzOs)とリチウム(Li)とを共蒸着し、電子輸送層および絶縁物を覆って全面に電子注入層(第5の層)1755を形成する。ベンゾオキサゾール誘導体(BzOS)を用いることで、後の工程に行われる透明電極1756形成時におけるスパッタ法に起因する損傷を抑制している。なお、BzOs:Li以外に、CaF、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)等のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属の化合物等の電子注入性の高い材料を用いることができる。また、この他、Alqとマグネシウム(Mg)とを混合したものも用いることができる。 Next, 4,4-bis (5-methylbenzoxazol-2-yl) stilbene (abbreviation: BzOs) and lithium (Li) are co-evaporated to cover the electron transport layer and the insulator, and an electron injection layer is formed over the entire surface. (Fifth layer) 1755 is formed. By using the benzoxazole derivative (BzOS), damage due to the sputtering method at the time of forming the transparent electrode 1756 performed in a later process is suppressed. In addition to BzOs: Li, a material having a high electron-injection property such as an alkali metal or alkaline earth metal compound such as CaF 2 , lithium fluoride (LiF), and cesium fluoride (CsF) can be used. . In addition, a mixture of Alq 3 and magnesium (Mg) can also be used.

次に、電子注入層(第5の層)1755の上に透明電極1756、即ち、有機発光素子の陰極を膜厚10nm〜800nmの範囲で形成する。透明電極1756としては、インジウム錫酸化物(ITO)の他、例えば、Si元素を含むインジウム錫酸化物や酸化インジウムに2〜20wt%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したターゲットを用いて形成されたIZO(Indium Zinc Oxide)を用いることができる。   Next, a transparent electrode 1756, that is, a cathode of the organic light emitting element is formed in a thickness range of 10 nm to 800 nm on the electron injection layer (fifth layer) 1755. In addition to indium tin oxide (ITO), the transparent electrode 1756 is formed using, for example, a target in which 2 to 20 wt% zinc oxide (ZnO) is mixed with indium tin oxide containing Si element or indium oxide. IZO (Indium Zinc Oxide) can be used.

以上のようにして、発光素子が作製される。発光素子を構成する陽極、有機化合物を含む層(第1の層〜第5の層)、および陰極の各材料は適宜選択し、各膜厚も調整する。陽極と陰極とで同じ材料を用い、且つ、同程度の膜厚、好ましくは100nm程度の薄い膜厚とすることが望ましい。   As described above, a light emitting element is manufactured. The materials for the anode, the layer containing the organic compound (first to fifth layers), and the cathode constituting the light-emitting element are appropriately selected, and the thicknesses of the materials are also adjusted. It is desirable that the same material is used for the anode and the cathode, and the film thickness is approximately the same, preferably approximately 100 nm.

また、必要であれば、発光素子を覆って、水分の侵入を防ぐ透明保護層1757を形成する。透明保護層1757としては、スパッタ法またはCVD法により得られる窒化珪素膜、酸化珪素膜、酸素を含む窒化珪素膜(SiN膜(x>y>0))または窒素を含む酸化珪素膜(SiO膜(x>y>0))、炭素を主成分とする薄膜(例えばDLC膜、CN膜)などを用いることができる(図9(B))。 Further, if necessary, a transparent protective layer 1757 which covers the light emitting element and prevents moisture from entering is formed. As the transparent protective layer 1757, a silicon nitride film, a silicon oxide film, a silicon nitride film containing oxygen (SiN x O y film (x>y> 0)) or a silicon oxide film containing nitrogen obtained by a sputtering method or a CVD method is used. (SiO x N y film (x>y> 0)), a thin film mainly containing carbon (for example, a DLC film or a CN film), or the like can be used (FIG. 9B).

次いで、基板間隔を確保するためのギャップ材を含有するシール材を用い、第2の基板1770と基板1500とを貼り合わせる。第2の基板1770も、光透過性を有するガラス基板や石英基板を用いればよい。なお、一対の基板の間は、空隙(不活性気体)として乾燥剤を配置してもよいし、透明なシール材(紫外線硬化または熱硬化のエポキシ樹脂など)を一対の基板間に充填してもよい(図10)。   Next, the second substrate 1770 and the substrate 1500 are attached to each other using a sealant containing a gap material for securing the gap between the substrates. The second substrate 1770 may also be a light-transmitting glass substrate or quartz substrate. In addition, a desiccant may be disposed as a gap (inert gas) between the pair of substrates, or a transparent sealing material (such as an ultraviolet curing or thermosetting epoxy resin) is filled between the pair of substrates. (FIG. 10).

発光素子は、透明電極1750、1756が透光性材料で形成されるため、一つの発光素子から2方向、即ち両面側から採光することができる。   In the light emitting element, since the transparent electrodes 1750 and 1756 are formed of a light-transmitting material, light can be taken from one light emitting element in two directions, that is, from both sides.

以上に示すパネル構成とすることで上面からの発光と、下面からの発光とでほぼ同一とすることができる。   With the panel configuration described above, light emission from the upper surface and light emission from the lower surface can be made substantially the same.

最後に光学フィルム(偏光板、または円偏光板)1771、1772を設けてコントラストを向上させる(図10)。   Finally, optical films (polarizing plates or circularly polarizing plates) 1771 and 1772 are provided to improve contrast (FIG. 10).

図11に発光色(R、G、B)ごとの発光素子の断面図を示す。赤色(R)の発光素子は、画素TFT1763R、透明電極(陽極)1750R、第1の層1751R、第2の層(正孔輸送層)1752R、第3の層(発光層)1753R、第4の層(電子輸送層)1754R、第5の層(電子注入層)1755、透明電極(陰極)1756、透明保護層1757を有している。   FIG. 11 is a cross-sectional view of a light emitting element for each emission color (R, G, B). The red (R) light-emitting element includes a pixel TFT 1763R, a transparent electrode (anode) 1750R, a first layer 1751R, a second layer (hole transport layer) 1752R, a third layer (light-emitting layer) 1753R, and a fourth layer. A layer (electron transport layer) 1754R, a fifth layer (electron injection layer) 1755, a transparent electrode (cathode) 1756, and a transparent protective layer 1757;

また、緑色(G)の発光素子は、画素TFT1763G、透明電極(陽極)1750G、第1の層1751G、第2の層(正孔輸送層)1752G、第3の層(発光層)1753G、第4の層(電子輸送層)1754G、第5の層(電子注入層)1755、透明電極(陰極)1756、透明保護層1757を有している。   The green (G) light-emitting element includes a pixel TFT 1763G, a transparent electrode (anode) 1750G, a first layer 1751G, a second layer (hole transport layer) 1752G, a third layer (light-emitting layer) 1753G, A fourth layer (electron transport layer) 1754G, a fifth layer (electron injection layer) 1755, a transparent electrode (cathode) 1756, and a transparent protective layer 1757.

さらに、青色(B)の発光素子は、画素TFT1763B、透明電極(陽極)1750B、第1の層1751B、第2の層(正孔輸送層)1752B、第3の層(発光層)1753B、第4の層(電子輸送層)1754B、第5の層(電子注入層)1755、透明電極(陰極)1756、透明保護層1757を有している。   Further, the blue (B) light-emitting element includes a pixel TFT 1763B, a transparent electrode (anode) 1750B, a first layer 1751B, a second layer (hole transport layer) 1752B, a third layer (light-emitting layer) 1753B, A fourth layer (electron transport layer) 1754B, a fifth layer (electron injection layer) 1755, a transparent electrode (cathode) 1756, and a transparent protective layer 1757.

なお、本実施の形態では、TFTをトップゲート型TFTとしたが、この構造に限定されるものではなく、適宜ボトムゲート型(逆スタガ型)TFTや、スタガ型TFTを用いることが可能である。また、シングルゲート構造のTFTに限定されず、複数のチャネル形成領域を有するマルチゲート型TFT、例えばダブルゲート型TFTとしてもよい。   Note that in this embodiment mode, the TFT is a top gate type TFT, but the present invention is not limited to this structure, and a bottom gate type (reverse stagger type) TFT or a stagger type TFT can be used as appropriate. . Further, the TFT is not limited to a single-gate TFT, and may be a multi-gate TFT having a plurality of channel formation regions, for example, a double-gate TFT.

(実施の形態4)
本発明が適用される電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。それらの電子機器の具体例を以下に示す。
(Embodiment 4)
As an electronic device to which the present invention is applied, a video camera, a digital camera, a goggle type display, a navigation system, a sound reproduction device (car audio component, etc.), a computer, a game device, a portable information terminal (mobile computer, cellular phone, portable type) A game machine or an electronic book), an image playback device provided with a recording medium (specifically, a device provided with a display capable of playing back a recording medium such as a Digital Versatile Disc (DVD) and displaying the image). It is done. Specific examples of these electronic devices are shown below.

図12は表示パネル5001と、回路基板5011を組み合わせた液晶モジュールもしくはELモジュールを示している。回路基板5011には、コントロール回路5012や信号分割回路5013などが形成されており、接続配線5014によって表示パネル5001と電気的に接続されている。   FIG. 12 shows a liquid crystal module or an EL module in which a display panel 5001 and a circuit board 5011 are combined. A circuit board 5011 is provided with a control circuit 5012, a signal dividing circuit 5013, and the like, and is electrically connected to the display panel 5001 through a connection wiring 5014.

この表示パネル5001には、複数の画素が設けられた画素部5002と、走査線駆動回路5003、選択された画素にビデオ信号を供給する信号線駆動回路5004を備えている。なおELモジュールを作製する場合は上記実施形態を用いて表示パネル5001を作製すればよい。またELだけでなく、液晶モジュールを用いることも可能である。また、走査線駆動回路5003や信号線駆動回路5004等制御用駆動回路部を、上記実施の形態に記載したものを用いることが可能である。図12に示す液晶モジュールもしくはELモジュールにより液晶テレビ受像機又はELテレビ受像機を完成させることができる。   The display panel 5001 includes a pixel portion 5002 provided with a plurality of pixels, a scanning line driver circuit 5003, and a signal line driver circuit 5004 for supplying a video signal to the selected pixel. Note that in the case of manufacturing an EL module, the display panel 5001 may be manufactured using the above embodiment mode. Further, not only EL but also a liquid crystal module can be used. In addition, the control driver circuit portions such as the scan line driver circuit 5003 and the signal line driver circuit 5004 which are described in the above embodiment modes can be used. A liquid crystal television receiver or an EL television receiver can be completed with the liquid crystal module or the EL module shown in FIG.

図13は、液晶テレビ受像機もしくはELテレビ受像機の主要な構成を示すブロック図である。チューナ5101は映像信号と音声信号を受信する。映像信号は、映像信号増幅回路5102と、そこから出力される信号を赤、緑、青の各色に対応した色信号に変換する映像信号処理回路5103と、その映像信号をドライバICの入力仕様に変換するためのコントロール回路5012により処理される。コントロール回路5012は、走査線側と信号線側にそれぞれ信号が出力する。デジタル駆動する場合には、信号線側に信号分割回路5013を設け、入力デジタル信号をm個に分割して供給する構成としても良い。   FIG. 13 is a block diagram illustrating a main configuration of a liquid crystal television receiver or an EL television receiver. A tuner 5101 receives a video signal and an audio signal. The video signal includes a video signal amplifying circuit 5102, a video signal processing circuit 5103 that converts a signal output from the video signal into a color signal corresponding to each color of red, green, and blue, and the video signal as input specifications of the driver IC. Processing is performed by a control circuit 5012 for conversion. The control circuit 5012 outputs a signal to each of the scanning line side and the signal line side. In the case of digital driving, a signal dividing circuit 5013 may be provided on the signal line side so that an input digital signal is divided into m pieces and supplied.

チューナ5101で受信した信号のうち、音声信号は音声信号増幅回路5105に送られ、その出力は音声信号処理回路5106を経てスピーカー5107に供給される。制御回路5108は受信局(受信周波数)や音量の制御情報を入力部5109から受け、チューナ5101や音声信号処理回路5106に信号を送出する。   Of the signals received by the tuner 5101, the audio signal is sent to the audio signal amplifier circuit 5105, and the output is supplied to the speaker 5107 through the audio signal processing circuit 5106. The control circuit 5108 receives control information on the receiving station (reception frequency) and volume from the input unit 5109 and sends a signal to the tuner 5101 and the audio signal processing circuit 5106.

図14(A)に示すように、液晶モジュールもしくはELモジュールを筐体5201に組みこんで、テレビ受像機を完成させることができる。液晶モジュールもしくはELモジュールにより、表示画面5202が形成される。また、スピーカー5203、操作スイッチ5204などが適宜備えられている。   As shown in FIG. 14A, a television receiver can be completed by incorporating a liquid crystal module or an EL module into a housing 5201. A display screen 5202 is formed by a liquid crystal module or an EL module. In addition, a speaker 5203, an operation switch 5204, and the like are provided as appropriate.

また図14(B)に、ワイヤレスでディスプレイのみを持ち運び可能なテレビ受像器を示す。筐体5212にはバッテリー及び信号受信器が内蔵されており、そのバッテリーで表示部5213やスピーカー部5217を駆動させる。バッテリーは充電器5210で繰り返し充電が可能となっている。また、充電器5210は映像信号を送受信することが可能で、その映像信号をディスプレイの信号受信器に送信することでができる。筐体5212は操作キー5216によって制御する。また、図14(B)に示す装置は、操作キー5216を操作することによって、筐体5212から充電器5210に信号を送ることも可能であるため映像音声双方向通信装置とも言える。また、操作キー5216を操作することによって、筐体5212から充電器5210に信号を送り、さらに充電器5210が送信できる信号を他の電子機器に受信させることによって、他の電子機器の通信制御も可能であり、汎用遠隔制御装置とも言える。本発明は表示部5213及び制御用回路部等に適用することができる。   FIG. 14B shows a television receiver that can carry only a display wirelessly. A housing and a signal receiver are incorporated in the housing 5212, and the display portion 5213 and the speaker portion 5217 are driven by the battery. The battery can be repeatedly charged by a charger 5210. The charger 5210 can transmit and receive a video signal, and can transmit the video signal to a signal receiver of the display. The housing 5212 is controlled by operation keys 5216. The device illustrated in FIG. 14B can also be referred to as a video / audio two-way communication device because a signal can be sent from the housing 5212 to the charger 5210 by operating the operation key 5216. In addition, by operating the operation key 5216, a signal is transmitted from the housing 5212 to the charger 5210, and further, a signal that can be transmitted by the charger 5210 is received by another electronic device, thereby controlling communication of the other electronic device. It can be said to be a general-purpose remote control device. The present invention can be applied to the display portion 5213, a control circuit portion, and the like.

本発明を図12〜図14に示すテレビ受像器に使用することにより、低消費電力のテレビ受像器を作製することができる。   By using the present invention for the television receiver shown in FIGS. 12 to 14, a television receiver with low power consumption can be manufactured.

勿論、本発明はテレビ受像機に限定されず、パーソナルコンピュータのモニタをはじめ、鉄道の駅や空港などにおける情報表示盤や、街頭における広告表示盤など特に大面積の表示媒体として様々な用途に適用することができる。   Of course, the present invention is not limited to a television receiver, and is applied to various uses as a display medium of a particularly large area such as a monitor of a personal computer, an information display board in a railway station or airport, an advertisement display board in a street, etc. can do.

図15(A)は表示パネル5301とプリント配線基板5302を組み合わせたモジュールを示している。表示パネル5301は、複数の画素が設けられた画素部5303と、第1の走査線駆動回路5304、第2の走査線駆動回路5305と、選択された画素にビデオ信号を供給する信号線駆動回路5306を備えている。信号線駆動回路は上記実施の形態に記載したものを用いることが可能である。   FIG. 15A shows a module in which a display panel 5301 and a printed wiring board 5302 are combined. The display panel 5301 includes a pixel portion 5303 provided with a plurality of pixels, a first scan line driver circuit 5304, a second scan line driver circuit 5305, and a signal line driver circuit that supplies a video signal to the selected pixel. 5306 is provided. The signal line driver circuit described in any of the above embodiments can be used.

プリント配線基板5302には、コントローラ5307、中央処理装置(CPU)5308、メモリ5309、電源回路5310、音声処理回路5311及び送受信回路5312などが備えられている。プリント配線基板5302と表示パネル5301は、フレキシブル配線基板(FPC)5313により接続されている。プリント配線基板5302には、容量素子、バッファ回路などを設け、電源電圧や信号にノイズがのったり、信号の立ち上がりが鈍ったりすることを防ぐ構成としても良い。また、コントローラ5307、音声処理回路5311、メモリ5309、CPU5308、電源回路5310などは、COG(Chip On Glass)方式を用いて表示パネル5301に実装することもできる。COG方式により、プリント配線基板5302の規模を縮小することができる。   The printed wiring board 5302 is provided with a controller 5307, a central processing unit (CPU) 5308, a memory 5309, a power supply circuit 5310, an audio processing circuit 5311, a transmission / reception circuit 5312, and the like. The printed wiring board 5302 and the display panel 5301 are connected by a flexible wiring board (FPC) 5313. The printed wiring board 5302 may be provided with a capacitor, a buffer circuit, or the like so that noise is added to the power supply voltage or the signal or the rise of the signal is not slowed. The controller 5307, the audio processing circuit 5311, the memory 5309, the CPU 5308, the power supply circuit 5310, and the like can be mounted on the display panel 5301 using a COG (Chip On Glass) method. The scale of the printed wiring board 5302 can be reduced by the COG method.

プリント配線基板5302に備えられたインターフェース(I/F)5314を介して、各種制御信号の入出力が行われる。また、アンテナとの間の信号の送受信を行なうためのアンテナ用ポート5315が、プリント配線基板5302に設けられている。   Various control signals are input and output through an interface (I / F) 5314 provided in the printed wiring board 5302. An antenna port 5315 for transmitting and receiving signals to and from the antenna is provided on the printed wiring board 5302.

図15(B)は、図15(A)に示したモジュールのブロック図を示す。このモジュールは、メモリ5309としてVRAM5316、DRAM5317、フラッシュメモリ5318などが含まれている。VRAM5316にはパネルに表示する画像のデータが、DRAM5317には画像データまたは音声データが、フラッシュメモリ5318には各種プログラムが記憶されている。   FIG. 15B shows a block diagram of the module shown in FIG. This module includes a VRAM 5316, a DRAM 5317, a flash memory 5318, and the like as the memory 5309. The VRAM 5316 stores image data to be displayed on the panel, the DRAM 5317 stores image data or audio data, and the flash memory 5318 stores various programs.

電源回路5310は、表示パネル5301、コントローラ5307、CPU5308、音声処理回路5311、メモリ5309、送受信回路5312を動作させる電力を供給するように接続されている。またパネルの仕様によっては、電源回路5310に電流源が備えられている場合もある。   The power supply circuit 5310 is connected to supply power for operating the display panel 5301, the controller 5307, the CPU 5308, the sound processing circuit 5311, the memory 5309, and the transmission / reception circuit 5312. Depending on the specifications of the panel, the power supply circuit 5310 may be provided with a current source.

CPU5308は、制御信号生成回路5320、デコーダ5321、レジスタ5322、演算回路5323、RAM5324、CPU5308用のインターフェース5319などを有している。インターフェース5319を介してCPU5308に入力された各種信号は、一旦レジスタ5322に保持された後、演算回路5323、デコーダ5321などに入力される。演算回路5323では、入力された信号に基づき演算を行ない、各種命令を送る場所を指定する。一方デコーダ5321に入力された信号はデコードされ、制御信号生成回路5320に入力される。制御信号生成回路5320は入力された信号に基づき、各種命令を含む信号を生成し、演算回路5323において指定された場所、具体的にはメモリ5309、送受信回路5312、音声処理回路5311、コントローラ5307などに送る。   The CPU 5308 includes a control signal generation circuit 5320, a decoder 5321, a register 5322, an arithmetic circuit 5323, a RAM 5324, an interface 5319 for the CPU 5308, and the like. Various signals input to the CPU 5308 through the interface 5319 are temporarily held in the register 5322 and then input to the arithmetic circuit 5323, the decoder 5321, and the like. The arithmetic circuit 5323 performs an operation based on the input signal and designates a place to send various commands. On the other hand, the signal input to the decoder 5321 is decoded and input to the control signal generation circuit 5320. The control signal generation circuit 5320 generates a signal including various instructions based on the input signal, and a location designated by the arithmetic circuit 5323, specifically, a memory 5309, a transmission / reception circuit 5312, an audio processing circuit 5311, a controller 5307, and the like. Send to.

メモリ5309、送受信回路5312、音声処理回路5311、コントローラ5307は、それぞれ受けた命令に従って動作する。以下その動作について簡単に説明する。   The memory 5309, the transmission / reception circuit 5312, the sound processing circuit 5311, and the controller 5307 operate according to the received commands. The operation will be briefly described below.

ポインティングデバイスやキーボードなどの入力手段5325から入力された信号は、インターフェース(I/F)5314を介してプリント配線基板5302に実装されたCPU5308に送られる。制御信号生成回路5320は、ポインティングデバイスやキーボードなどの入力手段5325から送られてきた信号に従い、VRAM5316に格納してある画像データを所定のフォーマットに変換し、コントローラ5307に送付する。   A signal input from an input unit 5325 such as a pointing device or a keyboard is sent to a CPU 5308 mounted on a printed wiring board 5302 via an interface (I / F) 5314. The control signal generation circuit 5320 converts the image data stored in the VRAM 5316 into a predetermined format according to a signal sent from the input unit 5325 such as a pointing device or a keyboard, and sends the image data to the controller 5307.

コントローラ5307は、パネルの仕様に合わせてCPU5308から送られてきた画像データを含む信号にデータ処理を施し、表示パネル5301に供給する。またコントローラ5307は、電源回路5310から入力された電源電圧やCPU5308から入力された各種信号をもとに、Hsync信号(Horizontal Synchronizing signal)、Vsync信号(Vertical Synchronizing signal)、クロック信号CLK、交流電圧(AC Cont)、切り替え信号L/Rを生成し、表示パネル5301に供給する。   The controller 5307 performs data processing on a signal including image data sent from the CPU 5308 in accordance with the specifications of the panel, and supplies the processed signal to the display panel 5301. In addition, the controller 5307 generates an Hsync signal (Horizontal Synchronizing signal), a Vsync signal (Vertical Synchronizing signal), a clock signal CLK, an AC signal, an AC signal based on the power supply voltage input from the power supply circuit 5310 and various signals input from the CPU 5308. AC Cont) and a switching signal L / R are generated and supplied to the display panel 5301.

送受信回路5312では、アンテナ5328において電波として送受信される信号が処理されており、具体的にはアイソレータ、バンドパスフィルタ、VCO(Voltage Controlled Oscillator)、LPF(Low Pass Filter)、カプラ、バランなどの高周波回路を含んでいる。送受信回路5312において送受信される信号のうち音声情報を含む信号が、CPU5308からの命令に従って、音声処理回路5311に送られる。   In the transmission / reception circuit 5312, signals transmitted / received as radio waves in the antenna 5328 are processed. Specifically, high-frequency signals such as an isolator, a band-pass filter, a VCO (Voltage Controlled Oscillator), an LPF (Low Pass Filter), a coupler, and a balun. Includes circuitry. A signal including audio information among signals transmitted and received in the transmission / reception circuit 5312 is sent to the audio processing circuit 5311 in accordance with a command from the CPU 5308.

CPU5308の命令に従って送られてきた音声情報を含む信号は、音声処理回路5311において音声信号に復調され、スピーカー5327に送られる。またマイク5326から送られてきた音声信号は、音声処理回路5311において変調され、CPU5308からの命令に従って、送受信回路5312に送られる。   A signal including audio information sent in accordance with a command from the CPU 5308 is demodulated into an audio signal by the audio processing circuit 5311 and sent to the speaker 5327. An audio signal sent from the microphone 5326 is modulated in the audio processing circuit 5311 and sent to the transmission / reception circuit 5312 in accordance with a command from the CPU 5308.

コントローラ5307、CPU5308、電源回路5310、音声処理回路5311、メモリ5309を、本実施の形態のパッケージとして実装することができる。本実施の形態は、アイソレータ、バンドパスフィルタ、VCO(Voltage Controlled Oscillator)、LPF(Low Pass Filter)、カプラ、バランなどの高周波回路以外であれば、どのような回路にも応用することができる。   The controller 5307, the CPU 5308, the power supply circuit 5310, the sound processing circuit 5311, and the memory 5309 can be mounted as a package of this embodiment mode. This embodiment can be applied to any circuit other than a high-frequency circuit such as an isolator, a band-pass filter, a VCO (Voltage Controlled Oscillator), an LPF (Low Pass Filter), a coupler, and a balun.

図16は、図15(A)〜図15(B)に示すモジュールを含む携帯電話機の一態様を示している。表示パネル5301はハウジング5330に脱着自在に組み込まれる。ハウジング5330は表示パネル5301のサイズに合わせて、形状や寸法を適宜変更することができる。表示パネル5301を固定したハウジング5330はプリント基板5331に嵌着されモジュールとして組み立てられる。   FIG. 16 illustrates one mode of a mobile phone including the module illustrated in FIGS. 15A to 15B. The display panel 5301 is incorporated in a housing 5330 so as to be detachable. The shape and size of the housing 5330 can be changed as appropriate in accordance with the size of the display panel 5301. The housing 5330 to which the display panel 5301 is fixed is fitted to the printed board 5331 and assembled as a module.

表示パネル5301はFPC5313を介してプリント基板5331に接続される。プリント基板5331には、スピーカー5332、マイクロフォン5333、送受信回路5334、CPU及びコントローラなどを含む信号処理回路5335が形成されている。このようなモジュールと、入力手段5336、バッテリー5337、アンテナ5340を組み合わせ、筐体5339に収納する。表示パネル5301の画素部は筐体5339に形成された開口窓から視認できように配置する。   The display panel 5301 is connected to the printed board 5331 through the FPC 5313. A signal processing circuit 5335 including a speaker 5332, a microphone 5333, a transmission / reception circuit 5334, a CPU, a controller, and the like is formed over the printed circuit board 5331. Such a module is combined with the input means 5336, the battery 5337, and the antenna 5340 and stored in the housing 5339. The pixel portion of the display panel 5301 is arranged so that it can be seen from an opening window formed in the housing 5339.

本実施の形態に係る携帯電話機は、その機能や用途に応じてさまざまな態様に変容し得る。例えば、表示パネルを複数備えたり、筐体を適宜複数に分割して蝶番により開閉式とした構成としても、上記した作用効果を奏することができる。   The mobile phone according to the present embodiment can be transformed into various modes depending on the function and application. For example, the above-described effects can be obtained even when a plurality of display panels are provided, or the housing is divided into a plurality of cases and is opened and closed by a hinge.

本発明を図15に示すモジュール、図16に示す携帯電話に使用することにより、低消費電力の携帯電話等を作製することができる。   By using the present invention for the module shown in FIG. 15 and the mobile phone shown in FIG. 16, a mobile phone with low power consumption can be manufactured.

図17(A)は液晶ディスプレイもしくはOLEDディスプレイであり、筐体6001、支持台6002、表示部6003などによって構成されている。図12に示す液晶モジュールもしくはELモジュール、図15(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6003に適用が可能である。   FIG. 17A illustrates a liquid crystal display or an OLED display, which includes a housing 6001, a support base 6002, a display portion 6003, and the like. The structure of the liquid crystal module or the EL module illustrated in FIG. 12 and the display panel illustrated in FIG. 15A can be used for the display portion 6003.

本発明を使用することにより、低消費電力のディスプレイを作製することができる。   By using the present invention, a display with low power consumption can be manufactured.

図17(B)はコンピュータであり、本体6101、筐体6102、表示部6103、キーボード6104、外部接続ポート6105、ポインティングマウス6106等を含む。図12に示す液晶モジュールもしくはELモジュール、図15(A)に示す表示パネルの構成を、表示部6103に適用することができる。   FIG. 17B illustrates a computer, which includes a main body 6101, a housing 6102, a display portion 6103, a keyboard 6104, an external connection port 6105, a pointing mouse 6106, and the like. The structure of the liquid crystal module or the EL module illustrated in FIG. 12 and the display panel illustrated in FIG. 15A can be applied to the display portion 6103.

本発明を使用することにより、低消費電力のコンピュータを作製することができる。   By using the present invention, a computer with low power consumption can be manufactured.

図17(C)は携帯可能なコンピュータであり、本体6201、表示部6202、スイッチ6203、操作キー6204、赤外線ポート6205等を含む。図12に示す液晶モジュールもしくはELモジュール、図15(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6202に適用することができる。   FIG. 17C illustrates a portable computer, which includes a main body 6201, a display portion 6202, a switch 6203, operation keys 6204, an infrared port 6205, and the like. The structure of the liquid crystal module or the EL module illustrated in FIG. 12 and the display panel illustrated in FIG. 15A can be used for the display portion 6202.

本発明を使用することにより、低消費電力のコンピュータを作製することができる。   By using the present invention, a computer with low power consumption can be manufactured.

図17(D)は携帯型のゲーム機であり、筐体6301、表示部6302、スピーカー部6303、操作キー6304、記録媒体挿入部6305等を含む。図12に示す液晶モジュールもしくはELモジュール、図15(A)に示す表示パネルの構成を用いて、表示部6302に適用することができる。   FIG. 17D illustrates a portable game machine including a housing 6301, a display portion 6302, speaker portions 6303, operation keys 6304, a recording medium insertion portion 6305, and the like. The structure of the liquid crystal module or the EL module illustrated in FIG. 12 and the display panel illustrated in FIG. 15A can be used for the display portion 6302.

本発明を使用することにより、低消費電力のゲーム機を作製することができる。   By using the present invention, a game machine with low power consumption can be manufactured.

図17(E)は記録媒体を備えた携帯型の画像再生装置(具体的にはDVD再生装置)であり、本体6401、筐体6402、表示部A6403、表示部B6404、記録媒体(DVD等)読込部6405、操作キー6406、スピーカー部6407等を含む。表示部A6403は主として画像情報を表示し、表示部B6404は主として文字情報を表示する。図12に示す液晶モジュールもしくはELモジュール、図15(A)に示す表示パネルの構成を、表示部A6403、表示部B6404及び制御用回路部等に適用することができる。なお、記録媒体を備えた画像再生装置には家庭用ゲーム機器なども含まれる。   FIG. 17E illustrates a portable image reproducing device (specifically, a DVD reproducing device) provided with a recording medium, which includes a main body 6401, a housing 6402, a display portion A 6403, a display portion B 6404, and a recording medium (such as a DVD). A reading unit 6405, operation keys 6406, a speaker unit 6407, and the like are included. The display portion A 6403 mainly displays image information, and the display portion B 6404 mainly displays character information. The structure of the liquid crystal module or the EL module illustrated in FIG. 12 and the display panel illustrated in FIG. 15A can be applied to the display portion A 6403, the display portion B 6404, a control circuit portion, and the like. Note that an image reproducing device provided with a recording medium includes a home game machine and the like.

本発明を使用することにより、低消費電力の画像再生装置を作製することができる。   By using the present invention, an image reproducing device with low power consumption can be manufactured.

これらの電子機器に使われる表示装置は、大きさや強度、または使用目的に応じて、ガラス基板だけでなく耐熱性のプラスチック基板を用いることも可能である。それによって軽量化を図ることができる。   Display devices used in these electronic devices can use not only a glass substrate but also a heat-resistant plastic substrate depending on the size, strength, or purpose of use. As a result, the weight can be reduced.

なお、本実施の形態に示した例はごく一例であり、これらの用途に限定するものではないことを付記する。   Note that the example shown in the present embodiment is only an example, and is not limited to these applications.

また本実施の形態は、上記実施の形態のいかなる記載とも自由に組み合せて実施することが可能である。   This embodiment mode can be implemented freely combining with any description in the above embodiment modes.

本発明の一実施形態の回路図を示す図。The figure which shows the circuit diagram of one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態のタイミングチャートを示す図。The figure which shows the timing chart of one Embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態の回路図を示す図。The figure which shows the circuit diagram of other embodiment of this invention. 本発明の他の実施形態のタイミングチャートを示す図。The figure which shows the timing chart of other embodiment of this invention. 従来の線順次方式の表示装置の構成を示す図。The figure which shows the structure of the conventional line sequential type display apparatus. 表示パターンを示す図。The figure which shows a display pattern. EL表示装置の作製工程を説明する図。8A and 8B illustrate a manufacturing process of an EL display device. EL表示装置の作製工程を説明する図。8A and 8B illustrate a manufacturing process of an EL display device. EL表示装置の作製工程を説明する図。8A and 8B illustrate a manufacturing process of an EL display device. EL表示装置の作製工程を説明する図。8A and 8B illustrate a manufacturing process of an EL display device. EL表示装置の作製工程を説明する図。8A and 8B illustrate a manufacturing process of an EL display device. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied. 本発明が適用される電子機器の例を示す図。FIG. 11 illustrates an example of an electronic device to which the present invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

101 シフトレジスタ
102 第1のラッチ回路
103 第2のラッチ回路
104 第3のラッチ回路
105 排他的論理和回路
106 前行(m−1行)のデータと当行(m行)のデータを比較する回路
107 第1のレベルシフタ回路
108 第2のレベルシフタ回路
109 バッファ回路
110 正電源
111 負電源
112 第1のトランスミッションゲート
113 第2のトランスミッションゲート
114 ソース線
115 負荷容量
Reference Signs List 101 shift register 102 first latch circuit 103 second latch circuit 104 third latch circuit 105 exclusive OR circuit 106 circuit for comparing data in the previous row (m-1 row) and data in this row (m row) 107 first level shifter circuit 108 second level shifter circuit 109 buffer circuit 110 positive power supply 111 negative power supply 112 first transmission gate 113 second transmission gate 114 source line 115 load capacitance

Claims (2)

M行N列(M、Nはそれぞれ自然数)の画素と、
M本のゲート線と、N本のソース線と、
第1及び第2の回路と、第1及び第2のスイッチと、を有し、
前記第1の回路は、(m−1)行目(2≦m≦M、mは自然数)のデジタルデータ信号を記憶する機能を有し、
前記第2の回路は、前記第1の回路に記憶された前記(m−1)行目のデジタルデータ信号と、m行目のデジタルデータ信号と、を比較する機能を有し、
前記第1のスイッチは、前記ソース線と、電源電圧を供給する機能を有する配線とを電気的に遮断する機能を有し、
前記ソース線と前記電源電圧を供給する機能を有する配線とが電気的に遮断されている期間において、前記第2のスイッチは、前記第2の回路で比較されたデジタルデータ信号が異なるソース線同士を電気的に接続させる機能を有し、
前記期間の後、前記第1のスイッチは、前記遮断されている前記ソース線と前記電源電圧を供給する機能を有する配線とを電気的に接続し、該接続されたソース線に前記m行目のデジタルデータ信号を入力する機能を有することを特徴とする表示装置。
M rows and N columns (M and N are natural numbers, respectively),
M gate lines, N source lines,
A first circuit and a second circuit; and a first switch and a second switch;
The first circuit has a function of storing a digital data signal of the (m−1) th row (2 ≦ m ≦ M, m is a natural number),
The second circuit has a function of comparing the digital data signal of the (m−1) th row stored in the first circuit and the digital data signal of the mth row,
The first switch has a function of electrically cutting off the source line and a wiring having a function of supplying a power supply voltage;
In a period in which wiring and having a function of supplying the power supply voltage and the source line is electrically disconnected, the second switch, the digital data signal compared with the second circuit different for Luso over Has the function of electrically connecting the wires together,
After the period, the first switch electrically connects the cut-off source line and a wiring having a function of supplying the power supply voltage, and connects the connected source line to the m-th row. display device, characterized in that it have the function of inputting the digital data signal.
M行N列(M、Nはそれぞれ自然数)の画素を有し、
M本のゲート線と、N本のソース線を有する表示装置において、
(m−1)行目(2≦m≦M、mは自然数)のデジタルデータ信号をソース線に入力するステップと、
前記ソース線を電源回路から電気的に遮断するステップと、
m行目のデジタルデータ信号を該ソース線に入力する前に、m行目のデジタルデータ信号と(m−1)行目のデジタルデータ信号とを比較するステップと、
前記N本のソース線のうち、m行目のデジタルデータ信号が(m−1)行目のデジタルデータ信号と異なるソース線同士を電気的に接続するステップと、
前記接続されたソース線をそれぞれ電気的に遮断し、電源回路に電気的に接続してm行目のデジタルデータ信号をソース線へ入力するステップと、を有することを特徴とする表示装置の駆動方法。
It has pixels of M rows and N columns (M and N are natural numbers, respectively)
In a display device having M gate lines and N source lines,
(M-1) inputting a digital data signal of the row (2 ≦ m ≦ M, m is a natural number) to the source line;
Electrically disconnecting the source line from a power circuit;
comparing the m-th row digital data signal with the (m−1) -th row digital data signal before inputting the m-th row digital data signal to the source line;
Electrically connecting source lines different from the digital data signal in the (m−1) th row among the N source lines, wherein the digital data signal in the mth row is different from the digital data signal in the (m−1) th row;
Electrically connecting each of the connected source lines, electrically connecting to a power supply circuit, and inputting a digital data signal in the m-th row to the source line, and driving the display device Method.
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