JP5228002B2 - Method for producing ribonucleotide or ribonucleotide derivative - Google Patents

Method for producing ribonucleotide or ribonucleotide derivative Download PDF

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Description

本発明は、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing ribonucleotides or ribonucleotide derivatives.

遺伝子クローニングのプローブ、遺伝子発現解析用プローブ、アンチセンスオリゴヌクレオチド、RNAi等の様々な用途に用いられるオリゴリボ核酸(オリゴRNA)は、ホスホロアミダイト法によって化学合成することができる。   Oligoribonucleic acid (oligo RNA) used in various applications such as gene cloning probes, gene expression analysis probes, antisense oligonucleotides, and RNAi can be chemically synthesized by the phosphoramidite method.

ホスホロアミダイト法においては、3'−5'インターヌクレオチド結合の2'−5'結合への転位やヌクレオチド鎖の切断を防止するために、ホスホロアミダイトユニット(モノマーユニット)の2’位の水酸基(2’水酸基)を適切な保護基を用いて保護することが重要であり、2'水酸基の保護基には、5’位の水酸基(5’水酸基)の保護基の除去、リン酸ジエステルの保護基の除去、核酸塩基の保護基の除去、ヌクレオチド鎖の固相担体からの切り出し等の条件下では安定して存在するが、これらの条件とは異なる条件下において短時間に除去できるという特性が求められる。   In the phosphoramidite method, the hydroxyl group at the 2 ′ position of the phosphoramidite unit (monomer unit) is used to prevent rearrangement of 3′-5 ′ internucleotide bonds to 2′-5 ′ bonds and cleavage of the nucleotide chain. It is important to protect (2 ′ hydroxyl group) with an appropriate protecting group, and the 2 ′ hydroxyl protecting group includes removal of the 5 ′ hydroxyl group (5 ′ hydroxyl group) protecting group, phosphoric acid diester Characteristic of stable removal under conditions such as removal of protecting groups, removal of protecting groups of nucleobases, excision of nucleotide chains from solid phase carriers, etc., but removal in a short time under conditions different from these conditions Is required.

従来、2’水酸基の保護基としては、例えば、アセタール系保護基、シリル系保護基等が知られている。
しかしながら、これまでのアセタール系保護基は、5’水酸基の保護基の除去、リン酸ジエステルの保護基の除去、核酸塩基の保護基の除去、ヌクレオチド鎖の固相担体からの切り出し等の条件下において安定して存在することができなかったため、3'−5'インターヌクレオチド結合の2'−5’結合への転位やヌクレオチド鎖の切断を防止することができなかった。例えば、5’水酸基の保護基として一般的に用いられる4,4'−ジメトキシトリチル基(DMTr基)は酸処理により除去可能であるが、これまでのアセタール系保護基も酸処理により除去可能であったため、アセタール系保護基とDMTr基とを組み合わせて用いると、DMTr基の脱離とともにアセタール系保護基の脱離が生じ、3'−5'インターヌクレオチド結合の2'−5'結合への転位やヌクレオチド鎖の切断を防止することができなかった。一方、酸に対して安定であるアセタール系保護基として2'−O−1−(2−シアノエトキシ)エチル基(CEE基)が知られていたが(Wolfgang Pfleiderer等,HELVETICA CHIMICA ACTA,第81巻,1545-1566頁,1998年;特開平7−196683号公報)、このアセタール系保護基は酸に対する安定性が高過ぎるため、RNAを分解しないような酸性条件下では除去することができず、2’水酸基の保護基としては不適当であると考えられていた。
Conventionally, as the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group, for example, an acetal protecting group, a silyl protecting group, and the like are known.
However, the conventional acetal-based protecting groups can be used under conditions such as removal of the 5 'hydroxyl protecting group, removal of the phosphate diester protecting group, removal of the nucleobase protecting group, and cleavage of the nucleotide chain from the solid phase carrier. Thus, the 3′-5 ′ internucleotide bond could not be transferred to the 2′-5 ′ bond or the nucleotide chain could not be prevented. For example, a 4,4′-dimethoxytrityl group (DMTr group) generally used as a protecting group for a 5 ′ hydroxyl group can be removed by acid treatment, but conventional acetal protecting groups can also be removed by acid treatment. Therefore, when an acetal protecting group and a DMTr group are used in combination, elimination of the DMTr group results in elimination of the acetal protecting group, and the 3′-5 ′ internucleotide bond is converted to the 2′-5 ′ bond. Rearrangement and nucleotide chain breakage could not be prevented. On the other hand, 2′-O-1- (2-cyanoethoxy) ethyl group (CEE group) has been known as an acetal protecting group that is stable against acid (Wolfgang Pfleiderer et al., HELVETICA CHIMICA ACTA, 81st). Vol. 1545-1566, 1998; Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-196683). This acetal protecting group is too stable to acid, and therefore cannot be removed under acidic conditions that do not degrade RNA. It was considered unsuitable as a protecting group for the 2 ′ hydroxyl group.

このため、現在、2’水酸基の保護基としては、TBDMS等のシリル系の保護基が一般的に用いられている。また、DMTr基の脱保護条件では安定であって、DMTr基の脱保護条件とは異なる酸性条件で除去できるアセタール系保護基として、1−(2−フルオロフェニル)−4−メトキシピペリジン−4−イル(Fpmp)基や、1−(4−クロロフェニル)−4−エトキシピペリジン−4−イル(Cpep)基が開発されている。
しかしながら、TBDMS等のシリル系保護基は、2’水酸基への導入効率が低い、分子が嵩高いため立体障害となり縮合反応効率が低い等の問題点がある。
For this reason, silyl-based protecting groups such as TBDMS are generally used as 2′-hydroxyl protecting groups. Further, as an acetal-based protecting group that is stable under the DMTr group deprotection conditions and can be removed under acidic conditions different from the DMTr group deprotection conditions, 1- (2-fluorophenyl) -4-methoxypiperidine-4- An yl (Fpmp) group and a 1- (4-chlorophenyl) -4-ethoxypiperidin-4-yl (Cpep) group have been developed.
However, silyl protecting groups such as TBDMS have problems such as low introduction efficiency to the 2 ′ hydroxyl group and steric hindrance due to bulky molecules, resulting in low condensation reaction efficiency.

本発明は、2’水酸基へ効率よく導入できるとともに、縮合反応において立体障害となることがなく、さらに、5’水酸基の保護基の除去、リン酸ジエステルの保護基の除去、核酸塩基の保護基の除去、ヌクレオチド鎖の固相担体からの切り出し等の条件下では安定して存在するが、これらの条件とは異なる条件下において短時間に除去できる保護基によって2’水酸基が保護されたリボヌクレオチド誘導体を利用して、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体を製造する方法を提供することを目的とする。   The present invention can be efficiently introduced into the 2 ′ hydroxyl group and does not cause steric hindrance in the condensation reaction, and further removes the 5 ′ hydroxyl group protecting group, the phosphoric acid diester protecting group, and the nucleobase protecting group. Ribonucleotides in which the 2 'hydroxyl group is protected by a protecting group that can be removed in a short time under conditions other than these conditions, such as removal of nucleotides and excision of nucleotide chains from solid phase carriers. It aims at providing the method of manufacturing a ribonucleotide or a ribonucleotide derivative using a derivative.

上記課題を解決するために、本発明は、以下のリボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体の製造方法を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides the following methods for producing ribonucleotides or ribonucleotide derivatives.

(1)次式(II):

Figure 0005228002
[式中、Bは核酸塩基又はその誘導体を表し、Xはオキソアニオン又はチオアニオンを表し、Y及びZは互いに独立して水素原子、固相担体又は水酸基の保護基を表し、R1は水素原子又は置換基を有していてもよいトリチル基若しくは9−フェニルキサンテニル基を表し、R2、R3及びR4は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アラルキルチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基若しくはアラルキルオキシチオカルボニル基を表し、R5は電子吸引基を表し、nは1以上の整数を表す。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(II)をフッ化物処理することにより、
次式(I):
Figure 0005228002
[式中、B、X、Y、Z、R1及びnは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)を製造する工程を含む、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)の製造方法。 (1) The following formula (II):
Figure 0005228002
[In the formula, B represents a nucleobase or a derivative thereof, X represents an oxoanion or a thioanion, Y and Z each independently represent a hydrogen atom, a solid phase carrier or a hydroxyl-protecting group, and R 1 represents a hydrogen atom. Alternatively, it represents a trityl group or 9-phenylxanthenyl group which may have a substituent, and R 2 , R 3 and R 4 may independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, acyl group, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group , Alkylthiocarbonyl group, alkoxythiocarbonyl group, arylthiocarbonyl group, aralkyl O carbonyl group, an aryloxy thiocarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl thiocarbonyl group, R 5 represents an electron withdrawing group, n represents an integer of 1 or more. ]
By treating the ribonucleotide derivative (II) represented by
Formula (I):
Figure 0005228002
[Wherein, B, X, Y, Z, R 1 and n are as defined above. ]
The manufacturing method of ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) including the process of manufacturing the ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) represented by these.

(2)前記フッ化物としてテトラブチルアンモニウムフルオリドを用いる前記(1)記載の製造方法。 (2) The production method according to (1), wherein tetrabutylammonium fluoride is used as the fluoride.

(3)次式(II):

Figure 0005228002
[式中、Bは核酸塩基又はその誘導体を表し、Xはオキソアニオン又はチオアニオンを表し、Y及びZは互いに独立して水素原子、固相担体又は水酸基の保護基を表し、R1は水素原子又は置換基を有していてもよいトリチル基若しくは9−フェニルキサンテニル基を表し、R2、R3及びR4は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アラルキルチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基若しくはアラルキルオキシチオカルボニル基を表し、R5は電子吸引基を表し、nは1以上の整数を表す。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(II)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理した後、中性条件又は酸性条件下で加水分解することにより、
次式(I):
Figure 0005228002
[式中、B、X、Y、Z、R1及びnは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)を製造する工程を含む、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)の製造方法。 (3) The following formula (II):
Figure 0005228002
[In the formula, B represents a nucleobase or a derivative thereof, X represents an oxoanion or a thioanion, Y and Z each independently represent a hydrogen atom, a solid phase carrier or a hydroxyl-protecting group, and R 1 represents a hydrogen atom. Alternatively, it represents a trityl group or 9-phenylxanthenyl group which may have a substituent, and R 2 , R 3 and R 4 may independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, acyl group, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group , Alkylthiocarbonyl group, alkoxythiocarbonyl group, arylthiocarbonyl group, aralkyl O carbonyl group, an aryloxy thiocarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl thiocarbonyl group, R 5 represents an electron withdrawing group, n represents an integer of 1 or more. ]
By subjecting the ribonucleotide derivative (II) represented by the following formula to a tertiary amine treatment or phosphazene base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent, and then hydrolyzing under neutral or acidic conditions,
Formula (I):
Figure 0005228002
[Wherein, B, X, Y, Z, R 1 and n are as defined above. ]
The manufacturing method of ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) including the process of manufacturing the ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) represented by these.

(4)前記第3級アミンとして1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンを用いる前記(3)記載の方法。 (4) The method according to (3) above, wherein 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene is used as the tertiary amine.

(5)次式(III):

Figure 0005228002
[式中、Bは核酸塩基又はその誘導体を表し、Wは酸素原子又は硫黄原子を表し、Y及びZは互いに独立して水素原子、固相担体又は水酸基の保護基を表し、R1は水素原子又は置換基を有していてもよいトリチル基若しくは9−フェニルキサンテニル基を表し、R2、R3及びR4は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アラルキルチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基若しくはアラルキルオキシチオカルボニル基を表し、R5は電子吸引基を表し、R6はリン酸保護基を表し、nは1以上の整数を表す。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(III)をアンモニア処理又は第1級アミン処理することにより、前記リボヌクレオチド誘導体(II)を製造する工程を含む、前記(1)〜(4)のいずれかに記載の製造方法。 (5) The following formula (III):
Figure 0005228002
[Wherein, B represents a nucleobase or a derivative thereof, W represents an oxygen atom or a sulfur atom, Y and Z each independently represent a hydrogen atom, a solid phase carrier or a hydroxyl-protecting group, and R 1 represents hydrogen. Represents a trityl group or 9-phenylxanthenyl group which may have an atom or a substituent, and R 2 , R 3 and R 4 may independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. Good alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, acyl group, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl Group, alkylthiocarbonyl group, alkoxythiocarbonyl group, arylthiocarbonyl group, aralkylthiocarboro group Represents a group, aryloxy thiocarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl thiocarbonyl group, R 5 represents an electron withdrawing group, R 6 represents a phosphate protecting group, n represents an integer of 1 or more. ]
The method according to any one of (1) to (4) above, comprising a step of producing the ribonucleotide derivative (II) by treating the ribonucleotide derivative (III) represented by formula (II) with ammonia treatment or primary amine treatment. Manufacturing method.

(6)前記式(III)においてBで表される核酸塩基が、次式:

Figure 0005228002
[式中、R7はフェノキシアセチル基、フェニルアセチル基、アセチル基又はベンゾイル基を表し、R8はイソブチリル基又はベンゾイル基を表し、R9はフェノキシアセチル基、フェニルアセチル基、アセチル基又はイソブチリル基を表し、R10は2−シアノエチル基を表し、R11はベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基又は4−メチルベンゾイル基を表し、R12はジメチルアミノメチレン基を表す。]
で表される保護基を有する核酸塩基である前記(5)記載の製造方法。 (6) The nucleobase represented by B in the formula (III) is represented by the following formula:
Figure 0005228002
[Wherein R 7 represents a phenoxyacetyl group, a phenylacetyl group, an acetyl group or a benzoyl group, R 8 represents an isobutyryl group or a benzoyl group, and R 9 represents a phenoxyacetyl group, a phenylacetyl group, an acetyl group or an isobutyryl group. R 10 represents a 2-cyanoethyl group, R 11 represents a benzoyl group, a 4-methoxybenzoyl group or a 4-methylbenzoyl group, and R 12 represents a dimethylaminomethylene group. ]
The production method according to the above (5), which is a nucleobase having a protecting group represented by the formula:

(7)酸処理によりR1で表される5’水酸基の保護基を除去する工程を含む、前記(1)〜(6)のいずれかに記載の製造方法。 (7) The manufacturing method in any one of said (1)-(6) including the process of removing the protecting group of 5 'hydroxyl group represented by R < 1 > by acid treatment.

(8)次式(III):

Figure 0005228002
[式中、Bは核酸塩基又はその誘導体を表し、Wは酸素原子又は硫黄原子を表し、Y及びZは互いに独立して水素原子、固相担体又は水酸基の保護基を表し、R1は水素原子又は置換基を有していてもよいトリチル基若しくは9−フェニルキサンテニル基を表し、R2、R3及びR4は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アラルキルチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基若しくはアラルキルオキシチオカルボニル基を表し、R5は電子吸引基を表し、R6はリン酸保護基を表し、nは1以上の整数を表す。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(III)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理した後、中性条件又は酸性条件下で加水分解することにより、
次式(I):
Figure 0005228002
[式中、B、X、Y、Z、R1及びnは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)を製造する工程を含む、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)の製造方法。 (8) The following formula (III):
Figure 0005228002
[Wherein, B represents a nucleobase or a derivative thereof, W represents an oxygen atom or a sulfur atom, Y and Z each independently represent a hydrogen atom, a solid phase carrier or a hydroxyl-protecting group, and R 1 represents hydrogen. Represents a trityl group or 9-phenylxanthenyl group which may have an atom or a substituent, and R 2 , R 3 and R 4 may independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. Good alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, acyl group, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl Group, alkylthiocarbonyl group, alkoxythiocarbonyl group, arylthiocarbonyl group, aralkylthiocarboro group Represents a group, aryloxy thiocarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl thiocarbonyl group, R 5 represents an electron withdrawing group, R 6 represents a phosphate protecting group, n represents an integer of 1 or more. ]
The ribonucleotide derivative (III) represented by the formula (1) is treated with a tertiary amine or phosphazene base in an anhydrous solvent in the presence of a silylating agent, and then hydrolyzed under neutral or acidic conditions.
Formula (I):
Figure 0005228002
[Wherein, B, X, Y, Z, R 1 and n are as defined above. ]
The manufacturing method of ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) including the process of manufacturing the ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) represented by these.

(9)前記第3級アミンとして1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンを用いる前記(8)記載の方法。 (9) The method according to (8) above, wherein 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene is used as the tertiary amine.

(10)酸処理によりR1で表される5’水酸基の保護基を除去する工程を含む、前記(8)又は(9)記載の製造方法。 (10) The production method according to the above (8) or (9), comprising a step of removing the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1 by acid treatment.

図1は、2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-3',5'-O-(1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-1,3-ジイル)ウリジン(2)の合成工程、及び2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン(4)の合成工程を示す図である。FIG. 1 shows 2′-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-3 ′, 5′-O- (1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl) Synthesis steps of uridine (2) and 2′-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -uridine (4) FIG. 図2は、2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン-3'-(2-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルホスホロアミダイト)(5)の合成工程を示す図である。FIG. 2 shows 2′-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -uridine-3 ′-(2-cyanoethyl-N, N FIG. 3 is a view showing a synthesis step of (-diisopropyl phosphoramidite) (5). 図3は、液相法による保護されたウリジル酸2量体の合成工程を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a synthesis process of a protected uridylic acid dimer by a liquid phase method. 図4は、ウリジル酸2量体の脱保護工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a deprotection step of a uridylic acid dimer.

上記式(I)、(II)又は(III)において、Bで表される核酸塩基又はその誘導体は特に限定されるものではなく、核酸塩基としては、例えば、シトシン、ウラシル等のピリミジン塩基、アデニン、グアニン等のプリン塩基が挙げられ、核酸塩基の誘導体としては、例えば、5−メチルシトシン、5−ヒドロキシメチルシトシン、5−フルオロウラシル、チオウラシル、6−アザウラシル、5−ヒドロキシウラシル、2,6−ジアミノプリン、アザアデニン、アザグアニン、イソグアニン等の塩基アナログが挙げられる。核酸塩基又はその誘導体は、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、アミノオキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルメルカプト基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基等の置換基を有していてもよい。核酸塩基又はその誘導体は保護基を有していてもよく、アミノ基の保護基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、4−メチルベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、4−tert−ブチルフェノキシアセチル基、4−イソプロピルフェノキシアセチル基等の芳香族アシル基;ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基等の置換基を有する脂肪族アシル基又は芳香族アシル基;2−シアノエチル基、2−(p−ニトロフェニル)エチル基、2−(ベンゼンスルホニル)エチル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するエチル基;ジメチルアミノメチレン基、ジブチルアミノメチレン基等のジアルキルアミノメチレン基;2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基等が挙げられる。   In the above formula (I), (II) or (III), the nucleobase represented by B or a derivative thereof is not particularly limited. Examples of the nucleobase include pyrimidine bases such as cytosine and uracil, adenine And purine bases such as guanine. Examples of nucleobase derivatives include 5-methylcytosine, 5-hydroxymethylcytosine, 5-fluorouracil, thiouracil, 6-azauracil, 5-hydroxyuracil, and 2,6-diamino. Examples include base analogs such as purine, azaadenine, azaguanine, and isoguanine. Nucleobase or derivatives thereof are, for example, halogen atoms, alkyl groups, haloalkyl groups, alkenyl groups, haloalkenyl groups, alkynyl groups, amino groups, alkylamino groups, hydroxyl groups, hydroxyamino groups, aminooxy groups, alkoxy groups, mercapto groups , May have a substituent such as an alkyl mercapto group, an aryl group, an aryloxy group, or a cyano group. The nucleobase or a derivative thereof may have a protecting group. Examples of the protecting group for the amino group include aliphatic acyl groups such as an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, and an isobutyryl group; a benzoyl group, 4-methyl Aromatic acyl groups such as benzoyl group, 4-methoxybenzoyl group, phenylacetyl group, phenoxyacetyl group, 4-tert-butylphenoxyacetyl group, 4-isopropylphenoxyacetyl group; halogen atoms, alkyl groups, alkyloxy groups, etc. An aliphatic acyl group or aromatic acyl group having a substituent; an electron that can be removed by β-elimination such as 2-cyanoethyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethyl group, etc. Ethyl group having a suction group; dialkylamino such as dimethylaminomethylene group and dibutylaminomethylene group An methylene group; an alkoxycarbonyl group having an electron-withdrawing group that can be removed by β-elimination such as 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxycarbonyl group, etc. Etc.

リボヌクレオチド誘導体(III)が有する2’水酸基の保護基は、核酸塩基又はその誘導体が有する保護基の除去、R6で表されるリン酸保護基の除去、ヌクレオチド鎖の固相担体からの切り出し等の際に一般的に用いられるアンモニア又は第1級アミンに対して安定であるが、アンモニア又は第1級アミンによる処理時間が長時間であると若干脱離するおそれがある。したがって、上記式(III)においてBで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基を有する場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(III)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに短時間で除去できることが好ましい。このような保護基としては、例えば、上記のような脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基を有する脂肪族アシル基又は芳香族アシル基、β脱離による除去が
可能な、電子吸引基を有するエチル基、ジアルキルアミノメチレン基等が挙げられる。このような保護基を有する核酸塩基又はその誘導体を以下に例示する。
The protecting group for the 2 ′ hydroxyl group of the ribonucleotide derivative (III) is the removal of the protecting group of the nucleobase or its derivative, the removal of the phosphate protecting group represented by R 6 , and the excision of the nucleotide chain from the solid phase carrier. Although it is stable with respect to ammonia or primary amine generally used in the case of, etc., there is a possibility that it may be slightly detached when the treatment time with ammonia or primary amine is long. Therefore, when the nucleobase represented by B in the above formula (III) or a derivative thereof has a protecting group, the protecting group is represented by R 6 by ammonia treatment or primary amine treatment of the nucleotide derivative (III). It can be removed in a short time together with the phosphate protecting group. Examples of such protecting groups include aliphatic acyl groups, aromatic acyl groups, aliphatic acyl groups having substituents or aromatic acyl groups as described above, and electron withdrawing groups that can be removed by β elimination. And an ethyl group having a dialkylaminomethylene group. The nucleobase having such a protecting group or a derivative thereof is exemplified below.

Figure 0005228002
[式中、R7はフェノキシアセチル基、フェニルアセチル基、アセチル基又はベンゾイル基を表し、R8はイソブチリル基又はベンゾイル基を表し、R9はフェノキシアセチル基、フェニルアセチル基、アセチル基又はイソブチリル基を表し、R10は2−シアノエチル基を表し、R11はベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基又は4−メチルベンゾイル基を表し、R12はジメチルアミノメチレン基を表す。]
Figure 0005228002
[Wherein R 7 represents a phenoxyacetyl group, a phenylacetyl group, an acetyl group or a benzoyl group, R 8 represents an isobutyryl group or a benzoyl group, and R 9 represents a phenoxyacetyl group, a phenylacetyl group, an acetyl group or an isobutyryl group. R 10 represents a 2-cyanoethyl group, R 11 represents a benzoyl group, a 4-methoxybenzoyl group or a 4-methylbenzoyl group, and R 12 represents a dimethylaminomethylene group. ]

ウラシル又はその誘導体に関しては通常保護基を必要としないが、ベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基又は4−メチルベンゾイル基を導入することにより、合成中間体の脂溶性及び結晶性が向上し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製や結晶化が容易になる。   Uracil or its derivatives usually do not require a protecting group, but by introducing a benzoyl group, a 4-methoxybenzoyl group or a 4-methylbenzoyl group, the lipophilicity and crystallinity of the synthetic intermediate are improved, and a silica gel column Purification and crystallization by chromatography are facilitated.

Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基として上記のような脂肪族アシル基、芳香族アシル基、置換基を有する脂肪族アシル基又は芳香族アシル基、β脱離による除去が
可能な、電子吸引基を有するエチル基、ジアルキルアミノメチレン基等を有する場合、当該保護基は、アンモニア処理又は第1級アミン処理により除去することができる。また、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基としてジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基等のトリチル基を有する場合、当該保護基は、酸処理により除去することができる。また、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基として上記のようなβ脱離による除去が可能な電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基を有する場合、当該保護基は、第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理により除去することができる。
The nucleobase represented by B or a derivative thereof can be removed by the elimination of an aliphatic acyl group, aromatic acyl group, substituted aliphatic acyl group or aromatic acyl group as described above as a protecting group, or β In the case of having an ethyl group having an electron withdrawing group, a dialkylaminomethylene group or the like, the protective group can be removed by ammonia treatment or primary amine treatment. In addition, when the nucleobase represented by B or a derivative thereof has a trityl group such as a dimethoxytrityl group or a monomethoxytrityl group as a protective group, the protective group can be removed by acid treatment. In addition, when the nucleobase represented by B or a derivative thereof has an alkoxycarbonyl group having an electron withdrawing group that can be removed by β elimination as described above, the protecting group is treated with a tertiary amine. Alternatively, it can be removed by phosphazene base treatment.

上記式(I)、(II)又は(III)には、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が複数個含まれているが、これらは同一の種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。   The above formula (I), (II) or (III) includes a plurality of nucleobases represented by B or derivatives thereof, but these may be the same type or different types. There may be.

上記式(I)、(II)又は(III)において、R1で表されるトリチル基又は9−フェニルキサンテニル基は置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。なお、R1で表されるトリチル基又は9−フェニルキサンテニル基は5’水酸基の保護基であり、当該保護基は、酸処理により除去することができる。 In the above formula (I), (II) or (III), the trityl group or 9-phenylxanthenyl group represented by R 1 may have a substituent or may not have a substituent. Also good. The trityl group or 9-phenylxanthenyl group represented by R 1 is a protecting group for the 5 ′ hydroxyl group, and the protecting group can be removed by acid treatment.

トリチル基は、3個のフェニル基のうち1個以上に置換基を有することができる。トリチル基又は9−フェニルキサンテニル基は、フェニル基の2位、3位又は4位のいずれか1以上に置換基を有することができる。トリチル基又は9−フェニルキサンテニル基が複数の置換基を有する場合、置換基の種類は同一であってもよいし、異なっていてもよい。   The trityl group can have a substituent on one or more of the three phenyl groups. The trityl group or 9-phenylxanthenyl group can have a substituent at any one or more of the 2-position, 3-position or 4-position of the phenyl group. When the trityl group or 9-phenylxanthenyl group has a plurality of substituents, the types of the substituents may be the same or different.

トリチル基又は9−フェニルキサンテニル基が有する置換基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、t−ペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基等のアルコシキ基等が挙げられる。   The substituent that the trityl group or 9-phenylxanthenyl group has is not particularly limited, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, alkyl groups such as s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, t-pentyl group, neopentyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, Examples thereof include alkoxy groups such as isobutoxy group, s-butoxy group, and t-butoxy group.

置換基を有するトリチル基としては、例えば、4−メトキシトリチル基、4,4’−ジメトキシトリチル基、4,4’,4’’−トリメトキシトリチル基、4−メチルトリチル基、4,4’−ジメチルトリチル基等が挙げられるが、これらのうち、4,4’−ジメトキシトリチル基が好ましい。   Examples of the trityl group having a substituent include a 4-methoxytrityl group, 4,4′-dimethoxytrityl group, 4,4 ′, 4 ″ -trimethoxytrityl group, 4-methyltrityl group, 4,4 ′. -A dimethyltrityl group etc. are mentioned, Among these, a 4,4'- dimethoxytrityl group is preferable.

置換基を有する9−フェニルキサンテニル基としては、例えば、9−(4’−メトキシフェニル)キサンテニル基、9−(4’−メチルフェニル)キサンテニル基等が挙げられるが、これらのうち、9−(4’−メトキシフェニル)キサンテニル基が好ましい。   Examples of the 9-phenylxanthenyl group having a substituent include a 9- (4′-methoxyphenyl) xanthenyl group and a 9- (4′-methylphenyl) xanthenyl group. A (4′-methoxyphenyl) xanthenyl group is preferred.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるハロゲン原子は特に限定されるものではなく、その具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the halogen atom represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and the like. Can be mentioned.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルキル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、t−ペンチル基、ネオペンチル基等の炭素数1〜5の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, and an n-propyl group. Linear or branched having 1 to 5 carbon atoms such as isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, t-pentyl group, neopentyl group, etc. A chain alkyl group is exemplified.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルケニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、ビニル基、アリル基、クロチル(2−ブテニル)基、イソプロペニル(1−メチルビニル)基等の炭素数2〜5のアルケニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkenyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include vinyl group, allyl group, crotyl (2- Butenyl) groups and alkenyl groups having 2 to 5 carbon atoms such as isopropenyl (1-methylvinyl) group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルキニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、プロパルギル基等の炭素数2〜5のアルキニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkynyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include an ethynyl group, a 1-propynyl group, and a propargyl group. C2-C5 alkynyl groups, such as these, are mentioned.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるシクロアルキル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等の炭素数3〜6のシクロアルキル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the cycloalkyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like. And a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるシクロアルケニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等の炭素数5〜6のシクロアルケニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the cycloalkenyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include the number of carbon atoms such as cyclopentenyl and cyclohexenyl. Examples include 5-6 cycloalkenyl groups.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアリール基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、フェニル基、p−メトキシフェニル基、3,5−ジメトキシフェニル基、p−クロロフェニル基、p−フルオロフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、ナフチル基等の置換又は非置換の芳香族炭化水素基;フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラリジニル基、キノリル基、イソキノリル基等の置換又は非置換の芳香族複素環基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aryl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include a phenyl group, a p-methoxyphenyl group, 3 , 5-dimethoxyphenyl group, p-chlorophenyl group, p-fluorophenyl group, 3,5-dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, naphthyl group and other substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon groups Substituted or non-substituted such as furyl group, thienyl group, pyridyl group, pyrrolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, pyralidinyl group, quinolyl group, isoquinolyl group Examples thereof include substituted aromatic heterocyclic groups.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアラルキル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、ベンジル基、α-メチルベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aralkyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include benzyl group, α-methylbenzyl group, phenethyl group. And an aralkyl group such as a group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアシル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基等の炭素数1〜5の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、3,5−ジメチルベンゾイル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル基、2,6−ジメトキシベンゾイル基、2,4,6−トリメトキシベンゾイル基、2,6−ジイソプロポキシベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、アントリルカルボニル基等の芳香族アシル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the acyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include an acetyl group, a trifluoroacetyl group, and a propionyl group. An aliphatic acyl group having 1 to 5 carbon atoms such as butyryl group, isobutyryl group, pivaloyl group; benzoyl group, 3,5-dimethylbenzoyl group, 2,4,6-trimethylbenzoyl group, 2,6-dimethoxybenzoyl group 2,4,6-trimethoxybenzoyl group, 2,6-diisopropoxybenzoyl group, naphthylcarbonyl group, anthrylcarbonyl group and the like.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルコキシ基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基、t−ブトキシ基等の炭素数1〜5の直鎖状又は分岐鎖状のアルコキシ基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkoxy group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, and an n-propoxy group. C1-C5 linear or branched alkoxy groups such as isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, s-butoxy group and t-butoxy group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアリールオキシ基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等のアリールオキシ基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aryloxy group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include aryl such as phenoxy group and naphthyloxy group. An oxy group is mentioned.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアラルキルオキシ基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアラルキルオキシ基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aralkyloxy group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include benzyloxy group, phenethyloxy group and the like. An aralkyloxy group is mentioned.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルコキシカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkoxycarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n Examples include alkoxycarbonyl groups such as -butoxycarbonyl group and n-octyloxycarbonyl group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアリールオキシカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例しては、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aryloxycarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include phenoxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl And aryloxycarbonyl groups such as a group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアラルキルオキシカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、ベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aralkyloxycarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include benzyloxycarbonyl group, phenethyloxycarbonyl And an aralkyloxycarbonyl group such as a group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルキルチオカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メチルチオカルボニル基、エチルチオカルボニル基、n−ブチルチオカルボニル基、n−オクチルチオカルボニル基等のアルキルチオカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkylthiocarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include a methylthiocarbonyl group, an ethylthiocarbonyl group, Examples thereof include alkylthiocarbonyl groups such as n-butylthiocarbonyl group and n-octylthiocarbonyl group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルコキシチオカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メトキシチオカルボニル基、エトキシチオカルボニル基、n−ブトキシチオカルボニル基、n−オクチルオキシチオカルボニル基等のアルコキシチオカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the alkoxythiocarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include methoxythiocarbonyl group, ethoxythiocarbonyl group And alkoxythiocarbonyl groups such as n-butoxythiocarbonyl group and n-octyloxythiocarbonyl group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアリールチオカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、フェニルチオカルボニル基、ナフチルチオカルボニル基等のアリールチオカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the arylthiocarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include phenylthiocarbonyl group, naphthylthiocarbonyl group And arylthiocarbonyl group such as a group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアラルキルチオカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、ベンジルチオカルボニル基、フェネチルチオカルボニル基等のアラルキルチオカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aralkylthiocarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include benzylthiocarbonyl group, phenethylthiocarbonyl group And an aralkylthiocarbonyl group such as a group.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアリールオキシチオカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、フェノキシチオカルボニル基、ナフチルオキシチオカルボニル基等のアリールオキシチオカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aryloxythiocarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include phenoxythiocarbonyl group, naphthyloxy An aryloxythiocarbonyl group such as a thiocarbonyl group can be mentioned.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアラルキルオキシチオカルボニル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、ベンジルオキシチオカルボニル基、フェネチルオキシチオカルボニル基等のアラルキルオキシチオカルボニル基が挙げられる。 In the above formula (II) or (III), the aralkyloxythiocarbonyl group represented by R 2 , R 3 or R 4 is not particularly limited, and specific examples thereof include benzyloxythiocarbonyl group, phenethyl An aralkyloxythiocarbonyl group such as an oxythiocarbonyl group may be mentioned.

上記式(II)又は(III)において、R2、R3又はR4で表されるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アラルキルチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基又はアラルキルオキシチオカルボニル基は、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。 In the above formula (II) or (III), an alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, acyl group, alkoxy represented by R 2 , R 3 or R 4 Group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group, alkylthiocarbonyl group, alkoxythiocarbonyl group, arylthiocarbonyl group, aralkylthiocarbonyl group, aryloxythiocarbonyl group or aralkyl The oxythiocarbonyl group may have a substituent or may not have a substituent.

上記式(II)又は(III)において、R2(又はR3)とR4とは、相互に連結して、R2(又はR3)及びR4がそれぞれ結合している炭素原子と共同して環を形成してもよい。 In the formula (II) or (III), and R 2 (or R 3) and R 4, linked to one another, R 2 (or R 3) and jointly with the carbon atom to which R 4 is attached, respectively To form a ring.

上記式(II)又は(III)において、R5で表される電子吸引基(電子求引基)は特に限定されるものではなく、その具体例としては、シアノ基、ニトロ基、p−ニトロフェニル基、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、トリフルオロメチルスルホニル基、エチルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(例えば、フェニルスルホニル等)、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、ヒドロキシカルボニル、アリールオキシカルボニル(例えば、フェノキシカルボニル等)等が挙げられるが、シアノ基であることが好ましい。 In the above formula (II) or (III), the electron withdrawing group (electron withdrawing group) represented by R 5 is not particularly limited, and specific examples thereof include a cyano group, a nitro group, and p-nitro. Phenyl group, alkylsulfonyl group (eg, methylsulfonyl group, trifluoromethylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, etc.), arylsulfonyl group (eg, phenylsulfonyl etc.), trifluoromethyl group, halogen atom, alkoxycarbonyl (eg, methoxy) Carbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), hydroxycarbonyl, aryloxycarbonyl (eg, phenoxycarbonyl, etc.) and the like, and a cyano group is preferred.

上記式(III)において、R6で表されるリン酸保護基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メチル基、2−シアノエチル基、2−(トリメチルシリル)エチル基、2−(p−ニトロフェニル)エチル基等が挙げられるが、これらのうち、メチル基又は2−シアノエチル基が好ましい。 In the above formula (III), the phosphate protecting group represented by R 6 is not particularly limited, and specific examples thereof include a methyl group, 2-cyanoethyl group, 2- (trimethylsilyl) ethyl group, 2- (P-nitrophenyl) ethyl group and the like can be mentioned, and among these, a methyl group or a 2-cyanoethyl group is preferable.

上記式(I)又は(II)には、Xで表されるオキソアニオン(O-)又はチオアニオン(S-)が複数個含まれているが、これらは同一種類のアニオンであってもよいし、異なる種類のアニオンであってもよい。 The above formula (I) or (II) includes a plurality of oxoanions (O ) or thioanions (S ) represented by X, and these may be the same kind of anions. Different types of anions may be used.

上記式(III)には、Wで表される酸素原子又は硫黄原子が複数個含まれているが、これらは同一種類の原子であってもよいし、異なる種類の原子であってもよい。   Although the formula (III) includes a plurality of oxygen atoms or sulfur atoms represented by W, these may be the same type of atom or different types of atoms.

上記式(I)、(II)又は(III)において、Y及びZで表される水酸基の保護基は、R1で表される5’水酸基の保護基が除去される条件下で除去されない限り特に限定されるものではないが、その具体例としては、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等のシリル基;レブリニル基、アセチル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基;テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル等の環状保護基;イソプロピリデン基、メトキシメチリデン基、ベンジリデン基等の2’3’−環状アセタール型保護基等が挙げられるが、これらのうち、フェノキシアセチル基又はt−ブチルジフェニルシリル基が好ましい。Y及びZがともに水酸基の保護基を表す場合、Y及びZで表される水酸基の保護基は同一種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。 In the above formula (I), (II) or (III), the hydroxyl protecting group represented by Y and Z is not removed under the condition that the 5 ′ hydroxyl protecting group represented by R 1 is removed. Although not particularly limited, specific examples thereof include silyl groups such as t-butyldimethylsilyl group and t-butyldiphenylsilyl group; levulinyl group, acetyl group, phenylacetyl group, phenoxyacetyl group, butyryl group, Examples include acyl groups such as propionyl group and benzoyl group; cyclic protecting groups such as tetrahydropyranyl and tetrahydrofuranyl; 2′3′-cyclic acetal type protecting groups such as isopropylidene group, methoxymethylidene group and benzylidene group. Of these, a phenoxyacetyl group or a t-butyldiphenylsilyl group is preferred. When both Y and Z represent a hydroxyl-protecting group, the hydroxyl-protecting groups represented by Y and Z may be of the same type or different types.

Y及びZで表される水酸基の保護基が上記のようなアシル基である場合、当該保護基は、アンモニア処理又は第1級アミン処理により除去することができる。また、Y及びZで表される水酸基の保護基が上記のような環状保護基、2’3’−環状アセタール型保護基等である場合、ギ酸等の酸処理によって除去することができる。また、Y及びZで表される水酸基の保護基が上記のようなシリル基である場合、当該保護基は、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)等のフッ化物処理により除去することができる。   When the protecting group for the hydroxyl group represented by Y and Z is an acyl group as described above, the protecting group can be removed by ammonia treatment or primary amine treatment. Further, when the protecting group for the hydroxyl group represented by Y and Z is a cyclic protecting group as described above, a 2'3'-cyclic acetal type protecting group or the like, it can be removed by acid treatment with formic acid or the like. Moreover, when the hydroxyl-protecting group represented by Y and Z is a silyl group as described above, the protecting group can be removed by fluoride treatment such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).

上記式(I)、(II)又は(III)において、Y及びZで表される固相担体は特に限定されるものではないが、その具体例としては、アミノアルキル化された高分子担体(例えばポリスチレン)、多孔性の球状グラスビーズ(controlled pore glass:CPG)、ポリエチレングリコール等が挙げられる。ヌクレオチドの水酸基とY及びZで表される固相担体とは、直接結合していてもよいし、コハク酸エステル、シュウ酸エステル、フタル酸エステル、4−カルボキシフェニル(ジイソプロピル)シリル基(A. Kobori, et al. Chem. Lett., 16-17 (2002))等のスペーサー(リンカー)を介して結合していてもよい。Y及びZがともに固相担体を表す場合、Y及びZで表される固相担体は同一種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。   In the above formula (I), (II) or (III), the solid phase carrier represented by Y and Z is not particularly limited. Specific examples thereof include aminoalkylated polymer carriers ( For example, polystyrene), porous spherical glass beads (controlled pore glass: CPG), polyethylene glycol, and the like. The hydroxyl group of the nucleotide and the solid phase carrier represented by Y and Z may be directly bonded, succinate, oxalate, phthalate, 4-carboxyphenyl (diisopropyl) silyl group (A. Kobori, et al. Chem. Lett., 16-17 (2002)) and the like may be linked via a spacer (linker). When Y and Z both represent a solid phase carrier, the solid phase carriers represented by Y and Z may be of the same type or different types.

Y及びZで表される固相担体がコハク酸エステル、シュウ酸エステル、フタル酸エステル等のスペーサーを介して水酸基と結合している場合、当該固相担体は、アンモニア処理又は第1級アミン処理により除去することができる。   When the solid phase carrier represented by Y and Z is bonded to a hydroxyl group through a spacer such as succinate, oxalate, or phthalate, the solid phase carrier is treated with ammonia or primary amine. Can be removed.

Y及びZで表される固相担体が4−カルボキシフェニル(ジイソプロピル)シリル基を介して水酸基と結合している場合、当該固相担体は、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)等のフッ化物処理により除去することができる。   When the solid phase carrier represented by Y and Z is bonded to a hydroxyl group via a 4-carboxyphenyl (diisopropyl) silyl group, the solid phase carrier is treated with fluoride such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF). Can be removed.

上記式(I)、(II)又は(III)において、nは1以上の整数である限り特に限定されないが、通常は1〜100の整数であり、好ましくは1〜30の整数である。   In the above formula (I), (II) or (III), n is not particularly limited as long as it is an integer of 1 or more, but is usually an integer of 1 to 100, preferably an integer of 1 to 30.

以下、R1が置換基を有していてもよいトリチル基若しくは9−フェニルキサンテニル基であるリボヌクレオチド誘導体(I)、(II)又は(III)をそれぞれ「リボヌクレオチド誘導体(I−1)」、「リボヌクレオチド誘導体(II−1)」又は「リボヌクレオチド誘導体(III−1)」といい、R1が水素原子であるリボヌクレオチド誘導体(I)、(II)又は(III)をそれぞれ「リボヌクレオチド誘導体(I−2)」、「リボヌクレオチド誘導体(II−2)」又は「リボヌクレオチド誘導体(III−2)」という。 Hereinafter, the ribonucleotide derivative (I), (II) or (III) in which R 1 is an optionally substituted trityl group or 9-phenylxanthenyl group is referred to as “ribonucleotide derivative (I-1)”, respectively. ”,“ Ribonucleotide derivative (II-1) ”or“ ribonucleotide derivative (III-1) ”, and ribonucleotide derivative (I), (II) or (III) wherein R 1 is a hydrogen atom, It is referred to as “ribonucleotide derivative (I-2)”, “ribonucleotide derivative (II-2)” or “ribonucleotide derivative (III-2)”.

〔リボ核酸合成モノマーの製造〕
次式(a):

Figure 0005228002
[式中、Bは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオシド又はリボヌクレオシド誘導体(a)をピリジン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の有機溶媒に溶解し、これに1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトライソプロピルジシロキサン、ジ−tert−ブチルジクロロシラン又はジ−tert−ブチルシリルビス(トリフルオロメタンスルホン酸)を添加するとともに、発生する塩化水素やトリフルオロメタンスルホン酸の捕捉剤としてピリジン、トリエチルアミン等を添加して反応させることにより、次式(b):
Figure 0005228002
[式中、Bは前記と同義であり、R13は1,1,3,3−テトライソプロピルジシロキサン−1,3−ジイル基又はジ−tert−ブチルシランジイル基を表す。]
で表されるリボヌクレオシド誘導体(b)を製造することができる。この際の反応温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常1〜12時間、好ましくは4〜8時間である。また、1,3−ジクロロ−1,1,3,3−テトライソプロピルジシロキサン、ジ−tert−ブチルジクロロシラン又はジ−tert−ブチルシリルビス(トリフルオロメタンスルホン酸)の添加量は、リボヌクレオシド又はリボヌクレオシド誘導体(a)に対して通常1〜2モル当量、好ましくは1〜1.2モル当量であり、捕捉剤の添加量は、リボヌクレオシド又はリボヌクレオシド誘導体(a)に対して通常1〜2モル当量、好ましくは1〜1.2モル当量である。 [Production of ribonucleic acid synthesis monomer]
Formula (a):
Figure 0005228002
[Wherein, B has the same meaning as described above. ]
Is dissolved in an organic solvent such as pyridine, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone, tetrahydrofuran, acetonitrile or the like, and 1,3-dichloro-1,1 is dissolved in the ribonucleoside or ribonucleoside derivative (a). , 3,3-tetraisopropyldisiloxane, di-tert-butyldichlorosilane or di-tert-butylsilylbis (trifluoromethanesulfonic acid) and pyridine as a scavenger for the generated hydrogen chloride and trifluoromethanesulfonic acid By adding triethylamine or the like and reacting, the following formula (b):
Figure 0005228002
[Wherein, B is as defined above, and R 13 represents a 1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl group or a di-tert-butylsilanediyl group. ]
The ribonucleoside derivative (b) represented by these can be manufactured. The reaction temperature at this time is usually 0 to 40 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 1 to 12 hours, preferably 4 to 8 hours. In addition, the amount of 1,3-dichloro-1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane, di-tert-butyldichlorosilane or di-tert-butylsilylbis (trifluoromethanesulfonic acid) added may be ribonucleoside or The amount is usually 1 to 2 molar equivalents, preferably 1 to 1.2 molar equivalents, relative to the ribonucleoside derivative (a), and the addition amount of the scavenger is usually 1 to 2 molar equivalents, preferably 1 to 1.2 molar equivalents.

次いで、リボヌクレオシド誘導体(b)を1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、トルエン、アセトニトリル等の有機溶媒に溶解し、これに次式(c):

Figure 0005228002
[式中、R2、R3、R4及びR5は前記と同義である。]
で表される化合物(c)を添加するとともに、触媒としてp−トルエンスルホン酸水和物、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム塩、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、塩化水素、硫酸等を添加して反応させることにより、次式(d):
Figure 0005228002
[式中、B、R2、R3、R4、R5及びR13は前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオシド誘導体(d)を製造することができる。この際の反応温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常10分間〜1時間、好ましくは10〜20である。また、化合物(c)の添加量は、リボヌクレオシド誘導体(b)に対して通常1.1〜10モル当量、好ましくは1.1〜5モル当量であり、触媒の添加量は、リボヌクレオシド誘導体(b)に対して通常0.1〜10モル当量、好ましくは1.1〜5モル当量である。 Next, the ribonucleoside derivative (b) is dissolved in an organic solvent such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, toluene, acetonitrile, and the following formula (c):
Figure 0005228002
[Wherein, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are as defined above. ]
As a catalyst, p-toluenesulfonic acid hydrate, p-toluenesulfonic acid pyridinium salt, trifluoroacetic acid, trichloroacetic acid, dichloroacetic acid, hydrogen chloride, sulfuric acid and the like are added as a catalyst. To react the following formula (d):
Figure 0005228002
[Wherein, B, R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 13 are as defined above. ]
The ribonucleoside derivative (d) represented by these can be manufactured. The reaction temperature at this time is usually 0 to 40 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 10 minutes to 1 hour, preferably 10 to 20. Moreover, the addition amount of a compound (c) is 1.1 to 10 molar equivalent normally with respect to a ribonucleoside derivative (b), Preferably it is 1.1 to 5 molar equivalent, The addition amount of a catalyst is a ribonucleoside derivative. The amount is usually 0.1 to 10 molar equivalents, preferably 1.1 to 5 molar equivalents, relative to (b).

次いで、リボヌクレオシド誘導体(d)をテトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン、アセトニトリル等の有機溶媒に溶解し、フッ素化剤(例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、トリエチルアミントリハイドロフルオリド、フッ化水素ピリジン等)と酸(例えば、酢酸、塩酸、硫酸)とを任意の混合比の混合試薬として反応させることにより、次式(e):

Figure 0005228002
[式中、B、R2、R3、R4及びR5は前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオシド誘導体(e)を製造することができる。この際の反応温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常15〜20時間、好ましくは16〜18時間である。また、混合試薬におけるフッ素化剤と酸との混合比は、通常1:1〜1:2、好ましくは1:1〜1:1.5であり、混合試薬の添加量は、リボヌクレオシド誘導体(d)に対して通常2〜10モル当量、好ましくは3〜5モル当量である。 Next, the ribonucleoside derivative (d) is dissolved in an organic solvent such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dichloromethane, acetonitrile, and a fluorinating agent (for example, tetrabutylammonium fluoride, triethylamine trihydrofluoride, hydrogen fluoride pyridine). Etc.) and an acid (for example, acetic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid) as a mixed reagent having an arbitrary mixing ratio, the following formula (e):
Figure 0005228002
[Wherein, B, R 2 , R 3 , R 4 and R 5 have the same meanings as described above. ]
The ribonucleoside derivative (e) represented by these can be manufactured. The reaction temperature at this time is usually 0 to 40 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 15 to 20 hours, preferably 16 to 18 hours. In addition, the mixing ratio of the fluorinating agent and the acid in the mixed reagent is usually 1: 1 to 1: 2, preferably 1: 1 to 1: 1.5, and the addition amount of the mixed reagent is the ribonucleoside derivative ( It is usually 2 to 10 molar equivalents, preferably 3 to 5 molar equivalents with respect to d).

次いで、リボヌクレオシド誘導体(e)を、ピリジン等の有機溶媒に溶解し、これにR1a−Cl[式中、R1aは置換基を有していてもよいトリチル基若しくは9−フェニルキサンテニル基を表す。]を添加して反応させることにより、次式(f):

Figure 0005228002
[式中、R1a、R2、R3、R4及びR5は前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオシド誘導体(f)を製造することができる。この際の反応温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常4〜12時間、好ましくは6〜8時間である。また、R1a−Clの添加量は、リボヌクレオシド誘導体(e)に対して通常1〜2モル当量、好ましくは1〜1.1モル当量である。
こうして製造されたリボヌクレオシド誘導体(f)は、リボ核酸合成モノマーであるリボヌクレオシド誘導体(h)を製造するにあたっての中間体である。 Then, the ribonucleoside derivative (e), dissolved in an organic solvent such as pyridine, to which R 1a -Cl [wherein, R 1a is an optionally substituted trityl group or 9 phenylxylyl Sante sulfonyl group Represents. ] Is added and reacted, the following formula (f):
Figure 0005228002
[Wherein, R 1a , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 have the same meanings as described above. ]
The ribonucleoside derivative (f) represented by these can be manufactured. The reaction temperature at this time is usually 0 to 40 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 4 to 12 hours, preferably 6 to 8 hours. The amount of R 1a -Cl added is usually 1 to 2 molar equivalents, preferably 1 to 1.1 molar equivalents, relative to the ribonucleoside derivative (e).
The ribonucleoside derivative (f) thus produced is an intermediate for producing the ribonucleoside derivative (h) that is a ribonucleic acid synthesis monomer.

次いで、リボヌクレオシド誘導体(f)を、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン、アセトニトリル等の有機溶媒に溶解し、これに次式(g):

Figure 0005228002
[式中、R6は前記と同義であり、R14及びR15は同一の又は異なるアルキル基を表す。]
で表される化合物(g)及び亜リン酸化剤(例えば、2−シアノエチル−N,N−ジイソプロピルホスホロクロリダイト、メチル−N,N−ジイソプロピルホスホロクロリダイト等)を添加して反応させることにより、次式(h):
Figure 0005228002
[式中、R1a、R2、R3、R4、R5、R6、R14及びR15は前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオシド誘導体(h)を製造することができる。この際の反応温度は通常0〜25℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常1〜3時間、好ましくは2〜3時間である。また、化合物(g)の添加量は、リボヌクレオシド誘導体(f)に対して通常1〜2モル当量、好ましくは1〜1.1モル当量であり、亜リン酸化剤の添加量は、リボヌクレオシド誘導体(f)に対して通常1〜2モル当量、好ましくは1〜1.1モル当量である。 Next, the ribonucleoside derivative (f) is dissolved in an organic solvent such as dichloromethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dichloromethane, acetonitrile, and the following formula (g):
Figure 0005228002
[Wherein, R 6 has the same meaning as described above, and R 14 and R 15 represent the same or different alkyl groups. ]
(G) and a phosphorylating agent (for example, 2-cyanoethyl-N, N-diisopropyl phosphorochloridite, methyl-N, N-diisopropyl phosphorochloridite, etc.) According to the following formula (h):
Figure 0005228002
[Wherein, R 1a , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 14 and R 15 are as defined above]. ]
The ribonucleoside derivative (h) represented by these can be manufactured. The reaction temperature at this time is usually 0 to 25 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 1 to 3 hours, preferably 2 to 3 hours. Moreover, the addition amount of a compound (g) is 1-2 mol equivalent normally with respect to a ribonucleoside derivative (f), Preferably it is 1-1.1 mol equivalent, The addition amount of a phosphorylating agent is ribonucleoside. The amount is usually 1 to 2 molar equivalents, preferably 1 to 1.1 molar equivalents, relative to the derivative (f).

上記式(g)及び(h)において、R14及びR15で表されるアルキル基は特に限定されるものではなく、その具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、t−ペンチル基、ネオペンチル基等の炭素数1〜5の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられるが、これらのうち、エチル基又はイソプロピル基が好ましい。R14及びR15で表されるアルキル基は同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、R14及びR15で表されるアルキル基が一体となって環を形成していてもよい。
こうして製造されたリボヌクレオシド誘導体(h)は、リボ核酸合成のモノマーとなる。
In the above formulas (g) and (h), the alkyl group represented by R 14 and R 15 is not particularly limited, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group. Linear or branched chain having 1 to 5 carbon atoms such as n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, t-pentyl group, neopentyl group, etc. Although an alkyl group is mentioned, Of these, an ethyl group or an isopropyl group is preferable. The alkyl groups represented by R 14 and R 15 may be the same or different. In addition, the alkyl groups represented by R 14 and R 15 may be combined to form a ring.
The ribonucleoside derivative (h) thus produced becomes a monomer for ribonucleic acid synthesis.

〔リボヌクレオチド誘導体(III−1)の製造〕
(工程1)5’水酸基の脱保護
常法に従って得られる次式(i):

Figure 0005228002
[式中、B、R1a、Y及びZは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオシド誘導体(i)を酸処理することにより、R1aで表される5’水酸基の保護基を除去し、5'水酸基の脱保護を行う。この際、酸処理は、例えば、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等を1〜5%の濃度になるようにジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等の有機溶媒に溶解した溶液を用いて行うことができる。当該溶液を用いた処理温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、処理時間は通常0.5〜10分、好ましくは0.5〜1分である。 [Production of Ribonucleotide Derivative (III-1)]
(Step 1) Deprotection of 5 ′ hydroxyl group The following formula (i) obtained according to a conventional method:
Figure 0005228002
[Wherein, B, R 1a , Y and Z are as defined above. ]
The ribonucleoside derivative (i) represented by the formula (1) is acid-treated to remove the 5′-hydroxyl protecting group represented by R 1a and deprotect the 5′-hydroxyl. In this case, the acid treatment is performed using, for example, a solution obtained by dissolving trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid or the like in an organic solvent such as dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane so as to have a concentration of 1 to 5%. It can be carried out. The processing temperature using the said solution is 0-40 degreeC normally, Preferably it is 15-25 degreeC, and processing time is 0.5-10 minutes normally, Preferably it is 0.5-1 minute.

(工程2)ホスホロアミダイト体の活性化及び縮合反応による鎖伸長
リボヌクレオシド誘導体(h)にプロトンを与えて活性化させ、5'水酸基を脱保護したリボヌクレオシド誘導体(i)と縮合反応させる。この際、反応溶媒としては、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン等を用いることができ、活性化剤としては、例えば、1H−テトラゾール、5−エチルチオテトラゾール、5−ベンジルチオテトラゾール、5−ニトロフェニルテトラゾール、3,4−ジシアノイミダゾール、3,4−ジクロロイミダゾール、3,4−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラート、N−シアノメチルアンモニウム塩等を用いることができる。また、反応温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常5〜15分、好ましくは3〜5分である。
(Step 2) Activation of phosphoramidite and chain elongation by condensation reaction A proton is given to the ribonucleoside derivative (h) to activate it, and a condensation reaction is performed with the ribonucleoside derivative (i) in which the 5 ′ hydroxyl group is deprotected. At this time, as the reaction solvent, for example, acetonitrile, tetrahydrofuran, dichloromethane or the like can be used, and as the activator, for example, 1H-tetrazole, 5-ethylthiotetrazole, 5-benzylthiotetrazole, 5-nitrophenyl. Tetrazole, 3,4-dicyanoimidazole, 3,4-dichloroimidazole, 3,4-dicyanoimidazole, benzotriazole triflate, imidazole triflate, N-cyanomethylammonium salt and the like can be used. Moreover, reaction temperature is 0-40 degreeC normally, Preferably it is 15-25 degreeC, and reaction time is 5-15 minutes normally, Preferably it is 3-5 minutes.

縮合反応における活性化剤としては1H−テトラゾールが一般的に用いられる。但し、縮合反応では2’水酸基の保護基の立体障害による縮合反応速度及び縮合反応収率の低下が問題となるので、1H−テトラゾールと比較して,縮合反応速度及び縮合反応収率の向上が期待できる活性化剤(例えば、5−エチルチオテトラゾール、5−ベンジルチオテトラゾール、5−ニトロフェニルテトラゾール、3,4−ジシアノイミダゾール、3,4−ジクロロイミダゾール、3,4−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラート、N−シアノメチルアンモニウム塩等)を用いることが好ましい。N−シアノメチルアンモニウム塩としては、例えば、N−シアノメチルジメチルアンモニウムテトラフルオロホウ酸、N−シアノメチルジメチルアンモニウムヘキサフルオロリン酸、N−シアノメチルジメチルアンモニウムトリフルオロメタンスルホン酸、N−シアノメチルジメチルアンモニウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、N−シアノメチルジメチル過塩素酸、N−シアノメチルピロリジンテトラフルオロホウ酸、N−ヘキサフルオロリン酸、N−シアノメチルピロリジントリフルオロメタンスルホン酸、N−シアノメチルピロリジントリフルオロメタンスルホンイミド、N−シアノメチルピロリジン過塩素酸、N−シアノメチルピペリジンテトラフルオロホウ酸、N−シアノメチルピペリジンヘキサフルオロリン酸、N−シアノメチルピペリジントリフルオロメタンスルホン酸、N−シアノメチルピペリジントリフルオロメタンスルホンイミド、N−シアノメチルピペリジン過塩素酸、N−シアノメチルジイソプロピルアンモニウムテトラフルオロホウ酸、N−シアノメチルジイソプロピルアンモニウムヘキサフルオロリン酸、N−シアノメチルジイソプロピルアンモニウムトリフルオロメタンスルホン酸、N−シアノメチルジイソプロピルアンモニウムトリフルオロメタンスルホンイミド、N−シアノメチルジイソプロピルアンモニウム過塩素酸等を用いることができる。   As an activator in the condensation reaction, 1H-tetrazole is generally used. However, in the condensation reaction, the reduction of the condensation reaction rate and the condensation reaction yield due to the steric hindrance of the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group becomes a problem, so that the condensation reaction rate and the condensation reaction yield are improved as compared with 1H-tetrazole. Expected activators (eg, 5-ethylthiotetrazole, 5-benzylthiotetrazole, 5-nitrophenyltetrazole, 3,4-dicyanoimidazole, 3,4-dichloroimidazole, 3,4-dicyanoimidazole, benzotriazole triflate Imidazole triflate, N-cyanomethylammonium salt, etc.) are preferably used. Examples of the N-cyanomethylammonium salt include N-cyanomethyldimethylammonium tetrafluoroboric acid, N-cyanomethyldimethylammonium hexafluorophosphoric acid, N-cyanomethyldimethylammonium trifluoromethanesulfonic acid, N-cyanomethyldimethylammonium. Bistrifluoromethanesulfonimide, N-cyanomethyldimethylperchloric acid, N-cyanomethylpyrrolidine tetrafluoroboric acid, N-hexafluorophosphoric acid, N-cyanomethylpyrrolidine trifluoromethanesulfonic acid, N-cyanomethylpyrrolidine trifluoromethanesulfone Imido, N-cyanomethylpyrrolidine perchloric acid, N-cyanomethylpiperidinetetrafluoroboric acid, N-cyanomethylpiperidinehexafluorophosphoric acid, N-silane Nomethylpiperidine trifluoromethanesulfonic acid, N-cyanomethylpiperidine trifluoromethanesulfonimide, N-cyanomethylpiperidine perchloric acid, N-cyanomethyldiisopropylammonium tetrafluoroboric acid, N-cyanomethyldiisopropylammonium hexafluorophosphoric acid, N -Cyanomethyldiisopropylammonium trifluoromethanesulfonic acid, N-cyanomethyldiisopropylammonium trifluoromethanesulfonimide, N-cyanomethyldiisopropylammonium perchloric acid, etc. can be used.

次いで、必要に応じて、未反応物の水酸基をキャッピングする。この際、キャップ化試薬としては、4−ジメチルアミノピリジンやN−メチルイミダゾールをピリジン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の任意の混合溶媒に0.05〜1Mの濃度になるように溶解した溶液と、無水酢酸、無水メトキシ酢酸等とを適当な混合比(例えば9:1〜19:1)で混合した溶液を用いることができる。当該溶液を用いた反応時間は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常0.5〜5分、好ましくは0.5〜1分である。   Then, if necessary, the unreacted hydroxyl group is capped. At this time, as a capping reagent, a solution prepared by dissolving 4-dimethylaminopyridine or N-methylimidazole in an arbitrary mixed solvent such as pyridine, acetonitrile, tetrahydrofuran or the like to a concentration of 0.05 to 1M, acetic anhydride , Methoxyacetic anhydride and the like mixed at an appropriate mixing ratio (for example, 9: 1 to 19: 1) can be used. The reaction time using the solution is usually 0 to 40 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 5 minutes, preferably 0.5 to 1 minute.

(工程3)亜リン酸結合のリン酸トリエステル結合への酸化
亜リン酸結合のリン酸トリエステル結合への酸化は、例えば、ヨウ素をピリジン、水、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の無機溶媒、有機溶媒又はそれらの任意の混合溶媒に0.05〜2Mの濃度になるように溶解した溶液や、過酸化t−ブチルアルコールをメチレンクロライド、トルエン等に溶解した溶液を用いて行うことができる。当該溶液を用いた反応時間は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、反応時間は通常0.5〜5分、好ましくは0.5〜1分である。
(Step 3) Oxidation of phosphite bond to phosphate triester bond Oxidation of phosphite bond to phosphate triester bond includes, for example, iodine as an inorganic solvent such as pyridine, water, acetonitrile, tetrahydrofuran, organic solvent, etc. Or it can carry out using the solution which melt | dissolved in those arbitrary mixed solvents so that it might become a density | concentration of 0.05-2M, or the solution which melt | dissolved the t-butyl alcohol peroxide in the methylene chloride, toluene. The reaction time using the solution is usually 0 to 40 ° C., preferably 15 to 25 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 5 minutes, preferably 0.5 to 1 minute.

亜リン酸結合のリン酸トリエステル結合への酸化は、酸化反応時に生じる中間体の加水分解、溶媒中のH2Oによる縮合反応効率の低下等を防止するために、無水溶媒中で行うことが好ましい。亜リン酸結合を無水溶媒中でリン酸トリエステル結合へ酸化できる試薬としては、例えば、過酸化t−ブチルアルコール、2−(フェニルスルホニル)−3−(3−ニトロフェニル)オキサジリジン、2−(フェニルスルホニル)−3−フェニルオキサジリジン、(1S)−(+)−カンファースルフォニルオキサジリジン、(1S)−(+)−8,8−ジクロロカンファースルフォニルオキサジリジン等を用いることができる。 Oxidation of a phosphite bond to a phosphate triester bond should be performed in an anhydrous solvent to prevent hydrolysis of intermediates generated during the oxidation reaction and reduction in condensation reaction efficiency due to H 2 O in the solvent. Is preferred. Examples of the reagent capable of oxidizing a phosphite bond to a phosphate triester bond in an anhydrous solvent include, for example, t-butyl alcohol peroxide, 2- (phenylsulfonyl) -3- (3-nitrophenyl) oxaziridine, 2- ( Phenylsulfonyl) -3-phenyloxaziridine, (1S)-(+)-camphorsulfonyloxyzaziridine, (1S)-(+)-8,8-dichlorocamphorsulfonyloxyzaziridine, and the like can be used.

上記工程1〜3により、次式(j−1):

Figure 0005228002
[式中、B、R1a、R2、R3、R4、R5、R6、Y及びZは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(j−1)(ダイマー)を製造することができる。 By the above steps 1 to 3, the following formula (j-1):
Figure 0005228002
[Wherein, B, R 1a , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , Y and Z are as defined above] ]
The ribonucleotide derivative (j-1) (dimer) represented by these can be manufactured.

また、上記工程3において、酸化反応の代わりに硫化反応を行うことにより、次式(j−2):

Figure 0005228002
[式中、B、R1a、R2、R3、R4、R5、R6、Y及びZは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(j−2)(ダイマー)を製造することができる。硫化反応は、例えば、硫黄、Beaucage試薬(3H−1,2−ベンゾジチオール−3−オン−1,1−ジオキシド)等を用いて行うことができる。 Moreover, in the said process 3, by performing a sulfurization reaction instead of an oxidation reaction, following Formula (j-2):
Figure 0005228002
[Wherein, B, R 1a , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , Y and Z are as defined above] ]
The ribonucleotide derivative (j-2) (dimer) represented by these can be manufactured. The sulfurization reaction can be performed using, for example, sulfur, Beaucage reagent (3H-1,2-benzodithiol-3-one-1,1-dioxide) or the like.

次いで、上記工程1〜3に従って、リボヌクレオチド誘導体(j−1)又は(j−2)(ダイマー)とリボヌクレオシド誘導体(h)(モノマー)とを反応させることにより、次式(k):

Figure 0005228002
[式中、B、R1a、R2、R3、R4、R5、R6、W、Y及びZは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(k)(トリマー)を製造することができる。
同様にして上記工程1〜3を繰り返すことにより、リボヌクレオチド誘導体(III−1)(オリゴマー)を製造することができる。
上記工程1〜3は、市販の核酸合成機を用いて行ってもよい。 Next, by reacting the ribonucleotide derivative (j-1) or (j-2) (dimer) with the ribonucleoside derivative (h) (monomer) according to the above steps 1 to 3, the following formula (k):
Figure 0005228002
[Wherein, B, R 1a , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , W, Y, and Z are as defined above]. ]
The ribonucleotide derivative (k) (trimer) represented by these can be manufactured.
Similarly, by repeating the above steps 1 to 3, the ribonucleotide derivative (III-1) (oligomer) can be produced.
The above steps 1 to 3 may be performed using a commercially available nucleic acid synthesizer.

〔リボヌクレオチド誘導体(III−2)の製造〕
リボヌクレオチド誘導体(III−2)は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)を酸処理し、R1aで表される5’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。酸としては、例えば、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸等を用いることができるが、ジクロロ酢酸を用いることが好ましい。酸処理は、具体的には、上記酸をジクロロメタン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン等に濃度が1〜5%となるように溶解した溶液を用いて行うことができる。当該溶液を用いた処理温度は通常0〜40℃、好ましくは15〜25℃であり、処理時間は通常0.5〜5分、好ましくは0.5〜1分である。
[Production of ribonucleotide derivative (III-2)]
The ribonucleotide derivative (III-2) can be produced by acid-treating the ribonucleotide derivative (III-1) to remove the 5 ′ hydroxyl protecting group represented by R 1a . As the acid, for example, trifluoroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid and the like can be used, but dichloroacetic acid is preferably used. Specifically, the acid treatment can be performed using a solution in which the above acid is dissolved in dichloromethane, chloroform, 1,2-dichloroethane or the like so as to have a concentration of 1 to 5%. The processing temperature using the said solution is 0-40 degreeC normally, Preferably it is 15-25 degreeC, and processing time is 0.5 to 5 minutes normally, Preferably it is 0.5 to 1 minute.

リボヌクレオチド誘導体(III−1)において、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基としてジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基等のトリチル基を有する場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(III−1)の酸処理により、R1aで表される5’水酸基の保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (III-1), when the nucleobase represented by B or a derivative thereof has a trityl group such as a dimethoxytrityl group or a monomethoxytrityl group as a protective group, the protective group is a nucleotide derivative (III- It is removed together with the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a by the acid treatment of 1).

〔リボヌクレオチド誘導体(II−1)の製造〕
リボヌクレオチド誘導体(II−1)は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)を塩基処理し、R6で表されるリン酸保護基を除去することにより製造することができる。塩基としては、R6で表されるリン酸保護基は除去するが2’水酸基の保護基は除去しない塩基を用いることができる。このような塩基としては、例えば、アンモニア、第1級アミン等が用いることができ、第1級アミンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン等の第1級アルキルアミンを用いることができる。塩基処理は、具体的には、上記塩基を水、エタノールに濃度が15〜30%となるように溶解した溶液を用いて行うことができる。当該溶液を用いた処理温度は通常0〜50℃、好ましくは10〜25℃であり、処理時間は通常1〜8時間、好ましくは1〜2時間である。
[Production of Ribonucleotide Derivative (II-1)]
The ribonucleotide derivative (II-1) can be produced by treating the ribonucleotide derivative (III-1) with a base and removing the phosphate protecting group represented by R 6 . As the base, a base that removes the phosphate protecting group represented by R 6 but does not remove the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group can be used. As such a base, for example, ammonia, a primary amine or the like can be used, and as the primary amine, for example, a primary alkylamine such as methylamine, ethylamine or propylamine can be used. . Specifically, the base treatment can be performed using a solution in which the above base is dissolved in water and ethanol so as to have a concentration of 15 to 30%. The processing temperature using the said solution is 0-50 degreeC normally, Preferably it is 10-25 degreeC, and processing time is 1 to 8 hours normally, Preferably it is 1-2 hours.

リボヌクレオチド誘導体(III−1)において、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基としてアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、4−メチルベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、4−tert−ブチルフェノキシアセチル基、4−イソプロピルフェノキシアセチル基等の芳香族アシル基;ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基等の置換基を有する脂肪族アシル基又は芳香族アシル基;2−シアノエチル基、2−(p−ニトロフェニル)エチル基、2−(ベンゼンスルホニル)エチル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するエチル基;ジメチルアミノメチレン基、ジブチルアミノメチレン基等のジアルキルアミノメチレン基を有する場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(III−1)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (III-1), the nucleobase represented by B or a derivative thereof is an aliphatic acyl group such as an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, and an isobutyryl group as a protecting group; a benzoyl group, a 4-methylbenzoyl group Aromatic acyl groups such as 4-methoxybenzoyl group, phenylacetyl group, phenoxyacetyl group, 4-tert-butylphenoxyacetyl group, 4-isopropylphenoxyacetyl group; substituents such as halogen atom, alkyl group, alkyloxy group An electron-withdrawing group that can be removed by β elimination such as 2-cyanoethyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethyl group, etc. An ethyl group having a dimethylaminomethylene group, a dibutylaminomethylene group or the like When having aminomethylene groups, the protecting groups, the ammonia treatment or a primary amine treatment nucleotide derivative (III-1), it is removed with phosphoric acid protecting group represented by R 6.

リボヌクレオチド誘導体(III−1)において、Y及びZで表される水酸基の保護基がレブリニル基、アセチル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基である場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(III−1)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (III-1), the hydroxyl protecting group represented by Y and Z is an acyl group such as a levulinyl group, an acetyl group, a phenylacetyl group, a phenoxyacetyl group, a butyryl group, a propionyl group, or a benzoyl group. In this case, the protecting group is removed together with the phosphate protecting group represented by R 6 by ammonia treatment or primary amine treatment of the nucleotide derivative (III-1).

リボヌクレオチド誘導体(III−1)において、Y及びZで表される固相担体がコハク酸エステル、シュウ酸エステル、フタル酸エステル等のスペーサーを介して水酸基と結合している場合、当該固相担体は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (III-1), when the solid phase carrier represented by Y and Z is bonded to a hydroxyl group via a spacer such as succinate, oxalate or phthalate, the solid phase carrier Is removed together with the phosphate protecting group represented by R 6 by ammonia treatment or primary amine treatment of the ribonucleotide derivative (III-1).

〔リボヌクレオチド誘導体(II−2)の製造〕
(1)第1の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(II−2)は、リボヌクレオチド誘導体(III−2)を塩基処理し、R6で表されるリン酸保護基を除去することにより製造することができる。塩基処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(II−1)の製造〕と同様に行うことができる。
[Production of Ribonucleotide Derivative (II-2)]
(1) First production method The ribonucleotide derivative (II-2) can be produced by treating the ribonucleotide derivative (III-2) with a base and removing the phosphate protecting group represented by R 6. it can. The base treatment can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (II-1)].

リボヌクレオチド誘導体(III−2)において、Bで表される核酸塩基又はその誘導体がアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、4−メチルベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、4−tert−ブチルフェノキシアセチル基、4−イソプロピルフェノキシアセチル基等の芳香族アシル基;ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基等の置換基を有する脂肪族アシル基又は芳香族アシル基;2−シアノエチル基、2−(p−ニトロフェニル)エチル基、2−(ベンゼンスルホニル)エチル基等のβ脱離による除去
が可能な、電子吸引基を有するエチル基;ジメチルアミノメチレン基、ジブチルアミノメチレン基等のジアルキルアミノメチレン基を有する場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(III−2)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに除去される。
In the ribonucleotide derivative (III-2), the nucleobase represented by B or a derivative thereof is an aliphatic acyl group such as acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group; benzoyl group, 4-methylbenzoyl group, 4- Aromatic acyl groups such as methoxybenzoyl group, phenylacetyl group, phenoxyacetyl group, 4-tert-butylphenoxyacetyl group, 4-isopropylphenoxyacetyl group; fats having substituents such as halogen atom, alkyl group, alkyloxy group Ethyl having an electron-withdrawing group that can be removed by β elimination such as 2-cyanoethyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethyl group, etc. Group: Dialkylaminomethyl such as dimethylaminomethylene group and dibutylaminomethylene group If having a down group, the protecting group is by ammonia treatment or a primary amine treatment nucleotide derivative (III-2), is removed with phosphoric acid protecting group represented by R 6.

リボヌクレオチド誘導体(III−2)において、Y及びZで表される水酸基の保護基がレブリニル基、アセチル基、フェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ブチリル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等のアシル基である場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(III−2)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (III-2), the hydroxyl protecting group represented by Y and Z is an acyl group such as a levulinyl group, an acetyl group, a phenylacetyl group, a phenoxyacetyl group, a butyryl group, a propionyl group, or a benzoyl group. In this case, the protecting group is removed together with the phosphate protecting group represented by R 6 by ammonia treatment or primary amine treatment of the nucleotide derivative (III-2).

リボヌクレオチド誘導体(III−2)において、Y及びZで表される固相担体がコハク酸エステル、シュウ酸エステル、フタル酸エステル等のスペーサーを介して水酸基と結合している場合、当該固相担体は、リボヌクレオチド誘導体(III−2)のアンモニア処理又は第1級アミン処理により、R6で表されるリン酸保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (III-2), when the solid phase carrier represented by Y and Z is bonded to a hydroxyl group via a spacer such as succinate, oxalate, or phthalate, the solid phase carrier Is removed together with the phosphate protecting group represented by R 6 by ammonia treatment or primary amine treatment of the ribonucleotide derivative (III-2).

(2)第2の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(II−2)は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)を酸処理し、R1aで表される5’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。酸処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(III−2)の製造〕と同様にして行うことができる。
リボヌクレオチド誘導体(II−1)において、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基としてジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基等のトリチル基を有する場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)の酸処理により、R1aで表される5’水酸基の保護基とともに除去される。
(2) Second Production Method Ribonucleotide derivative (II-2) is produced by acid-treating ribonucleotide derivative (II-1) and removing the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a. be able to. The acid treatment can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (III-2)].
In the ribonucleotide derivative (II-1), when the nucleobase represented by B or a derivative thereof has a trityl group such as a dimethoxytrityl group or a monomethoxytrityl group as a protective group, the protective group is a ribonucleotide derivative (II It is removed together with the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a by the acid treatment of -1).

〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕
(1)第1の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−1)は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)をフッ化物処理し、2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。フッ化物としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)、フッ化カリウムと18−クラウン−6との混合試薬等を用いることができるが、TBAFを用いることが好ましい。TBAFを用いると2’水酸基の保護基を短時間で除去することができるからである。フッ化カリウムと18−クラウン−6との混合試薬を用いる場合、クラウンエーテルによりカリウムイオンが捕捉されてフッ化物イオンが遊離し、遊離したフッ化物イオンが、TBAFの場合と同様に2’水酸基の保護基を除去することができる。フッ化物処理は、具体的には、TBAFをテトラヒドロフラン等に濃度が0.5〜1Mとなるように溶解した溶液等を用いて行うことができる。当該溶液を用いた処理温度は通常0〜60℃、好ましくは15〜25℃であり、処理時間は通常0.1〜30時間、好ましくは0.2〜0.5時間である。
[Production of Ribonucleotide Derivative (I-1)]
(1) First production method The ribonucleotide derivative (I-1) can be produced by treating the ribonucleotide derivative (II-1) with a fluoride to remove the protecting group of the 2 'hydroxyl group. As the fluoride, for example, tetrabutylammonium fluoride (TBAF), a mixed reagent of potassium fluoride and 18-crown-6, or the like can be used, but TBAF is preferably used. This is because when TBAF is used, the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group can be removed in a short time. When a mixed reagent of potassium fluoride and 18-crown-6 is used, potassium ions are captured by the crown ether and fluoride ions are liberated, and the liberated fluoride ions are converted into 2 ′ hydroxyl groups as in TBAF. Protecting groups can be removed. Specifically, the fluoride treatment can be performed using a solution or the like in which TBAF is dissolved in tetrahydrofuran or the like so as to have a concentration of 0.5 to 1M. The treatment temperature using the solution is usually from 0 to 60 ° C., preferably from 15 to 25 ° C., and the treatment time is usually from 0.1 to 30 hours, preferably from 0.2 to 0.5 hours.

リボヌクレオチド誘導体(II−1)において、Y及びZで表される水酸基の保護基がt−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等のシリル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)のフッ化物処理により、2’水酸基の保護基とともに除去される。   In the ribonucleotide derivative (II-1), when the protecting group for the hydroxyl group represented by Y and Z is a silyl group such as t-butyldimethylsilyl group or t-butyldiphenylsilyl group, the protecting group is a ribonucleotide. The derivative (II-1) is removed together with a protecting group for the 2 'hydroxyl group by fluoride treatment.

リボヌクレオチド誘導体(II−1)において、Y及びZで表される固相担体が4−カルボキシフェニル(ジイソプロピル)シリル基を介して水酸基と結合している場合、当該固相担体は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)のフッ化物処理により、2’水酸基の保護基とともに除される。   In the ribonucleotide derivative (II-1), when the solid phase carrier represented by Y and Z is bonded to a hydroxyl group via a 4-carboxyphenyl (diisopropyl) silyl group, the solid phase carrier is a ribonucleotide derivative. By the fluoride treatment of (II-1), it is removed together with a protecting group for the 2 ′ hydroxyl group.

(2)第2の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−1)は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理した後、中性条件下で加水分解し、2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。塩基としては、例えば、第3級アミン等の有機塩基、ホスファゼン塩基(Schwesinger塩基)等を用いることができる。なお、第1級アミン又は第2級アミンとシリル化剤とを併用すると、対応するシリルアミンへと変換され、第1級アミン又は第2級アミンの塩基性が極端に減少するため有効ではないと考えられる。第3級アミンとしては、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)、ジイソプロピルエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N−メチルピペリジン等を用いることができるが、DBUを用いることが好ましい。DBUを用いると2’水酸基の保護基を短時間で除去することができるからである。ホスファゼン塩基としては、例えば、2−tert−ブチルイミノ−2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−1,3,2−ジアザホスホリナン、(tert−ブチルイミノ)トリス(ジメチルアミノ)ホスホラン、tert−ブチルトリス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデン]ホスホリミディックトリアミド等を用いることができる。シリル化剤としては、例えば、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド、N,O−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、N,O−ビストリメチルシリルベンズアミド等のトリメチルシリル化剤を用いることができる。無水溶媒としては、例えば、アセトニトリル、ニトロメタン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等を用いることができる。塩基処理は、具体的には、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)をアセトニトリル等に濃度が0.5〜1Mとなるように溶解した溶液等を用いて行うことができる。当該溶液を用いた処理温度は通常0〜60℃、好ましくは15〜25℃であり、処理時間は通常0.1〜30時間、好ましくは0.2〜0.5時間である。加水分解は、塩基処理の後、中性条件下で行う。加水分解は、例えば、塩基処理後の反応溶媒に酸を加えて中和し、反応溶媒中に残存する塩基を除去した後に行うことができる。酸は特に限定されるものではないが、例えば、酢酸のアセトニトリル溶液、塩化水素のアセトニトリル溶液等を用いることができる。酸による残存塩基の中和は無水条件下で行う必要がある。
(2) Second production method The ribonucleotide derivative (I-1) is hydrolyzed under neutral conditions after the ribonucleotide derivative (II-1) is treated with a base in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent. And can be produced by removing the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group. As the base, for example, an organic base such as a tertiary amine, a phosphazene base (Schwesinger base), or the like can be used. In addition, when a primary amine or secondary amine and a silylating agent are used in combination, it is converted into the corresponding silylamine and is not effective because the basicity of the primary amine or secondary amine is extremely reduced. Conceivable. As the tertiary amine, for example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU), diisopropylethylamine, triethylamine, tributylamine, N-methylpiperidine and the like can be used. Is preferably used. This is because when DBU is used, the 2′-hydroxyl protecting group can be removed in a short time. Examples of the phosphazene base include 2-tert-butylimino-2-diethylamino-1,3-dimethyl-1,3,2-diazaphosphorinane, (tert-butylimino) tris (dimethylamino) phosphorane, tert-butyltris [ Tris (dimethylamino) phosphoranylidene] phosphorimidic triamide and the like can be used. As the silylating agent, for example, a trimethylsilylating agent such as N, O-bistrimethylsilylacetamide, N, O-bistrimethylsilyltrifluoroacetamide, N, O-bistrimethylsilylbenzamide or the like can be used. As the anhydrous solvent, for example, acetonitrile, nitromethane, tetrahydrofuran, dimethylformamide and the like can be used. Specifically, the base treatment is performed using a solution in which 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) is dissolved in acetonitrile or the like so as to have a concentration of 0.5 to 1M. It can be carried out. The treatment temperature using the solution is usually from 0 to 60 ° C., preferably from 15 to 25 ° C., and the treatment time is usually from 0.1 to 30 hours, preferably from 0.2 to 0.5 hours. Hydrolysis is performed under neutral conditions after base treatment. Hydrolysis can be carried out, for example, after neutralizing the reaction solvent after the base treatment by adding an acid and removing the base remaining in the reaction solvent. Although the acid is not particularly limited, for example, an acetonitrile solution of acetic acid, an acetonitrile solution of hydrogen chloride, or the like can be used. It is necessary to neutralize the remaining base with an acid under anhydrous conditions.

シリル化剤の不存在下で塩基処理を行うと、脱保護された2’水酸基がリン酸エステルのリン原子を求核攻撃し、ヌクレオチド鎖の分解が生じる。そこで、シリル化剤存在下で塩基処理を行う。シリル化剤は、2'水酸基又は脱保護反応の中間体として生成する2'−O−2−ヒドロキシエチル基をシリル化することにより、水酸基の隣接リン原子への攻撃を抑制するので、ヌクレオチド鎖の分解が防止される。   When the base treatment is carried out in the absence of a silylating agent, the deprotected 2 'hydroxyl group nucleophilically attacks the phosphorus atom of the phosphate ester, resulting in the degradation of the nucleotide chain. Therefore, base treatment is performed in the presence of a silylating agent. The silylating agent suppresses an attack on the adjacent phosphorus atom of the hydroxyl group by silylating the 2′-O-2-hydroxyethyl group generated as an intermediate of the 2 ′ hydroxyl group or the deprotection reaction. Is prevented from being decomposed.

リボヌクレオチド誘導体(II−1)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理することにより、リン酸エステルはリン酸シリルエステルへと変換されるとともに、2'水酸基又は脱保護反応の中間体として生成する2'−O−2−ヒドロキシエチル基はシリル化される。リン酸シリルエステルは、水を加えると、直ちに加水分解されて遊離のリン酸エステルに変換される。シリル化された2’水酸基は、水を加えると、隣接する遊離したリン酸の分子内酸触媒作用で速やかに加水分解され、遊離の2’水酸基に変換される。脱保護反応の中間体として生成する2‘−O−2−ヒドロキシエチル基がシリル化されて2−トリメチルシロキシエチル基に変換されている場合、当該シリルエーテルは極めて不安定なため、水を加えると、直ちに加水分解され、不安定な2−ヒドロキシエチル基に変換された後、直ちにアセトアルデヒドの脱離を伴って分解し、遊離の2’水酸基に変換される。なお、加水分解処理は酸性条件下で行うこともできるが、酸性条件下で加水分解処理を行うとR1aで表される5'水酸基の保護基が除去されるので、リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造方法では中性条件下で加水分解処理を行う。中性条件は通常pH7.0であり、酸性条件は通常pH2.0−6.9である。 By subjecting the ribonucleotide derivative (II-1) to base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent, the phosphate ester is converted to a phosphate silyl ester, and the 2 ′ hydroxyl group or intermediate of the deprotection reaction The 2′-O-2-hydroxyethyl group produced as a body is silylated. When water is added, silyl phosphate is immediately hydrolyzed and converted to free phosphate. When water is added, the silylated 2 ′ hydroxyl group is rapidly hydrolyzed by the intramolecular acid catalysis of the adjacent free phosphoric acid and converted to the free 2 ′ hydroxyl group. When the 2′-O-2-hydroxyethyl group produced as an intermediate of the deprotection reaction is silylated and converted to a 2-trimethylsiloxyethyl group, the silyl ether is extremely unstable, so water is added. Then, it is immediately hydrolyzed and converted into an unstable 2-hydroxyethyl group, and then immediately decomposed with elimination of acetaldehyde and converted into a free 2 ′ hydroxyl group. The hydrolysis treatment can also be carried out under acidic conditions. However, when the hydrolysis treatment is carried out under acidic conditions, the 5′-hydroxyl protecting group represented by R 1a is removed, so that a ribonucleotide derivative (I- In the production method 1), hydrolysis is performed under neutral conditions. Neutral conditions are usually pH 7.0 and acidic conditions are usually pH 2.0-6.9.

リボヌクレオチド誘導体(II−1)において、Bで表される核酸又はその誘導体が有する保護基が2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)の第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理により除去される。   In the ribonucleotide derivative (II-1), the protecting group of the nucleic acid represented by B or a derivative thereof is 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxy In the case of an alkoxycarbonyl group having an electron withdrawing group that can be removed by β-elimination such as a carbonyl group, the protecting group is removed by tertiary amine treatment or phosphazene base treatment of the ribonucleotide derivative (II-1). Is done.

(3)第3の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−1)は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理した後、中性条件下で加水分解し、R6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。無水溶媒中におけるシリル化剤存在下での塩基処理及び中性条件下での加水分解処理は、上記第2の製造方法と同様に行うことができる。
(3) Third production method The ribonucleotide derivative (I-1) is hydrolyzed under neutral conditions after the ribonucleotide derivative (III-1) is treated with a base in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent. The phosphoric acid protecting group represented by R 6 and the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group can be removed. The base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent and the hydrolysis treatment under neutral conditions can be carried out in the same manner as in the second production method.

リボヌクレオチド誘導体(III−1)において、Bで表される核酸又はその誘導体が有する保護基が2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)の第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理により除去される。   In the ribonucleotide derivative (III-1), the protecting group of the nucleic acid represented by B or its derivative is 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxy In the case of an alkoxycarbonyl group having an electron-withdrawing group that can be removed by β-elimination such as a carbonyl group, the protecting group is removed by tertiary amine treatment or phosphazene base treatment of the ribonucleotide derivative (III-1). Is done.

〔リボヌクレオチド誘導体(I−2)の製造〕
(1)第1の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−2)は、リボヌクレオチド誘導体(II−2)をフッ化物処理し、2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。フッ化物処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様にして行うことができる。
[Production of Ribonucleotide Derivative (I-2)]
(1) First Production Method The ribonucleotide derivative (I-2) can be produced by treating the ribonucleotide derivative (II-2) with a fluoride and removing the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group. The fluoride treatment can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)].

リボヌクレオチド誘導体(II−2)において、Y及びZで表される水酸基の保護基がt−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等のシリル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(II−2)のフッ化物処理により、2’水酸基の保護基とともに除去される。   In the ribonucleotide derivative (II-2), when the protecting group for the hydroxyl group represented by Y and Z is a silyl group such as t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, the protecting group is ribonucleotide The derivative (II-2) is removed together with the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group by fluoride treatment.

リボヌクレオチド誘導体(II−2)において、Y及びZで表される固相担体が4−カルボキシフェニル(ジイソプロピル)シリル基を介して水酸基と結合している場合、当該固相担体は、リボヌクレオチド誘導体(II−2)のフッ化物処理により、2’水酸基の保護基とともに除去される。   In the ribonucleotide derivative (II-2), when the solid phase carrier represented by Y and Z is bonded to a hydroxyl group via a 4-carboxyphenyl (diisopropyl) silyl group, the solid phase carrier is a ribonucleotide derivative It is removed together with the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group by the fluoride treatment of (II-2).

(2)第2の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−2)は、リボヌクレオチド誘導体(I−1)を酸処理し、R1aで表される5’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。この際、ヌクレオチド鎖を分解しないように酸処理を行うことが好ましく、このような酸処理は、例えば、酢酸等を水に濃度が80%となるように溶解した水溶液、pH1.5〜2.5(好ましくはpH2.0)の水溶液(例えば、塩酸水溶液−ジオキサン混合溶液)等を用いて行うことができる。当該溶液を用いた処理温度は通常0〜50℃、好ましくは20〜30℃であり、処理時間は通常10〜120分、好ましくは20〜40分である。
(2) Second Production Method The ribonucleotide derivative (I-2) is produced by acid-treating the ribonucleotide derivative (I-1) and removing the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a. be able to. At this time, it is preferable to perform an acid treatment so as not to decompose the nucleotide chain. Such an acid treatment is, for example, an aqueous solution in which acetic acid or the like is dissolved in water to a concentration of 80%, pH 1.5-2. 5 (preferably pH 2.0) aqueous solution (for example, hydrochloric acid aqueous solution-dioxane mixed solution) or the like. The processing temperature using the said solution is 0-50 degreeC normally, Preferably it is 20-30 degreeC, and processing time is 10-120 minutes normally, Preferably it is 20-40 minutes.

リボヌクレオチド誘導体(I−1)において、Bで表される核酸塩基又はその誘導体が保護基としてジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基等のトリチル基を有する場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(I−1)の酸処理により、R1aで表される5’水酸基の保護基とともに除去される。 In the ribonucleotide derivative (I-1), when the nucleobase represented by B or a derivative thereof has a trityl group such as a dimethoxytrityl group or a monomethoxytrityl group as a protective group, the protective group is a ribonucleotide derivative (I It is removed together with the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a by the acid treatment of -1).

(3)第3の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−2)は、リボヌクレオチド誘導体(II−2)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理した後、中性条件又は酸性条件下で加水分解し、2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。無水溶媒中におけるシリル化剤存在下での塩基処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。また、加水分解処理は、中性条件又は酸性条件下で加水分解処理を行う点を除き、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。
(3) Third production method The ribonucleotide derivative (I-2) is prepared by subjecting the ribonucleotide derivative (II-2) to base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent, under neutral conditions or acidic conditions. And can be produced by removing the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group. The base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)]. The hydrolysis treatment can be performed in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)] except that the hydrolysis treatment is performed under neutral conditions or acidic conditions.

ヌクレオチド鎖の3'末端の2’水酸基又は3’水酸基がシリル化されている場合、リン酸の隣接基の関与がないので、中性条件下における加水分解反応は遅いと考えられる。したがって、この場合には酸性条件下で加水分解することが好ましい。   When the 2 'hydroxyl group or 3' hydroxyl group at the 3 'end of the nucleotide chain is silylated, the hydrolysis reaction under neutral conditions is considered to be slow because there is no involvement of the adjacent group of phosphoric acid. Therefore, in this case, it is preferable to hydrolyze under acidic conditions.

リボヌクレオチド誘導体(II−2)において、Bで表される核酸又はその誘導体が有する保護基が2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(II−2)の第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理により除去される。   In the ribonucleotide derivative (II-2), the protecting group possessed by the nucleic acid represented by B or a derivative thereof is 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxy In the case of an alkoxycarbonyl group having an electron-withdrawing group that can be removed by β-elimination such as a carbonyl group, the protective group is removed by tertiary amine treatment or phosphazene base treatment of the ribonucleotide derivative (II-2). Is done.

(4)第4の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−2)は、リボヌクレオチド誘導体(II−1)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理した後、酸性条件下で加水分解し、2’水酸基の保護基及びR1aで表される5’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。無水溶媒中におけるシリル化剤存在下での塩基処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。また、加水分解処理は、酸性条件下で加水分解処理を行う点を除き、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。
(4) Fourth Production Method Ribonucleotide derivative (I-2) is obtained by subjecting ribonucleotide derivative (II-1) to base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent and then hydrolyzing under acidic conditions. It can be produced by removing the protecting group for 2 ′ hydroxyl group and the protecting group for 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a . The base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)]. The hydrolysis treatment can be performed in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)] except that the hydrolysis treatment is performed under acidic conditions.

リボヌクレオチド誘導体(II−1)において、Bで表される核酸又はその誘導体が有する保護基が2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基である場合、当該保護基は、ヌクレオチド誘導体(II−1)の第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理により除去される。   In the ribonucleotide derivative (II-1), the protecting group of the nucleic acid represented by B or a derivative thereof is 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxy In the case of an alkoxycarbonyl group having an electron-withdrawing group that can be removed by β-elimination such as a carbonyl group, the protecting group is removed by tertiary amine treatment or phosphazene base treatment of the nucleotide derivative (II-1). The

(5)第5の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−2)は、リボヌクレオチド誘導体(III−2)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理した後、中性条件又は酸性条件下で加水分解し、R6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。無水溶媒中におけるシリル化剤存在下での塩基処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。また、加水分解処理は、中性条件又は酸性条件下で加水分解処理を行う点を除き、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。
(5) Fifth Production Method The ribonucleotide derivative (I-2) is prepared by subjecting the ribonucleotide derivative (III-2) to base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent, and then under neutral or acidic conditions. And the phosphate protecting group represented by R 6 and the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group are removed. The base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)]. The hydrolysis treatment can be performed in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)] except that the hydrolysis treatment is performed under neutral conditions or acidic conditions.

リボヌクレオチド誘導体(III−2)において、Bで表される核酸又はその誘導体が有する保護基が2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(III−2)の第3級アミン処理又はホスファゼン塩基により除去される。   In the ribonucleotide derivative (III-2), the protecting group possessed by the nucleic acid represented by B or a derivative thereof is 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxy In the case of an alkoxycarbonyl group having an electron-withdrawing group that can be removed by β-elimination such as a carbonyl group, the protecting group is removed by tertiary amine treatment of the ribonucleotide derivative (III-2) or a phosphazene base. The

(6)第6の製造方法
リボヌクレオチド誘導体(I−2)は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で塩基処理した後、酸性条件下で加水分解し、R1aで表される5’水酸基の保護基、R6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基を除去することにより製造することができる。無水溶媒中におけるシリル化剤存在下での塩基処理は、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。また、加水分解処理は、酸性条件下で加水分解処理を行う点を除き、〔リボヌクレオチド誘導体(I−1)の製造〕と同様に行うことができる。
(6) Sixth Production Method The ribonucleotide derivative (I-2) is obtained by subjecting the ribonucleotide derivative (III-1) to base hydrolysis in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent and then hydrolyzing under acidic conditions. And a protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a , a phosphate protecting group represented by R 6 and a protecting group for the 2 ′ hydroxyl group. The base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent can be carried out in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)]. The hydrolysis treatment can be performed in the same manner as in [Production of ribonucleotide derivative (I-1)] except that the hydrolysis treatment is performed under acidic conditions.

リボヌクレオチド誘導体(III−1)において、Bで表される核酸又はその誘導体が有する保護基が2−シアノエトキシカルボニル基、2−(p−ニトロフェニル)エトキシカルボニル基、2−(ベンゼンスルホニル)エトキシカルボニル基等のβ脱離による除去が可能な、電子吸引基を有するアルコキシカルボニル基である場合、当該保護基は、リボヌクレオチド誘導体(III−1)の第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理により除去される。   In the ribonucleotide derivative (III-1), the protecting group of the nucleic acid represented by B or its derivative is 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2- (p-nitrophenyl) ethoxycarbonyl group, 2- (benzenesulfonyl) ethoxy In the case of an alkoxycarbonyl group having an electron-withdrawing group that can be removed by β-elimination such as a carbonyl group, the protecting group is removed by tertiary amine treatment or phosphazene base treatment of the ribonucleotide derivative (III-1). Is done.

リボヌクレオチド誘導体(I−1)及び(I−2)の製造にあたり、核酸塩基又はその誘導体の保護基、R6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基が除去されたヌクレオチド鎖が塩基性条件下に置かれると、ヌクレオチド鎖が分解してしまう。核酸塩基又はその誘導体の保護基、ヌクレオチド鎖の3’末端の2’水酸基又は3’水酸基の保護基及びR6で表されるリン酸保護基の除去が塩基処理により行われる場合、核酸塩基又はその誘導体の保護基、ヌクレオチド鎖の3’末端の2’水酸基又は3’水酸基の保護基及びR6で表されるリン酸保護基の除去を2’水酸基の保護基の除去よりも後に行うと、核酸塩基又はその誘導体の保護基、R6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基が除去されたヌクレオチド鎖が塩基性条件下に置かれることになり、ヌクレオチド鎖が分解してしまう。したがって、核酸塩基又はその誘導体の保護基、ヌクレオチド鎖の3’末端の2’水酸基又は3’水酸基の保護基及びR6で表されるリン酸保護基の除去が塩基処理により行われる場合、当該塩基処理は、2’水酸基の保護基の除去よりも前に行うことが好ましい。上記の製造方法によれば、核酸塩基又はその誘導体の保護基、ヌクレオチド鎖の3’末端の2’水酸基又は3’水酸基の保護基及びR6で表されるリン酸保護基の除去を、2’水酸基の保護基の除去よりも前に行うことができるので、ヌクレオチド鎖は分解されず、リボヌクレオチド誘導体(I−1)及び(I−2)を効率よく製造することができる。 In producing ribonucleotide derivatives (I-1) and (I-2), a nucleotide chain from which a protecting group of a nucleobase or a derivative thereof, a phosphate protecting group represented by R 6 and a protecting group of a 2 ′ hydroxyl group are removed Is placed under basic conditions, the nucleotide chain will be degraded. When removal of the protecting group of the nucleobase or its derivative, the 2 'hydroxyl group at the 3' end of the nucleotide chain or the protecting group of the 3 'hydroxyl group and the phosphate protecting group represented by R 6 is carried out by base treatment, When the protecting group of the derivative, the 2 ′ hydroxyl group at the 3 ′ end of the nucleotide chain or the protecting group of the 3 ′ hydroxyl group and the phosphate protecting group represented by R 6 are removed after the removal of the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group The nucleotide chain from which the protecting group of the nucleobase or its derivative, the phosphate protecting group represented by R 6 and the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group have been removed is placed under basic conditions, and the nucleotide chain is decomposed. End up. Therefore, when removal of the protecting group of the nucleobase or its derivative, the 2 ′ hydroxyl group at the 3 ′ end of the nucleotide chain or the protecting group of the 3 ′ hydroxyl group and the phosphate protecting group represented by R 6 is carried out by base treatment, The base treatment is preferably performed before the removal of the 2′-hydroxyl protecting group. According to the above production method, the protecting group of the nucleobase or its derivative, the 2 ′ hydroxyl group at the 3 ′ end of the nucleotide chain or the protecting group at the 3 ′ hydroxyl group and the phosphate protecting group represented by R 6 are removed by 2 'Because it can be carried out before the removal of the protecting group of the hydroxyl group, the nucleotide chain is not decomposed, and the ribonucleotide derivatives (I-1) and (I-2) can be produced efficiently.

6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基は、R1aで表される5’水酸基の保護基の除去条件(酸性条件)下では安定して存在することができる。したがって、リボヌクレオチド誘導体(I−1)及び(I−2)の製造にあたり、R1aで表される5’水酸基の保護基の除去を行う時点は特に限定されるものではなく、核酸塩基又はその誘導体の保護基、ヌクレオチド鎖の3’末端の2’水酸基又は3’水酸基の保護基、R6で表されるリン酸保護基及び2’水酸基の保護基の除去を行う前であってもよいし、これらの除去を行った後であってもよいし、これらの除去を行う間であってもよいが、核酸塩基又はその誘導体の保護基、ヌクレオチド鎖の3’末端の2’水酸基又は3’水酸基の保護基及びR6で表されるリン酸保護基の除去を行う前であることが好ましい。R1aで表される5'水酸基の保護基の除去により脱保護された5’水酸基がリン酸エステル結合を攻撃し、ヌクレオチド鎖が切断されることを防止するためである。 The phosphate protecting group represented by R 6 and the protecting group for the 2 ′ hydroxyl group can exist stably under the removal conditions (acidic conditions) for the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group represented by R 1a . Therefore, in the production of the ribonucleotide derivatives (I-1) and (I-2), the time point at which the 5′-hydroxyl protecting group represented by R 1a is removed is not particularly limited. It may be before the removal of the protecting group of the derivative, the 2 ′ hydroxyl group or the 3 ′ hydroxyl protecting group at the 3 ′ end of the nucleotide chain, the phosphate protecting group represented by R 6 and the protecting group of the 2 ′ hydroxyl group. However, it may be after these removals or during these removals, but the protecting group of the nucleobase or its derivative, the 2 ′ hydroxyl group at the 3 ′ end of the nucleotide chain or 3 It is preferably before removal of the hydroxyl protecting group and the phosphate protecting group represented by R 6 . This is for the purpose of preventing the 5 ′ hydroxyl group deprotected by the removal of the 5 ′ hydroxyl protecting group represented by R 1a from attacking the phosphate ester bond and breaking the nucleotide chain.

リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体の精製は、C8〜C18の逆相カラムクロマトグラフィー、C8〜C18逆相カートリッジカラム、陽イオン交換カラムクロマトグラフィー、陰イオン交換カラムクロマトグラフィー等の方法を単独で用いることにより、又は高速液体クロマトグラフィー装置と組み合わせて用いることにより行うことができる。   Purification of ribonucleotides or ribonucleotide derivatives can be accomplished by using methods such as C8-C18 reverse phase column chromatography, C8-C18 reverse phase cartridge column, cation exchange column chromatography, anion exchange column chromatography alone. Or by using in combination with a high performance liquid chromatography apparatus.

以下、実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。
〔実施例1〕2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-3',5'-O-(1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-1,3-ジイル)ウリジン(2)の合成
本実施例の合成工程を図1に示す。
45mlの1,4-ジオキサンに溶解させた3',5'-O-(1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-1,3-ジイル)ウリジン(1)(1.41g, 3mmol)に対し、ビニルオキシプロパンニトリル(9.92g, 30mmol)、p-トルエンスルホン酸-水和物(630mg, 3.3mmol)を加え撹拌した。反応は10分で完結し、過剰量のピリジンを加え反応を終了させた。反応系を濃縮後ジクロロメタンで希釈し有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を分離後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、シリカゲルカラム(塩化メチレン、メタノール)にて精製した。目的物(2)(1.60g, 2.8mmol)は2種類のジアステレオマーの混合物であり、収率94%で得られた。なお、核酸塩基として、ウリジンの代わりにアセチル化アデニン、アセチル化シトシン、アセチル化グアニンを用いた場合の収率は、それぞれ96%、97%、65%であった。
1H NMR (CDCl3) δ8.84 (1H, br. s, H-N(3)); 7.92(1H, d, H-C(6)); 5.72(1H, d, H-C(5)); 5.67(1H, d, H-C(1')); 5.13(1H, m, MeCH(O)2); 4.30-3.71(7H, m, CH2CH2O, H-C(2'), H-C(3'), H-C(4'), H-C(5'); 2.65(2H, m, CH2CH2O); 1.44(3H, d, MeCH(O)2); 1.10-0.86(28H, m, 4 Me2CH)。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples.
[Example 1] 2'-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-3 ', 5'-O- (1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl ) Synthesis of Uridine (2) The synthesis process of this example is shown in FIG.
To 3 ', 5'-O- (1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl) uridine (1) (1.41 g, 3 mmol) dissolved in 45 ml of 1,4-dioxane On the other hand, vinyloxypropanenitrile (9.92 g, 30 mmol) and p-toluenesulfonic acid-hydrate (630 mg, 3.3 mmol) were added and stirred. The reaction was completed in 10 minutes, and an excess amount of pyridine was added to terminate the reaction. The reaction system was concentrated and diluted with dichloromethane, and the organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution. The organic layer was separated, dried over anhydrous sodium sulfate, and purified with a silica gel column (methylene chloride, methanol). The target product (2) (1.60 g, 2.8 mmol) was a mixture of two diastereomers and was obtained in a yield of 94%. The yields when acetylated adenine, acetylated cytosine, and acetylated guanine were used as nucleobases instead of uridine were 96%, 97%, and 65%, respectively.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 8.84 (1H, br.s, HN (3)); 7.92 (1H, d, HC (6)); 5.72 (1H, d, HC (5)); 5.67 (1H , d, HC (1 ')); 5.13 (1H, m, MeCH (O) 2 ); 4.30-3.71 (7H, m, CH 2 CH 2 O, HC (2'), HC (3 '), HC (4 '), HC (5'); 2.65 (2H, m, CH 2 CH 2 O); 1.44 (3H, d, MeCH (O) 2 ); 1.10-0.86 (28H, m, 4 Me 2 CH) .

〔実施例2〕2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン(4)の合成
本実施例の合成工程を図1に示す。
2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-3',5'-O-(1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-1,3-ジイル)ウリジン(2)(568mg, 1mmol)を5mlのテトラヒドロフランに溶解させ、そこへ1Mテトラブチルアンモニウムフルオリド及び1.2M酢酸のテトラヒドロフラン溶液を5ml加えて17時間室温で反応を行った。反応溶液を減圧濃縮したオイル状の残渣を少量の塩化メチレンに溶解させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(塩化メチレン、メタノール)によって精製し副生したテトラブチルアンモニウム酢酸塩を取り除いた。溶出してきた2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]ウリジン(3)を濃縮した後、ピリジンによって共沸乾燥し、さらに15mlのピリジンを加えた。そこへ、4,4'-O-ジメトキシトリチルクロリド(367mg, 1.1mmol)を加え、反応を開始した。8時間室温で反応させた溶液に水を加え反応を終了した。反応後の溶液を減圧濃縮し、ジクロロメタンに溶解させた。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で2回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過して取り除き、ろ液を減圧濃縮した。さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィー(1%ピリジン、塩化メチレン、メタノール)によって精製を行い、目的の2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン(4)(543mg, 0.85mmol)を2種類のジアステレオマーの混合物として収率85%で得た。なお、核酸塩基として、ウリジンの代わりにアセチル化アデニン、アセチル化シトシン、アセチル化グアニンを用いた場合の収率は、それぞれ96%、90%、93%であった。
1H NMR (CDCl3) δ8.63 (1H, br. s, H-N(3)); 8.00(1H, d, H-C(6)); 7.40-6.83 (13H, m, DMTr ) 5.96(1H, d, H-C(1')); 5.32-5.27(1H, d, H-C(5)); 5.20-5.05(1H, m, MeCH(O)2); 4.49-4.43(1H, m, H-C(2')): 4.39-4.23(1H, m, H-C(3') 4.07-4.05(1H, m, H-C(4')); 3.96-3.71(8H, m, H-C(5'), MeO); 2.66-2.57(2H, m, CH2CH2O); 1.43(3H, d, MeCH(O)2)。
[Example 2] Synthesis of 2'-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-5'-O- (4,4'-dimethoxytrityl) -uridine (4) Synthesis process of this example Is shown in FIG.
2'-O- [1- (2-Cyanoethoxy) ethyl]]-3 ', 5'-O- (1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl) uridine (2) (568 mg, 1 mmol) was dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran, and 5 ml of 1M tetrabutylammonium fluoride and 1.2 M acetic acid in tetrahydrofuran were added thereto, followed by reaction at room temperature for 17 hours. The oily residue obtained by concentrating the reaction solution under reduced pressure was dissolved in a small amount of methylene chloride, and purified by silica gel column chromatography (methylene chloride, methanol) to remove by-produced tetrabutylammonium acetate. The eluted 2′-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl] uridine (3) was concentrated and then azeotropically dried with pyridine, and further 15 ml of pyridine was added. Thereto was added 4,4′-O-dimethoxytrityl chloride (367 mg, 1.1 mmol) to initiate the reaction. Water was added to the solution reacted at room temperature for 8 hours to complete the reaction. The solution after the reaction was concentrated under reduced pressure and dissolved in dichloromethane. The organic layer was washed twice with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and then dried over anhydrous sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. Further purification was performed by silica gel column chromatography (1% pyridine, methylene chloride, methanol), and the desired 2'-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl] -5'-O- (4,4'- Dimethoxytrityl) -uridine (4) (543 mg, 0.85 mmol) was obtained as a mixture of two diastereomers in 85% yield. The yields when acetylated adenine, acetylated cytosine, and acetylated guanine were used as nucleobases instead of uridine were 96%, 90%, and 93%, respectively.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ8.63 (1H, br.s, HN (3)); 8.00 (1H, d, HC (6)); 7.40-6.83 (13H, m, DMTr) 5.96 (1H, d , HC (1 ')); 5.32-5.27 (1H, d, HC (5)); 5.20-5.05 (1H, m, MeCH (O) 2 ); 4.49-4.43 (1H, m, HC (2') ): 4.39-4.23 (1H, m, HC (3 ') 4.07-4.05 (1H, m, HC (4')); 3.96-3.71 (8H, m, HC (5 '), MeO); 2.66-2.57 (2H, m, CH 2 CH 2 O); 1.43 (3H, d, MeCH (O) 2).

〔実施例3〕2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン-3'-(2-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルホスホロアミダイト)(5)の合成
本実施例の合成工程を図2に示す。
2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン(4)(644mg, 1mmol)をピリジン及びトルエンで3回ずつ共沸を行い乾燥させた。5mlのジクロロメタンに溶解させ0℃に冷却した。そこへジイソプロピルエチルアミン及び亜リン酸化剤である2-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルホスホロクロリダイトのジクロロメタン溶液(447μl, 2mmol/5ml)を滴下した。滴下後の反応溶液を室温に戻し、1時間反応を行った。乾燥したエタノールで反応を止め、反応混合物をジクロロメタンで希釈した。有機層をリン酸緩衝溶液(pH 7.0)で5回洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、さらに減圧濃縮を行った。シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製を行い。目的物(5)(692mg, 0.82mmol)は4種類のジアステレオマーの混合物として収率82%で得られた。
1H NMR (CDCl3) δ8.65 (1H, br. s, H-N(3)); 8.04-7.97(1H, m, H-C(6)); 7.40-6.80 (13H, m, DMTr) 5.96-5.93(1H, m, H-C(1')); 5.27-5.06 (2H, m, MeCH(O)2, H-C(5)); 4.60-3.41 (12H, m, H-C(2') H-C(3')) H-C(4') H-C(5'), MeO, CH2CH2O, CH2CH2OP); 2.69-2.55(4H, m, CH2CH2O, CH2CH2OP); 1.44-1.35 (3H, m, MeCH(O)2); 1.188-1.13 (12H, m, (CH3)2CH); 1.04-1.00 (2H, m, (CH3)2CH));
31P NMR (CDCl3) δ150.78, 150.22, 149.54, 148.97
Example 3 2'-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-5'-O- (4,4'-dimethoxytrityl) -uridine-3 '-(2-cyanoethyl-N, Synthesis of N-diisopropyl phosphoramidite) (5) The synthesis process of this example is shown in FIG.
2′-O- [1- (2-Cyanoethoxy) ethyl]]-5′-O- (4,4′-dimethoxytrityl) -uridine (4) (644 mg, 1 mmol) with pyridine and toluene three times each Azeotropically and dried. Dissolved in 5 ml of dichloromethane and cooled to 0 ° C. A dichloromethane solution (447 μl, 2 mmol / 5 ml) of diisopropylethylamine and phosphite 2-cyanoethyl-N, N-diisopropyl phosphorochloridite was added dropwise thereto. The reaction solution after dropping was returned to room temperature and reacted for 1 hour. The reaction was quenched with dry ethanol and the reaction mixture was diluted with dichloromethane. The organic layer was washed 5 times with a phosphate buffer solution (pH 7.0), and the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and further concentrated under reduced pressure. Purification is performed by silica gel column chromatography. The desired product (5) (692 mg, 0.82 mmol) was obtained as a mixture of four diastereomers in a yield of 82%.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ 8.65 (1H, br.s, HN (3)); 8.04-7.97 (1H, m, HC (6)); 7.40-6.80 (13H, m, DMTr) 5.96-5.93 (1H, m, HC (1 ')); 5.27-5.06 (2H, m, MeCH (O) 2 , HC (5)); 4.60-3.41 (12H, m, HC (2') HC (3 ') ) HC (4 ') HC (5'), MeO, CH 2 CH 2 O, CH 2 CH 2 OP); 2.69-2.55 (4H, m, CH 2 CH 2 O, CH 2 CH 2 OP); 1.44- 1.35 (3H, m, MeCH (O) 2 ); 1.188-1.13 (12H, m, (CH 3 ) 2 CH); 1.04-1.00 (2H, m, (CH 3 ) 2 CH));
31 P NMR (CDCl 3 ) δ150.78, 150.22, 149.54, 148.97

〔実施例4〕液相法による保護されたウリジル酸2量体の合成
本実施例の合成工程を図3に示す。
デシケーター中で乾燥させた2',3'-O-ビスフェノキシアセチルウリジン(7)(24.4mg, 48μmol)及び2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン-3'-(2-シアノエチル-N,N-ジイソプロピルホスホロアミダイト)(5)(47.4mg, 56μmol)をアセトニトリルに溶解させ、そこへ0.5M 1-Hテトラゾールのアセトニトリル溶液(114μmol/228μl)を加えて室温で3時間反応させた。35.7μlの反応溶液に過酸化t-ブチルアルコールの水溶液(80wt%)を加え30分間撹拌した。反応液をジクロロメタンで希釈した後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で2回洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥を行った。硫酸ナトリウムを濾過によって取り除き、濃縮乾燥した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(1%ピリジンを含む、ジクロロメタン、メタノール)によって精製を行い目的の保護されたウリジン2量体(8)(60.5mg, 48μmol)を4種類のジアステレオマーの混合物として定量的に得た。
1H NMR (CDCl3) δ9.88-9.70 (2H, br. m, H-N(3)(up and low)); 7.85-7.69 (2H, m, H-C(6)(up and low)); 7.38-6.78 (23H, m, DMTr, PheO) 606-5.91(2H, m, H-C(5)(up and low)); 5.76-5.48 (3H, m, MeCH(O)2, H-C(1')(up and low)); 4.60-3.41 (24H, m, H-C(2') H-C(3')) H-C(4') H-C(5')(up and low), MeO, CH2CH2O, CH2CH2OP, PheOAc); 2.69-2.55(4H, m, CH2CH2O, CH2CH2OP); 1.42-1.25 (3H, m, MeCH(O)2);
31P NMR (CDCl3) δ-1.73, -1.99, -2.10, -2.13
[Example 4] Synthesis of protected uridylic acid dimer by liquid phase method The synthesis process of this example is shown in FIG.
2 ′, 3′-O-bisphenoxyacetyluridine (7) (24.4 mg, 48 μmol) and 2′-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-5′-O dried in a desiccator -(4,4'-dimethoxytrityl) -uridine-3 '-(2-cyanoethyl-N, N-diisopropylphosphoramidite) (5) (47.4 mg, 56 μmol) was dissolved in acetonitrile and 0.5 M 1 A solution of -H tetrazole in acetonitrile (114 μmol / 228 μl) was added and reacted at room temperature for 3 hours. An aqueous solution (80 wt%) of t-butyl alcohol peroxide was added to 35.7 μl of the reaction solution and stirred for 30 minutes. After the reaction solution was diluted with dichloromethane, the organic layer was washed twice with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and dried over sodium sulfate. Sodium sulfate was removed by filtration and concentrated to dryness. The reaction mixture was purified by silica gel column chromatography (dichloromethane, methanol containing 1% pyridine) to obtain the desired protected uridine dimer (8) (60.5 mg, 48 μmol) as a mixture of four diastereomers. Obtained quantitatively.
1 H NMR (CDCl 3 ) δ9.88-9.70 (2H, br.m, HN (3) (up and low)); 7.85-7.69 (2H, m, HC (6) (up and low)); 7.38 -6.78 (23H, m, DMTr, PheO) 606-5.91 (2H, m, HC (5) (up and low)); 5.76-5.48 (3H, m, MeCH (O) 2 , HC (1 ') ( up and low)); 4.60-3.41 (24H, m, HC (2 ') HC (3')) HC (4 ') HC (5') (up and low), MeO, CH 2 CH 2 O, CH 2 CH 2 OP, PheOAc); 2.69-2.55 (4H, m, CH 2 CH 2 O, CH 2 CH 2 OP); 1.42-1.25 (3H, m, MeCH (O) 2 );
31 P NMR (CDCl 3 ) δ-1.73, -1.99, -2.10, -2.13

〔実施例5〕ウリジル酸2量体の脱保護
本実施例の脱保護工程を図4に示す。
保護されたウリジン2量体をジクロロメタンに溶解させ、そこへジクロロ酢酸(最終濃度:3%)を加え、1分間反応を行った。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応を止め、さらにジクロロメタン層を炭酸水素ナトリウム水溶液で2回洗浄後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層を濃縮乾固後、25%アンモニア水とエタノールとの混合溶媒(混合比 3:1)を加え室温で1時間撹拌を行った。反応溶液を濃縮、凍結乾燥させた。そこへ、1M テトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液を加え、室温で2時間反応を行った。反応溶液に酢酸アンモニウム緩衝溶液を加え、反応を終結させた。反応混合物を水で希釈した後、水相をジクロロメタンで、5回洗浄を行った。水相を濃縮乾燥させ、残渣を少量の酢酸アンモニウム緩衝溶液に溶解させ逆相のシリカゲルカラムクロマトグラフィーによって精製を行い、目的のウリジン2量体を得た。
[Example 5] Deprotection of uridylic acid dimer The deprotection step of this example is shown in FIG.
The protected uridine dimer was dissolved in dichloromethane, dichloroacetic acid (final concentration: 3%) was added thereto, and the reaction was performed for 1 minute. The reaction was stopped with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and the dichloromethane layer was washed twice with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and then the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate. The organic layer was concentrated to dryness, a mixed solvent of 25% aqueous ammonia and ethanol (mixing ratio 3: 1) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The reaction solution was concentrated and lyophilized. Thereto was added a tetrahydrofuran solution of 1M tetrabutylammonium fluoride, and the reaction was performed at room temperature for 2 hours. An ammonium acetate buffer solution was added to the reaction solution to terminate the reaction. After the reaction mixture was diluted with water, the aqueous phase was washed 5 times with dichloromethane. The aqueous phase was concentrated and dried, and the residue was dissolved in a small amount of ammonium acetate buffer solution and purified by reverse phase silica gel column chromatography to obtain the desired uridine dimer.

〔実施例6〕固相法によるオリゴリボ核酸の合成
一般的なホスホロアミダイト法によるオリゴマーの合成法に準じて、オリゴリボ核酸の合成を行った。2'位又は3'位の水酸基のうち、一方をサクシニルリンカーを介して固相担体(CPG)に担持し、他方をアセチル基で保護したウリジン(1μmol)に対し、0.1M ウリジンのモノマーユニットのアセトニトリル溶液 0.2ml、活性化剤として0.5M テトラゾールのアセトニトリル溶液 0.2mlを加え、反応時間5分の条件で縮合させた。さらに、(i)ヨウ素(2%)、水(2%)、ピリジン(20%)のテトラヒドロフラン溶液による酸化、(ii)無水酢酸、2, 6-ルチジン(10%)のテトラヒドロフラン溶液、及び1-メチル-1-H-イミダゾール(20%)のテトラヒドロフラン溶液によるキャップ化、(iii)ジクロロ酢酸(3%(v/v))のジクロロメタン溶液による5'水酸基の脱保護のサイクルを9回繰り返した。平均の縮合反応の収率は、4,4'-ジメトキシトリチルカチオンによる定量によって行い、99.5%であった。28%アンモニア水とエタノール(3:1)の混合溶液によって、固相担体からの切り出し、及びリン原子上の脱保護を行った。目的物の溶液を凍結乾燥させ、1M テトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液を加え2'水酸基の脱保護を行った。HPLCによって精製を行い、脱保護されたウリジンの10量体を95%の収率で得ることができた。
[Example 6] Synthesis of oligoribonucleic acid by solid phase method Oligoribonucleic acid was synthesized according to the synthesis method of oligomer by general phosphoramidite method. Of the hydroxyl groups at the 2'-position or 3'-position, one is supported on a solid phase carrier (CPG) via a succinyl linker and the other is protected with an acetyl group. 0.2 ml of acetonitrile solution and 0.2 ml of 0.5M tetrazole in acetonitrile as an activator were added and condensed under the condition of a reaction time of 5 minutes. Furthermore, (i) oxidation of iodine (2%), water (2%), pyridine (20%) with a tetrahydrofuran solution, (ii) acetic anhydride, a solution of 2,6-lutidine (10%) in tetrahydrofuran, and 1- The cycle of capping methyl-1-H-imidazole (20%) with a tetrahydrofuran solution and (iii) deprotection of the 5 ′ hydroxyl group with a dichloromethane solution of dichloroacetic acid (3% (v / v)) was repeated nine times. The average condensation reaction yield was 99.5% as determined by quantification with 4,4′-dimethoxytrityl cation. Cleavage from the solid support and deprotection on the phosphorus atom were performed with a mixed solution of 28% aqueous ammonia and ethanol (3: 1). The solution of the target product was lyophilized, and 1M tetrabutylammonium fluoride in tetrahydrofuran was added to deprotect the 2 ′ hydroxyl group. Purification by HPLC allowed deprotected uridine decamer to be obtained in 95% yield.

〔実施例7〕2'-O-1-(2-シアノエトキシ)エチル基(CEE基)の脱保護条件及び安定性の検討
2'-O-[1-(2-シアノエトキシ)エチル]]-5'-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-ウリジン(4)におけるCEE基の脱保護条件及び安定性を検討した。

Figure 0005228002
[Example 7] Deprotection conditions and stability of 2'-O-1- (2-cyanoethoxy) ethyl group (CEE group)
Deprotection conditions and stability of CEE group in 2'-O- [1- (2-cyanoethoxy) ethyl]]-5'-O- (4,4'-dimethoxytrityl) -uridine (4) were investigated .
Figure 0005228002

CEE基の脱保護条件及び安定性は、試薬(塩基)として、0.5M 1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン(DBU)を含有するアセトニトリル溶液(0.5M DBU/MeCN)、0.5M 1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン(DBU)及び0.5M N,O-ビス(トリメチルシリル)アセトアミド(BSA)を含有するアセトニトリル溶液(0.5M DBU, 0.5M BSA/MeCN)、0.5M テトラブチルアンモニウムフルオリド(TBAF)のテトラヒドロフラン溶液(0.5M TBAF/THF)、25% NH3水溶液、25% NH3水溶液とエタノールの混合溶液(3:1,v/v)(25% NH3水溶液-EtOH (3:1,v/v))、2M NH3のエタノール溶液(2M NH3/EtOH)を用いて、室温又は55℃における半減期(分)を求めることにより測定した。なお、反応混合物を薄層シリカゲル板(Merck F254)にキャピラリを用いてスポットし、ジクロロメタン−メタノール(9:1, v/v)で展開した後、紫外線照射下で出発物質と生成物のスポットの紫外吸収強度を比較して、両者が等しくなる時間を半減期とした。
結果を表1に示す。
The deprotection conditions and stability of the CEE group were as follows: acetonitrile solution (0.5M DBU / MeCN) containing 0.5M 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) as a reagent (base), 0.5M A solution of acetonitrile (0.5M DBU, 0.5M BSA / MeCN) containing M 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) and 0.5MN, O-bis (trimethylsilyl) acetamide (BSA), 0.5 M Tetrabutylammonium fluoride (TBAF) in tetrahydrofuran (0.5M TBAF / THF), 25% NH 3 aqueous solution, 25% NH 3 aqueous solution and ethanol mixed solution (3: 1, v / v) (25% NH 3 aqueous -EtOH (3: 1, v / v)), using an ethanol solution of 2M NH 3 (2M NH 3 / EtOH), it was measured by determining the half-life at room temperature or 55 ° C. (min). The reaction mixture was spotted on a thin-layer silica gel plate (Merck F254) using a capillary, developed with dichloromethane-methanol (9: 1, v / v), and then the starting material and product spots were spotted under ultraviolet irradiation. The ultraviolet absorption intensity was compared, and the time when both were equal was defined as the half-life.
The results are shown in Table 1.

Figure 0005228002
Figure 0005228002

表1に示すように、CEE基は、リン酸ジエステルの保護基の除去、核酸塩基の保護基の除去、ヌクレオチド鎖の固相担体からの切り出し等の際に用いられる25% NH3水溶液、25% NH3水溶液-EtOH (3:1,v/v)、2M NH3/EtOHに対しては安定であるが、0.5M DBU/MeCN、0.5M TBAF/THFにより容易に除去できた。特に0.5M TBAF/THFにより短時間に除去できた。 As shown in Table 1, the CEE group is a 25% NH 3 aqueous solution used for removal of a protecting group of phosphodiester, removal of a protecting group of a nucleobase, excision of a nucleotide chain from a solid phase carrier, 25 % NH 3 aqueous solution-EtOH (3: 1, v / v), stable to 2M NH 3 / EtOH, but easily removed by 0.5M DBU / MeCN, 0.5M TBAF / THF. In particular, 0.5M TBAF / THF could be removed in a short time.

リボヌクレオチド誘導体(II)又は(III)における2’水酸基の保護基は、2’水酸基へ効率よく導入できるとともに、縮合反応において立体障害となることがなく、さらに、5’水酸基の保護基の除去、リン酸ジエステルの保護基の除去、核酸塩基の保護基の除去、ヌクレオチド鎖の固相担体からの切り出し等の条件下では安定して存在するが、これらの条件とは異なる条件下において短時間に除去することができるので、リボヌクレオチド誘導体(II)又は(III)を利用することによりリボヌクレオチド誘導体(I)を効率よく製造することができる。   The protecting group for the 2 ′ hydroxyl group in the ribonucleotide derivative (II) or (III) can be efficiently introduced into the 2 ′ hydroxyl group, does not cause steric hindrance in the condensation reaction, and further removes the protecting group for the 5 ′ hydroxyl group. , Stable removal under conditions such as removal of protecting group of phosphodiester, removal of protecting group of nucleobase, excision of nucleotide chain from solid phase carrier, but short time under conditions different from these conditions Therefore, the ribonucleotide derivative (I) can be efficiently produced by using the ribonucleotide derivative (II) or (III).

Claims (8)

次式(II):
Figure 0005228002
[式中、Bは核酸塩基又は又は次式:
Figure 0005228002
[式中、R 7 はフェノキシアセチル基、フェニルアセチル基、アセチル基又はベンゾイル基を表し、R 8 はイソブチリル基又はベンゾイル基を表し、R 9 はフェノキシアセチル基、フェニルアセチル基、アセチル基又はイソブチリル基を表し、R 10 は2−シアノエチル基を表し、R 11 はベンゾイル基、4−メトキシベンゾイル基又は4−メチルベンゾイル基を表し、R 12 はジメチルアミノメチレン基を表す。]
で表される保護基を有する核酸塩基を表し、Xはオキソアニオン又はチオアニオンを表し、Y及びZは互いに独立して水素原子、固相担体又は水酸基の保護基を表し、R1は水素原子又はトリチル基、ジメトキシトリチル基、モノメトキシトリチル基、若しくは9−フェニルキサンテニル基を表し、R2、R3及びR4は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールチオカルボニル基、アラルキルチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基若しくはアラルキルオキシチオカルボニル基を表し、R5シアノ基、ニトロ基、p−ニトロフェニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基、及びアリールオキシカルボニル基からなる群から選ばれる電子吸引基を表し、nは1以上の整数を表す。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(II)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理した後、中性条件又は酸性条件下で加水分解することにより、
次式(I):
Figure 0005228002
[式中、B、X、Y、Z、R1及びnは前記と同義である。]
で表されるリボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)を製造する工程を含む、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)の製造方法。
Formula (II):
Figure 0005228002
[Wherein B is a nucleobase or or
Figure 0005228002
[Wherein R 7 represents a phenoxyacetyl group, a phenylacetyl group, an acetyl group or a benzoyl group, R 8 represents an isobutyryl group or a benzoyl group, and R 9 represents a phenoxyacetyl group, a phenylacetyl group, an acetyl group or an isobutyryl group. R 10 represents a 2-cyanoethyl group, R 11 represents a benzoyl group, a 4-methoxybenzoyl group or a 4-methylbenzoyl group, and R 12 represents a dimethylaminomethylene group. ]
In represents a nucleobase having a protective group represented, X represents oxo anions or thioanion, Y and Z independently of one another are hydrogen atom, a solid phase support or a hydroxyl protecting group, R 1 represents a hydrogen atom or Represents a trityl group, a dimethoxytrityl group, a monomethoxytrityl group, or a 9-phenylxanthenyl group, and R 2 , R 3 and R 4 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom or a substituent. Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkenyl group, aryl group, aralkyl group, acyl group, alkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, aralkyloxycarbonyl group Alkylthiocarbonyl group, alkoxythiocarbonyl group, arylthiocarbonyl Boniru group, aralkylthio group, an aryloxy thiocarbonyl group or an aralkyloxycarbonyl thiocarbonyl group, R 5 is a cyano group, a nitro group, p- nitrophenyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a trifluoromethyl group, An electron withdrawing group selected from the group consisting of a halogen atom, an alkoxycarbonyl group, a hydroxycarbonyl group, and an aryloxycarbonyl group is represented, and n represents an integer of 1 or more. ]
By subjecting the ribonucleotide derivative (II) represented by the following formula to a tertiary amine treatment or phosphazene base treatment in the presence of a silylating agent in an anhydrous solvent, and then hydrolyzing under neutral or acidic conditions,
Formula (I):
Figure 0005228002
[Wherein, B, X, Y, Z, R 1 and n are as defined above. ]
The manufacturing method of ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) including the process of manufacturing the ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) represented by these.
前記第3級アミンとして1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンを用いる請求項1記載の方法。 The method according to claim 1, wherein 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene is used as the tertiary amine. 次式(III):
Figure 0005228002
[式中、B、Y、Z、R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 、及びnは請求項1に記載の定義と同義であり、Wは酸素原子又は硫黄原子を表し、R6はリン酸保護基を表す。]
で表されるリボヌクレオチド誘導体(III)をアンモニア処理又は第1級アミン処理することにより、前記リボヌクレオチド誘導体(II)を製造する工程を含む、請求項1又は2記載の製造方法。
Formula (III):
Figure 0005228002
[ Wherein , B, Y, Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , and n are as defined in claim 1, W represents an oxygen atom or a sulfur atom, R 6 represents a phosphate protecting group. ]
The manufacturing method of Claim 1 or 2 including the process of manufacturing the said ribonucleotide derivative (II) by carrying out the ammonia process or the primary amine process of the ribonucleotide derivative (III) represented by these.
請求項3に記載の式(III)においてBで表される核酸塩基が保護基を有する前記の核酸塩基である請求項3記載の製造方法。 Manufacturing method of the claim 3, wherein the nucleobase acid base represented by B in formula (III) according to claim 3 having a protecting group. 酸処理によりR1で表される5’水酸基の保護基を除去する工程を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。 The manufacturing method in any one of Claims 1-4 including the process of removing the protecting group of 5 'hydroxyl group represented by R < 1 > by acid treatment. 請求項3に記載の式(III)で表されるリボヌクレオチド誘導体(III)を、無水溶媒中、シリル化剤存在下で第3級アミン処理又はホスファゼン塩基処理した後、中性条件又は酸性条件下で加水分解することにより請求項1に記載の式(I)で表されるリボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)を製造する工程を含む、リボヌクレオチド又はリボヌクレオチド誘導体(I)の製造方法。 The ribonucleotide derivative (III) represented by the formula (III) according to claim 3 is treated with a tertiary amine or phosphazene base in an anhydrous solvent in the presence of a silylating agent, and then neutral or acidic conditions. A method for producing a ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I), comprising a step of producing a ribonucleotide or ribonucleotide derivative (I) represented by formula (I) according to claim 1 by hydrolysis under the following conditions. 前記第3級アミンとして1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンを用いる請求項6記載の方法。 The method according to claim 6, wherein 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene is used as the tertiary amine. 酸処理によりR1で表される5’水酸基の保護基を除去する工程を含む、請求項6又は7記載の製造方法。 The manufacturing method of Claim 6 or 7 including the process of removing the protecting group of 5 'hydroxyl group represented by R < 1 > by acid treatment.
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