JP5223306B2 - Light beam scanning apparatus and image forming apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、複数の半導体レーザを同時駆動させて同時に複数ラインの光書込みを行う光ビーム走査装置及び画像形成装置に関する。 The present invention relates to a light beam scanning apparatus and an image forming apparatus that simultaneously drive a plurality of semiconductor lasers and simultaneously perform optical writing on a plurality of lines.
半導体レーザを使用した画像形成装置において画像を形成するには、感光体上を光ビームで走査し画像情報を露光させることで行っている。そのため、感光体上での光量を常に一定にしておかなければ、形成される画像が所望の画像よりも濃くなったり薄くなったり、又は濃淡のムラの原因となってしまう。そこで、通常、画像形成に使用する光ビームは、半導体レーザの特性を検出する初期化動作及びその初期化動作で得られた特性値を元に光量を一定に保つAPC(Auto power control:光量調整)制御を行うことで、半導体レーザにより出力される光ビームの光量を一定とする制御をしている。しかし、複数の発光素子をもち、複数のビームを出力することが出来る半導体レーザでは、1つのビームを初期化及びAPC制御している間に、他のビームが微弱に発光(オフセット発光)しており、その発光も拾ってしまうため精度の良い初期化及びAPC動作が行えていなかった。これは、発光させていないビームにおいてもバイアス電流を流しオフセット発光させておかなければ、ドループと呼ばれる経時の光量低下が発生してしまうためである。 In an image forming apparatus using a semiconductor laser, an image is formed by scanning a photoconductor with a light beam and exposing image information. For this reason, unless the amount of light on the photosensitive member is always kept constant, the formed image becomes darker or thinner than the desired image, or uneven density is caused. Therefore, normally, the light beam used for image formation is an APC (Auto power control) that keeps the light amount constant based on the initialization operation for detecting the characteristics of the semiconductor laser and the characteristic value obtained by the initialization operation. ) By performing the control, the light quantity of the light beam output from the semiconductor laser is controlled to be constant. However, in a semiconductor laser having a plurality of light emitting elements and capable of outputting a plurality of beams, one beam is weakly emitted (offset emission) while one beam is being initialized and APC controlled. Therefore, since the light emission is picked up, the initialization and the APC operation with high accuracy cannot be performed. This is because a light amount decrease with time called droop occurs unless a bias current is supplied and offset light is emitted even in a beam that is not emitting light.
例えば、特許文献1では、複数ビームを有する半導体レーザの他ch(チャンネル)のオフセット発光の影響を取り除くために、複数の光源を有する半導体レーザのバイアス電流の有無を制御する書込制御ASIC(Application Specific Integrated Circuit)を搭載している。この書込制御ASICにより、光量調整をしているch以外をオフセット発光しないように制御しながら、各chを1個ずつ点灯させ、所望の光量に順次調整するようにしている。しかし、この手法では、オフセット発光しているchを完全に消灯してしまっているため、熱によるLD(Laser Diode)特性値の変動が懸念される。つまり、光量調整時はオフセット発光なしで調整しているが、実際の画像書き込み時はオフセット発光がある状態で書き込んでいるため、LDの発熱量の違いによる温度差があり、光量調整時と画像書き込み時でLDの特性が異なる可能性がある。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、複数のビームを発光する半導体レーザを使用する場合に、他chのオフセット発光を完全に消灯することなく、他chのオフセット発光の影響を補正し、半導体レーザから出力される光量を一定にする光ビーム走査装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances. When a semiconductor laser that emits a plurality of beams is used, the offset emission of other channels is not affected without completely turning off the offset emission of other channels. An object of the present invention is to provide a light beam scanning apparatus and an image forming apparatus which correct the light quantity output from the semiconductor laser to be constant.
かかる目的を達成するために、本発明の第1の光ビーム走査装置は、複数の発光素子および一の受光素子を有する光ビーム発生手段と、複数の発光素子の点灯を制御する光源制御手段とを備える光ビーム走査装置において、光源制御手段が、光ビーム発生手段が有する複数の発光素子のうちの一の発光素子に対して光量調整制御を行うときに、一の発光素子以外の発光素子からの微弱発光の影響を補正する補正手段を備え、補正手段は、光源制御手段が光量調整制御を行う前に、光量調整制御が行われる発光素子以外の発光素子の微弱発光量を計測しておき、計測した微弱発光量に応じて光量調整制御を補正し、予め計測した微弱発光量に対応した電流を、光量調整制御が行われるときに受光素子の電流から減じ、光量調整制御が行われる発光素子以外の発光素子の微弱発光量を予め設定した目標光量になるように制御し、目標光量に応じて光量調整制御を補正することを特徴とする。 In order to achieve such an object, a first light beam scanning apparatus of the present invention includes a light beam generating means having a plurality of light emitting elements and one light receiving element, and a light source control means for controlling lighting of the plurality of light emitting elements. When the light source control unit performs light amount adjustment control on one of the plurality of light emitting elements of the light beam generating unit, the light source scanning unit includes a light emitting element other than the one light emitting element. Correction means for correcting the influence of the weak light emission, and the correction means measures the weak light emission amount of the light emitting elements other than the light emitting elements on which the light quantity adjustment control is performed before the light source control means performs the light quantity adjustment control. The light amount adjustment control is corrected according to the measured weak light emission amount, and the current corresponding to the weak light emission amount measured in advance is subtracted from the current of the light receiving element when the light amount adjustment control is performed. Controlled to be the target amount set in advance weak quantity of light from the light emitting element other than the element, it characterized that you correct the light amount adjustment control in accordance with the target quantity.
本発明の第2の光ビーム走査装置は、本発明の第1の光ビーム走査装置において、補正手段は、予め設定した目標光量に対応した電流を、光量調整制御が行われるときに受光素子の電流から減じることを特徴とする。 According to a second light beam scanning device of the present invention, in the first light beam scanning device of the present invention, the correction means applies a current corresponding to a preset target light amount when the light amount adjustment control is performed. characterized Rukoto subtracted from the current.
本発明の画像形成装置は、本発明の第1又は第2の光ビーム走査装置を搭載することを特徴とする。 The image forming apparatus of the present invention is the first or feature that you mount the second optical beam scanning apparatus of the present invention.
本発明によれば、光量調整制御が行われる光源以外の微弱発光を補正する手段を備えているため、精度の高い光量調整行うことが可能となる。 According to the present invention, since the device for correcting weak light emission other than the light source for which the light amount adjustment control is performed is provided, it is possible to perform the light amount adjustment with high accuracy.
以下、本発明を実施するための最良の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。 The best mode for carrying out the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
図1に本発明の画像形成装置の構成の一例を示す。本発明の画像形成装置は、搬送ベルトに沿って複数の画像形成部が並んだタンデムタイプといわれるカラー画像形成装置である。 FIG. 1 shows an example of the configuration of the image forming apparatus of the present invention. The image forming apparatus of the present invention is a color image forming apparatus called a tandem type in which a plurality of image forming units are arranged along a conveying belt.
各々異なる色(イエロー:Y、マゼンタ:M、シアン:C、ブラック:K)の画像を形成する画像形成部Aが、転写紙1を搬送する搬送ベルト2に沿って配置されている。搬送ベルト2は、その一方が駆動回転する駆動ローラと他方が従動回転する従動ローラである搬送ローラ3、4によって架設されており、搬送ローラ3、4の回転により矢印方向に回転駆動される。搬送ベルト2の下部には、転写紙1が収納された給紙トレイ5が備えられている。収納された転写紙1のうち最上位置にある転写紙は、画像形成時には給紙され、途中レジストセンサ14により各ユニットとのタイミングが取られ、静電吸着によって搬送ベルト2上に吸着される。吸着された転写紙1は、第1の画像形成部(イエロー)に搬送され、ここでイエローの画像形成が行われる。第1の画像形成部(イエロー)は、感光体ドラム6Y、この感光体ドラム6Yの周囲に配置された帯電器7Y、露光器(光ビーム走査装置・光書込装置)8、現像器9Y、感光体クリーナ10Yから構成されている。感光体ドラム6Yの表面は、帯電器7Yで一様に帯電された後、露光器8によりイエローの画像に対応したレーザ光(光ビーム)11Yで露光され、静電潜像が形成される。形成された静電潜像は現像器9Yで現像され、感光体ドラム6Y上にトナー像が形成される。このトナー像は、感光体ドラム6Yと搬送ベルト2上の転写紙1と接する位置(転写位置)で転写器12Yによって転写され、転写紙1上に単色(イエロー)の画像が形成される。転写が終わった感光体ドラム6Yでは、その表面に残った不要なトナーを感光体クリーナ10Yによってクリーニングされ、次の画像形成に備えることとなる。このように、第1の画像形成部(イエロー)で単色(イエロー)を転写された転写紙1は、搬送ベルト2によって第2の画像形成部(マゼンタ)に搬送される。ここでも、上記イエローの場合と同様に、感光体ドラム6M上に形成されたトナー像(マゼンタ)が、転写紙1上に重ねて転写される。転写紙1は、さらに第3の画像形成部(シアン)、第4の画像形成部(ブラック)に順次搬送される。そして、上記イエロー及びマゼンダの場合と同様に、転写紙1には、形成されたトナー像が転写されてカラー画像が形成されてゆく。第4の画像形成部(ブラック)を通過して、4色のカラー画像が形成された転写紙1は、搬送ベルト2から剥離され、定着器13にて定着された後、画像形成装置の外へ排紙される。
Image forming portions A that form images of different colors (yellow: Y, magenta: M, cyan: C, black: K) are arranged along the transport belt 2 that transports the transfer paper 1. The conveying belt 2 is constructed by
図2に本発明の光ビーム走査装置(図1の露光器8)内部の光学ユニットを示す。図2は、光ビーム走査装置を上から見た図である。 FIG. 2 shows an optical unit in the light beam scanning apparatus (exposure unit 8 in FIG. 1) of the present invention. FIG. 2 is a top view of the light beam scanning apparatus.
画像形成に必要となる光ビーム(レーザ光)は、LDユニットBK31、LDユニットY32、LDユニットC42、LDユニットM43中に存在するLD制御基板_BK53、LD制御基板_Y54、LD制御基板_C52、LD制御基板_M55それぞれに搭載されるLDから出力される。 Light beams (laser light) necessary for image formation are LD control board_BK53, LD control board_Y54, and LD control board_C52 existing in the LD unit BK31, LD unit Y32, LD unit C42, and LD unit M43. , Output from the LD mounted on each LD control board_M55.
LDユニットBK31およびLDユニットY32からの光ビームはシリンダレンズCYL_BK33、CYL_Y34を通り、反射ミラーBK35および反射ミラーY36によってポリゴンミラー37の下方面に入射し、ポリゴンミラー37が回転することにより偏向され、fθレンズBKC38およびfθレンズYM39を通り、第1ミラーBK40および第1ミラーY41によって折り返される。 The light beams from the LD unit BK31 and the LD unit Y32 pass through the cylinder lenses CYL_BK33 and CYL_Y34, enter the lower surface of the polygon mirror 37 by the reflection mirror BK35 and the reflection mirror Y36, and are deflected by the rotation of the polygon mirror 37, and fθ. The lens passes through the lens BKC38 and the fθ lens YM39 and is folded back by the first mirror BK40 and the first mirror Y41.
一方、LDユニットC42およびLDユニットM43からの光ビームは、CYL_C44およびCYL_M45を通り、ポリゴンミラー37の上方面に入射し、ポリゴンミラー37が回転することにより偏向され、fθレンズBKC38およびfθレンズYM39を通り、第1ミラーC46および第1ミラーM47によって折り返される。 On the other hand, the light beams from the LD unit C42 and the LD unit M43 pass through CYL_C44 and CYL_M45, enter the upper surface of the polygon mirror 37, and are deflected by the rotation of the polygon mirror 37, and pass through the fθ lens BKC38 and the fθ lens YM39. On the other hand, it is folded by the first mirror C46 and the first mirror M47.
主走査方向の書き出し位置(第1ミラーY41のB、第1ミラーBK40のC)より上流側には、シリンダミラーCYM_BKC48およびCYM_YM49さらにはセンサBKC50およびセンサYM51が備わっており、fθレンズBKC38およびfθレンズYM39を通った光ビームがCYM_BKC48およびCYM_YM49によって反射集光されて、センサBKC50およびセンサYM51に入射するような構成となっている。これらのセンサBKC50およびセンサYM51は、主走査方向の同期を取るための同期検知センサである。 Cylinder mirrors CYM_BKC48 and CYM_YM49, as well as sensor BKC50 and sensor YM51 are provided upstream of the writing position in the main scanning direction (B of first mirror Y41, C of first mirror BK40), and fθ lens BKC38 and fθ lens. The light beam that has passed through YM39 is reflected and collected by CYM_BKC48 and CYM_YM49, and is incident on sensor BKC50 and sensor YM51. These sensors BKC50 and sensor YM51 are synchronization detection sensors for synchronizing in the main scanning direction.
また、LDユニットBK31およびLDユニットC32からの光ビームでは、共通のCYM_BKC48ならびにセンサBKC50を使用している。LDユニットY32およびLDユニットM43についても同様である。同じセンサに2色の光ビームが入射することとなるので、各色の光ビームのポリゴンミラー37への入射角を異なるようにすることで、それぞれの光ビームがセンサに入射するタイミングを変え、時系列的にパルス列として出力されるようになっている。図2からも分かるように、BKとCおよびYとMは逆方向に走査される。 In addition, the light beams from the LD unit BK31 and the LD unit C32 use a common CYM_BKC48 and sensor BKC50. The same applies to the LD unit Y32 and the LD unit M43. Since two color light beams are incident on the same sensor, the timing at which each light beam is incident on the sensor can be changed by changing the incident angles of the light beams of the respective colors to the polygon mirror 37. It is output in series as a pulse train. As can be seen from FIG. 2, BK and C and Y and M are scanned in the reverse direction.
LDを使用した画像形成装置では、感光体上を光ビームで走査しながら、画像情報に応じてLDの点灯をON/OFFさせ露光させることで行っている。そのため、感光体上での光量を感光体感度に応じて一定に保っておく必要がある。通常画像形成に使用する光ビームは、LDの特性を検出する初期化動作及びその初期化動作で得られた特性値を元に光量を一定に保つAPC(Auto power control)制御を行うことで、LDから出力される光量を一定とする制御をしている。初期化動作は画像形成のためにLDを点灯させる直前に実施し、APC動作は、1ライン走査ごとに画像領域外で行われるラインAPCと、初期化動作時に行われる初期化APCとがある。図3のフローを参照して、光ビーム走査装置の基本的な動作を説明する。LD初期化(初期化APCを含む)を行う(ステップS1)。1ライン走査を行い(ステップS2)、ラインAPCを行う(ステップS3)。走査終了か否かを判断し(ステップS4)、走査が終了していない場合は(ステップS4/NO)ステップS2へ戻り、走査が終了した場合は(ステップS4/YES)、終了する。 In an image forming apparatus using an LD, scanning is performed by turning on / off an LD according to image information while scanning a photosensitive member with a light beam. Therefore, it is necessary to keep the light quantity on the photoconductor constant according to the photoconductor sensitivity. The light beam normally used for image formation performs an initialization operation for detecting the characteristics of the LD and APC (Auto power control) control for keeping the light quantity constant based on the characteristic value obtained by the initialization operation. Control is performed to keep the amount of light output from the LD constant. The initialization operation is performed immediately before the LD is turned on for image formation, and the APC operation includes a line APC performed outside the image area for each line scan and an initialization APC performed during the initialization operation. The basic operation of the light beam scanning apparatus will be described with reference to the flow of FIG. LD initialization (including initialization APC) is performed (step S1). One line scanning is performed (step S2), and line APC is performed (step S3). It is determined whether or not the scanning is finished (step S4). When the scanning is not finished (step S4 / NO), the process returns to step S2, and when the scanning is finished (step S4 / YES), the process is finished.
次に、複数の光源を持つ半導体レーザ素子(以下、LDアレイという)を使用した光ビーム走査装置の基本的な構成について図4を参照して説明する。 Next, a basic configuration of a light beam scanning apparatus using a semiconductor laser element having a plurality of light sources (hereinafter referred to as an LD array) will be described with reference to FIG.
図4に示すように、光ビーム走査装置は、基本構成として、画像を読み取るスキャナ部20、スキャナ部20で読み取った画像データに応じて書込制御を行う書込制御部21、LDアレイ23の点灯制御及び初期化、APC動作を行うLD制御部(光源制御手段)22、上記各部を制御する制御部24(CPU:Central Processing Unit、ROM:Read Only Memory、RAM:Random Access Memory、その他のメモリなど)を有する。また、LDアレイ(光ビーム発生手段)23は、図4に示すように、複数の発光素子(LD:Laser Diode)に対して1つの受光素子(PD:Photo Diode。光量検出素子)という構造(図4は4chのLDアレイの例を示す図である)をしている。
As shown in FIG. 4, the light beam scanning device includes, as a basic configuration, a
このようにLDアレイ23は、複数のLDと、1つのPDとで構成されるため、複数のLDを同時に光量調整制御(APC動作・APC制御)をすることは困難である。また、画像作成時にはドループと呼ばれる経時の光量低下を抑制するために常にバイアス電流を流しておかなければならず、使用していない場合でも微弱に発光(オフセット発光)させている。そのため、LDアレイ23において、初期化又はAPC動作する際には、他のch(チャンネル)からのオフセット発光をPD素子で拾ってしまうため、精度の良い光量調整制御が行えていなかった。 Thus, since the LD array 23 is composed of a plurality of LDs and one PD, it is difficult to perform light amount adjustment control (APC operation / APC control) on the plurality of LDs simultaneously. Further, at the time of image creation, a bias current must always be supplied in order to suppress a decrease in the amount of light over time, which is called droop, and even when it is not used, it emits light weakly (offset light emission). For this reason, in the LD array 23, when the initialization or APC operation is performed, offset light emission from other channels (channels) is picked up by the PD element, so that the light amount adjustment control with high accuracy cannot be performed.
上記についてさらに詳しく説明すると、図5に示すように、APC制御は、LDアレイの発光量をPDで受光し、その結果流れる電流Imを可変抵抗Rpdとアナログ電圧Vcにより調節する制御である。つまり、PDに流れる電流はIm=Vc/Rpdで表され、アナログ電圧Vcおよび可変抵抗Rpdを調整することで、PDに流れる電流ImつまりLDの発光量を調節する制御である。LDアレイの場合は通常PDを1個しか持たないため、APC動作以外のLDが発光しているとその光量も拾ってしまう。 More specifically, as shown in FIG. 5, the APC control is a control in which the light emission amount of the LD array is received by the PD and the resulting current Im is adjusted by the variable resistor Rpd and the analog voltage Vc. That is, the current flowing through the PD is expressed by Im = Vc / Rpd, and the current Im flowing through the PD, that is, the light emission amount of the LD is adjusted by adjusting the analog voltage Vc and the variable resistance Rpd. Since an LD array usually has only one PD, when the LD other than the APC operation emits light, the amount of light is picked up.
そこで、本発明の光ビーム走査装置では、複数の光源を有する半導体レーザ素子において、1つのチャンネルの光量調整制御のときに、他チャンネルからのオフセット発光による影響を補正することを特徴とする。その補正方法としては、APC動作以前に、APC動作以外のLDのオフセット発光量を計測しておき、その光量に応じてAPC制御を補正する。以下、この補正方法の各例について説明する。なお、本発明の光ビーム走査装置は、図4に示す構成を前提としている。 Therefore, the light beam scanning device of the present invention is characterized in that, in a semiconductor laser element having a plurality of light sources, the influence of offset light emission from other channels is corrected when the light amount adjustment control of one channel is performed. As a correction method, before the APC operation, the offset light emission amount of the LD other than the APC operation is measured, and the APC control is corrected according to the light amount. Hereinafter, each example of this correction method will be described. The light beam scanning apparatus of the present invention is premised on the configuration shown in FIG.
補正方法の一例として、APC制御前に計測したオフセット発光量に応じてPD電流ImをAPC制御時に減じる方法について説明する。この方法を実現するための本発明の光ビーム走査装置の構成を図6に示す。図6は、図4におけるLD制御部22およびLDアレイ23の部分の詳細な構成(電流計、メモリ、CPUからなる補正手段)を示す図であり、(a)はオフセット光を検出しているときを示す図であり、(b)はAPC制御を行っているときを示す図である。
As an example of the correction method, a method of reducing the PD current Im during the APC control according to the offset light emission amount measured before the APC control will be described. FIG. 6 shows the configuration of the light beam scanning apparatus of the present invention for realizing this method. FIG. 6 is a diagram showing a detailed configuration (correction means including an ammeter, a memory, and a CPU) of the
図6(a)に示すように、APC制御前にオフセット発光によるPD電流量(Im_offset)を電流計により計測し、その計測結果をメモリに保存しておく。このとき、CPUから電子負荷はオープンにしておく(タイミングは同期検知信号からの時間を設定する)。 As shown in FIG. 6A, the PD current amount (Im_offset) due to offset light emission is measured by an ammeter before APC control, and the measurement result is stored in a memory. At this time, the electronic load from the CPU is kept open (the timing sets the time from the synchronization detection signal).
APC制御時は、図6(b)に示すように、メモリに保存しておいたオフセット発光による電流量分を分離するため、メモリに保存しておいたIm_offsetに対応した電圧をCPUにおいて計算し、電子負荷の電圧を変動させる(図はトランジスタをアクティブ素子として使用した電子負荷)。すると、APC調整をしたいchの光源からの発光に対応したPD電流Im_0においてAPC制御することが出来る。つまり、LD制御部のアナログ電圧Vcと可変抵抗Rpdで、Im_0=Vc/Rpdとなる様に制御する。 At the time of APC control, as shown in FIG. 6B, in order to separate the current amount due to the offset emission stored in the memory, a voltage corresponding to Im_offset stored in the memory is calculated in the CPU. The voltage of the electronic load is varied (the figure shows an electronic load using a transistor as an active element). Then, APC control can be performed with the PD current Im_0 corresponding to light emission from the light source of the channel for which APC adjustment is desired. That is, the analog voltage Vc of the LD control unit and the variable resistor Rpd are controlled so that Im_0 = Vc / Rpd.
以上説明したように、本実施例によれば、APC制御前に計測しておいたオフセット発光によるPD電流量をメモリに保存しておき、その大きさに応じて電子負荷の値を変化させることにより、オフセット発光分のPD電流Im_offsetをPD電流から分離することが出来る。よって、予め計測した微弱発光量に対応した電流を、光量調整時に光量検出素子(PD)の電流から減じているため、これまでの制御上の設定値(APC目標光量、光量調整時の抵抗値、アナログ電圧値)を変化させることなく実現可能である。 As described above, according to the present embodiment, the PD current amount due to the offset light emission measured before the APC control is stored in the memory, and the value of the electronic load is changed according to the magnitude. Thus, the PD current Im_offset for offset light emission can be separated from the PD current. Therefore, since the current corresponding to the weak light emission amount measured in advance is subtracted from the current of the light amount detecting element (PD) at the time of adjusting the light amount, the set values in the control so far (APC target light amount, resistance value at the time of adjusting the light amount This can be realized without changing the analog voltage value.
補正方法の一例として、APC制御前に計測したオフセット発光量に応じて、光量調整用の可変抵抗Rpdの抵抗値を変化させる方法について説明する。この方法を実現するための本発明の光ビーム走査装置の構成を図7に示す。図7は、図4におけるLD制御部22およびLDアレイ23の部分の詳細な構成(補正手段)を示す図であり、(a)はオフセット光を検出しているときを示す図であり、(b)はAPC制御を行っているときを示す図である。
As an example of the correction method, a method of changing the resistance value of the variable resistor Rpd for adjusting the light amount according to the offset light emission amount measured before the APC control will be described. FIG. 7 shows the configuration of a light beam scanning apparatus of the present invention for realizing this method. FIG. 7 is a diagram showing a detailed configuration (correction means) of the
図7(a)に示すように、APC制御前にオフセット発光分のPD電流量(Im_offset)をメモリに保存しておく。そして、図7(b)に示すように、そのIm_offsetに応じて抵抗の値をRoffだけ小さくする。このとき、RoffはPDにIm_0+Im_offsetが流れるようにしたいため、Roff =Rpd−Vc/(Im_0+Im_offset)で表され、メモリに保存されたデータからCPUにおいて計算し、抵抗値を変化させる。 As shown in FIG. 7A, the PD current amount (Im_offset) for offset light emission is stored in the memory before APC control. Then, as shown in FIG. 7B, the resistance value is decreased by Roff in accordance with the Im_offset. At this time, Roff is expressed as Roff = Rpd−Vc / (Im_0 + Im_offset), so that Im_0 + Im_offset flows in the PD, and is calculated in the CPU from the data stored in the memory, and the resistance value is changed.
以上説明したように、本実施例によれば、APC制御前に計測しておいたオフセット発光によるPD電流量をメモリに保存しておき、その大きさに応じて抵抗の値を小さくすることにより、余分なオフセット発光をPDで拾ってしまっても、対象の光源を目標の光量に調整することが出来る。よって、予め計測した微弱発光量に応じて、光量調整用の可変抵抗の抵抗値を変化させるため、製造時の手動による光量調整の精度を低くすることが出来る。 As described above, according to the present embodiment, the PD current amount due to the offset light emission measured before the APC control is stored in the memory, and the resistance value is reduced according to the magnitude. Even if extra offset light is picked up by the PD, the target light source can be adjusted to the target light amount. Therefore, since the resistance value of the variable resistor for light amount adjustment is changed according to the weak light emission amount measured in advance, the accuracy of manual light amount adjustment at the time of manufacture can be lowered.
補正方法の一例として、APC制御前に計測したオフセット発光量に応じて、光量を制御するアナログ電圧Vcの値を変化させる方法について説明する。この方法を実現するための本発明の光ビーム走査装置の構成を図8に示す。図8は、図4におけるLD制御部22およびLDアレイ23の部分の詳細な構成(電流計、メモリ、CPUからなる補正手段)を示す図であり、(a)はオフセット光を検出しているときを示す図であり、(b)はAPC制御を行っているときを示す図である。
As an example of the correction method, a method of changing the value of the analog voltage Vc for controlling the light amount according to the offset light emission amount measured before the APC control will be described. The configuration of the light beam scanning apparatus of the present invention for realizing this method is shown in FIG. FIG. 8 is a diagram showing a detailed configuration (correction means including an ammeter, a memory, and a CPU) of the
図8(a)に示すように、APC制御前にオフセット発光分のPD電流量(Im_offset)をメモリに保存しておく。そして、図8(b)に示すように、そのIm_offsetに応じてLD制御部のアナログ電圧VcをVoffだけ大きくする。このとき、VoffはPDにIm_0+Im_offsetが流れるようにしたいため、Voff =Rpd(Im_0+Im_offset)−Vcで表され、メモリに保存されたデータからCPUにおいて計算し、アナログ電圧値を変化させる。 As shown in FIG. 8A, the PD current amount (Im_offset) for offset light emission is stored in the memory before APC control. Then, as shown in FIG. 8B, the analog voltage Vc of the LD control unit is increased by Voff according to the Im_offset. At this time, Voff is expressed as Voff = Rpd (Im_0 + Im_offset) −Vc so that Im_0 + Im_offset flows in the PD, and is calculated by the CPU from the data stored in the memory, and the analog voltage value is changed.
以上説明したように、本実施例によれば、APC制御前に計測しておいたオフセット発光によるPD電流量を電流計により計測し、その電流量分に対応するアナログ電圧変化分をCPUにより判断し、LD制御部のアナログ電圧を変化させることにより、余分なオフセット発光をPDで拾ってしまっても、対象の光源を目標の光量に調整することが出来る。よって、予め計測した微弱発光量に応じて、光量を制御するアナログ電圧の値を変化させるため、実施例2の抵抗値を変化させる方法とは違い、制御上のアナログ電圧設定値の変更で対応可能である。 As described above, according to the present embodiment, the PD current amount due to the offset emission measured before the APC control is measured by the ammeter, and the analog voltage change corresponding to the current amount is determined by the CPU. Then, by changing the analog voltage of the LD control unit, the target light source can be adjusted to the target light amount even if extra offset light emission is picked up by the PD. Therefore, in order to change the value of the analog voltage for controlling the amount of light according to the weak light emission amount measured in advance, unlike the method of changing the resistance value in the second embodiment, it is possible to change by changing the analog voltage setting value for control. Is possible.
実施例1〜3では、APC動作以外の光源のオフセット発光を予め計測し補正を行う方法について説明したが、本実施例では、それらの方法以外にもオフセット発光量が固定値(予め設定される目標光量)となるように制御し、その固定発光量分だけ補正を行う方法について説明する。この方法は、実施例1〜3と同様の補正方法により行うことがきる。つまり、固定のオフセット発光分だけ、PD電流を減じる方法(実施例1に対応)、光量調整用の可変抵抗を小さくする方法(実施例2に対応)、光量を制御するアナログ電圧を大きくする方法(実施例3に対応)が実現できる。これらの方法では、オフセット発光量を固定値として設定するための手段が必要となるが、実施例1〜3とは違い、光量計測結果に応じて補正値を算出する手段(図6〜図8に示す電流計、メモリ、CPU)が必要ではなくなる。なお、以下の説明では、オフセット発光量を固定値として設定するための手段は、一例としてLD制御部とする。 In the first to third embodiments, a method for measuring and correcting offset light emission of a light source other than the APC operation in advance has been described. However, in this embodiment, the offset light emission amount is set to a fixed value (preliminarily set) in addition to these methods. A method of performing control so as to achieve the target light amount and correcting the amount corresponding to the fixed light emission amount will be described. This method can be performed by the same correction method as in the first to third embodiments. That is, a method of reducing the PD current by a fixed offset light emission amount (corresponding to the first embodiment), a method of reducing the variable resistor for adjusting the light amount (corresponding to the second embodiment), and a method of increasing the analog voltage for controlling the light amount. (Corresponding to Example 3) can be realized. These methods require means for setting the offset light emission amount as a fixed value, but unlike Examples 1 to 3, means for calculating a correction value according to the light quantity measurement result (FIGS. 6 to 8). The ammeter, memory, and CPU shown in FIG. In the following description, the means for setting the offset light emission amount as a fixed value is an LD control unit as an example.
本実施例の方法を実現するための本発明の光ビーム走査装置の構成を図9に示す。図9は、図4におけるLD制御部22およびLDアレイ23の部分の詳細な構成(補正手段は、LD制御部となる)を示す図であり、(a)および(b)はオフセット光のAPC制御を行っているときを示す図である。
FIG. 9 shows the configuration of the light beam scanning apparatus of the present invention for realizing the method of this embodiment. FIG. 9 is a diagram showing a detailed configuration of the
本実施例の方法では、オフセット発光量を固定値とするために、所望の光源のAPC制御直前に、APC制御を行う光源以外のオフセット発光量のAPC制御を行う。これは、オフセット発光量のAPC制御時のアナログ電圧Vcまたは可変抵抗Rpdを変化させることで実現できる。つまり、図9(a)に示すように、オフセット発光時にPDに流れる電流Im_offsetを固定値とした時に、VcをVc1=(Im_offset)×(Rpd)に変更する。または、図9(b)に示すように、RpdをRpd1=Vc/(Im_offset)に変更する。この制御を各光源のAPC制御の直前に実施することで、一定のIm_offsetとすることが出来る。 In the method of this embodiment, in order to set the offset light emission amount to a fixed value, the APC control of the offset light emission amount other than the light source performing the APC control is performed immediately before the APC control of the desired light source. This can be realized by changing the analog voltage Vc or the variable resistor Rpd during the APC control of the offset light emission amount. That is, as shown in FIG. 9A, Vc is changed to Vc1 = (Im_offset) × (Rpd) when the current Im_offset flowing in the PD during offset light emission is set to a fixed value. Alternatively, as shown in FIG. 9B, Rpd is changed to Rpd1 = Vc / (Im_offset). By performing this control immediately before the APC control of each light source, a constant Im_offset can be obtained.
以上説明したように、本実施例によれば、光量調整制御を行っている光源以外の光源の微弱発光量を所定の目標光量(固定値)になるように制御するため、上記実施例1〜3のようにオフセット発光量から補正量を算出する手段を必要とせずに、上記実施例1〜3の効果を得ることができる。 As described above, according to the present embodiment, in order to control the weak light emission amount of the light source other than the light source performing the light amount adjustment control so as to become the predetermined target light amount (fixed value), The effect of the first to third embodiments can be obtained without requiring a means for calculating the correction amount from the offset light emission amount as in FIG.
上記実施例1〜4の方法は、初期化およびラインAPCを実施するときにそれぞれの光源に対して実施する必要がある。フローは図10のようになる。
まず、オフセット光の補正を行い(ステップS11)、対象chの初期化を行う(ステップS2)。全chの初期化が完了していない場合(ステップS13/NO)、ステップS11へ戻る。全chの初期化が完了した場合(ステップS13/YES)、全chの1ライン走査を行う(ステップS14)。そして、オフセット光の補正を行い(ステップS15)、対象chのAPC制御を行う(ステップS16)。全chのAPC制御が完了していない場合(ステップS17/NO)、ステップS15へ戻る。全chのAPC制御が完了した場合で(ステップS17/YES)、走査が終了した場合(ステップS18/YES)は、一連の処理を終了し、走査が終了していない場合は(ステップS18/NO)、ステップS14へ戻る。
The methods of the first to fourth embodiments need to be performed for each light source when performing initialization and line APC. The flow is as shown in FIG.
First, offset light is corrected (step S11), and the target channel is initialized (step S2). If initialization of all channels has not been completed (step S13 / NO), the process returns to step S11. When initialization of all the channels is completed (step S13 / YES), one line scanning of all the channels is performed (step S14). Then, the offset light is corrected (step S15), and the APC control of the target channel is performed (step S16). If the APC control for all channels has not been completed (step S17 / NO), the process returns to step S15. If the APC control for all channels is completed (step S17 / YES), and the scanning is completed (step S18 / YES), a series of processing is terminated, and if the scanning is not completed (step S18 / NO) ), And returns to step S14.
図10のフローの“オフセット光補正”では、実施例1〜3の場合、APC対象光源以外のオフセット光を予め計測しておき、そのオフセット光に対応する補正量の算出および補正を行っている。また、実施例4の場合、オフセット光を固定値とする制御を実施し、そのオフセット光量に対応する補正を行っている。 In the “offset light correction” in the flow of FIG. 10, in the first to third embodiments, offset light other than the APC target light source is measured in advance, and the correction amount corresponding to the offset light is calculated and corrected. . Further, in the case of the fourth embodiment, control with offset light as a fixed value is performed, and correction corresponding to the offset light amount is performed.
次に、実施例1〜4の方法とは別に、APC制御を行っている光源以外の光源に流れる電流量を小さくし、APC制御に影響がないくらいまでオフセット発光量を低減する方法について説明する。この方法では、各光源に流す電流の制御方法で分類することが出来る。まず、APC制御以外の光源に流れる電流の総和を小さくし、オフセット光量の総和をAPC制御に影響がない程度まで低減する方法がある。この方法では、オフセット発光量を各光源の電流量の総和で制御しているので、制御系が1系統で実現できる。また他の方法として、オフセット発光する各光源の電流量を個別で制御する方法がある。これは、APC制御を行っている光源に対する物理的距離により、オフセット発光する各光源に流す量を個別に制御し、熱変動によるLD特性による影響を極力小さくすることができる。例を図11に示す。APC制御を行っている光源aに対する物理的距離が遠い光源dは光源b,cに比べ熱的影響が少ないため、光源に供給する電流量を少なくすることが出来る。例えば4つのLDが正方形の各頂点をなす位置に配置されていたとき、光源aと光源dとの距離は光源aと光源b、あるいは光源aと光源cとの距離の約1.4倍(=√2倍)となるから、光源aと光源dそれぞれの光源が受ける熱的影響は、光源aと光源bあるいはcとの間でそれぞれの光源が受ける熱的影響よりも、互いの距離(ここでは約1.4倍)に反比例した関係にある。 Next, a method of reducing the amount of offset light emission to a level that does not affect the APC control by reducing the amount of current flowing to a light source other than the light source performing the APC control will be described separately from the methods of the first to fourth embodiments. . In this method, it is possible to classify by the control method of the current flowing through each light source. First, there is a method of reducing the total sum of currents flowing through the light sources other than the APC control and reducing the total offset light amount to an extent that does not affect the APC control. In this method, since the offset light emission amount is controlled by the sum of the current amounts of the respective light sources, the control system can be realized by one system. As another method, there is a method of individually controlling the current amount of each light source that emits offset light. This can individually control the amount of each light source that emits offset light according to the physical distance to the light source performing APC control, thereby minimizing the influence of the LD characteristics due to thermal fluctuations. An example is shown in FIG. Since the light source d having a long physical distance to the light source a performing APC control has less thermal influence than the light sources b and c, the amount of current supplied to the light source can be reduced. For example, when four LDs are arranged at positions that form the vertices of a square, the distance between the light source a and the light source d is about 1.4 times the distance between the light source a and the light source b or between the light source a and the light source c ( Therefore, the thermal effects of the light sources a and d are greater than the thermal effects of the respective light sources between the light sources a and b or c. Here, the relationship is inversely proportional to about 1.4 times.
以上説明したように、本発明によれば、光量調整を行う光源以外の微弱発光を補正する手段を備えているため、精度の高い光量調整行うことが出来る。 As described above, according to the present invention, since the device for correcting weak light emission other than the light source for adjusting the light amount is provided, the light amount can be adjusted with high accuracy.
また、本発明によれば、光量調整制御を行っている光源以外の微弱発光量を光量調整制御以前に計測して補正するため、LD劣化などによる発光量の変化によらず発光量オフセット発光量に応じた正確な補正を可能とする。 In addition, according to the present invention, the weak light emission amount other than the light source performing the light amount adjustment control is measured and corrected before the light amount adjustment control. Enables accurate correction according to
また、本発明によれば、予め計測した微弱発光量に対応した電流を、光量調整時に光量検出素子の電流から減じているため、これまでの制御上の設定値(APC目標光量、光量調整時の抵抗値、アナログ電圧値)を変化させることなく実現可能である(実施例1)。 In addition, according to the present invention, since the current corresponding to the weak light emission amount measured in advance is subtracted from the current of the light amount detection element at the time of adjusting the light amount, the set values in the past control (APC target light amount, when adjusting the light amount) The first embodiment can be realized without changing the resistance value or the analog voltage value of the first embodiment.
また、本発明によれば、予め計測した微弱発光量に応じて、光量調整用の可変抵抗の抵抗値を変化させるため、製造時の手動による光量調整の精度を低くすることが出来る(実施例2)。 Further, according to the present invention, since the resistance value of the variable resistor for light amount adjustment is changed according to the weak light emission amount measured in advance, the accuracy of manual light amount adjustment at the time of manufacture can be lowered (Example) 2).
また、本発明によれば、予め計測した微弱発光量に応じて、光量を制御するアナログ電圧の値を変化させるため、実施例2の抵抗値を変化させる方法とは違い、制御上のアナログ電圧設定値の変更で対応可能である(実施例3)。 In addition, according to the present invention, the analog voltage for control is different from the method of changing the resistance value of the second embodiment in order to change the value of the analog voltage for controlling the light amount according to the weak light emission amount measured in advance. This can be dealt with by changing the set value (Example 3).
また、本発明によれば、光量調整制御を行っている光源以外の光源の微弱発光量をある目標光量になるように制御するため、実施例1〜3のようにオフセット発光量から補正量を算出する手段を必要としない(実施例4)。 In addition, according to the present invention, in order to control the weak light emission amount of the light source other than the light source that is performing the light amount adjustment control so as to become a certain target light amount, the correction amount is calculated from the offset light emission amount as in the first to third embodiments. No calculation means is required (Example 4).
また、本発明によれば、光量調整制御時に光量調整制御を行っている光源以外の光源に流れる電流を小さくするため、補正値を算出する手段を必要としない(実施例5)。 Further, according to the present invention, no means for calculating a correction value is required in order to reduce the current flowing to the light source other than the light source that is performing the light amount adjustment control during the light amount adjustment control (Example 5).
また、本発明によれば、光量調整制御を行っている光源以外の光源に流れる電流の総和を小さくするため、微弱発光量の制御系が1系統でよい(実施例5)。 Further, according to the present invention, in order to reduce the total sum of the currents flowing through the light sources other than the light source that is performing the light amount adjustment control, the control system for the weak light emission amount may be one system (Example 5).
また、本発明によれば、光量調整制御を行っている光源以外の光源に流れる電流をどの程度小さくするかを個別に制御するため、物理的位置による熱影響の大小により微弱発光量を調節できる(実施例5)。 In addition, according to the present invention, the amount of weak light emission can be adjusted depending on the magnitude of the thermal influence due to the physical position because the current flowing to the light source other than the light source for which the light amount adjustment control is performed is individually controlled. (Example 5).
以上、本発明の各実施例について説明したが、上記各実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の変形が可能である。 As mentioned above, although each Example of this invention was described, it is not limited to said each Example, A various deformation | transformation is possible in the range which does not deviate from the summary.
例えば、上述した実施例における制御動作は、ハードウェア、または、ソフトウェア、あるいは、両者の複合構成によって実行することも可能である。 For example, the control operation in the above-described embodiment can be executed by hardware, software, or a combined configuration of both.
なお、ソフトウェアによる処理を実行する場合には、処理シーケンスを記録したプログラムを、専用のハードウェアに組み込まれているコンピュータ内のメモリにインストールして実行させるか、あるいは、各種処理が実行可能な汎用コンピュータにプログラムをインストールして実行させることが可能である。 In addition, when executing processing by software, a program in which a processing sequence is recorded is installed in a memory in a computer incorporated in dedicated hardware and executed, or a general-purpose capable of executing various processing It is possible to install and execute a program on a computer.
例えば、プログラムは、記録媒体としてのハードディスクやROM(Read Only Memory)に予め記録しておくことが可能である。 For example, the program can be recorded in advance on a hard disk or a ROM (Read Only Memory) as a recording medium.
あるいは、プログラムは、CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory),MO(Magneto optical)ディスク,DVD(Digital Versatile Disc)、磁気ディスク、半導体メモリなどのリムーバブル記録媒体に、一時的、あるいは、永続的に格納(記録)しておくことが可能である。 Alternatively, the program is temporarily or permanently stored on a removable recording medium such as a CD-ROM (Compact Disc Read Only Memory), an MO (Magneto optical) disc, a DVD (Digital Versatile Disc), a magnetic disc, or a semiconductor memory. It can be stored (recorded).
このようなリムーバブル記録媒体は、いわゆるパッケージソフトウエアとして提供することが可能である。 Such a removable recording medium can be provided as so-called package software.
なお、プログラムは、上述したようなリムーバブル記録媒体からコンピュータにインストールする他、ダウンロードサイトから、コンピュータに無線転送したり、LAN(Local Area Network)、インターネットといったネットワークを介して、コンピュータに有線で転送したりし、コンピュータでは、転送されてきたプログラムを受信し、内蔵するハードディスク等の記録媒体にインストールすることが可能である。 The program is installed on the computer from the removable recording medium as described above, or is wirelessly transferred from the download site to the computer, or is wired to the computer via a network such as a LAN (Local Area Network) or the Internet. On the other hand, the computer can receive the transferred program and install it on a recording medium such as a built-in hard disk.
また、上記実施例で説明した処理動作に従って時系列的に実行されるのみならず、処理を実行する装置の処理能力、あるいは、必要に応じて並列的にあるいは個別に実行するように構築することも可能である。 In addition to being executed in time series in accordance with the processing operations described in the above embodiments, the processing capability of the apparatus that executes the processing, or to be executed in parallel or individually as required Is also possible.
本発明は、複数の半導体レーザを同時駆動させて同時に複数ラインの光書込みを行う装置/機器・システム・方法・プログラムなどに適用できる。 The present invention can be applied to an apparatus / apparatus, system, method, program, etc. that simultaneously drives a plurality of semiconductor lasers and simultaneously performs optical writing on a plurality of lines.
1 転写紙
2 搬送ベルト
3 搬送ローラ(駆動ローラ)
4 搬送ローラ(従動ローラ)
5 給紙トレイ
6 感光体ドラム
7 帯電器
8 露光器(光ビーム走査装置)
9 現像器
10 感光体クリーナ
11 レーザ光(光ビーム)
12 転写器
13 定着器
14 レジストセンサ
20 スキャナ部
21 書込制御部
22 LD制御部(光源制御手段の一例)
23 LDアレイ(光ビーム発生手段の一例)
24 制御部
31 LDユニットBK
32 LDユニットY
33 シリンダレンズBK
34 シリンダレンズY
35 反射ミラーBK
36 反射ミラーY
37 ポリゴンミラー
38 fθレンズBKC
39 fθレンズYM
40 第1ミラーBK
41 第1ミラーY
42 LDユニットC
43 LDユニットM
44 シリンダレンズC
45 シリンダレンズM
46 第1ミラーC
47 第1ミラーM
48 シリンダミラーBKC
49 シリンダミラーYM
50 センサBKC
51 センサYM
52 LD制御板C
53 LD制御板BK
54 LD制御板Y
55 LD制御板M
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transfer paper 2 Conveyance belt 3 Conveyance roller (drive roller)
4 Conveying roller (driven roller)
5 Feed tray 6 Photosensitive drum 7 Charger 8 Exposure unit (light beam scanning device)
9 Developing Device 10
DESCRIPTION OF
23 LD array (an example of light beam generating means)
24 control unit 31 LD unit BK
32 LD unit Y
33 Cylinder lens BK
34 Cylinder lens Y
35 reflective mirror BK
36 Reflective mirror Y
37 Polygon mirror 38 fθ lens BKC
39 fθ lens YM
40 1st mirror BK
41 First mirror Y
42 LD Unit C
43 LD Unit M
44 Cylinder lens C
45 Cylinder lens M
46 First Mirror C
47 First Mirror M
48 Cylinder mirror BKC
49 Cylinder mirror YM
50 sensor BKC
51 Sensor YM
52 LD control plate C
53 LD control board BK
54 LD control plate Y
55 LD control plate M
Claims (3)
前記光源制御手段が、前記光ビーム発生手段が有する前記複数の発光素子のうちの一の発光素子に対して光量調整制御を行うときに、該一の発光素子以外の発光素子からの微弱発光の影響を補正する補正手段を備え、
前記補正手段は、前記光源制御手段が前記光量調整制御を行う前に、該光量調整制御が行われる発光素子以外の発光素子の微弱発光量を計測しておき、該計測した微弱発光量に応じて前記光量調整制御を補正し、前記予め計測した微弱発光量に対応した電流を、前記光量調整制御が行われるときに前記受光素子の電流から減じ、前記光量調整制御が行われる発光素子以外の発光素子の微弱発光量を予め設定した目標光量になるように制御し、該目標光量に応じて光量調整制御を補正することを特徴とする光ビーム走査装置。 In a light beam scanning apparatus comprising: a light beam generating means having a plurality of light emitting elements and one light receiving element; and a light source control means for controlling lighting of the plurality of light emitting elements.
When the light source control unit performs light amount adjustment control on one of the plurality of light emitting elements of the light beam generating unit, weak light emission from light emitting elements other than the one light emitting element is performed. A correction means for correcting the influence,
The correction unit measures a weak light emission amount of a light emitting element other than the light emitting element on which the light amount adjustment control is performed before the light source control unit performs the light amount adjustment control, and according to the measured weak light emission amount. The light amount adjustment control is corrected, and a current corresponding to the pre-measured weak light emission amount is subtracted from the current of the light receiving element when the light amount adjustment control is performed, and other than the light emitting element for which the light amount adjustment control is performed. A light beam scanning apparatus characterized by controlling a weak light emission amount of a light emitting element to a preset target light amount and correcting light amount adjustment control according to the target light amount.
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