JP5223154B2 - Temperature control method, temperature control device, and temperature control program - Google Patents

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Description

本発明は、反応容器の温度制御に関し、特に、反応塔のように反応容器内に温度の分布が生じることが予測される反応容器の温度制御方法、温度制御装置および温度制御用プログラムに関する。   The present invention relates to temperature control of a reaction vessel, and more particularly to a temperature control method, a temperature control device, and a temperature control program for a reaction vessel in which temperature distribution is predicted to occur in the reaction vessel like a reaction tower.

従来から、反応系等のプロセスを制御したい場合、操作量の決定に、モデル予測制御が採用されてきた。モデル予測制御は、プロセスにおける被制御量が目標値に一致するように操作量を決定するための手法である。そして、このような手法を用いたプロセスの制御については、従来から種々の検討がなされていた。   Conventionally, when it is desired to control a process such as a reaction system, model predictive control has been adopted to determine an operation amount. Model predictive control is a method for determining an operation amount so that a controlled amount in a process matches a target value. Various studies have been made on process control using such a method.

たとえば、特許文献1では、オレフィンのヒドロホルミル化の反応系のプロセスにおける、一酸化炭素(CO)のパージガス流量を調整する操作量が、反応容器中の実際のCO分圧と目標値のCO分圧との偏差に基づいて、モデル予測制御により決定されるための技術として、検出されたCO分圧と目標値とを比較し、反応容器から抜き出されるリサイクルガスのパージ流量を調整することによって反応容器中のCO濃度を制御する技術が開示されている。
特開平6−192158号公報
For example, in Patent Document 1, the operation amount for adjusting the purge gas flow rate of carbon monoxide (CO) in the process of the reaction system for hydroformylation of olefin is the actual CO partial pressure in the reaction vessel and the target CO partial pressure. As a technique to be determined by model predictive control based on the deviation from, the reaction is performed by comparing the detected CO partial pressure with the target value and adjusting the purge flow rate of the recycle gas extracted from the reaction vessel A technique for controlling the CO concentration in the container is disclosed.
JP-A-6-192158

なお、従来のモデル予測制御では、反応容器の中で反応状態の変化が生じることが予測される場合、モデル予測制御による当該反応容器内の温度制御について、良好な制御性を得ることは困難とされてきた。   In the conventional model predictive control, when it is predicted that the reaction state will change in the reaction vessel, it is difficult to obtain good controllability for the temperature control in the reaction vessel by the model predictive control. It has been.

つまり、従来のモデル予測制御によれば、たとえば、反応容器内の温度を制御するための操作量を決定する場合、当該操作量を入力とし温度の計算値を出力とした伝達関数や、反応系に投入する原料の供給量に応じた測定可能外乱を入力とし温度の計算値を出力とした予測モデルに基づいて、操作量が決定される。しかしながら、単に上記のように操作量や測定可能外乱を入力とした予測モデルを利用しても、特に反応容器内で反応状態の変化が生じるようなシステムにおいては、良好な制御性を得ること、つまり、的確な温度制御を行なうことができなかった。   That is, according to conventional model predictive control, for example, when determining an operation amount for controlling the temperature in the reaction vessel, a transfer function with the operation amount as an input and a calculated value of the temperature as an output, or a reaction system The manipulated variable is determined on the basis of a prediction model in which a measurable disturbance corresponding to the supply amount of the raw material to be input to is input and the calculated temperature value is output. However, even when using a predictive model with the manipulated variable or measurable disturbance as input as described above, particularly in a system in which the reaction state changes in the reaction vessel, good controllability is obtained. That is, accurate temperature control could not be performed.

本発明は係る実情に鑑み考え出されたものであり、その目的は、反応状態の変化など不測な外乱が生じた場合でも良好な温度制御性を確保できる温度制御方法、温度制御装置および温度制御用プログラムを提供することである。   The present invention has been devised in view of such circumstances, and its purpose is to provide a temperature control method, a temperature control device, and a temperature control capable of ensuring good temperature controllability even when an unexpected disturbance such as a change in reaction state occurs. Is to provide a program.

本発明の温度制御方法は、反応容器内の第1の部位および前記第1の部位とは異なる第2の部位の温度制御について操作量を制御する温度制御方法であって、前記反応容器内では、流体は前記第2の部位から前記第1の部位に向く方向に流れ、コンピュータが、前記反応容器内の第1の部位の温度を記憶装置に記憶するステップと、前記反応容器内の第2の部位の温度を前記記憶装置に記憶するステップと、前記記憶装置に記憶された前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度と、前記操作量を含むプロセスモデルを使って、将来の前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度を予測し、望ましく温度制御される最適な前記操作量の制御信号を生成するステップと、生成した前記操作量の制御信号を出力するステップとを実行し、前記プロセスモデルは、前記操作量から、直接、制御量である前記第2の部位の温度と前記第1の部位の温度を予測する予測モデルと、前記操作量が、前記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含むことを特徴とする。   The temperature control method of the present invention is a temperature control method for controlling an operation amount for temperature control of a first part in a reaction vessel and a second part different from the first part. , The fluid flows in a direction from the second part toward the first part, and the computer stores the temperature of the first part in the reaction container in a storage device; and the second in the reaction container. Using the process model including the step of storing the temperature of the part in the storage device, the temperature of the first part and the temperature of the second part stored in the storage device, and the manipulated variable in the future Predicting the temperature of the first part and the temperature of the second part, generating an optimal control signal for the manipulated variable that is desirably temperature controlled, and outputting the generated control signal for the manipulated variable Step and run The process model includes a prediction model that predicts the temperature of the second part and the temperature of the first part, which are control quantities, directly from the manipulated variable, and the manipulated variable determines the second part. And a prediction model for predicting heat transfer to the first part.

また、本発明の温度制御方法では、前記操作量の制御信号を生成するステップで使用されるモデルは、前記プロセスモデルに加えて、前記反応容器への反応原料と溶媒の供給量変更に対応し、前記第1の部位の温度と前記第2の部位の温度を予測する、測定可能外乱モデルを含み、前記測定可能外乱モデルは、前記反応原料と前記溶媒の供給量から、直接、制御量である前記第1の部位の温度と前記第2の部位の温度を予測する予測モデルと、前記反応原料と前記溶媒が前記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を表した予測モデルとを含むことが好ましい。   In the temperature control method of the present invention, the model used in the step of generating the control signal for the manipulated variable corresponds to a change in the supply amounts of the reaction raw material and the solvent to the reaction vessel in addition to the process model. A measurable disturbance model for predicting the temperature of the first part and the temperature of the second part, the measurable disturbance model being directly controlled by a control amount from the supply amounts of the reaction raw material and the solvent. A prediction model for predicting the temperature of the first part and the temperature of the second part, and a prediction representing heat transfer of the reaction raw material and the solvent through the second part to the first part Preferably including a model.

また、本発明の温度制御方法では、前記プロセスモデルと前記測定可能外乱モデルによるモデルは、前記操作量および前記反応原料と前記溶媒の供給量に関する値を入力とし、前記第2の部位の温度を出力とする第1の伝達関数と、前記第1の伝達関数の出力である前記第2の部位の温度と、前記操作量と、前記反応原料と前記溶媒の供給量に関する値とを入力とし、前記第1の部位の温度を出力とする第2の伝達関数とを含む伝達関数によって構成されることが好ましい。   Further, in the temperature control method of the present invention, the process model and the model based on the measurable disturbance model are input with values relating to the manipulated variable and the supply amounts of the reaction raw material and the solvent, and the temperature of the second part is determined. The first transfer function to be output, the temperature of the second part that is the output of the first transfer function, the manipulated value, and the value relating to the supply amount of the reaction raw material and the solvent are input, It is preferable that the transfer function includes a second transfer function that outputs the temperature of the first part as an output.

本発明の温度制御装置は、反応容器内の第1の部位および前記第1の部位とは異なる第2の部位の温度制御についての操作量を制御する温度制御装置であって、前記反応容器内では、流体は前記第2の部位から前記第1の部位に向く方向に流れ、前記反応容器内の第1の部位の温度の入力を受け付ける第1の入力部と、前記反応容器内の第2の部位の温度の入力を受け付ける第2の入力部と、前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度と、前記操作量を含むプロセスモデルを使って、将来の前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度を予測し、望ましく温度制御される最適な前記操作量の制御信号を生成する信号生成部と、前記信号生成部が生成した制御信号を出力する信号出力部とを備え、前記プロセスモデルは、前記操作量から、直接、制御量である前記第2の部位の温度と前記第1の部位の温度を予測する予測モデルと、前記操作量が、前記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含むことを特徴とする。   The temperature control device of the present invention is a temperature control device that controls an operation amount for temperature control of a first portion in a reaction vessel and a second portion different from the first portion, Then, the fluid flows in the direction from the second part toward the first part, and a first input unit that receives an input of the temperature of the first part in the reaction container, and a second in the reaction container. A second input unit that receives an input of the temperature of the part, a temperature of the first part, a temperature of the second part, and a process model including the manipulated variable, and the first part in the future A signal generation unit that predicts the temperature of the second part and the temperature of the second part and generates a control signal of the optimum operation amount that is desirably temperature-controlled, and a signal output unit that outputs the control signal generated by the signal generation unit And the process model includes the operation. From the quantity, a prediction model for predicting the temperature of the second part and the temperature of the first part, which are control quantities, and the manipulated variable reach the first part via the second part. And a prediction model for predicting heat transfer.

本発明に従った温度制御用プログラムは、反応容器内の第1の部位および前記第1の部位とは異なる第2の部位の温度制御についての操作量を制御するための信号をコンピュータに出力させるための温度制御用プログラムであって、前記反応容器内では、流体は前記第2の部位から前記第1の部位に向く方向に流れ、コンピュータに、前記反応容器内の第1の部位の温度を記憶装置に記憶するステップと、前記反応容器内の第2の部位の温度を記憶装置に記憶するステップと、前記記憶装置に記憶された前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度と、前記操作量から予め設定されたプロセスモデルを使って、将来の前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度を予測し、望ましく温度制御される最適な前記操作量の制御信号を生成するステップと、生成した前記操作量の制御信号を出力するステップとを実行させ、前記プロセスモデルは、前記操作量から、直接、制御量である前記第2の部位の温度と、前記第1の部位の温度を予測する予測モデルと、前記操作量が、前記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含むことを特徴とする。   A temperature control program according to the present invention causes a computer to output a signal for controlling an operation amount for temperature control of a first part in a reaction vessel and a second part different from the first part. In the reaction vessel, the fluid flows in the direction from the second part toward the first part, and the temperature of the first part in the reaction container is transmitted to the computer. Storing in the storage device; storing the temperature of the second part in the reaction vessel in the storage device; and temperature of the first part and temperature of the second part stored in the storage device And predicting the temperature of the first part and the temperature of the second part in the future using a process model set in advance from the manipulated variable, and controlling the optimum manipulated variable for the desired manipulated temperature. The And a step of outputting the generated control signal of the manipulated variable, and the process model directly determines the temperature of the second part, which is a controlled variable, from the manipulated variable, and the first And a prediction model for predicting heat transfer from the second part to the first part through the second part.

本発明によれば、反応容器が当該反応容器内で流体が第2の部位から第1の部位に向く方向に流れるように構成されたときに、第1の部位の温度および第2の部位の温度ならびに第1および第2の部位の温度制御についての操作量を含むプロセスモデルを使い、将来の第1の部位の温度および第2の部位の温度を予測することにより、望ましく温度制御される最適な操作量の制御信号が生成され、出力される。   According to the present invention, when the reaction container is configured so that the fluid flows in the reaction container in the direction from the second part toward the first part, the temperature of the first part and the second part Optimum that is desirably temperature controlled by predicting the temperature of the first part and the temperature of the second part in the future using a process model that includes the temperature and the manipulated variable for temperature control of the first and second parts. A control signal with a large manipulated variable is generated and output.

なお、本発明では、上記プロセスモデルは、上記操作量から、直接、制御量である第2の部位の温度と第1の部位の温度を予測する予測モデルと、第2の部位を経て第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含む。 In the present invention, the process model is obtained by predicting the temperature of the second part and the temperature of the first part, which are control amounts, directly from the manipulated variable, and the first part through the second part. And a prediction model for predicting heat transfer to the region.

これにより、反応塔のように反応容器内に温度分布を持ち、反応容器内を流体が入口方向から出口方向に向かって流れる反応プロセスの多点温度制御において、操作量と制御量の関係を表した予測モデルに、流動による温度検出部位間の熱伝達を考慮した予測モデルが含まれることになる。   This shows the relationship between the manipulated variable and the controlled variable in multipoint temperature control of a reaction process that has a temperature distribution in the reaction vessel like a reaction tower and the fluid flows in the reaction vessel from the inlet direction to the outlet direction. The predicted model includes a predicted model that takes into account heat transfer between temperature detection parts due to flow.

したがって、反応プロセスにおいて、反応状態の変化などの不測な外乱が生じた場合であっても、良好な温度制御性を得ることができる。   Therefore, even if an unexpected disturbance such as a change in the reaction state occurs in the reaction process, good temperature controllability can be obtained.

以下、本発明の温度制御方法の一実施の形態が実現される反応システムについて、図面を参照しつつ説明する。なお、以下の説明において、各図において同じ構成要素については同じ符号を付し、詳細な説明は繰返さない。   Hereinafter, a reaction system in which an embodiment of a temperature control method of the present invention is realized will be described with reference to the drawings. In the following description, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals in each drawing, and detailed description thereof will not be repeated.

図1は、本発明の温度制御方法の一実施の形態が実現される反応システムの全体構成を模式的に示す図である。図1のシステムでは、反応容器として反応塔が採用され、当該反応塔内で第1の原料と第2の原料の化学反応により生成物の生成が行なわれる。   FIG. 1 is a diagram schematically showing the overall configuration of a reaction system in which an embodiment of the temperature control method of the present invention is realized. In the system of FIG. 1, a reaction tower is adopted as a reaction vessel, and a product is generated in the reaction tower by a chemical reaction between a first raw material and a second raw material.

図1を参照して、本実施の形態のシステムでは、反応塔100において、当該反応塔100の底部に設けられた供給口105から原料が導入される。具体的には、本実施の形態のプロセスにおいて第1原料と第2原料が反応することにより生成物が生成するとした場合、第1原料と第2原料と溶媒とが、ポンプ75でミキシングされた後、供給口105を介して反応塔100内へ導入される。反応塔100の上段には、反応塔100内で生じた生成物を反応塔100から取出すための排出口106が設けられている。   Referring to FIG. 1, in the system of the present embodiment, in reaction tower 100, a raw material is introduced from supply port 105 provided at the bottom of reaction tower 100. Specifically, when the first raw material and the second raw material react with each other in the process of the present embodiment to generate a product, the first raw material, the second raw material, and the solvent are mixed by the pump 75. Thereafter, it is introduced into the reaction tower 100 through the supply port 105. In the upper stage of the reaction tower 100, a discharge port 106 for taking out a product generated in the reaction tower 100 from the reaction tower 100 is provided.

第1原料がポンプ75へ導入されるまでの経路には、第1原料の供給量を制御するための調節弁42が設けられている。また、当該経路における第1原料の流量は、流量センサ41によって検出される。調節弁42による当該経路の開閉動作は、流量調節部40によって制御される。流量センサ41の検出出力は、流量調節部40に入力される。   A control valve 42 for controlling the supply amount of the first raw material is provided in the path until the first raw material is introduced into the pump 75. Further, the flow rate of the first raw material in the route is detected by the flow rate sensor 41. The opening / closing operation of the path by the adjustment valve 42 is controlled by the flow rate adjustment unit 40. The detection output of the flow rate sensor 41 is input to the flow rate adjustment unit 40.

第2原料がポンプ75へ導入されるまでの経路には、第2原料の供給量を制御するための調節弁52が設けられている。また、当該経路における第2原料の流量は、流量センサ51によって検出される。調節弁52による当該経路の開閉動作は、流量調節部50によって制御される。流量センサ51の検出出力は、流量調節部50に入力される。   A control valve 52 for controlling the supply amount of the second raw material is provided in the path until the second raw material is introduced into the pump 75. Further, the flow rate of the second raw material in the path is detected by the flow rate sensor 51. The opening / closing operation of the route by the control valve 52 is controlled by the flow rate adjusting unit 50. The detection output of the flow sensor 51 is input to the flow controller 50.

溶媒がポンプ75へ導入されるまでの経路には、溶媒の供給量を制御するための調節弁62が設けられている。また、当該経路における溶媒の流量は、流量センサ61によって検出される。調節弁62による当該経路の開閉動作は、流量調節部60によって制御される。流量センサ61の検出出力は、流量調節部60に入力される。   A control valve 62 for controlling the supply amount of the solvent is provided in the path until the solvent is introduced into the pump 75. Further, the flow rate of the solvent in the path is detected by the flow rate sensor 61. The opening / closing operation of the path by the adjustment valve 62 is controlled by the flow rate adjustment unit 60. The detection output of the flow sensor 61 is input to the flow controller 60.

反応塔100内には、当該反応塔100内の、上段の温度を検出する温度センサ71と、中段の温度を検出する温度センサ72とが備えられている。   In the reaction tower 100, a temperature sensor 71 for detecting an upper temperature in the reaction tower 100 and a temperature sensor 72 for detecting an intermediate temperature are provided.

反応塔100には、その上段から下段に向かって供給口101,102,103,104が設けられている。反応塔100には、当該反応塔100内の温度を調節するために、供給口101,102,103,104を介して、スチーム供給源からスチームが導入される。供給口101,102へのスチームの供給量の総量は、流量センサ21によって検出され、調節弁22によって調節される。流量センサ21の検出出力は、流量調節部20に入力され、調節弁22の開閉度合いは、流量調節部20によって制御される。供給口103,104へのスチームの供給量の総量は、流量センサ31によって検出され、調節弁32によって調節される。流量センサ31の検出出力は、流量調節部30に入力され、調節弁32の開閉度合いは、流量調節部30によって制御される。   The reaction tower 100 is provided with supply ports 101, 102, 103, 104 from the upper stage to the lower stage. Steam is introduced into the reaction tower 100 from a steam supply source via supply ports 101, 102, 103, 104 in order to adjust the temperature in the reaction tower 100. The total amount of steam supplied to the supply ports 101 and 102 is detected by the flow sensor 21 and adjusted by the control valve 22. The detection output of the flow rate sensor 21 is input to the flow rate adjustment unit 20, and the degree of opening and closing of the adjustment valve 22 is controlled by the flow rate adjustment unit 20. The total amount of steam supplied to the supply ports 103 and 104 is detected by the flow sensor 31 and adjusted by the control valve 32. The detection output of the flow rate sensor 31 is input to the flow rate adjustment unit 30, and the degree of opening and closing of the adjustment valve 32 is controlled by the flow rate adjustment unit 30.

本明細書では、適宜、反応塔100の上段側の供給口(供給口101,102)に導入されるスチームのことを「上段スチーム」と呼び、反応塔100の下段側の供給口(103,104)を介して反応塔100内に導入されるスチームを「下段スチーム」と呼ぶ。上段スチームの量は、流量センサ21で検出され、下段スチーム量は、流量センサ31によって検出される。   In this specification, the steam appropriately introduced into the upper supply port (supply ports 101 and 102) of the reaction tower 100 is referred to as “upper steam”, and the lower supply port (103, The steam introduced into the reaction tower 100 via 104) is referred to as “lower steam”. The upper steam amount is detected by the flow sensor 21, and the lower steam amount is detected by the flow sensor 31.

図1に示された本実施の形態のシステムは、上段スチーム供給量および下段スチーム供給量等を決定するための制御装置10を備える。制御装置10は、流量調節部20,30の目標値を操作変数とし、流量調節部40,50,60の流量計測値を外乱変数、温度センサ71,72の計測値を制御変数とする。   The system according to the present embodiment shown in FIG. 1 includes a control device 10 for determining an upper steam supply amount, a lower steam supply amount, and the like. The control device 10 uses the target values of the flow rate adjustment units 20 and 30 as operation variables, the flow rate measurement values of the flow rate adjustment units 40, 50, and 60 as disturbance variables, and the measurement values of the temperature sensors 71 and 72 as control variables.

図2に、図1に示されたシステムの構成を模式的に示す。
図2を参照して、制御装置10には、当該制御装置10の動作を全体的に制御するCPU(central processing unit)が備えられている。CPU11は、入出力装置(I/O)12を介して、制御装置10の内外の各種の装置との間でのデータの授受を行なう。CPU11は、上記のようにスチームの供給量を制御するために、流量調節部20,30の目標値を生成する制御信号生成部11Aを含む。
FIG. 2 schematically shows the configuration of the system shown in FIG.
Referring to FIG. 2, the control device 10 includes a CPU (central processing unit) that controls the operation of the control device 10 as a whole. The CPU 11 exchanges data with various devices inside and outside the control device 10 via an input / output device (I / O) 12. The CPU 11 includes a control signal generation unit 11A that generates target values for the flow rate adjustment units 20 and 30 in order to control the supply amount of steam as described above.

制御装置10には、また、CPU11のワークエリアとして機能するRAM15(random access memory)と、CPU11が実行するプログラム等の各種のデータを記憶するハードディスク(HD)13、キーボード等の外部からの情報の入力を受付ける入力部16、制御装置10に対して着脱可能な記録媒体140に対する情報の読み書きを行なうメディアドライブ14、CPU11の処理内容等を表示する表示部18、および、CPU11が各種の処理の実行に利用するデータを格納するデータベース17を含む。   The control device 10 also includes a RAM 15 (random access memory) that functions as a work area for the CPU 11, a hard disk (HD) 13 that stores various data such as programs executed by the CPU 11, and external information such as a keyboard. An input unit 16 that receives input, a media drive 14 that reads and writes information on a recording medium 140 that can be attached to and detached from the control device 10, a display unit 18 that displays processing contents of the CPU 11, and the CPU 11 executes various processes. A database 17 for storing data to be used is included.

CPU11は、HD13に記録されたプログラムを実行することもできるし、記録媒体140に記録されたプログラムを実行することもできる。また、HD13には、記録媒体140に記録されたプログラムをインストールすることもできるし、ネットワークからI/O12を介してダウンロードされたプログラムをインストールすることもできる。   The CPU 11 can execute a program recorded on the HD 13 or can execute a program recorded on the recording medium 140. In addition, a program recorded on the recording medium 140 can be installed in the HD 13, and a program downloaded from the network via the I / O 12 can be installed.

本実施の形態では、制御装置10は、モデル予測制御アルゴリズムを利用して、上段スチーム量および下段スチーム量を制御している。具体的には、上段スチーム量、下段スチーム量、第1原料と第2原料と溶媒の供給量に対応する値を入力とし、反応塔100における温度センサ71の検出温度(上段温度)や温度センサ72の検出温度(中段温度)を出力とする予測モデルを想定し、当該予測モデルで予測される温度が望ましい温度目標値となる上段スチーム量および下段スチーム量を算出し、流量調節部20,30の目標値である制御信号を出力する。図3に、制御装置10において利用される伝達関数のブロック図を示す。   In the present embodiment, the control device 10 controls the upper steam amount and the lower steam amount using a model predictive control algorithm. Specifically, the values corresponding to the upper steam amount, the lower steam amount, and the supply amounts of the first raw material, the second raw material, and the solvent are input, and the detected temperature (upper temperature) of the temperature sensor 71 in the reaction tower 100 or the temperature sensor. Assuming a prediction model that outputs the detected temperature (middle temperature) of 72, the upper steam amount and the lower steam amount at which the temperature predicted by the prediction model is a desirable temperature target value are calculated, and the flow rate adjustment units 20, 30 A control signal that is a target value of is output. FIG. 3 shows a block diagram of a transfer function used in the control device 10.

図3(A)には、上段スチーム量と下段スチーム量と中段温度と上段温度に関する伝達関数のブロック図が示され、図3(B)には、第1原料の供給量と第2原料の供給量と溶媒の供給量と中段温度と上段温度に関する伝達関数のブロック図が示されている。   FIG. 3A shows a block diagram of a transfer function regarding the upper stage steam amount, the lower stage steam amount, the middle stage temperature, and the upper stage temperature, and FIG. 3B shows the supply amount of the first raw material and the second raw material amount. The block diagram of the transfer function regarding the supply amount, the supply amount of the solvent, the middle stage temperature, and the upper stage temperature is shown.

図3(A)では、上段スチーム量を入力とし、中段温度を出力とする伝達関数301と、下段スチーム量を入力とし中段温度を出力とする伝達関数302が示されている。また、図3(A)では、上段スチーム量を入力とし上段温度を出力とする伝達関数303、下段スチーム量を入力とし上段温度を出力とする伝達関数304、および、伝達関数301および伝達関数302の出力とされている中段温度を入力とし上段温度を出力とする伝達関数305が示されている。   FIG. 3A shows a transfer function 301 having the upper stage steam amount as an input and the middle stage temperature as an output, and a transfer function 302 having the lower stage steam amount as an input and the middle stage temperature as an output. In FIG. 3A, the transfer function 303 with the upper steam amount as an input and the upper temperature as an output, the transfer function 304 with the lower steam amount as an input and the upper temperature as an output, and the transfer function 301 and the transfer function 302 are shown. A transfer function 305 is shown in which the middle stage temperature, which is the output of, is input and the upper stage temperature is the output.

図3(B)には、第1原料の供給量を入力とし中段温度を出力とする伝達関数311と、溶媒の供給量を入力とし中段温度を出力とする伝達関数312と、第2原料の供給量を入力とし中段温度を出力とする伝達関数313が示されている。また、図3(B)には、第2原料の供給量を入力とし上段温度を出力とする伝達関数314と、伝達関数311,312,313の出力とされている中段温度を入力とし上段温度を出力とする伝達関数315が示されている。   FIG. 3B shows a transfer function 311 with the supply amount of the first raw material as input and the middle stage temperature as output, a transfer function 312 with the supply amount of solvent as input and the middle stage temperature as output, and the second raw material A transfer function 313 is shown in which the supply amount is input and the middle stage temperature is output. In FIG. 3B, the transfer function 314 that receives the supply amount of the second raw material and outputs the upper stage temperature, and the middle stage temperature that is the output of the transfer functions 311, 312, and 313, and the upper stage temperature are input. A transfer function 315 is output.

本実施の形態では、図1に示されたプロセスに対して、伝達関数301〜305,311〜315が設定され、中段温度および上段温度が望ましく制御される上段スチーム量と下段スチーム量が実現されるように、流量調節部20,30の目標値が決定される。なお、図3(A)および図3(B)に記載の伝達関数において、「s」はラプラス変換子であり、「e」は自然対数の底である。   In the present embodiment, transfer functions 301 to 305 and 311 to 315 are set for the process shown in FIG. 1, and an upper steam amount and a lower steam amount in which the middle stage temperature and the upper stage temperature are desirably controlled are realized. As described above, the target values of the flow rate adjusters 20 and 30 are determined. In the transfer functions described in FIGS. 3A and 3B, “s” is a Laplace transformer, and “e” is the base of the natural logarithm.

図7に、本実施の形態で採用される制御アルゴリズムの対比として、従来の手法による制御アルゴリズムにおいて採用されていた伝達関数のブロック図を示す。   FIG. 7 shows a block diagram of a transfer function employed in a control algorithm according to a conventional method as a comparison of the control algorithm employed in the present embodiment.

図7に示すような従来の手法に従えば、図1に示されたプロセスに対して、伝達関数901〜910が設定され、中段温度および上段温度が望ましく制御される上段スチーム量と下段スチーム量が実現されるように、流量調節部20,30の目標値が決定される。   If the conventional method as shown in FIG. 7 is followed, transfer functions 901 to 910 are set for the process shown in FIG. 1, and the upper steam amount and the lower steam amount in which the middle temperature and the upper temperature are desirably controlled. So that the target values of the flow rate adjusting units 20 and 30 are determined.

なお、伝達関数901は、入力を上段スチーム量として出力を上段温度とする。伝達関数902は、入力を上段スチーム量として出力を中段温度とする。伝達関数903は、入力を下段スチーム量として出力を上段温度とする。伝達関数904は、入力を下段スチーム量として出力を中段温度とする。伝達関数905は、第1原料を入力として上段温度を出力とする。伝達関数906は、第1原料を入力として中段温度を出力とする。伝達関数907は、溶媒を入力として上段温度を出力とする。伝達関数908は、溶媒を入力として中段温度を出力とする。伝達関数909は、第2原料を入力として上段温度を出力とする。そして、伝達関数910は、第2原料を入力として中段温度を出力とする。つまり、従来の手法に従えば、制御アルゴリズムのモデルとして、すべての操作変数(上段スチーム量および下段スチーム量)と外乱変数(第1原料の供給量と第2原料の供給量と溶媒の供給量)と、すべての制御変数(上段温度と中段温度)を出力とする伝達関数(伝達関数901〜910)が利用される。そして、従来の手法に従えば、上段温度と中段温度について、互いに独立して、予測モデルが想定されていた。   The transfer function 901 has an input as the upper steam amount and an output as the upper temperature. The transfer function 902 has an input as the upper steam amount and an output as the intermediate temperature. The transfer function 903 has an input as a lower steam amount and an output as an upper temperature. The transfer function 904 uses an input as a lower steam amount and an output as an intermediate temperature. The transfer function 905 uses the first raw material as an input and outputs the upper stage temperature as an output. The transfer function 906 uses the first raw material as an input and outputs the middle stage temperature as an output. The transfer function 907 receives the solvent as an input and outputs the upper temperature as an output. The transfer function 908 takes the solvent as an input and the middle stage temperature as an output. The transfer function 909 uses the second raw material as an input and outputs the upper stage temperature as an output. The transfer function 910 uses the second raw material as an input and outputs the middle stage temperature as an output. That is, according to the conventional method, as a model of the control algorithm, all operation variables (upper steam amount and lower steam amount) and disturbance variables (first raw material supply amount, second raw material supply amount, and solvent supply amount). ) And a transfer function (transfer functions 901 to 910) that outputs all control variables (upper temperature and intermediate temperature). According to the conventional method, a prediction model is assumed for the upper stage temperature and the middle stage temperature independently of each other.

一方、図3に示したような本実施の形態において採用される制御アルゴリズムでは、設定されている伝達関数は、反応塔100における温度の従属関係を反映した組合せとされている。   On the other hand, in the control algorithm employed in the present embodiment as shown in FIG. 3, the set transfer function is a combination reflecting the temperature dependency in the reaction tower 100.

具体的には、反応塔100内では、物質の移動などによる熱の伝搬が生じ、その方向は、温度センサ72が配置されている中段から温度センサ71が配置されている上段に向けての方向であると考えられる。   Specifically, in the reaction tower 100, heat propagation occurs due to the movement of substances, and the direction is from the middle stage where the temperature sensor 72 is arranged to the upper stage where the temperature sensor 71 is arranged. It is thought that.

そして、本実施の形態において設定される伝達関数の中で上段温度が出力とされるものに、その入力を中段温度とされるものが含まれる(伝達関数305,315)。   Of the transfer functions set in the present embodiment, those having the upper stage temperature as an output include those whose input is the middle stage temperature (transfer functions 305 and 315).

これにより、反応塔100内で生じた変化(化合物の反応状態の変化等)が中段温度の変化として検知された段階で、その変化の影響を上段温度の予測値として反映することができる。また、本実施の形態では、上段温度に関するモデルとして、上段スチーム量を入力とする伝達関数303、下段スチーム量を入力とする伝達関数304、第2原料を入力とする伝達関数314が採用されている。なお、本実施の形態の反応塔100内で反応させる化合物(第1原料と第2原料)の中で、第1原料については、反応塔100内での温度環境下において液体であることを想定され、また、第2原料については、当該温度環境下では反応により気体が発生することが想定されるものとする。また、供給口101,102を介して導入されるスチーム(上段スチーム)のみならず、供給口103,104を介して導入されるスチームについても、直接、温度センサ71において検出される温度に影響を与えることも考えられる。   As a result, at the stage where a change (such as a change in the reaction state of the compound) occurring in the reaction tower 100 is detected as a change in the middle temperature, the influence of the change can be reflected as a predicted value of the upper temperature. In the present embodiment, a transfer function 303 with the upper steam amount as an input, a transfer function 304 with the lower steam amount as an input, and a transfer function 314 with the second raw material as an input are adopted as models for the upper temperature. Yes. Of the compounds (first raw material and second raw material) to be reacted in the reaction tower 100 of the present embodiment, the first raw material is assumed to be liquid in the temperature environment in the reaction tower 100. In addition, for the second raw material, it is assumed that a gas is generated by the reaction under the temperature environment. Further, not only the steam (upper stage steam) introduced through the supply ports 101 and 102 but also the steam introduced through the supply ports 103 and 104 directly affects the temperature detected by the temperature sensor 71. It is also possible to give.

このことから、本実施の形態では、上段温度を出力とする伝達関数として、中段温度を入力とするもの(伝達関数305,315)だけでなく、反応塔100内に導入されてから温度センサ72に到達するまでの時間と温度センサ71に到達するまでの時間の差が比較的短く中段温度の変化に寄与するタイミングと上段温度の変化に寄与するタイミングの差が実質的にないと考えられるものについては、それらを入力とし上段温度を出力とした伝達関数(伝達関数303,304,314)が採用されている。これにより、図1に示されたプロセスの実情に沿った最小限の伝達関数を含む制御アルゴリズムの構築が実現されたことになる。   Therefore, in the present embodiment, the transfer function having the upper stage temperature as an output is not only the one having the middle stage temperature as an input (transfer functions 305 and 315), but also the temperature sensor 72 after being introduced into the reaction tower 100. The difference between the time until reaching the temperature sensor 71 and the time until reaching the temperature sensor 71 is relatively short, and it is considered that there is substantially no difference between the timing contributing to the change in the middle temperature and the timing contributing to the change in the upper temperature. For these, a transfer function (transfer functions 303, 304, and 314) having those as inputs and the upper temperature as an output is employed. Thus, the construction of a control algorithm including a minimum transfer function in accordance with the actual situation of the process shown in FIG. 1 is realized.

以上説明した本実施の形態では、図3に示したような制御アルゴリズムを用いて、上段スチーム量および下段スチーム量についての予測制御を行なっている。   In the present embodiment described above, predictive control is performed on the upper steam amount and the lower steam amount using the control algorithm as shown in FIG.

ここで、図3に示された制御アルゴリズムに基づいた制御の結果を、参考として示した図7の制御アルゴリズムに基づく制御の結果とともに示す。   Here, the result of the control based on the control algorithm shown in FIG. 3 is shown together with the result of the control based on the control algorithm of FIG. 7 shown as a reference.

図4は、上段温度に対する目標値を1℃上げるように設定が変更された際の挙動を示す図である。なお、図4(A)は、上段温度および中段温度の、開始から240分後までの上段温度および中段温度の測定結果を示す。また、図4(B)は、開始から240分後までの上段スチーム量と下段スチーム量の変化を示している。   FIG. 4 is a diagram illustrating the behavior when the setting is changed to increase the target value for the upper stage temperature by 1 ° C. FIG. FIG. 4A shows the measurement results of the upper stage temperature and the middle stage temperature from the start to 240 minutes after the start. FIG. 4B shows changes in the upper steam amount and the lower steam amount after 240 minutes from the start.

まず、図4(A)を参照して、上側に一群のグラフが記載され、下側にも一群のグラフが記載されている。そして、上側の一点鎖線は、上段温度に対する目標値を示している。つまり、図4(A)では、開始後60分の時点で、目標温度が、1℃上昇するように変更されたことが示されている。   First, referring to FIG. 4A, a group of graphs is described on the upper side, and a group of graphs is also described on the lower side. The upper one-dot chain line indicates the target value for the upper stage temperature. That is, FIG. 4 (A) shows that the target temperature has been changed to increase by 1 ° C. 60 minutes after the start.

また、図4(A)では、上側に1組の実線と破線のグラフが示され、下側に1組の実線と破線のグラフが示されている。上側の1組のグラフの中で、実線は図3に基づいた制御が実行された際の上段温度の変化を示し、破線は、図7に従った制御が実行された際の上段温度の変化を示している。また、下側の1組のグラフの中で、実線は、図3に従った制御が実行された際の中段温度の変化を示し、破線は、図7に従った制御が実行された際の中段温度の変化を示している。また、下側の一点鎖線は、中段温度に対する目標値を示している。   In FIG. 4A, a pair of solid lines and a broken line graph are shown on the upper side, and a pair of solid lines and a broken line graph are shown on the lower side. In the upper pair of graphs, a solid line indicates a change in the upper temperature when the control based on FIG. 3 is executed, and a broken line indicates a change in the upper temperature when the control according to FIG. 7 is executed. Is shown. In the lower set of graphs, the solid line indicates the change in the middle stage temperature when the control according to FIG. 3 is executed, and the broken line indicates the time when the control according to FIG. 7 is executed. The change in the middle temperature is shown. The lower one-dot chain line indicates the target value for the middle temperature.

図4(B)では、上側に一群のグラフが示され、下側に一群のグラフが示されている。上側の一群のグラフの中で、実線は、図3に従った制御が実行された際の上段スチーム量(流量センサ21の検出出力)の変化を示し、破線は、図7に従った制御が実行された際の上段スチーム量の変化を示している。   In FIG. 4B, a group of graphs is shown on the upper side, and a group of graphs is shown on the lower side. In the upper group of graphs, the solid line indicates the change in the upper steam amount (the detection output of the flow sensor 21) when the control according to FIG. 3 is executed, and the broken line indicates the control according to FIG. It shows the change in the upper steam amount when executed.

また、下側の一群のグラフにおいて、実線は、図3の制御が実行された際の下段スチーム量(流量センサ31の検出出力)の変化を示し、破線は、図7の制御が実行された際の下段スチーム量の変化を示している。   In the lower group of graphs, a solid line indicates a change in the lower steam amount (detected output of the flow sensor 31) when the control of FIG. 3 is executed, and a broken line indicates the control of FIG. This shows the change in the amount of steam at the bottom.

開始後60分で上段温度に対する目標値が、図4(A)の上側に一点鎖線で示されるように1℃上昇するように変更されると、これに応じて、図4(B)に示されるように、図3と図7のいずれの制御が実行された場合も、上段スチーム量は上昇している。また、下段スチーム量については、いずれも開始後60分から減少を始め、開始後80分辺りで一定の値に収束している。   When the target value for the upper stage temperature is changed so as to increase by 1 ° C. as indicated by a one-dot chain line on the upper side of FIG. 4 (A) 60 minutes after the start, it is shown in FIG. 4 (B) accordingly. As can be seen, the upper steam amount increases when either of the controls in FIGS. 3 and 7 is executed. In addition, the lower steam amount starts decreasing from 60 minutes after the start, and converges to a constant value around 80 minutes after the start.

図4(A)を参照して、上記したような上段スチーム量および下段スチーム量の変化に応じて、上段温度に関しては、図3と図7のいずれの制御が実行された場合でも、開始後65分辺りから、上段温度は上昇を開始している。そして、いずれの制御が実行された場合も、開始後140分の辺りで、目標値に到達し、その後当該目標値にほぼ一致したものとされている。   Referring to FIG. 4A, in response to the change in the upper steam amount and the lower steam amount as described above, with regard to the upper temperature, even if any of the controls in FIG. 3 and FIG. From around 65 minutes, the upper temperature starts to rise. When any control is executed, the target value is reached around 140 minutes after the start and then substantially coincides with the target value.

中段温度については、開始後65分辺りでわずかに上昇を開始したが、その後、低下して、中段温度に対する目標値(下側の一点鎖線)と一致するように変化している。   The middle temperature started to increase slightly around 65 minutes after the start, but then decreased to change to match the target value (lower one-dot chain line) for the middle temperature.

以上、図4(A)および図4(B)を参照して説明したように、上段温度に対する目標値が変更された場合でも、図3に示した本実施の形態で採用される制御アルゴリズムに基づく制御は、図7に示した従来の手法に従った制御アルゴリズムを利用された系とほぼ同等の温度制御が実現されている。   As described above with reference to FIGS. 4A and 4B, even when the target value for the upper stage temperature is changed, the control algorithm employed in the present embodiment shown in FIG. Based on the control, temperature control substantially equivalent to that of a system using a control algorithm according to the conventional method shown in FIG. 7 is realized.

図5は、図1に示されたシステムにおける測定可能外乱である第1原料、第2原料、および溶媒の供給量が変更された際の挙動を示す図である。具体的には、図5(A)は、上段温度(上側のグラフ)と中段温度(下側のグラフ)の変化を示し、図5(B)は、各系における上段スチーム量(上側のグラフ)と下段スチーム量(下側のグラフ)の変化を示し、そして、図5(C)は、第1原料、第2原料、溶媒のそれぞれの反応塔100への供給量の変化(流量センサ41,51,61の各検出出力)の変化を示している。また、図5(A)および図5(B)では、それぞれ、実線は図3の制御アルゴリズムが採用された系のグラフであり、破線は図7の制御アルゴリズムが採用された系のグラフである。   FIG. 5 is a diagram showing the behavior when the supply amounts of the first raw material, the second raw material, and the solvent, which are measurable disturbances in the system shown in FIG. 1, are changed. Specifically, FIG. 5A shows changes in the upper temperature (upper graph) and the middle temperature (lower graph), and FIG. 5B shows the upper steam amount (upper graph) in each system. ) And the lower steam amount (lower graph), and FIG. 5C shows changes in the supply amounts of the first raw material, the second raw material, and the solvent to the reaction tower 100 (flow rate sensor 41). , 51, 61). 5A and 5B, the solid line is a graph of a system in which the control algorithm of FIG. 3 is adopted, and the broken line is a graph of a system in which the control algorithm of FIG. 7 is adopted. .

まず、図5(C)を参照して、開始後60分の時点で、第1原料と第2原料と溶媒のそれぞれの(単位時間当たりの)供給量が増加したことが示されている。なお、本実施の形態において、第1原料と第2原料が反応して生成物が生成する反応は、吸熱反応であるとする。   First, referring to FIG. 5C, it is shown that the supply amounts (per unit time) of the first raw material, the second raw material, and the solvent have increased at 60 minutes after the start. In the present embodiment, it is assumed that the reaction in which the first raw material and the second raw material react to produce a product is an endothermic reaction.

上記した第1原料と第2原料と溶媒の供給量の増加に応じて、図5(B)に示されるように、図3と図7のいずれの制御アルゴリズムに従った系においても、上段スチーム量および下段スチーム量が増加するように変化している。   As shown in FIG. 5 (B), as shown in FIG. 5 (B), the upper steam in the system according to any of the control algorithms of FIG. 3 and FIG. 7 according to the increase in the supply amount of the first raw material, the second raw material and the solvent. The amount and the amount of lower steam are changing.

また、図5(A)に示されるように、上記した第1原料と第2原料と溶媒の供給量の増加により、中段温度については影響が生じていないものの、上段温度については、開始後60分の時点から、いずれの系においても上段温度の下降が始まっている。なお、その後上段温度は、図5(B)に示されたような上段スチーム量の増加に応じて、上昇し、一点鎖線で示された目標値に復帰している。   Further, as shown in FIG. 5A, although the middle stage temperature is not affected by the increase in the supply amount of the first raw material, the second raw material, and the solvent, the upper stage temperature is 60 From the time point of the minute, the lower temperature starts to decrease in any system. Note that the upper stage temperature then rises as the upper stage steam amount increases as shown in FIG. 5B, and returns to the target value indicated by the alternate long and short dash line.

以上図5(A)〜図5(C)を参照して説明したように、反応塔100への第1原料と第2原料と溶媒の供給量が増加し、反応塔100内の吸熱反応が加速されるような場合であっても、図3に示した制御アルゴリズムに従った本実施の形態の制御は、図7に示した従来の制御アルゴリズムに従った制御と同程度に、上段温度および中段温度を制御することができる。   As described above with reference to FIGS. 5A to 5C, the supply amounts of the first raw material, the second raw material, and the solvent to the reaction tower 100 are increased, and the endothermic reaction in the reaction tower 100 is increased. Even in the case of acceleration, the control according to the present embodiment in accordance with the control algorithm shown in FIG. 3 is equivalent to the control according to the conventional control algorithm shown in FIG. The middle stage temperature can be controlled.

図6は、反応塔100において中段温度に影響を及ぼす不測な外乱が生じた際の図1に示したシステムにおける挙動を示している。具体的には、図6(A)は、上段温度(上側のグラフ)と中段温度(下側のグラフ)の変化を示し、図6(B)は、上段スチーム量と下段スチーム量の変化を示している。また、図6(A)および図6(B)では、それぞれ、実線は図3の制御アルゴリズムが採用された系のグラフであり、破線は図7の制御アルゴリズムが採用された系のグラフであり、一点鎖線は上段温度・中段温度それぞれについての目標温度である。   FIG. 6 shows the behavior in the system shown in FIG. 1 when an unexpected disturbance occurs in the reaction tower 100 that affects the intermediate temperature. Specifically, FIG. 6A shows changes in the upper stage temperature (upper graph) and the middle stage temperature (lower graph), and FIG. 6B shows changes in the upper and lower steam amounts. Show. 6A and 6B, the solid line is a graph of the system in which the control algorithm of FIG. 3 is adopted, and the broken line is a graph of the system in which the control algorithm of FIG. 7 is adopted. The alternate long and short dash line indicates the target temperature for each of the upper stage temperature and the middle stage temperature.

図6(A)において、二点鎖線によって、外乱の大きさが示されている。具体的には、図3および図7に示された制御アルゴリズムによる制御のいずれも適用されず放置された場合に、中段温度が、開始60分までの温度に対して、開始後80分で中段温度を1℃上昇させるような外乱が投入されたことが示されている。   In FIG. 6A, the magnitude of the disturbance is indicated by a two-dot chain line. Specifically, when none of the control by the control algorithm shown in FIG. 3 and FIG. 7 is applied and left as it is, the middle stage temperature is 80 minutes after the start with respect to the temperature up to the start 60 minutes. It is shown that a disturbance that raises the temperature by 1 ° C. was applied.

図6(B)を参照して、図7に示されたモデルでは、上記したような外乱の投入により、開始後60分の時点で、下段スチーム量は低下する一方で、上段スチーム量はやや遅れて上昇している。   With reference to FIG. 6B, in the model shown in FIG. 7, the lower steam amount decreases slightly at the point of 60 minutes after the start due to the introduction of the disturbance as described above, while the upper steam amount is slightly higher. It is rising late.

一方、図3に示した本実施の形態のモデルでは、上段スチーム量と下段スチーム量のいずれもが、開始60分後から低下され、下段スチーム量については、低下が終了した後その辺りの値で収束し、上段スチーム量については、再度上昇した後収束している。   On the other hand, in the model of the present embodiment shown in FIG. 3, both the upper steam amount and the lower steam amount are decreased after 60 minutes from the start, and the lower steam amount is a value around the end after the decrease is completed. The upper steam amount has converged after rising again.

図6(A)を参照して、中段温度については、図3のモデルに従った場合も図7のモデルが採用された場合も、開始後60分から外乱によって一時的に上昇した後、低下して、一点鎖線で示された目標値へと収束している。   Referring to FIG. 6 (A), the middle stage temperature is temporarily increased due to a disturbance from 60 minutes after the start in both the case of following the model of FIG. 3 and the case of the model of FIG. And converges to the target value indicated by the alternate long and short dash line.

一方、上段温度については、図3に示されたモデルが採用された場合には、0.25℃の温度上昇で温度上昇が抑えられている一方で、図7に示されたモデルが採用された場合には、0.5℃の温度上昇が生じている。   On the other hand, for the upper stage temperature, when the model shown in FIG. 3 is adopted, the temperature rise is suppressed by a temperature rise of 0.25 ° C., while the model shown in FIG. 7 is adopted. In this case, a temperature increase of 0.5 ° C. occurs.

図7に示されたモデルでは、中段温度から上段温度の熱伝達がモデルへ反映されていないため、中段温度の上昇が上段温度の変化の予測に反映されない。このため、流量調節部20と流量調節部30に出力される制御信号は、中段温度のみを下げるものとされる。このことは、図6(B)の下段スチーム量についての破線が、開始後60分から80分にかけて大きく低下していることに対応している。   In the model shown in FIG. 7, since the heat transfer from the middle temperature to the upper temperature is not reflected in the model, the increase in the middle temperature is not reflected in the prediction of the change in the upper temperature. For this reason, the control signal output to the flow rate adjusting unit 20 and the flow rate adjusting unit 30 is intended to lower only the middle stage temperature. This corresponds to the fact that the broken line for the lower steam amount in FIG. 6B greatly decreases from 60 minutes to 80 minutes after the start.

一方、本実施の形態に従った図3のモデルでは、中段温度から上段温度の熱伝達がモデルに反映されている。これにより、上段スチーム量は、外乱投入直後は一時的に低下されたものの、その後上昇するように制御される。このことは、図6(B)の上段スチーム量の実線が、開始後60分から75分の間に低下された後、75分から90分の間では上昇していることに対応している。   On the other hand, in the model of FIG. 3 according to the present embodiment, heat transfer from the middle temperature to the upper temperature is reflected in the model. As a result, the upper steam amount is controlled so as to increase thereafter, although it is temporarily decreased immediately after the disturbance is input. This corresponds to the fact that the solid line of the upper steam amount in FIG. 6 (B) decreases from 60 minutes to 75 minutes after the start and then increases from 75 minutes to 90 minutes.

つまり、図3に示された本実施の形態のモデルでは、中段温度から上段温度への熱伝達がモデルに反映されているため、中段温度の上昇に伴い上段温度の上昇が予測され、一時的に上段スチーム量が下げられ、下段スチーム量を低下させたことによる上段温度の低下が予測されて、上記のような開始後75分から90分での上段スチーム量の上昇(復帰)がなされている。   That is, in the model of the present embodiment shown in FIG. 3, the heat transfer from the middle stage temperature to the upper stage temperature is reflected in the model, so that the rise in the upper stage temperature is predicted as the middle stage temperature rises, and is temporarily The upper steam amount is lowered and the upper steam temperature is predicted to decrease due to the lower steam amount being lowered, and the upper steam amount is increased (returned) from 75 minutes to 90 minutes after the start as described above. .

以上、図4〜図6を参照して説明したように、本実施の形態で採用される予測モデルは、目標値の変更や測定可能外乱(原料と溶媒)の供給量の変更については、図7に示したような従来のモデルと同等の制御を実現でき、その上、図6を参照して説明したように、反応塔100内での反応状態の変化など、不測の変化が生じた場合、その変化を中段温度の変化として捉え、当該変化を上段温度の予測に反映させることができる。これにより、特に図6(A)を参照して説明したように、上段温度の制御性を良好なものとすることができる。   As described above with reference to FIG. 4 to FIG. 6, the prediction model employed in the present embodiment is a diagram for changing the target value and changing the supply amount of measurable disturbance (raw material and solvent). 7 can be realized, and in addition, as described with reference to FIG. 6, when an unexpected change such as a change in the reaction state in the reaction tower 100 occurs. The change can be regarded as a change in the middle temperature, and the change can be reflected in the prediction of the upper temperature. Thereby, as explained with reference to FIG. 6A in particular, the controllability of the upper stage temperature can be made favorable.

以上説明した本実施の形態では、反応容器(反応塔100)内の第1の部位(温度センサ71)および第2の部位(温度センサ72)の温度調節を行なうために、制御装置10は、制御信号を流量調節部20,30に送信する。制御信号は、CPU11の制御信号制御部11Aによって、生成される。制御信号生成部11Aは、図3に示された予測モデルを利用した制御アルゴリズムに基づいて、制御信号を生成する。CPU11は、生成された制御信号を、I/O12を介して流量調節部20,30に送信する。   In the present embodiment described above, in order to adjust the temperature of the first part (temperature sensor 71) and the second part (temperature sensor 72) in the reaction vessel (reaction tower 100), the control device 10 includes: The control signal is transmitted to the flow rate adjusting units 20 and 30. The control signal is generated by the control signal control unit 11A of the CPU 11. The control signal generation unit 11A generates a control signal based on a control algorithm using the prediction model shown in FIG. The CPU 11 transmits the generated control signal to the flow rate adjustment units 20 and 30 via the I / O 12.

なお、本実施の形態では、反応塔として、複数の温度計測点が上下方向に配置され、そして、反応塔内における流体の移動方向が上から下とされているプロセスが示されたが、本発明の制御方法が実現されるプロセスは、このような反応塔において反応が行なわれる場合に限定されない。たとえば、左方から右方に流体が移動するように構成された反応容器において、当該反応容器の内部の温度を検出する温度センサ71,72が配置され、そして、温度センサ72が温度センサ71よりも右側の位置の温度を検出するように配置されるような場合でも、本発明は同様に適用することができる。   In the present embodiment, a reaction tower is shown in which a plurality of temperature measurement points are arranged in the vertical direction, and the fluid moving direction in the reaction tower is from top to bottom. The process for realizing the control method of the invention is not limited to the case where the reaction is performed in such a reaction column. For example, in a reaction vessel configured to move a fluid from left to right, temperature sensors 71 and 72 for detecting the temperature inside the reaction vessel are arranged. The present invention can also be applied to the case where the temperature at the right position is also detected.

以上説明した本実施の形態では、反応塔の第1の部位および第2の部位の温度と操作量(流量調節部20,30の目標値)とを含むプロセスモデルを使って、将来の第1の部位の温度および第2の部位の温度が予測され、最適な操作量の制御信号が生成される。   In the present embodiment described above, a future first model is used by using a process model including the temperatures of the first part and the second part of the reaction tower and the manipulated variables (target values of the flow rate control units 20 and 30). The temperature of the part and the temperature of the second part are predicted, and the control signal with the optimum operation amount is generated.

なお、上記プロセスモデルは、図3に示されたように、上記操作量から、直接制御量である第2の部位の温度と第1の部位の温度を予測する予測モデル(伝達関数301,302,303,304)と、操作量から第2の部位を経て第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデル(伝達関数305)とを含む。   As shown in FIG. 3, the process model is a prediction model (transfer functions 301 and 302) that predicts the temperature of the second part and the temperature of the first part, which are directly controlled quantities, from the manipulated variable. , 303, 304) and a prediction model (transfer function 305) for predicting heat transfer from the manipulated variable through the second part to the first part.

また、本実施の形態では、第1の部位の温度と第2の温度の予測に利用されるフィードフォワードモデルとして、反応容器への反応原料と溶媒の供給量変更に対応し、第1の部位の温度と第2の部位の温度を予測する測定可能外乱モデルが含まれる。当該測定可能外乱モデルには、反応原料と溶媒の供給量から、直接、制御量である第1の部位の温度と第2の部位の温度を予測する予測モデル(伝達関数311,312,313,314)と、反応原料と溶媒が第2の部位を経て第1の部位に至る熱伝達を表した予測モデル(伝達関数315)とを含む。   Further, in the present embodiment, as a feedforward model used for prediction of the temperature of the first part and the second temperature, the first part corresponds to a change in the supply amount of the reaction raw material and the solvent to the reaction vessel. And a measurable disturbance model that predicts the temperature of the second part and the temperature of the second part. The measurable disturbance model includes a predictive model (transfer functions 311, 312, 313, which predicts the temperature of the first part and the second part, which are control quantities, directly from the supply amounts of the reaction raw material and the solvent. 314) and a prediction model (transfer function 315) representing heat transfer from the reaction raw material and the solvent through the second part to the first part.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明の温度制御方法の一実施の形態が適用されるシステムの全体構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the whole structure of the system by which one Embodiment of the temperature control method of this invention is applied. 図1に示されたシステムの構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the system shown by FIG. (A)は、上段スチーム量と下段スチーム量と中段温度と上段温度に関する本実施の形態に従った伝達関数のブロック図であり、(B)は、第1原料、第2原料、溶媒の供給量と中段温度と上段温度に関する本実施の形態に従った伝達関数のブロック図である。(A) is a block diagram of a transfer function according to the present embodiment regarding the upper stage steam amount, the lower stage steam amount, the middle stage temperature, and the upper stage temperature, and (B) is the supply of the first raw material, the second raw material, and the solvent. It is a block diagram of the transfer function according to this embodiment regarding quantity, middle temperature, and upper temperature. 図3の制御アルゴリズムに従った制御と図7の制御アルゴリズムに従った制御におけるシステムの挙動を示す図である。It is a figure which shows the behavior of the system in the control according to the control algorithm of FIG. 3, and the control according to the control algorithm of FIG. 図3の制御アルゴリズムに従った制御と図7の制御アルゴリズムに従った制御におけるシステムの挙動を示す図である。It is a figure which shows the behavior of the system in the control according to the control algorithm of FIG. 3, and the control according to the control algorithm of FIG. 図3の制御アルゴリズムに従った制御と図7の制御アルゴリズムに従った制御におけるシステムの挙動を示す図である。It is a figure which shows the behavior of the system in the control according to the control algorithm of FIG. 3, and the control according to the control algorithm of FIG. 従来の手法に従った制御アルゴリズムにおいて採用される伝達関数のブロック図である。It is a block diagram of the transfer function employ | adopted in the control algorithm according to the conventional method.

符号の説明Explanation of symbols

10 制御装置、11 CPU、11A 制御信号生成部、12 I/O、13 HD、14 メディアドライブ、15 RAM、16 入力部、17 データベース、18 表示部、20,3040,50,60 流量調節部、21,31,41,51,61 流量センサ、22,32,42,52,62 調節弁、71,72 温度センサ、75 ポンプ、100 反応塔、101〜105 供給口、106 排出口、140 記録媒体、301〜305,311〜315,901〜910 伝達関数。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Control apparatus, 11 CPU, 11A Control signal generation part, 12 I / O, 13 HD, 14 Media drive, 15 RAM, 16 input part, 17 Database, 18 Display part, 20, 3040, 50, 60 Flow volume adjustment part, 21, 31, 41, 51, 61 Flow rate sensor, 22, 32, 42, 52, 62 Control valve, 71, 72 Temperature sensor, 75 Pump, 100 Reaction tower, 101-105 Supply port, 106 Discharge port, 140 Recording medium , 301-305, 311-315, 901-910 transfer functions.

Claims (5)

反応容器内の第1の部位および前記第1の部位とは異なる第2の部位の温度制御について操作量を制御する温度制御方法であって、
前記反応容器内では、流体は前記第2の部位から前記第1の部位に向く方向に流れ、
コンピュータが、
前記反応容器内の第1の部位の温度を記憶装置に記憶するステップと、
前記反応容器内の第2の部位の温度を前記記憶装置に記憶するステップと、
前記記憶装置に記憶された前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度と、前記操作量を含むプロセスモデルを使って、将来の前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度を予測し、望ましく温度制御される最適な前記操作量の制御信号を生成するステップと、
生成した前記操作量の制御信号を出力するステップとを実行し、
前記プロセスモデルは、
前記操作量から、直接、制御量である前記第2の部位の温度と前記第1の部位の温度を予測する予測モデルと
記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含む、温度制御方法。
A temperature control method for controlling an operation amount for temperature control of a first part in a reaction vessel and a second part different from the first part,
In the reaction vessel, the fluid flows in a direction from the second part toward the first part,
Computer
Storing the temperature of the first part in the reaction vessel in a storage device;
Storing the temperature of the second part in the reaction vessel in the storage device;
Using the process model including the temperature of the first part and the temperature of the second part stored in the storage device and the manipulated variable, the temperature of the first part and the second part in the future Generating a control signal of the optimum manipulated variable that is desirably temperature controlled;
Outputting the generated control signal of the manipulated variable,
The process model is
A prediction model for predicting the temperature of the second part and the temperature of the first part, which are control quantities, directly from the manipulated variable ;
Before SL via the second portion and a prediction model for predicting the heat transfer leading to the first portion, the temperature control method.
前記操作量の制御信号を生成するステップで使用されるモデルは、前記プロセスモデルに加えて、前記反応容器への反応原料と溶媒の供給量変更に対応し、前記第1の部位の温度と前記第2の部位の温度を予測する、測定可能外乱モデルを含み、
前記測定可能外乱モデルは、
前記反応原料と前記溶媒の供給量から、直接、制御量である前記第1の部位の温度と前記第2の部位の温度を予測する予測モデルと、
前記反応原料と前記溶媒が前記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を表した予測モデルとを含む、請求項1に記載の温度制御方法。
In addition to the process model, the model used in the step of generating the operation amount control signal corresponds to a change in the supply amount of the reaction raw material and the solvent to the reaction vessel, and the temperature of the first part and the Including a measurable disturbance model that predicts the temperature of the second site;
The measurable disturbance model is
A prediction model for predicting the temperature of the first part and the temperature of the second part, which are control amounts, directly from the supply amounts of the reaction raw material and the solvent;
The temperature control method according to claim 1, further comprising: a prediction model representing heat transfer of the reaction raw material and the solvent through the second portion to the first portion.
前記プロセスモデルと前記測定可能外乱モデルによるモデルは、
前記操作量および前記反応原料と前記溶媒の供給量に関する値を入力とし、前記第2の部位の温度を出力とする第1の伝達関数と、
前記第1の伝達関数の出力である前記第2の部位の温度と、前記操作量と、前記反応原料と前記溶媒の供給量に関する値とを入力とし、前記第1の部位の温度を出力とする第2の伝達関数とを含む伝達関数によって構成される、請求項2に記載の温度制御方法。
The model by the process model and the measurable disturbance model is
A first transfer function having the manipulated variable and a value related to the supply amount of the reaction raw material and the solvent as inputs and a temperature of the second part as an output;
The temperature of the second part, which is the output of the first transfer function, the manipulated variable, and the value relating to the supply amount of the reaction raw material and the solvent are input, and the temperature of the first part is output. The temperature control method of Claim 2 comprised by the transfer function containing the 2nd transfer function to do.
反応容器内の第1の部位および前記第1の部位とは異なる第2の部位の温度制御についての操作量を制御する温度制御装置であって、
前記反応容器内では、流体は前記第2の部位から前記第1の部位に向く方向に流れ、
前記反応容器内の第1の部位の温度の入力を受け付ける第1の入力部と、
前記反応容器内の第2の部位の温度の入力を受け付ける第2の入力部と、
前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度と、前記操作量を含むプロセスモデルを使って、将来の前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度を予測し、望ましく温度制御される最適な前記操作量の制御信号を生成する信号生成部と、
前記信号生成部が生成した制御信号を出力する信号出力部とを備え、
前記プロセスモデルは、
前記操作量から、直接、制御量である前記第2の部位の温度と前記第1の部位の温度を予測する予測モデルと
記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含む、温度制御装置。
A temperature control device for controlling an operation amount for temperature control of a first part in a reaction vessel and a second part different from the first part,
In the reaction vessel, the fluid flows in a direction from the second part toward the first part,
A first input unit for receiving an input of the temperature of the first part in the reaction vessel;
A second input unit for receiving an input of the temperature of the second part in the reaction vessel;
A process model including the temperature of the first part and the temperature of the second part and the manipulated variable is used to predict the temperature of the first part and the temperature of the second part in the future. A signal generation unit for generating a control signal of the optimum operation amount to be temperature controlled;
A signal output unit that outputs the control signal generated by the signal generation unit,
The process model is
A prediction model for predicting the temperature of the second part and the temperature of the first part, which are control quantities, directly from the manipulated variable ;
Before SL via the second portion and a prediction model for predicting the heat transfer leading to the first portion, the temperature control device.
反応容器内の第1の部位および前記第1の部位とは異なる第2の部位の温度制御についての操作量を制御するための信号をコンピュータに出力させるための温度制御用プログラムであって、
前記反応容器内では、流体は前記第2の部位から前記第1の部位に向く方向に流れ、
コンピュータに、
前記反応容器内の第1の部位の温度を記憶装置に記憶するステップと、
前記反応容器内の第2の部位の温度を記憶装置に記憶するステップと、
前記記憶装置に記憶された前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度と、前記操作量から予め設定されたプロセスモデルを使って、将来の前記第1の部位の温度および前記第2の部位の温度を予測し、望ましく温度制御される最適な前記操作量の制御信号を生成するステップと、
生成した前記操作量の制御信号を出力するステップとを実行させ、
前記プロセスモデルは、
前記操作量から、直接、制御量である前記第2の部位の温度と、前記第1の部位の温度を予測する予測モデルと
記第2の部位を経て前記第1の部位に至る熱伝達を予測する予測モデルとを含む、温度制御用プログラム。
A temperature control program for causing a computer to output a signal for controlling an operation amount for temperature control of a first part in a reaction vessel and a second part different from the first part,
In the reaction vessel, the fluid flows in a direction from the second part toward the first part,
On the computer,
Storing the temperature of the first part in the reaction vessel in a storage device;
Storing the temperature of the second part in the reaction vessel in a storage device;
Using the process model preset from the temperature of the first part and the temperature of the second part stored in the storage device and the manipulated variable, the temperature of the first part and the first part Predicting the temperature of the two parts and generating a control signal of the optimum manipulated variable that is desirably temperature controlled;
Outputting the generated control signal of the manipulated variable,
The process model is
A prediction model for predicting the temperature of the second part, which is a control amount, directly from the manipulated variable, and the temperature of the first part ;
And a prediction model for predicting the heat transfer leading to the first portion through the front Stories second portion, the temperature control program.
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