JP5192589B2 - Bowling ball surface treatment equipment - Google Patents

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    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B11/00—Machines or devices designed for grinding spherical surfaces or parts of spherical surfaces on work; Accessories therefor
    • B24B11/02—Machines or devices designed for grinding spherical surfaces or parts of spherical surfaces on work; Accessories therefor for grinding balls
    • B24B11/04—Machines or devices designed for grinding spherical surfaces or parts of spherical surfaces on work; Accessories therefor for grinding balls involving grinding wheels
    • B24B11/08—Machines or devices designed for grinding spherical surfaces or parts of spherical surfaces on work; Accessories therefor for grinding balls involving grinding wheels acting by the circumference

Description

本発明は、ボウリングボール表面処理装置に関し、より詳しくは、ボウリングボールを様々な方向に回転させながら均一に研磨(abrading)及び艶出し(polishing)することが可能なボウリングボール表面処理装置に関する。   The present invention relates to a bowling ball surface treatment apparatus, and more particularly to a bowling ball surface treatment apparatus capable of uniformly abrading and polishing while rotating the bowling ball in various directions.

ボウリングボールはレーンと摩擦接触しながら転がるために、その表面にでこぼこの摩耗部や傷が残ることが多い。特に、ボウリングボールはほぼ同一の周面部でレーンと接触しがちであるため、偏摩耗してしまうおそれがある。傷がついたボウリングボールや偏摩耗したボウリングボールは見栄えが悪いだけでなく、そのようなボウリングボールを使用するとボールが予測不可能な動きをしてしまうために、競技者が、例えば彼／彼女が望む通りのスピン技術を発揮することが難しくなってしまう。その結果、このような傷や偏摩耗がボウリングゲームのスコアに悪影響を及ぼすおそれがあり、そのためにプレーするゲームの楽しさが損なわれてしまいかねない。したがって、ボウリングボールを傷が全く又はほとんどない完全な球形になるように定期的に研磨する必要がある。   Since the bowling ball rolls while being in frictional contact with the lane, bumpy worn parts and scratches often remain on the surface. In particular, the bowling ball tends to come into contact with the lane at substantially the same peripheral surface portion, and thus there is a risk of uneven wear. A scratched or unevenly worn bowling ball not only looks bad, but the use of such a bowling ball will cause the ball to move unpredictably, so the competitor may It will become difficult to demonstrate the spin technology as desired. As a result, such scratches and uneven wear may adversely affect the score of the bowling game, which may impair the enjoyment of the game to be played. Therefore, it is necessary to periodically polish the bowling ball so that it becomes a perfect sphere with no or little scratches.

ボウリングボールを自動研磨する装置を開示している先行技術文献は数多く存在する。それらのうちのひとつが米国特許第５，６１３，８９６号であり、ボウリングボールを支持するように互いに１２０°間隔で配置された３つのシャフトと、対応するそれぞれのシャフトを順方向又は逆方向に回転させる３つのモータと、シャフトに取り付けられた３つの円錐形の研磨カップとを含むボウリングボール表面再処理装置を教示している。このボウリングボール表面再処理装置には利点もあるが、表面再処理工程中にボウリングボールの回転方向や回転軸をしっかりと変えることができないという欠点がある。このため、このボウリングボール表面再処理装置では、ボウリングボールの表面全体を均一に研磨して完全な球形にすることが困難である。   There are many prior art documents disclosing devices for automatically polishing bowling balls. One of them is US Pat. No. 5,613,896, with three shafts spaced 120 ° apart from each other to support the bowling ball and the corresponding shafts in the forward or reverse direction. A bowling ball surface reprocessing apparatus is taught that includes three motors to rotate and three conical polishing cups attached to a shaft. Although this bowling ball surface reprocessing apparatus has an advantage, there is a drawback that the rotation direction and the rotation axis of the bowling ball cannot be changed firmly during the surface reprocessing step. For this reason, in this bowling ball surface reprocessing apparatus, it is difficult to uniformly grind the entire surface of the bowling ball into a perfect sphere.

他の先行技術文献として米国特許第７，０６３，６０７号があり、ここでは、ハウジングと、互いに平行な垂直軸を中心に回転するようにハウジングに取り付けられ、それぞれがボウリングボールの一方の側下部でボウリングボールの表面と接触するように構成されている第一及び第二の垂直支持ローラと、垂直支持ローラとともにボウリングボールを支持するようにハウジングに取り付けられ、それぞれが水平軸を中心に回転可能であり、ボウリングボールの他方の側下部でボウリングボールの表面と接触するように構成されている第一及び第二の水平支持ローラと、垂直支持ローラ及び水平支持ローラを回転させるための駆動モータと、ボウリングボールの表面と摩擦接触してボウリングボールを研磨又は艶出しするための研磨−艶出しホイールアセンブリとを含むボウリングボール表面再処理装置が開示されている。   Another prior art document is U.S. Pat. No. 7,063,607, in which the housing and the housing are mounted to rotate about vertical axes parallel to each other, each of which is a lower part on one side of the bowling ball. The first and second vertical support rollers are configured to contact the surface of the bowling ball, and are mounted on the housing to support the bowling ball together with the vertical support roller, each of which can rotate about a horizontal axis. A first and a second horizontal support roller configured to contact the surface of the bowling ball at a lower portion on the other side of the bowling ball, and a drive motor for rotating the vertical support roller and the horizontal support roller; Abrasion-glazing for polishing or polishing a bowling ball in frictional contact with the surface of the bowling ball Bowling ball resurfacing device including a eel assembly is disclosed.

前述した従来の装置は、ボウリングボールを様々な方向に回転させることによってボウリングボールの表面をほぼ均一に研磨又は艶出しすることが可能である。しかしながら、従来の装置は構造が複雑であり、製造が困難かつ製造コストが高く、また非常に故障しやすいために改良の余地がある。   The conventional apparatus described above can polish or polish the surface of the bowling ball almost uniformly by rotating the bowling ball in various directions. However, the conventional apparatus has a complicated structure, is difficult to manufacture, has a high manufacturing cost, and is very susceptible to failure, so there is room for improvement.

本発明は従来の装置における前述又は他の問題を考慮してなされたものであり、その目的は、ボウリングボールを様々な方向に回転させ、より短時間でボウリングボールの表面全体を均一に研磨及び艶出しすることが可能なボウリングボール表面処理装置を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-mentioned or other problems in the conventional apparatus, and the purpose thereof is to rotate the bowling ball in various directions and uniformly polish the entire surface of the bowling ball in a shorter time. To provide a bowling ball surface treatment apparatus capable of being polished.

本発明の他の目的は、構造が単純、製造が容易、かつ費用が安価なボウリングボール表面処理装置を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a bowling ball surface treatment apparatus that has a simple structure, is easy to manufacture, and is inexpensive.

本発明は、
ハウジングと、
ボウリングボールの運動を誘導し、該ボウリングボールを限定された表面処理領域内にとどめるために前記ハウジングの内部に設けられ、前記ボウリングボールを曲線運動コースに沿ってガイドするための曲線ガイド表面部と、前記ボウリングボールの前記運動コースを変更するための方向転換部とによって形成される内部表面を有するボール運動ガイドと、
前記ボウリングボールを支持し、かつ自転及び公転させるために前記ボール運動ガイドの下に配置され、ディスクシャフトと、前記ボウリングボールと摩擦接触して前記ボウリングボールを研摩又は艶出しするための表面処理要素とを有する表面処理ディスクと、
前記表面処理ディスクをディスク中心軸を中心に自転させるためのディスク自転デバイスと、
前記表面処理ディスクの前記ディスクシャフトを回転可能に保持し、前記表面処理ディスクを前記ディスク中心軸から離隔した太陽軸の周りで公転運動させるためのディスク公転デバイスとを備えるボウリングボール表面処理装置を提供する。 The present invention
A housing;
A curved guide surface provided inside the housing for guiding the bowling ball movement and keeping the bowling ball in a limited surface treatment area, and for guiding the bowling ball along a curved course of movement; A ball motion guide having an internal surface formed by a direction changing portion for changing the motion course of the bowling ball;
A surface treatment element disposed under the ball motion guide for supporting and rotating and revolving the bowling ball, and for polishing or polishing the bowling ball in frictional contact with the disc shaft and the bowling ball. A surface treatment disk having
A disk rotation device for rotating the surface-treated disk around a disk central axis;
A bowling ball surface treatment apparatus comprising: a disk revolving device for rotatably holding the disk shaft of the surface treatment disk and causing the surface treatment disk to revolve around a sun axis spaced from the disk central axis. To do.

本発明のボウリングボール表面処理装置を使用することで、より短時間でボウリングボールの表面全体を均一に研磨及び艶出しすることが可能となる。さらに、本発明のボウリングボール表面処理装置は単純な構造を有しているため、容易かつ費用効率の良い方法で製造することができる。   By using the bowling ball surface treatment apparatus of the present invention, the entire surface of the bowling ball can be uniformly polished and polished in a shorter time. Furthermore, since the bowling ball surface treatment apparatus of the present invention has a simple structure, it can be manufactured in an easy and cost-effective manner.

本発明の上記及び他の目的及び特徴は、添付図面を参照してなされる以下の好適実施形態の説明により明らかになるであろう。   The above and other objects and features of the present invention will be apparent from the following description of preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

本発明に係るボウリングボール表面処理装置を示す側面断面図である。It is side surface sectional drawing which shows the bowling ball surface treatment apparatus which concerns on this invention. 図１のII-II線に沿ったボウリングボール表面処理装置の断面図である。It is sectional drawing of the bowling ball surface treatment apparatus along the II-II line of FIG. 本発明のボウリングボール表面処理装置に使用されているディスク公転デバイスの動作を示す図である。It is a figure which shows operation | movement of the disk revolution device used for the bowling ball surface treatment apparatus of this invention. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs. 本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。It is the schematic which shows operation | movement of the bowling ball in the surface treatment process which the bowling ball surface treatment apparatus of this invention performs.

ここで、本発明に係るボウリングボール表面処理装置の一好適実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。   Here, a preferred embodiment of a bowling ball surface treatment apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図１及び図２を参照すると、ボウリングボール表面処理装置はハウジング１０を含み、ハウジング１０は、ボウリングボールＢを出し入れするための上部出入開口部１１を有している。出入開口部１１は、蓋１２によって開閉可能な状態で閉じられている。ハウジング１０は、仕切り板１５によって上部表面処理室１３と下部駆動室１４とに隔てられた内部空間を有している。出入開口部１１から挿入されたボウリングボールＢは、表面処理室１３で表面処理を受ける。駆動室１４は、後述する様々な駆動ユニットを収納するように構成されている。   Referring to FIGS. 1 and 2, the bowling ball surface treatment apparatus includes a housing 10, and the housing 10 has an upper entrance opening 11 for taking in and out the bowling ball B. The access opening 11 is closed by a lid 12 so that it can be opened and closed. The housing 10 has an internal space separated by an upper surface treatment chamber 13 and a lower drive chamber 14 by a partition plate 15. The bowling ball B inserted from the entrance / exit opening 11 is subjected to a surface treatment in the surface treatment chamber 13. The drive chamber 14 is configured to accommodate various drive units described later.

ハウジング１０の内部側面には、ボウリングボール表面処理装置の動作を制御するための制御盤１６が取り付けられている。ボウリングボール表面処理装置の様々な動作条件を設定するための一連の押ボタン１７及びタイマー１８がハウジング１０の外部側面に配列されており、制御盤１６と電気的に接続している。   A control panel 16 for controlling the operation of the bowling ball surface treatment apparatus is attached to the inner side surface of the housing 10. A series of push buttons 17 and a timer 18 for setting various operating conditions of the bowling ball surface treatment apparatus are arranged on the outer side surface of the housing 10 and are electrically connected to the control panel 16.

ハウジング１０の表面処理室１３内には、ボウリングボールＢの運動を誘導し、ボウリングボールＢを限定された表面処理領域内にとどめるための略リング状のボール運動ガイド２０が設けられている。ボール運動ガイド２０は、図示されている実施形態では略円形であるが、楕円形、多角形、又は他の不規則な形状であってもよい。   In the surface treatment chamber 13 of the housing 10, a substantially ring-shaped ball motion guide 20 is provided for guiding the motion of the bowling ball B and keeping the bowling ball B within a limited surface treatment region. The ball motion guide 20 is generally circular in the illustrated embodiment, but may be oval, polygonal, or other irregular shapes.

図示されている実施形態では、ボール運動ガイド２０は、ボール運動ガイド２０から下方に延びる複数の棒状の支持部材２０ａによって仕切り板１５に固着されている。それぞれの支持部材２０ａにはコイルばね部２０ｂが設けられており、コイルばね部２０ｂは、ボウリングボール表面処理装置の稼働中にボール運動ガイド２０で生じるおそれがある振動や雑音を軽減する機能を果たす。あるいは、例えばコイルばねのような緩衝材を介してボール運動ガイド２０をハウジング１０に取り付けてもよい。また、図示されている実施形態では４つの支持部材２０ａを使用しているが、支持部材２０ａの数はそれより多くてもよいし、少なくてもよい。   In the illustrated embodiment, the ball motion guide 20 is fixed to the partition plate 15 by a plurality of rod-like support members 20 a extending downward from the ball motion guide 20. Each support member 20a is provided with a coil spring portion 20b, and the coil spring portion 20b functions to reduce vibration and noise that may occur in the ball motion guide 20 during operation of the bowling ball surface treatment apparatus. . Alternatively, the ball motion guide 20 may be attached to the housing 10 via a cushioning material such as a coil spring. In the illustrated embodiment, four support members 20a are used, but the number of support members 20a may be larger or smaller.

ボール運動ガイド２０は、ボウリングボールＢを自転可能(rotatably)かつ公転可能(revolvably)に受け入れるためのボール受入開口部２１と、内部表面２０ｃとを有しており、ボウリングボールＢは内部表面２０ｃに沿って公転運動する。ボール受入開口部２１はボウリングボールＢよりも直径が少し大きく、ボール受入開口部２１で受け入れたボウリングボールＢが、自身の軸を中心に自転しながらボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに沿って自由に公転できるようになっている。例えばゴムストリップのような弾性的に変形可能な材料で作られている緩衝ライナー２２が、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに取り外し可能に取り付けられている。   The ball motion guide 20 has a ball receiving opening 21 for receiving the bowling ball B so as to be able to rotate and revolvably, and an inner surface 20c. The bowling ball B is formed on the inner surface 20c. Revolve along. The ball receiving opening 21 has a slightly larger diameter than the bowling ball B, and the bowling ball B received by the ball receiving opening 21 is free to move along the inner surface 20c of the ball motion guide 20 while rotating around its own axis. Can revolve around. A buffer liner 22 made of an elastically deformable material, such as a rubber strip, is removably attached to the inner surface 20c of the ball motion guide 20.

ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃは、ボウリングボールＢの公転運動を曲線運動コースに沿ってガイドするための曲線ガイド表面部２０ｃ−１と、ボウリングボールＢがボール運動ガイド２０の中心軸の周りを公転運動する際にボウリングボールＢの運動コースを変更するための方向転換表面部２０ｃ−２とを含む。図２において最も詳細に示されているように、曲線ガイド表面部２０ｃ−１は内部表面２０ｃの約３分の２にわたって延びており、また方向転換部２０ｃ−２は略平面形状に形成され、曲線ガイド表面部２０ｃ−１の両端を相互に連結するように構成されている。方向転換部２０ｃ−２は、ボール運動ガイド２０の背面延長部に配置されていることが好ましい。これによって、表面処理が完了した際にボウリングボールＢを取り出しやすくなる。曲線ガイド表面部２０ｃ−１及び方向転換部２０ｃ−２の長さは図２に示されているものに限定されず、必要に応じて適宜変更することができる。図示されている実施形態では、方向転換部２０ｃ−２は平面形状であるが、例えば隆起した形状、略凹形状、又は他の形状に形成してもよい。また、必要であれば、さらなる方向転換部を方向転換部２０ｃ−２と対称になるように形成してもよい。簡潔に述べると、方向転換部２０ｃ−２がボウリングボールＢの運動コースを確実に変更することが可能である限りは、方向転換部２０ｃ−２の形状及び数を変更することができる。   The inner surface 20c of the ball motion guide 20 includes a curved guide surface portion 20c-1 for guiding the revolving motion of the bowling ball B along the curved motion course, and the bowling ball B around the central axis of the ball motion guide 20. The direction change surface part 20c-2 for changing the exercise | movement course of the bowling ball B at the time of a revolving motion is included. As shown in more detail in FIG. 2, the curved guide surface portion 20c-1 extends over about two thirds of the inner surface 20c, and the turning portion 20c-2 is formed in a substantially planar shape, It is comprised so that the both ends of the curve guide surface part 20c-1 may be connected mutually. The direction changing portion 20c-2 is preferably disposed in the back extension portion of the ball motion guide 20. This makes it easier to take out the bowling ball B when the surface treatment is completed. The lengths of the curved guide surface portion 20c-1 and the direction changing portion 20c-2 are not limited to those shown in FIG. 2, and can be changed as needed. In the illustrated embodiment, the direction changing portion 20c-2 has a planar shape, but may be formed in, for example, a raised shape, a substantially concave shape, or another shape. Further, if necessary, a further direction changing portion may be formed so as to be symmetric with respect to the direction changing portion 20c-2. In short, as long as the direction changer 20c-2 can reliably change the motion course of the bowling ball B, the shape and number of the direction changer 20c-2 can be changed.

ボール運動ガイド２０の下方には、ボウリングボールＢを支持し、かつ自転及び公転させるための表面処理ディスク３０が配置されている。表面処理ディスク３０は、ディスクの中心軸に沿って下方に延びるディスクシャフト３１を備える。表面処理ディスク３０は、ボウリングボールＢと摩擦接触して表面処理、すなわち研磨及び／又は艶出しを行う表面処理要素を有している。図示されている実施形態では、表面処理要素は表面処理布４０及び表面処理布４０に取り付けられているクッション裏地４１で形成されている。   Below the ball motion guide 20, a surface treatment disk 30 for supporting the bowling ball B and rotating and revolving is disposed. The surface treatment disk 30 includes a disk shaft 31 that extends downward along the central axis of the disk. The surface treatment disk 30 has a surface treatment element that performs surface treatment, that is, polishing and / or polishing, in frictional contact with the bowling ball B. In the illustrated embodiment, the surface treatment element is formed of a surface treatment cloth 40 and a cushion lining 41 attached to the surface treatment cloth 40.

表面処理布４０の例としては、サンドペーパー(a sheet of sandpaper)やダイアモンドペーパー(a sheet of diamond-coated paper)のような研磨布及び不織布や綿織物のような艶出し布が挙げられる。研磨布及び艶出し布は、ボウリングボールＢを研磨及び艶出しする際に選択的に使用することができる。また、粗度の異なるボウリングボールＢを研磨するために、３種類の研磨布、すなわち粒度の細かい研磨布、中程度の研磨布、及び粗い研磨布を使用することが好ましい。   Examples of the surface-treated cloth 40 include abrasive cloth such as sand paper and diamond-coated paper, and polished cloth such as nonwoven fabric and cotton fabric. The polishing cloth and the polishing cloth can be selectively used when the bowling ball B is polished and polished. Further, in order to polish the bowling balls B having different roughness, it is preferable to use three kinds of polishing cloth, that is, a fine-grain polishing cloth, an intermediate polishing cloth, and a rough polishing cloth.

クッション裏地４１は、表面処理工程中にボウリングボールＢによって生じる衝撃を吸収する、例えばスポンジ材料で作られている。衝撃を和らげるクッション裏地４１は、表面処理ディスク３０の上面に、例えばベルクロ・ファスナー(a Velcro fastener)によって交換可能に取り付けられている。クッション裏地４１は硬質中心部４１ａを有しており、硬質中心部４１ａの硬度はクッション裏地４１の他の部分よりも高くなっている。硬質中心部４１ａは、ボウリングボールＢが半径方向内側に移動してクッション裏地４１の硬質中心部４１ａの真上で表面処理布４０と接触する際に、ボウリングボールＢと表面処理布４０との間に滑りを生じさせる役割を果たす。これによって、表面処理工程中にボウリングボールＢが極めて高速で回転するのを防ぐことができる。クッション裏地４１の硬質中心部４１ａの真上の位置でボウリングボールＢと表面処理布４０との間に確実に滑りを生じさせるために、クッション裏地４１の硬質中心部４１ａに対応する位置に凸中央部を有するように表面処理ディスク３０を形成する。   The cushion lining 41 is made of, for example, a sponge material that absorbs the impact generated by the bowling ball B during the surface treatment process. The cushion lining 41 that softens the impact is attached to the upper surface of the surface treatment disc 30 so as to be exchangeable by, for example, a Velcro fastener. The cushion lining 41 has a hard center portion 41 a, and the hardness of the hard center portion 41 a is higher than the other portions of the cushion lining 41. The hard center portion 41a is located between the bowling ball B and the surface treatment cloth 40 when the bowling ball B moves radially inward and contacts the surface treatment cloth 40 directly above the hard center portion 41a of the cushion lining 41. Plays a role in causing slippage. Thereby, it is possible to prevent the bowling ball B from rotating at an extremely high speed during the surface treatment process. In order to cause a slip between the bowling ball B and the surface-treated cloth 40 at a position directly above the hard center portion 41a of the cushion lining 41, a convex center is formed at a position corresponding to the hard center portion 41a of the cushion lining 41. The surface treatment disk 30 is formed so as to have a portion.

ボウリングボール表面処理装置は、表面処理ディスク３０及びディスクシャフト３１をディスク中心軸を中心に自転させるディスク自転デバイス(a disc rotating device)と、表面処理ディスク３０をディスク中心軸から所定の距離離隔している太陽軸の周りで公転、すなわち遊星運動させるディスク公転デバイス(a disc revolving device)とを含む。   The bowling ball surface treatment apparatus includes a disc rotating device that rotates the surface treatment disc 30 and the disc shaft 31 around the disc central axis, and the surface treatment disc 30 at a predetermined distance from the disc central axis. Including a disc revolving device that revolves around the sun axis, i.e. planetary.

ディスク自転デバイスは、仕切り板１５を貫通して表面処理室１３及び駆動室１４に延びるディスク駆動シャフト３２と、駆動室１４内に設けられたディスク駆動モータ３３と、ディスク駆動モータ３３のトルクをディスク駆動シャフト３２に伝達するための一組のプーリ３４ａ及び３４ｂ並びにベルト３５と、ディスク駆動シャフト３２のトルクを表面処理ディスク３０のディスクシャフト３１に伝達するための一組の平歯車３６ａ及び３６ｂとを含む。   The disk rotation device includes a disk drive shaft 32 extending through the partition plate 15 to the surface treatment chamber 13 and the drive chamber 14, a disk drive motor 33 provided in the drive chamber 14, and a torque of the disk drive motor 33. A set of pulleys 34 a and 34 b and a belt 35 for transmitting to the drive shaft 32, and a set of spur gears 36 a and 36 b for transmitting the torque of the disk drive shaft 32 to the disk shaft 31 of the surface treatment disk 30. Including.

一方で、ディスク公転デバイスは、太陽軸を中心に回転するように設置されたサンシャフト５１を含む。サンシャフト５１つまり太陽軸は、ボール運動ガイド２０の垂直中心軸からも離隔しており、ボウリングボールＢが以下で述べる表面処理工程中に表面処理ディスク３０の様々な半径方向位置で表面処理布４０と接触できるようになっている。サンシャフト５１つまり太陽軸は、曲線ガイド表面部２０ｃ−１よりも方向転換部２０ｃ−２に近い位置に配置されている。サンシャフト５１は中空型で、仕切り板１５を貫通して駆動室１４へと延びており、仕切り板１５に回転可能に支持されている。   On the other hand, the disk revolution device includes a sun shaft 51 installed to rotate around the sun axis. The sun shaft 51, or the sun axis, is also spaced from the vertical center axis of the ball motion guide 20, and the surface treatment cloth 40 is applied to the bowling ball B at various radial positions on the surface treatment disk 30 during the surface treatment process described below. Can be contacted with. The sun shaft 51, that is, the sun axis, is disposed at a position closer to the direction changing portion 20c-2 than to the curved guide surface portion 20c-1. The sun shaft 51 is a hollow type, extends through the partition plate 15 to the drive chamber 14, and is rotatably supported by the partition plate 15.

ディスク公転デバイスは、近位端がサンシャフト５１に固着されたキャリアアーム５２をさらに含む。キャリアアーム５２は、その遠位端において、サンシャフト５１と表面処理ディスク３０のディスクシャフト３１との間に所定の間隔をあけてディスクシャフト３１を回転可能に支持するように構成されている。サンシャフト５１は、サンシャフト駆動デバイスによって回転駆動する。サンシャフト５１が図３に示されているように回転する場合、表面処理ディスク３０はディスク中心軸を中心に反時計回りに自転しながらサンシャフト５１の周りを時計回りに公転する。その際、表面処理ディスク３０の自転方向はその公転方向と反対方向であることが好ましい。表面処理ディスク３０が公転運動することによって、ボウリングボールＢもボール運動ガイド２０の中心軸の周りを公転して、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに沿って移動する。図４から図１１を参照して以下で詳細に説明するように、ボウリングボールＢは曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って比較的低い公転速度で移動するが、方向転換部２０ｃ−２に沿って高速で移動する。さらに、ボウリングボールＢの公転運動は、ボウリングボールＢが方向転換部２０ｃ−２と初期接触する際にしばらくの間停止する。   The disk revolving device further includes a carrier arm 52 having a proximal end secured to the sun shaft 51. The carrier arm 52 is configured to rotatably support the disc shaft 31 at a distal end thereof with a predetermined interval between the sun shaft 51 and the disc shaft 31 of the surface treatment disc 30. The sun shaft 51 is rotationally driven by a sun shaft driving device. When the sunshaft 51 rotates as shown in FIG. 3, the surface treatment disk 30 revolves around the sunshaft 51 clockwise while rotating counterclockwise around the disk central axis. In that case, it is preferable that the rotation direction of the surface treatment disk 30 is a direction opposite to the revolution direction. As the surface treatment disk 30 revolves, the bowling ball B revolves around the central axis of the ball motion guide 20 and moves along the inner surface 20 c of the ball motion guide 20. As will be described in detail below with reference to FIGS. 4 to 11, the bowling ball B moves at a relatively low revolution speed along the curved guide surface portion 20 c-1, but along the direction changing portion 20 c-2. And move at high speed. Further, the revolving motion of the bowling ball B stops for a while when the bowling ball B makes initial contact with the direction changing portion 20c-2.

サンシャフト駆動デバイスは、駆動室１４内に設けられたサンシャフト駆動モータ５３を含む。また、サンシャフト駆動デバイスは、サンシャフト駆動モータ５３のトルクをサンシャフト５１に伝達するための一組のプーリ５４ａ及び５４ｂ並びにベルト５５をさらに含む。   The sun shaft drive device includes a sun shaft drive motor 53 provided in the drive chamber 14. The sunshaft drive device further includes a pair of pulleys 54 a and 54 b and a belt 55 for transmitting the torque of the sunshaft drive motor 53 to the sunshaft 51.

表面処理ディスク３０は、表面処理工程中にディスク自転デバイスによってディスク中心軸を中心に自転すると同時に、ディスク公転デバイスによって太陽軸、つまりサンシャフト５１の周りを公転すなわち遊星運動する。それによって、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０の様々な半径方向位置で表面処理布４０と摩擦接触することが可能となる。   The surface treatment disk 30 rotates around the disk central axis by the disk rotation device during the surface treatment process, and simultaneously revolves around the sun axis, that is, the sun shaft 51 by the disk rotation device. Thereby, the bowling ball B can be brought into frictional contact with the surface treatment cloth 40 at various radial positions of the surface treatment disk 30.

この際、ディスク駆動モータ３３及びサンシャフト駆動モータ５３の動作は制御盤１６によって制御される。押ボタン１７及びタイマー１８を使用して、表面処理ディスクを例えば４００〜１２００ｒｐｍの回転速度で自転し、かつ例えば１又は２秒毎に１回転の速度で公転すなわち遊星運動するように設定する。必要であれば、ディスク駆動モータ３３の稼働を例えば１〜３秒間断続的に停止させてもよい。   At this time, the operations of the disk drive motor 33 and the sun shaft drive motor 53 are controlled by the control panel 16. The push button 17 and the timer 18 are used to set the surface treatment disk to rotate at a rotational speed of, for example, 400 to 1200 rpm, and to revolve, that is, to make a planetary motion at a rotational speed of, for example, every 1 or 2 seconds. If necessary, the operation of the disk drive motor 33 may be intermittently stopped for 1 to 3 seconds, for example.

ボウリングボール表面処理装置は、ボウリングボールＢに表面処理液を供給するための処理液供給デバイスを含む。ボウリングボール表面処理装置には、２種類の表面処理液が使用される。ひとつはボウリングボールＢの研磨に使用するための研磨液であり、もうひとつは艶出しに使用するための艶出し液である。   The bowling ball surface treatment apparatus includes a treatment liquid supply device for supplying a surface treatment liquid to the bowling ball B. Two types of surface treatment liquids are used in the bowling ball surface treatment apparatus. One is a polishing liquid for use in polishing the bowling ball B, and the other is a polishing liquid for use in polishing.

処理液供給デバイスは、研磨液をボウリングボールＢの表面に噴射するための研磨液噴射ノズル６１と、艶出し液をボウリングボールＢの表面に噴射するための艶出し液噴射ノズル６２と、研磨液を貯蔵するための研磨液タンク６３と、艶出し液を貯蔵するための艶出し液タンク６４と、研磨液タンク６３に貯蔵されている研磨液を研磨液噴射ノズル６１に送り込むための研磨液ポンプ６５と、艶出し液タンク６４に貯蔵されている艶出し液を艶出し液噴射ノズル６２に送り込むための艶出し液ポンプ６６とを含む。   The processing liquid supply device includes a polishing liquid injection nozzle 61 for injecting polishing liquid onto the surface of the bowling ball B, a polishing liquid injection nozzle 62 for injecting polishing liquid onto the surface of the bowling ball B, and a polishing liquid. Polishing liquid tank 63 for storing the polishing liquid, polishing liquid tank 64 for storing the polishing liquid, and polishing liquid pump for feeding the polishing liquid stored in the polishing liquid tank 63 to the polishing liquid injection nozzle 61 65 and a polishing liquid pump 66 for feeding the polishing liquid stored in the polishing liquid tank 64 to the polishing liquid injection nozzle 62.

研磨液噴射ノズル６１及び艶出し液噴射ノズル６２は、表面処理室１３内に挿入されたボウリングボールＢと相対するように蓋１２の内側に取り付けられている。研磨液タンク６３、艶出し液タンク６４、研磨液ポンプ６５、及び艶出し液ポンプ６６は駆動室１４内に配置されている。艶出し液タンク６４は排液管６７を通して表面処理室１３と連結しており、表面処理室１３で噴射された研磨液及び艶出し液を回収する。   The polishing liquid spray nozzle 61 and the polishing liquid spray nozzle 62 are attached to the inside of the lid 12 so as to face the bowling ball B inserted into the surface treatment chamber 13. The polishing liquid tank 63, the polishing liquid tank 64, the polishing liquid pump 65, and the polishing liquid pump 66 are disposed in the drive chamber 14. The polishing liquid tank 64 is connected to the surface treatment chamber 13 through the drain pipe 67 and collects the polishing liquid and the polishing liquid sprayed in the surface treatment chamber 13.

ここで、上記のように構成されたボウリングボール表面処理装置の動作について説明する。   Here, the operation of the bowling ball surface treatment apparatus configured as described above will be described.

まず蓋１２を開けて、図１及び図２において一点鎖線で示されているように、ボウリングボールＢをボール運動ガイド２０のボール受入開口部２１から表面処理ディスク３０上に設置する。   First, the lid 12 is opened, and the bowling ball B is placed on the surface treatment disk 30 from the ball receiving opening 21 of the ball motion guide 20 as indicated by a one-dot chain line in FIGS.

それから、ボウリングボール表面処理装置の動作条件を押ボタン１７及びタイマー１８を使用して設定する。ディスク駆動モータ３３及びサンシャフト駆動モータ５３に電圧を加え、制御盤１６による制御のもとで回転駆動する。ディスク駆動モータ３３のトルクを一組のプーリ３４ａ及び３４ｂ並びにベルト３５を通してディスク駆動シャフト３２に伝達した後、一組の平歯車３６ａ及び３６ｂを通してディスクシャフト３１に伝達し、それによって表面処理ディスク３０をディスクシャフト３１とともに回転させる。それと同時に、サンシャフト駆動モータ５３のトルクを一組のプーリ５４ａ及び５４ｂ並びにベルト５５を通してサンシャフト５１に伝達する。サンシャフト５１がキャリアアーム５２とともに太陽軸を中心に回転すると、表面処理ディスク３０が図３に示すようにサンシャフト５１つまり太陽軸の周りを公転すなわち遊星運動する。   Then, the operating conditions of the bowling ball surface treatment apparatus are set using the push button 17 and the timer 18. A voltage is applied to the disk drive motor 33 and the sun shaft drive motor 53, and the disk drive motor 33 and the sun shaft drive motor 53 are driven to rotate under the control of the control panel 16. The torque of the disk drive motor 33 is transmitted to the disk drive shaft 32 through a set of pulleys 34a and 34b and a belt 35, and then transmitted to the disk shaft 31 through a set of spur gears 36a and 36b, whereby the surface-treated disk 30 is transferred. The disk shaft 31 is rotated. At the same time, the torque of the sun shaft drive motor 53 is transmitted to the sun shaft 51 through a pair of pulleys 54 a and 54 b and a belt 55. When the sun shaft 51 rotates around the sun axis together with the carrier arm 52, the surface treatment disk 30 revolves around the sun shaft 51, that is, the sun axis, that is, planetarily moves as shown in FIG.

その結果、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０に取り付けられている表面処理布４０と摩擦接触を起こすことによって表面処理される。表面処理ディスク３０がボール運動ガイド２０の中心軸から離隔したサンシャフト５１の周りを公転し続けることで、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０の様々な半径方向位置と接触することになる。表面処理ディスク３０の公転運動によって、ボウリングボールＢもボール運動ガイド２０の中心軸の周りを公転して、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに沿って移動する。その際、ボウリングボールＢは比較的低い公転速度で曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って移動するが、比較的高速で方向転換部２０ｃ−２に沿って直線移動する。ボウリングボールＢの公転運動は、ボウリングボールＢが方向転換部２０ｃ−２と初期接触する際にしばらくの間停止する。ボウリングボールＢの自転軸はこの過程において確実に変更されるため、表面処理装置が稼働し続けることによってボウリングボールＢの様々な表面領域が表面処理ディスク３０の表面処理布４０と接触することになる。これによって、ボウリングボールＢの表面全体を均一に研磨又は艶出しすることが可能となる。   As a result, the bowling ball B is surface-treated by causing frictional contact with the surface-treated cloth 40 attached to the surface-treated disk 30. As the surface treatment disc 30 continues to revolve around the sun shaft 51 separated from the central axis of the ball motion guide 20, the bowling ball B comes into contact with various radial positions of the surface treatment disc 30. By the revolving motion of the surface treatment disk 30, the bowling ball B also revolves around the central axis of the ball motion guide 20 and moves along the inner surface 20 c of the ball motion guide 20. At that time, the bowling ball B moves along the curved guide surface portion 20c-1 at a relatively low revolution speed, but moves linearly along the direction changing portion 20c-2 at a relatively high speed. The revolving motion of the bowling ball B stops for a while when the bowling ball B makes initial contact with the direction changing portion 20c-2. Since the rotation axis of the bowling ball B is surely changed in this process, the various surface areas of the bowling ball B come into contact with the surface treatment cloth 40 of the surface treatment disk 30 as the surface treatment apparatus continues to operate. . As a result, the entire surface of the bowling ball B can be uniformly polished or polished.

ここで、ボール運動ガイド２０内部でのボウリングボールＢの公転運動すなわち遊星運動について、図４から図１１を参照して詳細に説明する。   Here, the revolving motion of the bowling ball B inside the ball motion guide 20, that is, the planetary motion will be described in detail with reference to FIGS. 4 to 11.

まず図４を参照すると、表面処理ディスク３０は、ディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って７時の位置から９時の位置に向かって比較的低速で移動する。ボウリングボールＢは、７時の位置において表面処理ディスク３０と接触点Ｐ１で接触する。ディスク中心軸Ｄと接触点Ｐ１との間の距離が比較的離れているため、ボウリングボールＢはより大きな回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、このように公転及び自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。   First, referring to FIG. 4, the surface treatment disk 30 revolves around the sun axis S in a clockwise direction while rotating counterclockwise around the disk center axis D. The bowling ball B moves at a relatively low speed from the 7 o'clock position to the 9 o'clock position along the curved guide surface portion 20 c-1 of the inner surface 20 c of the ball motion guide 20. The bowling ball B contacts the surface treatment disc 30 at the contact point P1 at the 7 o'clock position. Since the distance between the disc center axis D and the contact point P1 is relatively large, the bowling ball B is rotated by the surface treatment disc 30 with a larger rotational force. The bowling ball B is polished or polished by the surface treatment cloth 40 of the surface treatment disk 30 while revolving and rotating in this way.

図５を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。したがって、ボウリングボールＢは、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って９時の位置から１１時の位置に向かって移動する。ボウリングボールＢは、９時の位置において表面処理ディスク３０と接触点Ｐ２で接触する。ディスク中心軸Ｄと接触点Ｐ２との間の距離が比較的離れているため、ボウリングボールＢはより大きな回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、このように公転及び自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。   Referring to FIG. 5, the surface treatment disk 30 revolves clockwise around the sun axis S while rotating counterclockwise around the disk center axis D. Therefore, the bowling ball B moves from the 9 o'clock position to the 11 o'clock position along the curved guide surface portion 20 c-1 of the inner surface 20 c of the ball motion guide 20. The bowling ball B contacts the surface treatment disc 30 at the contact point P2 at the 9 o'clock position. Since the distance between the disc center axis D and the contact point P2 is relatively large, the bowling ball B is rotated by the surface treatment disc 30 with a larger rotational force. The bowling ball B is polished or polished by the surface treatment cloth 40 of the surface treatment disk 30 while revolving and rotating in this way.

図６を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。この際、ボウリングボールＢはボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられる。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定される。ボウリングボールＢは、１１時の位置において表面処理ディスク３０と接触点Ｐ３で接触する。ディスク中心軸Ｄと接触点Ｐ３との間の距離が比較的離れているため、ボウリングボールＢはより大きな回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、１１時の位置で自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。   Referring to FIG. 6, the surface treatment disk 30 revolves clockwise around the sun axis S while rotating counterclockwise about the disk center axis D. At this time, the bowling ball B is pressed against the direction changing portion 20c-2 of the inner surface 20c of the ball motion guide 20. In this state, the bowling ball B is fixed at the 11 o'clock position while rotating around its own axis. The bowling ball B comes into contact with the surface treatment disc 30 at the contact point P3 at the 11 o'clock position. Since the distance between the disc center axis D and the contact point P3 is relatively large, the bowling ball B is rotated by the surface treatment disc 30 with a larger rotational force. The bowling ball B is polished or polished by the surface treatment cloth 40 of the surface treatment disk 30 while rotating at the 11 o'clock position.

図７を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、引き続きボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられている。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定されたままになっている。ボウリングボールＢは、この時点で表面処理ディスク３０と接触点Ｐ４で接触する。接触点Ｐ４は、図６の接触点Ｐ３よりも表面処理ディスク３０の半径方向内側へ移動するため、ボウリングボールＢは低下した回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、１１時の位置で自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。   Referring to FIG. 7, the surface treatment disk 30 revolves clockwise around the sun axis S while rotating counterclockwise around the disk center axis D. The bowling ball B is continuously pressed against the direction changing portion 20c-2 of the inner surface 20c of the ball motion guide 20. In this state, the bowling ball B remains fixed at the 11 o'clock position while rotating around its own axis. At this time, the bowling ball B comes into contact with the surface treatment disc 30 at the contact point P4. Since the contact point P4 moves to the inner side in the radial direction of the surface treatment disk 30 than the contact point P3 in FIG. 6, the bowling ball B is rotated by the surface treatment disk 30 with a reduced rotational force. The bowling ball B is polished or polished by the surface treatment cloth 40 of the surface treatment disk 30 while rotating at the 11 o'clock position.

図８を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、引き続きボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられている。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定されたままになっている。この時点で、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０のクッション裏地４１の硬質中心部４１ａ（図１及び図２参照）の真上において、図７の接触点Ｐ４よりも表面処理ディスク３０の半径方向内側に位置する接触点Ｐ５で表面処理布４０と接触する。したがって、ボウリングボールＢに加えられる表面処理ディスク３０の回転力は大幅に低下するため、ボウリングボールＢの回転を減速させることになる。これにより、ボウリングボールＢが制御不可能なほど高速で回転するのを防ぐことができる。   Referring to FIG. 8, the surface treatment disk 30 revolves clockwise around the sun axis S while rotating counterclockwise around the disk center axis D. The bowling ball B is continuously pressed against the direction changing portion 20c-2 of the inner surface 20c of the ball motion guide 20. In this state, the bowling ball B remains fixed at the 11 o'clock position while rotating around its own axis. At this time, the bowling ball B is positioned in the radial direction of the surface treatment disk 30 more than the contact point P4 in FIG. 7 just above the hard center portion 41a (see FIGS. 1 and 2) of the cushion lining 41 of the surface treatment disk 30. The surface-treated cloth 40 is contacted at a contact point P5 located inside. Accordingly, the rotational force of the surface treatment disc 30 applied to the bowling ball B is greatly reduced, and the rotation of the bowling ball B is decelerated. Thereby, it is possible to prevent the bowling ball B from rotating at such a high speed that it cannot be controlled.

図９を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、引き続きボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられている。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定されたままになっている。この時点で、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０のクッション裏地４１の硬質中心部４１ａ（図１及び図２参照）の真上において、ディスク中心軸Ｄとほぼ重なる接触点Ｐ６で表面処理布４０と接触する。したがって、ボウリングボールＢに加えられる表面処理ディスク３０の回転力は非常に小さいままに保たれているため、ボウリングボールＢの回転をさらに減速させる。これにより、ボウリングボールＢが制御不可能なほど高速で回転するのを防ぐことができる。   Referring to FIG. 9, the surface treatment disk 30 revolves clockwise around the sun axis S while rotating counterclockwise around the disk center axis D. The bowling ball B is continuously pressed against the direction changing portion 20c-2 of the inner surface 20c of the ball motion guide 20. In this state, the bowling ball B remains fixed at the 11 o'clock position while rotating around its own axis. At this point, the bowling ball B is placed on the surface-treated cloth 40 at a contact point P6 that substantially overlaps the disk center axis D just above the hard center 41a (see FIGS. 1 and 2) of the cushion lining 41 of the surface-treated disk 30. Contact with. Therefore, since the rotational force of the surface treatment disk 30 applied to the bowling ball B is kept very small, the rotation of the bowling ball B is further decelerated. Thereby, it is possible to prevent the bowling ball B from rotating at such a high speed that it cannot be controlled.

図１０を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。その結果、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０のクッション裏地４１の硬質中心部４１ａ（図１及び図２参照）の真上において、ディスク中心軸Ｄからわずかに左に移動した接触点Ｐ７で表面処理布４０と接触する。この時点で、ボウリングボールＢは１１時の位置から移動して、方向転換部２０ｃ−２に沿って図１１（及び図４）に示す７時の位置に向かって急速に直線移動する。ボウリングボールＢの表面上の研磨又は艶出し領域は、この直線運動によって確実に変更される。すなわち、ボウリングボールＢの研磨又は艶出し領域は、表面処理ディスク３０が太陽軸Ｓの周りを１回公転すなわち遊星運動するたびに変更される。したがって、表面処理ディスク３０が公転すなわち遊星運動を続けることで、ボウリングボールＢの表面全体が表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって均一に研磨又は艶出しされる。   Referring to FIG. 10, the surface treatment disk 30 revolves around the sun axis S in a clockwise direction while rotating counterclockwise around the disk center axis D. As a result, the bowling ball B has a surface at a contact point P7 that has moved slightly to the left from the disc center axis D just above the hard center portion 41a (see FIGS. 1 and 2) of the cushion lining 41 of the surface treatment disc 30. Contact with the treatment cloth 40. At this point, the bowling ball B moves from the 11 o'clock position and rapidly moves linearly along the direction changing portion 20c-2 toward the 7 o'clock position shown in FIG. 11 (and FIG. 4). The polishing or polishing area on the surface of the bowling ball B is reliably changed by this linear motion. That is, the polishing or polishing area of the bowling ball B is changed each time the surface treatment disk 30 revolves around the sun axis S, that is, planetary. Accordingly, as the surface treatment disk 30 continues to revolve, that is, in planetary motion, the entire surface of the bowling ball B is uniformly polished or polished by the surface treatment cloth 40 of the surface treatment disk 30.

ボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理は研磨工程と艶出し工程とに分けられ、これらは単独で行ってもよいし、組み合わせて行ってもよい。   The surface treatment performed by the bowling ball surface treatment apparatus is divided into a polishing step and a polishing step, and these may be performed alone or in combination.

研磨工程中、表面処理布４０となる研磨布は交換可能に表面処理ディスク３０に取り付けられている。粗度の異なるボウリングボールＢを研磨するために、粒度の粗い研磨布、中程度の研磨布、及び細かい研磨布を選択的に使用してもよい。必要であれば、粒度の粗い研磨布、中程度の研磨布、細かい研磨布を次々に表面処理ディスク３０に取り付けることによって、粗い研磨、中程度の研磨、細かい研磨を連続的に実行することが可能である。研磨工程において、研磨液タンク６３に貯蔵されている研磨液を、研磨液ポンプ６５によって研磨液噴射ノズル６１を通してボウリングボールＢの表面に供給する。   During the polishing process, the polishing cloth to be the surface treatment cloth 40 is attached to the surface treatment disk 30 in a replaceable manner. In order to polish the bowling balls B having different roughnesses, a coarse abrasive cloth, a medium abrasive cloth, and a fine abrasive cloth may be selectively used. If necessary, coarse polishing, medium polishing, and fine polishing can be continuously performed by attaching coarse abrasive cloth, medium polishing cloth, and fine polishing cloth to the surface treatment disk 30 one after another. Is possible. In the polishing step, the polishing liquid stored in the polishing liquid tank 63 is supplied to the surface of the bowling ball B through the polishing liquid injection nozzle 61 by the polishing liquid pump 65.

艶出し工程中に、研磨布を表面処理布４０となる艶出し布に取り換える。また、艶出し液タンク６４に貯蔵されている艶出し液を、艶出し液ポンプ６６によって艶出し液噴射ノズル６２を通してボウリングボールＢの表面に供給する。   During the polishing process, the polishing cloth is replaced with a polishing cloth to be the surface treatment cloth 40. Further, the polishing liquid stored in the polishing liquid tank 64 is supplied to the surface of the bowling ball B through the polishing liquid injection nozzle 62 by the polishing liquid pump 66.

本発明の好適実施形態を図示及び説明してきたが、下記の特許請求の範囲に記載されている本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく様々な変更及び改良を行うことが可能であることは当業者にとって明らかであろう。   While the preferred embodiment of the invention has been illustrated and described, it will be appreciated that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be apparent to those skilled in the art.

本発明のボウリングボール表面処理装置は、ボウリングボール又はボウリングボールと重さ及び大きさが同等な他の球状物体を均一に研磨及び艶出しするために使用することが可能である。   The bowling ball surface treatment apparatus of the present invention can be used to uniformly polish and polish a bowling ball or other spherical objects having the same weight and size as the bowling ball.

Claims (6)

ハウジングと、
ボウリングボールの運動を誘導し、該ボウリングボールを限定された表面処理領域内にとどめるために前記ハウジングの内部に設けられ、前記ボウリングボールを曲線運動コースに沿ってガイドするための曲線ガイド表面部と、前記ボウリングボールの前記運動コースを変更するための方向転換部とによって形成される内部表面を有するボール運動ガイドと、
前記ボウリングボールを支持し、かつ自転及び公転させるために前記ボール運動ガイドの下に配置され、ディスクシャフトと、前記ボウリングボールと摩擦接触して前記ボウリングボールを研摩又は艶出しするための表面処理要素とを有する表面処理ディスクと、
前記表面処理ディスクをディスク中心軸を中心に自転させるためのディスク自転デバイスと、
前記表面処理ディスクの前記ディスクシャフトを回転可能に保持し、前記表面処理ディスクを前記ディスク中心軸から離隔した太陽軸の周りで公転運動させるためのディスク公転デバイスとを備えるボウリングボール表面処理装置。A housing;
A curved guide surface provided inside the housing for guiding the bowling ball movement and keeping the bowling ball in a limited surface treatment area, and for guiding the bowling ball along a curved course of movement; A ball motion guide having an internal surface formed by a direction changing portion for changing the motion course of the bowling ball;
A surface treatment element disposed under the ball motion guide for supporting and rotating and revolving the bowling ball, and for polishing or polishing the bowling ball in frictional contact with the disc shaft and the bowling ball. A surface treatment disk having
A disk rotation device for rotating the surface-treated disk around a disk central axis;
A bowling ball surface treatment apparatus comprising: a disk revolving device that rotatably holds the disk shaft of the surface treatment disk and causes the surface treatment disk to revolve around a sun axis spaced from the disk central axis. 前記太陽軸は、前記曲線ガイド表面部よりも前記方向転換部に近い位置に配置されている請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。  The bowling ball surface treatment apparatus according to claim 1, wherein the sun axis is disposed closer to the direction changing portion than the curved guide surface portion. 前記方向転換部は略平面形状を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。  The bowling ball surface treatment apparatus according to claim 1, wherein the direction changing portion has a substantially planar shape. 前記表面処理要素は、表面処理布及び該表面処理布に取り付けられたクッション裏地で形成されており、前記クッション裏地は前記クッション裏地の他の部分よりも硬い硬質中心部を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。  The surface treatment element is formed of a surface treatment cloth and a cushion lining attached to the surface treatment cloth, and the cushion lining has a hard center part harder than other portions of the cushion lining. 2. The bowling ball surface treatment apparatus according to 1. 前記ハウジングは、仕切り板によって上部表面処理室と下部駆動室とに隔てられた内部空間を有しており、前記ボール運動ガイドは、前記仕切り板に固着された複数の支持部材を含み、該支持部材のそれぞれはコイルばね部を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。  The housing has an internal space separated by an upper surface treatment chamber and a lower drive chamber by a partition plate, and the ball motion guide includes a plurality of support members fixed to the partition plate, and the support The bowling ball surface treatment apparatus according to claim 1, wherein each member has a coil spring portion. 前記ディスク公転デバイスは、前記太陽軸を中心に回転するように前記ハウジングに回転可能に取り付けられたサンシャフトと、前記ディスクシャフトを前記サンシャフトと間隔をあけて回転可能に支持するために前記サンシャフトに取り付けられたキャリアアームと、前記サンシャフトを回転させて前記表面処理ディスクを公転運動させるための駆動機構とを備える請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。  The disk revolving device includes a sun shaft rotatably attached to the housing for rotation about the sun axis, and the sun shaft for rotatably supporting the disk shaft at a distance from the sun shaft. The bowling ball surface treatment apparatus according to claim 1, comprising a carrier arm attached to a shaft, and a drive mechanism for rotating the sun shaft to cause the surface treatment disk to revolve.
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