JP5169911B2 - Touch panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

この発明は、抵抗膜型のタッチパネル及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a resistive film type touch panel and a manufacturing method thereof.

抵抗膜型のタッチパネルは、第1の抵抗膜が形成された第1の基板と、第2の抵抗膜が形成された第2の基板とを前記第1と第2の抵抗膜を対向させて配置されたものであり、タッチ側の基板がその外面側からのタッチにより撓み変形し、このタッチ側基板の抵抗膜がタッチ部において前記反対側基板の抵抗膜に接触することにより、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜との接触位置を検出する。   A resistive film type touch panel has a first substrate on which a first resistive film is formed and a second substrate on which a second resistive film is formed with the first and second resistive films opposed to each other. The touch-side substrate is bent and deformed by touch from the outer surface side thereof, and the resistance film of the touch-side substrate comes into contact with the resistance film of the opposite-side substrate in the touch portion, whereby the first substrate is arranged. The contact position between the resistance film and the second resistance film is detected.

この抵抗膜型のタッチパネルにおいては、タッチ入力が行われないときにタッチ側基板の内面の抵抗膜がみだりに反対側基板の内面の抵抗膜に接触することが無いように、一対の基板間の間隙を複数のスペーサにより規定するか、或いは一対の基板間の間隙に絶縁性液体を封入している(特許文献1参照)。   In this resistive film type touch panel, when no touch input is performed, the gap between the pair of substrates is prevented so that the resistive film on the inner surface of the touch side substrate does not touch the inner surface of the opposite side substrate. Is defined by a plurality of spacers, or an insulating liquid is sealed in a gap between a pair of substrates (see Patent Document 1).

特開昭61−45519号公報JP 61-45519

しかし、従来の抵抗膜型タッチパネルは、タッチ側基板のタッチされた部分が一対の基板間の間隙に対応する深さに撓み変形したときに、前記タッチ側基板の内面の抵抗膜が反対側基板の内面の抵抗膜に接触するため、前記タッチ側基板の撓み変形量が大きい。   However, in the conventional resistive film type touch panel, when the touched portion of the touch side substrate is bent and deformed to a depth corresponding to the gap between the pair of substrates, the resistance film on the inner surface of the touch side substrate is the opposite side substrate. The touch-side substrate has a large amount of deformation due to contact with the resistance film on the inner surface of the touch-side substrate.

そのため、液晶表示パネル等の表示パネルの観察側に上記従来の抵抗膜型タッチパネルを配置したタッチパネル付き表示装置は、表示パネルからの出射光が、前記タッチ側基板の撓み変形した部分において大きく屈折し、その部分の表示が歪んで見える。   Therefore, in the display device with a touch panel in which the conventional resistive film type touch panel is disposed on the observation side of the display panel such as a liquid crystal display panel, the emitted light from the display panel is greatly refracted in the bent part of the touch side substrate. , The display of that part looks distorted.

この発明は、タッチ側基板の撓み変形量を小さくして、前記タッチ側基板の撓み変形した部分における透過光の屈折を小さくすることができる抵抗膜型のタッチパネル及びその製造方法を提供することを目的としたものである。   The present invention provides a resistive film type touch panel capable of reducing the amount of bending deformation of the touch side substrate and reducing the refraction of transmitted light in the bent portion of the touch side substrate, and a manufacturing method thereof. It is intended.

請求項1に記載の発明は、
第1の抵抗膜が形成された第1の基板と第2の抵抗膜が形成された第2の基板とが前記第1と第2の抵抗膜を対向させて配置され、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜との接触位置を検出するタッチパネルであって、
前記第1の基板の前記第2の基板と対向する面上に予め定めた高さに突出させて設けられた複数の接点用突起と、
前記各接点用突起とは異なる位置に前記接点用突起よりも高く突出させて前記第1の基板上に設けられた複数のスペーサ用突起と、を備え、
前記第1の抵抗膜は、前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起を覆って前記第1の基板上に形成され、
前記第2の抵抗膜は、前記第1の抵抗膜を介して前記スペーサ用突起が前記第2の基板に接する位置に非導通部が設けられていることを特徴とする。
The invention described in claim 1
A first substrate on which a first resistive film is formed and a second substrate on which a second resistive film is formed are arranged with the first and second resistive films facing each other, and the first resistor A touch panel for detecting a contact position between the film and the second resistive film,
A plurality of contact protrusions provided to protrude at a predetermined height on a surface of the first substrate facing the second substrate;
A plurality of spacer protrusions provided on the first substrate so as to protrude higher than the contact protrusions at positions different from the contact protrusions;
The first resistance film is formed on the first substrate so as to cover the contact protrusions and the spacer protrusions,
The second resistance film is characterized in that a non-conductive portion is provided at a position where the spacer projection is in contact with the second substrate through the first resistance film.

請求項2に記載の発明は、前記請求項1に記載のタッチパネルにおいて、前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起は、所定の間隔で配置されているとともに、隣接した2つの前記スペーサ用突起の間に2つ以上の前記接点用突起が配置されていることを特徴とする。   According to a second aspect of the present invention, in the touch panel according to the first aspect, the contact protrusions and the spacer protrusions are arranged at a predetermined interval, and two adjacent spacer protrusions are provided. Two or more of the contact protrusions are disposed between the two.

請求項3に記載の発明は、前記請求項2に記載のタッチパネルにおいて、所定の方形領域の4つの角部のそれぞれに前記スペーサ用突起が配置され、少なくとも前記方形領域内において前記接点用突起が前記所定の間隔で配置されていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the touch panel according to the second aspect, the spacer protrusion is disposed at each of four corners of a predetermined rectangular region, and the contact protrusion is at least in the rectangular region. They are arranged at the predetermined intervals.

請求項4に記載の発明は、前記請求項1から3の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記非導通部は、前記スペーサ用突起の先端面の面積よりも大きい面積を有していることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, in the touch panel according to any one of the first to third aspects, the non-conductive portion has an area larger than an area of a tip end surface of the spacer projection. Features.

請求項5に記載の発明は、前記請求項4に記載のタッチパネルにおいて、前記非導通部は、前記第2の抵抗膜に設けられた孔からなっていることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the invention, in the touch panel according to the fourth aspect of the invention, the non-conducting portion is a hole provided in the second resistance film.

請求項6に記載の発明は、前記請求項4に記載のタッチパネルにおいて、前記各接点用突起と前記各スペーサ用突起はそれぞれ感光性樹脂により形成され、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜はそれぞれ透明導電膜により形成されていることを特徴とする。   According to a sixth aspect of the present invention, in the touch panel according to the fourth aspect, each of the contact protrusions and each of the spacer protrusions is formed of a photosensitive resin, and the first resistance film and the second protrusion Each of the resistance films is formed of a transparent conductive film.

請求項7に記載の発明は、前記請求項1から6の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記各スペーサ用突起は、前記接点用突起との高さの差に対応した厚さに形成された第1の層と、前記接点用突起の高さと同じ厚さに形成された第2の層との積層膜からなっていることを特徴とする。   The invention according to claim 7 is the touch panel according to any one of claims 1 to 6, wherein each of the spacer protrusions is formed to have a thickness corresponding to a height difference from the contact protrusion. It consists of a laminated film of a first layer and a second layer formed to the same thickness as the height of the contact projection.

請求項8に記載の発明は、前記請求項1から7の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記第1の基板と前記第2の基板は、当該第1の基板と当該第2の基板との間に配置された枠状のシール材により接合され、前記シール材により囲まれた間隙に、絶縁性液体が封入されていることを特徴とする。   The invention according to claim 8 is the touch panel according to any one of claims 1 to 7, wherein the first substrate and the second substrate are the first substrate and the second substrate. It is characterized in that an insulating liquid is sealed in a gap surrounded by a frame-shaped sealing material disposed therebetween and surrounded by the sealing material.

請求項9に記載の発明は、前記請求項8に記載のタッチパネルにおいて、前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起は、前記シール材により囲まれた領域に形成されていることを特徴とする。   The invention according to claim 9 is the touch panel according to claim 8, wherein each of the contact protrusions and each spacer protrusion is formed in a region surrounded by the sealing material. .

請求項10に記載の発明は、前記請求項8に記載のタッチパネルにおいて、前記絶縁性液体は、前記第1と第2の基板の少なくとも一方との光の屈折率の差が0.1以下の液体であることを特徴とする。   A tenth aspect of the present invention is the touch panel according to the eighth aspect, wherein the insulating liquid has a difference in refractive index of light between the first substrate and at least one of the second substrates of 0.1 or less. It is a liquid.

請求項11に記載の発明は、前記請求項8に記載のタッチパネルにおいて、前記絶縁性液体は、常温で光学的に等方性な材料であることを特徴とする。   The invention according to claim 11 is the touch panel according to claim 8, wherein the insulating liquid is an optically isotropic material at room temperature.

請求項12に記載の発明は、前記請求項8に記載のタッチパネルにおいて、前記絶縁性液体は、5℃以上の温度においてアイソトロピック相を示す液晶であることを特徴とする。   The invention described in claim 12 is the touch panel according to claim 8, wherein the insulating liquid is a liquid crystal exhibiting an isotropic phase at a temperature of 5 ° C. or higher.

請求項13に記載の発明は、前記請求項8に記載のタッチパネルにおいて、前記絶縁性液体は、沸点が100℃以上の有機または無機の絶縁性の液状物質であることを特徴とする。   The invention according to claim 13 is the touch panel according to claim 8, wherein the insulating liquid is an organic or inorganic insulating liquid substance having a boiling point of 100 ° C. or higher.

請求項14に記載の発明は、前記請求項1から13の何れかに記載のタッチパネルにおいて、前記第1と第2の基板のうちのいずれか一方の基板の縁部に、前記第1の抵抗膜の所定の方向の両端と、前記第2の抵抗膜の前記所定の方向に対して直交する方向の両端とをそれぞれ駆動回路に接続するための駆動回路接続端子が設けられていることを特徴とする。   According to a fourteenth aspect of the present invention, in the touch panel according to any one of the first to thirteenth aspects, the first resistor is provided at an edge of one of the first and second substrates. Drive circuit connection terminals for connecting both ends of the film in a predetermined direction and both ends of the second resistance film in a direction orthogonal to the predetermined direction to the drive circuit are provided. And

請求項15に記載の発明は、
第1の抵抗膜が形成された第1の基板と第2の抵抗膜が形成された第2の基板とが対向させて配置され、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜との接触位置を検出するタッチパネルの製造方法であって、
前記第1の基板上に、複数の接点用突起と前記各接点用突起よりも高く突出する複数のスペーサ用突起とを形成する工程と、
前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起を覆って前記第1の基板上に前記第1の抵抗膜を成膜する工程と、
前記第2の基板上に、所定の位置が前記第1の導電膜との非導通部となるように前記第2の抵抗膜を形成する工程と、
前記スペーサ用突起が前記非導通部に対応するように前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とする。
The invention according to claim 15 is:
The first substrate on which the first resistance film is formed and the second substrate on which the second resistance film is formed are arranged to face each other, and the first resistance film and the second resistance film are A method of manufacturing a touch panel for detecting a contact position,
Forming a plurality of contact protrusions and a plurality of spacer protrusions projecting higher than the contact protrusions on the first substrate;
Forming the first resistance film on the first substrate so as to cover the contact protrusions and the spacer protrusions;
Forming the second resistance film on the second substrate such that a predetermined position is a non-conductive portion with the first conductive film;
Bonding the first substrate and the second substrate so that the spacer projections correspond to the non-conductive portion;
It is characterized by having.

請求項16に記載の発明は、前記請求項15に記載のタッチパネルの製造方法において、前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起は、感光性樹脂の塗布、前記塗布した感光性樹脂への露光及び現像処理により順次形成することを特徴とする。   According to a sixteenth aspect of the present invention, in the touch panel manufacturing method according to the fifteenth aspect, the plurality of contact protrusions and the plurality of spacer protrusions may be coated with a photosensitive resin and applied to the coated photosensitive resin. It is characterized by forming sequentially by the exposure and development processes.

請求項17に記載の発明は、前記請求項15に記載のタッチパネルの製造方法において、前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起とを形成する工程は、
前記第1の基板上に第1の感光性樹脂を前記接点用突起と前記スペーサ用突起との高さの差に対応した厚さに塗布する工程と、
前記塗布した第1の感光性樹脂を露光及び現像処理して前記複数のスペーサ用突起の下層部分を形成する工程と、
前記下層部分を覆って前記第1の基板上に第2の感光性樹脂を前記接点用突起の高さに対応した厚さに塗布する工程と、
前記第2の感光性樹脂を露光及び現像処理して前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起の上層部分とを同時に形成する工程と、
からなることを特徴とする。
According to a seventeenth aspect of the present invention, in the touch panel manufacturing method according to the fifteenth aspect, the step of forming the plurality of contact protrusions and the plurality of spacer protrusions includes:
Applying a first photosensitive resin on the first substrate to a thickness corresponding to a difference in height between the contact protrusion and the spacer protrusion;
Exposing and developing the applied first photosensitive resin to form lower layer portions of the plurality of spacer protrusions;
Applying a second photosensitive resin on the first substrate so as to cover the lower layer portion to a thickness corresponding to the height of the contact protrusion;
A step of exposing and developing the second photosensitive resin to simultaneously form the plurality of contact projections and the plurality of spacer projections;
It is characterized by comprising.

請求項18に記載の発明は、前記請求項15に記載のタッチパネルの製造方法において、前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起は、ポジ型感光性樹脂の塗布、前記塗布したポジ型感光性樹脂への露光及び現像処理により同時に形成することを特徴とする。   According to an eighteenth aspect of the present invention, in the touch panel manufacturing method according to the fifteenth aspect, the plurality of contact protrusions and the plurality of spacer protrusions are coated with a positive photosensitive resin, and the applied positive type. It is characterized by being formed simultaneously by exposure to photosensitive resin and development processing.

請求項19に記載の発明は、前記請求項18に記載のタッチパネルの製造方法において、前記塗布したポジ型感光性樹脂への露光処理は、前記複数の接点用突起を形成するための複数の遮光部と前記複数のスペーサ用突起を形成するための遮光部とを有し、且つ前記スペーサ用突起を形成するための遮光部が前記接点用突起を形成するための遮光部よりも幅広に形成された露光マスクを用いて行うことを特徴とする。   According to a nineteenth aspect of the present invention, in the touch panel manufacturing method according to the eighteenth aspect of the present invention, the exposure treatment to the applied positive photosensitive resin includes a plurality of light shieldings for forming the plurality of contact protrusions. And a light shielding part for forming the plurality of spacer protrusions, and the light shielding part for forming the spacer protrusions is formed wider than the light shielding part for forming the contact protrusions. And using an exposure mask.

この発明によれば、タッチ側基板の撓み変形量を前記一対の基板間の間隙よりも充分に小さくし、前記タッチ側基板の撓み変形した部分における透過光の屈折を小さくすることができる。   According to this invention, the amount of bending deformation of the touch side substrate can be made sufficiently smaller than the gap between the pair of substrates, and the refraction of the transmitted light in the bent portion of the touch side substrate can be reduced.

タッチパネル付き表示装置の側面図。The side view of a display apparatus with a touch panel. この発明の第1実施例を示すタッチパネルの平面図。The top view of the touch panel which shows 1st Example of this invention. 第1実施例のタッチパネルのタッチ側基板の内面側から見た平面図。The top view seen from the inner surface side of the touch side board | substrate of the touch panel of 1st Example. 第1実施例のタッチパネルの反対側基板の内面側から見た平面図。The top view seen from the inner surface side of the board | substrate opposite side of the touch panel of 1st Example. 第1実施例のタッチパネルの断面図。Sectional drawing of the touchscreen of 1st Example. 第1実施例のタッチパネルの一部分の拡大断面図。The expanded sectional view of a part of touch panel of the 1st example. 第1実施例のタッチパネルの一部分のタッチ入力時の拡大断面図。The expanded sectional view at the time of touch input of a part of touch panel of the 1st example. 第1実施例のタッチパネルの製造における突起状接点及び柱状スペーサの形成工程を示す各工程の断面図。Sectional drawing of each process which shows the formation process of the protruding contact and columnar spacer in manufacture of the touch panel of 1st Example. 比較例のタッチパネルの一部分の拡大断面図。The expanded sectional view of a part of touch panel of a comparative example. 比較例のタッチパネルの製造における突起状接点及び柱状スペーサの形成工程を示す各工程の断面図。Sectional drawing of each process which shows the formation process of the protruding contact and columnar spacer in manufacture of the touch panel of a comparative example. タッチパネル駆動回路を示す図。The figure which shows a touch-panel drive circuit. この発明の第2実施例を示すタッチパネルの一部分の拡大断面図。The expanded sectional view of a part of touch panel which shows 2nd Example of this invention. 第2実施例のタッチパネルの製造における突起状接点及び柱状スペーサの形成工程を示す各工程の断面図。Sectional drawing of each process which shows the formation process of the protruding contact and columnar spacer in manufacture of the touch panel of 2nd Example. この発明の第3実施例を示すタッチパネルの一部分の拡大断面図。The expanded sectional view of a part of touch panel which shows 3rd Example of this invention. 第3実施例のタッチパネルの製造における突起状接点及び柱状スペーサの形成工程を示す各工程の断面図。Sectional drawing of each process which shows the formation process of the protruding contact and columnar spacer in manufacture of the touch panel of 3rd Example. 第3実施例のタッチパネルの製造における突起状接点及び柱状スペーサの形成するための感光性樹脂膜の露光処理の概念図。The conceptual diagram of the exposure process of the photosensitive resin film for forming the protrusion-shaped contact and columnar spacer in manufacture of the touch panel of 3rd Example.

まず、図1に示したタッチパネル付き表示装置について説明すると、この表示装置は、画像を表示する表示パネル1と、この表示パネル1の観察側に配置された抵抗膜型のタッチパネル10とにより構成されている。   First, the display device with a touch panel shown in FIG. 1 will be described. The display device includes a display panel 1 for displaying an image and a resistive film type touch panel 10 disposed on the observation side of the display panel 1. ing.

前記表示パネル1は、例えば、図示しないバックライトから照射された光の透過を制御して画像を表示する液晶表示パネルであり、予め定めた間隙を設けて対向配置され、周縁部において枠状のシール材4を介して接合された観察側とその反対側の一対の透明基板2,3と、前記一対の基板2,3の対向する内面それぞれに設けられ、互いに対向する領域により複数の画素を形成する透明電極(図示せず)と、前記一対の基板2,3間の間隙の前記シール材4により囲まれた領域に封入された液晶(図示せず)と、前記一対の基板2,3の外面にそれぞれ配置された偏光板5,6とからなっている。   The display panel 1 is, for example, a liquid crystal display panel that displays an image by controlling transmission of light emitted from a backlight (not shown). The display panel 1 is arranged to face each other with a predetermined gap, and has a frame shape at the peripheral edge. A pair of transparent substrates 2 and 3 on the observation side and the opposite side bonded via the sealant 4 and inner surfaces facing each other of the pair of substrates 2 and 3, a plurality of pixels are arranged by regions facing each other. A transparent electrode (not shown) to be formed, a liquid crystal (not shown) sealed in a region surrounded by the sealing material 4 in a gap between the pair of substrates 2 and 3, and the pair of substrates 2 and 3 The polarizing plates 5 and 6 are respectively disposed on the outer surface of the polarizing plate.

なお、この液晶表示パネルは、TN型、STN型、非ツイストのホモジニアス型、垂直配向型、ベンド配向型、強誘電性または反強誘電性液晶表示パネルのいずれでもよく、また、一対の基板の内面にそれぞれ複数の画素を形成するための電極を設けたものに限らず、一対の基板のいずれか一方の内面に、複数の画素を形成するための第1の電極と、それよりも液晶層側に前記第1の電極と絶縁して形成された複数の細長電極部を有する第2の電極とを設け、これらの電極間に横電界(基板面に沿う方向の電界)を生じさせて液晶分子の配向状態を変化させる横電界制御型のものでもよい。さらに、前記表示パネル1は、液晶表示パネルに限らず、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示パネル等の発光型表示パネルでもよい。   The liquid crystal display panel may be any of a TN type, STN type, non-twisted homogeneous type, vertical alignment type, bend alignment type, ferroelectric or antiferroelectric liquid crystal display panel, and a pair of substrates. The first electrode for forming a plurality of pixels on the inner surface of any one of a pair of substrates is not limited to the one provided with electrodes for forming a plurality of pixels on the inner surface, and the liquid crystal layer than that. A second electrode having a plurality of elongate electrode portions formed so as to be insulated from the first electrode is provided on the side, and a transverse electric field (an electric field in a direction along the substrate surface) is generated between these electrodes to generate liquid crystal A lateral electric field control type that changes the orientation state of molecules may be used. Further, the display panel 1 is not limited to a liquid crystal display panel, and may be a light emitting display panel such as an organic EL (electroluminescence) display panel.

前記タッチパネル10は、前記液晶表示パネル1の観察側に配置され、前記液晶表示パネル1の観察側偏光板5の外面に、透明な粘着材または樹脂からなる接着層7により貼付けられている。   The touch panel 10 is disposed on the observation side of the liquid crystal display panel 1, and is adhered to the outer surface of the observation side polarizing plate 5 of the liquid crystal display panel 1 with an adhesive layer 7 made of a transparent adhesive material or resin.

この発明の第1の実施例のタッチパネル10は、図2〜図7のように、互いに対向させて配置された第1と第2の一対の透明基板11,12と、これらの基板11,12のうちの第1の基板、例えばタッチ側基板11の第2の基板(以下、反対側基板という)12と対向する内面の複数の位置にそれぞれ予め定めた高さに突出させて設けられた複数の接点用突起13と、前記タッチ側基板11の内面の前記複数の接点用突起13とは異なる複数の位置にそれぞれ前記接点用突起13よりも高く突出させて予め定めた高さに設けられた複数のスペーサ用突起14と、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13及び前記複数のスペーサ用突起14を覆って、これらの接点用突起13及びスペーサ用突起14を覆う部分が他の部分よりも突出する形状に形成された第1の抵抗膜15と、前記他方の基板、つまり反対側基板12の前記タッチ側基板11と対向する内面に、前記第1の抵抗膜15と対向させて形成され、前記複数のスペーサ用突起14と対応する部分にそれぞれ前記第1の抵抗膜15に対する非導通部17が設けられた第2の抵抗膜16とを備えている。   As shown in FIGS. 2 to 7, the touch panel 10 according to the first embodiment of the present invention includes a first and a second pair of transparent substrates 11 and 12 arranged to face each other, and these substrates 11 and 12. A plurality of first substrates, for example, a plurality of projections provided at a plurality of positions on the inner surface facing the second substrate (hereinafter referred to as the opposite substrate) 12 of the touch-side substrate 11 so as to protrude to predetermined heights, respectively. The contact projections 13 and the plurality of contact projections 13 on the inner surface of the touch side substrate 11 are provided at a predetermined height by projecting higher than the contact projections 13 at a plurality of positions. A plurality of spacer projections 14 and a portion covering the plurality of contact projections 13 and the plurality of spacer projections 14 on the inner surface of the touch-side substrate 11 and covering the contact projections 13 and the spacer projections 14. Is the other part The first resistance film 15 formed in a protruding shape and the inner surface of the other substrate, that is, the opposite substrate 12 that faces the touch side substrate 11, are opposed to the first resistance film 15. And a second resistance film 16 provided with non-conductive portions 17 for the first resistance film 15 at portions corresponding to the plurality of spacer protrusions 14.

前記一対の基板11,12のうちのタッチ側基板11は、矩形形状に形成されたガラス板または樹脂フィルムからなっており、反対側基板12は、前記タッチ側基板11と実質的に同じ大きさの矩形形状に形成され、且つその1つの縁部に、前記タッチ側基板11の外方に張出す張出部12aが一体に形成されたガラス板からなっている。   The touch side substrate 11 of the pair of substrates 11 and 12 is made of a glass plate or a resin film formed in a rectangular shape, and the opposite side substrate 12 is substantially the same size as the touch side substrate 11. And is formed of a glass plate integrally formed with an overhanging portion 12a projecting outward from the touch-side substrate 11 at one edge thereof.

なお、図では省略しているが、前記一対の基板11,12の内面にはそれぞれその全体にわたってSiO膜が設けられており、タッチ側基板11の内面のSiO膜上に、前記複数の接点用突起13及びスペーサ用突起14と第1の抵抗膜15とが形成され、反対側基板12の内面のSiO膜上に、前記第2の抵抗膜16が形成されている。 Although not shown in the figure, an SiO 2 film is provided over the entire inner surface of each of the pair of substrates 11 and 12, and the plurality of the plural substrates are formed on the SiO 2 film on the inner surface of the touch side substrate 11. Contact protrusions 13 and spacer protrusions 14 and a first resistance film 15 are formed, and the second resistance film 16 is formed on the SiO 2 film on the inner surface of the opposite substrate 12.

また、前記複数の接点用突起13と前記複数のスペーサ用突起14はそれぞれ透明な感光性樹脂により形成されており、前記第1と第2の抵抗膜15,16はそれぞれ、ITO等からなる0.05〜0.20μmの膜厚の透明導電膜により形成されている。   The plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 are each formed of a transparent photosensitive resin, and the first and second resistance films 15 and 16 are each made of ITO or the like. It is formed of a transparent conductive film having a thickness of 0.05 to 0.20 μm.

前記各接点用突起13及び各スペーサ用突起14は、所定の間隔で配置されているとともに、隣接した2つのスペーサ用突起14,14の間に2つ以上の接点用突起13が配置されている。   The contact projections 13 and the spacer projections 14 are arranged at a predetermined interval, and two or more contact projections 13 are arranged between two adjacent spacer projections 14 and 14. .

この実施例において、前記各スペーサ用突起14は、所定の方形領域の4つの角部のそれぞれに配置され、前記各接点用突起13は、少なくとも前記方形領域内に、所定の間隔で配置されている。   In this embodiment, each of the spacer protrusions 14 is disposed at each of four corners of a predetermined rectangular region, and each of the contact protrusions 13 is disposed at least within the rectangular region at a predetermined interval. Yes.

そして、前記タッチ側基板11の内面に設けられた複数の接点用突起13と第1の抵抗膜15の前記複数の接点用突起13を覆う部分とにより、前記タッチ側基板11の外面側からのタッチによる撓み変形によって前記第2の抵抗膜16に接触し、前記第1の抵抗膜15と前記第2の抵抗膜16とをタッチ部において導通させる複数の突起状接点18が形成され、前記複数のスペーサ用突起14と前記第1の抵抗膜15の前記複数のスペーサ用突起14を覆う部分とにより、前記第2の抵抗膜16の前記非導通部17において前記反対側基板12の内面に当接して前記一対の基板11,12間の間隙を前記複数の突起状接点18の高さよりも大きい値に規定する複数の柱状スペーサ19が形成されている。   Then, a plurality of contact protrusions 13 provided on the inner surface of the touch side substrate 11 and a portion of the first resistance film 15 covering the plurality of contact protrusions 13 from the outer surface side of the touch side substrate 11. A plurality of protruding contact points 18 are formed, which are in contact with the second resistance film 16 by bending deformation due to touch, and electrically connect the first resistance film 15 and the second resistance film 16 in the touch portion. The spacer projection 14 and the portion of the first resistance film 15 that covers the plurality of spacer projections 14 contact the inner surface of the opposite substrate 12 in the non-conductive portion 17 of the second resistance film 16. A plurality of columnar spacers 19 are formed in contact with each other to define a gap between the pair of substrates 11 and 12 to a value larger than the height of the plurality of protruding contact points 18.

また、前記反対側基板12の内面に形成された第2の抵抗膜16の前記複数のスペーサ用突起14と対応する部分に設けられた複数の非導通部17は、前記スペーサ用突起14の先端面の面積よりも大きい面積を有している。この実施例において、前記非導通部17は、前記第2の抵抗膜16の複数のスペーサ用突起14と対応する部分を除去して形成された孔からなっている。以下、この非導通部17を、非導通孔という。   Further, the plurality of non-conductive portions 17 provided in the portion corresponding to the plurality of spacer projections 14 of the second resistance film 16 formed on the inner surface of the opposite substrate 12 are the tips of the spacer projections 14. The area is larger than the area of the surface. In this embodiment, the non-conductive portion 17 is formed of a hole formed by removing portions corresponding to the plurality of spacer projections 14 of the second resistance film 16. Hereinafter, the non-conductive portion 17 is referred to as a non-conductive hole.

前記一対の基板11,12は、これらの基板11,12の内面それぞれに形成された前記第1と第2の抵抗膜15,16を対向させ、且つ、前記タッチ側基板11の内面に設けられた複数の柱状スペーサ19の先端を、前記反対側基板12の内面の第2の抵抗膜16に形成された複数の非導通孔17内において前記反対側基板12の内面に当接させ、前記タッチ側基板11の内面に設けられた複数の突起状接点18の先端をそれぞれ、前記第2の抵抗膜16に間隙を設けて対向させた状態で、これらの基板11,12の周縁部の間に配置され、前記一対の基板11,12間の間隙をその全周にわたってシールする枠状のシール材26により接合されており、前記一対の基板11,12間の前記シール材26により囲まれた間隙に、絶縁性液体30が封入されている。   The pair of substrates 11 and 12 are provided on the inner surface of the touch-side substrate 11 with the first and second resistance films 15 and 16 formed on the inner surfaces of the substrates 11 and 12 facing each other. Further, the tips of the plurality of columnar spacers 19 are brought into contact with the inner surface of the opposite substrate 12 in the plurality of non-conductive holes 17 formed in the second resistance film 16 on the inner surface of the opposite substrate 12, and the touch In the state where the tips of the plurality of protruding contacts 18 provided on the inner surface of the side substrate 11 are opposed to the second resistance film 16 with a gap, respectively, between the peripheral portions of the substrates 11 and 12. The gap between the pair of substrates 11 and 12 is joined by a frame-like sealant 26 that seals the gap between the pair of substrates 11 and 12 over the entire circumference, and the gap surrounded by the sealant 26 between the pair of substrates 11 and 12. Insulating liquid 0 is sealed.

この実施例のタッチパネル10は、前記枠状のシール材26によるシール部よりも内側の矩形状領域を、タッチ入力を行なうためのタッチエリア31としたものであり、前記第1と第2の抵抗膜15,16はそれぞれ、前記タッチエリア31よりも大きく、且つ前記シール部の外形よりも小さい矩形形状に形成されている。   In the touch panel 10 of this embodiment, a rectangular area inside a seal portion by the frame-shaped seal material 26 is used as a touch area 31 for performing touch input, and the first and second resistors The films 15 and 16 are each formed in a rectangular shape that is larger than the touch area 31 and smaller than the outer shape of the seal portion.

そして、前記複数の柱状スペーサ19は、前記枠状のシール材26により囲まれた領域、つまり前記タッチエリア31に対応する領域内に、前記各スペーサ用突起14の配置に対応して、所定の方形領域、例えば正方形領域の4つの角部のそれぞれに配置されており、前記複数の突起状接点18は、前記タッチエリア31に対応する領域内に、前記各接点用突起13の配置に対応して、隣接した2つの柱状スペーサ14,14の間に2つ以上ずつ配置されている。   The plurality of columnar spacers 19 are formed in a predetermined area corresponding to the arrangement of the spacer protrusions 14 in an area surrounded by the frame-shaped sealing material 26, that is, an area corresponding to the touch area 31. Each of the plurality of protruding contacts 18 corresponds to the arrangement of the contact protrusions 13 in the area corresponding to the touch area 31. Two or more adjacent columnar spacers 14 and 14 are arranged.

この実施例において、前記複数の突起状接点18は、互いに直交する2つの方向、例えば前記タッチエリア31の左右方向と上下方向とにそれぞれ予め定めたピッチで、且つ前記2つの方向の各接点列中にそれぞれ、予め定めた数の突起状接点18毎に1つの突起状接点18を省略した複数の無接点部を設けた配列パターンで配置されており、前記複数の柱状スペーサ19は、前記複数の無接点部に配置されている。なお、図3では、前記突起状接点18と柱状スペーサ19とを区別しやすいように、柱状スペーサ19を黒く塗り潰している。   In this embodiment, the plurality of protruding contacts 18 are arranged in a predetermined pitch in two directions orthogonal to each other, for example, in the horizontal direction and the vertical direction of the touch area 31, and each contact row in the two directions. Each of the plurality of columnar spacers 19 is arranged in an array pattern in which a plurality of contactless parts are provided by omitting one protruding contact 18 for every predetermined number of protruding contacts 18. It is arranged at the non-contact part. In FIG. 3, the columnar spacers 19 are blacked out so that the protruding contacts 18 and the columnar spacers 19 can be easily distinguished.

なお、前記複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14はそれぞれ、前記透明な感光性樹脂を予め定めた厚さに塗布し、その樹脂膜を露光及び現像処理することにより形成されたものであり、露光処理された前記樹脂膜を現像処理する際に、前記樹脂膜が膜表面に近い側ほど長時間現像液にされるため、前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14はいずれも、その基部から先端に向かって径が小さくなった形状に形成される。   Each of the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 is formed by applying the transparent photosensitive resin to a predetermined thickness, and exposing and developing the resin film. When the exposed resin film is developed, the closer the resin film is to the surface of the film, the longer the developer is used, so that the plurality of contact projections 13 and the plurality of spacer projections 14 Each is formed in a shape with a diameter decreasing from the base to the tip.

図5〜図7では、前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14の高さを大きく誇張しているが、これらの接点用突起13及びスペーサ用突起14の周面の傾斜角(タッチ側基板11面に対する角度)は、実際には40°〜50°であり、したがって、第1の抵抗膜15を、前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14の全体を覆って均一な膜厚に成膜し、前記複数の突起状接点18及び複数の柱状スペーサ19を形成することができる。   5 to 7, the heights of the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 are greatly exaggerated, but the inclination angles of the peripheral surfaces of the contact protrusions 13 and the spacer protrusions 14 ( The angle with respect to the surface of the touch-side substrate 11 is actually 40 ° to 50 °. Therefore, the first resistance film 15 covers the entirety of the plurality of contact projections 13 and the plurality of spacer projections 14. The plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 can be formed by forming a film with a uniform thickness.

具体的には、前記複数の突起状接点18は、タッチ側基板11面と平行な断面形状が円形で、基部の直径が15μmまたは30μm、高さが2.0μmの形状に形成され、前記複数の柱状スペーサ19は、前記基板11面と平行な断面形状が円形で、基部の直径が30μm、高さが2.5μm、3.0μm、4.0μmのいずれかのテーパー柱形状に形成されている。   Specifically, the plurality of protruding contacts 18 have a circular cross-sectional shape parallel to the surface of the touch-side substrate 11, a base having a diameter of 15 μm or 30 μm, and a height of 2.0 μm. The columnar spacer 19 has a circular cross-sectional shape parallel to the surface of the substrate 11 and a tapered columnar shape having a base diameter of 30 μm, a height of 2.5 μm, 3.0 μm, or 4.0 μm. Yes.

そして、前記複数の突起状接点18は、前記2つの方向(タッチエリア31の左右方向と上下方向)にそれぞれ、0.05mm、0.1mm、0.2mmのいずれかのピッチP1で配列され、前記突起状接点18を省略した複数の無接点部にそれぞれ設けられた前記複数の柱状スペーサ19は、前記2つの方向にそれぞれ、2mmまたは4mmのピッチP2で配置されている。   The plurality of protruding contacts 18 are arranged at a pitch P1 of 0.05 mm, 0.1 mm, or 0.2 mm, respectively, in the two directions (the horizontal direction and the vertical direction of the touch area 31). The plurality of columnar spacers 19 provided respectively in the plurality of non-contact portions from which the protruding contacts 18 are omitted are arranged in the two directions at a pitch P2 of 2 mm or 4 mm, respectively.

なお、図3及び図5〜図7では、便宜上、5個の突起状接点18毎に1つの柱状スペーサ19を配置しているが、前記複数の突起状接点18のピッチP1と前記複数の柱状スペーサ19のピッチP2とがP1=0.05mm、P2=2mmの場合は、38個の突起状接点18毎に1つの柱状スペーサ19が配置され、P1=0.2mm、P2=4mmの場合は、18個の突起状接点18毎に1つの柱状スペーサ19が配置される。   In FIG. 3 and FIGS. 5 to 7, for convenience, one columnar spacer 19 is arranged for every five protruding contacts 18. However, the pitch P <b> 1 of the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar contacts are arranged. When the pitch P2 of the spacers 19 is P1 = 0.05 mm and P2 = 2 mm, one columnar spacer 19 is arranged for every 38 projecting contacts 18, and when P1 = 0.2 mm and P2 = 4 mm A columnar spacer 19 is disposed for every 18 protruding contact points 18.

また、前記反対側基板12の張出部12aには、前記タッチ側基板11に設けられた第1の抵抗膜15の一方の方向、例えば前記タッチエリア31の左右方向(以下、X軸方向という)の両端と、前記反対側基板12に設けられた第2の抵抗膜16の前記一方の方向に対して直交する方向、つまり前記タッチエリア31の上下方向(以下、Y軸方向という)の両端とをそれぞれ図11に示したタッチパネル駆動回路33に接続するための複数、例えば4つの駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bが設けられている。   Further, in the protruding portion 12a of the opposite substrate 12, one direction of the first resistive film 15 provided on the touch side substrate 11, for example, the left and right direction of the touch area 31 (hereinafter referred to as the X-axis direction). ) And both ends of the second resistance film 16 provided on the opposite substrate 12 in a direction orthogonal to the one direction, that is, in the vertical direction of the touch area 31 (hereinafter referred to as the Y-axis direction). Are connected to the touch panel drive circuit 33 shown in FIG. 11, for example, four drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, and 23b are provided.

さらに、前記駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bが設けられた反対側基板12の内面には、前記タッチ側基板11に設けられた第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の縁部にそれぞれ対向する複数の第1の電極20a,20bと、前記反対側基板12に設けられた前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端の縁部にそれぞれ形成された複数の第2の電極21a,21bと、前記複数の第1の電極20a,20b及び前記複数の第2の電極21a,21bを前記張出部12aに設けられた4つの駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bにそれぞれ接続する複数の配線24a,24b,25a,25bとが設けられている。   Further, on the inner surface of the opposite substrate 12 provided with the drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, and 23b, edges of both ends in the X-axis direction of the first resistance film 15 provided on the touch side substrate 11 are provided. A plurality of first electrodes 20a and 20b that face each other, and a plurality of second electrodes formed at edges of both ends in the Y-axis direction of the second resistance film 16 provided on the opposite substrate 12 respectively. Electrode 21a, 21b, and the plurality of first electrodes 20a, 20b and the plurality of second electrodes 21a, 21b, four drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a provided on the overhanging portion 12a, A plurality of wirings 24a, 24b, 25a, and 25b that are respectively connected to 23b are provided.

この実施例において、前記タッチ側基板11に設けられた第1の抵抗膜15は、前記X軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記枠状のシール材26によるシール部に位置し、X軸方向に対して直交するY軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記シール部よりも内方に位置する形状に形成され、前記反対側基板12に設けられた第2の抵抗膜16は、前記X軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記シール部よりも内方に位置し、前記Y軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記シール部の近傍または前記シール部に対応する形状に形成されている。   In this embodiment, the first resistance film 15 provided on the touch-side substrate 11 has side portions at both ends in the X-axis direction positioned at seal portions by the frame-shaped sealing material 26, respectively. The second resistance film 16 provided on the opposite substrate 12 is formed in a shape in which side portions at both ends in the Y-axis direction orthogonal to the inner side are positioned inward of the seal portion. The side portions at both ends in the direction are positioned inward of the seal portion, and the side portions at both ends in the Y-axis direction are formed in the vicinity of the seal portion or corresponding to the seal portion, respectively.

また、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部にそれぞれ対向する複数の第1の電極20a,20bは、前記シール部に設けられており、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端の辺部にそれぞれ形成された複数の第2の電極21a,21bは、前記第2の抵抗膜16の上に積層されている。   In addition, a plurality of first electrodes 20 a and 20 b that are opposed to the sides of both ends in the X-axis direction of the first resistance film 15 are provided on the seal portion, and the second resistance film 16 A plurality of second electrodes 21 a and 21 b formed on both sides of the both ends in the Y-axis direction are stacked on the second resistance film 16.

なお、この実施例のタッチパネル10は、前記第1の電極20a,20bを、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端の辺部と他端の辺部とにそれぞれ対向させて1つずつ設け、前記第2の電極21a,21bを、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端の辺部と他端の辺部とにそれぞれ対向させて1つずつ設けたものであり、前記2つの第1の電極20a,20bは、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部の略全長にそれぞれ対向させて連続した帯形状に形成され、前記2つの第2の電極21a,21bは、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端の辺部の略全長にわたって連続した帯形状に形成されている。   In the touch panel 10 of this embodiment, the first electrodes 20a and 20b are provided so as to be opposed to the side of one end and the side of the other end of the first resistance film 15, respectively. The second electrodes 21a and 21b are provided one by one so as to face the side of one end and the side of the other end of the second resistance film 16 respectively. The two first electrodes 20a and 20b are formed in a continuous band shape so as to be opposed to substantially the entire length of the sides of the first resistance film 15 in the X-axis direction, respectively, and the two second electrodes The electrodes 21a and 21b are formed in a continuous belt shape over substantially the entire length of the sides of the second resistance film 16 at both ends in the Y-axis direction.

前記2つの第1の電極20a,20bと前記2つの第2の電極21a,21bは、前記シール部に対応する部分に配線された複数(この実施例では4本)の配線24a,24b,25a,25bにより、前記張出部12aに設けられた4つの駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bにそれぞれ接続されている。   The two first electrodes 20a, 20b and the two second electrodes 21a, 21b are a plurality (four in this embodiment) of wirings 24a, 24b, 25a wired at portions corresponding to the seal portion. , 25b are connected to four drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, 23b provided on the overhanging portion 12a, respectively.

なお、前記第1の電極20a,20b及び第2の電極21a,21bと、前記駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bと、前記配線24a,24b,25a,25bは、前記反対側基板12上または前記第2の抵抗膜16上に、モリブデンからなる第1層と、アルミニウム系合金からなる第2層と、モリブデンからなる第3膜とを積層して成膜し、この3層の積層膜をパターニングして形成されている。   The first electrodes 20a, 20b and the second electrodes 21a, 21b, the drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, 23b, and the wirings 24a, 24b, 25a, 25b are connected to the opposite substrate 12. A first layer made of molybdenum, a second layer made of an aluminum-based alloy, and a third film made of molybdenum are stacked on or on the second resistance film 16, and the three layers are stacked. The film is formed by patterning.

そして、前記第1の抵抗膜15の前記X軸方向の両端の辺部と前記2つの第1の電極20a,20bとはそれぞれ、前記シール部において導電性部材により接続されている。この実施例において、前記シール部は、前記枠状のシール材26と、このシール材26中に、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部と前記2つの第1の電極20a,20bとを接続するための導電性部材として分散された、前記一対の基板11,12間の間隙に対応する直径を有する複数の球状の導電性粒子27とからなっている。   The sides of the first resistance film 15 at both ends in the X-axis direction and the two first electrodes 20a and 20b are connected to each other by a conductive member at the seal portion. In this embodiment, the sealing portion includes the frame-shaped sealing material 26, the side portions at both ends in the X-axis direction of the first resistance film 15, and the two first electrodes in the sealing material 26. It consists of a plurality of spherical conductive particles 27 having a diameter corresponding to the gap between the pair of substrates 11 and 12, dispersed as a conductive member for connecting 20a and 20b.

前記シール材26は、前記一対の基板11,12のいずれか一方の内面上に、前記反対側基板12の張出部12aが形成された側とは反対側の縁部に対応する辺部を部分的に欠落させて液体注入口28を設けた形状に印刷されており、前記一対の基板11,12は、前記タッチ側基板11の内面(第1の抵抗膜15上)に設けられた前記複数の柱状スペーサ19をそれぞれ、反対側基板12の内面に設けられた第2の抵抗膜16の複数の非導通孔17内において前記反対側基板12の内面に当接させることにより、これらの基板11,12間の間隙を前記複数の柱状スペーサ19により規定され、その状態で前記シール材26を硬化させることにより、前記シール材26を介して接合されている。   The sealing material 26 has a side portion corresponding to an edge portion on the opposite side to the side where the protruding portion 12a of the opposite substrate 12 is formed on the inner surface of one of the pair of substrates 11 and 12. It is printed in a shape that is partially removed and provided with a liquid injection port 28, and the pair of substrates 11, 12 is provided on the inner surface (on the first resistance film 15) of the touch side substrate 11. Each of the plurality of columnar spacers 19 is brought into contact with the inner surface of the opposite substrate 12 in the plurality of non-conductive holes 17 of the second resistance film 16 provided on the inner surface of the opposite substrate 12. The gaps 11 and 12 are defined by the plurality of columnar spacers 19, and in this state, the sealing material 26 is cured to be joined via the sealing material 26.

そして、前記タッチ側基板11に設けられた第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部と、前記反対側基板12に前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部にそれぞれ対向させて設けられた2つの第1の電極20a,20bとは、前記一対の基板11,12を前記シール材26を介して接合することにより、前記シール材26中に分散された球状の導電性粒子27のうちの前記第1の抵抗膜15と前記第1の電極20a,20bとの間に挟持された複数の前記導電性粒子27によって電気的に接続されている。   And the side part of the both ends of the X-axis direction of the 1st resistance film 15 provided in the said touch side board | substrate 11, and the side part of the both ends of the X-axis direction of the said 1st resistance film 15 in the said opposite side board | substrate 12 The two first electrodes 20a and 20b provided to face each other are connected to the pair of substrates 11 and 12 via the sealing material 26, thereby dispersing the spherical particles dispersed in the sealing material 26. Of the conductive particles 27, the plurality of conductive particles 27 sandwiched between the first resistive film 15 and the first electrodes 20a and 20b are electrically connected.

また、前記一対の基板11,12間の前記シール材26により囲まれた間隙に封入された絶縁性液体30は、密閉されたチャンバ内において、前記チャンバ内を真空状態にして前記液体注入口28を前記絶縁性液体30の浴に浸し、その状態でチャンバ内を大気圧に戻すことにより、前記チャンバ内と前記一対の基板11,12間の間隙内との圧力差によって前記絶縁性液体30を前記液体注入口28から前記一対の基板11,12間の間隙に注入することにより充填され、前記液体注入口28は、前記絶縁性液体30の充填後に封止樹脂29によって封止される。   Further, the insulating liquid 30 sealed in the gap surrounded by the sealant 26 between the pair of substrates 11 and 12 is evacuated into the liquid inlet 28 in the sealed chamber. Is immersed in a bath of the insulating liquid 30 and the inside of the chamber is returned to the atmospheric pressure in this state, so that the insulating liquid 30 is reduced by the pressure difference between the chamber and the gap between the pair of substrates 11 and 12. The liquid filling port 28 is filled by pouring into the gap between the pair of substrates 11 and 12, and the liquid filling port 28 is sealed with a sealing resin 29 after filling with the insulating liquid 30.

前記絶縁性液体30は、前記一対の基板11,12との光の屈折率の差が0.1以下の透明な液体である。すなわち、前記一対の基板11,12がそれぞれガラス板である場合、これらの基板11,12の屈折率は約1.5であり、前記絶縁性液体30は、約1.4〜1.5の範囲の屈折率を有している。この絶縁性液体30は、前記一対の基板11,12の屈折率により近い屈折率、つまり約1.5の屈折率を有しているのが好ましい。   The insulating liquid 30 is a transparent liquid having a difference in light refractive index between the pair of substrates 11 and 12 of 0.1 or less. That is, when each of the pair of substrates 11 and 12 is a glass plate, the refractive index of the substrates 11 and 12 is about 1.5, and the insulating liquid 30 is about 1.4 to 1.5. Has a refractive index in the range. The insulating liquid 30 preferably has a refractive index closer to the refractive index of the pair of substrates 11 and 12, that is, a refractive index of about 1.5.

この実施例では、前記絶縁性液体30として、常温で光学的に等方性な材料、例えば、5℃以上の温度においてアイソトロピック相を示す液晶(N−I点が5℃未満のネマティック液晶)を前記一対の基板11,12間の間隙に封入している。このような特性の液晶としては、具体的には、2〜3つのシクロヘキサンまたはベンゼン環と、その両端にアルキル基を有し、誘電視異方性を実質的に持たない液晶材料を用いることができる。   In this embodiment, the insulating liquid 30 is an optically isotropic material at room temperature, for example, a liquid crystal exhibiting an isotropic phase at a temperature of 5 ° C. or higher (nematic liquid crystal having an NI point of less than 5 ° C.). Is enclosed in a gap between the pair of substrates 11 and 12. Specifically, a liquid crystal material having two or three cyclohexane or benzene rings and alkyl groups at both ends thereof and having substantially no dielectric anisotropy is used as the liquid crystal having such characteristics. it can.

前記タッチパネル10は、図7のように、前記タッチ側基板11の外面側から指先32等によってタッチ入力されるものであり、タッチ入力が行われると、前記タッチ側基板11がその外面側からのタッチにより内面方向に撓み変形し、前記タッチ側基板11の内面の複数の位置にそれぞれ設けられた複数の突起状接点18のうちのタッチ部(タッチ側基板11の撓み変形部)の突起状接点18が反対側基板12の内面の第2の抵抗膜16に接触し、前記第1の抵抗膜15と前記第2の抵抗膜16とがタッチ部において導通する。   As shown in FIG. 7, the touch panel 10 is touch-input from the outer surface side of the touch-side substrate 11 by a fingertip 32 or the like. When touch input is performed, the touch-side substrate 11 is moved from the outer surface side. A protruding contact of a touch portion (a bending deformation portion of the touch side substrate 11) among the plurality of protruding contacts 18 respectively deformed by touching toward the inner surface direction and provided at a plurality of positions on the inner surface of the touch side substrate 11. 18 is in contact with the second resistance film 16 on the inner surface of the opposite substrate 12, and the first resistance film 15 and the second resistance film 16 are electrically connected in the touch portion.

このタッチパネル10は、前記タッチ側基板11の内面の複数の突起状接点18が、前記タッチ側基板11の内面の複数の位置にそれぞれ予め定めた高さに突出させて設けられた接点用突起13と、前記タッチ側基板11の内面に前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14を覆って設けられた第1の抵抗膜15の前記接点用突起13を覆う部分とにより形成されているため、前記複数の突起状接点18が、前記第1の抵抗膜15の複数の突起状接点18間の部分の膜面よりも突出しており、したがって、前記タッチ側基板11の外面側からのタッチによる撓み変形により、前記第1の抵抗膜15と反対側基板12の内面の第2の抵抗膜16とが、タッチ部において前記突起状接点18を介して局部的に導通する。   In the touch panel 10, a plurality of protruding contacts 18 on the inner surface of the touch-side substrate 11 are provided at a plurality of positions on the inner surface of the touch-side substrate 11 at predetermined heights, respectively. And a portion of the first resistance film 15 provided on the inner surface of the touch-side substrate 11 so as to cover the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 and covering the contact protrusions 13. Therefore, the plurality of protruding contacts 18 protrude from the film surface of the portion between the plurality of protruding contacts 18 of the first resistance film 15, and therefore from the outer surface side of the touch side substrate 11. Due to the bending deformation due to the touch, the first resistance film 15 and the second resistance film 16 on the inner surface of the opposite substrate 12 are locally connected to each other through the protruding contact 18 in the touch portion.

そのため、前記第1の抵抗膜15と第2の抵抗膜16とをタッチ部において局部的に導通させるのに必要なタッチ側基板11の撓み変形量を、前記一対の基板11,12間の間隙よりも充分に小さくすることができる。   Therefore, the amount of bending deformation of the touch-side substrate 11 required to locally connect the first resistance film 15 and the second resistance film 16 in the touch portion is determined as the gap between the pair of substrates 11 and 12. Can be made sufficiently smaller.

すなわち、この実施例では上述したように、前記複数の突起状接点18を2.0の高さに形成し、前記複数の柱状スペーサ19を、2.5μm、3.0μm、4.0μmのいずれかの高さに形成しているため、前記複数の突起状接点18の先端と反対側基板12の内面の第2の抵抗膜16との間のギャップΔd(図6参照)は、0.5μm、1.0μm、2.0μmのいずれかである。   That is, in this embodiment, as described above, the plurality of protruding contacts 18 are formed at a height of 2.0, and the plurality of columnar spacers 19 are any of 2.5 μm, 3.0 μm, and 4.0 μm. The gap Δd (see FIG. 6) between the tips of the plurality of protruding contacts 18 and the second resistance film 16 on the inner surface of the opposite substrate 12 is 0.5 μm. , 1.0 μm, or 2.0 μm.

そして、前記第1の抵抗膜15と第2の抵抗膜16は、前記タッチ側基板11の外面側からのタッチによる前記タッチ側基板11の撓み変形により、前記突起状接点18が前記第2の抵抗膜16に接触することによって導通されるため、前記第1の抵抗膜15と第2の抵抗膜16とを導通させるのに必要なタッチ側基板11の撓み変形量は、前記突起状接点18の先端と前記第2の抵抗膜16との間のギャップΔdに対応した、2.0μm、1.0μm、0.5μmのいずれかの極く小さい値である。   Then, the first resistive film 15 and the second resistive film 16 are formed so that the protruding contact 18 is connected to the second resistive film 18 by the bending deformation of the touch-side substrate 11 due to the touch from the outer surface side of the touch-side substrate 11. Since conduction is made by contacting the resistance film 16, the amount of bending deformation of the touch-side substrate 11 necessary for conducting the first resistance film 15 and the second resistance film 16 is the protruding contact 18. Any one of 2.0 μm, 1.0 μm, and 0.5 μm corresponding to the gap Δd between the tip of the second resistor film 16 and the second resistive film 16 is extremely small.

そのため、前記タッチパネル10によれば、前記タッチ側基板11の撓み変形した部分における透過光の屈折を小さくすることができ、したがって、図1に示したタッチパネル付き表示装置は、表示パネル1の表示画像を、前記タッチ側基板11の撓み変形した部分においても歪みをほとんど生じさせること無く観察させることができる。   Therefore, according to the touch panel 10, it is possible to reduce the refraction of the transmitted light in the bent and deformed portion of the touch side substrate 11. Therefore, the display device with a touch panel shown in FIG. Can be observed in the bent part of the touch side substrate 11 with almost no distortion.

また、前記タッチパネル10は、前記第1の抵抗膜15と第2の抵抗膜15とをタッチ部において局部的に導通させるのに必要なタッチ側基板11の撓み変形量が小さいため、タッチ入力を僅かな押圧力で行うことができ、したがって、軽いタッチ感を得ることができる。   In addition, the touch panel 10 has a small amount of bending deformation of the touch-side substrate 11 necessary to locally connect the first resistance film 15 and the second resistance film 15 in the touch portion, and therefore, touch input can be performed. It can be performed with a slight pressing force, and thus a light touch feeling can be obtained.

さらに、前記タッチパネル10は、前記一対の基板11,12間の間隙に、絶縁性液体30を封入しているため、このタッチパネル10を透過する光の基板11,12と絶縁性液体30の層との見かけ上の界面、つまり前記抵抗膜15,16が介在した界面での反射や屈折を小さくすることができ、したがって、前記表示パネル1の表示画像を充分な明るさで観察させることができる。   Further, since the touch panel 10 encloses the insulating liquid 30 in the gap between the pair of substrates 11 and 12, the light substrates 11 and 12 that pass through the touch panel 10 and the layer of the insulating liquid 30 Thus, reflection and refraction at the apparent interface, that is, the interface where the resistance films 15 and 16 are interposed, can be reduced. Therefore, the display image of the display panel 1 can be observed with sufficient brightness.

すなわち、前記一対の基板11,12の内面にはそれぞれTIO膜等からなる抵抗膜15,16が設けられているため、前記タッチパネル10を透過する光は、タッチ側基板11と第1の抵抗膜15との界面及び反対側基板12と第2の抵抗膜16との界面と、前記第1及び第2の抵抗膜15,16と一対の基板11,12間の間隙との界面とで反射するか、或いはこれらの界面で屈折する。   That is, since the resistance films 15 and 16 made of a TIO film or the like are provided on the inner surfaces of the pair of substrates 11 and 12, light transmitted through the touch panel 10 is transmitted to the touch side substrate 11 and the first resistance film. And the interface between the opposite substrate 12 and the second resistive film 16 and the interface between the first and second resistive films 15 and 16 and the gap between the pair of substrates 11 and 12. Or refracted at these interfaces.

しかし、前記タッチパネル10は、前記一対の基板11,12間の間隙に絶縁性液体30を封入しているため、前記間隙が屈折率が1の空気層である場合に比べて、前記第1及び第2の抵抗膜15,16と一対の基板11,12間の間隙との屈折率の差が小さい。なお、ITO膜等からなる前記抵抗膜15,16の屈折率は約1.8であり、前記絶縁性液体30の屈折率は上述したように約1.4〜1.5の範囲であるため、前記抵抗膜15,16と前記絶縁性液体30との屈折率の差は、約0.4〜0.3の範囲である。   However, since the touch panel 10 encloses the insulating liquid 30 in the gap between the pair of substrates 11 and 12, the first and second touch panels 10 are compared with the case where the gap is an air layer having a refractive index of 1. The difference in refractive index between the second resistance films 15 and 16 and the gap between the pair of substrates 11 and 12 is small. Note that the refractive index of the resistive films 15 and 16 made of ITO film or the like is about 1.8, and the refractive index of the insulating liquid 30 is in the range of about 1.4 to 1.5 as described above. The difference in refractive index between the resistance films 15 and 16 and the insulating liquid 30 is in the range of about 0.4 to 0.3.

そのため、前記タッチパネル10は、前記基板11.12と前記絶縁性液体30の層との見かけ上の界面での光の反射及び屈折が、前記間隙が屈折率が1の空気層である場合に比べて少ない。   Therefore, the touch panel 10 has light reflection and refraction at the apparent interface between the substrate 11.12 and the layer of the insulating liquid 30 as compared with the case where the gap is an air layer having a refractive index of 1. And few.

前記絶縁性液体30は、前記一対の基板11,12との屈折率差が0.1以下の液体が好ましく、このような屈折率の液体を封入することにより、前記基板11,12と絶縁性液体30の層との見かけ上の界面での光の屈折を、より効果的に小さくすることができる。   The insulating liquid 30 is preferably a liquid having a refractive index difference of 0.1 or less between the pair of substrates 11 and 12, and by sealing the liquid having such a refractive index, the insulating liquid 30 is insulated from the substrates 11 and 12. The light refraction at the apparent interface with the liquid 30 layer can be reduced more effectively.

すなわち、前記一対の基板11,12それぞれの屈折率は約1.5、前記絶縁性液体30の屈折率は約1.4〜1.5の範囲、前記抵抗膜15,16の屈折率は約1.8であるため、前記タッチパネル10に一方の方向、例えば反対側基板12の外面から入射した光は、前記反対側基板12と第2の抵抗膜16との界面で、タッチパネル10の法線方向に対する角度が大きくなる方向に屈折し、前記第2の抵抗膜16と絶縁性液体30の層との界面で、前記法線方向に対する角度が小さくなる方向に屈折し、さらに、前記絶縁性液体30の層と第1の抵抗膜15との界面で、前記法線方向に対する角度が大きくなる方向に屈折し、前記第1の抵抗膜15とタッチ側基板11との界面で、前記法線方向に対する角度が小さくなる方向に屈折する。   That is, each of the pair of substrates 11 and 12 has a refractive index of about 1.5, the insulating liquid 30 has a refractive index of about 1.4 to 1.5, and the resistive films 15 and 16 have a refractive index of about 1.5. 1.8, the light incident on the touch panel 10 from one direction, for example, the outer surface of the opposite substrate 12, is normal to the touch panel 10 at the interface between the opposite substrate 12 and the second resistance film 16. Refracted in the direction in which the angle with respect to the direction increases, refracts in the direction in which the angle with respect to the normal direction decreases, at the interface between the second resistance film 16 and the layer of the insulating liquid 30, and further, the insulating liquid 30 is refracted in a direction in which the angle with respect to the normal direction is increased at the interface between the first resistance film 15 and the first resistance film 15, and the normal direction is generated at the interface between the first resistance film 15 and the touch-side substrate 11. Refracts in a direction that reduces the angle to

しかし、前記第1と第2の抵抗膜15,16はそれぞれ膜厚が0.05〜0.20μmの極く薄い膜であるため、第2の抵抗膜16と反対側基板12及び絶縁性液体30の層との2つの界面の一方における光の入射位置と他方の界面における出射位置とのずれと、第1の抵抗膜15と絶縁性液体30の層及びタッチ側基板11との2つの界面の一方における光の入射位置と他方の界面における出射位置とのずれは、いずれも無視することができる。   However, since the first and second resistance films 15 and 16 are extremely thin films having a thickness of 0.05 to 0.20 μm, respectively, the substrate 12 and the insulating liquid opposite to the second resistance film 16 are provided. The difference between the light incident position at one of the two interfaces with the 30 layer and the emission position at the other interface, and the two interfaces between the first resistive film 15 and the insulating liquid 30 layer and the touch-side substrate 11. Any deviation between the incident position of the light on one side and the outgoing position on the other interface can be ignored.

したがって、前記タッチパネル10における光の入射位置と出射位置とのずれは、実質的に、一対の基板11,12と絶縁性液体30との屈折率の差に対応し、その屈折率差が0.1以下であれば、前記基板11,12と絶縁性液体30の層との見かけ上の界面での屈折を効果的に小さくすることができる。   Therefore, the deviation between the light incident position and the light emitting position on the touch panel 10 substantially corresponds to the difference in refractive index between the pair of substrates 11 and 12 and the insulating liquid 30, and the difference in refractive index is 0. If it is 1 or less, refraction at the apparent interface between the substrates 11 and 12 and the layer of the insulating liquid 30 can be effectively reduced.

前記絶縁性液体30は、常温で光学的に等方性な材料、例えば、5℃以上の温度においてアイソトロピック相を示す液晶が望ましく、この液晶を封入することにより、常温での基板11,12と絶縁性液体30の層との見かけ上の界面での反射や屈折を小さくすることができる。   The insulating liquid 30 is desirably an optically isotropic material at room temperature, for example, a liquid crystal exhibiting an isotropic phase at a temperature of 5 ° C. or higher. By sealing the liquid crystal, the substrates 11 and 12 at room temperature are used. And reflection or refraction at the apparent interface between the insulating liquid 30 and the layer of the insulating liquid 30 can be reduced.

なお、前記絶縁性液体30としては、前記液晶のような常温で光学的に等方性な材料以外に、沸点が100℃以上の有機または無機の絶縁性の液状物質、具体的には、ブタノール、トルエン、キシレン、イソブチルアルコール、イソペプンチルアルコール、酢酸イソブチル、酢酸ブチル、テトラクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、エチレングリコールモノエーテル、エチレングリコールモノエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、テレビンオイル等の有機の液状物質、またはシリコンオイル等の無機の液状物質を用いることができる。   The insulating liquid 30 may be an organic or inorganic insulating liquid material having a boiling point of 100 ° C. or higher, specifically butanol, in addition to the optically isotropic material at room temperature such as the liquid crystal. , Toluene, xylene, isobutyl alcohol, isopepentyl alcohol, isobutyl acetate, butyl acetate, tetrachloroethylene, methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, ethylene glycol monoether, ethylene glycol monoether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol Organic liquid materials such as monomethyl ether and turpentine oil, or inorganic liquid materials such as silicon oil can be used.

また、前記タッチ側基板11は、ガラス板に限らず樹脂フィルムでもよく、その場合はタッチ側基板11と反対側基板12との屈折率が異なるが、前記一対の基板11,12の少なくとも一方と前記絶縁性液体30との光の屈折率の差が0.1以下であれば、基板11,12と絶縁性液体30の層との見かけ上の界面での光の屈折を、充分に小さくすることができる。   The touch-side substrate 11 is not limited to a glass plate but may be a resin film. In this case, the touch-side substrate 11 and the opposite-side substrate 12 have different refractive indices, but at least one of the pair of substrates 11 and 12 If the difference in refractive index of light from the insulating liquid 30 is 0.1 or less, the light refraction at the apparent interface between the substrates 11 and 12 and the layer of the insulating liquid 30 is made sufficiently small. be able to.

さらに、前記タッチパネル10は、前記タッチ側基板11の内面に、透明な感光性樹脂により形成された複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14とを設け、これらの接点用突起13及びスペーサ用突起14を覆って第1の抵抗膜15を形成することにより、前記複数の接点用突起13と前記第1の抵抗膜15の前記複数の接点用突起13を覆う部分とにより複数の突起状接点18を形成し、前記複数のスペーサ用突起14と前記第1の抵抗膜15の前記複数のスペーサ用突起14を覆う部分とにより複数の柱状スペーサ19を形成しているため、例えば前記タッチ側基板11の内面に平坦な抵抗膜を形成し、その上に導電性金属により複数の接点を形成する場合のように、これらの接点によって透過光が遮られることは無く、したがって、前記表示パネル1の表示画像を、前記複数の突起状接点18及び柱状スペーサ19に対応する部分に黒点を生じさせること無く観察させることができる。   Further, the touch panel 10 is provided with a plurality of contact protrusions 13 and a plurality of spacer protrusions 14 formed of a transparent photosensitive resin on the inner surface of the touch side substrate 11. By forming the first resistance film 15 so as to cover the projections 14, the plurality of contact projections 13 and the portions of the first resistance film 15 covering the plurality of contact projections 13 form a plurality of projections. The contact 18 is formed, and the plurality of columnar spacers 19 are formed by the plurality of spacer protrusions 14 and the portion of the first resistance film 15 covering the plurality of spacer protrusions 14. As in the case where a flat resistive film is formed on the inner surface of the substrate 11 and a plurality of contacts are formed on the conductive metal, the transmitted light is not blocked by these contacts. It, a display image of the display panel 1 can be observed without causing black spots at a portion corresponding to said plurality of projecting contact 18 and the columnar spacers 19.

また、前記タッチパネル10は、前記タッチ側基板11の内面の複数の柱状スペーサ19を、前記複数のスペーサ用突起14と、前記第1の抵抗膜15の前記スペーサ用突起14を覆う部分とにより形成しているが、前記反対側基板12の内面に形成された第2の抵抗膜16の前記複数のスペーサ用突起14と対応する部分にそれぞれ、前記柱状スペーサ19の先端の面積よりも大きい面積の非導通孔17を設け、前記複数の柱状スペーサ19をそれぞれ、前記第2の抵抗膜16の複数の非導通孔17内において前記反対側基板12の内面に当接させているため、前記第1と第2の抵抗膜15,16が前記複数の柱状スペーサ19によって短絡されることは無い。   In the touch panel 10, a plurality of columnar spacers 19 on the inner surface of the touch-side substrate 11 are formed by the plurality of spacer protrusions 14 and a portion of the first resistance film 15 that covers the spacer protrusions 14. However, each of the portions of the second resistance film 16 formed on the inner surface of the opposite substrate 12 corresponding to the plurality of spacer protrusions 14 has an area larger than the area of the tip of the columnar spacer 19. Since the non-conductive holes 17 are provided, and the plurality of columnar spacers 19 are in contact with the inner surface of the opposite substrate 12 in the non-conductive holes 17 of the second resistance film 16, respectively, The second resistance films 15 and 16 are not short-circuited by the plurality of columnar spacers 19.

前記タッチパネル10は、前記タッチ側基板11の内面の複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19とを、前記タッチ側基板11の内面に複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14とを設け、これらを覆って第1の抵抗膜15を設けることにより形成しているため、シンプルなプロセス順で製造することができる。   The touch panel 10 includes a plurality of protrusion contacts 18 and a plurality of columnar spacers 19 on the inner surface of the touch side substrate 11, and a plurality of contact protrusions 13 and a plurality of spacer protrusions 14 on the inner surface of the touch side substrate 11. Since the first resistance film 15 is provided so as to cover them, the semiconductor device can be manufactured in a simple process order.

すなわち、前記タッチパネル10は、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14とを形成し、その上に前記第1の抵抗膜15を成膜して前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19とを形成し、前記反対側基板12の内面に、前記第2の抵抗膜16を成膜してこの第2の抵抗膜16に前記複数の非導通孔17を形成し、さらに前記第1及び第2の電極20a,20b,21a,21bと、前記複数の駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bと、前記複数の配線24a,24b,25a,25bとを形成した後に、前記タッチ側基板11と反対側基板12とを、前記複数の柱状スペーサ19を前記第2の抵抗膜16の複数の非導通孔17内において前記反対側基板12の内面に当接させるとともに、前記導電性粒子27が分散されたシール材26を介して接合し、これらの基板11,12間の前記シール材26により囲まれた間隙に前記絶縁性液体30を封入する方法で製造する。   That is, the touch panel 10 is formed with the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 on the inner surface of the touch side substrate 11, and the first resistance film 15 is formed thereon. The plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 are formed, and the second resistance film 16 is formed on the inner surface of the opposite substrate 12. A non-conductive hole 17 is formed, and the first and second electrodes 20a, 20b, 21a, 21b, the plurality of drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, 23b, and the plurality of wirings 24a, 24b, After the formation of 25a and 25b, the touch-side substrate 11 and the opposite substrate 12 are replaced with the plurality of columnar spacers 19 in the plurality of non-conducting holes 17 of the second resistance film 16. On the inside In addition, the insulating liquid 30 is sealed in a gap surrounded by the sealing material 26 between the substrates 11 and 12 by bonding through the sealing material 26 in which the conductive particles 27 are dispersed. To manufacture.

このタッチパネル10の製造方法において、前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19は、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13と、前記複数のスペーサ用突起14とを、感光性樹脂の塗布とその樹脂膜の露光及び現像処理により形成し、その後に、前記タッチ側基板11の内面に、前記第1の抵抗膜15を成膜することにより形成する。   In the method for manufacturing the touch panel 10, the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 include the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 on the inner surface of the touch-side substrate 11. The first resistance film 15 is formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 by applying a photosensitive resin and exposing and developing the resin film.

この実施例の製造方法では、前記複数の接点用突起13と、前記複数のスペーサ用突起14とを、前記感光性樹脂の塗布とその樹脂膜の露光及び現像処理を繰り返して順次形成する。   In the manufacturing method of this embodiment, the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 are sequentially formed by repeatedly applying the photosensitive resin and exposing and developing the resin film.

前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19の形成工程を図8を参照して説明すると、この実施例では、まず、図8(a)のように、前記タッチ側基板11の内面に、透明な感光性樹脂(露光部が現像処理によって除去されるポジ型の感光性樹脂でも、非露光部が現像処理によって除去されるネガ型の感光性樹脂でもよい)を、スピンコートにより前記複数の接点用突起13の高さに対応した厚さに塗布して第1の感光性樹脂膜113を形成する。   A process of forming the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 will be described with reference to FIG. 8. In this embodiment, first, as shown in FIG. 8A, the inner surface of the touch side substrate 11 is formed. , A transparent photosensitive resin (a positive photosensitive resin whose exposed portion is removed by development processing or a negative photosensitive resin whose non-exposed portion is removed by developing processing) may be spin coated. The first photosensitive resin film 113 is formed by coating to a thickness corresponding to the height of the contact protrusion 13.

次に、前記第1の感光性樹脂膜113を、前記複数の接点用突起13の平面形状及び配列ピッチに対応したパターンの露光マスク(図示せず)を用いて露光処理した後に現像処理し、図8(b)のように、前記感光性樹脂膜113の残存部分からなる複数の接点用突起13を形成する。   Next, the first photosensitive resin film 113 is subjected to an exposure process using an exposure mask (not shown) having a pattern corresponding to the planar shape and arrangement pitch of the plurality of contact protrusions 13, and then developed. As shown in FIG. 8B, a plurality of contact protrusions 13 formed of the remaining portion of the photosensitive resin film 113 are formed.

次に、図8(c)のように、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13を覆って、透明な感光性樹脂を、スピンコートにより前記複数のスペーサ用突起14の高さに対応した厚さに塗布して第2の感光性樹脂膜114を形成する。   Next, as shown in FIG. 8C, on the inner surface of the touch side substrate 11, the plurality of contact projections 13 are covered, and a transparent photosensitive resin is applied to the plurality of spacer projections 14 by spin coating. A second photosensitive resin film 114 is formed by coating to a thickness corresponding to the height.

次に、前記第2の感光性樹脂膜114を、前記複数のスペーサ用突起14の平面形状及び配列ピッチに対応したパターンの露光マスク(図示せず)を用いて露光処理した後に現像処理し、図8(d)のように、前記第2の感光性樹脂膜114の残存部分からなる複数のスペーサ用突起14を形成する。   Next, the second photosensitive resin film 114 is subjected to an exposure process using an exposure mask (not shown) having a pattern corresponding to the planar shape and arrangement pitch of the plurality of spacer protrusions 14, and then developed. As shown in FIG. 8D, a plurality of spacer projections 14 formed of the remaining portions of the second photosensitive resin film 114 are formed.

次に、図8(e)のように、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14を覆って、ITO等からなる第1の抵抗膜15をプラズマCVD装置により成膜し、複数の突起状接点18及び複数の柱状スペーサ19を形成する。   Next, as shown in FIG. 8E, the first resistance film 15 made of ITO or the like is formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 so as to cover the plurality of contact projections 13 and the plurality of spacer projections 14. A plurality of protruding contacts 18 and a plurality of columnar spacers 19 are formed by film formation using a plasma CVD apparatus.

このように、この実施例の製造方法は、前記タッチ側基板11の内面に、まず、感光性樹脂をスピンコートにより塗布し、その樹脂膜を露光処理した後に現像処理するプロセス(以下、ウエットプロセスという)による前記複数の接点用突起13の形成と前記複数のスペーサ用突起14の形成とを行い、その後に、プラズマCVD装置による成膜プロセス(以下、ドライプロセスという)によって前記第1の抵抗膜15を形成するため、ウエットプロセス→ウエットプロセス→ドライプロセスの順で前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19とを形成することができる。   As described above, in the manufacturing method of this embodiment, first, a photosensitive resin is applied to the inner surface of the touch-side substrate 11 by spin coating, the resin film is exposed, and then developed (hereinafter referred to as a wet process). The plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 are formed, and then the first resistance film is formed by a film forming process (hereinafter referred to as a dry process) using a plasma CVD apparatus. Therefore, the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 can be formed in the order of wet process → wet process → dry process.

一方、図9に示した比較例のタッチパネル110は、タッチ側基板11の内面に、複数の接点用突起13を設け、これらの接点用突起13を覆って第1の抵抗膜15を設けることにより、前記複数の接点用突起13と前記第1の抵抗膜15の前記接点用突起13を覆う部分とにより複数の突起状接点18を形成し、前記第1の抵抗膜15の上に絶縁性の柱状スペーサ19aを設けたものであり、この比較例のタッチパネル110では、反対側基板12の内面に設けられた第2の抵抗膜16に上記実施例のタッチパネル10における非導通孔17を形成せず、前記複数の柱状スペーサ19aを、前記第2の抵抗膜16に当接させている。なお、この比較例のタッチパネル110の他の構成は、上記実施例のタッチパネル10と同じである。   On the other hand, the touch panel 110 of the comparative example shown in FIG. 9 is provided with a plurality of contact protrusions 13 on the inner surface of the touch-side substrate 11, and the first resistance film 15 is provided so as to cover these contact protrusions 13. The plurality of contact protrusions 13 and the portion of the first resistance film 15 covering the contact protrusions 13 form a plurality of protruding contacts 18, and an insulating property is formed on the first resistance film 15. The columnar spacer 19a is provided, and in the touch panel 110 of this comparative example, the non-conductive hole 17 in the touch panel 10 of the above embodiment is not formed in the second resistance film 16 provided on the inner surface of the opposite substrate 12. The plurality of columnar spacers 19 a are in contact with the second resistance film 16. In addition, the other structure of the touch panel 110 of this comparative example is the same as the touch panel 10 of the said Example.

この比較例のタッチパネル110の製造においては、まず、図10(a)のように、タッチ側基板11の内面に、感光性樹脂をスピンコートにより塗布して第1の感光性樹脂膜113を形成し、この第1の感光性樹脂膜113を露光及び現像処理して図10(b)のように複数の接点用突起13を形成した後に、図10(c)のように第1の抵抗膜15をプラズマCVD装置により成膜して複数の突起状接点18を形成し、その後に、図10(d)のように、感光性樹脂をスピンコートにより塗布して第2の感光性樹脂膜119aを形成し、この第2の感光性樹脂膜119aを露光及び現像処理して図10(e)のように複数の柱状スペーサ19aを形成する。   In the manufacture of the touch panel 110 of this comparative example, first, as shown in FIG. 10A, a first photosensitive resin film 113 is formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 by spin coating. Then, after the first photosensitive resin film 113 is exposed and developed to form a plurality of contact protrusions 13 as shown in FIG. 10B, the first resistance film as shown in FIG. 10C. 15 is formed by a plasma CVD apparatus to form a plurality of projecting contacts 18, and then, as shown in FIG. 10D, a photosensitive resin is applied by spin coating to form a second photosensitive resin film 119 a. And exposing and developing the second photosensitive resin film 119a to form a plurality of columnar spacers 19a as shown in FIG.

このように、前記比較例のタッチパネル110の製造は、前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19とを形成するプロセスが、ウエットプロセス→ドライプロセス→ウエットプロセスの順であり、タッチ側基板11を、ウエットプロセスからドライプロセスへ、さらに前記ドライプロセスから再びウエットプロセスへと行き来させなければならない。   Thus, in the manufacture of the touch panel 110 of the comparative example, the process of forming the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 is in the order of wet process → dry process → wet process. 11 has to go back and forth from the wet process to the dry process and from the dry process back to the wet process.

それに対して、上記実施例のタッチパネル10の製造方法によれば、前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19とを形成するプロセスが、ウエットプロセス→ウエットプロセス→ドライプロセスの順であるため、前記タッチパネル10を、シンプルなプロセス順で製造することができる。   On the other hand, according to the manufacturing method of the touch panel 10 of the above embodiment, the process of forming the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 is in the order of wet process → wet process → dry process. The touch panel 10 can be manufactured in a simple process order.

なお、上記実施例のタッチパネル10の製造方法では、図10のように、タッチ側基板11の内面に、複数の突起状接点18を形成し、その後に複数のスペーサ用突起14を形成しているが、それと逆に、複数のスペーサ用突起14を先に形成し、その後に複数の突起状接点18を形成してもよい。   In the method of manufacturing the touch panel 10 of the above embodiment, as shown in FIG. 10, a plurality of protruding contacts 18 are formed on the inner surface of the touch-side substrate 11, and then a plurality of spacer protrusions 14 are formed. However, conversely, a plurality of spacer projections 14 may be formed first, and then a plurality of protruding contacts 18 may be formed.

前記タッチパネル10は、前記タッチ側基板11がその外面側からのタッチにより内面方向に撓み変形し、前記複数の突起状接点18のうちのタッチ部の突起状接点18が反対側基板12の内面の第2の抵抗膜16に接触し、前記第1の抵抗膜15と前記第2の抵抗膜16とがタッチ部において導通するため、図11に示したタッチパネル駆動回路33により、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間とに一定値の電圧を交互に印加し、前記第1の抵抗膜15に電圧を印加したときの第2の抵抗膜16の一端の電圧値と、前記第2の抵抗膜16に電圧を印加したときの前記第1の抵抗膜15の一端の電圧値とを測定することにより、これらの電圧値に基づいて、タッチ点のX軸方向とY軸方向の座標を検出することができる。   In the touch panel 10, the touch-side substrate 11 is bent and deformed toward the inner surface by a touch from the outer surface side, and the protruding contact 18 of the touch portion of the plurality of protruding contacts 18 is formed on the inner surface of the opposite substrate 12. Since the first resistance film 15 and the second resistance film 16 are brought into contact with each other in the touch portion in contact with the second resistance film 16, the touch panel driving circuit 33 shown in FIG. When a constant voltage is applied alternately between both ends of the film 15 in the X-axis direction and both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction, and a voltage is applied to the first resistance film 15 By measuring the voltage value at one end of the second resistance film 16 and the voltage value at one end of the first resistance film 15 when a voltage is applied to the second resistance film 16, these voltages are measured. Based on the value, the X-axis direction and Y-axis direction of the touch point It is possible to detect the coordinates.

前記タッチパネル駆動回路33は、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間とに一定値の電圧を交互に印加するための電圧印加回路34と、前記第1の抵抗膜15がタッチ側基板11の撓み変形した部分の突起状接点18を介して前記第2の抵抗膜16と導通したときに、前記電圧印加回路34上の予め定めた点と前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端または前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端との間に生じる電圧を測定する電圧測定系42と、この電圧測定系42の測定値に基づいてタッチ点の座標を検出する座標検出手段47とを備えている。   The touch panel drive circuit 33 applies a constant voltage alternately between both ends of the first resistance film 15 in the X-axis direction and between both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. When the voltage application circuit 34 and the first resistance film 15 are electrically connected to the second resistance film 16 via the protruding contact 18 of the bent portion of the touch-side substrate 11, the voltage application circuit 34 A voltage measuring system 42 for measuring a voltage generated between a predetermined point of the first resistive film 15 and one end in the X-axis direction of the first resistive film 15 or one end in the Y-axis direction of the second resistive film 16, and the voltage Coordinate detection means 47 for detecting the coordinates of the touch point based on the measurement value of the measurement system 42 is provided.

前記電圧印加回路34は、定電圧電源35と、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端と前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端とにそれぞれ接続された第1の抵抗膜接続配線36,37を介して、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端と前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端とに前記定電圧電源35の一方の極(図では−極)の電圧を選択的に供給する第1の接続切換スイッチ38と、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の他端と前記第2の抵抗膜16のY軸方向の他端とにそれぞれ接続された第2の抵抗膜接続配線39,40を介して、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の他端と前記第2の抵抗膜16のY軸方向の他端とに前記定電圧電源35の他方の極(図では+極)の電圧を選択的に供給する第2の接続切換スイッチ41とからなっている。なお、図11に示した定電圧電源35は直流電源であるが、この定電圧電源35は交番する電圧を供給する電源でもよい。   The voltage application circuit 34 includes a constant voltage power source 35, a first resistor connected to one end of the first resistance film 15 in the X-axis direction and one end of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. One pole of the constant voltage power supply 35 is connected to one end in the X-axis direction of the first resistance film 15 and one end in the Y-axis direction of the second resistance film 16 via the film connection wirings 36 and 37 (see FIG. The first connection changeover switch 38 for selectively supplying a negative voltage), the other end of the first resistance film 15 in the X-axis direction, and the other end of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. And the other end in the X-axis direction of the first resistance film 15 and the other end in the Y-axis direction of the second resistance film 16 via the second resistance film connection wirings 39 and 40 respectively connected to And a second connection changeover switch 41 for selectively supplying the voltage of the other pole (+ pole in the figure) of the constant voltage power source 35. To have. Although the constant voltage power source 35 shown in FIG. 11 is a DC power source, the constant voltage power source 35 may be a power source that supplies an alternating voltage.

また、前記電圧測定系42は、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端と前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端とにそれぞれ接続された第3の抵抗膜接続配線43,44を介して、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端と前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端の電圧を電圧測定手段46に選択的に供給する第3の接続切換スイッチ45と、前記定電圧電源35の一方の極(図では−極)と前記第3の接続切換スイッチ45との間に介在された電圧測定手段46とにより構成されている。   Further, the voltage measurement system 42 includes a third resistance film connection wiring 43 connected to one end of the first resistance film 15 in the X-axis direction and one end of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. , 44, a third connection for selectively supplying the voltage measuring means 46 with a voltage at one end of the first resistance film 15 in the X-axis direction and one end of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. The switch 45 and voltage measuring means 46 interposed between one pole (negative pole in the figure) of the constant voltage power supply 35 and the third connection selector switch 45 are configured.

前記電圧印加回路34は、図示しない制御手段により、予め設定された周期、例えば0.1秒周期で、前記第1と第2の接続切換スイッチ38,41を、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端を前記定電圧電源35に接続する側(図11の状態)と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端を前記定電圧電源35に接続する側とに切換えられ、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間とに前記定電圧電源35の一定値の電圧を交互に印加する。   The voltage application circuit 34 connects the first and second connection changeover switches 38 and 41 to the first resistive film 15 at a preset period, for example, 0.1 second period, by a control means (not shown). The both ends of the X-axis direction are switched to the side where the constant voltage power supply 35 is connected (state shown in FIG. 11) and the both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction are connected to the constant voltage power supply 35. A constant voltage of the constant voltage power supply 35 is alternately applied between both ends of the first resistance film 15 in the X-axis direction and between both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction.

また、前記座標検出手段47は、前記図示しない制御手段により制御され、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間に前記電圧を印加したときの前記電圧測定手段46の測定値に基づいて前記タッチ点のX軸方向の座標(以下、X座標という)を検出し、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間に前記電圧を印加したときの前記電圧測定手段46の測定値に基づいて前記タッチ点のY軸方向の座標(以下、Y座標という)を検出する。   The coordinate detection means 47 is controlled by the control means (not shown) and is based on the measurement value of the voltage measurement means 46 when the voltage is applied across the X-axis direction of the first resistance film 15. The voltage measurement means 46 measures the coordinates of the touch point in the X-axis direction (hereinafter referred to as the X-coordinate) and applies the voltage across the Y-axis direction of the second resistive film 16. Based on the value, the coordinate of the touch point in the Y-axis direction (hereinafter referred to as Y coordinate) is detected.

前記電圧測定手段46の測定値に基づく前記タッチ点のX,Y座標の検出は、次のような演算により行なう。   The detection of the X and Y coordinates of the touch point based on the measurement value of the voltage measuring means 46 is performed by the following calculation.

前記定電圧電源35の電圧値をV、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端のX座標値を0、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の他端のX座標値を1、前記タッチ点のX座標をx、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間の抵抗値をr、前記電圧測定手段46の内部抵抗値をRとすると、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間に前記電圧Vを印加したときの前記電圧測定手段46の測定電圧値V(x)は、
≪Rであるため、
V(x)=V(1−x)
で表すことができる。
The voltage value of the constant voltage power supply 35 is V 0 , the X coordinate value of one end of the first resistance film 15 in the X axis direction is 0, and the X coordinate value of the other end of the first resistance film 15 in the X axis direction. , 1 is the X coordinate of the touch point, r x is the resistance value between both ends of the first resistance film 15 in the X-axis direction, and R is the internal resistance value of the voltage measuring means 46. The measured voltage value V (x) of the voltage measuring means 46 when the voltage V 0 is applied between both ends of the resistive film 15 in the X-axis direction is:
Since r x << R,
V (x) = V 0 (1-x)
Can be expressed as

また、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端のY座標値を0、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の他端のY座標値を1、前記タッチ点のY座標をy、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間の抵抗値をrとすると、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間に前記電圧Vを印加したときの前記電圧測定手段46の測定電圧値V(y)は、
≪Rであるため、
V(y)=V(1−y)
で表すことができる。
Further, the Y coordinate value of one end of the second resistance film 16 in the Y axis direction is 0, the Y coordinate value of the other end of the second resistance film 16 in the Y axis direction is 1, and the Y coordinate value of the touch point is y, where the resistance value between both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction is r y , the voltage V 0 when the voltage V 0 is applied between both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. The measured voltage value V (y) of the voltage measuring means 46 is
Since r y << R,
V (y) = V 0 (1-y)
Can be expressed as

したがって、前記タッチ点のX座標xとY座標yは、
x=1−V(x)/V
y=1−V(y)/V
により求めることができる。
Therefore, the X coordinate x and Y coordinate y of the touch point are
x = 1−V (x) / V 0
y = 1−V (y) / V 0
It can ask for.

また、上記タッチパネル10は、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部の略全長にそれぞれ対向させて、連続した帯形状に形成された2つの第1の電極20a,20bを設け、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端の辺部に、前記辺部の略全長にわたって連続した帯形状に形成された2つの第2の電極21a,21bを設け、これらの第1の電極20a,20b及び第2の電極21a,21bをそれぞれ配線24a,24b,25a,25bにより反対側基板12の張出部12aに設けられた駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bに接続しているため、前記タッチパネル駆動回路33によって前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間とに交互に印加される電圧を、前記第1の抵抗膜15及び第2の抵抗膜16の略全域に均等に作用させ、前記タッチ点のX座標xとY座標yを高精度に検出することができる。   Further, the touch panel 10 includes two first electrodes 20a and 20b formed in a continuous band shape so as to be opposed to substantially the entire length of both sides in the X-axis direction of the first resistance film 15, respectively. And two second electrodes 21a and 21b formed in a band shape continuous over substantially the entire length of the side portions are provided on the side portions at both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. One electrode 20a, 20b and second electrode 21a, 21b are connected to drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, 23b provided on the overhanging portion 12a of the opposite substrate 12 by wires 24a, 24b, 25a, 25b, respectively. Because of the connection, the voltage applied alternately by the touch panel drive circuit 33 between both ends of the first resistance film 15 in the X-axis direction and between both ends of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. The above Evenly act on substantially the entire area of the first resistive film 15 and the second resistive film 16, the X-coordinate x and Y-coordinate y of the touch point can be detected with high accuracy.

そのため、図1に示したタッチパネル付き表示装置は、表示パネル1に複数のキーパターンを表示させ、前記タッチパネル10の前記複数のキーパターンに対応した部分を選択的にタッチするキーボード的なタッチ入力の他に、例えば、前記表示パネル1に画像を表示させ、前記タッチパネル10の任意の点をタッチすることにより、前記表示パネル1にタッチ点を中心とした拡大画像を表示させたり、前記タッチパネル10上においてタッチ点を任意の方向に移動させることにより、前記表示パネル1の表示画像をスクロールさせたりすることができる。   Therefore, the display device with a touch panel shown in FIG. 1 displays a plurality of key patterns on the display panel 1 and performs a keyboard-like touch input for selectively touching portions corresponding to the plurality of key patterns on the touch panel 10. In addition, for example, by displaying an image on the display panel 1 and touching an arbitrary point on the touch panel 10, an enlarged image centered on the touch point can be displayed on the display panel 1, or on the touch panel 10. The display image on the display panel 1 can be scrolled by moving the touch point in an arbitrary direction.

なお、上記実施例では、前記第1の電極20a,20bと第2の電極21a,21bとをそれぞれ連続した帯形状に形成しているが、前記第1の電極20a,20b及び第2の電極21a,21bは、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部の略全長及び前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端の辺部の略全長にそれぞれ対応させて、予め定めたピッチで断続的に設けてもよく、その場合も、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端間と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端間とに交互に印加される電圧を、前記第1の抵抗膜15及び第2の抵抗膜16の略全域に均等に作用させ、タッチ点のX座標xとY座標yを高精度に検出することができる。   In the above-described embodiment, the first electrodes 20a and 20b and the second electrodes 21a and 21b are formed in a continuous band shape, but the first electrodes 20a and 20b and the second electrodes are formed. 21a and 21b correspond to the substantially total length of the side portions at both ends in the X-axis direction of the first resistance film 15 and the substantially total length of the side portions at both ends in the Y-axis direction of the second resistance film 16, respectively. It may be provided intermittently at a predetermined pitch, and in this case also, alternately between both ends in the X-axis direction of the first resistance film 15 and between both ends in the Y-axis direction of the second resistance film 16. Can be applied to the entire area of the first resistance film 15 and the second resistance film 16 evenly, and the X coordinate x and Y coordinate y of the touch point can be detected with high accuracy.

このように、前記第1の電極20a,20b及び第2の電極21a,21bを、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の両端の辺部の略全長及び前記第2の抵抗膜16のY軸方向の両端の辺部の略全長にそれぞれ対応させて断続的に設ける場合は、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の一端の辺部に対向する複数の第1の電極同士と、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の他端の辺部に対向する複数の第1の電極同士と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の一端の辺部に対向する複数の第2の電極同士と、前記第2の抵抗膜16のY軸方向の他端の辺部に対向する複数の第2の電極同士をそれぞれ共通接続し、前記反対側基板12の張出部12aに設けられた複数の駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bに複数の配線24a,24b,25a,25bを介して接続すればよい。   In this way, the first electrodes 20a and 20b and the second electrodes 21a and 21b are formed so as to have substantially the entire length of the side portions at both ends in the X-axis direction of the first resistance film 15 and the second resistance film 16. In the case where the first resistance film 15 is provided intermittently so as to correspond to substantially the entire length of the side portions at both ends in the Y-axis direction, the plurality of first electrodes facing the side portion at one end in the X-axis direction of the first resistance film 15 A plurality of first electrodes facing the other end of the first resistance film 15 in the X-axis direction and a plurality of first electrodes facing the one end of the second resistance film 16 in the Y-axis direction. The second electrodes of the second resistance film 16 and the plurality of second electrodes facing the other end of the second resistance film 16 in the Y-axis direction are connected in common, and the projecting portion of the opposite substrate 12 A plurality of drive circuit connection terminals 22a, 22b, 23a, and 23b provided on 12a have a plurality of wirings 24a, 24b, and 2 a, it may be connected via 25b.

さらに、上記実施例では、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の他端の縁部と、これらの端部に対向させて設けられた前記複数の第1の電極20a,20bとを、前記シール材26中に分散された球状の導電性粒子27により電気的に接続しているが、前記第1の抵抗膜15のX軸方向の他端の辺部と前記複数の第1の電極20a,20bとは、そのいずれか一方の上に、前記シール材26によるシール部に対応させて柱状の導電性部材を設けることにより、この導電性部材を介して電気的に接続してもよい。   Further, in the above embodiment, the edge of the other end in the X-axis direction of the first resistance film 15 and the plurality of first electrodes 20a and 20b provided to face these ends are provided. Although electrically connected by spherical conductive particles 27 dispersed in the sealing material 26, the side of the other end in the X-axis direction of the first resistance film 15 and the plurality of first electrodes 20a and 20b may be electrically connected via the conductive member by providing a columnar conductive member corresponding to the sealing portion by the sealing material 26 on one of them. .

次に、図12に示したこの発明の第2の実施例のタッチパネルを説明する。なお、この実施例において、上記第1の実施例に対応するものには図に同符号を付し、同一のものについてはその説明を省略する。   Next, a touch panel according to a second embodiment of the present invention shown in FIG. 12 will be described. In this embodiment, parts corresponding to those in the first embodiment are given the same reference numerals in the drawings, and description of the same parts is omitted.

この実施例のタッチパネル10aは、上記第1の実施例のタッチパネル10において、前記複数のスペーサ用突起14を、前記接点用突起13と前記スペーサ用突起14との高さの差に対応した高さに形成された第1の層14aと、前記接点用突起13と同じ感光性樹脂により前記接点用突起13と同じ高さに形成された第2の層14bとの積層膜により形成したものであり、他の構成は第1の実施例のタッチパネル10と同じである。   The touch panel 10a of this embodiment is similar to the touch panel 10 of the first embodiment in that the plurality of spacer protrusions 14 have a height corresponding to the height difference between the contact protrusion 13 and the spacer protrusion 14. And a second layer 14b formed at the same height as the contact protrusion 13 by the same photosensitive resin as the contact protrusion 13 and a laminated film. Other configurations are the same as those of the touch panel 10 of the first embodiment.

なお、この実施例では、前記複数のスペーサ用突起14の第1と第2の層14a,14bのうちの前記接点用突起13と前記スペーサ用突起14との高さの差に対応した高さの第1の層14aをタッチ側基板11の内面に形成し、その上に、前記接点用突起13と同じ高さ第2の層14bを形成している。   In this embodiment, the height corresponding to the difference in height between the contact projection 13 and the spacer projection 14 of the first and second layers 14a, 14b of the plurality of spacer projections 14. The first layer 14 a is formed on the inner surface of the touch-side substrate 11, and the second layer 14 b having the same height as the contact protrusion 13 is formed thereon.

このタッチパネル10aの製造において、前記複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14は、前記タッチ側基板11の内面に、感光性樹脂を前記接点用突起13とスペーサ用突起14との高さの差に対応した厚さに塗布し、その樹脂膜を露光及び現像処理して前記複数のスペーサ用突起14の下部と上部の一方の層を形成する工程と、前記タッチ側基板11の内面に、感光性樹脂を前記接点用突起13の高さに対応した厚さに塗布し、その樹脂膜を露光及び現像処理して前記複数の接点用突起13と前記複数のスペーサ用突起14の前記下部と上部の他方の層とを同時に形成する工程とにより形成する。   In the manufacture of the touch panel 10a, the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 are formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 with photosensitive resin on the height of the contact protrusions 13 and the spacer protrusions 14. The resin film is exposed and developed to form one of the lower and upper layers of the plurality of spacer protrusions 14, and the inner surface of the touch-side substrate 11. The photosensitive resin is applied to a thickness corresponding to the height of the contact protrusions 13, and the resin film is exposed and developed to form the lower portions of the contact protrusions 13 and the spacer protrusions 14. And the step of forming the other layer at the top at the same time.

この実施例では、前記複数のスペーサ用突起14の第1と第2の層14a,14bのうちの前記スペーサ用突起14との高さの差に対応した高さの第1の層13aをタッチ側基板11の内面に形成し、その上に、前記接点用突起13と同じ高さの第2の層13bを積層しているため、前記第1と第2の層14a,14bは、第1の層14a、第2の層14bの順で形成する。   In this embodiment, the first layer 13a having a height corresponding to the difference in height between the first and second layers 14a and 14b of the plurality of spacer protrusions 14 and the spacer protrusion 14 is touched. Since the second layer 13b formed on the inner surface of the side substrate 11 and having the same height as the contact protrusions 13 is laminated thereon, the first and second layers 14a and 14b are the first layer The layer 14a and the second layer 14b are formed in this order.

このタッチパネル10aの製造における複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19の形成工程を図13を参照して説明すると、この実施例では、まず、図13(a)のように、前記タッチ側基板11の内面に、透明な感光性樹脂を、スピンコートにより前記接点用突起13とスペーサ用突起14との高さの差に対応した厚さに塗布して第1の感光性樹脂膜114aを形成する。   A process of forming the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 in manufacturing the touch panel 10a will be described with reference to FIG. 13. In this embodiment, first, as shown in FIG. A transparent photosensitive resin is applied on the inner surface of the substrate 11 to a thickness corresponding to the height difference between the contact protrusion 13 and the spacer protrusion 14 by spin coating to form a first photosensitive resin film 114a. Form.

次に、前記第1の感光性樹脂膜114aを、前記複数のスペーサ用突起14の下部の平面形状及び配列ピッチに対応したパターンの露光マスク(図示せず)を用いて露光処理した後に現像処理し、図13(b)のように、前記感光性樹脂膜114aの残存部分からなる複数のスペーサ用突起14の第1の層14aを形成する。   Next, the first photosensitive resin film 114a is subjected to an exposure process using an exposure mask (not shown) having a pattern corresponding to the planar shape and arrangement pitch below the plurality of spacer protrusions 14, and then developed. Then, as shown in FIG. 13B, the first layer 14a of the plurality of spacer protrusions 14 formed of the remaining portion of the photosensitive resin film 114a is formed.

次に、図13(c)のように、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数のスペーサ用突起14の第1の層14aを覆って、透明な感光性樹脂を、スピンコートにより前記複数の接点用突起13の高さに対応した厚さに塗布して第2の感光性樹脂膜113aを形成する。   Next, as shown in FIG. 13C, on the inner surface of the touch-side substrate 11, the first layer 14a of the plurality of spacer projections 14 is covered, and a transparent photosensitive resin is applied by spin coating. The second photosensitive resin film 113a is formed by coating to a thickness corresponding to the height of the contact protrusion 13.

次に、前記第2の感光性樹脂膜113aを、前記複数のスペーサ用突起14の上部の平面形状及び配列ピッチに対応したパターンの露光マスク(図示せず)を用いて露光処理した後に現像処理し、図13(d)のように、前記第2の感光性樹脂膜113aの残存部分からなる複数のスペーサ用突起14と前記複数のスペーサ用突起14の第2の層14bを形成する。   Next, the second photosensitive resin film 113a is exposed using an exposure mask (not shown) having a pattern corresponding to the planar shape and arrangement pitch of the upper portions of the plurality of spacer protrusions 14, and then developed. Then, as shown in FIG. 13D, a plurality of spacer projections 14 formed of the remaining portion of the second photosensitive resin film 113a and a second layer 14b of the plurality of spacer projections 14 are formed.

次に、図13(e)のように、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14を覆って、ITO等からなる第1の抵抗膜15をプラズマCVD装置により成膜し、複数の突起状接点18及び複数の柱状スペーサ19を形成する。   Next, as shown in FIG. 13E, the first resistance film 15 made of ITO or the like is formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 so as to cover the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14. A plurality of protruding contacts 18 and a plurality of columnar spacers 19 are formed by film formation using a plasma CVD apparatus.

このように、この実施例の製造方法は、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19とを、ウエットプロセス→ウエットプロセス→ドライプロセスの順で形成するため、前記タッチパネル10aを、シンプルなプロセス順で製造することができる。   As described above, in the manufacturing method of this embodiment, the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 are formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 in the order of wet process → wet process → dry process. Therefore, the touch panel 10a can be manufactured in a simple process order.

なお、上記第2の実施例のタッチパネル10aでは、前記複数のスペーサ用突起14の第1と第2の層14a,14bのうちの下部層である第1の層14aを前記接点用突起13とスペーサ用突起14との高さの差に対応した高さに形成し、上部層である第2の層14bを前記接点用突起13と同じ高さに形成しているが、それと逆に、前記下部層である第1の層14aを前記接点用突起13と同じ高さに形成し、上部層である第2の層14bを前記接点用突起13とスペーサ用突起14との高さの差に対応した高さに形成してもよく、その場合は、まず前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の突起状接点18と前記複数のスペーサ用突起14の第1の層14aとを同時に形成し、その後に、前記複数のスペーサ用突起14の第2の層14bを形成する。   In the touch panel 10a of the second embodiment, the first layer 14a which is the lower layer of the first and second layers 14a and 14b of the plurality of spacer projections 14 is connected to the contact projections 13. The second layer 14b, which is the upper layer, is formed at the same height as that of the contact protrusion 13, but is formed at a height corresponding to the difference in height from the spacer protrusion 14. On the contrary, The first layer 14a, which is the lower layer, is formed at the same height as the contact protrusion 13, and the second layer 14b, which is the upper layer, is formed by the difference in height between the contact protrusion 13 and the spacer protrusion 14. In this case, first, the plurality of protruding contacts 18 and the first layers 14 a of the plurality of spacer protrusions 14 are simultaneously formed on the inner surface of the touch-side substrate 11. After that, the second layer 1 of the plurality of spacer projections 14 To form a b.

次に、図14に示したこの発明の第3の実施例のタッチパネルを説明する。なお、この実施例において、上記第1の実施例に対応するものには図に同符号を付し、同一のものについてはその説明を省略する。   Next, a touch panel according to a third embodiment of the present invention shown in FIG. 14 will be described. In this embodiment, parts corresponding to those in the first embodiment are given the same reference numerals in the drawings, and description of the same parts is omitted.

この実施例のタッチパネル10bは、上記第1の実施例のタッチパネル10において、前記複数のスペーサ用突起14を、第1の実施例のスペーサ用突起14よりも大きい平面形状に形成したものであり、他の構成は第1の実施例のタッチパネル10と同じである。   The touch panel 10b of this embodiment is the touch panel 10 of the first embodiment, in which the plurality of spacer protrusions 14 are formed in a larger planar shape than the spacer protrusions 14 of the first embodiment. Other configurations are the same as those of the touch panel 10 of the first embodiment.

この実施例のタッチパネル10bの製造において、前記複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14は、1回のウエットプロセス(感光性樹脂の塗布とその樹脂膜の露光及び現像処理)により同時に形成する。   In the manufacture of the touch panel 10b of this embodiment, the plurality of contact projections 13 and the plurality of spacer projections 14 are simultaneously formed by a single wet process (application of a photosensitive resin and exposure and development of the resin film). To do.

このタッチパネル10bの製造における複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19の形成工程を図15及び図16を参照して説明すると、まず、図15(a)のように、前記タッチ側基板11の内面に、ポジ型の透明な感光性樹脂(露光部が現像処理によって除去されるポジ型の感光性樹脂)スピンコートにより前記スペーサ用突起14の高さに対応した厚さに塗布してポジ型感光性樹脂膜115を形成する。   A process of forming the plurality of protruding contacts 18 and the plurality of columnar spacers 19 in manufacturing the touch panel 10b will be described with reference to FIGS. 15 and 16. First, as shown in FIG. A positive-type transparent photosensitive resin (positive-type photosensitive resin whose exposed portion is removed by development processing) is applied to the inner surface of the substrate to a thickness corresponding to the height of the spacer protrusion 14 by positive coating. A type photosensitive resin film 115 is formed.

次に、前記ポジ型感光性樹脂膜115を、前記複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14の平面形状及び配列ピッチに対応したパターンの露光マスク120(図16参照)を用いて露光処理した後に現像処理し、図15(b)のように、前記感光性樹脂膜115の残存部分からなる複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14とを同時に形成する。   Next, the positive photosensitive resin film 115 is exposed using an exposure mask 120 (see FIG. 16) having a pattern corresponding to the planar shape and arrangement pitch of the plurality of contact projections 13 and the plurality of spacer projections 14. After the processing, a development process is performed to simultaneously form a plurality of contact projections 13 and a plurality of spacer projections 14 formed of the remaining portion of the photosensitive resin film 115 as shown in FIG.

この実施例において、前記感光性樹脂膜115の露光処理は、図16のように、複数の接点用突起13を形成するための遮光部121と複数のスペーサ用突起14を形成するための遮光部122とを有し、且つ前記複数のスペーサ用突起14を形成するための遮光部122が前記複数の接点用突起13を形成するための遮光部121よりも幅広に形成された露光マスク120を用いて行う。   In this embodiment, the exposure process of the photosensitive resin film 115 is performed in a light shielding part 121 for forming a plurality of contact projections 13 and a light shielding part for forming a plurality of spacer projections 14 as shown in FIG. 122, and a light shielding portion 122 for forming the plurality of spacer projections 14 is formed wider than a light shielding portion 121 for forming the plurality of contact projections 13. Do it.

このように、前記ポジ型感光性樹脂膜115を、複数のスペーサ用突起14を形成するための遮光部122が複数の接点用突起13を形成するための遮光部121よりも幅広に形成された露光マスク120を用いて露光処理すると、前記露光マスク120の上方から図16に矢線で示したように照射された光が、露光マスク120の各遮光部121,122の縁での光の回折により、前記ポジ型感光性樹脂膜115の前記遮光部121,122に対応する非露光部にもその周囲から入り込み、これらの非露光部のうちの前記幅狭な遮光部121に対応する部分、つまり複数の接点用突起13となる部分が、上方からも露光される。   As described above, in the positive photosensitive resin film 115, the light shielding portion 122 for forming the plurality of spacer protrusions 14 is formed wider than the light shielding portion 121 for forming the plurality of contact protrusions 13. When exposure processing is performed using the exposure mask 120, the light irradiated from above the exposure mask 120 as indicated by the arrow in FIG. 16 is diffracted by the edges of the light shielding portions 121 and 122 of the exposure mask 120. Accordingly, the non-exposed portion corresponding to the light-shielding portions 121 and 122 of the positive photosensitive resin film 115 also enters from the periphery thereof, and the portion corresponding to the narrow light-shielding portion 121 among these non-exposed portions, That is, the portions that become the plurality of contact protrusions 13 are exposed also from above.

なお、前記ポジ型感光性樹脂膜115のうちの複数のスペーサ用突起14となる部分は、前記露光マスク120の幅広な遮光部122により遮光されるため、この部分の周辺部は上方からも露光されるが、中央部は露光されない。   Note that portions of the positive photosensitive resin film 115 that become the plurality of spacer protrusions 14 are shielded by the wide light shielding portion 122 of the exposure mask 120, and therefore the peripheral portion of this portion is exposed from above. However, the central part is not exposed.

そのため、前記露光マスク120を用いて露光処理した後に現像処理すると、前記ポジ型感光性樹脂膜115の厚さよりも小さい高さの複数の接点用突起13と、前記ポジ型感光性樹脂膜115の厚さと同じ高さの複数のスペーサ用突起14とが形成される。   Therefore, when an exposure process is performed using the exposure mask 120 and a development process is performed, a plurality of contact protrusions 13 having a height smaller than the thickness of the positive photosensitive resin film 115 and the positive photosensitive resin film 115 are formed. A plurality of spacer protrusions 14 having the same height as the thickness are formed.

その後は、図15(c)のように、前記タッチ側基板11の内面に、前記複数の接点用突起13及び複数のスペーサ用突起14を覆って、ITO等からなる第1の抵抗膜15をプラズマCVD装置により成膜し、複数の突起状接点18及び複数の柱状スペーサ19を形成する。   Thereafter, as shown in FIG. 15C, the first resistance film 15 made of ITO or the like is formed on the inner surface of the touch-side substrate 11 so as to cover the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14. A plurality of protruding contacts 18 and a plurality of columnar spacers 19 are formed by film formation using a plasma CVD apparatus.

このように、この実施例の製造方法は、前記複数の接点用突起13と複数のスペーサ用突起14とを、1回のウエットプロセスで同時に形成するため、前記タッチパネル10bを、よりシンプルなプロセス順で製造することができる。   Thus, in the manufacturing method of this embodiment, since the plurality of contact protrusions 13 and the plurality of spacer protrusions 14 are simultaneously formed by one wet process, the touch panel 10b is formed in a simpler process order. Can be manufactured.

なお、上記第1〜第3の実施例のタッチパネル10,10a,10bでは、反対側基板12の内面に設けられた第2の抵抗膜16の前記複数のスペーサ用突起14とそれぞれ対応する部分に、タッチ側基板11の内面に設けられた第1の抵抗膜15に対する非導通部17として、前記柱状スペーサ19の先端の面積よりも大きい面積を有する孔部を設けているが、前記非導通部17は、前記孔部に限らず、例えば前記第2の抵抗膜16上に、前記柱状スペーサ19の先端の面積よりも大きい面積を有する絶縁膜を設けて形成してもよい。   In the touch panels 10, 10 a, and 10 b of the first to third embodiments, portions corresponding to the plurality of spacer protrusions 14 of the second resistance film 16 provided on the inner surface of the opposite substrate 12 are provided. As the nonconductive portion 17 for the first resistance film 15 provided on the inner surface of the touch side substrate 11, a hole having an area larger than the area of the tip of the columnar spacer 19 is provided. 17 is not limited to the hole, but may be formed, for example, by providing an insulating film having an area larger than the area of the tip of the columnar spacer 19 on the second resistance film 16.

また、上記各実施例のタッチパネル10,10a,10bは、反対側基板12に駆動回路接続端子22a,22b,23a,23bを設けたものであるが、駆動回路接続端子は、タッチ側基板11に張出部を形成して、この張出部に設けてもよい。   In the touch panels 10, 10 a, and 10 b of the above embodiments, the drive circuit connection terminals 22 a, 22 b, 23 a, and 23 b are provided on the opposite substrate 12, but the drive circuit connection terminals are provided on the touch substrate 11. An overhang portion may be formed and provided on the overhang portion.

その場合は、反対側基板12に設けられた第2の抵抗膜16を、その一方の方向、例えばX軸方向の両端の辺部がそれぞれ枠状のシール材26によるシール部に位置し、前記一方の方向に対して直交する方向、例えばY軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記シール部よりも内方に位置する形状に形成し、タッチ側基板11に設けられた第1の抵抗膜15を、前記X軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記シール部よりも内方に位置し、前記Y軸方向の両端の辺部がそれぞれ前記シール部の近傍または前記シール部に対応する形状に形成し、前記タッチ側基板11の内面に、反対側基板12に設けられた第2の抵抗膜16のX軸方向の両端の縁部にそれぞれ対向する複数の第1の電極と、前記タッチ側基板11に設けられた第1の抵抗膜15のY軸方向の両端の縁部にそれぞれ形成された複数の第2の電極と、前記複数の第1の電極及び複数の第2の電極を前記駆動回路接続端子にそれぞれ接続する複数の配線とを設ければよい。   In that case, the second resistive film 16 provided on the opposite substrate 12 is positioned at the sealing portion by the frame-shaped sealing material 26 at both sides in one direction, for example, the X-axis direction, A first resistance film 15 provided on the touch-side substrate 11 is formed in a shape perpendicular to one direction, for example, the side portions at both ends in the Y-axis direction are located inward of the seal portion. The side portions at both ends in the X-axis direction are respectively positioned inward of the seal portion, and the side portions at both ends in the Y-axis direction are formed in the shape corresponding to the vicinity of the seal portion or the seal portion, respectively. A plurality of first electrodes facing the edges of both ends in the X-axis direction of the second resistive film 16 provided on the opposite substrate 12 on the inner surface of the touch substrate 11, and the touch substrate 11 of the first resistive film 15 provided on the Y axis Provided with a plurality of second electrodes respectively formed at edges of both ends of the first and second wirings and a plurality of wirings respectively connecting the plurality of first electrodes and the plurality of second electrodes to the drive circuit connection terminals. Good.

さらに、上記各実施例のタッチパネル10,10a,10bでは、タッチ側基板11及びこのタッチ側基板11に形成された抵抗膜15を第1の基板及び第1の抵抗膜とし、反対側基板12及びこの反対側基板12に形成された抵抗膜16を第2の基板及び第2の抵抗膜としたが、それと反対に、前記反対側基板12及びこの反対側基板12に形成された抵抗膜14を第1の基板及び第1の抵抗膜とし、前記タッチ側基板11及びこのタッチ基板11に形成された抵抗膜13を第2の基板及び第2の抵抗膜とし、前記反対側基板12の内面の抵抗膜14に複数の突起状接点18と複数の柱状スペーサ19を形成し、前記タッチ側基板11の内面に非導通部17を設けてもよい。   Further, in the touch panels 10, 10 a, and 10 b of the above embodiments, the touch side substrate 11 and the resistance film 15 formed on the touch side substrate 11 are used as the first substrate and the first resistance film, and the opposite side substrate 12 and The resistance film 16 formed on the opposite substrate 12 is used as the second substrate and the second resistance film. On the contrary, the opposite substrate 12 and the resistance film 14 formed on the opposite substrate 12 are used. A first substrate and a first resistance film are used, and the touch-side substrate 11 and the resistance film 13 formed on the touch substrate 11 are used as a second substrate and a second resistance film. A plurality of protruding contacts 18 and a plurality of columnar spacers 19 may be formed on the resistance film 14, and the non-conductive portion 17 may be provided on the inner surface of the touch side substrate 11.

1…表示パネル、10,10a,10b…タッチパネル、11,12…基板、12a…張出部、13…接点用突起、14…スペーサ用突起、15…第1の抵抗膜、16…第2の抵抗膜、17…非導通部、18…突起状接点、19…柱状スペーサ、20a,20b…第1の電極、21a,21b…第2の電極、22a,22b,23a,23b…駆動回路接続端子、24a,24b,25a,25b…配線、26…シール材、27…導電性粒子(導電性部材)、28…液体注入口、29…封止樹脂、30…絶縁性液体(液晶)、31…タッチエリア、33…タッチパネル駆動回路、113,113a,113b,114,115…感光性樹脂膜、120…露光マスク、121,122…遮光部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display panel 10, 10a, 10b ... Touch panel, 11, 12 ... Board | substrate, 12a ... Overhang | projection part, 13 ... Contact protrusion, 14 ... Spacer protrusion, 15 ... 1st resistance film, 16 ... 2nd Resistive film, 17 ... non-conducting portion, 18 ... protruding contact, 19 ... columnar spacer, 20a, 20b ... first electrode, 21a, 21b ... second electrode, 22a, 22b, 23a, 23b ... driving circuit connection terminal 24a, 24b, 25a, 25b ... wiring, 26 ... sealing material, 27 ... conductive particles (conductive member), 28 ... liquid inlet, 29 ... sealing resin, 30 ... insulating liquid (liquid crystal), 31 ... Touch area 33 ... Touch panel drive circuit 113, 113a, 113b, 114, 115 ... Photosensitive resin film, 120 ... Exposure mask, 121, 122 ... Light shielding part.

Claims (19)

第1の抵抗膜が形成された第1の基板と第2の抵抗膜が形成された第2の基板とが前記第1と第2の抵抗膜を対向させて配置され、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜との接触位置を検出するタッチパネルであって、
前記第1の基板の前記第2の基板と対向する面上に予め定めた高さに突出させて設けられた複数の接点用突起と、
前記各接点用突起とは異なる位置に前記接点用突起よりも高く突出させて前記第1の基板上に設けられた複数のスペーサ用突起と、を備え、
前記第1の抵抗膜は、前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起を覆って前記第1の基板上に形成され、
前記第2の抵抗膜は、前記第1の抵抗膜を介して前記スペーサ用突起が前記第2の基板に接する位置に非導通部が設けられている
ことを特徴とするタッチパネル。
A first substrate on which a first resistive film is formed and a second substrate on which a second resistive film is formed are arranged with the first and second resistive films facing each other, and the first resistor A touch panel for detecting a contact position between the film and the second resistive film,
A plurality of contact protrusions provided to protrude at a predetermined height on a surface of the first substrate facing the second substrate;
A plurality of spacer protrusions provided on the first substrate so as to protrude higher than the contact protrusions at positions different from the contact protrusions;
The first resistance film is formed on the first substrate so as to cover the contact protrusions and the spacer protrusions,
The touch panel, wherein the second resistance film is provided with a non-conductive portion at a position where the spacer protrusion is in contact with the second substrate through the first resistance film.
前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起は、所定の間隔で配置されているとともに、隣接した2つの前記スペーサ用突起の間に2つ以上の前記接点用突起が配置されていることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル。   The contact protrusions and the spacer protrusions are disposed at a predetermined interval, and two or more contact protrusions are disposed between two adjacent spacer protrusions. The touch panel according to claim 1. 所定の方形領域の4つの角部のそれぞれに前記スペーサ用突起が配置され、少なくとも前記方形領域内において前記接点用突起が前記所定の間隔で配置されていることを特徴とする請求項2に記載のタッチパネル。   3. The spacer projection is arranged at each of four corners of a predetermined square region, and the contact projections are arranged at the predetermined interval at least in the square region. Touch panel. 前記非導通部は、前記スペーサ用突起の先端面の面積よりも大きい面積を有していることを特徴とする請求項1から3の何れかに記載のタッチパネル。   4. The touch panel according to claim 1, wherein the non-conducting portion has an area larger than an area of a tip end surface of the spacer projection. 5. 前記非導通部は、前記第2の抵抗膜に設けられた孔からなっていることを特徴とする請求項4に記載のタッチパネル。   The touch panel as set forth in claim 4, wherein the non-conducting portion is a hole provided in the second resistance film. 前記各接点用突起と前記各スペーサ用突起はそれぞれ感光性樹脂により形成され、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜はそれぞれ透明導電膜により形成されていることを特徴とする請求項1から5の何れかに記載のタッチパネル。   The contact protrusions and the spacer protrusions are each formed of a photosensitive resin, and the first resistance film and the second resistance film are respectively formed of a transparent conductive film. The touch panel according to any one of 1 to 5. 前記各スペーサ用突起は、前記接点用突起との高さの差に対応した厚さに形成された第1の層と、前記接点用突起の高さと同じ厚さに形成された第2の層との積層膜からなっていることを特徴とする請求項1から6の何れかに記載のタッチパネル。   Each of the spacer protrusions has a first layer formed with a thickness corresponding to a difference in height from the contact protrusions, and a second layer formed with the same thickness as the contact protrusions. The touch panel according to claim 1, wherein the touch panel is a laminated film. 前記第1の基板と前記第2の基板は、当該第1の基板と当該第2の基板との間に配置された枠状のシール材により接合され、
前記シール材により囲まれた間隙に、絶縁性液体が封入されていることを特徴とする請求項1から7の何れかに記載のタッチパネル。
The first substrate and the second substrate are bonded by a frame-shaped sealing material disposed between the first substrate and the second substrate,
The touch panel according to claim 1, wherein an insulating liquid is sealed in a gap surrounded by the sealing material.
前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起は、前記シール材により囲まれた領域に形成されていることを特徴とする請求項8に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 8, wherein each of the contact protrusions and each of the spacer protrusions is formed in a region surrounded by the sealing material. 前記絶縁性液体は、前記第1と第2の基板の少なくとも一方との光の屈折率の差が0.1以下の液体であることを特徴とする請求項8に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 8, wherein the insulating liquid is a liquid having a difference in refractive index of light between at least one of the first and second substrates of 0.1 or less. 前記絶縁性液体は、常温で光学的に等方性な材料であることを特徴とする請求項8に記載のタッチパネル。   The touch panel as set forth in claim 8, wherein the insulating liquid is an optically isotropic material at room temperature. 前記絶縁性液体は、5℃以上の温度においてアイソトロピック相を示す液晶であることを特徴とする請求項8に記載のタッチパネル。   The touch panel as set forth in claim 8, wherein the insulating liquid is a liquid crystal exhibiting an isotropic phase at a temperature of 5 ° C. or higher. 前記絶縁性液体は、沸点が100℃以上の有機または無機の絶縁性の液状物質であることを特徴とする請求項8に記載のタッチパネル。   The touch panel as set forth in claim 8, wherein the insulating liquid is an organic or inorganic insulating liquid material having a boiling point of 100 ° C. or higher. 前記第1と第2の基板のうちのいずれか一方の基板の縁部に、前記第1の抵抗膜の所定の方向の両端と、前記第2の抵抗膜の前記所定の方向に対して直交する方向の両端とをそれぞれ駆動回路に接続するための駆動回路接続端子が設けられていることを特徴とする請求項1から13の何れかに記載のタッチパネル。   At the edge of one of the first and second substrates, both ends of the first resistive film in a predetermined direction and orthogonal to the predetermined direction of the second resistive film 14. The touch panel according to claim 1, further comprising drive circuit connection terminals for connecting both ends in the direction to be driven to the drive circuit. 第1の抵抗膜が形成された第1の基板と第2の抵抗膜が形成された第2の基板とが対向させて配置され、前記第1の抵抗膜と前記第2の抵抗膜との接触位置を検出するタッチパネルの製造方法であって、
前記第1の基板上に、複数の接点用突起と前記各接点用突起よりも高く突出する複数のスペーサ用突起とを形成する工程と、
前記各接点用突起及び前記各スペーサ用突起を覆って前記第1の基板上に前記第1の抵抗膜を成膜する工程と、
前記第2の基板上に、所定の位置が前記第1の導電膜との非導通部となるように前記第2の抵抗膜を形成する工程と、
前記スペーサ用突起が前記非導通部に対応するように前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせる工程と、
を有することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
The first substrate on which the first resistance film is formed and the second substrate on which the second resistance film is formed are arranged to face each other, and the first resistance film and the second resistance film are A method of manufacturing a touch panel for detecting a contact position,
Forming a plurality of contact protrusions and a plurality of spacer protrusions projecting higher than the contact protrusions on the first substrate;
Forming the first resistance film on the first substrate so as to cover the contact protrusions and the spacer protrusions;
Forming the second resistance film on the second substrate such that a predetermined position is a non-conductive portion with the first conductive film;
Bonding the first substrate and the second substrate so that the spacer projections correspond to the non-conductive portion;
A method for manufacturing a touch panel, comprising:
前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起は、感光性樹脂の塗布、前記塗布した感光性樹脂への露光及び現像処理により順次形成することを特徴とする請求項14に記載のタッチパネルの製造方法。   15. The touch panel according to claim 14, wherein the plurality of contact protrusions and the plurality of spacer protrusions are sequentially formed by application of a photosensitive resin, exposure to the applied photosensitive resin, and development processing. Production method. 前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起とを形成する工程は、
前記第1の基板上に第1の感光性樹脂を前記接点用突起と前記スペーサ用突起との高さの差に対応した厚さに塗布する工程と、
前記塗布した第1の感光性樹脂を露光及び現像処理して前記複数のスペーサ用突起の下層部分を形成する工程と、
前記下層部分を覆って前記第1の基板上に第2の感光性樹脂を前記接点用突起の高さに対応した厚さに塗布する工程と、
前記第2の感光性樹脂を露光及び現像処理して前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起の上層部分とを同時に形成する工程と、
からなることを特徴とする請求項15に記載のタッチパネルの製造方法。
Forming the plurality of contact protrusions and the plurality of spacer protrusions;
Applying a first photosensitive resin on the first substrate to a thickness corresponding to a difference in height between the contact protrusion and the spacer protrusion;
Exposing and developing the applied first photosensitive resin to form lower layer portions of the plurality of spacer protrusions;
Applying a second photosensitive resin on the first substrate so as to cover the lower layer portion to a thickness corresponding to the height of the contact protrusion;
A step of exposing and developing the second photosensitive resin to simultaneously form the plurality of contact projections and the plurality of spacer projections;
The touch panel manufacturing method according to claim 15, comprising:
前記複数の接点用突起と前記複数のスペーサ用突起は、ポジ型感光性樹脂の塗布、前記塗布したポジ型感光性樹脂への露光及び現像処理により同時に形成することを特徴とする請求項15に記載のタッチパネルの製造方法。   16. The plurality of contact protrusions and the plurality of spacer protrusions are formed simultaneously by applying a positive photosensitive resin, exposing the applied positive photosensitive resin, and developing processing. The manufacturing method of the touch panel as described. 前記塗布したポジ型感光性樹脂への露光処理は、前記複数の接点用突起を形成するための複数の遮光部と前記複数のスペーサ用突起を形成するための遮光部とを有し、且つ前記スペーサ用突起を形成するための遮光部が前記接点用突起を形成するための遮光部よりも幅広に形成された露光マスクを用いて行うことを特徴とする請求項18に記載のタッチパネルの製造方法。   The exposure treatment to the applied positive photosensitive resin includes a plurality of light shielding portions for forming the plurality of contact projections and a light shielding portion for forming the plurality of spacer projections, and 19. The method of manufacturing a touch panel according to claim 18, wherein the light shielding part for forming the spacer protrusion is performed using an exposure mask formed wider than the light shielding part for forming the contact protrusion. .
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