JP5168657B2 - Granular silicon manufacturing method and apparatus - Google Patents

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Description

この発明は粒状シリコン製造方法およびその装置、詳しくは光電変換を行う多結晶シリコン型太陽電池の基板原料となる粒状シリコンを製造可能な粒状シリコン製造方法およびその装置に関する。   The present invention relates to a granular silicon manufacturing method and apparatus, and more particularly to a granular silicon manufacturing method and apparatus capable of manufacturing granular silicon which is a substrate material for a polycrystalline silicon solar cell that performs photoelectric conversion.

従来の粒状シリコンの製造方法としては、ルツボに投入された塊状、顆粒状や微小粒子状のシリコン材料を高周波誘導加熱して溶融し、ルツボから溶融シリコンを液滴(粒状の融液)として落下させ、表面張力で溶融シリコンを球状化させる方法が知られている(例えば特許文献1)。特許文献1の運転開始時には、ルツボに投入される直前のシリコン材料を予熱し、ルツボへの投入後、これを高周波誘導加熱により溶融していた。   As a conventional method for producing granular silicon, a lump, granule, or microparticulate silicon material charged in a crucible is melted by high-frequency induction heating, and the molten silicon is dropped as a droplet (granular melt) from the crucible. A method is known in which molten silicon is spheroidized by surface tension (for example, Patent Document 1). At the start of operation of Patent Document 1, the silicon material immediately before being put into the crucible was preheated, and after being put into the crucible, it was melted by high frequency induction heating.

特開2006−137622号公報JP 2006-137622 A

ところで、シリコン単結晶などを原料としたシリコン材料は高純度シリコンからなる。高純度シリコンは常温(固体)での抵抗率が高く、ほとんど誘導電流は流れない。そのため、ウェーハ加工プロセスから排出された残材のシリコン材料を使用し、この特許文献1に記載された方法に従えば、予熱時に、シリコン材料を誘導電流が流れる融点近くまで、ヒータなどで抵抗加熱する必要があった。
スライス工程や研削工程からは、多量の粉末シリコンが排出されている。回収可能なウェーハ残材のうち、切削粉などは表面積が大きくて不純物による汚染度が高い。そのため、デバイス用ウェーハの単結晶原料として再利用することは難しい。これを踏まえ、近年では粉末シリコンを太陽電池用のシリコン材料として有効利用する方法が検討されている。
By the way, the silicon material made from silicon single crystal or the like is made of high purity silicon. High-purity silicon has a high resistivity at room temperature (solid), and almost no induced current flows. Therefore, if the remaining silicon material discharged from the wafer processing process is used and the method described in Patent Document 1 is used, the silicon material is heated by resistance with a heater or the like to the vicinity of the melting point where the induced current flows during preheating. There was a need to do.
A large amount of powdered silicon is discharged from the slicing process and grinding process. Of the recoverable wafer residue, cutting powder has a large surface area and is highly contaminated by impurities. Therefore, it is difficult to reuse as a single crystal raw material for device wafers. Based on this, in recent years, methods for effectively using powdered silicon as a silicon material for solar cells have been studied.

そこで、発明者は鋭意研究の結果、ルツボとして下窄み形状のルツボを採用し、初期溶融時、粉末シリコンを収納したルツボの下開口部を、高周波誘導加熱の輻射熱で間接的に溶かされるシリコンブロックを用いて閉塞すればよいことに想到した。
すなわち、製造開始時には、下開口部の外回りに設けられた導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱で、ルツボの下開口部を塞いだシリコンブロックと粉末シリコンの一部とを溶融する。それ以降は、輻射熱での加熱を継続するか、溶融シリコンを直接高周波誘導加熱する。これにより、下開口部内まで到達した粉末シリコンが順次溶ける。その結果、シリコン材料として、常温ではほとんど誘導電流が流れない高純度シリコン製のものを採用した場合でも、予熱装置が不要で、かつ製造開始時から連続して粒状シリコンを製造可能であることを知見し、この発明を完成させた。
Therefore, as a result of earnest research, the inventor adopted a crucible having a constricted shape as a crucible, and silicon that is melted indirectly by radiant heat of high-frequency induction heating in the lower opening of the crucible containing powdered silicon during initial melting. I came up with the idea of blocking with a block.
That is, at the start of production, the conductive cylinder provided around the lower opening is subjected to high-frequency induction heating, and the radiant heat melts the silicon block closing the lower opening of the crucible and part of the powdered silicon. Thereafter, heating with radiant heat is continued, or molten silicon is directly subjected to high frequency induction heating. Thereby, the powder silicon which reached the inside of the lower opening is melted sequentially. As a result, even if a silicon material made of high-purity silicon that hardly induces an induced current at room temperature is used, a preheating device is unnecessary and it is possible to produce granular silicon continuously from the start of production. As a result, the present invention was completed.

また、下窄み形状のルツボを採用したのでルツボの小型化が図れるとともに、ルツボの下開口部に収納されたシリコン材料のみを溶融するようにしたので、高周波誘導加熱時の使用電力の削減が図れることも知見し、この発明を完成させた。   In addition, since the crucible with a constricted shape is adopted, the crucible can be reduced in size and only the silicon material stored in the lower opening of the crucible is melted, so that the power consumed during high frequency induction heating can be reduced. We also found out that it was possible to complete this invention.

この発明は、ルツボの小型化や高周波誘導加熱時の使用電力の削減が図れ、しかも原料の粉末シリコンに高純度シリコン製のものを採用した場合でも、予熱装置を使用することなく、製造開始時から粒状シリコンを連続して製造することができる粒状シリコン製造方法およびその装置を提供することを目的としている。   This invention can reduce the power consumption during crucible downsizing and high-frequency induction heating, and even when high-purity silicon made of powder silicon is used, without using a preheating device, It is an object of the present invention to provide a granular silicon production method and apparatus capable of continuously producing granular silicon from the above.

請求項1に記載の発明は、上開口部から粉末シリコンが投入され、下開口部から前記粉末シリコンの溶融後の溶融シリコンが連続して滴下される下窄み形状のルツボと、前記下開口部の外回りに配置された高周波誘導コイルと、該高周波誘導コイルと前記下開口部との間に抜き差し可能に設けられ、前記高周波誘導コイルの起動により加熱され、その輻射熱で、前記粉末シリコンが収納された下窄み形状の前記ルツボの下開口部を塞ぐシリコンブロックおよび前記粉末シリコンの一部を溶融させる補助加熱用の導電円筒と、該導電円筒を、前記高周波誘導コイルと前記下開口部との間に抜き差しさせる抜き差し手段とを備えた粒状シリコン製造装置である。 The invention described in claim 1 is a crucible having a constricted shape in which powder silicon is introduced from an upper opening and molten silicon after melting of the powder silicon is continuously dropped from a lower opening, and the lower opening A high-frequency induction coil arranged around the outside of the unit, and provided between the high-frequency induction coil and the lower opening so as to be removable, heated by the activation of the high-frequency induction coil, and the radiant heat accommodates the powder silicon A silicon block that closes the lower opening of the crucible having a constricted shape, a conductive cylinder for auxiliary heating that melts part of the powdered silicon, the conductive cylinder, the high-frequency induction coil, and the lower opening It is the granular silicon manufacturing apparatus provided with the insertion / extraction means to insert / extract between .

請求項1に記載の発明によれば、製造開始時には、高周波誘導コイルの起動により導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱で、下開口部内のシリコンブロックと粉末シリコンの一部とを溶融する。それ以降は、この輻射熱による加熱を継続するか、抜き差し手段を用いて高周波誘導コイルと下開口部との間から導電円筒を抜き取り、加熱により電気的な抵抗率が低下した溶融シリコンを、直接、高周波誘導加熱する。そのため、高純度シリコンからなる粉末シリコンをシリコン材料に採用した場合でも、従来は必須の設備であった予熱装置を使用することなく、製造開始時から粒状シリコンを継続して製造することができる。しかも、ルツボとして下窄み形状のものを採用したので、ルツボの小型化も図れる。さらに、高周波誘導コイルによるルツボの加熱範囲を下窄み形状の下開口部としたので、ルツボの加熱容積が小さい。そのため、高周波誘導加熱時の使用電力を削減することができる。 According to the first aspect of the present invention, at the start of manufacture, the conductive cylinder is induction-heated by induction by activation of the induction coil, and the silicon block in the lower opening and a part of the powder silicon are melted by the radiant heat. After that, continue heating with this radiant heat, or use a pull-out means to pull out the conductive cylinder from between the high-frequency induction coil and the lower opening, and directly add the molten silicon whose electrical resistivity has decreased by heating, High frequency induction heating. Therefore, even when powder silicon made of high-purity silicon is used as the silicon material, granular silicon can be continuously produced from the start of production without using a preheating device that has been an essential facility in the past. In addition, since the crucible having a constricted shape is adopted, the crucible can be reduced in size. Furthermore, since the crucible heating range by the high frequency induction coil is the lower opening of the constricted shape, the heating volume of the crucible is small. Therefore, the electric power used at the time of high frequency induction heating can be reduced.

「粉末シリコン」としては、ウェーハ加工プロセスのスライス工程や研削工程から排出された切削粉を採用することができる。この切削粉は、塊形状や顆粒形状のウェーハ残材に比べて表面積が大きく、高純度のシリコン製でありながら、その表層部分は不純物による汚染度が高い。
シリコンとしては、単結晶シリコン、多結晶シリコンを採用することができる。
ルツボの素材としては、石英、窒化ボロン、炭化珪素などを採用することができる。
ルツボの形状は、上開口部より下開口部の方が小さい筒形状(円筒形状、角筒形状など)であれば任意である。
「下窄み形状」とは、下方へ向かって徐々に開口面積が小さくなる形状である。ルツボの全長にわたって下窄み形状でも、その下部のみが下窄み形状でもよい。
ルツボの下開口部の形状としては、例えば、下方へ向けて徐々に小径化したロート形状でもよい。または、下開口部の全長にわたって開口面積が均一な筒形状でもよい。もしくは、前記ロート部分の下端の開口に、開口面積が全長にわって等しい前記筒体が連通された形状でもよい。
As “powder silicon”, cutting powder discharged from the slicing process or grinding process of the wafer processing process can be employed. The cutting powder has a larger surface area than the lump-shaped or granule-shaped wafer residue and is made of high-purity silicon, but its surface layer portion is highly contaminated by impurities.
As silicon, single crystal silicon or polycrystalline silicon can be employed.
As a material for the crucible, quartz, boron nitride, silicon carbide, or the like can be used.
The shape of the crucible is arbitrary as long as the lower opening is smaller than the upper opening in a cylindrical shape (cylindrical shape, rectangular tube shape, etc.).
The “bottom shape” is a shape in which the opening area gradually decreases downward. The crucible may have a constricted shape over the entire length of the crucible, or only the lower portion thereof may have a constricted shape.
The shape of the lower opening of the crucible may be, for example, a funnel shape in which the diameter is gradually reduced downward. Alternatively, it may be a cylindrical shape having a uniform opening area over the entire length of the lower opening. Or the shape by which the said cylinder which the opening area was equal over the full length was connected with the opening of the lower end of the said funnel part may be sufficient.

シリコンブロックとしては、例えば単結晶シリコン製のブロック、多結晶シリコン製のブロックあるいは本特許法のルツボ残材をその形状のまま固化させたものを採用することができる。
導電円筒の素材である導電性材料としては、例えば黒鉛、タングステンなどの2000℃以上の融点を持つ金属などを採用することができる。
導電円筒の高周波誘導加熱には、高周波誘導コイルを使用し、その誘導電流による加熱を採用することができる。
高周波誘導コイル用の電源としては、例えば20〜500kHz、20〜200Wのものが採用される。
As the silicon block, for example, a block made of single crystal silicon, a block made of polycrystalline silicon, or a solidified crucible residue of this patent method can be adopted.
As the conductive material that is a material of the conductive cylinder, for example, a metal having a melting point of 2000 ° C. or higher, such as graphite or tungsten, can be used.
For high-frequency induction heating of the conductive cylinder, a high-frequency induction coil is used, and heating by the induction current can be employed.
The power supply for the high-frequency induction coil, for example 20~500KHz, is employed as the 20 to 200 k W.

導電円筒の加熱温度は、導電円筒の輻射熱によってシリコンブロックが溶融可能な600〜1500℃である。600℃未満では、輻射熱が低くてシリコンブロックに誘導電流が流れ始めるまでの時間が長くなる。また、1500℃を超えれば、ルツボ材料の耐熱性が不足して劣化が激しくなる。導電円筒の好ましい加熱温度は、800〜1000℃である。この範囲であれば、短時間でシリコンブロックに誘導電流が流れ始めて溶融状態に至り、過剰な輻射熱でルツボの寿命を短くする問題を軽減することができる。   The heating temperature of the conductive cylinder is 600 to 1500 ° C. at which the silicon block can be melted by the radiant heat of the conductive cylinder. Below 600 ° C., the radiant heat is low and the time until the induced current starts to flow through the silicon block becomes long. Moreover, if it exceeds 1500 degreeC, the heat resistance of a crucible material will run short and deterioration will become intense. A preferable heating temperature of the conductive cylinder is 800 to 1000 ° C. Within this range, the problem of shortening the crucible life due to excessive radiant heat can be mitigated by inducing an induced current to flow into the silicon block in a short time and reaching a molten state.

下開口部内の溶融シリコンは、導電円筒の輻射熱により継続して加熱してもよい。また、導電円筒を取り除き、下開口部内の溶融シリコンを、直接、高周波誘導加熱してもよい。これは、仮に原料が高純度シリコンであっても、シリコンが融点を超える温度まで加熱されるので、シリコンの電気的な抵抗率が低く、誘導電流が十分に流れるためである。
ルツボの下開口部から溶融シリコンが滴下される際、バイブレータによりルツボに振動を加えて、粒状の溶融シリコンの粒径を揃えるようにしてもよい。
抜き差し手段としては、例えば操作アームを移動させる各種のアクチュエータを採用することができる。
The molten silicon in the lower opening may be continuously heated by the radiant heat of the conductive cylinder. Alternatively, the conductive cylinder may be removed and the molten silicon in the lower opening may be directly subjected to high frequency induction heating. This is because even if the raw material is high-purity silicon, since the silicon is heated to a temperature exceeding the melting point, the electrical resistivity of silicon is low and the induced current flows sufficiently.
When molten silicon is dropped from the lower opening of the crucible, the crucible may be vibrated by a vibrator so that the particle diameters of the granular molten silicon are made uniform.
As the insertion / extraction means, for example, various actuators that move the operation arm can be employed.

請求項2に記載の発明は、前記ルツボ内の粉末シリコンを攪拌しながら、前記溶融シリコンに還元ガスを吹き付ける攪拌ノズルを有した請求項1に記載の粒状シリコン製造装置である。 The invention according to claim 2 is the granular silicon manufacturing apparatus according to claim 1, further comprising a stirring nozzle for blowing a reducing gas onto the molten silicon while stirring the powdered silicon in the crucible .

請求項2に記載の発明によれば、ルツボの内周面に棚吊り状態で付着した粉末シリコンを、攪拌ノズルにより攪拌することで掻き落とす。攪拌では、ノズル上部に設けた振動子を使用することにより、容易に粉末シリコンの棚吊り状態を解消することができる。また、攪拌ノズルから溶融シリコンの液面に向かって還元ガスを吹き付ける。これにより、そのガスの還元作用により、粉末シリコンの表面の酸化物を還元することができる。 According to the second aspect of the present invention, the powdered silicon adhering to the inner peripheral surface of the crucible in a suspended state is scraped off by stirring with the stirring nozzle. In the stirring, by using the vibrator provided on the upper part of the nozzle, the suspended state of the powder silicon can be easily eliminated. Moreover, a reducing gas is sprayed from the stirring nozzle toward the surface of the molten silicon. Thereby, the oxide on the surface of the powder silicon can be reduced by the reducing action of the gas.

この還元ガスにより生成される粒状シリコンの酸素濃度が減少し、太陽電池の変換効率が高まる。  The oxygen concentration of the granular silicon produced | generated by this reducing gas reduces, and the conversion efficiency of a solar cell increases.

請求項3に記載の発明は、前記ルツボの下開口部の直下に、該下開口部から滴下されて凝固した直後の粒状シリコンが、斜面を転がりながら冷却される冷却傾斜板を設けた請求項1または請求項2に記載の粒状シリコン製造装置である。 According to a third aspect of the present invention, the cooling inclined plate is provided immediately below the lower opening of the crucible, in which the granular silicon immediately after dripping and solidifying from the lower opening is cooled while rolling on the inclined surface. It is the granular silicon manufacturing apparatus of Claim 1 or Claim 2.

請求項3に記載の発明によれば、下開口部から滴下され、表面張力により球状化された粒状シリコンは、冷却傾斜板の斜面を転がりながら冷却される。これにより、例えば完全に固まる前の粒状シリコンが回収容器の底板に衝突した際の衝撃による変形を防止することができる。しかも、回収容器の表面に付着した不純物や回収容器の材料自身を取り込むことがなく、粒状シリコンに不純物が混入するおそれを低減することができる。
冷却傾斜板としては、例えば傾斜面が平面のものでも、傾斜面が曲面のものでもよい。
According to the third aspect of the present invention, the granular silicon dropped from the lower opening and spheroidized by the surface tension is cooled while rolling on the slope of the cooling inclined plate. Thereby, the deformation | transformation by the impact at the time of the granular silicon before fully solidifying colliding with the bottom plate of a collection container can be prevented, for example. In addition, the impurities adhering to the surface of the recovery container and the material of the recovery container itself are not taken in, and the risk of impurities being mixed into the granular silicon can be reduced.
As the cooling inclined plate, for example, the inclined surface may be flat or the inclined surface may be curved.

請求項4に記載の発明は、前記ルツボの下開口部の開口直径が5〜20mmである請求項1〜請求項3のうち、何れか1項に記載の粒状シリコン製造装置である。 The invention according to claim 4 is the granular silicon manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 3 , wherein the opening diameter of the lower opening of the crucible is 5 to 20 mm.

ルツボの下開口部の開口直径(内径)が5mm未満では、下開口部での溶融シリコンの凝固が起きやすく、閉塞するおそれがある。また、20mmを超えれば、溶融シリコンの滴下量が増大し、ルツボ下部の溶融シリコンが無くなり、粉末シリコンが溶融しなくなる。あるいは粉末シリコンが開口部から漏れてしまう。下開口部の好ましい開口直径は、5〜10mmである。この範囲とすることで、高周波電源のパワー制御や下部の補助加熱用の導電円筒の制御範囲が小さくなり、安定した溶融シリコンの滴下量が得られるというさらに好適な効果が得られる。  When the opening diameter (inner diameter) of the lower opening of the crucible is less than 5 mm, solidification of the molten silicon in the lower opening tends to occur and there is a risk of clogging. Moreover, if it exceeds 20 mm, the dripping amount of a molten silicon will increase, the molten silicon under a crucible will be lose | eliminated, and powdered silicon will not fuse | melt. Or powder silicon will leak from an opening. The preferable opening diameter of the lower opening is 5 to 10 mm. By setting this range, the power control of the high-frequency power source and the control range of the conductive cylinder for auxiliary heating in the lower part are reduced, and a more preferable effect that a stable molten silicon dropping amount can be obtained.

請求項5に記載の発明は、粉末シリコンが収納された下窄み形状のルツボの下開口部をシリコンブロックにより塞ぐ蓋止め工程と、該蓋止め工程後、前記下開口部の外回りに配置された導電性材料からなる補助加熱用の導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱により、前記下開口部内の前記シリコンブロックおよび前記粉末シリコンの一部を溶融させ、前記下開口部から溶融シリコンを連続して滴下させる初期溶融工程と、該初期溶融工程後、前記下開口部内の溶融シリコンを前記導電円筒の輻射熱により継続して加熱するか、該導電円筒を取り除いて前記下開口部内の溶融シリコンを高周波誘導加熱し、前記下開口部からの溶融シリコンの連続した滴下に伴い前記下開口部内へ到達した前記粉末シリコンを、順次、前記溶融シリコンの熱により溶融させる溶融工程とを備えた粒状シリコン製造方法である。 According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a lid-stopping process in which the lower opening of the crucible with the constricted shape containing the powdered silicon is closed with a silicon block, and the outer opening of the lower opening is disposed after the lid-stopping process. A conductive cylinder for auxiliary heating made of a conductive material is induction-heated at high frequency, and the radiant heat melts the silicon block and a part of the powder silicon in the lower opening, and the molten silicon is continuously supplied from the lower opening. An initial melting step in which the molten silicon is dropped, and after the initial melting step, the molten silicon in the lower opening is continuously heated by radiant heat of the conductive cylinder, or the molten silicon in the lower opening is removed by removing the conductive cylinder. High-frequency induction heating, the powdered silicon that has reached the lower opening with continuous dripping of the molten silicon from the lower opening, sequentially, the heat of the molten silicon A granular silicon manufacturing method and a melting step of further melting.

請求項5に記載の発明によれば、製造開始時には、ルツボの下開口部をシリコンブロックにより塞ぐ(蓋止め工程)。その後、下開口部の外回りに配置された導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱で、シリコンブロックと下開口部内の粉末シリコンの一部とを溶かす。これにより、製造開始時から、溶融シリコンが下開口部から連続して滴下され、表面張力による球状化後に凝固することで粒状シリコンが製造される(初期溶融工程)。その後、下開口部内の溶融シリコンを継続して輻射熱により加熱するか、導電円筒を取り除き、溶融シリコンを直接高周波誘導加熱する。これにより、溶融シリコンの連続滴下に伴い下開口部まで落下した粉末シリコンを、順次、溶融シリコンの熱で溶かす。その結果、溶融シリコンの滴下による粒状シリコンの製造が継続される(溶融工程)。 According to the fifth aspect of the present invention, at the start of manufacture, the lower opening of the crucible is closed with the silicon block (covering step). Thereafter, the conductive cylinder arranged around the lower opening is subjected to high frequency induction heating, and the radiant heat melts the silicon block and part of the powdered silicon in the lower opening. Thereby, from the start of manufacture, molten silicon is continuously dripped from the lower opening, and granular silicon is manufactured by solidifying after spheroidization by surface tension (initial melting step). Thereafter, the molten silicon in the lower opening is continuously heated by radiant heat, or the conductive cylinder is removed, and the molten silicon is directly subjected to high frequency induction heating. As a result, the silicon powder that has fallen to the lower opening due to continuous dripping of the molten silicon is sequentially melted by the heat of the molten silicon. As a result, the production of granular silicon by dripping molten silicon is continued (melting step).

このように、製造開始時、高周波誘導コイルの起動により導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱で、下開口部内のシリコンブロックと粉末シリコンの一部とを溶融する。それ以降は、輻射熱による加熱を継続するか、抜き差し手段により高周波誘導コイルと下開口部との間から導電円筒を抜き取り、加熱により電気的な抵抗率が低下した溶融シリコンを、直接、高周波誘導加熱する。そのため、仮に高純度シリコンからなる粉末シリコンをシリコン材料に採用した場合でも、予熱装置を使用することなく、製造開始時から粒状シリコンを継続して製造することができる。さらに、ルツボとして下窄み形状のものを採用したので、ルツボの小型化も図れる。しかも、高周波誘導コイルによるルツボの加熱範囲を下窄み形状の下開口部としたので、ルツボの加熱容積が小さくなる。その結果、高周波誘導加熱時の使用電力を削減することができる。  Thus, at the start of manufacture, the conductive cylinder is induction-heated by induction by starting the high-frequency induction coil, and the silicon block in the lower opening and part of the powder silicon are melted by the radiant heat. After that, heating by radiant heat is continued, or the conductive cylinder is extracted from between the high-frequency induction coil and the lower opening by the insertion / extraction means, and the molten silicon whose electrical resistivity is reduced by heating is directly applied to the high-frequency induction heating. To do. Therefore, even if powder silicon made of high-purity silicon is adopted as the silicon material, granular silicon can be continuously produced from the start of production without using a preheating device. Furthermore, since the crucible having a constricted shape is adopted, the crucible can be downsized. Moreover, since the heating range of the crucible by the high-frequency induction coil is the lower opening of the constricted shape, the heating volume of the crucible is reduced. As a result, the power used during high frequency induction heating can be reduced.

請求項1および請求項に記載の発明によれば、製造開始時、高周波誘導コイルの起動により導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱で、下開口部内のシリコンブロックと粉末シリコンの一部とを溶融する。それ以降は、輻射熱による加熱を継続するか、抜き差し手段により高周波誘導コイルと下開口部との間から導電円筒を抜き取り、加熱により電気的な抵抗率が低下した溶融シリコンを、直接、高周波誘導加熱する。そのため、高純度シリコンからなる粉末シリコンをシリコン材料に採用した場合でも、予熱装置を使用することなく、製造開始時から粒状シリコンを継続して製造することができる。さらに、ルツボとして下窄み形状のものを採用したので、ルツボの小型化も図れる。しかも、高周波誘導コイルによるルツボの加熱範囲を下窄み形状の下開口部としたので、ルツボの加熱容積が小さくなる。その結果、高周波誘導加熱時の使用電力を削減することができる。 According to the first and fifth aspects of the invention, at the start of manufacture, the conductive cylinder is induction-heated by induction by activation of the induction coil, and the radiant heat causes the silicon block in the lower opening and part of the powder silicon to Melt. After that, heating by radiant heat is continued, or the conductive cylinder is extracted from between the high-frequency induction coil and the lower opening by the insertion / extraction means, and the molten silicon whose electrical resistivity is reduced by heating is directly applied to the high-frequency induction heating. To do. Therefore, even when powder silicon made of high-purity silicon is adopted as the silicon material, granular silicon can be continuously produced from the start of production without using a preheating device. Furthermore, since the crucible having a constricted shape is adopted, the crucible can be downsized. Moreover, since the heating range of the crucible by the high-frequency induction coil is the lower opening of the constricted shape, the heating volume of the crucible is reduced. As a result, the power used during high frequency induction heating can be reduced.

特に、請求項に記載の発明によれば、ルツボの内周面に棚吊り状態で付着した粉末シリコンを、攪拌ノズルにより粉末シリコンを攪拌しながら掻き落とす。また、攪拌ノズルから溶融シリコンの液面に向かって還元ガスを吹き付ける。これにより、ガスの還元作用により、溶融シリコンの液面の酸化を防止することができる。 In particular, according to the second aspect of the invention, the powder silicon adhering to the inner peripheral surface of the crucible in a suspended state is scraped off while stirring the powder silicon by the stirring nozzle. Moreover, a reducing gas is sprayed from the stirring nozzle toward the surface of the molten silicon. Thereby, oxidation of the liquid surface of molten silicon can be prevented by the reducing action of the gas.

請求項に記載の発明によれば、下開口部から滴下され、表面張力により球状化された粒状シリコンは、冷却傾斜板の斜面を転がりながら冷却される。これにより、例えば完全に固まる前の粒状シリコンが回収容器の底板に衝突した際の衝撃による変形を防ぎ、衝突の衝撃によりシリコン粒の表面に不純物が食い込むことがなくなるという理由で、粒状シリコンに不純物が混入するおそれを低減することができる。 According to the third aspect of the present invention, the granular silicon dropped from the lower opening and spheroidized by the surface tension is cooled while rolling on the slope of the cooling inclined plate. This prevents, for example, deformation caused by impact when the granular silicon before being completely hardened collides with the bottom plate of the recovery container, and impurities are not absorbed into the surface of the silicon grains due to the impact of the collision. The risk of contamination can be reduced.

請求項に記載の発明によれば、ルツボの下開口部の開口直径を5〜20mmとしたので、安定したシリコン粉末の溶融が継続できる。 According to the invention described in claim 4 , since the opening diameter of the lower opening of the crucible is set to 5 to 20 mm, stable melting of the silicon powder can be continued.

以下、この発明の実施例1に係る粒状シリコン製造方法およびその装置を具体的に説明する。   Hereinafter, the granular silicon manufacturing method and apparatus according to Embodiment 1 of the present invention will be described in detail.

図1において、10はこの発明の実施例1に係る粒状シリコン製造装置で、この粒状シリコン製造装置10は、上開口部11aから粉末シリコン12が投入され、かつ下開口部11bから、粉末シリコン12が溶けた溶融シリコン13が連続して滴下される下窄み形状のルツボ11と、下開口部11bの外回りに配置された高周波誘導コイル14と、高周波誘導コイル14と下開口部11bとの間に抜き差し可能に設けられ、高周波誘導コイル14の起動により加熱され、その輻射熱で、下開口部内のシリコンブロック15および粉末シリコン12の一部を溶融させる補助加熱用の導電円筒16と、導電円筒16を、高周波誘導コイル14と下開口部11bとの間に抜き差しさせる電動シリンダ(抜き差し手段)17とを備えている。   In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a granular silicon production apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. In this granular silicon production apparatus 10, powder silicon 12 is introduced from an upper opening 11a, and powder silicon 12 is introduced from a lower opening 11b. Between the crucible 11 having a constricted shape in which molten silicon 13 in which molten silicon is melted is continuously dropped, the high frequency induction coil 14 arranged around the lower opening 11b, and the high frequency induction coil 14 and the lower opening 11b. A conductive cylinder 16 for auxiliary heating that is heated by activation of the high-frequency induction coil 14 and melts part of the silicon block 15 and the powdered silicon 12 in the lower opening by the radiation heat, and the conductive cylinder 16. Is provided between the high-frequency induction coil 14 and the lower opening portion 11b.

以下、これらの構成体を詳細に説明する。
ルツボ11は、全体が下窄み形状の石英製の容器で、図1において、ルツボ11の上部の傾斜角度(5°)より下部の傾斜角度(25°)の方が大きくなっている。ルツボ11の上開口部11aの内径(開口直径)は200mm、下開口部11bの下端内径は6mmである。
ここでいう下開口部11bとは、ルツボ11の前記下部の略下半分で、下方へ向けて徐々に小径化したロート部分と、このロート部分の下端の開口に連通され、全長にわたって開口面積が等しい筒体部分とを含む部分をいう。
Hereinafter, these components will be described in detail.
The crucible 11 is a quartz container having a constricted shape as a whole. In FIG. 1, the lower inclination angle (25 °) is larger than the upper inclination angle (5 °) of the crucible 11. The inner diameter (opening diameter) of the upper opening 11a of the crucible 11 is 200 mm, and the lower end inner diameter of the lower opening 11b is 6 mm.
The lower opening 11b referred to here is a substantially lower half of the lower portion of the crucible 11, and is communicated with a funnel portion having a diameter gradually reduced downward and an opening at the lower end of the funnel portion. A portion including an equal cylindrical portion.

粉末シリコン12およびシリコンブロック15は、純度99.99%のシリコンからなる。粉末シリコン12の平均粒径は10μmである。
ルツボ11の内側空間には、粉末シリコン12を攪拌しながら、下端に形成された吹き出し口18aより、還元ガスGを溶融シリコン13の液面に吹き付ける攪拌ノズル18が収納されている。攪拌ノズル18は、垂直方向へ長い細管で、図示しない60Hzの電磁バイブレータが設けられている。還元ガスGとしては、5容量%の水素が混入されたアルゴンガスが採用されている。還元ガスGの流出量は、粉末シリコン12の還元ガスGによる巻き上げが発生せず、粉末シリコン12を円滑に溶融シリコン13に溶かし込める10リットル/分である。
The powder silicon 12 and the silicon block 15 are made of silicon having a purity of 99.99%. The average particle diameter of the powder silicon 12 is 10 μm.
In the inner space of the crucible 11, an agitation nozzle 18 that blows the reducing gas G onto the liquid surface of the molten silicon 13 from the blowout port 18 a formed at the lower end while agitating the powder silicon 12 is accommodated. The stirring nozzle 18 is a thin tube that is long in the vertical direction, and is provided with a 60 Hz electromagnetic vibrator (not shown). As the reducing gas G, argon gas mixed with 5% by volume of hydrogen is employed. The flow rate of the reducing gas G is 10 liters / minute at which the silicon powder 12 can be smoothly dissolved in the molten silicon 13 without causing the powder silicon 12 to be wound up by the reducing gas G.

ルツボ11の下部から下開口部11bまでの外回りには、ルツボ11の外周面から数mm〜数cmだけ離間して、銅製の内部に冷却水を流す構造の高周波誘導コイル14が巻かれている。
導電円筒16は、下開口部11bの外径より内径が大きく、かつ高周波誘導コイル14の内径より外径が小さい黒鉛製の円筒である。導電円筒16の上端部は、下開口部11bの前記ロート部分の傾斜に合わせ、上方へ向かうほど徐々に拡径化されている。
電動シリンダ17は、ロッド17aが上方へ出し入れされる縦長なアクチュエータである。ロッド17aは、水平に屈曲した上端部が導電円筒16の外周面の一部に連結されている。電動シリンダ17によりロッド17aを出し入れすることで、導電円筒16が高周波の電磁界から出し入れされる。
シリコンブロック15は、多結晶シリコンからなる厚さ10mmの円盤形状のブロックである。
Around the outer periphery from the lower part of the crucible 11 to the lower opening part 11b, a high frequency induction coil 14 having a structure in which cooling water flows inside the copper is spaced apart from the outer peripheral surface of the crucible 11 by several mm to several cm. .
The conductive cylinder 16 is a graphite cylinder having an inner diameter larger than the outer diameter of the lower opening 11 b and smaller than the inner diameter of the high-frequency induction coil 14. The upper end portion of the conductive cylinder 16 is gradually enlarged in diameter toward the top in accordance with the inclination of the funnel portion of the lower opening 11b.
The electric cylinder 17 is a vertically long actuator into which the rod 17a is put in and out. The rod 17 a has a horizontally bent upper end connected to a part of the outer peripheral surface of the conductive cylinder 16. By inserting and removing the rod 17a by the electric cylinder 17, the conductive cylinder 16 is taken in and out of the high frequency electromagnetic field.
The silicon block 15 is a disk-shaped block made of polycrystalline silicon and having a thickness of 10 mm.

次に、この実施例1の粒状シリコン製造装置を用いた粒状シリコンの製造方法を説明する。
まず、電動シリンダ17によりロッド17aを突出させ、導電円筒16を高周波誘導コイル14と下開口部11bとの間(高周波交流電界内)に配置する。具体的には、導電円筒16の上開口が前記ロート部分の下端部と対峙する位置で、かつ導電円筒16の下開口が、前記筒体部分の下開口付近と対峙する位置に、導電円筒16が配置される。このような位置に導電円筒16を配置したことで、溶融開始時には最上部に配置し溶融開始時間を短くし、安定した溶融シリコン流が得られた後は下部開口部が閉塞しない範囲で下部に下げ、ルツボの劣化を遅らせることができる。
Next, a method for producing granular silicon using the granular silicon production apparatus of Example 1 will be described.
First, the rod 17a is protruded by the electric cylinder 17, and the conductive cylinder 16 is disposed between the high frequency induction coil 14 and the lower opening 11b (within the high frequency AC electric field). Specifically, the conductive cylinder 16 is located at a position where the upper opening of the conductive cylinder 16 faces the lower end of the funnel portion, and the lower opening of the conductive cylinder 16 faces the vicinity of the lower opening of the cylindrical portion. Is placed. By disposing the conductive cylinder 16 in such a position, it is arranged at the uppermost part at the start of melting to shorten the melting start time, and after a stable molten silicon flow is obtained, the lower opening is not closed so long as it is not blocked. Lowering and delaying crucible degradation.

次に、高周波誘導コイル14に通電する(周波数100kHz、出力40KW)。発生した高周波の磁界が黒鉛製の導電円筒16に作用し、渦電流損やヒステリシス損が生した導電円筒16が1000℃まで加熱される。その際、導電円筒16の輻射熱により、下開口部内のシリコンブロック15の外周部の温度が数百度程度に上昇し、誘導電流が直接流れ始める。シリコンブロック15に流れる誘導電流によりシリコンの溶融体ができ、この溶融体に粉末シリコン12の一部が溶かされる。
それ以降は、電動シリンダ17のロッド17aを引き込ませて高周波誘導コイル14と下開口部11bとの間から導電円筒16を抜き取り、加熱で電気的な抵抗率が低下した溶融シリコン13を、直接、高周波誘導コイル14によって高周波誘導加熱する。
Next, the high-frequency induction coil 14 is energized (frequency 100 kHz, output 40 KW). The generated high-frequency magnetic field acts on the conductive cylinder 16 made of graphite, and the conductive cylinder 16 with eddy current loss and hysteresis loss is heated to 1000 ° C. At that time, due to the radiant heat of the conductive cylinder 16, the temperature of the outer peripheral portion of the silicon block 15 in the lower opening rises to about several hundred degrees, and the induced current starts to flow directly. A silicon melt is formed by the induced current flowing in the silicon block 15, and a part of the powder silicon 12 is dissolved in the melt.
Thereafter, the rod 17a of the electric cylinder 17 is pulled in, the conductive cylinder 16 is extracted from between the high-frequency induction coil 14 and the lower opening 11b, and the molten silicon 13 whose electrical resistivity is reduced by heating is directly High frequency induction heating is performed by the high frequency induction coil 14.

このように、粉末シリコン12の原料として高純度シリコンを採用した場合でも、従来法で採用された予熱装置を用いることなく、製造開始時から粒状シリコン19を継続して製造することができる。また、下窄み形状のルツボ11を採用したので、ルツボ11の小型化が図れる。しかも、高周波誘導コイル14によるルツボ11の加熱範囲が下窄みした下開口部付近に限定されるので、高さ方向の全長にわたって断面積が、一定の円筒ルツボや矩形ルツボを使用する場合に比べて、ルツボ11の加熱容積が小さくなる。その結果、このような形状のルツボを使用する場合に比べて、高周波誘導加熱時の使用電力を削減することができる。また、下開口部11bの内径を6mmとしたので、同じ量のシリコン溶融流を得るための円筒ルツボに比べて加熱部分の表面積が1/5以下になり、熱効率が1桁程度高まるという効果が得られる。
なお、シリコンブロック15の溶融後は、導電円筒16を必ずしも高周波誘導コイル14と下開口部11bとの間から抜き取らなくても、導電円筒16の輻射熱を利用した溶融シリコン13の加熱を継続するようにしてもよい。
Thus, even when high-purity silicon is employed as the raw material for the powder silicon 12, the granular silicon 19 can be continuously produced from the start of production without using the preheating device employed in the conventional method. Further, since the crucible 11 having a narrowed shape is employed, the crucible 11 can be reduced in size. Moreover, since the heating range of the crucible 11 by the high-frequency induction coil 14 is limited to the vicinity of the constricted lower opening, compared with the case where a cylindrical crucible or rectangular crucible having a constant cross-sectional area over the entire length in the height direction is used. Thus, the heating volume of the crucible 11 is reduced. As a result, it is possible to reduce the power used during high-frequency induction heating compared to the case where such a crucible is used. Further, since the inner diameter of the lower opening 11b is 6 mm, the surface area of the heated portion is 1/5 or less compared to a cylindrical crucible for obtaining the same amount of silicon melt flow, and the thermal efficiency is increased by an order of magnitude. can get.
Note that after the silicon block 15 is melted, the heating of the molten silicon 13 using the radiant heat of the conductive cylinder 16 is continued without necessarily removing the conductive cylinder 16 from between the high-frequency induction coil 14 and the lower opening 11b. It may be.

次に、図2を参照して、この発明の実施例2に係る粒状シリコン製造方法およびその装置を説明する。
図2に示すように、実施例2に係る粒状シリコン製造装置20の特徴は、ルツボ11の下開口部11bの直下に、下開口部11bから滴下された直後の粒状シリコン19が、斜面を転がりながら冷却される冷却傾斜板21を設けた点である。
冷却傾斜板21は、石英製で下方へ向かうほど徐々に曲率が大きくなった板材である。ルツボ11の下開口部から滴下された粒状シリコン19は、表面張力により球状化された後、粒冷却傾斜板21の内面を転がりながら徐々に冷却される。これにより、例えば完全に固まる前の粒状シリコン19が、図示しない回収容器の底板に衝突した際の衝撃による変形を防ぐことができる。しかも、粒状シリコン18が底板に衝突した際の圧力が数分の1となるため、粒状シリコン19に不純物が混入するおそれが低減される。
その他の構成、作用および効果は、実施例と同じであるので、説明を省略する。
Next, a granular silicon manufacturing method and apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 2, the feature of the granular silicon manufacturing apparatus 20 according to the second embodiment is that the granular silicon 19 immediately after dropping from the lower opening 11b rolls on the slope immediately below the lower opening 11b of the crucible 11. The cooling inclined plate 21 is provided while being cooled.
The cooling inclined plate 21 is a plate made of quartz and having a gradually increasing curvature as it goes downward. The granular silicon 19 dropped from the lower opening of the crucible 11 is spheroidized by surface tension, and then gradually cooled while rolling on the inner surface of the grain cooling inclined plate 21. Thereby, the deformation | transformation by the impact at the time of the granular silicon | silicone 19 before solidifying completely colliding with the bottom plate of the collection container which is not shown in figure can be prevented, for example. In addition, since the pressure when the granular silicon 18 collides with the bottom plate becomes a fraction, the possibility that impurities are mixed into the granular silicon 19 is reduced.
Other configurations, operations, and effects are the same as those in the embodiment, and thus description thereof is omitted.

この発明の実施例1に係る粒状シリコン製造装置の縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the granular silicon manufacturing apparatus which concerns on Example 1 of this invention. この発明の実施例2に係る粒状シリコン製造装置の要部縦断面図である。It is a principal part longitudinal cross-sectional view of the granular silicon manufacturing apparatus which concerns on Example 2 of this invention.

10,20 粒状シリコン製造装置、
11 ルツボ、
11a 上開口部、
11b 下開口部、
12 粉末シリコン、
13 溶融シリコン、
14 高周波誘導コイル、
15 シリコンブロック、
16 導電円筒、
17 電動シリンダ(抜き差し手段)、
18 攪拌ノズル、
19 粒状シリコン、
21 冷却傾斜板、
G 還元ガス。
10,20 Granular silicon production equipment,
11 crucible,
11a upper opening,
11b Lower opening,
12 powder silicon,
13 Molten silicon,
14 high frequency induction coil,
15 silicon block,
16 Conductive cylinder,
17 Electric cylinder (insertion and removal means),
18 stirring nozzle,
19 granular silicon,
21 cooling inclined plate,
G reducing gas.

Claims (5)

上開口部から粉末シリコンが投入され、下開口部から前記粉末シリコンの溶融後の溶融シリコンが連続して滴下される下窄み形状のルツボと、  A crucible having a constricted shape in which powder silicon is charged from an upper opening, and molten silicon after melting of the powder silicon is continuously dropped from a lower opening,
前記下開口部の外回りに配置された高周波誘導コイルと、  A high-frequency induction coil disposed around the lower opening;
該高周波誘導コイルと前記下開口部との間に抜き差し可能に設けられ、前記高周波誘導コイルの起動により加熱され、その輻射熱で、前記粉末シリコンが収納された下窄み形状の前記ルツボの下開口部を塞ぐシリコンブロックおよび前記粉末シリコンの一部を溶融させる補助加熱用の導電円筒と、  A lower opening of the crucible having a constricted shape in which the powdered silicon is accommodated by the radiant heat, which is provided between the high frequency induction coil and the lower opening so as to be detachable and heated by activation of the high frequency induction coil. A silicon block for closing the part and a conductive cylinder for auxiliary heating for melting a part of the powdered silicon,
該導電円筒を、前記高周波誘導コイルと前記下開口部との間に抜き差しさせる抜き差し手段とを備えた粒状シリコン製造装置。  The granular silicon manufacturing apparatus provided with the insertion / extraction means which inserts / extracts this conductive cylinder between the said high frequency induction coil and the said lower opening part.
前記ルツボ内の粉末シリコンを攪拌しながら、前記溶融シリコンに還元ガスを吹き付ける攪拌ノズルを有した請求項1に記載の粒状シリコン製造装置。  The granular silicon manufacturing apparatus according to claim 1, further comprising a stirring nozzle that blows a reducing gas onto the molten silicon while stirring the powdered silicon in the crucible. 前記ルツボの下開口部の直下に、該下開口部から滴下されて凝固した直後の粒状シリコンが、斜面を転がりながら冷却される冷却傾斜板を設けた請求項1または請求項2に記載の粒状シリコン製造装置。  3. The granular structure according to claim 1, wherein a cooling inclined plate is provided immediately below the lower opening of the crucible, in which granular silicon immediately after dripping and solidifying from the lower opening is cooled while rolling on the inclined surface. Silicon manufacturing equipment. 前記ルツボの下開口部の開口直径が5〜20mmである請求項1〜請求項3のうち、何れか1項に記載の粒状シリコン製造装置。  The granular silicon manufacturing apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein an opening diameter of a lower opening of the crucible is 5 to 20 mm. 粉末シリコンが収納された下窄み形状のルツボの下開口部をシリコンブロックにより塞ぐ蓋止め工程と、  A lid-stopping process in which the lower opening of the crucible having a constricted shape containing powdered silicon is closed with a silicon block;
該蓋止め工程後、前記下開口部の外回りに配置された導電性材料からなる補助加熱用の導電円筒を高周波誘導加熱し、その輻射熱により、前記下開口部内の前記シリコンブロックおよび前記粉末シリコンの一部を溶融させ、前記下開口部から溶融シリコンを連続して滴下させる初期溶融工程と、  After the capping step, the conductive cylinder for auxiliary heating made of a conductive material arranged around the lower opening is induction-heated by high frequency, and the radiant heat causes the silicon block and the powder silicon in the lower opening to Initial melting step of partially melting and continuously dropping molten silicon from the lower opening;
該初期溶融工程後、前記下開口部内の溶融シリコンを前記導電円筒の輻射熱により継続して加熱するか、該導電円筒を取り除いて前記下開口部内の溶融シリコンを高周波誘導加熱し、前記下開口部からの溶融シリコンの連続した滴下に伴い前記下開口部内へ到達した前記粉末シリコンを、順次、前記溶融シリコンの熱により溶融させる溶融工程とを備えた粒状シリコン製造方法。  After the initial melting step, the molten silicon in the lower opening is continuously heated by radiant heat of the conductive cylinder, or the conductive cylinder is removed and the molten silicon in the lower opening is heated by high-frequency induction, and the lower opening A granular silicon manufacturing method comprising: a melting step of sequentially melting the powdered silicon that has reached the inside of the lower opening with continuous dripping of molten silicon from the substrate by heat of the molten silicon.
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